JP6861252B2 - Cells, cell stacking devices, modules, and module containment devices - Google Patents
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Description
本発明は、セル、セルスタック装置、モジュール、及びモジュール収容装置に関する。 The present invention relates to cells, cell stacking devices, modules, and module housing devices.
近年、次世代エネルギーとして、燃料ガス(水素含有ガス)と酸素含有ガス(通常、空気である)とを用いて電力を得ることができる燃料電池セルが開発されている。燃料電池セル(以下、セルという。)は、固体電解質層を燃料極層と空気極層とで挟んだ構造を有している。セルは、燃料極層に燃料ガスを、空気極層に酸素含有ガスを流し、セルを加温することによって発電する(例えば特許文献1参照)。 In recent years, as next-generation energy, a fuel cell that can obtain electric power by using a fuel gas (hydrogen-containing gas) and an oxygen-containing gas (usually air) has been developed. A fuel cell (hereinafter referred to as a cell) has a structure in which a solid electrolyte layer is sandwiched between a fuel electrode layer and an air electrode layer. The cell generates electricity by heating the cell by flowing a fuel gas through the fuel electrode layer and an oxygen-containing gas through the air electrode layer (see, for example, Patent Document 1).
セルの一例として、特許文献1に記載のセルでは、固体電解質層を燃料極層と空気極層とで挟んだ発電素子部が支持体上に設けられている。支持体は一対の面および一対の側面を有し、Niを含有しており、平板形状である。支持体の内部にはガス流路が設けられており、このガス流路に燃料ガスが流される。燃料極層は、支持体の第1の面と両側の側面とを覆うように支持体に設けられている。固体電解質層は、燃料極層を覆っており、支持体の第1の面から一対の側面にかけて設けられている。空気極層は、固体電解質層上で、燃料極層と対向するように設けられている。また、インターコネクタ層が、第2の面に設けられており、発電素子部が発電した電流を取り出す機能を有する。インターコネクタ層は、支持体に設けられたガス流路を流通する燃料ガス、及び支持体の外側を流通する酸素含有ガスのリークを抑制するために緻密質であるとよい。また、特許文献1には、インターコネクタ層が還元雰囲気に晒された際における変形を抑制できる固体酸化物形燃料電池セルが開示されている。
As an example of the cell, in the cell described in
しかしながら、セルの外部を流れる酸素含有ガスが支持体の内部のガス流路に流入すると、支持体に含有されるNiが酸化膨張するため、支持体に接するインターコネクタ層に応力が印加され、この部分にクラックが発生することとなる。 However, when the oxygen-containing gas flowing outside the cell flows into the gas flow path inside the support, Ni contained in the support oxidatively expands, so that stress is applied to the interconnector layer in contact with the support, and this stress is applied. A crack will occur in the portion.
従って、本発明の目的は、インターコネクタ層におけるクラック発生を抑制できるセル、セルスタック装置、モジュール、及びモジュール収容装置を提供することである。 Therefore, an object of the present invention is to provide a cell, a cell stack device, a module, and a module accommodating device capable of suppressing the occurrence of cracks in the interconnector layer.
本発明のセルは、Niを含有する燃料極層と、燃料極層上に設けられた固体電解質層と、固体電解質層上に設けられた空気極層と、燃料極層上の前記固体電解質層が設けられていない部位に設けられたインターコネクタ層と、を備える。インターコネクタ層は、最も燃料極層側に位置しており、インターコネクタ層の他の部分より気孔率が高い第1層を有することを特徴とする。 Cell of the present invention, a fuel electrode layer containing N i, and a solid electrolyte layer provided on the fuel electrode layer, an air electrode layer formed on the solid electrolyte layer, the solid electrolyte on the anode layer comprising interconnector layer a layer is provided at a site not provided, the. The interconnector layer is located closest to the fuel electrode layer , and is characterized by having a first layer having a higher porosity than other parts of the interconnector layer.
また、本発明のセルスタック装置は、上記セルを複数個配列してなるセルスタックを備えることを特徴とする。 Further, the cell stack device of the present invention is characterized by including a cell stack in which a plurality of the above cells are arranged.
また、本発明のモジュールは、収納容器内に上記セルスタック装置が収納されていることを特徴とする。 Further, the module of the present invention is characterized in that the cell stack device is housed in a storage container.
また、本発明のモジュール収容装置は、外装ケース内に、上記モジュールと、モジュールを作動させるための補機とを備えることを特徴とする。 Further, the module accommodating device of the present invention is characterized in that the module is provided in an outer case and an auxiliary machine for operating the module.
本発明のセルによれば、インターコネクタ層におけるクラック発生を抑制することができる。このようなセルを用いたセルスタック装置、モジュールおよびモジュール収納装置においても、インターコネクタ層におけるクラック発生を抑制することができる。 According to the cell of the present invention, it is possible to suppress the occurrence of cracks in the interconnector layer. Even in a cell stack device, a module, and a module storage device using such a cell, it is possible to suppress the occurrence of cracks in the interconnector layer.
図1〜6を用いて、セル、セルスタック装置、モジュール及びモジュール収容装置について説明する。なお、同一の構成については同一の符号を用いるものとする。以下において、セルとして固体酸化物形で中空平板型のセルの例を用いて説明する。 A cell, a cell stack device, a module, and a module accommodating device will be described with reference to FIGS. 1 to 6. The same reference numerals shall be used for the same configuration. Hereinafter, an example of a solid oxide type hollow flat plate type cell as a cell will be described.
