JP6897640B2 - 発光装置の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の実施形態1に係る発光装置の製造方法を図1から図8に基づいて説明する。図1は、実施形態1に係る中間体の上面図である。図2は、図1のI−I断面における概略断面図である。図3は、実施形態1に係る前駆体基板の上面図である。図4は、図3のII−II断面における概略断面図である。図5から図8は、実施形態1に係る発光装置の製造方法を説明する概略断面図である。
(1)上面と、上面の反対側に位置する第1下面と、を有する基材と、上面に配置される一対の第1配線と、一対の第1配線とそれぞれ電気的に接続され、上面と第1下面との間に位置する第2配線と、を備える前駆体基板と、第1配線上に載置される発光素子と、を備える中間体を準備する工程と、
(2)基材の第1下面側から基材の一部を除去し基材を薄くし基材の第2下面を形成する工程と、
(3)第2配線と電気的に接続される一対の外部接続電極を第2下面に形成する工程と、を含む。
図2に示すように、前駆体基板10Aと発光素子20と、を備えた中間体100を準備する。前駆体基板10Aは、基材11と、一対の第1配線12A、12B、一対の第2配線151A、151Bと、を備える。本明細書において、基材11の一部を除去する前の基板を前駆体基板と呼び、基材11の一部を除去した後で外部接続電極を形成する工程の前の基板を除去後基板と呼び、外部接続電極を形成した後で後述する個片化する工程の前の基板を外部接続電極付基板と呼び、後述する個片化する工程の後の基板を個片基板と呼ぶことがある。また、前駆体基板、除去後基板及び/又は個片基板を基板と呼ぶことがある。基材11は、上面111と、上面の反対側に位置する第1下面112と、を有する。一対の第1配線12A、12Bは、基材11の上面111に配置される。一対の第1配線12A、12Bとは、正負電極として機能する2つの電極のことである。このため、個片基板は、正負一対の電極となるよう互いに離間した一対の第1配線12A、12Bを備える。前駆体基板10Aにおいては、一対の第1配線12A、12Bが離間していてもよく、一対の第1配線12A、12Bが繋がっていてもよい。図3に示すように、個片基板になる予定の領域Aにおいて、前駆体基板10Aが、正負一対の電極となるよう互いに離間した一対の第1配線となる部分を備えていればよい。尚、本明細書において、個片基板になる予定の領域Aにおいて、前駆体基板10Aが互いに離間した一対の第1配線となる部分を備えていれば、前駆体基板10Aは一対の第1配線12A、12Bを備えているとする。
図5に示すように、基材11の第1下面側から基材11の一部を除去する。換言すると、基材の上面111と反対側の面側から基材11の一部を除去する。これにより、Z方向の基材11の厚みを薄くして、基材11の第2下面113を形成する。前駆体基板、除去後基板及び/又は個片基板が備える基材及び第2配線は基材11の一部を除去する前後を問わず、同じ名称を用いて説明する。基材の厚みを薄くすることで薄型の発光装置を製造することができる。基材の第2下面113を形成する際に第2配線の一部を除去してもよく、第2配線の一部を除去しなくてもよい。基材の第2下面113を形成する際に、第2配線の一部を除去することで基材の第2下面から第2配線を露出させやすくなる。例えば、第2配線が基材の上面から第2下面まで形成され、且つ、第2下面より下側には形成されていない場合には、第2配線の一部を除去せずに基材の第2下面から第2配線を露出させてもよい。前駆体基板時に基材の第1下面から第2配線が露出していない場合は、基材の第2下面113を形成することで、基材の第2下面から第2配線を露出するようにする。基材の一部を除去する方法としては、研削、エッチング、切削、ブラスト等の公知の方法を用いることができる。基材の一部を除去する方法として研削を用いることが好ましい。このようにすることで、基材の第2下面113を平坦にしやすくなる。基材の第2下面113が平坦なことで複数の発光装置を製造する場合に、発光装置のバラつきを抑制することができる。
図6に示すように、第2配線151A、151Bと電気的に接続される一対の外部接続電極71、72を第2下面113に形成する。一対の外部接続電極とは、正負電極として機能する2つの電極のことである。このため、個片基板は、正負一対の電極となるよう互いに離間した一対の外部接続電極71、72を備える。個片化前の外部接続電極付基板10Cに形成された一対の外部接続電極は、離間していてもよく、繋がっていてもよい。尚、本明細書において、個片基板になる予定の領域において、外部接続電極付基板10Cが互いに離間した一対の第1配線となる部分を備えていれば、外部接続電極付基板10Cは一対の外部接続電極71、72を備えているとする。
