JP6873006B2 - Manufacturing method for transport equipment, lithography equipment and articles - Google Patents
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Description
本発明は、搬送装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法に関する。 The present invention relates to a transfer device, a lithography device, and a method for manufacturing an article.
半導体製造分野での生産性の更なる向上の要求に伴い、露光装置には、スループットの向上が要求されている。露光装置では、基板に転写すべきパターンが形成されたレチクル(原版)を、プリアライメントステージからレチクルステージに搬送して保持させる必要があり、これに要する時間(以下、「搬送時間」と称する)を短縮することで、スループットの向上が可能となる。ここで、レチクルをレチクルステージに保持させる際には、レチクルステージに対してレチクルを高精度に位置決めしなければならない。これは、露光装置では、レチクルと基板との位置合わせ精度が半導体デバイスの良品率に影響するため、レチクルをレチクルステージに保持させる際にも一定以上の位置決め精度が要求されるからである。従って、スループットの向上を実現するためには、レチクルステージへのレチクルの搬送及びレチクルステージによるレチクルの保持を、一定以上の位置決め精度で、短時間で行うことが必要となる。 With the demand for further improvement of productivity in the semiconductor manufacturing field, the exposure apparatus is required to be improved in throughput. In the exposure apparatus, it is necessary to transport the reticle (original plate) on which the pattern to be transferred is formed on the substrate from the prealignment stage to the reticle stage and hold it, and the time required for this (hereinafter, referred to as “transport time”). It is possible to improve the throughput by shortening. Here, when the reticle is held on the reticle stage, the reticle must be positioned with high accuracy with respect to the reticle stage. This is because, in the exposure apparatus, the alignment accuracy between the reticle and the substrate affects the non-defective rate of the semiconductor device, and therefore, the positioning accuracy of a certain level or higher is required even when the reticle is held on the reticle stage. Therefore, in order to improve the throughput, it is necessary to transfer the reticle to the reticle stage and hold the reticle by the reticle stage with a positioning accuracy of a certain level or higher in a short time.
レチクルの搬送は、レチクルを保持して搬送する搬送機構と、光検出器及び画像処理部を含む検出部とを有する搬送システムを用いて行われる。検出部は、レチクルに設けられたアライメントマークを光検出器で検出して画像を取得し、かかる画像を画像処理部で処理することでレチクル(アライメントマーク)の位置を求める。レチクルの搬送では、搬送機構を用いてレチクルをレチクルステージの上に搬送し、レチクルをレチクルステージの上に位置させた状態において、検出部を用いてレチクルの位置を求める。そして、レチクルステージの位置に対するレチクルの位置が所定の範囲に収まっている場合には、搬送機構からレチクルステージにレチクルを渡す。 The transfer of the reticle is performed by using a transfer system having a transfer mechanism for holding and transporting the reticle and a detection unit including a photodetector and an image processing unit. The detection unit detects the alignment mark provided on the reticle with a photodetector to acquire an image, and processes the image with the image processing unit to obtain the position of the reticle (alignment mark). In the transportation of the reticle, the reticle is transported onto the reticle stage by using a transport mechanism, and the position of the reticle is determined by using the detection unit in a state where the reticle is positioned on the reticle stage. Then, when the position of the reticle with respect to the position of the reticle stage is within a predetermined range, the reticle is passed from the transport mechanism to the reticle stage.
レチクルを搬送する際には、搬送機構の振動が問題となる。近年では、搬送時間の短縮を目的とした搬送機構の駆動速度(レチクルの搬送速度)の増大が進んでいるため、搬送機構を停止させた直後の振動が収まりにくい傾向にある。搬送機構が振動していると、検出部で取得される画像(アライメントマーク)がぶれてレチクルの位置を求めることができないため、搬送機構の振動が収まるまで待機しなければならず、搬送時間の増大を招くことになる。そこで、搬送機構の振動の影響を抑制するための技術が提案されている(特許文献1及び2参照)。 When transporting the reticle, vibration of the transport mechanism becomes a problem. In recent years, since the drive speed of the transport mechanism (the transport speed of the reticle) has been increasing for the purpose of shortening the transport time, the vibration immediately after the transport mechanism is stopped tends to be difficult to settle. If the transport mechanism is vibrating, the image (alignment mark) acquired by the detection unit will be blurred and the position of the reticle cannot be determined. Therefore, it is necessary to wait until the vibration of the transport mechanism subsides. It will lead to an increase. Therefore, a technique for suppressing the influence of vibration of the transport mechanism has been proposed (see Patent Documents 1 and 2).
特許文献1には、レチクルを保持して搬送する搬送機構に位置センサを設け、かかる位置センサの出力を搬送機構にフィードバックすることで搬送機構の振動を抑制する技術が開示されている。しかしながら、特許文献1に開示された技術では、搬送機構の機械剛性が低い場合には、制御帯域を上げることができないため、搬送機構の振動の抑制効果が低減する可能性がある。また、搬送機構の振動を抑制するための専用の位置センサが必要となるため、コスト面で不利となることに加えて、搬送機構の構成が複雑になる。 Patent Document 1 discloses a technique in which a position sensor is provided in a transport mechanism that holds and transports a reticle, and the output of the position sensor is fed back to the transport mechanism to suppress vibration of the transport mechanism. However, in the technique disclosed in Patent Document 1, when the mechanical rigidity of the transport mechanism is low, the control band cannot be increased, so that the effect of suppressing the vibration of the transport mechanism may be reduced. Further, since a dedicated position sensor for suppressing the vibration of the transport mechanism is required, it is disadvantageous in terms of cost and the configuration of the transport mechanism becomes complicated.
