JP6904137B2 - Resin composition and optical compensation film using it - Google Patents
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Description
本発明は、樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムに関するものであり、より詳しくは、樹脂組成物ならびに位相差特性および波長分散特性に優れた液晶ディスプレイ用の光学補償フィルムに関する。 The present invention relates to a resin composition and an optical compensation film using the same, and more particularly to a resin composition and an optical compensation film for a liquid crystal display excellent in phase difference characteristics and wavelength dispersion characteristics.
液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュ−タ−用モニタ−、ノ−トパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられている。特に光学補償フィルムは、正面や斜めから見た場合のコントラスト向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。 Liquid crystal displays are widely used as the most important display devices in the multimedia society, including mobile phones, computer monitors, notebook personal computers, and televisions. Many optical films are used in liquid crystal displays to improve display characteristics. In particular, the optical compensation film plays a major role in improving contrast when viewed from the front or at an angle, and compensating for color tone.
液晶ディスプレイには、垂直配向型(VA−LCD)、面内配向型液晶(IPS−LCD)、ス−パ−ツイストネマチック型液晶(STN−LCD)、反射型液晶ディスプレイ、半透過型液晶ディスプレイなどの多くの方式が有り、ディスプレイにあわせた光学補償フィルムが必要となっている。 Liquid crystal displays include vertically oriented (VA-LCD), in-plane oriented liquid crystal (IPS-LCD), super twisted nematic liquid crystal (STN-LCD), reflective liquid crystal display, transflective liquid crystal display, etc. There are many methods, and an optical compensation film suitable for the display is required.
従来の光学補償フィルムとしては、セルロ−ス系樹脂、ポリカ−ボネ−トや環状ポリオレフィンなどの延伸フィルムが用いられている。特にトリアセチルセルロ−スフィルムなどのセルロ−ス系樹脂からなるフィルムは、偏光子であるポリビニルアルコ−ルとの接着性も良好なことから幅広く使用されている。 As the conventional optical compensation film, a stretched film such as a cellulosic resin, polycarbonate or cyclic polyolefin is used. In particular, films made of cellulosic resins such as triacetyl cellulosic films are widely used because they have good adhesiveness to polyvinyl alcohol, which is a polarizer.
しかしながら、セルロ−ス系樹脂からなる光学補償フィルムはいくつかの課題がある。例えば、セルロ−ス系樹脂フィルムは延伸条件を調整することで各種ディスプレイにあわせた位相差値を持つ光学補償フィルムに加工されるが、セルロ−ス系樹脂フィルムの一軸または二軸延伸により得られるフィルムの三次元屈折率は、ny≧nx>nzであり、それ以外の3次元屈折率、例えば、ny>nz>nxや、ny=nz>nxなどの3次元屈折率を有する光学補償フィルムを製造するためには、フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムの厚み方向に収縮力をかけるなど特殊な延伸方法が必要であり屈折率(位相差値)の制御も困難である(例えば、特許文献1〜3参照)。ここでnxはフィルム面内の進相軸方向(最も屈折率の小さい方向)の屈折率、nyはフィルム面内の遅相軸方向(最も屈折率の大きい方向)の屈折率、nzはフィルム面外(厚み方向)の屈折率を示す。 However, the optical compensation film made of a cellulosic resin has some problems. For example, a cellulosic resin film is processed into an optical compensation film having a phase difference value suitable for various displays by adjusting stretching conditions, and can be obtained by uniaxial or biaxial stretching of the cellulosic resin film. The three-dimensional refractive index of the film is ny ≧ nx> nz, and an optical compensation film having another three-dimensional refractive index, for example, ny> nz> nx or ny = nz> nx, is used. In order to manufacture the film, a special stretching method is required, such as adhering a heat-shrinkable film to one or both sides of the film, heat-stretching the laminate, and applying a shrinking force in the thickness direction of the polymer film. It is also difficult to control the refractive index (phase difference value) (see, for example, Patent Documents 1 to 3). Here, nx is the refractive index in the phase-advancing axis direction (the direction with the smallest refractive index) in the film surface, ny is the refractive index in the slow-phase axial direction (the direction with the largest refractive index) in the film surface, and nz is the film surface. Indicates the refractive index of the outside (thickness direction).
また、セルロ−ス系樹脂フィルムは一般に溶剤キャスト法により製造されるが、キャスト法により成膜したセルロ−ス系樹脂フィルムはフィルム厚み方向に40nm程度の面外位相差(Rth)を有するため、IPSモ−ドの液晶ディスプレイなどではカラ−シフトが起こるなどの問題がある。ここで面外位相差(Rth)は次の式(A)で示される位相差値である。 Further, the cellulosic resin film is generally manufactured by the solvent casting method, but the cellulosic resin film formed by the casting method has an out-of-plane phase difference (Rth) of about 40 nm in the film thickness direction. There is a problem that color shift occurs in the liquid crystal display of IPS mode. Here, the out-of-plane phase difference (Rth) is a phase difference value represented by the following equation (A).
Rth=[(nx+ny)/2−nz]×D (A)
(式中、nxはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、nyはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、nzはフィルム面外の屈折率を示し、Dはフィルム厚みを示す。)
また、フマル酸エステル系樹脂からなる位相差フィルム(光学補償フィルム)が提案されている(例えば、特許文献4参照)。
Rth = [(nx + ny) /2-nz] x D (A)
(In the formula, nx indicates the refractive index in the phase-advancing axis direction in the film surface, ny indicates the refractive index in the slow-phase axial direction in the film surface, nz indicates the refractive index outside the film surface, and D indicates the film thickness. )
Further, a retardation film (optical compensation film) made of a fumaric acid ester resin has been proposed (see, for example, Patent Document 4).
しかしながら、フマル酸エステル系樹脂からなる延伸フィルムの3次元屈折率は、nz>ny>nxであり、上記3次元屈折率を示す光学補償フィルムを得るためには他の光学補償フィルム等との積層などが必要である。 However, the three-dimensional refractive index of the stretched film made of the fumaric acid ester resin is nz> ny> nx, and in order to obtain the optical compensation film exhibiting the above three-dimensional refractive index, it is laminated with another optical compensation film or the like. Etc. are required.
そこで、上記3次元屈折率を示す光学補償フィルムとして、樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムが提案されている(例えば、特許文献5〜特許文献7参照)。特許文献5〜特許文献7は光学補償フィルムとして優れた性能を有するものの、より薄い膜で目的とするReを発現させる光学補償フィルムが求められている。 Therefore, as the optical compensation film exhibiting the three-dimensional refractive index, a resin composition and an optical compensation film using the resin composition have been proposed (see, for example, Patent Documents 5 to 7). Although Patent Documents 5 to 7 have excellent performance as an optical compensation film, an optical compensation film that expresses the desired Re with a thinner film is required.
ここで、一般に光学補償フィルムは反射型液晶表示装置、タッチパネルや有機ELの反射防止層としても用いられるものであり、該用途では、特に長波長域ほどレタ−デ−ションが大きい光学補償フィルム(以下、「逆波長分散フィルム」という)が求められるものである。例えば、有機EL用円偏光板の光学補償フィルムとして逆波長分散フィルムが用いられる場合、位相差は測定波長λの1/4程度が好ましく、450nmにおけるレタ−デ−ションと550nmにおけるレタ−デ−ションの比Re(450)/Re(550)は0.81に近いことが好ましい。このような要求特性に対し、種々の光学補償フィルムが開発されている。 Here, the optical compensation film is generally used as an antireflection layer for a reflective liquid crystal display device, a touch panel, or an organic EL, and in this application, an optical compensation film having a larger retardation especially in a long wavelength region (a long wavelength region). Hereinafter, "reverse wavelength dispersion film") is required. For example, when an inverse wavelength dispersion film is used as an optical compensation film for a circularly polarizing plate for organic EL, the phase difference is preferably about 1/4 of the measurement wavelength λ, and the retardation at 450 nm and the retardation at 550 nm. The ratio of the ratios Re (450) / Re (550) is preferably close to 0.81. Various optical compensation films have been developed to meet such required characteristics.
上記3次元屈折率を示し、薄膜におけるReの発現が大きく、かつ、逆波長分散フィルムとして用いられる光学補償フィルムとしてセルロースエーテルであるセルロース系樹脂およびフマル酸エステル重合体を含有する位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献8参照)。 A retardation film containing a cellulose resin and a fumaric acid ester polymer, which are cellulose ethers, has been proposed as an optical compensation film that exhibits the above-mentioned three-dimensional refractive index, has a large expression of Re in a thin film, and is used as an inverse wavelength dispersion film. (See, for example, Patent Document 8).
しかしながら現在、逆波長分散フィルムとして用いられる光学補償フィルムについては、プロセス適合性の点から高温下においても無色かつ透明性が高い光学補償フィルムが求められているものである。特許文献8で得られる位相差フィルムは優れた位相差発現性等を有するものの、高温下における黄色度および透明性に課題を有し、より高温下において安定性の高い光学補償フィルムが求められている。 However, at present, as an optical compensation film used as a reverse wavelength dispersion film, an optical compensation film that is colorless and highly transparent even at a high temperature is required from the viewpoint of process compatibility. Although the retardation film obtained in Patent Document 8 has excellent retardation development and the like, it has problems in yellowness and transparency at high temperatures, and an optical compensation film having high stability at higher temperatures is required. There is.
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、位相差特性および波長分散特性に優れた樹脂組成物を用いた光学補償フィルムであって、耐熱性が高く安定性に優れた光学補償フィルムを提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is an optical compensation film using a resin composition having excellent phase difference characteristics and wavelength dispersion characteristics, which has high heat resistance and excellent stability. The purpose is to provide an optical compensation film.
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のセルロ−ス系樹脂、特定のエステル系樹脂、および特定のポリフェニル化合物を含有する樹脂組成物を用いた光学補償フィルムおよびその製造方法が、上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、下記一般式(1)で示されるセルロ−ス系樹脂29.99〜98.99重量%および負の複屈折性を示すエステル系樹脂1〜70重量%を含有し、さらに、ポリフェニル化合物0.01〜30重量%を含有することを特徴とする樹脂組成物である。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have made an optical compensation film using a resin composition containing a specific cellulosic resin, a specific ester resin, and a specific polyphenyl compound. And its manufacturing method have found to solve the above-mentioned problems, and have completed the present invention. That is, the present invention contains 29.99 to 98.9% by weight of the cellulosic resin represented by the following general formula (1) and 1 to 70% by weight of the ester resin exhibiting negative birefringence. , A resin composition containing 0.01 to 30% by weight of a polyphenyl compound.
(式中、R1〜R3はそれぞれ独立して水素または炭素数1〜12の置換基を示す。)
また、本発明の好ましい態様としては、一般式(1)で示されるセルロ−ス系樹脂29.99〜98.99重量%および負の複屈折性を示すエステル系樹脂1〜70重量%を含有し、さらに、下記一般式(2)〜(7)で示されるポリフェニル構造からなる群から選ばれる少なくとも1種を含むポリフェニル化合物0.01〜30重量%を含有することを特徴とする樹脂組成物である。
(In the formula, R 1 to R 3 independently represent hydrogen or a substituent having 1 to 12 carbon atoms.)
Further, as a preferred embodiment of the present invention, it contains 29.99 to 99.99% by weight of the cellulosic resin represented by the general formula (1) and 1 to 70% by weight of the ester resin exhibiting negative birefringence. Further, the resin further contains 0.01 to 30% by weight of the polyphenyl compound containing at least one selected from the group consisting of the polyphenyl structures represented by the following general formulas (2) to (7). It is a composition.
