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JP6879093B2 - Oxidizing gas sensors, gas alarms, controls, and control methods - Google Patents
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Oxidizing gas sensors, gas alarms, controls, and control methods Download PDF

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Description

本発明は、酸化性ガスセンサ、ガス警報器、制御装置、および制御方法に関する。 The present invention relates to an oxidizing gas sensor, a gas alarm, a control device, and a control method.

半導体膜の電気抵抗値の変化によってNO等の酸化性ガスを検出する半導体式ガスセンサが知られている(例えば、特許文献1、特許文献2、および特許文献3参照)。
[特許文献]
[特許文献1] 特開2011−75545号公報
[特許文献2] 国際公開第2004/048957号
[特許文献3] 特開2006−119014号公報
A semiconductor gas sensor that detects an oxidizing gas such as NO 2 by changing the electric resistance value of the semiconductor film is known (see, for example, Patent Document 1, Patent Document 2, and Patent Document 3).
[Patent Document]
[Patent Document 1] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-75545 [Patent Document 2] International Publication No. 2004/0489557 [Patent Document 3] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-119014

酸化性ガスセンサにおいては、センサ感度を高めることが望ましい。 In the oxidizing gas sensor, it is desirable to increase the sensor sensitivity.

本発明の第1の態様においては、酸化性ガスセンサを提供する。酸化性ガスセンサは、ガス感知層を備えてよい。酸化性ガスセンサは、ヒータを備えてよい。ヒータは、ガス感知層を加熱してよい。酸化性ガスセンサは、加熱制御部を備えてよい。加熱制御部は、ヒータを制御してガス感知層の温度を制御してよい。酸化性ガスセンサは、検出部を備えてよい。検出部は、ヒータによって測定温度に加熱されたガス感知層の電気特性に基づいて検出対象の酸化性ガスを検出してよい。加熱制御部は、ガス感知層の温度がTmin−100℃以上Tmin+50℃以下の範囲となるようにガス感知層を予備加熱させた後に、ガス感知層が測定温度に加熱されるようにヒータを制御してよい。極小値温度がTmin℃であってよい。極小値温度は、清浄空気中でのガス感知層の電気抵抗値の温度特性に関して電気抵抗値が極小値を呈するガス感知層の温度であってよい。 In the first aspect of the present invention, an oxidizing gas sensor is provided. The oxidizing gas sensor may include a gas sensing layer. The oxidizing gas sensor may include a heater. The heater may heat the gas sensing layer. The oxidizing gas sensor may include a heating control unit. The heating control unit may control the heater to control the temperature of the gas sensing layer. The oxidizing gas sensor may include a detection unit. The detection unit may detect the oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer heated to the measurement temperature by the heater. The heating control unit preheats the gas sensing layer so that the temperature of the gas sensing layer is in the range of T min -100 ° C or higher and T min + 50 ° C or lower, and then heats the gas sensing layer to the measurement temperature. The heater may be controlled. The minimum temperature may be T min ° C. The minimum temperature may be the temperature of the gas sensing layer at which the electrical resistance value exhibits the minimum value with respect to the temperature characteristics of the electrical resistance value of the gas sensing layer in clean air.

予備加熱によって、ガス感知層の表面に吸着する酸素を脱離させてよい。 Preheating may desorb oxygen adsorbed on the surface of the gas sensing layer.

清浄空気中でのガス感知層の電気抵抗値の温度特性に関して電気抵抗値が極大値を呈するガス感知層の温度である極大値温度をTmax℃としたときに、測定温度は極大値温度Tmax℃より低くてよい。 Regarding the temperature characteristics of the electric resistance value of the gas sensing layer in clean air, the measured temperature is the maximum temperature T when the maximum temperature, which is the temperature of the gas sensing layer at which the electric resistance value exhibits the maximum value, is set to T max ° C. It may be lower than max ° C.

測定温度は、検出対象の酸化性ガスの吸着開始温度より高くてよい。 The measurement temperature may be higher than the adsorption start temperature of the oxidizing gas to be detected.

測定温度は、Tmin+50℃以下であってよい。 The measurement temperature may be T min + 50 ° C. or lower.

予備加熱の時間は、10秒以上10分以下であってよい。 The preheating time may be 10 seconds or more and 10 minutes or less.

予備加熱の時間は可変であってよい。 The preheating time may be variable.

ガス感知層の電気抵抗値が予め定められた第1閾値以上の場合に、加熱制御部は、予備加熱の時間を長くするよう変更してよい。時間が長く変更された予備加熱の後に、測定温度に加熱されたガス感知層の電気特性に基づいて、検出部は、検出対象の酸化性ガスを検出してよい。 When the electric resistance value of the gas sensing layer is equal to or higher than a predetermined first threshold value, the heating control unit may change the preheating time to be longer. The detector may detect the oxidizing gas to be detected based on the electrical properties of the gas sensing layer heated to the measurement temperature after the preheating with the time changed for a long time.

酸化性ガスセンサは、第1酸化性ガスおよび第2酸化性ガスを検出してよい。測定温度として、第1測定温度および第2測定温度が定められてよい。検出部は、ヒータによって第1測定温度に加熱されたガス感知層の電気特性に基づいて検出対象の第1酸化性ガスを検出してよい。検出部は、ヒータによって第2測定温度に加熱されたガス感知層の電気特性に基づいて検出対象の第2酸化性ガスを検出してよい。 The oxidizing gas sensor may detect the first oxidizing gas and the second oxidizing gas. As the measurement temperature, the first measurement temperature and the second measurement temperature may be defined. The detection unit may detect the first oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer heated to the first measurement temperature by the heater. The detection unit may detect the second oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer heated to the second measurement temperature by the heater.

加熱制御部は、予備加熱に先だって測定温度より高い温度にガス感知層が加熱されるようにヒータを制御してよい。 The heating control unit may control the heater so that the gas sensing layer is heated to a temperature higher than the measurement temperature prior to the preheating.

ガス警報器は、酸化性ガスセンサを備えてよい。ガス警報器は、警報発生部を更に備えてよい。警報発生部は、酸化性ガスセンサが検出対象の酸化性ガスを検出したときに、警報を発生させてよい。 The gas alarm may include an oxidizing gas sensor. The gas alarm may further include an alarm generator. The alarm generating unit may generate an alarm when the oxidizing gas sensor detects the oxidizing gas to be detected.

本発明の第2の態様においては、制御装置を提供する。制御装置は、酸化性ガスセンサを制御してよい。酸化性ガスセンサは、ガス感知層を有してよい。酸化性ガスセンサは、ヒータを有してよい。ヒータは、ガス感知層を加熱してよい。酸化性ガスセンサは、ヒータにより加熱されたガス感知層の電気特性に基づいて検出対象の酸化性ガスを検出してよい。制御装置は、加熱制御部を備えてよい。加熱制御部は、ガス感知層の温度がTmin−100℃以上Tmin+50℃以下の範囲となるようにガス感知層を予備加熱させた後に、ガス感知層が測定温度に加熱されるようにヒータを制御してよい。極小値温度がTmin℃であってよい。極小値温度は、清浄空気中でのガス感知層の電気抵抗値の温度特性に関して電気抵抗値が極小値を呈するガス感知層の温度であってよい。制御装置は、検出部を備えてよい。検出部は、ヒータによって測定温度に加熱されたガス感知層の電気特性に基づいて検出対象の酸化性ガスを検出してよい。 In the second aspect of the present invention, a control device is provided. The control device may control the oxidizing gas sensor. The oxidizing gas sensor may have a gas sensing layer. The oxidizing gas sensor may have a heater. The heater may heat the gas sensing layer. The oxidizing gas sensor may detect the oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer heated by the heater. The control device may include a heating control unit. The heating control unit preheats the gas sensing layer so that the temperature of the gas sensing layer is in the range of T min -100 ° C or higher and T min + 50 ° C or lower, and then heats the gas sensing layer to the measurement temperature. The heater may be controlled. The minimum temperature may be T min ° C. The minimum temperature may be the temperature of the gas sensing layer at which the electrical resistance value exhibits the minimum value with respect to the temperature characteristics of the electrical resistance value of the gas sensing layer in clean air. The control device may include a detection unit. The detection unit may detect the oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer heated to the measurement temperature by the heater.

本発明の第3の態様においては、制御方法を提供する。制御方法は、酸化性ガスセンサの制御方法であってよい。酸化性ガスセンサは、ガス感知層を有してよい。酸化性ガスセンサは、ヒータを有してよい。ヒータは、ガス感知層を加熱してよい。酸化性ガスセンサは、ヒータにより加熱されたガス感知層の電気特性に基づいて検出対象の酸化性ガスを検出してよい。制御方法は、制御段階を備えてよい。制御段階においては、清浄空気中でのガス感知層の電気抵抗値の温度特性に関して電気抵抗値が極小値を呈するガス感知層の温度である極小値温度をTmin℃としたときに、ガス感知層の温度がTmin−100℃以上Tmin+50℃以下の範囲となるようにガス感知層をヒータによって予備加熱させた後に、ガス感知層が測定温度に加熱されるようにヒータが制御されてよい。制御方法は、検出段階を備えてよい。検出段階においては、ヒータによって測定温度に加熱されたガス感知層の電気特性に基づいて検出対象の酸化性ガスが検出されてよい。 In the third aspect of the present invention, a control method is provided. The control method may be a control method of an oxidizing gas sensor. The oxidizing gas sensor may have a gas sensing layer. The oxidizing gas sensor may have a heater. The heater may heat the gas sensing layer. The oxidizing gas sensor may detect the oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer heated by the heater. The control method may include a control step. In the control stage, gas sensing is performed when the minimum temperature, which is the temperature of the gas sensing layer in which the electrical resistance value exhibits the minimum value with respect to the temperature characteristics of the electrical resistance value of the gas sensing layer in clean air, is set to T min ° C. After preheating the gas sensing layer with a heater so that the temperature of the layer is in the range of T min -100 ° C or higher and T min + 50 ° C or lower, the heater is controlled so that the gas sensing layer is heated to the measurement temperature. Good. The control method may include a detection step. In the detection stage, the oxidizing gas to be detected may be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer heated to the measurement temperature by the heater.

なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。 The outline of the above invention does not list all the necessary features of the present invention. Sub-combinations of these feature groups can also be inventions.

本発明の第1実施形態のガスセンサ100の概略図である。It is the schematic of the gas sensor 100 of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態のガス警報器102の概略図である。It is the schematic of the gas alarm 102 of the 1st Embodiment of this invention. 検知部10の概略構成の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the schematic structure of the detection unit 10. 清浄空気中におけるガス感知層12の電気抵抗値の温度特性を示す図である。It is a figure which shows the temperature characteristic of the electric resistance value of a gas sensing layer 12 in clean air. ヒータ14の間欠駆動の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the intermittent drive of a heater 14. 本発明の第1実施形態のガスセンサ100におけるヒータ駆動パターンの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the heater drive pattern in the gas sensor 100 of 1st Embodiment of this invention. 比較例のガスセンサにおけるヒータ駆動パターンの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the heater drive pattern in the gas sensor of the comparative example. 本発明の第1実施形態のガスセンサ100による処理内容の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the processing content by the gas sensor 100 of 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態のガスセンサ100におけるヒータ駆動パターンの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the heater drive pattern in the gas sensor 100 of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態のガスセンサ100による処理内容の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the processing content by the gas sensor 100 of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態のガスセンサ100におけるヒータ駆動パターンの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the heater drive pattern in the gas sensor 100 of the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態のガスセンサ100による処理内容の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the processing content by the gas sensor 100 of the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態のガスセンサ100におけるヒータ駆動パターンの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the heater drive pattern in the gas sensor 100 of 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態のガスセンサ100による処理内容の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the processing content by the gas sensor 100 of 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態のガスセンサ100におけるヒータ駆動パターンの他の例を示す図である。It is a figure which shows another example of the heater drive pattern in the gas sensor 100 of 4th Embodiment of this invention.

