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JP6932335B2 - Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, liquid crystal display element and new monomer - Google Patents
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Description

本発明は、特定の構造単位を有する新規な重合体、それを含有する組成物(液晶配向剤)と、それを用いる横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜、および当該配向膜を有する基板の製造方法に関する。 In the present invention, a novel polymer having a specific structural unit, a composition containing the polymer (liquid crystal alignment agent), a liquid crystal alignment film for a transverse electric field driven liquid crystal display element using the same, and a substrate having the alignment film. Regarding the manufacturing method of.

液晶表示素子は、軽量、薄型かつ低消費電力の表示デバイスとして知られ、近年では大型のテレビ用途に用いられるなど、目覚ましい発展を遂げている。液晶表示素子は、例えば、電極を備えた透明な一対の基板により液晶層を挟持して構成される。そして、液晶表示素子では、液晶が基板間で所望の配向状態となるように有機材料からなる有機膜が液晶配向膜として使用されている。 Liquid crystal display elements are known as lightweight, thin, and low power consumption display devices, and have made remarkable progress in recent years, such as being used in large-scale television applications. The liquid crystal display element is configured by sandwiching the liquid crystal layer between, for example, a pair of transparent substrates provided with electrodes. In the liquid crystal display element, an organic film made of an organic material is used as the liquid crystal alignment film so that the liquid crystal is in a desired orientation state between the substrates.

すなわち、液晶配向膜は、液晶表示素子の構成部材であって、液晶を挟持する基板の液晶と接する面に形成され、その基板間で液晶を一定の方向に配向させるという役割を担っている。そして、液晶配向膜には、液晶を、例えば、基板に対して平行な方向など、一定の方向に配向させるという役割に加え、液晶のプレチルト角を制御するという役割を求められることがある。こうした液晶配向膜における、液晶の配向を制御する能力(以下、配向制御能と言う。)は、液晶配向膜を構成する有機膜に対して配向処理を行うことによって与えられる。 That is, the liquid crystal alignment film is a constituent member of the liquid crystal display element, is formed on the surface of the substrate that sandwiches the liquid crystal in contact with the liquid crystal, and plays a role of orienting the liquid crystal in a certain direction between the substrates. The liquid crystal alignment film may be required to have a role of controlling the pretilt angle of the liquid crystal in addition to the role of orienting the liquid crystal in a certain direction such as a direction parallel to the substrate. The ability to control the orientation of the liquid crystal in such a liquid crystal alignment film (hereinafter referred to as the orientation control ability) is given by performing an orientation treatment on the organic film constituting the liquid crystal alignment film.

配向制御能を付与するための液晶配向膜の配向処理方法としては、従来からラビング法が知られている。ラビング法とは、基板上のポリビニルアルコールやポリアミドやポリイミド等の有機膜に対し、その表面を綿、ナイロン、ポリエステル等の布で一定方向に擦り(ラビングし)、擦った方向(ラビング方向)に液晶を配向させる方法である。このラビング法は簡便に比較的安定した液晶の配向状態を実現できるため、従来の液晶表示素子の製造プロセスにおいて利用されてきた。そして、液晶配向膜に用いられる有機膜としては、耐熱性等の信頼性や電気的特性に優れたポリイミド系の有機膜が主に選択されてきた。 A rubbing method has been conventionally known as an orientation treatment method for a liquid crystal alignment film for imparting an orientation control ability. The rubbing method is to rub the surface of an organic film such as polyvinyl alcohol, polyamide, or polyimide on a substrate with a cloth such as cotton, nylon, or polyester in a certain direction (rubbing) in a rubbing direction (rubbing direction). This is a method of orienting a liquid crystal display. Since this rubbing method can easily realize a relatively stable orientation state of a liquid crystal display, it has been used in a conventional manufacturing process of a liquid crystal display element. As the organic film used for the liquid crystal alignment film, a polyimide-based organic film having excellent reliability such as heat resistance and electrical characteristics has been mainly selected.

しかしながら、ポリイミドなどからなる液晶配向膜の表面を擦るラビング法は、発塵や静電気の発生が問題となることがあった。また、近年の液晶表素子の高精細化や、対応する基板上の電極や液晶駆動用のスイッチング能動素子による凹凸のため、液晶配向膜の表面を布で均一に擦ることができず、均一な液晶の配向を実現できないことがあった。 However, the rubbing method of rubbing the surface of a liquid crystal alignment film made of polyimide or the like may cause problems such as dust generation and generation of static electricity. In addition, due to the recent high definition of the liquid crystal surface element and the unevenness of the corresponding electrode on the substrate and the switching active element for driving the liquid crystal, the surface of the liquid crystal alignment film cannot be uniformly rubbed with a cloth, and is uniform. In some cases, the orientation of the liquid crystal could not be achieved.

そこで、ラビングを行わない液晶配向膜の別の配向処理方法として、光配向法が盛んに検討されている。 Therefore, the photo-alignment method has been actively studied as another alignment treatment method for the liquid crystal alignment film without rubbing.

光配向法には様々な方法があるが、直線偏光またはコリメートした光によって液晶配向膜を構成する有機膜内に異方性を形成し、その異方性に従って液晶を配向させる。 There are various photo-alignment methods, but anisotropy is formed in the organic film constituting the liquid crystal alignment film by linearly polarized light or collimated light, and the liquid crystal is oriented according to the anisotropy.

主な光配向法としては、分解型の光配向法が知られている。この方法では、例えば、ポリイミド膜に偏光紫外線を照射し、分子構造の紫外線吸収の偏光方向依存性を利用して異方的な分解を生じさせる。そして、分解せずに残されたポリイミドにより液晶を配向させるようにする(例えば、特許文献1を参照)。 As the main photo-orientation method, a decomposition type photo-orientation method is known. In this method, for example, the polyimide film is irradiated with polarized ultraviolet rays, and anisotropic decomposition is caused by utilizing the polarization direction dependence of the ultraviolet absorption of the molecular structure. Then, the liquid crystal is oriented by the polyimide left without decomposition (see, for example, Patent Document 1).

また、他の光配向法としては、光架橋型や光異性化型の光配向法も知られている。光架橋型の光配向法では、例えば、ポリビニルシンナメートを用い、偏光紫外線を照射し、偏光と平行な2つの側鎖の二重結合部分で二量化反応(架橋反応)を生じさせる。そして、偏光方向と直交した方向に液晶を配向させる(例えば、非特許文献1を参照)。光異性化型の光配向法では、アゾベンゼンを側鎖に有する側鎖型高分子を用いた場合、偏光紫外線を照射し、偏光と平行な側鎖のアゾベンゼン部で異性化反応を生じさせ、偏光方向と直交した方向に液晶を配向させる(例えば、非特許文献2を参照)。 Further, as another photo-orientation method, a photocrosslinking type or a photoisomerization type photo-alignment method is also known. In the photocrosslinking type photoalignment method, for example, polyvinyl synnamate is used to irradiate polarized ultraviolet rays to cause a dimerization reaction (crosslinking reaction) at a double bond portion of two side chains parallel to polarized light. Then, the liquid crystal is oriented in a direction orthogonal to the polarization direction (see, for example, Non-Patent Document 1). In the photoisomerization type photoorientation method, when a side chain type polymer having azobenzene in the side chain is used, it is irradiated with polarized ultraviolet rays to cause an isomerization reaction in the azobenzene part of the side chain parallel to polarized light, resulting in polarization. The liquid crystal is oriented in a direction orthogonal to the direction (see, for example, Non-Patent Document 2).

以上の例のように、光配向法による液晶配向膜の配向処理方法では、ラビングを不要とし、発塵や静電気の発生の懸念が無い。そして、表面に凹凸のある液晶表示素子の基板に対しても配向処理を施すことができ、工業的な生産プロセスに好適な液晶配向膜の配向処理の方法となる。 As described in the above example, the method of aligning the liquid crystal alignment film by the photoalignment method does not require rubbing, and there is no concern about dust generation or static electricity generation. Then, the orientation treatment can be applied to the substrate of the liquid crystal display element having an uneven surface, which is a method of orientation treatment of the liquid crystal alignment film suitable for an industrial production process.

また、光配向性ポリマーとして、所定の温度範囲で液晶性を発現する光反応性ポリマーを用いた液晶配向剤も提案されている。 Further, as a photo-oriented polymer, a liquid crystal aligning agent using a photo-reactive polymer that exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range has also been proposed.

特許第3893659号公報Japanese Patent No. 3893659 国際特許出願公開WO2014/054785号パンフレットInternational Patent Application Publication WO2014 / 054785 Pamphlet

M. Shadt et al., Jpn. J. Appl. Phys. 31, 2155 (1992).M. Shadt et al., Jpn. J. Appl. Phys. 31, 2155 (1992). K. Ichimura et al., Chem. Rev. 100, 1847 (2000).K. Ichimura et al., Chem. Rev. 100, 1847 (2000).

しかし、光配向性ポリマーとして、所定の温度範囲で液晶性を発現する光反応性ポリマーを用いた場合、ポリマーの構造によっては溶解性が低下し、実用的でない場合がある。従って、多種多様な構造を導入しつつ、溶解性の高いポリマーが求められている。 However, when a photoreactive polymer that exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range is used as the photo-oriented polymer, the solubility may decrease depending on the structure of the polymer, which may not be practical. Therefore, there is a demand for a highly soluble polymer while introducing a wide variety of structures.

本発明者らは、光配向性ポリマーに特定の構造単位を導入することで、ポリマーの溶解性を向上させうることを見出した。すなわち、本発明は、ポリマーの溶解性を向上させうる特定の構造単位を導入した光反応性ポリマーと、それを含有する液晶配向剤を提供することを目的とする。また、当該特定の構造単位を導入するための新規なモノマーをも提供する。 The present inventors have found that the solubility of a polymer can be improved by introducing a specific structural unit into a photo-oriented polymer. That is, an object of the present invention is to provide a photoreactive polymer introduced with a specific structural unit capable of improving the solubility of the polymer, and a liquid crystal alignment agent containing the same. It also provides new monomers for introducing the particular structural unit.

本発明者らは、上記課題を達成するべく鋭意検討を行った結果、以下の発明を見出した。 As a result of diligent studies to achieve the above problems, the present inventors have found the following inventions.

<1> (A)所定の温度範囲で液晶性を発現する感光性の側鎖型高分子、及び
(B)有機溶媒
を含有する重合体組成物において、(A)成分である樹脂が、下記式(a)で表される側鎖を含有することを特徴とする重合体組成物。特に横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜製造用重合体組成物。
式(a)中、Lは炭素数1から16の直鎖又は分岐鎖のアルキレンである。
XはCH−CH、CH=CHまたはC≡Cを表す。
は、各々独立に、ハロゲン基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基、ヒドロキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基(アルキル基は、各々独立に、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である)、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のエステル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアシル基、カルボキシル基、アルデヒド基及びニトロ基から選ばれる置換基で置換されてもよい下記式Y−1からY−6を表す(**はXとの結合位置を表し、***はYとの結合位置を表す)。
は−COOH、−CR=CR−COOH、−CR=CR−CO−O−Yまたは−O−CO−CR=CR−Yを表す。
及びRは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。
及びRは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。
は、各々独立に、ハロゲン基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基、ヒドロキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基(アルキル基は、各々独立に、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である)、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のエステル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアシル基、カルボキシル基、アルデヒド基、及びニトロ基から選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、炭素数5〜8の脂環式炭化水素、フェニル‐シクロヘキシル基又はシクロヘキシル-フェニル基を表す。
<1> In the polymer composition containing (A) a photosensitive side chain polymer that exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range and (B) an organic solvent, the resin as the component (A) is as follows. A polymer composition comprising a side chain represented by the formula (a). In particular, a polymer composition for producing a liquid crystal alignment film for a transverse electric field drive type liquid crystal display element.
In formula (a), L is a linear or branched alkylene having 1 to 16 carbon atoms.
X represents CH 2 -CH 2 , CH = CH or C≡C.
Y 1 is independently a halogen group, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a cyano group, and a dialkylamino group. (The alkyl groups are independently linear or branched alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms), linear or branched ester groups having 1 to 10 carbon atoms, and linear chains having 1 to 10 carbon atoms. or branched-chain acyl group, a carboxyl group, a Y 1 -6 from a good formula Y 1 -1 be substituted with a substituent selected from an aldehyde group and a nitro group (** represents a bonding position to X , *** represents the position of connection with Y 2).
Y 2 represents -COOH, -CR 3 = CR 4- COOH, -CR 5 = CR 6- CO-O-Y 3 or -O-CO-CR 5 = CR 6- Y 3 .
R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a methyl group, respectively.
R 5 and R 6 independently represent a hydrogen atom or a methyl group, respectively.
Y 3 are each independently a halogen group, a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, straight-chain or branched alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a cyano group, a dialkylamino group (The alkyl groups are independently linear or branched alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms), linear or branched ester groups having 1 to 10 carbon atoms, and linear chains having 1 to 10 carbon atoms. Alternatively, a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, phenyl- which may be substituted with a substituent selected from an acyl group, a carboxyl group, an aldehyde group and a nitro group of the branched chain. Represents a cyclohexyl group or a cyclohexyl-phenyl group.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

<2> 上記<1>において、(A)成分が、光架橋、光異性化、または光フリース転移を起こす感光性側鎖を有するのがよい。
<3> 上記<1>または<2>において、(A)成分が、下記式(1)〜(6)からなる群から選ばれるいずれか1種の感光性側鎖を有するのがよい。
<2> In the above <1>, the component (A) preferably has a photosensitive side chain that causes photocrosslinking, photoisomerization, or photofries rearrangement.
<3> In the above <1> or <2>, the component (A) preferably has any one of the photosensitive side chains selected from the group consisting of the following formulas (1) to (6).

Figure 0006932335
Figure 0006932335

式中、A、B、Dはそれぞれ独立に、単結合、−O−、−CH−、−COO−、−OCO−、−CONH−、−NH−CO−、−CH=CH−CO−O−、又は−O−CO−CH=CH−を表す;
Sは、炭素数1〜12のアルキレン基であり、それらに結合する水素原子はハロゲン基に置き換えられていてもよい;
Tは、単結合または炭素数1〜12のアルキレン基であり、それらに結合する水素原子はハロゲン基に置き換えられていてもよい;
は、1価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環および炭素数5〜8の脂環式炭化水素から選ばれる環を表すか、それらの置換基から選ばれる同一又は相異なった2〜6の環が結合基Bを介して結合してなる基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に−COOR(式中、Rは水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表す)、−NO、−CN、−CH=C(CN)、−CH=CH−CN、ハロゲン基、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のアルキルオキシ基で置換されても良い;
は、2価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、炭素数5〜8の脂環式炭化水素、および、それらの組み合わせからなる群から選ばれる基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に−NO、−CN、−CH=C(CN)、−CH=CH−CN、ハロゲン基、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のアルキルオキシ基で置換されても良い;
Rは、ヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルコキシ基を表すか、又はYと同じ定義を表す;
Xは、単結合、−COO−、−OCO−、−N=N−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH=CH−CO−O−、又は−O−CO−CH=CH−を表し、Xの数が2となるときは、X同士は同一でも異なっていてもよい;
Couは、クマリン−6−イル基またはクマリン−7−イル基を表し、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に−NO、−CN、−CH=C(CN)、−CH=CH−CN、ハロゲン基、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のアルキルオキシ基で置換されても良い;
q1とq2は、一方が1で他方が0である;
q3は0または1である;
P及びQは、各々独立に、2価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、炭素数5〜8の脂環式炭化水素、および、それらの組み合わせからなる群から選ばれる基である;ただし、Xが−CH=CH−CO−O−、−O−CO−CH=CH−である場合、−CH=CH−が結合する側のP又はQは芳香環であり、Pの数が2以上となるときは、P同士は同一でも異なっていてもよく、Qの数が2以上となるときは、Q同士は同一でも異なっていてもよい;
l1は0または1である;
l2は0〜2の整数である;
l1とl2がともに0であるときは、Tが単結合であるときはAも単結合を表す;
l1が1であるときは、Tが単結合であるときはBも単結合を表す;
H及びIは、各々独立に、2価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、およびそれらの組み合わせから選ばれる基である。
In the formula, A, B, and D are independently single-bonded, -O-, -CH 2- , -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH = CH-CO-. Represents O- or -O-CO-CH = CH-;
S is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom bonded to them may be replaced with a halogen group;
T is a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom bonded to them may be replaced with a halogen group;
Y 1 represents a ring selected from a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring and an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, or the same or selected from their substituents. It is a group consisting of 2 to 6 different rings bonded via a bonding group B, and the hydrogen atoms bonded to them are independently −COOR 0 (in the formula, R 0 is a hydrogen atom or 1 to 1 carbon atoms). (Representing an alkyl group of 5), -NO 2 , -CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. May be substituted with an alkyloxy group;
Y 2 is a group selected from the group consisting of a divalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, and a combination thereof. The hydrogen atoms bonded to are independently -NO 2 , -CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, halogen group, alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 5 carbon atoms. May be substituted with an alkyloxy group of;
R is hydroxy group, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or represents the same definition as Y 1;
X is a single bond, -COO-, -OCO-, -N = N-, -CH = CH-, -C≡C-, -CH = CH-CO-O-, or -O-CO-CH = When CH-represents and the number of Xs is 2, the Xs may be the same or different;
Cou represents a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and the hydrogen atoms bonded to them are independently -NO 2 , -CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-. It may be substituted with CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;
One of q1 and q2 is 1 and the other is 0;
q3 is 0 or 1;
P and Q are independently selected from the group consisting of a divalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, and a combination thereof. It is a group; however, when X is -CH = CH-CO-O-, -O-CO-CH = CH-, P or Q on the side to which -CH = CH- is bonded is an aromatic ring. When the number of Ps is 2 or more, the Ps may be the same or different, and when the number of Qs is 2 or more, the Qs may be the same or different;
l1 is 0 or 1;
l2 is an integer from 0 to 2;
When both l1 and l2 are 0, A also represents a single bond when T is a single bond;
When l1 is 1, B also represents a single bond when T is a single bond;
H and I are groups independently selected from a divalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring, and a combination thereof.

<4> 上記<1>〜<3>のいずれかにおいて、(A)成分が、下記式(21)〜(31)からなる群から選ばれるいずれか1種の液晶性側鎖を有するのがよい。
式中、A及びBは上記と同じ定義を有する;
は、1価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、窒素含有複素環、及び炭素数5〜8の脂環式炭化水素、および、それらの組み合わせからなる群から選ばれる基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に−NO、−CN、ハロゲン基、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のアルキルオキシ基で置換されても良い;
は、水素原子、−NO、−CN、−CH=C(CN)、−CH=CH−CN、ハロゲン基、1価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、窒素含有複素環、炭素数5〜8の脂環式炭化水素、炭素数1〜12のアルキル基、又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表す;
q1とq2は、一方が1で他方が0である;
lは1〜12の整数を表し、mは0から2の整数を表し、但し、式(23)〜(24)において、全てのmの合計は2以上であり、式(25)〜(26)において、全てのmの合計は1以上であり、m1、m2およびm3は、それぞれ独立に1〜3の整数を表す;
は、水素原子、−NO、−CN、ハロゲン基、1価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、窒素含有複素環、炭素数5〜8の脂環式炭化水素、アルキル基又はアルキルオキシ基を表す;
、Zは単結合、−CO−、−CHO−、−CH=N−、−CF−を表す。
<4> In any of the above <1> to <3>, the component (A) has any one liquid crystal side chain selected from the group consisting of the following formulas (21) to (31). good.
In the formula, A and B have the same definition as above;
Y 3 is a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a nitrogen-containing heterocycle, and alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, and, with a group selected from the group consisting of Yes, the hydrogen atoms attached to them may be independently substituted with -NO 2 , -CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;
R 3 contains a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen group, a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, and nitrogen. Represents a heterocycle, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms;
One of q1 and q2 is 1 and the other is 0;
l represents an integer of 1 to 12, m represents an integer of 0 to 2, but in equations (23) to (24), the sum of all m is 2 or more, and equations (25) to (26). ), The sum of all m is 1 or more, and m1, m2, and m3 independently represent integers 1 to 3;
R 2 is a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, halogen group, monovalent benzene ring, naphthalene ring, biphenyl ring, furan ring, nitrogen-containing heterocycle, alicyclic hydrocarbon with 5 to 8 carbon atoms, alkyl. Represents a group or alkyloxy group;
Z 1 and Z 2 represent a single bond, -CO-, -CH 2 O-, -CH = N-, -CF 2- .

Figure 0006932335
Figure 0006932335

<5> [I] 上記<1>〜<4>のいずれかの組成物を、横電界駆動用の導電膜を有する基板上に塗布して塗膜を形成する工程;
[II] [I]で得られた塗膜に偏光した紫外線を照射する工程;及び
[III] [II]で得られた塗膜を加熱する工程;
を有することによって配向制御能が付与された横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を得る、前記液晶配向膜を有する基板の製造方法。
<6> 上記<5>の方法により製造された横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を有する基板。
<7> 上記<6>の基板を有する横電界駆動型液晶表示素子。
<5> [I] A step of applying any of the above compositions <1> to <4> on a substrate having a conductive film for driving a transverse electric field to form a coating film;
[II] A step of irradiating the coating film obtained in [I] with polarized ultraviolet rays; and a step of heating the coating film obtained in [III] [II];
A method for manufacturing a substrate having the liquid crystal alignment film, which obtains a liquid crystal alignment film for a transverse electric field drive type liquid crystal display element to which the orientation control ability is imparted.
<6> A substrate having a liquid crystal alignment film for a transverse electric field drive type liquid crystal display element manufactured by the method of <5> above.
<7> A transverse electric field-driven liquid crystal display element having the substrate of <6> above.

