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JP6798136B2 - Manufacturing method of joint structure - Google Patents
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Description

本発明は、接合構造体を製造する方法に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing a joined structure.

従来より、液晶ディスプレイなどに用いられている偏光板は、例えば樹脂フィルムからなる偏光子の片面または両面に、透明樹脂からなる保護フィルムを接着剤により貼り合わせることにより製造されていた。
近年においては、コスト低減やディスプレイのフレキシブル性向上のため、偏光板の薄化が求められており、例えば、接着剤を用いずに、偏光子と保護フィルムとを貼り合わせて製造する方法が提案されている。
Conventionally, polarizing plates used in liquid crystal displays and the like have been manufactured by, for example, attaching a protective film made of a transparent resin to one side or both sides of a polarizing element made of a resin film with an adhesive.
In recent years, in order to reduce costs and improve the flexibility of displays, it has been required to make the polarizing plate thinner. For example, a method of manufacturing by laminating a polarizer and a protective film without using an adhesive has been proposed. Has been done.

例えば、特許文献1には、保護フィルムの接合面に対してコロナ処理などによる表面処理を行った後、偏光子と保護フィルムとを貼り合わせて加熱等の処理を行うことにより、偏光板を製造する方法が記載されている。偏光子は、例えばポリビニルアルコール系の樹脂からなる。ポリビニルアルコール系樹脂は、化学構造中にOH基が含まれているため、偏光子は親水性を呈する。一方、保護フィルムにおいては、表面処理によって親水性の官能基であるOH基やCOOH基がその表面に形成される。従って、接合の原理としては、この官能基同士、または官能基に吸着した水を介して生じる水素結合によって接合していると考えられる。 For example, in Patent Document 1, a polarizing plate is manufactured by subjecting a bonding surface of a protective film to a surface treatment such as a corona treatment, and then laminating a polarizer and a protective film and performing a treatment such as heating. How to do it is described. The polarizer is made of, for example, a polyvinyl alcohol-based resin. Since the polyvinyl alcohol-based resin contains an OH group in its chemical structure, the polarizer exhibits hydrophilicity. On the other hand, in the protective film, OH groups and COOH groups, which are hydrophilic functional groups, are formed on the surface of the protective film by surface treatment. Therefore, it is considered that the principle of bonding is that the functional groups are bonded to each other or by hydrogen bonds generated via water adsorbed on the functional groups.

しかしながら、偏光子に対する表面処理を行わない場合には、偏光子の表面に付着した大気中の微細な有機物の存在によって、十分な接合強度が得られないことがある。
このような問題に対して、例えば特許文献2には、保護フィルムにおける接合面とされる表面だけでなく、偏光子における接合面とされる表面に対しても表面処理を行って、偏光子の表面のぬれ性を向上させることが記載されている。さらに、接合強度を高めるために、水蒸気ガスによる水の薄膜を形成することや、シランカップリング剤を併用することが記載されている。
However, when the surface treatment of the polarizer is not performed, sufficient bonding strength may not be obtained due to the presence of fine organic substances in the atmosphere adhering to the surface of the polarizer.
In response to such a problem, for example, in Patent Document 2, not only the surface to be the bonding surface of the protective film but also the surface to be the bonding surface of the polarizer is subjected to surface treatment to obtain the polarizer. It is described to improve the wettability of the surface. Further, it is described that a thin film of water is formed by steam gas and a silane coupling agent is used in combination in order to increase the bonding strength.

特開2008−122502号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-122502 特許第567087号公報Japanese Patent No. 567087

しかしながら、保護フィルムおよび偏光子の各々に表面処理を行って両者を接合させると、接合直後は十分な接合強度が得られるが、時間が経つにつれて、接合強度が低下し、簡単に剥離するという問題が生じることが明らかになった。
このような問題が生ずる原因は、次のように推測される。表面処理(親水化処理)は、例えばコロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、または紫外線照射処理によって、行うことができることが知られている。表面処理によって、偏光子を構成するポリビニルアルコール系樹脂の分子構造を切断し、酸化させるなどして、OH基、COOH基などの親水性官能基が形成される。これにより偏光子の表面が親水性を呈するようになる。また、偏光子の表面には、ポリビニルアルコール系樹脂に由来するOH基を有する低分子化合物からなる有機物(表面処理生成物)が生成される。この表面処理生成物はOH基を含んでいるため、水素結合により接着剤のような役割を果たす。このため、接合直後においては十分な接合強度が得られる。
しかしながら、生成された有機物は、時間経過によって、OH基が失われた状態に変質することが判明した。実際に、各々真空紫外光照射による表面改質処理がなされたPVA樹脂フィルムおよびシクロオレフィン系樹脂フィルムの各々の処理面を接合してから所定時間の時間が経過した後においては、シクロオレフィン系樹脂フィルムが容易に剥離することが確認された。本発明者が、シクロオレフィン系樹脂フィルムが剥離したPVA樹脂フィルムの表面(接合面)をX線光電子分析(XPS)により調べたところ、図10において曲線(b)に示すように、未処理のPVA樹脂フィルムのX線光電子分光スペクトル(曲線(a))には存在していたOH基由来のピーク(C−O)が、なくなっていることが確認された。
このように、表面処理によって、偏光子の表面に生成される有機物は、OH基を有するため、表面処理された保護フィルムの表面における親水性官能基と結合することとなる。然るに、有機物におけるOH基が結合した状態では、時間経過によって、有機物が変質するため、水素結合が失われ、接合強度が低下するものと考えられる。
However, when each of the protective film and the polarizer is surface-treated and bonded to each other, sufficient bonding strength can be obtained immediately after bonding, but the bonding strength decreases over time, and the problem is that the bonding is easily peeled off. It became clear that
The cause of such a problem is presumed as follows. It is known that the surface treatment (hydrophilization treatment) can be performed by, for example, corona treatment, plasma treatment, ozone treatment, or ultraviolet irradiation treatment. By surface treatment, the molecular structure of the polyvinyl alcohol-based resin constituting the polarizer is cut and oxidized to form hydrophilic functional groups such as OH group and COOH group. As a result, the surface of the polarizer becomes hydrophilic. Further, on the surface of the polarizer, an organic substance (surface treatment product) composed of a low molecular weight compound having an OH group derived from a polyvinyl alcohol-based resin is generated. Since this surface treatment product contains OH groups, it acts like an adhesive by hydrogen bonding. Therefore, sufficient bonding strength can be obtained immediately after bonding.
However, it was found that the organic matter produced was altered over time to a state in which the OH group was lost. After a predetermined time has elapsed from joining the treated surfaces of the PVA resin film and the cycloolefin resin film, which have been surface-modified by vacuum ultraviolet light irradiation, the cycloolefin resin is actually used. It was confirmed that the film was easily peeled off. When the present inventor examined the surface (bonding surface) of the PVA resin film from which the cycloolefin resin film was peeled off by X-ray photoelectron analysis (XPS), as shown in the curve (b) in FIG. 10, it was untreated. It was confirmed that the peak (CO) derived from the OH group, which was present in the X-ray photoelectron spectrum (curve (a)) of the PVA resin film, has disappeared.
As described above, since the organic substance generated on the surface of the polarizer by the surface treatment has an OH group, it will be bonded to the hydrophilic functional group on the surface of the surface-treated protective film. However, in the state where the OH groups in the organic substance are bonded, it is considered that the organic substance is denatured with the passage of time, so that the hydrogen bond is lost and the bonding strength is lowered.

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、強固な接合状態を得ることができ、しかも接合強度が経時的に低下することを回避することのできる接合構造体の製造方法および接合構造体の製造装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made based on the above circumstances, and manufactures a bonded structure capable of obtaining a strong bonded state and avoiding a decrease in bonding strength over time. It is an object of the present invention to provide a method and an apparatus for manufacturing a bonded structure.

本発明の接合構造体の製造方法は、第一の接合材に第二の接合材を接合させてなる接合構造体の製造方法であって、
第一の接合材および第二の接合材のうち一以上の接合材における接合面とされる表面のぬれ性を向上させる表面改質処理工程と、
前記表面改質処理工程において表面改質処理がなされた前記接合面に生成された有機物を、当該有機物が除去されるように前記接合面を加熱して除去する有機物除去処理工程と、
当該第一の接合材および当該第二の接合材を、それぞれの接合面とされる表面が密着するように積層して、接合する接合処理工程と
を含むことを特徴とする。
The method for producing a bonded structure of the present invention is a method for producing a bonded structure formed by joining a second bonded material to a first bonded material.
A surface modification treatment step for improving the wettability of the surface to be the joint surface of one or more of the first joint material and the second joint material, and
An organic substance removal treatment step of heating and removing the organic matter generated on the joint surface that has been surface-modified in the surface modification treatment step so that the organic substance is removed .
It is characterized by including a joining treatment step of laminating and joining the first joining material and the second joining material so that the surfaces to be the respective joining surfaces are in close contact with each other.

本発明の接合構造体の製造方法においては、前記表面改質処理工程において表面改質処理がなされた前記接合材が第一の接合材であって、当該第一の接合材として、化学構造中にOH基を有する樹脂からなるものが用いられることが好ましい。具体的には、第一の接合材として、ポリビニルアルコール系樹脂からなるものが用いられることが好ましい。
また、前記第二の接合材としては、第一の接合材と異なる樹脂からなるものが用いられることが好ましい。
In the method for producing a bonded structure of the present invention, the bonding material subjected to the surface modification treatment in the surface modification treatment step is the first bonding material, and the first bonding material is used in the chemical structure. It is preferable to use a resin having an OH group. Specifically, it is preferable to use a material made of a polyvinyl alcohol-based resin as the first bonding material.
Further, as the second bonding material, it is preferable to use a resin made of a resin different from that of the first bonding material.

さらにまた、本発明の接合構造体の製造方法においては、前記表面改質処理工程は、第一の接合材および第二の接合材のうち一以上の接合面とされる表面に真空紫外光を照射することにより、もしくは、第一の接合材および第二の接合材のうち一以上の接合面とされる表面に対する、コロナ処理、プラズマ処理およびオゾン処理の何れかの処理が行われることによって行われることが好ましい。
前記表面改質処理工程が真空紫外光を照射することによって行われる場合には、真空紫外光の照射が、大気雰囲気下もしくは窒素および酸素のいずれか一方または両方を含む雰囲気下で、行われることが好ましい。
Furthermore, in the method for producing a bonded structure of the present invention, in the surface modification treatment step, vacuum ultraviolet light is applied to the surface of one or more of the first bonded material and the second bonded material. By irradiating, or by performing any of corona treatment, plasma treatment, and ozone treatment on the surface of one or more joint surfaces of the first joint material and the second joint material. It is preferable to be
When the surface modification treatment step is performed by irradiating with vacuum ultraviolet light, the irradiation with vacuum ultraviolet light is performed in an air atmosphere or an atmosphere containing either or both of nitrogen and oxygen. Is preferable.

本発明の接合構造体の製造方法は、第一の接合材としての樹脂フィルムからなる偏光子のうち一以上の表面に、第二の接合部材としての透明樹脂フィルムからなる保護材を接合させた偏光板を製造する場合に好適である。 In the method for producing a bonded structure of the present invention, a protective material made of a transparent resin film as a second bonding member is bonded to one or more surfaces of a polarizing element made of a resin film as a first bonding material. It is suitable for manufacturing a polarizing plate.

