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JP6881457B2 - Method for producing 1-chloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene - Google Patents
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JP6881457B2 - Method for producing 1-chloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene - Google Patents

Method for producing 1-chloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene Download PDF

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Description

本発明は、1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for producing 1-chloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene.

1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(CFCF=CHCl、HCFO−1224yd。以下、1224ydとも記す。)は、3,3−ジクロロ−1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン(CF−CF−CHCl、HCFC−225ca)や1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン(CClF−CF−CHClF、HCFC−225cb)等のクロロフルオロカーボンに代わって、新たに洗浄剤、冷媒、発泡剤、溶剤、およびエアゾール用途等に有用とされる、地球温暖化係数(GWP)が小さく地球環境に負荷の少ない化合物である。1-Chloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene (CF 3 CF = CHCl, HCFO-1224yd; hereinafter also referred to as 1224yd) is 3,3-dichloro-1,1,1,2,2. - pentafluoropropane (CF 3 -CF 2 -CHCl 2, HCFC-225ca) and 1,3-dichloro-1,1,2,2,3-pentafluoropropane (CClF 2 -CF 2 -CHClF, HCFC -225cb ), Etc., is a compound that has a small global warming potential (GWP) and has a low impact on the global environment, which is newly useful for cleaning agents, refrigerants, chlorofluorocarbons, solvents, aerosol applications, and the like.

1224ydの製造例としては、例えば、特許文献1に、1,1−ジクロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(CFCF=CCl、CFO−1214ya。以下、1214yaとも記す。)をパラジウム触媒の存在下、水素と反応させて還元することで2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(CFCF=CH、HFO−1234yf)を得る際に、中間体として1224ydが得られることが記載されている。特許文献1では、上記反応において中間体として得られる1224ydを1214yaとともに、HFO−1234yfの原料化合物として使用している。As an example of production of 1224yd, for example, in Patent Document 1, 1,1-dichloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene (CF 3 CF = CCl 2 , CFO-1214ya; hereinafter, also referred to as 1214ya). To obtain 2,3,3,3-tetrafluoropropene (CF 3 CF = CH 2 , HFO-1234yf) by reacting with hydrogen in the presence of a palladium catalyst to obtain 1224 yd as an intermediate. It is stated that it will be done. In Patent Document 1, 1224yd obtained as an intermediate in the above reaction is used together with 1214ya as a raw material compound for HFO-1234yf.

上記特許文献1には、1214yaを水素と反応させて還元する方法において、目的物質であるHFO−1234yfを高収率で得る条件や手段の記載はあるが、副生物として位置づけられる1224ydを効率よく得る方法について記載はない。すなわち、特許文献1の方法では、1224ydも多少生成されるが、1224ydにとっては過還元体であるHFO−1234yfやさらにその還元体である1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(CFCHFCH、HFC−254eb)、1,1,1−トリフルオロプロパン(CFCHCH、HFC−263fb)、3,3,3−トリフルオロプロペン(CFCH=CH、HFO−1243zf)等が多量に副生する問題がある。Although Patent Document 1 describes conditions and means for obtaining HFO-1234yf, which is a target substance, in a high yield in a method for reducing 1214ya by reacting it with hydrogen, 1224yd, which is positioned as a by-product, can be efficiently obtained. There is no description on how to obtain it. That is, in the method of Patent Document 1, 1224yd is also generated to some extent, but for 1224yd, HFO-1234yf, which is a hyperreduced product, and 1,1,1,2-tetrafluoropropane (CF 3 CHFCH), which is a reduced product thereof, are further produced. 3 , HFC-254eb), 1,1,1-trifluoropropane (CF 3 CH 2 CH 3 , HFC-263fb), 3,3,3-trifluoropropene (CF 3 CH = CH 2 , HFO-1243zf) There is a problem that a large amount of propane is produced as a by-product.

国際公開第2011/162341号International Publication No. 2011/162341

本発明は、1,1−ジクロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(CFO−1214ya。以下、1214yaとも記す。)を還元して1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HCFO−1224yd。以下、1224ydとも記す。)を得る方法において、過還元体である1,1,1−トリフルオロプロパン(HFC−263fb)や3,3,3−トリフルオロプロペン(HFO−1243zf)等の副生を低減した効率的な1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法を提供することを目的とする。 In the present invention, 1,1-dichloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene (CFO-1214ya; hereinafter, also referred to as 1214ya) is reduced to 1-chloro-2,3,3,3-tetra. In the method for obtaining fluoropropene (HCFO-1224yd; hereinafter, also referred to as 1224yd), superreducants 1,1,1-trifluoropropane (HFC-263fb) and 3,3,3-trifluoropropene (HFO). It is an object of the present invention to provide an efficient method for producing 1-chloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene with reduced by-products such as −1243 zf).

本明細書において、ハロゲン化炭化水素については、化合物名の後の括弧内にその化合物の略称を記すが、本明細書では必要に応じて化合物名に代えてその略称を用いる。 In the present specification, for halogenated hydrocarbons, the abbreviation of the compound is described in parentheses after the compound name, but in the present specification, the abbreviation is used instead of the compound name as necessary.

1224ydは二重結合上の置換基の位置により、幾何異性体であるZ体とE体が存在する。本明細書中では特に断らずに化合物名や化合物の略称を用いた場合には、Z体およびE体から選ばれる少なくとも1種を示し、化合物名や化合物の略称の後ろに(E)または(Z)を付した場合には、其々の化合物のE体またはZ体であることを示す。例えば、1224yd(Z)はZ体を示し、1224yd(E)はE体を示す。 1224yd has Z-form and E-form which are geometric isomers depending on the position of the substituent on the double bond. In the present specification, when a compound name or a compound abbreviation is used without particular mention, at least one selected from Z-form and E-form is indicated, and (E) or (E) or ((E) or (E) or ( When Z) is added, it indicates that it is an E-form or a Z-form of each compound. For example, 1224yd (Z) indicates a Z form and 1224yd (E) indicates an E form.

本発明は、以下に示す構成の1224ydの製造方法を提供する。
[1]パラジウムを含む金属と塩素とを有し、パラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が2.0以上であるパラジウム触媒を担体に担持させたパラジウム触媒担持担体の存在下、気相で1,1−ジクロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを水素と反応させて1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを得ることを特徴とする1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法。
[2]前記パラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が2.0〜5.0である、[1]に記載の製造方法。
[3]前記パラジウムを含む金属におけるパラジウム100質量部に対するパラジウム以外の金属の割合が50質量部以下である、[1]または[2]に記載の製造方法。
[4]前記担体に対する前記パラジウムを含む金属の質量割合が、0.1〜10質量%である[1]〜[3]のいずれかに記載の製造方法。
[5]前記パラジウムを含む金属がパラジウム単体である[1]〜[4]のいずれかに記載の製造方法。
[6]前記担体が活性炭である[1]〜[5]のいずれかに記載の製造方法。
[7]前記活性炭がヤシ殻活性炭である、[6]に記載の製造方法。
[8]前記1,1−ジクロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンのモル数に対する前記水素のモル数の比(H/1214ya)が1.4以下である、[1]〜[7]のいずれかに記載の製造方法。
[9]前記1,1−ジクロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを水素と反応させる反応温度が200℃以下である、[1]〜[8]のいずれかに記載の製造方法。
The present invention provides a method for producing 1224 yd having the following constitution.
[1] Supporting a palladium catalyst on which a palladium catalyst having a metal containing palladium and chlorine and having a ratio (Cl / Pd) of the number of moles of chlorine atoms to the number of moles of palladium atoms is 2.0 or more is supported on a carrier. In the presence of a carrier, 1,1-dichloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene is reacted with hydrogen in the gas phase to obtain 1-chloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene. A method for producing 1-chloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene.
[2] The production method according to [1], wherein the ratio (Cl / Pd) of the number of moles of chlorine atoms to the number of moles of palladium atoms is 2.0 to 5.0.
[3] The production method according to [1] or [2], wherein the ratio of the metal other than palladium to 100 parts by mass of palladium in the metal containing palladium is 50 parts by mass or less.
[4] The production method according to any one of [1] to [3], wherein the mass ratio of the metal containing palladium to the carrier is 0.1 to 10% by mass.
[5] The production method according to any one of [1] to [4], wherein the metal containing palladium is a simple substance of palladium.
[6] The production method according to any one of [1] to [5], wherein the carrier is activated carbon.
[7] The production method according to [6], wherein the activated carbon is coconut shell activated carbon.
[8] The ratio of the number of moles of hydrogen to the number of moles of 1,1-dichloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene (H 2 /1214ya) is 1.4 or less, [1] to The production method according to any one of [7].
[9] The production method according to any one of [1] to [8], wherein the reaction temperature for reacting the 1,1-dichloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene with hydrogen is 200 ° C. or lower. ..

本発明の製造方法は、安定した製造方法が確立されている1214yaを還元して1224ydを得る方法であり、工業的に実施しやすく、安定に実施可能な方法である。また、本発明の1224ydの製造方法によれば、過還元体であるHFC−263fbやHFO−1243zf等の副生を低減した、選択率に優れた効率的な1224ydの製造が可能である。 The production method of the present invention is a method of reducing 1214ya for which a stable production method has been established to obtain 1224yd, which is industrially easy to carry out and can be carried out stably. Further, according to the method for producing 1224yd of the present invention, it is possible to efficiently produce 1224yd having excellent selectivity and reducing by-products such as HFC-263fb and HFO-1243zf which are superreducing agents.

実施例に使用した反応装置を示した模式図である。It is a schematic diagram which showed the reaction apparatus used in an Example.

本発明の1224ydの製造方法は、パラジウムを含む金属と塩素とを有し、パラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が2.0以上であるパラジウム触媒を担体に担持させたパラジウム触媒担持担体の存在下、気相で1214yaを水素(以下、Hとも記す。)と反応させることを特徴とする。
本発明の1224ydの製造方法に係る1214yaと水素の反応は下式(1)で示される。
The method for producing 1224yd of the present invention uses a palladium catalyst having a metal containing palladium and chlorine and having a ratio (Cl / Pd) of the number of moles of chlorine atoms to the number of moles of palladium atoms of 2.0 or more as a carrier. presence of a supported thereby palladium catalyst supporting carrier, hydrogen 1214ya in gas phase which comprises reacting (hereinafter, also referred to. as H 2) and.
The reaction between 1214ya and hydrogen according to the method for producing 1224yd of the present invention is represented by the following formula (1).

