JP6879481B2 - キノフタロン系化合物、これを含む感光性樹脂組成物、感光材、カラーフィルタ、およびディスプレイ装置 - Google Patents
キノフタロン系化合物、これを含む感光性樹脂組成物、感光材、カラーフィルタ、およびディスプレイ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6879481B2 JP6879481B2 JP2019537171A JP2019537171A JP6879481B2 JP 6879481 B2 JP6879481 B2 JP 6879481B2 JP 2019537171 A JP2019537171 A JP 2019537171A JP 2019537171 A JP2019537171 A JP 2019537171A JP 6879481 B2 JP6879481 B2 JP 6879481B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- substituted
- chemical formula
- unsubstituted
- groups
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N O=C(C1c2nc(cccc3)c3cc2)c2ccccc2C1=O Chemical compound O=C(C1c2nc(cccc3)c3cc2)c2ccccc2C1=O IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHGPZBDPGUUANK-UHFFFAOYSA-N O[IH]N(C(c1c2cccc1)=O)C2=O Chemical compound O[IH]N(C(c1c2cccc1)=O)C2=O XHGPZBDPGUUANK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
- C07D401/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Description
[化学式1]
R1およびR3のうちの少なくとも1つは、下記化学式2または化学式3で表され、
[化学式2]
Xは、O;またはNHであり、
Lは、置換もしくは非置換のアルキレン基;置換もしくは非置換のヘテロアルキレン基;置換もしくは非置換のアリーレン基;または置換もしくは非置換のヘテロアリーレン基であり、
Mは、直接結合;置換もしくは非置換のアルキレン基;置換もしくは非置換のヘテロアルキレン基;置換もしくは非置換のアリーレン基;または置換もしくは非置換のヘテロアリーレン基;または置換もしくは非置換の2価の窒素原子を含む二無水物基であり、
R1およびR3のうち前記化学式2または化学式3でないもの、R4、R41およびR42は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;ハロゲン基;ニトリル基;ニトロ基;ヒドロキシ基;−COR;−COOR;イミド基;アミド基;陰イオン性基;スルホン酸基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のシクロアルケニル基;置換もしくは非置換のスルホネート基;置換もしくは非置換のアミン基;置換もしくは非置換のアリール基;置換もしくは非置換のヘテロアリール基;および置換もしくは非置換の窒素原子を含む二無水物基からなる群より選択され、隣接する基は、互いに結合して環を形成してもよく、
前記Rは、水素;重水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基であり、
r1およびr3は、1〜4の整数であり、r1およびr2が2以上の場合、括弧()内の構造は、同一または異なり、
r4は、0〜4の整数であり、r4が2以上の場合、R4は、同一または異なり、
r2は、0〜2の整数であり、r2が2の場合、R2は、同一または異なり、
r41およびr42は、0〜3の整数であり、r41およびr42が2以上の場合、括弧()内の構造は、同一または異なる。
および
[化学式S]
[化学式N]
前記Rは、水素;重水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基である。
[化学式S]
[化学式N]
前記Rは、水素;重水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基であり、
n1は0〜4の整数、n2は0〜2の整数、n3は0〜4の整数、n8は0〜8の整数、n9は0〜4の整数、n10は0〜4の整数、n11は0〜2の整数、n12は0〜5の整数、n13は0〜2の整数、n14は0〜2の整数、n15は0〜4の整数、n16は0〜4の整数、n17は0〜3の整数、n18は0〜3の整数であり、
n1〜n18が2以上の場合、括弧()内の構造は、同一または異なる。
[化学式M−1]
前記Rは、水素;重水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基であり、
n19およびn20は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、0〜3の整数であり、n19およびn20が2以上の場合、括弧()内の構造は、同一または異なる。
前記Rは、水素;重水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基である。
前記Rは、水素;重水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基である。
[化学式4]
R2〜R4、R41、R42、L、M、r2〜r4、r41およびr42は、前記化学式1で定義した通りであり、
R5は、水素;重水素;ハロゲン基;ニトリル基;ニトロ基;ヒドロキシ基;−COR;−COOR;イミド基;アミド基;陰イオン性基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のシクロアルケニル基;置換もしくは非置換のスルホネート基;置換もしくは非置換のアミン基;置換もしくは非置換のアリール基;および置換もしくは非置換のヘテロアリール基からなる群より選択され、
