JP6903971B2 - Latent image forming composition and its use - Google Patents
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Description
本発明は、潜像形成用組成物に関する。詳しくは親液部と撥液部とを形成可能な硬化塗膜を提供するための潜像形成用組成物に関する。 The present invention relates to a composition for forming a latent image. More specifically, the present invention relates to a composition for forming a latent image for providing a cured coating film capable of forming a parent liquid portion and a liquid repellent portion.
液晶ディスプレイ、携帯電話、タブレット等のモバイル情報機器、デジタルカメラ、有機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬ照明、センサー等の電子機器においては、小型化、薄型化に加え、さらなる高性能化が求められている。
これら電子機器の配線部位の形成には、光硬化性組成物の膜（レジスト前駆体膜）を用いる方法と用いない方法とがある。
光硬化性組成物を用いる方法には、光硬化性組成物の膜（レジスト前駆体膜）を絶縁性基材上に設ける場合と、銅箔等を全面に具備する基材上に設ける場合とがある。
前者の場合、光硬化性組成物の膜（レジスト前駆体膜）を絶縁性基材上に設けた後、パターン露光し、次いで未露光部をアルカリ水溶液等で除去し、前記除去部（硬化したレジストの設けられていない部分）に導電性材料を蒸着等して配線部位を形成する。配線部位形成後、必要に応じて硬化したレジストを除去したり、あるいはさらに熱硬化したりする。
後者の場合、光硬化性組成物の膜（レジスト前駆体膜）を銅箔等上に設けた後、パターン露光し、次いで未露光部をアルカリ水溶液等で除去した後、前記除去部（硬化したレジストの設けられていない部分）の銅箔等をエッチングで除去し、エッチング後、露光部に形成されていたレジスト部を除去することにより、露光パターンに応じた配線部位を形成する。
Mobile information devices such as liquid crystal displays, mobile phones and tablets, and electronic devices such as digital cameras, organic EL displays, organic EL lighting and sensors are required to have higher performance in addition to being smaller and thinner.
There are a method using a film (resist precursor film) of a photocurable composition and a method not using it to form a wiring portion of these electronic devices.
The method using the photocurable composition includes a case where a film of the photocurable composition (resist precursor film) is provided on an insulating base material and a case where a film of the photocurable composition is provided on a base material having a copper foil or the like on the entire surface. There is.
In the former case, a film of the photocurable composition (resist precursor film) is provided on the insulating base material, and then pattern exposure is performed, and then the unexposed portion is removed with an alkaline aqueous solution or the like, and the removed portion (cured) is removed. A wiring portion is formed by depositing a conductive material on the portion where the resist is not provided). After forming the wiring portion, the cured resist is removed or further thermosetting, if necessary.
In the latter case, a film of the photocurable composition (resist precursor film) is provided on a copper foil or the like, then pattern-exposed, and then the unexposed portion is removed with an alkaline aqueous solution or the like, and then the removed portion (cured). The copper foil or the like (the portion where the resist is not provided) is removed by etching, and after etching, the resist portion formed in the exposed portion is removed to form a wiring portion according to the exposure pattern.
一方、光硬化性組成物の膜（レジスト前駆体膜）を用いない方法の一種である印刷法は、基材に配線部位を直接印刷する方法であり、プリンテッドエレクトロニクス技術とも称され、サブトラクティブ法に比して大幅な工程の簡略化・大面積化・低コスト化が期待され、近年注目を集めている。 On the other hand, the printing method, which is a kind of method that does not use a film (resist precursor film) of a photocurable composition, is a method of directly printing a wiring portion on a substrate, which is also called printed electronics technology and is a subtractive method. It is expected to greatly simplify the process, increase the area, and reduce the cost compared to the method, and has been attracting attention in recent years.
インクジェットやスクリーン印刷、グラビア印刷、グラビアオフセット印刷等の従来印刷法は、基材上に直接所望パターンの配線を形成できることから、配線印刷技術の候補として挙げられてきた。しかし、高精細で複雑なパターン配線を形成するにあたり、印刷に使用するパターン形成材料が流動する結果、これらの濡れ広がりやにじみが生じるため、従来手法による微細パターンの形成には限界があった。 Conventional printing methods such as inkjet, screen printing, gravure printing, and gravure offset printing have been listed as candidates for wiring printing technology because they can form wiring of a desired pattern directly on a substrate. However, when forming a high-definition and complicated pattern wiring, as a result of the pattern forming material used for printing flowing, these wet spreads and bleeding occur, so that there is a limit to the formation of a fine pattern by the conventional method.
特許文献１には、塗膜の所定部分に放射線照射を行い、親液部と撥液部を有する基材を製造し、放射線照射部に形成された親液部に導電膜形成用の膜形成材料を塗布し、加熱して、パターンを形成する方法が記載されている（請求項１、１０、図１〜５）。
特許文献２には、親水性感光樹脂層上に光を照射し、表面を変質させた後、変質した部位をフッ素化合物からなる液体または気体にさらすことにより光照射部位のみを撥液化し、親水性部（前記撥水化されたエッジ周辺部により区画されたパターン形状領域内）にインキ液を配置するパターン形成方法が記載されている（請求項１、図１）。
In
According to
特許文献１記載の方法の場合、パターン形成材料の広がりやにじみを防ぐために、高い撥液能を有する塗膜を用い、放射線未照射部には高い撥液性を残し、放射線照射部を親液性とするためには、［Ａ］アセタール結合を有する基またはケイ素原子を含む基から選ばれる少なくとも一つの基を有する重合体の利用が必要である。しかし、前記重合体［Ａ］の製造は、多くの複雑な工程が必要である。さらに、前記アセタール結合を有する基が、フッ素原子を有する酸解離性基である場合、放射線照射部を親液性とする際、フッ素ガス及びフッ素系溶媒が発生するという懸念があった。
In the case of the method described in
また、特許文献２記載の方法は、プロセスが煩雑で時間を要する。さらに、光照射後にフッ素化合物からなる液体または気体による撥水化処理を必須とするので、前記処理剤のための特別な排気設備が必要となる。しかも、撥水化の程度は十分ではない。
Further, the method described in
本発明の目的は、簡易な工程で、硬化塗膜形成後にフッ素系処理を行わずに、活性エネルギー線の照射のみで所望の部分の表面性状を親液性から撥液性へと変わり得る潜像形成用組成物を提供することにある。
また、本発明の目的は、上記潜像形成用組成物を用いて、基材上に親液部と撥液部とを有する潜像を形成し、該潜像上の親液部にインキを付着させ、高精細なパターンを形成することにある。
An object of the present invention is a latent process that can change the surface texture of a desired portion from liquid-repellent to liquid-repellent by simply irradiating with active energy rays without performing fluorine-based treatment after forming a cured coating film. The purpose is to provide an image-forming composition.
Further, an object of the present invention is to form a latent image having a parent liquid portion and a liquid repellent portion on a substrate by using the above-mentioned latent image forming composition, and apply ink to the parent liquid portion on the latent image. The purpose is to adhere and form a high-definition pattern.
本発明者は、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、基材上に親液性感光樹脂層を形成し、この親液性感光樹脂層に活性エネルギー線を選択的に照射して、照射部を撥液性に変じ、非照射部にインキ材料を付着させるという、簡単なプロセスで精度よくパターンを形成できることを見出し、以下の本発明に至った。
［１］熱硬化性バインダー、フッ素系化合物、カルボン酸の有機塩、および有機溶剤を含有する潜像形成用組成物。
（但し、前記熱硬化性バインダーはフッ素原子、およびカルボン酸の有機塩の構造を有しない。前記フッ素系化合物はカルボン酸の有機塩の構造を有しない。）
As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventor has formed a lyophilic photosensitive resin layer on the substrate, and selectively irradiates the wicked photosensitive resin layer with active energy rays to irradiate the layer. We have found that a pattern can be formed with high accuracy by a simple process of changing the portion to liquid repellency and adhering an ink material to the non-irradiated portion, leading to the following invention.
[1] A composition for forming a latent image containing a thermosetting binder, a fluorine-based compound, an organic salt of a carboxylic acid, and an organic solvent.
(However, the thermosetting binder does not have a structure of a fluorine atom and an organic salt of a carboxylic acid. The fluorine-based compound does not have a structure of an organic salt of a carboxylic acid.)
［２］ 前記熱硬化性バインダー：１００質量部に対して、前記フッ素系化合物を０．０１〜３０質量部、および前記カルボン酸の有機塩を１〜３５質量部含有する前記［１］記載の潜像形成用組成物。 [2] The above-mentioned [1], wherein the thermosetting binder: 100 parts by mass contains 0.01 to 30 parts by mass of the fluorine compound and 1 to 35 parts by mass of an organic salt of the carboxylic acid. A composition for forming a latent image.
［３］ 前記カルボン酸の有機塩が、下記一般式（１）で表されるケトプロフェン類、下記一般式（２）で表されるキサントン酢酸類、下記一般式（３）で表されるチオキサントン酢酸類、または下記一般式（４）で表されるニトロフェニル酢酸類のいずれか一つである前記［１］〜［２］記載の潜像形成用組成物。 [3] The organic salt of the carboxylic acid is ketoprofen represented by the following general formula (1), xanthone acetic acid represented by the following general formula (2), and thioxanthone acetic acid represented by the following general formula (3). , Or the composition for forming a latent image according to the above [1] to [2], which is any one of the nitrophenylacetic acids represented by the following general formula (4).
