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JP6916836B2 - Method of manufacturing a laminate - Google Patents
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Description

本発明は、例えばフレキシブルデバイス構成部品としての積層体の製造方法に関する。 The present invention relates to, for example, a method for manufacturing a laminate as a flexible device component.

光学デバイスや電子デバイスなど各種デバイスの製造過程においては、デバイス構成部品の表面保護や衝撃からの保護などの観点から、当該部品に所定の粘着フィルムが貼り付けられたうえで各種工程が実施される場合がある。このような保護用のフィルムは、それが貼付されたデバイス構成部品によっては、その強度を補うために当該構成部品に貼付されたままデバイス構造材として製品デバイスに組み込まれることがある。保護機能と補強機能とを兼ね備えるこのような粘着フィルムに関する技術については、例えば下記の特許文献1に記載されている。 In the manufacturing process of various devices such as optical devices and electronic devices, various processes are carried out after a predetermined adhesive film is attached to the parts from the viewpoint of surface protection and impact protection of the device components. In some cases. Depending on the device component to which the protective film is attached, such a protective film may be incorporated into the product device as a device structural material while being attached to the component to supplement its strength. A technique relating to such an adhesive film having both a protective function and a reinforcing function is described in, for example, Patent Document 1 below.

特開2017−132977号公報JP-A-2017-132977

フレキシブルプリント配線基板(FPC)など、フレキシブルな基板の回路形成面上に各種素子が形成されたデバイス構成部品については、その同一面における複数箇所のそれぞれに上述の粘着フィルム(即ち、製造過程での保護機能をも担う補強フィルム)が貼着していることを要求される場合がある。 For device components in which various elements are formed on the circuit forming surface of a flexible substrate such as a flexible printed wiring board (FPC), the above-mentioned adhesive film (that is, in the manufacturing process) is formed at each of a plurality of locations on the same surface. Reinforcing film that also has a protective function) may be required to be attached.

複数の補強フィルムを同一面上に伴うフレキシブルデバイス構成部品は、そのフレキシブル基板の裏面(回路形成面とは反対の側の面)に対して複数の補強フィルムのそれぞれを貼り付けることによって作製することが可能である。しかしながら、このような作製手法は効率的でない。 Flexible device components with multiple reinforcing films on the same surface shall be manufactured by attaching each of the plurality of reinforcing films to the back surface of the flexible substrate (the surface opposite to the circuit forming surface). Is possible. However, such a fabrication method is not efficient.

或いは、複数の補強フィルムを同一面上に伴うフレキシブルデバイス構成部品は、そのフレキシブル基板の裏面のほぼ全面に対して一枚の補強フィルムを貼り付けた後に当該補強フィルムに対して切断加工を施したしたうえで、補強フィルムの一部をフレキシブル基板上から除去することによって作製することも可能である。しかしながら、フレキシブル基板上での切断加工を伴うこのような作製手法によると、従来、切断加工箇所に糊残りを生じることがある。 Alternatively, for a flexible device component in which a plurality of reinforcing films are attached on the same surface, one reinforcing film is attached to almost the entire back surface of the flexible substrate, and then the reinforcing film is cut. Then, it can be manufactured by removing a part of the reinforcing film from the flexible substrate. However, according to such a manufacturing method involving cutting processing on a flexible substrate, adhesive residue may be conventionally generated at the cutting processing portion.

本発明は、被着体とその同一面側に貼着する複数の補強フィルムとを備える積層体を製造するのに適した方法を提供する。 The present invention provides a method suitable for producing a laminate including an adherend and a plurality of reinforcing films to be attached to the same surface side thereof.

本発明の第1の側面によると、積層体の製造方法が提供される。この積層体製造方法は、以下のような貼付け工程カット工程、剥離工程、および粘着力上昇工程を含む。 According to the first aspect of the present invention, there is provided a method for producing a laminate. This laminate manufacturing method includes the following sticking step , cutting step, peeling step, and adhesive strength increasing step.

貼付け工程では、基材と基材上の粘着剤層とを含む補強フィルムをその粘着剤層側にて被着体に貼り付ける。補強フィルムにおいて、基材および粘着剤層は、直接に接合していてもよいし、他の層を介して接合していてもよい。粘着剤層は、活性エネルギー線照射や加熱など外部刺激によって粘着力が相対的に低い状態(低粘着力状態)から粘着力が相対的に高い状態(高粘着力状態)へと例えば不可逆的に変化させることが可能な粘着性組成物よりなる。 In the sticking step, a reinforcing film containing the base material and the pressure-sensitive adhesive layer on the base material is stuck on the adherend on the pressure-sensitive adhesive layer side. In the reinforcing film, the base material and the pressure-sensitive adhesive layer may be directly bonded or may be bonded via another layer. The pressure-sensitive adhesive layer is irreversibly changed from a state in which the adhesive strength is relatively low (low adhesive strength state) to a state in which the adhesive strength is relatively high (high adhesive strength state) due to an external stimulus such as activation energy ray irradiation or heating. It consists of an adhesive composition that can be varied.

カット工程では、被着体上の補強フィルムに対してその基材側から粘着剤層の途中までのハーフカット溝を形成して、当該補強フィルムにおいて、互いに離隔している複数の第1領域部と第1領域部間の少なくとも一つの第2領域部とを区画形成する。また、本工程を経て生ずる第1および第2領域部の各粘着剤層は、上述の低粘着力状態にある。 In the cutting step, a half-cut groove is formed from the base material side to the middle of the pressure-sensitive adhesive layer on the reinforcing film on the adherend, and a plurality of first region portions separated from each other in the reinforcing film. And at least one second region portion between the first region portion and the first region portion are formed. Further, each of the pressure-sensitive adhesive layers in the first and second regions generated through this step is in the above-mentioned low adhesive strength state.

剥離工程では、上述のようにして第1領域部間に区画形成された第2領域部を被着体から剥離する。被着体上の第2領域部は上述のように低粘着力状態にある。このような構成は、被着体から第2領域部を適切に剥離するうえで好ましい。 In the peeling step, the second region portion formed as a section between the first region portions as described above is peeled from the adherend. The second region portion on the adherend is in a low adhesive force state as described above. Such a configuration is preferable for appropriately peeling the second region portion from the adherend.

粘着力上昇工程では、第1領域部における粘着剤層の粘着力を上昇させる。本工程では、第1領域部の粘着剤層に対する活性エネルギー線照射や加熱などの外部刺激によって、被着体上の各第1領域部の粘着剤層を高粘着力状態へと変化させる。これにより、上述の補強フィルム由来の第1領域部において被着体に対する貼着状態が強固となる。このような構成は、第1領域部を構造材として積層体に残すうえで好適である。粘着剤層が高粘着力状態にある第1領域部は、製造される積層体における被着体の同一面上において離隔して隣り合う第1補強フィルム部分および第2補強フィルム部分をなす。 In the adhesive strength increasing step, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer in the first region portion is increased. In this step, the pressure-sensitive adhesive layer in each first region on the adherend is changed to a high adhesive strength state by an external stimulus such as irradiation of the pressure-sensitive adhesive layer in the first region with active energy rays or heating. As a result, the state of attachment to the adherend becomes strong in the first region portion derived from the above-mentioned reinforcing film. Such a configuration is suitable for leaving the first region portion as a structural material in the laminated body. The first region portion in which the pressure-sensitive adhesive layer is in a high adhesive strength state forms a first reinforcing film portion and a second reinforcing film portion that are separated and adjacent to each other on the same surface of the adherend in the laminated body to be manufactured.

以上のような各工程を含む本積層体製造方法によると、被着体と、その同一面上において離隔して隣り合う第1補強フィルム部分および第2補強フィルム部分と、を備える積層体を製造することができる。 According to the present laminate manufacturing method including each step as described above, a laminate including an adherend and a first reinforcing film portion and a second reinforcing film portion that are separated and adjacent to each other on the same surface thereof is manufactured. can do.

本製造方法では、補強材としての複数のフィルムのそれぞれを個別に被着体に貼り付ける必要はない。このような製造方法は、積層体やそれが組付けられるデバイスの製造の効率化に資する。 In this manufacturing method, it is not necessary to individually attach each of the plurality of films as reinforcing materials to the adherend. Such a manufacturing method contributes to the efficiency of manufacturing the laminate and the device to which the laminate is assembled.

本製造方法の上述のカット工程では、上述のように、各第1領域部と第2領域部とを区分するカット溝(ハーフカット溝)は、補強フィルムに対してその基材側から粘着剤層の途中までのハーフカットによって形成される。このような構成は、カット工程より後に行われる上述の剥離工程において、いわゆる糊残りを抑制するうえで好適である。被着体上の補強フィルムについてその厚さ方向全体にわたって切断する場合、その切断手法および切断条件によっては、被着体と補強フィルム粘着剤層との界面およびその近傍にある粘着剤層構成材料における局所的な昇温や押圧力の作用に起因して、当該界面に臨む粘着剤層の一部が被着体に固着しやすくなる。例えば、粘着剤層が上述の第1粘着性組成物よりなる場合には、同組成物中の多官能(メタ)アクリレートなど光硬化剤が硬化することによってそのような粘着剤の局所的固着が生ずる。カット工程において、上述のようなハーフカットによってカット溝底端と被着体との間に未切断の粘着剤部分を残しておくという構成は、上記界面とその近傍にある粘着剤層構成材料における局所的な昇温や押圧力の作用を回避するのに適する。そして、上述のようなハーフカットによってカット溝底端と被着体との間に未切断の粘着剤部分を残しておくという構成は、当該粘着剤残存部分の凝集力を利用して被着体表面から第2領域部ないしその粘着剤層を粘着剤残渣(糊残り)なく剥離するうえで好ましいことがあるのである。 In the above-mentioned cutting step of the present manufacturing method, as described above, the cut groove (half-cut groove) that separates each first region portion and the second region portion is an adhesive from the base material side of the reinforcing film. It is formed by half-cutting halfway through the layer. Such a configuration is suitable for suppressing so-called adhesive residue in the above-mentioned peeling step performed after the cutting step. When cutting the reinforcing film on the adherend over the entire thickness direction, depending on the cutting method and cutting conditions, the pressure-sensitive adhesive layer constituent material at or near the interface between the adherend and the reinforcing film pressure-sensitive adhesive layer. Due to the action of local temperature rise and pressing force, a part of the pressure-sensitive adhesive layer facing the interface tends to adhere to the adherend. For example, when the pressure-sensitive adhesive layer is composed of the above-mentioned first pressure-sensitive adhesive composition, local adhesion of such pressure-sensitive adhesive is caused by curing of a photocuring agent such as polyfunctional (meth) acrylate in the same composition. Occurs. In the cutting step, a configuration in which an uncut pressure-sensitive adhesive portion is left between the bottom end of the cut groove and the adherend by half-cutting as described above is used in the pressure-sensitive adhesive layer constituent material at the interface and its vicinity. Suitable for avoiding the action of local temperature rise and pressing force. Then, in the configuration in which the uncut adhesive portion is left between the bottom end of the cut groove and the adherend by the above-mentioned half-cut, the adherend uses the cohesive force of the adhesive remaining portion. It is preferable to peel off the second region portion or the pressure-sensitive adhesive layer thereof from the surface without a pressure-sensitive adhesive residue (adhesive residue).

本製造方法における上述のカット工程では、好ましくは、各第1領域部の粘着剤層において、第2領域部との間のハーフカット溝に臨む変性部を形成する。このような構成は、第1領域部から形成される補強フィルム部分(粘着剤層にて被着体に貼着している)の端面において粘着剤層構成成分のブリードアウトを抑制するのに適する。 In the above-mentioned cutting step in the present manufacturing method, preferably, in the pressure-sensitive adhesive layer of each first region portion, a modified portion facing the half-cut groove with the second region portion is formed. Such a configuration is suitable for suppressing bleed-out of the pressure-sensitive adhesive layer component on the end face of the reinforcing film portion (attached to the adherend by the pressure-sensitive adhesive layer) formed from the first region portion. ..

粘着力上昇工程は、加熱処理を含んでもよい。粘着力上昇工程が加熱処理を含む場合、粘着剤層は、好ましくは、ガラス転移温度が0℃未満の第1ポリマー、および、オルガノシロキサン骨格含有モノマーと(メタ)アクリレートモノマーとの共重合体である第2ポリマーを含む。このような構成は、補強フィルム由来の第1領域部の粘着剤層について、加熱によって低粘着力状態から高粘着力状態へと変化させるうえで好適である。 The adhesive strength increasing step may include heat treatment. When the adhesive strength increasing step involves heat treatment, the pressure-sensitive adhesive layer is preferably a first polymer having a glass transition temperature of less than 0 ° C. and a copolymer of an organosiloxane skeleton-containing monomer and a (meth) acrylate monomer. Contains a second polymer. Such a configuration is suitable for changing the pressure-sensitive adhesive layer in the first region derived from the reinforcing film from a low pressure-sensitive state to a high pressure-sensitive state by heating.

