JP6902877B2 - 基板の厚みを制御する方法 - Google Patents

Description

本発明は、基板、例えばガラス又はプラスチックからなる基板の厚みを制御する方法、並びにこの方法により製造された基板に関する。

基板、例えばガラス又はプラスチックからなる基板の製造方法は、既に以前から公知である。例えば、独国特許発明第１０１２８６３６号明細書（DE 101 28 636 C1）の文献は、板ガラスの厚みに選択的に影響を及ぼす方法、並びにこのような方法を実施するための装置を開示している。この場合、板ガラスは、付形直後に、ガラスリボンの全体の幅にわたる装置の前を通過し、この装置ではガラスの制御された冷却が行われ、かつガラスを更にガラスの全体の幅にわたり適切にかつ調節可能に加熱することができ、その際、熱供給はレーザービームを用いて局所的に行われる。このレーザービームは、高い周波数でガラスリボンの幅にわたり案内され、かつこの場合、レーザービームの出力は、相応して適切に調節されるため、相応する加熱出力は空間分解的に達成される。このようにして、板ガラスの幅にわたりできる限り一定の厚みを示す板ガラスが得られる。

更に、独国特許出願公開第１０２００８０６３５５４号明細書（DE 10 2008 063 554 A1）は、同様にガラスの幅にわたり厚みに適切に影響を及ぼすことができる板ガラスを製造する方法並びに装置を記載する。この場合、ガラスリボンは、スロットオリフィスを通して引き出され、引き続き、壁部が少なくとも部分的にガラスリボンの幅にわたり局所的に変化する放射線吸収性及び／又は熱伝導性を示すように仕上げられているドローイングチャンバ内に案内される。更に、厚み制御を支援するために、レーザービームがガラスリボンに局所的に影響を及ぼすことができる。更に、ガス流が、このリボンの厚みに局所的に適切に影響を及ぼすこともできる。このようにして、ガラスリボンの幅にわたり所望の厚みプロフィールを、例えばリボンの中央部がリボンのエッジに向かう部分よりも大きいガラスの厚みを示すように調節することができるガラスリボンが得られる。

米国特許第８，９０４，８２２号明細書（US 8,904,822 B2）は、制御された厚みを示すガラス又はプラスチックからなる基板が得られる方法を開示する。この方法の場合に、リボンのエッジでの引張を行うことにより、ガラス又はプラスチックからなるリボンが引き出される。更に、リボンの厚みが決定されかつ制御される。厚みの偏差が確認された場合、この厚み偏差の領域が選択され、この場合、この領域は粘性の状態で存在する。引き続いて、レーザービームがこの領域に偏向されることにより、粘性の状態で存在するこの選択された領域の加熱が行われる。この加熱により、次いでこの領域は所与の厚みになる。この加熱は、レーザー出力の調整、選択された領域でのレーザーの滞留時間の調整及び／又はレーザーの波長の適合を含む。

ただし、これらの全ての方法は、一連の欠点を示す。

例えば、全ての場合に、引張を行うことにより、例えばリボンの縁部領域でいわゆる耳部ローラーがガラスに接触することにより材料は引き出される。このようにして、もちろん耳部ローラーと接触する位置でリボンの表面損傷が生じることにより、こうして、リボンの全体の幅を使用することができない。

例えば、ノズルを介して、厚み制御のためにガス流をリボンに作用させる場合、更に、ノズルの幅、及びノズルによりガラスに対して冷却された面の距離により生じるリボンの正味幅にわたりうねりが起こる。例えば、このようなノズルの分解能が約３０ｍｍであるため、この方式では、３０ｍｍ未満の周期性又は波長を示すリボン内の微細なうねりを取り除くことはできない。この場合、ガラスリボンの特性が所与の仕様内にあるガラスリボンの領域が、正味幅といわれる。したがって、ガラスリボンの正味幅は、ガラスリボンの品質領域の幅であり、原則として、耳部を取り除いた引き出されたガラスリボンから生じる。

更に、リボンが粘性の状態にある領域で、ガラス又はプラスチックのリボンの厚みに影響を及ぼす処置がある。この粘性の状態は、この場合、例えば米国特許第８，９０４，８２２号明細書（US 8,904,822 B2）から推知することができるように、粘度が１０⁵ｄＰａｓより大きい領域と定義される。ここでは、厚みに低減を達成するために、リボンの材料が十分に流動性であることを満たす、材料の加熱を保証するために、この方式では、極めて高い出力を調達しなければならない。それにより、この方法は、費用がかさむばかりでなく、むしろレーザービームの高いエネルギー若しくは高い出力により厚み制御が十分に正確には行うことができないことも起こるため、ガラス又はプラスチックからなるリボンの正味幅にわたり厚みの所定の変動が相変わらず存在する。

したがって、先行技術の存在する弱点を最小化する、ガラス又はプラスチックからなるリボンの厚みの制御された調節のための方法の需要が生じる。

本発明の課題は、ガラス又はプラスチックからなるリボンの厚みの制御された調節のための改善された方法を提供することである。

本発明の別の態様は、極端に僅かな厚み変動を示す、殊に５ｍｍより大きな波長又は周期性を示すうねりなしで、板ガラスを提供することにある。

本発明の課題は、意外にも簡単な方式で、独立請求項１、１１及び１２に記載の方法により、並びに更に請求項２８に記載の板ガラスにより解決される。好ましい実施態様は、従属請求項に見られる。

ガラスリボンの厚みを制御する本発明による方法は、少なくとも次の工程を含む：
ａ） 引き出し速度ｖ_GB及び正味領域内での平均厚みＤで、融液からの引き出し又はプリフォームのリドローにより、ガラスリボンを準備する工程。
ｂ） この正味幅でガラスリボンの基準厚みを予め設定する工程。この場合、ガラスリボンの特性が、仕上がったガラスリボンの後の販売を行えるであろう詳細に記述された限界内にあるようなガラスリボンの幅が、ガラスリボンの正味幅といわれる。ガラスリボンの正味幅Ｂは、つまりガラスリボンの品質領域の幅Ｂである。
ｃ） ガラスリボンの全体の正味幅にわたるガラスリボンの厚みを決定する工程。
ｄ） 予め設定された基準厚みからのガラスリボンの少なくとも１つの厚みの偏差を決定する工程。
ｅ） ガラスリボン上で厚み偏差の領域を確定する工程。
ｆ） ガラスリボン上の少なくとも１つの厚み偏差の領域をレーザーにより加熱する工程。この場合、レーザーは、厚み偏差の領域に作用し、この領域を加熱する。この加熱により、この領域は予め設定された厚みになることが起こる。更に、この加熱は、レーザービームの出力、レーザービームの照射時間及び／又はレーザーの波長の少なくとも１つを、工程ｃ）において決定された、ガラスリボンの品質領域中のガラスリボンの厚みに依存して、つまりガラスリボンの特性が予め詳細に記述された限界内にありかつそれにより後の使用、例えば販売を行うことができる領域中のガラスリボンの厚みに依存して制御することを含む。

