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JP6855201B2 - Resin composition - Google Patents
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Description

本発明は、樹脂組成物に関する。 The present invention relates to resin compositions.

目的物の表面を被覆する被覆層としては、例えば、目的物の破損や劣化を抑制するものや、目的物の意匠性を向上させるものなど、目的に応じて様々なものが産業界で幅広く利用されている。このような被覆層は、例えば、樹脂を構成材料とし、樹脂が配合されてなる樹脂組成物を目的物の表面に塗工して形成する。 As the coating layer that covers the surface of the target object, for example, a layer that suppresses damage or deterioration of the target object, a layer that improves the design of the target object, and various other coating layers are widely used in the industrial world depending on the purpose. Has been done. Such a coating layer is formed by, for example, coating a resin composition containing a resin as a constituent material on the surface of a target object.

例えば、電子機器分野において利用されるカラーフィルタは、透明基材上に、遮光層によって区画された着色層を備え、これら着色層及び遮光層を覆う被覆層を備えて構成される。
このようなカラーフィルタとしては、例えば、その製造時において、被覆層(保護膜)を形成するための樹脂組成物(保護膜用樹脂組成物)を被覆層の形成面、すなわち塗布面に塗布したときに、樹脂組成物の一部が塗布面から弾かれて、ピンホール状の塗布抜けを生じる、いわゆるハジキの発生を抑制できるものが開示されている(特許文献1参照)。ハジキは、通常、樹脂組成物の塗布面における異物の付着等が原因となって生じる。そして、ハジキが生じた被覆層は、目的物を十分に被覆できず、欠陥を有するものとなってしまう。これに対して、上述の樹脂組成物は、特定範囲の成分を組み合わせて含有していることで、ハジキの発生を抑制する。
For example, a color filter used in the field of electronic equipment includes a colored layer partitioned by a light-shielding layer on a transparent base material, and includes the colored layer and a coating layer covering the light-shielding layer.
As such a color filter, for example, at the time of its manufacture, a resin composition (resin composition for a protective film) for forming a coating layer (protective film) is applied to a coating layer forming surface, that is, a coating surface. At times, a part of the resin composition is repelled from the coated surface to cause pinhole-shaped coating omission, that is, the generation of so-called cissing can be suppressed (see Patent Document 1). Repellent is usually caused by the adhesion of foreign matter on the coated surface of the resin composition. Then, the coating layer on which the repelling is generated cannot sufficiently cover the target object and has defects. On the other hand, the above-mentioned resin composition suppresses the occurrence of cissing by containing a combination of a specific range of components.

一方で、上述のカラーフィルタと同様に積層構造を有し、電子機器分野において利用されるものとしては、基材上に導電層が設けられてなる積層体も挙げられる。例えば、導電層がパターニングされた前記積層体は、通信機器等の回路基板として利用されている。また、パターニングされた導電層として、極微細配線又は極薄配線を備えた積層体は、さらに透明基材と組み合わせることにより、タッチパネルや光学ディスプレイを構成できる。そして、このような積層体においても、通常、導電層上にこの導電層を覆う被覆層が設けられ、この場合の被覆層にも、ハジキの発生に起因する欠陥を有しないことが求められる。また、基材は、被覆層を形成するための樹脂組成物の影響を受け易いが、前記積層体においては、樹脂組成物によって基材が劣化しないことも求められる。 On the other hand, a laminated body having a laminated structure similar to the above-mentioned color filter and used in the field of electronic equipment includes a laminated body in which a conductive layer is provided on a base material. For example, the laminate in which the conductive layer is patterned is used as a circuit board for communication equipment and the like. Further, the laminated body provided with the ultrafine wiring or the ultrathin wiring as the patterned conductive layer can further form a touch panel or an optical display by combining with a transparent base material. Further, even in such a laminated body, a coating layer covering the conductive layer is usually provided on the conductive layer, and the coating layer in this case is also required to have no defects due to the occurrence of cissing. Further, the base material is easily affected by the resin composition for forming the coating layer, but in the laminated body, it is also required that the base material is not deteriorated by the resin composition.

特許第5178407号公報Japanese Patent No. 5178407

しかし、特許文献1で開示されている被覆層は、着色層及び遮光層を備えた基材上に形成されるものであり、これら各層(基材、着色層、遮光層)の表面が樹脂組成物の塗工面となる。これに対して、前記積層体における被覆層は、導電層を備えた基材上に形成されるものであり、これら各層(基材、導電層)の表面が樹脂組成物の塗工面となる。すなわち、導電層を備えた前記積層体は、特許文献1で開示されているカラーフィルタとは、被覆層の形成対象、換言すると樹脂組成物の塗工面の特性が全く異なる。したがって、特許文献1で開示されている樹脂組成物を、導電層を備えた前記積層体の製造時において、被覆層を形成するために用いても、ハジキの発生を抑制できるか定かではなく、また、前記積層体中の基材の劣化を抑制できるかも定かではない。 However, the coating layer disclosed in Patent Document 1 is formed on a base material provided with a colored layer and a light-shielding layer, and the surface of each of these layers (base material, colored layer, light-shielding layer) has a resin composition. It becomes the coated surface of the object. On the other hand, the coating layer in the laminate is formed on a base material provided with a conductive layer, and the surface of each of these layers (base material, conductive layer) is a coated surface of the resin composition. That is, the laminate provided with the conductive layer is completely different from the color filter disclosed in Patent Document 1 in the characteristics of the coating layer to be formed, in other words, the coated surface of the resin composition. Therefore, even if the resin composition disclosed in Patent Document 1 is used to form a coating layer during the production of the laminate provided with the conductive layer, it is not certain whether the generation of cissing can be suppressed. Further, it is not clear whether the deterioration of the base material in the laminated body can be suppressed.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、基材、導電層及び被覆層がこの順に積層されてなる積層体の製造時において、被覆層の形成に使用可能な樹脂組成物であって、基材を劣化させることなく、被覆層の形成時に、ハジキの発生を抑制できる樹脂組成物を提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a resin composition that can be used for forming a coating layer in the production of a laminate in which a base material, a conductive layer, and a coating layer are laminated in this order. Therefore, it is an object of the present invention to provide a resin composition capable of suppressing the generation of repellent during the formation of a coating layer without deteriorating the base material.

上記課題を解決するため、本発明は、ポリウレタン(メタ)アクリレート、アクリル酸エステル、及び溶媒が配合されてなり、前記溶媒がケトアルコール及びアルコールエーテルである、樹脂組成物を提供する。
本発明の樹脂組成物においては、前記ケトアルコールのSP値が10.4〜11.0であり、前記アルコールエーテルのSP値が9.3〜10.3であることが好ましい。
In order to solve the above problems, the present invention provides a resin composition in which a polyurethane (meth) acrylate, an acrylic acid ester, and a solvent are blended and the solvent is a keto alcohol and an alcohol ether.
In the resin composition of the present invention, the SP value of the ketoalcohol is preferably 10.4 to 11.0, and the SP value of the alcohol ether is preferably 9.3 to 10.3.

本発明によれば、基材、導電層及び被覆層がこの順に積層されてなる積層体の製造時において、被覆層の形成に使用可能な樹脂組成物であって、基材を劣化させることなく、被覆層の形成時に、ハジキの発生を抑制できる樹脂組成物が提供される。 According to the present invention, it is a resin composition that can be used for forming a coating layer at the time of manufacturing a laminate in which a base material, a conductive layer and a coating layer are laminated in this order, without deteriorating the base material. , A resin composition capable of suppressing the generation of repellent during the formation of a coating layer is provided.

本発明の樹脂組成物を用いて得られる積層体の一実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one Embodiment of the laminated body obtained by using the resin composition of this invention. 本発明の樹脂組成物を用いて得られる積層体の他の実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the other embodiment of the laminated body obtained by using the resin composition of this invention. 図1に示す積層体の製造方法を模式的に説明するための断面図である。It is sectional drawing for schematically explaining the manufacturing method of the laminated body shown in FIG. 実施例及び比較例の被覆層用組成物における、粘度と表面張力との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the viscosity and the surface tension in the composition for a coating layer of an Example and a comparative example.

<<樹脂組成物>>
本発明の樹脂組成物は、ポリウレタン(メタ)アクリレート、アクリル酸エステル、及び溶媒が配合されてなり、前記溶媒がケトアルコール及びアルコールエーテルとなっているものである。
本発明の樹脂組成物は、硬化性を有し、通常はエネルギー線硬化性である。本発明の樹脂組成物は、目的物に被覆層を形成するために使用でき、前記樹脂組成物の硬化物は、例えば、保護膜として好適である。
<< Resin composition >>
The resin composition of the present invention contains a polyurethane (meth) acrylate, an acrylic acid ester, and a solvent, and the solvent is ketoalcohol and alcohol ether.
The resin composition of the present invention has curability and is usually energy ray curable. The resin composition of the present invention can be used to form a coating layer on a target product, and the cured product of the resin composition is suitable as, for example, a protective film.

前記エネルギー線としては、例えば、遠紫外線、紫外線、近紫外線等の紫外線;赤外線;X線、γ線等の電磁放射線;電子線、陽子線、中性子線等の粒子放射線等が挙げられる。 Examples of the energy rays include ultraviolet rays such as far ultraviolet rays, ultraviolet rays and near ultraviolet rays; infrared rays; electromagnetic radiations such as X-rays and γ-rays; particle radiations such as electron rays, proton rays and neutron rays.

前記樹脂組成物において、前記ポリウレタン(メタ)アクリレート及びアクリル酸エステルは樹脂成分であり、被覆層の主たる構成成分となる。
また、前記樹脂組成物において、前記ケトアルコール及びアルコールエーテルは溶媒である。前記樹脂組成物は、前記ケトアルコール及びアルコールエーテルが配合されていることで、樹脂組成物の塗工面、すなわち被覆層の形成面に塗工したときに、樹脂組成物のハジキの発生を抑制できる。なお、本明細書において「ハジキ」とは、特に断りのない限り、塗工された樹脂組成物の一部が塗工面から弾かれて、塗工面の一部が樹脂組成物で被覆されずに、塗工抜けの状態が発生することを意味する。そして、塗工抜けの形状は特に限定されない。また、前記樹脂組成物は、基材、導電層及び被覆層がこの順に積層されてなる積層体の製造時において、被覆層を形成するのに用いた場合に、基材を劣化させることがなく、例えば、基材の浸食等による白濁化を生じることもない。
In the resin composition, the polyurethane (meth) acrylate and the acrylic acid ester are resin components and are the main constituent components of the coating layer.
Further, in the resin composition, the ketoalcohol and the alcohol ether are solvents. Since the resin composition contains the keto alcohol and the alcohol ether, it is possible to suppress the generation of repellent of the resin composition when it is applied to the coated surface of the resin composition, that is, the surface on which the coating layer is formed. .. In addition, in this specification, "hajiki" means that a part of the coated resin composition is repelled from the coated surface and a part of the coated surface is not covered with the resin composition unless otherwise specified. , Means that a state of missing coating occurs. The shape of the coating missing is not particularly limited. Further, the resin composition does not deteriorate the base material when used for forming the coating layer in the production of a laminate in which the base material, the conductive layer and the coating layer are laminated in this order. For example, white turbidity does not occur due to erosion of the base material.

<ポリウレタン(メタ)アクリレート>
前記樹脂組成物において、ポリウレタン(メタ)アクリレートは、特に限定されず、エネルギー線の照射によって硬化する性質を有する、すなわちエネルギー線硬化性のものであれば、特に限定されない。
<Polyurethane (meth) acrylate>
In the resin composition, the polyurethane (meth) acrylate is not particularly limited, and is not particularly limited as long as it has a property of being cured by irradiation with energy rays, that is, an energy ray-curable one.

なお、本明細書において、「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート」及び「メタクリレート」の両方を包含する概念である。「(メタ)アクリレート」と類似の用語につても同様であり、例えば、「(メタ)アクリル酸」とは、「アクリル酸」及び「メタクリル酸」の両方を包含する概念であり、「(メタ)アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」及び「メタクリロイル基」の両方を包含する概念である。 In addition, in this specification, "(meth) acrylate" is a concept including both "acrylate" and "methacrylate". The same applies to terms similar to "(meth) acrylate". For example, "(meth) acrylic acid" is a concept that includes both "acrylic acid" and "methacrylic acid", and "(meth) acrylate" is used. ) "Acryloyl group" is a concept that includes both "acryloyl group" and "methacrylic acid group".

ポリウレタン(メタ)アクリレートの重量平均分子量は、特に限定されないが、500〜30000であることが好ましく、800〜20000であることがより好ましく、1200〜15000であることが特に好ましい。 The weight average molecular weight of the polyurethane (meth) acrylate is not particularly limited, but is preferably 500 to 30,000, more preferably 800 to 20,000, and particularly preferably 1200 to 15,000.

前記樹脂組成物において、ポリウレタン(メタ)アクリレートは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよく、2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に選択できる。 In the resin composition, one type of polyurethane (meth) acrylate may be used alone, two or more types may be used in combination, and when two or more types are used in combination, the combination and ratio thereof are arbitrary. Can be selected.

<アクリル酸エステル>
前記樹脂組成物において、アクリル酸エステル(アクリレート)は、特に限定されず、例えば、アクリル酸アルキルエステル(アルキルアクリレート)、アクリル酸アリールエステル(アリールアクリレート)、アクリル酸アラルキルエステル(アラルキルアクリレート)等から適宜選択できる。
<Acrylic acid ester>
In the resin composition, the acrylic acid ester (acrylate) is not particularly limited, and for example, acrylic acid alkyl ester (alkyl acrylate), acrylic acid aryl ester (aryl acrylate), acrylic acid aralkyl ester (aralkyl acrylate) and the like can be appropriately selected. You can choose.

前記樹脂組成物において、アクリル酸エステルは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよく、2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に選択できる。 In the resin composition, one type of acrylic acid ester may be used alone, two or more types may be used in combination, and when two or more types are used in combination, the combination and ratio thereof are arbitrarily selected. it can.

前記樹脂組成物において、配合成分の総量に対する、ポリウレタン(メタ)アクリレート及びアクリル酸エステルの合計配合量(すなわち樹脂成分の配合量)の割合は、14質量%以上であることが好ましく、15質量%以上であることがより好ましい。前記割合が前記下限値以上であることで、基材を劣化させず、前記樹脂組成物のハジキの発生を抑制する効果がより高くなる。
さらに、形成される被覆層において、滲みが高度に抑制され、かつ表面平滑性がより高くなる点から、前記割合は、16.5質量%以上であることが好ましく、17質量%以上であることがより好ましく、17.5質量%以上であることが特に好ましい。
In the resin composition, the ratio of the total blending amount of the polyurethane (meth) acrylate and the acrylic acid ester (that is, the blending amount of the resin component) to the total blending component is preferably 14% by mass or more, preferably 15% by mass. The above is more preferable. When the ratio is at least the lower limit value, the effect of suppressing the generation of cissing of the resin composition without deteriorating the base material becomes higher.
Further, in the formed coating layer, bleeding is highly suppressed and the surface smoothness is further improved, so that the ratio is preferably 16.5% by mass or more, and is 17% by mass or more. Is more preferable, and 17.5% by mass or more is particularly preferable.

前記樹脂組成物において、配合成分の総量に対する、ポリウレタン(メタ)アクリレート及びアクリル酸エステルの合計配合量の割合は、35質量%以下であることが好ましく、30質量%以下であることがより好ましく、26質量%以下であることがさらに好ましく、22質量%以下であることが特に好ましい。前記割合が前記上限値以下であることで、前記樹脂組成物の取り扱い性がより良好となる。 In the resin composition, the ratio of the total amount of the polyurethane (meth) acrylate and the acrylic acid ester to the total amount of the components is preferably 35% by mass or less, more preferably 30% by mass or less. It is more preferably 26% by mass or less, and particularly preferably 22% by mass or less. When the ratio is not more than the upper limit value, the handleability of the resin composition becomes better.

前記樹脂組成物においては、配合成分の総量に対する、ポリウレタン(メタ)アクリレート及びアクリル酸エステルの合計配合量の割合を、上述のいずれかの下限値及び上限値を任意に組み合わせて設定される範囲内に含まれるように、調節できる。 In the resin composition, the ratio of the total blending amount of the polyurethane (meth) acrylate and the acrylic acid ester to the total blending component is within a range set by arbitrarily combining any of the above lower limit values and upper limit values. Can be adjusted to be included in.

前記樹脂組成物において、ポリウレタン(メタ)アクリレート及びアクリル酸エステルの配合量の比は、[ポリウレタン(メタ)アクリレートの配合量(質量)]:[アクリル酸エステルの配合量(質量)]の質量比で表して、45:55〜95:5であることが好ましく、50:50〜90:10であることがより好ましく、55:45〜85:15であることがさらに好ましく、60:40〜80:20であることが特に好ましい。前記配合量の比がこのような範囲内であることで、基材を劣化させず、前記樹脂組成物のハジキの発生を抑制する効果がより高くなる。 In the resin composition, the ratio of the blending amounts of polyurethane (meth) acrylate and acrylic acid ester is the mass ratio of [blending amount (mass) of polyurethane (meth) acrylate]: [blending amount (mass) of acrylic acid ester]. It is preferably 45:55 to 95: 5, more preferably 50:50 to 90:10, further preferably 55:45 to 85:15, and 60:40 to 80. : 20 is particularly preferable. When the ratio of the blending amounts is within such a range, the effect of suppressing the generation of cissing of the resin composition without deteriorating the base material becomes higher.

<ケトアルコール>
前記ケトアルコールは、1分子中にカルボニル基及び水酸基をともに有し、エーテル結合を有さず、常温で液状の化合物であれば、特に限定されない。すなわち、ケトアルコールには、前記アルコールエーテルは含まれない。
なお、本明細書において、「常温」とは、特に冷やしたり、熱したりしない温度、すなわち平常の温度を意味し、例えば、15〜30℃の温度等が挙げられる。
<Ket alcohol>
The ketoalcohol is not particularly limited as long as it is a compound having both a carbonyl group and a hydroxyl group in one molecule, having no ether bond, and being liquid at room temperature. That is, the ketoalcohol does not contain the alcohol ether.
In addition, in this specification, "room temperature" means a temperature which is not particularly cooled or heated, that is, a normal temperature, and examples thereof include a temperature of 15 to 30 ° C.

例えば、前記ケトアルコールは、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれであってもよく、環状である場合、単環状及び多環状のいずれであってもよい。 For example, the ketoalcohol may be linear, branched or cyclic, and when cyclic, it may be monocyclic or polycyclic.

1分子のケトアルコールが有するカルボニル基及び水酸基の数は、それぞれ1個でもよいし、2個以上でもよく、特に限定されない。
1分子のケトアルコールが有するカルボニル基及び水酸基の数は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよいが、互いに同一であることが好ましい。
1分子のケトアルコールが有するカルボニル基及び水酸基の数は、いずれも2個以下であることが好ましく、いずれも1個であることがより好ましい。
The number of carbonyl groups and hydroxyl groups contained in one molecule of ketoalcohol may be one or two or more, and is not particularly limited.
The number of carbonyl groups and hydroxyl groups contained in one molecule of ketoalcohol may be the same or different from each other, but it is preferable that they are the same.
The number of carbonyl groups and hydroxyl groups contained in one molecule of ketoalcohol is preferably 2 or less, and more preferably 1 each.

ケトアルコールにおける、カルボニル基及び水酸基の結合位置は、特に限定されない。例えば、ケトアルコールが鎖状構造を有する場合、水酸基は主鎖の末端部に存在していてもよいし、非末端部に存在していてもよい。
なお、本明細書において、鎖状構造を有する化合物の「主鎖」とは、「鎖状骨格を構成している原子数が最も多い部位」を意味する。
The bonding positions of the carbonyl group and the hydroxyl group in the keto alcohol are not particularly limited. For example, when the ketoalcohol has a chain structure, the hydroxyl group may be present at the terminal portion of the main chain or at the non-terminal portion.
In the present specification, the "main chain" of a compound having a chain structure means "a site having the largest number of atoms constituting the chain skeleton".

ケトアルコールのSP値は、10.4〜11.0であることが好ましく、10.6〜11.0であることがより好ましい。ケトアルコールのSP値がこのような範囲内であることで、基材を劣化させず、前記樹脂組成物のハジキの発生を抑制する効果がより高くなる。 The SP value of ketoalcohol is preferably 10.4 to 11.0, more preferably 10.6 to 11.0. When the SP value of the ketoalcohol is within such a range, the effect of suppressing the generation of repellent of the resin composition without deteriorating the base material becomes higher.

好ましいケトアルコールとしては、例えば、ジアセトンアルコール(4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、SP値10.8)等が挙げられる。 Preferred keto alcohols include, for example, diacetone alcohol (4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, SP value 10.8) and the like.

前記樹脂組成物において、ケトアルコールは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよく、2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に選択できる。 In the resin composition, one type of ketoalcohol may be used alone, two or more types may be used in combination, and when two or more types are used in combination, the combination and ratio thereof can be arbitrarily selected. ..

<アルコールエーテル>
前記アルコールエーテルは、1分子中に水酸基及びエーテル結合をともに有し、カルボニル基を有さず、常温で液状の化合物であれば、特に限定されない。すなわち、アルコールエーテルには、前記ケトアルコールは含まれない。
<Alcohol ether>
The alcohol ether is not particularly limited as long as it is a compound which has both a hydroxyl group and an ether bond in one molecule, does not have a carbonyl group, and is liquid at room temperature. That is, the alcohol ether does not contain the keto alcohol.

例えば、前記アルコールエーテルは、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれであってもよく、環状である場合、単環状及び多環状のいずれであってもよい。 For example, the alcohol ether may be linear, branched chain or cyclic, and when it is cyclic, it may be monocyclic or polycyclic.

1分子のアルコールエーテルが有する水酸基及びエーテル結合の数は、それぞれ1個でもよいし、2個以上でもよく、特に限定されない。
1分子のアルコールエーテルが有する水酸基及びエーテル結合の数は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよいが、互いに同一であることが好ましい。
1分子のアルコールエーテルが有する水酸基及びエーテル結合の数は、いずれも2個以下であることが好ましく、いずれも1個であることがより好ましい。
The number of hydroxyl groups and ether bonds of one molecule of alcohol ether may be one or two or more, and is not particularly limited.
The number of hydroxyl groups and ether bonds of one molecule of alcohol ether may be the same or different from each other, but it is preferable that they are the same.
The number of hydroxyl groups and ether bonds of one molecule of alcohol ether is preferably 2 or less, and more preferably 1 of each.

アルコールエーテルにおける、水酸基及びエーテル結合の結合位置は、特に限定されない。例えば、アルコールエーテルが鎖状構造を有する場合、水酸基は主鎖の末端部に存在していてもよいし、非末端部に存在していてもよい。 The bonding position of the hydroxyl group and the ether bond in the alcohol ether is not particularly limited. For example, when the alcohol ether has a chain structure, the hydroxyl group may be present at the terminal portion of the main chain or at the non-terminal portion.

アルコールエーテルのSP値は、9.3〜10.3であることが好ましく、9.5〜10.3であることがより好ましい。アルコールエーテルのSP値がこのような範囲内であることで、基材を劣化させず、前記樹脂組成物のハジキの発生を抑制する効果がより高くなる。 The SP value of the alcohol ether is preferably 9.3 to 10.3, more preferably 9.5 to 10.3. When the SP value of the alcohol ether is within such a range, the effect of suppressing the generation of cissing of the resin composition without deteriorating the base material becomes higher.

好ましいアルコールエーテルとしては、例えば、エチレングリコールモノプロピルエーテル(SP値10.2)、1−ブトキシ−2−プロパノール(プロピレングリコール1−モノ−n−ブチルエーテル、SP値9.7)等が挙げられる。 Preferred alcohol ethers include, for example, ethylene glycol monopropyl ether (SP value 10.2), 1-butoxy-2-propanol (propylene glycol 1-mono-n-butyl ether, SP value 9.7) and the like.

前記樹脂組成物において、アルコールエーテルは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよく、2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に選択できる。 In the resin composition, one type of alcohol ether may be used alone, two or more types may be used in combination, and when two or more types are used in combination, the combination and ratio thereof can be arbitrarily selected. ..

前記樹脂組成物において、ケトアルコールのSP値と、アルコールエーテルのSP値は、いずれも上述の好ましい数値範囲であることが好ましい。 In the resin composition, the SP value of keto alcohol and the SP value of alcohol ether are both preferably in the above-mentioned preferable numerical range.

前記樹脂組成物において、ケトアルコールのSP値と、アルコールエーテルのSP値と、の差([ケトアルコールのSP値]−[アルコールエーテルのSP値])は、0.4以上であることが好ましく、0.5以上であることがより好ましい。前記SP値の差が前記下限値以上であることで、基材を劣化させず、前記樹脂組成物のハジキの発生を抑制する効果がより高くなる。
一方、前記SP値の差の上限値は、特に限定されないが、例えば、1.3とすることができる。
前記樹脂組成物においては、上述のいずれかの下限値及び上限値を任意に組み合わせて設定される範囲内に含まれるように、前記SP値の差を調節できる。
In the resin composition, the difference between the SP value of keto alcohol and the SP value of alcohol ether ([SP value of keto alcohol]-[SP value of alcohol ether]) is preferably 0.4 or more. , 0.5 or more is more preferable. When the difference between the SP values is not more than the lower limit value, the effect of suppressing the generation of cissing of the resin composition without deteriorating the base material becomes higher.
On the other hand, the upper limit of the difference between the SP values is not particularly limited, but may be, for example, 1.3.
In the resin composition, the difference between the SP values can be adjusted so as to be included in a range set by arbitrarily combining any of the above lower limit values and upper limit values.

前記樹脂組成物において、配合成分の総量に対する、ケトアルコール及びアルコールエーテルの合計配合量の割合は、65〜86質量%であることが好ましく、70〜85質量%であることがより好ましく、74〜84質量%であることが特に好ましい。前記割合がこのような範囲であることで、基材を劣化させず、前記樹脂組成物のハジキの発生を抑制する効果がより高くなる。 In the resin composition, the ratio of the total amount of ketoalcohol and alcohol ether to the total amount of the components is preferably 65 to 86% by mass, more preferably 70 to 85% by mass, and 74 to 74 to It is particularly preferably 84% by mass. When the ratio is in such a range, the effect of suppressing the generation of cissing of the resin composition without deteriorating the base material becomes higher.

前記樹脂組成物において、ケトアルコール及びアルコールエーテルの配合量の比は、[ケトアルコールの配合量(質量)]:[アルコールエーテルの配合量(質量)]の質量比で表して、80:20〜20:80であることが好ましく、76:24〜24:76であることがより好ましく、72:28〜28:72であることが特に好ましい。前記配合量の比がこのような範囲内であることで、基材を劣化させず、前記樹脂組成物のハジキの発生を抑制する効果がより高くなる。 In the resin composition, the ratio of the blending amounts of ketoalcohol and alcohol ether is expressed by the mass ratio of [blending amount of ketoalcohol (mass)]: [blending amount of alcohol ether (mass)], and is from 80:20. It is preferably 20:80, more preferably 76:24 to 24:76, and particularly preferably 72:28 to 28:72. When the ratio of the blending amounts is within such a range, the effect of suppressing the generation of cissing of the resin composition without deteriorating the base material becomes higher.

<硬化剤>
前記樹脂組成物は、前記ポリウレタン(メタ)アクリレート、アクリル酸エステル、ケトアルコール及びアルコールエーテル以外に、硬化剤が配合されてなるものが好ましい。
前記硬化剤は、公知のものでよく、目的に応じて適宜選択すればよい。
前記樹脂組成物において、硬化剤は1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよく、2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に選択できる。
<Hardener>
The resin composition preferably contains a curing agent in addition to the polyurethane (meth) acrylate, acrylic acid ester, keto alcohol and alcohol ether.
The curing agent may be a known one, and may be appropriately selected depending on the intended purpose.
In the resin composition, one type of curing agent may be used alone, two or more types may be used in combination, and when two or more types are used in combination, the combination and ratio thereof can be arbitrarily selected. ..

