JP6900688B2 - A method for manufacturing a mold with a protective film and an article having an uneven structure - Google Patents
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Description
本発明は、保護フィルム付き金型及び凹凸構造を有する物品の製造方法に関する。 The present invention relates to a mold with a protective film and a method for manufacturing an article having an uneven structure.
プリズムシートやモスアイフィルム等の凹凸構造を有する物品は、一般に凹凸構造の反転構造を有する金型から転写して製造することが多い。凹凸構造の反転構造を有する金型の製造後から凹凸構造を有する物品の製造を始めるまでの間、金型の運搬や保管等の工程を有する。これらの工程中、金型の表面の埃や塵等の異物の付与防止や金型の表面の傷付き防止を目的として、金型の表面に保護フィルムを付与する場合が多い。 Articles having a concavo-convex structure such as a prism sheet and a moth-eye film are generally manufactured by transferring from a mold having an inverted structure of the concavo-convex structure. From the time after the production of the mold having the inverted structure of the uneven structure to the start of the production of the article having the uneven structure, the process of transporting and storing the mold is performed. During these steps, a protective film is often applied to the surface of the mold for the purpose of preventing the application of foreign matter such as dust and dirt on the surface of the mold and the prevention of scratches on the surface of the mold.
特に、モスアイフィルムは、金型の表面の異物や傷を基点に、反射防止性能という本来の性能を損なう恐れがあるため、金型の表面において、より高度な異物付与防止や傷付き防止が求められている。 In particular, since moth-eye film may impair the original performance of antireflection performance based on foreign matter and scratches on the surface of the mold, more advanced prevention of foreign matter and scratches is required on the surface of the mold. Has been done.
金型の保護方法として、例えば、特許文献1には、ポリプロピレンシートとアルミ箔とが積層された保護シートを用いた方法が開示されている。 As a method for protecting a mold, for example, Patent Document 1 discloses a method using a protective sheet in which a polypropylene sheet and an aluminum foil are laminated.
しかしながら、特許文献1に開示されている保護シートによる保護方法は、金型の製造時に発生する異物が、凹凸構造を有する物品の製造時までそのまま残存するという課題を有する。 However, the protection method using the protective sheet disclosed in Patent Document 1 has a problem that foreign matter generated during the manufacture of the mold remains as it is until the manufacture of the article having the uneven structure.
また、粘着剤が被着体に馴染むことで密着する一般的な粘着フィルムによる保護方法は、凹凸構造の反転構造を有する金型の製造時に発生する異物を粘着フィルム剥離時に除去することができるが、長期間粘着フィルムを付与した場合に、場所、期間、温度、荷重等の保存条件により粘着力が変化し、金型の表面に粘着剤が残存するという課題を有する。 In addition, the general method of protecting with an adhesive film, in which the adhesive adheres to the adherend by adapting to the adherend, can remove foreign substances generated during the manufacture of a mold having an inverted structure having an uneven structure when the adhesive film is peeled off. When the adhesive film is applied for a long period of time, the adhesive strength changes depending on the storage conditions such as location, period, temperature, and load, and there is a problem that the adhesive remains on the surface of the mold.
そこで、本発明は、これらの課題を解決し、表面に付着した異物を抑制した凹凸構造の反転構造を有する金型を提供することにある。また、本発明は、表面欠陥を抑制した凹凸構造を有する物品を提供することにある。 Therefore, the present invention is to solve these problems and provide a mold having an inverted structure having a concavo-convex structure that suppresses foreign matter adhering to the surface. Another object of the present invention is to provide an article having an uneven structure in which surface defects are suppressed.
本発明は、以下の態様を有する。
[1]金型と、金型の表面に付与した保護フィルムと、を含む、保護フィルム付き金型であって、金型が、転写により凹凸構造を形成するための金型であり、
保護フィルムが、温度上昇により粘着力が大きくなる自己粘着フィルムであって、
23℃におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力が、0.3N/25mm以下である、保護フィルム付き金型。
[2]凹凸構造が、モスアイ構造である、[1]に記載の保護フィルム付き金型。
[3]金型が、ロール状である、[1]又は[2]に記載の保護フィルム付き金型。
[4]75℃におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力が、0.4N/25mm以上である、[1]〜[3]のいずれかに記載の保護フィルム付き金型。
[5]自己粘着フィルムの粘着剤が、エラストマーである、[1]〜[4]のいずれかに記載の保護フィルム付き金型。
[6]以下の工程Aを含む、[1]〜[5]のいずれか一項に記載の保護フィルム付き金型の製造方法。
工程A:0℃〜40℃の環境下で、転写により凹凸構造を形成するための金型の表面に、保護フィルムとして前記自己粘着フィルムを付与する工程。
[7]以下の工程B〜工程Cを順次含む、凹凸構造を有する物品の製造方法。
工程B:[6]に記載の製造方法により得られた金型の温度を50℃〜90℃に昇温し、前記保護フィルムを前記金型より剥離する工程。
工程C:前記金型の表面に活性エネルギー線硬化性組成物を供給し、前記活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させる工程。
[8]凹凸構造が、モスアイ構造である、[7]に記載の凹凸構造を有する物品の製造方法。
[9]金型が、ロール状である、[7]又は[8]に記載の凹凸構造を有する物品の製造方法。
[10]自己粘着フィルムの粘着剤が、エラストマーである、[7]〜[9]のいずれかに記載の凹凸構造を有する物品の製造方法。
[11]凹凸構造を有する物品が、反射防止フィルムである、[7]〜[10]のいずれかに記載の凹凸構造を有する物品の製造方法。
The present invention has the following aspects.
[1] A mold with a protective film including a mold and a protective film applied to the surface of the mold, wherein the mold is a mold for forming an uneven structure by transfer.
Protective film, I self-adhesive film der which the adhesive force increases with an increase in temperature,
A mold with a protective film in which the adhesive strength of the self-adhesive film to the acrylic plate at 23 ° C. is 0.3 N / 25 mm or less.
[2] The mold with a protective film according to [1], wherein the uneven structure is a moth-eye structure.
[3] The mold with a protective film according to [1] or [2], wherein the mold is in a roll shape.
[4] The mold with a protective film according to any one of [1] to [3] , wherein the self-adhesive film has an adhesive force of 0.4 N / 25 mm or more on an acrylic plate at 75 ° C.
[ 5 ] The mold with a protective film according to any one of [1] to [4 ], wherein the pressure-sensitive adhesive of the self-adhesive film is an elastomer.
[6] The method for manufacturing a mold with a protective film according to any one of [1] to [5], which comprises the following step A.
Step A: A step of applying the self-adhesive film as a protective film to the surface of a mold for forming an uneven structure by transfer in an environment of 0 ° C. to 40 ° C.
[7] A method for producing an article having a concavo-convex structure, which comprises the following steps B to C in sequence.
Step B: A step of raising the temperature of the mold obtained by the manufacturing method described in [6] to 50 ° C. to 90 ° C. and peeling the protective film from the mold.