<8> 上記<6>の基板(第1の基板)を準備する工程;
[I’] 第2の基板上に上記<1>〜<17>のいずれかの重合体組成物を、塗布して塗膜を形成する工程;
[II’] [I’]で得られた塗膜に偏光した紫外線を照射する工程;及び
[III’] [II’]で得られた塗膜を加熱する工程;
を有することによって配向制御能が付与された液晶配向膜を得る、該液晶配向膜を有する第2の基板を得る工程;及び
[IV] 液晶を介して第1及び第2の基板の液晶配向膜が相対するように、第1及び第2の基板を対向配置して液晶表示素子を得る工程;
を有することにより、横電界駆動型液晶表示素子を得る、該液晶表示素子の製造方法。
<9> 上記<8>により製造された横電界駆動型液晶表示素子。
<8> Step of preparing the substrate (first substrate) of <6>above;
[I'] A step of applying the polymer composition of any of the above <1> to <17> on the second substrate to form a coating film;
[II'] A step of irradiating the coating film obtained in [I'] with polarized ultraviolet rays; and a step of heating the coating film obtained in [III'] [II'];
A step of obtaining a liquid crystal alignment film having an orientation control ability by having the liquid crystal alignment film, and obtaining a second substrate having the liquid crystal alignment film; and [IV] Liquid crystal alignment films of the first and second substrates via the liquid crystal. A step of arranging the first and second substrates so as to face each other to obtain a liquid crystal display element;
A method for manufacturing a liquid crystal display element, which obtains a horizontal electric field drive type liquid crystal display element.
<9> A transverse electric field drive type liquid crystal display element manufactured by the above <8>.

<10>下記式(am1)で表される化合物。
式(am1)中、PLは重合可能な基であり、下記式PL−1〜PL−5からなる群から選ばれる重合性基を表す。式PL−1〜PL−5中、R及びR、Rは、水素原子、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、又はハロゲンで置換された炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を表す(*は、Lとの結合位置を表す)。
Lは炭素数1から16の直鎖又は分岐鎖のアルキレンである。
XはCH−CH、CH=CHまたはC≡Cを表す。
は、各々独立に、ハロゲン基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基、ヒドロキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基(アルキル基は、各々独立に、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である)、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のエステル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアシル基、カルボキシル基、アルデヒド基及びニトロ基から選ばれる置換基で置換されてもよい下記式Y−1からY−6を表す(**はXとの結合位置を表し、***はYとの結合位置を表す。)。
は−COOH、−CR=CR−COOH、−CR=CR−CO−O−Yまたは−O−CO−CR=CR−Yを表す。
及びRは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。
及びRは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。
は、各々独立に、ハロゲン基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基、ヒドロキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基(アルキル基は、各々独立に、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である)、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のエステル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアシル基、カルボキシル基、アルデヒド基、及びニトロ基から選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、炭素数5〜8の脂環式炭化水素、フェニル‐シクロヘキシル基又はシクロヘキシル-フェニル基を表す。
<10> A compound represented by the following formula (am1).
In the formula (am1), PL is a polymerizable group and represents a polymerizable group selected from the group consisting of the following formulas PL-1 to PL-5. In the formula PL-1~PL-5, R 1 and R 2, R 3 is a hydrogen atom, a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or has been in the 1 to 10 carbon atoms substituted by halogen It represents a linear or branched alkyl group (* represents the bonding position with L).
L is a linear or branched alkylene having 1 to 16 carbon atoms.
X represents CH 2 -CH 2 , CH = CH or C≡C.
Y 1 is independently a halogen group, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a cyano group, and a dialkylamino group. (The alkyl groups are independently linear or branched alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms), linear or branched ester groups having 1 to 10 carbon atoms, and linear chains having 1 to 10 carbon atoms. or branched-chain acyl group, a carboxyl group, a Y 1 -6 from a good formula Y 1 -1 be substituted with a substituent selected from an aldehyde group and a nitro group (** represents a bonding position to X , *** represents the coupling position with Y 2.).
Y 2 represents -COOH, -CR 3 = CR 4- COOH, -CR 5 = CR 6- CO-O-Y 3 or -O-CO-CR 5 = CR 6- Y 3 .
R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a methyl group, respectively.
R 5 and R 6 independently represent a hydrogen atom or a methyl group, respectively.
Y 3 are each independently a halogen group, a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, straight-chain or branched alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a cyano group, a dialkylamino group (The alkyl groups are independently linear or branched alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms), linear or branched ester groups having 1 to 10 carbon atoms, and linear chains having 1 to 10 carbon atoms. Alternatively, a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, phenyl- which may be substituted with a substituent selected from an acyl group, a carboxyl group, an aldehyde group and a nitro group of the branched chain. Represents a cyclohexyl group or a cyclohexyl-phenyl group.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

本発明により、特定の構造単位を有するポリマーを得ることができ、得られたポリマーは従来のポリマーよりも溶解性が向上する。これにより、液晶表示素子に求められる各種特性を実現するために、構造単位を導入する際に、ポリマーの溶解性の低下を気にすることなく導入することができるようになる。その結果、高効率で配向制御能が付与され、焼き付き特性に優れた、横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を有する基板及び該基板を有する横電界駆動型液晶表示素子を提供することができる。 According to the present invention, a polymer having a specific structural unit can be obtained, and the obtained polymer has improved solubility as compared with a conventional polymer. As a result, in order to realize various characteristics required for the liquid crystal display element, when introducing the structural unit, it becomes possible to introduce the structural unit without worrying about the decrease in the solubility of the polymer. As a result, it is possible to provide a substrate having a liquid crystal alignment film for a transverse electric field driven liquid crystal display element and a transverse electric field driven liquid crystal display element having the substrate, which are provided with high efficiency orientation control ability and excellent seizure characteristics. can.

本発明者は、鋭意研究を行った結果、以下の知見を得て本発明を完成するに至った。
本発明の重合体組成物は、液晶性を発現し得る感光性の側鎖型高分子(以下、単に側鎖型高分子とも呼ぶ)を有しており、前記重合体組成物を用いて得られる塗膜は、液晶性を発現し得る感光性の側鎖型高分子を有する膜である。この塗膜にはラビング処理を行うこと無く、偏光照射によって配向処理を行う。そして、偏光照射の後、その側鎖型高分子膜を加熱する工程を経て、配向制御能が付与された塗膜(以下、液晶配向膜とも称する)となる。このとき、偏光照射によって発現した僅かな異方性がドライビングフォースとなり、液晶性の側鎖型高分子自体が自己組織化により効率的に再配向する。その結果、液晶配向膜として高効率な配向処理が実現し、高い配向制御能が付与された液晶配向膜を得ることができる。
As a result of diligent research, the present inventor has obtained the following findings and has completed the present invention.
The polymer composition of the present invention has a photosensitive side-chain polymer capable of exhibiting liquidity (hereinafter, also simply referred to as a side-chain polymer), and can be obtained by using the polymer composition. The coating film to be obtained is a film having a photosensitive side chain polymer capable of exhibiting liquidity. This coating film is subjected to an orientation treatment by polarized light irradiation without performing a rubbing treatment. Then, after the polarization irradiation, the side chain type polymer film is heated to obtain a coating film having an orientation control ability (hereinafter, also referred to as a liquid crystal alignment film). At this time, the slight anisotropy developed by the polarization irradiation becomes the driving force, and the liquid crystal side chain polymer itself is efficiently reoriented by self-assembly. As a result, highly efficient alignment processing can be realized as a liquid crystal alignment film, and a liquid crystal alignment film with high orientation control ability can be obtained.

また、本発明における重合体組成物では、(A)成分である側鎖型高分子が、上記式(a)で表される側鎖を含有する。これにより、重合体組成物の有機溶媒への溶解性は良好となる。この現象は、上記式(a)で表されるポリマーは、連結基が異なる類似構造ポリマーに比べて、連結基の効果によりポリマー間の相互作用が弱くなり、所望の効果を飛躍的に高めていると考えた。なおこれらは本発明のメカニズムに関する発明者の見解を含むものであり、本発明を拘束するものではない。 Further, in the polymer composition of the present invention, the side chain type polymer which is the component (A) contains the side chain represented by the above formula (a). As a result, the solubility of the polymer composition in the organic solvent becomes good. This phenomenon is caused by the fact that the polymer represented by the above formula (a) has a weaker interaction between the polymers due to the effect of the linking group than the polymer having a similar structure having different linking groups, and dramatically enhances the desired effect. I thought there was. It should be noted that these include the inventor's views on the mechanism of the present invention and are not binding on the present invention.

また、本発明における重合体組成物では、(A)成分である側鎖型高分子と(B)成分である有機溶媒に加えて、(C)成分として、テトラカルボン酸誘導体とジアミン化合物とを重合反応させて製造されるポリアミック酸、または、ポリアミック酸をイミド化することにより製造されるポリイミド、ジイソシアネート化合物とジアミン化合物とを重合反応させて製造されるポリウレア、ジイソシアネート化合物とテトラカルボン酸誘導体と、ジアミン化合物とを重合反応させ製造されるポリウレアポリアミック酸、ポリウレアポリアミック酸をイミド化することにより製造されるポリウレアポリイミドを含有させることもできる。
以下、本発明の実施形態について詳しく説明する。
Further, in the polymer composition of the present invention, in addition to the side chain type polymer which is the component (A) and the organic solvent which is the component (B), a tetracarboxylic acid derivative and a diamine compound are used as the component (C). Polyamic acid produced by polymerization reaction, or polyimide produced by imidizing polyamic acid, polyurea produced by polymerizing a diisocyanate compound and a diamine compound, and a diisocyanate compound and a tetracarboxylic acid derivative. It is also possible to contain a polyurea polyamic acid produced by polymerizing a diamine compound and a polyurea polyimide produced by imidizing the polyurea polyamic acid.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

<重合体組成物>
横電界駆動用の導電膜を有する基板上、特に導電膜上に、重合体組成物を塗布する。
本発明の製造方法に用いられる、該重合体組成物は、
(A)所定の温度範囲で液晶性を発現する感光性の側鎖型高分子、(B)有機溶媒を含有する重合体組成物において、(A)成分である樹脂が、下記式(a)で表される側鎖を含有することを特徴とする。
<Polymer composition>
The polymer composition is applied onto a substrate having a conductive film for driving a transverse electric field, particularly on the conductive film.
The polymer composition used in the production method of the present invention is
In a polymer composition containing (A) a photosensitive side-chain polymer that exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range and (B) an organic solvent, the resin that is the component (A) is the following formula (a). It is characterized by containing a side chain represented by.

<<(A)側鎖型高分子>>
(A)成分は、所定の温度範囲で液晶性を発現する感光性の側鎖型高分子である。
(A)側鎖型高分子は、250nm〜400nmの波長範囲の光で反応し、かつ100℃〜300℃の温度範囲で液晶性を示すのがよい。
(A)側鎖型高分子は、250nm〜400nmの波長範囲の光に反応する感光性側鎖を有することが好ましい。
(A)側鎖型高分子は、100℃〜300℃の温度範囲で液晶性を示すためメソゲン基を有することが好ましい。
<< (A) Side chain polymer >>
The component (A) is a photosensitive side chain polymer that exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range.
The side chain polymer (A) preferably reacts with light in the wavelength range of 250 nm to 400 nm and exhibits liquid crystallinity in the temperature range of 100 ° C. to 300 ° C.
The side chain polymer (A) preferably has a photosensitive side chain that reacts with light in the wavelength range of 250 nm to 400 nm.
The side chain type polymer (A) preferably has a mesogen group because it exhibits liquid crystallinity in a temperature range of 100 ° C. to 300 ° C.

(A)側鎖型高分子は、主鎖に感光性を有する側鎖が結合しており、光に感応して架橋反応、異性化反応、または光フリース転位を起こすことができる。感光性を有する側鎖の構造は特に限定されないが、光に感応して架橋反応、または光フリース転位を起こす構造が望ましく、架橋反応を起こすものがより望ましい。この場合、熱などの外部ストレスに曝されたとしても、実現された配向制御能を長期間安定に保持することができる。液晶性を発現し得る感光性の側鎖型高分子の構造は、そうした特性を満足するものであれば特に限定されないが、側鎖構造に剛直なメソゲン成分を有することが好ましい。この場合、該側鎖型高分子を液晶配向膜とした際に、安定な液晶配向を得ることができる。 In the side chain type polymer (A), a side chain having photosensitivity is bonded to the main chain, and a cross-linking reaction, an isomerization reaction, or a photo Fries rearrangement can occur in response to light. The structure of the side chain having photosensitivity is not particularly limited, but a structure that causes a cross-linking reaction or a photo-Fries rearrangement in response to light is desirable, and one that causes a cross-linking reaction is more desirable. In this case, even if it is exposed to external stress such as heat, the realized orientation control ability can be stably maintained for a long period of time. The structure of the photosensitive side chain polymer capable of exhibiting liquid crystallinity is not particularly limited as long as it satisfies such characteristics, but it is preferable that the side chain structure has a rigid mesogen component. In this case, stable liquid crystal alignment can be obtained when the side chain polymer is used as a liquid crystal alignment film.

該高分子の構造は、例えば、主鎖とそれに結合する側鎖を有し、その側鎖が、ビフェニル基、ターフェニル基、フェニルシクロヘキシル基、フェニルベンゾエート基、アゾベンゼン基などのメソゲン成分と、先端部に結合された、光に感応して架橋反応や異性化反応をする感光性基とを有する構造や、主鎖とそれに結合する側鎖を有し、その側鎖がメソゲン成分ともなり、かつ光フリース転位反応をするフェニルベンゾエート基を有する構造とすることができる。 The structure of the polymer has, for example, a main chain and a side chain bonded thereto, and the side chain contains a mesogen component such as a biphenyl group, a terphenyl group, a phenylcyclohexyl group, a phenylbenzoate group, and an azobenzene group, and a tip. It has a structure having a photosensitive group bonded to a portion and undergoing a cross-linking reaction or an isomerization reaction in response to light, a main chain and a side chain bonded to the main chain, and the side chain also serves as a mesogen component. The structure can have a phenylbenzoate group that undergoes a photofreeze rearrangement reaction.

液晶性を発現し得る感光性の側鎖型高分子の構造のより具体的な例としては、(メタ)アクリレート、イタコネート、フマレート、マレエート、α−メチレン−γ−ブチロラクトン、スチレン、ビニル、マレイミド、ノルボルネン等のラジカル重合性基およびシロキサンからなる群から選択される少なくとも1種から構成された主鎖と、下記式(1)から(6)の少なくとも1種からなる側鎖を有する構造であることが好ましい。 More specific examples of the structure of the photosensitive side chain polymer capable of exhibiting liquidity include (meth) acrylate, itaconate, fumarate, maleate, α-methylene-γ-butyrolactone, styrene, vinyl, maleimide, and the like. The structure has a main chain composed of at least one selected from the group consisting of radically polymerizable groups such as norbornene and siloxane, and a side chain composed of at least one of the following formulas (1) to (6). Is preferable.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

式中、A、B、Dはそれぞれ独立に、単結合、−O−、−CH−、−COO−、−OCO−、−CONH−、−NH−CO−、−CH=CH−CO−O−、又は−O−CO−CH=CH−を表す;
Sは、炭素数1〜12のアルキレン基であり、それらに結合する水素原子はハロゲン基に置き換えられていてもよい;
Tは、単結合または炭素数1〜12のアルキレン基であり、それらに結合する水素原子はハロゲン基に置き換えられていてもよい;
は、1価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環および炭素数5〜8の脂環式炭化水素から選ばれる環を表すか、それらの置換基から選ばれる同一又は相異なった2〜6の環が結合基Bを介して結合してなる基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に−COOR(式中、Rは水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表す)、−NO、−CN、−CH=C(CN)、−CH=CH−CN、ハロゲン基、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のアルキルオキシ基で置換されても良い;
は、2価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、炭素数5〜8の脂環式炭化水素、および、それらの組み合わせからなる群から選ばれる基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に−NO、−CN、−CH=C(CN)、−CH=CH−CN、ハロゲン基、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のアルキルオキシ基で置換されても良い;
Rは、ヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルコキシ基を表すか、又はYと同じ定義を表す;
Xは、単結合、−COO−、−OCO−、−N=N−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH=CH−CO−O−、又は−O−CO−CH=CH−を表し、Xの数が2となるときは、X同士は同一でも異なっていてもよい;
Couは、クマリン−6−イル基またはクマリン−7−イル基を表し、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に−NO、−CN、−CH=C(CN)、−CH=CH−CN、ハロゲン基、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のアルキルオキシ基で置換されても良い;
q1とq2は、一方が1で他方が0である;
q3は0または1である;
P及びQは、各々独立に、2価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、炭素数5〜8の脂環式炭化水素、および、それらの組み合わせからなる群から選ばれる基である;ただし、Xが−CH=CH−CO−O−、−O−CO−CH=CH−である場合、−CH=CH−が結合する側のP又はQは芳香環であり、Pの数が2以上となるときは、P同士は同一でも異なっていてもよく、Qの数が2以上となるときは、Q同士は同一でも異なっていてもよい;
l1は0または1である;
l2は0〜2の整数である;
l1とl2がともに0であるときは、Tが単結合であるときはAも単結合を表す;
l1が1であるときは、Tが単結合であるときはBも単結合を表す;
H及びIは、各々独立に、2価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、およびそれらの組み合わせから選ばれる基である。
In the formula, A, B, and D are independently single-bonded, -O-, -CH 2- , -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH = CH-CO-. Represents O- or -O-CO-CH = CH-;
S is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom bonded to them may be replaced with a halogen group;
T is a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom bonded to them may be replaced with a halogen group;
Y 1 represents a ring selected from a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring and an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, or the same or selected from their substituents. It is a group consisting of 2 to 6 different rings bonded via a bonding group B, and the hydrogen atoms bonded to them are independently −COOR 0 (in the formula, R 0 is a hydrogen atom or 1 to 1 carbon atoms). (Representing an alkyl group of 5), -NO 2 , -CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. May be substituted with an alkyloxy group;
Y 2 is a group selected from the group consisting of a divalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, and a combination thereof. The hydrogen atoms bonded to are independently -NO 2 , -CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, halogen group, alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 5 carbon atoms. May be substituted with an alkyloxy group of;
R is hydroxy group, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or represents the same definition as Y 1;
X is a single bond, -COO-, -OCO-, -N = N-, -CH = CH-, -C≡C-, -CH = CH-CO-O-, or -O-CO-CH = When CH-represents and the number of Xs is 2, the Xs may be the same or different;
Cou represents a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and the hydrogen atoms bonded to them are independently -NO 2 , -CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-. It may be substituted with CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;
One of q1 and q2 is 1 and the other is 0;
q3 is 0 or 1;
P and Q are independently selected from the group consisting of a divalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, and a combination thereof. It is a group; however, when X is -CH = CH-CO-O-, -O-CO-CH = CH-, P or Q on the side to which -CH = CH- is bonded is an aromatic ring. When the number of Ps is 2 or more, the Ps may be the same or different, and when the number of Qs is 2 or more, the Qs may be the same or different;
l1 is 0 or 1;
l2 is an integer from 0 to 2;
When both l1 and l2 are 0, A also represents a single bond when T is a single bond;
When l1 is 1, B also represents a single bond when T is a single bond;
H and I are groups independently selected from a divalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring, and a combination thereof.

側鎖は、下記式(7)〜(10)からなる群から選ばれるいずれか1種の感光性側鎖であるのがよい。
式中、A、B、D、Y、X、Y、及びRは、上記と同じ定義を有する;
lは1〜12の整数を表す;
mは、0〜2の整数を表し、m1、m2は1〜3の整数を表す;
nは0〜12の整数(ただしn=0のときBは単結合である)を表す。
The side chain is preferably any one of the photosensitive side chains selected from the group consisting of the following formulas (7) to (10).
In the formula, A, B, D, Y 1 , X, Y 2 , and R have the same definition as above;
l represents an integer from 1 to 12;
m represents an integer of 0 to 2, and m1 and m2 represent an integer of 1 to 3;
n represents an integer from 0 to 12 (where B is a single bond when n = 0).