本発明による方法の場合に、レーザーは、ガラスリボンの全体の正味幅が走査可能であるようにスキャンヘッドを備えている。ガラスリボンの正味幅Ｂ、つまりガラスリボンの品質領域の幅Ｂ、ガラスリボンの引き出し速度ｖ_GB、レーザービームのビーム直径Ｄ、並びにレーザーのスキャン速度ｖ_Las、並びに補正係数ｋの間に、次の関係が存在する：
２・ｋ・ｖ_GB・Ｂ＜Ｄ・ｖ_Las

本発明を用いて、生じる厚み偏差を、方法に従って、いくつかの操作量の補正係数ｋに還元し、かつこれに基づいて方法パラメーターの更なる変化を調節することが簡単に可能である。このｋ値は、この場合、この領域の各点に、少なくとも１回レーザーが当たるように選択される。

したがって、補正係数ｋは少なくとも１に等しい。好ましくは、ｋは、１より大である。しかしながら、ビームプロフィールに応じて、ｋは、他の値をとることもでき、例えば好ましくは１０より大、又は少なくとも１０に等しくてもよい。

本発明の別の実施形態の場合に、レーザービームは、ガラスリボン上の、冷却プロセスにおいてレーザービームの作用なしで１０⁴〜１０⁹ｄＰａｓ、好ましくは１０⁴〜１０⁸ｄＰａｓの範囲の粘度を示す位置に作用する。この場合、大きすぎる厚みを示す領域には、適切な厚み又は小さすぎる厚みの領域よりも高いレーザー出力が加えられる。

本発明の別の実施形態の場合に、ガラスリボンとスキャナミラーとの間の光学的距離は、少なくとも１．８〜長くても５．０ｍの間にある。光学的距離とは、この場合、本発明の範囲内で、ガラスリボンとスキャナミラーとの間の光路長であると解釈される。したがって、本発明の範囲内で、「光学的距離」と「光路長」との概念は同義に使用されている。スキャナミラーとガラスリボンとの間に、スキャナミラーの角度偏向を光学的に拡大する、例えばミラー及び／又はレンズの形の光学素子が取り付けられている場合に、この光路は、より短く仕上げられていてもよい。この距離の記述は、このような場合に、「光てこ」、つまり、１つ以上の光学部材なしでレーザービームの同じ偏向を達成するために必要となるであろう距離に関する。

本発明によるまた別の実施形態の場合に、レーザー出力は、高くても３０００Ｗ、好ましくは高くても２０００Ｗ、特に好ましくは高くても１５００Ｗである。

好ましくは、レーザービームは、ガラスリボンの変形区域に作用する。

本発明の更に好ましい実施形態の場合に、ガラスリボンの自重の下でガラスリボンの引き出しが行われる。これは、引張を行わない、殊にガラスリボンの側方での引張を行わないことを意味する。

本発明の一実施形態の場合に、レーザーは、ＣＯ₂レーザーとして形成されている。

好ましくは、ガラスリボンの厚みの決定は、干渉測定、色共焦点測定、白色光トポグラフィー及び／又は白色光干渉分光により行われる。

本発明の別の好ましい実施形態の場合に、レーザービームは、ガルバノメータースキャナ及び／又はポリゴンミラーホイールによって偏向される。

本発明の別の態様の場合に、リボンの厚みを制御する本発明による方法は、５ｍｍ超の波長のうねりなしに、好ましくは１ｍｍ超の波長のうねりなしに、ガラス基板又はプラスチック基板の少なくとも１つの選択された領域の第１の表面と第２の表面との間の厚みを制御する方法も含み、この方法は、少なくとも次の工程を含む：
− 溶融したガラス又はプラスチックを準備する工程、
− 溶融したガラス又はプラスチックをリボンに成形する工程、
− リボンの厚みを監視する工程、
− リボン中の少なくとも１つの厚み偏差を確認する工程、
− 粘性の状態の、基板の少なくとも１つの領域を選択する工程、この場合、少なくとも１つの領域は、確認された厚み偏差の領域に相当する、及び
− 粘性の状態の、リボンの少なくとも１つの選択された領域を、レーザービームを用いて加熱する工程、このレーザービームは、レーザービームが選択された領域に作用するように偏向されていて、ここで、この加熱により、リボンの少なくとも１つの選択された領域は予め設定された厚みになることが起こり、かつ、ここで、更に、この加熱は、監視された厚みに依存して、少なくとも、選択された領域に作用するレーザービームの出力、滞留時間又は波長を制御することを含む。

本発明の別の態様の場合に、溶融したガラス又はプラスチックをリボンに成形する工程は、リボンのエッジでの引張を行うことを含まず、その際、少なくとも１つの選択された領域の加熱は、粘性の状態で行われる。

更に別の態様の場合に、成形する工程は、リボンのエッジでの引張を行うことを含み、その際、少なくとも１つの選択された領域の加熱は、液状の状態で行われ、その際、液状の状態とは、リボンの粘度が１０⁹ｄＰａｓ未満の値をとる状態が当てはまる。

本発明の一実施形態の場合に、レーザーは、リボンの全体の正味幅が走査可能であるようにスキャンヘッドを備えている。更に、リボンの引き出し速度Ｖ_B、リボンの正味幅Ｂ、レーザービームのビーム直径Ｄ、レーザーのスキャン速度ｖ_Las並びに補正係数ｋの間には、次の関係が存在する：
（１） ２・ｋ・ｖ_B・Ｂ＜Ｄ・ｖ_Las

この場合、リボンの正味幅Ｂ及びビーム直径Ｄは、メートルで示されていて、スキャン速度ｖ_Las及びリボンの速度ｖ_Bは、それぞれメートル／秒で示されている。

この場合、補正係数ｋは少なくとも１に等しい。好ましくは、ｋは、１より大である。しかしながら、ビームプロフィールに応じて、ｋは、他の値をとってもよく、例えば特に好ましくは１０超、又は少なくとも１０に等しくてもよい。