(式中、X1、X2はそれぞれ独立して下記一般式(X)で示される。ただし、m=1〜6である。) (In the formula, X 1 and X 2 are independently represented by the following general formula (X), where m = 1 to 6).
(式中、R4、R5はそれぞれ独立してベンゼン環、ナフタレン環またはフルオレン環を示す。またそれぞれヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、アシルオキシ基、アルコキシ基またはフェニル基で置換されていてもよい。) (In the formula, R 4 and R 5 independently represent a benzene ring, a naphthalene ring or a fluorene ring, respectively, and are substituted with a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an acyloxy group, an alkoxy group or a phenyl group, respectively. May be.)
(式中、R6はベンゼン環、ナフタレン環またはフルオレン環を示す。またヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、アシルオキシ基、アルコキシ基またはフェニル基で置換されていてもよい。A1、A2はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、フェニル基または一般式(X)で示される。ただし、m=1〜6である。) (In the formula, R 6 represents a benzene ring, a naphthalene ring or a fluorene ring, and may be substituted with a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an acyloxy group, an alkoxy group or a phenyl group. A 1 , A 2 is independently represented by a hydrogen, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an acyloxy group, an alkoxy group, a phenyl group or the general formula (X), where m = 1 to 6. )
(式中、A3〜A5はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、フェニル基または一般式(X)で示される。ただし、m=1〜6である。) (In the formula, A 3 to A 5 are independently represented by hydrogen, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an acyloxy group, an alkoxy group, a phenyl group or the general formula (X), where m. = 1-6.)
(式中、R7〜R9はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ基、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、炭素数1〜12のアルキル基、アシルオキシ基、またはアルコキシ基を示す。ただし、n=0〜4である。) (In the formula, R 7 to R 9 are independently hydrogen, hydroxy group, nitro group, bromo group, iodo group, cyano group, chloro group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, fluoro group and 1 to 1 carbon atoms. It shows 12 alkyl groups, acyloxy groups, or alkoxy groups, where n = 0-4.)
(式中、R10〜R12はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ基、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、炭素数1〜12のアルキル基、アシルオキシ基、またはアルコキシ基を示す。ただし、n=0〜4である。) (In the formula, R 10 to R 12 are independently hydrogen, hydroxy group, nitro group, bromo group, iodo group, cyano group, chloro group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, fluoro group and 1 to 1 carbon atoms. It shows 12 alkyl groups, acyloxy groups, or alkoxy groups, where n = 0-4.)
(式中、R13〜R15はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ基、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、炭素数1〜12のアルキル基、アシルオキシ基、またはアルコキシ基を示す。ただし、n=0〜4である。)
以下、本発明について詳細に説明する。
(In the formula, R 13 to R 15 are independently hydrogen, hydroxy group, nitro group, bromo group, iodo group, cyano group, chloro group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, fluoro group and 1 to 1 carbon atoms. It shows 12 alkyl groups, acyloxy groups, or alkoxy groups, where n = 0-4.)
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
本発明の樹脂組成物は、下記一般式(1)で示されるセルロ−ス系樹脂29.99〜98.99重量%および負の複屈折性を示すエステル系樹脂1〜70重量%を含有し、さらに、ポリフェニル化合物0.01〜30重量%を含有する。 The resin composition of the present invention contains 29.99 to 99.99% by weight of the cellulosic resin represented by the following general formula (1) and 1 to 70% by weight of the ester resin exhibiting negative birefringence. Further, it contains 0.01 to 30% by weight of the polyphenyl compound.
(式中、R1〜R3はそれぞれ独立して水素または炭素数1〜12の置換基を示す。)
本発明のセルロ−ス系樹脂としては、例えば、セルロ−スエ−テル、セルロ−スエステル、セルロ−スエ−テルエステル等が挙げられる。そして、本発明の樹脂組成物は、これらのセルロ−ス系樹脂を1種または2種以上含有していてもよい。
(In the formula, R 1 to R 3 independently represent hydrogen or a substituent having 1 to 12 carbon atoms.)
Examples of the cellulosic resin of the present invention include cellulosic ester, cellulosic ester, cellulosic ester and the like. The resin composition of the present invention may contain one or more of these cellulosic resins.
本発明のセルロ−ス系樹脂は、機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パ−ミエイション・クロマトグラフィ−(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が1×103〜1×106であることが好ましく、5×103〜2×105であることがさらに好ましい。 Since the polystyrene-based resin of the present invention has excellent mechanical properties and excellent molding processability during film formation, it can be obtained from an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC). preferably the number average molecular weight in terms of polystyrene (Mn) is 1 × 10 3 ~1 × 10 6 , further preferably 5 × 10 3 ~2 × 10 5 .
本発明のセルロ−ス系樹脂としては、負の複屈折性を示すエステル系樹脂との相溶性に優れ、かつ面内位相差Reが大きく、更に延伸加工性に優れるため、セルロ−スエ−テルが好ましい。 The cellulosic resin of the present invention is excellent in compatibility with an ester resin exhibiting negative birefringence, has a large in-plane retardation Re, and is also excellent in drawability. Is preferable.
以下、本発明の光学補償フィルムに用いられるセルロ−ス系樹脂として好ましいセルロ−スエ−テルについて説明する。 Hereinafter, a cellulosic ether preferable as the cellulosic resin used in the optical compensation film of the present invention will be described.
本発明のセルロ−ス系樹脂であるセルロ−スエ−テルは、β−グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であり、グルコ−ス単位の2位、3位および6位の水酸基の一部または全部をエ−テル化したポリマ−である。本発明のセルロ−スエ−テルとしては、例えば、メチルセルロ−ス、エチルセルロ−ス、プロピルセルロ−ス等のアルキルセルロ−ス;ヒドロキシエチルセルロ−ス、ヒドロキシプロピルセルロ−ス等のヒドロキシアルキルセルロ−ス;ベンジルセルロ−ス、トリチルセルロ−ス等のアラルキルセルロ−ス;シアノエチルセルロ−ス等のシアノアルキルセルロ−ス;カルボキシメチルセルロ−ス、カルボキシエチルセルロ−ス等のカルボキシアルキルセルロ−ス;カルボキシメチルメチルセルロ−ス、カルボキシメチルエチルセルロ−ス等のカルボキシアルキルアルキルセルロ−ス;アミノエチルセルロ−ス等のアミノアルキルセルロ−ス等が挙げられる。 The cellulosic resin of the present invention is a polymer in which β-glucose units are linearly polymerized, and is one of the hydroxyl groups at the 2, 3, and 6 positions of the glucose units. It is a polymer in which parts or all are etherified. Examples of the cellulosic ether of the present invention include alkyl cellulose such as methyl cellulose, ethyl cellulose, and propyl cellulose; and hydroxyalkyl cellulose such as hydroxyethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose. Aralkyl cellose such as benzyl cellose and trityl cellose; cyanoalkyl cellose such as cyanoethyl cellose; carboxyalkyl cellose such as carboxymethyl cellulose and carboxyethyl cellose; carboxymethyl methyl Carboxyalkylalkyl cellulose such as cellulosic and carboxymethylethyl cellulose; aminoalkylcellulosic such as aminoethyl cellulose and the like can be mentioned.
該セルロ−スエ−テルにおけるセルロ−スの水酸基の酸素原子を介して置換している置換度(エ−テル化度)は、2位、3位および6位のそれぞれについて、セルロ−スの水酸基がエ−テル化している割合(100%のエ−テル化は置換度1)を意味し、溶解性、相溶性、延伸加工性の点から、エ−テル基の全置換度DSは、好ましくは1.5〜3.0(1.5≦DS≦3.0)であり、さらに好ましくは1.8〜2.8である。セルロ−スエ−テルは、溶解性、相溶性の点から、炭素数1〜12の置換基を有することが好ましい。炭素数1〜12の置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デカニル基、ドデカニル基、イソブチル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基、フェノニル基、ベンジル基、ナフチル基等を挙げることができる。これらの中でも、溶解性、相溶性の点から、炭素数1〜5のアルキル基であるメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基が好ましい。本発明で用いるセルロ−ス系ポリマ−のエ−テル基は1種類だけでもよいし、2種類以上のエ−テル基を有していてもよい。また、エ−テル基の他にエステル基を有していてもよい。 The degree of substitution (degree of etherification) of the cellulosic hydroxyl group substituted via the oxygen atom in the cellulosic ether is the cellulosic hydroxyl group at the 2-position, 3-position, and 6-position, respectively. Means the rate of etherification (100% etherification is a degree of substitution 1), and the total degree of substitution DS of the ether group is preferable from the viewpoint of solubility, compatibility, and stretchability. Is 1.5 to 3.0 (1.5 ≦ DS ≦ 3.0), more preferably 1.8 to 2.8. The cellulosic ether preferably has a substituent having 1 to 12 carbon atoms from the viewpoint of solubility and compatibility. Examples of the substituent having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a decanyl group, a dodecanyl group, an isobutyl group and a t-butyl group. , Cyclohexyl group, phenonyl group, benzyl group, naphthyl group and the like. Among these, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and a pentyl group, which are alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, are preferable from the viewpoint of solubility and compatibility. The cellulosic polymer used in the present invention may have only one type of ether group or may have two or more types of ether groups. Further, it may have an ester group in addition to the ether group.
セルロ−スエ−テルは一般に、木材又はコットンより得たセルロ−スパルプをアルカリ分解し、アルカリ分解したセルロ−スパルプをエ−テル化することで合成される。アルカリとしては、リチウム,カリウム,ナトリウムなどのアルカリ金属の水酸化物やアンモニアなどが利用できる。前記アルカリ類は一般に、水溶液として使用される。そして、アルカリ性にされたセルロ−スパルプは、セルロ−スエ−テルの種類に応じて用いられるエ−テル化剤と接触されることによりエ−テル化されるものである。エ−テル化剤としては、例えば、塩化メチル、塩化エチル等のハロゲン化アルキル;ベンジルクロライド、トリチルクロライド等のハロゲン化アラルキル;モノクロロ酢酸、モノクロロプロピオン酸等のハロカルボン酸;エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイド等が挙げられ、これらのエ−テル化剤は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 Cellulose ether is generally synthesized by alkali-decomposing cellulosic pulp obtained from wood or cotton and etherifying the alkali-decomposed cellulosic pulp. As the alkali, hydroxides of alkali metals such as lithium, potassium and sodium, and ammonia can be used. The alkalis are generally used as an aqueous solution. Then, the alkalineized cellulosic pulp is etherified by being contacted with an etherifying agent used depending on the type of cellulosic ether. Examples of the etherifying agent include alkyl halides such as methyl chloride and ethyl chloride; aralkyl halides such as benzyl chloride and trityl chloride; halocarboxylic acids such as monochloroacetic acid and monochloropropionic acid; ethylene oxide, propylene oxide and butylene. Examples thereof include alkylene oxides such as oxides, and these etherifying agents can be used alone or in combination of two or more.
なお、必要であれば、反応終了後、粘度調整のため塩化水素、臭化水素、塩酸、及び硫酸等で解重合処理してもよい。 If necessary, after completion of the reaction, depolymerization treatment may be carried out with hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrochloric acid, sulfuric acid or the like to adjust the viscosity.
本発明の樹脂組成物が含有する負の複屈折性を示すエステル系樹脂(以下、負の複屈折性を示すエステル系樹脂という)は、負の複屈折性を示すエステル残基単位を有する樹脂であれば特に制限はなく、該残基単位としては、例えば、(メタ)アクリル酸エステル残基単位、ケイ皮酸エステル残基単位、フマル酸エステル残基単位等が挙げられ、これらの1種または2種以上が挙げられる。 The ester-based resin exhibiting negative double-refractive properties (hereinafter referred to as ester-based resin exhibiting negative compound refractive properties) contained in the resin composition of the present invention is a resin having an ester residue unit exhibiting negative compound refractive properties. If this is the case, there is no particular limitation, and examples of the residue unit include (meth) acrylic acid ester residue unit, silicate ester residue unit, fumaric acid ester residue unit, and the like. Alternatively, two or more types can be mentioned.