特許文献2には、被測定物を所定の時間間隔で撮像して取得される時系列の画像を比較することで被測定物の振動を計測する技術が開示されている。特許文献2に開示された技術を、レチクルを保持して搬送する搬送機構に適用することで、位置センサを用いることなく、搬送機構の振動を計測することが可能となる。しかしながら、1回の撮像時間(1つの画像を取得する時間)も有限の時間を有しており、搬送機構の振動を高精度に計測するためには、多くの撮像回数が必要となるため、搬送時間の増大を招くことになる。
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、被搬送物をステージに搬送するのに要する時間を低減するのに有利な搬送装置を提供することを例示的目的とする。 The present invention has been made in view of such problems of the prior art, and an exemplary object is to provide a transport device that is advantageous in reducing the time required to transport an object to be transported to a stage.
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての搬送装置は、マークが設けられた被搬送物をステージに搬送する搬送装置であって、前記被搬送物を保持して移動する保持部と、前記保持部に保持された前記被搬送物からの光に対応する電荷を、蓄積時間にわたって蓄積して前記マークの像を含む画像を取得する撮像部と、前記保持部が振動している状態において前記撮像部で取得された第1画像から当該第1画像上の前記マークの幅に関する特徴量を抽出し、当該特徴量に基づいて、前記保持部に保持された前記被搬送物を前記ステージに載置してよいかどうかを判定する制御部と、を有することを特徴とする。 In order to achieve the above object, the transport device as one aspect of the present invention is a transport device that transports the marked object to the stage, and is a holding unit that holds and moves the object to be transported. The image pickup unit that accumulates the electric charge corresponding to the light from the transported object held in the holding unit over the accumulation time to acquire an image including the image of the mark, and the holding unit are vibrating. In the state, a feature amount related to the width of the mark on the first image is extracted from the first image acquired by the imaging unit, and based on the feature amount, the transported object held by the holding unit is said to be the same. It is characterized by having a control unit for determining whether or not it may be placed on a stage.
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。 Further objects or other aspects of the invention will be manifested in the preferred embodiments described below with reference to the accompanying drawings.
本発明によれば、例えば、被搬送物をステージに搬送するのに要する時間を低減するのに有利な搬送装置を提供することができる。 According to the present invention, for example, it is possible to provide a transport device that is advantageous in reducing the time required to transport the object to be transported to the stage.
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, in each figure, the same member is given the same reference number, and duplicate description is omitted.
図1は、本発明の一側面としての露光装置EXの構成を示す概略図である。露光装置EXは、半導体デバイスなどの製造に使用されるリソグラフィ装置である。露光装置EXは、レジストが塗布された基板にレチクル(原版)のパターンを投影して、基板にパターンを形成する。露光装置EXは、レチクル3を照明する照明光学系(不図示)と、レチクル3を保持して移動するレチクルステージ4とを有する。また、露光装置EXは、レチクル3のパターンを基板に投影する投影光学系9と、基板を保持して移動する基板ステージ(不図示)と、搬送装置1と、主制御部7とを有する。レチクル3には、マーク(アライメントマーク)301a及び301bが設けられている。主制御部7は、CPUやメモリなどを含み、露光装置EXの全体(各部の動作)を制御する。
FIG. 1 is a schematic view showing a configuration of an exposure apparatus EX as one aspect of the present invention. The exposure apparatus EX is a lithography apparatus used for manufacturing semiconductor devices and the like. The exposure apparatus EX projects a pattern of a reticle (original plate) on a substrate coated with a resist to form a pattern on the substrate. The exposure apparatus EX includes an illumination optical system (not shown) that illuminates the
搬送装置1は、被搬送物としてのレチクル3をレチクルステージ4に搬送する。搬送装置1は、本実施形態では、搬送アクチュエータ101と、搬送アーム102と、ハンドベース103と、板ばね104a及び104bと、ハンドパッド105a及び105bと、搬送制御部106と、撮像部2とを含む。搬送アクチュエータ101、搬送アーム102、ハンドベース103、板ばね104a及び104b、及び、ハンドパッド105a及び105bは、被搬送物としてのレチクル3を保持して移動する保持部として機能する。ハンドパッド105a及び105bは、例えば、真空ポンプ(不図示)又は工場設備の真空ライン(不図示)に接続され、真空吸着によって、レチクル3を保持する。搬送制御部106は、CPUやメモリなどを含み、搬送装置1の全体(各部の動作)を制御する。なお、本実施形態では、主制御部7と搬送制御部106とを個別に構成しているが、これに限定されるものではなく、主制御部7と搬送制御部106とを一体的に構成してもよい。撮像部2は、顕微鏡201と、撮像素子(光検出器)202と、画像処理部203とを含む。