本発明の別の実施形態の場合に、リボンとスキャナミラーとの間の光学的距離（又は光路長）は、少なくとも１．８ｍ〜長くても５．０ｍの間にある。スキャナミラーとリボンとの間に、スキャナミラーの角度偏向を拡大する光学素子（例えばミラー又はレンズ）が取り付けられている場合に、この光路は、より短く仕上げられていてよい。この距離の記述は、「光てこ」、つまり光学部材なしでレーザービームの同じ偏向を達成するために必要となるであろう距離に関する。

本発明の更に別の実施形態の場合に、スキャンヘッドは、ガルバノメーターアクチュエータ及び／又はポリゴンミラーホイールを用いる。

好ましくは、レーザー出力は、高くても３０００Ｗ、好ましくは２０００Ｗ未満、特に好ましくは１５００Ｗ未満である。

本発明の特に好ましい実施形態の場合に、リボンの自重の下でリボンの引張が行われる。これは、殊に、融液からリボンを引き出すために他の装置を必要とせず、むしろ外部の力なしに重力の影響下だけで行うことを意味する。

本発明の更に別の実施形態の場合に、レーザーはＣＯ₂レーザーとして形成されている。

好ましくは、リボンの厚みの監視は、干渉測定、色共焦点測定、白色光トポグラフィー及び／又は白色光干渉分光により行われる。

本発明の別の実施形態の場合に、加熱は、レーザービームを発生させる装置から反射する表面にレーザービームを偏向すること、及び反射する表面で少なくとも１つの選択された領域にレーザービームを反射させることを含む。

本発明の更に別の実施形態の場合に、レーザービームは、リボンの多数の選択された領域に次々に偏向される。

ここで、本発明の別の実施形態の場合に、この多数の選択された領域は、リボンの全体の正味幅にわたって延在していてよい。

更に、この場合、選択された領域の各々について、少なくとも、レーザービームの出力、滞留時間及び／又は波長は適切に制御及び調節されてよい。

本発明の別の実施形態の場合には、レーザービームは、少なくとも部分的にリボンに吸収され、したがって妨げられずにこのリボンを通り抜けない。

少なくとも部分的に吸収されるとは、この場合、リボン中でのレーザービームの出力の少なくとも２０％のレーザービームの吸収をいう。本発明の一実施形態の場合には、つまり、リボン中でレーザービームの出力の少なくとも２０％でレーザービームの吸収が行われる。

本発明の別の実施形態の場合に、溶融した材料、つまり、例えば溶融したガラス又は溶融したプラスチックは、引き続く付形を伴う溶融プロセスにおいて、又はガラス又はプラスチックからなるプリフォームの加熱下でのリドローによって提供される。

この場合、熱付形は、フロートプロセス、引き出しプロセス、例えばダウンドロープロセス、又はオーバーフローフュージョンプロセスで行うことができる。

本発明による方法を用いて、この場合、殊に、特に均一な厚み分布を示す板ガラスを得ることができる。

材料からなるリボンの厚み分布に関して、この場合、次のパラメーターが特に重要である：
− 一方で、リボンの全体の正味幅にわたる厚みの変動が重要である。このリボンの正味幅にわたる厚みの変動は、厚み変動又は英語で「total thickness variation」（ｔｔｖ）ともいわれる。
− 更に、例えばリボンの成形プロセスの間のブローノズルによる、僅かな振幅であるが、所定の周期性又は波長を示す厚み変動の出現も生じる。このいわゆるうねりは、微小うねり又は「waviness」ともいわれ、うねりが生じる波長又は周期性の記述によって正確に規定される。

それに対して、本発明による方法を用いて、厚み変動もうねりも明らかに低減されている板ガラスを製造することが可能である。

本発明による板ガラスは、３００μｍ以下、好ましくは１５０μｍ以下、特に好ましくは１００μｍ以下、更に特に好ましくは５０μｍ以下の厚みを示し、並びに、１００ｍｍ超の直径の範囲の、殊に１００ｍｍ×１００ｍｍ以上の横方向寸法でのウェハサイズ又は基板サイズに対して、好ましくは２００ｍｍ超の直径の範囲の、殊に２００ｍｍ×２００ｍｍ以上の横方向寸法でのウェハサイズ又は基板サイズに対して、特に好ましくは４００ｍｍ超の直径の範囲の、殊に４００ｍｍ×４００ｍｍ横方向寸法でのウェハサイズ又は基板サイズに対して、２５μｍ以下、好ましくは１５μｍ以下、特に好ましくは１０μｍ以下、更に特に好ましくは５μｍ以下の厚み変動を示し、並びに、更に５ｍｍ超の波長のうねり、好ましくは３ｍｍ超の波長のうねり、特に好ましくは１ｍｍ超の波長のうねりを示さない。

この板ガラスは、更に好ましくは、アルカリ−ケイ酸塩ガラス、アルカリ−アルカリ土類−ケイ酸塩ガラス、石灰−ソーダガラス、混合アルカリ石灰ケイ酸塩ガラス、ホウ素−ケイ酸塩ガラス、リン酸塩−ケイ酸塩ガラス、ホウリン酸塩−ケイ酸塩ガラス、アルミニウム−ケイ酸塩ガラス、アルカリアルミニウムケイ酸塩ガラス、アルカリ−アルカリ土類−アルミニウム−ケイ酸塩ガラス、ホウ素−アルミニウム−ケイ酸塩ガラス又はホウリン酸塩−アルミニウム−ケイ酸塩ガラスとして形成されている。

本発明の一実施形態の場合に、ガラスは、質量％で示した次の組成を示すホウケイ酸塩ガラスである：
ＳｉＯ₂ ６４．０
Ｂ₂Ｏ₃ ８．３
Ａｌ₂Ｏ₃ ４．０
Ｎａ₂Ｏ ６．５
Ｋ₂Ｏ ７．０
ＺｎＯ ５．５
ＴｉＯ₂ ４．０
Ｓｂ₂Ｏ₃ ０．６
Ｃｌ^- ０．１

この組成によって、次の特性が得られる：
α_(20-300) ７．２・１０^-6／Ｋ
Ｔ_g ５５７℃
密度 ２．５ｇ／ｃｍ³

本発明の別の実施態様の場合に、ガラスは、質量％で表した次の組成を示すホウケイ酸塩ガラスである：
ＳｉＯ₂ ８０±５
Ｂ₂Ｏ₃ １３±５
Ａｌ₂Ｏ₃ ２．５±２
Ｎａ₂Ｏ ３．５±２
Ｋ₂Ｏ １±１