粘着力上昇工程は、活性エネルギー線照射処理を含んでもよい。粘着力上昇工程が活性エネルギー線照射処理を含む場合、粘着剤層は、好ましくは、ベースポリマーと多官能(メタ)アクリレートとを含む。このような構成は、補強フィルム由来の第1領域部の粘着剤層について、加熱によって低粘着力状態から高粘着力状態へと変化させるうえで好適である。 The adhesive strength increasing step may include an active energy ray irradiation treatment. When the adhesive force increasing step includes an active energy ray irradiation treatment, the pressure-sensitive adhesive layer preferably contains a base polymer and a polyfunctional (meth) acrylate. Such a configuration is suitable for changing the pressure-sensitive adhesive layer in the first region derived from the reinforcing film from a low pressure-sensitive state to a high pressure-sensitive state by heating.

本発明の第2の側面によると、積層体が提供される。この積層体は、本発明の第1の側面に係る上述の積層体製造方法によって得られるものであって、被着体および補強フィルムを備える。補強フィルムは、基材とその上の粘着剤層とを含み、且つ、粘着剤層側にて被着体に貼着している。補強フィルムにおいて、基材および粘着剤層は、直接に接合していてもよいし、他の層を介して接合していてもよい。また、補強フィルムは、被着体上において離隔して隣り合う第1補強フィルム部分および第2補強フィルム部分を含む。各補強フィルム部分の粘着剤層は5μm以上の厚さを有し、且つ当該粘着剤層の粘着力は5N/25mm以上である。 According to the second aspect of the present invention, a laminate is provided. This laminated body is obtained by the above-mentioned laminated body manufacturing method according to the first aspect of the present invention, and includes an adherend and a reinforcing film. The reinforcing film includes a base material and an adhesive layer on the base material, and is attached to the adherend on the adhesive layer side. In the reinforcing film, the base material and the pressure-sensitive adhesive layer may be directly bonded or may be bonded via another layer. Further, the reinforcing film includes a first reinforcing film portion and a second reinforcing film portion that are separated and adjacent to each other on the adherend. The pressure-sensitive adhesive layer of each reinforcing film portion has a thickness of 5 μm or more, and the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer is 5 N / 25 mm or more.

本発明の第3の側面によると、補強フィルムが提供される。この補強フィルムは、本発明の第1の側面に係る積層体製造方法に用いられる補強フィルムであって、基材とその上の粘着剤層とを含む。粘着剤層は、外部刺激によって低粘着力状態から高粘着力状態へと変化可能である。 According to a third aspect of the present invention, a reinforcing film is provided. This reinforcing film is a reinforcing film used in the method for producing a laminate according to the first aspect of the present invention, and includes a base material and an adhesive layer on the base material. The pressure-sensitive adhesive layer can be changed from a low adhesive strength state to a high adhesive strength state by an external stimulus.

本発明の一の実施形態に係る積層体の斜視図である。It is a perspective view of the laminated body which concerns on one Embodiment of this invention. 図1に示す積層体の部分拡大断面図である。It is a partially enlarged sectional view of the laminated body shown in FIG. 図3Aは、図1に示す積層体の製造方法における一部の工程を表し、図3Bは、図3Aに示す工程の後に続く工程を表し、図3Cは、図3Bに示す工程の後に続く工程を表し、図3Dは、図3Cに示す工程の後に続く工程を表す。FIG. 3A represents a part of the steps in the method for manufacturing the laminate shown in FIG. 1, FIG. 3B represents a step following the step shown in FIG. 3A, and FIG. 3C shows a step following the step shown in FIG. 3B. 3D represents the steps following the steps shown in FIG. 3C. 図3Cにおける部分拡大図である。It is a partially enlarged view in FIG. 3C.

図1および図2は、本発明の一の実施形態に係る積層体Xを表す。図1は積層体Xの斜視図である。図2は積層体Xの部分拡大断面図である。積層体Xは、被着体10およびフィルム20を備える。 1 and 2 show the laminated body X according to the embodiment of the present invention. FIG. 1 is a perspective view of the laminated body X. FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view of the laminated body X. The laminate X includes an adherend 10 and a film 20.

被着体10は、本発明の一実施形態におけるフレキシブル被着体であって可撓性を有し、互いに対向する第1面11および第2面12を有する。被着体10としては、例えば、フレキシブルディスプレイパネルなどフレキシブルな光学デバイス、フレキシブルプリント配線基板(FPC)などのフレキシブルな電子デバイス、および、これらの構成部品たるフレキシブル基材が挙げられる。被着体10がフレキシブルな光学デバイスである場合、被着体10の第1面11側には、例えば、アレイ状に位置する複数の画素を含む画素領域、駆動回路など種々の回路素子を含む回路領域、および、これらを電気的に接続する配線パターンが、形成されている。被着体10がフレキシブルな電子デバイスである場合、被着体10の第1面11側には、例えば、種々の回路素子および配線パターンが形成されている。このような被着体10は、製造目的のデバイスの設計に応じて種々の平面視形状をとりうる。 The adherend 10 is a flexible adherend according to an embodiment of the present invention, has flexibility, and has a first surface 11 and a second surface 12 facing each other. Examples of the adherend 10 include a flexible optical device such as a flexible display panel, a flexible electronic device such as a flexible printed wiring board (FPC), and a flexible base material as a component thereof. When the adherend 10 is a flexible optical device, the first surface 11 side of the adherend 10 includes, for example, various circuit elements such as a pixel region including a plurality of pixels located in an array and a drive circuit. A circuit area and a wiring pattern that electrically connects them are formed. When the adherend 10 is a flexible electronic device, for example, various circuit elements and wiring patterns are formed on the first surface 11 side of the adherend 10. Such an adherend 10 can take various plan-view shapes depending on the design of the device for manufacturing purposes.

フィルム20は、図2によく表れているように、基材21および粘着剤層22を含み、粘着剤層22側にて上述の被着体10の第2面12に貼着している。フィルム20において、基材21および粘着剤層22は、直接に接合していてもよいし、他の層を介して接合していてもよい。このようなフィルム20は、本発明における補強フィルムの一例であり、被着体10についての保護機能に加えて補強機能を補うためのものであり、被着体10と共にデバイス構造材として製品デバイスに組み込まれる要素である。 As is often shown in FIG. 2, the film 20 includes the base material 21 and the pressure-sensitive adhesive layer 22, and is attached to the second surface 12 of the adherend 10 described above on the pressure-sensitive adhesive layer 22 side. In the film 20, the base material 21 and the pressure-sensitive adhesive layer 22 may be directly bonded or may be bonded via another layer. Such a film 20 is an example of a reinforcing film in the present invention, and is for supplementing a reinforcing function in addition to a protective function for the adherend 10, and is used as a device structural material in a product device together with the adherend 10. It is an element to be incorporated.

フィルム20は、被着体10上において離隔して隣り合うフィルム部分20A(第1補強フィルム部分)およびフィルム部分20B(第2補強フィルム部分)を含む(フィルム部分20A,20Bのそれぞれは基材21および粘着剤層22を含む)。フィルム部分20Aおよびフィルム部分20Bは、フィルム20の厚さ方向と直交する面方向Dに離隔して隣り合う。 The film 20 includes a film portion 20A (first reinforcing film portion) and a film portion 20B (second reinforcing film portion) that are separated and adjacent to each other on the adherend 10 (the film portions 20A and 20B are the base materials 21 respectively). And the pressure-sensitive adhesive layer 22). The film portion 20A and the film portion 20B are adjacent to each other with a distance in the plane direction D orthogonal to the thickness direction of the film 20.

フィルム部分20Aの基材21は、面方向D2においてフィルム部分20Bに対向する端面21a(第1傾斜端面)を有する。この端面21aは、被着体10から離れる箇所ほどフィルム部分20A内方側に退避するように傾斜している。すなわち、端面21aは、フィルム20の厚さ方向D1にて被着体10からフィルム20に向かう方向に進むに従って面方向D2にてフィルム部分20Bから離れるように、傾斜している。このような端面21aにおける上記厚さ方向D1に対する傾斜角度αは、例えば1°以上、好ましくは2°以上、より好ましくは3°以上、さらに好ましくは5°以上であり、例えば45°以下、好ましくは30°以下である。フィルム部分20Aの粘着剤層22は、フィルム部分20B側の縁端に変性部22aを有する。変性部22aは、フィルム部分20Aにおける粘着剤層22の露出表面が加熱等によって硬化している部位である。 The base material 21 of the film portion 20A has an end surface 21a (first inclined end surface) facing the film portion 20B in the surface direction D2. The end surface 21a is inclined so as to retract toward the inward side of the film portion 20A as the distance from the adherend 10 increases. That is, the end surface 21a is inclined so as to move away from the film portion 20B in the surface direction D2 as it advances in the direction from the adherend 10 toward the film 20 in the thickness direction D1 of the film 20. The inclination angle α of the end face 21a with respect to the thickness direction D1 is, for example, 1 ° or more, preferably 2 ° or more, more preferably 3 ° or more, still more preferably 5 ° or more, for example, 45 ° or less, preferably 45 ° or less. Is 30 ° or less. The pressure-sensitive adhesive layer 22 of the film portion 20A has a modified portion 22a at the edge on the film portion 20B side. The modified portion 22a is a portion of the film portion 20A where the exposed surface of the pressure-sensitive adhesive layer 22 is cured by heating or the like.

フィルム部分20Bの基材21は、面方向D2においてフィルム部分20Aに対向する端面21b(第2傾斜端面)を有する。この端面21bは、被着体10から離れる箇所ほどフィルム部分20B内方側に退避するように傾斜している。すなわち、端面21bは、フィルム20の厚さ方向D1にて被着体10からフィルム20に向かう方向に進むに従って面方向D2にてフィルム部分20Bから離れるように、傾斜している。このような端面21bにおける上記厚さ方向D1に対する傾斜角度αは、例えば1°以上、好ましくは2°以上、より好ましくは3°以上、さらに好ましくは5°以上であり、例えば45°以下、好ましくは30°以下である。フィルム部分20Bの粘着剤層22はフィルム部分20A側の縁端に変性部22bを有する。変性部22bは、フィルム部分20Bにおける粘着剤層22の露出表面が加熱等によって硬化している部位である。 The base material 21 of the film portion 20B has an end surface 21b (second inclined end surface) facing the film portion 20A in the surface direction D2. The end surface 21b is inclined so as to retract toward the inward side of the film portion 20B as the distance from the adherend 10 increases. That is, the end surface 21b is inclined so as to move away from the film portion 20B in the surface direction D2 as it advances in the direction from the adherend 10 toward the film 20 in the thickness direction D1 of the film 20. The inclination angle α of such an end face 21b with respect to the thickness direction D1 is, for example, 1 ° or more, preferably 2 ° or more, more preferably 3 ° or more, still more preferably 5 ° or more, for example, 45 ° or less, preferably 45 ° or less. Is 30 ° or less. The pressure-sensitive adhesive layer 22 of the film portion 20B has a modified portion 22b at the edge on the film portion 20A side. The modified portion 22b is a portion of the film portion 20B where the exposed surface of the pressure-sensitive adhesive layer 22 is cured by heating or the like.

フィルム20における基材21は、フィルム20の機械的強度を確保するための支持体であり、フィルム20においてその補強機能や保護機能を発現するための主要素である。 The base material 21 in the film 20 is a support for ensuring the mechanical strength of the film 20, and is a main element for exhibiting its reinforcing function and protective function in the film 20.

基材21は、可撓性のプラスチック材料からなる。そのようなプラスチック材料としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリメタクリレートなどの(メタ)アクリル樹脂(アクリル樹脂および/またはメタクリル樹脂)、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、およびポリスチレン樹脂が挙げられる。ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、およびポリエチレンナフタレート挙げられる。ポリオレフィン樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、およびシクロオレフィンポリマー(COP)挙げられる。粘着剤層22が後述のように活性エネルギー線の照射によって高粘着力状態化しうる粘着性組成物よりなる場合、基材21は、活性エネルギー線に対する透明性を有するのが好ましい。このような透明性と機械的強度とを両立させる観点からは、基材21構成用のプラスチック材料は、好ましくはポリエステル樹脂であり、より好ましくはポリエチレンテレフタレート(PET)である。 The base material 21 is made of a flexible plastic material. Examples of such plastic materials include (meth) acrylic resins (acrylic resins and / or methacrylic resins) such as polyester resins, polyolefin resins, and polymethacrylates, polyimide resins, polycarbonate resins, polyether sulfone resins, and polyarylate resins. Examples include melamine resin, polyamide resin, cellulose resin, and polystyrene resin. Examples of the polyester resin include polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. Polyolefin resins include, for example, polyethylene, polypropylene, and cycloolefin polymer (COP). When the pressure-sensitive adhesive layer 22 is made of an adhesive composition that can be brought into a high adhesive force state by irradiation with active energy rays as described later, the base material 21 preferably has transparency to the active energy rays. From the viewpoint of achieving both transparency and mechanical strength, the plastic material for forming the base material 21 is preferably a polyester resin, and more preferably polyethylene terephthalate (PET).

