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JP6896009B2 - Heat treatment method and heat treatment equipment for porous glass base material - Google Patents
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JP6896009B2 - Heat treatment method and heat treatment equipment for porous glass base material - Google Patents

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Description

本発明は、多孔質ガラス母材の熱処理方法及び熱処理装置に関する。 The present invention relates to a heat treatment method and a heat treatment apparatus for a porous glass base material.

光ファイバの製造工程では、光ファイバの材料となる多孔質ガラス母材の脱水工程を経てガラス化工程が行われている。
このガラス化工程では、脱水された多孔質母材を炉内に吊下した状態で、脱水時よりも高温で加熱することにより行われている。
多孔質ガラス母材は、高温で加熱し続けると、自重で必要以上に鉛直下方に伸びを生じ、多孔質ガラス母材自体が変形してしまうおそれがあり、場合によっては加熱炉の炉心管に達して炉心管を破損させてしまう場合もある。
このため、従来の製造装置では、炉内の多孔質材料の下側を検出範囲とする放射温度計を設け、その検出温度の変化から検出範囲まで延びを生じたことを検知すると非常停止を行っていた(例えば、特許文献1参照)。
In the manufacturing process of the optical fiber, the vitrification step is performed through the dehydration step of the porous glass base material which is the material of the optical fiber.
In this vitrification step, the dehydrated porous base material is suspended in a furnace and heated at a higher temperature than during dehydration.
If the porous glass base material is continuously heated at a high temperature, it may stretch vertically downward more than necessary due to its own weight, and the porous glass base material itself may be deformed. It may reach and damage the core tube.
For this reason, in the conventional manufacturing equipment, a radiation thermometer is provided with the detection range below the porous material in the furnace, and when it is detected that the detection range is extended from the change in the detection temperature, an emergency stop is performed. (See, for example, Patent Document 1).

特開2010−90017号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-90017

しかしながら、特許文献1の製造装置は、炉内の多孔質材料の下側の検出範囲まで多孔質母材が延びを生じた段階で検知を行うので、多孔質母材が十分に延びてしまった後でしか検出することができず、安定的に製造する観点からは問題があった。 However, the manufacturing apparatus of Patent Document 1 detects when the porous base material extends to the lower detection range of the porous material in the furnace, so that the porous base material has sufficiently extended. It can be detected only later, and there is a problem from the viewpoint of stable production.

本発明は、光ファイバの用の多孔質ガラス母材のガラス化をより適正に行うことをその目的とする。 An object of the present invention is to more appropriately vitrify a porous glass base material for an optical fiber.

本発明は、加熱炉内に配置した光ファイバ用の多孔質ガラス母材を加熱部により所定の雰囲気中で加熱し、当該加熱中に前記加熱炉内の排気ガスの排気を行う多孔質ガラス母材の熱処理方法であって、
前記多孔質ガラス母材を目標温度まで昇温する昇温工程と、
前記多孔質ガラス母材を目標温度に維持するガラス化工程と、
前記多孔質ガラス母材の降温を行う降温工程と、を含み、
前記ガラス化工程において、前記加熱炉から排気される排気ガス中の特定の成分を測定し、当該成分の分圧が予め定めた閾値以下に下がると、前記降温工程に移行することを特徴とする。
In the present invention, a porous glass base material for an optical fiber arranged in a heating furnace is heated by a heating unit in a predetermined atmosphere, and the exhaust gas in the heating furnace is exhausted during the heating. It is a heat treatment method for materials.
A temperature raising step of raising the temperature of the porous glass base material to a target temperature, and
A vitrification process for maintaining the porous glass base material at a target temperature, and
Including a temperature lowering step of lowering the temperature of the porous glass base material,
In the vitrification step, a specific component in the exhaust gas exhausted from the heating furnace is measured, and when the partial pressure of the component drops below a predetermined threshold value, the process shifts to the temperature lowering step. ..

また、本発明は、多孔質ガラス母材を格納する加熱炉と、前記多孔質ガラス母材を加熱する加熱部と、前記加熱炉内の排気ガスの排気を行う排気部と、前記加熱部を制御する制御部とを備える多孔質ガラス母材の熱処理装置であって、
前記加熱炉からの排気ガスに含まれる特定の成分の分圧を測定する測定部と、
前記制御部は、
前記加熱炉内の前記多孔質ガラス母材を目標温度まで昇温する昇温工程と、前記加熱炉内の前記多孔質ガラス母材を目標温度に維持するガラス化工程と、前記多孔質ガラス母材の降温を行う降温工程とを含む複数工程で段階的に熱処理を行うと共に、
前記ガラス化工程において、前記測定部が測定した前記特定の成分の分圧が予め定めた閾値以下に下がると、前記降温工程に移行する制御を行うことを特徴とする。
Further, in the present invention, a heating furnace for storing the porous glass base material, a heating unit for heating the porous glass base material, an exhaust unit for exhausting the exhaust gas in the heating furnace, and the heating unit are provided. A heat treatment device for a porous glass base material provided with a control unit for controlling.
A measuring unit that measures the partial pressure of a specific component contained in the exhaust gas from the heating furnace, and
The control unit
A temperature raising step of raising the temperature of the porous glass base material in the heating furnace to a target temperature, a vitrification step of maintaining the porous glass base material in the heating furnace at a target temperature, and the porous glass base material. In addition to performing heat treatment step by step in multiple steps including the temperature lowering step of lowering the temperature of the material,
In the vitrification step, when the partial pressure of the specific component measured by the measuring unit falls below a predetermined threshold value, control is performed to shift to the temperature lowering step.

また、上記熱処理装置において、
前記排気部は、前記排気ガスの排気が通る排気通路を有し、
前記測定部は、前記排気通路から分岐したバイパス路を有し、当該バイパス路を通る前記排気ガスに含まれる前記特定の成分の分圧を測定する構成としても良い。
Further, in the above heat treatment apparatus,
The exhaust unit has an exhaust passage through which the exhaust of the exhaust gas passes.
The measuring unit may have a bypass path branched from the exhaust passage, and may be configured to measure the partial pressure of the specific component contained in the exhaust gas passing through the bypass path.

また、上記熱処理装置において、
前記測定部は、前記排気ガスを前記排気通路から前記バイパス路に引き込む吸引手段が接続されている構成としても良い。
Further, in the above heat treatment apparatus,
The measuring unit may be configured to be connected with a suction means for drawing the exhaust gas from the exhaust passage into the bypass path.

