JP6923199B2 - Manufacturing method of halosilane - Google Patents
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Description
本発明は、ハロシランの製造方法に関し、より詳しくはオキシシランをハロゲン化してハロシランを生成するハロシランの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing halosilane, and more particularly to a method for producing halosilane by halogenating oxysilane to produce halosilane.
ハロシランは、シリコーンポリマーやオリゴシロキサン化合物の主要原料として用いられるほか、医薬品、農薬、機能性有機材料の原料としても広く用いられている。ハロシランの製造方法の一つとして、アルコキシシランのハロゲン化反応が知られている。ハロゲン化剤としては、ハロゲン化水素ガスや濃塩酸、酸ハロゲン化物、塩化チオニル、三塩化リン、五塩化リン、塩化オキサリルが用いられている（特許文献１〜３、非特許文献１〜３参照。）。 Halosilane is used as a main raw material for silicone polymers and oligosiloxane compounds, and is also widely used as a raw material for pharmaceuticals, pesticides, and functional organic materials. A halogenation reaction of alkoxysilane is known as one of the methods for producing halosilane. As the halogenating agent, hydrogen halide gas, concentrated hydrochloric acid, acid halide, thionyl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, and oxalyl chloride are used (see Patent Documents 1 to 3 and Non-Patent Documents 1 to 3). .).
本発明は、ハロシランを効率良く製造することができるハロシランの製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a method for producing halosilane, which can efficiently produce halosilane.
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定のアルコキシハロメタンをハロゲン化剤として用いてオキシシランに反応させることにより、ハロシランを効率良く製造することができることを見出し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は以下の通りである。
As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have found that halosilane can be efficiently produced by reacting with oxysilane using a specific alkoxyhalomethane as a halogenating agent. The present invention has been completed.
That is, the present invention is as follows.
＜１＞ 下記式（ａ）で表される構造を有するオキシシランから下記式（ｂ）で表される構造を有するハロシランを生成する反応工程を含むハロシランの製造方法であって、
前記反応工程が、前記式（ａ）で表される構造を有するオキシシランと下記式（Ｃ）で表されるアルコキシハロメタンを反応させることを特徴とするハロシランの製造方法。
＜２＞ 前記反応工程が、金属ハロゲン化物及び金属酸化物からなる群より選択される少なくとも１種の触媒の存在下で行われる、＜１＞に記載のハロシランの製造方法。
＜３＞ 前記オキシシランが、下記式（Ａ−１）〜（Ａ−５）の何れかで表される化合物である、＜１＞又は＜２＞に記載のハロシランの製造方法。
を含むケイ素原子数１〜１００の（ポリ）シロキシ基を、Ｒ４はそれぞれ独立してハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又は炭素原子数１〜１０の炭化水素基を含むケイ素原子数１〜１００の（ポリ）シロキシ基を、ｎは０〜１００の整数を表す。）
<1> A method for producing halosilane, which comprises a reaction step of producing halosilane having a structure represented by the following formula (b) from oxysilane having a structure represented by the following formula (a).
A method for producing halosilane, wherein the reaction step reacts oxysilane having a structure represented by the formula (a) with an alkoxyhalomethane represented by the following formula (C).
<2> The method for producing a halosilane according to <1>, wherein the reaction step is carried out in the presence of at least one catalyst selected from the group consisting of metal halides and metal oxides.
<3> The method for producing halosilane according to <1> or <2>, wherein the oxysilane is a compound represented by any of the following formulas (A-1) to (A-5).
本発明によれば、シリコーンポリマーやオリゴシロキサン化合物の主要原料として用いられるほか、医薬品、農薬、機能性有機材料の原料としても広く用いられているハロシランを効率良く製造することができる。 According to the present invention, halosilane, which is used as a main raw material for silicone polymers and oligosiloxane compounds and is also widely used as a raw material for pharmaceuticals, agricultural chemicals, and functional organic materials, can be efficiently produced.
本発明の詳細を説明するに当たり、具体例を挙げて説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り以下の内容に限定されるものではなく、適宜変更して実施することができる。 In explaining the details of the present invention, specific examples will be given, but the present invention is not limited to the following contents as long as it does not deviate from the gist of the present invention, and can be appropriately modified and carried out.
＜ハロシランの製造方法＞
本発明の一態様であるハロシランの製造方法（以下、「本発明の製造方法」と略す場合がある。）は、下記式（ａ）で表される構造を有するオキシシランから下記式（ｂ）で表される構造を有するハロシランを生成する反応工程（以下、「反応工程」と略す場合がある。）を含み、反応工程が、前記式（ａ）で表される構造を有するオキシシランと下記式（Ｃ）で表されるアルコキシハロメタンを反応させることを特徴とする。
既存のハロゲン化反応で用いられているハロゲン化剤は、気体状で取り扱いが困難であったり、反応性が高すぎるために官能基許容性が低かったりという問題があった。本発明者らは、式（Ｃ）で表されるアルコキシハロメタンをハロゲン化剤として用いて式（ａ）で表される構造を有するオキシシランに反応させることにより、これらの課題を解決して、式（ｂ）で表される構造を有するハロシランを効率良く製造することができることを見出したのである。
なお、式（ａ）及び（ｂ）中の波線は、その先の構造が任意であることを意味し、反応
に関与しない官能基等を含んでいてもよいものとする。
以下、「式（ａ）で表される構造を有するオキシシラン」、「式（Ｃ）で表されるアルコキシハロメタン」、「反応工程」の条件、「式（ｂ）で表される構造を有するハロシラン」等について詳細に説明する。
<Manufacturing method of halosilane>
The method for producing halosilane (hereinafter, may be abbreviated as "the production method of the present invention"), which is one aspect of the present invention, is from oxysilane having a structure represented by the following formula (a) to the following formula (b). The reaction step includes an oxysilane having a structure represented by the above formula (a) and the following formula (hereinafter, may be abbreviated as “reaction step”) for producing a halosilane having a structure represented by the above formula (a). It is characterized by reacting the alkoxyhalomethane represented by C).
