JP6861182B2 - 光学フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本開示は、光学フィルムの製造方法に関する。

近年、光学フィルムの需要が増加しつつある。光学フィルムの代表的なものとして、位相差フィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム等が挙げられる。

光学フィルムは、生産性向上のため、長尺のフィルム状支持体（以降、「連続フィルム支持体」）を用い、ロールトゥロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ）方式での連続プロセスによって製造される。
光学フィルムの製造方法の一例として、連続フィルム支持体の表面に、活性エネルギー線により硬化する組成の塗布液を塗布し、乾燥させて硬化性層を形成する硬化性層形成工程と、形成された硬化性層に活性エネルギー線を照射して硬化させる硬化工程と、を有し、連続フィルム支持体の表面に目的とする光学機能層を形成する方法が知られている。
このように、活性エネルギー線を照射することで硬化性層を硬化させる場合、雰囲気中の酸素が硬化性層の硬化反応を阻害する要因となっていることが知られている。

光学フィルムの製造方法に適用される塗布膜の硬化方法としては、例えば、特許文献１に記載の方法がある。
特許文献１には、走行する帯状の可撓性支持体の表面に形成された活性線硬化樹脂よりなる塗布膜に複数台の活性線照射手段により活性線を照射して塗布膜を硬化させる塗布膜の硬化方法において、１台以上の活性線照射手段により活性線が照射された可撓性支持体を次段の活性線照射手段に走行させるまでの間、塗布膜を脱酸素雰囲気に保つ塗布膜の硬化方法が開示されている。そして、特許文献１には、複数台の活性線照射手段同士の間に密閉空間を形成し、密閉空間内に不活性ガスを供給すること、及び、塗布膜に対する活性線の照射を、塗布膜を有する可撓性支持体を加温したバックアップロールに巻き掛けて行うことが開示されている。

また、特許文献２には、長尺の基材フィルム及び硬化層を備える光学フィルムの製造方法であって、基材フィルムと、活性エネルギー線によって硬化しうる硬化前層と、を備えた複層フィルムの基材フィルムを特定の状態で加熱する工程と、加熱された基材フィルムを、３０℃以上のバックロールに接触させた状態で、硬化前層に活性エネルギー線を照射することによって、硬化前層を硬化させて硬化層を得る工程と、を含む、光学フィルムの製造方法が開示されている。また、特許文献２には、硬化前層への活性エネルギー線の照射を、不活性ガス雰囲気下で行うことについても開示されている。

更に、特許文献３には、樹脂フィルム上に活性エネルギー線硬化性樹脂層を設けた後、樹脂フィルムを搬送しながら、活性エネルギー線硬化性樹脂層に光源から活性エネルギー線を照射して硬化を行うハードコートフィルムの製造方法であって、不活性ガスを、活性エネルギー線が照射される活性エネルギー線硬化性樹脂層の表面に供給する方法が開示されている。また、特許文献３には、樹脂フィルムをその背面でバックアップロールにて支持・搬送しながら、活性エネルギー線の照射および不活性ガスの供給を行うことも開示されている。

一方、光学フィルムを製造する場合には、長尺状のウェブと称されるフィルムが使用される。この長尺状のウェブは、フィルム同士を接合により連結して作製されるため、長手方向にはフィルムの連結部分である接合部が形成されている。
接合部には、連結方法の違いにより様々な形態がある。例えば、基材の一方面に粘着剤層を有する粘着材料（いわゆる粘着テープ）を貼り付けて連結する場合、連結される２つのフィルムの各端部を両面から粘着テープで挟んで繋ぎ合わせる。接合部は、連結される２つのフィルムが予期しない微小な角度を持って連結されたり、接合部がフィルムより厚くなるために剛性又は熱膨張が大きく異なる場合がある。

特開２００６−２４７５３０号公報 特開２０１７−１１１３９４号公報 特開２００９−２４０９２１号公報

雰囲気中の酸素が硬化反応を阻害することに対しては、上記のように種々の技術が検討され、例えば窒素ガス等の不活性ガスを供給することにより、硬化反応を行う環境が窒素比率の高い不活性雰囲気に置換されていることが望ましい。

紫外線（ＵＶ）等の活性エネルギー線を照射して硬化性の層（塗膜）を硬化させるＵＶ照射部（反応室）に窒素ガスを供給して不活性雰囲気を形成しようとすると、室内に搬送されたフィルムは、供給される窒素ガスにより冷やされてフィルム温度が低下する傾向にある。例えば、フィルムが室温以上の温度に調整（例えば１２０℃に温調）されたバックアップロールに巻き掛けられてＵＶ照射部に搬送された場合、バックアップロールと接している側のフィルム表面は例えば１２０℃付近の温度に維持される一方、逆側のフィルムの硬化性層形成面は、ＵＶ照射部に供給された室温（例えば２５℃）の窒素ガスにより冷やされ、フィルムの表裏で温度差が生じることになる。この温度差に起因してフィルムに回復できないシワが発生することがある。
ここにいう、回復できない強いシワ（皺）とは、フィルム幅方向に波形が連続しフィルム搬送方向に長く伸びた撚れから派生してバックアップロールの表面で互いに折り重なってできる皺（いわゆる「乗り上げシワ（Riding up wrinkles）」）を指す。

特に、フィルム同士を接合して連結した長尺状の連続フィルム支持体（本明細書において、「ウェブ」ともいう。）を用いた場合、連結部分である接合部における連結角度の誤差、又は接合部とフィルムとの間の剛性の差もしくは熱膨張差等に起因して、接合部の前後において、フィルム幅方向に波形が連続し、かつ、波形がフィルム搬送方向に長く伸びる波形変形（いわゆる「ツレシワ」）が発生しやすくなる傾向がある。
そして、通常、接合部に起因したツレシワは、接合部がバックアップロールから離れて遠ざかると、バックアップロール上でフィルムが伸ばされてツレシワは解消するが、ツレシワが強かったり上手く引き伸ばされない等の要因が重なると、回復できない強いシワに変化することがある。
殊に、フィルムの接合部以外のツレシワの発生が弱い箇所では、フィルム表裏にある程度の温度差があってもシワへの影響は問題にならない（つまり乗り上げシワにならない）が、接合部より下流側の後続のフィルムを、強いツレシワが発生している状態で搬送させ、バックアップロールによりツレシワのあるフィルムに表裏の温度差ができた場合、ツレシワに応力が加わって乗り上げシワに変化する場合がある。

このような状況に関連して、上記の従来技術のうち特許文献１に記載の塗布膜の硬化方法では、塗布膜を有する可撓性支持体の塗布膜に活性線を照射する際、可撓性支持体の塗布膜形成面側と、加温したバックアップロールに接触する側と、の間に温度差が生じやすく、シワが発生しやすく、ひいては乗り上げシワに発展しやすい。

