JP6917287B2 - 電子制御装置 - Google Patents
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Description
本発明の第2の態様によると、電子制御装置は、基板と、前記基板上に実装された発熱部品と、前記発熱部品の前記基板側と反対側に位置する一面に熱結合された放熱部と、前記放熱部に熱結合された冷却機構とを備え、前記発熱部品は、前記一面側の周縁部に、中央部よりも厚さが薄い低背部を有し、前記冷却機構の前記発熱部品側の面には、前記基板側に延在された突出部が設けられており、前記放熱部は、多孔質熱伝導体と、前記多孔質熱伝導体と前記発熱部品の前記一面との間、および、前記突出部の頂面と前記発熱部品の前記低背部との間にそれぞれ形成された、熱伝導フィラーを含有する半硬化樹脂とを備え、前記突出部は、前記冷却機構の前記発熱部品側の面において、前記多孔質熱伝導体の外周を囲むように設けられている。
本発明の第3の態様によると、電子制御装置は、基板と、前記基板上に実装された発熱部品と、前記発熱部品の前記基板側と反対側に位置する一面に熱結合された放熱部と、前記放熱部に熱結合された冷却機構とを備え、前記冷却機構の前記発熱部品側の面には、前記発熱部品の外周を覆って形成され、前記基板側に延在された突出部が設けられており、前記放熱部は、多孔質熱伝導体と、前記多孔質熱伝導体と前記発熱部品の前記一面との間、および、前記突出部の頂面と前記発熱部品の周縁部との間にそれぞれ形成された、熱伝導フィラーを含有する半硬化樹脂とを備え、前記突出部は、前記冷却機構の前記発熱部品側の面において、前記多孔質熱伝導体の外周を囲むように設けられている。
以下、図1〜図6を参照して、本発明の第1の実施形態を説明する。
図1は、本発明の電子制御装置の外観斜視図であり、図2は、図1に図示された電子制御装置のII−II線断面図である。
電子制御装置100は、ケース本体1とカバー2とからなる筐体を有する。ケース本体1とカバー2は、不図示のねじ等の締結部材により固定されている。筐体の前面には、1つまたは複数のコネクタ11と、複数のイーサネット(登録商標)ターミナル12が配置されている。筐体の内部には、回路基板3と、マイコン等の半導体素子を含む発熱部品4と、放熱部5が収容されている。
複数の放熱フィン6を有し、熱伝導性に優れた金属材料により形成されたケース本体1は、冷却機構を構成する。上述したように、放熱部5は、発熱部品4とケース本体1の厚肉部13bを含む突出部13との間に介装されている。放熱部5は、熱伝導部材14と、低弾性放熱材10とにより構成されている。低弾性放熱材10は、低弾性放熱材10a、10b、10cを有する。低弾性放熱材10aは、発熱部品4の回路基板3側と反対側の一面49(図4におけるリッド44)と熱伝導部材14との間に形成されている。低弾性放熱材10bは、熱伝導部材14とケース本体1の厚肉部13bとの間に形成されている。低弾性放熱材10cは、発熱部品4の低背部44aと突出部13の頂面13aとの間、突出部13の内周側面と熱伝導部材14の外周側面および発熱部品4の低背部44aより上方の部分の外周側面との間に形成されている。低弾性放熱材10a、10b、10cは、接着性を有する一般的な熱硬化樹脂に比べて、架橋密度が低いため低弾性を有している半硬化樹脂である。低弾性放熱材10a、10b、10cは、弾性率が、10MPa程度以下、好ましくは1MPa程度とされている。低弾性放熱材10a、10b、10cには、金属、カーボン、セラミック等により形成された熱伝導性が良好なフィラーが含有されている。低弾性放熱材10a、10b、10cとしては、例えば、セラミックフィラーが含有されたシリコン系樹脂が好ましい。半導体素子を封止する封止樹脂として、熱硬化性樹脂を用いる半導体装置が知られているが、このような半導体素子の封止樹脂は、ギガPaレベルの弾性率を有している。低弾性放熱材10a、10b、10cは、このような高弾性率の封止樹脂とは異なり、回路基板3の熱による変形や振動に対し、追随して変形可能な柔軟性を有する。なお、低弾性放熱材10a、10b、10cは、それぞれ、樹脂やフィラーが異なる材料により形成するようにしてもよい。