以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。 Hereinafter, the present invention will be described through embodiments of the invention, but the following embodiments do not limit the inventions that fall within the scope of the claims. Also, not all combinations of features described in the embodiments are essential to the means of solving the invention.

図1は、本発明の第1実施形態のガスセンサ100の概略図である。本例のガスセンサ100は、検出対象の酸化性ガスを検出する酸化性ガスセンサである。酸化性ガスとしては、二酸化窒素(以下、NO)等の窒素酸化物ガス(NO)、塩素ガスやフッ素ガス等のハロゲン系ガス、および二酸化炭素(以下、CO)等が挙げられる。 FIG. 1 is a schematic view of the gas sensor 100 according to the first embodiment of the present invention. The gas sensor 100 of this example is an oxidizing gas sensor that detects the oxidizing gas to be detected. Examples of the oxidizing gas include nitrogen oxide gas (NO X ) such as nitrogen dioxide (hereinafter, NO 2 ), halogen-based gas such as chlorine gas and fluorine gas, and carbon dioxide (hereinafter, CO 2 ).

ガスセンサ100は、検知部10と制御装置200とを備える。検知部10は、ガス感知層12およびヒータ14を備える。本例の検知部10は、ヒータ14の温度を測定する温度測定部16を備える。本例と異なり、検知部10は、温度測定部16を備えていなくてもよい。他の例として、ヒータ14と温度測定部16を兼ねても良い。具体的には、ヒータの電気抵抗値の温度依存性を予め取得し、所定の温度になるようにヒータ電圧を調整しても良い。 The gas sensor 100 includes a detection unit 10 and a control device 200. The detection unit 10 includes a gas sensing layer 12 and a heater 14. The detection unit 10 of this example includes a temperature measurement unit 16 that measures the temperature of the heater 14. Unlike this example, the detection unit 10 does not have to include the temperature measurement unit 16. As another example, the heater 14 and the temperature measuring unit 16 may be combined. Specifically, the temperature dependence of the electric resistance value of the heater may be acquired in advance, and the heater voltage may be adjusted so as to reach a predetermined temperature.

ガス感知層12の電気特性は、存在するガスの種類および濃度によって異なる。ガス感知層12の電気特性は、ガス感知層12の電気抵抗値であってよい。ガス感知層12の電気特性は、ガス感知層12に電流を流したときのガス感知層12の両端の電圧値であってよく、ガス感知層12に両端に電圧を印加したときにガス感知層12に流れる電流値であってもよい。 The electrical properties of the gas sensing layer 12 vary depending on the type and concentration of gas present. The electrical characteristic of the gas sensing layer 12 may be the electrical resistance value of the gas sensing layer 12. The electrical characteristic of the gas sensing layer 12 may be the voltage value at both ends of the gas sensing layer 12 when a current is passed through the gas sensing layer 12, and the gas sensing layer when a voltage is applied to both ends of the gas sensing layer 12. It may be the value of the current flowing through 12.

ヒータ14は、ガス感知層12を加熱する。ヒータ14は、ガス感知層12を測定温度まで加熱する。測定温度は、対象ガスを検出するためにガス感知層12の電気特性を測定する温度を意味する。ガスセンサ100は、ヒータ14により測定温度に加熱されたガス感知層12の電気特性に基づいて検出対象の酸化性ガスを検出する。本実施形態のガスセンサ100は、ガス感知層12の表面に吸着した酸素を脱離させるためにガス感知層12を予備加熱した後に、ガス感知層12が測定温度に加熱されるようにヒータ14が制御される。 The heater 14 heats the gas sensing layer 12. The heater 14 heats the gas sensing layer 12 to the measurement temperature. The measurement temperature means a temperature at which the electrical characteristics of the gas sensing layer 12 are measured in order to detect the target gas. The gas sensor 100 detects the oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer 12 heated to the measurement temperature by the heater 14. In the gas sensor 100 of the present embodiment, after the gas sensing layer 12 is preheated in order to desorb oxygen adsorbed on the surface of the gas sensing layer 12, the heater 14 is heated so that the gas sensing layer 12 is heated to the measurement temperature. Be controlled.

制御装置200は、ガスセンサ100を制御する。本例では、検知部10および制御装置200が共にガスセンサ100に内蔵されている。但し、制御装置200は、ガスセンサ100に外付けされる制御装置であってもよい。制御装置200は、検出部20および加熱制御部30を備える。検出部20は、ヒータ14によって測定温度に加熱されたガス感知層12の電気特性に基づいて検出対象の酸化性ガスを検出する。検出部20は、ガス感知層12の電気特性を取得する。例えば、検出部20は、センサ抵抗であるガス感知層12の電気抵抗値を測定する。ガス感知層12の電気特性は、ガス感知層12の電気抵抗値であってよく、電気抵抗値に対応づけられた電圧または電流であってもよい。 The control device 200 controls the gas sensor 100. In this example, both the detection unit 10 and the control device 200 are built in the gas sensor 100. However, the control device 200 may be a control device externally attached to the gas sensor 100. The control device 200 includes a detection unit 20 and a heating control unit 30. The detection unit 20 detects the oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer 12 heated to the measurement temperature by the heater 14. The detection unit 20 acquires the electrical characteristics of the gas sensing layer 12. For example, the detection unit 20 measures the electric resistance value of the gas sensing layer 12, which is the sensor resistance. The electrical characteristic of the gas sensing layer 12 may be the electrical resistance value of the gas sensing layer 12, or may be a voltage or current associated with the electrical resistance value.

加熱制御部30は、ヒータ14を制御してガス感知層12の温度を制御する。具体的には、加熱制御部30は、ヒータ14に印加する電圧を制御してよい。特に、加熱制御部30は、ヒータ14によってガス感知層12を予備加熱温度T1に予備加熱させる。そして、加熱制御部30は、予備加熱の後に、ガス感知層12が測定温度T2に加熱されるようにヒータ14を制御する。加熱制御部30は、マイクロコンピュータによって構成してよい。予備加熱温度T1および測定温度T2については後述する。 The heating control unit 30 controls the heater 14 to control the temperature of the gas sensing layer 12. Specifically, the heating control unit 30 may control the voltage applied to the heater 14. In particular, the heating control unit 30 preheats the gas sensing layer 12 to the preheating temperature T1 by the heater 14. Then, the heating control unit 30 controls the heater 14 so that the gas sensing layer 12 is heated to the measurement temperature T2 after the preheating. The heating control unit 30 may be configured by a microcomputer. The preheating temperature T1 and the measurement temperature T2 will be described later.

本例の制御装置200は、設定部40および記憶部50を備える。設定部40は、加熱制御部30がヒータ14を制御するために必要な情報またはパラメータを設定する。記憶部は、記憶部50は、加熱制御部30がヒータ14を制御するために必要な情報またはパラメータを記憶する。記憶部50は、予備加熱温度T1、測定温度T2、予備加熱時間t1、および測定温度継続時間t2についての情報を記憶してよい。予備加熱時間t1は、ガス感知層12を予備加熱する時間である。測定温度継続時間t2は、ガス感知層12を測定温度T2に維持する時間である。本例の制御装置200が設定部40および記憶部50を含む場合を説明したが、制御装置200は、この場合に限定されない。制御装置200は、本例と異なり、各部を必ずしも含んでいなくてよい。 The control device 200 of this example includes a setting unit 40 and a storage unit 50. The setting unit 40 sets information or parameters necessary for the heating control unit 30 to control the heater 14. The storage unit 50 stores information or parameters necessary for the heating control unit 30 to control the heater 14. The storage unit 50 may store information about the preheating temperature T1, the measurement temperature T2, the preheating time t1, and the measurement temperature duration t2. The preheating time t1 is a time for preheating the gas sensing layer 12. The measurement temperature duration t2 is a time for maintaining the gas sensing layer 12 at the measurement temperature T2. Although the case where the control device 200 of this example includes the setting unit 40 and the storage unit 50 has been described, the control device 200 is not limited to this case. Unlike this example, the control device 200 does not necessarily include each part.

図2は、本発明の第1実施形態のガス警報器102の概略図である。本例のガス警報器102は、図1に示されるガスセンサ100の各構成に加えて、警報発生部60を更に備えている。警報発生部60は、ガスセンサ100が検出対象の酸化性ガスを検出したときに、警報を発生させる。具体的には、警報発生部60は、検出部20によるガス感知層12の電気特性の測定に基づいて検出対象の酸化性ガスが検出された場合に警報を発生させる。警報発生部60は、警報音等の音を発する警報音出力部を備えていてもよい。警報音出力部は、スピーカおよびブザー等で構成されてよい。警報発生部60は、LED(発光ダイオード)等を点滅または点灯させて警報状態を表示する警報表示部を備えてもよい。 FIG. 2 is a schematic view of the gas alarm 102 according to the first embodiment of the present invention. The gas alarm 102 of this example further includes an alarm generating unit 60 in addition to each configuration of the gas sensor 100 shown in FIG. The alarm generation unit 60 generates an alarm when the gas sensor 100 detects the oxidizing gas to be detected. Specifically, the alarm generation unit 60 generates an alarm when the oxidizing gas to be detected is detected based on the measurement of the electrical characteristics of the gas sensing layer 12 by the detection unit 20. The alarm generation unit 60 may include an alarm sound output unit that emits a sound such as an alarm sound. The alarm sound output unit may be composed of a speaker, a buzzer, or the like. The alarm generation unit 60 may include an alarm display unit that displays an alarm state by blinking or lighting an LED (light emitting diode) or the like.

図3は、検知部10の概略構成の一例を示す断面図である。本例の検知部10は、薄膜半導体式ガスセンサである。本例の検知部10は、シリコン基板2と、熱絶縁支持層3と、ヒータ14として機能するヒータ層と、電気絶縁層4と、ガス感知部5とを備える。シリコン基板2には、貫通孔6が設けられている。貫通孔6は、ダイアフラム構造を構成する。ガス感知部5は、接合層7と、ガス感知層電極8と、ガス感知層12と、触媒層9とを備えてよい。 FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of a schematic configuration of the detection unit 10. The detection unit 10 of this example is a thin film semiconductor type gas sensor. The detection unit 10 of this example includes a silicon substrate 2, a heat insulation support layer 3, a heater layer that functions as a heater 14, an electrical insulation layer 4, and a gas sensing unit 5. The silicon substrate 2 is provided with a through hole 6. The through hole 6 constitutes a diaphragm structure. The gas sensing unit 5 may include a bonding layer 7, a gas sensing layer electrode 8, a gas sensing layer 12, and a catalyst layer 9.

