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JP6797420B2 - Light moisture curable resin composition - Google Patents
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Description

本発明は、光湿気硬化型樹脂組成物等に関する。 The present invention relates to a light-moisture-curable resin composition and the like.

電子回路基板は水や湿気、ガス、埃などに起因する動作不良を防止するために、コーティング剤で表面を処理し保護することが行われている。コーティング剤の中でも、紫外線や電子線などの光によって硬化する樹脂組成物は、生産性が高く、各種報告されている(特許文献1〜2)。 The surface of an electronic circuit board is treated with a coating agent to protect it in order to prevent malfunction due to water, humidity, gas, dust, and the like. Among the coating agents, resin compositions that are cured by light such as ultraviolet rays and electron beams have high productivity and have been reported in various ways (Patent Documents 1 and 2).

しかしながら、特許文献1の光硬化型コーティング剤は、様々な部品が実装された基板において、光が当たらない影部分の樹脂が硬化しないという問題点を有する。特許文献2の光湿気硬化樹脂は、光硬化および湿気硬化のどちらにおいても電気絶縁性が不十分であり、また溶剤で希釈をすることで粘度を下げているため使用時の溶剤の揮発により環境や作業者に悪影響を及ぼす危険性があるという問題点を有する。 However, the photocurable coating agent of Patent Document 1 has a problem that the resin in the shadow portion not exposed to light is not cured on the substrate on which various parts are mounted. The photo-moisture-curable resin of Patent Document 2 has insufficient electrical insulation in both photo-curing and moisture-curing, and its viscosity is lowered by diluting with a solvent. Therefore, the environment is affected by the volatilization of the solvent during use. There is a problem that there is a risk of adversely affecting the operator.

特開2017−179180号公報JP-A-2017-179180 特開2014−201593号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-201593

本発明者は研究を進める中で、ウレタン(メタ)アクリレートのイソシアネート基の量を増やすと湿気硬化性が向上し、光の当たらない影部分に入り込んだ樹脂も十分に硬化できるようになるが、分子量の増加と共に樹脂粘度が上昇してしまうので、薄く塗布することが難しくなるという問題を見出した。 While the present inventor is proceeding with research, increasing the amount of isocyanate groups in urethane (meth) acrylate improves the moisture curability, and the resin that has entered the shadowed part that is not exposed to light can be sufficiently cured. Since the resin viscosity increases as the molecular weight increases, it has been found that it is difficult to apply a thin coating.

このような問題を踏まえ、本発明は、光硬化性及び湿気硬化性の両方に優れ、低粘度であり、且つ電気絶縁性(特に、光が当たり難い影部の電気絶縁性)に優れた光湿気硬化樹脂組成物を提供することを課題とする。 In view of these problems, the present invention provides light having excellent photocurability and moisture curability, low viscosity, and excellent electrical insulation (particularly, electrical insulation of shadows where light is difficult to hit). An object of the present invention is to provide a moisture-curable resin composition.

本発明者は上記課題に鑑みて鋭意研究を進めた結果、(1)水酸基含有単官能(メタ)アクリレート(A1)、ポリイソシアネート化合物のイソシアヌレート変性体(A2)、及びポリオール(A3)の反応物であり、且つ重量平均分子量が1000〜50000であるウレタン(メタ)アクリレート(A)、(2)水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)、並びに(3)光重合開始剤(C)、を含有する、光湿気硬化型樹脂組成物であれば、上記課題を解決できることを見出した。本発明者等は、この知見に基づいてさらに研究を行うことにより、本発明を完成するに至った。 As a result of diligent research in view of the above problems, the present inventor has (1) a reaction of a hydroxyl group-containing monofunctional (meth) acrylate (A1), an isocyanurate-modified product of a polyisocyanate compound (A2), and a polyol (A3). Urethane (meth) acrylate (A), which is a product and has a weight average molecular weight of 1000 to 50,000, (2) hydroxyl group-free (meth) acrylate (B), and (3) photopolymerization initiator (C). It has been found that the above-mentioned problems can be solved by the light-moisture-curable resin composition contained therein. The present inventors have completed the present invention by conducting further research based on this finding.

即ち、本発明は、下記の態様を包含する:
項1. (1)水酸基含有単官能(メタ)アクリレート(A1)、ポリイソシアネート化合物のイソシアヌレート変性体(A2)、及びポリオール(A3)の反応物であり、且つ重量平均分子量が1000〜50000であるウレタン(メタ)アクリレート(A)、
(2)水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)、並びに
(3)光重合開始剤(C)、
を含有する、光湿気硬化型樹脂組成物。
That is, the present invention includes the following aspects:
Item 1. (1) Urethane (1) which is a reaction product of a hydroxyl group-containing monofunctional (meth) acrylate (A1), an isocyanurate-modified compound (A2) of a polyisocyanate compound, and a polyol (A3) and has a weight average molecular weight of 1000 to 50,000. Meta) Acrylate (A),
(2) Hydroxyl-free (meth) acrylate (B), and (3) Photopolymerization initiator (C),
A light-moisture-curable resin composition containing.

項2. 前記ポリイソシアネート化合物のイソシアヌレート変性体(A2)が、脂肪族ポリイソシアネート化合物のイソシアヌレート変性体である、項1に記載の光湿気硬化型樹脂組成物。 Item 2. Item 2. The photomoisture-curable resin composition according to Item 1, wherein the isocyanurate-modified product (A2) of the polyisocyanate compound is an isocyanurate-modified product of an aliphatic polyisocyanate compound.

項3. 前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)のNCO含量が1〜10%である、項1又は2に記載の光湿気硬化型樹脂組成物。 Item 3. Item 2. The photomoisture-curable resin composition according to Item 1 or 2, wherein the urethane (meth) acrylate (A) has an NCO content of 1 to 10%.

項4. 前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)の含有量が、前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)及び前記水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)の合計100質量%に対して10〜40質量%である、項1〜3のいずれかに記載の光湿気硬化型樹脂組成物。 Item 4. The content of the urethane (meth) acrylate (A) is 10 to 40% by mass with respect to a total of 100% by mass of the urethane (meth) acrylate (A) and the hydroxyl group-free (meth) acrylate (B). , Item 3. The photomoisture-curable resin composition according to any one of Items 1 to 3.

項5. 前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)の含有量が、前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)及び前記水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)の合計100質量%に対して25〜35質量%である、項1〜4のいずれかに記載の光湿気硬化型樹脂組成物。 Item 5. The content of the urethane (meth) acrylate (A) is 25 to 35% by mass with respect to a total of 100% by mass of the urethane (meth) acrylate (A) and the hydroxyl group-free (meth) acrylate (B). , Item 4. The photomoisture-curable resin composition according to any one of Items 1 to 4.

項6. さらにポリイソシアネート(D)を含有する、項1〜5のいずれかに記載の光湿気硬化型樹脂組成物。 Item 6. Item 2. The photomoisture-curable resin composition according to any one of Items 1 to 5, further containing polyisocyanate (D).

項7. コーティング用である、項1〜6のいずれかに記載の光湿気硬化型樹脂組成物。 Item 7. Item 2. The light-moisture-curable resin composition according to any one of Items 1 to 6, which is used for coating.

