JP6910882B2 - Inspection data generator, inspection system and inspection data generation processing program - Google Patents
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Description
本発明は、検査対象と同種の良品の試料についての測定値データ、および検査対象と同種の不良品の試料についての測定値データに基づき、検査対象の良否判別条件を特定可能な検査用データを生成する技術に関するものである。 The present invention provides inspection data that can identify the quality determination condition of the inspection target based on the measurement value data of the good product sample of the same type as the inspection target and the measurement value data of the defective product sample of the same type as the inspection target. It is about the technology to generate.
例えば、下記の特許文献には、電動機や発電機などの回転機における巻線の良否を診断可能に構成された巻線診断システム(以下、単に「診断システム」ともいう)の発明が開示されている。この診断システムによる巻線の良否診断に際しては、まず、診断対象の巻線に対してインパルス電圧発生回路からインパルス電圧を印加すると共に、巻線における両端間の電圧値を所定のサンプリング周期でサンプリング(測定)する。これにより、巻線の状態に応じた減衰振動波形が観測される。なお、実際には、回転子を所定の角度ずつ回転させて同様の処理繰り返し行うが、背景技術についての理解を容易とするために、回転子の回転に関する説明を省略する。 For example, the following patent documents disclose the invention of a winding diagnostic system (hereinafter, also simply referred to as "diagnostic system") configured to be able to diagnose the quality of winding in a rotating machine such as an electric motor or a generator. There is. When diagnosing the quality of a winding by this diagnostic system, first, an impulse voltage is applied from the impulse voltage generation circuit to the winding to be diagnosed, and the voltage value between both ends of the winding is sampled at a predetermined sampling cycle ( Measure. As a result, a damped vibration waveform corresponding to the winding state is observed. In reality, the rotor is rotated by a predetermined angle and the same process is repeated, but in order to facilitate understanding of the background technology, the description of the rotation of the rotor will be omitted.
次いで、巻線およびインパルス電圧発生回路から構成される回路における等価回路定数のレジスタンスをRとし、インダクタンスをLとし、キャパシタンスをCとし、かつ巻線およびインパルス電圧発生回路から構成される回路をRLCの直列回路と見なして、その直列回路における各等価回路定数の乗算値LCおよびRC(以下「LC値」、「RC値」ともいう)を擬似逆行列を用いて算出する。この際には、上記の測定処理によって得られた測定値(電圧値)が最小となる時点、または、測定値のゼロクロス時(電圧値が0Vとなった時点)をサンプリング開始の基準(LC値およびRC値を算出する測定値範囲の始点)とし、かつ電圧波形の半周期以上の予め規定された数(一例として、10点以上の)測定値を用いてLC値およびRC値を算出する。 Next, the resistance of the equivalent circuit constant in the circuit composed of the winding and the impulse voltage generation circuit is R, the inductance is L, the capacitance is C, and the circuit composed of the winding and the impulse voltage generation circuit is RLC. Considering a series circuit, the multiplication values LC and RC (hereinafter, also referred to as "LC value" and "RC value") of each equivalent circuit constant in the series circuit are calculated using a pseudo inverse matrix. At this time, the reference (LC value) for starting sampling is the time when the measured value (voltage value) obtained by the above measurement process becomes the minimum, or the time when the measured value crosses zero (when the voltage value becomes 0 V). And the starting point of the measured value range for calculating the RC value), and the LC value and the RC value are calculated using a predetermined number (for example, 10 points or more) of the voltage waveform for half a cycle or more.
この後、算出したLC値と良品のLC値との相違、および算出したRC値と良品のRC値との相違に基づいて検査対象の巻線が良品か不良品かが診断される。 After that, it is diagnosed whether the winding to be inspected is a non-defective product or a defective product based on the difference between the calculated LC value and the LC value of the non-defective product and the difference between the calculated RC value and the RC value of the non-defective product.
ところが、上記の特許文献に開示の診断システムの構成には、以下のような問題点が存在する。具体的には、上記特許文献に開示の診断システムでは、巻線の両端間にインパルス電圧を印加して両端間の電圧値をサンプリング(測定)し、観測される減衰振動波形のうちの予め規定された時点の測定値(最小値、またはゼロクロス時の測定値)を始点とする予め規定された数(電圧波形の半周期以上の10点以上)の測定値を対象として演算したLC値およびRC値に基づいて巻線の良否が診断される構成が採用されている。 However, the configuration of the diagnostic system disclosed in the above patent document has the following problems. Specifically, in the diagnostic system disclosed in the above patent document, an impulse voltage is applied between both ends of the winding to sample (measure) the voltage value between both ends, and the observed attenuated vibration waveform is defined in advance. LC value and RC calculated for a predetermined number (10 points or more of half a cycle or more of the voltage waveform) starting from the measured value at the time of measurement (minimum value or measured value at zero crossing) A configuration is adopted in which the quality of the winding is diagnosed based on the value.
一方、出願人は、上記の診断システムによる良否診断の手順と同様の手順に従って巻線部品(巻線)の良否の検査を試みたところ、巻線部品の種類や、巻線部品に生じている不良の種類によっては、その巻線が良品であるか不良品であるかの判別が困難となることがあることを見出した。この場合、上記の特許文献に開示の診断システムによる良品診断手順や、出願人が試みた良否検査手順では、巻線部品の状態に応じて(すなわち、巻線部品が良品であるか不良品であるかに応じて)インパルス電圧を印加した際の減衰振動波形に差異が生じる現象を利用している。そこで、出願人は、各種の不良が生じている巻線部品を対象としてインパルス電圧印加後の減衰振動波形を観察したところ、巻線部品の種類や、巻線部品に生じている不良の種類によっては、不良品の減衰振動波形と良品の減衰振動波形との相違の度合いが非常に低くなる(両波形が殆ど同じ形状となる)ことがあるのを見出した。 On the other hand, when the applicant tried to inspect the quality of the winding component (winding) according to the same procedure as the procedure for quality diagnosis by the above diagnostic system, the type of winding component and the winding component were found. It has been found that it may be difficult to determine whether the winding is a good product or a defective product depending on the type of defect. In this case, in the non-defective product diagnostic procedure by the diagnostic system disclosed in the above patent document and the good / bad inspection procedure attempted by the applicant, depending on the condition of the winding component (that is, whether the winding component is a non-defective product or a defective product). It utilizes the phenomenon that the damped vibration waveform when an impulse voltage is applied (depending on the presence) is different. Therefore, the applicant observed the damped vibration waveform after applying the impulse voltage to the winding component in which various defects occurred, and found that it depends on the type of the winding component and the type of defect occurring in the winding component. Found that the degree of difference between the damped vibration waveform of a defective product and the damped vibration waveform of a good product may be very low (both waveforms have almost the same shape).
このような場合には、不良品についての測定値に基づいて演算されるLC値やRC値と、良品についての測定値に基づいて演算されるLC値やRC値とが同程度の値となる。したがって、上記の特許文献に開示の診断システムの構成では、検査対象の巻線部品についての測定処理時に、ノイズ等の影響による僅かな測定誤差が生じたときに、不良品であるにも拘わらず良品についての測定値に基づいて演算されるLC値やRC値と同程度のLC値やRC値が演算されたり、良品であるにも拘わらず不良品についての測定値に基づいて演算されるLC値やRC値と同程度のLC値やRC値が演算されたりすることがある。このため、巻線部品の種類や、巻線部品に生じている不良の種類によっては、巻線部品の良否を正しく判定するのが非常に困難となっている。 In such a case, the LC value or RC value calculated based on the measured value for the defective product and the LC value or RC value calculated based on the measured value for the non-defective product are about the same value. .. Therefore, in the configuration of the diagnostic system disclosed in the above patent document, when a slight measurement error occurs due to the influence of noise or the like during the measurement process of the winding component to be inspected, the product is defective even though it is a defective product. LC value or RC value similar to LC value or RC value calculated based on measured value for non-defective product is calculated, or LC calculated based on measured value for defective product despite being good product An LC value or RC value that is about the same as the value or RC value may be calculated. Therefore, it is very difficult to correctly determine the quality of the wound component depending on the type of the wound component and the type of defect occurring in the wound component.
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、各種の不良が生じ得る検査対象の良否を的確に判別可能な検査用データを提供し得る検査用データ生成装置および検査用データ生成処理用プログラム、並びに、そのような検査用データに基づく検査対象の検査を実行し得る検査システムを提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and is an inspection data generator and an inspection data generation process capable of providing inspection data capable of accurately determining the quality of an inspection target in which various defects may occur. The main purpose is to provide a program for inspection and an inspection system capable of performing an inspection of an inspection target based on such inspection data.
上記目的を達成すべく、請求項1記載の検査用データ生成装置は、検査対象と同種の良品の試料について予め規定されたサンプリング周期で予め規定された時間に亘って行なわれたNa回(Naは、2以上の自然数)の測定処理Aによって当該予め規定された時間分の複数の測定値a0がそれぞれ記録されたNa個の測定値データAと、前記検査対象および前記良品の試料と同種の不良品の試料について前記測定処理Aと同じ測定条件で行なわれたNb回(Nbは、2以上の自然数)の測定処理Bによって前記予め規定された時間分の複数の測定値b0がそれぞれ記録されたNb個の測定値データBとを取得すると共に、前記検査対象の検査時に当該検査対象について前記測定処理Aおよび前記測定処理Bと同じ測定条件で行なわれるNc回(Ncは、2以上の自然数)の測定処理Cによって前記予め規定された時間分の複数の測定値c0がそれぞれ記録されるNc個の測定値データCに基づく当該検査対象の良否判別条件を特定可能な検査用データを前記各測定値データAおよび前記各測定値データBに基づいて生成するデータ生成処理を実行する処理部を備え、前記処理部は、前記データ生成処理において、前記各測定値a0を一階微分した複数の演算値a1、および当該各測定値a0を二階微分した複数の演算値a2を前記各測定値データA毎にそれぞれ導出すると共に、前記各測定値b0を一階微分した複数の演算値b1、および当該各測定値b0を二階微分した複数の演算値b2を前記各測定値データB毎にそれぞれ導出する第1の処理と、予め規定された測定値範囲内の前記各測定値a0、当該測定値範囲に対応する演算値範囲内の前記各演算値a1、および当該演算値範囲内の前記各演算値a2に基づいて対応する前記各測定値データA毎に良否判別用の被判別値A0をそれぞれ演算し、前記演算値範囲内の前記各演算値a1に基づいて対応する前記各測定値データA毎に良否判別用の被判別値A1をそれぞれ演算し、かつ前記演算値範囲内の前記各演算値a2に基づいて対応する前記各測定値データA毎に良否判別用の被判別値A2をそれぞれ演算すると共に、前記測定値範囲内の前記各測定値b0、前記演算値範囲内の前記各演算値b1、および当該演算値範囲内の前記各演算値b2に基づいて対応する前記各測定値データB毎に良否判別用の被判別値B0をそれぞれ演算し、前記演算値範囲内の前記各演算値b1に基づいて対応する前記各測定値データB毎に良否判別用の被判別値B1をそれぞれ演算し、かつ前記演算値範囲内の前記各演算値b2に基づいて対応する前記各測定値データB毎に良否判別用の被判別値B2をそれぞれ演算する第2の処理とを実行し、前記被判別値A0と前記被判別値B0との相違の度合、前記被判別値A1と前記被判別値B1との相違の度合、および前記被判別値A2と前記被判別値B2との相違の度合に基づいて前記良否判別条件の1つを規定して前記検査用データを生成する。 In order to achieve the above object, the inspection data generator according to claim 1 is performed Na times (Na) for a sample of a good product of the same type as the inspection target in a predetermined sampling cycle for a predetermined time. Is the same type of Na measurement value data A in which a plurality of measurement values a0 for the predetermined time are recorded by the measurement process A of (two or more natural numbers), and the inspection target and the non-defective sample. A plurality of measured values b0 for the predetermined time are recorded by the measurement process B of Nb times (Nb is a natural number of 2 or more) performed under the same measurement conditions as the measurement process A for the defective sample. Nb measurement value data B are acquired, and Nc times (Nc is a natural number of 2 or more) performed on the inspection target under the same measurement conditions as the measurement process A and the measurement process B at the time of inspection of the inspection target. ), Each of the above-mentioned inspection data can specify the quality determination condition of the inspection target based on Nc measurement value data C in which a plurality of measurement values c0 for the predetermined time are recorded. A processing unit that executes a data generation process that is generated based on the measured value data A and each measured value data B is provided, and the processing unit is a plurality of first-order differentiated versions of each measured value a0 in the data generation process. The calculated value a1 and the plurality of calculated values a2 obtained by second-order differentiating each of the measured values a0 are derived for each of the measured value data A, and the plurality of calculated values b1 obtained by first-order differentiating each measured value b0, and The first process of deriving a plurality of calculated values b2 obtained by second-order differentiation of each measured value b0 for each of the measured value data B, each measured value a0 within a predetermined measurement value range, and the measured value. Each of the calculated value a1 in the calculated value range corresponding to the range and the corresponding discriminated value A0 for pass / fail determination are set for each of the measured value data A corresponding based on the calculated value a2 in the calculated value range. The calculation is performed, and the discriminated value A1 for pass / fail determination is calculated for each of the corresponding measured value data A based on the calculated value a1 in the calculated value range, and each of the calculations in the calculated value range. The discriminated value A2 for pass / fail determination is calculated for each of the corresponding measured value data A based on the value a2, the measured value b0 within the measured value range, and the respective calculations within the calculated value range. Based on the value b1 and each of the calculated values b2 in the calculated value range, the discriminated value B0 for pass / fail determination is calculated for each of the corresponding measured value data B, and each of the above calculated values within the calculated value range is calculated. The discriminated value B1 for pass / fail determination is calculated for each of the corresponding measured value data B based on the calculated value b1, and the corresponding measured values are calculated based on the respective calculated values b2 within the calculated value range. The second process of calculating the discriminated value B2 for pass / fail determination is executed for each data B, and the degree of difference between the discriminated value A0 and the discriminated value B0, the discriminated value A1 and the subject The inspection data is generated by defining one of the quality determination conditions based on the degree of difference from the discrimination value B1 and the degree of difference between the discrimination value A2 and the discrimination value B2.
また、請求項2記載の検査用データ生成装置は、請求項1記載の検査用データ生成装置において、前記処理部は、前記データ生成処理において、前記被判別値A0と前記被判別値B0との相違の度合が、前記被判別値A1と前記被判別値B1との相違の度合、および前記被判別値A2と前記被判別値B2との相違の度合よりも高いときには、前記各測定値データCにおける前記測定値範囲内の前記各測定値c0、当該測定値範囲内の当該各測定値c0を一階微分した複数の演算値c1、および当該測定値範囲内の当該各測定値c0を二階微分した複数の演算値c2に基づいて良否判別用の被判別値C0を演算して当該被判別値C0に基づいて前記検査対象の良否を判別するとの条件を前記良否判別条件の1つとして規定し、前記被判別値A1と前記被判別値B1との相違の度合が、前記被判別値A0と前記被判別値B0との相違の度合、および前記被判別値A2と前記被判別値B2との相違の度合よりも高いときには、前記各演算値c1に基づいて良否判別用の被判別値C1を演算して当該被判別値C1に基づいて前記検査対象の良否を判別するとの条件を前記良否判別条件の1つとして規定し、前記被判別値A2と前記被判別値B2との相違の度合が、前記被判別値A0と前記被判別値B0との相違の度合、および前記被判別値A1と前記被判別値B1との相違の度合よりも高いときには、前記各演算値c2に基づいて良否判別用の被判別値C2を演算して当該被判別値C2に基づいて前記検査対象の良否を判別するとの条件を前記良否判別条件の1つとして規定して前記検査用データを生成する。
Further, the inspection data generation device according to
また、請求項3記載の検査用データ生成装置は、請求項1または2記載の検査用データ生成装置において、前記処理部は、前記データ生成処理において、前記検査対象の検査時に前記測定値データCに記録されている前記各測定値c0のうちのいずれの当該測定値c0から他のいずれの当該測定値c0までの当該各測定値c0を前記測定値範囲内の測定値c0とすべきかを特定可能な対象測定値範囲を前記良否判別条件の他の1つとして規定するときに、前記対象測定値範囲の始点に対応する前記測定値a0および前記測定値b0と当該対象測定値範囲の終点に対応する前記測定値a0および前記測定値b0との組合せを少なくとも異ならせたM種類(Mは、2以上の自然数)の仮範囲を規定し、当該各仮範囲を前記測定値範囲として前記第1の処理および前記第2の処理を当該M種類の仮範囲毎にそれぞれ実行すると共に、前記被判別値A0と前記被判別値B0との相違の度合、前記被判別値A1と前記被判別値B1との相違の度合、および前記被判別値A2と前記被判別値B2との相違の度合を前記M種類の仮範囲毎にそれぞれ特定して、当該相違の度合いが予め規定された条件を満たす関係となる当該仮範囲を特定する第3の処理を実行し、特定した前記仮範囲を前記対象測定値範囲として前記検査用データを生成する。
Further, the inspection data generation device according to
さらに、請求項4記載の検査用データ生成装置は、請求項3記載の検査用データ生成装置において、前記処理部は、前記第3の処理において、前記M種類の仮範囲毎に、Na個の前記被判別値A0のうちの最小値である良品最小値、および当該Na個の被判別値A0のうちの最大値である良品最大値をそれぞれ特定し、Nb個の前記被判別値B0毎に、前記良品最小値よりも小さい当該被判別値B0については当該良品最小値との差を不良度合値として演算し、かつ前記良品最大値よりも大きい当該被判別値B0については当該良品最大値との差を当該不良度合値としてそれぞれ演算すると共に、当該Nb個の被判別値B0の当該各不良度合値の合計値を演算し、演算した当該合計値に基づいて前記予め規定された条件を満たす関係となる前記仮範囲を特定する処理と、前記M種類の仮範囲毎に、Na個の前記被判別値A1のうちの最小値である良品最小値、および当該Na個の被判別値A1のうちの最大値である良品最大値をそれぞれ特定し、Nb個の前記被判別値B1毎に、前記良品最小値よりも小さい当該被判別値B1については当該良品最小値との差を不良度合値として演算し、かつ前記良品最大値よりも大きい当該被判別値B1については当該良品最大値との差を当該不良度合値としてそれぞれ演算すると共に、当該Nb個の被判別値B1の当該各不良度合値の合計値を演算し、演算した当該合計値に基づいて前記予め規定された条件を満たす関係となる前記仮範囲を特定する処理と、前記M種類の仮範囲毎に、Na個の前記被判別値A2のうちの最小値である良品最小値、および当該Na個の被判別値A2のうちの最大値である良品最大値をそれぞれ特定し、Nb個の前記被判別値B2毎に、前記良品最小値よりも小さい当該被判別値B2については当該良品最小値との差を不良度合値として演算し、かつ前記良品最大値よりも大きい当該被判別値B2については当該良品最大値との差を当該不良度合値としてそれぞれ演算すると共に、当該Nb個の被判別値B2の当該各不良度合値の合計値を演算し、演算した当該合計値に基づいて前記予め規定された条件を満たす関係となる前記仮範囲を特定する処理とを実行する。
Further, the inspection data generation device according to claim 4 is the inspection data generation device according to
また、請求項5記載の検査用データ生成装置は、請求項4記載の検査用データ生成装置において、前記処理部は、前記第3の処理において、前記合計値を前記良品最小値と前記良品最大値との差で除した値に基づいて前記予め規定された条件を満たす関係となる前記仮範囲を特定する。
Further, the inspection data generation device according to
さらに、請求項6記載の検査用データ生成装置は、請求項3から5のいずれかに記載の検査用データ生成装置において、前記処理部は、前記第3の処理において、Na個の前記被判別値A0の分布とNb個の前記被判別値B0の分布との相違の度合いを、相違の度合いが大きいほど高い数値となる予め規定された基準に従ってM個の前記仮範囲毎にそれぞれ数値化し、Na個の前記被判別値A1の分布とNb個の前記被判別値B1の分布との相違の度合いを当該予め規定された基準に従って当該M個の仮範囲毎にそれぞれ数値化し、かつNa個の前記被判別値A2の分布とNb個の前記被判別値B2の分布との相違の度合いを当該予め規定された基準に従って当該M個の仮範囲毎にそれぞれ数値化し、当該数値に基づいて前記予め規定された条件を満たす関係となる仮範囲を特定する。
Further, the inspection data generation device according to claim 6 is the inspection data generation device according to any one of
また、請求項7記載の検査用データ生成装置は、請求項6記載の検査用データ生成装置において、前記処理部は、前記第3の処理において、前記M種類の仮範囲のうちの1つを対象として、対象の当該仮範囲における前記始点に対応する測定値a0との相違量がLaサンプリング周期以下(Laは、自然数)の前記測定値a0を始点とする前記仮範囲であって、かつ当該対象の仮範囲における前記終点に対応する測定値a0との相違量がLbサンプリング周期以下(Lbは、自然数)の前記測定値a0を終点とする当該仮範囲の前記数値と、当該対象の仮範囲における前記始点に対応する測定値b0との相違量がLaサンプリング周期以下の前記測定値b0を始点とする前記仮範囲であって、かつ当該対象の仮範囲における前記終点に対応する測定値b0との相違量がLbサンプリング周期以下の前記測定値b0を終点とする当該仮範囲の前記数値とをそれぞれ特定し、特定した当該各数値のうちの最小値を前記対象の仮範囲に関連付ける処理を当該M個の仮範囲をそれぞれ前記対象の仮範囲として実行すると共に、関連付けられた数値が大きい前記仮範囲ほど前記予め規定された条件を満たす関係の度合いが大きいとして当該予め規定された条件を満たす関係となる仮範囲を特定する。 Further, the inspection data generation device according to claim 7 is the inspection data generation device according to claim 6, and the processing unit uses one of the M types of provisional ranges in the third process. As a target, the tentative range starting from the measured value a0 whose starting point is the amount of difference from the measured value a0 corresponding to the starting point in the tentative range of the target is equal to or less than the La sampling cycle (La is a natural number). The numerical value of the provisional range whose end point is the measured value a0 whose end point is less than or equal to the Lb sampling cycle (Lb is a natural number) and the provisional range of the target. The amount of difference from the measured value b0 corresponding to the start point in the above is the provisional range starting from the measurement value b0 equal to or less than the La sampling cycle, and the measured value b0 corresponding to the end point in the provisional range of the target. The process of identifying each of the numerical values in the provisional range whose end point is the measured value b0 whose difference amount is equal to or less than the Lb sampling cycle, and associating the minimum value among the specified numerical values with the provisional range of the target. Each of the M temporary ranges is executed as the temporary range of the target, and the larger the associated numerical value is, the greater the degree of the relationship satisfying the predetermined condition is, and the relation satisfying the predetermined condition. Specify the provisional range that becomes.
さらに、請求項8記載の検査用データ生成装置は、請求項3から7のいずれかに記載の検査用データ生成装置において、前記処理部は、前記予め規定された時間内に前記測定値a0が予め規定されたしきい値を超える状態および当該予め規定されたしきい値を下回る状態に周期的に変化する前記各測定値データA、および当該予め規定された時間内に前記測定値b0が前記予め規定されたしきい値を超える状態および当該予め規定されたしきい値を下回る状態に周期的に変化する前記各測定値データBを取得すると共に、前記データ生成処理において、前記予め規定された時間分の前記各測定値a0のうちのK回目(Kは、自然数)に前記予め規定されたしきい値を超えた当該測定値a0、および前記予め規定された時間分の前記各測定値b0のうちのK回目に当該予め規定されたしきい値を超えた当該測定値b0と、前記予め規定された時間分の前記各測定値a0のうちのK回目に前記予め規定されたしきい値を下回った当該測定値a0、および前記予め規定された時間分の前記各測定値b0のうちのK回目に当該予め規定されたしきい値を下回った当該測定値b0とのいずれか予め規定された一方を基準として前記M種類の仮範囲を規定する。
Further, the inspection data generation device according to claim 8 is the inspection data generation device according to any one of
また、請求項9記載の検査用データ生成装置は、請求項3から8のいずれかに記載の検査用データ生成装置において、前記処理部は、前記第3の処理によって特定した前記対象測定値範囲を報知する特定結果報知処理を実行する。
Further, the inspection data generation device according to claim 9 is the inspection data generation device according to any one of
さらに、請求項10記載の検査用データ生成装置は、請求項9記載の検査用データ生成装置において、前記処理部は、前記特定結果報知処理において、少なくとも前記各測定値データA、前記測定値データBおよび前記測定値データCのうちの少なくとも1つに基づく波形を表示装置に表示させると共に、前記対象測定値範囲を前記波形に対応させて表示させることで報知する。 Further, the inspection data generation device according to claim 10 is the inspection data generation device according to claim 9, and the processing unit is at least the measured value data A and the measured value data in the specific result notification process. A waveform based on at least one of B and the measured value data C is displayed on the display device, and the target measured value range is displayed corresponding to the waveform to notify the user.