前記Rは、水素;重水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基であり、
r5は、0〜3の整数であり、r5が2以上の場合、R5は、互いに同一または異なる。
[化学式6]
R1、R2、R4、R41、R42、L、M、r1、r2、r4、r41およびr42は、前記化学式1で定義した通りであり、
R6は、水素;重水素;ハロゲン基;ニトリル基;ニトロ基;ヒドロキシ基;−COR;−COOR;イミド基;アミド基;陰イオン性基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のシクロアルケニル基;置換もしくは非置換のスルホネート基;置換もしくは非置換のアミン基;置換もしくは非置換のアリール基;および置換もしくは非置換のヘテロアリール基からなる群より選択され、
前記Rは、水素;重水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基であり、
r6は、0〜3の整数であり、r6が2以上の場合、R6は、互いに同一または異なる。
[化学式4−1]
R2〜R5、R41、R42、L、M、r2〜r5、r41およびr42は、前記化学式4および化学式5で定義した通りである。
[化学式6−1]
R1、R2、R4、R6、R41、R42、L、M、r1、r2、r4、r6、r41およびr42は、前記化学式6および化学式7で定義した通りである。
[化学式1−1]
R1〜R3、r1およびr2は、前記化学式1で定義した通りであり、
R31は、水素;重水素;置換もしくは非置換のスルホネート基;または置換もしくは非置換の窒素原子を含む二無水物基であり、
r3−1は、0〜3の整数であり、r3−1が2以上の場合、R3は、同一または異なる。
[化学式S]
Aは、置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基であり、
Bは、−X−X'−または−X=X'−であり、
XおよびX'は、CR11R12であり、
R11、R12は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;N;またはSであるか、隣接する基は、互いに結合して環を形成し、
Z1〜Z3は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;ハロゲン基;置換もしくは非置換のアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基であるか、隣接する基は、互いに結合して環を形成してもよい。
[計算式1]
ΔEab(L*、a*、b*)={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2
化合物14:イオン化モードAPCI+:m/z=555[M+H]、Exact Mass:554
化合物15:イオン化モードAPCI+:m/z=555[M+H]、Exact Mass:554
化合物16:イオン化モードAPCI+:m/z=605[M+H]、Exact Mass:604
化合物17:イオン化モードAPCI+:m/z=750[M+H]、Exact Mass:749
化合物18:イオン化モードAPCI+:m/z=650[M+H]、Exact Mass:649
化合物19:イオン化モードAPCI+:m/z=606[M+H]、Exact Mass:605
化合物20:イオン化モードAPCI+:m/z=704[M+H]、Exact Mass:703
化合物21:イオン化モードAPCI+:m/z=704[M+H]、Exact Mass:703
化合物22:イオン化モードAPCI+:m/z=750[M+H]、Exact Mass:749
化合物23:イオン化モードAPCI+:m/z=701[M+H]、Exact Mass:700
化合物24:イオン化モードAPCI+:m/z=761[M+H]、Exact Mass:760
化合物1を5.554g、バインダー樹脂としてベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体(モル比70:30、酸価は113KOHmg/g、ゲル透過クロマトグラフィー(GPC)で測定した重量平均分子量20,000g/mol)、分子量分布(PDI)2.0g、固形分(S.C)25%、溶媒プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA、Propylene glycol monomethyl ether acetate)を含む)10.376g、光開始剤としてはI−369(BASF社)2.018g、多官能性モノマーの光重合性化合物としてDPHA(日本化薬)12.443g、溶媒PGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)68.593g、および添加剤の界面活性剤としてDIC社のF−475、1.016gを混合して、実施例1の感光性樹脂組成物を製造した。
実施例1における化合物1を化合物2〜24に変更したことを除けば、実施例1の感光性樹脂組成物と同一の組成で実施例2〜24の感光性樹脂組成物を製造した。
比較例の化合物PY138 5.554g、バインダー樹脂としてベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体(モル比70:30、酸価は113KOHmg/g、ゲル透過クロマトグラフィー(GPC)で測定した重量平均分子量20,000g/mol)、分子量分布(PDI)2.0g、固形分(S.C)25%、溶媒プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA、Propylene glycol monomethyl ether acetate)を含む)10.376g、光開始剤としてはI−369(BASF社)2.018g、多官能性モノマーの光重合性化合物としてDPHA(日本化薬)12.443g、溶媒PGMEA(ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)68.593g、および添加剤としてDIC社のF−475、1.016gを混合して、比較例の感光性樹脂組成物を製造した。