ガス感知層12は、例えば、SnO、In、WO、ZnO、およびTiO等の金属酸化物を主成分とする感知層として形成される。ガス感知層12は、好ましくは、SnOまたはWOであり、特に好ましくは、SnOである。触媒層9は、少なくとも一種の触媒を担持した焼結体であってよい。触媒層9は、検出対象の酸化性ガス以外のガスを選択的に燃焼させる。これにより、ガスセンサ100は、検出対象の酸化性ガスを選択的に検出しやすくなる。但し、触媒層9は省略してもよい。 The gas sensing layer 12 is formed as a sensing layer containing metal oxides such as SnO 2 , In 2 O 3 , WO 3 , ZnO, and TiO 2 as main components. The gas sensing layer 12 is preferably SnO 2 or WO 3 , and particularly preferably SnO 2 . The catalyst layer 9 may be a sintered body carrying at least one kind of catalyst. The catalyst layer 9 selectively burns a gas other than the oxidizing gas to be detected. This makes it easier for the gas sensor 100 to selectively detect the oxidizing gas to be detected. However, the catalyst layer 9 may be omitted.

本例の検知部10においては、MEMS技術を用いたヒータ構造が採用されている。本例のヒータ構造は、開口部を有する空間が形成せれたシリコン基板2を有する。本例では、開口部を有する空間として貫通孔6がシリコン基板2に形成されている。開口部を有する空間上に熱絶縁支持層3が設けられる。本例では、熱絶縁支持層3は、シリコン基板2の貫通孔6の開口部の全体に張られて、ダイアフラム構造が形成されてよい。ヒータ層であるヒータ14は、熱絶縁支持層3によって支持される。 In the detection unit 10 of this example, a heater structure using MEMS technology is adopted. The heater structure of this example has a silicon substrate 2 in which a space having an opening is formed. In this example, a through hole 6 is formed in the silicon substrate 2 as a space having an opening. The heat insulating support layer 3 is provided on the space having the opening. In this example, the heat insulating support layer 3 may be stretched over the entire opening of the through hole 6 of the silicon substrate 2 to form a diaphragm structure. The heater 14, which is a heater layer, is supported by the heat insulating support layer 3.

図3に示される検知部10は、例えば、以下のように製造される。両面に熱酸化層が設けられたシリコン基板2上にダイアフラム構造の支持層として、窒化珪素(Si)膜と酸化珪素(SiO)膜とを順次にプラズマCVD法にて形成する。これにより、熱酸化膜、窒化珪素膜、および酸化珪素膜が、この並び順に積層された熱絶縁支持層3が形成される。 The detection unit 10 shown in FIG. 3 is manufactured as follows, for example. A silicon nitride (Si 3 N 4 ) film and a silicon oxide (SiO 2 ) film are sequentially formed by a plasma CVD method as a support layer having a diaphragm structure on a silicon substrate 2 provided with thermal oxide layers on both sides. As a result, the thermal insulation support layer 3 in which the thermal oxide film, the silicon nitride film, and the silicon oxide film are laminated in this order is formed.

次に、酸化珪素膜上に、白金(Pt)−タングステン(W)をスパッタリング法により形成することによってヒータ14が形成される。ヒータ14を覆うように、SiO絶縁膜をスパッタリング法にて成膜することで、電気絶縁層4が形成される。電気絶縁層4上に、接合層7が形成される。さらに、RFマグネトロンスパッタリング法によって白金(Pt)等の導電性膜を成膜する。これによって、ガス感知層電極8が形成される。次に、ガス感知層12として、SnO、In、WO、ZnO、およびTiO等の金属酸化物の半導体膜が形成される。シリコン基板2の裏面側には、エッチング等によって貫通孔6が形成される。 Next, the heater 14 is formed by forming platinum (Pt) -tungsten (W) on the silicon oxide film by a sputtering method. The electrically insulating layer 4 is formed by forming a SiO 2 insulating film by a sputtering method so as to cover the heater 14. A bonding layer 7 is formed on the electrically insulating layer 4. Further, a conductive film such as platinum (Pt) is formed by the RF magnetron sputtering method. As a result, the gas sensing layer electrode 8 is formed. Next, as the gas sensing layer 12, a semiconductor film of metal oxides such as SnO 2 , In 2 O 3 , WO 3 , ZnO, and TiO 2 is formed. A through hole 6 is formed on the back surface side of the silicon substrate 2 by etching or the like.

以上のようなMEMS技術を用いたヒータ構造により、低消費電力を実現したヒータ14を用いたガスセンサ100が実現される。しかしながら、検知部10の構造は、ダイアフラム構造を有するものに限られない。検知部10は、キャビティ型と呼ばれるヒータ構造を有してよい。 The gas sensor 100 using the heater 14 that realizes low power consumption is realized by the heater structure using the MEMS technology as described above. However, the structure of the detection unit 10 is not limited to that having a diaphragm structure. The detection unit 10 may have a heater structure called a cavity type.

キャビティ型のヒータ構造においては、開口部を有する空間としてキャビティがシリコン基板に形成されている。キャビティは、シリコン基板の上面において開口部を有するが、シリコン基板2の下面側は、開口していない。キャビティは、四角錐または四角錐台形状を有してよい。キャビティ上に熱絶縁支持層が設けられている。熱絶縁支持層は、キャビティ上の中央に位置する中央部と、中央部と周辺部とを繋ぐ複数のブリッジ部とを備えてよい。 In the cavity type heater structure, the cavity is formed on the silicon substrate as a space having an opening. The cavity has an opening on the upper surface of the silicon substrate, but the lower surface side of the silicon substrate 2 is not open. The cavity may have a quadrangular pyramid or a quadrangular frustum shape. A thermal insulation support layer is provided on the cavity. The heat insulating support layer may include a central portion located at the center on the cavity and a plurality of bridge portions connecting the central portion and the peripheral portion.

図4は、清浄空気中におけるガス感知層12の電気抵抗値の温度特性を示す図である。清浄空気とは、検出対象の酸化性ガス等を含まない空気である。清浄空気は、酸素を含んでいる。薄膜半導体式のガスセンサ100におけるガス感知層12の表面、すなわち、SnO等の半導体表面には、酸素が負電荷吸着する。酸素が半導体表面に吸着することによって、半導体中のキャリアである電子が酸素に奪われる。これにより、半導体中の電子密度が少なくなり、ガス感知層12の電気抵抗値が高くなる。 FIG. 4 is a diagram showing the temperature characteristics of the electric resistance value of the gas sensing layer 12 in clean air. Clean air is air that does not contain oxidizing gas or the like to be detected. Clean air contains oxygen. Oxygen is negatively charged on the surface of the gas sensing layer 12 in the thin film semiconductor type gas sensor 100, that is, on the surface of a semiconductor such as SnO 2. When oxygen is adsorbed on the surface of the semiconductor, electrons, which are carriers in the semiconductor, are deprived by oxygen. As a result, the electron density in the semiconductor is reduced, and the electric resistance value of the gas sensing layer 12 is increased.

メタン、プロパン、およびブタン等の還元性ガスの検出は、400℃程度の測定温度で実行される。図4に示されるとおり、ガス感知層12の温度が400℃程度になると、ガス感知層12の表面には、酸素イオンO2−が吸着して、ガス感知層12の電気抵抗値が高くなっている。この状態で、メタン、プロパン、およびブタン等の還元性ガスが存在すると、負電荷吸着している酸素と還元性ガスとが反応する。この反応のときに、電子が半導体中に戻って、半導体中の電子密度が高くなる。したがって、ガス感知層12の電気抵抗値が低くなるように変化する。この電気抵抗値の変化の度合いが、ガスに対する感度に対応する。検出対象ガスが還元性ガスの場合は、十分な感度を得やすい。 Detection of reducing gases such as methane, propane, and butane is carried out at a measurement temperature of about 400 ° C. As shown in FIG. 4, when the temperature of the gas sensing layer 12 reaches about 400 ° C., oxygen ions O2- are adsorbed on the surface of the gas sensing layer 12, and the electric resistance value of the gas sensing layer 12 becomes high. ing. In this state, if a reducing gas such as methane, propane, or butane is present, the oxygen adsorbed on the negative charge reacts with the reducing gas. During this reaction, the electrons return into the semiconductor, increasing the electron density in the semiconductor. Therefore, the electric resistance value of the gas sensing layer 12 changes so as to be low. The degree of change in the electrical resistance value corresponds to the sensitivity to gas. When the detection target gas is a reducing gas, sufficient sensitivity can be easily obtained.

一方、酸化性ガスが存在する場合には、既に酸素が吸着しているSnO等の半導体表面に更に酸化性ガスが負電荷吸着して、ガス感知層12の電気抵抗値が高くなる。しかしながら、清浄空気中において酸素が半導体表面に吸着してガス感知層12が既に高抵抗化している。それゆえ、酸化性ガスが更に吸着しても、ガス感知層12の電気抵抗値の変化は小さい。したがって、酸化性ガスを検出する場合は、還元性ガスを検出する場合と比べて感度が低くなる。 On the other hand, when the oxidizing gas is present, the oxidizing gas is further negatively adsorbed on the surface of the semiconductor such as SnO 2 on which oxygen is already adsorbed, and the electric resistance value of the gas sensing layer 12 becomes high. However, oxygen is adsorbed on the semiconductor surface in clean air, and the gas sensing layer 12 has already increased resistance. Therefore, even if the oxidizing gas is further adsorbed, the change in the electric resistance value of the gas sensing layer 12 is small. Therefore, when the oxidizing gas is detected, the sensitivity is lower than when the reducing gas is detected.

図4に示されるとおり、周辺温度から250℃までの温度範囲では、温度が高くなるのにしたがってガス感知層12の電気抵抗値が低くなる。この電気抵抗値の低下過程は、ガス感知層12にはO(あるいはO )の形態で吸着していた酸素が、温度が高くなるのにしたがって脱離することに起因する。ガス感知層12の温度が250℃を超えると、250℃から400℃の温度範囲において、温度が高くなるのにしたがってガス感知層12の電気抵抗値が高くなる。特に250℃から400℃の温度変化率は、周辺温度から250℃までの温度変化率に比べて高い。この電気抵抗値の増加過程は、ガス感知層12に対して、O2−の形態で酸素が吸着することに起因すると考えられている。ガス感知層12が400℃を過ぎると、ガス感知層12の半導体としての特性として、温度が高くなるにつれて電気抵抗値が低くなる。 As shown in FIG. 4, in the temperature range from the ambient temperature to 250 ° C., the electric resistance value of the gas sensing layer 12 decreases as the temperature increases. This process of lowering the electric resistance value is caused by the oxygen adsorbed on the gas sensing layer 12 in the form of O − (or O 2 ) being desorbed as the temperature rises. When the temperature of the gas sensing layer 12 exceeds 250 ° C., the electric resistance value of the gas sensing layer 12 increases as the temperature increases in the temperature range of 250 ° C. to 400 ° C. In particular, the temperature change rate from 250 ° C. to 400 ° C. is higher than the temperature change rate from the ambient temperature to 250 ° C. Increase process in the electrical resistance, to the gas sensing layer 12, oxygen O 2- embodiment is believed to be due to the adsorption. When the temperature of the gas sensing layer 12 exceeds 400 ° C., the characteristic of the gas sensing layer 12 as a semiconductor is that the electric resistance value decreases as the temperature increases.

