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JP6807522B2 - High frequency heating device - Google Patents
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Description

本発明は、周期構造体を用いた表面波励振体を備えた高周波加熱装置に関する。 The present invention relates to a high frequency heating device provided with a surface wave exciter using a periodic structure.

従来から、周期構造体を用いた表面波励振体に高周波電力を給電して、食品等の被加熱物に加熱処理を施す高周波加熱装置に関する技術が開示されている。 Conventionally, there has been disclosed a technique relating to a high frequency heating device that supplies high frequency electric power to a surface wave exciter using a periodic structure to heat an object to be heated such as food.

例えば、特許文献1には、表面波励振体に近い側が強く加熱される表面波の特徴を活かして、表面波伝送線路へマイクロ波を供給して食品の表面に焦げ目を付けることができる高周波加熱装置が開示されている。 For example, in Patent Document 1, high-frequency heating capable of supplying microwaves to a surface wave transmission line to brown the surface of food by utilizing the characteristic of surface waves in which the side close to the surface wave exciter is strongly heated. The device is disclosed.

また、特許文献2には、表面波励振体に相対する位置に輻射加熱源を設けることにより、食品の上面も加熱して、焦げ目を付けることができる加熱調理器が開示されている。 Further, Patent Document 2 discloses a cooking cooker capable of heating and browning the upper surface of food by providing a radiant heating source at a position facing the surface wave exciter.

実開昭56−98号公報Jikkai Sho 56-98 特開平8−210653号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-210653

しかしながら、前記従来の構成のうち、特に特許文献1では、表面波励振体に近い側が強く加熱される表面波の特徴を活かしているので、表面波励振体に近い部分は強く加熱され、比較的厚みが薄い食品は、十分に加熱されるが、表面波励振体から離れるにつれて加熱が弱くなるために、厚みのある食品は加熱が不十分になる可能性が大きい。また、食品の厚みに関わらず、食品の表面波励振体とは反対側の面には焦げ目を付けることが難しい。 However, among the above-mentioned conventional configurations, especially in Patent Document 1, since the characteristic of the surface wave in which the side close to the surface wave exciter is strongly heated is utilized, the portion close to the surface wave exciter is strongly heated and relatively. A thin food is sufficiently heated, but a thick food is likely to be insufficiently heated because the heating becomes weaker as the distance from the surface wave exciter increases. Further, regardless of the thickness of the food, it is difficult to brown the surface of the food opposite to the surface wave exciter.

また、特許文献2では、表面波励振体に相対する位置に輻射加熱源を設けて、表面波加熱では加熱が弱い部分を輻射加熱で補うことにより、食品全体を加熱することができ、更に、食品の表面波励振体の半対面にも焦げ目を付けることができるが、2種類の加熱源を装備する必要があるので構造が複雑になると共に、大きな電力を要する。 Further, in Patent Document 2, the entire food can be heated by providing a radiant heating source at a position facing the surface wave exciter and supplementing the portion where the heating is weak by the surface wave heating with radiant heating. It is possible to brown the half-faced surface wave exciter of food, but since it is necessary to equip two types of heating sources, the structure becomes complicated and a large amount of power is required.

本発明は、上記従来の課題を解決するもので、表面波励振体を備えた高周波加熱装置に於いて、簡単な構造で、ヒーターなどの他の熱源を用いなくても、被加熱物の両面を加熱処理できる、高周波加熱装置を提供することを目的とする。 The present invention solves the above-mentioned conventional problems. In a high-frequency heating device provided with a surface wave exciter, the present invention has a simple structure and both sides of the object to be heated without using another heat source such as a heater. It is an object of the present invention to provide a high frequency heating device capable of heat treatment.

前記従来の課題を解決するため、本発明の高周波加熱装置は、高周波電力を発生させる高周波電力発生部と、前記高周波電力を表面波で伝播して被加熱物を加熱する複数の表面波励振体と、前記高周波電力を前記表面波励振体に供給する高周波電力供給部と、前記被加熱物を設置する設置台と、を備え、前記複数の表面波励振体は、前記被加熱物を挟み込むようにそれぞれ対向した位置に設置され、うち一方の表面波励振体にのみ前記高周波電力発生部から前記高周波電力を供給し、前記一方の表面波励振体から他方の表面波励振体
に高周波電力が伝播して被加熱物を加熱する
In order to solve the above-mentioned conventional problems, the high-frequency heating device of the present invention includes a high-frequency power generating unit that generates high-frequency power and a plurality of surface wave exciters that propagate the high-frequency power by surface waves to heat an object to be heated. A high-frequency power supply unit that supplies the high-frequency power to the surface wave exciter, and an installation table on which the object to be heated is installed, and the plurality of surface wave exciters sandwich the object to be heated. The high-frequency power is supplied from the high-frequency power generating unit only to one of the surface wave exciters, and the other surface wave exciter is supplied from the one surface wave exciter.
High-frequency power propagates to heat the object to be heated .

この構成により、被加熱物を挟み込むように対向した位置に設置した複数の表面波励振体に高周波電力を供給して、表面波励振体を表面波で伝播する高周波電力で被加熱物を加熱処理するので、簡単な構造で、ヒーターなどの消費電力の大きい他の熱源を用いなくて
も、被加熱物の両面を加熱処理することができる。
With this configuration, high-frequency power is supplied to a plurality of surface wave exciters installed at opposite positions so as to sandwich the object to be heated, and the object to be heated is heat-treated by the high-frequency power propagating the surface wave exciter by the surface wave. Therefore, with a simple structure, both sides of the object to be heated can be heat-treated without using another heat source having high power consumption such as a heater.

本発明の高周波加熱装置は、被加熱物を挟み込むように対向した位置に設置した複数の表面波励振体を表面波で伝播する高周波電力で被加熱物を加熱処理するので、簡単な構造で、ヒーターなどの消費電力の大きい他の熱源を用いなくても、被加熱物の両面を加熱処理することができる。 The high-frequency heating device of the present invention has a simple structure because it heat-treats a plurality of surface wave exciters installed at opposite positions so as to sandwich the object to be heated with high-frequency power propagating by surface waves. Both sides of the object to be heated can be heat-treated without using another heat source having high power consumption such as a heater.

実施の形態1の高周波加熱装置の基本構成を示すブロック図Block diagram showing the basic configuration of the high frequency heating device of the first embodiment 高周波電力供給部の構成を示すブロック図Block diagram showing the configuration of the high-frequency power supply unit 実施の形態1の高周波加熱装置の動作を示す図The figure which shows the operation of the high frequency heating apparatus of Embodiment 1. 実施の形態2の高周波加熱装置の基本構成を示すブロック図Block diagram showing the basic configuration of the high frequency heating device of the second embodiment 実施の形態2の高周波加熱装置の動作を示す図The figure which shows the operation of the high frequency heating apparatus of Embodiment 2. 実施の形態3の高周波加熱装置の基本構成を示すブロック図Block diagram showing the basic configuration of the high frequency heating device of the third embodiment 実施の形態3の高周波加熱装置の動作を示す図The figure which shows the operation of the high frequency heating apparatus of Embodiment 3. 高周波電力の周波数を変化した時の電界の表面集中度の変化の様子を示す図The figure which shows the state of the change of the surface concentration degree of an electric field when the frequency of high frequency power is changed.

第1の発明は、高周波電力を発生させる高周波電力発生部と、前記高周波電力を表面波で伝播して被加熱物を加熱する複数の表面波励振体と、前記高周波電力を前記表面波励振体に供給する高周波電力供給部と、前記被加熱物を設置する設置台と、を備え、前記複数の表面波励振体は、前記被加熱物を挟み込むようにそれぞれ対向した位置に設置され、うち一方の表面波励振体にのみ前記高周波電力発生部から前記高周波電力を供給し、前記一方の表面波励振体から他方の表面波励振体に高周波電力が伝播して被加熱物を加熱するので、簡単な構造で、ヒーターなどの消費電力の大きい他の熱源を用いなくても、被加熱物の両面を加熱処理することができる。
The first invention comprises a high-frequency power generating unit that generates high-frequency power, a plurality of surface wave exciters that propagate the high-frequency power by surface waves to heat an object to be heated, and the surface wave exciter that transmits the high-frequency power. A high-frequency power supply unit for supplying power to the object to be heated and an installation table for installing the object to be heated are provided, and the plurality of surface wave exciters are installed at opposite positions so as to sandwich the object to be heated , and one of them is provided. The high-frequency power is supplied from the high-frequency power generating unit only to the surface wave exciter of the above, and the high-frequency power propagates from the one surface wave exciter to the other surface wave exciter to heat the object to be heated. With such a structure, both sides of the object to be heated can be heat-treated without using another heat source having a large power consumption such as a heater.

第2の発明は、特に第1の発明において、前記複数の表面波励振体それぞれに、前記高
周波電力発生部から前記高周波電力を供給するので、それぞれの表面波励振体に於ける加 熱の状態をより詳細に制御することができ、被加熱物の加熱による仕上がり品質を、より 向上することができる。
The second invention, particularly in the first invention, is such that the height is applied to each of the plurality of surface wave exciters.
Since the high-frequency power is supplied from the frequency power generator, the heating state of each surface wave exciter can be controlled in more detail, and the finished quality by heating the object to be heated can be further improved. Can be done.

第3の発明は、特に第1ないし第のいずれかの発明において、前記高周波電力発生部
は、設定された周波数の高周波電力を発生する、周波数可変の高周波発振器であるので、 表面波励振体に供給する高周波電力の周波数を可変することができるので、表面波励振体 を表面波で伝播する高周波電力の伝播状態を変化させることにより、被加熱物に対する加 熱の状態を、好みに応じて変化させることができる。
A third invention, particularly in any one of the first and second inventions, is the high frequency power generating unit.
Is a frequency-variable high-frequency oscillator that generates high-frequency power of a set frequency, so the frequency of high-frequency power supplied to the surface wave exciter can be changed, so the surface wave exciter is propagated by surface waves. By changing the propagation state of the high-frequency power to be heated, the heating state for the object to be heated can be changed according to preference.

