JP6911322B2 - Release film - Google Patents
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Description
本発明は離型フィルムに関し、更に詳しくは、電子部品、特に、固体高分子型燃料電池の構成部材である膜−電極接合体(MEA)を製造するために好適に使用される離型フィルムに関するものである。 The present invention relates to a release film, and more particularly to a release film suitably used for manufacturing an electronic component, particularly a membrane-electrode assembly (MEA) which is a component of a polymer electrolyte fuel cell. It is a thing.
例えば固体高分子型燃料電池(PEFC)の構成部材である膜−電極接合体(MEA)は、高分子電解質膜の両面に触媒層が積層された構成になっている。高分子電解質膜は、プロトン伝導性樹脂が使用されており、側鎖にスルホニウム基を有したポリマーが使用されている。その例としては、強酸性であるパーフルオロカーボン(−CF2−)で構成されたスルホン酸系の樹脂が使用されている(例えば、DuPont社製Nafion(登録商標))。また触媒層は、白金担持カーボンをバインダー(プロトン伝導性樹脂)に分散させた構成になっている。 For example, a membrane-electrode assembly (MEA), which is a constituent member of a polymer electrolyte fuel cell (PEFC), has a structure in which catalyst layers are laminated on both sides of a polymer electrolyte membrane. A proton conductive resin is used for the polymer electrolyte membrane, and a polymer having a sulfonium group in the side chain is used. As an example, a sulfonic acid-based resin composed of strongly acidic perfluorocarbon (-CF2-) is used (for example, Nafion (registered trademark) manufactured by DuPont). The catalyst layer has a structure in which platinum-supported carbon is dispersed in a binder (proton conductive resin).
これらMEAの製造方法の一例として、高分子電解質膜と、触媒層をそれぞれ別々の支持フィルムにキャスト法で成型し、150℃以上の高温で熱圧着して両者を接合する方法が提案されている。 As an example of these MEA manufacturing methods, a method has been proposed in which a polymer electrolyte membrane and a catalyst layer are molded into separate support films by a casting method and then thermocompression bonded at a high temperature of 150 ° C. or higher to bond the two. ..
前記支持フィルムには、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)に代表されるフッ素系樹脂フィルムが従来よく用いられている。前記フッ素系樹脂フィルムは、シリコーンなどの汚染がなく、高い耐薬品性、耐熱性をもつため幅広く使用されている。しかし、かかる従来技術はロール ツー ロール方式で加工するとき、PTFEフィルムの貯蔵弾性率が室温においても低いため、腰感が弱く加工性が必ずしも十分ではないという問題点があった。さらに、フッ素系樹脂フィルムは高価なため、製造コストが高くなるという問題点もあった。 As the support film, a fluorine-based resin film typified by polytetrafluoroethylene (PTFE) is conventionally often used. The fluorine-based resin film is widely used because it is not contaminated with silicone or the like and has high chemical resistance and heat resistance. However, such a conventional technique has a problem that when the film is processed by the roll-to-roll method, the storage elastic modulus of the PTFE film is low even at room temperature, so that the feeling of waist is weak and the processability is not always sufficient. Further, since the fluorine-based resin film is expensive, there is a problem that the manufacturing cost is high.
上記事情から、前記支持フィルムとして、PETフィルムに離型層を設けたフィルムを用いた提案がなされている。PETフィルムに離型層を設けたフィルムは、フッ素系フィルムに比べ安価で加工性に優れ、転写性も有することが報告されている(例えば特許文献1〜3参照)。 Due to the above circumstances, a proposal has been made to use a PET film provided with a release layer as the support film. It has been reported that a film provided with a release layer on a PET film is cheaper than a fluorine-based film, has excellent processability, and has transferability (see, for example, Patent Documents 1 to 3).
しかし、報告されているPETフィルムに設けられた離型層には、シリコーン樹脂やオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂などの有機成分が用いられており、電子部品部材用の成型フィルムとして用いた場合には、離型層に用いられる樹脂に含有するオリゴマーなどの低分子量体や、高温処理時に発生する分解物などが成型した電子部品に混入し性能を低下させる恐れがあった。 However, organic components such as silicone resin, olefin resin, and fluorine resin are used in the release layer provided on the reported PET film, and when used as a molding film for electronic component members, There was a risk that low molecular weight substances such as oligomers contained in the resin used for the release layer and decomposition products generated during high temperature treatment would be mixed into the molded electronic parts and deteriorate the performance.
本発明は、上記事情に鑑み、従来技術の課題を背景になされたものであって、高温で使用されても転写性に優れ、高性能の電子部品の成型に適した離型フィルムを提供することにある。 In view of the above circumstances, the present invention has been made in the background of the problems of the prior art, and provides a release film having excellent transferability even when used at a high temperature and suitable for molding high-performance electronic components. There is.
即ち、本発明は、以下の構成よりなる。
1. ポリエステルフィルムの少なくとも片面に離型層を有する離型フィルムであった、前記離型層が金属薄膜層であることを特徴とする離型フィルム。
2. 離型層表面の表面自由エネルギーが40mJ/m2以上であることを特徴とする上記第1に記載の離型フィルム。
3. 160℃で30分熱処理した後の熱収縮率が1.0%以下であることを特徴とする上記第1または第2に記載の離型フィルム。
4. 金属薄膜層の厚みが100nm以下であることを特徴とする上記第1〜第3のいずれかに記載の離型フィルム。
5. 離型層表面の表面粗さ(Sa)が50nm以下であることを特徴とする上記第1〜第4のいずれかに記載の離型フィルム。
6. ヘイズが20%以下かつ全光線透過率が1%以上あることを特徴とする上記第1〜第5のいずれかに記載の離型フィルム。
7. 金属薄膜層が、Al、Ti、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Zr、Mo、Ru、Pd、Ag、In、Sn、Ta、W、Re、Ir、Pt、Au、Tl及びPbから選ばれる金属を1種以上含んでいることを特徴とする上記第1〜第6のいずれかに記載の離型フィルム。
That is, the present invention has the following configuration.
1. 1. A release film having a release layer on at least one side of a polyester film, wherein the release layer is a metal thin film layer.
2. The release film according to the first aspect, wherein the surface free energy of the surface of the release layer is 40 mJ / m 2 or more.
3. 3. The release film according to the first or second above, wherein the heat shrinkage rate after heat treatment at 160 ° C. for 30 minutes is 1.0% or less.