Figure 0006881457
Figure 0006881457

本発明の製造方法で得られる1224ydは、Z体およびE体の混合物であってもよく、Z体のみであってもよく、E体のみでもよい。1224ydは、燃焼性を抑えるハロゲンの割合が高いうえに、大気中のOHラジカルによって分解され易い炭素−炭素二重結合を分子内に有していることから、燃焼性が低く、オゾン層への影響が少なく、かつGWPが小さい。したがって、洗浄剤、冷媒、発泡剤、溶剤、およびエアゾール用途として有用性が高い。 The 1224yd obtained by the production method of the present invention may be a mixture of Z-form and E-form, may be only Z-form, or may be E-form only. 1224yd has a high proportion of halogen that suppresses flammability, and has a carbon-carbon double bond in the molecule that is easily decomposed by OH radicals in the atmosphere. Therefore, 1224yd has low flammability and is transferred to the ozone layer. The effect is small and the GWP is small. Therefore, it is highly useful as a cleaning agent, a refrigerant, a foaming agent, a solvent, and an aerosol application.

<1214ya>
本発明の1224ydの製造方法は1214yaを原料とする。1214yaは、公知の方法により製造できる。1214yaの入手方法は特に限定されず、例えば、式(2)に示されるとおり、HCFC−225caを相間移動触媒の存在下にアルカリ水溶液と接触させて脱フッ化水素反応させる方法により製造可能である。
<1214ya>
The method for producing 1224yd of the present invention uses 1214ya as a raw material. 1214ya can be produced by a known method. The method for obtaining 1214ya is not particularly limited, and for example, as shown in the formula (2), it can be produced by a method in which HCFC-225ca is brought into contact with an alkaline aqueous solution to cause a hydrogen fluoride reaction in the presence of a phase transfer catalyst. ..

Figure 0006881457
Figure 0006881457

なお、式(2)の反応に用いるHCFC−225caは、HCFC−225caとその異性体を含むジクロロペンタフルオロプロパン(HCFC−225)異性体混合物の状態で使用できる。HCFC−225異性体混合物を用いる場合、相間移動触媒によりHCFC−225異性体混合物中のHCFC−225caのみが選択的に脱フッ化水素される。反応後、得られた1214yaは蒸留等の公知の方法により分離回収できる。相間移動触媒としては、テトラブチルアンモニウムブロマイド(TBAB)が好ましい。 The HCFC-225ca used in the reaction of the formula (2) can be used in the state of a mixture of dichloropentafluoropropane (HCFC-225) isomers containing HCFC-225ca and its isomers. When the HCFC-225 isomer mixture is used, only HCFC-225ca in the HCFC-225 isomer mixture is selectively defluorinated by the phase transfer catalyst. After the reaction, the obtained 1214ya can be separated and recovered by a known method such as distillation. As the phase transfer catalyst, tetrabutylammonium bromide (TBAB) is preferable.

HCFC−225caを含むHCFC−225異性体混合物は、例えば、テトラフルオロエチレンとジクロロフルオロメタンを、塩化アルミニウム等の触媒の存在下で反応させることにより製造できる。該反応により得られるHCFC−225異性体混合物には、HCFC−225caとHCFC−225cbが主成分として含まれ、他に2,2−ジクロロ−1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロパン(CHFCClCF、HCFC−225aa)、2,3−ジクロロ−1,1,2,3,3−ペンタフルオロプロパン(CHFCClFCClF、HCFC−225bb)等が少量含まれる。The HCFC-225 isomer mixture containing HCFC-225ca can be produced, for example, by reacting tetrafluoroethylene and dichlorofluoromethane in the presence of a catalyst such as aluminum chloride. The HCFC-225 isomer mixture obtained by the reaction contains HCFC-225ca and HCFC-225cc as main components, and 2,2-dichloro-1,1,3,3,3-pentafluoropropane (). CHF 2 CCl 2 CF 3 , HCFC-225aa), 2,3-dichloro-1,1,2,3,3-pentafluoropropane (CHF 2 CClFCClF 2 , HCFC-225bb) and the like are contained in a small amount.

HCFC−225caを含むHCFC−225異性体混合物は、市販品を用いてもよい。市販品としては、アサヒクリンAK225(旭硝子社製、商品名、HCFC−225caの48モル%と、HCFC−225cbの52モル%の混合物)等が挙げられる。 As the HCFC-225 isomer mixture containing HCFC-225ca, a commercially available product may be used. Examples of commercially available products include Asahiclean AK225 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., trade name, a mixture of 48 mol% of HCFC-225ca and 52 mol% of HCFC-225cc).

<パラジウム触媒担持担体>
本発明の製造方法においては、上記の方法等で入手した1214yaと水素を、パラジウムを含む金属と塩素とを有し、パラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が2.0以上であるパラジウム触媒を担体に担持させたパラジウム触媒担持担体の存在下、気相で反応させる。本明細書において、パラジウムを含む金属と塩素とを有し、パラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が2.0以上であるパラジウム触媒を担体に担持させたパラジウム触媒担持担体を「パラジウム触媒担持担体(X)」ともいう。パラジウム触媒を「Pd触媒」とも記載する。
<Palladium catalyst-supported carrier>
In the production method of the present invention, 1214ya and hydrogen obtained by the above method or the like have a metal containing palladium and chlorine, and the ratio of the number of moles of chlorine atom to the number of moles of palladium atom (Cl / Pd) is The reaction is carried out in the gas phase in the presence of a palladium catalyst-supporting carrier on which a palladium catalyst of 2.0 or more is supported. In the present specification, palladium having a metal containing palladium and chlorine and having a palladium catalyst on which the ratio of the number of moles of chlorine atoms (Cl / Pd) to the number of moles of palladium atoms (Cl / Pd) is 2.0 or more is supported on a carrier. The catalyst-supporting carrier is also referred to as "palladium catalyst-supporting carrier (X)". The palladium catalyst is also referred to as "Pd catalyst".

本発明は、上記式(1)の反応をパラジウム触媒担持担体(X)の存在下で行うことで、過還元体であるHFC−263fbやHFO−1243zf等の副生を低減した、選択率に優れた効率的な1224ydの製造を可能とするものである。 In the present invention, by carrying out the reaction of the above formula (1) in the presence of the palladium catalyst-supporting carrier (X), by-products such as HFC-263fb and HFO-1243zf, which are superreducing agents, are reduced, and the selectivity is increased. It enables excellent and efficient production of 1224 yd.

本発明において、パラジウム触媒担持担体(X)におけるパラジウム触媒は、パラジウムを含む金属と塩素とを有し、パラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が2.0以上である触媒である。上記パラジウムを含む金属を以下、金属(M)ともいう。金属(M)は、パラジウムのみからなってもよく、パラジウム以外の金属(以下、「その他の金属」ともいう。)を含んでもよい。金属(M)はパラジウムを主体とする、具体的には金属(M)におけるパラジウム100質量部に対するその他の金属の割合が50質量部以下であることが、副生物を低減させる観点から好ましい。パラジウム100質量部に対するその他の金属の割合は、副生物を低減させる観点から30質量部以下が好ましく、10質量部以下がさらに好ましい。金属(M)はパラジウム以外の金属を含有しない、すなわちパラジウム単体であることが高い触媒活性が得られる点で特に好ましい。 In the present invention, the palladium catalyst in the palladium catalyst-supporting carrier (X) has a metal containing palladium and chlorine, and the ratio of the number of moles of chlorine atoms to the number of moles of palladium atoms (Cl / Pd) is 2.0 or more. Is a catalyst. Hereinafter, the metal containing palladium is also referred to as a metal (M). The metal (M) may consist only of palladium, or may contain a metal other than palladium (hereinafter, also referred to as “other metal”). The metal (M) is mainly composed of palladium, and specifically, the ratio of other metals to 100 parts by mass of palladium in the metal (M) is preferably 50 parts by mass or less from the viewpoint of reducing by-products. The ratio of other metals to 100 parts by mass of palladium is preferably 30 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or less, from the viewpoint of reducing by-products. The metal (M) does not contain a metal other than palladium, that is, it is particularly preferable that the metal (M) is palladium alone in that high catalytic activity can be obtained.

その他の金属としては、鉄、ルテニウム、オスミウム等の第8族元素;コバルト、ロジウム、イリジウム等の第9族元素;ニッケル、白金等の第10族元素;金、銀、銅等の第11族元素;レニウム、亜鉛、カドミウム、錫、鉛、アンチモン、ビスマス等が挙げられる。これらその他の金属は、1種であっても、2種以上であってもよい。金属(M)は、パラジウムとその他の金属との合金、すなわち、パラジウム合金であってもよく、パラジウムとその他の金属との混合物であってもよい。パラジウム合金としては、パラジウム/白金合金やパラジウム/ロジウム合金などが挙げられる。パラジウムに加えてその他の金属を含有する金属(M)を用いた場合、パラジウム単体からなる金属(M)を用いた場合に比べて触媒耐久性が高くなる。 Other metals include Group 8 elements such as iron, ruthenium and osmium; Group 9 elements such as cobalt, rhodium and iridium; Group 10 elements such as nickel and platinum; Group 11 elements such as gold, silver and copper. Elements; examples include ruthenium, zinc, cadmium, tin, lead, antimony, bismus and the like. These other metals may be one kind or two or more kinds. The metal (M) may be an alloy of palladium and other metals, that is, a palladium alloy, or may be a mixture of palladium and other metals. Examples of the palladium alloy include a palladium / platinum alloy and a palladium / rhodium alloy. When a metal (M) containing another metal in addition to palladium is used, the catalyst durability is higher than when a metal (M) composed of palladium alone is used.

パラジウム触媒担持担体(X)におけるパラジウム触媒は、パラジウムを含む金属と塩素とを有し、パラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が2.0以上である。パラジウム触媒のCl/Pdは、1224ydの選択率をより高める観点から2.0〜10.0が好ましく、2.0〜5.0がより好ましい。 The palladium catalyst in the palladium catalyst-supporting carrier (X) has a metal containing palladium and chlorine, and the ratio of the number of moles of chlorine atoms to the number of moles of palladium atoms (Cl / Pd) is 2.0 or more. The Cl / Pd of the palladium catalyst is preferably 2.0 to 10.0, more preferably 2.0 to 5.0, from the viewpoint of further increasing the selectivity of 1224yd.