第4の発明は、特に第1ないし第3のいずれかの発明において、前記高周波電力発生部は、設定された周波数の高周波電力を発生する、周波数可変の高周波発振器であるので、表面波励振体に供給する高周波電力の周波数を可変することができるので、表面波励振体を表面波で伝播する高周波電力の伝播状態を変化させることにより、被加熱物に対する加熱の状態を、好みに応じて変化させることができる。 A fourth invention, particularly in any one of the first to third inventions, is a surface wave exciter because the high frequency power generating unit is a frequency variable high frequency oscillator that generates high frequency power of a set frequency. Since the frequency of the high-frequency power supplied to the device can be changed, the heating state of the object to be heated can be changed according to preference by changing the propagation state of the high-frequency power propagating the surface wave exciter by the surface wave. Can be made to.

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The present invention is not limited to this embodiment.

(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1における、高周波加熱装置100の基本構成を示すブロック図である。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a block diagram showing a basic configuration of a high-frequency heating device 100 according to a first embodiment of the present invention.

同図に示す高周波加熱装置100は、設置台101に設置された被加熱物102を加熱処理する高周波加熱装置であって、第1の表面波励振体103aおよび第2の表面波励振
体103bと、第1の高周波電力供給部110aおよび第2の高周波電力供給部110bと、高周波電力発生部120を備えている。また、第1の表面波励振体103aと第2の表面波励振体103bは、被加熱物102を挟み込むように、それぞれが互いに対向した位置に設置されている。
The high-frequency heating device 100 shown in the figure is a high-frequency heating device that heat-treats the object to be heated 102 installed on the installation table 101, and includes the first surface wave exciter 103a and the second surface wave exciter 103b. , A first high frequency power supply unit 110a, a second high frequency power supply unit 110b, and a high frequency power generation unit 120 are provided. Further, the first surface wave exciter 103a and the second surface wave exciter 103b are installed at positions facing each other so as to sandwich the object to be heated 102.

なお、図1において、高周波加熱装置100は、2つの表面波励振体と、2つの高周波電力供給部と、1つの高周波電力発生部を有しているが、表面波励振体、高周波電力供給部および高周波電力発生部の数はこれに限定されるものではない。例えば、表面波励振体は4つで被加熱物を4方向から挟み込む構成であってもよいし、高周波電力発生部と高周波電力供給部は、少なくとも1つずつが一方の表面波励振体にあればよく、2つずつあってもよいし、それ以上あってもよい。 In FIG. 1, the high-frequency heating device 100 has two surface wave exciters, two high-frequency power supply units, and one high-frequency power generator. However, the surface wave exciter and the high-frequency power supply unit And the number of high frequency power generators is not limited to this. For example, four surface wave exciters may be configured to sandwich the object to be heated from four directions, and at least one high-frequency power generating unit and one high-frequency power supply unit may be included in one surface wave exciter. There may be two each, or more.

図1において、高周波電力発生部120で発生された高周波電力は、第1の高周波電力供給部110aを介して第1の表面波励振体103aへ、第2の高周波電力供給部110bを介して第2の表面波励振体103bへ、それぞれ供給される。そして、第1の表面波励振体103aおよび第2の表面波励振体103bに供給された高周波電力は、それぞれの表面波励振体を表面波で伝播して被加熱物102を加熱する。なお、以下の記述では、第1の表面波励振体103aおよび第2の表面波励振体103bと、第1の高周波電力供給部110aおよび第2の高周波電力供給部110bを特に区別せず、表面波励振体103および高周波電力供給部110と記載する場合がある。 In FIG. 1, the high-frequency power generated by the high-frequency power generation unit 120 is transferred to the first surface wave exciter 103a via the first high-frequency power supply unit 110a and via the second high-frequency power supply unit 110b. It is supplied to each of the surface wave exciter 103b of 2. Then, the high-frequency power supplied to the first surface wave exciter 103a and the second surface wave exciter 103b propagates each surface wave exciter by the surface wave to heat the object to be heated 102. In the following description, the first surface wave exciter 103a and the second surface wave exciter 103b, the first high frequency power supply unit 110a, and the second high frequency power supply unit 110b are not particularly distinguished, and the surface surface is not particularly distinguished. It may be described as a wave exciter 103 and a high frequency power supply unit 110.

高周波電力発生部120は、被加熱物102を加熱処理するのに適した周波数(例えば、マイクロ波)とパワーを有する高周波電力を出力する高周波発信器である。例えば、マグネトロンとインバータ電源回路で構成してもよいし、固体発振器と電力増幅器で構成してもよい。 The high-frequency power generator 120 is a high-frequency transmitter that outputs high-frequency power having a frequency (for example, microwave) and power suitable for heat-treating the object to be heated 102. For example, it may be composed of a magnetron and an inverter power supply circuit, or may be composed of a solid-state oscillator and a power amplifier.

マグネトロンは、電波の一種である強力なノンコヒーレントマイクロ波を発生する発振用真空管の一種で、レーダーや電子レンジなどの数百ワット〜数キロワットの高出力用途に多く使われている。マグネトロンの駆動には数キロボルトの高電圧が必要である為、マグネトロンの駆動電源には一般的にインバータ電源が用いられる。インバータ電源は整流機能を有するコンバーター回路と、昇圧(もしくは降圧)機能と出力周波数変換機能を有するインバータ回路で構成された電源回路であり、照明装置やモーター制御に広く用いられている技術である。 A magnetron is a type of oscillating vacuum tube that generates strong non-coherent microwaves, which is a type of radio wave, and is often used in high-power applications of hundreds to several kilowatts such as radars and microwave ovens. Since a high voltage of several kilovolts is required to drive the magnetron, an inverter power supply is generally used as the drive power source for the magnetron. The inverter power supply is a power supply circuit composed of a converter circuit having a rectifying function and an inverter circuit having a step-up (or step-down) function and an output frequency conversion function, and is a technology widely used for lighting devices and motor control.

一方、固体発振器はトランジスタと、コンデンサ、インダクタ、抵抗器等の高周波電子部品で帰還回路を構成した半導体発振回路であり、通信機器等の小電力出力用途の発振器に広く用いられている技術である。固体発振器から出力される高周波電力は、近年では50ワット程度の高出力のモノもあるが、一般的には数十ミリワット〜数百ミリワット程度であり、加熱処理用途に用いる為には数百ワットの出力パワーが必要であるので、一般的には、固体発振器から出力された高周波電力をトランジスタなどの電力増幅器で増幅する。 On the other hand, a solid-state oscillator is a semiconductor oscillator circuit in which a feedback circuit is composed of transistors and high-frequency electronic components such as capacitors, inductors, and resistors, and is a technology widely used in oscillators for low-power output applications such as communication equipment. .. In recent years, the high-frequency power output from a solid-state oscillator has a high output of about 50 watts, but generally it is about several tens of milliwatts to several hundreds of milliwatts, and several hundreds of watts for use in heat treatment applications. Since the output power of is required, generally, the high frequency power output from the solid-state oscillator is amplified by a power amplifier such as a transistor.

高周波電力供給部110は、高周波電力発生部120で発生された高周波電力を、表面波励振体103に給電する電力接続部に相当する。高周波電力供給部110の構成については後述する。 The high-frequency power supply unit 110 corresponds to a power connection unit that supplies high-frequency power generated by the high-frequency power generation unit 120 to the surface wave exciter 103. The configuration of the high frequency power supply unit 110 will be described later.

表面波励振体103は、金属板で周期的にインピーダンス素子を配列した金属周期構造体や、誘電体板で形成される。例えば、金属周期構造体では、金属平板上に複数の金属平板を一定間隔で被加熱物に向けて立てる方向に並べたスタブ型表面波励振体や、金属平板を交叉指状に打ち抜いたインターデジタル型表面波励振体を用いることができ、誘電体板
では、アルミナ板やベークライト板を用いることができる。
The surface wave exciter 103 is formed of a metal periodic structure in which impedance elements are periodically arranged on a metal plate, or a dielectric plate. For example, in a metal periodic structure, a stub-type surface wave exciter in which a plurality of metal plates are arranged on a metal plate at regular intervals in a direction of standing toward an object to be heated, or an interdigital in which metal plates are punched out in a crossed finger shape. A mold surface wave exciter can be used, and as the dielectric plate, an alumina plate or a bakelite plate can be used.

表面波励振体103は、高周波電力供給部110を介して高周波電力発生部120より供給された高周波電力を表面波でその表面付近に高周波電力を集中させて伝播することができる。これにより、設置台101を表面波励振体103の近傍に設け、設置台101の上に被加熱物102を設置することにより、表面波励振体103によって表面付近に集中している高周波電力により、被加熱物102が加熱される。 The surface wave exciter 103 can propagate the high frequency power supplied from the high frequency power generation unit 120 via the high frequency power supply unit 110 by concentrating the high frequency power in the vicinity of the surface of the surface wave. As a result, the installation table 101 is provided in the vicinity of the surface wave exciter 103, and the object to be heated 102 is installed on the installation table 101, so that the high frequency power concentrated in the vicinity of the surface by the surface wave exciter 103 causes the installation table 101. The object to be heated 102 is heated.

ここで、本実施の形態に於ける第1の高周波電力供給部110aおよび第2の高周波電力供給部110bの構成について図を用いて説明する。 Here, the configurations of the first high-frequency power supply unit 110a and the second high-frequency power supply unit 110b in the present embodiment will be described with reference to the drawings.