The halogenating agent used in the existing halogenation reaction has problems that it is gaseous and difficult to handle, and that the reactivity is too high and the functional group tolerance is low. The present inventors have solved these problems by reacting an alkoxyhalomethane represented by the formula (C) with an oxysilane having a structure represented by the formula (a) using a halogenating agent. They have found that a halosilane having a structure represented by the formula (b) can be efficiently produced.
The wavy lines in the formulas (a) and (b) mean that the structure beyond them is arbitrary, and may contain functional groups and the like that are not involved in the reaction.
Hereinafter, it has "oxysilane having a structure represented by the formula (a)", "alkoxyhalomethane represented by the formula (C)", conditions of "reaction step", and "a structure represented by the formula (b)". "Halosilane" and the like will be described in detail.
式（ａ）で表される構造を有するオキシシランの具体的種類は、特に限定されず、製造目的である式（ｂ）で表される構造を有するハロシランに応じて適宜選択されるべきであるが、下記式（Ａ−１）〜（Ａ−５）の何れかで表される化合物が挙げられる。以下、「式（Ａ−１）〜（Ａ−５）の何れかで表される化合物」について詳細に説明する。
式（Ａ−１）〜（Ａ−５）中のＲ１は、それぞれ独立して「ハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基」を表しているが、「炭化水素基」は、分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合（炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合）のそれぞれを有していてもよく、飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基等の何れであってもよいものとする。
また、「ハロゲン原子を含んでいてもよい」とは、炭化水素基の水素原子がハロゲン原子からなる１価の官能基で置換されていてもよいことを意味する。
Ｒ１の炭化水素基の炭素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下であり、Ｒ１が芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ１に含まれる官能基や連結基としては、フルオロ基（フッ素原子，−Ｆ）、クロロ基（塩素原子，−Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，−Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，−Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ１としては、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｉ−ブチル基（−ｉＣ４Ｈ９，−ｉＢｕ）
、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、シクロペンチル基（−ｃＣ５Ｈ９，−ｃＰｅｎｔ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、２−クロロエチル基（−ＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ）、アリル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２，−ａｌｌｙｌ）、ベンジル基（−ＣＨ２Ｃ６Ｈ５，−Ｂｎ）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）等が挙げられる。
The specific type of oxysilane having the structure represented by the formula (a) is not particularly limited, and should be appropriately selected depending on the halosilane having the structure represented by the formula (b), which is the purpose of production. , Examples of the compound represented by any of the following formulas (A-1) to (A-5). Hereinafter, the "compound represented by any of the formulas (A-1) to (A-5)" will be described in detail.
R 1 in the formulas (A-1) to (A-5) independently represents "hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms which may contain halogen atoms", but "hydrocarbons" The "hydrocarbon group" may have a branched structure, a cyclic structure, and a carbon-carbon unsaturated bond (carbon-carbon double bond, carbon-carbon triple bond), and may have a saturated hydrocarbon group and an unsaturated hydrocarbon. It may be either a hydrogen group, an aromatic hydrocarbon group, or the like.
Further, "may contain a halogen atom" means that the hydrogen atom of the hydrocarbon group may be substituted with a monovalent functional group composed of a halogen atom.
The number of carbon atoms of the hydrocarbon group of R 1 is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and when R 1 is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more. ..
As functional groups and linking groups contained in R 1 , fluoro group (fluorine atom, -F), chloro group (chlorine atom, -Cl), bromo group (bromine atom, -Br), iodine group (iodine atom,- I) and the like.
The R 1, a methyl group (-CH 3, -Me), ethyl (-C 2 H 5, -Et) , n- propyl (- n C 3 H 7, - n Pr), i- propyl ( -I C 3 H 7 , -i Pr), n-butyl group ( -n C 4 H 9 , -n Bu), i-butyl group ( -i C 4 H 9 , -i Bu)
, T -Butyl group (-t C 4 H 9 , -t Bu), n-pentyl group ( -n C 5 H 11 ), n-hexyl group ( -n C 6 H 13 , -n Hex) t-butyl Group ( -t C 4 H 9 , -t Bu), cyclopentyl group ( -c C 5 H 9 , -cPent), cyclohexyl group ( -c C 6 H 11 , -Cy), 2-chloroethyl group (-CH 2) CH 2 Cl), allyl group (-CH 2 CH = CH 2 , -allyl), benzyl group (-CH 2 C 6 H 5 , -Bn), phenyl group (-C 6 H 5 , -Ph), etc. Be done.