なお、本明細書において、パラジウム触媒担持担体(X)におけるパラジウム触媒のCl/Pdは、担体の種類と、担体を得るための塩化水素処理に基づいて、以下の方法で算出される。該算出は、二酸化ケイ素表面に0.5質量%のパラジウムが担持されたパラジウム担持担体(Y)を所定量の塩化水素で処理してパラジウムと塩素を有するパラジウム触媒が担持されたパラジウム触媒担持担体(Y)を標準として行う。In the present specification, Cl / Pd of the palladium catalyst in the palladium catalyst-supported carrier (X) is calculated by the following method based on the type of the carrier and the hydrogen chloride treatment for obtaining the carrier. In the calculation, a palladium-supported carrier (Y 0 ) in which 0.5% by mass of palladium was supported on the surface of silicon dioxide was treated with a predetermined amount of hydrogen chloride to support a palladium catalyst on which a palladium catalyst having palladium and chlorine was supported. The carrier (Y) is used as a standard.

[Cl/Pdの算出方法]
(i)二酸化ケイ素表面に0.5質量%パラジウムが担持されたパラジウム担持担体(Y)および、二酸化ケイ素を準備する。
(ii)パラジウム担持担体(Y)70gを秤量し、SUS314製の内径21.4cmのU字管に充填し、塩化水素ガスを45℃、ガス流量300mL/分の条件で120分間流す。次いで、U字管に窒素ガスを45℃、ガス流量300mL/分の条件で30分間流し、減圧乾燥を行う。U字管内から上述の処理により得られたパラジウムと塩素を有するパラジウム触媒が担持されたパラジウム触媒担持担体(Y)を回収し、その表面における塩素原子の含有率(atom%;式(3)中の「a」である。)、およびパラジウム原子の含有率(atom%;式(3)中の「e」である。)をX線光電子分光(XPS)ワイドスペクトル測定により求める。
(iii)二酸化ケイ素70gを秤量し、上記(ii)と同様の処理を行った後、その表面における塩素原子の含有率(atom%;式(3)中の「b」である。)をX線光電子分光(XPS)ワイドスペクトル測定により求める。
[Calculation method of Cl / Pd]
(I) A palladium-supported carrier (Y 0 ) in which 0.5% by mass of palladium is supported on the surface of silicon dioxide and silicon dioxide are prepared.
(Ii) 70 g of a palladium-supported carrier (Y 0 ) is weighed, filled in a U-shaped tube made of SUS314 with an inner diameter of 21.4 cm, and hydrogen chloride gas is allowed to flow at 45 ° C. and a gas flow rate of 300 mL / min for 120 minutes. Next, nitrogen gas is passed through the U-shaped tube at 45 ° C. and a gas flow rate of 300 mL / min for 30 minutes to perform vacuum drying. A palladium catalyst-supporting carrier (Y) on which a palladium catalyst having palladium and chlorine obtained by the above treatment was carried was recovered from the U-shaped tube, and the content of chlorine atoms on the surface thereof (atom%; in formula (3)). (A) and the content of palladium atoms (atom%; “e” in formula (3)) are determined by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) wide spectrum measurement.
(Iii) After weighing 70 g of silicon dioxide and performing the same treatment as in (ii) above, the chlorine atom content (atom%; “b” in the formula (3)) on the surface thereof is set to X. Obtained by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) wide spectrum measurement.

上記(ii)および(iii)で測定された値から以下の式(3)によりパラジウム触媒担持担体(Y)のCl/Pd(式(3)中、[Cl/Pd](y)で示す。)を得る。
[Cl/Pd](y) = (a−b)/e 式(3)
a:XPSワイドスペクトルから得たパラジウム触媒担持担体(Y)表面のCl含有率(atom%)
b:XPSワイドスペクトルから得た二酸化ケイ素表面のCl含有率(atom%)
e:XPSワイドスペクトルから得たパラジウム触媒担持担体(Y)表面のPd含有率(atom%)
From the values measured in (ii) and (iii) above, Cl / Pd of the palladium catalyst-supporting carrier (Y) is represented by [Cl / Pd] (y) in the following formula (3). ).
[Cl / Pd] (y) = (ab) / e equation (3)
a: Cl content (atom%) on the surface of the palladium catalyst-supporting carrier (Y) obtained from the XPS wide spectrum.
b: Cl content (atom%) on the surface of silicon dioxide obtained from the XPS wide spectrum.
e: Pd content (atom%) on the surface of the palladium catalyst-supported carrier (Y) obtained from the XPS wide spectrum.

パラジウム触媒担持担体(X)のCl/Pd(式(4)中、[Cl/Pd](x)で示す。)は、上記[Cl/Pd](y)に、パラジウム触媒担持担体(X)に用いた担体の種類により与えられるパラジウム担持量補正係数およびパラジウム触媒担持担体(X)作製時の塩化水素処理量に基づく補正係数を乗じた以下の式(4)で算出される。
[Cl/Pd](x) = [Cl/Pd](y)×c×d 式(4)
The Cl / Pd of the palladium catalyst-supporting carrier (X) ( indicated by [Cl / Pd] (x) in the formula (4)) is the above-mentioned [Cl / Pd] (y) in addition to the palladium catalyst-supporting carrier (X). It is calculated by the following formula (4) by multiplying the palladium-supported amount correction coefficient given by the type of carrier used in (X) and the correction coefficient based on the hydrogen chloride treatment amount at the time of producing the palladium catalyst-supported carrier (X).
[Cl / Pd] (x) = [Cl / Pd] (y) × c × d equation (4)

c:塩化水素処理量補正係数
cは、パラジウム触媒担持担体(Y)を製造する際の単位質量当たりの塩化水素処理量(300mL/分、120分間)を基準として、パラジウム触媒担持担体(X)を製造した際の単位質量当たりの塩化水素処理量を上記基準で除した値である。
c: Hydrogen chloride treatment amount correction coefficient c is based on the hydrogen chloride treatment amount (300 mL / min, 120 minutes) per unit mass when producing the palladium catalyst-supporting carrier (Y), and the palladium catalyst-supporting carrier (X). It is a value obtained by dividing the amount of hydrogen chloride processed per unit mass when the above-mentioned standard is used.

d:パラジウム担持量補正係数
dはパラジウム触媒担持担体(Y)とパラジウム触媒担持担体(X)において担体の違いにより与えられる係数である。例えば、パラジウム触媒担持担体(X)の担体がヤシ殻活性炭である場合、パラジウム触媒担持担体(Y)の担体である二酸化ケイ素に対してヤシ殻活性炭はパラジウムを質量で1.4倍担持できることから、補正係数dは1.4となる。
d: Palladium-supported amount correction coefficient d is a coefficient given by the difference between the palladium-supported carrier (Y) and the palladium-supported carrier (X). For example, when the carrier of the palladium catalyst-supporting carrier (X) is coconut shell activated carbon, the coconut shell activated carbon can support palladium 1.4 times by mass with respect to silicon dioxide which is the carrier of the palladium catalyst-supporting carrier (Y). , The correction coefficient d is 1.4.

なお、パラジウム触媒担持担体(X)において、担体に担持させる金属(M)がパラジウムとその他の金属からなる場合、上記、dは金属(M)に対するパラジウムの含有割合を乗じた数値として式(4)に用いられる。 In the palladium catalyst-supported carrier (X), when the metal (M) supported on the carrier is composed of palladium and other metals, the above-mentioned d is a numerical value obtained by multiplying the content ratio of palladium with respect to the metal (M) by the formula (4). ).

本発明の製造方法において、上記パラジウム触媒は、担体に担持されたパラジウム触媒担持担体(X)として用いられる。担体としては、活性炭や、アルミナ、ジルコニア、シリカ、チタニア等の金属酸化物等が挙げられる。これらのうちでも触媒活性、耐久性、反応選択性の観点から活性炭が好ましい。 In the production method of the present invention, the palladium catalyst is used as the palladium catalyst-supported carrier (X) supported on the carrier. Examples of the carrier include activated carbon and metal oxides such as alumina, zirconia, silica, and titania. Of these, activated carbon is preferable from the viewpoint of catalytic activity, durability, and reaction selectivity.

活性炭としては、木材、木炭、果実殻、ヤシ殻、泥炭、亜炭、石炭等を原料として調製したものが挙げられ、鉱物質原料よりも植物原料から得られたものが好ましく、ヤシ殻活性炭が特に好ましい。活性炭の形状としては、長さ2〜5mm程度の成形炭、4〜50メッシュ程度の破砕炭、粒状炭等が挙げられる。なかでも、4〜20メッシュの破砕炭、または成形炭が好ましい。 Examples of the activated carbon include those prepared from wood, charcoal, fruit husks, coconut shells, peat, lignite, coal and the like as raw materials, and those obtained from plant raw materials are preferable to mineral raw materials, and coconut shell activated carbon is particularly preferable. preferable. Examples of the shape of the activated carbon include briquette having a length of about 2 to 5 mm, crushed charcoal having a length of about 4 to 50 mesh, and granular charcoal. Of these, 4 to 20 mesh crushed coal or briquette is preferable.

パラジウム触媒担持担体(X)におけるパラジウム触媒の担持量は、金属(M)の量として、担体に対して、0.1〜10質量%が好ましく、0.5〜1質量%がより好ましい。上記パラジウム触媒の担持量が下限値以上であれば、1214yaと水素の反応率が向上する。上記パラジウム触媒の担持量が上限値以下であれば、反応熱による触媒層(後述する)の過剰な温度上昇を抑制しやすく、副生物の生成を低減しやすい。 The amount of the palladium catalyst supported on the palladium catalyst-supported carrier (X) is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 1% by mass, based on the amount of the metal (M). When the amount of the palladium catalyst supported is equal to or greater than the lower limit, the reaction rate between 1214ya and hydrogen is improved. When the amount of the palladium catalyst supported is not more than the upper limit value, it is easy to suppress an excessive temperature rise of the catalyst layer (described later) due to the heat of reaction, and it is easy to reduce the formation of by-products.

パラジウム触媒担持担体(X)は、具体的には、金属(M)を担持させた金属(M)担持担体を、得られるパラジウム触媒担持担体(X)におけるCl/Pdが上記所定の範囲となるように塩化水素ガスで処理することで調製できる。金属(M)を担体に担持させる方法としては、一般に金属触媒を担体に担持させる方法が特に制限なく使用可能である。例えば、パラジウム単体を金属(M)とし担体を活性炭とする場合、塩化パラジウム(II)、硝酸パラジウム(II)、塩化テトラアミンパラジウム(II)等のパラジウム塩の水溶液を活性炭に含浸させ、乾燥することで活性炭の表面にパラジウム塩を析出させた後、パラジウム塩中のパラジウムイオンを水素ガスにより還元することでパラジウム担持活性炭が得られる。 Specifically, the palladium catalyst-supporting carrier (X) is a metal (M)-supporting carrier on which a metal (M) is supported, and Cl / Pd in the obtained palladium catalyst-supporting carrier (X) is within the above-mentioned predetermined range. It can be prepared by treating with hydrogen chloride gas as described above. As a method of supporting the metal (M) on the carrier, generally, a method of supporting the metal catalyst on the carrier can be used without particular limitation. For example, when palladium alone is metal (M) and the carrier is activated carbon, the activated carbon is impregnated with an aqueous solution of palladium salts such as palladium (II) chloride, palladium (II) nitrate, and tetraamine palladium (II) chloride, and dried. As a result, after precipitating the palladium salt on the surface of the activated carbon, the palladium ions in the palladium salt are reduced with hydrogen gas to obtain the palladium-supported activated carbon.