化合物1〜24および比較例の化合物(PY138)を用意し、25℃、1気圧でジメチルホルムアミド(DMF、DimethylFormamide)100gに対する溶解度を測定し、その結果を下記表1に示した。溶解度が1%以上の場合はO、1%未満の場合はXと表示した。
前記実施例1〜24の感光性樹脂組成物を基板の作製にそれぞれ使用した。具体的には、前記実施例1〜24の感光性樹脂組成物をガラス(5×5cm2)上にスピンコーティング(spin coating)し、100℃で100秒間前熱処理(prebake)を施してフィルムを形成させた。
前記基板の作製方法により作製された基板を、分光器(MCPD−大塚社)を用いて380nm〜780nmの範囲の可視光領域の透過率スペクトルを得た。また、前熱処理(prebake)基板を追加的に230℃で20分間後熱処理(postbake)して、同一の装備と測定範囲で透過率スペクトルを得た。
Claims (14)
- 下記化学式1で表される化合物:
[化学式1]
前記化学式1において、
R1およびR3のうちの少なくとも1つは、下記化学式2または化学式3で表され、
R2は、水素;重水素;ハロゲン基;ニトリル基;ニトロ基;ヒドロキシ基;−COR;−COOR;トリフルオルメタンスルホン酸陰イオン;ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミド陰イオン;ビストリフルオルメタンスルホンイミド陰イオン;ビスパーフルオルエチルスルホンイミド陰イオン;テトラフェニルボレート陰イオン;テトラキス(4−フルオロフェニル)ボレート;テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート;トリストリフルオロメタンスルホニルメチド;SO3 −;CO2 −;SO2N−SO2CF3;SO2N−SO2CF2CF3;ハロゲン基;スルホン酸基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のシクロアルケニル基;置換もしくは非置換のスルホネート基;置換もしくは非置換のアミン基;置換もしくは非置換のアリール基;置換もしくは非置換のヘテロアリール基;および置換もしくは非置換の窒素原子を含む二無水物基からなる群より選択され、
[化学式2]
[化学式3]
前記化学式2および化学式3において、
は、前記化学式1に連結される部位を示し、
Xは、O;またはNHであり、
Lは、置換もしくは非置換のアルキレン基;置換もしくは非置換のヘテロアルキレン基;置換もしくは非置換のアリーレン基;または置換もしくは非置換のヘテロアリーレン基であり、
Mは、直接結合;置換もしくは非置換のアルキレン基;置換もしくは非置換のヘテロアルキレン基;置換もしくは非置換のアリーレン基;または置換もしくは非置換のヘテロアリーレン基;または置換もしくは非置換の2価の窒素原子を含む二無水物基であり、
R1およびR3のうち前記化学式2または化学式3でないもの、R4、R41およびR42は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;ハロゲン基;ニトリル基;ニトロ基;ヒドロキシ基;−COR;−COOR;スルホン酸基;トリフルオルメタンスルホン酸陰イオン;ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミド陰イオン;ビストリフルオルメタンスルホンイミド陰イオン;ビスパーフルオルエチルスルホンイミド陰イオン;テトラフェニルボレート陰イオン;テトラキス(4−フルオロフェニル)ボレート;テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート;トリストリフルオロメタンスルホニルメチド;SO3 −;CO2 −;SO2N−SO2CF3;SO2N−SO2CF2CF3;ハロゲン基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のシクロアルケニル基;置換もしくは非置換のスルホネート基;置換もしくは非置換のアミン基;置換もしくは非置換のアリール基;置換もしくは非置換のヘテロアリール基;および置換もしくは非置換の窒素原子を含む二無水物基からなる群より選択され、隣接する基は、互いに結合して環を形成してもよく、
前記Rは、水素;重水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基であり、
前記窒素原子を含む二無水物基は、下記化学式Nまたは化学式Mで表され、
[化学式N]
[化学式M]
前記化学式Nおよび化学式Mにおいて、Bは、−X−X'−であり、XおよびX'は、CR11R12であり、R11、R12は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;N;またはSであるか、隣接する基は、互いに結合して環を形成し、Z1〜Z3は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;ハロゲン基;置換もしくは非置換のアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基であるか、隣接する基は、互いに結合して環を形成してもよく、
r1およびr3は、1〜4の整数であり、r1およびr3が2以上の場合、R1およびR3は、それぞれ同一または異なり、
r4は、0〜4の整数であり、r4が2以上の場合、R4は、同一または異なり、
r2は、0〜2の整数であり、r2が2の場合、R2は、同一または異なり、
r41およびr42は、0〜3の整数であり、r41およびr42が2以上の場合、R41およびR42は、それぞれ同一または異なる。 - 前記化学式1は、下記化学式4または化学式5で表される、請求項1に記載の化合物:
[化学式4]
[化学式5]
前記化学式4および化学式5において、
R2〜R4、R41、R42、L、M、r2〜r4、r41およびr42は、前記化学式1で定義した通りであり、