図2は、第1の高周波電力供給部110aの構成の一例を示すブロック図である。 FIG. 2 is a block diagram showing an example of the configuration of the first high-frequency power supply unit 110a.

同図では、高周波電力発生部120で発生された高周波電力を、方形導波管130を用いて、第1の高周波電力供給部110aへ導いた場合の構成を示している。 The figure shows a configuration in which the high-frequency power generated by the high-frequency power generation unit 120 is guided to the first high-frequency power supply unit 110a by using the rectangular waveguide 130.

方形導波管130は、最も一般的な導波管であり、断面形状が方形(一般的には長方形)である金属製の管で、主にマイクロ波の伝送に用いられる中空導波管である。電磁波は、管の中に、その形状や寸法、波長もしくは周波数に応じた電磁界を形成しながら管の中を伝播する。 The square waveguide 130 is the most common waveguide, a metal tube having a rectangular (generally rectangular) cross-sectional shape, and is a hollow waveguide mainly used for microwave transmission. is there. Electromagnetic waves propagate in a tube while forming an electromagnetic field according to its shape, size, wavelength or frequency.

方形導波管130により、高周波電力発生部120から伝播された高周波電力を第1の表面波励振体103aに供給するためには、方形導波管130と第1の表面波励振体103aをテーパー形状の方形導波管131で連結することで、接合部での反射が小さくなり、損失を小さくすることができる。第1の高周波電力供給部110aは、図2の破線で示されるとおり、方形導波管130の一部と、テーパー形状の方形導波管131と、表面波励振体103の一部とで構成されている。 In order to supply the high-frequency power propagated from the high-frequency power generating unit 120 to the first surface wave exciter 103a by the rectangular waveguide 130, the square waveguide 130 and the first surface wave exciter 103a are tapered. By connecting with the rectangular waveguide 131 of the shape, the reflection at the joint portion is reduced, and the loss can be reduced. As shown by the broken line in FIG. 2, the first high-frequency power supply unit 110a includes a part of the rectangular waveguide 130, a tapered rectangular waveguide 131, and a part of the surface wave exciter 103. Has been done.

これにより、高周波電力発生部120で発生され、方形導波管130を介して第1の高周波電力供給部110aへ導かれた高周波電力は、テーパー形状の方形導波管131を介して、第1の表面波励振体103aへ効率良く供給される。尚、第2の高周波電力供給部110bも、第1の高周波電力供給部110aと同様の構成であるので、説明は省略する。 As a result, the high-frequency power generated by the high-frequency power generation unit 120 and guided to the first high-frequency power supply unit 110a via the square waveguide 130 is transmitted to the first high-frequency power supply unit 110a via the tapered square waveguide 131. Is efficiently supplied to the surface wave exciter 103a. Since the second high-frequency power supply unit 110b has the same configuration as the first high-frequency power supply unit 110a, the description thereof will be omitted.

以上のような構成により、本実施の形態に係る高周波加熱装置100は、高周波電力発生部120で発生された高周波電力を、第1の高周波電力供給部110aおよび第2の高周波電力供給部110bを介して、第1の表面波励振体103aおよび第2の表面波励振体103bに供給することにより、それぞれの第1の表面波励振体103aおよび第2の表面波励振体103bを表面波で伝播する高周波電力により、ヒーターなどの他の熱源を用いなくとも、設置台101の上に設置された被加熱物102の両面に加熱処理を施すことができ、更には被加熱物102の両面に焦げ目を付けることもできる。 With the above configuration, the high frequency heating device 100 according to the present embodiment transfers the high frequency power generated by the high frequency power generation unit 120 to the first high frequency power supply unit 110a and the second high frequency power supply unit 110b. By supplying the first surface wave exciter 103a and the second surface wave exciter 103b via the surface wave, the first surface wave exciter 103a and the second surface wave exciter 103b are propagated by the surface wave, respectively. The high-frequency power generated allows heat treatment to be performed on both sides of the object to be heated 102 installed on the installation table 101 without using another heat source such as a heater, and further, both sides of the object to be heated 102 are browned. Can also be attached.

特に、従来例のヒーターを使用する場合には、被加熱物に焦げ目を付けようとすると、消費電力が800W〜1000Wほどかかるが、本発明における高周波電力発生部を使用する場合は、消費電力が100W〜200W程度しかかからないので、省エネ性能にも優れている。また、ヒーターでは被加熱物の表面および内部が固めの食感となってしまうが、本発明の全体構成にて表面波励振体を使用すると、被加熱物の表面は固めでも内部は柔らかい仕上がりとなり、ヒーターを使用した場合とは異なる食感を生み出すことができる。 In particular, when the heater of the conventional example is used, the power consumption is about 800 W to 1000 W when trying to brown the object to be heated, but when the high frequency power generating part in the present invention is used, the power consumption is high. Since it only takes about 100W to 200W, it is also excellent in energy saving performance. Further, in the heater, the surface and the inside of the object to be heated have a hard texture, but when a surface wave exciter is used in the overall configuration of the present invention, the surface of the object to be heated has a hard surface but the inside has a soft finish. , It is possible to produce a texture different from that when a heater is used.

次に、上述の高周波加熱装置100の、被加熱物102を加熱処理する動作について説明する。 Next, the operation of heat-treating the object to be heated 102 of the high-frequency heating device 100 described above will be described.

図3は、図1に示した表面波励振体103に、高周波電力発生部120で発生された高周波電力を、高周波電力供給部110を介して供給した時の、表面波励振体103を表面波で伝播する高周波電力の、それぞれの表面波励振体103の表面付近に於ける電界強度分布の様子を模式的に示したものである。 FIG. 3 shows a surface wave exciter 103 when the high frequency power generated by the high frequency power generation unit 120 is supplied to the surface wave exciter 103 shown in FIG. 1 via the high frequency power supply unit 110. The state of the electric field strength distribution in the vicinity of the surface of each surface wave exciter 103 of the high-frequency power propagated in the above is schematically shown.

図3(a)は、第1の表面波励振体103aに、高周波電力発生部120で発生された高周波電力を、第1の高周波電力供給部110aを介して供給した時の、第1の表面波励振体103aの表面付近に於ける電界強度分布140aを、図3(b)は、第1の表面波励振体103aに、高周波電力発生部120で発生された高周波電力を、第1の高周波電力供給部110aを介して供給して、設置台101に被加熱物102を設置した時の、第1の表面波励振体103aの表面付近に於ける電界強度分布140bにより被加熱物102が加熱される様子を、図3(c)は、第1の表面波励振体103aに対して被加熱物102を挟み込むように第2の表面波励振体103bを配置し、高周波電力発生部120で発生された高周波電力を、第1の表面波励振体103aに第1の高周波電力供給部110aを介して供給すると共に、第2の表面波励振体103bに第2の高周波電力供給部110bを介して供給して、設置台101に被加熱物102を設置した時の、第1の表面波励振体103aおよび第2の表面波励振体103bの表面付近に於ける電界強度分布140cにより被加熱物102が加熱される様子を、それぞれ示している。 FIG. 3A shows a first surface when the high frequency power generated by the high frequency power generation unit 120 is supplied to the first surface wave exciter 103a via the first high frequency power supply unit 110a. The electric field strength distribution 140a near the surface of the wave exciter 103a is shown in FIG. 3 (b), and the high frequency power generated by the high frequency power generating unit 120 is applied to the first surface wave exciter 103a. When the object to be heated 102 is installed on the installation table 101 by supplying it through the power supply unit 110a, the object to be heated 102 is heated by the electric field strength distribution 140b near the surface of the first surface wave exciter 103a. In FIG. 3C, the second surface wave exciter 103b is arranged so as to sandwich the object to be heated 102 with respect to the first surface wave exciter 103a, and is generated by the high frequency power generating unit 120. The generated high-frequency power is supplied to the first surface wave exciter 103a via the first high-frequency power supply unit 110a, and to the second surface wave exciter 103b via the second high-frequency power supply unit 110b. When the object to be heated 102 is supplied and installed on the installation table 101, the object to be heated 102 is based on the electric field strength distribution 140c near the surfaces of the first surface wave exciter 103a and the second surface wave exciter 103b. Are shown to be heated.

ここで、電界強度分布140a、140b、および140cは、色の濃淡で電界の強弱を表しており、色が濃いほどに電界が強いことを示している。 Here, the electric field strength distributions 140a, 140b, and 140c represent the strength of the electric field by the shade of color, and the darker the color, the stronger the electric field.

図3(a)に示すように、第1の表面波励振体103aへ高周波電力発生部120で発生された高周波電力を第1の高周波電力供給部110aを介して供給すると、第1の表面波励振体103aへ供給された高周波電力は、表面波で第1の表面波励振体103aを伝播することにより、第1の表面波励振体103aの表面付近に於ける電界強度分布140aは、第1の表面波励振体103aの表面近傍の電界が強くなり、第1の表面波励振体103aの表面から遠ざかるにつれて電界は指数関数的に弱くなる分布となる。 As shown in FIG. 3A, when the high frequency power generated by the high frequency power generation unit 120 is supplied to the first surface wave exciter 103a via the first high frequency power supply unit 110a, the first surface wave is generated. The high-frequency power supplied to the exciter 103a propagates on the first surface wave exciter 103a by the surface wave, so that the electric field strength distribution 140a near the surface of the first surface wave exciter 103a is the first. The electric field near the surface of the surface wave exciter 103a becomes stronger, and the electric field becomes exponentially weaker as the distance from the surface of the first surface wave exciter 103a increases.

