JP6843594B2

JP6843594B2 - Electrophoresis display device and electronic equipment

Info

Publication number: JP6843594B2
Application number: JP2016222953A
Authority: JP
Inventors: 松本　晃; 晃松本; 守谷　壮一; 壮一守谷
Original assignee: イーインクコーポレイション
Priority date: 2016-11-16
Filing date: 2016-11-16
Publication date: 2021-03-17
Anticipated expiration: 2036-11-16
Also published as: JP2018081190A

Description

本発明は、電気泳動表示装置および電子機器に関する。 The present invention relates to an electrophoresis display device and an electronic device.

近年、電源を切っても画像を保持できるメモリー性を有する表示パネルが開発され、電
子時計等にも使用されている。メモリー性を有する表示パネルとしては、ＥＰＤ（Ｅｌｅ
ｃｔｒｏｐｈｏｒｅｔｉｃＤｉｓｐｌａｙ）すなわち電気泳動表示装置や、メモリー性
液晶表示装置等が知られている。電気泳動表示装置としては、特許文献１のように、対向
基板と素子基板と隔壁とによって区画された領域（以下、セル領域と呼ぶ）内に濃色の帯
電粒子を封入した構造のものが知られている。 In recent years, display panels having a memory property that can retain images even when the power is turned off have been developed and are also used in electronic clocks and the like. As a display panel with memory, EPD (Ele)
cryptographic Display), that is, an electrophoresis display device, a memory-type liquid crystal display device, and the like are known. As the electrophoresis display device, as in Patent Document 1, a device having a structure in which dark-colored charged particles are enclosed in a region (hereinafter referred to as a cell region) partitioned by a facing substrate, an element substrate, and a partition wall is known. Has been done.

特開２０１５−７５５１７号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-75517

特許文献１では、対向基板と隔壁との間に設けられた封止膜がセル領域内で凹凸を有し
ている構成が開示されている。この構成では、セル領域の隔壁近傍における封止膜の膜厚
よりも、セル領域の中央部での封止膜の膜厚が厚くなっている。この構成においてセル領
域に駆動電圧を印加した場合、セル領域の中央の電界強度がセル領域の隔壁近傍における
電界強度よりも強くなりやすい。このとき、セル領域内の電界強度に応じて電気泳動粒子
がセル領域の中央の封止膜に強く固着するため、表示を切り替える際、セル領域の隔壁近
傍にある電気泳動粒子は封止膜から剥がれ易く、セル領域の中央部側にある電気泳動粒子
は封止膜から剥がれ難い。その結果として、電気泳動表示装置の応答速度が低下する課題
があった。 Patent Document 1 discloses a configuration in which the sealing film provided between the facing substrate and the partition wall has irregularities in the cell region. In this configuration, the film thickness of the sealing film in the central portion of the cell region is thicker than the film thickness of the sealing film in the vicinity of the partition wall of the cell region. When a driving voltage is applied to the cell region in this configuration, the electric field strength in the center of the cell region tends to be stronger than the electric field strength in the vicinity of the partition wall of the cell region. At this time, the electrophoretic particles are strongly adhered to the sealing film in the center of the cell region according to the electric field strength in the cell region. Therefore, when switching the display, the electrophoretic particles in the vicinity of the partition wall of the cell region are released from the sealing membrane. It is easy to peel off, and the electrophoretic particles on the central side of the cell region are hard to peel off from the sealing membrane. As a result, there is a problem that the response speed of the electrophoresis display device is lowered.

本発明の一つの態様は、上記の課題を解決するためになされたものであって、応答速度
を向上することができる電気泳動表示装置とこの電気泳動表示装置を備えた電子機器を提
供することを目的とする。 One aspect of the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and provides an electrophoresis display device capable of improving a response speed and an electronic device provided with the electrophoresis display device. With the goal.

［適用例１］本適用例に係る電気泳動表示装置は、共通電極が設けられた第１基板と、
前記共通電極側に対向して配置された第２基板と、前記第２基板の前記第１基板側に設け
られた画素電極と、前記第２基板の前記第１基板側に設けられ、前記画素電極を囲む隔壁
と、前記第１基板と前記第２基板との間において前記隔壁によって囲まれたセル領域内に
配置され、電気泳動粒子が分散された分散媒を有する電気泳動層と、前記隔壁と前記共通
電極との間に介在し、前記セル領域にわたって設けられた封止層と、前記画素電極の前記
電気泳動層側に設けられた絶縁層と、を備え、前記セル領域において、前記封止層のうち
前記セル領域の周縁側に位置する部分の厚みよりも、前記セル領域の中央側に位置する部
分の厚みの方が厚く、前記絶縁層のうち前記セル領域の周縁側に位置する部分の厚みより
も、前記セル領域の中央側に位置する部分の厚みの方が厚い、ことを特徴とする。 [Application Example 1] The electrophoresis display device according to this application example includes a first substrate provided with a common electrode and
A second substrate arranged to face the common electrode side, a pixel electrode provided on the first substrate side of the second substrate, and a pixel provided on the first substrate side of the second substrate. An electrophoretic layer having a partition medium surrounding an electrode, an electrophoretic layer arranged in a cell region surrounded by the partition wall between the first substrate and the second substrate, and a dispersion medium in which electrophoretic particles are dispersed, and the partition wall. A sealing layer provided over the cell region and an insulating layer provided on the electrophoresis layer side of the pixel electrode are provided between the cell region and the common electrode, and the sealing layer is provided in the cell region. The thickness of the portion of the stop layer located on the peripheral side of the cell region is thicker than the thickness of the portion located on the peripheral side of the cell region, and is located on the peripheral side of the cell region of the insulating layer. The thickness of the portion located on the central side of the cell region is thicker than the thickness of the portion.

本適用例によれば、セル領域にわたって設けられた封止層が、隔壁と共通電極との間に
介在している。この構成では、封止層のうちセル領域の周縁側に位置する部分の厚みより
も、セル領域の中央側に位置する部分の厚みの方が厚くなる。このため、セル領域におい
て封止層と画素電極との間の距離が、セル領域の周縁側とセル領域の中央側とで異なる。
つまり、封止層と画素電極との間の距離は、セル領域の周縁側に比較してセル領域の中央
側において短くなる。これにより、封止層と画素電極との間に発生する電界の強度は、セ
ル領域の周縁側と比較してセル領域の中央側が高くなる。しかしながら、本適用例では、
画素電極の電気泳動層側に設けられた絶縁層のうちセル領域の中央側に位置する部分の厚
みが、セル領域の周縁側に位置する部分の厚みよりも厚い。この結果、セル領域内におい
て、封止層と絶縁層との間に発生する電界の強弱の差を軽減することができる。このため
、電気泳動表示装置において、表示を切り替えるときに、すなわち共通電極や画素電極の
電位を変化させたときに、電気泳動粒子を速やかに移動させやすい。よって、電気泳動表
示装置の応答速度を向上させることができる。 According to this application example, a sealing layer provided over the cell region is interposed between the partition wall and the common electrode. In this configuration, the thickness of the portion of the sealing layer located on the peripheral side of the cell region is thicker than the thickness of the portion located on the central side of the cell region. Therefore, the distance between the sealing layer and the pixel electrode in the cell region differs between the peripheral side of the cell region and the central side of the cell region.
That is, the distance between the sealing layer and the pixel electrode is shorter on the central side of the cell region than on the peripheral side of the cell region. As a result, the strength of the electric field generated between the sealing layer and the pixel electrode is higher on the central side of the cell region than on the peripheral side of the cell region. However, in this application example,
The thickness of the portion of the insulating layer provided on the electrophoresis layer side of the pixel electrode located on the central side of the cell region is thicker than the thickness of the portion located on the peripheral side of the cell region. As a result, it is possible to reduce the difference in the strength of the electric field generated between the sealing layer and the insulating layer in the cell region. Therefore, in the electrophoresis display device, when the display is switched, that is, when the potentials of the common electrode and the pixel electrode are changed, the electrophoresis particles can be easily moved quickly. Therefore, the response speed of the electrophoresis display device can be improved.

［適用例２］上記適用例に記載の電気泳動表示装置は、前記第１基板側から前記第２基
板に向かう向きに前記第２基板を平面視したときに、前記画素電極が前記絶縁層で覆われ
ていることが好ましい。 [Application Example 2] In the electrophoresis display device according to the above application example, when the second substrate is viewed in a plan view from the first substrate side toward the second substrate, the pixel electrodes are formed on the insulating layer. It is preferably covered.

本適用例によれば、画素電極を絶縁層で保護することができる。 According to this application example, the pixel electrode can be protected by an insulating layer.

［適用例３］上記適用例に記載の電気泳動表示装置は、前記隔壁と、前記絶縁層とが一
体で形成されていることが好ましい。 [Application Example 3] In the electrophoresis display device described in the above application example, it is preferable that the partition wall and the insulating layer are integrally formed.

本適用例によれば、隔壁と絶縁層が一体で形成されているため、隔壁の材料と絶縁層の
材料とを統一することができる。 According to this application example, since the partition wall and the insulating layer are integrally formed, the material of the partition wall and the material of the insulating layer can be unified.

［適用例４］本適用例に係る電子機器は、上記適用例に記載の電気泳動表示装置を備え
ることを特徴とする。 [Application Example 4] The electronic device according to the present application example is characterized by including the electrophoresis display device described in the above application example.

本適用例によれば、応答速度が優れた電気泳動表示装置を備えた電子機器が提供できる
。 According to this application example, it is possible to provide an electronic device provided with an electrophoresis display device having an excellent response speed.

