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JP6809136B2 - Seismic isolation structure - Google Patents
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Description

本発明は、免震構造に関する。 The present invention relates to a seismic isolation structure.

建物などにおける上部構造と下部構造との隙間に免震装置(例えば、積層ゴム)や減衰装置(例えば、ダンパー)を設けた免震構造が知られている。 A seismic isolation structure in which a seismic isolation device (for example, laminated rubber) or a damping device (for example, a damper) is provided in a gap between an upper structure and a lower structure in a building or the like is known.

また、特許文献1には、上部構造に下方に突出した基礎(凹状部材)を設け、下部構造に上方に突出した基礎(凸状部材)を設け、大地震時にこの基礎同士を衝突させて上部構造と下部構造との過大変位を抑制するようにした構造が記載されている。 Further, in Patent Document 1, a foundation (concave member) protruding downward is provided in the upper structure, and a foundation (convex member) protruding upward is provided in the lower structure, and the foundations collide with each other in the event of a large earthquake to cause an upper portion. A structure that suppresses excessive displacement between the structure and the substructure is described.

特開2014−35019号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-35019

しかしながら、上述したような過大変位抑制用の基礎を一対設置するにはコストがかかる。特に、建物の上層部と下層部の間(中間階)に免震装置を設置する中間層免震や、特定階(1階など)の柱頭部に免震装置を設置する柱頭免震の場合、基礎免震と比べて上部構造と下部構造との間隔(免震層の高さ)が大きくなることが多く、コストが増大するおそれがある。また、衝突の際の曲げモーメントに抵抗できるように基礎の断面積や配筋超を大幅に増やす必要があり、さらにコストがかかるおそれがある。 However, it is costly to install a pair of foundations for suppressing excessive displacement as described above. In particular, in the case of middle-layer seismic isolation, in which a seismic isolation device is installed between the upper and lower layers of the building (intermediate floor), and in the case of pillar-head seismic isolation, in which a seismic isolation device is installed at the pillar head of a specific floor (first floor, etc.). In many cases, the distance between the upper structure and the lower structure (height of the seismic isolation layer) is larger than that of the basic seismic isolation, which may increase the cost. In addition, it is necessary to significantly increase the cross-sectional area of the foundation and the reinforcement arrangement so as to resist the bending moment at the time of collision, which may further increase the cost.

本発明は、かかる課題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、コストの低減を図りつつ過大変位を抑制することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to suppress excessive displacement while reducing costs.

かかる目的を達成するため、本発明の免震構造は、
上部構造と下部構造との間に、前記下部構造から所定高さの空間を有する免震層を備えた免震構造であって、
前記免震層は、
前記下部構造から前記所定高さより高く立設された立設部と、
前記上部構造と前記立設部との間に設けられた免震機構と、
前記上部構造から前記所定高さまで下垂する下垂部であって、前記立設部と水平方向に離間した下垂部と、
前記立設部及び前記下垂部の一方に設けられ、前記上部構造と前記下部構造とが前記水平方向に所定距離相対変位したときに、前記立設部及び前記下垂部の他方と当接する当接部と、
備え、
前記免震層は、複数の前記立設部を備え、
或る前記立設部に対して、前記免震機構、前記下垂部、及び、前記当接部が設けられており、且つ、当該免震機構は、弾塑性支承、又は、剛塑性支承、又は、弾性すべり支承であり、
別の前記立設部に対して、前記免震機構と比較して前記水平方向において負担する最大荷重が高い免震機構が設けられているとともに、前記下垂部、及び、前記当接部が設けられていない、ことを特徴とする。
In order to achieve such an object, the seismic isolation structure of the present invention is used.
A seismic isolation structure having a seismic isolation layer having a space having a predetermined height from the lower structure between the upper structure and the lower structure.
The seismic isolation layer is
An upright portion erected higher than the predetermined height from the lower structure,
A seismic isolation mechanism provided between the superstructure and the erecting portion,
A hanging portion that hangs down from the superstructure to the predetermined height, and a hanging portion that is horizontally separated from the standing portion.
A contact provided on one of the erecting portion and the hanging portion and in contact with the other of the erecting portion and the hanging portion when the upper structure and the lower structure are displaced relative to each other by a predetermined distance in the horizontal direction. Department and
Equipped with a,
The seismic isolation layer includes a plurality of the standing portions.
The seismic isolation mechanism, the hanging portion, and the contact portion are provided with respect to the erecting portion, and the seismic isolation mechanism is an elasto-plastic bearing, a rigid-plastic bearing, or a rigid-plastic bearing. , Elastic sliding bearing,
A seismic isolation mechanism having a higher maximum load in the horizontal direction as compared with the seismic isolation mechanism is provided for the other upright portion, and the hanging portion and the contact portion are provided. It is not, and wherein a call.

かかる免震構造であって、前記別の立設部に設けられた免震機構は、高減衰積層ゴムであることとしてもよい。 In such a seismic isolation structure, the seismic isolation mechanism provided in the other standing portion may be a high damping laminated rubber.

かかる免震構造であって、前記別の立設部に設けられた免震機構は、復元機構であることとしてもよい。 In such a seismic isolation structure, the seismic isolation mechanism provided in the other standing portion may be a restoration mechanism.

かかる免震構造であって、前記別の立設部に設けられた免震機構は、減衰機構であることとしてもよい。 In such a seismic isolation structure, the seismic isolation mechanism provided in the other standing portion may be a damping mechanism.

また、上部構造と下部構造との間に、前記下部構造から所定高さの空間を有する免震層を備えた免震構造であって、Further, the seismic isolation structure is provided with a seismic isolation layer having a space having a predetermined height from the lower structure between the upper structure and the lower structure.
前記免震層は、The seismic isolation layer is
前記下部構造から前記所定高さより高く立設された立設部と、An upright portion erected higher than the predetermined height from the lower structure,
前記上部構造から下方に突出するように設けられた減衰用基礎と、A damping foundation provided so as to project downward from the superstructure,
前記上部構造から前記所定高さまで下垂する下垂部であって、前記立設部と水平方向に離間した下垂部と、A hanging portion that hangs down from the superstructure to the predetermined height, and a hanging portion that is horizontally separated from the standing portion.
前記減衰用基礎と前記立設部との間に設けられた減衰装置と、An damping device provided between the damping foundation and the erection portion,
前記立設部及び前記下垂部の一方に設けられ、前記上部構造と前記下部構造とが前記水平方向に所定距離相対変位したときに、前記立設部及び前記下垂部の他方と当接する当接部と、を備えることとしてもよい。A contact provided on one of the standing portion and the hanging portion and in contact with the other of the standing portion and the hanging portion when the upper structure and the lower structure are displaced relative to each other by a predetermined distance in the horizontal direction. It may be provided with a section.

また、上部構造と下部構造との間に、前記下部構造から所定高さの空間を有する免震層を備えた免震構造であって、Further, the seismic isolation structure is provided with a seismic isolation layer having a space having a predetermined height from the lower structure between the upper structure and the lower structure.
前記免震層は、The seismic isolation layer is
前記下部構造から前記所定高さより高く立設された立設部と、An upright portion erected higher than the predetermined height from the lower structure,
前記上部構造と前記立設部との間に設けられた免震機構と、A seismic isolation mechanism provided between the superstructure and the erecting portion,
前記上部構造から前記所定高さまで下垂する下垂部であって、前記立設部と水平方向に離間した下垂部と、A hanging portion that hangs down from the superstructure to the predetermined height, and a hanging portion that is horizontally separated from the standing portion.
前記立設部及び前記下垂部の一方に設けられ、前記上部構造と前記下部構造とがある振動方向に所定距離相対変位したときに、前記立設部及び前記下垂部の他方と当接する当接部と、A contact provided on one of the standing portion and the hanging portion and in contact with the other of the standing portion and the hanging portion when the upper structure and the lower structure are displaced relative to each other by a predetermined distance in a certain vibration direction. Department and
前記立設部及び前記下垂部の一方に設けられ、前記上部構造と前記下部構造とが前記ある振動方向とは異なる振動方向に所定距離相対変位したときに、前記立設部及び前記下垂部の他方と当接する当接部と、When the upper structure and the lower structure are provided on one of the erecting portion and the hanging portion and the upper structure and the lower structure are displaced relative to each other by a predetermined distance in a vibration direction different from the certain vibration direction, the erecting portion and the hanging portion The contact part that comes into contact with the other,
を備えることとしてもよい。May be provided.