4. The release film according to any one of the above 1 to 3, wherein the thickness of the metal thin film layer is 100 nm or less.
5. The release film according to any one of the above 1 to 4, wherein the surface roughness (Sa) of the surface of the release layer is 50 nm or less.
6. The release film according to any one of the above 1 to 5, wherein the haze is 20% or less and the total light transmittance is 1% or more.
7. The metal thin film layer is Al, Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Zr, Mo, Ru, Pd, Ag, In, Sn, Ta, W, Re, Ir, Pt, Au, Tl. The release film according to any one of the above 1 to 6, which contains one or more metals selected from Pb and Pb.
本発明によれば、固体高分子燃料電池部材成型用途に代表される電子部品製造用途等に好適に使用される離型フィルムとして、高温処理後でも離型層中のオリゴマーや分解物の析出が少ないため転写性にも優れた離型フィルムを提供することができる。 According to the present invention, as a release film preferably used for electronic component manufacturing applications represented by solid polymer fuel cell member molding applications, oligomers and decomposition products are precipitated in the release layer even after high temperature treatment. Since the amount is small, it is possible to provide a release film having excellent transferability.
以下、本発明について詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
本発明の離型フィルムは、基材であるポリエステルフィルムの少なくとも片面に離型層を有しており、前記離型層が金属薄膜層からなる離型フィルムである。発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討したところ、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に金属薄膜層を離型層として設けたフィルムが上記課題を解決することを見出した。すなわち、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に金属薄膜層を積層することで高温処理後でも転写性に優れ、金属薄膜層と成型した電子部品との界面で剥離する離型フィルムを得ることができることを見出した。さらに、金属はそれ自体の耐熱性が高いため、高温下でも分解しにくく成型した電子部品の性能が低下する可能性が低くなることを見出した。 The release film of the present invention is a release film having a release layer on at least one side of a polyester film as a base material, and the release layer is a metal thin film layer. As a result of diligent studies to solve the above problems, the inventors have found that a film provided with a metal thin film layer as a release layer on at least one side of the polyester film solves the above problems. That is, they have found that by laminating a metal thin film layer on at least one surface of a polyester film, it is possible to obtain a release film that has excellent transferability even after high temperature treatment and is peeled off at the interface between the metal thin film layer and the molded electronic component. .. Furthermore, it has been found that since metal itself has high heat resistance, it is difficult to decompose even at high temperatures, and the possibility that the performance of molded electronic components deteriorates is low.
これらポリエステルフィルム上に金属薄膜層を積層したフィルムは多く知られているが、これらが離型フィルムとして使用できることを示唆した報告例はほとんど知られていない。例えば、特開2010−76405号公報には、フィルムの少なくとも片面にシリカまたはアルミナを蒸着したフィルムの蒸着面にインキ層が形成された転写印刷シートが提案されているが、インキ層を蒸着面から剥離するためには、インキ層を延伸させインキ層を変形させることが必要であり、延伸なしでは、剥離することができない。そのため、これまでの知見からは本発明のように離型層として金属薄膜層を設けたポリエステルフィルムが固体高分子燃料電池部材成型用途に代表される電子部品製造用途の離型フィルムとして用いることができるとは想像もできなかった。それに対し本発明者らは金属の耐薬品性、耐溶剤、耐熱性に着目し検討を重ねた結果、本発明に至ったものである。さらに、本発明の離型フィルムは、その特に好ましい態様として、表面自由エネルギーが高く、固体高分子型燃料電池成型部材のスラリーを塗工する際に、塗工性に優れることから均一な膜が形成でき、成型部材の厚み均一性が向上し、固体高分子型燃料電池の性能を向上させることができるものである。 Many films in which a metal thin film layer is laminated on these polyester films are known, but few reports suggest that they can be used as a release film. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-76405 proposes a transfer printing sheet in which an ink layer is formed on a vapor-deposited surface of a film in which silica or alumina is vapor-deposited on at least one side of the film. In order to peel off, it is necessary to stretch the ink layer and deform the ink layer, and the ink layer cannot be peeled off without stretching. Therefore, from the findings so far, a polyester film provided with a metal thin film layer as a release layer as in the present invention can be used as a release film for electronic component manufacturing applications represented by solid polymer fuel cell member molding applications. I couldn't imagine it could be done. On the other hand, the present inventors have made the present invention as a result of repeated studies focusing on the chemical resistance, solvent resistance, and heat resistance of the metal. Further, as a particularly preferable embodiment, the release film of the present invention has a high surface free energy and is excellent in coatability when coating a slurry of a polymer electrolyte fuel cell molding member, so that a uniform film can be obtained. It can be formed, the thickness uniformity of the molded member can be improved, and the performance of the polymer electrolyte fuel cell can be improved.
(ポリエステルフィルム)
本発明で基材として用いるポリエステルフィルムは、主としてポリエステル樹脂より構成されるフィルムである。ここで、「主としてポリエステル樹脂より構成されるフィルム」とは、ポリエステル樹脂を50質量%以上含有する樹脂組成物から形成されるフィルムであり、他のポリマーとブレンドする場合は、ポリエステル樹脂が50質量%以上含有していることを意味し、他のモノマーが共重合されている場合は、ポリエステルの繰り返し構造単位を50モル%以上含有することを意味する。好ましくは、ポリエステルフィルムは、フィルムを構成する樹脂組成物中において、ポリエステル樹脂を90質量%以上、より好ましくは95質量%以上、更に好ましくは100質量%含有する。
(Polyester film)
The polyester film used as a base material in the present invention is a film mainly composed of polyester resin. Here, the "film mainly composed of polyester resin" is a film formed from a resin composition containing 50% by mass or more of polyester resin, and when blended with other polymers, the polyester resin has 50% by mass. It means that it contains 50 mol% or more of the repeating structural unit of polyester when other monomers are copolymerized. Preferably, the polyester film contains 90% by mass or more, more preferably 95% by mass or more, still more preferably 100% by mass of the polyester resin in the resin composition constituting the film.