項8. コーティング対象が電子基板である、項7に記載の光湿気硬化型樹脂組成物。 Item 8. Item 2. The light-moisture-curable resin composition according to Item 7, wherein the object to be coated is an electronic substrate.

項9. 項1〜8のいずれかに記載の光湿気硬化型樹脂組成物の硬化物。 Item 9. Item 8. A cured product of the light-moisture-curable resin composition according to any one of Items 1 to 8.

項10. 電子基板、及び前記電子基板上に配置されてなる項9に記載の硬化物を含む、樹脂コーティング電子基板。 Item 10. A resin-coated electronic substrate comprising an electronic substrate and a cured product according to Item 9, which is arranged on the electronic substrate.

本発明によれば、光硬化性及び湿気硬化性の両方に優れ、低粘度であり、且つ硬化時の電気絶縁性(特に、光が当たり難い影部における電気絶縁性)に優れた光湿気硬化樹脂組成物を提供することができる。したがって、本発明の光湿気硬化樹脂組成物は、例えばコーティング用、特に電子基板のコーティング用に適している。また、本発明によれば、電子基板、及び電子基板上に配置されてなる本発明の光湿気硬化樹脂組成物の硬化物を含む、樹脂コーティング電子基板を提供することもできる。 According to the present invention, it is excellent in both photocurability and moisture curability, has low viscosity, and has excellent photoinsulation property at the time of curing (particularly, electroinsulation property in a shadow portion where light is hard to hit). A resin composition can be provided. Therefore, the photomoisture-curable resin composition of the present invention is suitable for coating, for example, particularly for coating an electronic substrate. Further, according to the present invention, it is also possible to provide an electronic substrate and a resin-coated electronic substrate containing a cured product of the light-moisture-curable resin composition of the present invention arranged on the electronic substrate.

本明細書中において、「含有」及び「含む」なる表現については、「含有」、「含む」、「実質的にからなる」及び「のみからなる」という概念を含む。 In the present specification, the expressions "contains" and "contains" include the concepts of "contains", "contains", "substantially consists" and "consists of only".

1.光湿気硬化樹脂組成物
本発明は、その一態様において、(1)水酸基含有単官能(メタ)アクリレート(A1)、ポリイソシアネート化合物のイソシアヌレート変性体(A2)、及びポリオール(A3)の反応物であり、且つ重量平均分子量が1000〜50000であるウレタン(メタ)アクリレート(A)、(2)水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)、並びに
(3)光重合開始剤(C)、を含有する、光湿気硬化型樹脂組成物(本明細書において、「本発明の光湿気硬化型樹脂組成物」と示すこともある。)に関する。以下、本発明の光湿気硬化樹脂組成物について説明する。
1. 1. Light Moisture Curing Resin Composition In one embodiment of the present invention, a reaction product of (1) a hydroxyl group-containing monofunctional (meth) acrylate (A1), an isocyanurate-modified compound (A2) of a polyisocyanate compound, and a polyol (A3). Contains urethane (meth) acrylate (A) having a weight average molecular weight of 1000 to 50,000, (2) hydroxyl group-free (meth) acrylate (B), and (3) photopolymerization initiator (C). The present invention relates to a photomoisture-curable resin composition (in this specification, it may be referred to as "the photomoisture-curable resin composition of the present invention"). Hereinafter, the light-moisture-curable resin composition of the present invention will be described.

水酸基含有単官能(メタ)アクリレート(A1)は、水酸基を含み(好ましくは水酸基の数が1つであり)、且つ(メタ)アクリロイル基の数が1つであるものであれば特に制限されず、光湿気硬化型樹脂組成物(特に、電子基板コーティング用光湿気硬化型樹脂組成物)において用いられている成分又は用いられ得る成分を各種使用することが可能である。 The hydroxyl group-containing monofunctional (meth) acrylate (A1) is not particularly limited as long as it contains hydroxyl groups (preferably has one hydroxyl group) and has one (meth) acryloyl group. , It is possible to use various components or components that can be used in the photo-moisture-curable resin composition (particularly, the photo-moisture-curable resin composition for coating electronic substrates).

水酸基含有単官能(メタ)アクリレート(A1)として、具体的には、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシペンチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレートヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート; 2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート; 2−ヒドロキシエチルアクリルアミド; これらのラクトン変性体等が挙げられる。 Specific examples of the hydroxyl group-containing monofunctional (meth) acrylate (A1) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 4-hydroxybutyl. Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, hydroxypentyl (meth) acrylate, hydroxyhexyl (meth) acrylate hydroxyoctyl (meth) acrylate; 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl Acrylamide; examples thereof include modified lactones.

水酸基含有単官能(メタ)アクリレート(A1)として、好ましくはヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、より好ましくはヒドロキシアルキル基の炭素数が1〜8のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、さらに好ましくはヒドロキシアルキル基の炭素数が1〜5のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、よりさらに好ましくはヒドロキシアルキル基の炭素数が1〜3のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、特に好ましくはヒドロキシアルキル基の炭素数が2のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートにおいて、ヒドロキシアルキル基中のアルキル基は、好ましくは直鎖状アルキル基である。また、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートにおいて、ヒドロキシアルキル基中のヒドロキシ基は、アルキル基の主鎖上の末端に位置していることが好ましい。 As the hydroxyl group-containing monofunctional (meth) acrylate (A1), preferably a hydroxyalkyl (meth) acrylate, more preferably a hydroxyalkyl (meth) acrylate having a hydroxyalkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and further preferably a hydroxyalkyl group. A hydroxyalkyl (meth) acrylate having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a hydroxyalkyl (meth) acrylate having a hydroxyalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably a hydroxyalkyl group having 2 carbon atoms. Examples include (meth) acrylate. In the hydroxyalkyl (meth) acrylate, the alkyl group in the hydroxyalkyl group is preferably a linear alkyl group. Further, in the hydroxyalkyl (meth) acrylate, the hydroxy group in the hydroxyalkyl group is preferably located at the end on the main chain of the alkyl group.

水酸基含有単官能(メタ)アクリレート(A1)は、1種単独で用いることもできるし、任意の2種以上を組み合わせて用いることもできる。 The hydroxyl group-containing monofunctional (meth) acrylate (A1) can be used alone or in combination of any two or more.

ポリイソシアネートとしての、ポリイソシアネート化合物のイソシアヌレート変性体(A2)は、ポリイソシアネート化合物のイソシアヌレート変性体(換言すれば、ポリイソシアネート化合物のトリマー、イソシアヌレート骨格を有するポリイソシアネート)であれば特に制限されず、光湿気硬化型樹脂組成物(特に、電子基板コーティング用光湿気硬化型樹脂組成物)において用いられている成分又は用いられ得る成分を各種使用することが可能である。 The isocyanurate-modified product (A2) of the polyisocyanate compound as the polyisocyanate is particularly limited as long as it is an isocyanurate-modified product of the polyisocyanate compound (in other words, a trimmer of the polyisocyanate compound or a polyisocyanate having an isocyanurate skeleton). However, it is possible to use various components or components that can be used in the photo-moisture-curable resin composition (particularly, the photo-moisture-curable resin composition for coating an electronic substrate).