式（Ａ−１）〜（Ａ−５）中のＲ２は、それぞれ独立して「ハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基」を表しているが、「ハロゲン原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」は、Ｒ１の場合と同義である。
Ｒ２の炭化水素基の炭素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下であり、Ｒ２が芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ２に含まれる官能基や連結基としては、フルオロ基（フッ素原子，−Ｆ）、クロロ基（塩素原子，−Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，−Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，−Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ２としては、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｉ−ブチル基（−ｉＣ４Ｈ９，−ｉＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、シクロペンチル基（−ｃＣ５Ｈ９，−ｃＰｅｎｔ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、２−クロロエチル基（−ＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ）、アリル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２，−ａｌｌｙｌ）、ベンジル基（−ＣＨ２Ｃ６Ｈ５，−Ｂｎ）、ビニル基（−ＣＨ＝ＣＨ２，−ｖｉｎｙｌ）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）等が挙げられる。
R 2 in the formulas (A-1) to (A-5) independently represent "hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms which may contain halogen atoms", but "halogens". it may contain atoms "and" hydrocarbon group "has the same meaning as in R 1.
The number of carbon atoms of the hydrocarbon group of R 2 is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and when R 2 is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more. ..
As functional groups and linking groups contained in R 2 , fluoro group (fluorine atom, -F), chloro group (chlorine atom, -Cl), bromo group (bromine atom, -Br), iodine group (iodine atom,- I) and the like.
The R 2, a methyl group (-CH 3, -Me), ethyl (-C 2 H 5, -Et) , n- propyl (- n C 3 H 7, - n Pr), i- propyl ( -I C 3 H 7 , -i Pr), n- butyl group ( -n C 4 H 9 , -n Bu), i-butyl group ( -i C 4 H 9 , -i Bu), t-butyl Group ( -t C 4 H 9 , -t Bu), n-pentyl group ( -n C 5 H 11 ), n-hexyl group ( -n C 6 H 13 , -n Hex) t-butyl group ( -t) C 4 H 9 , -t Bu), cyclopentyl group ( -c C 5 H 9 , -cPent), cyclohexyl group ( -c C 6 H 11 , -Cy), 2-chloroethyl group (-CH 2 CH 2 Cl) , Allyl group (-CH 2 CH = CH 2 , -allyl), benzyl group (-CH 2 C 6 H 5 , -Bn), vinyl group (-CH = CH 2 , -vinyl), phenyl group (-C 6) H 5, -Ph), and the like.
式（Ａ−１）〜（Ａ−５）中のＲ３は、それぞれ独立して「ハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基」、又は「炭素原子数１〜１０の炭化水素基を含むケイ素原子数１〜１００の（ポリ）シロキシ基」を表しているが、「ハロゲン原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」は、Ｒ１の場合と同義である。また、「（ポリ）シロキシ基」とは、ケイ素原子数１のシロキシ基、又はケイ素原子数２〜１００のポリシロキシ基を意味するものとし、「炭素原子数１〜１０の炭化水素基を含む」とは、（ポリ）シロキシ基における置換基として炭素原子数１〜１０の炭化水素基を含むことを意味する。
Ｒ３の炭化水素基の炭素原子数は、通常２０以下、好ましくは１５以下、より好ましくは１０以下であり、Ｒ３が芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ３の（ポリ）シロキシ基のケイ素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは５以下である。
Ｒ３に含まれる官能基や連結基としては、フルオロ基（フッ素原子，−Ｆ）、クロロ基（塩素原子，−Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，−Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，−Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ３としては、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｉ−ブチル基（−ｉＣ４Ｈ９，−ｉＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、シクロペンチル基（−ｃＣ５Ｈ９，−ｃＰｅｎｔ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、２−クロロエチル基（−ＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ）、アリル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２，−ａｌｌｙｌ）、ベンジル基（−ＣＨ２Ｃ６Ｈ５，−Ｂｎ）、ビニル基（−ＣＨ＝ＣＨ２，−ｖｉｎｙｌ）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）、トリメチルシロキシ基（−ＯＳｉ（ＣＨ３）３）、ペンタメチルジシロキシ基（−ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）３）等が挙げられる。
R 3 in the formulas (A-1) to (A-5) are independently "hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms which may contain halogen atoms" or "1 to 1 carbon atoms". it is expressed 10 hydrocarbon group containing silicon atoms from 1 to 100 of the (poly) siloxy group ", and" may include a halogen atom, "" hydrocarbon group ", the same meaning as in R 1 Is. Further, the "(poly) siloxy group" means a siloxy group having 1 silicon atom or a polysiloxy group having 2 to 100 silicon atoms, and "includes a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms". Means that a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is contained as a substituent in the (poly) siloxy group.
The number of carbon atoms of the hydrocarbon group of R 3 is usually 20 or less, preferably 15 or less, more preferably 10 or less, and when R 3 is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more. ..
The number of silicon atoms in the (poly) siloxy group of R 3 is usually 15 or less, preferably 10 or less, and more preferably 5 or less.