また、請求項11記載の検査用データ生成装置は、請求項1から10のいずれかに記載の検査用データ生成装置において、前記処理部は、前記測定値データAに記録されている各測定値a0をJ1個おき(J1は、2以上の自然数)に抽出し、抽出した当該各測定値a0、当該抽出した各測定値a0に対応する前記各演算値a1、および当該抽出した各測定値a0に対応する前記各演算値a2を使用して前記被判別値A0、前記被判別値A1および前記被判別値A2をそれぞれ演算すると共に、前記測定値データBに記録されている各測定値b0をJ2個おき(J2は、2以上の自然数)に抽出し、抽出した当該各測定値b0、当該抽出した各測定値b0に対応する前記各演算値b1、および当該抽出した各測定値b0に対応する前記各演算値b2を使用して前記被判別値B0、前記被判別値B1および前記被判別値B2をそれぞれ演算する。
Further, the inspection data generation device according to
また、請求項12記載の検査システムは、請求項1から11のいずれかに記載の検査用データ生成装置と、前記測定処理Aを実行して前記測定値データAを生成し、かつ前記測定処理Bを実行して前記測定値データBを生成すると共に、前記測定処理Cを実行して前記測定値データCを生成可能に構成された測定装置と、前記検査用データ生成装置によって生成された検査用データ、および前記測定装置によって生成された前記測定値データCに基づいて前記検査対象の良否を検査する検査装置とを備えて当該検査対象の良否を検査可能に構成されている。
Further, the inspection system according to
また、請求項13記載の検査用データ生成処理用プログラムは、検査対象と同種の良品の試料について予め規定されたサンプリング周期で予め規定された時間に亘って行なわれたNa回(Naは、2以上の自然数)の測定処理Aによって当該予め規定された時間分の複数の測定値a0がそれぞれ記録されたNa個の測定値データAと、前記検査対象および前記良品の試料と同種の不良品の試料について前記測定処理Aと同じ測定条件で行なわれたNb回(Nbは、2以上の自然数)の測定処理Bによって前記予め規定された時間分の複数の測定値b0がそれぞれ記録されたNb個の測定値データBとを取得すると共に、前記検査対象の検査時に当該検査対象について前記測定処理Aおよび前記測定処理Bと同じ測定条件で行なわれるNc回(Ncは、2以上の自然数)の測定処理Cによって前記予め規定された時間分の複数の測定値c0がそれぞれ記録されるNc個の測定値データCに基づく当該検査対象の良否判別条件を特定可能な検査用データを前記各測定値データAおよび前記各測定値データBに基づいて生成するデータ生成処理を検査用データ生成装置の処理部に実行させると共に、前記データ生成処理において、前記各測定値a0を一階微分した複数の演算値a1、および当該各測定値a0を二階微分した複数の演算値a2を前記各測定値データA毎にそれぞれ導出すると共に、前記各測定値b0を一階微分した複数の演算値b1、および当該各測定値b0を二階微分した複数の演算値b2を前記各測定値データB毎にそれぞれ導出する第1の処理と、予め規定された測定値範囲内の前記各測定値a0、当該測定値範囲に対応する演算値範囲内の前記各演算値a1、および当該演算値範囲内の前記各演算値a2に基づいて対応する前記各測定値データA毎に良否判別用の被判別値A0をそれぞれ演算し、前記演算値範囲内の前記各演算値a1に基づいて対応する前記各測定値データA毎に良否判別用の被判別値A1をそれぞれ演算し、かつ前記演算値範囲内の前記各演算値a2に基づいて対応する前記各測定値データA毎に良否判別用の被判別値A2をそれぞれ演算すると共に、前記測定値範囲内の前記各測定値b0、前記演算値範囲内の前記各演算値b1、および当該演算値範囲内の前記各演算値b2に基づいて対応する前記各測定値データB毎に良否判別用の被判別値B0をそれぞれ演算し、前記演算値範囲内の前記各演算値b1に基づいて対応する前記各測定値データB毎に良否判別用の被判別値B1をそれぞれ演算し、かつ前記演算値範囲内の前記各演算値b2に基づいて対応する前記各測定値データB毎に良否判別用の被判別値B2をそれぞれ演算する第2の処理とを実行し、前記被判別値A0と前記被判別値B0との相違の度合、前記被判別値A1と前記被判別値B1との相違の度合、および前記被判別値A2と前記被判別値B2との相違の度合に基づいて前記良否判別条件の1つを規定して前記検査用データを生成する処理を前記処理部に実行させる。 Further, the inspection data generation processing program according to claim 13 is performed Na times (Na is 2) for a sample of a good product of the same type as the inspection target in a predetermined sampling cycle for a predetermined time. The Na measurement value data A in which a plurality of measurement values a0 for the predetermined time are recorded by the measurement process A of the above natural number), and the defective product of the same type as the inspection target and the good sample. For the sample, Nb pieces in which a plurality of measured values b0 for the predetermined time are recorded by the Nb times (Nb is a natural number of 2 or more) of the measurement process B performed under the same measurement conditions as the measurement process A. In addition to acquiring the measurement value data B of the above, Nc times (Nc is a natural number of 2 or more) performed on the inspection target under the same measurement conditions as the measurement process A and the measurement process B at the time of inspection of the inspection target. The inspection data that can identify the quality determination condition of the inspection target based on the Nc measurement value data C in which the plurality of measurement values c0 for the predetermined time are recorded by the process C is the measurement value data. A plurality of calculated values obtained by first-order differentiating each measured value a0 in the data generation process while causing the processing unit of the inspection data generation device to execute the data generation process generated based on A and each measured value data B. A1 and a plurality of calculated values a2 obtained by second-order differentiating each of the measured values a0 are derived for each of the measured value data A, and a plurality of calculated values b1 obtained by first-order differentiating each of the measured values b0, and each of them. The first process of deriving a plurality of calculated values b2 obtained by second-order differentiation of the measured value b0 for each of the measured value data B, and the respective measured values a0 within the predetermined measured value range and the measured value range. Based on each of the calculated values a1 in the corresponding calculated value range and each of the calculated values a2 in the calculated value range, the discriminated value A0 for pass / fail determination is calculated for each of the corresponding measured value data A. , The discriminated value A1 for pass / fail determination is calculated for each of the corresponding measured value data A based on the respective calculated values a1 in the calculated value range, and the respective calculated values a2 within the calculated value range. For each of the corresponding measured value data A, the discriminated value A2 for pass / fail determination is calculated, the measured value b0 within the measured value range, and the calculated value b1 within the calculated value range. , And each of the corresponding measured value data B based on each of the calculated values b2 in the calculated value range, the discriminated value B0 for pass / fail determination is calculated, and the calculated value range is calculated. The discriminated value B1 for pass / fail determination is calculated for each measured value data B corresponding based on the calculated value b1 in the above, and the corresponding calculated value b2 in the calculated value range is used for the corresponding calculation value B1. The second process of calculating the discriminated value B2 for pass / fail determination is executed for each of the measured value data B, and the degree of difference between the discriminated value A0 and the discriminated value B0 is the discriminated value. The inspection data is generated by defining one of the pass / fail judgment conditions based on the degree of difference between A1 and the discriminated value B1 and the degree of difference between the discriminated value A2 and the discriminated value B2. The processing unit is made to execute the processing to be performed.
請求項1記載の検査用データ生成装置では、処理部が、検査対象の良否判別条件を特定可能な検査用データを生成するデータ生成処理において、良品の試料についての各測定値a0を一階微分した複数の演算値a1、および各測定値a0を二階微分した複数の演算値a2を各測定値データA毎にそれぞれ導出すると共に、不良品の試料についての各測定値b0を一階微分した複数の演算値b1、および各測定値b0を二階微分した複数の演算値b2を各測定値データB毎にそれぞれ導出する第1の処理と、各測定値a0、各演算値a1および各演算値a2に基づいて対応する各測定値データA毎に良否判別用の被判別値A0をそれぞれ演算し、各演算値a1に基づいて対応する各測定値データA毎に良否判別用の被判別値A1をそれぞれ演算し、かつ各演算値a2に基づいて対応する各測定値データA毎に良否判別用の被判別値A2をそれぞれ演算すると共に、各測定値b0、各演算値b1および各演算値b2に基づいて対応する各測定値データB毎に良否判別用の被判別値B0をそれぞれ演算し、各演算値b1に基づいて対応する各測定値データB毎に良否判別用の被判別値B1をそれぞれ演算し、かつ各演算値b2に基づいて対応する各測定値データB毎に良否判別用の被判別値B2をそれぞれ演算する第2の処理とを実行し、被判別値A0と被判別値B0との相違の度合、被判別値A1と被判別値B1との相違の度合、および被判別値A2と被判別値B2との相違の度合に基づいて良否判別条件の1つを規定して検査用データを生成する。 In the inspection data generation device according to claim 1, in the data generation processing in which the processing unit generates inspection data capable of specifying the quality determination condition of the inspection target, each measured value a0 of the non-defective sample is first-order differentiated. A plurality of calculated values a1 and a plurality of calculated values a2 obtained by second-order differentiating each measured value a0 are derived for each measured value data A, and each measured value b0 for a defective sample is first-order differentiated. The first process of deriving a plurality of calculated values b2 obtained by second-order differentiation of the calculated value b1 and each measured value b0 for each measured value data B, each measured value a0, each calculated value a1, and each calculated value a2. The judgment value A0 for good / bad judgment is calculated for each of the corresponding measurement value data A based on Each calculation is performed, and the discriminated value A2 for pass / fail determination is calculated for each measurement value data A corresponding to each calculation value a2, and each measurement value b0, each calculation value b1 and each calculation value b2 are calculated. Based on each of the corresponding measurement value data B, the judgment value B0 for good / bad judgment is calculated, and the judgment value B1 for good / bad judgment is calculated for each measurement value data B corresponding to each calculation value b1. The second process of calculating and calculating the discriminated value B2 for pass / fail determination for each measured value data B corresponding based on each calculated value b2 is executed, and the discriminated value A0 and the discriminated value B0 are executed. One of the pass / fail judgment conditions is specified and inspected based on the degree of difference between the discriminated value A1 and the discriminated value B1, and the degree of difference between the discriminated value A2 and the discriminated value B2. Generate data for.
また、請求項2記載の検査用データ生成装置では、処理部が、被判別値A0と被判別値B0との相違の度合が、被判別値A1と被判別値B1との相違の度合、および被判別値A2と被判別値B2との相違の度合よりも高いときには、各測定値データCにおける測定値範囲内の各測定値c0、測定値範囲内の各測定値c0を一階微分した複数の演算値c1、および測定値範囲内の各測定値c0を二階微分した複数の演算値c2に基づいて良否判別用の被判別値C0を演算して被判別値C0に基づいて検査対象の良否を判別するとの条件を良否判別条件の1つとして規定し、被判別値A1と被判別値B1との相違の度合が、被判別値A0と被判別値B0との相違の度合、および被判別値A2と被判別値B2との相違の度合よりも高いときには、各演算値c1に基づいて良否判別用の被判別値C1を演算して被判別値C1に基づいて検査対象の良否を判別するとの条件を良否判別条件の1つとして規定し、被判別値A2と被判別値B2との相違の度合が、被判別値A0と被判別値B0との相違の度合、および被判別値A1と被判別値B1との相違の度合よりも高いときには、各演算値c2に基づいて良否判別用の被判別値C2を演算して被判別値C2に基づいて検査対象の良否を判別するとの条件を良否判別条件の1つとして規定して検査用データを生成する。
Further, in the inspection data generation device according to
また、請求項12記載の検査システムでは、データ生成処理を実行する検査用データ生成装置と、良品の試料、不良品の試料および検査対象についての測定処理を実行して測定値データA、測定値データBおよび測定値データCを生成する測定装置と、検査用データおよび測定値データCに基づいて検査対象の良否を検査する検査装置とを備えて検査対象の良否を検査可能に構成されている。さらに、請求項13記載の検査用データ生成処理用プログラムでは、上記のデータ生成処理を検査用データ生成装置の処理部に実行させる。
Further, in the inspection system according to
したがって、請求項1,2記載の検査用データ生成装置、請求項12記載の検査システム、および請求項13記載の検査用データ生成処理用プログラムによれば、被判別値A0と被判別値B0との相違の度合いが十分に高くなるような種類の不良が生じ得る検査対象については、検査対象についての測定値データCにおける各測定値c0に基づいて被判別値C0を演算して良否を判別するとの良否判別条件が規定された検査用データが生成され、被判別値A0と被判別値B0との相違の度合いがそれほど高くならない種類の不良が生じ得る検査対象については、検査対象についての測定値データCにおける各測定値c0を一階微分した演算値c1に基づいて演算される被判別値C1や、検査対象についての測定値データCにおける各測定値c0を二階微分した演算値c2に基づいて演算される被判別値C2に基づいて良否を判別するとの良否判別条件が規定された検査用データが生成されるため、この検査用データに基づいて検査を実行することで、各種の検査対象の良品を的確に判別することができる。
Therefore, according to the inspection data generation device according to
請求項3記載の検査用データ生成装置では、処理部が、データ生成処理において、検査対象の検査時に測定値データCに記録されている各測定値c0のうちのいずれの測定値c0から他のいずれの測定値c0までの各測定値c0を測定値範囲内の測定値c0とすべきかを特定可能な対象測定値範囲を良否判別条件の他の1つとして規定するときに、対象測定値範囲の始点に対応する測定値a0および測定値b0と対象測定値範囲の終点に対応する測定値a0および測定値b0との組合せを少なくとも異ならせたM種類の仮範囲を規定し、各仮範囲を測定値範囲として第1の処理および第2の処理をM種類の仮範囲毎にそれぞれ実行すると共に、被判別値A0と被判別値B0との相違の度合、被判別値A1と被判別値B1との相違の度合、および被判別値A2と被判別値B2との相違の度合をM種類の仮範囲毎にそれぞれ特定して、相違の度合いが予め規定された条件を満たす関係となる仮範囲を特定する第3の処理を実行し、特定した仮範囲を対象測定値範囲として検査用データを生成する。
In the inspection data generation device according to
したがって、請求項3記載の検査用データ生成装置、そのような検査用データ生成装置を備えた検査システム、およびそのような処理を実行させる検査用データ生成処理用プログラムによれば、検査対象の種類や、測定環境の相違に応じて、検査対象についての測定値データCに記録されている各測定値c0のうちから、良品の試料についての被判別値A0、被判別値A1または被判別値A2と、不良品の試料についての被判別値B0、被判別値B1または被判別値B2とが大きく相違する関係となる対象測定値範囲が自動的に特定されて検査用データが生成されるため、この検査用データに基づいて検査対象を検査することによって各種の不良が生じ得る検査対象の良否を的確に判別することができる。
Therefore, according to the inspection data generation device according to
請求項4記載の検査用データ生成装置では、処理部が、第3の処理において、M種類の仮範囲毎に、Na個の被判別値A0のうちの最小値である良品最小値、およびNa個の被判別値A0のうちの最大値である良品最大値をそれぞれ特定し、Nb個の被判別値B0毎に、良品最小値よりも小さい被判別値B0については良品最小値との差を不良度合値として演算し、かつ良品最大値よりも大きい被判別値B0については良品最大値との差を不良度合値としてそれぞれ演算すると共に、Nb個の被判別値B0の各不良度合値の合計値を演算し、演算した合計値に基づいて予め規定された条件を満たす関係となる仮範囲を特定する処理と、M種類の仮範囲毎に、Na個の被判別値A1のうちの最小値である良品最小値、およびNa個の被判別値A1のうちの最大値である良品最大値をそれぞれ特定し、Nb個の被判別値B1毎に、良品最小値よりも小さい被判別値B1については良品最小値との差を不良度合値として演算し、かつ良品最大値よりも大きい被判別値B1については良品最大値との差を不良度合値としてそれぞれ演算すると共に、Nb個の被判別値B1の各不良度合値の合計値を演算し、演算した合計値に基づいて予め規定された条件を満たす関係となる仮範囲を特定する処理と、M種類の仮範囲毎に、Na個の被判別値A2のうちの最小値である良品最小値、およびNa個の被判別値A2のうちの最大値である良品最大値をそれぞれ特定し、Nb個の被判別値B2毎に、良品最小値よりも小さい被判別値B2については良品最小値との差を不良度合値として演算し、かつ良品最大値よりも大きい被判別値B2については良品最大値との差を不良度合値としてそれぞれ演算すると共に、Nb個の被判別値B2の各不良度合値の合計値を演算し、演算した合計値に基づいて予め規定された条件を満たす関係となる仮範囲を特定する処理とを実行する。 In the inspection data generation device according to claim 4, in the third process, the processing unit has a non-defective product minimum value, which is the minimum value among the Na discriminated values A0, and Na for each of the M types of provisional ranges. The maximum non-defective product value, which is the maximum value among the discriminated values A0, is specified, and for each Nb discriminated value B0, the difference from the non-defective product minimum value is set for the discriminated value B0 smaller than the minimum non-defective product value. For the discriminated value B0 that is calculated as the defect degree value and is larger than the non-defective product maximum value, the difference from the non-defective product maximum value is calculated as the defect degree ratio value, and the sum of each defect degree value of Nb discriminated value B0. A process of calculating a value and specifying a provisional range that satisfies a predetermined condition based on the calculated total value, and a minimum value among Na discriminated values A1 for each of the M types of provisional ranges. The minimum value of the non-defective product and the maximum value of the non-defective product, which is the maximum value among the discriminated values A1 of Na, are specified, and for each Nb discriminated value B1, the discriminated value B1 smaller than the minimum value of the non-defective product is obtained. Calculates the difference from the minimum non-defective product value as the degree of defect value, and for the discriminated value B1 larger than the maximum value of non-defective product, the difference from the maximum value of non-defective product is calculated as the degree of defect value, and Nb discriminated values. A process of calculating the total value of each defect degree value of B1 and specifying a tentative range that satisfies a predetermined condition based on the calculated total value, and Na coverings for each of the M types of tentative ranges. The minimum value of the non-defective product, which is the minimum value of the discriminant value A2, and the maximum value of the non-defective product, which is the maximum value of the discriminated values A2 of Na, are specified, and the minimum value of the non-defective product is specified for each Nb discriminated value B2. For the discriminated value B2 smaller than, the difference from the minimum non-defective product value is calculated as the defect degree value, and for the discriminated value B2 larger than the maximum non-defective product value, the difference from the maximum non-defective product value is calculated as the defect degree value. At the same time, the total value of each defect degree value of Nb discriminated values B2 is calculated, and a process of specifying a provisional range that satisfies a predetermined condition based on the calculated total value is executed.
したがって、請求項4記載の検査用データ生成装置、そのような検査用データ生成装置を備えた検査システム、およびそのような処理を実行させる検査用データ生成処理用プログラムによれば、良品の試料においても生じ得る被判別値のばらつきの影響を排除することができるため、対象測定値範囲に相応しい仮範囲を好適に特定して検査用データを生成することができる。 Therefore, according to the inspection data generation device according to claim 4, the inspection system provided with such an inspection data generation device, and the inspection data generation processing program for executing such processing, in a non-defective sample. Since it is possible to eliminate the influence of the variation of the discriminated value that may occur, it is possible to preferably specify the provisional range suitable for the target measurement value range and generate the inspection data.
請求項5記載の検査用データ生成装置、そのような検査用データ生成装置を備えた検査システム、およびそのような処理を実行させる検査用データ生成処理用プログラムによれば、処理部が、第3の処理において、合計値を良品最小値と良品最大値との差で除した値に基づいて予め規定された条件を満たす関係となる仮範囲を特定することにより、良品最小値や良品最大値との差が同程度の被判別値B0、被判別値B1および被判別値B2となる仮範囲に関し、良品最小値と良品最大値との差が大きい仮範囲(良品の試料についての被判別値A0、被判別値A1および被判別値A2のばらつきが大きい仮範囲)よりも、良品最小値と良品最大値との差が小さい仮範囲(良品の試料についての被判別値A0、被判別値A1および被判別値A2のばらつきが小さい仮範囲)の方が大きな値が演算されるため、良品の試料についての被判別値A0、被判別値A1および被判別値A2のばらつきの範囲に対する差が大きい被判別値B0、被判別値B1および被判別値B2が演算され得る仮範囲、すなわち、検査対象の良否を一層確実に判別し得る仮範囲を好適に特定して検査用データを生成することができる。
According to the inspection data generation device according to
請求項6記載の検査用データ生成装置では、処理部が、第3の処理において、Na個の被判別値A0の分布とNb個の被判別値B0の分布との相違の度合いを、相違の度合いが大きいほど高い数値となる予め規定された基準に従ってM個の仮範囲毎にそれぞれ数値化し、Na個の被判別値A1の分布とNb個の被判別値B1の分布との相違の度合いを予め規定された基準に従ってM個の仮範囲毎にそれぞれ数値化し、かつNa個の被判別値A2の分布とNb個の被判別値B2の分布との相違の度合いを予め規定された基準に従ってM個の仮範囲毎にそれぞれ数値化し、数値に基づいて予め規定された条件を満たす関係となる仮範囲を特定する。 In the inspection data generation device according to claim 6, the processing unit determines the degree of difference between the distribution of Na discriminated values A0 and the distribution of N b discriminated values B0 in the third process. The higher the degree, the higher the value. According to a predetermined standard, each of the M provisional ranges is quantified, and the degree of difference between the distribution of Na discriminated values A1 and the distribution of N b discriminated values B1 is determined. Each of the M provisional ranges is quantified according to a predetermined standard, and the degree of difference between the distribution of Na discriminated value A2 and the distribution of Nb discriminated value B2 is M according to the predetermined standard. Each of the tentative ranges is quantified, and the tentative ranges that satisfy the predetermined conditions are specified based on the numerical values.
したがって、請求項6記載の検査用データ生成装置、そのような検査用データ生成装置を備えた検査システム、およびそのような処理を実行させる検査用データ生成処理用プログラムによれば、良品の試料についての被判別値A0、被判別値A1および被判別値A2の分布と、不良品の試料についての被判別値B0、被判別値B1および被判別値B2の分布とが大きい仮範囲を的確に特定することができる。 Therefore, according to the inspection data generation device according to claim 6, an inspection system provided with such an inspection data generation device, and an inspection data generation processing program for executing such processing, a non-defective sample is obtained. Accurately identify a provisional range in which the distribution of the discriminated value A0, the discriminated value A1 and the discriminated value A2, and the distribution of the discriminated value B0, the discriminated value B1 and the discriminated value B2 for the defective sample are large. can do.