また、図3(b)に示すように、設置台101に被加熱物102を設置した状態で、第1の表面波励振体103aに、高周波電力発生部120で発生された高周波電力を、第1の高周波電力供給部110aを介して供給すると、第1の表面波励振体103aの表面付近の電界強度分布140bは、前述の図3(a)と同様に、第1の表面波励振体103aの表面近傍の電界が強くなり、第1の表面波励振体103aの表面から遠ざかるにつれて電界は弱くなる分布となるので、被加熱物102の第1の表面波励振体103aに近い部分(被加熱物102の下面部分)が集中的に強く加熱され、第1の表面波励振体103aから遠い部分(被加熱物102の上面部分)は非常に弱く加熱されるか、殆ど加熱されない状態となる。 Further, as shown in FIG. 3B, in a state where the object to be heated 102 is installed on the installation table 101, the high-frequency power generated by the high-frequency power generation unit 120 is applied to the first surface wave exciter 103a. When supplied via the high-frequency power supply unit 110a of No. 1, the electric field strength distribution 140b near the surface of the first surface wave exciter 103a becomes the first surface wave exciter 103a as in FIG. 3A described above. Since the electric field near the surface of the first surface wave exciter 103a becomes stronger and the electric field becomes weaker as the distance from the surface of the first surface wave exciter 103a increases, the portion of the object 102 to be heated near the first surface wave exciter 103a (heated). The lower surface portion of the object 102) is intensively and strongly heated, and the portion far from the first surface wave exciter 103a (the upper surface portion of the object 102 to be heated) is heated very weakly or hardly heated.

更に、図3(c)に示すように、設置台101に被加熱物102を設置した状態で、第1の表面波励振体103aに対して被加熱物102を挟み込むように第2の表面波励振体103bを配置し、高周波電力発生部120で発生された高周波電力を、第1の高周波電力供給部110aを介して第1の表面波励振体103aへ、第2の高周波電力供給部110bを介して第2の表面波励振体103bへ、それぞれ供給すると、第1の表面波励振体103aと第2の表面波励振体103bで挟まれた空間の電界強度分布140cは、第1の表面波励振体103aおよび第2の表面波励振体103bの表面近傍の電界が強くなり、表面から遠ざかるにつれて電界は弱くなる分布となるので、被加熱物102の、それぞ
れの第1の表面波励振体103aおよび第2の表面波励振体103bに近い部分(被加熱物102の上面および下面部分)が集中的に強く加熱され、第1の表面波励振体103aおよび第2の表面波励振体103bに挟まれた空間の中間部分(被加熱物102の中間層部分)は弱く加熱される状態となる。これにより、設置台101に設置された被加熱物102の両面に加熱処理を施すことができ、更には、被加熱物102の上面および下面部分に主に焦げ目を付けることができる。
Further, as shown in FIG. 3C, in a state where the object to be heated 102 is installed on the installation table 101, the second surface wave so as to sandwich the object to be heated 102 with respect to the first surface wave exciter 103a. The exciter 103b is arranged, and the high-frequency power generated by the high-frequency power generation unit 120 is transferred to the first surface wave exciter 103a via the first high-frequency power supply unit 110a, and the second high-frequency power supply unit 110b is provided. When each is supplied to the second surface wave exciter 103b via the above, the electric field strength distribution 140c in the space sandwiched between the first surface wave exciter 103a and the second surface wave exciter 103b becomes the first surface wave. Since the electric field near the surface of the exciter 103a and the second surface wave exciter 103b becomes stronger and the electric field becomes weaker as the distance from the surface increases, the first surface wave exciter 103a of the object 102 to be heated has a distribution. And the portion close to the second surface wave exciter 103b (the upper surface and the lower surface portion of the object 102 to be heated) is intensively and strongly heated and sandwiched between the first surface wave exciter 103a and the second surface wave exciter 103b. The intermediate portion of the space (the intermediate layer portion of the object to be heated 102) is in a weakly heated state. As a result, both sides of the object to be heated 102 installed on the installation table 101 can be heat-treated, and further, the upper surface and the lower surface of the object to be heated 102 can be mainly browned.

また、複数の表面波励振体103に、励振周波数を同じくする表面波励振体を用いることにより、装置の設計が容易になると共に、それぞれの表面波励振体による加熱状態のバランスが取れて、仕上がり品質を向上することができる。 Further, by using the surface wave exciters having the same excitation frequency for the plurality of surface wave exciters 103, the design of the device is facilitated, and the heating state of each surface wave exciter is balanced and finished. The quality can be improved.

表面波励振体は、使用する材料や物理的な構造寸法などにより、その励振周波数が決まる。例えば、前述した、スタブ型表面波励振体では、金属平板上に並べられた複数の金属平板の高さ寸法や、金属平板の間隔寸法などを変化させることで、表面波励振体の励振周波数を変化させることができ、所望の励振周波数を有する表面波励振体を形成することができる。なお、原則的には、表面波励振体の励振周波数は、金属平板の高さ寸法を低くするほど高くなり、金属平板の間隔寸法を小さくするほど高くなるので、このように金属平板の調整をすることで所望の励振周波数を有する表面波励振体を形成することができる。 The excitation frequency of a surface wave exciter is determined by the material used and the physical structural dimensions. For example, in the above-mentioned stub type surface wave exciter, the excitation frequency of the surface wave exciter can be changed by changing the height dimension of a plurality of metal flat plates arranged on the metal flat plate, the spacing dimension of the metal flat plates, and the like. It can be varied to form a surface wave exciter with the desired excitation frequency. In principle, the excitation frequency of the surface wave exciter becomes higher as the height dimension of the metal flat plate is lowered, and becomes higher as the spacing dimension of the metal flat plate is reduced. Therefore, the metal flat plate is adjusted in this way. By doing so, a surface wave exciter having a desired excitation frequency can be formed.

本発明においては、上記のように表面波励振体の励振周波数を調整して、複数の表面波励振体103に、励振周波数を同じくする表面波励振体を用いてもよい。 In the present invention, the excitation frequency of the surface wave exciter may be adjusted as described above, and a surface wave exciter having the same excitation frequency may be used for the plurality of surface wave exciters 103.

なお、図1の高周波加熱装置100では、第1の表面波励振体103aおよび第2の表面波励振体103bに対して、第1の高周波電力供給部110aおよび第2の高周波電力供給部110bを同一方向に設けて、高周波電力発生部120からの高周波電力を同一方向から供給するよう記載しているが、第1の表面波励振体103aおよび第2の表面波励振体103bへの高周波電力を供給する方向は、逆方向やその他の方向でも構わない。 In the high-frequency heating device 100 of FIG. 1, the first high-frequency power supply unit 110a and the second high-frequency power supply unit 110b are provided with respect to the first surface wave exciter 103a and the second surface wave exciter 103b. Although it is described that the high frequency power from the high frequency power generating unit 120 is supplied from the same direction by being provided in the same direction, the high frequency power to the first surface wave exciter 103a and the second surface wave exciter 103b is applied. The supply direction may be the opposite direction or other directions.

(実施の形態2)
以下、本発明の実施の形態2を、図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 2)
Hereinafter, Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to the drawings.

なお、本実施の形態2の説明において、前述の実施形態1と同じ機能を有する構成要素には同じ参照符号を付し、説明を省略する。また、前述の実施の形態1と同じ作用効果を有する内容についても、説明を省略する。 In the description of the second embodiment, the same reference numerals are given to the components having the same functions as those of the first embodiment, and the description thereof will be omitted. Further, the description of the content having the same effect as that of the first embodiment described above will be omitted.

図4は、本発明の実施の形態2に係る、高周波加熱装置200の構成を示すブロック図である。 FIG. 4 is a block diagram showing the configuration of the high frequency heating device 200 according to the second embodiment of the present invention.

同図に示す高周波加熱装置200は、図1に示した実施の形態1に係る高周波加熱装置100と比較して、第1の表面波励振体103aおよび第2の表面波励振体103bに代わり第1の表面波励振体203aおよび第2の表面波励振体203bを備え、第1の高周波電力供給部110aおよび第2の高周波電力供給部110bに代わり高周波電力供給部210を備え、高周波電力発生部120に代わり高周波電力発生部220を備える。 The high-frequency heating device 200 shown in the figure is a second surface wave exciter 103a instead of the first surface wave exciter 103a and the second surface wave exciter 103b, as compared with the high-frequency heating device 100 according to the first embodiment shown in FIG. A surface wave exciter 203a and a second surface wave exciter 203b are provided, and a high frequency power supply unit 210 is provided in place of the first high frequency power supply unit 110a and the second high frequency power supply unit 110b, and a high frequency power generation unit is provided. A high frequency power generation unit 220 is provided instead of the 120.

なお、図4において、高周波加熱装置200は、2つの表面波励振体と、1つの高周波電力供給部と、1つの高周波電力発生部を有しているが、実施の形態1と同様に、表面波励振体、高周波電力供給部および高周波電力発生部の数はこれに限定されるものではない。 In FIG. 4, the high-frequency heating device 200 has two surface wave exciters, one high-frequency power supply unit, and one high-frequency power generation unit, but the surface is the same as in the first embodiment. The number of wave exciters, high-frequency power supply units, and high-frequency power generation units is not limited to this.

高周波電力発生部220で発生された高周波電力は、高周波電力供給部210を介して
第1の表面波励振体203aへ供給される。そして、第1の表面波励振体203aに供給された高周波電力は、第1の表面波励振体203aを表面波で伝播して被加熱物102を加熱すると共に、第1の表面波励振体203aを表面波で伝播する高周波電力の一部が、空間結合により、第1の表面波励振体203aに対して対向した位置に配置された第2の表面波励振体203bにも高周波電力が供給され、第2の表面波励振体203bを表面波で伝播して被加熱物102を加熱する。また、以下では、第1の表面波励振体203aおよび第2の表面波励振体203bを特に区別せず、表面波励振体203と記載する場合がある。
The high-frequency power generated by the high-frequency power generation unit 220 is supplied to the first surface wave exciter 203a via the high-frequency power supply unit 210. Then, the high-frequency power supplied to the first surface wave exciter 203a propagates through the first surface wave exciter 203a with a surface wave to heat the object to be heated 102, and at the same time, the first surface wave exciter 203a A part of the high frequency power propagating by the surface wave is also supplied to the second surface wave exciter 203b arranged at a position facing the first surface wave exciter 203a by spatial coupling. , The second surface wave exciter 203b is propagated by the surface wave to heat the object to be heated 102. Further, in the following, the first surface wave exciter 203a and the second surface wave exciter 203b may be described as the surface wave exciter 203 without particular distinction.