発熱部品4は、BGA(Ball Grid Array)型の半導体装置である。
発熱部品4は、主面41a側に集積回路が形成されたベアーの半導体チップ41を有する。半導体チップ41は、はんだ等の接合材45により基板42にフリップチップ実装されている。半導体チップ41の主面41aの上方には、封止樹脂43が形成されている。封止樹脂43を覆って金属製のリッド44が形成されている。リッド44の周縁部は、低背部44aとされている。基板42の半導体チップ41の反対側の面には、複数のはんだボール46が形成されている。半導体チップ41の内部に形成された集積回路は、接合材45および基板42に設けられた不図示の配線パターンおよびビア(またはスルーホール)を介してはんだボール46に接続されている。
熱伝導部材14は、多孔質熱伝導体15と、該多孔質熱伝導体15の気孔15a内に充填された低弾性放熱材(図示せず)とにより構成される。
多孔質熱伝導体15は、例えば、図5(a)に図示されるように、アルミニウムやニッケル等の金属、またはグラフェン等の熱伝導率の高い非金属材料等により形成されたシート状部材である。多孔質熱伝導体15は、図5(b)、図5(c)に図示されるように、連続するように形成された複数の気孔15aを有する。図示はしないが、多孔質熱伝導体15の各気孔15aの内部には、低弾性放熱材が充填されている。低弾性放熱材は、低弾性放熱材10a、10b、10cと同様な材料により形成されている。但し、多孔質熱伝導体15の各気孔15aの内部に充填される低弾性放熱材は、低弾性放熱材10a、10b、10cとは、樹脂やフィラーが異なる材料により形成してもよい。アルミニウム等により形成された多孔質熱伝導体15は、一般的に、熱伝導性が良好なフィラーを含有する樹脂よりも高い熱伝導率を有する。多孔質熱伝導体15の気孔15aの内部に、熱伝導性が良好なフィラーが分散された低弾性放熱材を充填することにより、多孔質熱伝導体15単体よりも、さらに、高い熱伝導率を有する熱伝導部材14とすることができる。なお、気孔15aが連続状に形成された多孔質熱伝導体15を用いることにより、各気孔15a内に低弾性放熱材を充填する際、図5(c)に矢印で図示されるように、低弾性放熱材を多孔質熱伝導体15の内部に形成された気孔15a内に充填することができる。
ケース本体1の天地を逆にして、すなわち、ケース本体1の内面を上方に向けて、ケース本体1の厚肉部13b上に低弾性放熱材10bを膜付けする。次に、低弾性放熱材10b上に多孔質熱伝導体15を配置して、該多孔質熱伝導体15を低弾性放熱材10bに接着する。次に、多孔質熱伝導体15の上面側に低弾性放熱材10aを膜付けする。低弾性放熱材10aの膜付けは、多孔質熱伝導体15の気孔15a内に低弾性放熱材10aが充填されるように多孔質熱伝導体15の上面側から押し付けて行う。そして、多孔質熱伝導体15の周囲に低弾性放熱材10cを膜付けする。低弾性放熱材10cの膜付けは、多孔質熱伝導体15上への低弾性放熱材10aの膜付けの際、該低弾性放熱材10aを多孔質熱伝導体15の周囲に拡げ、この拡げた部分を低弾性放熱材10cとすることができる。低弾性放熱材10cは、突出部13の頂面13aに対応する領域まで延在するように形成する。そして、回路基板3に実装された発熱部品4を低弾性放熱材10a、10cに接着する。
なお、ケース本体1の厚肉部13b上に低弾性放熱材10bを膜付けした後、予め、気孔15a内に低弾性放熱材が充填された多孔質熱伝導体15を低弾性放熱材10bに接着するようにしてもよく、上記法方法は、適宜、変更することができる。
図1に図示される外観を呈し、図2の断面図に示される電子制御装置100を、下記の部材を用いて作製した。なお、回路基板3は、ケース本体1の4つのコーナー部に設けられたボス部7にねじ8により固定した。
発熱部品4は、31mm×31mm×3.1mm(厚さ)のBGA(Ball Grid Array)型の半導体装置として形成し、はんだ付けにより回路基板3に実装した。
回路基板3は、187mm×102.5mm×1.6mm(厚さ)を有するFR4材料により形成した。回路基板3の熱伝導率は、面内方向では69W/mK、垂直方向では0.45W/mKである。
ケース本体1は、熱伝導率が96W/mK、放射率が0.8のADC12を用いて形成した。
