JP6914694B2 - Stretched film - Google Patents
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Description
本発明は、延伸フィルムに関し、好ましくは光学用材料として有用な延伸フィルムに関する。 The present invention relates to stretched films, preferably stretched films useful as optical materials.
アクリル系樹脂は透明性が高く、光学フィルム用材料として従来から使用されている。中でも主鎖に環構造を有するアクリル系樹脂は、透明性を維持したまま耐熱性を高めることが可能である(特許文献1など)。しかし、耐熱性を高めることにより樹脂自体は硬脆くなり、フィルム加工時に耐折強度などの機械特性が低下する傾向がある。例えば、特許文献2は、主鎖にグルタルイミドを有するアクリル系樹脂の可撓性が不足することを指摘している。そこで特許文献2では、当該アクリル系樹脂の可撓性不足を改善するために、アクリル酸エステル重合体ブロック(B1)とメタクリル酸エステル重合体ブロック(B2)から構成されるブロック共重合体を配合している。このアクリル酸エステル重合体ブロック(B1)として具体的にはアクリル酸ブチル重合体ブロックが使用されている。 Acrylic resins have high transparency and have been conventionally used as materials for optical films. Among them, an acrylic resin having a ring structure in the main chain can improve heat resistance while maintaining transparency (Patent Document 1 and the like). However, by increasing the heat resistance, the resin itself becomes hard and brittle, and the mechanical properties such as folding resistance tend to decrease during film processing. For example, Patent Document 2 points out that the flexibility of an acrylic resin having glutarimide in the main chain is insufficient. Therefore, in Patent Document 2, in order to improve the lack of flexibility of the acrylic resin, a block copolymer composed of an acrylic acid ester polymer block (B1) and a methacrylic acid ester polymer block (B2) is blended. is doing. Specifically, a butyl acrylate polymer block is used as the acrylate polymer block (B1).
特許文献3、4には、(メタ)アクリル酸アルキルエステル単位からなる重合体ブロック(a)と共役ジエン化合物単位からなる重合体ブロック(b)とを有するブロック共重合体(B)を、メタクリル酸メチルを含有する単量体混合物に溶解し、該単量体混合物をラジカル重合して得られる(メタ)アクリル樹脂組成物が記載されている。前記ブロック共重合体(B)としては、具体的にブタジエン−アクリル酸n−ブチルジブロック共重合体や、該共重合体に1,6−ヘキサンジオールジアクリレートを重合して得られる重合体が記載されている。 Patent Documents 3 and 4 describe a block copolymer (B) having a polymer block (a) composed of a (meth) acrylic acid alkyl ester unit and a polymer block (b) composed of a conjugated diene compound unit. A (meth) acrylic resin composition obtained by dissolving in a monomer mixture containing methyl acid acid and radically polymerizing the monomer mixture is described. Specific examples of the block copolymer (B) include a butadiene-acrylate n-butyl diblock copolymer and a polymer obtained by polymerizing 1,6-hexanediol diacrylate on the copolymer. Has been described.
特許文献5には、ガラス転移温度が50℃以上の重合体ブロック(A)と、ガラス転移温度が20℃以下の重合体ブロック(B)を有するアクリル系ブロック共重合体を含有する組成物から形成される光学部材が記載されている。前記重合体ブロック(B)としては、具体的にアクリル酸n−ブチルブロックが記載されている。 Patent Document 5 describes a composition containing an acrylic block copolymer having a polymer block (A) having a glass transition temperature of 50 ° C. or higher and a polymer block (B) having a glass transition temperature of 20 ° C. or lower. The optical members to be formed are described. As the polymer block (B), specifically n-butyl block acrylate is described.
特許文献6には、光学材料に用いるアクリル系熱可塑性樹脂として、メタクリル系共重合体ブロック(A)とアクリル系共重合体ブロック(B)を有するブロック共重合体が開示されている。アクリル系共重合体ブロック(B)としては、具体的にアクリル酸エチル共重合体ブロックが開示され、該アクリル酸エチル共重合体ブロックを有する共重合体の重量平均分子量は、47万〜50万である。 Patent Document 6 discloses a block copolymer having a methacrylic copolymer block (A) and an acrylic copolymer block (B) as an acrylic thermoplastic resin used as an optical material. As the acrylic copolymer block (B), an ethyl acrylate copolymer block is specifically disclosed, and the weight average molecular weight of the copolymer having the ethyl acrylate copolymer block is 470,000 to 500,000. Is.
しかし、前記ブロック共重合体を含む延伸フィルムでは、引裂強度が低下したり、ヘイズ値が上昇したりする場合があった。本発明は、可撓性を高めつつ引裂強度も保持され、さらにヘイズ値の低い延伸フィルムを提供することを課題とする。 However, in the stretched film containing the block copolymer, the tear strength may decrease or the haze value may increase. An object of the present invention is to provide a stretched film having a high flexibility, a tear strength, and a low haze value.
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、所定の分子量を有するブロック共重合体のガラス転移温度を制御して、このブロック共重合体を含む延伸フィルムを作製すると、可撓性が高められつつ引裂強度も保持され、さらにヘイズ値も下げられることを見出し、本発明を完成した。
すなわち本発明は、以下の通りである。
[1](メタ)アクリル酸エステル系ブロック共重合体を含む延伸フィルムであり、前記ブロック共重合体が、重合体ブロック(A)と、重合体ブロック(B)とを有し、前記ブロック共重合体のガラス転移温度が、80℃以上の範囲及び−30℃以上25℃以下の範囲にそれぞれ存在し、前記ブロック共重合体の重量平均分子量が、2万以上40万以下である延伸フィルム。
[2]前記重合体ブロック(A)が、アルキルメタクリレート及び/又はアルキルアクリレート由来の構造単位を含む重合体ブロックであり、前記重合体ブロック(B)が、メタクリル酸エステル由来の構造単位を含む重合体ブロックである[1]に記載の延伸フィルム。
[3]前記アルキルメタクリレート及び/又はアルキルアクリレート由来の構造単位を含む重合体ブロック(A)の含有量が、前記ブロック共重合体100質量部中、5質量部以上、90質量部以下であり、且つ前記ブロック共重合体の引張弾性率が、0.5GPa以上2.0GPa以下である[2]に記載の延伸フィルム。
[4]前記アルキルメタクリレート及び/又はアルキルアクリレート由来の構造単位を含む重合体ブロック(A)の重量平均分子量が、5000以上20万以下である[2]又は[3]に記載の延伸フィルム。
[5]前記アルキルメタクリレート及び/又はアルキルアクリレート由来の構造単位を含む重合体ブロック(A)が、2種以上の単量体由来の構造単位を含む[2]〜[4]のいずれかに記載の延伸フィルム。
[6]さらにマトリックス樹脂を含む[1]〜[5]のいずれかに記載の延伸フィルム。
[7]前記アルキルメタクリレート及び/又はアルキルアクリレート由来の構造単位を含む重合体ブロック(A)の含有量が、延伸フィルム100質量部中、1質量部以上50質量部以下である[6]に記載の延伸フィルム。
[8]前記ブロック共重合体の含有量が、前記マトリックス樹脂100質量部に対して、5質量部以上60質量部以下である[6]又は[7]に記載の延伸フィルム。
[9]ヘイズが、0.5%以下である[1]〜[8]のいずれかに記載の延伸フィルム。
[10]以下の方法で測定される引裂強度保持指数が、0.50以上である[1]〜[9]のいずれかに記載の延伸フィルム。
[引裂強度保持指数の測定方法]
前記延伸フィルムに含まれるマトリックス樹脂のみを前記延伸フィルムと同条件で延伸することによって得られるマトリックスフィルムと、前記延伸フィルムとを、それぞれ長さ120mm、幅30mm、厚さ40μmに成型し200mm/minの試験速度で試験を行い、引裂強度を測定する。延伸フィルムについて測定した引裂強度Tr1と、前記マトリックス樹脂の延伸フィルムについて測定した引裂強度Tr0との比(Tr1/Tr0)を引裂強度保持指数とする。
[11]以下の方法により測定される耐折回数向上指数が、1.1以上である[1]〜[10]のいずれかに記載の延伸フィルム。
[耐折回数向上指数の測定方法]
前記延伸フィルムに含まれるマトリックス樹脂のみを前記延伸フィルムと同条件で延伸することによって得られるマトリックスフィルムと、前記延伸フィルムとを、それぞれ長さ90mm、幅15mm、厚さ40μmに成型し、23℃、50%RHの状態に1時間以上静置し、折り曲げ角度135°、折り曲げ速度175cpm、荷重200gの条件で往復折り曲げして、破断するまでの往復折り曲げ回数を5枚ずつ測定する。延伸フィルムについて測定した往復折り曲げ回数の平均値を耐折回数M1、前記マトリックス樹脂の延伸フィルムについて測定した往復折り曲げ回数の平均値を耐折回数M0として、それらの比(M1/M0)を耐折回数向上指数とする。
[12]厚さが、1μm以上、400μm以下である[1]〜[11]のいずれかに記載の延伸フィルム。
As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors may control the glass transition temperature of a block copolymer having a predetermined molecular weight to produce a stretched film containing this block copolymer. We have found that the tear strength is maintained while the flexibility is increased, and the haze value is also lowered, and the present invention has been completed.
That is, the present invention is as follows.
[1] A stretched film containing a (meth) acrylic acid ester-based block copolymer, wherein the block copolymer has a polymer block (A) and a polymer block (B), and the block copolymer is used. A stretched film in which the glass transition temperature of the polymer is in the range of 80 ° C. or higher and the glass transition temperature of the block copolymer is in the range of −30 ° C. or higher and 25 ° C. or lower, and the weight average molecular weight of the block copolymer is 20,000 or more and 400,000 or less.
[2] The polymer block (A) is a polymer block containing a structural unit derived from alkyl methacrylate and / or an alkyl acrylate, and the polymer block (B) is a weight containing a structural unit derived from a methacrylic acid ester. The stretched film according to [1], which is a coalesced block.
[3] The content of the polymer block (A) containing the structural unit derived from the alkyl methacrylate and / or alkyl acrylate is 5 parts by mass or more and 90 parts by mass or less in 100 parts by mass of the block copolymer. The stretched film according to [2], wherein the block copolymer has a tensile elastic modulus of 0.5 GPa or more and 2.0 GPa or less.
[4] The stretched film according to [2] or [3], wherein the polymer block (A) containing a structural unit derived from the alkyl methacrylate and / or alkyl acrylate has a weight average molecular weight of 5,000 or more and 200,000 or less.
[5] The polymer block (A) containing structural units derived from the alkyl methacrylate and / or alkyl acrylate is described in any one of [2] to [4] containing structural units derived from two or more kinds of monomers. Stretched film.
[6] The stretched film according to any one of [1] to [5], which further contains a matrix resin.
[7] The content of the polymer block (A) containing the structural unit derived from the alkyl methacrylate and / or alkyl acrylate is 1 part by mass or more and 50 parts by mass or less in 100 parts by mass of the stretched film. Stretched film.
[8] The stretched film according to [6] or [7], wherein the content of the block copolymer is 5 parts by mass or more and 60 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the matrix resin.
[9] The stretched film according to any one of [1] to [8], which has a haze of 0.5% or less.
[10] The stretched film according to any one of [1] to [9], wherein the tear strength retention index measured by the following method is 0.50 or more.
[Measurement method of tear strength retention index]
The matrix film obtained by stretching only the matrix resin contained in the stretched film under the same conditions as the stretched film and the stretched film are molded into a length of 120 mm, a width of 30 mm, and a thickness of 40 μm, respectively, at 200 mm / min. Perform the test at the test speed of and measure the tear strength. A tear strength Tr 1 measured for stretched film, a ratio (Tr 1 / Tr 0) tear strength retention index and tear strength Tr 0 measured for the stretched film of the matrix resin.
[11] The stretched film according to any one of [1] to [10], wherein the folding resistance improvement index measured by the following method is 1.1 or more.
[Measurement method of folding resistance improvement index]
The matrix film obtained by stretching only the matrix resin contained in the stretched film under the same conditions as the stretched film and the stretched film were molded into a length of 90 mm, a width of 15 mm, and a thickness of 40 μm, respectively, at 23 ° C. The film is allowed to stand at 50% RH for 1 hour or more, and is reciprocally bent under the conditions of a bending angle of 135 °, a bending speed of 175 cpm, and a load of 200 g, and the number of reciprocating bends until the film is broken is measured by 5 sheets each. Folding number M 1 the average value of the reciprocating folding number was measured for the stretched film, the average value of the reciprocating folding number was measured for the stretched film of the matrix resin as a folding number M 0, their ratio (M 1 / M 0 ) Is used as the folding resistance improvement index.
[12] The stretched film according to any one of [1] to [11], which has a thickness of 1 μm or more and 400 μm or less.
本発明の延伸フィルムは、所定の分子量を有しガラス転移温度を制御したブロック共重合体を含むため、可撓性が高められつつ引裂強度も保持され、さらにヘイズ値も下げることが可能である。 Since the stretched film of the present invention contains a block copolymer having a predetermined molecular weight and controlling the glass transition temperature, it is possible to maintain the tear strength while increasing the flexibility and further reduce the haze value. ..
(1)延伸フィルム
本発明の延伸フィルムは、(メタ)アクリル酸エステル系ブロック共重合体(以下、「ブロック共重合体(C)」という場合がある。)を含む。
(1) Stretched Film The stretched film of the present invention contains a (meth) acrylic acid ester-based block copolymer (hereinafter, may be referred to as "block copolymer (C)").
(1.1)ブロック共重合体(C)
前記(メタ)アクリル酸エステル系ブロック共重合体(C)は、(メタ)アクリル酸エステル由来の構造単位を含むブロック共重合体を意味する。ブロック共重合体(C)に含まれる(メタ)アクリル酸エステル由来の構造単位の割合は、ブロック共重合体(C)100質量部中、好ましくは10質量部以上90質量部以下、より好ましくは20質量部以上80質量部以下であり、更に好ましくは30質量部以上70質量部以下である。
(1.1) Block copolymer (C)
The (meth) acrylic acid ester-based block copolymer (C) means a block copolymer containing a structural unit derived from the (meth) acrylic acid ester. The ratio of the structural unit derived from the (meth) acrylic acid ester contained in the block copolymer (C) is preferably 10 parts by mass or more and 90 parts by mass or less, more preferably 90 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the block copolymer (C). It is 20 parts by mass or more and 80 parts by mass or less, and more preferably 30 parts by mass or more and 70 parts by mass or less.
ブロック共重合体(C)の重量平均分子量(Mw)は、2万以上、好ましくは5万以上、より好ましくは7万以上であり、40万以下、好ましくは38万以下、より好ましくは35万以下である。ブロック共重合体(C)の重量平均分子量(Mw)を適切な範囲にすることで、樹脂フィルムのヘイズ値を下げることができる。 The weight average molecular weight (Mw) of the block copolymer (C) is 20,000 or more, preferably 50,000 or more, more preferably 70,000 or more, 400,000 or less, preferably 380,000 or less, and more preferably 350,000. It is as follows. By setting the weight average molecular weight (Mw) of the block copolymer (C) in an appropriate range, the haze value of the resin film can be lowered.
ブロック共重合体(C)の数平均分子量(Mn)は、前記重量平均分子量を達成可能な限り、特に限定されないが、例えば、1万以上、好ましくは3万以上、より好ましくは5万以上であり、例えば、30万以下、好ましくは20万以下、より好ましくは18万以下である。ブロック共重合体(C)の数平均分子量を制御することもまた、樹脂フィルムのヘイズ値を低下させるのに有効である。 The number average molecular weight (Mn) of the block copolymer (C) is not particularly limited as long as the weight average molecular weight can be achieved, but is, for example, 10,000 or more, preferably 30,000 or more, and more preferably 50,000 or more. Yes, for example, 300,000 or less, preferably 200,000 or less, more preferably 180,000 or less. Controlling the number average molecular weight of the block copolymer (C) is also effective in reducing the haze value of the resin film.
ブロック共重合体(C)の分子量分布(Mw/Mn)は、例えば、1.1以上、好ましくは1.2以上、より好ましくは1.3以上であり、例えば3以下、好ましくは2.5以下、より好ましくは2.0以下である。 The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the block copolymer (C) is, for example, 1.1 or more, preferably 1.2 or more, more preferably 1.3 or more, and for example, 3 or less, preferably 2.5. Below, it is more preferably 2.0 or less.
前記ブロック共重合体(C)は、高温側(80℃以上)にガラス転移温度を有するとともに(以下、「高Tg特性」という場合がある)、低温側の特定範囲(−30℃以上25℃以下)にもガラス転移温度を有する点に特徴がある(以下、「低Tg特性」という場合がある)。ブロック共重合体(C)が、高Tg特性と低Tg特性とを有するため、該ブロック共重合体(C)を含む延伸フィルムは、引裂強度を保持しつつ耐衝撃性や可撓性を向上することが可能である。 The block copolymer (C) has a glass transition temperature on the high temperature side (80 ° C. or higher) (hereinafter, may be referred to as “high Tg characteristic”) and has a specific range on the low temperature side (-30 ° C. or higher and 25 ° C. or higher). The following) is also characterized in that it has a glass transition temperature (hereinafter, it may be referred to as "low Tg characteristic"). Since the block copolymer (C) has high Tg characteristics and low Tg characteristics, the stretched film containing the block copolymer (C) improves impact resistance and flexibility while maintaining tear strength. It is possible to do.
低温側のガラス転移温度は、25℃以下、好ましくは20℃以下、より好ましくは15℃以下、さらに好ましくは10℃以下であり、−30℃以上、好ましくは−25℃以上、より好ましくは−20℃以上である。高温側のガラス転移温度は、80℃以上、好ましくは100℃以上、より好ましく110℃以上、さらに好ましくは120℃以上であり、例えば200℃以下、好ましくは180℃以下、より好ましくは170℃以下である。
また、低温側と高温側のガラス転移温度の差は、好ましくは100℃以上、より好ましくは110℃以上、さらに好ましくは120℃以上であり、好ましくは170℃以下、より好ましくは155℃以下、さらに好ましくは145℃以下である。
前記ブロック共重合体(C)は、−30℃未満にガラス転移温度を有しないことが好ましい。
The glass transition temperature on the low temperature side is 25 ° C. or lower, preferably 20 ° C. or lower, more preferably 15 ° C. or lower, still more preferably 10 ° C. or lower, and -30 ° C. or higher, preferably -25 ° C. or higher, more preferably −. It is 20 ° C. or higher. The glass transition temperature on the high temperature side is 80 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or higher, more preferably 110 ° C. or higher, further preferably 120 ° C. or higher, and for example, 200 ° C. or lower, preferably 180 ° C. or lower, more preferably 170 ° C. or lower. Is.
The difference in glass transition temperature between the low temperature side and the high temperature side is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 110 ° C. or higher, further preferably 120 ° C. or higher, preferably 170 ° C. or lower, more preferably 155 ° C. or lower. More preferably, it is 145 ° C. or lower.
