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JP6866262B2 - ハードディスク装置のフレキシャ - Google Patents
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JP6866262B2 - ハードディスク装置のフレキシャ - Google Patents

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  • Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Description

本発明は、例えば、タング部にアクチュエータが搭載されたハードディスク装置のフレキシャに関する。
ハードディスク装置において、磁気記録の高密度化に伴い圧電素子を使用したアクチュエータがサスペンションに搭載されるようになった。アクチュエータは、例えば、フレキシャの先端に形成されたタング部に搭載される。アクチュエータは、キュリー温度以上に加熱されると分極を消失して動作しなくなるため、はんだではなく、銀ペースト等の導電性ペーストによって実装される。導電性ペーストは接着剤であり、アクチュエータを配線部材に電気的に接続するだけでなく、アクチュエータをタング部に機械的に固定する。
塗布された直後の接着剤は、流動性が高く、塗布された周囲に流れてしまうことがある。タング部において、アクチュエータが固定されるパッドの近傍には、スライダを位置決めするための基準孔や、スライダに電気的に接続するための接続端子が形成されている。それらの部材に接着剤が付着すると、スライダの位置精度が低下したり、スライダとフレキシャとの接続信頼性が低下したりするおそれがある。また、タング部とそれを囲うアウトリガー部との隙間に接着剤が付着するとタング部のばね特性が変化するおそれがある。
ところで、アクチュエータだけでなく、スライダも接着剤を介してタング部に搭載される。特許文献1には、スライダとタング部との間に所定の隙間をあけるスペーサを環状に形成し、スペーサ用接着剤をスペーサ内の充填凹部に充填して周囲に広がらないようにしたサスペンション用基板が提案されている。特許文献1に記載のスペーサは、スライダが傾かないように周方向に一定の高さに形成されている。
特開2014−149893号公報
しかしながら、伸縮するアクチュエータは、動かないスライダよりも強固にタング部に固定される必要がある。十分な機械的強度を確保するために、アクチュエータを固定する接着剤は、アクチュエータが固定されるパッドを覆い尽くすように塗布される。仮に、特許文献1のスペーサをアクチュエータのパッドに適用してパッド内に充填凹部を形成しても、接着剤がパッドから溢れてしまう。
本発明の目的は、フレキシャのタング部に搭載されたアクチュエータを機械的に固定する接着剤が、所定の範囲外に流出することを防止できるハードディスク装置のフレキシャを提供することにある。
一実施形態に係るフレキシャは、ハードディスク装置に用いられ、メタルベースと、配線部材と、アクチュエータと、を備えている。メタルベースは、スライダが搭載されるタング部を有している。配線部材は、メタルベースの上に形成されている。アクチュエータは、スライダを回動させる。配線部材は、ベース絶縁層と、導体層と、カバー絶縁層と、を備えている。ベース絶縁層は、メタルベースの上に形成されている。導体層は、ベース絶縁層の上に形成されている。カバー絶縁層は、導体層を覆っている。導体層は、タング部において、パッドと、壁外部材と、を有している。アクチュエータの端部は、接着剤を介してパッドに固定されている。配線部材は、パッドと壁外部材との間において、壁部を有している。壁部は、メタルベースからの高さがパッドよりも高い。
本発明のフレキシャは、壁外部材に接着剤が付着することを防止できる。
図1は、ハードディスク装置の一例を示す斜視図である。 図2は、図1に示されたサスペンションを示す斜視図である。 図3は、スライダ側から見たジンバル部を示す斜視図である。 図4は、スライダを切り欠いて示すジンバル部の平面図である。 図5は、図4中のF5−F5線に沿う断面図である。 図6は、第1実施形態の第1変形例を示す断面図である。 図7は、第1実施形態の第2変形例を示す断面図である。 図8は、第1実施形態の第3変形例を示す断面図である。 図9は、第1実施形態の第4変形例を示す断面図である。 図10は、第1実施形態の第5変形例を示す断面図である。 図11は、第1実施形態の第6変形例を示す断面図である。 図12は、第2実施形態のフレキシャを示す平面図である。 図13は、第2実施形態の第1変形例を示す平面図である。 図14は、第2実施形態の第2変形例を示す平面図である。 図15は、第2実施形態の第3変形例を示す平面図である。 図16は、第2実施形態の第4変形例を示す平面図である。