(セルの構成)
図1は、セルの一形態を示すものであり、(a)はその横断面図、(b)は(a)において、インターコネクタ層6側から見た側面図である。なお、両図面において、セル1の各構成を一部拡大して示している。図2は、インターコネクタ層6の一部の厚さ方向Tにおける断面図である。長手方向をLとし、短手方向をWとし、厚さ方向をTとする。
(Cell configuration)
1A and 1B show a form of a cell, in which FIG. 1A is a cross-sectional view thereof, and FIG. 1B is a side view taken from the side of the
セル1は、支持体2、燃料極層3、固体電解質層4、空気極層5及びインターコネクタ層6を備える。
The
支持体2は、横断面が扁平な楕円形で、全体的に見て楕円柱状をしている。また、支持体2は多孔質体である。図1に示すように、支持体2は、一対の第1面n1及び第2面n2と一対の側面mとを有する平板状である。図1に示す例では、一対の第1面n1及び第2面n2は互いに対向している。図1に示す例では、一対の側面mは、それぞれ弧状面となっている。なお、一対の側面mは、平坦面であってもよい。
The
また、支持体2の内部には、適当な間隔で複数のガス流路2aが長手方向Lに貫通している。この支持体2の外周を後述する各種の部材が取り巻いている。
Further, inside the
燃料極層3は、図1に示すように、支持体2の第1面n1上に設けられている。図1に示す例においては、燃料極層3は、支持体2の第1面n1と両側の側面mとを覆うように支持体2に設けられている。また、燃料極層3は、空気極層5に固体電解質層4を介して対向する位置に設けられていればよいため、例えば、燃料極層3が第2面n2及び側面mまで延びず、第1面n1にのみ設けられていてもよい。また、燃料極層3は多孔質体である。
As shown in FIG. 1, the
固体電解質層4は、図1に示すように、燃料極層3を覆っており、支持体2の第1面n1から一対の側面mにかけて設けられている。
As shown in FIG. 1, the
空気極層5は、図1に示すように、固体電解質層4上で、燃料極層3と対向するように設けられている。図1に示す例においては、支持体2の第1面n1であって固体電解質層4の外側に配置されている。また、空気極層5は多孔質体である。
As shown in FIG. 1, the
インターコネクタ層6は、支持体2の第2面n2に設けられている。
The
以上で説明したセル1は、燃料極層3、固体電解質層4及び空気極層5が積層されている部分が発電素子部として機能する。発電させるためには、空気極層5の外側に空気等の酸素含有ガスを流し、かつ支持体2内のガス流路2aに燃料ガス(水素含有ガス)を流して、燃料極層3に燃料ガスを供給し、燃料極層3を所定の作動温度まで加熱する。そして、かかる発電によって生成した電流は、インターコネクタ層6にて集電される。
In the
図1に示す例において、燃料極層3および固体電解質層4は、第1面n1から両端の側面mを経由して第2面n2の一部まで延びており、固体電解質層4の両端部にはインターコネクタ層6の両端部が積層されて接合されている。これによって、固体電解質層4とインターコネクタ層6とで支持体2が取り囲まれ、内部を流通する燃料ガスが外部に漏出することを抑制できる構成となっている。
In the example shown in FIG. 1, the
図1に示す例では、平面形状が矩形状のインターコネクタ層6が支持体2の長手方向Lの上端から下端までを覆うように配置されており、インターコネクタ層6の左右両側端部は固体電解質層4の両端部上に重畳して接合されている。
In the example shown in FIG. 1, the
(セルの各部材の説明)
支持体2は、燃料ガスを燃料極層3まで透過するためにガス透過性であること、及びインターコネクタ層6に接続されて集電するために導電性であることが要求される。したがって、支持体2としては、導電性セラミックスやサーメット等を用いることができる。その導電率は300S/cm以上、特に440S/cm以上であるのが好ましく、ガス透過性を備えるために開気孔率は25%以上であることが好適である。
(Explanation of each member of the cell)
The
支持体2は、Niを含有している。ここでいうNiとは、金属ニッケルを意味している。つまり、Niは、後述するNiO(酸化ニッケル)と区別されるものである。
The
本例において、支持体2は、Niと、NiOと、特定の希土類酸化物とを有している。特定の希土類酸化物は、支持体2の熱膨張係数を固体電解質層4の熱膨張係数に近づけるために使用されるものであり、Y、Lu、Yb、Tm、Er、Ho、Dy、Gd、Sm、Prからなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む希土類酸化物が用いられる。このような希土類酸化物の具体例としては、Y2O3、Lu2O3、Yb2O3、Tm2O3、Er2O3、Ho2O3、Dy2O3、Gd2O3、Sm2O3、Pr2O3を例示することができる。また、NiおよびNiOとの固溶や反応が殆どなく、熱膨張係数が固体電解質層4と同程度であり、かつ安価であるという点から、Y2O3及びYb2O3の少なくとも一種からなるとよい。また、本実施形態においては、支持体2の良好な導電率を維持し、かつ熱膨張係数を固体電解質層4と近似させるという点で、Ni及びNiO:希土類酸化物=35:65〜65:35の体積比で存在する。また、支持体2がNi及びNiOの双方を含有している場合に、Ni及びNiOの比率は特に限定されるものではないが、Niは必ず存在する。なお、支持体2中には、要求される特性が損なわれない限りの範囲で、他の金属成分や酸化物成分を含有していてもよい。
In this example, the
さらに、本実施態様によれば、支持体2の第1面n1及び第2面n2の短手方向Wの長さは、15〜60mm、側面mの長さ(弧の長さ)は2〜8mmであり、支持体2の第1面n1及び第2面n2間の厚みは1.5〜5mm、支持体2の長手方向Lの長さは、10〜50cmとされている。
Further, according to the present embodiment, the length of the first surface n1 and the second surface n2 of the