Figure 0006932335
Figure 0006932335

側鎖は、下記式(11)〜(13)からなる群から選ばれるいずれか1種の感光性側鎖であるのがよい。
式中、A、X、l、m、m1及びRは、上記と同じ定義を有する。
The side chain is preferably any one of the photosensitive side chains selected from the group consisting of the following formulas (11) to (13).
In the formula, A, X, l, m, m1 and R have the same definitions as above.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

側鎖は、下記式(14)又は(15)で表される感光性側鎖であるのがよい。
式中、A、Y、l、m1及びm2は上記と同じ定義を有する。
The side chain is preferably a photosensitive side chain represented by the following formula (14) or (15).
In the formula, A, Y 1 , l, m1 and m2 have the same definitions as above.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

側鎖は、下記式(16)又は(17)で表される感光性側鎖であるのがよい。
式中、A、X、l及びmは、上記と同じ定義を有する。
The side chain is preferably a photosensitive side chain represented by the following formula (16) or (17).
In the formula, A, X, l and m have the same definitions as above.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

また、側鎖は、下記式(18)又は(19)で表される感光性側鎖であるのがよい。
式中、A、B、Y1、q1、q2、m1、及びm2は、上記と同じ定義を有する。
は、水素原子、−NO、−CN、−CH=C(CN)、−CH=CH−CN、ハロゲン基、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のアルキルオキシ基を表す。
The side chain is preferably a photosensitive side chain represented by the following formula (18) or (19).
In the formula, A, B, Y1, q1, q2, m1 and m2 have the same definitions as above.
R 1 is a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyl having 1 to 5 carbon atoms. Represents an oxy group.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

側鎖は、下記式(20)で表される感光性側鎖であるのがよい。
式中、A、Y、X、l及びmは上記と同じ定義を有する。
The side chain is preferably a photosensitive side chain represented by the following formula (20).
In the formula, A, Y 1 , X, l and m have the same definitions as above.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

また、(A)側鎖型高分子は、下記式(a)で表される側鎖を含有する。
式(a)中、Lは炭素数1から16の直鎖又は分岐鎖のアルキレンである。
XはCH−CH、CH=CHまたはC≡Cを表す。
は、各々独立に、ハロゲン基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基、ヒドロキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基(アルキル基は、各々独立に、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である)、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のエステル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアシル基、カルボキシル基、アルデヒド基及びニトロ基から選ばれる置換基で置換されてもよい下記式Y−1からY−6を表す(**はXとの結合位置を表し、***はYとの結合位置を表す。)。
Further, the side chain type polymer (A) contains a side chain represented by the following formula (a).
In formula (a), L is a linear or branched alkylene having 1 to 16 carbon atoms.
X represents CH 2 -CH 2 , CH = CH or C≡C.
Y 1 is independently a halogen group, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a cyano group, and a dialkylamino group. (The alkyl groups are independently linear or branched alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms), linear or branched ester groups having 1 to 10 carbon atoms, and linear chains having 1 to 10 carbon atoms. or branched-chain acyl group, a carboxyl group, a Y 1 -6 from a good formula Y 1 -1 be substituted with a substituent selected from an aldehyde group and a nitro group (** represents a bonding position to X , *** represents the coupling position with Y 2.).

は−COOH、−CR=CR−COOH、−CR=CR−CO−O−Yまたは−O−CO−CR=CR−Yを表す。
及びRは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。
及びRは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。
は、各々独立に、ハロゲン基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基、ヒドロキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基(アルキル基は、各々独立に、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である)、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のエステル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアシル基、カルボキシル基、アルデヒド基、及びニトロ基から選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、炭素数5〜8の脂環式炭化水素、フェニル‐シクロヘキシル基又はシクロヘキシル-フェニル基を表す。
Y 2 represents -COOH, -CR 3 = CR 4- COOH, -CR 5 = CR 6- CO-O-Y 3 or -O-CO-CR 5 = CR 6- Y 3 .
R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a methyl group, respectively.
R 5 and R 6 independently represent a hydrogen atom or a methyl group, respectively.
Y 3 are each independently a halogen group, a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, straight-chain or branched alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a cyano group, a dialkylamino group (The alkyl groups are independently linear or branched alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms), linear or branched ester groups having 1 to 10 carbon atoms, and linear chains having 1 to 10 carbon atoms. Alternatively, a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, phenyl- which may be substituted with a substituent selected from an acyl group, a carboxyl group, an aldehyde group and a nitro group of the branched chain. Represents a cyclohexyl group or a cyclohexyl-phenyl group.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

また、(A)側鎖型高分子は、下記式(21)〜(31)からなる群から選ばれるいずれか1種の液晶性側鎖を有するのがよい。
式中、A、B、q1及びq2は上記と同じ定義を有する;
は、1価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、窒素含有複素環、及び炭素数5〜8の脂環式炭化水素、および、それらの組み合わせからなる群から選ばれる基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に−NO、−CN、ハロゲン基、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のアルキルオキシ基で置換されても良い;
は、水素原子、−NO、−CN、−CH=C(CN)、−CH=CH−CN、ハロゲン基、1価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、窒素含有複素環、炭素数5〜8の脂環式炭化水素、炭素数1〜12のアルキル基、又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表す;
lは1〜12の整数を表し、mは0から2の整数を表し、但し、式(23)〜(24)において、全てのmの合計は2以上であり、式(25)〜(26)において、全てのmの合計は1以上であり、m1、m2およびm3は、それぞれ独立に1〜3の整数を表す;
は、水素原子、−NO、−CN、ハロゲン基、1価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、窒素含有複素環、炭素数5〜8の脂環式炭化水素、アルキル基、又はアルキルオキシ基を表す;
、Zは単結合、−CO−、−CHO−、−CH=N−、−CF−を表す。
Further, the side chain type polymer (A) preferably has any one liquid crystal side chain selected from the group consisting of the following formulas (21) to (31).
In the formula, A, B, q1 and q2 have the same definitions as above;
Y 3 is a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a nitrogen-containing heterocycle, and alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, and, with a group selected from the group consisting of Yes, the hydrogen atoms attached to them may be independently substituted with -NO 2 , -CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;
R 3 contains a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen group, a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, and nitrogen. Represents a heterocycle, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms;
l represents an integer of 1 to 12, m represents an integer of 0 to 2, but in equations (23) to (24), the sum of all m is 2 or more, and equations (25) to (26). ), The sum of all m is 1 or more, and m1, m2, and m3 independently represent integers 1 to 3;
R 2 is a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, halogen group, monovalent benzene ring, naphthalene ring, biphenyl ring, furan ring, nitrogen-containing heterocycle, alicyclic hydrocarbon with 5 to 8 carbon atoms, alkyl. Represents a group or alkyloxy group;
Z 1 and Z 2 represent a single bond, -CO-, -CH 2 O-, -CH = N-, -CF 2- .

Figure 0006932335
Figure 0006932335

<<感光性の側鎖型高分子の製法>>
上記の液晶性を発現し得る感光性の側鎖型高分子は、上記の感光性側鎖を有する光反応性側鎖モノマーおよび液晶性側鎖モノマーを重合することによって得ることができる。
<< Manufacturing method of photosensitive side chain polymer >>
The photosensitive side chain polymer capable of exhibiting the liquidity can be obtained by polymerizing the photoreactive side chain monomer having the photosensitive side chain and the liquid crystal side chain monomer.

[光反応性側鎖モノマー]
光反応性側鎖モノマーとは、高分子を形成した場合に、高分子の側鎖部位に感光性側鎖を有する高分子を形成することができるモノマーのことである。
側鎖の有する光反応性基としては下記の構造およびその誘導体が好ましい。
[Photoreactive side chain monomer]
The photoreactive side chain monomer is a monomer capable of forming a polymer having a photosensitive side chain at a side chain portion of the polymer when the polymer is formed.
As the photoreactive group of the side chain, the following structure and its derivative are preferable.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

光反応性側鎖モノマーのより具体的な例としては、(メタ)アクリレート、イタコネート、フマレート、マレエート、α−メチレン−γ−ブチロラクトン、スチレン、ビニル、マレイミド、ノルボルネン等のラジカル重合性基およびシロキサンからなる群から選択される少なくとも1種から構成された重合性基と、上記式(1)〜(6)の少なくとも1種からなる感光性側鎖、好ましくは、例えば、上記式(7)〜(10)の少なくとも1種からなる感光性側鎖、上記式(11)〜(13)の少なくとも1種からなる感光性側鎖、上記式(14)又は(15)で表される感光性側鎖、上記式(16)又は(17)で表される感光性側鎖、上記式(18)又は(19)で表される感光性側鎖、上記式(20)で表される感光性側鎖を有する構造であることが好ましい。 More specific examples of photoreactive side chain monomers include from radically polymerizable groups such as (meth) acrylate, itaconate, fumarate, maleate, α-methylene-γ-butyrolactone, styrene, vinyl, maleimide, norbornene and siloxane. A polymerizable group composed of at least one selected from the above group and a photosensitive side chain composed of at least one of the above formulas (1) to (6), preferably, for example, the above formulas (7) to (6). A photosensitive side chain consisting of at least one of the above formulas (11) to (13), a photosensitive side chain consisting of at least one of the above formulas (14) or (15), and a photosensitive side chain represented by the above formula (14) or (15). , The photosensitive side chain represented by the above formula (16) or (17), the photosensitive side chain represented by the above formula (18) or (19), and the photosensitive side chain represented by the above formula (20). It is preferable that the structure has.

[式(a)で表される構造単位を有するモノマー]
式(a)で表される構造単位を有するモノマーとしては、下記式(am1)で表される化合物が挙げられる。
式(am1)中、PLは重合可能な基であり、下記式PL−1〜PL−5からなる群から選ばれる重合性基を表す。式PL−1〜PL−5中、R及びR、Rは、水素原子、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、又はハロゲンで置換された炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を表す(*は、Lとの結合位置を表す)。
[Monomer having a structural unit represented by the formula (a)]
Examples of the monomer having a structural unit represented by the formula (a) include a compound represented by the following formula (am1).
In the formula (am1), PL is a polymerizable group and represents a polymerizable group selected from the group consisting of the following formulas PL-1 to PL-5. In the formula PL-1~PL-5, R 1 and R 2, R 3 is a hydrogen atom, a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or has been in the 1 to 10 carbon atoms substituted by halogen It represents a linear or branched alkyl group (* represents the bonding position with L).

Figure 0006932335
Figure 0006932335

Lは炭素数1から16の直鎖又は分岐鎖のアルキレンである。
XはCH−CH、CH=CHまたはC≡Cを表す。
は、各々独立に、ハロゲン基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基、ヒドロキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基(アルキル基は、各々独立に、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である)、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のエステル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアシル基、カルボキシル基、アルデヒド基及びニトロ基から選ばれる置換基で置換されてもよい下記式Y−1からY−6を表す(**はXとの結合位置を表し、***はYとの結合位置を表す。)。
L is a linear or branched alkylene having 1 to 16 carbon atoms.
X represents CH 2 -CH 2 , CH = CH or C≡C.
Y 1 is independently a halogen group, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a cyano group, and a dialkylamino group. (The alkyl groups are independently linear or branched alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms), linear or branched ester groups having 1 to 10 carbon atoms, and linear chains having 1 to 10 carbon atoms. or branched-chain acyl group, a carboxyl group, a Y 1 -6 from a good formula Y 1 -1 be substituted with a substituent selected from an aldehyde group and a nitro group (** represents a bonding position to X , *** represents the coupling position with Y 2.).

Figure 0006932335
Figure 0006932335

は−COOH、−CR=CR−COOH、−CR=CR−CO−O−Yまたは−O−CO−CR=CR−Yを表す。
及びRは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。
及びRは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。
は、各々独立に、ハロゲン基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基、ヒドロキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基(アルキル基は、各々独立に、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である)、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のエステル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアシル基、カルボキシル基、アルデヒド基、及びニトロ基から選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、炭素数5〜8の脂環式炭化水素、フェニル‐シクロヘキシル基又はシクロヘキシル-フェニル基を表す。
Y 2 represents -COOH, -CR 3 = CR 4- COOH, -CR 5 = CR 6- CO-O-Y 3 or -O-CO-CR 5 = CR 6- Y 3 .
R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a methyl group, respectively.
R 5 and R 6 independently represent a hydrogen atom or a methyl group, respectively.
Y 3 are each independently a halogen group, a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, straight-chain or branched alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a cyano group, a dialkylamino group (The alkyl groups are independently linear or branched alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms), linear or branched ester groups having 1 to 10 carbon atoms, and linear chains having 1 to 10 carbon atoms. Alternatively, a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, phenyl- which may be substituted with a substituent selected from an acyl group, a carboxyl group, an aldehyde group and a nitro group of the branched chain. Represents a cyclohexyl group or a cyclohexyl-phenyl group.

<<モノマーam1の製造方法>>
[三重結合を有する末端カルボン酸モノマーの製造]
三重結合を有する末端カルボン酸型モノマー(am1)の具体例としては、下記式(I−1)から(I−6)が挙げられる。
<< Manufacturing method of monomer am1 >>
[Manufacture of terminal carboxylic acid monomer having triple bond]
Specific examples of the terminal carboxylic acid type monomer (am1) having a triple bond include the following formulas (I-1) to (I-6).

Figure 0006932335
Figure 0006932335

式中、Qは炭素数1から16の直鎖のアルキレン基である。Rは水素もしくはメチル基を表す。In the formula, Q 1 is a linear alkylene group having 1 to 16 carbon atoms. R 1 represents a hydrogen or methyl group.

これらモノマーは、次のようにして製造される。すなわち、適当なハロゲン化アリール誘導体am1−1と、末端に三重結合を有するアルコールam1−2とを、金属錯体、配位子、及び塩基の共存下に、薗頭反応などのカップリング反応を行うことにより、am1−3が製造される。次に、得られたam1−3のエステル基を加水分解して、am1−4を製造する。最後に、am1−4を、塩化アクリルまたは塩化メタクリルと反応させ、酸加水分解することにより、三重結合を有するモノマー(I−1)から(I〜6)を製造することができる。 These monomers are produced as follows. That is, an appropriate aryl halide derivative am1-1 and an alcohol am1-2 having a triple bond at the terminal are subjected to a coupling reaction such as a sonogashira reaction in the coexistence of a metal complex, a ligand, and a base. As a result, am1-3 is manufactured. Next, the obtained ester group of am1-3 is hydrolyzed to produce am1-4. Finally, am1-4 is reacted with acrylic chloride or methacrylic chloride and acid hydrolyzed to produce (I-6) from the monomer (I-1) having a triple bond.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

式中、Qは炭素数1から16の直鎖のアルキレン基である。Rは水素もしくはメチル基を表す。Arは式(am1)の(Y−1)〜(Y−6)を表す。Halは、脱離能力のある置換基であり、例えば、F、 Cl、 Br、 Iのハロゲン;p-トルエンスルホン酸エステル基(−OSO−p−CH)、メタンスルホン酸エステル基(−OSOCH)、トリフルオロメタンスルホン酸エステル基(−OSOCF)などのスルホン酸エステル基などが用いられる。なかでも、反応性の点から、Br、 I、又は トリフルオロメタンスルホン酸エステル基が好ましい。Rはアルキレン基であり、メチル基やエチル基が好ましい。In the formula, Q 1 is a linear alkylene group having 1 to 16 carbon atoms. R 1 represents a hydrogen or methyl group. Ar represents (Y 1 -1) ~ (Y 1 -6) of formula (am1). Hal is a substituent capable of desorption, for example, halogens of F, Cl, Br, I; p-toluene sulfonic acid ester group (-OSO 2 C 6 H 4- p-CH 3 ), methane sulfonic acid. Sulfonic acid ester groups such as an ester group (-OSO 2 CH 3 ) and a trifluoromethanesulfonic acid ester group (-OSO 2 CF 3) are used. Of these, Br, I, or a trifluoromethanesulfonic acid ester group is preferable from the viewpoint of reactivity. R is an alkylene group, preferably a methyl group or an ethyl group.

化合物am1−1の具体的な構造としては、(am1−1−1)〜(am1−1−6)が挙げられる。 Specific structures of the compound am1-1 include (am1-1-1) to (am1-1-6).

Figure 0006932335
Figure 0006932335

(am1−1−1)〜(am1−1−3)は、試薬会社から購入することができる。
(am1−1−4)は、特許文献(WO 2010071335)を参考にすることで合成できる。
(am1−1−5)は、文献(Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters, 18(15),4339-4343; 2008)から合成することができる(am1−1−5a)とトリフルオロメタンスルホン酸無水物を反応させることにより得ることができる。
(Am1-1-1) to (am1-1-3) can be purchased from a reagent company.
(Am1-1-4) can be synthesized by referring to the patent document (WO 2010071335).
(Am1-1-5) can be synthesized from the literature (Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters, 18 (15), 4339-4343; 2008) and reacts with trifluoromethanesulfonic anhydride (am1-1-5a). It can be obtained by letting it.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

(am1−1−6)は、特許文献(PCT Int. Appl., 2014113485)から合成することができる(am1−1−6a)とトリフルオロメタンスルホン酸無水物を反応させることにより得ることができる。 (Am1-1-6) can be synthesized from the patent document (PCT Int. Appl., 2014113485) and can be obtained by reacting (am1-1-6a) with trifluoromethanesulfonic anhydride.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

am1−1とam1−2との反応においては、適当な金属錯体と配位子を用いて金属錯体触媒を形成し、使用する。通常、金属錯体としては、パラジウム錯体やニッケル錯体が使用され、反応によっては、銅触媒を助触媒として共存させることが好ましい。
金属錯体触媒としては、種々の構造のものを用いることができるが、いわゆる低原子価のパラジウム錯体又はニッケル錯体を用いることが好ましく、特に3級ホスフィンや3級ホスファイトを配位子とするゼロ価金属錯体触媒が好ましい。また、反応系中で容易にゼロ価金属錯体触媒に変換される適当な前駆体を用いることもできる。さらに、反応系中で、3級ホスフィンや3級ホスファイトを配位子として含まない金属錯体と、配位子である3級ホスフィンや3級ホスファイトとを混合し、3級ホスフィンや3級ホスファイトを配位子とする低原子価金属錯体触媒を生成させることもできる。
In the reaction between am1-1 and am1-2, a metal complex catalyst is formed and used by using an appropriate metal complex and a ligand. Usually, a palladium complex or a nickel complex is used as the metal complex, and it is preferable that a copper catalyst coexists as a co-catalyst depending on the reaction.
As the metal complex catalyst, those having various structures can be used, but it is preferable to use a so-called low valence palladium complex or nickel complex, and in particular, zero having a tertiary phosphine or a tertiary phosphite as a ligand. Valence metal complex catalysts are preferred. It is also possible to use an appropriate precursor that is easily converted into a zero-valent metal complex catalyst in the reaction system. Further, in the reaction system, a metal complex that does not contain tertiary phosphine or tertiary phosphine as a ligand is mixed with a ligand tertiary phosphine or tertiary phosphite, and tertiary phosphine or tertiary phosphine is mixed. It is also possible to generate a low valence metal complex catalyst using phosphite as a ligand.

配位子である3級ホスフィン又は3級ホスファイトとしては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリ-o-トリルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、フェニルジメチルホスフィン、1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト等が挙げられる。これらの配位子の2種以上を混合して含む金属錯体触媒も好適に用いられる。 Examples of the tertiary phosphine or tertiary phosphine that is a ligand include triphenylphosphine, tri-o-tolylphosphine, diphenylmethylphosphine, phenyldimethylphosphine, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane, 1 , 3-Bis (diphenylphosphino) propane, 1,4-bis (diphenylphosphino) butane, 1,1'-bis (diphenylphosphino) ferrocene, trimethylphosphite, triethylphosphite, triphenylphosphine, etc. Can be mentioned. A metal complex catalyst containing a mixture of two or more of these ligands is also preferably used.

金属錯体触媒として、3級ホスフィンや3級ホスファイトを含まないパラジウム錯体と、3級ホスフィン又は3級ホスファイトを含む金属錯体とを組み合わせて用いることも好ましい。この場合、上記配位子をさらに組み合わせてもよい。3級ホスフィンや3級ホスファイトを含まないパラジウム錯体としては、ビス(ベンジリデンアセトン)パラジウム、トリス(ベンジリデンアセトン)ジパラジウム、ビス(アセトニトリル)ジクロロパラジウム、ビス(ベンゾニトリル)ジクロロパラジウム、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、パラジウム−活性炭等が挙げられる。また、3級ホスフィンや3級ホスファイトを配位子として含むパラジウム錯体としては、(エチレン)ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)ジクロロパラジウム等が挙げられる。
これらパラジウム錯体の使用量は、いわゆる触媒量で良く、好ましくは、化合物am1−1に対して20モル%以下であり、特に好ましくは10モル%以下である。同時に助触媒として使用される銅触媒は1価のものが好ましく、例えば、塩化銅(I)、臭化銅(I)、ヨウ化銅(I)、酢酸銅(I)などが挙げられる。
As the metal complex catalyst, it is also preferable to use a palladium complex containing no tertiary phosphine or tertiary phosphine in combination with a metal complex containing tertiary phosphine or tertiary phosphite. In this case, the above ligands may be further combined. Examples of palladium complexes that do not contain tertiary phosphine or tertiary phosphite include bis (benzylideneacetone) palladium, tris (benzylideneacetone) dipalladium, bis (acetoform) dichloropalladium, bis (benzonitrile) dichloropalladium, palladium acetate, and chloride. Palladium, palladium-activated coal and the like can be mentioned. Examples of the palladium complex containing tertiary phosphine or tertiary phosphine as a ligand include (ethylene) bis (triphenylphosphine) palladium, tetrakis (triphenylphosphine) palladium, and bis (triphenylphosphine) dichloropalladium. Can be mentioned.
The amount of these palladium complexes used may be a so-called catalytic amount, preferably 20 mol% or less, particularly preferably 10 mol% or less, based on the compound am1-1. At the same time, the copper catalyst used as a co-catalyst is preferably monovalent, and examples thereof include copper (I) chloride, copper (I) bromide, copper (I) iodide, and copper (I) acetate.

塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、燐酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウムなどの無機塩基;メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、イミダゾール、キノリン、コリジン、ピロリジン、ピペリジン、モルフォリン、N−メチルモルフォリンなどのアミン;酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウムなどが使用できる。 Bases include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, potassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium carbonate, cesium carbonate; methylamine, dimethylamine, trimethylamine. , Ethylamine, diethylamine, triethylamine, propylamine, dipropylamine, tripropylamine, isopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, butylamine, dibutylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, imidazole, quinoline, colisine, pyrrolidine, piperidine , Morphorin, amines such as N-methylmorpholin; sodium acetate, potassium acetate, lithium acetate and the like can be used.