Step C: A step of supplying the active energy ray-curable composition to the surface of the mold and curing the active energy ray-curable composition.
[8] The method for producing an article having a concavo-convex structure according to [7], wherein the concavo-convex structure is a moth-eye structure.
[9] The method for producing an article having a concavo-convex structure according to [7] or [8], wherein the mold is in a roll shape.
[10] The method for producing an article having an uneven structure according to any one of [7] to [9], wherein the pressure-sensitive adhesive of the self-adhesive film is an elastomer.
[11] The method for producing an article having an uneven structure according to any one of [7] to [10], wherein the article having an uneven structure is an antireflection film.
本発明の保護フィルム付き金型は、保護フィルム剥離後に凹凸構造の反転構造を有する金型の表面に付着した異物を抑制することができる。
また、本発明の凹凸構造を有する物品の製造方法は、得られる凹凸構造を有する物品の表面欠陥を抑制することができる。
The mold with a protective film of the present invention can suppress foreign matter adhering to the surface of a mold having an inverted structure having an uneven structure after the protective film is peeled off.
In addition, the method for producing an article having an uneven structure of the present invention can suppress surface defects of the obtained article having an uneven structure.
(保護フィルム付き金型)
本発明の保護フィルム付き金型は、金型と、金型の表面に付与した保護フィルムと、を含む。
(Mold with protective film)
The mold with a protective film of the present invention includes a mold and a protective film applied to the surface of the mold.
(金型)
金型は、転写により凹凸構造を形成するための金型であれば、特に限定されない。
金型としては、例えば、プリズムシート用金型、マイクロレンズシート用金型、モスアイフィルム用金型等が挙げられる。これらの金型の中でも、本発明の効果である異物の抑制の効果をより必要とすることから、モスアイフィルム用金型が好ましい。
(Mold)
The mold is not particularly limited as long as it is a mold for forming a concavo-convex structure by transfer.
Examples of the mold include a mold for a prism sheet, a mold for a microlens sheet, a mold for a moth-eye film, and the like. Among these molds, the mold for moth-eye film is preferable because the effect of suppressing foreign substances, which is the effect of the present invention, is more required.
金型の形状としては、例えば、ロール状、ベルト状、平板状等が挙げられる。これらの金型の形状の中でも、凹凸構造を有する物品の生産性に優れることから、ロール状、ベルト状が好ましく、ロール状がより好ましい。 Examples of the shape of the mold include a roll shape, a belt shape, a flat plate shape, and the like. Among these mold shapes, a roll shape and a belt shape are preferable, and a roll shape is more preferable, because the product having an uneven structure is excellent in productivity.
金型の製造方法としては、例えば、リソグラフィ法によって表面に凹凸構造の反転構造を設ける方法、レーザー加工によって表面に凹凸構造の反転構造を設ける方法、複数の細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを表面に形成する方法、凹凸構造を有する母型から電鋳法等で複製する方法等が挙げられる。これらの金型の製造方法の中でも、凹凸構造を有する物品の生産性に優れることから、レーザー加工によって表面に凹凸構造の反転構造を設ける方法、複数の細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを表面に形成する方法が好ましく、本発明の効果である異物の抑制の効果をより必要とするモスアイフィルムの生産性に優れることから、複数の細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを表面に形成する方法がより好ましい。 Examples of the mold manufacturing method include a method of providing an inverted structure of an uneven structure on the surface by a lithography method, a method of providing an inverted structure of an uneven structure on the surface by laser processing, and a method of providing anodized porous alumina having a plurality of pores on the surface. Examples thereof include a method of forming the shavings and a method of duplicating from a mother die having an uneven structure by an electroplating method or the like. Among these mold manufacturing methods, since the productivity of articles having a concavo-convex structure is excellent, a method of providing an inverted structure of the concavo-convex structure on the surface by laser processing and anodized porous alumina having a plurality of pores are applied to the surface. Since the method of forming is preferable and the productivity of the moth-eye film which more requires the effect of suppressing foreign substances, which is the effect of the present invention, is excellent, the method of forming anodized porous alumina having a plurality of pores on the surface is more preferable. preferable.
リソグラフィ法としては、例えば、電子ビームリソグラフィ法、レーザー干渉リソグラフィ法等が挙げられる。
リソグラフィ法によって表面に凹凸構造の反転構造を設ける方法としては、例えば、基材の表面にフォトレジスト膜を塗布し、紫外線レーザー、電子線、X線等で露光し、現像することによって、レジストパターンからなる凹凸構造を表面に形成する方法、前記レジストパターンを介して基材をドライエッチング等によって選択的にエッチングし、レジストパターンを除去して、凹凸構造を基材の表面に直接形成する方法等が挙げられる。
Examples of the lithography method include an electron beam lithography method and a laser interference lithography method.
As a method of providing an inverted structure of an uneven structure on the surface by a lithography method, for example, a photoresist film is applied to the surface of a base material, exposed to an ultraviolet laser, an electron beam, an X-ray, or the like, and developed to obtain a resist pattern. A method of forming a concavo-convex structure composed of the above on the surface, a method of selectively etching a base material through the resist pattern by dry etching or the like, removing the resist pattern, and directly forming the concavo-convex structure on the surface of the base material, etc. Can be mentioned.
複数の細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを表面に形成する方法としては、例えば、アルミニウムをシュウ酸、硫酸、リン酸等を電解液として所定の電圧にて陽極酸化する方法等が挙げられる。
アルミニウムをシュウ酸、硫酸、リン酸等を電解液として所定の電圧にて陽極酸化する方法によれば、高純度アルミニウムを定電圧で長時間陽極酸化した後、酸化皮膜の全部又は一部を一旦除去し、再び陽極酸化することで、非常に高規則性の細孔が自己組織化的に形成された陽極酸化ポーラスアルミナを形成できるため、好ましい。また、2回目に陽極酸化する工程で陽極酸化処理と孔径拡大処理とを組み合わせることで、断面が矩形でなく三角形や釣鐘型である細孔も形成可能となる。更に、陽極酸化処理及び孔径拡大処理の時間、回数、条件等を適宜調節することにより、細孔最奥部の角度を鋭くすることも可能となる。
複数の細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを表面に形成する方法の具体例は、例えば、特開2015−129706号公報に記載された方法等が挙げられる。
Examples of the method of forming anodized porous alumina having a plurality of pores on the surface include a method of anodizing aluminum at a predetermined voltage using oxalic acid, sulfuric acid, phosphoric acid or the like as an electrolytic solution.
According to the method of anodizing aluminum at a predetermined voltage using oxalic acid, sulfuric acid, phosphoric acid, etc. as an electrolytic solution, high-purity aluminum is anodized at a constant voltage for a long time, and then all or part of the oxide film is once. By removing and re-anodizing, it is possible to form anodized porous alumina in which very highly regular pores are self-assembled, which is preferable. Further, by combining the anodizing treatment and the pore diameter expanding treatment in the second anodizing step, it is possible to form pores having a triangular or bell-shaped cross section instead of a rectangular cross section. Further, the angle of the innermost part of the pores can be sharpened by appropriately adjusting the time, number of times, conditions and the like of the anodizing treatment and the pore diameter expanding treatment.