なお、本発明において、複屈折の正負は以下に示すように定義される。 In the present invention, the positive and negative of birefringence are defined as shown below.
負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向の垂直方向が進相軸方向となるものである。 Negative birefringence means that the stretching direction is the phase-advancing axis direction, and positive birefringence means that the direction perpendicular to the stretching direction is the phase-advancing axis direction.
つまり、一軸延伸すると延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向の垂直方向)なるものを正の複屈折を示す樹脂、一軸延伸すると延伸軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向)なるものを負の複屈折を示す樹脂という。 That is, when uniaxially stretched, the refractive index in the axial direction orthogonal to the stretching axis is small (phase-advancing axis: in the direction perpendicular to the stretching direction), the resin showing positive birefringence, and when uniaxially stretched, the refractive index in the stretching axial direction is small. (Phase-advancing axis: stretching direction) is called a resin exhibiting negative birefringence.
負の複屈折性を示すエステル系樹脂としては、負の複屈折の発現性が大きく、光学補償フィルムの薄膜化が図れるため、下記一般式(8)で示されるフマル酸エステル残基単位、および/または下記一般式(9)で示されるケイ皮酸エステル残基単位を含むエステル系樹脂であることが好ましい。 As an ester resin exhibiting negative birefringence, negative birefringence is highly exhibited and the optical compensation film can be thinned. Therefore, the fumaric acid ester residue unit represented by the following general formula (8) and the fumaric acid ester residue unit and / Or an ester resin containing a cinnamic acid ester residue unit represented by the following general formula (9) is preferable.
(式中、R16、R17はそれぞれ独立して水素または炭素数1〜12のアルキル基を示す。) (In the formula, R 16 and R 17 each independently represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.)
(式中、R18は水素または炭素数1〜12のアルキル基を示す。R19は水素、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、フェニル基または炭素数1〜12のアルコキシ基を示す。)
本発明において、負の複屈折性を示すエステル系樹脂としては、位相差特性および透明性により優れた光学補償フィルムが得られるため、一般式(8)で示されるフマル酸エステル残基単位1〜80モル%および一般式(9)で示されるケイ皮酸エステル残基単位99〜20モル%を含むエステル系樹脂が好ましく、該フマル酸エステル残基単位1〜70モル%および該ケイ皮酸エステル残基単位99〜30モル%を含むエステル系樹脂がさらに好ましい。
(In the formula, R 18 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. R 19 is a hydrogen, nitro group, bromo group, iodo group, cyano group, chloro group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, fluoro group. , A phenyl group or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.)
In the present invention, as the ester-based resin exhibiting negative compound refractive property, an optically compensating film having excellent retardation characteristics and transparency can be obtained. Therefore, the fumaric acid ester residue units 1 to 1 represented by the general formula (8) are obtained. An ester resin containing 80 mol% and 99 to 20 mol% of the cinnamic acid ester residue unit represented by the general formula (9) is preferable, and the fumaric acid ester residue unit is 1 to 70 mol% and the cinnamic acid ester. Ester-based resins containing 99 to 30 mol% of residue units are more preferable.
一般式(8)で示されるフマル酸エステル残基単位としては、位相差特性および透明性により優れることから、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸モノイソプロピル残基単位、フマル酸モノ−n−プロピル残基単位、フマル酸モノ−n−ブチル残基単位、フマル酸モノ−2−エチルヘキシル残基単位、フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジ−t−ブチル残基単位、フマル酸ジシクロヘキシル残基単位からなる群から選択される1以上のフマル酸エステル残基単位であることが好ましい。 As the fumaric acid ester residue unit represented by the general formula (8), since it is superior in retardation characteristics and transparency, it is a monoethyl fumarate residue unit, a monoisopropyl fumarate residue unit, and a mono-n-propyl fumarate. Residual unit, mono-n-butyl fumarate residue unit, mono-2-ethylhexyl fumarate residue unit, diethyl fumarate residue unit, diisopropyl fumarate residue unit, di-t-butyl fumarate residue unit , One or more fumaric acid ester residue units selected from the group consisting of dicyclohexyl fumarate residue units.
一般式(9)で示されるケイ皮酸エステル残基単位としては、位相差特性に優れることから、ケイ皮酸エステル残基単位中のR19が水素、または4−メトキシ基であるケイ皮酸エステル残基単位が好ましく、これらの中でも位相差特性および透明性により優れることから、ケイ皮酸残基単位、ケイ皮酸メチル残基単位、ケイ皮酸エチル残基単位、ケイ皮酸n−プロピル残基単位、ケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸残基単位、4−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位がさらに好ましい。 As the cinnamic acid ester residue unit represented by the general formula (9), since it is excellent in phase difference characteristics, cinnamic acid in which R 19 in the cinnamic acid ester residue unit is hydrogen or a 4-methoxy group. The ester residue unit is preferable, and among these, the cinnamic acid residue unit, the methyl cinnamic acid residue unit, the ethyl cinnamic acid residue unit, and the n-propyl cinnamic acid are excellent in phase difference characteristics and transparency. Residual unit, isopropyl cinnamic acid residue unit, 4-methoxycinnamic acid residue unit, 4-methoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid ethyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid More preferred are n-propyl residue units and isopropyl 4-methoxycinnamic acid residue units.
負の複屈折性を示すエステル系樹脂は、負の複屈折性を示すエステル残基単位に係る単量体を100モル%として、該単量体と共重合可能な単量体の残基単位0〜20モル%を含んでいてもよい。 The ester resin exhibiting negative birefringence is a residue unit of a monomer copolymerizable with the monomer, with 100 mol% of the monomer related to the ester residue unit exhibiting negative birefringence. It may contain 0 to 20 mol%.
負の複屈折性を示すエステル残基単位に係る単量体と共重合可能な単量体の残基単位としては、例えば、スチレン残基、α−メチルスチレン残基などのスチレン類残基;アクリル酸残基;メタクリル酸残基;酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基などのビニルエステル類残基;メチルビニルエ−テル残基、エチルビニルエ−テル残基、ブチルビニルエ−テル残基などのビニルエ−テル残基;N−メチルマレイミド残基、N−シクロヘキシルマレイミド残基、N−フェニルマレイミド残基などのN−置換マレイミド残基;アクリロニトリル残基;メタクリロニトリル残基;ケイ皮酸残基;エチレン残基、プロピレン残基などのオレフィン類残基;ビニルピロリドン残基;ビニルピリジン残基等の1種または2種以上を挙げることができる。 Examples of the residue unit of the monomer copolymerizable with the monomer related to the ester residue unit exhibiting negative birefractive property include styrene residues such as styrene residue and α-methylstyrene residue; Acrylic acid residue; Methacrylic acid residue; Vinyl ester residue such as vinyl acetate residue and vinyl propionate residue; Vinyl ether such as methyl vinyl ether residue, ethyl vinyl ether residue and butyl vinyl ether residue Residues; N-substituted maleimide residues such as N-methylmaleimide residue, N-cyclohexylmaleimide residue, N-phenylmaleimide residue; acrylonitrile residue; methacrylonitrile residue; silicic acid residue; ethylene residue One or more kinds such as olefin residues such as group and propylene residue; vinylpyrrolidone residue; vinylpyridine residue and the like can be mentioned.
負の複屈折性を示すエステル系樹脂は、特に機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パ−ミエイション・クロマトグラフィ−(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が1×103〜5×106のものであることが好ましく、5×103〜2×105であることがさらに好ましい。 Ester-based resins that exhibit negative birefringence have particularly excellent mechanical properties and excellent molding processability during film formation. Therefore, an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC). preferably the number average molecular weight in terms of standard polystyrene more obtained (Mn) is of 1 × 10 3 ~5 × 10 6 , further preferably 5 × 10 3 ~2 × 10 5 .
本発明の樹脂組成物におけるセルロ−ス系樹脂と負の複屈折性を示すエステル系樹脂の組成の割合は、セルロ−ス系樹脂29.99〜98.99重量%および負の複屈折性を示すエステル系樹脂1〜70重量%である。セルロ−ス系樹脂が29.99重量%未満の場合(負の複屈折性を示すエステル系樹脂が70重量%を超える場合)、またはセルロ−ス系樹脂が98.99重量%を超える場合(負の複屈折性を示すエステル系樹脂が1重量%未満の場合)は、位相差の制御が困難である。好ましくは、セルロ−ス系樹脂29.99〜89.99重量%および負の複屈折性を示すエステル系樹脂10〜70重量%であり、さらに好ましくはセルロ−ス系樹脂39.99〜79.99重量%および負の複屈折性を示すエステル系樹脂20〜60重量%である。 The ratio of the composition of the cellulosic resin to the ester resin exhibiting negative birefringence in the resin composition of the present invention is 29.99 to 99.99% by weight of the cellulosic resin and negative birefringence. It is 1 to 70% by weight of the ester resin shown. When the cellulosic resin is less than 29.99% by weight (when the ester resin showing negative birefringence exceeds 70% by weight), or when the cellulosic resin exceeds 98.99% by weight (when the cellulosic resin exceeds 99.99% by weight () When the ester resin exhibiting negative birefringence is less than 1% by weight), it is difficult to control the phase difference. Preferably, it is 29.99 to 89.99% by weight of the cellulosic resin and 10 to 70% by weight of the ester resin exhibiting negative birefringence, and more preferably 39.99 to 79% by weight of the cellulosic resin. It is 99% by weight and 20 to 60% by weight of the ester resin exhibiting negative birefringence.
負の複屈折性を示すエステル系樹脂の製造方法としては、該エステル系樹脂が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。 As a method for producing the ester resin exhibiting negative birefringence, any method may be used as long as the ester resin can be obtained, and the ester resin can be produced by radical polymerization.
ラジカル重合の方法としては、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。 As the radical polymerization method, for example, any of a bulk polymerization method, a solution polymerization method, a suspension polymerization method, a precipitation polymerization method, an emulsion polymerization method and the like can be adopted.
ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパ−オキサイド、ラウリルパ−オキサイド、オクタノイルパ−オキサイド、アセチルパ−オキサイド、ジ−t−ブチルパ−オキサイド、t−ブチルクミルパ−オキサイド、ジクミルパ−オキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパ−オキシ)ヘキサンなどの有機過酸化物;2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−ブチロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレ−ト、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)などのアゾ系開始剤等が挙げられる。 Examples of the polymerization initiator for radical polymerization include benzoylpaoxide, laurylpaoxide, octanoylpaoxide, acetylpaoxide, di-t-butylpaoxide, t-butylcumylperoxide, dicumylperoxide, 2, Organic peroxides such as 5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylpaoxy) hexane; 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis ( 2-Azobisisobutyronitrile), 2,2'-azobisisobutyronitrile, dimethyl-2,2'-azobisisobutylate, 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) and other azo systems. Initiators and the like can be mentioned.
そして、溶液重合法または沈殿重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族溶媒;メタノ−ル、エタノ−ル、プロピルアルコ−ル、ブチルアルコ−ルなどのアルコ−ル系溶媒;シクロヘキサン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、酢酸イソプロピル等が挙げられ、これらの混合溶媒をも挙げられる。 The solvent that can be used in the solution polymerization method or the precipitation polymerization method is not particularly limited, and for example, aromatic solvents such as benzene, toluene, and xylene; metanol, ethanol, propyl alcohol, butyl alcohol, and the like. Cyclohexane, dioxane, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone, dimethylformamide, isopropyl acetate and the like, and a mixed solvent thereof can also be mentioned.