電気泳動表示装置が搭載された電子機器の一例である電子ブックを示す斜視図。The perspective view which shows the electronic book which is an example of the electronic device equipped with the electrophoresis display device. 電気泳動表示装置の一部を示す模式平面図。Schematic plan view showing a part of an electrophoresis display device. 図２に示す電気泳動表示装置のＡ−Ａ‘線に沿う模式断面図。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along the line AA'of the electrophoresis display device shown in FIG. 電気泳動表示装置の製造方法を工程順に示すフローチャート図。The flowchart which shows the manufacturing method of the electrophoresis display apparatus in process order. 電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。The schematic cross-sectional view explaining the manufacturing process of the electrophoresis display apparatus. 電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。The schematic cross-sectional view explaining the manufacturing process of the electrophoresis display apparatus. 電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。The schematic cross-sectional view explaining the manufacturing process of the electrophoresis display apparatus. 電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。The schematic cross-sectional view explaining the manufacturing process of the electrophoresis display apparatus. 電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。The schematic cross-sectional view explaining the manufacturing process of the electrophoresis display apparatus. 電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。The schematic cross-sectional view explaining the manufacturing process of the electrophoresis display apparatus. 電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。The schematic cross-sectional view explaining the manufacturing process of the electrophoresis display apparatus. 電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。The schematic cross-sectional view explaining the manufacturing process of the electrophoresis display apparatus. 第２実施形態に係る電気泳動表示装置Ａ−Ａ‘線に沿う模式断面図断面図。Schematic cross-sectional view taken along the line AA'of the electrophoresis display device according to the second embodiment. 第３実施形態に係る電気泳動表示装置Ａ−Ａ‘線に沿う模式断面図断面図。Schematic cross-sectional view taken along the line AA'of the electrophoresis display device according to the third embodiment. 電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。The schematic cross-sectional view explaining the manufacturing process of the electrophoresis display apparatus. 電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。The schematic cross-sectional view explaining the manufacturing process of the electrophoresis display apparatus. 電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。The schematic cross-sectional view explaining the manufacturing process of the electrophoresis display apparatus. 第４実施形態にかかる電気泳動表示装置の一部を示す模式平面図。FIG. 6 is a schematic plan view showing a part of the electrophoresis display device according to the fourth embodiment. 図１８に示す電気泳動表示装置のＢ−Ｂ‘線に沿う模式断面図。FIG. 8 is a schematic cross-sectional view taken along the line BB'of the electrophoresis display device shown in FIG. 電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。The schematic cross-sectional view explaining the manufacturing process of the electrophoresis display apparatus. 電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。The schematic cross-sectional view explaining the manufacturing process of the electrophoresis display apparatus. 第５実施形態に係る図１８に示す電気泳動表示装置のＢ−Ｂ‘線に沿う模式断面図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view taken along the line BB'of the electrophoresis display device shown in FIG. 18 according to the fifth embodiment. 第６実施形態に係る図１８に示す電気泳動表示装置のＢ−Ｂ‘線に沿う模式断面図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view taken along the line BB'of the electrophoresis display device shown in FIG. 18 according to the sixth embodiment. 電子機器の一例である腕時計を示す斜視図。The perspective view which shows the wristwatch which is an example of an electronic device. 電子機器の一例である電子ペーパーを示す斜視図。The perspective view which shows the electronic paper which is an example of an electronic device.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図におい
ては、各層や各部材を認識可能な程度の大きさにするため、各層や各部材の尺度を実際と
は異ならせしめている。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In each of the following figures, the scale of each layer and each member is different from the actual scale in order to make each layer and each member recognizable in size.

＜電気泳動表示装置＞
（第１実施形態）
まず、本発明の第１実施形態に係る電気泳動表示装置について、図１〜図３を参照して
説明する。
図１は、電気泳動表示装置が搭載された電子機器の一例である電子ブック１００を示す
斜視図である。以下、電子ブック１００の構成を、図１を参照しながら説明する。 <Electrophoresis display device>
(First Embodiment)
First, the electrophoresis display device according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3.
FIG. 1 is a perspective view showing an electronic book 100 which is an example of an electronic device equipped with an electrophoresis display device. Hereinafter, the configuration of the electronic book 100 will be described with reference to FIG.

図１に示すように電子ブック１００は、電気泳動表示装置１０と電子ブック１００を操
作するためのインターフェイスとを備えている。インターフェイスとは、具体的には操作
部１０１でスイッチなどから構成されている。 As shown in FIG. 1, the electronic book 100 includes an electrophoresis display device 10 and an interface for operating the electronic book 100. Specifically, the interface is an operation unit 101 composed of a switch or the like.

電気泳動表示装置１０は表示領域Ｅを有するディスプレイモジュールである。表示領域
Ｅは複数の画素から成り、これら画素が電気的に制御されることで表示領域Ｅに画像が表
示される。 The electrophoresis display device 10 is a display module having a display area E. The display area E is composed of a plurality of pixels, and an image is displayed in the display area E by electrically controlling these pixels.

＜電気泳動表示装置の構造＞
図２は、電気泳動表示装置１０の一部を示す模式平面図である。図３は、図２に示す電
気泳動表示装置１０のＡ−Ａ‘線に沿う模式断面図である。以下、電気泳動表示装置１０
の構造を図２および図３を参照しながら説明する。 <Structure of electrophoresis display device>
FIG. 2 is a schematic plan view showing a part of the electrophoresis display device 10. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken along the line AA'of the electrophoresis display device 10 shown in FIG. Hereinafter, the electrophoresis display device 10
The structure of the above will be described with reference to FIGS. 2 and 3.

電気泳動表示装置１０は、図２に示すように、複数の画素１１を有している。画素１１
は、電気泳動表示装置１０における表示の最小単位である。また、電気泳動表示装置１０
は、複数のセル領域３６を有している。セル領域３６は、隔壁３５によって囲まれた領域
である。隔壁３５については、詳細を後述する。本実施形態では、１つのセル領域３６内
に、１つの画素１１が配置されている。 As shown in FIG. 2, the electrophoresis display device 10 has a plurality of pixels 11. Pixel 11
Is the minimum unit of display in the electrophoresis display device 10. In addition, the electrophoresis display device 10
Has a plurality of cell areas 36. The cell region 36 is an region surrounded by the partition wall 35. The details of the partition wall 35 will be described later. In the present embodiment, one pixel 11 is arranged in one cell area 36.

電気泳動表示装置１０は、図３に示すように、対向基板１と、素子基板２と、隔壁３５
と、電気泳動層３１と、を備えている。対向基板１と素子基板２とは、互いに対向して配
置されている。対向基板１は、第１基板３と、共通電極５と、封止層６と、を有している
。素子基板２は、第２基板４と、素子層７と、画素電極８と、絶縁層９と、隔壁３５と、
を有している。なお、素子層７は、図示しない走査線や、データ線、ＴＦＴを含む。共通
電極５は、第１基板３のうち素子基板２側に向いた面に設けられている。封止層６は、共
通電極５の第１基板３側と反対側に設けられている。第２基板４は、対向基板１の共通電
極５側に対向して配置されている。素子層７は、第２基板４の対向基板１側に設けられて
いる。画素電極８は、素子層７の第２基板４側と反対側に設けられている。隔壁３５は、
素子層７の第２基板側と反対側に設けられている。絶縁層９は、画素電極８の素子層７側
と反対側に設けられている。隔壁３５は、素子基板２から対向基板１側に向かって突出し
て設けられている。対向基板１から素子基板２に向かう向きに素子基板２を平面視したと
き、隔壁３５は、格子状（升目状）に形成されている。格子状に形成された隔壁３５によ
って囲まれた升目がセル領域３６である。電気泳動層３１は、対向基板１と素子基板２と
の間に配置されている。電気泳動層３１は、セル領域３６内に配置されている。 As shown in FIG. 3, the electrophoresis display device 10 includes a facing substrate 1, an element substrate 2, and a partition wall 35.
And an electrophoresis layer 31. The facing substrate 1 and the element substrate 2 are arranged so as to face each other. The facing substrate 1 has a first substrate 3, a common electrode 5, and a sealing layer 6. The element substrate 2 includes a second substrate 4, an element layer 7, a pixel electrode 8, an insulating layer 9, a partition wall 35, and the like.
have. The element layer 7 includes scanning lines (not shown), data lines, and TFTs. The common electrode 5 is provided on the surface of the first substrate 3 facing the element substrate 2. The sealing layer 6 is provided on the side opposite to the first substrate 3 side of the common electrode 5. The second substrate 4 is arranged so as to face the common electrode 5 side of the opposing substrate 1. The element layer 7 is provided on the opposite substrate 1 side of the second substrate 4. The pixel electrode 8 is provided on the side of the element layer 7 opposite to the second substrate 4 side. The partition wall 35
The element layer 7 is provided on the side opposite to the second substrate side. The insulating layer 9 is provided on the side opposite to the element layer 7 side of the pixel electrode 8. The partition wall 35 is provided so as to project from the element substrate 2 toward the facing substrate 1. When the element substrate 2 is viewed in a plan view from the facing substrate 1 toward the element substrate 2, the partition walls 35 are formed in a grid shape (square shape). The squares surrounded by the partition walls 35 formed in a grid pattern are the cell regions 36. The electrophoresis layer 31 is arranged between the facing substrate 1 and the element substrate 2. The electrophoresis layer 31 is arranged in the cell region 36.

第１基板３は、ガラスやプラスチック等の透明基材から構成され、画像表示側、すなわ
ちユーザーによって視認される側に配置される。対向基板１の電気泳動層３１側には素子
基板２に設けられた複数の画素電極８と対向する平面形状の共通電極５が形成されている
。共通電極５は、複数のセル領域３６をまたいで一連して設けられている。共通電極５は
、ＭｇＡｇ、ＩＴＯ、ＩＺＯ（インジウム・亜鉛酸化物）等から形成された透明電極であ
る。 The first substrate 3 is made of a transparent base material such as glass or plastic, and is arranged on the image display side, that is, the side visually recognized by the user. On the electrophoresis layer 31 side of the facing substrate 1, a plane-shaped common electrode 5 facing the plurality of pixel electrodes 8 provided on the element substrate 2 is formed. The common electrode 5 is provided in series across the plurality of cell regions 36. The common electrode 5 is a transparent electrode formed of MgAg, ITO, IZO (indium / zinc oxide) or the like.

素子基板２は、電気泳動層３１側に設けられた複数の画素電極８を備えている。素子基
板２の第２基板４は、ガラスやプラスチック等からなる基板であり、画像表示面とは反対
側に配置されるため透明なものでなくてもよい。画素電極８は、画素１１ごとに設けられ
ている。画素１１の領域は、画素電極８と共通電極５とが重なりあう領域である。画素１
１の領域が、電気泳動表示装置１０における表示の最小単位となる。画素電極８は、Ｃｕ
箔上にニッケルめっきと金めっきとをこの順で積層したものや、Ａｌ、ＩＴＯ（インジウ
ム錫酸化物）等により形成された電極である。 The element substrate 2 includes a plurality of pixel electrodes 8 provided on the electrophoresis layer 31 side. The second substrate 4 of the element substrate 2 is a substrate made of glass, plastic, or the like, and is arranged on the side opposite to the image display surface, so that it does not have to be transparent. The pixel electrode 8 is provided for each pixel 11. The region of the pixel 11 is a region where the pixel electrode 8 and the common electrode 5 overlap each other. Pixel 1
The region 1 is the minimum unit of display in the electrophoresis display device 10. The pixel electrode 8 is Cu
Nickel plating and gold plating are laminated on a foil in this order, or an electrode formed of Al, ITO (indium tin oxide) or the like.