また、上部構造と下部構造との間に、前記下部構造から所定高さの空間を有する免震層を備えた免震構造であって、Further, the seismic isolation structure is provided with a seismic isolation layer having a space having a predetermined height from the lower structure between the upper structure and the lower structure.
前記免震層は、The seismic isolation layer is
前記下部構造から前記所定高さより高く立設された立設部と、An upright portion erected higher than the predetermined height from the lower structure,
前記上部構造と前記立設部との間に設けられた免震機構と、A seismic isolation mechanism provided between the superstructure and the erecting portion,
前記上部構造から前記所定高さまで下垂する下垂部であって、前記立設部と水平方向に離間した下垂部と、A hanging portion that hangs down from the superstructure to the predetermined height, and a hanging portion that is horizontally separated from the standing portion.
前記立設部及び前記下垂部の一方に設けられ、前記上部構造と前記下部構造とが前記水平方向に所定距離相対変位したときに、前記立設部及び前記下垂部の他方と当接する当接部と、A contact provided on one of the erecting portion and the hanging portion and in contact with the other of the erecting portion and the hanging portion when the upper structure and the lower structure are displaced relative to each other by a predetermined distance in the horizontal direction. Department and
を備え、With
前記当接部は、荷重が所定値に達すると降伏する塑性変形部材である緩衝材を備える、The contact portion includes a cushioning material which is a plastic deformation member that yields when a load reaches a predetermined value.
こととしてもよい。It may be that.

かかる免震構造であって、
前記所定距離をcとし、前記当接部の前記水平方向と直交する水平幅方向の長さをaとしたとき、
前記立設部及び前記下垂部の他方の前記水平幅方向の長さは、前記当接部の前記水平幅方向の中心に対応する位置から前記水平幅方向の一方側と他方側にそれぞれ(a/2+c)以上であることとしてもよい。
With such a seismic isolation structure,
When the predetermined distance is c and the length of the contact portion in the horizontal width direction orthogonal to the horizontal direction is a.
The lengths of the erecting portion and the other of the hanging portion in the horizontal width direction are arranged on one side and the other side in the horizontal width direction from a position corresponding to the center of the contact portion in the horizontal width direction (a). It may be / 2 + c) or more.

かかる免震構造であって、
前記立設部は、平面多角形の柱状体であり、前記下垂部は、前記柱状体の各側面の側方に設けられていることとしてもよい。
With such a seismic isolation structure,
The erecting portion may be a planar polygonal columnar body, and the hanging portion may be provided on the side of each side surface of the columnar body.

かかる免震構造であって、
前記立設部は、平面円形の柱状体であり、前記下垂部は、前記柱状体の周囲の側方に設けられていることとしてもよい。
With such a seismic isolation structure,
The erecting portion may be a planar circular columnar body, and the hanging portion may be provided laterally around the columnar body.

かかる免震構造であって、
前記下垂部は、前記立設部を一体的に囲繞していることとしてもよい。
With such a seismic isolation structure,
The hanging portion may integrally surround the standing portion.

かかる免震構造であって、
前記所定高さは2.1m以上であることとしてもよい。
With such a seismic isolation structure,
The predetermined height may be 2.1 m or more.

かかる免震構造であって、
前記下垂部は、
前記所定高さから前記立設部の高さまでの範囲を含む第一部位と、
前記第一部位と前記上部構造との間の第二部位と、
を有し、
前記第一部位は、前記第二部位よりも塑性変形しやすいこととしてもよい。
また、かかる免震構造であって、
前記下垂部は、前記上部構造から下垂する昇降設備、又は、機械設備室であることとしてもよい。
With such a seismic isolation structure,
The drooping part
The first part including the range from the predetermined height to the height of the standing portion, and
A second site between the first site and the superstructure,
Have,
The first portion may be more easily plastically deformed than the second portion.
In addition, it has such a seismic isolation structure.
The hanging portion may be an elevating equipment or a mechanical equipment room that hangs from the superstructure.

本発明によれば、コストの低減を図りつつ過大変位を抑制することが可能である。 According to the present invention, it is possible to suppress excessive displacement while reducing costs.

第1実施形態の免振構造の構成を示す立面図である。It is an elevation view which shows the structure of the seismic isolation structure of 1st Embodiment. 図1のA−A´平面図である。It is a plan view of AA'of FIG. 突設基礎及び緩衝材の配置例を示す図である。It is a figure which shows the arrangement example of the projecting foundation and the cushioning material. 第1実施形態の免震構造の第1変形例を示す図である。It is a figure which shows the 1st modification of the seismic isolation structure of 1st Embodiment. 第1実施形態の免震構造の第2変形例を示す図である。It is a figure which shows the 2nd modification of the seismic isolation structure of 1st Embodiment. 第1実施形態の免震構造の第3変形例を示す図である。It is a figure which shows the 3rd modification of the seismic isolation structure of 1st Embodiment. 第2実施形態の免振構造の構成を示す立面図である。It is an elevation view which shows the structure of the seismic isolation structure of 2nd Embodiment. 第3実施形態の免振構造の構成を示す立面図である。It is an elevation view which shows the structure of the seismic isolation structure of 3rd Embodiment. 突設基礎の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the projecting foundation. 図9の突設基礎及び緩衝材の復元力特性を示す図である。It is a figure which shows the restoring force characteristic of the projecting foundation and the cushioning material of FIG. 免震構造の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the seismic isolation structure.

以下、本発明の一実施形態について図面を参照しつつ説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

===第1実施形態===
<免震構造の構成について>
図1は、第1実施形態の免振構造の構成を示す立面図である。図2は、図1のA−A´平面図である。以下の説明では、図に示すように方向を定めている。すなわち、水平面において直交する2方向のうちの一方をX軸方向とし、他方をY軸方向とする。また、上記水平面に垂直な方向(X軸方向及びY軸方向に直交する方向)をZ軸方向(鉛直方向)とする。
=== 1st Embodiment ===
<About the structure of the seismic isolation structure>
FIG. 1 is an elevational view showing the configuration of the seismic isolation structure of the first embodiment. FIG. 2 is a plan view of AA ′ of FIG. In the following description, the direction is defined as shown in the figure. That is, one of the two orthogonal directions in the horizontal plane is the X-axis direction, and the other is the Y-axis direction. Further, the direction perpendicular to the horizontal plane (direction orthogonal to the X-axis direction and the Y-axis direction) is defined as the Z-axis direction (vertical direction).

本実施形態の免震構造は、図1に示すように、上部構造2と下部構造4との間に免震層Sを備えて構成されている。なお、本実施形態の免震構造は柱頭免震であり、上部構造2と下部構造4は、建物の特定階(例えば1階)を構成する構造物(床など)である。上部構造2は、免震層Sを介して下部構造4の上方に設けられている。下部構造4は、上部構造2を支えて荷重を地盤に伝達させる。 As shown in FIG. 1, the seismic isolation structure of the present embodiment is configured to include a seismic isolation layer S between the upper structure 2 and the lower structure 4. The seismic isolation structure of the present embodiment is stigma seismic isolation, and the superstructure 2 and the substructure 4 are structures (floors, etc.) constituting a specific floor (for example, the first floor) of the building. The upper structure 2 is provided above the lower structure 4 via the seismic isolation layer S. The lower structure 4 supports the upper structure 2 and transmits a load to the ground.

免震層Sには、下部構造4から高さh(所定高さに相当)の空間Kが設けられている。換言すると、免震層Sは、下部構造4から高さhの空間Kを有している。本実施形態において空間Kは居室であり、天井高さ(高さh)は2.1m以上である(建築基準法)。このため、本実施形態の免震層Sの高さ(上部構造2と下部構造4との間隔)は、基礎免震の免震層の高さよりも大きくなっている。なお、空間Kは居室には限られない。例えば、建物における供用空間や駐車設備などであってもよい。 The seismic isolation layer S is provided with a space K having a height h (corresponding to a predetermined height) from the lower structure 4. In other words, the seismic isolation layer S has a space K having a height h from the substructure 4. In the present embodiment, the space K is a living room, and the ceiling height (height h) is 2.1 m or more (Building Standards Act). Therefore, the height of the seismic isolation layer S of the present embodiment (distance between the upper structure 2 and the lower structure 4) is larger than the height of the seismic isolation layer of the foundation seismic isolation layer. The space K is not limited to the living room. For example, it may be an in-service space or a parking facility in a building.

また、本実施形態の免震層Sは、免震装置10、免震用基礎22、柱部42(立設部に相当)、突設基礎24(下垂部に相当)を備えている。 Further, the seismic isolation layer S of the present embodiment includes a seismic isolation device 10, a seismic isolation foundation 22, a pillar portion 42 (corresponding to an upright portion), and a projecting foundation 24 (corresponding to a hanging portion).