また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には30〜150℃の範囲で行うことが好ましい。 Further, the polymerization temperature at the time of performing radical polymerization can be appropriately set according to the decomposition temperature of the polymerization initiator, and is generally preferably carried out in the range of 30 to 150 ° C.
本発明に係る樹脂組成物は、ポリフェニル化合物を含有することにより、セルロース系樹脂鎖間にポリフェニル化合物が入り、ポリフェニル化合物の耐熱性が高く、揮発性及び熱運動性が低いため、セルロース樹脂が熱的により安定的となる。そして、本発明では高温下の安定性(耐熱性)が向上するものとなり、本発明の樹脂組成物を用いて得られる光学補償フィルムは、高温下において安定性の高いものとなるものである。また、該ポリフェニル化合物は、本発明に係るセルロース系樹脂と同程度の極性を有するものが好ましいものとなる。このとき、該ポリフェニル化合物は、極性が近似しているセルロース系樹脂の各樹脂鎖の間により入り易い(混合し易い)ものとなる。 Since the resin composition according to the present invention contains the polyphenyl compound, the polyphenyl compound is contained between the cellulosic resin chains, the polyphenyl compound has high heat resistance, and has low volatility and thermal motility. The resin becomes more thermally stable. Then, in the present invention, the stability (heat resistance) at a high temperature is improved, and the optical compensation film obtained by using the resin composition of the present invention is highly stable at a high temperature. Further, the polyphenyl compound preferably has the same polarity as the cellulosic resin according to the present invention. At this time, the polyphenyl compound becomes easier to enter (easily mix) between the resin chains of the cellulosic resin having similar polarities.
また、本発明では、ポリフェニル化合物が一般式(2)〜(7)で示されるポリフェニル構造からなる群から選ばれる少なくとも1種を含むポリフェニル化合物であるとき、得られる光学補償フィルムは、高温化の安定性(耐熱性)がさらに向上するものとなり、より好適なものとなる。 Further, in the present invention, when the polyphenyl compound is a polyphenyl compound containing at least one selected from the group consisting of polyphenyl structures represented by the general formulas (2) to (7), the obtained optical compensation film is: The stability (heat resistance) at high temperature is further improved, which is more suitable.
本発明において、一般式(2)で示されるポリフェニル化合物におけるX1、X2はそれぞれ独立して一般式(X)で示される。該一般式(X)におけるR4、R5は、それぞれ独立してベンゼン環、ナフタレン環またはフルオレン環を示す。透明性がより優れるため、R4、R5は、ベンゼン環であることが好ましい。またヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、アシルオキシ基、アルコキシ基またはフェニル基で置換されていてもよい。これらの中でも、位相差性能が優れるため、置換基としては、ヒドロキシ基、フェニル基、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n−プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、メトキシ基が好ましい。 In the present invention, X 1 and X 2 in the polyphenyl compound represented by the general formula (2) are independently represented by the general formula (X). R 4 and R 5 in the general formula (X) independently represent a benzene ring, a naphthalene ring or a fluorene ring, respectively. R 4 and R 5 are preferably benzene rings because they are more transparent. Further, it may be substituted with a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an acyloxy group, an alkoxy group or a phenyl group. Among these, since the retardation performance is excellent, the substituents include hydroxy group, phenyl group, methyl group, ethyl group, isopropyl group, n-propyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group and methoxy. Groups are preferred.
本発明において、一般式(3)で示されるポリフェニル化合物におけるR6は、それぞれ独立してベンゼン環、ナフタレン環またはフルオレン環を示す。透明性がより優れるため、R6はベンゼン環であることが好ましい。またヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、アシルオキシ基、アルコキシ基またはフェニル基で置換されていてもよい。これらの中でも、位相差性能が優れるため、置換基としては、ヒドロキシ基、フェニル基、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n−プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、メトキシ基が好ましい。 In the present invention, R 6 in the polyphenyl compound represented by the general formula (3) independently represents a benzene ring, a naphthalene ring or a fluorene ring, respectively. R 6 is preferably a benzene ring because of its better transparency. Further, it may be substituted with a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an acyloxy group, an alkoxy group or a phenyl group. Among these, since the retardation performance is excellent, the substituents include hydroxy group, phenyl group, methyl group, ethyl group, isopropyl group, n-propyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group and methoxy. Groups are preferred.
また、一般式(3)で示されるポリフェニル化合物におけるA1、A2はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、フェニル基または一般式(X)で示される。これらの中でも、位相差性能が優れるため、水素、ヒドロキシ基、フェニル基、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n−プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、メトキシ基、一般式(X)が好ましく、水素、フェニル基、メチル基、メトキシ基、一般式(X)がさらに好ましい。 Further, A 1 and A 2 in the polyphenyl compound represented by the general formula (3) are independently hydrogen, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an acyloxy group, an alkoxy group, a phenyl group or a general formula. It is indicated by (X). Among these, hydrogen, hydroxy group, phenyl group, methyl group, ethyl group, isopropyl group, n-propyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, methoxy group, general The formula (X) is preferable, and hydrogen, phenyl group, methyl group, methoxy group, and general formula (X) are more preferable.
本発明において、一般式(4)で示されるポリフェニル化合物におけるA3〜A5は、それぞれ独立して、水素、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、フェニル基または一般式(X)で示される。これらの中でも、位相差性能が優れるため、水素、ヒドロキシ基、フェニル基、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n−プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、メトキシ基、一般式(X)が好ましく、水素、フェニル基、メチル基、メトキシ基、一般式(X)がさらに好ましい。 In the present invention, A 3 to A 5 are in polyphenyl compound represented by the general formula (4), each independently, hydrogen, hydroxy, alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an acyloxy group, an alkoxy group, a phenyl group Alternatively, it is represented by the general formula (X). Among these, hydrogen, hydroxy group, phenyl group, methyl group, ethyl group, isopropyl group, n-propyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, methoxy group, general The formula (X) is preferable, and hydrogen, phenyl group, methyl group, methoxy group, and general formula (X) are more preferable.
一般式(2)〜(4)で示されるポリフェニル化合物において、m=1〜6であり、透明性がより優れるため、m=1〜3であることが好ましい。 In the polyphenyl compounds represented by the general formulas (2) to (4), m = 1 to 6, and m = 1 to 3 is preferable because the transparency is more excellent.
なお、A1〜A5が一般式(X)である場合において、好ましいR4及びR5については、一般式(2)で示されるポリフェニル化合物の場合と同様である。 When A 1 to A 5 are of the general formula (X), preferable R 4 and R 5 are the same as for the polyphenyl compound represented by the general formula (2).
本発明において、一般式(5)〜(7)で示されるポリフェニル化合物におけるR7〜R15は、それぞれ独立して水素、ヒドロキシ基、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、炭素数1〜12のアルキル基、アシルオキシ基、またはアルコキシ基を示す。これらの中でも、位相差性能が優れるため、水素、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボン酸基、炭素数1〜12のアルキル基、アシルオキシ基、アルコキシ基が好ましく、水素、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボン酸基、炭素数1〜6の置換基、メトキシ基がさらに好ましい。 In the present invention, R 7 to R 15 in the polyphenyl compounds represented by the general formulas (5) to (7) are independently hydrogen, hydroxy group, nitro group, bromo group, iodo group, cyano group and chloro group, respectively. , A sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a fluoro group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an acyloxy group, or an alkoxy group. Among these, hydrogen, hydroxy group, cyano group, carboxylic acid group, alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, acyloxy group and alkoxy group are preferable, and hydrogen, hydroxy group, cyano group and carboxylic acid are preferable because of excellent phase difference performance. A group, a substituent having 1 to 6 carbon atoms, and a methoxy group are more preferable.
一般式(5)〜(7)で示されるポリフェニル化合物において、n=0〜4であり、透明性がより優れるため、n=1〜2であることが好ましい。 In the polyphenyl compounds represented by the general formulas (5) to (7), n = 0 to 4, and n = 1 to 2 is preferable because the transparency is more excellent.
本発明において、ポリフェニル化合物は、一般式(2)〜(7)で示されるポリフェニル構造からなる群から選ばれる少なくとも1種を含むことを特徴とする。該ポリフェニル化合物は、位相差特性が優れるため、一般式(2)または一般式(5)で示されるポリフェニル構造で形成されることが好ましい。また、該ポリフェニル化合物が一般式(5)で示されるポリフェニル構造で形成されるとき、R7〜R9が、水素、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボン酸基、炭素数1〜12のアルキル基、アシルオキシ基、またはアルコキシ基であることが好ましい。 In the present invention, the polyphenyl compound is characterized by containing at least one selected from the group consisting of polyphenyl structures represented by the general formulas (2) to (7). Since the polyphenyl compound has excellent phase difference characteristics, it is preferably formed with a polyphenyl structure represented by the general formula (2) or the general formula (5). Further, when the polyphenyl compound is formed with a polyphenyl structure represented by the general formula (5), R 7 to R 9 are hydrogen, a hydroxy group, a cyano group, a carboxylic acid group, and an alkyl having 1 to 12 carbon atoms. It is preferably a group, an acyloxy group, or an alkoxy group.
本発明の樹脂組成物におけるポリフェニル化合物の割合は0.01〜30重量%であり(上記の樹脂成分:70〜99.9重量%)、好ましくは0.1〜15重量%であり、さらに好ましくは0.3〜10重量%である。本発明において、ポリフェニル化合物の割合が0.01重量%未満であるとき、高温環境時、光学補償フィルムとしての性能が維持できず、耐熱性が低下する。また、30重量%より大きいとき、本発明の特徴である位相差特性に優れた光学補償フィルムが得られない。 The proportion of the polyphenyl compound in the resin composition of the present invention is 0.01 to 30% by weight (the above resin component: 70 to 99.9% by weight), preferably 0.1 to 15% by weight, and further. It is preferably 0.3 to 10% by weight. In the present invention, when the proportion of the polyphenyl compound is less than 0.01% by weight, the performance as an optical compensation film cannot be maintained in a high temperature environment, and the heat resistance is lowered. Further, when it is larger than 30% by weight, an optical compensation film having excellent retardation characteristics, which is a feature of the present invention, cannot be obtained.
これらのポリフェニル化合物は1種でもよく、2種以上混合して使用してもよい。 These polyphenyl compounds may be used alone or in admixture of two or more.