As functional groups and linking groups contained in R 3 , fluoro group (fluorine atom, -F), chloro group (chlorine atom, -Cl), bromo group (bromine atom, -Br), iodine group (iodine atom,- I) and the like.
R 3 includes methyl group (-CH 3 , -Me), ethyl group (-C 2 H 5 , -Et), n-propyl group ( -n C 3 H 7 , -n Pr), and i-propyl group. ( -I C 3 H 7 , -i Pr), n- butyl group ( -n C 4 H 9 , -n Bu), i-butyl group ( -i C 4 H 9 , -i Bu), t-butyl Group ( -t C 4 H 9 , -t Bu), n-pentyl group ( -n C 5 H 11 ), n-hexyl group ( -n C 6 H 13 , -n Hex) t-butyl group ( -t) C 4 H 9 , -t Bu), cyclopentyl group ( -c C 5 H 9 , -cPent), cyclohexyl group ( -c C 6 H 11 , -Cy), 2-chloroethyl group (-CH 2 CH 2 Cl) , Allyl group (-CH 2 CH = CH 2 , -allyl), benzyl group (-CH 2 C 6 H 5 , -Bn), vinyl group (-CH = CH 2 , -vinyl), phenyl group (-C 6) Examples thereof include H 5 , -Ph), a trimethylsiloxy group (-OSi (CH 3 ) 3 ), a pentamethyldisyloxy group (-OSi (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 3 ), and the like.
式（Ａ−１）〜（Ａ−５）中のＲ４は、それぞれ独立して「ハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基」、又は「炭素原子数１〜１０の炭化水素基を含むケイ素原子数１〜１００の（ポリ）シロキシ基」を表しているが、「ハロゲン原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」と「（ポリ）シロキシ基」は、Ｒ３の場合と同義である。
Ｒ４の炭化水素基の炭素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下であり、Ｒ４が芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ４に含まれる官能基や連結基としては、フルオロ基（フッ素原子，−Ｆ）、クロロ基（塩素原子，−Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，−Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，−Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ４としては、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｉ−ブチル基（−ｉＣ４Ｈ９，−ｉＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、シクロペンチル基（−ｃＣ５Ｈ９，−ｃＰｅｎｔ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、２−クロロエチル基（−ＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ）、アリル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２，−ａｌｌｙｌ）、ベンジル基（−ＣＨ２Ｃ６Ｈ５，−Ｂｎ）、ビニル基（−ＣＨ＝ＣＨ２，−ｖｉｎｙｌ）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）、トリメチルシロキシ基（−ＯＳｉ（ＣＨ３）３）、ペンタメチルジシロキシ基（−ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）３）等が挙げられる。
R 4 in the formulas (A-1) to (A-5) are independently "hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms which may contain halogen atoms" or "1 to 1 carbon atoms". It represents a (poly) siloxy group having 1 to 100 silicon atoms containing 10 hydrocarbon groups, but "may contain a halogen atom", "hydrocarbon group" and "(poly) siloxy group". It has the same meaning as in R 3.
The number of carbon atoms of the hydrocarbon group of R 4 is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and when R 4 is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more. ..
As the functional group and linking group contained in R 4 , a fluoro group (fluorine atom, -F), a chloro group (chlorine atom, -Cl), a bromo group (bromine atom, -Br), and an iodo group (iodine atom,- I) and the like.
The R 4, a methyl group (-CH 3, -Me), ethyl (-C 2 H 5, -Et) , n- propyl (- n C 3 H 7, - n Pr), i- propyl ( -I C 3 H 7 , -i Pr), n- butyl group ( -n C 4 H 9 , -n Bu), i-butyl group ( -i C 4 H 9 , -i Bu), t-butyl Group ( -t C 4 H 9 , -t Bu), n-pentyl group ( -n C 5 H 11 ), n-hexyl group ( -n C 6 H 13 , -n Hex) t-butyl group ( -t) C 4 H 9 , -t Bu), cyclopentyl group ( -c C 5 H 9 , -cPent), cyclohexyl group ( -c C 6 H 11 , -Cy), 2-chloroethyl group (-CH 2 CH 2 Cl) , Allyl group (-CH 2 CH = CH 2 , -allyl), benzyl group (-CH 2 C 6 H 5 , -Bn), vinyl group (-CH = CH 2 , -vinyl), phenyl group (-C 6) Examples thereof include H 5 , -Ph), a trimethylsiloxy group (-OSi (CH 3 ) 3 ), a pentamethyldisyloxy group (-OSi (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 3 ), and the like.
式（ａ）で表される構造を有するオキシシランとしては、下記式で表される化合物が挙げられる。
式（Ｃ）で表されるアルコキシハロメタンの具体的種類は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。
原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基を、Ｒ’は酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表す。）
式（Ｃ）中のＸは、「塩素原子」、「臭素原子」、又は「ヨウ素原子」を表しているが、塩素原子が特に好ましい。
The specific type of alkoxyhalomethane represented by the formula (C) is not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the intended purpose.
Although X in the formula (C) represents a "chlorine atom", a "bromine atom", or an "iodine atom", a chlorine atom is particularly preferable.