本発明によれば、光ファイバの用の多孔質ガラス母材のガラス化をより適正に行うことが可能となる。 According to the present invention, it becomes possible to more appropriately vitrify the porous glass base material for optical fibers.

発明の実施形態たる熱処理装置の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the schematic structure of the heat treatment apparatus which is an embodiment of an invention. 制御部が実行する熱処理の制御のフローチャートである。It is a flowchart of the control of the heat treatment executed by the control unit. 熱処理装置により多孔質ガラス母材の熱処理を行い、その際のガラス化工程の際に得られたガス分析計の出力に基づく検出成分の分圧の変化を検出不能となるまで継続して行った場合の線図である。The porous glass base material was heat-treated by a heat treatment device, and the change in the partial pressure of the detected component based on the output of the gas analyzer obtained during the vitrification step at that time was continuously performed until it became undetectable. It is a diagram of the case. 実施例1の多孔質ガラス母材のガラス化工程における測定部の検出成分の分圧の変化を示した線図である。It is a diagram which showed the change of the partial pressure of the detection component of the measuring part in the vitrification step of the porous glass base material of Example 1. FIG. 比較例1の多孔質ガラス母材のガラス化工程における測定部の検出成分の分圧の変化を示した線図である。It is a diagram which showed the change of the partial pressure of the detection component of the measuring part in the vitrification process of the porous glass base material of Comparative Example 1. FIG. 比較例2の多孔質ガラス母材のガラス化工程における測定部の検出成分の分圧の変化を示した線図である。It is a diagram which showed the change of the partial pressure of the detection component of the measuring part in the vitrification process of the porous glass base material of Comparative Example 2.

[発明の実施形態の概要]
以下、本発明の実施の形態にかかる光ファイバの用の多孔質ガラス母材の熱処理装置10について、図面に基づいて説明する。図1は、熱処理装置10の概略構成を示す断面図である。
[Outline of Embodiment of the Invention]
Hereinafter, the heat treatment apparatus 10 for the porous glass base material for the optical fiber according to the embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the heat treatment apparatus 10.

[多孔質ガラス母材について]
熱処理の対象となる光ファイバ用の多孔質ガラス母材100は、コア部分101と、その外周に形成されたスート体102とからなる。
この多孔質ガラス母材100は、コア部分101に対して、スート体102の原料となる石英ガラス微粒子をミストと共に噴霧しながらバーナーで加熱し、コア部分101の周囲に石英ガラス微粒子を堆積させて、スート体102が形成される。
そして、多孔質ガラス母材100を焼結温度よりも低温で加熱することにより脱水が行われる。
熱処理装置10は、上記脱水が行われた多孔質ガラス母材100のスート体102を加熱焼結により透明ガラス化させるための熱処理(ガラス化工程)を行うためのものである。
[About porous glass base material]
The porous glass base material 100 for an optical fiber to be heat-treated includes a core portion 101 and a soot body 102 formed on the outer periphery thereof.
The porous glass base material 100 is heated with a burner while spraying quartz glass fine particles, which are the raw material of the soot body 102, on the core portion 101 together with mist, and the quartz glass fine particles are deposited around the core portion 101. , Soot body 102 is formed.
Then, dehydration is performed by heating the porous glass base material 100 at a temperature lower than the sintering temperature.
The heat treatment apparatus 10 is for performing a heat treatment (vitrification step) for converting the soot body 102 of the dehydrated porous glass base material 100 into transparent vitrification by heat sintering.

[熱処理装置の概略構成]
熱処理装置10は、多孔質ガラス母材100を格納する炉心管21を有する加熱炉としての炉体20と、炉体20内で多孔質ガラス母材100を吊下支持する支持部30と、炉体20内の多孔質ガラス母材100を加熱する加熱部40と、炉心管21内に所定のガスを供給するガス供給部50と、炉心管21内の排気ガスの排気を行う排気部60と、排気ガスに含まれる特定の成分の分圧を測定する測定部70と、装置各部を制御する制御部90とを備えている。
[Outline configuration of heat treatment equipment]
The heat treatment apparatus 10 includes a furnace body 20 as a heating furnace having a core tube 21 for storing the porous glass base material 100, a support portion 30 for suspending and supporting the porous glass base material 100 in the furnace body 20, and a furnace. A heating unit 40 that heats the porous glass base material 100 in the body 20, a gas supply unit 50 that supplies a predetermined gas into the core tube 21, and an exhaust unit 60 that exhausts the exhaust gas in the core tube 21. A measuring unit 70 for measuring the partial pressure of a specific component contained in the exhaust gas, and a control unit 90 for controlling each unit of the device are provided.

[炉体]
炉体20は、内部の断熱を図る筐体であり、内部には炉心管21を格納している。
炉心管21は、石英ガラスからなる中空の円筒体である。炉心管21は、上部が開口可能であって、支持部30によって鉛直上下方向に吊下支持された多孔質ガラス母材100を内部に格納することができる。
また、炉心管21の下端部にはガス供給部50に接続された吸気口22を備え、上端部には排気部60に接続された排気口23を備えている。
熱処理装置10は、いわゆる減圧炉であり、炉心管21の内部には、ガス供給部50からガスが供給されると共に、排気部60によって、炉心管21の内部を大気と比較して負圧(例えば、100[Pa]以下)にすることができる。
[Furnace body]
The reactor body 20 is a housing for insulating the inside, and the core tube 21 is housed inside.
The core tube 21 is a hollow cylindrical body made of quartz glass. The upper part of the core tube 21 can be opened, and the porous glass base material 100 suspended and supported in the vertical vertical direction by the support portion 30 can be stored inside.
Further, the lower end of the core tube 21 is provided with an intake port 22 connected to the gas supply unit 50, and the upper end is provided with an exhaust port 23 connected to the exhaust unit 60.
The heat treatment apparatus 10 is a so-called decompression reactor, in which gas is supplied from the gas supply unit 50 to the inside of the core tube 21, and the inside of the core tube 21 is negatively pressured (compared to the atmosphere) by the exhaust unit 60. For example, it can be 100 [Pa] or less).