なお、表面波励振体203と、高周波電力供給部210と、高周波電力発生部220のそれぞれの構成は、前述した実施の形態1で説明した、表面波励振体103と高周波電力供給部110と高周波電力発生部120の構成と同一であるので、説明は省略する。 The configurations of the surface wave exciter 203, the high frequency power supply unit 210, and the high frequency power generation unit 220 are the surface wave exciter 103, the high frequency power supply unit 110, and the high frequency as described in the first embodiment. Since the configuration is the same as that of the power generating unit 120, the description thereof will be omitted.

以上のような構成により、本実施の形態に係る高周波加熱装置200は、高周波電力発生部220で発生された高周波電力を、高周波電力供給部210を介して、被加熱物102を挟み込むように配置した、第1の表面波励振体203aと第2の表面波励振体203bの内の、一方の表面波励振体である、第1の表面波励振体203aにのみ供給することにより、第1の表面波励振体203aおよび第2の表面波励振体203bを表面波で伝播する高周波電力により、簡素な構成で、ヒーターなどの他の熱源を用いることなく、設置台101の上に設置された被加熱物102の両面に加熱処理を施すことができ、更には被加熱物102の両面に焦げ目を付けることもできる。 With the above configuration, the high-frequency heating device 200 according to the present embodiment arranges the high-frequency power generated by the high-frequency power generation unit 220 so as to sandwich the object to be heated 102 via the high-frequency power supply unit 210. By supplying only to the first surface wave exciter 203a, which is one of the surface wave exciter 203a and the second surface wave exciter 203b, the first surface wave exciter 203a is supplied. Due to the high frequency power propagating the surface wave exciter 203a and the second surface wave exciter 203b by the surface wave, the cover is installed on the installation table 101 in a simple configuration without using another heat source such as a heater. Both sides of the heated object 102 can be heat-treated, and further, both sides of the heated object 102 can be browned.

次に、上述の高周波加熱装置200の、被加熱物102を加熱処理する動作について説明する。 Next, the operation of heat-treating the object to be heated 102 of the high-frequency heating device 200 described above will be described.

図5は、図4に示した第1の表面波励振体203aに、高周波電力発生部220で発生された高周波電力を、高周波電力供給部210を介して供給した時の、第1の表面波励振体203aおよび第2の表面波励振体203bをそれぞれ表面波で伝播する高周波電力と、第1の表面波励振体203aおよび第2の表面波励振体203bの表面近傍に於ける電界の強度分布の様子を模式的に示したものである。 FIG. 5 shows the first surface wave when the high frequency power generated by the high frequency power generation unit 220 is supplied to the first surface wave exciter 203a shown in FIG. 4 via the high frequency power supply unit 210. High-frequency power propagating by surface waves in the exciter 203a and the second surface wave exciter 203b, respectively, and the strength distribution of the electric field in the vicinity of the surface of the first surface wave exciter 203a and the second surface wave exciter 203b. The state of is schematically shown.

図5に示すように、第1の表面波励振体203aへ高周波電力発生部220で発生された高周波電力を高周波電力供給部210を介して供給すると、第1の表面波励振体203aを表面波で伝播する高周波電力250aにより、第1の表面波励振体203aの表面近傍に電界が集中する電界分布240aが形成されると共に、電波の空間結合により、被加熱物102を挟み込むように、第1の表面波励振体203aに対向した位置に配置された第2の表面波励振体203bに、第1の表面波励振体203aを表面波で伝播する高周波電力250aの一部が供給され、第2の表面波励振体203bを表面波で伝播する高周波電力250bにより、第2の表面波励振体203bの表面近傍に電界が集中する電界分布240bが形成される。 As shown in FIG. 5, when the high frequency power generated by the high frequency power generation unit 220 is supplied to the first surface wave exciter 203a via the high frequency power supply unit 210, the first surface wave exciter 203a is supplied with the surface wave. The high-frequency power 250a propagating in the above forms an electric field distribution 240a in which the electric field is concentrated near the surface of the first surface wave exciter 203a, and the first surface wave exciter 102 is sandwiched by the spatial coupling of radio waves. A part of the high frequency power 250a propagating the first surface wave exciter 203a by the surface wave is supplied to the second surface wave exciter 203b arranged at a position facing the surface wave exciter 203a, and the second surface wave exciter 203a is supplied. The high-frequency power 250b propagating the surface wave exciter 203b by the surface wave forms an electric field distribution 240b in which the electric field is concentrated near the surface of the second surface wave exciter 203b.

これにより、被加熱物102を挟み込むように対向した位置に配置した表面波励振体203の内の片側の表面波励振体のみに高周波電力を供給することで、双方の第1の表面波励振体203aおよび第2の表面波励振体203bを高周波電力が表面波で伝播し、ヒーターなどの他の熱源を用いなくとも、設置台101に設置された被加熱物102の両面に加熱処理を施すことができ、更には被加熱物102の両面に焦げ目を付けることもできる。 As a result, by supplying high-frequency power only to the surface wave exciter on one side of the surface wave exciter 203 arranged at opposite positions so as to sandwich the object to be heated 102, both first surface wave exciters High-frequency power propagates through the 203a and the second surface wave exciter 203b by surface waves, and heat treatment is performed on both sides of the object to be heated 102 installed on the installation table 101 without using another heat source such as a heater. Further, both sides of the object to be heated 102 can be browned.

特に、従来例のヒーターを使用する場合には、被加熱物に焦げ目を付けようとすると、消費電力が800W〜1000Wほどかかるが、本発明における高周波電力発生部を使用
する場合は、消費電力が100W〜200W程度しかかからないので、省エネ性能にも優れている。また、ヒーターでは被加熱物の表面および内部が固めの食感となってしまうが、本発明に全体構成で表面波励振体を使用すると、被加熱物の表面は固めでも内部は柔らかい仕上がりとなり、ヒーターを使用した場合とは異なる食感を生み出すことができる。
In particular, when the heater of the conventional example is used, the power consumption is about 800 W to 1000 W when trying to brown the object to be heated, but when the high frequency power generating part in the present invention is used, the power consumption is high. Since it only takes about 100W to 200W, it is also excellent in energy saving performance. Further, in the heater, the surface and the inside of the object to be heated have a hard texture, but when a surface wave exciter is used in the overall configuration in the present invention, the surface of the object to be heated has a hard surface but the inside has a soft finish. It is possible to produce a texture different from that when a heater is used.

ここで、図4の高周波加熱装置200では、高周波電力発生部220からの高周波電力を高周波電力供給部210を介して、被加熱物102の下面方向に位置する第1の表面波励振体203aに供給するよう記載しているが、被加熱物102の上面方向に位置する第2の表面波励振体203bに供給するように構成しても構わない。 Here, in the high-frequency heating device 200 of FIG. 4, the high-frequency power from the high-frequency power generation unit 220 is transmitted to the first surface wave exciter 203a located in the lower surface direction of the object to be heated 102 via the high-frequency power supply unit 210. Although it is described that it is supplied, it may be configured to be supplied to the second surface wave exciter 203b located in the upper surface direction of the object to be heated 102.

(実施の形態3)
以下、本発明の実施の形態3を、図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 3)
Hereinafter, Embodiment 3 of the present invention will be described with reference to the drawings.

なお、本実施の形態3の説明において、前述の実施の形態1もしくは実施の形態2と同じ機能を有する構成要素には同じ参照符号を付し、説明を省略する。また、前述の実施の形態1もしくは実施の形態2と同じ作用を有する内容についても、説明を省略する。 In the description of the third embodiment, the same reference numerals are given to the components having the same functions as those of the first or second embodiment described above, and the description thereof will be omitted. Further, the description of the content having the same operation as that of the first embodiment or the second embodiment described above will be omitted.

図6は、本発明の実施の形態3に係る、高周波加熱装置300の構成を示すブロック図である。 FIG. 6 is a block diagram showing the configuration of the high frequency heating device 300 according to the third embodiment of the present invention.

同図に示す高周波加熱装置300は、図1に示した実施の形態1に係る高周波加熱装置100と比較して、第1の表面波励振体103aおよび第2の表面波励振体103bに代わり第1の表面波励振体303aおよび第2の表面波励振体303bを備え、第1の高周波電力供給部110aおよび第2の高周波電力供給部110bに代わり第1の高周波電力供給部310aおよび第2の高周波電力供給部310bを備え、高周波電力発生部120に代わり第1の高周波電力発生部320aおよび第2の高周波電力発生部320bを備える。なお、図6において、高周波加熱装置300は、2つの表面波励振体と、2つの高周波電力供給部と、2つの高周波電力発生部を有しているが、表面波励振体、高周波電力供給部および高周波電力発生部の数はこれに限定されるものではない。 The high frequency heating device 300 shown in the figure is a second surface wave exciter 103a instead of the first surface wave exciter 103a and the second surface wave exciter 103b as compared with the high frequency heating device 100 according to the first embodiment shown in FIG. The surface wave exciter 303a and the second surface wave exciter 303b are provided, and the first high frequency power supply unit 310a and the second high frequency power supply unit 310a and the second high frequency power supply unit 310a replace the first high frequency power supply unit 110a and the second high frequency power supply unit 110b. A high-frequency power supply unit 310b is provided, and a first high-frequency power generation unit 320a and a second high-frequency power generation unit 320b are provided in place of the high-frequency power generation unit 120. In FIG. 6, the high-frequency heating device 300 has two surface wave exciters, two high-frequency power supply units, and two high-frequency power generators. The surface wave exciter and the high-frequency power supply unit And the number of high frequency power generators is not limited to this.

