JP6904776B2

JP6904776B2 - Slit lamp microscope

Info

Publication number: JP6904776B2
Application number: JP2017091876A
Authority: JP
Inventors: 清水　仁; 清水　　仁
Original assignee: Topcon Corp
Current assignee: Topcon Corp
Priority date: 2017-05-02
Filing date: 2017-05-02
Publication date: 2021-07-21
Anticipated expiration: 2037-05-02
Also published as: JP2018187064A; WO2018203562A1

Description

本発明は、スリットランプ顕微鏡の改良に関する。 The present invention relates to an improvement of a slit lamp microscope.

一般に、スリットランプ顕微鏡は、スリット光を用いて角膜の光切片を切り取ることにより角膜の断面の画像を取得する眼科装置として広く眼科検診に使用されている。 Generally, a slit lamp microscope is widely used in ophthalmic examinations as an ophthalmic apparatus for acquiring an image of a cross section of a cornea by cutting out an optical section of the cornea using slit light.

特許文献１に開示されているように、このような従来のスリットランプ顕微鏡は、照明光を出力する光源を有し、光源から出力された照明光が配置間隔が可変な一対のスリット刃を有するスリット部を介することにより形成された任意の幅のスリット光を被検眼に照射する照明系と、前記スリット光の被検眼からの戻り光を撮像素子に導く観察系と、前記照明系及び観察系の作動を制御する制御部とを備えている。 As disclosed in Patent Document 1, such a conventional slit lamp microscope has a light source that outputs illumination light, and has a pair of slit blades in which the illumination light output from the light source has a variable arrangement interval. An illumination system that irradiates the eye to be inspected with slit light of an arbitrary width formed through the slit portion, an observation system that guides the return light of the slit light from the eye to be inspected to the image pickup element, and the illumination system and the observation system. It is equipped with a control unit that controls the operation of the light source.

このようなスリットランプ顕微鏡を使用して被検眼の観察、診断を行う場合、スリット光を角膜に照射して角膜を観察するものであるが、事情に応じてより詳細な観察が必要とされる場合は、高い照度で角膜を照明することが要請される場合がある。 When observing and diagnosing the eye to be examined using such a slit lamp microscope, the cornea is observed by irradiating the cornea with slit light, but more detailed observation is required depending on the circumstances. In some cases, it may be required to illuminate the cornea with high illuminance.

この場合、角膜に照射された光の一部は角膜において反射されるが、大部分の光は角膜を透過して眼底へ至ることとなるため、高い照度で角膜を照明した場合には、眼底への光障害に対する安全値を超えてしまう場合がある。 In this case, a part of the light applied to the cornea is reflected by the cornea, but most of the light passes through the cornea and reaches the cornea. Therefore, when the cornea is illuminated with high illuminance, the cornea is illuminated. It may exceed the safe value for light damage to.

従って、従来より、被検者に負担を与えることなく観察精度を向上させることが可能なスリットランプ顕微鏡が要請されていた。
特許公開第２０１４−１０８３３９号公報 Therefore, conventionally, there has been a demand for a slit lamp microscope capable of improving observation accuracy without imposing a burden on the subject.
Patent Publication No. 2014-108339

本発明はこのような従来からの不具合を解決するためのものであって、その課題は、被検者に負担を与えることなく観察精度を向上させることができるスリットランプ顕微鏡を提供することにある。 The present invention is for solving such a conventional problem, and an object of the present invention is to provide a slit lamp microscope capable of improving observation accuracy without imposing a burden on a subject. ..

上記課題達成のため、請求項１記載の発明にあっては、照明光を出力する光源を有し、前記照明光が開口部の面積を変更可能な光束制御部を通過することにより面積が制限された観察光を被検眼に照射する照明系と、前記観察光の被検眼からの戻り光を観察する観察系と、前記開口部の面積を検知する開口面積検知部を有し、当該開口面積検知部により検知された開口面積に基づき前記光源の光度を制御する制御部と、を備えたスリットランプ顕微鏡であって、前記光束制御部はスリット部を有し、前記スリット部は少なくとも配置間隔が可変な一対のスリット刃を有し、前記スリット刃の間隔を検知可能に形成され、前記光束制御部は視野絞り部を有し、複数の径の異なる開口を選択的に光軸上に配置することにより開口を通過する前記光束の径を可変とし、配置された開口を検知可能に形成されており、検者によって前記スリット部の一対のスリット刃の配置間隔及び前記視野絞り部の開口径が操作設定された場合には、前記制御部は前記開口面積検知部により検知された前記一対のスリット刃の配置間隔及び前記視野絞り部の開口径に基づき前記光源の最大光度値を決定すると共に、前記光源の光度値は前記最大光度値以下に設定されるように構成されていることを特徴とする。 In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 has a light source that outputs illumination light, and the area is limited by passing the illumination light through a luminous flux control unit that can change the area of the opening. It has an illumination system that irradiates the eye to be inspected with the observed light, an observation system that observes the return light of the observation light from the eye to be inspected, and an opening area detection unit that detects the area of the opening. A slit lamp microscope including a control unit that controls the light intensity of the light source based on the opening area detected by the detection unit. The luminous flux control unit has a slit portion, and the slit portions have at least an arrangement interval. It has a pair of variable slit blades and is formed so that the distance between the slit blades can be detected. The luminous flux control unit has a field focusing unit, and a plurality of openings having different diameters are selectively arranged on the optical axis. As a result, the diameter of the light flux passing through the opening is made variable so that the arranged opening can be detected, and the examiner can determine the arrangement interval of the pair of slit blades of the slit portion and the opening diameter of the field narrowing portion. When the operation is set, the control unit determines the maximum luminous flux value of the light source based on the arrangement interval of the pair of slit blades detected by the opening area detection unit and the opening diameter of the field aperture portion. The light intensity value of the light source is configured to be set to be equal to or lower than the maximum light intensity value .

請求項２記載の発明にあっては、前記光束制御部は、前記スリット部と、前記スリット部の反光源側に設けられた前記視野絞り部とを備え、前記視野絞り部は、前記光束に対して直交する方向において回転可能に配置された円盤状のターレットにより形成され、前記開口は前記ターレット本体において同心円上に配置された複数の円形開口部と単一の湾曲涙滴状開口部とからなり、前記湾曲涙滴状開口部は、大径円弧端部と、前記大径円弧端部に同心円の円周方向に対向して配置された小径円弧端部と、前記大径円弧端部から前記小径円弧端部にかけて徐々に幅寸法が小さくなるように形成された湾曲輪郭部とにより形成され、前記湾曲涙滴状開口部は前記スリット部を通過した光束の幅を連続的に変更制御しうることを特徴とする。 In the invention according to claim 2, the light beam control unit includes the slit portion and the field aperture portion provided on the anti-light source side of the slit portion, and the field aperture portion is formed on the light beam. It is formed by disc-shaped turrets rotatably arranged in directions orthogonal to each other, and the openings consist of a plurality of circular openings and a single curved teardrop-shaped opening arranged concentrically in the turret body. The curved teardrop-shaped opening is formed from the large-diameter arc end, the small-diameter arc end arranged concentrically opposed to the large-diameter arc end in the circumferential direction, and the large-diameter arc end. It is formed by a curved contour portion formed so that the width dimension gradually decreases toward the end of the small-diameter arc, and the curved teardrop-shaped opening continuously changes and controls the width of the light beam passing through the slit portion. It is characterized by being sick.

請求項３記載の発明にあっては、前記制御部は記憶部を有し、前記記憶部は、設定された一対のスリット刃の配置間隔幅及び視野絞り部の開口径からなる開口面積と、前記一対のスリット刃の配置間隔及び視野絞り部の開口径に対応した前記観察光が被検眼の眼底に照射された場合であっても眼底照度安全値を超えない適切な光源の最大光度値とからなるデータを格納しており、前記制御部は、前記記憶部のデータを参照して、前記開口面積検知部により検知されたスリット部のスリット幅及び視野絞り部の開口径に基づき前記光源の最大光度値を決定することを特徴とする。 In the invention according to claim 3, the control unit has a storage unit, and the storage unit includes an opening area consisting of a set spacing width of a pair of slit blades and an opening diameter of a field diaphragm portion. The maximum luminous intensity value of an appropriate light source that does not exceed the fundus illuminance safety value even when the observation light corresponding to the arrangement interval of the pair of slit blades and the opening diameter of the field diaphragm portion is applied to the fundus of the eye to be inspected. The control unit refers to the data of the storage unit and refers to the data of the light source based on the slit width of the slit portion and the opening diameter of the illuminance diaphragm portion detected by the opening area detection unit. It is characterized by determining the maximum luminous intensity value.

請求項４記載の発明にあっては、前記開口面積検知部は、スリット操作部の操作量を検知することにより前記スリット幅値を取得することを特徴とする。 The invention according to claim 4 is characterized in that the opening area detecting unit acquires the slit width value by detecting the operation amount of the slit operating unit .