Specific examples of the method for forming anodized porous alumina having a plurality of pores on the surface include the methods described in JP-A-2015-129706.
(保護フィルム)
保護フィルムは、温度上昇により粘着力が大きくなる自己粘着フィルムである。具体的には、23℃におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力が、0.3N/25mm以下であり、75℃におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力が、0.4N/25mm以上である自己粘着フィルムである。
(Protective film)
The protective film is a self-adhesive film whose adhesive strength increases as the temperature rises. Specifically, the adhesive strength of the self-adhesive film to the acrylic plate at 23 ° C. is 0.3 N / 25 mm or less, and the adhesive strength of the self-adhesive film to the acrylic plate at 75 ° C. is 0.4 N / 25 mm or more. It is a self-adhesive film.
23℃におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力は、0.3N/25mm以下が好ましく、0.01N/25mm〜0.3N/25mmがより好ましく、0.05N/25mm〜0.25N/25mm以下が更に好ましい。23℃におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力が0.01N/25mm以上であると、金型と保護フィルムとの付着性に優れる。また、23℃におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力が0.3N/25mm以下であると、長期間粘着フィルムを付与したとしても、金型の表面の粘着剤の残存を抑制することができる。 The adhesive strength of the self-adhesive film to the acrylic plate at 23 ° C. is preferably 0.3 N / 25 mm or less, more preferably 0.01 N / 25 mm to 0.3 N / 25 mm, and 0.05 N / 25 mm to 0.25 N / 25 mm or less. Is more preferable. When the adhesive strength of the self-adhesive film to the acrylic plate at 23 ° C. is 0.01 N / 25 mm or more, the adhesiveness between the mold and the protective film is excellent. Further, when the adhesive force of the self-adhesive film to the acrylic plate at 23 ° C. is 0.3 N / 25 mm or less, the residual adhesive on the surface of the mold can be suppressed even if the adhesive film is applied for a long period of time. ..
75℃におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力は、0.4N/25mm以上が好ましく、0.4N/25mm〜2N/25mmがより好ましく、0.5N/25mm〜1N/25mm以下が更に好ましい。75℃におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力が0.4N/25mm以上であると、凹凸構造の反転構造を有する金型の製造時に発生する異物を粘着フィルム剥離時に除去することができる。また、75℃におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力が2N/25mm以下であると、金型の表面の粘着剤の残存を抑制することができる。 The adhesive force of the self-adhesive film to the acrylic plate at 75 ° C. is preferably 0.4 N / 25 mm or more, more preferably 0.4 N / 25 mm to 2 N / 25 mm, and further preferably 0.5 N / 25 mm to 1 N / 25 mm or less. When the adhesive force of the self-adhesive film to the acrylic plate at 75 ° C. is 0.4 N / 25 mm or more, foreign matter generated during the production of a mold having an inverted structure having an uneven structure can be removed when the adhesive film is peeled off. Further, when the adhesive force of the self-adhesive film to the acrylic plate at 75 ° C. is 2N / 25 mm or less, the residual adhesive on the surface of the mold can be suppressed.
自己粘着フィルムの粘着力は、50℃〜90℃の各温度において、0.4N/25mm以上であることが好ましい。50℃〜90℃の各温度におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力は、0.4N/25mm以上が好ましく、0.4N/25mm〜2N/25mmがより好ましく、0.5N/25mm〜1N/25mm以下が更に好ましい。50℃〜90℃の各温度におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力が0.4N/25mm以上であると、凹凸構造の反転構造を有する金型の製造時に発生する異物を粘着フィルム剥離時に除去することができる。また、50℃〜90℃の各温度におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力が2N/25mm以下であると、金型の表面の粘着剤の残存を抑制することができる。 The adhesive strength of the self-adhesive film is preferably 0.4 N / 25 mm or more at each temperature of 50 ° C. to 90 ° C. The adhesive strength of the self-adhesive film to the acrylic plate at each temperature of 50 ° C. to 90 ° C. is preferably 0.4 N / 25 mm or more, more preferably 0.4 N / 25 mm to 2 N / 25 mm, and 0.5 N / 25 mm to 1 N /. 25 mm or less is more preferable. When the adhesive force of the self-adhesive film to the acrylic plate at each temperature of 50 ° C. to 90 ° C. is 0.4 N / 25 mm or more, foreign matter generated during the manufacture of a mold having an inverted structure of an uneven structure is removed when the adhesive film is peeled off. can do. Further, when the adhesive force of the self-adhesive film to the acrylic plate at each temperature of 50 ° C. to 90 ° C. is 2N / 25 mm or less, the residual adhesive on the surface of the mold can be suppressed.
自己粘着フィルムの粘着剤は、23℃におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力が、0.3N/25mm以下であり、75℃におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力が、0.4N/25mm以上であれば、特に限定されないが、23℃におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力が、0.3N/25mm以下、75℃におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力が、0.4N/25mm以上を達成することから、エラストマーが好ましい。 The adhesive of the self-adhesive film has an adhesive force of the self-adhesive film on the acrylic plate at 23 ° C. of 0.3 N / 25 mm or less, and an adhesive force of the self-adhesive film on the acrylic plate at 75 ° C. of 0.4 N / 25 mm. The above is not particularly limited, but the adhesive strength of the self-adhesive film to the acrylic plate at 23 ° C. is 0.3 N / 25 mm or less, and the adhesive strength of the self-adhesive film to the acrylic plate at 75 ° C. is 0.4 N / 25 mm. Elastomers are preferred because they achieve the above.
自己粘着フィルムは、23℃におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力が、0.3N/25mm以下であり、75℃におけるアクリル板に対する自己粘着フィルムの粘着力が、0.4N/25mm以上であれば、市販の自己粘着フィルムを用いてもよい。具体的には、例えば、フタムラ化学(株)製の「FSA−010M」、「FSA−020M」、「FSA−010C」、「FSA−010B」、「FSA−020B」(商品名)等が挙げられる。 The self-adhesive film should have an adhesive force of the self-adhesive film to the acrylic plate at 23 ° C. of 0.3 N / 25 mm or less and an adhesive force of the self-adhesive film to the acrylic plate at 75 ° C. of 0.4 N / 25 mm or more. For example, a commercially available self-adhesive film may be used. Specifically, for example, "FSA-010M", "FSA-020M", "FSA-010C", "FSA-010B", "FSA-020B" (trade name) manufactured by Futamura Chemical Co., Ltd. are mentioned. Be done.