（式（１）から（３）中、Ｒ１〜Ｒ３はそれぞれ独立に−ＣＨ３または−Ｈを示し、Ａ＋はそれぞれ独立に有機塩中のカチオンを表す。）
(In formulas (1) to (3), R 1 to R 3 independently represent −CH 3 or −H, respectively, and A + independently represents a cation in an organic salt.)
（式（４）中、Ｒ４は−ＣＨ３または−Ｈを示し、Ｒ５〜Ｒ７はそれぞれ独立に−ＮＯ２または−Ｈを示し、且つＲ５〜Ｒ７のうち少なくとも一つは−ＮＯ２である。Ａ＋は有機塩中のカチオンを表す。）
(In formula (4), R 4 represents -CH 3 or -H, R 5 to R 7 independently represent -NO 2 or -H, and at least one of R 5 to R 7 is-. NO 2. A + represents a cation in an organic salt.)
［４］前記カルボン酸の有機塩がケトプロフェン類の有機塩である、前記［３］記載の潜像形成用組成物。
［５］ケトプロフェン類の有機塩がケトプロフェンのアミン塩である、前記［４］記載の潜像形成用組成物。
[4] The composition for forming a latent image according to the above [3], wherein the organic salt of the carboxylic acid is an organic salt of ketoprofen.
[5] The composition for forming a latent image according to the above [4], wherein the organic salt of ketoprofen is an amine salt of ketoprofen.
［６］基材と、該基材上の少なくとも一部に設けられた硬化塗膜とを有する積層体であって、
前記硬化塗膜が前記［１］〜［５］のいずれか１項に記載の潜像形成用組成物から形成された熱硬化塗膜である、積層体。
[6] A laminate having a base material and a cured coating film provided on at least a part of the base material.
A laminate in which the cured coating film is a thermosetting coating film formed from the latent image forming composition according to any one of [1] to [5].
［７］下記工程（１）〜（２）を含む、積層体の製造方法。
（１）基材上の少なくとも一部に、前記［１］〜［５］のいずれか１項に記載の潜像形成用組成物を塗工する工程。
（２）前記潜像形成用組成物を熱硬化して、硬化塗膜を形成する工程に関する。
[7] A method for producing a laminate, which comprises the following steps (1) and (2).
(1) A step of applying the latent image forming composition according to any one of the above [1] to [5] to at least a part of the base material.
(2) The present invention relates to a step of thermosetting the latent image forming composition to form a cured coating film.
［８］下記工程（１）〜（３）を含む、潜像の製造方法。
（１）基材上の少なくとも一部に、前記［１］〜［５］のいずれか１項に記載の潜像形成用組成物を塗工する工程、
（２）前記潜像形成用組成物を熱硬化して、硬化塗膜を形成する工程、
（３）前記硬化塗膜の一部に活性エネルギー線を照射し、非照射部と照射部とを形成する工程に関する。
[8] A method for producing a latent image, which comprises the following steps (1) to (3).
(1) A step of applying the latent image forming composition according to any one of [1] to [5] to at least a part of the substrate.
(2) A step of thermosetting the latent image forming composition to form a cured coating film.
(3) The present invention relates to a step of irradiating a part of the cured coating film with active energy rays to form a non-irradiated portion and an irradiated portion.
［９］下記工程（１）〜（４）を含む、パターン形成方法。
（１）基材上の少なくとも一部に、前記［１］〜［５］のいずれか１項に記載の潜像形成用組成物を塗工する工程、
（２）前記潜像形成用組成物を熱硬化して、硬化塗膜を形成する工程、
（３）前記硬化塗膜の一部に活性エネルギー線を照射し、非照射部と照射部とを形成する工程、
（４）前記非照射部に、インキを付着させる工程に関する。
本発明は、インキがインクジェットインキである、前記記載のパターン形成方法に関する。
[9] A pattern forming method including the following steps (1) to (4).
(1) A step of applying the latent image forming composition according to any one of [1] to [5] to at least a part of the substrate.
(2) A step of thermosetting the latent image forming composition to form a cured coating film.
(3) A step of irradiating a part of the cured coating film with active energy rays to form a non-irradiated portion and an irradiated portion.
(4) The present invention relates to a step of adhering ink to the non-irradiated portion.
The present invention relates to the pattern forming method described above, wherein the ink is an inkjet ink.
本発明により、簡易な工程で、硬化塗膜形成後にフッ素系処理を行わずに、活性エネルギー線の照射のみで所望の部分の表面性状を親液性から撥液性へと変わり得る潜像形成用組成物を提供することができる。
そして、前記潜像形成用組成物を用いて、基材上に親液部と撥液部とを有する潜像を形成し、該潜像上の親液部にインキを付着させ、高精細なパターンを形成することができる。
According to the present invention, a latent image can be formed in a simple step, in which the surface texture of a desired portion can be changed from liquid-repellent to liquid-repellent only by irradiation with active energy rays without performing fluorine-based treatment after forming a cured coating film. Compositions for use can be provided.
Then, using the latent image forming composition, a latent image having a parent liquid portion and a liquid repellent portion is formed on the base material, and ink is adhered to the parent liquid portion on the latent image to achieve high definition. A pattern can be formed.
＜熱硬化性バインダー（Ａ）＞
本発明の潜像形成用組成物を構成する熱硬化性バインダー（Ａ）は、少なくとも１つの熱硬化性の反応性官能基、即ち熱によってラジカル重合可能な官能基であるアリル、アクリレート、メタクリレートを有するものを使用することができる。また、少なくとも２つの反応性基を有するバインダーを使用すれば、本発明の潜像形成用組成物を効率よく硬化させることができる。
<Thermosetting binder (A)>
The thermosetting binder (A) constituting the latent image forming composition of the present invention contains at least one thermosetting reactive functional group, that is, allyl, acrylate, and methacrylate, which are radically polymerizable functional groups by heat. You can use what you have. Further, if a binder having at least two reactive groups is used, the latent image-forming composition of the present invention can be efficiently cured.
熱硬化性バインダーとしてアリルを有するものとしては、ネオアリルＴ−２０、ネオアリルＰ−３０、ネオアリルＥ−１０、ＤＡＤＭＡＣ、ダイソーイソダップ、ダップＡ、ダップＳ、ダップＫ（以下、大阪ソーダ社製）などが挙げられ、
アクリレートを有するものとしては、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＣＲ−１０６９、Ｋ−４８Ｃ、ＣＣＲ−１１０５、ＣＣＲ−１１１５、ＣＣＲ−１１５９Ｈ、ＣＣＲ−１２３５、ＴＣＲ−１０２５、ＴＣＲ−１０６４Ｈ、ＴＣＲ−１２８６Ｈ、ＺＡＲ−１５３５Ｈ、ＺＡＲ−２００２Ｈ、ＺＦＲ−１４９１Ｈ、ＺＦＲ−１４９２Ｈ、ＺＣＲ−１５７１Ｈ、ＺＣＲ−１５６９Ｈ、ＺＣＲ−１５８０Ｈ、ＺＣＲ−１５８１Ｈ、ＺＣＲ−１５８８Ｈ、ＺＣＲ−１６４２Ｈ、ＺＣＲ−１６６４Ｈ、ＺＣＲ−１７６１Ｈ（以下、日本化薬社製）、ＥＢＥＣＲＹＬ２１０、ＥＢＥＣＲＹＬ２２０、ＥＢＥＣＲＹＬ４５００（以下、ダイセル・オルネクス社製）、ライトアクリレート ＤＰＥ−６Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＴＭＰ−Ａ、ＨＰＰ−Ａ、ＢＰ−４ＰＡ、ＢＰ−４ＥＡＬ、ＤＣＰ−Ａ、１．９ＮＤ−Ａ、１．６ＨＸ−Ａ、ＭＰＤ−Ａ、ＮＰ−Ａ、ＰＴＭＧＡ−２５０（以下、共栄社化学社製）などが挙げられ、
メタクリレートを有するものとして、ライトエステルＴＭＰ、ライトエステルＢＰ−２ＥＭＫ、ライトエステルＧ−２０１Ｐ、ライトエステルＧ−１０１Ｐ、ライトエステルＮＰ、ライトエステル１．６ＨＸ、ライトエステル１．９ＮＤ、ライトエステル１．４ＢＧ、ライトエステルＧ−２０１Ｐ、ライトエステル１４ＥＧ、ライトエステル９ＥＧ、ライトエステル４ＥＧ、ライトエステル３ＥＧ（共栄社化学社製）などが挙げられる。これらは単独あるいは２種以上を混合して使用しても良い。
Examples of the thermosetting binder having allyl include Neoallyl T-20, Neoallyl P-30, Neoallyl E-10, DADMAC, Daiso Isodap, Dapp A, Dapp S, and Dapp K (hereinafter, manufactured by Osaka Soda Co., Ltd.). Is mentioned,
Examples of those having an acrylate include KAYARAD PCR-1069, K-48C, CCR-1105, CCR-1115, CCR-1159H, CCR-1235, TCR-1025, TCR-1064H, TCR-1286H, ZAR-1535H, ZAR- 2002H, ZFR-1491H, ZFR-1492H, ZCR-1571H, ZCR-1569H, ZCR-1580H, ZCR-1581H, ZCR-1588H, ZCR-1642H, ZCR-1664H, ZCR-1761H (hereinafter, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) , EBECRYL210, EBECRYL220, EBECRYL4500 (hereinafter, manufactured by Daicel Ornex), Light Acrylate DPE-6A, PE-4A, PE-3A, TMP-A, HPP-A, BP-4PA, BP-4EAL, DCP-A, 1.9ND-A, 1.6HX-A, MPD-A, NP-A, PTMGA-250 (hereinafter, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), etc.