The block copolymer (C) preferably does not have a glass transition temperature below −30 ° C.
(1.1a)重合体ブロック(A)
前記ブロック共重合体(C)は、重合体ブロック(A)(以下、「ソフトセグメント(A)」と称する場合がある)と重合体ブロック(B)(以下、「ハードセグメント(B)」と称する場合がある)とを有しており、これらを有することによって前記低Tg特性と高Tg特性とを示すことが可能となる。
(1.1a) Polymer block (A)
The block copolymer (C) includes a polymer block (A) (hereinafter, may be referred to as "soft segment (A)") and a polymer block (B) (hereinafter, "hard segment (B)"). (Sometimes referred to as), and by having these, it is possible to exhibit the low Tg characteristic and the high Tg characteristic.
ソフトセグメント(A)となる重合体ブロック(A)は、(メタ)アクリル酸エステル系重合体ブロックであり、より好ましくはアルキルメタクリレート及び/又はアルキルアクリレート由来の構造単位を有する重合体ブロックである。ソフトセグメント(A)は、アルキルメタクリレート及び/又はアルキルアクリレートの単独重合体ブロックであってもよく、2種以上の単量体由来の構造単位を含む共重合体ブロックであってもよい。 The polymer block (A) serving as the soft segment (A) is a (meth) acrylic acid ester-based polymer block, more preferably a polymer block having a structural unit derived from alkyl methacrylate and / or alkyl acrylate. The soft segment (A) may be a homopolymer block of alkyl methacrylate and / or alkyl acrylate, or may be a copolymer block containing structural units derived from two or more types of monomers.
前記アルキルアクリレートとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸sec−ブチル、アクリル酸tert−ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸イソアミル、アクリル酸n−ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ペンタデシルが好ましい。
前記アルキルメタクリレートとしては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸sec−ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸イソアミル、メタクリル酸n−ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ペンタデシルが好ましい。
ソフトセグメント(A)には、これらアルキルメタクリレート及び/又はアルキルアクリレートは、単独で用いても、適宜組み合わせてもよい。
Examples of the alkyl acrylate include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, sec-butyl acrylate, tert-butyl acrylate, and amyl acrylate. Isoamyl acrylate, n-hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, pentadecyl acrylate are preferred.
Examples of the alkyl methacrylate include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, and amyl methacrylate. Isoamyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, dodecyl methacrylate, and pentadecyl methacrylate are preferred.
In the soft segment (A), these alkyl methacrylates and / or alkyl acrylates may be used alone or in combination as appropriate.
前記アルキルメタクリレート及び/又はアルキルアクリレート由来の構造単位の割合は、ソフトセグメント(A)100質量部中、好ましくは80質量部以上、より好ましくは90質量部以上、さらに好ましくは95質量部以上であり、好ましくは100質量部以下である。 The ratio of the structural unit derived from the alkyl methacrylate and / or alkyl acrylate is preferably 80 parts by mass or more, more preferably 90 parts by mass or more, and further preferably 95 parts by mass or more in 100 parts by mass of the soft segment (A). It is preferably 100 parts by mass or less.
ソフトセグメント(A)は、炭素数が1〜3のアルキル基を有するアルキルアクリレート(以下、「C1〜3アクリレート」と称する場合がある)由来の単位を有するものであることが好ましい。C1〜3アクリレート由来の単位が含まれることで、ソフトセグメント(A)のガラス転移温度を上記範囲に調整しやすくなる。 The soft segment (A) preferably has a unit derived from an alkyl acrylate having an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (hereinafter, may be referred to as “C1 to 3 acrylate”). By including the unit derived from C1 to 3 acrylates, it becomes easy to adjust the glass transition temperature of the soft segment (A) within the above range.
C1〜3アクリレートとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸イソプロピルなどが挙げられ、アクリル酸メチル、アクリル酸エチルが好ましい。これらC1〜3アクリレートは単独で用いても、適宜組み合わせてもよいが、製造のし易さの観点から単独で用いることが好ましい。C1〜3アクリレートは、C1〜3アクリレート以外のアルキルアクリレート及び/又はアルキルメタクリレートと共重合させてもよい。 Examples of C1 to 3 acrylates include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate and the like, and methyl acrylate and ethyl acrylate are preferable. These C1 to 3 acrylates may be used alone or in combination as appropriate, but are preferably used alone from the viewpoint of ease of production. The C1 to 3 acrylates may be copolymerized with an alkyl acrylate other than the C1 to 3 acrylates and / or an alkyl methacrylate.
C1〜3アクリレートの量は、ソフトセグメント(A)を構成する全単位100質量部中、例えば、50質量部以上、好ましくは70質量部以上、より好ましくは90質量部以上であり、100質量部であってもよい。 The amount of C1 to 3 acrylate is, for example, 50 parts by mass or more, preferably 70 parts by mass or more, more preferably 90 parts by mass or more, and 100 parts by mass in 100 parts by mass of all the units constituting the soft segment (A). It may be.
ソフトセグメント(A)は、アルキルメタクリレート由来の単位を有するものであることも好ましい。アルキルメタクリレート由来の単位が含まれることで、ソフトセグメント(A)のガラス転移温度を上記範囲に調整しやすくなる。前記アルキルアクリレートにおけるアルキル基の炭素数は、好ましくは1以上、より好ましくは3以上、さらに好ましくは4以上であり、好ましくは20以下、より好ましくは15以下、さらに好ましくは8以下、特に好ましくは6以下である。 It is also preferable that the soft segment (A) has a unit derived from alkyl methacrylate. The inclusion of units derived from alkyl methacrylate facilitates the adjustment of the glass transition temperature of the soft segment (A) to the above range. The number of carbon atoms of the alkyl group in the alkyl acrylate is preferably 1 or more, more preferably 3 or more, still more preferably 4 or more, preferably 20 or less, more preferably 15 or less, still more preferably 8 or less, particularly preferably. It is 6 or less.
アルキルメタクリレート単位の量は、ソフトセグメント(A)を構成する全単位100質量部中、例えば、30質量部以上、好ましくは50質量部以上であり、例えば、100質量部以下、好ましくは90質量部以下である。 The amount of the alkyl methacrylate unit is, for example, 30 parts by mass or more, preferably 50 parts by mass or more, and for example, 100 parts by mass or less, preferably 90 parts by mass, out of 100 parts by mass of all the units constituting the soft segment (A). It is as follows.
ソフトセグメント(A)に、アルキル基の炭素数が1〜2であるアルキルメタクリレート(以下、「C1〜2メタクリレート」と称する場合がある)由来の単位が含まれる場合、C1〜2メタクリレートは、アルキル基の炭素数が3以上(好ましくは4以上)であるアルキルアクリレート(以下、「C3以上のアクリレート」等と称する場合がある)と共重合させることが好ましい。この場合、C3以上のアクリレート(好ましくはC4以上のアクリレート)由来の単位の量は、ソフトセグメント(A)100質量部中、好ましくは30質量部以上、より好ましくは40質量部以上、さらに好ましくは45質量部以上であり、好ましくは70質量部以下、より好ましくは60質量部以下、さらに好ましくは55質量部以下である。 When the soft segment (A) contains a unit derived from an alkyl methacrylate having 1 to 2 carbon atoms (hereinafter, may be referred to as "C1 to 2 methacrylate"), the C1 to 2 methacrylate is an alkyl. It is preferable to copolymerize with an alkyl acrylate having a group having 3 or more carbon atoms (preferably 4 or more) (hereinafter, may be referred to as "acrylate of C3 or more"). In this case, the amount of the unit derived from the acrylate of C3 or more (preferably the acrylate of C4 or more) is preferably 30 parts by mass or more, more preferably 40 parts by mass or more, still more preferably 40 parts by mass, out of 100 parts by mass of the soft segment (A). It is 45 parts by mass or more, preferably 70 parts by mass or less, more preferably 60 parts by mass or less, and further preferably 55 parts by mass or less.
ソフトセグメント(A)に、アルキル基の炭素数が3以上であるアルキルメタクリレート(以下、「C3以上のメタクリレート」と称する場合がある)由来の単位が含まれる場合、C3以上のメタクリレートは、アルキルアクリレートと共重合させてもよく、共重合させなくともよい。共重合させる場合、アルキルアクリレート由来の単位の量は、ソフトセグメント(A)100質量部中、好ましくは30質量部以上、より好ましくは40質量部以上、さらに好ましくは45質量部以上であり、好ましくは70質量部以下、より好ましくは60質量部以下、さらに好ましくは55質量部以下である。 When the soft segment (A) contains a unit derived from an alkyl methacrylate having 3 or more carbon atoms in the alkyl group (hereinafter, may be referred to as "methacrylate of C3 or higher"), the methacrylate of C3 or higher is an alkyl acrylate. It may or may not be copolymerized with. In the case of copolymerization, the amount of the unit derived from the alkyl acrylate is preferably 30 parts by mass or more, more preferably 40 parts by mass or more, still more preferably 45 parts by mass or more, and preferably 45 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the soft segment (A). Is 70 parts by mass or less, more preferably 60 parts by mass or less, still more preferably 55 parts by mass or less.
ソフトセグメント(A)は、さらに、アルキルメタクリレート及び/又はアルキルアクリレートと共重合可能な他の単量体(以下、「共重合単量体A」と称する場合がある)由来の単位を有していてもよい。 The soft segment (A) further has a unit derived from another monomer copolymerizable with alkyl methacrylate and / or alkyl acrylate (hereinafter, may be referred to as "copolymerization monomer A"). You may.
共重合単量体Aとしては、前記アルキルアクリレート以外のアクリル酸エステル、前記アルキルメタクリレート以外のメタクリル酸エステル、不飽和カルボン酸、芳香族ビニル化合物、オレフィン、共役ジエン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、ビニルピリジン、ビニルケトン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニリデンなどが挙げられ、好ましくは芳香族環を有するアクリル酸エステル、芳香族環を有するメタクリル酸エステル、芳香族ビニル化合物などの芳香族性単量体が挙げられる。共重合単量体Aによってソフトセグメント(A)のガラス転移温度を上記範囲に調整してもよい。芳香族性単量体を共重合させることで、屈折率を調整し、樹脂組成物との混合時における相溶性、透明性を改善することが出来る。前記芳香族性単量体としては、芳香族ビニル化合物が好ましい。 Examples of the copolymerization monomer A include acrylic acid esters other than the alkyl acrylate, methacrylic acid esters other than the alkyl methacrylate, unsaturated carboxylic acids, aromatic vinyl compounds, olefins, conjugated diene, acrylonitrile, methacrylonitrile, and acrylamide. Examples thereof include methacrylicamide, vinyl acetate, vinylpyridine, vinyl ketone, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinylidene fluoride and the like, preferably an acrylic acid ester having an aromatic ring, a methacrylic acid ester having an aromatic ring, an aromatic vinyl compound and the like. Aromatic monomers of. The glass transition temperature of the soft segment (A) may be adjusted to the above range by using the copolymerization monomer A. By copolymerizing the aromatic monomer, the refractive index can be adjusted and the compatibility and transparency at the time of mixing with the resin composition can be improved. As the aromatic monomer, an aromatic vinyl compound is preferable.
共重合単量体Aとしてのアクリル酸エステルには、環状脂肪族炭化水素基を有するアクリル酸エステル(アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸イソボルニルなど)、ヒドロキシ基、エーテル結合、エポキシ基、アリル基などの官能基を有する脂肪族性アクリル酸エステル(アクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸2−メトキシエチル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸アリルなど)などの非芳香族性アクリル酸エステル;アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェノキシエチルなどの芳香族環を有するアクリル酸エステルなどが含まれる。 The acrylic acid ester as the copolymerization monomer A includes functional groups such as an acrylic acid ester having a cyclic aliphatic hydrocarbon group (cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, etc.), a hydroxy group, an ether bond, an epoxy group, and an allyl group. Non-aromatic acrylic acid esters such as group-based aliphatic acrylic acid esters (2-hydroxyethyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, allyl acrylate, etc.); phenyl acrylate, benzyl acrylate, etc. , Acrylic acid ester having an aromatic ring such as phenoxyethyl acrylate and the like are included.
共重合単量体Aとしてのメタクリル酸エステルには、環状脂肪族炭化水素基を有するメタクリル酸エステル(メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸イソボルニルなど)、ヒドロキシ基、エーテル結合、エポキシ基、アリル基などの官能基を有する脂肪族性メタクリル酸エステル(メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−メトキシエチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸アリルなど)などの非芳香族性メタクリル酸エステル;メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸フェノキシエチルなどの芳香族環を有するメタクリル酸エステルなどが含まれる。 The methacrylate ester as the copolymerization monomer A includes functional groups such as a methacrylate ester having a cyclic aliphatic hydrocarbon group (cyclohexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, etc.), a hydroxy group, an ether bond, an epoxy group, and an allyl group. Non-aromatic methacrylate esters such as group-based aliphatic methacrylate esters (2-hydroxyethyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, allyl methacrylate, etc.); phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, etc. , Methacrylate esters having an aromatic ring, such as phenoxyethyl methacrylate, and the like are included.
共重合単量体Aとしての芳香族ビニル化合物には、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレンなどのベンゼン環含有化合物;N−ビニルカルバゾール、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルチオフェンなどの芳香族性複素環を有する化合物などが挙げられる。
ソフトセグメント(A)において、共重合単量体A(好ましくは前記アルキルアクリレート以外のアクリル酸エステル、芳香族性単量体など)に由来する単位の量は、アルキルメタクリレート及び/又はアルキルアクリレートに由来する単位の合計100質量部に対して、例えば、0質量部以上、好ましくは1質量部以上であり、例えば、30質量部以下、好ましくは20質量部以下、より好ましくは10質量部以下である。
Examples of the aromatic vinyl compound as the copolymerization monomer A include benzene ring-containing compounds such as styrene, vinyl toluene, α-methylstyrene, α-hydroxymethylstyrene, and α-hydroxyethylstyrene; N-vinylcarbazole and vinylpyridine. , Vinyl imidazole, compounds having an aromatic heterocycle such as vinylthiophene, and the like.
In the soft segment (A), the amount of the unit derived from the copolymerization monomer A (preferably an acrylic acid ester other than the alkyl acrylate, an aromatic monomer, etc.) is derived from alkyl methacrylate and / or alkyl acrylate. For example, it is 0 parts by mass or more, preferably 1 part by mass or more, and for example, 30 parts by mass or less, preferably 20 parts by mass or less, and more preferably 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass in total. ..
重合体ブロック(A)の重量平均分子量(Mw)は、機械的特性、光学特性と流動性の観点から、例えば、5000以上、好ましくは1万以上、より好ましくは2万以上であり、例えば、20万以下、好ましくは15万以下、より好ましくは10万以下である。また重合体ブロック(A)の数平均分子量(Mn)は、例えば、3000以上、好ましくは1万以上、より好ましくは1万5000以上であり、例えば、15万以下、好ましくは10万以下、より好ましくは8万以下である。重合体ブロック(A)の分子量分布(Mw/Mn)は特に限定されないが、例えば、1.05以上、好ましくは1.1以上であり、例えば、2.5以下、好ましくは2.0以下、より好ましくは1.8以下である。 The weight average molecular weight (Mw) of the polymer block (A) is, for example, 5000 or more, preferably 10,000 or more, more preferably 20,000 or more, for example, from the viewpoint of mechanical properties, optical properties, and fluidity. It is 200,000 or less, preferably 150,000 or less, and more preferably 100,000 or less. The number average molecular weight (Mn) of the polymer block (A) is, for example, 3000 or more, preferably 10,000 or more, more preferably 15,000 or more, and for example, 150,000 or less, preferably 100,000 or less. It is preferably 80,000 or less. The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polymer block (A) is not particularly limited, but is, for example, 1.05 or more, preferably 1.1 or more, and for example, 2.5 or less, preferably 2.0 or less. More preferably, it is 1.8 or less.
重合体ブロック(A)の屈折率は、例えば1.468以上、好ましくは1.470以上であり、より好ましくは1.480以上であり、例えば1.600以下、好ましくは1.580以下、より好ましくは1.550以下である。 The refractive index of the polymer block (A) is, for example, 1.468 or more, preferably 1.470 or more, more preferably 1.480 or more, for example 1.600 or less, preferably 1.580 or less, and more. It is preferably 1.550 or less.
(1.1b)重合体ブロック(B)
重合体ブロック(B)は、ブロック共重合体(C)が高Tg特性を示すために導入され、ブロック共重合体(C)においてハードセグメントを構成する。この重合体ブロック(B)は、所定のガラス転移温度を示す限り、構成単量体は特に限定されないが、通常、メタクリル酸エステル単位の単独重合体ブロック又は共重合体ブロックである。重合体ブロック(B)を構成する全単位100質量部中、メタクリル酸エステル単位の量は、例えば、30質量部以上、好ましくは50質量部以上であり、例えば、100質量部以下、好ましくは90質量部以下である。
(1.1b) Polymer block (B)
The polymer block (B) is introduced so that the block copolymer (C) exhibits high Tg characteristics, and constitutes a hard segment in the block copolymer (C). The constituent monomer of the polymer block (B) is not particularly limited as long as it exhibits a predetermined glass transition temperature, but is usually a homopolymer block or a copolymer block of a methacrylic ester unit. The amount of the methacrylic acid ester unit in 100 parts by mass of all the units constituting the polymer block (B) is, for example, 30 parts by mass or more, preferably 50 parts by mass or more, and for example, 100 parts by mass or less, preferably 90 parts by mass. It is less than a part by mass.
ハードセグメント(B)の単位の由来となるメタクリル酸エステルとしては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸sec−ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸イソアミル、メタクリル酸n−ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸ペンタデシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸フェノキシエチル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−メトキシエチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸アリルなどが挙げられる。好ましくはメタクリル酸アルキルエステルであり、特にメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピル、メタクリル酸イソプロピルなどの炭素数が1〜3のアルキル基を有するアルキルメタクリレート(以下、「C1〜3メタクリレート」と称する場合がある)を必ず含むのが好ましく、メタクリル酸メチルを必ず含むのが最も好ましい。C1〜3メタクリレートの量(好ましくはメタクリル酸メチルの量)は、メタクリル酸エステル100質量部中、例えば、50質量部以上、好ましくは70質量部以上、より好ましくは90質量部以上であり、100質量部であってもよい。 Examples of the methacrylic acid ester from which the unit of the hard segment (B) is derived include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, and sec methacrylate. -Butyl, tert-butyl methacrylate, amyl methacrylate, isoamyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, pentadecyl methacrylate, dodecyl methacrylate, isobornyl methacrylate, phenyl methacrylate, methacrylic Examples thereof include benzyl acetate, phenoxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, and allyl methacrylate. Alkyl methacrylate is preferable, and in particular, alkyl methacrylate having an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate and isopropyl methacrylate (hereinafter, “C1 to 3 methacrylate”). It is preferable to always contain (may be referred to as), and it is most preferable to always contain methyl methacrylate. The amount of C1 to 3 methacrylate (preferably the amount of methyl methacrylate) is, for example, 50 parts by mass or more, preferably 70 parts by mass or more, more preferably 90 parts by mass or more, and 100 parts by mass, based on 100 parts by mass of the methacrylate ester. It may be a mass part.