式（Ｃ）中のＲは、それぞれ独立して「水素原子」、「塩素原子」、「臭素原子」、「ヨウ素原子」、又は「酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基」を表しているが、「炭化水素基」は、Ｒ１の場合と同義である。
また、「酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい」とは、炭化水素基の水素原子がハロゲン原子からなる１価の官能基で置換されていてもよいほか、炭化水素基の炭素骨格内部の炭素原子が酸素原子からなる２価の官能基（連結基）で置換されていてもよいことを意味する。
Ｒの炭化水素基の炭素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下であり、Ｒが芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒに含まれる官能基や連結基としては、エーテル基（オキサ基、−Ｏ−）、フルオロ基（フッ素原子，−Ｆ）、クロロ基（塩素原子，−Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，−Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，−Ｉ）等が挙げられる。
Ｒとしては、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｉ−ブチル基（−ｉＣ４Ｈ９，−ｉＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、シクロペンチル基（−ｃＣ５Ｈ９，−ｃＰｅｎｔ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、２−クロロエチル基（−ＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ）、アリル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２，−ａｌｌｙｌ）、ベンジル基（−ＣＨ２Ｃ６Ｈ５，−Ｂｎ）、ビニル基（−ＣＨ＝ＣＨ２，−ｖｉｎｙｌ）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）等が挙げられる。
R in the formula (C) is at least one selected independently from the group consisting of "hydrogen atom", "chlorine atom", "bromine atom", "iodine atom", or "oxygen atom and halogen atom". While contain atoms represent a hydrocarbon group "of the optionally having 1 to 20 carbon atoms are also" hydrocarbon group "has the same meaning as in R 1.
Further, "may contain at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a halogen atom" means that the hydrogen atom of the hydrocarbon group is replaced with a monovalent functional group consisting of a halogen atom. In addition, it means that the carbon atom inside the carbon skeleton of the hydrocarbon group may be substituted with a divalent functional group (linking group) composed of an oxygen atom.
The number of carbon atoms of the hydrocarbon group of R is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and when R is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more.
As functional groups and linking groups contained in R, ether group (oxa group, -O-), fluoro group (fluorine atom, -F), chloro group (chlorine atom, -Cl), bromo group (bromine atom,- Br), iodo group (iodine atom, -I) and the like can be mentioned.
R includes hydrogen atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, methyl group (-CH 3 , -Me), ethyl group (-C 2 H 5 , -Et), n-propyl group ( -n C 3 H). 7, - n Pr), i- propyl (- i C 3 H 7, - i Pr), n- butyl (- n C 4 H 9, - n Bu), i- butyl (- i C 4 H 9 , -i Bu), t-butyl group ( -t C 4 H 9 , -t Bu), n-pentyl group ( -n C 5 H 11 ), n-hexyl group ( -n C 6 H 13 , − N Hex) t-butyl group ( −t C 4 H 9 , − t Bu), cyclopentyl group (− c C 5 H 9 , − cPent), cyclohexyl group (− c C 6 H 11 , − Cy), 2 -Chloroethyl group (-CH 2 CH 2 Cl), allyl group (-CH 2 CH = CH 2 , -allyl), benzyl group (-CH 2 C 6 H 5 , -Bn), vinyl group (-CH = CH 2) , -Vinyl), phenyl group (-C 6 H 5 , -Ph) and the like.
式（Ｃ）中のＲ’は、「酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基」を表しているが、「酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」は、Ｒの場合と同義である。
Ｒ’の炭化水素基の炭素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下であり、Ｒ’が芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ’に含まれる官能基や連結基としては、エーテル基（オキサ基、−Ｏ−）、フルオロ基（フッ素原子，−Ｆ）、クロロ基（塩素原子，−Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，−Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，−Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ’としては、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｉ−ブチル基（−ｉＣ４Ｈ９，−ｉＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、シクロペンチル基（−ｃＣ５Ｈ９，−ｃＰｅｎｔ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、２−クロロエチル基（−ＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ）、アリル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２，−ａｌｌｙｌ）、ベンジル基（−ＣＨ２Ｃ６Ｈ５，−Ｂｎ）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）等が挙げられる。
Although R'in the formula (C) represents "a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain at least one atom selected from the group consisting of oxygen atoms and halogen atoms". , "May contain at least one atom selected from the group consisting of oxygen atoms and halogen atoms" and "hydrocarbon group" are synonymous with the case of R.
The number of carbon atoms of the hydrocarbon group of R'is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and the number of carbon atoms when R'is an aromatic hydrocarbon group is usually 6 or more. ..
As the functional group and linking group contained in R', ether group (oxa group, -O-), fluoro group (fluorine atom, -F), chloro group (chlorine atom, -Cl), bromo group (bromine atom, -Br), iodo group (iodine atom, -I) and the like.
R'includes methyl group (-CH 3 , -Me), ethyl group (-C 2 H 5 , -Et), n-propyl group ( -n C 3 H 7 , -n Pr), i-propyl group. ( -I C 3 H 7 , -i Pr), n- butyl group ( -n C 4 H 9 , -n Bu), i-butyl group ( -i C 4 H 9 , -i Bu), t-butyl Group ( -t C 4 H 9 , -t Bu), n-pentyl group ( -n C 5 H 11 ), n-hexyl group ( -n C 6 H 13 , -n Hex) t-butyl group ( -t) C 4 H 9 , -t Bu), cyclopentyl group ( -c C 5 H 9 , -cPent), cyclohexyl group ( -c C 6 H 11 , -Cy), 2-chloroethyl group (-CH 2 CH 2 Cl) , Allyl group (-CH 2 CH = CH 2 , -allyl), benzyl group (-CH 2 C 6 H 5 , -Bn), phenyl group (-C 6 H 5 , -Ph) and the like.
