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JP6837813B2 - Wastewater treatment equipment, catalyst cleaning method - Google Patents
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Description

本発明は、工場などから排出される廃水を処理する廃水処理装置に関し、特に、難分解性の物質を含む廃水から水分を蒸発させて濃縮する廃水処理装置、及び廃水処理装置の触媒をクリーニングする触媒クリーニング方法に関する。 The present invention relates to a wastewater treatment device for treating wastewater discharged from a factory or the like, and particularly cleans a wastewater treatment device that evaporates and concentrates water from wastewater containing a persistent substance, and a catalyst of the wastewater treatment device. Regarding catalyst cleaning method.

従来、水溶性切削油などを含む難分解性の物質を含む廃水を処理する装置として、貯留槽に貯留されている前記廃水を加熱して水分を蒸発させることにより、前記廃水に含まれる前記難分解性の物質を固体として分離する装置が知られている(特許文献1参照)。 Conventionally, as a device for treating wastewater containing a persistent substance including water-soluble cutting oil, the wastewater stored in a storage tank is heated to evaporate the water, thereby causing the difficulty contained in the wastewater. An apparatus for separating a degradable substance as a solid is known (see Patent Document 1).

前記廃水を加熱して蒸発させる場合、蒸発時に、水だけでなく、水以外の物質も蒸発する場合がある。水よりも沸点の低い物質或いは水の沸点と同等の物質が前記廃水に含まれている場合は、これらの物質も水と一緒に蒸発することになる。水と共に蒸発する物質の一例として、沸点が101.1℃の1,4−ジオキサン(1,4−dioxane:C4H8O2)が挙げられる。1,4−ジオキサンは、常温において水や溶媒に溶解するため、従来から有機溶剤に添加される反応剤や安定剤として用いられている。なお、1,4−ジオキサンは、健康に対する影響として、人に対して発がん性のリスクがあると考えられている。少なくとも、動物実験では発がん性を有することが判明しており、国際がん研究機関(IARC)においても、人に対する発がん性の可能性がある、と認定している。 When the wastewater is heated and evaporated, not only water but also substances other than water may evaporate at the time of evaporation. If the wastewater contains a substance having a boiling point lower than that of water or a substance having a boiling point equivalent to that of water, these substances will also evaporate together with water. An example of a substance that evaporates with water is 1,4-dioxane (1,4-dioxane: C4H8O2) having a boiling point of 101.1 ° C. Since 1,4-dioxane dissolves in water or a solvent at room temperature, it has been conventionally used as a reactant or stabilizer added to an organic solvent. It should be noted that 1,4-dioxane is considered to have a carcinogenic risk to humans as an effect on health. At least, it has been found to be carcinogenic in animal experiments, and the International Agency for Research on Cancer (IARC) has confirmed that it may be carcinogenic to humans.

前掲した従来の装置では、前記難分解性の物質を含む前記廃水に含まれる1,4−ジオキサンなどの有害物質が蒸気とともに排出されるため、排気ガスを触媒によって酸化分解させてから排出する必要がある。1,4−ジオキサンは、大気中に気体として存在する状態においては、酸化触媒によって比較的速やかに分解されることが分かっている。従来、排気ダクトに酸化触媒を設け、前記廃水を100℃以上に加熱して水とともに1,4−ジオキサン(沸点101.1℃)を蒸発させ、その蒸気を前記酸化触媒に通過させることにより、1,4−ジオキサンを分解する方法が知られている。 In the above-mentioned conventional apparatus, harmful substances such as 1,4-dioxane contained in the wastewater containing the persistent substance are discharged together with steam, so it is necessary to oxidatively decompose the exhaust gas with a catalyst before discharging. There is. It is known that 1,4-dioxane is decomposed relatively rapidly by an oxidation catalyst in the state of being present as a gas in the atmosphere. Conventionally, an oxidation catalyst is provided in an exhaust duct, the wastewater is heated to 100 ° C. or higher to evaporate 1,4-dioxane (boiling point 101.1 ° C.) together with water, and the vapor is passed through the oxidation catalyst. A method for decomposing 1,4-dioxane is known.

特開2009−220047号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-220047

ところで、前記難分解性の物質を含む前記廃水の加熱中に、貯留槽内に前記廃水のミストや気泡(以下、ミスト等という。)が生じる場合がある。前記ミスト等が蒸気と共に前記排気ダクトに流入して前記酸化触媒に到達すると、前記ミスト等が前記酸化触媒に付着する。この場合、付着した前記ミスト等の水分が蒸発すると、前記難分解性の物質が前記酸化触媒に固着することになる。その結果、前記酸化触媒において、酸化反応が鈍化して、1,4−ジオキサンなどの有害物質の分解性能が低下するという問題が生じる。また、付着した前記ミスト等が前記酸化触媒に直接付着すると、蒸気が前記酸化触媒に流入する場合に比べて酸化反応する物質量が増大し、酸化反応に伴い発生する熱量も増大する。その結果、蒸気が前記酸化触媒の耐熱温度を超えるおそれがある。この場合、前記酸化触媒が劣化したり、前記酸化触媒が損傷するという問題が生じる。 By the way, during heating of the wastewater containing the persistent substance, mist or bubbles (hereinafter referred to as mist or the like) of the wastewater may be generated in the storage tank. When the mist or the like flows into the exhaust duct together with steam and reaches the oxidation catalyst, the mist or the like adheres to the oxidation catalyst. In this case, when the attached water such as mist evaporates, the persistent substance adheres to the oxidation catalyst. As a result, in the oxidation catalyst, there arises a problem that the oxidation reaction is slowed down and the decomposition performance of harmful substances such as 1,4-dioxane is lowered. Further, when the attached mist or the like directly adheres to the oxidation catalyst, the amount of substances undergoing an oxidation reaction increases as compared with the case where steam flows into the oxidation catalyst, and the amount of heat generated by the oxidation reaction also increases. As a result, the steam may exceed the heat resistant temperature of the oxidation catalyst. In this case, there arises a problem that the oxidation catalyst is deteriorated or the oxidation catalyst is damaged.

本発明の目的は、難分解性の物質などが付着した酸化触媒を水蒸気でクリーニングすることが可能な廃水処理装置、及び廃水処理装置における触媒クリーニング方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a wastewater treatment apparatus capable of cleaning an oxidation catalyst to which a persistent substance or the like is attached with steam, and a catalyst cleaning method in the wastewater treatment apparatus.

本発明の一実施形態に係る廃水処理装置は、貯留槽に貯留された難分解性の物質を含む廃水を加熱することにより水分を蒸発させて前記廃水を濃縮させる装置である。前記廃水処理装置は、前記貯留槽に貯留された液体を加熱する第1加熱部と、前記貯留槽から外部へ気体を案内するダクト部と、前記ダクト部における前記気体の案内経路に設けられた酸化触媒と、前記貯留槽に水を供給する給水部と、濃縮された濃縮水が前記貯留槽から排出された状態で前記貯留槽に一定量の水を貯留させるように前記給水部を制御し、前記貯留槽内の前記水を加熱して前記酸化触媒をクリーニングするための水蒸気を生じさせるように前記第1加熱部を制御するクリーニング制御部と、を備える。 The wastewater treatment device according to the embodiment of the present invention is a device that evaporates water by heating wastewater containing a persistent substance stored in a storage tank to concentrate the wastewater. The waste water treatment device is provided in a first heating section for heating the liquid stored in the storage tank, a duct section for guiding the gas from the storage tank to the outside, and a guide path for the gas in the duct section. The oxidation catalyst, the water supply unit that supplies water to the storage tank, and the water supply unit that stores a certain amount of water in the storage tank in a state where the concentrated concentrated water is discharged from the storage tank are controlled. A cleaning control unit that controls the first heating unit so as to heat the water in the water tank to generate water vapor for cleaning the oxidation catalyst.

前記廃水処理装置は、前記貯留槽から前記酸化触媒までの前記ダクト部内に設けられ、前記ダクト部内の前記蒸気を加熱する第2加熱部を更に備える。この場合、前記クリーニング制御部は、前記水蒸気が前記酸化触媒のクリーニングに必要な予め定められた温度まで上昇するように前記第2加熱部を制御する。 The wastewater treatment device is provided in the duct portion from the storage tank to the oxidation catalyst, and further includes a second heating portion for heating the steam in the duct portion. In this case, the cleaning control unit controls the second heating unit so that the water vapor rises to a predetermined temperature required for cleaning the oxidation catalyst.

前記廃水処理装置は、前記貯留槽で生じた前記水蒸気を前記ダクト部を通じて外部へ送出する送風機を更に備える。この場合、前記クリーニング制御部は、前記酸化触媒のクリーニング時に前記送風機を駆動するように制御する。 The wastewater treatment device further includes a blower that sends out the steam generated in the storage tank to the outside through the duct portion. In this case, the cleaning control unit controls to drive the blower when cleaning the oxidation catalyst.

前記廃水処理装置は、前記貯留槽に前記廃水を供給する廃水供給部と、濃縮加熱制御部と、を更に備える。前記濃縮加熱制御得は、前記貯留槽における前記水の水位が予め定められた基準水位まで減少した場合に、前記水の減少量と同量又は前記減少量よりも少ない量の前記廃水を前記貯留槽に供給するように前記廃水供給部を制御し、前記貯留槽内における前記水と前記廃水との混合液を加熱して当該混合液を濃縮させるように前記第1加熱部を制御する。 The wastewater treatment device further includes a wastewater supply unit that supplies the wastewater to the storage tank, and a concentration heating control unit. In the concentrated heating control acquisition, when the water level in the storage tank is reduced to a predetermined reference water level, the wastewater is stored in an amount equal to or smaller than the reduction amount of the water. The wastewater supply unit is controlled so as to supply the water to the tank, and the first heating unit is controlled so as to heat the mixed liquid of the water and the wastewater in the storage tank and concentrate the mixed liquid.