燃料極層3は、電極反応を生じさせるものであり、本実施態様では、多孔質の導電性セラミックスからなる。例えば、希土類酸化物が固溶したZrO2とNi及び/又はNiOとからなる材料、又は他の希土類酸化物が固溶したCeO2とNi及び/又はNiOとからなる材料が挙げられる。なお、希土類酸化物は、支持体2において例示したものを用いることができ、例えばY2O3が固溶したZrO2(YSZ)とNi及び/又はNiOとからなる材料が挙げられる。本実施態様では、燃料極層3中の希土類酸化物が固溶したZrO2又は他の希土類酸化物が固溶しているCeO2の含有量は35〜65体積%の範囲で、Ni及び/又はNiOの含有量は65〜35体積%である。さらに、この燃料極層3の開気孔率は例えば15%以上、特に20〜40%の範囲にあり、その厚みは1〜30μmである。
The
固体電解質層4は、燃料極層3、空気極層5間のイオンの橋渡しをする固体電解質層4としての機能を有していると同時に、燃料ガスと酸素含有ガスとのリークを防止するためにガス遮断性を有することが必要とされる。本実施態様では、3〜15モル%のY、Sc、Yb等の希土類元素の酸化物を含有した部分安定化あるいは安定化ZrO2からなるセラミックス(固体酸化物)が用いられている。また、希土類元素としては、安価であるという点からYが用いられている。固体電解質層4は、例えば、LaGaO3系の材質であっても良く、上記特性を有する限りにおいては、他の材料であってもよいことは勿論である。本実施態様において、固体電解質層4の厚みは10〜40μmである。
The
空気極層5は、一般的に用いられるものであれば特に制限はなく、例えば、いわゆるABO3型のペロブスカイト型酸化物からなる導電性セラミックスから形成することができる。具体的には、LaSrCoFeO3、LaSrMnO3、LaSrCoO3等を用いることができる。空気極層5はガス透過性を有していることが必要であり、開気孔率が20%以上、特に30〜50%の範囲にあることが好ましい。
The
インターコネクタ層6は、ランタンクロマイト系のペロブスカイト型酸化物(LaCrO3系酸化物)、もしくは、ランタンストロンチウムチタン系のペロブスカイト型酸化物(LaSrTiO3系酸化物)が好適に使用される。これらの材料は、導電性を有し、かつ燃料ガス(水素含有ガス)及び酸素含有ガス(空気等)と接触しても還元も酸化もされにくい。
For the
さらに、インターコネクタ層6は支持体2に設けられたガス流路2aを流通する燃料ガス、及び支持体2の外側を流通する酸素含有ガスのリークを抑制するために緻密質であるとよい。
Further, the
ところで、セル1の外部を流れる酸素含有ガスが支持体2の内部のガス流路2aに流入する場合がある。例えば、燃料ガスの供給量が低下した場合又は燃料ガスの供給が停止した場合である。これらの場合に、支持体2に含有されるNiが酸化膨張するため、支持体2に接するインターコネクタ層6に応力が印加され、この部分にクラックが発生する。
By the way, the oxygen-containing gas flowing outside the
そこで、図2に示すように、インターコネクタ層6が第1層6aを有しており、第1層6aは、最も支持体2側に位置しており、他の部分より気孔率が高くなっている。ここでいう「他の部分」とは、インターコネクタ層6における第1層6a以外の部分をいう。こ
の構成により、第1層6aに、気孔が比較的多く存在することとなるから、支持体2に含有されるNiの酸化膨張に伴うインターコネクタ層6への応力集中を緩和することができる。従って、インターコネクタ層6にクラックが生じることを抑制することができる。
Therefore, as shown in FIG. 2, the
また、インターコネクタ層6は、Niを含有しており、図2に示す例のように、インターコネクタ層6は、第1層6aよりも支持体2から離れた位置に第2層6bを有しており、第2層6bは他の部分より気孔率が低いとよい。ここでいう「他の部分」とは、インターコネクタ層6における第2層6b以外の部分をいう。インターコネクタ層6の材料としてランタンクロマイトを使用した場合、インターコネクタ層6は還元雰囲気下で体積が膨張する。また、インターコネクタ層6にNiを含有させることにより、酸化雰囲気下ではNiOとして存在し、還元雰囲気下ではNiOが還元されNiとして存在する。よって、還元雰囲気下ではランタンクロマイトが還元膨張する一方で、NiOが還元収縮するため、インターコネクタ層6全体の体積膨張を抑制することができる。従って、インターコネクタ層6の破損を抑制することができる。一方、外表面を流れる酸素含有ガスがインターコネクタ層6の内部まで侵入すると、インターコネクタ層6中のNiが酸化されて体積が膨張し、インターコネクタ層6全体の体積が膨張しやすくなる。そこで第1層6aよりも支持体2から離れた位置に、他の部分より気孔率が低い第2層6bが存在することにより、第2層6bによって酸素含有ガスの侵入を抑制することができる。従って、インターコネクタ層6において、第2層6bから支持体2側の領域においては、Niの体積膨張を抑制できるので、インターコネクタ層6の破損を抑制することができる。
Further, the
インターコネクタ層6におけるNiの含有量は、例えば、5〜15体積%であるとよい。
The content of Ni in the
また、第1層6aの気孔率が2〜10%であるよい。第1層6aの気孔率が2%以上の場合には、第1層6aへの応力集中をさらに緩和できる。一方、気孔率が10%以下の場合には、インターコネクタ層6における支持体2との界面において開気孔が存在する確率を抑えることができるため、支持体2とインターコネクタ層6が接合する面積を大きくすることができる。従って、接合強度を十分に保つことができることとなり、インターコネクタ層6の剥離を抑制できる。さらに好ましくは、第1層6aの気孔率が3〜9%であるとよい。
Further, the porosity of the
また、第2層6bの気孔率は0.2%以下であるとよい。この場合には、インターコネクタ層6において内部に向けて酸素含有ガスが侵入することをさらに抑制することができる。
Further, the porosity of the
また、インターコネクタ層6は、第1層6aと第2層6bとの間にさらに第3層6cを有しており、第3層6cの気孔率は、第1層6aより低く、第2層6bよりも高いとよい。この構成によれば、第1層6aよりも気孔率が低い第3層6cによって、インターコネクタ層6の外表面を流れる酸素含有ガスのインターコネクタ層6内部への侵入をより防ぐことができる。また、第3層6cの気孔率は、第1層6aと第2層6bとの中間なので、支持体2からの応力により第1層6aが変形した場合に、気孔率が低く変形しにくい第2層6bに応力が伝わることを抑制することができる。従って、インターコネクタ層6内部で破損が生じることを抑制することができる。
Further, the
また、図3で示す例のように、第3層6cの厚み(Tc)は、第1層6aの厚み(Ta)および第2層6bの厚み(Tb)よりも厚いとよい。この構成により、前述した、酸素含有ガスのインターコネクタ層6内部への侵入防止効果を向上させることができる。また、前述したインターコネクタ層6内部での破損抑制効果をさらに向上させることができる。