ポリイソシアネート化合物として、具体的には、例えば脂肪族ポリイソシアネート化合物、脂環族ポリイソシアネート化合物、芳香族ポリイソシアネート化合物、芳香脂肪族ポリイソシアネート化合物等が挙げられる。 Specific examples of the polyisocyanate compound include an aliphatic polyisocyanate compound, an alicyclic polyisocyanate compound, an aromatic polyisocyanate compound, and an aromatic aliphatic polyisocyanate compound.

脂肪族ポリイソシアネート化合物としては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2−メチルペンタン−1,5−ジイソシアネート、3−メチルペンタン−1,5−ジイソシアネート等のアルキレンジイソシアネート; リジンジイソシアネート等が挙げられる。 Examples of the aliphatic polyisocyanate compound include tetramethylene diisocyanate, dodecamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, and 2-methyl. Alkylene diisocyanates such as pentane-1,5-diisocyanate and 3-methylpentane-1,5-diisocyanate; lysine diisocyanates and the like can be mentioned.

脂環族ポリイソシアネート化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等が挙げられる。 Examples of the alicyclic polyisocyanate compound include isophorone diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate, 1,4-cyclohexanediisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate, and 1,3-bis (isocyanate methyl). Cyclohexane and the like can be mentioned.

芳香族ポリイソシアネート化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、2,2’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、4,4’−ジベンジルジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート等が挙げられ、好ましくは2’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)等が挙げられる。 Examples of the aromatic polyisocyanide compound include tolylene diisocyanate, 2,2'-diphenylmethane diisocyanate, 2,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), and 4,4'-dibenzyldiisocyanate. Examples thereof include 1,5-naphthylene diisocyanis, xylylene diisocyanate, 1,3-phenylenediisocyanis, 1,4-phenylenediisocyanate, and preferably 2'-diphenylmethane diisocyanate, 2,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'. − Diphenylmethane diisocyanate (MDI) and the like.

芳香脂肪族ポリイソシアネート化合物としては、例えば、ジアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、テトラアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、α,α,α,α−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等が挙げられる。 Examples of the aromatic aliphatic polyisocyanate compound include dialkyldiphenylmethane diisocyanate, tetraalkyldiphenylmethane diisocyanate, α, α, α, α-tetramethylxylylene diisocyanate and the like.

ポリイソシアネート化合物として、好ましくは脂肪族ポリイソシアネート化合物、より好ましくはアルキレンジイソシアネート、さらに好ましくはアルキレン基の炭素数が1〜10であるアルキレンジイソシアネート、よりさらに好ましくはアルキレン基の炭素数が4〜8であるアルキレンジイソシアネート、特に好ましくはアルキレン基の炭素数が5〜7であるアルキレンジイソシアネートが挙げられる。アルキレンジイソシアネートにおいて、アルキレン基は、好ましくは直鎖状アルキレン基である。また、アルキレンジイソシアネートにおいて、2つのイシシアネート基(−N=C=O)はアルキレン基の主鎖上の末端に位置していることが好ましい。 The polyisocyanate compound is preferably an aliphatic polyisocyanate compound, more preferably an alkylene diisocyanate, further preferably an alkylene diisocyanate having 1 to 10 carbon atoms, and further preferably an alkylene group having 4 to 8 carbon atoms. Examples thereof include certain alkylene diisocyanates, particularly preferably alkylene diisocyanates having an alkylene group having 5 to 7 carbon atoms. In the alkylene diisocyanate, the alkylene group is preferably a linear alkylene group. Further, in the alkylene diisocyanate, it is preferable that the two isocyanate groups (-N = C = O) are located at the ends on the main chain of the alkylene group.

ポリイソシアネート化合物のイソシアヌレート変性体(A2)は、1種単独で用いることもできるし、任意の2種以上を組み合わせて用いることもできる。 The isocyanurate-modified product (A2) of the polyisocyanate compound may be used alone or in combination of any two or more.

ポリオール(A3)は、特に制限されず、光湿気硬化型樹脂組成物(特に、電子基板コーティング用光湿気硬化型樹脂組成物)において用いられている成分又は用いられ得る成分を各種使用することが可能である。 The polyol (A3) is not particularly limited, and various components used in the light-moisture-curable resin composition (particularly, the light-moisture-curable resin composition for coating electronic substrates) or components that can be used may be used. It is possible.

ポリオール(A3)として、具体的には、例えばポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリブタジエンポリオール、ヒマシ油系ポリオール、ダイマー酸ポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリアクリルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、これらの水素化物(例えば、ポリブタジエンポリオールの水素化物、ポリイソプレンポリオールの水素化物等のポリジエンポリオールの水素化物;ヒマシ油の水素化物等)等、及び変性物等挙げられる。 Specific examples of the polyol (A3) include polyether polyol, polyester polyol, polybutadiene polyol, castor oil-based polyol, dimer acid polyol, polycarbonate polyol, polyacrylic polyol, polycaprolactone polyol, and hydrides thereof (for example, polybutadiene). Examples thereof include hydrides of polyols, hydrides of polydiene polyols such as hydrides of polyisoprene polyols; hydrides of castor oil, etc.), and modified products.

ポリオール(A3)として、好ましくはポリエーテルポリオールが挙げられる。この中でも、より好ましくはポリアルキレンオキシド、さらに好ましくはポリプロピレンオキシドが挙げられる。 As the polyol (A3), a polyether polyol is preferably used. Among these, polyalkylene oxide is more preferable, and polypropylene oxide is more preferable.

ポリオール(A3)は、1種単独で用いることもできるし、任意の2種以上を組み合わせて用いることもできる。 The polyol (A3) may be used alone or in combination of any two or more.

ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、水酸基含有単官能(メタ)アクリレート(A1)、ポリイソシアネート化合物のイソシアヌレート変性体(A2)、及びポリオール(A3)を含む反応成分の反応物である限り特に制限されない。反応成分は、A1成分、A2成分及びA3成分が主成分である限り、これら以外に他の成分(例えば(メタ)アクリレート、ポリイソシアネート、ポリオール)が含まれていてもよい。A1成分、A2成分及びA3成分の量は、反応成分の総量100質量%に対して、例えば90質量%以上、好ましくは95質量%以上、より好ましくは99質量%以上、特に好ましくは100質量%である。 Urethane (meth) acrylate (A) is particularly a reaction product of a reaction component containing a hydroxyl group-containing monofunctional (meth) acrylate (A1), an isocyanurate-modified compound (A2) of a polyisocyanate compound, and a polyol (A3). Not limited. As long as the reaction component contains the A1 component, the A2 component, and the A3 component as the main components, other components (for example, (meth) acrylate, polyisocyanate, polyol) may be contained in addition to these components. The amounts of the A1 component, the A2 component and the A3 component are, for example, 90% by mass or more, preferably 95% by mass or more, more preferably 99% by mass or more, and particularly preferably 100% by mass, based on 100% by mass of the total amount of the reaction components. Is.