ポリエステル樹脂としては、材料は特に限定されないが、ジカルボン酸成分とジオール成分とが重縮合して形成される共重合体、又は、そのブレンド樹脂を用いることができる。ジカルボン酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、2,5−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、ジフェニルスルホンカルボン酸、アントラセンジカルボン酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸、マロン酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、3,3−ジエチルコハク酸、グルタル酸、2,2−ジメチルグルタル酸、アジピン酸、2−メチルアジピン酸、トリメチルアジピン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、ダイマー酸、セバシン酸、スベリン酸、ドデカジカルボン酸等が挙げられる。 The material of the polyester resin is not particularly limited, but a copolymer formed by polycondensing a dicarboxylic acid component and a diol component, or a blended resin thereof can be used. Examples of the dicarboxylic acid component include terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, 2,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, and diphenyl. Caroxydate, diphenoxyetanedicarboxylic acid, diphenylsulfoncarboxylic acid, anthracendicarboxylic acid, 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, hexahydroterephthalic acid, hexahydro Isophthalic acid, malonic acid, dimethylmalonic acid, succinic acid, 3,3-diethylsuccinic acid, glutaric acid, 2,2-dimethylglutaric acid, adipic acid, 2-methyladipic acid, trimethyladipic acid, pimelic acid, azelaic acid , Dimeric acid, sebacic acid, suberic acid, dodecadicarboxylic acid and the like.
ポリエステル樹脂を構成するジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,2−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、デカメチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサジオール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン等が挙げられる。 Examples of the diol component constituting the polyester resin include ethylene glycol, propylene glycol, hexamethylene glycol, neopentyl glycol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, decamethylene glycol, and 1,3-. Examples thereof include propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexadiol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, and bis (4-hydroxyphenyl) sulfone.
ポリエステル樹脂を構成するジカルボン酸成分とジオール成分はそれぞれ1種又は2種以上を用いても良い。また、トリメリット酸などのその他の酸成分やトリメチロールプロパンなどのその他の水酸基成分を適宜添加しても良い。ジカルボン酸成分やジオール成分が複数共重合されている場合は、エチレンテレフタレートの繰り返し構造単位を50モル%以上含有していることが好ましい。 The dicarboxylic acid component and the diol component constituting the polyester resin may be used alone or in combination of two or more. Further, other acid components such as trimellitic acid and other hydroxyl group components such as trimethylolpropane may be appropriately added. When a plurality of dicarboxylic acid components and diol components are copolymerized, it is preferable that the repeating structural unit of ethylene terephthalate is contained in an amount of 50 mol% or more.
ポリエステル樹脂としては、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどが挙げられ、これらの中でも物性とコストのバランスからポリエチレンテレフタレートが好ましい。 Specific examples of the polyester resin include polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. Among these, polyethylene terephthalate is preferable from the viewpoint of the balance between physical properties and cost.
ポリエステルフィルムの滑り性、巻き性などのハンドリング性を改善するために、フィルム中に不活性粒子を含有させてもよい。 In order to improve the handleability such as slipperiness and curlability of the polyester film, the film may contain inert particles.
本発明においてポリエステルフィルムの厚みは特に限定されないが、12〜125μmの範囲であることが好ましい。12〜75μmがより好ましく、16〜50μmがさらに好ましい。12μm以上であると樹脂層の成型、転写時にシワが入るおそれがなく、125μm以下であるとコスト的に有利である。 In the present invention, the thickness of the polyester film is not particularly limited, but is preferably in the range of 12 to 125 μm. 12 to 75 μm is more preferable, and 16 to 50 μm is even more preferable. If it is 12 μm or more, there is no risk of wrinkles during molding and transfer of the resin layer, and if it is 125 μm or less, it is advantageous in terms of cost.
基材となるポリエステルフィルムは、単層であっても、2種以上の層が積層されたものであってもよい。また、本発明の効果を奏する範囲内であれば、必要に応じて、フィルム中に各種添加剤を含有させることができる。添加剤としては、例えば、酸化防止剤、耐光剤、ゲル化防止剤、有機湿潤剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、界面活性剤などが挙げられる。フィルムが積層構成を有する場合は、必要に応じて各層の機能に応じて添加剤を含有させることも好ましい。 The polyester film as a base material may be a single layer or a laminated layer of two or more types. In addition, various additives can be contained in the film, if necessary, as long as the effects of the present invention are exhibited. Examples of the additive include antioxidants, lightfasteners, antigelling agents, organic wetting agents, antistatic agents, ultraviolet absorbers, surfactants and the like. When the film has a laminated structure, it is also preferable to add additives according to the function of each layer, if necessary.
ポリエステルフィルムは、例えば上記のポリエステル樹脂をフィルム状に溶融押出、キャスティングドラムで冷却固化させてフィルムを形成させる方法等によって得られる。本発明のポリエステルフィルムとしては、無延伸フィルム、延伸フィルムのいずれも用いることができるが、機械強度や耐薬品性といった耐久性の点からは延伸フィルムであることが好ましい。ポリエステルフィルムが延伸フィルムである場合、その延伸方法は特に限定されず、縦一軸延伸法、横一軸延伸法、縦横逐次二軸延伸法、縦横同時二軸延伸法等を採用することができる。 The polyester film can be obtained, for example, by melt-extruding the polyester resin into a film and cooling and solidifying it with a casting drum to form a film. As the polyester film of the present invention, either a non-stretched film or a stretched film can be used, but a stretched film is preferable from the viewpoint of durability such as mechanical strength and chemical resistance. When the polyester film is a stretched film, the stretching method is not particularly limited, and a longitudinal uniaxial stretching method, a horizontal uniaxial stretching method, a longitudinal / horizontal sequential biaxial stretching method, a longitudinal / horizontal simultaneous biaxial stretching method, and the like can be adopted.
ポリエステルフィルムの表層には、無機薄膜層の密着性を向上させるため、アンカーコート層、コロナ処理、プラズマ処理、火炎処理などの表面処理を行うこともできる。アンカーコート層を設ける場合は、コストなどの観点からインラインコーティングで行うことが好ましい。 In order to improve the adhesion of the inorganic thin film layer, the surface layer of the polyester film can be subjected to surface treatment such as anchor coat layer, corona treatment, plasma treatment, and flame treatment. When the anchor coat layer is provided, it is preferable to use in-line coating from the viewpoint of cost and the like.
