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JP6864354B2 - Time difference cutting method for glass substrate - Google Patents
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JP6864354B2 - Time difference cutting method for glass substrate - Google Patents

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Description

本発明は、脆性を有するガラス基板の分断方法に関するものであって、より詳細には、吸着ステージに安着されたガラス基板に加えられる吸着力を部分的に異にし、効率的な分断を具現することができるガラス基板の時間差分断方法に関するものである。 The present invention relates to a method for dividing a glass substrate having brittleness, and more specifically, the adsorption force applied to the glass substrate settled on the adsorption stage is partially different to realize efficient division. It relates to the time difference cutting method of the glass substrate which can be done.

脆性を有するガラス基板を必要なサイズに精密カットするための方法として、ガラス基板に表示された分断予定線に沿ってレーザビームを照射したり、カットホイールを加圧走行させてガラス基板にスクライブラインを形成した後、このスクライブラインに曲げ力を印加する方法が一般的に行われている。 As a method for precisely cutting a brittle glass substrate to a required size, a laser beam is irradiated along the planned division line displayed on the glass substrate, or a cut wheel is pressurized and scribed on the glass substrate. A method of applying a bending force to the scribe line after forming the glass is generally used.

また、ガラス基板に曲げ力を印加する分断工程は、ローラ(roller)やプッシャー(pusher)などを使用して、基板に物理力を加える接触式の方法と、レーザまたはスチーム(steam)などを使用して、基板を加熱した後、冷却させる非接触式方法がある。 In addition, the dividing process that applies bending force to the glass substrate uses a contact method that applies physical force to the substrate using a roller or pusher, and a laser or steam. Then, there is a non-contact method in which the substrate is heated and then cooled.

韓国公開特許公報第10-2014-0018504号(以下、特許文献1という)には、柔軟性安着パッドに載置された状態で移送する基板の下部にローリング部を設けて、基板がローリング部を超える間、下部に曲げられ、スクライブラインが広がって分断されるように誘導する技術が開示されている。 In Korean Patent Publication No. 10-2014-0018504 (hereinafter referred to as Patent Document 1), a rolling portion is provided at the bottom of the substrate to be transferred while being mounted on the flexible attachment pad, and the substrate is a rolling portion. Disclosed is a technique that induces the scribe line to widen and divide while being bent downwards.

参考までに、前記基板の曲げ過程時、基板の表面、すなわちスクライブラインが形成されている上面には、引張応力が発生するのに対し、底面には、圧縮応力が発生する。 For reference, during the bending process of the substrate, tensile stress is generated on the surface of the substrate, that is, the upper surface on which the scribe line is formed, whereas compressive stress is generated on the lower surface.

基板の表面で発生する引張応力は、クラックを発生させ、これを基板の厚み方向に進行させようと作用するが、圧縮応力は、クラックの進行を妨げる作用をする。前記した圧縮応力が大きくなるほど、クラックの伝播が不良なので、より強い曲げ力を加えたり、曲げ角度を増加させなければならない。 The tensile stress generated on the surface of the substrate causes cracks to proceed in the thickness direction of the substrate, while the compressive stress acts to prevent the cracks from progressing. As the compressive stress increases, crack propagation is poor, so a stronger bending force must be applied or the bending angle must be increased.

問題は、曲げ角度が増加するほど、基板に印加されるストレス量が大きくなることにある。例えば、基板に印加されるストレス量が大きくなる場合、分断時に多量のチッピングが発生するだけではなく、分断後の基板の断面に不規則な突起が形成され、基板の断面自体も斜めに形成される。 The problem is that as the bending angle increases, the amount of stress applied to the substrate increases. For example, when the amount of stress applied to the substrate is large, not only a large amount of chipping occurs at the time of division, but also irregular protrusions are formed on the cross section of the substrate after division, and the cross section of the substrate itself is also formed diagonally. To.

これは、基板に印加される圧縮応力が小さい場合、それに比例して曲げ角度を減らすことができるとの意味である。つまり、より小さい力で基板を分断する場合、基板に印加されるストレス量が減り、チッピングが発生せず、一様な形態の基板の断面を得ることができる。 This means that if the compressive stress applied to the substrate is small, the bending angle can be reduced proportionally. That is, when the substrate is divided by a smaller force, the amount of stress applied to the substrate is reduced, chipping does not occur, and a uniform cross section of the substrate can be obtained.