請求項５記載の発明にあっては、前記開口面積検知部は、前記一対のスリット刃の移動量を検知することによりスリット幅値を検知することを特徴とする。 The invention according to claim 5 is characterized in that the opening area detecting unit detects a slit width value by detecting the amount of movement of the pair of slit blades .

請求項６記載の発明にあっては、前記開口面積検知部は、観察系に配置された撮像装置により取得された前眼部画像の開口像に基づき開口面積を検知することを特徴とする。 The invention according to claim 6 is characterized in that the aperture area detection unit detects an aperture area based on an aperture image of an anterior segment image acquired by an imaging device arranged in an observation system .

請求項７記載の発明にあっては、前記開口面積検知部は、前記ターレットを駆動するステッピングモータのステップを計測することにより前記ターレットの開口部により形成される開口径を検知することを特徴とする。 The invention according to claim 7 is characterized in that the opening area detecting unit detects the opening diameter formed by the opening of the turret by measuring the step of the stepping motor for driving the turret. do.

請求項８記載の発明にあっては、前記開口面積検知手段は、光検知部により前記ターレットの回転角度を検出することにより開口径を検知することを特徴とする。 The invention according to claim 8 is characterized in that the opening area detecting means detects the opening diameter by detecting the rotation angle of the turret with a light detecting unit .

従来は眼底照度を全ての条件で安全値以下に抑えるように光源の最大光度が均一に制限されていたため、例えば、スリット幅を狭め眼底照度が安全値に至る場合であっても光源の光度を上昇させることができず、観察部位をより詳細に観察することができない、という不具合があった。 In the past, the maximum luminous intensity of the light source was uniformly limited so as to keep the fundus illuminance below the safe value under all conditions. Therefore, for example, even when the slit width is narrowed and the fundus illuminance reaches the safe value, the luminous intensity of the light source is increased. There was a problem that it could not be raised and the observation site could not be observed in more detail.

これに対し、請求項１〜８記載の発明にあっては、前記開口部の面積を検知する開口面積検知部を有し、前記制御部は前記開口面積検知部により検知された開口面積に基づき光源の光度を制御するように構成されていることから、スリット部及び視野絞り部により設定された開口面積に対応して最大光度を可変にすることができることから、検者は設定された開口面積に応じた最大光度の範囲内であれば自由に光源の光度を上げることができ、被検眼に対する光障害の可能性を排除しつつ、より精密な観察を行うことが可能となる。 On the other hand, in the inventions of claims 1 to 8, the opening area detecting unit for detecting the area of the opening is provided, and the control unit is based on the opening area detected by the opening area detecting unit. Since it is configured to control the luminous intensity of the light source, the maximum luminous intensity can be made variable according to the aperture area set by the slit portion and the field aperture portion, so that the examiner can change the set aperture area. The luminous intensity of the light source can be freely increased within the range of the maximum luminous intensity according to the above, and more precise observation can be performed while eliminating the possibility of light damage to the eye to be inspected.

本発明の一実施の形態に係るスリットランプ顕微鏡の全体構成を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the whole structure of the slit lamp microscope which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態に係るスリットランプ顕微鏡の全体構成を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the whole structure of the slit lamp microscope which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態に係るスリットランプ顕微鏡に装備される視野絞り部の構成を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the structure of the field diaphragm part provided in the slit lamp microscope which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態に係るスリットランプ顕微鏡に装備される視野絞り部の構成を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the structure of the field diaphragm part provided in the slit lamp microscope which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態に係るスリットランプ顕微鏡の全体構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the whole structure of the slit lamp microscope which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態に係るスリットランプ顕微鏡において、設定されたスリット幅及び視野絞り径に基づき光源の光度制御を行う場合のフローチャートを示す図である。It is a figure which shows the flowchart in the case of performing the luminosity control of a light source based on the set slit width and the field diaphragm diameter in the slit lamp microscope which concerns on one Embodiment of this invention.

以下、添付図面に示す実施の形態に基づき、本発明に係るスリットランプ顕微鏡を詳細に説明する。 Hereinafter, the slit lamp microscope according to the present invention will be described in detail based on the embodiments shown in the accompanying drawings.

本実施の形態に係る装置光学系において、最も被検者側に位置するレンズ（対物レンズ）から被検者に向かう方向を前方向とし、その反対方向を後方向とする。また、前方向に直交する水平方向を左右方向とする。前後方向と左右方向の双方に直交する方向を上下方向とする。以上の方向の定義を前提として説明を行う。 In the device optical system according to the present embodiment, the direction from the lens (objective lens) located closest to the subject to the subject is the front direction, and the opposite direction is the rear direction. Further, the horizontal direction orthogonal to the front direction is defined as the left-right direction. The direction orthogonal to both the front-back direction and the left-right direction is the vertical direction. The explanation will be given on the premise of the above definition of the direction.

［全体構成］
本実施形態に係るスリットランプ顕微鏡の全体構成について図１及び図２を参照しながら説明する。スリットランプ顕微鏡１には、コンピュータ１００が接続されている。コンピュータ１００は、各種の制御処理や演算処理を行う。 [overall structure]
The overall configuration of the slit lamp microscope according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. A computer 100 is connected to the slit lamp microscope 1. The computer 100 performs various control processes and arithmetic processes.

なお、顕微鏡本体（光学系等を格納する筐体）とは別にコンピュータ１００を設ける代わりに、顕微鏡本体に同様のコンピュータを搭載した構成を適用することも可能である。 Instead of providing the computer 100 separately from the microscope main body (housing for storing the optical system and the like), it is also possible to apply a configuration in which a similar computer is mounted on the microscope main body.

スリットランプ顕微鏡１はテーブル２上に載置される。なお、コンピュータ１００は他のテーブル上またはその他の場所に設置されていてもよい。基台４は、移動機構部３を介して水平方向に移動可能に構成されている。基台４は、操作ハンドル５を傾倒操作することにより移動される。操作ハンドル５を軸周りに回転することで支持部１５は基台４に対して上下に移動される。 The slit lamp microscope 1 is placed on the table 2. The computer 100 may be installed on another table or in another place. The base 4 is configured to be movable in the horizontal direction via the moving mechanism unit 3. The base 4 is moved by tilting the operation handle 5. By rotating the operation handle 5 around an axis, the support portion 15 is moved up and down with respect to the base 4.

基台４の上面には、観察系６および照明系８を支持する支持部１５が設けられている。
また、本実施の形態にあっては、支持部１５には、図２に示す背景照明系２０が支持されている。 A support portion 15 for supporting the observation system 6 and the illumination system 8 is provided on the upper surface of the base 4.
Further, in the present embodiment, the background illumination system 20 shown in FIG. 2 is supported by the support portion 15.

支持部１５には、観察系６を支持する支持アーム１６が左右方向に回動可能に取り付けられている。支持アーム１６の上部には、照明系８および背景照明系２０を支持する支持アーム１７が左右方向に回動可能に取り付けられている。支持アーム１６、１７は、それぞれ独立に同軸で回動可能とされている。 A support arm 16 that supports the observation system 6 is attached to the support portion 15 so as to be rotatable in the left-right direction. A support arm 17 that supports the lighting system 8 and the background lighting system 20 is attached to the upper portion of the support arm 16 so as to be rotatable in the left-right direction. The support arms 16 and 17 are independently rotatable coaxially.

観察系６は、支持アーム１６を手動で回動させることで移動される。照明系８および背景照明系２０は、支持アーム１７を手動で回動させることで移動される。 The observation system 6 is moved by manually rotating the support arm 16. The lighting system 8 and the background lighting system 20 are moved by manually rotating the support arm 17.

なお、各支持アーム１６、１７は、電気的な機構によって回動されるように構成されていてもよい。その場合、各支持アーム１６、１７を回動させるための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。アクチュエータは、たとえばステッピングモータ（パルスモータ）により構成される。伝達機構は、たとえば歯車の組み合わせやラック・アンド・ピニオンなどによって構成される。 The support arms 16 and 17 may be configured to be rotated by an electric mechanism. In that case, an actuator for generating a driving force for rotating the support arms 16 and 17 and a transmission mechanism for transmitting the driving force are provided. The actuator is composed of, for example, a stepping motor (pulse motor). The transmission mechanism is composed of, for example, a combination of gears and a rack and pinion.

照明系８は、被検眼Ｅに照明光を照射する。照明系８は、前述のように、回動軸を中心に左右方向に旋回することができる。それにより被検眼Ｅに対する照明光の照射方向が変更される。照明系８は上下方向にも旋回するように構成されていてもよく、照明光の仰角や俯角を変更できるように構成されていてもよい。 The illumination system 8 irradiates the eye E to be inspected with illumination light. As described above, the lighting system 8 can rotate in the left-right direction about the rotation axis. As a result, the irradiation direction of the illumination light on the eye E to be inspected is changed. The lighting system 8 may be configured to rotate in the vertical direction, or may be configured so that the elevation angle and the depression angle of the illumination light can be changed.