(金属薄膜層)
本発明における金属薄膜層は特に限定ずに金属化合物であればどのようなものでも使用することができる。金属とは、周期表における遷移金属や典型金属に属する単体もしくはそれらの酸化物や窒化物、合金などのことをいう。例えば、Al、Ti、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Zr、Mo、Ru、Pd、Ag、In、Sn、Ta、W、Re、Ir、Pt、Au、Tl、Pbなどの元素記号で表される遷移金属や典型金属などを使用することができ、各単体で用いても、それらの酸化物などを使用してもよいが、単体で用いる方が金属独自の性質を反映しやすく好ましい。金属薄膜層には本特性が失われない範囲で他成分が含まれてもよい。
(Metal thin film layer)
The metal thin film layer in the present invention is not particularly limited, and any metal compound can be used. The metal refers to a simple substance belonging to a transition metal or a main group metal in the periodic table, or an oxide, a nitride, or an alloy thereof. For example, Al, Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Zr, Mo, Ru, Pd, Ag, In, Sn, Ta, W, Re, Ir, Pt, Au, Tl, Pb, etc. Transition metals and main group metals represented by the element symbols of can be used, and each of them may be used alone or their oxides may be used. It is easy to reflect and is preferable. The metal thin film layer may contain other components as long as this property is not lost.
本発明の金属薄膜層には、特に固体高分子型燃料電池の触媒層を形成する用途では、触媒層中に用いられるカーボンとの親和性が少ない金属が好適に使用できる。理論的には明確ではないが、本発明者らは、各種実験によりカーボンとの親和性が少ない金属として例えばAl、Ti、Cr、Ta、W、Pt、Au、Moなどが好ましく使用できる。Cu、Niなど他の金属も使用可能である。固体高分子型燃料電池の触媒層は、例えば触媒であるPtを担持したカーボン粒子に電解質高分子(例えば、パーフルオロカーボン(−CF2−)で構成されたスルホン酸系の樹脂)をバインダーとして用いた構成になっている。近年、触媒層は、発電効率の観点から触媒層中のPt担持カーボンの比率を高くした構成になっており、触媒層の強度が弱く、脆くなってきている。そのため、離型層にPt担持カーボンが残りやすく、カーボンと親和性の低い金属を離型層に使用することで固体高分子型燃料電池成型用離型フィルムとして好適に使用することができる。 For the metal thin film layer of the present invention, a metal having a low affinity for carbon used in the catalyst layer can be preferably used, especially in the application of forming the catalyst layer of the polymer electrolyte fuel cell. Although it is not theoretically clear, the present inventors preferably use, for example, Al, Ti, Cr, Ta, W, Pt, Au, Mo and the like as a metal having a low affinity for carbon in various experiments. Other metals such as Cu and Ni can also be used. For the catalyst layer of the polymer electrolyte fuel cell, for example, an electrolyte polymer (for example, a sulfonic acid-based resin composed of perfluorocarbon (-CF2-)) was used as a binder for carbon particles supporting Pt as a catalyst. It is configured. In recent years, the catalyst layer has a structure in which the ratio of Pt-supported carbon in the catalyst layer is increased from the viewpoint of power generation efficiency, and the strength of the catalyst layer is weak and becomes brittle. Therefore, Pt-supported carbon tends to remain in the release layer, and by using a metal having a low affinity for carbon for the release layer, it can be suitably used as a release film for molding a polymer electrolyte fuel cell.
本発明の金属薄膜層に用いている金属の同定は、ICP発光分光分析法や蛍光X線分析法などの分析方法を使用することで定性または定量分析することができる。また、これらに限定されず、その他の無機分析の手法を用いることもできる。 The identification of the metal used in the metal thin film layer of the present invention can be qualitatively or quantitatively analyzed by using an analysis method such as ICP emission spectroscopy or fluorescent X-ray analysis. Further, the method is not limited to these, and other inorganic analysis methods can also be used.
本発明の金属薄膜層の膜厚としては、特に限定するものではないが、転写性や生産性の点から、5〜400nmが好ましく、更に好ましくは7〜100nmであり、より好ましくは7~30nmである。5nm以上であると、膜が均一になりやすく、十分な転写性が得られて好ましい。また400nm以下であると製造コストを抑えることができ好ましい。透明性が必要な用途であれば、薄膜の上限は100nm以下とすることが好ましい。100nm以上になると金属特有の光沢で透明性が低下する。 The film thickness of the metal thin film layer of the present invention is not particularly limited, but is preferably 5 to 400 nm, more preferably 7 to 100 nm, and even more preferably 7 to 30 nm from the viewpoint of transferability and productivity. Is. When it is 5 nm or more, the film tends to be uniform and sufficient transferability can be obtained, which is preferable. Further, when it is 400 nm or less, the manufacturing cost can be suppressed, which is preferable. For applications that require transparency, the upper limit of the thin film is preferably 100 nm or less. Above 100 nm, the luster peculiar to metal reduces transparency.
本発明の金属薄膜層の膜厚は、透過電子顕微鏡で断面を観察することで測定することができる。また、ICP発光分光分析法や原子吸光分析法、蛍光X線分析法などのその他無機分析を用いることでも測定することができる。 The film thickness of the metal thin film layer of the present invention can be measured by observing the cross section with a transmission electron microscope. It can also be measured by using other inorganic analyzes such as ICP emission spectroscopic analysis, atomic absorption spectrometry, and fluorescent X-ray analysis.
金属薄膜層の形成には、本発明の目的を損なわない限り公知の製造方法が使える。例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング法などのPVD法(物理蒸着法)、あるいは、CVD法(化学蒸着法)などが挙げられる。特に生産の速度や安定性の面から真空蒸着法やスパッタリング法が好ましい。真空蒸着法においては、蒸着源材料としてはそれぞれ単体の金属(AlやAu,Tiなど)を用いることができ、また、加熱方式としては、抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子ビーム加熱等を用いることができる。また、反応性ガスとして、酸素、窒素、水蒸気等を導入したり、オゾン添加、イオンアシスト等の手段を用いた反応性蒸着を用いることもできるが、金属特有の性質を出すためには、反応させないことが好ましい。また、基板にバイアス等を加えたり、基板温度を上昇、あるいは、冷却したり等、本発明の目的を損なわない限りにおいて、成膜条件を変更してもよい。 A known production method can be used for forming the metal thin film layer as long as the object of the present invention is not impaired. For example, a PVD method (physical vapor deposition method) such as a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method, or a CVD method (chemical vapor deposition method) can be mentioned. In particular, the vacuum deposition method and the sputtering method are preferable from the viewpoint of production speed and stability. In the vacuum deposition method, a single metal (Al, Au, Ti, etc.) can be used as the vapor deposition source material, and resistance heating, high-frequency induction heating, electron beam heating, etc. are used as the heating method. Can be done. Further, as the reactive gas, oxygen, nitrogen, water vapor or the like can be introduced, or reactive vapor deposition using means such as ozone addition and ion assist can be used, but in order to obtain the properties peculiar to the metal, the reaction can be used. It is preferable not to let it. Further, the film forming conditions may be changed as long as the object of the present invention is not impaired, such as applying a bias to the substrate, raising the substrate temperature, or cooling the substrate.