[加熱部]
加熱部40は、炉体20内において、炉心管21を介してその内部の多孔質ガラス母材100を加熱するヒータ41を備えている。
加熱部40のヒータ41は、炉心管21の周囲を取り囲むように配置されており、炉心管21のほぼ全長に渡って加熱可能な長さとなっている。
このようなヒータ41を備える加熱部40は、多孔質ガラス母材100の全長を同時に加熱することができる。
ヒータ41は、調節部42に接続されており、当該調節部42の電力供給量に応じて発熱量を調節することができる。調節部42は、制御部90の制御によって、多孔質ガラス母材100が目標温度となるようにヒータ41の発熱量の調節を実行する。
[Heating part]
The heating unit 40 includes a heater 41 that heats the porous glass base material 100 inside the core 20 via the core tube 21.
The heater 41 of the heating unit 40 is arranged so as to surround the periphery of the core tube 21, and has a length capable of heating over substantially the entire length of the core tube 21.
The heating unit 40 provided with such a heater 41 can simultaneously heat the entire length of the porous glass base material 100.
The heater 41 is connected to the adjusting unit 42, and the amount of heat generated can be adjusted according to the amount of power supplied by the adjusting unit 42. The adjusting unit 42 adjusts the calorific value of the heater 41 so that the porous glass base material 100 reaches the target temperature under the control of the control unit 90.

[支持部]
支持部30は、炉体20の上側に設けられ、炉心管21の上端部に設けられた小孔から外部に延びる多孔質ガラス母材100のコア部分101の上端部を把持して吊下支持する。
支持部30は、駆動源となる図示しないモータと、当該モータの出力回転を減速する減速機等を備えており、把持したコア部分101を中心として多孔質ガラス母材100に減速回転を付与する。
支持部30は、制御部90に接続されており、多孔質ガラス母材の熱処理の際に、規定の回転速度で多孔質ガラス母材100を回転させるように制御が行われる。
[Support]
The support portion 30 is provided on the upper side of the reactor body 20 and grips and supports the upper end portion of the core portion 101 of the porous glass base material 100 extending outward from the small holes provided at the upper end portion of the core tube 21. To do.
The support portion 30 includes a motor (not shown) as a drive source, a speed reducer for decelerating the output rotation of the motor, and the like, and imparts deceleration rotation to the porous glass base material 100 centering on the gripped core portion 101. ..
The support unit 30 is connected to the control unit 90, and is controlled so as to rotate the porous glass base material 100 at a predetermined rotation speed during the heat treatment of the porous glass base material.

[ガス供給部]
ガス供給部50は、所定のガラス化ガスのガス供給源51と、ガス供給源51から炉心管21の吸気口22までを接続する接続管52と、接続管52の途中に設けられたガスフローメータ53とを備えている。
ガス供給源51は、炉心管21内に供給するガラス化ガス、例えば、Heガス、Arガス、N2ガス等の不活性ガスやCl2ガス等を貯留しており、これらのガスを適宜炉心管21に供給する。
ガスフローメータ53は、制御部90に接続され、接続管52を介してガス供給源51から炉心管21に供給されるガスの量を目標量に調節することができる。
[Gas supply unit]
The gas supply unit 50 includes a gas supply source 51 for vitrified gas, a connecting pipe 52 connecting the gas supply source 51 to the intake port 22 of the core pipe 21, and a gas flow provided in the middle of the connecting pipe 52. It is equipped with a meter 53.
The gas supply source 51 stores vitrified gas to be supplied into the core tube 21, for example, an inert gas such as He gas, Ar gas, N 2 gas, Cl 2 gas, etc., and these gases are appropriately stored in the core. Supply to tube 21.
The gas flow meter 53 is connected to the control unit 90, and the amount of gas supplied from the gas supply source 51 to the core pipe 21 via the connecting pipe 52 can be adjusted to a target amount.

[排気部]
排気部60は、炉心管21から吸気を行うドライポンプ61と、炉心管21の排気口23とドライポンプ61を接続する排気通路としての排気管62と、ドライポンプ61の排気側に接続された排ガス処理装置63とを備えている。
ドライポンプ61は、炉心管21の吸気を行い、その内部を減圧する。ドライポンプ61は、油や液体を真空室内に使用しない真空ポンプなので、排ガス処理装置63に送られる排気に対して油や液体の混入を低減することができる。
排ガス処理装置63は、排気ガス中から排気できない成分を捕集する。
[Exhaust section]
The exhaust unit 60 is connected to the dry pump 61 that takes in air from the core pipe 21, the exhaust pipe 62 as an exhaust passage that connects the exhaust port 23 of the core pipe 21 and the dry pump 61, and the exhaust side of the dry pump 61. It is equipped with an exhaust gas treatment device 63.
The dry pump 61 takes in air from the core tube 21 and depressurizes the inside thereof. Since the dry pump 61 is a vacuum pump that does not use oil or liquid in the vacuum chamber, it is possible to reduce the mixing of oil or liquid with respect to the exhaust sent to the exhaust gas treatment device 63.
The exhaust gas treatment device 63 collects components that cannot be exhausted from the exhaust gas.

[測定部]
測定部70は、排気管62から分岐して再び排気管62に戻るバイパス路としてのバイパス管71と、バイパス管71の途中に設けられた所定の成分を検出する検出部としてのガス分析計72と、ガス分析計72の下流側に設けられたターボポンプ73と、ターボポンプ73のさらに下流側に設けられたドライポンプ74とを備えている。
[Measurement unit]
The measuring unit 70 includes a bypass pipe 71 as a bypass path that branches from the exhaust pipe 62 and returns to the exhaust pipe 62, and a gas analyzer 72 as a detection unit that detects a predetermined component provided in the middle of the bypass pipe 71. A turbo pump 73 provided on the downstream side of the gas analyzer 72 and a dry pump 74 provided on the downstream side of the turbo pump 73 are provided.