反応溶媒としては、当該反応条件下において安定であって、不活性で、反応を妨げないものであればいずれも使用できる。反応溶媒として、水、アルコール類、アミン類、非プロトン性極性有機溶媒(DMF(ジメチルホルムアミド)、DMSO(ジメチルスルホキシド)、DMAc(ジメチルアセトアミド)、NMP(N−メチルピロリドン)など)、エーテル類(EtO、i−PrO、TBME、CPME、THF、ジオキサンなど)、脂肪族炭化水素類(ペンタン、へキサン、ヘプタン、石油エーテルなど)、芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラリンなど)、ハロゲン系炭化水素類(クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタンなど)、低級脂肪酸エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチルなど)、ニトリル類(アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリルなど)などが使用できる。これらの溶媒は、反応の起こり易さなどを考慮して適宜選択することができ、1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。また場合によっては、上記溶媒は、適当な脱水剤や乾燥剤を用いて水を含有しない溶媒として用いることもできる。As the reaction solvent, any solvent that is stable under the reaction conditions, is inert, and does not interfere with the reaction can be used. As reaction solvents, water, alcohols, amines, aprotic polar organic solvents (DMF (dimethylformamide), DMSO (dimethylsulfoxide), DMAc (dimethylacetamide), NMP (N-methylpyrrolidone), etc.), ethers ( Et 2 O, i-Pr 2 O, TBME, CPME, THF, dioxane, etc.), aliphatic hydrocarbons (pentane, hexane, heptane, petroleum ether, etc.), aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, etc.) Mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, nitrobenzene, tetralin, etc.), halogen-based hydrocarbons (chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, dichloroethane, etc.), lower fatty acid esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, etc.) , Solvents (acetamide, propionitrile, butyronitrile, etc.) and the like can be used. These solvents can be appropriately selected in consideration of the susceptibility of the reaction and the like, and can be used alone or in combination of two or more. In some cases, the solvent can also be used as a water-free solvent by using an appropriate dehydrating agent or desiccant.

反応温度は、好ましくは、−100 ℃以上から使用する反応溶媒の沸点の温度までの温度範囲を選ぶことができるが、より好ましくは、−50〜200℃、特に好ましくは20〜150℃である。反応時間は、0.1〜1000時間、より好ましくは0.5〜100時間である。
上記反応により得られた化合物am1−3は、蒸留、再結晶、又はシリカゲルなどのカラムクロマトグラフィーなどで精製するのが好ましい。なお、再結晶はできるだけ低温で行うのが好ましい。
The reaction temperature can preferably be in the temperature range from −100 ° C. or higher to the boiling point temperature of the reaction solvent used, but more preferably −50 to 200 ° C., and particularly preferably 20 to 150 ° C. .. The reaction time is 0.1 to 1000 hours, more preferably 0.5 to 100 hours.
The compound am1-3 obtained by the above reaction is preferably purified by distillation, recrystallization, column chromatography such as silica gel, or the like. It is preferable that recrystallization is performed at a low temperature as much as possible.

次に、得られたエステル(am1−3)を公知の方法で加水分解してカルボン酸(am1−4)に変換する。続いて、トリエチルアミンなどの塩基存在下、塩化アクリル又は塩化メタクリルと反応させた後、アセトニトリルと塩酸混合溶液中で加水分解する事により(I−1)から(I−6)を得ることができる。 Next, the obtained ester (am1-3) is hydrolyzed by a known method to convert it into a carboxylic acid (am1-4). Subsequently, (I-1) to (I-6) can be obtained by reacting with acrylic chloride or methacrylic chloride in the presence of a base such as triethylamine, and then hydrolyzing in a mixed solution of acetonitrile and hydrochloric acid.

[単結合を有する末端カルボン酸型モノマーの製造]
単結合を有する末端カルボン酸型モノマー(am1)の具体例としては、下記式(II−1)から(II−6)が挙げられる。
[Manufacture of terminal carboxylic acid type monomer having a single bond]
Specific examples of the terminal carboxylic acid type monomer (am1) having a single bond include the following formulas (II-1) to (II-6).

Figure 0006932335
Figure 0006932335

式中、Qは炭素数1から16の直鎖のアルキレン基である。Rは水素もしくはメチル基を表す。)
式(am1)中、Xが−CH−CH−である化合物am1を製造する際には、化合物am1−4を還元してから、塩化アクリル又は塩化メタクリルと反応させた後に酸加水分解すればよい。
In the formula, Q 1 is a linear alkylene group having 1 to 16 carbon atoms. R 1 represents a hydrogen or methyl group. )
Wherein (am1), X is -CH 2 -CH 2 - in the production of compounds wherein am1 from reducing the compound Am1-4, by acid hydrolysis after the reaction with acryloyl chloride or methacrylic chloride Just do it.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

式中、Qは炭素数1から16の直鎖のアルキレン基である。Rは水素もしくはメチル基を表す。Arは式(am1)の(Y−1)〜(Y−6)を表す。In the formula, Q 1 is a linear alkylene group having 1 to 16 carbon atoms. R 1 represents a hydrogen or methyl group. Ar represents (Y 1 -1) ~ (Y 1 -6) of formula (am1).

化合物am1−4の還元の方法としては、触媒として、パラジウム−活性炭や白金−活性炭などを利用する水素添加反応、Fe、Sn、Znやこれらの塩とプロトンの共存下で行う還元反応、蟻酸を水素源とする還元反応、ヒドラジンを水素源とする反応などがある。また、これらの反応を組み合わせて実施することもできる。
上記に例示の還元反応のうち、基質である化合物am1−4の構造と還元反応の反応性を考慮すると、水素添加反応の使用が好ましい。
使用する触媒としては、市販品として入手できる活性炭担持金属、例えば、パラジウム−活性炭、白金−活性炭、ロジウム−活性炭などがある。また、水酸化パラジウム、酸化白金、ラネーニッケルなど必ずしも活性炭担持型の金属触媒でなくてもよい。一般的に広く使用されているパラジウム−活性炭の使用でも良好な結果が得られる。
As a method for reducing the compound am1-4, a hydrogenation reaction using palladium-activated charcoal, platinum-activated charcoal or the like, a reduction reaction carried out in the coexistence of Fe, Sn, Zn or these salts and protons, and formic acid are used as catalysts. There are reduction reactions using a hydrogen source and reactions using hydrazine as a hydrogen source. It is also possible to carry out these reactions in combination.
Among the reduction reactions exemplified above, the hydrogenation reaction is preferably used in consideration of the structure of the substrate compound am1-4 and the reactivity of the reduction reaction.
Examples of the catalyst used include commercially available activated carbon-supported metals such as palladium-activated carbon, platinum-activated carbon, and rhodium-activated carbon. Further, it does not necessarily have to be an activated carbon-supported metal catalyst such as palladium hydroxide, platinum oxide, and Raney nickel. Good results are also obtained with the use of the commonly widely used palladium-activated carbon.

反応溶媒としては、反応条件下において安定であり、不活性で、目的とする反応を妨げない溶媒であればいずれも使用できる。例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセテート、N-メチルピロリドンなどの非プロトン性極性有機溶媒;ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、THF、TBME、CPME、ジオキサンなどのエーテル;ペンタン、へキサン、ヘプタン、石油エーテルなどの脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラリンなどの芳香族炭化水素、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチルなどの低級脂肪酸エステル;アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリルなどのニトリル;メタノール、エタノール、2−プロパノールなどのアルコールが使用できる。
これらの溶媒は、反応の起こり易さなどを考慮して適宜選択することができ、1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。また場合によっては、上記溶媒は、適当な脱水剤や乾燥剤を用いて水を含有しない溶媒として用いることもできる。
As the reaction solvent, any solvent that is stable under the reaction conditions, is inert, and does not interfere with the desired reaction can be used. For example, aprotic polar organic solvents such as dimethylformamide, dimethylsulfoxide, dimethylacetate, N-methylpyrrolidone; ethers such as diethyl ether, isopropyl ether, THF, TBME, CPME, dioxane; pentane, hexane, heptane, petroleum ether. Aliper hydrocarbons such as; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, mesityrene, chlorobenzene, dichlorobenzene, nitrobenzene, tetralin, halogen-based hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, dichloroethane; methyl acetate, acetate Lower fatty acid esters such as ethyl, butyl acetate and methyl propionate; nitriles such as acetonitrile, propionitrile and butyronitrile; alcohols such as methanol, ethanol and 2-propanol can be used.
These solvents can be appropriately selected in consideration of the susceptibility to reaction and the like, and can be used alone or in combination of two or more. In some cases, the solvent can also be used as a water-free solvent by using an appropriate dehydrating agent or desiccant.

上記の還元反応をより効果的に進行させるため、活性炭の共存下で反応を実施することもできる。この場合に使用する活性炭の量は特に限定されないが、化合物am1−4に対して1〜20重量%、より好ましくは1〜10重量%である。
さらに、反応をより効果的に進行させるため、加圧下で反応を実施することもできる。この場合、ベンゼン核の還元を避けるため、好ましくは20気圧(kgf)程度の加圧範囲、より好ましくは10気圧までの範囲で反応を実施する。
反応温度は、好ましくは、−100 ℃以上から使用する反応溶媒の沸点の温度までの温度範囲を選ぶことができるが、より好ましくは、−50〜150 ℃、特に好ましくは0〜80℃である。反応時間は、0.1〜1000時間、より好ましくは1〜200時間である。
上記還元反応により得られた化合物am1−5は、蒸留、再結晶、又はシリカゲルなどのカラムクロマトグラフィーなどで精製するのが好ましい。
In order to allow the above reduction reaction to proceed more effectively, the reaction can also be carried out in the coexistence of activated carbon. The amount of activated carbon used in this case is not particularly limited, but is 1 to 20% by weight, more preferably 1 to 10% by weight, based on the compound am1-4.
In addition, the reaction can be carried out under pressure to allow the reaction to proceed more effectively. In this case, in order to avoid reduction of benzene nuclei, the reaction is preferably carried out in a pressure range of about 20 atm (kgf), more preferably up to 10 atm.
The reaction temperature can preferably be in the temperature range from −100 ° C. or higher to the boiling point temperature of the reaction solvent used, but more preferably −50 to 150 ° C., and particularly preferably 0 to 80 ° C. .. The reaction time is 0.1 to 1000 hours, more preferably 1 to 200 hours.
The compound am1-5 obtained by the above reduction reaction is preferably purified by distillation, recrystallization, column chromatography such as silica gel, or the like.

得られた化合物am1−5を、塩化アクリル又は塩化メタクリルと反応させた後、アセトニトリルと塩酸混合溶液中で加水分解する事で、Xが−CH−CH−である化合物(II−1)から(II−6)を製造することができる。The obtained compound am1-5 is reacted with acrylic chloride or methacrylic chloride and then hydrolyzed in a mixed solution of acetonitrile and hydrochloric acid to obtain a compound (II-1) in which X is −CH 2- CH 2-. (II-6) can be produced from.

[三重結合を有する桂皮酸・桂皮酸エステル型モノマーの製造]
三重結合を有する桂皮酸・桂皮酸エステル型モノマー(am1)の具体例としては、下記式(III−1)から(III−7)が挙げられる。
[Manufacture of cinnamic acid / cinnamic acid ester type monomer having triple bond]
Specific examples of the cinnamic acid / cinnamic acid ester type monomer (am1) having a triple bond include the following formulas (III-1) to (III-7).

Figure 0006932335
Figure 0006932335

式中、Qは炭素数1から16の直鎖のアルキレン基である。Rは水素もしくはメチル基を表す。In the formula, Q 1 is a linear alkylene group having 1 to 16 carbon atoms. R 1 represents a hydrogen or methyl group.

これらモノマーは、次のようにして製造される。すなわち、適当なハロゲン化アリール誘導体am1−6と、末端に三重結合を有するアルコールam1−2とを、金属錯体、配位子、及び塩基の共存下に、薗頭反応などのカップリング反応を行うことにより、am1−7が製造される。
次に、得られたam1−7とアクリル酸 tert-ブチル(am1−8)を、金属錯体、配位子、及び塩基の共存下に、Heck反応などのカップリング反応を行うことにより、am1−9が製造される。
最後に、得られたam1−9を、塩化アクリルまたは塩化メタクリルと反応させ、酸加水分解することにより、三重結合を有するモノマー(III−1)から(III−5)を製造することができる。
These monomers are produced as follows. That is, an appropriate aryl halide derivative am1-6 and an alcohol am1-2 having a triple bond at the terminal are subjected to a coupling reaction such as a sonogashira reaction in the coexistence of a metal complex, a ligand, and a base. As a result, am1-7 is manufactured.
Next, the obtained am1-7 and tert-butyl acrylate (am1-8) are subjected to a coupling reaction such as a Heck reaction in the coexistence of a metal complex, a ligand, and a base to cause am1-. 9 is manufactured.
Finally, the obtained am1-9 is reacted with acrylic chloride or methacrylic chloride and acid hydrolyzed to produce (III-5) from the monomer (III-1) having a triple bond.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

式中、Qは炭素数1から16の直鎖のアルキレン基である。Rは水素もしくはメチル基を表す。Arは式(am1)の(Y−1)〜(Y−6)を表す。Hal1及びHal2は、脱離能力のある置換基であり、例えば、F、 Cl、 Br、 Iのハロゲン;p-トルエンスルホン酸エステル基(−OSO−p−CH)、メタンスルホン酸エステル基(−OSOCH)、トリフルオロメタンスルホン酸エステル基(−OSOCF)などのスルホン酸エステル基などが用いられる。なかでも、反応性の点から、Br、 I、又は トリフルオロメタンスルホン酸エステル基が好ましい。In the formula, Q 1 is a linear alkylene group having 1 to 16 carbon atoms. R 1 represents a hydrogen or methyl group. Ar represents (Y 1 -1) ~ (Y 1 -6) of formula (am1). Hal1 and Hal2 are substituents capable of elimination, for example, halogens of F, Cl, Br, I; p-toluenesulfonic acid ester group (-OSO 2 C 6 H 4- p-CH 3 ), methane. Sulfonic acid ester groups such as a sulfonic acid ester group (-OSO 2 CH 3 ) and a trifluoromethane sulfonic acid ester group (-OSO 2 CF 3 ) are used. Of these, Br, I, or a trifluoromethanesulfonic acid ester group is preferable from the viewpoint of reactivity.

化合物am1−6の具体的構造としては、(am1−6−1)〜(am1−6−5)が挙げられる。 Specific structures of the compound am1-6 include (am1-6-1) to (am1-6-5).

Figure 0006932335
Figure 0006932335

(am1−6−1)〜(am1−6−3)は、試薬会社から購入することができる。
(am1−6−4)は、特許文献(特開2015-078153)から合成することができる(am1−6−4a)とトリフルオロメタンスルホン酸無水物を反応させることにより得ることができる。
(Am1-6-1) to (am1-6-3) can be purchased from reagent companies.
(Am1-6-4) can be synthesized from Patent Document (Japanese Patent Laid-Open No. 2015-078153) and can be obtained by reacting (am1-6-4a) with trifluoromethanesulfonic anhydride.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

(am1−6−5)は、特許文献(特開2015-078153)から合成することができる(am1−6−5a)とトリフルオロメタンスルホン酸無水物を反応させることにより得ることができる。 (Am1-6-5) can be synthesized from Patent Document (Japanese Patent Laid-Open No. 2015-078153) and can be obtained by reacting (am1-6-5a) with trifluoromethanesulfonic anhydride.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

am1−7は、am1−6を原料として、am1−3合成法と同じ方法で製造することができる。 am1-7 can be produced by the same method as the am1-3 synthesis method using am1-6 as a raw material.

am1−7とアクリル酸 tert-ブチル(am1−8)との反応においては、適当な金属錯体と配位子を用いて金属錯体触媒を形成し、使用する。通常、金属錯体としては、パラジウム錯体やニッケル錯体が使用される。
金属錯体触媒としては、種々の構造のものを用いることができるが、いわゆる低原子価のパラジウム錯体又はニッケル錯体を用いることが好ましく、特に3級ホスフィンや3級ホスファイトを配位子とするゼロ価金属錯体触媒が好ましい。また、反応系中で容易にゼロ価金属錯体触媒に変換される適当な前駆体を用いることもできる。さらに、反応系中で、3級ホスフィンや3級ホスファイトを配位子として含まない金属錯体と、配位子である3級ホスフィンや3級ホスファイトとを混合し、3級ホスフィンや3級ホスファイトを配位子とする低原子価金属錯体触媒を生成させることもできる。
In the reaction of am1-7 with tert-butyl acrylate (am1-8), a metal complex catalyst is formed and used using an appropriate metal complex and ligand. Usually, as the metal complex, a palladium complex or a nickel complex is used.
As the metal complex catalyst, those having various structures can be used, but it is preferable to use a so-called low valence palladium complex or nickel complex, and in particular, zero having a tertiary phosphine or a tertiary phosphite as a ligand. Valence metal complex catalysts are preferred. It is also possible to use an appropriate precursor that is easily converted into a zero-valent metal complex catalyst in the reaction system. Further, in the reaction system, a metal complex that does not contain tertiary phosphine or tertiary phosphine as a ligand is mixed with a ligand tertiary phosphine or tertiary phosphite, and tertiary phosphine or tertiary phosphine is mixed. It is also possible to generate a low valence metal complex catalyst using phosphite as a ligand.

配位子である3級ホスフィン又は3級ホスファイトとしては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリ-o-トリルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、フェニルジメチルホスフィン、1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト等が挙げられる。これらの配位子の2種以上を混合して含む金属錯体触媒も好適に用いられる。 Examples of the tertiary phosphine or tertiary phosphine that is a ligand include triphenylphosphine, tri-o-tolylphosphine, diphenylmethylphosphine, phenyldimethylphosphine, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane, 1 , 3-Bis (diphenylphosphino) propane, 1,4-bis (diphenylphosphino) butane, 1,1'-bis (diphenylphosphino) ferrocene, trimethylphosphite, triethylphosphite, triphenylphosphine, etc. Can be mentioned. A metal complex catalyst containing a mixture of two or more of these ligands is also preferably used.

金属錯体触媒として、3級ホスフィンや3級ホスファイトを含まないパラジウム錯体と、3級ホスフィン又は3級ホスファイトを含む金属錯体とを組み合わせて用いることも好ましい。この場合、上記配位子をさらに組み合わせてもよい。3級ホスフィンや3級ホスファイトを含まないパラジウム錯体としては、ビス(ベンジリデンアセトン)パラジウム、トリス(ベンジリデンアセトン)ジパラジウム、ビス(アセトニトリル)ジクロロパラジウム、ビス(ベンゾニトリル)ジクロロパラジウム、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、パラジウム−活性炭等が挙げられる。また、3級ホスフィンや3級ホスファイトを配位子として含むパラジウム錯体としては、(エチレン)ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)ジクロロパラジウム等が挙げられる。
これらパラジウム錯体の使用量は、いわゆる触媒量で良く、好ましくは、化合物am1−1に対して20モル%以下であり、特に好ましくは10モル%以下である。
As the metal complex catalyst, it is also preferable to use a palladium complex containing no tertiary phosphine or tertiary phosphine in combination with a metal complex containing tertiary phosphine or tertiary phosphite. In this case, the above ligands may be further combined. Examples of palladium complexes that do not contain tertiary phosphine or tertiary phosphite include bis (benzylideneacetone) palladium, tris (benzylideneacetone) dipalladium, bis (acetoform) dichloropalladium, bis (benzonitrile) dichloropalladium, palladium acetate, and chloride. Palladium, palladium-activated coal and the like can be mentioned. Examples of the palladium complex containing tertiary phosphine or tertiary phosphine as a ligand include (ethylene) bis (triphenylphosphine) palladium, tetrakis (triphenylphosphine) palladium, and bis (triphenylphosphine) dichloropalladium. Can be mentioned.
The amount of these palladium complexes used may be a so-called catalytic amount, preferably 20 mol% or less, particularly preferably 10 mol% or less, based on the compound am1-1.

塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、燐酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウムなどの無機塩基;メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、イミダゾール、キノリン、コリジン、ピロリジン、ピペリジン、モルフォリン、N−メチルモルフォリンなどのアミン;酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウムなどが使用できる。 Bases include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, potassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium carbonate, cesium carbonate; methylamine, dimethylamine, trimethylamine. , Ethylamine, diethylamine, triethylamine, propylamine, dipropylamine, tripropylamine, isopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, butylamine, dibutylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, imidazole, quinoline, colisine, pyrrolidine, piperidine , Amines such as morpholin, N-methylmorpholin; sodium acetate, potassium acetate, lithium acetate and the like can be used.

反応溶媒としては、当該反応条件下において安定であって、不活性で、反応を妨げないものであればいずれも使用できる。反応溶媒として、水、アルコール類、アミン類、非プロトン性極性有機溶媒(DMF(ジメチルホルムアミド)、DMSO(ジメチルスルホキシド)、DMAc(ジメチルアセトアミド)、NMP(N−メチルピロリドン)など)、エーテル類(EtO、i−PrO、TBME、CPME、THF、ジオキサンなど)、脂肪族炭化水素類(ペンタン、へキサン、ヘプタン、石油エーテルなど)、芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラリンなど)、ハロゲン系炭化水素類(クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタンなど)、低級脂肪酸エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチルなど)、ニトリル類(アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリルなど)などが使用できる。これらの溶媒は、反応の起こり易さなどを考慮して適宜選択することができ、1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。また場合によっては、上記溶媒は、適当な脱水剤や乾燥剤を用いて水を含有しない溶媒として用いることもできる。As the reaction solvent, any solvent that is stable under the reaction conditions, is inert, and does not interfere with the reaction can be used. As reaction solvents, water, alcohols, amines, aprotic polar organic solvents (DMF (dimethylformamide), DMSO (dimethylsulfoxide), DMAc (dimethylacetamide), NMP (N-methylpyrrolidone), etc.), ethers ( Et 2 O, i-Pr 2 O, TBME, CPME, THF, dioxane, etc.), aliphatic hydrocarbons (pentane, hexane, heptane, petroleum ether, etc.), aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, etc.) Mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, nitrobenzene, tetralin, etc.), halogen-based hydrocarbons (chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, dichloroethane, etc.), lower fatty acid esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, etc.) , Solvents (acetamide, propionitrile, butyronitrile, etc.) and the like can be used. These solvents can be appropriately selected in consideration of the susceptibility of the reaction and the like, and can be used alone or in combination of two or more. In some cases, the solvent can also be used as a water-free solvent by using an appropriate dehydrating agent or desiccant.