As those having methacrylate, light ester TMP, light ester BP-2EMK, light ester G-201P, light ester G-101P, light ester NP, light ester 1.6HX, light ester 1.9ND, light ester 1.4BG, Examples thereof include light ester G-201P, light ester 14EG, light ester 9EG, light ester 4EG, and light ester 3EG (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.). These may be used alone or in admixture of two or more.
前記した熱硬化性バインダーの多くは、それ自体２５℃において固体であるため、通常は、液媒体に溶解等した上で、基材上に塗付することが必要となる。そのため、同バインダーの選択に当たっては、後述する液媒体への溶解性を考慮することが必要である。 Since most of the above-mentioned thermosetting binders are solid at 25 ° C., it is usually necessary to dissolve them in a liquid medium and then apply the binder onto the substrate. Therefore, when selecting the binder, it is necessary to consider its solubility in a liquid medium, which will be described later.
＜フッ素化合物（Ｂ）＞
本発明で用いるフッ素化合物（Ｂ）としては、パーフルオロアルキル基のような官能基を有し、表面張力低下能が高いことが好ましい。表面張力低下能が高いことにより、光照射による撥液層形成後パターンインキ形成時において、撥液性がより高くなることによりインキのにじみや漏れがなくきれいなパターン形成を可能にすると推定される。フッ素化合物（Ｂ）は熱によってラジカル重合可能な官能基をさらに有することが好ましい。フッ素化合物（Ｂ）がこのような官能基を有すことによって、前述の熱硬化性バインダー（Ａ）と反応し、本発明の潜像形成用組成物を効率よく硬化させることができる。
分子中にパーフルオロアルキル基と熱によってラジカル重合可能な官能基とを有するフッ素系化合物としては、下記市販品が挙げられる。メガファックＲＳ７２、メガファックＲＳ７５、メガファックＲＳ７６、メガファックＲＳ７７、メガファックＲＳ９０（以上、ＤＩＣ社製）、フタージェント６０１ＡＤ、フタージェント６０１ＡＤＨ２、フタージェント６０２Ａ、フタージェント６５０ＡＣ、フタージェント６８１（以上、ネオス社製）。
これらフッ素化合物（Ｂ）は、熱硬化性バインダー１００質量部に対して、０．０１〜３０質量部含むことが好ましく、０．１〜１０質量部含むことが好ましい。
<Fluorine compound (B)>
The fluorine compound (B) used in the present invention preferably has a functional group such as a perfluoroalkyl group and has a high surface tension lowering ability. It is presumed that the high surface tension lowering ability enables the formation of a clean pattern without ink bleeding or leakage due to the higher liquid repellency when the pattern ink is formed after the liquid repellent layer is formed by light irradiation. The fluorine compound (B) preferably further has a functional group that can be radically polymerized by heat. When the fluorine compound (B) has such a functional group, it reacts with the thermosetting binder (A) described above, and the latent image-forming composition of the present invention can be efficiently cured.
Examples of the fluorine-based compound having a perfluoroalkyl group in the molecule and a functional group capable of radical polymerization by heat include the following commercially available products. Mega Fvck RS72, Mega Fvck RS75, Mega Fvck RS76, Mega Fvck RS77, Mega Fvck RS90 (above, manufactured by DIC), Futagent 601AD, Futagent 601ADH2, Futagent 602A, Futagent 650AC, Futagent 681 (above, Neos) Made by the company).
These fluorine compounds (B) are preferably contained in an amount of 0.01 to 30 parts by mass, preferably 0.1 to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the thermosetting binder.
＜カルボン酸の有機塩（Ｃ）＞
本発明で用いるカルボン酸の有機塩は、一般式（１）で表されるケトプロフェン類、一般式（２）で表されるキサントン酢酸類、一般式（３）で表されるチオキサントン酢酸類、一般式（４）で表されるニトロフェニルニル酢酸から構成されるカルボン酸塩が好ましく、この中でも特に一般式（１）におけるＲ１が−ＣＨ３であるケトプロフェンと、一般式（９）、（１２）、（１３）で表されるアミン類がそれぞれ塩になった化合物が好ましい。
<Organic salt of carboxylic acid (C)>
The organic salt of the carboxylic acid used in the present invention includes ketoprofenes represented by the general formula (1), xanthone acetic acids represented by the general formula (2), thioxanthone acetic acids represented by the general formula (3), and general. A carboxylate composed of nitrophenylnyl acetic acid represented by the formula (4) is preferable, and among them, ketoprofene in which R 1 in the general formula (1) is −CH 3 and the general formulas (9) and (12) are particularly preferable. ) And (13), each of which is a salt of the amines is preferable.
（式（１）〜（３）中、Ｒ１〜Ｒ３はそれぞれ独立に−ＣＨ３または−Ｈを示し、Ａ＋はそれぞれ独立に有機塩中のカチオンを表す。
また、式（４）中、Ｒ４は−ＣＨ３または−Ｈを示し、Ｒ５〜Ｒ７はそれぞれ独立に−ＮＯ２または−Ｈを示し、Ｒ５〜Ｒ７のうち少なくとも一つは−ＮＯ２である。Ａ＋は有機塩中のカチオンを表す。）
(In formulas (1) to (3), R 1 to R 3 independently represent −CH 3 or −H, respectively, and A + independently represents a cation in an organic salt.
Further, in the formula (4), R 4 indicates -CH 3 or -H, R 5 to R 7 independently indicate -NO 2 or -H, and at least one of R 5 to R 7 is-. It is NO 2. A + represents a cation in an organic salt. )
本発明で用いるカルボン酸の有機塩（Ｃ）を構成するカルボン酸としては飽和脂肪酸系、不飽和脂肪酸系、芳香族カルボン酸系などが挙げられる。具体的には飽和脂肪酸系としては酢酸、プロピオン酸、デカン酸、テトラデカン酸、ステアリン酸、不飽和脂肪酸系としてはオレイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、エイコサペンタエン酸、ドコサヘキサエン酸、芳香族カルボン酸系としては安息香酸、フタル酸、サリチル酸などが挙げられる。
本発明で用いるカルボン酸の有機塩（Ｃ）を構成するカルボン酸としては、一般式（５）〜（８）で表されるような光照射により脱炭酸するカルボン酸が特に好ましい。
Examples of the carboxylic acid constituting the organic salt (C) of the carboxylic acid used in the present invention include saturated fatty acid type, unsaturated fatty acid type, aromatic carboxylic acid type and the like. Specifically, the saturated fatty acid system includes acetic acid, propionic acid, decanoic acid, tetradecanoic acid, stearic acid, and the unsaturated fatty acid system includes oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, arachidonic acid, eicosapentaenoic acid, docosahexaenoic acid, and aromatics. Examples of the carboxylic acid system include benzoic acid, phthalic acid, and salicylic acid.
As the carboxylic acid constituting the organic salt (C) of the carboxylic acid used in the present invention, a carboxylic acid decarboxylated by light irradiation as represented by the general formulas (5) to (8) is particularly preferable.
（式（５）〜（７）中、Ｒ１〜Ｒ３はそれぞれ独立に−ＣＨ３または−Ｈを示し、
式（８）中、Ｒ４は−ＣＨ３または−Ｈを示し、Ｒ５〜Ｒ７はそれぞれ独立に−ＮＯ２または−Ｈを示し、且つＲ５〜Ｒ７のうち少なくとも一つは−ＮＯ２を示す。）
(In formulas (5) to (7), R 1 to R 3 independently represent -CH 3 or -H, respectively.
In formula (8), R 4 represents -CH 3 or -H, R 5 to R 7 independently represent -NO 2 or -H, and at least one of R 5 to R 7 is -NO. 2 is shown. )
本発明におけるＡ＋は、カチオンであれば特に限定されないが、例えば下記一般式（９）〜（１３）で表されるアミン類や下記一般式（１４）、（１５）で表されるリン類が挙げられ、その中でもアミン類が好ましく、その中でも（９）、（１２）（１３）で表されるアミン類が特に好ましい。 A + in the present invention is not particularly limited as long as it is a cation, but for example, amines represented by the following general formulas (9) to (13) and phosphorus represented by the following general formulas (14) and (15) can be used. Among them, amines are preferable, and among them, amines represented by (9), (12) and (13) are particularly preferable.
（一般式（１１）〜（１５）中、Ｒ８〜Ｒ４１はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を示す。 (In the general formulas (11) to (15), R 8 to R 41 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, respectively.
本発明で用いるカルボン酸の有機塩（Ｃ）は光の照射によって脱炭酸し、その結果、３つの遊離体を生成する。
スキームで示すと以下のスキーム１（ケトプロフェン類）、スキーム２（キサントン酢酸類）、スキーム３（チオキサントン酢酸類）及びスキーム４（ニトロフェニル酢酸類）のとおりである。
詳細なメカニズムは不明であるが、脱炭酸工程によって有機塩中に存在していた親液性発現に大きく寄与していると考えられるカルボキシレートアニオン（−ＣＯＯ−）部位が失われ、中性化されたことにより、親液性が喪失したと考えられる。そのため、脱炭酸後は潜在していたフッ素系化合物の作用が結果として大きく働き、撥インキ性を発現するようになったものと考察している。
The organic salt (C) of the carboxylic acid used in the present invention is decarboxylated by irradiation with light, and as a result, three free bodies are produced.