照明光の強度の変更は、基台４上に設けられた照明強度操作部１８を用いて行われる。なお、背景照明系２０により被検眼Ｅに照射される背景照明光の強度についても、照明強度操作部１８を用いて行えるように構成されていてもよい。
また、照明光や背景照明光の強度の変更を、他の操作部材により行えるように構成することも可能である。他の操作部材としては、スリットランプ顕微鏡１の筐体に設けられた操作部材や、コンピュータ１００に設けられた操作部材がある。 The intensity of the illumination light is changed by using the illumination intensity operation unit 18 provided on the base 4. The intensity of the background illumination light radiated to the eye E to be inspected by the background illumination system 20 may also be configured so that it can be performed by using the illumination intensity control unit 18.
Further, it is also possible to configure the intensity of the illumination light and the background illumination light so that the intensity can be changed by another operating member. Other operating members include an operating member provided in the housing of the slit lamp microscope 1 and an operating member provided in the computer 100.

観察系６は、照明光（および背景照明光）の被検眼Ｅからの反射光を案内する左右一対の光学系を有する。この光学系は鏡筒本体９内に収納されている。鏡筒本体９の終端は接眼部９ａである。検者は接眼部９ａをのぞき込むことで被検眼Ｅを肉眼で観察する。 The observation system 6 has a pair of left and right optical systems that guide the reflected light of the illumination light (and the background illumination light) from the eye E to be inspected. This optical system is housed in the lens barrel main body 9. The end of the lens barrel body 9 is the eyepiece 9a. The examiner visually observes the eye E to be inspected by looking into the eyepiece 9a.

前述のように、支持アーム１６を回動させることにより鏡筒本体９を左右方向に回動させることができる。それにより被検眼Ｅに対する観察系６の向きを変更することができる。
なお、照明光の反射光には、たとえば散乱光のように被検眼Ｅを経由した各種の光が含まれるが、これら各種の光を含めて「反射光」と呼ぶ。 As described above, the lens barrel body 9 can be rotated in the left-right direction by rotating the support arm 16. Thereby, the orientation of the observation system 6 with respect to the eye E to be inspected can be changed.
The reflected light of the illumination light includes various types of light that have passed through the eye E to be inspected, such as scattered light, and these various types of light are also referred to as "reflected light".

鏡筒本体９に対峙する位置には顎受け台１０が配置されている。顎受け台１０には、被検者の顔を安定配置させるための顎受部１０ａと額当て１０ｂが設けられている。 A jaw cradle 10 is arranged at a position facing the lens barrel main body 9. The chin cradle 10 is provided with a chin cradle 10a and a forehead pad 10b for stably arranging the face of the subject.

鏡筒本体９の側面には、観察倍率を変更するための観察倍率操作ノブ１１が配置されている。更に、鏡筒本体９には、被検眼Ｅを撮影するための撮像装置１３が接続されている。
撮像装置１３は撮像素子を含んで構成されている。
撮像素子は、光を検出して電気信号（画像信号）を出力する光電変換素子である。画像信号はコンピュータ１００に入力される。撮像素子としては、たとえばＣＣＤ（ＣｈａｒｇｅＣｏｕｐｌｅｄＤｅｖｉｃｅ）イメージセンサや、ＣＭＯＳ（ＣｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙＭｅｔａｌＯｘｉｄｅＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）イメージセンサが用いられる。照明系８の下方位置には、照明系８から出力される照明光束を被検眼Ｅに向けて反射するミラー１２が配置されている。また、ミラー１２は、背景照明系２０から出力される背景照明光を被検眼Ｅに向けて反射する。 An observation magnification operation knob 11 for changing the observation magnification is arranged on the side surface of the lens barrel main body 9. Further, an imaging device 13 for photographing the eye E to be inspected is connected to the lens barrel main body 9.
The image pickup device 13 includes an image pickup element.
The image sensor is a photoelectric conversion element that detects light and outputs an electric signal (image signal). The image signal is input to the computer 100. As the image sensor, for example, a CCD (Charge Coupled Device) image sensor or a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) image sensor is used. A mirror 12 that reflects the illumination light flux output from the illumination system 8 toward the eye E to be inspected is arranged below the illumination system 8. Further, the mirror 12 reflects the background illumination light output from the background illumination system 20 toward the eye E to be inspected.

［光学系の構成］
スリットランプ顕微鏡１の光学系の構成について、図２を参照しながら説明する。スリットランプ顕微鏡１は、観察系６と、照明系８と、背景照明系２０とを有する。 [Optical system configuration]
The configuration of the optical system of the slit lamp microscope 1 will be described with reference to FIG. The slit lamp microscope 1 has an observation system 6, an illumination system 8, and a background illumination system 20.

〔観察系〕
観察系６は左右一対の光学系を備えている。左右の光学系は、ほぼ同様の構成を有する。操作者は、この左右の光学系により被検眼Ｅを双眼で観察することができる。なお、図２には、観察系６の左右の光学系の一方のみが示されている。符号Ｏ１は観察系６の光軸（観察光軸）である。 [Observation system]
The observation system 6 includes a pair of left and right optical systems. The left and right optical systems have almost the same configuration. The operator can observe the eye E to be inspected binocularly by the left and right optical systems. Note that FIG. 2 shows only one of the left and right optical systems of the observation system 6. Reference numeral O1 is an optical axis (observation optical axis) of the observation system 6.

観察系６の左右の各光学系は、対物レンズ３１、変倍光学系３２、絞り３３、結像レンズ３５、プリズムユニット３６および接眼レンズ３７を有する。ビームスプリッタ３４は、左右の光学系の一方にまたは双方に設けられる。接眼レンズ３７は接岸部９ａ内に設けられている。符号Ｐは、結像レンズ３５により観察部位の像が結像する位置を示している。この像を接眼レンズ３７を介して観察する。符号Ｅｃは被検眼Ｅの角膜を、符号Ｅｐは虹彩を、符号Ｅｒは眼底をそれぞれ示している。符号Ｅｏは検者眼を示している。 Each of the left and right optical systems of the observation system 6 has an objective lens 31, a variable magnification optical system 32, an aperture 33, an imaging lens 35, a prism unit 36, and an eyepiece lens 37. The beam splitter 34 is provided on one or both of the left and right optical systems. The eyepiece 37 is provided in the berthing portion 9a. Reference numeral P indicates a position where the image of the observation portion is imaged by the imaging lens 35. This image is observed through the eyepiece 37. The reference numeral Ec indicates the cornea of the eye E to be inspected, the reference numeral Ep indicates the iris, and the reference numeral Er indicates the fundus. The symbol Eo indicates the examiner's eye.

変倍光学系３２は、複数（たとえば２枚）の変倍レンズ３２ａ、３２ｂを含んで構成される。この実施形態では、観察系６の光路に対して選択的に挿入可能な複数の変倍レンズ群が設けられている。
これら変倍レンズ群は、それぞれ異なる倍率を付与するように構成されている。観察系６の光路に配置された変倍レンズ群が変倍レンズ３２ａ、３２ｂとして用いられる。それにより、被検眼Ｅの接眼レンズによる観察像や撮影画像の倍率（画角）を変更できる。倍率の変更、即ち観察系６の光路に配置される変倍レンズ群の切り替えは、観察倍率操作ノブ１１を操作することにより行われる。また、図示しないスイッチ等を用いて電動で倍率を変更するように構成してもよい。 The variable magnification optical system 32 includes a plurality of (for example, two) variable magnification lenses 32a and 32b. In this embodiment, a plurality of variable magnification lens groups that can be selectively inserted into the optical path of the observation system 6 are provided.
These variable magnification lens groups are configured to give different magnifications. The variable magnification lens group arranged in the optical path of the observation system 6 is used as the variable magnification lenses 32a and 32b. Thereby, the magnification (angle of view) of the observation image or the captured image by the eyepiece of the eye E to be inspected can be changed. The change of the magnification, that is, the switching of the variable magnification lens group arranged in the optical path of the observation system 6 is performed by operating the observation magnification operation knob 11. Further, the magnification may be changed electrically by using a switch or the like (not shown).

ビームスプリッタ３４は、観察光軸Ｏ１に沿って進む光を二分割する。ビームスプリッタ３４を透過した光は、結像レンズ３５、プリズムユニット３６および接眼レンズ３７を介して検者眼Ｅｏに導かれる。プリズムユニット３６は、２つの光学素子３６ａ、３６ｂを含み、像を反転すると共に検者の眼幅に合わせて左右観察光軸の幅を変更することができる。 The beam splitter 34 splits the light traveling along the observation optical axis O1 into two. The light transmitted through the beam splitter 34 is guided to the examiner's eye Eo via the imaging lens 35, the prism unit 36, and the eyepiece 37. The prism unit 36 includes two optical elements 36a and 36b, and can invert the image and change the width of the left and right observation optical axes according to the eye width of the examiner.

他方、ビームスプリッタ３４により反射された光は、リレーレンズ４１およびミラー４２を介して、撮像装置１３の撮像素子４３に導かれる。撮像素子４３は、この反射光を検出して画像信号を生成する。 On the other hand, the light reflected by the beam splitter 34 is guided to the image sensor 43 of the image pickup device 13 via the relay lens 41 and the mirror 42. The image sensor 43 detects this reflected light and generates an image signal.