Further, as in the example shown in FIG. 3, the thickness (Tc) of the
また、図3で示すように、インターコネクタ層6は、Niを含有しており、インターコネクタ層6における気孔の内壁の少なくとも一部がNiで構成されているとよい。この構成によれば、インターコネクタ層6内部に酸素含有ガスが進入した場合又は酸素イオンが粒界を通ってインターコネクタ層6内部に進入した場合にインターコネクタ層6内部のNiが酸化膨張したとしても、気孔がNiの体積膨張を吸収することができる。従って、インターコネクタ層6全体としての体積が急激に膨張することを抑制できる。よって、インターコネクタ層6内部での破損を抑制できる。
Further, as shown in FIG. 3, it is preferable that the
(測定方法)
まず第1層6aの気孔率の測定方法について説明する。第1層6aの断面における気孔の面積占有率を算出し、それを気孔率とする。具体的には、インターコネクタ層6の厚み方向Tにおける断面の倍率1000倍のSEM(ScanningElectron M
icroscope、走査型電子顕微鏡)画像を取得する。SEM画像中における第1層6a全体の断面積を算出し、第1層6aの気孔の面積の総和を算出し、「気孔の面積の総和/第1層6a全体の断面積」を算出し、この値を気孔の面積占有率とする。なお、第2層6b及び第3層6cの気孔率の算出方法についても同様である。
(Measuring method)
First, a method for measuring the porosity of the
icroscopy (scanning electron microscope) images are acquired. The cross-sectional area of the entire
また、気孔の面積の算出には画像解析ソフトを用いることもできる。また1つの視野において算出された気孔率を第1層6aの気孔率とみなしてもよいし、複数の視野において同様の手順で気孔率を算出し、その平均値を第1層6aの気孔率とみなしてもよい。
Image analysis software can also be used to calculate the area of the pores. Further, the porosity calculated in one visual field may be regarded as the porosity of the
なお、第1層6aと他の部分との境界の決定について説明する。まず、上記と同様のSEM画像において、支持体2とインターコネクタ層6の境界線からインターコネクタ層6の内部に向かって1μmの間隔を空けて第1線を引く。そして、前記境界線と第1線との間の領域における気孔率を測定する。次に、第1線から1μmの間隔を空けて第2線を引く。そして、第1線と第2線との間の領域における気孔率を測定する。この気孔率が1%未満であれば、第1線を第1層6aと他の部分との境界とする。すなわち、第1線から支持体2とインターコネクタ層6の境界までを第1層6aとみなす。第1線と第2線との間の領域における気孔率が1%以上であれば、第2線から1μmの間隔を空けて第3線を引く。同様に、第2線と第3線との間の領域における気孔率を求め、1%未満であれば、第2線を第1層6aと他の部分との境界とする。すなわち、第2線から支持体2とインターコネクタ層6の境界までを第1層6aとみなす。また、1%以上であれば、同様に第4線を引いて気孔率を求める。このように、幅が1μmの領域の気孔率を測定し、気孔率が1%未満となるまで繰り返す。そして、1%未満になった場合には、その1つ手前の線を第1層6aと他の部分との境界とすればよい。
The determination of the boundary between the
また、第2層6bとその他の部分との境界の決定について説明する。まず、上記と同様のSEM画像において、インターコネクタ層6における支持体2から遠い方の表面からインターコネクタ層6の内部に向かって1μmの間隔を空けて第1線を引く。そして、表面と第1線との間の領域における気孔率を測定する。次に、第1線から1μmの間隔を空けて第2線を引く。そして、第1線と第2線との間の領域における気孔率を測定する。この気孔率が0.5%より大きければ、第1線を第2層6bと他の部分との境界とする。すなわち、第1線からインターコネクタ層6の表面までを第2層6bとみなす。第1線と第2線との間の領域における気孔率が0.5%以下であれば、第2線から1μmの間隔を空けて第3線を引く。同様に、第2線と第3線との間の領域における気孔率を求め、0.5%より大きければ、第2線を第2層6bと他の部分との境界とする。すなわち、第2線からインターコネクタ層6の表面までを第2層6bとみなす。また、0.5%以下であれば、同様に第4線を引いて気孔率を求める。このように、幅が1μmの領域の気孔率を測定し、気孔率が0.5%より大きくなるまで繰り返す。そして、0.5%より大きくなった場
合には、その1つ手前の線を第2層6bと他の部分との境界とすればよい。
Further, the determination of the boundary between the
また、第3層6cの境界は、第1層6aと他の部分との境界、および第2層6bと他の部分との境界によって定められる。すなわち、第1層6aの境界から、第2層6bの境界までを第3層6bとみなす。
The boundary of the
次に、「他の部分より気孔率が高い第1層」の確認方法について説明する。上述のように、第1層6aと他の部分との境界を定めた後、第1層6aおよび他の部分の気孔率をそれぞれ算出する。そして、第1層6aの気孔率が他の部分より高くなっていることを確認すればよい。
Next, a method for confirming the "first layer having a higher porosity than the other parts" will be described. As described above, after defining the boundary between the
また、「第2層は他の部分より気孔率が低い」の確認方法について説明する。上述のように、第2層6bと他の部分との境界を定めた後、第2層6bおよび他の部分の気孔率をそれぞれ算出する。そして、第2層6bの気孔率が他の部分より低くなっていることを確認すればよい。
In addition, a method for confirming that "the second layer has a lower porosity than the other parts" will be described. As described above, after defining the boundary between the
