JP6910481B2 - 積層体 - Google Patents

Description

本発明は、積層体に関する。

従来より、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）に代表される表示装置において、外光の反射防止のために直線偏光板とλ／４板とを積層した円偏光板が使用されている。
このような直線偏光板における偏光子には、二色性物質であるヨウ素が広く使用されている（特許文献１）。

特開２００６−３１７７４７号公報

上述したように、直線偏光板とλ／４板とを積層した円偏光板は、金属電極および有機発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス表示パネル（以下、「表示パネル」ともいう。）の反射防止のために使用される。
一方で、表示パネルで表示するパターン（画像、文字等）を鮮明にするために、有機発光層から生じた光が表示パネルの視認側に透過しやすいことが求められる。この問題に対する対応策としては、光吸収異方性膜を含み、透過率が高い光学フィルムを従来の直線偏光板のかわりに用いる方法が挙げられる。
しかしながら、発光層から生じた光に対する透過性に優れた上記のような光学フィルムを用いた場合、新たな問題が生じることを本発明者らは知見した。すわなち、光学フィルムの視認側から照射された光の一部は、上記表示パネルが有する金属電極に入射する。そして、金属電極に入射した光の反射光の一部は、光学フィルムを透過する。このとき、光学フィルムを透過した光（金属電極の反射光）が、色付いて見えてしまうという問題があった。

そこで、本発明は、反射光の色付きが低減された積層体を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、二色性物質を含む組成物を用いて形成された光吸収異方性膜を有し透過率が高い光学フィルムと、λ／４板と、金属電極と、が積層された積層体において、光学フィルムの特定波長における偏光度と、金属電極の特定波長における反射率との関係が所定の関係を満たせば、反射光の色付きを低減できることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

［１］
二色性物質を含む組成物を用いて形成された光吸収異方性膜を有し、波長４００〜７００ｎｍの波長域における透過率が５０％より大きい光学フィルムと、
λ／４板と、
金属電極と、をこの順に有し、
上記光学フィルムの波長λにおける偏光度（％）をＰ（λ）、上記金属電極の波長λにおける反射率（％）をＲ（λ）としたときに、下記式（Ａ）を満たす、積層体。
１００×［ｍｉｎ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝／ｍａｘ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝］＞８５％ 式（Ａ）
ただし、上記式（Ａ）において、ｍｉｎ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝と、ｍａｘ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝とはそれぞれ、Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０）、Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０）およびＲ（６５０）／Ｐ（６５０）のうちの、最小値および最大値を意味する。
［２］
上記式（Ａ）において、Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０）が、ｍｉｎ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝に該当せず、かつ、ｍａｘ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝にも該当しない、［１］に記載の積層体。
［３］
上記式（Ａ）において、
Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０）が、ｍｉｎ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝に該当し、かつ、
Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）が、ｍａｘ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝に該当する、［１］または［２］に記載の積層体。
［４］
上記光学フィルムが、５５５〜７００ｎｍに偏光度の最大値をもち、かつ、Ｐ（４５０）＜Ｐ（５５０）を満たす、［１］〜［３］のいずれかに記載の積層体。
［５］
上記二色性物質が、後述の式（１）で表される化合物を含む、［１］〜［４］のいずれかに記載の積層体。
後述の式（１）中、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
後述の式（１）中、Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、置換基を表す。
後述の式（１）中、ｍは１〜４の整数を表し、ｍが２〜４の整数の場合、複数のＡ^２は互いに同一でも異なっていてもよい。
［６］
上記二色性物質が、後述の式（２）で表される化合物を含む、［１］〜［５］のいずれかに記載の積層体。
後述の式（２）中、Ａ^４は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
後述の式（２）中、Ｌ^３およびＬ^４は、それぞれ独立に、置換基を表す。
後述の式（２）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
後述の式（２）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアルコキシ基を表す。
後述の式（２）中、Ｒ^２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
後述の式（２）中、Ｒ^３は、水素原子または置換基を表す。
後述の式（２）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。
［７］
上記二色性物質の含有量が、上記組成物の全固形分の総質量に対して、２５質量％以下である、［１］〜［６］のいずれかに記載の積層体。
［８］
上記λ／４板が、逆波長分散性を示す、［１］〜［７］のいずれかに記載の積層体。
［９］
上記金属電極が、有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの有機発光層を挟持する電極である、［１］〜［８］のいずれかに記載の積層体。
［１０］
上記金属電極が、タッチセンサーが有する電極である、［１］〜［８］のいずれかに記載の積層体。

以下に示すように、本発明によれば、反射光の色付きが低減された積層体を提供できる。

本発明の積層体の一実施形態を表す側面模式図である。 一般的な金属の反射スペクトルを示すグラフである。 光学フィルムの偏光度を波長毎に示すグラフである。 金属の反射率を光学フィルムの偏光度で割った値を波長毎に示すグラフである。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」および「メタクリル」の総称を意味する。

本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

本明細書において、屈折率ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚは、アッベ屈折率（ＮＡＲ−４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルタとの組み合わせで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、および、ポリスチレン（１．５９）。

また、本明細書において、角度（例えば「９０°」等の角度）、およびその関係（例えば「直交」および「平行」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±１０°の範囲内であること等を意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。

［積層体］
本発明の積層体は、二色性物質を含む組成物を用いて形成された光吸収異方性膜を有し、波長４００〜７００ｎｍの波長域における透過率が５０％より大きい光学フィルムと、λ／４板と、金属電極と、をこの順に有する（積層されてなる）。
本発明の積層体において、上記光学フィルムの波長λにおける偏光度（％）をＰ（λ）、上記金属電極の波長λにおける反射率（％）をＲ（λ）としたときに、後述する式（Ａ）を満たす。

以下において、本発明の積層体の一態様について、図面を用いて説明する。なお、本発明における図はいずれも模式図であり、各層のサイズおよび位置関係は必ずしもこれらの態様に限定されない。
図１は、本発明の積層体の一実施形態を表す側面模式図である。積層体１０は、光学フィルム１２、λ／４板１４および図示しない金属電極を有する表示素子１６を有し、各部材をこの順に有する。
光学フィルム１２は、透明支持体１２ａと、光吸収異方性膜１２ｂとを有し、光吸収異方性膜１２ｂがλ／４板１４側に配置されている。