前記樹脂組成物において、ポリウレタン(メタ)アクリレート及びアクリル酸エステルの合計配合量(すなわち樹脂成分の配合量)に対する、硬化剤の配合量の割合は、1〜10質量%であることが好ましく、2〜8質量%であることがより好ましく、3〜7質量%であることが特に好ましい。前記割合が前記下限値以上であることで、硬化剤を用いたことによる効果が、より顕著に得られる。また、前記割合が前記上限値以下であることで、硬化剤の過剰使用が抑制される。 In the resin composition, the ratio of the amount of the curing agent to the total amount of the polyurethane (meth) acrylate and the acrylic acid ester (that is, the amount of the resin component) is preferably 1 to 10% by mass, 2 It is more preferably about 8% by mass, and particularly preferably 3 to 7% by mass. When the ratio is at least the lower limit value, the effect of using the curing agent can be obtained more remarkably. Further, when the ratio is not more than the upper limit value, excessive use of the curing agent is suppressed.

<添加剤>
前記樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内において、前記ポリウレタン(メタ)アクリレート、アクリル酸エステル、ケトアルコール、アルコールエーテル及び硬化剤のいずれにも該当しない、公知の各種添加剤が配合されてなるものでもよい。
前記樹脂組成物において、添加剤は1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよく、2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に選択できる。
前記樹脂組成物における、添加剤の配合量は、添加剤の種類に応じて適宜選択すればよく、特に限定されない。
好ましい添加剤としては、例えば、マイグレーション抑制剤、界面活性剤等が挙げられる。
<Additives>
The resin composition contains various known additives that do not fall under any of the polyurethane (meth) acrylate, acrylic acid ester, keto alcohol, alcohol ether and curing agent within a range that does not impair the effects of the present invention. It may be made of alcohol.
In the resin composition, one type of additive may be used alone, two or more types may be used in combination, and when two or more types are used in combination, the combination and ratio thereof can be arbitrarily selected. ..
The blending amount of the additive in the resin composition may be appropriately selected according to the type of the additive, and is not particularly limited.
Preferred additives include, for example, migration inhibitors, surfactants and the like.

[マイグレーション抑制剤]
前記樹脂組成物は、後述するように、基材、導電層及び被覆層がこの順に、これらの厚さ方向において積層されてなる積層体中の、被覆層を形成するものとして好適である。このような積層体については、後ほど詳細に説明する。また、このような被覆層の形成に用いる前記樹脂組成物を、本明細書においては特に「被覆層用組成物」と称することがある。
前記マイグレーション抑制剤は、このような積層体において、基材上での導電層の形成位置が変化(導電層がマイグレーション)することを抑制するための成分である。導電層のマイグレーションは、例えば、導電層がラインアンドスペースパターンにパターニングされている場合、隣り合うライン間で生じ易い。
[Migration inhibitor]
As will be described later, the resin composition is suitable for forming a coating layer in a laminate in which a base material, a conductive layer, and a coating layer are laminated in this order in the thickness direction thereof. Such a laminate will be described in detail later. Further, the resin composition used for forming such a coating layer may be particularly referred to as a "coating layer composition" in the present specification.
The migration inhibitor is a component for suppressing a change in the formation position of the conductive layer on the base material (migration of the conductive layer) in such a laminated body. Migration of the conductive layer is likely to occur between adjacent lines, for example, when the conductive layer is patterned in a line-and-space pattern.

マイグレーション抑制剤としては、例えば、1,2,3−ベンゾトリアゾール、1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール、1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]メチルベンゾトリアゾール、2,2’−[[(メチル−1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)メチル]イミノ]ビスエタノール、5−メチルベンゾトリアゾール、1,2−ビス[3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)プロピオニル]ヒドラジン等が挙げられる。 Examples of the migration inhibitor include 1,2,3-benzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] benzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) amino. Methyl] methylbenzotriazole, 2,2'-[[(methyl-1H-benzotriazole-1-yl) methyl] imino] bisethanol, 5-methylbenzotriazole, 1,2-bis [3- (4-hydroxy) -3,5-di-tert-butylphenyl) propionyl] hydrazine and the like.

前記樹脂組成物において、ポリウレタン(メタ)アクリレート及びアクリル酸エステルの合計配合量(すなわち樹脂成分の配合量)に対する、マイグレーション抑制剤の配合量の割合は、1〜10質量%であることが好ましく、2〜8質量%であることがより好ましく、3〜7質量%であることが特に好ましい。前記割合が前記下限値以上であることで、マイグレーション抑制剤を用いたことによる効果が、より顕著に得られる。また、前記割合が前記上限値以下であることで、基材を劣化させず、前記樹脂組成物のハジキの発生を抑制する効果と、マイグレーション抑制剤を用いたことによる効果とが、より優れたバランスで得られる。 In the resin composition, the ratio of the blending amount of the migration inhibitor to the total blending amount of the polyurethane (meth) acrylate and the acrylic acid ester (that is, the blending amount of the resin component) is preferably 1 to 10% by mass. It is more preferably 2 to 8% by mass, and particularly preferably 3 to 7% by mass. When the ratio is at least the lower limit value, the effect of using the migration inhibitor can be obtained more remarkably. Further, when the ratio is not more than the upper limit value, the effect of suppressing the generation of cissing of the resin composition without deteriorating the base material and the effect of using the migration inhibitor are more excellent. Obtained in balance.

[界面活性剤]
前記界面活性剤は、公知のものでよく、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤及びノニオン界面活性剤のいずれでもよく、目的に応じて適宜選択すればよい。
[Surfactant]
The surfactant may be a known one, and may be any of an anionic surfactant, a cationic surfactant, an amphoteric surfactant and a nonionic surfactant, and may be appropriately selected depending on the intended purpose.

なかでも、前記界面活性剤は、ノニオン界面活性剤であることが好ましい。
ノニオン界面活性剤は、フッ素原子を有するものが好ましく、フルオロアルケニル基を有するものがより好ましく、パーフルオロアルケニル基を有するものが特に好ましい。
Among them, the surfactant is preferably a nonionic surfactant.
The nonionic surfactant preferably has a fluorine atom, more preferably has a fluoroalkenyl group, and particularly preferably has a perfluoroalkenyl group.

前記樹脂組成物において、界面活性剤は1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよく、2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に選択できる。 In the resin composition, one type of surfactant may be used alone, two or more types may be used in combination, and when two or more types are used in combination, the combination and ratio thereof may be arbitrarily selected. it can.

界面活性剤を用いる場合、前記樹脂組成物において、配合成分の総量に対する、界面活性剤の配合量の割合は、0.05〜1質量%であることが好ましく、0.05〜0.5質量%であることがより好ましい。前記割合が前記下限値以上であることで、界面活性剤を用いたことによる効果が、より顕著に得られる。また、前記割合が前記上限値以下であることで、界面活性剤の過剰使用が抑制される。 When a surfactant is used, the ratio of the blending amount of the surfactant to the total amount of the blending components in the resin composition is preferably 0.05 to 1% by mass, preferably 0.05 to 0.5% by mass. More preferably. When the ratio is at least the lower limit value, the effect of using the surfactant can be obtained more remarkably. Further, when the ratio is not more than the upper limit value, excessive use of the surfactant is suppressed.

<他の溶媒>
前記樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内において、前記ケトアルコール及びアルコールエーテル以外に、溶媒(本明細書においては、「他の溶媒」と略記することがある)が配合されていてもよい。他の溶媒を配合することで、前記樹脂組成物の特性を調節できることがある。
前記他の溶媒は特に限定されず、目的に応じて適宜選択すればよい。
<Other solvents>
In addition to the ketoalcohol and alcohol ether, a solvent (may be abbreviated as "other solvent" in the present specification) is blended in the resin composition as long as the effect of the present invention is not impaired. You may. By blending another solvent, the characteristics of the resin composition may be adjusted.
The other solvent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose.

前記他の溶媒としては、例えば、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン等の芳香族炭化水素;ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素;エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール(イソブチルアルコール)、2−メチル−2−プロパノール(tert−ブチルアルコール)等の一価アルコール;エチレングリコール(1,2−エタンジオール)、プロピレングリコール(1,2−プロパンジオール)、ジエチレングリコール(2,2’−オキシジエタノール)等のニ価アルコールをはじめとする多価アルコール;2−アミノエタノール、3−アミノ−1−プロパノール、4−アミノ−1−ブタノール等のアミノアルコール(アミノ基及び水酸基を有する化合物);ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素;酢酸エチル、グルタル酸モノメチル、グルタル酸ジメチル等のエステル;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、1,2−ジメトキシエタン(ジメチルセロソルブ)等のエーテル;アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、シクロヘキサノン、2,6−ジメチル−4−ヘプタノン、イソホロン等のケトン;アセトニトリル等のニトリル;N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド等が挙げられるが、これらに限定されない。 Examples of the other solvent include aromatic hydrocarbons such as toluene, o-xylene, m-xylene and p-xylene; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; ethanol, 1-propanol and 2-propanol. , 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol (isobutyl alcohol), 2-methyl-2-propanol (tert-butyl alcohol) and other monovalent alcohols; ethylene glycol (1,2-ethanediol) , Polyvalent alcohols including dihydric alcohols such as propylene glycol (1,2-propanediol), diethylene glycol (2,2'-oxydiethanol); 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 4- Amino alcohols such as amino-1-butanol (compounds having amino groups and hydroxyl groups); halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform; esters such as ethyl acetate, monomethyl glutarate, dimethyl glutarate; diethyl ether, tetrahydrofuran (THF) , Ethers such as 1,2-dimethoxyethane (dimethylcellosolve); ketones such as acetone, methylethylketone (MEK), cyclohexanone, 2,6-dimethyl-4-heptanone, isophorone; nitriles such as acetonitrile; N, N-dimethylformamide Examples thereof include, but are not limited to, amides such as (DMF) and N, N-dimethylacetamide.

なお、本発明においては、特に断りのない限り、ケトンはケトアルコールを含まないものとする。すなわち、本発明において、ケトンとは水酸基(−OH)を含まないものであり、ケトンをケトアルコールとは異なるものとして区別する。
また、本発明においては、特に断りのない限り、アルコールはケトアルコール及びアルコールエーテルを含まないものとする。すなわち、本発明において、アルコールとはカルボニル基(−C(=O)−)及びエーテル結合(−O−)をともに含まないものであり、アルコールをケトアルコール及びアルコールエーテルとは異なるものとして区別する。
In the present invention, the ketone shall not contain ketoalcohol unless otherwise specified. That is, in the present invention, the ketone is one that does not contain a hydroxyl group (-OH), and the ketone is distinguished as being different from the keto alcohol.
Further, in the present invention, unless otherwise specified, the alcohol does not contain keto alcohol and alcohol ether. That is, in the present invention, the alcohol does not contain both a carbonyl group (-C (= O)-) and an ether bond (-O-), and the alcohol is distinguished from ketoalcohol and alcohol ether. ..

前記樹脂組成物において、他の溶媒は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよく、2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に選択できる。 In the resin composition, one type of other solvent may be used alone, two or more types may be used in combination, and when two or more types are used in combination, the combination and ratio thereof can be arbitrarily selected. ..

前記樹脂組成物における、他の溶媒の配合量は特に限定されず、他の溶媒の種類に応じて適宜調節すればよい。
例えば、他の溶媒のSP値が、前記ケトアルコールの好ましいSP値(すなわち、SP値10.4〜11.0)、及び前記アルコールエーテルの好ましいSP値(すなわち、SP値9.3〜10.3)の、いずれかに含まれる場合には、前記樹脂組成物において、前記ケトアルコール及びアルコールエーテルの合計配合量に対する、他の溶媒の配合量の割合は、0〜10質量%、0〜5質量%、及び0〜2質量%のいずれかとすることができる。ただし、これは一例である。
一方、他の溶媒のSP値が、前記ケトアルコールの好ましいSP値(すなわち、SP値10.4〜11.0)、及び前記アルコールエーテルの好ましいSP値(すなわち、SP値9.3〜10.3)の、いずれにも含まれない場合には、前記樹脂組成物において、前記ケトアルコール及びアルコールエーテルの合計配合量に対する、他の溶媒の配合量の割合は、0〜3質量%であることが好ましく、0〜1質量%であることがより好ましい。
The blending amount of the other solvent in the resin composition is not particularly limited, and may be appropriately adjusted according to the type of the other solvent.
For example, the SP values of other solvents are the preferred SP value of the keto alcohol (ie, SP value 10.4 to 11.0) and the preferred SP value of the alcohol ether (ie, SP value 9.3-10. When it is contained in any of 3), the ratio of the amount of the other solvent to the total amount of the ketoalcohol and the alcohol ether in the resin composition is 0 to 10% by mass and 0 to 5. It can be either% by mass and 0 to 2% by mass. However, this is just an example.
On the other hand, the SP values of the other solvents are the preferable SP value of the keto alcohol (that is, SP value 10.4 to 11.0) and the preferable SP value of the alcohol ether (that is, SP value 9.3 to 10. When it is not contained in any of 3), the ratio of the blending amount of the other solvent to the total blending amount of the keto alcohol and the alcohol ether in the resin composition is 0 to 3% by mass. Is preferable, and 0 to 1% by mass is more preferable.

<他の樹脂>
前記樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内において、前記ポリウレタン(メタ)アクリレート及びアクリル酸エステル以外の樹脂(本明細書においては、「他の樹脂」と略記することがある)が配合されていてもよい。他の樹脂を配合することで、前記樹脂組成物の特性を調節できることがある。
前記他の樹脂は特に限定されず、エネルギー線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂のいずれであってもよく、目的に応じて適宜選択すればよい。
<Other resins>
The resin composition is a resin other than the polyurethane (meth) acrylate and the acrylic acid ester (in this specification, it may be abbreviated as "other resin") within a range not impairing the effect of the present invention. It may be blended. By blending other resins, the characteristics of the resin composition may be adjusted.
The other resin is not particularly limited, and may be either an energy ray-curable resin or a thermosetting resin, and may be appropriately selected depending on the intended purpose.

前記樹脂組成物において、他の樹脂は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよく、2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に選択できる。 In the resin composition, one type of other resin may be used alone, two or more types may be used in combination, and when two or more types are used in combination, the combination and ratio thereof can be arbitrarily selected. ..

前記樹脂組成物における、他の樹脂の配合量は特に限定されず、他の樹脂の種類に応じて適宜調節すればよい。
通常は、前記樹脂組成物において、前記ポリウレタン(メタ)アクリレート及びアクリル酸エステルの合計配合量に対する、他の樹脂の配合量の割合は、0〜5質量%であることが好ましく、0〜3質量%であることがより好ましく、0〜1質量%であることが特に好ましい。
The blending amount of the other resin in the resin composition is not particularly limited, and may be appropriately adjusted according to the type of the other resin.
Usually, in the resin composition, the ratio of the blending amount of the other resin to the total blending amount of the polyurethane (meth) acrylate and the acrylic acid ester is preferably 0 to 5% by mass, preferably 0 to 3% by mass. It is more preferably%, and particularly preferably 0 to 1% by mass.

後述する実施例に記載の方法で測定された、前記樹脂組成物の25℃における粘度は、5〜13.5mPa・sであることが好ましく、6〜13.5mPa・sであることがより好ましく、7〜13.5mPa・sであることがさらに好ましく、7.5〜13.5mPa・sであることが特に好ましい。前記粘度がこのような範囲であることで、基材を劣化させず、前記樹脂組成物のハジキの発生を抑制する効果がより高くなる。
前記樹脂組成物のハジキの発生を抑制するという観点では、前記粘度は、例えば、5.3〜13.5mPa・sであってもよい。
The viscosity of the resin composition at 25 ° C., measured by the method described in Examples described later, is preferably 5 to 13.5 mPa · s, more preferably 6 to 13.5 mPa · s. , 7 to 13.5 mPa · s is more preferable, and 7.5 to 13.5 mPa · s is particularly preferable. When the viscosity is in such a range, the effect of suppressing the generation of cissing of the resin composition without deteriorating the base material becomes higher.
From the viewpoint of suppressing the generation of cissing of the resin composition, the viscosity may be, for example, 5.3 to 13.5 mPa · s.

後述する実施例に記載の方法で測定された、前記樹脂組成物の25℃における表面張力は、22.5〜29.8mN/mであることが好ましく、22.7〜29.7mN/mであることがより好ましく、22.9〜29.6mN/mであることがより好ましく、23.1〜29.5mN/mであることが特に好ましい。前記表面張力がこのような範囲であることで、基材を劣化させず、前記樹脂組成物のハジキの発生を抑制する効果がより高くなる。 The surface tension of the resin composition at 25 ° C., measured by the method described in Examples described later, is preferably 22.5 to 29.8 mN / m, preferably 22.7 to 29.7 mN / m. It is more preferably 22.9 to 29.6 mN / m, and particularly preferably 23.1 to 29.5 mN / m. When the surface tension is in such a range, the effect of suppressing the generation of cissing of the resin composition is further enhanced without deteriorating the base material.

前記樹脂組成物においては、前記粘度及び表面張力がいずれも上述の好ましい数値範囲であることが好ましい。 In the resin composition, it is preferable that both the viscosity and the surface tension are in the above-mentioned preferable numerical range.

前記樹脂組成物は、先に説明したように、基材、導電層及び被覆層がこの順に積層されてなる積層体の製造時において、被覆層を形成するために使用することが好適なものである。ただし、前記樹脂組成物の使用対象は、これに限定されるものではなく、通常の樹脂組成物の使用時に、ハジキの発生が懸念される塗工面全般に使用可能である。 As described above, the resin composition is preferably used for forming a coating layer in the production of a laminate in which a base material, a conductive layer and a coating layer are laminated in this order. is there. However, the target of use of the resin composition is not limited to this, and it can be used on the entire coated surface where there is a concern that cissing may occur when using a normal resin composition.

<<樹脂組成物の製造方法>>
前記樹脂組成物は、前記ポリウレタン(メタ)アクリレート、アクリル酸エステル、ケトアルコール、アルコールエーテル、及び必要に応じて、これらのいずれにも該当しない他の成分を配合することで得られる。ここで、「他の成分」としては、例えば、前記硬化剤、添加剤、他の溶媒及び他の樹脂等が挙げられる。
<< Manufacturing method of resin composition >>
The resin composition can be obtained by blending the polyurethane (meth) acrylate, acrylic acid ester, keto alcohol, alcohol ether, and, if necessary, other components not corresponding to any of these. Here, examples of the "other component" include the curing agent, additives, other solvents, other resins, and the like.

前記樹脂組成物の製造時において、各成分の配合後は、得られたものをそのまま樹脂組成物としてもよいし、必要に応じて引き続き公知の精製操作を行って得られたものを樹脂組成物としてもよい。 At the time of producing the resin composition, after blending each component, the obtained one may be used as it is as the resin composition, or if necessary, the obtained one obtained by continuously performing a known purification operation is used as the resin composition. May be.

各成分の配合時には、すべての成分を添加してからこれらを混合してもよいし、一部の成分を順次添加しながら混合してもよく、すべての成分を順次添加しながら混合してもよい。
混合方法は特に限定されず、撹拌子又は撹拌翼等を回転させて混合する方法;ミキサー、三本ロール、ニーダー又はビーズミル等を使用して混合する方法;超音波を加えて混合する方法等、公知の方法から適宜選択すればよい。
When blending each component, all the components may be added and then mixed, some components may be added sequentially and mixed, or all components may be added sequentially and mixed. Good.
The mixing method is not particularly limited, and a method of rotating and mixing a stirrer or a stirring blade or the like; a method of mixing using a mixer, a three-roll roll, a kneader or a bead mill or the like; a method of adding ultrasonic waves and the like, etc. It may be appropriately selected from known methods.

配合時の温度は、各配合成分が劣化しない限り特に限定されないが、15〜50℃であることが好ましい。そして、配合時の温度は、配合成分の種類及び量に応じて、配合して得られた混合物が撹拌し易い粘度となるように、適宜調節するとよい。
また、配合時間も、各配合成分が劣化しない限り特に限定されないが、配合成分が均一に溶解又は分散するのに必要な時間であることが好ましく、例えば、10分〜12時間であることが好ましい。
The temperature at the time of compounding is not particularly limited as long as each compounding component is not deteriorated, but is preferably 15 to 50 ° C. Then, the temperature at the time of blending may be appropriately adjusted according to the type and amount of the blending component so that the mixture obtained by blending has a viscosity that makes it easy to stir.
The blending time is also not particularly limited as long as each blending component is not deteriorated, but is preferably the time required for the blended components to be uniformly dissolved or dispersed, and is preferably 10 minutes to 12 hours, for example. ..

<<第2樹脂組成物>>
ここまでは、ポリウレタン(メタ)アクリレート、アクリル酸エステル、ケトアルコール及びアルコールエーテルが配合されてなる樹脂組成物について説明した。そして、ケトアルコールのSP値が10.4〜11.0であることが好ましく、アルコールエーテルのSP値が9.3〜10.3であることが好ましいことについても、説明した。
一方、ポリウレタン(メタ)アクリレート、アクリル酸エステル、SP値が10.4〜11.0である溶媒、及びSP値が9.3〜10.3である溶媒が配合されてなる樹脂組成物も、上述の本発明の樹脂組成物と同様の効果を奏する。本明細書においては、前者を「第2樹脂組成物」と称し、この第2樹脂組成物と区別するために、先に詳細に説明した後者の樹脂組成物を「第1樹脂組成物」と称することがある。すなわち、第2樹脂組成物も、前記積層体の製造時において、被覆層の形成に使用可能であり、基材を劣化させることなく、被覆層の形成時にハジキの発生を抑制できる。
<< Second Resin Composition >>
Up to this point, a resin composition containing polyurethane (meth) acrylate, acrylic acid ester, keto alcohol and alcohol ether has been described. It was also explained that the SP value of ketoalcohol is preferably 10.4 to 11.0, and the SP value of alcohol ether is preferably 9.3 to 10.3.
On the other hand, a resin composition containing a polyurethane (meth) acrylate, an acrylic acid ester, a solvent having an SP value of 10.4 to 11.0, and a solvent having an SP value of 9.3 to 10.3 is also available. It has the same effect as the above-mentioned resin composition of the present invention. In the present specification, the former is referred to as a "second resin composition", and in order to distinguish it from the second resin composition, the latter resin composition described in detail above is referred to as a "first resin composition". Sometimes referred to. That is, the second resin composition can also be used for forming the coating layer during the production of the laminate, and can suppress the generation of cissing during the formation of the coating layer without deteriorating the base material.

第2樹脂組成物において、SP値が10.4〜11.0である溶媒は、常温で液状であれば、ケトアルコールであってもよいし、ケトアルコール以外の溶媒であってもよい。
また、第2樹脂組成物において、SP値が9.3〜10.3である溶媒は、常温で液状であれば、アルコールエーテルであってもよいし、アルコールエーテル以外の溶媒であってもよい。
In the second resin composition, the solvent having an SP value of 10.4 to 11.0 may be ketoalcohol or a solvent other than ketoalcohol as long as it is liquid at room temperature.
Further, in the second resin composition, the solvent having an SP value of 9.3 to 10.3 may be an alcohol ether or a solvent other than the alcohol ether as long as it is liquid at room temperature. ..

第2樹脂組成物は、ケトアルコールが配合されているのに代わり、ケトアルコールに限定されずにSP値が10.4〜11.0である溶媒が配合され、アルコールエーテルが配合されているのに代わり、アルコールエーテルに限定されずにSP値が9.3〜10.3である溶媒が配合されている点を除けば、第1樹脂組成物と同じものである。 In the second resin composition, instead of containing keto alcohol, a solvent having an SP value of 10.4 to 11.0 is blended without being limited to keto alcohol, and alcohol ether is blended. Instead, it is the same as the first resin composition except that a solvent having an SP value of 9.3 to 10.3 is blended without being limited to alcohol ether.

<<積層体>>
前記樹脂組成物は、基材、導電層及び被覆層がこの順に、これらの厚さ方向において積層されてなる積層体において、被覆層を形成するための材料として好適である。
以下、前記樹脂組成物を用いて製造できる積層体について、詳細に説明する。
<< Laminated body >>
The resin composition is suitable as a material for forming a coating layer in a laminate in which a base material, a conductive layer, and a coating layer are laminated in this order in the thickness direction thereof.
Hereinafter, the laminate that can be produced by using the resin composition will be described in detail.

図1は、本発明の樹脂組成物を用いて得られる積層体の一実施形態を模式的に示す断面図である。なお、以下の説明で用いる図は、説明を分かり易くするために、便宜上、要部となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率等が実際と同じであるとは限らない。 FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of a laminate obtained by using the resin composition of the present invention. In addition, in the figure used in the following description, in order to make the explanation easier to understand, the main part may be enlarged and shown, and the dimensional ratio of each component is the same as the actual one. Is not always.

ここに示す積層体1は、基材11、導電層12及び被覆層13がこの順に、これらの厚さ方向において積層されてなる。換言すると、積層体1は、基材11上に被覆層13を備え、基材11と被覆層13との間に導電層12を備えて、構成されている。被覆層13は、本発明の樹脂組成物を用いて形成されたものである。 The laminate 1 shown here is formed by laminating the base material 11, the conductive layer 12, and the coating layer 13 in this order in the thickness direction thereof. In other words, the laminate 1 is configured by providing a coating layer 13 on the base material 11 and providing a conductive layer 12 between the base material 11 and the coating layer 13. The coating layer 13 is formed by using the resin composition of the present invention.

基材11は、フィルム状又はシート状であることが好ましい。
導電層12は線状であり、基材11の一方の表面(本明細書においては、「第1面」と称することがある)11aの一部の領域に設けられている。導電層12の線長方向(長手方向)は、図1での導電層12の断面に対して直交する方向である。導電層12は、基材11の前記第1面11aに直接接触して積層されている。
被覆層13は、基材11における導電層12の形成面全面を被覆しており、基材11の第1面11aのうち、導電層12が設けられていない領域と、導電層12の表面12aと、に直接接触して積層されている。被覆層13は、フィルム状又はシート状であることが好ましい。なお、図1中、符号13aは、被覆層の表面を示す。
The base material 11 is preferably in the form of a film or a sheet.
The conductive layer 12 is linear and is provided in a part of one surface of the base material 11 (sometimes referred to as a “first surface” in the present specification) 11a. The line length direction (longitudinal direction) of the conductive layer 12 is a direction orthogonal to the cross section of the conductive layer 12 in FIG. The conductive layer 12 is laminated in direct contact with the first surface 11a of the base material 11.
The coating layer 13 covers the entire surface of the base material 11 on which the conductive layer 12 is formed, and is a region of the first surface 11a of the base material 11 where the conductive layer 12 is not provided and the surface 12a of the conductive layer 12. And are laminated in direct contact with. The coating layer 13 is preferably in the form of a film or a sheet. In FIG. 1, reference numeral 13a indicates the surface of the coating layer.

図2は、本発明の樹脂組成物を用いて得られる積層体の他の実施形態を模式的に示す断面図である。なお、図2以降の図において、図1に示すものと同じ構成要素には、図1の場合と同じ符号を付し、その詳細な説明は省略する。
ここ示す積層体2は、導電層22がフィルム状又はシート状であり、基材11の第1面11aの一部又はすべての領域を被覆して積層されており、それに伴い被覆層23の断面形状が異なっている点以外は、図1に示す積層体1と同じものである。図2中、符号22aは、導電層22の表面を示し、符号23aは、被覆層の表面を示す。
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing another embodiment of the laminate obtained by using the resin composition of the present invention. In the drawings after FIG. 2, the same components as those shown in FIG. 1 are designated by the same reference numerals as in the case of FIG. 1, and detailed description thereof will be omitted.
In the laminated body 2 shown here, the conductive layer 22 is in the form of a film or a sheet, and is laminated by covering a part or all the regions of the first surface 11a of the base material 11, and the cross section of the coating layer 23 accordingly. It is the same as the laminated body 1 shown in FIG. 1 except that the shapes are different. In FIG. 2, reference numeral 22a indicates the surface of the conductive layer 22, and reference numeral 23a indicates the surface of the coating layer.

本発明の樹脂組成物を用いて得られる積層体は、図1及び図2に示すものに限定されず、本発明の効果を損なわない範囲内において、例えば、図1及び図2に示すものに他の構成が追加されたり、一部構成が適宜変更されたものでもよい。
例えば、基材の前記表面を上方から見下ろすように、積層体を平面視したときの、導電層の形状は、目的に応じて任意に設定でき、導電層は線状以外の形状にパターニングされていてもよい。線状にパターニングされた導電層は、例えば、配線として有用である。
The laminate obtained by using the resin composition of the present invention is not limited to those shown in FIGS. 1 and 2, and can be, for example, those shown in FIGS. 1 and 2 within a range that does not impair the effects of the present invention. Other configurations may be added, or some configurations may be changed as appropriate.
For example, the shape of the conductive layer when the laminated body is viewed in a plan view so as to look down on the surface of the base material can be arbitrarily set according to the purpose, and the conductive layer is patterned into a shape other than linear. You may. The linearly patterned conductive layer is useful, for example, as wiring.