ドライポンプ74は、バイパス管71の下流側から排気管62に対して吸引を行う。一方、排気管62は、その下流側のドライポンプ61により排気ガスの吸気を行っているので、バイパス管71内を排気管62内よりも負圧にする必要がある。このため、バイパス管71には、ターボポンプ73も設けられており、これら二つのポンプ73,74を吸引手段として排気ガスの一部についてバイパス管71への引き込みを行う。
また、ドライポンプ74もまた、油や液体を真空室内に使用しない真空ポンプなので、排ガス処理装置63に送られる排気に対して油や液体の混入を低減することができる。
The dry pump 74 sucks the exhaust pipe 62 from the downstream side of the bypass pipe 71. On the other hand, since the exhaust pipe 62 takes in the exhaust gas by the dry pump 61 on the downstream side thereof, it is necessary to make the pressure inside the bypass pipe 71 more negative than that inside the exhaust pipe 62. Therefore, the bypass pipe 71 is also provided with a turbo pump 73, and a part of the exhaust gas is drawn into the bypass pipe 71 by using these two pumps 73 and 74 as suction means.
Further, since the dry pump 74 is also a vacuum pump that does not use oil or liquid in the vacuum chamber, it is possible to reduce the mixing of oil or liquid with respect to the exhaust sent to the exhaust gas treatment device 63.

ガス分析計72は、四重極型質量分析計等のガス分析計であり、排気ガスに含まれる特定の成分の濃度を検出する。ガス分析計72による検出濃度は、制御部90に入力され、当該制御部90が、特定の成分の分圧を算出する。
従って、厳密には、制御部90が特定の成分の検出濃度から分圧を算出する機能も、測定部70の構成の一部となっている。
なお、特定の成分としては、後述する実施例1では、塩化水素を例示している。
The gas analyzer 72 is a gas analyzer such as a quadrupole mass spectrometer, and detects the concentration of a specific component contained in the exhaust gas. The concentration detected by the gas analyzer 72 is input to the control unit 90, and the control unit 90 calculates the partial pressure of a specific component.
Therefore, strictly speaking, the function of the control unit 90 to calculate the partial pressure from the detected concentration of a specific component is also a part of the configuration of the measurement unit 70.
As a specific component, hydrogen chloride is exemplified in Example 1 described later.

[制御部]
制御部90は、CPU(Central Processing Unit)と、制御プログラム及び制御データを格納した記憶装置と、CPUがデータを展開するメモリとを備える。
制御部90は、図示しないインターフェイスを介して、加熱部40の調節部42及びガス供給部50のガスフローメータ53に接続されており、ヒータ41の発熱量の制御を行い、炉心管21へのガスの供給量を調節する制御を行うこともできる。
また、制御部90は、インターフェイスを介して、測定部70のガス分析計72に接続されており、ガス分析計72の出力から検出成分の分圧を算出する。
さらに、制御部90は、インターフェイスを介して、炉心管21内に格納された多孔質ガラス母材100の温度を検出する温度検出部としての放射温度計24にも接続されており、検出温度が入力される。
また、制御部90は、インターフェイスを介して、排気部60のドライポンプ61と測定部70のターボポンプ73及びドライポンプ74と接続されており、これらのポンプ61,73,74の駆動と停止を制御する。
[Control unit]
The control unit 90 includes a CPU (Central Processing Unit), a storage device that stores a control program and control data, and a memory in which the CPU expands the data.
The control unit 90 is connected to the adjustment unit 42 of the heating unit 40 and the gas flow meter 53 of the gas supply unit 50 via an interface (not shown), controls the calorific value of the heater 41, and connects to the core tube 21. It is also possible to control the amount of gas supplied.
Further, the control unit 90 is connected to the gas analyzer 72 of the measurement unit 70 via an interface, and calculates the partial pressure of the detected component from the output of the gas analyzer 72.
Further, the control unit 90 is also connected to the radiation thermometer 24 as a temperature detection unit for detecting the temperature of the porous glass base material 100 stored in the core tube 21 via an interface, and the detection temperature is measured. Entered.
Further, the control unit 90 is connected to the dry pump 61 of the exhaust unit 60 and the turbo pump 73 and the dry pump 74 of the measurement unit 70 via an interface, and drives and stops these pumps 61, 73, 74. Control.

[制御部による熱処理制御]
制御部90では、CPUが記憶装置の制御プログラムを実行することで、多孔質ガラス母材100に対する特徴的な熱処理方法に基づく熱処理制御を実現する。
即ち、制御部90は、炉心管21内の多孔質ガラス母材100をガラス化に好適な目標温度まで昇温する昇温工程と、炉心管21内の多孔質ガラス母材100を目標温度に維持するガラス化工程と、炉心管21内の多孔質ガラス母材100の降温を行う降温工程とを含む複数工程で段階的に熱処理を行う。
[Heat treatment control by control unit]
In the control unit 90, the CPU executes a control program of the storage device to realize heat treatment control based on a characteristic heat treatment method for the porous glass base material 100.
That is, the control unit 90 raises the temperature of the porous glass base material 100 in the core tube 21 to a target temperature suitable for vitrification, and sets the porous glass base material 100 in the core tube 21 to the target temperature. The heat treatment is carried out stepwise in a plurality of steps including a vitrification step for maintaining and a temperature lowering step for lowering the temperature of the porous glass base material 100 in the core tube 21.

制御部90が実行する熱処理の制御を図2のフローチャートに示す。
まず、制御部90は、昇温工程の前に、炉心管21に多孔質ガラス母材100が格納された状態において、ガスフローメータ53を制御して、ガス供給部50から炉心管21内に窒素ガスの供給を行う共に、排気部60のドライポンプ61と測定部70のターボポンプ73及びドライポンプ74を作動させて、炉心管21内を所定の負圧状態に減圧する(準備工程:ステップS1)。
The control of the heat treatment executed by the control unit 90 is shown in the flowchart of FIG.
First, the control unit 90 controls the gas flow meter 53 in a state where the porous glass base material 100 is stored in the core tube 21 before the temperature raising step, and the gas supply unit 50 enters the core tube 21. While supplying nitrogen gas, the dry pump 61 of the exhaust unit 60 and the turbo pump 73 and the dry pump 74 of the measuring unit 70 are operated to reduce the pressure in the core tube 21 to a predetermined negative pressure state (preparation step: step). S1).