この組成によって、次の特性が得られる：
α_(20-300) ３．２５・１０^-6／Ｋ
Ｔ_g ５２５℃
密度 ２．２ｇ／ｃｍ³

別の実施形態の場合に、薄板ガラスは、次の組成（質量％で表す）を示すリチウムアルミニウムケイ酸塩ガラスである：

場合により、着色性酸化物、例えばＮｄ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＭｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｕＯ、ＣｅＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃を添加してもよく、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＳＯ₃、Ｃｌ、Ｆ及び／又はＣｅＯ₂ ０〜２質量％を清澄剤として添加してもよく、かつ同様に、磁性機能、光子機能又は光学機能をガラス層又はガラスプレートに導入するために、希土類金属酸化物０〜５質量％を添加してもよく、かつ全体の組成の全体量は１００質量％である。

本発明のリチウムアルミノケイ酸塩ガラスは、好ましくは次の組成（質量％で表す）を示す：

場合により、着色性酸化物、例えばＮｄ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＭｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｕＯ、ＣｅＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃を添加してもよく、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＳＯ₃、Ｃｌ、Ｆ及び／又はＣｅＯ₂ ０〜２質量％を清澄剤として添加してもよく、かつ同様に、磁性機能、光子機能又は光学機能をガラス層又はガラスプレートに導入するために、希土類金属酸化物０〜５質量％を添加してもよく、かつ全体の組成の全体量は１００質量％である。

本発明のリチウムアルミノケイ酸塩ガラスは、最も好ましくは次の組成（質量％で表す）を示す：

場合により、着色性酸化物、例えばＮｄ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＭｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｕＯ、ＣｅＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃を添加してもよく、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＳＯ₃、Ｃｌ、Ｆ及び／又はＣｅＯ₂ ０〜２質量％を清澄剤として添加してもよく、かつ同様に、磁性機能、光子機能又は光学機能をガラス層又はガラスプレートに導入するために、希土類金属酸化物０〜５質量％を添加してもよく、かつ全体の組成の全体量は１００質量％である。

一実施形態の場合に、薄板ガラスは、次の組成を示す石灰ソーダガラスであり、次のものを有する（質量％で表す）：

場合により、着色性酸化物、例えばＮｄ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＭｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｕＯ、ＣｅＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃を添加してもよく、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＳＯ₃、Ｃｌ、Ｆ及び／又はＣｅＯ₂ ０〜２質量％を清澄剤として添加してもよく、かつ同様に、磁性機能、光子機能又は光学機能をガラス層又はガラスプレートに導入するために、希土類金属酸化物０〜５質量％を添加してもよく、かつ全体の組成の全体量は１００質量％である。

本発明の石灰ソーダガラスは、好ましくは次の組成（質量％で表す）を示す：

場合により、着色性酸化物、例えばＮｄ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＭｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｕＯ、ＣｅＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃を添加してもよく、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＳＯ₃、Ｃｌ、Ｆ及び／又はＣｅＯ₂ ０〜２質量％を清澄剤として添加してもよく、かつ同様に、磁性機能、光子機能又は光学機能をガラス層又はガラスプレートに導入するために、希土類金属酸化物０〜５質量％を添加してもよく、かつ全体の組成の全体量は１００質量％である。

本発明の石灰ソーダガラスは、最も好ましくは次の組成（質量％で表す）を示す：

場合により、着色性酸化物、例えばＮｄ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＭｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｕＯ、ＣｅＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃を添加してもよく、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＳＯ₃、Ｃｌ、Ｆ及び／又はＣｅＯ₂ ０〜２質量％を清澄剤として添加してもよく、かつ同様に、磁性機能、光子機能又は光学機能をガラス層又はガラスプレートに導入するために、希土類金属酸化物０〜５質量％を添加してもよく、かつ全体の組成の全体量は１００質量％である。

一実施形態の場合に、薄板ガラスは、次の組成（質量％で表す）を示すホウケイ酸塩ガラスである：

場合により、着色性酸化物、例えばＮｄ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＭｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｕＯ、ＣｅＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃を添加してもよく、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＳＯ₃、Ｃｌ、Ｆ及び／又はＣｅＯ₂ ０〜２質量％を清澄剤として添加してもよく、かつ同様に、磁性機能、光子機能又は光学機能をガラス層又はガラスプレートに導入するために、希土類金属酸化物０〜５質量％を添加してもよく、かつ全体の組成の全体量は１００質量％である。

本発明のホウケイ酸塩ガラスは、より好ましくは次の組成（質量％で表す）を示す：

場合により、着色性酸化物、例えばＮｄ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＭｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｕＯ、ＣｅＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃を添加してもよく、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＳＯ₃、Ｃｌ、Ｆ及び／又はＣｅＯ₂ ０〜２質量％を清澄剤として添加してもよく、かつ同様に、磁性機能、光子機能又は光学機能をガラス層又はガラスプレートに導入するために、希土類金属酸化物０〜５質量％を添加してもよく、かつ全体の組成の全体量は１００質量％である。

本発明のホウケイ酸塩ガラスは、最も好ましくは次の組成（質量％で表す）を示す：

場合により、着色性酸化物、例えばＮｄ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＭｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｕＯ、ＣｅＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃を添加してもよく、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＳＯ₃、Ｃｌ、Ｆ及び／又はＣｅＯ₂ ０〜２質量％を清澄剤として添加してもよく、かつ同様に、磁性機能、光子機能又は光学機能をガラス層又はガラスプレートに導入するために、希土類金属酸化物０〜５質量％を添加してもよく、かつ全体の組成の全体量は１００質量％である。

一実施形態の場合に、薄板ガラスは、次の組成（質量％で表す）を示すアルカリ金属アルミノケイ酸塩ガラスである：

場合により、着色性酸化物、例えばＮｄ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＭｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｕＯ、ＣｅＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃を添加してもよく、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＳＯ₃、Ｃｌ、Ｆ及び／又はＣｅＯ₂ ０〜２質量％を清澄剤として添加してもよく、かつ同様に、磁性機能、光子機能又は光学機能をガラス層又はガラスプレートに導入するために、希土類金属酸化物０〜５質量％を添加してもよく、かつ全体の組成の全体量は１００質量％である。

本発明のアルカリ金属アルミノケイ酸塩ガラスは、より好ましくは次の組成（質量％で表す）を示す：

場合により、着色性酸化物、例えばＮｄ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＭｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｕＯ、ＣｅＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃を添加してもよく、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＳＯ₃、Ｃｌ、Ｆ及び／又はＣｅＯ₂ ０〜２質量％を清澄剤として添加してもよく、かつ同様に、磁性機能、光子機能又は光学機能をガラス層又はガラスプレートに導入するために、希土類金属酸化物０〜５質量％を添加してもよく、かつ全体の組成の全体量は１００質量％である。