請求項7記載の検査用データ生成装置では、処理部が、第3の処理において、M種類の仮範囲のうちの1つを対象として、対象の仮範囲における始点に対応する測定値a0との相違量がLaサンプリング周期以下の測定値a0を始点とする仮範囲であって、かつ対象の仮範囲における終点に対応する測定値a0との相違量がLbサンプリング周期以下の測定値a0を終点とする仮範囲の数値と、対象の仮範囲における始点に対応する測定値b0との相違量がLaサンプリング周期以下の測定値b0を始点とする仮範囲であって、かつ対象の仮範囲における終点に対応する測定値b0との相違量がLbサンプリング周期以下の測定値b0を終点とする仮範囲の数値とをそれぞれ特定し、特定した各数値のうちの最小値を対象の仮範囲に関連付ける処理をM個の仮範囲をそれぞれ対象の仮範囲として実行すると共に、関連付けられた数値が大きい仮範囲ほど予め規定された条件を満たす関係の度合いが大きいとして予め規定された条件を満たす関係となる仮範囲を特定する。 In the inspection data generation device according to claim 7, in the third process, the processing unit targets one of the M types of temporary ranges and sets the measured value a0 corresponding to the start point in the target temporary range. A tentative range in which the amount of difference is a tentative range starting from a measured value a0 that is less than or equal to the La sampling cycle, and an end point is a tentative range in which the amount of difference from the measured value a0 corresponding to the end point in the tentative range of interest is less than or equal to the Lb sampling cycle. The amount of difference between the numerical value of the tentative range to be measured and the measured value b0 corresponding to the start point in the tentative range of the target is the tentative range starting from the measured value b0 equal to or less than the La sampling cycle, and the end point in the tentative range of the target. A process of identifying each of the values in the tentative range whose end point is the measured value b0 whose amount of difference from the corresponding measured value b0 is less than or equal to the Lb sampling cycle, and associating the minimum value of each specified value with the target tentative range. Each of the M tentative ranges is executed as the target tentative range, and the tentative range that satisfies the predetermined condition is satisfied as the degree of the relationship that satisfies the predetermined condition is larger as the associated numerical value is larger. To identify.
したがって、請求項7記載の検査用データ生成装置、そのような検査用データ生成装置を備えた検査システム、およびそのような処理を実行させる検査用データ生成処理用プログラムによれば、不良品の試料についての測定処理B時に突発的に生じた測定値のずれに起因して被判別値B0、被判別値B1および被判別値B2が大きくなったような仮範囲が対象測定値範囲として特定される事態を招くことなく、その始点や終点が同様の仮範囲においても被判別値B0、被判別値B1および被判別値B2が十分に大きな値となる仮範囲、すなわち、不良品の試料に生じている定常的な不良の影響で良品の試料についての測定値とは異なる値となる測定値を含んでいる仮範囲を対象測定値範囲として特定して検査用データを生成することができる。 Therefore, according to the inspection data generation device according to claim 7, the inspection system provided with such an inspection data generation device, and the inspection data generation processing program for executing such processing, a defective sample. A provisional range in which the discriminated value B0, the discriminated value B1 and the discriminated value B2 become large due to the sudden deviation of the measured values during the measurement process B is specified as the target measured value range. It occurs in a tentative range in which the discriminated value B0, the discriminated value B1 and the discriminated value B2 are sufficiently large values even in the tentative range where the start point and the end point are the same without causing a situation, that is, in a defective sample. It is possible to generate inspection data by specifying a provisional range including a measured value that is different from the measured value for a non-defective sample due to the influence of a constant defect as a target measured value range.
請求項8記載の検査用データ生成装置では、処理部が、予め規定された時間内に測定値a0が予め規定されたしきい値を超える状態および予め規定されたしきい値を下回る状態に周期的に変化する各測定値データA、および予め規定された時間内に測定値b0が予め規定されたしきい値を超える状態および予め規定されたしきい値を下回る状態に周期的に変化する各測定値データBを取得すると共に、データ生成処理において、予め規定された時間分の各測定値a0のうちのK回目に予め規定されたしきい値を超えた測定値a0、および予め規定された時間分の各測定値b0のうちのK回目に予め規定されたしきい値を超えた測定値b0と、予め規定された時間分の各測定値a0のうちのK回目に予め規定されたしきい値を下回った測定値a0、および予め規定された時間分の各測定値b0のうちのK回目に予め規定されたしきい値を下回った測定値b0とのいずれか予め規定された一方を基準としてM種類の仮範囲を規定する。 In the inspection data generation device according to claim 8, the processing unit periodically enters a state in which the measured value a0 exceeds a predetermined threshold value and a state in which the measured value a0 falls below the predetermined threshold value within a predetermined time. Each measured value data A that changes cyclically, and each measured value b0 that periodically changes to a state in which the measured value b0 exceeds a predetermined threshold value and a state in which the measured value b0 falls below a predetermined threshold value within a predetermined time. In addition to acquiring the measured value data B, in the data generation process, the measured value a0 exceeding the predetermined threshold value at the Kth time of each measured value a0 for the predetermined time, and the predetermined measured value a0. The measured value b0 that exceeds the predetermined threshold value at the Kth time of each measured value b0 for the time and the Kth time of the measured value a0 for the predetermined time are predetermined. Either the measured value a0 below the threshold value or the measured value b0 below the predetermined threshold value at the Kth time of each measured value b0 for the predetermined time, whichever is predetermined. As a standard, M types of provisional ranges are specified.
したがって、請求項8記載の検査用データ生成装置、そのような検査用データ生成装置を備えた検査システム、およびそのような処理を実行させる検査用データ生成処理用プログラムによれば、良品の試料についての測定処理A時や、不良品の試料についての測定処理B時に測定値データAや測定値データBの始点に僅かなずれが生じた場合であっても、すべての測定値データにおいて、同じ基準を満たす測定値(K回目に予め規定されたしきい値を超えた測定値a0,b0、または、K回目に予め規定されたしきい値を下回った測定値a0,b0)を基準として仮範囲の始点を特定することができるため、測定値データAおよび測定値データBにおける始点の僅かなずれの影響を排除して、対象測定値範囲に相応しい仮範囲を特定することができる。 Therefore, according to the inspection data generation device according to claim 8, an inspection system provided with such an inspection data generation device, and an inspection data generation processing program for executing such processing, a non-defective sample is obtained. Even if there is a slight deviation in the starting points of the measured value data A and the measured value data B during the measurement process A and the measurement process B for the defective sample, the same standard is used for all the measured value data. Temporary range based on the measured value that satisfies (the measured value a0, b0 that exceeds the predetermined threshold value at the Kth time, or the measured value a0, b0 that falls below the predetermined threshold value at the Kth time). Since the start point of the measurement value can be specified, the effect of a slight deviation of the start point in the measurement value data A and the measurement value data B can be eliminated, and a provisional range suitable for the target measurement value range can be specified.
請求項9記載の検査用データ生成装置、そのような検査用データ生成装置を備えた検査システム、およびそのような処理を実行させる検査用データ生成処理用プログラムによれば、処理部が、第3の処理によって特定した対象測定値範囲を報知する特定結果報知処理を実行することにより、どのような範囲に含まれる測定値を対象として検査対象の良否が検査されるかを利用者に対して確実かつ容易に認識させることができる。 According to the inspection data generation device according to claim 9, the inspection system provided with such an inspection data generation device, and the inspection data generation processing program for executing such processing, the processing unit is the third. By executing the specific result notification processing that notifies the target measurement value range specified by the processing of, it is certain to the user what range of measurement values is to be inspected for the quality of the inspection target. And it can be easily recognized.
請求項10記載の検査用データ生成装置、そのような検査用データ生成装置を備えた検査システム、およびそのような処理を実行させる検査用データ生成処理用プログラムによれば、処理部が、特定結果報知処理において、少なくとも各測定値データA、測定値データBおよび測定値データCのうちの少なくとも1つに基づく波形を表示装置に表示させると共に、対象測定値範囲を波形に対応させて表示させることで報知することにより、どのような範囲に含まれる測定値を対象として検査対象の良否が検査されるかを利用者に対して一層容易に認識させることができる。 According to the inspection data generation device according to claim 10, the inspection system provided with such an inspection data generation device, and the inspection data generation processing program for executing such processing, the processing unit determines the specific result. In the notification process, a waveform based on at least one of the measured value data A, the measured value data B, and the measured value data C is displayed on the display device, and the target measured value range is displayed corresponding to the waveform. By notifying with, it is possible to make the user more easily recognize the quality of the inspection target to be inspected for the measured value included in what range.
請求項11記載の検査用データ生成装置、そのような検査用データ生成装置を備えた検査システム、およびそのような処理を実行させる検査用データ生成処理用プログラムによれば、処理部が、測定値データAに記録されている各測定値a0をJ1個おきに抽出し、抽出した各測定値a0、抽出した各測定値a0に対応する各演算値a1、および抽出した各測定値a0に対応する各演算値a2を使用して被判別値A0、被判別値A1および被判別値A2をそれぞれ演算すると共に、測定値データBに記録されている各測定値b0をJ2個おきに抽出し、抽出した各測定値b0、抽出した各測定値b0に対応する各演算値b1、および抽出した各測定値b0に対応する各演算値b2を使用して被判別値B0、被判別値B1および被判別値B2をそれぞれ演算することにより、仮範囲に含まれるすべての測定値を対象として被判別値A0、被判別値A1および被判別値A2や被判別値B0、被判別値B1および被判別値B2を演算する場合と比較して、演算対象の測定値の数が少なくて済む分だけ、処理部にかかる負担や、演算結果を一時的に記憶するメモリの容量を十分に小さくすることができる。
According to the inspection data generation device according to
以下、検査用データ生成装置、検査システムおよび検査用データ生成処理用プログラムの実施の形態について、添付図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments of an inspection data generator, an inspection system, and an inspection data generation processing program will be described with reference to the accompanying drawings.
最初に、検査システム1の構成について説明する。図1に示す検査システム1は、「測定装置」、「検査用データ生成装置」および「検査装置」を一体的に備えた「検査システム」の一例である「インパルス試験システム」であって、測定装置2およびデータ処理装置3を備えて検査対象X(「検査対象」の一例)の良否を検査することができるように構成されている。この場合、検査対象Xは、「検査対象」の一例であって、本例では、一例として巻線部品(コイル)を検査対象Xとして良否を検査する例について説明する。なお、この検査対象Xについては、検査対象Xと同種の(同じ型式製品の)巻線部品である良品試料Xa(「良品の試料」の一例)、および検査対象Xと同種の(同じ型式製品の)巻線部品である不良品試料Xb(「不良品の試料」の一例)がそれぞれ用意されているものとする。
First, the configuration of the inspection system 1 will be described. The inspection system 1 shown in FIG. 1 is an "impulse test system" which is an example of an "inspection system" in which a "measurement device", a "data generation device for inspection", and an "inspection device" are integrally provided, and measures the measurement. A
測定装置2は、「測定装置」に相当し、一例として、データ処理装置3の制御に従い、検査対象X、良品試料Xaおよび不良品試料Xbを対象とする各種の測定処理を実行可能に構成されている。具体的には、測定装置2は、測定信号発生部11、A/D変換部12、処理部13および記憶部14などを備えている。測定信号発生部11は、処理部13の制御に従って測定対象(検査対象X、良品試料Xaおよび不良品試料Xbなど)の両端間に測定信号としてのインパルス電圧を印加する。A/D変換部12は、一例として、処理部13の制御に従い、指定された周期(サンプリング周期:測定周期)で測定対象の両端間の電圧値をA/D変換(サンプリング:測定)して測定値D0(サンプリング値)を処理部13に順次出力する。
The measuring
処理部13は、測定装置2を総括的に制御する。具体的には、処理部13は、測定信号発生部11を制御して測定対象にインパルス電圧を印加させると共に、A/D変換部12を制御して任意の周期で電圧値のA/D変換処理(サンプリング処理)を実行させる。また、処理部13は、A/D変換部12から出力される測定値D0を記憶部14に記憶させ、かつ測定値D0に基づいて測定値データDmを生成して記憶部14に記憶させると共に、生成した測定値データDmをデータ処理装置3に出力する。記憶部14は、処理部13の動作プログラムのデータや、上記の測定値D0および測定値データDmなどを記憶する。なお、実際の測定装置2には、測定装置2の動作条件を指示するための各種の操作スイッチや、測定条件の設定画面および測定値の表示画面などを表示する表示部を備えて構成されているが、これらについての図示および説明を省略する。
The processing unit 13 comprehensively controls the measuring
一方、データ処理装置3は、「検査用データ生成装置」に相当し、測定装置2から出力される良品試料Xaおよび不良品試料Xbについての測定値データDmに基づき、検査対象Xについての検査を行うための検査用データDiを生成する。また、データ処理装置3は、「検査装置」に相当し、生成した検査用データDi、および測定装置2から出力される検査対象Xについての測定値データDmに基づき、検査対象Xの良否を検査する。この場合、本例の検査システム1では、一例として、「検査用データ生成処理用プログラム」に相当するプログラムデータDpが既存のパーソナルコンピュータにインストールされてデータ処理装置3が構成されている。
On the other hand, the
具体的には、このデータ処理装置3は、操作部21、表示部22、処理部23および記憶部24を備えている。操作部21は、キーボード、およびマウスやタッチパネルなどのポインティングデバイスを備え(図示せず)、これらに対する操作に応じた操作信号を処理部23に出力する。表示部22は、「表示装置」の一例であって、処理部23の制御に従い、図9に示す特定結果表示31や、図15に示す測定結果表示画面40などの各種の表示画面を表示する。
Specifically, the
処理部23は、「処理部」の一例であって、データ処理装置3を総括的に制御する。具体的には、処理部23は、後述するようにプログラムデータDpに従い、測定装置2を制御して良品試料Xaを対象とする測定処理(「測定処理A」の一例)、および不良品試料Xbを対象とする測定処理(「測定処理B」の一例)を実行させると共に、測定装置2から出力される測定値データDmに基づいて検査用データDiを生成する処理(「データ生成処理」の一例)を実行する。なお、検査用データDiの生成処理については、後に詳細に説明する。
The
また、処理部23は、プログラムデータDpに従い、測定装置2を制御して検査対象Xを対象とする測定処理(「測定処理C」の一例)を実行させると共に、生成した検査用データDi、および検査システム1から出力される測定値データDmに基づいて検査対象Xの良否を検査する検査処理を実行する。なお、この検査処理についても、後に詳細に説明する。記憶部24は、プログラムデータDp(処理部23の動作プログラムのデータ)や、検査システム1から出力される測定値データDm、処理部23によって生成される演算値データDc1,Dc2および検査用データDiなどを記憶する。
Further, the
次に、検査システム1による検査対象Xの検査方法について、添付図面を参照して説明する。なお、データ処理装置3にプログラムデータDpをインストールする作業や、測定装置2とデータ処理装置3とを接続する作業については既に完了しているものとする。
Next, the inspection method of the inspection target X by the inspection system 1 will be described with reference to the attached drawings. It is assumed that the work of installing the program data Dp in the
検査対象Xを検査するための検査用データDiの生成に際しては、まず、良品試料Xaを対象とする測定処理によって測定値データDmを得ると共に、不良品試料Xbを対象とする測定処理によって測定値データDmを得る。この際には、良品試料Xaを対象とする複数回の測定処理を実行して複数の測定値データDmを得ると共に、不良品試料Xbを対象とする複数回の測定処理を実行して複数の測定値データDmを得ることにより、後に、これらの測定値データDmに基づいて検査用データDiを生成する際に、検査対象Xの検査時に行なわれる測定処理においても生じ得る測定値D0のばらつきの程度を反映した検査用データDiを生成することが可能となる。 When generating the inspection data Di for inspecting the inspection target X, first, the measurement value data Dm is obtained by the measurement process targeting the non-defective sample Xa, and the measured value is obtained by the measurement process targeting the defective sample Xb. Obtain the data Dm. At this time, a plurality of measurement processes for the non-defective sample Xa are executed to obtain a plurality of measurement value data Dm, and a plurality of measurement processes for the defective sample Xb are executed for a plurality of times. By obtaining the measured value data Dm, when the inspection data Di is later generated based on these measured value data Dm, the variation of the measured value D0 that may occur in the measurement process performed at the time of the inspection of the inspection target X It is possible to generate inspection data Di that reflects the degree.
具体的には、まず、データ処理装置3の操作部21を操作して検査用データDiの生成処理の開始を指示する。この際に、処理部23は、プログラムデータDpに従い、一例として「良品の試料をセットして下さい。」とのメッセージを表示部22に表示させる。これに応じて、利用者は、測定装置2(測定信号発生部11およびA/D変換部12)を良品試料Xaに接続する。次いで、データ処理装置3の処理部23がプログラムデータDpに従って測定装置2を制御することにより、一例として、良品試料Xaについての30回(Na=30回の例)の測定処理(「測定処理A」の一例)を実行させる。
Specifically, first, the
この際に、測定装置2では、処理部13が、まず、A/D変換部12を制御して処理部23から指示されたサンプリング周期(「予め規定されたサンプリング周期」の一例)での電圧値のサンプリング(測定)を開始させる。これにより、A/D変換部12から良品試料Xaについての測定値D0(良品試料Xaの両端間の電圧値:「測定値a0」の一例)が順次出力されて記憶部14に記憶される。また、処理部13は、測定信号発生部11を制御して良品試料Xaにインパルス電圧を印加させる。この際には、良品試料Xaの両端間の測定値D0(電圧値)が、図2に示す減衰振動波形のように変化する。
At this time, in the
次いで、処理部13は、一例として、良品試料Xaに対するインパルス電圧の印加を開始させる直前の時点tsから、処理部23によって指示された時間TAが経過した時点teにおいて、この時間TA内にA/D変換部12から出力された複数の測定値D0,D0・・を記録して測定値データDm(「測定処理Aによって予め規定された時間分の複数の測定値a0がそれぞれ記録されたNa個の測定値データA」のうちの1個の一例)を生成し、生成した測定値データDmを記憶部14に記憶させる。また、処理部13は、生成した測定値データDmをデータ処理装置3に出力する。これにより、Na=30回の測定処理のうちの1回が完了する。
Next, as an example, the processing unit 13 A / within this time TA at the time point te when the time TA instructed by the
この場合、上記の時間TAは、インパルス電圧の印加を完了した後に良品試料Xaの両端間に生じる減衰振動が十分に減衰する時間であって、検査対象X(良品試料Xaおよび不良品試料Xb)の種類(型式)に応じて予め規定されている。また、本例の検査システム1では、一例として、データ処理装置3から測定装置2に対して「測定値データDmを構成する測定値D0の数」の提示によって上記の時間TAが指示される構成が採用されている。
In this case, the above time TA is a time during which the damped vibration generated between both ends of the non-defective sample Xa is sufficiently damped after the application of the impulse voltage is completed, and is the time to be inspected X (non-defective sample Xa and defective sample Xb). It is predetermined according to the type (model) of. Further, in the inspection system 1 of this example, as an example, the time TA is instructed by the
一方、データ処理装置3では、処理部23が、測定装置2から出力された測定値データDmを良品試料Xaについてのデータの1つとして記憶部24に記憶させる。この後、測定装置2では、処理部13がNa=30回の測定処理のうちの2回目以降の測定処理を順次実行する。これにより、測定装置2から出力された良品試料XaについてのNa=30個の測定値データDmがデータ処理装置3の記憶部24に記憶された状態となる(「予め規定された時間(本例では、時間TA)内に測定値a0が予め規定されたしきい値(一例として、0V)を超える状態、および予め規定されたしきい値(0V)を下回る状態に周期的に変化するNa個の測定値データAを取得する」との処理が完了した状態の一例)。
On the other hand, in the
また、良品試料XaについてのNa=30個の測定値データDmの記憶が完了したときに、処理部23は、プログラムデータDpに従い、一例として「良品の試料に代えて不良品の試料をセットして下さい。」とのメッセージを表示部22に表示させる。これに応じて、利用者は、測定装置2(測定信号発生部11およびA/D変換部12)を不良品試料Xbに接続する。次いで、データ処理装置3の処理部23がプログラムデータDpに従って測定装置2を制御することにより、一例として、不良品試料Xbについての30回(Nb=30回の例)の測定処理(「測定処理B」の一例)を実行させる。
Further, when the storage of the measured value data Dm of Na = 30 pieces for the non-defective sample Xa is completed, the
なお、詳細な説明を省略するが、不良品試料Xbを対象とするNb=30回の測定処理については、上記の良品試料Xaを対象とするNa=30回の測定処理と同様の測定条件下で実行される。これにより、Nb=30個の不良品試料Xbについての測定値D0(不良品試料Xbの両端間の電圧値:「測定値b0」の一例)がそれぞれ記録されたNb=30個の測定値データDm(「測定値データB」の一例)がデータ処理装置3の記憶部24に記憶された状態となる(「予め規定された時間(本例では、時間TA)内に測定値b0が予め規定されたしきい値(本例では、0V)を超える状態、および予め規定されたしきい値(0V)を下回る状態に周期的に変化するNb個の測定値データBを取得する」との処理が完了した状態の一例)。
Although detailed description is omitted, the measurement process of Nb = 30 times for the defective sample Xb is performed under the same measurement conditions as the measurement process of Na = 30 times for the non-defective sample Xa. Is executed by. As a result, Nb = 30 measured value data in which the measured values D0 (voltage value between both ends of the defective sample Xb: an example of “measured value b0”) for Nb = 30 defective sample Xb are recorded. Dm (an example of “measured value data B”) is stored in the
また、処理部23は、良品試料XaについてのNa=30個の測定値データDm、および不良品試料XbについてのNb=30個の測定値データDmの記憶(取得)が完了したときに、検査対象Xの良否を検査するための検査用データDiの生成処理(「データ生成処理」の一例)を開始する。
Further, the
この場合、本例の検査システム1(データ処理装置3)では、データ処理装置3の処理部23が、プログラムデータDpに従い、取得した上記のNa=30個の測定値データDmおよびNb=30個の測定値データDmに基づき、検査対象Xの検査時に良品試料Xaについての上記の各測定処理(測定処理A)や不良品試料Xbについての上記の各測定処理(測定処理B)と同じ測定条件で行なわれる検査対象Xについての5回(Nc=5回の例)の測定処理(測定処理C)によって上記の時間TA(予め規定された時間)分の複数の測定値D0(「測定値c0」の一例)がそれぞれ記録されるNc=5個の測定値データDm(「測定値データC」の一例)に基づく検査対象Xの良否判別の条件を特定可能な検査用データDiを生成する構成が採用されている。
In this case, in the inspection system 1 (data processing device 3) of this example, the
具体的には、本例の検査システム1(データ処理装置3)では、処理部23が、プログラムデータDpに従って良品試料XaについてのNa=30個の測定値データDmや不良品試料XbについてのNb=30個の測定値データDmを解析することにより、検査対象Xの検査に際して、検査対象Xについての測定値データDmに記録される各測定値D0、測定値D0を一階微分した演算値D1、および測定値D0を二階微分した演算値D2を使用して演算されるLC値およびRC値に基づいて検査対象Xを検査する方法と、演算値D1を使用して演算されるLC値およびRC値(一階微分成分に基づいて演算される乗算値)に基づいて検査対象Xを検査する方法と、演算値D2を使用して演算されるLC値およびRC値(二階微分成分に基づいて演算される乗算値)に基づいて検査対象Xを検査する方法とのいずれを採用するかや、検査対象Xの検査に際してLC値およびRC値の演算に先立って各測定値D0を対象とするフィルタリング処理を行うか否かなどを「良否判別条件」の1つとして規定する。なお、演算値D1,D2の算出、LC値やRC値の算出、およびフィルタリング処理の内容等については、後に詳細に説明する。
Specifically, in the inspection system 1 (data processing device 3) of this example, the
また、本例の検査システム1(データ処理装置3)では、処理部23が、プログラムデータDpに従って良品試料XaについてのNa=30個の測定値データDmや不良品試料XbについてのNb=30個の測定値データDmを解析することにより、検査対象Xの検査に際して、検査対象Xについての測定値データDmに記録される各測定値D0・D0・・のうちのいずれの測定値D0から他のいずれの測定値D0までの各測定値D0,D0・・を「予め規定された測定値範囲」内の測定値D0とすべきかを特定可能な「対象測定値範囲」を「良否判別条件」の他の1つとして規定する。なお、この「対象測定値範囲」を特定するための各処理についても後に詳細に説明する。
Further, in the inspection system 1 (data processing device 3) of this example, the
この検査用データDiの生成処理において、処理部23は、まず、良品試料XaについてのNa=30個の測定値データDm毎に、各測定値D0(「測定値a0」の一例)を一階微分した複数の演算値D1(「演算値a1」の一例)、および各測定値D0を二階微分した複数の演算値D2(「演算値a2」の一例)を前記各測定値データA毎にそれぞれ導出すると共に、不良品試料XbについてのNb=30個の測定値データDm毎に、各測定値D0(「測定値b0」の一例)を一階微分した複数の演算値D1(「演算値b1」の一例)、および各測定値D0を二階微分した複数の演算値D2(「演算値b2」の一例)をそれぞれ導出する(「第1の処理」の一例)。
In the process of generating the inspection data Di, the
この場合、一例として、良品試料Xaについてのいずれかの測定値データDmにおける各測定値D0の波形が図3に示す波形W0(以下、「電圧波形W0」ともいう)のときに、各演算値D1の波形は、図4に示す波形W1(以下、「一階微分波形W1」ともいう)のようになり、各演算値D2の波形は、図5に示す波形W2(以下、「二階微分波形W2」ともいう)のようになる。 In this case, as an example, when the waveform of each measured value D0 in any of the measured value data Dm for the non-defective sample Xa is the waveform W0 shown in FIG. 3 (hereinafter, also referred to as “voltage waveform W0”), each calculated value. The waveform of D1 is like the waveform W1 shown in FIG. 4 (hereinafter, also referred to as “first-order differential waveform W1”), and the waveform of each calculated value D2 is the waveform W2 (hereinafter, “second-order differential waveform”) shown in FIG. It is also called "W2").