そして、制御部90は、ヒータ41に電力を供給し、放射温度計24によって多孔質ガラス母材100の温度を監視しながら加熱昇温を行う(昇温工程:ステップS2)。
制御部90は、放射温度計24による多孔質ガラス母材100の検出温度が、ガラス化に好適な目標温度に達するか判定を行い、達していなければ昇温を続けて、達していれば昇温工程からガラス化工程に移行する(ステップS3)。
Then, the control unit 90 supplies electric power to the heater 41 and heats and raises the temperature while monitoring the temperature of the porous glass base material 100 with the radiation thermometer 24 (heating step: step S2).
The control unit 90 determines whether the detection temperature of the porous glass base material 100 by the radiation thermometer 24 reaches a target temperature suitable for vitrification, and if not, continues to raise the temperature, and if it reaches, raises the temperature. The process shifts from the temperature step to the vitrification step (step S3).

次いで、制御部90は、放射温度計24によって多孔質ガラス母材100の温度を監視しながらガラス化に好適な目標温度を維持するように、調節部42を制御してヒータ41への供給電力を調整する(ガラス化工程:ステップS4)。
また、ガラス化工程では、制御部90は、測定部70のガス分析計72の出力から検出成分の分圧を算出して、その値を逐次的に記録する。
そして、制御部90は、逐次的に求められる検出成分の分圧を予め定められた閾値と比較し、閾値より高ければ目標温度を維持し続ける。また、検出成分の分圧が閾値以下まで下がると、ガラス化工程の終点に到達したものとして、ヒータ41への電力供給を停止する(ステップS5)。
そして、ガラス化工程から降温工程に移行する。
Next, the control unit 90 controls the adjustment unit 42 to maintain a target temperature suitable for vitrification while monitoring the temperature of the porous glass base material 100 with the radiation thermometer 24, and supplies power to the heater 41. (Vitrification step: step S4).
Further, in the vitrification step, the control unit 90 calculates the partial pressure of the detected component from the output of the gas analyzer 72 of the measurement unit 70, and sequentially records the value.
Then, the control unit 90 compares the partial pressure of the detection component sequentially obtained with a predetermined threshold value, and if it is higher than the threshold value, continues to maintain the target temperature. Further, when the partial pressure of the detected component drops below the threshold value, it is assumed that the end point of the vitrification step has been reached, and the power supply to the heater 41 is stopped (step S5).
Then, the process shifts from the vitrification process to the temperature lowering process.

次いで、制御部90は、測定部70のターボポンプ73及びドライポンプ74を停止させると共に、ガス分析計72の出力の記録を終了する。
また、制御部90は、放射温度計24によって多孔質ガラス母材100の温度を監視して、多孔質ガラス母材100が予め定められた冷却温度まで温度が下がると、ガスフローメータ53を制御して窒素ガスの供給を停止すると共に、排気部60のドライポンプ61の停止により排気を停止する(降温工程:ステップS6)。
そして、熱処理を終了する。
Next, the control unit 90 stops the turbo pump 73 and the dry pump 74 of the measurement unit 70, and ends the recording of the output of the gas analyzer 72.
Further, the control unit 90 monitors the temperature of the porous glass base material 100 with the radiation thermometer 24, and controls the gas flow meter 53 when the temperature of the porous glass base material 100 drops to a predetermined cooling temperature. Then, the supply of nitrogen gas is stopped, and the exhaust is stopped by stopping the dry pump 61 of the exhaust unit 60 (temperature lowering step: step S6).
Then, the heat treatment is completed.

[実施例1]
ここで、本発明の実施例1について説明する。
図3は、上記熱処理装置10により多孔質ガラス母材100の熱処理を行い、その際のガラス化工程の際に得られたガス分析計72の出力に基づく検出成分の分圧の変化を、検出不能となるまで継続して行った場合の線図である。また、図4は、分圧が予め定められた閾値となるまでガラス化工程を行った場合の分圧の変化の線図である。
[Example 1]
Here, Example 1 of the present invention will be described.
FIG. 3 shows that the porous glass base material 100 is heat-treated by the heat treatment apparatus 10, and the change in the partial pressure of the detected component based on the output of the gas analyzer 72 obtained during the vitrification step at that time is detected. It is a diagram when it is continued until it becomes impossible. Further, FIG. 4 is a diagram showing a change in the partial pressure when the vitrification step is performed until the partial pressure reaches a predetermined threshold value.

この実施例1では、1100[℃]に加熱した炉心管21に、多孔質ガラス母材100を投入し、炉心管21内を約20[Pa]に減圧した。
その後、ガラス化に好適な目標温度である約1400[℃]に到達するまで、昇温した(昇温工程)。
さらに、多孔質ガラス母材100の検出温度が約1400[℃]に到達すると、ガラス化が完了するまで一定の目標温度を保持した(ガラス化工程)。このとき、炉心管21内で発生した排気ガスは、一部が測定部70に引き込まれ、特定成分として塩化水素の分圧が逐次記録された。
ガラス化工程における塩化水素の分圧は、図3に示すように、検出当初は、一時的に増加し、その後に減少に転じた。その後、多孔質ガラス母材100の検出温度が約1400[℃]の状態を継続すると、分圧の値が3×10-6[Pa]を下回ったあたりで、他の物質によるノイズの影響により検出不能となった。
In Example 1, the porous glass base material 100 was put into the core tube 21 heated to 1100 [° C.], and the inside of the core tube 21 was depressurized to about 20 [Pa].
Then, the temperature was raised until the target temperature suitable for vitrification of about 1400 [° C.] was reached (heating step).
Further, when the detection temperature of the porous glass base material 100 reached about 1400 [° C.], a constant target temperature was maintained until the vitrification was completed (vitrification step). At this time, a part of the exhaust gas generated in the core tube 21 was drawn into the measuring unit 70, and the partial pressure of hydrogen chloride was sequentially recorded as a specific component.
As shown in FIG. 3, the partial pressure of hydrogen chloride in the vitrification step temporarily increased at the beginning of detection and then decreased. After that, when the detection temperature of the porous glass base material 100 continued to be about 1400 [° C], the partial pressure value fell below 3 × 10 -6 [Pa] due to the influence of noise from other substances. It became undetectable.