ところで、前記公開公報の装置を含む従来の殆どの基板ブレーク関連技術は、分断装置自体の構成のみを開示しているだけで、基板の曲げ角度を減らすための内容は開示していない。 By the way, most of the conventional substrate break-related techniques including the apparatus of the publication publication only disclose the configuration of the dividing apparatus itself, and do not disclose the contents for reducing the bending angle of the substrate.

韓国公開特許公報第2014−0018504号Korean Patent Publication No. 2014-0018504

本発明は、従来技術の前記した問題点を解消しようと創出したものであって、吸着ステージに安着されたガラス基板に加えられる吸着力を部分的に異にし、より小さい力で効率的な分断を具現することができるガラス基板の時間差分断方法を提供することに目的がある。 The present invention was created to solve the above-mentioned problems of the prior art, and the suction force applied to the glass substrate settled on the suction stage is partially different, and the suction force is smaller and more efficient. It is an object of the present invention to provide a time difference cutting method of a glass substrate capable of realizing the cutting.

また、本発明は、曲げ過程時の基板に加えられるストレスを最小化して、基板の損傷が殆どなく、チッピングが発生しないので、良好な分断面を得ることができるガラス基板の時間差分断方法を提供することに目的がある。 Further, the present invention provides a time difference cutting method for a glass substrate, which minimizes the stress applied to the substrate during the bending process, causes almost no damage to the substrate, and causes no chipping, so that a good cross section can be obtained. There is a purpose to do.

また、本発明は、より小さな曲げ力で分断が行われるようにして、スクライブラインの深さを下げることができ、スクライブラインの加工にかかるエネルギーの消耗量を減少させるだけではなく、スクライブラインを形成することによるチッピングの発生を生じさせないガラス基板の時間差分断方法を提供することに目的がある。 Further, the present invention can reduce the depth of the scribe line by allowing the division to be performed with a smaller bending force, which not only reduces the energy consumption required for processing the scribe line, but also reduces the scribe line. It is an object of the present invention to provide a time difference cutting method for a glass substrate that does not cause chipping due to formation.

前記目的を達成するための本発明のガラス基板の時間差分断方法は、分断(dividing)するガラス基板をスクライブ装置内に投入するガラス基板投入段階と、前記スクライブ装置内にセットされた前記ガラス基板の表面にスクライブラインを形成するが、前記ガラス基板の一側のエッジラインから出発して他側のエッジラインに到達する直線状のスクライブラインを形成するスクライブ段階と、前記スクライブ段階を完了した前記ガラス基板を、多数の吸着口が備えされている吸着テーブル側に移送させて整列する定位置段階と、前記定位置段階の完了後、多数の吸着口のうちの真空圧を出力する吸着口を決める吸着領域決定段階と、前記吸着領域決定段階を通じて選択された吸着口に真空圧を印加して、前記ガラス基板を吸着テーブルの上面に部分的に吸着固定させる部分吸着段階と、前記吸着テーブルに吸着されている状態の前記ガラス基板の前記スクライブラインを曲げさせて分断を行う曲げ段階と、を含むことを特徴とする。 The time difference cutting method of the glass substrate of the present invention for achieving the above object is a glass substrate charging step in which the glass substrate to be divided is charged into the scribing device, and the glass substrate set in the scribing device. The scribing step of forming a scribing line on the surface, starting from the edge line on one side of the glass substrate and reaching the edge line on the other side, and the glass having completed the scribing step. A fixed position stage in which the substrate is transferred to and aligned with a suction table provided with a large number of suction ports, and a suction port for outputting the vacuum pressure among the large number of suction ports are determined after the completion of the fixed position step. A partial suction step in which a suction region determination step, a partial suction step in which a vacuum pressure is applied to a suction port selected through the suction region determination step to partially suck and fix the glass substrate on the upper surface of the suction table, and a suction on the suction table. It is characterized by including a bending step in which the scribing line of the glass substrate in the state of being bent is bent to divide the glass substrate.

また、前記吸着領域は、二つ以上の吸着口を含む第1の吸着領域と、前記第1の吸着領域内の吸着口の個数よりも少ない個数の吸着口を含む第2の吸着領域からなり、前記吸着領域決定段階は、真空圧を出力する吸着口を選択するが、前記第1の吸着領域が前記ガラス基板の一側のエッジラインに近接位置し、前記第2の吸着領域が前記ガラス基板の他側のエッジラインに近接位置するように決める過程であることを特徴とする。 Further, the adsorption region includes a first adsorption region including two or more adsorption ports and a second adsorption region including a number of adsorption ports smaller than the number of adsorption ports in the first adsorption region. In the suction region determination step, a suction port for outputting vacuum pressure is selected, the first suction region is located close to the edge line on one side of the glass substrate, and the second suction region is the glass. It is characterized in that it is a process of determining to be located close to the edge line on the other side of the substrate.