〔照明系〕
照明系８は、光源５１、リレーレンズ５２、照明絞り５６、コンデンサレンズ５３、スリット部５４、視野絞り部６０、および結像レンズ５５を有する。符号Ｏ２は、照明系８の光軸（照明光軸）を示す。 [Lighting system]
The illumination system 8 includes a light source 51, a relay lens 52, an illumination diaphragm 56, a condenser lens 53, a slit portion 54, a field diaphragm portion 60, and an imaging lens 55. Reference numeral O2 indicates an optical axis (illumination optical axis) of the illumination system 8.

光源５１は照明光を出力する。なお、照明系８に複数の光源を設けてもよい。たとえば、定常光を出力する光源（ハロゲンランプ、ＬＥＤ等）と、フラッシュ光を出力する光源（キセノンランプ、ＬＥＤ等）の双方を光源５１として設けることができる。また、角膜観察用の光源と眼底観察用の光源とを別々に設けてもよい。光源５１は、可視光を出力する可視光源を少なくとも含む。光源５１への印加電力の大きさにより光度が変更可能に構成されている。 The light source 51 outputs illumination light. The lighting system 8 may be provided with a plurality of light sources. For example, both a light source that outputs constant light (halogen lamp, LED, etc.) and a light source that outputs flash light (xenon lamp, LED, etc.) can be provided as the light source 51. Further, a light source for observing the cornea and a light source for observing the fundus may be provided separately. The light source 51 includes at least a visible light source that outputs visible light. The luminous intensity can be changed according to the magnitude of the electric power applied to the light source 51.

〔光束制御部〕
本実施の形態にあっては、照明系８は光源５１の照明光が通過する開口部７１の面積を変更可能な光束制御部７０を有しており、光束制御部７０を通過することにより面積を制限した観察光を被検眼Ｅに照射する。 [Luminous flux control unit]
In the present embodiment, the illumination system 8 has a luminous flux control unit 70 that can change the area of the opening 71 through which the illumination light of the light source 51 passes, and the area is increased by passing through the luminous flux control unit 70. The eye E to be inspected is irradiated with the observation light having a limited amount of light.

即ち、本実施の形態にあっては光束制御部７０は、スリット部５４と、視野絞り部６０と、スリット部５４及び視野絞り部６０により形成される開口部７１の面積を検知する開口面積検知部５９とを有しており、制御部１０１は開口面積検知部により検知された開口面積に基づき光源５１の光度を制御する。 That is, in the present embodiment, the light flux control unit 70 detects the area of the slit portion 54, the field diaphragm portion 60, and the aperture 71 formed by the slit portion 54 and the field diaphragm portion 60. The control unit 101 controls the luminous intensity of the light source 51 based on the aperture area detected by the aperture area detection unit.

＜スリット部＞
スリット部５４は、スリット光（観察光）を生成するために用いられる。スリット部５４は、互いに所定間隔をおいて対向して配置された一対のスリット刃５４ａ、５４ｂを有する。これらスリット刃５４ａ、５４ｂの配置間隔（スリット幅）を変更することによりスリット光の幅が変更される。手動操作により任意にスリット刃５４ａ、５４ｂの配置間隔を調整することができる。この場合、スリット刃５４ａ、５４ｂを電動により開閉するように構成してもよい。 <Slit part>
The slit portion 54 is used to generate slit light (observation light). The slit portion 54 has a pair of slit blades 54a and 54b arranged so as to face each other at predetermined intervals. The width of the slit light is changed by changing the arrangement interval (slit width) of the slit blades 54a and 54b. The arrangement interval of the slit blades 54a and 54b can be arbitrarily adjusted by manual operation. In this case, the slit blades 54a and 54b may be configured to be electrically opened and closed.

＜視野絞り部＞
図２、図３及び図４に示すように、視野絞り部６０は、スリット部５４の反光源５１側においてスリット部５４に近接して配置され、異なる大きさ及び形状の複数の開口６２を有し、回転中心６６を中心として回転動するターレット６１を有している。 <Field of view diaphragm>
As shown in FIGS. 2, 3 and 4, the field diaphragm portion 60 is arranged close to the slit portion 54 on the anti-light source 51 side of the slit portion 54, and has a plurality of openings 62 having different sizes and shapes. It has a turret 61 that rotates around the center of rotation 66.

図３及び図４に示すように、本実施の形態にあっては、ターレット６１は照明光軸０２に対して直交する方向において回転可能に配置された円盤状部材であって、開口６２は、同心円上に配置された４つの円形開口部６３ａ、６３ｂ、６３ｃ、６３ｄと単一の湾曲涙滴状開口部６４とからなる。円形開口部６３ａ、６３ｂ、６３ｃ、６３ｄは、それぞれ異なる径に形成され、時計回り方向に次第に大径となるように、互いに開口中心が等間隔となるように配置されている。
従って、ターレット６１を適宜回転させることにより任意の開口６２の中心を照明光軸０２に合わせることにより観察面の照明範囲を適宜制限することが可能となる。 As shown in FIGS. 3 and 4, in the present embodiment, the turret 61 is a disk-shaped member rotatably arranged in a direction orthogonal to the illumination optical axis 02, and the opening 62 is formed. It consists of four circular openings 63a, 63b, 63c, 63d arranged concentrically and a single curved teardrop-shaped opening 64. The circular openings 63a, 63b, 63c, and 63d are formed to have different diameters, and are arranged so that the openings centers are evenly spaced from each other so that the diameters gradually increase in the clockwise direction.
Therefore, it is possible to appropriately limit the illumination range of the observation surface by aligning the center of the arbitrary opening 62 with the illumination optical axis 02 by appropriately rotating the turret 61.

最小の円形開口部６３ａが照明光軸０２上に配置された場合には、照明光束６５の径よりも最も小径の絞り光を形成することができ、最大の円形開口部６３ｄが照明光軸０２上に配置された場合には、照明光束６５の径と同一の最大径の絞り光を形成することができる。 When the smallest circular opening 63a is arranged on the illumination optical axis 02, the aperture light having a diameter smaller than the diameter of the illumination luminous flux 65 can be formed, and the largest circular opening 63d is the illumination optical axis 02. When arranged above, it is possible to form a focused light having the same maximum diameter as the diameter of the illumination luminous flux 65.

また、前記湾曲涙滴状開口部６４は、大径円弧端部６４ａと、大径円弧端部６４ａに同心円の円周方向に対向して配置された小径円弧端部６４ｂと、前記大径円弧端部６４ａから小径円弧端部６４ｂにかけて徐々に幅寸法が小さくなるように形成された湾曲輪郭部６４ｃ、６４ｄとにより形成されており、図４に示すように、湾曲涙滴状開口部６４はスリット部５４を通過した光束の幅を連続的に変更制御しうるように構成されている。 Further, the curved teardrop-shaped opening 64 includes a large-diameter arc end 64a, a small-diameter arc end 64b arranged to face the large-diameter arc end 64a in the circumferential direction of concentric circles, and the large-diameter arc. It is formed by curved contour portions 64c and 64d formed so that the width dimension gradually decreases from the end portion 64a to the small diameter arc end portion 64b, and as shown in FIG. 4, the curved teardrop-shaped opening 64 is formed. It is configured so that the width of the light beam passing through the slit portion 54 can be continuously changed and controlled.

図３に示すように、ターレット６１は、複数の開口６２の中心を照明光軸０２に合致させて配設されており、検者はターレット６１を適宜回転させることにより所望の開口６２を、スリット部５４を開放した状態で照明光軸０２に対して選択的に配置することにより、被観察部を円形に照明することができる。また、スリット部５４を、スリット刃５４ａ、５４ｂの間隔を狭めた状態で、視野絞り部６０と併せて使用することにより、被観察部を小判状に照明することもできる。 As shown in FIG. 3, the turret 61 is arranged so that the centers of the plurality of openings 62 are aligned with the illumination optical axis 02, and the examiner slits the desired openings 62 by appropriately rotating the turret 61. By selectively arranging the portion 54 with respect to the illumination optical axis 02 in an open state, the observed portion can be illuminated in a circular shape. Further, by using the slit portion 54 together with the field diaphragm portion 60 in a state where the distance between the slit blades 54a and 54b is narrowed, the observed portion can be illuminated in an oval shape.

従って、ターレット６１を回転することにより、任意の大きさの開口６２を選択的に照明光軸０２上に配置することで、被観察面における照明範囲を制限し、スリット部５４のスリット刃５４ａ、５４ｂの幅と視野絞り部６０の開口６２の径を組み合わせることで幅と長さを制限した観察光を被観察面に照射することができる。 Therefore, by rotating the turret 61, an opening 62 of an arbitrary size is selectively arranged on the illumination optical axis 02, thereby limiting the illumination range on the observed surface, and the slit blade 54a of the slit portion 54, By combining the width of 54b and the diameter of the opening 62 of the field diaphragm portion 60, it is possible to irradiate the observed surface with observation light having a limited width and length.