ウレタン(メタ)アクリレート(A)の重量平均分子量は、1000〜50000である。重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法(ポリスチレン換算)により測定される値である。該重量平均分子量は、好ましくは1500〜30000、より好ましくは2000〜20000、さらに好ましくは2300〜15000である。該重量平均分子量は、比較的高粘度のものを得る場合であれば、好ましくは5000〜30000、より好ましくは8000〜20000、さらに好ましくは10000〜15000である。一方で、該重量平均分子量は、比較的低粘度のものを得る場合であれば、好ましくは1500〜5000、より好ましくは2000〜4000、さらに好ましくは2300〜4000である。 The weight average molecular weight of urethane (meth) acrylate (A) is 1000 to 50,000. The weight average molecular weight is a value measured by a gel permeation chromatography (GPC) method (in terms of polystyrene). The weight average molecular weight is preferably 1500 to 30000, more preferably 2000 to 20000, and even more preferably 2300 to 15000. The weight average molecular weight is preferably 5,000 to 30,000, more preferably 8,000 to 20,000, and even more preferably 1,000 to 15,000 in the case of obtaining a relatively highly viscous substance. On the other hand, the weight average molecular weight is preferably 1500 to 5000, more preferably 2000 to 4000, and even more preferably 2300 to 4000 in the case of obtaining a relatively low viscosity.

ウレタン(メタ)アクリレート(A)のNCO含量は、特に制限されないが、例えば1〜10%である。該NCO含量は、好ましくは2〜8%、より好ましくは3〜7%である。 The NCO content of the urethane (meth) acrylate (A) is not particularly limited, but is, for example, 1 to 10%. The NCO content is preferably 2-8%, more preferably 3-7%.

ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、1種単独で用いることもできるし、任意の2種以上を組み合わせて用いることもできる。 The urethane (meth) acrylate (A) can be used alone or in combination of any two or more.

ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、ウレタン(メタ)アクリレートの公知の製造方法に従って製造することができる。例えば、全ての成分を一度に反応させる方法や、一部の成分を先に反応させた後に他の成分を反応させる方法等が挙げられる。 The urethane (meth) acrylate (A) can be produced according to a known production method of urethane (meth) acrylate. For example, a method of reacting all the components at once, a method of reacting some components first, and then reacting other components, and the like can be mentioned.

ウレタン(メタ)アクリレート(A)の含有量は、特に制限されるものではないが、ウレタン(メタ)アクリレート(A)及び水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)の合計100質量%に対して、例えば7〜45質量%、好ましくは10〜40質量%、より好ましくは20〜40質量%、さらに好ましくは25〜35質量%、よりさらに好ましくは28〜32質量%である。 The content of the urethane (meth) acrylate (A) is not particularly limited, but is based on 100% by mass of the total of the urethane (meth) acrylate (A) and the hydroxyl group-free (meth) acrylate (B). For example, it is 7 to 45% by mass, preferably 10 to 40% by mass, more preferably 20 to 40% by mass, still more preferably 25 to 35% by mass, and even more preferably 28 to 32% by mass.

水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)は、水酸基を含まず、且つ(メタ)アクリロイル基を含むものであれば特に制限されず、光湿気硬化型樹脂組成物(特に、電子基板コーティング用光湿気硬化型樹脂組成物)において用いられている成分又は用いられ得る成分を各種使用することが可能である。 The hydroxyl group-free (meth) acrylate (B) is not particularly limited as long as it does not contain a hydroxyl group and contains a (meth) acryloyl group, and is a light-moisture-curable resin composition (particularly, light-moisture for coating an electronic substrate). It is possible to use various components or components that can be used in the curable resin composition).

水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)における(メタ)アクリロイル基の数は、特に制限されないが、例えば1〜6、好ましくは1〜4、より好ましくは1〜2、さらに好ましくは1である。 The number of (meth) acryloyl groups in the hydroxyl group-free (meth) acrylate (B) is not particularly limited, but is, for example, 1 to 6, preferably 1 to 4, more preferably 1 to 2, and even more preferably 1.

水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)は、好ましくは、水酸基のみならず、他の活性水素含有基(例えばカルボキシ基、スルホ基、リン酸基等の極性基)を含まない。 The hydroxyl group-free (meth) acrylate (B) preferably does not contain not only a hydroxyl group but also other active hydrogen-containing groups (for example, polar groups such as a carboxy group, a sulfo group, and a phosphoric acid group).

水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)として、具体的には、例えば、イソプロピル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、イソペンチル(メタ)アクリレート、2−メチルブチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート及びエチルヘキシル(メタ)アクリレート等の脂肪族(モノ)メタアクリレート;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロール(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート及びジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート等の脂環族(モノ)メタアクリレート;フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、フェノキシ(ポリアルキレンオキシ)(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート及び2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート(フェニルグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸の付加体)、ノニルフェノールエチレンオキサイド付加物の(メタ)アクリレート、o−フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、m−フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、p−フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、o−フェニルフェノキシプロピル(メタ)アクリレート、m−フェニルフェノキシプロピル(メタ)アクリレート、p−フェニルフェノキシプロピル(メタ)アクリレート、o−フェニルフェノキシ(ポリアルキレンオキシ)(メタ)アクリレート、m−フェニルフェノキシ(ポリアルキレンオキシ)(メタ)アクリレート、p−フェニルフェノキシ(ポリアルキレンオキシ)(メタ)アクリレート、o−フェニルフェニル(メタ)アクリレート、m−フェニルフェニル(メタ)アクリレート及びp−フェニルフェニル(メタ)アクリレート、p−クミルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、p−クミルフェノキシプロピル(メタ)アクリレート、p−クミルフェノキシ(ポリアルキレンオキシ(メタ))アクリレート及びp−クミルフェニル(メタ)アクリレート等の芳香族(モノ)メタアクリレート;テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、及び(メタ)アクリロリルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド等の複素環含有モノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Specific examples of the hydroxyl group-free (meth) acrylate (B) include isopropyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, and isopentyl (meth). ) Acrylate, 2-methylbutyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate and other aliphatic (mono) methacrylate; cyclohexyl (meth) acrylate, Isobornyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, tricyclodecanedimethylol (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, etc. Alicyclic (mono) methacrylate; phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxypropyl (meth) acrylate, phenoxy (polyalkyleneoxy) (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate and 2-hydroxy- 3-Phenoxypropyl acrylate (addition of phenylglycidyl ether and (meth) acrylic acid), (meth) acrylate of nonylphenol ethylene oxide adduct, o-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, m-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate , P-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, o-phenylphenoxypropyl (meth) acrylate, m-phenylphenoxypropyl (meth) acrylate, p-phenylphenoxypropyl (meth) acrylate, o-phenylphenoxy (polyalkyleneoxy) (Meta) acrylate, m-phenylphenoxy (polyalkyleneoxy) (meth) acrylate, p-phenylphenoxy (polyalkyleneoxy) (meth) acrylate, o-phenylphenyl (meth) acrylate, m-phenylphenyl (meth) acrylate And p-phenylphenyl (meth) acrylate, p-cumylphenoxyethyl (meth) acrylate, p-cumylphenoxypropyl (meth) acrylate, p-cumylphenoxy (polyalkyleneoxy (meth)) acrylate and p-cumylphenyl. Aromatic (mono) metaacrylate such as (meth) acrylate G; Examples thereof include tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, and heterocyclic-containing mono (meth) acrylate such as (meth) acryloryloxyethyl hexahydrophthalimide.