以上のとおり、清浄空気中でのガス感知層12の電気抵抗値の温度特性に関して、ガス感知層12の温度が極小値温度Tmin(℃)であるときに、ガス感知層12の電気抵抗値は極小値を呈する。本例のようにガス感知層12がSnOで形成さている場合、Tmin(℃)は、250℃である。Tmin(℃)は、ガス感知層12に材料に依存する。一方、清浄空気中でのガス感知層12の電気抵抗値の温度特性に関して、ガス感知層12の温度が極大値温度Tmax(℃)であるときに、ガス感知層12の電気抵抗値は極大値を呈する。Tmax(℃)は、400℃である。Tmax(℃)についても、ガス感知層12の材料に依存する。 As described above, regarding the temperature characteristics of the electric resistance value of the gas sensing layer 12 in clean air, when the temperature of the gas sensing layer 12 is the minimum temperature T min (° C.), the electrical resistance value of the gas sensing layer 12 Presents a minimum value. When the gas sensing layer 12 is formed of SnO 2 as in this example, T min (° C.) is 250 ° C. T min (° C.) depends on the material of the gas sensing layer 12. On the other hand, regarding the temperature characteristics of the electric resistance value of the gas sensing layer 12 in clean air, the electric resistance value of the gas sensing layer 12 is maximum when the temperature of the gas sensing layer 12 is the maximum temperature T max (° C.). Presents a value. T max (° C.) is 400 ° C. The T max (° C.) also depends on the material of the gas sensing layer 12.

本例のガスセンサ100において、加熱制御部30は、ガス感知層12の温度が、Tmin−100℃以上Tmin+50℃以下の範囲の予備加熱温度T1となるようにガス感知層12を予備加熱させる。すなわち、加熱制御部30は、予備加熱において、ガス感知層12の温度が、極小値温度Tminから100℃を引いた温度以上、かつ、極小値温度Tminに50℃を加えた温度以下の温度範囲にガス感知層12が加熱されるようにヒータ14を制御する。そして、加熱制御部30は、予備加熱の後に、ガス感知層12が測定温度T2に加熱されるようにヒータ14を制御する。 In the gas sensor 100 of this example, the heating control unit 30 preheats the gas sensing layer 12 so that the temperature of the gas sensing layer 12 becomes the preheating temperature T1 in the range of T min −100 ° C. or higher and T min + 50 ° C. or lower. Let me. That is, the heating control unit 30, in the preheating, the temperature of the gas sensing layer 12, or the temperature minus 100 ° C. from the minimum value temperature T min, and the temperature following the addition of 50 ° C. to minimum value temperature T min The heater 14 is controlled so that the gas sensing layer 12 is heated in the temperature range. Then, the heating control unit 30 controls the heater 14 so that the gas sensing layer 12 is heated to the measurement temperature T2 after the preheating.

ガス感知層12が予備加熱されることによって、ガス感知層12の表面に吸着している酸素であるOおよびO2−の吸着量が軽減した状態となる。したがって、ガス感知層12の表面に既に酸素が吸着されている状態に比べて、検出対象の酸化性ガスがガス感知層12の表面に吸着しやすくなる。特に、窒素感化物ガス(NOx)は、酸素より、清浄なガス感知層12の表面に吸着しやすい。 The state and the amount of adsorption of O 2- is reduced - by gas sensing layer 12 is preheated, O is oxygen adsorbed on the surface of the gas sensing layer 12. Therefore, the oxidizing gas to be detected is more likely to be adsorbed on the surface of the gas sensing layer 12 than in the state where oxygen is already adsorbed on the surface of the gas sensing layer 12. In particular, nitrogen-sensitive gas (NOx) is more easily adsorbed on the surface of the clean gas sensing layer 12 than oxygen.

加熱当初からガス感知層12が測定温度T2に加熱されるようにヒータ14を制御する場合に比べて、予備加熱を経た後に、ガス感知層12が測定温度T2に加熱されるようにヒータ14が制御される方が、検出対象の酸化性ガスに対する感度が高くなる。すなわち、予め定められた予備加熱時間にわたって予備加熱した後に、ガス感知層12が測定温度T2に加熱されるようにヒータ14を制御する方が、予備加熱を経ずに、ガス感知層12の温度が測定温度T2に加熱されるようにヒータ14が制御する場合に比べて、検出対象の酸化性ガスの濃度に応じてガス感知層12の電気抵抗値の上昇変化が大きくなる。 Compared with the case where the heater 14 is controlled so that the gas sensing layer 12 is heated to the measurement temperature T2 from the beginning of heating, the heater 14 is heated to the measurement temperature T2 after the preheating. The more controlled, the higher the sensitivity to the oxidizing gas to be detected. That is, it is better to control the heater 14 so that the gas sensing layer 12 is heated to the measurement temperature T2 after preheating for a predetermined preheating time, so that the temperature of the gas sensing layer 12 does not undergo preheating. Compared with the case where the heater 14 is controlled so that the gas is heated to the measurement temperature T2, the increase change of the electric resistance value of the gas sensing layer 12 becomes larger according to the concentration of the oxidizing gas to be detected.

本例においては、測定温度T2は、予備加熱温度T1よりも高い。測定温度T2は、検出対象の酸化性ガスの吸着開始温度より高い。一方、測定温度T2は、極大値温度Tmax(℃)より低くてよい。より好ましくは、測定温度T2は、Tmin+50℃以下であってよい。加熱制御部30は、ガス感知層12の温度が、極小値温度Tminに50℃を加えた温度以下の温度範囲にガス感知層12が加熱されるようにヒータ14を制御してよい。極大値温度Tmax(℃)以上の温度でガス感知層12の電気特性を測定する場合には、ガス感知層12の表面に酸素(O2−)が十分に吸着されており、酸化性ガスが吸着しにくい。一方、極大値温度Tmax(℃)より低い温度、より好ましくは、Tmin+50℃以下の温度でガス感知層12の電気特性を測定する場合には、空気中の酸素に加えて、検出対象の酸化性ガスが存在することによって、ガス感知層12の電気抵抗値が高くなりやすい。 In this example, the measurement temperature T2 is higher than the preheating temperature T1. The measurement temperature T2 is higher than the adsorption start temperature of the oxidizing gas to be detected. On the other hand, the measurement temperature T2 may be lower than the maximum temperature T max (° C.). More preferably, the measurement temperature T2 may be T min + 50 ° C. or lower. The heating control unit 30 may control the heater 14 so that the temperature of the gas sensing layer 12 is heated in a temperature range equal to or lower than the minimum temperature T min plus 50 ° C. When measuring the electrical characteristics of the gas sensing layer 12 at a temperature equal to or higher than the maximum temperature T max (° C.), oxygen (O2- ) is sufficiently adsorbed on the surface of the gas sensing layer 12, and the oxidizing gas. Is hard to adsorb. On the other hand, when measuring the electrical characteristics of the gas sensing layer 12 at a temperature lower than the maximum temperature T max (° C.), more preferably at a temperature of T min + 50 ° C. or lower, the detection target is added to oxygen in the air. Due to the presence of the oxidizing gas, the electric resistance value of the gas sensing layer 12 tends to be high.

図5は、ヒータ14の間欠駆動の一例を示す図である。図5の縦軸は、ガス感知層12の温度を示し、横軸は時間を示している。加熱制御部30は、周期的にヒータ14をパルス駆動してよい。すなわち、加熱制御部30は、ヒータ14に対してヒータ駆動電圧としてパルス状の電圧を周期的に印加する。 FIG. 5 is a diagram showing an example of intermittent drive of the heater 14. The vertical axis of FIG. 5 shows the temperature of the gas sensing layer 12, and the horizontal axis shows the time. The heating control unit 30 may periodically pulse drive the heater 14. That is, the heating control unit 30 periodically applies a pulsed voltage to the heater 14 as a heater driving voltage.

加熱制御部30は、30秒以上24時間以下の周期tcでパルス状の電圧をヒータ14に印加してよい。周期tcは、ガスセンサ100の用途によって決定される。空調機器または植物工場等において二酸化炭素を検出して濃度を測定する場合には、検出頻度が重視され、周期tcは、例えば、5分以下である。一方、環境測定用途において窒素酸化物を検出して濃度を測定する場合には、周期tcは、例えば、1時間以上としてよい。図5に示されるとおり、加熱制御部30は、予備加熱温度T1になるようにガス感知層12を予備加熱させた後に、ガス感知層12が測定温度T2となるようにヒータ14を制御する。 The heating control unit 30 may apply a pulsed voltage to the heater 14 at a period tk of 30 seconds or more and 24 hours or less. The period tc is determined by the application of the gas sensor 100. When carbon dioxide is detected and the concentration is measured in an air conditioner or a plant factory, the detection frequency is emphasized, and the cycle ct is, for example, 5 minutes or less. On the other hand, when nitrogen oxides are detected and the concentration is measured in environmental measurement applications, the period tk may be, for example, 1 hour or more. As shown in FIG. 5, the heating control unit 30 preheats the gas sensing layer 12 so as to reach the preheating temperature T1, and then controls the heater 14 so that the gas sensing layer 12 reaches the measurement temperature T2.

図6は、本発明の第1実施形態のガスセンサ100におけるヒータ駆動パターンの一例を示す図である。図6は、図5に示される一つのパルス状の部分を拡大した波形を示している。図6の縦軸は、ガス感知層12の温度を示し、横軸は時間を示している。図6に示されるとおり、周辺温度から予備加熱温度T1までガス感知層12をヒータ14によって予備加熱させる。予備加熱温度T1は、Tmin−100℃以上Tmin+50℃の範囲で予め定められてよい。ガス感知層12の材料がSnOである場合は、Tminは250℃である。したがって、予備加熱温度T1は、150℃以上300℃の範囲であってよい。 FIG. 6 is a diagram showing an example of a heater drive pattern in the gas sensor 100 according to the first embodiment of the present invention. FIG. 6 shows an enlarged waveform of one pulse-shaped portion shown in FIG. The vertical axis of FIG. 6 shows the temperature of the gas sensing layer 12, and the horizontal axis shows the time. As shown in FIG. 6, the gas sensing layer 12 is preheated by the heater 14 from the ambient temperature to the preheating temperature T1. The preheating temperature T1 may be predetermined in the range of T min −100 ° C. or higher and T min + 50 ° C. When the material of the gas sensing layer 12 is SnO 2 , T min is 250 ° C. Therefore, the preheating temperature T1 may be in the range of 150 ° C. or higher and 300 ° C. or higher.

予備加熱温度T1が150°より小さいと、ガス感知層12の表面が水分の影響を受ける。したがって、予備加熱温度T1は、150℃以上であることが望ましい。予備加熱時間t1は、予め定められてよい。予備加熱時間t1は、10秒以上10分以下であってよい。温度を安定させるためには、予備加熱時間t1が長い方が望ましい。一方、検出対象の酸化性ガスを迅速に検出するためには、予備加熱時間t1が短い方が望ましい。加熱制御部30は、予備加熱時間t1の経過後に、ガス感知層12が測定温度T2となるようにヒータ14を制御する。 When the preheating temperature T1 is smaller than 150 °, the surface of the gas sensing layer 12 is affected by moisture. Therefore, the preheating temperature T1 is preferably 150 ° C. or higher. The preheating time t1 may be predetermined. The preheating time t1 may be 10 seconds or more and 10 minutes or less. In order to stabilize the temperature, it is desirable that the preheating time t1 is long. On the other hand, in order to quickly detect the oxidizing gas to be detected, it is desirable that the preheating time t1 is short. The heating control unit 30 controls the heater 14 so that the gas sensing layer 12 reaches the measurement temperature T2 after the lapse of the preheating time t1.