絶縁層９は、画素電極８の電気泳動層３１側に設けられている。絶縁層９の材料は絶縁
性があり電気泳動層３１に影響を及ぼさず成形しやすい材料であれば特に限定されず、ガ
ラス、樹脂、酸化シリコンや窒化シリコンを用いることができる。本実施形態では、絶縁
層９の材料に、低融点ガラスを用いている。 The insulating layer 9 is provided on the side of the electrophoresis layer 31 of the pixel electrode 8. The material of the insulating layer 9 is not particularly limited as long as it is a material that has insulating properties and is easy to mold without affecting the electrophoresis layer 31, and glass, resin, silicon oxide, or silicon nitride can be used. In this embodiment, low melting point glass is used as the material of the insulating layer 9.

隔壁３５は、セル領域３６を区画する側壁を成すものであり、電気泳動層３１を収容す
る領域を区切るものである。この隔壁３５によって、複数のセル領域３６が区画され、こ
れら複数のセル領域３６の各々に電気泳動層３１が配置されている。隔壁３５は、対向基
板１側の幅と素子基板２の幅がほぼ等しい柱状構造である。しかし、断面構造がそれぞれ
基板側と反対の先端側に向かうにつれて先細るテーパー形状であってもよい。 The partition wall 35 forms a side wall for partitioning the cell region 36, and divides the region for accommodating the electrophoresis layer 31. A plurality of cell regions 36 are partitioned by the partition wall 35, and an electrophoresis layer 31 is arranged in each of the plurality of cell regions 36. The partition wall 35 has a columnar structure in which the width of the facing substrate 1 side and the width of the element substrate 2 are substantially equal to each other. However, the cross-sectional structure may have a tapered shape that tapers toward the tip side opposite to the substrate side.

隔壁３５の平面視による形状（以下、平面形状ともいう。）は、例えば、正方格子状、
六角格子状、または、三角格子状である。隔壁３５の平面形状が正方格子状の場合は、図
２に示すように、セル領域３６の平面形状は正方形である。 The shape of the partition wall 35 in a plan view (hereinafter, also referred to as a plan shape) is, for example, a square grid shape.
It has a hexagonal grid shape or a triangular grid shape. When the planar shape of the partition wall 35 is a square grid shape, the planar shape of the cell region 36 is square as shown in FIG.

隔壁３５を構成する材料としては、電気泳動層３１に溶解しない材質からなり、可撓性
を有するもの、硬質なものの何れであってもよく、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系
樹脂、ウレタン系樹脂、ウレア樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、メラミン系樹
脂、フェノール系樹脂等の各種樹脂材料や、シリカ、アルミナ、チタニア等の各種セラミ
ックス材料が挙げられる。 The material constituting the partition wall 35 may be a material that does not dissolve in the electrophoresis layer 31 and may be flexible or hard. For example, an epoxy resin, an acrylic resin, or a urethane resin. , Various resin materials such as urea resin, polyester resin, silicone resin, melamine resin, phenol resin, and various ceramic materials such as silica, alumina, and titania.

電気泳動層３１は、分散媒３４と、この分散媒３４中に分散された複数の電気泳動粒子
３３と、を含む電気泳動分散液３２で構成される。本実施形態において、電気泳動粒子３
３は、例えば、黒色粒子３３ａおよび白色粒子３３ｂを含む。 The electrophoresis layer 31 is composed of an electrophoresis dispersion liquid 32 containing a dispersion medium 34 and a plurality of electrophoresis particles 33 dispersed in the dispersion medium 34. In this embodiment, the electrophoretic particles 3
3 includes, for example, black particles 33a and white particles 33b.

黒色粒子３３ａは、例えば、アニリンブラック、カーボンブラック等の黒色顔料からな
る粒子（高分子あるいはコロイド）であり、例えば、負に帯電されて用いられる。これら
の顔料には、必要に応じ、電解質、界面活性剤、金属石鹸、樹脂、ゴム、油、ワニス、コ
ンパウンド等の粒子からなる荷電制御剤、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カッ
プリング剤、シラン系カップリング剤等の分散剤、潤滑剤、安定化剤等を添加することが
できる。黒色粒子３３ａの粒径は、例えば３００〜５００ｎｍの範囲内から所望の平均粒
径ものを選択して使用すれば良い。 The black particles 33a are particles (polymer or colloid) made of a black pigment such as aniline black or carbon black, and are used, for example, negatively charged. These pigments include, if necessary, charge control agents consisting of particles such as electrolytes, surfactants, metal soaps, resins, rubbers, oils, varnishes, and compounds, titanium-based coupling agents, aluminum-based coupling agents, and silanes. Dispersants such as system coupling agents, lubricants, stabilizers and the like can be added. As the particle size of the black particles 33a, a desired average particle size may be selected and used, for example, from the range of 300 to 500 nm.

白色粒子３３ｂは、例えば、酸化チタン、亜鉛華、三酸化アンチモン等の白色顔料から
なる粒子（高分子あるいはコロイド）であり、例えば、正に帯電されて用いられる。白色
粒子３１ｂの粒径は、例えば３００〜５００ｎｍの範囲内から所望の平均粒径ものを選択
して使用すれば良い。なお、黒色粒子３３ａおよび白色粒子３３ｂの粒径は、例えば顔料
の平均粒径、あるいは電気泳動粒子３３のブラウン運動範囲の大きさである。 The white particles 33b are particles (polymer or colloid) made of white pigments such as titanium oxide, zinc oxide, and antimony trioxide, and are used, for example, positively charged. As the particle size of the white particles 31b, for example, a desired average particle size may be selected from the range of 300 to 500 nm and used. The particle size of the black particles 33a and the white particles 33b is, for example, the average particle size of the pigment or the size of the Brownian motion range of the electrophoretic particles 33.

分散媒３４としては、例えば、親油性の炭化水素系の溶媒であり、例えば、アイソパー
（登録商標）を含む。すなわち、分散媒３４は、例えば、アイソパーＥ、アイソパーＧ、
アイソパーＨ、アイソパーＬ、アイソパーＭのうちのいずれか１種類を含む液体、若しく
はこれらのうちの２種類以上を混合した液体、あるいは、これらのうちのいずれか１種類
以上と他の種類の炭化水素系の溶媒とを混合した液体である。 The dispersion medium 34 is, for example, a lipophilic hydrocarbon solvent, and includes, for example, Isopar (registered trademark). That is, the dispersion medium 34 is, for example, Isopar E, Isopar G,
A liquid containing any one of Isopar H, Isopar L, and Isopar M, or a liquid in which two or more of these are mixed, or one or more of these and other types of hydrocarbons. It is a liquid mixed with a system solvent.

あるいは、分散媒３４は、例えば、ペンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素
類、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、ベンゼン、トルエン
、キシレン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン
、デシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼン、テト
ラデシルベンゼンのような長鎖アルキル基を有するベンゼン類（アルキルベンゼン誘導体
）等の芳香族炭化水素類、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチル
ピロリドン等の芳香族復素環類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ギ酸エチル等の
エステル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン
、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、アセトニトリル、プロピ
オニトリル、アクリロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド等のアミド類、カルボン酸塩、シリコーンオイルまたはその他の
各種油類等でもよく、これらを単独または混合物として用いることができる。 Alternatively, the dispersion medium 34 is, for example, aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane and octane, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and methylcyclohexane, benzene, toluene, xylene, hexylbenzene, heptylbenzene and octylbenzene. Aromatic hydrocarbons such as benzenes having long-chain alkyl groups (alkylbenzene derivatives) such as nonylbenzene, decylbenzene, undecylbenzene, dodecylbenzene, tridecylbenzene, tetradecylbenzene, pyridine, pyrazine, furan, pyrrole , Aromatic restoration rings such as thiophene and methylpyrrolidone, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate and ethyl formate, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl isopropyl ketone and cyclohexanone. , Benzenes such as acetonitrile, propionitrile, acrylonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N
-Amids such as dimethylacetamide, carboxylates, silicone oils or various other oils may be used, and these may be used alone or as a mixture.

封止層６はセル領域３６内に電気泳動層３１を封止するための膜である。封止層６は、
柔軟性や弾力性を有し、隔壁３５の対向基板１側の端部が、食い込みやすい材料が用いら
れる。封止層６の材料としては例えばＮＢＲ（アクリルニトリル・ブタジエンゴム）であ
る。なお、封止層６の材料としてはウレタン、イソプレン、ブタジエン、クロロプレン、
スチレン・ブタジエンゴムなどを用いるようにしてもよい。また、封止層６としては、こ
れらの材料で構成される層を積層した複数の層を有する構成も採用され得る。 The sealing layer 6 is a film for sealing the electrophoresis layer 31 in the cell region 36. The sealing layer 6 is
A material having flexibility and elasticity and having an end portion of the partition wall 35 on the opposite substrate 1 side easily biting into the partition wall 35 is used. The material of the sealing layer 6 is, for example, NBR (acrylonitrile-butadiene rubber). The material of the sealing layer 6 is urethane, isoprene, butadiene, chloroprene, etc.
Styrene-butadiene rubber or the like may be used. Further, as the sealing layer 6, a configuration having a plurality of layers in which layers composed of these materials are laminated can also be adopted.

＜電気泳動表示装置の製造方法＞
図４は、電気泳動表示装置１０の製造方法を工程順に示すフローチャートである。図５
から図１２は電気泳動表示装置１０の製造方法のうち一部の製造方法示す模式断面図であ
る。以下、電気泳動表示装置１０の製造方法を、図４〜図１２を参照しながら説明する。 <Manufacturing method of electrophoresis display device>
FIG. 4 is a flowchart showing the manufacturing method of the electrophoresis display device 10 in the order of processes. Figure 5
FIG. 12 is a schematic cross-sectional view showing a part of the manufacturing methods of the electrophoresis display device 10. Hereinafter, a method for manufacturing the electrophoresis display device 10 will be described with reference to FIGS. 4 to 12.