また、図４に示すように、湾曲涙滴状開口部６４に関しては、スリット部５４の間隔を狭めた状態で照明光軸０２上に配置し、ターレット６１を大径円弧端部６４ａと小径円弧端部６４ｂとの間において回動させることにより、スリット部５４により形成されるスリット間隔の長さＬを制限し、スリットの長さの絞りを連続的に行うことができる。 Further, as shown in FIG. 4, the curved teardrop-shaped opening 64 is arranged on the illumination optical axis 02 in a state where the slit portions 54 are closely spaced, and the turret 61 is arranged on the illumination optical axis 02 with the large-diameter arc end portion 64a and the small-diameter arc. By rotating between the end portion 64b and the end portion 64b, the length L of the slit interval formed by the slit portion 54 can be limited, and the slit length can be continuously throttled.

本実施の形態にあっては、ターレット６１は手動操作により回転駆動させるように構成されている。ターレット６１には、各円形開口部６３の中心が照明光軸０２に一致する位置に適宜構成のクリック部（図示せず）が設けられており、検者は、操作部を操作することにより、クリック部に合わせるようにしてターレット６１を回転操作することにより所望の円形開口部６３を照明光軸０２上に配置固定することができる。 In the present embodiment, the turret 61 is configured to be rotationally driven by a manual operation. The turret 61 is provided with a click portion (not shown) appropriately configured at a position where the center of each circular opening 63 coincides with the illumination optical axis 02, and the examiner can operate the operation portion. By rotating the turret 61 so as to match the click portion, the desired circular opening 63 can be arranged and fixed on the illumination optical axis 02.

湾曲涙滴状開口部６４にあっては、大径円弧端部６４ａ及び小径円弧端部６４ｂの中心が照明光軸０２に一致する位置にクリック部（図示せず）が設けられている一方、大径円弧端部６４ａと小径円弧端部６４ｂとの間においてはクリック部は設けられておらず、大径円弧端部６４ａと小径円弧端部６４ｂとの間の任意の位置においてターレット６１の回転を停止させることが可能である。従って、大径円弧端部６４ａと小径円弧端部６４ｂとの間の任意の位置において停止させて連続的にスリットの長さを絞ることができる。 In the curved teardrop-shaped opening 64, a click portion (not shown) is provided at a position where the center of the large-diameter arc end portion 64a and the small-diameter arc end portion 64b coincides with the illumination optical axis 02, while the click portion (not shown) is provided. No click portion is provided between the large-diameter arc end 64a and the small-diameter arc end 64b, and the turret 61 rotates at an arbitrary position between the large-diameter arc end 64a and the small-diameter arc end 64b. Can be stopped. Therefore, the length of the slit can be continuously reduced by stopping at an arbitrary position between the large-diameter arc end portion 64a and the small-diameter arc end portion 64b.

また、ターレット６１は電動により回転するように構成してもよい。この場合には、ターレット６１を駆動するアクチュエータとしてのステッピングモータ及び適宜の駆動力伝達機構が設けられる。制御部１０１は、ステッピングモータのステップ数を計測することによりターレット６１の回転角度を光検知手段、例えば、フォトインタプラタにより検知するように構成する。 Further, the turret 61 may be configured to rotate electrically. In this case, a stepping motor as an actuator for driving the turret 61 and an appropriate driving force transmission mechanism are provided. The control unit 101 is configured to detect the rotation angle of the turret 61 by a photodetector, for example, a photointerplata, by measuring the number of steps of the stepping motor.

＜開口面積検知部＞
本実施の形態に係るスリットランプ顕微鏡１はスリット部５４のスリット刃５４ａ、５４ｂの配置間隔及び視野絞り部６０のターレット６１の回転角度を検知する検知手段を備えた開口面積検知部５９を有している。制御部１０１は開口面積検知部５９により検知されたスリット幅及びターレット６１の開口６２により形成される開口面積に基づき光源５１の最大光度値光度を決定する。 <Aperture area detector>
The slit lamp microscope 1 according to the present embodiment has an opening area detecting unit 59 provided with a detecting means for detecting the arrangement interval of the slit blades 54a and 54b of the slit portion 54 and the rotation angle of the turret 61 of the field diaphragm portion 60. ing. The control unit 101 determines the maximum luminous intensity of the light source 51 based on the slit width detected by the aperture area detection unit 59 and the aperture area formed by the aperture 62 of the turret 61.

開口面積検知部５９は、スリット部５４のスリット刃５４ａ及びスリット刃５４ｂの幅及び視野絞り部６０の開口部６２の開口径を各々検出する。
スリット部５４の幅については、回転操作可能に形成されたスリット操作部としてのスリット開閉ノブ（図示せず）の回転量を、エンコーダにより検知して検知情報を制御部１０１に送信する。 The opening area detection unit 59 detects the width of the slit blade 54a and the slit blade 54b of the slit portion 54 and the opening diameter of the opening 62 of the visual field diaphragm portion 60, respectively.
Regarding the width of the slit portion 54, the encoder detects the amount of rotation of the slit opening / closing knob (not shown) as the slit operation portion formed so as to be rotatable, and transmits the detection information to the control unit 101.

この場合、開口面積検知部５９を、一対のスリット刃５４ａ、５４ｂの移動量適宜の検知手段により検知することによりスリット幅値を検知するように構成してもよい。例えば、スリット刃５４ａ、５４ｂを駆動するアクチュエータの駆動軸の回転数を検知することによりスリット刃５４ａ、５４ｂの移動量を計測することもできる。 In this case, the opening area detection unit 59 may be configured to detect the slit width value by detecting the movement amount of the pair of slit blades 54a and 54b by an appropriate detecting means. For example, the amount of movement of the slit blades 54a and 54b can be measured by detecting the rotation speed of the drive shaft of the actuator that drives the slit blades 54a and 54b.

視野絞り部６０に関しては、上記のように、複数の開口６２を有するターレット６１の回転角度を、手動操作による場合には光検知手段により、また電動操作の場合には適宜の検知手段によりステッピングモータのステップ数を計測することにより検出し、当該回転角度に対応した各開口部６３ａ、６３ｂ、６３ｃ、６３ｄ、６４を特定して開口径を得る。
その結果、開口面積検知部５９は、スリット部５４のスリット幅とターレット６１の回転角度から得られた視野絞り部６０の開口６２の開口径の組み合わせから、複合された開口面積を得ることができる。 Regarding the field diaphragm unit 60, as described above, the rotation angle of the turret 61 having a plurality of openings 62 is determined by a light detecting means in the case of manual operation, and by an appropriate detecting means in the case of electric operation. The number of steps is detected by measuring the number of steps, and the openings 63a, 63b, 63c, 63d, and 64 corresponding to the rotation angle are specified to obtain the opening diameter.
As a result, the aperture area detection unit 59 can obtain a composite opening area from the combination of the slit width of the slit portion 54 and the opening diameter of the opening 62 of the field diaphragm portion 60 obtained from the rotation angle of the turret 61. ..

また、開口面積検知部５９において、観察系６に配置された撮像装置４３により取得された前眼部画像の開口像に基づき開口面積を検知するように構成してもよい。この場合には、変倍系の倍率を検知してフィードバックすることが必要となる。 Further, the aperture area detection unit 59 may be configured to detect the aperture area based on the aperture image of the anterior eye portion image acquired by the image pickup apparatus 43 arranged in the observation system 6. In this case, it is necessary to detect the magnification of the variable magnification system and provide feedback.

照明絞り５６は、その透光部のサイズを変更可能に構成されている。照明絞り５６は、特に眼底観察において有効である。たとえば、照明絞り５６には、角膜Ｅｃや水晶体による照明光の反射を低減させ、照明光の明るさを調整する等の用途がある。 The illumination diaphragm 56 is configured so that the size of the translucent portion thereof can be changed. The illumination diaphragm 56 is particularly effective for fundus observation. For example, the illumination diaphragm 56 has applications such as reducing reflection of illumination light by the cornea Ec and the crystalline lens and adjusting the brightness of the illumination light.

〔背景照明系〕
背景照明光２０は、被検眼Ｅに背景照明光を照射する。背景照明光は、照明系８による被検眼Ｅに対する照明光の照射領域の周囲の領域に照射される。なお、背景照明光の照射領域は、少なくともこの周囲領域を含むものであればよい。たとえば、背景照明光の照射領域は、照明系８による照射領域の少なくとも一部と重複していてもよい。 [Background lighting system]
The background illumination light 20 irradiates the eye E to be inspected with the background illumination light. The background illumination light is applied to the area around the irradiation area of the illumination light for the eye E to be inspected by the illumination system 8. The irradiation area of the background illumination light may include at least this surrounding area. For example, the irradiation area of the background illumination light may overlap with at least a part of the irradiation area by the illumination system 8.

背景照明系２０は、光源（背景光源）を含む。背景光源は、可視光を出力する可視光源を少なくとも含む。この可視光は、たとえば肉眼観察や撮影に用いられる。背景光源は、赤外光を出力する赤外光源を含んでいてもよい。この赤外光は、たとえばマイボーム腺の観察や撮影に用いられる。 The background illumination system 20 includes a light source (background light source). The background light source includes at least a visible light source that outputs visible light. This visible light is used, for example, for macroscopic observation and imaging. The background light source may include an infrared light source that outputs infrared light. This infrared light is used, for example, for observing and photographing the meibomian glands.