また、前記第1の吸着領域と、前記第2の吸着領域とは、前記スクライブラインを中心に対称をなすことを特徴とする。 Further, the first adsorption region and the second adsorption region are characterized in that they are symmetrical with respect to the scribe line.

併せて、前記第1の吸着領域と第2の吸着領域との間には、真空圧の出力が遮断されて前記ガラス基板に吸着力を印加しない非吸着領域が位置することを特徴とする。 At the same time, a non-adsorption region in which the output of the vacuum pressure is blocked and no adsorption force is applied to the glass substrate is located between the first adsorption region and the second adsorption region.

前記のように行われる本発明のガラス基板の時間差分断方法は、吸着ステージに安着されたガラス基板に加えられる吸着力を部分的に異にし、より小さい力で効率的な分断を具現することができるようにする。 The time difference cutting method of the glass substrate of the present invention performed as described above partially differs the suction force applied to the glass substrate settled on the suction stage, and realizes efficient cutting with a smaller force. To be able to.

また、本発明は、曲げ過程時の基板に加えられるストレスを最小化して、基板の損傷が殆どなく、チッピングが発生しないので、良好な分断面を得ることができるようにする。 Further, the present invention minimizes the stress applied to the substrate during the bending process so that the substrate is hardly damaged and chipping does not occur, so that a good cross section can be obtained.

さらに、本発明は、より小さな曲げ力で分断が行われるようにして、スクライブラインの深さを下げることができ、スクライブラインの加工にかかるエネルギーの消耗量を減少させるだけではなく、スクライブラインを形成することによるチッピングの発生を生じさせないようにする。 Further, the present invention can reduce the depth of the scribe line by allowing the division to be performed with a smaller bending force, which not only reduces the energy consumption required for processing the scribe line, but also reduces the scribe line. Prevent the occurrence of chipping due to the formation.

図1は、本発明の一実施例に係るガラス基板の時間差分断方法を整理して示した順序図である。FIG. 1 is a sequence diagram showing the time difference cutting method of the glass substrate according to the embodiment of the present invention in an organized manner. 図2は、本発明の一実施例に係るガラス基板の時間差分断方法の原理を説明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining the principle of the time difference cutting method of the glass substrate according to the embodiment of the present invention. 図3は、本発明の一実施例に係るガラス基板の時間差分断方法の原理を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining the principle of the time difference cutting method of the glass substrate according to the embodiment of the present invention. 図4は、本発明の一実施例に係るガラス基板の時間差分断方法を通じてガラス基板を分断したテスト結果を示したグラフである。FIG. 4 is a graph showing the test results of dividing the glass substrate through the time difference cutting method of the glass substrate according to the embodiment of the present invention. 図5は、本発明の一実施例に係るガラス基板の時間差分断方法と、一般的な全体吸着分断方法による分断の結果の差異を示したグラフである。FIG. 5 is a graph showing the difference between the time difference cutting method of the glass substrate according to the embodiment of the present invention and the result of the cutting by the general total adsorption cutting method.

以下、本発明に係る一実施例を添付された図面を参照して、より詳細に説明することにする。 Hereinafter, a more detailed description will be given with reference to the drawings attached to an embodiment of the present invention.

基本的に、本実施例に係るガラス基板の時間差分断方法は、スクライブラインが形成されているガラス基板の分断時、クラックがガラス基板の一側のエッジ部から始まり、スクライブラインに沿って反対側のエッジ部に伝播されるように誘導する特徴を有する。 Basically, in the time difference cutting method of the glass substrate according to the present embodiment, when the glass substrate on which the scribe line is formed is divided, cracks start from one edge of the glass substrate and the opposite side along the scribe line. It has the characteristic of inducing it to propagate to the edge of the glass.