基材21の厚さは、例えば4μm以上であり、被着体10の補強の観点からは、好ましくは20μm以上、より好ましくは30μm以上、さらに好ましくは45μm以上である。また、基材21の厚さは、例えば500μm以下であり、フィルム20の可撓性やハンドリング性の観点からは、好ましくは300μm以下、より好ましくは200μm以下、さらに好ましくは100μm以下である。 The thickness of the base material 21 is, for example, 4 μm or more, and from the viewpoint of reinforcing the adherend 10, it is preferably 20 μm or more, more preferably 30 μm or more, and further preferably 45 μm or more. The thickness of the base material 21 is, for example, 500 μm or less, and is preferably 300 μm or less, more preferably 200 μm or less, still more preferably 100 μm or less, from the viewpoint of flexibility and handleability of the film 20.

フィルム20における粘着剤層22は、フィルム20を被着体10に貼付させるための要素であり、粘着性組成物よりなる。本実施形態における粘着剤層22は、外部刺激によって粘着力が相対的に低い状態(低粘着力状態)から粘着力が相対的に高い状態(高粘着力状態)へと不可逆的に変化可能な粘着性組成物から形成された層であって、製造過程を経た積層体Xにおいては高粘着力状態をとる。 The pressure-sensitive adhesive layer 22 in the film 20 is an element for attaching the film 20 to the adherend 10, and is made of a pressure-sensitive adhesive composition. The pressure-sensitive adhesive layer 22 in the present embodiment can be irreversibly changed from a state in which the adhesive strength is relatively low (low adhesive strength state) to a state in which the adhesive strength is relatively high (high adhesive strength state) by an external stimulus. It is a layer formed from an adhesive composition, and takes a high adhesive force state in the laminated body X that has undergone the manufacturing process.

粘着剤層22をなすための粘着性組成物としては、例えば、紫外線や電子線など活性エネルギー線の照射によって低粘着力状態から高粘着力状態に変化可能な粘着性組成物(第1粘着性組成物)、および、加熱によって低粘着力状態から高粘着力状態に変化可能な粘着性組成物(第2粘着性組成物)が挙げられる。 As the adhesive composition for forming the adhesive layer 22, for example, an adhesive composition capable of changing from a low adhesive force state to a high adhesive force state by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays or electron beams (first adhesive force). Composition), and an adhesive composition (second adhesive composition) that can be changed from a low adhesive force state to a high adhesive force state by heating.

第1粘着性組成物は、ベースポリマーと、光硬化剤と、光重合開始剤とを含む。 The first tacky composition comprises a base polymer, a photocuring agent, and a photopolymerization initiator.

ベースポリマーとしては、例えば、アクリルポリマー、天然ゴム、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体(SISブロック共重合体)、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(SBSブロック共重合体)、スチレン−エチレン・ブチレン−スチレンブロック共重合体(SEBSブロック共重合体)、スチレン−ブタジエンゴム、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ブチルゴム、クロロプレンゴム、および、シリコーンゴムなどが挙げられる。粘着力の制御の観点からは、ベースポリマーとしてはアクリルポリマーが好ましい。 Examples of the base polymer include acrylic polymer, natural rubber, styrene-isoprene-styrene block copolymer (SIS block copolymer), styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS block copolymer), and styrene-ethylene. -Butylene-styrene block copolymer (SEBS block copolymer), styrene-butadiene rubber, polybutadiene, polyisoprene, polyisobutylene, butyl rubber, chloroprene rubber, silicone rubber and the like can be mentioned. From the viewpoint of controlling the adhesive force, an acrylic polymer is preferable as the base polymer.

ベースポリマーのガラス転移温度(Tg)は、例えば0℃以下、好ましくは−100℃〜−5℃、より好ましくは−80℃〜−10℃、さらに好ましくは−40℃〜−10℃である。このような構成は、第1粘着性組成物におけるベースポリマーの流動性を確保するうえで好適であり、従って、活性エネルギー線によって第1粘着性組成物を高粘着力状態に変化させるうえで好適である。 The glass transition temperature (Tg) of the base polymer is, for example, 0 ° C. or lower, preferably −100 ° C. to −5 ° C., more preferably −80 ° C. to −10 ° C., and further preferably −40 ° C. to −10 ° C. Such a configuration is suitable for ensuring the fluidity of the base polymer in the first adhesive composition, and is therefore suitable for changing the first adhesive composition into a high adhesive force state by active energy rays. Is.

ガラス転移温度は、文献やカタログ等に記載された値であるか、或いは、下記式(X)(Fox式)に基づいて計算された値である。後記の他のポリマーのガラス転移温度についても同様である。 The glass transition temperature is a value described in literature, catalogs, etc., or a value calculated based on the following equations (X) (Fox equation). The same applies to the glass transition temperature of other polymers described later.

1/Tg=W1/Tg1+W2/Tg2+・・・+Wn/Tgn (X)
[式(X)において、Tgはポリマー(A)のガラス転移温度(単位:K)を表し、Tgi(i=1、2、・・・n)は、モノマーiがホモポリマーを形成した際のガラス転移温度(単位:K)を表し、Wi(i=1、2、・・・n)は、モノマーiの全モノマー成分中の質量分率を表す]
第1粘着性組成物中のアクリルポリマーは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルを主成分として含むモノマー成分(第1モノマー成分)の重合により得られる。「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸および/またはメタクリル酸をいうものとする。
1 / Tg = W1 / Tg1 + W2 / Tg2 + ... + Wn / Tgn (X)
[In the formula (X), Tg represents the glass transition temperature (unit: K) of the polymer (A), and Tgi (i = 1, 2, ... N) is when the monomer i forms a homopolymer. It represents the glass transition temperature (unit: K), and Wi (i = 1, 2, ... n) represents the mass fraction of the monomer i in all the monomer components].
The acrylic polymer in the first adhesive composition is obtained by polymerizing a monomer component (first monomer component) containing a (meth) acrylic acid alkyl ester as a main component. "(Meta) acrylic acid" shall mean acrylic acid and / or methacrylic acid.

(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、直鎖状または分岐状の(メタ)アクリル酸C1−20アルキルエステルが挙げられる。そのような(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸s−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸イソペンチル、(メタ)アクリル酸ネオペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸イソトリドデシル、(メタ)アクリル酸テトラデシル、(メタ)アクリル酸イソテトラデシル、(メタ)アクリル酸ペンタデシル、(メタ)アクリル酸セチル、(メタ)アクリル酸ヘプタデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸イソオクタデシル、(メタ)アクリル酸ノナデシル、および(メタ)アクリル酸エイコシルが挙げられる。アクリルポリマーを形成するうえで、1種類の(メタ)アクリル酸アルキルエステルを用いてもよいし、2種類以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルを用いてもよい。 Examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester include a linear or branched (meth) acrylic acid C1-20 alkyl ester. Examples of such (meth) acrylic acid alkyl esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and isopropyl (meth) acrylate. Butyl (meth) acrylate, Isobutyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isopentyl (meth) acrylate, (meth) acrylic Neopentyl acid, (meth) hexyl acrylate, (meth) heptyl acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, (meth) Isononyl acrylate, (meth) decyl acrylate, (meth) isodecyl acrylate, (meth) undecyl acrylate, (meth) dodecyl acrylate, (meth) isotridodecyl acrylate, (meth) tetradecyl acrylate, (meth) ) Isotetradecyl acrylate, pentadecyl acrylate, cetyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, isooctadecyl (meth) acrylate, nonadecil (meth) acrylate, And eikosyl (meth) acrylate. In forming the acrylic polymer, one kind of (meth) acrylic acid alkyl ester may be used, or two or more kinds of (meth) acrylic acid alkyl esters may be used.

アクリルポリマーのガラス転移温度を調整する観点からは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルとして、メタクリル酸メチルとアクリル酸C4−12アルキルエステルとを併用するのが好ましい。これらを併用する場合、メタクリル酸メチルおよびアクリル酸C4−12アルキルエステルの総量100質量部に対して、メタクリル酸メチルの配合量は、例えば5質量部以上であり、例えば20質量部以下であり、また、アクリル酸C4−12アルキルエステルの配合量は、例えば80質量部以上であり、例えば95質量部以下である。 From the viewpoint of adjusting the glass transition temperature of the acrylic polymer, it is preferable to use methyl methacrylate and C4-12 alkyl ester of acrylic acid in combination as the (meth) acrylic acid alkyl ester. When these are used in combination, the blending amount of methyl methacrylate is, for example, 5 parts by mass or more, for example, 20 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the total amount of methyl methacrylate and acrylic acid C4-12 alkyl ester. The blending amount of the acrylic acid C4-12 alkyl ester is, for example, 80 parts by mass or more, and for example, 95 parts by mass or less.

第1モノマー成分における(メタ)アクリル酸アルキルエステルの配合割合は、例えば50質量%以上、好ましくは60質量%以上であり、また、例えば80質量%以下である。 The blending ratio of the (meth) acrylic acid alkyl ester in the first monomer component is, for example, 50% by mass or more, preferably 60% by mass or more, and for example, 80% by mass or less.

第1モノマー成分は、好ましくは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な官能基含有ビニルモノマーを含む。官能基含有ビニルモノマーとしては、例えば、ヒドロキシル基含有ビニルモノマー、カルボキシル基含有ビニルモノマー、窒素含有ビニルモノマー、(メタ)アクリロニトリルなどシアノ基含有ビニルモノマー、(メタ)アクリル酸グリシジルなどグリシジル基含有ビニルモノマー、スルホ基含有ビニルモノマー、2−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートなどリン酸基含有ビニルモノマー、芳香族ビニルモノマー、ビニルエステルモノマー、および、メチルビニルエーテルなどビニルエーテルモノマーが挙げられる。 The first monomer component preferably contains a functional group-containing vinyl monomer copolymerizable with the (meth) acrylic acid alkyl ester. Examples of the functional group-containing vinyl monomer include a hydroxyl group-containing vinyl monomer, a carboxyl group-containing vinyl monomer, a nitrogen-containing vinyl monomer, a cyano group-containing vinyl monomer such as (meth) acrylonitrile, and a glycidyl group-containing vinyl monomer such as glycidyl (meth) acrylate. , Sulf group-containing vinyl monomer, phosphate group-containing vinyl monomer such as 2-hydroxyethylacryloyl phosphate, aromatic vinyl monomer, vinyl ester monomer, and vinyl ether monomer such as methyl vinyl ether.

ヒドロキシル基含有ビニルモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6−ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8−ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸10−ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12−ヒドロキシラウリル、および(メタ)アクリル酸4−(ヒドロキシメチル)シクロヘキシルメチルが挙げられ、好ましくは(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、より好ましくはアクリル酸2−ヒドロキシエチルが挙げられる。 Examples of the hydroxyl group-containing vinyl monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate. Examples thereof include 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 10-hydroxydecyl (meth) acrylate, 12-hydroxylauryl (meth) acrylate, and 4- (hydroxymethyl) cyclohexylmethyl (meth) acrylate, preferably. 2-Hydroxyethyl (meth) acrylate, more preferably 2-hydroxyethyl acrylate.

カルボキシル基含有ビニルモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸2−カルボキシエチル、カルボキシペンチル(メタ)アクリル酸カルボキシペンチル、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、およびクロトン酸が挙げられる。また、カルボキシル基含有ビニルモノマーとしては、例えば、無水マレイン酸や無水イタコン酸などの酸無水物基含有モノマーも挙げられる。 Examples of the carboxyl group-containing vinyl monomer include (meth) acrylic acid, 2-carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid. Be done. Further, examples of the carboxyl group-containing vinyl monomer include acid anhydride group-containing monomers such as maleic anhydride and itaconic anhydride.

窒素含有ビニルモノマーとしては、例えば、N−ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルピペリドン、ビニルピリミジン、ビニルピペラジン、ビニルピラジン、ビニルピロール、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニルモルホリン、N−アクリロイルモルホリン、N−ビニルカルボン酸アミド類、およびN−ビニルカプロラクタムが挙げられる。 Examples of the nitrogen-containing vinyl monomer include N-vinylpyrrolidone, methylvinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylpiperidone, vinylpyrimidine, vinylpiperazin, vinylpyrazine, vinylpyrrole, vinylimidazole, vinyloxazole, vinylmorpholine, N-acryloylmorpholine, and N. -Vinyl carboxylic acid amides and N-vinyl caprolactam can be mentioned.

スルホ基含有ビニルモノマーとしては、例えば、スチレンスルホン酸およびアリルスルホン酸が挙げられる。 Examples of the sulfo group-containing vinyl monomer include styrene sulfonic acid and allyl sulfonic acid.

芳香族ビニルモノマーとしては、例えば、スチレン、p−メチルスチレン、o−メチルスチレン、およびα−メチルスチレンが挙げられる。 Aromatic vinyl monomers include, for example, styrene, p-methylstyrene, o-methylstyrene, and α-methylstyrene.

ビニルエステルモノマーとしては、例えば、酢酸ビニルおよびプロピオン酸ビニルが挙げられる。 Examples of the vinyl ester monomer include vinyl acetate and vinyl propionate.