金属(M)担持担体からパラジウム触媒担持担体(X)を得るための塩化水素ガス処理は、例えば加熱下で行うことができる。具体的には、1224ydの製造時に使用するのと同様の反応器に金属(M)担持担体を充填し、該反応器を油浴等で温度調整しながら塩化水素ガスを反応器に供給することでパラジウム触媒担持担体(X)を調製できる。加熱温度は、油浴等の温度として10〜80℃が好ましい。この場合の処理時間は、反応器における金属(M)担持担体の充填量、塩化水素ガスの流量、油浴の温度等によるが、概ね1〜20時間とすることでパラジウム触媒におけるCl/Pdが上記範囲に調整されたパラジウム触媒担持担体(X)が得られる。 The hydrogen chloride gas treatment for obtaining the palladium catalyst-supported carrier (X) from the metal (M) -supported carrier can be performed, for example, under heating. Specifically, a reactor similar to that used in the production of 1224 yd is filled with a metal (M) -supported carrier, and hydrogen chloride gas is supplied to the reactor while adjusting the temperature of the reactor in an oil bath or the like. Can prepare a palladium catalyst-supported carrier (X). The heating temperature is preferably 10 to 80 ° C. as the temperature of the oil bath or the like. The treatment time in this case depends on the filling amount of the metal (M) -supported carrier in the reactor, the flow rate of hydrogen chloride gas, the temperature of the oil bath, etc. A palladium catalyst-supporting carrier (X) adjusted to the above range is obtained.

このようにして反応器を用いてパラジウム触媒担持担体(X)を作製した場合には、パラジウム触媒担持担体(X)が充填された反応器をそのまま以下の1224ydの製造に用いることが可能である。 When the palladium catalyst-supported carrier (X) is produced using the reactor in this way, the reactor filled with the palladium catalyst-supported carrier (X) can be used as it is for the production of the following 1224 yd. ..

<1224ydの製造>
本発明の製造方法において、パラジウム触媒担持担体(X)の存在下、気相で1214yaを水素と反応させる方法として、具体的には、パラジウム触媒担持担体(X)を充填した触媒層を形成し、該触媒層に1214yaと水素をガス状で導入する方法が挙げられる。
<Manufacturing of 1224yd>
In the production method of the present invention, as a method of reacting 1214ya with hydrogen in the gas phase in the presence of the palladium catalyst-supporting carrier (X), specifically, a catalyst layer filled with the palladium catalyst-supporting carrier (X) is formed. , A method of introducing 1214ya and hydrogen into the catalyst layer in the form of a gas can be mentioned.

本発明において触媒層は、通常、パラジウム触媒担持担体(X)を反応器に充填することによって形成される。触媒層におけるパラジウム触媒担持担体(X)の充填密度は、0.3〜1g/cmが好ましく、0.4〜0.8g/cmがより好ましい。パラジウム触媒担持担体(X)の充填密度が下限値以上であれば、単位容積あたりのパラジウム触媒担持担体(X)の充填量が多く、反応させるガス量を多くすることができるため生産性が向上する。パラジウム触媒担持担体(X)の充填密度が上限値以下であれば、反応熱による触媒層の過剰な温度上昇を抑制しやすく、副生物の生成を低減しやすい。パラジウム触媒担持担体(X)の充填部分、すなわち触媒層は、反応器内に1つあってもよく、2つ以上あってもよい。In the present invention, the catalyst layer is usually formed by filling the reactor with a palladium catalyst-supporting carrier (X). The packing density of the palladium catalyst-loaded support (X) in the catalyst layer is preferably 0.3~1g / cm 3, 0.4~0.8g / cm 3 is more preferable. When the packing density of the palladium catalyst-supporting carrier (X) is equal to or higher than the lower limit, the filling amount of the palladium catalyst-supporting carrier (X) per unit volume is large, and the amount of gas to be reacted can be increased, so that the productivity is improved. To do. When the packing density of the palladium catalyst-supporting carrier (X) is not more than the upper limit value, it is easy to suppress an excessive temperature rise of the catalyst layer due to the heat of reaction, and it is easy to reduce the formation of by-products. The packed portion of the palladium catalyst-supporting carrier (X), that is, the catalyst layer may be one in the reactor or two or more.

このような触媒層を用いて本発明の製造方法を行うには、上記触媒層の一方の側からガス状の1214yaと水素を導入する。該導入された1214yaと水素のガスは触媒層を通過しながら気相で反応し1224ydを生成する。そして、触媒層の1214yaと水素が導入された側とは反対側から1224ydを含む生成ガスが排出される。以下、触媒層を用いた場合を例に本発明の製造方法を説明する。触媒層の1214yaと水素が導入される側を「ガス導入部」、生成ガスが排出される側を「ガス排出部」という。 In order to carry out the production method of the present invention using such a catalyst layer, gaseous 1214ya and hydrogen are introduced from one side of the catalyst layer. The introduced 1214ya and hydrogen gas react in the gas phase while passing through the catalyst layer to produce 1224yd. Then, 1214ya of the catalyst layer and the generated gas containing 1224yd are discharged from the side opposite to the side into which hydrogen is introduced. Hereinafter, the production method of the present invention will be described by taking the case of using the catalyst layer as an example. The side of the catalyst layer where 1214ya and hydrogen are introduced is called the "gas introduction section", and the side where the generated gas is discharged is called the "gas discharge section".

触媒層に導入する1214yaと水素の割合は、過還元体であるHFC−263fbやHFO−1243zf等の副生を低減する点から、1214yaのモル数と水素のモル数との比(H/1214ya)で表わして、その値を1.4以下とすることが好ましい。1214yaと水素のモル比(H/1214ya)は、小さいほどHFC−263fb、HFO−1243zf等の副生を低減しやすく、1.2以下がより好ましく、1.0以下がさらに好ましい。また、モル比(H/1214ya)は、1224ydの収率の点から、0.2以上が好ましく、0.4以上がより好ましく、0.5以上が最も好ましい。モル比(H/1214ya)は、HFC−263fb、HFO−1243zf等の副生を低減する観点と、1224ydの収率の点から、0.2以上1.4以下が好ましく、0.4以上1.2以下がより好ましく、0.5以上1.0以下が最も好ましい。The ratio of 1214ya to hydrogen introduced into the catalyst layer is the ratio of the number of moles of 1214ya to the number of moles of hydrogen (H 2 /) from the viewpoint of reducing by-products such as HFC-263fb and HFO-1243zf, which are superreducers. It is preferably represented by 1214ya) and its value is preferably 1.4 or less. 1214ya the molar ratio of hydrogen (H 2 / 1214ya) is smaller HFC-263fb, easy to reduce the by-production of such HFO-1243zf, and more preferably 1.2 or less, more preferably 1.0 or less. The molar ratio (H 2 /1214ya) is preferably 0.2 or more, more preferably 0.4 or more, and most preferably 0.5 or more, from the viewpoint of the yield of 1224 yd. Molar ratio (H 2 / 1214ya) is, HFC-263fb, and the viewpoint of reducing by-product such as HFO-1243zf, in terms of 1224yd yield is preferably 0.2 to 1.4, 0.4 or higher 1.2 or less is more preferable, and 0.5 or more and 1.0 or less is most preferable.

後述の方法(A)のように水素を分割導入する場合、同様に、触媒層に導入する1214yaと触媒層に導入する水素の総量との割合は、1214yaと水素のモル比(H/1214ya)を1.4以下とする割合が好ましく、1.2以下がより好ましく、1.0以下がさらに好ましい。また、1214yaと水素のモル比(H/1214ya)は、0.2以上が好ましく、0.4以上がより好ましく、0.5以上が最も好ましい。1214yaと水素のモル比(H/1214ya)は同様の観点から、0.2以上1.4以下が好ましく、0.4以上1.2以下がより好ましく、0.5以上1.0以下が最も好ましい。Similarly, when hydrogen is introduced separately as in the method (A) described later, the ratio of 1214ya introduced into the catalyst layer to the total amount of hydrogen introduced into the catalyst layer is 1214ya and the molar ratio of hydrogen (H 2 /1214ya). ) Is preferably 1.4 or less, more preferably 1.2 or less, and even more preferably 1.0 or less. The molar ratio of 1214ya to hydrogen (H 2 /1214ya) is preferably 0.2 or more, more preferably 0.4 or more, and most preferably 0.5 or more. From the same viewpoint, the molar ratio of 1214ya to hydrogen (H 2 /1214ya) is preferably 0.2 or more and 1.4 or less, more preferably 0.4 or more and 1.2 or less, and 0.5 or more and 1.0 or less. Most preferred.

本発明の製造方法において、1214yaを水素と反応させる反応温度は、気相反応であることより、反応に用いる1214yaと水素の混合ガス、ただし不活性ガスを用いる場合には、1214yaと水素と不活性ガスの混合ガスの露点を越える温度とする。また、本発明の製造方法では、副生物の生成を抑制する観点から、反応温度は200℃以下が好ましく、190℃以下がより好ましく、150〜190℃が特に好ましい。 In the production method of the present invention, the reaction temperature for reacting 1214ya with hydrogen is a gas phase reaction. Therefore, a mixed gas of 1214ya and hydrogen used for the reaction, but when an inert gas is used, 1214ya and hydrogen are not present. The temperature shall exceed the dew point of the mixed gas of the active gas. Further, in the production method of the present invention, the reaction temperature is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 190 ° C. or lower, and particularly preferably 150 to 190 ° C. from the viewpoint of suppressing the formation of by-products.

本発明の製造方法における反応温度は、具体的には、以下に説明する触媒層の反応域の温度で示される。本発明の製造方法においては、触媒層の反応域の温度すなわち触媒層の最高温度を上記反応温度の範囲内に制御することで、反応性の向上と副生物の生成抑制が可能となる。 Specifically, the reaction temperature in the production method of the present invention is indicated by the temperature in the reaction region of the catalyst layer described below. In the production method of the present invention, by controlling the temperature of the reaction region of the catalyst layer, that is, the maximum temperature of the catalyst layer within the above reaction temperature range, it is possible to improve the reactivity and suppress the production of by-products.