免震用基礎22は、免震装置10を設置するための基礎であり、上部構造2から下方(免震層S)に突出するように設けられている。 The seismic isolation foundation 22 is a foundation for installing the seismic isolation device 10, and is provided so as to project downward (seismic isolation layer S) from the superstructure 2.

柱部42は、下部構造4から上方に立設された柱状体である。また、図1に示すように、柱部42のZ軸方向の高さ(高さH)は、高さhよりも高い(H>h)。また、図2に示すように、本実施形態の柱部42の平面形状は四角形(平面四角形)である。具体的には、柱部42の平面形状は図2に示すように一辺の長さがLの正方形である。なお、柱部42と免震用基礎22は、水平方向(X軸方向、Y軸方向)の位置が同じである(水平方向に離間していない)。 The pillar portion 42 is a columnar body erected above the lower structure 4. Further, as shown in FIG. 1, the height (height H) of the pillar portion 42 in the Z-axis direction is higher than the height h (H> h). Further, as shown in FIG. 2, the planar shape of the pillar portion 42 of the present embodiment is a quadrangle (planar quadrangle). Specifically, the planar shape of the pillar portion 42 is a square having a side length of L as shown in FIG. The pillar portion 42 and the seismic isolation foundation 22 are at the same position in the horizontal direction (X-axis direction, Y-axis direction) (not separated in the horizontal direction).

免震装置10は、図2に示すように、上部構造2と下部構造4との間に介在されている。より具体的には、免震装置10は、免震用基礎22と、柱部42との間に設けられている。 As shown in FIG. 2, the seismic isolation device 10 is interposed between the superstructure 2 and the substructure 4. More specifically, the seismic isolation device 10 is provided between the seismic isolation foundation 22 and the pillar portion 42.

本実施形態の免震装置10は、図2に示すように、積層ゴム12(例えば、円形の薄い鋼板とゴム層とを上下に交互に積層してなる円柱状の弾性体)を、上下一対のフランジ板(上フランジ板13a、下フランジ板13b)で挟んで構成されている。また、下フランジ板13bは、不図示のボルトなどにより柱部42の上面に固定され、上フランジ板13aは、不図示のボルトなどにより免震用基礎22の下面に固定されている。そして、免震装置10は、上部構造2を支承するとともに、上部構造2と下部構造4との相対変位による水平力に応じて積層ゴム12が水平方向に剪断変形して、上部構造2の水平振動を長周期化する(免震支承として機能する)。また、本実施形態の積層ゴム12は、内部に鉛プラグ(減衰材)が設けられた高減衰積層ゴムであり、(免震機能、復元機能に加えて)減衰機能も備えている。 As shown in FIG. 2, the seismic isolation device 10 of the present embodiment has a pair of upper and lower laminated rubbers 12 (for example, a columnar elastic body formed by alternately laminating circular thin steel plates and rubber layers). It is configured to be sandwiched between the flange plates (upper flange plate 13a, lower flange plate 13b). Further, the lower flange plate 13b is fixed to the upper surface of the pillar portion 42 by bolts (not shown) or the like, and the upper flange plate 13a is fixed to the lower surface of the seismic isolation foundation 22 by bolts (not shown) or the like. Then, the seismic isolation device 10 supports the superstructure 2, and the laminated rubber 12 is sheared and deformed in the horizontal direction according to the horizontal force due to the relative displacement between the superstructure 2 and the substructure 4, so that the superstructure 2 is horizontal. Prolong the period of vibration (functions as a seismic isolation bearing). Further, the laminated rubber 12 of the present embodiment is a high damping laminated rubber provided with a lead plug (damping material) inside, and also has a damping function (in addition to a seismic isolation function and a restoration function).

免震装置10を上部構造2と下部構造4との間に設けていることにより、水平方向の振動が発生した場合に、上部構造2の振動を長周期化できるとともに、上部構造2と下部構造4との間の水平振動を減衰させることができる。 By providing the seismic isolation device 10 between the upper structure 2 and the lower structure 4, when the vibration in the horizontal direction occurs, the vibration of the upper structure 2 can be lengthened, and the upper structure 2 and the lower structure can be extended. The horizontal vibration between 4 and 4 can be attenuated.

しかし、上部構造2と下部構造4との水平方向の変位(相対変位)が過大になると、積層ゴム12の変形量が大きくなり、積層ゴム12が破断してしまうおそれや、上部構造2を免震支持できなくなるおそれがある。このため、過大変位を抑制することが必要になる。例えば、上部構造2と下部構造4に過大変位を抑制するための部材(基礎)を一対設けてもよいが、この場合、コストが増大するおそれがある。特に本実施形態のような柱頭免震の場合、上部構造2と下部構造4との間隔(免震層Sの高さ)が大きいため、一対の基礎を設けるにはコストがかかる。そこで、本実施形態では、上部構造2に突設基礎24を設けることで、コストの低減を図りつつ、過大変位を効率的に抑制するようにしている。 However, if the displacement (relative displacement) of the upper structure 2 and the lower structure 4 in the horizontal direction becomes excessive, the amount of deformation of the laminated rubber 12 becomes large, and the laminated rubber 12 may be broken or the superstructure 2 is exempted. There is a risk that it will not be able to support the earthquake. Therefore, it is necessary to suppress excessive displacement. For example, a pair of members (foundations) for suppressing excessive displacement may be provided in the upper structure 2 and the lower structure 4, but in this case, the cost may increase. In particular, in the case of stigma seismic isolation as in the present embodiment, since the distance between the superstructure 2 and the substructure 4 (height of the seismic isolation layer S) is large, it is costly to provide a pair of foundations. Therefore, in the present embodiment, by providing the projecting foundation 24 in the superstructure 2, the excessive displacement is efficiently suppressed while reducing the cost.

突設基礎24は、過大変位を抑制するために設けられた部材(基礎)であり、上部構造2から高さhまで下垂している。また、突設基礎24は、柱部42と水平方向(図1、図2ではX軸方向)に離間している。なお、図2に示すように、突設基礎24の平面形状は、柱部42よりも一辺の長さが短い四角形(正方形)である。柱部42の高さHは、突設基礎24の下面の高さ(高さh)より高いので、柱部42と突設基礎24は、Z軸方向に一部重複していることになる。 The projecting foundation 24 is a member (foundation) provided for suppressing excessive displacement, and hangs down from the superstructure 2 to a height h. Further, the projecting foundation 24 is separated from the pillar portion 42 in the horizontal direction (X-axis direction in FIGS. 1 and 2). As shown in FIG. 2, the planar shape of the projecting foundation 24 is a quadrangle (square) having a side length shorter than that of the pillar portion 42. Since the height H of the column portion 42 is higher than the height (height h) of the lower surface of the projecting foundation 24, the column portion 42 and the projecting foundation 24 partially overlap in the Z-axis direction. ..

また、この重複部分において、柱部42と対向する突設基礎24の部位(側面)には緩衝材30(緩衝部に相当)が設けられている。 Further, in this overlapping portion, a cushioning material 30 (corresponding to the cushioning portion) is provided at a portion (side surface) of the projecting foundation 24 facing the pillar portion 42.

緩衝材30は、所定の弾性係数を有する弾性部材(例えばゴムなど)である。この緩衝材30を設けていることにより、突設基礎24と柱部42とが衝突する際の衝撃を緩和することができる。 The cushioning material 30 is an elastic member (for example, rubber) having a predetermined elastic modulus. By providing the cushioning material 30, it is possible to alleviate the impact when the projecting foundation 24 and the pillar portion 42 collide with each other.

図2に示すように、緩衝材30は、柱部42とX軸方向に所定距離(ここでは長さc)離間している。よって、突設基礎24が、柱部42に対してX軸方向へ長さc変位すると(上部構造2と下部構造4とがX軸方向へ長さc相対変位すると)、緩衝材30は柱部42と当接する。すなわち、本実施形態において緩衝材30は当接部に相当する。この当接によって、長さcよりも大きい相対変位(過大変位)を抑制することができる。 As shown in FIG. 2, the cushioning material 30 is separated from the pillar portion 42 by a predetermined distance (here, length c) in the X-axis direction. Therefore, when the projecting foundation 24 is displaced by length c in the X-axis direction with respect to the column portion 42 (when the upper structure 2 and the lower structure 4 are displaced by length c relative to the column portion 42), the cushioning material 30 is a column. It comes into contact with the portion 42. That is, in the present embodiment, the cushioning material 30 corresponds to the contact portion. By this contact, a relative displacement (excessive displacement) larger than the length c can be suppressed.