式（Ｃ）で表されるアルコキシハロメタンとしては、下記式で表される化合物が挙げられる。
反応工程における「式（Ｃ）で表されるアルコキシハロメタン」の使用量（仕込量）は、「式（ａ）で表される構造を有するオキシシラン」に対して物質量換算で、通常１当量以上、好ましくは１．５当量以上、より好ましくは２当量以上であり、通常１０当量以下、好ましくは６当量以下、より好ましくは４当量以下である。前記範囲内であると、ハロシランが収率良く生成し易くなる。 The amount (charged amount) of "alkoxyhalomethane represented by the formula (C)" used in the reaction step is usually 1 equivalent in terms of substance amount with respect to "oxysilane having a structure represented by the formula (a)". The above is preferably 1.5 equivalents or more, more preferably 2 equivalents or more, usually 10 equivalents or less, preferably 6 equivalents or less, and more preferably 4 equivalents or less. Within the above range, halosilane is likely to be produced in good yield.
反応工程は、金属ハロゲン化物及び金属酸化物からなる群より選択される少なくとも１種の存在下で行われることが好ましい。金属ハロゲン化物や金属酸化物が触媒として働き、ハロシランが収率良く生成し易くなる。
なお、「金属ハロゲン化物」とは、金属原子とハロゲン原子を含む化合物を意味するものとし、溶媒等を含む化合物であってもよい。また、「金属酸化物」とは、金属原子と酸素原子を含む化合物を意味するものとし、複合金属酸化物や金属窒素酸化物のように金属原子と酸素原子以外の原子を含んでもよく、また配位子のような有機物を含むものであってもよいものとする。
金属ハロゲン化物及び金属酸化物の金属原子としては、
スカンジウム（Ｓｃ）、イットリウム（Ｙ）等の第３族元素；
チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）等の第４族元素；
バナジウム（Ｖ）、ニオブ（Ｎｂ）等の第５族元素；
クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）等の第６族元素；
マンガン（Ｍｎ）等の第７族元素；
鉄（Ｆｅ）、ルテニウム（Ｒｕ）等の第８族元素；
コバルト（Ｃｏ）、ロジウム（Ｒｈ）、イリジウム（Ｉｒ）等の第９族元素；
ニッケル（Ｎｉ）、パラジウム（Ｐｄ）等の第１０族元素；
銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）等の第１１族元素；
亜鉛（Ｚｎ）、カドミウム（Ｃｄ）等の第１２族元素；
アルミニウム（Ａｌ）、ガリウム（Ｇａ）、インジウム（Ｉｎ）等の第１３族元素等が挙げられる。
The reaction step is preferably carried out in the presence of at least one selected from the group consisting of metal halides and metal oxides. Metal halides and metal oxides act as catalysts, making it easier to produce halosilanes in good yield.
The "metal halide" means a compound containing a metal atom and a halogen atom, and may be a compound containing a solvent or the like. Further, the "metal oxide" means a compound containing a metal atom and an oxygen atom, and may contain an atom other than the metal atom and the oxygen atom such as a composite metal oxide and a metal nitrogen oxide. It may contain an organic substance such as a ligand.
As metal atoms of metal halides and metal oxides,
Group 3 elements such as scandium (Sc) and yttrium (Y);
Group 4 elements such as titanium (Ti) and zirconium (Zr);
Group 5 elements such as vanadium (V) and niobium (Nb);
Group 6 elements such as chromium (Cr), molybdenum (Mo), and tungsten (W);
Group 7 elements such as manganese (Mn);
Group 8 elements such as iron (Fe) and ruthenium (Ru);
Group 9 elements such as cobalt (Co), rhodium (Rh), and iridium (Ir);
Group 10 elements such as nickel (Ni) and palladium (Pd);
Group 11 elements such as copper (Cu) and silver (Ag);
Group 12 elements such as zinc (Zn) and cadmium (Cd);
Group 13 elements such as aluminum (Al), gallium (Ga), and indium (In) can be mentioned.