一方、上記と同様にガラス化工程を実施し、図4に示すように、分圧の閾値を5×10-6[Pa]に定め、分圧が閾値まで低下した時にガラス化工程を終了し、ヒータ41の加熱を停止して降温工程にプロセスを進めた場合には、次のようになった。
即ち、降温工程により十分冷却された多孔質ガラス母材100を炉心管21から取り出してみると、多孔質ガラス母材100は、長手方向にほぼ均一に焼結して全体がガラス化していることを確認した。
On the other hand, the vitrification step is carried out in the same manner as above, the threshold value of the partial pressure is set to 5 × 10 -6 [Pa] as shown in FIG. 4, and the vitrification step is terminated when the partial pressure drops to the threshold value. When the heating of the heater 41 was stopped and the process proceeded to the temperature lowering step, the result was as follows.
That is, when the porous glass base material 100 sufficiently cooled by the temperature lowering step is taken out from the core tube 21, the porous glass base material 100 is sintered substantially uniformly in the longitudinal direction and the whole is vitrified. It was confirmed.

本願発明の発明者は、この結果に関し、熱処理のガラス化工程において、以下の現象が起こっていると推測した。即ち、多孔質光ファイバ母材は内部に塩素を含み、脱水工程において、徐々に加熱炉内に排出される。
多孔質ガラス母材のガラス化工程を行う場合にも、脱水工程の場合と同様にして、多孔質ガラス母材100に僅かに残存する水分と塩素とが炉心管21内に排出され、塩化水素が生成される。母材の焼結が進行すると、放出される塩素の量が減少するため、塩化水素の生成量も減少する。従って、塩化水素の検出量が十分に少なくなるタイミングを見極めることでガラス化の終点を判断することができる。
Regarding this result, the inventor of the present invention presumed that the following phenomenon occurred in the vitrification step of the heat treatment. That is, the porous optical fiber base material contains chlorine inside, and is gradually discharged into the heating furnace in the dehydration step.
When the vitrification step of the porous glass base material is performed, a small amount of water and chlorine remaining in the porous glass base material 100 are discharged into the core tube 21 and hydrogen chloride is discharged as in the case of the dehydration step. Is generated. As the sintering of the base metal progresses, the amount of chlorine released decreases, so the amount of hydrogen chloride produced also decreases. Therefore, the end point of vitrification can be determined by determining the timing at which the detected amount of hydrogen chloride becomes sufficiently small.

[比較例1]
上記実施例1と同様に、多孔質ガラス母材100を炉心管21に投入し、約1400[℃]まで昇温する。そして、1400[℃]を維持して、炉心管21内で発生した排気中の塩化水素の濃度をガス分析計72で検出し、これに基づく分圧の変化を監視した。このときの分圧の変化を図5に示す。
この比較例1では、減少する分圧の数値が4×10-6[Pa]でほぼ一定となったところで、降温工程へとプロセスを進めた。
その後、十分冷却された後に取り出してみると、多孔質ガラス母材100は、十分焼結していたが、一部に細い部分が生じたことを確認した。これは、ガラス化が過剰になり、ガラス化した母材に伸びが生じたことが原因である。
[Comparative Example 1]
In the same manner as in Example 1, the porous glass base material 100 is charged into the core tube 21 and the temperature is raised to about 1400 [° C.]. Then, while maintaining 1400 [° C.], the concentration of hydrogen chloride in the exhaust gas generated in the core tube 21 was detected by the gas analyzer 72, and the change in partial pressure based on this was monitored. The change in partial pressure at this time is shown in FIG.
In this Comparative Example 1, when the numerical value of the decreasing partial pressure became almost constant at 4 × 10 -6 [Pa], the process proceeded to the temperature lowering process.
Then, when it was taken out after being sufficiently cooled, it was confirmed that the porous glass base material 100 was sufficiently sintered, but a thin portion was formed in a part thereof. This is because the vitrification became excessive and the vitrified base material was stretched.

[比較例2]
上記実施例1と同様に、多孔質ガラス母材100を炉心管21に投入し、約1400[℃] まで昇温する。そして、1400[℃]を維持して、炉心管21内で発生した排気中の塩化水素の濃度をガス分析計72で検出し、これに基づく分圧の変化を監視した。このときの分圧の変化を図6に示す。
この比較例2では、減少する分圧の数値が6×10-6[Pa]を示したところで降温工程へとプロセスを進めた。
その後、十分冷却された後に取り出してみると、ガラス化した母材は、焼結が不十分であった。即ち、多孔質ガラス母材100のスート体102に透明化せずに白濁のままである箇所が散見された。
[Comparative Example 2]
In the same manner as in Example 1, the porous glass base material 100 is charged into the core tube 21 and the temperature is raised to about 1400 [° C.]. Then, while maintaining 1400 [° C.], the concentration of hydrogen chloride in the exhaust gas generated in the core tube 21 was detected by the gas analyzer 72, and the change in partial pressure based on this was monitored. The change in partial pressure at this time is shown in FIG.
In this Comparative Example 2, the process proceeded to the temperature lowering step when the numerical value of the decreasing partial pressure showed 6 × 10 -6 [Pa].
Then, when it was taken out after being sufficiently cooled, the vitrified base material was insufficiently sintered. That is, there were some spots in the soot body 102 of the porous glass base material 100 that remained cloudy without being made transparent.

前述の実施例1及び比較例1,2の結果から、図3に示すように、多孔質ガラス母材のガラス化工程の終点を、塩化水素の分圧が4×10-6[Pa]となる点E2に設定すると、多孔質ガラス母材100のガラス化が過度に進行して伸びや変形を生じ、塩化水素の分圧が6×10-6[Pa]となる点E3に設定すると、ガラス化が不充分となることが分かった。そして、これらの間の塩化水素の分圧が5×10-6[Pa]となる点E1にガラス化工程の終点を設定すると、過不足なく良好なガラス化が行われることが分かった。
従って、ガラス化の終点を塩化水素の分圧の変化から決定することが可能であることが示された。
From the results of Example 1 and Comparative Examples 1 and 2 described above, as shown in FIG. 3, the partial pressure of hydrogen chloride was 4 × 10 -6 [Pa] at the end point of the vitrification step of the porous glass base material. When set to the point E2, the vitrification of the porous glass base material 100 progresses excessively to cause elongation and deformation, and when set to the point E3 where the partial pressure of hydrogen chloride becomes 6 × 10 -6 [Pa], It turned out that the vitrification was insufficient. Then, it was found that when the end point of the vitrification step was set at the point E1 where the partial pressure of hydrogen chloride between them was 5 × 10 -6 [Pa], good vitrification was performed without excess or deficiency.
Therefore, it was shown that the end point of vitrification can be determined from the change in the partial pressure of hydrogen chloride.