アクリルポリマーを形成するうえでは、1種類の官能基含有ビニルモノマーを用いてもよいし、2種類以上の官能基含有ビニルモノマーを用いてもよい。アクリルポリマーに架橋構造を導入するという観点からは、官能基含有ビニルモノマーとして、ヒドロキシル基含有ビニルモノマーおよび/またはカルボキシル基含有ビニルモノマーを用いるのが好ましい。粘着剤層22において充分な凝集力を確保するという観点からは、官能基含有ビニルモノマーとして、窒素含有ビニルモノマーを用いるのが好ましく、窒素含有ビニルモノマーと共にヒドロキシル基含有ビニルモノマーおよび/またはカルボキシル基含有ビニルモノマーを用いるのが好ましい。 In forming the acrylic polymer, one kind of functional group-containing vinyl monomer may be used, or two or more kinds of functional group-containing vinyl monomers may be used. From the viewpoint of introducing a crosslinked structure into the acrylic polymer, it is preferable to use a hydroxyl group-containing vinyl monomer and / or a carboxyl group-containing vinyl monomer as the functional group-containing vinyl monomer. From the viewpoint of ensuring sufficient cohesive force in the pressure-sensitive adhesive layer 22, it is preferable to use a nitrogen-containing vinyl monomer as the functional group-containing vinyl monomer, and the hydroxyl group-containing vinyl monomer and / or the carboxyl group is contained together with the nitrogen-containing vinyl monomer. It is preferable to use a vinyl monomer.

第1モノマー成分における官能基含有ビニルモノマーの配合割合は、例えば5質量%以上、好ましくは10質量%以上、より好ましくは15質量%以上であり、また、例えば30質量%以下、好ましくは20質量%以下である。 The blending ratio of the functional group-containing vinyl monomer in the first monomer component is, for example, 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, and for example, 30% by mass or less, preferably 20% by mass. % Or less.

上述のアクリルポリマーは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルを主成分として含む以上のような第1モノマー成分を重合させることによって形成することができる。重合手法としては、例えば、溶液重合、塊状重合、および乳化重合が挙げられ、好ましくは溶液重合が挙げられる。 The above-mentioned acrylic polymer can be formed by polymerizing the above-mentioned first monomer component containing a (meth) acrylic acid alkyl ester as a main component. Examples of the polymerization method include solution polymerization, bulk polymerization, and emulsion polymerization, and solution polymerization is preferable.

溶液重合では、例えば、第1モノマー成分と重合開始剤とを溶媒に配合して反応溶液を調製したうえで、その反応溶液を加熱する。そして、反応溶液中での第1モノマー成分の重合反応を経ることによって、アクリルポリマーを含むアクリルポリマー溶液を得ることができる。 In solution polymerization, for example, a reaction solution is prepared by blending a first monomer component and a polymerization initiator in a solvent, and then the reaction solution is heated. Then, an acrylic polymer solution containing an acrylic polymer can be obtained by undergoing a polymerization reaction of the first monomer component in the reaction solution.

溶液重合によって得られるアクリルポリマー溶液の固形分濃度は、例えば20質量%以上であり、例えば80質量%以下である。アクリルポリマーの重量平均分子量は、例えば100000以上、好ましくは300000以上、より好ましくは500000以上であり、例えば5000000以下、好ましくは3000000以下、より好ましくは2000000以下である。アクリルポリマーの重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフ(GPC)により測定してポリスチレン換算により算出された値とする。 The solid content concentration of the acrylic polymer solution obtained by solution polymerization is, for example, 20% by mass or more, for example, 80% by mass or less. The weight average molecular weight of the acrylic polymer is, for example, 100,000 or more, preferably 300,000 or more, more preferably 500,000 or more, for example, 5,000,000 or less, preferably 3,000,000 or less, and more preferably 2000000 or less. The weight average molecular weight of the acrylic polymer is a value calculated by gel permeation chromatography (GPC) and converted to polystyrene.

第1粘着性組成物におけるアクリルポリマーの配合割合は、例えば50質量%以上、好ましくは80質量%以上であり、また、例えば90質量%以下である。第1粘着性組成物中のアクリルポリマーと光硬化剤と光重合開始剤との総量に対するアクリルポリマーの配合量の割合は、例えば70質量%以上であり、また、例えば95質量%以下である。 The blending ratio of the acrylic polymer in the first adhesive composition is, for example, 50% by mass or more, preferably 80% by mass or more, and for example, 90% by mass or less. The ratio of the blending amount of the acrylic polymer to the total amount of the acrylic polymer, the photocuring agent and the photopolymerization initiator in the first adhesive composition is, for example, 70% by mass or more, and for example, 95% by mass or less.

第1粘着性組成物中の光硬化剤は、例えば多官能(メタ)アクリレートであり、活性エネルギー線の照射によって粘着剤層22の粘着力を充分に上昇させることができるという観点から、好ましくは2官能(メタ)アクリレートおよび3官能(メタ)アクリレートが挙げられる。2官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAプロピレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、アルカンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、およびグリセリンジ(メタ)アクリレート挙げられる。3官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、エトキシ化イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールトリ(メタ)アクリレート、およびトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート挙げられる。光硬化剤としては、他のアクリル系光反応性オリゴマー、並びに、ウレタン系、ポリエーテル系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリブタジエン系などの光反応性オリゴマーも、挙げられる。これら光硬化剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 The photocuring agent in the first adhesive composition is, for example, a polyfunctional (meth) acrylate, which is preferable from the viewpoint that the adhesive strength of the adhesive layer 22 can be sufficiently increased by irradiation with active energy rays. Examples thereof include bifunctional (meth) acrylate and trifunctional (meth) acrylate. Examples of the bifunctional (meth) acrylate include polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A ethylene oxide-modified di (meth) acrylate, and bisphenol A. Propylene oxide modified di (meth) acrylate, alkanediol di (meth) acrylate, tricyclodecanedimethanol di (meth) acrylate, pentaeristol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and glycerindi ( Meta) Acrylate can be mentioned. Examples of the trifunctional (meth) acrylate include ethoxylated isocyanuric acid tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and trimethylolpropane tri (meth) acrylate. Examples of the photocuring agent include other acrylic photoreactive oligomers and photoreactive oligomers such as urethane-based, polyether-based, polyester-based, polycarbonate-based, and polybutadiene-based. These photo-curing agents may be used alone or in combination of two or more.

光硬化剤の官能基当量は、例えば50g/eq以上であり、例えば500g/eq以下である。光硬化剤の25℃における粘度は、例えば5mPa・s以上であり、例えば1000mPa・s以下である。光硬化剤の分子量は、第1粘着性組成物中での相溶性の観点から、例えば200以下であり、例えば1000以上である。 The functional group equivalent of the photocuring agent is, for example, 50 g / eq or more, and for example, 500 g / eq or less. The viscosity of the photocuring agent at 25 ° C. is, for example, 5 mPa · s or more, for example 1000 mPa · s or less. The molecular weight of the photocuring agent is, for example, 200 or less, and 1000 or more, for example, from the viewpoint of compatibility in the first adhesive composition.

上述のアクリルポリマーに対する光硬化剤の相溶性は、低い方が好ましい。アクリルポリマーに対する光硬化剤の相溶性が低いという構成は、後述のように、粘着剤層22粘着力について、事後的に高粘着力状態へと変化させることが可能な低粘着力状態を実現するうえで好ましい。 The compatibility of the photocuring agent with the above-mentioned acrylic polymer is preferably low. The configuration in which the compatibility of the photocuring agent with the acrylic polymer is low realizes a low adhesive strength state in which the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer 22 can be changed to a high adhesive strength state after the fact, as will be described later. It is preferable to the above.

第1粘着性組成物における光硬化剤の配合割合は、例えば10質量%以上であり、また、例えば50質量%以下である。第1粘着性組成物中の光硬化剤の配合量は、アクリルポリマー100質量部に対して、例えば10質量部以上であり、例えば50質量部以下、好ましくは30質量部以下である。第1粘着性組成物中のアクリルポリマーと光硬化剤と光重合開始剤との総量に対する光硬化剤の配合量の割合は、例えば5質量%以上であり、また、例えば30質量%以下である。 The blending ratio of the photocuring agent in the first adhesive composition is, for example, 10% by mass or more, and for example, 50% by mass or less. The blending amount of the photocuring agent in the first adhesive composition is, for example, 10 parts by mass or more, for example, 50 parts by mass or less, preferably 30 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the acrylic polymer. The ratio of the blending amount of the photocuring agent to the total amount of the acrylic polymer, the photocuring agent and the photopolymerization initiator in the first adhesive composition is, for example, 5% by mass or more, and for example, 30% by mass or less. ..

第1粘着性組成物中の光重合開始剤は、光硬化剤の硬化反応を促進するためのものであり、光硬化剤の種類などに応じて選択される。光重合開始剤としては、例えば、光カチオン開始剤(光酸発生剤)、光ラジカル開始剤、および光アニオン開始剤(光塩基発生剤)挙げられる。光ラジカル開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのヒドロキシケトン類、ベンジルジメチルケタール類、アミノケトン類、アシルフォスフィンオキサイド類、ベンゾフェノン類、およびトリクロロメチル基含有トリアジン誘導体挙げられる。これら光重合開始剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。上述の光硬化剤として多官能(メタ)アクリレートが用いられる場合には、光重合開始剤としては、好ましくは光ラジカル開始剤が用いられ、より好ましくはヒドロキシケトン類が用いられる。このような光重合開始剤の光吸収域は、例えば300nm以上であり、また、例えば450nm以下である。 The photopolymerization initiator in the first adhesive composition is for accelerating the curing reaction of the photocuring agent, and is selected according to the type of the photocuring agent and the like. Examples of the photopolymerization initiator include a photocation initiator (photoacid generator), a photoradical initiator, and a photoanion initiator (photobase generator). Examples of the photoinitiator include hydroxyketones such as 1-hydroxycyclohexylphenylketone, benzyldimethylketals, aminoketones, acylphosphine oxides, benzophenones, and trichloromethyl group-containing triazine derivatives. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. When a polyfunctional (meth) acrylate is used as the above-mentioned photocuring agent, a photoradical initiator is preferably used as the photopolymerization initiator, and hydroxyketones are more preferably used as the photopolymerization initiator. The light absorption region of such a photopolymerization initiator is, for example, 300 nm or more, and for example, 450 nm or less.

第1粘着性組成物における光重合開始剤の配合割合は、例えば、0.01質量%以上であり、また、例えば0.5質量%以下、好ましくは0.1質量%以下である。第1粘着性組成物中の光重合開始剤の配合量は、アクリルポリマー100質量部に対して、例えば0.01質量部以上であり、また、例えば1質量部以下、好ましくは0.5質量部以下である。第1粘着性組成物中のアクリルポリマーと光硬化剤と光重合開始剤との総量に対する光重合開始剤の配合量の割合は、例えば0.01質量%以上であり、また、例えば1質量%以下、好ましくは、0.5質量%以下である。 The blending ratio of the photopolymerization initiator in the first adhesive composition is, for example, 0.01% by mass or more, and for example, 0.5% by mass or less, preferably 0.1% by mass or less. The blending amount of the photopolymerization initiator in the first adhesive composition is, for example, 0.01 part by mass or more, and for example, 1 part by mass or less, preferably 0.5 part by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer. It is less than a part. The ratio of the blending amount of the photopolymerization initiator to the total amount of the acrylic polymer, the photocuring agent and the photopolymerization initiator in the first adhesive composition is, for example, 0.01% by mass or more, and for example, 1% by mass. Hereinafter, it is preferably 0.5% by mass or less.

第1粘着性組成物を調製するには、アクリルポリマー(溶液重合によりアクリルポリマーを調製した場合には、アクリルポリマー溶液)と、光硬化剤と、光重合開始剤とを上記の割合で配合し、混合する。 In order to prepare the first adhesive composition, an acrylic polymer (an acrylic polymer solution when the acrylic polymer is prepared by solution polymerization), a photocuring agent, and a photopolymerization initiator are blended in the above ratios. , Mix.

第1粘着性組成物には、アクリルポリマーに架橋構造を導入させる観点から、好ましくは、架橋剤を配合する。ヒドロキシル基やカルボキシル基など架橋点を有するアクリルポリマーと架橋剤とを第1粘着性組成物に配合する場合、アクリルポリマーの架橋点と架橋剤とが反応し得て、アクリルポリマーに架橋構造を導入しうるのである。そのための架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、および金属キレート系架橋剤挙げられ、好ましくはイソシアネート系架橋剤が挙げられる。 The first adhesive composition preferably contains a cross-linking agent from the viewpoint of introducing a cross-linked structure into the acrylic polymer. When an acrylic polymer having a cross-linking point such as a hydroxyl group or a carboxyl group and a cross-linking agent are blended in the first adhesive composition, the cross-linking point of the acrylic polymer and the cross-linking agent can react to introduce a cross-linked structure into the acrylic polymer. It can be done. Examples of the cross-linking agent for that purpose include isocyanate-based cross-linking agents, epoxy-based cross-linking agents, oxazoline-based cross-linking agents, aziridine-based cross-linking agents, carbodiimide-based cross-linking agents, and metal chelate-based cross-linking agents, and isocyanate-based cross-linking agents are preferable. Can be mentioned.