本発明の他の実施形態に係る触媒クリーニング方法は、貯留槽に貯留された難分解性の物質を含む廃水を加熱することにより水分を蒸発させて前記廃水を濃縮させる廃水処理装置に適用されるものであり、前記廃水処理装置のダクト部に設けられた酸化触媒をクリーニングする方法である。前記触媒クリーニング方法は、濃縮された濃縮水が前記貯留槽から排出された状態で前記貯留槽に一定量の水を貯留させる給水工程と、前記給水工程によって前記貯留槽に貯留された前記水を加熱して前記酸化触媒をクリーニングするための水蒸気を生じさせる第1加熱工程と、を含む。 The catalyst cleaning method according to another embodiment of the present invention is applied to a wastewater treatment apparatus that evaporates water by heating wastewater containing a persistent substance stored in a storage tank to concentrate the wastewater. This is a method for cleaning an oxidation catalyst provided in a duct portion of the wastewater treatment apparatus. The catalyst cleaning method includes a water supply step of storing a certain amount of water in the storage tank in a state where the concentrated concentrated water is discharged from the storage tank, and the water stored in the storage tank by the water supply step. It comprises a first heating step of heating to generate steam for cleaning the oxidation catalyst.

前記触媒クリーニング方法は、前記第1加熱工程によって生じた前記水蒸気が前記酸化触媒のクリーニングに必要な予め定められた温度まで上昇するように前記ダクト部内で前記水蒸気を加熱する第2加熱工程と、を更に含む。 The catalyst cleaning method includes a second heating step of heating the steam in the duct portion so that the steam generated by the first heating step rises to a predetermined temperature required for cleaning the oxidation catalyst. Is further included.

前記触媒クリーニング方法は、前記第1加熱工程によって生じた前記水蒸気を前記酸化触媒へ向けて送風する送風工程と、を更に含む。 The catalyst cleaning method further includes a blowing step of blowing the water vapor generated by the first heating step toward the oxidation catalyst.

本発明によれば、難分解性の物質が付着した酸化触媒を水蒸気でクリーニングすることが可能である。その結果、前記難分解性の物質が前記酸化触媒に付着したことに起因する酸化反応の鈍化が防止され、1,4−ジオキサンなどの有害物質の分解性能を回復させることが可能になる。 According to the present invention, it is possible to clean the oxidation catalyst to which a persistent substance is attached with steam. As a result, the slowdown of the oxidation reaction caused by the adhesion of the persistent substance to the oxidation catalyst is prevented, and the decomposition performance of harmful substances such as 1,4-dioxane can be restored.

図1は、本発明の実施形態に係る廃水処理装置10を示す正面図である。FIG. 1 is a front view showing a wastewater treatment device 10 according to an embodiment of the present invention. 図2は、廃水処理装置10を示す右側面図である。FIG. 2 is a right side view showing the wastewater treatment device 10. 図3は、廃水処理装置10を示す上面図である。FIG. 3 is a top view showing the wastewater treatment device 10. 図4は、廃水処理装置10の構成を示すシステム系統図である。FIG. 4 is a system system diagram showing the configuration of the wastewater treatment device 10. 図5は、廃水処理装置10の制御システムの構成を示すブロック図である。FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a control system of the wastewater treatment device 10. 図6は、廃水処理装置10における触媒クリーニング処理の手順の一例を示すフローチャートである。FIG. 6 is a flowchart showing an example of the procedure of the catalyst cleaning treatment in the wastewater treatment apparatus 10.

以下、適宜図面を参照して本発明の実施形態について説明する。なお、以下に説明される実施形態は本発明を具体化した一例にすぎず、本発明の技術的範囲を限定するものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings as appropriate. It should be noted that the embodiments described below are merely examples that embody the present invention, and do not limit the technical scope of the present invention.

[廃水処理装置10]
図1乃至図3は、廃水処理装置10の外観を示す図である。図4は、廃水処理装置10の構成を示すシステム系統図である。図4は、廃水処理装置10の制御システムの構成を示すブロック図である。本実施形態に係る廃水処理装置10は、難分解性の物質を含む廃水を加熱することにより水分を蒸発させて前記廃水を濃縮させる装置である。前記難分解性の物質としては、例えば、所謂パラフィンと称される炭素元素の数が20以上の鎖式飽和炭化水素である。また、本実施形態の廃水処理装置10による処理対象は、金属の切削加工の際に潤滑及び冷却に用いられる水溶性切削油を含む廃水である。したがって、廃水には、前記水溶性切削油だけでなく、切削加工によって生じた金属粉も含まれる。この金属粉も前記難分解性の物質の一例である。
[Wastewater treatment device 10]
1 to 3 are views showing the appearance of the wastewater treatment device 10. FIG. 4 is a system system diagram showing the configuration of the wastewater treatment device 10. FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a control system of the wastewater treatment device 10. The wastewater treatment device 10 according to the present embodiment is a device that evaporates water by heating wastewater containing a persistent substance to concentrate the wastewater. The persistent substance is, for example, a chain saturated hydrocarbon having 20 or more carbon elements, so-called paraffin. The target of treatment by the wastewater treatment apparatus 10 of the present embodiment is wastewater containing water-soluble cutting oil used for lubrication and cooling during metal cutting. Therefore, the wastewater includes not only the water-soluble cutting oil but also metal powder produced by cutting. This metal powder is also an example of the persistent substance.

図1乃至図4に示されるように、廃水処理装置10は、大別すると、廃水濃縮装置11と、分解処理装置12と、制御盤30と、を有しており、廃水濃縮装置11から分解処理装置12へ蒸気を含む気体を送り込むことができるように、廃水濃縮装置11と分解処理装置12とが連結ダクト14によって連結されている。 As shown in FIGS. 1 to 4, the wastewater treatment device 10 includes a wastewater concentrator 11, a decomposition treatment device 12, and a control panel 30, which are roughly classified from the wastewater concentrator 11. The wastewater concentrator 11 and the decomposition treatment device 12 are connected by a connecting duct 14 so that a gas containing steam can be sent to the treatment device 12.

[廃水濃縮装置11]
廃水濃縮装置11は、処理槽21(本発明の貯留槽の一例)と、第1加熱器22(本発明の第1加熱部の一例)と、第2加熱器23(本発明の第2加熱部の一例)と、送気ブロアー24(本発明の送風機の一例)と、消泡剤供給部27と、給水部28(本発明の給水部の一例)と、排出ポンプ29と、を備えている。
[Wastewater concentrator 11]
The waste water concentrator 11 includes a treatment tank 21 (an example of a storage tank of the present invention), a first heater 22 (an example of a first heating unit of the present invention), and a second heater 23 (an example of the second heating of the present invention). (Example of a unit), an air blower 24 (an example of a blower of the present invention), a defoaming agent supply unit 27, a water supply unit 28 (an example of a water supply unit of the present invention), and a discharge pump 29. There is.

処理槽21は、処理対象である廃水を貯留するためのものであり、略直方体形状に形成されている。処理槽21の内部に所定量の液体(廃水又は水)が貯留される。本実施形態では、処理槽21に貯留されて濃縮処理される廃水は、前記パラフィン、前記水溶性切削油、前記金属粉、1,4−ジオキサン、及び水を含むものである。これらのうち、前記パラフィン、前記水溶性切削油、及び金属粉が、後述の酸化触媒43による分解が困難な難分解性の物質である。前記廃水における水の含有率は、概ね90%〜95%程度であり、そのため、前記廃水の粘性は比較的低い。なお、前記廃水には、前記パラフィン、前記1,4−ジオキサンなどの物質以外の物質として、防錆油添加剤や、精製鉱物油、界面活性剤、潤滑性向上用の添加剤などが含まれている場合がある。この場合、これらの物質も、前記難分解性の物質の一例である。 The treatment tank 21 is for storing wastewater to be treated, and is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape. A predetermined amount of liquid (wastewater or water) is stored inside the treatment tank 21. In the present embodiment, the wastewater stored in the treatment tank 21 and concentrated and treated contains the paraffin, the water-soluble cutting oil, the metal powder, 1,4-dioxane, and water. Of these, the paraffin, the water-soluble cutting oil, and the metal powder are persistent substances that are difficult to decompose by the oxidation catalyst 43 described later. The water content in the wastewater is about 90% to 95%, and therefore the viscosity of the wastewater is relatively low. The waste water contains substances other than the substances such as paraffin and 1,4-dioxane, such as rust preventive oil additives, refined mineral oils, surfactants, and additives for improving lubricity. May be. In this case, these substances are also examples of the persistent substances.

本実施形態では、処理対象である廃水は、別途設置された廃水タンク81に貯留されている。この廃水タンク81は、配管81Aによって処理槽21の底部に接続されている。配管81Aには、電気駆動によって開閉される電動弁81Bと、供給ポンプ81Cとが設けられている。供給ポンプ81Cは、廃水タンク81と電動弁81Bとの間に設けられている。供給ポンプ81Cは、必要に応じて廃水タンク81から処理槽21に廃水を供給するためのポンプである。電動弁81B及び供給ポンプ81Cは、制御盤30の制御部100(図5参照)によって駆動制御される。電動弁81Bが制御部100によって制御されて開けられ、そして、供給ポンプ81Cが制御部100によって駆動されることにより、廃水タンク81から処理槽21に廃水が供給される。また、電動弁81Bが閉じられて、供給ポンプ81Cの駆動が停止されると、廃水の供給が停止される。なお、電動弁81B及び供給ポンプ81Cによって、本発明の廃水供給部が実現されている。 In the present embodiment, the wastewater to be treated is stored in a separately installed wastewater tank 81. The wastewater tank 81 is connected to the bottom of the treatment tank 21 by a pipe 81A. The pipe 81A is provided with an electric valve 81B that is opened and closed by electric drive and a supply pump 81C. The supply pump 81C is provided between the wastewater tank 81 and the electric valve 81B. The supply pump 81C is a pump for supplying wastewater from the wastewater tank 81 to the treatment tank 21 as needed. The electric valve 81B and the supply pump 81C are driven and controlled by the control unit 100 (see FIG. 5) of the control panel 30. The electric valve 81B is controlled and opened by the control unit 100, and the supply pump 81C is driven by the control unit 100 to supply wastewater from the wastewater tank 81 to the treatment tank 21. Further, when the electric valve 81B is closed and the drive of the supply pump 81C is stopped, the supply of wastewater is stopped. The wastewater supply unit of the present invention is realized by the electric valve 81B and the supply pump 81C.