触媒層の温度は、初期温度を所定の温度に設定しても、触媒の劣化の進行に伴い次第に低下し、反応率が低下するという問題がある。そのため、高い反応率を維持できるよう、触媒層の温度を所定の温度に保つ操作を行うことが好ましい。例えば、触媒層を熱媒などで外部から加熱してその温度を維持している場合は、熱媒の温度を徐々に上げることで、触媒層の温度低下を防ぐことができる。熱媒の温度は、40〜100℃が好ましく、80〜100℃がより好ましい。熱媒としては、パーフルオロエーテル、硝酸塩、シリコーンオイル、水等が好ましく、パーフルオロエーテルまたは水がより好ましい。 Even if the initial temperature is set to a predetermined temperature, the temperature of the catalyst layer gradually decreases as the deterioration of the catalyst progresses, and there is a problem that the reaction rate decreases. Therefore, it is preferable to perform an operation of keeping the temperature of the catalyst layer at a predetermined temperature so that a high reaction rate can be maintained. For example, when the catalyst layer is heated from the outside with a heat medium or the like to maintain the temperature, the temperature of the catalyst layer can be prevented from decreasing by gradually increasing the temperature of the heat medium. The temperature of the heat medium is preferably 40 to 100 ° C, more preferably 80 to 100 ° C. As the heat medium, perfluoroether, nitrate, silicone oil, water and the like are preferable, and perfluoroether or water is more preferable.

なお、触媒層の温度とは、外部からの加熱等により維持される触媒層の温度をいう。通常、1214yaと水素は触媒層の一部の領域で反応し、反応熱の発生により反応域(1214yaと水素が反応している領域)は他の触媒層領域よりも高温となる。この反応域の触媒活性は経時的に低下することにより、通常、反応域はガス導入部付近からガスの流れ方向の下流側に徐々に移動していく。また、反応域の下流側では反応域で生成した温度の高い生成ガスが流れ、通常、触媒層の温度よりも高温となり、反応域から離れるほど徐々に温度が低下していく。本発明において触媒層の温度とは反応域の上流側の温度、すなわち、熱媒などで外部から加熱してその温度を維持している触媒層の温度をいう。 The temperature of the catalyst layer means the temperature of the catalyst layer maintained by heating from the outside or the like. Normally, 1214ya and hydrogen react in a part of the catalyst layer, and the reaction region (the region where 1214ya and hydrogen are reacting) becomes hotter than the other catalyst layer regions due to the generation of heat of reaction. As the catalytic activity of this reaction region decreases with time, the reaction region usually gradually moves from the vicinity of the gas introduction portion to the downstream side in the gas flow direction. Further, on the downstream side of the reaction region, the generated gas having a high temperature generated in the reaction region flows, and the temperature is usually higher than the temperature of the catalyst layer, and the temperature gradually decreases as the distance from the reaction region increases. In the present invention, the temperature of the catalyst layer means the temperature on the upstream side of the reaction region, that is, the temperature of the catalyst layer that is heated from the outside with a heat medium or the like to maintain the temperature.

また、本発明の製造方法では、1214yaと水素の反応熱による触媒層の過剰な温度上昇を抑制して、触媒層の最高温度を上記反応温度の上限値以下にすることが好ましい。上記のように、1214yaと水素が反応している反応域およびその下流側の領域における温度は、反応熱により他の領域の触媒層の温度よりも高くなる。反応中の触媒層の最高温度とはこの反応熱の発生により他の領域よりも高温となった触媒層領域の最高温度をいう。なお、反応中の触媒層の最高温度の測定法としては、例えば、挿し込み型の温度計を用いた下記測定法が挙げられる。 Further, in the production method of the present invention, it is preferable to suppress an excessive temperature rise of the catalyst layer due to the reaction heat of 1214ya and hydrogen so that the maximum temperature of the catalyst layer is equal to or lower than the upper limit of the reaction temperature. As described above, the temperature in the reaction region where 1214ya and hydrogen are reacting and the region on the downstream side thereof becomes higher than the temperature of the catalyst layer in the other regions due to the heat of reaction. The maximum temperature of the catalyst layer during the reaction means the maximum temperature of the catalyst layer region which is higher than other regions due to the generation of this heat of reaction. Examples of the method for measuring the maximum temperature of the catalyst layer during the reaction include the following measurement method using an insertion type thermometer.

触媒層における1214yaと水素の反応は、まず、これらがガス状で導入されるガス導入部付近の触媒が反応に寄与し、該ガス導入部付近の触媒が劣化するとその下流側の触媒が反応に寄与するというように、触媒層における反応域がガス排出側に向かって徐々に移動していく。つまり、触媒層の最高温度を示す部分は、1214yaと水素の反応域の移動と共に移動していくため、予め挿し込み型の温度計の計測部を触媒層のガス導入部に位置させておき、反応の進行と共に該計測部を移動させることで触媒層の最高温度を測定できる。 In the reaction between 1214ya and hydrogen in the catalyst layer, first, the catalyst near the gas introduction part, which is introduced in the form of gas, contributes to the reaction, and when the catalyst near the gas introduction part deteriorates, the catalyst on the downstream side reacts. The reaction region in the catalyst layer gradually moves toward the gas discharge side so as to contribute. That is, since the portion showing the maximum temperature of the catalyst layer moves with the movement of the reaction region of 1214ya and hydrogen, the measurement unit of the insertion type thermometer is previously positioned at the gas introduction portion of the catalyst layer. The maximum temperature of the catalyst layer can be measured by moving the measuring unit as the reaction progresses.

反応中の触媒層の最高温度を上記反応温度の上限値以下に維持する方法としては、触媒層の最高温度を低く制御しつつ、生産性を高く維持しやすい点から、触媒層に水素を分割して導入する方法(方法(A))が好ましい。水素を触媒層の複数個所に分割して導入すれば、1214yaの導入量を変化させずに触媒層の反応域を分散させられるため、反応熱の発生が一箇所に集中しない。そのため、生産性を低下させずに、触媒層の局所的な過剰発熱を容易に抑制できる。 As a method of maintaining the maximum temperature of the catalyst layer during the reaction below the upper limit of the reaction temperature, hydrogen is divided into the catalyst layers from the viewpoint of easily maintaining high productivity while controlling the maximum temperature of the catalyst layer to be low. (Method (A)) is preferable. If hydrogen is introduced by dividing it into a plurality of locations in the catalyst layer, the reaction region of the catalyst layer can be dispersed without changing the amount of 1214ya introduced, so that the heat of reaction is not concentrated in one location. Therefore, local excessive heat generation of the catalyst layer can be easily suppressed without lowering the productivity.

水素の分割導入とは、1214yaと水素を触媒層のガス導入部に導入するとともに、触媒層のガス導入部とガス排出部との間の少なくとも1か所から水素を導入することをいう。すなわち、ガス導入部以外に触媒層の少なくとも1箇所、すなわち、合計2箇所以上、から水素を導入することをいう。 The split introduction of hydrogen means that 1214ya and hydrogen are introduced into the gas introduction part of the catalyst layer, and hydrogen is introduced from at least one place between the gas introduction part and the gas discharge part of the catalyst layer. That is, it means that hydrogen is introduced from at least one place of the catalyst layer, that is, two or more places in total, other than the gas introduction part.

具体的には、触媒層のガス導入部(触媒層においてガスの流れ方向の最上流側に位置する)に導入する1214yaと水素の量は、触媒層に導入する水素の一部と1214yaの全量とする。残余の水素はガスの流れ方向下流の触媒層に水素導入部から導入し、その導入位置の触媒層を流れるガス(通常は、1214yaの一部が水素と反応した後の、生成ガス)に水素を混入し、該水素の導入位置から下流側の触媒層で未反応の1214yaを水素と反応させ、触媒層のガス排出部(触媒層においてガスの流れ方向の最下流側に位置する)から生成ガスを排出する。 Specifically, the amount of 1214ya and hydrogen introduced into the gas introduction part of the catalyst layer (located on the most upstream side in the gas flow direction in the catalyst layer) is a part of hydrogen introduced into the catalyst layer and the total amount of 1214ya. And. Residual hydrogen is introduced into the catalyst layer downstream in the gas flow direction from the hydrogen introduction part, and hydrogen is introduced into the gas flowing through the catalyst layer at the introduction position (usually, the generated gas after a part of 1214ya reacts with hydrogen). Is mixed, and unreacted 1214ya is reacted with hydrogen in the catalyst layer on the downstream side from the hydrogen introduction position, and is generated from the gas discharge part of the catalyst layer (located on the most downstream side in the gas flow direction in the catalyst layer). Discharge gas.

ガス導入部とガスの流れ方向の最上流側の水素導入部との間で、ガス導入部から導入された水素の少なくとも一部は1214yaと反応していることが好ましい。また、ガスの流れ方向の最下流側の水素導入部は、その水素導入部とガス排出部との間の触媒層で、該水素導入部から導入された水素と1214yaとが十分反応しうる位置に設けることが好ましい。 It is preferable that at least a part of the hydrogen introduced from the gas introduction section reacts with 1214ya between the gas introduction section and the hydrogen introduction section on the most upstream side in the gas flow direction. Further, the hydrogen introduction section on the most downstream side in the gas flow direction is a catalyst layer between the hydrogen introduction section and the gas discharge section, and is a position where hydrogen introduced from the hydrogen introduction section and 1214ya can sufficiently react with each other. It is preferable to provide in.

方法(A)における水素の導入は、2箇所に分割導入しても、3箇所以上に分割導入してもよく、プロセスを簡略化できるという観点から、2箇所から分割導入することが好ましい。触媒層の2箇所以上に分割導入する水素は、触媒層の最高温度を低く維持しやすい点から、分割導入される各々の水素の量を等量とすることが好ましい。 Hydrogen may be introduced in two places or divided into three or more places in the method (A), and it is preferable to introduce hydrogen in two places from the viewpoint of simplifying the process. It is preferable that the amount of each hydrogen divided and introduced into the catalyst layer is equal because it is easy to keep the maximum temperature of the catalyst layer low.

反応器内に触媒層が2つ以上ある場合、水素の分割導入は、例えば、水素の一部を1214yaと共に最も上流側(1段目)の触媒層に導入し、残部を1段目より下流側の2段目以降の触媒層に導入する方法が挙げられる。 When there are two or more catalyst layers in the reactor, the split introduction of hydrogen, for example, introduces a part of hydrogen together with 1214ya into the most upstream (first stage) catalyst layer, and the rest downstream from the first stage. A method of introducing into the catalyst layer of the second and subsequent stages on the side can be mentioned.