本発明の具体的なポリフェニル化合物としては、例えば、N,N,N’,N’−テトラフェニルベンジジン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(o−トリル)ベンジジン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(m−トリル)ベンジジン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(p−トリル)ベンジジン、N,N’−ビス(4−ホルミルフェニル)−N,N’−ジフェニルベンジジン、N,N’−ジ(4−ビフェニリル)−N,N’−ジフェニルベンジジン、N,N’−ビス(4−メトキシ−2−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニルベンジジン、N,N’−ジ−1−ナフチル−N,N’−ジフェニルベンジジン、N,N’−ビス[4−(ジフェニルアミノ)フェニル]−N,N’−ジフェニルベンジジン、N,N’−ビス[4−(ジフェニルアミノ)フェニル]−N,N’−ジ(1−ナフチル)ベンジジン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス[4’−(ジフェニルアミノ)ビフェニル−4−イル]ベンジジン、4−シアノビフェニル、4−シアノ−4’−メチルビフェニル、4−シアノ−4’−エチルビフェニル、4−シアノ−4’−プロピルビフェニル、4−シアノ−4’−ペンチルビフェニル、4−シアノ−4’−ヒドロキシビフェニル、4−シアノ−4’’−プロピル−p−テルフェニル、4−シアノ−4’’−ペンチル−p−テルフェニル、4−アミノ−p−テルフェニル、4,4’’−ジアミノ−p−テルフェニル、4−アミノ−2,6−ジフェニルフェノール、4−アニリノ−1,1’:4’,1’’−テルフェニル、2’−フルオロ−4−ペンチル−4’’−プロピル−1,1’:4’,1’’−テルフェニル、4,4’’’−ジヒドロキシ−p−クォーターフェニルが挙げられ、位相差特性と透明性が優れるため、N,N,N’,N’−テトラフェニルベンジジン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(o−トリル)ベンジジン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(m−トリル)ベンジジン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(p−トリル)ベンジジン、N,N’−ビス(4−ホルミルフェニル)−N,N’−ジフェニルベンジジン、N,N’−ジ(4−ビフェニリル)−N,N’−ジフェニルベンジジン、N,N’−ビス(4−メトキシ−2−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニルベンジジン、4−シアノ−4’’−プロピル−p−テルフェニル、4−シアノ−4’’−ペンチル−p−テルフェニル、4−アミノ−p−テルフェニル、4,4’’−ジアミノ−p−テルフェニル、4,4’’’−ジヒドロキシ−p−クォーターフェニルが好ましい。 Specific polyphenyl compounds of the present invention include, for example, N, N, N', N'-tetraphenylbenzidine, N, N'-diphenyl-N, N'-di (o-tolyl) benzidine, N, N'-diphenyl-N, N'-di (m-tolyl) benzidine, N, N'-diphenyl-N, N'-di (p-tolyl) benzidine, N, N'-bis (4-formylphenyl) -N, N'-diphenylbenzidine, N, N'-di (4-biphenylyl) -N, N'-diphenylbenzidine, N, N'-bis (4-methoxy-2-methylphenyl) -N, N' -Diphenylbenzidine, N, N'-di-1-naphthyl-N, N'-diphenylbenzidine, N, N'-bis [4- (diphenylamino) phenyl] -N, N'-diphenylbenzidine, N, N '-Bis [4- (diphenylamino) phenyl] -N, N'-di (1-naphthyl) benzidine, N, N'-diphenyl-N, N'-bis [4'-(diphenylamino) biphenyl-4 -Il] benzidine, 4-cyanobiphenyl, 4-cyano-4'-methylbiphenyl, 4-cyano-4'-ethylbiphenyl, 4-cyano-4'-propylbiphenyl, 4-cyano-4'-pentylbiphenyl, 4-Cyano-4'-hydroxybiphenyl, 4-cyano-4''-propyl-p-terphenyl, 4-cyano-4''-pentyl-p-terphenyl, 4-amino-p-terphenyl, 4 , 4''-diamino-p-terphenyl, 4-amino-2,6-diphenylphenol, 4-anilino-1,1': 4', 1''-terphenyl, 2'-fluoro-4-pentyl -4''-propyl-1,1': 4', 1''-terphenyl, 4,4'''-dihydroxy-p-quarterphenyl can be mentioned, and because of their excellent phase difference characteristics and transparency, N , N, N', N'-tetraphenylbenzidine, N, N'-diphenyl-N, N'-di (o-tolyl) benzidine, N, N'-diphenyl-N, N'-di (m-tolyl) ) Benzidine, N, N'-diphenyl-N, N'-di (p-tolyl) benzidine, N, N'-bis (4-formylphenyl) -N, N'-diphenylbenzidine, N, N'-di (4-Biphenylyl) -N, N'-diphenylbenzidine, N, N'-bis (4-methoxy-2-methylphenyl) -N, N'-diphenylbenzidine, 4-cyano-4''-propyl-p − Terphenyl, 4-Cyano-4''− Pentyl-p-terphenyl, 4-amino-p-terphenyl, 4,4 ″ -diamino-p-terphenyl, 4,4 ″-dihydroxy-p-quarterphenyl are preferred.
本発明の樹脂組成物は、熱安定性を向上させるために酸化防止剤を含有していても良い。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダ−ドフェノ−ル系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンE系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独でもよく、2種以上を組み合わせてもよい。 The resin composition of the present invention may contain an antioxidant in order to improve thermal stability. Antioxidants include, for example, hindered phenol-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, sulfur-based antioxidants, lactone-based antioxidants, amine-based antioxidants, hydroxylamine-based antioxidants, and vitamins. Examples thereof include E-based antioxidants and other antioxidants, and these antioxidants may be used alone or in combination of two or more.
本発明の樹脂組成物は、耐候性を高めるためヒンダ−ドアミン系光安定剤や紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾ−ル、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエ−ト等が挙げられる。 The resin composition of the present invention may contain a hindered amine-based light stabilizer or an ultraviolet absorber in order to enhance weather resistance. Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazol, benzophenone, triazine, benzoate and the like.
本発明の樹脂組成物は、発明の主旨を超えない範囲で、その他ポリマ−、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を含有していてもよい。 The resin composition of the present invention contains other polymers, surfactants, polymer electrolytes, conductive complexes, pigments, dyes, antistatic agents, antiblocking agents, lubricants, etc., as long as the gist of the invention is not exceeded. May be.
本発明の樹脂組成物は、セルロ−ス系樹脂と負の複屈折性を示すエステル系樹脂、さらにポリフェニル化合物(以下、樹脂等という)をブレンドすることにより得ることができる。 The resin composition of the present invention can be obtained by blending a cellulosic resin, an ester resin exhibiting negative birefringence, and a polyphenyl compound (hereinafter referred to as a resin or the like).
ブレンドの方法としては、溶融ブレンド、溶液ブレンド等の方法を用いることができる。溶融ブレンド法とは、加熱により樹脂等を溶融させて混練することにより製造する方法である。溶液ブレンド法とは樹脂等を溶剤に溶解しブレンドする方法である。溶液ブレンドに用いる溶剤としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルムなどの塩素系溶剤;トルエン、キシレンなどの芳香族溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤;メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル等のアルコ−ル溶剤;ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ−テル溶剤;ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等を用いることができる。樹脂等を溶剤に溶解したのちブレンドすることも可能であり、各樹脂の粉体、ペレット等を混練後、溶剤に溶解させることも可能である。得られたブレンド樹脂溶液を貧溶剤に投入し、樹脂組成物を析出させることも可能であり、またブレンド樹脂溶液のまま光学補償フィルムの製造に用いることも可能である。 As a blending method, a method such as melt blending or solution blending can be used. The melt blending method is a method of producing by melting a resin or the like by heating and kneading the resin or the like. The solution blending method is a method in which a resin or the like is dissolved in a solvent and blended. Examples of the solvent used for the solution blend include chlorine-based solvents such as methylene chloride and chloroform; aromatic solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; Chloroform solvent such as propanol; ether solvent such as dioxane and tetrahydrofuran; dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and the like can be used. It is also possible to dissolve the resin or the like in a solvent and then blend it, and it is also possible to knead the powder, pellets or the like of each resin and then dissolve it in the solvent. It is also possible to put the obtained blended resin solution into a poor solvent to precipitate the resin composition, and it is also possible to use the blended resin solution as it is for producing an optical compensation film.
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、フィルムの取扱い性及び光学部材の薄膜化への適合性の観点から、厚みが5〜200μmであることが好ましく、10〜100μmがさらに好ましく、20〜80μmが特に好ましく、10〜60μmがもっとも好ましい。 The optical compensation film using the resin composition of the present invention preferably has a thickness of 5 to 200 μm, more preferably 10 to 100 μm, from the viewpoint of the handleability of the film and the compatibility of the optical member with thinning. 20 to 80 μm is particularly preferable, and 10 to 60 μm is most preferable.
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの位相差特性は、目的とする光学補償フィルムにより異なるものであり、例えば、1)下記式(a)で示される面内位相差(Re)が好ましくは50〜300nm、さらに好ましくは100〜300nm、特に好ましくは100〜280nmであって、下記式(c)で示されるNz係数が好ましくは0.30〜1.00、さらに好ましくは0.35〜0.65、特に好ましくは0.45〜0.55であるもの、2)下記式(b)で示される面外位相差(Rth)が好ましくは−400〜20nm、さらに好ましくは−400〜―100nm、特に好ましくは−400〜−200nmであるもの等が挙げられる。このときの位相差特性は全自動複屈折計(王子計測機器株式会社製、商品名KOBRA−21ADH)を用い、測定波長589nmの条件で測定されるものである。 The phase difference characteristics of the optical compensation film using the resin composition of the present invention differ depending on the target optical compensation film. For example, 1) the in-plane retardation (Re) represented by the following formula (a) is found. It is preferably 50 to 300 nm, more preferably 100 to 300 nm, particularly preferably 100 to 280 nm, and the Nz coefficient represented by the following formula (c) is preferably 0.30 to 1.00, still more preferably 0.35. ~ 0.65, particularly preferably 0.45 to 0.55, 2) The out-of-plane phase difference (Rth) represented by the following formula (b) is preferably −400 to 20 nm, more preferably −400 to −400. Examples thereof include those having a diameter of −100 nm, particularly preferably −400 to −200 nm. The phase difference characteristic at this time is measured using a fully automatic birefringence meter (manufactured by Oji Measuring Instruments Co., Ltd., trade name KOBRA-21ADH) under the condition of a measurement wavelength of 589 nm.
これらは、従来のセルロ−ス系樹脂からなる光学補償フィルムでは発現が困難な位相差特性を有している。 These have retardation characteristics that are difficult to develop with an optical compensation film made of a conventional cellulosic resin.
Re=(ny−nx)×D (a)
Rth=[(nx+ny)/2−nz]×D (b)
Nz=(ny−nz)/(ny−nx) (c)
(式中、nxはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、nzはフィルム面外の屈折率を示し、Dはフィルム厚みを示す。)
本発明の光学フィルムの波長分散特性としては、色ずれ抑制のため、好ましくは0.60<Re(450)/Re(550)<1.05であり、さらに好ましくは0.70<Re(450)/Re(550)<1.02であり、特に好ましくは0.75<Re(450)/Re(550)<1.00である。
Re = (ny-nx) x D (a)
Rth = [(nx + ny) /2-nz] x D (b)
Nz = (ny-nz) / (ny-nx) (c)
(In the formula, nx indicates the refractive index in the phase-advancing axis direction in the film surface, ny indicates the refractive index in the slow-phase axial direction in the film surface, nz indicates the refractive index outside the film surface, and D indicates the film. Indicates the thickness.)
The wavelength dispersion characteristic of the optical film of the present invention is preferably 0.60 <Re (450) / Re (550) <1.05, more preferably 0.70 <Re (450), in order to suppress color shift. ) / Re (550) <1.02, and particularly preferably 0.75 <Re (450) / Re (550) <1.00.
本発明のセルロ−ス系樹脂としてセルロ−スエ−テルを使用した場合、単独では、低波長分散の光学フィルムを提供することができる。このフィルムに、延伸方向に対して負の複屈折性を示すエステル系樹脂をブレンドした樹脂組成物は、一般的に逆波長分散性を示す光学フィルムを提供することができるものである。 When a cellulosic ether is used as the cellulosic resin of the present invention, it is possible to provide an optical film having a low wavelength dispersion by itself. A resin composition obtained by blending this film with an ester-based resin exhibiting negative birefringence with respect to the stretching direction can generally provide an optical film exhibiting reverse wavelength dispersibility.