The schemes are as follows: Scheme 1 (ketoprofen), Scheme 2 (xanthone acetic acid), Scheme 3 (thioxanthone acetic acid) and Scheme 4 (nitrophenylacetic acid).
Although detailed mechanism is unknown, carboxylate anion is thought to contribute significantly to the lyophilic expression was present in the organic salt by decarboxylation step (-COO -) site is lost, neutralized It is probable that the positivity was lost due to this. Therefore, it is considered that the latent action of the fluorine-based compound after decarboxylation works greatly as a result, and the ink repellency is exhibited.
このようなカルボン酸の有機塩としては、ＷＰＢＧ−２６６、ＷＰＢＧ−１６７、ＷＰＢＧ−１６８、ＷＰＢＧ−０８２（以上、和光純薬工業社製）、２−（９−オキソキサンテン−２−イル）プロピオン酸１，５，７，−トリアザビシクロ［４．４．０］デカ−５−エン、２−（９−オキソキサンテン−２−イル）−プロピオン酸１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン（以上、東京化成工業社製）のような市販品を使用することができる。
また、前記カルボン酸の有機塩としては、特開２０１１−２３６４１６号公報、特開２０１１−１０４７９２号公報記載の組成物を使用することができる。
Examples of such organic salts of carboxylic acids include WPBG-266, WPBG-167, WPBG-168, WPBG-082 (all manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 2- (9-oxoxanthen-2-yl) propion.
Further, as the organic salt of the carboxylic acid, the compositions described in JP-A-2011-236416 and JP-A-2011-104792 can be used.
本発明の潜像形成用組成物は、熱硬化性バインダー１００質量部に対してカルボン酸の有機塩（Ｃ）を１〜３５質量部含むことが好ましく、３〜１６質量部含むことがより好ましい。 The latent image-forming composition of the present invention preferably contains 1 to 35 parts by mass of the organic salt (C) of the carboxylic acid with respect to 100 parts by mass of the thermosetting binder, and more preferably 3 to 16 parts by mass. ..
＜有機溶剤（Ｄ）＞
本発明の潜像形成用組成物は、前記熱硬化性バインダーを溶解し、しかも熱硬化性バインダーとの反応性を有さない２５℃において液体の有機化合物を使用する。
このような有機化合物はいわゆる有機溶剤であり、その種類に制限はなく、エステル系、ケトン系、塩素系、アルコール系、エーテル系、炭化水素系、エーテルエステル系などが挙げられる。具体的には、例えば、ケトン系としてはメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、アルコール系としては、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、２−プロパノール、エーテル系としてはγ−ブチロラクトン、テトラヒドロフラン、エチルカルビトールアセテート、ブチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートなどを挙げることができる。これらは、一種を単独で用いても、二種以上を併用しても良い。中でも、塗膜を容易に得るためには、この有機溶剤としては、沸点８０〜２５０℃のものを用いることが、乾燥速度の点で好ましい。
<Organic solvent (D)>
The composition for forming a latent image of the present invention uses an organic compound that is liquid at 25 ° C., which dissolves the thermosetting binder and has no reactivity with the thermosetting binder.
Such organic compounds are so-called organic solvents, and the types thereof are not limited, and examples thereof include ester-based, ketone-based, chlorine-based, alcohol-based, ether-based, hydrocarbon-based, and ether ester-based. Specifically, for example, the ketone system is methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, isophorone, N-methyl-2-pyrrolidone, and the alcohol system is methanol, ethanol, n-butanol, isobutanol, 2-propanol, ether. Examples of the system include γ-butyrolactone, methanol, ethyl carbitol acetate, butyl cellosolve acetate, propylene glycol monoalkyl ether acetate and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Above all, in order to easily obtain a coating film, it is preferable to use a solvent having a boiling point of 80 to 250 ° C. in terms of drying speed.
本発明に係る潜像形成用組成物は、熱硬化性バインダー（Ａ）、フッ素化合物（Ｂ）、カルボン酸の有機塩（Ｃ）、および有機溶剤（Ｄ）を含むものであり、さらに必要に応じて熱重合開始剤、増感剤などを含むことができる。 The composition for forming a latent image according to the present invention contains a thermosetting binder (A), a fluorine compound (B), an organic salt of a carboxylic acid (C), and an organic solvent (D), and is further required. Depending on the situation, a thermal polymerization initiator, a sensitizer, and the like can be included.
＜熱重合開始剤＞
本発明の潜像形成用組成物に含まれる熱重合開始剤としては特に制限はなく各種公知のものを使用することができる。例えば、アゾ系の開始剤および過酸化物系の開始剤などが使用可能である。アゾ系の開始剤の具体例としては、例えば、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメトキシブァレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−ジメトキシ−２，４−ジメチルブァレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）などが挙げられる。過酸化物系の開始剤の具体例としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t-ブチルパーオキシベンゾエート（ＢＰＢ）、ペルオキシ二炭酸ビス(４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサン−1−イル)などが挙げられる。これらの中では、反応性の点で、ベンゾイルパーオキサイドが好ましい。
添加量は熱硬化性バインダー１００重量部に対して０．５〜１０重量部であることが好ましく、１〜５重量部であることがより好ましい。
<Thermal polymerization initiator>
The thermal polymerization initiator contained in the latent image forming composition of the present invention is not particularly limited, and various known ones can be used. For example, an azo-based initiator and a peroxide-based initiator can be used. Specific examples of the azo-based initiator include 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile), and 2,2'-azobis (2,). 4-dimethoxyvaleronitrile), 2,2'-azobis (4-dimethoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and the like. Specific examples of the peroxide-based initiator include benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butylperoxybenzoate (BPB), and bisperoxydicarbonate (4-tert-butylcyclohexane-1-yl). And so on. Of these, benzoyl peroxide is preferred in terms of reactivity.
The amount added is preferably 0.5 to 10 parts by weight, more preferably 1 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermosetting binder.
＜増感剤＞
本発明の潜像形成用組成物は、感光波長領域を拡大し、感度を高めるべく、増感剤を添加することができる。使用できる増感剤としては、特に限定はないが、例えば、ベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−テトラメチルジアミノベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−テトラエチルアミノベンゾフェノン、２−クロロチオキサントン、アントロン、９−エトキシアントラセン、アントラセン、ピレン、ペリレン、フェノチアジン、ベンジル、アクリジンオレンジ、ベンゾフラビン、セトフラビン−Ｔ、９，１０−ジフェニルアントラセン、９−フルオレノン、アセトフェノン、フェナントレン、２−ニトロフルオレン、５−ニトロアセナフテン、ベンゾキノン、２−クロロ−４−ニトロアニリン、Ｎ−アセチル−ｐ−ニトロアニリン、ｐ−ニトロアニリン、Ｎ−アセチル−４−ニトロ−１−ナフチルアミン、ピクラミド、アントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロン、ジベンザルアセトン、１，２−ナフトキノン、３，３’−カルボニル−ビス（５，７−ジメトキシカルボニルクマリン）またはコロネン等が挙げられる。これらの増感剤は、１種類を単独で用いるようにしてもよく、また、２種類以上を組み合わせて使用するようにしても良い。
添加量は熱硬化性バインダー１００重量部に対して０．０１〜５重量部であることが好ましく、０．１〜２重量部であることがより好ましい。
<Sensitizer>
In the latent image forming composition of the present invention, a sensitizer can be added in order to expand the photosensitive wavelength region and increase the sensitivity. The sensitizer that can be used is not particularly limited, but for example, benzophenone, p, p'-tetramethyldiaminobenzophenone, p, p'-tetraethylaminobenzophenone, 2-chlorothioxanthone, anthracene, 9-ethoxyanthracene, anthracene. , Pyrene, perylene, phenothiazine, benzyl, aclysine orange, benzoflavin, setoflavin-T, 9,10-diphenylanthracene, 9-fluorenone, acetphenone, phenanthrene, 2-nitrofluorene, 5-nitroacenaften, benzoquinone, 2-chloro -4-nitroaniline, N-acetyl-p-nitroaniline, p-nitroaniline, N-acetyl-4-nitro-1-naphthylamine, picramid, anthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 1, 2-Benz anthraquinone, 3-methyl-1,3-diaza-1,9-benzanthracene, dibenzalacene, 1,2-naphthoquinone, 3,3'-carbonyl-bis (5,7-dimethoxycarbonylcoumarin) Alternatively, coronen and the like can be mentioned. One of these sensitizers may be used alone, or two or more of these sensitizers may be used in combination.
The amount added is preferably 0.01 to 5 parts by weight, more preferably 0.1 to 2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermosetting binder.
＜その他の任意成分＞
本発明の潜像形成用組成物は、さらに、本発明の効果を損なわない限りその他の任意成分を含有することができる。その他の任意成分としては、界面活性剤、保存安定剤、接着助剤、耐熱性向上剤等を挙げることができる。本実施形態の組成物において、その他の任意成分は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。
<Other optional ingredients>
The latent image-forming composition of the present invention may further contain other optional components as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of other optional components include surfactants, storage stabilizers, adhesive aids, heat resistance improvers and the like. In the composition of the present embodiment, one of the other optional components may be used alone, or two or more of them may be mixed and used.