積層体１０は、光学フィルム１２とλ／４板１４との間に、図示しない接着層を有していてもよい。
光学フィルム１２は、光吸収異方性膜１２ｂにおける透明支持体１２ａ側とは反対側の面に、図示しない保護層を有していてもよい。
光学フィルム１２は、透明支持体１２ａと光吸収異方性膜１２ｂとの間に、図示しない配向膜を有していてもよい。
なお、光学フィルム１２が透明支持体１２ａを有する場合を示したが、これに限定されず、本発明における光学フィルムは透明支持体を有していなくてもよい。

〔偏光度と反射率との関係〕
本発明の積層体は、光学フィルムの波長λにおける偏光度（％）をＰ（λ）、金属電極の波長λにおける反射率（％）をＲ（λ）としたときに、下記式（Ａ）を満たす。

１００×［ｍｉｎ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝／ｍａｘ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝］＞８５％ 式（Ａ）

ただし、上記式（Ａ）において、ｍｉｎ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝と、ｍａｘ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝とはそれぞれ、Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０）、Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０）およびＲ（６５０）／Ｐ（６５０）のうちの、最小値および最大値を意味する。

以下において、「Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０）」の値を「Ｘ」、「Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０）」の値を「Ｙ」、「Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）」の値を「Ｚ」と略記する。
したがって、式（Ａ）は、１００×｛ｍｉｎ（Ｘ，Ｙ，Ｚ）／ｍａｘ（Ｘ，Ｙ，Ｚ）｝＞８５％、として読み替えることができる。
また、式（Ａ）である１００×｛ｍｉｎ（Ｘ，Ｙ，Ｚ）／ｍａｘ（Ｘ，Ｙ，Ｚ）｝により算出される値を、「Ａ」と略記する。

光学フィルムの波長λにおける偏光度（％）であるＰ（λ）は、光学フィルムの透過率に基づいて、後述する実施例欄に記載の式により求められる値である。
金属電極の波長λにおける反射率（％）であるＲ（λ）は、ポリエステルフィルム上に形成した金属電極を構成する金属の蒸着膜を用いて、分光光度計によって測定される反射スペクトルから求められる。

図１に示す積層体１０において、光学フィルム１２におけるλ／４板１４側とは反対側の面（すなわち、透明支持体１２ａ側）を視認側としたときに、透明支持体１２ａの表面から入射した光の一部は、光学フィルム１２およびλ／４板１４を透過して、表示素子１６中の金属電極に到達する。この場合、金属電極に入射して反射された反射光の一部が光学フィルム１２を透過した場合に、金属電極の反射光が観察者に視認されることになる。
ここで、図２は、一般的な金属の反射スペクトルの一例であり、縦軸は反射率Ｒ（％）を表し、横軸は波長λ（ｎｍ）を表す。図２に示すように、可視光領域（４００〜７００ｎｍ）における金属の反射スペクトルは、長波長側に移行するにつれて、高くなる傾向にある。そのため、図２の反射スペクトルによれば、金属の反射光は赤味が強い。
通常、光の透過率が低い光学フィルムを用いると、金属電極の反射光は光吸収異方性膜の二色性物質の吸収軸に吸収されるので、反射光の色付きの問題は生じにくい。
これに対して、画像表示装置から鮮明な画像を表示するために、光の透過率の高い光学フィルムを用いた場合、金属電極の反射光の一部が、光吸収異方性膜の二色性物質の吸収軸に吸収されずに、光学フィルムの視認側を透過するので、観察者には色付いた光がより見えてしまうという問題がある。

上記問題に対して、本発明者らは、金属電極を構成する金属の反射スペクトルに合せて、光学フィルムの偏光度を波長毎に調節すれば、金属電極の反射光の色付きが抑制できることを見出した。
ここで、図３は、光学フィルムの偏光度Ｐ（％）を波長毎に示したグラフである。図３に示すように、長波長側に移行するにつれて偏光度Ｐが高くなるような光学フィルムを用いた場合、光学フィルム（二色性物質）が長波長側の光を吸収しやすくなる。
つまり、図４に示すように、金属の反射率Ｒ（％）を光学フィルムの偏光度Ｐ（％）で割った値（Ｒ／Ｐ）が波長毎に同程度の値を取れば、光学フィルムを透過して視認される反射光の色付きが抑制できると推測される。
このような観点に基づいて、光の３原色である、青、緑および赤の波長域のうち、代表的な波長（４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍ）を選択して、波長毎のＲ／Ｐ値（すなわち、式（Ａ）におけるＸ、ＹおよびＺ）のばらつきが小さい場合、光学フィルムを透過して視認される反射光の色付きが抑制できることを、本発明者らは見出した。具体的には、式（Ａ）のＸ、Ｙ、Ｚのうち、最大値（ｍａｘ（Ｘ，Ｙ，Ｚ））に対する最小値（ｍｉｎ（Ｘ，Ｙ，Ｚ））の割合が８５％以上であれば、図４に示すような波長毎のＲ／Ｐの差が小さい状態に近づくので、光学フィルムを透過して視認される反射光の色付きが抑制できる。

上記Ａは、８５％以上であり、反射光の色付きがより抑制できる観点から、８８％以上が好ましく、９０％以上が特に好ましい。上記Ａの上限値は、１００％以下が好ましい。

上記Ｙは、ｍｉｎ（Ｘ，Ｙ，Ｚ）に該当せず、かつ、ｍａｘ（Ｘ，Ｙ，Ｚ）にも該当しないことが好ましい。つまり、Ｘ、ＹおよびＺの中で、Ｙは中間の値であるのが好ましい。上記Ｙは、人の目に視認されやすい波長に対応する値である。そのため、Ｙが最大値および最小値のいずれにも該当しない中間の値であれば、反射光の色付きが視認されにくくなる。
また、Ｘがｍｉｎ（Ｘ，Ｙ，Ｚ）に該当し、かつ、Ｚがｍａｘ（Ｘ，Ｙ，Ｚ）に該当するのが好ましい。つまり、Ｘ＜Ｙ＜Ｚの関係を満たすのが好ましい。これにより、反射光の色付きがより抑制される。

光学フィルムは、５５５〜７００ｎｍに偏光度の最大値をもち、かつ、Ｐ（４５０）＜Ｐ（５５０）を満たすのが好ましい。これにより、光学フィルムの波長毎の偏光度Ｐが、長波長側に移行するにしたがって反射率Ｒが高くなる一般的な金属の反射スペクトルに対応したものとなる。そのため、反射光の色付きがより抑制される。