本発明に用いる離型フィルムは、小さい熱収縮率を有していることが好ましい。例えば、後述の熱収縮率測定方法によって、160℃で30分処理したときの収縮率が、1.0%以下であることが好ましく、より好ましくは、0.8%以下であり、さらに好ましくは0.4%以下であり、特に好ましくは0.3%以下である。熱収縮率が1.0%以下であると熱処理時に離型フィルムの変形が少なくなり成型した電子部品の変形が抑えられ性能低下を招く恐れがなく好ましい。そのため、固体高分子型燃料電池部材成型用の離型フィルムとして用いた場合に150℃以上の高温がかかる工程でも触媒層の割れを効果的に抑制することができ好適である。熱収縮率の下限については、若干のマイナスデータになる場合もあるが、ゼロ%が最も好ましく、0.1%以上でも構わない。 The release film used in the present invention preferably has a small heat shrinkage rate. For example, the shrinkage rate when treated at 160 ° C. for 30 minutes by the heat shrinkage rate measuring method described later is preferably 1.0% or less, more preferably 0.8% or less, still more preferably. It is 0.4% or less, and particularly preferably 0.3% or less. When the heat shrinkage rate is 1.0% or less, the deformation of the release film is reduced during the heat treatment, the deformation of the molded electronic component is suppressed, and there is no risk of performance deterioration, which is preferable. Therefore, when used as a release film for molding a polymer electrolyte fuel cell member, cracking of the catalyst layer can be effectively suppressed even in a process in which a high temperature of 150 ° C. or higher is applied, which is suitable. Regarding the lower limit of the heat shrinkage rate, although some negative data may be obtained, 0% is the most preferable, and 0.1% or more may be used.
本発明の離型フィルムの熱収縮率を抑制するためには、ポリエステルフィルムを製膜中に(即ち、インラインで)アニール処理を行ってもよいし、オフラインでアニール処理を行ってもよい。 In order to suppress the heat shrinkage rate of the release film of the present invention, the polyester film may be annealed during film formation (that is, in-line) or may be annealed offline.
本発明に用いる離型フィルムの離型層表面の領域表面平均粗さ(Sa)は、50nm以下の範囲にあることが好ましく、より好ましくは30nm以下であり、さらに好ましくは10nm以下である。離型フィルムの離型層表面の領域表面平均粗さ(Sa)は小さいほど良いといえるが、1nm以上でよく、2nm以上でも構わない。最大突起高さ(P)は、2μm以下であることが好ましく、より好ましくは1.5μm以下である。Saが50nm以下であり、Pが2μm以下であれば、離型フィルムを用いて得られた成型品にピンホールなどが発生しにくいため好適に使用できる。 The region surface average roughness (Sa) of the release layer surface of the release film used in the present invention is preferably in the range of 50 nm or less, more preferably 30 nm or less, and further preferably 10 nm or less. It can be said that the smaller the region surface average roughness (Sa) on the surface of the release layer of the release film is, the better, but it may be 1 nm or more, and may be 2 nm or more. The maximum protrusion height (P) is preferably 2 μm or less, more preferably 1.5 μm or less. When Sa is 50 nm or less and P is 2 μm or less, pinholes and the like are unlikely to occur in the molded product obtained by using the release film, so that it can be suitably used.
本発明に用いる離型フィルムの離型層の反対面の領域表面平均粗さ(Sa)は、特に限定されないが、1〜50nmの範囲にあることが好ましい。 The region surface average roughness (Sa) on the opposite surface of the release layer of the release film used in the present invention is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 50 nm.
本発明の離型フィルムは、透明性が高い方が好ましく、フィルムヘイズは20%以下であることが好ましい。さらに好ましくは10%以下であり、8%以下であるとなお好ましい。フィルムヘイズが20%以下であると電子部品など成型した時に欠点検知や外観検査などを精度よく行えるため好ましい。 The release film of the present invention preferably has high transparency, and the film haze is preferably 20% or less. More preferably, it is 10% or less, and even more preferably 8% or less. A film haze of 20% or less is preferable because defect detection and visual inspection can be performed accurately when an electronic component or the like is molded.
本発明の離型フィルムの全光線透過率は1%以上が好ましく、20%以上がより好ましく、40%以上がさらに好ましく、60%以上あるとなお好ましい。全光線透過率が1%よりも低い場合は、離型フィルムの透明性が低下するため、透過型の欠点検査装置などで欠点の検出が難しくなるため好ましくない。 The total light transmittance of the release film of the present invention is preferably 1% or more, more preferably 20% or more, further preferably 40% or more, still more preferably 60% or more. If the total light transmittance is lower than 1%, the transparency of the release film is lowered, and it is difficult to detect defects with a transmission type defect inspection device or the like, which is not preferable.
本発明の離型フィルムは、離型フィルムへスラリーを塗布成型するときの濡れ性を良くし均一な膜を形成するために、水などの液体に対する接触角が低い方が好ましい。例えば、水であれば、70度以下が好ましく、50度以下がさらに好ましく、30度以下がなお好ましい。また、ジヨードメタンであれば、50度以下が好ましい。1−ブロモナフタレンでは、50度以下が好ましく、35度以下がさらに好ましく、25度以下がなお好ましい。下限は測定精度も問題もあるが、それぞれの液体に対して、3度以上で構わず、5度以上でも構わず、8度以上であっても構わない。 The release film of the present invention preferably has a low contact angle with a liquid such as water in order to improve the wettability when the slurry is applied and molded on the release film and to form a uniform film. For example, in the case of water, 70 degrees or less is preferable, 50 degrees or less is more preferable, and 30 degrees or less is still more preferable. Further, in the case of diiodomethane, the temperature is preferably 50 degrees or less. For 1-bromonaphthalene, 50 degrees or less is preferable, 35 degrees or less is more preferable, and 25 degrees or less is still preferable. Although the lower limit has a problem in measurement accuracy, it may be 3 degrees or more, 5 degrees or more, or 8 degrees or more for each liquid.