[比較例3]
上記実施例1と同様に、多孔質ガラス母材100を炉心管21に投入し、約1400[℃]まで昇温する。そして、1400[℃]を維持して、多孔質ガラス母材100の加熱を行った。100[kg]程度の母材の重量をもとに、予め設定した時間が経過した後に降温工程へとプロセスを進めた。そして、同じ熱処理を同じ条件で複数の多孔質ガラス母材100について行った。
それぞれの多孔質ガラス母材100を、十分冷却された後に取り出してみると、長手方向にほぼ均一に焼結しているものが多くあるが、一部焼結が不十分である母材や、伸びが生じている母材が存在していた。これは、焼結前の母材の密度や、脱水工程が十分行われていたかが影響していると考えられる。
また、時間を揃えてガラス化工程を実行しても、複数の多孔質ガラス母材100について、結果にバラつきが生じることから、ガラス化工程を処理時間で管理することは困難であるという結論が得られた。
[Comparative Example 3]
In the same manner as in Example 1, the porous glass base material 100 is charged into the core tube 21 and the temperature is raised to about 1400 [° C.]. Then, the porous glass base material 100 was heated while maintaining 1400 [° C.]. Based on the weight of the base metal of about 100 [kg], the process proceeded to the temperature lowering process after the preset time had elapsed. Then, the same heat treatment was performed on a plurality of porous glass base materials 100 under the same conditions.
When each of the porous glass base materials 100 is taken out after being sufficiently cooled, many of them are sintered almost uniformly in the longitudinal direction, but some of the base materials are insufficiently sintered. There was a base metal that was stretched. It is considered that this is influenced by the density of the base metal before sintering and whether the dehydration process was sufficiently performed.
Further, it was concluded that it is difficult to control the vitrification process by the processing time because the results of the plurality of porous glass base materials 100 vary even if the vitrification process is executed at the same time. Obtained.

[発明の実施形態の技術的効果]
以上のように、熱処理装置10は、制御部90が、ガラス化工程において、測定部70の測定に基づく特定の成分の分圧が予め定めた閾値以下に下がると、降温工程に移行する制御を行っている。
このため、多孔質ガラス母材100に対して、過剰な延びを抑えつつ、全体を適正にガラス化することが可能となる。
また、特定の成分の分圧の変化に基づいてガラス化工程の終点を決めているので、実際に多孔質ガラス母材に延びが生じてからそれを検出する場合に比べて、多孔質ガラス母材の延びの発生を抑制することができ、ガラス化された良好な母材を得ることが可能となる。
[Technical Effects of Embodiments of the Invention]
As described above, the heat treatment apparatus 10 controls the control unit 90 to shift to the temperature lowering step when the partial pressure of a specific component based on the measurement of the measuring unit 70 drops below a predetermined threshold value in the vitrification step. Is going.
Therefore, it is possible to properly vitrify the entire porous glass base material 100 while suppressing excessive elongation.
In addition, since the end point of the vitrification process is determined based on the change in the partial pressure of a specific component, the porous glass matrix is compared with the case where the porous glass matrix is actually stretched and then detected. It is possible to suppress the occurrence of elongation of the material, and it is possible to obtain a good vitrified base material.

また、熱処理装置10は、測定部70が、排気管62から分岐したバイパス管71を通る排気ガスに含まれる特定の成分の分圧を測定するので、排気管62側で炉心管21内の真空引きや減圧のための吸引を行う場合であっても、測定部70側では一定の量で排気を引き込むことが容易となり、高い精度で特定の成分の分圧を測定することが可能となり、より良好な多孔質ガラス母材のガラス化を実現することが可能となる。 Further, in the heat treatment apparatus 10, the measuring unit 70 measures the partial pressure of a specific component contained in the exhaust gas passing through the bypass pipe 71 branched from the exhaust pipe 62, so that the vacuum inside the core pipe 21 is on the exhaust pipe 62 side. Even when suction is performed for pulling or depressurizing, it becomes easy to pull in the exhaust gas with a constant amount on the measuring unit 70 side, and it becomes possible to measure the partial pressure of a specific component with high accuracy. It is possible to realize good vitrification of the porous glass base material.

また、熱処理装置10は、排気ガスをバイパス管71に引き込むターボポンプ73及びドライポンプ74が接続されているので、測定部70側に排気を引き込む吸引力を調整することが容易となり、ガス分析計72の前後での圧力差を調整することが可能となり、ガス分析計72の保護を図ることが可能となる。 Further, since the turbo pump 73 and the dry pump 74 that draw the exhaust gas into the bypass pipe 71 are connected to the heat treatment apparatus 10, it becomes easy to adjust the suction force that draws the exhaust gas to the measuring unit 70 side, and the gas analyzer It is possible to adjust the pressure difference before and after 72, and it is possible to protect the gas analyzer 72.

[その他]
上記実施形態では、発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されている場合を例示したが、本発明の範囲を上記実施形態及び図示の例に限定するものではない。
例えば、測定部70が測定を行う特定の成分は、塩化水素を例示したが、ガラス化工程で発生し得る他の成分を対象としても良い。
また、ガラス化工程の終了を決定する分圧の数値も一例であって、例えば、数値を変えた比較試験によって求められたより適正な数値を選択しても良い。
[Other]
In the above-described embodiment, various technically preferable restrictions are given for carrying out the invention, but the scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment and the illustrated examples.
For example, although hydrogen chloride is exemplified as the specific component to be measured by the measuring unit 70, other components that may be generated in the vitrification step may be targeted.
Further, the numerical value of the partial pressure that determines the end of the vitrification step is also an example, and for example, a more appropriate numerical value obtained by a comparative test in which the numerical value is changed may be selected.