また、「第3層の気孔率は、第1層より低く、第2層よりも高い」の確認方法について説明する。これは、第1層、第2層、および第3層を特定後、各層の気孔率を算出し、数値を比較して確認すればよい。 Further, a method for confirming that "the porosity of the third layer is lower than that of the first layer and higher than that of the second layer" will be described. This may be confirmed by identifying the first layer, the second layer, and the third layer, calculating the porosity of each layer, and comparing the numerical values.
また、「第3層は、第1層および第2層よりも厚い」の確認方法について説明する。これは、第1層、第2層、および第3層を特定後、各層の厚みを計測し、数値を比較して確認すればよい。 Further, a method for confirming that "the third layer is thicker than the first layer and the second layer" will be described. This may be confirmed by identifying the first layer, the second layer, and the third layer, measuring the thickness of each layer, and comparing the numerical values.
(製造方法)
以上説明した本実施形態のセル1の作製方法の一例について説明する。ただし、以下に述べる材料、粒径、温度、及び塗布方法等の各種条件は、適宜変更することができる。以下、「成形体」とは、焼成前の状態を指すものとする。
(Production method)
An example of the method for producing the
先ず、例えば、Ni及び/又はNiO粉末と、Y2O3などの希土類酸化物の粉末と、有機バインダーと、溶媒とを混合して坏土を調製し、この坏土を用いて押出成形により支持体成形体を作製し、これを乾燥する。 First, for example, a Ni and / or NiO powder, a powder of a rare earth oxide such as Y 2 O 3, an organic binder, a mixture of a solvent to prepare a kneaded clay by extrusion molding using the clay A support molded body is prepared and dried.
なお、支持体成形体は、900〜1000℃にて2〜6時間仮焼した仮焼体を用いてもよい。 As the support molded body, a calcined body that has been calcined at 900 to 1000 ° C. for 2 to 6 hours may be used.
次に、例えば所定の調合組成に従い、NiOと、Y2O3が固溶したZrO2(YSZ)との素原料を秤量、混合する。この後、混合した粉体に、有機バインダー及び溶媒を混合して燃料極層用スラリーを調製する。 Next, for example, according to a predetermined compounding composition, the raw materials of NiO and ZrO 2 (YSZ) in which Y 2 O 3 is dissolved are weighed and mixed. After that, the organic binder and the solvent are mixed with the mixed powder to prepare a slurry for the fuel electrode layer.
また、Y2O3が固溶したZrO2粉末に、トルエン、バインダー粉末、市販の分散剤等を加えてスラリー化したものをドクターブレード等の方法により、成形してシート状の固体電解質層成形体を作製する。 Further, a sheet-like solid electrolyte layer is formed by forming a slurry of ZrO 2 powder in which Y 2 O 3 is dissolved by adding toluene, a binder powder, a commercially available dispersant, etc. by a method such as a doctor blade. Make a body.
そして、得られたシート状の固体電解質層成形体上に燃料極層用スラリーを塗布し乾燥して燃料極層成形体を形成して、シート状の積層成形体を形成する。この燃料極層成形体及び固体電解質層成形体のシート状の積層成形体の燃料極層成形体側の面を支持体成形体に積層し、成形体を形成する。 Then, the slurry for the fuel electrode layer is applied onto the obtained sheet-shaped solid electrolyte layer molded body and dried to form the fuel electrode layer molded body to form the sheet-shaped laminated molded body. The surface of the sheet-shaped laminated molded body of the fuel electrode layer molded body and the solid electrolyte layer molded body on the fuel electrode layer molded body side is laminated on the support molded body to form the molded body.
続いて、インターコネクタ層材料(例えば、LaCrMgO3系酸化物粉末)、NiO
粉末、有機バインダー及び溶媒を混合してスラリーを作製する。
Subsequently, the interconnector layer material (for example, LaCrMgO 3 type oxide powder), NiO
The powder, organic binder and solvent are mixed to prepare a slurry.