電気泳動表示装置１０の製造方法は、図４に示すように、対向基板１を製造する工程と
、素子基板２を製造する工程と、対向基板１と素子基板２とを貼り合わせる工程と、を含
む。対向基板１を製造する工程は、共通電極５を形成する工程（ステップＳ１１）と、封
止層６を形成する工程（ステップＳ１２）と、を含む。素子基板２を製造する工程は、素
子層７及び画素電極８を形成する工程（ステップＳ２１）と、絶縁層９を形成する工程（
ステップＳ２２）と、隔壁３５を形成する工程（ステップＳ２３）と、電気泳動分散液３
２を塗布する工程（ステップＳ２４）と、を含む。対向基板１を製造する工程と、素子基
板２を製造する工程とは、いずれが先でも後でも構わない。また、対向基板１を製造する
工程と、素子基板２を製造する工程とを同時に実施しても構わない。 As shown in FIG. 4, the method for manufacturing the electrophoresis display device 10 includes a step of manufacturing the facing substrate 1, a step of manufacturing the element substrate 2, and a step of bonding the facing substrate 1 and the element substrate 2. Including. The step of manufacturing the opposed substrate 1 includes a step of forming the common electrode 5 (step S11) and a step of forming the sealing layer 6 (step S12). The steps of manufacturing the element substrate 2 include a step of forming the element layer 7 and the pixel electrode 8 (step S21) and a step of forming the insulating layer 9 (step S21).
Step S22), the step of forming the partition wall 35 (step S23), and the electrophoresis dispersion liquid 3
The step (step S24) of applying 2 is included. Either the step of manufacturing the facing substrate 1 or the step of manufacturing the element substrate 2 may come first or later. Further, the step of manufacturing the opposed substrate 1 and the step of manufacturing the element substrate 2 may be performed at the same time.

対向基板１を製造する工程について説明する。共通電極５を形成する工程（ステップＳ
１１）において、図５に示すように、ガラス等の透光性材料で構成された第１基板３に、
共通電極５を形成する。このとき、第１基板３に、ＩＴＯなどをスパッタリング法等の成
膜法を用いて膜厚１００ｎｍ程度のＩＴＯ膜を形成してから、フォトリソグラフィー法及
びエッチング法によってＩＴＯ膜をパターニングして共通電極５を形成する。 The process of manufacturing the opposed substrate 1 will be described. Step of forming the common electrode 5 (step S)
11), as shown in FIG. 5, on the first substrate 3 made of a translucent material such as glass.
The common electrode 5 is formed. At this time, an ITO film having a film thickness of about 100 nm is formed on the first substrate 3 by using a film forming method such as a sputtering method, and then the ITO film is patterned by a photolithography method and an etching method to form a common electrode. Form 5.

次に、封止層６を形成する工程（ステップＳ１２）において、図６に示すように、共通
電極５の第１基板３側とは反対側に封止層６を形成する。封止層６はインクジェット法、
オフセット印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷等の凸版印刷、グラビア印刷等の凹版印
刷等の各種印刷法を用いて形成することができる。他にも、スピンコート法、ロールコー
ト法、ダイコート法、スリットコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ディッ
プコート法等を用いても良い。上記により、対向基板１が製造され得る。 Next, in the step of forming the sealing layer 6 (step S12), as shown in FIG. 6, the sealing layer 6 is formed on the side of the common electrode 5 opposite to the first substrate 3 side. The sealing layer 6 is an inkjet method,
It can be formed by using various printing methods such as offset printing, screen printing, letterpress printing such as flexographic printing, and concave printing such as gravure printing. In addition, a spin coating method, a roll coating method, a die coating method, a slit coating method, a curtain coating method, a spray coating method, a dip coating method and the like may be used. As described above, the opposed substrate 1 can be manufactured.

素子基板２を製造する工程について説明する。素子層７及び画素電極８を形成する工程
（ステップＳ２１）において、図７に示すように、ガラス等で構成される第２基板４に素
子層７及び画素電極８を形成する。このとき、周知の成膜技術、フォトリソグラフィー技
術及びエッチング技術を用いて、第２基板４にＴＦＴや、走査線及びデータ線を含む素子
層７を形成してから、素子層７の第２基板４側とは反対側に画素電極８などを形成する。 The process of manufacturing the element substrate 2 will be described. In the step of forming the element layer 7 and the pixel electrode 8 (step S21), as shown in FIG. 7, the element layer 7 and the pixel electrode 8 are formed on the second substrate 4 made of glass or the like. At this time, a TFT, an element layer 7 including scanning lines and data lines is formed on the second substrate 4 by using a well-known film forming technique, photolithography technique, and etching technique, and then the second substrate of the element layer 7 is formed. A pixel electrode 8 or the like is formed on the side opposite to the 4 side.

次に、絶縁層９を形成する工程（ステップＳ２２）において、画素電極８の第２基板側
とは反対側に絶縁層９を形成する。ステップＳ２２では、まず、図８に示すように、画素
電極８の第２基板４側と反対側に絶縁層９Ａを形成する。絶縁層９Ａの製造方法としては
、画素電極上に低融点ガラス板を載置し加熱することで低融点ガラス板を素子基板２に固
着させることによって形成され得る。次に絶縁層９Ａの画素電極８側と反対側にレジスト
材料（図示せず）を塗布してからフォトリソグラフィー法によって、画素電極８ごとに個
別に島状にパターニングする。これにより、絶縁層９Ａの画素電極８側と反対側にレジス
トパターン１５が形成される。このとき、レジストパターン１５は、画素電極８の一部に
重なっている。換言すれば、絶縁層９Ａから第２基板４に向かう向きにレジストパターン
１５を平面視したときに、レジストパターン１５は、画素電極８の領域内に収まっている
。続いて、フッ酸やバッファードフッ酸等のエッチング液を用いて絶縁層９Ａをエッチン
グする。これにより、絶縁層９Ａから、図９に示す絶縁層９が形成され得る。本実施形態
では、絶縁層９は、画素電極８ごとに個別に島状にパターニングされる。第１実施形態で
は、絶縁層９が画素電極８の一部に重なっている。換言すれば、第１基板３から第２基板
４に向かう向きに素子基板２を平面視したときに、画素電極８は、絶縁層９よりも外側に
はみ出ている。 Next, in the step of forming the insulating layer 9 (step S22), the insulating layer 9 is formed on the side of the pixel electrode 8 opposite to the second substrate side. In step S22, first, as shown in FIG. 8, the insulating layer 9A is formed on the side of the pixel electrode 8 opposite to the second substrate 4 side. As a method for manufacturing the insulating layer 9A, it can be formed by placing a low melting point glass plate on a pixel electrode and heating it to fix the low melting point glass plate to the element substrate 2. Next, a resist material (not shown) is applied to the side of the insulating layer 9A opposite to the pixel electrode 8 side, and then the pixel electrodes 8 are individually patterned in an island shape by a photolithography method. As a result, the resist pattern 15 is formed on the side of the insulating layer 9A opposite to the pixel electrode 8 side. At this time, the resist pattern 15 overlaps a part of the pixel electrode 8. In other words, when the resist pattern 15 is viewed in a plan view from the insulating layer 9A toward the second substrate 4, the resist pattern 15 is contained within the region of the pixel electrode 8. Subsequently, the insulating layer 9A is etched with an etching solution such as hydrofluoric acid or buffered hydrofluoric acid. As a result, the insulating layer 9 shown in FIG. 9 can be formed from the insulating layer 9A. In the present embodiment, the insulating layer 9 is individually patterned in an island shape for each pixel electrode 8. In the first embodiment, the insulating layer 9 overlaps a part of the pixel electrode 8. In other words, when the element substrate 2 is viewed in a plane in the direction from the first substrate 3 to the second substrate 4, the pixel electrode 8 protrudes outside the insulating layer 9.

なお、ステップＳ２２では、エッチング条件を調整することにより低融点ガラス板をセ
ル領域３６の周縁側に位置する部分の厚みよりも、セル領域３６の中央側に位置する部分
の厚みを厚く形成する。エッチング条件の調整としては、例えば、オーバーエッチングが
挙げられる。オーバーエッチングを採用することによって、画素電極８に重なる絶縁層９
のうちこの画素電極８の周縁側に位置する部分の厚みよりも、画素電極８の中央側に位置
する部分の厚みを厚く形成することができる。これにより、セル領域３６において、絶縁
層９のうちセル領域３６の周縁側に位置する部分の厚みよりも、セル領域３６の中央側に
位置する部分の厚みを厚く形成することができる。換言すれば、オーバーエッチングを採
用することによって、絶縁層９のうち画素電極８の周縁側に位置する部分の厚みよりも、
画素電極８の中央側に位置する部分の厚みを厚く形成することができる。 In step S22, by adjusting the etching conditions, the thickness of the portion of the low melting point glass plate located on the peripheral side of the cell region 36 is formed to be thicker than the thickness of the portion located on the central side of the cell region 36. Examples of the adjustment of the etching conditions include over-etching. By adopting over-etching, the insulating layer 9 that overlaps the pixel electrode 8
Of these, the thickness of the portion located on the central side of the pixel electrode 8 can be formed thicker than the thickness of the portion located on the peripheral side of the pixel electrode 8. As a result, in the cell region 36, the thickness of the portion of the insulating layer 9 located on the peripheral side of the cell region 36 can be formed to be thicker than the thickness of the portion located on the central side of the cell region 36. In other words, by adopting overetching, the thickness of the portion of the insulating layer 9 located on the peripheral edge side of the pixel electrode 8 is increased.
The thickness of the portion located on the central side of the pixel electrode 8 can be formed to be thick.

次に、隔壁３５を形成する工程（ステップＳ２３）において、図１０に示すように、素
子層７の第２基板４側と反対側に隔壁３５を形成する。ステップＳ２３では、まず、素子
層７の第２基板４側と反対側に、隔壁３５の材料となる感光性樹脂材料を塗布する。感光
性樹脂材料の塗布方法はオフセット印刷、スクリーン印刷、凸版印刷等の各種印刷法など
の種々の印刷法が採用され得る。他にもスピンコート法やロールコート法等のコート法を
用いても良い。続いて感光性樹脂材料をフォトリソグラフィー法によってパターニングす
る。これにより、画素電極８ごとにセル領域３６を区画する隔壁３５が形成され得る。 Next, in the step of forming the partition wall 35 (step S23), as shown in FIG. 10, the partition wall 35 is formed on the side opposite to the second substrate 4 side of the element layer 7. In step S23, first, a photosensitive resin material to be a material for the partition wall 35 is applied to the side of the element layer 7 opposite to the second substrate 4 side. As a method for applying the photosensitive resin material, various printing methods such as offset printing, screen printing, and various printing methods such as letterpress printing can be adopted. In addition, a coating method such as a spin coating method or a roll coating method may be used. Subsequently, the photosensitive resin material is patterned by a photolithography method. As a result, a partition wall 35 that partitions the cell region 36 for each pixel electrode 8 can be formed.

