JP6861003B2 - FeNi規則合金の製造方法 - Google Patents
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Description
FeNi+N3-→FeNiN+3e-
(対極側)
Al+nLi-→AlLix+ne-
図6、図7は、作用極12としてFeNi基板を用い、作用極12への印加電位を異ならせて得られた窒化物のX線回折の測定結果を示している。電解浴の温度は350℃としている。
FeNiN+3e-→FeNi+N3-
(対極側)
AlLix+ne-→Al+nLi-
図11は、作用極12としてFeNi粒子を用い、作用極12への印加電位を異ならせて得られた脱窒素を行ったFeNi窒化膜のX線回折の測定結果を示している。電解浴の温度は300℃としている。
本発明は上述の実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、以下のように種々変形可能である。また、上記各実施形態に開示された手段は、実施可能な範囲で適宜組み合わせてもよい。
11 溶融塩
12 作用極
13 対極
Claims (8)
- L10型規則構造を有するFeNi規則合金の製造方法であって、
溶融塩(11)を用いた電解浴にFeNi不規則合金からなる作用極(12)と他の金属からなる対極(13)を配置し、前記作用極に窒化物イオンの存在下で平衡電位を基準とした正の電位を印加し、前記FeNi不規則合金からFeとNiの配列が規則化されたFeNiNを生成する窒化処理を行い、
前記作用極に前記平衡電位を基準とした負の電位を印加し、前記FeNiNから窒素を除去してL1 0 型FeNi規則合金を生成する脱窒素処理を行うFeNi規則合金の製造方法。 - 前記窒化処理では、前記電解浴の温度を300〜350℃とする請求項1に記載のFeNi規則合金の製造方法。
- 前記窒化処理における前記作用極への印加電位は、Liイオンの溶解/析出電位を基準として1.0〜1.8Vである請求項1または2に記載のFeNi規則合金の製造方法。
- 前記脱窒素処理では、前記電解浴の温度を300〜320℃とする請求項1ないし3のいずれか1つに記載のFeNi規則合金の製造方法。
- 前記脱窒素処理における前記作用極への印加電位は、Liイオンの溶解/析出電位を基準として0〜0.3Vである請求項1ないし4のいずれか1つに記載のFeNi規則合金の製造方法。
- 前記溶融塩は、LiCl−KCl−CsClである請求項1ないし5のいずれか1つに記載のFeNi規則合金の製造方法。
- 前記電解浴には、前記窒化物イオンを生成するためのLi3Nが添加されている請求項1ないし6のいずれか1つに記載のFeNi規則合金の製造方法。
- 前記FeNi不規則合金は、粒子状である請求項1ないし7のいずれか1つに記載のFeNi規則合金の製造方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP5148209B2 (ja) * | 2007-08-28 | 2013-02-20 | 学校法人同志社 | 溶融塩電気化学プロセスを用いた表面窒化処理方法 |
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| JP6388190B2 (ja) * | 2012-11-29 | 2018-09-12 | 善治 堀田 | L10型FeNi規則合金を含むFeNi系材料の製造方法、及びFeNi系材料 |
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