本発明の離型フィルムの離型層の表面自由エネルギーは、40mJ/m2以上であることが好ましい。より好ましくは、60mJ/m2以上である。表面自由エネルギーが40mJ/m2以上であると塗布成型時にスラリーの塗工性が良くなるため、成型した固体高分子型燃料電池部材の厚み均一性が向上するため好ましい。一般的な離型フィルムとしては、シリコーン系やオレフィンなどのノンシリコーン系の材料が使用されるが、それらを用いた離型フィルムの表面自由エネルギーは40mJ/m2よりも低いものが多く、スラリー塗工時に弾きやすいなどの課題があるが、本発明の離型フィルムではそのような課題を解決することができる。 The surface free energy of the release layer of the release film of the present invention is preferably 40 mJ / m 2 or more. More preferably, it is 60 mJ / m 2 or more. When the surface free energy is 40 mJ / m 2 or more, the coatability of the slurry is improved during coating and molding, and the thickness uniformity of the molded polymer electrolyte fuel cell member is improved, which is preferable. As a general release film, non-silicone materials such as silicone and olefin are used, but the surface free energy of the release film using them is often lower than 40 mJ / m 2 , and the slurry. There are problems such as being easy to play during coating, and the release film of the present invention can solve such problems.
本発明の離型フィルムは、本発明の機能を有する限り、離型層以外に機能層を積層してもよい。積層する機能層としては、例えば、帯電防止層、ブロッキング防止層、易滑層、ハードコート層、紫外線吸収層、易接着層、粘着層などが挙げられる。機能層を積層する場合は、本発明の離型性を阻害させないようにする必要があり、積層する場所は、離型層とポリエステルフィルムの間、もしくは、ポリエステルフィルムの離型層が積層された反対面である。これらの層は、1層でも2層以上でも構わない。 As long as the release film of the present invention has the function of the present invention, a functional layer may be laminated in addition to the release layer. Examples of the functional layer to be laminated include an antistatic layer, an antiblocking layer, an easy slip layer, a hard coat layer, an ultraviolet absorbing layer, an easy adhesive layer, an adhesive layer and the like. When laminating the functional layer, it is necessary not to hinder the releasability of the present invention, and the place of laminating is between the releasing layer and the polyester film, or the releasable layer of the polyester film is laminated. The other side. These layers may be one layer or two or more layers.
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、もちろん本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、本発明に用いた評価方法は以下の通りである。 In order to explain the present invention in detail, examples will be given below, but of course, the present invention is not limited to these examples. The evaluation method used in the present invention is as follows.
(金属薄膜の膜厚)
切り出した離型フィルムを樹脂包埋し、ウルトラミクロトームを用いて超薄切片化した。その後、日本電子製JEM2100透過電子顕微鏡を用いて、直接倍率20,000倍で観察を行い、観察したTEM画像から金属薄膜層の膜厚を測定した。
(Thickness of metal thin film)
The cut release film was embedded in resin and ultrathin sectioned using an ultramicrotome. Then, using a JEM2100 transmission electron microscope manufactured by JEOL Ltd., observation was performed directly at a magnification of 20,000, and the thickness of the metal thin film layer was measured from the observed TEM image.
(表面粗さ)
非接触表面形状計測システム(VertScan R550H−M100)を用いて、下記の条件で測定した値である。領域表面平均粗さ(Sa)は、5回測定の平均値を採用し、最大突起高さ(P)は5回測定の最大値を採用した。
(測定条件)
・測定モード:WAVEモード
・対物レンズ:10倍
・0.5×Tubeレンズ
なお、表1の(Sa)及び(P)は基材ポリエステルフィルムの離型層を積層する面のデータを示している。
(Surface roughness)
It is a value measured under the following conditions using a non-contact surface shape measurement system (VertScan R550H-M100). For the region surface average roughness (Sa), the average value of 5 measurements was adopted, and for the maximum protrusion height (P), the maximum value of 5 measurements was adopted.
(Measurement condition)
-Measurement mode: WAVE mode-Objective lens: 10x-0.5 x Tube lens Note that (Sa) and (P) in Table 1 show data on the surface on which the release layer of the base polyester film is laminated. ..
(熱収縮率の測定)
離型フィルムを10cm×10cmの正方形に裁断し、熱風オーブンにて160℃30分熱処理を行った。熱処理後、試料フィルムの縦および横方向の寸法を測定し、下記(1)式に従い熱収縮率を求めた。測定はn=5回行い、試料フィルムの縦方向及び横方向の熱収縮率データの各々の平均値のうち、大きい方の熱収縮率データを採用し、その離型フィルムの熱収縮率データとする。なお、熱処理前後の寸法を測定するときは、サンプルフィルムを25℃の部屋で12時間以上エージング後に測定を行った。
熱収縮率={(収縮前の長さ−収縮後の長さ)/ 収縮前の長さ}×100 (%) (1)式
(Measurement of heat shrinkage)
The release film was cut into a square of 10 cm × 10 cm and heat-treated at 160 ° C. for 30 minutes in a hot air oven. After the heat treatment, the vertical and horizontal dimensions of the sample film were measured, and the heat shrinkage rate was determined according to the following formula (1). The measurement was performed n = 5 times, and the larger heat shrinkage rate data of the average values of the heat shrinkage rate data in the vertical direction and the horizontal direction of the sample film was adopted, and the heat shrinkage rate data of the release film was used. do. When measuring the dimensions before and after the heat treatment, the sample film was aged in a room at 25 ° C. for 12 hours or more, and then the measurement was performed.
Thermal shrinkage = {(length before shrinkage-length after shrinkage) / length before shrinkage} x 100 (%) Equation (1)
(接触角)
25℃、50%RHの条件下で接触角計(協和界面科学株式会社製: 全自動接触角計 DM−701)を用いて離型フィルムの離型面に水(液滴量1.8μL)、ジヨードメタン(液適量0.9μL)、1−ブロモナフタレン(液適量0.9μL)の液滴を作成しその接触角を測定した。接触角は、各液を離型フィルムに滴下後10秒後の接触角を採用した。
(Contact angle)
Water (droplet volume 1.8 μL) on the release surface of the release film using a contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd .: fully automatic contact angle meter DM-701) under the conditions of 25 ° C. and 50% RH. , Diiodomethane (appropriate amount of liquid 0.9 μL) and 1-bromonaphthalene (appropriate amount of liquid 0.9 μL) were prepared and their contact angles were measured. As the contact angle, the contact angle 10 seconds after dropping each liquid on the release film was adopted.