測定温度T2は、極大値温度Tmax以下であってよい。また、測定温度T2は、Tmin+50℃以下であってよい。ガス感知層12の材料がSnOである場合は、Tminは250℃であり、Tmaxは400℃である。したがって、ガス感知層12の材料がSnOである場合は、測定温度T2は、400℃以下であってよく、より好ましくは350℃以下であってよく、更に好ましくは250℃より高く320℃以下であってよい。測定温度継続時間t2は、予備加熱時間t1より短くてよい。一例において、測定温度継続時間t2は、0.1秒以上60秒以下であってよい。 The measurement temperature T2 may be equal to or lower than the maximum temperature Tmax. Further, the measurement temperature T2 may be T min + 50 ° C. or lower. When the material of the gas sensing layer 12 is SnO 2 , T min is 250 ° C. and T max is 400 ° C. Therefore, when the material of the gas sensing layer 12 is SnO 2 , the measurement temperature T2 may be 400 ° C. or lower, more preferably 350 ° C. or lower, still more preferably 250 ° C. or higher and 320 ° C. or lower. May be. The measurement temperature duration t2 may be shorter than the preheating time t1. In one example, the measurement temperature duration t2 may be 0.1 seconds or more and 60 seconds or less.

測定温度継続時間t2の終了する直前のタイミングにおいて、検出部20は、ガス感知層12の電気特性を取得してよい。検出部20は、ヒータ14によって測定温度に加熱されたガス感知層12の電気特性に基づいて検出対象の酸化性ガスを検出する。具体的には、ガス感知層12の両端に既知の電圧を印加したときにガス感知層12に流れる電流を測定し、ガス感知層12の両端の電圧と電流とからガス感知層12の電気抵抗値を取得してよい。記憶部50には、電気抵抗値等の電気特性値と酸化性ガス濃度との関係とを示すルックアップテーブルが記憶されていてよい。検出部20は、取得した電気特性値についてルックアップテーブルを参照して対応するガス濃度を検出してよい。 At the timing immediately before the end of the measurement temperature duration t2, the detection unit 20 may acquire the electrical characteristics of the gas sensing layer 12. The detection unit 20 detects the oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer 12 heated to the measurement temperature by the heater 14. Specifically, the current flowing through the gas sensing layer 12 when a known voltage is applied to both ends of the gas sensing layer 12 is measured, and the electrical resistance of the gas sensing layer 12 is obtained from the voltage and current across the gas sensing layer 12. You may get the value. The storage unit 50 may store a look-up table showing the relationship between the electric characteristic value such as the electric resistance value and the oxidizing gas concentration. The detection unit 20 may detect the corresponding gas concentration with reference to the look-up table for the acquired electrical characteristic value.

次に、以上のように構成される第1実施形態のガスセンサ100の効果について、比較例を参照しつつ説明する。図7は、比較例のガスセンサにおけるヒータ駆動パターンの一例を示す図である。図7の縦軸は、ガス感知層12の温度を示し、横軸は時間を示している。比較例のガスセンサの構造は、ヒータ駆動パターンの違いを除いて、図1から図3に示される第1実施形態のガスセンサ100の構造と同様である。 Next, the effect of the gas sensor 100 of the first embodiment configured as described above will be described with reference to a comparative example. FIG. 7 is a diagram showing an example of a heater drive pattern in the gas sensor of the comparative example. The vertical axis of FIG. 7 shows the temperature of the gas sensing layer 12, and the horizontal axis shows the time. The structure of the gas sensor of the comparative example is the same as the structure of the gas sensor 100 of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3 except for the difference in the heater drive pattern.

比較例のガスセンサにおいては、加熱制御部30は、ガス感知層12を予備加熱することなく、ガス感知層12を直接的に測定温度T2に加熱するようにヒータ14を制御する。表1に、実施例1のガスセンサ100と比較例1のガスセンサとのセンサ感度の比較結果を示す。実施例1は、図6に示される第1実施形態において、予備加熱温度T1が250℃、予備加熱時間t1が30秒、測定温度が300℃、測定温度継続時間t2が0.3秒である場合である。比較例1は、図7に示される比較例において、予備加熱を実行せず、測定温度が300℃であり、測定温度継続時間t2が30秒である場合である。実施例1および比較例1において、検出対象の酸化性ガスはNOとし、NOの濃度は4ppmとした。 In the gas sensor of the comparative example, the heating control unit 30 controls the heater 14 so as to directly heat the gas sensing layer 12 to the measurement temperature T2 without preheating the gas sensing layer 12. Table 1 shows the results of comparing the sensor sensitivities of the gas sensor 100 of Example 1 and the gas sensor of Comparative Example 1. In the first embodiment shown in FIG. 6, the first embodiment has a preheating temperature T1 of 250 ° C., a preheating time t1 of 30 seconds, a measurement temperature of 300 ° C., and a measurement temperature duration t2 of 0.3 seconds. If this is the case. Comparative Example 1 is a case where the preheating is not executed, the measurement temperature is 300 ° C., and the measurement temperature duration t2 is 30 seconds in the comparative example shown in FIG. 7. In Example 1 and Comparative Example 1, the oxidizing gas to be detected was NO 2, and the concentration of NO 2 was 4 ppm.

Figure 0006879093
Figure 0006879093

ガス感度は、同じヒータ駆動条件において加熱した場合における清浄空気中のガス感知層12の電気抵抗値をRairとし、4ppmのNOガスの雰囲気中のガス感知層12の電気抵抗値をRgasとした場合に、RgasとRairの比率、具体的には、Rgas/Rairとして算出される。表1に示されるとおり、実施例1と比較例1とは、測定温度T2が同じであるにも関わらず、実施例1のガスセンサの方が、ガス感度が高くなることがわかった。実施例1においては、十分なガス感度が得られることがわかった。 For the gas sensitivity, the electric resistance value of the gas sensing layer 12 in the clean air when heated under the same heater driving conditions was set to Rair, and the electric resistance value of the gas sensing layer 12 in the atmosphere of 4 ppm NO 2 gas was set to Rgas. In some cases, it is calculated as the ratio of Rgas to Air, specifically, Rgas / Air. As shown in Table 1, it was found that the gas sensor of Example 1 had higher gas sensitivity than that of Example 1 and Comparative Example 1, although the measurement temperature T2 was the same. In Example 1, it was found that sufficient gas sensitivity was obtained.

図8は、本発明の第1実施形態のガスセンサ100による処理内容の一例を示すフローチャートである。図8は、ガスセンサ100の制御方法を示す。加熱制御部30は、ガス感知層12が予備加熱温度T1に加熱されるようにヒータ14を制御する(ステップS101)。予備加熱時間t1が経過するのを待って(ステップS102:YES)、加熱制御部30は、ガス感知層12が測定温度T2に加熱されるようにヒータ14を制御する(ステップS103)。ステップS101からステップS103は、ガス感知層12の温度がTmin−100℃以上Tmin+50℃以下の範囲となるようにガス感知層12をヒータ14によって予備加熱させた後に、ガス感知層12が測定温度に加熱されるようにヒータ14を制御する制御段階に対応する。 FIG. 8 is a flowchart showing an example of processing contents by the gas sensor 100 according to the first embodiment of the present invention. FIG. 8 shows a control method of the gas sensor 100. The heating control unit 30 controls the heater 14 so that the gas sensing layer 12 is heated to the preheating temperature T1 (step S101). Waiting for the preheating time t1 to elapse (step S102: YES), the heating control unit 30 controls the heater 14 so that the gas sensing layer 12 is heated to the measurement temperature T2 (step S103). In steps S101 to S103, the gas sensing layer 12 is preheated by the heater 14 so that the temperature of the gas sensing layer 12 is in the range of T min -100 ° C. or higher and T min + 50 ° C. or lower, and then the gas sensing layer 12 is formed. Corresponds to the control stage in which the heater 14 is controlled to be heated to the measurement temperature.

ガス感知層12が測定温度T2に加熱された状態において、予め定められた時間が経過するのを待って(ステップS104:YES)、検出部20は、ガス感知層12の電気特性を取得する(ステップS105)。予め定められた時間は、測定温度継続時間t2であってもよく、測定温度継続時間t2より短くてもよい。検出部20は、取得した電気特性に基づいて、検出対象の酸化性ガスを検出する(ステップS106)。具体的には、本例においては、検出対象の酸化性ガスの濃度が高くなるにつれて、ガス感知層12の電気抵抗値が高くなる。ステップS104からステップS106は、ヒータ14によって測定温度T2に加熱されたガス感知層12の電気特性に基づいて検出対象の酸化性ガスを検出する検出段階に対応する。 In a state where the gas sensing layer 12 is heated to the measurement temperature T2, waiting for a predetermined time to elapse (step S104: YES), the detection unit 20 acquires the electrical characteristics of the gas sensing layer 12 (step S104: YES). Step S105). The predetermined time may be the measurement temperature duration t2 or shorter than the measurement temperature duration t2. The detection unit 20 detects the oxidizing gas to be detected based on the acquired electrical characteristics (step S106). Specifically, in this example, the electric resistance value of the gas sensing layer 12 increases as the concentration of the oxidizing gas to be detected increases. Steps S104 to S106 correspond to a detection step of detecting an oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer 12 heated to the measurement temperature T2 by the heater 14.

検出対象の酸化性ガスが存在する場合、空気中の酸素と共に検出対象の酸化性ガスがガス感知層12の表面に吸着するため、空気中の酸素のみがガス感知層12の表面に吸着する場合に比べて、ガス感知層12の電気抵抗値が高くなる。特に、本例では予備加熱によってガス感知層12の表面が清浄になるため、酸化性ガスが吸着しやすい。検出部20は、取得した電気抵抗値等の電気特性値について、ルックアップテーブル等を参照して対応するガス濃度を検出してよい。また、検出部20は、ガス感知層12の電気抵抗値と、記憶部50に記憶された一または複数の閾値とを比較してよい。検出部20は、ガス感知層12の電気抵抗値が閾値より高ければ、検出対象の酸化性ガスが存在すると判断してよい。 When the oxidizing gas to be detected is present, the oxidizing gas to be detected is adsorbed on the surface of the gas sensing layer 12 together with the oxygen in the air. Therefore, only the oxygen in the air is adsorbed on the surface of the gas sensing layer 12. The electric resistance value of the gas sensing layer 12 is higher than that of the gas sensing layer 12. In particular, in this example, since the surface of the gas sensing layer 12 is cleaned by preheating, the oxidizing gas is easily adsorbed. The detection unit 20 may detect the corresponding gas concentration of the acquired electrical characteristic value such as the electric resistance value by referring to a look-up table or the like. Further, the detection unit 20 may compare the electric resistance value of the gas sensing layer 12 with one or more threshold values stored in the storage unit 50. If the electric resistance value of the gas sensing layer 12 is higher than the threshold value, the detection unit 20 may determine that the oxidizing gas to be detected exists.