イソシアネート系架橋剤としては、例えば、ブチレンジイソシアネートやヘキサメチレンジイソシアネートなどの脂肪族ジイソシアネート、シクロペンチレンジイソシアネートやシクロへキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどの脂環族ジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネートや4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートなどの芳香族ジイソシアネートが挙げられる。イソシアネート系架橋剤としては、これらイソシアネートの誘導体(例えば、イソシアヌレート変性体やポリオール変性体など)も挙げられる。また、イソシアネート系架橋剤としては、市販品を用いることもできる。その市販品としては、例えば、コロネートL(トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体,東ソー製)、コロネートHL(へキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体,東ソー製)、コロネートHX(ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体,東ソー製)、および、タケネートD110N(キシリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体,三井化学製)が挙げられる。これら架橋剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the isocyanate-based cross-linking agent include aliphatic diisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate, alicyclic diisocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate and isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate and 4, Examples thereof include aromatic diisocyanates such as 4'-diphenylmethane diisocyanate and xylylene diisocyanate. Examples of the isocyanate-based cross-linking agent include derivatives of these isocyanates (for example, isocyanurate-modified products and polyol-modified products). Further, as the isocyanate-based cross-linking agent, a commercially available product can also be used. Examples of commercially available products include coronate L (trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate, manufactured by Tosoh), coronate HL (trimethylolpropane adduct of hexamethylene diisocyanate, manufactured by Tosoh), and coronate HX (hexamethylene diisocyanate). Isocyanurate (manufactured by Toso) and Takenate D110N (trimethylolpropane adduct of xylylene diisocyanate, manufactured by Mitsui Kagaku). These cross-linking agents may be used alone or in combination of two or more.

架橋剤の官能基当量は、例えば50g/eq以上であり、また、例えば500g/eq以下である。 The functional group equivalent of the cross-linking agent is, for example, 50 g / eq or more, and for example, 500 g / eq or less.

第1粘着性組成物中の架橋剤の配合割合は、アクリルポリマー100質量部に対して、例えば0.1質量部以上、好ましくは1.0質量部以上、より好ましくは1.5質量部以上、さらに好ましくは2.0質量部以上であり、また、例えば10質量部以下、好ましくは5質量部以下、より好ましくは4質量部以下である。 The blending ratio of the cross-linking agent in the first adhesive composition is, for example, 0.1 part by mass or more, preferably 1.0 part by mass or more, and more preferably 1.5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer. It is more preferably 2.0 parts by mass or more, and for example, 10 parts by mass or less, preferably 5 parts by mass or less, and more preferably 4 parts by mass or less.

第1粘着性組成物に以上のような架橋剤を配合する場合、架橋反応を促進させるための架橋触媒を第1粘着性組成物に配合してもよい。 When the above-mentioned cross-linking agent is blended in the first tacky composition, a cross-linking catalyst for accelerating the cross-linking reaction may be blended in the first tacky composition.

架橋触媒としては、例えば、テトラ−n−ブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート、ナーセム第二鉄、ブチルスズオキシド、ジオクチルスズジラウレートなどの金属系架橋触媒が挙げられる。架橋触媒は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the cross-linking catalyst include metal-based cross-linking catalysts such as tetra-n-butyl titanate, tetraisopropyl titanate, ferric nasem, butyl tin oxide, and dioctyl tin dilaurate. The cross-linking catalyst may be used alone or in combination of two or more.

第1粘着性組成物中の架橋触媒の配合割合は、アクリルポリマー100質量部に対して、例えば0.001質量部以上、好ましくは0.01質量部以上であり、また、例えば0.05質量部以下である。 The blending ratio of the cross-linking catalyst in the first adhesive composition is, for example, 0.001 part by mass or more, preferably 0.01 part by mass or more, and 0.05 part by mass, for example, with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer. It is less than a part.

第1粘着性組成物には、必要に応じて他の成分を配合してもよい。他の成分としては、例えば、シランカップリング剤、粘着性付与剤、可塑剤、軟化剤、劣化防止剤、充填剤、着色剤、紫外線吸収剤(蛍光灯下または自然光下での安定化の観点から)、酸化防止剤、界面活性剤、および帯電防止剤挙げられる。 Other components may be added to the first adhesive composition, if necessary. Other components include, for example, silane coupling agents, tackifiers, plasticizers, softeners, anti-deterioration agents, fillers, colorants, UV absorbers (from the perspective of stabilization under fluorescent or natural light). ), Antioxidants, surfactants, and antistatic agents.

上述の第2粘着性組成物は、ベールポリマー(第1ポリマー)と、オルガノシロキサン含有ポリマー(第2ポリマー)とを含む。 The above-mentioned second adhesive composition contains a veil polymer (first polymer) and an organosiloxane-containing polymer (second polymer).

ベースポリマーとしては、例えば、アクリルポリマー、天然ゴム、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体(SISブロック共重合体)、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(SBSブロック共重合体)、スチレン−エチレン・ブチレン−スチレンブロック共重合体(SEBSブロック共重合体)、スチレン−ブタジエンゴム、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ブチルゴム、クロロプレンゴム、および、シリコーンゴムなどが挙げられる。粘着力の制御の観点からは、ベースポリマーとしてはアクリルポリマーが好ましい。 Examples of the base polymer include acrylic polymer, natural rubber, styrene-isoprene-styrene block copolymer (SIS block copolymer), styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS block copolymer), and styrene-ethylene. -Butylene-styrene block copolymer (SEBS block copolymer), styrene-butadiene rubber, polybutadiene, polyisoprene, polyisobutylene, butyl rubber, chloroprene rubber, silicone rubber and the like can be mentioned. From the viewpoint of controlling the adhesive force, an acrylic polymer is preferable as the base polymer.

ベースポリマーのガラス転移温度(Tg)は、例えば0℃以下、好ましくは−100℃〜−5℃、より好ましくは−80℃〜−10℃、さらに好ましくは−40℃〜−10℃である。このような構成は、第2粘着性組成物におけるベースポリマーの流動性を確保するうえで好適であり、従って、加熱によって第2粘着性組成物を高粘着力状態に変化させるうえで好適である。 The glass transition temperature (Tg) of the base polymer is, for example, 0 ° C. or lower, preferably −100 ° C. to −5 ° C., more preferably −80 ° C. to −10 ° C., and further preferably −40 ° C. to −10 ° C. Such a configuration is suitable for ensuring the fluidity of the base polymer in the second adhesive composition, and is therefore suitable for changing the second adhesive composition to a high adhesive force state by heating. ..

第2粘着性組成物中のアクリルポリマーは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルを主成分として含むモノマー成分(第2モノマー成分)の重合により得られる。 The acrylic polymer in the second adhesive composition is obtained by polymerizing a monomer component (second monomer component) containing a (meth) acrylic acid alkyl ester as a main component.

第2モノマー成分中の(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、上述の第1モノマー成分中の(メタ)アクリル酸アルキルエステルと同様のものを用いることができる。第2モノマー成分における(メタ)アクリル酸アルキルエステルの配合割合は、例えば50質量%以上、好ましくは60質量%以上であり、また、例えば80質量%以下である。 As the (meth) acrylic acid alkyl ester in the second monomer component, for example, the same one as the (meth) acrylic acid alkyl ester in the first monomer component described above can be used. The blending ratio of the (meth) acrylic acid alkyl ester in the second monomer component is, for example, 50% by mass or more, preferably 60% by mass or more, and for example, 80% by mass or less.

第2モノマー成分は、好ましくは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な官能基含有ビニルモノマーを含む。官能基含有ビニルモノマーとしては、例えば、上述の第1モノマー成分中の官能基含有ビニルモノマーと同様のものを用いることができる。第2モノマー成分における官能基含有ビニルモノマーの配合割合は、例えば5質量%以上、好ましくは10質量%以上、より好ましくは15質量%以上であり、また、例えば30質量%以下、好ましくは20質量%以下である。 The second monomer component preferably contains a functional group-containing vinyl monomer copolymerizable with the (meth) acrylic acid alkyl ester. As the functional group-containing vinyl monomer, for example, the same as the functional group-containing vinyl monomer in the above-mentioned first monomer component can be used. The blending ratio of the functional group-containing vinyl monomer in the second monomer component is, for example, 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, and for example, 30% by mass or less, preferably 20% by mass. % Or less.

第2粘着性組成物中のアクリルポリマーは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルを主成分として含む第2モノマー成分を重合させることによって形成することができる。重合手法としては、例えば、溶液重合、塊状重合、および乳化重合が挙げられ、好ましくは溶液重合が挙げられる。 The acrylic polymer in the second adhesive composition can be formed by polymerizing a second monomer component containing a (meth) acrylic acid alkyl ester as a main component. Examples of the polymerization method include solution polymerization, bulk polymerization, and emulsion polymerization, and solution polymerization is preferable.

第2粘着性組成物中のアクリルポリマーとオルガノシロキサン含有ポリマーとの総量に対するアクリルポリマーの配合量の割合は、例えば70質量%以上であり、また、例えば99質量%以下、好ましくは90質量%以下である。 The ratio of the blending amount of the acrylic polymer to the total amount of the acrylic polymer and the organosiloxane-containing polymer in the second adhesive composition is, for example, 70% by mass or more, and for example, 99% by mass or less, preferably 90% by mass or less. Is.

オルガノシロキサン含有ポリマーとしては、例えば、オルガノシロキサン骨格を有するアクリル系、ウレタン系、ポリエーテル系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、およびポリブタジエン系のポリマーが挙げられ、粘着力の制御の観点からは、オルガノシロキサン骨格を有するアクリル系ポリマーが好適に用いられる。 Examples of the organosiloxane-containing polymer include acrylic-based, urethane-based, polyether-based, polyester-based, polycarbonate-based, and polybutadiene-based polymers having an organosiloxane skeleton. From the viewpoint of controlling adhesive strength, the organosiloxane is used. An acrylic polymer having a skeleton is preferably used.

オルガノシロキサン骨格を有するアクリル系ポリマーは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルとオルガノシロキサン骨格を有するモノマーとを含むモノマー成分(第3モノマー成分)の重合により得られる。第3モノマー成分中の(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、上述の第1モノマー成分中の(メタ)アクリル酸アルキルエステルと同様のものを用いることができる。オルガノシロキサン骨格含有モノマーとしては、例えば、下記の一般式(1)で表される化合物または一般式(2)で表される化合物を、用いることができる。一般式(1)(2)において、Rは水素またはメチル基を表し、Rはメチル基または1価の有機基を表し、mおよびnは0以上の整数である。 The acrylic polymer having an organosiloxane skeleton is obtained by polymerizing a monomer component (third monomer component) containing a (meth) acrylic acid alkyl ester and a monomer having an organosiloxane skeleton. As the (meth) acrylic acid alkyl ester in the third monomer component, for example, the same one as the (meth) acrylic acid alkyl ester in the first monomer component described above can be used. As the organosiloxane skeleton-containing monomer, for example, a compound represented by the following general formula (1) or a compound represented by the general formula (2) can be used. In the general formulas (1) and (2), R 1 represents a hydrogen or a methyl group, R 2 represents a methyl group or a monovalent organic group, and m and n are integers of 0 or more.

Figure 0006916836
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Figure 0006916836
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オルガノシロキサン骨格含有モノマーとしては、市販品を用いることもでき、具体的には、X−22−174ASX、X−22−2426、X−22−2475、およびKF−2012(以上、信越化学工業株式会社製の片末端反応性シリコーン)が挙げられる。 Commercially available products can also be used as the organosiloxane skeleton-containing monomer. Specifically, X-22-174ASX, X-22-2426, X-22-2475, and KF-22012 (above, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) One-end reactive silicone manufactured by the company) can be mentioned.

オルガノシロキサン骨格含有モノマーの官能基当量は、例えば700g/mol以上、好ましくは800g/mol以上、より好ましくは850g/mol以上、さらに好ましくは1500g/mol以上であり、また、例えば20000g/mol未満、好ましくは15000g/mol未満、より好ましくは10000g/mol未満、さらに好ましくは6000g/mol未満、とりわけ好ましくは5000g/mol未満である。 The functional group equivalent of the organosiloxane skeleton-containing monomer is, for example, 700 g / mol or more, preferably 800 g / mol or more, more preferably 850 g / mol or more, still more preferably 1500 g / mol or more, and for example, less than 20000 g / mol. It is preferably less than 15,000 g / mol, more preferably less than 10000 g / mol, still more preferably less than 6000 g / mol, and particularly preferably less than 5000 g / mol.

第3モノマー成分中の(メタ)アクリル酸アルキルエステルおよびオルガノシロキサン骨格含有モノマーの総量に対するオルガノシロキサン骨格含有モノマーの配合量の割合は、例えば10質量%以上、好ましくは15質量%以上、より好ましくは20質量%以上であり、また、例えば60質量%以下、好ましくは50質量%以下、より好ましくは40質量%以下、さらに好ましくは30質量%以下である。 The ratio of the blending amount of the organosiloxane skeleton-containing monomer to the total amount of the (meth) acrylic acid alkyl ester and the organosiloxane skeleton-containing monomer in the third monomer component is, for example, 10% by mass or more, preferably 15% by mass or more, more preferably. It is 20% by mass or more, and for example, 60% by mass or less, preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, still more preferably 30% by mass or less.