The transport device 1 transports the
図2(a)及び図2(b)を参照して、本実施形態におけるレチクル3の搬送を説明する。ここでは、露光装置EXにおいて、レチクル3をレチクルステージ4に搬送し、かかるレチクル3をレチクルステージ4に保持させる場合について説明する。この場合、図2(a)に示すように、S900において、搬送装置1によってレチクルステージ4に対してレチクル3を搬送し、S905において、レチクルステージ4でレチクル3を保持し、S906において、搬送装置1を退避させる。
The transport of the
図2(b)は、レチクル3の搬送(S900)の詳細なシーケンスを説明するためのフローチャートである。S901において、レチクルステージ4の上にレチクル3を搬送する。具体的には、まず、搬送装置1は、プリアライメントステージ(不図示)に載置されているレチクル3を、ハンドパッド105a及び105bで吸着してハンドベース103で保持(把持)する。ハンドベース103は、搬送アーム102を介して、搬送アクチュエータ101に機械的に接続されている。搬送アクチュエータ101は、搬送制御部106からの指令に基づいて、搬送アーム102やハンドベース103(ハンドパッド105a及び105b)を駆動する駆動力を生成する。搬送アクチュエータ101は、本実施形態では、搬送アーム102やハンドベース103を駆動して、ハンドベース103に保持されたレチクル3をレチクルステージ4の上に移動させる。この際、ハンドベース103の鉛直方向の位置は、板ばね104a及び104bが一定量で撓む程度にレチクルステージ4に押し込まれる位置とする。板ばね104a及び104bの撓み量は、例えば、300μmから400μm程度に設定されるが、これに限定されるものではなく、そのサイズや部材などに応じて設定される。
FIG. 2B is a flowchart for explaining a detailed sequence of transporting the reticle 3 (S900). In S901, the
レチクルステージ4は、ステージパッド401a及び401bを含む。ステージパッド401a及び401bは、例えば、真空ポンプ(不図示)又は工場設備の真空ライン(不図示)、及び、圧空ラインやクリーンドライエア(CDA)ラインに接続されている。ステージパッド401a及び401bは、真空ラインとの接続と、圧空ラインとの接続とを電磁弁(不図示)で切り替えることで、レチクル3を吸着している吸着状態とレチクル3をブローしているブロー状態とを切り替えることができる。
The
レチクル3をレチクルステージ4の上に移動させた直後においては、ステージパッド401a及び401bは、ブロー状態になっている。ステージパッド401a及び401bがブロー状態である場合、レチクル3は、ステージパッド401a及び401bとは接触せずに、僅かに浮上している状態となる。これは、ハンドベース103が板ばね104a及び104bを介してレチクル3を保持しているため、レチクル3に対して鉛直方向に作用する力が逃げるようになっているからである。
Immediately after moving the
このようにして、レチクル3は、ハンドパッド105a及び105bを介してハンドベース103(搬送装置1)に保持された状態で、レチクルステージ4の上に位置し、ステージパッド401a及び401bに対して僅かに浮上した状態となる。
In this way, the
S902において、ハンドベース103に保持されたレチクル3を撮像してマーク301a及び301bの像を含む画像を取得する。具体的には、レチクル3をレチクルステージ4の上に移動させた直後、即ち、ハンドベース103(保持部)が振動している状態において、ハンドベース103に保持されたレチクル3を撮像部2で撮像して画像(第1画像)を取得する。
In S902, the
撮像部2は、マーク301a及び301bが設けられたレチクル3に光を照射し、レチクル3を通過してマーク301a及び301bを反映する光を、顕微鏡201を介して撮像素子202に投影する。撮像素子202は、レチクル3を通過した光に対応する電荷を、蓄積時間TDIの期間にわたって蓄積して、マーク301a及び301bの像(光強度分布)を電気信号に変換して画像処理部203に転送する。画像処理部203は、撮像素子202から転送された電気信号から画像を生成する。
The
図3(a)及び図3(b)は、撮像部2で取得される画像の一例を示す図である。図3(a)は、レチクル3が顕微鏡201及び撮像素子202に対して静止している状態、即ち、ハンドベース103が振動していない状態において撮像部2で取得される画像601を示している。図3(b)は、レチクル3が顕微鏡201及び撮像素子202に対して振動している状態、即ち、ハンドベース103が振動している状態において撮像部2で取得される画像602を示している。例えば、S901とS901との間に待機時間(ディレイ時間)が存在しない場合、ハンドベース103の振動が残存するため、図3(b)に示す画像602が取得される。画像602は、マーク301a及び301bの像が検出されないマーク像非検出領域603と、マーク301a及び301bの像が検出されるマーク像検出領域604とを含む。マーク像非検出領域603では、マーク301a及び301bの像が検出されないため、マーク像非検出領域603は、光量が高い領域である。一方、マーク像検出領域604は、マーク301a及び301bの像が検出されるため、マーク像検出領域604は、光量が低い領域である。
3A and 3B are diagrams showing an example of an image acquired by the
S903において、搬送制御部106は、S902で取得された画像に基づいて、ハンドベース103に保持されたレチクル3をレチクルステージ4に載置してよいかどうかを判定する。かかる判定の詳細について、図4を参照して説明する。図4は、ハンドベース103に保持されたレチクル3をレチクルステージ4に載置してよいかどうかの判定(S903)を詳細に説明するためのフローチャートである。
In S903, the
図4を参照するに、S903aにおいて、搬送制御部106は、S902で取得した画像から、ハンドベース103の振動によるマーク301a及び301bの幅の振動振幅を求める。図5は、S902で取得した画像、即ち、図3(b)に示す画像602において、A−A’直線における光量分布を示す図である。図5では、横軸は位置を示し、縦軸は光量を示している。光量LBは、マーク像非検出領域603の光量を示している。光量LBは、例えば、設計値から設定してもよいし、レチクルステージ4がレチクル3を保持していない状態で画像を予め取得し、その平均値としてもよい。また、光量LTは、マーク像検出領域604を判定するための光量を示している。光量LTは、以下の式(1)で表される。
LT=a×LB , 0<a<1 ・・・(1)
係数aが大きすぎると、マーク像非検出領域603における光量のばらつきに起因して、マーク像検出領域604を誤判定することになる。一方、係数aが小さすぎると、実際のマーク像検出領域604よりも小さい領域をマーク像検出領域604と判定することになる。従って、係数aは、マーク像検出領域604を誤判定せず、且つ、なるべく大きな値に設定するとよい。例えば、係数aは、撮像部2の設計情報に基づいて設定してもよいし、実際の画像602から適切な値を設定してもよい。
Referring to FIG. 4, in S903a, the
L T = a × L B, 0 <a <1 ··· (1)
If the coefficient a is too large, the mark