また、特許文献２に記載の光学フィルムの製造方法の場合も、硬化前層を有する基材フィルムの硬化前層に活性エネルギー線を照射する際、基材フィルムの硬化前層が形成された側と、加温したバックロールに接触する側と、の間に温度差が生じやすく、やはり基材フィルムに乗り上げシワが発生する懸念がある。
特許文献３に記載のハードコートフィルムの製造方法においても、不活性ガスが、活性エネルギー線が照射される活性エネルギー線硬化性樹脂層の表面に供給される態様であり、フィルムの表裏で温度差が生じた際には、上記と同様に温度差に起因した乗り上げシワがフィルムに発生するおそれがある。

本開示は、上記に鑑みなされたものである。
本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、フィルムの連結部分である接合部を有する連続フィルム支持体（ウェブ）上の硬化性層を不活性雰囲気に曝された状態で硬化させる場合に、ウェブの乗り上げシワの発生が抑制される光学フィルムの製造方法を提供することにある。

課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ フィルム同士が接合された接合部を有し、かつ、硬化性層が塗設された連続フィルム支持体を搬送する第１工程と、不活性ガスが第１の供給流量で供給される活性エネルギー線照射部内で、加熱されたバックアップロールに巻き掛けられた上記の連続フィルム支持体の巻き掛け領域の硬化性層に活性エネルギー線を照射する第２工程と、を有し、
第２工程において、活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間の少なくとも一部、及び連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流４ｍの地点との間を接合部が通過する間の少なくとも一部の少なくとも一方は、不活性ガスを第２の供給流量で供給し、第１の供給流量ｆ１と第２の供給流量ｆ２とは下記式１を満たす、光学フィルムの製造方法である。
ｆ１＞ｆ２ 式１
＜２＞ 活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間の少なくとも一部、及び連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流４ｍの地点との間を接合部が通過する間の少なくとも一部の少なくとも一方における、第１の供給流量ｆ１に対する第２の供給流量ｆ２の比率が５０％以下である＜１＞に記載の光学フィルムの製造方法である。
＜３＞ 活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間の少なくとも一部、及び連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流４ｍの地点との間を接合部が通過する間の少なくとも一部の少なくとも一方における、第１の供給流量ｆ１に対する第２の供給流量ｆ２の比率が２０％以下である＜１＞又は＜２＞に記載の光学フィルムの製造方法である。
＜４＞ バックアップロールの表面温度が、８０℃以上１６０℃以下である＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の光学フィルムの製造方法である。
＜５＞ 第２工程は、更に、搬送された連続フィルム支持体の接合部がバックアップロールに接触する前に、上記の式１を満たす範囲に不活性ガスの供給流量を調整する、＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の光学フィルムの製造方法である。

＜６＞ 第２工程は、活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間の少なくとも一部、及び連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流４ｍの地点との間を接合部が通過する間の少なくとも一部において、第２の供給流量ｆ２を維持する、＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の光学フィルムの製造方法である。
＜７＞ 第２工程の前に、硬化性層が塗設された連続フィルム支持体を予熱する第３工程を有する＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の光学フィルムの製造方法である。
＜８＞ 連続フィルム支持体の幅長が、２００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下である＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の光学フィルムの製造方法である。
＜９＞ 連続フィルム支持体の厚みが、３μｍ以上１００μｍ以下である＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の光学フィルムの製造方法である。
＜１０＞ 不活性ガスの第１の供給流量ｆ１が、５ｍ^３／ｈ以上３００ｍ^３／ｈ以下である＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の光学フィルムの製造方法である。
＜１１＞ 連続フィルム支持体に硬化性層が形成された積層体の総厚は、３．１μｍ以上１１５μｍ以下である＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の光学フィルムの製造方法。

本発明の一実施形態によれば、フィルムの連結部分である接合部を有する連続フィルム支持体（ウェブ）上の硬化性層を不活性雰囲気に曝された状態で硬化させる場合に、ウェブの乗り上げシワの発生が抑制される光学フィルムの製造方法が提供される。

本発明の一実施形態の光学フィルムの製造方法の各工程を示す概略図である。 本発明の他の一実施形態の光学フィルムの製造方法の各工程を示す概略図である。

以下、本開示の光学フィルムの製造方法について詳細に説明する。

本明細書において、第１工程及び第２工程等における「工程」の語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。

本明細書において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。

本開示の光学フィルムの製造方法は、フィルム同士が接合された接合部を有し、硬化性層が塗設された連続フィルム支持体を搬送する第１工程と、不活性ガスが第１の供給流量で供給される活性エネルギー線照射部内で、加熱されたバックアップロールに巻き掛けられた連続フィルム支持体の巻き掛け領域の硬化性層に活性エネルギー線を照射する第２工程と、を有し、
第２工程において、（１）活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間の少なくとも一部、及び（２）連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流４ｍの地点との間を接合部が通過する間の少なくとも一部、の少なくとも一方は、不活性ガスを第２の供給流量で供給し、第１の供給流量ｆ１と第２の供給流量ｆ２とが下記式１を満たす。
ｆ１＞ｆ２ ・・・式１

本開示において、第１の供給流量及び第２の供給流量は、１時間あたりに供給される体積流量を指し、「ｍ^３／ｈ」を単位として表される物質量である。

窒素ガスが供給されて不活性雰囲気が形成されたＵＶ照射部に被照射体を搬入し、不活性雰囲気下で硬化性の硬化性層を硬化させる場合、既述の特許文献１〜３に記載された技術のように、供給された窒素ガスによって雰囲気温度が低下したり、供給された窒素ガスに直接曝される等によって、ウェブの一方面が冷やされ、ウェブの表裏で温度差が発生する場合がある。ウェブの表裏で温度差が生じた場合、ウェブには回復困難なシワが発生しやすくなる傾向がある。特に、フィルム同士を接合して連結した長尺状のウェブのように、長手方向に連結部分である接合部が存在する場合、フィルムの表裏に温度差が生じた際に接合部に起因したシワの発生が顕著になり、ツレシワと称されるシワが現れる。そして、ツレシワが発生している状態でウェブを搬送させ、接合部がバックアップロールから離れた際、後続のフィルムがツレシワをきっかけとしてバックアップロール上で回復できない乗り上げシワの発生を招く場合がある。
乗り上げシワが発生した後のシワの解消は必ずしも容易に行えないため、乗り上げシワが発生する前に、シワが発生しにくい環境に整えることが重要である。