以下において、本発明の積層体を構成する各部材について説明する。

〔光学フィルム〕
光学フィルムは、波長４００〜７００ｎｍの波長域における透過率が５０％より大きく、５２％以上が好ましく、５５％以上が特に好ましい。これにより、表示パネルにおいて鮮明なパターンを表示できる。
本明細書における光学フィルムの透過率とは、波長４００〜７００ｎｍの波長域における光学フィルムの透過率に基づいて、表面反射の影響を抑制するためにタック基材をリファレンスとし、かつ、ＣＩＥ（国際照明委員会）標準比視感度によって視感度補正した透過率を指す。なお、光学フィルムの透過率の測定装置および測定方法の詳細は、後述する実施例欄に示す通りである。
光学フィルムの透過率を５０％以上に調節する方法としては、これに限定されないが、光吸収異方性膜に含まれる二色性物質として、有機色素（特に、後述の特定二色性物質）を用いる方法が挙げられる。

光学フィルムの偏光度は、例えば、二色性物質の種類、光吸収異方性膜中の二色性物質の含有量、または、複数の二色性物質を用いた場合における各二色性物質の配合比等で調節できる。

＜光吸収異方性膜＞
光学フィルムは、光吸収異方性膜を有する。光吸収異方性膜は、二色性物質を含む組成物を用いて形成された膜である。光学フィルムは、直線偏光を取り出す直線偏光板としての機能をもつ。

（二色性物質）
二色性物質は、光透過性の高い（光の透過率５０％以上）の光学フィルムが得られるのであれば特に限定されないが、配向度が優れる観点から、下記式（１）で表される化合物（以下、「特定二色性物質」とも略す。）を含むのが好ましい。
光吸収異方性膜には、下記二色性物質そのものが含まれていてもよいし、下記二色性物質の重合体が含まれていてもよいし、これらの両方が含まれていてもよい。

ここで、式（１）中、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
また、式（１）中、Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、置換基を表す。
また、式（１）中、ｍは、１〜４の整数を表し、ｍが２〜４の整数の場合、複数のＡ^２は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、ｍは、１または２であることが好ましい。

上記式（１）中、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」について説明する。
上記置換基としては、例えば、特開２０１１−２３７５１３号公報の［０２３７］〜［０２４０］段落に記載された置換基群Ｇが挙げられ、中でも、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、または、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、４−メチルフェノキシカルボニル、４−メトキシフェニルカルボニル等）等が好ましく、アルキル基がより好ましく、炭素数１〜５のアルキル基が特に好ましい。
一方、２価の芳香族基としては、例えば、２価の芳香族炭化水素基および２価の芳香族複素環基が挙げられる。
上記２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、炭素数６〜１２のアリーレン基が挙げられ、具体的には、フェニレン基、クメニレン基、メシチレン基、トリレン基、および、キシリレン基等が挙げられる。中でもフェニレン基が好ましい。
また、上記２価の芳香族複素環基としては、単環または２環性の複素環由来の基が好ましい。芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。芳香族複素環基としては、具体的には、ピリジレン基（ピリジン−ジイル基）、キノリレン基（キノリン−ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン−ジイル基）、ベンゾチアジアゾール−ジイル基、フタルイミド−ジイル基、および、チエノチアゾール−ジイル基（以下、「チエノチアゾール基」と略す。）等が挙げられる。
上記２価の芳香族基の中でも、２価の芳香族炭化水素基が好ましい。

ここで、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３のうちいずれか１つが、置換基を有していてもよい２価のチエノチアゾール基であることが好ましい。なお、２価のチエノチアゾール基の置換基の具体例は、上述した「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」における置換基と同じであり、好ましい態様も同じである。
また、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３のうち、Ａ^２が２価のチエノチアゾール基であることがより好ましい。この場合には、Ａ^１およびＡ^２は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
Ａ^２が２価のチエノチアゾール基である場合には、Ａ^１およびＡ^２の少なくとも一方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましく、Ａ^１およびＡ^２の両方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることがより好ましい。

上記式（１）中、Ｌ^１およびＬ^２が表す「置換基」について説明する。
上記置換基としては、溶解性もしくはネマティック液晶性を高めるために導入される基、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性もしくは電子吸引性を有する基、または、配向を固定化するために導入される架橋性基（重合性基）を有する基が好ましい。
例えば、置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、および、シクロヘキシル基等が挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、および、３−ペンテニル基等が挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、および、３−ペンチニル基等が挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、３，５−ジトリフルオロメチルフェニル基、スチリル基、ナフチル基、および、ビフェニル基等が挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、および、アニリノ基等が挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、および、ブトキシ基等が挙げられる）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１５、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、および、フェノキシカルボニル基等が挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは２〜６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイル基、および、メタクリロイル基等が挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは炭素数２〜６であり、例えば、アセチルアミノ基、および、ベンゾイルアミノ基等が挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは炭素数２〜６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基等が挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基等が挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、および、ベンゼンスルホニルアミノ基等が挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、および、フェニルスルファモイル基等が挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、および、フェニルカルバモイル基等が挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メチルチオ基、および、エチルチオ基等が挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えば、フェニルチオ基等が挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メシル基、および、トシル基等が挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メタンスルフィニル基、および、ベンゼンスルフィニル基等が挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、および、フェニルウレイド基等が挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、および、フェニルリン酸アミド基等が挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子等が挙げられる。）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、および、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、および、ベンズチアゾリル基等が挙げられる）、シリル基（好ましくは炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、および、トリフェニルシリル基等が挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。

Ｌ^１およびＬ^２が表す置換基として好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアシルアミノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルホニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルファモイル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいスルホニル基、置換基を有していてもよいウレイド基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、イミノ基、アゾ基、ハロゲン原子、および、ヘテロ環基であり、より好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、ニトロ基、イミノ基、および、アゾ基である。

Ｌ^１およびＬ^２の少なくとも一方は、架橋性基（重合性基）を含むことが好ましく、Ｌ^１およびＬ^２の両方に架橋性基を含むことがより好ましい。
架橋性基としては、具体的には、特開２０１０−２４４０３８号公報の［００４０］〜［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられ、反応性および合成適性の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、または、スチリル基が好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。

Ｌ^１およびＬ^２の好適な態様としては、上記架橋性基で置換されたアルキル基、上記架橋性基で置換されたジアルキルアミノ基、および、上記架橋性基で置換されたアルコキシ基が挙げられる。