これらの位相差特性および波長分散特性を同時に満足することは、一般にセルロ−ス系樹脂を用いた光学補償フィルムでは発現が困難であるが、本発明においてセルロ−スエ−テルを用いる場合には、本発明に係る樹脂組成物を用いた光学補償フィルムがこれらの特性を同時に満足するものである。 Satisfying these retardation characteristics and wavelength dispersion characteristics at the same time is generally difficult to achieve with an optical compensation film using a cellulosic resin, but when a cellulosic ether is used in the present invention, it is difficult to achieve this. An optical compensation film using the resin composition according to the present invention satisfies these characteristics at the same time.
本発明の光学補償フィルムは、必要膜厚を薄くするため、589nmにおけるレタ−デ−ションとフィルム膜厚の比Re(589)(nm)/フィルム膜厚(μm)が4.0nm/μm以上であることが好ましい。 In order to reduce the required film thickness, the optical compensation film of the present invention has a ratio of retardation to film thickness at 589 nm Re (589) (nm) / film thickness (μm) of 4.0 nm / μm or more. Is preferable.
本発明の光学補償フィルムは、輝度向上のため、光線透過率が好ましくは85%以上、さらに好ましくは90%以上である。 The optical compensation film of the present invention has a light transmittance of preferably 85% or more, more preferably 90% or more in order to improve the brightness.
本発明の光学補償フィルムは、コントラスト向上のため、ヘ−ズが好ましくは1%以下、さらに好ましくは0.5%以下である。 The optical compensation film of the present invention has a haze of preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, in order to improve contrast.
本発明の光学補償フィルムは、色相が無色の方が好ましいため、黄色度YIが好ましくは2以下、さらに好ましくは1以下である。 Since the optical compensation film of the present invention preferably has a colorless hue, the yellowness YI is preferably 2 or less, more preferably 1 or less.
本発明の光学補償フィルムの85℃環境下500時間後におけるヘーズは、コントラスト向上のため好ましくは3%以下、さらに好ましくは1%以下、特に好ましくは0.5%以下である。また、85℃環境下500時間後における黄色度YIは、色相が無色の方が好ましいため、好ましくは2以下、さらに好ましくは1以下である。 The haze of the optical compensation film of the present invention after 500 hours in an environment of 85 ° C. is preferably 3% or less, more preferably 1% or less, and particularly preferably 0.5% or less in order to improve contrast. Further, the yellowness YI after 500 hours in an environment of 85 ° C. is preferably 2 or less, more preferably 1 or less because the hue is preferably colorless.
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの製造方法としては、本発明の光学補償フィルムの製造が可能であれば如何なる方法を用いてもよいが、光学特性、耐熱性、表面特性などに優れる光学補償フィルムが得られることから、溶液キャスト法により製造することが好ましい。ここで、溶液キャスト法とは、樹脂溶液(一般にはド−プと称する。)を支持基板上に流延した後、加熱することにより溶媒を蒸発させて光学補償フィルムを得る方法である。流延する方法としては、例えば、Tダイ法、ドクタ−ブレ−ド法、バ−コ−タ−法、ロ−ルコ−タ−法、リップコ−タ−法等が用いられ、工業的には、ダイからド−プをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が一般的に用いられている。また、用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレ−ト等のプラスチック基板などがある。高度に表面性、光学均質性の優れた基板を工業的に連続製膜するには、表面を鏡面仕上げした金属基板が好ましく用いられる。溶液キャスト法において、厚み精度、表面平滑性に優れた光学補償フィルムを製造する際には、樹脂溶液の粘度は極めて重要な因子であり、樹脂溶液の粘度は樹脂の濃度、分子量、溶媒の種類に依存するものである。 As a method for producing an optical compensation film using the resin composition of the present invention, any method may be used as long as the optical compensation film of the present invention can be produced, but in terms of optical characteristics, heat resistance, surface characteristics, etc. Since an excellent optical compensation film can be obtained, it is preferably produced by the solution casting method. Here, the solution casting method is a method in which a resin solution (generally referred to as a dope) is cast on a support substrate and then heated to evaporate the solvent to obtain an optical compensation film. As a method of spreading, for example, a T-die method, a doctor-blade method, a bar coater method, a roll coater method, a lip coater method and the like are used, and industrially , A method of continuously extruding a dope from a die onto a belt-shaped or drum-shaped support substrate is generally used. Further, examples of the support substrate used include a glass substrate, a metal substrate such as stainless steel and a ferrotype, and a plastic substrate such as polyethylene terephthalate. A metal substrate having a mirror-finished surface is preferably used for industrial continuous film formation of a substrate having highly excellent surface properties and optical homogeneity. In the solution casting method, the viscosity of the resin solution is an extremely important factor when producing an optical compensation film having excellent thickness accuracy and surface smoothness, and the viscosity of the resin solution is the concentration of the resin, the molecular weight, and the type of solvent. It depends on.
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムを製造する際の樹脂溶液は、セルロ−ス系樹脂、負の複屈折性を示すエステル系樹脂、ポリフェニル化合物を溶媒に溶解し調製する。樹脂溶液の粘度は、重合体の分子量、重合体の濃度、溶媒の種類で調整可能である。樹脂溶液の粘度としては特に制限はないが、フィルム塗工性をより容易にするため、好ましくは100〜10000cps、さらに好ましくは300〜5000cps、特に好ましくは500〜3000cpsである。 The resin solution for producing an optical compensation film using the resin composition of the present invention is prepared by dissolving a cellulosic resin, an ester resin exhibiting negative birefringence, and a polyphenyl compound in a solvent. The viscosity of the resin solution can be adjusted by adjusting the molecular weight of the polymer, the concentration of the polymer, and the type of solvent. The viscosity of the resin solution is not particularly limited, but is preferably 100 to 10000 cps, more preferably 300 to 5000 cps, and particularly preferably 500 to 3000 cps in order to facilitate film coatability.
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの製造方法としては、例えば、樹脂成分として一般式(1)で示されるセルロ−ス系樹脂29.99〜98.99重量%および負の複屈折性を示すエステル系樹脂1〜70重量%を含有し、さらに、ポリフェニル化合物を溶剤に溶解し、得られた樹脂溶液を基材にキャストし、乾燥後、基材より剥離することが挙げられる。 As a method for producing an optical compensation film using the resin composition of the present invention, for example, the cellulosic resin represented by the general formula (1) as a resin component is 29.99 to 98.9% by weight and negative birefringence. It contains 1 to 70% by weight of an ester resin exhibiting properties, and further, a polyphenyl compound is dissolved in a solvent, the obtained resin solution is cast on a base material, dried, and then peeled off from the base material. ..
本発明の樹脂組成物を用いて得られた光学補償フィルムは、面内位相差(Re)を発現するために一軸延伸またはアンバランス二軸延伸することが好ましい。光学補償フィルムを延伸する方法としては、ロ−ル延伸による縦一軸延伸法やテンタ−延伸による横一軸延伸法、これらの組み合わせによるアンバランス逐次二軸延伸法やアンバランス同時二軸延伸法等を用いることができる。また本発明では、熱収縮性フィルムの収縮力の作用下に延伸を行う特殊延伸法を用いずに位相差特性を発現させることができる。 The optical compensation film obtained by using the resin composition of the present invention is preferably uniaxially stretched or unbalanced biaxially stretched in order to exhibit an in-plane retardation (Re). As a method for stretching the optical compensation film, a longitudinal uniaxial stretching method by roll stretching, a horizontal uniaxial stretching method by tenter stretching, an unbalanced sequential biaxial stretching method by a combination of these, an unbalanced simultaneous biaxial stretching method, etc. are used. Can be used. Further, in the present invention, the phase difference characteristic can be exhibited without using a special stretching method in which stretching is performed under the action of the shrinking force of the heat-shrinkable film.
延伸する際の光学補償フィルムの厚みは、延伸処理のし易さおよび光学部材の薄膜化への適合性の観点から、10〜200μmが好ましく、15〜150μmがさらに好ましく、15〜100μmが特に好ましい。 The thickness of the optical compensation film at the time of stretching is preferably 10 to 200 μm, more preferably 15 to 150 μm, and particularly preferably 15 to 100 μm from the viewpoint of ease of stretching treatment and compatibility with thinning of the optical member. ..
延伸の温度は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、好ましくは50〜200℃、さらに好ましくは100〜180℃である。一軸延伸の延伸倍率は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、1.05〜4.0倍が好ましく、1.1〜3.5倍がさらに好ましい。アンバランス二軸延伸の延伸倍率は特に制限はないが、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから長さ方向には1.05〜4.0倍が好ましく、1.1〜3.5倍がさらに好ましく、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから、幅方向には1.01〜1.2倍が好ましく、1.05〜1.1倍がさらに好ましい。延伸温度、延伸倍率により面内位相差(Re)を制御することができる。 The stretching temperature is not particularly limited, but is preferably 50 to 200 ° C., more preferably 100 to 180 ° C., because good phase difference characteristics can be obtained. The draw ratio of uniaxial stretching is not particularly limited, but 1.05 to 4.0 times is preferable, and 1.1 to 3.5 times is more preferable, because good retardation characteristics can be obtained. The draw ratio of unbalanced biaxial stretching is not particularly limited, but 1.05 to 4.0 times is preferable in the length direction, and 1.1 to 3.5 times, because the optical compensation film has excellent optical characteristics. The magnification is more preferable, and the optical compensation film having excellent optical characteristics is obtained. Therefore, 1.01 to 1.2 times is preferable in the width direction, and 1.05 to 1.1 times is further preferable. The in-plane phase difference (Re) can be controlled by the stretching temperature and the stretching ratio.
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、必要に応じて他樹脂を含むフィルムと積層することができる。他樹脂としては、例えば、ポリエ−テルサルフォン、ポリアリレ−ト、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリナフタレンテレフタレ−ト、ポリカ−ボネ−ト、環状ポリオレフィン、マレイミド系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド等が挙げられる。また、ハ−ドコ−ト層やガスバリア層を積層することも可能である。 The optical compensation film using the resin composition of the present invention can be laminated with a film containing another resin, if necessary. Examples of other resins include polyether sulfone, polyarylate, polyethylene terephthalate, polynaphthalene terephthalate, polycarbonate, cyclic polyolefin, maleimide resin, fluororesin, polyimide and the like. Be done. It is also possible to stack a hard coat layer and a gas barrier layer.
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、λ/4板またはλ/2板として用いることが可能である。 The optical compensation film using the resin composition of the present invention can be used as a λ / 4 plate or a λ / 2 plate.
また、本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、偏光板と組み合わせて円偏光フィルムとして用いることが可能である。 Further, the optical compensation film using the resin composition of the present invention can be used as a circularly polarizing film in combination with a polarizing plate.
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、薄膜で特定の位相差特性および特定の波長分散特性を示し、また高温下における透明性及び色相の安定性に優れることから、液晶ディスプレイ用光学補償フィルムや反射防止用フィルムとして有用である。 The optical compensation film using the resin composition of the present invention exhibits specific retardation characteristics and specific wavelength dispersion characteristics in a thin film, and is excellent in transparency and hue stability at high temperatures. Therefore, optics for liquid crystal displays. It is useful as a compensation film and an antireflection film.
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。 The physical properties shown in the examples were measured by the following methods.
<重合体の解析>
重合体の構造解析は核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名:JNM−GX270)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(1H−NMR)スペクトル分析より求めた。
<Polymer analysis>
The structural analysis of the polymer was determined by proton nuclear magnetic resonance spectroscopy (1 H-NMR) spectral analysis using a nuclear magnetic resonance measuring device (manufactured by JEOL Ltd., trade name: JNM-GX270).
1H−NMRスペクトル分析より組成比解析が困難な場合はJIS K 2501(2003版)石油製品及び潤滑油−中和価試験方法に則ってフマル酸モノエステル濃度を求めた。 1 When the composition ratio analysis was difficult from the H-NMR spectrum analysis, the fumaric acid monoester concentration was determined according to the JIS K 2501 (2003 version) petroleum product and lubricating oil-neutralization value test method.