(凹凸構造を有する物品の製造方法)
本発明の凹凸構造を有する物品の製造方法は、以下の工程A〜工程Cを順次含む。
工程A:0℃〜40℃の環境下で、転写により凹凸構造を形成するための金型の表面
に、保護フィルムとして温度上昇により粘着力が大きくなる自己粘着フィル
ムを付与する工程。
工程B:前記金型の温度を50℃〜90℃に昇温し、前記保護フィルムを剥離する
工程。
工程C:前記金型の表面に活性エネルギー線硬化性組成物を供給し、前記活性エネル
ギー線硬化性組成物を硬化させる工程。
(Manufacturing method of articles having an uneven structure)
The method for producing an article having a concavo-convex structure of the present invention sequentially includes the following steps A to C.
Step A: The surface of the mold for forming an uneven structure by transfer in an environment of 0 ° C to 40 ° C.
In addition, as a protective film, a self-adhesive fill whose adhesive strength increases as the temperature rises.
The process of giving
Step B: The temperature of the mold is raised to 50 ° C. to 90 ° C., and the protective film is peeled off.
Process.
Step C: The active energy ray-curable composition is supplied to the surface of the mold, and the active energy is used.
A step of curing a ghee wire curable composition.
(工程A)
工程Aは、0℃〜40℃の環境下で、転写により凹凸構造を形成するための金型の表面に、保護フィルムとして温度上昇により粘着力が大きくなる自己粘着フィルムを付与する工程である。
工程Aは、金型の表面に付着した異物を抑制することができることから、凹凸構造の反転構造を有する金型の製造直後に行うことが好ましい。
(Step A)
Step A is a step of applying a self-adhesive film as a protective film, whose adhesive strength increases as the temperature rises, to the surface of a mold for forming an uneven structure by transfer in an environment of 0 ° C. to 40 ° C.
Since the step A can suppress foreign matter adhering to the surface of the mold, it is preferable to perform the step A immediately after the production of the mold having the inverted structure of the uneven structure.
保護フィルムを付与する環境は、自己粘着フィルムの自己粘着性が発生しない温度であることが好ましく、0℃〜40℃が好ましく、5℃〜35℃がより好ましい。 The environment in which the protective film is applied is preferably a temperature at which self-adhesiveness of the self-adhesive film does not occur, preferably 0 ° C to 40 ° C, and more preferably 5 ° C to 35 ° C.
金型の表面に保護フィルムを付与する方法は、金型を保護することができ、保護フィルムを剥離しやすいことから、図1に示す方法が好ましい。以下、図1を用いて金型の表面に保護フィルムを付与する方法を説明するが、金型の表面に保護フィルムを付与する方法は、図1に限定されるものではない。 The method of applying the protective film to the surface of the mold is preferable because it can protect the mold and the protective film can be easily peeled off. Hereinafter, a method of applying the protective film to the surface of the mold will be described with reference to FIG. 1, but the method of applying the protective film to the surface of the mold is not limited to FIG.
図1に示す金型の表面に保護フィルムを付与する方法は、保護フィルム13が、ロール状の金型11の回転方向上流側から回転方向下流側に向かって巻かれ、保護フィルムの後端13aが、保護フィルム13と接触するように配置され、保護フィルムの先端13bが、保護フィルム23の一部とオーバーラップして保護フィルム23の外周面に接触するように配置されている。
In the method of applying the protective film to the surface of the mold shown in FIG. 1, the
保護フィルムの長さは、金型を保護することができ、保護フィルムを剥離しやすいことから、ロール状の金型の外周長よりも長いことが好ましく、ロール状の金型の外周長の1.5倍以上が好ましい。 The length of the protective film is preferably longer than the outer peripheral length of the roll-shaped mold because it can protect the mold and the protective film can be easily peeled off. .5 times or more is preferable.
保護フィルムの先端は、必ずしも保護フィルムの外周面に接着されている必要はなく、意図せずに保護フィルムの先端がロール状の金型から外れない程度に保持されていればよい。 The tip of the protective film does not necessarily have to be adhered to the outer peripheral surface of the protective film, and it is sufficient that the tip of the protective film is held to such an extent that it does not unintentionally come off from the roll-shaped mold.
(工程B)
工程Bは、金型の温度を50℃〜90℃に昇温し、保護フィルムを剥離する工程である。
工程Bは、金型の表面に付着した異物を抑制することができることから、凹凸構造を有する物品の製造(工程C)直前に行うことが好ましい。
(Step B)
Step B is a step of raising the temperature of the mold to 50 ° C. to 90 ° C. and peeling off the protective film.
Since the step B can suppress foreign matter adhering to the surface of the mold, it is preferable to perform the step B immediately before the production of the article having the uneven structure (step C).
保護フィルムを剥離する環境は、自己粘着フィルムの自己粘着性が発生する温度であることが好ましく、50℃〜90℃が好ましく、55℃〜85℃がより好ましい。 The environment for peeling the protective film is preferably a temperature at which self-adhesiveness of the self-adhesive film occurs, preferably 50 ° C. to 90 ° C., and more preferably 55 ° C. to 85 ° C.
(工程C)
工程Cは、金型の表面に活性エネルギー線硬化性組成物を供給し、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させる工程である。
金型の表面に活性エネルギー線硬化性組成物を供給し、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させる方法は、凹凸構造の転写性、凹凸構造を有する物品の生産性に優れることから、凹凸構造の反転構造を有する金型と基材との間に、活性エネルギー線硬化性組成物を挟持した状態で、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させた後、硬化物と金型とを分離する方法が好ましい。
(Step C)
Step C is a step of supplying the active energy ray-curable composition to the surface of the mold and curing the active energy ray-curable composition.
The method of supplying the active energy ray-curable composition to the surface of the mold and curing the active energy ray-curable composition is excellent in transferability of the concavo-convex structure and productivity of the article having the concavo-convex structure. After curing the active energy ray-curable composition with the active energy ray-curable composition sandwiched between the mold having the inverted structure of the above and the base material, the cured product and the mold are separated. The method is preferred.
活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線を照射することで重合反応が進行し、硬化する組成物である。
活性エネルギー線としては、例えば、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線(赤外線等)等が挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、活性エネルギー線硬化性組成物の硬化性に優れることから、紫外線、電子線が好ましく、紫外線がより好ましい。
The active energy ray-curable composition is a composition in which a polymerization reaction proceeds by irradiating with active energy rays and the composition is cured.
Examples of the active energy ray include visible light, ultraviolet light, electron beam, plasma, heat ray (infrared ray, etc.) and the like. Among these active energy rays, ultraviolet rays and electron beams are preferable, and ultraviolet rays are more preferable, because the active energy ray-curable composition is excellent in curability.
活性エネルギー線硬化性組成物は、重合性化合物、重合開始剤、及び、必要に応じて、他の添加剤を含むことが好ましい。 The active energy ray-curable composition preferably contains a polymerizable compound, a polymerization initiator, and, if necessary, other additives.