次に、電気泳動分散液３２を塗布する工程（ステップＳ２４）において、図１１に示す
ように、セル領域３６内に電気泳動分散液３２を塗布する。電気泳動分散液３２は、前述
したように、黒色粒子３３ａおよび白色粒子３３ｂを含む電気泳動粒子３３が分散された
分散媒３４である。電気泳動分散液３２の塗布方法は、シリンジ等の塗布器具を用いてセ
ル領域３６内に電気泳動分散液３２を塗布する方法や、各種印刷方法、インクジェット法
などが採用され得る。これにより、素子基板２が製造され得る。 Next, in the step of applying the electrophoresis dispersion liquid 32 (step S24), as shown in FIG. 11, the electrophoresis dispersion liquid 32 is applied into the cell region 36. As described above, the electrophoresis dispersion liquid 32 is a dispersion medium 34 in which the electrophoresis particles 33 containing the black particles 33a and the white particles 33b are dispersed. As a method for applying the electrophoresis dispersion liquid 32, a method of applying the electrophoresis dispersion liquid 32 in the cell region 36 using a coating instrument such as a syringe, various printing methods, an inkjet method, or the like can be adopted. As a result, the element substrate 2 can be manufactured.

対向基板１と素子基板２とを貼り合わせる工程（ステップＳ３１）において、図１２に
示すように、対向基板１と素子基板２とを貼り合わせる。このとき、まず、電気泳動分散
液３２が供給された素子基板２に封止層６を構成する材料を各種の印刷法やインクジェッ
ト法などにより塗布する。このとき、封止層６を構成する材料は、素子基板２の電気泳動
分散液３２側に塗布する。次に、素子基板２を減圧チャンバー（図示せず）内に設置する
。次に、隔壁３５の第２基板４側と反対側に対向基板１を載置する。このとき、対向基板
１の封止層６側を素子基板２の電気泳動分散液３２側に向けて、対向基板１を素子基板２
に載置する。続いて、減圧チャンバー内を大気圧よりも低い圧力に減圧する。これにより
、隔壁３５の端部が封止層６に食い込む。その後、表示領域Ｅの外側において、素子基板
２と対向基板１とを紫外線硬化型シール材等により固定する。以上の工程により電気泳動
表示装置１０が完成する。なお、上記では素子基板２に封止層６を構成する材料を塗布し
たが、この塗布は行わず、ステップＳ１２で製造した対向基板１を素子基板２に押圧した
状態で、素子基板２と対向基板１とを貼り合わせ固定しても良い。 In the step of bonding the facing substrate 1 and the element substrate 2 (step S31), as shown in FIG. 12, the facing substrate 1 and the element substrate 2 are bonded together. At this time, first, the material constituting the sealing layer 6 is applied to the element substrate 2 to which the electrophoresis dispersion liquid 32 is supplied by various printing methods, an inkjet method, or the like. At this time, the material constituting the sealing layer 6 is applied to the electrophoretic dispersion liquid 32 side of the element substrate 2. Next, the element substrate 2 is installed in a decompression chamber (not shown). Next, the opposing substrate 1 is placed on the side opposite to the second substrate 4 side of the partition wall 35. At this time, the sealing layer 6 side of the facing substrate 1 is directed toward the electrophoresis dispersion liquid 32 side of the element substrate 2, and the facing substrate 1 is directed to the element substrate 2
Place on. Subsequently, the pressure inside the decompression chamber is reduced to a pressure lower than the atmospheric pressure. As a result, the end portion of the partition wall 35 bites into the sealing layer 6. After that, on the outside of the display area E, the element substrate 2 and the facing substrate 1 are fixed with an ultraviolet curable sealing material or the like. The electrophoresis display device 10 is completed by the above steps. In the above, the material constituting the sealing layer 6 was applied to the element substrate 2, but this coating was not performed, and the opposing substrate 1 manufactured in step S12 was pressed against the element substrate 2 and opposed to the element substrate 2. The substrate 1 may be bonded and fixed.

上記の製造方法によれば、セル領域３６にわたって設けられた封止層６が、隔壁３５と
共通電極５との間に介在している。この構成では、隔壁３５の端部が封止層６に食い込む
ことで、封止層６の第１基板３側と反対側が第２基板４側の方向に凸形状となる。セル領
域３６において、封止層６のうちセル領域３６の周縁側に位置する部分の厚みよりも、セ
ル領域３６の中央側に位置する部分の厚みが厚くなる。換言すれば、セル領域３６におい
て、封止層６のうちセル領域３６の周縁側に位置する部分よりも、セル領域３６の中央側
に位置する部分が第２基板４側に突出する。また絶縁層９はオーバーエッチングにより、
絶縁層９の第２基板４と反対側が第１基板３側の方向に凸形状となる。セル領域３６にお
いて、絶縁層９のうちセル領域３６の周縁側に位置する部分の厚みよりも、セル領域３６
の中央側に位置する部分の厚みが厚くなる。換言すれば、セル領域３６において、絶縁層
９のうちセル領域３６の周縁側に位置する部分よりも、セル領域３６の中央側に位置する
部分が第１基板３側に突出する。つまり、上記の製造方法によれば、封止層６の凸形状に
応じて、絶縁層９を、第１基板３側に向かって凸となる凸形状に形成することができる。 According to the above manufacturing method, the sealing layer 6 provided over the cell region 36 is interposed between the partition wall 35 and the common electrode 5. In this configuration, the end portion of the partition wall 35 bites into the sealing layer 6, so that the side of the sealing layer 6 opposite to the first substrate 3 side becomes convex in the direction of the second substrate 4. In the cell region 36, the thickness of the portion of the sealing layer 6 located on the peripheral side of the cell region 36 is thicker than the thickness of the portion located on the central side of the cell region 36. In other words, in the cell region 36, a portion of the sealing layer 6 located on the central side of the cell region 36 protrudes toward the second substrate 4 side rather than a portion located on the peripheral side of the cell region 36. In addition, the insulating layer 9 is overetched to obtain
The side of the insulating layer 9 opposite to the second substrate 4 has a convex shape in the direction of the first substrate 3. In the cell region 36, the thickness of the portion of the insulating layer 9 located on the peripheral side of the cell region 36 is larger than the thickness of the cell region 36.
The thickness of the part located on the center side of is thickened. In other words, in the cell region 36, a portion of the insulating layer 9 located on the central side of the cell region 36 protrudes toward the first substrate 3 side rather than a portion located on the peripheral side of the cell region 36. That is, according to the above manufacturing method, the insulating layer 9 can be formed into a convex shape that becomes convex toward the first substrate 3 side according to the convex shape of the sealing layer 6.

セル領域３６にわたって設けられた封止層６が隔壁３５と共通電極５との間に介在して
いる構成では、セル領域３６において封止層６と画素電極８との間の距離が、セル領域３
６の周縁側とセル領域３６の中央側とで異なる。つまり、封止層６と画素電極８との間の
距離は、セル領域３６の周縁側に比較してセル領域３６の中央側において短くなる。これ
により、封止層６と画素電極８との間に発生する電界の強度は、セル領域３６の周縁側に
比較してセル領域３６の中央側において高くなる。しかしながら、本実施形態における電
気泳動表示装置１０では、画素電極８の電気泳動層３１側に設けられた絶縁層９のうちセ
ル領域３６の中央側に位置する部分の厚みが、セル領域３６の周縁側に位置する部分の厚
みよりも厚い。この結果、絶縁層９が第１基板３側に凸形状を有することで、絶縁層９の
厚みに応じて電界を弱めることができる。よって、セル領域３６内において、封止層６と
絶縁層９との間に発生する電界の強弱の差を軽減することができる。これにより、セル領
域３６内の電界を均一化することができる。このため、電気泳動表示装置１０において、
表示を切り替えるときに、すなわち共通電極５や画素電極８の電位を変化させたときに、
電気泳動粒子３３を速やかに移動させやすい。よって、電気泳動表示装置１０の応答速度
を向上させることができる。 In the configuration in which the sealing layer 6 provided over the cell region 36 is interposed between the partition wall 35 and the common electrode 5, the distance between the sealing layer 6 and the pixel electrode 8 in the cell region 36 is the cell region. 3
The peripheral side of 6 and the central side of the cell area 36 are different. That is, the distance between the sealing layer 6 and the pixel electrode 8 is shorter on the central side of the cell region 36 than on the peripheral side of the cell region 36. As a result, the strength of the electric field generated between the sealing layer 6 and the pixel electrode 8 becomes higher on the central side of the cell region 36 than on the peripheral side of the cell region 36. However, in the electrophoresis display device 10 of the present embodiment, the thickness of the portion of the insulating layer 9 provided on the electrophoresis layer 31 side of the pixel electrode 8 located on the center side of the cell region 36 is the circumference of the cell region 36. It is thicker than the thickness of the part located on the veranda. As a result, since the insulating layer 9 has a convex shape on the first substrate 3 side, the electric field can be weakened according to the thickness of the insulating layer 9. Therefore, it is possible to reduce the difference in the strength of the electric field generated between the sealing layer 6 and the insulating layer 9 in the cell region 36. As a result, the electric field in the cell region 36 can be made uniform. Therefore, in the electrophoresis display device 10,
When switching the display, that is, when the potentials of the common electrode 5 and the pixel electrode 8 are changed,
It is easy to move the electrophoresis particles 33 quickly. Therefore, the response speed of the electrophoresis display device 10 can be improved.

以上述べたように、本実施形態に係る電気泳動表示装置１０によれば、以下の効果を得
ることができる。
画素電極８の電気泳動層３１側に設けられた絶縁層９のうちセル領域３６の中央側に位
置する部分の厚みが、セル領域３６の周縁側に位置する部分の厚みよりも厚い。この結果
、セル領域３６内において、封止層６と絶縁層９との間に発生する電界の強弱の差を軽減
することができる。このため、電気泳動表示装置１０において、表示を切り替えるときに
、すなわち共通電極５や画素電極８の電位を変化させたときに、電気泳動粒子３３を速や
かに移動させやすい。よって、電気泳動表示装置１０の応答速度を向上させることができ
る。 As described above, according to the electrophoresis display device 10 according to the present embodiment, the following effects can be obtained.
The thickness of the portion of the insulating layer 9 provided on the side of the electrophoresis layer 31 of the pixel electrode 8 located on the central side of the cell region 36 is thicker than the thickness of the portion located on the peripheral side of the cell region 36. As a result, it is possible to reduce the difference in the strength of the electric field generated between the sealing layer 6 and the insulating layer 9 in the cell region 36. Therefore, in the electrophoresis display device 10, when the display is switched, that is, when the potentials of the common electrode 5 and the pixel electrode 8 are changed, the electrophoresis particles 33 can be easily moved quickly. Therefore, the response speed of the electrophoresis display device 10 can be improved.