反応温度は、好ましくは、−100 ℃以上から使用する反応溶媒の沸点の温度までの温度範囲を選ぶことができるが、より好ましくは、−50〜200℃、特に好ましくは20〜150℃である。反応時間は、0.1〜1000時間、より好ましくは0.5〜100時間である。
上記反応により得られた化合物am1−9は、蒸留、再結晶、又はシリカゲルなどのカラムクロマトグラフィーなどで精製するのが好ましい。なお、再結晶はできるだけ低温で行うのが好ましい。
The reaction temperature can preferably be in the temperature range from −100 ° C. or higher to the boiling point temperature of the reaction solvent used, but more preferably −50 to 200 ° C., and particularly preferably 20 to 150 ° C. .. The reaction time is 0.1 to 1000 hours, more preferably 0.5 to 100 hours.
The compound am1-9 obtained by the above reaction is preferably purified by distillation, recrystallization, column chromatography such as silica gel, or the like. It is preferable that recrystallization is performed at a low temperature as much as possible.

次に、得られたam1−9をトリエチルアミンなどの塩基存在下、塩化アクリル又は塩化メタクリルと反応させた後、ギ酸により酸加水分解する事により(III−1)から(III−5)を得ることができる。 Next, the obtained am1-9 is reacted with acrylic chloride or methacrylic chloride in the presence of a base such as triethylamine, and then acid hydrolyzed with formic acid to obtain (III-1) to (III-5). Can be done.

なお、得られた末端が−CH=CHCOOHである化合物(III−1)と4−ヒドロキシ安息香酸tert−ブチルエステルを縮合剤等によりエステル化した後、末端のエステル基を蟻酸により加水分解することにより、末端が−CH=CH−COO−C−COOHである化合物(III−6)を製造することができる。The obtained compound (III-1) having a terminal end of −CH = CHCOOH and 4-hydroxybenzoic acid tert-butyl ester are esterified with a condensing agent or the like, and then the terminal ester group is hydrolyzed with formic acid. As a result, a compound (III-6) having a terminal -CH = CH-COO-C 6 H 4-COOH can be produced.

得られた末端が−CH=CHCOOHである化合物(III−1)と4-メトキシフェノールを縮合剤等によりエステル化することで、末端が−CH=CH−COO−C−OMeである化合物(III−7)を製造することができる。The resulting end by esterifying the compound is -CH = CHCOOH (III-1) and 4-methoxyphenol condensation agent, end is a -CH = CH-COO-C 6 H 4 -OMe Compound (III-7) can be produced.

[単結合を有する桂皮酸・桂皮酸エステル型モノマーの製造]
単結合を有する桂皮酸・桂皮酸エステル型モノマー(am1)の具体例としては、下記式(IV−1)から(IV−7)が挙げられる。
[Manufacture of cinnamic acid / cinnamic acid ester type monomer having a single bond]
Specific examples of the cinnamic acid / cinnamic acid ester type monomer (am1) having a single bond include the following formulas (IV-1) to (IV-7).

Figure 0006932335
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式中、Qは炭素数1から16の直鎖のアルキレン基である。Rは水素もしくはメチル基を表す。In the formula, Q 1 is a linear alkylene group having 1 to 16 carbon atoms. R 1 represents a hydrogen or methyl group.

Xが−CH−CH−である化合物am1を製造する際には、上記化合物am1−7を還元することでam1−11が製造される。
得られたam1−11をam1−8とHeck反応することでam−1−12を製造する。続いて、塩化アクリル又は塩化メタクリルと反応させた後にギ酸により加水分解すればよい化合物(IV−1)から(IV−5)を製造する事ができる。
When the compound am1 in which X is −CH 2 −CH 2 − is produced, am1-11 is produced by reducing the compound am1-7.
The obtained am1-11 is Heck-reacted with am1-8 to produce am-1-12. Subsequently, (IV-5) can be produced from the compound (IV-1) which may be reacted with acrylic chloride or methacrylic chloride and then hydrolyzed with formic acid.

Figure 0006932335
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式中、Qは炭素数1から16の直鎖のアルキレン基である。Rは水素もしくはメチル基を表す。Arは式(am1)の(Y−1)〜(Y−6)を表す。In the formula, Q 1 is a linear alkylene group having 1 to 16 carbon atoms. R 1 represents a hydrogen or methyl group. Ar represents (Y 1 -1) ~ (Y 1 -6) of formula (am1).

am1−11は、am1−5の合成法と同じ方法で製造することができる。
am1−12は、am1−9の合成法と同じ方法で製造することができる。
am1-11 can be produced by the same method as the synthetic method of am1-5.
am1-12 can be produced by the same method as the synthetic method of am1-9.

得られたam1−12をトリエチルアミンなどの塩基存在下、塩化アクリル又は塩化メタクリルと反応させた後、ギ酸により酸加水分解する事により(IV−1)から(IV−5)を得ることができる。 (IV-1) to (IV-5) can be obtained by reacting the obtained am1-12 with acrylic chloride or methacrylic chloride in the presence of a base such as triethylamine, and then acid-hydrolyzing it with formic acid.

なお、得られた末端が−CH=CHCOOHである化合物(IV−1)と4−ヒドロキシ安息香酸tert−ブチルエステルを縮合剤等によりエステル化した後、末端のエステル基を蟻酸により加水分解することにより、末端が−CH=CH−COO−C−COOHである化合物(IV−6)を製造することができる。The obtained compound (IV-1) having a terminal end of −CH = CHCOOH and 4-hydroxybenzoic acid tert-butyl ester are esterified with a condensing agent or the like, and then the terminal ester group is hydrolyzed with formic acid. As a result, a compound (IV-6) having a terminal of −CH = CH-COO-C 6 H 4-COOH can be produced.

得られた末端が−CH=CHCOOHである化合物(IV−1)と4-メトキシフェノールを縮合剤等によりエステル化することで、末端が−CH=CH−COO−C−OMeである化合物(IV−7)を製造することができる。The resulting end by esterifying the compound is -CH = CHCOOH (IV-1) and 4-methoxyphenol condensation agent, end is a -CH = CH-COO-C 6 H 4 -OMe Compound (IV-7) can be produced.

[三重結合を有する非カルボン酸型モノマーの製造]
三重結合を有す非カルボン酸型モノマー(am1)の具体例としては、下記式(V−1)から(V−6)が挙げられる。
[Production of non-carboxylic acid type monomer having triple bond]
Specific examples of the non-carboxylic acid type monomer (am1) having a triple bond include the following formulas (V-1) to (V-6).

Figure 0006932335
Figure 0006932335

式中、Qは炭素数1から16の直鎖のアルキレン基である。Rは水素もしくはメチル基を表す。In the formula, Q 1 is a linear alkylene group having 1 to 16 carbon atoms. R 1 represents a hydrogen or methyl group.

これらモノマーは、次のようにして製造される。すなわち、適当なハロゲン化アリール誘導体am1−15と、末端に三重結合を有するアルコール保護体am1−14とを、金属錯体、配位子、及び塩基の共存下に、薗頭反応などのカップリング反応を行うことにより、am1−16が製造される。また、薗頭反応と鈴木−宮浦反応を組み合わせることでもam1−16を製造することができる。
次に、縮合剤及び塩基存在下、得られたam1−16と桂皮酸誘導体(am1−17)を反応させることによりam1−18を製造する。
These monomers are produced as follows. That is, a coupling reaction such as a sonogashira reaction between an appropriate aryl halide am1-15 and an alcohol protecting group am1-14 having a triple bond at the terminal in the coexistence of a metal complex, a ligand, and a base. By performing the above, am1-16 is manufactured. In addition, am1-16 can also be produced by combining the Sonogashira reaction and the Suzuki-Miyaura reaction.
Next, am1-18 is produced by reacting the obtained am1-16 with a cinnamic acid derivative (am1-17) in the presence of a condensing agent and a base.

最後に、am1−18の保護基を脱保護し、塩基性存在下、塩化アクリルまたは塩化メタクリルと反応させることで三重結合を有するモノマー(V−1)から(V−6)を製造することができる。 Finally, the protecting group of am1-18 can be deprotected and reacted with acrylic chloride or methacrylic chloride in the presence of basic substances to produce (V-6) from the monomer (V-1) having a triple bond. can.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

式中、Qは炭素数1から16の直鎖のアルキレン基である。Rは水素もしくはメチル基を表す。Arは式(am1)の(Y−1)〜(Y−6)を表す。Arは、芳香族環を有する二価の有機基を表す。Hal、Hal及びHalは、脱離能力のある置換基であり、例えば、F、 Cl、 Br、 Iのハロゲン;p-トルエンスルホン酸エステル基(−OSO−p−CH)、メタンスルホン酸エステル基(−OSOCH)、トリフルオロメタンスルホン酸エステル基(−OSOCF)などのスルホン酸エステル基などが用いられる。なかでも、反応性の点から、Br、 I、又は トリフルオロメタンスルホン酸エステル基が好ましい。MはB(OH)または4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イルを表す。PGは保護基を表す。In the formula, Q 1 is a linear alkylene group having 1 to 16 carbon atoms. R 1 represents a hydrogen or methyl group. Ar represents (Y 1 -1) ~ (Y 1 -6) of formula (am1). Ar 1 represents a divalent organic group having an aromatic ring. Hal, Hal 1 and Hal 2 are substituents capable of elimination, for example, halogens of F, Cl, Br, I; p-toluene sulfonic acid ester groups (-OSO 2 C 6 H 4- p-CH). 3 ), sulfonic acid ester groups such as methanesulfonic acid ester group (-OSO 2 CH 3 ) and trifluoromethanesulfonic acid ester group (-OSO 2 CF 3 ) are used. Of these, Br, I, or a trifluoromethanesulfonic acid ester group is preferable from the viewpoint of reactivity. M represents B (OH) 2 or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl. PG represents a protecting group.

am1−14は、am1−2の末端アルコールを適当な保護基(PG)により保護することにより得られる。保護基(PG)の種類としては、例えば、GREENE’S PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIG SYNTHESIS ((Fourth Edition), PETER G. M. WUTS, THEODORA W. GREENE共著、A John Wiley & Sons, Inc., Publication)に挙げられている保護基が好ましい。特に、3,4−ジヒドロ−2H−ピランを用いた保護が好ましい。 am1-14 is obtained by protecting the terminal alcohol of am1-2 with a suitable protecting group (PG). Examples of types of protecting groups (PG) are listed in GREENE'S PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIG SYNTHESIS ((Fourth Edition), PETER GM WUTS, THEODORA W. GREENE co-authored, A John Wiley & Sons, Inc., Publication). Protecting groups are preferred. In particular, protection with 3,4-dihydro-2H-pyran is preferred.

am1−15はの具体例として、(am1−15−1)〜(am1−15−4)、(am1−6−4a)、(am1−6−5a)が挙げられる。 Specific examples of am1-15 include (am1-15-1) to (am1-15-4), (am1-6-4a), and (am1-6-5a).

Figure 0006932335
Figure 0006932335

(am1−15−1)〜(am1−15−4)は、試薬会社から購入することができる。
am1−16は、am1−15を原料として、am1−3合成法と同じ方法により製造することができる。
am1−16は、am1−6とam1−14を、am1−3合成法と同じ手法でam1−16aを得た後に、有機金属試薬(am1−16b)、金属触媒を用いる鈴木−宮浦反応させることにより得ることができる。
(Am1-15-1) to (am1-15-4) can be purchased from reagent companies.
am1-16 can be produced from am1-15 as a raw material by the same method as the am1-3 synthesis method.
For am1-16, am1-6 and am1-14 are reacted with Suzuki-Miyaura using an organometallic reagent (am1-16b) and a metal catalyst after obtaining am1-16a by the same method as the am1-3 synthesis method. Can be obtained by

Figure 0006932335
Figure 0006932335

式中、Arは、芳香族環を有する二価の有機基を表す。Halは、脱離能力のある置換基であり、例えば、F、 Cl、 Br、 Iのハロゲン;p-トルエンスルホン酸エステル基(−OSO−p−CH)、メタンスルホン酸エステル基(−OSOCH)、トリフルオロメタンスルホン酸エステル基(−OSOCF)などのスルホン酸エステル基などが用いられる。なかでも、反応性の点から、Br、 I、又は トリフルオロメタンスルホン酸エステル基が好ましい。MはB(OH)または4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イルを表す。PGは保護基を表す。In the formula, Ar 1 represents a divalent organic group having an aromatic ring. Hal is a substituent capable of desorption, for example, halogens of F, Cl, Br, I; p-toluene sulfonic acid ester group (-OSO 2 C 6 H 4- p-CH 3 ), methane sulfonic acid. Sulfonic acid ester groups such as an ester group (-OSO 2 CH 3 ) and a trifluoromethanesulfonic acid ester group (-OSO 2 CF 3) are used. Of these, Br, I, or a trifluoromethanesulfonic acid ester group is preferable from the viewpoint of reactivity. M represents B (OH) 2 or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl. PG represents a protecting group.

上記カップリング反応(鈴木-宮浦反応)は、適当な金属錯体と配位子を触媒として使用する。場合によっては、配位子なしでも反応が進行する。通常、パラジウム錯体やニッケル錯体が使用される。触媒としては、種々の構造のものを用いることができるが、いわゆる低原子価のパラジウム錯体又はニッケル錯体を用いることが好ましく、特に3級ホスフィンや3級ホスファイトを配位子とするゼロ価錯体が好ましい。また、反応系中で容易にゼロ価錯体に変換される適当な前駆体を用いることもできる。さらに、反応系中で、3級ホスフィンや3級ホスファイトを配位子として含まない錯体と、3級ホスフィンや3級ホスファイトとを混合し、3級ホスフィンや3級ホスファイトを配位子とする低原子価錯体を発生させることもできる。配位子である3級ホスフィン又は3級ホスファイトとしては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリ-o-トリルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、フェニルジメチルホスフィン、1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト等が挙げられ、これらの配位子の2種以上を混合して含む錯体も好適に用いられる。触媒として、3級ホスフィンや3級ホスファイトを含まないパラジウム錯体及び3級ホスフィンや3級ホスファイトを含む錯体と、前記した配位子と、を組み合わせて用いることも好ましい態様である。上記配位子に組み合わせて用いられる、3級ホスフィンや3級ホスファイトを含まない錯体としては、ビス(ベンジリデンアセトン)パラジウム、トリス(ベンジリデンアセトン)ジパラジウム、ビス(アセトニトリル)ジクロロパラジウム、ビス(ベンゾニトリル)ジクロロパラジウム、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、塩化パラジウム-アセトニトリル錯体、パラジウム−活性炭、塩化ニッケル、ヨウ化ニッケル等が挙げられ、また3級ホスフィンや3級ホスファイトを既に配位子として含む錯体としては、ジメチルビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジメチルビス(ジフェニルメチルホスフィン)パラジウム、(エチレン)ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)ジクロロパラジウム、[1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]ニッケル(II)ジクロリド、[1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]ニッケル(II)ジクロリド等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらパラジウム錯体及びニッケル錯体の使用量は、いわゆる触媒量で良く、一般的には、基質に対して20モル%以下で十分であり、通常10モル%以下である。 The coupling reaction (Suzuki-Miyaura reaction) uses an appropriate metal complex and ligand as a catalyst. In some cases, the reaction proceeds without a ligand. Usually, a palladium complex or a nickel complex is used. As the catalyst, those having various structures can be used, but it is preferable to use a so-called low valence palladium complex or nickel complex, and in particular, a zero-valent complex having a tertiary phosphine or a tertiary phosphite as a ligand. Is preferable. It is also possible to use a suitable precursor that is easily converted to a zero-valent complex in the reaction system. Further, in the reaction system, a complex that does not contain tertiary phosphine or tertiary phosphine as a ligand is mixed with tertiary phosphine or tertiary phosphite, and tertiary phosphine or tertiary phosphite is used as a ligand. It is also possible to generate a low valence complex. Examples of the tertiary phosphine or tertiary phosphite that is a ligand include triphenylphosphine, tri-o-tolylphosphine, diphenylmethylphosphine, phenyldimethylphosphine, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane, 1 , 3-bis (diphenylphosphine) propane, 1,4-bis (diphenylphosphino) butane, 1,1'-bis (diphenylphosphino) ferrocene, trimethylphosphine, triethylphosphine, triphenylphosphine, etc. A complex containing a mixture of two or more of these ligands is also preferably used. It is also a preferable embodiment that a palladium complex containing no tertiary phosphine or tertiary phosphine, a complex containing tertiary phosphine or tertiary phosphine, and the above-mentioned ligand are used in combination as a catalyst. Examples of the complex that does not contain tertiary phosphine or tertiary phosphite used in combination with the above-mentioned ligands include bis (benzilidenacetone) palladium, tris (benzylideneacetone) dipalladium, bis (acetoformer) dichloropalladium, and bis (benzo). Nitrile) Dichloropalladium, palladium acetate, palladium chloride, palladium chloride-acetethane complex, palladium-activated coal, nickel chloride, nickel iodide, etc., and as a complex already containing tertiary phosphine or tertiary phosphite as a ligand. Dimethylbis (triphenylphosphine) palladium, dimethylbis (diphenylmethylphosphine) palladium, (ethylene) bis (triphenylphosphine) palladium, tetrakis (triphenylphosphine) palladium, bis (triphenylphosphine) dichloropalladium, [1 , 3-Bis (diphenylphosphino) propane] nickel (II) dichloride, [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] nickel (II) dichloride and the like, but are not limited thereto. The amount of these palladium complex and nickel complex used may be a so-called catalytic amount, and in general, 20 mol% or less with respect to the substrate is sufficient, and usually 10 mol% or less.

塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、燐酸ナトリウム、燐酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウムなどの無機塩基やメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、イミダゾール、キノリン、コリジンなどのアミン類の他、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウムなども使用できる。 Bases include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, sodium phosphate, potassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium carbonate, cesium carbonate, methylamine, and dimethyl. Amine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine, triethylamine, propylamine, dipropylamine, tripropylamine, isopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, butylamine, dibutylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, imidazole, quinoline, colisine, etc. In addition to the amines of, sodium acetate, potassium acetate, lithium acetate and the like can also be used.

溶媒としては、当該反応条件下において安定であって、不活性で反応を妨げないもの。水、アルコール類、アミン類、非プロトン性極性有機溶媒(DMF, DMSO, DMAc, NMPなど)、エーテル類(EtO, i−PrO, TBME, CPME, テトラヒドロフラン, ジオキサンなど)、脂肪族炭化水素類(ペンタン、へキサン、ヘプタン、石油エーテルなど)、芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラリンなど)、ハロゲン系炭化水素類(クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタンなど)、低級脂肪酸エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等)、ニトリル類(アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等)が使用できる。これらの溶媒は、反応の起こり易さなどを考慮して適宜選択することができ、この場合、上記溶媒は1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。The solvent is one that is stable under the reaction conditions, is inert and does not interfere with the reaction. Water, alcohols, amines, aprotic polar organic solvents (DMF, DMSO, DMAc, NMP, etc.), ethers (Et 2 O, i-Pr 2 O, TBME, CPME, tetrahydrofuran, dioxane, etc.), aliphatic Hydrocarbons (pentane, hexane, heptane, petroleum ether, etc.), aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, nitrobenzene, tetraline, etc.), halogen-based hydrocarbons (chloroform, dichloromethane, etc.) , Carbon tetrachloride, dichloroethane, etc.), lower fatty acid esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, etc.), nitriles (acetriform, propionitrile, butyronitrile, etc.) can be used. These solvents can be appropriately selected in consideration of the susceptibility of the reaction to occur, and in this case, the above-mentioned solvents can be used alone or in combination of two or more.