［パターン形成方法］
本発明のパターン形成方法について以下詳しく説明する。
合わせて、本発明の積層体、該積層体の製造方法、潜像の製造方法について説明する。
本発明のパターン形成方法は、下記［工程１］、［工程２］、［工程３］を含む。
［工程１］
図１に示すように、上述の本発明の潜像形成用組成物を基材１の少なくとも一方の面に塗布し、熱硬化することにより、硬化塗膜２を形成することができる。あるいは、剥離性シート上に本発明の潜像形成用組成物を塗布し、未硬化の薄膜状の潜像形成用組成物を形成した後、当該未硬化の薄膜状の潜像形成用組成物を基材１上に転写した後、熱硬化し、硬化塗膜２を形成することもできる。硬化塗膜２は後述するインキと親和性に富むことから、親インキ性感光性樹脂層ともいう。
本発明の潜像形成用組成物を基材１または剥離性シートに塗布する方法としては、例えば、スプレーコーティング、ロールコーティング、スピンコーティング、ディピング等を挙げることができる。
親インキ性感光樹脂層の膜厚としては０．１μｍ〜５０μｍ程度が好ましい。厚みの均一性の点から膜厚は上記範囲であることが好ましい。
[Pattern formation method]
The pattern forming method of the present invention will be described in detail below.
At the same time, the laminate of the present invention, the method for producing the laminate, and the method for producing a latent image will be described.
The pattern forming method of the present invention includes the following [step 1], [step 2], and [step 3].
[Step 1]
As shown in FIG. 1, the cured
Examples of the method of applying the latent image forming composition of the present invention to the
The film thickness of the ink-friendly photosensitive resin layer is preferably about 0.1 μm to 50 μm. From the viewpoint of thickness uniformity, the film thickness is preferably in the above range.
ここで用いられる基材としては、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネートなどからなるフィルムが挙げられる。 Examples of the base material used here include films made of glass, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate and the like.
［工程２］
工程２は、図２に示すように、基材上の形成された本発明の潜像形成用組成物の硬化塗膜に、部分的に活性エネルギー線４を照射し、照射部３の性状を撥インキ性へと変化させ、非照射部に対応する潜像２を形成する工程である。
部分的に活性エネルギー線４を照射する方法としては、活性エネルギー線４を透過しないパターンを具備するマスクを用い、マスク越しに全面に照射（露光）する方法や、マスクを用いずに活性エネルギー線４により硬化塗膜上にパターンを直に描画する方法なども挙げられる。
露光に用いられる活性エネルギー線としては、紫外線、電子線、Ｘ線、放射線、高周波などを挙げることができ、紫外線が経済的に最も好ましい。紫外線の光源としては、紫外線レーザ、水銀ランプ、キセノンレーザ、メタルハライドランプなどが挙げられる。
[Step 2]
In
As a method of partially irradiating the
Examples of the active energy beam used for exposure include ultraviolet rays, electron beams, X-rays, radiation, and high frequencies, and ultraviolet rays are most economically preferable. Examples of the ultraviolet light source include an ultraviolet laser, a mercury lamp, a xenon laser, and a metal halide lamp.
［工程３］
工程（３）は、図３に示すように、前記表面が撥インキ化された照射部以外の領域に後述するインキを付着させ、潜像を現像し、パターンを可視化したり、パターンに応じた機能を発現したりする工程である。
[Step 3]
In the step (3), as shown in FIG. 3, the ink described later is adhered to a region other than the irradiation portion whose surface is ink-repellent, a latent image is developed, the pattern is visualized, and the pattern is adapted. It is a process of expressing a function.
＜インキ＞
潜像を可視化する際に用いられるインキについて説明する。
インキは特に限定されるものではないが、例えば、導電性インキ、磁性インキ等のように主に機能発現を目的とするインキの他、顔料や染料を含む着色性インキのように主に可視化を目的とするインキが挙げられる。
導電性インキとしては、導電性金属粉、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、グラフェン等の導電粉を液状媒体中に分散したものが例示できる。磁性インキとしては鉄、コバルト、ニッケル及びそれらの合金及び酸化物等の磁性粒子を液状媒体中に分散したものが例示できる。
これらの中でも、導電性インキが好ましく、特に導電性と塗工性の観点から金属粒子を分散したインキが好ましい。
前記導電性インキとしては、一般的な導電性材料を用いることができるが、基材に合成樹脂性のフィルム（プラスチックフィルム）を用いる場合には、低温プロセスを適用するので比較的低温（例えば、１５０度以下）で硬化するインキがよい。
<Ink>
The ink used for visualizing the latent image will be described.
The ink is not particularly limited, but for example, in addition to inks mainly intended for functional expression such as conductive inks and magnetic inks, visualization is mainly performed such as colored inks containing pigments and dyes. The target ink can be mentioned.
Examples of the conductive ink include those in which conductive powder such as conductive metal powder, carbon black, carbon nanotubes, and graphene is dispersed in a liquid medium. Examples of the magnetic ink include those in which magnetic particles such as iron, cobalt, nickel and their alloys and oxides are dispersed in a liquid medium.
Among these, conductive ink is preferable, and ink in which metal particles are dispersed is particularly preferable from the viewpoint of conductivity and coatability.
As the conductive ink, a general conductive material can be used, but when a synthetic resin film (plastic film) is used as the base material, a low temperature process is applied, so that the temperature is relatively low (for example, for example). An ink that cures at 150 degrees or less is preferable.
インキの付着方法（印刷方法）としては特に限定されず、ディップ法、スプレー法、ロールコート法、スピンコート法、スリットダイ塗布法、バー塗布法、フレキソ印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷、ディスペンス法等の適宜の方法を採用することができる。 The ink adhesion method (printing method) is not particularly limited, and the dip method, spray method, roll coating method, spin coating method, slit die coating method, bar coating method, flexographic printing, offset printing, inkjet printing, dispensing method, etc. Appropriate method can be adopted.
以下、実施例に基づき本発明を詳述するが、本発明は、この実施例に限定的して解釈されるものではない。
本実施例では、上述した本発明の実施形態のカルボン酸の有機塩（Ｃ）の例である合成体を合成した。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on Examples, but the present invention is not construed as being limited to this Example.
In this example, a composite which is an example of the organic salt (C) of the carboxylic acid of the embodiment of the present invention described above was synthesized.
＜有機塩（Ｃ）の合成＞
［合成例１］
下記式（２０）に示したケトプロフェン２６ｇとステアリルアミン２７ｇとのメチルエチルケトン（以下、ＭＥＫという）溶液を室温で１時間撹拌した後にヘキサンを過剰に加えることで得られた白色固体を吸引ろ過し、ヘキサンで洗浄、減圧乾燥することで、白色固体のカルボン酸の有機塩であるＣ−１を得た。
<Synthesis of organic salt (C)>
[Synthesis Example 1]
A methyl ethyl ketone (hereinafter referred to as MEK) solution of 26 g of ketoprofene and 27 g of stearylamine represented by the following formula (20) was stirred at room temperature for 1 hour, and then an excess of hexane was added to obtain a white solid, which was suction-filtered to obtain hexane. C-1 which is an organic salt of a carboxylic acid as a white solid was obtained by washing with and drying under reduced pressure.
［合成例２］
上記式（２０）に示したケトプロフェン２６ｇとヘキシルアミン１０ｇのＭＥＫ溶液を室温で１時間撹拌した後にヘキサンを過剰に加えることで得られた白色固体を吸引ろ過し、ヘキサンで洗浄、減圧乾燥することで、白色固体のカルボン酸の有機塩であるＣ−２を得た。
[Synthesis Example 2]
A MEK solution of 26 g of ketoprofene and 10 g of hexylamine represented by the above formula (20) is stirred at room temperature for 1 hour, and then the white solid obtained by adding excess hexane is suction-filtered, washed with hexane, and dried under reduced pressure. Then, C-2, which is an organic salt of a white solid carboxylic acid, was obtained.
［合成例３］
下記式（２１）に示したケトプロフェン類化合物２６ｇとステアリルアミン２７ｇのＭＥＫ溶液を室温で１時間撹拌した後にヘキサンを過剰に加えることで得られた白色固体を吸引ろ過し、ヘキサンで洗浄、減圧乾燥することで、白色固体のカルボン酸の有機塩であるＣ−３を得た。
[Synthesis Example 3]
A MEK solution of 26 g of a ketoprofene compound represented by the following formula (21) and 27 g of stearylamine was stirred at room temperature for 1 hour, and then a white solid obtained by adding excess hexane was suction-filtered, washed with hexane, and dried under reduced pressure. As a result, C-3, which is an organic salt of a white solid carboxylic acid, was obtained.
［合成例４］
下記式（２２）に示したキサントン酢酸２７ｇとステアリルアミン２７ｇのＭＥＫ溶液を室温で１時間撹拌した後にヘキサンを過剰に加えることで得られた白色固体を吸引ろ過し、ヘキサンで洗浄、減圧乾燥することで、白色固体であるカルボン酸の有機塩であるＣ−４を得た。
[Synthesis Example 4]
A MEK solution of 27 g of xanthone acetic acid and 27 g of stearylamine represented by the following formula (22) is stirred at room temperature for 1 hour, and then the white solid obtained by adding excess hexane is suction-filtered, washed with hexane, and dried under reduced pressure. As a result, C-4, which is an organic salt of carboxylic acid, which is a white solid, was obtained.