本発明においては、光吸収異方性膜に含まれる特定二色性物質の配向度がより向上する理由から、特定二色性物質が、下記式（２）で表される化合物であることが好ましい。

ここで、式（２）中、Ａ^４は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
また、式（２）中、Ｌ^３およびＬ^４は、それぞれ独立に、置換基を表す。
また、式（２）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
また、式（２）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアルコキシ基を表す。
また、式（２）中、Ｒ^２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
また、式（２）中、Ｒ^３は、水素原子または置換基を表す。
また、式（２）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。

上記式（２）中、Ａ^４が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」の具体例および好適態様は、上述した式（１）中のＡ^１〜Ａ^３が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」と同様である。
Ａ^４の好ましい態様としては、フェニレン基である。

上記式（２）中、Ｌ^３およびＬ^４が表す「置換基」の具体例および好適態様は、上述した式（１）中のＬ^１およびＬ^２が表す「置換基」と同様である。
Ｌ^３およびＬ^４の好適な態様としては、Ｌ^３およびＬ^４の少なくとも一方が架橋性基を含むことであり、より好適な態様としては、Ｌ^３およびＬ^４の両方が架橋性基を含むことである。これにより、光吸収異方性膜に含まれる特定二色性物質の配向度がより向上し、積層体の高温耐久性および湿熱耐久性がより良好となる。
また、Ｌ^３およびＬ^４の架橋性基の好適な態様としては、アクリロイル基またはメタクリロイル基である。

上記式（２）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表し、合成適性の観点から、窒素原子であることが好ましい。
また、特定二色性物質を短波長側に吸収を持つもの（例えば、５００〜５３０ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（１）におけるＥは、酸素原子であることが好ましい。
一方、特定二色性物質を長波長側に吸収を持つもの（例えば、６００ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（１）におけるＥは、窒素原子であることが好ましい。

上記式（２）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアルコキシ基を表し、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基が好ましい。
次に、Ｒ^１が表す「置換基を有していてもよいアルキル基」および「置換基を有していてもよいアルコキシ基」について説明する。
置換基としては、例えば、ハロゲン原子等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１〜８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。中でも、炭素数１〜６の直鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３の直鎖状のアルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基がさらに好ましい。
アルコキシ基としては、炭素数１〜８のアルコキシ基が挙げられる。中でも、炭素数１〜６のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１〜３のアルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であることが特に好ましい。

上記式（２）中、Ｒ^２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表し、置換基を有していてもよいアルキル基であることが好ましい。
Ｒ^２が表す「置換基を有していてもよいアルキル基」の具体例および好適態様は、上述した式（２）のＲ^１における「置換基を有していてもよいアルキル基」と同様であるので、その説明を省略する。
なお、Ｒ^２は、Ｅが窒素原子である場合に式（２）中で存在する基となる（すなわち、ｎ＝１の場合を意味する）。一方で、Ｒ^２は、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合、式（２）中で存在しない基となる（すなわち、ｎ＝０の場合を意味する）。

上記式（２）中、Ｒ^３は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ^３が表す「置換基」の具体例および好適態様は、上述した「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」における置換基と同じであり、好ましい態様も同じであるので、その説明を省略する。

上記式（２）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。

上記式（１）で表される特定二色性物質としては、具体的には、特開２０１０−１５２３５１号公報の［００５１］〜［００８１］段落に記載された化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
これらのうち、上記式（２）で表される構造を有する特定二色性物質としては、特開２０１０−１５２３５１号公報の［００７４］〜［００８１］段落に記載された化合物（Ｄ−１）〜（Ｄ−５３）の他に、以下に示す化合物（Ｄ−５４）〜（Ｄ−５８）も好適に挙げられる。

二色性物質の含有量は、組成物の全固形分の総質量に対して、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１８質量％以下が特に好ましい。また、二色性物質の含有量の下限値は、組成物の全固形分の総質量に対して、５質量％以上が好ましく、８質量％以上がより好ましく、１０質量％以上が特に好ましい。
二色性物質の含有量が２５質量％以下であれば、光透過性の高いフィルムが得られるので、表示パネルにおいて鮮明なパターン（例えば、画像および文字）を表示できる。また、二色性物質の含有量が５質量％以上であれば、光学フィルムを反射防止フィルムとして用いた場合に、その機能が十分に発揮される。

本発明においては、二色性物質の析出を抑止しながら、二色性物質をより高い配向度で配向させることができる理由から、光吸収異方性膜が、上述した二色性物質とともに液晶性化合物と含む組成物（以下、「液晶性組成物」ともいう。）を用いて形成される膜であることが好ましい。

（液晶性化合物）
液晶性組成物が含む液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物および高分子液晶性化合物のいずれも用いることができる。
ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。
また、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３−２２８７０６号公報に記載されているが挙げられる。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１−２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。

（界面改良剤）
液晶性組成物は、界面改良剤を含むことが好ましい。界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度の向上、ならびに、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性の向上が見込まれる。
界面改良剤としては、液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、特開２０１１−２３７５１３号公報の［０２５３］〜［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。
液晶性組成物が界面改良剤を含む場合、界面改良剤の含有量は、液晶性組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．００１〜５質量部が好ましく、０．０１〜３質量部がより好ましい。

（重合開始剤）
液晶性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報および特開平１０−２９９９７号公報）等が挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９およびイルガキュアＯＸＥ−０１等が挙げられる。
本発明の液晶性組成物が重合開始剤を含む場合、重合開始剤の含有量は、液晶性組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１〜３０質量部が好ましく、０．１〜１５質量部がより好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、光吸収異方性膜の硬化性が良好となり、３０質量部以下であることで、光吸収異方性膜の配向が良好となる。

（溶媒）
液晶性組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含むことが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、および、シクロヘキサノン等）、エーテル類（例えば、ジオキサン、および、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼン等）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、および、クロロトルエン等）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチル等）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、および、１，２−ジメトキシエタン等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド等）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、および、ジメチルアセトアミド等）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン等）等の有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、有機溶媒を用いることが好ましく、ハロゲン化炭素類またはケトン類を用いることがより好ましい。
液晶性組成物が溶媒を含む場合において、溶媒の含有量は、液晶性組成物の全質量に対して、８０〜９９質量％であることが好ましく、８３〜９７質量％であることがより好ましく、８５〜９５質量％であることが特に好ましい。