カバー2は、熱伝導率が65W/mKの板金を用いて形成した。
放熱部5は、熱伝導部材14は、アルミニウム(熱伝導率237W/mK)からなる気孔率90%の多孔質熱伝導体15に、シリコン系樹脂に熱伝導性フィラーを含有した低弾性放熱材(熱伝導率2W/mK)を充填して形成した。この熱伝導部材14の外周を、同じ材料で形成された低弾性放熱材10a、10b、10c(それぞれ、厚さ100μm以上)で覆い、寸法31mm×31mm×1.9mm(厚さ)で、熱伝導率が25W/mKのシート状の放熱部5を形成した。
図6には、実施例1の電子制御装置100と、比較例1の電子制御装置の、発熱部品4のジャンクション温度が示されている。図6に示されたジャンクション温度は、電子制御装置全体の発熱量を20W(発熱部品4の発熱量9Wを含む)とした際の、無風環境、環境温度85℃での温度である。図6に示すように、実施例1の発熱部品4のジャンクション温度は、比較例1の発熱部品4のジャンクション温度より低温とすることができた。
なお、ジャンクション温度は、図4に図示される発熱部品4を構成する半導体チップ41の外周側の一側面のほぼ中央部JTの温度である。
(1)電子制御装置100は、発熱部品4の、回路基板3側と反対側に位置する一面49に熱結合された放熱部5と、放熱部5に熱結合された冷却機構とを備え、放熱部5は、多孔質熱伝導体15と、少なくとも多孔質熱伝導体15と発熱部品4の一面49との間に形成された、熱伝導フィラーを含有する低弾性放熱材(半硬化樹脂)10aとを備える。このため、放熱部5により発熱部品4の冷却能力を向上すると共に、回路基板3の熱による変形や振動により、発熱部品4に作用する負荷を緩和することができる。これにより、発熱部品4の損傷や特性の劣化を防止し、信頼性を向上することができる。
図7は、本発明における放熱構造の第2の実施形態を示す断面図である。
第2の実施形態の電子制御装置100は、第1の実施形態における、熱伝導部材14とケース本体1の厚肉部13bとの間に形成された低弾性放熱材10bを、はんだ層21に置き換えた構造を有する。
発熱部品4とケース本体1の厚肉部13bとは、はんだ層21により接合され、固定されている。
この構造では、低弾性放熱材10は、低弾性放熱材10a、10cを有し、第1の実施形態における低弾性放熱材10bを有していない。また、放熱部5は、熱伝導部材14と、低弾性放熱材10と、はんだ層21により構成されている。
第2の実施形態における他の構造は、第1の実施形態と同様であり、対応する部材に同一の符号を付して説明を省略する。
なお、第2の実施形態においても、熱伝導部材14は、気孔15a内に低弾性放熱材が充填され多孔質熱伝導体15により構成しても、気孔15a内に低弾性放熱材が充填されていない多孔質熱伝導体15により構成してもよい。
図8は、本発明における放熱構造の第3の実施形態を示す断面図である。
第3の実施形態の電子制御装置100は、第1の実施形態における、発熱部品4の周縁部と突出部13との間に形成された低弾性放熱材10cを有していない構造を有する。
つまり、第3の実施形態では、放熱部5は、熱伝導部材14と、低弾性放熱材10a、10bを有する低弾性放熱材10とにより構成されている。
第3の実施形態における他の構造は、第1の実施形態と同様であり、対応する部材に同一の符号を付して説明を省略する。
なお、第3の実施形態においても、熱伝導部材14は、気孔15a内に低弾性放熱材が充填され多孔質熱伝導体15により構成しても、気孔15a内に低弾性放熱材が充填されていない多孔質熱伝導体15により構成してもよい。
図9は、図4に図示された発熱部品4の変形例を示す断面図である。
図9に示す発熱部品4Aも、BGA型の半導体装置であるが、発熱部品4Aは、半導体チップ41を基板42にフェースアップ実装した構造を有する。
つまり、半導体チップ41は、集積回路が形成された主面41aを基板42の反対側に向けて基板上にダイボンドされ、ボンディングワイヤ47により基板42に接続されている。半導体チップ41とリッド44との間には封止樹脂43aが形成されている。発熱部品4Aの他の構造は発熱部品4と同様であり、対応する部材に同一の符号を付して説明を省略する。このような、発熱部品4Aも、第1〜第3の実施形態に示された発熱部品4に置き換えることが可能である。