また、検出対象の酸化性ガスがNOガスの場合には、酸素よりNOガスの方がガス感知層12の表面に吸着されやすい。したがって、空気中の酸素がガス感知層12の表面に吸着する場合に比べて、空気中の酸素のみならず、NOガスがガス感知層12の表面に吸着する方が電気抵抗値の上昇が早期に生じやすい。それゆえ、検出部20は、ガス感知層12を測定温度T2に加熱し始めてから、電気抵抗値が所定値に到達するまでの時間が短い場合に、NOガスが存在すると判断してよい。また、検出部20は、電気抵抗値が所定値に到達するまでの時間が短いほど、NOガスの濃度が高くなると判断してよい。 Further, when the oxidizing gas to be detected is NO 2 gas, NO 2 gas is more easily adsorbed on the surface of the gas sensing layer 12 than oxygen. Therefore, the electric resistance value increases when not only oxygen in the air but also NO 2 gas is adsorbed on the surface of the gas sensing layer 12 as compared with the case where oxygen in the air is adsorbed on the surface of the gas sensing layer 12. It tends to occur early. Therefore, the detection unit 20 may determine that NO 2 gas is present when the time from when the gas sensing layer 12 starts to be heated to the measurement temperature T2 until the electric resistance value reaches a predetermined value is short. Further, the detection unit 20 may determine that the shorter the time until the electric resistance value reaches a predetermined value, the higher the concentration of the NO 2 gas.

検出部20が、検出対象の酸化性ガスを検出した場合には(ステップS106:YES)、制御装置200はガス検出信号を生成する(ステップS107)。例えば、図2に示されるようなガス警報器102においては、警報発生部60が、検出対象の酸化性ガスが検出された旨の警報を発報する。次いで、加熱制御部30は、予備加熱時間t1と測定時間継続時間t2とを合計した加熱時間が経過するのを待って、ヒータ14への通電を停止してよい(ステップS108)。加熱制御部30は、周期的にヒータ14をパルス駆動してよい。したがって、加熱制御部30は、ヒータ駆動の周期tcが経過するのを待って(ステップS109:YES)、ガス感知層12が予備加熱温度T1に加熱されるようにヒータ14を制御する(ステップS101)。 When the detection unit 20 detects the oxidizing gas to be detected (step S106: YES), the control device 200 generates a gas detection signal (step S107). For example, in the gas alarm 102 as shown in FIG. 2, the alarm generation unit 60 issues an alarm to the effect that the oxidizing gas to be detected has been detected. Next, the heating control unit 30 may stop energizing the heater 14 after waiting for the total heating time of the preheating time t1 and the measurement time duration t2 to elapse (step S108). The heating control unit 30 may periodically pulse drive the heater 14. Therefore, the heating control unit 30 waits for the heater drive cycle ct to elapse (step S109: YES), and controls the heater 14 so that the gas sensing layer 12 is heated to the preheating temperature T1 (step S101). ).

以上のように、本実施形態のガスセンサ100によれば、清浄空気中でのガス感知層12の電気抵抗値が極小値を呈する極小値温度をTmin℃の前後の温度範囲においてガス感知層12を予備加熱する。予備加熱によって、ガス感知層12に吸着している酸素の量が低減されて、ガス感知層12の表面が清浄状態となる。このように予備加熱を経た後に、ガス感知層12が測定温度T2に加熱されるようにヒータ14を制御することで、検出対象の酸化性ガスに対するセンサ感度を高めることができる。 As described above, according to the gas sensor 100 of the present embodiment, the gas sensing layer 12 has a minimum temperature in which the electric resistance value of the gas sensing layer 12 in clean air exhibits a minimum value in a temperature range before and after T min ° C. Preheat. By preheating, the amount of oxygen adsorbed on the gas sensing layer 12 is reduced, and the surface of the gas sensing layer 12 becomes clean. By controlling the heater 14 so that the gas sensing layer 12 is heated to the measurement temperature T2 after undergoing the preheating in this way, the sensor sensitivity to the oxidizing gas to be detected can be increased.

図9は、本発明の第2実施形態のガスセンサ100におけるヒータ駆動パターンの一例を示す図である。第2実施形態のガスセンサ100の構造は、ヒータ駆動パターンの違いを除いて第1実施形態のガスセンサ100の構造と同様である。したがって、共通する部分についての繰返しの説明は省略される。図9は、第1実施形態における図6と同様に、図5に示されるような一つのパルス状の部分を拡大した波形を示している。図9の縦軸は、ガス感知層12の温度を示し、横軸は時間を示している。 FIG. 9 is a diagram showing an example of a heater drive pattern in the gas sensor 100 according to the second embodiment of the present invention. The structure of the gas sensor 100 of the second embodiment is the same as that of the gas sensor 100 of the first embodiment except for the difference in the heater drive pattern. Therefore, repeated explanations of common parts are omitted. FIG. 9 shows an enlarged waveform of one pulse-shaped portion as shown in FIG. 5, similar to FIG. 6 in the first embodiment. The vertical axis of FIG. 9 shows the temperature of the gas sensing layer 12, and the horizontal axis shows the time.

図9に示されるとおり、加熱制御部30は、予備加熱温度T1への予備加熱に先だって、測定温度T2より高い初期加熱温度T0にガス感知層12を加熱するようにヒータ14を制御する。より好ましくは、初期加熱温度T0は、極大値温度Tmax以上であってよい。初期加熱温度T0は、検出対象ガスがガス感知層12から脱離する温度であってよい。例えば、検出対象ガスがNOガスである場合、初期加熱温度T0は、400℃以上470℃以下であってよく、より好ましくは420℃以上460℃以下であってよい。初期加熱温度継続時間t0は、予備加熱時間t1より短くてよい。一例において、初期加熱温度継続時間t0は、0.1秒以上60秒以下であってよい。 As shown in FIG. 9, the heating control unit 30 controls the heater 14 so as to heat the gas sensing layer 12 to an initial heating temperature T0 higher than the measurement temperature T2 prior to the preheating to the preheating temperature T1. More preferably, the initial heating temperature T0 may be equal to or higher than the maximum temperature Tmax. The initial heating temperature T0 may be a temperature at which the detection target gas is desorbed from the gas sensing layer 12. For example, when the detection target gas is NO 2 gas, the initial heating temperature T0 may be 400 ° C. or higher and 470 ° C. or lower, and more preferably 420 ° C. or higher and 460 ° C. or lower. The initial heating temperature duration t0 may be shorter than the preheating time t1. In one example, the initial heating temperature duration t0 may be 0.1 seconds or more and 60 seconds or less.

初期加熱後は、図6に示される第1実施形態の場合と同様のヒータ駆動パターンが実行されてよい。本例によれば、加熱制御部30は、予備加熱温度T1への予備加熱に先だって、測定温度T2より高い初期加熱温度T0にガス感知層12が加熱される。したがって、一旦、ガス感知層12の表面に吸着した検出対象の酸化性ガスを離脱させることができる。それゆえ、ガス感知層12の表面が清浄となる。したがって、ガス感知層12の表面に、検出対象の酸化性ガスが吸着しやすくなるので、検出対象の酸化性ガスに対するセンサ感度を高めることができる。 After the initial heating, the same heater drive pattern as in the case of the first embodiment shown in FIG. 6 may be executed. According to this example, the heating control unit 30 heats the gas sensing layer 12 to an initial heating temperature T0 higher than the measurement temperature T2 prior to the preheating to the preheating temperature T1. Therefore, it is possible to release the oxidizing gas to be detected once adsorbed on the surface of the gas sensing layer 12. Therefore, the surface of the gas sensing layer 12 becomes clean. Therefore, the oxidizing gas to be detected is easily adsorbed on the surface of the gas sensing layer 12, so that the sensor sensitivity to the oxidizing gas to be detected can be increased.

次に、以上のように構成される第2実施形態のガスセンサ100の効果について、図7に示した比較例を参照しつつ説明する。表2に、実施例2のガスセンサ100と比較例1のガスセンサとのセンサ感度の比較結果を示す。実施例2は、図9に示される第2実施形態において、初期加熱温度T0が450℃、初期加熱温度継続時間t0が0.3秒、予備加熱温度T1が250℃、予備加熱時間t1が30秒、測定温度が300℃、測定温度継続時間t2が0.3秒である場合である。比較例1は、図7に示される比較例において、初期加熱および予備加熱を実行せず、測定温度T2が300℃であり、測定温度継続時間t2が30秒である場合である。実施例2および比較例1において、検出対象の酸化性ガスはNOとし、NOの濃度は4ppmとした。 Next, the effect of the gas sensor 100 of the second embodiment configured as described above will be described with reference to the comparative example shown in FIG. Table 2 shows the results of comparing the sensor sensitivities of the gas sensor 100 of Example 2 and the gas sensor of Comparative Example 1. In the second embodiment shown in FIG. 9, in the second embodiment, the initial heating temperature T0 is 450 ° C., the initial heating temperature duration t0 is 0.3 seconds, the preheating temperature T1 is 250 ° C., and the preheating time t1 is 30. Second, the measurement temperature is 300 ° C., and the measurement temperature duration t2 is 0.3 seconds. Comparative Example 1 is a case where the initial heating and the preheating are not executed, the measurement temperature T2 is 300 ° C., and the measurement temperature duration t2 is 30 seconds in the comparative example shown in FIG. In Example 2 and Comparative Example 1, the oxidizing gas to be detected was NO 2, and the concentration of NO 2 was 4 ppm.

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表2に示されるとおり、実施例2と比較例1とは、測定温度T2が同じであるにも関わらず、実施例2のガスセンサの方が、比較例1のガスセンサに比べて高いガス感度を奏することがわかった。実施例2においては、十分なガス感度が得られることがわかった。第1実施形態において表1の実施例1の場合には、ガス感度が2.0であるのに対し、第2実施形態において表2の実施例2の場合には、ガス感度が5.0である。 As shown in Table 2, although the measurement temperature T2 is the same in Example 2 and Comparative Example 1, the gas sensor of Example 2 has higher gas sensitivity than the gas sensor of Comparative Example 1. I found it to play. In Example 2, it was found that sufficient gas sensitivity was obtained. In the case of Example 1 of Table 1 in the first embodiment, the gas sensitivity is 2.0, whereas in the case of Example 2 of Table 2 in the second embodiment, the gas sensitivity is 5.0. Is.

図10は、本発明の第2実施形態のガスセンサ100による処理内容の一例を示すフローチャートである。加熱制御部30は、ガス感知層12が初期加熱温度T0に加熱されるようにヒータ14を制御する(ステップS201)。初期加熱温度継続時間t0が経過するのを待って(ステップS202:YES)、加熱制御部30は、ガス感知層12を予備加熱温度T1に加熱するようにヒータ14を制御する(ステップS203)。ステップS203からステップS211の処理内容は、図8におけるステップS101からステップS109の処理内容と同様である。したがって、繰り返しの説明が省略される。 FIG. 10 is a flowchart showing an example of processing contents by the gas sensor 100 according to the second embodiment of the present invention. The heating control unit 30 controls the heater 14 so that the gas sensing layer 12 is heated to the initial heating temperature T0 (step S201). Waiting for the initial heating temperature duration t0 to elapse (step S202: YES), the heating control unit 30 controls the heater 14 to heat the gas sensing layer 12 to the preheating temperature T1 (step S203). The processing contents of steps S203 to S211 are the same as the processing contents of steps S101 to S109 in FIG. Therefore, the repetitive description is omitted.