また、処理部23は、良品試料XaについてのNa=30個の測定値データDm毎に、各測定値D0を対象とするフィルタリング処理を実行し、フィルタリング処理後の各測定値D0(「測定値a0」の他の一例)を一階微分した複数の演算値D1(「演算値a1」の他の一例)、およびフィルタリング処理後の各測定値D0を二階微分した複数の演算値D2(「演算値a2」の他の一例)を前記各測定値データA毎にそれぞれ導出すると共に、不良品試料XbについてのNb=30個の測定値データDm毎に、各測定値D0を対象とするフィルタリング処理を実行し、フィルタリング処理後の各測定値D0(「測定値b0」の他の一例)を一階微分した複数の演算値D1(「演算値b1」の他の一例)、およびフィルタリング処理後の各測定値D0を二階微分した複数の演算値D2(「演算値b2」の他の一例)をそれぞれ導出する(「第1の処理」の他の一例)。
Further, the
具体的には、処理部23は、まず、良品試料XaについてのNa=30個の測定値データDm、および不良品試料XbについてのNb=30個の測定値データDmの60個の測定値データDmについて、予め規定されたしきい値を下回る測定値D0をしきい値と同値に変換するフィルタリング処理(ローパスフィルタを用いたフィルタリング)を実行する。なお、以下の説明においては、フィルタリング処理を行っていない測定値データDmと区別するために、フィルタリング処理後の測定値データDmを測定値データDmfともいう。また、測定値データDmの各測定値D0と区別するために、測定値データDmfの各測定値D0を測定値D0fともいう。
Specifically, the
次いで、処理部23は、良品試料XaについてのNa=30個の測定値データDmf毎に、各測定値D0fを一階微分した複数の演算値D1を導出して演算値データDc1を生成すると共に、各測定値D0fを二階微分した複数の演算値D2を導出して演算値データDc2を生成する。同様にして、処理部23は、不良品試料XbについてのNb=30個の測定値データDmf毎に、各測定値D0fを一階微分した複数の演算値D1を導出して演算値データDc1を生成すると共に、各測定値D0fを二階微分した複数の演算値D2を導出して演算値データDc2を生成する。
Next, the
なお、以下の説明においては、測定値データDmに基づいて生成される演算値データDc1,Dc2と区別するために、測定値データDmfに基づいて生成される演算値データDc1,Dc2を演算値データDc1f,Dc2fともいう。また、各測定値D0に基づいて演算される演算値D1,D2と区別するために、各測定値D0fに基づいて演算される演算値D1,D2を演算値D1f,D2fともいう。 In the following description, in order to distinguish from the calculated value data Dc1 and Dc2 generated based on the measured value data Dm, the calculated value data Dc1 and Dc2 generated based on the measured value data Dmf are referred to as the calculated value data. Also referred to as Dc1f and Dc2f. Further, in order to distinguish from the calculated values D1 and D2 calculated based on each measured value D0, the calculated values D1 and D2 calculated based on each measured value D0f are also referred to as calculated values D1f and D2f.
この場合、一例として、良品試料Xaについてのいずれかの測定値データDmfにおける各測定値D0fの波形が図6に示す波形W0f(以下、「電圧波形W0f」ともいう)のときに、各演算値D1fの波形は、図7に示す波形W1f(以下、「一階微分波形W1f」ともいう)のようになり、各演算値D2fの波形は、図8に示す波形W2f(以下、「二階微分波形W2f」ともいう)のようになる。 In this case, as an example, when the waveform of each measured value D0f in any of the measured value data Dmf for the non-defective sample Xa is the waveform W0f shown in FIG. 6 (hereinafter, also referred to as “voltage waveform W0f”), each calculated value. The waveform of D1f becomes like the waveform W1f shown in FIG. 7 (hereinafter, also referred to as “first-order differential waveform W1f”), and the waveform of each calculated value D2f is the waveform W2f (hereinafter, “second-order differential waveform” shown in FIG. 8). It is also called "W2f").
次いで、処理部23は、前述した「対象測定値範囲」の候補となる複数種類の「仮範囲(「M種類の仮範囲」の一例)」を規定する。この場合、本例のデータ処理装置3(プログラムデータDp)では、後述するように、時間TA分の測定値D0(D0f)がそれぞれ記録されている各測定値データDm(Dmf)について「仮範囲」を異ならせてLC値やRC値をそれぞれ演算し、良品試料XaについてのLC値やRC値と不良品試料XbについてのLC値やRC値とが大きく相違する関係となる「対象測定値範囲」を特定する。
Next, the
また、本例のデータ処理装置3(プログラムデータDp)では、時間TA分の演算値D1(D1f)がそれぞれ記録されている各演算値データDc1(Dc1f)について「仮範囲」を異ならせてLC値やRC値をそれぞれ演算し、良品試料XaについてのLC値やRC値と不良品試料XbについてのLC値やRC値とが大きく相違する関係となる「対象測定値範囲」を特定する。 Further, in the data processing device 3 (program data Dp) of this example, each calculated value data Dc1 (Dc1f) in which the calculated value D1 (D1f) for the time TA is recorded has a different "temporary range" and LC. The values and RC values are calculated respectively, and the "target measurement value range" in which the LC value or RC value for the non-defective sample Xa and the LC value or RC value for the defective sample Xb are significantly different is specified.
さらに、本例のデータ処理装置3(プログラムデータDp)では、時間TA分の演算値D2(D2f)がそれぞれ記録されている各演算値データDc2(Dc2f)について「仮範囲」を異ならせてLC値やRC値をそれぞれ演算し、良品試料XaについてのLC値やRC値と不良品試料XbについてのLC値やRC値とが大きく相違する関係となる「対象測定値範囲」を特定する。 Further, in the data processing device 3 (program data Dp) of this example, the “temporary range” is different for each calculated value data Dc2 (Dc2f) in which the calculated values D2 (D2f) for the time TA are recorded, and LC is performed. The values and RC values are calculated respectively, and the "target measurement value range" in which the LC value or RC value for the non-defective sample Xa and the LC value or RC value for the defective sample Xb are significantly different is specified.
したがって、処理部23は、プログラムデータDpに従い、上記の「対象測定値範囲」の始点に対応する測定値D0(D0f)、演算値D1(D1f)または演算値D2(D2f)と、「対象測定値範囲」の終点に対応する測定値D0(D0f)、演算値D1(D1f)または演算値D2(D2f)との組合せを異ならせた複数種類の「仮範囲」をそれぞれ規定する。
Therefore, according to the program data Dp, the
この場合、本例のデータ処理装置3(プログラムデータDp)では、一例として、測定値データDm(測定値D0)についてのM種類の「仮範囲」を規定することにより、そのM種類の「仮範囲」に対応して、測定値データDmf(測定値D0f)についてのM種類の「仮範囲」、演算値データDc1(演算値D1)についてのM種類の「仮範囲」、演算値データDc1f(演算値D1f)についてのM種類の「仮範囲」、演算値データDc2(演算値D2)についてのM種類の「仮範囲」、および演算値データDc2f(演算値D2f)についてのM種類の「仮範囲」がそれぞれ規定される構成(方法)が採用されている。 In this case, in the data processing device 3 (program data Dp) of this example, as an example, by defining M types of "temporary range" for the measured value data Dm (measured value D0), the M types of "temporary range" are defined. Corresponding to the "range", M types of "temporary range" for the measured value data Dmf (measured value D0f), M types of "temporary range" for the calculated value data Dc1 (calculated value D1), and calculated value data Dc1f ( M types of "temporary range" for the calculated value D1f), M types of "temporary range" for the calculated value data Dc2 (calculated value D2), and M types of "temporary range" for the calculated value data Dc2f (calculated value D2f). The configuration (method) in which the "range" is defined is adopted.
また、本例のデータ処理装置3(プログラムデータDp)では、一例として、測定値データDmに記録されている時間TA時間分の測定値D0,D0・・のうちの最初に0Vを超えた測定値D0を基準の測定値D0とし(「K=1回目に、予め規定されたしきい値としての0Vを超えた測定値」を基準とする処理の例)、「基準の測定値D0から○○個前(または、○○個後)」との条件を満たす測定値D0を「仮範囲」の始点とし、かつ「始点とした測定値D0から○○個後」との条件を満たす測定値D0を「仮範囲」の終点として「仮範囲」を規定する構成が採用されている。なお、上記の「しきい値」については、0V以外の任意の値を定めることができる。 Further, in the data processing device 3 (program data Dp) of this example, as an example, the measurement exceeding 0 V at the beginning of the measured values D0, D0 ... For the time TA hours recorded in the measured value data Dm. The value D0 is set as the reference measurement value D0 (“K = the first measurement value exceeding 0V as a predetermined threshold value” as a reference), and “the reference measurement value D0 to ○ The measured value D0 that satisfies the condition of "before (or after XX)" is set as the start point of the "temporary range", and the measured value that satisfies the condition of "after XX from the measured value D0 as the starting point". A configuration is adopted in which the "temporary range" is defined with D0 as the end point of the "temporary range". For the above "threshold value", any value other than 0V can be set.
具体的には、M種類の「仮範囲」の1つとしては、一例として、図2に示す基準点P0(時点t0)の測定値D0を基準とし、基準点P0の測定値D0から数えて時間T1に相当する個数分前の時点t1の測定値D0をその「仮範囲」の始点P1とし、かつ始点P1の測定値D0から数えて時間T2に相当する個数後の時点t2の測定値D0をその「仮範囲」の終点P2とするように規定される。また、M種類の「仮範囲」の他の1つとしては、基準点P0の測定値D0を基準とし、基準点P0の測定値D0から数えて時間T1aに相当する個数分後の時点t1aの測定値D0をその「仮範囲」の始点P1aとし、かつ始点P1aの測定値D0から数えて時間T2aに相当する個数後の時点t2aの測定値D0をその「仮範囲」の終点P2aとするように規定される。 Specifically, as one of the M types of "temporary range", as an example, the measured value D0 at the reference point P0 (time point t0) shown in FIG. 2 is used as a reference, and the measured value D0 at the reference point P0 is counted. The measured value D0 at the time point t1 corresponding to the number of times T1 is set as the start point P1 of the "provisional range", and the measured value D0 at the time point t2 after the number corresponding to the time T2 counted from the measured value D0 at the start point P1. Is defined as the end point P2 of the "temporary range". Further, as another one of the M types of "temporary range", the measured value D0 at the reference point P0 is used as a reference, and the time point t1a after the number corresponding to the time T1a counted from the measured value D0 at the reference point P0 The measured value D0 is set as the start point P1a of the "temporary range", and the measured value D0 at the time point t2a after the number corresponding to the time T2a counted from the measured value D0 of the start point P1a is set as the end point P2a of the "temporary range". Is stipulated in.
この場合、本例のデータ処理装置3(プログラムデータDp)では、後に説明するように、検査用データDiの生成に要する負担の軽減を目的として、例えば、測定値データDmに基づくLC値やRC値等の演算に際して、測定値データDmに記録されている測定値D0,D0・・を5個おき(「J1=J2=5個」の例)に抽出し、抽出した測定値D0,D0・・だけを使用してLC値やRC値を演算する構成が採用されている。 In this case, in the data processing device 3 (program data Dp) of this example, for the purpose of reducing the burden required for generating the inspection data Di, for example, the LC value or RC based on the measured value data Dm, as will be described later. When calculating the values, etc., the measured values D0, D0 ... Recorded in the measured value data Dm are extracted every 5 pieces (example of "J1 = J2 = 5 pieces"), and the extracted measured values D0, D0 ... -A configuration is adopted in which the LC value and RC value are calculated using only.
したがって、プログラムデータDpに従ってM種類の「仮範囲」を規定することにより、一例として、図13,14に示すように、「基準の測定値D0から200個前の測定値D0」、「基準の測定値D0から195個前の測定値D0」、・・「基準の測定値D0から5995個後の測定値D0」および「基準の測定値D0から6,000個後の測定値D0」との1,240種類の始点と、「始点から50個後の測定値D0」、「始点から55個後の測定値D0」、・・「始点から3,995個後の測定値D0」および「始点から4,000個後の測定値D0」との791種類の終点の組合せからなるM=980,840種類の「仮範囲」が、測定値データDm(測定値D0)に基づいてLC値やRC値を演算する範囲として規定される。
Therefore, by defining M types of "temporary ranges" according to the program data Dp, as an example, as shown in FIGS. 13 and 14, "measured value D0 200 pieces before the reference measured value D0" and "reference measured value D0" "Measured value D0 195 before the measured value D0", ... "Measured value D0 after 5995 reference measured values D0" and "Measured value D0 after 6,000 reference measured values D0" 1,240 types of start points, "measured
なお、両図では、各「仮範囲」の終点を「始点からの測定値D0の個数(対象測定値範囲の長さ)」で表している。また、詳細な説明を省略するが、測定値データDm(測定値D0)についての「仮範囲」が規定されることにより、前述したように、測定値データDmf(測定値D0f)についての「仮範囲」、演算値データDc1(演算値D1)についての「仮範囲」、演算値データDc1f(演算値D1f)についての「仮範囲」、演算値データDc2(演算値D2)についての「仮範囲」、および演算値データDc2f(演算値D2f)についての「仮範囲」についても同様にして規定される。 In both figures, the end point of each "temporary range" is represented by "the number of measured values D0 from the starting point (the length of the target measured value range)". Further, although detailed description is omitted, since the "temporary range" for the measured value data Dm (measured value D0) is defined, as described above, the "temporary range" for the measured value data Dmf (measured value D0f) is defined. "Range", "Temporary range" for calculated value data Dc1 (calculated value D1), "Temporary range" for calculated value data Dc1f (calculated value D1f), "Temporary range" for calculated value data Dc2 (calculated value D2) , And the "temporary range" for the calculated value data Dc2f (calculated value D2f) are also defined in the same manner.
次いで、処理部23は、プログラムデータDpに従い、良品試料XaについてのNa=30個の測定値データDm毎のM=980,840種類の「仮範囲」内の各測定値D0、良品試料XaについてのNa=30個の演算値データDc1毎のM=980,840種類の「仮範囲」内の各演算値D1、および良品試料XaについてのNa=30個の演算値データDc2毎のM=980,840種類の「仮範囲」内の各演算値D2に基づき、「被判別値A0」、「被判別値A1」および「被判別値A2」の一例であるLC値やRC値をそれぞれ演算する。
Next, according to the program data Dp, the
具体的には、良品試料XaについてのLC値およびRC値は、疑似逆行列を用いて[数1]のように演算することができる。なお、[数1]および後に参照する他の数式における「v」は、測定値D0(良品試料Xaの両端間の電圧値)を表し、上方に「・」を並記した「v」は、演算値D1(測定値D0の一階微分値)を表し、上方に「‥」を並記した「v」は、演算値D2(測定値D0の二階微分値)を表している。また、「v」の右横に並記した「(1)」「(2)」・・・「(n)」は、「仮範囲内の最初の値」、「仮範囲内の2番目の値」・・「仮範囲内のn番目(最後)の値」であることを表している。さらに、「T」は転置行列を表している。 Specifically, the LC value and RC value for the non-defective sample Xa can be calculated as in [Equation 1] using the pseudo inverse matrix. In addition, "v" in [Equation 1] and other mathematical formulas referred to later represents the measured value D0 (voltage value between both ends of the non-defective sample Xa), and "v" in which "・" is written in parallel above is The calculated value D1 (first-order differential value of the measured value D0) is represented, and "v" with "..." written above represents the calculated value D2 (second-order differential value of the measured value D0). In addition, "(1)", "(2)" ... "(n)" written side by side on the right side of "v" are "the first value in the temporary range" and "the second value in the temporary range". "Value" ... Indicates that it is the "nth (last) value in the provisional range". Further, "T" represents a transposed matrix.
この場合、規定された時間分の測定値D0が測定値データDm内に存在しない「仮範囲」、規定された時間分の演算値D1が演算値データDc1内に存在しない「仮範囲」、および規定された時間分の演算値D2が演算値データDc2内に存在しない「仮範囲」が存在するときには、一例として、測定値データDmにおける最末尾の測定値D0を不足する測定値D0として使用し、演算値データDc1における最末尾の演算値D1を不足する演算値D1として使用し、かつ演算値データDc2における最末尾の演算値D2を不足する演算値D2として使用してLC値やRC値を演算するか、或いは、それらの「仮範囲」を後述する「対象測定値範囲」の候補から除外する。 In this case, the "temporary range" in which the measured value D0 for the specified time does not exist in the measured value data Dm, the "temporary range" in which the calculated value D1 for the specified time does not exist in the calculated value data Dc1, and When there is a "temporary range" in which the calculated value D2 for the specified time does not exist in the calculated value data Dc2, as an example, the last measured value D0 in the measured value data Dm is used as the insufficient measured value D0. , The last calculated value D1 in the calculated data Dc1 is used as the insufficient calculated value D1, and the last calculated value D2 in the calculated data Dc2 is used as the insufficient calculated value D2 to use the LC value or RC value. It is calculated or those "temporary ranges" are excluded from the candidates of the "target measurement value range" described later.
このような演算処理を、対応する各測定値データDm毎に「仮範囲」を変更してそれぞれ実行する。これにより、良品試料Xaについての30×980,840=29,425,200個のLC値(「良否判別用の被判別値A0」の一例)、および29,425,200個のRC値(「良否判別用の被判別値A0」の他の一例)が演算されて、演算結果が「仮範囲」の種類に関連付けられて記憶部24にそれぞれ記憶される。
Such arithmetic processing is executed by changing the "temporary range" for each corresponding measured value data Dm. As a result, 30 × 980,840 = 29,425,200 LC values (an example of “determined value A0 for good / bad determination”) and 29,425,200 RC values (““ Good / bad judgment value A0 ”) for the non-defective sample Xa). Another example of the quality determination discriminated value A0) is calculated, and the calculation result is associated with the type of the “temporary range” and stored in the
なお、詳細な説明を省略するが、各測定値データDmf、各演算値データDc1fおよび各演算値データDc2fについても、各測定値データDm、各演算値データDc1および各演算値データDc2を使用した上記の演算処理と同様の演算処理をそれぞれ実行する。これにより、良品試料Xaについての30×980,840=29,425,200個のLC値(「良否判別用の被判別値A0」のさらに他の一例)、および29,425,200個のRC値(「良否判別用の被判別値A0」のさらに他の一例)が演算されて、演算結果が「仮範囲」の種類に関連付けられて記憶部24にそれぞれ記憶される。以下、測定値データDm、演算値データDc1および演算値データDc2に基づいて演算されるLC値やRC値と区別するために、測定値データDmf、演算値データDc1fおよび演算値データDc2fに基づいて演算されるLC値およびRC値については、LCf値およびRCf値ともいう。
Although detailed description is omitted, each measured value data Dm, each calculated value data Dc1 and each calculated value data Dc2 are also used for each measured value data Dmf, each calculated value data Dc1f and each calculated value data Dc2f. The same arithmetic processing as the above arithmetic processing is executed respectively. As a result, 30 × 980,840 = 29,425,200 LC values (another example of “determined value A0 for quality determination”) and 29,425,200 RC values for the non-defective sample Xa. A value (another example of the discriminated value A0 for determining the quality) is calculated, and the calculation result is associated with the type of the "temporary range" and stored in the
この場合、上記[数1]における「φT」は[数2]のとおりである。 In this case, "φ T " in the above [Equation 1] is as shown in [Equation 2].
したがって、「φTφ」は[数3]となる。 Therefore, "φ T φ" is [Equation 3].
ここで、「(φTφ)−」を[数4]とすると、 Here, if "(φ T φ) − " is set to [Equation 4],
上記[数1]における「(φTφ)−1φT」は[数5]のように表すことができる。 "(Φ T φ) -1 φ T " in the above [Equation 1] can be expressed as [Equation 5].
したがって、上記[数1]については、[数6]のように表すことができる。 Therefore, the above [Equation 1] can be expressed as [Equation 6].
この[数6]について演算することにより、LC値およびRC値を示す[数7]を導出する。 By calculating this [Equation 6], [Equation 7] indicating the LC value and the RC value is derived.
この[数7]は、上記の[数6]の成分と、測定値D0に対応する成分と、演算値D1(測定値D0の一階微分値)に対応する成分と、演算値D2(測定値D0の二階微分値)に対応する成分とで構成されている。したがって、[数7]については、変形して各成分を整理することにより[数8]のように表すことができる。 This [Equation 7] includes the component of the above [Equation 6], the component corresponding to the measured value D0, the component corresponding to the calculated value D1 (the first derivative of the measured value D0), and the calculated value D2 (measurement). It is composed of components corresponding to the second derivative value of the value D0). Therefore, [Equation 7] can be expressed as [Equation 8] by transforming and rearranging each component.
この場合、[数9]のように、[数8]における一階微分値の成分の乗算式の解(乗算値)をLC1値およびRC1値とし、二階微分値の成分の乗算式の解(乗算値)をLC2値およびRC2値とすると、LC値は、LC1値とLC2値との和であり、RC値は、RC1値とRC2値との和であることが理解できる。 In this case, as in [Equation 9], the solution (multiplication value) of the multiplication formula of the component of the first-order differential value in [Equation 8] is the LC1 value and the RC1 value, and the solution of the multiplication formula of the component of the second-order differential value (Equation 9]. It can be understood that the LC value is the sum of the LC1 value and the LC2 value, and the RC value is the sum of the RC1 value and the RC2 value, where the multiplication value) is the LC2 value and the RC2 value.