さらにまた、本発明の接合構造体の製造装置においては、前記表面改質処理部は、真空紫外光照射手段、プラズマ処理手段、コロナ処理手段またはオゾン処理手段を備えた構成とされていることが好ましい。 Furthermore, in the apparatus for manufacturing the bonded structure of the present invention, the surface modification treatment unit is configured to include a vacuum ultraviolet light irradiation means, a plasma treatment means, a corona treatment means, or an ozone treatment means. preferable.

本発明の接合構造体の製造方法および製造装置によれば、少なくとも一方の接合材に対してなされた表面改質処理によって当該接合材の表面に不可避的に生成される有機物が、有機物除去処理によって除去されて当該接合材の親水化された表面が露出された状態とされる。このため、2つの接合材が直接的に接合されるので、強固な接合状態を得ることができ、しかも接合強度が経時的に低下することを回避することができる。
特に、第一の接合材としてポリビニルアルコール系樹脂などの化学構造中にOH基を有する樹脂からなるものが用いられる場合には、第一の接合材に対する有機物除去処理によって、表面にOH基が露出された状態とされて第二の接合材との間に当該OH基による水素結合が形成され、これにより、強固な接合状態を得ることができる。しかも第一の接合材自体は経時的に変質することがないため、接合に関わるOH基が経時的に失われて接合強度が低下することを回避することができる。
According to the method and apparatus for manufacturing a bonded structure of the present invention, an organic substance unavoidably produced on the surface of at least one of the bonded materials by the surface modification treatment is removed by the organic substance removing treatment. It is removed to expose the hydrophilized surface of the bonding material. Therefore, since the two bonding materials are directly bonded, a strong bonding state can be obtained, and it is possible to avoid a decrease in bonding strength over time.
In particular, when a resin having an OH group in the chemical structure such as a polyvinyl alcohol-based resin is used as the first bonding material, the OH group is exposed on the surface by the organic substance removal treatment on the first bonding material. A hydrogen bond is formed by the OH group with the second bonding material in the state of being formed, whereby a strong bonding state can be obtained. Moreover, since the first bonding material itself does not deteriorate over time, it is possible to prevent the OH groups involved in the bonding from being lost over time and the bonding strength from decreasing.

本発明の接合構造体の製造装置に係る偏光板製造装置の一例における構成の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the structure in the example of the polarizing plate manufacturing apparatus which concerns on the manufacturing apparatus of the bonded structure of this invention. 図1に示す偏光板製造装置における、(a)一次接合処理部、(b)二次接合処理部の構成を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows the structure of (a) primary bonding processing part, (b) secondary bonding processing part in the polarizing plate manufacturing apparatus shown in FIG. 本発明の接合構造体の製造装置に係る偏光板製造装置の他の例における構成の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the structure in the other example of the polarizing plate manufacturing apparatus which concerns on the manufacturing apparatus of the bonded structure of this invention. 本発明の接合構造体の製造装置に係る偏光板製造装置の更に他の例における構成の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the structure in still another example of the polarizing plate manufacturing apparatus which concerns on the manufacturing apparatus of the bonded structure of this invention. 図4に示す偏光板製造装置における接合処理部の構成を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows the structure of the bonding processing part in the polarizing plate manufacturing apparatus shown in FIG. 本発明の接合構造体の製造装置に係る偏光板製造装置の更に他の例における構成の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the structure in still another example of the polarizing plate manufacturing apparatus which concerns on the manufacturing apparatus of the bonded structure of this invention. 表面改質処理を行う前の試験用PVAフィルムの一面のAFM写真である。It is an AFM photograph of one side of the PVA film for test before performing the surface modification treatment. 表面改質処理後の試験用PVAフィルムの一面のAFM写真である。It is an AFM photograph of one side of the test PVA film after the surface modification treatment. 有機物除去処理後の試験用PVAフィルムの一面のAFM写真である。It is an AFM photograph of one side of the test PVA film after the organic matter removal treatment. 未処理のPVA樹脂フィルムの表面におけるX線光電子分光スペクトル(曲線(a))および各々真空紫外光照射による表面改質処理がなされたPVA樹脂フィルムおよびシクロオレフィン系樹脂フィルムの各々の処理面を接合してから所定時間の時間が経過した後にシクロオレフィン系樹脂フィルムが剥離したPVA樹脂フィルムの表面(接合面)におけるX線光電子分光スペクトル(曲線(b))を示す図である。The X-ray photoelectron spectrum (curve (a)) on the surface of the untreated PVA resin film and the treated surfaces of the PVA resin film and the cycloolefin-based resin film each surface-modified by vacuum ultraviolet light irradiation are joined. It is a figure which shows the X-ray photoelectron spectrum (curve (b)) on the surface (bonding surface) of the PVA resin film which peeled off the cycloolefin resin film after the elapse of a predetermined time time.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

〔接合構造体の製造方法〕
本発明の接合構造体の製造方法は、第一の接合材および第二の接合材のうち一以上の接合材における接合面とされる表面のぬれ性を向上させる表面改質処理工程と、前記表面改質処理工程において表面改質処理がなされた前記接合面に生成された有機物を除去する有機物除去処理工程と、当該第一の接合材および当該第二の接合材とを、それぞれの接合面とされる表面が密着するように積層して、接合する接合処理工程とを含む。
[Manufacturing method of joint structure]
The method for producing a bonded structure of the present invention includes a surface modification treatment step for improving the wettability of the surface to be a bonded surface in one or more of the first bonded material and the second bonded material, and the above-mentioned. The organic substance removal treatment step of removing the organic matter generated on the joint surface subjected to the surface modification treatment in the surface modification treatment step, and the joint surface of the first joint material and the second joint material, respectively. It includes a joining process of laminating and joining so that the surfaces to be said to be in close contact with each other.

本発明に適用され、表面改質処理がなされる第一の接合材は、例えば、化学構造中にOH基などの親水性官能基を有する樹脂からなるものであることが好ましい。このような樹脂としては、例えばポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体などのポリビニルアルコール系樹脂などのほか、OH基を含む分子を縮合させて形成される樹脂、例えばフェノール樹脂や、分子末端にOH基を含むポリエステル樹脂を例示することができる。
第二の接合材は、例えば第一の接合材とは異なる樹脂からなるものであることが好ましい。第二の接合材を構成する樹脂としては、例えばシクロオレフィンポリマー(COP)などのシクロオレフィン系樹脂などを例示することができる。
第一の接合材および第二の接合材の厚みは、特に限定されるものではないが、後述するように、例えば、第一の接合材としての偏光子の少なくとも一方の表面に、第二の接合部材としての保護材を接合させてなる偏光板を構成する場合には、第一の接合材の厚みは、例えば5〜40μmであり、第二の接合材の厚みは、例えば10〜100μmである。
The first bonding material applied to the present invention and subjected to the surface modification treatment is preferably made of, for example, a resin having a hydrophilic functional group such as an OH group in the chemical structure. Such resins include, for example, polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol-based resins such as ethylene-vinyl alcohol copolymers, resins formed by condensing molecules containing OH groups, such as phenol resins, and molecular terminals. A polyester resin containing an OH group can be exemplified.
The second bonding material is preferably made of, for example, a resin different from that of the first bonding material. As the resin constituting the second bonding material, for example, a cycloolefin-based resin such as a cycloolefin polymer (COP) can be exemplified.
The thickness of the first bonding material and the second bonding material is not particularly limited, but as will be described later, for example, on the surface of at least one of the polarizers as the first bonding material, the second When a polarizing plate formed by joining a protective material as a joining member is formed, the thickness of the first joining material is, for example, 5 to 40 μm, and the thickness of the second joining material is, for example, 10 to 100 μm. is there.

[表面改質処理工程]
表面改質処理工程は、第一の接合材および第二の接合材のうち一以上の接合材における接合面とされる表面のぬれ性を向上(活性化)させる工程であって、例えば、接合面とされる表面に、純水の接触角が50°未満の範囲となる親水性を付与する工程である。具体的には、表面改質処理工程は、少なくとも第一の接合材に対して行われることが好ましい。
表面改質処理工程は、一の接合材および第二の接合材のうち一以上の接合面とされる表面に、例えば、真空紫外光照射処理、プラズマ処理、コロナ処理およびオゾン処理の何れかの処理によって行うことができるが、真空紫外光照射処理により行うことが好ましい。
[Surface modification process]
The surface modification treatment step is a step of improving (activating) the wettability of the surface to be the joint surface of one or more of the first joint material and the second joint material, for example, joining. This is a step of imparting hydrophilicity to the surface to be a surface so that the contact angle of pure water is in the range of less than 50 °. Specifically, the surface modification treatment step is preferably performed on at least the first bonding material.
In the surface modification treatment step, one of, for example, vacuum ultraviolet light irradiation treatment, plasma treatment, corona treatment, and ozone treatment is performed on the surface of one joint material and one or more joint surfaces of the second joint material. Although it can be carried out by treatment, it is preferably carried out by vacuum ultraviolet light irradiation treatment.

真空紫外光照射処理は、波長200nm以下の真空紫外光を照射することにより行われる。真空紫外光の照射は、例えば大気雰囲気下、もしくは窒素および酸素のうち一以上を含む雰囲気下において、行われることが好ましい。
真空紫外光の照射条件は、処理すべき接合材の材質などによって異なるが、例えばポリビニルアルコール系樹脂からなる第一の接合材に対して真空紫外光照射処理を行う場合には、真空紫外光の照射量は、例えば70〜1500mJ/cm2 である。また、例えば、シクロオレフィン系樹脂からなる第二の接合材に対して真空紫外光照射処理を行う場合には、真空紫外光の照射量は、例えば280〜3400mJ/cm2 である。
The vacuum ultraviolet light irradiation treatment is performed by irradiating vacuum ultraviolet light having a wavelength of 200 nm or less. Irradiation with vacuum ultraviolet light is preferably carried out, for example, in an atmospheric atmosphere or an atmosphere containing one or more of nitrogen and oxygen.
The irradiation conditions of vacuum ultraviolet light differ depending on the material of the bonding material to be treated. For example, when the vacuum ultraviolet light irradiation treatment is performed on the first bonding material made of polyvinyl alcohol-based resin, the vacuum ultraviolet light is used. The irradiation amount is, for example, 70 to 1500 mJ / cm 2 . Further, for example, when the vacuum ultraviolet light irradiation treatment is performed on the second bonding material made of the cycloolefin resin, the irradiation amount of the vacuum ultraviolet light is, for example, 280 to 3400 mJ / cm 2 .

プラズマ処理は、例えば、大気圧またはその近傍下において、プロセスガスをプラズマ化し、このプラズマ化したプロセスガスを処理すべき接合材の表面に接触させることにより行われる。
プロセスガスとしては、窒素ガス、アルゴンガスなどを主成分とし、酸素ガスが0.01〜5体積%含有してなるものを使用することが好ましい。または、窒素ガスとクリーンドライエア(CDA)との混合ガスを用いることも可能である。
プラズマ処理は、例えば20〜500mm/秒の処理速度で行われる。また、プラズマ処理は、複数回繰り返して行うことも効果的である。
The plasma treatment is performed, for example, by converting the process gas into plasma at atmospheric pressure or its vicinity, and bringing the plasmaized process gas into contact with the surface of the bonding material to be treated.
As the process gas, it is preferable to use a gas containing nitrogen gas, argon gas or the like as a main component and oxygen gas in an amount of 0.01 to 5% by volume. Alternatively, a mixed gas of nitrogen gas and clean dry air (CDA) can be used.
The plasma treatment is performed at a processing speed of, for example, 20 to 500 mm / sec. It is also effective to repeat the plasma treatment a plurality of times.