また、本実施形態では、図2に示すように、柱部42の1辺の幅方向(水平幅方向に相当)の長さLを、緩衝材30の端面(側面)の幅方向の長さaよりも長くしている。具体的には、L=a+2cとしている。より具体的には、柱部42の長さLを、緩衝材30の幅方向(ここではY軸方向)の中点に対応する位置から、Y軸方向の一方側と他方側にそれぞれ(a/2+c)の長さにしている。この場合、柱部42と緩衝材30の角部を結ぶ線(図の破線)とX軸(及びY軸)との間の角度が45°となる。なお、これには限らず、柱部42の長さを、緩衝材30のY軸方向の中点に対応する位置から、Y軸方向の一方側と他方側にそれぞれ(a/2+c)より長くしてもよい。すなわち、L≧a+2cであることが望ましい。こうすることにより、振動の方向がX軸方向、Y軸方向に対して斜めの方向であっても、緩衝材30(突設基礎24)を柱部42に当接させやすい。 Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 2, the length L in the width direction (corresponding to the horizontal width direction) of one side of the pillar portion 42 is the length in the width direction of the end face (side surface) of the cushioning material 30. It is longer than a. Specifically, L = a + 2c. More specifically, the length L of the pillar portion 42 is set to one side and the other side in the Y-axis direction (a) from the position corresponding to the midpoint in the width direction (here, the Y-axis direction) of the cushioning material 30. The length is / 2 + c). In this case, the angle between the line connecting the pillar portion 42 and the corner portion of the cushioning material 30 (broken line in the figure) and the X-axis (and Y-axis) is 45 °. Not limited to this, the length of the pillar portion 42 is longer than (a / 2 + c) on one side and the other side in the Y-axis direction from the position corresponding to the midpoint in the Y-axis direction of the cushioning material 30. You may. That is, it is desirable that L ≧ a + 2c. By doing so, the cushioning material 30 (protruding foundation 24) can be easily brought into contact with the pillar portion 42 even if the vibration direction is oblique to the X-axis direction and the Y-axis direction.

特に、図3のように配置すると、振動の方向に関わらずに、緩衝材30を柱部42に当接させることができる。なお、図3は、突設基礎24及び緩衝材30の配置例を示す図である。この図3では、柱部42の各側面(四側面)の側方に、それぞれ、突設基礎24を設けている。つまり、柱部42をX軸方向に挟む位置、及び、柱部42をY軸方向に挟む位置に、それぞれ、突設基礎24を設けている。そして、柱部42と対向する各突設基礎24の部位(端面)に緩衝材30を設けている。このような構成にすることにより、振動方向に関わらずに、過大変位を抑制することができる。 In particular, when arranged as shown in FIG. 3, the cushioning material 30 can be brought into contact with the pillar portion 42 regardless of the direction of vibration. Note that FIG. 3 is a diagram showing an arrangement example of the projecting foundation 24 and the cushioning material 30. In FIG. 3, a projecting foundation 24 is provided on each side of each side surface (four side surfaces) of the pillar portion 42. That is, the projecting foundation 24 is provided at a position where the pillar portion 42 is sandwiched in the X-axis direction and at a position where the pillar portion 42 is sandwiched in the Y-axis direction. A cushioning material 30 is provided at a portion (end face) of each projecting foundation 24 facing the pillar portion 42. With such a configuration, excessive displacement can be suppressed regardless of the vibration direction.

以上、説明したように、本実施形態の免震構造は、上部構造2と下部構造4との間に、下部構造4から高さhの空間Kを有する免震層Sを備えたものである。免震層Sは、下部構造4から高さhより高く(高さHに)立設された柱部42と、上部構造2と柱部42との間に設けられた免震装置10と、上部構造2から高さhまで下垂する突設基礎24であって、柱部42と水平方向(X軸方向、Y軸方向)に離間した突設基礎24を備えている。また、突設基礎24には、緩衝材30が、上部構造2と下部構造4が水平方向に長さc相対変位したときに、柱部42と当接するように設けられている。 As described above, the seismic isolation structure of the present embodiment includes a seismic isolation layer S having a space K having a height h from the lower structure 4 between the upper structure 2 and the lower structure 4. .. The seismic isolation layer S includes a pillar portion 42 erected above the height h (at a height H) from the lower structure 4, a seismic isolation device 10 provided between the superstructure 2 and the pillar portion 42, and the seismic isolation layer S. It is a projecting foundation 24 that hangs down from the superstructure 2 to a height h, and includes a projecting foundation 24 that is separated from the column portion 42 in the horizontal direction (X-axis direction, Y-axis direction). Further, the projecting foundation 24 is provided with a cushioning material 30 so as to come into contact with the pillar portion 42 when the upper structure 2 and the lower structure 4 are displaced relative to each other by a length c in the horizontal direction.

これにより、上部構造2と下部構造4のそれぞれに一対の過大変位抑制用の基礎を設けなくてすむので、コストの低減を図りつつ過大変位を抑制することができる。 As a result, it is not necessary to provide a pair of foundations for suppressing excessive displacement in each of the upper structure 2 and the lower structure 4, so that excessive displacement can be suppressed while reducing costs.

<第1変形例>
図4は、第1実施形態の免震構造の第1変形例を示す図である。前述の実施形態と同一構成には同一符号を付し説明を省略する。
<First modification>
FIG. 4 is a diagram showing a first modification of the seismic isolation structure of the first embodiment. The same components as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

この第1変形例の免震構造は、柱部421と、突設基礎241を備えている。 The seismic isolation structure of this first modification includes a pillar portion 421 and a projecting foundation 241.

柱部421は、図4に示すように平面形状が円形(平面円形)である。また。突設基礎241は、柱部421の周りを一体的に囲繞するように設けられている。突設基礎241の外形(平面形状)は四角形であり、内側には正八角形の空間が形成されている。そして、その空間の中心に柱部421が配置されている。また、突設基礎241の内側の正八角形の各辺(側面)には、柱部421と対向するように緩衝材30が設けられている。各緩衝材30と下側基部421とは、それぞれ所定距離(長さc)離間している。この場合においても、図3の場合と同様に振動の方向に関わらずに過大変位を抑制することができる。なお、この例では突設基礎241の内側は正八角形であったがこれには限られない。例えば、正六角形でもよいし、正十角形でもよい。これらの場合も、柱部421と対向するように緩衝材30を設ければよい。 As shown in FIG. 4, the pillar portion 421 has a circular planar shape (planar circular shape). Also. The projecting foundation 241 is provided so as to integrally surround the pillar portion 421. The outer shape (planar shape) of the projecting foundation 241 is a quadrangle, and a regular octagonal space is formed inside. A pillar portion 421 is arranged at the center of the space. Further, cushioning materials 30 are provided on each side (side surface) of the regular octagon inside the projecting foundation 241 so as to face the pillar portion 421. Each cushioning material 30 and the lower base portion 421 are separated from each other by a predetermined distance (length c). Also in this case, as in the case of FIG. 3, excessive displacement can be suppressed regardless of the direction of vibration. In this example, the inside of the projecting foundation 241 was a regular octagon, but the present invention is not limited to this. For example, it may be a regular hexagon or a regular decagon. In these cases as well, the cushioning material 30 may be provided so as to face the pillar portion 421.

<第2変形例>
図5は、第1実施形態の免震構造の第2変形例を示す図である。前述の実施形態と同一構成には同一符号を付し説明を省略する。
<Second modification>
FIG. 5 is a diagram showing a second modification of the seismic isolation structure of the first embodiment. The same components as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

第2変形例の免震構造は、突設基礎242を備えている。突設基礎242は、突設基礎241と同様に柱部421の周りを一体的に囲繞するように設けられており、内側には円形の空間が形成されている。そして、その空間の中心に柱部421が配置されている。また、突設基礎242の内側には、内周に沿って緩衝材302が円形に配置されており、緩衝材302と柱部421は所定距離(長さc)離間している。この場合においても、振動の方向に関わらずに過大変位を抑制することができる。 The seismic isolation structure of the second modification includes a projecting foundation 242. The projecting foundation 242 is provided so as to integrally surround the pillar portion 421 like the projecting foundation 241, and a circular space is formed inside. A pillar portion 421 is arranged at the center of the space. Further, inside the projecting foundation 242, the cushioning material 302 is arranged in a circle along the inner circumference, and the cushioning material 302 and the pillar portion 421 are separated by a predetermined distance (length c). Even in this case, excessive displacement can be suppressed regardless of the direction of vibration.

<第3変形例>
図6は、第1実施形態の免震構造の第3変形例を示す図である。前述の実施形態と同一構成には同一符号を付し説明を省略する。
<Third modification example>
FIG. 6 is a diagram showing a third modification of the seismic isolation structure of the first embodiment. The same components as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

第3変形例の免震構造は、柱部422を備えている。 The seismic isolation structure of the third modification includes a pillar portion 422.