したがって、LC値およびRC値を導出するための前述した[数1]を変形した[数9]を使用して、測定値データDmに記録されている各測定値D0、演算値データDc1に記録されている各演算値D1、および演算値データDc2に記録されている各演算値D2に基づき、LC1値およびRC1値(「被判別値A1」の一例)や、LC2値およびRC2値(「被判別値A2」の一例)をそれぞれ演算する。このような演算処理を、対応する各測定値データDm毎に「仮範囲」を変更してそれぞれ実行する。これにより、良品試料Xaについての30×980,840=29,425,200個のLC1値およびRC1値や、29,425,200個のLC2値およびRC2値が演算されて、演算結果が「仮範囲」の種類に関連付けられて記憶部24にそれぞれ記憶される。
Therefore, using [Equation 9] which is a modification of [Equation 1] described above for deriving the LC value and RC value, it is recorded in each measurement value D0 and calculation value data Dc1 recorded in the measurement value data Dm. LC1 value and RC1 value (an example of "discriminated value A1"), LC2 value and RC2 value ("subject") based on each calculated value D1 and each calculated value D2 recorded in the calculated value data Dc2. An example of the discrimination value A2 ”) is calculated respectively. Such arithmetic processing is executed by changing the "temporary range" for each corresponding measured value data Dm. As a result, 30 × 980,840 = 29,425,200 LC1 values and RC1 values and 29,425,200 LC2 values and RC2 values for the non-defective sample Xa are calculated, and the calculation result is “temporary”. Each is stored in the
なお、詳細な説明を省略するが、各測定値データDmf、各演算値データDc1fおよび各演算値データDc2fについても、各測定値データDm、各演算値データDc1および各演算値データDc2を使用した上記の演算処理と同様の演算処理をそれぞれ実行する。これにより、良品試料Xaについての30×980,840=29,425,200個のLC1値およびRC1値(「良否判別用の被判別値A1」他の一例)や、29,425,200個のLC2値およびRC2値(「良否判別用の被判別値A2」の他の一例)が演算されて、演算結果が「仮範囲」の種類に関連付けられて記憶部24にそれぞれ記憶される。
Although detailed description is omitted, each measured value data Dm, each calculated value data Dc1 and each calculated value data Dc2 are also used for each measured value data Dmf, each calculated value data Dc1f and each calculated value data Dc2f. The same arithmetic processing as the above arithmetic processing is executed respectively. As a result, 30 × 980, 840 = 29,425,200 LC1 values and RC1 values (“discrimination value A1 for quality determination” and other examples) and 29,425,200 pieces of the non-defective sample Xa. The LC2 value and the RC2 value (another example of the "determined value A2 for pass / fail determination") are calculated, and the calculation result is stored in the
以下、測定値データDm、演算値データDc1および演算値データDc2に基づいて演算されるLC1値およびRC1値やLC2値およびRC2値と区別するために、測定値データDmf、演算値データDc1fおよび演算値データDc2fに基づいて演算されるLC1値およびRC1値やLC2値およびRC2値については、LC1f値、RC1f値、LC2f値およびRC2f値ともいう。 Hereinafter, in order to distinguish the LC1 value and RC1 value, the LC2 value and the RC2 value calculated based on the measured value data Dm, the calculated value data Dc1 and the calculated value data Dc2, the measured value data Dmf, the calculated value data Dc1f and the calculation The LC1 value, RC1 value, LC2 value, and RC2 value calculated based on the value data Dc2f are also referred to as LC1f value, RC1f value, LC2f value, and RC2f value.
次いで、処理部23は、プログラムデータDpに従い、不良品試料XbについてのNb=30個の測定値データDm毎のM=980,840種類の「仮範囲」内の各測定値D0、不良品試料XbについてのNb=30個の演算値データDc1毎のM=980,840種類の「仮範囲」内の各演算値D1、および不良品試料XbについてのNb=30個の演算値データDc2毎のM=980,840種類の「仮範囲」内の各演算値D2に基づき、「被判別値B0」の一例であるLC値、RC値、LCf値およびRCf値と、「被判別値B1」の一例であるLC1値、RC1値、LC1f値およびRC1f値と、「被判別値B2」の一例であるLC2値、RC2値、LC2f値およびRC2f値とをそれぞれ演算する。なお、不良品試料Xbについての各「被判別値」の演算に関しては、良品試料Xaについての各「被判別値」の演算と同様のため、詳細な説明を省略する。以上により、「第2の処理」が完了する。
Next, according to the program data Dp, the
続いて、処理部23は、プログラムデータDpに従い、「被判別値A0」と「被判別値B0」との相違の度合いが「予め規定された条件」を満たす関係となる「仮範囲」、「被判別値A1」と「被判別値B1」との相違の度合いが「予め規定された条件」を満たす関係となる「仮範囲」、および「被判別値A2」と「被判別値B2」との相違の度合いが「予め規定された条件」を満たす関係となる「仮範囲」をそれぞれ特定する(「第3の処理」の実行)。
Subsequently, the
具体的には、処理部23は、良品試料XaについてのLC値と不良品試料XbについてのLC値とが大きく相違する「仮範囲」、良品試料XaについてのRC値と不良品試料XbについてのRC値とが大きく相違する「仮範囲」、良品試料XaについてのLCf値と不良品試料XbについてのLCf値とが大きく相違する「仮範囲」、および良品試料XaについてのRCf値と不良品試料XbについてのRCf値とが大きく相違する「仮範囲」をそれぞれ特定する。
Specifically, the
また、処理部23は、良品試料XaについてのLC1値と不良品試料XbについてのLC1値とが大きく相違する「仮範囲」、良品試料XaについてのRC1値と不良品試料XbについてのRC1値とが大きく相違する「仮範囲」、良品試料XaについてのLC1f値と不良品試料XbについてのLC1f値とが大きく相違する「仮範囲」、および良品試料XaについてのRC1f値と不良品試料XbについてのRC1f値とが大きく相違する「仮範囲」をそれぞれ特定する。
Further, the
さらに、処理部23は、良品試料XaについてのLC2値と不良品試料XbについてのLC2値とが大きく相違する「仮範囲」、良品試料XaについてのRC2値と不良品試料XbについてのRC2値とが大きく相違する「仮範囲」、良品試料XaについてのLC2f値と不良品試料XbについてのLC2f値とが大きく相違する「仮範囲」、および良品試料XaについてのRC2f値と不良品試料XbについてのRC2f値とが大きく相違する「仮範囲」をそれぞれ特定する。
Further, the
より具体的には、例えば、良品試料XaについてのLC値と不良品試料XbについてのLC値とが大きく相違する「仮範囲」の特定に際しては、M=980,840種類の「仮範囲」毎に、検査対象XについてのNa=30個のLC値のうちの最小値である「良品最小値」、および検査対象XについてのNa=30個のLC値のうちの最大値である「良品最大値」をそれぞれ特定する。この際には、一例として、いずれかの「仮範囲」における良品試料XaについてのLC値、および不良品試料XbについてのLC値として、図10に示すような値が演算されたときに、処理部23は、同図に示すLCminを良品試料Xaについての「良品最小値」として特定し、かつLCmaxを良品試料Xaについての「良品最大値」として特定する。なお、同図では、良品試料XaについてのLC値(RC値)を「○」で表している。また、同図および後に参照する図11,12では、不良品試料XbについてのLC値(RC値)を「●」で表している。
More specifically, for example, when specifying a "temporary range" in which the LC value for the non-defective sample Xa and the LC value for the defective sample Xb are significantly different, for each of M = 980,840 types of "temporary range". In addition, "minimum non-defective product" which is the minimum value of Na = 30 LC values for the inspection target X, and "maximum non-defective product" which is the maximum value of Na = 30 LC values for the inspection target X. Specify each "value". In this case, as an example, when the LC value for the non-defective sample Xa and the LC value for the defective sample Xb in any of the "temporary ranges" are calculated as shown in FIG.
次いで、処理部23は、Nb=30個の不良品試料Xbについての各LC値について、上記の「良品最小値」よりも小さいLC値については、「良品最小値」との差を「不良度合値」として演算し、「良品最大値」よりも大きいLC値については、「良品最大値」との差を「不良度合値」としてそれぞれ演算すると共に、「良品最小値」から「良品最大値」までの範囲内のLC値については、「不良度合値」を「0」とする演算処理を各「仮範囲」毎にそれぞれ実行する。
Next, the
具体的には、処理部23は、一例として、図10に示すように、「良品最小値」の一例であるLCminよりも小さい不良品試料XbについてのLC値であるLCd−aについては、LCminとの差であるLCdk−aを「不良度合値」として演算する。また、「良品最大値」の一例であるLCmaxよりも大きい不良品試料XbについてのLC値であるLCd−bについては、LCmaxとの差であるLCdk−bを「不良度合値」として演算する。さらに、LCminからLCmaxまでの範囲であるLClength内のLC値であるLCd−cについては、「不良度合値」を「0」とする。
Specifically, as an example, as shown in FIG. 10, the
続いて、処理部23は、プログラムデータDpに従い、Nb=30個の不良品試料Xbについての「不良度合値」の合計値を各「仮範囲」毎にそれぞれ演算する。この際には、図11の左図に示すように、不良品試料Xbを対象とするNb=30回の測定処理時に良品試料XaについてのLC値のばらつきの範囲であるLClengthとの差が小さいLC値が演算される測定値D0が含まれる「仮範囲」については、たとえNa=30個のLC値のうちの数個がLCmaxとの差、またはLCminとの差が十分に大きな値になったとしても、「不良度合値」の合計値として小さな値が演算される。また、同図の右図に示すように、不良品試料Xbを対象とするNb=30回の測定処理時にLClengthとの差が大きいLC値が演算される測定値D0が含まれる「仮範囲」については、たとえNb=30個のLC値のうちの数個がLClength内の値になったとしても、「不良度合値」の合計値として大きな値が演算される。
Subsequently, the
次いで、処理部23は、上記の「不良度合値」の合計値を、LCminとLCmaxとの差であるLClength(良品試料XaについてのLC値のばらつきの大きさ)で除した値(良品試料XaについてのLC値のばらつきの大きさに対する「不良度合値」の合計値の比)を各「仮範囲」毎にそれぞれ演算し、演算結果を各「仮範囲」に関連付けて記憶部24に記憶させる。この際には、図12の左図および右図に示す例のように、仮に、不良品試料XbについてのNb=30個のLC値の各「不良度合値」の合計値が同じであったときに、左図の例のようにLClengthが広い「仮範囲」(良品試料Xaについての測定値D0のばらつきが大きい「仮範囲」)よりも、右図の例のようにLClengthが狭い「仮範囲」(良品試料Xaについての測定値D0のばらつきが小さい「仮範囲」)の方が、合計値をLClengthで除した値が大きな値となる。
Next, the
続いて、処理部23は、プログラムデータDpに従い、演算した各「仮範囲」毎の値(合計値をLClengthで除した値)に基づき、各「仮範囲」がどの程度「対象測定値範囲」に適しているかを示す「数値」(良品試料XaについてのLC値と不良品試料XbについてのLC値とがどの程度「予め規定された条件を満たす関係」となっているかを示す数値)をそれぞれ特定する。
Subsequently, the
具体的には、処理部23は、まず、良品試料XaについてのNa=30個のLC値の分布と、不良品試料XbについてのNb=30個のLC値の分布との相違の度合いを、相違の度合いが大きいほど高い数値となる「予め規定された基準」に従って各「仮範囲」毎にそれぞれ数値化(点数化)する。これにより、図13に示すように各「仮範囲」毎の「数値」(同図における「0.0」や「0.1」などの値)が特定される。
Specifically, the
次いで、処理部23は、M=980,840種類の「仮範囲」のうちの1つを対象として、対象の「仮範囲」における始点に対応する測定値D0との相違量が5サンプリング周期以下(「La=5」の例)の測定値D0を始点とする「仮範囲」であって、かつ対象の「仮範囲」における終点に対応する測定値D0との相違量が5サンプリング周期以下(「Lb=5」の例)の測定値D0を終点とする「仮範囲」(図13において、いずれかの「仮範囲」を対象としたときに、その「仮範囲」の周囲に図示されている8個の「仮範囲」)の「数値」をそれぞれ特定し、特定した各「数値」のうちの最小値を、対象の「仮範囲」に関連付ける処理を、各「仮範囲」をそれぞれ「対象の仮範囲」として実行する。
Next, the
具体的には、一例として、図13に示す例において、「始点」が「基準点P0の測定値D0から2,000個後の測定値D0」で、「長さ(終点)」が「始点の測定値D0から1,995個目の測定値D0まで(1,995個後の測定値D0)」の「仮範囲」については、その「仮範囲」における始点に対応する測定値D0との相違量が5サンプリング周期以下となる「基準点P0の測定値D0から1,995個後」から「基準点P0の測定値D0から2,005個後」までの測定値D0を始点とする「仮範囲」であって、かつ「始点の測定値D0から1,990個目」から「始点の測定値D0から2,000個目」までの測定値D0を終点とする「仮範囲」の8個の「仮範囲」について特定された8個の「数値」のうちの最小値が、その「仮範囲」に関連付けられる「数値」として特定される。 Specifically, as an example, in the example shown in FIG. 13, the "start point" is the "measured value D0 2,000 after the measured value D0 of the reference point P0", and the "length (end point)" is the "start point". The "temporary range" of "from the measured value D0 to the 1,995th measured value D0 (measured value D0 after 1,995)" is the measured value D0 corresponding to the starting point in the "temporary range". The starting point is the measured value D0 from "after 1,995 pieces of the measured value D0 of the reference point P0" to "after 2,005 pieces of the measured value D0 of the reference point P0" in which the amount of difference is 5 sampling cycles or less. 8 of the "temporary range" that is a "temporary range" and whose end point is the measured value D0 from the "starting point measured value D0 to 1,990th" to the "starting point measured value D0 to 2,000th". The minimum of the eight "numerical values" specified for the "temporary range" is specified as the "numerical value" associated with that "temporary range".
つまり、「始点」が「基準点P0の測定値D0から2,000個後の測定値D0」で、「長さ(終点)」が「始点の測定値D0から1,995個目の測定値D0まで(1,995個後の測定値D0)」の「仮範囲」については、図14に示すように、「始点」が「基準点P0の測定値D0から1,995個後の測定値D0」で、「長さ(終点)」が「始点の測定値D0から1,990個目の測定値D0まで(1,990個後の測定値D0)」の「仮範囲」について特定された「1.6」との「数値」が最小値として特定されて関連付けられる。 That is, the "start point" is the "measured value D0 2,000 after the measured value D0 of the reference point P0", and the "length (end point)" is the "1,995th measured value from the measured value D0 of the start point". Regarding the "provisional range" of "up to D0 (measured value D0 after 1,995 pieces)", as shown in FIG. 14, the "starting point" is the measured value after 1,995 pieces from the measured value D0 of the reference point P0. In "D0", the "length (end point)" was specified for the "provisional range" of "from the measured value D0 of the start point to the 1,990th measured value D0 (measured value D0 after 1,990)". The "numerical value" with "1.6" is specified and associated as the minimum value.
同様にして、図13に示す例において、「始点」が「基準点P0の測定値D0から2,005個後の測定値D0」で、「長さ(終点)」が「始点の測定値D0から2,000個目の測定値D0まで(2,000個後の測定値D0)」の「仮範囲」については、その「仮範囲」における始点に対応する測定値D0との相違量が5サンプリング周期以下となる「基準点P0の測定値D0から2,000個後」から「基準点P0の測定値D0から2,010個後」までの測定値D0を始点とする「仮範囲」であって、かつ「始点の測定値D0から1,995個目」から「始点の測定値D0から2,005個目」までの測定値D0を終点とする「仮範囲」の8個の「仮範囲」について特定された8個の「数値」のうちの最小値が、その「仮範囲」に関連付けられる「数値」として特定される。 Similarly, in the example shown in FIG. 13, the "start point" is the "measured value D0 after 2,005 measured values of the reference point P0", and the "length (end point)" is the "measured value D0 of the start point". For the "temporary range" of "from to the 2,000th measured value D0 (measured value D0 after 2,000)", the amount of difference from the measured value D0 corresponding to the starting point in the "temporary range" is 5. In the "provisional range" starting from the measured value D0 from "2,000 after the measured value D0 of the reference point P0" to "2,010 after the measured value D0 of the reference point P0", which is less than the sampling cycle. There are eight "temporary ranges" with the measured values D0 from the "starting point measured values D0 to 1,995th" to the "starting point measured values D0 to 2,005th" as the end point. The minimum of the eight "numerical values" specified for the "range" is specified as the "numerical value" associated with that "temporary range".
つまり、「始点」が「基準点P0の測定値D0から2,005個後の測定値D0」で、「長さ(終点)」が「始点の測定値D0から2,000個目の測定値D0まで(2,0000個後の測定値D0)」の「仮範囲」については、図14に示すように、「始点」が「基準点P0の測定値D0から2,010個後の測定値D0」で、「長さ(終点)」が「始点の測定値D0から1,995個目の測定値D0まで(1,995個後の測定値D0)」の「仮範囲」について特定された「2.0」との「数値」が最小値として特定されて関連付けられる。 That is, the "start point" is the "measured value D0 after 2,005 measured values of the reference point P0", and the "length (end point)" is the "2,000th measured value from the measured value D0 of the start point". Regarding the "provisional range" of "up to D0 (measured value D0 after 2,000)", as shown in FIG. 14, the "starting point" is the measured value after 2,010 from the measured value D0 of the reference point P0. In "D0", the "length (end point)" was specified for the "provisional range" of "from the measured value D0 of the start point to the 1,995th measured value D0 (measured value D0 after 1,995)". A "numerical value" with "2.0" is specified and associated as the minimum value.
この場合、不良品試料Xbに実際に生じている不良に起因して、良品試料XaについてのNa=30個のLC値の分布と、不良品試料XbについてのNb=30個のLC値の分布との相違の度合いが大きくなっている「仮範囲」が存在する。そのような「仮範囲」と「始点」や「長さ(終点)」が同様の他の「仮範囲」では、良品試料XaについてLC値の分布と不良品試料XbについてLC値の分布との相違の度合いが大きくなる傾向がある。一方、不良品試料Xbに実際に生じている不良に起因するものではなく、良品試料Xaについての測定処理時や不良品試料Xbについての測定処理時の測定誤差やノイズ等の影響や演算の性質などに起因して、良品試料XaについてのNa=30個のLC値の分布と、不良品試料XbについてのNb=30個のLC値の分布との相違の度合いが大きくなっている「仮範囲」も存在する。この場合、そのような「仮範囲」と「始点」や「長さ(終点)」が同様の他の「仮範囲」では、良品試料XaについてLC値の分布と不良品試料XbについてLC値の分布との相違の度合いがそれほど大きくならないことがある。 In this case, the distribution of Na = 30 LC values for the non-defective sample Xa and the distribution of Nb = 30 LC values for the defective sample Xb due to the defects actually occurring in the defective sample Xb. There is a "temporary range" in which the degree of difference from is large. In other "temporary ranges" in which the "temporary range" and the "start point" and "length (end point)" are similar, the distribution of LC values for the non-defective sample Xa and the distribution of the LC values for the defective sample Xb. The degree of difference tends to be large. On the other hand, it is not caused by defects actually occurring in the defective sample Xb, but is affected by measurement errors and noise during the measurement process for the non-defective sample Xa and during the measurement process for the defective sample Xb, and the nature of the calculation. Due to such factors, the degree of difference between the distribution of Na = 30 LC values for the non-defective sample Xa and the distribution of Nb = 30 LC values for the defective sample Xb is large. There is also. In this case, in such a "temporary range" and another "temporary range" in which the "start point" and "length (end point)" are similar, the distribution of the LC value for the non-defective sample Xa and the LC value for the defective sample Xb The degree of difference from the distribution may not be so large.
したがって、上記のように、「始点」や「長さ(終点)」が同様の他の「仮範囲」についての「数値」のうちの最小値を、対象の「仮範囲」に関連付ける(対象の「仮範囲」の「数値」として置き換える)ことにより、良品試料XaについてLC値の分布と不良品試料XbについてLC値の分布との相違の度合いが測定誤差等の影響で大きくなった「仮範囲」について、「特異な数値(実際の不良に起因して算出される数値ではない可能性が高い大きな値)」が関連付けられたままとなる事態が回避される。 Therefore, as described above, the minimum value of the "numerical values" for other "temporary ranges" having the same "start point" and "length (end point)" is associated with the target "temporary range" (target). By replacing it with the "numerical value" of the "temporary range"), the degree of difference between the LC value distribution for the non-defective sample Xa and the LC value distribution for the defective sample Xb has increased due to the influence of measurement errors and the like. It is avoided that "a peculiar numerical value (a large numerical value that is likely not a numerical value calculated due to an actual defect)" remains associated with "".
このような処理をM=980,840種類の各「仮範囲」毎に実行することにより、図14に示すように、各「仮範囲」毎の「良品試料XaについてのLC値の分布と不良品試料XbについてLC値の分布との相違の度合い」に即した「数値」が関連付けられて記憶部24に記憶される。
By executing such a process for each "temporary range" of M = 980 and 840 types, as shown in FIG. 14, the distribution and error of the LC value for the "non-defective sample Xa" for each "temporary range". A “numerical value” corresponding to the “degree of difference from the distribution of the LC value” of the non-defective sample Xb is associated and stored in the
また、処理部23は、上記のように特定した「数値」に基づき、図9に示す特定結果表示31を表示部22に表示させる。この特定結果表示31は、各区画(セル)が図14の説明図における各「仮範囲」の区画(セル)に対応させられており、図14において大きな「数値」が特定された「仮範囲」に対応する区画ほど濃い色(黒色に近い色)で、図14において小さな「数値」が特定された「仮範囲」に対応する区画ほど薄い色(白色に近い色)で各区画(セル)が表示されている。このような特定結果表示31を表示させることにより、どのような「仮範囲」において「良品試料XaについてのLC値の分布と不良品試料XbについてLC値の分布との相違の度合い」が大きく相違するのかを直感的に認識させることが可能となる。
Further, the
続いて、処理部23は、関連付けられた「数値」が大きい「仮範囲」ほど、良品試料XaについてのLC値の分布と不良品試料XbについてのLC値の分布とが大きく相違する関係(予め規定された条件を満たす関係)の度合いが大きいとして、「対象測定値範囲」の候補とする「仮範囲」を特定する。具体的には、処理部23は、一例として、関連付けられた「数値」が最も大きい「仮範囲」を「対象測定値範囲」の候補として特定する。なお、関連付けられた「数値」が最も大きい「仮範囲」が複数存在するときには、一例として、対応するLClengthが短い「仮範囲」(すなわち、構成する測定値D0の数が少ないことでLC値等の演算に要する時間が短い「仮範囲」)を優先する。
Subsequently, in the
以上により、良品試料Xaと不良品試料XbとでLC値が大きく相違する「仮範囲」の特定が完了する。この後、LC値以外の各「被判別値」についても、LC値についての上記の手順と同様の手順に従い、良品試料Xaと不良品試料Xbとで値が大きく相違する「仮範囲」をそれぞれ特定する。これにより、「第3の処理」が完了する。 As described above, the identification of the "temporary range" in which the LC values differ greatly between the non-defective sample Xa and the defective sample Xb is completed. After that, for each "discriminated value" other than the LC value, follow the same procedure as the above procedure for the LC value, and set a "temporary range" in which the values differ greatly between the non-defective sample Xa and the defective sample Xb. Identify. As a result, the "third process" is completed.
次いで、処理部23は、プログラムデータDpに従い、良品試料Xaと不良品試料Xbとで値が大きく相違する各「被判別値」毎(LC値、RC値、LC1値、RC1値、LC2値、RC2値、LCf値、RCf値、LC1f値、RC1f値、LC2f値およびRC2f値毎)の各「仮範囲」」のなかから、検査対象Xの検査に際して「対象測定値範囲」とするのに適した「仮範囲」を特定する。
Next, the
具体的には、一例として、良品試料XaについてのLC値と不良品試料XbについてのLC値との相違の度合いが、良品試料XaについてのLC1値と不良品試料XbについてのLC1値との相違の度合い、および良品試料XaについてのLC2値と不良品試料XbについてのLC2値との相違の度合いよりも高いときには、「被判別値C0」としてのLC値を使用し、かつ上記の「第3の処理」によって特定したLC値についての「仮範囲」を「対象測定値範囲」とするとの条件を「良否判別条件」の候補として特定する。 Specifically, as an example, the degree of difference between the LC value for the non-defective sample Xa and the LC value for the defective sample Xb is the difference between the LC1 value for the non-defective sample Xa and the LC1 value for the defective sample Xb. When the degree of difference between the LC2 value of the non-defective sample Xa and the LC2 value of the defective sample Xb is higher than the degree of the difference, the LC value as the "discriminated value C0" is used, and the above-mentioned "third" is used. The condition that the "temporary range" of the LC value specified by "processing" is set as the "target measurement value range" is specified as a candidate for the "good / bad judgment condition".