また、前記積層体は、例えば、基材上に導電層及び被覆層以外のその他の層が設けられたものでもよい。前記その他の層としては、例えば、基材と導電層との間、又は導電層と被覆層との間に設けられた中間層が挙げられる。前記中間層としては、例えば、互いに隣接する層同士の密着性を向上させる密着層や、互いに隣接する層同士を安定して固着させる粘着剤層又は接着剤層等が挙げられるが、目的に応じて適宜選択すればよく、特に限定されない。 Further, the laminate may be, for example, one in which a layer other than the conductive layer and the coating layer is provided on the base material. Examples of the other layer include an intermediate layer provided between the base material and the conductive layer or between the conductive layer and the coating layer. Examples of the intermediate layer include an adhesion layer for improving the adhesion between adjacent layers, an adhesive layer for stably fixing adjacent layers, an adhesive layer, and the like, depending on the purpose. It may be selected as appropriate, and is not particularly limited.

ただし、前記積層体は、前記中間層を有さず、基材に導電層が直接接触して積層され、導電層に被覆層が直接接触して積層されてなるものが好ましい。そして、導電層がパターニングされている場合には、基材の導電層が設けられていない領域に、被覆層が直接接触して積層されてなるものが好ましい。このような積層体においては、本発明の効果がより顕著に得られる。また、このような積層体は、構成が簡略化されており、簡略化された工程で製造できる。さらに、このような積層体においては、中間層を設けないことにより、中間層が導電層や被覆層に品質上の悪影響を与える可能性を排除できる。 However, it is preferable that the laminated body does not have the intermediate layer, the conductive layer is directly contacted with the base material and laminated, and the coating layer is directly contacted with the conductive layer and laminated. When the conductive layer is patterned, it is preferable that the coating layer is laminated in direct contact with the region where the conductive layer of the base material is not provided. In such a laminated body, the effect of the present invention can be obtained more remarkably. Further, such a laminated body has a simplified structure and can be manufactured by a simplified process. Further, in such a laminated body, by not providing the intermediate layer, it is possible to eliminate the possibility that the intermediate layer adversely affects the conductive layer and the coating layer in terms of quality.

また、前記積層体は、例えば、基材の他方の表面(図1及び図2では、符号11bを付した面、本明細書においては、「第2面」と称することがある)に、何らかの層が積層されたものでもよい。ここで、基材の前記第2面に積層されるものとしては、導電層、被覆層、中間層等、基材の第1面に積層されるものと同様のものが挙げられる。 Further, the laminate may be formed on, for example, on the other surface of the base material (the surface designated by reference numeral 11b in FIGS. 1 and 2, and may be referred to as a “second surface” in the present specification). The layers may be laminated. Here, examples of the material laminated on the second surface of the base material include those laminated on the first surface of the base material, such as a conductive layer, a coating layer, and an intermediate layer.

例えば、基材の第2面上に設けられている(第2面側の)被覆層は、本発明の樹脂組成物を用いて形成されたものであってもよいし、そうでなくても(本発明の樹脂組成物以外のものを用いて形成されたものであっても)よい。そして、基材の第2面側の被覆層が、本発明の樹脂組成物を用いて形成されたものである場合、この被覆層は、基材の第1面上に設けられている(第1面側の)被覆層と組成が同じあってもよいし、異なっていてもよい。 For example, the coating layer (on the second surface side) provided on the second surface of the base material may or may not be formed by using the resin composition of the present invention. (It may be formed by using a resin composition other than the resin composition of the present invention). When the coating layer on the second surface side of the base material is formed by using the resin composition of the present invention, this coating layer is provided on the first surface of the base material (first surface). The composition may be the same as or different from that of the coating layer (on the one side).

同様に、基材の第2面側の導電層、中間層等の他の層も、それぞれ基材の第1面側の導電層、中間層等の他の層と、組成が同じあってもよいし、異なっていてもよい。 Similarly, other layers such as the conductive layer and the intermediate layer on the second surface side of the base material have the same composition as the other layers such as the conductive layer and the intermediate layer on the first surface side of the base material, respectively. It may be different.

基材の第2面側の導電層、被覆層、中間層等は、それぞれ基材の第1面側の導電層、被覆層、中間層等と形態(例えば、形状、厚さ等)が同じであってもよいし、異なっていてもよい。
次に、前記積層体の各構成について、より詳細に説明する。
The conductive layer, coating layer, intermediate layer, etc. on the second surface side of the base material have the same form (for example, shape, thickness, etc.) as the conductive layer, coating layer, intermediate layer, etc. on the first surface side of the base material, respectively. It may be, or it may be different.
Next, each configuration of the laminated body will be described in more detail.

<基材>
前記基材の厚さは、10〜5000μmであることが好ましく、10〜3000μmであることがより好ましい。
<Base material>
The thickness of the base material is preferably 10 to 5000 μm, more preferably 10 to 3000 μm.

基材の材質は、特に限定されないが、好ましいものとしては、例えば、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)、ポリメチルペンテン(PMP)、ポリシクロオレフィン、ポリスチレン(PS)、ポリ酢酸ビニル(PVAc)、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)等のアクリル樹脂、AS樹脂、ABS樹脂、ポリアミド(PA)、ポリイミド、ポリアミドイミド(PAI)、ポリアセタール、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリトリメチレンテレフタレート(PTT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンナフタレート(PBN)、ポリフェニレンスルファイド(PPS)、ポリスルホン(PSF)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリカーボネート(PC)、ポリウレタン、ポリフェニレンエーテル(PPE)、変性ポリフェニレンエーテル(m−PPE)、ポリアリレート、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂等の合成樹脂が挙げられる。
また、基材の材質としては、上記以外にも、ガラス、シリコン等のセラミックスや、紙が挙げられる。
また、基材は、ガラスエポキシ樹脂、ポリマーアロイ等の、2種以上の材質を併用したものでもよい。
The material of the base material is not particularly limited, but preferred ones are, for example, polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC), polyvinylidene chloride (PVDC), polymethylpentene (PMP), and poly. Acrylic resins such as cycloolefin, polystyrene (PS), polyvinyl acetate (PVAC), polymethylmethacrylate (PMMA), AS resin, ABS resin, polyamide (PA), polyimide, polyamideimide (PAI), polyacetal, polyethylene terephthalate. (PET), Polybutylene terephthalate (PBT), Polytrimethylene terephthalate (PTT), Polyethylene naphthalate (PEN), Polybutylene naphthalate (PBN), Polyphenylensulfide (PPS), Polysulfone (PSF), Polyethersulfonate PES), polyetherketone (PEK), polyetheretherketone (PEEK), polycarbonate (PC), polyurethane, polyphenylene ether (PPE), modified polyphenylene ether (m-PPE), polyallylate, epoxy resin, melamine resin, phenol Examples thereof include synthetic resins such as resins and urea resins.
In addition to the above, examples of the material of the base material include ceramics such as glass and silicon, and paper.
Further, the base material may be a combination of two or more kinds of materials such as a glass epoxy resin and a polymer alloy.

基材は、単層からなるものでもよいし、2層以上の複数層からなるものでもよい。基材が複数層からなる場合、これら複数層は、互いに同一でも異なっていてもよい。
なお、本明細書においては、基材の場合に限らず、「複数層が互いに同一でも異なっていてもよい」とは、「すべての層が同一であってもよいし、すべての層が異なっていてもよく、一部の層のみが同一であってもよい」ことを意味し、さらに「複数層が互いに異なる」とは、「各層の材質及び厚さの少なくとも一方が互いに異なる」ことを意味する。
なお、基材が複数層からなる場合には、各層の合計の厚さが、上記の好ましい基材の厚さとなるようにするとよい。
The base material may be composed of a single layer or may be composed of a plurality of layers of two or more layers. When the base material is composed of a plurality of layers, the plurality of layers may be the same as or different from each other.
In the present specification, not only in the case of a base material, "a plurality of layers may be the same or different from each other" means "all layers may be the same or all layers are different". It means that only some of the layers may be the same, and that "plurality of layers are different from each other" means that "at least one of the materials and thicknesses of each layer is different from each other". means.
When the base material is composed of a plurality of layers, the total thickness of each layer may be set to the above-mentioned preferable thickness of the base material.

ただし、基材が単層及び複数層のいずれであるかによらず、前記樹脂組成物が直接接触する基材は、ポリカーボネートからなるものか、又はポリカーボネートを主成分とするものが好ましい。このような基材を用いることで、基材を劣化させず、前記樹脂組成物のハジキの発生を抑制する効果がより高くなる。
ここで「ポリカーボネートを主成分とする基材」とは、「ポリカーボネートとそれ以外の成分を含有し、ポリカーボネートの含有量が50質量%以上である基材」を意味する。そして、ポリカーボネートを主成分とする基材の、ポリカーボネートの含有量は、60質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましく、80質量%以上であることがさらに好ましく、90質量%以上であることが特に好ましく、例えば、95質量%以上、97質量%以上及び99質量%以上のいずれであってもよい。
However, regardless of whether the base material is a single layer or a plurality of layers, the base material with which the resin composition comes into direct contact is preferably made of polycarbonate or mainly composed of polycarbonate. By using such a base material, the effect of suppressing the generation of cissing of the resin composition is further enhanced without deteriorating the base material.
Here, the "base material containing polycarbonate as a main component" means "a base material containing polycarbonate and other components and having a polycarbonate content of 50% by mass or more". The content of polycarbonate in the base material containing polycarbonate as a main component is preferably 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and further preferably 80% by mass or more. It is particularly preferably 90% by mass or more, and may be, for example, 95% by mass or more, 97% by mass or more, or 99% by mass or more.

<導電層>
前記導電層の材質は、導電性を有するものであれば特に限定されないが、抵抗値が低い導電層を容易に形成できる点から、銀、銅等の単体金属、又は合金(以下、これらをまとめて「金属」と略記することがある)であることが好ましく、銀又は銅であることがより好ましい。
<Conductive layer>
The material of the conductive layer is not particularly limited as long as it has conductivity, but from the viewpoint that a conductive layer having a low resistance value can be easily formed, a single metal such as silver or copper, or an alloy (hereinafter, these are summarized). (Sometimes abbreviated as "metal"), more preferably silver or copper.

導電層の厚さは、目的に応じて任意に設定できるが、3nm〜40μmであることが好ましく、4nm〜30μmであることがより好ましい。導電層の厚さが前記下限値以上であることで、導電性をより向上させることができ、また、導電層の構造をより安定して維持できる。また、導電層の厚さが前記上限値以下であることで、積層体をより薄層化できる。 The thickness of the conductive layer can be arbitrarily set depending on the intended purpose, but is preferably 3 nm to 40 μm, more preferably 4 nm to 30 μm. When the thickness of the conductive layer is at least the lower limit value, the conductivity can be further improved, and the structure of the conductive layer can be maintained more stably. Further, when the thickness of the conductive layer is not more than the upper limit value, the laminated body can be made thinner.

導電層は、単層からなるものでもよいし、2層以上の複数層からなるものでもよい。導電層が複数層からなる場合、これら複数層は、互いに同一でも異なっていてもよい。
導電層が複数層からなる場合には、各層の合計の厚さが、上記の好ましい導電層の厚さとなるようにするとよい。
The conductive layer may be composed of a single layer or may be composed of a plurality of layers of two or more layers. When the conductive layer is composed of a plurality of layers, the plurality of layers may be the same or different from each other.
When the conductive layer is composed of a plurality of layers, the total thickness of each layer may be set to be the above-mentioned preferable thickness of the conductive layer.

<被覆層>
前記被覆層は、本発明の樹脂組成物を用いて形成されたものであり、樹脂からなるか、又は樹脂を主成分とする。
そして、被覆層は樹脂として、ポリウレタン(メタ)アクリレート及びその硬化物からなる群から選択される1種又は2種以上と、アクリル酸エステル及びその硬化物からなる群から選択される1種又は2種以上と、を含有する。
なお、本明細書において「主成分」とは、対象となる層において、含有量が30質量%以上100質量%未満である成分を意味する。
被覆層は、光透過性を有するものが好ましく、透明性が高いものが好ましい。
<Coating layer>
The coating layer is formed by using the resin composition of the present invention, and is made of a resin or contains a resin as a main component.
The coating layer is one or two or more selected from the group consisting of polyurethane (meth) acrylate and its cured product, and one or two selected from the group consisting of acrylic acid ester and its cured product as the resin. Contains more than seeds.
In the present specification, the "main component" means a component having a content of 30% by mass or more and less than 100% by mass in the target layer.
The coating layer preferably has light transmission, and preferably has high transparency.

被覆層において、前記樹脂の含有量は、70質量%以上であることが好ましく、80質量%以上であることがより好ましく、85質量%以上であることがさらに好ましく、90質量%以上であることが特に好ましく、例えば、92質量%以上、94質量%以上及び96質量%以上等のいずれかであってもよい。
一方、被覆層において、前記樹脂の含有量の上限値は特に限定されず、例えば、98質量%及び99質量%のいずれかであってもよいし、前記樹脂の含有量は100質量%であってもよい。
In the coating layer, the content of the resin is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, further preferably 85% by mass or more, and 90% by mass or more. Is particularly preferable, and for example, it may be any one of 92% by mass or more, 94% by mass or more, 96% by mass or more, and the like.
On the other hand, in the coating layer, the upper limit of the content of the resin is not particularly limited, and may be, for example, either 98% by mass or 99% by mass, and the content of the resin is 100% by mass. You may.

被覆層の厚さは、目的に応じて任意に設定できるが、200nm〜50μmであることが好ましく、500nm〜40μmであることがより好ましく、800nm〜30μmであることが特に好ましい。被覆層の厚さが前記下限値以上であることで、導電層の被覆効果をより向上させることができ、また、被覆層の構造をより安定して維持できる。また、被覆層の厚さが前記上限値以下であることで、被覆層が過剰に厚くなることを抑制できる。 The thickness of the coating layer can be arbitrarily set depending on the intended purpose, but is preferably 200 nm to 50 μm, more preferably 500 nm to 40 μm, and particularly preferably 800 nm to 30 μm. When the thickness of the coating layer is at least the lower limit value, the coating effect of the conductive layer can be further improved, and the structure of the coating layer can be maintained more stably. Further, when the thickness of the coating layer is not more than the upper limit value, it is possible to prevent the coating layer from becoming excessively thick.

被覆層は、単層からなるものでもよいし、2層以上の複数層からなるものでもよい。被覆層が複数層からなる場合、これら複数層は、互いに同一でも異なっていてもよい。
被覆層が複数層からなる場合には、各層の合計の厚さが、上記の好ましい被覆層の厚さとなるようにするとよい。
The coating layer may be composed of a single layer or may be composed of a plurality of layers of two or more layers. When the coating layer consists of a plurality of layers, the plurality of layers may be the same as or different from each other.
When the coating layer is composed of a plurality of layers, the total thickness of each layer may be set to be the above-mentioned preferable thickness of the coating layer.

<<積層体の製造方法>>
前記積層体は、例えば、基材上に導電層を形成する工程(以下、「導電層形成工程」と略記することがある)と、前記導電層上に被覆層を形成する工程(以下、「被覆層形成工程」と略記することがある)と、を有する製造方法で製造できる。
<< Manufacturing method of laminated body >>
The laminate has, for example, a step of forming a conductive layer on a base material (hereinafter, may be abbreviated as "conductive layer forming step") and a step of forming a coating layer on the conductive layer (hereinafter, "" It can be manufactured by a manufacturing method having (sometimes abbreviated as "coating layer forming step").

図3は、図1に示す積層体1の製造方法を模式的に説明するための断面図である。
図1に示す積層体1を製造する場合には、図3(a)に示す基材11を用い、まず、図3(b)に示すように、導電層形成工程において、基材11の第1面11a上に導電層12を形成する。
次いで、図3(c)に示すように、被覆層形成工程において、基材11での導電層12の形成面を被覆層13で被覆する。これにより、導電層12の表面12aと、基材11の第1面11aのうち、導電層12を備えていない領域とに、被覆層13を形成する。
以上により、積層体1が得られる。
なお、ここでは、図1に示す積層体1を引用して説明したが、積層体1以外の本発明の積層体も、この方法と同様の方法、又はこの方法の一部を変更した方法により製造できる。
以下、各工程について、より詳細に説明する。
FIG. 3 is a cross-sectional view for schematically explaining the manufacturing method of the laminated body 1 shown in FIG.
When the laminate 1 shown in FIG. 1 is manufactured, the base material 11 shown in FIG. 3 (a) is used. First, as shown in FIG. 3 (b), in the conductive layer forming step, the first base material 11 is used. The conductive layer 12 is formed on one surface 11a.
Next, as shown in FIG. 3C, in the coating layer forming step, the forming surface of the conductive layer 12 on the base material 11 is coated with the coating layer 13. As a result, the coating layer 13 is formed on the surface 12a of the conductive layer 12 and the region of the first surface 11a of the base material 11 that does not have the conductive layer 12.
From the above, the laminated body 1 is obtained.
Although the laminated body 1 shown in FIG. 1 has been cited and described here, the laminated body of the present invention other than the laminated body 1 can also be obtained by the same method as this method or by a method in which a part of this method is modified. Can be manufactured.
Hereinafter, each step will be described in more detail.

<導電層形成工程>
前記導電層は、例えば、これを形成するための原料となる組成物(以下、「導電層用組成物」と略記することがある)を基材上の目的とする箇所に付着させて組成物層を形成し、この組成物層(導電層用組成物)に対して、乾燥処理や加熱(焼成)処理等の固化処理を適宜選択して行うことで形成できる。加熱処理は、乾燥処理を兼ねて行ってもよい。
また導電層は、前記導電層用組成物を基材表面の所定の領域又は全面に付着させて組成物層を形成し、この組成物層(導電層用組成物)から上記と同様の方法で導電層(パターニング前の導電層)を形成した後、エッチング等の公知の手法でこの導電層を所望の形状となるようにパターニングすることでも形成できる。
<Conductive layer forming process>
The conductive layer is formed by, for example, attaching a composition as a raw material for forming the conductive layer (hereinafter, may be abbreviated as "composition for a conductive layer") to a target portion on a base material. It can be formed by forming a layer and appropriately selecting a solidification treatment such as a drying treatment or a heating (firing) treatment on the composition layer (composition for a conductive layer). The heat treatment may also be performed as a drying treatment.
Further, in the conductive layer, the composition for the conductive layer is adhered to a predetermined region or the entire surface of the substrate surface to form a composition layer, and the composition layer (composition for the conductive layer) is formed by the same method as described above. It can also be formed by forming a conductive layer (conductive layer before patterning) and then patterning the conductive layer so as to have a desired shape by a known method such as etching.

導電層の材質が金属である場合には、前記導電層用組成物として、金属又は金属の形成材料が配合されてなる金属インク組成物を用いればよい。
金属インク組成物中の金属の形成材料は、1種のみでもよいし、2種以上でもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
When the material of the conductive layer is metal, a metal ink composition containing a metal or a metal-forming material may be used as the composition for the conductive layer.
The metal forming material in the metal ink composition may be only one kind, may be two or more kinds, and when there are two or more kinds, the combination and ratio thereof can be adjusted arbitrarily.

配合される前記金属(単体金属又は合金)は、粒子状又は繊維状(チューブ状、ワイヤー状等)であることが好ましく、ナノ粒子又はナノワイヤーであることがより好ましく、銀ナノ粒子、銀ナノワイヤー、銅ナノ粒子又は銅ナノワイヤーであることが特に好ましい。
なお、本明細書において、「ナノ粒子」とは、粒径が1nm以上1000nm未満、好ましくは1〜100nmである粒子を意味し、「ナノワイヤー」とは、幅が1nm以上1000nm未満、好ましくは1〜100nmであるワイヤーを意味する。
The metal (single metal or alloy) to be blended is preferably in the form of particles or fibers (tube-like, wire-like, etc.), more preferably nanoparticles or nanowires, and silver nanoparticles or silver nanos. Particularly preferred are wires, copper nanoparticles or copper nanowires.
In the present specification, the "nanoparticle" means a particle having a particle size of 1 nm or more and less than 1000 nm, preferably 1 to 100 nm, and the "nanowire" has a width of 1 nm or more and less than 1000 nm, preferably. It means a wire having a diameter of 1 to 100 nm.

配合される前記金属の形成材料は、該当する金属原子(元素)を有し、分解等の構造変化によって金属を生じるものであればよく、例えば、金属塩、金属錯体、有機金属化合物(金属−炭素結合を有する化合物)等が挙げられる。前記金属塩及び金属錯体は、有機基を有する金属化合物及び有機基を有しない金属化合物のいずれでもよい。なかでも金属の形成材料は、金属塩であることが好ましく、銀塩又は銅塩であることがより好ましい。
金属の形成材料を用いることで、前記材料から金属が生じ、この金属を含む導電層が形成される。この場合の導電層において、前記金属の比率は、導電層が見かけ上金属だけからなるとみなし得る程度に十分に高くすることができ、導電層中の金属の比率は、好ましくは97質量%以上、より好ましくは98質量%以上、特に好ましくは99質量%以上である。導電層中の金属の比率の上限値は、例えば、100質量%、99.9質量%、99.8質量%、99.7質量%、99.6質量%、99.5質量%、99.4質量%、99.3質量%、99.2質量%及び99.1質量%のいずれかとすることができるが、これらに限定されない。
The material for forming the metal to be blended may be any as long as it has a corresponding metal atom (element) and produces a metal by a structural change such as decomposition. For example, a metal salt, a metal complex, or an organic metal compound (metal-). Compounds having a carbon bond) and the like. The metal salt and the metal complex may be either a metal compound having an organic group or a metal compound having no organic group. Among them, the metal forming material is preferably a metal salt, more preferably a silver salt or a copper salt.
By using a metal forming material, a metal is generated from the material, and a conductive layer containing this metal is formed. In the conductive layer in this case, the ratio of the metal can be sufficiently high enough that the conductive layer can be regarded as apparently composed only of metal, and the ratio of the metal in the conductive layer is preferably 97% by mass or more. It is more preferably 98% by mass or more, and particularly preferably 99% by mass or more. The upper limit of the ratio of the metal in the conductive layer is, for example, 100% by mass, 99.9% by mass, 99.8% by mass, 99.7% by mass, 99.6% by mass, 99.5% by mass, 99. It can be any of 4% by mass, 99.3% by mass, 99.2% by mass and 99.1% by mass, but is not limited thereto.

金属インク組成物は、液状のものが好ましく、前記金属の形成材料が均一に分散されたものが好ましい。 The metal ink composition is preferably in a liquid state, and preferably in which the metal forming material is uniformly dispersed.

以下、金属インク組成物として、金属銀の形成材料が配合されてなる銀インク組成物を用いた場合の、導電層の形成方法について説明するが、金属種が銀以外の場合にも同様の方法で、導電層を形成できる。
前記金属銀の形成材料は、加熱等によって分解し、金属銀を形成するものである。
Hereinafter, a method for forming the conductive layer when a silver ink composition in which a material for forming metallic silver is blended is used as the metal ink composition will be described, but the same method will be used when the metal type is other than silver. Therefore, a conductive layer can be formed.
The material for forming metallic silver is decomposed by heating or the like to form metallic silver.

[カルボン酸銀]
金属銀の形成材料としては、例えば、式「−COOAg」で表される基を有するカルボン酸銀等が挙げられる。
本発明において、カルボン酸銀は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
前記カルボン酸銀は、式「−COOAg」で表される基を有していれば特に限定されない。例えば、式「−COOAg」で表される基の数は1個のみでもよいし、2個以上でもよい。また、カルボン酸銀中の式「−COOAg」で表される基の位置も特に限定されない。
[Silver carboxylate]
Examples of the material for forming metallic silver include silver carboxylate having a group represented by the formula "-COOAg".
In the present invention, one type of silver carboxylate may be used alone, or two or more types may be used in combination. When two or more kinds are used in combination, their combinations and ratios can be adjusted arbitrarily.
The silver carboxylate is not particularly limited as long as it has a group represented by the formula "-COOAg". For example, the number of groups represented by the formula "-COOAg" may be only one or two or more. Further, the position of the group represented by the formula "-COOAg" in silver carboxylate is not particularly limited.

前記カルボン酸銀は、下記一般式(1)で表わされるβ−ケトカルボン酸銀(以下、「β−ケトカルボン酸銀(1)」と略記することがある)及び下記一般式(4)で表されるカルボン酸銀(以下、「カルボン酸銀(4)」と略記することがある)からなる群から選択される1種以上であることが好ましい。
なお、本明細書においては、単なる「カルボン酸銀」との記載は、特に断りの無い限り、「β−ケトカルボン酸銀(1)」及び「カルボン酸銀(4)」だけではなく、これらを包括する、「式「−COOAg」で表される基を有するカルボン酸銀」を意味するものとする。
The silver carboxylate is represented by silver β-ketocarboxylate represented by the following general formula (1) (hereinafter, may be abbreviated as “silver β-ketocarboxylate (1)”) and the following general formula (4). It is preferable that the amount is one or more selected from the group consisting of silver carboxylate (hereinafter, may be abbreviated as "silver carboxylate (4)").
In this specification, the description of "silver carboxylate" is not limited to "silver β-ketocarboxylate (1)" and "silver carboxylate (4)" unless otherwise specified. Inclusive, it shall mean "silver carboxylate having a group represented by the formula" -COOAg "".

Figure 0006855201
(式中、Rは1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基若しくはフェニル基、水酸基、アミノ基、又は一般式「R−CY −」、「CY −」、「R−CHY−」、「RO−」、「RN−」、「(RO)CY−」若しくは「R−C(=O)−CY −」で表される基であり;
はそれぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子又は水素原子であり;Rは炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基又はフェニル基であり;Rは炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基であり;Rは炭素数1〜16の脂肪族炭化水素基であり;R及びRはそれぞれ独立に炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基であり;Rは炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であり;
はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはベンジル基、シアノ基、N−フタロイル−3−アミノプロピル基、2−エトキシビニル基、又は一般式「RO−」、「RS−」、「R−C(=O)−」若しくは「R−C(=O)−O−」で表される基であり;
は、炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基、チエニル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはジフェニル基である。)
Figure 0006855201
(In the formula, R is an aliphatic hydrocarbon group or phenyl group having 1 to 20 carbon atoms in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent, a hydroxyl group, an amino group, or the general formula "R 1- CY". 1 2 − ”,“ CY 1 3 − ”,“ R 1 − CHY 1 − ”,“ R 2 O − ”,“ R 5 R 4 N − ”,“ (R 3 O) 2 CY 1 − ”or“ It is a group represented by "R 6- C (= O) -CY 1 2-";
Y 1 is independently a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or a hydrogen atom; R 1 is an aliphatic hydrocarbon group or a phenyl group having 1 to 19 carbon atoms; R 2 is a fat having 1 to 20 carbon atoms. Group hydrocarbon groups; R 3 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms; R 4 and R 5 are independently aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 18 carbon atoms; R 6 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. An aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, a hydroxyl group or a group represented by the formula "AgO-";
X 1 is an independently hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, and a phenyl group or a benzyl group, a cyano group, N in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. -Phenyl-3-aminopropyl group, 2-ethoxyvinyl group, or general formula "R 7 O-", "R 7 S-", "R 7- C (= O)-" or "R 7- C ( = O) -O- "is a group represented by;
R 7 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a thienyl group, or a phenyl group or a diphenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. )

Figure 0006855201
(式中、Rは炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、カルボキシ基又は式「−C(=O)−OAg」で表される基であり、前記脂肪族炭化水素基がメチレン基を有する場合、1個以上の前記メチレン基はカルボニル基で置換されていてもよい。)
Figure 0006855201
(In the formula, R 8 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, a carboxy group or a group represented by the formula "-C (= O) -OAg", and the aliphatic hydrocarbon group is a methylene group. If, one or more of the methylene groups may be substituted with a carbonyl group.)