コロナ処理は、接合材をコロナ放電下に曝露することにより、あるいは、コロナ放電により生じたイオンを接合材に衝突させることにより、行うことができる。また、オゾン処理は、接合材をオゾン雰囲気に曝露することにより行うことができる。処理条件は、処理すべき接合材の材質などによって適宜設定することができる。 The corona treatment can be carried out by exposing the bonding material to a corona discharge or by colliding the ions generated by the corona discharge with the bonding material. In addition, ozone treatment can be performed by exposing the bonding material to an ozone atmosphere. The treatment conditions can be appropriately set depending on the material of the bonding material to be treated and the like.

[有機物除去処理工程]
有機物除去処理工程は、表面改質処理工程において表面改質処理がなされた第一の接合材および第二の接合材のうち一以上の接合材の表面(以下、「処理面」ともいう。)に生成された有機物を除去する工程である。上記の表面改質処理工程において処理面に対して表面改質処理がなされた場合には、処理面に生成される有機物は、OH基を含む水溶性の低分子化合物からなるため、処理面を水洗する処理および処理面を加熱して有機物を蒸発させる処理のうち一以上によって行うことができる。
[Organic matter removal process]
The organic matter removing treatment step is the surface of one or more of the first joining material and the second joining material that have been surface-modified in the surface modification treatment step (hereinafter, also referred to as “treated surface”). It is a step of removing the organic matter generated in. When the surface modification treatment is performed on the treated surface in the above surface modification treatment step, the organic substance generated on the treated surface is composed of a water-soluble low molecular weight compound containing an OH group, so that the treated surface is affected. It can be carried out by one or more of a treatment of washing with water and a treatment of heating the treated surface to evaporate organic substances.

水洗処理は、例えば、表面改質処理がなされた接合材を純水中に所定時間の時間の間浸漬することにより行うことができる。
水洗処理に用いられる純水の温度は、例えば10〜30℃程度であり、接合材の浸漬時間は5〜60秒間程度である。
また、水洗処理は、表面改質処理がなされた接合材の処理面に対して、純水を吹き付けることにより行われてもよい。
The water washing treatment can be performed, for example, by immersing the surface-modified joint material in pure water for a predetermined time.
The temperature of pure water used for the water washing treatment is, for example, about 10 to 30 ° C., and the immersion time of the bonding material is about 5 to 60 seconds.
Further, the water washing treatment may be performed by spraying pure water on the treated surface of the bonded material that has been subjected to the surface modification treatment.

有機物除去処理工程を水洗処理によって行う場合には、水洗処理後の接合材に残留する純水を除去する処理が行われる。具体的には、水洗処理後の接合材における処理面に空気(乾燥空気)または熱風を吹き付けること、もしくは、水洗処理後の接合材における処理面を加熱すること、もしくはこれらの処理を組合せて行うことなどによる乾燥処理により行うことができる。熱風の吹きつけおよび加熱による乾燥処理においては、加熱温度は、例えば50〜80℃程度である。また、乾燥処理の処理時間は、例えば1〜5分間程度である。 When the organic substance removal treatment step is performed by a water washing treatment, a treatment for removing pure water remaining on the bonding material after the water washing treatment is performed. Specifically, air (dry air) or hot air is blown to the treated surface of the joint material after the water washing treatment, or the treated surface of the joint material after the water washing treatment is heated, or a combination of these treatments is performed. It can be carried out by a drying process such as. In the drying treatment by blowing hot air and heating, the heating temperature is, for example, about 50 to 80 ° C. The processing time of the drying treatment is, for example, about 1 to 5 minutes.

有機物除去処理工程を加熱処理によって行う場合における具体的な加熱条件を挙げると、加熱温度は、例えば50〜80℃程度であり、処理時間は80秒間以上、例えば60〜120秒間程度である。 Specific heating conditions in the case where the organic matter removing treatment step is performed by heat treatment are as follows: the heating temperature is, for example, about 50 to 80 ° C., and the treatment time is 80 seconds or more, for example, about 60 to 120 seconds.

[接合処理工程]
接合処理工程は、第一の接合材および第二の接合材を、それぞれの接合面とされる表面が密着するように積層して、第一の接合材と第二の接合材とを接合する(貼り合わせる)工程である。
接合材同士を接合するための具体的な接合処理としては、(a)2つの接合材を積層した状態において所定時間の間厚み方向に加圧する処理、(b)2つの接合材を積層した状態において所定時間の間加熱する処理、(c)2つの接合材を積層した状態において所定時間の間厚み方向に加圧した後、所定時間の間加熱する処理、または(d)2つの接合材を積層した状態において所定時間の間厚み方向に加圧しながら加熱する処理などが挙げられる。ここに、「所定時間」とは、接合が十分になされるまでの時間である。
[Joining process]
In the joining treatment step, the first joining material and the second joining material are laminated so that the surfaces to be the respective joining surfaces are in close contact with each other, and the first joining material and the second joining material are joined. This is the (bonding) process.
Specific joining treatments for joining the joining materials include (a) a treatment in which the two joining materials are laminated and pressed in the thickness direction for a predetermined time, and (b) a state in which the two joining materials are laminated. The treatment of heating for a predetermined time, (c) a treatment of laminating two bonding materials, pressurizing in the thickness direction for a predetermined time, and then heating for a predetermined time, or (d) two bonding materials. Examples thereof include a process of heating while pressurizing in the thickness direction for a predetermined time in a laminated state. Here, the "predetermined time" is the time until the joining is sufficiently performed.

接合処理における具体的な条件は、接合材を構成する材料などに応じて適宜設定することができる。
例えば、ポリビニルアルコール系樹脂からなる第一の接合材に、シクロオレフィン系樹脂からなる第二の接合材を接合させる場合の具体的な加熱条件を挙げると、加熱温度は例えば60〜80℃である。また、加熱時間は例えば10〜180秒間である。
また、具体的な加圧条件を挙げると、加圧力が0.1〜2MPaである。また、加圧時間は例えば10〜180秒間である。
Specific conditions in the joining process can be appropriately set according to the materials constituting the joining material and the like.
For example, the specific heating conditions for bonding the second bonding material made of a cycloolefin resin to the first bonding material made of a polyvinyl alcohol-based resin are, for example, 60 to 80 ° C. .. The heating time is, for example, 10 to 180 seconds.
Further, as a specific pressurizing condition, the pressing force is 0.1 to 2 MPa. The pressurization time is, for example, 10 to 180 seconds.

〔接合構造体の製造装置〕
本発明の接合構造体の製造装置は、第一の接合材および第二の接合材のうち一以上の接合材における接合面とされる表面のぬれ性を向上させる表面改質処理部と、表面改質処理部において表面改質処理が行われた前記処理面に生成された有機物を除去する有機物除去処理部と、第一の接合材および第二の接合材とをそれぞれの接合面とされる表面が密着するように積層して、接合する接合処理部とを備えている。
[Manufacturing equipment for joint structures]
The apparatus for manufacturing a joint structure of the present invention includes a surface modification treatment portion for improving the wettability of the surface to be a joint surface in one or more of the first joint material and the second joint material, and a surface. The organic matter removing treatment part for removing the organic matter generated on the treated surface subjected to the surface modification treatment in the reforming treatment part, and the first joint material and the second joint material are designated as the respective joint surfaces. It is provided with a joining processing portion for laminating and joining so that the surfaces are in close contact with each other.

表面改質処理部は、真空紫外光照射手段、プラズマ処理手段、コロナ処理手段またはオゾン処理手段を備えた構成とされる。 The surface modification treatment unit is configured to include a vacuum ultraviolet light irradiation means, a plasma treatment means, a corona treatment means, or an ozone treatment means.

有機物除去処理部は、表面改質処理部において表面改質処理がなされた接合材の表面(処理面)を水洗する手段および当該接合材の処理面を加熱する手段のうち一以上を備えた構成とされる。
水洗手段としては、接合材の処理面を純水中に浸漬させる構成のもの、あるいは、接合材の処理面に純水を吹き付ける構成のものを用いることができる。
加熱手段としては、例えば加熱炉やホットプレートなどにより構成することができる。
The organic matter removing treatment unit includes one or more of a means for washing the surface (treated surface) of the bonding material that has undergone the surface modification treatment in the surface modification processing unit with water and a means for heating the treated surface of the bonding material. It is said that.
As the washing means, a structure in which the treated surface of the bonding material is immersed in pure water or a structure in which pure water is sprayed on the treated surface of the bonding material can be used.
The heating means can be configured by, for example, a heating furnace or a hot plate.

有機物除去処理部が、接合材の処理面を水洗する手段を備えた構成とされる場合には、水洗処理後の接合材に在留する水を除去して乾燥させる乾燥手段をさらに備えた構成とされていることが好ましい。乾燥手段は、乾燥空気を吹きつける手段、熱風を吹きつける手段、加熱炉やホットプレートなどの加熱手段により構成することができる。なお、接合材の処理面を水洗する手段および当該接合材の処理面を加熱する手段の両方を備えた構成とされる場合には、乾燥手段を省略することができる。 When the organic matter removing treatment unit is configured to be provided with means for washing the treated surface of the bonding material with water, the configuration is further provided with a drying means for removing water remaining in the bonding material after the water washing treatment and drying the bonding material. It is preferable that it is. The drying means can be composed of a means for blowing dry air, a means for blowing hot air, and a heating means such as a heating furnace or a hot plate. If the configuration is provided with both means for washing the treated surface of the joint material with water and means for heating the treated surface of the joint material, the drying means can be omitted.

接合処理部は、第一の接合材と第二の接合材とを積層した状態において厚み方向に加圧する加圧手段および第一の接合材と第二の接合材とを積層した状態において加熱する加熱手段のうち一以上を備えた構成とされる。あるいは、第一の接合材と第二の接合材とを積層した状態において厚み方向に加圧しながら加熱する手段を備えた構成とされる。 The joining processing portion heats the pressurizing means for pressurizing in the thickness direction in a state where the first joining material and the second joining material are laminated, and the state where the first joining material and the second joining material are laminated. It is configured to include one or more of the heating means. Alternatively, the configuration is provided with means for heating while pressurizing in the thickness direction in a state where the first bonding material and the second bonding material are laminated.

以下においては、樹脂フィルムからなる偏光子の両面の各々に透明樹脂フィルムからなる保護材が設けられた偏光板を製造する場合を例に挙げて、本発明について具体的に説明する。 In the following, the present invention will be specifically described with reference to a case where a polarizing plate having a protective material made of a transparent resin film is provided on both sides of a polarizing element made of a resin film as an example.

図1は、本発明の接合構造体の製造装置に係る偏光板製造装置の一例における構成の概略を示す図である。
この偏光板製造装置は、偏光子供給機構10と、一面側保護フィルム供給機構30と、他面側保護フィルム供給機構40と、偏光子Pの一面に一面側保護フィルムF1を接合して一次接合体Lを得る一次接合処理部50と、一次接合体Lにおける偏光子Pの他面に対する偏光子他面側処理機構60と、一次接合体Lにおける偏光子Pの他面に他面側保護フィルムF2を接合して接合構造体(偏光板)Mを得る二次接合処理部53と、接合構造体を回収する回収機構70とを備えている。
FIG. 1 is a diagram showing an outline of a configuration in an example of a polarizing plate manufacturing apparatus according to the manufacturing apparatus for a bonded structure of the present invention.
In this polarizing plate manufacturing apparatus, the polarizing element supply mechanism 10, the one-sided protective film supply mechanism 30, the other-sided protective film supply mechanism 40, and the one-sided protective film F1 are bonded to one surface of the polarizer P for primary bonding. The primary junction processing unit 50 for obtaining the body L, the polarizer other surface side processing mechanism 60 for the other surface of the polarizing element P in the primary junction L, and the other surface side protective film on the other surface of the polarizer P in the primary junction L. It is provided with a secondary bonding processing unit 53 that joins F2 to obtain a bonding structure (polarizing plate) M, and a recovery mechanism 70 that recovers the bonding structure.