<数平均分子量の測定>
ゲル・パ−ミエイション・クロマトグラフィ−(GPC)装置(東ソ−製、商品名:C0−8011(カラムGMHHR−Hを装着))を用い、テトラヒドロフラン、またはジメチルホルムアミドを溶媒として、40℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
<Measurement of number average molecular weight>
Gel Pas - Mieishon chromatography - (GPC) apparatus (Tosoh - trade name: C0-8011 (fitted with a column GMH HR -H)) using tetrahydrofuran or dimethylformamide as solvent, measured at 40 ° C. Then, it was calculated as a standard polystyrene conversion value.
<光学補償フィルムの光線透過率およびヘ−ズの測定>
作成したフィルムの光線透過率およびヘ−ズは、ヘ−ズメ−タ−(日本電色工業製、商品名:NDH2000)を使用し、光線透過率はJIS K 7361−1(1997版)に、ヘ−ズはJIS−K 7136(2000年版)に、それぞれ準拠して測定した。
<Measurement of light transmittance and haze of optical compensation film>
For the light transmittance and haze of the produced film, use a haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Industries, Ltd., trade name: NDH2000), and the light transmittance is JIS K 7361-1 (1997 version). , Haze was measured according to JIS-K 7136 (2000 version).
<光学補償フィルムの黄色度YIの測定>
作成したフィルムの黄色度YIは、分光色彩計(日本電色工業製、商品名:SD−5000)を使用し、JIS−K 7373に準拠して測定した。
<Measurement of yellowness YI of optical compensation film>
The yellowness YI of the produced film was measured using a spectrocolorimeter (manufactured by Nippon Denshoku Industries, Ltd., trade name: SD-5000) in accordance with JIS-K 7373.
<位相差特性の測定>
試料傾斜型自動複屈折計(王子計測機器製、商品名:KOBRA−WR)を用いて波長589nmの光を用いて光学補償フィルムの位相差特性を測定した。
<Measurement of phase difference characteristics>
The phase difference characteristic of the optical compensation film was measured using light having a wavelength of 589 nm using a sample tilt type automatic birefringence meter (manufactured by Oji Measuring Instruments, trade name: KOBRA-WR).
<波長分散特性の測定>
試料傾斜型自動複屈折計(王子計測機器製、商品名:KOBRA−WR)を用い、波長450nmの光による位相差Re(450)と波長550nmの光による位相差Re(550)の比として光学補償フィルムの波長分散特性を測定した。
<Measurement of wavelength dispersion characteristics>
Using a sample tilt type automatic birefringence meter (manufactured by Oji Measuring Instruments, trade name: KOBRA-WR), the ratio of the phase difference Re (450) due to light with a wavelength of 450 nm and the phase difference Re (550) due to light with a wavelength of 550 nm is optical. The wavelength dispersion characteristics of the compensation film were measured.
<耐熱性の測定>
ギヤーオーブン(東洋精機製作所製、商品名:STD60P)(置換率3回/min)を用いて85℃の高温環境下とし、500時間後のヘーズとYIを調べる(以下、「熱耐久試験」という)ことで耐熱性の測定をした。
<Measurement of heat resistance>
Using a gear oven (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, trade name: STD60P) (replacement rate 3 times / min) in a high temperature environment of 85 ° C., the haze and YI after 500 hours are examined (hereinafter referred to as "heat durability test"). ), The heat resistance was measured.
合成例1(負の複屈折性を示すエステル系樹脂(フマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノエチル系樹脂)の合成1)
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル42g、フマル酸モノエチル7.7gおよび重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.66gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを55℃の恒温槽に入れ、24時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン200gで溶解させた。このポリマー溶液を4Lのヘキサン中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノエチル系樹脂27gを得た。得られた樹脂の数平均分子量は53,000、フマル酸ジイソプロピル残基単位82モル%、フマル酸モノエチル残基単位18モル%であった。
Synthesis Example 1 (Synthesis of ester resin showing negative birefringence (diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate) 1)
42 g of diisopropyl fumarate, 7.7 g of monoethyl fumarate and 0.66 g of tert-butylperoxypivalate as a polymerization initiator were placed in a glass ampoule having a capacity of 75 mL, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was melted under reduced pressure. did. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 55 ° C. and held for 24 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 200 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 4 L of hexane to precipitate, and then vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 27 g of a diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate resin. The number average molecular weight of the obtained resin was 53,000, the diisopropyl fumarate residue unit was 82 mol%, and the monoethyl fumarate residue unit was 18 mol%.
合成例2(負の複屈折性を示すエステル系樹脂(フマル酸モノエチル/フマル酸ジイソプロピル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル系樹脂)の合成2)
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸モノエチル6.7g、フマル酸ジイソプロピル37g、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル6.1gおよび重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン1.48gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを60℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン50gで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール/水=70/30(重量%/重量%)中に滴下して析出、メタノール/水=70/30(重量%/重量%)2kgで洗浄した後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸モノエチル/フマル酸ジイソプロピル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル系樹脂26gを得た。得られた樹脂の数平均分子量は32,000、フマル酸モノエチル残基単位15モル%、フマル酸ジイソプロピル残基単位72モル%、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位13モル%であった。
Synthesis Example 2 (Synthesis of ester resin showing negative birefringence (monoethyl fumarate / diisopropyl fumarate / n-propyl 4-methoxycinnamate) 2)
In a glass ampoule with a capacity of 75 mL, 6.7 g of monoethyl fumarate, 37 g of diisopropyl fumarate, 6.1 g of n-propyl 4-methoxycinnamate and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-di) as a polymerization initiator 1.48 g of ethylhexanoylperoxy) hexane was added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 60 ° C. and held for 48 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 50 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to methanol / water = 70/30 (% by weight / wt%) to precipitate, washed with methanol / water = 70/30 (% by weight / wt%) 2 kg, and then at 80 ° C. for 10 hours. By vacuum drying, 26 g of monoethyl fumarate / diisopropyl fumarate / n-propyl 4-methoxysilicate dermatate was obtained. The number average molecular weight of the obtained resin was 32,000, monoethyl fumarate residue unit 15 mol%, diisopropyl fumarate residue unit 72 mol%, and n-propyl fumarate n-propyl residue unit 13 mol%. It was.
合成例3(負の複屈折性を示すエステル系樹脂(フマル酸モノエチル/フマル酸ジイソプロピル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル系樹脂)の合成3)
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸モノエチル1.6g、フマル酸ジイソプロピル4.8g、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル44gおよび重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン1.18gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを60℃の恒温槽に入れ、60時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン50gで溶解させた。このポリマー溶液をヘキサン中に滴下して析出、ヘキサン2kgで洗浄した後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸モノエチル/フマル酸ジイソプロピル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル系樹脂11gを得た。得られた樹脂の数平均分子量は36,000、フマル酸モノエチル残基単位7モル%、フマル酸ジイソプロピル残基単位11モル%、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位82モル%であった。
Synthesis Example 3 (Synthesis of ester resin showing negative birefringence (monoethyl fumarate / diisopropyl fumarate / n-propyl 4-methoxycinnamate) 3)
In a glass ampoule with a capacity of 75 mL, 1.6 g of monoethyl fumarate, 4.8 g of diisopropyl fumarate, 44 g of n-propyl 4-methoxycinnamate and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-), which is a polymerization initiator. 1.18 g of ethylhexanoylperoxy) hexane was added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 60 ° C. and held for 60 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 50 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into hexane to precipitate, washed with 2 kg of hexane, and then vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 11 g of monoethyl fumarate / diisopropyl fumarate / n-propyl 4-methoxysilicate resin. Got The number average molecular weight of the obtained resin was 36,000, monoethyl fumarate residue unit 7 mol%, diisopropyl fumarate residue unit 11 mol%, and n-propyl fumarate n-propyl residue unit 82 mol%. It was.
実施例1
セルロース系樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード(ETHOCEL standard)100、分子量Mn=55,000、分子量Mw=176,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.5)75g、合成例1により得られたフマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノエチル系樹脂75g、およびN,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(m−トリル)ベンジジン7.89gをトルエン/アセトン=8/2(重量比)溶液に溶解して18重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度60℃の後140℃にて2段乾燥した後、幅150mmの光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(セルロース系樹脂:47.5重量%、負の複屈折性を示すエステル系樹脂:47.5重量%、ポリフェニル化合物:5重量%)。得られた光学補償フィルムを50mm角に切り出し、所定の延伸温度で2.0倍に一軸延伸した(延伸後の厚み30μm)。
Example 1
Ethyl cellulose as a cellulosic resin (ETHOCEL standard 100 manufactured by Dow Chemical Co., Ltd., molecular weight Mn = 55,000, molecular weight Mw = 176,000, Mw / Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2.5) 75 g, 75 g of diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate resin obtained in Synthesis Example 1, and 7.89 g of N, N'-diphenyl-N, N'-di (m-tolyl) benzidine were added to toluene / acetone = 8 /. Dissolve in 2 (weight ratio) solution to make an 18% by weight resin solution, spill it on a polyethylene terephthalate film with a coater, dry it in two stages at 140 ° C after a drying temperature of 60 ° C, and then optical compensation film with a width of 150 mm. (Resin composition) was obtained (cellulosic resin: 47.5% by weight, ester resin exhibiting negative compound refractive property: 47.5% by weight, polyphenyl compound: 5% by weight). The obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at a predetermined stretching temperature (thickness after stretching: 30 μm).
延伸後の光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、YI、位相差特性、および波長分散特性を測定した。また、熱耐久試験後のヘーズおよびYIを測定した。その結果を表1に示す。 The light transmittance, haze, YI, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the stretched optical compensation film were measured. In addition, the haze and YI after the thermal durability test were measured. The results are shown in Table 1.
得られたフィルムの熱耐久試験後のヘーズとYIは小さく、耐熱性の高いものであった。また、各光学特性が光学補償フィルムとして好適であった。 The haze and YI of the obtained film after the thermal durability test were small and had high heat resistance. Moreover, each optical characteristic was suitable as an optical compensation film.
実施例2
N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(m−トリル)ベンジジンの代わりにN,N’−ビス(4−メトキシ−2−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニルベンジジン7.89gを用いたこと以外は実施例1と同様にして、光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(セルロース系樹脂:47.5重量%、負の複屈折性を示すエステル系樹脂:47.5重量%、ポリフェニル化合物:5重量%)。
Example 2
7.89 g of N, N'-bis (4-methoxy-2-methylphenyl) -N, N'-diphenylbenzidine instead of N, N'-diphenyl-N, N'-di (m-tolyl) benzidine An optical compensation film (resin composition) was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was used (cellulose resin: 47.5% by weight, ester resin exhibiting negative birefractive property: 47.5% by weight). %, Polyphenyl compound: 5% by weight).
延伸後の光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、YI、位相差特性、および波長分散特性を測定した。また、熱耐久試験後のヘーズおよびYIを測定した。その結果を表1に合わせて示す。 The light transmittance, haze, YI, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the stretched optical compensation film were measured. In addition, the haze and YI after the thermal durability test were measured. The results are shown in Table 1.
得られたフィルムの熱耐久試験後のヘーズとYIは小さく、耐熱性の高いものであった。また、各光学特性が光学補償フィルムとして好適であった。 The haze and YI of the obtained film after the thermal durability test were small and had high heat resistance. Moreover, each optical characteristic was suitable as an optical compensation film.