本発明のアルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、最も好ましくは次の組成（質量％で表す）を示す：

場合により、着色性酸化物、例えばＮｄ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＭｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｕＯ、ＣｅＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃を添加してもよく、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＳＯ₃、Ｃｌ、Ｆ及び／又はＣｅＯ₂ ０〜２質量％を清澄剤として添加してもよく、かつ同様に、磁性機能、光子機能又は光学機能をガラス層又はガラスプレートに導入するために、希土類金属酸化物０〜５質量％を添加してもよく、かつ全体の組成の全体量は１００質量％である。

一実施形態の場合に、薄板ガラスは、次の組成（質量％で表す）を示す低アルカリ含有率を示すアルミノケイ酸塩ガラスである：

場合により、着色性酸化物、例えばＮｄ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＭｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｕＯ、ＣｅＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃を添加してもよく、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＳＯ₃、Ｃｌ、Ｆ及び／又はＣｅＯ₂ ０〜２質量％を清澄剤として添加してもよく、かつ同様に、磁性機能、光子機能又は光学機能をガラス層又はガラスプレートに導入するために、希土類金属酸化物０〜５質量％を添加してもよく、かつ全体の組成の全体量は１００質量％である。

本発明の低アルカリ含有率のアルミノケイ酸塩ガラスは、より好ましくは次の組成（質量％で表す）を示す：

場合により、着色性酸化物、例えばＮｄ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＭｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｕＯ、ＣｅＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃を添加してもよく、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＳＯ₃、Ｃｌ、Ｆ及び／又はＣｅＯ₂ ０〜２質量％を清澄剤として添加してもよく、かつ同様に、磁性機能、光子機能又は光学機能をガラス層又はガラスプレートに導入するために、希土類金属酸化物０〜５質量％を添加してもよく、かつ全体の組成の全体量は１００質量％である。

本発明の低アルカリ含有率のアルミノケイ酸塩ガラスは、最も好ましくは次の組成（質量％で表す）を示す：

場合により、着色性酸化物、例えばＮｄ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＭｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｕＯ、ＣｅＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃を添加してもよく、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＳＯ₃、Ｃｌ、Ｆ及び／又はＣｅＯ₂ ０〜２質量％を清澄剤として添加してもよく、かつ同様に、磁性機能、光子機能又は光学機能をガラス層又はガラスプレートに導入するために、希土類金属酸化物０〜５質量％を添加してもよく、かつ全体の組成の全体量は１００質量％である。

表１は、化学強化された、薄いアルカリ含有ガラスの複数の典型的な実施形態を示す。

表１ アルカリ含有ホウケイ酸塩ガラスの実施形態

ＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃及びＰ₂Ｏ₅は、ガラスネットワーク形成剤として機能する。これらの含有率は、慣用の方法にとって、４０％以上であるのが好ましく、そうでないとガラスプレート又はガラス層は形成されず、かつ壊れやすいか又は脆くなり、透明性を失う。比較的高いＳｉＯ₂含有率は、ガラス製造の間に比較的高い溶融温度及び加工温度を必要とし、したがって、この含有率は通常では９０％未満であることが好ましい。Ｂ₂Ｏ₃及びＰ₂Ｏ₅をＳｉＯ₂に添加することは、ネットワーク特性を改質し、ガラスの溶融温度及び加工温度を低下させることができる。同様に、ガラスネットワーク形成剤は、ガラスのＣＴＥに強く影響を及ぼす。

更に、Ｂ₂Ｏ₃は、ガラスネットワーク中で、外部からの荷重により良好に適合させることができる２つの異なる多面体構造を形成することができる。Ｂ₂Ｏ₃の添加は、原則として、低い熱膨張率及び低いヤング率を生じさせ、このことは、また良好な温度変化耐久性及び比較的緩慢な化学強化を引き起こす。したがって、極薄ガラスへのＢ₂Ｏ₃の添加は、化学強化をより大規模に改善することができ、かつそれにより化学強化された薄板ガラスは、実際の適用のためにより大規模に使用することができる。

Ａｌ₂Ｏ₃は、ガラスネットワーク形成剤としても、ガラスネットワーク改質剤としても機能する。ガラスネットワーク中では、Ａｌ₂Ｏ₃の量に依存して、［ＡｌＯ₄］四面体及び［ＡｌＯ₆］六面体が形成される。これらは、ガラスネットワーク内でのイオン交換のための空間のサイズが変わることにより、イオン交換速度を調節することができる。Ａｌ₂Ｏ₃の量が多すぎる場合、例えば４０％より高い場合には、ガラスの溶融温度及び加工温度を極めて大幅に高め、これが結晶化する傾向を生じさせ、これにより、ガラスが透明性及び柔軟性を失うことになる。

Ｋ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ及びＬｉ₂Ｏのようなアルカリ金属酸化物は、ガラス加工改質剤として機能し、かつこれらはガラスネットワークを、ガラスネットワークの内部での非架橋酸化物（非架橋酸素）の形成により破壊することができる。アルカリ金属添加は、ガラスの加工温度を低下させ、かつガラスのＣＴＥを高めることができる。Ｎａ及びＬｉの存在は、化学強化をするために、極薄フレキシブルガラスにとって必要であり、Ｎａ⁺／Ｌｉ⁺、Ｎａ⁺／Ｋ⁺及びＬｉ⁺／Ｋ⁺のイオン交換は、強化のために必要な工程である。ガラスがアルカリ金属自体を含まない場合には、ガラスは強化されない。しかしながら、アルカリ金属の全体量は、３０％以下であることが好ましく、そうでないとガラスネットワークは、ガラスの形成なしに、完全に破壊される。他の重要な要因は、薄板ガラスが低いＣＴＥを示すことが好ましく、かつガラスは、この要件を満たすために過剰量のアルカリ金属を含まないことが好ましいことである。

ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯのようなアルカリ土類元素は、ネットワーク改質材として機能し、かつガラスの形成温度を低下させることができる。これらの元素は、ガラスのＣＴＥ及びヤング率を変更することができ、かつアルカリ土類元素は、特別な要件を満たすためにガラスの屈折率を変更するために、極めて重要な機能を示す。例えば、ＭｇＯは、ガラスの屈折率を低下させることができ、ＢａＯは屈折率を向上させることができる。アルカリ土類元素の量は、ガラス製造の場合に４０％以下であるのが好ましい。