10 熱処理装置
20 炉体(加熱炉)
21 炉心管
24 放射温度計
40 加熱部
41 ヒータ
42 調節部
50 ガス供給部
53 ガスフローメータ
60 排気部
61 ドライポンプ
62 排気管(排気通路)
70 測定部
71 バイパス管(バイパス路)
72 ガス分析計
73 ターボポンプ(吸引手段)
74 ドライポンプ(吸引手段)
90 制御部
100 多孔質ガラス母材
101 コア部分
102 スート体
10 Heat treatment equipment 20 Furnace body (heating furnace)
21 Core tube 24 Radiation thermometer 40 Heating section 41 Heater 42 Control section 50 Gas supply section 53 Gas flow meter 60 Exhaust section 61 Dry pump 62 Exhaust pipe (exhaust passage)
70 Measuring unit 71 Bypass pipe (bypass path)
72 Gas analyzer 73 Turbo pump (suction means)
74 Dry pump (suction means)
90 Control unit 100 Porous glass base material 101 Core part 102 Suit body

Claims (4)

加熱炉内に配置した光ファイバ用の多孔質ガラス母材を加熱部により所定の雰囲気中で加熱し、当該加熱中に前記加熱炉内の排気ガスの排気を行う多孔質ガラス母材の熱処理方法であって、
前記多孔質ガラス母材を目標温度まで昇温する昇温工程と、
前記多孔質ガラス母材を目標温度に維持するガラス化工程と、
前記多孔質ガラス母材の降温を行う降温工程と、を含み、
前記ガラス化工程において、前記加熱炉から排気される排気ガス中の特定の成分を測定し、当該成分の分圧が予め定めた閾値以下に下がると、前記降温工程に移行することを特徴とする多孔質ガラス母材の熱処理方法。
A method for heat-treating a porous glass base material for an optical fiber arranged in a heating furnace by heating the porous glass base material for optical fibers in a predetermined atmosphere by a heating unit and exhausting the exhaust gas in the heating furnace during the heating. And
A temperature raising step of raising the temperature of the porous glass base material to a target temperature, and
A vitrification process for maintaining the porous glass base material at a target temperature, and
Including a temperature lowering step of lowering the temperature of the porous glass base material,
In the vitrification step, a specific component in the exhaust gas exhausted from the heating furnace is measured, and when the partial pressure of the component drops below a predetermined threshold value, the process shifts to the temperature lowering step. A method for heat-treating a porous glass base material.
多孔質ガラス母材を格納する加熱炉と、
前記多孔質ガラス母材を加熱する加熱部と、
前記加熱炉内の排気ガスの排気を行う排気部と、
前記加熱部を制御する制御部とを備える多孔質ガラス母材の熱処理装置であって、
前記加熱炉からの排気ガスに含まれる特定の成分の分圧を測定する測定部を備え、
前記制御部は、
前記加熱炉内の前記多孔質ガラス母材を目標温度まで昇温する昇温工程と、前記加熱炉内の前記多孔質ガラス母材を目標温度に維持するガラス化工程と、前記多孔質ガラス母材の降温を行う降温工程とを含む複数工程で段階的に熱処理を行うと共に、
前記ガラス化工程において、前記測定部が測定した前記特定の成分の分圧が予め定めた閾値以下に下がると、前記降温工程に移行する制御を行うことを特徴とする多孔質ガラス母材の熱処理装置。
A heating furnace for storing the porous glass base material and
A heating unit that heats the porous glass base material and
An exhaust unit that exhausts the exhaust gas in the heating furnace and
A heat treatment apparatus for a porous glass base material including a control unit for controlling the heating unit.
A measuring unit for measuring the partial pressure of a specific component contained in the exhaust gas from the heating furnace is provided.
The control unit
A temperature raising step of raising the temperature of the porous glass base material in the heating furnace to a target temperature, a vitrification step of maintaining the porous glass base material in the heating furnace at a target temperature, and the porous glass base material. In addition to performing heat treatment step by step in multiple steps including the temperature lowering step of lowering the temperature of the material,
In the vitrification step, when the partial pressure of the specific component measured by the measuring unit falls below a predetermined threshold value, the heat treatment of the porous glass base material is characterized in that the transition to the temperature lowering step is controlled. apparatus.
前記排気部は、前記排気ガスの排気が通る排気通路を有し、
前記測定部は、前記排気通路から分岐したバイパス路を有し、当該バイパス路を通る前記排気ガスに含まれる前記特定の成分の分圧を測定することを特徴とする請求項2に記載の多孔質ガラス母材の熱処理装置。
The exhaust unit has an exhaust passage through which the exhaust of the exhaust gas passes.
The porosity according to claim 2, wherein the measuring unit has a bypass path branched from the exhaust passage and measures the partial pressure of the specific component contained in the exhaust gas passing through the bypass path. Heat treatment equipment for quality glass base material.
前記測定部は、前記排気ガスを前記排気通路から前記バイパス路に引き込む吸引手段が接続されていることを特徴とする請求項3に記載の多孔質ガラス母材の熱処理装置。 The heat treatment apparatus for a porous glass base material according to claim 3, wherein the measuring unit is connected to a suction means for drawing the exhaust gas from the exhaust passage into the bypass path.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5858292B2 (en) * 1980-01-21 1983-12-24 株式会社日立製作所 Silica glass manufacturing method
JPH02204338A (en) * 1989-01-31 1990-08-14 Hitachi Cable Ltd Manufacturing method of optical fiber base material
JPH05221676A (en) * 1992-02-05 1993-08-31 Fujikura Ltd Method for manufacturing optical fiber preform
JPH0826762A (en) * 1994-07-09 1996-01-30 Fujikura Ltd Optical fiber base material manufacturing equipment
JP2000226225A (en) * 1999-02-08 2000-08-15 Furukawa Electric Co Ltd:The Method and apparatus for heat treating porous optical fiber preform
JP2003081643A (en) * 2001-09-07 2003-03-19 Sumitomo Electric Ind Ltd Method for manufacturing transparent glass base material
JP3966709B2 (en) * 2001-10-25 2007-08-29 古河電気工業株式会社 Optical fiber preform manufacturing method
JP2003212559A (en) * 2002-01-18 2003-07-30 Sumitomo Electric Ind Ltd Manufacturing method of glass base material
JP5250377B2 (en) * 2008-10-10 2013-07-31 株式会社フジクラ Optical fiber preform manufacturing apparatus and manufacturing method
JP2014101236A (en) * 2012-11-16 2014-06-05 Sumitomo Electric Ind Ltd Production method of optical fiber preform, and optical fiber
JP6519488B2 (en) * 2016-01-14 2019-05-29 住友電気工業株式会社 Method of manufacturing optical fiber base material
CN205590559U (en) * 2016-05-06 2016-09-21 藤仓烽火光电材料科技有限公司 Dewatering device is used in production of low decay optical fiber perform

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