処理槽21は、架台15によって支持されている。架台15は、ベースフレーム15Aと、ベースフレーム15Aから上方へ延びる複数のフレーム脚15Bと、フレーム脚15Bによって支えられた上部フレーム15Cとによって構成されている。処理槽21は、上部フレーム15Cによって、ベースフレーム15Aから上方へ所定高さを隔てた位置に設けられている。 The processing tank 21 is supported by a gantry 15. The gantry 15 is composed of a base frame 15A, a plurality of frame legs 15B extending upward from the base frame 15A, and an upper frame 15C supported by the frame legs 15B. The processing tank 21 is provided at a position separated by a predetermined height upward from the base frame 15A by the upper frame 15C.

処理槽21に貯留される廃水は、例えば、工場などにおいて工業生産に水が使用され、その使用後に廃棄される汚水(所謂工業廃水)である。このような廃水は、そのままの状態で河川や海に排出されると自然環境を汚染することになるため、自然環境に排出可能な程度まで浄化してから河川や海に排出されなければならない。特に、金属加工を行う工場からの工業廃水には、前記パラフィン、前記水溶性切削油、前記金属粉、1,4−ジオキサン、及び水が含まれていることがある。このような廃水は、水質汚濁防止法で定められた排水基準(0.5mg/L)をクリアしたものでなければ、河川や海を含む水域(公共用水域)に排出することは禁止されている。 The wastewater stored in the treatment tank 21 is, for example, sewage (so-called industrial wastewater) that is used for industrial production in factories and the like and is discarded after the use. If such wastewater is discharged into rivers and the sea as it is, it will pollute the natural environment, so it must be purified to the extent that it can be discharged into the natural environment before being discharged into the rivers and the sea. In particular, industrial wastewater from factories that perform metal processing may contain the paraffin, the water-soluble cutting oil, the metal powder, 1,4-dioxane, and water. Such wastewater is prohibited from being discharged into water areas (public water areas) including rivers and the sea unless it meets the wastewater standards (0.5 mg / L) stipulated by the Water Pollution Control Law. There is.

第1加熱器22は、処理槽21内に貯留された液体(廃水又は水)を加熱するものであり、処理槽21に設けられている。第1加熱器22は、例えばハロゲンヒーターなどの電気ヒーター22Aと、電気ヒーター22Aを駆動させるドライバー回路を含む第1加熱制御部22Bとが一体に構成されたユニットタイプのものである。電気ヒーター22Aは、処理槽21の内部に設けられており、第1加熱制御部22Bは、処理槽21の外部に配置されている。電気ヒーター22Aは、処理槽21の内部において高さ方向の中間位置よりも下方に設けられており、処理槽21に液体(廃水又は水)が貯留された状態でその全部が液体中に配置される。第1加熱器22は、制御部100によって駆動されることによって前記液体を加熱する。具体的には、制御部100から駆動信号が第1加熱制御部22Bに送られると、第1加熱制御部22Bは、前記駆動信号に基づいて電気ヒーター22Aを駆動させて加熱制御する。なお、第1加熱器22は、処理槽21内の液体を加熱するものであれば、抵抗加熱方式、赤外線加熱方式、誘電加熱方式、誘導加熱方式のいずれの加熱方式のものであってもよい。 The first heater 22 heats the liquid (wastewater or water) stored in the treatment tank 21, and is provided in the treatment tank 21. The first heater 22 is a unit type in which, for example, an electric heater 22A such as a halogen heater and a first heating control unit 22B including a driver circuit for driving the electric heater 22A are integrally configured. The electric heater 22A is provided inside the processing tank 21, and the first heating control unit 22B is arranged outside the processing tank 21. The electric heater 22A is provided inside the treatment tank 21 below the intermediate position in the height direction, and all of the electric heater 22A is arranged in the liquid in a state where the liquid (wastewater or water) is stored in the treatment tank 21. To. The first heater 22 heats the liquid by being driven by the control unit 100. Specifically, when a drive signal is sent from the control unit 100 to the first heating control unit 22B, the first heating control unit 22B drives the electric heater 22A based on the drive signal to control heating. The first heater 22 may be any of a resistance heating method, an infrared heating method, a dielectric heating method, and an induction heating method as long as it heats the liquid in the processing tank 21. ..

送気ブロアー24は、電気駆動される送風機である。送気ブロアー24は、第1加熱器22による加熱によって処理槽21内の液体から生じた蒸気を処理槽21から外部へ向けて送出する。図1に示されるように、送気ブロアー24は、処理槽21の下方においてベースフレーム15Aの上面に固定されており、送気ブロアー24から延出された配管24Aが連結ダクト14の一部である中間ダクト14Aに連結されている。中間ダクト14Aは、処理槽21の上面から上方へ延出するダクト部材である。送気ブロアー24から中間ダクト14Aに配管(不図示)が接続されており、この配管を通じて送気ブロアー24から空気が中間ダクト14Aの内部に送り込まれる。本実施形態では、送気ブロアー24は、中間ダクト14Aの内部に上向きの気流を生じさせる方向へ空気を送り込む。中間ダクト14Aに送り込まれた空気は、中間ダクト14Aに存在する蒸気とともに連結ダクト14に入り込み、処理槽21の外部に排出される。なお、連結ダクト14に入り込んだ蒸気は、連結ダクト14を通って分解処理装置12に送り込まれる。 The air blower 24 is an electrically driven blower. The air supply blower 24 sends steam generated from the liquid in the treatment tank 21 to the outside from the treatment tank 21 by heating by the first heater 22. As shown in FIG. 1, the air supply blower 24 is fixed to the upper surface of the base frame 15A below the processing tank 21, and the pipe 24A extending from the air supply blower 24 is a part of the connecting duct 14. It is connected to a certain intermediate duct 14A. The intermediate duct 14A is a duct member extending upward from the upper surface of the processing tank 21. A pipe (not shown) is connected from the air supply blower 24 to the intermediate duct 14A, and air is sent from the air supply blower 24 into the intermediate duct 14A through this pipe. In the present embodiment, the air supply blower 24 sends air into the intermediate duct 14A in a direction that creates an upward air flow. The air sent into the intermediate duct 14A enters the connecting duct 14 together with the steam existing in the intermediate duct 14A, and is discharged to the outside of the processing tank 21. The steam that has entered the connecting duct 14 is sent to the disassembly processing device 12 through the connecting duct 14.

なお、本実施形態では、送気ブロアー24によって本発明の送風機を実現する構成を例示するが、本発明の送風機はこの構成に限られない。例えば、送気ブロアー24と同じブロアーが排気ダクト44に設けられていてもよい。また、本発明の送風機は、送気ブロアー24のような構成にものに限られない。例えば、送気ブロアー24に代えて、中間ダクト14Aの内部に設けられた軸流ファンを送風機として適用してもよい。この場合、外部から空気が送り込まれないため、中間ダクト14A内の蒸気が希薄になることが防止される。 In the present embodiment, the configuration in which the blower of the present invention is realized by the air blower 24 is illustrated, but the blower of the present invention is not limited to this configuration. For example, the same blower as the air supply blower 24 may be provided in the exhaust duct 44. Further, the blower of the present invention is not limited to the configuration such as the air blower 24. For example, instead of the air blower 24, an axial fan provided inside the intermediate duct 14A may be applied as a blower. In this case, since air is not sent from the outside, it is possible to prevent the steam in the intermediate duct 14A from becoming diluted.

第2加熱器23は、処理槽21から分解処理装置12の酸化触媒43までのダクト、具体的には連結ダクト14に設けられている。第2加熱器23は、連結ダクト14内の気体(蒸気及び空気)を加熱する。第2加熱器23は、例えばハロゲンヒーターなどの電気ヒーター23Aと、電気ヒーター23Aを駆動させるドライバー回路を含む第2加熱制御部23Bとが一体に構成されたユニットタイプのものである。電気ヒーター23Aは、連結ダクト14の内部に設けられており、第2加熱制御部23Bは、連結ダクト14の外部に配置されている。第2加熱器23は、制御部100によって駆動されることによって連結ダクト14内の気体を加熱する。具体的には、制御部100から駆動信号が第2加熱制御部23Bに送られると、第2加熱制御部23Bは、前記駆動信号に基づいて電気ヒーター23Aを駆動させて加熱制御する。なお、第2加熱器23は、連結ダクト14内の気体を加熱するものであれば、抵抗加熱方式、赤外線加熱方式、マイクロ波加熱方式、 誘電加熱方式、誘導加熱方式のいずれの加熱方式のものであってもよい。 The second heater 23 is provided in a duct from the processing tank 21 to the oxidation catalyst 43 of the decomposition processing apparatus 12, specifically, a connecting duct 14. The second heater 23 heats the gas (steam and air) in the connecting duct 14. The second heater 23 is a unit type in which, for example, an electric heater 23A such as a halogen heater and a second heating control unit 23B including a driver circuit for driving the electric heater 23A are integrally configured. The electric heater 23A is provided inside the connecting duct 14, and the second heating control unit 23B is arranged outside the connecting duct 14. The second heater 23 heats the gas in the connecting duct 14 by being driven by the control unit 100. Specifically, when a drive signal is sent from the control unit 100 to the second heating control unit 23B, the second heating control unit 23B drives the electric heater 23A based on the drive signal to control heating. The second heater 23 is any of a resistance heating method, an infrared heating method, a microwave heating method, a dielectric heating method, and an induction heating method as long as it heats the gas in the connecting duct 14. It may be.

消泡剤供給部27は、消泡剤を収容する収容ボックス27Aと、収容ボックス27Aと処理槽21とを連結する配管27Bと、配管27Bに設けられた電動弁27Cとを備える。後述の泡検出センサー33によって処理槽21内に泡が発生したと判定されると、電動弁27Cが開けられて、収容ボックス27Aから配管27Bを通じて前記消泡剤が処理槽21内に投入される。消泡剤としては、例えば、シリコーン系消泡剤や有機系消泡剤などが適用可能である。 The defoaming agent supply unit 27 includes a storage box 27A for storing the defoaming agent, a pipe 27B for connecting the storage box 27A and the processing tank 21, and an electric valve 27C provided in the pipe 27B. When it is determined by the foam detection sensor 33 described later that bubbles are generated in the processing tank 21, the electric valve 27C is opened, and the defoaming agent is charged into the processing tank 21 from the storage box 27A through the pipe 27B. .. As the defoaming agent, for example, a silicone-based defoaming agent, an organic-based defoaming agent, or the like can be applied.