［合成例５］
下記式（２３）に示したキサントン酢酸類化合物２７ｇとステアリルアミン２７ｇのＭＥＫ溶液を室温で１時間撹拌した後にヘキサンを過剰に加えることで得られた白色固体を吸引ろ過し、ヘキサンで洗浄、減圧乾燥することで、白色固体のカルボン酸の有機塩であるＣ−５を得た。
[Synthesis Example 5]
A MEK solution of 27 g of a xanthone acetic acid compound represented by the following formula (23) and 27 g of stearylamine was stirred at room temperature for 1 hour, and then a white solid obtained by adding excess hexane was suction-filtered, washed with hexane, and reduced in pressure. By drying, C-5, which is an organic salt of a white solid carboxylic acid, was obtained.
［合成例６］
下記式（２４）に示したチオキサントン酢酸２８ｇとステアリルアミン２７ｇのＭＥＫ溶液を室温で１時間撹拌した後にヘキサンを過剰に加えることで得られた白色固体を吸引ろ過し、ヘキサンで洗浄、減圧乾燥することで、白色固体のカルボン酸の有機塩であるＣ−６を得た。
[Synthesis Example 6]
A MEK solution of 28 g of thioxanthone acetic acid and 27 g of stearylamine represented by the following formula (24) is stirred at room temperature for 1 hour, and then the white solid obtained by adding excess hexane is suction-filtered, washed with hexane, and dried under reduced pressure. As a result, C-6, which is an organic salt of a white solid carboxylic acid, was obtained.
［合成例７］
下記式（２５）に示したチオキサントン酢酸類化合物２８ｇとステアリルアミン２７ｇのＭＥＫ溶液を室温で１時間撹拌した後にヘキサンを過剰に加えることで得られた白色固体を吸引ろ過し、ヘキサンで洗浄、減圧乾燥することで、白色固体のカルボン酸の有機塩であるＣ−７を得た。
[Synthesis Example 7]
A MEK solution of 28 g of the thioxanthone acetic acid compound represented by the following formula (25) and 27 g of stearylamine was stirred at room temperature for 1 hour, and then the white solid obtained by adding excess hexane was suction-filtered, washed with hexane, and reduced in pressure. By drying, C-7, which is an organic salt of a white solid carboxylic acid, was obtained.
［合成例８］
下記式（２６）に示したニトロフェニル酢酸２０ｇとステアリルアミン２７ｇのＭＥＫ溶液を室温で１時間撹拌した後にヘキサンを過剰に加えることで得られた白色固体を吸引ろ過し、ヘキサンで洗浄、減圧乾燥することで、白色固体のカルボン酸の有機塩であるＣ−８を得た。
[Synthesis Example 8]
A MEK solution of 20 g of nitrophenylacetic acid and 27 g of stearylamine represented by the following formula (26) was stirred at room temperature for 1 hour, and then the white solid obtained by adding excess hexane was suction-filtered, washed with hexane, and dried under reduced pressure. As a result, C-8, which is an organic salt of a white solid carboxylic acid, was obtained.
［合成例９］
下記式（２７）に示したニトロフェニル酢酸類化合物２０ｇとステアリルアミン２７ｇのＭＥＫ溶液を室温で１時間撹拌した後にヘキサンを過剰に加えることで得られた白色固体を吸引ろ過し、ヘキサンで洗浄、減圧乾燥することで、の白色固体のカルボン酸の有機塩であるＣ−９を得た。
[Synthesis Example 9]
A MEK solution of 20 g of the nitrophenylacetic acid compound represented by the following formula (27) and 27 g of stearylamine was stirred at room temperature for 1 hour, and then the white solid obtained by adding excess hexane was suction-filtered and washed with hexane. By drying under reduced pressure, C-9, which is an organic salt of a white solid carboxylic acid, was obtained.
［合成例１０］
下記式（２８）に示したニトロフェニル酢酸類化合物２０ｇとステアリルアミン２７ｇのＭＥＫ溶液を室温で１時間撹拌した後にヘキサンを過剰に加えることで得られた白色固体を吸引ろ過し、ヘキサンで洗浄、減圧乾燥することで、白色固体のカルボン酸の有機塩であるＣ−１０を得た。
[Synthesis Example 10]
A MEK solution of 20 g of the nitrophenylacetic acid compound represented by the following formula (28) and 27 g of stearylamine was stirred at room temperature for 1 hour, and then the white solid obtained by adding excess hexane was suction-filtered and washed with hexane. By drying under reduced pressure, C-10, which is an organic salt of a white solid carboxylic acid, was obtained.
［合成例１１］
下記式（２９）に示したニトロフェニル酢酸類化合物２０ｇとステアリルアミン２７ｇのＭＥＫ溶液を室温で１時間撹拌した後にヘキサンを過剰に加えることで得られた白色固体を吸引ろ過し、ヘキサンで洗浄、減圧乾燥することで、白色固体のカルボン酸の有機塩であるＣ−１１を得た。
[Synthesis Example 11]
A MEK solution of 20 g of the nitrophenylacetic acid compound represented by the following formula (29) and 27 g of stearylamine was stirred at room temperature for 1 hour, and then the white solid obtained by adding excess hexane was suction-filtered and washed with hexane. By drying under reduced pressure, C-11, which is an organic salt of a white solid carboxylic acid, was obtained.
［合成例１２］
下記式（３０）に示したニトロフェニル酢酸類化合物２０ｇとステアリルアミン２７ｇのＭＥＫ溶液を室温で１時間撹拌した後にヘキサンを過剰に加えることで得られた白色固体を吸引ろ過し、ヘキサンで洗浄、減圧乾燥することで、白色固体のカルボン酸の有機塩であるＣ−１２を得た。
[Synthesis Example 12]
A MEK solution of 20 g of the nitrophenylacetic acid compound represented by the following formula (30) and 27 g of stearylamine was stirred at room temperature for 1 hour, and then the white solid obtained by adding excess hexane was suction-filtered and washed with hexane. By drying under reduced pressure, C-12, which is an organic salt of a white solid carboxylic acid, was obtained.
［合成例１３］
下記式（３１）に示したニトロフェニル酢酸類化合物２０ｇとステアリルアミン２７ｇのＭＥＫ溶液を室温で１時間撹拌した後にヘキサンを過剰に加えることで得られた白色固体を吸引ろ過し、ヘキサンで洗浄、減圧乾燥することで、白色固体のカルボン酸の有機塩であるＣ−１３を得た。
[Synthesis Example 13]
A MEK solution of 20 g of the nitrophenylacetic acid compound represented by the following formula (31) and 27 g of stearylamine was stirred at room temperature for 1 hour, and then the white solid obtained by adding excess hexane was suction-filtered and washed with hexane. By drying under reduced pressure, C-13, which is an organic salt of a white solid carboxylic acid, was obtained.
［合成例１４］
上記式（２０）に示したケトプロフェン２６ｇとテトラブチルホスホニウムヘキサフルオロホスファート４０ｇのＭＥＫ溶液を室温で１時間撹拌した後にヘキサンを過剰に加え、得られた白色固体を吸引ろ過し、ヘキサンで洗浄、減圧乾燥することで、下記式（３２）で示されるカルボン酸の有機塩Ｃ−１４を得た。
[Synthesis Example 14]
A MEK solution of 26 g of ketoprofene and 40 g of tetrabutylphosphonium hexafluorophosphate represented by the above formula (20) was stirred at room temperature for 1 hour, hexane was added in excess, and the obtained white solid was suction-filtered and washed with hexane. By drying under reduced pressure, an organic salt C-14 of a carboxylic acid represented by the following formula (32) was obtained.
［合成例１５］
上記式（２０）に示したケトプロフェン２６ｇとテトラフェニルホスホニウムブロミド４２ｇのＭＥＫ溶液を室温で１時間撹拌した後にヘキサンを過剰に加え、得られた白色固体を吸引ろ過し、ヘキサンで洗浄、減圧乾燥することで、下記式（３３）で示されるカルボン酸の有機塩Ｃ−１５を得た。
[Synthesis Example 15]
A MEK solution of 26 g of ketoprofene and 42 g of tetraphenylphosphonium bromide represented by the above formula (20) is stirred at room temperature for 1 hour, then hexane is added in excess, and the obtained white solid is suction-filtered, washed with hexane, and dried under reduced pressure. As a result, an organic salt C-15 of a carboxylic acid represented by the following formula (33) was obtained.
［比較合成例１］
２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸水和物３１ｇとステアリルアミン２７ｇのＭＥＫ溶液を室温で１時間撹拌した後にヘキサンを過剰に加え、得られた白色固体を吸引ろ過し、ヘキサンで洗浄、減圧乾燥することで、下記式（３４）で示されるスルホン酸の有機塩Ｃ’−２２を得た。
[Comparative Synthesis Example 1]
A MEK solution of 31 g of 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid hydrate and 27 g of stearylamine was stirred at room temperature for 1 hour, then excess hexane was added, and the obtained white solid was suction filtered and filtered with hexane. By washing and drying under reduced pressure, an organic salt C'-22 of a sulfonic acid represented by the following formula (34) was obtained.
＜潜像形成用組成物の調製＞
実施例および比較例で用いた各成分の詳細を以下に示す。
尚、アニオン部位として、Ｃ’−２２はスルホネートを、Ｃ’−２３はブチルトリフェニルボレートをそれぞれ有する。即ち、Ｃ−２２およびＣ−２３は露光前後の濡れ性に対するカルボキシレートアニオン部位の優位性について検証するため他のアニオン構造を持つ有機塩を比較用として用いた。
<Preparation of composition for latent image formation>
Details of each component used in Examples and Comparative Examples are shown below.
As an anion moiety, C'-22 has a sulfonate and C'-23 has a butyltriphenylborate. That is, for C-22 and C-23, organic salts having other anion structures were used for comparison in order to verify the superiority of the carboxylate anion moiety over the wettability before and after exposure.