なお、第1層、第2層および第3層用のスラリーを作製するためには、それぞれの層が所望の気孔率となるよう造孔材の量を調整する。造孔材は、焼成時に飛散する樹脂、例えばセルロース系樹脂から形成されている。 In order to prepare the slurries for the first layer, the second layer and the third layer, the amount of the pore-forming material is adjusted so that each layer has a desired porosity. The pore-forming material is formed of a resin that scatters during firing, for example, a cellulosic resin.
造孔材の大きさによって気孔径を変更することができ、また造孔材量によって、気孔率を変更することができる。 The pore diameter can be changed by the size of the pore-forming material, and the porosity can be changed by the amount of the pore-forming material.
そして、図2に示す例のインターコネクタ層6を作製する場合には、導電性支持体成形体上に第1層用スラリーを塗布し、乾燥させ、第1層成形体を作製した後、第1層成形体上に第3層用スラリーを塗布し、乾燥させ、第3層成形体を作製し、第2層用スラリーを塗布し、乾燥させ、第2層成形体を作製し、積層成形体を作製する。
Then, in the case of producing the
また、図3に示す例のインターコネクタ層6を作製する場合には、例えば以下の方法をとる。まず、NiO粉末と造孔材からスラリーを作製する。次いで、作製したスラリーをスプレードライヤーによって顆粒とする。作製した顆粒、インターコネクタ層材料(例えば、LaCrMgO3系酸化物粉末)、有機バインダー及び溶媒を混合してスラリーを作製する。このスラリーを使用して前述したような積層成形体を作製すればよい。これにより、インターコネクタ層において造孔材が気孔となりNiO粉末が気孔の内壁を構成するNiとなる。
Further, when the
次いで、上記の積層成形体を脱バインダー処理し、酸素含有雰囲気中、1400〜1450℃にて2〜6時間、同時焼結(同時焼成)する。 Next, the above-mentioned laminated molded product is debindered and co-sintered (co-fired) at 1400 to 1450 ° C. for 2 to 6 hours in an oxygen-containing atmosphere.
続いて、例えば、所定の粒径のLaxSr1−xCoyFe1−yO3(以下、単にLSCFと略す)粉末、有機バインダー、造孔材、及び溶媒を混合して空気極層用スラリーを作製する。このスラリーを固体電解質層上にスクリーン印刷にて塗布して、空気極層用成形体を形成する。このスラリーを固体電解質層上にスクリーン印刷にて塗布して、空気極層用成形体を形成する。
Then, for example, La x Sr 1-x Co y Fe 1-
次に、固体電解質層上に空気極層用成形体が形成された積層体を、1100〜1200℃にて1〜3時間焼成する。このようにして図1に示す構造の本実施形態のセル1を製造できる。
Next, the laminate in which the molded body for the air electrode layer is formed on the solid electrolyte layer is fired at 1100 to 1200 ° C. for 1 to 3 hours. In this way, the
なお、セル1は、その後、ガス流路に水素ガスを流し、支持体及び燃料極層3の還元処理を行なうのが好ましい。その際、たとえば750〜1000℃にて5〜20時間還元処理を行なうのが好ましい。
After that, it is preferable that the
(セルスタック装置)
図4は、上述したセルの複数個を、導電部材13を介して電気的に直列に接続して構成されたセルスタック装置の一例を示したものであり、(a)はセルスタック装置11を概略的に示す側面図、(b)は(a)のセルスタック装置11の破線部についての横断面図であり、(a)で示した破線で囲った部分を抜粋して示している。なお、(b)において(a)で示した破線で囲った部分に対応する部分を明確とするために矢印にて示している。
(Cell stack device)
FIG. 4 shows an example of a cell stack device configured by electrically connecting a plurality of the above-mentioned cells in series via a
セルスタック装置11は、複数のセル1が並設され、各セル1間が導電部材13で接続されているセルスタック12具備する。また、複数のセル1の並設方向の両端には弾性変形可能な端部導電部材14が設けられ、並設された複数のセル1を挟持している。さらに
、端部導電部材14にはセルスタック12(セル1)の発電により生じる電流を引出すための電流引出し部15が接続されている。また、各セル1の下端及び端部導電部材14の下端はガスタンク16に、ガラスシール材等の接着剤により固定されている。
The
本実施形態のセルスタック装置11においても、上述したセル1を具備することから、耐久性の向上したセルスタック装置11とすることができる。
Since the
(モジュール)
次に、上述したセルスタック装置11を収納容器19内に収納してなるモジュール18について図5を用いて説明する。
(module)
Next, the
図5に示すモジュール18は、セル1にて使用する燃料ガスを得るために、天然ガスや灯油等の原燃料を改質して燃料ガスを生成するための改質器20をセルスタック12の上方に配置している。そして、改質器20で生成された燃料ガスは、ガス流通管21を介してガスタンク16に供給され、ガスタンク16を介してセル1の内部に設けられたガス流路(図示せず)に供給される。
In the
なお、図5においては、収納容器19の一部(前後面)を取り外し、内部に収納されているセルスタック装置1及び改質器20を後方に取り出した状態を示している。
Note that FIG. 5 shows a state in which a part (front and rear surfaces) of the storage container 19 is removed, and the
このようなモジュール18においては、耐久性の向上したセルスタック装置11を収納してなることから、耐久性の向上したモジュール18とすることができる。
In such a
(モジュール収容装置)
次に、上述したモジュール18と、モジュール18を作動させるための補機(不図示)とを外装ケースに収納してなるモジュール収容装置23について図6を用いて説明する。
(Module storage device)
Next, a module
図6に示すモジュール収容装置23は、支柱24と外装板25から構成される外装ケース内を仕切板26により上下に区画し、その上方側を上述したモジュール18を収納するモジュール収納室27とし、下方側をモジュール18を作動させるための補機を収納する補機収納室28として構成されている。
In the module
また、仕切板26には、補機収納室28の空気をモジュール収納室27側に流すための空気流通口29が設けられており、モジュール収納室27を構成する外装板25の一部に、モジュール収納室27内の空気を排気するための排気口30が設けられている。
Further, the
このようなモジュール収容装置では、耐久性の向上したセルスタック11を備えるモジュール18を収納してなることから、耐久性の向上したモジュール収容装置23とすることができる。
In such a module accommodating device, since the
以上、本発明は上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において、種々の変更、改良等が可能である。例えば、支持体上に空気極層、固体電解質層、燃料極層の順に配置した燃料電池セルであっても良い。さらに、例えば、燃料極層を兼ねる支持体であってもよい。 As described above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications and improvements can be made without departing from the gist of the present invention. For example, the fuel cell may be a fuel cell in which the air electrode layer, the solid electrolyte layer, and the fuel electrode layer are arranged in this order on the support. Further, for example, it may be a support that also serves as a fuel electrode layer.