上記に鑑み、本開示の光学フィルムの製造方法では、フィルム同士が接合された接合部を有し、かつ、硬化性層が塗設された連続フィルム支持体（ウェブ）を加熱されたバックアップロールに巻き掛け、不活性ガスが第１の供給流量ｆ１で供給される活性エネルギー線照射部内で、ウェブの巻き掛け領域の硬化性層に対し、活性エネルギー線を照射する際、特に、活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間と、連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点（離間地点）と離間地点から搬送方向下流４ｍの地点との間を接合部が通過する間と、の少なくとも一方（好ましくは両方）の少なくとも一部の区間においては、不活性ガスが第１の供給流量ｆ１と第２の供給流量ｆ２とが特定の関係（式１）を満たすものとする。
これにより、硬化性層が塗設されたウェブ（好ましくは、厚みが３μｍ〜１００μｍの薄手フィルム）を用いて光学フィルムを製造する際、供給される窒素ガスによりウェブの片面だけが冷やされることで発生する面外方向の力を抑制し、バックアップロール上でシワが発生しやすい状態、例えば、フィルムの連結部分である接合部における連結角度の誤差、又は接合部とフィルムとの間の剛性の差もしくは熱膨張差等に起因して波形変形しやすい状態を緩和することができる。
特に、フィルム同士を接合して連結した接合部を有するウェブを搬送する場合、接合部が加熱されたバックアップロール上、つまり活性エネルギー線照射部内にある間は温度差が生じやすいため、式１を満たすことによる温度差の抑制効果は大きい。また、接合部がバックアップロールから離れた後の特定の区間、つまり接合部が、ウェブがバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流４ｍの地点との間にある際は、一般に波形変形（ツレシワ）が解消する傾向にある。そのため、搬送方向下流４ｍの地点までの区間の温度が下がり過ぎないように調整することができれば、ツレシワが乗り上げシワに変化するのを効果的に防ぐことができる。
即ち、本開示の光学フィルムの製造方法は、一定の区間において式１を満たすことで、発生する温度差の抑制効果が大きくなり、乗り上げシワへ発展するのを防ぐことができる。

−第１工程−
本開示における第１工程では、フィルム同士が接合された接合部を有し、かつ、硬化性層が塗設された連続フィルム支持体を搬送する。

「連続フィルム支持体」とは、複数の長尺フィルムの端部同士を接合して更に長尺な形状に形成された支持体を指す。したがって、連続フィルム支持体は、複数の長尺フィルムの端部同士を接合して連結した接合部を長尺方向に有している。

接合部は、複数のフィルムの端部同士を互いに接合して連結した部位を指し、ウェブに任意の間隔で形成されていてよい。

接合部の形態としては、特に制限されるものではなく、例えば、接合されるフィルムを互いの端部を重ねて接着剤等で接合した部分、同一平面上でフィルム端部を互いに突き合わせた２つのフィルムを粘着テープ（例えば、基材上に粘着層を有するもの）で片面のみ又は両面において固定した部分、又は２つのフィルムを重ねて熱融着した部分等のいずれでもよい。

連続フィルム支持体には、公知のポリマーフィルムを用いることができる。
連続フィルム支持体として用いられるポリマーフィルムの材料の例には、セルロースアシレート（例えば、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース、屈折率１．４８；ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート）、ポリオレフィン（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等）、ポリエーテルスルホン、アクリル樹脂（例えば、ポリメチルメタクリレート等）、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリ（メタ）アクリルニトリル、脂環式構造を有するポリマー（例えば、ノルボルネン系樹脂（商品名「アートン（登録商標）」、ＪＳＲ社）、非晶質ポリオレフィン（例えば、商品名「ゼオネックス（登録商標）」、日本ゼオン社））などが挙げられる。
このうち、光学異方性の低さ等の点から、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及び脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。

連続フィルム支持体の厚みとしては、製造適性、用途、ユーザーからの要求等に応じて決定されればよく、例えば、３μｍ〜２５０μｍの範囲が好ましい。特に、連続フィルム支持体の厚みが薄い場合、シワが発生し易くなる傾向があるが、本開示においては既述の第２工程が施されることにより、３μｍ〜１００μｍの範囲の薄い連続フィルム支持体を好適なものとして用いることができ、ウェブの乗り上げシワの発生抑制効果がより効果的に奏される。
連続フィルム支持体の厚みは、バックアップロールへの巻き掛けに対する適用性が高い点等から、１５μｍ以上がより好ましく、材料コストの点から、８０μｍ以下が好ましい。中でも、連続フィルム支持体の厚みは、２０μｍ以上６０μｍ以下がより好ましく、３０μｍ以上５０μｍ以下が更に好ましい。

連続フィルム支持体の幅長としては、シワが生じやすい幅長であり、ウェブの乗り上げシワの発生抑制効果がより効果的に奏される点で、２００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であることが好ましく、６００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下であることがより好ましい。

−−接合工程−−
本開示の光学フィルムの製造方法では、複数のフィルムの端部同士を接合して長尺状の連続フィルム支持体を作製する工程（接合工程）を有していてもよい。接合工程を設けた場合には、連続フィルム支持体に既述の接合部が形成されることになる。
接合は、公知の接合方法を用いて行うことができる。
フィルム同士の接合には、接着剤、又は粘着テープ（例えば、基材上に粘着層を有する粘着材料）等を用いることができる。

−−硬化性層形成工程−−
本開示の光学フィルムの製造方法では、第１工程の前に、連続フィルム支持体に硬化性層を塗設する工程（硬化性層形成工程）を設けることができる。

本工程は、活性エネルギー線により硬化する組成の塗布液を用い、この塗布液を連続フィルム支持体上に塗布し、乾燥させることで行われることが好ましい。

（塗布）
塗布には、塗布手段として公知の塗布装置を適用することができる。
塗布装置としては、例えば、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等を利用した装置が挙げられる。

（乾燥）
乾燥には、乾燥手段として公知の乾燥装置を適用することができる。
乾燥手段としては、例えば、オーブン、温風機、赤外線（ＩＲ）ヒーター等が挙げられる。

温風機による乾燥においては、連続フィルム支持体の塗布液が塗布された面とは反対の面から温風を当てる構成でもよく、塗布された塗布液の表面が温風にて流動しないように拡散板を設置した構成としてもよい。
乾燥条件は、用いた塗布液の種類、塗布量、搬送速度等に応じて決定されればよく、例えば、３０℃〜１４０℃の範囲で１０秒〜１０分間行うことが好ましい。

以上の塗布及び乾燥を経ることで、活性エネルギー線により硬化する未硬化の硬化性層が形成される。
硬化性層の厚みとしては、０．１μｍ以上１５μｍ以下が好ましく、０．５μｍ以上５μｍ以下がより好ましい。連続フィルム支持体に硬化性層が形成された際の総厚が小さいほど、後述する第２工程におけるシワの発生が生じやすい。そのため、硬化性層の厚みは小さいほど、シワの発生抑制効果が得られ易い。

連続フィルム支持体に硬化性層が形成されて形成された積層体の総厚としては、３．１μｍ以上１１５μｍ以下であることが好ましい。積層体の総厚が薄い場合には、シワが発生しやすくなるが、本開示の光学フィルムの製造方法では、総厚が上記範囲である場合にシワの発生抑制効果が高い。