図8に示すように、ブレードダイシング法やレーザダイシング法などによって、隣接する発光素子間及び/又は発光素子と除去後基板の外側面との間の破線S1に沿って、第1反射部材30及び除去後基板を切断することで発光装置毎に個片化してもよい。このようにすることで、複数の発光装置を製造することができる。個片化された除去後基板を個片基板10Dと呼ぶことがある。
実施形態2に係る発光装置の製造方法について説明する。実施形態2の発光装置の製造方法は、実施形態1の発光装置の製造方法とは、中間体を準備する工程と、個片化する工程と、が異なる点以外は同様である。
(中間体を準備する工程)
実施形態1の発光装置の製造方法では、中間体は、少なくとも1つの発光素子を備えていればよいが、実施形態2の発光装置の製造方法では、複数の発光素子を備える中間体を準備する。
ブレードダイシング法やレーザダイシング法などによって、第1反射部材及び除去後基板を切断する際に1つの発光装置が複数の発光素子を備えるように個片化する。このようにすることで、実施形態2の発光装置2000を製造することができる。
以下、実施形態3に係る発光装置の製造方法について説明する。
実施形態2の発光装置の製造方法は、実施形態1の発光装置の製造方法とは、中間体を準備する工程と、個片化する工程と、が異なる点以外は同様である。
図19に示すように、前駆体基板10Eと発光素子20と、を備えた中間体101を準備する。発光素子20は少なくとも1つあればよい。図19に示すように中間体101は第1発光素子20Aと、第2発光素子20Bと、を有していてもよい。中間体101は、更に、第1反射部材30と、第2反射部材90と、第1導光部材40と、第2導光部材41と、透光性部材50と、を備えていてもよい。
ブレードダイシング法やレーザダイシング法などによって、第1反射部材30及び除去後基板を切断して各発光装置を個片化する。第1反射部材30及び除去後基板を切断する際に1つの発光装置が複数の発光素子を備えるように個片化してもよい。このようにすることで、図20、図21に示す実施形態3の発光装置3000を製造することができる。
基板は、発光素子を載置する部材である。基板は、基材11と、一対の第1配線12A、12B、一対の第2配線151A、151Bと、を備える。
基材11は、樹脂若しくは繊維強化樹脂、セラミックス、ガラスなどの絶縁性部材を用いて構成することができる。樹脂若しくは繊維強化樹脂としては、エポキシ、ガラスエポキシ、ビスマレイミドトリアジン(BT)、ポリイミドなどが挙げられる。また、基材11に酸化チタン等の白色顔料を含有させてもよい。セラミックスとしては、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム、窒化ジルコニウム、酸化チタン、窒化チタン、若しくはこれらの混合物などが挙げられる。これらの基材のうち、特に発光素子の線膨張係数に近い物性を有する基材を使用することが好ましい。
第1配線は、基材の上面に配置され、発光素子と電気的に接続される。第1配線は、銅、鉄、ニッケル、タングステン、クロム、アルミニウム、銀、金、チタン、パラジウム、ロジウム、又はこれらの合金で形成することができる。これらの金属又は合金の単層でも多層でもよい。特に、放熱性の観点においては銅又は銅合金が好ましい。また、第1配線の表層には、溶融性の導電性接着部材の濡れ性及び/若しくは光反射性などの観点から、銀、白金、アルミニウム、ロジウム、金若しくはこれらの合金などの層が設けられていてもよい。
第2配線は、一対の第1配線とそれぞれ電気的に接続され、基材の上面と基材の第1下面との間に位置する。第2配線は、第1配線と同様の導電性部材を用いることができる。