以上のように、本実施形態のガスセンサ100によれば、予備加熱温度T1への予備加熱に先だって、測定温度T2より高い初期加熱温度T0にガス感知層12が加熱される。次いで、本実施形態のガスセンサ100は、清浄空気中でのガス感知層12の電気抵抗値が極小値を呈する極小値温度をTmin℃の前後の温度範囲においてガス感知層12を予備加熱する。これによって、ガス感知層12に吸着している酸素の量を低減して、ガス感知層12の表面を清浄状態となる。このように初期加熱および予備加熱を経た後に、ガス感知層12が測定温度T2に加熱されるようにヒータ14を制御することで、検出対象の酸化性ガスに対するセンサ感度を高めることができる。 As described above, according to the gas sensor 100 of the present embodiment, the gas sensing layer 12 is heated to the initial heating temperature T0 higher than the measurement temperature T2 prior to the preheating to the preheating temperature T1. Next, the gas sensor 100 of the present embodiment preheats the gas sensing layer 12 in a temperature range of around T min ° C. at a minimum temperature at which the electric resistance value of the gas sensing layer 12 in clean air exhibits a minimum value. As a result, the amount of oxygen adsorbed on the gas sensing layer 12 is reduced, and the surface of the gas sensing layer 12 is brought into a clean state. By controlling the heater 14 so that the gas sensing layer 12 is heated to the measurement temperature T2 after the initial heating and the preheating, the sensor sensitivity to the oxidizing gas to be detected can be increased.

図11は、本発明の第3実施形態のガスセンサ100におけるヒータ駆動パターンの一例を示す図である。第3実施形態のガスセンサ100の構造は、ヒータ駆動パターンの違いを除いて第1または第2実施形態のガスセンサ100の構造と同様である。したがって、共通する部分についての繰返しの説明は省略される。図11は、第1実施形態における図6と同様に、図5に示されるような一つのパルス状の部分を拡大した波形を示している。図11の縦軸は、ガス感知層12の温度を示し、横軸は時間を示している。 FIG. 11 is a diagram showing an example of a heater drive pattern in the gas sensor 100 according to the third embodiment of the present invention. The structure of the gas sensor 100 of the third embodiment is the same as that of the gas sensor 100 of the first or second embodiment except for the difference in the heater drive pattern. Therefore, repeated explanations of common parts are omitted. FIG. 11 shows an enlarged waveform of one pulse-shaped portion as shown in FIG. 5, similar to FIG. 6 in the first embodiment. The vertical axis of FIG. 11 shows the temperature of the gas sensing layer 12, and the horizontal axis shows the time.

図11に示されるとおり、第3実施形態のガスセンサ100において、予備加熱時間t1が可変である。本例では、当初のヒータ駆動においては予備加熱時間t11であるのに対し、後続するヒータ駆動においては予備加熱時間t12である。予備加熱時間t12は、予備加熱時間t11より長い。予備加熱時間は長いほど、温度が安定して検出精度が高まる。一方、予備加熱時間は長いほど、検出頻度が低下する。 As shown in FIG. 11, in the gas sensor 100 of the third embodiment, the preheating time t1 is variable. In this example, the preheating time is t11 in the initial heater drive, whereas it is the preheating time t12 in the subsequent heater drive. The preheating time t12 is longer than the preheating time t11. The longer the preheating time, the more stable the temperature and the higher the detection accuracy. On the other hand, the longer the preheating time, the lower the detection frequency.

本例においては、検出頻度を考慮して、予備加熱時間が設定される。そして、検出部20がガス感知層12の電気抵抗値を取得する。ガス感知層12の電気抵抗値が、予め定められた第1抵抗値以上の場合には、検出対象の酸化性ガスが存在している蓋然性がある。したがって、ガス感知層12の電気抵抗値が、予め定められた第1抵抗値以上の場合には、加熱制御部30は、検出精度を考慮して、予備加熱時間を長くするように変更する。検出部20は、予備加熱時間t12が長く変更された予備加熱の後に、測定温度に加熱されたガス感知層12の電気特性に基づいて、検出部20は、検出対象の酸化性ガスを検出する。 In this example, the preheating time is set in consideration of the detection frequency. Then, the detection unit 20 acquires the electric resistance value of the gas sensing layer 12. When the electric resistance value of the gas sensing layer 12 is equal to or higher than the predetermined first resistance value, there is a possibility that the oxidizing gas to be detected is present. Therefore, when the electric resistance value of the gas sensing layer 12 is equal to or higher than the predetermined first resistance value, the heating control unit 30 changes the preheating time to be longer in consideration of the detection accuracy. The detection unit 20 detects the oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer 12 heated to the measurement temperature after the preheating in which the preheating time t12 is changed to be long. ..

図12は、本発明の第3実施形態のガスセンサ100による処理内容の一例を示すフローチャートである。ステップS301からステップS304までの処理は、ステップS101からステップS104までの処理と同様である。次いで、検出部20は、ガス感知層12の電気抵抗値を取得する(ステップS305)。そして、検出部20は、ガス感知層12の電気抵抗値が、第1閾値(第1抵抗値)以上であるかを判断する(ステップS306)。ガス感知層12が第1閾値以上である場合には(ステップS306:YES)、加熱制御部30は、予備加熱時間t1を既に変更済みであるかを判断する(ステップS307)。 FIG. 12 is a flowchart showing an example of processing contents by the gas sensor 100 according to the third embodiment of the present invention. The processing from step S301 to step S304 is the same as the processing from step S101 to step S104. Next, the detection unit 20 acquires the electric resistance value of the gas sensing layer 12 (step S305). Then, the detection unit 20 determines whether the electric resistance value of the gas sensing layer 12 is equal to or higher than the first threshold value (first resistance value) (step S306). When the gas sensing layer 12 is equal to or higher than the first threshold value (step S306: YES), the heating control unit 30 determines whether the preheating time t1 has already been changed (step S307).

予備加熱時間t1がまだ変更済みでない場合には(ステップS307:NO)、予備加熱時間t1を長くするように変更する(ステップS308)。一方、既に、予備加熱時間t1が変更済みである場合には(ステップS307:YES)、検出対象の酸化性ガスが検出されたとして、ガス検出信号を生成する(ステップS309)。ステップS310およびステップS311については、図8のステップS108およびステップS109と同様である。したがって、繰返しの説明は省略する。 If the preheating time t1 has not been changed yet (step S307: NO), the preheating time t1 is changed to be longer (step S308). On the other hand, when the preheating time t1 has already been changed (step S307: YES), it is assumed that the oxidizing gas to be detected is detected, and a gas detection signal is generated (step S309). Step S310 and step S311 are the same as those of step S108 and step S109 of FIG. Therefore, the description of repetition will be omitted.

図13は、本発明の第4実施形態のガスセンサ100におけるヒータ駆動パターンの一例を示す図である。本例のガスセンサ100は、第1酸化性ガスおよび第2酸化性ガスという複数種類の酸化性ガスを検出する。本例においては、測定温度T2として、酸化性ガスの種類に対応して第1測定温度T21および第2測定温度T22が定められている。検出部20は、ヒータ14によって第1測定温度T21に加熱されたガス感知層12の電気特性に基づいて検出対象の第1酸化性ガスを検出する。検出部20は、ヒータ14によって第2測定温度に加熱されたガス感知層12の電気特性に基づいて検出対象の第2酸化性ガスを検出する。 FIG. 13 is a diagram showing an example of a heater drive pattern in the gas sensor 100 according to the fourth embodiment of the present invention. The gas sensor 100 of this example detects a plurality of types of oxidizing gases, a first oxidizing gas and a second oxidizing gas. In this example, as the measurement temperature T2, the first measurement temperature T21 and the second measurement temperature T22 are defined according to the type of oxidizing gas. The detection unit 20 detects the first oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer 12 heated to the first measurement temperature T21 by the heater 14. The detection unit 20 detects the second oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer 12 heated to the second measurement temperature by the heater 14.

図13に示されているとおり、ヒータ14の駆動パターンにおいて、周期が変わるごとに測定温度を第1測定温度T21および第2測定温度T22の間で切り替えてよい。図14は、本発明の第4実施形態のガスセンサ100による処理内容の一例を示すフローチャートである。図14において、ステップS401からS405の処理は、図8のステップS101からステップS105の処理と同様である。但し、ステップS403において、測定温度が第1測定温度T21の場合もあり、第2測定温度T22の場合もある。 As shown in FIG. 13, in the drive pattern of the heater 14, the measurement temperature may be switched between the first measurement temperature T21 and the second measurement temperature T22 every time the period changes. FIG. 14 is a flowchart showing an example of processing contents by the gas sensor 100 according to the fourth embodiment of the present invention. In FIG. 14, the processes of steps S401 to S405 are the same as the processes of steps S101 to S105 of FIG. However, in step S403, the measurement temperature may be the first measurement temperature T21 or the second measurement temperature T22.

ステップS403において、測定温度T2が第1測定温度T21である場合には、検出部20は、第1酸化性ガスを検出する(ステップS406)。一方、ステップS403において、測定温度T2が第2測定温度T22である場合には、検出部20は、第2酸化性ガスを検出する(ステップS406)。検出部20が、検出対象の酸化性ガスを検出した場合には(ステップS406:YES)、制御装置200は、検出された酸化性ガスの種類に応じたガス検出信号を生成する(ステップS407)。ステップS408およびステップS409の処理は、図8におけるステップS108およびステップS109の処理と同様である。ステップS410において、測定温度T2が第1測定温度T21および第2測定温度T22のどちらかに切り替える。 In step S403, when the measurement temperature T2 is the first measurement temperature T21, the detection unit 20 detects the first oxidizing gas (step S406). On the other hand, in step S403, when the measurement temperature T2 is the second measurement temperature T22, the detection unit 20 detects the second oxidizing gas (step S406). When the detection unit 20 detects the oxidizing gas to be detected (step S406: YES), the control device 200 generates a gas detection signal according to the type of the detected oxidizing gas (step S407). .. The processing of step S408 and step S409 is the same as the processing of step S108 and step S109 in FIG. In step S410, the measurement temperature T2 is switched to either the first measurement temperature T21 or the second measurement temperature T22.

本例によれば、測定温度として複数の測定温度が準備されている。したがって、各測定温度に対応して複数種類の酸化性ガスを検出することができる。 According to this example, a plurality of measurement temperatures are prepared as measurement temperatures. Therefore, it is possible to detect a plurality of types of oxidizing gases corresponding to each measurement temperature.

図15は、本発明の第4実施形態のガスセンサ100におけるヒータ駆動パターンの他の例を示す図である。図13に示される例では、周期が変わるごとに測定温度が第1測定温度T21と第2測定温度T22との間で切り替える場合を説明した。しかしながら、1つの周期中で、測定温度を第1測定温度T21および第2測定温度T22に順次に切り替えてもよい。 FIG. 15 is a diagram showing another example of the heater drive pattern in the gas sensor 100 according to the fourth embodiment of the present invention. In the example shown in FIG. 13, a case where the measurement temperature is switched between the first measurement temperature T21 and the second measurement temperature T22 has been described every time the cycle changes. However, the measurement temperature may be sequentially switched to the first measurement temperature T21 and the second measurement temperature T22 in one cycle.