（第２実施形態）
第２実施形態における電気泳動表示装置１０Ａについて説明する。第２実施形態におけ
る電気泳動表示装置１０Ａは、絶縁層９の構成が第１実施形態における電気泳動表示装置
１０と異なることを除いて、第１実施形態における電気泳動表示装置１０と同様の構成を
有している。このため、第２実施形態において、第１実施形態と同様の構成については、
第１実施形態と同一の符号を付して詳細な説明を省略する。 (Second Embodiment)
The electrophoresis display device 10A in the second embodiment will be described. The electrophoresis display device 10A according to the second embodiment has the same configuration as the electrophoresis display device 10 according to the first embodiment, except that the configuration of the insulating layer 9 is different from that of the electrophoresis display device 10 according to the first embodiment. Have. Therefore, in the second embodiment, the configuration similar to that of the first embodiment is
The same reference numerals as those of the first embodiment will be added and detailed description thereof will be omitted.

電気泳動表示装置１０Ａでは、図１３に示すように、絶縁層９が画素電極８を覆ってい
るつまり、第１基板３側から第２基板４に向かう向きに素子基板２を平面視したときに、
画素電極８が絶縁層９で覆われている。この構成により、電気泳動表示装置１０Ａでは、
画素電極８を絶縁層９で保護することができる。 In the electrophoresis display device 10A, as shown in FIG. 13, when the insulating layer 9 covers the pixel electrode 8, that is, when the element substrate 2 is viewed in a plan view from the first substrate 3 side toward the second substrate 4. ,
The pixel electrode 8 is covered with an insulating layer 9. With this configuration, in the electrophoresis display device 10A,
The pixel electrode 8 can be protected by the insulating layer 9.

以上述べたように、本実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ａによれば、実施形態１で
の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。画素電極８が絶縁層９で覆われている
ため、電気泳動粒子３３の画素電極８への付着を抑制することができる。また、画素電極
８の電極腐食を抑制することができる。このため良好な表示特性を得ることができる。 As described above, according to the electrophoresis display device 10A according to the present embodiment, the following effects can be obtained in addition to the effects in the first embodiment. Since the pixel electrode 8 is covered with the insulating layer 9, it is possible to suppress the adhesion of the electrophoretic particles 33 to the pixel electrode 8. In addition, electrode corrosion of the pixel electrode 8 can be suppressed. Therefore, good display characteristics can be obtained.

（第３実施形態）
＜電気泳動表示装置の構造＞
次に、本発明の第３実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ｂについて、図１４を参照し
て説明する。なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を使用し、重複
する説明は省略する。 (Third Embodiment)
<Structure of electrophoresis display device>
Next, the electrophoresis display device 10B according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. For the same constituent parts as in the first embodiment, the same numbers will be used, and duplicate description will be omitted.

本実施形態の電気泳動表示装置１０Ｂは、図１４に示すように、隔壁３５と絶縁層９と
が一体となって形成されている。この点を除いて、電気泳動表示装置１０Ｂは、第１実施
形態における電気泳動表示装置１０と同様の構成を有している。 In the electrophoresis display device 10B of the present embodiment, as shown in FIG. 14, the partition wall 35 and the insulating layer 9 are integrally formed. Except for this point, the electrophoresis display device 10B has the same configuration as the electrophoresis display device 10 in the first embodiment.

＜電気泳動表示装置の製造方法＞
電気泳動表示装置１０Ｂの製造方法では、第１実施形態における製造方法（図４）にお
いて、絶縁層形成工程（ステップＳ２２）と、隔壁形成工程（ステップＳ２３）とが１つ
の工程で達成される。つまり、電気泳動表示装置１０Ｂでは、隔壁３５と絶縁層９とが同
じ工程で形成される。この点を除いて、電気泳動表示装置１０Ｂの製造方法は、第１実施
形態と同様の工程を有している。 <Manufacturing method of electrophoresis display device>
In the manufacturing method of the electrophoresis display device 10B, in the manufacturing method (FIG. 4) of the first embodiment, the insulating layer forming step (step S22) and the partition wall forming step (step S23) are achieved in one step. That is, in the electrophoresis display device 10B, the partition wall 35 and the insulating layer 9 are formed in the same process. Except for this point, the method for manufacturing the electrophoresis display device 10B has the same steps as those in the first embodiment.

電気泳動表示装置１０Ｂの製造方法では、隔壁３５と絶縁層９とを形成する工程におい
て、図１５に示すように、複数の画素電極８の素子層７側と反対側に、絶縁層９と隔壁３
５とを形成するための隔壁部形成材料４０を配置する。隔壁部形成材料４０としては、例
えば、ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）等の熱可塑性樹脂が用いられる。隔壁部形成
材料４０の配置方法としては、例えばスピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、
スリットコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ディップコート法等よる成膜
法を例示することができる。 In the method of manufacturing the electrophoresis display device 10B, in the step of forming the partition wall 35 and the insulating layer 9, as shown in FIG. 15, the insulating layer 9 and the partition wall are formed on the side opposite to the element layer 7 side of the plurality of pixel electrodes 8. 3
A partition wall forming material 40 for forming the partition wall portion 40 is arranged. As the partition wall forming material 40, for example, a thermoplastic resin such as PMMA (polymethyl methacrylate) is used. Examples of the method of arranging the partition wall forming material 40 include a spin coating method, a roll coating method, and a die coating method.
A film forming method using a slit coating method, a curtain coating method, a spray coating method, a dip coating method, or the like can be exemplified.

次に、図１６に示すように、隔壁部形成材料４０を配置した第２基板４を加熱し、イン
プリント加工用の型部材４１を隔壁部形成材料４０に押圧する。型部材４１は隔壁３５に
対応する凹部４２と、絶縁層９に対応する凸部４３とを備えている。型部材４１で隔壁部
形成材料４０を押圧した状態で第２基板４を冷却し、型部材４１を隔壁部形成材料４０か
ら引き離すことで、型部材４１のパターンを隔壁部形成材料４０に転写することができる
。これにより、図１７に示すように、隔壁３５および絶縁層９を一体で形成することがで
きる。 Next, as shown in FIG. 16, the second substrate 4 on which the partition wall forming material 40 is arranged is heated, and the mold member 41 for imprint processing is pressed against the partition wall forming material 40. The mold member 41 includes a concave portion 42 corresponding to the partition wall 35 and a convex portion 43 corresponding to the insulating layer 9. The second substrate 4 is cooled while the partition wall forming material 40 is pressed by the mold member 41, and the mold member 41 is separated from the partition wall forming material 40 to transfer the pattern of the mold member 41 to the partition wall forming material 40. be able to. As a result, as shown in FIG. 17, the partition wall 35 and the insulating layer 9 can be integrally formed.

以上述べたように、本実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ｂによれば、実施形態１で
の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。隔壁３５と絶縁層９とが一体で形成さ
れているため、隔壁３５の材料と絶縁層９の材料とを統一することができる。これにより
、隔壁３５の材料と絶縁層９の材料とを互いに異なる材料にする場合と比較して、電気泳
動表示装置１０Ｂの製造にかかる材料の種類を低減することができるので、電気泳動表示
装置１０Ｂにかかるコストを軽減することができる。 As described above, according to the electrophoresis display device 10B according to the present embodiment, the following effects can be obtained in addition to the effects in the first embodiment. Since the partition wall 35 and the insulating layer 9 are integrally formed, the material of the partition wall 35 and the material of the insulating layer 9 can be unified. As a result, the types of materials required for manufacturing the electrophoresis display device 10B can be reduced as compared with the case where the material of the partition wall 35 and the material of the insulating layer 9 are different from each other. The cost of 10B can be reduced.

なお、本実施形態の隔壁形成方法は、熱可塑性樹脂を用いたインプリント法を例示した
が、この方法に限定されるものではなく、熱硬化性樹脂を用いたインプリント法やＵＶ硬
化樹脂を用いたインプリント法でもよい。 The partition wall forming method of the present embodiment exemplifies an imprint method using a thermoplastic resin, but the method is not limited to this method, and an imprint method using a thermosetting resin or a UV curable resin can be used. The imprint method used may also be used.

（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ｃについて図１８及び図１９
を用いて説明する。図１８は、電気泳動表示装置１０Ｃの一部を示す模式平面図である。
図１９は、図１８に示す電気泳動表示装置１０ＣのＢ−Ｂ‘線に沿う模式断面図である。
なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を使用し、重複する説明は省
略する。 (Fourth Embodiment)
Next, the electrophoresis display device 10C according to the fourth embodiment of the present invention is shown in FIGS. 18 and 19.
Will be described with reference to. FIG. 18 is a schematic plan view showing a part of the electrophoresis display device 10C.
FIG. 19 is a schematic cross-sectional view taken along the line BB'of the electrophoresis display device 10C shown in FIG.
For the same constituent parts as in the first embodiment, the same numbers will be used, and duplicate description will be omitted.

本実施形態の電気泳動表示装置１０Ｃは、図１８に示すように、１つのセル領域３６ａ
内に複数（本実施形態では４つ）の画素電極８が配置されている。また図１９に示すよう
に、画素電極８の素子基板２とは反対側に、１つのセル領域３６ａ内の複数の画素電極８
を跨ぐように絶縁層９が配置されている。この点を除いて、電気泳動表示装置１０Ｃは、
第１実施形態における電気泳動表示装置１０と同様の構成を有している。 As shown in FIG. 18, the electrophoresis display device 10C of the present embodiment has one cell region 36a.
A plurality of (four in this embodiment) pixel electrodes 8 are arranged therein. Further, as shown in FIG. 19, a plurality of pixel electrodes 8 in one cell region 36a are opposite to the element substrate 2 of the pixel electrodes 8.
The insulating layer 9 is arranged so as to straddle. Except for this point, the electrophoresis display device 10C is
It has the same configuration as the electrophoresis display device 10 in the first embodiment.