(β−ケトカルボン酸銀(1))
β−ケトカルボン酸銀(1)は、前記一般式(1)で表される。
式中、Rは1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基若しくはフェニル基、水酸基、アミノ基、又は一般式「R−CY −」、「CY −」、「R−CHY−」、「RO−」、「RN−」、「(RO)CY−」若しくは「R−C(=O)−CY −」で表される基である。
(Silver β-ketocarboxylate (1))
The silver β-ketocarboxylate (1) is represented by the general formula (1).
In the formula, R is an aliphatic hydrocarbon group or phenyl group having 1 to 20 carbon atoms in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent, a hydroxyl group, an amino group, or the general formula "R 1- CY 1". 2- "," CY 1 3- "," R 1- CHY 1- "," R 2 O- "," R 5 R 4 N- "," (R 3 O) 2 CY 1- "or" R It is a group represented by 6- C (= O) -CY 1 2- ".

Rにおける炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状(脂肪族環式基)のいずれでもよく、環状である場合、単環状及び多環状のいずれでもよい。また、前記脂肪族炭化水素基は、飽和脂肪族炭化水素基及び不飽和脂肪族炭化水素基のいずれでもよい。そして、前記脂肪族炭化水素基は、炭素数が1〜10であることが好ましく、1〜6であることがより好ましい。Rにおける好ましい前記脂肪族炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。 The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in R may be linear, branched chain or cyclic (aliphatic cyclic group), and when cyclic, it may be monocyclic or polycyclic. .. Further, the aliphatic hydrocarbon group may be either a saturated aliphatic hydrocarbon group or an unsaturated aliphatic hydrocarbon group. The aliphatic hydrocarbon group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and more preferably 1 to 6 carbon atoms. Preferred aliphatic hydrocarbon groups in R include, for example, alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups and the like.

Rにおける直鎖状又は分枝鎖状の前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、n−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基、1,1−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、3−エチルブチル基、1−エチル−1−メチルプロピル基、n−ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、1,1−ジメチルペンチル基、2,2−ジメチルペンチル基、2,3−ジメチルペンチル基、2,4−ジメチルペンチル基、3,3−ジメチルペンチル基、4,4−ジメチルペンチル基、1−エチルペンチル基、2−エチルペンチル基、3−エチルペンチル基、4−エチルペンチル基、2,2,3−トリメチルブチル基、1−プロピルブチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、1−メチルヘプチル基、2−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、4−メチルヘプチル基、5−メチルヘプチル基、1−エチルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、3−エチルヘキシル基、4−エチルヘキシル基、5−エチルヘキシル基、1,1−ジメチルヘキシル基、2,2−ジメチルヘキシル基、3,3−ジメチルヘキシル基、4,4−ジメチルヘキシル基、5,5−ジメチルヘキシル基、1−プロピルペンチル基、2−プロピルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基等が挙げられる。
Rにおける環状の前記アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、1−アダマンチル基、2−アダマンチル基、トリシクロデシル基等が挙げられる。
Examples of the linear or branched alkyl group in R include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. , N-Pentyl group, Isopentyl group, Neopentyl group, tert-Pentyl group, 1-methylbutyl group, 2-Methylbutyl group, n-hexyl group, 1-Methylpentyl group, 2-Methylpentyl group, 3-Methylpentyl group, 4-Methylpentyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 3- Ethylbutyl group, 1-ethyl-1-methylpropyl group, n-heptyl group, 1-methylhexyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 1, 1-dimethylpentyl group, 2,2-dimethylpentyl group, 2,3-dimethylpentyl group, 2,4-dimethylpentyl group, 3,3-dimethylpentyl group, 4,4-dimethylpentyl group, 1-ethylpentyl group Group, 2-ethylpentyl group, 3-ethylpentyl group, 4-ethylpentyl group, 2,2,3-trimethylbutyl group, 1-propylbutyl group, n-octyl group, isooctyl group, 1-methylheptyl group, 2-Methylheptyl group, 3-Methylheptyl group, 4-Methylheptyl group, 5-Methylheptyl group, 1-ethylhexyl group, 2-ethylhexyl group, 3-ethylhexyl group, 4-ethylhexyl group, 5-ethylhexyl group, 1 , 1-dimethylhexyl group, 2,2-dimethylhexyl group, 3,3-dimethylhexyl group, 4,4-dimethylhexyl group, 5,5-dimethylhexyl group, 1-propylpentyl group, 2-propylpentyl group , Nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, nonadecil group, icosyl group and the like.
Examples of the cyclic alkyl group in R include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group, a cyclodecyl group, a norbornyl group, an isobornyl group and a 1-adamantyl group. Examples thereof include a 2-adamantyl group and a tricyclodecyl group.

Rにおける前記アルケニル基としては、例えば、ビニル基(エテニル基、−CH=CH)、アリル基(2−プロペニル基、−CH−CH=CH)、1−プロペニル基(−CH=CH−CH)、イソプロペニル基(−C(CH)=CH)、1−ブテニル基(−CH=CH−CH−CH)、2−ブテニル基(−CH−CH=CH−CH)、3−ブテニル基(−CH−CH−CH=CH)、シクロヘキセニル基、シクロペンテニル基等の、Rにおける前記アルキル基の炭素原子間の1個の単結合(C−C)が二重結合(C=C)に置換された基等が挙げられる。
Rにおける前記アルキニル基としては、例えば、エチニル基(−C≡CH)、プロパルギル基(−CH−C≡CH)等の、Rにおける前記アルキル基の炭素原子間の1個の単結合(C−C)が三重結合(C≡C)に置換された基等が挙げられる。
Examples of the alkenyl group in R include a vinyl group (ethenyl group, -CH = CH 2 ), an allyl group (2-propenyl group, -CH 2 -CH = CH 2 ), and a 1-propenyl group (-CH = CH). -CH 3 ), isopropenyl group (-C (CH 3 ) = CH 2 ), 1-butenyl group (-CH = CH-CH 2 -CH 3 ), 2-butenyl group (-CH 2 -CH = CH-) CH 3), 3- butenyl group (-CH 2 -CH 2 -CH = CH 2), cyclohexenyl group, such as cyclopentenyl group, one single bond between carbon atoms of the alkyl group in R (C- Examples thereof include a group in which C) is replaced with a double bond (C = C).
Examples of the alkynyl group in R, for example, ethynyl (-C≡CH), such as propargyl (-CH 2 -C≡CH), 1 single bond between carbon atoms of the alkyl group in R (C Examples thereof include a group in which −C) is replaced with a triple bond (C≡C).

Rにおける炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基は、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよく、好ましい前記置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。また、置換基の数及び位置は特に限定されない。そして、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、すべての置換基が同一であってもよいし、すべての置換基が異なっていてもよく、一部の置換基のみが異なっていてもよい。 The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in R may have one or more hydrogen atoms substituted with a substituent, and preferred examples of the substituent include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom. Can be mentioned. The number and position of the substituents are not particularly limited. When the number of substituents is plural, these plurality of substituents may be the same or different from each other. That is, all the substituents may be the same, all the substituents may be different, or only some of the substituents may be different.

Rにおけるフェニル基は、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよく、好ましい前記置換基としては、例えば、炭素数が1〜16の飽和又は不飽和の一価の脂肪族炭化水素基、前記脂肪族炭化水素基が酸素原子に結合してなる一価の基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基(−OH)、シアノ基(−C≡N)、フェノキシ基(−O−C)等が挙げられ、置換基の数及び位置は特に限定されない。そして、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。
置換基である前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜16である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが挙げられる。
The phenyl group in R may have one or more hydrogen atoms substituted with a substituent, and the preferred substituent is, for example, a saturated or unsaturated monovalent aliphatic hydrocarbon having 1 to 16 carbon atoms. Hydrogen group, monovalent group formed by bonding the aliphatic hydrocarbon group to an oxygen atom, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, hydroxyl group (-OH), cyano group (-C≡N), phenoxy group (- OC 6 H 5 ) and the like can be mentioned, and the number and position of substituents are not particularly limited. When the number of substituents is plural, these plurality of substituents may be the same or different from each other.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group as a substituent include those similar to the aliphatic hydrocarbon group in R except that the number of carbon atoms is 1 to 16.

RにおけるYは、それぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子又は水素原子である。そして、一般式「R−CY −」、「CY −」及び「R−C(=O)−CY −」においては、それぞれ複数個のYは、互いに同一でも異なっていてもよい。 Y 1 in R is independently a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or a hydrogen atom. Then, the general formula "R 1 -CY 1 2 -", "CY 1 3 -" and "R 6 -C (= O) -CY 1 2 - " In a plurality of Y 1 are each, also identical to one another It may be different.

RにおけるRは、炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基又はフェニル基(C−)であり、Rにおける前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜19である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが挙げられる。
RにおけるRは、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基であり、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが挙げられる。
RにおけるRは、炭素数1〜16の脂肪族炭化水素基であり、炭素数が1〜16である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが挙げられる。
RにおけるR及びRは、それぞれ独立に炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基である。すなわち、R及びRは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素数が1〜18である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが挙げられる。
RにおけるRは、炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であり、Rにおける前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜19である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが挙げられる。
R 1 in R is an aliphatic hydrocarbon group or a phenyl group 1 to 19 carbon atoms (C 6 H 5 -) a, The aliphatic hydrocarbon group for R 1, is a 1 to 19 carbon atoms Except for the point, the same as the above-mentioned aliphatic hydrocarbon group in R can be mentioned.
R 2 in R is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof include the same group as the aliphatic hydrocarbon group in R.
R 3 in R is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms, and examples thereof include the same as the aliphatic hydrocarbon group in R except that the carbon number is 1 to 16.
R 4 and R 5 in R are aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 18 carbon atoms independently. That is, R 4 and R 5 may be the same as or different from each other, and examples thereof include those similar to the aliphatic hydrocarbon group in R except that the number of carbon atoms is 1-18.
R 6 in R is an aliphatic hydrocarbon group of 1 to 19 carbon atoms, a group represented by a hydroxyl group or a formula "AgO-" The aliphatic hydrocarbon group for R 6,. 1 to carbon atoms Except for the fact that it is 19, the same group as the aliphatic hydrocarbon group in R can be mentioned.

Rは、上記の中でも、直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、一般式「R−C(=O)−CY −」で表される基、水酸基又はフェニル基であることが好ましい。そして、Rは、直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であることが好ましい。 R is, among these, a linear or branched alkyl group, the general formula "R 6 -C (= O) -CY 1 2 - " group represented by be a hydroxyl group or a phenyl group preferable. R 6 is preferably a linear or branched alkyl group, a hydroxyl group, or a group represented by the formula “AgO−”.

一般式(1)において、Xはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはベンジル基(C−CH−)、シアノ基、N−フタロイル−3−アミノプロピル基、2−エトキシビニル基(C−O−CH=CH−)、又は一般式「RO−」、「RS−」、「R−C(=O)−」若しくは「R−C(=O)−O−」で表される基である。
における炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基としては、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが挙げられる。
In the general formula (1), X 1 is an independently hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, or a phenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. A benzyl group (C 6 H 5- CH 2- ), a cyano group, an N-phthaloyl-3-aminopropyl group, a 2-ethoxyvinyl group (C 2 H 5- O-CH = CH-), or the general formula "R". It is a group represented by "7 O-", "R 7 S-", "R 7- C (= O)-" or "R 7- C (= O) -O-".
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in X 1 include the same group as the aliphatic hydrocarbon group in R.

におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
におけるフェニル基及びベンジル基は、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよく、好ましい前記置換基としては、例えば、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、ニトロ基(−NO)等が挙げられ、置換基の数及び位置は特に限定されない。そして、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。
Examples of the halogen atom in X 1 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.
Phenyl and benzyl groups in X 1 may be one or more hydrogen atoms is substituted with a substituent, and preferred examples the substituent include a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom ), Nitro group (-NO 2 ) and the like, and the number and position of the substituent are not particularly limited. When the number of substituents is plural, these plurality of substituents may be the same or different from each other.

におけるRは、炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基、チエニル基(CS−)、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはジフェニル基(ビフェニル基、C−C−)である。Rにおける前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜10である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが挙げられる。また、Rにおけるフェニル基及びジフェニル基の前記置換基としては、例えば、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)等が挙げられ、置換基の数及び位置は特に限定されない。そして、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。
がチエニル基又はジフェニル基である場合、これらの、Xにおいて隣接する基又は原子(酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基)との結合位置は、特に限定されない。例えば、チエニル基は、2−チエニル基及び3−チエニル基のいずれでもよい。
R 7 in X 1 is an aliphatic having 1 to 10 carbon atoms hydrocarbon group, a thienyl group (C 4 H 3 S-), or one or more hydrogen atoms is a phenyl group or optionally substituted with a substituent diphenyl group (biphenyl group, C 6 H 5 -C 6 H 4 -) is. Examples of the aliphatic hydrocarbon group in R 7 include those similar to the aliphatic hydrocarbon group in R except that the number of carbon atoms is 1 to 10. Examples of the substituents of the phenyl group and the diphenyl group in R 7 include halogen atoms (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), and the number and position of the substituents are not particularly limited. When the number of substituents is plural, these plurality of substituents may be the same or different from each other.
When R 7 is thienyl or diphenyl group, these adjacent group or atom in X 1 (oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, carbonyloxy group) bonding position to is not particularly limited. For example, the thienyl group may be either a 2-thienyl group or a 3-thienyl group.

一般式(1)において、2個のXは、2個のカルボニル基で挟まれた炭素原子と二重結合を介して1個の基として結合していてもよく、このようなものとしては、例えば、式「=CH−C−NO」で表される基等が挙げられる。 In the general formula (1), two X 1s may be bonded to a carbon atom sandwiched between two carbonyl groups as one group via a double bond. For example, a group represented by the formula "= CH-C 6 H 4- NO 2 " can be mentioned.

は、上記の中でも、水素原子、直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、ベンジル基、又は一般式「R−C(=O)−」で表される基であることが好ましく、少なくとも一方のXが水素原子であることが好ましい。 X 1, among the above, a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, a benzyl group, or formula "R 7 -C (= O) -" it is a group represented by preferably , It is preferable that at least one X 1 is a hydrogen atom.

β−ケトカルボン酸銀(1)は、2−メチルアセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH(CH)−C(=O)−OAg)、アセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、2−エチルアセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH(CHCH)−C(=O)−OAg)、プロピオニル酢酸銀(CHCH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、イソブチリル酢酸銀((CHCH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、ピバロイル酢酸銀((CHC−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、カプロイル酢酸銀(CH(CHCH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、2−n−ブチルアセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH(CHCHCHCH)−C(=O)−OAg)、2−ベンジルアセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH(CH)−C(=O)−OAg)、ベンゾイル酢酸銀(C−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、ピバロイルアセト酢酸銀((CHC−C(=O)−CH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、イソブチリルアセト酢酸銀((CHCH−C(=O)−CH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、2−アセチルピバロイル酢酸銀((CHC−C(=O)−CH(−C(=O)−CH)−C(=O)−OAg)、2−アセチルイソブチリル酢酸銀((CHCH−C(=O)−CH(−C(=O)−CH)−C(=O)−OAg)、又はアセトンジカルボン酸銀(AgO−C(=O)−CH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)であることが好ましい。 The silver β-ketocarboxylate (1) is silver 2-methylacetate acetate (CH 3- C (= O) -CH (CH 3 ) -C (= O) -OAg), silver acetoacetate (CH 3- C (=)). O) -CH 2- C (= O) -OAg), 2-ethylacetate silver (CH 3- C (= O) -CH (CH 2 CH 3 ) -C (= O) -OAg), silver propionyl acetate (CH 3 CH 2- C (= O) -CH 2- C (= O) -OAg), silver isobutyryl acetate ((CH 3 ) 2 CH-C (= O) -CH 2- C (= O)- OAg), silver pivaloyl acetate ((CH 3 ) 3 C-C (= O) -CH 2- C (= O) -OAg), silver caproyl acetate (CH 3 (CH 2 ) 3 CH 2- C (= O) ) -CH 2- C (= O) -OAg), 2-n-silver acetate butylacetate (CH 3- C (= O) -CH (CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) -C (= O) -OAg ), 2-benzylacetate silver acetate (CH 3- C (= O) -CH (CH 2 C 6 H 5 ) -C (= O) -OAg), silver benzoyl acetate (C 6 H 5-C (= O)) ) -CH 2- C (= O) -OAg), silver pivaloyl acetoacetate ((CH 3 ) 3 C-C (= O) -CH 2- C (= O) -CH 2- C (= O) -OAg ), Silver Isobutyrylacetate Acetate ((CH 3 ) 2 CH-C (= O) -CH 2- C (= O) -CH 2- C (= O) -OAg), 2-Acetylpyvaloyl Acetate Silver ((CH 3 ) 3 C-C (= O) -CH (-C (= O) -CH 3 ) -C (= O) -OAg), 2-acetylisobutyryl silver acetate ((CH 3 )) 2 CH-C (= O) -CH (-C (= O) -CH 3 ) -C (= O) -OAg) or silver acetate dicarboxylate (AgO-C (= O) -CH 2- C ( = O) -CH 2- C (= O) -OAg) is preferable.

β−ケトカルボン酸銀(1)は、乾燥処理や加熱(焼成)処理等の固化処理により形成された導電体(金属銀)において、残存する原料や不純物の濃度をより低減できる。原料や不純物が少ない程、例えば、形成された金属銀同士の接触が良好となり、導通が容易となり、抵抗率が低下する。 The silver β-ketocarboxylate (1) can further reduce the concentration of residual raw materials and impurities in the conductor (metal silver) formed by a solidification treatment such as a drying treatment or a heating (calcination) treatment. The smaller the amount of raw materials and impurities, for example, the better the contact between the formed metallic silver, the easier the conduction, and the lower the resistivity.

β−ケトカルボン酸銀(1)は、後述するように、当該分野で公知の還元剤等を使用しなくても、好ましくは60〜210℃、より好ましくは60〜200℃という低温で分解し、金属銀を形成することが可能である。そして、還元剤と併用することで、より低温で分解して金属銀を形成する。還元剤については後ほど説明する。 As will be described later, silver β-ketocarboxylate is decomposed at a low temperature of preferably 60 to 210 ° C., more preferably 60 to 200 ° C. without using a reducing agent or the like known in the art. It is possible to form metallic silver. Then, when used in combination with a reducing agent, it decomposes at a lower temperature to form metallic silver. The reducing agent will be described later.

本発明において、β−ケトカルボン酸銀(1)は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。 In the present invention, one type of silver β-ketocarboxylate (1) may be used alone, or two or more types may be used in combination. When two or more kinds are used in combination, their combinations and ratios can be adjusted arbitrarily.

(カルボン酸銀(4))
カルボン酸銀(4)は、前記一般式(4)で表される。
式中、Rは炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、カルボキシ基(−COOH)又は式「−C(=O)−OAg」で表される基である。
における前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜19である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが挙げられる。ただし、Rにおける前記脂肪族炭化水素基は、炭素数が1〜15であることが好ましく、1〜10であることがより好ましい。
(Silver carboxylate (4))
The silver carboxylate (4) is represented by the general formula (4).
In the formula, R 8 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, a carboxy group (-COOH) or a group represented by the formula "-C (= O) -OAg".
Examples of the aliphatic hydrocarbon group in R 8 include those similar to the aliphatic hydrocarbon group in R except that the number of carbon atoms is 1 to 19. However, the aliphatic hydrocarbon group for R 8 is preferably a carbon number of 1 to 15, and more preferably from 1 to 10.

における前記脂肪族炭化水素基がメチレン基(−CH−)を有する場合、1個以上の前記メチレン基はカルボニル基で置換されていてもよい。カルボニル基で置換されていてもよいメチレン基の数及び位置は特に限定されず、すべてのメチレン基がカルボニル基で置換されていてもよい。ここで「メチレン基」とは、単独の式「−CH−」で表される基だけでなく、式「−CH−」で表される基が複数個連なったアルキレン基中の1個の式「−CH−」で表される基も含むものとする。 When the aliphatic hydrocarbon group in R 8 has a methylene group (−CH 2- ), one or more of the methylene groups may be substituted with a carbonyl group. The number and position of the methylene groups which may be substituted with a carbonyl group are not particularly limited, and all the methylene groups may be substituted with a carbonyl group. Here, the "methylene group", alone of formula - not only a group represented by the formula "-CH 2" - one alkylene in radicals group represented is continuous plurality in "-CH 2" It shall also include the group represented by the formula "-CH 2-" of.

カルボン酸銀(4)は、ピルビン酸銀(CH−C(=O)−C(=O)−OAg)、酢酸銀(CH−C(=O)−OAg)、酪酸銀(CH−(CH−C(=O)−OAg)、イソ酪酸銀((CHCH−C(=O)−OAg)、2−エチルへキサン酸銀(CH−(CH−CH(CHCH)−C(=O)−OAg)、ネオデカン酸銀(CH−(CH−C(CH−C(=O)−OAg)、シュウ酸銀(AgO−C(=O)−C(=O)−OAg)、又はマロン酸銀(AgO−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)であることが好ましい。また、上記のシュウ酸銀(AgO−C(=O)−C(=O)−OAg)及びマロン酸銀(AgO−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)の2個の式「−COOAg」で表される基のうち、1個が式「−COOH」で表される基となったもの(HO−C(=O)−C(=O)−OAg、HO−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)も好ましい。 The silver carboxylate (4) is silver pyruvate (CH 3- C (= O) -C (= O) -OAg), silver acetate (CH 3- C (= O) -OAg), silver butyrate (CH 3). -(CH 2 ) 2- C (= O) -OAg), silver isobutyrate ((CH 3 ) 2 CH-C (= O) -OAg), silver 2-ethylhexanoate (CH 3- (CH 2)) ) 3- CH (CH 2 CH 3 ) -C (= O) -OAg), silver neodecanoate (CH 3- (CH 2 ) 5- C (CH 3 ) 2- C (= O) -OAg), Shu It is preferably silver acid (AgO-C (= O) -C (= O) -OAg) or silver malonate (AgO-C (= O) -CH 2- C (= O) -OAg). Also, 2 of the silver oxalate (AgO-C (= O) -C (= O) -OAg) and malonic silver (AgO-C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg) Of the groups represented by the formula "-COOAg", one of which is the group represented by the formula "-COOH" (HO-C (= O) -C (= O) -OAg, HO -C (= O) -CH 2- C (= O) -OAg) is also preferable.

カルボン酸銀(4)も、β−ケトカルボン酸銀(1)と同様に、乾燥処理や加熱(焼成)処理等の固化処理により形成された導電体(金属銀)において、残存する原料や不純物の濃度をより低減できる。そして、還元剤と併用することで、より低温で分解して金属銀を形成する。 Similar to silver β-ketocarboxylate (1), silver carboxylate (4) also contains residual raw materials and impurities in the conductor (metal silver) formed by solidification treatment such as drying treatment and heating (firing) treatment. The concentration can be further reduced. Then, when used in combination with a reducing agent, it decomposes at a lower temperature to form metallic silver.

本発明において、カルボン酸銀(4)は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。 In the present invention, one type of silver carboxylate (4) may be used alone, or two or more types may be used in combination. When two or more kinds are used in combination, their combinations and ratios can be adjusted arbitrarily.

前記カルボン酸銀は、2−メチルアセト酢酸銀、アセト酢酸銀、2−エチルアセト酢酸銀、プロピオニル酢酸銀、イソブチリル酢酸銀、ピバロイル酢酸銀、カプロイル酢酸銀、2−n−ブチルアセト酢酸銀、2−ベンジルアセト酢酸銀、ベンゾイル酢酸銀、ピバロイルアセト酢酸銀、イソブチリルアセト酢酸銀、アセトンジカルボン酸銀、ピルビン酸銀、酢酸銀、酪酸銀、イソ酪酸銀、2−エチルへキサン酸銀、ネオデカン酸銀、シュウ酸銀及びマロン酸銀からなる群から選択される1種以上であることが好ましい。
そして、これらカルボン酸銀の中でも、2−メチルアセト酢酸銀及びアセト酢酸銀は、後述する含窒素化合物(なかでもアミン化合物)との相溶性に優れ、銀インク組成物の高濃度化に、特に適したものとして挙げられる。
The silver carboxylate is silver 2-methylacetate acetate, silver acetoacetate, silver 2-ethylacetate acetate, silver propionyl acetate, silver isobutyryl acetate, silver pivaloyl acetate, silver caproyl acetate, silver 2-n-butylacetate acetate, 2-benzylacetate. Silver acetate, benzoyl silver acetate, silver pivaloyl acetoacetate, silver isobutyryl acetoacetate, silver acetone dicarboxylate, silver pyruvate, silver acetate, silver butyrate, silver isobutyrate, silver 2-ethylhexanoate, silver neodecanoate, shu It is preferably one or more selected from the group consisting of silver acid acid and silver malonate.
Among these silver carboxylates, 2-methylacetoacetic acid silver and silver acetoacetic acid have excellent compatibility with nitrogen-containing compounds (among them, amine compounds) described later, and are particularly suitable for increasing the concentration of silver ink compositions. It can be mentioned as a compound.

銀インク組成物において、前記金属銀の形成材料に由来する銀の含有量は、5質量%以上であることが好ましく、10質量%以上であることがより好ましい。このような範囲であることで、形成された導電体(金属銀)は品質により優れたものとなる。前記銀の含有量の上限値は、本発明の効果を損なわない限り特に限定されないが、取り扱い性等を考慮すると25質量%であることが好ましい。
なお、本明細書において、「金属銀の形成材料に由来する銀」とは、特に断りの無い限り、銀インク組成物の製造時に配合された前記金属銀の形成材料中の銀と同義であり、配合後も引き続き金属銀の形成材料を構成している銀と、配合後に金属銀の形成材料の分解で生じた分解物中の銀と、配合後に金属銀の形成材料の分解で生じた銀そのもの(金属銀)と、のすべてを含む概念とする。
In the silver ink composition, the content of silver derived from the metallic silver forming material is preferably 5% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more. Within such a range, the formed conductor (metal silver) is superior in quality. The upper limit of the silver content is not particularly limited as long as the effect of the present invention is not impaired, but is preferably 25% by mass in consideration of handleability and the like.
In the present specification, "silver derived from the metal silver forming material" is synonymous with silver in the metal silver forming material blended at the time of manufacturing the silver ink composition, unless otherwise specified. , Silver that still constitutes the metal silver forming material after compounding, silver in the decomposition product that was produced by the decomposition of the metal silver forming material after compounding, and silver that was produced by the decomposition of the metal silver forming material after compounding. It is a concept that includes all of itself (metal silver).

[含窒素化合物]
銀インク組成物は、特に前記金属銀の形成材料が前記カルボン酸銀である場合、前記金属銀の形成材料以外に、さらに含窒素化合物が配合されてなるものが好ましい。
前記含窒素化合物は、炭素数25以下のアミン化合物(以下、「アミン化合物」と略記することがある)、炭素数25以下の第4級アンモニウム塩(以下、「第4級アンモニウム塩」と略記することがある)、アンモニア、炭素数25以下のアミン化合物が酸と反応してなるアンモニウム塩(以下、「アミン化合物由来のアンモニウム塩」と略記することがある)、及びアンモニアが酸と反応してなるアンモニウム塩(以下、「アンモニア由来のアンモニウム塩」と略記することがある)からなる群から選択される1種以上のものである。すなわち、配合される含窒素化合物は、1種のみでよいし、2種以上でもよく、2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
[Nitrogen-containing compound]
The silver ink composition is preferably one in which a nitrogen-containing compound is further blended in addition to the metal silver forming material, particularly when the metal silver forming material is the silver carboxylate.
The nitrogen-containing compound is an amine compound having 25 or less carbon atoms (hereinafter, may be abbreviated as "amine compound") and a quaternary ammonium salt having 25 or less carbon atoms (hereinafter, abbreviated as "quaternary ammonium salt"). ), Ammium, an ammonium salt formed by reacting an amine compound with 25 or less carbon atoms with an acid (hereinafter, may be abbreviated as "ammonium salt derived from an amine compound"), and ammonia reacting with an acid It is one or more selected from the group consisting of ammonium salts (hereinafter, may be abbreviated as "ammonium-derived ammonium salts"). That is, the nitrogen-containing compound to be blended may be only one kind, may be two or more kinds, and when two or more kinds are used in combination, the combination and the ratio thereof can be arbitrarily adjusted.