＜熱硬化性バインダー（Ａ）＞
Ａ−１：ダイソーイソダップ（大阪ソーダ社製）
Ａ−２：ライトアクリレート ＰＥ−４Ａ（共栄社化学社製）
Ａ−３：ＫＡＹＡＲＡＤ ＺＦＲ−１４９１Ｈ（日本化薬社製）
Ａ−４：ＥＢＥＣＲＹＬ２２０（ダイセル・オルネクス社製）
Ａ−５：ＢＡＥＭ５０（ケーエスエム社製）
Ａ−６：ライトエステル ＴＭＰ（共栄社化学社製）
<Thermosetting binder (A)>
A-1: Daiso Isodap (manufactured by Osaka Soda Co., Ltd.)
A-2: Light acrylate PE-4A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
A-3: KAYARAD ZFR-491H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
A-4: EBECRYL220 (manufactured by Daicel Ornex)
A-5: BAEM50 (manufactured by KSM)
A-6: Light ester TMP (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
＜フッ素系化合物（Ｂ）＞
Ｂ−１：メガファックＲＳ−９０（ＤＩＣ社製）
Ｂ−２：フタージェント６０１ＡＤＨ２（ネオス社製）
<Fluorine compound (B)>
B-1: Mega Fvck RS-90 (manufactured by DIC Corporation)
B-2: Footgent 601ADH2 (manufactured by Neos)
＜有機塩（Ｃ）＞
Ｃ−１：合成例１で合成したカルボン酸の有機塩
Ｃ−２：合成例２で合成したカルボン酸の有機塩
Ｃ−３：合成例３で合成したカルボン酸の有機塩
Ｃ−４：合成例４で合成したカルボン酸の有機塩
Ｃ−５：合成例５で合成したカルボン酸の有機塩
Ｃ−６：合成例６で合成したカルボン酸の有機塩
Ｃ−７：合成例７で合成したカルボン酸の有機塩
Ｃ−８：合成例８で合成したカルボン酸の有機塩
Ｃ−９：合成例９で合成したカルボン酸の有機塩
Ｃ−１０：合成例１０で合成したカルボン酸の有機塩
Ｃ−１１：合成例１１で合成したカルボン酸の有機塩
Ｃ−１２：合成例１２で合成したカルボン酸の有機塩
Ｃ−１３：合成例１３で合成したカルボン酸の有機塩
Ｃ−１４：合成例１４で合成したカルボン酸の有機塩
Ｃ−１５：合成例１５で合成したカルボン酸の有機塩
Ｃ−１６：ＷＰＢＧ−２６６（和光純薬工業社製）
Ｃ−１７：ＷＰＢＧ−１６８（和光純薬工業社製）
Ｃ−１８：ＷＰＢＧ−１６７（和光純薬工業社製）
Ｃ−１９：ＷＰＢＧ−０８２（和光純薬工業社製）
Ｃ−２０：２−（９−オキソキサンテン−２−イル)プロピオン酸１，５，７，−トリアザビシクロ［４．４．０］デカ−５−エン（東京化成工業社製）
Ｃ−２１：２−（９−オキソキサンテン−２−イル) プロピオン酸１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン（東京化成工業社製）
Ｃ’−２２：比較合成例１で合成した有機塩
Ｃ’−２３：１，２−ジシクロヘキシル−４，４，５，５−テトラメチルビグアニジウム−ｎ−ブチルトリフェニルボレート、ＷＰＢＧ−３００（和光純薬工業社製）
<Organic salt (C)>
C-1: Organic salt of carboxylic acid synthesized in Synthesis Example 1 C-2: Organic salt of carboxylic acid synthesized in Synthesis Example 2 C-3: Organic salt of carboxylic acid synthesized in Synthesis Example 3 C-4: Synthesis Organic salt of carboxylic acid synthesized in Example 4 C-5: Organic salt of carboxylic acid synthesized in Synthesis Example 5 C-6: Organic salt of carboxylic acid synthesized in Synthesis Example C-7: Synthetic in Synthesis Example 7. Organic salt of carboxylic acid C-8: Organic salt of carboxylic acid synthesized in Synthesis Example 8 C-9: Organic salt of carboxylic acid synthesized in Synthesis Example 9 C-10: Organic salt of carboxylic acid synthesized in Synthesis Example 10 C-11: Organic salt of carboxylic acid synthesized in Synthesis Example 11 C-12: Organic salt of carboxylic acid synthesized in Synthesis Example 12 C-13: Organic salt of carboxylic acid synthesized in Synthesis Example 13 C-14: Synthesis Organic salt of carboxylic acid synthesized in Example 14 C-15: Organic salt of carboxylic acid synthesized in Synthesis Example 15 C-16: WPBG-266 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
C-17: WPBG-168 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
C-18: WPBG-167 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
C-19: WPBG-082 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
C-20: 2- (9-oxoxanthene-2-yl)
C-21: 2- (9-oxoxanthene-2-yl)
C'-22: Organic salt synthesized in Comparative Synthesis Example 1 C'-23: 1,2-dicyclohexyl-4,4,5,5-tetramethylbiguanidium-n-butyltriphenylborate, WPBG-300 ( Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
［実施例１］
熱硬化バインダーとして、Ａ−１：ダイソーイソダップ（大阪ソーダ社製）を８０質量部、Ａ−２：ライトアクリレート ＰＥ−４Ａ（共栄社化学社製）を２０質量部、熱重合開始剤としてナイパーＢＷ（日油製）を２質量部、フッ素系化合物としてＢ−１：メガファックＲＳ−９０（固形分１０質量％）（ＤＩＣ社製）の固形分を１質量部、カルボン酸の有機塩として合成例１で合成したＣ−１を５質量部、および有機溶剤としてプロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート（以下、ＰＧＭＥＡという）を加え、不揮発分が２０質量％の潜像形成用組成物を得た。
得られた潜像形成用組成物を用いて、後述する方法に従い、積層体、潜像を得、潜像にインキを付着させて種々の評価をした。結果を表１に示す。
[Example 1]
As a heat-curing binder, A-1: Daiso Isodap (manufactured by Osaka Soda Co., Ltd.) is 80 parts by mass, A-2: Light acrylate PE-4A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) is 20 parts by mass, and Niper BW as a
Using the obtained latent image forming composition, a laminate and a latent image were obtained according to the method described later, and ink was attached to the latent image for various evaluations. The results are shown in Table 1.
［実施例２〜４９、比較例１〜４］
表１に示す組成に従い、実施例１と同様にして調整を行った。すなわち、熱硬化バインダー（Ａ）の総量１００質量部に対してナイパーＢＷ（日油製）を２質量部、表１〜３記載の組成に従って各化合物（Ｂ）〜（Ｃ）の固形分換算の質量部を加えた。最終的に全ての組成物が不揮発分２０質量％になるように有機溶剤（Ｄ）を加えた潜像形成用組成物を得、同様に評価をした。
[Examples 2 to 49, Comparative Examples 1 to 4]
Adjustments were made in the same manner as in Example 1 according to the composition shown in Table 1. That is, 2 parts by mass of NOF BW (manufactured by NOF Corporation) was added to 100 parts by mass of the total amount of the thermosetting binder (A), and the solid content of each compound (B) to (C) was converted according to the composition shown in Tables 1 to 3. Mass parts were added. Finally, a composition for forming a latent image to which an organic solvent (D) was added so that all the compositions had a non-volatile content of 20% by mass was obtained and evaluated in the same manner.
［積層体の製造］
ポリエチレンナフタレートフィルム上に、実施例１〜４９および比較例１〜４で調整した潜像形成用組成物をバーコーターにより塗付した後、１３０℃のオーブン中で約１時間熱硬化し、積層体を形成した。
[Manufacturing of laminate]
The latent image-forming compositions prepared in Examples 1 to 49 and Comparative Examples 1 to 4 were applied onto a polyethylene naphthalate film with a bar coater, and then thermoset in an oven at 130 ° C. for about 1 hour for lamination. Formed a body.
［潜像の製造］、［撥インキ性の評価］
次いで、得られた熱硬化塗膜に高圧水銀ランプを用いて、表１に示すように、２００、５００、１０００（ｍJ／ｃｍ２）の活性エネルギー線を部分的に照射した。
[Manufacturing of latent image], [Evaluation of ink repellency]
Then, as shown in Table 1, the obtained thermosetting coating film was partially irradiated with active energy rays of 200, 500, 1000 (mJ / cm 2) using a high-pressure mercury lamp.
固形分濃度１０％になるようにトルエンに銀ナノ粒子を分散させた銀ナノインキを作製し、前記塗膜表面の照射部・非照射部に作製した銀ナノインキをそれぞれ滴下し、以下の基準で評価した。
◎：照射部では銀ナノインキの付着跡が観測されず、非照射部では銀ナノインキの付着跡が観測された。
○：照射部、非照射部いずれにおいても銀ナノインキの付着跡が観測された。
×：照射部、非照射部いずれにおいても銀ナノインキの付着跡が観測されなかった。
Silver nanoparticles in which silver nanoparticles are dispersed in toluene so as to have a solid content concentration of 10% are prepared, and the prepared silver nanoinks are dropped on the irradiated portion and the non-irradiated portion on the surface of the coating film, respectively, and evaluated according to the following criteria. did.
⊚: No trace of silver nanoink was observed in the irradiated area, and no trace of silver nanoink was observed in the non-irradiated area.