（他の成分）
液晶性組成物は、さらに上記特定二色性物質以外の二色性物質を含んでいてもよく、上記特定二色性物質を複数含んでいてもよい。複数の二色性物質を含む場合、液晶性組成物をより硬化する観点からは、上記特定二色性物質と架橋する架橋性基を持つ二色性物質を含むことが好ましく、上記特定二色性物質を複数含むことがさらに好ましい。

（形成方法）
上述した液晶性組成物を用いた光吸収異方性膜の形成方法は特に限定されず、上記液晶性組成物を後述の透明支持体上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。

塗布膜形成工程は、液晶性組成物を透明支持体上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含む液晶性組成物を用いたり、液晶性組成物を加熱等によって溶融液等の液状物としたものを用いたりすることにより、透明支持体上に液晶性組成物を塗布することが容易になる。
液晶性組成物の塗布方法としては、具体的には、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法等の公知の方法が挙げられる。
なお、本態様では、液晶性組成物が透明支持体上に塗布されている例を示したが、これに限定されず、例えば、透明支持体上に設けられた配向膜上に液晶性組成物を塗布してもよい。配向膜の詳細については後述する。

配向工程は、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性膜が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒等の成分を塗布膜から除去できる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、液晶性組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶性組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。

塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０〜２５０℃が好ましく、２５〜１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。

配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性膜として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性等の面から１０〜２５０℃が好ましく、２５〜１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１〜３００秒が好ましく、１〜６０秒がより好ましい。

配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０〜２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理等を挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。

光吸収異方性膜の製造方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性膜を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、光吸収異方性膜が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線等、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線が好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、光吸収異方性膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５〜１４０℃が好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。

光吸収異方性膜の厚みは特に限定されず、０．１〜５．０μｍが好ましく、０．３〜１．５μｍがより好ましい。

＜透明支持体＞
光学フィルムは、透明支持体を有していてもよい。光学フィルムが透明支持体を有する場合、透明支持体は、光吸収異方性膜とλ／４板との間に配置される。
ここで、本明細書において、「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。

透明支持体を形成する材料としては、例えば、ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー；ポリスチレン、および、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、および、エチレン−プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、および、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；等が挙げられる。

また、透明支持体を形成する材料としては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましい。熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製のゼオネックスおよびゼオノア、ならびに、ＪＳＲ（株）製のアートン等が挙げられる。
また、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）に代表される、セルロース系ポリマーも好ましい。

透明支持体の厚みは特に限定されず、１００μｍ以下が好ましく、８０μｍ以下がより好ましく、１０〜８０μｍが特に好ましい。

〔λ／４板〕
本発明の積層体が有するλ／４板は、光学フィルムと金属電極との間に配置される。本発明の積層体において、光学フィルムとλ／４板との組み合わせは、円偏光板として使用できる。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
λ／４板の具体例としては、例えば米国特許出願公開２０１５／０２７７００６号等が挙げられる。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルム等が挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。

λ／４板のＲｅ（５５０）は特に制限されないが、λ／４板として有用である点で、１１０〜１６０ｎｍが好ましく、１２０〜１５０ｎｍがより好ましい。

λ／４板は、逆波長分散性を示すのが好ましい。λ／４板が逆波長分散性を示すとは、特定波長（可視光範囲）における面内のレタデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいう。

〔金属電極〕
本発明の積層体が有する金属電極は、例えば、表示素子が有する電極、または、タッチセンサーが有する電極であるのが好ましい。
表示素子とは、表示装置に使用される素子であり、具体的には、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられ、これらの中でも、有機ＥＬ表示パネルが好ましい。
有機ＥＬ表示パネルは、金属電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。
タッチセンサーは、静電容量の変化または圧力等を感知するセンサーであり、上述した画像表示装置に適用して、タッチパネルとして使用される。具体的には、タッチセンサーとしては、フィルムの表面に金属電極が配置された導電性フィルムを有する態様が挙げられる。

金属電極を構成する材料としては、アルミニウム、クロム、銅、銀、金、白金、タンタル、ニッケル、チタン、モリブデン、タングステン、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、マンガン、マグネシウム、ジルコニウム、ベリリウム、錫、亜鉛、インジウム等から選択される金属元素、および、上述した金属元素を１種以上含む合金などが挙げられる。
また、金属電極を構成する材料としては、導電性を有する金属酸化物および金属窒化物を用いることができる。
導電性を有する金属酸化物としては、インジウム錫酸化物、タングステンを含むインジウム酸化物、タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、チタンを含むインジウム酸化物、チタンを含むインジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、および、シリコンを添加したインジウム錫酸化物などが挙げられる。
導電性を有する金属窒化物としては、窒化チタン、窒化タンタル、および、窒化タングステンなどが挙げられる。
これらの中でも、金属を構成する材料としては、導電性および取り扱い性の観点から、銀を含む材料が好ましく、銀であるのが好ましい。

〔配向膜〕
本発明の積層体は、上記透明支持体と上記光吸収異方性膜との間に、配向膜を有していてもよい。
配向膜を形成する方法としては、例えば、有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、および、ラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル等）の累積等の手法が挙げられる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。

＜ラビング処理配向膜＞
ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、およびその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０１〜１μｍがより好ましい。

＜光配向膜＞
光照射により形成される配向膜に用いられる光配向化合物としては、多数の文献等に記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはポリエステルが好ましい例として挙げられる。

これらのうち、光配向化合物として、光の作用により二量化および異性化の少なくとも一方が生じる光反応性基を有する感光性化合物を用いることが好ましい。
また、光反応性基が、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、マレイミド誘導体、アゾベンゼン化合物、ポリイミド化合物、スチルベン化合物およびスピロピラン化合物からなる群から選択される少なくとも１種の誘導体または化合物の骨格を有することが好ましい。

上記材料から形成した光配向膜に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００〜７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。

光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管等を挙げることができる。

直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、二色色素偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。

照射する光は、直線偏光の場合には、配向膜に対して上面、または裏面から配向膜表面に対して垂直、または斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０〜９０°（垂直）が好ましく、４０〜９０°がより好ましい。
非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０〜８０°が好ましく、２０〜６０°がより好ましく、３０〜５０°が特に好ましい。
照射時間は、１〜６０分が好ましく、１〜１０分がより好ましい。

パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。

〔接着層〕
本発明の積層体は、光学フィルムとλ／４板との間に、接着層を有していてもよい。
本明細書中において、「接着層」とは、「粘着層」を包含する概念である。ここで、「粘着」とは、接着の一種であり、被着物に貼り付けた後一定時間経過しても貼り付いている力（粘着力）の変化が小さく、必要に応じて剥離できることを意味する。また、「接着」とは、上記「粘着」を含む概念であり、単純に、貼り付ける対象物同士が一体の状態に貼り付くことを意味する。

接着層は、粘着剤を含むのが好ましい。粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、（メタ）アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、および、セルロース系粘着剤等が挙げられる。
これらのうち、透明性、耐候性、および、耐熱性等の観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。

接着層は、例えば、粘着剤の溶液（接着剤組成物）を離型シート上に塗布し、乾燥した後、透明樹脂層の表面に転写する方法；粘着剤の溶液を透明樹脂層の表面に直接塗布し、乾燥させる方法；等により形成することができる。
粘着剤の溶液（接着剤組成物）は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶剤に、粘着剤を溶解または分散させた１０〜４０質量％程度の溶液として調製される。
塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、および、スプレー法等を採用できる。
接着剤組成物は、上述した帯電防止剤を含んでいてもよく、これ以外の成分（例えば、硬化剤、カップリング剤等）を含んでいてもよい。

また、離型シートの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート等の合成樹脂フィルム；ゴムシート；紙；布；不織布；ネット；発泡シート；金属箔；等の適宜な薄葉体等が挙げられる。

本発明においては、任意の接着層の厚みは特に限定されないが、３〜５０μｍが好ましく、４〜４０μｍがより好ましく、５〜３０μｍが特に好ましい。

〔保護層〕
本発明の積層体における光学フィルムは、保護層を有していてもよい。光学フィルムが保護層を有する場合、保護層は光吸収異方性膜よりもλ／４板側に配置される。
保護層は、バリア層またはガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素等のガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物等から光吸収異方性膜を保護する機能を有する。
保護層については、特開２０１４−１５９１２４号公報の［００１４］〜［００５４］段落、特開２０１７−１２１７２１号公報の［００４２］〜［００７５］段落、特開２０１７−１１５０７６号公報の［００４５］〜［００５４］段落、特開２０１２−２１３９３８号公報の［００１０］〜［００６１］段落、特開２００５−１６９９９４号公報の［００２１］〜［００３１］段落の記載を参照できる。

本発明の積層体は、公知の方法にしたがって、各部材を所望の順になるように積層することで得られ、その製造方法は特に限定されない。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

［光学フィルムの作製］
＜ＰＶＡ層の作製＞
透明支持体としての厚み４０ｍｍのＴＡＣ基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）上に、下記の組成の配向膜形成用組成物を＃１８のワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、ＴＡＣ基材上に配向膜である厚み１．３ｍｍのＰＶＡ（ポリビニルアルコール）層１を形成した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用組成物
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール ７重量部
ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９（ＢＡＳＦ社製） ０．３重量部
水 ８０質量部
イソプロピルアルコール ２０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

下記構造の変性ポリビニルアルコールは、ＰＶＡ１０３（クラレ社製）を原料として、特開平９−１５２５０９に記載の方法にて合成した。

＜光配向膜の形成＞
下記組成にて、光配向膜形成用組成物１を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、孔径０．４５ｍｍのフィルタでろ過した。
ＰＶＡ層１上に、ろ過後の下記光配向膜形成用組成物１を塗布し、６０℃で１分間乾燥した。その後、得られた塗布膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ＭＷ、照射量５００ＭＪ／ｃｍ^２）を照射し、光配向膜１を形成した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向膜形成用組成物１
――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向材料Ｅ−１ （下記） ０．３質量部
２−ブトキシエタノール ４１．６質量部
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル ４１．６質量部
純水 １６．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

光配向材料Ｅ−１

＜光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１〜Ｐ３の調製＞
下記の組成にて、光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１を調製し、攪拌しながら５０℃で１時間加熱溶解し、孔径０．４５ｍｍのフィルタでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記二色性アゾ色素化合物Ｄ１ ２．２質量部
下記二色性アゾ色素化合物Ｄ２ ９．４質量部
下記高分子液晶性化合物Ｍ１ ７２．１質量部
重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．７質量部
下記界面改良剤Ｆ−１ ０．６質量部
シクロペンタノン ２７４．５質量部
テトラヒドロフラン ６４０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

二色性アゾ色素化合物Ｄ１

二色性アゾ色素化合物Ｄ２

高分子液晶性化合物Ｍ１（繰り返し単位中の数値は、高分子液晶性化合物Ｍ１中の全繰り返し単位に対する各繰り返し単位のモル％を表す。）

界面改良剤Ｆ−１（繰り返し単位中の数値は、界面改良剤Ｆ−１中の全繰り返し単位に対する各繰り返し単位のモル％を表す。）

下記の組成にて、光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ２を調製し、攪拌しながら５０℃で１時間加熱溶解し、孔径０．４５ｍｍのフィルタでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ２
――――――――――――――――――――――――――――――――
上記二色性アゾ色素化合物Ｄ１ ９．２質量部
上記二色性アゾ色素化合物Ｄ２ ９．８質量部
上記高分子液晶性化合物Ｍ１ ６４．７質量部
重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．７質量部
上記界面改良剤Ｆ−１ ０．６質量部
シクロペンタノン ２７４．５質量部
テトラヒドロフラン ６４０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

下記の組成にて、光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ３を調製し、攪拌しながら５０℃で１時間加熱溶解し、孔径０．４５ｍｍのフィルタでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ３
――――――――――――――――――――――――――――――――
上記二色性アゾ色素化合物Ｄ１ ４．５質量部
上記二色性アゾ色素化合物Ｄ２ ９．３質量部
上記高分子液晶性化合物Ｍ１ ６９．９質量部
重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．７質量部
上記界面改良剤Ｆ−１ ０．６質量部
シクロペンタノン ２７４．５質量部
テトラヒドロフラン ６４０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

（光吸収異方性膜の形成）
得られた光配向膜１上に、光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１をウェット塗布量が５．１ｃｃ／ｍ^２となるようにワイヤーバーで塗布した。次いで、１４０℃で９０秒間加熱し、室温（２３℃）になるまで冷却した。次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ＭＷ／ｃｍ^２の照射条件で６０秒間照射することにより、光吸収異方性膜１を形成した。