このように光量LB及びLTを設定することで、図5に示すように、光量LT以下の領域を、マーク像検出領域604と判定することが可能となり、以下では、ハンドベース103の振動時のマーク像検出領域604の幅WRBMと称する。また、ハンドベース103の静止時の画像、即ち、図3(a)に示す画像601において、A−A’直線と平行な方向のマーク301a及び301bの幅(寸法)を幅WRMと定義する。この場合、S902で取得した画像から求まる、ハンドベース103の振動によるマーク301a及び301bの幅の振動振幅は、以下の式(2)で表され、以下では、振動振幅検出値ARBMと称する。
ARBM=WRBM−WRM ・・・(2)
S903bにおいて、搬送制御部106は、撮像素子202の蓄積時間TDIがハンドベース103(保持部)の振動周期TRBの3/4倍以上(TDI≧3/4・TRB)であるかどうかを判定する。図6(a)乃至図6(c)は、撮像部2で取得される画像におけるマーク301a及び301bの像の位置の時間変化と、撮像素子202の蓄積時間との関係を示す図である。図6(a)に示すように、マーク301a及び301bの振動の1周期をハンドベース103(保持部)の振動周期TRBとし、マーク301a及び301bの幅の実際の振動振幅を振動振幅ARBとする。図6(b)は、撮像素子202の蓄積時間TDIとハンドベース103の振動周期TRBとが以下の式(3)に示す関係を満たす場合の振動振幅検出値ARBMと振動振幅ARBとの関係を示している。振動周期TRBは、搬送装置1のハードウエア設計から求めることができる。また、蓄積時間TDIは、撮像部2の性能に依存するが、一般的には、1ミリ秒から1秒の範囲、或いは、それ以上の範囲で自在に変更することが可能である。
TDI≧3/4・TRB ・・・(3)
撮像素子202の蓄積時間TDIがハンドベース103の振動周期TRBの3/4倍以上である(式(3)を満たす)場合には、S903cに移行する。また、撮像素子202の蓄積時間TDIがハンドベース103の振動周期TRBの3/4倍未満である(式(3)を満たしていない)場合には、S903dに移行する。
By thus setting the amount of light L B and L T, as shown in FIG. 5, the following areas amount L T, it is possible to determine that the mark
A RBM = W RBM -W RM ··· (2)
In S903b, in the
T DI ≧ 3/4 ・ T RB・ ・ ・ (3)
When the accumulation time T DI of the image sensor 202 is 3/4 times or more of the vibration cycle T RB of the hand base 103 (satisfying the equation (3)), the process proceeds to S903c. If the accumulation time T DI of the image sensor 202 is less than 3/4 times the vibration cycle T RB of the hand base 103 (does not satisfy the equation (3)), the process proceeds to S903d.
ここで、式(3)を満たしている場合の振動振幅検出値ARBMを振動振幅検出値ARBM1とする。この場合、図6(b)に示すように、振動振幅検出値ARBM1と振動振幅ARBとは、以下の式(4)に示す関係を満たす。
ARB=ARBM1 ・・・(4)
従って、S903cにおいて、搬送制御部106は、S902で取得した画像から抽出されるマーク301a及び301bの像の位置の時間変化の幅である振動振幅検出値ARBM1を振動振幅ARBとする(ARBM1=ARB)。
Here, the vibration amplitude detection value A RBM when the equation (3) is satisfied is defined as the vibration amplitude detection value A RBM1 . In this case, as shown in FIG. 6B, the vibration amplitude detection value A RBM1 and the vibration amplitude A RB satisfy the relationship shown in the following equation (4).
A RB = A RBM1 ... (4)
Therefore, in S903c, the transport control unit 106 sets the vibration amplitude detection value A RBM1 , which is the width of the time change of the positions of the images of the
一方、図6(c)は、撮像素子202の蓄積時間TDIとハンドベース103の振動周期TRBとが式(3)に示す関係を満たしていない場合の振動振幅検出値ARBMと振動振幅ARBとの関係を示している。ここで、式(3)を満たしていない場合の振動振幅検出値ARBMを振動振幅検出値ARBM2とする。この場合、図6(c)に示すように、振動振幅検出値ARBM2と振動振幅ARBとは、以下の式(5)に示す関係となる。
ARB>ARBM2 ・・・(5)
従って、S902で取得した画像から抽出されるマーク301a及び301bの像の位置の時間変化の幅である振動振幅検出値ARBM2を振動振幅ARBとすることができないため、振動振幅検出値ARBM2から振動振幅ARBを推定する必要がある。そこで、S903dにおいて、搬送制御部106は、S902で取得した画像から抽出されるマーク301a及び301bの像の位置の時間変化の幅である振動振幅検出値ARBM2と予め定められた係数bとの積を振動振幅ARBとする。また、係数bは、振動周期TRBに対する蓄積時間TDIの比率で表される値である。このように、振動振幅ARBは、以下の式(6)で推定することが可能である。
ARB=b×ARBM2 , b=TRB/TDI ・・・(6)
式(6)は、上述したように、振動振幅検出値ARBM2に振動周期TRBと蓄積時間TDIとの比を掛け合わせた値を振動振幅ARBとすることを意味する。
On the other hand, FIG. 6 (c) shows the vibration amplitude detection value A RBM and the vibration amplitude when the accumulation time T DI of the image sensor 202 and the vibration period T RB of the
A RB > A RBM2 ... (5)
Therefore, the vibration amplitude detection value A RBM2 , which is the width of the time change of the positions of the images of the
A RB = b × A RBM2 , b = T RB / T DI ... (6)
As described above, the formula (6) means that the value obtained by multiplying the vibration amplitude detection value A RBM2 by the ratio of the vibration period T RB and the accumulation time T DI is defined as the vibration amplitude A RB .