(アミン化合物、第4級アンモニウム塩)
前記アミン化合物は、炭素数が1〜25であり、第1級アミン、第2級アミン及び第3級アミンのいずれでもよい。また、前記第4級アンモニウム塩は、炭素数が4〜25である。前記アミン化合物及び第4級アンモニウム塩は、鎖状及び環状のいずれでもよい。また、アミン部位又はアンモニウム塩部位を構成する窒素原子(例えば、第1級アミンのアミノ基(−NH)を構成する窒素原子)の数は1個でもよいし、2個以上でもよい。
(Amine compound, quaternary ammonium salt)
The amine compound has 1 to 25 carbon atoms and may be any of a primary amine, a secondary amine and a tertiary amine. The quaternary ammonium salt has 4 to 25 carbon atoms. The amine compound and the quaternary ammonium salt may be either chain-like or cyclic. Further, the number of nitrogen atoms constituting the amine moiety or the ammonium salt moiety (for example, the nitrogen atom constituting the amino group (-NH 2 ) of the primary amine) may be one or two or more.

前記第1級アミンとしては、例えば、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいモノアルキルアミン、モノアリールアミン、モノ(ヘテロアリール)アミン、ジアミン等が挙げられる。 Examples of the primary amine include monoalkylamines, monoarylamines, mono (heteroaryl) amines, diamines, etc., in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.

前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよく、Rにおける前記アルキル基と同様のものが挙げられ、炭素数が1〜19の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数が3〜7の環状のアルキル基であることが好ましい。
好ましい前記モノアルキルアミンとして、具体的には、例えば、n−ブチルアミン、n−へキシルアミン、n−オクチルアミン、n−ドデシルアミン、n−オクタデシルアミン、イソブチルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、3−アミノペンタン、3−メチルブチルアミン、2−ヘプチルアミン(2−アミノヘプタン)、2−アミノオクタン、2−エチルヘキシルアミン、1,2−ジメチル−n−プロピルアミン等が挙げられる。
The alkyl group constituting the monoalkylamine may be linear, branched or cyclic, and examples thereof include those similar to the alkyl group in R, which are linear or branched having 1 to 19 carbon atoms. It is preferably a chain alkyl group or a cyclic alkyl group having 3 to 7 carbon atoms.
Specific preferred monoalkylamines include, for example, n-butylamine, n-hexylamine, n-octylamine, n-dodecylamine, n-octadecylamine, isobutylamine, sec-butylamine, tert-butylamine, 3 -Aminopentane, 3-methylbutylamine, 2-heptylamine (2-aminoheptane), 2-aminooctane, 2-ethylhexylamine, 1,2-dimethyl-n-propylamine and the like can be mentioned.

前記モノアリールアミンを構成するアリール基としては、例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げられ、炭素数が6〜10であることが好ましい。 Examples of the aryl group constituting the monoarylamine include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group and the like, and the number of carbon atoms is preferably 6 to 10.

前記モノ(ヘテロアリール)アミンを構成するヘテロアリール基は、芳香族環骨格を構成する原子として、ヘテロ原子を有するものであり、前記ヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、ホウ素原子等が挙げられる。また、芳香族環骨格を構成する前記へテロ原子の数は特に限定されず、1個でもよいし、2個以上でもよい。2個以上である場合、これらへテロ原子は互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、これらへテロ原子は、すべて同じでもよいし、すべて異なっていてもよく、一部だけ異なっていてもよい。
前記ヘテロアリール基は、単環状及び多環状のいずれでもよく、その環員数(環骨格を構成する原子の数)も特に限定されないが、3〜12員環であることが好ましい。
The heteroaryl group constituting the mono (heteroaryl) amine has a hetero atom as an atom constituting the aromatic ring skeleton, and the hetero atom includes, for example, a nitrogen atom, a sulfur atom, an oxygen atom, and the like. Examples include a boron atom. Further, the number of the hetero atoms constituting the aromatic ring skeleton is not particularly limited, and may be one or two or more. When there are two or more, these heteroatoms may be the same or different from each other. That is, these heteroatoms may all be the same, all may be different, or only some may be different.
The heteroaryl group may be monocyclic or polycyclic, and the number of ring members (the number of atoms constituting the ring skeleton) is not particularly limited, but is preferably a 3 to 12 member ring.

前記ヘテロアリール基で、窒素原子を1〜4個有する単環状のものとしては、例えば、ピロリル基、ピロリニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、ピロリジニル基、イミダゾリジニル基、ピペリジニル基、ピラゾリジニル基、ピペラジニル基等が挙げられ、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、酸素原子を1個有する単環状のものとしては、例えば、フラニル基等が挙げられ、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、硫黄原子を1個有する単環状のものとしては、例えば、チエニル基等が挙げられ、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、酸素原子を1〜2個及び窒素原子を1〜3個有する単環状のものとしては、例えば、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、モルホリニル基等が挙げられ、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、硫黄原子を1〜2個及び窒素原子を1〜3個有する単環状のものとしては、例えば、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チアゾリジニル基等が挙げられ、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、窒素原子を1〜5個有する多環状のものとしては、例えば、インドリル基、イソインドリル基、インドリジニル基、ベンズイミダゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、インダゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、テトラゾロピリジル基、テトラゾロピリダジニル基、ジヒドロトリアゾロピリダジニル基等が挙げられ、7〜12員環であることが好ましく、9〜10員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、硫黄原子を1〜3個有する多環状のものとしては、例えば、ジチアナフタレニル基、ベンゾチオフェニル基等が挙げられ、7〜12員環であることが好ましく、9〜10員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、酸素原子を1〜2個及び窒素原子を1〜3個有する多環状のものとしては、例えば、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾオキサジアゾリル基等が挙げられ、7〜12員環であることが好ましく、9〜10員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、硫黄原子を1〜2個及び窒素原子を1〜3個有する多環状のものとしては、例えば、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基等が挙げられ、7〜12員環であることが好ましく、9〜10員環であることがより好ましい。
Examples of the heteroaryl group having 1 to 4 nitrogen atoms as a monocyclic group include a pyrrolyl group, a pyrrolinyl group, an imidazolyl group, a pyrazolyl group, a pyridyl group, a pyrimidyl group, a pyrazinyl group, a pyridadinyl group and a triazolyl group. Examples thereof include a tetrazolyl group, a pyrrolidinyl group, an imidazolidinyl group, a piperidinyl group, a pyrazoridinyl group and a piperazinyl group, and a 3- to 8-membered ring is preferable, and a 5- to 6-membered ring is more preferable.
Examples of the heteroaryl group having a monocyclic structure having one oxygen atom include a furanyl group and the like, preferably having a 3- to 8-membered ring, and more preferably a 5- to 6-membered ring. ..
Examples of the heteroaryl group having a monocyclic structure having one sulfur atom include a thienyl group and the like, preferably having a 3- to 8-membered ring, and more preferably a 5- to 6-membered ring. ..
Examples of the heteroaryl group having a monocyclic structure having 1 to 2 oxygen atoms and 1 to 3 nitrogen atoms include an oxazolyl group, an isooxazolyl group, an oxadiazolyl group, a morpholinyl group and the like, and 3 to 8 thereof. It is preferably a membered ring, more preferably a 5-6 membered ring.
Examples of the heteroaryl group having a monocyclic group having 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms include a thiazolyl group, a thiadiazolyl group, a thiazolidinyl group and the like, and have a 3 to 8 membered ring. It is preferably present, and more preferably a 5- to 6-membered ring.
Examples of the heteroaryl group having 1 to 5 nitrogen atoms as a polycyclic group include an indolyl group, an isoindryl group, an indridinyl group, a benzimidazolyl group, a quinolyl group, an isoquinolyl group, an indazolyl group, and a benzotriazolyl group. , Tetrazolopyridyl group, tetrazolopyridazinyl group, dihydrotriazolopyridazinyl group and the like, preferably a 7 to 12-membered ring, and more preferably a 9 to 10-membered ring.
Examples of the heteroaryl group having 1 to 3 sulfur atoms as a polycyclic group include a dithianaphthalenyl group and a benzothiophenyl group, and a 7 to 12-membered ring is preferable, and 9 It is more preferably a 10-membered ring.
Examples of the heteroaryl group having a polycyclic group having 1 to 2 oxygen atoms and 1 to 3 nitrogen atoms include a benzoxazolyl group, a benzoxaziazolyl group and the like, and 7 to 12 thereof. It is preferably a membered ring, more preferably 9 to 10 membered rings.
Examples of the heteroaryl group having a polycyclic group having 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms include a benzothiazolyl group and a benzothiazolyl group, and have a 7 to 12-membered ring. It is preferably present, and more preferably 9 to 10-membered rings.

前記ジアミンは、アミノ基を2個有していればよく、2個のアミノ基の位置関係は特に限定されない。好ましい前記ジアミンとしては、例えば、前記モノアルキルアミン、モノアリールアミン又はモノ(ヘテロアリール)アミンにおいて、アミノ基(−NH)を構成する水素原子以外の1個の水素原子が、アミノ基で置換されたもの等が挙げられる。
前記ジアミンは炭素数が1〜10であることが好ましく、より好ましいものとしては、例えば、エチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン等が挙げられる。
The diamine may have two amino groups, and the positional relationship between the two amino groups is not particularly limited. As the preferred diamine, for example, in the monoalkylamine, monoarylamine or mono (heteroaryl) amine, one hydrogen atom other than the hydrogen atom constituting the amino group (-NH 2) is replaced with an amino group. Examples include those that have been used.
The diamine preferably has 1 to 10 carbon atoms, and more preferable diamines include, for example, ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, and 1,4-diaminobutane.

前記第2級アミンとしては、例えば、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいジアルキルアミン、ジアリールアミン、ジ(ヘテロアリール)アミン等が挙げられる。 Examples of the secondary amine include dialkylamine, diarylamine, and di (heteroaryl) amine in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.

前記ジアルキルアミンを構成するアルキル基は、前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基と同様であり、炭素数が1〜9の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数が3〜7の環状のアルキル基であることが好ましい。また、ジアルキルアミン一分子中の2個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよい。
好ましい前記ジアルキルアミンとして、具体的には、例えば、N−メチル−n−ヘキシルアミン、ジイソブチルアミン、ジ(2−エチルへキシル)アミン等が挙げられる。
The alkyl group constituting the dialkylamine is the same as the alkyl group constituting the monoalkylamine, and is a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms or having 3 to 7 carbon atoms. It is preferably a cyclic alkyl group. Further, the two alkyl groups in one molecule of dialkylamine may be the same or different from each other.
Specific examples of the preferred dialkylamine include N-methyl-n-hexylamine, diisobutylamine, and di (2-ethylhexyl) amine.

前記ジアリールアミンを構成するアリール基は、前記モノアリールアミンを構成するアリール基と同様であり、炭素数が6〜10であることが好ましい。また、ジアリールアミン一分子中の2個のアリール基は、互いに同一でも異なっていてもよい。 The aryl group constituting the diarylamine is the same as the aryl group constituting the monoarylamine, and preferably has 6 to 10 carbon atoms. Further, the two aryl groups in one molecule of diallylamine may be the same as or different from each other.

前記ジ(ヘテロアリール)アミンを構成するヘテロアリール基は、前記モノ(ヘテロアリール)アミンを構成するヘテロアリール基と同様であり、6〜12員環であることが好ましい。また、ジ(ヘテロアリール)アミン一分子中の2個のヘテロアリール基は、互いに同一でも異なっていてもよい。 The heteroaryl group constituting the di (heteroaryl) amine is the same as the heteroaryl group constituting the mono (heteroaryl) amine, and is preferably a 6 to 12-membered ring. Also, the two heteroaryl groups in a single molecule of di (heteroaryl) amine may be the same or different from each other.

前記第3級アミンとしては、例えば、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいトリアルキルアミン、ジアルキルモノアリールアミン等が挙げられる。 Examples of the tertiary amine include trialkylamines and dialkylmonoarylamines in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.

前記トリアルキルアミンを構成するアルキル基は、前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基と同様であり、炭素数が1〜19の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数が3〜7の環状のアルキル基であることが好ましい。また、トリアルキルアミン一分子中の3個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、3個のアルキル基は、すべてが同じでもよいし、すべてが異なっていてもよく、一部だけが異なっていてもよい。
好ましい前記トリアルキルアミンとして、具体的には、例えば、N,N−ジメチル−n−オクタデシルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン等が挙げられる。
The alkyl group constituting the trialkylamine is the same as the alkyl group constituting the monoalkylamine, and is a linear or branched alkyl group having 1 to 19 carbon atoms or a carbon number of 3 to 7 carbon atoms. It is preferably a cyclic alkyl group of. Further, the three alkyl groups in one molecule of trialkylamine may be the same or different from each other. That is, the three alkyl groups may be all the same, all may be different, or only some may be different.
Specific examples of the preferred trialkylamine include N, N-dimethyl-n-octadecylamine, N, N-dimethylcyclohexylamine and the like.

前記ジアルキルモノアリールアミンを構成するアルキル基は、前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基と同様であり、炭素数が1〜6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数が3〜7の環状のアルキル基であることが好ましい。また、ジアルキルモノアリールアミン一分子中の2個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよい。
前記ジアルキルモノアリールアミンを構成するアリール基は、前記モノアリールアミンを構成するアリール基と同様であり、炭素数が6〜10であることが好ましい。
The alkyl group constituting the dialkyl monoarylamine is the same as the alkyl group constituting the monoalkylamine, and is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or 3 to 6 carbon atoms. It is preferably a cyclic alkyl group of 7. Further, the two alkyl groups in one molecule of dialkyl monoarylamine may be the same or different from each other.
The aryl group constituting the dialkyl monoarylamine is the same as the aryl group constituting the monoarylamine, and preferably has 6 to 10 carbon atoms.

本発明において、前記第4級アンモニウム塩としては、例えば、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいハロゲン化テトラアルキルアンモニウム等が挙げられる。
前記ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムを構成するアルキル基は、前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基と同様であり、炭素数が1〜19であることが好ましい。また、ハロゲン化テトラアルキルアンモニウム一分子中の4個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、4個のアルキル基は、すべてが同じでもよいし、すべてが異なっていてもよく、一部だけが異なっていてもよい。
前記ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムを構成するハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
好ましい前記ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムとして、具体的には、例えば、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミド等が挙げられる。
In the present invention, examples of the quaternary ammonium salt include tetraalkylammonium halide in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.
The alkyl group constituting the halogenated tetraalkylammonium is the same as the alkyl group constituting the monoalkylamine, and preferably has 1 to 19 carbon atoms. Further, the four alkyl groups in one molecule of tetraalkylammonium halide may be the same or different from each other. That is, the four alkyl groups may be all the same, all may be different, or only some may be different.
Examples of the halogen constituting the halogenated tetraalkylammonium include fluorine, chlorine, bromine, iodine and the like.
Specific examples of the preferred tetraalkylammonium halide include dodecyltrimethylammonium bromide.

ここまでは、主に鎖状のアミン化合物及び第4級有機アンモニウム塩について説明したが、前記アミン化合物及び第4級アンモニウム塩は、アミン部位又はアンモニウム塩部位を構成する窒素原子が環骨格構造(複素環骨格構造)の一部であるようなヘテロ環化合物であってもよい。すなわち、前記アミン化合物は環状アミンでもよく、前記第4級アンモニウム塩は環状アンモニウム塩でもよい。この時の環(アミン部位又はアンモニウム塩部位を構成する窒素原子を含む環)構造は、単環状及び多環状のいずれでもよく、その環員数(環骨格を構成する原子の数)も特に限定されず、脂肪族環及び芳香族環のいずれでもよい。
環状アミンであれば、好ましいものとして、例えば、ピリジン等が挙げられる。
Up to this point, the chain amine compound and the quaternary organic ammonium salt have been mainly described, but the amine compound and the quaternary ammonium salt have a ring-skeleton structure in which the nitrogen atom constituting the amine moiety or the quaternary ammonium salt moiety is formed. It may be a heterocyclic compound which is a part of the heterocyclic skeleton structure). That is, the amine compound may be a cyclic amine, and the quaternary ammonium salt may be a cyclic ammonium salt. The ring (ring containing nitrogen atoms constituting the amine moiety or ammonium salt moiety) structure at this time may be either monocyclic or polycyclic, and the number of ring members (the number of atoms constituting the ring skeleton) is particularly limited. However, it may be either an aliphatic ring or an aromatic ring.
If it is a cyclic amine, preferred examples thereof include pyridine and the like.

前記第1級アミン、第2級アミン、第3級アミン及び第4級アンモニウム塩において、「置換基で置換されていてもよい水素原子」とは、アミン部位又はアンモニウム塩部位を構成する窒素原子に結合している水素原子以外の水素原子である。この時の置換基の数は特に限定されず、1個でもよいし、2個以上でもよく、前記水素原子のすべてが置換基で置換されていてもよい。置換基の数が複数の場合には、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、複数個の置換基はすべて同じでもよいし、すべて異なっていてもよく、一部だけが異なっていてもよい。また、置換基の位置も特に限定されない。 In the primary amine, secondary amine, tertiary amine and quaternary ammonium salt, the "hydrogen atom which may be substituted with a substituent" is a nitrogen atom constituting an amine moiety or an ammonium salt moiety. It is a hydrogen atom other than the hydrogen atom bonded to. The number of substituents at this time is not particularly limited, and may be one, two or more, and all of the hydrogen atoms may be substituted with substituents. When the number of substituents is plural, these plurality of substituents may be the same or different from each other. That is, the plurality of substituents may all be the same, all may be different, or only some of them may be different. Further, the position of the substituent is not particularly limited.

前記アミン化合物及び第4級アンモニウム塩における前記置換基としては、例えば、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、トリフルオロメチル基(−CF)等が挙げられる。ここで、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。 Examples of the substituent in the amine compound and the quaternary ammonium salt include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, and a trifluoromethyl group (-CF 3 ). Here, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.

前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基が置換基を有する場合、前記アルキル基は、置換基としてアリール基を有する、炭素数が1〜9の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は置換基として好ましくは炭素数が1〜5のアルキル基を有する、炭素数が3〜7の環状のアルキル基が好ましく、このような置換基を有するモノアルキルアミンとして、具体的には、例えば、2−フェニルエチルアミン、ベンジルアミン、2,3−ジメチルシクロヘキシルアミン等が挙げられる。
また、置換基である前記アリール基及びアルキル基は、さらに1個以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、このようなハロゲン原子で置換された置換基を有するモノアルキルアミンとしては、例えば、2−ブロモベンジルアミン等が挙げられる。ここで、前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
When the alkyl group constituting the monoalkylamine has a substituent, the alkyl group is a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms or a substituent having an aryl group as the substituent. A cyclic alkyl group having 3 to 7 carbon atoms having an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is preferable, and as a monoalkylamine having such a substituent, specifically, for example, 2-. Examples thereof include phenylethylamine, benzylamine and 2,3-dimethylcyclohexylamine.
Further, the aryl group and the alkyl group, which are substituents, may further have one or more hydrogen atoms substituted with halogen atoms, and the monoalkylamine having a substituent substituted with such a halogen atom may be used. For example, 2-bromobenzylamine and the like can be mentioned. Here, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.

前記モノアリールアミンを構成するアリール基が置換基を有する場合、前記アリール基は、置換基としてハロゲン原子を有する、炭素数が6〜10のアリール基が好ましく、このような置換基を有するモノアリールアミンとして、具体的には、例えば、ブロモフェニルアミン等が挙げられる。ここで、前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。 When the aryl group constituting the monoarylamine has a substituent, the aryl group is preferably an aryl group having a halogen atom as a substituent and having 6 to 10 carbon atoms, and a monoaryl having such a substituent. Specific examples of the amine include bromophenylamine and the like. Here, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.

前記ジアルキルアミンを構成するアルキル基が置換基を有する場合、前記アルキル基は、置換基として水酸基又はアリール基を有する、炭素数が1〜9の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、このような置換基を有するジアルキルアミンとして、具体的には、例えば、ジエタノールアミン、N−メチルベンジルアミン等が挙げられる。 When the alkyl group constituting the dialkylamine has a substituent, the alkyl group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms and having a hydroxyl group or an aryl group as the substituent. Specific examples of the dialkylamine having such a substituent include diethanolamine and N-methylbenzylamine.

前記アミン化合物は、n−プロピルアミン、n−ブチルアミン、n−へキシルアミン、n−オクチルアミン、n−ドデシルアミン、n−オクタデシルアミン、イソブチルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、3−アミノペンタン、3−メチルブチルアミン、2−ヘプチルアミン、2−アミノオクタン、2−エチルヘキシルアミン、2−フェニルエチルアミン、エチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、N−メチル−n−ヘキシルアミン、ジイソブチルアミン、N−メチルベンジルアミン、ジ(2−エチルへキシル)アミン、1,2−ジメチル−n−プロピルアミン、N,N−ジメチル−n−オクタデシルアミン又はN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンであることが好ましい。
そして、これらアミン化合物の中でも、2−エチルヘキシルアミンは、前記カルボン酸銀との相溶性に優れ、銀インク組成物の高濃度化に特に適しており、さらに導電層13の表面粗さの低減に特に適したものとして挙げられる。
The amine compounds include n-propylamine, n-butylamine, n-hexylamine, n-octylamine, n-dodecylamine, n-octadecylamine, isobutylamine, sec-butylamine, tert-butylamine, 3-aminopentane, 3-Methylbutylamine, 2-heptylamine, 2-aminooctane, 2-ethylhexylamine, 2-phenylethylamine, ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, N-methyl-n-hexylamine, Diisobutylamine, N-methylbenzylamine, di (2-ethylhexyl) amine, 1,2-dimethyl-n-propylamine, N, N-dimethyl-n-octadecylamine or N, N-dimethylcyclohexylamine. Is preferable.
Among these amine compounds, 2-ethylhexylamine has excellent compatibility with the silver carboxylate, is particularly suitable for increasing the concentration of the silver ink composition, and further reduces the surface roughness of the conductive layer 13. It is mentioned as particularly suitable.

(アミン化合物由来のアンモニウム塩)
本発明において、前記アミン化合物由来のアンモニウム塩は、前記アミン化合物が酸と反応してなるアンモニウム塩であり、前記酸は、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸でもよいし、酢酸等の有機酸でもよく、酸の種類は特に限定されない。
前記アミン化合物由来のアンモニウム塩としては、例えば、n−プロピルアミン塩酸塩、N−メチル−n−ヘキシルアミン塩酸塩、N,N−ジメチル−n−オクタデシルアミン塩酸塩等が挙げられるが、これらに限定されない。
(Ammonium salt derived from amine compound)
In the present invention, the ammonium salt derived from the amine compound is an ammonium salt formed by reacting the amine compound with an acid, and the acid may be an inorganic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid or nitric acid, or an organic acid such as acetic acid. However, the type of acid is not particularly limited.
Examples of the ammonium salt derived from the amine compound include n-propylamine hydrochloride, N-methyl-n-hexylamine hydrochloride, N, N-dimethyl-n-octadecylamine hydrochloride and the like. Not limited.

(アンモニア由来のアンモニウム塩)
本発明において、前記アンモニア由来のアンモニウム塩は、アンモニアが酸と反応してなるアンモニウム塩であり、ここで酸としては、前記アミン化合物由来のアンモニウム塩の場合と同じものが挙げられる。
前記アンモニア由来のアンモニウム塩としては、例えば、塩化アンモニウム等が挙げられるが、これに限定されない。
(Ammonia-derived ammonium salt)
In the present invention, the ammonium salt derived from ammonia is an ammonium salt formed by reacting ammonia with an acid, and examples of the acid include the same as in the case of the ammonium salt derived from the amine compound.
Examples of the ammonia-derived ammonium salt include, but are not limited to, ammonium chloride.

本発明においては、前記アミン化合物、第4級アンモニウム塩、アミン化合物由来のアンモニウム塩及びアンモニア由来のアンモニウム塩は、それぞれ1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
そして、前記含窒素化合物としては、前記アミン化合物、第4級アンモニウム塩、アミン化合物由来のアンモニウム塩及びアンモニア由来のアンモニウム塩からなる群から選択される1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
In the present invention, the amine compound, the quaternary ammonium salt, the ammonium salt derived from the amine compound, and the ammonium salt derived from ammonia may be used alone or in combination of two or more. Good. When two or more kinds are used in combination, their combinations and ratios can be adjusted arbitrarily.
Then, as the nitrogen-containing compound, one selected from the group consisting of the amine compound, the quaternary ammonium salt, the ammonium salt derived from the amine compound and the ammonium salt derived from ammonia may be used alone. Two or more types may be used in combination. When two or more kinds are used in combination, their combinations and ratios can be adjusted arbitrarily.

本発明においては、例えば、前記含窒素化合物として、炭素数が8以上の第1含窒素化合物と、炭素数が7以下の第2含窒素化合物と、を併用してもよい。
前記第1含窒素化合物及び第2含窒素化合物を併用する場合、銀インク組成物において、第1含窒素化合物の配合量に対する第2含窒素化合物の配合量の割合は、0モル%より大きく、18モル%未満であることが好ましく、1〜17モル%であることがより好ましい。前記割合がこのような範囲であることで、例えば、細線状の銀層をより安定して形成できる。
In the present invention, for example, as the nitrogen-containing compound, a first nitrogen-containing compound having 8 or more carbon atoms and a second nitrogen-containing compound having 7 or less carbon atoms may be used in combination.
When the first nitrogen-containing compound and the second nitrogen-containing compound are used in combination, the ratio of the blending amount of the second nitrogen-containing compound to the blending amount of the first nitrogen-containing compound in the silver ink composition is larger than 0 mol%. It is preferably less than 18 mol%, more preferably 1 to 17 mol%. When the ratio is in such a range, for example, a fine linear silver layer can be formed more stably.

銀インク組成物において、前記含窒素化合物の配合量は、前記金属銀の形成材料の配合量1モルあたり0.3〜15モルであることが好ましく、0.3〜5モルであることがより好ましい。前記含窒素化合物の前記配合量がこのような範囲であることで、銀インク組成物は安定性がより向上し、導電体(金属銀)の品質がより向上する。さらに、高温による加熱処理を行わなくても、より安定して導電体を形成できる。 In the silver ink composition, the blending amount of the nitrogen-containing compound is preferably 0.3 to 15 mol, more preferably 0.3 to 5 mol, per 1 mol of the blended amount of the metallic silver-forming material. preferable. When the blending amount of the nitrogen-containing compound is in such a range, the stability of the silver ink composition is further improved, and the quality of the conductor (metal silver) is further improved. Further, the conductor can be formed more stably without heat treatment at a high temperature.

[還元剤]
銀インク組成物は、前記金属銀の形成材料以外に、さらに還元剤が配合されてなるものが好ましい。還元剤を配合することで、前記銀インク組成物は、金属銀をより形成し易くなり、例えば、低温での加熱処理でも十分な導電性を有する導電体(金属銀)を形成できる。
[Reducing agent]
The silver ink composition is preferably one in which a reducing agent is further blended in addition to the metal silver forming material. By blending the reducing agent, the silver ink composition can more easily form metallic silver, and for example, a conductor (metallic silver) having sufficient conductivity can be formed even by heat treatment at a low temperature.

前記還元剤は、シュウ酸、ヒドラジン及び下記一般式(5)で表される化合物(以下、「化合物(5)」と略記することがある)からなる群から選択される1種以上の還元性化合物(以下、単に「還元性化合物」と略記することがある)であることが好ましい。
H−C(=O)−R21 ・・・・(5)
(式中、R21は、炭素数20以下のアルキル基、アルコキシ基若しくはN,N−ジアルキルアミノ基、水酸基又はアミノ基である。)
The reducing agent is one or more reducing agents selected from the group consisting of oxalic acid, hydrazine and a compound represented by the following general formula (5) (hereinafter, may be abbreviated as "compound (5)"). It is preferably a compound (hereinafter, may be simply abbreviated as "reducing compound").
HC (= O) -R 21 ... (5)
(In the formula, R 21 is an alkyl group having 20 or less carbon atoms, an alkoxy group or an N, N-dialkylamino group, a hydroxyl group or an amino group.)

(還元性化合物)
前記還元性化合物は、シュウ酸(HOOC−COOH)、ヒドラジン(HN−NH)及び前記一般式(5)で表される化合物(化合物(5))からなる群から選択される1種以上のものである。すなわち、配合される還元性化合物は、1種のみでよいし、2種以上でもよく、2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
(Reducing compound)
The reducing compound, oxalic acid (HOOC-COOH), hydrazine (H 2 N-NH 2) and the compound represented by the general formula (5) (Compound (5)) one selected from the group consisting of That is all. That is, the reducing compound to be blended may be only one kind, may be two or more kinds, and when two or more kinds are used in combination, the combination and ratio thereof can be arbitrarily adjusted.

21における炭素数20以下のアルキル基は、炭素数が1〜20であり、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよく、前記一般式(1)のRにおける前記アルキル基と同様のものが挙げられる。 The alkyl group having 20 or less carbon atoms in R 21 has 1 to 20 carbon atoms and may be linear, branched or cyclic, and is the same as the alkyl group in R in the general formula (1). Things can be mentioned.