第1の高周波電力発生部320aで発生された高周波電力は、第1の高周波電力供給部310aを介して第1の表面波励振体303aへ供給される。そして、第1の表面波励振体303aに供給された高周波電力は、第1の表面波励振体303aを表面波で伝播して被加熱物102を加熱すると共に、第1の表面波励振体303aを表面波で伝播する高周波電力の一部が、空間結合により、第1の表面波励振体303aに対して対向した位置に配置された第2の表面波励振体303bにも高周波電力が供給され、第2の表面波励振体303bを表面波で伝播して被加熱物102を加熱する。 The high-frequency power generated by the first high-frequency power generation unit 320a is supplied to the first surface wave exciter 303a via the first high-frequency power supply unit 310a. Then, the high-frequency power supplied to the first surface wave exciter 303a propagates through the first surface wave exciter 303a by the surface wave to heat the object to be heated 102, and at the same time, the first surface wave exciter 303a A part of the high-frequency power propagating by the surface wave is also supplied to the second surface wave exciter 303b arranged at a position facing the first surface wave exciter 303a by spatial coupling. , The second surface wave exciter 303b is propagated by the surface wave to heat the object to be heated 102.

一方、第2の高周波電力発生部320bで発生された高周波電力は、第2の高周波電力供給部310bを介して第2の表面波励振体303bへ供給される。そして、第2の表面波励振体303bに供給された高周波電力は、第2の表面波励振体303bを表面波で伝播して被加熱物102を加熱すると共に、第2の表面波励振体303bを表面波で伝播する高周波電力の一部が、空間結合により、第2の表面波励振体303bに対して対向した位置に配置された第1の表面波励振体303aにも高周波電力が供給され、第1の表面波励振体303aを表面波で伝播して被加熱物102を加熱する。 On the other hand, the high-frequency power generated by the second high-frequency power generation unit 320b is supplied to the second surface wave exciter 303b via the second high-frequency power supply unit 310b. Then, the high-frequency power supplied to the second surface wave exciter 303b propagates through the second surface wave exciter 303b by the surface wave to heat the object to be heated 102, and at the same time, the second surface wave exciter 303b A part of the high-frequency power propagating by the surface wave is also supplied to the first surface wave exciter 303a arranged at a position facing the second surface wave exciter 303b by spatial coupling. , The first surface wave exciter 303a is propagated by a surface wave to heat the object to be heated 102.

また、以下では、第1の表面波励振体303aおよび第2の表面波励振体303bと、第1の高周波電力供給部310aおよび第2の高周波電力供給部310bと、第1の高周波電力発生部320aおよび第2の高周波電力発生部320bとを特に区別せず、表面波励振体303、高周波電力供給部310および高周波電力発生部320と記載する場合が
ある。
Further, in the following, the first surface wave exciter 303a, the second surface wave exciter 303b, the first high frequency power supply unit 310a, the second high frequency power supply unit 310b, and the first high frequency power generation unit The 320a and the second high-frequency power generation unit 320b are not particularly distinguished, and may be described as a surface wave exciter 303, a high-frequency power supply unit 310, and a high-frequency power generation unit 320.

なお、表面波励振体303と、高周波電力供給部310と、高周波電力発生部320のそれぞれの構成は、前述した実施の形態1で説明した、表面波励振体103と高周波電力供給部110と高周波電力発生部120の構成と同一であるので、説明は省略する。 The configurations of the surface wave exciter 303, the high frequency power supply unit 310, and the high frequency power generation unit 320 are the surface wave exciter 103, the high frequency power supply unit 110, and the high frequency as described in the first embodiment. Since the configuration is the same as that of the power generating unit 120, the description thereof will be omitted.

以上のような構成により、本実施の形態に係る高周波加熱装置300は、第1の表面波励振体303aと第2の表面波励振体303bを被加熱物102を挟み込むように対向した位置に配置して、第1の高周波電力発生部320aで発生された高周波電力を、第1の高周波電力供給部310aを介して、第1の表面波励振体303aに供給し、第2の高周波電力発生部320bで発生された高周波電力を、第2の高周波電力供給部310bを介して、第2の表面波励振体303bに供給することにより、第1の表面波励振体303aおよび第2の表面波励振体303bを表面波で伝播する高周波電力により、ヒーターなどの他の熱源を用いることなく、設置台101の上に設置された被加熱物102の両面に加熱処理を施すことができ、更には被加熱物102の両面に焦げ目を付けることもできる。 With the above configuration, the high frequency heating device 300 according to the present embodiment arranges the first surface wave exciter 303a and the second surface wave exciter 303b at opposite positions so as to sandwich the object to be heated 102. Then, the high-frequency power generated by the first high-frequency power generation unit 320a is supplied to the first surface wave exciter 303a via the first high-frequency power supply unit 310a, and the second high-frequency power generation unit is used. By supplying the high frequency power generated by the 320b to the second surface wave exciter 303b via the second high frequency power supply unit 310b, the first surface wave exciter 303a and the second surface wave exciter are excited. With high-frequency power propagating through the body 303b by surface waves, it is possible to heat-treat both sides of the object to be heated 102 installed on the installation table 101 without using another heat source such as a heater. It is also possible to brown both sides of the heated object 102.

次に、上述の高周波加熱装置300の、被加熱物102を加熱処理する動作について説明する。 Next, the operation of heat-treating the object to be heated 102 of the above-mentioned high-frequency heating device 300 will be described.

図7は、図6に示したそれぞれの第1の表面波励振体303aおよび第2の表面波励振体303bに、第1の高周波電力発生部320aおよび第2の高周波電力発生部320bで発生された高周波電力を、第1の高周波電力供給部310aおよび第2の高周波電力供給部310bを介して供給した時の、第1の表面波励振体303aおよび第2の表面波励振体303bをそれぞれ表面波で伝播する高周波電力と、第1の表面波励振体303aおよび第2の表面波励振体303bの表面近傍に於ける電界の強度分布の様子を模式的に示したものである。 FIG. 7 is generated in the first surface wave exciter 303a and the second surface wave exciter 303b shown in FIG. 6 by the first high frequency power generating unit 320a and the second high frequency power generating unit 320b. The surface of the first surface wave exciter 303a and the second surface wave exciter 303b when the high frequency power is supplied via the first high frequency power supply unit 310a and the second high frequency power supply unit 310b, respectively. It schematically shows the state of the high frequency power propagated by the wave and the intensity distribution of the electric field in the vicinity of the surface of the first surface wave exciter 303a and the second surface wave exciter 303b.

図7に示すように、第1の高周波電力発生部320aで発生された高周波電力を、第1の高周波電力供給部310aを介して第1の表面波励振体303aへ供給すると、前述の実施の形態2と同様に、第1の表面波励振体303aを表面波で伝播する高周波電力350aにより、第1の表面波励振体303aの表面近傍に電界が集中する電界分布が形成されると共に、電波の空間結合により、第2の表面波励振体303bにも、第1の表面波励振体303aを表面波で伝播する高周波電力350aの一部が供給され、第2の表面波励振体303bを表面波で伝播する高周波電力350bにより、第2の表面波励振体303bの表面近傍にも電界が集中する電界分布が形成される。 As shown in FIG. 7, when the high-frequency power generated by the first high-frequency power generation unit 320a is supplied to the first surface wave exciter 303a via the first high-frequency power supply unit 310a, the above-described implementation is performed. Similar to the second embodiment, the high frequency power 350a propagating the first surface wave exciter 303a by the surface wave forms an electric field distribution in which the electric field is concentrated near the surface of the first surface wave exciter 303a, and the radio wave. A part of the high frequency power 350a propagating the first surface wave exciter 303a by the surface wave is also supplied to the second surface wave exciter 303b by the spatial coupling of the above, and the second surface wave exciter 303b is surfaced. The high-frequency power 350b propagated by the wave forms an electric field distribution in which the electric field is concentrated near the surface of the second surface wave exciter 303b.

同様に、第2の高周波電力発生部320bで発生された高周波電力を、第2の高周波電力供給部310bを介して第2の表面波励振体303bへ供給すると、第2の表面波励振体303bを表面波で伝播する高周波電力350cにより、第2の表面波励振体303bの表面近傍に電界が集中する電界分布が形成されると共に、電波の空間結合により、第1の表面波励振体303aにも、第2の表面波励振体303bを表面波で伝播する高周波電力350cの一部が供給され、第1の表面波励振体303aを表面波で伝播する高周波電力350dにより、第1の表面波励振体303aの表面近傍にも電界が集中する電界分布が形成される。 Similarly, when the high frequency power generated by the second high frequency power generation unit 320b is supplied to the second surface wave exciter 303b via the second high frequency power supply unit 310b, the second surface wave exciter 303b The high-frequency power 350c propagating by the surface wave forms an electric field distribution in which the electric field is concentrated near the surface of the second surface wave exciter 303b, and the spatial coupling of the radio waves causes the first surface wave exciter 303a. Also, a part of the high frequency power 350c propagating the second surface wave exciter 303b by the surface wave is supplied, and the high frequency power 350d propagating the first surface wave exciter 303a by the surface wave causes the first surface wave. An electric field distribution in which the electric field is concentrated is also formed near the surface of the exciter 303a.