このように、S903b、S903c及びS903dでは、振動周期TRBと蓄積時間TDIとの大小関係に基づいて、振動振幅ARBを求める。なお、式(3)を満たすように蓄積時間TDIを調整(設定)すれば、振動振幅ARBをより高精度に求めることが可能となるが、蓄積時間TDIを延ばすと、レチクル3の搬送に要する時間も遅延する。一方、蓄積時間TDIが式(3)を満たしていない場合、画像から振動振幅ARBを直接的に求めることができず、振動振幅ARBを推定しなければならないため、レチクルステージ4に対するレチクル3の位置精度が低下する。従って、蓄積時間TDIは、露光装置EXで要求されるレチクル3の搬送に要する時間とレチクル3の位置精度に応じて最適化(決定)する必要がある。
Thus, S903b, the S903c and S903d, based on the magnitude relation between the vibration period T RB and the accumulation time T DI, determine the vibration amplitude A RB. If the accumulation time T DI is adjusted (set) so as to satisfy the equation (3) , the vibration amplitude ARB can be obtained with higher accuracy. However, if the accumulation time T DI is extended, the
図4に戻って、S902eにおいて、搬送制御部106は、S903c又はS903dで得られた振動振幅ARBが閾値AT以下であるかどうか、即ち、以下の式(7)に示す関係を満たしているかどうかを判定する。
ARB<AT ・・・(7)
閾値ATは、レチクルステージ4に対するレチクル3の許容載置誤差に基づいて設定される。許容載置誤差は、搬送装置1が搭載される装置によって異なる。例えば、露光装置EXでは、レチクルステージ4に対するレチクル3の載置誤差を補正する場合には、かかる補正の精度が露光性能に影響を及ぼさない程度に許容載置誤差を設定する。
Returning to FIG. 4, in S902e, the
A RB < AT ... (7)
The threshold AT is set based on the permissible placement error of the
式(7)に示す関係を満たしている場合には、S905に移行する。一方、式(7)に示す関係を満たしていない場合には、S904に移行し、一定時間の待機(S904)を経て、ハンドベース103に保持されたレチクル3を撮像部2で撮像して画像を再度取得する(S902)。
If the relationship shown in the formula (7) is satisfied, the process proceeds to S905. On the other hand, if the relationship shown in the equation (7) is not satisfied, the process proceeds to S904, and after waiting for a certain period of time (S904), the
図2(b)に示すS904、即ち、一定時間の待機について説明する。一定時間の待機は、上述したように、式(7)に示す関係を満たしていない場合に行われる。一定時間TWの待機を経ることで、ハンドベース103(保持部)の振動を減衰させることができる。 S904 shown in FIG. 2B, that is, waiting for a certain period of time will be described. As described above, the waiting for a certain period of time is performed when the relationship shown in the equation (7) is not satisfied. By going through the wait for a certain time T W, it is possible to attenuate the vibrations of the hand base 103 (holding unit).
一定時間TWは、例えば、以下のように設定される。S902及びS903に要した時間(実行時間)がハンドベース103の振動減衰時間の半分未満である場合には、一定時間TWを、0秒以上、且つ、振動減衰時間の半分以下に設定する。そして、式(7)に示す関係を満たすまで、S903を繰り返すとよい。一方、S902及びS903の実行時間がハンドベース103の振動減衰時間の半分以上である場合には、一定時間TWを、振動減衰時間に設定する。これは、S902及びS903の実行時間が長い場合、S902及びS903の実行回数の増加がレチクル3の搬送に要する時間の増加につながるため、S902及びS903の実行回数を最小限にするためである。このように、一定時間TWをハンドベース103の振動減衰時間に設定することで、S902及びS903の実行回数を最小限に抑え、2回目のS903で確実に式(7)を満たすようにするとよい。
The fixed time TW is set as follows, for example. S902 and the amount of time spent in S903 (execution time) when it is less than half the vibration decay time of the
S903において、式(7)に示す関係を満たしている場合に、S900におけるレチクル3の搬送が完了する。図2(a)に戻って、S905において、レチクルステージ4でレチクル3を保持する。具体的には、ステージパッド401a及び401bをブロー状態から吸着状態に切り替える。ステージパッド401a及び401bにおけるレチクル吸着圧が一定以上に到達した時点で、S905におけるレチクル3の保持が完了する。
When the relationship represented by the formula (7) is satisfied in S903, the transfer of the
S906において、搬送装置1を退避させる。具体的には、ハンドパッド105a及び105bを大気開放し、ハンドベース103(搬送装置1)によるレチクル3の保持を解除する。そして、搬送装置1とレチクルステージ4とが干渉しないように、搬送装置1をレチクルステージ4の駆動範囲から退避させる。
In S906, the transport device 1 is retracted. Specifically, the
このように、本実施形態では、ハンドベース103(搬送装置1)が振動している状態において撮像部2で取得された画像から画像上のマーク301a及び301bの幅に関する特徴量として振動振幅を抽出する。そして、かかる特徴量としての振動振幅に基づいて、ハンドベース103に保持されたレチクル3をレチクルステージ4に載置してよいかどうかを判定している。従って、ハンドベース103の振動が収まるまで待機することなく、且つ、振動時の1つの画像からレチクル3をレチクルステージ4に載置してよいかどうかを判定することができる。このため、レチクル3をレチクルステージ4に搬送するのに要する時間を低減するのに有利となる。また、搬送装置1の振動を抑制するための専用の位置センサが不要であるため、コスト面や搬送装置1の構成の簡易化においても有利である。
As described above, in the present embodiment, the vibration amplitude is extracted from the image acquired by the
また、S902において、レチクル3をレチクルステージ4に載置してよいと判定した場合、図7に示すように、S909において、ハンドベース103(保持部)の振動によるマーク301a及び301bの幅の振動中心を求めてもよい。マーク301a及び301bの幅の振動中心を求める工程の詳細について、図8を参照して説明する。図8は、マーク301a及び301bの幅の振動中心を求める工程(S909)を詳細に説明するためのフローチャートである。
Further, when it is determined in S902 that the