前記した時間差という意味は、一側のエッジ部でのクラックの発生の瞬間と、他側のエッジ部でのクラックの発生の瞬間との間に時間差を与えるという意味である。すなわち、一側のエッジ部でクラックが先に発生し、他側のエッジ部でクラックが後で発生するようにする。前記時間差は、肉眼では確認することができない。 The above-mentioned time difference means that a time difference is given between the moment when a crack is generated at the edge portion on one side and the moment when a crack is generated at the edge portion on the other side. That is, the crack is generated first at the edge portion on one side, and the crack is generated later at the edge portion on the other side. The time difference cannot be confirmed with the naked eye.

前記のように分断に時間差をおくことで、より小さな力で分断が行われるだけではなく、後述する実験結果のデータから、切断面の形状が良好で斜めクラックの発生が顕著に減ることを確認することができる。 By setting a time difference in the division as described above, not only the division is performed with a smaller force, but also from the data of the experimental results described later, it is confirmed that the shape of the cut surface is good and the occurrence of diagonal cracks is significantly reduced. can do.

図1は、本発明の一実施例に係るガラス基板の時間差分断方法を整理して示した順序図である。また、図2及び図3は、本発明の一実施例に係るガラス基板の時間差分断方法の原理を説明するための図である。 FIG. 1 is a sequence diagram showing the time difference cutting method of the glass substrate according to the embodiment of the present invention in an organized manner. Further, FIGS. 2 and 3 are diagrams for explaining the principle of the time difference cutting method for the glass substrate according to the embodiment of the present invention.

図1に図示されたように、本実施例に係るガラス基板の時間差分断方法は、ガラス基板投入段階(100)と、スクライブ段階(102)と、基板移送段階(104)と、定位置段階(106)と、吸着領域決定段階(108)と、部分吸着段階(110)と、曲げ段階(112)とを含んで構成される。 As shown in FIG. 1, the time difference cutting method of the glass substrate according to this embodiment includes a glass substrate loading stage (100), a scribe stage (102), a substrate transfer stage (104), and a fixed position stage (1). It is composed of 106), an adsorption region determination step (108), a partial adsorption step (110), and a bending step (112).

まず、ガラス基板投入段階(100)は、分断するガラス基板(11)をスクライブ装置内に投入する過程である。スクライブ装置は、ガラス基板(11)の上面に一定の深さを有する直線状スクライブライン(11c)を形成する装置である。脆性を有するガラス基板(11)にスクライブライン(11c)を形成する方法としては、レーザビームを用いる方式や、切断ホイールを用いる方式のいずれも使用可能である。 First, the glass substrate charging stage (100) is a process of charging the divided glass substrate (11) into the scribe device. The scribe device is a device that forms a linear scribe line (11c) having a certain depth on the upper surface of the glass substrate (11). As a method of forming the scribe line (11c) on the brittle glass substrate (11), either a method using a laser beam or a method using a cutting wheel can be used.

ガラス基板投入段階(100)を通じて装置内にガラス基板(11)のセットが完了すると、スクライブ段階(102)を行う。スクライブ段階(102)は、待機しているガラス基板(11)の表面にスクライブライン(11c)を形成する過程である。 When the setting of the glass substrate (11) in the apparatus is completed through the glass substrate charging step (100), the scribe step (102) is performed. The scribe step (102) is the process of forming a scribe line (11c) on the surface of the waiting glass substrate (11).

特に、スクライブライン(11c)は、ガラス基板(11)の一側のエッジライン(11a)から出発して他側のエッジライン(11b)に到達する一直線の形態となるようにする。ガラス基板(11)の分断は、スクライブライン(11c)から行われる。すなわち、スクライブライン(11c)が分断線である。 In particular, the scribe line (11c) should be in the form of a straight line starting from the edge line (11a) on one side of the glass substrate (11) and reaching the edge line (11b) on the other side. The division of the glass substrate (11) is performed from the scribe line (11c). That is, the scribe line (11c) is the dividing line.

スクライブ段階(102)を通じてガラス基板(11)上にスクライブライン(11c)が形成されると、基板移送段階(104)を行う。基板移送段階(104)は、スクライブ装置にとどまっているガラス基板(11)を吸着テーブル(17)に移動させる過程である。ガラス基板(11)の移送のために、通常のコンベヤ装置を使用する。 When the scribe line (11c) is formed on the glass substrate (11) through the scribe step (102), the substrate transfer step (104) is performed. The substrate transfer stage (104) is a process of moving the glass substrate (11) remaining in the scribe device to the suction table (17). A normal conveyor device is used for the transfer of the glass substrate (11).

続く定位置段階(106)は、ガラス基板(11)を吸着テーブル(17)に定位置させる過程である。 The subsequent fixed position step (106) is a process of positioning the glass substrate (11) on the suction table (17).