本発明の各実施形態は、タング部32にアクチュエータ20を固定する接着剤ADが所定の範囲外に流出することを防止できるフレキシャ15に関する。フレキシャ15は、スライダ12を搭載する際の位置決めに用いられる基準孔53と、アクチュエータ20の第2端部22が固定される第2パッド52と、基準孔53と第2パッド52との間に形成された壁部60と、を有している。基準孔53が接着剤ADによって汚染されないように、壁部60は、第2端部22及び第2パッド52に塗布された接着剤ADをせき止める。
第2パッド52の高さH1が低ければ、第2パッド52を覆う接着剤ADの塗布量を減らすことができる。壁部60の高さH2が高ければ、塗布量が増えても接着剤ADをせき止めることができる。そのため、本発明は、壁部60と第2パッド52との高低差ができるだけ大きくなるように構成していることが特徴の一つである。例えば、フレキシャ15のテール部16から流用した第2カバー絶縁層47等を積層して壁部60の高さH2を高くしている。或いは、ベース絶縁層41のハーフトーン処理等によって第2パッド52の高さH1を低くしている。以下、各実施形態のフレキシャについて、図1乃至図16を参照して詳しく説明する。
[第1実施形態]
図1は、ハードディスク装置の一例を示す斜視図である。図1に示すように、ハードディスク装置(HDD)1は、ケース2と、スピンドル3を中心に回転するディスク4と、ピボット軸5を中心に旋回可能なキャリッジ6と、キャリッジ6を駆動するためのボイスコイルモータ7と、ケース2外の外部装置に接続されるコントローラ8等を備えている。ケース2は、図示しない蓋によって密閉される。キャリッジ6とコントローラ8とは、フレキシブル基板9を介して接続されている。
キャリッジ6には、アーム10が設けられている。アーム10の先端部にサスペンション11が取付けられている。サスペンション11の先端部に、磁気ヘッドを構成するスライダ12が搭載されている。ディスク4が高速で回転すると、ディスク4とスライダ12の浮上面12Aとの間に空気が流入することによって、エアベアリングが形成される。ボイスコイルモータ7によってキャリッジ6が旋回すると、サスペンション11がディスク4の径方向に移動することにより、スライダ12がディスク4の所望トラックまで移動する。
図2は、サスペンション11を示す斜視図である。図2に示すように、サスペンション11は、キャリッジ6のアーム10に固定されるベースプレート13と、ロードビーム14と、配線付きフレキシャ(flexure with conductors)15と、を備えている。図2に矢印Xで示す方向がサスペンション11の長手方向であり、矢印Yが磁気ヘッドのスウェイ方向である。
フレキシャ15は、アーム10及びロードビーム14に沿って配置されており、基端部にテール部16が設けられ、先端部にジンバル部17が設けられている。テール部16は、ピボット軸5の近傍においてフレキシブル基板9に接続される。ジンバル部17は、ロードビーム14に対向する第2面17Bと、第2面17Bとは反対側であってスライダ12が搭載される第1面17Aとを有している。図3は、第1面17Aから見たジンバル部17を示す斜視図である。
図3に示すように、スライダ12は、矩形の平板状に形成され、ディスク4に対向する浮上面12Aを備えている。ディスク4が回転すると、スライダ12の浮上面12Aとディスク4との間に空気が流入する。以下、スライダ12やジンバル部17の説明において、空気の流入側をリーディング側と呼び、流入した空気の流出側をトレーリング側と呼ぶ。スライダ12のリーディング側及びトレーリング側は、フレキシャ15の基端側及び先端側にそれぞれ一致する。
磁気ヘッドをなすスライダ12のトレーリング側の端部12Bには、磁気信号と電気信号とを変換可能な複数のMR素子18が形成されている。MR素子18は、ディスク4に対してデータの書込み又は読取り等のアクセスを行う磁気ヘッドとして機能する。図3に示す例では、フレキシャ15に接続するための接続端子19も端部12Bに形成されている。スライダ12と、サスペンション11とによって、ヘッドジンバルアセンブリ(head gimbal assembly)が構成される。