重合性化合物としては、例えば、分子中にラジカル重合性結合及びカチオン重合性結合の少なくとも1種を含むモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。これらの重合性化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the polymerizable compound include monomers, oligomers, and reactive polymers containing at least one of a radically polymerizable bond and a cationically polymerizable bond in the molecule. These polymerizable compounds may be used alone or in combination of two or more.
ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等を有する単官能モノマー、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等を有する多官能モノマー等が挙げられる。これらのラジカル重合性結合を有するモノマーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本明細書において、(メタ)アクリルは、アクリル、メタクリル又はその両方をいう。
Examples of the monomer having a radically polymerizable bond include a monofunctional monomer having a (meth) acryloyl group, a vinyl group and the like, a polyfunctional monomer having a (meth) acryloyl group, a vinyl group and the like. As these monomers having a radically polymerizable bond, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
As used herein, (meth) acrylic refers to acrylic, methacryl, or both.
カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマー等が挙げられる。これらのカチオン重合性結合を有するモノマーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the monomer having a cationically polymerizable bond include a monomer having an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazolyl group, a vinyloxy group and the like. As these monomers having a cationically polymerizable bond, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
分子中にラジカル重合性結合及びカチオン重合性結合の少なくとも1種を含むオリゴマー又は反応性ポリマーとしては、例えば、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル化合物;ポリエステル(メタ)アクリレート;ポリエーテル(メタ)アクリレート;ポリオール(メタ)アクリレート;エポキシ(メタ)アクリレート;ウレタン(メタ)アクリレート;カチオン重合型エポキシ化合物;側鎖に前記ラジカル重合性結合を有するモノマーの単独又は共重合ポリマー等が挙げられる。これらの分子中にラジカル重合性結合及びカチオン重合性結合の少なくとも1種を含むオリゴマー又は反応性ポリマーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the oligomer or reactive polymer containing at least one of radically polymerizable bonds and cationically polymerizable bonds in the molecule include unsaturated polyester compounds such as a condensate of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol; polyester (meth). ) Acrylic; Polyester (meth) acrylate; Polyester (meth) acrylate; Epoxy (meth) acrylate; Urethane (meth) acrylate; Cationic polymerization type epoxy compound; Monomer having the radically polymerizable bond in the side chain alone or copolymerization Examples include polymers. As the oligomer or reactive polymer containing at least one of a radical polymerizable bond and a cationically polymerizable bond in these molecules, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
重合開始剤としては、例えば、公知の光重合開始剤、公知の電子線重合開始剤、公知の熱重合開始剤等が挙げられる。これらの重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the polymerization initiator include known photopolymerization initiators, known electron beam polymerization initiators, known thermal polymerization initiators, and the like. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
他の添加剤としては、例えば、非反応性のポリマー、酸化防止剤、離型剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、光安定剤、難燃剤、難燃助剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤、充填剤、シランカップリング剤、強化剤、無機フィラー、耐衝撃性改質剤等が挙げられる。これらの他の添加剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Other additives include, for example, non-reactive polymers, antioxidants, mold release agents, lubricants, plasticizers, antioxidants, light stabilizers, flame retardants, flame retardants, polymerization inhibitors, UV absorbers. Examples thereof include agents, fillers, silane coupling agents, reinforcing agents, inorganic fillers, impact resistance modifiers and the like. These other additives may be used alone or in combination of two or more.
凹凸構造の表面に撥水性を付与する(具体的には、凹凸構造と水との接触角を90°以上とする)場合、疎水性の材料を形成しうる活性エネルギー線硬化性組成物として、フッ素含有化合物、シリコーン系化合物を用いることが好ましい。 When water repellency is imparted to the surface of the concavo-convex structure (specifically, the contact angle between the concavo-convex structure and water is 90 ° or more), as an active energy ray-curable composition capable of forming a hydrophobic material, It is preferable to use a fluorine-containing compound or a silicone-based compound.
凹凸構造の表面に親水性を付与する(具体的には、凹凸構造と水との接触角が25°以下とする)場合、親水性の材料を形成しうる活性エネルギー線硬化性組成物として、四官能以上の多官能(メタ)アクリレートと二官能以上の親水性(メタ)アクリレートとを併用することが好ましい。 When hydrophilicity is imparted to the surface of the concavo-convex structure (specifically, the contact angle between the concavo-convex structure and water is 25 ° or less), as an active energy ray-curable composition capable of forming a hydrophilic material, It is preferable to use a tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate and a bifunctional or higher hydrophilic (meth) acrylate in combination.
活性エネルギー線硬化性組成物の具体的な組成等は、例えば、特開2013−175733号公報、特開2015−129947号公報に記載された組成等が挙げられる。 Specific examples of the composition of the active energy ray-curable composition include the compositions described in JP2013-175733A and JP2015-129497A.
金型と基材との間に活性エネルギー線硬化性組成物を挟持する方法としては、例えば、金型と基材との間に活性エネルギー線硬化性組成物を配置した状態で金型と基材とを押圧することによって、金型の凹凸構造に活性エネルギー線硬化性組成物を注入する方法等が挙げられる。 As a method of sandwiching the active energy ray-curable composition between the mold and the base material, for example, the mold and the base have the active energy ray-curable composition arranged between the mold and the base material. Examples thereof include a method of injecting the active energy ray-curable composition into the uneven structure of the mold by pressing the material.
(基材)
基材の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリカーボネート樹脂;ポリスチレン、メチルメタクリレート−スチレン共重合体等のスチレン樹脂;セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース樹脂;ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂;ポリアミド樹脂;ポリイミド樹脂;ポリエーテルスルフォン樹脂;ポリスルフォン樹脂;ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、脂環式ポリオレフィン等のポリオレフィン樹脂;ポリ塩化ビニル等の塩化ビニル樹脂;ポリビニルアセタール樹脂;ポリエーテルケトン樹脂;ポリウレタン樹脂;ガラス等が挙げられる。これらの基材の材料の中でも、光透過性、取り扱い性に優れることから、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂が好ましく、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂がより好ましい。
(Base material)
Examples of the material of the base material include acrylic resin such as polymethylmethacrylate; polycarbonate resin; styrene resin such as polystyrene and methylmethacrylate-styrene copolymer; cellulose resin such as cellulose diacetate, cellulose triacetate and cellulose acetate butyrate; Polyester resin such as polyethylene terephthalate; polyamide resin; polyimide resin; polyether sulfone resin; polysulfone resin; polyolefin resin such as polypropylene, polymethylpentene, alicyclic polyolefin; vinyl chloride resin such as polyvinyl chloride; polyvinyl acetal resin; Polyether ketone resin; polyurethane resin; glass and the like can be mentioned. Among these base material materials, acrylic resin, polycarbonate resin, polyester resin, and cellulose resin are preferable, and polyester resin and cellulose resin are more preferable, because they are excellent in light transmission and handleability.
基材の形態としては、例えば、フィルム、シート等の公知の形態等が挙げられる。これらの基材の形態の中でも、凹凸構造を有する物品の生産性、取り扱い性に優れることから、フィルム、シートが好ましい。 Examples of the form of the base material include known forms such as films and sheets. Among these forms of the base material, films and sheets are preferable because they are excellent in productivity and handleability of articles having an uneven structure.