また、方法(A)以外の触媒層の最高温度の制御方法としては、1214yaおよび水素と共に触媒層に不活性ガスを流通させる方法(方法(B))が挙げられる。不活性ガスを流通させ、触媒層中を流通する1214yaおよび水素の濃度を調節することで、反応熱による触媒層の過剰な温度上昇を抑制できる。また、不活性ガス以外の希釈ガスを不活性ガスの代わりにまたは不活性ガスとともに使用することもできる。 Further, as a method for controlling the maximum temperature of the catalyst layer other than the method (A), a method (method (B)) in which the inert gas is circulated through the catalyst layer together with 1214ya and hydrogen can be mentioned. By allowing the inert gas to flow and adjusting the concentrations of 1214ya and hydrogen flowing in the catalyst layer, it is possible to suppress an excessive temperature rise of the catalyst layer due to the heat of reaction. Further, a diluting gas other than the inert gas can be used instead of the inert gas or together with the inert gas.

不活性ガスとしては、窒素、希ガス(ヘリウム、アルゴン等)、二酸化炭素、水素化反応に不活性なフロン類等が挙げられる。 Examples of the inert gas include nitrogen, noble gases (helium, argon, etc.), carbon dioxide, chlorofluorocarbons that are inert to the hydrogenation reaction, and the like.

触媒層への不活性ガスの導入量は、触媒層の最高温度を低く維持しやすく、副生物の生成を低減しやすい点、および触媒の劣化を抑制しやすい点から、1214yaの1モルに対して、0.5モル以上が好ましく、1.0モル以上がより好ましい。また、不活性ガスの導入量は、該不活性ガスの回収率の点から、1214yaの1モルに対して、10.0モル以下が好ましく、4.0モル以下がより好ましい。副生物の生成を低減しやすい点、および触媒の劣化を抑制しやすい点ならびに不活性ガスの回収率の点から、1214yaの1モルに対して、0.5モル以上10.0モル以下が好ましく、1.0モル以上4.0モル以下がより好ましい。 The amount of the inert gas introduced into the catalyst layer is based on 1 mol of 1214ya because it is easy to keep the maximum temperature of the catalyst layer low, it is easy to reduce the formation of by-products, and it is easy to suppress the deterioration of the catalyst. Therefore, 0.5 mol or more is preferable, and 1.0 mol or more is more preferable. The amount of the inert gas introduced is preferably 10.0 mol or less, more preferably 4.0 mol or less, relative to 1 mol of 1214ya, from the viewpoint of the recovery rate of the inert gas. From the viewpoint of easily reducing the production of by-products, easily suppressing the deterioration of the catalyst, and the recovery rate of the inert gas, 0.5 mol or more and 10.0 mol or less is preferable with respect to 1 mol of 1214ya. , 1.0 mol or more and 4.0 mol or less is more preferable.

また、方法(A)、方法(B)以外の触媒層の最高温度の制御方法としては、触媒層の温度を、反応に用いる1214yaと水素の混合ガスの露点を下限として、より低い温度とする方法(方法(C))が挙げられる。不活性ガスを用いる場合には、1214yaと水素と不活性ガスの混合ガスの露点を下限として、より低い温度とする。触媒層の温度を低く保つことで、反応熱のより迅速な除熱が可能となり、触媒層の過剰な温度上昇を抑制できる。 Further, as a method for controlling the maximum temperature of the catalyst layer other than the method (A) and the method (B), the temperature of the catalyst layer is set to a lower temperature with the dew point of the mixed gas of 1214ya and hydrogen used in the reaction as the lower limit. A method (method (C)) can be mentioned. When an inert gas is used, the temperature is set lower with the dew point of the mixed gas of 1214ya, hydrogen and the inert gas as the lower limit. By keeping the temperature of the catalyst layer low, the heat of reaction can be removed more quickly, and an excessive temperature rise of the catalyst layer can be suppressed.

方法(C)においては、触媒層が低い温度であるほど目的物である1224ydと分離困難な副生物の生成を抑制するのに有利である点、および、原料が液化した状態での反応では、1224ydが過剰に還元された副生物の生成が増加することにより1224ydの収率が低下する点から、触媒層の温度は、上記混合ガスの露点よりも高いことが好ましい。より好ましくは露点よりも高くかつ50℃未満、さらに好ましくは、露点よりも高くかつ30℃以下である。 In the method (C), the lower the temperature of the catalyst layer, the more advantageous it is to suppress the formation of by-products that are difficult to separate from the target 1224yd, and in the reaction in the liquefied state of the raw material, The temperature of the catalyst layer is preferably higher than the dew point of the mixed gas, because the yield of 1224 yd decreases due to the increase in the production of by-products in which 1224 yd is excessively reduced. More preferably, it is higher than the dew point and less than 50 ° C., and more preferably, it is higher than the dew point and less than 30 ° C.

触媒層の最高温度の制御には、方法(A)、方法(B)、方法(C)をそれぞれ単独で用いる、またはこれらの2つ、または3つを併用することが好ましい。 For controlling the maximum temperature of the catalyst layer, it is preferable to use the method (A), the method (B), and the method (C) individually, or to use two or three of them in combination.

反応圧力は、取り扱い性の点から、常圧が好ましい。反応時間は0.4〜400秒が好ましく、1〜400秒がより好ましく、4〜400秒が最も好ましい。本発明の製造方法において、反応時間は、具体的には、1214yaのパラジウム触媒担持担体(X)に対する接触時間である。この接触時間は、反応器に導入される1214yaの体積と触媒層の体積から計算される。 The reaction pressure is preferably normal pressure from the viewpoint of handleability. The reaction time is preferably 0.4 to 400 seconds, more preferably 1 to 400 seconds, and most preferably 4 to 400 seconds. In the production method of the present invention, the reaction time is specifically the contact time of 1214ya with the palladium catalyst-supported carrier (X). This contact time is calculated from the volume of 1214ya introduced into the reactor and the volume of the catalyst layer.

本発明の製造方法では、触媒層における下式(5)で表される1214yaの線速度uは、0.1〜100cm/秒が好ましく、0.1〜30cm/秒がより好ましく、0.1〜10cm/秒が最も好ましい。線速度uが0.1cm/秒以上であれば、生産性が向上し、1214yaが触媒層を均一に流れやすい。線速度uが100cm/秒以下であれば、1214yaと水素の反応率が向上し、線速度uが30cm/秒以下であれば発熱による反応点付近の温度制御が容易になる。 In the production method of the present invention, the linear velocity u of 1214ya represented by the following formula (5) in the catalyst layer is preferably 0.1 to 100 cm / sec, more preferably 0.1 to 30 cm / sec, and 0.1. Most preferably 10 cm / sec. When the linear velocity u is 0.1 cm / sec or more, the productivity is improved and 1214ya easily flows uniformly through the catalyst layer. When the linear velocity u is 100 cm / sec or less, the reaction rate of 1214ya and hydrogen is improved, and when the linear velocity u is 30 cm / sec or less, the temperature control near the reaction point by heat generation becomes easy.

線速度uは、反応器に導入される1214yaのガス量と触媒層の体積とから、下式(5)によって計算される。
u=(W/100)×V/S 式(5)
W:触媒層を流通する全ガス中の1214yaの濃度(モル%)
V:触媒層を流通する全ガスの流量(cm/秒)
S:触媒層のガスの流通方向に対する断面積(cm
The linear velocity u is calculated by the following equation (5) from the amount of gas of 1214ya introduced into the reactor and the volume of the catalyst layer.
u = (W / 100) × V / S-expression (5)
W: Concentration (mol%) of 1214ya in the total gas flowing through the catalyst layer
V: Flow rate of all gas flowing through the catalyst layer (cm 3 / sec)
S: Cross-sectional area of the catalyst layer with respect to the gas flow direction (cm 2 )

なお、本発明の製造方法において、触媒層に導入するガス状成分には、1214ya、水素、任意成分としての不活性ガス、希釈ガスの他に、本発明の効果を損なわない範囲でその他成分が含まれていてもよい。その他成分としては、例えば、1214yaを準備する際に不純物として1214yaとともに持ち込まれる成分等が挙げられる。 In the production method of the present invention, the gaseous components introduced into the catalyst layer include 1214ya, hydrogen, an inert gas as an optional component, a diluting gas, and other components as long as the effects of the present invention are not impaired. It may be included. Examples of other components include components that are brought in together with 1214ya as impurities when preparing 1214ya.

本発明の製造方法に用いる反応器としては、触媒担持担体を充填して触媒層を形成できる公知の反応器が挙げられる。反応器の材質としては、例えば、ガラス、鉄、ニッケル、またはこれらを主成分とする合金等が挙げられる。 Examples of the reactor used in the production method of the present invention include known reactors capable of forming a catalyst layer by filling with a catalyst-supporting carrier. Examples of the material of the reactor include glass, iron, nickel, and alloys containing these as main components.

反応後の生成ガスには、目的物である1224ydの他に、未反応の原料、過還元体であるHFO−1234yf、HFC−254eb、HFC−263fb、HFO−1243zf等および塩化水素(HCl)が含まれる。 In addition to the target product, 1224yd, the produced gas after the reaction includes unreacted raw materials, superreducants such as HFO-1234yf, HFC-254eb, HFC-263fb, HFO-1243zf, and hydrogen chloride (HCl). included.

生成ガスに含まれるHClは、例えば、該生成ガスをアルカリ水溶液に吹き込んで中和することにより除去できる。上記アルカリ水溶液に用いるアルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。なお、生成ガスに含まれるHClは少量であり、パラジウム触媒担持担体のCl/Pdに特に影響を及ぼすものではない。生成ガスからの1224ydの回収方法としては、例えば、分留等の公知の方法を採用できる。得られる1224ydは、通常、1224ydのE体とZ体の混合物である。該混合物から1224ydのE体およびZ体の分離が必要な場合には、蒸留等の分離精製方法を用いればよい。 HCl contained in the product gas can be removed, for example, by blowing the product gas into an alkaline aqueous solution to neutralize it. Examples of the alkali used in the alkaline aqueous solution include sodium hydroxide and potassium hydroxide. The amount of HCl contained in the produced gas is small and does not particularly affect Cl / Pd of the palladium catalyst-supporting carrier. As a method for recovering 1224 yd from the produced gas, for example, a known method such as fractional distillation can be adopted. The resulting 1224 yd is usually a mixture of 1224 yd E and Z isomers. When it is necessary to separate 1224 yd E-form and Z-form from the mixture, a separation and purification method such as distillation may be used.