21における炭素数20以下のアルコキシ基は、炭素数が1〜20であり、例えば、R21における前記アルキル基が酸素原子に結合してなる一価の基等が挙げられる。 The alkoxy group having 20 or less carbon atoms in R 21 has 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a monovalent group in which the alkyl group in R 21 is bonded to an oxygen atom.

21における炭素数20以下のN,N−ジアルキルアミノ基は、炭素数が2〜20であり、窒素原子に結合している2個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよく、前記アルキル基はそれぞれ炭素数が1〜19である。ただし、これら2個のアルキル基の炭素数の合計値が2〜20である。
窒素原子に結合している前記アルキル基は、それぞれ直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよく、炭素数が1〜19である点以外は、前記一般式(1)のRにおける前記アルキル基と同様のものが挙げられる。
The N, N-dialkylamino group having 20 or less carbon atoms in R 21 has 2 to 20 carbon atoms, and the two alkyl groups bonded to the nitrogen atom may be the same or different from each other. Each alkyl group has 1 to 19 carbon atoms. However, the total number of carbon atoms of these two alkyl groups is 2 to 20.
The alkyl group bonded to the nitrogen atom may be linear, branched or cyclic, respectively, and the alkyl in R of the general formula (1) except that the number of carbon atoms is 1 to 19. The same as the group can be mentioned.

前記還元性化合物として、ヒドラジンは、一水和物(HN−NH・HO)を用いてもよい。 As the reducing compound, hydrazine may be monohydrate (H 2 N-NH 2 · H 2 O).

前記還元性化合物で好ましいものとしては、例えば、ギ酸(H−C(=O)−OH);ギ酸メチル(H−C(=O)−OCH)、ギ酸エチル(H−C(=O)−OCHCH)、ギ酸ブチル(H−C(=O)−O(CHCH)等のギ酸エステル;プロパナール(H−C(=O)−CHCH)、ブタナール(H−C(=O)−(CHCH)、ヘキサナール(H−C(=O)−(CHCH)等のアルデヒド;ホルムアミド(H−C(=O)−NH)、N,N−ジメチルホルムアミド(H−C(=O)−N(CH)等のホルムアミド類(式「H−C(=O)−N(−)−」で表される基を有する化合物);シュウ酸等が挙げられる。 Preferred reducing compounds include, for example, formic acid (HC (= O) -OH); methyl formate (HC (= O) -OCH 3 ), ethyl formate (HC (= O)). -OCH 2 CH 3 ), butyl formate (HC (= O) -O (CH 2 ) 3 CH 3 ) and other formic acid esters; compound (HC (= O) -CH 2 CH 3 ), butanal Aldehydes such as (HC (= O)-(CH 2 ) 2 CH 3 ), hexanal (HC (= O)-(CH 2 ) 4 CH 3 ); formamide (HC (= O)- Formamides such as NH 2 ), N, N-dimethylformamide (HC (= O) -N (CH 3 ) 2 ) (represented by the formula "HC (= O) -N (-)-" Compounds having a group); formic acid and the like.

銀インク組成物において、還元剤の配合量は、前記金属銀の形成材料の配合量1モルあたり0.04〜3.5モルであることが好ましく、0.06〜2.5モルであることがより好ましい。還元剤の前記配合量がこのような範囲であることで、銀インク組成物は、より容易に、より安定して導電体(金属銀)を形成できる。 In the silver ink composition, the blending amount of the reducing agent is preferably 0.04 to 3.5 mol, preferably 0.06 to 2.5 mol, per 1 mol of the blended amount of the metallic silver forming material. Is more preferable. When the blending amount of the reducing agent is in such a range, the silver ink composition can more easily and more stably form a conductor (metal silver).

[アルコール]
銀インク組成物は、前記金属銀の形成材料以外に、さらにアルコールが配合されてなるものでもよい。
[alcohol]
The silver ink composition may be further blended with alcohol in addition to the metal silver forming material.

前記アルコールは、下記一般式(2)で表されるアセチレンアルコール類(以下、「アセチレンアルコール(2)」と略記することがある)であることが好ましい。 The alcohol is preferably acetylene alcohols represented by the following general formula (2) (hereinafter, may be abbreviated as "acetylene alcohol (2)").

Figure 0006855201
(式中、R’及びR’’は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基である。)
Figure 0006855201
(In the formula, R'and R'' are hydrogen atoms, alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, or phenyl groups in which one or more hydrogen atoms may be substituted with substituents, respectively.)

(アセチレンアルコール(2))
アセチレンアルコール(2)は、前記一般式(2)で表される。
式中、R’及びR’’は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基である。
R’及びR’’における炭素数1〜20のアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよく、環状である場合、単環状及び多環状のいずれでもよい。R’及びR’’における前記アルキル基としては、Rにおける前記アルキル基と同様のものが挙げられる。
(Acetylene alcohol (2))
The acetylene alcohol (2) is represented by the general formula (2).
In the formula, R'and R'' are hydrogen atoms, alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, or phenyl groups in which one or more hydrogen atoms may be substituted with substituents, respectively.
The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R'and R'' may be linear, branched chain or cyclic, and when cyclic, it may be monocyclic or polycyclic. Examples of the alkyl group in R'and R'' include the same as the alkyl group in R.

R’及びR’’におけるフェニル基の水素原子が置換されていてもよい前記置換基としては、例えば、炭素数が1〜16の飽和又は不飽和の一価の脂肪族炭化水素基、前記脂肪族炭化水素基が酸素原子に結合してなる一価の基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、シアノ基、フェノキシ基等が挙げられ、Rにおけるフェニル基の水素原子が置換されていてもよい前記置換基と同様である。そして、置換基の数及び位置は特に限定されず、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。 Examples of the substituent in which the hydrogen atom of the phenyl group in R'and R'' may be substituted include a saturated or unsaturated monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms and the fat. Examples include a monovalent group in which a group hydrocarbon group is bonded to an oxygen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a hydroxyl group, a cyano group, a phenoxy group, etc., and the hydrogen atom of the phenyl group in R is substituted. It is the same as the above-mentioned substituent. The number and position of the substituents are not particularly limited, and when the number of substituents is plural, these plurality of substituents may be the same or different from each other.

R’及びR’’は、水素原子、又は炭素数1〜20のアルキル基であることが好ましく、水素原子、又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基であることがより好ましい。 R'and R'' are preferably hydrogen atoms or alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, and preferably hydrogen atoms or linear or branched alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms. More preferred.

好ましいアセチレンアルコール(2)としては、例えば、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、3−メチル−1−ブチン−3−オール、3−メチル−1−ペンチン−3−オール、2−プロピン−1−オール、4−エチル−1−オクチン−3−オール、3−エチル−1−ヘプチン−3−オール等が挙げられる。 Preferred acetylene alcohols (2) include, for example, 3,5-dimethyl-1-hexin-3-ol, 3-methyl-1-butyne-3-ol, 3-methyl-1-pentyne-3-ol, 2 -Propyne-1-ol, 4-ethyl-1-octyne-3-ol, 3-ethyl-1-heptin-3-ol and the like can be mentioned.

アセチレンアルコール(2)を用いる場合、銀インク組成物において、アセチレンアルコール(2)の配合量は、前記金属銀の形成材料の配合量1モルあたり0.01〜0.7モルであることが好ましく、0.02〜0.3モルであることがより好ましい。アセチレンアルコール(2)の前記配合量がこのような範囲であることで、銀インク組成物の安定性がより向上する。 When acetylene alcohol (2) is used, the blending amount of acetylene alcohol (2) in the silver ink composition is preferably 0.01 to 0.7 mol per 1 mole of the metallic silver forming material. , 0.02 to 0.3 mol, more preferably. When the blending amount of the acetylene alcohol (2) is in such a range, the stability of the silver ink composition is further improved.

前記アルコールは、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。 The alcohol may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, their combinations and ratios can be adjusted arbitrarily.

[その他の成分]
銀インク組成物は、前記金属銀の形成材料、含窒素化合物、還元剤及びアルコール以外の、その他の成分が配合されてなるものでもよい。
銀インク組成物における前記その他の成分は、目的に応じて任意に選択でき、特に限定されず、好ましいものとしては、例えば、アルコール以外の溶媒等が挙げられ、配合成分の種類や量に応じて任意に選択できる。
銀インク組成物における前記その他の成分は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
[Other ingredients]
The silver ink composition may be a mixture of other components other than the metallic silver forming material, nitrogen-containing compound, reducing agent and alcohol.
The other components in the silver ink composition can be arbitrarily selected depending on the intended purpose, and are not particularly limited, and preferred ones include, for example, a solvent other than alcohol, depending on the type and amount of the compounding components. It can be selected arbitrarily.
As the other components in the silver ink composition, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination. When two or more kinds are used in combination, their combinations and ratios can be adjusted arbitrarily.

(溶媒)
前記溶媒は、アルコール以外のもの(水酸基を有しないもの)であれば、特に限定されない。
ただし、前記溶媒は、常温で液状であるものが好ましい。
(solvent)
The solvent is not particularly limited as long as it is other than alcohol (those having no hydroxyl group).
However, the solvent is preferably liquid at room temperature.

前記溶媒としては、例えば、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン等の芳香族炭化水素;ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロオクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、デカヒドロナフタレン等の脂肪族炭化水素;ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素;酢酸エチル、グルタル酸モノメチル、グルタル酸ジメチル等のエステル;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、1,2−ジメトキシエタン(ジメチルセロソルブ)等のエーテル;アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、シクロヘキサノン等のケトン;アセトニトリル等のニトリル;N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド等が挙げられる。 Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as toluene, o-xylene, m-xylene, and p-xylene; pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane, cyclooctane, nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, and the like. Aliphatic hydrocarbons such as tetradecane, pentadecane and decahydronaphthalene; halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform; esters such as ethyl acetate, monomethyl glutarate, dimethylformamide; diethyl ether, tetrahydrofuran (THF), 1,2- Ethers such as dimethoxyethane (dimethylcellosolve); ketones such as acetone, methylethylketone (MEK), cyclohexanone; nitriles such as acetonitrile; amides such as N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide and the like. ..

銀インク組成物における前記その他の成分の配合量は、前記その他の成分の種類に応じて、適宜選択すればよい。
例えば、前記その他の成分がアルコール以外の溶媒である場合、前記溶媒の配合量は、銀インク組成物の粘度等、目的に応じて選択すればよい。ただし通常は、銀インク組成物において、配合成分の総量に対する前記溶媒の配合量の割合は、50質量%以下であることが好ましく、40質量%以下であることがより好ましく、30質量%以下であることが特に好ましい。
また、前記その他の成分が前記溶媒以外の成分である場合、銀インク組成物において、配合成分の総量に対する前記その他の成分の配合量の割合は、10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましい。
配合成分の総量に対する前記その他の成分の配合量の割合が0質量、すなわちその他の成分を配合しなくても、銀インク組成物は十分にその効果を発現する。
The blending amount of the other component in the silver ink composition may be appropriately selected according to the type of the other component.
For example, when the other component is a solvent other than alcohol, the blending amount of the solvent may be selected according to the purpose such as the viscosity of the silver ink composition. However, usually, in the silver ink composition, the ratio of the blending amount of the solvent to the total blending component is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and 30% by mass or less. It is particularly preferable to have.
When the other component is a component other than the solvent, the ratio of the compounding amount of the other component to the total amount of the compounding component in the silver ink composition is preferably 10% by mass or less, preferably 5% by mass. More preferably, it is less than%.
The ratio of the blending amount of the other components to the total amount of the blending components is 0 mass, that is, even if the other components are not blended, the silver ink composition sufficiently exhibits its effect.

銀インク組成物は、配合成分がすべて溶解していてもよいし、一部又は全ての成分が溶解せずに分散した状態であってもよいが、配合成分がすべて溶解していることが好ましく、溶解していない成分は均一に分散していることが好ましい。 In the silver ink composition, all the compounding components may be dissolved, or some or all the components may be dispersed without being dissolved, but it is preferable that all the compounding components are dissolved. It is preferable that the undissolved components are uniformly dispersed.

[銀インク組成物の製造方法]
銀インク組成物は、前記金属銀の形成材料、及び前記金属銀の形成材料以外の成分を配合することで得られる。各成分の配合後は、得られたものをそのまま銀インク組成物としてもよいし、必要に応じて引き続き公知の精製操作を行って得られたものを銀インク組成物としてもよい。本発明においては、特に前記金属銀の形成材料としてβ−ケトカルボン酸銀(1)を用いた場合、上記の各成分の配合時において、導電性を阻害する不純物が生成しないか、又はこのような不純物の生成量を極めて少量に抑制できるため、精製操作を行っていない銀インク組成物を用いても、十分な導電性を有する導電体(金属銀)が得られる。
[Manufacturing method of silver ink composition]
The silver ink composition is obtained by blending a component other than the metallic silver forming material and the metallic silver forming material. After blending each component, the obtained product may be used as it is as a silver ink composition, or if necessary, a product obtained by continuously performing a known purification operation may be used as a silver ink composition. In the present invention, particularly when silver β-ketocarboxylate (1) is used as the material for forming the metallic silver, impurities that inhibit conductivity are not generated when each of the above components is blended, or such Since the amount of impurities produced can be suppressed to an extremely small amount, a conductor (metal silver) having sufficient conductivity can be obtained even if a silver ink composition that has not been refined is used.

各成分の配合時には、すべての成分を添加してからこれらを混合してもよいし、一部の成分を順次添加しながら混合してもよく、すべての成分を順次添加しながら混合してもよい。ただし、本発明においては、前記還元剤は滴下により配合することが好ましく、さらに滴下速度の変動を抑制することで、金属銀の表面粗さをより低減できる傾向にある。
混合方法は特に限定されず、撹拌子又は撹拌翼等を回転させて混合する方法;ミキサー、三本ロール、ニーダー又はビーズミル等を使用して混合する方法;超音波を加えて混合する方法等、公知の方法から適宜選択すればよい。
銀インク組成物において、溶解していない成分を均一に分散させる場合には、例えば、上記の三本ロール、ニーダー又はビーズミル等を用いて分散させる方法を適用するのが好ましい。
When blending each component, all the components may be added and then mixed, some components may be added sequentially and mixed, or all components may be added sequentially and mixed. Good. However, in the present invention, the reducing agent is preferably blended by dropping, and the surface roughness of metallic silver tends to be further reduced by suppressing fluctuations in the dropping rate.
The mixing method is not particularly limited, and a method of rotating and mixing a stirrer or a stirring blade or the like; a method of mixing using a mixer, a three-roll roll, a kneader or a bead mill or the like; a method of adding ultrasonic waves and the like, etc. It may be appropriately selected from known methods.
In the case of uniformly dispersing the undissolved components in the silver ink composition, for example, it is preferable to apply the method of dispersing using the above-mentioned three rolls, kneader, bead mill or the like.

配合時の温度は、各配合成分が劣化しない限り特に限定されないが、−5〜60℃であることが好ましい。そして、配合時の温度は、配合成分の種類及び量に応じて、配合して得られた混合物が撹拌し易い粘度となるように、適宜調節するとよい。
また、配合時間も、各配合成分が劣化しない限り特に限定されないが、10分〜36時間であることが好ましい。
The temperature at the time of compounding is not particularly limited as long as each compounding component is not deteriorated, but is preferably −5 to 60 ° C. Then, the temperature at the time of blending may be appropriately adjusted according to the type and amount of the blending component so that the mixture obtained by blending has a viscosity that makes it easy to stir.
The blending time is also not particularly limited as long as each blending component is not deteriorated, but is preferably 10 minutes to 36 hours.

好ましい銀インク組成物としては、例えば、含窒素化合物に、金属銀の形成材料を添加し、次いで還元剤を添加し、次いでアルコールを添加して得られたものが挙げられる。そして、このような添加順で上記の各成分を添加する場合、金属銀の形成材料は、含窒素化合物に前記溶媒を添加した後に、添加することが好ましい。
このような添加順で得られた銀インク組成物を用いることにより、細線状の銀層をより安定して形成できる。
Preferred silver ink compositions include, for example, those obtained by adding a material for forming metallic silver to a nitrogen-containing compound, then adding a reducing agent, and then adding alcohol. When each of the above components is added in such an order of addition, it is preferable to add the metallic silver forming material after adding the solvent to the nitrogen-containing compound.
By using the silver ink composition obtained in such an order of addition, a fine linear silver layer can be formed more stably.

[二酸化炭素]
銀インク組成物は、さらに二酸化炭素が供給されてなるものでもよい。このような銀インク組成物は高粘度となり、例えば、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、グラビアオフセット印刷法、パッド印刷法等の、インクを厚盛りすることが必要な印刷法への適用に好適である。
[carbon dioxide]
The silver ink composition may be further supplied with carbon dioxide. Such a silver ink composition has a high viscosity, and for example, a printing method that requires thickening of ink, such as a flexo printing method, a screen printing method, a gravure printing method, a gravure offset printing method, and a pad printing method. Suitable for application.

二酸化炭素は、銀インク組成物製造時のいずれの時期に供給してもよい。
そして、本発明においては、例えば、前記金属銀の形成材料及び含窒素化合物が配合されてなる第1混合物に、二酸化炭素を供給して第2混合物とし、必要に応じて前記第2混合物に、さらに、前記還元剤を配合して、銀インク組成物を製造することが好ましい。また、前記アルコール又はその他の成分を配合する場合、これらは、第1混合物及び第2混合物のいずれか一方又は両方の製造時に配合でき、目的に応じて任意に選択できる。
Carbon dioxide may be supplied at any time during the production of the silver ink composition.
Then, in the present invention, for example, carbon dioxide is supplied to the first mixture formed by blending the metallic silver forming material and the nitrogen-containing compound to obtain a second mixture, and if necessary, the second mixture is subjected to. Further, it is preferable to blend the reducing agent to produce a silver ink composition. When the alcohol or other components are blended, they can be blended at the time of production of either one or both of the first mixture and the second mixture, and can be arbitrarily selected depending on the purpose.

前記第1混合物は、配合成分が異なる点以外は、上記の銀インク組成物と同様の方法で製造できる。 The first mixture can be produced by the same method as the above-mentioned silver ink composition except that the compounding components are different.

第1混合物は、配合成分がすべて溶解していてもよいし、一部の成分が溶解せずに分散した状態であってもよいが、配合成分がすべて溶解していることが好ましく、溶解していない成分は均一に分散していることが好ましい。 In the first mixture, all the ingredients may be dissolved, or some of the ingredients may be dispersed without being dissolved, but it is preferable that all the ingredients are dissolved, and the first mixture is dissolved. It is preferable that the components that are not used are uniformly dispersed.

第1混合物製造時の配合温度は、各配合成分が劣化しない限り特に限定されないが、−5〜30℃であることが好ましい。また、配合時間は、配合成分の種類や配合時の温度に応じて適宜調節すればよいが、例えば、0.5〜12時間であることが好ましい。 The compounding temperature at the time of producing the first mixture is not particularly limited as long as each compounding component is not deteriorated, but is preferably −5 to 30 ° C. The blending time may be appropriately adjusted according to the type of blending component and the temperature at the time of blending, but is preferably 0.5 to 12 hours, for example.

第1混合物に供給される二酸化炭素(CO)は、ガス状及び固形状(ドライアイス)のいずれでもよく、ガス状及び固形状の両方でもよい。二酸化炭素が供給されることにより、この二酸化炭素が第1混合物に溶け込み、第1混合物中の成分に作用することで、得られる第2混合物の粘度が上昇すると推測される。 The carbon dioxide (CO 2 ) supplied to the first mixture may be either gaseous or solid (dry ice), or both gaseous and solid. It is presumed that when carbon dioxide is supplied, this carbon dioxide dissolves in the first mixture and acts on the components in the first mixture, thereby increasing the viscosity of the obtained second mixture.

二酸化炭素ガスの供給は、液体中にガスを吹き込む公知の各種方法で行えばよく、適した供給方法を適宜選択すればよい。例えば、配管の一端を第1混合物中に浸漬し、他端を二酸化炭素ガスの供給源に接続して、この配管を通じて二酸化炭素ガスを第1混合物に供給する方法等が挙げられる。この時、配管の端部から直接二酸化炭素ガスを供給してもよいが、例えば、多孔質性のものなど、ガスの流路となり得る空隙部が多数設けられ、導入されたガスを拡散させて微小な気泡として放出することが可能なガス拡散部材を配管の端部に接続し、このガス拡散部材を介して二酸化炭素ガスを供給してもよい。また、第1混合物の製造時と同様の方法で、第1混合物を撹拌しながら二酸化炭素ガスを供給してもよい。このようにすることで、効率的に二酸化炭素を供給できる。 The carbon dioxide gas may be supplied by various known methods of blowing the gas into the liquid, and a suitable supply method may be appropriately selected. For example, a method in which one end of the pipe is immersed in the first mixture, the other end is connected to a carbon dioxide gas supply source, and carbon dioxide gas is supplied to the first mixture through the pipe. At this time, carbon dioxide gas may be supplied directly from the end of the pipe, but for example, a large number of voids that can serve as gas flow paths such as porous ones are provided to diffuse the introduced gas. A gas diffusion member capable of being released as minute bubbles may be connected to the end of the pipe, and carbon dioxide gas may be supplied through the gas diffusion member. Further, carbon dioxide gas may be supplied while stirring the first mixture in the same manner as in the production of the first mixture. By doing so, carbon dioxide can be efficiently supplied.

二酸化炭素ガスの供給量は、供給先の第1混合物の量や、目的とする銀インク組成物又は第2混合物の粘度に応じて適宜調節すればよく、特に限定されない。例えば、20〜25℃における粘度が5Pa・s以上である銀インク組成物を100〜1000g程度得るためには、二酸化炭素ガスを100L以上供給することが好ましく、200L以上供給することがより好ましい。なお、ここでは銀インク組成物の20〜25℃における粘度について説明したが、銀インク組成物の使用時の温度は、20〜25℃に限定されるものではなく、任意に選択できる。また、ここで「粘度」とは、超音波振動式粘度計を用いて測定したものを意味する。 The amount of carbon dioxide gas supplied may be appropriately adjusted according to the amount of the first mixture to be supplied and the viscosity of the target silver ink composition or the second mixture, and is not particularly limited. For example, in order to obtain about 100 to 1000 g of a silver ink composition having a viscosity at 20 to 25 ° C. of 5 Pa · s or more, it is preferable to supply 100 L or more of carbon dioxide gas, and more preferably 200 L or more. Although the viscosity of the silver ink composition at 20 to 25 ° C. has been described here, the temperature at which the silver ink composition is used is not limited to 20 to 25 ° C. and can be arbitrarily selected. Further, here, "viscosity" means what was measured using an ultrasonic vibration viscometer.

二酸化炭素ガスの流量は、必要とされる二酸化炭素ガスの供給量を考慮して適宜調節すればよいが、第1混合物1gあたり0.5mL/分以上であることが好ましく、1mL/分以上であることがより好ましい。流量の上限値は特に限定されないが、取り扱い性等を考慮すると、混合物1gあたり40mL/分であることが好ましい。
そして、二酸化炭素ガスの供給時間は、必要とされる二酸化炭素ガスの供給量や、流量を考慮して適宜調節すればよい。
The flow rate of carbon dioxide gas may be appropriately adjusted in consideration of the required supply amount of carbon dioxide gas, but is preferably 0.5 mL / min or more per 1 g of the first mixture, and is preferably 1 mL / min or more. More preferably. The upper limit of the flow rate is not particularly limited, but it is preferably 40 mL / min per 1 g of the mixture in consideration of handleability and the like.
Then, the carbon dioxide gas supply time may be appropriately adjusted in consideration of the required carbon dioxide gas supply amount and the flow rate.

二酸化炭素ガス供給時の第1混合物の温度は、5〜70℃であることが好ましく、7〜60℃であることがより好ましく、10〜50℃であることが特に好ましい。前記温度が前記下限値以上であることで、より効率的に二酸化炭素を供給でき、前記温度が前記上限値以下であることで、不純物が少ないより良好な品質の銀インク組成物が得られる。 The temperature of the first mixture when supplying carbon dioxide gas is preferably 5 to 70 ° C, more preferably 7 to 60 ° C, and particularly preferably 10 to 50 ° C. When the temperature is at least the lower limit value, carbon dioxide can be supplied more efficiently, and when the temperature is at least the upper limit value, a better quality silver ink composition with less impurities can be obtained.

二酸化炭素ガスの流量及び供給時間、並びに二酸化炭素ガス供給時の前記温度は、それぞれの値を相互に考慮しながら適した範囲に調節すればよい。例えば、前記温度を低めに設定しても、二酸化炭素ガスの流量を多めに設定するか、二酸化炭素ガスの供給時間を長めに設定することで、あるいはこの両方を行うことで、効率的に二酸化炭素を供給できる。また、二酸化炭素ガスの流量を少なめに設定しても、前記温度を高めにするか、二酸化炭素ガスの供給時間を長めに設定することで、あるいはこの両方を行うことで、効率的に二酸化炭素を供給できる。すなわち、二酸化炭素ガスの流量、二酸化炭素ガス供給時の前記温度として例示した上記数値範囲の中の数値を、二酸化炭素ガスの供給時間も考慮しつつ柔軟に組み合わせることで、良好な品質の銀インク組成物が効率的に得られる。 The flow rate and supply time of the carbon dioxide gas, and the temperature at the time of supplying the carbon dioxide gas may be adjusted within an appropriate range while mutually considering their respective values. For example, even if the temperature is set low, carbon dioxide gas flow rate is set high, carbon dioxide gas supply time is set long, or both are performed efficiently. Can supply carbon. Further, even if the flow rate of carbon dioxide gas is set to be small, carbon dioxide can be efficiently produced by raising the temperature, setting the supply time of carbon dioxide gas to be long, or both. Can be supplied. That is, by flexibly combining the values in the above numerical range exemplified as the flow rate of carbon dioxide gas and the temperature at the time of supplying carbon dioxide gas while considering the supply time of carbon dioxide gas, silver ink of good quality is obtained. The composition is efficiently obtained.

二酸化炭素ガスの供給は、第1混合物を撹拌しながら行うことが好ましい。このようにすることで、供給した二酸化炭素ガスがより均一に第1混合物中に拡散し、より効率的に二酸化炭素を供給できる。
この時の撹拌方法は、二酸化炭素を用いない上記の銀インク組成物の製造時における前記混合方法の場合と同様でよい。
The carbon dioxide gas is preferably supplied while stirring the first mixture. By doing so, the supplied carbon dioxide gas can be more uniformly diffused into the first mixture, and carbon dioxide can be supplied more efficiently.
The stirring method at this time may be the same as the case of the mixing method at the time of producing the silver ink composition without using carbon dioxide.

ドライアイス(固形状二酸化炭素)の供給は、第1混合物中にドライアイスを添加することで行えばよい。ドライアイスは、全量を一括して添加してもよいし、分割して段階的に(添加を行わない時間帯を挟んで連続的に)添加してもよい。
ドライアイスの使用量は、上記の二酸化炭素ガスの供給量を考慮して調節すればよい。
ドライアイスの添加中及び添加後は、第1混合物を撹拌することが好ましく、例えば、二酸化炭素を用いない上記の銀インク組成物の製造時と同様の方法で撹拌することが好ましい。このようにすることで、効率的に二酸化炭素を供給できる。
撹拌時の温度は、二酸化炭素ガス供給時と同様でよい。また、撹拌時間は、撹拌温度に応じて適宜調節すればよい。
The supply of dry ice (solid carbon dioxide) may be carried out by adding dry ice to the first mixture. The whole amount of dry ice may be added all at once, or may be divided and added stepwise (continuously with a time zone during which the addition is not performed).
The amount of dry ice used may be adjusted in consideration of the above-mentioned supply amount of carbon dioxide gas.
During and after the addition of dry ice, it is preferable to stir the first mixture, for example, it is preferable to stir in the same manner as in the production of the above silver ink composition without using carbon dioxide. By doing so, carbon dioxide can be efficiently supplied.
The temperature at the time of stirring may be the same as that at the time of supplying carbon dioxide gas. Further, the stirring time may be appropriately adjusted according to the stirring temperature.