図2を参照すると、吸着テーブル(17)は、対をなす二つの吸着ステージ(17a、17b)で構成されている。吸着ステージ(17a、17b)は、一定の間隔を置いて離隔され、その上面に多数の吸着口(19)を有する。 Referring to FIG. 2, the adsorption table (17) is composed of two paired adsorption stages (17a, 17b). The suction stages (17a, 17b) are separated at regular intervals and have a large number of suction ports (19) on the upper surface thereof.

各吸着口(19)は、外部の真空ポンプ(未図示)と連結され、真空ポンプの作動時の真空圧を出力してガラス基板(11)を吸着固定する。特に、吸着口(19)は、コントローラ(未図示)によって個別制御されることにより、選択的に作動可能である。例えば、真空圧を出力する吸着口を選択することができる。すなわち、真空ポンプにより真空圧を出力する作動吸着口(19b)と、陰圧を出力しない非作動吸着口(19a)とを必要に応じて決めることができる。 Each suction port (19) is connected to an external vacuum pump (not shown), outputs the vacuum pressure at the time of operation of the vacuum pump, and sucks and fixes the glass substrate (11). In particular, the suction port (19) can be selectively operated by being individually controlled by a controller (not shown). For example, a suction port that outputs a vacuum pressure can be selected. That is, the working suction port (19b) that outputs the vacuum pressure by the vacuum pump and the non-working suction port (19a) that does not output the negative pressure can be determined as necessary.

吸着テーブル(17)の上面にガラス基板(11)が位置した状態を想定するとき、作動吸着口(19b)は、ガラス基板(11)を吸着して吸着テーブル(17)の上面に固定させる役割をし、非作動吸着口(19a)は、何ら作用をしない。 Assuming that the glass substrate (11) is located on the upper surface of the suction table (17), the working suction port (19b) serves to suck the glass substrate (11) and fix it on the upper surface of the suction table (17). And the non-actuated suction port (19a) has no effect.

定位置段階(106)では、吸着テーブル(17)の上面にガラス基板(11)を安着させるが、スクライブライン(11c)が吸着ステージ(17a、17b)の間に位置するようにセットする段階である。 In the fixed position stage (106), the glass substrate (11) is set on the upper surface of the suction table (17), and the scribe line (11c) is set so as to be located between the suction stages (17a, 17b). Is.

両側の吸着ステージ(17a、17b)は、一定の間隔を置いて離隔されているので、図2または図3に図示されたように、吸着ステージ(17a、17b)の離隔空間の幅方向中央部分にスクライブライン(11c)を容易に位置させることができる。 Since the adsorption stages (17a, 17b) on both sides are separated at regular intervals, the central portion of the separation space of the adsorption stages (17a, 17b) in the width direction as shown in FIG. 2 or 3. The scribe line (11c) can be easily positioned.

定位置段階(106)を通じて、ガラス基板(11)の下部に多数の吸着口(19)が位置するようになる。 Through the fixed position step (106), a large number of suction ports (19) are located under the glass substrate (11).

定位置段階(106)に次いで、吸着領域決定段階(108)を行う。吸着領域決定段階(108)は、多数の吸着口(19)のいずれかの吸着口に真空圧を出力するかを決める過程である。上述したように、各吸着口(19)は、コントローラによって個別制御されるので、選択された一部の吸着口のみに真空圧を提供することができる。 Following the fixed position step (106), the adsorption region determination step (108) is performed. The suction region determination step (108) is a process of determining whether to output the vacuum pressure to one of the many suction ports (19). As described above, since each suction port (19) is individually controlled by the controller, vacuum pressure can be provided only to a part of the selected suction ports.

図2に図示されたように、ガラス基板(11)の一側のエッジライン(11a)付近に第1の吸着領域(21)を位置させ、他側のエッジライン(11b)の付近に第2の吸着領域(23)を位置させることができる。これと逆に、図3に図示したように、一側のエッジライン(11a)付近に第2の吸着領域(23)を位置させ、他側のエッジライン(11b)付近に第1の吸着領域(21)を位置させることもできる。 As illustrated in FIG. 2, the first adsorption region (21) is located near the edge line (11a) on one side of the glass substrate (11), and the second suction region (21) is located near the edge line (11b) on the other side. Adsorption region (23) can be located. Conversely, as shown in FIG. 3, the second adsorption region (23) is located near the edge line (11a) on one side, and the first adsorption region (23) is located near the edge line (11b) on the other side. (21) can also be positioned.