また、良品試料XaについてのLC1値と不良品試料XbについてのLC1値との相違の度合いが、良品試料XaについてのLC値と不良品試料XbについてのLC値との相違の度合い、および良品試料XaについてのLC2値と不良品試料XbについてのLC2値との相違の度合いよりも高いときには、「被判別値C1」としてのLC1値を使用し、かつ上記の「第3の処理」によって特定したLC1値についての「仮範囲」を「対象測定値範囲」とするとの条件を「良否判別条件」の候補として特定する。 Further, the degree of difference between the LC1 value of the non-defective sample Xa and the LC1 value of the defective sample Xb is the degree of difference between the LC value of the non-defective sample Xa and the LC value of the defective sample Xb, and the non-defective sample. When the difference between the LC2 value for Xa and the LC2 value for the defective sample Xb is higher than the degree of difference, the LC1 value as the "discriminated value C1" is used and specified by the above "third process". The condition that the "temporary range" of the LC1 value is set to the "target measurement value range" is specified as a candidate for the "good / bad judgment condition".
さらに、良品試料XaについてのLC2値と不良品試料XbについてのLC2値との相違の度合いが、良品試料XaについてのLC値と不良品試料XbについてのLC値との相違の度合い、および良品試料XaについてのLC1値と不良品試料XbについてのLC1値との相違の度合いよりも高いときには、「被判別値C2」としてのLC2値を使用し、かつ上記の「第3の処理」によって特定したLC2値についての「仮範囲」を「対象測定値範囲」とするとの条件を「良否判別条件」の候補として特定する。 Further, the degree of difference between the LC2 value of the non-defective sample Xa and the LC2 value of the defective sample Xb is the degree of difference between the LC value of the non-defective sample Xa and the LC value of the defective sample Xb, and the non-defective sample. When the difference between the LC1 value for Xa and the LC1 value for the defective sample Xb is higher than the degree of difference, the LC2 value as the "discriminated value C2" is used and specified by the above "third process". The condition that the "temporary range" of the LC2 value is set to the "target measurement value range" is specified as a candidate for the "good / bad judgment condition".
同様にして、良品試料Xaと不良品試料XbとのRC値、RC1値およびRC2値の相違の度合いや、良品試料Xaと不良品試料XbとのLCf値、LC1f値およびLC2f値の相違の度合い、および良品試料Xaと不良品試料XbとのRCf値、RC1f値およびRC2f値の相違の度合いを比較することにより、「良否判別条件」の候補をそれぞれ特定する。 Similarly, the degree of difference in RC value, RC1 value and RC2 value between the non-defective sample Xa and the defective sample Xb, and the degree of difference in the LCf value, LC1f value and LC2f value between the non-defective sample Xa and the defective sample Xb. , And by comparing the degree of difference between the RCf value, the RC1f value and the RC2f value between the non-defective sample Xa and the defective sample Xb, candidates for the “good / bad determination condition” are specified.
続いて、処理部23は、特定された4つの「良否判別条件」の候補のなかから、「被判別値」の相違の度合いが最も高い候補を特定すると共に、特定した候補の「仮範囲」を「対象測定値範囲」として決定する。なお、「被判別値」の相違の度合いが最も高い候補が複数存在するときには、処理部23は、特定した各候補のなかから「対象測定値範囲」とする候補を選択させ、選択された候補の「仮範囲」を「対象測定値範囲」として決定する。また、処理部23は、決定した「対象測定値範囲」を特定可能な情報を記録して検査用データDiを生成し、生成した検査用データDiを検査対象Xの種類(型式)に関連付けて記憶部24に記憶させる。以上により、「データ生成処理」が完了し、検査対象Xの良否を検査する準備が整う。
Subsequently, the
この場合、一例として、良品試料Xaについての測定値データDmにおける測定値D0が図3に示す電圧波形W0のような値のときに、測定値D0を一階微分した演算値データDc1における演算値D1は図4に示す一階微分波形W1のような値となる。電圧波形W0および一階微分波形W1を比較することで理解できるように、各演算値D1では、各測定値D0における微少な変化が十分に強調されている。したがって、測定値D0に基づいて演算されるLC値またはRC値の良品試料Xaと不良品試料Xbとの相違の度合いが低く、LC値やRC値に基づいて検査対象Xの良否の判別が困難な場合であっても、演算値D1に基づいて演算されるLC1値やRC1に基づいて良否を判別することで検査対象Xを的確に検査できる可能性がある。 In this case, as an example, when the measured value D0 in the measured value data Dm for the non-defective sample Xa is a value like the voltage waveform W0 shown in FIG. 3, the calculated value in the calculated value data Dc1 obtained by first-order differentiating the measured value D0. D1 has a value similar to that of the first-order differential waveform W1 shown in FIG. As can be understood by comparing the voltage waveform W0 and the first-order differential waveform W1, each calculated value D1 sufficiently emphasizes a slight change in each measured value D0. Therefore, the degree of difference between the good sample Xa of the LC value or RC value calculated based on the measured value D0 and the defective sample Xb is low, and it is difficult to determine the quality of the inspection target X based on the LC value or RC value. Even in such a case, there is a possibility that the inspection target X can be accurately inspected by determining the quality based on the LC1 value calculated based on the calculated value D1 and the RC1.
また、良品試料Xaについての測定値D0や演算値データDcが上記の電圧波形W0や一階微分波形W1のような値のときに、測定値D0を二階微分した演算値データDc2における演算値D2は図5に示す二階微分波形W2のような値となる。一階微分波形W1および二階微分波形W2を比較することで理解できるように、各演算値D2では、各測定値D0における微少な変化が各演算値D1よりも一層強調されている。したがって、演算値D1に基づいて演算されるLC1値またはRC1値の良品試料Xaと不良品試料Xbとの相違の度合いが低く、LC1値やRC1値に基づいて検査対象Xの良否の判別が困難な場合であっても、演算値D2に基づいて演算されるLC2値やRC2値に基づいて良否を判別することで検査対象Xを的確に検査できる可能性がある。 Further, when the measured value D0 and the calculated value data Dc of the non-defective sample Xa are values such as the above voltage waveform W0 and the first-order differential waveform W1, the calculated value D2 in the calculated value data Dc2 obtained by second-order differentializing the measured value D0. Is a value like the second-order differential waveform W2 shown in FIG. As can be understood by comparing the first-order differential waveform W1 and the second-order differential waveform W2, in each calculated value D2, a slight change in each measured value D0 is emphasized more than in each calculated value D1. Therefore, the degree of difference between the good sample Xa of the LC1 value or the RC1 value calculated based on the calculated value D1 and the defective sample Xb is low, and it is difficult to determine the quality of the inspection target X based on the LC1 value or the RC1 value. Even in such a case, there is a possibility that the inspection target X can be accurately inspected by determining the quality based on the LC2 value or RC2 value calculated based on the calculated value D2.
さらに、電圧波形W0および一階微分波形W1と二階微分波形W2とを比較することで理解できるように、電圧波形W0および一階微分波形W1は、良品試料Xaの状態に応じた減衰振動波形であるが、二階微分波形W2は全体がノイズ状の波形となっており、良品試料Xaの状態に応じた減衰・振動の成分が殆ど確認されない状態となっている。このため、各測定値D0(電圧波形W0)や各演算値D1(一階微分波形W1)では、「対象測定値範囲」を変更することでLC値、LC1値やRC値、RC1値が大きく変化する可能性があるのに対し、各演算値D2(二階微分波形W2)では、「対象測定値範囲」をどのように規定したとしても、LC2値やRC2値が殆ど変わらない可能性がある。したがって、検査対象Xの種類によっては、測定値D0に基づいて演算されるLC値やRC値、または、演算値D1に基づいて演算されるLC1値やRC1値に基づいて良否を判別することで的確に検査できる可能性がある。 Further, as can be understood by comparing the voltage waveform W0 and the first-order differential waveform W1 with the second-order differential waveform W2, the voltage waveform W0 and the first-order differential waveform W1 are attenuated vibration waveforms according to the state of the non-defective sample Xa. However, the second-order differential waveform W2 has a noise-like waveform as a whole, and the components of attenuation and vibration according to the state of the non-defective sample Xa are hardly confirmed. Therefore, in each measured value D0 (voltage waveform W0) and each calculated value D1 (first-order differential waveform W1), the LC value, LC1 value, RC value, and RC1 value become large by changing the "target measurement value range". On the other hand, in each calculated value D2 (second-order differential waveform W2), the LC2 value and RC2 value may hardly change no matter how the "target measurement value range" is defined. .. Therefore, depending on the type of the inspection target X, the quality is determined based on the LC value or RC value calculated based on the measured value D0, or the LC1 value or RC1 value calculated based on the calculated value D1. There is a possibility that it can be inspected accurately.
一方、各測定値D0fでは、各測定値D0を対象とするフィルタリング処理により、検査対象Xの状態とは直接的には関係のないノイズ成分(測定環境によって変化する成分)の一部が除外される。したがって、測定環境によっては、測定値D0に基づいて演算されるLC値またはRC値ではノイズ等の影響によって検査対象Xを的確に検査するのが困難なときでも、測定値D0fに基づいて演算されるLCf値やRCfに基づいて良否を判別することで検査対象Xを的確に検査できる可能性がある。 On the other hand, in each measured value D0f, a part of noise components (components that change depending on the measurement environment) that are not directly related to the state of the inspection target X is excluded by the filtering process for each measured value D0. NS. Therefore, depending on the measurement environment, the LC value or RC value calculated based on the measured value D0 is calculated based on the measured value D0f even when it is difficult to accurately inspect the inspection target X due to the influence of noise or the like. There is a possibility that the inspection target X can be accurately inspected by determining the quality based on the LCf value and RCf.
また、測定値D0fを一階微分した演算値データDc1fにおける演算値D1fは図7に示す一階微分波形W1fのような値となる。この場合、前述した一階微分波形W1と一階微分波形W1fとを比較することで理解できるように、各演算値D1fでは、フィルタリング処理によってノイズ成分等が除去された測定値D0fに基づいて演算されたことで、各演算値D1において確認できる微少な変化が十分に小さくなっている。したがって、ノイズ等の影響によって測定値D0が微少に変化している測定環境においては、演算値D1fに基づいて演算されるLC1f値やRC1fに基づいて良否を判別することで検査対象Xを的確に検査できる可能性がある。 Further, the calculated value D1f in the calculated value data Dc1f obtained by first-order differentiating the measured value D0f is a value like the first-order differential waveform W1f shown in FIG. In this case, as can be understood by comparing the first-order differential waveform W1 and the first-order differential waveform W1f described above, each calculated value D1f is calculated based on the measured value D0f from which noise components and the like have been removed by filtering processing. As a result, the slight change that can be confirmed in each calculated value D1 is sufficiently small. Therefore, in a measurement environment in which the measured value D0 changes slightly due to the influence of noise or the like, the inspection target X can be accurately determined by determining the quality based on the LC1f value or RC1f calculated based on the calculated value D1f. May be inspected.
さらに、測定値D0fを二階微分した演算値データDc2fにおける演算値D2fは図8に示す二階微分波形W2fのような値となる。この場合、前述した二階微分波形W2と二階微分波形W2fとを比較することで理解できるように、各演算値D2fでは、フィルタリング処理によってノイズ成分等が除去された測定値D0fに基づいて演算されたことで、ノイズ成分等の影響による微少な変化が小さくなり、演算値D2(二階微分波形W2)では確認できない減衰・振動の成分が確認できる状態となっている。この結果、適当な「対象測定値範囲」を規定することにより、良品試料Xaと不良品試料Xbとの「被判別値」の相違の度合いが十分に大きくなる可能性がある。したがって、ノイズ等の影響によって測定値D0が微少に変化している測定環境においては、演算値D2fに基づいて演算されるLC2f値やRC2f値に基づいて良否を判別することで検査対象Xを的確に検査できる可能性がある。 Further, the calculated value D2f in the calculated value data Dc2f obtained by second-order differentializing the measured value D0f is a value similar to the second-order differential waveform W2f shown in FIG. In this case, as can be understood by comparing the second-order differential waveform W2 and the second-order differential waveform W2f described above, each calculated value D2f is calculated based on the measured value D0f from which noise components and the like are removed by the filtering process. As a result, the slight change due to the influence of the noise component or the like is reduced, and the damping / vibration component that cannot be confirmed by the calculated value D2 (second-order differential waveform W2) can be confirmed. As a result, by defining an appropriate "target measurement value range", the degree of difference in the "discriminated value" between the non-defective sample Xa and the defective sample Xb may be sufficiently large. Therefore, in a measurement environment in which the measured value D0 changes slightly due to the influence of noise or the like, the inspection target X is accurately determined by determining the quality based on the LC2f value or RC2f value calculated based on the calculated value D2f. May be inspected.
一方、検査システム1による検査対象Xの検査に際しては、データ処理装置3の処理部23が、プログラムデータDpに従って測定装置2を制御して、前述した良品試料Xaや不良品試料Xbについての測定処理時と同様の測定条件で測定処理(「測定処理C」)を実行させる。なお、検査対象Xを対象とする測定処理時には、前述したように、一例としてNc=5回の測定処理を実行する。これにより、検査対象XについてのNc=5個の測定値データDm(測定値データC)が測定装置2から出力される。
On the other hand, when inspecting the inspection target X by the inspection system 1, the
また、処理部23は、測定装置2から測定値データDmが出力される都度、その測定値データDmを記憶部24に記憶させると共に、図15に示すように、測定値データDmに基づく波形Wを表示部22の測定結果表示画面40に表示させる。また、処理部23は、検査用データDiに記録されている「対象測定値範囲」を示す対象測定値範囲表示41と、「対象測定値範囲」の始点を示す始点表示42a、および終点を示す終点表示42bとを波形Wに重ねて表示させる(「対象測定値範囲を測定値データCの波形に対応させて表示させることで報知する」との「特定結果報知処理」の一例:同図に示す破線と数値の表示)。
Further, the
これにより、対象測定値範囲表示41、始点表示42aおよび終点表示42bを見た利用者は、波形Wにおけるいずれの測定値D0に基づき、「被判別値」(LC値やRC値、LC1値やRC1値、LC2値やRC2値、LCf値やRCf値、LC1f値やRC1f値、およびLC2f値やRC2f値など)が演算されて検査対象Xの良否が検査されるかを認識する。
As a result, the user who sees the target measurement
次いで、処理部23は、プログラムデータDpに従い、測定値データDmに記録されている各測定値D0,D0・・のうちから、検査用データDiに記録されている「対象測定値範囲」に含まれる測定値D0,D0・・を特定し、特定した測定値D0,D0・・に基づいて、LC値およびRC値やLCf値およびRCf値(被判別値C0)、LC1値およびRC1値やLC1f値およびRC1f値(被判別値C1)、並びにLC2値およびRC2値やLC2f値およびRC2f値(被判別値C2)のうちの検査用データDiによって指定された「被判別値」を演算する処理を、各測定値データDm毎に実行する。
Next, the
続いて、処理部23は、演算した「被判別値」が、予め規定された良品範囲(一例として、「対象測定値範囲」とした「仮範囲」に対応する良品試料XaについてLClengthに対する±5%の範囲)内に含まれているか否かを判別する。この際に、Nc=5個の測定値データDmに基づいて演算した5つの「被判別値」のすべてが良品範囲内の値のときには、処理部23は、その検査対象Xを良品と判別する。また、5つの「被判別値」のうちの1つ以上が良品範囲外の値のときには、処理部23は、その検査対象Xを不良品と判別する。以上により、検査対象Xについての良否検査が完了する。
Subsequently, the
このように、このデータ処理装置3では、処理部23が、検査対象Xの「良否判別条件」を特定可能な検査用データDiを生成する「データ生成処理」において、良品試料Xaについての各測定値D0を一階微分した複数の演算値D1、および各測定値D0を二階微分した複数の演算値D2を各測定値データDm毎にそれぞれ導出すると共に、不良品試料Xbについての各測定値D0を一階微分した複数の演算値D1、および各測定値D0を二階微分した複数の演算値D2を各測定値データDm毎にそれぞれ導出する「第1の処理」と、良品試料Xaについての各測定値D0および各演算値D1,D2に基づいて対応する各測定値データDm毎に良否判別用のLC値およびRC値をそれぞれ演算し、良品試料Xaについての各演算値D1に基づいて対応する各測定値データDm毎に良否判別用のLC1値およびRC1値をそれぞれ演算し、かつ良品試料Xaについての各演算値D2に基づいて対応する各測定値データDm毎に良否判別用のLC2値およびRC2値をそれぞれ演算すると共に、不良品試料Xbについての各測定値D0および各演算値D1,D2に基づいて対応する各測定値データDm毎に良否判別用のLC値およびRC値をそれぞれ演算し、不良品試料Xbについての演算値D1に基づいて対応する各測定値データDm毎に良否判別用のLC1値およびRC1値をそれぞれ演算し、かつ不良品試料Xbについての各演算値D2に基づいて対応する各測定値データDm毎に良否判別用のLC2値およびRC2値をそれぞれ演算する「第2の処理」とを実行し、良品試料XaについてのLC値やRC値と不良品試料XbについてのLC値やRC値との相違の度合、良品試料XaについてのLC1値やRC値1と不良品試料XbについてのLC1値やRC値1との相違の度合、および良品試料XaについてのLC2値やRC値2と不良品試料XbについてのLC2値やRC値2との相違の度合に基づいて「良否判別条件」の1つを規定して検査用データDiを生成する。。
As described above, in the
具体的には、このデータ処理装置3では、処理部23が、良品試料XaについてのLC値やRC値と不良品試料XbについてのLC値やRC値との相違の度合が、良品試料XaについてのLC1値やRC値1と不良品試料XbについてのLC1値やRC値1との相違の度合、および良品試料XaについてのLC2値やRC値2と不良品試料XbについてのLC2値やRC値2との相違の度合よりも高いときには、検査対象Xについての各測定値データDmにおける「測定値範囲」内の各測定値D0、「測定値範囲」内の各測定値D0を一階微分した複数の演算値D1、および「測定値範囲」内の各測定値D0を二階微分した複数の演算値D2に基づいて良否判別用のLC値やRC値を演算してLC値やRC値に基づいて検査対象Xの良否を判別するとの条件を「良否判別条件」の1つとして規定し、良品試料XaについてのLC1値やRC値1と不良品試料XbについてのLC1値やRC値1との相違の度合が、良品試料XaについてのLC値やRC値と不良品試料XbについてのLC値やRC値との相違の度合、および良品試料XaについてのLC2値やRC値2と不良品試料XbについてのLC2値やRC値2との相違の度合よりも高いときには、検査対象Xについての各演算値D1に基づいて良否判別用のLC1値やRC1値を演算してLC1値やRC1値に基づいて検査対象Xの良否を判別するとの条件を「良否判別条件」の1つとして規定し、良品試料XaについてのLC2値やRC値2と不良品試料XbについてのLC2値やRC値2との相違の度合が、良品試料XaについてのLC値やRC値と不良品試料XbについてのLC値やRC値との相違の度合、および良品試料XaについてのLC1値やRC値1と不良品試料XbについてのLC1値やRC値1との相違の度合よりも高いときには、検査対象Xについての各演算値D2に基づいて良否判別用のLC2値やRC2値を演算してLC2値やRC2値に基づいて検査対象Xの良否を判別するとの条件を「良否判別条件」の1つとして規定して検査用データDiを生成する。
Specifically, in this
また、この検査システム1では、良品試料Xa、不良品試料Xbおよび検査対象Xについての「測定処理A」、「測定処理B」および「測定処理C」を実行して測定値データA、測定値データBおよび測定値データCを生成する測定装置2と、「データ生成処理」を実行して検査用データDiを生成すると共に、生成した検査用データDi、および検査対象Xについての測定値データDmに基づいて検査対象Xの良否を検査するデータ処理装置3とを備えて検査対象Xの良否を検査可能に構成されている。さらに、このプログラムデータDpでは、上記の「データ生成処理」をデータ処理装置3の処理部23に実行させる。
Further, in this inspection system 1, "measurement process A", "measurement process B" and "measurement process C" are executed for the non-defective product sample Xa, the defective product sample Xb and the inspection target X, and the measured value data A and the measured value are executed. The measuring
したがって、このデータ処理装置3、検査システム1およびプログラムデータDpによれば、「被判別値A0」と「被判別値B0」との相違の度合いが十分に高くなるような種類の不良が生じ得る検査対象Xについては、検査対象Xについての測定値データDmにおける各測定値D0に基づいて「被判別値C0」を演算して良否を判別するとの「良否判別条件」が規定された検査用データDiが生成され、「被判別値A0」と「被判別値B0」との相違の度合いがそれほど高くならない種類の不良が生じ得る検査対象Xについては、検査対象Xについての測定値データDmにおける各測定値D0を一階微分した演算値D1に基づいて演算される「被判別値C1」や、検査対象Xについての測定値データDmにおける各測定値D0を二階微分した演算値D2に基づいて演算される「被判別値C2」に基づいて良否を判別するとの「良否判別条件」が規定された検査用データDiが生成されるため、この検査用データDiに基づいて検査を実行することで、各種の検査対象Xの良品を的確に判別することができる。
Therefore, according to the
また、このデータ処理装置3では、処理部23が、「データ生成処理」において、検査対象Xの検査時に測定値データDmに記録されている各測定値D0のうちのいずれの測定値D0から他のいずれの測定値D0までの各測定値D0を「測定値範囲」内の測定値D0とすべきかを特定可能な「対象測定値範囲」を「良否判別条件」の他の1つとして規定するときに、「対象測定値範囲」の始点に対応する測定値D0と「対象測定値範囲」の終点に対応する測定値D0との組合せを少なくとも異ならせたM種類(本例では、測定値データDm、演算値データDc1,Dc2毎に980,840種類)の「仮範囲」を規定し、各「仮範囲」を「測定値範囲」として「第1の処理」および「第2の処理」をM種類の「仮範囲」毎にそれぞれ実行すると共に、良品試料XaについてのLC値やRC値と不良品試料XbについてのLC値やRC値との相違の度合、良品試料XaについてのLC1値やRC1値と不良品試料XbについてのLC1値やRC値1との相違の度合、および良品試料XaについてのLC2値やRC2値と不良品試料XbについてのLC2値やRC値2との相違の度合をM種類の「仮範囲」毎にそれぞれ特定して、相違の度合いが予め規定された条件を満たす関係となる「仮範囲」を特定する「第3の処理」を実行し、特定した「仮範囲」を「対象測定値範囲」として検査用データDiを生成する。
Further, in the
したがって、このデータ処理装置3、検査システム1およびプログラムデータDpによれば、検査対象Xの種類や、測定環境の相違に応じて、検査対象Xについての測定値データDmに記録されている各測定値D0,D0・・のうちから、良品試料XaについてのLC値、LC1値およびLC2値やRC値、RC1値およびRC2値と、不良品試料XbについてのLC値、LC1値およびLC2値やRC値、RC1値およびRC2値とが大きく相違する関係となる「対象測定値範囲」が自動的に特定されて検査用データDiが生成されるため、この検査用データDiに基づいて検査対象Xを検査することによって各種の不良が生じ得る検査対象Xの良否を的確に判別することができる。
Therefore, according to the
さらに、このデータ処理装置3では、処理部23が、「第3の処理」において、M種類の「仮範囲」毎に、Na個の「被判別値A0(LC値やRC値)」のうちの最小値である「良品最小値」、およびNa個の「被判別値A0」のうちの最大値である「良品最大値」をそれぞれ特定し、Nb個の「被判別値B0(LC値やRC値)」毎に、「良品最小値」よりも小さい「被判別値B0」については「良品最小値」との差を「不良度合値」として演算し、かつ「良品最大値」よりも大きい「被判別値B0」については「良品最大値」との差を「不良度合値」としてそれぞれ演算すると共に、Nb個の「被判別値B0」の各「不良度合値」の合計値を演算し、演算した合計値に基づいて予め規定された条件を満たす関係となる「仮範囲」を特定する処理と、M種類の「仮範囲」毎に、Na個の「被判別値A1(LC1値やRC1値)」のうちの最小値である「良品最小値」、およびNa個の「被判別値A1」のうちの最大値である「良品最大値」をそれぞれ特定し、Nb個の「被判別値B1(LC1値やRC1値)」毎に、「良品最小値」よりも小さい「被判別値B1」については「良品最小値」との差を「不良度合値」として演算し、かつ「良品最大値」よりも大きい「被判別値B1」については「良品最大値」との差を「不良度合値」としてそれぞれ演算すると共に、Nb個の「被判別値B1」の各「不良度合値」の合計値を演算し、演算した合計値に基づいて予め規定された条件を満たす関係となる「仮範囲」を特定する処理と、M種類の「仮範囲」毎に、Na個の「被判別値A2(LC2値やRC2値)」のうちの最小値である「良品最小値」、およびNa個の「被判別値A2」のうちの最大値である「良品最大値」をそれぞれ特定し、Nb個の「被判別値B2(LC2値やRC2値)」毎に、「良品最小値」よりも小さい「被判別値B2」については「良品最小値」との差を「不良度合値」として演算し、かつ「良品最大値」よりも大きい「被判別値B2」については「良品最大値」との差を「不良度合値」としてそれぞれ演算すると共に、Nb個の「被判別値B2」の各「不良度合値」の合計値を演算し、演算した合計値に基づいて予め規定された条件を満たす関係となる「仮範囲」を特定する処理とを実行する。
Further, in the