従って、第1の表面波励振体303aを表面波で伝播する高周波電力351aは、第1の高周波電力発生部320aから供給された高周波電力350aと、第2の表面波励振体303bから空間結合により供給された高周波電力350dとの和となり、第1の表面波励振体303aの表面近傍の電界分布343aも、第1の高周波電力発生部320aから供給された高周波電力350aにより形成される電界強度分布と、第2の表面波励振体3
03bから空間結合により供給された高周波電力350dにより形成される電界強度分布との和となって形成される。
Therefore, the high-frequency power 351a propagating the first surface wave exciter 303a by the surface wave is spatially coupled to the high-frequency power 350a supplied from the first high-frequency power generator 320a and the second surface wave exciter 303b. It is the sum of the supplied high frequency power 350d, and the electric field distribution 343a near the surface of the first surface wave exciter 303a is also the electric field strength distribution formed by the high frequency power 350a supplied from the first high frequency power generating unit 320a. And the second surface wave exciter 3
It is formed as a sum of the electric field strength distribution formed by the high frequency power 350d supplied from 03b by spatial coupling.

同様に、第2の表面波励振体303bを表面波で伝播する高周波電力351bは、第2の高周波電力発生部320bから供給された高周波電力350cと、第1の表面波励振体303aから空間結合により供給された高周波電力350bとの和となり、第2の表面波励振体303bの表面近傍の電界分布343bも、第2の高周波電力発生部320bから供給された高周波電力350cにより形成される電界強度分布と、第1の表面波励振体303aから空間結合により供給された高周波電力350bにより形成される電界強度分布との和となって形成される。 Similarly, the high-frequency power 351b propagating the second surface wave exciter 303b by the surface wave is spatially coupled to the high-frequency power 350c supplied from the second high-frequency power generator 320b and from the first surface wave exciter 303a. The electric field distribution 343b near the surface of the second surface wave exciter 303b is also the sum of the high frequency power 350b supplied by the second surface wave exciter 303b, and the electric field strength formed by the high frequency power 350c supplied from the second high frequency power generating unit 320b. It is formed as the sum of the distribution and the electric field strength distribution formed by the high frequency power 350b supplied from the first surface wave exciter 303a by spatial coupling.

これにより、被加熱物102を挟み込むように対向した位置に配置した第1の表面波励振体303aおよび第2の表面波励振体303bそれぞれに高周波電力を供給することで、第1の表面波励振体303aおよび第2の表面波励振体303b双方を表面波で伝播する高周波電力351aおよび351bのバランスの状態を変化させることができるので、加熱ムラや加熱加減を変化させることができ、設置台101に設置された被加熱物102の両面に、バランスの良い、多彩な加熱処理を施すことができ、更には被加熱物102の両面に焦げ目を付けることもできる。 As a result, high-frequency power is supplied to each of the first surface wave exciter 303a and the second surface wave exciter 303b arranged at positions facing each other so as to sandwich the object to be heated 102, thereby causing the first surface wave excitation. Since the balance state of the high frequency powers 351a and 351b propagating by the surface wave in both the body 303a and the second surface wave exciter 303b can be changed, the heating unevenness and the heating degree can be changed, and the installation table 101 can be changed. A variety of well-balanced heat treatments can be applied to both sides of the object to be heated 102 installed in the above, and further, both sides of the object to be heated 102 can be browned.

ここで、図6の高周波加熱装置300では、第1の表面波励振体303aおよび第2の表面波励振体303bに対して、第1の高周波電力供給部310aおよび第2の高周波電力供給部310bを同一方向に設けて、第1の高周波電力発生部320aおよび第2の高周波電力発生部320bからの高周波電力を同一方向から供給するよう記載しているが、それぞれの表面波励振体303aおよび303bへの高周波電力を供給する方向は、逆方向やその他の方向でも構わない。 Here, in the high-frequency heating device 300 of FIG. 6, the first high-frequency power supply unit 310a and the second high-frequency power supply unit 310b are relative to the first surface wave exciter 303a and the second surface wave exciter 303b. Is provided in the same direction to supply high-frequency power from the first high-frequency power generating unit 320a and the second high-frequency power generating unit 320b from the same direction, but the surface wave exciters 303a and 303b, respectively. The direction of supplying the high frequency power to is not limited to the opposite direction or any other direction.

また、図1に示す実施の形態1の高周波加熱装置100、図4に示す実施の形態2の高周波加熱装置200、図6に示す実施の形態3の高周波加熱装置300に於いて、図示はしないが、高周波電力発生部120、220、320aおよび320bは、設定された周波数の高周波電力を発生する、周波数可変の高周波発振器であってもよい。 Further, the high frequency heating device 100 of the first embodiment shown in FIG. 1, the high frequency heating device 200 of the second embodiment shown in FIG. 4, and the high frequency heating device 300 of the third embodiment shown in FIG. 6 are not shown. However, the high frequency power generation units 120, 220, 320a and 320b may be frequency variable high frequency oscillators that generate high frequency power of a set frequency.

周波数可変の高周波発振器は、前述した半導体発振回路を構成する共振回路の共振周波数を決める素子に電圧可変素子(例えば、バラクターダイオードなど)を用いることで実現でき、一般的にはVCO(Voltage Controlled Oscillator)と呼ばれる。VCOの技術に関しては公知であるので、詳細な説明は省略する。この場合には、制御部を設けるなどにより、VCOに周波数に対応する電圧情報を供給することにより、周波数を変更することができる。 A frequency-variable high-frequency oscillator can be realized by using a voltage-variable element (for example, a voltage controller diode) as an element that determines the resonance frequency of the resonance circuit constituting the semiconductor oscillation circuit described above, and is generally VCO (Voltage Controlled). It is called Oscillator). Since the VCO technology is known, detailed description thereof will be omitted. In this case, the frequency can be changed by supplying the voltage information corresponding to the frequency to the VCO by providing a control unit or the like.

また更に、基準信号発生器と位相比較器を備えたPLL(Phase Locked Loop)発振器を構成しても構わない。PLL発振器の技術に関しては公知であるので、詳細な説明は省略する。この場合には、制御部を設けるなどにより、位相比較器に周波数に対応する情報信号を供給することにより、周波数を変更することができる。 Further, a PLL (Phase Locked Loop) oscillator including a reference signal generator and a phase comparator may be configured. Since the technology of the PLL oscillator is known, detailed description thereof will be omitted. In this case, the frequency can be changed by supplying an information signal corresponding to the frequency to the phase comparator by providing a control unit or the like.

表面波励振体に供給する高周波電力の周波数を変化させることにより、表面波励振体の表面近傍に形成される電界の強度分布を変化させることができる。 By changing the frequency of the high-frequency power supplied to the surface wave exciter, the intensity distribution of the electric field formed near the surface of the surface wave exciter can be changed.

図8は、表面波励振体に供給する高周波電力の周波数を変化した時の、表面波励振体の表面近傍に形成される電界の表面集中度の変化の様子を示す図である。同図は、表面波励振体に供給する高周波電力の周波数と、表面波励振体の励振周波数との関係に於ける、表面波励振体の表面からの距離に対する電界強度の大きさをグラフで示すもので、横軸は表
面波励振体の表面からの距離を、縦軸は電界強度の大きさを示していて、グラフの傾斜が大きいほど表面波励振体の表面に電界が集中していることを意味する。
FIG. 8 is a diagram showing a change in the surface concentration of an electric field formed in the vicinity of the surface of the surface wave exciter when the frequency of the high frequency power supplied to the surface wave exciter is changed. The figure graphically shows the magnitude of the electric field strength with respect to the distance from the surface of the surface wave exciter in the relationship between the frequency of the high frequency power supplied to the surface wave exciter and the excitation frequency of the surface wave exciter. The horizontal axis shows the distance from the surface of the surface wave exciter, and the vertical axis shows the magnitude of the electric field strength. The larger the slope of the graph, the more the electric field is concentrated on the surface of the surface wave exciter. Means.

図8(a)は、表面波励振体に供給する高周波電力の周波数(fp)が表面波励振体の励振周波数(fc)よりも低い時の、表面波励振体の表面からの距離に対する電界強度の大きさのグラフ401を、図8(b)は、表面波励振体に供給する高周波電力の周波数(fp)が表面波励振体の励振周波数(fc)とほぼ等しい時の、表面波励振体の表面からの距離に対する電界強度の大きさのグラフ402を、図8(c)は、表面波励振体に供給する高周波電力の周波数(fp)が表面波励振体の励振周波数(fc)よりも高い時の、表面波励振体の表面からの距離に対する電界強度の大きさのグラフ403を、それぞれ示している。 FIG. 8A shows the electric field strength with respect to the distance from the surface of the surface wave exciter when the frequency (fp) of the high frequency power supplied to the surface wave exciter is lower than the excitation frequency (fc) of the surface wave exciter. 8 (b) shows the surface wave exciter when the frequency (fp) of the high frequency power supplied to the surface wave exciter is substantially equal to the excitation frequency (fc) of the surface wave exciter. FIG. 8 (c) shows a graph 402 of the magnitude of the electric field strength with respect to the distance from the surface of the surface wave exciter, in which the frequency (fp) of the high frequency power supplied to the surface wave exciter is higher than the excitation frequency (fc) of the surface wave exciter. Graphs 403 of the magnitude of the electric field strength with respect to the distance from the surface of the surface wave exciter at high time are shown respectively.

図8(b)に示すように、表面波励振体に供給する高周波電力の周波数(fp)を表面波励振体の励振周波数(fc)とほぼ等しい周波数にすると、表面波励振体の表面からの距離に対する電界強度の大きさのグラフ402の傾斜が最も大きくなり、表面波励振体の表面に電界が最も集中、即ち、表面波励振体の表面近傍の電界強度が非常に大きく、表面波励振体の表面から遠ざかるにつれて急激に電界強度が小さくなるので、被加熱物の表面を集中的に加熱して、焦げ目を付けるのに適している。 As shown in FIG. 8 (b), when the frequency (fp) of the high-frequency power supplied to the surface wave exciter is set to a frequency substantially equal to the excitation frequency (fc) of the surface wave exciter, the surface wave exciter is transmitted from the surface. The slope of the graph 402 of the magnitude of the electric field strength with respect to the distance is the largest, and the electric field is most concentrated on the surface of the surface wave exciter, that is, the electric field strength near the surface of the surface wave exciter is very large, and the surface wave exciter Since the electric field strength decreases sharply as the distance from the surface of the object is increased, it is suitable for intensively heating the surface of the object to be heated to brown it.