実施例3
N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(m−トリル)ベンジジンの代わりに4−シアノ−4’’−ペンチル−p−テルフェニル7.89gを用いたこと以外は実施例1と同様にして、光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(セルロース系樹脂:47.5重量%、負の複屈折性を示すエステル系樹脂:47.5重量%、ポリフェニル化合物:5重量%)。
Example 3
Same as in Example 1 except that 7.89 g of 4-cyano-4''-pentyl-p-terphenyl was used instead of N, N'-diphenyl-N, N'-di (m-tolyl) benzidine. An optical compensation film (resin composition) was obtained (cellulosic resin: 47.5% by weight, ester resin exhibiting negative birefringence: 47.5% by weight, polyphenyl compound: 5% by weight). ..
延伸後の光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、YI、位相差特性、および波長分散特性を測定した。また、熱耐久試験後のヘーズおよびYIを測定した。その結果を表1に合わせて示す。 The light transmittance, haze, YI, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the stretched optical compensation film were measured. In addition, the haze and YI after the thermal durability test were measured. The results are shown in Table 1.
得られたフィルムの熱耐久試験後のヘーズとYIは小さく、耐熱性の高いものであった。また、各光学特性が光学補償フィルムとして好適であった。 The haze and YI of the obtained film after the thermal durability test were small and had high heat resistance. Moreover, each optical characteristic was suitable as an optical compensation film.
実施例4
実施例1で用いたエチルセルロース75g、合成例2により得られたフマル酸モノエチル/フマル酸ジイソプロピル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル系樹脂75g、および4,4’’’−ジヒドロキシ−p−クォーターフェニル3.06gをトルエン/アセトン=8/2(重量比)溶液に溶解して18重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度60℃の後140℃にて2段乾燥した後、幅150mmの光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(セルロース系樹脂:49重量%、負の複屈折性を示すエステル系樹脂:49重量%、ポリフェニル化合物:2重量%)。得られた光学補償フィルムを50mm角に切り出し、所定の延伸温度で2.0倍に一軸延伸した(延伸後の厚み30μm)。
Example 4
75 g of ethyl cellulose used in Example 1, 75 g of monoethyl fumarate / diisopropyl fumarate / n-propyl 4-methoxysilicate resin obtained in Synthesis Example 2, and 4,4'''-dihydroxy-p-quarter. 3.06 g of phenyl is dissolved in a toluene / acetone = 8/2 (weight ratio) solution to make an 18% by weight resin solution, which is spilled onto a polyethylene terephthalate film with a coater, and dried at 60 ° C. and then at 140 ° C. for 2 After step-drying, an optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm was obtained (cellulose resin: 49% by weight, ester resin exhibiting negative compound refractive property: 49% by weight, polyphenyl compound: 2% by weight). ). The obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at a predetermined stretching temperature (thickness after stretching: 30 μm).
延伸後の光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、YI、位相差特性、および波長分散特性を測定した。また、熱耐久試験後のヘーズおよびYIを測定した。その結果を表1に合わせて示す。 The light transmittance, haze, YI, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the stretched optical compensation film were measured. In addition, the haze and YI after the thermal durability test were measured. The results are shown in Table 1.
得られたフィルムの熱耐久試験後のヘーズとYIは小さく、耐熱性の高いものであった。また、各光学特性が光学補償フィルムとして好適であった。 The haze and YI of the obtained film after the thermal durability test were small and had high heat resistance. Moreover, each optical characteristic was suitable as an optical compensation film.
実施例5
4,4’’’−ジヒドロキシ−p−クォーターフェニルの代わりに4−アミノ−p−テルフェニル7.89gを用いたこと以外は実施例4と同様にして、光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(セルロース系樹脂:47.5重量%、負の複屈折性を示すエステル系樹脂:47.5重量%、ポリフェニル化合物:5重量%)。
Example 5
An optical compensation film (resin composition) was prepared in the same manner as in Example 4 except that 7.89 g of 4-amino-p-terphenyl was used instead of 4,4'''-dihydroxy-p-quarterphenyl. Obtained (cellulosic resin: 47.5% by weight, ester resin exhibiting negative birefringence: 47.5% by weight, polyphenyl compound: 5% by weight).
延伸後の光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、YI、位相差特性、および波長分散特性を測定した。また、熱耐久試験後のヘーズおよびYIを測定した。その結果を表1に合わせて示す。 The light transmittance, haze, YI, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the stretched optical compensation film were measured. In addition, the haze and YI after the thermal durability test were measured. The results are shown in Table 1.
得られたフィルムの熱耐久試験後のヘーズとYIは小さく、耐熱性の高いものであった。また、各光学特性が光学補償フィルムとして好適であった。 The haze and YI of the obtained film after the thermal durability test were small and had high heat resistance. Moreover, each optical characteristic was suitable as an optical compensation film.
実施例6
実施例1で用いたエチルセルロース88.4g、合成例3により得られたフマル酸モノエチル/フマル酸ジイソプロピル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル系樹脂61.6g、および4−シアノ−4’’−ペンチル−p−テルフェニル7.89gをトルエン/アセトン=8/2(重量比)溶液に溶解して18重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度60℃の後140℃にて2段乾燥した後、幅150mmの光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(セルロース系樹脂:56重量%、負の複屈折性を示すエステル系樹脂:39重量%、ポリフェニル化合物:5重量%)。得られた光学補償フィルムを50mm角に切り出し、所定の延伸温度で2.0倍に一軸延伸した(延伸後の厚み30μm)。
Example 6
88.4 g of ethyl cellulose used in Example 1, 61.6 g of monoethyl fumarate / diisopropyl fumarate / n-propyl 4-methoxysilicate resin obtained in Synthesis Example 3, and 4-cyano-4''-. 7.89 g of pentyl-p-terphenyl is dissolved in a toluene / acetone = 8/2 (weight ratio) solution to obtain an 18% by weight resin solution, which is then poured onto a polyethylene terephthalate film by a coater and after a drying temperature of 60 ° C. After two-stage drying at 140 ° C., an optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm was obtained (cellulose resin: 56% by weight, ester resin exhibiting negative compound refractive property: 39% by weight, polyphenyl). Compound: 5% by weight). The obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at a predetermined stretching temperature (thickness after stretching: 30 μm).
延伸後の光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、YI、位相差特性、および波長分散特性を測定した。また、熱耐久試験後のヘーズおよびYIを測定した。その結果を表1に合わせて示す。 The light transmittance, haze, YI, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the stretched optical compensation film were measured. In addition, the haze and YI after the thermal durability test were measured. The results are shown in Table 1.
得られたフィルムの熱耐久試験後のヘーズとYIは小さく、耐熱性の高いものであった。また、各光学特性が光学補償フィルムとして好適であった。 The haze and YI of the obtained film after the thermal durability test were small and had high heat resistance. Moreover, each optical characteristic was suitable as an optical compensation film.
実施例7
4−シアノ−4’’−ペンチル−p−テルフェニルの代わりにN,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(m−トリル)ベンジジン16.67gを用いたこと以外は実施例6と同様にして、光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(セルロース系樹脂:53重量%、負の複屈折性を示すエステル系樹脂:37重量%、ポリフェニル化合物:10重量%)。
Example 7
Same as in Example 6 except that 16.67 g of N, N'-diphenyl-N, N'-di (m-tolyl) benzidine was used instead of 4-cyano-4''-pentyl-p-terphenyl. An optical compensation film (resin composition) was obtained (cellulosic resin: 53% by weight, ester resin exhibiting negative birefringence: 37% by weight, polyphenyl compound: 10% by weight).
延伸後の光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、YI、位相差特性、および波長分散特性を測定した。また、熱耐久試験後のヘーズおよびYIを測定した。その結果を表1に合わせて示す。 The light transmittance, haze, YI, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the stretched optical compensation film were measured. In addition, the haze and YI after the thermal durability test were measured. The results are shown in Table 1.
得られたフィルムの熱耐久試験後のヘーズとYIは小さく、耐熱性の高いものであった。また、各光学特性が光学補償フィルムとして好適であった。 The haze and YI of the obtained film after the thermal durability test were small and had high heat resistance. Moreover, each optical characteristic was suitable as an optical compensation film.
比較例1
実施例1で用いたエチルセルロース88.5g、合成例3により得られたフマル酸モノエチル/フマル酸ジイソプロピル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル系樹脂61.5gをトルエン/アセトン=8/2(重量比)溶液に溶解して18重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度60℃の後140℃にて2段乾燥した後、幅150mmの光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(セルロース系樹脂:59重量%、負の複屈折性を示すエステル系樹脂:41重量%)。得られた光学補償フィルムを50mm角に切り出し、所定の延伸温度で2.0倍に一軸延伸した(延伸後の厚み30μm)。
Comparative Example 1
88.5 g of ethyl cellulose used in Example 1 and 61.5 g of monoethyl fumarate / diisopropyl fumarate / n-propyl 4-methoxysilicate dermatate obtained in Synthesis Example 3 were added to toluene / acetone = 8/2 (weight). Ratio) Dissolve in a solution to make an 18% by weight resin solution, sprinkle it on a polyethylene terephthalate film with a coater, dry it in two stages at 140 ° C after a drying temperature of 60 ° C, and then optical compensation film with a width of 150 mm (resin composition) (Cellulose-based resin: 59% by weight, ester-based resin exhibiting negative compound refractive property: 41% by weight). The obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at a predetermined stretching temperature (thickness after stretching: 30 μm).
延伸後の光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、YI、位相差特性、および波長分散特性を測定した。また、熱耐久試験後のヘーズおよびYIを測定した。その結果を表1に合わせて示す。 The light transmittance, haze, YI, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the stretched optical compensation film were measured. In addition, the haze and YI after the thermal durability test were measured. The results are shown in Table 1.
得られたフィルムの熱耐久試験後のYIは大きく、耐熱性の低いものであった。 The YI of the obtained film after the thermal durability test was large and the heat resistance was low.
Claims (8)
Re=(ny−nx)×D (a)
Rth=[(nx+ny)/2−nz]×D (b)
(式中、nxはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、nzはフィルム面外の屈折率を示し、Dはフィルム厚みを示す。) The resin composition according to any one of claims 1 to 4 is used, the in-plane phase difference (Re) represented by the following formula (a) is 0 to 20 nm, and the following formula (b) is used. An optical compensation film characterized in that the indicated out-of-plane phase difference (Rth) is −400 to 20 nm.
Re = (ny-nx) x D (a)
Rth = [(nx + ny) /2-nz] x D (b)
(In the formula, nx indicates the refractive index in the phase-advancing axis direction in the film surface, ny indicates the refractive index in the slow-phase axial direction in the film surface, nz indicates the refractive index outside the film surface, and D indicates the film. Indicates the thickness.)
Re=(ny−nx)×D (a)
Nz=(ny−nz)/(ny−nx) (c)
(式中、nxはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、nzはフィルム面外の屈折率を示し、Dはフィルム厚みを示す。) Using the resin composition according to any one of claims 1 to 4, in-plane retardation represented by the following formula (a) (Re) is 50 to 300 nm, the in-plane retardation at a wavelength of 450nm of light The ratio Re (450) / Re (550) of the in-plane phase difference (Re) at 550 nm is 0.60 to 1.05, and the Nz coefficient represented by the following formula (c) is 0. An optical compensation film characterized by being 3 to 1.0.
Re = (ny-nx) x D (a)
Nz = (ny-nz) / (ny-nx) (c)
(In the formula, nx indicates the refractive index in the phase-advancing axis direction in the film surface, ny indicates the refractive index in the slow-phase axial direction in the film surface, nz indicates the refractive index outside the film surface, and D indicates the film. Indicates the thickness.)
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