したがって、このデータ処理装置3、検査システム1およびプログラムデータDpによれば、良品試料Xaにおいても生じ得る「被判別値」のばらつきの影響を排除することができるため、「対象測定値範囲」に相応しい「仮範囲」を好適に特定して検査用データDiを生成することができる。
Therefore, according to the
また、このデータ処理装置3、検査システム1およびプログラムデータDpによれば、処理部23が、「第3の処理」において、合計値を「良品最小値」と「良品最大値」との差で除した値に基づいて予め規定された条件を満たす関係となる「仮範囲」を特定することにより、「良品最小値」や「良品最大値」との差が同程度の「被判別値B0」、「被判別値B1」および「被判別値B2」となる「仮範囲」に関し、「良品最小値」と「良品最大値」との差が大きい「仮範囲」(良品試料Xaについての「被判別値A0」、「被判別値A1」および「被判別値A2」のばらつきが大きい「仮範囲」)よりも、「良品最小値」と「良品最大値」との差が小さい「仮範囲」(良品試料Xaについての「被判別値A0」、「被判別値A1」および「被判別値A2」のばらつきが小さい「仮範囲」)の方が大きな値が演算されるため、良品試料Xaについての「被判別値A0」、「被判別値A1」および「被判別値A2」のばらつきの範囲に対する差が大きい「被判別値B0」、「被判別値B1」および「被判別値B2」が演算され得る「仮範囲」、すなわち、検査対象Xの良否を一層確実に判別し得る「仮範囲」を好適に特定して検査用データDiを生成することができる。
Further, according to the
さらに、このデータ処理装置3では、処理部23が、「第3の処理」において、Na個の「被判別値A0」の分布とNb個の「被判別値B0」の分布との相違の度合いを、相違の度合いが大きいほど高い数値となる予め規定された基準に従ってM個の「仮範囲」毎にそれぞれ数値化し、Na個の「被判別値A1」の分布とNb個の「被判別値B1」の分布との相違の度合いを予め規定された基準に従ってM個の「仮範囲」毎にそれぞれ数値化し、かつNa個の「被判別値A2」の分布とNb個の「被判別値B2」の分布との相違の度合いを予め規定された基準に従ってM個の「仮範囲」毎にそれぞれ数値化し、それらの「数値」に基づいて予め規定された条件を満たす関係となる「仮範囲」を特定する。
Further, in the
したがって、このデータ処理装置3、検査システム1およびプログラムデータDpによれば、良品試料Xaについての「被判別値A0」、「被判別値A1」および「被判別値A2」の分布と、不良品試料Xbについての「被判別値B0」、「被判別値B1」および「被判別値B2」の分布とが大きい「仮範囲」を的確に特定することができる。
Therefore, according to the
また、このデータ処理装置3では、処理部23が、「第3の処理」において、M種類の「仮範囲」のうちの1つを対象として、対象の「仮範囲」における始点に対応する測定値D0との相違量がLaサンプリング周期以下の測定値D0を始点とする「仮範囲」であって、かつ対象の「仮範囲」における終点に対応する測定値D0との相違量がLbサンプリング周期以下の測定値D0を終点とする「仮範囲」の良品試料Xaについての数値と、対象の「仮範囲」における始点に対応する測定値D0との相違量がLaサンプリング周期以下の測定値D0を始点とする「仮範囲」であって、かつ対象の「仮範囲」における終点に対応する測定値D0との相違量がLbサンプリング周期以下の測定値D0を終点とする「仮範囲」の不良品試料Xbについての数値とをそれぞれ特定し、特定した各数値のうちの最小値を対象の「仮範囲」に関連付ける処理をM個の「仮範囲」をそれぞれ対象の「仮範囲」として実行すると共に、関連付けられた数値が大きい「仮範囲」ほど予め規定された条件を満たす関係の度合いが大きいとして予め規定された条件を満たす関係となる「仮範囲」を特定する。
Further, in the
したがって、このデータ処理装置3、検査システム1およびプログラムデータDpによれば、不良品試料Xbについての「測定処理B」時に突発的に生じた測定値D0のずれに起因して「被判別値B0」、「被判別値B1」および「被判別値B2」が大きくなったような「仮範囲」が「対象測定値範囲」として特定される事態を招くことなく、その始点や終点が同様の「仮範囲」においても「被判別値B0」、「被判別値B1」および「被判別値B2」が十分に大きな値となる「仮範囲」、すなわち、不良品試料Xbに生じている定常的な不良の影響で良品試料Xaについての測定値D0とは異なる値となる測定値D0を含んでいる「仮範囲」を「対象測定値範囲」として特定して検査用データDiを生成することができる。
Therefore, according to the
さらに、このデータ処理装置3では、処理部23が、予め規定された時間内に測定値D0が予め規定されたしきい値を超える状態および予め規定されたしきい値を下回る状態に周期的に変化する良品試料Xaについての測定値データDmおよび不良品試料Xbについての測定値データDmを、取得すると共に、「データ生成処理」において、良品試料Xaについての予め規定された時間分の各測定値D0のうちのK回目に予め規定されたしきい値を超えた測定値D0、および不良品試料Xbについての予め規定された時間分の各測定値D0のうちのK回目に予め規定されたしきい値を超えた測定値D0と、良品試料Xaについての予め規定された時間分の各測定値D0のうちのK回目に予め規定されたしきい値を下回った測定値D0、および不良品試料Xbについての予め規定された時間分の各測定値D0のうちのK回目に予め規定されたしきい値を下回った測定値D0とのいずれか予め規定された一方を基準としてM種類の「仮範囲」を規定する。
Further, in the
したがって、このデータ処理装置3、検査システム1およびプログラムデータDpによれば、良品試料Xaについての「測定処理A」時や、不良品試料Xbについての「測定処理B」時に測定値データDmの始点に僅かなずれが生じた場合であっても、すべての測定値データDmにおいて、同じ基準を満たす測定値D0(K回目に予め規定されたしきい値を超えた測定値D0、または、K回目に予め規定されたしきい値を下回った測定値D0)を基準として「仮範囲」の始点を特定することができるため、良品試料Xaおよび不良品試料Xbについての測定値データDmにおける始点の僅かなずれの影響を排除して、「対象測定値範囲」に相応しい「仮範囲」を特定することができる。
Therefore, according to the
また、このデータ処理装置3、検査システム1およびプログラムデータDpによれば、処理部23が、「第3の処理」によって特定した「対象測定値範囲」を報知する「特定結果報知処理」を実行することにより、どのような範囲に含まれる測定値D0を対象として検査対象Xの良否が検査されるかを利用者に対して確実かつ容易に認識させることができる。
Further, according to the
さらに、このデータ処理装置3、そのようなデータ処理装置3を備えた検査システム1、およびそのような処理を実行させるプログラムデータDpによれば、処理部23が、「特定結果報知処理」において、少なくとも、良品試料Xaについての測定値データDm、不良品試料Xbについての測定値データDm、および検査対象Xについての測定値データDmのうちの少なくとも1つに基づく波形を表示部22に表示させると共に、「対象測定値範囲」を波形に対応させて表示させることで報知することにより、どのような範囲に含まれる測定値D0を対象として検査対象Xの良否が検査されるかを利用者に対して一層容易に認識させることができる。
Further, according to the
また、このデータ処理装置3、検査システム1およびプログラムデータDpによれば、処理部23が、良品試料Xaについての測定値データDmに記録されている各測定値D0をJ1個おきに抽出し、抽出した各測定値D0、抽出した各測定値D0に対応する各演算値D1、および抽出した各測定値D0に対応する各演算値D2を使用して「被判別値A0」、「被判別値A1」および「被判別値A2」をそれぞれ演算すると共に、不良品試料Xbについての測定値データDmに記録されている各測定値D0をJ2個おきに抽出し、抽出した各測定値D0、抽出した各測定値D0に対応する各演算値D1、および抽出した各測定値D0に対応する各演算値D2を使用して「被判別値B0」、「被判別値B1」および「被判別値B2」をそれぞれ演算することにより、「仮範囲」に含まれるすべての測定値D0を対象として「被判別値A0」、「被判別値A1」および「被判別値A2」や「被判別値B0」、「被判別値B1」および「被判別値B2」を演算する場合と比較して、演算対象の測定値D0の数が少なくて済む分だけ、処理部23にかかる負担や、演算結果を一時的に記憶するメモリの容量を十分に小さくすることができる。
Further, according to the
なお、「検査用データ生成装置」および「検査システム」の構成や、「検査用データ生成処理用プログラム」に記述されている処理手順は、上記の検査システム1(データ処理装置3)の構成の例や、プログラムデータDpの記述の例に限定されない。 The configurations of the "inspection data generation device" and the "inspection system" and the processing procedure described in the "inspection data generation processing program" are the configurations of the above inspection system 1 (data processing device 3). It is not limited to an example or an example of description of program data Dp.
例えば、良品試料XaについてのLC値やRC値と不良品試料XbについてのLC値やRC値との相違の度合い(「被判別値A0」と「被判別値B0」との相違の度合)、良品試料XaについてのLC1値やRC1値と不良品試料XbについてのLC1値やRC1値との相違の度合い(「被判別値A1」と「被判別値B1」との相違の度合)、および良品試料XaについてのLC2値やRC2値と不良品試料XbについてのLC2値やRC2値との相違の度合い(「被判別値A2」と「被判別値B2」との相違の度合)のうちの最も高い度合いの「被判別値」に対応させて検査対象Xについての検査時に、LC値やRC値(被判別値C0)、LC1値やRC1値(被判別値C1)、およびLC2値やRC2値(被判別値C2)のいずれを使用するかを規定して検査用データDiを生成する例について説明したが、相違の度合いが2番目に高い「被判別値」を使用して検査対象Xを検査するとの検査用データDiを生成する構成・方法を採用することもできる。 For example, the degree of difference between the LC value or RC value of the non-defective sample Xa and the LC value or RC value of the defective sample Xb (the degree of difference between the “discriminated value A0” and the “discriminated value B0”). The degree of difference between the LC1 value and RC1 value of the non-defective sample Xa and the LC1 value and RC1 value of the defective sample Xb (the degree of difference between the "discriminated value A1" and the "discriminated value B1"), and the non-defective product. The most difference between the LC2 value and RC2 value of sample Xa and the LC2 value and RC2 value of defective sample Xb (the degree of difference between "discriminated value A2" and "discriminated value B2"). LC value or RC value (discriminated value C0), LC1 value or RC1 value (discriminated value C1), and LC2 value or RC2 value at the time of inspection of the inspection target X corresponding to a high degree of "discriminated value". An example of generating inspection data Di by specifying which of (discriminated value C2) is used has been described, but the inspection target X is selected by using the “discriminated value” having the second highest degree of difference. It is also possible to adopt a configuration / method for generating inspection data Di for inspection.
また、「データ生成処理」において、良品試料Xaを対象とする「測定処理A」の実行回数=Naと、不良品試料Xbを対象とする「測定処理B」の実行回数=Nbとを同数(本例では、Na=Nb=30)とした例について説明したが、各測定処理の実行回数については、30回以外の任意の複数回とすることができ、また、「測定処理A」の実行回数と「測定処理B」の実行回数とを互いに相違する回数とすることができる。 Further, in the "data generation process", the number of executions of "measurement process A" targeting the non-defective sample Xa = Na and the number of executions of "measurement process B" targeting the defective sample Xb = Nb are the same number ( In this example, an example in which Na = Nb = 30) has been described, but the number of times each measurement process is executed can be any multiple times other than 30 times, and the execution of "measurement process A" can be performed. The number of times and the number of times the "measurement process B" is executed can be different from each other.
この場合、Na回の「測定処理A」によって生成されるNa個の「測定値データA」については、1つの良品試料Xaを対象とするNa回の測定処理によって生成されるデータに限定されず、複数の良品試料Xaを対象とする合計Na回の測定処理によって生成されるデータを使用することができる。同様にして、Nb回の「測定処理B」によって生成されるNb個の「測定値データB」については、1つの不良品試料Xbを対象とするNb回の測定処理によって生成されるデータに限定されず、複数の不良品試料Xbを対象とする合計Nb回の測定処理によって生成されるデータを使用することができる。なお、複数の良品試料Xaを対象とする合計Na回の測定処理や、複数の不良品試料Xbを対象とする合計Nb回の測定処理によって生成されるデータを使用する場合には、各良品試料Xa毎の測定処理が複数回で、各不良品試料Xb毎の測定処理が複数回となるような処理を行うのが好ましい。 In this case, the Na "measurement value data A" generated by the "measurement process A" of Na times is not limited to the data generated by the measurement process of Na times for one non-defective sample Xa. , Data generated by a total of Na measurements for a plurality of non-defective samples Xa can be used. Similarly, the Nb "measured value data B" generated by the Nb "measurement process B" is limited to the data generated by the Nb measurement process for one defective sample Xb. However, the data generated by the measurement process of a total of Nb times for a plurality of defective sample Xb can be used. When using the data generated by the total Na measurement processing for a plurality of non-defective sample Xa or the total Nb measurement process for a plurality of defective samples Xb, each non-defective sample It is preferable to perform the measurement process for each Xa a plurality of times and the measurement process for each defective sample Xb a plurality of times.
また、「データ生成処理」における「測定処理A」の実行回数=Na、および「測定処理B」の実行回数=Nbと、検査対象Xの検査時における「測定処理C」の実行回数=Ncとを互いに相違する数(本例では、Na=Nb=30:Nc=5)とした例について説明したが、各検査対象Xの検査時に行う測定処理の実行回数については、「測定処理A」および「測定処理B」のいずれか(または、双方)と同じ回数とすることができる。 Further, the number of executions of "measurement process A" in the "data generation process" = Na, the number of executions of "measurement process B" = Nb, and the number of executions of "measurement process C" at the time of inspection of the inspection target X = Nc. In this example, an example in which the numbers are different from each other (Na = Nb = 30: Nc = 5) has been described. The number of times can be the same as either (or both) of "measurement process B".
さらに、「データ生成処理」に際して規定する「仮範囲」の種類数は、M=980,840種類に限定されず、M=2種類以上の任意の複数種類を規定して「対象測定値範囲」の候補とすることができる。また、測定値データDmに記録されている最初の測定値D0から最後の測定値D0までを「測定値範囲」として各「被判別値」を演算する構成・方法、すなわち、「仮範囲」や「対象測定値範囲」を規定せずに「被判別値」を演算する構成・方法を採用することもできる。 Further, the number of types of the "temporary range" specified in the "data generation process" is not limited to M = 980 and 840 types, and any plurality of types of M = 2 or more are specified and the "target measurement value range" is specified. Can be a candidate for. Further, a configuration / method for calculating each "discriminated value" with the first measured value D0 to the last measured value D0 recorded in the measured value data Dm as the "measured value range", that is, the "temporary range" or It is also possible to adopt a configuration / method for calculating the "discriminated value" without specifying the "target measured value range".
また、「被判別値A0」、「被判別値A1」および「被判別値A2」や、「被判別値B0」、「被判別値B1」および「被判別値B2」の演算に際して、測定値データDmに記録されている測定値D0,D0・・からJ1=J2=5個おきに測定値D0を抽出して使用する例について説明したが、「被判別値」の演算に使用する測定値D0の抽出間隔(J1の値、およびJ1の値)については、「5」以外の任意の自然数とすることができ、また、J1の値およびJ2の値を互いに相違する数とすることができる。さらに、「被判別値」の演算に際して、「仮範囲」内のすべての測定値D0,D0・・、または、測定値データDmに記録されているすべての測定値D0,D0・・を使用することもできる。 Further, when calculating the "discriminated value A0", the "discriminated value A1" and the "discriminated value A2", and the "discriminated value B0", the "discriminated value B1" and the "discriminated value B2", the measured values An example of extracting and using the measured value D0 every 5 J1 = J2 = 5 from the measured values D0, D0 ... Recorded in the data Dm has been described, but the measured value used for the calculation of the "discriminated value" The extraction interval of D0 (the value of J1 and the value of J1) can be any natural number other than "5", and the value of J1 and the value of J2 can be different numbers from each other. .. Further, in the calculation of the "discriminated value", all the measured values D0, D0 ... In the "temporary range" or all the measured values D0, D0 ... Recorded in the measured value data Dm are used. You can also do it.
また、いずれかの「仮範囲」を対象として、始点や終点が同程度の「仮範囲」の「数値」のなかから最小値を特定する際に、対象の「仮範囲」に対して始点や終点などがLa=Lb=1サンプリング周期だけ相違する「仮範囲」を対象とする例について説明したが、この処理時におけるLaの値およびLbの値については「1」以外の任意の数とすることができ、また、La≠Lbとすることもできる。 In addition, when specifying the minimum value from the "numerical values" of the "temporary range" with the same start point and end point for any "temporary range", the start point or end point for the target "temporary range" An example of targeting a "temporary range" in which the end points and the like differ by La = Lb = 1 sampling period has been described, but the La value and the Lb value at the time of this processing are arbitrary numbers other than "1". It can also be set to La ≠ Lb.
さらに、測定値データDmに記録されている各測定値D0,D0・・のうちの最初に(K=1回目に)「しきい値(本例では0V)」を超えた測定値D0を基準として「仮範囲」の始点を特定する例について説明したが、K回目は、1回目(最初)に限定されず、2回目以上の任意の回数とすることができる。また、測定値データDmに記録されている各測定値D0,D0・・のうちの「K回目にしきい値」を下回った測定値D0を基準として「仮範囲」の始点を特定することもできる。この場合、K回目は、1回目(最初)に限定されず、2回目以上の任意の回数とすることができる。また、「しきい値を下回った測定値」や「しきい値を超えた測定値」に代えて、測定値データDmに記録されている各測定値D0,D0・・のうちの最小値または最大値を「仮範囲」の始点とすることもできる。 Further, the measured value D0 that exceeds the "threshold value (0V in this example)" at the beginning (K = 1st time) of the measured values D0, D0 ... Recorded in the measured value data Dm is used as a reference. As an example, an example of specifying the start point of the "temporary range" has been described, but the Kth time is not limited to the first time (first time), and can be any number of times of the second time or more. It is also possible to specify the start point of the "temporary range" with reference to the measured value D0 that is lower than the "Kth threshold value" among the measured values D0, D0 ... Recorded in the measured value data Dm. .. In this case, the Kth time is not limited to the first time (first time), and can be any number of times of the second time or more. Further, instead of the "measured value below the threshold value" or the "measured value exceeding the threshold value", the minimum value of the measured values D0, D0 ... Recorded in the measured value data Dm or The maximum value can also be the starting point of the "temporary range".
さらに、「良品最小値(LCmin、RCmin)」よりも小さい「被判別値B0(LC値、RC値)」については「良品最小値」との差を「不良度合値」とし、かつ「良品最大値(LCmax、RCmax)」よりも大きい「被判別値B0」については「良品最大値」との差を「不良度合値」とする例について説明したが、良品試料Xaについての「被判別値A0」の平均値や重心値と不良品試料Xbについての「被判別値B0」との差異を「不良度合値」とすることもできる。同様にして、良品試料Xaについての「被判別値A1」の平均値や重心値と不良品試料Xbについての「被判別値B1」との差異を「不良度合値」としたり、良品試料Xaについての「被判別値A2」の平均値や重心値と不良品試料Xbについての「被判別値B2」との差異を「不良度合値」としたりすることもできる。また、「不良度合値の合計値」を「良品最小値と良品最大値との差」で除した値に基づいて「予め規定された条件を満たす関係となる仮範囲」を特定する例についで説明したが、「不良度合値の合計値」そのものに基づいて、条件を満たす「仮範囲」を特定することもできる。 Further, for the "discriminated value B0 (LC value, RC value)" smaller than the "minimum non-defective product (LCmin, RCmin)", the difference from the "minimum non-defective product value" is set as the "defective degree value" and the "maximum non-defective product". Regarding the "discriminated value B0" which is larger than the "value (LCmax, RCmax)", an example in which the difference from the "maximum non-defective product value" is set as the "defective degree value" has been described. The difference between the average value or the center of gravity value of "" and the "determined value B0" for the defective sample Xb can also be used as the "defective degree value". Similarly, the difference between the average value or the center of gravity value of the "discriminated value A1" for the non-defective sample Xa and the "discriminated value B1" for the defective sample Xb can be regarded as the "defective degree value", or the non-defective sample Xa can be used. The difference between the average value or the center of gravity value of the "determined value A2" and the "determined value B2" for the defective sample Xb can also be used as the "defectiveness degree value". In addition, following an example of specifying a "provisional range that satisfies a predetermined condition" based on a value obtained by dividing the "total defect degree value" by the "difference between the minimum non-defective product value and the maximum non-defective product value". As described above, it is also possible to specify a "temporary range" that satisfies the conditions based on the "total value of the degree of defects" itself.
さらに、「被判別値A0」、「被判別値A1」および「被判別値A2」や、「被判別値B0」、「被判別値B1」および「被判別値B2」は、LC値、LC1値およびLC2値やRC値、RC1値およびRC2値に限定されず、LC値、LC1値、LC2値、RC値、RC1値、RC2値に任意の係数を乗じた値、LC値をRC値で除した値、LC1値をRC1値で除した値、およびLC2値をRC2値で除した値などの任意の値を使用することができる。 Further, "discriminated value A0", "discriminated value A1" and "discriminated value A2", and "discriminated value B0", "discriminated value B1" and "discriminated value B2" are LC values and LC1. Not limited to the value and LC2 value, RC value, RC1 value and RC2 value, LC value, LC1 value, LC2 value, RC value, RC1 value, RC2 value multiplied by an arbitrary coefficient, LC value as RC value Any value can be used, such as the divided value, the LC1 value divided by the RC1 value, and the LC2 value divided by the RC2 value.
また、測定装置2から取得した測定値データDmの測定値D0,D0・・をそのまま使用して「被判別値」を演算すると共に、取得した測定値データDmについて任意のフィルタリング処理(任意の値を下回る測定値や、任意の値を超える測定値を除外する処理)を実行し、フィルタリング処理後の測定値D0fを使用して各「被判別値」を演算する構成・方法を例に挙げて説明したが、測定装置2から取得した測定値データDmの測定値D0,D0・・をそのまま使用して「被判別値」を演算するだけで、フィルタリング処理を行わない構成・方法を採用することもできる。
Further, the measured values D0, D0 ... Of the measured value data Dm acquired from the measuring
また、関連付けられた「数値」が最も大きい「仮範囲」(良品試料Xaについての「被判別値」と不良品試料Xbについての「被判別値」とが最も相違している「仮範囲」)を「対象測定値範囲」の候補として特定し、特定した「仮範囲」のなかから「対象測定値範囲」を特定する例について説明したが、「予め規定された条件を満たす関係」は、このような例に限定されず、良品試料Xaについての「被判別値」と不良品試料Xbについての「被判別値」との相違の度合いが2番目以降の「仮範囲」を「対象測定値範囲」の候補として特定することもできる。 In addition, the "provisional range" in which the associated "numerical value" is the largest (the "provisional range" in which the "discriminated value" for the non-defective sample Xa and the "discriminated value" for the defective sample Xb are the most different). Was specified as a candidate for the "target measurement value range", and an example of specifying the "target measurement value range" from the specified "provisional range" was explained. Not limited to such an example, the "provisional range" in which the degree of difference between the "discriminated value" for the non-defective sample Xa and the "discriminated value" for the defective sample Xb is the second or later is the "target measured value range". It can also be specified as a candidate for.