以上説明した本発明の製造方法によれば、パラジウムを含む金属と塩素とを有し、パラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が2.0以上であるパラジウム触媒を担体に担持させたパラジウム触媒担持担体の存在下、気相で1214yaを水素と反応させることで、過還元体であるHFO−1234yf、HFC−254eb、HFC−263fb、HFO−1243zf等の副生が低減される。本発明の製造方法によれば、特に、HFC−263fb、HFO−1243zfの副生を抑制する効果が顕著である。このようにして副生物の生成が抑制され、結果的に、生成ガス中の目的物である1224ydの量が増えるので、選択率に優れた効率的な1224ydの製造が可能である。また、反応に用いる1214yaについては、入手が容易な原料から安定した製造方法が確立されている化合物であるため、本発明の製造方法は、工業的に実施しやすく、安定に実施可能な方法といえる。 According to the production method of the present invention described above, a palladium catalyst having a metal containing palladium and chlorine, and the ratio (Cl / Pd) of the number of moles of chlorine atoms to the number of moles of palladium atoms is 2.0 or more. By reacting 1214ya with hydrogen in the gas phase in the presence of a palladium-catalyzed carrier supporting the above, by-products such as HFO-1234yf, HFC-254eb, HFC-263fb, and HFO-1243zf, which are hyperreducators. Is reduced. According to the production method of the present invention, the effect of suppressing the by-production of HFC-263fb and HFO-1243zf is particularly remarkable. In this way, the production of by-products is suppressed, and as a result, the amount of the target product, 1224 yd, in the produced gas is increased, so that efficient production of 1224 yd with excellent selectivity is possible. Further, since 1214ya used in the reaction is a compound for which a stable production method has been established from easily available raw materials, the production method of the present invention is industrially easy to carry out and can be stably carried out. I can say.

以下、実施例および比較例を示して本発明を詳細に説明する。ただし、本発明は以下の記載によっては限定されない。例1〜4は実施例、例5〜6は比較例である。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples. However, the present invention is not limited to the following description. Examples 1 to 4 are Examples, and Examples 5 to 6 are Comparative Examples.

まず、各例に用いたパラジウム触媒担持担体を以下のようにして調製した。パラジウム触媒担持担体(X1)、(X2)は本発明に係るパラジウム触媒担持担体であり、パラジウム触媒担持担体(Cf1)は比較例用のパラジウム触媒担持担体である。また、各パラジウム触媒担持担体の調製には、粒度が4〜8メッシュのヤシ殻活性炭100質量%に対して0.5質量%のパラジウム単体が担持されたパラジウム担持活性炭(エヌ・イーケムキャット社製;以下「パラジウム担持活性炭(A)」という。)を用いた。 First, the palladium catalyst-supporting carrier used in each example was prepared as follows. The palladium catalyst-supporting carriers (X1) and (X2) are the palladium catalyst-supporting carriers according to the present invention, and the palladium catalyst-supporting carrier (Cf1) is a palladium catalyst-supporting carrier for comparative examples. Further, for the preparation of each palladium catalyst-supporting carrier, a palladium-supporting activated carbon (manufactured by NE-Echemcat Co., Ltd.) in which 0.5% by mass of palladium alone is supported with respect to 100% by mass of coconut shell activated carbon having a particle size of 4 to 8 mesh (Hereinafter referred to as "palladium-supported activated carbon (A)") was used.

また、パラジウム触媒担持担体のCl/Pdを算出するために、上記の(ii)および(iii)の測定を行い、式(3)により[Cl/Pd](y)を得た。[Cl/Pd](y)と各パラジウム触媒担持担体における、担体、塩化水素処理の条件等から式(4)により各パラジウム触媒担持担体のCl/Pdを算出した。Further, in order to calculate Cl / Pd of the palladium catalyst-supporting carrier, the above measurements (ii) and (iii) were carried out, and [Cl / Pd] (y) was obtained by the formula (3). [Cl / Pd] Cl / Pd of each palladium catalyst-supporting carrier was calculated by the formula (4) from the carrier, hydrogen chloride treatment conditions, etc. in (y) and each palladium catalyst-supporting carrier.

パラジウム担持活性炭(A)における、Cl/Pdを上記算出方法で算出すると、塩化水素処理を施していないためCl/Pdは0.0である。パラジウム担持活性炭(A)をパラジウム触媒担持担体(Cf1)とした。 When Cl / Pd in the palladium-supported activated carbon (A) is calculated by the above calculation method, Cl / Pd is 0.0 because it has not been subjected to hydrogen chloride treatment. The palladium-supported activated carbon (A) was used as a palladium catalyst-supported carrier (Cf1).

[調製例1]
パラジウム担持活性炭(A)を以下の反応装置と同様の装置の反応管に充填した。該反応管が浸漬された油浴の温度を45℃に維持しながら、パラジウム担持活性炭(A)に対して塩化水素を流速300mL/秒で2時間流通させることによりパラジウム触媒担持担体(X1)を得た。得られたパラジウム触媒担持担体(X1)におけるパラジウム触媒のCl/Pdを上記算出方法により算出したところ2.2であった。
[Preparation Example 1]
Palladium-supported activated carbon (A) was filled in the reaction tube of the same apparatus as the following reactor. While maintaining the temperature of the oil bath in which the reaction tube was immersed at 45 ° C., hydrogen chloride was circulated through the palladium-supported activated carbon (A) at a flow rate of 300 mL / sec for 2 hours to obtain a palladium-supported carrier (X1). Obtained. The Cl / Pd of the palladium catalyst in the obtained palladium catalyst-supporting carrier (X1) was calculated by the above calculation method and found to be 2.2.

[調製例2]
調製例1における塩化水素処理の時間を2時間から8時間に変更すること以外は調製例1と同様に行い、パラジウム触媒担持担体(X2)を得た。得られたパラジウム触媒担持担体(X2)におけるパラジウム触媒のCl/Pdを上記算出方法により算出したところ4.6であった。
[Preparation Example 2]
A palladium catalyst-supported carrier (X2) was obtained in the same manner as in Preparation Example 1 except that the hydrogen chloride treatment time in Preparation Example 1 was changed from 2 hours to 8 hours. The Cl / Pd of the palladium catalyst in the obtained palladium catalyst-supporting carrier (X2) was calculated by the above calculation method and found to be 4.6.

[例1]
1224ydの製造には、図1に模式図を示す反応装置100を用いた。反応装置100は、図1に示すように、1本の反応管8と、それを浸漬する油浴9を備えている。反応管8としては、内径2.14cm、全長70cmのSUS304製のU字型の反応管を用いた。反応管8は、その出口11側に上記で調製されたパラジウム触媒担持担体(X1)(Cl/Pd=2.2)が充填密度0.73g/cmで充填された、高さ40cmの触媒層10を有する。油浴に用いる熱媒はパーフルオロエーテルFOMBLIN(R)YLVAC(ソルベイ社)を使用した。
[Example 1]
For the production of 1224yd, the reactor 100 shown in the schematic diagram in FIG. 1 was used. As shown in FIG. 1, the reaction apparatus 100 includes one reaction tube 8 and an oil bath 9 in which the reaction tube 8 is immersed. As the reaction tube 8, a U-shaped reaction tube made of SUS304 having an inner diameter of 2.14 cm and a total length of 70 cm was used. The reaction tube 8 is a catalyst having a height of 40 cm, wherein the outlet 11 side thereof is filled with the palladium catalyst-supporting carrier (X1) (Cl / Pd = 2.2) prepared above at a packing density of 0.73 g / cm 3. It has a layer 10. Perfluoroether FOMBLIN (R) YLVAC (Solvay) was used as the heat medium used in the oil bath.

また、反応装置100は、1214yaガス収容容器1、水素ガス収容容器2および窒素ガス収容容器3を有し、各容器はそれぞれ配管4、5、6を介して反応管8の入口7に接続されている。反応管8の出口11から排出されるガスについては、配管13によりアルカリ洗浄槽14に移送され、アルカリ洗浄後、配管15を介して生成ガス収容容器16に回収される。以下の説明において、反応管8の出口11から排出されるガスを「出口ガス」、出口ガスをアルカリ洗浄して得られたガスを「生成ガス」という。 Further, the reaction device 100 has a 1214ya gas storage container 1, a hydrogen gas storage container 2, and a nitrogen gas storage container 3, and each container is connected to the inlet 7 of the reaction tube 8 via pipes 4, 5, and 6, respectively. ing. The gas discharged from the outlet 11 of the reaction tube 8 is transferred to the alkaline cleaning tank 14 by the pipe 13, and after the alkaline cleaning, is recovered in the generated gas storage container 16 via the pipe 15. In the following description, the gas discharged from the outlet 11 of the reaction tube 8 is referred to as “outlet gas”, and the gas obtained by alkaline cleaning the outlet gas is referred to as “produced gas”.

まず、触媒層10が全て浸漬されるように、反応管8を45℃に温度調整した油浴9中に浸漬し、触媒層10を45℃に加熱した。次いで、1214yaガス、水素ガスおよび窒素ガスを反応管8に流通させ、排出された出口ガスをアルカリ洗浄して生成ガスを得た。 First, the reaction tube 8 was immersed in an oil bath 9 whose temperature was adjusted to 45 ° C. so that the catalyst layer 10 was completely immersed, and the catalyst layer 10 was heated to 45 ° C. Next, 1214ya gas, hydrogen gas, and nitrogen gas were circulated through the reaction tube 8, and the discharged outlet gas was alkaline-washed to obtain a produced gas.

触媒層10に充填されたパラジウム触媒担持担体(X1)に対する1214yaガスの接触時間は12秒とし、1214yaガスのモル数と、触媒層に導入する水素ガスの総導入量のモル数との比(H/1214ya)は1.0とした。また、1214yaガスのモル数と、触媒層に導入する窒素ガスの総導入量のモル数との比(N/1214ya)は2.0とした。1214yaの線速度uは0.8cm/秒とした。The contact time of 1214ya gas with the palladium catalyst-supporting carrier (X1) filled in the catalyst layer 10 was 12 seconds, and the ratio of the number of moles of 1214ya gas to the total number of moles of hydrogen gas introduced into the catalyst layer ( H 2 / 1214ya) was 1.0. Further, the number of moles of 1214ya gas, the ratio of the moles of the total introduced amount of the nitrogen gas to be introduced into the catalyst layer (N 2 / 1214ya) was 2.0. The linear velocity u of 1214ya was set to 0.8 cm / sec.