硬化性層形成工程の一例を図１を参照して説明する。
図１に示すように、巻回された連続フィルム支持体（ウェブ）Ｆは、その先端が送り出されると、まず、塗布手段の例である塗布装置１により活性エネルギー線により硬化する組成の塗布液の塗布が行われる。その後、塗布により形成された硬化性層は、乾燥手段である乾燥装置２における乾燥領域にて乾燥される。
このようにして、ウェブ上には、活性エネルギー線により硬化する組成の塗布液を塗布及び乾燥して得られる硬化性層が形成される。

−第２工程−
本開示における第２工程では、不活性ガスが第１の供給流量で供給される活性エネルギー線照射部内で、加熱されたバックアップロールに巻き掛けられた連続フィルム支持体の巻き掛け領域の硬化性層に活性エネルギー線を照射する。

活性エネルギー線照射部は、少なくとも硬化性層に対して活性エネルギー線を照射するための領域を指し、照射により硬化性層中の硬化成分の硬化反応を促進する。
活性エネルギー線照射部には、通常、不活性ガスが第１の供給流量で供給される。不活性ガスが供給されることで、活性エネルギー線照射部の内部は不活性ガスで置換され、不活性雰囲気が形成される。

不活性ガスは、いずれの方法で活性エネルギー線照射部に供給されてもよく、例えば、不活性ガスの活性エネルギー線照射部への供給が行える位置に活性エネルギー線照射部に設置されたノズルから供給することができる。
ノズルは、外部の不活性ガス供給手段に他端で接続されたガス供給管の一端に取り付けられ、不活性ガスを吐出（例えば、放出もしくは噴射等）できるものを使用できる。
不活性ガスを供給するためのノズルは、活性エネルギー線照射部のいずれの位置に設置されていてもよく、不活性ガスの吐出方向にも制限はない。ノズルの設置位置は、例えば図１又は図２に示すように、ノズル３６ａ及びノズル３６ｂが設置されている位置としてもよく、ノズル３６ａ又はノズル３６ｂに示される矢印方向を不活性ガスの吐出方向としてもよい。

活性エネルギー線照射部は、加熱手段により加熱された内部雰囲気で満たされた状態とされてもよい。この場合、内部雰囲気が加熱手段により加温されていればよく、例えば、不活性ガスを加熱手段により加熱する態様、反応室の内壁を加熱手段により加熱する態様が挙げられる。
不活性ガスを加熱手段により加熱する態様による場合、加熱手段は、例えば図１に示すようにノズル３６ａから反応室３内に供給される不活性ガスを予め加熱する手段であってもよいし、反応室内に供給される不活性ガスを反応室内にて加温する手段であってもよい。例えば、活性エネルギー線照射部に供給される不活性ガスは、活性エネルギー線照射部の外部温度より高い温度域に加温されてから供給されてもよい。
以上のように、活性エネルギー線照射部の雰囲気又は供給される不活性ガス等が加温されることにより、シワの発生の低減効果がより期待できる。
上記の点に対し、本開示の光学フィルムの製造方法は、不活性ガス又は反応室の内壁を加熱手段で加熱する方法に比べ、より低コストに行える利点がある。

活性エネルギー線照射部に供給される不活性ガスの第１の供給流量ｆ１は、５ｍ^３／ｈ以上３００ｍ^３／ｈ以下が好ましく、１００ｍ^３／ｈ以上３００ｍ^３／ｈがより好ましく、１５０ｍ^３／ｈ以上２５０ｍ^３／ｈが更に好ましい。
不活性ガスの供給流量は、ノズルの吐出口又はノズルと接続された供給管にフローメータを取り付けて測定することができる。

活性エネルギー線の照射は、張架された状態の連続フィルム支持体に対して行うことが好ましい。本工程のように、バックアップロールに巻き掛けられた連続フィルム支持体は、長手方向に張力（テンション）が与えられて張架されていることが好ましい。
バックアップロール上で連続フィルム支持体の長手方向に与えられる張力としては、１００Ｎ／ｍ〜６００Ｎ／ｍが好ましい。

バックアップロール上を搬送する連続フィルム支持体の搬送速度は、生産性の確保の点及び活性エネルギー線の照射精度を高める点から、１０ｍ／ｍｉｎ以上１００ｍ／ｍｉｎ以下であることが好ましく、２０ｍ／ｍｉｎ以上６０ｍ／ｍｉｎ以下であることがより好ましい。

バックアップロールに対する連続フィルム支持体のラップ角としては、６０°以上が好ましく、９０°以上がより好ましい。
なお、ラップ角とは、連続フィルム支持体がバックアップロールに接触する際の連続フィルム支持体の搬送方向と、バックアップロールから連続フィルム支持体が離間する際の連続フィルム支持体の搬送方向と、からなる角度をいう。

（活性エネルギー線）
本工程で用いられる活性エネルギー線としては、照射する硬化性層中に活性種を発生させうるエネルギーを付与することができるものであれば、特に制限はない。
活性エネルギー線としては、例えば、α線、γ線、Ｘ線、紫外線（ＵＶ）、赤外線、可視光線、電子線等が挙げられる。これらのうち、活性エネルギー線としては、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、紫外線又は電子線が好ましく、紫外線がより好ましい。

（光源）
活性エネルギー線を照射するための光源としては、上述の活性エネルギー線を照射する光源が挙げられる。光源は、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、紫外線を照射する光源が好ましい。
紫外線を照射する光源としては、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー（例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ＹＡＧ（Yttrium Aluminum Garnet）レーザー）、発光ダイオード、陰極線管等を挙げることができる。
紫外線を照射する光源から発せられる紫外線のピーク波長は、２００ｎｍ〜４００ｎｍが好ましい。

（不活性ガス）
本工程で用いられる不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガス、及びネオンガス等の希ガス、並びに、炭酸ガス等が挙げられ、中でも、窒素ガスが好ましい。

（バックアップロール）
バックアップロールには、特に制限はなく、公知のものを用いることができる。
バックアップロールとしては、例えば、表面がハードクロムメッキされたものを好ましく用いることができる。
メッキの厚みは、導電性と強度とを確保する観点から４０μｍ〜６０μｍが好ましい。
また、バックアップロールの表面粗さは、連続フィルム支持体とバックアップロールとの摩擦力のバラツキを低減させる点から、表面粗さＲａにて０．１μｍ以下が好ましい。

バックアップロールの表面温度は、硬化性層の組成、硬化性層の硬化性能、連続フィルム支持体の耐熱性等に応じて決定されればよく、５０℃〜２５０℃が好ましく、６０℃〜１６０℃がより好ましい。
バックアップロールの表面温度を上記の温度にすることで、硬化性層の硬化速度を上げることができ、巻き掛けられる連続フィルム支持体の温度制御を行うこともできる。