ジンバル部17の第1面17Aには、一対のアクチュエータ20(20L,20R)が搭載されている。アクチュエータ20は、磁気ヘッドのスウェイ方向Yにおいてスライダ12の両側に配置されて当該スライダ12をスウェイ方向Yに回動させる。アクチュエータ20は、スライダ12の側面に沿って延びる短冊状に形成されている。各々のアクチュエータ20は、リーディング側の第1端部21と、トレーリング側の第2端部22と、をそれぞれ有している。
アクチュエータ20は、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)等の圧電体からなる圧電素子23と、圧電素子23の表面に設けられた第1及び第2電極24,25と、を備えている。第1電極24は、アクチュエータ20の第1端部21及び上面に設けられている。第2電極25は、アクチュエータ20の第2端部22及び下面に設けられている。第1及び第2電極24,25は、接着剤ADを介して後述する第1及び第2パッド51,52に電気的に接続されている。
フレキシャ15は、一対のアクチュエータ20に加え、薄いステンレス鋼板から形成されて弾性的に撓むことができるメタルベース30と、メタルベース30の上に形成された配線部材40と、をさらに備えている。メタルベース30は、例えばレーザ溶接によって形成された複数の溶接部31によって、ロードビーム14に固定されている。
図4は、アクチュエータ20の一部及びスライダ12を切り欠いて示すジンバル部17の平面図である。メタルベース30は、ジンバル部17において、スライダ12が搭載されるタング部32と、タング部32を囲うアウトリガー部33と、を備えている。アウトリガー部33は、溶接部31に連続している。タング部32は、直に又は配線部材40を介してアウトリガー部33に支持されている。
図4に示す例では、タング部32が、スライダ12のリーディング側に対向する第1タング部34と、スライダ12のトレーリング側が固定される第2タング部35と、第1及び第2タング部34,35をつなぐヒンジ部36と、を含んでいる。第1タング部34は、アウトリガー部33に連続している。ヒンジ部36は、ロードビーム14の先端寄りに形成されたディンプル14D(図2に示す)に当接している。第2タング部35は、ヒンジ部36を中心にロードビーム14に対して回動可能に構成されている。
アクチュエータ20の第1及び第2端部21,22の少なくとも一方は、タング部32に実装される。図4に示す例では、第1端部21が第1タング部34に実装され、第2端部22が第2タング部35に実装されている。なお、タング部32及びアウトリガー部33のメタルベース30が連続しておらず、配線部材40を介してタング部32をアウトリガー部33に吊り下げる場合、第1及び第2端部21,22の一方をタング部32に固定し、他方をアウトリガー部33に固定してもよい。
配線部材40は、フレキシャ15のテール部16からジンバル部17に亘って延在している。配線部材40は、メタルベース30に重なる部位と、メタルベース30とは重ならない部位とを含んでいる。配線部材40は、可撓性を有しており、メタルベース30と重ならない部位において変形可能である。
配線部材40は、メタルベース30上に形成されたベース絶縁層41と、ベース絶縁層41上に形成された導体層42と、導体層42を覆うカバー絶縁層43と、を備えている。導体層42には、第1導体層44と、第2導体層と、が含まれる。カバー絶縁層43には、第1カバー絶縁層45と、第2カバー絶縁層47と、が含まれる。
ジンバル部17において、配線部材40は、ベース絶縁層41と、第1導体層44と、第1カバー絶縁層45と、第2カバー絶縁層47と、を備えている。第1導体層44は、ベース絶縁層41の上に形成されている。第1カバー絶縁層45は、第1導体層44を覆っている。第2カバー絶縁層47は、第1カバー絶縁層45の上に形成されている。また、ジンバル部17とは異なる部位(例えば、図2示されたテール部16)において、配線部材40は、第1カバー絶縁層43の上に形成された第2導体層をさらに備えている。前述の第2カバー絶縁層47は、第2導体層を覆っている。
第1導体層44は、例えば銅等の金属材料からそれぞれ形成されている。第1導体層44の厚みの一例は、9μm(4〜16μm)である。各々の絶縁層41,45,47は、例えばポリイミド等の電気絶縁材料からそれぞれ形成されている。ベース絶縁層41の厚みの一例は、10μm(5〜20μm)であり、第1及び第2カバー絶縁層45,47の厚みの一例は、5μm(2〜10μm)である。