ハードセグメント(B)において、前記メタクリル酸エステル(特にC1〜3メタクリレート)と共重合可能な単量体(以下、「共重合単量体B」と称する場合がある)としては、アクリル酸エステル、不飽和カルボン酸、芳香族ビニル化合物、オレフィン、共役ジエン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、ビニルピリジン、ビニルケトン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニリデンなどが挙げられ、好ましくはアクリル酸エステル、芳香族性単量体(芳香族環を有するアクリル酸エステル、芳香族環を有するメタクリル酸エステル、芳香族ビニル化合物など。特に芳香族ビニル化合物)が挙げられる。 In the hard segment (B), examples of the monomer copolymerizable with the methacrylic acid ester (particularly C1 to 3 methacrylate) (hereinafter, may be referred to as “copolymerization monomer B”) include an acrylic acid ester. Unsaturated carboxylic acids, aromatic vinyl compounds, olefins, conjugated diene, acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamide, methacrylicamide, vinyl acetate, vinylpyridine, vinyl ketone, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinylidene fluoride and the like are preferable. Examples thereof include acrylic acid esters and aromatic monomers (acrylic acid esters having an aromatic ring, methacrylic acid esters having an aromatic ring, aromatic vinyl compounds, etc., particularly aromatic vinyl compounds).
共重合体単量体Bとして使用可能なアクリル酸エステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸sec−ブチル、アクリル酸tert−ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸イソアミル、アクリル酸n−ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸ペンタデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェノキシエチル、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸2−メトキシエチル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸アリルなどが挙げられ、好ましくはアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチルなどの炭素数が1〜4のアルキル基(好ましくは炭素数が1〜3のアルキル基)を有するアクリル酸アルキルエステルが挙げられる。共重合体単量体Bとして使用可能な芳香族ビニル化合物としては、共重合単量体Aとして例示したものと同様のものが使用できる。 Examples of the acrylic acid ester that can be used as the copolymer monomer B include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, and sec-butyl acrylate. , Tert-butyl acrylate, amyl acrylate, isoamyl acrylate, n-hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, pentadecyl acrylate, dodecyl acrylate, isobornyl acrylate, phenyl acrylate, benzyl acrylate , Phenoxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, allyl acrylate and the like, preferably methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, acrylate. Examples thereof include acrylic acid alkyl esters having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms) such as isopropyl, n-butyl acrylate, and isobutyl acrylate. As the aromatic vinyl compound that can be used as the copolymer monomer B, the same aromatic vinyl compounds as those exemplified as the copolymer monomer A can be used.
共重合体単量体Bとして使用可能な芳香族性単量体としては、共重合体単量体Aとして使用可能な芳香族性単量体と同様の化合物が例示できる。好ましい芳香族性単量体も共重合体単量体Aの場合と同様である。芳香族性単量体を用いることで、ブロック共重合体(C)の複屈折を調整することができる。 Examples of the aromatic monomer that can be used as the copolymer monomer B include compounds similar to the aromatic monomer that can be used as the copolymer monomer A. The preferred aromatic monomer is also the same as in the case of the copolymer monomer A. By using an aromatic monomer, the birefringence of the block copolymer (C) can be adjusted.
ハードセグメント(B)において、共重合単量体B(好ましくはアクリル酸エステル、芳香族性単量体など)に由来する単位の量は、メタクリル酸エステル単位100質量部に対して、例えば、0質量部以上、好ましくは1質量部以上であり、例えば、30質量部以下、好ましくは20質量部以下、より好ましくは10質量部以下である。
前記ソフトセグメント(A)が、C1〜2メタクリレート及びC3以上のアクリレート(好ましくはC4以上のアクリレート)に由来する単位を含み、ハードセグメント(B)もC1〜2メタクリレート及びC3以上のアクリレート(好ましくはC4以上のアクリレート)に由来する単位を含む場合、ハードセグメント(B)におけるC3以上のアクリレート(好ましくはC4以上のアクリレート)由来の単位の量は、ハードセグメント(B)100質量部中、好ましくは45質量部未満、より好ましくは40質量部未満、さらに好ましくは30質量部未満である。
In the hard segment (B), the amount of the unit derived from the copolymerization monomer B (preferably acrylic acid ester, aromatic monomer, etc.) is 0, for example, with respect to 100 parts by mass of the methacrylic acid ester unit. It is by mass or more, preferably 1 part by mass or more, and is, for example, 30 parts by mass or less, preferably 20 parts by mass or less, and more preferably 10 parts by mass or less.
The soft segment (A) contains units derived from C1-2 methacrylate and C3 or higher acrylate (preferably C4 or higher acrylate), and the hard segment (B) also contains C1-2 methacrylate and C3 or higher acrylate (preferably C3 or higher acrylate). When a unit derived from C4 or higher acrylate) is included, the amount of the unit derived from C3 or higher acrylate (preferably C4 or higher acrylate) in the hard segment (B) is preferably in 100 parts by mass of the hard segment (B). It is less than 45 parts by mass, more preferably less than 40 parts by mass, and even more preferably less than 30 parts by mass.
さらにハードセグメント(B)は、流動性の観点では環構造を有する単位(好ましくは主鎖に環構造を有する単位)を実質的に含まなくてもよいが(例えば、5質量%以下。特に0質量%)、耐熱性の観点では環構造を有する単位(好ましくは主鎖に環構造を有する単位)を実質的に含んでいてもよい(例えば、5質量%超)。環構造を有する単位(好ましくは主鎖に環構造を有する単位)は、通常、前記メタクリル酸エステル単位(特にC1〜3メタクリレート単位)の共重合単位として、ハードセグメント(B)に導入される。環構造を有する単位(好ましくは主鎖に環構造を有する単位)をブロック共重合体(C)に導入すると、該ブロック共重合体(C)自体の光学特性を良好にできる。また該ブロック共重合体(C)を、環構造を有する樹脂(好ましくは主鎖に環構造を有する単位)に添加した場合に、樹脂との相溶性を向上できる。環構造を有する単位(好ましくは主鎖に環構造を有する単位)の量は、メタクリル酸エステル単位100質量部に対して、例えば、0質量部以上、好ましくは10質量部以上、より好ましくは15質量部以上であり、例えば、50質量部以下、好ましくは40質量部以下、より好ましくは30質量部以下である。 Further, the hard segment (B) does not have to substantially contain a unit having a ring structure (preferably a unit having a ring structure in the main chain) from the viewpoint of fluidity (for example, 5% by mass or less, particularly 0). (Mass%), from the viewpoint of heat resistance, a unit having a ring structure (preferably a unit having a ring structure in the main chain) may be substantially contained (for example, more than 5% by mass). A unit having a ring structure (preferably a unit having a ring structure in the main chain) is usually introduced into the hard segment (B) as a copolymerization unit of the methacrylic acid ester unit (particularly C1 to 3 methacrylate units). When a unit having a ring structure (preferably a unit having a ring structure in the main chain) is introduced into the block copolymer (C), the optical characteristics of the block copolymer (C) itself can be improved. Further, when the block copolymer (C) is added to a resin having a ring structure (preferably a unit having a ring structure in the main chain), compatibility with the resin can be improved. The amount of the unit having a ring structure (preferably a unit having a ring structure in the main chain) is, for example, 0 parts by mass or more, preferably 10 parts by mass or more, more preferably 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the methacrylic acid ester unit. It is 5 parts by mass or more, for example, 50 parts by mass or less, preferably 40 parts by mass or less, and more preferably 30 parts by mass or less.
環構造としては、例えば、ラクトン環構造、無水グルタル酸構造、グルタルイミド構造、無水マレイン酸構造、N−置換マレイミド構造などが挙げられ、好ましくはラクトン環構造及びN−置換マレイミド構造が挙げられ、これらの環構造は主鎖に含まれることが好ましい。前記ラクトン環構造は、例えば、4員環から8員環のラクトン環構造が好ましく、環構造の安定性に優れることから5員環または6員環であることがより好ましく、6員環であることが最も好ましい。6員環であるラクトン環構造としては、例えば、特開2004−168882号公報に開示されている構造が挙げられ、ラクトン環構造の導入が容易であること、具体的には、前駆体(ラクトン環化前の重合体)の重合収率が高いこと、前駆体の環化縮合反応におけるラクトン環含有率を高めることができること、メタクリル酸メチル単位を構成単位として有する重合体を前駆体にできること、などの理由から下記一般式(1)に示される構造が特に好ましい。 Examples of the ring structure include a lactone ring structure, a glutaric anhydride structure, a glutarimide structure, a maleic anhydride structure, an N-substituted maleimide structure, and the like, preferably a lactone ring structure and an N-substituted maleimide structure. These ring structures are preferably contained in the main chain. The lactone ring structure is preferably, for example, a 4-membered ring to 8-membered lactone ring structure, and more preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring because the ring structure is excellent in stability, and is a 6-membered ring. Is most preferable. Examples of the 6-membered lactone ring structure include the structures disclosed in JP-A-2004-168882, which facilitate the introduction of the lactone ring structure, specifically, a precursor (lactone). The polymerization yield of the polymer before cyclization) is high, the lactone ring content in the cyclization condensation reaction of the precursor can be increased, and the polymer having the methyl methacrylate unit as a constituent unit can be used as the precursor. For these reasons, the structure represented by the following general formula (1) is particularly preferable.
上記一般式(1)において、R1、R2およびR3は、互いに独立して、水素原子または炭素数1から20の有機残基であり、当該有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。
一般式(1)における有機残基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などの炭素数1から20の飽和脂肪族炭化水素基(アルキル基等)、エテニル基、プロペニル基などの炭素数2から20の不飽和脂肪族炭化水素基(アルケニル基等)、フェニル基、ナフチル基などの炭素数6から20の芳香族炭化水素基(アリール基等)のほか、これら飽和脂肪族炭化水素基、不飽和脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基における水素原子の一つ以上が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エーテル基およびエステル基から選ばれる少なくとも1種類の基により置換された基などが挙げられる。
In the above general formula (1), R 1 , R 2 and R 3 are independent of each other as a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms, and the organic residue may contain an oxygen atom. good.
Examples of the organic residue in the general formula (1) include carbons such as a saturated aliphatic hydrocarbon group (alkyl group, etc.) having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, an ethenyl group, and a propenyl group. In addition to aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms (aryl groups, etc.) such as unsaturated aliphatic hydrocarbon groups (alkenyl groups, etc.), phenyl groups, naphthyl groups, etc. A group in which one or more hydrogen atoms in a group, an unsaturated aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group is substituted with at least one group selected from a hydroxy group, a carboxyl group, an ether group and an ester group, and the like. Can be mentioned.
ラクトン環構造は、例えば、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル酸系モノマーAと、(メタ)アクリル酸系モノマーBとを重合(好ましくは共重合)して分子鎖にヒドロキシ基とエステル基またはカルボキシル基とを導入した後、これらヒドロキシ基とエステル基またはカルボキシル基との間で脱アルコールまたは脱水環化縮合を生じさせることにより形成できる。重合成分として、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル酸系モノマーAは必須であり、(メタ)アクリル酸系モノマーBは前記モノマーAを包含する。モノマーBはモノマーAと一致していてもよいし、一致しなくてもよい。モノマーBがモノマーAと一致する時には、モノマーAの単独重合となる。なお「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸とメタクリル酸を総称したものを意味し、「(メタ)アクリル酸系モノマー」や「(メタ)アクリル酸エステル」などの様に「(メタ)アクリル酸」が他の名称と結合した場合でも同様である。 In the lactone ring structure, for example, a (meth) acrylic acid-based monomer A having a hydroxy group and a (meth) acrylic acid-based monomer B are polymerized (preferably copolymerized) to form a molecular chain with a hydroxy group and an ester group or carboxyl. After introducing the groups, it can be formed by causing dealcoholization or dehydration cyclization condensation between these hydroxy groups and ester groups or carboxyl groups. As the polymerization component, the (meth) acrylic acid-based monomer A having a hydroxy group is indispensable, and the (meth) acrylic acid-based monomer B includes the monomer A. Monomer B may or may not match monomer A. When the monomer B matches the monomer A, the monomer A is homopolymerized. Note that "(meth) acrylic acid" is a general term for acrylic acid and methacrylic acid, and "(meth) acrylic acid" such as "(meth) acrylic acid-based monomer" and "(meth) acrylic acid ester" is used. The same applies when "acid" is combined with another name.
ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル酸系モノマーAとしては、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸アルキル(例えば、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸イソプロピル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸n−ブチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸t−ブチル)、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸アルキル(例えば、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸メチル、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸エチル)等が挙げられ、好ましくは、ヒドロキシアリル部位を有するモノマーである2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸や2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸アルキルが挙げられる。特に好ましくは2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチルが例示できる。 Examples of the (meth) acrylate-based monomer A having a hydroxy group include 2- (hydroxymethyl) acrylate, 2- (hydroxyethyl) acrylate, and alkyl 2- (hydroxymethyl) acrylate (for example, 2- (hydroxymethyl). ) Methyl acrylate, ethyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, isopropyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, n-butyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, t-butyl 2- (hydroxymethyl) acrylate), Alkyl 2- (hydroxyethyl) acrylate (for example, methyl 2- (hydroxyethyl) acrylate, ethyl 2- (hydroxyethyl) acrylate) and the like can be mentioned, with preference given to 2- (hydroxyaryl) monomer having a hydroxyallyl moiety. Examples thereof include (hydroxymethyl) acrylate and alkyl 2- (hydroxymethyl) acrylate. Particularly preferably, methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate and ethyl 2- (hydroxymethyl) acrylate can be exemplified.
(メタ)アクリル酸系モノマーBとしては、ビニル基とエステル基またはカルボキシル基とを有するモノマーが好ましく、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸アルキル(例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル等、好ましくはメタクリル酸メチル)、(メタ)アクリル酸アリール(例えば、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ベンジル等)、2−(ヒドロキシアルキル)アクリル酸アルキル(例えば、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸イソプロピル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸n−ブチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸t−ブチルなどの2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸アルキル、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸メチルなどの2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸アルキル等)などが挙げられる。 As the (meth) acrylic acid-based monomer B, a monomer having a vinyl group and an ester group or a carboxyl group is preferable, and for example, (meth) acrylic acid, alkyl (meth) acrylic acid (for example, methyl (meth) acrylic acid, etc., Ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, etc., preferably methyl methacrylate), (meth) Aryl acrylate (eg, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, etc.), Alkyl 2- (hydroxyalkyl) acrylate (eg, methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, 2- (hydroxymethyl)) Alkyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, such as ethyl acrylate, isopropyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, n-butyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, t-butyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, 2 -(Hydroxyethyl) methyl acrylate and the like 2- (hydroxyethyl) alkyl acrylate and the like) and the like.
前記無水グルタル酸構造または前記グルタルイミド構造としては、例えば、下記一般式(2)に示される構造(下記一般式(2)において、X1が酸素原子である場合には無水グルタル酸構造となり、X1が窒素原子である場合にはグルタルイミド構造となる)が好ましく挙げられる。 The glutaric anhydride structure or the glutarimide structure is, for example, a structure represented by the following general formula (2) (in the following general formula (2), when X 1 is an oxygen atom, it becomes a glutaric anhydride structure. When X 1 is a nitrogen atom, it has a glutarimide structure).
上記一般式(2)におけるR4、R5は、互いに独立して、水素原子またはメチル基であり、X1は酸素原子または窒素原子である。X1が酸素原子であるとき、R6は存在せず、X1が窒素原子のとき、R6は、水素原子、炭素数1から6の直鎖アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基)、シクロペンチル基、シクロヘキシル基またはフェニル基である。 R 4 and R 5 in the above general formula (2) are independent of each other as a hydrogen atom or a methyl group, and X 1 is an oxygen atom or a nitrogen atom. When X 1 is an oxygen atom, R 6 does not exist, and when X 1 is a nitrogen atom, R 6 is a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (methyl group, ethyl group, propyl group). , Butyl group, pentyl group, hexyl group), cyclopentyl group, cyclohexyl group or phenyl group.
上記一般式(2)におけるX1が酸素原子である無水グルタル酸構造は、例えば、(メタ)アクリル酸エステルと(メタ)アクリル酸との共重合体を分子内で脱アルコール環化縮合させることにより形成できる。上記一般式(2)におけるX1が窒素原子であるグルタルイミド構造は、例えば、(メタ)アクリル酸エステル重合体をメチルアミンなどのイミド化剤によりイミド化することにより形成できる。 The glutaric anhydride structure in which X 1 is an oxygen atom in the above general formula (2) is, for example, dealcoholization-condensation of a copolymer of (meth) acrylic acid ester and (meth) acrylic acid in the molecule. Can be formed by The glutarimide structure in which X 1 in the general formula (2) is a nitrogen atom can be formed, for example, by imidizing a (meth) acrylic acid ester polymer with an imidizing agent such as methylamine.
前記無水マレイン酸構造または前記N−置換マレイミド構造としては、例えば、下記一般式(3)に示される構造(下記一般式(3)において、X2が酸素原子である場合には無水マレイン酸構造となり、X2が窒素原子である場合にはN−置換マレイミド構造となる)が好ましく挙げられる。 The maleic anhydride structure or the N-substituted maleimide structure is, for example, a structure represented by the following general formula (3) (in the following general formula (3), when X 2 is an oxygen atom, the maleic anhydride structure is used. When X 2 is a nitrogen atom, it has an N-substituted maleimide structure).
上記一般式(3)におけるR7、R8は、互いに独立して、水素原子またはメチル基であり、X2は酸素原子または窒素原子である。X2が酸素原子であるとき、R9は存在せず、X2が窒素原子のとき、R9は、水素原子、炭素数1から6の直鎖アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基)、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基またはフェニル基である。 R 7 and R 8 in the above general formula (3) are independent of each other as a hydrogen atom or a methyl group, and X 2 is an oxygen atom or a nitrogen atom. When X 2 is an oxygen atom, R 9 does not exist, and when X 2 is a nitrogen atom, R 9 is a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (methyl group, ethyl group, propyl group). , Butyl group, pentyl group, hexyl group), cyclopentyl group, cyclohexyl group, benzyl group or phenyl group.
上記一般式(3)におけるX2が酸素原子である無水マレイン酸構造は、例えば、無水マレイン酸を重合に供することにより形成できる。上記一般式(3)におけるX2が窒素原子であるN−置換マレイミド構造は、例えば、フェニルマレイミドなどのN−置換マレイミドを重合に供することにより形成できる。 The maleic anhydride structure in which X 2 in the general formula (3) is an oxygen atom can be formed, for example, by subjecting maleic anhydride to polymerization. The N-substituted maleimide structure in which X 2 in the general formula (3) is a nitrogen atom can be formed, for example, by subjecting an N-substituted maleimide such as phenylmaleimide to polymerization.