バックアップロールは、表面温度を検知し、その温度に基づいて温度制御手段によってバックアップロールの表面温度が維持されることが好ましい。
バックアップロールの温度制御手段には、加熱手段及び冷却手段がある。加熱手段としては、誘導加熱、水加熱、油加熱等が用いられ、冷却手段としては、冷却水による冷却が用いられる。

バックアップロールの直径としては、連続フィルム支持体が巻き掛け易い点、紫外線の照射が容易な点及びバックアップロールの製造コストの点から、１００ｍｍ〜１０００ｍｍが好ましく、１００ｍｍ〜８００ｍｍがより好ましく、２００ｍｍ〜７００ｍｍが更に好ましい。

本開示における第２工程において、（１）活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間の少なくとも一部、及び（２）連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流４ｍの地点との間を接合部が通過する間の少なくとも一部、の少なくとも一方は、不活性ガスを第２の供給流量で供給し、第１の供給流量ｆ１と第２の供給流量ｆ２とが下記式１を満たす。
ｆ１＞ｆ２ ・・・式１

上記式１を満たす範囲で活性エネルギー線照射部内への不活性ガスの供給流量が制御されることにより、活性エネルギー線照射部に供給された不活性ガスでウェブの片側だけが冷やされた際の、ウェブの表裏における温度差が大きくなり過ぎる起因した面外方向の力を抑えることができる。
フィルム同士を接合して連結した接合部を有するウェブを搬送する場合、接合部が加熱されたバックアップロール上、つまり活性エネルギー線照射部内にある間は特に温度差が生じやすいため、上記式１を満たすと温度差の抑制効果が大きい。
また、バックアップロールから離れた後の特定の区間、つまり接合部が、連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる離間地点と離間地点から搬送方向下流４ｍの地点との間の搬送路にある間は、一般に波形変形（ツレシワ）が解消する傾向にある。そのため、搬送方向下流４ｍの地点までの区間の温度が下がり過ぎないように調整することができれば、ツレシワが乗り上げシワに変化するのを効果的に防ぐことができる。
即ち、本開示の光学フィルムの製造方法は、一定の区間において式１を満たすことで、発生する温度差の抑制効果が大きくなり、乗り上げシワへ発展するのを防ぐことができる。

活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間の少なくとも一部、及び連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流４ｍの地点との間を接合部が通過する間の少なくとも一部、の少なくとも一方における、第１の供給流量ｆ１に対する第２の供給流量ｆ２の比率（＝ｆ２／ｆ１×１００）は、５０％以下であることが好ましい。
第２の供給流量ｆ２の比率が５０％以下であると、シワの発生を飛躍的に軽減することができる。
中でも、上記した第１の供給流量ｆ１に対する第２の供給流量ｆ２の比率（＝ｆ２／ｆ１×１００）としては、２０％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましく、０（ゼロ）％であること（即ち、第２の供給流量がゼロであること）が特に好ましい。

また、不活性ガスの第２の供給流量ｆ２は、上記のように第１の供給流量ｆ１との関係を満足していれば特に制限されるものではないが、具体的な範囲としては、例えば、１００ｍ^３／ｈ以下であることが好ましく、２０ｍ^３／ｈ以下であることがより好ましく、０ｍ^３／ｈであることが更に好ましい。

なお、不活性ガスの供給流量を減らし過ぎた場合、不活性ガスの供給流量をｆ１に戻しても活性エネルギー線照射部内の酸素濃度を一定の範囲まで低下させるのに時間が掛かり、結果、支持体ロスの増加を招くおそれがある。この点は、接合部がバックアップロールから離れた後に不活性ガスの供給流量を戻すタイミングが遅くなり過ぎた場合も同様である。したがって、不活性ガスの供給流量は、酸素濃度が一定の範囲を維持しやすい範囲で制御されることが好ましい。

第２工程では、シワの発生をより飛躍的に軽減する観点から、活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間の少なくとも一部、及び連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流４ｍの地点との間を接合部が通過する間の少なくとも一部の双方において、第２の供給流量ｆ２を維持していることが好ましい。
即ち、上記の通り、活性エネルギー線照射部内にある間はウェブ表裏の温度差が大きくなりやすく、また、バックアップロールから離れた後の特定の区間はシワが起きにくい環境に整えることが望ましいことから、活性エネルギー線照射部内の通過時及びバックアップロールの離間地点から下流４ｍまでの通過時において不活性ガスの供給流量を減じることが効果的である。
具体的には、接合部が活性エネルギー線照射部内を通過する間のうち、接合部がバックアップロールから離れる離間地点（例えば図１の点Ｑ）から上流１ｍまでの間の少なくとも一部と、連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる離間地点（例えば図１の点Ｑ）と離間地点（例えば点Ｑ）から搬送方向下流４ｍの地点との間を接合部が通過する間のうち、離間地点から搬送方向下流２ｍまで（好ましくは下流４ｍまで）の地点までの間の少なくとも一部と、において第２の供給流量ｆ２を維持していることが好ましい。

第２工程は、搬送された連続フィルム支持体の接合部がバックアップロールに接触する前（例えば、図１の接触地点Ｐに達する前）に、式１を満たすように不活性ガスの供給流量を調整することも好適である。
活性エネルギー線照射部内では、供給された不活性ガスによるフィルム表裏での温度差を招来しやすいため、バックアップロールで加熱される前（例えば図１のように、バックアップロールに接する地点（接触地点）Ｐへ到達する前）にｆ１＞ｆ２を満たす範囲に調整することで、シワの発生をより抑えやすくなる。
具体的には、接合部がバックアップロールに接触する接触地点（例えば図１の点Ｐ）に到達する前にｆ１＞ｆ２を満たすことが好ましい。

第２工程の一例を図１を参照して説明する。
図１に示すように、塗膜である硬化性層が形成されたウェブ（連続フィルム支持体）Ｆは、不活性ガスの例である窒素ガスが第１の供給流量ｆ１で供給される活性エネルギー線照射部の例である反応室３内にて、活性エネルギー線の例である紫外線の照射が行われる。具体的には、硬化性層が形成されたウェブＦは、反応室３内にてバックアップロール３４に巻き掛けられ、光源３２から塗膜である硬化性層に紫外線が照射される。
この際、反応室３内には、ノズル３６ａから窒素ガスが供給されるが、既述のように、ウェブの接合部が反応室３内を通過する間、及び接合部がバックアップロール３４から離れる離間地点Ｑの下流４ｍまでの距離を通過する間の少なくとも一方は、窒素ガスを第２の供給流量ｆ２で供給し、第１の供給流量ｆ１と第２の供給流量ｆ２とが特定の関係式（上記の式１）を満たす範囲で調整される。
これにより、硬化性層を不活性雰囲気下で硬化させる際に生じやすいウェブの乗り上げシワの発生を効果的に抑制することができる。