第1導体層44は、タング部32において、第1パッド51と、第2パッド52と、基準孔53と、接続端子54と、を含んでいる。第1及び第2パッド51,52は、例えば楕円形に形成され、アクチュエータ20の第1及び第2端部21,22に対向している。基準孔53は、例えば円環状に形成され、スライダ12を搭載する際の位置決めに用いられる。接続端子54は、例えば短冊状に形成され、スライダ12側の接続端子19に接続される。基準孔53や接続端子54は、後述する壁部60の外に位置した壁外部材の一例である。
一対のアクチュエータ20(20L,20R)の間には、スライダ12を水平に支持するスライダ搭載部55が設けられている。スライダ搭載部55は、スライダ12のトレーリング側の外形に倣う矩形に形成された第1カバー絶縁層45であり、接続端子54に延びる第1導体層44を覆っている。スライダ搭載部55の中央には、スライダ用接着剤を充填するための凹部55Aが形成されている。
タング部32とアウトリガー部33との隙間には、ジンバル部17の振動特性を調整するリミッタ部材56が設けられている。リミッタ部材56は、例えばベース絶縁層41と共通の樹脂材料から形成され、タング部32とアウトリガー部33との間を弾性的に接続している。リミッタ部材56は、ハードディスク装置1に外部から衝撃が入力されたとき、タング部32が過剰に揺れたり、ディンプル14Dがタング部32から離れたり(ディンプルセパレーション)することを抑制する機能を有している。
図5は、図4中のF5−F5線に沿う断面図である。アクチュエータ20の第1及び第2端部21,22は、接着剤ADを介して第1及び第2パッド51,52に固定されている。接着剤ADは、例えば銀ペースト等の導電性ペーストであり、第1及び第2端部21,22と第1及び第2パッド51,52とを電気的に接続し且つ機械的に固定している。
なお、接着剤ADとして二種類以上の接着剤を併用してもよい。例えば、導電性ペーストによって第1及び第2端部21,22と第1及び第2パッド51,52とを電気的に接続し且つ非導電性ペーストによって第1及び第2端部21,22と第1及び第2パッド51,52とを機械的に固定してもよい。第1及び第2端部21,22のうち、いずれか一方はグランド電極に接続される。図5に示す例では、第1端部21が第1パッド(リーディング側のパッド)51においてグランド側の導体であるメタルベース30に導通している。
図5に示すように、接着剤ADは、伸縮するアクチュエータ20を強固に固定するために、第1及び第2パッド51,52を覆うように塗布される。第2パッド(トレーリング側のパッド)52の近傍には、スライダ12の搭載位置の基準になる基準孔53やスライダ12側の接続端子19に接続されるフレキシャ15側の接続端子54(図4に示す)が設けられている。基準孔53に接着剤ADが付着すると、スライダ12の位置精度が低下したり、接続端子19,54間の接続信頼性が低下したりするおそれがある。
本実施形態のフレキシャ15は、接着剤ADが塗布される第2パッド52と、基準孔53のような壁外部材との間に壁部60が設けられることが特徴の一つである。図4及び図5に示すように、壁部60は、ベース絶縁層41と、第1導体層と、第1カバー絶縁層45と、第2カバー絶縁層47と、を備えている。壁部60の高さH2は、第2カバー絶縁層47の厚みの分、第2パッド52の高さH1よりも高い。
図4に示すように、壁部60は、第2パッド52よりもトレーリング側に設けられ、スライダ搭載部55からタング部32の外縁32Eに向かって突出している。図4中に二点鎖線で示す第2パッド52と壁部60との間の領域は、壁部60がせき止めた接着剤ADを貯留可能な貯留領域61として区画される。
図4に示す例では、壁部60は、スウェイ方向Y(図中の左右方向)に沿って延在している。換言すると、図4中の壁部60は、アクチュエータ20のトレーリング側の端部22よりもさらにトレーリング側において、アクチュエータ20の長手方向に交差する方向に延在している。
図6乃至図11は、図5に示された第1実施形態の変形例を示す断面図である。図6に示す第1変形例では、第2パッド52と壁部60との間の貯留領域61においてベース絶縁層41の高さH3を低くして壁部60の内側に貯留できる接着剤を増量している。ベース絶縁層41の高さH3は、例えばハーフトーン処理等のマルチトーン処理によって調節できる。