柱部422は、図6に示すように、平面形状が正八角形の柱部材である。そして、その柱部422の8つの各側面に対応して、突設基礎24及び緩衝材30が、それぞれ(8つ)設けられている。なお、前述の実施形態と同様に、緩衝材30の端面の長さはaであり、各緩衝材30と柱部422とは所定距離(長さc)離間している。この場合、柱部422の各辺の長さがa+2cより小さくても(さらにはaよりも小さくても)、振動の方向に関わらずに過大変形を抑制することができる。 As shown in FIG. 6, the pillar portion 422 is a pillar member having a regular octagonal plane shape. Then, (eight) projecting foundations 24 and cushioning materials 30 are provided corresponding to each of the eight side surfaces of the pillar portion 422. As in the above-described embodiment, the length of the end face of the cushioning material 30 is a, and each cushioning material 30 and the pillar portion 422 are separated by a predetermined distance (length c). In this case, even if the length of each side of the column portion 422 is smaller than a + 2c (further, even if it is smaller than a), excessive deformation can be suppressed regardless of the direction of vibration.

===第2実施形態===
図7は、第2実施形態の免振構造の構成を示す立面図である。前述の実施形態と同一構成の部分には同一符号を付し説明を省略する。
=== Second embodiment ===
FIG. 7 is an elevational view showing the configuration of the seismic isolation structure of the second embodiment. The same reference numerals are given to the parts having the same configuration as that of the above-described embodiment, and the description thereof will be omitted.

第2実施形態の免震構造の免震層Sは、減衰装置16、柱部42、減衰用基礎23、突設基礎24(及び緩衝材30)を備えている。この第2実施形態では、免震機構として減衰装置16(減衰機構に相当)が設けられている。また、図では示していないが、免震層Sの他の場所には、第1実施形態と同様の免震用基礎22、柱部42、及び、免震装置(ここでは通常の積層ゴムなど)の組み合わせが設けられている。これにより、柱頭免震が構成されている。 The seismic isolation layer S of the seismic isolation structure of the second embodiment includes a damping device 16, a column portion 42, a damping foundation 23, and a projecting foundation 24 (and a cushioning material 30). In this second embodiment, a damping device 16 (corresponding to a damping mechanism) is provided as a seismic isolation mechanism. Further, although not shown in the figure, in other places of the seismic isolation layer S, the seismic isolation foundation 22, the pillar portion 42, and the seismic isolation device (here, ordinary laminated rubber, etc.) similar to those in the first embodiment, etc. ) Is provided. As a result, stigma seismic isolation is configured.

減衰用基礎23は、柱部42と水平方向(図ではX軸方向)に離間した位置において、上部構造2から下方に突出するように設けられている。 The damping foundation 23 is provided so as to project downward from the superstructure 2 at a position separated from the column portion 42 in the horizontal direction (X-axis direction in the figure).

減衰装置16は、本実施形態では、オイルを用いたオイルダンパーである。減衰装置16は水平方向(X軸方向)に沿って配置されており、減衰装置16の一端は減衰用基礎23に接続され、他端は柱部42に接続されている。そして、減衰装置16は、減衰用基礎23と柱部42との相対変位(換言すると上部構造2と下部構造4との相対変位)に応じて減衰力を発生する。 In the present embodiment, the damping device 16 is an oil damper using oil. The damping device 16 is arranged along the horizontal direction (X-axis direction), and one end of the damping device 16 is connected to the damping foundation 23 and the other end is connected to the pillar portion 42. Then, the damping device 16 generates a damping force according to the relative displacement between the damping foundation 23 and the column portion 42 (in other words, the relative displacement between the superstructure 2 and the lower structure 4).

このように第2実施形態では免震機構として、減衰装置16が用いられている。減衰装置16は、柱部42と上部構造2(より具体的には減衰用基礎23)の間に設けられている。この場合においても第1実施形態と同様に、突設基礎24(及び緩衝材30)を設けることにより、過大変位を抑制することができる。 As described above, in the second embodiment, the damping device 16 is used as the seismic isolation mechanism. The damping device 16 is provided between the column portion 42 and the superstructure 2 (more specifically, the damping foundation 23). Also in this case, as in the first embodiment, the excessive displacement can be suppressed by providing the projecting foundation 24 (and the cushioning material 30).

===第3実施形態===
図8は、第3実施形態の免振構造の構成を示す立面図である。前述の実施形態と同一構成の部分には同一符号を付し説明を省略する。
=== Third Embodiment ===
FIG. 8 is an elevational view showing the configuration of the seismic isolation structure of the third embodiment. The same reference numerals are given to the parts having the same configuration as that of the above-described embodiment, and the description thereof will be omitted.

第3実施形態では、上部構造2にエレベーターシャフト50(下垂部に相当)が設けられている。エレベーターシャフト50は、エレベーターの昇降路であり、上部構造2から下垂して設けられている。また、上部構造2と下部構造4を相対変位可能にするため、下部構造4とエレベーターシャフト50との間にはZ軸方向に長さh´の空間K´が設けられている。つまり、免震層Sは、エレベーターシャフト50と下部構造4との間に高さh´の空間K´を有している。そして、柱部42と対向するエレベーターシャフト50の側面には緩衝材30が設けられている。緩衝材30と柱部42とはX軸方向に所定距離(長さc)離間している。なお、本実施形態のエレベーターシャフト50は、通常よりも剛性が高くなるように補強されている。 In the third embodiment, the superstructure 2 is provided with an elevator shaft 50 (corresponding to a hanging portion). The elevator shaft 50 is an elevator hoistway, and is provided so as to hang down from the superstructure 2. Further, in order to make the upper structure 2 and the lower structure 4 relatively displaceable, a space K'with a length h'in the Z-axis direction is provided between the lower structure 4 and the elevator shaft 50. That is, the seismic isolation layer S has a space K'with a height h'between the elevator shaft 50 and the lower structure 4. A cushioning material 30 is provided on the side surface of the elevator shaft 50 facing the pillar portion 42. The cushioning material 30 and the pillar portion 42 are separated from each other by a predetermined distance (length c) in the X-axis direction. The elevator shaft 50 of the present embodiment is reinforced so as to have higher rigidity than usual.

これにより、エレベーターシャフト50が、柱部42に対してX軸方向へ長さc変位すると(すなわち、上部構造2と下部構造4とがX軸方向へ長さc相対変位すると)、緩衝材30は柱部42と当接する。この当接によって、過大変位を抑制することができる。 As a result, when the elevator shaft 50 is displaced by length c in the X-axis direction with respect to the column portion 42 (that is, when the superstructure 2 and the lower structure 4 are displaced by length c in the X-axis direction), the cushioning material 30 Is in contact with the pillar portion 42. Excessive displacement can be suppressed by this contact.

この第3実施形態では、建物の部材(エレベーターシャフト50)を過大変位抑制の部材(下垂部)として用いるので、新たに基礎を設ける必要がなく、さらにコストの低減を図ることができる。なお、本実施形態では、エレベーターシャフト50を過大変位抑制するための部材(下垂部)として用いたがこれには限られない。例えば、他の昇降設備(階段室など)や、設備機械室などを用いてもよい。 In this third embodiment, since the building member (elevator shaft 50) is used as the member (hanging portion) for suppressing excessive displacement, it is not necessary to newly provide a foundation, and the cost can be further reduced. In the present embodiment, the elevator shaft 50 is used as a member (hanging portion) for suppressing excessive displacement, but the present invention is not limited to this. For example, other elevating equipment (such as a staircase) or equipment machine room may be used.

===その他の実施形態について===
上記実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定して解釈するためのものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得ると共に、本発明にはその等価物が含まれることはいうまでもない。特に、以下に述べる実施形態であっても、本発明に含まれるものである。
=== About other embodiments ===
The above embodiment is for facilitating the understanding of the present invention, and is not for limiting the interpretation of the present invention. It goes without saying that the present invention can be modified and improved without departing from the spirit thereof, and the present invention includes an equivalent thereof. In particular, even the embodiments described below are included in the present invention.

<免震構造について>
前述の実施形態の免震構造は柱頭免震であったが、これには限られない。例えば建物の中間階に免震装置を設ける中間層免震であってもよい。この場合、柱部42の代わりに、下部構造4から上方に突出する基礎(立設部に相当)を設ければよい。
<About seismic isolation structure>
The seismic isolation structure of the above-described embodiment is stigma seismic isolation, but is not limited to this. For example, it may be a middle-layer seismic isolation device in which a seismic isolation device is installed on the middle floor of a building. In this case, instead of the pillar portion 42, a foundation (corresponding to an upright portion) protruding upward from the lower structure 4 may be provided.