給水部28は、処理槽21に水を供給するものであり、処理槽21の近傍に設けられている。処理槽21の側壁には、処理槽21の内部に連通している給水口21Cが設けられている。給水部28は、水道源又は水タンクなどの水供給源28Dから延びる給水管28Aを有しており、この給水管28Aが処理槽21の給水口21Cに接続されている。給水部28は、工業用水道から給水管28Aを通じて給水口21Cに水を供給している。給水口21Cに供給された水は、処理槽21内に貯留される。給水管28Aには、水の供給又は停止をするための電動弁28Bが設けられている。電動弁28Bは、例えば電動ボールバルブである。電動弁28Bは、制御盤30の制御部100によって開閉が制御されて、水の供給又は停止が行われる。また、電動弁28Bは、制御部100によって開閉角が制御されて、給水管28Aを流れる水量が調整される。 The water supply unit 28 supplies water to the treatment tank 21 and is provided in the vicinity of the treatment tank 21. A water supply port 21C communicating with the inside of the treatment tank 21 is provided on the side wall of the treatment tank 21. The water supply unit 28 has a water supply pipe 28A extending from a water supply source 28D such as a water source or a water tank, and the water supply pipe 28A is connected to a water supply port 21C of the treatment tank 21. The water supply unit 28 supplies water from the industrial water supply to the water supply port 21C through the water supply pipe 28A. The water supplied to the water supply port 21C is stored in the treatment tank 21. The water supply pipe 28A is provided with an electric valve 28B for supplying or stopping water. The electric valve 28B is, for example, an electric ball valve. The opening and closing of the electric valve 28B is controlled by the control unit 100 of the control panel 30, and water is supplied or stopped. Further, the opening / closing angle of the electric valve 28B is controlled by the control unit 100 to adjust the amount of water flowing through the water supply pipe 28A.

排出ポンプ29は、処理槽21の下側に設けられている。具体的には、排出ポンプ29は、処理槽21の下方においてベースフレーム15Aの上面に固定されている。排出ポンプ29は、必要に応じて処理槽21に貯留されている廃水を外部へ排出するためのポンプである。そのため、排出ポンプ29の吸込口には、処理槽21の底部から延びる排水管84が接続されている。本実施形態では、排出ポンプ29は、別に設置されている外部タンク82(図4参照)に廃水を排出する。したがって、排出ポンプ29の吐出口には、外部タンク82に至る排水管85が連結されている。また、排水管84には、電気駆動によって開閉される電動弁84Aが設けられている。電動弁84A及び排出ポンプ29は、制御盤30の制御部100(図5参照)によって駆動制御される。電動弁84Aが制御部100によって制御されて開けられ、そして、排出ポンプ29が制御部100によって駆動されることにより、処理槽21内の液体(廃水又は水)が外部タンク82に排出される。また、電動弁84Aが閉じられて、排出ポンプ29の駆動が停止されると、前記液体の排出が停止される。 The discharge pump 29 is provided on the lower side of the processing tank 21. Specifically, the discharge pump 29 is fixed to the upper surface of the base frame 15A below the processing tank 21. The discharge pump 29 is a pump for discharging the wastewater stored in the treatment tank 21 to the outside as needed. Therefore, a drain pipe 84 extending from the bottom of the treatment tank 21 is connected to the suction port of the discharge pump 29. In the present embodiment, the discharge pump 29 discharges wastewater to an external tank 82 (see FIG. 4) which is separately installed. Therefore, a drain pipe 85 leading to the external tank 82 is connected to the discharge port of the discharge pump 29. Further, the drain pipe 84 is provided with an electric valve 84A that is opened and closed by electric drive. The electric valve 84A and the discharge pump 29 are driven and controlled by the control unit 100 (see FIG. 5) of the control panel 30. The electric valve 84A is controlled and opened by the control unit 100, and the discharge pump 29 is driven by the control unit 100, so that the liquid (wastewater or water) in the treatment tank 21 is discharged to the external tank 82. Further, when the electric valve 84A is closed and the drive of the discharge pump 29 is stopped, the discharge of the liquid is stopped.

[分解処理装置12]
分解処理装置12は、処理槽21から連結ダクト14、排気ダクト44に至る排気ガスの案内経路に設けられており、筒状の筐体41と、酸化触媒43と、排気ダクト44と、排気ブロアー45と、温度センサー46と、温度センサー47と、を備えている。
[Disassembly processing device 12]
The decomposition treatment device 12 is provided in the exhaust gas guide path from the treatment tank 21, the connecting duct 14, and the exhaust duct 44, and has a tubular housing 41, an oxidation catalyst 43, an exhaust duct 44, and an exhaust blower. A 45, a temperature sensor 46, and a temperature sensor 47 are provided.

筐体41は、鉛直方向に延びる断面円形の筒形状に形成されている。筐体41の一方側(入口側)は連結ダクト14の出口側に連結しており、連結ダクト14から案内された気体を内部に流入させる。筐体41の他方側(出口側)には排気ダクト44が連結されている。連結ダクト14から送られてきた気体(蒸気)は、筐体41の内部を通って上方へ案内されて、排気ダクト44に流入する。つまり、筐体41の内部では、下部から上方へ向かう気流が生じる。 The housing 41 is formed in a tubular shape having a circular cross section extending in the vertical direction. One side (inlet side) of the housing 41 is connected to the outlet side of the connecting duct 14, and the gas guided from the connecting duct 14 flows into the inside. An exhaust duct 44 is connected to the other side (outlet side) of the housing 41. The gas (steam) sent from the connecting duct 14 is guided upward through the inside of the housing 41 and flows into the exhaust duct 44. That is, inside the housing 41, an air flow from the lower part to the upper part is generated.

酸化触媒43は、筐体41の内部に設けられている。酸化触媒43は、白金を主成分とする金属触媒であり、ハニカム構造を有する所謂メタルハニカム触媒である。ハニカム構造の内部を連結ダクト14から送り込まれた蒸気を含む気体が通ることによって、その気体に含まれている1,4−ジオキサンと酸化触媒43とが酸化反応して、1,4−ジオキサンが完全に分解される。具体的には、1,4−ジオキサンが分解されて、水蒸気(水)と二酸化炭素が生成される。また、前記気体に1,4−ジオキサンの蒸気以外に、VOCガスが含まれている場合は、VOCガスと酸化触媒43とが酸化反応して、VOCガスが完全に分解される。 The oxidation catalyst 43 is provided inside the housing 41. The oxidation catalyst 43 is a metal catalyst containing platinum as a main component, and is a so-called metal honeycomb catalyst having a honeycomb structure. When a gas containing vapor sent from the connecting duct 14 passes through the inside of the honeycomb structure, the 1,4-dioxane contained in the gas and the oxidation catalyst 43 undergo an oxidation reaction to form 1,4-dioxane. Completely disassembled. Specifically, 1,4-dioxane is decomposed to generate water vapor (water) and carbon dioxide. When the gas contains VOC gas in addition to the vapor of 1,4-dioxane, the VOC gas and the oxidation catalyst 43 undergo an oxidation reaction to completely decompose the VOC gas.

温度センサー46は、筐体41の内部における酸化触媒43の下側の温度(触媒入口温度)を検出するものである。また、温度センサー47は、筐体41の内部における酸化触媒43の上側の温度(触媒出口温度)を検出するものである。温度センサー46,47は、検出対象の温度に応じたセンサー信号を制御部100に送る。制御部100は、そのセンサー信号に基づいて検出対象の温度を算出し、その温度情報を液晶モニター106に表示する。 The temperature sensor 46 detects the temperature (catalyst inlet temperature) below the oxidation catalyst 43 inside the housing 41. Further, the temperature sensor 47 detects the temperature (catalyst outlet temperature) above the oxidation catalyst 43 inside the housing 41. The temperature sensors 46 and 47 send a sensor signal corresponding to the temperature of the detection target to the control unit 100. The control unit 100 calculates the temperature of the detection target based on the sensor signal, and displays the temperature information on the liquid crystal monitor 106.

[制御盤30]
制御盤30は、第1加熱器22による処理槽21内の液体(廃水又は水)の加熱の制御、給水部28による処理槽21への給水の制御、第2加熱器23による気体(蒸気又は空気)の加熱の制御、供給ポンプ81C等による処理槽21への廃水供給の制御、などを行う。図1に示されるように、制御盤30は、架台15の上部フレーム15Cに設置された自立型のボックス形状のキャビネット30Aを有しており、更に、その内部に、シーケンサーなどの制御部100などが設けられている。また、キャビネット30Aの正面には開閉可能な扉30Bが設けられており、この扉30Bに、液晶モニター106や、その他の操作部などが設けられている。
[Control panel 30]
The control panel 30 controls the heating of the liquid (wastewater or water) in the treatment tank 21 by the first heater 22, controls the water supply to the treatment tank 21 by the water supply unit 28, and the gas (steam or water) by the second heater 23. The heating of air) is controlled, and the supply of wastewater to the treatment tank 21 by the supply pump 81C or the like is controlled. As shown in FIG. 1, the control panel 30 has a self-standing box-shaped cabinet 30A installed on the upper frame 15C of the gantry 15, and further, a control unit 100 such as a sequencer is contained therein. Is provided. A door 30B that can be opened and closed is provided on the front surface of the cabinet 30A, and the door 30B is provided with a liquid crystal monitor 106, other operation units, and the like.

制御部100は、CPU101、ROM102、RAM103、EEPROM104(登録商標)等を有するコンピューターであり、廃水処理装置10を統括的に制御する。ROM102に制御プログラムが記憶されており、CPU101が前記制御プログラムを読み出した実行することによって、後述の濃縮加熱処理やクリーニング加熱処理が実行される。なお、濃縮加熱処理及びクリーニング加熱処理については後述する。 The control unit 100 is a computer having a CPU 101, a ROM 102, a RAM 103, an EEPROM 104 (registered trademark), and the like, and controls the wastewater treatment apparatus 10 in an integrated manner. The control program is stored in the ROM 102, and when the CPU 101 reads out the control program and executes it, the concentration heat treatment and the cleaning heat treatment described later are executed. The concentrated heat treatment and the cleaning heat treatment will be described later.