水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)として、好ましくは脂環族(モノ)メタアクリレートが挙げられ、より好ましくは脂肪族環が二環である脂環族(モノ)メタアクリレートが挙げられ、さらに好ましくは脂肪族環が二環であり、且つ2つの環が3つ以上(例えば3〜5つ)の炭素原子を共有している脂環族(モノ)メタアクリレートが挙げられる。 Examples of the hydroxyl group-free (meth) acrylate (B) include alicyclic (mono) methacrylate, more preferably an alicyclic (mono) methacrylate having a bicyclic aliphatic ring, and further. Preferred are alicyclic (mono) methacrylates in which the aliphatic ring is bicyclic and the two rings share three or more (for example, 3 to 5) carbon atoms.

水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)は、1種単独で用いることもできるし、任意の2種以上を組み合わせて用いることもできる。 The hydroxyl group-free (meth) acrylate (B) can be used alone or in combination of any two or more.

水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)の含有量は、特に制限されるものではないが、ウレタン(メタ)アクリレート(A)及び水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)の合計100質量%に対して、例えば55〜93質量%、好ましくは60〜90質量%、より好ましくは60〜80質量%、さらに好ましくは63〜75質量%、よりさらに好ましくは68〜72質量%である。 The content of the hydroxyl group-free (meth) acrylate (B) is not particularly limited, but is based on 100% by mass of the total of the urethane (meth) acrylate (A) and the hydroxyl group-free (meth) acrylate (B). For example, it is 55 to 93% by mass, preferably 60 to 90% by mass, more preferably 60 to 80% by mass, still more preferably 63 to 75% by mass, and even more preferably 68 to 72% by mass.

本発明の光湿気硬化型樹脂組成物は、ポリイソシアネート(D)を含有することができる。本発明の光湿気硬化型樹脂組成物はその一態様においては、ポリイソシアネート(D)を含有せず、別の一態様においてはポリイソシアネート(D)を含有する。 The photomoisture-curable resin composition of the present invention can contain polyisocyanate (D). The photomoisture-curable resin composition of the present invention does not contain polyisocyanate (D) in one aspect thereof, and contains polyisocyanate (D) in another aspect.

ポリイソシアネート(D)は、特に制限されず、光湿気硬化型樹脂組成物(特に、電子基板コーティング用光湿気硬化型樹脂組成物)において用いられている成分又は用いられ得る成分を各種使用することが可能である。 The polyisocyanate (D) is not particularly limited, and various components used in the photo-moisture-curable resin composition (particularly, the photo-moisture-curable resin composition for coating electronic substrates) or components that can be used are used. Is possible.

ポリイソシアネート(D)として、具体的には、例えば、脂肪族ポリイソシアネート化合物、脂環族ポリイソシアネート化合物、芳香族ポリイソシアネート化合物、芳香脂肪族ポリイソシアネート化合物等のポリイソシアネート化合物; ポリイソシアネート化合物の変性体(例えば、イソシアヌレート体、アダクト体、ビウレット体、カルボジイミド体、アロファネート体等)、ポリイソシアネート化合物の多核体等が挙げられる。各ポリイソシアネート化合物については、上述の「ポリイソシアネート化合物のイソシアヌレート変性体(A2)」に関する説明と同様である。 Specific examples of the polyisocyanate (D) include polyisocyanate compounds such as aliphatic polyisocyanate compounds, alicyclic polyisocyanate compounds, aromatic polyisocyanate compounds, and aromatic aliphatic polyisocyanate compounds; modification of polyisocyanate compounds. Examples thereof include isocyanurates, adducts, biurets, carbodiimides, allophanates, etc., polyisocyanate compounds, and the like. Each polyisocyanate compound is the same as the above-mentioned description regarding "isocyanurate modified product of polyisocyanate compound (A2)".

ポリイソシアネート(D)は、1種単独で用いることもできるし、任意の2種以上を組み合わせて用いることもできる。 The polyisocyanate (D) may be used alone or in combination of any two or more.

ポリイソシアネート(D)の含有量は、A成分及びB成分が主成分となる限り特に制限されず、ウレタン(メタ)アクリレート(A)、水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)、及びポリイソシアネート(D)の合計100質量%に対して、例えば0〜15質量%、好ましくは0〜10質量%、より好ましくは0〜7質量%である。 The content of the polyisocyanate (D) is not particularly limited as long as the components A and B are the main components, and urethane (meth) acrylate (A), hydroxyl group-free (meth) acrylate (B), and polyisocyanate ( For example, it is 0 to 15% by mass, preferably 0 to 10% by mass, and more preferably 0 to 7% by mass with respect to the total 100% by mass of D).

光重合開始剤(C)は、特に制限されず、光湿気硬化型樹脂組成物(特に、電子基板コーティング用光湿気硬化型樹脂組成物)において用いられている成分又は用いられ得る成分を各種使用することが可能である。 The photopolymerization initiator (C) is not particularly limited, and various components used in the photo-moisture-curable resin composition (particularly, the photo-moisture-curable resin composition for coating electronic substrates) or components that can be used are used. It is possible to do.

光重合開始剤(C)としては、具体的には、例えば、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェン、フェノキシジクロロアセトフェノン、ブチルジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシメチルフェニルプロパンオン、イソプロピルフェニルヒドロキシメチルプロパンオン、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン及びヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン等のアセトフェノン系開始剤; ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、o−ベンゾイル安息香酸メチルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸エステル、ベンゾイル安息香酸メチル、フェニルベンゾフェノン、トリメチルベンゾフェノン及びヒドロキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤; チオキサントン、クロルチオキサントン、メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジクロロチオキサントン、ジエチルチオキサントン及びジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系開始剤; ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド等のフォスフィン系開始剤等が挙げられる。 Specific examples of the photopolymerization initiator (C) include 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, phenoxydichloroacetophenone, butyldichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, hydroxymethylphenylpropanone, and isopropylphenylhydroxy. Acetphenone-based initiators such as methylpropanone, hydroxycyclohexylphenylketone and hydroxycyclohexylphenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one; benzophenone, benzoylbenzoic acid, methyl o-benzoylbenzoate Benzophenone-based polymerization initiators such as esters, p-dimethylaminobenzoic acid esters, methyl benzoyl benzoates, phenylbenzophenones, trimethylbenzophenones and hydroxybenzophenones; thioxanthone, chlorthioxanthone, methylthioxanthone, isopropylthioxanthone, dichlorothioxanthone, diethylthioxanthone and diisopropylthioxanthone. And other thioxanthone-based initiators; phosphine-based initiators such as bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide and the like can be mentioned.

光重合開始剤(C)は、1種単独で用いることもできるし、任意の2種以上を組み合わせて用いることもできる。 The photopolymerization initiator (C) may be used alone or in combination of any two or more.