また、上記形態では燃料電池セル、これを用いたセルスタック装置、燃料電池モジュール及び燃料電池装置について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、セルに水蒸気と電圧とを付与して水蒸気(水)を電気分解することにより、水素と酸素(O2)を生成する電解セル(SOEC)及びこれを備える電解セルスタック装置、電解モジュール及び電解装置にも適用することができる。 Further, in the above embodiment, the fuel cell, the cell stack device using the fuel cell, the fuel cell module, and the fuel cell device have been described, but the present invention is not limited to this, and water vapor and voltage are applied to the cell. It can also be applied to an electrolytic cell (SOEC) that generates hydrogen and oxygen (O 2 ) by electrolyzing water vapor (water), and an electrolytic cell stacking device, an electrolytic module, and an electrolytic device including the electrolytic cell (SOEC).
(試料の作製)
第1層、第2層及び第3層の気孔率がそれぞれ異なる複数のセルを作製した。具体的には、表1に示すように、10個の試料(N=10)を作製した。
(Preparation of sample)
A plurality of cells having different porosities in the first layer, the second layer, and the third layer were prepared. Specifically, as shown in Table 1, 10 samples (N = 10) were prepared.
各試料にて使用したセルの形状は図1と同様の板形状とした。セルの長手方向の長さが20cm、セルの短手方向の長さが26mm、厚みが2mmであった。 The shape of the cell used in each sample was the same plate shape as in FIG. The length of the cell in the longitudinal direction was 20 cm, the length of the cell in the lateral direction was 26 mm, and the thickness was 2 mm.
製造方法は前述のものと同様とした。なお、支持体成形体の作製に使用されたNiO粉末は平均粒径0.5μmであり、Y2O3粉末は平均粒径0.9μmであった。支持体成形体は、焼成−還元後における体積比率が、NiOが48体積%、Y2O3が52体積%であった。電解質層原料粉末は、8mol%のY2O3が固溶したマイクロトラック法による粒径が0.8μmのZrO2粉末を利用した。燃料極成形体の作製に使用されたNiO粉末は平均粒径0.5μmであり、Y2O3が固溶したZrO2粉末は平均粒径0.8μmであった。支持体成形体、電解質層用シートおよび燃料極成形体の積層成形体は、1000℃にて3時間仮焼処理した。インターコネクタ層の材料としては、La(Mg0.3Cr0.7)0.96O3を使用した。インターコネクタ層は、支持体成形体上に、第1層用スラリー、第3層用スラリー、および第2層用スラリーを順次塗布し、乾燥させてインターコネクタ層成形体を作製した。以上のようにして作製した積層成形体を酸素含有雰囲気中で1450℃にて2時間同時焼成した。
The manufacturing method was the same as that described above. Incidentally, NiO powder used in Preparation of Support compacts is the average particle diameter of 0.5μm,
空気極の材料としては、La0.6Sr0.4Co0.2Fe0.8O3を使用した。空気極は1100℃にて4時間で焼き付けて形成した。還元処理は、セルの内部に水素ガスを流し、850℃で10時間、支持体および燃料極の還元処理を施し、冷却した。得られたセルの各層の気孔率は表1に示す通りとなった。 As the material of the air electrode, La 0.6 Sr 0.4 Co 0.2 Fe 0.8 O 3 was used. The air electrode was formed by baking at 1100 ° C. for 4 hours. In the reduction treatment, hydrogen gas was passed through the inside of the cell, the support and the fuel electrode were reduced at 850 ° C. for 10 hours, and the mixture was cooled. The porosities of each layer of the obtained cells are as shown in Table 1.
得られたセルについて、前述する方法によって第1層、第2層及び第3層を特定し、各層の気孔率を算出した。なお、各層の気孔率は、任意断面における1000倍のSEM写真から画像解析装置を用いて求めた。 With respect to the obtained cells, the first layer, the second layer and the third layer were specified by the method described above, and the porosity of each layer was calculated. The porosity of each layer was determined from an SEM photograph of 1000 times in an arbitrary cross section using an image analyzer.