図8を参照するに、S909aにおいて、搬送制御部106は、S902で取得した画像から、ハンドベース103の振動によるマーク301a及び301bの幅の振動中心を求める。図9は、S902で取得した画像、即ち、図3(b)に示す画像602において、A−A’直線における光量分布を示す図である。図9では、横軸は位置を示し、縦軸は光量を示している。光量LB及びLTのそれぞれは、上述したように、マーク像非検出領域603の光量及びマーク像検出領域604を判定するための光量を示している。図9に示すように、光量LTと光量分布(曲線)との交点のうち、Aに近い方の交点の位置をPR1とし、A’に近い方の交点の位置をPR2とする。この場合、S902で取得した画像から求まる、ハンドベース103の振動によるマーク301a及び301bの幅の振動中心は、以下の式(8)で表され、以下では、振動中心検出値PRBMと称する。
PRBM=(PR1+PR2)/2 ・・・(8)
S903bにおいて、搬送制御部106は、撮像素子202の蓄積時間TDIがハンドベース103(保持部)の振動周期TRBの3/4倍以上(TDI≧3/4・TRB)であるかどうか(即ち、式(3)を満たしているかどうか)を判定する。図10(a)乃至図10(c)は、撮像部2で取得される画像におけるマーク301a及び301bの像の位置の時間変化と、撮像素子202の蓄積時間との関係を示す図である。図10(a)に示すように、マーク301a及び301bの振動の1周期をハンドベース103(保持部)の振動周期TRBとし、マーク301a及び301bの幅の実際の振動中心を振動中心PRBとする。
Referring to FIG. 8, in S909a, the
P RBM = (P R1 + P R2) / 2 ··· (8)
In S903b, in the
図10(b)は、撮像素子202の蓄積時間TDIとハンドベース103の振動周期TRBとが式(3)に示す関係を満たす場合の振動中心検出値PRBMと振動中心PRBとの関係を示している。ここで、式(3)を満たしている場合の振動中心検出値PRBMを振動中心検出値PRBM1とする。この場合、図10(b)に示すように、振動中心検出値PRBM1と振動中心PRBとは、以下の式(9)に示す関係を満たす。
PRB=PRBM1 ・・・(9)
従って、S909cにおいて、搬送制御部106は、S902で取得した画像から抽出されるマーク301a及び301bの像の位置の時間変化の幅の中心である振動振幅検出値PRBM1を振動振幅PRBとする(PRBM1=PRB)。
FIG. 10B shows the vibration center detection value P RBM and the vibration center P RB when the accumulation time T DI of the image sensor 202 and the vibration cycle T RB of the
P RB = P RBM1 ... (9)
Accordingly, in S909c, the
一方、図10(c)は、撮像素子202の蓄積時間TDIとハンドベース103の振動周期TRBとが式(3)に示す関係を満たしていない場合の振動中心検出値PRBMと振動中心PRBとの関係を示している。ここで、式(3)を満たしていない場合の振動中心検出値PRBMを振動中心検出値PRBM2とする。この場合、図10(c)に示すように、振動中心検出値PRBM2と振動中心PRBとは、以下の式(10)に示す関係となる。
PRB≠PRBM2 ・・・(10)
従って、S902で取得した画像から抽出されるマーク301a及び301bの像の位置の時間変化の幅の中心である振動中心検出値PRBM2を振動中心PRBとすることができないため、振動中心PRBを推定する必要がある。そこで、S909dにおいて、搬送制御部106は、振動中心検出値PRBM2、振動振幅検出値ARBM2、及び、予め定められた係数cを用いて、振動中心PRBを以下の式(11)で推定する。
PRB=c+PRBM2 , c=TRB/TDI×ARBM2 ・・・(11)
このように、マーク301a及び301bの像の位置の時間変化の幅である振動振幅検出値ARBM2と係数cとの積と、マーク301a及び301bの像の位置の時間変化の幅の中心である振動中心検出値ARBM2との和を振動中心PRBとする。また、係数cは、振動周期TRBに対する蓄積時間TDIの比率で表される値である。
On the other hand, FIG. 10 (c) shows the vibration center detection value PRBM and the vibration center when the accumulation time T DI of the image sensor 202 and the vibration cycle T RB of the
P RB ≠ P RBM2 ... (10)
Therefore, it is not possible to the center of the width of the time change of the position of the image of the
P RB = c + P RBM2 , c = T RB / T DI × A RBM2 ... (11)
As described above, it is the center of the product of the vibration amplitude detection value A RBM2 and the coefficient c, which is the width of the time change of the positions of the images of the
S909b、S909c及びS909dでは、振動周期TRBと蓄積時間TDIとの大小関係に基づいて、振動中心PRBを求める。なお、式(3)を満たすように蓄積時間TDIを調整(設定)すれば、振動中心PRBをより高精度に求めることが可能となるが、蓄積時間TDIを延ばすと、レチクル3の搬送に要する時間も遅延する。一方、蓄積時間TDIが式(3)を満たしていない場合、画像から振動中心PRBを直接的に求めることができず、振動中心PRBを推定しなければならないため、レチクルステージ4に対するレチクル3の位置精度が低下する。従って、蓄積時間TDIは、露光装置EXで要求されるレチクル3の搬送に要する時間とレチクル3の位置精度に応じて最適化(決定)する必要がある。
S909b, the S909c and S909d, based on the magnitude relation between the vibration period T RB and the accumulation time T DI, obtaining the oscillation center P RB. If the accumulation time T DI is adjusted (set) so as to satisfy the equation (3) , the vibration center PRB can be obtained with higher accuracy. However, if the accumulation time T DI is extended, the
また、マーク301a及び301bの幅の振動中心を求める工程では、図3(b)に示す画像602のマーク像検出領域604の光量分布(光強度分布)の重心を用いてもよい。図11(a)は、図3(b)に示す画像602において、A−A’直線における光量分布I(x)を示す図である。図11(a)では、横軸は位置を示し、縦軸は光量を示している。ここで、マーク光量評価値IM(x)として、以下の式(13)で表される変数を定義する。
IM(x)=LB−I(x) ・・・(13)
更に、マーク光量評価値積算IIM(x)として、以下の式(14)で表される変数を定義する。
IIM(x)=∫IM(x)dx ・・・(14)
図11(b)は、A−A’直線におけるマーク光量評価値積算IIM(x)を示す図である。ここで、A’でのマーク光量評価値積算IIM(x)の値を、以下の式(15)で定義する。
LMAX=IIM(A’) ・・・(15)
更に、LMAXの半分の値をLHRFとすると、光量分布の重心PLMCは、以下の式(16)を満たす。
LHRF=IIM(PLMC) ・・・(16)
このようにして求められたマーク301a及び301bの光量分布(光強度分布)の重心PLCMを、マーク301a及び301bの幅の振動中心PRBとしてもよい。
Further, in the step of obtaining the vibration center having the widths of the
I M (x) = L B -I (x) ··· (13)
Further, a variable represented by the following equation (14) is defined as the mark light amount evaluation value integration I IM (x).