図7に示す第2変形例では、貯留領域61にベース絶縁層41を形成していない。第2変形例によれば、壁部60の内側に貯留できる接着剤をさらに増量できる。このような貯留領域61を形成するには、貯留領域61を避けるようにベース絶縁層41を形成してもよいし、貯留領域61に形成したベース絶縁層41をフルトーン処理によって後から除去してもよい。
図8に示す第3変形例では、第2パッド52に形成されたベース絶縁層41の高さH1Bを壁部60に形成されたベース絶縁層41よりも低くしている。第2パッド52のベース絶縁層41の高さH1Bは、ハーフトーン処理等によって調節できる。第2パッド52の高さH1が低くなれば、第2端子22を覆う接着剤ADの塗布量が小さくなり、壁部60が接着剤ADをより確実にせき止められるようになる。図9に示す第4変形例や、図10に示す第5変形例のように、高さH1を低くした第2パッド52に容量を大きくした貯留領域61を組み合わせてもよい。
図11に示す第6変形例では、第2パッド52及び貯留領域61においてベース絶縁層41を形成していない。つまり、図5に示された第1パッド51に代えて第2パッド52をグランド電極として構成している。第6変形例では、第3乃至第5変形例よりもさらに第2パッド52の高さH1を低くできる。
以上のように構成された第1実施形態及びその変形例は、第2パッド52と基準孔53との間に壁部60を有している。壁部60は、第2端部22及び第2パッド52に塗布された接着剤ADをせき止める。第1実施形態及びその変形例によれば、伸縮するアクチュエータ20の第2パッド52の機械的強度を確保するために、当該第2パッド52を覆い尽くす十分な量の接着剤ADを塗布しても、第2パッド52の近傍の基準孔53に接着剤ADが付着することを防止できる。アクチュエータ20の第2パッド52において機械的強度や接続信頼性を確保できるだけでなく、基準孔53や接続端子54においても接着剤ADの付着に起因する不具合の発生を防止できる。
第2パッド52の高さH1が低ければ、第2パッド52を覆う接着剤ADの塗布量を減らすことができる。壁部60の高さH2が高ければ、塗布量が増えても接着剤ADをせき止めることができる。第1実施形態及びその変形例は、壁部60と第2パッド52との高低差ができるだけ大きくなるように構成していることが特徴の一つである。
例えば、第1実施形態では、図5に示すように、フレキシャ15のテール部16から流用した第2カバー絶縁層47を積層して壁部60の高さH2を高くしている。例えば、図8乃至10に示す第3乃至第5変形例では、第2パッド52に形成されたベース絶縁層41の高さH1Bを半分にしている。例えば、図11に示す第6変形例では、第2パッド52からベース絶縁層41を除去している。つまり、変形例では、第2パッド52の高さH1を低くしている。第1実施形態及びその変形例によれば、第2パッド52及び壁部60の高さH1,H2を偏倚させて、基準孔53に接着剤ADが付着することをより確実に防止できる。
次に図12乃至図16を参照して、第2実施形態及び変形例のフレキシャ15について説明する。なお、第1実施形態の構成と同一又は類似の機能を有する構成は、同一の符号を付して対応する第1実施形態の記載を参酌することとし、ここでの説明を省略する。また、その他の構成は、第1実施形態と同一である。
[第2実施形態]
図12は、第2実施形態のフレキシャ15の一例を示す平面図である。第2実施形態は、囲繞部62を備えている点が第1実施形態と異なる。囲繞部62は、例えば第1カバー絶縁層44から形成され、第2パッド52の近傍においてタング部32の外縁32Eに沿って設けられている。囲繞部62は、少なくとも、外縁32Eのうちの貯留領域61を臨む部位(図12中に左上がり斜線で示す)を覆っている。壁部60と囲繞部62とは、図12に示す例のように隙間があってもよいし、後述する第3変形例のように連続していてもよい。
スウェイ方向Yにおいて、第2パッド52よりも外側に囲繞部62が設けられ、第2パッド52よりも内側にスライダ12が搭載されるスライダ搭載部55が設けられている。長手方向Xにおいて、第2パッド52よりも先端側(トレーリング側)に壁部60が設けられている。つまり、第2実施形態に係る第2パッド52は、囲繞部62、スライダ搭載部55、壁部60によって三方から囲まれている。
第2実施形態のフレキシャ15によれば、第1実施形態と同様に、基準孔53等の壁外部材に接着剤ADが付着することを防止できる。さらに、第2実施形態では、タング部32の外縁32Eに形成された囲繞部62によって外縁32Eから接着剤ADがこぼれることを防止できる。タング部32とアウトリガー部33との隙間には、ジンバル部17の振動特性を調整するリミッタ部材56等が設けられている。第2実施形態によれば、アウトリガー部33やリミッタ部材56に接着剤ADが付着してジンバル部17のばね特性が変化することを防止できる。