反応温度は、特に限定されないが、通常、−90〜200℃、好ましくは−50〜150℃、より好ましくは20〜120℃である。
反応時間は、通常、0.05〜100時間、好ましくは0.5〜40時間、より好ましくは0.5〜24時間である。
上記のようにして得られたam1−16は、反応後にスラリー洗浄、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィーなどで精製することにより高純度化することができる。
The reaction temperature is not particularly limited, but is usually −90 to 200 ° C., preferably −50 to 150 ° C., and more preferably 20 to 120 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 40 hours, more preferably 0.5 to 24 hours.
The am1-16 obtained as described above can be purified by slurry washing, recrystallization, silica gel column chromatography or the like after the reaction.

am1−16と4-メトキシ桂皮酸(am1−17)の反応においては、適当な縮合剤と塩基を使用する。縮合剤としては、例えば、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、N,N’−ジイソプロピルカルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩、N−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−N’−エチルカルボジイミド、N−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−N’−エチルカルボジイミドメチオジド、N−tert−ブチルーN’−エチルカルボジイミド、N−シクロヘキシル−N’−(2−モルホリノエチル)カルボジイミド メト−p−トルエンスルホナート、N,N’−ジ−tert−ブチルカルボジイミド、N,N’−ジ−p−トリルカルボジイミド並びにその他のカルボジイミドが挙げられる。また、カルボジイミドの他、トリアジン系縮合剤、酸塩化物、酸無水物並びにその他の縮合剤が挙げられる。塩基としては、例えば、第一級アミン、第二級アミン、第三級アミン又は芳香族アミン並びに当該アミン塩が利用可能であり、収率の観点から第三級アミン又は芳香族アミン並びに当該アミン塩がより好ましい。具体的には、トリメチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、N,N−ジエチルメチルアミン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルプロピルアミン、N,N−ジメチルブチルアミン、N,N−ジメチルペンチルアミン、N,N−ジエチルプロピルアミン、N,N−ジプロピルエチルアミン、N,N−ジプロピルメチルアミン、N,N−ジエチルペンチルアミン、N−エチル−N−メチルペンチルアミン、トリブチルアミン、N,N−ジブチルメチルアミン、N,N−ジブチルエチルアミン、N,N−ジブチルプロピルアミン、N−エチル−N−メチルプロピルアミン、N,N−ジプロピルメチルアミン、N,N−ジプロピルエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、N−メチルジイソプロピルアミン、N−エチルジイソプロピルアミン、N−プロピルジイソプロピルアミン、N−ブチルジイソプロピルアミン、ピリジン、N−メチルピリジン、2−クロロピリジン、2−ブロモピリジン、ピペリジン、ピリミジン、キノリン、アクリジン、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン、ピコリン、ビピリジン、2,6−ルチジン、クロロクロム酸ピリジニウム、ピリジニウムパラトルエンスルホナート並びにその他の第三級アミン又は芳香族アミン並びに当該アミン塩が挙げられる。特に、N,N−ジメチル−4−アミノピリジンが好ましい。 Appropriate condensing agents and bases are used in the reaction of am1-16 with 4-methoxycinnamic acid (am1-17). Examples of the condensing agent include N, N'-dicyclohexylcarbodiimide, N, N'-diisopropylcarbodiimide, 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride, and N- [3- (dimethylamino) propyl. ] -N'-ethylcarbodiimide, N- [3- (dimethylamino) propyl] -N'-ethylcarbodiimide methiozide, N-tert-butyl-N'-ethylcarbodiimide, N-cyclohexyl-N'-(2-) Morphorinoethyl) carbodiimides include meth-p-toluenesulfonate, N, N'-di-tert-butyl carbodiimides, N, N'-di-p-tolyl carbodiimides and other carbodiimides. In addition to carbodiimide, triazine-based condensing agents, acid chlorides, acid anhydrides and other condensing agents can be mentioned. As the base, for example, a primary amine, a secondary amine, a tertiary amine or an aromatic amine and the amine salt thereof can be used, and from the viewpoint of yield, the tertiary amine or aromatic amine and the amine are used. Salt is more preferred. Specifically, trimethylamine, N, N-dimethylethylamine, N, N-diethylmethylamine, triethylamine, N, N-dimethylpropylamine, N, N-dimethylbutylamine, N, N-dimethylpentylamine, N, N -Diethylpropylamine, N, N-dipropylethylamine, N, N-dipropylmethylamine, N, N-diethylpentylamine, N-ethyl-N-methylpentylamine, tributylamine, N, N-dibutylmethylamine , N, N-dibutylethylamine, N, N-dibutylpropylamine, N-ethyl-N-methylpropylamine, N, N-dipropylmethylamine, N, N-dipropylethylamine, tripropylamine, triisopropylamine , N-Methyldiisopropylamine, N-ethyldiisopropylamine, N-propyldiisopropylamine, N-butyldiisopropylamine, pyridine, N-methylpyridine, 2-chloropyridine, 2-bromopyridine, piperidine, pyrimidine, quinoline, acrydin, Examples thereof include N, N-dimethyl-4-aminopyridine, picolin, bipyridine, 2,6-rutidine, pyridinium chlorochromate, pyridinium paratoluenesulfonate and other tertiary amines or aromatic amines, and their amine salts. In particular, N, N-dimethyl-4-aminopyridine is preferable.

反応溶媒としては、当該反応条件下において安定であって、不活性で、反応を妨げないものであればいずれも使用できる。例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセテート、N-メチルピロリドンなどの非プロトン性極性有機溶媒;ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、THF、TBME、CPME、ジオキサンなどのエーテル;ペンタン、へキサン、ヘプタン、石油エーテルなどの脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラリンなどの芳香族炭化水素、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチルなどの低級脂肪酸エステル;アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリルなどが使用できる。
これらの溶媒は、反応の起こり易さなどを考慮して適宜選択することができ、1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。また場合によっては、上記溶媒は、適当な脱水剤や乾燥剤を用いて水を含有しない溶媒として用いることもできる。
As the reaction solvent, any solvent that is stable under the reaction conditions, is inert, and does not interfere with the reaction can be used. For example, aprotic polar organic solvents such as dimethylformamide, dimethylsulfoxide, dimethylacetate, N-methylpyrrolidone; ethers such as diethyl ether, isopropyl ether, THF, TBME, CPME, dioxane; pentane, hexane, heptane, petroleum ether. Fatal hydrocarbons such as; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, mesityrene, chlorobenzene, dichlorobenzene, nitrobenzene, tetralin, halogen-based hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, dichloroethane; methyl acetate, acetate Lower fatty acid esters such as ethyl, butyl acetate and methyl propionate; acetonitrile, propionitrile, butyronitrile and the like can be used.
These solvents can be appropriately selected in consideration of the susceptibility to reaction and the like, and can be used alone or in combination of two or more. In some cases, the solvent can also be used as a water-free solvent by using an appropriate dehydrating agent or desiccant.

反応温度は、好ましくは、−100 ℃以上から使用する反応溶媒の沸点の温度までの温度範囲を選ぶことができるが、より好ましくは、−50〜200℃、特に好ましくは20〜150℃である。反応時間は、0.1〜1000時間、より好ましくは0.5〜100時間である。
上記反応により得られた化合物am1−18は、蒸留、再結晶、又はシリカゲルなどのカラムクロマトグラフィーなどで精製するのが好ましい。
The reaction temperature can preferably be in the temperature range from −100 ° C. or higher to the boiling point temperature of the reaction solvent used, but more preferably −50 to 200 ° C., and particularly preferably 20 to 150 ° C. .. The reaction time is 0.1 to 1000 hours, more preferably 0.5 to 100 hours.
The compound am1-18 obtained by the above reaction is preferably purified by distillation, recrystallization, column chromatography such as silica gel, or the like.

am1−18の保護基の脱保護条件としては、GREENE’S PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIG SYNTHESIS ((Fourth Edition), PETER G. M. WUTS, THEODORA W. GREENE共著、A John Wiley & Sons, Inc., Publication)に挙げられている反応条件が好ましい。特に、エタノール中、触媒量のピリジニウム p-トルエンスルホナートで脱保護する手法が好ましい。 The deprotection conditions for the protecting groups of am1-18 are listed in GREENE'S PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIG SYNTHESIS ((Fourth Edition), PETER GM WUTS, THEODORA W. GREENE, A John Wiley & Sons, Inc., Publication). The reaction conditions are preferable. In particular, a method of deprotecting with a catalytic amount of pyridinium p-toluenesulfonate in ethanol is preferable.

トリエチルアミンなどの塩基存在下、塩化アクリルまたは塩化メタクリルと反応させることで(V−1)から(V−6)を得ることができる。 (V-6) can be obtained from (V-1) by reacting with acrylic chloride or methacrylic chloride in the presence of a base such as triethylamine.

[単結合を有する非カルボン酸型モノマーの製造]
単結合を有す非カルボン酸型モノマー(am1)の具体例としては、下記式(VI−1)から(VI−6)が挙げられる。
[Production of non-carboxylic acid type monomer having a single bond]
Specific examples of the non-carboxylic acid type monomer (am1) having a single bond include the following formulas (VI-1) to (VI-6).

Figure 0006932335
Figure 0006932335

式中、Qは炭素数1から16の直鎖のアルキレン基である。Rは水素もしくはメチル基を表す。In the formula, Q 1 is a linear alkylene group having 1 to 16 carbon atoms. R 1 represents a hydrogen or methyl group.

Xが−CH−CH−である化合物am1を製造する際には、上記化合物am1−16を還元することでam1−20を製造した後、縮合剤を用いて桂皮酸誘導体と縮合反応、脱保護反応、塩化アクリル又は塩化メタクリルと反応させることで(VI−1)から(VI−6)を製造することができる。When producing the compound am1 in which X is −CH 2 −CH 2 −, after producing am1-20 by reducing the compound am1-16, a condensation reaction with a cinnamic acid derivative using a condensing agent is performed. (VI-6) can be produced from (VI-1) by reacting with a deprotection reaction, acrylic chloride or methacryl chloride.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

式中、Qは炭素数1から16の直鎖のアルキレン基である。Rは水素もしくはメチル基を表す。Arは式(am1)の(Y−1)〜(Y−6)を表す。In the formula, Q 1 is a linear alkylene group having 1 to 16 carbon atoms. R 1 represents a hydrogen or methyl group. Ar represents (Y 1 -1) ~ (Y 1 -6) of formula (am1).

am1−20は、am1−5合成法と同じ製造方法で製造することができる。
am1−21は、am1−18合成法と同じ製造方法で製造することができる。
am1−22は、am1−19合成法と同じ製造方法で製造することができる。
am1−22をトリエチルアミンなどの塩基存在下、塩化アクリルまたは塩化メタクリルと反応させることで(VI−1)から(VI−6)を得ることができる。
am1-20 can be produced by the same production method as the am1-5 synthesis method.
am1-21 can be produced by the same production method as the am1-18 synthesis method.
am1-22 can be produced by the same production method as the am1-19 synthesis method.
(VI-6) can be obtained from (VI-1) by reacting am1-22 with acrylic chloride or methacrylic chloride in the presence of a base such as triethylamine.

[α−メチレン−γ−ブチロラクトン型モノマーの製造]
α−メチレン−γ−ブチロラクトン型モノマー(am1)の具体例としては、下記式(VII−1)から(VII−6)が挙げられる。式中、Q1は炭素数1から16の直鎖のアルキレンである。式中、Qは炭素数1から4の直鎖のアルキレン基である。Rはメチル基、エチル基を表す。Rとしては水素原子又はC1−4アルキル基が挙げられる。Arは式(am1)の(Y−1)〜(Y−6)を表す。
[Manufacture of α-methylene-γ-butyrolactone type monomer]
Specific examples of the α-methylene-γ-butyrolactone type monomer (am1) include the following formulas (VII-1) to (VII-6). In the formula, Q1 is a linear alkylene having 1 to 16 carbon atoms. Wherein, Q 2 is a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. R represents a methyl group or an ethyl group. Examples of R include a hydrogen atom or a C1-4 alkyl group. Ar represents (Y 1 -1) ~ (Y 1 -6) of formula (am1).

Figure 0006932335
Figure 0006932335

α−メチレン−γ−ブチロラクトン化合物(PL−2)は有機合成化学における手法を組み合わせることによって合成することができ、その合成法は特に限定されない。am1−2やam1−14の代わりに、アルハロゲン化アルキル(am1−23)をam1−1やam1−6、am1−15に薗頭反応で導入した後、下記式に示すような既知の合成手法を用いてアセタール、ケタール誘導体に変換した後、金属試薬、アクリル酸誘導体(am1−24)を酸性条件下で反応させることにより(VII−1)、(VII−2)、(VII−5)、(VII−6)を合成することができる(参考文献:例えばP.Talaga,M.Schaeffer,C.Benezra and J.L.Stampf,Synthesis,530(1990))。また、(VII−3)と(VII−4)はα−メチレン−γ−ブチロラクトン化合物に誘導した後、ギ酸により酸加水分解することで合成することができる。 The α-methylene-γ-butyrolactone compound (PL-2) can be synthesized by combining techniques in synthetic organic chemistry, and the synthesis method is not particularly limited. After introducing an alkyl halide (am1-23) into am1-1, am1-6, and am1-15 by a sonogashira reaction instead of am1-2 and am1-14, a known synthesis as shown in the following formula. After conversion to acetal and ketal derivatives using the method, the metal reagents and acrylic acid derivatives (am1-24) are reacted under acidic conditions to cause (VII-1), (VII-2), (VII-5). , (VII-6) can be synthesized (references: eg, P. Talaga, M. Schaeffer, C. Benezra and JLStampf, Synthesis, 530 (1990)). Further, (VII-3) and (VII-4) can be synthesized by inducing them into an α-methylene-γ-butyrolactone compound and then acid-hydrolyzing them with formic acid.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

式中、Qは炭素数1から4の直鎖のアルキレン基である。Rはメチル基、エチル基を表す。Rとしては水素原子又はC1−4アルキル基が挙げられる。Arは式(am1)の(Y−1)〜(Y−6)を表す。Hal、Hal、Halは脱離能力のある置換基であり、例えば、F、 Cl、 Br、 Iのハロゲン;p-トルエンスルホン酸エステル基(−OSO−p−CH)、メタンスルホン酸エステル基(−OSOCH)、トリフルオロメタンスルホン酸エステル基(−OSOCF)などのスルホン酸エステル基などが用いられる。なかでも、反応性の点から、Br、 I、又は トリフルオロメタンスルホン酸エステル基が好ましい。YはClまたはBrである。Wherein, Q 2 is a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. R represents a methyl group or an ethyl group. Examples of R include a hydrogen atom or a C1-4 alkyl group. Ar represents (Y 1 -1) ~ (Y 1 -6) of formula (am1). Hal, Hal 1 , and Hal 2 are substituents capable of elimination, for example, halogens of F, Cl, Br, I; p-toluene sulfonic acid ester group (-OSO 2 C 6 H 4- p-CH 3). ), Sulfonic acid ester group such as methanesulfonic acid ester group (-OSO 2 CH 3 ), trifluoromethanesulfonic acid ester group (-OSO 2 CF 3 ) and the like are used. Of these, Br, I, or a trifluoromethanesulfonic acid ester group is preferable from the viewpoint of reactivity. Y is Cl or Br.

上記α−メチレン−γ−ブチロラクトン化合物合成で表されるアクリル酸誘導体(am1−24)としては、2-(クロロメチル)アクリル酸、2-(クロロメチル)アクリル酸メチル、2-(クロロメチル)アクリル酸エチル、2-(ブロモメチル)アクリル酸、2-(ブロモメチル)アクリル酸メチル、2-(ブロモメチル)アクリル酸エチルなどを使用することができる。 Examples of the acrylic acid derivative (am1-24) represented by the above α-methylene-γ-butyrolactone compound synthesis include 2- (chloromethyl) acrylic acid, 2- (chloromethyl) methyl acrylate, and 2- (chloromethyl). Ethyl acrylate, 2- (bromomethyl) acrylic acid, methyl 2- (bromomethyl) acrylate, ethyl 2- (bromomethyl) acrylate and the like can be used.

金属試薬としては、錫粉末、無水塩化錫、塩化錫二水和物、塩化錫五水和物などの錫系化合物、インジウム粉末、亜鉛粉末などが使用できる。 As the metal reagent, tin-based compounds such as tin powder, anhydrous tin chloride, tin chloride dihydrate, tin chloride pentahydrate, indium powder, zinc powder and the like can be used.

酸としては、塩酸、硫酸、リン酸、塩化アンモニウムなどの無機酸水溶液、Amberlyst 15などの酸性樹脂、p-トルエンスルホン酸、酢酸、蟻酸などの有機酸が使用できる。 As the acid, an inorganic acid aqueous solution such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid and ammonium chloride, an acidic resin such as Amberlyst 15, and an organic acid such as p-toluenesulfonic acid, acetic acid and formic acid can be used.

溶媒としては、当該反応条件下において安定であって、不活性で反応を妨げないもの。水、アルコール類、非プロトン性極性有機溶媒(DMF, DMSO, DMAc, NMPなど)、エーテル類(EtO, i−PrO, TBME, CPME, テトラヒドロフラン, ジオキサンなど)、脂肪族炭化水素類(ペンタン、へキサン、ヘプタン、石油エーテルなど)、芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラリンなど)、ハロゲン系炭化水素類(クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタンなど)、低級脂肪酸エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等)、ニトリル類(アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等)が使用できる。これらの溶媒は、反応の起こり易さなどを考慮して適宜選択することができ、この場合、上記溶媒は1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。好ましくは、テトラヒドロフラン、水である。The solvent is one that is stable under the reaction conditions, is inert and does not interfere with the reaction. Water, alcohols, aprotic polar organic solvents (DMF, DMSO, DMAc, NMP, etc.), ethers (Et 2 O, i-Pr 2 O, TBME, CPME, tetrahydrofuran, dioxane, etc.), aliphatic hydrocarbons (Pentane, hexane, heptane, petroleum ether, etc.), aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, nitrobenzene, tetraline, etc.), halogen-based hydrocarbons (chloroform, dichloromethane, tetrachloride, etc.) Carbon, dichloroethane, etc.), lower fatty acid esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, etc.), nitriles (acetriform, propionitrile, butyronitrile, etc.) can be used. These solvents can be appropriately selected in consideration of the susceptibility of the reaction to occur, and in this case, the above-mentioned solvents can be used alone or in combination of two or more. Tetrahydrofuran and water are preferred.

反応温度は、特に限定されないが、通常、−90〜200℃、好ましくは20〜100℃である。
反応時間は、通常、0.05〜200時間、好ましくは0.5〜60時間である。
The reaction temperature is not particularly limited, but is usually −90 to 200 ° C., preferably 20 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 200 hours, preferably 0.5 to 60 hours.

上記のようにして得られたα−メチレン−γ−ブチロラクトン化合物は、反応後にスラリー洗浄、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィーなどで精製することにより高純度化することができる。 The α-methylene-γ-butyrolactone compound obtained as described above can be purified by slurry washing, recrystallization, silica gel column chromatography or the like after the reaction to obtain high purity.

洗浄に用いる溶媒としては、特に限定されないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン又はトルエンなどの炭化水素類、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン又はクロロベンゼンなどのハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又は1,4−ジオキサンなどのエーテル類、酢酸エチルなどのエステル類、アセトン又はメチルエチルケトンなどのケトン類、アセトニトリル又はプロピオニトリル等のニトリル類、メタノール又はエタノール、2−プロパノール等のアルコール類、及び、これらの混合物が挙げられ、好ましくは、メタノール又はエタノール、2−プロパノール等のアルコール類である。 The solvent used for cleaning is not particularly limited, but is, for example, hydrocarbons such as hexane, heptane or toluene, halogen-based hydrocarbons such as chloroform, 1,2-dichloroethane or chlorobenzene, diethyl ether, tetrahydrofuran or 1,4. -Ethers such as dioxane, esters such as ethyl acetate, ketones such as acetone or methyl ethyl ketone, nitriles such as acetonitrile or propionitrile, alcohols such as methanol or ethanol, 2-propanol, and mixtures thereof. Examples thereof are preferably alcohols such as methanol or ethanol and 2-propanol.

再結晶に用いる溶媒としては、α−メチレン−γ−ブチロラクトン化合物が加熱時に溶解し冷却時に析出すれば特に限定されないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン又はトルエンなどの炭化水素類、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン又はクロロベンゼンなどのハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又は1,4−ジオキサンなどのエーテル類、酢酸エチルなどのエステル類、アセトン又はメチルエチルケトンなどのケトン類、アセトニトリル又はプロピオニトリル等のニトリル類、メタノール又はエタノール、2−プロパノール等のアルコール類及び、これらの混合物が挙げられ、好ましくは、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、トルエン、メタノール又はエタノール、2−プロパノール等のアルコール類、ヘキサンもしくはこれらの混合物である。 The solvent used for recrystallization is not particularly limited as long as the α-methylene-γ-butyrolactone compound dissolves during heating and precipitates during cooling, but is not particularly limited, and for example, hydrocarbons such as hexane, heptane or toluene, chloroform, 1,2-. Halogen-based hydrocarbons such as dichloroethane or chlorobenzene, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran or 1,4-dioxane, esters such as ethyl acetate, ketones such as acetone or methyl ethyl ketone, nitriles such as acetonitrile or propionitrile , Methanol or ethanol, alcohols such as 2-propanol and mixtures thereof, preferably alcohols such as ethyl acetate, tetrahydrofuran, toluene, methanol or ethanol, 2-propanol, hexane or mixtures thereof. ..

[液晶性側鎖モノマー]
液晶性側鎖モノマーとは、該モノマー由来の高分子が液晶性を発現し、該高分子が側鎖部位にメソゲン基を形成することができるモノマーのことである。
側鎖を有するメソゲン基として、ビフェニルやフェニルベンゾエートなどの単独でメソゲン構造となる基であっても、安息香酸などのように側鎖同士が水素結合することでメソゲン構造となる基であってもよい。側鎖を有するメソゲン基としては下記の構造が好ましい。
[Liquid crystal side chain monomer]
The liquid crystal side chain monomer is a monomer in which a polymer derived from the monomer exhibits liquid crystallinity and the polymer can form a mesogen group at a side chain site.
As a mesogen group having a side chain, even if it is a group having a mesogen structure by itself such as biphenyl or phenylbenzoate, or a group having a mesogen structure by hydrogen bonding between side chains such as benzoic acid. good. The following structure is preferable as the mesogen group having a side chain.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

液晶性側鎖モノマーのより具体的な例としては、炭化水素、(メタ)アクリレート、イタコネート、フマレート、マレエート、α−メチレン−γ−ブチロラクトン、スチレン、ビニル、マレイミド、ノルボルネン等のラジカル重合性基およびシロキサンからなる群から選択される少なくとも1種から構成された重合性基と、上記式(21)〜(31)の少なくとも1種からなる側鎖を有する構造であることが好ましい。 More specific examples of liquid side chain monomers include hydrocarbons, (meth) acrylates, itaconates, fumarate, maleate, α-methylene-γ-butyrolactone, styrene, vinyl, maleimide, norbornene and other radically polymerizable groups. It is preferable that the structure has a polymerizable group composed of at least one selected from the group consisting of siloxane and a side chain composed of at least one of the above formulas (21) to (31).