(表面自由エネルギー)
前記方法で得られた、水、ジヨードメタン、1−ブロモナフタレンの接触角データを「北崎−畑」理論より計算し離型フィルムの表面自由エネルギーの分散成分γsd、極性成分γsp、水素結合成分γshを求め、各成分を合計したものを表面自由エネルギーγsとした。本計算には、本接触角計ソフトウェア(FAMAS)内の計算ソフトを用いて行った。
(Surface free energy)
The contact angle data of water, diiodomethane, and 1-bromonaphthalene obtained by the above method was calculated from the "Kitasaki-Hata" theory, and the dispersion component γsd, polar component γsp, and hydrogen bond component γsh of the surface free energy of the release film were obtained. The sum of each component was taken as the surface free energy γs. This calculation was performed using the calculation software in the contact angle meter software (FAMAS).
(離型フィルムのヘイズ、全光線透過率)
本発明のフィルムヘイズはJIS K 7136に、全光線透過率はJIS K 7361に準拠し、濁度計(日本電色製、NDH2000)を用いて測定した。
(Haze of release film, total light transmittance)
The film haze of the present invention was measured according to JIS K 7136, and the total light transmittance was measured according to JIS K 7361, using a turbidity meter (NDH2000, manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.).
(転写性評価)
転写性については、以下の方法で行った。20%Nafion(登録商標)Dispersion Solution DE2021 CS type(和光純薬工業社製)の固形分とカーボンブラック(CABOT社製、VERCANX72R)を質量比で1/9になるように混合し、総固形分が10%になるようにイソプロパノール/水(質量比8/2)で調整後、遠心攪拌機にて30分間分散を行い擬似触媒層用スラリーを得た。得られた擬似触媒層スラリーをアプリケーターを用いて、乾燥後の膜厚が10μmになるように離型フィルムの上に塗工し、熱風オーブンで90℃2分乾燥を行った。その後、熱風オーブンで所定の温度で10分間熱処理後に室温に戻した後にメンディングテープを用いてメンディングテープが180°の角度で剥離した。転写性を以下の基準で評価した。前記所定温度として、120℃、140℃、160℃、180℃の4水準で行った。
○:離型フィルム上に擬似触媒層は残らなかった。
△:離型フィルム上に擬似触媒層はうっすらと残った。
(白色台紙上で観察すると擬似触媒層が残っていることがなんとか認識できるレベル)
×:離型フィルム上に擬似触媒層ははっきりと残った。
(白色台紙上で観察すると黒く残った擬似触媒層がはっきりと認識できるレベル)
(Evaluation of transferability)
The transferability was carried out by the following method. 20% Nafion (registered trademark) Dispersion Solution DE2021 CS type (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and carbon black (manufactured by CABOT, VERCANX72R) are mixed so as to have a mass ratio of 1/9, and the total solid content is Was adjusted to 10% with isopropanol / water (mass ratio 8/2), and then dispersed with a centrifugal stirrer for 30 minutes to obtain a slurry for a pseudocatalyst layer. The obtained pseudo-catalyst layer slurry was applied onto a release film using an applicator so that the film thickness after drying was 10 μm, and dried in a hot air oven at 90 ° C. for 2 minutes. Then, after heat-treating at a predetermined temperature for 10 minutes in a hot air oven and returning to room temperature, the mending tape was peeled off at an angle of 180 ° using a mending tape. Transcription was evaluated according to the following criteria. The predetermined temperature was 120 ° C., 140 ° C., 160 ° C., and 180 ° C. at four levels.
◯: No pseudo-catalyst layer remained on the release film.
Δ: The pseudocatalyst layer remained slightly on the release film.
(At a level where it can be recognized that the pseudo-catalyst layer remains when observed on a white mount)
X: The pseudocatalyst layer clearly remained on the release film.
(A level at which the pseudo-catalyst layer remaining black can be clearly recognized when observed on a white mount)
(触媒層の割れ性評価)
触媒層の割れなどの外観評価は以下のように行った。まず、20%Nafion(登録商標)Dispersion Solution DE2021 CS type(和光純薬工業社製)と、カーボンブラックを重量比で3/7になるように混合し、遠心攪拌機にて分散を行い擬似触媒層用スラリーを得た。得られた擬似触媒層スラリーをアプリケーターを用いて、乾燥後の膜厚が5μmになるように離型フィルムの上に塗工し、熱風オーブンで90℃1分乾燥を行った。作成した擬似触媒層付き離型フィルムを10cm×10cmの大きさに裁断し熱風オーブンで150℃で5分間熱処理し擬似触媒層の状態を以下の基準で評価した。
○:擬似触媒層にほとんどひび割れがなく良好
△:擬似触媒層の一部(全面積の10%未満)にひび割れなどの外観不良が見られた
×:擬似触媒層の大部分(全面積の10%以上)にひび割れなどの外観不良が見られた
(Evaluation of crackability of catalyst layer)
Appearance evaluation such as cracking of the catalyst layer was performed as follows. First, 20% Nafion (registered trademark) Dispersion Solution DE2021 CS type (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and carbon black are mixed so as to have a weight ratio of 3/7, dispersed by a centrifugal stirrer, and a pseudo-catalyst layer. Slurry was obtained. The obtained pseudo-catalyst layer slurry was applied onto a release film using an applicator so that the film thickness after drying was 5 μm, and dried in a hot air oven at 90 ° C. for 1 minute. The prepared release film with a pseudo-catalyst layer was cut into a size of 10 cm × 10 cm and heat-treated at 150 ° C. for 5 minutes in a hot air oven to evaluate the state of the pseudo-catalyst layer according to the following criteria.