吸着領域とは、多数の作動吸着口(19b)が含まれる区域を意味する。第1の吸着領域(21)と、第2の吸着領域(23)との間の区域は、非吸着領域(25)として何ら作動をしない非作動吸着口(19a)を含む。 The suction region means an area including a large number of working suction ports (19b). The area between the first adsorption region (21) and the second adsorption region (23) includes a non-actuated adsorption port (19a) that does not act as a non-adsorption region (25).

併せて、第1の吸着領域(21)と、第2の吸着領域(23)と、非吸着領域(25)とは、スクライブライン(11c)を中心に対称をなす。 At the same time, the first adsorption region (21), the second adsorption region (23), and the non-adsorption region (25) are symmetrical about the scribe line (11c).

吸着領域決定段階(108)を通じて、ガラス基板(11)の両側端部に吸着領域(21、23)が集まるようになる。 Through the adsorption region determination step (108), the adsorption regions (21, 23) are gathered at both end portions of the glass substrate (11).

特に、第1の吸着領域(21)の内部に含まれる作動吸着口(19b)の個数は、第2の吸着領域(23)に含まれる作動吸着口(19b)の個数よりも相対的に多い。作動吸着口(19b)の個数が相対的に多いということは、吸着力がより強いということである。したがって、第1の吸着領域(21)が、第2の吸着領域(23)よりも強い力でガラス基板(11)を吸着ステージ(17a、17b)の上面に密着させる。 In particular, the number of working suction ports (19b) contained inside the first suction region (21) is relatively larger than the number of working suction ports (19b) contained in the second suction region (23). .. The relatively large number of working suction ports (19b) means that the suction force is stronger. Therefore, the first adsorption region (21) brings the glass substrate (11) into close contact with the upper surface of the adsorption stage (17a, 17b) with a stronger force than the second adsorption region (23).

吸着ステージ(17a、17b)の上面に対するガラス基板(11)の吸着力が強いほど、吸着ステージの上面に対するガラス基板(11)の微細間隔が小さくなる。 The stronger the suction force of the glass substrate (11) with respect to the upper surface of the suction stage (17a, 17b), the smaller the fine spacing of the glass substrate (11) with respect to the upper surface of the suction stage.

したがって、微視的な観点から見ると、一枚のガラス基板(11)において、第1の吸着領域(21)の部分が第2の吸着領域(23)の部分よりも吸着ステージ(17a、17b)に近い。 Therefore, from a microscopic point of view, in one glass substrate (11), the portion of the first adsorption region (21) is larger than the portion of the second adsorption region (23) in the adsorption stages (17a, 17b). ) Is close.

このような状況で、一側の吸着ステージ(17aまたは17b)を、例えば、下部に傾斜するように曲げると、吸着ステージから発生する曲げ力が第1の吸着領域(21)に先に伝達される。これは、第1の吸着領域(21)が位置した部分のスクライブライン(11c)が先に分断される理由である。 In such a situation, when the suction stage (17a or 17b) on one side is bent so as to be inclined downward, for example, the bending force generated from the suction stage is first transmitted to the first suction region (21). To. This is the reason why the scribe line (11c) in the portion where the first adsorption region (21) is located is divided first.

図2に図示したように、第1の吸着領域(21)が図面上の右側のエッジライン(11a)に近接位置した状態でガラス基板(11)に曲げ力を加えると、図面上のスクライブライン(11c)の右側端部でクラックが発生し、発生したクラックは、瞬間的に矢印a方向に移動することになる。ガラス基板(11)の一端部と他端部とが、時間差を置いて分断されるのである。 As shown in FIG. 2, when a bending force is applied to the glass substrate (11) while the first suction region (21) is located close to the right edge line (11a) on the drawing, the scribe line on the drawing is applied. A crack is generated at the right end of (11c), and the generated crack momentarily moves in the direction of arrow a. One end and the other end of the glass substrate (11) are separated with a time lag.