(A)側鎖型高分子は、上述した液晶性を発現する光反応性側鎖モノマーの重合反応により得ることができる。また、液晶性を発現しない光反応性側鎖モノマーと液晶性側鎖モノマーとの共重合や、液晶性を発現する光反応性側鎖モノマーと液晶性側鎖モノマーとの共重合によって得ることができる。さらに、液晶性の発現能を損なわない範囲でその他のモノマーと共重合することができる。 The side chain type polymer (A) can be obtained by the polymerization reaction of the photoreactive side chain monomer exhibiting the liquid crystal property described above. Further, it can be obtained by copolymerizing a photoreactive side chain monomer that does not exhibit liquidity and a liquid crystal side chain monomer, or by copolymerizing a photoreactive side chain monomer that exhibits liquidity and a liquid crystal side chain monomer. can. Furthermore, it can be copolymerized with other monomers as long as the liquid crystallinity is not impaired.

その他のモノマーとしては、例えば工業的に入手できるラジカル重合反応可能なモノマーが挙げられる。
その他のモノマーの具体例としては、不飽和カルボン酸、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。
Examples of other monomers include industrially available radical polymerization-reactive monomers.
Specific examples of other monomers include unsaturated carboxylic acids, acrylic acid ester compounds, methacrylic acid ester compounds, maleimide compounds, acrylonitrile, maleic acid anhydrides, styrene compounds and vinyl compounds.

不飽和カルボン酸の具体例としてはアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸などが挙げられる。
アクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、2−メチル−2−アダマンチルアクリレート、2−プロピル−2−アダマンチルアクリレート、8−メチル−8−トリシクロデシルアクリレート、及び、8−エチル−8−トリシクロデシルアクリレート等が挙げられる。
Specific examples of unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid and the like.
Examples of the acrylic acid ester compound include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, benzyl acrylate, naphthyl acrylate, anthryl acrylate, anthryl methyl acrylate, phenyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, and tert-butyl. Acrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-methyl-2-adamantyl acrylate, 2- Examples thereof include propyl-2-adamantyl acrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl acrylate, and 8-ethyl-8-tricyclodecyl acrylate.

メタクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、3−メトキシブチルメタクリレート、2−メチル−2−アダマンチルメタクリレート、2−プロピル−2−アダマンチルメタクリレート、8−メチル−8−トリシクロデシルメタクリレート、及び、8−エチル−8−トリシクロデシルメタクリレート等が挙げられる。 グリシジル(メタ)アクリレート、(3−メチル−3−オキセタニル)メチル(メタ)アクリレート、および(3−エチル−3−オキセタニル)メチル(メタ)アクリレートなどの環状エーテル基を有する(メタ)アクリレート化合物も用いることができる。 Examples of the methacrylic acid ester compound include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, benzyl methacrylate, naphthyl methacrylate, anthryl methacrylate, anthryl methyl methacrylate, phenyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate and tert-butyl. Methacrylate, Cyclohexyl methacrylate, Isobornyl methacrylate, 2-Methylethyl methacrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, Tetrahydrofurfuryl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-Methyl-2-adamantyl methacrylate, 2- Examples thereof include propyl-2-adamantyl methacrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl methacrylate, 8-ethyl-8-tricyclodecyl methacrylate and the like. (Meta) acrylate compounds having a cyclic ether group such as glycidyl (meth) acrylate, (3-methyl-3-oxetanyl) methyl (meth) acrylate, and (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl (meth) acrylate are also used. be able to.

ビニル化合物としては、例えば、ビニルエーテル、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、及び、プロピルビニルエーテル等が挙げられる。
スチレン化合物としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン等が挙げられる。
マレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、N−メチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、及びN−シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。
Examples of the vinyl compound include vinyl ether, methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, propyl vinyl ether and the like.
Examples of the styrene compound include styrene, methylstyrene, chlorostyrene, bromostyrene and the like.
Examples of the maleimide compound include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide and the like.

本発明の側鎖型高分子における上記式(a)で表される側鎖の含有量は、5モル%100モル%が好ましく、10モル%〜90モル%がより好ましく、15モル%〜85モル%が更に好ましい。
本発明の側鎖型高分子における光反応性側鎖の含有量は、液晶配向性といった点から、10モル%〜90モル%が好ましく、15モル%〜85モル%がより好ましく、20モル%〜80モル%が更に好ましい。
本発明の側鎖型高分子における液晶性側鎖の含有量は、液晶配向性といった点から、5モル%〜95モル%が好ましく、10モル%〜90モル%がより好ましく、15モル%〜85モル%が更に好ましい。
本発明の側鎖型高分子は、上記式(a)で表される側鎖、光反応性側鎖及び液晶性側鎖以外のその他側鎖を含有していてもよい。その含有量は、上記式(a)で表される側鎖、光反応性側鎖及び液晶性側鎖の含有量の合計が100モル%に満たない場合に、その残りの部分である。
The content of the side chain represented by the above formula (a) in the side chain polymer of the present invention is preferably 5 mol% 100 mol%, more preferably 10 mol% to 90 mol%, and 15 mol% to 85. More preferably mol%.
The content of the photoreactive side chain in the side chain polymer of the present invention is preferably 10 mol% to 90 mol%, more preferably 15 mol% to 85 mol%, and 20 mol% from the viewpoint of liquid crystal orientation. -80 mol% is more preferred.
The content of the liquid crystal side chain in the side chain polymer of the present invention is preferably 5 mol% to 95 mol%, more preferably 10 mol% to 90 mol%, and 15 mol% to 15 mol% from the viewpoint of liquid crystal orientation. 85 mol% is more preferred.
The side chain type polymer of the present invention may contain other side chains other than the side chain represented by the above formula (a), the photoreactive side chain and the liquid crystal side chain. The content is the remaining portion when the total content of the side chain, the photoreactive side chain and the liquid crystal side chain represented by the above formula (a) is less than 100 mol%.

本実施の形態の側鎖型高分子の製造方法については、特に限定されるものではなく、工業的に扱われている汎用な方法が利用できる。具体的には、液晶性側鎖モノマーや光反応性側鎖モノマーのビニル基を利用したカチオン重合やラジカル重合、アニオン重合により製造することができる。これらの中では反応制御のしやすさなどの観点からラジカル重合が特に好ましい。
ラジカル重合の重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤や、可逆的付加−開裂型連鎖移動(RAFT)重合試薬等の公知の化合物を使用することができる。
The method for producing the side chain polymer of the present embodiment is not particularly limited, and a general-purpose method that is industrially handled can be used. Specifically, it can be produced by cationic polymerization, radical polymerization, or anionic polymerization using a vinyl group of a liquid crystal side chain monomer or a photoreactive side chain monomer. Of these, radical polymerization is particularly preferable from the viewpoint of ease of reaction control.
As the polymerization initiator for radical polymerization, known compounds such as a radical polymerization initiator and a reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization reagent can be used.

ラジカル熱重合開始剤は、分解温度以上に加熱することにより、ラジカルを発生させる化合物である。このようなラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ケトンパーオキサイド類(メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等)、ジアシルパーオキサイド類(アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等)、ハイドロパーオキサイド類(過酸化水素、tert−ブチルハイドパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等)、ジアルキルパーオキサイド類 (ジ−tert−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド等)、パーオキシケタール類(ジブチルパーオキシ シクロヘキサン等)、アルキルパーエステル類(パーオキシネオデカン酸−tert−ブチルエステル、パーオキシピバリン酸−tert−ブチルエステル、パーオキシ 2−エチルシクロヘキサン酸−tert−アミルエステル等)、過硫酸塩類(過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等)、アゾ系化合物(アゾビスイソブチロニトリル、および2,2′−ジ(2−ヒドロキシエチル)アゾビスイソブチロニトリル等)が挙げられる。このようなラジカル熱重合開始剤は、1種を単独で使用することもできるし、あるいは2種以上を組み合わせて使用することもできる。 The radical thermal polymerization initiator is a compound that generates radicals by heating to a temperature higher than the decomposition temperature. Examples of such radical thermal polymerization initiators include ketone peroxides (methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, etc.), diacyl peroxides (acetyl peroxide, benzoyl peroxide, etc.), and hydroperoxides (peroxidation). Hydrogen, tert-butylhydroxide, cumenehydroperoxide, etc.), dialkyl peroxides (di-tert-butyl peroxide, dicumyl peroxide, dilauroyl peroxide, etc.), peroxyketals (dibutylperoxycyclohexane, etc.) Etc.), alkyl peresters (peroxyneodecanic acid-tert-butyl ester, peroxypivalic acid-tert-butyl ester, peroxy2-ethylcyclohexanoic acid-tert-amyl ester, etc.), persulfates (potassium persulfate, etc.) Examples thereof include sodium persulfate, ammonium persulfate, etc.) and azo radical compounds (azobisisobutyronitrile, and 2,2'-di (2-hydroxyethyl) azobisisobutyronitrile, etc.). Such a radical thermal polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.

ラジカル光重合開始剤は、ラジカル重合を光照射によって開始する化合物であれば特に限定されない。このようなラジカル光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−エチルアントラキノン、アセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−4’−イソプロピルプロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4,4’−ジ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,4,4’−トリ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、2−(4’−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3’,4’−ジメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2’,4’−ジメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2’−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4’−ペンチルオキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−[p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)]−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、1,3−ビス(トリクロロメチル)−5−(2’−クロロフェニル)−s−トリアジン、1,3−ビス(トリクロロメチル)−5−(4’−メトキシフェニル)−s−トリアジン、2−(p−ジメチルアミノスチリル)ベンズオキサゾール、2−(p−ジメチルアミノスチリル)ベンズチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、3,3’−カルボニルビス(7−ジエチルアミノクマリン)、2−(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、3−(2−メチル−2−ジメチルアミノプロピオニル)カルバゾール、3,6−ビス(2−メチル−2−モルホリノプロピオニル)−9−n−ドデシルカルバゾール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス(5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ヘキシルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’−ジ(メトキシカルボニル)−4,4’−ジ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,4’−ジ(メトキシカルボニル)−4,3’−ジ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、4,4’−ジ(メトキシカルボニル)−3,3’−ジ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2−(3−メチル−3H−ベンゾチアゾール−2−イリデン)−1−ナフタレン−2−イル−エタノン、又は2−(3−メチル−1,3−ベンゾチアゾール−2(3H)−イリデン)−1−(2−ベンゾイル)エタノン等を挙げることができる。これらの化合物は単独で使用してもよく、2つ以上を混合して使用することもできる。 The radical photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that initiates radical polymerization by light irradiation. Examples of such radical photopolymerization initiators include benzophenone, Michler's ketone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, xanthone, thioxanthone, isopropylxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-ethylanthraquinone, acetophenone and 2-hydroxy. -2-Methylpropiophenone, 2-hydroxy-2-methyl-4'-isopropylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, isopropylbenzoin ether, isobutylbenzoin ether, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2 -Dimethoxy-2-phenylacetophenone, camphorquinone, benzanthron, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-( 4-Molholinophenyl) -butanone-1, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 4,4'-di (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,4,4'-tri ( t-Butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2- (4'-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3' , 4'-dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (2', 4'-dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2 -(2'-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-pentyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [P-N, N-di (ethoxycarbonylmethyl)]-2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (2'-chlorophenyl) -s- Triazine, 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (4'-methoxyphenyl) -s-triazine, 2- (p-dimethylaminostyryl) benzoxazole, 2- (p-dimethylaminostyryl) benzthiazole, 2-Mercaptobenzothiazole, 3,3'-carbonylbis (7-diethylaminocoumarin), 2- (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2 , 2'-bi Su (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4, 4', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'bis (2,4-dibromophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl-1,2' -Bimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-bimidazole, 3- (2-methyl-2) -Dimethylaminopropionyl) carbazole, 3,6-bis (2-methyl-2-morpholinopropionyl) -9-n-dodecylcarbazole, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, bis (5-2,4-cyclopentadiene-1- Il) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrole-1-yl) -phenyl) titanium, 3,3', 4,4'-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'-di (methoxycarbonyl) -4,4'-di (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,4'-di (3,4'-di ( Methylcarbonyl) -4,3'-di (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 4,4'-di (methoxycarbonyl) -3,3'-di (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2- (3- (3-) Methyl-3H-benzothiazole-2-ylidene) -1-naphthalen-2-yl-etanone, or 2- (3-methyl-1,3-benzothiazole-2 (3H) -iriden) -1- (2-) Benzoyl) Etanone and the like can be mentioned. These compounds may be used alone or in admixture of two or more.

ラジカル重合法は、特に制限されるものでなく、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法、沈殿重合法、塊状重合法、溶液重合法等を用いることができる。 The radical polymerization method is not particularly limited, and an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method, a dispersion polymerization method, a precipitation polymerization method, a massive polymerization method, a solution polymerization method and the like can be used.

液晶性を発現し得る感光性の側鎖型高分子の重合反応に用いる有機溶媒としては、生成した高分子が溶解するものであれば特に限定されない。その具体例を以下に挙げる。 The organic solvent used for the polymerization reaction of the photosensitive side chain polymer capable of exhibiting liquid crystallinity is not particularly limited as long as the produced polymer dissolves. Specific examples are given below.

N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドン、N−メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、ジペンテン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール−tert−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、3−メチル−3−メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジオキサン、n−へキサン、n−ペンタン、n−オクタン、ジエチルエーテル、シクロヘキサノン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸メチルエチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸、3−メトキシプロピオン酸、3−メトキシプロピオン酸プロピル、3−メトキシプロピオン酸ブチル、ジグライム、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド、3−エトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド、3−ブトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド等が挙げられる。 N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, N-methylcaprolactam, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylsulfoxide , Γ-Butylollactone, isopropyl alcohol, methoxymethylpentanol, dipentene, ethylamyl ketone, methyl nonyl ketone, methyl ethyl ketone, methyl isoamyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl cell solve, ethyl cell solve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl Carbitol, ethyl carbitol, ethylene glycol, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoacetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol-tert-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl Ether, diethylene glycol, diethylene glycol monoacetate, diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene Glycol monoacetate Monopropyl ether, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, tripropylene glycol methyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol, diisopropyl ether, ethyl isobutyl ether, diisobutylene, amyl acetate, butyl butyrate, butyl ether , Diisobutylketone, methylcyclohexene, propyl ether, dihexyl ether, dioxane, n-hexane, n-pentane, n-octane, diethyl ether, cyclohexanone, ethylene carbonate, propylene carbonate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl acetate, acetic acid Ethyl, n-butyl acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, methyl 3-methoxypropionate, methyl ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, 3-ethoxypropion Acid, 3-methoxypropionic acid, propyl 3-methoxypropionate, butyl 3-methoxypropionate, diglime, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3- Examples thereof include ethoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N, N-dimethylpropanamide and the like.

これら有機溶媒は単独で使用しても、混合して使用してもよい。さらに、生成する高分子を溶解させない溶媒であっても、生成した高分子が析出しない範囲で、上述の有機溶媒に混合して使用してもよい。
また、ラジカル重合において有機溶媒中の酸素は重合反応を阻害する原因となるので、有機溶媒は可能な程度に脱気されたものを用いることが好ましい。
These organic solvents may be used alone or in combination. Further, even if the solvent does not dissolve the produced polymer, it may be mixed with the above-mentioned organic solvent and used as long as the produced polymer does not precipitate.
Further, in radical polymerization, oxygen in an organic solvent causes an inhibition of the polymerization reaction, so it is preferable to use an organic solvent that has been degassed to the extent possible.

ラジカル重合の際の重合温度は30℃〜150℃の任意の温度を選択することができるが、好ましくは50℃〜100℃の範囲である。また、反応は任意の濃度で行うことができるが、濃度が低すぎると高分子量の重合体を得ることが難しくなり、濃度が高すぎると反応液の粘性が高くなり過ぎて均一な攪拌が困難となるので、モノマー濃度が、好ましくは1質量%〜50質量%、より好ましくは5質量%〜30質量%である。反応初期は高濃度で行い、その後、有機溶媒を追加することができる。 The polymerization temperature at the time of radical polymerization can be selected from any temperature of 30 ° C. to 150 ° C., but is preferably in the range of 50 ° C. to 100 ° C. The reaction can be carried out at an arbitrary concentration, but if the concentration is too low, it becomes difficult to obtain a polymer having a high molecular weight, and if the concentration is too high, the viscosity of the reaction solution becomes too high, making uniform stirring difficult. Therefore, the monomer concentration is preferably 1% by mass to 50% by mass, more preferably 5% by mass to 30% by mass. The initial reaction can be carried out at a high concentration and then an organic solvent can be added.

上述のラジカル重合反応においては、ラジカル重合開始剤の比率がモノマーに対して多いと得られる高分子の分子量が小さくなり、少ないと得られる高分子の分子量が大きくなるので、ラジカル開始剤の比率は重合させるモノマーに対して0.1モル%〜10モル%であることが好ましい。また重合時には各種モノマー成分や溶媒、開始剤などを追加することもできる。 In the above-mentioned radical polymerization reaction, when the ratio of the radical polymerization initiator is large with respect to the monomer, the molecular weight of the obtained polymer is small, and when the ratio of the radical polymerization initiator is small, the molecular weight of the obtained polymer is large. It is preferably 0.1 mol% to 10 mol% with respect to the monomer to be polymerized. Further, various monomer components, solvents, initiators and the like can be added at the time of polymerization.

[重合体の回収]
上述の反応により得られた、液晶性を発現し得る感光性の側鎖型高分子の反応溶液から、生成した高分子を回収する場合には、反応溶液を貧溶媒に投入して、それら重合体を沈殿させれば良い。沈殿に用いる貧溶媒としては、メタノール、アセトン、ヘキサン、ヘプタン、ブチルセルソルブ、ヘプタン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エタノール、トルエン、ベンゼン、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、水等を挙げることができる。貧溶媒に投入して沈殿させた重合体は、濾過して回収した後、常圧あるいは減圧下で、常温あるいは加熱して乾燥することができる。また、沈殿回収した重合体を、有機溶媒に再溶解させ、再沈殿回収する操作を2回〜10回繰り返すと、重合体中の不純物を少なくすることができる。この際の貧溶媒として、例えば、アルコール類、ケトン類、炭化水素等が挙げられ、これらの中から選ばれる3種類以上の貧溶媒を用いると、より一層精製の効率が上がるので好ましい。
[Recovery of polymer]
When recovering the produced polymer from the reaction solution of the photosensitive side-chain polymer capable of expressing liquidity obtained by the above reaction, the reaction solution is put into a poor solvent and their weights are increased. The coalescence may be precipitated. Examples of the poor solvent used for precipitation include methanol, acetone, hexane, heptane, butyl cellsolve, heptane, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethanol, toluene, benzene, diethyl ether, methyl ethyl ether, water and the like. The polymer which has been put into a poor solvent and precipitated can be collected by filtration and then dried at normal temperature or by heating under normal pressure or reduced pressure. Further, by re-dissolving the polymer recovered by precipitation in an organic solvent and repeating the operation of re-precipitation recovery 2 to 10 times, impurities in the polymer can be reduced. Examples of the poor solvent at this time include alcohols, ketones, hydrocarbons, and the like, and it is preferable to use three or more kinds of poor solvents selected from these because the purification efficiency is further improved.

本発明の(A)側鎖型高分子の分子量は、得られる塗膜の強度、塗膜形成時の作業性、および塗膜の均一性を考慮した場合、GPC(Gel Permeation Chromatography)法で測定した重量平均分子量が、2000〜2000000が好ましく、より好ましくは、5000〜150000である。あるいは、前記重量平均分子量は、2000〜1000000がであることも好ましく、より好ましくは、5000〜200000である。
本発明の(A)成分である側鎖型高分子において、式(a)で表される側鎖の含有量は、5〜95モル%が好ましく、10〜90モル%がより好ましく、20〜80モル%が更に好ましい。
The molecular weight of the side chain polymer (A) of the present invention is measured by the GPC (Gel Permeation Chromatography) method in consideration of the strength of the obtained coating film, the workability at the time of forming the coating film, and the uniformity of the coating film. The weight average molecular weight obtained is preferably 2000 to 2000000, more preferably 5000 to 150,000. Alternatively, the weight average molecular weight is preferably 2000 to 1000000, more preferably 5000 to 20000.
In the side chain type polymer which is the component (A) of the present invention, the content of the side chain represented by the formula (a) is preferably 5 to 95 mol%, more preferably 10 to 90 mol%, and 20 to 20 mol%. 80 mol% is more preferred.