基材の製造方法としては、例えば、射出成形法、押出成形法、キャスト成形法等の公知の製造方法等が挙げられる。これらの基材の製造方法の中でも、生産性に優れることから、押出成形法、キャスト成形法が好ましい。 Examples of the method for producing the base material include known production methods such as an injection molding method, an extrusion molding method, and a cast molding method. Among these methods for producing a base material, an extrusion molding method and a cast molding method are preferable because they are excellent in productivity.
基材の表面には、密着性、帯電防止性、耐擦傷性、耐候性等の特性を改良する目的として、コーティング処理、コロナ処理等が施されていてもよい。 The surface of the base material may be coated, corona-treated, or the like for the purpose of improving properties such as adhesion, antistatic property, scratch resistance, and weather resistance.
活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物と基材との屈折率差は、活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物の層と基材との界面における光の反射を抑制することができ、反射防止性能等の光学性能に優れることから、0.3以下が好ましく、0.1以下がより好ましい。 The difference in refractive index between the cured product of the active energy ray-curable composition and the substrate can suppress the reflection of light at the interface between the layer of the cured product of the active energy ray-curable composition and the substrate, and the reflection can be suppressed. Since it is excellent in optical performance such as prevention performance, it is preferably 0.3 or less, and more preferably 0.1 or less.
(工程B・工程C)
工程Bと工程Cは、保護フィルムを剥離しやすく、金型の表面に粘着剤が残存することなく、保護フィルム剥離後に金型の表面に付着した異物を抑制することができ、凹凸構造を有する物品の生産性に優れ、凹凸構造を有する物品の表面欠陥を抑制することができることから、図2に示す製造装置を用いることが好ましい。以下、図2に示す製造装置を用いて工程Bと工程Cを具体的に説明するが、工程Bと工程Cは、図2に示す製造装置を用いる方法に限定されるものではない。
(Process B / Process C)
In steps B and C, the protective film can be easily peeled off, foreign matter adhering to the surface of the mold after the protective film is peeled off can be suppressed without leaving an adhesive on the surface of the mold, and the mold has an uneven structure. It is preferable to use the manufacturing apparatus shown in FIG. 2 because the productivity of the article is excellent and surface defects of the article having an uneven structure can be suppressed. Hereinafter, the process B and the process C will be specifically described using the manufacturing apparatus shown in FIG. 2, but the process B and the process C are not limited to the method using the manufacturing apparatus shown in FIG.
図2に示す製造装置を用いた工程Bと工程Cの流れは、以下の通りである。
表面に保護フィルム13を付与したロール状の金型11を製造装置に取り付け、金型を50℃〜90℃の範囲内に昇温し、自己粘着フィルムである保護フィルム13の粘着力を上げる。基材29を、ニップロール25、ロール状の金型11及び剥離ローラ27に架け渡す。基材29の架け渡しの際、ロール状の金型11には保護フィルム13が付与されているので、擦れ等により金型11の表面の傷付きが防止される。
次いで、ニップロール25と剥離ローラ27とをロール状の金型11に近づけ、基材29をロール状の金型11に押し付ける。ここで、保護フィルム13と基材29との粘着力が保護フィルム13とロール状の金型11との粘着力より大きければ、保護フィルムの先端13bを折り返し、保護フィルムの先端13bにおける保護フィルム13の粘着力により基材29に保護フィルム23を貼り付け、基材29を走行させながら、保護フィルム23をロール状の金型11より剥離する。保護フィルム13と基材29との粘着力が保護フィルム13とロール状の金型11との粘着力より小さければ、保護フィルムの先端13bと基材29とを粘着テープ等で貼り付け、基材29を走行させながら、保護フィルム23をロール状の金型11より剥離する。
次いで、タンク21から活性エネルギー線硬化性組成物をロール状の金型11と基材29の間に供給し、ニップロール25で押圧し、基材29を走行させながら、活性エネルギー線照射装置23により活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させ、凹凸構造を有する物品が得られる。
The flow of the process B and the process C using the manufacturing apparatus shown in FIG. 2 is as follows.
A roll-shaped
Next, the
Next, the active energy ray-curable composition is supplied from the
工程Bと工程Cとの間は、基材を走行させ続けてもよく、基材の走行を一旦停止してもよい。 The base material may be continuously run between the steps B and C, or the running of the base material may be temporarily stopped.
(凹凸構造)
凹凸構造は、複数の凸部及び複数の凸部間に形成される凹部からなる。
凹凸構造の隣接する凸部間の平均間隔(ピッチ)は、特に限定されないが、凹凸構造を有する物品がモスアイフィルムの場合、反射防止性能に優れることから、可視光線の波長以下、即ち、400nm以下が好ましく、380nm以下がより好ましい。
(Concave and convex structure)
The uneven structure is composed of a plurality of convex portions and a concave portion formed between the plurality of convex portions.
The average spacing (pitch) between adjacent convex portions of the concavo-convex structure is not particularly limited, but when the article having the concavo-convex structure is a moth-eye film, it is excellent in antireflection performance, so that it is below the wavelength of visible light, that is, 400 nm or less. Is preferable, and 380 nm or less is more preferable.
凹凸構造を有する物品がモスアイフィルムの場合、凹凸構造の隣接する凸部間の平均間隔は、20nm〜300nmが好ましく、80nm〜200nmがより好ましい。凹凸構造の隣接する凸部間の平均間隔が20nm以上であると、陽極酸化ポーラスアルミナの複数の細孔を転写して凸部を形成する場合に凸部を形成しやすい。また、凹凸構造の隣接する凸部間の平均間隔が300nm以下であると、陽極酸化ポーラスアルミナの複数の細孔を転写して凸部を形成する場合に、細孔間隔を大きくするための電圧を抑制することができ、陽極酸化ポーラスアルミナを工業的に製造しやすい。 When the article having the concavo-convex structure is a moth-eye film, the average spacing between adjacent convex portions of the concavo-convex structure is preferably 20 nm to 300 nm, more preferably 80 nm to 200 nm. When the average distance between adjacent convex portions of the concave-convex structure is 20 nm or more, the convex portions are likely to be formed when a plurality of pores of the anodized porous alumina are transferred to form the convex portions. Further, when the average spacing between adjacent convex portions of the concave-convex structure is 300 nm or less, a voltage for increasing the pore spacing when transferring a plurality of pores of anodized porous alumina to form convex portions. It is possible to suppress the above, and it is easy to industrially produce anodized porous alumina.
本明細書において、隣接する凸部間の平均間隔は、電子顕微鏡観察を用いて、隣接する凸部間の間隔(凸部の中心から隣接する凸部の中心までの距離)を無作為に10点測定し、これらの値を平均した値とする。 In the present specification, the average spacing between adjacent convex portions is the interval between adjacent convex portions (distance from the center of the convex portion to the center of the adjacent convex portion) at random 10 using electron microscope observation. Point measurement is performed and these values are averaged.