◯: Adhesion traces of silver nanoink were observed in both the irradiated part and the non-irradiated part.
X: No trace of silver nanoink was observed in either the irradiated part or the non-irradiated part.
［パターニング精度］
＜耐湿熱性試験前・後＞
前記積層体を構成する熱硬化塗膜について、耐湿熱性試験（８５℃、ＲＨ８５％の環境下に２４時間静置）前・後で、水銀ランプを用いて、ライン幅／スペース幅（以下、Ｌ／Ｓと略す）＝３０μｍ／３０μｍのパターンを有するフォトマスクを通して、表１〜３に示すように、２００、５００、１０００（ｍJ／ｃｍ２）の活性エネルギー線を照射した。
次いで、非照射部に沿って、前記の銀ナノインキを吐出し、パターン形状を顕微鏡観察した。
◎：マスク形状に沿って、銀ナノインキが付着し、照射部には濡れ広がらず、マスクの精度がよく再現されている。
○：マスク形状に沿って、銀ナノインキが付着しはているが、照射部にも濡れ広がりが観察される。
×：非照射部からも銀ナノインキが弾かれ、パターンを形成できなかった。
[Patterning accuracy]
<Before and after the moisture resistance test>
The thermosetting coating film constituting the laminate was line-width / space-width (hereinafter, L) before and after the moisture-heat resistance test (standing in an environment of 85 ° C. and RH 85% for 24 hours) using a mercury lamp. (Abbreviated as / S) = 200, 500, 1000 (mJ / cm 2 ) of active energy rays were irradiated through a photomask having a pattern of 30 μm / 30 μm as shown in Tables 1 to 3.
Next, the silver nanoink was discharged along the non-irradiated portion, and the pattern shape was observed under a microscope.
⊚: Silver nanoink adheres along the shape of the mask and does not spread to the irradiated area, and the accuracy of the mask is reproduced well.
◯: Silver nano ink adheres along the shape of the mask, but wetting and spreading is also observed in the irradiated area.
X: The silver nanoink was also repelled from the non-irradiated part, and the pattern could not be formed.
［＜潜像形成用組成物 １カ月保存後＞
実施例１〜４９および比較例１〜４で調製した各潜像形成用組成物を密閉ガラス容器中に詰め、２５℃の暗室で一ヵ月保存した後、［パターニング精度］を同様の方法で評価した。
[<Latent image forming composition after 1 month storage>
Each of the latent image forming compositions prepared in Examples 1 to 49 and Comparative Examples 1 to 4 was packed in a closed glass container, stored in a dark room at 25 ° C. for one month, and then the [patterning accuracy] was evaluated by the same method. did.
表１〜３の結果から実施例１〜実施例４９で調製された組成物を用いて形成された硬化塗膜は、比較例１〜比較例４で調製された潜像形成用組成物を用いて形成された比較例の硬化塗膜と比べ、非常に良好な撥インク性、パターニング性を有することがわかった。すなわち、実施例１〜実施例４９で調製された組成物は、比較例１〜比較例４で調製された組成物と比べ、精細なパターンの形成に好適使用できることがわかった。 From the results in Tables 1 to 3, the cured coating film formed using the compositions prepared in Examples 1 to 49 uses the latent image forming composition prepared in Comparative Examples 1 to 4. It was found that it had very good ink repellency and patterning property as compared with the cured coating film of the comparative example formed in the above. That is, it was found that the compositions prepared in Examples 1 to 49 can be preferably used for forming finer patterns as compared with the compositions prepared in Comparative Examples 1 to 4.
本発明の潜像形成用組成物は、熱硬化した硬化塗膜を基材上に形成することができ、熱硬化後の硬化塗膜に活性エネルギー線を部分的に照射することにより、硬化塗膜の性質を変化させることができる。即ち、照射部を撥インキ性とし、非照射部を親インキ性とすることができる。この性質の変化を利用し、インキとして導電性インキを用いれば、プリンテッドエレクトロニクスの分野において微細かつ精巧な導電性パターンの形成が期待できる。
本発明の潜像形成用組成物は、液晶ディスプレイ、携帯電話、デジタルカメラ、タッチパネル、有機ディスプレイ、有機ＥＬ照明、各種センサーやウェアラブルデバイスなどの電子機器における小型化、薄型化軽量化、高性能化への貢献が期待される。
The composition for forming a latent image of the present invention can form a thermosetting cured coating film on a substrate, and by partially irradiating the cured coating film after heat curing with active energy rays, the cured coating is applied. The properties of the membrane can be changed. That is, the irradiated portion can be made ink-repellent, and the non-irradiated portion can be made ink-based. If a conductive ink is used as the ink by utilizing this change in properties, the formation of a fine and elaborate conductive pattern can be expected in the field of printed electronics.
The composition for forming a latent image of the present invention is smaller, thinner, lighter, and higher in performance in electronic devices such as liquid crystal displays, mobile phones, digital cameras, touch panels, organic displays, organic EL lighting, various sensors, and wearable devices. Is expected to contribute to.
１ 基材
２ 硬化塗膜（親インキ性）
３ 活性エネルギー線照射領域（撥インキ性）
４ 活性エネルギー線
５ パターン形成用インキ
６ インキパターン
1
3 Active energy ray irradiation area (ink repellent)
4
Claims (9)
カルボン酸の有機塩が、下記一般式（１）で表されるケトプロフェン類、下記一般式（２）で表されるキサントン酢酸類、下記一般式（３）で表されるチオキサントン酢酸類、または下記一般式（４）で表されるニトロフェニル酢酸類のいずれか一つであることを特徴とする潜像形成用組成物。
（但し、前記熱硬化性バインダーはフッ素原子、およびカルボン酸の有機塩の構造を有しない。前記フッ素系化合物はカルボン酸の有機塩の構造を有しない。）
（式（１）〜（３）中、Ｒ１〜Ｒ３はそれぞれ独立に−ＣＨ３または−Ｈを示し、Ａ＋はそれぞれ独立に有機塩中のカチオンを表す。）
（式（４）中、Ｒ４は−ＣＨ３または−Ｈを示し、Ｒ５〜Ｒ７はそれぞれ独立に−ＮＯ２または−Ｈを示し、且つＲ５〜Ｒ７のうち少なくとも一つは−ＮＯ２である。Ａ＋は有機塩中のカチオンを表す。） A composition for forming a latent image containing a thermosetting binder, a fluorine-based compound, an organic salt of a carboxylic acid, and an organic solvent .
The organic salt of the carboxylic acid is ketoprofen represented by the following general formula (1), xanthone acetic acid represented by the following general formula (2), thioxanthone acetic acid represented by the following general formula (3), or the following. A composition for forming a latent image, which is one of the nitrophenylacetic acids represented by the general formula (4) .
(However, the thermosetting binder does not have a structure of a fluorine atom and an organic salt of a carboxylic acid. The fluorine-based compound does not have a structure of an organic salt of a carboxylic acid.)
(In formulas (1) to (3), R 1 to R 3 independently represent −CH 3 or −H, respectively, and A + independently represents a cation in an organic salt.)
(In formula (4), R 4 represents -CH 3 or -H, R 5 to R 7 independently represent -NO 2 or -H, and at least one of R 5 to R 7 is-. NO 2. A + represents a cation in an organic salt.)
前記硬化塗膜が請求項１〜４いずれか１項に記載の潜像形成用組成物から形成された熱硬化塗膜である、積層体。 A laminate having a base material and a cured coating film provided on at least a part of the base material.
A laminate in which the cured coating film is a thermosetting coating film formed from the latent image forming composition according to any one of claims 1 to 4.
（１）基材上の少なくとも一部に、請求項１〜４いずれか１項に記載の潜像形成用組成物を塗工する工程。
（２）前記潜像形成用組成物を熱硬化して、硬化塗膜を形成する工程。 A method for producing a laminate, which comprises the following steps (1) and (2).
(1) A step of applying the latent image forming composition according to any one of claims 1 to 4 to at least a part of the substrate.
(2) A step of thermosetting the latent image forming composition to form a cured coating film.
（１）基材上の少なくとも一部に、請求項１〜４いずれか１項に記載の潜像形成用組成物を塗工する工程、
（２）前記潜像形成用組成物を熱硬化して、硬化塗膜を形成する工程、
（３）前記硬化塗膜の一部に活性エネルギー線を照射し、非照射部と照射部とを形成する工程。 A method for producing a latent image, which comprises the following steps (1) to (3).
(1) A step of applying the latent image forming composition according to any one of claims 1 to 4 to at least a part of the substrate.
(2) A step of thermosetting the latent image forming composition to form a cured coating film.
(3) A step of irradiating a part of the cured coating film with active energy rays to form a non-irradiated portion and an irradiated portion.
（１）基材上の少なくとも一部に、請求項１〜４いずれか１項に記載の潜像形成用組成物を塗工する工程。
（２）前記潜像形成用組成物を熱硬化して、硬化塗膜を形成する工程、
（３）前記硬化塗膜の一部に活性エネルギー線を照射し、非照射部と照射部とを形成する工程。
（４）前記非照射部に、インキを付着させる工程。 A pattern forming method including the following steps (1) to (4).
(1) A step of applying the latent image forming composition according to any one of claims 1 to 4 to at least a part of the substrate.
(2) A step of thermosetting the latent image forming composition to form a cured coating film.
(3) A step of irradiating a part of the cured coating film with active energy rays to form a non-irradiated portion and an irradiated portion.
(4) A step of adhering ink to the non-irradiated portion.
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