R5は、水素;重水素;ハロゲン基;ニトリル基;ニトロ基;ヒドロキシ基;−COR;−COOR;トリフルオルメタンスルホン酸陰イオン;ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミド陰イオン;ビストリフルオルメタンスルホンイミド陰イオン;ビスパーフルオルエチルスルホンイミド陰イオン;テトラフェニルボレート陰イオン;テトラキス(4−フルオロフェニル)ボレート;テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート;トリストリフルオロメタンスルホニルメチド;SO3 −;CO2 −;SO2N−SO2CF3;SO2N−SO2CF2CF3;ハロゲン基;スルホン酸基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のシクロアルケニル基;置換もしくは非置換のスルホネート基;置換もしくは非置換のアミン基;置換もしくは非置換のアリール基;および置換もしくは非置換のヘテロアリール基からなる群より選択され、
前記Rは、水素;重水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基であり、
r5は、0〜3の整数であり、r5が2以上の場合、R5は、互いに同一または異なる。 - 前記化学式1は、下記化学式6または化学式7で表される、請求項1に記載の化合物:
[化学式6]
[化学式7]
前記化学式6および化学式7において、
R1、R2、R4、R41、R42、L、M、r1、r2、r4、r41およびr42は、前記化学式1で定義した通りであり、
R6は、水素;重水素;ハロゲン基;ニトリル基;ニトロ基;ヒドロキシ基;−COR;−COOR;トリフルオルメタンスルホン酸陰イオン;ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミド陰イオン;ビストリフルオルメタンスルホンイミド陰イオン;ビスパーフルオルエチルスルホンイミド陰イオン;テトラフェニルボレート陰イオン;テトラキス(4−フルオロフェニル)ボレート;テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート;トリストリフルオロメタンスルホニルメチド;SO3 −;CO2 −;SO2N−SO2CF3;SO2N−SO2CF2CF3;ハロゲン基;スルホン酸基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のシクロアルケニル基;置換もしくは非置換のスルホネート基;置換もしくは非置換のアミン基;置換もしくは非置換のアリール基;および置換もしくは非置換のヘテロアリール基からなる群より選択され、
前記Rは、水素;重水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基であり、
r6は、0〜3の整数であり、r6が2以上の場合、R6は、互いに同一または異なる。 - 前記化学式1は、下記化学式1−1で表される、請求項1に記載の化合物:
[化学式1−1]
前記化学式1−1において、
R1〜R3、r1およびr2は、前記化学式1で定義した通りであり、
R31は、水素;重水素;置換もしくは非置換のスルホネート基;または置換もしくは非置換の窒素原子を含む二無水物基であり、
前記窒素原子を含む二無水物基は、下記化学式Nまたは化学式Mで表され、
[化学式N]
[化学式M]
前記化学式Nおよび化学式Mにおいて、Bは、−X−X'−であり、XおよびX'は、CR11R12であり、R11、R12は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;N;またはSであるか、隣接する基は、互いに結合して環を形成し、Z1〜Z3は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;ハロゲン基;置換もしくは非置換のアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基であるか、隣接する基は、互いに結合して環を形成してもよく、
r3−1は、0〜3の整数であり、r3−1が2以上の場合、R3は、同一または異なる。 - 前記R3のうちの少なくとも1つは、水素;下記化学式S、化学式N、または化学式Mで表される、請求項1から6のいずれか一項に記載の化合物:
[化学式S]
[化学式N]
[化学式M]
前記化学式S、化学式N、および化学式Mにおいて、
は、前記化学式1に連結される部位を示し、
Aは、置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基であり、
Bは、−X−X'−であり、
XおよびX'は、CR11R12であり、
R11、R12は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;N;またはSであるか、隣接する基は、互いに結合して環を形成し、
Z1〜Z3は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;ハロゲン基;置換もしくは非置換のアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基であるか、隣接する基は、互いに結合して環を形成してもよい。 - 請求項1〜8のいずれか1項に記載の化合物;バインダー樹脂;多官能性モノマー;光開始剤;および溶媒を含む感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物中の固形分の総重量を基準として、前記化学式1で表される化合物の含有量は5重量%〜60重量%であり、
前記バインダー樹脂の含有量は1重量%〜60重量%であり、
前記光開始剤の含有量は0.1重量%〜20重量%であり、
前記多官能性モノマーの含有量は0.1重量%〜50重量%である、請求項9に記載の感光性樹脂組成物。 - 添加剤をさらに含む、請求項9または10に記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の化合物を含む感光材。
- 請求項12に記載の感光材を含むカラーフィルタ。
- 請求項13に記載のカラーフィルタを含むディスプレイ装置。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020180039312A KR102235984B1 (ko) | 2018-04-04 | 2018-04-04 | 퀴노프탈론계 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 디스플레이 장치 |
| KR10-2018-0039312 | 2018-04-04 | ||