光重合開始剤(C)の含有量は、特に制限されず、ウレタン(メタ)アクリレート(A)、水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)、及びポリイソシアネート(D)の合計100質量部に対して、例えば0.1〜15質量部、好ましくは0.3〜10質量部、より好ましくは1〜5質量部である。 The content of the photopolymerization initiator (C) is not particularly limited, and is based on 100 parts by mass of the total of urethane (meth) acrylate (A), hydroxyl group-free (meth) acrylate (B), and polyisocyanate (D). For example, it is 0.1 to 15 parts by mass, preferably 0.3 to 10 parts by mass, and more preferably 1 to 5 parts by mass.

本発明の光湿気硬化型樹脂組成物は、A〜D成分以外の他の成分を含有することができる。他の成分としては、例えばA成分以外のウレタン(メタ)アクリレート、B成分以外の(メタ)アクリレート、各種添加剤等が挙げられる。添加剤としては、光湿気硬化型樹脂組成物(特に、電子基板コーティング用光湿気硬化型樹脂組成物)において用いられている成分又は用いられ得る成分を各種使用することが可能であり、例えば湿気硬化用触媒、重合禁止剤、酸化防止剤、消泡剤、レベリング剤、シランカップリング剤、蛍光剤、紫外線吸収剤、顔料及び溶剤等が挙げられる。 The light-moisture-curable resin composition of the present invention can contain components other than the components A to D. Examples of other components include urethane (meth) acrylates other than the A component, (meth) acrylates other than the B component, and various additives. As the additive, various components used in the light-moisture-curable resin composition (particularly, the light-moisture-curable resin composition for coating electronic substrates) or components that can be used can be used, for example, moisture. Examples thereof include curing catalysts, polymerization inhibitors, antioxidants, defoaming agents, leveling agents, silane coupling agents, fluorescent agents, ultraviolet absorbers, pigments and solvents.

他の成分は、1種単独で用いることもできるし、任意の2種以上を組み合わせて用いることもできる。 The other components may be used alone or in combination of any two or more.

他の成分の含有量は、特に制限されず、本発明の光湿気硬化型樹脂組成物100質量%に対して、例えば15質量%以下、好ましくは10質量%以下、より好ましくは5質量%以下、さらに好ましくは1質量%以下である。該含有量の下限は、例えば0質量%、0.1質量%、0.5質量%である。 The content of the other components is not particularly limited, and is, for example, 15% by mass or less, preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, based on 100% by mass of the photomoisture-curable resin composition of the present invention. , More preferably 1% by mass or less. The lower limit of the content is, for example, 0% by mass, 0.1% by mass, and 0.5% by mass.

2.光湿気硬化樹脂組成物の製造方法
本発明の光湿気硬化型樹脂組成物を製造する方法としては特に限定されず、光湿気硬化型樹脂組成物(特に、電子基板コーティング用光湿気硬化型樹脂組成物)を製造する方法として用いられる従来公知の方法に従って、或いはそれに準じた方法によって製造することができる。
2. 2. Method for Producing Photo-Moisture Curable Resin Composition The method for producing the photo-moisture-curable resin composition of the present invention is not particularly limited, and the photo-moisture-curable resin composition (particularly, photo-moisture-curable resin composition for electronic substrate coating) is not particularly limited. It can be produced according to a conventionally known method used as a method for producing a product), or by a method similar thereto.

本発明の光湿気硬化型樹脂組成物は、例えばウレタン(メタ)アクリレート(A)、水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)、及び光重合開始剤(C)を含む各成分を攪拌混合することにより得ることができる。 In the photomoisture-curable resin composition of the present invention, each component containing, for example, urethane (meth) acrylate (A), hydroxyl group-free (meth) acrylate (B), and photopolymerization initiator (C) is stirred and mixed. Can be obtained by

各成分は、全て同時に又は実質的に同時に混合することもできるし、一部のみを先に混合してから、他の成分を順次添加して混合することもできる。 All of the components can be mixed at the same time or substantially at the same time, or only a part of the components can be mixed first, and then other components can be added and mixed in sequence.

混合温度は、特に制限されるものではないが、例えば15〜40℃である。 The mixing temperature is not particularly limited, but is, for example, 15 to 40 ° C.

混合時間は、特に制限されるものではないが、例えば10〜30分間である。 The mixing time is not particularly limited, but is, for example, 10 to 30 minutes.

3.光湿気硬化樹脂組成物の用途
本発明の光湿気硬化樹脂組成物は、光硬化性及び湿気硬化性の両方に優れ、低粘度であり、且つ硬化時の電気絶縁性(特に、光が当たり難い影部における電気絶縁性)に優れている。したがって、本発明の光湿気硬化樹脂組成物は、例えばコーティング用、特に電子基板のコーティング用に適している。また、本発明によれば、電子基板、及び電子基板上に配置されてなる本発明の光湿気硬化樹脂組成物の硬化物を含む、樹脂コーティング電子基板を提供することもできる。
3. 3. Applications of the photo-moisture-curable resin composition The photo-moisture-curable resin composition of the present invention has excellent photocurability and moisture-curable properties, has a low viscosity, and has electrical insulation properties during curing (particularly, it is difficult to be exposed to light). Excellent electrical insulation in the shadow area). Therefore, the photomoisture-curable resin composition of the present invention is suitable for coating, for example, particularly for coating an electronic substrate. Further, according to the present invention, it is also possible to provide an electronic substrate and a resin-coated electronic substrate containing a cured product of the light-moisture-curable resin composition of the present invention arranged on the electronic substrate.

本発明の光湿気硬化樹脂組成物は、調製時の粘度(B型回転粘度計で測定される23℃の粘度)が、例えば5〜1000mPa・s、好ましくは5〜500mPa・s、より好ましくは5〜400mPa・sである。 The photomoisture-curable resin composition of the present invention has a viscosity at the time of preparation (viscosity at 23 ° C. measured by a B-type rotational viscometer), for example, 5 to 1000 mPa · s, preferably 5 to 500 mPa · s, more preferably. It is 5 to 400 mPa · s.

コーティング方法は、特に制限されず、例えばスプレー塗工、インクジェット塗工等が挙げられる。 The coating method is not particularly limited, and examples thereof include spray coating and inkjet coating.

コーティング後の硬化処理方法は、特に制限されないが、例えば、光照射し、その後数時間〜数日間(例えば8時間〜2日間、好ましくは12時間〜24時間)放置して空気中の湿気により硬化させる方法が挙げられる。 The curing treatment method after coating is not particularly limited, but for example, it is irradiated with light and then left for several hours to several days (for example, 8 hours to 2 days, preferably 12 hours to 24 hours) to be cured by moisture in the air. There is a way to make it.

光照射条件は、硬化可能な条件である限り特に制限されない。照度は、例えば10mW/cm以上、好ましくは20mW/cm以上、より好ましくは30mW/cm以上である。照度の上限は、特に制限されず、例えば1000mW/cm、500mW/cm、100mW/cm、45mW/cmである。光照射時間は、照度に応じて適宜設定されるものであり、特に制限されない。光照射時間は、例えば1〜180秒間、5〜150秒間、15〜120秒間、25〜90秒間、30〜60秒間である。 The light irradiation conditions are not particularly limited as long as they are curable conditions. The illuminance is, for example, 10 mW / cm 2 or more, preferably 20 mW / cm 2 or more, and more preferably 30 mW / cm 2 or more. The upper limit of the illuminance is not particularly limited, for example, 1000mW / cm 2, 500mW / cm 2, 100mW / cm 2, 45mW / cm 2. The light irradiation time is appropriately set according to the illuminance and is not particularly limited. The light irradiation time is, for example, 1 to 180 seconds, 5 to 150 seconds, 15 to 120 seconds, 25 to 90 seconds, and 30 to 60 seconds.

電子基板としては特に限定されず、電源や制御回路、通信等の各種用途に用いられる電子基板等が例示される。電子基板の材質や形状としては特に限定されないが、フェノール樹脂やエポキシ樹脂及びそれらと紙やガラスクロス等を複合成型した柔軟性のないリジッド基板や、シート状のポリイミドやポリエステルからなるフレキシブル基板であることが一般的である。また電子基板に形成される電極や配線材料等についても特に限定されず、これらは、電子基板の所望の位置に形成すればよい。 The electronic board is not particularly limited, and examples thereof include electronic boards used for various purposes such as power supplies, control circuits, and communications. The material and shape of the electronic substrate are not particularly limited, but are inflexible rigid substrates obtained by composite molding of phenolic resin, epoxy resin, paper, glass cloth, etc., and flexible substrates made of sheet-shaped polyimide or polyester. Is common. Further, the electrodes and wiring materials formed on the electronic substrate are not particularly limited, and these may be formed at desired positions on the electronic substrate.

以下に、実施例に基づいて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

(1)光湿気硬化型樹脂組成物の調製
表1に示す配合(数値の単位は質量部である。)に従い光湿気硬化型樹脂組成物を調製した。具体的には、ウレタンアクリレート、アクリレートモノマー(水酸基非含有アクリレート(単官能アクリレート若しくは多官能アクリレート)、又は水酸基含有アクリレート)、及び光重合開始剤(実施例5の場合はさらにイソシアネート)、湿気硬化触媒としてジブチル錫ジラウレートをセパラブルフラスコに投入し、攪拌下で25℃30分間保温することによって、光湿気硬化型樹脂組成物を得た。
(1) Preparation of Light-Moisture Curable Resin Composition A light-moisture-curable resin composition was prepared according to the formulation shown in Table 1 (the unit of the numerical value is a mass part). Specifically, urethane acrylate, acrylate monomer (hydroxyl-free acrylate (monofunctional acrylate or polyfunctional acrylate), or hydroxyl group-containing acrylate), photopolymerization initiator (further isocyanate in the case of Example 5), moisture curing catalyst. Dibutyltin dilaurate was put into a separable flask and kept warm at 25 ° C. for 30 minutes under stirring to obtain a light-moisture-curable resin composition.

使用した材料の詳細は以下の通りである。 Details of the materials used are as follows.

<ウレタンアクリレート>
<ウレタンアクリレートA>
「ヒドロキシエチルアクリレート(水酸基を含有する単官能アクリレート)、ポリプロピレンオキシド(ポリオール)、及びヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート変性体の反応物」
NCO含量=約4.2%
重量平均分子量約13000。
<Urethane acrylate>
<Urethane acrylate A>
"Hydroxyethyl acrylate (monofunctional acrylate containing hydroxyl group), polypropylene oxide (polyol), and isocyanurate modified product of hexamethylene diisocyanate"
NCO content = about 4.2%
Weight average molecular weight about 13000.

<ウレタンアクリレートB>
「ヒドロキシエチルアクリレート(水酸基を含有する単官能アクリレート)、ポリプロピレンオキシド(ポリオール)、及びヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート変性体の反応物」
NCO含量=約5.9%
重量平均分子量約2650。
<Urethane acrylate B>
"Hydroxyethyl acrylate (monofunctional acrylate containing hydroxyl group), polypropylene oxide (polyol), and isocyanurate modified product of hexamethylene diisocyanate"
NCO content = about 5.9%
Weight average molecular weight about 2650.

<ウレタンアクリレートC>
「ヒドロキシエチルアクリレート(水酸基を含有する単官能アクリレート)、ポリプロピレンオキシド(ポリオール)、及びヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート変性体の反応物」
NCO含量=約3.2%
重量平均分子量約76000。
<Urethane acrylate C>
"Hydroxyethyl acrylate (monofunctional acrylate containing hydroxyl group), polypropylene oxide (polyol), and isocyanurate modified product of hexamethylene diisocyanate"
NCO content = about 3.2%
Weight average molecular weight about 76000.

<ウレタンアクリレートD>
ヒドロキシプロピルアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートのモル比が1:1の反応物
NCO含量=約14%
重量平均分子量450。
<Urethane acrylate D>
Reactant NCO content with a molar ratio of hydroxypropyl acrylate to hexamethylene diisocyanate of 1: 1 = about 14%
Weight average molecular weight 450.

<アクリレートモノマー>
IBXA(イソボルニルアクリレート、大阪有機化学社製)脂環式単官能アクリレート
THFA(テトラヒドロフルフリルアクリレート、大阪有機化学社製)単官能アクリレート
1,9−NDA(1,9−ノナンジオールジアクリレート、共栄社化学社製)2官能アクリレート
HPA(ヒドリキシプロピルジアクリレート、大阪有機化学社製)水酸基含有アクリレート。
<Acrylate monomer>
IBXA (isobornyl acrylate, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) alicyclic monofunctional acrylate THFA (tetrahydrofurfuryl acrylate, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) monofunctional acrylate 1,9-NDA (1,9-nonanediol diacrylate, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) Bifunctional acrylate HPA (hydrixipropyl diacrylate, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) hydroxylated acrylate.

<イソシアネート>
TPA−100(旭化成ケミカルズ社製)ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート変性体。
<Isocyanate>
TPA-100 (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.) A modified isocyanurate of hexamethylene diisocyanate.

<光重合開始剤>
Irgacure651(2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェン、BASF社製)。
<Photopolymerization initiator>
Irgacure651 (2,2-dimethoxy-2-phenylacetophen, manufactured by BASF).

<湿気硬化触媒>
TN−12(ジブチル錫ジラウレート、堺化学工業社製)
(2)粘度
B型回転粘度計で測定することにより光湿気硬化型樹脂組成物の粘度(23℃)を測定した。粘度に基づいて、以下の評価基準に従って評価した。
<評価基準>
○:〜500mPa・s。
△:501〜1000 mPa・s。
×:1001mPa・s以上。
<Moisture curing catalyst>
TN-12 (dibutyltin dilaurate, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.)
(2) Viscosity The viscosity (23 ° C.) of the photomoisture-curable resin composition was measured by measuring with a B-type rotational viscometer. Based on the viscosity, it was evaluated according to the following evaluation criteria.
<Evaluation criteria>
◯: ~ 500 mPa · s.
Δ: 501 to 1000 mPa · s.
X: 1001 mPa · s or more.