図3に図示したように、第1の吸着領域(21)が図面上の左側のエッジライン(11b)に近接位置した状態でガラス基板(11)に曲げ力を加えると、図面上のスクライブライン(11c)の左側端部でクラックが発生し、発生されたクラックは、矢印bの方向に沿って伝播され、反対側の端部に到達する。図2と同様に、ガラス基板(11)の両端部の分断に瞬間的な時間差ができるようになる。 As shown in FIG. 3, when a bending force is applied to the glass substrate (11) while the first suction region (21) is located close to the left edge line (11b) on the drawing, the scribe line on the drawing is applied. A crack occurs at the left end of (11c), and the generated crack propagates along the direction of arrow b and reaches the opposite end. Similar to FIG. 2, a momentary time difference can be created in the division of both ends of the glass substrate (11).

吸着領域決定段階(108)を通じて、第1の吸着領域(21)と、第2の吸着領域(23)の位置が決まると、部分吸着段階(110)を行う。部分吸着段階(110)は、第1の吸着領域(21)と、第2の吸着領域(23)の内部に含まれる吸着口に真空圧を加え、ガラス基板(11)を吸着ステージ(17a、17b)に部分的に固定させる過程である。 When the positions of the first adsorption region (21) and the second adsorption region (23) are determined through the adsorption region determination step (108), the partial adsorption step (110) is performed. In the partial adsorption step (110), vacuum pressure is applied to the adsorption ports contained inside the first adsorption region (21) and the second adsorption region (23), and the glass substrate (11) is attached to the adsorption stage (17a, This is the process of partially fixing to 17b).

続く曲げ段階(112)は、吸着ステージ(17a、17b)を物理的に変位させてガラス基板(11)に曲げ力を加える過程である。かかる曲げ段階は、公知の方法を用いることができる。 The subsequent bending step (112) is a process in which the suction stages (17a, 17b) are physically displaced to apply a bending force to the glass substrate (11). A known method can be used for such a bending step.

一方、前記したように、本実施例に係るガラス基板の分断方法は、吸着テーブルの吸着力の調整を通じて、クラックをスクライブライン(11c)の一端部または他端部から触発させ、触発されたクラックが反対側に伝播されるようにする原理を有し、従来の全体同時吸着方式に比べて斜めクラックの発生が顕著に減り、かつ、分断時のチッピングやカケ現象が殆どないことを確認することができる。 On the other hand, as described above, in the method for dividing the glass substrate according to the present embodiment, cracks are triggered from one end or the other end of the scribe line (11c) by adjusting the suction force of the suction table, and the cracks are inspired. It has the principle of propagating to the opposite side, and it is confirmed that the occurrence of diagonal cracks is remarkably reduced compared to the conventional whole simultaneous adsorption method, and that there is almost no chipping or chipping phenomenon at the time of division. Can be done.

図4は、本発明の一実施例に係るガラス基板の時間差分断方法を通じて、3枚のガラス基板を順に分断したテストの結果を示したグラフであって、スクライブライン(11c)の長手方向48個所での斜めクラック値を測定した値を示している。 FIG. 4 is a graph showing the results of a test in which three glass substrates are sequentially divided through the time difference cutting method of the glass substrate according to the embodiment of the present invention, and 48 points in the longitudinal direction of the scribe line (11c). The value obtained by measuring the diagonal crack value at.

図4のグラフに示されているように、3回にわたった試験の結果、斜めクラックの値が−20μm乃至+20μmの範囲内にあることが確認できる。前記値は、限界値である±50μmの内に余裕をもって含まれる。 As shown in the graph of FIG. 4, as a result of three tests, it can be confirmed that the value of the oblique crack is in the range of -20 μm to +20 μm. The above value is included with a margin within the limit value of ± 50 μm.

図5は、本発明の一実施例に係るガラス基板の時間差分断方法と、一般的な全体吸着分断方法による分断結果の差を示したグラフである。 FIG. 5 is a graph showing the difference between the time difference cutting method of the glass substrate according to the embodiment of the present invention and the cutting result by the general total adsorption cutting method.

図5に示されているように、本実施例に係る時間差分断方法(グラフにはEdge吸着と表示されている)の場合、斜めクラックが±20μmの範囲内に含まれていることに比べて、全体吸着分断方式は、斜めクラック値の偏差が極めて広く、特に、一部の測定位置での斜めクラックがほぼ70μmに到達していることが分かる。すなわち、分断部分の形状が非常に不良なものになる。 As shown in FIG. 5, in the case of the time difference cutting method according to this embodiment (displayed as Edge adsorption in the graph), compared to the case where diagonal cracks are contained within the range of ± 20 μm. It can be seen that the deviation of the oblique crack value is extremely wide in the total adsorption division method, and in particular, the oblique crack at some measurement positions reaches approximately 70 μm. That is, the shape of the divided portion becomes very poor.