前記環構造を有する単位(好ましくは主鎖に環構造を有する単位)は、1種又は2種以上を適宜組み合わせることができる。好ましくは2種以上を組み合わせず、環構造を有する単位(好ましくは主鎖に環構造を有する単位)を1種だけ重合体ブロック(B)に導入する。 As the unit having a ring structure (preferably a unit having a ring structure in the main chain), one kind or two or more kinds can be appropriately combined. Preferably, only one unit having a ring structure (preferably a unit having a ring structure in the main chain) is introduced into the polymer block (B) without combining two or more types.
前記重合体ブロック(A)は1種又は2種以上あってもよく、前記重合体ブロック(B)も1種又は2種以上あってもよい。さらにブロック共重合体(C)は、これら重合体ブロック(A)及び(B)とは異なる重合体ブロック(X)を含んでいてもよく、この重合体ブロック(X)も1種又は2種以上であってもよい。重合体ブロック(X)を構成する単量体単位は、重合体ブロック(A)や(B)に使用可能な単量体単位から適宜選択できる。 The polymer block (A) may have one or more types, and the polymer block (B) may also have one or more types. Further, the block copolymer (C) may contain a polymer block (X) different from these polymer blocks (A) and (B), and the polymer block (X) is also one or two kinds. It may be the above. The monomer unit constituting the polymer block (X) can be appropriately selected from the monomer units that can be used for the polymer block (A) and (B).
重合体ブロック(A)の量(ソフトセグメント量)は、重合体ブロック(A)と重合体ブロック(B)の合計100質量部中、例えば、5質量部以上、好ましくは10質量部以上、より好ましくは27質量部以上であり、例えば、90質量部以下、好ましくは70質量部以下、より好ましくは60質量部以下である。また重合体ブロック(A)と重合体ブロック(B)の合計は、ブロック共重合体(C)100質量部中、例えば、70質量部以上、好ましくは80質量部以上、より好ましくは90質量部以上であり、100質量部でもよい。
前記ソフトセグメント量は、1H−NMRの積分値に基づいて算出できる。
The amount (soft segment amount) of the polymer block (A) is, for example, 5 parts by mass or more, preferably 10 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the total of the polymer block (A) and the polymer block (B). It is preferably 27 parts by mass or more, for example, 90 parts by mass or less, preferably 70 parts by mass or less, and more preferably 60 parts by mass or less. The total of the polymer block (A) and the polymer block (B) is, for example, 70 parts by mass or more, preferably 80 parts by mass or more, and more preferably 90 parts by mass in 100 parts by mass of the block copolymer (C). With the above, 100 parts by mass may be used.
The amount of the soft segment can be calculated based on the integrated value of 1 1 H-NMR.
また、前記ソフトセグメント(A)の含有量が、前記ブロック共重合体(C)100質量部中、5質量部以上、90質量部以下(好ましくは10質量部以上、より好ましくは27質量部以上、好ましくは70質量部以下、より好ましくは60質量部以下)であり、且つ、ブロック共重合体(C)の引張弾性率が、0.5GPa以上、2.0GPa以下であることが好ましい。この場合、ブロック共重合体(C)の引張弾性率は、好ましくは1.0GPa以上であり、好ましくは1.5GPa以下である。ブロック共重合体(C)における重合体ブロック(A)量(ソフトセグメント量)を高めつつブロック共重合体(C)の引張弾性率を高めることで、延伸フィルムの強度が高まる傾向にある。
前記ブロック共重合体(C)の引張弾性率は、ブロック共重合体を溶融プレス成形により160±10μmの未延伸フィルムとし、試験片サイズを80mm×20mm、初めのチャック間距離を40mmとする以外はJIS K7161ならびにJIS K7127の規定に準拠して測定することができる。
Further, the content of the soft segment (A) is 5 parts by mass or more and 90 parts by mass or less (preferably 10 parts by mass or more, more preferably 27 parts by mass or more) in 100 parts by mass of the block copolymer (C). It is preferably 70 parts by mass or less, more preferably 60 parts by mass or less), and the tensile elastic modulus of the block copolymer (C) is preferably 0.5 GPa or more and 2.0 GPa or less. In this case, the tensile elastic modulus of the block copolymer (C) is preferably 1.0 GPa or more, preferably 1.5 GPa or less. By increasing the tensile elastic modulus of the block copolymer (C) while increasing the amount of the polymer block (A) (the amount of soft segments) in the block copolymer (C), the strength of the stretched film tends to increase.
The tensile elastic modulus of the block copolymer (C) is such that the block copolymer is made into an unstretched film of 160 ± 10 μm by melt press molding, the test piece size is 80 mm × 20 mm, and the initial chuck distance is 40 mm. Can be measured in accordance with the provisions of JIS K7161 and JIS K7127.
ブロック共重合体(C)が重合体ブロック(A)(ソフトセグメントA)と重合体ブロック(B)(ハードセグメントB)とから構成される場合、ブロック構造は、A−B型、B−A−B型、A−B−A型、A−B−A−B型、A−B−A−B−A型、B−A−B−A−B型などが適宜採用でき、好ましくはA−B型、B−A−B型である。 When the block copolymer (C) is composed of a polymer block (A) (soft segment A) and a polymer block (B) (hard segment B), the block structures are AB type and BA. -B type, ABA type, ABBA type, ABBABA type, BABBAB type and the like can be appropriately adopted, preferably A. -B type and B-AB type.
前記ブロック共重合体(C)の製造方法は、特に制限はなく、公知の手法に準じた方法を採用することができる。
例えば、各ブロックの構成単位であるモノマーをリビング重合する方法(例えば、「精密重合が拓く高分子合成」(日本化学会編、化学同人出版、14〜39項、2016年)に記載の方法)が一般に使用される。このようなリビング重合の手法としては、例えば、特開平11−335432号公報に記載の方法である有機アルカリ金属化合物を重合開始剤として有機アルミニウム化合物の存在下でアニオン重合する方法、特開平6−93060号公報に記載の方法である有機希土類金属錯体を重合開始剤として重合する方法、Macromol.Chem.Phys.201巻、1108〜1114頁(2000年)に記載の方法であるα−ハロゲン化エステル化合物を開始剤として銅化合物の存在下ラジカル重合する方法、Macromolecules、26巻、2987頁(1993)に記載の方法であるニトロキシル基媒介重合、Macromolecules、28巻、2093頁(1995)に記載の方法である原子移動ラジカル重合、Macromolecules、31巻、5559頁(1998)に記載の方法である可逆的付加−開裂連鎖移動重合等が挙げられる。
The method for producing the block copolymer (C) is not particularly limited, and a method according to a known method can be adopted.
For example, a method of living polymerization of a monomer which is a constituent unit of each block (for example, the method described in "Polymer Synthesis Developed by Precision Polymerization" (edited by The Chemical Society of Japan, Kagaku-Dojin Publishing, Paragraphs 14-39, 2016)). Is commonly used. As such a living polymerization method, for example, a method of anionic polymerization using an organoalkali metal compound as a polymerization initiator in the presence of an organoaluminum compound, which is a method described in JP-A-11-335432, JP-A-6- A method for polymerizing an organoraluminal metal complex as a polymerization initiator, which is a method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 93060. Chem. Phys. A method of radical polymerization in the presence of a copper compound using an α-halogenated ester compound as an initiator, which is the method described in Vol. 201, pp. 1108 to 1114 (2000), described in Macromolecules, Vol. 26, pp. 2987 (1993). Nitroxyl group-mediated polymerization, a method according to Macromolecules, Vol. 28, p. 2093 (1995), Atom Transfer Radical Polymerization, a method according to Macromolecules, Vol. 31, p. 5559 (1998). Chain transfer polymerization and the like can be mentioned.
(1.2)マトリックス樹脂(D)
本発明の延伸フィルムは、前記ブロック共重合体(C)自体を樹脂成分として含んでいてもよく、ブロック共重合体(C)以外のマトリックス樹脂(D)を樹脂成分として含んでいてもよい。マトリックス樹脂(D)は、単独重合体又はランダム共重合体であってもよく、さらには該単独重合体及びランダム共重合体の2種以上からなるポリマーアロイであってもよい。マトリックス樹脂(D)を含む場合、ブロック共重合体(C)の量は、マトリックス樹脂(D)100質量部に対して、例えば、5質量部以上、好ましくは10質量部以上、より好ましくは15質量部以上であり、例えば、70質量部以下、好ましくは60質量部以下、より好ましくは50質量部以下である。
またブロック共重合体(C)のソフトセグメント(A)の量が、延伸フィルム100質量部中、例えば、1質量部以上、好ましくは3質量部以上、より好ましくは5質量部以上であり、例えば、50質量部以下、好ましくは40質量部以下、より好ましくは30質量部以下、さらに好ましくは25質量部以下であってもよい。上記範囲とすることで、後述のマトリックス樹脂と混合する際に溶融成型性に優れ、かつ延伸フィルムとした際に十分な透明性、引裂強度、可撓性を与えるブロック共重合体(C)を提供することができる。
(1.2) Matrix resin (D)
The stretched film of the present invention may contain the block copolymer (C) itself as a resin component, or may contain a matrix resin (D) other than the block copolymer (C) as a resin component. The matrix resin (D) may be a homopolymer or a random copolymer, or may be a polymer alloy composed of two or more of the homopolymer and the random copolymer. When the matrix resin (D) is contained, the amount of the block copolymer (C) is, for example, 5 parts by mass or more, preferably 10 parts by mass or more, and more preferably 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the matrix resin (D). It is 5 parts by mass or more, for example, 70 parts by mass or less, preferably 60 parts by mass or less, and more preferably 50 parts by mass or less.
The amount of the soft segment (A) of the block copolymer (C) is, for example, 1 part by mass or more, preferably 3 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more, for example, in 100 parts by mass of the stretched film. , 50 parts by mass or less, preferably 40 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less, still more preferably 25 parts by mass or less. Within the above range, a block copolymer (C) that is excellent in melt moldability when mixed with a matrix resin described later and that gives sufficient transparency, tear strength, and flexibility when made into a stretched film can be obtained. Can be provided.
マトリックス樹脂(D)としては、(メタ)アクリル系樹脂(D1)が好ましい。(メタ)アクリル系樹脂(D1)としては、(メタ)アクリル酸エステル単位および/または(メタ)アクリル酸単位を必須の構成単位として有するものが好ましく、(メタ)アクリル酸の誘導体に由来する構成単位を有していてもよい。 As the matrix resin (D), a (meth) acrylic resin (D1) is preferable. The (meth) acrylic resin (D1) preferably has a (meth) acrylic acid ester unit and / or a (meth) acrylic acid unit as essential constituent units, and is derived from a derivative of (meth) acrylic acid. It may have a unit.
前記(メタ)アクリル酸エステル(単位)は、(メタ)アクリル酸エステル(単位)及び(メタ)アクリル酸エステル誘導体(単位)のいずれであってもよく、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニルなどの(メタ)アクリル酸とヒドロキシ炭化水素とのエステル類((メタ)アクリル酸アルキル、(メタ)アクリル酸アリール、(メタ)アクリル酸アラルキルなど)、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニルオキシエチルなどのエーテル結合導入誘導体;(メタ)アクリル酸クロロメチル、(メタ)アクリル酸2−クロロエチルなどのハロゲン導入誘導体;及びヒドロキシ基導入誘導体が挙げられる。前記ヒドロキシ基導入誘導体には、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2,3,4,5,6−ペンタヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸2,3,4,5−テトラヒドロキシペンチルなどの(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル類;2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸アルキル(例えば、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸イソプロピル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸n−ブチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸t−ブチルなど)、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸アルキル(例えば、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸メチルなど)の2−(ヒドロキシアルキル)アクリル酸アルキルが含まれる。 The (meth) acrylic acid ester (unit) may be either a (meth) acrylic acid ester (unit) or a (meth) acrylic acid ester derivative (unit), for example, methyl (meth) acrylic acid, (. Ethyl acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, (meth) Esters of (meth) acrylic acid and hydroxycarbohydrates such as 2-ethylhexyl acrylate, benzyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate (alkyl (meth) acrylate, (meth)) Ether bond-introduced derivatives such as aryl acrylate, aralkyl (meth) acrylate), dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate; halogens such as chloromethyl (meth) acrylate, 2-chloroethyl (meth) acrylate. Introduced derivatives; and hydroxy group-introduced derivatives. The hydroxy group-introduced derivatives include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2,3,4,5,6-pentahydroxyhexyl (meth) acrylate, and (meth). Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2,3,4,5-tetrahydroxypentyl acrylate; alkyl 2- (hydroxymethyl) acrylate (eg, methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, 2- (hydroxy) Ethyl methyl) acrylate, isopropyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, n-butyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, t-butyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, etc.), 2- (hydroxyethyl) acrylate Includes alkyl 2- (hydroxyalkyl) acrylates of alkyl (eg, methyl 2- (hydroxyethyl) acrylate).
前記(メタ)アクリル酸(単位)は、(メタ)アクリル酸(単位)及び(メタ)アクリル酸誘導体(単位)のいずれであってもよく、例えば、アクリル酸、メタクリル酸などの(メタ)アクリル酸類;クロトン酸などのアルキル化(メタ)アクリル酸類;2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸などのヒドロキシアルキル化(メタ)アクリル酸類などが挙げられる。これらの中でも特に、フィルムの耐熱性、および透明性の観点からは、メタクリル酸メチルが好ましい。
(メタ)アクリル酸エステル(単位)、(メタ)アクリル酸(単位)およびこれらの誘導体(単位)は、それぞれ1種のみ有していてもよいし2種以上有していてもよい。
The (meth) acrylic acid (unit) may be any of (meth) acrylic acid (unit) and (meth) acrylic acid derivative (unit), and for example, (meth) acrylic such as acrylic acid and methacrylic acid. Acids: Alkylated (meth) acrylic acids such as crotonic acid; hydroxyalkylated (meth) acrylic acids such as 2- (hydroxymethyl) acrylic acid and 2- (hydroxyethyl) acrylic acid. Among these, methyl methacrylate is particularly preferable from the viewpoint of heat resistance and transparency of the film.
The (meth) acrylic acid ester (unit), the (meth) acrylic acid (unit) and their derivatives (units) may each have only one type or two or more types.
(メタ)アクリル系樹脂(D1)は、相溶性や光学特性改良の為、上述した(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸、およびこれらの誘導体から選ばれる1種以上のモノマーを他のモノマーと共重合することによって導入される他の構成単位を有していてもよい。このような他のモノマーとしては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メタリルアルコール、アリルアルコール、エチレン、プロピレン、4−メチル−1−ペンテン、酢酸ビニル、2−ヒドロキシメチル−1−ブテン、メチルビニルケトン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾールなどの重合性二重結合を有する単量体が挙げられる。これら他のモノマー(構成単位)は1種のみを有していてもよいし2種以上有していてもよい。 The (meth) acrylic resin (D1) contains the above-mentioned (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylic acid, and one or more monomers selected from these derivatives in order to improve compatibility and optical properties. It may have other building blocks introduced by copolymerizing with the monomer. Examples of such other monomers include styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, α-hydroxymethylstyrene, α-hydroxyethylstyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, metallic alcohol, allyl alcohol, ethylene, propylene, and the like. Examples thereof include monomers having a polymerizable double bond such as 4-methyl-1-pentene, vinyl acetate, 2-hydroxymethyl-1-butene, methylvinyl ketone, N-vinylpyrrolidone, and N-vinylcarbazole. These other monomers (constituent units) may have only one kind or two or more kinds.
前記(メタ)アクリル系樹脂(D1)は、環構造を有するものが好ましく、主鎖に環構造を有するものがより好ましい。当該環構造としては、ラクトン環構造、無水グルタル酸構造、グルタルイミド構造、無水マレイン酸構造、N−置換マレイミド構造などが挙げられる。各環構造の好ましい例、具体例、及びそれらの導入方法は重合体ブロック(B)で説明した環構造と同様である。 The (meth) acrylic resin (D1) preferably has a ring structure, and more preferably has a ring structure in the main chain. Examples of the ring structure include a lactone ring structure, a glutaric anhydride structure, a glutarimide structure, a maleic anhydride structure, and an N-substituted maleimide structure. Preferred examples, specific examples, and methods for introducing them are the same as those described in the polymer block (B).
(メタ)アクリル系樹脂(D1)がラクトン環構造を有する場合(好ましくは主鎖にラクトン環構造を有する場合)、当該樹脂(D1)におけるラクトン環構造の含有率は、特に限定はされないが、例えば5〜90質量%であることが好ましく、より好ましくは10〜80質量%、さらに好ましくは10〜70質量%、特に好ましくは15〜60質量%である。 When the (meth) acrylic resin (D1) has a lactone ring structure (preferably when the main chain has a lactone ring structure), the content of the lactone ring structure in the resin (D1) is not particularly limited. For example, it is preferably 5 to 90% by mass, more preferably 10 to 80% by mass, further preferably 10 to 70% by mass, and particularly preferably 15 to 60% by mass.
(メタ)アクリル系樹脂(D1)が無水グルタル酸構造あるいはグルタルイミド構造を有する場合(好ましくは主鎖に無水グルタル酸構造あるいはグルタルイミド構造を有する場合)、当該樹脂(D1)における無水グルタル酸構造あるいはグルタルイミド構造の含有率は、特に限定はされないが、例えば5〜90質量%であることが好ましく、より好ましくは10〜70質量%、さらに好ましくは10〜60質量%、特に好ましくは20〜50質量%である。 When the (meth) acrylic resin (D1) has a glutaric anhydride structure or a glutarimide structure (preferably when the main chain has a glutaric anhydride structure or a glutarimide structure), the glutaric anhydride structure in the resin (D1). Alternatively, the content of the glutarimide structure is not particularly limited, but is preferably, for example, 5 to 90% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, still more preferably 10 to 60% by mass, and particularly preferably 20 to 90% by mass. It is 50% by mass.
(メタ)アクリル系樹脂(D1)が無水マレイン酸構造あるいはN−置換マレイミド構造を有する場合(好ましくは主鎖に無水マレイン酸構造あるいはN−置換マレイミド構造を有する場合)、当該樹脂(D1)における無水マレイン酸構造あるいはN−置換マレイミド構造の含有率は、特に限定はされないが、例えば5〜90質量%であることが好ましく、より好ましくは10〜70質量%、さらに好ましくは10〜60質量%、特に好ましくは15〜50質量%である。 When the (meth) acrylic resin (D1) has a maleic anhydride structure or an N-substituted maleimide structure (preferably, the main chain has a maleic anhydride structure or an N-substituted maleimide structure), the resin (D1) has a structure. The content of the maleic anhydride structure or the N-substituted maleimide structure is not particularly limited, but is preferably, for example, 5 to 90% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, and further preferably 10 to 60% by mass. , Particularly preferably 15 to 50% by mass.