ＺｎＯ及びＺｒＯ₂のような、ガラス中のいくつかの遷移金属元素は、アルカリ土類元素の機能と類似する機能を示す。Ｎｄ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＭｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｕＯ、ＣｅＯ₂及びＣｒ₂Ｏ₃のような他の遷移金属元素は、着色剤として機能し、それによりガラスは特別な光子を示すか又は光学機能を示し、例えばカラーフィルタ機能又は光変換を示す。

実施例
次に、本発明を実施例によって詳細に説明する。

実施例１
リドロー装置で、６．８ｍｍの厚み並びに４００ｍｍの正味幅を示すホウケイ酸塩ガラスからなるプリフォームを引き出して、５０μｍの厚みを示す薄いガラスフィルムにする。この場合、貴金属からなる加熱区域を使用する。このヒーターの約３０ｍｍ下に、走査するＣＯ₂レーザービームの供給のために、炉内に水平のスリットが存在する。この位置で、リボンは、レーザーなしで４・１０⁶ｄＰａｓの粘度を示す。このように作製されたリボンを、引き出し方向に対して横断する方向で色共焦点センサを用いて測定する。厚み分布から、どの横方向位置でガラスが大きすぎる厚みを示すかを突き止める。この情報を用いて、位置、レーザー出力及びビーム速度を含むスキャンプログラムを生成する。この場合、厚い位置では１６ワットの平均レーザー出力が置かれる。それにより、大きすぎる厚みを示す領域内で１０μｍだけ厚みを薄くすることができる。

実施例２
ダウンドロー装置で、貴金属オリフィスを通して、０．３ｍｍの厚みを示すガラスリボンを引き出す。スリットを通して、走査するレーザービームをガラスリボンに当てる。この位置で、ガラスは、レーザー加熱なしで、６・１０⁵ｄＰａｓの粘度を示す。このように作製されたリボンを、引き出し方向に対して横断する方向で色共焦点センサを用いて測定する。厚み分布から、どの横方向位置でガラスが大きすぎる厚みを示すかを突き止める。この情報を用いて、位置、レーザー出力及びビーム速度を含むスキャンプログラムを生成する。この場合、厚い位置では３ワットの平均レーザー出力が置かれる。それにより、大きすぎる厚みを示す領域内で１０μｍだけ厚みを薄くすることができる。

実施例３
ダウンドロー装置で、貴金属オリフィスを通して、０．３ｍｍの厚みを示すガラスリボンを引き出す。スリットを通して、走査するレーザービームをガラスリボンに当てる。この位置で、ガラスは、レーザー加熱なしで、１０⁷ｄＰａｓの粘度を示す。このように作製されたリボンを、引き出し方向に対して横断する方向で色共焦点センサを用いて測定する。厚み分布から、どの横方向位置でガラスが大きすぎる厚みを示すかを突き止める。この情報を用いて、位置、レーザー出力及びビーム速度を含むスキャンプログラムを生成する。この場合、厚い位置では３７ワットの平均レーザー出力が置かれる。それにより、大きすぎる厚みを示す領域内で１０μｍだけ厚みを薄くすることができる。

実施例４
ダウンドロー装置で、貴金属オリフィスを通して、０．３ｍｍの厚みを示すガラスリボンを引き出す。スリットを通して、走査するレーザービームをガラスリボンに当てる。この位置で、ガラスは、全体の正味幅にわたり５００ワットの連続的なレーザー加熱により６・１０⁵ｄＰａｓの粘度を示す。このように作製されたリボンを、引き出し方向に対して横断する方向で色共焦点センサを用いて測定する。厚み分布から、どの横方向位置でガラスが小さすぎる厚みを示すかを突き止める。この情報を用いて、位置、レーザー出力及びビーム速度を含むスキャンプログラムを生成する。この場合、薄い位置では、リボンの残りの中よりも３ワット低い平均レーザー出力が置かれる。それにより、小さすぎる厚みを示す領域内で厚みを１０μｍだけ厚くすることができる。

次に、本発明を図面によって例示的に説明する。この場合、同じ符号は同じ対象を示す。

本発明による方法の一実施形態の場合のガラスリボン、スキャナ及びレーザーの原理的な配置を示す。 本発明の別の実施形態による、光てこの拡大のために、スキャナとガラスリボンとの間に付加的光学系を備えた、ガラスリボン、スキャナ及びレーザーの原理的な配置を示す。 本発明による方法により製造されたガラスリボンと、本発明による方法によらずに製造されたガラスリボンとについての厚みプロフィールの略図を示す。

図１は、略図において、本発明による方法の場合のレーザー及びガラスリボンの配置を示す。レーザービーム１１を発生するための装置１、並びにここでは例示的にポリゴンミラーホイールが備えられたスキャナ２が図示されている。レーザー出力並びにスキャナ角度の調節は、制御部３によって行われる。更に、ガラスリボンのプリフォーム５が図示されている。ここでは、例示的に、プリフォーム５がモノリス状のガラスプリフォームとして形成されている。したがって、ここに例示された実施例の場合のガラスリボンを製造する方法は、いわゆるリドロー法である。ガラスリボン６の付形は、ここでは、ここに略示的に示された変形区域５１内でのプリフォーム５の意図的な加熱により行われ、その際、ガラスリボンは、矢印７で示された方向に動かされる。この変形区域は、この場合、ガラスを変形することができる、つまり１０⁴〜１０⁹ｄＰａｓ、好ましくは１０⁴〜１０⁸ｄＰａｓの粘度を示す区域として定義されている。生じるガラスリボンは、いわゆる品質領域８により特徴付けられていて、この品質領域８内では、生じるガラスリボン６の特性が、製品特性に対して予め設定された仕様内にある。この品質領域８は幅Ｂを示し、かつ品質領域８の縁部９により区切られる。品質領域８の外側では、例えば耳部ローラーがガラスリボンの表面と接触するため、この場合ではガラスの十分な表面品質がもはや提供されない。更に、ガラスリボンの縁部は、原則として、製造に基づき、例えば厚くなった耳部の形で更なる起伏を示す。同様に、レーザーとガラスリボンとの間の光学的距離４が示されている。光学的距離とは、この場合、本発明の範囲内で、ガラスリボンとスキャナミラーとの間の光路長であると解釈される。したがって、本発明の範囲内で、「光学的距離」と「光路長」との概念は同義に使用されている。スキャナミラーとガラスリボンとの間に、スキャナミラーの角度偏向を拡大する、例えばミラー及び／又はレンズの形の光学素子が取り付けられている場合に、この光路はより短く仕上げられていてもよい。この距離の記述は、このような場合に、「光てこ」、つまり、１つ以上の光学部材なしでレーザービームの同じ偏向を達成するために必要となるであろう距離に関する。