背景照明系２０が可視光源と背景光源の双方を含む場合、これら光源はたとえば択一的に使用される。背景照明系２０は、背景光源から出力された光を集束させる１つ以上のレンズを含んでいてもよい。符号Ｏ３は、背景照明系２０の光軸（背景照明光軸）を示す。 When the background illumination system 20 includes both a visible light source and a background light source, these light sources are used interchangeably, for example. The background illumination system 20 may include one or more lenses that focus the light output from the background light source. Reference numeral O3 indicates an optical axis (background illumination optical axis) of the background illumination system 20.

背景光源から出力された光は、（上記レンズによって集光された後、）ミラー１２により反射されて被検眼Ｅに照射される。この背景照明光の照射領域は、照明系８による被検眼Ｅの照射領域の周囲の領域を含む。 The light output from the background light source is reflected by the mirror 12 (after being focused by the lens) and irradiated to the eye E to be inspected. The irradiation region of the background illumination light includes a region around the irradiation region of the eye E to be inspected by the illumination system 8.

［制御系の構成］
スリットランプ顕微鏡１の制御系について、図５を参照しながら説明する。
スリットランプ顕微鏡１の制御系は、制御部１０１を中心に構成されている。なお、制御系の構成の少なくとも一部がコンピュータ１００に含まれていてもよい。 [Control system configuration]
The control system of the slit lamp microscope 1 will be described with reference to FIG.
The control system of the slit lamp microscope 1 is configured around the control unit 101. The computer 100 may include at least a part of the configuration of the control system.

〔制御部〕
制御部１０１は、スリットランプ顕微鏡１の各部を制御する。
制御部１０１は、観察系６の制御、照明系８の制御、背景照明系２０の制御を行う。観察系６の制御としては、変倍光学系３２の制御、絞り３３の制御、撮像素子４３の電荷蓄積時間、感度、フレームレート等の制御などがある。照明系８の制御としては、光源５１、光源光度検知部５８、光束制御部７０を構成するスリット部５４、視野絞り部６０及び開口面積検知部５９、照明絞り５６の制御などがある。背景照明系２０の制御としては、背景光源の制御などがある。 [Control unit]
The control unit 101 controls each unit of the slit lamp microscope 1.
The control unit 101 controls the observation system 6, the lighting system 8, and the background lighting system 20. The control of the observation system 6 includes control of the variable magnification optical system 32, control of the aperture 33, control of the charge accumulation time, sensitivity, frame rate, etc. of the image sensor 43. The control of the illumination system 8 includes control of the light source 51, the light source luminous intensity detection unit 58, the slit unit 54 constituting the luminous flux control unit 70, the field diaphragm unit 60, the aperture area detection unit 59, and the illumination diaphragm 56. The control of the background illumination system 20 includes the control of the background light source.

制御部１０１は、マイクロプロセッサ、ＲＡＭ、ＲＯＭ、ハードディスクドライブ等を含んで構成される。ＲＯＭやハードディスクドライブ等の記憶装置には、制御プログラムがあらかじめ記憶されている。制御部１０１の動作は、この制御プログラムとハードウェアとが協働することによって実現される。制御部１０１は、スリットランプ顕微鏡１の装置本体（たとえば基台４内）やコンピュータ１００に配置される。 The control unit 101 includes a microprocessor, RAM, ROM, a hard disk drive, and the like. A control program is stored in advance in a storage device such as a ROM or a hard disk drive. The operation of the control unit 101 is realized by the cooperation of the control program and the hardware. The control unit 101 is arranged in the apparatus main body (for example, in the base 4) of the slit lamp microscope 1 or in the computer 100.

〔表示部〕
表示部１０２は、制御部１０１の制御を受けて各種の情報を表示する。表示部１０２は、ＬＣＤ等のフラットパネルディスプレイなどの表示デバイスを含んで構成される。表示部１０２は、スリットランプ顕微鏡１の装置本体に設けられていてもよいし、コンピュータ１００に設けられていてもよい。 [Display]
The display unit 102 displays various information under the control of the control unit 101. The display unit 102 includes a display device such as a flat panel display such as an LCD. The display unit 102 may be provided on the main body of the slit lamp microscope 1 or may be provided on the computer 100.

〔操作部〕
操作部１０３は、操作デバイスや入力デバイスを含んで構成される。操作部１０３には、スリットランプ顕微鏡１に設けられたボタンやスイッチ（たとえば操作ハンドル５、照明強度操作部１８等）や、コンピュータ１００に設けられた操作デバイス（マウス、キーボード等）が含まれる。また、操作部１０３は、トラックボール、操作パネル、スイッチ、ボタン、ダイアルなど、任意の操作デバイスや入力デバイスを含んでいてもよい。 [Operation unit]
The operation unit 103 includes an operation device and an input device. The operation unit 103 includes buttons and switches (for example, an operation handle 5, an illumination intensity operation unit 18, etc.) provided on the slit lamp microscope 1, and an operation device (mouse, keyboard, etc.) provided on the computer 100. Further, the operation unit 103 may include any operation device or input device such as a trackball, an operation panel, a switch, a button, and a dial.

図５では、表示部１０２と操作部１０３とを別々に表しているが、これらの少なくとも一部を一体的に構成することも可能である。その具体例として、タッチスクリーンを用いることができる。 In FIG. 5, the display unit 102 and the operation unit 103 are shown separately, but at least a part thereof can be integrally configured. As a specific example, a touch screen can be used.

〔光源光度検知部〕
光源５１の光度は印加電力にほぼ相関するため、印加電力を制限することで光源５１の光度を制御することもできるが、図２に示すように、本実施の形態に係るスリットランプ顕微鏡１においては、光源５１の光度を測定検知する光源光度検知部５８が設けられている。
この光源光度検知部５８は、光源５１の光度を直接モニタするように構成されており、このように光量を直接にモニタすることで光源のバラツキや、光源の劣化による光量低下が起きた場合であっても、適切な照度のスリット像を投影することができる。 [Light source luminous intensity detector]
Since the luminous intensity of the light source 51 substantially correlates with the applied power, the luminous intensity of the light source 51 can be controlled by limiting the applied power, but as shown in FIG. 2, in the slit lamp microscope 1 according to the present embodiment. Is provided with a light source luminous intensity detection unit 58 that measures and detects the luminous intensity of the light source 51.
The light source luminous intensity detection unit 58 is configured to directly monitor the luminous intensity of the light source 51, and when the light intensity is directly monitored in this way, the light source varies or the light intensity decreases due to deterioration of the light source. Even if there is, it is possible to project a slit image with an appropriate illuminance.

この場合、光源光度検知部５８をフォトディテクターにより構成し、光源５１の近傍に配置し、光源５１の散乱光成分を受光するように構成してもよく、また、光源５１の近傍に光ファイバの一方端部を配置し、光ファイバの端面から光源の散乱光を取り込み、他方端部近傍にフォトディテクターを配置しても良い。さらに、光路０２中に光束の一部を反射するミラーを配置し、反射光をフォトディテクターにより受光するようにしても良い。 In this case, the light source luminous intensity detection unit 58 may be configured by a photodetector and arranged in the vicinity of the light source 51 so as to receive the scattered light component of the light source 51, or the optical fiber may be arranged in the vicinity of the light source 51. One end may be arranged, the scattered light of the light source may be taken in from the end face of the optical fiber, and the photodetector may be arranged near the other end. Further, a mirror that reflects a part of the light flux may be arranged in the optical path 02, and the reflected light may be received by the photodetector.

〔開口部の開口面積による光源の光度制御〕
以下に、本発明における「スリット幅及び視野絞り径に基づく光源の最大光度値制御」の趣旨及び意義について説明する。 [Luminous intensity control of the light source by the opening area of the opening]
Hereinafter, the purpose and significance of "control of the maximum luminous intensity value of the light source based on the slit width and the field diaphragm diameter" in the present invention will be described.

光源５１からの照明光はコンデンサレンズで５３により集光され、スリット部５４と視野絞り部６０の組み合わされた開口部７１を透過して結像レンズ５５からミラー１２の近傍に光源像を結像する。
光源像はミラー１２を介して被検眼Ｅの眼底Ｅｒ付近に結像する。前記開口部７１の像は結像レンズ５５によりミラー１２を介して観察部位に結像する。角膜Ｅｃを観察する場合は角膜Ｅｃがこの観察位置に合致するようにアライメントを行う。 The illumination light from the light source 51 is collected by the condenser lens 53, passes through the opening 71 in which the slit portion 54 and the field diaphragm portion 60 are combined, and the light source image is formed from the imaging lens 55 in the vicinity of the mirror 12. do.
The light source image is formed in the vicinity of the fundus Er of the eye E to be inspected through the mirror 12. The image of the opening 71 is formed on the observation site through the mirror 12 by the imaging lens 55. When observing the corneal Ec, the alignment is performed so that the corneal Ec matches this observation position.