◯: Good with almost no cracks in the pseudo-catalyst layer Δ: Poor appearance such as cracks was observed in a part of the pseudo-catalyst layer (less than 10% of the total area) ×: Most of the pseudo-catalyst layer (10 of the total area) % Or more) showed poor appearance such as cracks
(実施例1〜11)
下記のアニール条件(1)でアニールした幅500mm、厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(品番E5100、東洋紡社製を使用)を真空槽に投入し、1.5×10−4Paまで真空引きを行った。次に、アルゴンを導入し全圧を0.5Paに調整した。表1に記載の金属種のターゲットに2W/cm2の電力密度で電力を投入し、フィルム温度は25℃で、DCマグネトロンスパッタリング法により、金属薄膜層を成膜した。金属薄膜層の膜厚についてはフィルムが金属ターゲット上を通過するときの速度を変更することで制御を行った。フィルム温度は、フィルムが接触走行しているロールの温度を制御する温調機の温媒の温度を代用した。
・アニール条件(1)
乾燥炉内張力:40N/m(単位は幅1mあたりの張力(N))
乾燥温度:170℃
乾燥時間:9秒
(Examples 1 to 11)
A polyethylene terephthalate film having a width of 500 mm and a thickness of 50 μm (part number E5100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) annealed under the following annealing condition (1) was put into a vacuum chamber and evacuated to 1.5 × 10 -4 Pa. .. Next, argon was introduced to adjust the total pressure to 0.5 Pa. A metal thin film layer was formed by applying power to the target of the metal type shown in Table 1 at a power density of 2 W / cm2, and at a film temperature of 25 ° C. by a DC magnetron sputtering method. The film thickness of the metal thin film layer was controlled by changing the speed at which the film passed over the metal target. The film temperature was substituted by the temperature of the temperature medium of the temperature controller that controls the temperature of the roll on which the film is in contact traveling.
・ Annealing condition (1)
Tension in the drying oven: 40 N / m (Unit is tension per 1 m of width (N))
Drying temperature: 170 ° C
Drying time: 9 seconds
(実施例12)
使用する厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムをコスモシャイン(商標登録)品番A4300(東洋紡社製)に変更した以外は実施例1と同様にして離型フィルムを作成した。
コスモシャイン(登録商標)品番A4300は、両面に易接着層がコーティングされた平滑性の高いフィルムである。このフィルムを使用して作成した離型フィルムの離型面も平滑性は高くなり、触媒層などを成型してもピンホールなどの欠点が発生しにくくなる。
(Example 12)
A release film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm to be used was changed to Cosmo Shine (registered trademark) product number A4300 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.).
Cosmo Shine (registered trademark) product number A4300 is a highly smooth film in which easy-adhesion layers are coated on both sides. The release surface of the release film produced using this film also has high smoothness, and even if the catalyst layer or the like is molded, defects such as pinholes are less likely to occur.
(参考例13)
金属薄膜層を形成する前に、アニール加工しない以外は、実施例1と同様にして離型フ
ィルムを作成した。
( Reference example 13)
Before forming the metal thin film layer, a release film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the metal thin film layer was not annealed.
(実施例14)
金属薄膜層を形成する前に、以下のアニール条件(2)でアニール加工した以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを作成した。
・アニール条件(2)
乾燥炉内張力:40N/m(単位は幅1mあたりの張力(N))
乾燥温度:130℃
乾燥時間:9秒
(Example 14)
Before forming the metal thin film layer, a release film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the metal thin film layer was annealed under the following annealing condition (2).
・ Annealing condition (2)
Tension in the drying oven: 40 N / m (Unit is tension per 1 m of width (N))
Drying temperature: 130 ° C
Drying time: 9 seconds
(実施例15)
金属薄膜層を形成する前に、以下のアニール条件(3)でアニール加工した以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを作成した。
・アニール条件(3)
乾燥炉内張力:40N/m(単位は幅1mあたりの張力(N))
乾燥温度:130℃
乾燥時間:5秒
(Example 15)
Before forming the metal thin film layer, a release film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the metal thin film layer was annealed under the following annealing condition (3).
・ Annealing condition (3)
Tension in the drying oven: 40 N / m (Unit is tension per 1 m of width (N))
Drying temperature: 130 ° C
Drying time: 5 seconds
(比較例1)
金属薄膜層を設けていない厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名E5100、東洋紡社製)の非コロナ処理面を用いた。
(Comparative Example 1)
A non-corona-treated surface of a polyethylene terephthalate film (trade name E5100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm without a metal thin film layer was used.
(比較例2)
環状ポリオレフィン系樹脂(TOPAS(登録商標)6017S ポリプラスチックス社製)2質量部をトルエン78質量部に溶解させ、さらにテトラヒドロフラン20質量部を加えて塗布液1を調整した。幅500mm、厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名E5100、東洋紡社製)のコロナ処理面に、塗布液1を乾燥後の膜厚が100nmになるようにグラビアコーターで塗工し140℃で30秒間乾燥させて離型フィルムを作成した。
(Comparative Example 2)
2 parts by mass of a cyclic polyolefin resin (TOPAS (registered trademark) 6017S, manufactured by Polyplastics Co., Ltd.) was dissolved in 78 parts by mass of toluene, and 20 parts by mass of tetrahydrofuran was further added to prepare the coating liquid 1. The coating liquid 1 is applied to the corona-treated surface of a polyethylene terephthalate film (trade name E5100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a width of 500 mm and a thickness of 50 μm with a gravure coater so that the film thickness after drying becomes 100 nm, and the film is applied at 140 ° C. for 30 seconds. It was dried to prepare a release film.
(参考例1)
厚み50μmのPTFEシート(ニチアス社製 ナフロン(登録商標)PTFEシート TOMBO No.9000)を用いて評価を行った。
(Reference example 1)
Evaluation was performed using a PTFE sheet having a thickness of 50 μm (Naflon (registered trademark) PTFE sheet TOMBO No. 9000 manufactured by Nichias Corporation).
本発明によれば、固体高分子燃料電池部材成型用途に代表される電子部品製造用途等に好適に使用される離型フィルムとして、高温処理後でも離型層中のオリゴマーや分解物の析出が少ないため、転写性にも優れた離型フィルムを提供することができる。 According to the present invention, as a release film preferably used for electronic component manufacturing applications represented by solid polymer fuel cell member molding applications, oligomers and decomposition products are precipitated in the release layer even after high temperature treatment. Since the amount is small, it is possible to provide a release film having excellent transferability.
Claims (6)
前記離型層が金属薄膜層であり、
160℃で30分熱処理した後の熱収縮率が1.0%以下であることを特徴とする離型フィルム。 A release film having at least one surface a release layer of the polyester film,
Wherein Ri release layer metal thin film layer der,
A release film having a heat shrinkage rate of 1.0% or less after being heat-treated at 160 ° C. for 30 minutes.
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