金属ハロゲン化物としては、塩化鉄（ＦｅＣｌ３、ＦｅＣｌ２、ＦｅＣｌ２（ＴＨＦ）２）、塩化アルミニウム（ＡｌＣｌ３）、塩化ガリウム（ＧａＣｌ３）、塩化亜鉛（ＺｎＣｌ２）、塩化ニッケル（ＮｉＣｌ２ＤＭＥ）、塩化コバルト（ＣｏＣｌ２、ＣｏＣｌ２(ＴＨＦ)１．５）、臭化亜鉛（ＺｎＢｒ２）、臭化コバルト（ＣｏＢｒ２）等が挙げられる。
金属酸化物としては、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）、酸化ニッケル（ＮｉＯ）、酸化ガリウム（Ｇａ２Ｏ３）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化マンガン（ＭｎＯ２）、酸化銅（Ｃｕ２Ｏ）、酸化コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化バナジウム（Ｖ２Ｏ５）、Ｆｅ３Ｏ（ＯＡｃ）６Ｐｙ３、Ｃｏ４Ｏ４（ＯＡｃ）６Ｐｙ４等が挙げられる。
Metal halides include iron chloride (FeCl 3 , FeCl 2 , FeCl 2 (THF) 2 ), aluminum chloride (AlCl 3 ), gallium chloride (GaCl 3 ), zinc chloride (ZnCl 2 ), nickel chloride (NiCl 2 DME). ), Cobalt chloride (CoCl 2 , CoCl 2 (THF) 1.5 ), zinc bromide (ZnBr 2 ), cobalt bromide (CoBr 2 ) and the like.
Examples of metal oxides include aluminum oxide (Al 2 O 3 ), iron oxide (Fe 2 O 3 ), nickel oxide (NiO), gallium oxide (Ga 2 O 3 ), indium oxide (In 2 O 3 ), and manganese oxide. (MnO 2 ), Copper Oxide (Cu 2 O), Cobalt Oxide (Co 3 O 4 ), Zirconium Oxide (ZrO 2 ), Yttrium Oxide (Y 2 O 3 ), Titanium Oxide (TIO 2 ), Vanadium Oxide (V 2) O 5 ), Fe 3 O (OAc) 6 Py 3 , Co 4 O 4 (OAc) 6 Py 4, and the like.
反応工程における「金属ハロゲン化物及び金属酸化物からなる群より選択される少なくとも１種」の使用量（仕込量）は、「式（ａ）で表される構造を有するオキシシラン」に対して物質量換算で、通常０．０００１当量以上、好ましくは０．００１当量以上、より好ましくは０．０２当量以上であり、通常０．５当量以下、好ましくは０．１当量以下、より好ましくは０．０５当量以下である。前記範囲内であると、ハロシランが収率良く生成し易くなる。 The amount of substance used (charged amount) of "at least one selected from the group consisting of metal halides and metal oxides" in the reaction step is the amount of substance with respect to "oxysilane having a structure represented by the formula (a)". In terms of conversion, it is usually 0.0001 equivalent or more, preferably 0.001 equivalent or more, more preferably 0.02 equivalent or more, usually 0.5 equivalent or less, preferably 0.1 equivalent or less, more preferably 0.05. It is less than the equivalent. Within the above range, halosilane is likely to be produced in good yield.
反応工程は、溶媒を使用しても、無溶媒であってもよい。溶媒を使用する場合の溶媒の種類は、特に限定されないが、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、アセトニトリル等が利用できる。この中でもジクロロメタンが特に好ましい。 The reaction step may be solvent-free or solvent-free. When a solvent is used, the type of solvent is not particularly limited, but a hydrocarbon solvent such as hexane, benzene and toluene, an ether solvent such as diethyl ether, tetrahydrofuran (THF) and 1,4-dioxane, dichloromethane and chloroform. , 1,2-Dichloroethane and other halogen-based solvents, acetonitrile and the like can be used. Of these, dichloromethane is particularly preferable.
反応工程の反応温度は、通常−２０℃以上、好ましくは０℃以上、より好ましくは２０℃以上であり、通常１００℃以下、好ましくは６０℃以下、より好ましくは３０℃以下である。
反応工程の反応時間は、通常２４時間以下、好ましくは１２時間以下、より好ましくは６時間以下、特に好ましくは１時間以下である。
反応工程は、通常窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行う。
前記範囲内であると、ハロシランがより収率良く生成し易くなる。
The reaction temperature in the reaction step is usually −20 ° C. or higher, preferably 0 ° C. or higher, more preferably 20 ° C. or higher, and usually 100 ° C. or lower, preferably 60 ° C. or lower, more preferably 30 ° C. or lower.
The reaction time of the reaction step is usually 24 hours or less, preferably 12 hours or less, more preferably 6 hours or less, and particularly preferably 1 hour or less.
The reaction step is usually carried out in an inert atmosphere such as nitrogen or argon.
Within the above range, halosilane is likely to be produced in a higher yield.
反応工程によって生成する式（ｂ）で表される構造を有するハロシランの具体的種類は、特に限定されず、製造目的に応じて適宜選択することができるが、下記式（Ｂ−１）〜（Ｂ−１０）の何れかで表される化合物が挙げられる。
なお、Ｒ１、Ｒ２は、「式（Ａ−１）〜（Ａ−５）の何れかで表される化合物」のものと同義である。
The specific type of halosilane having the structure represented by the formula (b) produced by the reaction step is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the production purpose, but the following formulas (B-1) to (B-1) to ( Examples thereof include a compound represented by any one of B-10).
In addition, R 1 and R 2 are synonymous with those of "a compound represented by any of the formulas (A-1) to (A-5)".
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention can be appropriately modified as long as it does not deviate from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as limited by the specific examples shown below.