<緩衝材について>
前述の実施形態では、緩衝材30は弾性部材(ゴムなど)であったが、衝突の衝撃を緩和するものであればよく、弾性部材には限られない。例えば、荷重が所定値に達すると降伏(塑性変形)する部材でもよい(図10参照)。
<About cushioning material>
In the above-described embodiment, the cushioning material 30 is an elastic member (rubber or the like), but it is not limited to the elastic member as long as it cushions the impact of collision. For example, the member may yield (plastically deform) when the load reaches a predetermined value (see FIG. 10).

また、前述の実施形態では緩衝材30を上部構造2から下垂する下垂部(突設基礎24やエレベーターシャフト50など)に設けていたが、柱部42の側に設けてもよい。 Further, in the above-described embodiment, the cushioning material 30 is provided on the hanging portion (protruding foundation 24, elevator shaft 50, etc.) that hangs down from the superstructure 2, but may be provided on the side of the pillar portion 42.

あるいは、緩衝材30を設けずに柱部42と下垂部とを衝突(当接)させるようにしてもよい。この場合、柱部42及び下垂部の何れか一方の側面(当接面)が当接部に相当する。 Alternatively, the pillar portion 42 and the hanging portion may collide (contact) with each other without providing the cushioning material 30. In this case, the side surface (contact surface) of either the pillar portion 42 or the hanging portion corresponds to the contact portion.

<突設基礎について>
前述の実施形態の突設基礎42は、上端から下端まで同一形状(断面矩形)であったがこれには限られない。
<About the projecting foundation>
The projecting foundation 42 of the above-described embodiment has the same shape (rectangular cross section) from the upper end to the lower end, but the present invention is not limited to this.

図9は、突設基礎の変形例を示す図である。図9において、図1と同一構成の部分には同一符号を付し、説明を省略する。 FIG. 9 is a diagram showing a modified example of the projecting foundation. In FIG. 9, the same components as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

図9では、突設基礎24´が設けられている。突設基礎24´は、例えば、鉄骨の変断面で構成されている。具体的には、突設基礎24´は、柱部42とZ軸方向に重複する範囲(高さhから高さHまでの範囲)を含む下部24a(第一部位に相当)と、下部24aと上部構造2との間の上部24b(第二部位に相当)とを有している。そして、下部24aは、上部24bよりも断面が小さく構成されている。このため、下部24aは上部24bよりも降伏(塑性変形)しやすくなっている。 In FIG. 9, a projecting foundation 24'is provided. The projecting foundation 24'is composed of, for example, a modified cross section of a steel frame. Specifically, the projecting foundation 24'has a lower portion 24a (corresponding to the first portion) including a range overlapping the column portion 42 in the Z-axis direction (range from height h to height H) and a lower portion 24a. It has an upper portion 24b (corresponding to a second portion) between the upper structure 2 and the upper structure 2. The lower portion 24a has a smaller cross section than the upper portion 24b. Therefore, the lower portion 24a is more likely to yield (plastically deform) than the upper portion 24b.

また、ここでは緩衝材30として、荷重が所定値に達すると降伏(塑性変形)する部材を用いている。 Further, here, as the cushioning material 30, a member that yields (plastically deforms) when the load reaches a predetermined value is used.

図10は、図9の突設基礎24´及び緩衝材30の復元力特性の一例を示す図である。図10の横軸は変位を示し、縦軸は荷重を示している。なお、変位は圧縮力のかかっていない状態からの変位で示している。図10において一点鎖線は緩衝材30の特性であり、破線は突設基礎24´の特性である。また、緩衝材30と突設基礎24´を合わせた特性を灰色の線で示している。 FIG. 10 is a diagram showing an example of the restoring force characteristics of the projecting foundation 24'and the cushioning material 30 of FIG. The horizontal axis of FIG. 10 shows the displacement, and the vertical axis shows the load. The displacement is shown as the displacement from the state where no compressive force is applied. In FIG. 10, the alternate long and short dash line is the characteristic of the cushioning material 30, and the broken line is the characteristic of the projecting foundation 24'. In addition, the characteristics of the cushioning material 30 and the projecting foundation 24'are shown by a gray line.

荷重の小さい領域では、緩衝材30及び突設基礎24´ともに変位と荷重とが比例関係にあり(弾性領域)、緩衝材30と突設基礎24´を組み合わせた特性(図の灰色の線)は、緩衝材30の特性に従う。荷重が増えて図の点Aを超えると、緩衝材30が塑性域になり緩衝材30が塑性変形する。これにより緩衝材30と突設基礎24´を組み合わせた特性は、突設基礎24´の特性(破線)に従うようになる。また、点Bを超えると突設基礎24´の下部24aが塑性域になり、降伏(塑性変形)する。 図1の突設基礎24を用いた場合は、点Bにおいて降伏せず(点Bで変位―荷重特性が折れ曲がらずに)比例関係が続く。このため、柱部42と衝突した際に、過大な水平荷重が上部構造2や柱部42にかかるおそれがある。これに対し、この変形例の突設基礎24´では、下部24aが上部24bよりも塑性変形しやすい(図10の点Bで塑性変形する)ので、上部構造2や柱部42に過大な水平荷重がかかることを抑制できる。 In the region where the load is small, the displacement and the load are in a proportional relationship for both the cushioning material 30 and the projecting foundation 24'(elastic region), and the characteristics of combining the cushioning material 30 and the projecting foundation 24'(gray line in the figure). Follows the characteristics of the cushioning material 30. When the load increases and exceeds the point A in the figure, the cushioning material 30 becomes a plastic region and the cushioning material 30 is plastically deformed. As a result, the characteristics of the combination of the cushioning material 30 and the projecting foundation 24'will follow the characteristics (broken line) of the projecting foundation 24'. Further, when the point B is exceeded, the lower portion 24a of the projecting foundation 24'becomes a plastic region and yields (plastic deformation). When the projecting foundation 24 of FIG. 1 is used, the proportional relationship continues without yielding at point B (displacement-load characteristics do not bend at point B). Therefore, when colliding with the column portion 42, an excessive horizontal load may be applied to the superstructure 2 and the column portion 42. On the other hand, in the projecting foundation 24'of this modified example, the lower portion 24a is more easily plastically deformed than the upper portion 24b (plastically deformed at the point B in FIG. 10), so that the lower portion 24a is excessively horizontal to the superstructure 2 and the column portion 42. It is possible to suppress the application of a load.

なお、この例では突設基礎24´の上部24bと下部24aを鉄骨の変断面で構成していたが、これには限られない。例えば、図1の突設基礎24の上部と下部を異なる材料で構成してもよい。 In this example, the upper portion 24b and the lower portion 24a of the projecting foundation 24'are formed by a modified cross section of the steel frame, but the present invention is not limited to this. For example, the upper part and the lower part of the projecting foundation 24 of FIG. 1 may be made of different materials.

<免震装置について>
前述の実施形態(第1実施形態)では、免震装置10として鉛プラグ入りの積層ゴム12(高減衰積層ゴム)を用いていたが、これには限られない。例えば、ゴム材自体が減衰機能を有する高減衰積層ゴムを用いてもよい。
<About seismic isolation device>
In the above-described embodiment (first embodiment), the laminated rubber 12 (high damping laminated rubber) containing a lead plug is used as the seismic isolation device 10, but the present invention is not limited to this. For example, a high damping laminated rubber in which the rubber material itself has a damping function may be used.

また、前述の実施形態の免震装置10は、免震機能、復元機能、及び、減衰機能を備えていたが、これら全てを備えていなくてもよい。例えば、免震装置として通常の積層ゴム(減衰機能を備えない積層ゴム)や転がり支承を用いてもよい。この場合、他の場所に減衰装置(ダンパーなど)や復元装置(バネなど)を設ければよい。 Further, although the seismic isolation device 10 of the above-described embodiment has a seismic isolation function, a restoration function, and a damping function, it is not necessary to provide all of them. For example, a normal laminated rubber (laminated rubber having no damping function) or a rolling bearing may be used as the seismic isolation device. In this case, a damping device (damper or the like) or a restoration device (spring or the like) may be provided at another location.