第3モノマー成分は、官能基含有ビニルモノマーを含んでもよい。官能基含有ビニルモノマーとしては、例えば、上述の第1モノマー成分中の官能基含有ビニルモノマーと同様のものを用いることができる。 The third monomer component may contain a functional group-containing vinyl monomer. As the functional group-containing vinyl monomer, for example, the same as the functional group-containing vinyl monomer in the above-mentioned first monomer component can be used.

第2粘着性組成物中のオルガノシロキサン含有ポリマーは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルとオルガノシロキサン骨格含有モノマーとを含み且つ必要に応じて官能基含有ビニルモノマーを含む第3モノマー成分を重合させることによって形成することができる。重合手法としては、例えば、溶液重合、塊状重合、および乳化重合が挙げられ、好ましくは溶液重合が挙げられる。溶液重合では、例えば、第3モノマー成分と例えば上述の重合開始剤とを溶媒に配合して反応溶液を調製したうえで、その反応溶液を加熱する。そして、反応溶液中での第3モノマー成分の重合反応を経ることによって、オルガノシロキサン含有ポリマーを含むポリマー溶液を得ることができる。この重合反応においては、形成されるポリマーの分子量を調整するために連鎖移動剤を用いてもよい。 The organosiloxane-containing polymer in the second adhesive composition contains a (meth) acrylic acid alkyl ester and an organosiloxane skeleton-containing monomer, and if necessary, polymerizes a third monomer component containing a functional group-containing vinyl monomer. Can be formed by. Examples of the polymerization method include solution polymerization, bulk polymerization, and emulsion polymerization, and solution polymerization is preferable. In solution polymerization, for example, a third monomer component and, for example, the above-mentioned polymerization initiator are mixed with a solvent to prepare a reaction solution, and then the reaction solution is heated. Then, a polymer solution containing an organosiloxane-containing polymer can be obtained by undergoing a polymerization reaction of the third monomer component in the reaction solution. In this polymerization reaction, a chain transfer agent may be used to adjust the molecular weight of the polymer to be formed.

第2粘着性組成物には、それに配合されるアクリルポリマーおよび/またはオルガノシロキサン含有ポリマーに架橋構造を導入させる観点から、好ましくは、架橋剤を配合する。第2粘着性組成物中の架橋剤としては、例えば、第1粘着性組成物中の架橋剤として上述したのと同様のものを用いることができる。 The second adhesive composition is preferably blended with a cross-linking agent from the viewpoint of introducing a cross-linked structure into the acrylic polymer and / or the organosiloxane-containing polymer to be blended therein. As the cross-linking agent in the second adhesive composition, for example, the same cross-linking agent as described above can be used as the cross-linking agent in the first sticky composition.

第2粘着性組成物には、必要に応じて他の成分を配合してもよい。他の成分としては、例えば、シランカップリング剤、粘着性付与剤、可塑剤、軟化剤、劣化防止剤、充填剤、着色剤、紫外線吸収剤(蛍光灯下または自然光下での安定化の観点から)、酸化防止剤、界面活性剤、および帯電防止剤挙げられる。 Other components may be added to the second adhesive composition, if necessary. Other components include, for example, silane coupling agents, tackifiers, plasticizers, softeners, anti-deterioration agents, fillers, colorants, UV absorbers (from the perspective of stabilization under fluorescent or natural light). ), Antioxidants, surfactants, and antistatic agents.

第2粘着性組成物におけるオルガノシロキサン含有ポリマーの配合割合は、アクリルポリマー100質量部に対して、例えば0.1質量部以上、好ましくは0.3質量部以上、より好ましくは0.4質量部以上、さらに好ましくは0.5質量部以上、とりわけ好ましくは1質量部以上、最も好ましくは2質量部以上であり、また、例えば75質量部以下、好ましくは50質量部以下、より好ましくは20質量部以下、さらに好ましくは10質量部以下、とりわけ好ましくは8質量部以下、最も好ましくは5質量部以下である。 The blending ratio of the organosiloxane-containing polymer in the second adhesive composition is, for example, 0.1 parts by mass or more, preferably 0.3 parts by mass or more, and more preferably 0.4 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer. The above is more preferably 0.5 parts by mass or more, particularly preferably 1 part by mass or more, most preferably 2 parts by mass or more, and for example, 75 parts by mass or less, preferably 50 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass. Parts or less, more preferably 10 parts by mass or less, particularly preferably 8 parts by mass or less, and most preferably 5 parts by mass or less.

粘着剤層22の厚さは、被着体10に対する充分な粘着性を確保するという観点から、例えば5μm以上、好ましくは10μm以上、より好ましくは15μm以上、さらに好ましくは20μm以上であり、また、ハンドリング性の観点から、例えば300μm以下、好ましくは100μm以下、より好ましくは50μm以下、さらに好ましくは40μm以下、とりわけ好ましくは30μm以下である。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 22 is, for example, 5 μm or more, preferably 10 μm or more, more preferably 15 μm or more, still more preferably 20 μm or more, and more preferably 20 μm or more, from the viewpoint of ensuring sufficient adhesiveness to the adherend 10. From the viewpoint of handleability, for example, it is 300 μm or less, preferably 100 μm or less, more preferably 50 μm or less, still more preferably 40 μm or less, and particularly preferably 30 μm or less.

積層体Xでは、図2を参照して上述したように、被着体10上のフィルム部分20Aの基材21においてフィルム部分20Bに対向する端面21aは、被着体10から離れる箇所ほどフィルム部分20A内方側に退避するように傾斜し、且つ、被着体10上のフィルム部分20Bの基材21においてフィルム部分20Aに対向する端面21bは、被着体10から離れる箇所ほどフィルム部分20B部分内方側に退避するように傾斜している。このような構成は、被着体10におけるフィルム部分20A,20B間領域を図2内の矢印Rで示す方向に屈曲させて積層体Xを折り返す場合に、当該屈曲につき屈曲代を確保するのに適する(即ち、フィルム部分20A,20Bどうしの当接を抑制するのに適する)。このような技術的効果を得るうえで、例えば、フィルム部分20A,20B間の距離に応じて端面21a,21bの上記各傾斜角度αが適宜に設定される。 In the laminated body X, as described above with reference to FIG. 2, the end surface 21a of the base material 21 of the film portion 20A on the adherend 10 facing the film portion 20B is a film portion as the distance from the adherend 10 increases. The end surface 21b of the base material 21 of the film portion 20B on the adherend 10 that is inclined so as to retract inward of 20A and faces the film portion 20A is such that the film portion 20B portion is farther from the adherend 10. It is tilted so that it retracts inward. With such a configuration, when the region between the film portions 20A and 20B in the adherend 10 is bent in the direction indicated by the arrow R in FIG. 2 and the laminated body X is folded back, a bending allowance is secured for the bending. Suitable (that is, suitable for suppressing contact between film portions 20A and 20B). In order to obtain such a technical effect, for example, the inclination angles α of the end faces 21a and 21b are appropriately set according to the distance between the film portions 20A and 20B.

仮に、端面21aが上述のように傾斜しておらず被着体10の第2面12に対して垂直である場合、隣り合うフィルム部分20A,20B間の距離によっては、図4にて仮想線で表すようにフィルム部分20A,20Bの端面21a,21bどうしが干渉し合い、積層体Xが適切な折り返し形態をとることができない。 If the end surface 21a is not inclined as described above and is perpendicular to the second surface 12 of the adherend 10, the virtual line in FIG. 4 depends on the distance between the adjacent film portions 20A and 20B. As shown by, the end faces 21a and 21b of the film portions 20A and 20B interfere with each other, and the laminated body X cannot take an appropriate folded form.

これに対し、本発明の一実施形態に係る積層体Xにおいては、端面21a,21bが上述のように傾斜しているため、フィルム部分20A,20B間領域での被着体10の屈曲(矢印Rで示す方向への屈曲)につき屈曲代が確保されうる。そのため、フィルム部分20Aないしその端面21aとフィルム部分20Bないしその端面21bとが近接配置する場合においても、適切な折り返し形態をとりやすい。 On the other hand, in the laminated body X according to the embodiment of the present invention, since the end faces 21a and 21b are inclined as described above, the adherend 10 is bent (arrow) in the region between the film portions 20A and 20B. A bending allowance can be secured for bending in the direction indicated by R). Therefore, even when the film portion 20A or its end surface 21a and the film portion 20B or its end surface 21b are arranged close to each other, it is easy to take an appropriate folded form.

このような積層体Xでは、被着体10についてそのフィルム20貼着面を内側にした適切な折り返し形態をとりやすい。加えて、このように適切な折り返し形態をとりやすい積層体Xは、被着体10上のフィルム部分20A,20B間距離について短く設計しやすく、従って小型化や軽量化を図りやすい。 In such a laminated body X, it is easy to take an appropriate folded form of the adherend 10 with the film 20 sticking surface inside. In addition, the laminated body X, which is easy to take an appropriate folded form in this way, is easy to design with a short distance between the film portions 20A and 20B on the adherend 10, and is therefore easy to be miniaturized and lightened.

加えて、積層体Xにおいては、上述のように、フィルム部分20Aにおける粘着剤層22はフィルム部分20B側縁端に変性部22aを有し、且つ、フィルム部分20Bにおける粘着剤層22はフィルム部分20A側縁端に変性部22bを有する。このような構成は、フィルム部分20A,20Bの粘着剤層22,22の端面21a,21bにおいて粘着剤層構成成分のブリードアウトを抑制するのに適する。 In addition, in the laminated body X, as described above, the pressure-sensitive adhesive layer 22 in the film portion 20A has a modified portion 22a at the side edge edge of the film portion 20B, and the pressure-sensitive adhesive layer 22 in the film portion 20B is a film portion. It has a modified portion 22b at the 20A side edge. Such a configuration is suitable for suppressing the bleed-out of the pressure-sensitive adhesive layer constituent components on the end faces 21a and 21b of the pressure-sensitive adhesive layers 22 and 22 of the film portions 20A and 20B.

図3Aから図3Dは、上述の積層体Xの製造方法を表す。本製造方法は、用意工程と、貼付け工程と、カット工程と、剥離工程と、粘着力上昇工程とを含む。 3A to 3D show the above-mentioned manufacturing method of the laminated body X. The present manufacturing method includes a preparation step, a pasting step, a cutting step, a peeling step, and an adhesive strength increasing step.

まず、用意工程では、図3Aに示すように、フレキシブル被着体である上述の被着体10とフィルム20'を用意する。被着体10は、上述のような第1面11および第2面12を有する。フィルム20'は、上述の基材21および上述の低粘着力状態にある粘着剤層22を含む。 First, in the preparation step, as shown in FIG. 3A, the above-mentioned adherend 10 and the film 20', which are flexible adherends, are prepared. The adherend 10 has a first surface 11 and a second surface 12 as described above. The film 20'contains the above-mentioned base material 21 and the above-mentioned pressure-sensitive adhesive layer 22 in a low adhesive strength state.

フィルム20'は、例えば、基材21上に粘着性組成物を塗布して塗膜を形成し、塗膜から必要に応じて溶媒を乾燥除去することによって、製造することができる。粘着性組成物の塗布方法としては、例えば、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、およびダイコートが挙げられる。溶媒除去のための乾燥温度は、例えば50℃以上、好ましくは70℃以上、より好ましくは100℃以上であり、また、例えば200℃以下、好ましくは180℃以下、より好ましくは150℃以下である。その乾燥時間は、例えば5秒以上、好ましくは10秒以上であり、また、例えば20分以下、好ましくは15分以下、より好ましくは10分以下である。用いる粘着性組成物が架橋剤を含む場合、上述の乾燥と同時に又はその後のエージングによって、粘着性組成物中の架橋剤が関与する架橋反応を進行させる。エージング条件は、架橋剤の種類によって適宜設定される。エージング温度は、例えば20℃以上であり、また、例えば160℃以下、好ましくは100℃以下である。エージング時間は、例えば1分以上、好ましくは12時間以上、より好ましくは1日以上であり、また、例えば7日以下である。また、製造後のフィルム20'については、必要に応じて、粘着剤層22における基材21とは反対の側に剥離フィルムを積層してもよい。そのような剥離フィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエステルフィルムなどの可撓性のプラスチックフィルムが挙げられる。 The film 20'can be produced, for example, by applying an adhesive composition on the base material 21 to form a coating film, and if necessary, drying and removing a solvent from the coating film. Examples of the method of applying the adhesive composition include roll coat, kiss roll coat, gravure coat, reverse coat, roll brush, spray coat, dip roll coat, bar coat, knife coat, air knife coat, curtain coat and lip coat. , And die coat. The drying temperature for removing the solvent is, for example, 50 ° C. or higher, preferably 70 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, and for example, 200 ° C. or lower, preferably 180 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower. .. The drying time is, for example, 5 seconds or more, preferably 10 seconds or more, and for example, 20 minutes or less, preferably 15 minutes or less, and more preferably 10 minutes or less. When the tacky composition used contains a cross-linking agent, the cross-linking reaction involving the cross-linking agent in the sticky composition is promoted at the same time as the above-mentioned drying or by the subsequent aging. The aging conditions are appropriately set depending on the type of the cross-linking agent. The aging temperature is, for example, 20 ° C. or higher, and is, for example, 160 ° C. or lower, preferably 100 ° C. or lower. The aging time is, for example, 1 minute or more, preferably 12 hours or more, more preferably 1 day or more, and for example, 7 days or less. Further, with respect to the manufactured film 20', a release film may be laminated on the side of the pressure-sensitive adhesive layer 22 opposite to the base material 21 if necessary. Examples of such a release film include a flexible plastic film such as a polyethylene film, a polypropylene film, a polyethylene terephthalate film, and a polyester film.