光源５１の光度が一定の場合には開口部７１の開口の面積を変化させた場合であっても角膜Ｅｃ上に結像する開口像の照度は変化しない。しかしながら、眼底Ｅｒ上の光源像の照度は開口面積が狭くなると低くなり、開口面積が広がると高くなる。 When the luminous intensity of the light source 51 is constant, the illuminance of the aperture image formed on the cornea Ec does not change even when the area of the opening of the opening 71 is changed. However, the illuminance of the light source image on the fundus Er becomes lower when the aperture area is narrowed, and becomes higher when the aperture area is widened.

開口部７１の開口面積はスリット部５４の幅と視野絞り部６０の径の組み合わせからなり、観察部位や観察方法によって検者が任意に設定する。観察部位をよりよく、詳細に観察しようとする場合、光源５１の光度を上げ（明るくして）被検部上の開口像の照度を高めて観察することとなる。
この時、照射した光束のほとんどは角膜Ｅｃを透過して眼底Ｅｒに達し、眼底Ｅｒを照明してしまうため、従来は、どのような照明条件であっても眼底照度の安全値を超えないよう光量ボリュウムに制限がかけられているか、又は警告を報知するように構成されたものも存在した。 The opening area of the opening 71 is a combination of the width of the slit 54 and the diameter of the visual field diaphragm 60, and is arbitrarily set by the examiner depending on the observation site and the observation method. When observing the observation portion in a better and more detailed manner, the luminosity of the light source 51 is increased (brightened) to increase the illuminance of the aperture image on the examination portion.
At this time, most of the irradiated luminous flux passes through the cornea Ec and reaches the fundus Er, and illuminates the fundus Er. Therefore, conventionally, the safe value of the fundus illuminance should not be exceeded under any lighting conditions. Some have limited light volume or were configured to alert.

しかしながら、光源５１の光度が一定であっても開口部７１の開口面積を変更すると眼底照度は変化するため、ある開口面積の時、眼底照度が安全値の上限に達していた場合であっても、開口面積を狭めれば眼底照度は安全値に対して余裕を持つことができる。この場合に、更に角膜Ｅｃ上を明るく観察したいという場合には光源５１の光度を上げて角膜Ｅｃ上の開口像の照度を上げることができる。逆に、開口面積を拡大した場合は眼底照度が安全値を超えてしまうため、光源５１の光度を下げなければならない。 However, even if the luminous intensity of the light source 51 is constant, the fundus illuminance changes when the opening area of the opening 71 is changed. Therefore, even if the fundus illuminance reaches the upper limit of the safe value at a certain opening area. If the opening area is narrowed, the fundus illuminance can have a margin for the safe value. In this case, if it is desired to observe the cornea Ec more brightly, the luminous intensity of the light source 51 can be increased to increase the illuminance of the aperture image on the cornea Ec. On the contrary, when the opening area is enlarged, the fundus illuminance exceeds the safe value, so that the luminous intensity of the light source 51 must be lowered.

従来においては、開口を最大に開いた状態で眼底Ｅｒの照度を安全値以下に抑えるように光源５１の光度を設定していたため、スリット部５４を狭めた状態で眼底安全値に対して余裕がある状態であっても明るく観察することができなかった。
そこで、本件発明にあってはスリット部５４の幅及び視野絞り６０の径を各々検出して、検出され複合された開口面積に応じて光源５１の最大光度を可変にするものである。 Conventionally, since the luminous intensity of the light source 51 is set so as to suppress the illuminance of the fundus Er to the safe value or less when the opening is opened to the maximum, there is a margin for the fundus safe value when the slit portion 54 is narrowed. Even in a certain state, it could not be observed brightly.
Therefore, in the present invention, the width of the slit portion 54 and the diameter of the field diaphragm 60 are detected, respectively, and the maximum luminous intensity of the light source 51 is made variable according to the detected and combined aperture area.

本実施の形態に係るスリットランプ顕微鏡１にあっては、検者によってスリット幅及び視野絞り径が操作設定された場合には、制御部は開口面積検知部５９により検知されたスリット部５４のスリット幅と視野絞り６０において選択された視野絞り径に基づき複合して得られる開口部７１の開口面積を求め、前記光源５１の最大光度値を設定すると共に、光源５１の光度値は最大光度値を超えては設定できないように構成されている。 In the slit lamp microscope 1 according to the present embodiment, when the slit width and the field diaphragm diameter are set by the examiner, the control unit controls the slit of the slit portion 54 detected by the opening area detection unit 59. The opening area of the opening 71 obtained by combining the width and the field diaphragm diameter selected in the field diaphragm 60 is obtained, the maximum luminosity value of the light source 51 is set, and the luminosity value of the light source 51 is the maximum luminosity value. It is configured so that it cannot be set beyond that.

図５に示すように、制御部１０１は記憶部１０１ａを有し、記憶部１０１ａは、検者が設定したスリット幅の値と視野絞り径とにより、開口面積に対応した観察光が被検眼Ｅの眼底Ｅｒに照射された場合であっても被検眼眼底に対する安全照度を超えない適切な光源の最大光度値からなるデータをあらかじめ格納している。
制御部１０１は、開口面積検知部５９により検知された、スリット幅及び選択された視野絞り径からなる開口面積に基づき、記憶部１０１ａのデータを参照して光源５１の最大光度値を決定する。 As shown in FIG. 5, the control unit 101 has a storage unit 101a, and the storage unit 101a receives the observation light corresponding to the opening area according to the slit width value set by the examiner and the visual field diaphragm diameter. Data consisting of the maximum luminous intensity value of an appropriate light source that does not exceed the safe illuminance for the eye bottom of the eye to be inspected even when the fundus Er is irradiated is stored in advance.
The control unit 101 determines the maximum luminous intensity value of the light source 51 with reference to the data of the storage unit 101a based on the aperture area consisting of the slit width and the selected field diaphragm diameter detected by the aperture area detection unit 59.

従って、検者は、診察において、必要に応じ適宜スリット部５４の開閉及び視野絞り部６０の開口径を操作して観察を行うが、検者により設定されたスリット部５４の幅と視野絞り部６０の開口径からなる開口面積に応じて、制御部１０１により開口面積値に対応する光源５１の最大光度値が決定され、検者は、最大光度値以下であれば適宜、光源５１の光度を操作変更して必要な観察、検査を行うことができ、かつ、決定された開口面積値に対応する最大光度値以上には光源５１の光度を上げることはできないように構成されている。 Therefore, in the examination, the examiner observes by opening and closing the slit portion 54 and operating the opening diameter of the view narrowing section 60 as necessary, but the width of the slit portion 54 and the view narrowing section set by the examiner are observed. The maximum luminous intensity value of the light source 51 corresponding to the aperture area value is determined by the control unit 101 according to the aperture area consisting of the aperture diameter of 60, and the examiner appropriately determines the luminous intensity of the light source 51 if it is equal to or less than the maximum luminous intensity value. It is configured so that necessary observations and inspections can be performed by changing the operation, and the luminous intensity of the light source 51 cannot be increased above the maximum luminous intensity value corresponding to the determined aperture area value.

検者が最大光度値以上に光源５１の光度を設定しようとした場合には、「最大光度値に達している」旨の警告を表示部１０２に表示するか、又は音声により検者に警告してもよい。 When the examiner tries to set the luminous intensity of the light source 51 above the maximum luminous intensity value, a warning that "the maximum luminous intensity value has been reached" is displayed on the display unit 102, or the examiner is warned by voice. You may.

〔作動説明〕
本実施の形態に係るスリットランプ顕微鏡１を使用して検眼するに際し、開口面積に基づく光源５１の光度制御を行う場合の手順について図６のフローチャートを参照しながら説明する。 [Operation explanation]
The procedure for controlling the luminous intensity of the light source 51 based on the aperture area when optometry is performed using the slit lamp microscope 1 according to the present embodiment will be described with reference to the flowchart of FIG.

操作者は、スリットランプ顕微鏡１を使用するに際し、検眼の個別具体的事情に応じてスリット部５４の幅、及び視野絞り部６０の視野絞り径を設定または変更する（Ｓ１）。 When using the slit lamp microscope 1, the operator sets or changes the width of the slit portion 54 and the visual field diaphragm diameter of the visual field diaphragm unit 60 according to the specific circumstances of the optometry (S1).

次に、開口面積検知部５９は、設定または変更されたスリット幅、及び視野絞り径を検知し、検知信号を制御部１０１へ送る（Ｓ２）。 Next, the aperture area detection unit 59 detects the set or changed slit width and the field aperture diameter, and sends a detection signal to the control unit 101 (S2).

次に、制御部１０１はスリット幅と視野絞り径を複合した開口面積を求め、記憶部１０１ａに格納されている、設定された開口面積と、当該開口面積に対応した前記観察光が被検眼の眼底に照射された場合であっても眼底照度の安全値を超えない適切な光源の最大光度値とからなるデータテーブルから、上記得られた開口面積に対応する光源５１の最大光度値を取得する（Ｓ３）。 Next, the control unit 101 obtains an opening area in which the slit width and the illuminance aperture diameter are combined, and the set opening area stored in the storage unit 101a and the observation light corresponding to the opening area are used for the eye to be inspected. Obtain the maximum luminous intensity value of the light source 51 corresponding to the obtained aperture area from the data table consisting of the maximum luminous intensity value of an appropriate light source that does not exceed the safe value of the fundus illuminance even when the fundus is irradiated. (S3).