| PCT/KR2018/012614 WO2019194381A1 (ko) | 2018-04-04 | 2018-10-24 | 퀴노프탈론계 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 및 디스플레이 장치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020520343A JP2020520343A (ja) | 2020-07-09 |
| JP6879481B2 true JP6879481B2 (ja) | 2021-06-02 |
Family
ID=68100873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019537171A Active JP6879481B2 (ja) | 2018-04-04 | 2018-10-24 | キノフタロン系化合物、これを含む感光性樹脂組成物、感光材、カラーフィルタ、およびディスプレイ装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6879481B2 (ja) |
| KR (1) | KR102235984B1 (ja) |
| CN (1) | CN110557947B (ja) |
| TW (1) | TWI711673B (ja) |
| WO (1) | WO2019194381A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110804039B (zh) * | 2019-11-13 | 2020-08-14 | 大连理工大学 | 一类含邻苯二甲酰亚胺的1,8-萘酐类衍生物,其药学可接受的盐及其抗肿瘤药物应用 |
| WO2025263433A1 (ja) * | 2024-06-18 | 2025-12-26 | Toppanホールディングス株式会社 | 着色層形成用組成物、その製造方法、光学フィルムおよび表示装置 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0768459B2 (ja) * | 1989-01-17 | 1995-07-26 | 大日精化工業株式会社 | 染 料 |
| JPH0726340B2 (ja) * | 1989-01-17 | 1995-03-22 | 大日精化工業株式会社 | 染料の製造方法 |
| KR20010009058A (ko) | 1999-07-07 | 2001-02-05 | 성재갑 | 감광성 수지 조성물 |
| JP2001335711A (ja) * | 2000-05-29 | 2001-12-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | キノフタロン系化合物、それを含む顔料分散剤、顔料分散組成物及び着色感光性組成物 |
| JP2004067715A (ja) * | 2002-08-01 | 2004-03-04 | Toray Ind Inc | 顔料分散液、着色剤組成物、カラーフィルター、及び液晶表示パネル |
| KR101402636B1 (ko) * | 2005-12-01 | 2014-06-03 | 시바 홀딩 인크 | 옥심 에스테르 광개시제 |
| JP5737078B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2015-06-17 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | カラーフィルタ用赤色着色組成物、およびカラーフィルタ |
| JP2012236882A (ja) * | 2011-05-10 | 2012-12-06 | Dainippon Printing Co Ltd | 黄色顔料分散液、カラーフィルタ用黄色感光性樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機発光表示装置 |
| JP5267696B1 (ja) * | 2012-03-02 | 2013-08-21 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | キノフタロン化合物 |
| KR20170112549A (ko) * | 2016-03-31 | 2017-10-12 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물을 포함하는 착색제, 이를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물 및 그의 제조방법 |
| KR102067858B1 (ko) * | 2016-05-24 | 2020-01-17 | 주식회사 엘지화학 | 화합물 및 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물 |
| KR101813447B1 (ko) | 2017-03-24 | 2017-12-28 | 동우 화인켐 주식회사 | 녹색 화소용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 화상표시장치 |
-
2018
- 2018-04-04 KR KR1020180039312A patent/KR102235984B1/ko active Active
- 2018-10-24 JP JP2019537171A patent/JP6879481B2/ja active Active
- 2018-10-24 TW TW107137582A patent/TWI711673B/zh active
- 2018-10-24 CN CN201880006680.4A patent/CN110557947B/zh active Active
- 2018-10-24 WO PCT/KR2018/012614 patent/WO2019194381A1/ko not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2019194381A1 (ko) | 2019-10-10 |