偏光子供給機構10は、長尺な帯状の偏光子Pが巻回された偏光子原反ロール12を備えた偏光子供給部11と、偏光子Pの一面に対する偏光子一面側処理機構と、偏光子搬送手段としての複数の搬送ローラ13a〜13cとを備えている。偏光子Pは、例えばポリビニルアルコール樹脂製の1軸延伸フィルムからなる。
偏光子一面側処理機構は、偏光子供給部11から一次接合処理部50に至る搬送路に沿った位置に配置された表面改質処理部15および有機物除去処理部20を備えている。
The polarizer supply mechanism 10 includes a polarizer 11 having a polarizer original roll 12 around which a long strip-shaped polarizer P is wound, a polarizer one-sided processing mechanism for one surface of the polarizer P, and a mechanism for processing one surface of the polarizer P. A plurality of transport rollers 13a to 13c are provided as the polarizer transport means. The polarizer P is made of, for example, a uniaxially stretched film made of polyvinyl alcohol resin.
The polarizer one-sided processing mechanism includes a surface modification processing unit 15 and an organic matter removing processing unit 20 arranged at positions along a transport path from the polarizing element supply unit 11 to the primary bonding processing unit 50.

この例における表面改質処理部15は、例えば、大気雰囲気下において真空紫外光を偏光子の表面に照射する真空紫外光照射手段16を備えている。真空紫外光照射手段16における真空紫外光源としては、例えば波長172nmに輝線を有するキセノンエキシマランプ等のエキシマランプ、波長185nmに輝線を有する低圧水銀ランプ、波長120〜200nmの範囲に輝線を有する重水素ランプなどを用いることができるが、エキシマランプを用いることが好ましい。 The surface modification processing unit 15 in this example includes, for example, a vacuum ultraviolet light irradiation means 16 that irradiates the surface of the polarizer with vacuum ultraviolet light in an atmospheric atmosphere. Examples of the vacuum ultraviolet light source in the vacuum ultraviolet light irradiation means 16 include an excimer lamp such as a xenon excimer lamp having a emission line at a wavelength of 172 nm, a low-pressure mercury lamp having a emission line at a wavelength of 185 nm, and deuterium having a emission line in the wavelength range of 120 to 200 nm. Although a lamp or the like can be used, it is preferable to use an excimer lamp.

この例における有機物除去処理部20は、例えば、表面改質処理がなされた偏光子Pの表面(処理面)を水洗する水洗処理部21と、水洗処理後の偏光子Pに残留する水を除去する乾燥処理部25とを備えている。
偏光子Pの水洗処理部21は、例えば、所定温度の純水Wが貯留された水槽23を有する水洗手段22により構成されており、水槽23内には、偏光子Pの搬送路に設けられた一の搬送ローラ13bがその一部が浸漬された状態で配置されている。
乾燥処理部25は、例えば、乾燥空気を吹き付けるノズル(図示せず)と、当該ノズルにフィルターを介して接続されたブロワー(図示せず)とを備えた乾燥手段26により構成することができる。
The organic matter removing treatment unit 20 in this example removes, for example, the water washing treatment unit 21 for washing the surface (treated surface) of the polarizing element P subjected to the surface modification treatment and the water remaining on the polarizing element P after the water washing treatment. It is provided with a drying processing unit 25 for processing.
The water washing treatment unit 21 of the polarizer P is composed of, for example, a water washing means 22 having a water tank 23 in which pure water W having a predetermined temperature is stored, and is provided in the water tank 23 in a transport path of the polarizer P. Only one transport roller 13b is arranged in a state where a part thereof is immersed.
The drying processing unit 25 can be composed of, for example, a drying means 26 including a nozzle for blowing dry air (not shown) and a blower (not shown) connected to the nozzle via a filter.

一面側保護フィルム供給機構30は、長尺な帯状の一面側保護フィルムF1が巻回された保護材原反ロール32を備えた一面側保護材供給部31と、一面側保護材供給部31から一次接合処理部50に至る搬送路に沿った位置に配置された表面改質処理部35と、保護フィルム搬送手段としての搬送ローラ33とを備えている。なお、保護フィルム搬送手段としての搬送ローラの数は、特に限定されるものではない。
表面改質処理部35は、偏光子供給機構10における表面改質処理部15と同様の構成とすることができ、例えば真空紫外光照射手段16を備えた構成とされている。真空紫外光照射手段16における真空紫外光源は、例えばキセノンエキシマランプである。
The one-sided protective film supply mechanism 30 is provided from the one-sided protective material supply unit 31 provided with the protective material raw roll 32 around which the long strip-shaped one-sided protective film F1 is wound, and the one-sided protective material supply unit 31. It includes a surface modification processing unit 35 arranged at a position along a transfer path leading to the primary bonding processing unit 50, and a transfer roller 33 as a protective film transfer means. The number of transport rollers as the protective film transport means is not particularly limited.
The surface modification processing unit 35 can have the same configuration as the surface modification processing unit 15 in the polarizing element supply mechanism 10, and is provided with, for example, a vacuum ultraviolet light irradiation means 16. The vacuum ultraviolet light source in the vacuum ultraviolet light irradiation means 16 is, for example, a xenon excimer lamp.

他面側保護フィルム供給機構40は、長尺な帯状の他面側保護フィルムF2が巻回された保護材原反ロール42を備えた他面側保護材供給部41と、他面側保護材供給部41から二次接合処理部53に至る搬送路に沿った位置に配置された表面改質処理部45と、保護フィルム搬送手段としての搬送ローラ43とを備えている。なお、保護フィルム搬送手段としての搬送ローラの数は、特に限定されるものではない。
表面改質処理部45は、偏光子供給機構10における表面改質処理部15と同様の構成とすることができ、例えば真空紫外光照射手段16を備えた構成とされている。真空紫外光照射手段16における真空紫外光源は、例えばキセノンエキシマランプである。
The other-side protective film supply mechanism 40 includes a other-side protective material supply unit 41 provided with a protective material raw roll 42 around which a long strip-shaped other-side protective film F2 is wound, and a other-side protective material. It includes a surface modification processing unit 45 arranged at a position along a transfer path from the supply unit 41 to the secondary bonding processing unit 53, and a transfer roller 43 as a protective film transfer means. The number of transport rollers as the protective film transport means is not particularly limited.
The surface modification processing unit 45 can have the same configuration as the surface modification treatment unit 15 in the polarizer supply mechanism 10, and is provided with, for example, a vacuum ultraviolet light irradiation means 16. The vacuum ultraviolet light source in the vacuum ultraviolet light irradiation means 16 is, for example, a xenon excimer lamp.

偏光子他面側処理機構60は、一次接合処理部50から二次接合処理部53に至る搬送路に沿った位置に配置された表面改質処理部61および有機物除去処理部62と、偏光子Pおよび一面側保護フィルムF1の両者が接合されてなる一次接合体の搬送手段としての複数の搬送ローラ65a〜65cとを備えている。
表面改質処理部61および有機物除去処理部62は、偏光子一面側処理機構における表面改質処理部15および有機物除去処理部20と同様の構成とすることができる。
例えば、表面改質処理部61は、大気圧雰囲気下において、真空紫外光を一次接合体Lにおける偏光子Pの他面に照射する紫外光照射手段16を備えた構成とされている。紫外光照射手段16における真空紫外光源は、例えばキセノンエキシマランプである。
また、有機物除去処理部62は、一次接合体Lにおける表面改質処理がなされた表面(偏光子Pの他面)を水洗する水洗処理部63と、水洗処理後の一次接合体Lに残留する水を除去する乾燥処理部64とを備えている。水洗処理部63は、例えば、所定温度の純水Wが貯留された水槽23内に、一次接合体Lの搬送路に設けられた一の搬送ローラ65bがその一部が浸漬された状態で配置されて構成された水洗手段22により構成されている。乾燥処理部64は、例えば、乾燥空気を吹き付けるノズル(図示せず)と、当該ノズルにフィルターを介して接続されたブロワー(図示せず)とを備えた乾燥手段26により構成することができる。
The polarizer other surface side processing mechanism 60 includes a surface modification processing unit 61 and an organic matter removal processing unit 62 arranged at positions along a transport path from the primary bonding processing unit 50 to the secondary bonding processing unit 53, and a polarizing element. It is provided with a plurality of transport rollers 65a to 65c as a transport means for a primary bonded body formed by joining both P and the one-side protective film F1.
The surface modification treatment unit 61 and the organic matter removal treatment unit 62 can have the same configuration as the surface modification treatment unit 15 and the organic matter removal treatment unit 20 in the polarizer one-sided treatment mechanism.
For example, the surface modification processing unit 61 is configured to include an ultraviolet light irradiating means 16 that irradiates the other surface of the polarizer P in the primary junction L with vacuum ultraviolet light in an atmospheric pressure atmosphere. The vacuum ultraviolet light source in the ultraviolet light irradiation means 16 is, for example, a xenon excimer lamp.
Further, the organic matter removing treatment unit 62 remains in the water washing treatment unit 63 for washing the surface of the primary joint L that has undergone the surface modification treatment (the other surface of the polarizer P) with water and the primary joint L after the water washing treatment. It is provided with a drying treatment unit 64 for removing water. In the water washing treatment unit 63, for example, one transport roller 65b provided in the transport path of the primary joint L is arranged in a water tank 23 in which pure water W having a predetermined temperature is stored, in a state where a part thereof is immersed. It is composed of the washing means 22 which is configured by the above. The drying processing unit 64 can be composed of, for example, a drying means 26 including a nozzle for blowing dry air (not shown) and a blower (not shown) connected to the nozzle via a filter.

一次接合処理部50は、図2(a)に示すように、互いに圧接されて配置された一対の圧着ローラ51a,51bを備えており、当該圧着ローラ51a,51bによって、偏光子Pおよび一面側保護フィルムF1がそれぞれの処理面(接合面とされる表面)Pa,Faが密着するよう積層された状態で、加圧されることにより接合処理が行われる構成とされている。
また、圧着ローラ51a,51bのうち一以上は、例えばヒータなどの加熱手段が内蔵された構成とすることができる。このような構成のものにおいては、偏光子Pおよび一面側保護フィルムF1がそれぞれの処理面Pa,Faが積層された状態で、加熱されながら加圧されることにより接合処理が行われる。なお、一対の圧着ローラ51a,51bの配置位置より下流側の位置に加熱手段が別個に配置された構成とされていてもよい。
As shown in FIG. 2A, the primary bonding processing unit 50 includes a pair of crimping rollers 51a and 51b arranged so as to be pressed against each other, and the crimping rollers 51a and 51b cause the polarizer P and the one-sided side. The protective film F1 is laminated so that the respective treated surfaces (surfaces to be joined surfaces) Pa and Fa are in close contact with each other, and the bonding treatment is performed by applying pressure.
Further, one or more of the crimping rollers 51a and 51b may have a structure in which a heating means such as a heater is built-in. In such a configuration, the polarizing element P and the one-side protective film F1 are bonded by being pressed while being heated in a state where the respective treatment surfaces Pa and Fa are laminated. It should be noted that the heating means may be separately arranged at a position downstream of the arrangement position of the pair of crimping rollers 51a and 51b.

二次接合処理部53は、図2(b)に示すように、互いに圧接されて配置された一対の圧着ローラ54a,54bを備えており、当該圧着ローラ54a,54bによって、一次接合体Lおよび他面側保護フィルムF2がそれぞれの処理面La,Fbが積層された状態で、加圧されることにより接合処理が行われる構成とされている。
また、圧着ローラ54a,54bのうち一以上は、例えばヒータなどの加熱手段が内蔵された構成とすることができる。このような構成のものにおいては、一次接合体Lおよび他面側保護フィルムF2がそれぞれの処理面(接合面とされる表面)La,Fbが密着するよう積層された状態で、加熱されながら加圧されることにより接合処理が行われる。なお、一対の圧着ローラ54a,54bの配置位置より下流側の位置に加熱手段が別個に配置された構成とされていてもよい。
As shown in FIG. 2B, the secondary joining processing unit 53 includes a pair of crimping rollers 54a and 54b arranged so as to be pressed against each other, and the crimping rollers 54a and 54b cause the primary joining body L and The other surface side protective film F2 is configured such that the bonding process is performed by pressurizing the treated surfaces La and Fb in a laminated state.
Further, one or more of the crimping rollers 54a and 54b may have a structure in which a heating means such as a heater is built-in. In such a configuration, the primary joint L and the other side protective film F2 are laminated while being heated so that the respective treated surfaces (surfaces to be joint surfaces) La and Fb are in close contact with each other. The joining process is performed by being pressed. It should be noted that the heating means may be separately arranged at a position downstream of the arrangement position of the pair of crimping rollers 54a and 54b.

回収機構70は、接合構造体Mをロール状に巻き取って回収する接合体巻き取りロール71を備えている。 The recovery mechanism 70 includes a joint winding roll 71 that winds and collects the joint structure M in a roll shape.

而して、上記の偏光板製造装置においては、次のようにして、接合構造体(偏光板)Mが製造される。 Thus, in the above-mentioned polarizing plate manufacturing apparatus, the bonded structure (polarizing plate) M is manufactured as follows.

偏光子供給機構10においては、偏光子供給部11における偏光子原反ロール12から偏光子Pが送り出されて表面改質処理部15に搬送されると、表面改質処理部15を構成する真空紫外光照射手段16によって、真空紫外光が偏光子Pの一面に照射されることにより、偏光子Pの一面のぬれ性を向上させる表面改質処理がなされる。また、真空紫外光の照射によって、偏光子Pの一面に付着している有機物が除去される。表面改質処理部15によって表面改質処理がなされた偏光子Pは、続いて有機物除去処理部20に送られる。すなわち、有機物除去処理部20においては、先ず、水洗処理部21において偏光子Pの処理面Paを純水W中に浸漬させることによる水洗処理が行われる。これにより、真空紫外光照射によって偏光子Pの一面に生成された有機物が除去される。水洗処理によって処理面Paにおける有機物が除去された偏光子Pは、続いて乾燥処理部25に送られ、乾燥手段26によって、例えば乾燥空気を偏光子Pの処理面Paに吹き付けることにより偏光子Pの表面に残留する水分を除去する乾燥処理が行われる。 In the polarizer supply mechanism 10, when the polarizer P is sent out from the polarizer original roll 12 in the polarizer supply unit 11 and conveyed to the surface modification processing unit 15, the vacuum constituting the surface modification processing unit 15 is formed. By irradiating one surface of the polarizer P with vacuum ultraviolet light by the ultraviolet light irradiating means 16, a surface modification treatment for improving the wettability of one surface of the polarizer P is performed. Further, by irradiating with vacuum ultraviolet light, organic substances adhering to one surface of the polarizer P are removed. The polarizer P whose surface has been modified by the surface modification processing unit 15 is subsequently sent to the organic substance removal processing unit 20. That is, in the organic matter removing treatment unit 20, first, the water washing treatment unit 21 performs a water washing treatment by immersing the treated surface Pa of the polarizer P in pure water W. As a result, the organic matter generated on one surface of the polarizer P by the vacuum ultraviolet light irradiation is removed. The polarizer P from which the organic matter on the treated surface Pa has been removed by the water washing treatment is subsequently sent to the drying processing unit 25, and the polarizer P is blown by the drying means 26, for example, dry air onto the treated surface Pa of the polarizer P. A drying process is performed to remove the moisture remaining on the surface of the polarized light.

また、一面側保護フィルム供給機構30においては、一面側保護材供給部31における保護材原反ロール32から一面側保護フィルムF1が送り出されて表面改質処理部35に搬送される。表面改質処理部35においては、真空紫外光照射手段16によって、真空紫外光が一面側保護フィルムF1の一面に照射されることにより、一面側保護フィルムF1の一面のぬれ性を向上させる表面改質処理がなされる。また、真空紫外光の照射によって、一面側保護フィルムF1の一面に付着している有機物が除去される。 Further, in the one-sided protective film supply mechanism 30, the one-sided protective film F1 is sent out from the protective material raw roll 32 in the one-sided protective material supply unit 31 and conveyed to the surface modification processing unit 35. In the surface modification treatment unit 35, the vacuum ultraviolet light irradiation means 16 irradiates one surface of the one-side protection film F1 with the vacuum ultraviolet light to improve the wettability of one surface of the one-side protection film F1. Quality treatment is done. Further, by irradiating with vacuum ultraviolet light, organic substances adhering to one surface of the one-side protective film F1 are removed.

このようにして、各々接合面とされるべき表面の処理がなされた偏光子Pおよび一面側保護フィルムF1が、互いに同期がとられた状態で、一次接合処理部50に送られる。一次接合処理部50においては、圧着ローラ51a,51bによって、偏光子Pおよび一面側保護フィルムF1が、それぞれの処理面Pa,Faが密着するよう、積層された状態で、加圧もしくは加熱されながら加圧されることにより接合処理が行われる。これにより、偏光子Pの一面に一面側保護フィルムF1が接合されてなる一次接合体Lが得られ、一次接合体Lは、偏光子他面側処理機構60に送り出される。 In this way, the polarizer P and the one-sided protective film F1 each of which has been subjected to surface treatment to be a joint surface are sent to the primary joint processing unit 50 in a state of being synchronized with each other. In the primary bonding processing section 50, the polarizing elements P and the one-side protective film F1 are laminated by the pressure-bonding rollers 51a and 51b so that the respective processing surfaces Pa and Fa are in close contact with each other, while being pressurized or heated. The joining process is performed by applying pressure. As a result, a primary bonded body L in which the one-sided protective film F1 is bonded to one surface of the polarizer P is obtained, and the primary bonded body L is sent to the polarizer other-side processing mechanism 60.

偏光子他面側処理機構60においては、一次接合体Lは、表面改質処理部61に搬送される。表面改質処理部61においては、真空紫外光照射手段16によって、真空紫外光が一次接合体Lにおける偏光子Pの他面に照射されることにより、偏光子Pの他面のぬれ性を向上させる表面改質処理がなされる。また、真空紫外光の照射によって、偏光子Pの他面に付着している有機物が除去される。表面改質処理部61において偏光子Pの他面の表面改質がなされた一次接合体Lは、続いて有機物除去処理部62に送られる。有機物除去処理部62においては、先ず、水洗処理部63において一次接合体Lの処理面(偏光子Pの他面)Laを純水W中に浸漬させることによる水洗処理が行われる。これにより、真空紫外光照射によって偏光子Pの他面に生成された有機物が除去される。水洗処理によって処理面Laにおける有機物が除去された一次接合体Lは、続いて乾燥処理部64に送られ、乾燥手段26によって、例えば乾燥空気を一次接合体Lの処理面Laに吹き付けることにより一次接合体Lの表面に残留する水分を除去する乾燥処理が行われる。 In the polarizer other surface side processing mechanism 60, the primary joint L is conveyed to the surface modification processing unit 61. In the surface modification processing unit 61, the vacuum ultraviolet light irradiation means 16 irradiates the other surface of the polarizer P in the primary junction L with the vacuum ultraviolet light to improve the wettability of the other surface of the polarizer P. Surface modification treatment is performed. Further, by irradiating with vacuum ultraviolet light, organic substances adhering to the other surface of the polarizer P are removed. The primary bonded body L whose surface has been modified on the other surface of the polarizer P in the surface modification processing unit 61 is subsequently sent to the organic substance removal processing unit 62. In the organic matter removing processing unit 62, first, the water washing treatment unit 63 performs a water washing treatment by immersing the treated surface (the other surface of the polarizer P) La of the primary joint L in pure water W. As a result, the organic matter generated on the other surface of the polarizer P by the vacuum ultraviolet light irradiation is removed. The primary joint L from which the organic matter on the treated surface La has been removed by the water washing treatment is subsequently sent to the drying treatment unit 64, and the primary joint L is first blown by the drying means 26, for example, by blowing dry air onto the treated surface La of the primary joint L. A drying treatment is performed to remove the water remaining on the surface of the bonded body L.

一方、他面側保護フィルム供給機構40においては、他面側保護材供給部41における保護材原反ロール42から他面側保護フィルムF2が送り出されて表面改質処理部45に搬送される。表面改質処理部45においては、真空紫外光照射手段16によって、真空紫外光が他面側保護フィルムF2の一面に照射されることにより、他面側保護フィルムF2の一面のぬれ性を向上させる表面改質処理がなされる。また、真空紫外光の照射によって、他面側保護フィルムF2の一面に付着している有機物が除去される。 On the other hand, in the other side protective film supply mechanism 40, the other side protective film F2 is sent out from the protective material raw roll 42 in the other side protective material supply unit 41 and conveyed to the surface modification processing unit 45. In the surface modification treatment unit 45, the vacuum ultraviolet light irradiation means 16 irradiates one surface of the other surface side protective film F2 with vacuum ultraviolet light to improve the wettability of one surface of the other surface side protective film F2. Surface modification treatment is performed. Further, by irradiating with vacuum ultraviolet light, organic substances adhering to one surface of the other surface side protective film F2 are removed.

このようにして、各々接合面とされるべき表面に対する処理がなされた一次接合体Lおよび他面側保護フィルムF2が、互いに同期がとられた状態で、二次接合処理部53に送られる。二次接合処理部53においては、圧着ローラ54a,54bによって、一次接合体Lおよび他面側保護フィルムF2が、それぞれの処理面La,Fbが密着するよう積層された状態で、加圧もしくは加熱されながら加圧されることにより接合処理が行われる。これにより、一次接合体Lにおける偏光子Pの他面に他面側保護フィルムF2が接合されてなる接合構造体(偏光板)Mが得られる。接合構造体Mは、回収機構70における接合体巻き取りロール71によって巻き取られて回収される。 In this way, the primary bonded body L and the other surface side protective film F2, each of which has been treated on the surface to be the joint surface, are sent to the secondary joint processing unit 53 in a state of being synchronized with each other. In the secondary bonding processing section 53, the primary bonding body L and the other surface side protective film F2 are laminated by the crimping rollers 54a and 54b so that the respective processing surfaces La and Fb are in close contact with each other, and are pressurized or heated. The joining process is performed by pressurizing while being pressed. As a result, a bonded structure (polarizing plate) M in which the protective film F2 on the other surface side is bonded to the other surface of the polarizer P in the primary bonded body L is obtained. The joint structure M is wound and collected by the joint take-up roll 71 in the recovery mechanism 70.

而して、上記の偏光板製造装置により実行される方法によれば、偏光子Pに対する真空紫外光照射による表面改質処理によって偏光子Pの表面に不可避的に生成される、偏光子Pの構成材料であるポリビニルアルコール樹脂における親水性官能基に由来する有機物が、水洗処理による有機物除去処理によって除去される。これにより、偏光子Pの表面は、偏光子Pの構成材料に由来するOH基が露出された状態とされ、表面改質処理がなされた一面側保護フィルムF1の処理面との間および他面側保護フィルムF2の処理面との間に当該OH基による水素結合が形成される。偏光子Pの構成材料としてのポリビニルアルコール樹脂の組成自体は経時的に変化しないため、接合に関わるOH基の経時的な変質による接合強度の低下が生ずることを回避することができ、信頼性の高い接合状態を得ることができる。 Therefore, according to the method executed by the above-mentioned polarizing plate manufacturing apparatus, the polarizer P is inevitably generated on the surface of the polarizer P by the surface modification treatment by irradiating the polarizer P with vacuum ultraviolet light. Organic substances derived from hydrophilic functional groups in the constituent material, polyvinyl alcohol resin, are removed by an organic substance removing treatment by washing with water. As a result, the surface of the polarizer P is in a state where the OH groups derived from the constituent materials of the polarizer P are exposed, and is between the surface of the one-side protective film F1 and the other surface of the surface-modified protective film F1. A hydrogen bond due to the OH group is formed with the treated surface of the side protective film F2. Since the composition of the polyvinyl alcohol resin itself as a constituent material of the polarizer P does not change with time, it is possible to prevent a decrease in bonding strength due to deterioration of the OH group involved in bonding with time, and it is reliable. A high bonding state can be obtained.

以上においては、表面改質処理がなされた偏光子Pの表面に対する有機物除去処理が水洗処理によって行われる実施形態について説明したが、有機物除去処理を加熱処理によって行う場合には、図3に示すように、有機物除去処理部20,62を、水洗手段22および乾燥手段26に代えて、加熱手段29を備えた構成とすればよい。このような構成の偏光板製造装置においても、上記の偏光板製造装置と同様の効果を得ることができる。 In the above, the embodiment in which the organic matter removing treatment on the surface of the polarizing element P subjected to the surface modification treatment is performed by the water washing treatment has been described, but when the organic matter removing treatment is performed by the heat treatment, as shown in FIG. In addition, the organic matter removing treatment units 20 and 62 may be configured to include the heating means 29 instead of the water washing means 22 and the drying means 26. Even in a polarizing plate manufacturing apparatus having such a configuration, the same effect as that of the above-mentioned polarizing plate manufacturing apparatus can be obtained.

また、本発明に係る偏光板製造装置においては、一面側保護フィルムF1および他面側保護フィルムF2が偏光子Pの両面の各々に同時に接合される構成とされていてもよい。
図4は、本発明の接合構造体の製造装置に係る偏光板製造装置のさらに他の例における構成の概略を示す図である。
この偏光板製造装置は、偏光子供給機構10と、一面側保護フィルム供給機構30と、他面側保護フィルム供給機構40と、偏光子Pの両面の各々に一面側保護フィルムF1および他面側保護フィルムF2を接合して接合構造体(偏光板)Mを得る接合処理部56と、接合構造体Mを回収する回収機構70とを備えている。図4においては、図1に示す偏光板製造装置における同一の構成部材には、同一の符号が付してあり、説明を省略する。
Further, in the polarizing plate manufacturing apparatus according to the present invention, the one-side protective film F1 and the other-side protective film F2 may be simultaneously bonded to both sides of the polarizing element P.
FIG. 4 is a diagram showing an outline of a configuration in still another example of the polarizing plate manufacturing apparatus according to the apparatus for manufacturing the bonded structure of the present invention.
In this polarizing plate manufacturing apparatus, the polarizing element supply mechanism 10, the one-side protection film supply mechanism 30, the other-side protection film supply mechanism 40, and the one-side protection film F1 and the other-side protection film F1 on both sides of the polarizing element P are provided. It is provided with a joining processing unit 56 for joining the protective film F2 to obtain a joining structure (polarizing plate) M, and a recovery mechanism 70 for recovering the joining structure M. In FIG. 4, the same constituent members in the polarizing plate manufacturing apparatus shown in FIG. 1 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

この偏光板製造装置における偏光子供給機構10は、表面改質処理部15が、真空紫外光照射手段16が偏光子Pの搬送路を挟んで一面側および他面側の各々に配置された構成とされていることの他は、図1に示す偏光板製造装置における偏光子供給機構10と同様の構成を有する。 The polarizer supply mechanism 10 in this polarizing plate manufacturing apparatus has a configuration in which the surface modification processing unit 15 is arranged on one side and the other side with the vacuum ultraviolet light irradiation means 16 sandwiching the transport path of the polarizer P. Other than the above, it has the same configuration as the polarizer supply mechanism 10 in the polarizing plate manufacturing apparatus shown in FIG.

この偏光板製造装置においては、表面改質処理部15を構成する真空紫外光照射手段16,16によって、真空紫外光が偏光子Pの一面および他面の各々に照射されることにより、偏光子Pの一面のぬれ性および他面のぬれ性を向上させる表面改質処理がなされる。また、真空紫外光の照射によって、偏光子Pの一面および他面に付着している有機物が除去される。表面改質処理部15によって表面改質処理がなされた偏光子Pは、続いて有機物除去処理部20に送られる。すなわち、有機物除去処理部20においては、先ず、水洗処理部21において偏光子Pの処理面を純水W中に浸漬させることによる水洗処理が行われる。これにより、真空紫外光照射によって偏光子Pの処理面に生成された有機物が除去される。水洗処理によって処理面における有機物が除去された偏光子Pは、続いて乾燥処理部25に送られ、乾燥手段26によって、例えば乾燥空気を偏光子Pの処理面に吹き付けることにより偏光子Pの表面に残留する水分を除去する乾燥処理が行われる。 In this polarizing plate manufacturing apparatus, the vacuum ultraviolet light irradiating means 16 and 16 constituting the surface modification processing unit 15 irradiate each of one surface and the other surface of the polarizer P with the vacuum ultraviolet light, thereby causing the polarizing element. A surface modification treatment is performed to improve the wettability of one surface of P and the wettability of the other surface. Further, by irradiation with vacuum ultraviolet light, organic substances adhering to one surface and the other surface of the polarizer P are removed. The polarizer P whose surface has been modified by the surface modification processing unit 15 is subsequently sent to the organic substance removal processing unit 20. That is, in the organic matter removing treatment unit 20, first, the water washing treatment unit 21 performs a water washing treatment by immersing the treated surface of the polarizer P in pure water W. As a result, the organic matter generated on the treated surface of the polarizer P by the vacuum ultraviolet light irradiation is removed. The polarizer P from which the organic matter on the treated surface has been removed by the water washing treatment is subsequently sent to the drying treatment unit 25, and the surface of the polarizer P is sprayed with, for example, dry air by the drying means 26. A drying process is performed to remove the water remaining in the polarized light.

また、一面側保護フィルム供給機構30および他面側保護フィルム供給機構40においては、一面側保護フィルムF1および他面側保護フィルムF2の各々における接合面とされる表面に対する真空紫外光照射による表面改質処理がなされる。また、真空紫外光の照射によって、一面側保護フィルムF1および他面側保護フィルムに付着している有機物が除去される。 Further, in the one-side protection film supply mechanism 30 and the other-side protection film supply mechanism 40, surface modification by vacuum ultraviolet light irradiation on the surfaces to be joint surfaces of each of the one-side protection film F1 and the other-side protection film F2. Quality treatment is done. Further, by irradiating with vacuum ultraviolet light, organic substances adhering to the one-side protective film F1 and the other-side protective film are removed.

このようにして、各々接合面とされるべき表面の処理がなされた偏光子P、一面側保護フィルムF1および他面側保護フィルムF2が、互いに同期がとられた状態で、接合処理部56に送られる。接合処理部56においては、図5に示すように、圧着ローラ57a,57bによって、一面側保護フィルムF1の処理面Faと偏光子の一方の処理面Paとが密着すると共に偏光子Pの他方の処理面Pbと他面側保護フィルムの処理面Fbとが密着して積層された状態で、加圧もしくは加熱されながら加圧されることにより接合処理が行われる。これにより、偏光子Pの両面の各々に一面側保護フィルムF1および他面側保護フィルムF2が接合されてなる接合構造体Mが得られる。接合構造体Mは、回収機構70における接合体巻き取りロール71によって巻き取られて回収される。 In this way, the polarizer P, the one-sided protective film F1 and the other-sided protective film F2, each of which has been treated on the surface to be the joint surface, are placed on the joint-processed portion 56 in a state of being synchronized with each other. Sent. In the joining processing section 56, as shown in FIG. 5, the processing surface Fa of the one-side protective film F1 and one processing surface Pa of the polarizer are brought into close contact with each other by the crimping rollers 57a and 57b, and the other of the polarizer P is attached. In a state where the treated surface Pb and the treated surface Fb of the other surface side protective film are in close contact with each other and laminated, the joining process is performed by pressurizing or heating while pressurizing. As a result, a bonded structure M is obtained in which the one-sided protective film F1 and the other-sided protective film F2 are bonded to both sides of the polarizer P. The joint structure M is wound and collected by the joint take-up roll 71 in the recovery mechanism 70.

また、有機物除去処理を加熱処理によって行う場合には、図6に示すように、有機物除去処理部20を、水洗手段22および乾燥手段26に代えて、加熱手段29を備えた構成とすればよい。このような構成の偏光板製造装置においても、上記の偏光板製造装置と同様の効果を得ることができる。 When the organic matter removing treatment is performed by heat treatment, as shown in FIG. 6, the organic matter removing treatment section 20 may be configured to include the heating means 29 instead of the water washing means 22 and the drying means 26. .. Even in a polarizing plate manufacturing apparatus having such a configuration, the same effect as that of the above-mentioned polarizing plate manufacturing apparatus can be obtained.

以上の偏光板製造装置においては、一面側保護フィルムF1および他面側保護フィルムF2に対する有機物除去処理部を備えた構成、すなわち、一面側保護フィルムF1および他面側保護フィルムF2に対して有機物除去処理が行われる構成とされていてもよい。
また、偏光子P、一面側保護フィルムF1、他面側保護フィルムF2、一次接合体Lおよび接合構造体(偏光板)Mを搬送する搬送手段としての搬送ローラの数は、特に限定されるものではなく、適宜変更することができる。
In the above polarizing plate manufacturing apparatus, a configuration including an organic substance removing processing unit for the one-sided protective film F1 and the other-sided protective film F2, that is, for removing organic substances from the one-sided protective film F1 and the other-sided protective film F2. It may be configured so that processing is performed.
Further, the number of transport rollers as a transport means for transporting the polarizer P, the one-side protective film F1, the other-side protective film F2, the primary joint L, and the joint structure (polarizing plate) M is particularly limited. However, it can be changed as appropriate.

以下、本発明の効果を確認するために行った実験例について説明する。 Hereinafter, an example of an experiment conducted to confirm the effect of the present invention will be described.

〔実験例1〕
厚み20μmのポリビニルアルコール樹脂製の一軸延伸フィルムからなる偏光子を25×25mmのサイズに切断したものを試験用PVAフィルムとした。この試験用PVAフィルムの一面における水滴の接触角を、JIS R3257「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」に従って測定したところ、接触角は98°であった。また、この試験用PVAフィルムの一面を原子間力顕微鏡(AFM)を用いて観察したところ、図7に示すように、PVAフィルムの製造上の理由によって生ずる延伸方向に沿ったナノメートルサイズの微細なしわ(以下、「延伸しわ」という。)を観測することはできなかった。この理由は、偏光子の納品時から備え付けられていた外傷防止用フイルム(容易に剥離できるもの)の粘着剤成分が付着しているためであると考えられる。図7における白抜きの矢印は、偏光子の製造工程における延伸方向を示す。以下に示す図8および図9についても同じである。
[Experimental Example 1]
A polarizing element made of a uniaxially stretched film made of polyvinyl alcohol resin having a thickness of 20 μm was cut into a size of 25 × 25 mm and used as a test PVA film. The contact angle of water droplets on one surface of this test PVA film was measured according to JIS R3257 "Test method for wettability of substrate glass surface", and the contact angle was 98 °. Further, when one surface of this test PVA film was observed using an atomic force microscope (AFM), as shown in FIG. 7, nanometer-sized fine particles along the stretching direction caused by the manufacturing reason of the PVA film were observed. No wrinkles (hereinafter referred to as "stretched wrinkles") could be observed. It is considered that the reason for this is that the adhesive component of the trauma-preventing film (which can be easily peeled off), which has been provided since the polarizer was delivered, is attached. The white arrows in FIG. 7 indicate the stretching direction in the process of manufacturing the polarizer. The same applies to FIGS. 8 and 9 shown below.

この試験用PVAフィルムの一面に対して、大気雰囲気下において、キセノンエキシマランプからの中心波長172nmの真空紫外光を照射量が420mJ/cm2 となる条件で照射することにより表面改質処理を行った。PVAフィルムの処理面における水滴の接触角を測定したところ、接触角は14°であった。また、表面改質処理後の試験用PVAフィルムの処理面を原子間力顕微鏡(AFM)を用いて観察したところ、図8に示すように、延伸しわは観測することはできず、ポリビニルアルコール系樹脂に由来するOH基を有する低分子化合物からなる有機物(表面処理生成物)が生成されていることが確認された。 One surface of this test PVA film is surface-modified by irradiating one surface of the test PVA film with vacuum ultraviolet light having a central wavelength of 172 nm from a xenon excimer lamp under the condition that the irradiation amount is 420 mJ / cm 2. It was. When the contact angle of water droplets on the treated surface of the PVA film was measured, the contact angle was 14 °. Further, when the treated surface of the test PVA film after the surface modification treatment was observed using an atomic force microscope (AFM), as shown in FIG. 8, stretched wrinkles could not be observed, and a polyvinyl alcohol-based compound was used. It was confirmed that an organic substance (surface treatment product) composed of a low molecular weight compound having an OH group derived from the resin was produced.

次いで、表面改質処理がなされた試験用PVAフィルムの処理面に対して、20℃の純水中に30秒間浸漬させることによる水洗処理を行った後、水洗処理後の試験用PVAフィルムの処理面に対して、20℃の乾燥空気を吹き付けることによる乾燥処理を行う有機物除去処理を行った。有機物処理後の試験用PVAフィルムの処理面を原子間力顕微鏡(AFM)を用いて観察したところ、図9に示すように、試験用PVAフィルムの処理面において、延伸しわが確認された。この結果より、水洗処理および乾燥処理による有機物除去処理によって、表面改質処理によって生成される有機物を除去することができることが確認された。 Next, the treated surface of the test PVA film that had undergone the surface modification treatment was washed with water by immersing it in pure water at 20 ° C. for 30 seconds, and then the treatment of the test PVA film after the water washing treatment. The surface was subjected to an organic substance removal treatment in which a drying treatment was performed by blowing dry air at 20 ° C. When the treated surface of the test PVA film after the organic matter treatment was observed using an atomic force microscope (AFM), stretched wrinkles were confirmed on the treated surface of the test PVA film as shown in FIG. From this result, it was confirmed that the organic matter produced by the surface modification treatment can be removed by the organic matter removing treatment by the washing treatment and the drying treatment.

〔実験例2〕
実験例1において用いたものと同一の試験用PVAフィルムを用意し、試験用PVAフィルムの一面に対して、大気圧プラズマ処理装置「Aiplasma ANUCL13S−MFNSSV6」(パナソニック株式会社製)を用いて、以下に示す条件で、表面改質処理を行った。
[Experimental Example 2]
The same test PVA film as that used in Experimental Example 1 was prepared, and the atmospheric pressure plasma processing device "Aiplasma ANUCL13S-MFNSSV6" (manufactured by Panasonic Corporation) was used on one surface of the test PVA film as follows. The surface modification treatment was performed under the conditions shown in.

(試験条件)
RF電力:172W
使用ガス:Ar:2.14L/min、O2 :27mL/min
ノズルと試料間距離:5mm
処理速度:400mm/秒
このような条件でのプラズマ処理を4回繰り返して行った。
(Test condition)
RF power: 172W
Gas used: Ar: 2.14 L / min, O 2 : 27 mL / min
Distance between nozzle and sample: 5 mm
Treatment speed: 400 mm / sec Plasma treatment under these conditions was repeated 4 times.

表面改質処理がなされた試験用PVAフィルムの処理面における接触角を測定したところ、接触角は12°であった。また、試験用PVAフィルムの処理面を原子間力顕微鏡(AFM)を用いて観察したところ、実験例1における試験用PVAフィルムと同様に、延伸しわは観測することはできず、ポリビニルアルコール系樹脂に由来するOH基を有する低分子化合物からなる有機物(表面処理生成物)が生成されていることが確認された。 When the contact angle on the treated surface of the test PVA film subjected to the surface modification treatment was measured, the contact angle was 12 °. Further, when the treated surface of the test PVA film was observed using an atomic force microscope (AFM), no stretched wrinkles could be observed as in the case of the test PVA film in Experimental Example 1, and a polyvinyl alcohol-based resin was used. It was confirmed that an organic substance (surface treatment product) composed of a low molecular weight compound having an OH group derived from the above was produced.

表面改質処理がなされた試験用PVAフィルムの処理面に対して、実験例1と同様の方法によって、水洗処理および乾燥処理による有機物除去処理を行い、有機物除去処理後の試験用PVAフィルムの処理面を原子間力顕微鏡(AFM)を用いて観察したところ、試験用PVAフィルムの処理面において、延伸しわが確認された。この結果より、水洗処理および乾燥処理による有機物除去処理によって、表面改質処理によって生成される有機物を除去することができることが確認された。 The treated surface of the test PVA film that has undergone the surface modification treatment is subjected to an organic substance removal treatment by washing with water and a drying treatment by the same method as in Experimental Example 1, and the test PVA film is treated after the organic substance removal treatment. When the surface was observed using an atomic force microscope (AFM), stretched wrinkles were confirmed on the treated surface of the test PVA film. From this result, it was confirmed that the organic matter produced by the surface modification treatment can be removed by the organic matter removing treatment by the washing treatment and the drying treatment.

〔実験例3〕
水洗処理および乾燥処理による有機物除去処理を行うことの代わりに、加熱処理による有機物除去処理を行ったことの他は、実験例1と同様の方法により、表面改質処理によって生成される有機物を除去することができるか否かを確認した。加熱処理は、ホットプレートを用いて、下記表1に従って加熱温度および処理時間を変更して行った。結果を下記表1に示す。評価は、有機物除去処理後の試験用PVAフィルムの処理面を原子間力顕微鏡(AFM)を用いて観察したとき、有機物が除去され、延伸しわが確認できる(図9に示す状態を参照。)場合を「○」、延伸しわが一部では確認できるが、表面改質処理によって生成された有機物が完全には除去されていない場合を「△」、延伸しわを確認することができず、表面改質処理によって生成された有機物が除去されていない(図8に示す状態を参照。)場合を「×」とした。
[Experimental Example 3]
Organic substances produced by the surface modification treatment are removed by the same method as in Experimental Example 1 except that the organic matter removal treatment by heat treatment is performed instead of the organic matter removal treatment by water washing treatment and drying treatment. I checked if I could do it. The heat treatment was carried out using a hot plate by changing the heating temperature and the treatment time according to Table 1 below. The results are shown in Table 1 below. In the evaluation, when the treated surface of the test PVA film after the organic matter removal treatment was observed using an atomic force microscope (AFM), the organic matter was removed and stretched wrinkles could be confirmed (see the state shown in FIG. 9). The case is "○", and some stretched wrinkles can be confirmed, but the case where the organic matter produced by the surface modification treatment is not completely removed is "△", and the stretched wrinkles cannot be confirmed and the surface. The case where the organic matter produced by the reforming treatment was not removed (see the state shown in FIG. 8) was designated as “x”.

以上の結果より、加熱温度および処理時間を適正に設定することにより加熱処理による有機物除去処理によって、表面改質処理によって生成される有機物を除去することができることが確認された。 From the above results, it was confirmed that the organic matter produced by the surface modification treatment can be removed by the organic matter removing treatment by the heat treatment by appropriately setting the heating temperature and the treatment time.

〔実験例4〕
厚み20μmのポリビニルアルコール樹脂製の一軸延伸フィルムからなる偏光子を25×130mmのサイズに切断したものの他面に、厚み60μmのトリアセチルセルロース(TAC)樹脂フィルムを接着剤により貼り合せることにより、試験用PVAフィルムを得た。この試験用PVAフィルムの一面における水滴の接触角を、JIS R3257「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」に従って測定したところ、接触角は98°であった。
また、厚み50μmのシクロオレフィン系樹脂(COP)フィルムを25×130mmのサイズに切断した接合材を用意した。この接合材の一面における水滴の接触角は、99°であった。
[Experimental Example 4]
A test was conducted by adhering a 60 μm-thick triacetyl cellulose (TAC) resin film to the other surface of a polarizing element made of a uniaxially stretched film made of polyvinyl alcohol resin having a thickness of 20 μm cut to a size of 25 × 130 mm. PVA film for use was obtained. The contact angle of water droplets on one surface of this test PVA film was measured according to JIS R3257 "Test method for wettability of substrate glass surface", and the contact angle was 98 °.
Further, a bonding material obtained by cutting a cycloolefin resin (COP) film having a thickness of 50 μm into a size of 25 × 130 mm was prepared. The contact angle of water droplets on one surface of this bonding material was 99 °.

この試験用PVAフィルムの一面に対して、大気雰囲気下において、キセノンエキシマランプからの中心波長172nmの真空紫外光を照射量が420mJ/cm2 となる条件で照射することにより表面改質処理を行った。PVAフィルムの処理面における水滴の接触角を測定したところ、接触角は14°であった。
また、接合材の一面に対して、大気雰囲気下において、キセノンエキシマランプからの中心波長172nmの真空紫外光を照射量が2540mJ/cm2 となる条件で照射することにより表面改質処理を行った。PVAフィルムの処理面における水滴の接触角を測定したところ、接触角は13°であった。
One surface of this test PVA film is surface-modified by irradiating one surface of the test PVA film with vacuum ultraviolet light having a central wavelength of 172 nm from a xenon excimer lamp under the condition that the irradiation amount is 420 mJ / cm 2. It was. When the contact angle of water droplets on the treated surface of the PVA film was measured, the contact angle was 14 °.
Further, one surface of the bonding material was surface-modified by irradiating one surface of the bonding material with vacuum ultraviolet light having a central wavelength of 172 nm from a xenon excimer lamp under the condition that the irradiation amount was 2540 mJ / cm 2 . .. When the contact angle of water droplets on the treated surface of the PVA film was measured, the contact angle was 13 °.

表面改質処理がなされた試験用PVAフィルムの一面に対して、20℃の純水中に30秒間浸漬させることによる水洗処理および水洗処理後の試験用PVAフィルムの一面に20℃の乾燥空気を吹き付けることによる乾燥処理を行うことによる有機物除去処理を行った。次いで、試験用PVAフィルムと接合材とを処理面どうしが密着するよう積層させて、ラミネーター「Proteus A3」(フェローズジャパン株式会社製)を用いて試験用PVAフィルムと接合材とを接合させた。ラミネーターにおけるローラー加熱温度は60℃、試験用PVAフィルムと接合材との積層体の送り速度は6mm/秒とした。 One side of the test PVA film that has undergone surface modification treatment is washed with water by immersing it in pure water at 20 ° C for 30 seconds, and dry air at 20 ° C is applied to one side of the test PVA film after the water washing treatment. Organic matter removal treatment was performed by performing a drying treatment by spraying. Next, the test PVA film and the bonding material were laminated so that the treated surfaces were in close contact with each other, and the test PVA film and the bonding material were bonded using a laminator "Proteus A3" (manufactured by Fellows Japan Co., Ltd.). The roller heating temperature in the laminator was 60 ° C., and the feed rate of the laminate of the test PVA film and the bonding material was 6 mm / sec.

このようにして得られる接合構造体を2つ作製し、各々の接合構造体について、試験用PVAフィルムと接合材との間の接合強度をT型剥離試験により300mm/minの剥離速度で測定した。一方の接合構造体についての剥離試験は、接合直後に行い、他方の接合構造体についての剥離試験は、当該接合構造体を温度15〜25℃、湿度50〜60%の大気雰囲気下に放置し、接合してから48時間の時間が経過した時点で行った。結果を下記表2に示す。 Two bonding structures thus obtained were produced, and for each bonding structure, the bonding strength between the test PVA film and the bonding material was measured at a peeling rate of 300 mm / min by a T-type peeling test. .. The peeling test for one bonded structure is performed immediately after joining, and the peeling test for the other bonded structure is performed by leaving the bonded structure in an air atmosphere having a temperature of 15 to 25 ° C and a humidity of 50 to 60%. , 48 hours after joining was performed. The results are shown in Table 2 below.

〔実験例5〕
水洗処理および乾燥処理による有機物除去処理を行うことの代わりに、加熱処理による有機物除去処理を行ったことの他は、実験例4と同様の方法により、2つの接合構造体を作製した。加熱処理は、ホットプレートを用いて行い、加熱温度を60℃、処理時間を60秒間とした。
各々の接合構造体について、実験例4と同様の方法により、試験用PVAフィルムと接合材との間の接合強度を測定した。結果を下記表2に示す。
[Experimental Example 5]
Two bonded structures were produced by the same method as in Experimental Example 4, except that the organic matter removal treatment by heat treatment was performed instead of the organic matter removal treatment by water washing treatment and drying treatment. The heat treatment was performed using a hot plate, the heating temperature was 60 ° C., and the treatment time was 60 seconds.
For each bonded structure, the bonding strength between the test PVA film and the bonding material was measured by the same method as in Experimental Example 4. The results are shown in Table 2 below.

〔実験例6〕
水洗処理および乾燥処理に加えて加熱処理を行うことによる有機物除去処理を行ったことの他は、実験例4と同様の方法により、2つの接合構造体を作製した。加熱処理は、ホットプレートを用いて行い、加熱温度を60℃、処理時間を60秒間とした。
各々の接合構造体について、実験例4と同様の方法により、試験用PVAフィルムと接合材との間の接合強度を測定した。結果を下記表2に示す。
[Experimental Example 6]
Two bonded structures were prepared by the same method as in Experimental Example 4, except that the organic matter removal treatment was performed by performing a heat treatment in addition to the water washing treatment and the drying treatment. The heat treatment was performed using a hot plate, the heating temperature was 60 ° C., and the treatment time was 60 seconds.
For each bonded structure, the bonding strength between the test PVA film and the bonding material was measured by the same method as in Experimental Example 4. The results are shown in Table 2 below.

〔比較実験例1〕
試験用PVAフィルムについて、表面改質処理がなされた一面に対する有機物除去処理を行わなかったことの他は、実験例4と同様の方法により、2つの接合構造体を作製した。
各々の接合構造体について、実験例4と同様の方法により、試験用PVAフィルムと接合材との間の接合強度を測定した。結果を下記表2に示す。
[Comparative Experiment Example 1]
With respect to the test PVA film, two bonded structures were prepared by the same method as in Experimental Example 4, except that the one surface to which the surface was modified was not subjected to the organic substance removal treatment.
For each bonded structure, the bonding strength between the test PVA film and the bonding material was measured by the same method as in Experimental Example 4. The results are shown in Table 2 below.

表2に示されるように、接合直後においては、有機物除去処理の有無にかかわらず、いずれの接合構造体においても接合強度は高く、接合材が破断している。しかし、接合してから48時間の時間が経過すると、有機物除去処理を行わなかった比較実験例1に係る接合構造体においては、接合強度が低下し、接合材が容易に剥離してしまうことが確認された。 As shown in Table 2, immediately after joining, the joining strength is high and the joining material is broken in any of the joining structures regardless of the presence or absence of the organic substance removal treatment. However, when 48 hours have passed since the bonding, in the bonding structure according to Comparative Experimental Example 1 in which the organic substance removal treatment was not performed, the bonding strength may decrease and the bonding material may be easily peeled off. confirmed.

10 偏光子供給機構
11 偏光子供給部
12 偏光子原反ロール
13a〜13c 搬送ローラ
15 表面改質処理部
16 真空紫外光照射手段
20 有機物除去処理部
21 水洗処理部
22 水洗手段
23 水槽
25 乾燥処理部
26 乾燥手段
29 加熱手段
30 一面側保護フィルム供給機構
31 一面側保護材供給部
32 保護材原反ロール
33 搬送ローラ
35 表面改質処理部
40 他面側保護フィルム供給機構
41 他面側保護材供給部
42 保護材原反ロール
43 搬送ローラ
45 表面改質処理部
50 一次接合処理部
51a 圧着ローラ
51b 圧着ローラ
53 二次接合処理部
54a 圧着ローラ
54b 圧着ローラ
56 接合処理部
57a 圧着ローラ
57b 圧着ローラ
60 偏光子他面側処理機構
61 表面改質処理部
62 有機物除去処理部
63 水洗処理部
64 乾燥処理部
65a〜65c 搬送ローラ
70 回収機構
71 接合体巻き取りロール
F1 一面側保護フィルム
Fa 処理面
F2 他面側保護フィルム
Fb 処理面
L 一次接合体
La 処理面
M 接合構造体(偏光板)
P 偏光子
Pa 処理面
Pb 処理面
W 純水
10 Polarizer supply mechanism 11 Polarizer supply unit 12 Polarizer original roll 13a to 13c Conveyor roller 15 Surface modification processing unit 16 Vacuum ultraviolet light irradiation means 20 Organic matter removal processing unit 21 Water washing treatment unit 22 Water washing means 23 Water tank 25 Drying treatment Part 26 Drying means 29 Heating means 30 One side protective film supply mechanism 31 One side protective material supply part 32 Protective material original roll 33 Conveyor roller 35 Surface modification processing part 40 Other side protective film supply mechanism 41 Other side protective material Supply unit 42 Protective material Raw fabric roll 43 Conveying roller 45 Surface modification processing unit 50 Primary bonding processing unit 51a Crimping roller 51b Crimping roller 53 Secondary bonding processing unit 54a Crimping roller 54b Crimping roller 56 Crimping processing unit 57a Crimping roller 57b Crimping roller 60 Polarizer Other side treatment mechanism 61 Surface modification treatment part 62 Organic matter removal treatment part 63 Water washing treatment part 64 Drying treatment part 65a to 65c Conveyor roller 70 Recovery mechanism 71 Joined winding roll F1 One side protective film Fa treatment surface F2 Other side protective film Fb treated surface L primary bonded La treated surface M bonded structure (polarizing plate)
P Polarizer Pa Treatment surface Pb Treatment surface W Pure water

Claims (8)

第一の接合材に第二の接合材を接合させてなる接合構造体の製造方法であって、
第一の接合材および第二の接合材のうち一以上の接合材における接合面とされる表面のぬれ性を向上させる表面改質処理工程と、
前記表面改質処理工程において表面改質処理がなされた前記接合面に生成された有機物を、当該有機物が除去されるように前記接合面を加熱して除去する有機物除去処理工程と、
当該第一の接合材および当該第二の接合材を、それぞれの接合面とされる表面が密着するように積層して、接合する接合処理工程と
を含むことを特徴とする接合構造体の製造方法。
It is a method of manufacturing a joint structure formed by joining a second joint material to a first joint material.
A surface modification treatment step for improving the wettability of the surface to be the joint surface of one or more of the first joint material and the second joint material, and
An organic substance removal treatment step of heating and removing the organic matter generated on the joint surface that has been surface-modified in the surface modification treatment step so that the organic substance is removed.
Manufacture of a joining structure including a joining treatment step of laminating the first joining material and the second joining material so that the surfaces to be the respective joining surfaces are in close contact with each other and joining them. Method.
前記表面改質処理工程において表面改質処理がなされた接合材が第一の接合材であって、
当該第一の接合材は、化学構造中にOH基を有する樹脂からなることを特徴とする請求項1に記載の接合構造体の製造方法。
The bonding material subjected to the surface modification treatment in the surface modification treatment step is the first bonding material.
The method for producing a bonded structure according to claim 1, wherein the first bonding material is made of a resin having an OH group in the chemical structure.
前記第一の接合材は、ポリビニルアルコール系樹脂からなることを特徴とする請求項2に記載の接合構造体の製造方法。 The method for producing a bonded structure according to claim 2, wherein the first bonding material is made of a polyvinyl alcohol-based resin. 前記第二の接合材は、第一の接合材と異なる樹脂からなることを特徴とする請求項2または請求項3に記載の接合構造体の製造方法。 The method for producing a bonded structure according to claim 2 or 3, wherein the second bonding material is made of a resin different from that of the first bonding material. 前記表面改質処理工程は、第一の接合材および第二の接合材のうち一以上の接合面とされる表面に真空紫外光を照射することにより行われることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の接合構造体の製造方法。 Claims 1 to 1, wherein the surface modification treatment step is performed by irradiating the surface of one or more of the first bonding material and the second bonding material, which is to be a bonding surface, with vacuum ultraviolet light. The method for producing a bonded structure according to any one of claims 4. 前記表面改質処理工程においては、真空紫外光の照射が、大気雰囲気下、もしくは窒素および酸素のうち一以上を含む雰囲気下で、行われることを特徴とする請求項5に記載の接合構造体の製造方法。 The bonded structure according to claim 5, wherein in the surface modification treatment step, irradiation with vacuum ultraviolet light is performed in an air atmosphere or an atmosphere containing one or more of nitrogen and oxygen. Manufacturing method. 前記表面改質処理工程は、第一の接合材および第二の接合材のうち一以上の接合面とされる表面に対する、コロナ処理、プラズマ処理およびオゾン処理の何れかの処理によって行われることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の接合構造体の製造方法。 The surface modification treatment step is performed by any of corona treatment, plasma treatment, and ozone treatment on the surface of one or more joint surfaces of the first joint material and the second joint material. The method for manufacturing a bonded structure according to any one of claims 1 to 6, wherein the bonded structure is characterized. 接合構造体が、第一の接合材としての樹脂フィルムからなる偏光子のうち一以上の表面に、第二の接合部材としての透明樹脂フィルムからなる保護材を接合させた偏光板であることを特徴とする請求項4乃至請求項7のいずれかに記載の接合構造体の製造方法。 The bonding structure is a polarizing plate in which a protective material made of a transparent resin film as a second bonding member is bonded to one or more surfaces of a polarizing element made of a resin film as a first bonding material. The method for producing a bonded structure according to any one of claims 4 to 7, wherein the bonded structure is characterized.
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