図１では、ノズル３６ａからウェブに直接窒素ガスがあたらないように窒素ガスを吐出する例を示しているが、本開示の光学フィルムの製造方法では、窒素ガスの吐出方向に特に制限はなく、図２のノズル３６ｂに示されるように、ウェブに直接窒素ガスがあたるように窒素ガスを吐出するようにすることができる。

−第３工程（予熱工程）−
本開示の光学フィルムの製造方法は、第２工程の前に、硬化性層が塗設された連続フィルム支持体を予熱する第３工程（以下、「予熱工程」ともいう。）を有していることが好ましい。
予熱工程を有することで、硬化性層を有するウェブが加熱された状態で第２工程へと搬送され、バックアップロールに接触することになるため、硬化性層が形成された側とバックアップロールに接触する側との温度差が生じ難くなり、シワの発生がより効果的に抑制される。

予熱工程において、硬化性層が形成されたウェブを加熱する方法には、特に制限はなく、接触加熱方法を用いてもよいし、非接触加熱方法を用いてもよい。
接触加熱方法としては、硬化性層が形成されたウェブに加熱されたロール、ベルト等を接触させる方法が挙げられる。
また、非接触加熱方法としては、硬化性層が形成されたウェブに対して、温風を吹き付けて加熱する方法、赤外線ヒータを用いて輻射熱をあてて加熱する方法、雰囲気が加熱された加熱ゾーン内をウェブを通過させて加熱する方法等が挙げられる。
予熱工程の具体例の一つとして、例えば図１及び図２に示されるように、硬化性層が形成されたウェブＦを所望温度に温調された温調ロール４に接触させて加熱してもよい。なお、硬化性層が形成されたウェブＦの温度制御の精度を高めるためには、温調ロール４に硬化性層が形成されたウェブＦを巻き掛けて搬送すればよい。

予熱工程において、硬化性層が形成されたウェブに対する加熱温度は、第２工程におけるバックアップロールの表面温度に近いことが好ましい。ここで、加熱温度は、硬化性層が形成されたウェブの表面の温度を指す。
つまり、硬化性層が形成されたウェブに対する加熱温度は、６０℃〜２５０℃が好ましく、８０℃〜２５０℃がより好ましく、８０℃〜１５０℃が更に好ましい。
予熱工程で加熱されたウェブの加熱温度は、ウェブの表面を非接触温度計又は非接触温度センサを用いて測定される温度である。

また、硬化性層が形成されたウェブに対する加熱温度をＴ_３℃とし、加熱されたバックアップロールの表面温度をＴ_２℃とした場合、Ｔ_３は、Ｔ_２−２０℃以上Ｔ_２＋２０℃以下であることが好ましい。
つまり、温度Ｔ_３は、温度Ｔ_２を基準として±２０℃以内であることが好ましい。
また、硬化性層が形成されたウェブが加熱された後、活性エネルギー線照射部への搬送途中で温度低下することを考慮すると、温度Ｔ_３＞温度Ｔ_２の関係を満たすことが好ましい。

以上のようにして、フィルム同士が接合された接合部を有する連続フィルム支持体（ウェブ）上に、光学機能層である硬化性層が形成される。
光学機能層としては、位相差フィルムにおける光学異方性層、反射防止フィルムにおける反射防止層、防眩フィルムにおける防眩層、レンチキュラーシートのレンチキュラーレンズ層等が挙げられる。
つまり、本開示の光学フィルムの製造方法によれば、光学異方性層を有する位相差フィルム、反射防止層を有する反射防止フィルム、防眩層を有する防眩フィルム、レンチキュラーレンズ層を有するレンチキュラーシート等が得られる。

〜位相差フィルムの製造方法〜
以下、本開示の光学フィルムの製造方法の一例として、位相差フィルムの製造方法について説明する。
位相差フィルムは、連続フィルム支持体(ウェブ)上に、液晶層の液晶化合物を一定方向に並べるため配向規制力を備える配向層と、配向され、かつ、固定化された液晶化合物を含む光学異方性層（以下、「液晶層」ともいう）と、がこの順に設けられたものである。

（配向層とその形成方法）
位相差フィルムにおける配向層は、液晶層の液晶化合物を一定方向に並べるため配向規制力が付与されているものであれば、特に制限はない。
位相差フィルムにおける配向層は、例えば、ラビング方式で液晶化合物に対する配向規制力を付与された配向層、具体的には、ラビング処理が施された有機化合物（好ましくはポリマー）の層を挙げることができる。
ここで、ラビング方式とは、配向層形成用材料を含む塗膜（以降、配向層用塗膜ともいう）の表面をラビング布にて一定方向に擦ることで、塗膜に液晶化合物に対する配向規制力を与える方式である。また、配向層用塗膜の表面をラビング布にて一定方向に擦る処理をラビング処理という。

−配向層形成用材料−
配向層の形成に用いられる配向層形成用材料としては、以下に示す有機化合物と有機化合物を溶解する溶剤とを含むことが好ましい
有機化合物としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びポリカーボネート等のポリマー、並びに、シランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。
好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ポリビニルアルコール、及びアルキル基（好ましくは炭素数６以上のアルキル基）を有するアルキル変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
配向層形成用材料に用いるポリマーとしては、特に、アルキル変性ポリビルアルコールが好ましく、炭素原子数６〜１４のアルキル基が、−Ｓ−、−（ＣＨ_３）Ｃ（ＣＮ）−、又は−（Ｃ_２Ｈ_５）Ｎ−ＣＳ−Ｓ−を介してポリビニルアルコールの末端又は側鎖に結合しているアルキル変性ポリビルアルコールが好ましい。

配向層用塗膜の形成には、既述の硬化性層形成工程における塗布方法及び乾燥方法と同じ方法を用いることができ、好ましい態様も同様である。
配向層用塗膜の膜厚は、０．１μｍ〜５μｍが好ましく、０．２μｍ〜１μｍがより好ましい。

−配向規制力の付与−
ラビング方式の場合には、連続フィルム支持体に形成された配向層用塗膜の表面をラビング布にて一定方向に擦ればよい。
ラビング処理としては、特に制限はなく、公知の方法が適用可能である。具体的には、ラビング処理として、配向層用塗膜の表面を、紙、ガーゼ、フェルト、ゴム、ナイロン、ポリエステル繊維等のラビング布にて一定方向に擦る方法が挙げられる。一般的には、均一性のある長さ及び太さの繊維が平均的に植毛されたラビング布を用いて、数回程度、配向層用塗膜の表面を擦る、といったラビング処理が行われる。
以上のようにして、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層が形成される。