(クラック試験および剥離試験)
また、同様の条件で作製した10本のセルで、図4の構成からなるセルスタック装置を組み立てて、750℃の温度環境下で燃料ガスを供給し、一定時間経過後に燃料ガスの供給を停止した。この燃料ガスの供給と停止のサイクルを360回繰り返した。その後、10本のセルそれぞれについて、インターコネクタ層の断面をSEM画像で観察し、インターコネクタ層にクラックが生じているか確認した。表1には、クラックが発生したセルの本数を示した。1μmの長さに達しているものをクラックと認定した。また、このサイクル試験後、10本のセルそれぞれについて、インターコネクタ層と支持体との間に剥離が生じているかも確認した。表1には、剥離が発生したセルの本数を示した。インターコネクタ層と支持体とが接触していない部分の長さが1μmに達しているものを剥離と認定した。
(Crack test and peeling test)
Further, a cell stack device having the configuration shown in FIG. 4 is assembled from 10 cells manufactured under the same conditions, fuel gas is supplied in a temperature environment of 750 ° C., and the supply of fuel gas is stopped after a certain period of time. did. This fuel gas supply and stop cycle was repeated 360 times. After that, the cross section of the interconnector layer was observed with an SEM image for each of the 10 cells, and it was confirmed whether or not the interconnector layer had cracks. Table 1 shows the number of cells in which cracks occurred. Those having reached a length of 1 μm were recognized as cracks. In addition, after this cycle test, it was also confirmed that peeling occurred between the interconnector layer and the support for each of the 10 cells. Table 1 shows the number of cells in which peeling occurred. A part where the length of the portion where the interconnector layer and the support are not in contact reaches 1 μm is recognized as peeling.
(クラック試験結果)
試料No.1では、インターコネクタ層にクラックが生じたセルの数が6本だった。これは、第1層の気孔率が他の部分より低かったからである。
(Crack test result)
Sample No. In 1, the number of cells in which the interconnector layer was cracked was six. This is because the porosity of the first layer was lower than that of the other parts.
試料No.2、3では、試料No.1と比較して、インターコネクタ層にクラックが生じたセルの数が少なかった。これは、第1層の気孔率が他の部分より高かったからである。 Sample No. In 2 and 3, sample No. Compared with 1, the number of cells in which the interconnector layer was cracked was small. This is because the porosity of the first layer was higher than that of the other parts.
試料No.4では、試料No.2、3と比較して、インターコネクタ層にクラックが生じたセルの数が少なかった。これは、第1層の気孔率が2%以上であったからである。 Sample No. In No. 4, the sample No. Compared with a few, the number of cells with cracks in the interconnector layer was small. This is because the porosity of the first layer was 2% or more.
試料No.5〜13では、試料No.4と比較して、インターコネクタ層にクラックが生じたセルの数が少なかった。これは、第1層の気孔率が3%以上であったからである。 Sample No. In 5 to 13, sample No. Compared with 4, the number of cells in which the interconnector layer was cracked was small. This is because the porosity of the first layer was 3% or more.
(剥離試験結果)
試料No.9、10では、インターコネクタ層と支持体との間に剥離が生じたセルの数が3本だった。これは、第1層の気孔率が10%よりも高かったからである。
(Peeling test result)
Sample No. In 9 and 10, the number of cells in which peeling occurred between the interconnector layer and the support was three. This is because the porosity of the first layer was higher than 10%.
試料No.8では、試料No.9、10と比較して、インターコネクタ層と支持体との間に剥離が生じたセルの数が少なかった。これは、第1層の気孔率が10%以下だったからである。 Sample No. In No. 8, the sample No. Compared with 9 and 10, the number of cells in which peeling occurred between the interconnector layer and the support was small. This is because the porosity of the first layer was 10% or less.
試料No.2〜7では、試料No.8と比較して、インターコネクタ層と支持体との間に剥離が生じたセルの数が少なかった。これは、第1層の気孔率が9%以下であったからである。 Sample No. In Nos. 2 to 7, the sample No. Compared with 8, the number of cells in which peeling occurred between the interconnector layer and the support was small. This is because the porosity of the first layer was 9% or less.
1:セル
2:支持体
2a:ガス流路
3:第1電極層(燃料極層)
4:固体電解質層
5:第2電極層(空気極層)
6:インターコネクタ層
6a:第1層
6b:第2層
6c:第3層
1: Cell 2:
4: Solid electrolyte layer 5: Second electrode layer (air electrode layer)
6:
Claims (9)
該燃料極層上に設けられた固体電解質層と、
該固体電解質層上に設けられた空気極層と、
前記燃料極層上の前記固体電解質層が設けられていない部位に設けられたインターコネクタ層と、を備え、
該インターコネクタ層は、最も前記燃料極層側に位置しており、他の部分より気孔率が高い第1層を有することを特徴とするセル。 The fuel electrode layer containing Ni and
A solid electrolyte layer provided on the fuel electrode layer and
An air electrode layer provided on the solid electrolyte layer and
An interconnector layer provided on the fuel electrode layer at a portion where the solid electrolyte layer is not provided is provided.
The cell is characterized in that the interconnector layer is located closest to the fuel electrode layer and has a first layer having a higher porosity than other portions.
前記インターコネクタ層は、前記第1層よりも前記燃料極層から離れた位置に第2層を有しており、
該第2層は他の部分より気孔率が低いことを特徴とする請求項1に記載のセル。 The interconnector layer contains Ni and contains Ni.
The interconnector layer has a second layer at a position farther from the fuel electrode layer than the first layer.
The cell according to claim 1, wherein the second layer has a lower porosity than other portions.
前記インターコネクタ層における気孔の内壁の少なくとも一部がNiで構成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項5のうちいずれかに記載のセル。 The interconnector layer contains Ni and contains Ni.
The cell according to any one of claims 1 to 5, wherein at least a part of the inner wall of the pores in the interconnector layer is made of Ni.
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