また、反応中の触媒層10の最高温度(反応温度)を、触媒層に挿入した差し込み型の温度計12により測定したところ、171℃であった。出口ガスのアルカリ洗浄は、温度15℃の20質量%水酸化ナトリウム水溶液により行った。 Further, the maximum temperature (reaction temperature) of the catalyst layer 10 during the reaction was measured by a plug-in type thermometer 12 inserted into the catalyst layer and found to be 171 ° C. Alkaline cleaning of the outlet gas was performed with a 20 mass% sodium hydroxide aqueous solution at a temperature of 15 ° C.

[例2]
油浴9の温度を80℃に変更した以外は、例1と同様にして生成ガスを得た。反応中の触媒層10の最高温度を、触媒層に挿入した差し込み型の温度計12により測定したところ、183℃であった。
[Example 2]
A product gas was obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature of the oil bath 9 was changed to 80 ° C. The maximum temperature of the catalyst layer 10 during the reaction was measured by a plug-in type thermometer 12 inserted into the catalyst layer and found to be 183 ° C.

[例3]
パラジウム触媒担持担体(X1)(Cl/Pd=2.2)をパラジウム触媒担持担体(X2)(Cl/Pd=4.6)に変更した以外は、例1と同様にして生成ガスを得た。反応中の触媒層10の最高温度を、触媒層に挿入した差し込み型の温度計12により測定したところ、153℃であった。
[Example 3]
A product gas was obtained in the same manner as in Example 1 except that the palladium catalyst-supported carrier (X1) (Cl / Pd = 2.2) was changed to the palladium catalyst-supported carrier (X2) (Cl / Pd = 4.6). .. The maximum temperature of the catalyst layer 10 during the reaction was measured by a plug-in type thermometer 12 inserted into the catalyst layer and found to be 153 ° C.

[例4]
油浴9の温度を80℃に変更した以外は、例3と同様にして生成ガスを得た。反応中の触媒層10の最高温度を、触媒層に挿入した差し込み型の温度計12により測定したところ、171℃であった。
[Example 4]
A product gas was obtained in the same manner as in Example 3 except that the temperature of the oil bath 9 was changed to 80 ° C. The maximum temperature of the catalyst layer 10 during the reaction was measured by a plug-in type thermometer 12 inserted into the catalyst layer and found to be 171 ° C.

[例5]
パラジウム触媒担持担体(X1)(Cl/Pd=2.2)をパラジウム触媒担持担体(Cf1)(Cl/Pd=0.0)に変更した以外は、例1と同様にして生成ガスを得た。反応中の触媒層10の最高温度を、触媒層に挿入した差し込み型の温度計12により測定したところ、153℃であった。
[Example 5]
A product gas was obtained in the same manner as in Example 1 except that the palladium catalyst-supported carrier (X1) (Cl / Pd = 2.2) was changed to the palladium catalyst-supported carrier (Cf1) (Cl / Pd = 0.0). .. The maximum temperature of the catalyst layer 10 during the reaction was measured by a plug-in type thermometer 12 inserted into the catalyst layer and found to be 153 ° C.

[例6]
油浴9の温度を80℃に変更した以外は、例5と同様にして生成ガスを得た。反応中の触媒層10の最高温度を、触媒層に挿入した差し込み型の温度計12により測定したところ、171℃であった。
[Example 6]
A product gas was obtained in the same manner as in Example 5 except that the temperature of the oil bath 9 was changed to 80 ° C. The maximum temperature of the catalyst layer 10 during the reaction was measured by a plug-in type thermometer 12 inserted into the catalyst layer and found to be 171 ° C.

[分析方法]
各例で得られた生成ガスをガスクロマトグラフィー(GC)にて分析し、下式(6)、(7)により、1214yaの1224yd(Z)への選択率X(単位:%)、および1224yd(E)への選択率Y(単位:%)をそれぞれ算出した。
[Analysis method]
The produced gas obtained in each example was analyzed by gas chromatography (GC), and the selectivity X (unit:%) of 1214ya to 1224yd (Z) and 1224yd by the following formulas (6) and (7). The selectivity Y (unit:%) for (E) was calculated respectively.

X=[a/(a+b+c)]×100 式(6)
Y=[b/(a+b+c)]×100 式(7)
(ただし、式(6)、(7)中「a」は1224yd(Z)のモル数、「b」は1224yd(E)のモル数、「c」は過還元体(HFO−1234yf、HFC−254eb、HFC−263fb、HFO−1243zf、その他)の合計モル数を示す。)
X = [a / (a + b + c)] × 100 Equation (6)
Y = [b / (a + b + c)] × 100 Equation (7)
(However, in the formulas (6) and (7), "a" is the number of moles of 1224yd (Z), "b" is the number of moles of 1224yd (E), and "c" is the superreduced substance (HFO-1234yf, HFC-). 254eb, HFC-263fb, HFO-1243zf, etc.) The total number of moles is shown.)

また、1224yd(Z体およびE体)の収率を下式(8)により算出した。
1224yd(Z体およびE体)の収率= [A×(X+Y)]/100 式(8)
(ただし、式(8)中、「A」は1214yaの反応率を示す。)
Further, the yield of 1224yd (Z-form and E-form) was calculated by the following formula (8).
Yield of 1224yd (Z-form and E-form) = [A × (X + Y)] / 100 formula (8)
(However, in formula (8), "A" indicates a reaction rate of 1214ya.)

分析結果を、反応条件等とともに表1に示す。また、生成ガスのGC分析における面積比をモル比(単位:モル%)として表2に示す。なお、表1におけるパラジウム触媒担持担体の種類は符号のみを示す。 The analysis results are shown in Table 1 together with the reaction conditions and the like. Table 2 shows the area ratio of the produced gas in the GC analysis as a molar ratio (unit: mol%). The types of palladium catalyst-supporting carriers in Table 1 indicate only the reference numerals.

Figure 0006881457
Figure 0006881457

Figure 0006881457
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表1および表2に示すように、本発明の実施例である例1〜4は、パラジウム触媒担持担体におけるパラジウム触媒のパラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が本発明の範囲外である例5〜6に比べて、1224yd(Z)への選択率Xと1224yd(E)への選択率Yの合計、ならびに1224ydの収率について高い結果が得られた。また、例1〜4において過還元体であるHFC−263fbおよびHFO−1243zfの副生を顕著に抑制した。 As shown in Tables 1 and 2, in Examples 1 to 4 of Examples of the present invention, the ratio of the number of moles of chlorine atoms (Cl / Pd) to the number of moles of palladium atoms of the palladium catalyst in the palladium catalyst-supporting carrier is Higher results were obtained for the sum of the selectivity X for 1224yd (Z) and the selectivity Y for 1224yd (E), and the yield of 1224yd, as compared to Examples 5-6, which are outside the scope of the present invention. Further, in Examples 1 to 4, the by-products of the hyperreducants HFC-263fb and HFO-1243zf were remarkably suppressed.

本発明の製造方法によれば、1214yaを還元して1224ydを得る方法において、HFC−263fb、HFO−1243zf等の還元体の生成を抑制することで高純度の1224ydを製造することができる。そして、本発明の方法で得られる1224ydは、地球温暖化係数(GWP)が小さく、クロロフルオロカーボン類に代わる化合物として、洗浄剤、冷媒、発泡剤、溶剤、およびエアゾール用途等に有用である。 According to the production method of the present invention, in the method of reducing 1214ya to obtain 1224yd, high-purity 1224yd can be produced by suppressing the production of reduced products such as HFC-263fb and HFO-1243zf. The 1224yd obtained by the method of the present invention has a small global warming potential (GWP) and is useful as a compound alternative to chlorofluorocarbons in detergents, refrigerants, foaming agents, solvents, aerosol applications and the like.

100…反応装置、1…1214yaガス収容容器、2…水素ガス収容容器、3…窒素ガス収容容器、7…反応管入口、8…反応管、9…油浴、10…触媒層、11…反応管出口、12…温度計、14…アルカリ洗浄槽、16…生成ガス収容容器。 100 ... Reaction device, 1 ... 1214ya gas storage container, 2 ... Hydrogen gas storage container, 3 ... Nitrogen gas storage container, 7 ... Reaction tube inlet, 8 ... Reaction tube, 9 ... Oil bath, 10 ... Catalyst layer, 11 ... Reaction Tube outlet, 12 ... thermometer, 14 ... alkaline cleaning tank, 16 ... generated gas storage container.

Claims (9)

パラジウムを含む金属と塩素とを有し、パラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が2.0以上であるパラジウム触媒を担体に担持させたパラジウム触媒担持担体の存在下、気相で1,1−ジクロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを水素と反応させて1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを得ることを特徴とする1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法。 Presence of a palladium catalyst-supporting carrier on which a palladium catalyst having a metal containing palladium and chlorine and having a ratio (Cl / Pd) of the number of moles of chlorine atoms to the number of moles of palladium atoms is 2.0 or more is supported on the carrier. Below, in the gas phase, 1,1-dichloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene is reacted with hydrogen to obtain 1-chloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene. A method for producing 1-chloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene. 前記パラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が2.0〜5.0である、請求項1に記載の製造方法。 The production method according to claim 1, wherein the ratio (Cl / Pd) of the number of moles of chlorine atoms to the number of moles of palladium atoms is 2.0 to 5.0. 前記パラジウムを含む金属におけるパラジウム100質量部に対するパラジウム以外の金属の割合が50質量部以下である、請求項1または2に記載の製造方法。 The production method according to claim 1 or 2, wherein the ratio of the metal other than palladium to 100 parts by mass of palladium in the metal containing palladium is 50 parts by mass or less. 前記担体に対する前記パラジウムを含む金属の質量割合が、0.1〜10質量%である請求項1〜3のいずれか一項に記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 3, wherein the mass ratio of the metal containing palladium to the carrier is 0.1 to 10% by mass. 前記パラジウムを含む金属がパラジウム単体である請求項1〜4のいずれか一項に記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 4, wherein the metal containing palladium is a simple substance of palladium. 前記担体が活性炭である請求項1〜5のいずれか一項に記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 5, wherein the carrier is activated carbon. 前記活性炭がヤシ殻活性炭である、請求項6に記載の製造方法。 The production method according to claim 6, wherein the activated carbon is coconut shell activated carbon. 前記1,1−ジクロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンのモル数に対する前記水素のモル数の比(H/1214ya)が1.4以下である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の製造方法。Any of claims 1 to 7, wherein the ratio of the number of moles of hydrogen to the number of moles of 1,1-dichloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene (H 2 /1214ya) is 1.4 or less. The manufacturing method according to one item. 前記1,1−ジクロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを水素と反応させる反応温度が200℃以下である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 8, wherein the reaction temperature for reacting 1,1-dichloro-2,3,3,3-tetrafluoropropene with hydrogen is 200 ° C. or lower.
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