＜電気泳動表示装置の製造方法＞
電気泳動表示装置１０Ｃの製造方法では、第１実施形態における製造方法（図４）の絶
縁層形成工程（ステップＳ２２）において、画素電極８の第２基板側とは反対側に、複数
の画素電極８を跨ぐように絶縁層９を形成する。この点を除いて、電気泳動表示装置１０
Ｃの製造方法は、第１実施形態と同様の工程を有している。 <Manufacturing method of electrophoresis display device>
In the manufacturing method of the electrophoresis display device 10C, in the insulating layer forming step (step S22) of the manufacturing method (FIG. 4) in the first embodiment, a plurality of pixel electrodes are on the side opposite to the second substrate side of the pixel electrodes 8. The insulating layer 9 is formed so as to straddle the 8. Except for this point, the electrophoresis display device 10
The method for producing C has the same steps as those in the first embodiment.

絶縁層形成工程（ステップＳ２２）では、図２０に示すように、画素電極８の第２基板
４側と反対側に絶縁層９Ａを形成する。次に絶縁層９Ａの画素電極８側と反対側にレジス
ト材料（図示せず）を塗布してからフォトリソグラフィー法によって、複数の画素電極８
に跨って個別に島状にパターニングする。これにより、絶縁層９Ａの画素電極８側と反対
側に、１つのセル領域３６ａに包含させるべき複数の画素電極８に跨るようにレジストパ
ターン１５が形成される。このとき、レジストパターン１５は、１つのセル領域３６ａに
包含させるべき複数の画素電極８のそれぞれの一部に重なっている。続いて、フッ酸やバ
ッファードフッ酸等のエッチング液を用いて絶縁層９Ａをエッチングする。これにより、
絶縁層９Ａから、図２１に示す絶縁層９が形成され得る。本実施形態では、絶縁層９は、
１つのセル領域３６ａに包含させるべき複数の画素電極８に跨って個別に島状にパターニ
ングされる。第４実施形態では、絶縁層９が１つのセル領域３６ａに包含させるべき複数
の画素電極８のそれぞれの一部に重なっている。換言すれば、第１基板３から第２基板４
に向かう向きに素子基板２を平面視したときに、１つのセル領域３６ａに包含される複数
の画素電極８は、絶縁層９よりも外側にはみ出ている。 In the insulating layer forming step (step S22), as shown in FIG. 20, the insulating layer 9A is formed on the side of the pixel electrode 8 opposite to the second substrate 4 side. Next, a resist material (not shown) is applied to the side of the insulating layer 9A opposite to the pixel electrode 8 side, and then a plurality of pixel electrodes 8 are applied by a photolithography method.
It is individually patterned in an island shape across the islands. As a result, the resist pattern 15 is formed on the side of the insulating layer 9A opposite to the pixel electrode 8 side so as to straddle the plurality of pixel electrodes 8 to be included in one cell region 36a. At this time, the resist pattern 15 overlaps each part of the plurality of pixel electrodes 8 to be included in one cell region 36a. Subsequently, the insulating layer 9A is etched with an etching solution such as hydrofluoric acid or buffered hydrofluoric acid. This will
The insulating layer 9 shown in FIG. 21 can be formed from the insulating layer 9A. In the present embodiment, the insulating layer 9 is
It is individually patterned in an island shape across a plurality of pixel electrodes 8 to be included in one cell region 36a. In the fourth embodiment, the insulating layer 9 overlaps a part of each of the plurality of pixel electrodes 8 to be included in one cell region 36a. In other words, the first board 3 to the second board 4
When the element substrate 2 is viewed in a plan view in the direction toward the direction of the above, the plurality of pixel electrodes 8 included in one cell region 36a protrude outside the insulating layer 9.

本実施形態においても、図１９に示すように、セル領域３６ａにわたって設けられた封
止層６が、隔壁３５と共通電極５との間に介在している。この構成では、隔壁３５の端部
が封止層６に食い込むことで、封止層６の第１基板３側と反対側が第２基板４側の方向に
凸形状となる。セル領域３６ａにおいても、封止層６のうちセル領域３６ａの周縁側に位
置する部分の厚みよりも、セル領域３６ａの中央側に位置する部分の厚みが厚くなる。換
言すれば、セル領域３６ａにおいて、封止層６のうちセル領域３６ａの周縁側に位置する
部分よりも、セル領域３６ａの中央側に位置する部分が第２基板４側に突出する。また絶
縁層９はオーバーエッチングにより、絶縁層９の第２基板４と反対側が第１基板３側の方
向に凸形状となる。セル領域３６ａにおいて、絶縁層９のうちセル領域３６ａの周縁側に
位置する部分の厚みよりも、セル領域３６ａの中央側に位置する部分の厚みが厚くなる。
換言すれば、セル領域３６ａにおいて、絶縁層９のうちセル領域３６ａの周縁側に位置す
る部分よりも、セル領域３６ａの中央側に位置する部分が第１基板３側に突出する。つま
り、本実施形態においても、封止層６の凸形状に応じて、絶縁層９を、第１基板３側に向
かって凸となる凸形状に形成することができる。 Also in this embodiment, as shown in FIG. 19, a sealing layer 6 provided over the cell region 36a is interposed between the partition wall 35 and the common electrode 5. In this configuration, the end portion of the partition wall 35 bites into the sealing layer 6, so that the side of the sealing layer 6 opposite to the first substrate 3 side becomes convex in the direction of the second substrate 4. Also in the cell region 36a, the thickness of the portion of the sealing layer 6 located on the peripheral side of the cell region 36a is thicker than the thickness of the portion located on the central side of the cell region 36a. In other words, in the cell region 36a, a portion of the sealing layer 6 located on the central side of the cell region 36a protrudes toward the second substrate 4 side rather than a portion located on the peripheral side of the cell region 36a. Further, the insulating layer 9 is overetched so that the side of the insulating layer 9 opposite to the second substrate 4 has a convex shape in the direction of the first substrate 3. In the cell region 36a, the thickness of the portion of the insulating layer 9 located on the peripheral side of the cell region 36a is thicker than the thickness of the portion located on the central side of the cell region 36a.
In other words, in the cell region 36a, a portion of the insulating layer 9 located on the central side of the cell region 36a protrudes toward the first substrate 3 side rather than a portion located on the peripheral side of the cell region 36a. That is, also in the present embodiment, the insulating layer 9 can be formed into a convex shape that becomes convex toward the first substrate 3 side according to the convex shape of the sealing layer 6.

セル領域３６ａにわたって設けられた封止層６が隔壁３５と共通電極５との間に介在し
ている構成では、セル領域３６ａにおいて封止層６と画素電極８との間の距離が、セル領
域３６ａの周縁側とセル領域３６ａの中央側とで異なる。つまり、封止層６と画素電極８
との間の距離は、セル領域３６ａの周縁側に比較してセル領域３６ａの中央側において短
くなる。これにより、封止層６と画素電極８との間に発生する電界の強度は、セル領域３
６ａの周縁側に比較してセル領域３６ａの中央側において高くなる。しかしながら、本実
施形態における電気泳動表示装置１０では、画素電極８の電気泳動層３１側に設けられた
絶縁層９のうちセル領域３６ａの中央側に位置する部分の厚みが、セル領域３６ａの周縁
側に位置する部分の厚みよりも厚い。この結果、絶縁層９が第１基板３側に凸形状を有す
ることで、絶縁層９の厚みに応じて電界を弱めることができる。よって、セル領域３６ａ
内において、封止層６と絶縁層９との間に発生する電界の強弱の差を軽減することができ
る。これにより、セル領域３６ａ内の電界を均一化することができる。このため、電気泳
動表示装置１０において、表示を切り替えるときに、すなわち共通電極５や画素電極８の
電位を変化させたときに、電気泳動粒子３３を速やかに移動させやすい。よって、電気泳
動表示装置１０の応答速度を向上させることができる。 In the configuration in which the sealing layer 6 provided over the cell region 36a is interposed between the partition wall 35 and the common electrode 5, the distance between the sealing layer 6 and the pixel electrode 8 in the cell region 36a is the cell region. It differs between the peripheral side of 36a and the central side of the cell area 36a. That is, the sealing layer 6 and the pixel electrode 8
The distance between the cell and the cell is shorter on the central side of the cell area 36a than on the peripheral side of the cell area 36a. As a result, the strength of the electric field generated between the sealing layer 6 and the pixel electrode 8 is reduced to the cell region 3.
It is higher on the central side of the cell region 36a than on the peripheral side of 6a. However, in the electrophoresis display device 10 of the present embodiment, the thickness of the portion of the insulating layer 9 provided on the electrophoresis layer 31 side of the pixel electrode 8 located on the center side of the cell region 36a is the circumference of the cell region 36a. It is thicker than the thickness of the part located on the veranda. As a result, since the insulating layer 9 has a convex shape on the first substrate 3 side, the electric field can be weakened according to the thickness of the insulating layer 9. Therefore, the cell area 36a
Within, the difference in the strength of the electric field generated between the sealing layer 6 and the insulating layer 9 can be reduced. As a result, the electric field in the cell region 36a can be made uniform. Therefore, in the electrophoresis display device 10, when the display is switched, that is, when the potentials of the common electrode 5 and the pixel electrode 8 are changed, the electrophoresis particles 33 can be easily moved quickly. Therefore, the response speed of the electrophoresis display device 10 can be improved.

本実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ｃにおいても、実施形態１と同様の効果が得ら
れる。つまり、１つのセル領域３６ａに複数の画素電極８が配置される形態においても、
電気泳動表示装置１０Ｃの応答速度を向上させることができる。 The same effect as that of the first embodiment can be obtained in the electrophoresis display device 10C according to the present embodiment. That is, even in a form in which a plurality of pixel electrodes 8 are arranged in one cell region 36a,
The response speed of the electrophoresis display device 10C can be improved.

（第５実施形態）
＜電気泳動表示装置の構造＞
次に、本発明の第５実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ｄについて説明する。第５実
施形態における電気泳動表示装置１０Ｄは、絶縁層９の構成が第４実施形態における電気
泳動表示装置１０Ｃと異なることを除いて、第４実施形態おける電気泳動表示装置１０Ｃ
と同様の構成を有している。このため、第５実施形態において、第４実施形態と同様の構
成については、第４実施形態と同一の符号を付して詳細な説明を省略する。 (Fifth Embodiment)
<Structure of electrophoresis display device>
Next, the electrophoresis display device 10D according to the fifth embodiment of the present invention will be described. The electrophoresis display device 10D in the fifth embodiment is the electrophoresis display device 10C in the fourth embodiment, except that the configuration of the insulating layer 9 is different from the electrophoresis display device 10C in the fourth embodiment.
It has the same configuration as. Therefore, in the fifth embodiment, the same components as those in the fourth embodiment are designated by the same reference numerals as those in the fourth embodiment, and detailed description thereof will be omitted.