図13乃至図16は、図12に示された第2実施形態の変形例を示す平面図である。図13に示す第1変形例は、壁部60が第2カバー絶縁層47を含んでいない点が第2実施形態と異なる。壁部60の内側、すなわち壁部60、囲繞部62及びスライダ搭載部55に囲まれた貯留領域61に十分な容量があれば、壁部60から第2カバー絶縁層47や第1導体層44を省略して簡素化してもよい。
図14に示す第2変形例は、第2パッド52と基準孔53との間に複数の壁部60が設けられている点が第2実施形態と異なる。なお、壁部60の数は、三つ以上であってもよい。第2変形例によれば、万が一、第1の壁部60で接着剤ADを完全にせき止めることができなかった場合でも、第2、第3の壁部60によって基準孔53に接着剤が付着することを防止できる。
図15に示す第3変形例は、囲繞部62が、第1カバー絶縁層45に加えて第2カバー絶縁層47をさらに備えている点が第2実施形態と異なる。囲繞部62は、第1導体層44をさらに備えてもよい。図16に示す第4変形例のように、第2、第3の壁部60をさらに設けてもよい。第3及び第4変形例によれば、囲繞部62の高さを高くしてより確実に基準孔53の汚染を防止できる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形例は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
1…ハードディスク装置、12…スライダ、15…フレキシャ、20…アクチュエータ、22…第2パッド(パッドの一例)、30…メタルベース、32…タング部、40…配線部材、41…ベース絶縁層、42…導体層、43…カバー絶縁層、45…第1カバー絶縁層、47…第2カバー絶縁層、53…基準孔(壁外部材の一例)、54…接続端子(壁外部材の一例)、60…壁部、AD…接着剤、H1…第2パッドの高さ、H1B…第2パッドのベース絶縁層の高さ、H2…壁部の高さ、H3…第2パッドと壁部との間のベース絶縁層の高さ。

Claims (8)

  1. スライダが搭載されるタング部を有したメタルベースと、
    前記メタルベースの上に形成された配線部材と、
    前記スライダを回動させるアクチュエータと、を備えたハードディスク装置のフレキシャであって、
    前記配線部材は、前記メタルベースの上に形成されたベース絶縁層と、該ベース絶縁層の上に形成された導体層と、該導体層を覆うカバー絶縁層と、を備え、
    前記導体層は、前記タング部において、パッド及び壁外部材を有し、
    前記アクチュエータの端部は、接着剤を介して前記パッドに固定されており、
    前記配線部材は、前記パッドと前記壁外部材との間において、壁部を有し、
    前記壁部は、前記メタルベースからの高さが前記パッドよりも高いことを特徴とする、フレキシャ。
  2. 前記壁外部材は、前記スライダの搭載位置の基準になる基準孔である、請求項1に記載のフレキシャ。
  3. 前記壁外部材は、前記スライダに電気的に接続される接続端子である、請求項1に記載のフレキシャ。
  4. 前記カバー絶縁層は、第1カバー絶縁層と、該第1カバー絶縁層の上に形成された第2カバー絶縁層と、を含み、
    前記壁部は、前記第2カバー絶縁層の少なくとも一部を備えている、請求項1乃至3のいずれか一項に記載のフレキシャ。
  5. 前記パッドと前記壁部との間に形成された前記ベース絶縁層は、前記壁部に形成された該ベース絶縁層よりも前記メタルベースからの高さが低い、請求項1乃至4のいずれか一項に記載のフレキシャ。
  6. 前記パッドと前記壁部との間には、前記ベース絶縁層が形成されていない、請求項1乃至4のいずれか一項に記載のフレキシャ。
  7. 前記パッドに形成された前記ベース絶縁層は、前記壁部に形成された該ベース絶縁層よりも前記メタルベースからの高さが低い、請求項1乃至6のいずれか一項に記載のフレキシャ。
  8. 前記配線部材は、前記パッドと前記壁部との間に区画された貯留領域と、前記タング部の外縁のうちの少なくとも前記貯留領域を臨む部位に形成された囲繞部と、をさらに有している、請求項1乃至7のいずれか一項に記載のフレキシャ。
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