次に、制御部１０１は光源光度検知部５８により光源５１の、設定または変更された実際の光度を検知し、光度を取得する（Ｓ４）。そして、制御部１０１は、Ｓ４において検知、取得された光源５１の光度がＳ３において記憶部１０１ａから取得された最大光度値以下であるか否か、を判断する（Ｓ５）。 Next, the control unit 101 detects the actual luminous intensity of the light source 51 set or changed by the light source luminous intensity detecting unit 58, and acquires the luminous intensity (S4). Then, the control unit 101 determines whether or not the luminous intensity of the light source 51 detected and acquired in S4 is equal to or less than the maximum luminous intensity value acquired from the storage unit 101a in S3 (S5).

制御部１０１は、光源５１の光度がＳ３において記憶部１０１ａから取得された最大光度値以下であると判断した場合には、検者により設定または変更された光度を許容し決定して制御を終了する（Ｓ６）。 When the control unit 101 determines that the luminous intensity of the light source 51 is equal to or less than the maximum luminous intensity value acquired from the storage unit 101a in S3, the control unit 101 allows and determines the luminous intensity set or changed by the examiner, and ends the control. (S6).

一方、制御部１０１は、光源５１の光度がＳ３において記憶部１０１ａから取得された最大光度値以下ではない、と判断した場合には、光源５１の光度を、設定または変更された当該開口面積に対応する光源の最大光度値に設定して制御を終了する。 On the other hand, when the control unit 101 determines that the luminous intensity of the light source 51 is not equal to or less than the maximum luminous intensity value acquired from the storage unit 101a in S3, the luminous intensity of the light source 51 is set to the set or changed opening area. Set to the maximum luminous intensity value of the corresponding light source and end the control.

本実施の形態にあっては、背景照明系２０が設けられている場合を例に説明したが、上記実施の形態に限定されず、背景照明系２０が設けられていなくてもよい。 In the present embodiment, the case where the background illumination system 20 is provided has been described as an example, but the present embodiment is not limited to the above embodiment, and the background illumination system 20 may not be provided.

本発明はスリットランプ顕微鏡に係ることから、広く産業上の利用可能性を有している。 Since the present invention relates to a slit lamp microscope, it has wide industrial applicability.

０１観察光軸
０２照明光軸
０３背景照明光軸
１スリットランプ顕微鏡
２テーブル
３移動機構部
４基台
５操作ハンドル
６観察系
８照明系
９鏡筒本体
９ａ接眼部
１０顎受け台
１０ａ顎受け部
１０ｂ額当て
１１観察倍率操作ノブ
１２反射ミラー
１５支持部
１６支持アーム
１７支持アーム
１８照明強度操作部
２０背景照明系
３１対物レンズ
３２変倍光学系
３３絞り
３４ビームスプリッタ
３５リレーレンズ
３６プリズム
３６ａ光学素子
３６ｂ光学素子
３７接眼レンズ
４１リレーレンズ
４２ミラー
４３撮像素子
５１光源
５２リレーレンズ
５３コンデンサレンズ
５４スリット部（光束制御部）
５４ａスリット刃
５４ｂスリット刃
５５コンデンサレンズ
５６照明絞り
５８光源光度検知部
５９開口面積検知部（光束制御部）
６０視野絞り部（光束制御部）
６１ターレット
６２開口
６３ａ円形開口部
６３ｂ円形開口部
６３ｃ円形開口部
６３ｄ円形開口部
６４湾曲涙滴状開口部
６５照明光束
７０光束制御部
７１開口部
１００コンピュータ
１０１制御部
１０１ａ記憶部
１０２表示部
１０３操作部
Ｅ被検眼
Ｅｃ角膜
Ｅｐ虹彩
Ｅｒ眼底
Ｐ光の結像位置
Ｌスリット間隔の長さ 01 Observation optical axis 02 Illumination optical axis 03 Background illumination optical axis 1 Slit lamp microscope 2 Table 3 Moving mechanism 4 Base 5 Operation handle 6 Observation system 8 Lighting system 9 Lens barrel body 9a Eyepiece 10 Jaw cradle 10a Jaw holder Part 10b Forehead support 11 Observation magnification operation knob 12 Reflection mirror 15 Support part 16 Support arm 17 Support arm 18 Illumination intensity control part 20 Background lighting system 31 Objective lens 32 Variable magnification optical system 33 Aperture 34 Beam splitter 35 Relay lens 36 Prism 36a Optics Element 36b Optical element 37 Eyepiece lens 41 Relay lens 42 Mirror 43 Image pickup element 51 Light source 52 Relay lens 53 Condenser lens 54 Slit part (light beam control part)
54a Slit blade 54b Slit blade 55 Condenser lens 56 Illumination diaphragm 58 Light source Luminous intensity detection unit 59 Aperture area detection unit (luminous flux control unit)
60 Field diaphragm unit (luminous flux control unit)
61 Turret 62 Opening 63a Circular opening 63b Circular opening 63c Circular opening 63d Circular opening 64 Curved teardrop-shaped opening 65 Illuminous flux 70 Luminous flux control 71 Opening 100 Computer 101 Control 101a Storage
102 Display unit 103 Operation unit E Eye to be inspected Ec Cornea Ep Iris Er Fundus P Light imaging position L Slit spacing length

Claims

An illumination system that has a light source that outputs illumination light and irradiates the eye to be inspected with observation light whose area is limited by passing the illumination light through a luminous flux control unit that can change the area of the opening.
An observation system for observing the return light of the observation light from the eye to be inspected,
A slit lamp microscope comprising an opening area detecting unit for detecting the area of the opening and a control unit for controlling the luminous intensity of the light source based on the opening area detected by the opening area detecting unit.
The luminous flux control unit has a slit portion, and the slit portion has at least a pair of slit blades having a variable arrangement interval, and is formed so that the interval between the slit blades can be detected.
The luminous flux control unit has a visual field diaphragm unit, and by selectively arranging a plurality of apertures having different diameters on the optical axis, the diameter of the luminous flux passing through the aperture can be made variable so that the arranged aperture can be detected. Has been formed and
When the arrangement interval of the pair of slit blades of the slit portion and the opening diameter of the visual field diaphragm portion are set by the examiner, the control unit is the control unit of the pair of slit blades detected by the opening area detection unit. A slit characterized in that the maximum luminous intensity value of the light source is determined based on the arrangement interval and the aperture diameter of the visual field diaphragm portion, and the luminous intensity value of the light source is set to be equal to or lower than the maximum luminous intensity value. Lamp microscope.

The light beam control unit includes the slit portion and the field aperture portion provided on the anti-light source side of the slit portion, and the field aperture portion is rotatably arranged in a direction orthogonal to the light beam. The opening is formed by a disk-shaped turret, and the opening is composed of a plurality of circular openings arranged concentrically in the turret body and a single curved teardrop-shaped opening. The large-diameter arc end, the small-diameter arc end arranged concentrically opposed to the large-diameter arc end in the circumferential direction, and the width dimension gradually increase from the large-diameter arc end to the small-diameter arc end. The first aspect of claim 1 , wherein the curved teardrop-shaped opening is formed by a curved contour portion formed so as to be small, and the width of the light beam passing through the slit portion can be continuously changed and controlled. Slit lamp microscope.

The control unit has a storage unit, and the storage unit includes an opening area consisting of a set arrangement interval width of a pair of slit blades and an opening diameter of a field aperture portion, an arrangement interval of the pair of slit blades, and a field aperture. Data consisting of the maximum luminosity value of an appropriate light source that does not exceed the illuminance safety value of the fundus even when the observation light corresponding to the opening diameter of the portion is applied to the fundus of the eye to be inspected is stored, and the control The unit is characterized in that the maximum illuminance value of the light source is determined based on the slit width of the slit portion and the opening diameter of the visual field aperture portion detected by the opening area detection unit with reference to the data of the storage unit. The slit lamp microscope according to claim 1 or 2.

The slit lamp microscope according to any one of claims 1 to 3, wherein the opening area detecting unit acquires the slit width value by detecting an operation amount of the slit operating unit.

The slit lamp microscope according to any one of claims 1 to 3, wherein the opening area detecting unit detects a slit width value by detecting the amount of movement of the pair of slit blades.

The aspect according to any one of claims 1 to 3, wherein the aperture area detection unit detects an aperture area based on an aperture image of an anterior segment image acquired by an imaging device arranged in an observation system. Slit lamp microscope.

Any one of claims 1 to 3, wherein the opening area detecting unit detects the opening diameter formed by the opening of the turret by measuring the step of the stepping motor for driving the turret. Slit lamp microscope according to.

The slit lamp microscope according to any one of claims 1 to 3, wherein the opening area detecting means detects the opening diameter by detecting the rotation angle of the turret with a light detecting unit.