制御部100に、液晶モニター106、第1加熱制御部22B、及び第2加熱制御部23Bが接続されており、互いに信号やデータの相互通信が可能に構成されている。 A liquid crystal monitor 106, a first heating control unit 22B, and a second heating control unit 23B are connected to the control unit 100 so that signals and data can communicate with each other.

処理槽21には、温度センサー32、泡検出センサー33、液面レベルセンサー34、温度センサー35が設けられている。 The treatment tank 21 is provided with a temperature sensor 32, a bubble detection sensor 33, a liquid level level sensor 34, and a temperature sensor 35.

温度センサー32は、処理槽21に貯留されている液体(廃水又は水)の温度を検出するものであり、例えば、測温抵抗体、熱電対、或いはサーミスタなどで構成されている。温度センサー32は、検出対象の温度に応じたセンサー信号を制御盤30の制御部100に送る。制御部100は、そのセンサー信号に基づいて検出対象の温度を算出し、その温度情報を液晶モニター106に表示する。 The temperature sensor 32 detects the temperature of the liquid (wastewater or water) stored in the treatment tank 21, and is composed of, for example, a resistance temperature detector, a thermocouple, a thermistor, or the like. The temperature sensor 32 sends a sensor signal corresponding to the temperature to be detected to the control unit 100 of the control panel 30. The control unit 100 calculates the temperature of the detection target based on the sensor signal, and displays the temperature information on the liquid crystal monitor 106.

また、第1加熱制御部22Bは、第1加熱器22の電気ヒーター22Aを駆動させて加熱制御する。第1加熱制御部22Bは、温度センサー32によって検出された温度が予め定められた設定温度となるように、電気ヒーター22Aを加熱制御する。前記設定温度の情報は、EEPROM104に記憶されている。本実施形態では、前記設定温度は液体が蒸発可能な温度に設定されている。例えば、前記液体が水の場合は100℃に、前記液体が廃水の場合は105℃に設定されている。第1加熱制御部22Bは、検出された液体の温度に基づいて電気ヒーター22AをPID制御する。具体的には、第1加熱制御部22Bは、検出温度が前記設定温度未満の場合に、電気ヒーター22Aによる加熱を強め、検出温度が前記設定温度を超えている場合に、電気ヒーター22Aによる加熱を弱めるか一時停止させる。 Further, the first heating control unit 22B drives the electric heater 22A of the first heater 22 to control heating. The first heating control unit 22B heats and controls the electric heater 22A so that the temperature detected by the temperature sensor 32 becomes a predetermined set temperature. The information on the set temperature is stored in the EEPROM 104. In the present embodiment, the set temperature is set to a temperature at which the liquid can evaporate. For example, when the liquid is water, the temperature is set to 100 ° C., and when the liquid is wastewater, the temperature is set to 105 ° C. The first heating control unit 22B PID controls the electric heater 22A based on the detected temperature of the liquid. Specifically, the first heating control unit 22B strengthens the heating by the electric heater 22A when the detection temperature is lower than the set temperature, and heats by the electric heater 22A when the detection temperature exceeds the set temperature. Weak or pause.

第2加熱制御部23Bは、第2加熱器23の電気ヒーター23Aを駆動させて加熱制御する。本実施形態では、第2加熱制御部23Bは、電気ヒーター23Aを駆動させて、分解処理装置12の酸化触媒43の入口温度が350℃となるように電気ヒーター23AをPID制御する。第2加熱制御部23Bは、温度センサー46で検出された温度が予め定められた目標温度(例えば350℃)となるように、電気ヒーター23Aを加熱制御する。前記目標温度の情報は、EEPROM104に記憶されている。 The second heating control unit 23B drives the electric heater 23A of the second heater 23 to control heating. In the present embodiment, the second heating control unit 23B drives the electric heater 23A to PID control the electric heater 23A so that the inlet temperature of the oxidation catalyst 43 of the decomposition processing apparatus 12 becomes 350 ° C. The second heating control unit 23B heats and controls the electric heater 23A so that the temperature detected by the temperature sensor 46 becomes a predetermined target temperature (for example, 350 ° C.). The target temperature information is stored in the EEPROM 104.

泡検出センサー33は、処理槽21に貯留されている廃水の液面に泡が生じているかどうかを検出するものであり、例えば、処理槽21の上部の空間に所定距離を隔てて離間された発光素子及び受光素子により構成されている。処理槽21には、貯留される液体の上限水位が定められており、本実施形態では、処理槽21に100リットルの液体が貯留されたときの水位に定められている。前記発光素子及び前記受光素子は、前記上限水位よりも少し上方の位置、具体的には、前記上限水位よりも150mm高い位置に設けられている。 The foam detection sensor 33 detects whether or not bubbles are generated on the liquid surface of the wastewater stored in the treatment tank 21, and is, for example, separated from the space above the treatment tank 21 at a predetermined distance. It is composed of a light emitting element and a light receiving element. The upper limit water level of the liquid to be stored is set in the treatment tank 21, and in the present embodiment, the water level is set to the water level when 100 liters of liquid is stored in the treatment tank 21. The light emitting element and the light receiving element are provided at a position slightly above the upper limit water level, specifically, at a position 150 mm higher than the upper limit water level.

前記発光素子は、例えば発光ダイオードである。前記受光素子は、例えばフォトトランジスタである。発光素子から受光素子に光が照射されており、その照射光に応じた電圧信号が制御部100に送られる。廃水の液面に泡が生じると、前記光が遮られ、前記電圧信号の電圧レベルが低下する。制御部100は、前記電圧レベルが閾値未満になった場合に、液面に泡が生じていると判定する。本実施形態では、発生した泡が液面から離れて連結ダクト14を通って分解処理装置12に送られると、分解処理装置12が停止したり故障したりするおそれがある。そのため、制御部100は、泡が生じていると判定した場合に、電動弁27Cを制御して、消泡剤供給部27から処理槽21に消泡剤を供給する。 The light emitting element is, for example, a light emitting diode. The light receiving element is, for example, a phototransistor. Light is emitted from the light emitting element to the light receiving element, and a voltage signal corresponding to the irradiated light is sent to the control unit 100. When bubbles are generated on the liquid surface of the wastewater, the light is blocked and the voltage level of the voltage signal is lowered. The control unit 100 determines that bubbles are generated on the liquid surface when the voltage level becomes less than the threshold value. In the present embodiment, if the generated bubbles are separated from the liquid surface and sent to the decomposition processing device 12 through the connecting duct 14, the decomposition processing device 12 may stop or break down. Therefore, when it is determined that bubbles are generated, the control unit 100 controls the electric valve 27C to supply the defoaming agent from the defoaming agent supply unit 27 to the treatment tank 21.

液面レベルセンサー34は、処理槽21に貯留されている液体(廃水又は水)の液面の位置を検出するものであり、例えば、フロートスイッチタイプのものや静電容量を用いたものなどが考えられる。液面レベルセンサー34は、廃水の液面が処理槽21に定められた前記上限水位、中間水位、或いは、基準水位に達したか否かを検出する。本実施形態では、前記上限水位は、処理槽21に100リットルの液体が貯留されたときの水位に定められている。前記基準水位は、処理槽21に90リットルの液体が貯留されたときの水位に定められている。この基準水位は、後述するクリーニング加熱処理が完了したかどうかの判断に用いられる水位である。また、前記中間水位は、前記上限水位と前記基準水位との間に定められており、例えば、処理槽21に95リットルの液体が貯留されたときの水位に定められている。この中間水位は、後述する濃縮加熱処理を行うときに供給される廃水の量の判断に用いられる水位である。液面レベルセンサー34は、廃水の液面の水位に対応するセンサー信号を制御部100に送り、制御部100は、そのセンサー信号のレベルが前記上限水位や前記中間水位、前記基準水位に対応するレベル値であるか否かによって、液面が前記上限水位、前記中間水位、或いは前記基準水位に達したか否かを判定する。 The liquid level sensor 34 detects the position of the liquid level of the liquid (wastewater or water) stored in the treatment tank 21, and for example, a float switch type sensor or one using capacitance is used. Conceivable. The liquid level sensor 34 detects whether or not the liquid level of the wastewater has reached the upper limit water level, the intermediate water level, or the reference water level defined in the treatment tank 21. In the present embodiment, the upper limit water level is set to the water level when 100 liters of liquid is stored in the treatment tank 21. The reference water level is set to the water level when 90 liters of liquid is stored in the treatment tank 21. This reference water level is a water level used for determining whether or not the cleaning heat treatment described later has been completed. Further, the intermediate water level is set between the upper limit water level and the reference water level, and is set, for example, the water level when 95 liters of liquid is stored in the treatment tank 21. This intermediate water level is a water level used to determine the amount of wastewater supplied when performing the concentrated heat treatment described later. The liquid level sensor 34 sends a sensor signal corresponding to the water level of the waste water to the control unit 100, and the control unit 100 has the sensor signal level corresponding to the upper limit water level, the intermediate water level, and the reference water level. Whether or not the liquid level has reached the upper limit water level, the intermediate water level, or the reference water level is determined depending on whether or not the level value is reached.

連結ダクト14には、温度センサー35が設けられている。温度センサー35は、処理槽21の側面の上部に設けられている。温度センサー35は、処理槽21の上部の空間内の気体の温度を検出するものであり、例えば、測温抵抗体などで構成されている。温度センサー35は、検出対象の温度に応じたセンサー信号を制御部100に送る。制御部100は、そのセンサー信号に基づいて検出対象の温度を算出し、その温度情報を液晶モニター106に表示する。 A temperature sensor 35 is provided in the connecting duct 14. The temperature sensor 35 is provided on the upper part of the side surface of the processing tank 21. The temperature sensor 35 detects the temperature of the gas in the space above the processing tank 21, and is composed of, for example, a resistance temperature detector. The temperature sensor 35 sends a sensor signal corresponding to the temperature of the detection target to the control unit 100. The control unit 100 calculates the temperature of the detection target based on the sensor signal, and displays the temperature information on the liquid crystal monitor 106.