I IM (x) = ∫I M (x) dx ··· (14)
FIG. 11B is a diagram showing the mark light amount evaluation value integration I IM (x) in the AA'straight line. Here, the value of the mark light amount evaluation value integration I IM (x) at A'is defined by the following equation (15).
L MAX = I IM (A') ・ ・ ・ (15)
Further, assuming that half the value of L MAX is L HRF , the center of gravity PLMC of the light amount distribution satisfies the following equation (16).
L HRF = I IM ( PLMC ) ・ ・ ・ (16)
The center of gravity P LCM of the thus the obtained
また、マーク301a及び301bの幅の振動中心を求める工程では、図3(b)に示す画像602のマーク像検出領域604の光量分布(光強度分布)と、図3(a)に示す画像601のマーク像の光量分布との相関度を用いてもよい。図12は、画像602に対して、画像602の任意の点、例えば、画像602の左上の画素から、画像601におけるマーク像605との相関度を求める様子を示している。
Further, in the step of obtaining the vibration center having the widths of the
図13(a)は、図12(a)に示す方法から得られる、A−A’直線におけるマーク相関度CM(x)を示している。画像602は、振動時に取得した画像であるため、マーク相関度CM(x)において、複数のピークが検出されたり、非対称になったりする可能性がある。従って、マーク相関度CM(x)の重心を用いて振動中心PRBを求める。
FIG. 13 (a) shows the mark correlation degree CM (x) on the AA'straight line obtained by the method shown in FIG. 12 (a). Since the
まず、マーク相関度CM(x)を用いて、マーク相関度積算値CIM(x)を、以下の式(17)で定義する。
CIM(x)=∫CM(x)dx ・・・(17)
図13(b)は、A−A’直線におけるマーク相関度積算値CIM(x)を示す図である。ここで、A’でのマーク相関度積算値CIM(x)の値を、以下の式(18)で定義する。
CMAX=CIM(A’) ・・・(18)
更に、CMAXの半分の値をCHRFとすると、マーク相関度の重心PCMCは、以下の式(19)を満たす。
CHRF=CIM(PCMC) ・・・(16)
このようにして求められたマーク相関度(相関度分布)の重心PCMCを、マーク301a及び301bの幅の振動中心PRBとしてもよい。
First, using a mark correlation C M (x), the mark correlation cumulative value C IM (x), defined by the following equation (17).
C IM (x) = ∫C M (x) dx ··· (17)
FIG. 13B is a diagram showing the mark correlation degree integrated value CIM (x) on the AA'straight line. Here, the value of the mark correlation degree integrated value CIM (x) in A'is defined by the following equation (18).
C MAX = C IM (A') ・ ・ ・ (18)
Further, assuming that half the value of C MAX is C HRF , the center of gravity P CMC of the mark correlation degree satisfies the following equation (19).
C HRF = C IM ( PCMC ) ・ ・ ・ (16)
In this manner, the obtained mark correlation centroid P CMC of (correlation distribution), may be the vibration center P RB of the width of
また、マーク301a及び301bの幅の振動中心PRBに基づいて、搬送装置1に保持されたレチクル3をレチクルステージ4に載置する際のレチクルステージ4の位置を制御してもよい。かかる制御は、搬送制御部106で行ってもよいし、主制御部7で行ってもよい。具体的には、S909で求められた振動中心PRBを用いて、レチクルステージ4の駆動指令を生成する。かかる駆動指令をレチクルステージ補正量指令PRSとすると、例えば、以下の式(20)で定義される。
PRS=PRB ・・・(20)
このように、振動中心PRBに基づいてレチクルステージ4の位置を制御することで、搬送装置1に保持されたレチクル3をレチクルステージ4に載置する際の載置誤差(位置誤差)を低減することができる。
Further, based on the vibration center P RB of the width of
P RS = P RB ... (20)
By controlling the position of the reticle stage 4 based on the vibration center PRB in this way, the placement error (positional error) when the
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス(半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など)などの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置EXを用いて、感光剤が塗布された基板を露光する(パターンを基板に形成する)工程と、露光された基板を現像する(基板を処理する)工程を含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど)を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。 The method for manufacturing an article according to the embodiment of the present invention is suitable for producing an article such as a device (semiconductor element, magnetic storage medium, liquid crystal display element, etc.). Such a manufacturing method includes a step of exposing a substrate coated with a photosensitizer (forming a pattern on the substrate) and a step of developing the exposed substrate (processing the substrate) using an exposure apparatus EX. In addition, such a manufacturing method may include other well-known steps (oxidation, film formation, vapor deposition, doping, flattening, etching, resist peeling, dicing, bonding, packaging, etc.). The method for producing an article in the present embodiment is advantageous in at least one of the performance, quality, productivity and production cost of the article as compared with the conventional method.