電気泳動表示装置１０Ｄでは、図２２に示すように、絶縁層９が、１つのセル領域３６
ａに包含される複数の画素電極８を覆っている。つまり、第１基板３側から第２基板４に
向かう向きに素子基板２を平面視したときに、１つのセル領域３６ａに包含される複数の
画素電極８が、１つのセル領域３６ａ内の絶縁層９で覆われている。この構成により、電
気泳動表示装置１０Ｄでは、複数の画素電極８を絶縁層９で保護することができる。本実
施形態では、絶縁層９Ａに配置するレジストパターン１５を、１つのセル領域３６ａに包
含させるべき複数の画素電極８を覆う大きさにパターニングする。これにより、１つのセ
ル領域３６ａに包含される複数の画素電極８を、１つのセル領域３６ａ内の絶縁層９で覆
うことができる。 In the electrophoresis display device 10D, as shown in FIG. 22, the insulating layer 9 is one cell region 36.
It covers a plurality of pixel electrodes 8 included in a. That is, when the element substrate 2 is viewed in a plan view from the first substrate 3 side toward the second substrate 4, the plurality of pixel electrodes 8 included in one cell region 36a are insulated in one cell region 36a. It is covered with layer 9. With this configuration, in the electrophoresis display device 10D, the plurality of pixel electrodes 8 can be protected by the insulating layer 9. In the present embodiment, the resist pattern 15 arranged in the insulating layer 9A is patterned so as to cover a plurality of pixel electrodes 8 to be included in one cell region 36a. As a result, the plurality of pixel electrodes 8 included in one cell region 36a can be covered with the insulating layer 9 in one cell region 36a.

以上述べたように、本実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ｄによれば、実施形態４で
の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。複数の画素電極８が絶縁層９で覆われ
ているため、電気泳動粒子３３の画素電極８への付着を抑制することができる。また、画
素電極８の電極腐食を抑制することができる。このため良好な表示特性を得ることができ
る。 As described above, according to the electrophoresis display device 10D according to the present embodiment, the following effects can be obtained in addition to the effects in the fourth embodiment. Since the plurality of pixel electrodes 8 are covered with the insulating layer 9, adhesion of the electrophoretic particles 33 to the pixel electrodes 8 can be suppressed. In addition, electrode corrosion of the pixel electrode 8 can be suppressed. Therefore, good display characteristics can be obtained.

（第６実施形態）
次に、本発明の第６実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ｅについて、図２３を参照し
て説明する。なお、第６実施形態において、第４実施形態と同一の構成部位については、
同一の番号を使用し、重複する説明は省略する。 (Sixth Embodiment)
Next, the electrophoresis display device 10E according to the sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 23. In the sixth embodiment, the same constituent parts as those in the fourth embodiment are
The same number will be used and duplicate description will be omitted.

本実施形態の電気泳動表示装置１０Ｅは、図２３に示すように、隔壁３５と複数の画素
電極８を覆うように配置された絶縁層９とが一体となって形成されている。この点を除い
て、電気泳動表示装置１０Ｅは、第３実施形態や第４実施形態と同様の構成を有している
。本実施形態の電気泳動表示装置１０Ｅの製造方法は、第３実施形態に準ずる。つまり、
１つのセル領域３６ａが複数の画素電極８を包含するように、隔壁３５と絶縁層９とを一
体に形成すればよい。 As shown in FIG. 23, the electrophoresis display device 10E of the present embodiment is formed by integrally forming a partition wall 35 and an insulating layer 9 arranged so as to cover a plurality of pixel electrodes 8. Except for this point, the electrophoresis display device 10E has the same configuration as that of the third embodiment and the fourth embodiment. The manufacturing method of the electrophoresis display device 10E of the present embodiment conforms to the third embodiment. In other words
The partition wall 35 and the insulating layer 9 may be integrally formed so that one cell region 36a includes a plurality of pixel electrodes 8.

以上述べたように、本実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ｅによれば、実施形態５で
の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。隔壁３５と複数の画素電極８を覆うよ
うに配置された絶縁層９とが一体で形成されているため、隔壁３５の材料と絶縁層９の材
料とを統一することができる。これにより、隔壁３５の材料と絶縁層９の材料とを互いに
異なる材料にする場合に比較して、電気泳動表示装置１０Ｅの製造にかかる材料の種類を
低減することができるので、電気泳動表示装置１０Ｅにかかるコストを軽減することがで
きる。 As described above, according to the electrophoresis display device 10E according to the present embodiment, the following effects can be obtained in addition to the effects in the fifth embodiment. Since the partition wall 35 and the insulating layer 9 arranged so as to cover the plurality of pixel electrodes 8 are integrally formed, the material of the partition wall 35 and the material of the insulating layer 9 can be unified. As a result, the types of materials required for manufacturing the electrophoresis display device 10E can be reduced as compared with the case where the material of the partition wall 35 and the material of the insulating layer 9 are different from each other. The cost of 10E can be reduced.

＜電子機器＞
次に、上述の電気泳動表示装置１０を電子機器に適用した場合について説明する。 <Electronic equipment>
Next, a case where the above-mentioned electrophoresis display device 10 is applied to an electronic device will be described.

図２４は、電子機器の一例である腕時計を示す斜視図である。
この腕時計（電子機器）１１０は、本発明の電気泳動表示装置１０によって構成された
表示部１１１を備えている。 FIG. 24 is a perspective view showing a wristwatch which is an example of an electronic device.
The wristwatch (electronic device) 110 includes a display unit 111 configured by the electrophoresis display device 10 of the present invention.

図２５は、電子機器の一例である電子ペーパーを示す斜視図である。
この電子ペーパー（電子機器）１２０は、紙と同様の質感および柔軟性を有するリライ
タブルシートで構成される本体部１２１と、本発明の電気泳動表示装置１０によって構成
された表示部１２２を備えている。 FIG. 25 is a perspective view showing an electronic paper which is an example of an electronic device.
The electronic paper (electronic device) 120 includes a main body 121 made of a rewritable sheet having the same texture and flexibility as paper, and a display unit 122 made up of the electrophoresis display device 10 of the present invention. ..

例えば、電子ブック１００や電子ペーパー１２０等は、白地の背景上に文字を繰り返し
書き込む用途が想定されるため、表示ムラの解消が必要とされる。
なお、本発明の電気泳動表示装置１０を適用可能な電子機器の範囲はこれに限定されず
、帯電粒子の移動に伴う視覚上の色調の変化を利用した装置を広く含むものである。 For example, the electronic book 100, the electronic paper 120, and the like are expected to be used for repeatedly writing characters on a white background, so that it is necessary to eliminate display unevenness.
The range of electronic devices to which the electrophoresis display device 10 of the present invention can be applied is not limited to this, and includes a wide range of devices that utilize a change in visual color tone due to the movement of charged particles.

以上の電子ブック１００、腕時計１１０、および電子ペーパー１２０によれば、本発明
に係る電気泳動表示装置１０が採用されているので、表示切替にかかる応答速度を向上さ
せることができる信頼性に優れた高品位の電子機器を提供することができる。 According to the electronic book 100, the wristwatch 110, and the electronic paper 120 described above, since the electrophoresis display device 10 according to the present invention is adopted, the response speed for switching the display can be improved and the reliability is excellent. It is possible to provide high-quality electronic devices.

なお、上記の電子機器は、本発明に係る電子機器を例示するものであって、本発明の技
術範囲を限定するものではない。例えば、携帯電話、携帯用オーディオ機器等の電子機器
の表示部や、マニュアル等の業務用シート、教科書、問題集、情報シート等にも、本発明
に係る電気泳動表示装置１０を好適に用いることができる。 The above-mentioned electronic device exemplifies the electronic device according to the present invention, and does not limit the technical scope of the present invention. For example, the electrophoresis display device 10 according to the present invention is preferably used for a display unit of an electronic device such as a mobile phone or a portable audio device, a business sheet such as a manual, a textbook, a problem book, an information sheet, or the like. Can be done.

１０…電気泳動表示装置、１…対向基板、２…素子基板、３…第１基板、４…第２基板
、５…共通電極、６…封止層、７…素子層、８…画素電極、９…絶縁層、１１…画素、３
１…電気泳動層、３２…電気泳動分散液、３３ａ…黒色粒子、３３ｂ…白色粒子、３４…
分散媒、３５…隔壁、３６…セル領域、１００…電子ブック、１０１…操作部、E…表示
領域、１１０…腕時計、１２０…電子ペーパー。 10 ... Electrophoretic display device, 1 ... Opposing substrate, 2 ... Element substrate, 3 ... First substrate, 4 ... Second substrate, 5 ... Common electrode, 6 ... Sealing layer, 7 ... Element layer, 8 ... Pixel electrode, 9 ... Insulation layer, 11 ... Pixels, 3
1 ... Electrophoretic layer, 32 ... Electrophoretic dispersion, 33a ... Black particles, 33b ... White particles, 34 ...
Dispersion medium, 35 ... partition wall, 36 ... cell area, 100 ... electronic book, 101 ... operation unit, E ... display area, 110 ... wristwatch, 120 ... electronic paper.

Claims

The first substrate provided with common electrodes and
A second substrate arranged to face the common electrode side and
A pixel electrode provided on the first substrate side of the second substrate and
A partition wall provided on the first substrate side of the second substrate and surrounding the pixel electrode,
An electrophoretic layer having a dispersion medium arranged in a cell region surrounded by the partition wall between the first substrate and the second substrate and in which electrophoretic particles are dispersed.
A sealing layer interposed between the partition wall and the common electrode and provided over the cell region.
An insulating layer provided on the electrophoretic layer side of the pixel electrode is provided.
In the cell region, the thickness of the portion of the sealing layer located on the peripheral side of the cell region is thicker than the thickness of the portion located on the central side of the cell region, and the cell of the insulating layer is thicker. than the thickness of the portion located on the peripheral side of the area, the cell area in the thickness Kusuru that towards the thickness of the portion located on the center side of the convex shape to the side of the second substrate of the sealing layer Correspondingly, the insulating layer is formed in a convex shape toward the first substrate.
An electrophoresis display device characterized by this.

The electrophoresis display device according to claim 1.
An electrophoresis display device characterized in that the pixel electrodes are covered with the insulating layer when the second substrate is viewed in a plane in a direction from the first substrate side toward the second substrate.

The electrophoresis display device according to claim 1.
An electrophoresis display device characterized in that the partition wall and the insulating layer are integrally formed.

An electronic device comprising the electrophoresis display device according to any one of claims 1 to 3.