凹凸構造を有する物品がモスアイフィルムの場合、凸部の平均高さは、60nm〜400nmが好ましく、90nm〜350nmがより好ましい。凸部の平均高さが60nm以上であると、最低反射率や特定波長の反射率の上昇を抑制することができ、反射防止性能に優れる。また、凸部の平均高さが400nm以下であると、凸部を形成しやすく、凸部の耐擦傷性に優れる。 When the article having the uneven structure is a moth-eye film, the average height of the convex portion is preferably 60 nm to 400 nm, more preferably 90 nm to 350 nm. When the average height of the convex portion is 60 nm or more, it is possible to suppress an increase in the minimum reflectance and the reflectance at a specific wavelength, and the antireflection performance is excellent. Further, when the average height of the convex portion is 400 nm or less, the convex portion is easily formed and the convex portion is excellent in scratch resistance.
本明細書において、凸部の平均高さは、電子顕微鏡観察を用いて、凸部の最頂部と隣接する凹部の最底部との間の垂直距離を無作為に10点測定し、これらの値を平均した値とする。 In the present specification, the average height of the convex portion is obtained by randomly measuring the vertical distance between the top of the convex portion and the bottom of the adjacent concave portion at 10 points using electron microscope observation. Is the average value.
凹凸構造を有する物品がモスアイフィルムの場合、凸部のアスペクト比(凸部の平均高さ/隣接する凸部間の平均間隔)は、0.8〜5.0が好ましく、1.2〜4.0がより好ましく、1.5〜3.0が更に好ましい。凸部のアスペクト比が0.8以上であると、反射防止性能に優れる。また、凸部のアスペクト比が5.0以下であると、凸部を形成しやすく、凸部の耐擦傷性に優れる。 When the article having the uneven structure is a moth-eye film, the aspect ratio of the convex portions (average height of the convex portions / average spacing between adjacent convex portions) is preferably 0.8 to 5.0, and 1.2 to 4 .0 is more preferable, and 1.5 to 3.0 is even more preferable. When the aspect ratio of the convex portion is 0.8 or more, the antireflection performance is excellent. Further, when the aspect ratio of the convex portion is 5.0 or less, the convex portion is easily formed and the convex portion is excellent in scratch resistance.
凹凸構造を有する物品がモスアイフィルムの場合、凸部の形状としては、例えば、円錐形状、角錐形状、釣鐘形状、円柱形状等が挙げられる。これらの凸部の形状は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの凸部の形状の中でも、空気から凹凸構造を形成する材料表面まで連続的に屈折率を増大させて、低反射率と低波長依存性を両立させた反射防止性能を発現させることができることから、高さ方向と直交する方向の凸部断面積が最頂部から深さ方向に連続的に増加する形状が好ましく、円錐形状、角錐形状、釣鐘形状がより好ましい。
凸部は、微細な複数の凸部が合一して1つの凸部となったものであってもよい。
When the article having the uneven structure is a moth-eye film, examples of the shape of the convex portion include a conical shape, a pyramid shape, a bell shape, a cylindrical shape, and the like. As for the shape of these convex portions, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. Among these convex shapes, it is possible to continuously increase the refractive index from the air to the surface of the material forming the concave-convex structure to exhibit antireflection performance that achieves both low reflectance and low wavelength dependence. Therefore, a shape in which the cross-sectional area of the convex portion in the direction orthogonal to the height direction continuously increases from the top in the depth direction is preferable, and a conical shape, a pyramid shape, and a bell shape are more preferable.
The convex portion may be one in which a plurality of fine convex portions are united to form one convex portion.
得られた凹凸構造を有する物品は、プリズムシート、マイクロレンズシート、モスアイフィルムに好適に用いることができ、本発明の効果である異物の抑制の効果をより必要とするモスアイフィルムに特に好適に用いることができる。
モスアイフィルムは、反射防止フィルムとして好適に用いることができる。
The obtained article having an uneven structure can be suitably used for a prism sheet, a microlens sheet, and a moth-eye film, and is particularly preferably used for a moth-eye film which more requires the effect of suppressing foreign substances, which is the effect of the present invention. be able to.
The moth-eye film can be suitably used as an antireflection film.
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
(アクリル板に対する保護フィルムの粘着力測定)
実施例・比較例で用いた保護フィルムについて、剥離試験機(機種名「IPT−200−50N」、(株)イマダ製)を用い、剥離速度300mm/minの条件で、23℃〜75℃におけるアクリル板(商品名「アクリライトL001」、三菱レイヨン(株)製)に対する保護フィルムの粘着力を測定した。
評価結果を、表1及び図3に示す。
(Measurement of adhesive strength of protective film against acrylic plate)
For the protective film used in Examples and Comparative Examples, a peeling tester (model name "IPT-200-50N", manufactured by Imada Co., Ltd.) was used, and the peeling speed was 300 mm / min at 23 ° C to 75 ° C. The adhesive strength of the protective film to the acrylic plate (trade name "Acrylite L001", manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) was measured.
The evaluation results are shown in Table 1 and FIG.
[製造例1]金型の製造
純度99.99%のアルミニウムインゴットを、外径200mm、内径155mm、長さ350mmに切断した圧延痕のない円筒状のアルミニウム基材に、羽布研磨処理を施した後、過塩素酸/エタノール混合溶液中(体積比=1/4)で電解研磨し、鏡面化した。
得られたアルミニウム基材について、0.3Mシュウ酸水溶液中で、直流40V、温度16℃の条件で10分間陽極酸化を行った。その後、アルミニウム基材を、6質量%リン酸/1.8質量%クロム酸混合水溶液に浸漬して、酸化皮膜を除去した。
得られたアルミニウム基材について、0.3Mシュウ酸水溶液中で、直流40V、温度16℃の条件で30秒間陽極酸化を行った。
得られた酸化皮膜が形成されたアルミニウム基材を、30℃の5質量%リン酸水溶液に8分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った(孔径拡大処理工程)。その後、アルミニウム基材について、0.3Mシュウ酸水溶液中で、直流40V、温度16℃の条件で30秒間陽極酸化を行った(酸化皮膜成長工程)。この孔径拡大処理工程と酸化皮膜成長工程とを合計4回繰り返し、最後に孔径拡大処理工程を行って、設計上では平均間隔100nm、深さ200nmの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成されたロール状の金型を得た。
[Production Example 1] Manufacture of a mold An aluminum ingot with a purity of 99.99% is cut into an outer diameter of 200 mm, an inner diameter of 155 mm, and a length of 350 mm, and a cylindrical aluminum base material having no rolling marks is subjected to a feather cloth polishing treatment. After that, electropolishing was performed in a mixed solution of perchloric acid / ethanol (volume ratio = 1/4) to make a mirror surface.