図10(a)は、本発明における放熱構造の第4の実施形態を示す断面図であり、図10(b)は、図10(a)に図示された放熱部品の拡大図ある。
第4の実施形態における発熱部品4Bは、図10(b)に図示されるように、金属製のリッド44を有していない、BGA型の半導体装置である。発熱部品4Bの半導体チップ41は、はんだ等の接合材45により基板42にフリップチップ実装されている。基板42上に実装された半導体チップ41は、封止樹脂43bにより全体が封止されている。
第4の実施形態においても、電子制御装置100は、多孔質熱伝導体15と、多孔質熱伝導体15と発熱部品4の一面49との間に形成された、熱伝導フィラーを含有する低弾性放熱材(半硬化樹脂)10とを備える。このため、第1の実施形態の効果(1)と同様な効果を奏する。
3 回路基板(基板)
4、4A、4B 発熱部品
5 放熱部
10、10a、10b、10c 低弾性放熱材(半硬化樹脂)
13 突出部
13a 頂面
13b 厚肉部
14 熱伝導部材
15 多孔質熱伝導体
15a 気孔
21 はんだ層
41 半導体チップ
44a 低背部
49 一面
100 電子制御装置
Claims (9)
- 基板と、
前記基板上に実装された発熱部品と、
前記発熱部品の前記基板側と反対側に位置する一面に熱結合された放熱部と、
前記放熱部に熱結合された冷却機構とを備え、
前記放熱部は、
多孔質熱伝導体と、
少なくとも前記多孔質熱伝導体と前記発熱部品の前記一面との間に形成された、熱伝導フィラーを含有する半硬化樹脂と、
前記多孔質熱伝導体と前記冷却機構との間に形成されたはんだ層と、を備える電子制御装置。 - 請求項1に記載の電子制御装置において、
前記多孔質熱伝導体の気孔の内部には、熱伝導フィラーを含有する半硬化樹脂が充填されている電子制御装置。 - 請求項1に記載の電子制御装置において、
前記多孔質熱伝導体は、前記発熱部品の前記一面の領域全体を覆っている電子制御装置。 - 請求項1に記載の電子制御装置において、
前記冷却機構の前記発熱部品側の面には、前記多孔質熱伝導体の外周を囲み、前記基板側に延在された突出部が設けられている電子制御装置。 - 基板と、
前記基板上に実装された発熱部品と、
前記発熱部品の前記基板側と反対側に位置する一面に熱結合された放熱部と、
前記放熱部に熱結合された冷却機構とを備え、
前記発熱部品は、前記一面側の周縁部に、中央部よりも厚さが薄い低背部を有し、
前記冷却機構の前記発熱部品側の面には、前記基板側に延在された突出部が設けられており、
前記放熱部は、
多孔質熱伝導体と、
前記多孔質熱伝導体と前記発熱部品の前記一面との間、および、前記突出部の頂面と前記発熱部品の前記低背部との間にそれぞれ形成された、熱伝導フィラーを含有する半硬化樹脂とを備え、
前記突出部は、前記冷却機構の前記発熱部品側の面において、前記多孔質熱伝導体の外周を囲むように設けられている電子制御装置。 - 請求項5に記載の電子制御装置において、
前記突出部の前記頂面は、前記発熱部品の前記中央部の前記一面よりも前記低背部側に配置されている電子制御装置。 - 基板と、
前記基板上に実装された発熱部品と、
前記発熱部品の前記基板側と反対側に位置する一面に熱結合された放熱部と、
前記放熱部に熱結合された冷却機構とを備え、
前記冷却機構の前記発熱部品側の面には、前記発熱部品の外周を覆って形成され、前記基板側に延在された突出部が設けられており、
前記放熱部は、
多孔質熱伝導体と、
前記多孔質熱伝導体と前記発熱部品の前記一面との間、および、前記突出部の頂面と前記発熱部品の周縁部との間にそれぞれ形成された、熱伝導フィラーを含有する半硬化樹脂とを備え、
前記突出部は、前記冷却機構の前記発熱部品側の面において、前記多孔質熱伝導体の外周を囲むように設けられている電子制御装置。 - 請求項7に記載の電子制御装置において、
前記突出部の前記頂面は、前記発熱部品の前記一面よりも前記基板側に配置されている電子制御装置。 - 請求項5から8までのいずれか一項に記載の電子制御装置において、
前記突出部の内側領域は、前記突出部よりも外周側領域より厚く形成されている電子制御装置。
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