マトリックス樹脂(D)としては、上述した(メタ)アクリル系樹脂(D1)以外の樹脂を含有することも可能である。樹脂(D1)以外の樹脂を、正の固有複屈折性を有するポリマー(D2)、負の固有複屈折性を有するポリマー(D3)に分けて例示する。なお、ポリマーの固有複屈折の正負は、ポリマーの分子鎖が一軸配向した層(例えばフィルム)において、当該層の主面に垂直に入射した光のうち、当該層における分子鎖が配向する方向(配向軸)に平行な振動成分に対する層の屈折率n1から、配向軸に垂直な振動成分に対する層の屈折率n2を引いた値(n1−n2)に基づいて判断できる。ポリマーの固有複屈折の正負は、当該ポリマーに含まれる各構成単位によって生じる複屈折の兼ね合いにより決まる。ポリマーに正(あるいは負)の固有複屈折を与える作用を有する構成単位とは、当該単位のホモポリマーを形成したときに、形成したホモポリマーの固有複屈折が正(あるいは負)となる構成単位をいう。上述した環構造を有する重合体(好ましくは主鎖に環構造を有する重合体)は、典型的には正の固有複屈折性を示す。 As the matrix resin (D), it is also possible to contain a resin other than the (meth) acrylic resin (D1) described above. Resins other than the resin (D1) are classified into a polymer having a positive intrinsic birefringence (D2) and a polymer having a negative intrinsic birefringence (D3). The positive and negative of the intrinsic birefringence of the polymer is the direction in which the molecular chain of the polymer is oriented in a layer (for example, a film) in which the molecular chain of the polymer is uniaxially oriented among the light vertically incident on the main surface of the layer (for example, the film). It can be determined based on the value (n1-n2) obtained by subtracting the refractive index n2 of the layer for the vibration component perpendicular to the orientation axis from the refractive index n1 of the layer for the vibration component parallel to the alignment axis). The positive or negative of the intrinsic birefringence of a polymer is determined by the balance of birefringence caused by each structural unit contained in the polymer. A structural unit having an action of giving a positive (or negative) intrinsic birefringence to a polymer is a structural unit in which the intrinsic birefringence of the formed homopolymer becomes positive (or negative) when a homopolymer of the unit is formed. To say. The polymer having a ring structure described above (preferably a polymer having a ring structure in the main chain) typically exhibits positive intrinsic birefringence.
正の固有複屈折性を示すポリマー(D2)としては、シクロオレフィン重合体、セルロース誘導体等が挙げられる。 Examples of the polymer (D2) exhibiting positive intrinsic birefringence include cycloolefin polymers and cellulose derivatives.
負の固有複屈折性を示すポリマー(D3)としては、典型的には、側鎖に環構造を備えた構造単位を有するポリマーが挙げられる。例えば、芳香族基(フェニル基、ベンジル基、トリル基、キシリル基など)または複素芳香族基(例えばカルバゾール基、ピリジン基、イミダゾール基、チオフェン基など)を有するα,β−不飽和単量体単位、N−ビニルラクタム単位等の負の固有複屈折性に寄与する構造単位を有するポリマーが挙げられる。具体的には、芳香族基を有するα,β−不飽和単量体単位としては、例えばスチレン単位が挙げられ、具体的なポリマーとして、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−N−フェニルマレイミド共重合体、スチレン−アクリロニトリル−N−フェニルマレイミド共重合体が挙げられる。複素芳香族基を有するα,β−不飽和単量体単位としては、例えばN−ビニルカルバゾール単位、ビニルピリジン単位、ビニルイミダゾール単位およびビニルチオフェン単位が挙げられ、N−ビニルラクタム単位としては、例えば、N−ビニル−2−ピロリドン単位、N−ビニル−ε−カプロラクタム単位、N−ビニル−2−ピペリドン単位、N−ビニル−4−メチル−2−ピロリドン単位、N−ビニル−5−メチル−2−ピロリドン単位、N−ビニル−ω−ヘプタラクタム単位が挙げられる。これら構造単位は1種のみであってもよいし2種以上であってもよい。 A polymer (D3) exhibiting negative intrinsic birefringence typically includes a polymer having a structural unit with a ring structure in the side chain. For example, an α, β-unsaturated monomer having an aromatic group (phenyl group, benzyl group, trill group, xsilyl group, etc.) or a heteroaromatic group (eg, carbazole group, pyridine group, imidazole group, thiophene group, etc.) Examples include polymers having structural units that contribute to negative intrinsic polyrefractive properties, such as units, N-vinyllactam units. Specifically, examples of the α, β-unsaturated monomer unit having an aromatic group include a styrene unit, and specific polymers include a styrene-acrylonitrile copolymer and a styrene-N-phenylmaleimide. Examples include polymers and styrene-acrylonitrile-N-phenylmaleimide copolymers. Examples of the α, β-unsaturated monomer unit having a heteroaromatic group include N-vinylcarbazole unit, vinylpyridine unit, vinylimidazole unit and vinylthiophene unit, and examples of the N-vinyllactam unit include. , N-Vinyl-2-pyrrolidone unit, N-vinyl-ε-caprolactam unit, N-vinyl-2-piperidone unit, N-vinyl-4-methyl-2-pyrrolidone unit, N-vinyl-5-methyl-2 -Pyrrolidone unit, N-vinyl-ω-heptalactam unit can be mentioned. These structural units may be only one type or two or more types.
負の固有複屈折性を示すポリマーは、上述した負の固有複屈折性に寄与する構造単位のほかに、負の複屈折性を損なわない範囲において、他の構造単位を有していてもよい。他の構造単位としては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸アルキルエステル(例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、カルバゾイルエチルアクリレート)、メタクリル酸アルキルエステル(例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、カルバゾイルエチルメタクリレート)、アクリル酸アミノアルキルエステル(例えばジエチルアミノエチルアクリレート)、メタクリル酸アミノアルキルエステル、アクリル酸とグリコールとのモノエステル、メタクリル酸とグリコールとのモノエステル(例えばヒドロキシエチルメタクリレート)、アクリル酸のアルカリ金属塩、メタクリル酸のアルカリ金属塩、アクリル酸のアンモニウム塩、メタクリル酸のアンモニウム塩、アクリル酸アミノアルキルエステルの第4級アンモニウム誘導体、メタクリル酸アミノアルキルエステルの第4級アンモニウム誘導体、ジエチルアミノエチルアクリレートとメチルサルフェートとの第4級アンモニウム化合物、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルスルホン酸のアルカリ金属塩、ビニルスルホン酸のアンモニウム塩、アリルスルホン酸、アリルスルホン酸塩、メタリルスルホン酸、メタリルスルホン酸塩、酢酸ビニル、ビニルステアレート、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルホルムアミド、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−アルキルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N,N−メチレンビスアクリルアミド、グリコールジアクリレート、グリコールジメタクリレート、グリコールジアリルエーテル、アクリロニトリル等の単量体の重合により形成される構成単位が挙げられる。 The polymer exhibiting negative intrinsic birefringence may have other structural units in addition to the structural units that contribute to the negative intrinsic birefringence described above, as long as the negative birefringence is not impaired. .. Other structural units include acrylic acid, methacrylic acid, acrylic acid alkyl esters (eg methyl acrylate, ethyl acrylate, carbazoyl ethyl acrylate), methacrylic acid alkyl esters (eg methyl methacrylate, ethyl methacrylate, carbazoyl ethyl methacrylate), acrylics. Acid aminoalkyl esters (eg diethylaminoethyl acrylate), methacrylic acid aminoalkyl esters, monoesters of acrylic acid and glycol, monoesters of methacrylic acid and glycol (eg hydroxyethyl methacrylate), alkali metal salts of acrylic acid, methacrylic acid Alkali metal salt, ammonium salt of acrylic acid, ammonium salt of methacrylic acid, quaternary ammonium derivative of acrylic acid aminoalkyl ester, quaternary ammonium derivative of methacrylic acid aminoalkyl ester, diethylaminoethyl acrylate and methylsulfate. Quadruple ammonium compound, vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, alkali metal salt of vinyl sulfonic acid, ammonium salt of vinyl sulfonic acid, allyl sulfonic acid, allyl sulfonate, metharyl sulfonic acid, metharyl sulfonate, vinyl acetate , Vinyl stearate, N-vinylacetamide, N-vinylformamide, acrylamide, methacrylicamide, N-alkylacrylamide, N-methylolacrylamide, N, N-methylenebisacrylamide, glycol diacrylate, glycol dimethacrylate, glycol diallyl ether, Examples thereof include structural units formed by polymerization of monomers such as acrylonitrile.
(1.3)添加剤
本発明の延伸フィルムは、必要に応じて、さらに添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、酸化防止剤;耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤;ガラス繊維、炭素繊維等の補強材;紫外線吸収剤;近赤外線吸収剤;トリス(ジブロモプロピル)ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤;アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤;無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤;有機フィラーや無機フィラー;樹脂改質剤;有機充填剤や無機充填剤;可塑剤;滑剤;帯電防止剤;難燃剤;などが挙げられる。
(1.3) Additives The stretched film of the present invention may further contain additives, if necessary. Examples of the additive include an antioxidant; a light-resistant stabilizer, a weather-resistant stabilizer, a stabilizer such as a heat stabilizer; a reinforcing material such as a glass fiber and a carbon fiber; an ultraviolet absorber; a near-infrared absorber; a tris (dibromopropyl). ) Flame retardants such as phosphate, triallyl phosphate, antimony oxide; antistatic agents such as anionic, cationic and nonionic surfactants; colorants such as inorganic pigments, organic pigments and dyes; organic fillers and inorganic fillers; Resin modifiers; organic fillers and inorganic fillers; plasticizers; lubricants; antistatic agents; flame retardants; and the like.
酸化防止剤は、特に限定されないが、例えば、フェノール系、リン系あるいはイオウ系などの公知の酸化防止剤を、1種で、または2種以上を併用して用いることができる。
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、n−オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、n−オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アセテート、n−オクタデシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、n−ヘキシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、n−ドデシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオドデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ドデシル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、エチル−α−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシル−α−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシル−α−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−(n−オクチルチオ)エチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−(n−オクチルチオ)エチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−(2−ヒドロキシエチルチオ)エチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニル)プロピオネート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ステアリルアミド−N,N−ビス−[エチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、n−ブチルイミノ−N,N−ビス−[エチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル−7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,2−プロピレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ネオペンチルグリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、グリセリン−1−n−オクタデカノエート−2,3−ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス−[3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,1,1−トリメチロールエタントリス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ソルビトールヘキサ−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−ヒドロキシエチル−7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−ステアロイルオキシエチル−7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,6−n−ヘキサンジオールビス[(3’,5’−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリトリトールテトラキス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−[β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ]エチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]−ウンデカン、2,4−ジ−t−アミル−6−[1−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート等が挙げられる。
The antioxidant is not particularly limited, but for example, known antioxidants such as phenol-based, phosphorus-based, and sulfur-based can be used alone or in combination of two or more.
Examples of the phenolic antioxidant include n-octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate and n-octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl). -4-Hydroxyphenyl) acetate, n-octadecyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, n-hexyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylbenzoate, n-dodecyl -3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylbenzoate, neododecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, dodecyl-β- (3,5-di-) t-Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, ethyl-α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) isobutyrate, octadecyl-α- (4-hydroxy-3,5-di-t-) Butylphenyl) isobutyrate, octadecyl-α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2- (n-octylthio) ethyl-3,5-di-t-butyl- 4-Hydroxybenzoate, 2- (n-octylthio) ethyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylacetate, 2- (n-octadecylthio) ethyl-3,5-di-t-butyl- 4-Hydroxyphenylacetate, 2- (n-octadecylthio) ethyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, 2- (2-hydroxyethylthio) ethyl-3,5-di-t- Butyl-4-hydroxybenzoate, diethyl glycol bis- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-phenyl) propionate, 2- (n-octadecylthio) ethyl-3- (3,5-di-t) -Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, stearylamide-N, N-bis- [ethylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], n-butylimino-N, N -Bis- [ethylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2- (2-stearoyloxyethylthio) ethyl-3,5-di-t-butyl-4 -Hydroxybenzoate, 2- (2-stearoyloxyethylthio) ethyl-7- (3-methyl-5-t-butyl-4-hydroxyphenyl) heptanoate, 1,2-propylene glycolbis- [3- (3) , 5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], ethylene glycol bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], neopentyl glycol bis- [3 -(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], ethylene glycol bis- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylacetate), glycerin-1-n-octadeca Noate-2,3-bis- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylacetate), pentaerythritol tetrakis- [3- (3', 5'-di-t-butyl-4'-) Hydroxyphenyl) propionate], 1,1,1-trimethylol ethanetris- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], sorbitol hexa- [3- (3,5-) Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2-hydroxyethyl-7- (3-methyl-5-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2-stearoyloxyethyl-7- (3-) Methyl-5-t-butyl-4-hydroxyphenyl) heptanoate, 1,6-n-hexanediolbis [(3', 5'-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], pentaerythritol tetrakis ( 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate), 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene , 3,9-bis [1,1-dimethyl-2- [β- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] ethyl] -2,4,8,10-tetraoxa Spiro [5,5] -Undecane, 2,4-di-t-Amil-6- [1- (3,5-di-t-Amil-2-hydroxyphenyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl)- Examples thereof include 4-methylphenyl acrylate.
イオウ系酸化防止剤(特にチオエーテル系酸化防止剤)としては、例えば、ペンタエリスリチルテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)、ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート等が挙げられる。 Examples of sulfur-based antioxidants (particularly thioether-based antioxidants) include pentaerythrityl tetrakis (3-laurylthiopropionate), dilauryl-3,3'-thiodipropionate, and dimyristyl-3,3'. -Thiodipropionate, distearyl-3,3'-thiodipropionate and the like can be mentioned.
リン系酸化防止剤(リン酸系酸化防止剤)としては、例えば、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト、2−[[2,4,8,10−テトラキス(1,1−ジメチルエチル)ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサフォスフェピン−6−イル]オキシ]−N,N−ビス[2−[[2,4,8,10−テトラキス(1,1−ジメチルエチル)ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサフォスフェピン−6−イル]オキシ]−エチル]エタナミン、ジフェニルトリデシルフォスファイト、トリフェニルフォスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリストールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジフォスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)フォスファイト等が挙げられる。 Examples of the phosphorus-based antioxidant (phosphate-based antioxidant) include tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite and 2-[[2,4,8,10-tetrakis (1,)). 1-Dimethylethyl) dibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosfepine-6-yl] oxy] -N, N-bis [2-[[2,4,8,10-tetrakis] (1,1-Dimethylethyl) Dibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosfepine-6-yl] oxy] -ethyl] etanamine, diphenyltridecylphosphite, triphenylphosphite, 2 , 2-Methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octylphosphite, bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaeristol diphosphite, distearylpentaerythritol diphos Examples thereof include phyto, cyclic neopentanetetraylbis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) phosphite and the like.
紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾエート系化合物、トリアゾール系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、4−n−オクチルオキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクチルオキシベンゾフェノン、ビス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシフェニル)メタン、1,4−ビス(4−ベンゾイル−3−ヒドロキシフェノン)−ブタン等が挙げられる。 Examples of the ultraviolet absorber include benzophenone compounds, salicylate compounds, benzoate compounds, triazole compounds, triazine compounds and the like. Examples of the benzophenone compound include 2,4-dihydroxybenzophenone, 4-n-octyloxy-2-hydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, and 2-hydroxy-4-n-. Examples thereof include octyloxybenzophenone, bis (5-benzoyl-4-hydroxy-2-methoxyphenyl) methane, and 1,4-bis (4-benzoyl-3-hydroxyphenone) -butane.
サリシケート系化合物としては、例えば、p−t−ブチルフェニルサリシケート等が挙げられる。
ベンゾエート系化合物としては、例えば、2,4−ジ−t−ブチルフェニル−3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。
また、トリアゾール系化合物としては、例えば、2,2’−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]、2−(3,5−ジ−tert−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−p−クレゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール、2−ベンゾトリアゾール−2−イル−4,6−ジ−tert−ブチルフェノール、2−[5−クロロ(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル]−4−メチル−6−t−ブチルフェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ジ−t−ブチルフェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−メチル−6−(3,4,5,6−テトラヒドロフタルイミジルメチル)フェノール、メチル3−(3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート/ポリエチレングリコール300の反応生成物、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、2−(5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−C7−9側鎖及び直鎖アルキルエステルが挙げられる。
Examples of the silicate-based compound include pt-butylphenyl silicate and the like.
Examples of the benzoate compound include 2,4-di-t-butylphenyl-3', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzoate and the like.
Examples of the triazole-based compound include 2,2'-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazole-2-yl) phenol], 2-. (3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2H-benzotriazole-2-yl) -p-cresol, 2- (2H-benzotriazole-2-) Il) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, 2-benzotriazole-2-yl-4,6-di-tert-butylphenol, 2- [5-chloro (2H) -benzo Triazole-2-yl] -4-methyl-6-t-butylphenol, 2- (2H-benzotriazole-2-yl) -4,6-di-t-butylphenol, 2- (2H-benzotriazole-2-) Il) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol, 2- (2H-benzotriazole-2-yl) -4-methyl-6- (3,4,5,6-tetrahydrophthal) Imidylmethyl) phenol, methyl 3- (3- (2H-benzotriazole-2-yl) -5-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate / polyethylene glycol 300 reaction product, 2- (2H-benzo Triazole-2-yl) -6- (straight and side chain dodecyl) -4-methylphenol, 2- (5-methyl-2-hydroxyphenyl) benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3,5-bis (Α, α-Dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 3- (2H-benzotriazole-2-yl) -5- (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy-C7-9 side chain and Examples include linear alkyl esters.