また、種類の異なる免震装置を複数用いて免震構造を構成してもよい。
図11は、免震構造の変形例を示す図である。前述の実施形態と同一構成の部分には同一符号を付し説明を省略する。
Further, a seismic isolation structure may be configured by using a plurality of different types of seismic isolation devices.
FIG. 11 is a diagram showing a modified example of the seismic isolation structure. The same parts as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

図11では、上部構造2と下部構造4との間の免震層Sに複数(図では3つ)の柱部42と免震用基礎22が設けられている。そのうちの一つ(図の中央)の柱部42には弾塑性支承の免震装置100が設けられており、それ以外(図の右側及び左側)の柱部42には、弾性支承の免震装置10が設けられている。なお、免震装置10は、免震装置100と比較して水平方向において負担する最大荷重が高い。また、突設基礎24及び緩衝材30は、中央の柱部42(免震装置100が設けられた柱部42)に対してのみ設けられている。 In FIG. 11, a plurality of (three in the figure) pillar portions 42 and a seismic isolation foundation 22 are provided in the seismic isolation layer S between the upper structure 2 and the lower structure 4. One of them (center of the figure) is provided with a seismic isolation device 100 for elasto-plastic bearings, and the other pillars 42 (right and left sides of the figure) are seismically isolated for elastic bearings. The device 10 is provided. The seismic isolation device 10 has a higher maximum load to be borne in the horizontal direction than the seismic isolation device 100. Further, the projecting foundation 24 and the cushioning material 30 are provided only to the central pillar portion 42 (the pillar portion 42 provided with the seismic isolation device 100).

図11の中段には、各免震支承(免震装置10、免震装置100)が設置される柱部42の復元力特性示している。図の右側と左側の免震装置10は、弾性支承であり同じ特性(変位と荷重が比例する特性)である(図の灰色の線)。これに対し、図の中央の柱部42に設けられた免震装置100は、弾塑性支承であり、弾性領域と塑性領域を有している。各図の破線は、免震装置100の弾性領域と塑性領域の境界の値を示している。また、突設基礎24と緩衝材30との特性における横軸との交点は、柱部42と衝突するときの変位に対応している。 The middle part of FIG. 11 shows the restoring force characteristics of the pillar portion 42 in which each seismic isolation bearing (seismic isolation device 10, seismic isolation device 100) is installed. The seismic isolation devices 10 on the right and left sides of the figure are elastic bearings and have the same characteristics (characteristics in which displacement and load are proportional) (gray line in the figure). On the other hand, the seismic isolation device 100 provided in the pillar portion 42 in the center of the figure is an elasto-plastic bearing and has an elastic region and a plastic region. The broken line in each figure shows the value of the boundary between the elastic region and the plastic region of the seismic isolation device 100. Further, the intersection of the horizontal axis in the characteristics of the projecting foundation 24 and the cushioning material 30 corresponds to the displacement when colliding with the column portion 42.

この免震装置100の特性と、突設基礎24と緩衝材30の特性を組み合わせると、図11の下段の黒線で示す特性になる。つまり、突設基礎24(緩衝材30)と免震装置100とが衝突した後に、免震装置100が塑性領域になり、荷重の増加が緩やかになる。このように、柱部42に突設基礎24(緩衝材30)が衝突するにもかかわらず、突設基礎24と衝突しない柱部42の荷重(図の灰色の線)よりも負担荷重が小さくなる。よって、突設基礎24(緩衝材30)と衝突する柱部42の最大負担荷重を、免震装置10を設置した柱部42の最大負担荷重と同程度にすることができ、負担荷重の低減を図ることができる。また、免震装置100が降伏しても、弾性支承の免震装置10によって、上部構造2を支承することができる。 Combining the characteristics of the seismic isolation device 100 with the characteristics of the projecting foundation 24 and the cushioning material 30 gives the characteristics shown by the black line in the lower part of FIG. That is, after the projecting foundation 24 (cushioning material 30) and the seismic isolation device 100 collide with each other, the seismic isolation device 100 becomes a plastic region, and the load increases slowly. In this way, the load is smaller than the load of the column 42 (gray line in the figure) that does not collide with the projecting foundation 24 even though the projecting foundation 24 (cushioning material 30) collides with the column 42. Become. Therefore, the maximum load of the column 42 that collides with the projecting foundation 24 (cushioning material 30) can be made equal to the maximum load of the column 42 on which the seismic isolation device 10 is installed, and the load can be reduced. Can be planned. Further, even if the seismic isolation device 100 yields, the superstructure 2 can be supported by the elastic bearing seismic isolation device 10.

なお、図11では、弾塑性支承を用いたが、これには限られず、例えば、剛塑性支承を用いてもよい。あるいは、上端または下端にすべり材を設けた積層ゴムと、すべり板とを組み合わせた弾性すべり支承としてもよい。このように、突設基礎24及び緩衝材30と衝突する柱部42に設置する免震支承を弾塑性支承、剛塑性支承、あるいは、弾性すべり支承とすることで、当該柱部42の最大負担荷重の低減を図ることができる(例えば、弾性支承の免震装置10を設置した柱部42の最大負担荷重よりも小さくすることができる)。また、この例では免震装置10を弾性支承としたが、免震装置100と比較して水平方向において負担する最大荷重が高ければよく、他の支承であってもよい。 In FIG. 11, an elasto-plastic bearing is used, but the present invention is not limited to this, and for example, a rigid-plastic bearing may be used. Alternatively, an elastic sliding bearing may be obtained by combining a laminated rubber having a sliding material at the upper end or the lower end and a sliding plate. In this way, the seismic isolation bearings installed on the pillars 42 that collide with the projecting foundation 24 and the cushioning material 30 are elasto-plastic bearings, rigid-plastic bearings, or elastic sliding bearings, so that the maximum burden on the pillars 42 is increased. The load can be reduced (for example, it can be made smaller than the maximum load of the pillar 42 on which the seismic isolation device 10 of the elastic bearing is installed). Further, in this example, the seismic isolation device 10 is an elastic bearing, but other bearings may be used as long as the maximum load to be borne in the horizontal direction is higher than that of the seismic isolation device 100.

<減衰装置について>
前述の実施形態(第2実施形態)の、減衰装置16はオイルダンパーであったが、これには限られない。例えば、粘(弾)性ダンパーや摩擦ダンパーであってもよい。
<About the attenuation device>
The damping device 16 of the above-described embodiment (second embodiment) is an oil damper, but the present invention is not limited to this. For example, it may be a viscous (bullet) damper or a friction damper.

2 上部構造
4 下部構造
10、10´ 免震装置
12 積層ゴム(高減衰積層ゴム)
13a 上フランジ板
13b 下フランジ板
16 減衰装置
22 免震用基礎
23 減衰用基礎
24 突設基礎(下垂部)
30 緩衝材
42 柱部(立設部)
50 エレベーターシャフト(下垂部)
2 Superstructure 4 Lower structure 10, 10'Seismic isolation device 12 Laminated rubber (high damping laminated rubber)
13a Upper flange plate 13b Lower flange plate 16 Damping device 22 Seismic isolation foundation 23 Damping foundation 24 Protruding foundation (hanging part)
30 Cushioning material 42 Pillar part (standing part)
50 Elevator shaft (hanging part)

Claims (14)