ところで、パラフィンなどの難分解性の物質を含む廃水を蒸発して濃縮する場合、廃水の加熱中に、処理槽21内に廃水のミストや気泡(以下、ミスト等という。)が生じる場合がある。前記ミスト等が蒸気と共に連結ダクト14に流入して酸化触媒43に到達すると、前記ミスト等が酸化触媒43に付着する。この場合、付着した前記ミスト等の水分が蒸発して前記難分解性の物質が酸化触媒43に固着すると、酸化反応が鈍化して、1,4−ジオキサンなどの有害物質の分解性能が低下するという問題が生じる。また、付着した前記ミスト等が酸化触媒43に直接付着すると、蒸気が酸化触媒43に流入する場合に比べて酸化反応する物質量が増大し、酸化反応に伴い発生する熱量も増大する。その結果、蒸気が酸化触媒43の耐熱温度を超えるおそれがある。この場合、酸化触媒43が劣化したり、酸化触媒43が損傷するという問題が生じる。これに対して、本実施形態では、後述するクリーニング加熱処理が行われるため、前記難分解性の物質などが付着した酸化触媒43を水蒸気によってクリーニングすることにより、前記難分解性の物質を酸化触媒43から除去することが可能である。 By the way, when wastewater containing a persistent substance such as paraffin is evaporated and concentrated, mist or bubbles of wastewater (hereinafter referred to as mist or the like) may be generated in the treatment tank 21 during heating of the wastewater. .. When the mist or the like flows into the connecting duct 14 together with steam and reaches the oxidation catalyst 43, the mist or the like adheres to the oxidation catalyst 43. In this case, when the adhered water such as mist evaporates and the persistent substance adheres to the oxidation catalyst 43, the oxidation reaction is slowed down and the decomposition performance of harmful substances such as 1,4-dioxane is deteriorated. The problem arises. Further, when the attached mist or the like directly adheres to the oxidation catalyst 43, the amount of substances undergoing an oxidation reaction increases as compared with the case where steam flows into the oxidation catalyst 43, and the amount of heat generated by the oxidation reaction also increases. As a result, the steam may exceed the heat resistant temperature of the oxidation catalyst 43. In this case, there arises a problem that the oxidation catalyst 43 is deteriorated or the oxidation catalyst 43 is damaged. On the other hand, in the present embodiment, since the cleaning heat treatment described later is performed, the persistent substance is cleaned by steam to clean the oxidation catalyst 43 to which the persistent substance or the like is attached. It can be removed from 43.

[クリーニング加熱処理、濃縮加熱処理]
次に、図6のフローチャートを参照して、制御部100によって実行されるクリーニング加熱処理、濃縮加熱処理の手順の一例について説明する。ここで、前記クリーニング加熱処理は、図6のステップS11〜S16の各処理を行うことによって、処理槽21に貯留された水を蒸発させて水蒸気を生じさせ、その水蒸気によって酸化触媒43をクリーニングする処理である。前記クリーニング加熱処理を行う制御部100が、本発明のクリーニング制御部である。また、前記クリーニング加熱処理が行われることによって、本発明の触媒クリーニング方法が実現される。また、前記濃縮加熱処理は、図6のステップS17〜S22の各処理を行うことによって処理槽21に貯留された廃水を蒸発させて濃縮しつつ、蒸発した蒸気に含まれる1,4−ジオキサンやVOCガスを分解する処理である。前記濃縮加熱処理を行う制御部100が、本発明の濃縮加熱制御部である。図中のS11、S12、・・・は処理手順(ステップ)の番号を表している。各ステップにおける処理は、制御部100によって、より詳細にはCPU101がROM102内の制御プログラムを実行することによって行われる。なお、以下においては、説明の便宜上、前記濃縮加熱処理が行われて濃縮水が外部タンク82に排出された状態で、ステップS11の処理が開始される例について説明する。
[Cleaning heat treatment, concentrated heat treatment]
Next, an example of the procedure of the cleaning heat treatment and the concentrated heat treatment executed by the control unit 100 will be described with reference to the flowchart of FIG. Here, in the cleaning heat treatment, the water stored in the treatment tank 21 is evaporated to generate water vapor by performing each of the treatments of steps S11 to S16 in FIG. 6, and the oxidation catalyst 43 is cleaned by the water vapor. It is a process. The control unit 100 that performs the cleaning heat treatment is the cleaning control unit of the present invention. Further, the catalyst cleaning method of the present invention is realized by performing the cleaning heat treatment. Further, in the concentrated heat treatment, the wastewater stored in the treatment tank 21 is evaporated and concentrated by performing each of the treatments of steps S17 to S22 in FIG. 6, and 1,4-dioxane and 1,4-dioxane contained in the evaporated steam are concentrated. This is a process for decomposing VOC gas. The control unit 100 that performs the concentration heat treatment is the concentration heat control unit of the present invention. S11, S12, ... In the figure represent processing procedure (step) numbers. The processing in each step is performed by the control unit 100, more specifically by the CPU 101 executing the control program in the ROM 102. In the following, for convenience of explanation, an example in which the treatment in step S11 is started in a state where the concentrated heat treatment is performed and the concentrated water is discharged to the external tank 82 will be described.

まず、ステップS11では、制御部100は、処理槽21に液体が貯留されているかどうかを判定する。この判定処理は、液面レベルセンサー34からのセンサー信号に基づいて行われる。 First, in step S11, the control unit 100 determines whether or not the liquid is stored in the processing tank 21. This determination process is performed based on the sensor signal from the liquid level sensor 34.

次に、ステップS12では、制御部100は、電動弁28Bを駆動制御して、電動弁28Bを閉位置から開位置に作動する。これにより、工業用水などの水が給水管28Aを通じて処理槽21に供給(給水)される。 Next, in step S12, the control unit 100 drives and controls the electric valve 28B to operate the electric valve 28B from the closed position to the open position. As a result, water such as industrial water is supplied (supplied) to the treatment tank 21 through the water supply pipe 28A.

ステップS13では、制御部100は、水が処理槽21に一定量供給されたかどうかを判定する。具体的には、制御部100は、処理槽21における前記上限水位まで水が供給されたかどうかを判定する。この判定処理は、液面レベルセンサー34からのセンサー信号に基づいて行われる。制御部100は、水の液面が前記上限水位に到達したと判定すると(S13のYES)、電動弁28Bを開位置から閉位置に戻して、水の供給を停止する(S14)。なお、ステップS13において、水の液面が前記上限水位に到達したと判定されるまで、水の供給は継続される。ステップS12、S13の処理を行う工程が本発明の給水工程である。 In step S13, the control unit 100 determines whether or not a certain amount of water has been supplied to the treatment tank 21. Specifically, the control unit 100 determines whether or not water has been supplied to the upper limit water level in the treatment tank 21. This determination process is performed based on the sensor signal from the liquid level sensor 34. When the control unit 100 determines that the liquid level of water has reached the upper limit water level (YES in S13), the control unit 100 returns the electric valve 28B from the open position to the closed position and stops the water supply (S14). In step S13, the water supply is continued until it is determined that the water level has reached the upper limit water level. The step of performing the treatments of steps S12 and S13 is the water supply step of the present invention.

水の供給が停止されると、次のステップS15では、一次加熱蒸発処理が実行される。前記一次加熱蒸気処理は、処理槽21に貯留された水を加熱して前記水から水蒸気を生じさせ、その水蒸気を連結ダクト14から酸化触媒43に供給し、排気ダクト44から外部に排出する処理である。前記一次加熱蒸発処理を行う工程が、本発明の第1加熱工程である。ステップS15における一次加熱蒸発処理は、送気ブロアー24を駆動させて処理槽21で発生した水蒸気を酸化触媒43側へ送り込む送気処理(S152)、第1加熱器22及び第2加熱器23を駆動させて処理槽21内の水及び連結ダクト14内の気体を加熱する加熱処理(S152)を含む。 When the water supply is stopped, in the next step S15, the primary heating evaporation treatment is executed. In the primary heated steam treatment, the water stored in the treatment tank 21 is heated to generate steam from the water, the steam is supplied from the connecting duct 14 to the oxidation catalyst 43, and the steam is discharged to the outside from the exhaust duct 44. Is. The step of performing the primary heating evaporation treatment is the first heating step of the present invention. In the primary heating evaporation treatment in step S15, the air supply treatment (S152) in which the air supply blower 24 is driven to send the water vapor generated in the treatment tank 21 to the oxidation catalyst 43 side, the first heater 22 and the second heater 23 are subjected to. It includes a heating treatment (S152) of driving to heat the water in the treatment tank 21 and the gas in the connecting duct 14.

ステップS151(送気処理)では、制御部100は、送気ブロアー24を駆動して、連結ダクト14内に空気を送り込む。これにより、処理槽21で生じた水蒸気が連結ダクト14に吸い込まれて、更に、連結ダクト14を通って筐体41に送風される。なお、ステップS151の送気処理が行われることによって、本発明の送風工程が実現される。 In step S151 (air supply processing), the control unit 100 drives the air supply blower 24 to send air into the connecting duct 14. As a result, the water vapor generated in the processing tank 21 is sucked into the connecting duct 14, and further blown to the housing 41 through the connecting duct 14. The air blowing process of the present invention is realized by performing the air blowing process in step S151.

ここで、送気ブロアー24による送風量は、酸化触媒43におけるクリーニングに必要な風量となるように制御部100によって制御される。例えば、処理対象の廃水における前記難分解性の物質の含有率が高ければ高い程、酸化触媒43に付着する前記難分解性の物質の付着量も多くなることから、前記難分解性の物質の含有率に比例して、送気ブロアー24による送風量を大きくすることが考えられる。 Here, the amount of air blown by the air blower 24 is controlled by the control unit 100 so as to be the amount of air required for cleaning the oxidation catalyst 43. For example, the higher the content of the persistent substance in the wastewater to be treated, the greater the amount of the persistent substance adhering to the oxidation catalyst 43. It is conceivable to increase the amount of air blown by the air blower 24 in proportion to the content rate.