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。 Although the present invention has been described above using the embodiments, the technical scope of the present invention is not limited to the scope described in the above embodiments. It will be apparent to those skilled in the art that various changes or improvements can be made to the above embodiments. It is clear from the description of the claims that such modified or improved forms may also be included in the technical scope of the present invention.

特許請求の範囲、明細書、および図面中において示した装置、システム、プログラム、および方法における動作、手順、ステップ、および段階等の各処理の実行順序は、特段「より前に」、「先立って」等と明示しておらず、また、前の処理の出力を後の処理で用いるのでない限り、任意の順序で実現しうることに留意すべきである。特許請求の範囲、明細書、および図面中の動作フローに関して、便宜上「まず、」、「次に、」等を用いて説明したとしても、この順序で実施することが必須であることを意味するものではない。 The order of execution of operations, procedures, steps, steps, etc. in the devices, systems, programs, and methods shown in the claims, specification, and drawings is particularly "before" and "prior to". It should be noted that it can be realized in any order unless the output of the previous process is used in the subsequent process. Even if the scope of claims, the specification, and the operation flow in the drawings are explained using "first", "next", etc. for convenience, it means that it is essential to carry out in this order. It's not a thing.

2・・シリコン基板、3・・熱絶縁支持層、4・・電気絶縁層、5・・ガス感知部、6・・貫通孔、7・・接合層、8・・ガス感知層電極、9・・触媒層、10・・検知部、12・・ガス感知層、14・・ヒータ、16・・温度測定部、20・・検出部、30・・加熱制御部、40・・設定部、50・・記憶部、60・・警報発生部、100・・ガスセンサ、102・・ガス警報器、200・・制御装置 2 ... Silicon substrate, 3 ... Thermal insulation support layer, 4 ... Electrical insulation layer, 5 ... Gas sensing part, 6 ... Through hole, 7 ... Bonding layer, 8 ... Gas sensing layer electrode, 9 ...・ Catalyst layer, 10 ・ ・ detection unit, 12 ・ ・ gas detection layer, 14 ・ ・ heater, 16 ・ ・ temperature measurement unit, 20 ・ ・ detection unit, 30 ・ ・ heating control unit, 40 ・ ・ setting unit, 50 ・・ Storage unit, 60 ・ ・ Alarm generator, 100 ・ ・ Gas sensor, 102 ・ ・ Gas alarm, 200 ・ ・ Control device

Claims (13)

ガス感知層と、
前記ガス感知層を加熱するヒータと、
前記ヒータを制御して前記ガス感知層の温度を制御する加熱制御部と、
前記ヒータによって測定温度に加熱された前記ガス感知層の電気特性に基づいて検出対象の酸化性ガスを検出する検出部と、を備える酸化性ガスセンサであって、
清浄空気中での前記ガス感知層の電気抵抗値の温度特性に関して前記電気抵抗値が極小値を呈する前記ガス感知層の温度である極小値温度をTmin℃としたときに、前記加熱制御部は、前記ガス感知層の温度がTmin−100℃以上Tmin+50℃以下の範囲となるように前記ガス感知層を予備加熱させた後に、前記ガス感知層が前記測定温度に加熱されるように前記ヒータを制御する
酸化性ガスセンサ。
Gas sensing layer and
A heater that heats the gas sensing layer and
A heating control unit that controls the heater to control the temperature of the gas sensing layer,
An oxidizing gas sensor including a detection unit that detects an oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer heated to a measurement temperature by the heater.
Regarding the temperature characteristics of the electric resistance value of the gas sensing layer in clean air, when the minimum temperature, which is the temperature of the gas sensing layer at which the electric resistance value exhibits a minimum value, is set to T min ° C., the heating control unit Is to preheat the gas sensing layer so that the temperature of the gas sensing layer is in the range of T min −100 ° C. or higher and T min + 50 ° C. or lower, and then the gas sensing layer is heated to the measured temperature. An oxidizing gas sensor that controls the heater.
前記予備加熱によって、前記ガス感知層の表面に吸着する酸素を脱離させる
請求項1に記載の酸化性ガスセンサ。
The oxidizing gas sensor according to claim 1, wherein oxygen adsorbed on the surface of the gas sensing layer is desorbed by the preheating.
前記清浄空気中での前記ガス感知層の電気抵抗値の温度特性に関して前記電気抵抗値が極大値を呈する前記ガス感知層の温度である極大値温度をTmax℃としたときに、前記測定温度は極大値温度Tmax℃より低い
請求項1または2に記載の酸化性ガスセンサ。
The measured temperature when the maximum temperature, which is the temperature of the gas sensing layer at which the electric resistance value exhibits the maximum value, is set to T max ° C. with respect to the temperature characteristics of the electric resistance value of the gas sensing layer in the clean air. The oxidizing gas sensor according to claim 1 or 2, wherein is lower than the maximum temperature T max ° C.
前記測定温度は、前記検出対象の酸化性ガスの吸着開始温度より高い
請求項3に記載の酸化性ガスセンサ。
The oxidizing gas sensor according to claim 3, wherein the measured temperature is higher than the adsorption start temperature of the oxidizing gas to be detected.
前記測定温度は、Tmin+50℃以下である
請求項3に記載の酸化性ガスセンサ。
The oxidizing gas sensor according to claim 3, wherein the measurement temperature is T min + 50 ° C. or less.
前記予備加熱の時間は、10秒以上10分以下である
請求項1から5の何れか1項に記載の酸化性ガスセンサ。
The oxidizing gas sensor according to any one of claims 1 to 5, wherein the preheating time is 10 seconds or more and 10 minutes or less.
前記予備加熱の時間は可変である
請求項1から6の何れか1項に記載の酸化性ガスセンサ。
The oxidizing gas sensor according to any one of claims 1 to 6, wherein the preheating time is variable.
前記ガス感知層の電気抵抗値が予め定められた第1閾値以上の場合に、前記加熱制御部は、前記予備加熱の時間を長くするよう変更し、
時間が長く変更された予備加熱の後に、前記測定温度に加熱された前記ガス感知層の電気特性に基づいて、前記検出部は、検出対象の酸化性ガスを検出する
請求項1から7の何れか1項に記載の酸化性ガスセンサ。
When the electric resistance value of the gas sensing layer is equal to or higher than a predetermined first threshold value, the heating control unit is changed to lengthen the preheating time.
Any of claims 1 to 7, wherein the detection unit detects the oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer heated to the measurement temperature after the preheating in which the time is changed for a long time. The oxidizing gas sensor according to item 1.
第1酸化性ガスおよび第2酸化性ガスを検出する酸化性ガスセンサであって、
前記測定温度として、第1測定温度および第2測定温度が定められており、
前記検出部は、前記ヒータによって前記第1測定温度に加熱された前記ガス感知層の電気特性に基づいて検出対象の第1酸化性ガスを検出し、前記ヒータによって前記第2測定温度に加熱された前記ガス感知層の電気特性に基づいて検出対象の第2酸化性ガスを検出する
請求項1から8の何れか1項に記載の酸化性ガスセンサ。
An oxidizing gas sensor that detects the first oxidizing gas and the second oxidizing gas.
As the measurement temperature, the first measurement temperature and the second measurement temperature are defined.
The detection unit detects the first oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer heated to the first measurement temperature by the heater, and is heated to the second measurement temperature by the heater. The oxidizing gas sensor according to any one of claims 1 to 8, which detects the second oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer.
前記加熱制御部は、前記予備加熱に先だって前記測定温度より高い温度に前記ガス感知層が加熱されるようにヒータを制御する
請求項1から9の何れか1項に記載の酸化性ガスセンサ。
The oxidizing gas sensor according to any one of claims 1 to 9, wherein the heating control unit controls a heater so that the gas sensing layer is heated to a temperature higher than the measurement temperature prior to the preheating.
請求項1から10の何れか1項に記載の酸化性ガスセンサを備え、
前記酸化性ガスセンサが検出対象の酸化性ガスを検出したときに、警報を発生させる警報発生部を更に備える
ガス警報器。
The oxidizing gas sensor according to any one of claims 1 to 10 is provided.
A gas alarm that further includes an alarm generating unit that generates an alarm when the oxidizing gas sensor detects an oxidizing gas to be detected.
ガス感知層と、前記ガス感知層を加熱するヒータとを有し、前記ヒータにより加熱された前記ガス感知層の電気特性に基づいて検出対象の酸化性ガスを検出する酸化性ガスセンサを制御する制御装置であって、
清浄空気中での前記ガス感知層の電気抵抗値の温度特性に関して前記電気抵抗値が極小値を呈する前記ガス感知層の温度である極小値温度をTmin℃としたときに、前記ガス感知層の温度がTmin−100℃以上Tmin+50℃以下の範囲となるように前記ガス感知層を前記ヒータによって予備加熱させた後に、前記ガス感知層が測定温度に加熱されるように前記ヒータを制御する加熱制御部と、
前記ヒータによって前記測定温度に加熱された前記ガス感知層の電気特性に基づいて検出対象の酸化性ガスを検出する検出部と、を備える
制御装置。
A control that has a gas sensing layer and a heater that heats the gas sensing layer, and controls an oxidizing gas sensor that detects an oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer heated by the heater. It ’s a device,
Regarding the temperature characteristics of the electric resistance value of the gas sensing layer in clean air, when the minimum temperature, which is the temperature of the gas sensing layer at which the electric resistance value exhibits a minimum value, is set to T min ° C., the gas sensing layer After preheating the gas sensing layer with the heater so that the temperature of the gas sensing layer is in the range of T min -100 ° C. or higher and T min + 50 ° C. or lower, the heater is heated so that the gas sensing layer is heated to the measurement temperature. The heating control unit to control and
A control device including a detection unit that detects an oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer heated to the measurement temperature by the heater.
ガス感知層と、前記ガス感知層を加熱するヒータとを有し、前記ヒータにより加熱された前記ガス感知層の電気特性に基づいて検出対象の酸化性ガスを検出する酸化性ガスセンサの制御方法であって、
清浄空気中での前記ガス感知層の電気抵抗値の温度特性に関して前記電気抵抗値が極小値を呈する前記ガス感知層の温度である極小値温度をTmin℃としたときに、前記ガス感知層の温度がTmin−100℃以上Tmin+50℃以下の範囲となるように前記ガス感知層を前記ヒータによって予備加熱させた後に、前記ガス感知層が測定温度に加熱されるように前記ヒータを制御する制御段階と、
前記ヒータによって前記測定温度に加熱された前記ガス感知層の電気特性に基づいて検出対象の酸化性ガスを検出する検出段階と、を備える
制御方法。
A control method for an oxidizing gas sensor that has a gas sensing layer and a heater that heats the gas sensing layer, and detects an oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer heated by the heater. There,
Regarding the temperature characteristics of the electric resistance value of the gas sensing layer in clean air, when the minimum temperature, which is the temperature of the gas sensing layer at which the electric resistance value exhibits a minimum value, is set to T min ° C., the gas sensing layer After preheating the gas sensing layer with the heater so that the temperature of the gas sensing layer is in the range of T min -100 ° C. or higher and T min + 50 ° C. or lower, the heater is heated so that the gas sensing layer is heated to the measurement temperature. The control stage to control and
A control method comprising a detection step of detecting an oxidizing gas to be detected based on the electrical characteristics of the gas sensing layer heated to the measurement temperature by the heater.
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