発光素子は、電圧を印加することで自ら発光する半導体素子であり、窒化物半導体等から構成される既知の半導体素子を適用できる。発光素子としては、例えばLEDチップが挙げられる。発光素子は、少なくとも半導体層を備え、多くの場合に素子基板をさらに備える。発光素子は、素子電極を有する。素子電極は、金、銀、錫、白金、ロジウム、チタン、アルミニウム、タングステン、パラジウム、ニッケル又はこれらの合金で構成することができる。半導体材料としては、窒化物半導体を用いることが好ましい。窒化物半導体は、主として一般式InxAlyGa1−x−yN(0≦x、0≦y、x+y≦1)で表される。このほか、InAlGaAs系半導体、InAlGaP系半導体、硫化亜鉛、セレン化亜鉛、炭化珪素などを用いることもできる。発光素子の素子基板は、主として半導体積層体を構成する半導体の結晶を成長可能な結晶成長用基板であるが、結晶成長用基板から分離した半導体素子構造に接合させる接合用基板であってもよい。素子基板が透光性を有することで、フリップチップ実装を採用しやすく、また光の取り出し効率を高めやすい。素子基板の母材としては、サファイア、窒化ガリウム、窒化アルミニウム、シリコン、炭化珪素、ガリウム砒素、ガリウム燐、インジウム燐、硫化亜鉛、酸化亜鉛、セレン化亜鉛、ダイヤモンドなどが挙げられる。なかでも、サファイアが好ましい。素子基板の厚さは、適宜選択でき、例えば0.02mm以上1mm以下であり、素子基板の強度及び/若しくは発光装置の厚さの観点において、0.05mm以上0.3mm以下であることが好ましい。
第1反射部材は、発光素子20の素子側面202及び基材の上面111を被覆し、「見切り性」の良好な発光装置とする部材である。発光素子の発光ピーク波長における第1反射部材の光反射率は、70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、90%以上であることがよりいっそう好ましい。例えば、第1反射部材は、樹脂に白色顔料を含有させた部材を用いることができる。
透光性部材は発光素子の光取り出し面を被覆し、発光素子を保護する透光性の部材である。透光性部材の材料として、例えば、樹脂を用いることができる。透光性部材に用いることができる樹脂としては、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、又はこれらの変性樹脂が挙げられる。透光性部材の材料として、エポキシ樹脂を用いることでシリコーン樹脂を用いた場合より発光装置の硬度を向上させることができるので好ましい。また、シリコーン樹脂及び変性シリコーン樹脂は、耐熱性及び耐光性に優れているので好ましい。透光性部材は、波長変換粒子及び/又は拡散粒子を含有していてもよい。
波長変換粒子は、発光素子が発する一次光の少なくとも一部を吸収して、一次光とは異なる波長の二次光を発する。波長変換粒子は、以下に示す具体例のうちの1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。透光性部材が複数の波長変換層を備える場合には、各波長変換層に含有される波長変換粒子は同じでもよく、異なっていてもよい。
拡散粒子としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛などが挙げられる。拡散粒子は、これらのうちの1種を単独で、又はこれらのうちの2種以上を組み合わせて用いることができる。特に、熱膨張係数の小さい酸化珪素が好ましい。また、拡散粒子として、ナノ粒子を用いることで、発光素子が発する光の散乱を増大させ、波長変換粒子の使用量を低減することもできる。なお、ナノ粒子とは、粒径が1nm以上100nm以下の粒子とする。また、本明細書における「粒径」は、例えば、D50で定義される。
第1導光部材は、発光素子と透光性部材を固定し、発光素子からの光を透光性部材に導光する部材である。第1導光部材の母材は、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、又はこれらの変性樹脂が挙げられる。第1導光部材の材料として、エポキシ樹脂を用いることでシリコーン樹脂を用いた場合より発光装置の硬度を向上させることができるので好ましい。また、シリコーン樹脂及び変性シリコーン樹脂は、耐熱性及び耐光性に優れているので好ましい。第1導光部材は、上述の透光性部材と同様の波長変換粒子及び/又は拡散粒子を含有していてもよい。
第2反射部材は、発光素子の電極形成面と基材の上面との間に形成され、発光素子からの光が基材に吸収されることを抑制する部材である。第2反射部材は、上述の第1反射部材と同様の材料を用いることができる。
第2導光部材は、発光素子の素子側面及び第1反射部材30を直接被覆しており、発光素子からの光がX方向及び/又はY方向に広がりやすくする部材である。第2導光部材は、上述の第1導光部材と同様の材料を用いることができる。尚、第2導光部材は、上述の透光性部材と同様の波長変換粒子及び/又は拡散粒子を含有していてもよい。
導電性接着部材とは、発光素子の素子電極と第1配線とを電気的に接続する部材である。導電性接着部材としては、金、銀、銅などのバンプ、銀、金、銅、プラチナ、アルミニウム、パラジウムなどの金属粉末と樹脂バインダを含む金属ペースト、錫−ビスマス系、錫−銅系、錫−銀系、金−錫系などの半田、低融点金属などのろう材のうちのいずれか1つを用いることができる。
100、101 中間体
10A、10E 前駆体基板
10B 除去後基板
10C 外部接続電極付基板
10D 個片基板
11 基材
12A、12B 第1配線
151A、151B 第2配線
152A、152B 充填部材
20 発光素子
30 第1反射部材
40 第1導光部材
41 第2導光部材
50 透光性部材
90 第2反射部材
70 金属層
71、72 外部接続電極
Claims (8)
- 基材、複数対の第1配線および複数対の第2配線を含む前駆体基板と、
前記複数対の第1配線上にそれぞれ載置される複数の発光素子と、
前記複数の発光素子の側面の少なくとも一部にそれぞれ接する複数の導光部材と、
前記複数の発光素子の上方にそれぞれ位置する複数の透光性部材と、
前記複数の導光部材を介して前記複数の発光素子を一体的に被覆する反射部材と
を有する中間体を準備する工程であって、
前記基材は、上面および前記上面の反対側に位置する第1下面を有し、
前記複数対の第1配線は、前記基材の前記上面に配置されており、
前記複数対の第2配線は、前記基材の前記上面と前記第1下面との間に位置し、かつ前記複数対の第1配線に電気的に接続されており、
前記反射部材は、前記基材の前記上面と、前記複数の発光素子の下面と、前記複数の導光部材と、前記複数の透光性部材の側面と、に接している、中間体を準備する工程と、
前記基材の第1下面側から前記基材の一部を研削により除去し前記基材を薄くし基材の第2下面を形成する工程と、
前記複数対の第2配線と電気的に接続される複数対の外部接続電極を前記第2下面に形成する工程と、
を含み、
前記基材の上面から前記第2下面までの最大厚みが、20μm以上60μm以下であり、
前記基材のビッカース硬さは、前記反射部材のビッカース硬さよりも高い、発光装置の製造方法。 - 前記複数の透光性部材のそれぞれは、
波長変換粒子を実質的に含有しない第1層と、
前記第1層と前記複数の発光素子との間に位置し、波長変換粒子を含有する第2層と
を含む請求項1に記載の発光装置の製造方法。 - 前記複数対の外部接続電極を前記第2下面に形成する工程において、前記複数対の外部接続電極をスパッタにより形成する請求項1または2に記載の発光装置の製造方法。
- 前記複数対の外部接続電極を前記第2下面に形成する工程において、前記第2配線と前記基材とを連続して被覆する金属層を形成した後、前記金属層の一部を除去し前記外部接続電極を形成する請求項1から3のいずれか1項に記載の発光装置の製造方法。
- 前記金属層の一部を除去する際に、レーザ光を照射して前記金属層の一部を除去する請求項4に記載の発光装置の製造方法。
- 前記第2下面を形成する工程において、前記第2配線の一部を除去する請求項1から5のいずれか1項に記載の発光装置の製造方法。
- 前記上面から前記第2下面までの厚さは、前記上面から前記第1下面までの厚さの0.05倍以上0.6倍以下である請求項1から6のいずれか1項に記載の発光装置の製造方法。
- 前記上面から前記第1下面までの最大厚みは、100μm以上500μm以下である請求項1から7のいずれか1項に記載の発光装置の製造方法。
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Family Cites Families (31)
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|---|---|---|---|---|
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| JP3975194B2 (ja) * | 2003-12-02 | 2007-09-12 | 株式会社フジクラ | パッケージの製造方法 |
| JP2005347401A (ja) * | 2004-06-01 | 2005-12-15 | Meiko:Kk | 光素子チップ部品 |
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| US8507940B2 (en) * | 2010-04-05 | 2013-08-13 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Heat dissipation by through silicon plugs |
| US20120043639A1 (en) * | 2010-08-19 | 2012-02-23 | MOS Art Pack Corporation | Fabricating method and structure of submount |
| JP5670249B2 (ja) * | 2011-04-14 | 2015-02-18 | 日東電工株式会社 | 発光素子転写シートの製造方法、発光装置の製造方法、発光素子転写シートおよび発光装置 |
| JP2013045943A (ja) | 2011-08-25 | 2013-03-04 | Citizen Holdings Co Ltd | 半導体発光装置及びその製造方法 |
| WO2013111542A1 (ja) * | 2012-01-23 | 2013-08-01 | パナソニック株式会社 | 窒化物半導体発光装置 |
| US9269873B2 (en) * | 2012-03-13 | 2016-02-23 | Citizen Holdings Co., Ltd. | Semiconductor light emitting device and method for manufacturing same |
| JP2014067934A (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-17 | Murata Mfg Co Ltd | 実装基板の製造方法および実装基板 |
| JP6281858B2 (ja) | 2012-12-18 | 2018-02-21 | セイコーインスツル株式会社 | 光学デバイス |
| CN105073413A (zh) * | 2013-02-15 | 2015-11-18 | 琳得科株式会社 | 阻气膜叠层体、其制造方法、以及电子设备 |
| TWI662670B (zh) * | 2013-08-30 | 2019-06-11 | Xintec Inc. | 電子元件封裝體及其製造方法 |
| DE102013111496A1 (de) | 2013-10-18 | 2015-04-23 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Verfahren zum Herstellen von optoelektronischen Halbleiterbauelementen und optoelektronisches Halbleiterbauelement |
| JPWO2015146115A1 (ja) * | 2014-03-25 | 2017-04-13 | 東芝ホクト電子株式会社 | 発光装置 |
| JP6303805B2 (ja) * | 2014-05-21 | 2018-04-04 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
| US9257396B2 (en) * | 2014-05-22 | 2016-02-09 | Invensas Corporation | Compact semiconductor package and related methods |
| JP5985015B2 (ja) * | 2015-07-07 | 2016-09-06 | シチズン電子株式会社 | 発光装置 |
| US10680143B2 (en) * | 2015-11-04 | 2020-06-09 | Lg Innotek Co., Ltd. | Optical plate, lighting device, and light source module |
| JP6551245B2 (ja) * | 2016-01-22 | 2019-07-31 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法 |
| TWI629759B (zh) * | 2016-03-01 | 2018-07-11 | 精材科技股份有限公司 | 晶片封裝體及其製造方法 |
| JP2017163130A (ja) * | 2016-03-06 | 2017-09-14 | 井上 登美男 | 基板およびその基板の製造方法 |
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