さらに、検査対象Xについての検査時に対象測定値範囲表示41や始点表示42aおよび終点表示42bを波形W(検査対象Xについての測定値データDmに基づく波形)に対応させて表示することで「対象測定値範囲」を報知する「特定結果報知処理」を例に挙げて説明したが、検査対象Xについての検査に先立ち、良品試料Xaについての測定値データDmや不良品試料Xbについての測定値データDmに基づく波形に対応させて「対象測定値範囲」を特定させる任意の表示(対象測定値範囲表示41や始点表示42aおよび終点表示42bなど)を表示させる処理を「特定結果報知処理」として実行することもできる。
Further, at the time of inspection of the inspection target X, the target measurement
また、検査対象Xの検査時に検査対象Xについての測定値データDmに基づく波形を表示させると共に、良品試料Xaについての測定値データDmに基づく波形、および不良品試料Xbについての測定値データDmに基づく波形の少なくとも一方を表示させて、それらの波形に対応させて「対象測定値範囲」を特定させる任意の表示を表示させる処理を「特定結果報知処理」として実行することもできる。また、「対象測定値範囲」は、対象測定値範囲表示41や始点表示42aおよび終点表示42bなどを表示させる処理に限定されず、「対象測定値範囲」を特定可能な情報(始点の位置や終点の位置)を音声メッセージとして出力する処理を行うこともできる。
Further, at the time of inspection of the inspection target X, the waveform based on the measurement value data Dm for the inspection target X is displayed, and the waveform based on the measurement value data Dm for the non-defective sample Xa and the measurement value data Dm for the defective sample Xb are displayed. It is also possible to execute a process of displaying at least one of the based waveforms and displaying an arbitrary display for specifying the "target measurement value range" corresponding to those waveforms as the "specific result notification process". Further, the "target measurement value range" is not limited to the process of displaying the target measurement
さらに、「検査システム」としての検査システム1におけるデータ処理装置3の構成要素である表示部22に「対象測定値範囲」を特定可能な情報を表示させる例について説明したが、外部装置としての表示装置に「対象測定値範囲」を特定可能な情報を表示させることもできる。また、データ処理装置3を「検査用データ生成装置」および「検査装置」として機能させる例について説明したが、検査用データDiを生成する「検査用データ生成装置」と、「測定装置」からの「測定値データC」および「検査用データ」に基づいて「検査対象」を検査する「検査装置」とを別個独立して備えて「検査システム」を構成することもできる。また、「検査用データ生成装置」、「測定装置」および「検査装置」を1つの装置で構成する(「検査装置」内に「検査用データ生成装置」に相当する要素、および「測定装置」に相当する要素を一体的に設ける)こともできる。
Further, an example of displaying information that can specify the "target measured value range" on the
加えて、「検査対象」としての巻線部品を検査する例について説明したが、「検査システム」によって良否を検査する「検査対象」はこれに限定されず、コンデンサや抵抗体などの各種の電子部品、および回路基板上の任意の検査ポイント間を「検査対象」として検査することができる。 In addition, an example of inspecting a wound component as an "inspection target" has been described, but the "inspection target" for inspecting quality by an "inspection system" is not limited to this, and various electronic devices such as capacitors and resistors are used. It is possible to inspect between a component and any inspection point on the circuit board as an "inspection target".
1 検査システム
2 測定装置
3 データ処理装置
11 測定信号発生部
12 A/D変換部
13,23 処理部
14,24 記憶部
21 操作部
22 表示部
31 特定結果表示
40 測定結果表示画面
41 対象測定値範囲表示
42a 始点表示
42b 終点表示
D0 測定値
D1,D2 演算値
Dc1,Dc2 演算値データ
Di 検査用データ
Dm 測定値データ
Dp プログラムデータ
P0 基準点
P1,P1a 始点a
P2,P2a 終点
t0,t1,t1a,t2,t2a,te,ts 時点
T1,T1a,T2,T2a,TA 時間
W,W0〜W2,W0f〜W2f 波形
X 検査対象
Xa 良品試料
Xb 不良品試料
1
P2, P2a End point t0, t1, t1a, t2, t2a, te, ts Time point T1, T1a, T2, T2a, TA time W, W0 to W2, W0f to W2f Waveform X Inspection target Xa Good sample Xb Defective sample
Claims (13)
前記処理部は、前記データ生成処理において、
前記各測定値a0を一階微分した複数の演算値a1、および当該各測定値a0を二階微分した複数の演算値a2を前記各測定値データA毎にそれぞれ導出すると共に、前記各測定値b0を一階微分した複数の演算値b1、および当該各測定値b0を二階微分した複数の演算値b2を前記各測定値データB毎にそれぞれ導出する第1の処理と、
予め規定された測定値範囲内の前記各測定値a0、当該測定値範囲に対応する演算値範囲内の前記各演算値a1、および当該演算値範囲内の前記各演算値a2に基づいて対応する前記各測定値データA毎に良否判別用の被判別値A0をそれぞれ演算し、前記演算値範囲内の前記各演算値a1に基づいて対応する前記各測定値データA毎に良否判別用の被判別値A1をそれぞれ演算し、かつ前記演算値範囲内の前記各演算値a2に基づいて対応する前記各測定値データA毎に良否判別用の被判別値A2をそれぞれ演算すると共に、前記測定値範囲内の前記各測定値b0、前記演算値範囲内の前記各演算値b1、および当該演算値範囲内の前記各演算値b2に基づいて対応する前記各測定値データB毎に良否判別用の被判別値B0をそれぞれ演算し、前記演算値範囲内の前記各演算値b1に基づいて対応する前記各測定値データB毎に良否判別用の被判別値B1をそれぞれ演算し、かつ前記演算値範囲内の前記各演算値b2に基づいて対応する前記各測定値データB毎に良否判別用の被判別値B2をそれぞれ演算する第2の処理とを実行し、
前記被判別値A0と前記被判別値B0との相違の度合、前記被判別値A1と前記被判別値B1との相違の度合、および前記被判別値A2と前記被判別値B2との相違の度合に基づいて前記良否判別条件の1つを規定して前記検査用データを生成する検査用データ生成装置。 Na times (Na is a natural number of 2 or more) measured over a predetermined time in a predetermined sampling cycle for a non-defective sample of the same type as the inspection target for the predetermined time. Nb times performed under the same measurement conditions as the measurement process A for the Na measurement value data A in which the plurality of measurement values a0 of the above are recorded and the defective sample of the same type as the inspection target and the good sample. By the measurement process B of (Nb is a natural number of 2 or more), Nb of measurement value data B in which a plurality of measurement values b0 for the predetermined time are recorded are acquired, and the inspection of the inspection target is performed. A plurality of measured values c0 for the predetermined time by the Nc times (Nc is a natural number of 2 or more) of the measurement process C, which is sometimes performed on the inspection target under the same measurement conditions as the measurement process A and the measurement process B. Data generation process for generating inspection data that can identify the pass / fail judgment condition of the inspection target based on Nc measurement value data C recorded in each of the measurement value data A and the measurement value data B. Equipped with a processing unit that executes
In the data generation process, the processing unit
A plurality of calculated values a1 obtained by first-order differentiating each measured value a0 and a plurality of calculated values a2 obtained by second-order differentiating each measured value a0 are derived for each of the measured value data A, and each measured value b0. The first process of deriving a plurality of calculated values b1 obtained by first-order differentiation of the above, and a plurality of calculated values b2 obtained by second-order differentiation of each measured value b0 for each measured value data B,
Corresponds based on the respective measured values a0 within the predetermined measured value range, the respective calculated values a1 within the calculated value range corresponding to the measured value range, and the respective calculated values a2 within the calculated value range. Each of the measured value data A is calculated with a pass / fail determination value A0, and each of the corresponding measurement value data A is subject to pass / fail determination based on the calculated value a1 within the calculated value range. The discrimination value A1 is calculated respectively, and the judgment value A2 for pass / fail judgment is calculated for each measurement value data A corresponding to each calculation value a2 within the calculation value range, and the measurement value is calculated. For each measurement value data B corresponding to each measurement value b0 in the range, each calculation value b1 in the calculation value range, and each calculation value b2 in the calculation value range for pass / fail determination. The discriminated value B0 is calculated respectively, and the discriminated value B1 for pass / fail judgment is calculated for each of the corresponding measured value data B based on the calculated value b1 within the calculated value range, and the calculated value is calculated. A second process of calculating the discriminated value B2 for pass / fail determination for each measured value data B corresponding to each of the calculated value b2 within the range is executed.
The degree of difference between the discriminated value A0 and the discriminated value B0, the degree of difference between the discriminated value A1 and the discriminated value B1, and the difference between the discriminated value A2 and the discriminated value B2. An inspection data generator that specifies one of the pass / fail determination conditions based on the degree and generates the inspection data.
前記被判別値A1と前記被判別値B1との相違の度合が、前記被判別値A0と前記被判別値B0との相違の度合、および前記被判別値A2と前記被判別値B2との相違の度合よりも高いときには、前記各演算値c1に基づいて良否判別用の被判別値C1を演算して当該被判別値C1に基づいて前記検査対象の良否を判別するとの条件を前記良否判別条件の1つとして規定し、
前記被判別値A2と前記被判別値B2との相違の度合が、前記被判別値A0と前記被判別値B0との相違の度合、および前記被判別値A1と前記被判別値B1との相違の度合よりも高いときには、前記各演算値c2に基づいて良否判別用の被判別値C2を演算して当該被判別値C2に基づいて前記検査対象の良否を判別するとの条件を前記良否判別条件の1つとして規定して前記検査用データを生成する請求項1記載の検査用データ生成装置。 In the data generation process, the processing unit determines that the degree of difference between the discriminated value A0 and the discriminated value B0 is the degree of difference between the discriminated value A1 and the discriminated value B1 and the discriminated value. When the degree of difference between the value A2 and the discriminated value B2 is higher than the degree of difference, the measured value c0 within the measured value range and the measured value c0 within the measured value range in each measured value data C are set as one. The discriminated value C0 for pass / fail judgment is calculated based on the plurality of calculated values c1 obtained by the degree differentiation and the plurality of calculated values c2 obtained by second-order differentiating the measured values c0 within the measured value range. The condition for determining the quality of the inspection target based on the above is defined as one of the quality determination conditions.
The degree of difference between the discriminated value A1 and the discriminated value B1 is the degree of difference between the discriminated value A0 and the discriminated value B0, and the difference between the discriminated value A2 and the discriminated value B2. When the degree is higher than the above-mentioned degree, the condition that the quality of the inspection target is determined based on the discriminated value C1 by calculating the discriminated value C1 for pass / fail determination based on each calculated value c1 is the condition for determining the quality. Defined as one of
The degree of difference between the discriminated value A2 and the discriminated value B2 is the degree of difference between the discriminated value A0 and the discriminated value B0, and the difference between the discriminated value A1 and the discriminated value B1. When the degree is higher than the above-mentioned degree, the condition that the quality of the inspection target is determined based on the judgment value C2 by calculating the judgment value C2 for judgment based on each calculation value c2 is the condition for determining the quality. The inspection data generation device according to claim 1, wherein the inspection data is generated by defining it as one of the above.
前記対象測定値範囲の始点に対応する前記測定値a0および前記測定値b0と当該対象測定値範囲の終点に対応する前記測定値a0および前記測定値b0との組合せを少なくとも異ならせたM種類(Mは、2以上の自然数)の仮範囲を規定し、当該各仮範囲を前記測定値範囲として前記第1の処理および前記第2の処理を当該M種類の仮範囲毎にそれぞれ実行すると共に、前記被判別値A0と前記被判別値B0との相違の度合、前記被判別値A1と前記被判別値B1との相違の度合、および前記被判別値A2と前記被判別値B2との相違の度合を前記M種類の仮範囲毎にそれぞれ特定して、当該相違の度合いが予め規定された条件を満たす関係となる当該仮範囲を特定する第3の処理を実行し、
特定した前記仮範囲を前記対象測定値範囲として前記検査用データを生成する請求項1または2記載の検査用データ生成装置。 In the data generation process, the processing unit performs any of the measured values c0 recorded in the measured value data C at the time of inspection of the inspection target from any of the measured values c0 to any other measured value c0. When defining the target measurement value range in which it is possible to specify whether each measurement value c0 up to the above should be the measurement value c0 within the measurement value range as another one of the quality determination conditions,
M types in which the combination of the measured value a0 and the measured value b0 corresponding to the start point of the target measured value range and the measured value a0 and the measured value b0 corresponding to the end point of the target measured value range are at least different ( M defines a tentative range of 2 or more natural numbers), and the first process and the second process are executed for each tentative range of the M type, respectively, with each tentative range as the measured value range. The degree of difference between the discriminated value A0 and the discriminated value B0, the degree of difference between the discriminated value A1 and the discriminated value B1, and the difference between the discriminated value A2 and the discriminated value B2. The degree is specified for each of the M types of provisional ranges, and a third process for specifying the provisional range in which the degree of difference satisfies the predetermined condition is executed.
The inspection data generation device according to claim 1 or 2, wherein the specified provisional range is used as the target measurement value range to generate the inspection data.
前記M種類の仮範囲毎に、Na個の前記被判別値A0のうちの最小値である良品最小値、および当該Na個の被判別値A0のうちの最大値である良品最大値をそれぞれ特定し、Nb個の前記被判別値B0毎に、前記良品最小値よりも小さい当該被判別値B0については当該良品最小値との差を不良度合値として演算し、かつ前記良品最大値よりも大きい当該被判別値B0については当該良品最大値との差を当該不良度合値としてそれぞれ演算すると共に、当該Nb個の被判別値B0の当該各不良度合値の合計値を演算し、演算した当該合計値に基づいて前記予め規定された条件を満たす関係となる前記仮範囲を特定する処理と、
前記M種類の仮範囲毎に、Na個の前記被判別値A1のうちの最小値である良品最小値、および当該Na個の被判別値A1のうちの最大値である良品最大値をそれぞれ特定し、Nb個の前記被判別値B1毎に、前記良品最小値よりも小さい当該被判別値B1については当該良品最小値との差を不良度合値として演算し、かつ前記良品最大値よりも大きい当該被判別値B1については当該良品最大値との差を当該不良度合値としてそれぞれ演算すると共に、当該Nb個の被判別値B1の当該各不良度合値の合計値を演算し、演算した当該合計値に基づいて前記予め規定された条件を満たす関係となる前記仮範囲を特定する処理と、
前記M種類の仮範囲毎に、Na個の前記被判別値A2のうちの最小値である良品最小値、および当該Na個の被判別値A2のうちの最大値である良品最大値をそれぞれ特定し、Nb個の前記被判別値B2毎に、前記良品最小値よりも小さい当該被判別値B2については当該良品最小値との差を不良度合値として演算し、かつ前記良品最大値よりも大きい当該被判別値B2については当該良品最大値との差を当該不良度合値としてそれぞれ演算すると共に、当該Nb個の被判別値B2の当該各不良度合値の合計値を演算し、演算した当該合計値に基づいて前記予め規定された条件を満たす関係となる前記仮範囲を特定する処理とを実行する請求項3記載の検査用データ生成装置。 In the third process, the processing unit
For each of the M types of provisional ranges, the minimum value of the non-defective product, which is the minimum value of the Na discriminated values A0, and the maximum value of the non-defective product, which is the maximum value of the Na discriminated values A0, are specified. Then, for each of the Nb discriminated values B0, the difference from the non-defective product minimum value is calculated as the defect degree value for the discriminated value B0 smaller than the non-defective product minimum value, and is larger than the non-defective product maximum value. For the discriminated value B0, the difference from the maximum value of the non-defective product is calculated as the defect degree value, and the total value of each defect degree value of the Nb discriminated value B0 is calculated and calculated. The process of specifying the provisional range that satisfies the predetermined condition based on the value, and
For each of the M types of provisional ranges, the minimum non-defective value, which is the minimum value of the Na discriminated values A1, and the maximum non-defective product, which is the maximum value of the Na discriminated values A1, are specified. Then, for each of the Nb discriminated values B1, the difference from the non-defective product minimum value is calculated as the defect degree value for the discriminated value B1 smaller than the non-defective product minimum value, and is larger than the non-defective product maximum value. For the discriminated value B1, the difference from the maximum value of the non-defective product is calculated as the defect degree value, and the total value of each defect degree value of the Nb discriminated value B1 is calculated and calculated. The process of specifying the provisional range that satisfies the predetermined condition based on the value, and
For each of the M types of provisional ranges, the minimum value of the non-defective product, which is the minimum value of the Na discriminated values A2, and the maximum value of the non-defective product, which is the maximum value of the Na discriminated values A2, are specified. Then, for each of the Nb discriminated values B2, the difference from the non-defective product minimum value is calculated as the defect degree value for the discriminated value B2 smaller than the non-defective product minimum value, and is larger than the non-defective product maximum value. For the discriminated value B2, the difference from the maximum value of the non-defective product is calculated as the defect degree value, and the total value of each defect degree value of the Nb discriminated value B2 is calculated and calculated. The inspection data generation device according to claim 3, wherein the process of specifying the provisional range that satisfies the condition of satisfying the predetermined condition based on the value is executed.
前記測定処理Aを実行して前記測定値データAを生成し、かつ前記測定処理Bを実行して前記測定値データBを生成すると共に、前記測定処理Cを実行して前記測定値データCを生成可能に構成された測定装置と、
前記検査用データ生成装置によって生成された検査用データ、および前記測定装置によって生成された前記測定値データCに基づいて前記検査対象の良否を検査する検査装置とを備えて当該検査対象の良否を検査可能に構成されている検査システム。 The inspection data generator according to any one of claims 1 to 11.
The measurement process A is executed to generate the measurement value data A, and the measurement process B is executed to generate the measurement value data B, and the measurement process C is executed to generate the measurement value data C. With a measuring device configured to be generateable,
The inspection data generated by the inspection data generator and the inspection device for inspecting the quality of the inspection target based on the measurement value data C generated by the measurement device are provided to check the quality of the inspection target. An inspection system that is configured to be inspectable.
前記データ生成処理において、
前記各測定値a0を一階微分した複数の演算値a1、および当該各測定値a0を二階微分した複数の演算値a2を前記各測定値データA毎にそれぞれ導出すると共に、前記各測定値b0を一階微分した複数の演算値b1、および当該各測定値b0を二階微分した複数の演算値b2を前記各測定値データB毎にそれぞれ導出する第1の処理と、
予め規定された測定値範囲内の前記各測定値a0、当該測定値範囲に対応する演算値範囲内の前記各演算値a1、および当該演算値範囲内の前記各演算値a2に基づいて対応する前記各測定値データA毎に良否判別用の被判別値A0をそれぞれ演算し、前記演算値範囲内の前記各演算値a1に基づいて対応する前記各測定値データA毎に良否判別用の被判別値A1をそれぞれ演算し、かつ前記演算値範囲内の前記各演算値a2に基づいて対応する前記各測定値データA毎に良否判別用の被判別値A2をそれぞれ演算すると共に、前記測定値範囲内の前記各測定値b0、前記演算値範囲内の前記各演算値b1、および当該演算値範囲内の前記各演算値b2に基づいて対応する前記各測定値データB毎に良否判別用の被判別値B0をそれぞれ演算し、前記演算値範囲内の前記各演算値b1に基づいて対応する前記各測定値データB毎に良否判別用の被判別値B1をそれぞれ演算し、かつ前記演算値範囲内の前記各演算値b2に基づいて対応する前記各測定値データB毎に良否判別用の被判別値B2をそれぞれ演算する第2の処理とを実行し、
前記被判別値A0と前記被判別値B0との相違の度合、前記被判別値A1と前記被判別値B1との相違の度合、および前記被判別値A2と前記被判別値B2との相違の度合に基づいて前記良否判別条件の1つを規定して前記検査用データを生成する処理を前記処理部に実行させる検査用データ生成処理用プログラム。 Na times (Na is a natural number of 2 or more) measured over a predetermined time in a predetermined sampling cycle for a non-defective sample of the same type as the inspection target for the predetermined time. Nb times performed under the same measurement conditions as the measurement process A for the Na measurement value data A in which the plurality of measurement values a0 of the above are recorded and the defective sample of the same type as the inspection target and the good sample. By the measurement process B of (Nb is a natural number of 2 or more), Nb of measurement value data B in which a plurality of measurement values b0 for the predetermined time are recorded are acquired, and the inspection of the inspection target is performed. A plurality of measured values c0 for the predetermined time by the Nc times (Nc is a natural number of 2 or more) of the measurement process C, which is sometimes performed on the inspection target under the same measurement conditions as the measurement process A and the measurement process B. Data generation process for generating inspection data that can identify the pass / fail judgment condition of the inspection target based on Nc measurement value data C recorded in each of the measurement value data A and the measurement value data B. Is executed by the processing unit of the inspection data generator, and
In the data generation process
A plurality of calculated values a1 obtained by first-order differentiating each measured value a0 and a plurality of calculated values a2 obtained by second-order differentiating each measured value a0 are derived for each of the measured value data A, and each measured value b0. The first process of deriving a plurality of calculated values b1 obtained by first-order differentiation of the above, and a plurality of calculated values b2 obtained by second-order differentiation of each measured value b0 for each measured value data B,
Corresponds based on the respective measured values a0 within the predetermined measured value range, the respective calculated values a1 within the calculated value range corresponding to the measured value range, and the respective calculated values a2 within the calculated value range. Each of the measured value data A is calculated with a pass / fail determination value A0, and each of the corresponding measurement value data A is subject to pass / fail determination based on the calculated value a1 within the calculated value range. The discrimination value A1 is calculated respectively, and the judgment value A2 for pass / fail judgment is calculated for each measurement value data A corresponding to each calculation value a2 within the calculation value range, and the measurement value is calculated. For each measurement value data B corresponding to each measurement value b0 in the range, each calculation value b1 in the calculation value range, and each calculation value b2 in the calculation value range for pass / fail determination. The discriminated value B0 is calculated respectively, and the discriminated value B1 for pass / fail judgment is calculated for each of the corresponding measured value data B based on the calculated value b1 within the calculated value range, and the calculated value is calculated. A second process of calculating the discriminated value B2 for pass / fail determination for each measured value data B corresponding to each of the calculated value b2 within the range is executed.
The degree of difference between the discriminated value A0 and the discriminated value B0, the degree of difference between the discriminated value A1 and the discriminated value B1, and the difference between the discriminated value A2 and the discriminated value B2. An inspection data generation processing program that specifies one of the pass / fail determination conditions based on the degree and causes the processing unit to execute a process of generating the inspection data.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017152131A JP6910882B2 (en) | 2017-08-07 | 2017-08-07 | Inspection data generator, inspection system and inspection data generation processing program |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017152131A Active JP6910882B2 (en) | 2017-08-07 | 2017-08-07 | Inspection data generator, inspection system and inspection data generation processing program |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6910882B2 (en) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4508211B2 (en) * | 2007-05-16 | 2010-07-21 | 国立大学法人名古屋大学 | Electrical equipment winding diagnosis system |
| JP4918564B2 (en) * | 2009-02-12 | 2012-04-18 | 株式会社トーエネック | Electrical equipment quality diagnosis system |
| JP2012058221A (en) * | 2010-09-09 | 2012-03-22 | Toenec Corp | Winding diagnosis system for electrical appliance |
| JP5721548B2 (en) * | 2011-05-24 | 2015-05-20 | 株式会社トーエネック | Electrical equipment winding diagnosis system |
| JP5721581B2 (en) * | 2011-07-15 | 2015-05-20 | 株式会社トーエネック | Winding diagnosis system for rotating machines |
| JP6991779B2 (en) * | 2017-08-07 | 2022-01-13 | 日置電機株式会社 | Inspection data generator, inspection system and inspection data generation processing program |
-
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2019032192A (en) | 2019-02-28 |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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