次に、貼付け工程では、図3Bに示すように、被着体10に対してフィルム20'を貼り付ける。フィルム20'は、その粘着剤層22側にて被着体10の第2面12側に貼り付けられる。フィルム20'の粘着剤層22(低粘着力状態にある)の粘着力は、例えば4N/25mm以下、好ましくは1N/25mm以下である。粘着剤層22を伴うフィルム20'の粘着力は、フィルム20'から必要に応じて切り出した試験片をポリイミドフィルムの表面に25℃で貼着した後に当該ポリイミドフィルムから剥離する剥離試験によって測定される値とする。その剥離試験においては、剥離温度を25℃とし、剥離角度を180°とし、剥離速度を300mm/分とする。 Next, in the sticking step, as shown in FIG. 3B, the film 20'is stuck to the adherend 10. The film 20'is attached to the second surface 12 side of the adherend 10 on the pressure-sensitive adhesive layer 22 side. The adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer 22 (in a low adhesive strength state) of the film 20'is, for example, 4N / 25 mm or less, preferably 1N / 25 mm or less. The adhesive strength of the film 20'with the pressure-sensitive adhesive layer 22 is measured by a peeling test in which a test piece cut out from the film 20'if necessary is attached to the surface of the polyimide film at 25 ° C. and then peeled off from the polyimide film. Value. In the peeling test, the peeling temperature is 25 ° C., the peeling angle is 180 °, and the peeling speed is 300 mm / min.

フィルム20'の粘着剤層22が上述の第1粘着性組成物(アクリルポリマーと光硬化剤と光重合開始剤とを含む)よりなる場合、粘着剤層22内の光硬化剤が未硬化な状態にあるために粘着剤層22が低粘着力状態をとりうる。フィルム20'の粘着剤層22が上述の第2粘着性組成物(アクリルポリマーとオルガノシロキサン含有ポリマーとを含む)よりなる場合、粘着剤層22内のオルガノシロキサン含有ポリマーの側鎖であるポリオルガノシロキサン部位が、粘着剤層22内において相対的に低極性であって粘着剤層22の被着体10側表面とその近傍に偏在する傾向にあるために、粘着剤層22が低粘着力状態をとりうる。 When the pressure-sensitive adhesive layer 22 of the film 20'composed of the above-mentioned first pressure-sensitive composition (including an acrylic polymer, a photo-curing agent, and a photopolymerization initiator), the photo-curing agent in the pressure-sensitive adhesive layer 22 is uncured. Since it is in a state, the pressure-sensitive adhesive layer 22 can take a low adhesive strength state. When the pressure-sensitive adhesive layer 22 of the film 20'composed of the above-mentioned second pressure-sensitive composition (containing an acrylic polymer and an organosiloxane-containing polymer), the polyorgano which is a side chain of the organosiloxane-containing polymer in the pressure-sensitive adhesive layer 22. Since the siloxane site has a relatively low polarity in the pressure-sensitive adhesive layer 22 and tends to be unevenly distributed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 22 on the adherend 10 side and its vicinity, the pressure-sensitive adhesive layer 22 is in a low adhesive strength state. Can be taken.

貼付け工程に用いられるフィルム20'の粘着剤層22が低粘着力状態にあるという構成は、本工程でのリワーク性を確保するうえで好適である。本工程において貼付け不良(被着体10に対するフィルム20'の位置ずれや、被着体10とフィルム20'との間への気泡の混入)が生じた場合に、代わりのフィルム20'での貼り付け作業を行いうるよう、フィルム20'には、被着体10から適切に剥離するための軽剥離性が求められる。粘着剤層22が低粘着力状態にあるフィルム20'(その粘着剤層22は事後的に高粘着力状態へと変化可能である)は、被着体10に対するフィルム20'の貼り付け作業に関してリワーク性を確保するとともに、適切な貼付け後に被着体10への充分な接合状態を確保するのに、適する。 The configuration in which the pressure-sensitive adhesive layer 22 of the film 20'used in the sticking step is in a low adhesive strength state is suitable for ensuring reworkability in this step. If a sticking failure occurs in this step (misalignment of the film 20'with respect to the adherend 10 or mixing of air bubbles between the adherend 10 and the film 20'), sticking with a substitute film 20' The film 20'is required to have a light peelability for appropriately peeling from the adherend 10 so that the attachment work can be performed. The film 20'in which the pressure-sensitive adhesive layer 22 is in a low adhesive strength state (the pressure-sensitive adhesive layer 22 can be changed to a high adhesive strength state after the fact) is related to the work of attaching the film 20'to the adherend 10. It is suitable for ensuring reworkability and ensuring a sufficient bonding state to the adherend 10 after proper attachment.

次に、カット工程では、図3Cに示すように、被着体10上のフィルム20'に対してカット溝Gを形成するカット加工を施し(図3Cではカット溝を模式的に太線で表す)、フィルム20'において、離隔する二つの第1領域部S1と第1領域部S1間の第2領域部S2とを区画形成する。第1領域部S1は、製造される積層体Xにおける上述のフィルム20(フィルム部分20A,20B)をなすこととなる領域である。第2領域部S2は、後述のように除去される領域である。本工程でのカット加工の手法としては、例えば、刃物切断およびレーザー切断が挙げられる。刃物切断を行うための刃物としては、例えば、回転刃、トムソン刃、およびピナクル刃が挙げられる。レーザー切断を行うためのレーザーとしては、例えば、COレーザーやYAGレーザー挙げられる。 Next, in the cutting step, as shown in FIG. 3C, the film 20'on the adherend 10 is subjected to a cutting process for forming a cut groove G (in FIG. 3C, the cut groove is schematically represented by a thick line). , In the film 20', the two separated first region portions S1 and the second region portion S2 between the first region portions S1 are partitioned. The first region portion S1 is a region forming the above-mentioned film 20 (film portions 20A, 20B) in the manufactured laminate X. The second region portion S2 is a region to be removed as described later. Examples of the cutting method in this step include cutting a knife and cutting a laser. Examples of the blade for cutting the blade include a rotary blade, a Thomson blade, and a pinnacle blade. Examples of the laser for performing laser cutting include a CO 2 laser and a YAG laser.

カット工程において、各第1領域部S1と第2領域部S2とを区分するカット溝Gは、図4に示すように、被着体10から基材21側に向かって離れるほど幅広である。カット溝Gは、断面V字形状を有するV字溝である。すなわち、各第1領域部S1における第2領域部S2側の切断端面Gaは、被着体10から離れる箇所ほど第1領域部S1の内方側に退避するように傾斜している。カット溝Gの切断端面Gaの傾斜の程度(例えば上記角度α)については、刃物切断においては使用刃物の刃先の刃角を適宜に選択することによって調整することが可能であり、レーザー切断においては使用レーザーの照射エネルギーや照射径、照射位置など照射条件を適宜に調整することによって調整することが可能である。 In the cutting step, the cut groove G that separates the first region portion S1 and the second region portion S2 is wider as the distance from the adherend 10 toward the base material 21 side, as shown in FIG. The cut groove G is a V-shaped groove having a V-shaped cross section. That is, the cut end surface Ga on the second region portion S2 side of each first region portion S1 is inclined so as to retract toward the inward side of the first region portion S1 as the distance from the adherend 10 increases. The degree of inclination of the cut end surface Ga of the cut groove G (for example, the above angle α) can be adjusted by appropriately selecting the blade angle of the cutting edge of the blade to be used in cutting the blade, and in laser cutting. It can be adjusted by appropriately adjusting the irradiation conditions such as the irradiation energy, irradiation diameter, and irradiation position of the laser used.

また、本実施形態におけるカット工程では、各第1領域部S1の粘着剤層22において、第2領域部S2との間のカット溝Gに臨む変性部22a,22bを形成する。変性部22a,22bは、例えば、カット溝形成時の粘着剤層22の局所的昇温によって形成することができる。上述のように、変性部22a,22bは、粘着剤層構成成分のブリードアウトを抑制するのに適する。 Further, in the cutting step of the present embodiment, the modified portions 22a and 22b facing the cut groove G between the pressure-sensitive adhesive layer 22 and the second region portion S2 are formed in the pressure-sensitive adhesive layer 22 of each first region portion S1. The modified portions 22a and 22b can be formed, for example, by locally raising the temperature of the pressure-sensitive adhesive layer 22 when forming the cut groove. As described above, the modified portions 22a and 22b are suitable for suppressing the bleed-out of the pressure-sensitive adhesive layer constituents.

このようなカット工程において、各第1領域部S1と第2領域部S2とを区分するカット溝Gは、フィルム20'に対してその基材21側から粘着剤層22の途中までのハーフカットによって形成される。ハーフカットでは、基材21がその厚さ方向の全体にわたって切断され且つ粘着剤層22の厚さ方向の途中の位置まで切り込まれる。ハーフカットにおける粘着剤層22に対する切込み深さは、粘着剤層22の厚さ全体(100%)における例えば70%以上、好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上であり、例えば100%未満、好ましくは99%以下、より好ましくは98%以下である。このようなハーフカット後の粘着剤層22における残存厚さについては、粘着剤層22における粘弾性など物性および剥離力との関係で適宜に設定することができる。 In such a cutting step, the cut groove G that separates the first region portion S1 and the second region portion S2 is half-cut from the base material 21 side to the middle of the pressure-sensitive adhesive layer 22 with respect to the film 20'. Formed by. In the half-cut, the base material 21 is cut over the entire thickness direction and is cut to a position in the middle of the pressure-sensitive adhesive layer 22 in the thickness direction. The depth of cut into the pressure-sensitive adhesive layer 22 in the half-cut is, for example, 70% or more, preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and less than 100%, for example, in the entire thickness (100%) of the pressure-sensitive adhesive layer 22. It is preferably 99% or less, more preferably 98% or less. The residual thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 22 after such a half-cut can be appropriately set in relation to physical properties such as viscoelasticity and peeling force of the pressure-sensitive adhesive layer 22.

このようなハーフカット加工は、レーザー切断など切断加工により生ずる熱の被着体10への影響を軽減するのに適し、従って、カット工程を経ることに起因する熱履歴が被着体10に生ずるのを抑制するのに適する。例えば、被着体10がフレキシブルディスプレイパネルやフレキシブルプリント配線基板などの電子デバイスである場合、上述のようなハーフカット加工は、被着体10の第1面11側に設けられている各種素子や配線に対する熱的影響を回避・軽減するうえで好適である。 Such a half-cut process is suitable for reducing the influence of heat generated by a cutting process such as laser cutting on the adherend 10, and therefore, a heat history due to the cutting process is generated in the adherend 10. Suitable for suppressing. For example, when the adherend 10 is an electronic device such as a flexible display panel or a flexible printed wiring board, the above-mentioned half-cut processing is performed on various elements provided on the first surface 11 side of the adherend 10. It is suitable for avoiding / reducing the thermal influence on the wiring.

次に、剥離工程では、図3Dに示すように、第1領域部S1間に区画形成された第2領域部S2を被着体10から剥離する。被着体10上の第2領域部S2における粘着剤層22は上述のように低粘着力状態にあるところ、このような構成は、被着体10から第2領域部S2を適切に剥離するうえで好ましい。 Next, in the peeling step, as shown in FIG. 3D, the second region portion S2 partitioned between the first region portions S1 is peeled from the adherend 10. The pressure-sensitive adhesive layer 22 in the second region portion S2 on the adherend 10 is in a low adhesive strength state as described above, and such a configuration appropriately peels the second region portion S2 from the adherend 10. It is preferable to the above.