| JP2020520343A (ja) | 2020-07-09 |
| TWI711673B (zh) | 2020-12-01 |
| TW201942255A (zh) | 2019-11-01 |
| CN110557947B (zh) | 2022-06-14 |
| KR20190115970A (ko) | 2019-10-14 |
| CN110557947A (zh) | 2019-12-10 |
| KR102235984B1 (ko) | 2021-04-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI675830B (zh) | 二苯并哌喃類化合物、含有該二苯并哌喃類化合物的著色劑組成物及含有該二苯并哌喃類化合物的樹脂組成物 | |
| TWI764041B (zh) | 化合物、著色劑組成物、光阻、彩色濾光片以及顯示裝置 | |
| JP6897906B2 (ja) | 化合物、これを含む色材組成物およびこれを含む樹脂組成物 | |
| JP6927551B2 (ja) | キサンテン系化合物およびこれを含む感光性樹脂組成物 | |
| JP6753597B2 (ja) | 化合物およびこれを含む感光性樹脂組成物 | |
| KR102662536B1 (ko) | 색재 조성물, 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 및 디스플레이 장치 | |
| KR20200069070A (ko) | 색재 조성물, 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 및 디스플레이 장치 | |
| JP6879481B2 (ja) | キノフタロン系化合物、これを含む感光性樹脂組成物、感光材、カラーフィルタ、およびディスプレイ装置 | |
| KR102303318B1 (ko) | 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터 및 디스플레이 장치 | |
| KR102330963B1 (ko) | 화합물, 이를 포함하는 색재 조성물, 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 디스플레이 장치 | |
| JP6705108B2 (ja) | 化合物、これを含む色材組成物及びこれを含む樹脂組成物 {compound, colorant composition comprising the same and resin composition comprising the same} | |
| KR102295199B1 (ko) | 색재 조성물, 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 디스플레이 장치 | |
| KR102718652B1 (ko) | 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 디스플레이 장치 | |
| JP6915767B2 (ja) | 化合物、重合体、色材組成物、樹脂組成物、カラーフィルタおよびディスプレイ装置 | |
| JP2021517601A (ja) | 着色剤組成物、感光材、カラーフィルタおよびディスプレイ装置 | |
| JP6828923B2 (ja) | キサンテン系化合物、色材組成物、感光性樹脂組成物、感光材、カラーフィルタおよびディスプレイ装置 | |
| JP6940231B2 (ja) | キサンテン系化合物、これを含む感光性樹脂組成物、感光材、カラーフィルタ、およびディスプレイ装置 | |
| KR102732092B1 (ko) | 화합물, 이를 포함하는 색재 조성물, 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 디스플레이 장치 | |
| CN112204465A (zh) | 感光性树脂组合物、感光材料、滤色器和显示装置 | |
| KR102683195B1 (ko) | 색재 조성물, 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 및 디스플레이 장치 | |
| KR102648146B1 (ko) | 색재 조성물, 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 및 디스플레이 장치 | |
| KR102268234B1 (ko) | 화합물, 색재 조성물, 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터 및 디스플레이 장치 | |
| CN112204466A (zh) | 感光性树脂组合物、感光材料、滤色器和显示装置 | |
| KR20200113977A (ko) | 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 디스플레이 장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190801 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200728 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201023 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201208 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210219 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210330 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210414 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6879481 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |