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JP6898128B2 - Titanium tetrachloride manufacturing equipment and method for manufacturing titanium tetrachloride using this - Google Patents
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Titanium tetrachloride manufacturing equipment and method for manufacturing titanium tetrachloride using this Download PDF

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Description

本発明は、酸化チタンを含む鉱石を原料とし、下方から塩素ガスを供給することで鉱石とコークスからなる流動層を形成し、反応させることで四塩化チタンを製造する装置およびこれを用いた四塩化チタンの製造方法、特に、四塩化チタン製造装置の底板が腐食されにくく、従来の四塩化チタン製造装置よりも長時間稼働することができる四塩化チタンの製造装置およびこれを用いた四塩化チタンの製造方法に関するものである。 The present invention is an apparatus for producing titanium tetrachloride by using an ore containing titanium oxide as a raw material and supplying chlorine gas from below to form a fluid layer composed of ore and coke and reacting them. Titanium chloride production method, especially the bottom plate of titanium tetrachloride production equipment is less likely to be corroded, and the titanium tetrachloride production equipment that can operate for a longer time than the conventional titanium tetrachloride production equipment and titanium tetrachloride using this It is related to the manufacturing method of.

四塩化チタンは、特にスポンジチタンを製造する際の原料となるもので、通常は、四塩化チタン製造装置内に塩素ガス、酸化チタンを含む鉱石、及びコークスから流動層を形成し、これを1000℃程度の高温に維持して酸化チタンを塩化することにより製造されている。
このような四塩化チタン製造装置を、図面を参照しつつ説明する。図1は四塩化チタン製造装置Aの概要である。四塩化チタン製造装置の内面は、耐火煉瓦Bで構成されている。四塩化チタン製造装置の下方から塩素ガスが、側面の原料投入口3から酸化チタンを含む鉱石とコークスが投入される。塩化炉内の下部に配置された分散盤1から塩素ガスが分散されて供給され、分散盤1の上部に流動層2が形成され、流動層2で反応・生成したガス状の四塩化チタンが排出口4から排出され回収される。
Titanium tetrachloride is a raw material especially for producing titanium sponge, and usually, a fluidized layer is formed from chlorine gas, ore containing titanium oxide, and coke in a titanium tetrachloride producing apparatus, and this is 1000. It is manufactured by chlorinating titanium oxide while maintaining a high temperature of about ° C.
Such a titanium tetrachloride manufacturing apparatus will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is an outline of the titanium tetrachloride manufacturing apparatus A. The inner surface of the titanium tetrachloride manufacturing apparatus is made of refractory brick B. Chlorine gas is input from below the titanium tetrachloride production apparatus, and ore and coke containing titanium oxide are input from the raw material input port 3 on the side surface. Chlorine gas is dispersed and supplied from the dispersion board 1 arranged in the lower part of the chloride furnace, the fluidized bed 2 is formed in the upper part of the dispersion board 1, and the gaseous titanium tetrachloride reacted and generated in the fluidized bed 2 is produced. It is discharged from the discharge port 4 and collected.

従来の分散盤は、多数の通気孔が設けられた鉄等の金属製の底板の上面に、耐火性及び耐塩素性を有するシリカやアルミナ等の不活性粒子を敷き詰めた分散層からなるものであった。分散盤の下方から供給された塩素ガスは、底板の通気孔を通過し、不活性粒子の隙間を上昇して均一に分散され流動層に供給される。
しかし、従来の分散盤を用いた場合、操業継続中に塩素ガスによる底板の腐蝕が進行し、通気孔の拡大や底板上に孔があいて塩素が漏れ、均等に塩素ガスを流動塩化炉内に供給できないという問題点があった。
The conventional dispersion board is composed of a dispersion layer in which inert particles such as silica and alumina having fire resistance and chlorine resistance are spread on the upper surface of a metal bottom plate such as iron provided with a large number of ventilation holes. there were. The chlorine gas supplied from below the dispersion board passes through the ventilation holes of the bottom plate, rises through the gaps between the inert particles, is uniformly dispersed, and is supplied to the fluidized bed.
However, when a conventional dispersion board is used, the bottom plate is corroded by chlorine gas during the continuation of operation, the ventilation holes are expanded and chlorine leaks due to holes on the bottom plate, and chlorine gas is evenly distributed in the fluidized chloride furnace. There was a problem that it could not be supplied to.

そこで、このような底板の腐蝕を防ぐため2件の従来技術が報告されている。
特許文献1が開示する分散盤は、底板と分散層の間に不定形耐火物からなる断熱層を形成するものである。このような断熱層を設けることで、流動層中から落下してきた高温のチタン鉱石粒子が、分散層の隙間を通り抜けて底板に到達してしまうことを防ぐことができるとされている。
しかし、不定形耐火物では、生産量が増えたときに底板近傍の温度を制御することはできず、底板の温度が上昇し、底板と塩素が反応して、底板の腐食が起きてしまう。
また、特許文献2が開示する分散盤は、底板の上に形成する分散層を耐塩素性の不活性粒子である高純度のセラミック材料からなる固体粒子により構成するものである。これにより、塩素ガスによる腐蝕損耗を効果的に抑制できるとされている。しかし、流動層中から落下してくる高温のチタン鉱石粒子が分散層の隙間を通り抜け底板に到達することにより底板の温度が上昇し、底板が塩素と反応し腐食することを阻止することができないという問題点があった。さらに、この技術は、固体粒子の粒子径が大きすぎると四塩化チタン製造装置への塩素ガスの均一な分散は達成されず、一方、固体粒子の粒子径が小さすぎると、塩素ガスの吹出しにより、固体粒子が巻き上げられ、流動層中に飛散し、底板への断熱効果が弱まり、底板の腐食が起きるという問題点もあった。
Therefore, two prior arts have been reported in order to prevent such corrosion of the bottom plate.
The dispersion board disclosed in Patent Document 1 forms a heat insulating layer made of an amorphous refractory between the bottom plate and the dispersion layer. By providing such a heat insulating layer, it is said that it is possible to prevent high-temperature titanium ore particles that have fallen from the fluidized bed from passing through the gaps between the dispersed layers and reaching the bottom plate.
However, with amorphous refractories, the temperature near the bottom plate cannot be controlled when the production volume increases, the temperature of the bottom plate rises, and chlorine reacts with the bottom plate, causing corrosion of the bottom plate.
Further, in the dispersion board disclosed in Patent Document 2, the dispersion layer formed on the bottom plate is composed of solid particles made of a high-purity ceramic material which is chlorine-resistant inert particles. As a result, it is said that corrosion and wear due to chlorine gas can be effectively suppressed. However, the temperature of the bottom plate rises when the high-temperature titanium ore particles falling from the fluidized bed pass through the gaps of the dispersion layer and reach the bottom plate, and it is not possible to prevent the bottom plate from reacting with chlorine and corroding. There was a problem. Furthermore, this technique does not achieve uniform dispersion of chlorine gas in the titanium tetrachloride production equipment if the particle size of the solid particles is too large, while if the particle size of the solid particles is too small, the chlorine gas is blown out. There is also a problem that solid particles are rolled up and scattered in the fluidized bed, the heat insulating effect on the bottom plate is weakened, and the bottom plate is corroded.

特開2014−210689号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-210689 国際公開WO2005/080272International release WO2005 / 080272

本発明は、このような従来技術の有する課題を解決して、四塩化チタン製造装置の底板の腐食を防止し、従来の四塩化チタン製造装置よりも格段に稼働時間を延長できる四塩化チタンの製造装置、およびこれを用いた四塩化チタンの製造方法を提供することを目的とするものである。 The present invention solves the problems of the prior art, prevents corrosion of the bottom plate of the titanium tetrachloride manufacturing apparatus, and can significantly extend the operating time as compared with the conventional titanium tetrachloride manufacturing apparatus. It is an object of the present invention to provide a manufacturing apparatus and a method for manufacturing titanium tetrachloride using the same.

本発明は、従来技術の課題を解決するために、次の構成を採用するものである。
(1)下部から塩素ガスを供給して流動層を形成する塩化反応炉であり、底板と、前記底板の上面に耐熱耐塩素性の不活性粒子からなる厚さ300mm以上の断熱層を配置し、前記断熱層の上部に耐熱耐塩素性のブロックを厚さ100mm以上に敷き詰めたブロック層を配置し、前記底板の下から前記ブロック層の上まで塩素を供給することができるガス供給管を配置する四塩化チタン製造装置。
(2)前記断熱層を構成する不活性粒子の密度が2.0〜4.0g/cmである(1)に記載の四塩化チタン製造装置。
(3)ブロック層を構成するブロックの密度が2.0 〜3.3g/cmである(1)に記載の四塩化チタン製造装置。
(4)前記ガス供給管が窒化珪素からなる(1)に記載の四塩化チタン製造装置。
(5)(1)または(2)のいずれかに記載の四塩化チタン製造装置を使用し、四塩化チタンを製造する四塩化チタンの製造方法。
The present invention adopts the following configuration in order to solve the problems of the prior art.
(1) A chloride reaction furnace in which chlorine gas is supplied from the lower part to form a fluidized bed, and a heat insulating layer having a thickness of 300 mm or more composed of heat-resistant and chlorine-resistant inert particles is arranged on the bottom plate and the upper surface of the bottom plate. A block layer in which heat-resistant and chlorine-resistant blocks are spread to a thickness of 100 mm or more is arranged on the upper part of the heat insulating layer, and a gas supply pipe capable of supplying chlorine from the bottom of the bottom plate to the top of the block layer is arranged. Titanium tetrachloride manufacturing equipment.
(2) The titanium tetrachloride manufacturing apparatus according to (1), wherein the density of the inert particles constituting the heat insulating layer is 2.0 to 4.0 g / cm 3.
(3) The titanium tetrachloride manufacturing apparatus according to (1), wherein the density of the blocks constituting the block layer is 2.0 to 3.3 g / cm 3.
(4) The titanium tetrachloride manufacturing apparatus according to (1), wherein the gas supply pipe is made of silicon nitride.
(5) A method for producing titanium tetrachloride using the titanium tetrachloride producing apparatus according to any one of (1) or (2).

本発明においては、不活性粒子からなる断熱層の上に、耐熱耐塩素性のブロックを敷き詰めたブロック層を配置することで、断熱層が流動層中へ飛散することなく、また、流動層から落下した高温の酸化チタンを含む鉱石粒子等の原料が断熱層の隙間を通り抜け、底板を部分的に腐食させることもなく、かつ断熱効果を向上することで底板の寿命が延長され、これにより、四塩化チタン製造装置の稼働時間を格段に延長することができる。 In the present invention, by arranging a block layer in which heat-resistant and chlorine-resistant blocks are spread on the heat insulating layer made of inert particles, the heat insulating layer does not scatter into the fluidized bed and from the fluidized bed. Raw materials such as ore particles containing high-temperature titanium oxide that have fallen pass through the gaps in the heat insulating layer, do not partially corrode the bottom plate, and improve the heat insulating effect, thereby extending the life of the bottom plate. The operating time of the titanium tetrachloride manufacturing equipment can be significantly extended.

本発明の四塩化チタン製造装置の全体を示すものである。It shows the whole of the titanium tetrachloride production apparatus of this invention. 本発明の四塩化チタン製造装置における分散盤を示すものである。It shows the dispersion board in the titanium tetrachloride production apparatus of this invention. 本発明の分散盤におけるガス供給管、断熱層及びブロック層の関係を示すものである。It shows the relationship between the gas supply pipe, the heat insulating layer and the block layer in the dispersion board of this invention.

以下では、本発明の四塩化チタン製造装置を構成する部材について、個別に説明する。
分散盤は、塩素ガスを四塩化チタン製造装置内に分散供給するためのものであり、底板、断熱層、ブロック層及びガス供給管からなる。
Hereinafter, the members constituting the titanium tetrachloride manufacturing apparatus of the present invention will be individually described.
The dispersion board is for dispersing and supplying chlorine gas in the titanium tetrachloride manufacturing apparatus, and is composed of a bottom plate, a heat insulating layer, a block layer, and a gas supply pipe.

本発明の四塩化チタン製造装置の底板は、四塩化チタン製造装置中の断熱層、ブロック層、流動層中の原料及びガス供給管の重量を支えるために用いられる。底板の材質は、具体的には、耐塩素性を持っていればよく、鋼材、鋼材にセラミックスライニングしたもの、ハステロイC、ニッケル材などが好ましく、特にハステロイC、ニッケル材、鋼材が好ましい。中でも、底板は消耗品であるため、価格が安い鋼材がより好ましい。
底板の厚さは、20mm以上が好ましく、20〜100mmがより好ましく、30〜70mmがさらに好ましい。底板の厚さが20mm以上あることで、断熱層とブロック層などの重量を十分に支えることができ、且つ、腐食等による消耗で底板に孔があき、塩素ガスが漏れるリスクが少なくなり、四塩化チタン製造装置の寿命延長の点で好ましい。底板の厚さの上限は、効果に対するコストの面から設定される。
また、底板6は後述するガス供給管9を経て四塩化チタン製造装置内へ塩素を吹出す必要があるので、底板6には底板6の下部にある塩素ガスを供給するための空洞であるウインドボックス5から流動層2内へ塩素を供給するため、複数の貫通孔(図面では省略)を有する(図1、図2)。
The bottom plate of the titanium tetrachloride manufacturing apparatus of the present invention is used to support the weight of the raw material and the gas supply pipe in the heat insulating layer, the block layer, the fluidized bed in the titanium tetrachloride producing apparatus. Specifically, the material of the bottom plate may have chlorine resistance, and is preferably a steel material, a steel material with a ceramic lining, Hastelloy C, a nickel material, or the like, and Hastelloy C, a nickel material, or a steel material is particularly preferable. Among them, since the bottom plate is a consumable item, a steel material having a low price is more preferable.
The thickness of the bottom plate is preferably 20 mm or more, more preferably 20 to 100 mm, and even more preferably 30 to 70 mm. When the thickness of the bottom plate is 20 mm or more, the weight of the heat insulating layer and the block layer can be sufficiently supported, and the risk of chlorine gas leaking due to holes in the bottom plate due to wear due to corrosion etc. is reduced. It is preferable in terms of extending the life of the titanium chloride production apparatus. The upper limit of the thickness of the bottom plate is set in terms of cost for the effect.
Further, since the bottom plate 6 needs to blow chlorine into the titanium tetrachloride manufacturing apparatus through the gas supply pipe 9 described later, the bottom plate 6 is a window that is a cavity for supplying chlorine gas in the lower part of the bottom plate 6. Since chlorine is supplied from the box 5 into the fluidized bed 2, it has a plurality of through holes (omitted in the drawings) (FIGS. 1 and 2).

本発明の四塩化チタン製造装置の断熱層は、底板上面に配置される層で、耐熱耐塩素性の不活性粒子の層からなる。用いられる不活性粒子は、粒子径10〜100mm、形状は石状(不定形)、サイコロ状、球形の粒子で構成されている。このような形状の不活性粒子を使用することにより、不活性粒子間に空隙ができ、この空隙が断熱の効果を発現する。
本発明の粒子径の範囲は、所定の値の目開きの篩を通過し、所定の値の目開きを通過しないものとする。例えば、粒子径10mm〜100mmの場合、100mmの目開きの篩を通過し、10mmの篩を通過しなかったもののことである。
The heat insulating layer of the titanium tetrachloride manufacturing apparatus of the present invention is a layer arranged on the upper surface of the bottom plate and is composed of a layer of heat-resistant and chlorine-resistant inert particles. The inert particles used are composed of particles having a particle diameter of 10 to 100 mm and a stone-like (atypical), dice-like, or spherical shape. By using the inert particles having such a shape, voids are formed between the inert particles, and the voids exhibit the effect of heat insulation.
The range of the particle size of the present invention shall pass through a sieve having a predetermined value and not pass through a sieve having a predetermined value. For example, when the particle size is 10 mm to 100 mm, it passes through a sieve having a mesh size of 100 mm and does not pass through a sieve having a particle size of 10 mm.

断熱層に使用する不活性粒子の密度は、2.0〜4.0g/cmが好ましく、2.0〜2.6g/cmがより好ましく、2.2〜2.6g/cmがさらに好ましい。不活性粒子の密度をこの範囲にすることで、断熱性と強度の両方を確保することができる。
耐熱耐塩素性の不活性粒子の材質は、シリカ、ムライト、窒化珪素が好ましく、特にシリカ、窒化珪素が好ましい。シリカの中では硅石や溶融シリカが好ましく、窒化珪素の中では低密度窒化珪素が好ましい。また、断熱層を構成する不活性粒子はこれら材質の粒子を組合せた混合物でも良い。
例えば、密度が2.0g/cm程度の不活性粒子としては、低密度窒化珪素があり、密度が4.0g/cm程度のものとしては、Al(密度3.9g/cm)がある。
断熱層を底板の上部に配置することで、底板が高温になることを防ぎ、底板の寿命を延長することができる。また、空隙の多い断熱層は、吹出し管と流動層中の原料などが接触した際のガス供給管にかかる衝撃を緩和する効果もあり、ガス供給管の破損を減らすことができる。
また、断熱層は、異なる材料の不活性粒子の層が積層された複数層でも良い。例えば、密度2.2〜2.6g/cm、粒子径10〜30mmの珪石や溶融シリカを高さ300〜400mmとなるように充填した断熱層を配置し、そのさらに上部に、密度2.0〜2.4g/cm、粒子径20〜100mmの低密度窒化珪素を高さ100〜200mmとなるように充填した断熱層を配置することができる。
The density of the inert particles used in the heat-insulating layer is preferably 2.0~4.0g / cm 3, more preferably 2.0~2.6g / cm 3, is 2.2~2.6g / cm 3 More preferred. By setting the density of the inert particles within this range, both heat insulation and strength can be ensured.
As the material of the heat-resistant and chlorine-resistant inert particles, silica, mullite, and silicon nitride are preferable, and silica and silicon nitride are particularly preferable. Among silica, silica stone and molten silica are preferable, and among silicon nitride, low-density silicon nitride is preferable. Further, the inert particles constituting the heat insulating layer may be a mixture of particles of these materials.
For example, low-density silicon nitride is an inert particle having a density of about 2.0 g / cm 3 , and Al 2 O 3 (density 3.9 g / cm) is an inert particle having a density of about 4.0 g / cm 3. There is 3).
By arranging the heat insulating layer on the upper part of the bottom plate, it is possible to prevent the bottom plate from becoming hot and extend the life of the bottom plate. Further, the heat insulating layer having many voids also has an effect of alleviating the impact applied to the gas supply pipe when the blowout pipe and the raw material in the fluidized bed come into contact with each other, and damage to the gas supply pipe can be reduced.
Further, the heat insulating layer may be a plurality of layers in which layers of inert particles of different materials are laminated. For example, a heat insulating layer filled with silica stone or molten silica having a density of 2.2 to 2.6 g / cm 3 and a particle size of 10 to 30 mm so as to have a height of 300 to 400 mm is arranged, and the density 2. 0~2.4g / cm 3, it is possible to arrange the heat-insulating layer filled so that the height 100~200mm low density silicon nitride particle size 20 to 100 mm.

本発明の四塩化チタン製造装置のブロック層は、断熱層上部に配置される層で、気孔率の少ないブロックで構成される。ブロックの形状は板状、棒状、直方体状であれば本発明の効果を発現しやすく、直方体状であれば縦及び横の寸法が100mm前後、厚さが数10mm前後のものであればより好ましい。
ブロックの材質は、耐塩素性の非酸化物系セラミックス、酸化物系セラミックスなどが好ましく使用される。非酸化物系セラミックスでは、低密度窒化珪素(密度2.0〜3.1g/cm)、高密度窒化珪素(密度3.1〜3.3g/cm)、炭化珪素が好ましい。また、酸化物系セラミックスとしては、アルミナ、シリカ、ムライト、耐火粘土が好ましい。このようなブロックとして、耐火煉瓦、特にシャモットレンガ、ムライトレンガがある。この中でも、ブロックの材質は高密度窒化珪素が好ましい。
本発明のブロック層を構成するブロックの密度は、2.0〜3.3g/cmが好ましく、2.6〜3.3g/cmがより好ましく、さらに好ましくは3.1〜3.3g/cmであることが好ましい。ブロックの密度を2.0〜3.3g/cm にすることで、流動層中の酸化チタンを含む鉱石粒子等の原料が後述するガス供給管と衝突しても折れにくくなり、ガス供給管の寿命が長くなる。
ブロックを断熱層の上部のガス供給管の隙間に密に敷き詰めて配置することで、流動層中の原料がガス供給管と衝突しても折れにくくなり、ガス供給管の寿命が長くなる。また、流動層中へ断熱層の粒子などが飛散することが少なくなり、底板への断熱効果がより長時間となる。さらに、ブロック層の空隙が少ないので、高温の原料が底板まで落下して底板を加熱し、高温の底板が塩素と反応することで損傷することを防ぐことができる。このようなブロック層の存在により、四塩化チタンの製造装置の稼動時間を大幅に延長することができる。
The block layer of the titanium tetrachloride manufacturing apparatus of the present invention is a layer arranged above the heat insulating layer and is composed of blocks having a low porosity. If the shape of the block is plate-shaped, rod-shaped, or rectangular parallelepiped, the effect of the present invention is likely to be exhibited. If the block is rectangular parallelepiped, the vertical and horizontal dimensions are about 100 mm, and the thickness is more preferably about several tens of mm. ..
As the material of the block, chlorine-resistant non-oxide ceramics, oxide ceramics and the like are preferably used. Among the non-oxide ceramics, low-density silicon nitride (density 2.0 to 3.1 g / cm 3 ), high-density silicon nitride (density 3.1-3.3 g / cm 3 ), and silicon carbide are preferable. Further, as the oxide-based ceramic, alumina, silica, mullite, and fire-resistant clay are preferable. Such blocks include refractory bricks, especially chamotte bricks and mullite bricks. Among these, the block material is preferably high-density silicon nitride.
Density of the blocks constituting the block layer of the present invention is preferably 2.0~3.3g / cm 3, more preferably 2.6~3.3g / cm 3, more preferably 3.1~3.3g it is preferably / cm 3. By setting the block density to 2.0 to 3.3 g / cm 3 , even if a raw material such as ore particles containing titanium oxide in the fluidized bed collides with a gas supply pipe described later, it is less likely to break, and the gas supply pipe Life is extended.
By laying the blocks densely in the gaps between the gas supply pipes above the heat insulating layer, the raw materials in the fluidized bed are less likely to break even if they collide with the gas supply pipes, and the life of the gas supply pipes is extended. In addition, particles of the heat insulating layer are less likely to be scattered in the fluidized bed, and the heat insulating effect on the bottom plate becomes longer. Further, since the block layer has few voids, it is possible to prevent the high-temperature raw material from falling to the bottom plate and heating the bottom plate, and the high-temperature bottom plate from reacting with chlorine to be damaged. The presence of such a block layer can significantly extend the operating time of the titanium tetrachloride manufacturing apparatus.

ブロック層で使用するブロックの一例として、低密度窒化珪素ブロック(寸法:80mm〜150mm×50〜100mm×30〜80mm)を使用する場合には、密度2.0〜3.1g/cm、熱伝導率が約3W/m・K(350℃)のものが好適である。
また、高密度窒化珪素ブロック(寸法:50〜200mm×50〜200mm×10〜50mm)を使用する場合には、密度3.1〜3.3g/cm(気孔率0%)、熱伝導率25W/m・K(350℃)のものが好適である。
ブロックのサイズは大きいほど、流動層に巻き込まれないので好ましい。
また、断熱層の上に、低密度窒化珪素、高密度窒化珪素の順にブロックを配置してブロック層を形成してもよい。
なお、上記の本発明の断熱層に使用する不活性粒子またはブロック層を構成するブロックの密度は見かけ密度である。本発明の見かけ密度は、アルキメデス法で測定することができる。具体的には、見かけ密度を測定する試料を容器中の水に沈め、試料の投入前後の液面の変化より試料体積を測定し、試料重量と試料体積から算出する。
As an example of the block used in the block layer, when a low-density silicon nitride block (dimensions: 80 mm to 150 mm × 50 to 100 mm × 30 to 80 mm) is used, the density is 2.0 to 3.1 g / cm 3 , and heat is applied. Those having a conductivity of about 3 W / m · K (350 ° C.) are suitable.
When a high-density silicon nitride block (dimensions: 50 to 200 mm × 50 to 200 mm × 10 to 50 mm) is used, the density is 3.1 to 3.3 g / cm 3 (porosity 0%) and the thermal conductivity. Those at 25 W / m · K (350 ° C.) are suitable.
The larger the block size, the more preferable it is because it does not get caught in the fluidized bed.
Further, the block layer may be formed by arranging blocks in the order of low-density silicon nitride and high-density silicon nitride on the heat insulating layer.
The density of the inert particles used for the heat insulating layer of the present invention or the blocks constituting the block layer is the apparent density. The apparent density of the present invention can be measured by the Archimedes method. Specifically, the sample for which the apparent density is to be measured is submerged in water in a container, the sample volume is measured from the change in the liquid level before and after the sample is charged, and the sample weight and the sample volume are calculated.

本発明の四塩化チタン製造装置のガス供給管は、塩素ガスを底板よりも下方からブロック層の上方まで供給する管である。ガス供給管の材質は、高温で塩素と接触するため、耐熱耐塩素性が高いものが好適である。このような材質としては、ムライト、溶融石英、低密度窒化珪素、高密度窒化珪素などが好ましく、低密度窒化珪素、高密度窒化珪素がより好ましく、高密度窒化珪素がさらに好ましい。
塩素ガスは、ブロック層よりも上方からガスを吹き出す必要があるため、ガス供給管の塩素ガス吹き出し口は、ブロック層よりも高いことが好ましい。また、ガス供給管の上端からブロック層までの高さは、100mm以下の高さであることが好ましい。ガス供給管の高さをこの範囲にすることで、流動層中の原料との衝突などの衝撃によりガス供給管の破損を減らすことができる。
The gas supply pipe of the titanium tetrachloride manufacturing apparatus of the present invention is a pipe that supplies chlorine gas from below the bottom plate to above the block layer. The material of the gas supply pipe is preferably one having high heat resistance and chlorine resistance because it comes into contact with chlorine at a high temperature. As such a material, mulite, fused silica, low-density silicon nitride, high-density silicon nitride and the like are preferable, low-density silicon nitride and high-density silicon nitride are more preferable, and high-density silicon nitride is further preferable.
Since chlorine gas needs to be blown out from above the block layer, it is preferable that the chlorine gas outlet of the gas supply pipe is higher than the block layer. The height from the upper end of the gas supply pipe to the block layer is preferably 100 mm or less. By setting the height of the gas supply pipe within this range, it is possible to reduce damage to the gas supply pipe due to an impact such as a collision with a raw material in the fluidized bed.

ガス供給管の形状は、ガスを吹き出すことができるような中空の構造であれば何でも良い。流動層中の原料などを逆流させないために、ガス供給管のガスを吹出す部分は、先端部が閉じ、横方向からガスを吹き出すことができるような構造が好ましい。ガス供給管は、底板6上部に接続しても良い。塩素ガスを均一に分散供給するために、ガス供給管の供給口は、底板上に複数空いていても良い。
塩素ガスの吹出量は、分散盤断面積あたり200〜600Nm/h・mが好ましい。
塩素ガスの吹出し速度は、200Nm/h・m以上にすることで適正な流動層の形成を確保し、600Nm/h・m以下にすることで高い生産性を保つことができる。
The shape of the gas supply pipe may be any shape as long as it has a hollow structure capable of blowing out gas. In order to prevent the raw materials and the like in the fluidized bed from flowing back, it is preferable that the portion of the gas supply pipe that blows out the gas has a structure in which the tip portion is closed and the gas can be blown out from the lateral direction. The gas supply pipe may be connected to the upper part of the bottom plate 6. In order to uniformly disperse and supply chlorine gas, a plurality of supply ports of the gas supply pipe may be vacant on the bottom plate.
The amount of chlorine gas blown out is preferably 200 to 600 Nm 3 / h · m 2 per dispersion board cross-sectional area.
When the blowing speed of chlorine gas is 200 Nm 3 / h · m 2 or more, the formation of an appropriate fluidized bed is ensured, and when it is 600 Nm 3 / h · m 2 or less, high productivity can be maintained.

本発明の四塩化チタンの製造装置の図1〜3を用いて、四塩化チタンの製造方法の一実施態様について説明する。四塩化チタン製造装置の原料供給口3から酸化チタンを含む鉱石とコークスを投入するとともに、分散盤1の底板6上に配置されたガス供給管9から塩素ガスを供給し、高温下(炉内温度900℃〜1100℃)で四塩化チタン製造装置下部に流動層2を形成する。これにより、酸化チタンを含む鉱石がガスにより塩化され、ガス状の四塩化チタンが生成され、排出管4から排出される(例えば、資源と素材 109 P1158 (1993) 「東邦チタニウム(株)のスポンジチタンとインゴットの製造」の2・1 造液工程 を参照)。 An embodiment of the method for producing titanium tetrachloride will be described with reference to FIGS. 1 to 3 of the titanium tetrachloride producing apparatus of the present invention. Ore and coke containing titanium oxide are charged from the raw material supply port 3 of the titanium tetrachloride manufacturing apparatus, and chlorine gas is supplied from the gas supply pipe 9 arranged on the bottom plate 6 of the fluidized bed 1 under high temperature (inside the furnace). The fluidized bed 2 is formed in the lower part of the titanium tetrachloride manufacturing apparatus at a temperature of 900 ° C. to 1100 ° C.). As a result, the ore containing titanium oxide is chlorided by the gas, and gaseous titanium tetrachloride is generated and discharged from the discharge pipe 4 (for example, resources and materials 109 P1158 (1993) "Toho Titanium Co., Ltd. sponge". See 2.1 Liquid Making Process in "Manufacturing Titanium and Ingots").

以下、本発明の内容を実施例および比較例によってさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。
四塩化チタン製造装置は、図1〜3に示す形状の四塩化チタン製造装置を使用した。
底板6は、厚さが50mm、材質が炭素鋼(SS400)のもの使用した。
断熱層7は、材質が硅石(密度:2.4g/cm、組成:SiO、他Al、Feなど)、溶融シリカ(密度2.6g/cm、純度99.8%、組成SiO、他Al、Feなど、気孔率0.1%以下)、低密度窒化珪素(密度:2.2g/cm、組成:Si他少量のAl、Feなど、気孔率:27%)、高密度窒化珪素(密度3.3g/cm、組成:Si他結着剤(例Alなど)、気孔率0%)から選択した不活性粒子を、実施例ごとに層の厚さが変化するように充填して形成した。
ブロック層8は、材質が高密度窒化珪素(密度:3.3g/cm、組成:Si他結着剤(例Alなど))のブロック(100mm×100mm×30mm)を、実施例ごとに層の厚さが変化するように敷き詰め、必要により積み重ねて形成した。
四塩化チタン製造装置の寿命は、底板の温度が120℃になったところを分散盤の寿命と判断して操業を停止した。これは、底板が120℃以上の高温になると鉄と塩素が反応するためである。
Hereinafter, the contents of the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these examples.
As the titanium tetrachloride manufacturing apparatus, the titanium tetrachloride producing apparatus having the shape shown in FIGS. 1 to 3 was used.
The bottom plate 6 used had a thickness of 50 mm and a material of carbon steel (SS400).
The heat insulating layer 7 is made of silicon (density: 2.4 g / cm 3 , composition: SiO 2 , other Al 2 O 3 , Fe 2 O 3, etc.), molten silica (density 2.6 g / cm 3 , purity 99. 8%, composition SiO 2 , other Al 2 O 3 , Fe 2 O 3, etc., pore ratio 0.1% or less), low density silicon nitride (density: 2.2 g / cm 3 , composition: Si 3 N 4 and other small amounts Al 2 O 3 , Fe 2 O 3, etc., Pore ratio: 27%), high-density silicon nitride (density 3.3 g / cm 3 , composition: Si 3 N 4 and other binders (eg Al 2 O 3, etc.) , Inactive particles selected from (pore ratio 0%) were filled and formed so that the thickness of the layer changed for each example.
The block layer 8 is made of a block (100 mm × 100 mm × 30 mm) made of high-density silicon nitride (density: 3.3 g / cm 3 , composition: Si 3 N 4 and other binders (eg Al 2 O 3)). , The layers were laid out so that the thickness of the layers changed for each example, and were formed by stacking as necessary.
Regarding the life of the titanium tetrachloride manufacturing apparatus, the operation was stopped because it was judged that the life of the dispersion board was when the temperature of the bottom plate reached 120 ° C. This is because iron and chlorine react when the bottom plate reaches a high temperature of 120 ° C. or higher.

[実施例1]
上記条件に加え、断熱層7には硅石の不活性粒子を用い、厚さ500mmとなるように充填した。また、ブロック層8には高密度窒化珪素を用い、厚さ100mmとなるようにし、試験を行った。なお、塩素ガスの供給速度は500Nm/h・mとした。結果を表1に示す。
[実施例2]
断熱層7の厚さを500mmから400mmへ変更した以外は、実施例1と同様の条件で試験を行った。結果を表1に示す。
[実施例3]
ブロック層8の厚さを100mmから200mmへ変更した以外は、実施例1と同様の条件で試験を行った。結果を表1に示す。
[実施例4]
断熱層7として、底板の上に平均粒径15mmの珪石からなる層(厚さ400mm)、その上部に平均粒径30mmの低密度窒化珪素からなる層(厚さ100mm)にした以外は、実施例1と同様の条件で試験を行った。結果を表1に示す。
[比較例1]
ブロック層8を用いないこと、および断熱層7に平均粒径15mmの珪石からなる層(厚さ250mm)、その上に、平均粒径30mmの溶融シリカからなる層(厚さ250mm)(特許文献2に記載されたもの)を用いたこと以外は実施例1と同様の条件で試験を行った。結果を表1に示す。
[比較例2]
断熱層7、ブロック層8の代わりに、厚さ600mmの不定形耐火物(特許文献1に記載されたもの)を用いた以外は、実施例1と同様の条件で試験を行った。結果を表1に示す。
[比較例3]
断熱層7の厚さを500mmから250mmへ変更した以外は、実施例1と同様の条件で試験を行った。結果を表1に示す。
[比較例4]
ブロック層8の厚さを100mmから50mmへ変更した以外は、実施例1と同様の条件で試験を行った。結果を表1に示す。
[Example 1]
In addition to the above conditions, the heat insulating layer 7 was filled with silica stone inert particles so as to have a thickness of 500 mm. Further, high-density silicon nitride was used for the block layer 8 so that the thickness was 100 mm, and the test was conducted. The chlorine gas supply rate was set to 500 Nm 3 / h · m 2 . The results are shown in Table 1.
[Example 2]
The test was conducted under the same conditions as in Example 1 except that the thickness of the heat insulating layer 7 was changed from 500 mm to 400 mm. The results are shown in Table 1.
[Example 3]
The test was conducted under the same conditions as in Example 1 except that the thickness of the block layer 8 was changed from 100 mm to 200 mm. The results are shown in Table 1.
[Example 4]
As the heat insulating layer 7, it was carried out except that a layer made of silica stone having an average particle size of 15 mm (thickness 400 mm) was formed on the bottom plate and a layer made of low-density silicon nitride having an average particle size of 30 mm (thickness 100 mm) was formed above the layer. The test was conducted under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 1.
[Comparative Example 1]
The block layer 8 is not used, and the heat insulating layer 7 is a layer made of silica stone having an average particle size of 15 mm (thickness 250 mm), and a layer made of molten silica having an average particle size of 30 mm (thickness 250 mm). The test was carried out under the same conditions as in Example 1 except that the one described in 2) was used. The results are shown in Table 1.
[Comparative Example 2]
The test was conducted under the same conditions as in Example 1 except that an amorphous refractory having a thickness of 600 mm (described in Patent Document 1) was used instead of the heat insulating layer 7 and the block layer 8. The results are shown in Table 1.
[Comparative Example 3]
The test was conducted under the same conditions as in Example 1 except that the thickness of the heat insulating layer 7 was changed from 500 mm to 250 mm. The results are shown in Table 1.
[Comparative Example 4]
The test was conducted under the same conditions as in Example 1 except that the thickness of the block layer 8 was changed from 100 mm to 50 mm. The results are shown in Table 1.