上部構造と下部構造との間に、前記下部構造から所定高さの空間を有する免震層を備えた免震構造であって、
前記免震層は、
前記下部構造から前記所定高さより高く立設された立設部と、
前記上部構造と前記立設部との間に設けられた免震機構と、
前記上部構造から前記所定高さまで下垂する下垂部であって、前記立設部と水平方向に離間した下垂部と、
前記立設部及び前記下垂部の一方に設けられ、前記上部構造と前記下部構造とが前記水平方向に所定距離相対変位したときに、前記立設部及び前記下垂部の他方と当接する当接部と、
備え、
前記免震層は、複数の前記立設部を備え、
或る前記立設部に対して、前記免震機構、前記下垂部、及び、前記当接部が設けられており、且つ、当該免震機構は、弾塑性支承、又は、剛塑性支承、又は、弾性すべり支承であり、
別の前記立設部に対して、前記免震機構と比較して前記水平方向において負担する最大荷重が高い免震機構が設けられているとともに、前記下垂部、及び、前記当接部が設けられていない、
ことを特徴とする免震構造。
A seismic isolation structure having a seismic isolation layer having a space having a predetermined height from the lower structure between the upper structure and the lower structure.
The seismic isolation layer is
An upright portion erected higher than the predetermined height from the lower structure,
A seismic isolation mechanism provided between the superstructure and the erecting portion,
A hanging portion that hangs down from the superstructure to the predetermined height, and a hanging portion that is horizontally separated from the standing portion.
A contact provided on one of the erecting portion and the hanging portion and in contact with the other of the erecting portion and the hanging portion when the upper structure and the lower structure are displaced relative to each other by a predetermined distance in the horizontal direction. Department and
Equipped with a,
The seismic isolation layer includes a plurality of the standing portions.
The seismic isolation mechanism, the hanging portion, and the contact portion are provided with respect to the erecting portion, and the seismic isolation mechanism is an elasto-plastic bearing, a rigid-plastic bearing, or a rigid-plastic bearing. , Elastic sliding bearing,
A seismic isolation mechanism having a higher maximum load in the horizontal direction as compared with the seismic isolation mechanism is provided for the other upright portion, and the hanging portion and the contact portion are provided. Not done,
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1に記載の免震構造であって、
前記別の立設部に設けられた免震機構は、高減衰積層ゴムである、
ことを特徴とする免震構造。
The seismic isolation structure according to claim 1 .
The seismic isolation mechanism provided in the other standing portion is a high damping laminated rubber.
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1に記載の免震構造であって、
前記別の立設部に設けられた免震機構は、復元機構である、
ことを特徴とする免震構造。
The seismic isolation structure according to claim 1 .
The seismic isolation mechanism provided in the other standing portion is a restoration mechanism.
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1に記載の免震構造であって、
前記別の立設部に設けられた免震機構は、減衰機構である、
ことを特徴とする免震構造。
The seismic isolation structure according to claim 1 .
The seismic isolation mechanism provided in the other standing portion is a damping mechanism.
Seismic isolation structure characterized by that.
上部構造と下部構造との間に、前記下部構造から所定高さの空間を有する免震層を備えた免震構造であって、
前記免震層は、
前記下部構造から前記所定高さより高く立設された立設部と、
前記上部構造から下方に突出するように設けられた減衰用基礎と、
前記上部構造から前記所定高さまで下垂する下垂部であって、前記立設部と水平方向に離間した下垂部と、
前記減衰用基礎と前記立設部との間に設けられた減衰装置と、
前記立設部及び前記下垂部の一方に設けられ、前記上部構造と前記下部構造とが前記水平方向に所定距離相対変位したときに、前記立設部及び前記下垂部の他方と当接する当接部と、
を備えることを特徴とする免震構造。
A seismic isolation structure having a seismic isolation layer having a space having a predetermined height from the lower structure between the upper structure and the lower structure.
The seismic isolation layer is
An upright portion erected higher than the predetermined height from the lower structure,
A damping foundation provided so as to project downward from the superstructure,
A hanging portion that hangs down from the superstructure to the predetermined height, and a hanging portion that is horizontally separated from the standing portion.
An damping device provided between the damping foundation and the erection portion,
A contact provided on one of the erecting portion and the hanging portion and in contact with the other of the erecting portion and the hanging portion when the upper structure and the lower structure are displaced relative to each other by a predetermined distance in the horizontal direction. Department and
A seismic isolation structure characterized by being equipped with.
上部構造と下部構造との間に、前記下部構造から所定高さの空間を有する免震層を備えた免震構造であって、
前記免震層は、
前記下部構造から前記所定高さより高く立設された立設部と、
前記上部構造と前記立設部との間に設けられた免震機構と、
前記上部構造から前記所定高さまで下垂する下垂部であって、前記立設部と水平方向に離間した下垂部と、
前記立設部及び前記下垂部の一方に設けられ、前記上部構造と前記下部構造とがある振動方向に所定距離相対変位したときに、前記立設部及び前記下垂部の他方と当接する当接部と、
前記立設部及び前記下垂部の一方に設けられ、前記上部構造と前記下部構造とが前記ある振動方向とは異なる振動方向に所定距離相対変位したときに、前記立設部及び前記下垂部の他方と当接する当接部と、
を備えることを特徴とする免震構造。
A seismic isolation structure having a seismic isolation layer having a space having a predetermined height from the lower structure between the upper structure and the lower structure.
The seismic isolation layer is
An upright portion erected higher than the predetermined height from the lower structure,
A seismic isolation mechanism provided between the superstructure and the erecting portion,
A hanging portion that hangs down from the superstructure to the predetermined height, and a hanging portion that is horizontally separated from the standing portion.
A contact provided on one of the standing portion and the hanging portion and in contact with the other of the standing portion and the hanging portion when the upper structure and the lower structure are displaced relative to each other by a predetermined distance in a certain vibration direction. Department and
When the upper structure and the lower structure are provided on one of the erecting portion and the hanging portion and the upper structure and the lower structure are displaced relative to each other by a predetermined distance in a vibration direction different from the certain vibration direction, the erecting portion and the hanging portion The contact part that comes into contact with the other,
A seismic isolation structure characterized by being equipped with.
上部構造と下部構造との間に、前記下部構造から所定高さの空間を有する免震層を備えた免震構造であって、
前記免震層は、
前記下部構造から前記所定高さより高く立設された立設部と、
前記上部構造と前記立設部との間に設けられた免震機構と、
前記上部構造から前記所定高さまで下垂する下垂部であって、前記立設部と水平方向に離間した下垂部と、
前記立設部及び前記下垂部の一方に設けられ、前記上部構造と前記下部構造とが前記水平方向に所定距離相対変位したときに、前記立設部及び前記下垂部の他方と当接する当接部と、
を備え、
前記当接部は、荷重が所定値に達すると降伏する塑性変形部材である緩衝材を備える、
ことを特徴とする免震構造。
A seismic isolation structure having a seismic isolation layer having a space having a predetermined height from the lower structure between the upper structure and the lower structure.
The seismic isolation layer is
An upright portion erected higher than the predetermined height from the lower structure,
A seismic isolation mechanism provided between the superstructure and the erecting portion,
A hanging portion that hangs down from the superstructure to the predetermined height, and a hanging portion that is horizontally separated from the standing portion.
A contact provided on one of the erecting portion and the hanging portion and in contact with the other of the erecting portion and the hanging portion when the upper structure and the lower structure are displaced relative to each other by a predetermined distance in the horizontal direction. Department and
With
The contact portion includes a cushioning material which is a plastic deformation member that yields when a load reaches a predetermined value.
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1乃至請求項7の何れかに記載の免震構造であって、
前記所定距離をcとし、前記当接部の前記水平方向と直交する水平幅方向の長さをaとしたとき、
前記立設部及び前記下垂部の他方の前記水平幅方向の長さは、前記当接部の前記水平幅方向の中心に対応する位置から前記水平幅方向の一方側と他方側にそれぞれ(a/2+c)以上である、
ことを特徴とする免震構造。
The seismic isolation structure according to any one of claims 1 to 7 .
When the predetermined distance is c and the length of the contact portion in the horizontal width direction orthogonal to the horizontal direction is a.
The lengths of the erecting portion and the other of the hanging portion in the horizontal width direction are arranged on one side and the other side in the horizontal width direction from a position corresponding to the center of the contact portion in the horizontal width direction (a). / 2 + c) or more,
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1乃至請求項の何れかに記載の免震構造であって、
前記立設部は、平面多角形の柱状体であり、前記下垂部は、前記柱状体の各側面の側方に設けられている、
ことを特徴とする免震構造。
The seismic isolation structure according to any one of claims 1 to 8 .
The erecting portion is a planar polygonal columnar body, and the hanging portion is provided on each side surface of the columnar body.
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1乃至請求項7の何れかに記載の免震構造であって、
前記立設部は、平面円形の柱状体であり、前記下垂部は、前記柱状体の周囲の側方に設けられている、
ことを特徴とする免震構造。
The seismic isolation structure according to any one of claims 1 to 7 .
The upright portion is a planar circular columnar body, and the hanging portion is provided on the side around the columnar body.
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1乃至請求項10の何れかに記載の免震構造であって、
前記下垂部は、前記立設部を一体的に囲繞している、
ことを特徴とする免震構造。
The seismic isolation structure according to any one of claims 1 to 10 .
The hanging portion integrally surrounds the standing portion.
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1乃至請求項11の何れかに記載の免震構造であって、
前記所定高さは2.1m以上である、
ことを特徴とする免震構造。
The seismic isolation structure according to any one of claims 1 to 11 .
The predetermined height is 2.1 m or more.
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1乃至請求項12の何れかに記載の免震構造であって、
前記下垂部は、
前記所定高さから前記立設部の高さまでの範囲を含む第一部位と、
前記第一部位と前記上部構造との間の第二部位と、
を有し、
前記第一部位は、前記第二部位よりも塑性変形しやすいことを特徴とする免震構造。
The seismic isolation structure according to any one of claims 1 to 12 .
The drooping part
The first part including the range from the predetermined height to the height of the standing portion, and
A second site between the first site and the superstructure,
Have,
The first portion has a seismic isolation structure characterized by being more easily plastically deformed than the second portion.
請求項1乃至請求項13の何れかに記載の免震構造であって、
前記下垂部は、前記上部構造から下垂する昇降設備、又は、機械設備室である、
ことを特徴とする免震構造。
The seismic isolation structure according to any one of claims 1 to 13 .
The hanging portion is an elevating facility or a mechanical equipment room that hangs from the superstructure.
Seismic isolation structure characterized by that.
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