第2混合物の粘度は、銀インク組成物又は第2混合物の取り扱い方法など、目的に応じて適宜調節すればよく、特に限定されない。例えば、銀インク組成物をスクリーン印刷法、フレキソ印刷法等の高粘度インクを使用する印刷法へ適用する場合には、第2混合物の20〜25℃における粘度は、3Pa・s以上であることが好ましい。なお、ここでは第2混合物の20〜25℃における粘度について説明したが、第2混合物の使用時の温度は、20〜25℃に限定されるものではなく、任意に選択できる。 The viscosity of the second mixture may be appropriately adjusted according to the purpose such as the silver ink composition or the handling method of the second mixture, and is not particularly limited. For example, when the silver ink composition is applied to a printing method using a high viscosity ink such as a screen printing method or a flexographic printing method, the viscosity of the second mixture at 20 to 25 ° C. is 3 Pa · s or more. Is preferable. Although the viscosity of the second mixture at 20 to 25 ° C. has been described here, the temperature at the time of using the second mixture is not limited to 20 to 25 ° C. and can be arbitrarily selected.

前記第2混合物には、さらに、必要に応じて前記還元剤、アルコール及びその他の成分からなる群から選択される1種以上を配合して、銀インク組成物とすることができる。
このときの銀インク組成物は、配合成分が異なる点以外は、二酸化炭素を用いない上記の銀インク組成物と同様の方法で製造できる。そして、得られた銀インク組成物は、配合成分がすべて溶解していてもよいし、一部の成分が溶解せずに分散した状態であってもよいが、配合成分がすべて溶解していることが好ましく、溶解していない成分は均一に分散していることが好ましい。
The second mixture can be further blended with one or more selected from the group consisting of the reducing agent, alcohol and other components, if necessary, to obtain a silver ink composition.
The silver ink composition at this time can be produced by the same method as the above-mentioned silver ink composition that does not use carbon dioxide, except that the compounding components are different. Then, in the obtained silver ink composition, all the compounding components may be dissolved, or some components may be dispersed without being dissolved, but all the compounding components are dissolved. It is preferable that the undissolved components are uniformly dispersed.

前記還元剤配合時の温度は、各配合成分が劣化しない限り特に限定されないが、−5〜60℃であることが好ましい。そして、配合時の温度は、配合成分の種類及び量に応じて、配合して得られた混合物が撹拌し易い粘度となるように、適宜調節するとよい。
また、配合時間は、配合成分の種類や配合時の温度に応じて適宜調節すればよいが、例えば、0.5〜12時間であることが好ましい。
The temperature at the time of blending the reducing agent is not particularly limited as long as each blending component is not deteriorated, but is preferably −5 to 60 ° C. Then, the temperature at the time of blending may be appropriately adjusted according to the type and amount of the blending component so that the mixture obtained by blending has a viscosity that makes it easy to stir.
The blending time may be appropriately adjusted according to the type of blending component and the temperature at the time of blending, but is preferably 0.5 to 12 hours, for example.

前記その他の成分は、先に説明したように、前記第1混合物及び第2混合物のいずれかの製造時に配合されてもよく、両方の製造時に配合されてもよい。すなわち、第1混合物及び第2混合物を経て銀インク組成物を製造する過程において、二酸化炭素以外の配合成分の総量に対する前記その他の成分の配合量の割合([その他の成分(質量)]/[金属銀の形成材料、含窒素化合物、還元剤、アルコール、及びその他の成分(質量)]×100)は、10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましく、0質量、すなわちその他の成分を配合しなくても、銀インク組成物は十分にその効果を発現する。 As described above, the other components may be blended during the production of either the first mixture or the second mixture, or may be blended during the production of both. That is, in the process of producing the silver ink composition through the first mixture and the second mixture, the ratio of the amount of the other components to the total amount of the components other than carbon dioxide ([other components (mass)] / [ Metallic silver forming material, nitrogen-containing compound, reducing agent, alcohol, and other components (mass)] × 100) is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, and 0 The silver ink composition fully exhibits its effect without blending by mass, that is, other components.

二酸化炭素が供給されてなる銀インク組成物は、例えば、銀インク組成物をスクリーン印刷法、フレキソ印刷法等の高粘度インクを使用する印刷法へ適用する場合には、20〜25℃における粘度が、1Pa・s以上であることが好ましい。 The silver ink composition to which carbon dioxide is supplied has a viscosity at 20 to 25 ° C., for example, when the silver ink composition is applied to a printing method using a high viscosity ink such as a screen printing method or a flexographic printing method. Is preferably 1 Pa · s or more.

例えば、還元剤の配合時には、得られる配合物(銀インク組成物)は比較的発熱し易い。そして、還元剤の配合時の温度が高い場合、この配合物は、後述する銀インク組成物の加熱処理時と同様の状態になるため、還元剤による前記金属銀の形成材料の分解促進作用によって、金属銀の形成材料の少なくとも一部において金属銀の形成が開始されることがあると推測される。このような金属銀を含有する銀インク組成物は、導電体形成時において、金属銀を含有しない銀インク組成物よりも温和な条件で後処理を行うことにより、導電体を形成できることがある。また、還元剤の配合量が十分に多い場合にも、同様に温和な条件で後処理を行うことにより、導電体を形成できることがある。このように、金属銀の形成材料の分解を促進する条件を採用することで、後処理として、より低温での加熱処理で、あるいは加熱処理を行わずに常温での乾燥処理のみで、導電体を形成できることがある。また、このような金属銀を含有する銀インク組成物は、金属銀を含有しない銀インク組成物と同様に取り扱うことができ、特に取り扱い性が劣ることもない。 For example, when the reducing agent is blended, the obtained blend (silver ink composition) tends to generate heat relatively easily. When the temperature at the time of blending the reducing agent is high, this blend is in the same state as during the heat treatment of the silver ink composition described later, and therefore, the reducing agent acts to promote the decomposition of the metallic silver forming material. It is presumed that the formation of metallic silver may be initiated in at least a part of the metallic silver forming material. Such a silver ink composition containing metallic silver may be able to form a conductor by performing post-treatment under milder conditions than the silver ink composition containing no metallic silver at the time of forming the conductor. Further, even when the blending amount of the reducing agent is sufficiently large, the conductor may be formed by performing the post-treatment under the same mild conditions. In this way, by adopting the conditions that promote the decomposition of the metallic silver forming material, the conductor can be post-treated by heat treatment at a lower temperature or by drying at room temperature without heat treatment. May be able to form. Further, such a silver ink composition containing metallic silver can be handled in the same manner as a silver ink composition containing no metallic silver, and the handleability is not particularly inferior.

なお、本発明における第2混合物は、上記のように二酸化炭素の供給によって、粘度が通常よりも高い。一方で、第2混合物への還元剤の配合時には、第2混合物又は還元剤の種類によっては、上記のように前記金属銀の形成材料の少なくとも一部において金属銀の形成が開始され、金属銀が析出することがある。ここで、第2混合物の粘度が高い場合には、析出した金属銀の凝集が抑制され、得られた銀インク組成物中での金属銀の分散性が向上する。このような銀インク組成物を用いて、後述する方法で金属銀を形成して得られた導電体は、粘度が低い、すなわち二酸化炭素が供給されていない混合物に還元剤が配合されて得られた銀インク組成物を用いた場合の導電体よりも、導電性が高く(体積抵抗率が低く)、表面粗さも小さくなり、より好ましい特性を有するものとなる。 The viscosity of the second mixture in the present invention is higher than usual due to the supply of carbon dioxide as described above. On the other hand, when the reducing agent is blended into the second mixture, depending on the type of the second mixture or the reducing agent, the formation of metallic silver is started in at least a part of the metallic silver forming material as described above, and the metallic silver is formed. May precipitate. Here, when the viscosity of the second mixture is high, the aggregation of the precipitated metallic silver is suppressed, and the dispersibility of the metallic silver in the obtained silver ink composition is improved. A conductor obtained by forming metallic silver by a method described later using such a silver ink composition is obtained by blending a reducing agent with a mixture having a low viscosity, that is, a mixture to which carbon dioxide is not supplied. It has higher conductivity (lower volume resistivity) and smaller surface roughness than the conductor when the silver ink composition is used, and has more preferable characteristics.

また、本発明においては、前記金属銀の形成材料、アルコール及び含窒素化合物が配合されてなる混合物に、二酸化炭素を供給して、銀インク組成物を製造することも好ましい。この場合、二酸化炭素の供給方法としては、上記と同様の方法が採用できる。 Further, in the present invention, it is also preferable to supply carbon dioxide to the mixture in which the metallic silver forming material, alcohol and nitrogen-containing compound are blended to produce a silver ink composition. In this case, the same method as described above can be adopted as the carbon dioxide supply method.

銀インク組成物は、例えば、印刷法、塗布法、浸漬法等の公知の方法で基材上に付着させることができる。
前記印刷法としては、例えば、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、ディップ式印刷法、インクジェット式印刷法、ディスペンサー式印刷法、ジェットディスペンサー式印刷法、グラビア印刷法、グラビアオフセット印刷法、パッド印刷法等が挙げられる。
前記塗布法としては、例えば、スピンコーター、エアーナイフコーター、カーテンコーター、ダイコーター、ブレードコーター、ロールコーター、ゲートロールコーター、バーコーター、ロッドコーター、グラビアコーター等の各種コーターや、ワイヤーバー等を用いる方法等が挙げられる。
The silver ink composition can be adhered to the substrate by a known method such as a printing method, a coating method, or a dipping method.
Examples of the printing method include a screen printing method, a flexo printing method, an offset printing method, a dip printing method, an inkjet printing method, a dispenser printing method, a jet dispenser printing method, a gravure printing method, and a gravure offset printing method. Pad printing method and the like can be mentioned.
As the coating method, for example, various coaters such as a spin coater, an air knife coater, a curtain coater, a die coater, a blade coater, a roll coater, a gate roll coater, a bar coater, a rod coater, and a gravure coater, a wire bar, and the like are used. The method and the like can be mentioned.

導電層形成工程においては、基材上に付着させる銀インク組成物の量、又は銀インク組成物における前記金属銀の形成材料の配合量を調節することで、導電層の厚さを調節できる。 In the conductive layer forming step, the thickness of the conductive layer can be adjusted by adjusting the amount of the silver ink composition adhered to the base material or the blending amount of the metallic silver forming material in the silver ink composition.

銀インク組成物を乾燥処理する場合には、公知の方法で行えばよく、例えば、常圧下、減圧下及び送風条件下のいずれで行ってもよく、大気下及び不活性ガス雰囲気下のいずれでおこなってもよい。そして、乾燥温度も特に限定されず、加熱乾燥及び常温乾燥のいずれでもよい。加熱処理が不要な場合の好ましい乾燥方法としては、例えば、18〜30℃で大気下において乾燥させる方法が挙げられる。 When the silver ink composition is dried, it may be carried out by a known method. For example, it may be carried out under normal pressure, reduced pressure or blowing conditions, and under any of atmospheric conditions and an inert gas atmosphere. You may do it. The drying temperature is not particularly limited, and either heat drying or room temperature drying may be used. A preferred drying method when heat treatment is not required includes, for example, a method of drying in the atmosphere at 18 to 30 ° C.

銀インク組成物を加熱(焼成)処理する場合、その条件は、銀インク組成物の配合成分の種類に応じて適宜調節すればよい。通常は、加熱温度が60〜370℃であることが好ましく、70〜280℃であることがより好ましい。加熱時間は、加熱温度に応じて調節すればよいが、通常は、1分〜24時間であることが好ましく、1分〜12時間であることがより好ましい。前記金属銀の形成材料の中でも前記カルボン酸銀、特にβ−ケトカルボン酸銀(1)は、例えば、酸化銀等の金属銀の形成材料とは異なり、当該分野で公知の還元剤等を使用しなくても、低温で分解する。そして、このような分解温度を反映して、前記銀インク組成物は、上記のように、従来のものより極めて低温で金属銀を形成できる。 When the silver ink composition is heated (baked), the conditions may be appropriately adjusted according to the type of the compounding components of the silver ink composition. Usually, the heating temperature is preferably 60 to 370 ° C, more preferably 70 to 280 ° C. The heating time may be adjusted according to the heating temperature, but is usually preferably 1 minute to 24 hours, more preferably 1 minute to 12 hours. Among the materials for forming metallic silver, the silver carboxylate, particularly silver β-ketocarboxylate (1), is different from the material for forming metallic silver such as silver oxide, and uses a reducing agent known in the art. Even without it, it decomposes at low temperatures. Then, reflecting such a decomposition temperature, the silver ink composition can form metallic silver at an extremely lower temperature than the conventional one, as described above.

後述するように、銀インク組成物を耐熱性が低い基材に付着させて加熱(焼成)処理する場合には、加熱温度は130℃未満であることが好ましく、125℃以下であることがより好ましく、120℃以下であることが特に好ましい。 As will be described later, when the silver ink composition is attached to a substrate having low heat resistance and heated (baked), the heating temperature is preferably less than 130 ° C, more preferably 125 ° C or lower. It is preferably 120 ° C. or lower, and particularly preferably 120 ° C. or lower.

銀インク組成物の加熱処理の方法は、特に限定されず、例えば、電気炉による加熱、感熱方式の熱ヘッドによる加熱、遠赤外線照射による加熱、高熱ガスの吹き付けによる加熱等で行うことができる。また、銀インク組成物の加熱処理は、大気下で行ってもよいし、不活性ガス雰囲気下で行ってもよく、加湿条件下で行ってもよい。そして、常圧下、減圧下及び加圧下のいずれで行ってもよい。 The method of heat treatment of the silver ink composition is not particularly limited, and for example, heating by an electric furnace, heating by a heat-sensitive heat head, heating by far-infrared irradiation, heating by spraying high heat gas, or the like can be performed. Further, the heat treatment of the silver ink composition may be carried out in an atmosphere, an inert gas atmosphere, or a humidified condition. Then, it may be performed under normal pressure, reduced pressure, or pressurized.

本明細書において「加湿」とは、特に断りのない限り、湿度を人為的に増大させることを意味し、好ましくは相対湿度を5%以上とすることである。加熱処理時には、処理温度が高いことによって、処理環境での湿度が極めて低くなるため、5%という相対湿度は、明らかに人為的に増大されたものであるといえる。 In the present specification, "humidification" means artificially increasing the humidity unless otherwise specified, and preferably the relative humidity is 5% or more. It can be said that the relative humidity of 5% is clearly artificially increased because the humidity in the treatment environment becomes extremely low due to the high treatment temperature during the heat treatment.

銀インク組成物の加熱処理を加湿条件下で行う場合の相対湿度は、10%以上であることが好ましく、30%以上であることがより好ましく、50%以上であることがさらに好ましく、70%以上であることが特に好ましく、90%以上であってもよいし、100%であってもよい。そして、加湿条件下での加熱処理は、100℃以上に加熱した高圧水蒸気の吹き付けにより行ってもよい。このように加湿条件下で加熱処理することにより、短時間でより高純度の金属銀を形成できる。 When the heat treatment of the silver ink composition is performed under humidified conditions, the relative humidity is preferably 10% or more, more preferably 30% or more, further preferably 50% or more, and 70%. The above is particularly preferable, and it may be 90% or more or 100%. Then, the heat treatment under the humidifying condition may be performed by spraying high-pressure steam heated to 100 ° C. or higher. By heat-treating under humidifying conditions in this way, higher-purity metallic silver can be formed in a short time.

銀インク組成物の加熱処理は、二段階で行ってもよい。例えば、一段階目の加熱処理では、金属銀の形成ではなく銀インク組成物の乾燥を主に行い、二段階目の加熱処理で、金属銀の形成を最後まで行う方法が挙げられる。
一段階目の加熱処理において、加熱温度は、銀インク組成物の配合成分の種類に応じて適宜調節すればよいが、60〜120℃であることが好ましく、70〜110℃であってもよい。また、加熱時間は、加熱温度に応じて調節すればよいが、通常は、5秒〜12時間であることが好ましく、30秒〜2時間であることがより好ましい。
二段階目の加熱処理において、加熱温度は、金属銀が良好に形成されるように、銀インク組成物の配合成分の種類に応じて適宜調節すればよいが、60〜280℃であることが好ましく、70〜260℃であることがより好ましい。また、加熱時間は、加熱温度に応じて調節すればよいが、通常は、1分〜12時間であることが好ましく、1分〜10時間であることがより好ましい。
後述するように、銀インク組成物を耐熱性が低い基材に付着させて加熱(焼成)処理する場合には、一段階目及び二段階目の加熱処理における加熱温度は、130℃未満であることが好ましく、125℃以下であることがより好ましく、120℃以下であることが特に好ましい。
The heat treatment of the silver ink composition may be performed in two steps. For example, in the first-step heat treatment, the silver ink composition is mainly dried instead of forming metallic silver, and in the second-step heat treatment, metallic silver is formed to the end.
In the first-stage heat treatment, the heating temperature may be appropriately adjusted according to the type of the compounding component of the silver ink composition, but is preferably 60 to 120 ° C, and may be 70 to 110 ° C. .. The heating time may be adjusted according to the heating temperature, but is usually preferably 5 seconds to 12 hours, more preferably 30 seconds to 2 hours.
In the second step of heat treatment, the heating temperature may be appropriately adjusted according to the type of the compounding components of the silver ink composition so that metallic silver is formed well, but it may be 60 to 280 ° C. It is preferably 70 to 260 ° C., more preferably 70 to 260 ° C. The heating time may be adjusted according to the heating temperature, but is usually preferably 1 minute to 12 hours, more preferably 1 minute to 10 hours.
As will be described later, when the silver ink composition is attached to a substrate having low heat resistance and heated (baked), the heating temperature in the first and second stages of heat treatment is less than 130 ° C. It is preferably 125 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower.

ここまでで説明した銀インク組成物の加熱処理は、いずれも気相中で行うものであるが、銀インク組成物の加熱処理を二段階で行う場合、二段階目の加熱処理は、気相中ではなく液相中で行ってもよい。一段階目の加熱処理を経て、完全に又はある程度乾燥した銀インク組成物は、加熱した液体と接触させることで、その形状を損なうことなく、二段階目の加熱処理を行うことができる。そして、銀インク組成物の、一段階目の加熱処理を行った後の二段階目の液相中での加熱処理は、加熱した液体に銀インク組成物を浸漬することで行うことが好ましい。この液相中での加熱処理における加熱温度及び加熱時間は、先に説明した二段階目の加熱処理における加熱温度及び加熱時間と同じである。
上記の加熱した液体は湯(加熱した水)であることが好ましく、二段階目の加熱処理は、一段階目の加熱処理を行った銀インク組成物を湯中に浸漬すること、すなわち湯煎によって行うことが好ましい。
二段階目の加熱処理を液相中で行った場合には、この加熱処理によって形成された金属銀を、さらに乾燥させればよい。
The heat treatment of the silver ink composition described so far is performed in the gas phase, but when the heat treatment of the silver ink composition is performed in two steps, the heat treatment of the second step is the gas phase. It may be done in the liquid phase instead of inside. The silver ink composition that has been completely or to some extent dried after the first-step heat treatment can be brought into contact with the heated liquid to perform the second-step heat treatment without damaging its shape. The heat treatment of the silver ink composition in the liquid phase of the second stage after the heat treatment of the first step is preferably performed by immersing the silver ink composition in the heated liquid. The heating temperature and heating time in the heat treatment in this liquid phase are the same as the heating temperature and heating time in the second stage heat treatment described above.
The heated liquid is preferably hot water (heated water), and the second-step heat treatment is performed by immersing the silver ink composition subjected to the first-step heat treatment in hot water, that is, by boiling water. It is preferable to do so.
When the second step heat treatment is performed in the liquid phase, the metallic silver formed by this heat treatment may be further dried.

銀インク組成物の二段階目の加熱処理を液相中で行う場合、銀インク組成物の一段階目の加熱処理は、非加湿条件下で行うことが好ましい。
なお、本明細書において「非加湿」とは、上述の「加湿」を行わないこと、すなわち、湿度を人為的に増大させないことを意味し、好ましくは相対湿度を5%未満とすることである。
When the second step heat treatment of the silver ink composition is carried out in the liquid phase, the first step heat treatment of the silver ink composition is preferably carried out under non-humidifying conditions.
In addition, in this specification, "non-humidifying" means that the above-mentioned "humidifying" is not performed, that is, the humidity is not artificially increased, and the relative humidity is preferably less than 5%. ..

加湿条件下での加熱処理を採用する場合、銀インク組成物の加熱処理は、一段階目の加熱処理において、非加湿条件下で、上述のように金属銀の形成ではなく銀インク組成物の乾燥を主に行い、二段階目の加熱処理において、加湿条件下で、上述のように金属銀の形成を最後まで行う、二段階の方法で行うことが特に好ましい。 When the heat treatment under humidified conditions is adopted, the heat treatment of the silver ink composition is performed in the first stage heat treatment under the non-humidified conditions, instead of forming metallic silver as described above. It is particularly preferable to carry out the drying by a two-step method in which the drying is mainly carried out, and in the second step of the heat treatment, the metallic silver is formed to the end as described above under humidifying conditions.

二段階目の加熱処理を加湿条件下で行う場合、一段階目の非加湿条件下での加熱処理時の加熱温度は、60〜120℃であることが好ましく、70〜110℃であってもよい。また、加熱時間は、5秒〜1時間であることが好ましく、30秒〜30分であることがより好ましく、30秒〜15分であることが特に好ましい。
一段階目の非加湿条件下での加熱処理に次いで行う、二段階目の加湿条件下での加熱処理時の加熱温度は、60〜140℃であることが好ましく、70〜130℃であることがより好ましい。また、加熱時間は、1分〜2時間であることが好ましく、1分〜1時間であることがより好ましく、1分〜30分であることが特に好ましい。
後述するように、銀インク組成物を耐熱性が低い基材に付着させて加熱(焼成)処理する場合には、一段階目の非加湿条件下での加熱処理及び二段階目の加湿条件下での加熱処理における加熱温度は、いずれも130℃未満であることが好ましく、125℃以下であることがより好ましく、120℃以下であることが特に好ましい。
When the second stage heat treatment is performed under humidified conditions, the heating temperature during the first stage heat treatment under non-humidified conditions is preferably 60 to 120 ° C., even if it is 70 to 110 ° C. Good. The heating time is preferably 5 seconds to 1 hour, more preferably 30 seconds to 30 minutes, and particularly preferably 30 seconds to 15 minutes.
The heating temperature during the heat treatment under the second stage humidifying condition, which is performed after the heat treatment under the first stage non-humidifying condition, is preferably 60 to 140 ° C., preferably 70 to 130 ° C. Is more preferable. The heating time is preferably 1 minute to 2 hours, more preferably 1 minute to 1 hour, and particularly preferably 1 minute to 30 minutes.
As will be described later, when the silver ink composition is attached to a substrate having low heat resistance and heated (baked), the first-stage heat treatment under non-humidifying conditions and the second-stage humidifying conditions The heating temperature in the heat treatment in the above is preferably less than 130 ° C., more preferably 125 ° C. or lower, and particularly preferably 120 ° C. or lower.

ここまでは、金属インク組成物として、金属銀の形成材料が配合されてなる銀インク組成物を用いた場合の、導電層の形成方法について説明した。金属種が銀以外の場合の金属インク組成物等、その他の導電層用組成物を用いて導電層を形成する場合には、例えば、上述の銀インク組成物を用いた場合の製造方法において、導電層用組成物の種類に応じて、一部の構成を変更した方法を適用することで、導電層を形成できる。 Up to this point, a method for forming a conductive layer has been described when a silver ink composition in which a material for forming metallic silver is blended is used as the metal ink composition. When the conductive layer is formed by using another composition for a conductive layer such as a metal ink composition when the metal type is other than silver, for example, in the production method when the above-mentioned silver ink composition is used. The conductive layer can be formed by applying a method in which a part of the composition is changed according to the type of the composition for the conductive layer.

<被覆層形成工程>
前記被覆層は、前記樹脂組成物(以下、本工程においては「被覆層用組成物」と称することがある)を、導電層を形成した基材上の目的とする箇所に付着させて導電層を被覆する組成物層を形成し、この組成物層(被覆層用組成物)に対して、乾燥処理や加熱処理等の固化処理を適宜選択して行うことで形成できる。前記被覆層用組成物が硬化性樹脂組成物である場合、前記組成物層を硬化させて被覆層としてもよい。そして、前記加熱処理は、乾燥処理や硬化を兼ねて行ってもよい。
<Coating layer forming process>
In the coating layer, the resin composition (hereinafter, may be referred to as “composition for coating layer” in this step) is adhered to a target portion on the base material on which the conductive layer is formed to be attached to the conductive layer. It can be formed by forming a composition layer to be coated with the above, and appropriately selecting and performing a solidification treatment such as a drying treatment or a heat treatment on the composition layer (composition for a coating layer). When the composition for the coating layer is a curable resin composition, the composition layer may be cured to form a coating layer. Then, the heat treatment may be performed in combination with a drying treatment and a curing treatment.

被覆層用組成物は、例えば、銀インク組成物の場合と同様に、印刷法、塗布法、浸漬法等の公知の方法で、目的とする箇所に付着させることができる。 The coating layer composition can be attached to a target portion by a known method such as a printing method, a coating method, or a dipping method, as in the case of a silver ink composition, for example.

被覆層形成工程においては、目的とする箇所に付着させる被覆層用組成物の量、又は被覆層用組成物における硬化性樹脂等の配合量を調節することで、被覆層の厚さを調節できる。 In the coating layer forming step, the thickness of the coating layer can be adjusted by adjusting the amount of the coating layer composition to be adhered to the target portion or the blending amount of the curable resin or the like in the coating layer composition. ..

被覆層用組成物の乾燥処理や加熱処理等の固化処理は、銀インク組成物の場合と同様の方法で行うことができる。 The solidification treatment such as the drying treatment and the heat treatment of the coating layer composition can be performed by the same method as in the case of the silver ink composition.

被覆層用組成物の硬化させるためには、配合されている樹脂成分の種類に応じて、紫外線等のエネルギー線の照射又は加熱を行えばよい。
例えば、エネルギー線の照射により硬化させる場合には、エネルギー線の照射量は、200〜1200mJ/cmであることが好ましく、300〜1000mJ/cmであることがより好ましい。
In order to cure the composition for the coating layer, energy rays such as ultraviolet rays may be irradiated or heated depending on the type of the resin component to be blended.
For example, in case of curing by irradiation of energy rays, irradiation of energy rays is preferably 200~1200mJ / cm 2, more preferably 300~1000mJ / cm 2.

被覆層形成工程においては、本発明の被覆層用組成物(樹脂組成物)は、その塗工面(すなわち、基材及び導電層の表面)に塗工したときに、ハジキの発生が抑制される。したがって、均一性が高い被覆層を形成できる。 In the coating layer forming step, the coating layer composition (resin composition) of the present invention suppresses the generation of cissing when it is applied to the coated surface (that is, the surface of the base material and the conductive layer). .. Therefore, a highly uniform coating layer can be formed.

<その他の層の形成工程>
本発明の積層体として、基材上に導電層及び被覆層以外のその他の層が設けられたものを製造する場合には、上記の製造方法において、所定のタイミングでその他の層を形成する工程を適宜追加して行えばよい。
<Process of forming other layers>
In the case of producing a laminate of the present invention in which a layer other than the conductive layer and the coating layer is provided on the base material, the step of forming the other layer at a predetermined timing in the above production method. May be added as appropriate.

<<電子機器、透明導電膜>>
前記積層体は、各種電子機器、透明導電膜等を構成するのに好適である。
例えば、電子機器は、前記積層体を用い、前記基材を筐体(外装材)として備えるように構成でき、前記積層体中の基材で筐体(外装材)の少なくとも一部を構成した点以外は、公知の電子機器と同様の構成とすることができる。例えば、携帯電話機等の通信機器における外装材の平面又は曲面部分を前記基材とし、この外装材(基材)上に前記導電層からなる細線を形成し、この細線を回路とすることで、前記積層体を回路基板として用いることができる。そして、例えば、前記積層体に加え、音声入力部、音声出力部、操作スイッチ、表示部等を組み合わせることにより、携帯電話機を構成できる。また、パターニングされた導電層をアンテナとすることで、前記積層体をアンテナ構造体とすることができ、前記アンテナ構造体を用いた点以外は、公知のデータ受送信体と同様の構成とすることで、新規のデータ受送信体とすることができる。例えば、前記積層体において、基材上に導電層と電気的に接続されたICチップを設けてアンテナ部とすることにより、非接触型データ受送信体を構成できる。
<< Electronic equipment, transparent conductive film >>
The laminate is suitable for forming various electronic devices, transparent conductive films, and the like.
For example, an electronic device can be configured to include the base material as a housing (exterior material) by using the laminated body, and at least a part of the housing (exterior material) is formed by the base material in the laminated body. Except for the points, the configuration can be the same as that of a known electronic device. For example, a flat or curved portion of an exterior material in a communication device such as a mobile phone is used as the base material, a thin wire made of the conductive layer is formed on the exterior material (base material), and the thin wire is used as a circuit. The laminate can be used as a circuit board. Then, for example, a mobile phone can be configured by combining a voice input unit, a voice output unit, an operation switch, a display unit, and the like in addition to the laminated body. Further, by using the patterned conductive layer as an antenna, the laminated body can be used as an antenna structure, and the configuration is the same as that of a known data receiving / transmitting body except that the antenna structure is used. As a result, it can be a new data receiver / transmitter. For example, in the laminated body, a non-contact data receiving / transmitting body can be configured by providing an IC chip electrically connected to a conductive layer on a base material to form an antenna portion.