ステップS152(加熱処理)では、制御部100は、第1加熱制御部22Bに駆動信号を送って、第1加熱器22の電気ヒーター22Aを駆動させる。このとき、第1加熱制御部22Bは、PID制御によって、水が沸騰して蒸発するように加熱制御する。また、制御部100は、第2加熱制御部23Bに駆動信号を送って、第2加熱器23の電気ヒーター23Aを駆動させる。このとき、第2加熱制御部23Bは、PID制御によって、酸化触媒43の入口温度が、酸化触媒43のクリーニングに必要な目標温度(例えば、250℃〜350℃の範囲内の温度)となるように電気ヒーター23Aを加熱制御する。この加熱処理によって、筐体41に入り込んだ水蒸気は、前記目標温度まで加熱されて酸化触媒43を通り、これにより、酸化触媒43に付着した前記難分解性の物質などの付着物が水蒸気の蒸気流によって剥がし落とされるようにして洗浄される。 In step S152 (heat treatment), the control unit 100 sends a drive signal to the first heating control unit 22B to drive the electric heater 22A of the first heater 22. At this time, the first heating control unit 22B heats and controls the water so that it boils and evaporates by PID control. Further, the control unit 100 sends a drive signal to the second heating control unit 23B to drive the electric heater 23A of the second heater 23. At this time, the second heating control unit 23B controls the PID so that the inlet temperature of the oxidation catalyst 43 becomes the target temperature (for example, a temperature within the range of 250 ° C. to 350 ° C.) required for cleaning the oxidation catalyst 43. The electric heater 23A is heated and controlled. By this heat treatment, the steam that has entered the housing 41 is heated to the target temperature and passes through the oxidation catalyst 43, whereby the deposits such as the persistent substance adhering to the oxidation catalyst 43 are steam of steam. It is washed by being peeled off by a stream.

前記一次加熱蒸発処理が行われることにより、処理槽21内の水の貯留量は徐々に減少する。次のステップS16では、制御部100は、処理槽21の水が前記基準水位まで減少したかどうかを判定する。この判定処理は、液面レベルセンサー34からのセンサー信号に基づいて行われる。制御部100は、水の液面が前記基準水位まで減少したと判定すると(S16のYES)、次のステップS17に進む。 By performing the primary heat evaporation treatment, the amount of water stored in the treatment tank 21 gradually decreases. In the next step S16, the control unit 100 determines whether or not the water in the treatment tank 21 has decreased to the reference water level. This determination process is performed based on the sensor signal from the liquid level sensor 34. When the control unit 100 determines that the liquid level of water has decreased to the reference water level (YES in S16), the control unit 100 proceeds to the next step S17.

次のステップS17では、制御部100は、電動弁81Bを制御して、電動弁81Bを閉位置から開位置に作動し、また、供給ポンプ81Cを駆動させる。これにより、廃水タンク81から廃水が処理槽21に供給される。このとき、前記基準水位まで貯留されている水と廃水とが混合される。処理槽21に供給される廃水の量は、水と廃水との混合液の液面が前記基準水位から前記中間水位に達する程度の量(本実施形態では5リットル)である。制御部100は、液面レベルセンサー34からのセンサー信号に基づいて、前記混合液の液面が前記中間水位に到達したと判定すると、電動弁81Bを閉位置に戻し、供給ポンプ81Cを停止して、廃水の供給を停止する。 In the next step S17, the control unit 100 controls the electric valve 81B to operate the electric valve 81B from the closed position to the open position, and also drives the supply pump 81C. As a result, wastewater is supplied from the wastewater tank 81 to the treatment tank 21. At this time, the water stored up to the reference water level and the wastewater are mixed. The amount of wastewater supplied to the treatment tank 21 is such that the liquid level of the mixed solution of water and wastewater reaches the intermediate water level from the reference water level (5 liters in the present embodiment). When the control unit 100 determines that the liquid level of the mixed liquid has reached the intermediate water level based on the sensor signal from the liquid level sensor 34, the control unit 100 returns the electric valve 81B to the closed position and stops the supply pump 81C. And stop the supply of wastewater.

なお、ステップS17における廃水の供給量は、前記混合液の全量が前記上限水位を超えないように、ステップS15の一次加熱蒸発処理によって水が減少した減少量(本実施形態では10リットル)よりも少ない量に定められている。もちろん、前記混合液の全量が前記上限水位を超えなければ、廃水の供給量は、前記減少量と同量であってもよい。 The amount of wastewater supplied in step S17 is larger than the amount of decrease in water (10 liters in the present embodiment) obtained by the primary heat evaporation treatment in step S15 so that the total amount of the mixed solution does not exceed the upper limit water level. It is set to a small amount. Of course, the amount of wastewater supplied may be the same as the amount of decrease as long as the total amount of the mixed solution does not exceed the upper limit water level.

その後、制御部100は、ステップS18において、上述のステップS15の一次加熱蒸発処理と同じ内容の二次加熱蒸発処理を実行する。前記二次加熱蒸発処理は、本発明の第2加熱工程である。 After that, in step S18, the control unit 100 executes the secondary heat evaporation treatment having the same contents as the primary heat evaporation treatment of step S15 described above. The secondary heating / evaporation treatment is the second heating step of the present invention.

ステップS18の二次加熱蒸発処理が行われることにより、前記混合液が加熱されると、混合液に含まれる水が蒸気となって連結ダクト14に流入する。また、水と沸点がほとんど同じ1,4−ジオキサンも蒸気となって連結ダクト14に流入する。また、廃水にVOCが含まれている場合も、そのVOCが蒸気(VOCガス)となって連結ダクト14に流入する。その後、これらの蒸気は筐体41に流入する。筐体41に流入した気体は、第2加熱器23によって350℃まで加熱され、酸化触媒43を通る際に酸化触媒43との酸化反応によって水蒸気と二酸化炭素に分解される。このように、ステップS18では、酸化触媒43に気体を供給させて気体に含まれる1,4−ジオキサンやVOCガスを酸化して分解する処理が行われるとともに、混合液を濃縮する処理が行われる。 When the mixed liquid is heated by performing the secondary heating evaporation treatment in step S18, the water contained in the mixed liquid becomes steam and flows into the connecting duct 14. In addition, 1,4-dioxane, which has almost the same boiling point as water, also flows into the connecting duct 14 as steam. Further, even when the wastewater contains VOC, the VOC becomes steam (VOC gas) and flows into the connecting duct 14. After that, these vapors flow into the housing 41. The gas flowing into the housing 41 is heated to 350 ° C. by the second heater 23, and when it passes through the oxidation catalyst 43, it is decomposed into water vapor and carbon dioxide by an oxidation reaction with the oxidation catalyst 43. As described above, in step S18, a process of supplying a gas to the oxidation catalyst 43 to oxidize and decompose 1,4-dioxane and VOC gas contained in the gas is performed, and a process of concentrating the mixed solution is performed. ..

酸化触媒43における酸化反応に伴い発生する熱によって、酸化触媒43周辺の気体が約400℃〜450℃に昇温される。すなわち、酸化触媒43を通過した気体の温度は、触媒入口温度(例えば350℃)から50℃〜100℃だけ温度上昇する。この状態で、排気ダクト44から気体が外部に排出される。なお、400℃〜450℃という高温の状態で気体が排出されるのではなく、排気ブロアー(不図示)によって排気ダクト44内に送風された空気によって希釈されつつ冷却されてから大気に排出される。 The heat generated by the oxidation reaction in the oxidation catalyst 43 raises the temperature of the gas around the oxidation catalyst 43 to about 400 ° C. to 450 ° C. That is, the temperature of the gas that has passed through the oxidation catalyst 43 rises by 50 ° C. to 100 ° C. from the catalyst inlet temperature (for example, 350 ° C.). In this state, the gas is discharged to the outside from the exhaust duct 44. The gas is not discharged at a high temperature of 400 ° C. to 450 ° C., but is cooled while being diluted by the air blown into the exhaust duct 44 by an exhaust blower (not shown) and then discharged to the atmosphere. ..

本実施形態では、後述するように、ステップS17〜S21の手順が繰り返し行われることによって、処理槽21内の前記混合液における1,4−ジオキサンの濃度が予め定められた目標濃度値以下になるまで前記混合液に対する蒸発、分解、濃縮を繰り返し行う。 In the present embodiment, as will be described later, by repeating the steps S17 to S21, the concentration of 1,4-dioxane in the mixed solution in the treatment tank 21 becomes equal to or less than a predetermined target concentration value. Evaporation, decomposition, and concentration of the mixed solution are repeated until.

具体的には、制御部100は、次のステップS19において、処理槽21の前記混合液が前記基準水位まで減少したかどうかを判定する。この判定処理は、液面レベルセンサー34からのセンサー信号に基づいて行われる。制御部100は、前記混合液の液面が前記基準水位まで減少したと判定すると(S19のYES)、前記二次加熱蒸発処理を行った処理回数(濃縮回数)をカウントアップして、RAM103に記憶する(S20)。 Specifically, in the next step S19, the control unit 100 determines whether or not the mixed solution in the treatment tank 21 has decreased to the reference water level. This determination process is performed based on the sensor signal from the liquid level sensor 34. When the control unit 100 determines that the liquid level of the mixed solution has decreased to the reference water level (YES in S19), the control unit 100 counts up the number of processes (concentration frequency) in which the secondary heat evaporation process is performed, and causes the RAM 103. Remember (S20).

次のステップS21では、制御部100は、カウントアップした処理回数が予め定められた設定回数であるか否かを判定する。本実施形態では、前記設定回数が2000回に設定されている。本実施形態の構成では、前記設定回数は、2000回〜4000回の範囲内で定めることが好ましい。なお、この設定回数の設定値は任意であり、廃水における水の含有率や処理槽21の容積、加熱される廃水の設定温度(本実施形態では、例えば105℃)などに応じて定められる。ステップS21において処理回数が前記設定回数未満であると判定されると、制御部100は、ステップS17に戻り、ステップS17以降の各手順の処理を繰り返す。本実施形態では、上述したように、前記基準水位は液量が90リットルの水位であり、前記中間水位は液量が95リットルの水位である。つまり、前記基準水位から前記中間水位までの容量は5リットルである。したがって、ステップS17〜S21の各手順の処理は、処理槽21内の前記混合液に含まれる水及び1,4−ジオキサンが蒸発して、前記混合液が5リットル減少する度に繰り返し行われる。一方、ステップS21において処理回数が前記設定回数であると判定されると、制御部100は、ステップS25に進む。 In the next step S21, the control unit 100 determines whether or not the count-up processing number is a predetermined set number. In the present embodiment, the number of times of setting is set to 2000 times. In the configuration of the present embodiment, the number of times of setting is preferably set within the range of 2000 times to 4000 times. The set value of the set number of times is arbitrary, and is determined according to the water content in the wastewater, the volume of the treatment tank 21, the set temperature of the wastewater to be heated (for example, 105 ° C. in this embodiment), and the like. If it is determined in step S21 that the number of processes is less than the set number of times, the control unit 100 returns to step S17 and repeats the processes of each procedure after step S17. In the present embodiment, as described above, the reference water level is a water level having a liquid volume of 90 liters, and the intermediate water level is a water level having a liquid volume of 95 liters. That is, the capacity from the reference water level to the intermediate water level is 5 liters. Therefore, the treatment of each procedure of steps S17 to S21 is repeated every time the water and 1,4-dioxane contained in the mixed liquid in the treatment tank 21 evaporate and the mixed liquid is reduced by 5 liters. On the other hand, if it is determined in step S21 that the number of processes is the set number of times, the control unit 100 proceeds to step S25.