(3)光硬化性
ガラス上に光湿気硬化型樹脂組成物を膜厚100μmになるように塗布し、高圧水銀ランプで紫外線を照射(34mW/cm、45秒間)して硬化させた。硬化塗膜の表面を指触で評価した。評価基準は以下の通りである。
<評価基準>
○:指紋が残らない。
△:タックあり。
×:指に付着物あり。
(3) A photo- moisture-curable resin composition was applied onto a photocurable glass so as to have a film thickness of 100 μm, and was cured by irradiating with ultraviolet rays (34 mW / cm 2 , 45 seconds) with a high-pressure mercury lamp. The surface of the cured coating film was evaluated by touch. The evaluation criteria are as follows.
<Evaluation criteria>
◯: No fingerprint remains.
△: There is tack.
×: There is deposit on the finger.

(4)湿気硬化性
膏薬缶に光湿気硬化型樹脂組成物を膜厚100μmになるように入れ、遮光状態で23℃湿度25%に放置した。定期的に塗膜を垂直状態に保持し、塗膜が流動するかどうかを調べ、流動しなくなるまでの期間(流動しない程度に硬化するまでの期間)を測定した。測定値に基づいて、以下の評価基準に従って評価した。
<評価基準>
○:流動しなくなるまでの期間が3日未満。
△:流動しなくなるまでの期間が3日以上3週間未満。
×:3週間経過時でも流動する。
(4) A light-moisture-curable resin composition was placed in a moisture-curable plaster can so as to have a film thickness of 100 μm, and left at 23 ° C. and 25% humidity in a light-shielded state. The coating film was held in a vertical state on a regular basis, it was examined whether or not the coating film flowed, and the period until it stopped flowing (the period until it hardened to the extent that it did not flow) was measured. Based on the measured values, evaluation was performed according to the following evaluation criteria.
<Evaluation criteria>
◯: The period until it stops flowing is less than 3 days.
Δ: The period until the fluid stops flowing is 3 days or more and less than 3 weeks.
X: Flows even after 3 weeks have passed.

(5)電気絶縁性
JIS2型くし形基板上に光湿気硬化型樹脂組成物を膜厚100μmになるように塗布した。以下の2つの方法で硬化させてから、電気絶縁性をデジタル超絶縁計にて測定した。
<方法1>高圧水銀ランプで紫外線を照射(34mW/cm、45秒間)後、23℃湿度25%に16時間放置して硬化物を得た。
<方法2>紫外線を照射することなく、23℃湿度25%に3日間遮光した状態で放置して硬化物を得た。
(5) An electrically insulating JIS2 type comb-shaped substrate was coated with a light-moisture-curable resin composition so as to have a film thickness of 100 μm. After curing by the following two methods, the electrical insulation was measured with a digital super insulation meter.
<Method 1> After irradiating ultraviolet rays with a high-pressure mercury lamp (34 mW / cm 2 , 45 seconds), the mixture was left at 23 ° C. and 25% humidity for 16 hours to obtain a cured product.
<Method 2> A cured product was obtained by leaving it in a light-shielded state at 23 ° C. and 25% humidity for 3 days without irradiating it with ultraviolet rays.

方法1による硬化物の電気絶縁性を光硬化部の電気絶縁性、方法2による硬化物の電気絶縁性を陰部の電気絶縁性とした。 The electrical insulation of the cured product according to Method 1 was defined as the electrical insulation of the photocured portion, and the electrical insulation of the cured product according to Method 2 was defined as the electrical insulation of the pubic portion.

(6)結果
結果を表1〜2に示す。
(6) Results The results are shown in Tables 1 and 2.

Figure 0006797420
Figure 0006797420

Figure 0006797420
Figure 0006797420

Claims (9)

(1)水酸基含有単官能(メタ)アクリレート(A1)、ポリイソシアネート化合物のイソシアヌレート変性体(A2)、及びポリオール(A3)の反応物であり、且つ重量平均分子量が1000〜50000であるウレタン(メタ)アクリレート(A)、
(2)水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)、並びに
(3)光重合開始剤(C)、
を含有
前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)のNCO含量が1〜10%であり、且つ
前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)の含有量が、前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)及び前記水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)の合計100質量%に対して7〜45質量%である、
光湿気硬化型樹脂組成物。
(1) Urethane (1) which is a reaction product of a hydroxyl group-containing monofunctional (meth) acrylate (A1), an isocyanurate-modified compound (A2) of a polyisocyanate compound, and a polyol (A3) and has a weight average molecular weight of 1000 to 50,000. Meta) Acrylate (A),
(2) Hydroxyl-free (meth) acrylate (B), and (3) Photopolymerization initiator (C),
Contain,
The NCO content of the urethane (meth) acrylate (A) is 1 to 10%, and
The content of the urethane (meth) acrylate (A) is 7 to 45% by mass with respect to a total of 100% by mass of the urethane (meth) acrylate (A) and the hydroxyl group-free (meth) acrylate (B). ,
Light and moisture curable resin composition.
前記ポリイソシアネート化合物のイソシアヌレート変性体(A2)が、脂肪族ポリイソシアネート化合物のイソシアヌレート変性体である、請求項1に記載の光湿気硬化型樹脂組成物。 The photomoisture-curable resin composition according to claim 1, wherein the isocyanurate-modified product (A2) of the polyisocyanate compound is an isocyanurate-modified product of an aliphatic polyisocyanate compound. 前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)の含有量が、前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)及び前記水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)の合計100質量%に対して10〜40質量%である、請求項1又は2に記載の光湿気硬化型樹脂組成物。 The content of the urethane (meth) acrylate (A) is 10 to 40% by mass with respect to a total of 100% by mass of the urethane (meth) acrylate (A) and the hydroxyl group-free (meth) acrylate (B). The photomoisture-curable resin composition according to claim 1 or 2 . 前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)の含有量が、前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)及び前記水酸基非含有(メタ)アクリレート(B)の合計100質量%に対して25〜35質量%である、請求項1〜のいずれかに記載の光湿気硬化型樹脂組成物。 The content of the urethane (meth) acrylate (A) is 25 to 35% by mass with respect to a total of 100% by mass of the urethane (meth) acrylate (A) and the hydroxyl group-free (meth) acrylate (B). , The photomoisture-curable resin composition according to any one of claims 1 to 3 . さらにポリイソシアネート(D)を含有する、請求項1〜のいずれかに記載の光湿気硬化型樹脂組成物。 The light-moisture-curable resin composition according to any one of claims 1 to 4 , further containing a polyisocyanate (D). コーティング用である、請求項1〜のいずれかに記載の光湿気硬化型樹脂組成物。 The light-moisture-curable resin composition according to any one of claims 1 to 5 , which is used for coating. コーティング対象が電子基板である、請求項に記載の光湿気硬化型樹脂組成物。 The light-moisture-curable resin composition according to claim 6 , wherein the object to be coated is an electronic substrate. 請求項1〜のいずれかに記載の光湿気硬化型樹脂組成物の硬化物。 A cured product of the light-moisture-curable resin composition according to any one of claims 1 to 7 . 電子基板、及び前記電子基板上に配置されてなる請求項に記載の硬化物を含む、樹脂コーティング電子基板。
A resin-coated electronic substrate comprising an electronic substrate and a cured product according to claim 8 arranged on the electronic substrate.
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