また、透明導電膜は、前記積層体を用い、導電層を極微細配線又は極薄配線として備えるように構成でき、導電層を極微細配線又は極薄配線として備えた点以外は、公知の透明導電膜と同様の構成とすることができる。特に前記積層体は、タッチパネルや光学ディスプレイ等を構成するのに好適である。
極微細配線の線幅は、1〜20μmであることが好ましく、1.3〜15μmであることがより好ましく、1.5〜13μmであることが特に好ましい。
また、極微細配線の断面形状は、好ましくは楕円の短軸方向のほぼ半分の領域が切り取られた半楕円形状である。
一方、極薄配線の厚さは、5nm〜10μmであることが好ましく、7nm〜5μmであることがより好ましく、10nm〜1μmであることが特に好ましい。
極薄配線の断面形状は、前記極微細配線の断面形状と同様である。
前記透明導電膜は、導電層がこのような線幅及び厚さの少なくとも一方を満たしていることが好ましい。導電層がこのような線幅又は厚さであれば、目視によってその存在が認識困難となるので、透明導電膜として好ましいものとなる。
Further, the transparent conductive film is known to be transparent except that the laminated body is used and the conductive layer is provided as ultrafine wiring or ultrathin wiring, and the conductive layer is provided as ultrafine wiring or ultrathin wiring. It can have the same configuration as the conductive film. In particular, the laminate is suitable for forming a touch panel, an optical display, or the like.
The line width of the ultrafine wiring is preferably 1 to 20 μm, more preferably 1.3 to 15 μm, and particularly preferably 1.5 to 13 μm.
Further, the cross-sectional shape of the ultrafine wiring is preferably a semi-elliptical shape in which almost half of the region in the minor axis direction of the ellipse is cut off.
On the other hand, the thickness of the ultrathin wiring is preferably 5 nm to 10 μm, more preferably 7 nm to 5 μm, and particularly preferably 10 nm to 1 μm.
The cross-sectional shape of the ultra-thin wiring is the same as the cross-sectional shape of the ultra-fine wiring.
In the transparent conductive film, it is preferable that the conductive layer satisfies at least one of such line width and thickness. If the conductive layer has such a line width or thickness, it is difficult to visually recognize its existence, and thus it is preferable as a transparent conductive film.

また、前記積層体においては、導電層が銀層である場合、この銀層を低温で形成することも可能であり、基材等の材質を幅広く選択できるので、設計の自由度が飛躍的に向上し、電子機器、透明導電膜等をより合理的な構造とすることも可能である。
上記のような電子機器、透明導電膜等は、長期に渡って高い性能を維持することが可能である。
Further, in the laminated body, when the conductive layer is a silver layer, the silver layer can be formed at a low temperature, and a wide range of materials such as a base material can be selected, so that the degree of freedom in design is dramatically increased. It is also possible to improve and make electronic devices, transparent conductive films, etc. have more rational structures.
The above-mentioned electronic devices, transparent conductive films, and the like can maintain high performance for a long period of time.

以下、具体的実施例により、本発明についてより詳細に説明する。ただし、本発明は、以下に示す実施例に、何ら限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. However, the present invention is not limited to the examples shown below.

被覆層用組成物の製造に用いた成分を以下に示す。
[樹脂成分]
(a)−1:日本合成化学社製「UV−7610B」、紫外線硬化性樹脂、ポリウレタンアクリレート65〜75質量%及びアクリル酸エステル25〜35質量%の混合物、分子量11000、オリゴマー官能基数9。この紫外線硬化性樹脂は、80℃で10分加熱した後、400mJ/cmの照射量で紫外線を照射することにより、硬化させることが推奨されている。
(a’)−1:大阪有機化学工業社製「TCG004」、紫外線硬化性樹脂、ポリウレタンアクリレート25〜55質量%及びアクリル酸エステル30〜55質量%の混合物。この紫外線硬化性樹脂は、120℃で30分加熱した後、400mJ/cmの照射量で紫外線を照射することにより、硬化させることが推奨されている。
(a’)−2:宇部興産社製「UA0262」、ポリウレタンアクリレート(紫外線硬化性樹脂)。この紫外線硬化性樹脂は、80℃で10分加熱した後、400mJ/cmの照射量で紫外線を照射することにより、硬化させることが推奨されている。
(a’)−3:宇部興産社製「UA0282」、ポリウレタンアクリレート(紫外線硬化性樹脂)。この紫外線硬化性樹脂は、80℃で10分加熱した後、400mJ/cmの照射量で紫外線を照射することにより、硬化させることが推奨されている。
[硬化剤]
(b)−1:チバ・ジャパン社製「IRGACURE127」、光重合開始剤、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン
[マイグレーション抑制剤]
(c)−1:5−メチルベンゾトリアゾール
[界面活性剤]
(d)−1:ネオス社製「フタージェント610FM」、ノニオン界面活性剤、含フッ素基(親水性基/親油性基)含有オリゴマー
(d)−2:ネオス社製「フタージェント602A」、ノニオン界面活性剤、含フッ素基(親水性基/親油性基、紫外線反応性基)含有オリゴマー
[溶媒]
DAA:ジアセトンアルコール(4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン)
EGMPE:エチレングリコールモノプロピルエーテル
PGMBE:プロピレングリコール1−モノ−n−ブチルエーテル(1−ブトキシ−2−プロパノール)
DEGEME:ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
PGMMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
DPGDME:ジプロピレングリコールジメチルエーテル
CHOHA:シクロヘキサノールアセテート(酢酸シクロヘキシル)
DEGDEE:ジエチレングリコールジエチルエーテル
EGMBEA:エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテルアセテート(酢酸2−ブトキシエチル)
CHON:シクロヘキサノン
MBA:3−メトキシブチルアセテート(酢酸3−メトキシブチル)
DEGIPME:ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル
The components used in the production of the coating layer composition are shown below.
[Resin component]
(A) -1: "UV-7610B" manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., a mixture of ultraviolet curable resin, polyurethane acrylate 65-75% by mass and acrylic acid ester 25-35% by mass, molecular weight 11000, oligomer functional group number 9. It is recommended that this ultraviolet curable resin be cured by heating it at 80 ° C. for 10 minutes and then irradiating it with ultraviolet rays at an irradiation amount of 400 mJ / cm 2.
(A') -1: A mixture of "TCG004" manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., an ultraviolet curable resin, a polyurethane acrylate of 25 to 55% by mass, and an acrylic acid ester of 30 to 55% by mass. It is recommended that this ultraviolet curable resin be cured by heating it at 120 ° C. for 30 minutes and then irradiating it with ultraviolet rays at an irradiation amount of 400 mJ / cm 2.
(A') -2: "UA0262" manufactured by Ube Industries, Ltd., polyurethane acrylate (ultraviolet curable resin). It is recommended that this ultraviolet curable resin be cured by heating it at 80 ° C. for 10 minutes and then irradiating it with ultraviolet rays at an irradiation amount of 400 mJ / cm 2.
(A') -3: "UA0282" manufactured by Ube Industries, Ltd., polyurethane acrylate (ultraviolet curable resin). It is recommended that this ultraviolet curable resin be cured by heating it at 80 ° C. for 10 minutes and then irradiating it with ultraviolet rays at an irradiation amount of 400 mJ / cm 2.
[Curing agent]
(B) -1: "IRGACURE127" manufactured by Ciba Japan, photopolymerization initiator, 2-hirodoxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2 -Methyl-Propane-1-one [Migration Inhibitor]
(C) -1: 5-Methylbenzotriazole [surfactant]
(D) -1: Neos "Futergent 610FM", nonionic surfactant, fluorine-containing group (hydrophilic group / lipophilic group) -containing oligomer (d) -2: Neos "Futergent 602A", nonion Surfactant, fluorine-containing group (hydrophilic group / lipophilic group, ultraviolet reactive group) -containing oligomer [solvent]
DAA: Diacetone alcohol (4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone)
EGMPE: Ethylene glycol monopropyl ether PGMBE: Propylene glycol 1-mono-n-butyl ether (1-butoxy-2-propanol)
DEGEME: Diethylene glycol ethyl methyl ether PGMMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate DPGDME: Dipropylene glycol dimethyl ether CHOHA: Cyclohexanol acetate (cyclohexyl acetate)
DEGDEE: Diethylene glycol diethyl ether EGMBEA: Ethylene glycol mono-n-butyl ether acetate (2-butoxyethyl acetate)
CHON: Cyclohexanone MBA: 3-Methoxybutyl acetate (3-methoxybutyl acetate)
DEGIPME: Diethylene glycol isopropyl methyl ether

[実施例1]
<被覆層用組成物の製造>
25℃の条件下で、硬化剤(b)−1をジアセトンアルコール(DAA)及びエチレングリコールモノプロピルエーテル(EGMPE)の混合溶媒(DAA/EGMPE=70/30(質量比))に添加して溶解させ、溶液を得た。硬化剤(b)−1の添加量は、後述する樹脂成分(a)−1の添加量に対して5質量%となる量とした。
次いで、45℃に温度調節したこの溶液に、樹脂成分(a)−1、マイグレーション抑制剤(c)−1を添加して撹拌することにより、被覆層用組成物を得た。このときの樹脂成分(a)−1の添加量は、被覆層用組成物の樹脂成分(a)−1の含有量が20.0質量%となる量とした。また、マイグレーション抑制剤(c)−1の添加量は、樹脂成分(a)−1の添加量に対して5質量%となる量とした。
各配合成分の種類及び配合量を表2に示す。なお、表2中、配合成分の欄の「−」との記載は、その成分が未配合であることを意味する。
[Example 1]
<Manufacturing of coating layer composition>
Under the condition of 25 ° C., the curing agent (b) -1 is added to a mixed solvent (DAA / EGMPE = 70/30 (mass ratio)) of diacetone alcohol (DAA) and ethylene glycol monopropyl ether (EGMPE). It was dissolved to give a solution. The amount of the curing agent (b) -1 added was set to be 5% by mass with respect to the amount of the resin component (a) -1 described later.
Next, the resin component (a) -1 and the migration inhibitor (c) -1 were added to this solution whose temperature was adjusted to 45 ° C. and stirred to obtain a coating layer composition. The amount of the resin component (a) -1 added at this time was such that the content of the resin component (a) -1 in the coating layer composition was 20.0% by mass. The amount of the migration inhibitor (c) -1 added was set to be 5% by mass with respect to the amount of the resin component (a) -1 added.
Table 2 shows the types and amounts of each compounding ingredient. In addition, in Table 2, the description of "-" in the column of the compounding component means that the component is not compounded.

上記で得られた被覆層用組成物の粘度及び表面張力を、下記方法で測定した。結果を表8に示す。
(被覆層用組成物の粘度)
室温(25℃)下に置いた被覆層用組成物について、振動式粘度計(セコニック社製「VISCOMATE VM−10A」)を用いて、粘度を測定した。
(被覆層用組成物の表面張力)
室温(25℃)下に置いた被覆層用組成物について、動的表面張力計(英弘精機社製「SITA science line t60」)を用いて、気泡発生周期が0.1Hzのときの表面張力を測定した。
The viscosity and surface tension of the coating layer composition obtained above were measured by the following methods. The results are shown in Table 8.
(Viscosity of composition for coating layer)
The viscosity of the coating layer composition placed at room temperature (25 ° C.) was measured using a vibrating viscometer (“VISCOMATE VM-10A” manufactured by SEKONIC Corporation).
(Surface tension of coating layer composition)
For the composition for the coating layer placed at room temperature (25 ° C.), a dynamic surface tension meter (“SITA science line t60” manufactured by Eiko Seiki Co., Ltd.) was used to determine the surface tension when the bubble generation cycle was 0.1 Hz. It was measured.

<積層体の製造(被覆層用組成物の評価)>
(銀インク組成物の製造)
ビーカー中に2−エチルヘキシルアミン(後述する2−メチルアセト酢酸銀に対して1.45倍モル量)と、n−ヘキサン(後述する2−メチルアセト酢酸銀に対して1.63倍モル量)と、をこの順に加えて、メカニカルスターラーを回転させて撹拌しながら、液温が50℃以下となるように、ビーカー中に2−メチルアセト酢酸銀を添加した。
2−メチルアセト酢酸銀の添加終了後、同様の状態を維持したまま、ビーカー中にシリンジポンプを用いて、ギ酸(2−メチルアセト酢酸銀に対して0.5倍モル量)を10分かけて滴下し、ギ酸の滴下終了後、さらにそのままの状態で1.5時間撹拌した。
次いで、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール(以下、「DMHO」と略記することがある)(2−メチルアセト酢酸銀に対して0.032倍モル量)及び4−エチル−1−オクチン−3−オール(以下、「EOO」と略記することがある)(2−メチルアセト酢酸銀に対して0.004倍モル量)の混合物をビーカー中に添加し、添加終了後、さらにそのままの状態で5分撹拌することにより、銀インク組成物を得た。
なお、DMHOとしては、エアープロダクツジャパン社製「サーフィノール61」を用い、EOOとしては、東京化成工業社製のものを用いた。
<Manufacturing of laminate (evaluation of composition for coating layer)>
(Manufacturing of silver ink composition)
2-Ethylhexylamine (1.45 times molar amount with respect to 2-methylacetate silver acetate described later) and n-hexane (1.63 times molar amount with respect to silver 2-methylacetate acetate described later) in a beaker. In this order, silver 2-methylacetate acetate was added to the beaker so that the liquid temperature became 50 ° C. or lower while rotating and stirring the mechanical stirrer.
After the addition of 2-methylacetate silver is completed, formic acid (0.5 times the molar amount of 2-methylacetate silver) is added dropwise in a beaker over 10 minutes while maintaining the same state. Then, after the dropping of formic acid was completed, the mixture was further stirred for 1.5 hours as it was.
Then, 3,5-dimethyl-1-hexin-3-ol (hereinafter, may be abbreviated as "DMHO") (0.032 times by molar amount with respect to silver 2-methylacetate acetate) and 4-ethyl-1. A mixture of −octyne-3-ol (hereinafter sometimes abbreviated as “EOO”) (0.004 times molar amount with respect to silver 2-methylacetate acetate) was added to the beaker, and after the addition was completed, the mixture was further added as it was. The silver ink composition was obtained by stirring in this state for 5 minutes.
As the DMHO, "Surfinol 61" manufactured by Air Products Japan Co., Ltd. was used, and as the EOO, the one manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. was used.

各配合成分の種類と配合比を表1に示す。表1中、「含窒素化合物(モル比)」とは、金属銀の形成材料の配合量1モルあたりの含窒素化合物の配合量(モル数)([含窒素化合物のモル数]/[金属銀の形成材料のモル数])を意味する。「還元剤(モル比)」も同様に、金属銀の形成材料の配合量1モルあたりの還元剤の配合量(モル数)([還元剤のモル数]/[金属銀の形成材料のモル数])を意味する。「アセチレンアルコール(2)(モル比)」も同様に、金属銀の形成材料の配合量1モルあたりのアセチレンアルコール(2)の配合量(モル数)([アセチレンアルコール(2)のモル数]/[金属銀の形成材料のモル数])を意味する。「溶媒(モル比)」も同様に、金属銀の形成材料の配合量1モルあたりの溶媒の配合量(モル数)([溶媒のモル数]/[金属銀の形成材料のモル数])を意味する。
なお、本実施例において「金属銀の形成材料」とは、「β−ケトカルボン酸銀(1)」のことである。
Table 1 shows the types and ratios of each compounding ingredient. In Table 1, the "nitrogen-containing compound (molar ratio)" refers to the amount of the nitrogen-containing compound (number of moles) per mole of the material for forming metallic silver ([number of moles of nitrogen-containing compound] / [metal]. Number of moles of silver forming material]). Similarly, the "reducing agent (molar ratio)" is also the amount of the reducing agent compounded per mole of the metal silver forming material (the number of moles) ([the number of moles of the reducing agent] / [the mole of the metal silver forming material]. Number]). Similarly, "acetylene alcohol (2) (molar ratio)" also contains the amount (molar number) of acetylene alcohol (2) per mole of the material for forming metallic silver ([the number of moles of acetylene alcohol (2)]]. / [Number of moles of metallic silver forming material]). Similarly, the "solvent (molar ratio)" is the amount of the solvent compounded per mole of the metallic silver forming material (the number of moles) ([the number of moles of the solvent] / [the number of moles of the metallic silver forming material]). Means.
In this embodiment, the "material for forming metallic silver" is "silver β-ketocarboxylate (1)".

(銀層の形成)
ポリカーボネート製基材(厚さ2mm)の一方の表面上に、グラビアオフセット印刷法により、上記で得られた銀インク組成物を塗工して、印刷パターンを形成した。印刷パターンは、同じ幅のラインが所定の間隔を空けて多数配置されているラインアンドスペースパターンが、直交する2方向に形成されたメッシュパターンとした。
次いで、上述の印刷パターンが形成された基材に対して、65℃の熱風を5分吹き付けた後、この基材を120℃で5分、さらに100℃で10分乾燥させ、さらに、相対湿度70〜100%の加湿条件下において120℃で10分加熱(焼成)処理することにより、幅4μm、隣り合う同方向のライン間の距離が200μmである金属銀のラインアンドスペースパターンが、直交する2方向に形成された、金属銀のメッシュパターンを形成した。このメッシュパターンを形成している金属銀(銀層)の厚さは0.06〜0.07μmであった。
(Formation of silver layer)
A printing pattern was formed by applying the silver ink composition obtained above on one surface of a polycarbonate base material (thickness 2 mm) by a gravure offset printing method. The printing pattern was a mesh pattern in which a large number of lines having the same width were arranged at predetermined intervals in two orthogonal directions.
Next, hot air at 65 ° C. was blown onto the base material on which the above-mentioned printing pattern was formed for 5 minutes, and then the base material was dried at 120 ° C. for 5 minutes and then at 100 ° C. for 10 minutes, and further, the relative humidity was further increased. By heating (baking) at 120 ° C. for 10 minutes under a humidifying condition of 70 to 100%, the line-and-space patterns of metallic silver having a width of 4 μm and a distance between adjacent lines in the same direction of 200 μm are orthogonal to each other. A metallic silver mesh pattern formed in two directions was formed. The thickness of the metallic silver (silver layer) forming this mesh pattern was 0.06 to 0.07 μm.

(被覆層の形成、積層体の製造)
金属銀のメッシュパターンを形成した前記基材の前記パターン形成面の全面に、インクジェット式印刷法により、上記で得られた被覆層用組成物を塗工し、塗膜を形成した。このとき、インクジェット印刷装置としては、コニカミノルタ社製「EB100」を用いた。
次いで、この形成した塗膜を80℃で10分乾燥させた後、この乾燥後の塗膜に、400mJ/cmの照射量で紫外線を照射して、樹脂成分を硬化させることにより、前記基材の前記パターン形成面の全面、すなわち、前記パターン形成面上の金属銀のメッシュパターンの表面と、金属銀のメッシュパターンが形成されていない前記基材の表面と、の全面を被覆する被覆層を形成した。この被覆層の厚さは最大で5μmであった。
以上により、基材上に導電層としてメッシュ状の銀層が形成され、前記銀層上と、前記基材上の前記銀層が設けられていない領域と、に被覆層が形成されてなる積層体を得た。
(Formation of coating layer, production of laminate)
The coating film composition obtained above was applied to the entire surface of the pattern-forming surface of the base material on which the metallic silver mesh pattern was formed by an inkjet printing method to form a coating film. At this time, "EB100" manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. was used as the inkjet printing apparatus.
Next, the formed coating film was dried at 80 ° C. for 10 minutes, and then the dried coating film was irradiated with ultraviolet rays at an irradiation amount of 400 mJ / cm 2 to cure the resin component. A coating layer that covers the entire surface of the pattern-forming surface of the material, that is, the surface of the metallic silver mesh pattern on the pattern-forming surface and the surface of the base material on which the metallic silver mesh pattern is not formed. Was formed. The maximum thickness of this coating layer was 5 μm.
As described above, a mesh-like silver layer is formed as a conductive layer on the base material, and a coating layer is formed on the silver layer and a region on the base material where the silver layer is not provided. I got a body.

上記で得られた積層体の外観について、目視観察と、オプトデジタルマイクロスコープ「DSX500」(オリンパス社製)を用いた観察と、を行った。そして、その結果から、被覆層用組成物のハジキ、基材の白濁、被覆層の滲み・表面平滑性について、下記評価基準に従って評価した。これら評価結果を表8に示す。 The appearance of the laminate obtained above was visually observed and observed using an opto-digital microscope "DSX500" (manufactured by Olympus Corporation). Then, based on the results, the repelling of the coating layer composition, the white turbidity of the base material, and the bleeding / surface smoothness of the coating layer were evaluated according to the following evaluation criteria. The evaluation results are shown in Table 8.

(被覆層用組成物のハジキ)
○:被覆層用組成物のハジキが発生しなかった。
×:被覆層用組成物のハジキが発生した。
(基材の白濁)
○:基材が白濁しなかった。
×:基材が白濁した。
(被覆層の滲み・表面平滑性)
○:被覆層が滲んでおらず、被覆層の表面平滑性が高かった。
×:被覆層が滲んでおり、被覆層の表面平滑性が低かった。
(Repellent composition for coating layer)
◯: No repelling of the coating layer composition occurred.
X: Repellent of the coating layer composition occurred.
(White turbidity of the base material)
◯: The base material did not become cloudy.
X: The base material became cloudy.
(Bleeding / surface smoothness of coating layer)
◯: The coating layer was not blurred, and the surface smoothness of the coating layer was high.
X: The coating layer was blurred, and the surface smoothness of the coating layer was low.

<被覆層用組成物の製造、積層体の製造(被覆層用組成物の評価)>
[実施例2〜17、比較例1〜32]
被覆層用組成物の製造時において、配合成分の種類及び配合量のいずれか一方又は両方を、表2〜4に示すとおりとした点以外は、実施例1と同じ方法で、被覆層用組成物を製造し、積層体を製造した(被覆層用組成物を評価した)。
評価結果を表8〜9に示す。なお、表8〜9において、評価結果の欄における「−」との記載は、その項目が未評価であることを意味する。
<Manufacturing of coating layer composition, manufacturing of laminate (evaluation of coating layer composition)>
[Examples 2 to 17, Comparative Examples 1 to 32]
The composition for the coating layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that one or both of the types and amounts of the compounding components were set as shown in Tables 2 to 4 at the time of producing the composition for the coating layer. A product was produced, and a laminate was produced (the composition for the coating layer was evaluated).
The evaluation results are shown in Tables 8-9. In Tables 8 to 9, the description of "-" in the evaluation result column means that the item has not been evaluated.

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上記結果から明らかなように、実施例1〜17の被覆層用組成物は、ケトアルコール及びアルコールエーテルがともに配合されていることにより、その塗工時において、ハジキの発生が抑制されており、また、基材の白濁も抑制されるなど、基材における品質劣化も抑制されていた。さらに、実施例1〜12、14〜17の積層体においては、被覆層が滲んでおらず、被覆層の表面平滑性が高く、これら実施例では、特に好ましい積層体が得られた。実施例13の積層体のみ、被覆層が滲んでおり、被覆層の表面平滑性が低かったが、これは、被覆層用組成物の樹脂成分の含有量が他の実施例の場合よりも低かったためであると推測される。 As is clear from the above results, the coating layer compositions of Examples 1 to 17 contain both ketoalcohol and alcohol ether, so that the generation of repellent is suppressed at the time of coating. In addition, quality deterioration of the base material was also suppressed, such as suppressing white turbidity of the base material. Further, in the laminates of Examples 1 to 12 and 14 to 17, the coating layer was not blurred and the surface smoothness of the coating layer was high, and in these examples, a particularly preferable laminate was obtained. Only in the laminate of Example 13, the coating layer was blurred and the surface smoothness of the coating layer was low, but this was because the content of the resin component of the coating layer composition was lower than that of the other examples. It is presumed that this is due to the fact.

これに対して、比較例1〜32の被覆層用組成物は、ケトアルコール及びアルコールエーテルが併用されていない、より具体的には、アルコールエーテルが配合されていないことにより、少なくとも、その塗工時においてハジキが発生するか、又は基材が白濁した。さらに、一部の比較例では、被覆層が滲んでおり、被覆層の表面平滑性が低かった。 On the other hand, the coating layer compositions of Comparative Examples 1 to 32 did not contain ketoalcohol and alcohol ether in combination, and more specifically, because they did not contain alcohol ether, at least their coating was applied. Occasionally repelling occurred or the substrate became cloudy. Furthermore, in some comparative examples, the coating layer was blurred and the surface smoothness of the coating layer was low.

上記の実施例及び比較例の被覆層用組成物について、その粘度を横軸に、表面張力を縦軸にとって、プロットして得られたグラフを図4に示す。
このグラフでは、被覆層用組成物における、粘度と表面張力との関係を示すだけでなく、被覆層用組成物のハジキの発生の有無も同時に示している。
図4から明らかなように、ハジキの発生が抑制された被覆層用組成物は、粘度が概ね5.5〜13.5mPa・sの範囲内で、かつ表面張力が23.2〜29.5mN/mの範囲内のものであった。すなわち、このような特定範囲の粘度及び表面張力を有する被覆層用組成物は、ハジキの抑制の点において、好ましいものの一例であるといえる。
FIG. 4 shows a graph obtained by plotting the coating layer compositions of the above Examples and Comparative Examples with the viscosity on the horizontal axis and the surface tension on the vertical axis.
In this graph, not only the relationship between the viscosity and the surface tension of the coating layer composition is shown, but also the presence or absence of cissing of the coating layer composition is shown at the same time.
As is clear from FIG. 4, the coating layer composition in which the generation of cissing is suppressed has a viscosity in the range of approximately 5.5 to 13.5 mPa · s and a surface tension of 23.2 to 29.5 mN. It was within the range of / m. That is, it can be said that a coating layer composition having such a specific range of viscosity and surface tension is a preferable example in terms of suppressing cissing.

本発明は、基材上に導電層及び被覆層を備えた各種電子機器に利用可能であり、例えば、タッチパネルや光学ディスプレイ等の光学用途での利用に好適である。 The present invention can be used in various electronic devices having a conductive layer and a coating layer on a base material, and is suitable for use in optical applications such as touch panels and optical displays, for example.

1,2・・・積層体、11・・・基材、11a・・・基材の一方の表面(第1面)、11b・・・基材の他方の表面(第2面)、12,22・・・導電層、12a,22a・・・導電層の表面、13,23・・・被覆層、13a,23a・・・被覆層の表面 1, 2, ... Laminated body, 11 ... Base material, 11a ... One surface of the base material (first surface), 11b ... The other surface of the base material (second surface), 12, 22 ... Conductive layer, 12a, 22a ... Conductive layer surface, 13, 23 ... Coating layer, 13a, 23a ... Coating layer surface

Claims (1)

ポリウレタン(メタ)アクリレート、アクリル酸エステル、及び溶媒が配合されてなり、
前記溶媒がケトアルコール及びアルコールエーテルであり、
前記ケトアルコールがジアセトンアルコールであり、
前記アルコールエーテルが、エチレングリコールモノプロピルエーテル及び1−ブトキシ−2−プロパノールのいずれか一方又は両方である、樹脂組成物。
Polyurethane (meth) acrylate, acrylic acid ester, and solvent are blended together.
Wherein Ri solvent is keto alcohols and alcohol ethers der,
The keto alcohol is diacetone alcohol,
It said alcohol ether, Ru either or both der ethylene glycol monopropyl ether and 1-butoxy-2-propanol, the resin composition.
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