Figure 0006898128
Figure 0006898128

この表1から明らかなとおり、断熱層とブロック層の厚さが両者ともある程度以上でないと充分な効果を発揮することができない。すなわち、比較例1、2、4では、断熱層は充分な厚さであるがブロック層の厚さが充分でないためないため、短い寿命になってしまうし、比較例3では、ブロック層の厚さが充分であっても、断熱層の厚さが薄いために好ましい結果となっていない。
この表に示された結果から、所期の目的を達成するためには、断熱層は300mm以上であること、ブロック層は100mm以上であることが必要であることがわかる。
As is clear from Table 1, the sufficient effect cannot be exhibited unless the thickness of both the heat insulating layer and the block layer is more than a certain level. That is, in Comparative Examples 1, 2 and 4, the heat insulating layer has a sufficient thickness, but the thickness of the block layer is not sufficient, so that the life is short. In Comparative Example 3, the thickness of the block layer is short. Even if the amount is sufficient, the result is not favorable because the thickness of the heat insulating layer is thin.
From the results shown in this table, it can be seen that the heat insulating layer must be 300 mm or more and the block layer must be 100 mm or more in order to achieve the intended purpose.

Claims (5)

下部から塩素ガスを供給し、流動層を形成する塩化反応炉であり、
底板と、前記底板の上面に耐熱耐塩素性の不活性粒子からなる厚さ300mm以上の断熱層を配置し、前記断熱層の上部に耐熱耐塩素性のブロックを厚さ100mm以上に敷き詰めたブロック層を配置し、前記底板の下から前記ブロック層の上まで塩素を供給することができるガス供給管を配置することを特徴とした四塩化チタン製造装置であって、
板状ブロック、棒状ブロック、および直方体状ブロックの1つ以上を含んで前記ブロック層が構成され、そして
前記ガス供給管が窒化珪素からなることを特徴とする四塩化チタン製造装置。
A chloride reactor that supplies chlorine gas from the bottom to form a fluidized bed.
A block having a bottom plate and a heat insulating layer having a thickness of 300 mm or more composed of heat-resistant and chlorine-resistant inert particles is arranged on the upper surface of the bottom plate, and heat-resistant and chlorine-resistant blocks are spread over the heat insulating layer to a thickness of 100 mm or more. A titanium tetrachloride manufacturing apparatus characterized in that a layer is arranged and a gas supply pipe capable of supplying chlorine from the bottom of the bottom plate to the top of the block layer is arranged.
Platelike block, rod-like block, and a rectangular parallelepiped wherein the blocking layer comprises one or more blocks is constructed, and the gas supply pipe to that of titanium tetrachloride production apparatus characterized in that it consists of silicon nitride.
下部から塩素ガスを供給し、流動層を形成する塩化反応炉であり、
底板と、前記底板の上面に耐熱耐塩素性の不活性粒子からなる厚さ300mm以上の断熱層を配置し、前記断熱層の上部に耐熱耐塩素性のブロックを厚さ100mm以上に敷き詰めたブロック層を配置し、前記底板の下から前記ブロック層の上まで塩素を供給することができるガス供給管を配置することを特徴とした四塩化チタン製造装置であって、
前記ガス供給管が窒化珪素からなることを特徴とする四塩化チタン製造装置。
A chloride reactor that supplies chlorine gas from the bottom to form a fluidized bed.
A block having a bottom plate and a heat insulating layer having a thickness of 300 mm or more composed of heat-resistant and chlorine-resistant inert particles is arranged on the upper surface of the bottom plate, and heat-resistant and chlorine-resistant blocks are spread over the heat insulating layer to a thickness of 100 mm or more. A titanium tetrachloride manufacturing apparatus characterized in that a layer is arranged and a gas supply pipe capable of supplying chlorine from the bottom of the bottom plate to the top of the block layer is arranged.
A titanium tetrachloride manufacturing apparatus, wherein the gas supply pipe is made of silicon nitride.
前記断熱層を構成する不活性粒子の密度が2.0〜4.0g/cmであることを特徴とする請求項1またはに記載の四塩化チタン製造装置。 The titanium tetrachloride production apparatus according to claim 1 or 2 , wherein the density of the inert particles constituting the heat insulating layer is 2.0 to 4.0 g / cm 3. ブロック層を構成するブロックの密度が2.0〜3.3g/cmであることを特徴とする請求項1またはに記載の四塩化チタン製造装置。 The titanium tetrachloride manufacturing apparatus according to claim 1 or 2 , wherein the density of blocks constituting the block layer is 2.0 to 3.3 g / cm 3. 請求項1またはに記載の四塩化チタン製造装置を使用し、四塩化チタンを製造することを特徴とする四塩化チタンの製造方法。 A method for producing titanium tetrachloride, which comprises producing titanium tetrachloride using the titanium tetrachloride producing apparatus according to claim 1 or 2.
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