光吸収異方性膜１と同様にして、表１に示すように光吸収異方性膜形成用組成物の種類およびウェット塗布量を変更して、光吸収異方性膜２〜６を形成した。

＜保護層１の形成＞
光吸収異方性膜１〜６それぞれの上に、下記保護層形成用組成物１をウェット塗布量が３．４ｃｃ／ｍ^２のワイヤーバーで連続的に塗布し、６０℃で１分間乾燥を行った。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ＭＷ／ｃｍ^２の照射条件で６０秒間照射し、保護層形成用組成物１を硬化させ、光吸収異方性膜１〜６上に保護層１が形成された光学フィルム１〜６を作製した。
ミクロトーム切削機を用いて、保護層１の断面を切削し、走査型電子顕微鏡（ＳＣＡＮＮＩＮＧ ＥＬＥＣＴＲＯＮ ＭＩＣＲＯＳＣＯＰＥ：ＳＥＭ）観察にて膜厚を測定したところ、膜厚は約０．７ｍｍであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
保護層形成用組成物１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記親水性モノマーＨＭ−１ ２９質量部
重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） １質量部
エタノール ７０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

親水性モノマーＨＭ−１

＜光学フィルムの透過率および偏光度＞
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に各光学フィルムをセット後、透明支持体側から光を照射し、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて、４００〜７００ｎｍの波長域における光学フィルムの透過率を測定し、以下の式により偏光度を算出した。算出結果として、Ｐ（４５０）、Ｐ（５５０）、Ｐ（６５０）およびＰｍａｘの値を表１に示す。なお、Ｐｍａｘとは、波長４００〜７００ｎｍにおける偏光度の最大値を意味し、Ｐｍａｘを示すときの波長（λ：Ｐｍａｘ）を表１にあわせて示した。
偏光度Ｐ（％）：Ｐ＝１００×√［（Ｔｙ０−Ｔｚ０）／（Ｔｙ０＋Ｔｚ０）］
Ｔｚ０：光学フィルムの吸収軸方向の偏光に対する透過率
Ｔｙ０：光学フィルムの透過軸方向の偏光に対する透過率
また、光学フィルムの視感度補正透過率（％）は、上記のようにして測定した透過率に基づいて、表面反射の影響を抑制するために４０ｍｍのＴＡＣ基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）をリファレンスとし、かつ、ＣＩＥ（国際照明委員会）標準比視感度によって視感度補正して算出した。

［λ／４板の作製］
＜光配向膜形成用組成物２の調製＞
（重合体Ｅ−２の合成）
攪拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０．０質量部を仕込み、室温で混合物を攪拌した。次に、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて得られた混合物に滴下した後、還流下で混合物を混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで有機相を洗浄した。その後、得られた有機相から減圧下で溶媒および水を留去し、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンについて、^１Ｈ−ＮＭＲ（NUCLEAR MAGNETIC RESONANCE）分析を行ったところ、化学シフト（Δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
次に、１００ｍｌの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン１０．１質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亞合成株式会社、商品名「アロニックスＭ−５３００」、アクリル酸ω−カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））０．５質量部、酢酸ブチル２０質量部、特開２０１５−２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体１．５質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、得られた混合物を９０℃で１２時間攪拌した。攪拌後、得られた混合物と等量（質量）の酢酸ブチルで混合物を希釈し、さらに希釈された混合物を３回水洗した。得られた混合物を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（下記重合体Ｅ−２）を含む溶液を得た。この重合体Ｅ−２の重量平均分子量Ｍｗは９，０００であった。また、^１Ｈ−ＮＭＲ分析の結果、重合体Ｅ−２中のシンナメート基を有する成分は２３．７質量％であった。

（光配向膜形成用組成物２の調製）
以下の成分を混合して、光配向膜形成用組成物２を調製した。
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光配向膜形成用組成物２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
上記重合体Ｅ−２ １０．６７質量部
下記低分子化合物Ｒ−１ ５．１７質量部
下記添加剤（Ｂ−１） ０．５３質量部
酢酸ブチル ８２８７．３７質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
２０７１．８５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

添加剤（Ｂ−１）：サンアプロ社製ＴＡ−６０Ｂ（以下、構造式参照）

＜光学異方性層用塗布液の調製＞
下記組成の光学異方性層用塗布液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記液晶性化合物Ｌ−３ ４２．００質量部
下記液晶性化合物Ｌ−４ ４２．００質量部
下記重合性化合物Ａ−１ １６．００質量部
下記低分子化合物Ｂ２ ６．００質量部
下記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型） ０．５０質量部
下記レベリング剤Ｇ−１ ０．２０質量部
ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、下記液晶性化合物Ｌ−３およびＬ−４のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記液晶性化合物Ｌ−３およびＬ−４は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
レベリング剤Ｇ−１中の繰り返し単位中の数値は、レベリングＧ−１中の全繰り返し単位に対する、各繰り返し単位のモル％を表す。

＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
コア層セルロースアシレートドープ
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アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
特開２０１５−２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
下記化合物Ｆ ２質量部
メチレンクロライド（第１溶剤） ４３０質量部
メタノール（第２溶剤） ６４質量部
─────────────────────────────────

化合物Ｆ

（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
マット剤溶液
─────────────────────────────────
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
メチレンクロライド（第１溶剤） ７６質量部
メタノール（第２溶剤） １１質量部
上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
─────────────────────────────────

（セルロースアシレートフィルム１の作製）
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４ｍｍのろ紙および平均孔径１０ｍｍの焼結金属フィルタでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、ドラム上のフィルムの溶剤含有率が略２０質量％の状態となった時点でフィルムをドラム上から剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０ｍｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レタデーションは０ｎｍであった。

〔λ／４板の作製〕
作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、先に調製した各光配向膜形成用組成物２をバーコーターで塗布した。
塗布後、１２０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３ｍｍの光配向膜形成用組成物層を形成した。
得られた光配向膜形成用組成物層を偏光紫外線照射（１０ＭＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜を形成した。
次いで、光配向膜上に、先に調製した光学異方性層用塗布液をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。
形成した組成物層をホットプレート上でいったん１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ＭＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３ｍｍの光学異方性層を形成し、λ／４板１（λ／４位相差フィルム１）を作製した。得られたλ／４板１の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４０ｎｍであった。