さらに、トリアジン系化合物としては、例えば、2−モノ(ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン化合物や2,4−ビス(ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン化合物、2,4,6−トリス(ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン化合物が挙げられ、具体的には、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシエトキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−6−(2,4−ジブトキシフェニル)−1,3−5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−エトキシエトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−ブトキシエトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−プロポキシエトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−メトキシカルボニルプロピルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−エトキシカルボニルエチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−(1−(2−エトキシヘキシルオキシ)−1−オキソプロパン−2−イルオキシ)フェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−エトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−ヘキシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−ドデシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−エトキシエトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−ブトキシエトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−プロポキシエトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−メトキシカルボニルプロピルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−エトキシカルボニルエチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−(1−(2−エトキシヘキシルオキシ)−1−オキソプロパン−2−イルオキシ)フェニル)−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。 Further, examples of the triazine-based compound include 2-mono (hydroxyphenyl) -1,3,5-triazine compound and 2,4-bis (hydroxyphenyl) -1,3,5-triazine compound, 2,4. Examples include 6-tris (hydroxyphenyl) -1,3,5-triazine compounds, specifically 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1,3,5- Triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-ethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-propoxyphenyl) -1,3, 5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -1, 3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-octyl) Oxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-dodecyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2) -Hydroxy-4-benzyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-butoxyethoxy) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (2-Hydrazine-4-butoxyphenyl) -6- (2,4-dibutoxyphenyl) -1,3-5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1 , 3,5-Triazine, 2,4,6-Tris (2-hydroxy-4-ethoxyphenyl) -1,3,5-Triazine, 2,4,6-Tris (2-hydroxy-4-propoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) Phenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy- 4-octyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-dodecyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6 -Tris (2-hydroxy-4-benzyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-ethoxyethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2 , 4,6-Tris (2-Hydroxy-4-butoxyethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-Tris (2-Hydroxy-4-propoxyethoxyphenyl) -1,3,5 -Triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-methoxycarbonylpropyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-ethoxycarbonylethyloxy) Phenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4- (1- (2-ethoxyhexyloxy) -1-oxopropan-2-yloxy) phenyl) -1, 3,5-Triazine, 2,4,6-Tris (2-Hydroxy-3-methyl-4-methoxyphenyl) -1,3,5-Triazine, 2,4,6-Tris (2-Hydroxy-3-3) Methyl-4-ethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-3-methyl-4-propoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4 6-Tris (2-Hydroxy-3-methyl-4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-Tris (2-Hydroxy-3-methyl-4-butoxyphenyl) -1, 3,5-Triazine, 2,4,6-Tris (2-Hydroxy-3-methyl-4-hexyloxyphenyl) -1,3,5-Triazine, 2,4,6-Tris (2-Hydroxy-3) -Methyl-4-octyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-3-methyl-4-dodecyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2 , 4,6-Tris (2-Hydroxy-3-methyl-4-benzyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-Tris (2-Hydroxy-3-methyl-4-ethoxyethoxy) Phenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-3-methyl-4-butoxyethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-3-methyl-4-butoxyethoxyphenyl) 2-Hydroxy-3-methyl-4-propoxyethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-3-methyl-4-methoxycarbonylpro) Pyroxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-3-methyl-4-ethoxycarbonylethyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4 6-Tris (2-hydroxy-3-methyl-4- (1- (2-ethoxyhexyloxy) -1-oxopropan-2-yloxy) phenyl) -1,3,5-triazine and the like can be mentioned.
その中でも、非晶性の熱可塑性樹脂、特にアクリル樹脂と相溶性が高く吸収特性が優れている点から、2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−(3−アルキルオキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−5−α−クミルフェニル]−s−トリアジン骨格(アルキルオキシ;オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシなどの長鎖アルキルオキシ基)を有する紫外線吸収剤が挙げられる。 Among them, 2,4-bis (2,4-dimethylphenyl) -6- [2-hydroxy-4. An ultraviolet absorber having a-(3-alkyloxy-2-hydroxypropyloxy) -5-α-cumylphenyl] -s-triazine skeleton (alkyloxy; long-chain alkyloxy groups such as octyloxy, nonyloxy, and decyloxy) can be mentioned. Be done.
また、2,4,6−トリス(ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン骨格を有する紫外線吸収剤が好ましく用いられ、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−長鎖アルキルオキシ基置換フェニル)−1,3,5−トリアジン骨格や2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−アルキル−4−長鎖アルキルオキシ基置換フェニル)−1,3,5−トリアジン骨格を有する紫外線吸収剤が特に好ましいトリアジン系紫外線吸収剤である。市販品としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤として「チヌビン(登録商標)1577」、「チヌビン(登録商標)460」、「チヌビン(登録商標)477」(BASFジャパン製)、「アデカスタブン(登録商標)LA−F70」(ADEKA製)、トリアゾール系紫外線吸収剤として「アデカスタブン(登録商標)LA−31」(ADEKA製)等が挙げられる。これらは単独で、または2種類以上の組み合わせで使用することができる。 Further, an ultraviolet absorber having a 2,4,6-tris (hydroxyphenyl) -1,3,5-triazine skeleton is preferably used, and 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-long chain alkyloxy) is preferably used. Group-substituted phenyl) -1,3,5-triazine skeleton and 2,4,6-tris (2-hydroxy-3-alkyl-4-long-chain alkyloxy group-substituted phenyl) -1,3,5-triazine skeleton The UV absorber to have is a triazine-based UV absorber which is particularly preferable. Examples of commercially available products include "Tinubin (registered trademark) 1577", "Tinubin (registered trademark) 460", "Tinubin (registered trademark) 477" (manufactured by BASF Japan), and "Adeka Tabun (registered trademark)" as triazine-based ultraviolet absorbers. ) LA-F70 ”(manufactured by ADEKA), examples of the triazole-based ultraviolet absorber include“ ADEKA STABUN (registered trademark) LA-31 ”(manufactured by ADEKA). These can be used alone or in combination of two or more.
延伸フィルム中の前記添加剤の含有割合は、好ましくは0〜5質量%、より好ましくは0〜2質量%である。 The content ratio of the additive in the stretched film is preferably 0 to 5% by mass, more preferably 0 to 2% by mass.
(1.4)延伸フィルム
本発明の延伸フィルムは、上記成分を含むものであり、可撓性が高められつつ引裂強度も保持され、さらにヘイズ値も低いものとなる。
(1.4) Stretched film The stretched film of the present invention contains the above-mentioned components, and has high flexibility, retains tear strength, and has a low haze value.
本発明の延伸フィルムは、以下の方法で測定される耐折回数向上指数が、好ましくは1.1以上、より好ましくは1.5以上、さらに好ましくは2以上であり、例えば10以下、さらには5以下であってもよい。
[耐折回数向上指数の測定方法]
前記延伸フィルムに含まれるマトリックス樹脂のみを前記延伸フィルムと同条件で延伸することによって得られるマトリックスフィルムと、前記延伸フィルムとを、それぞれ長さ90mm、幅15mm、厚さ40μmに成型し、23℃、50%RHの状態に1時間以上静置し、折り曲げ角度135°、折り曲げ速度175cpm、荷重200gの条件で往復折り曲げして、破断するまでの往復折り曲げ回数を5枚ずつ測定する。延伸フィルムについて測定した往復折り曲げ回数の平均値を耐折回数M1、前記マトリックス樹脂の延伸フィルムについて測定した往復折り曲げ回数の平均値を耐折回数M0として、それらの比(M1/M0)を耐折回数向上指数とする。
The stretched film of the present invention has a folding resistance improvement index measured by the following method, preferably 1.1 or more, more preferably 1.5 or more, still more preferably 2 or more, for example, 10 or less, and further. It may be 5 or less.
[Measurement method of folding resistance improvement index]
The matrix film obtained by stretching only the matrix resin contained in the stretched film under the same conditions as the stretched film and the stretched film were molded into a length of 90 mm, a width of 15 mm, and a thickness of 40 μm, respectively, at 23 ° C. The film is allowed to stand at 50% RH for 1 hour or more, and is reciprocally bent under the conditions of a bending angle of 135 °, a bending speed of 175 cpm, and a load of 200 g, and the number of reciprocating bends until the film is broken is measured by 5 sheets each. Folding number M 1 the average value of the reciprocating folding number was measured for the stretched film, the average value of the reciprocating folding number was measured for the stretched film of the matrix resin as a folding number M 0, their ratio (M 1 / M 0 ) Is used as the folding resistance improvement index.
また本発明の延伸フィルムは、以下の方法で測定される引裂強度保持指数が、好ましくは0.50以上、より好ましくは0.76以上、さらに好ましくは0.8以上であり、例えば2以下、より好ましくは1.5以下、さらに好ましくは1.2以下であってもよい。
[引裂強度保持指数の測定方法]
前記延伸フィルムに含まれるマトリックス樹脂のみを前記延伸フィルムと同条件で延伸することによって得られるマトリックスフィルムと、前記延伸フィルムとを、それぞれ長さ120mm、幅30mm、厚さ40μmに成型し200mm/minの試験速度で試験を行い、引裂強度を測定する。延伸フィルムについて測定した引裂強度Tr1と、前記マトリックス樹脂の延伸フィルムについて測定した引裂強度Tr0との比(Tr1/Tr0)を引裂強度保持指数とする。
Further, the stretched film of the present invention has a tear strength retention index measured by the following method, preferably 0.50 or more, more preferably 0.76 or more, still more preferably 0.8 or more, for example, 2 or less. It may be more preferably 1.5 or less, still more preferably 1.2 or less.
[Measurement method of tear strength retention index]
The matrix film obtained by stretching only the matrix resin contained in the stretched film under the same conditions as the stretched film and the stretched film are molded into a length of 120 mm, a width of 30 mm, and a thickness of 40 μm, respectively, at 200 mm / min. Perform the test at the test speed of and measure the tear strength. A tear strength Tr 1 measured for stretched film, a ratio (Tr 1 / Tr 0) tear strength retention index and tear strength Tr 0 measured for the stretched film of the matrix resin.
本発明の延伸フィルムのヘイズは、好ましくは0.5%以下、より好ましくは0.3%以下、さらに好ましくは0.2%以下であり、例えば0.01%以上、より好ましくは0.02%以上、さらに好ましくは0.03%以上であってもよい。 The haze of the stretched film of the present invention is preferably 0.5% or less, more preferably 0.3% or less, still more preferably 0.2% or less, for example, 0.01% or more, more preferably 0.02. % Or more, more preferably 0.03% or more.
延伸フィルムの厚さは、その用途によって異なるので一概には定めることはできないが、例えば、1μm以上、400μm以下であることが好ましい。特に、延伸フィルムを、画像表示装置に用いられる保護フィルム、反射防止フィルム、偏光フィルム等の用途に用いる場合には、当該延伸フィルムの厚さは、1μm以上が好ましく、10μm以上がより好ましく、20μm以上がさらに好ましく、また250μm以下が好ましく、100μm以下がより好ましく、80μm以下がさらに好ましい。また、延伸フィルムを透明導電性フィルムの用途に用いる場合には、当該延伸フィルムの厚さは、20μm以上が好ましく、30μm以上がより好ましく、40μm以上がさらに好ましく、また400μm以下が好ましく、350μm以下がより好ましく、300μm以下がさらに好ましい。延伸フィルムの厚さは、例えば、デジマチックマイクロメーター(ミツトヨ社製)を用いて測定する。 The thickness of the stretched film cannot be unconditionally determined because it varies depending on the application, but it is preferably 1 μm or more and 400 μm or less, for example. In particular, when the stretched film is used for applications such as a protective film, an antireflection film, and a polarizing film used in an image display device, the thickness of the stretched film is preferably 1 μm or more, more preferably 10 μm or more, and more preferably 20 μm. The above is more preferable, 250 μm or less is preferable, 100 μm or less is more preferable, and 80 μm or less is further preferable. When the stretched film is used for a transparent conductive film, the thickness of the stretched film is preferably 20 μm or more, more preferably 30 μm or more, further preferably 40 μm or more, still preferably 400 μm or less, and preferably 350 μm or less. Is more preferable, and 300 μm or less is further preferable. The thickness of the stretched film is measured using, for example, a digital micrometer (manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.).
延伸フィルムは、例えば、光ディスクの保護フィルム、液晶表示装置等の画像表示装置の偏光板に用いられる偏光子保護フィルム、位相差フィルム、視野角補償フィルム、光拡散フィルム、反射フィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム、輝度向上フィルム、タッチパネル用導電フィルム、拡散板、導光体、プリズムシート等の光学用途に用いることができる。従って、延伸フィルムは、例えば、液晶表示装置、有機EL表示装置等の画像表示装置、静電容量式タッチパネル等の用途に好適に使用することが期待される。 The stretched film includes, for example, a protective film for an optical disk, a polarizing element protective film used for a polarizing plate of an image display device such as a liquid crystal display device, a retardation film, a viewing angle compensation film, a light diffusing film, a reflective film, and an antireflection film. It can be used for optical applications such as antiglare films, brightness improving films, conductive films for touch panels, diffusers, light guides, and prism sheets. Therefore, the stretched film is expected to be suitably used for applications such as liquid crystal display devices, image display devices such as organic EL display devices, and capacitive touch panels.
延伸フィルムを偏光子保護フィルムに適用する場合は、偏光子の片面または両面に延伸フィルム(偏光子保護フィルム)を設けて、偏光板を構成すればよい。偏光子の種類は特に限定されず、例えば、ポリビニルアルコールフィルムを染色、延伸して得た偏光子;脱水処理したポリビニルアルコールあるいは脱塩酸処理したポリ塩化ビニルなどのポリエン偏光子;多層積層体あるいはコレステリック液晶を用いた反射型偏光子;薄膜結晶フィルムからなる偏光子等が挙げられる。偏光板の構造の一例としては、ポリビニルアルコールをヨウ素または二色性染料などの二色性物質により染色した後に一軸延伸して偏光子を得て、この偏光子の片面または両面に偏光子保護フィルム(延伸フィルム)を接合させた構造が挙げられる。 When the stretched film is applied to the polarizer protective film, the stretched film (polarizer protective film) may be provided on one side or both sides of the polarizer to form a polarizing plate. The type of the polarizer is not particularly limited, and for example, a polarizer obtained by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol film; a polyene polarizer such as a dehydrated polyvinyl alcohol or a dehydroxylated polyvinyl chloride; a multilayer laminate or cholesteric. Reflective polarizer using a liquid crystal; a polarizer made of a thin film crystal film and the like can be mentioned. As an example of the structure of the polarizing plate, polyvinyl alcohol is dyed with a dichroic substance such as iodine or a dichroic dye, and then uniaxially stretched to obtain a polarizing element, and a polarizing element protective film is formed on one or both sides of the polarizing element. Examples thereof include a structure in which (stretched films) are bonded.
本発明の延伸フィルムは、光学特性に優れ、かつ可撓性にも優れたものとなるため、多岐にわたる用途への適用が可能である。中でも、光学用に好適に使用することができ、特に光学フィルム等の原料として好適に使用することができる。 Since the stretched film of the present invention has excellent optical properties and excellent flexibility, it can be applied to a wide range of applications. Above all, it can be suitably used for optics, and in particular, it can be suitably used as a raw material for an optical film or the like.
本発明の延伸フィルムは、ブロック共重合体(C)と、必要に応じて用いるマトリックス樹脂(D)及び添加剤を含む樹脂組成物を調製し、この樹脂組成物を溶融成形し、さらに延伸することによって形成できる。 The stretched film of the present invention prepares a resin composition containing a block copolymer (C), a matrix resin (D) used as necessary, and an additive, melt-molds the resin composition, and further stretches the resin composition. Can be formed by
前記樹脂組成物を溶融成形する方法としては、例えば、Tダイ法、インフレーション法等の溶融押出成形法、キャスト成形法、プレス成形法等が挙げられ、溶融押出成形法によって製造する場合は、単軸押出機や二軸押出機等を用いることができる。 Examples of the method for melt-molding the resin composition include a melt extrusion molding method such as a T-die method and an inflation method, a cast molding method, a press molding method, and the like. A shaft extruder, a twin-screw extruder, or the like can be used.
本発明の延伸フィルムは、一軸延伸フィルムまたは二軸延伸フィルムのいずれでもよいが、二軸延伸フィルムが特に好ましい。二軸延伸した場合は、直交する2つの方向に延伸するので、フィルム面内の任意の方向についての機械的破壊強度が向上し、フィルム性能が向上する。また、フィルムの面内位相差を小さくし、光学等方性の高い延伸フィルムを得やすくなる。二軸延伸フィルムである場合は、同時二軸延伸フィルムまたは逐次二軸延伸フィルムのいずれでもよい。 The stretched film of the present invention may be either a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film, but a biaxially stretched film is particularly preferable. In the case of biaxial stretching, since the film is stretched in two orthogonal directions, the mechanical fracture strength in an arbitrary direction in the film plane is improved, and the film performance is improved. Further, the in-plane phase difference of the film is reduced, and it becomes easy to obtain a stretched film having high optical isotropic properties. When it is a biaxially stretched film, it may be either a simultaneous biaxially stretched film or a sequential biaxially stretched film.
延伸フィルムの延伸倍率は、縦方向および当該縦方向に直交する横方向のいずれの方向においても、それぞれ、1.5倍〜3.0倍程度であることが好ましく、1.5倍〜2.8倍程度であることがより好ましい。 The draw ratio of the stretched film is preferably about 1.5 times to 3.0 times, and 1.5 times to 2. times, respectively, in both the vertical direction and the horizontal direction orthogonal to the vertical direction. More preferably, it is about 8 times.
延伸フィルムの表面に透明導電層が形成された光学フィルムは、透明導電フィルムとして用いることができる。透明導電層としては、例えば、インジウム−スズ系酸化物(ITO)層等の赤外線を反射する性質を有する無機化合物層、銀、銅、ニッケル、タングステン等の金属からなる金属メッシュ層などが挙げられる。 An optical film having a transparent conductive layer formed on the surface of the stretched film can be used as the transparent conductive film. Examples of the transparent conductive layer include an inorganic compound layer having a property of reflecting infrared rays such as an indium-tin oxide (ITO) layer, and a metal mesh layer made of a metal such as silver, copper, nickel and tungsten. ..
延伸フィルムは、必要に応じて、少なくとも一方の表面にコーティング層が設けられていてもよい。コーティング層としては、例えば、帯電防止層、粘着剤層、接着剤層、易接着層、防眩(ノングレア)層、光触媒層、防汚層、反射防止層、ハードコート層、紫外線遮蔽層、熱線遮蔽層、電磁波遮蔽層、ガスバリヤー層等が挙げられる。また、延伸フィルムの表面に、入射される光線の透過率または反射率を適宜調整するための光学調整層が設けられていてもよい。 The stretched film may be provided with a coating layer on at least one surface, if necessary. Examples of the coating layer include an antistatic layer, an adhesive layer, an adhesive layer, an easy-adhesion layer, an antiglare (non-glare) layer, a photocatalyst layer, an antifouling layer, an antireflection layer, a hard coat layer, an ultraviolet shielding layer, and a heat ray. Examples thereof include a shielding layer, an electromagnetic wave shielding layer, and a gas barrier layer. Further, an optical adjustment layer for appropriately adjusting the transmittance or reflectance of the incident light rays may be provided on the surface of the stretched film.
延伸フィルムを備えた画像表示装置としては、例えば、液晶表示装置が挙げられる。液晶表示装置は、画像表示部が、液晶セル、偏光板、バックライト等の部材とともに、本発明の延伸フィルムを有するように構成することができる。この場合、画像表示装置は、例えば、偏光板を構成する偏光子保護フィルムとして延伸フィルムを備える。 Examples of the image display device provided with the stretched film include a liquid crystal display device. The liquid crystal display device can be configured such that the image display unit has the stretched film of the present invention together with members such as a liquid crystal cell, a polarizing plate, and a backlight. In this case, the image display device includes, for example, a stretched film as a polarizer protective film constituting a polarizing plate.