レーザービーム１１は、スキャナ２によって、ガラスリボン６上の区間１０に沿って案内され、この場合、レーザーは、ガラスリボン６の品質領域８の正味幅Ｂを走査する。区間１０に沿って、ガラスリボン６は、１０⁴〜１０⁹ｄＰａｓ、好ましくは１０⁴〜１０⁸ｄＰａｓの粘度を示す。

一般に、ここに示された実施例に限定されることなく、ガラスリボン６は、例えばいわゆるダウンドロー法又はオーバーフローフュージョン法の場合のように、融液から直接引き出すことによって製造することもできる。

図２は、本発明による方法の別の実施形態の場合のレーザー及びガラスリボンの配置の別の略図を示す。図１に示した方法とは異なり、ここでは更に、ガラスリボンとスキャナミラーとの間で所与の距離４１において光てこを拡大するために、スキャナ２とガラスリボン６との間の光路中に光学系１２が挿入されている。

図３は、左の部分に、本発明により得られたガラス板２１についての厚みプロフィール２１３および本発明によらないガラス板２０についての厚みプロフィール２０３の図を略示的に示す。ｘ軸上には、ここでは、ガラス板上での測定点の位置がプロットされている。ｙ軸上には、基準厚みからの偏差が任意単位で示されていて、この場合、基準厚みは値０である。本発明の方法による厚みの補正を用いずに製造されたガラス板２０についての厚みプロフィール２０３は、本発明による方法により製造されたガラス板２１についての厚みプロフィール２１３よりも、基準厚さからの明らかに強い偏差を示すことが明らかに認識できる。

図３の右上の部分に、表面２０１，２０２を備えた本発明によらないガラス板２０が略示的に示されている。更に、ここには、同様に、ガラス板２０の厚みプロフィール２０３も図示されている。図３の右下部分に、表面２１１及び２１２を備えたガラス板２１が略示的に示されていて、この場合、ガラス板２１は、厚み補正のために本発明による方法を用いて得られた。更に、厚みプロフィール２１３が示されている。両方の厚みプロフィール２０３及び２１３の尺度は、この場合、両方の図について同じに選択されている。ここでも、本発明により得られたガラス板２１の場合に、厚み補正を行わなかったガラス板２０の場合よりも、基準厚みからの明らかに低い偏差を生じることが明らかに認識できる。

１ レーザービームを発生するための装置
１０ レーザーの走査区間
１１ レーザービーム
１２ 光てこの拡大のための光学系
２ スキャナ
３ 制御部
４ 光学的距離／光路長
４１ スキャナミラーとガラスリボンとの実際の距離
５ プリフォーム
５１ 変形区間
６ 引き出されたガラスリボン
７ 引き出し方向
８ 品質領域
９ 品質領域の境界
２０ 厚みの補正なしのガラス板
２０１，２０２ ガラス板２０の表面
２０３ ガラス板２０の厚みプロフィール
２１ 厚みの補正ありのガラス板
２１１，２１２ ガラス板２１の表面
２１３ ガラス板２１の厚みプロフィール

Claims (24)