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、本発明は、リソグラフィ装置を露光装置に限定するものではなく、インプリント装置などのリソグラフィ装置にも適用することができる。ここで、インプリント装置は、基板上に供給されたインプリント材とモールド(原版)とを接触させ、インプリント材に硬化用のエネルギーを与えることにより、モールドのパターンが転写された硬化物のパターンを形成する。上述した物品の製造方法は、インプリント装置を用いて行ってもよい。 Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, it goes without saying that the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications and modifications can be made within the scope of the gist thereof. For example, the present invention is not limited to the lithography apparatus as an exposure apparatus, and can be applied to a lithography apparatus such as an imprint apparatus. Here, the imprinting apparatus brings the imprint material supplied on the substrate into contact with the mold (original plate) and applies energy for curing to the imprint material to transfer the pattern of the mold to the cured product. Form a pattern. The above-mentioned method for manufacturing an article may be performed using an imprint device.
1:搬送装置 101:搬送アクチュエータ 102:搬送アーム 103:ハンドベース 104a及び104b:板バネ 105a及び105b:ハンドパッド 106:搬送制御部 2:撮像部 3:レチクル 301a及び301b:マーク 4:レチクルステージ
1: Transfer device 101: Transfer actuator 102: Transfer arm 103:
Claims (12)
前記被搬送物を保持して移動する保持部と、
前記保持部に保持された前記被搬送物からの光に対応する電荷を、蓄積時間にわたって蓄積して前記マークの像を含む画像を取得する撮像部と、
前記保持部が振動している状態において前記撮像部で取得された第1画像から当該第1画像上の前記マークの幅に関する特徴量を抽出し、当該特徴量に基づいて、前記保持部に保持された前記被搬送物を前記ステージに載置してよいかどうかを判定する制御部と、
を有することを特徴とする搬送装置。 It is a transport device that transports the object to be transported with the mark to the stage.
A holding unit that holds and moves the object to be transported,
An imaging unit that acquires an image including an image of the mark by accumulating charges corresponding to light from the transported object held in the holding unit over an accumulation time.
A feature amount related to the width of the mark on the first image is extracted from the first image acquired by the imaging unit while the holding unit is vibrating, and the feature amount is held in the holding unit based on the feature amount. A control unit that determines whether or not the transported object may be placed on the stage.
A transport device characterized by having.
前記撮像部の前記蓄積時間が前記保持部の振動周期の3/4倍以上である場合には、前記第1画像から抽出される前記第1画像における前記マークの像の位置の時間変化の幅を前記振動振幅とし、
前記撮像部の前記蓄積時間が前記保持部の前記振動周期の3/4倍未満である場合には、前記第1画像から抽出される前記第1画像における前記マークの像の位置の時間変化の幅と予め定められた係数との積を前記振動振幅とすることを特徴とする請求項2に記載の搬送装置。 The control unit
When the accumulation time of the imaging unit is 3/4 times or more of the vibration cycle of the holding unit, the width of the time change of the position of the image of the mark in the first image extracted from the first image. Is the vibration amplitude.
When the accumulation time of the imaging unit is less than 3/4 times the vibration cycle of the holding unit, the time change of the position of the image of the mark in the first image extracted from the first image is changed. The transport device according to claim 2, wherein the product of the width and a predetermined coefficient is the vibration amplitude.
前記撮像部の前記蓄積時間が前記保持部の振動周期の3/4倍以上である場合には、前記第1画像から抽出される前記第1画像における前記マークの像の位置の時間変化の幅の中心を前記振動中心とし、
前記撮像部の前記蓄積時間が前記保持部の前記振動周期の3/4倍未満である場合には、前記第1画像から抽出される前記第1画像における前記マークの像の位置の時間変化の幅と予め定められた係数との積と、前記第1画像から抽出される前記第1画像における前記マークの像の位置の時間変化の幅の中心との和を前記振動中心とすることを特徴とする請求項4に記載の搬送装置。 The control unit
When the accumulation time of the imaging unit is 3/4 times or more of the vibration cycle of the holding unit, the width of the time change of the position of the image of the mark in the first image extracted from the first image. With the center of the vibration center as the vibration center
When the accumulation time of the imaging unit is less than 3/4 times the vibration cycle of the holding unit, the time change of the position of the image of the mark in the first image extracted from the first image is changed. The vibration center is the sum of the product of the width and the predetermined coefficient and the center of the width of the time change of the position of the image of the mark in the first image extracted from the first image. The transport device according to claim 4.
前記原版を保持して移動するステージと、
前記原版を被搬送物として前記ステージに搬送する請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の搬送装置と、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 A lithography system that forms the pattern of the original plate on the substrate.
A stage that holds and moves the original plate,
The transport device according to any one of claims 1 to 9, wherein the original plate is transported to the stage as an object to be transported.
A lithographic apparatus characterized by having.
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
処理された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。 A step of forming a pattern on a substrate using the lithography apparatus according to claim 10 or 11.
A step of processing the substrate on which the pattern is formed in the step and a step of processing the substrate.
The process of manufacturing an article from the processed substrate and
A method of manufacturing an article, which comprises having.
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