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。なお以下においては、特に断りのない限り、「部」は「質量部」を、「%」は「質量%」を意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited by the following examples as well as the present invention, and appropriate modifications are made to the extent that it can be adapted to the gist of the above and the following. Of course, it is possible to carry out, and all of them are included in the technical scope of the present invention. In the following, unless otherwise specified, "part" means "part by mass" and "%" means "% by mass".
以下の実施例における各種物性の測定および評価は、以下の方法で行った。
<重量平均分子量>
ブロックポリマー及び重合体の重量平均分子量Mwは、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)を用いて、ポリスチレン換算により求めた。測定に用いた装置および測定条件は以下の通りである。
システム:東ソー株式会社製GPCシステム HLC−8220
測定側カラム構成
・ガードカラム:東ソー株式会社製、TSKguardcolumn SuperHZ−L
・分離カラム:東ソー株式会社製、TSKgel SuperHZM−M 2本直列接続
リファレンス側カラム構成
・リファレンスカラム:東ソー株式会社製、TSKgel SuperH−RC
展開溶媒:クロロホルム(和光純薬工業株式会社製、特級)
展開溶媒の流量:0.6mL/分
標準試料:TSK標準ポリスチレン(東ソー株式会社製、PS−オリゴマーキット)
カラム温度:40℃
The measurement and evaluation of various physical properties in the following examples were carried out by the following methods.
<Weight average molecular weight>
The weight average molecular weight Mw of the block polymer and the polymer was determined by polystyrene conversion using gel permeation chromatography (GPC). The equipment and measurement conditions used for the measurement are as follows.
System: GPC system HLC-8220 manufactured by Tosoh Corporation
Measurement side column configuration ・ Guard column: manufactured by Tosoh Corporation, TSKguardcolum SuperHZ-L
-Separation column: Tosoh Corporation, TSKgel SuperHZM-M 2 series connection Reference side column configuration-Reference column: Tosoh Corporation, TSKgel SuperH-RC
Developing solvent: Chloroform (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., special grade)
Flow rate of developing solvent: 0.6 mL / min Standard sample: TSK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation, PS-oligomer kit)
Column temperature: 40 ° C
<モノマー転化率の算出>
転化率は、ガスクロマトグラフィー(島津製作所社製、装置名:GC−2014)を用
いて残存モノマー量を測定することで求めた。
<Calculation of monomer conversion rate>
The conversion rate was determined by measuring the amount of residual monomer using gas chromatography (manufactured by Shimadzu Corporation, device name: GC-2014).
<ガラス転移温度>
ブロック共重合体のガラス転移温度(Tg)は、JIS K7121の規定に準拠して始点法により求めた。40℃以上で観測されるTgは、具体的には、示差走査熱量計(株式会社リガク製、DSC−8230)を用い、窒素ガス雰囲気下、約10mgのサンプルを25℃から毎分10℃の昇温速度で200℃まで昇温を複数回繰り返すことで安定させたDSC曲線から得た。尚、リファレンスにはα−アルミナを用いた。
また、40℃未満で観測されるTgは、示差走査熱量計(NETZSCH社製、DSC3500A)を用い、窒素ガス雰囲気下、約10mgのサンプルを−100℃から毎分20℃の昇温速度で100℃まで昇温を複数回繰り返すことで安定させたDSC曲線から得た。
<Glass transition temperature>
The glass transition temperature (Tg) of the block copolymer was determined by the starting point method in accordance with the provisions of JIS K7121. Specifically, for Tg observed at 40 ° C. or higher, a differential scanning calorimeter (DSC-8230, manufactured by Rigaku Co., Ltd.) was used, and a sample of about 10 mg was sampled at 25 ° C. to 10 ° C. per minute under a nitrogen gas atmosphere. It was obtained from a DSC curve stabilized by repeating the temperature rise to 200 ° C. at a heating rate a plurality of times. In addition, α-alumina was used as a reference.
For Tg observed at less than 40 ° C, a differential scanning calorimeter (NETZSCH, DSC3500A) was used, and a sample of about 10 mg was sampled at a heating rate of -100 ° C to 20 ° C per minute under a nitrogen gas atmosphere. It was obtained from a DSC curve stabilized by repeating the temperature rise to ° C. a plurality of times.
<ソフトセグメント量>
1H−NMR、13C−NMRより、メタクリレート単量体由来の繰り返し単位、およびアクリレート単量体由来の繰り返し単位を同定し、1H−NMRでの積分値から各単位の存在量を算出した。
測定機器:Varian社製 Unity Plus400、またはBRUKER製、AVANCEIII
測定溶媒:CDCl3、又はd−acetone
<Amount of soft segment>
The repeating unit derived from the methacrylate monomer and the repeating unit derived from the acrylate monomer were identified from 1 H-NMR and 13 C-NMR, and the abundance of each unit was calculated from the integrated value in 1 H-NMR. ..
Measuring equipment: Unity Plus400 manufactured by Varian, or AVANCE III manufactured by BRUKER
Measuring solvent: CDCl 3 , or d-acetone
<フィルムの作製>
ブロック共重合体あるいは樹脂組成物を、手動式加熱プレス機(井元製作所製、IMC−180C型)を用い溶融プレス成形し160±10μmの未延伸フィルムを作製した。
<Production of film>
The block copolymer or resin composition was melt-press molded using a manual heating press (manufactured by Imoto Seisakusho, IMC-180C type) to prepare an unstretched film of 160 ± 10 μm.
<フィルムの厚さ>
フィルムの厚さは、デジマチックマイクロメーター(ミツトヨ社製)を用いて測定した。以降に評価方法を示す物性を含め、フィルムの物性を測定、評価するためのサンプルは、フィルムの幅方向の中央部から取得した。
<Film thickness>
The thickness of the film was measured using a digital micrometer (manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.). Samples for measuring and evaluating the physical properties of the film, including the physical properties showing the evaluation method below, were obtained from the central portion in the width direction of the film.
<フィルムの引張弾性率>
引張弾性率は、試験片サイズを80mm×20mmで初めのチャック間距離40mmとした以外は、JIS K7161ならびにJIS K7127の規定に準拠して引張試験を行い求めた。具体的には、前記試験片サイズに切り出したフィルムを恒温恒湿室(23℃、60%RH設定)で12時間以上調温調湿後、オートグラフ(AGS−X、島津製作所製)を用いて、23℃、10mm/分の速度で引張試験を行い、得られたひずみ0.01%〜2%に対応する応力をy軸、ひずみをx軸として、最小二乗法で得られた直線の傾きを求め、その値を引張弾性率[GPa]とした。
<Tensile modulus of film>
The tensile elastic modulus was determined by performing a tensile test in accordance with the provisions of JIS K7161 and JIS K7127, except that the test piece size was 80 mm × 20 mm and the initial chuck distance was 40 mm. Specifically, the film cut out to the size of the test piece is controlled by temperature and humidity in a constant temperature and humidity chamber (23 ° C., 60% RH setting) for 12 hours or more, and then an autograph (AGS-X, manufactured by Shimadzu Corporation) is used. Then, a tensile test was performed at a speed of 23 ° C. and 10 mm / min, and the stress corresponding to the obtained strain of 0.01% to 2% was defined as the y-axis and the strain was defined as the x-axis. The inclination was obtained, and the value was taken as the tensile elastic modulus [GPa].
<フィルムのヘイズ>
フィルムのヘイズは、日本電色工業社製NDH−1001DPを用いて石英セルに1,2,3,4−テトラヒドロナフタリン(テトラリン)を満たし、その中にフィルムを浸漬して測定し、内部ヘイズ値として算出した。
<Film haze>
The haze of the film was measured by filling a quartz cell with 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene (tetralin) using NDH-1001DP manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd. and immersing the film in it. It was calculated as.
<耐折回数(MIT)>
フィルムの耐折回数は、JIS P8115に準拠して測定した。具体的には、長さ90mm、幅15mmの2種類の試験フィルムを23℃、50%RHの状態に1時間以上静置させてから使用し、MIT耐折疲労試験機(東洋精機製、DA型)を用いて、折り曲げ角度135°、折り曲げ速度175cpm、荷重200gの条件で試験を行い、5枚のサンプルのフィルムが破断するまでの回数の平均値をそれぞれ求めた。
<Folding resistance (MIT)>
The number of times the film was folded was measured according to JIS P8115. Specifically, two types of test films having a length of 90 mm and a width of 15 mm are allowed to stand at 23 ° C. and 50% RH for 1 hour or more before use, and a MIT fracture resistance tester (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd., DA) is used. The test was carried out under the conditions of a bending angle of 135 °, a bending speed of 175 cpm, and a load of 200 g, and the average value of the number of times until the films of the five samples were broken was obtained.
<トラウザー引裂強度>
フィルムのトラウザー引裂強度は、JIS K7128−1に準拠して行った。具体的には、長さ120mm、幅30mmの試験フィルムを23℃、50%RHの状態に1時間以上静置させてから使用し、オートグラフ(島津製作所社製、AGS−X)を用いて200mm/minの試験速度で試験を行い、引裂開始の20mmと引裂終了前の5mmを除外した35mmの平均値を算出し、5枚のサンプルの平均値を測定結果とした。
<Truser tear strength>
The trouser tear strength of the film was determined in accordance with JIS K7128-1. Specifically, a test film having a length of 120 mm and a width of 30 mm is allowed to stand at 23 ° C. and 50% RH for 1 hour or more before use, and an autograph (manufactured by Shimadzu Corporation, AGS-X) is used. The test was carried out at a test speed of 200 mm / min, and the average value of 35 mm excluding 20 mm at the start of tearing and 5 mm before the end of tearing was calculated, and the average value of 5 samples was used as the measurement result.
<合成例1> :重合体ブロック(A−1)(ソフトセグメント)の合成
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応装置に、0.44質量部の2,5−ジブロモアジピン酸ジエチル、95.3質量部のアクリル酸エチル(AE)を仕込み、これに窒素を通じつつ、80℃まで昇温した。次いで、0.19質量部の臭化第一銅、0.23質量部のN,N,N’,N’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミン、3.8質量部のアセトニトリルの混合液を加え、2時間30分反応を進行させた。さらに、0.03質量部の臭化第一銅、0.13質量部のトリス[2−(ジメチルアミノ)エチル]アミン、1.9質量部のアセトニトリルの混合液を加え、1時間30分反応を進行させた。反応溶液を活性アルミナでろ過し触媒残渣を除去した後、真空下80℃で約1時間以上加熱して残存モノマーおよび溶媒を除去し、重合体ブロック(A−1)を得た。
<Synthesis Example 1>: Synthesis of polymer block (A-1) (soft segment) 0.44 parts by mass of 2,5-dibromo in a reaction device equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube. Diethyl adipate and 95.3 parts by mass of ethyl acrylate (AE) were charged, and the temperature was raised to 80 ° C. while passing nitrogen through the mixture. Then, 0.19 parts by mass of cuprous bromide and 0.23 parts by mass of N, N, N', N', N''-pentamethyldiethylenetriamine and 3.8 parts by mass of acetonitrile were added. The reaction was allowed to proceed for 2 hours and 30 minutes. Further, 0.03 parts by mass of cuprous bromide, 0.13 parts by mass of tris [2- (dimethylamino) ethyl] amine, and 1.9 parts by mass of acetonitrile were added, and the reaction was carried out for 1 hour and 30 minutes. Was advanced. The reaction solution was filtered through activated alumina to remove the catalyst residue, and then heated at 80 ° C. under vacuum for about 1 hour or more to remove the residual monomer and solvent to obtain a polymer block (A-1).
<合成例2> :重合体ブロック(A−2)(ソフトセグメント)の合成
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応装置に、0.59質量部の臭化第一銅、0.7質量部の2,5−ジブロモアジピン酸ジエチル、19.5質量部のアクリル酸n−ブチル(BA)、78.1質量部のアクリル酸メチル(MA)を仕込み、これに窒素を通じつつ、80℃まで昇温した。次いで、0.41質量部のN,N,N’,N’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミンを加え、7時間反応を進行させた。合成例1と同様にして触媒残渣を除去し、モノマーおよび溶媒を除去し、重合体ブロック(A−2)を得た。
<Synthesis Example 2>: Synthesis of polymer block (A-2) (soft segment) 0.59 parts by mass of cuprous bromide was added to a reaction device equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube. , 0.7 parts by mass of diethyl 2,5-dibromoadipate, 19.5 parts by mass of n-butyl acrylate (BA), and 78.1 parts by mass of methyl acrylate (MA) were charged, and nitrogen was passed through the mixture. At the same time, the temperature was raised to 80 ° C. Then, 0.41 parts by mass of N, N, N', N', N''-pentamethyldiethylenetriamine was added, and the reaction was allowed to proceed for 7 hours. The catalyst residue was removed in the same manner as in Synthesis Example 1, and the monomer and solvent were removed to obtain a polymer block (A-2).
<合成例3> :重合体ブロック(A−3)(ソフトセグメント)の合成
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応装置に、0.59質量部の臭化第一銅、0.7質量部の2,5−ジブロモアジピン酸ジエチル、48.8質量部のアクリル酸n−ブチル(BA)、48.8質量部のメタクリル酸n−ブチル(BMA)を仕込み、これに窒素を通じつつ、80℃まで昇温した。次いで、0.41質量部のN,N,N’,N’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミンを加え、7時間反応を進行させた。合成例1と同様にして触媒残渣を除去し、モノマーおよび溶媒を除去し、重合体ブロック(A−3)を得た。
<Synthesis Example 3>: Synthesis of polymer block (A-3) (soft segment) 0.59 parts by mass of cuprous bromide was added to a reaction device equipped with a stirrer, temperature sensor, cooling tube, and nitrogen introduction tube. , 0.7 parts by mass of diethyl 2,5-dibromoadipate, 48.8 parts by mass of n-butyl acrylate (BA), and 48.8 parts by mass of n-butyl methacrylate (BMA) were charged therein. The temperature was raised to 80 ° C. through nitrogen. Then, 0.41 parts by mass of N, N, N', N', N''-pentamethyldiethylenetriamine was added, and the reaction was allowed to proceed for 7 hours. The catalyst residue was removed in the same manner as in Synthesis Example 1, and the monomer and solvent were removed to obtain a polymer block (A-3).
<合成例4> :重合体ブロック(A−4)(ソフトセグメント)の合成
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応装置に、0.19質量部の臭化第一銅、0.45質量部の2,5−ジブロモアジピン酸ジエチル、95.3質量部のアクリル酸n−ブチル(BA)を仕込み、これに窒素を通じつつ、80℃まで昇温した。次いで、0.24質量部のN,N,N’,N’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミン、3.8質量部のアセトニトリルを加え、2時間反応を進行させた。さらに、0.15質量部の臭化第一銅、0.42質量部のN,N,N’,N’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミン、6.6質量部のアセトニトリルを加え、7時間反応を進行させた。合成例1と同様に触媒残渣を除去し、モノマーおよび溶媒を除去し、重合体ブロック(A−4)を得た。
<Synthesis Example 4>: Synthesis of polymer block (A-4) (soft segment) 0.19 parts by mass of cuprous bromide in a reaction device equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube. , 0.45 parts by mass of diethyl 2,5-dibromoadipate and 95.3 parts by mass of n-butyl acrylate (BA) were charged, and the temperature was raised to 80 ° C. through nitrogen. Then, 0.24 parts by mass of N, N, N', N', N''-pentamethyldiethylenetriamine and 3.8 parts by mass of acetonitrile were added, and the reaction was allowed to proceed for 2 hours. Further, 0.15 parts by mass of cuprous bromide, 0.42 parts by mass of N, N, N', N', N''-pentamethyldiethylenetriamine and 6.6 parts by mass of acetonitrile were added for 7 hours. The reaction was allowed to proceed. The catalyst residue was removed and the monomer and solvent were removed in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain a polymer block (A-4).
<合成例5> :重合体ブロック(A−5)(ソフトセグメント)の合成
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応装置に、0.17質量部の2,5−ジブロモアジピン酸ジエチル、95.8質量部のアクリル酸エチル(AE)を仕込み、これに窒素を通じつつ、80℃まで昇温した。次いで、0.07質量部の臭化第一銅、0.10質量部のトリス[2−(ジメチルアミノ)エチル]アミン、3.8質量部のアセトニトリルの混合液を加え、2時間反応を進行させた。反応溶液を活性アルミナでろ過し触媒残渣を除去した後、絶対圧2.4kPa、80℃で約1時間加熱して残存モノマーおよび溶媒を除去し、重合体ブロック(A−5)を得た。
<Synthesis Example 5>: Synthesis of polymer block (A-5) (soft segment) 0.17 parts by mass of 2,5-dibromo in a reaction device equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube. Diethyl adipate and 95.8 parts by mass of ethyl acrylate (AE) were charged, and the temperature was raised to 80 ° C. while passing nitrogen through the mixture. Then, 0.07 parts by mass of cuprous bromide, 0.10 parts by mass of tris [2- (dimethylamino) ethyl] amine, and 3.8 parts by mass of acetonitrile were added, and the reaction proceeded for 2 hours. I let you. The reaction solution was filtered through activated alumina to remove the catalyst residue, and then heated at an absolute pressure of 2.4 kPa at 80 ° C. for about 1 hour to remove residual monomers and solvent to obtain a polymer block (A-5).
<合成例6> :重合体ブロック(A−6)(ソフトセグメント)の合成
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応装置に、0.44質量部の2,5−ジブロモアジピン酸ジエチル、105質量部のアクリル酸2−エチルヘキシル(EHA)を仕込み、これに窒素を通じつつ、80℃まで昇温した。次いで、0.19質量部の臭化第一銅、0.23質量部のN,N,N’,N’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミン、3.8質量部のアセトニトリルの混合液を加え、2時間30分反応を進行させた。さらに、0.03質量部の臭化第一銅、0.13質量部のトリス[2−(ジメチルアミノ)エチル]アミン、1.9質量部のアセトニトリルの混合液を加え、3時間反応を進行させた。反応溶液を活性アルミナでろ過し触媒残渣を除去した後、真空下80℃で約1時間以上加熱して残存モノマーおよび溶媒を除去し、重合体ブロック(A−6)を得た。
<Synthesis Example 6>: Synthesis of polymer block (A-6) (soft segment) 0.44 parts by mass of 2,5-dibromo in a reaction device equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube. Diethyl adipate and 105 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate (EHA) were charged, and the temperature was raised to 80 ° C. while passing nitrogen through the mixture. Then, 0.19 parts by mass of cuprous bromide and 0.23 parts by mass of N, N, N', N', N''-pentamethyldiethylenetriamine and 3.8 parts by mass of acetonitrile were added. The reaction was allowed to proceed for 2 hours and 30 minutes. Further, 0.03 parts by mass of cuprous bromide, 0.13 parts by mass of tris [2- (dimethylamino) ethyl] amine, and 1.9 parts by mass of acetonitrile were added, and the reaction proceeded for 3 hours. I let you. The reaction solution was filtered through activated alumina to remove the catalyst residue, and then heated at 80 ° C. under vacuum for about 1 hour or more to remove the residual monomer and solvent to obtain a polymer block (A-6).