また、剥離工程に先行するカット工程において上述のようにハーフカットを行うことは、本剥離工程において、いわゆる糊残りを抑制するうえで好適である。被着体10上のフィルム20'についてその厚さ方向全体にわたって切断する場合、その切断手法および切断条件によっては、被着体10とフィルム20'の粘着剤層22との界面およびその近傍にある粘着剤層構成材料における局所的な昇温や押圧力の作用に起因して、当該界面に臨む粘着剤層22の一部が被着体10に固着しやすくなる(粘着剤の局所的固着)。例えば、粘着剤層22が上述の第1粘着性組成物よりなる場合には、同組成物中の多官能(メタ)アクリレートなど光硬化剤が硬化することによってそのような粘着剤の局所的固着が生ずる。カット工程において、上述のようなハーフカットによってカット溝Gの底端と被着体10との間に未切断の粘着剤部分を残しておくという構成は、上記界面とその近傍にある粘着剤層構成材料における局所的な昇温や押圧力の作用を回避するのに適する。そして、上述のようなハーフカットによってカット溝Gの底端と被着体10との間に未切断の粘着剤部分を残しておくという構成は、当該粘着剤残存部分の凝集力を利用して被着体10表面から第2領域部S2ないしその粘着剤層22を粘着剤残渣(糊残り)なく剥離するうえで好ましいことがあるのである。 Further, performing half-cutting as described above in the cutting step preceding the peeling step is suitable for suppressing so-called adhesive residue in the main peeling step. When the film 20'on the adherend 10 is cut over the entire thickness direction, it is located at or near the interface between the adherend 10 and the adhesive layer 22 of the film 20', depending on the cutting method and cutting conditions. Due to the action of local temperature rise and pressing force in the pressure-sensitive adhesive layer constituent material, a part of the pressure-sensitive adhesive layer 22 facing the interface tends to adhere to the adherend 10 (local adhesion of the pressure-sensitive adhesive). .. For example, when the pressure-sensitive adhesive layer 22 is made of the above-mentioned first pressure-sensitive adhesive composition, the photo-curing agent such as polyfunctional (meth) acrylate in the composition is cured to locally fix the pressure-sensitive adhesive. Occurs. In the cutting step, the configuration in which the uncut adhesive portion is left between the bottom end of the cut groove G and the adherend 10 by the above-mentioned half-cut is the adhesive layer at the interface and its vicinity. It is suitable for avoiding the action of local temperature rise and pressing force on the constituent material. Then, the configuration in which the uncut adhesive portion is left between the bottom end of the cut groove G and the adherend 10 by the half cut as described above utilizes the cohesive force of the adhesive remaining portion. It is preferable to peel off the second region portion S2 or the pressure-sensitive adhesive layer 22 thereof from the surface of the adherend 10 without any pressure-sensitive adhesive residue (adhesive residue).

次に、粘着力上昇工程では、第1領域部S1における粘着剤層22の粘着力を上昇させる。フィルム20'の粘着剤層22が上述の第1粘着性組成物(アクリルポリマーと光硬化剤と光重合開始剤とを含む)よりなる場合、粘着力上昇工程では、粘着剤層22に対して紫外線や電子線など活性エネルギー線を照射する。これにより、粘着剤層22内の光硬化剤の重合ないし硬化を経て、粘着剤層22が高粘着力状態に至る。フィルム20'の粘着剤層22が上述の第2粘着性組成物(アクリルポリマーとオルガノシロキサン含有ポリマーとを含む)よりなる場合、粘着力上昇工程では、粘着剤層22を加熱する。加熱温度は、例えば40℃以上、好ましくは50℃以上、より好ましくは60℃以上であり、また、例えば150℃未満、好ましくは120℃以下、より好ましくは100℃以下、さらに好ましくは80℃以下である。加熱時間は、例えば1時間以下、好ましくは30分以下、より好ましくは10分以下、さらに好ましくは5分以下であり、また、例えば1分以上である。このような加熱により、粘着剤層22内のアクリルポリマーとオルガノシロキサン含有ポリマーとの相溶性が高まり、オルガノシロキサン含有ポリマーないしその側鎖であるポリオルガノシロキサン部位(低粘着力状態では粘着剤層22の被着体10側表面とその近傍に偏在する傾向にある)が熱拡散し、粘着剤層22の被着体10側表面とその近傍におけるアクリルポリマーの存在割合が上昇する。これによって粘着剤層22が高粘着力状態に至る。高粘着力状態にある粘着剤層22の粘着力は、例えば5N/25mm以上、好ましくは8N/25mm以上、より好ましくは10N/25mm以上、さらに好ましくは12N/25mm以上である。また、低粘着力状態にある粘着剤層22の粘着力に対し、高粘着力状態にある粘着剤層22の粘着力は、例えば2倍以上、好ましくは4倍以上、より好ましくは8倍以上、さらに好ましくは10倍以上である。 Next, in the adhesive force increasing step, the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer 22 in the first region portion S1 is increased. When the pressure-sensitive adhesive layer 22 of the film 20'composed of the above-mentioned first pressure-sensitive composition (including an acrylic polymer, a photocuring agent, and a photopolymerization initiator), the pressure-sensitive adhesive layer 22 is subjected to the step of increasing the pressure-sensitive adhesive force. Irradiate active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams. As a result, the pressure-sensitive adhesive layer 22 reaches a high adhesive strength state through polymerization or curing of the photocuring agent in the pressure-sensitive adhesive layer 22. When the pressure-sensitive adhesive layer 22 of the film 20'composed of the above-mentioned second pressure-sensitive composition (including an acrylic polymer and an organosiloxane-containing polymer), the pressure-sensitive adhesive layer 22 is heated in the pressure- increasing step. The heating temperature is, for example, 40 ° C. or higher, preferably 50 ° C. or higher, more preferably 60 ° C. or higher, and for example, less than 150 ° C., preferably 120 ° C. or lower, more preferably 100 ° C. or lower, still more preferably 80 ° C. or lower. Is. The heating time is, for example, 1 hour or less, preferably 30 minutes or less, more preferably 10 minutes or less, still more preferably 5 minutes or less, and for example, 1 minute or more. By such heating, the compatibility between the acrylic polymer and the organosiloxane-containing polymer in the pressure-sensitive adhesive layer 22 is enhanced, and the organosiloxane-containing polymer or the polyorganosiloxane moiety (the pressure-sensitive adhesive layer 22 in a low adhesive strength state) which is a side chain thereof is enhanced. The surface of the adhesive layer 22 on the 10-side of the adherend and its vicinity tends to be unevenly distributed), and the abundance ratio of the acrylic polymer on the surface of the adhesive layer 22 on the 10-side of the adherend and its vicinity increases. As a result, the pressure-sensitive adhesive layer 22 reaches a high adhesive strength state. The adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer 22 in the high adhesive strength state is, for example, 5N / 25mm or more, preferably 8N / 25mm or more, more preferably 10N / 25mm or more, and further preferably 12N / 25mm or more. Further, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer 22 in the high adhesive strength state is, for example, twice or more, preferably four times or more, more preferably eight times or more, as compared with the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer 22 in the low adhesive strength state. , More preferably 10 times or more.

本工程では、第1領域部S1の粘着剤層22に対する上述のような活性エネルギー線照射や加熱などの外部刺激によって、被着体10上の各第1領域部S1の粘着剤層22を高粘着力状態へと変化させる。これにより、フィルム20由来の第1領域部S1において被着体10に対する貼着状態が強固となる。このような構成は、第1領域部S1を構造材として積層体Xに残すうえで好適である。粘着剤層22が高粘着力状態にある第1領域部S1は、積層体Xにおけるフィルム部分20A,20Bをなす。 In this step, the pressure-sensitive adhesive layer 22 of each first region portion S1 on the adherend 10 is raised by an external stimulus such as activation energy ray irradiation or heating as described above for the pressure-sensitive adhesive layer 22 of the first region portion S1. Change to an adhesive state. As a result, the state of attachment to the adherend 10 is strengthened in the first region portion S1 derived from the film 20. Such a configuration is suitable for leaving the first region portion S1 as a structural material in the laminated body X. The first region portion S1 in which the pressure-sensitive adhesive layer 22 is in a high adhesive strength state forms the film portions 20A and 20B in the laminated body X.

以上のような各工程を含む積層体製造方法によると、上述の積層体Xを適切に製造することができる。そのため、本製造方法によると、製造される積層体Xにおいて、積層体Xについて上述したのと同様の効果を享受することができる。また、本製造方法では、補強材としての複数のフィルム部分20A,20Bのそれぞれを個別に被着体10に貼り付ける必要はない。このような製造方法は、積層体Xやそれが組付けられるデバイスの製造の効率化に資する。 According to the laminate manufacturing method including each step as described above, the above-mentioned laminate X can be appropriately manufactured. Therefore, according to the present manufacturing method, in the manufactured laminated body X, the same effect as described above can be enjoyed for the laminated body X. Further, in the present manufacturing method, it is not necessary to individually attach each of the plurality of film portions 20A and 20B as reinforcing materials to the adherend 10. Such a manufacturing method contributes to the efficiency of manufacturing the laminate X and the device to which the laminate X is assembled.

X 積層体
10 被着体
20 フィルム(補強フィルム)
20A,20B フィルム部分
21 基材
21a,21b 端面
22 粘着剤層
22a,22b 変性部
S1 第1領域部
S2 第2領域部
G カット溝
X Laminated body 10 Adhesive body 20 Film (reinforcing film)
20A, 20B Film part 21 Base material 21a, 21b End face 22 Adhesive layer 22a, 22b Modified part S1 First area part S2 Second area part G Cut groove

Claims (8)

基材と前記基材上の粘着剤層とを含む補強フィルムを前記粘着剤層側にて被着体に貼り付ける工程と、
前記被着体上の前記補強フィルムに対してその基材側から粘着剤層の途中までのハーフカット溝を形成して、当該補強フィルムにおいて、互いに離隔している複数の第1領域部と前記第1領域部間の少なくとも一つの第2領域部とを区画形成するカット工程と、
前記第2領域部を前記被着体から剥離する工程と、
前記第1領域部における粘着剤層の粘着力を上昇させる粘着力上昇工程と、を含むことを特徴とする積層体の製造方法。
A step of attaching a reinforcing film containing a base material and a pressure-sensitive adhesive layer on the base material to an adherend on the pressure-sensitive adhesive layer side.
A half-cut groove is formed from the base material side to the middle of the pressure-sensitive adhesive layer on the reinforcing film on the adherend, and in the reinforcing film, a plurality of first region portions separated from each other and the said. and at least one second region between the first region portion is partitioned and formed, and cutting process,
A step of peeling the second region portion from the adherend,
A method for producing a laminate, which comprises a step of increasing the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer in the first region portion.
前記カット工程では、各第1領域部の粘着剤層において、前記第2領域部との間の前記ハーフカット溝に臨む変性部を形成する、請求項1に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to claim 1, wherein in the cutting step, a modified portion facing the half-cut groove is formed between the pressure-sensitive adhesive layer of each first region portion and the second region portion. 前記粘着力上昇工程は加熱処理を含む、請求項1または2に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to claim 1 or 2, wherein the adhesive strength increasing step includes a heat treatment. 前記粘着剤層は、ガラス転移温度が0℃未満の第1ポリマー、および、オルガノシロキサン骨格含有モノマーと(メタ)アクリレートモノマーとの共重合体である第2ポリマーを含む、請求項3に記載の積層体の製造方法。 The third aspect of claim 3, wherein the pressure-sensitive adhesive layer contains a first polymer having a glass transition temperature of less than 0 ° C. and a second polymer which is a copolymer of an organosiloxane skeleton-containing monomer and a (meth) acrylate monomer. Method for manufacturing a laminate. 前記粘着力上昇工程は活性エネルギー線照射処理を含む、請求項1または2に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to claim 1 or 2, wherein the adhesive strength increasing step includes an active energy ray irradiation treatment. 前記粘着剤層は、ベースポリマーと多官能(メタ)アクリレートとを含む、請求項5に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to claim 5, wherein the pressure-sensitive adhesive layer contains a base polymer and a polyfunctional (meth) acrylate. 請求項に記載の積層体の製造方法によって得られる積層体であって、
被着体と、
基材と前記基材上の粘着剤層とを含み且つ前記粘着剤層側にて前記被着体に貼着している補強フィルムと、を備え、
前記補強フィルムは、前記被着体上において離隔して隣り合う第1補強フィルム部分および第2補強フィルム部分を含み、
前記第1補強フィルム部分の前記粘着剤層は前記第2補強フィルム部分側縁端に変性部を有し、前記第2補強フィルム部分の前記粘着剤層は前記第1補強フィルム部分側縁端に変性部を有する、ことを特徴とする積層体。
A laminate obtained by the method for producing a laminate according to claim 2, wherein the laminate is obtained.
The adherend and
A reinforcing film containing a base material and a pressure-sensitive adhesive layer on the base material and being attached to the adherend on the pressure-sensitive adhesive layer side is provided.
The reinforcing film includes a first reinforcing film portion and a second reinforcing film portion that are separated and adjacent to each other on the adherend.
The pressure-sensitive adhesive layer of the first reinforcing film portion has a modified portion at the side edge of the second reinforcing film portion, and the pressure-sensitive adhesive layer of the second reinforcing film portion is located at the side edge of the first reinforcing film portion. A laminate characterized by having a modified portion.
請求項3または4に記載の積層体の製造方法に用いられる補強フィルムであって、
基材と前記基材上の粘着剤層とを含み、
前記粘着剤層は、加熱によって低粘着力状態から高粘着力状態へと変化可能である、ことを特徴とする補強フィルム。
A reinforcing film used in the method for producing a laminate according to claim 3 or 4.
Includes a substrate and an adhesive layer on the substrate,
The adhesive layer is a reinforcing film characterized in that it can be changed from a low adhesive force state to a high adhesive force state by heating.
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