＜円偏光板の作製＞
λ／４板１のセルロースアシレートフィルム１側に粘着剤（接着層）を介して光学フィルム１〜６をそれぞれ貼り合わせて円偏光板１〜６を得た。

［金属電極の作製］
ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に蒸着法により厚さ１５ｎｍの銀薄膜を蒸着形成することで金属電極１を作製した。また、同様にして、ＰＥＴフィルム上に２０ｎｍの銀薄膜を形成することで金属電極２を作製した。

＜金属電極の反射率＞
各金属電極の反射率Ｒ（％）を分光光度計「Ｖ−５５０」（日本分光（株）製）にアダプター「ＩＬＶ−４７１」を装着して測定し、得られた反射スペクトルから、Ｒ（４５０）、Ｒ（５５０）およびＲ（６５０）を求めた。
金属電極の反射率Ｒおよび光学フィルムの偏光度Ｐに基づいて算出した、１００×｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０）｝，１００×｛Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０）｝，１００×｛Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝を用いて、上記Ａの値を算出した。結果を表１に示す。

［積層体の作製］
金属電極１または２と、円偏光板１〜６との表１の組み合わせになるように、円偏光板のλ／４板側が金属電極側になるように貼合して、実施例および比較例の積層体を得た。

＜反射色味の測定＞
分光光度計「Ｖ−５５０」（日本分光（株）製）にアダプター「ＩＬＶ−４７１」を装着して、実施例および比較例の積層体における光学フィルムの表面側から光を照射して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域における実施例および比較例の積層体の積分反射スペクトルを測定し、反射色味ａ^＊とｂ^＊を算出し、以下の基準で評価した。
Ａ＋ ： −１＜ａ^＊＜１、かつ、−１＜ｂ^＊＜１を満たす。
Ａ ： −３＜ａ^＊＜３、かつ、−３＜ｂ^＊＜３を満たし、上記評価「Ａ＋」を満たさない。
Ｂ ： −７＜ａ^＊＜７、かつ、−７＜ｂ^＊＜７を満たし、上記評価「Ａ＋」および「Ａ」を満たさない。
Ｃ ： 上記評価「Ａ＋」、「Ａ」および「Ｂ」をいずれも満たさない。

表１に示す通り、Ａの値が８５％を上回る実施例１〜５については、反射光の色付きが抑えられ、反射光は略ニュートラルな色味であった。
また、実施例１と実施例５との対比において、Ａの値が両方の例で同等であるので、反射光の色付きが同程度に抑えられると考えていた。しかしながら、実施例５は、Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０）が、ｍｉｎ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝に該当せず、かつ、ｍａｘ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝にも該当しないため、反射光の色付きの抑制効果が特に優れることがわかった。
一方で、比較例１および比較例２はＡの値が８５％以下であり、反射光が色づいて見えた。

有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ５（有機ＥＬ表示装置）を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。次いで、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記作製した円偏光板をλ／４板側がパネル側になるようにタッチパネル上に貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。
このようにして得られた有機ＥＬ表示装置を用いて上述の反射色味の評価を行ったところ、上述した実施例および比較例と同様の傾向を示すことが確認できた。

また、有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ５（有機ＥＬ表示装置）を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離した。次いで、上記作製した円偏光板を有機ＥＬパネルに貼合し、タッチパネルを有しない有機ＥＬ表示装置を作製した。
このようにして得られた有機ＥＬ表示装置を用いて上述の反射色味の評価を行ったところ、上述した実施例および比較例と同様の傾向を示すことが確認できた。

１０ 積層体
１２ 光学フィルム
１２ａ 透明支持体
１２ｂ 光吸収異方性膜
１４ λ／４板
１６ 表示素子

Claims (10)

1. 二色性物質を含む組成物を用いて形成された光吸収異方性膜を有し、波長４００〜７００ｎｍの波長域における透過率が５０％より大きい光学フィルムと、
   λ／４板と、
   金属電極と、をこの順に有し、
   前記光学フィルムの波長λにおける偏光度（％）をＰ（λ）、前記金属電極の波長λにおける反射率（％）をＲ（λ）としたときに、下記式（Ａ）を満たす、積層体。
   １００×［ｍｉｎ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝／ｍａｘ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝］＞８５％ 式（Ａ）
   ただし、前記式（Ａ）において、ｍｉｎ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝と、ｍａｘ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝とはそれぞれ、Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０）、Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０）およびＲ（６５０）／Ｐ（６５０）のうちの、最小値および最大値を意味する。
2. 前記式（Ａ）において、Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０）が、ｍｉｎ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝に該当せず、かつ、ｍａｘ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝にも該当しない、請求項１に記載の積層体。
3. 前記式（Ａ）において、
   Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０）が、ｍｉｎ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝に該当し、かつ、
   Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）が、ｍａｘ｛Ｒ（４５０）／Ｐ（４５０），Ｒ（５５０）／Ｐ（５５０），Ｒ（６５０）／Ｐ（６５０）｝に該当する、請求項１または２に記載の積層体。
4. 前記光学フィルムが、５５５〜７００ｎｍに偏光度の最大値をもち、かつ、Ｐ（４５０）＜Ｐ（５５０）を満たす、請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層体。
5. 前記二色性物質が、下記式（１）で表される化合物を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体。
   

   

   前記式（１）中、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
   前記式（１）中、Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、置換基を表す。
   前記式（１）中、ｍは１〜４の整数を表し、ｍが２〜４の整数の場合、複数のＡ^２は互いに同一でも異なっていてもよい。
6. 前記二色性物質が、下記式（２）で表される化合物を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の積層体。
   

   

   前記式（２）中、Ａ^４は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
   前記式（２）中、Ｌ^３およびＬ^４は、それぞれ独立に、置換基を表す。
   前記式（２）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
   前記式（２）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアルコキシ基を表す。
   前記式（２）中、Ｒ^２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
   前記式（２）中、Ｒ^３は、水素原子または置換基を表す。
   前記式（２）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。
7. 前記二色性物質の含有量が、前記組成物の全固形分の総質量に対して、２５質量％以下である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の積層体。
8. 前記λ／４板が、逆波長分散性を示す、請求項１〜７のいずれか１項に記載の積層体。
9. 前記金属電極が、有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの有機発光層を挟持する電極である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の積層体。
10. 前記金属電極が、タッチセンサーが有する電極である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の積層体。

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