以上、本発明を具体的な実施例を通じて詳細に説明したが、本発明は、前記実施例に限らず、本発明の技術的思想の範囲内で通常の知識を有する者により様々な変形が可能である。 Although the present invention has been described in detail through specific examples, the present invention is not limited to the above-mentioned examples, and various modifications can be made by a person having ordinary knowledge within the scope of the technical idea of the present invention. Is.

11 ガラス基板
11a エッジライン
11b エッジライン
11c スクライブライン
17 吸着テーブル
17a 吸着ステージ
17b 吸着ステージ
19 吸着口
19a 非作動吸着口
19b 作動吸着口
21 第1の吸着領域
23 第2の吸着領域
25 非吸着領域
11 Glass substrate 11a Edge line 11b Edge line 11c Scribly line 17 Suction table 17a Suction stage 17b Suction stage 19 Suction port 19a Non-working suction port 19b Working suction port 21 First suction area 23 Second suction area 25 Non-suction area

Claims (2)

分断(dividing)するガラス基板をスクライブ装置内に投入するガラス基板投入段階と、
前記スクライブ装置内にセットされた前記ガラス基板の表面にスクライブラインを形成するが、前記ガラス基板の一側のエッジラインから出発して他側のエッジラインに到達する直線状のスクライブラインを形成するスクライブ段階と、
前記スクライブ段階を完了した前記ガラス基板を、多数の吸着口が備えられている吸着テーブル側に移送させて整列する定位置段階と、
前記定位置段階の完了後、多数の吸着口のうちの真空圧を出力する吸着口を決める吸着領域決定段階と、
前記吸着領域決定段階を通じて選択された吸着口に真空圧を印加して、前記ガラス基板を吸着テーブルの上面に部分的に吸着固定させる部分吸着段階と、
前記吸着テーブルに吸着されている状態の前記ガラス基板の前記スクライブラインを曲げて分断を行う曲げ段階と、を含み、
前記吸着領域は、
二つ以上の吸着口を含む第1の吸着領域と、前記第1の吸着領域内の吸着口の個数よりも少ない個数の吸着口を含む第2の吸着領域からなり、
前記吸着領域決定段階は、
真空圧を出力する吸着口を選択するが、前記第1の吸着領域が前記ガラス基板の一側のエッジラインに近接位置し、前記第2の吸着領域が前記ガラス基板の他側のエッジラインに近接位置するように決める過程であり、
前記第1の吸着領域と、第2の吸着領域とは、前記スクライブラインを中心に対称をなすことを特徴とするガラス基板の時間差分断方法。
At the glass substrate loading stage, where the dividing glass substrate is loaded into the scribe device,
A scribe line is formed on the surface of the glass substrate set in the scribe device, and a linear scribe line is formed starting from one edge line of the glass substrate and reaching the other edge line. The scribe stage and
A fixed-position step in which the glass substrate that has completed the scribe step is transferred to a suction table side provided with a large number of suction ports and aligned.
After the completion of the fixed position step, a suction region determination step for determining a suction port that outputs a vacuum pressure among a large number of suction ports, and a suction region determination step.
A partial suction step in which a vacuum pressure is applied to the suction port selected through the suction region determination step to partially suck and fix the glass substrate on the upper surface of the suction table.
The look containing a step bending performing cutting by bending the scribe line of the glass substrate in a state of being attracted to the suction table, and
The adsorption region is
It consists of a first adsorption region containing two or more adsorption ports and a second adsorption region containing a smaller number of adsorption ports than the number of adsorption ports in the first adsorption region.
The adsorption region determination step is
A suction port for outputting the vacuum pressure is selected, but the first suction region is located close to the edge line on one side of the glass substrate, and the second suction region is located on the edge line on the other side of the glass substrate. It is a process of deciding to be close to each other,
A method for cutting a time difference of a glass substrate, characterized in that the first adsorption region and the second adsorption region are symmetrical with respect to the scribe line.
前記第1の吸着領域と第2の吸着領域との間には、真空圧の出力が遮断されて前記ガラス基板に吸着力を印加しない非吸着領域が位置することを特徴とする請求項に記載のガラス基板の時間差分断方法。

It said first adsorption region between the second suction region, in claim 1, characterized in that the non-suction region of not applying suction force to the glass substrate output vacuum pressure is shut off is located The time difference cutting method of the glass substrate described.

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