合成例1〜6で得られた重合体ブロック(A−1)〜(A−6)の重量平均分子量Mw、数平均分子量Mn、分子量分布Mw/Mn及びガラス転移温度を表1に示す。 Table 1 shows the weight average molecular weight Mw, the number average molecular weight Mn, the molecular weight distribution Mw / Mn, and the glass transition temperature of the polymer blocks (A-1) to (A-6) obtained in Synthesis Examples 1 to 6.
<実施例1> :B−A−B型ブロック共重合体(C−1)の合成
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応装置に、合成例1で合成した重合体ブロック(A−1)15.1質量部、57.4質量部のメタクリル酸メチル(MMA)、3.0質量部のアクリル酸メチル(MA)、12.1質量部のメチルエチルケトンを仕込み、窒素を通じつつ80℃まで昇温させた。次いで、開始剤として0.18質量部のN,N,N’,N’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミンと、0.12質量部の臭化第一銅と、12.1質量部のメチルエチルケトンの混合液を加え、2時間反応を進行させ、合成例1と同様に触媒残渣を除去した。得られた反応溶液を多量のメタノールに沈殿させ、ろ過、乾燥することによりブロック共重合体(C−1)を得た。ブロック共重合体(C−1)は、重合体ブロック(A−1)(ソフトセグメント)の両側に重合体ブロック(B−1)(ハードセグメント)が結合したB−A−B型のブロック共重合体である。
<Example 1>: Synthesis of BAB block copolymer (C-1) The polymer synthesized in Synthesis Example 1 in a reaction device equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube. Block (A-1) 15.1 parts by mass, 57.4 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), 3.0 parts by mass of methyl acrylate (MA), 12.1 parts by mass of methyl ethyl ketone are charged and passed through nitrogen. The temperature was raised to 80 ° C. Then, 0.18 parts by mass of N, N, N', N', N''-pentamethyldiethylenetriamine, 0.12 parts by mass of cuprous bromide, and 12.1 parts by mass of methylethylketone as initiators. The mixture was added and the reaction was allowed to proceed for 2 hours, and the catalyst residue was removed in the same manner as in Synthesis Example 1. The obtained reaction solution was precipitated in a large amount of methanol, filtered, and dried to obtain a block copolymer (C-1). The block copolymer (C-1) is a B-AB type block in which the polymer blocks (B-1) (hard segments) are bonded to both sides of the polymer blocks (A-1) (soft segments). It is a polymer.
<実施例2> :B−A−B型ブロック共重合体(C−2)の合成
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応装置に、合成例2で合成した重合体ブロック(A−2)14.2質量部、67.6質量部のメタクリル酸メチル(MMA)、3.6質量部のアクリル酸メチル(MA)、14.2質量部のメチルエチルケトンを仕込み、窒素を通じつつ80℃まで昇温させた。次いで、開始剤として0.17質量部のN,N,N’,N’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミンと、0.14質量部の臭化第一銅を加え、1.5時間反応を進行させ、合成例1と同様に触媒除去を行った。得られた反応溶液を多量のメタノールに沈殿させ、ろ過、乾燥することによりブロック共重合体(C−2)を得た。
<Example 2>: Synthesis of BAB block copolymer (C-2) The polymer synthesized in Synthesis Example 2 in a reaction device equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube. Block (A-2) 14.2 parts by mass, 67.6 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), 3.6 parts by mass of methyl acrylate (MA), 14.2 parts by mass of methyl ethyl ketone are charged and passed through nitrogen. The temperature was raised to 80 ° C. Then, 0.17 parts by mass of N, N, N', N', N''-pentamethyldiethylenetriamine and 0.14 parts by mass of cuprous bromide were added as an initiator, and the reaction was carried out for 1.5 hours. The process was carried out, and the catalyst was removed in the same manner as in Synthesis Example 1. The obtained reaction solution was precipitated in a large amount of methanol, filtered, and dried to obtain a block copolymer (C-2).
<実施例3> :B−A−B型ブロック共重合体(C−3)の合成
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応装置に、合成例3で合成した重合体ブロック(A−3)14.2質量部、67.6質量部のメタクリル酸メチル(MMA)、3.6質量部のアクリル酸メチル(MA)、14.2質量部のメチルエチルケトンを仕込み、窒素を通じつつ80℃まで昇温させた。次いで、開始剤として0.17質量部のN,N,N’,N’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミンと、0.14質量部の臭化第一銅を加え、1.5時間反応を進行させ、合成例1と同様に触媒除去を行った。得られた反応溶液を多量のメタノールに沈殿させ、ろ過、乾燥することによりブロック共重合体(C−3)を得た。
<Example 3>: Synthesis of BAB block copolymer (C-3) The polymer synthesized in Synthesis Example 3 in a reaction device equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube. Block (A-3) 14.2 parts by mass, 67.6 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), 3.6 parts by mass of methyl acrylate (MA), 14.2 parts by mass of methyl ethyl ketone are charged and passed through nitrogen. The temperature was raised to 80 ° C. Then, 0.17 parts by mass of N, N, N', N', N''-pentamethyldiethylenetriamine and 0.14 parts by mass of cuprous bromide were added as an initiator, and the reaction was carried out for 1.5 hours. The process was carried out, and the catalyst was removed in the same manner as in Synthesis Example 1. The obtained reaction solution was precipitated in a large amount of methanol, filtered, and dried to obtain a block copolymer (C-3).
<比較例1> :B−A−B型ブロック共重合体(C−4)の合成
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応装置に、合成例4で合成した重合体ブロック(A−4)15.1質量部、57.4質量部のメタクリル酸メチル(MMA)、3.0質量部のアクリル酸メチル(MA)、12.1質量部のメチルエチルケトンを仕込み、窒素を通じつつ80℃まで昇温させた。次いで、開始剤として0.18質量部のN,N,N’,N’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミンと、0.12質量部の臭化第一銅と、12.1質量部のメチルエチルケトンの混合液を加え、2時間反応を進行させ、合成例1と同様に触媒残渣を除去した。得られた反応溶液を多量のメタノールに沈殿させ、ろ過、乾燥することによりブロック共重合体(C−4)を得た。
<Comparative Example 1>: Synthesis of BAB type block copolymer (C-4) The polymer synthesized in Synthesis Example 4 in a reaction device equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube. Block (A-4) 15.1 parts by mass, 57.4 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), 3.0 parts by mass of methyl acrylate (MA), 12.1 parts by mass of methyl ethyl ketone are charged and passed through nitrogen. The temperature was raised to 80 ° C. Then, 0.18 parts by mass of N, N, N', N', N''-pentamethyldiethylenetriamine, 0.12 parts by mass of cuprous bromide, and 12.1 parts by mass of methylethylketone as initiators. The mixture was added and the reaction was allowed to proceed for 2 hours, and the catalyst residue was removed in the same manner as in Synthesis Example 1. The obtained reaction solution was precipitated in a large amount of methanol, filtered, and dried to obtain a block copolymer (C-4).
<参考例1> :B−A−B型ブロック共重合体(C−5)の合成
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応装置に、合成例5で合成した重合体ブロック(A−5)6.0質量部、86.5質量部のメタクリル酸メチル(MMA)、4.2質量部のアクリル酸メチル(MA)、窒素を通じつつ80℃まで昇温させた。次いで、開始剤として0.12質量部のトリス[2−(ジメチルアミノ)エチル]アミンと、0.07質量部の臭化第一銅と、3.0質量部のアセトニトリルの混合液を加え、1時間反応を進行させ、合成例1と同様に触媒残渣を除去した。得られた反応溶液を多量のメタノールに沈殿させ、ろ過、乾燥することによりブロック共重合体(C−5)を得た。
<Reference Example 1>: Synthesis of BAB type block copolymer (C-5) The polymer synthesized in Synthesis Example 5 in a reaction device equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube. The temperature was raised to 80 ° C. through 6.0 parts by mass of block (A-5), 86.5 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), 4.2 parts by mass of methyl acrylate (MA), and nitrogen. Then, 0.12 parts by mass of tris [2- (dimethylamino) ethyl] amine, 0.07 parts by mass of cuprous bromide, and 3.0 parts by mass of acetonitrile were added as an initiator. The reaction was allowed to proceed for 1 hour, and the catalyst residue was removed in the same manner as in Synthesis Example 1. The obtained reaction solution was precipitated in a large amount of methanol, filtered, and dried to obtain a block copolymer (C-5).
<比較例2> :B−A−B型ブロック共重合体(C−6)の合成
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた反応装置に、合成例6で合成した重合体ブロック(A−6)15.1質量部、57.4質量部のメタクリル酸メチル(MMA)、3.0質量部のアクリル酸メチル(MA)、12.1質量部のメチルエチルケトンを仕込み、窒素を通じつつ80℃まで昇温させた。次いで、開始剤として0.18質量部のN,N,N’,N’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミンと、0.12質量部の臭化第一銅と、12.1質量部のメチルエチルケトンの混合液を加え、2時間反応を進行させ、合成例1と同様に触媒残渣を除去した。得られた反応溶液を多量のメタノールに沈殿させ、ろ過、乾燥することによりブロック共重合体(C−6)を得た。
<Comparative Example 2>: Synthesis of BAB type block copolymer (C-6) The polymer synthesized in Synthesis Example 6 in a reaction device equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube. Block (A-6) 15.1 parts by mass, 57.4 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), 3.0 parts by mass of methyl acrylate (MA), 12.1 parts by mass of methyl ethyl ketone are charged and passed through nitrogen. The temperature was raised to 80 ° C. Then, 0.18 parts by mass of N, N, N', N', N''-pentamethyldiethylenetriamine, 0.12 parts by mass of cuprous bromide, and 12.1 parts by mass of methylethylketone as initiators. The mixture was added and the reaction was allowed to proceed for 2 hours, and the catalyst residue was removed in the same manner as in Synthesis Example 1. The obtained reaction solution was precipitated in a large amount of methanol, filtered, and dried to obtain a block copolymer (C-6).
実施例1〜3、比較例1〜2、参考例1で得られたブロック共重合体(C−1)〜(C−6)について、重量平均分子量Mw、数平均分子量Mn、分子量分布(Mw/Mn)、高温側のガラス転移温度(高温側Tg)、低温側のガラス転移温度(低温側Tg)、1H−NMRで求めたソフトセグメントの割合、及びブロック共重合体の弾性率を表2に示す。 Regarding the block copolymers (C-1) to (C-6) obtained in Examples 1 to 3, Comparative Examples 1 and 2, and Reference Example 1, the weight average molecular weight Mw, the number average molecular weight Mn, and the molecular weight distribution (Mw). / Mn), glass transition temperature on the high temperature side (Tg on the high temperature side), glass transition temperature on the low temperature side (Tg on the low temperature side), the ratio of soft segments determined by 1 H-NMR, and the elasticity of the block copolymer. Shown in 2.
<実施例4〜7および比較例3〜8>
実施例1〜3および比較例1、2、参考例1で得られたブロック共重合体(C−1〜C−6)とPMMA(住友化学製:「スミペックス(登録商標)EX」)とを、混合後の樹脂組成物全体を100質量%とした時にソフトセグメント量が表3に記載の割合になるように配合し溶液混合し、240℃、絶対圧2.4kPaで1時間乾燥させた。
得られた樹脂組成物からプレスフィルムを成形しTg+18℃で2×2倍に延伸して厚さ40μmの延伸フィルムを作製し、ヘイズ、MIT、トラウザー引裂強度をそれぞれ測定した。結果を表3に示す。
<Examples 4 to 7 and Comparative Examples 3 to 8>
Block copolymers (C-1 to C-6) and PMMA (Sumitomo Chemical Co., Ltd .: "Sumipex (registered trademark) EX") obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 and Reference Example 1 were used. When the total amount of the mixed resin composition was 100% by mass, the mixture was blended so that the amount of soft segments was as shown in Table 3, the solution was mixed, and the mixture was dried at 240 ° C. and an absolute pressure of 2.4 kPa for 1 hour.
A press film was formed from the obtained resin composition and stretched 2 × 2 times at Tg + 18 ° C. to prepare a stretched film having a thickness of 40 μm, and haze, MIT, and trouser tear strengths were measured, respectively. The results are shown in Table 3.
表3に示す通り、ソフトセグメントのTgが−30℃以上25℃以下かつ重量平均分子量が2万以上40万以下の範囲にあるブロック共重合体を用いた樹脂組成物の延伸フィルム(実施例4〜7)では、ブロック共重合体を含まないマトリックス樹脂である比較例4の特性に対し引裂強度の低下を伴うことなく耐折強度が向上した。
また、ソフトセグメントのTgが−40℃以下の比較例3、4、6では、耐折強度は向上するものの、引裂強度が低下し、ソフトセグメント量を増やすにつれヘイズが上昇し光学フィルムとして不適であった。ソフトセグメントのTgが−70℃の比較例8では、耐折強度は向上するものの、引裂強度が低下し、ヘイズがより上昇しやすく光学フィルムとして不適であった。また、Tgが−17℃であるが重量平均分子量49万であるブロックポリマーを使用した比較例7においては、耐折強度は向上するものの引裂強度が低下しヘイズが上昇した。
As shown in Table 3, a stretched film of a resin composition using a block copolymer having a Tg of a soft segment of -30 ° C or higher and 25 ° C or lower and a weight average molecular weight of 20,000 or higher and 400,000 or lower (Example 4). In 7), the folding resistance was improved without a decrease in tear strength with respect to the characteristics of Comparative Example 4, which is a matrix resin containing no block copolymer.
Further, in Comparative Examples 3, 4 and 6 in which the Tg of the soft segment was −40 ° C. or lower, the folding resistance was improved, but the tear strength was lowered, and the haze increased as the amount of the soft segment was increased, which was unsuitable as an optical film. there were. In Comparative Example 8 in which the Tg of the soft segment was −70 ° C., although the folding resistance was improved, the tear strength was lowered and the haze was more likely to increase, which was unsuitable as an optical film. Further, in Comparative Example 7 using a block polymer having a Tg of −17 ° C. and a weight average molecular weight of 490,000, the fracture resistance was improved, but the tear strength was decreased and the haze was increased.
Claims (12)
前記ブロック共重合体が、重合体ブロック(A)と、重合体ブロック(B)とを有し、
前記ブロック共重合体のガラス転移温度が、80℃以上の範囲及び−30℃以上25℃以下の範囲にそれぞれ存在し、
前記ブロック共重合体の重量平均分子量が、2万以上40万以下であり、
前記重合体ブロック(A)が、アルキルメタクリレート及び/又はアルキルアクリレート由来の構造単位を含む重合体ブロックであり、
前記重合体ブロック(A)は、炭素数1〜3のアルキル基を有するアルキルアクリレート由来の単位の量が重合体ブロック(A)を構成する全単位100質量部中、50質量部以上、又はアルキルメタクリレート由来の単位の量が重合体ブロック(A)を構成する全単位100質量部中、30質量部以上90質量部以下であり、
さらにマトリックス樹脂を含む延伸フィルム。 A stretched film containing a (meth) acrylic acid ester-based block copolymer.
The block copolymer has a polymer block (A) and a polymer block (B).
The glass transition temperature of the block copolymer exists in the range of 80 ° C. or higher and -30 ° C. or higher and 25 ° C. or lower, respectively.
The weight average molecular weight of the block copolymer is state, and are 20,000 400,000 or less,
The polymer block (A) is a polymer block containing a structural unit derived from alkyl methacrylate and / or alkyl acrylate.
In the polymer block (A), the amount of units derived from an alkyl acrylate having an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is 50 parts by mass or more, or alkyl, out of 100 parts by mass of all the units constituting the polymer block (A). The amount of the unit derived from methacrylate is 30 parts by mass or more and 90 parts by mass or less in 100 parts by mass of all the units constituting the polymer block (A).
A stretched film further containing a matrix resin.
[引裂強度保持指数の測定方法]
前記延伸フィルムに含まれるマトリックス樹脂のみを前記延伸フィルムと同条件で延伸することによって得られるマトリックスフィルムと、前記延伸フィルムとを、それぞれ長さ120mm、幅30mm、厚さ40μmに成型し200mm/minの試験速度で試験を行い、引裂強度を測定する。延伸フィルムについて測定した引裂強度Tr1と、前記マトリックス樹脂の延伸フィルムについて測定した引裂強度Tr0との比(Tr1/Tr0)を引裂強度保持指数とする。 The stretched film according to any one of claims 1 to 8 , wherein the tear strength retention index measured by the following method is 0.50 or more.
[Measurement method of tear strength retention index]
The matrix film obtained by stretching only the matrix resin contained in the stretched film under the same conditions as the stretched film and the stretched film are molded into a length of 120 mm, a width of 30 mm, and a thickness of 40 μm, respectively, at 200 mm / min. Perform the test at the test speed of and measure the tear strength. A tear strength Tr 1 measured for stretched film, a ratio (Tr 1 / Tr 0) tear strength retention index and tear strength Tr 0 measured for the stretched film of the matrix resin.
[耐折回数向上指数の測定方法]
前記延伸フィルムに含まれるマトリックス樹脂のみを前記延伸フィルムと同条件で延伸することによって得られるマトリックスフィルムと、前記延伸フィルムとを、それぞれ長さ90mm、幅15mm、厚さ40μmに成型し、23℃、50%RHの状態に1時間以上静置し、折り曲げ角度135°、折り曲げ速度175cpm、荷重200gの条件で往復折り曲げして、破断するまでの往復折り曲げ回数を5枚ずつ測定する。延伸フィルムについて測定した往復折り曲げ回数の平均値を耐折回数M1、前記マトリックス樹脂の延伸フィルムについて測定した往復折り曲げ回数の平均値を耐折回数M0として、それらの比(M1/M0)を耐折回数向上指数とする。 The stretched film according to any one of claims 1 to 9 , wherein the folding resistance improvement index measured by the following method is 1.1 or more.
[Measurement method of folding resistance improvement index]
The matrix film obtained by stretching only the matrix resin contained in the stretched film under the same conditions as the stretched film and the stretched film were molded into a length of 90 mm, a width of 15 mm, and a thickness of 40 μm, respectively, at 23 ° C. The film is allowed to stand at 50% RH for 1 hour or more, and is reciprocally bent under the conditions of a bending angle of 135 °, a bending speed of 175 cpm, and a load of 200 g, and the number of reciprocating bends until the film is broken is measured by 5 sheets each. Folding number M 1 the average value of the reciprocating folding number was measured for the stretched film, the average value of the reciprocating folding number was measured for the stretched film of the matrix resin as a folding number M 0, their ratio (M 1 / M 0 ) Is used as the folding resistance improvement index.
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