＜実施例１＞
アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、塩化コバルト・（ＴＨＦ）１．５ （２．４ｍｇ，５ｍｏｌ％）をシュレンク管に入れた。次いで、ジクロロメタン（２ｍＬ）、エトキシジメチルフェニルシラン（４０μＬ，０．２ｍｍｏｌ）、クロロメチルメチルエーテル（４６μＬ，０．６ｍｍｏｌ）を加えて、室温（２０℃）にて１時間撹拌した。その後、グラスファイバーフィルター（ＡＤＶＡＮＴＥＣ，ＧＡ−１００）でろ過し、ジクロロメタンで洗浄した。ろ液をグローブボックス外に出し、高真空下にて濃縮した。メシチレ
ン（内部標準、８μＬ，０．０５７５ｍｍｏｌ）を加えた後、１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）を測定することで、クロロジメチルフェニルシランが収率７０％で生成していることを確認した。
Cobalt chloride (THF) 1.5 (2.4 mg, 5 mol%) was placed in a Schlenk tube in a glove box in an argon atmosphere. Then, dichloromethane (2 mL), ethoxydimethylphenylsilane (40 μL, 0.2 mmol) and chloromethyl methyl ether (46 μL, 0.6 mmol) were added, and the mixture was stirred at room temperature (20 ° C.) for 1 hour. Then, it was filtered through a glass fiber filter (ADVANTEC, GA-100) and washed with dichloromethane. The filtrate was taken out of the glove box and concentrated under high vacuum. After adding mesitylene (internal standard, 8 μL, 0.0575 mmol), 1 H NMR (CDCl 3 ) was measured to confirm that chlorodimethylphenylsilane was produced in a yield of 70%.
＜実施例２〜１９＞
反応条件を下記の化学式及び表１に記載のものに変更した以外、実施例１と同様の方法により、反応（Ｊ−Ｙｏｕｎｇ ＮＭＲ管中）を行った。生成物の収率の結果を表１に示す。
The reaction (in a J-Young NMR tube) was carried out by the same method as in Example 1 except that the reaction conditions were changed to those shown in Table 1 and the following chemical formula. The results of product yields are shown in Table 1.
＜実施例２０〜２９＞
反応条件を下記の化学式及び表２に記載のものに変更した以外、実施例１と同様の方法により、反応を行った。生成物の収率の結果を表２に示す。
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that the reaction conditions were changed to those shown in Table 2 and the following chemical formula. The results of product yields are shown in Table 2.
＜実施例３０〜３８＞
エトキシジメチルフェニルシランをジエトキシメチルフェニルシランに変更し、さらに反応条件を下記の化学式及び下記の表３に記載のものに変更した以外、実施例１と同様の方法により、反応を行った。生成物の収率の結果を表３に示す。
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that ethoxydimethylphenylsilane was changed to diethoxymethylphenylsilane and the reaction conditions were changed to those shown in the following chemical formula and Table 3 below. The results of product yields are shown in Table 3.
＜実施例３９〜４６＞
エトキシジメチルフェニルシランをヘキサメチルジシロキサン（４２μＬ，０．２ｍｍｏｌ）に変更し、さらに反応条件を下記の化学式及び表４に記載のものに変更した以外、
実施例１と同様の方法により、反応を行った。生成物の収率の結果を表４に示す。
Except that ethoxydimethylphenylsilane was changed to hexamethyldisiloxane (42 μL, 0.2 mmol) and the reaction conditions were changed to those shown in the following chemical formula and Table 4.
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1. The results of product yields are shown in Table 4.
＜実施例４７〜５５＞
エトキシジメチルフェニルシランをオクタメチルトリシロキサン（５８μＬ，０．２ｍｍｏｌ）に変更し、さらに反応条件を下記の化学式及び表５に記載のものに変更した以外、実施例１と同様の方法により、反応を行った。生成物の収率の結果を表５に示す。
The reaction was carried out by the same method as in Example 1 except that ethoxydimethylphenylsilane was changed to octamethyltrisiloxane (58 μL, 0.2 mmol) and the reaction conditions were changed to those shown in the following chemical formula and Table 5. went. The results of product yields are shown in Table 5.
本発明の製造方法によって製造されたハロシランは、シリコーンポリマーやオリゴシロキサン化合物の原料や、医薬品、農薬、機能性有機材料の原料として利用することができる。 The halosilane produced by the production method of the present invention can be used as a raw material for silicone polymers and oligosiloxane compounds, and as a raw material for pharmaceuticals, pesticides, and functional organic materials.
Claims (3)
前記反応工程が、前記式（ａ）で表される構造を有するオキシシラン（ただし、炭素−炭素二重結合を含む脂肪族炭化水素基を有するものを除く。）と下記式（Ｃ）で表されるアルコキシハロメタンを反応させることを特徴とするハロシランの製造方法。
The reaction step is represented by an oxysilane having a structure represented by the formula (a) ( excluding those having an aliphatic hydrocarbon group containing a carbon-carbon double bond) and the following formula (C). A method for producing halosilane, which comprises reacting an alkoxyhalomethane.
も１種の存在下で行われる、請求項１に記載のハロシランの製造方法。 The method for producing a halosilane according to claim 1, wherein the reaction step is carried out in the presence of at least one selected from the group consisting of metal halides and metal oxides.
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