ステップS25では、制御部100は、排出ポンプ29を駆動させ、また、排水管84に設けられた電動弁84Aを開けて、処理槽21に貯留されている濃縮後の濃縮水(前記混合液が濃縮されたもの)を外部タンク82に排出する。これにより、排出ポンプ29によって、前記濃縮水が処理槽21から排水管84及び排水管85を通って外部タンク82に流入する。そして、前記濃縮水の排出後に、電動弁84Aを閉位置に戻し、排出ポンプ29を停止させた後に、再びステップS11以降の各手順の処理を実行する。 In step S25, the control unit 100 drives the discharge pump 29, opens the electric valve 84A provided in the drain pipe 84, and concentrates the concentrated water stored in the treatment tank 21 (the mixed solution is prepared. The concentrated product) is discharged to the external tank 82. As a result, the concentrated water flows from the treatment tank 21 into the external tank 82 through the drain pipe 84 and the drain pipe 85 by the discharge pump 29. Then, after the concentrated water is discharged, the electric valve 84A is returned to the closed position, the discharge pump 29 is stopped, and then the processes of each procedure after step S11 are executed again.

以上説明したように、上述の実施形態の廃水処理装置10においては、前記クリーニング加熱処理が行われることによって、濃縮加熱処理中に酸化触媒43に付着した前記難分解性の物質などの付着物が水蒸気の蒸気流によって剥がし落とされるようにして洗浄される。その結果、前記難分解性の物質が前記酸化触媒に付着したことに起因する酸化反応の鈍化が防止され、1,4−ジオキサンなどの有害物質の分解性能を回復させることが可能になる。 As described above, in the wastewater treatment apparatus 10 of the above-described embodiment, by performing the cleaning heat treatment, deposits such as the persistent substance adhering to the oxidation catalyst 43 during the concentrated heat treatment are removed. It is washed so that it can be peeled off by the steam flow of steam. As a result, the slowdown of the oxidation reaction caused by the adhesion of the persistent substance to the oxidation catalyst is prevented, and the decomposition performance of harmful substances such as 1,4-dioxane can be restored.

10:廃水処理装置
11:廃水濃縮装置
12:分解処理装置
21:処理槽
22:第1加熱部
23:第2加熱部
24:送気ブロアー
27:消泡剤供給部
28:給水部
29:排出ポンプ
30:制御盤
43:酸化触媒
44:排気ダクト
46:温度センサー
47:温度センサー
10: Wastewater treatment device 11: Wastewater concentrator 12: Decomposition treatment device 21: Treatment tank 22: First heating unit 23: Second heating unit 24: Air supply blower 27: Defoamer supply unit 28: Water supply unit 29: Discharge Pump 30: Control panel 43: Oxidation catalyst 44: Exhaust duct 46: Temperature sensor 47: Temperature sensor

Claims (8)

貯留槽に貯留された酸化反応による分解が困難な難分解性の物質及び酸化反応により分解可能な物質を含む廃水を加熱することにより前記廃水に含まれる水分を蒸発させて前記廃水を濃縮させる廃水処理装置であって、
前記貯留槽に貯留された液体を加熱する第1加熱部と、
前記貯留槽から外部へ気体を案内するダクト部と、
前記ダクト部における前記気体の案内経路に設けられた酸化触媒と、
前記貯留槽に工業用水を供給する給水部と、
濃縮された濃縮水が前記貯留槽から排出された状態で前記貯留槽に一定量の前記工業用水を貯留させるように前記給水部を制御し、前記貯留槽内の前記工業用水を加熱して前記酸化触媒をクリーニングするための水蒸気を生じさせるように前記第1加熱部を制御するクリーニング制御部と、を備えることを特徴とする廃水処理装置。
Wastewater that evaporates the water contained in the wastewater and concentrates the wastewater by heating the wastewater that contains persistent substances that are difficult to decompose by the oxidation reaction and substances that can be decomposed by the oxidation reaction stored in the storage tank. It ’s a processing device,
A first heating unit that heats the liquid stored in the water tank,
A duct portion that guides gas from the storage tank to the outside,
An oxidation catalyst provided in the gas guide path in the duct portion and
A water supply unit for supplying industrial water to the reservoir,
The so concentrated concentrated water to store a certain amount of the industrial water to the storage tank in a state of being discharged from the storage tank water supply unit to control, by heating the industrial water in the storage tank A wastewater treatment apparatus comprising: a cleaning control unit that controls the first heating unit so as to generate water vapor for cleaning the oxidation catalyst.
前記貯留槽から前記酸化触媒までの前記ダクト部内に設けられ、前記ダクト部内の前記蒸気を加熱する第2加熱部を更に備え、
前記クリーニング制御部は、前記工業用水から生じた前記水蒸気が前記酸化触媒のクリーニングに必要な予め定められた温度まで上昇するように前記第2加熱部を制御する請求項1に記載の廃水処理装置。
A second heating unit provided in the duct portion from the storage tank to the oxidation catalyst and for heating the steam in the duct portion is further provided.
The wastewater treatment apparatus according to claim 1, wherein the cleaning control unit controls the second heating unit so that the water vapor generated from the industrial water rises to a predetermined temperature required for cleaning the oxidation catalyst. ..
前記貯留槽で前記工業用水から生じた前記水蒸気を前記ダクト部を通じて外部へ送出する送風機を更に備え、
前記クリーニング制御部は、前記酸化触媒のクリーニング時に前記送風機を駆動するように制御する請求項1又は2に記載の廃水処理装置。
Further provided with a blower for sending the steam generated from the industrial water in the storage tank to the outside through the duct portion.
The wastewater treatment device according to claim 1 or 2, wherein the cleaning control unit controls to drive the blower when cleaning the oxidation catalyst.
前記貯留槽に前記廃水を供給する廃水供給部と、
前記貯留槽における前記工業用水の水位が予め定められた基準水位まで減少した場合に、前記工業用水の減少量と同量又は前記減少量よりも少ない量の前記廃水を前記貯留槽に供給するように前記廃水供給部を制御し、前記貯留槽内における前記工業用水と前記廃水との混合液を加熱して当該混合液を濃縮させるように前記第1加熱部を制御する濃縮加熱制御部と、を更に備える請求項1から3のいずれかに記載の廃水処理装置。
A wastewater supply unit that supplies the wastewater to the storage tank,
When the water level of the industrial water in the reservoir is reduced to the reference level to a predetermined, supplying the waste water decreased the same amount or the decrease amount smaller amount than the industrial water to the reservoir controlling the waste water supply unit so as to, concentrated heating control for controlling the first heating portion so as to concentrate the heat to the mixed solution a mixed solution of the waste water and the industrial water in the storage tank The wastewater treatment apparatus according to any one of claims 1 to 3, further comprising a unit.
前記基準水位は、前記工業用水から生じた前記水蒸気による前記参加触媒のクリーニングが完了したか否かの判断に用いられる水位である、請求項4に記載の廃水処理装置。The wastewater treatment apparatus according to claim 4, wherein the reference water level is a water level used for determining whether or not cleaning of the participating catalyst by the steam generated from the industrial water is completed. 貯留槽に貯留された酸化反応による分解が困難な難分解性の物質及び酸化反応により分解可能な物質を含む廃水を加熱することにより前記廃水に含まれる水分を蒸発させて前記廃水を濃縮させる廃水処理装置に適用され、前記廃水処理装置のダクト部に設けられた酸化触媒をクリーニングする触媒クリーニング方法であって、
濃縮された濃縮水が前記貯留槽から排出された状態で前記貯留槽に一定量の工業用水を貯留させる給水工程と、
前記給水工程によって前記貯留槽に貯留された前記工業用水を加熱して前記酸化触媒をクリーニングするための水蒸気を生じさせる第1加熱工程と、を含むことを特徴とする触媒クリーニング方法。
Wastewater that evaporates the water contained in the wastewater and concentrates the wastewater by heating the wastewater that contains persistent substances that are difficult to decompose by the oxidation reaction and substances that can be decomposed by the oxidation reaction stored in the storage tank. A catalyst cleaning method that is applied to a treatment device and cleans an oxidation catalyst provided in a duct portion of the wastewater treatment device.
A water supply step of storing a certain amount of industrial water to the storage tank in a state of concentrated concentrated water is discharged from the reservoir,
Catalyst cleaning method characterized in that it comprises a a first heating step to produce steam for cleaning the oxidation catalyst by heating the industrial water stored in the reservoir by the water supply step.
前記第1加熱工程によって前記工業用水から生じた前記水蒸気が前記酸化触媒のクリーニングに必要な予め定められた温度まで上昇するように前記ダクト部内で前記水蒸気を加熱する第2加熱工程と、を更に含む請求項に記載の触媒クリーニング方法。 Further, a second heating step of heating the steam in the duct portion so that the steam generated from the industrial water by the first heating step rises to a predetermined temperature required for cleaning the oxidation catalyst. The catalyst cleaning method according to claim 6, which includes. 前記第1加熱工程によって前記工業用水から生じた前記水蒸気を前記酸化触媒へ向けて送風する送風工程と、を更に含む請求項又はに記載の触媒クリーニング方法。 The catalyst cleaning method according to claim 6 or 7 , further comprising a blowing step of blowing the steam generated from the industrial water by the first heating step toward the oxidation catalyst.
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