1. 少なくとも次の工程：
   ａ） 引き出し速度ｖ_GB及び正味領域内での平均厚みＤで、融液からの引き出し又はプリフォームのリドローにより、ガラスリボンを準備する工程、
   ｂ） 前記ガラスリボンの基準厚みを予め設定する工程、
   ｃ） 前記ガラスリボンの全体の正味幅にわたる前記ガラスリボンの厚みを決定する工程、
   ｄ） 前記予め設定された基準厚みからの前記ガラスリボンの、少なくとも１つの厚みの偏差を決定する工程、
   ｅ） 前記ガラスリボン上で前記厚み偏差の領域を確定する工程、
   ｆ） 前記ガラスリボン上の少なくとも１つの厚み偏差の領域をレーザーにより加熱する工程を含み、
   レーザービームは、前記厚み偏差の領域に作用し、かつ前記領域を加熱し、前記加熱により、前記領域は、前記予め設定された厚みになることが起こり、かつ、更に、前記加熱は、少なくとも、前記レーザービームの出力、前記レーザービームの照射時間又は前記レーザーの波長を、前記ガラスリボンの、工程ｃ）において決定された厚みに依存して制御することを含み、
   前記レーザーは、前記ガラスリボンの全体の正味幅が走査可能であるように、スキャンヘッドを備え、かつ、前記ガラスリボンの正味幅Ｂ、前記ガラスリボンの引き出し速度ｖ_GB、前記レーザービームのビーム直径Ｄ、並びに前記レーザーのスキャン速度ｖ_Las、並びに補正係数ｋの間に、次の関係が存在し、
   ２・ｋ・ｖ_GB・Ｂ＜Ｄ・ｖ_Las
   前記補正係数ｋは、少なくとも１に等しく、好ましくは１より大であり、特に好ましくは１０より大であり、又は少なくとも１０に等しい、
   ガラスリボンの厚みを制御する方法。
2. 前記少なくとも１つの厚み偏差の領域は、加熱前に、１０⁴〜１０⁹ｄＰａｓ、好ましくは１０⁴〜１０⁸ｄＰａｓの範囲の粘度を示し、大きすぎる厚みを示す領域には、適切な厚み又は小さすぎる厚みを示す領域よりも高いレーザー出力が加えられる、
   請求項１に記載の方法。
3. ガラスリボンとスキャナミラーとの間の光てこ又は光路長は、少なくとも１．８ｍ〜長くても５．０ｍである、
   請求項１又は２に記載の方法。
4. 前記レーザー出力は、高くても３０００Ｗ、好ましくは高くても２０００Ｗ、特に好ましくは高くても１５００Ｗである、
   請求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。
5. 前記レーザービームは、前記ガラスリボンの変形区域に作用する、
   請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
6. 前記引き出しを、前記ガラスリボンの自重の下で行う、
   請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
7. 前記レーザーは、ＣＯ₂レーザーとして形成されている、
   請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
8. 前記ガラスリボンの厚みの決定は、干渉測定、色共焦点測定、白色光トポグラフィー及び／又は白色光干渉分光により行う、
   請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
9. 前記レーザービームを、ガルバノメータースキャナ及び／又はポリゴンミラーホイールによって偏向する、
   請求項１から８までのいずれか１項に記載の方法。
10. ５ｍｍ超の波長のうねりなしに、好ましくは１ｍｍ超の波長のうねりなしに、ガラス基板又はプラスチック基板の少なくとも１つの選択された領域の第１の表面と第２の表面との間の厚みを制御する方法において、
    ａ） 溶融したガラス又はプラスチックを準備する工程、
    ｂ） 前記溶融したガラス又はプラスチックをリボンに成形する工程、ここで、前記成形は、前記リボンのエッジでの引張を行うことを含まない、
    ｃ） 前記リボンの厚みを監視する工程、
    ｄ） 前記リボン中の少なくとも１つの厚み偏差を確認する工程、
    ｅ） 粘性の状態の、基板の少なくとも１つの領域を選択する工程、ここで、前記少なくとも１つの領域は、１０ ⁵ ｄＰａｓより大きい粘度を有し、前記確認された厚み偏差の領域に相当する、及び
    ｆ） 粘性の状態の、前記リボンの少なくとも１つの選択された領域を、レーザービームを用いて加熱する工程を含み、
    前記レーザービームは、前記レーザービームが前記選択された領域に作用するように偏向されていて、前記加熱により、前記リボンの少なくとも１つの選択された領域は、予め設定された厚みになることが起こり、かつ、更に、前記加熱は、前記監視された厚みに依存して、少なくとも、前記選択された領域に作用する前記レーザービームの出力、滞留時間又は波長を制御することを含み、
    前記レーザーは、前記リボンの全体の正味幅が走査可能であるように、スキャンヘッドを備え、かつ、更に前記リボンの引き出し速度ｖ _B 、前記リボンの正味幅Ｂ、前記レーザービームのビーム直径Ｄ、前記レーザーのスキャン速度ｖ _Las 、並びに補正係数ｋの間に、次の関係が存在し、
    ２・ｋ・ｖ _B ・Ｂ＜Ｄ・ｖ _Las
    前記補正係数ｋは、少なくとも１に等しく、好ましくは１より大であり、特に好ましくは１０より大であり、又は少なくとも１０に等しい、
    厚みを制御する方法。
11. ５ｍｍ超の波長のうねりなしに、好ましくは１ｍｍ超の波長のうねりなしに、ガラス基板又はプラスチック基板の少なくとも１つの選択された領域の第１の表面と第２の表面との間の厚みを制御する方法において、
    ａ） 溶融したガラス又はプラスチックを準備する工程、
    ｂ） 前記溶融したガラス又はプラスチックをリボンに成形する工程、ここで前記成形は、前記リボンのエッジでの引張を行うことを含む、
    ｃ） 前記リボンの厚みを監視する工程、
    ｄ） 前記リボン中の少なくとも１つの厚み偏差を確認する工程、
    ｅ） 液状の状態の、基板の少なくとも１つの領域を選択する工程、ここで、液状の状態とは、１０⁹ｄＰａｓ未満の粘度を示し、かつ、ここで、更に前記少なくとも１つの領域は、前記確認された厚み偏差の領域に相当する、及び
    ｆ） 液状の状態の、前記リボンの少なくとも１つの選択された領域を、レーザービームを用いて加熱する工程を含み、
    前記レーザービームは、前記レーザービームが前記選択された領域に作用するように偏向されていて、前記加熱により、前記リボンの少なくとも１つの選択された領域は予め設定された厚みになることが起こり、かつ、ここで、更に、前記加熱は、前記監視された厚みに依存して、少なくとも、前記選択された領域に作用するレーザービームの出力、滞留時間又は波長を制御することを含み、
    前記レーザーは、前記リボンの全体の正味幅が走査可能であるように、スキャンヘッドを備え、かつ、更に前記リボンの引き出し速度ｖ _B 、前記リボンの正味幅Ｂ、前記レーザービームのビーム直径Ｄ、前記レーザーのスキャン速度ｖ _Las 、並びに補正係数ｋの間に、次の関係が存在し、
    ２・ｋ・ｖ _B ・Ｂ＜Ｄ・ｖ _Las
    前記補正係数ｋは、少なくとも１に等しく、好ましくは１より大であり、特に好ましくは１０より大であり、又は少なくとも１０に等しい、
    方法。
12. リボンとスキャナミラーとの間の光学的距離又は光路長は、少なくとも１．８ｍ〜長くても５．０ｍである、
    請求項１０又は１１に記載の方法。
13. 前記スキャンヘッドは、ガルバノメーターアクチュエータ及び／又はポリゴンミラーホイールを用いる、
    請求項１０から１２までのいずれか１項に記載の方法。
14. 前記レーザー出力は、高くても３０００Ｗ、好ましくは高くても２０００Ｗ、特に好ましくは高くても１５００Ｗである、
    請求項１０から１３までのいずれか１項に記載の方法。
15. 前記リボンの引き出しを、リボンの自重の下で行う、
    請求項１０に記載の方法。
16. 前記レーザーは、ＣＯ₂レーザーとして形成されている、
    請求項１０から１５までのいずれか１項に記載の方法。
17. 前記リボンの厚みの監視は、干渉測定、色共焦点測定、白色光トポグラフィー及び／又は白色光干渉分光により行う、
    請求項１０から１６までのいずれか１項に記載の方法。
18. 前記加熱は、前記レーザービームを発生させる装置から反射する表面に、前記レーザービームを偏向すること、及び前記反射する表面で、前記少なくとも１つの選択された領域に、前記レーザービームを反射させることを含む、
    請求項１０から１７までのいずれか１項に記載の方法。
19. 前記レーザービームを、前記リボンの、多数の選択された領域に次々に偏向する、
    請求項１０から１８までのいずれか１項に記載の方法。
20. 前記多数の選択された領域は、前記リボンの全体の正味幅にわたって延在している、
    請求項１９に記載の方法。
21. 前記選択された領域の各々について、少なくとも前記レーザービームの出力、滞留時間及び／又は波長を、適切に制御及び調節する、
    請求項１９又は２０に記載の方法。
22. 前記リボン中で、前記レーザービームの吸収が、前記レーザービームの出力の少なくとも２０％で行われる、
    請求項１０から２１までのいずれか１項に記載の方法。
23. 前記溶融したガラス又は前記溶融したプラスチックは、引き続く付形を伴う溶融プロセスにおいて提供されるか、又はガラス又はプラスチックからなるプリフォームの加熱下でのリドローにより提供される、
    請求項１０から２２までのいずれか１項に記載の方法。
24. 前記付形は、フロートプロセス、引き出しプロセス、例えばダウンドロープロセス、又はオーバーフローフュージョンプロセスで行われる、
    請求項２３に記載の方法。

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