（液晶層とその形成方法）
以上のようにして形成された配向層上には、液晶層形成用材料の硬化性層（以下、「液晶層用硬化性層」ともいう）が形成されることが好ましい。その後、液晶層用硬化性層中の液晶化合物の配向と固定とがなされ、液晶層（即ち、光学異方性層）が得られる。

−液晶層形成用材料−
液晶層形成用材料は、棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物を含有し、更に、重合性化合物、架橋性化合物、キラル剤、配向制御剤、重合開始剤、配向助剤等の公知のその他の成分を含有していてもよい。

・棒状液晶化合物
棒状液晶化合物としては、アゾメチン系化合物、アゾキシ系化合物、シアノビフェニル系化合物、シアノフェニルエステル系化合物、安息香酸エステル系化合物、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル系化合物、シアノフェニルシクロヘキサン系化合物、シアノ置換フェニルピリミジン系化合物、アルコキシ置換フェニルピリミジン系化合物、フェニルジオキサン系化合物、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル系化合物が好ましく用いられる。
棒状液晶化合物には、上記のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。

棒状液晶化合物は、重合によって配向を固定することがより好ましい。かかる点から、重合性基を有する棒状液晶化合物を用いることが好ましい。
重合性基を有する棒状液晶化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号公報、同５６２２６４８号公報、同５７７０１０７号公報、国際公開第９５／２２５８６号、同第９５／２４４５５号、同第９７／００６００号、同第９８／２３５８０号、同第９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物が挙げられる。
更に、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報、特開２００７−２７９６８８号公報等に記載のものも好ましく用いることができる。

・円盤状液晶化合物
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報、特開２０１０−２４４０３８号公報等に記載のものを好ましく用いることができる。

液晶層用硬化性層は、既述の硬化性層形成工程における塗布及び乾燥と同様にして形成することができ、好ましい態様も同様である。本開示の光学フィルムの製造方法が位相差フィルムの製造方法である場合、液晶層用硬化性層の形成が、既述の硬化性層形成工程に該当する。

−液晶化合物の配向−
液晶層用硬化性層中の液晶化合物の配向を固定する前には、液晶層用硬化性層中の液晶化合物の配向処理を行うことが好ましい。
配向処理は、室温等により乾燥させる、又は加熱することにより行うことができる。
配向処理で形成される液晶は、サーモトロピック性をもつ液晶化合物の場合、一般に温度又は圧力の変化により転移させることができる。また、リオトロピック性をもつ液晶化合物の場合には、溶媒量等の組成比によっても転移させることができる。

棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する場合、ネマチック相を発現する温度領域の方が、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域よりも高いことが普通である。したがって、棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域まで棒状液晶化合物を加熱し、次に、加熱温度を棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域まで低下させることにより、棒状液晶化合物をネマチック相からスメクチック相に転移させることができる。このような方法でスメクチック相とすることで、液晶化合物が高秩序度で配向した液晶が得られる。

棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がモノドメインを形成するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、１０秒間〜５分間が好ましく、1０秒間〜３分間が更に好ましく、1０秒間〜２分間が最も好ましい。
棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、１０秒間〜５分間が好ましく、１０秒間〜３分間が更に好ましく、１０秒間〜２分間が最も好ましい。

液晶化合物の配向は、液晶層用硬化性層を形成する際の乾燥にて行われてもよい。つまり、液晶層用硬化性層と形成する際の乾燥にて、配向層上に塗布された液晶層形成用材料の乾燥と液晶化合物の配向との両方を行ってもよい。
また、液晶化合物の配向を、液晶層用硬化性層と形成する際の乾燥とは別に行ってもよい。

−液晶化合物の配向の固定−
液晶層用硬化性層中の液晶化合物の配向の固定には、熱重合又は活性エネルギー線による重合で、液晶層用硬化性層を硬化することで行うことが好ましい。本開示の光学フィルムの製造方法が位相差フィルムの製造方法である場合、活性エネルギー線を用いた液晶化合物の配向の固定が、既述の第２工程に該当する。
重合性を有する液晶化合物を用いる場合、活性エネルギー線の照射量が少ないと、未重合の液晶化合物が残存し、光学特性の温度変化、経時劣化等の起きる原因となる。そのため、残存する未重合の液晶化合物の割合が５％以下になるように照射条件を決めることが好ましい。

ここでの照射条件は、液晶層形成用材料の処方、及び液晶層用硬化性層の厚みにもよるが、活性エネルギー線照射量としては、５０ｍＪ／ｃｍ^２〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２〜５００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。

活性エネルギー線の照射に用いる光源としては、既述の第２工程における光源が適用でき、好ましい態様も同様である。

その他、液晶層の詳細は、特開２００８−２２５２８１号公報及び特開２００８−０２６７３０号公報の記載を参酌できる。

以上のようにして得られる位相差フィルムは、液晶化合物の配向の固定の際に生じるシワが低減される。そのため、光学性能の面内均一性に優れた位相差フィルムとなり得る。

上記では、本開示の光学フィルムの製造方法を位相差フィルムの液晶層を得る際に適用する例について説明したが、この例以外にも、既述の、反射防止フィルムの反射防止層、防眩フィルムの防眩層、レンチキュラーシートのレンチキュラーレンズ層等を得る際に適用することもできる。

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。

［実施例１〜９及び比較例１］
（ウェブの準備）
幅１３４０ｍｍ、厚み４０μｍのセルローストリアセテートフィルム（ＴＡＣフィルム；ＴＤ４０ＵＬ、富士フイルム株式会社）の一端に、別の同種のＴＡＣフィルムの一端を同一平面上で突き合わせて長手方向が直線になるように位置決めした。そして、互いに突き合わせた２つのＴＡＣフィルムを粘着テープで全幅に亘って両面に貼り付けて連結した。このようにして、接合部を有するウェブを作製した。
粘着テープには、厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の一方面に粘着層として厚み１００μｍの両面テープを貼り付けたものを使用した。
２つのＴＡＣフィルムの連結部分である接合部は、ＰＥＴ／両面テープ／ＴＡＣフィルム／両面テープ／ＰＥＴの積層構造となっており、合計厚みは４４０μｍである。

（配向層用塗膜の形成及びラビング処理）
長さ１０００ｍ、幅１３４０ｍｍ、厚み４０μｍのセルローストリアセテートフィルムＴＤ４０ＵＬ（富士フイルム株式会社）からなる連続フィルム支持体の片面に、アルキル変性のポリビニルアルコール（ポバールＭＰ−２０３、クラレ社）の２質量％水溶液を、連続フィルム支持体１ｍ^２当り２５ｍｌ塗布後、６０℃で６０秒乾燥させることにより、乾燥膜厚０．５μｍの配向層用塗膜を形成した。そして、配向層用塗膜が形成された連続フィルム支持体を、３０ｍ／分の搬送速度で搬送させながら、配向層用塗膜の表面にラビング処理を施し、厚み０．５μｍの配向層を形成した。