また、図8(a)に示すように、表面波励振体に供給する高周波電力の周波数(fp)を表面波励振体の励振周波数(fc)より低い周波数にすると、表面波励振体の表面からの距離に対する電界強度の大きさのグラフ401の傾斜が緩やかになり、表面波励振体の表面への電界の集中度が小さくなる、即ち、表面波励振体の表面近傍の電界強度は大きいものの、表面波励振体の表面から遠ざかっても急激な電界強度の低下は無く表面波励振体の表面から少し離れた所まで高周波電力が届くので、被加熱物が焦げない程度に強く加熱するのに適している。 Further, as shown in FIG. 8A, when the frequency (fp) of the high frequency power supplied to the surface wave exciter is set to a frequency lower than the excitation frequency (fc) of the surface wave exciter, the surface of the surface wave exciter The slope of the graph 401 of the magnitude of the electric field strength with respect to the distance becomes gentle, and the degree of concentration of the electric field on the surface of the surface wave exciter becomes small, that is, the electric field strength near the surface of the surface wave exciter is large. There is no sudden decrease in electric field strength even when moving away from the surface of the surface wave exciter, and high-frequency power reaches a place slightly away from the surface of the surface wave exciter, so it is suitable for heating the object to be heated so strongly that it does not burn. ing.

また、図8(c)に示すように、表面波励振体に供給する高周波電力の周波数(fp)を表面波励振体の励振周波数(fc)より高い周波数にすると、表面波励振体の表面からの距離に対する電界強度の大きさのグラフ403の傾斜はほぼゼロになり、電界は表面波励振体の表面に全く集中しなくなる、即ち、表面波励振体に供給された高周波電力は、表面波励振体を表面波で伝播することなく、空間へ放射されている状態を意味するので、被加熱物全体を比較的万遍なく加熱するのに適している。 Further, as shown in FIG. 8 (c), when the frequency (fp) of the high-frequency power supplied to the surface wave exciter is set to a frequency higher than the excitation frequency (fc) of the surface wave exciter, the surface of the surface wave exciter The slope of the graph 403 of the magnitude of the electric field strength with respect to the distance becomes almost zero, and the electric field is not concentrated on the surface of the surface wave exciter at all, that is, the high frequency power supplied to the surface wave exciter is the surface wave exciter. Since it means a state in which the body is radiated into space without being propagated by surface waves, it is suitable for heating the entire object to be heated relatively evenly.

このように、図1に示す実施の形態1の高周波加熱装置100に於ける高周波電力発生部120、図4に示す実施の形態2の高周波加熱装置200に於ける高周波電力発生部220、図6に示す実施の形態3の高周波加熱装置300に於ける第1の高周波電力発生部320aおよび第2の高周波電力発生部320bに、周波数可変の高周波発振器を用いることにより、加熱パターンを自在に変化させる事ができ、設置台101に設置された被加熱物102の両面に、多彩な仕上がりで、加熱処理を施すことができ、更には適度な焦げ目を付けることができる。 As described above, the high frequency power generation unit 120 in the high frequency heating device 100 of the first embodiment shown in FIG. 1, the high frequency power generation unit 220 in the high frequency heating device 200 of the second embodiment shown in FIG. 4, and FIG. By using a frequency-variable high-frequency oscillator for the first high-frequency power generation unit 320a and the second high-frequency power generation unit 320b in the high-frequency heating device 300 of the third embodiment shown in the above, the heating pattern can be freely changed. It is possible to heat-treat both sides of the object to be heated 102 installed on the installation table 101 with various finishes, and further, it is possible to give an appropriate browning.

なお、実施の形態1〜3における高周波加熱装置は、一般的な調理用の電子レンジと同様の基本構成としてもよい。すなわち、略直方体状の筐体内部に被加熱物を加熱する加熱室を設け、加熱室内に高周波電力を供給するマグネトロンなどで構成される高周波電力発生部を筐体下部や筐体側部に設け、高周波電力発生部のマイクロ波が加熱室内に供給される導波管をさらに設け、加熱室の下部や背部あるいは上部に加熱部としての表面波励振体を設け、さらには加熱室を開閉するためのドアを筐体前面に設置し、ドアの周囲に電磁波漏れを防止するためのドアチョーク溝を設けるといった全体構造としてもよい。 The high-frequency heating device according to the first to third embodiments may have the same basic configuration as a general microwave oven for cooking. That is, a heating chamber for heating the object to be heated is provided inside the substantially rectangular housing, and a high-frequency power generating portion composed of a magnetron or the like for supplying high-frequency power to the heating chamber is provided at the lower part of the housing or the side of the housing. A waveguide for supplying microwaves from the high-frequency power generating unit to the heating chamber is further provided, a surface wave exciter as a heating portion is provided at the lower part, the back or the upper part of the heating chamber, and further, for opening and closing the heating chamber. The overall structure may be such that the door is installed on the front surface of the housing and a door choke groove is provided around the door to prevent electromagnetic wave leakage.

以上、本発明に係る高周波加熱装置について、各実施の形態に基づき説明したが、本発明はこの実施の形態に限定されるものではない。本発明の趣旨を逸脱しない限り、当業者が思いつく各種変形を当該実施の形態に施したものや、異なる実施の形態における構成要素を組み合わせて構築される形態も、本発明の範囲内に含まれる。 The high-frequency heating device according to the present invention has been described above based on each embodiment, but the present invention is not limited to this embodiment. As long as the gist of the present invention is not deviated, various modifications that can be conceived by those skilled in the art are applied to the embodiment, and a form constructed by combining components in different embodiments is also included in the scope of the present invention. ..

本発明は、表面波励振体に高周波電力を供給することにより被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置において、簡単な構造で、ヒーターなどの他の熱源を用いなくでも、被加熱物の両面を加熱処理できて、更には焦げ目を付けることもできるため、マイクロ波加熱機などの調理家電等として有用である。 The present invention is a high-frequency heating device that heat-treats an object to be heated by supplying high-frequency power to a surface wave exciter with a simple structure, and can cover both sides of the object to be heated without using another heat source such as a heater. Since it can be heat-treated and can be browned, it is useful as a cooking appliance such as a microwave heater.

100、200、300 高周波加熱装置
101 設置台
102 被加熱物
103a、203a、303a 第1の表面波励振体
103b、203b、303b 第2の表面波励振体
110 高周波電力供給部
110a、310a 第1の高周波電力供給部
110b、310b 第2の高周波電力供給部
120、220 高周波電力発生部
130 方形導波管
131 テーパー形状の方形導波管
140a、140b、140c、240a、240b、343a、343b 電界強度分布
210 高周波電力供給部
250a,250b 高周波電力
320 高周波電力発生部
320a 第1の高周波電力発生部
320b 第2の高周波電力発生部
350a,350b,350c,350d,351a,351b 高周波電力
100, 200, 300 High frequency heating device 101 Installation stand 102 Heated object 103a, 203a, 303a First surface wave exciter 103b, 203b, 303b Second surface wave exciter 110 High frequency power supply unit 110a, 310a First High frequency power supply unit 110b, 310b Second high frequency power supply unit 120, 220 High frequency power generation unit 130 Square waveguide 131 Tapered square waveguide 140a, 140b, 140c, 240a, 240b, 343a, 343b Electric field strength distribution 210 High frequency power supply unit 250a, 250b High frequency power 320 High frequency power generation unit 320a First high frequency power generation unit 320b Second high frequency power generation unit 350a, 350b, 350c, 350d, 351a, 351b High frequency power

Claims (3)

高周波電力を発生させる高周波電力発生部と、
前記高周波電力を表面波で伝播して被加熱物を加熱する複数の表面波励振体と、
前記高周波電力を前記表面波励振体に供給する高周波電力供給部と、
前記被加熱物を設置する設置台と、を備え、
前記複数の表面波励振体は、前記被加熱物を挟み込むようにそれぞれ対向した位置に設置され
うち一方の表面波励振体にのみ前記高周波電力発生部から前記高周波電力を供給し、
前記一方の表面波励振体から他方の表面波励振体に高周波電力が伝播して被加熱物を加熱する、
高周波加熱装置。
A high-frequency power generator that generates high-frequency power,
A plurality of surface wave exciters that propagate the high-frequency power with surface waves to heat the object to be heated,
A high-frequency power supply unit that supplies the high-frequency power to the surface wave exciter, and
It is equipped with an installation stand on which the object to be heated is installed.
The plurality of surface wave exciters are installed at positions facing each other so as to sandwich the object to be heated .
The high-frequency power is supplied from the high-frequency power generator only to one of the surface wave exciters.
High-frequency power propagates from one surface wave exciter to the other surface wave exciter to heat the object to be heated.
High frequency heating device.
前記複数の表面波励振体それぞれに、前記高周波電力発生部から前記高周波電力を供給する、請求項1に記載の高周波加熱装置。The high-frequency heating device according to claim 1, wherein the high-frequency power is supplied from the high-frequency power generating unit to each of the plurality of surface wave exciters. 前記高周波電力発生部は、設定された周波数の高周波電力を発生する、周波数可変の高周波発振器である、請求項1または2のいずれか1項に記載の高周波加熱装置。
The high-frequency heating device according to any one of claims 1 or 2 , wherein the high-frequency power generating unit is a frequency-variable high-frequency oscillator that generates high-frequency power of a set frequency.
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