The obtained aluminum base material was anodized in a 0.3 M aqueous oxalic acid solution under the conditions of a direct current of 40 V and a temperature of 16 ° C. for 10 minutes. Then, the aluminum base material was immersed in a 6 mass% phosphoric acid / 1.8 mass% chromic acid mixed aqueous solution to remove the oxide film.
The obtained aluminum base material was anodized in a 0.3 M aqueous oxalic acid solution under the conditions of a direct current of 40 V and a temperature of 16 ° C. for 30 seconds.
The obtained aluminum base material on which the oxide film was formed was immersed in a 5% by mass phosphoric acid aqueous solution at 30 ° C. for 8 minutes to perform a pore size enlargement treatment (pore size enlargement treatment step). Then, the aluminum base material was anodized in a 0.3 M aqueous oxalic acid solution under the conditions of a direct current of 40 V and a temperature of 16 ° C. for 30 seconds (oxide film growth step). This pore size expansion treatment step and oxide film growth treatment step are repeated a total of four times, and finally the pore size expansion treatment step is performed to obtain anodized alumina having substantially conical pores with an average interval of 100 nm and a depth of 200 nm. A roll-shaped mold formed on the surface was obtained.
[製造例2]活性エネルギー線硬化性組成物の調製
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物20質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートとの混合物19質量部、ポリエチレングリコールジアクリレート40質量部及びジメチルアクリルアミド20質量部を混合し、更に、第1の光重合開始剤(商品名「イルガキュア184」、BASF社製)1質量部、第2の光重合開始剤(商品名「イルガキュア819」、BASF社製)0.5質量部及び内部離型剤(商品名「TDP−2」、日光ケミカルズ(株)製)0.1質量部を加えて混合し、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した。
[Production Example 2] Preparation of active energy ray-
[実施例1]
製造例1で得られたロール状の金型の周囲に、保護フィルム(商品名「FSA−020M」、フタムラ化学(株)製、幅350mm)を配置した。保護フィルムは、ロール状の金型の回転方向上流側から回転方向下流側に向かって巻き、保護フィルムの長さは、ロール状の金型の外周長の2倍とした。
次いで、図2に示す製造装置に、表面に保護フィルムを付与したロール状の金型を取り付け、金型を75℃に昇温し、基材(商品名「コスモシャインA4300」、東洋紡(株)製、ポリエチレンテレフタレート基材、厚さ75μm)をニップロール、ロール状の金型及び剥離ローラに架け渡した。
次いで、ニップロールと剥離ローラとをロール状の金型に近づけ、基材をロール状の金型に押し付けた。保護フィルムの先端と基材とを粘着テープ等で貼り付け、基材を走行させながら、保護フィルムをロール状の金型より剥離した。
次いで、タンクから製造例2で得られた活性エネルギー線硬化性組成物をロール状の金型と基材の間に供給し、ニップロールで押圧し、基材を走行させながら、活性エネルギー線照射装置により紫外線を照射し、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させ、得られた硬化物を金型から剥離し、凹凸構造を有する物品を得た。
結果、保護フィルム剥離時に、粘着剤が金型の表面に残存することなく、かつ、金型の製造時に発生した異物を除去することができ、欠陥のない凹凸構造を有する物品(モスアイフィルム)を得ることができた。
[Example 1]
A protective film (trade name "FSA-020M", manufactured by Futamura Chemical Co., Ltd., width 350 mm) was placed around the roll-shaped mold obtained in Production Example 1. The protective film was wound from the upstream side in the rotation direction of the roll-shaped mold to the downstream side in the rotation direction, and the length of the protective film was twice the outer peripheral length of the roll-shaped mold.
Next, a roll-shaped mold having a protective film on the surface was attached to the manufacturing apparatus shown in FIG. 2, the temperature of the mold was raised to 75 ° C., and the base material (trade name "Cosmo Shine A4300", Toyobo Co., Ltd.) , Polyethylene terephthalate base material, thickness 75 μm) was bridged over a nip roll, a roll-shaped mold and a peeling roller.
Next, the nip roll and the peeling roller were brought close to the roll-shaped mold, and the base material was pressed against the roll-shaped mold. The tip of the protective film and the base material were attached with an adhesive tape or the like, and the protective film was peeled off from a roll-shaped mold while running the base material.
Next, the active energy ray-curable composition obtained in Production Example 2 is supplied from the tank between the roll-shaped mold and the base material, pressed by a nip roll, and the base material is run while running the active energy ray irradiation device. The active energy ray-curable composition was cured by irradiating with ultraviolet rays, and the obtained cured product was peeled off from the mold to obtain an article having an uneven structure.
As a result, when the protective film is peeled off, the adhesive does not remain on the surface of the mold, and foreign matter generated during the manufacture of the mold can be removed, and an article (moss eye film) having a defect-free uneven structure can be obtained. I was able to get it.
[比較例1]
保護フィルムとして、自己粘着フィルム(商品名「FSA−100M」、フタムラ化学(株)製)を用いた以外は、実施例1と同様に操作を行った。
結果、保護フィルム剥離時に、粘着剤が金型の表面に残存し、欠陥のない凹凸構造を有する物品を得ることができなかった。
[Comparative Example 1]
The same operation as in Example 1 was carried out except that a self-adhesive film (trade name “FSA-100M”, manufactured by Futamura Chemical Co., Ltd.) was used as the protective film.
As a result, when the protective film was peeled off, the adhesive remained on the surface of the mold, and it was not possible to obtain an article having an uneven structure without defects.
[比較例2]
保護フィルムとして、自己粘着フィルム(商品名「FSA−150M」、フタムラ化学(株)製)を用いた以外は、実施例1と同様に操作を行った。
結果、保護フィルム剥離時に、粘着剤が金型の表面に残存し、欠陥のない凹凸構造を有する物品を得ることができなかった。
[Comparative Example 2]
The same operation as in Example 1 was carried out except that a self-adhesive film (trade name "FSA-150M", manufactured by Futamura Chemical Co., Ltd.) was used as the protective film.
As a result, when the protective film was peeled off, the adhesive remained on the surface of the mold, and it was not possible to obtain an article having an uneven structure without defects.
[比較例3]
保護フィルムとして、ポリプロピレンフィルム(厚さ25μm)とアルミ箔(厚さ12μm)とが積層されたフィルムを用いた以外は、実施例1と同様に操作を行った。
結果、保護フィルム剥離時に、金型の製造時に発生した異物が金型の表面に残存し、欠陥のない凹凸構造を有する物品を得ることができなかった。
[Comparative Example 3]
The same operation as in Example 1 was carried out except that a film in which a polypropylene film (
As a result, when the protective film was peeled off, foreign matter generated during the manufacture of the mold remained on the surface of the mold, and it was not possible to obtain an article having an uneven structure without defects.
11 金型
13 保護フィルム
13a 保護フィルム後端
13b 保護フィルム先端
21 タンク
23 活性エネルギー線照射装置
25 ニップロール
27 剥離ローラ
29 基材
11
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