（液晶層用硬化性層の形成）
続いて、図１と同様に構成された装置を用意し、下記の組成を混合して調製した液晶層形成用材料を、バーコーターを用いて配向層上に塗布した。液晶層形成用材料が塗布された連続フィルム支持体を、膜面温度１５０℃として６０秒間加熱して乾燥し、乾燥膜厚が２μｍの液晶層用硬化性層を形成した（硬化性層形成工程）。なお、接合部の前後１０ｍは、バーコーターを塗布点より離脱し、塗布を行わなかった。
ウェブに液晶層用硬化性層が形成された積層体の総厚は、４２．５μｍである。

−液晶層形成用材料の組成−
逆波長分散液晶性化合物Ｒ−２ １００質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社）
含フッ素化合物Ａ ０．８質量部
架橋性ポリマー Ｏ−２（ガラス転移温度Ｔｇ：１０℃） ０．３質量部
クロロホルム ５８８質量部

（予熱）
次に、液晶層用硬化性層を有する連続フィルム支持体（ウェブ）Ｆを搬送させ（ライン速度：２０ｍ／分；第１工程）、表面温度を１２０℃に調整した直径６００ｍｍの加熱ロール４に液晶層用硬化性層を有するウェブＦを当接させた。このようにして、液晶層用硬化性層を有するウェブＦを加熱した（第３工程）。

（紫外線硬化）
続いて、反応室３内にて、バックアップロール（直径：５００ｍｍ、材質：ステンレス）にラップ角９０℃で巻き掛け、巻き掛けられた領域の液晶層用硬化性層に対し、空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社）を用いて紫外線（活性エネルギー線）を照射した（第２工程）。ここでの紫外線の照射量は、３００ｍＪ／ｃｍ^２であった。

なお、反応室内には、２ｍｍ×２０００ｍｍのスリット状の吹き出し口から供給流量２００ｍ^３／ｈ（第１の供給流量ｆ１）にて室温（２５℃）の窒素ガスが供給されており、ウェブの幅方向全体に亘り窒素ガスを当てた。なお、スリット状の吹き出し口は、短尺（２ｍｍ）側を連続フィルム支持体の搬送方向に沿うように、また、長尺（２０００ｍｍ）側を連続フィルム支持体の幅方向に沿うように設置した。また、スリット状の吹き出し口は、連続フィルム支持体とバックアップロールの接触地点にある塗膜面から５ｍｍ離間した位置に設置した。

そして、上記のように紫外線照射を行って液晶層用硬化性層を硬化させる際、反応室３の内部を接合部が通過する際、及び連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる離間地点Ｑと離間地点Ｑから搬送方向下流４ｍの地点との間の距離を通過する間においては、供給流量２００ｍ^３／ｈにて供給される窒素ガスの供給流量（第１の供給流量ｆ１）を、下記表１に示すように供給流量ｆ１より少ない第２の供給流量ｆ２に変化させて供給した。なお、バックアップロールの表面（周方向１／４相当の面）に巻き掛けられている連続フィルム支持体の長さは、４００ｍｍである。

以上のようにして、液晶化合物の配向が固定化された液晶層を有する位相差フィルムを作製した。

［評価］
実施例及び比較例で作製した位相差フィルムに対して、以下の方法で乗り上げシワの発生の頻度を測定した。結果を表１に示す。
具体的には、作製した位相差フィルムの末端（巻き終わり側の端部）から０ｍ〜１ｍｍの領域について、幅方向全体に亘って乗り上げシワの発生状態を目視にて観察し、乗り上げシワの有無を確認した。シワ発生率は、Ｎ回の接合部通過の中で乗り上げシワが発生した回数をｎとし、Ｎ＝１０として以下の式より算出した。
シワ発生率（％）＝ｎ／Ｎ×１００

表１に明らかなように、実施例の位相差フィルムは、比較例の位相差フィルムに比べて、乗り上げシワの発生頻度が顕著に軽減された。
特に、活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間と、連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流４ｍの地点との間を接合部が通過する間とにおいて、当初流量である第１の供給流量より少ない第２の供給流量ｆ２を維持した実施例１〜４では、乗り上げシワの発生抑制に対する効果がより顕著であった。

１・・・塗布装置（塗布手段）
２・・・乾燥装置（乾燥手段）
３・・・反応室（活性エネルギー線照射部）
４・・・加熱ロール
３２・・・光源
３４・・・バックアップロール
３６ａ、３６ｂ・・・ノズル
Ｆ・・・ウェブ（連続フィルム支持体）
Ｐ・・・連続フィルム支持体とバックアップロールとが接する接触地点
Ｑ・・・連続フィルム支持体（特に接合部）がバックアップロールから離れる離間地点

Claims (9)

1. フィルム同士が接合された接合部を有し、かつ、硬化性層が塗設された連続フィルム支持体を搬送する第１工程と、
   不活性ガスが第１の供給流量で供給される活性エネルギー線照射部内で、加熱されたバックアップロールに巻き掛けられた前記連続フィルム支持体の巻き掛け領域の硬化性層に活性エネルギー線を照射する第２工程と、
   を有し、
   前記第２工程において、活性エネルギー線照射部内を前記接合部が通過する時間中の少なくとも一部、及び連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点と前記地点から搬送方向下流４ｍの地点との間を前記接合部が通過する時間中の少なくとも一部の少なくとも一方は、不活性ガスを第２の供給流量で供給し、前記第１の供給流量ｆ１に対する前記第２の供給流量ｆ２の比率が２０％以下である、光学フィルムの製造方法。
2. 前記バックアップロールの表面温度が、６０℃以上１６０℃以下である請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
3. 前記第２工程は、更に、搬送された連続フィルム支持体の前記接合部が前記バックアップロールに接触する前に、下記式１を満たす範囲に不活性ガスの供給流量を調整する、請求項１又は請求項２に記載の光学フィルムの製造方法。
   ｆ１＞ｆ２ 式１
4. 前記第２工程は、活性エネルギー線照射部内を前記接合部が通過する時間中の少なくとも一部、及び連続フィルム支持体が前記バックアップロールから離れる地点と前記地点から搬送方向下流４ｍの地点との間を前記接合部が通過する時間中の少なくとも一部において、第２の供給流量ｆ２を維持する、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
5. 前記第２工程の前に、前記硬化性層が塗設された連続フィルム支持体を予熱する第３工程を有する請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
6. 前記連続フィルム支持体の幅長が、２００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
7. 前記連続フィルム支持体の厚みが、３μｍ以上１００μｍ以下である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
8. 不活性ガスの第１の供給流量ｆ１が、５ｍ^３／ｈ以上３００ｍ^３／ｈ以下である請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
9. 連続フィルム支持体に硬化性層が形成された積層体の総厚は、３．１μｍ以上１１５μｍ以下である請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。

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