<<(B)有機溶媒>>
本発明に用いられる重合体組成物に用いる有機溶媒は、樹脂成分を溶解させる有機溶媒であれば特に限定されない。その具体例を以下に挙げる。
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−メチルカプロラクタム、2−ピロリドン、N−エチルピロリドン、N−ビニルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド、3−エトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド、3−ブトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド、1,3−ジメチル−イミダゾリジノン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジグライム、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール−tert−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル等が挙げられる。これらは単独で使用しても、混合して使用してもよい。
<< (B) Organic Solvent >>
The organic solvent used in the polymer composition used in the present invention is not particularly limited as long as it is an organic solvent that dissolves the resin component. Specific examples are given below.
N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methylcaprolactam, 2-pyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, N-vinylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, pyridine, Dimethylsulfone, hexamethylsulfoxide, γ-butyrolactone, 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3-ethoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N, N-dimethylpropanamide, 1,3 -Dimethyl-imidazolidinone, ethylamyl ketone, methylnonyl ketone, methyl ethyl ketone, methyl isoamyl ketone, methyl isopropyl ketone, cyclohexanone, ethylene carbonate, propylene carbonate, diglime, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, propylene glycol mono Acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol-tert-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monoacetate, diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, Examples thereof include dipropylene glycol monoacetate monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monoacetate monopropyl ether, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, and tripropylene glycol methyl ether. These may be used alone or in combination.

本発明に用いられる重合体組成物は、上記(A)、(B)及び(C)成分以外の成分を含有してもよい。その例としては、重合体組成物を塗布した際の、膜厚均一性や表面平滑性を向上させる溶媒や化合物、液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物等を挙げることができるが、これに限定されない。 The polymer composition used in the present invention may contain components other than the above components (A), (B) and (C). Examples thereof include solvents and compounds that improve film thickness uniformity and surface smoothness when the polymer composition is applied, compounds that improve the adhesion between the liquid crystal alignment film and the substrate, and the like. , Not limited to this.

膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる溶媒(貧溶媒)の具体例としては、次のものが挙げられる。
例えば、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール−tert−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、3−メチル−3−メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、1−ヘキサノール、n−へキサン、n−ペンタン、n−オクタン、ジエチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸メチルエチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸、3−メトキシプロピオン酸、3−メトキシプロピオン酸プロピル、3−メトキシプロピオン酸ブチル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノール、1−ブトキシ−2−プロパノール、1−フェノキシ−2−プロパノール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート、プロピレングリコール−1−モノエチルエーテル−2−アセテート、ジプロピレングリコール、2−(2−エトキシプロポキシ)プロパノール、乳酸メチルエステル、乳酸エチルエステル、乳酸n−プロピルエステル、乳酸n−ブチルエステル、乳酸イソアミルエステル等の低表面張力を有する溶媒等が挙げられる。
Specific examples of the solvent (poor solvent) for improving the uniformity of the film thickness and the surface smoothness include the following.
For example, isopropyl alcohol, methoxymethylpentanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl carbitol, ethyl carbitol, ethyl carbitol acetate, ethylene glycol, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol mono. Isopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoacetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol-tert-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monoacetate, diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monomethyl ether. , Dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monoacetate monopropyl ether, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, tri Propylene glycol methyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol, diisopropyl ether, ethylisobutyl ether, diisobutylene, amylacetate, butylbutyrate, butyl ether, diisobutylketone, methylcyclohexene, propyl ether, dihexyl ether, 1-hexanol, n-hexane, n-pentane, n-octane, diethyl ether, methyl lactate, ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate, propylene glycol monoethyl ether, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, 3- Methyl methoxypropionate, methyl ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, 3-ethoxypropionic acid, 3-methoxypropionic acid, propyl 3-methoxypropionate, butyl 3-methoxypropionate, 1-methoxy- 2-propanol, 1-ethoxy-2-propanol, 1-butoxy-2-propanol, 1-phenoxy-2-propanol, propylene glycol monoacetate, propylene glycol diacetate, propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate, Propylene glycol- Low levels of 1-monoethyl ether-2-acetate, dipropylene glycol, 2- (2-ethoxypropoxy) propanol, methyl lactate ester, ethyl lactate ester, n-propyl ester lactate, n-butyl ester lactate, isoamyl lactate ester, etc. Examples thereof include a solvent having a surface tension.

これらの貧溶媒は、1種類でも複数種類を混合して用いてもよい。上述のような溶媒を用いる場合は、重合体組成物に含まれる溶媒全体の溶解性を著しく低下させることが無いように、溶媒全体の5質量%〜80質量%であることが好ましく、より好ましくは20質量%〜60質量%である。 These poor solvents may be used alone or in admixture of a plurality of types. When the above-mentioned solvent is used, it is preferably 5% by mass to 80% by mass, more preferably 5% by mass, so as not to significantly reduce the solubility of the whole solvent contained in the polymer composition. Is 20% by mass to 60% by mass.

膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびノ二オン系界面活性剤等が挙げられる。
より具体的には、例えば、エフトップ(登録商標)301、EF303、EF352(トーケムプロダクツ社製)、メガファック(登録商標)F171、F173、R−30(DIC社製)、フロラードFC430、FC431(住友スリーエム社製)、アサヒガード(登録商標)AG710(旭硝子社製)、サーフロン(登録商標)S−382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106(AGCセイミケミカル社製)等が挙げられる。これらの界面活性剤の使用割合は、重合体組成物に含有される樹脂成分の100質量部に対して、好ましくは0.01質量部〜2質量部、より好ましくは0.01質量部〜1質量部である。
Examples of the compound for improving the uniformity of the film thickness and the surface smoothness include a fluorine-based surfactant, a silicone-based surfactant, and a nonion-based surfactant.
More specifically, for example, Ftop (registered trademark) 301, EF303, EF352 (manufactured by Tochem Products), Megafuck (registered trademark) F171, F173, R-30 (manufactured by DIC), Florard FC430, FC431. (Sumitomo 3M), Asahi Guard (registered trademark) AG710 (Asahi Glass), Surflon (registered trademark) S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105, SC106 (made by AGC Seimi Chemical), etc. Be done. The ratio of these surfactants used is preferably 0.01 parts by mass to 2 parts by mass, and more preferably 0.01 parts by mass to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component contained in the polymer composition. It is a mass part.

液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物の具体例としては、次に示す官能性シラン含有化合物などが挙げられる。
例えば、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、2−アミノプロピルトリメトキシシラン、2−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N−エトキシカルボニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−エトキシカルボニル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、N−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、10−トリメトキシシリル−1,4,7−トリアザデカン、10−トリエトキシシリル−1,4,7−トリアザデカン、9−トリメトキシシリル−3,6−ジアザノニルアセテート、9−トリエトキシシリル−3,6−ジアザノニルアセテート、N−ベンジル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ベンジル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−ビス(オキシエチレン)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ビス(オキシエチレン)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
Specific examples of the compound that improves the adhesion between the liquid crystal alignment film and the substrate include the following functional silane-containing compounds.
For example, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane. , N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-ethoxy Carbonyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-triethoxysilylpropyltriethylenetriamine, N-trimethoxysilylpropyltriethylenetriamine, 10-trimethoxysilyl-1,4,7-triazadecane, 10-triethoxysilyl- 1,4,7-Triazadecane, 9-trimethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, 9-triethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, N-benzyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-benzyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-bis (oxyethylene) -3-aminopropyltrimethoxy Examples thereof include silane and N-bis (oxyethylene) -3-aminopropyltriethoxysilane.

さらに、基板と液晶配向膜の密着性の向上に加え、液晶表示素子を構成した時のバックライトによる電気特性の低下等を防ぐ目的で、以下のようなフェノプラスト系やエポキシ基含有化合物の添加剤を、重合体組成物中に含有させても良い。具体的なフェノプラスト系添加剤を以下に示すが、この構造に限定されない。 Furthermore, in addition to improving the adhesion between the substrate and the liquid crystal alignment film, the following phenoplast-based or epoxy group-containing compounds are added for the purpose of preventing deterioration of electrical characteristics due to the backlight when the liquid crystal display element is configured. The agent may be contained in the polymer composition. Specific phenoplast-based additives are shown below, but are not limited to this structure.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

具体的なエポキシ基含有化合物としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、2,2−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,3,5,6−テトラグリシジル−2,4−ヘキサンジオール、N,N,N’,N’,−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’,−テトラグリシジル−4、4’−ジアミノジフェニルメタンなどが例示される。 Specific epoxy group-containing compounds include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1, 6-Hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, 1,3,5,6-tetraglycidyl-2,4-hexanediol, N, N, N', N', -tetraglycidyl-m-xylene diamine, 1,3-bis (N, N-diglycidyl aminomethyl) cyclohexane, N, N, N', N',-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane Etc. are exemplified.

基板との密着性を向上させる化合物を使用する場合、その使用量は、重合体組成物に含有される樹脂成分の100質量部に対して0.1質量部〜30質量部であることが好ましく、より好ましくは1質量部〜20質量部である。使用量が0.1質量部未満であると密着性向上の効果は期待できず、30質量部よりも多くなると液晶の配向性が悪くなる場合がある。 When a compound that improves adhesion to a substrate is used, the amount used is preferably 0.1 part by mass to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component contained in the polymer composition. , More preferably 1 part by mass to 20 parts by mass. If the amount used is less than 0.1 parts by mass, the effect of improving the adhesion cannot be expected, and if it is more than 30 parts by mass, the orientation of the liquid crystal display may deteriorate.

添加剤として、光増感剤を用いることもできる。無色増感剤および三重項増感剤が好ましい。
光増感剤としては、芳香族ニトロ化合物、クマリン(7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン、7−ヒドロキシ4−メチルクマリン)、ケトクマリン、カルボニルビスクマリン、芳香族2−ヒドロキシケトン、およびアミノ置換された、芳香族2−ヒドロキシケトン(2−ヒドロキシベンゾフェノン、モノ−もしくはジ−p−(ジメチルアミノ)−2−ヒドロキシベンゾフェノン)、アセトフェノン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、ベンズアントロン、チアゾリン(2−ベンゾイルメチレン−3−メチル−β−ナフトチアゾリン、2−(β−ナフトイルメチレン)−3−メチルベンゾチアゾリン、2−(α−ナフトイルメチレン)−3−メチルベンゾチアゾリン、2−(4−ビフェノイルメチレン)−3−メチルベンゾチアゾリン、2−(β−ナフトイルメチレン)−3−メチル−β−ナフトチアゾリン、2−(4−ビフェノイルメチレン)−3−メチル−β−ナフトチアゾリン、2−(p−フルオロベンゾイルメチレン)−3−メチル−β−ナフトチアゾリン)、オキサゾリン(2−ベンゾイルメチレン−3−メチル−β−ナフトオキサゾリン、2−(β−ナフトイルメチレン)−3−メチルベンゾオキサゾリン、2−(α−ナフトイルメチレン)−3−メチルベンゾオキサゾリン、2−(4−ビフェノイルメチレン)−3−メチルベンゾオキサゾリン、2−(β−ナフトイルメチレン)−3−メチル−β−ナフトオキサゾリン、2−(4−ビフェノイルメチレン)−3−メチル−β−ナフトオキサゾリン、2−(p−フルオロベンゾイルメチレン)−3−メチル−β−ナフトオキサゾリン)、ベンゾチアゾール、ニトロアニリン(m−もしくはp−ニトロアニリン、2,4,6−トリニトロアニリン)またはニトロアセナフテン(5−ニトロアセナフテン)、(2−[(m−ヒドロキシ−p−メトキシ)スチリル]ベンゾチアゾール、ベンゾインアルキルエーテル、N−アルキル化フタロン、アセトフェノンケタール(2,2−ジメトキシフェニルエタノン)、ナフタレン、アントラセン(2−ナフタレンメタノール、2−ナフタレンカルボン酸、9−アントラセンメタノール、および9−アントラセンカルボン酸)、ベンゾピラン、アゾインドリジン、メチルクマリン等がある。
好ましくは、芳香族2−ヒドロキシケトン(ベンゾフェノン)、クマリン、ケトクマリン、カルボニルビスクマリン、アセトフェノン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、およびアセトフェノンケタールである。
A photosensitizer can also be used as the additive. Colorless sensitizers and triplet sensitizers are preferred.
Photosensitizers include aromatic nitro compounds, coumarin (7-diethylamino-4-methylcoumarin, 7-hydroxy4-methylcoumarin), ketocoumarin, carbonylbiscmarin, aromatic 2-hydroxyketone, and amino substitutions. , Aromatic 2-hydroxyketone (2-hydroxybenzophenone, mono- or di-p- (dimethylamino) -2-hydroxybenzophenone), acetophenone, anthraquinone, xanthone, thioxanthone, benzanthron, thiazolin (2-benzoylmethylene-3) -Methyl-β-naphthiazoline, 2- (β-naphthoylmethylene) -3-methylbenzothiazolin, 2- (α-naphthoylmethylene) -3-methylbenzothiazolin, 2- (4-biphenoylmethylene)- 3-Methylbenzothiazolin, 2- (β-naphthoyl methylene) -3-methyl-β-naphthiazoline, 2- (4-biphenoyl methylene) -3-methyl-β-naphthiazoline, 2- (p-fluoro) Benzoylmethylene) -3-methyl-β-naphthiazoline), oxazoline (2-benzoylmethylene-3-methyl-β-naphthoxazoline, 2- (β-naphthoylmethylene) -3-methylbenzoxazoline, 2- (α) -Naftylmethylene) -3-methylbenzoxazoline, 2- (4-biphenoylmethylene) -3-methylbenzoxazoline, 2- (β-naphthoylmethylene) -3-methyl-β-naphthoxazoline, 2-( 4-Bifenoylmethylene) -3-methyl-β-naphthoxazoline, 2- (p-fluorobenzoylmethylene) -3-methyl-β-naphthoxazoline), benzothiazole, nitroaniline (m- or p-nitroaniline, 2,4,6-trinitroaniline) or nitroacenaften (5-nitroacenaften), (2-[(m-hydroxy-p-methoxy) styryl] benzothiazole, benzoinalkyl ether, N-alkylated phthalone, Acetphenone ketal (2,2-dimethoxyphenylethanone), naphthalene, anthracene (2-naphthalene methanol, 2-naphthalenecarboxylic acid, 9-anthracenemethanol, and 9-anthracenecarboxylic acid), benzopyrane, azoindidine, methylcoumarin, etc. There is.
Preferred are aromatic 2-hydroxyketones (benzophenone), coumarin, ketocoumarin, carbonyl biscumarin, acetophenone, anthraquinone, xanthone, thioxanthone, and acetophenone ketal.

重合体組成物には、上述したものの他、本発明の効果が損なわれない範囲であれば、液晶配向膜の誘電率や導電性などの電気特性を変化させる目的で、誘電体や導電物質、さらには、液晶配向膜にした際の膜の硬度や緻密度を高める目的で、架橋性化合物を添加してもよい。 In addition to the above-mentioned polymer compositions, dielectrics and conductive substances can be used for the purpose of changing the electrical properties such as the dielectric constant and conductivity of the liquid crystal alignment film as long as the effects of the present invention are not impaired. Furthermore, a crosslinkable compound may be added for the purpose of increasing the hardness and density of the film when it is formed into a liquid crystal alignment film.

[重合体組成物の調製]
本発明に用いられる重合体組成物は、液晶配向膜の形成に好適となるように塗布液として調製されることが好ましい。すなわち、本発明に用いられる重合体組成物は、上述の(A)成分及び上述の膜厚均一性や表面平滑性を向上させる溶媒や化合物、液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物等が有機溶媒に溶解した溶液として調製されることが好ましい。ここで、(A)成分の含有量は、1質量%〜20質量%が好ましく、より好ましくは3質量%〜15質量%、特に好ましくは3質量%〜10質量%である。
[Preparation of polymer composition]
The polymer composition used in the present invention is preferably prepared as a coating liquid so as to be suitable for forming a liquid crystal alignment film. That is, the polymer composition used in the present invention includes the above-mentioned component (A), the above-mentioned solvent or compound that improves the film thickness uniformity and surface smoothness, and the compound that improves the adhesion between the liquid crystal alignment film and the substrate. Etc. are preferably prepared as a solution dissolved in an organic solvent. Here, the content of the component (A) is preferably 1% by mass to 20% by mass, more preferably 3% by mass to 15% by mass, and particularly preferably 3% by mass to 10% by mass.

本実施形態の重合体組成物において、(A)成分以外に、液晶発現能および感光性能を損なわない範囲で他の重合体が混合されていてもよい。その際、樹脂成分中における他の重合体の含有量は、0.5質量%〜80質量%、好ましくは1質量%〜50質量%である。
そのような他の重合体は、例えば、ポリ(メタ)アクリレートやポリアミック酸やポリイミド等からなり、液晶性を発現し得る感光性の側鎖型高分子ではない重合体等が挙げられる。
In the polymer composition of the present embodiment, in addition to the component (A), other polymers may be mixed as long as the liquid crystal display ability and the photosensitive performance are not impaired. At that time, the content of the other polymer in the resin component is 0.5% by mass to 80% by mass, preferably 1% by mass to 50% by mass.
Examples of such other polymers include polymers that are composed of poly (meth) acrylate, polyamic acid, polyimide, etc., and are not photosensitive side chain polymers capable of exhibiting liquid crystallinity.

<液晶配向膜を有する基板の製造方法>及び<液晶表示素子の製造方法>
本発明の液晶配向膜を有する基板の製造方法は、
[I] (A)所定の温度範囲で液晶性を発現する感光性の側鎖型高分子、及び
(B)有機溶媒
を含有することを特徴とする重合体組成物を、横電界駆動用の導電膜を有する基板上に塗布して塗膜を形成する工程;
[II] [I]で得られた塗膜に偏光した紫外線を照射する工程;及び
[III] [II]で得られた塗膜を加熱する工程;
を有する。
上記工程により、配向制御能が付与された横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を得ることができ、該液晶配向膜を有する基板を得ることができる。
<Manufacturing method of substrate having liquid crystal alignment film> and <Manufacturing method of liquid crystal display element>
The method for manufacturing a substrate having a liquid crystal alignment film of the present invention is
[I] A polymer composition characterized by containing (A) a photosensitive side-chain polymer that exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range and (B) an organic solvent for driving a transverse electric field. A process of forming a coating film by applying it on a substrate having a conductive film;
[II] A step of irradiating the coating film obtained in [I] with polarized ultraviolet rays; and a step of heating the coating film obtained in [III] [II];
Have.
Through the above steps, a liquid crystal alignment film for a transverse electric field drive type liquid crystal display element to which orientation control ability is imparted can be obtained, and a substrate having the liquid crystal alignment film can be obtained.

本発明の第2の態様において、本発明の液晶配向膜を有する基板の製造方法は、
[I] (A)所定の温度範囲で液晶性を発現する感光性の側鎖型高分子、及び
(B) 有機溶媒
を含有することを特徴とする重合体組成物を、横電界駆動用の導電膜を有する基板上に塗布して塗膜を形成する工程;
[II] [I]で得られた塗膜に偏光した紫外線を照射する工程;及び
[III] [II]で得られた塗膜を加熱する工程;
を有する。
上記工程により、配向制御能が付与された横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を得ることができ、該液晶配向膜を有する基板を得ることができる。
In the second aspect of the present invention, the method for producing a substrate having a liquid crystal alignment film of the present invention is:
[I] A polymer composition characterized by containing (A) a photosensitive side-chain polymer that exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range and (B) an organic solvent for driving a transverse electric field. A process of forming a coating film by applying it on a substrate having a conductive film;
[II] A step of irradiating the coating film obtained in [I] with polarized ultraviolet rays; and a step of heating the coating film obtained in [III] [II];
Have.
Through the above steps, a liquid crystal alignment film for a transverse electric field drive type liquid crystal display element to which orientation control ability is imparted can be obtained, and a substrate having the liquid crystal alignment film can be obtained.

また、上記得られた基板(第1の基板)の他に、第2の基板を準備することにより、横電界駆動型液晶表示素子を得ることができる。
第2の基板は、横電界駆動用の導電膜を有する基板に代わって、横電界駆動用の導電膜を有しない基板を用いる以外、上記工程[I]〜[III](横電界駆動用の導電膜を有しない基板を用いるため、便宜上、本願において、工程[I’]〜[III’]と略記する場合がある)を用いることにより、配向制御能が付与された液晶配向膜を有する第2の基板を得ることができる。
Further, by preparing a second substrate in addition to the obtained substrate (first substrate), a transverse electric field drive type liquid crystal display element can be obtained.
As the second substrate, the above steps [I] to [III] (for driving a transverse electric field) are used, except that a substrate having no conductive film for driving a transverse electric field is used instead of the substrate having a conductive film for driving a transverse electric field. Since a substrate having no conductive film is used, for convenience, in the present application, steps [I'] to [III'] may be abbreviated) to have a liquid crystal alignment film to which orientation control ability is imparted. 2 substrates can be obtained.

横電界駆動型液晶表示素子の製造方法は、
[IV] 上記で得られた第1及び第2の基板を、液晶を介して第1及び第2の基板の液晶配向膜が相対するように、対向配置して液晶表示素子を得る工程;
を有する。これにより横電界駆動型液晶表示素子を得ることができる。
The method for manufacturing a transverse electric field drive type liquid crystal display element is as follows.
[IV] A step of obtaining a liquid crystal display element by arranging the first and second substrates obtained above so as to face each other so that the liquid crystal alignment films of the first and second substrates face each other via a liquid crystal display;
Have. As a result, a horizontal electric field drive type liquid crystal display element can be obtained.

以下、本発明の製造方法の有する[I]〜[III]、および[IV]の各工程について説明する。
<工程[I]>
工程[I]では、横電界駆動用の導電膜を有する基板上に、所定の温度範囲で液晶性を発現する感光性の側鎖型高分子、及び有機溶媒を含有する重合体組成物を塗布して塗膜を形成する。
Hereinafter, each of the steps [I] to [III] and [IV] included in the production method of the present invention will be described.
<Step [I]>
In step [I], a polymer composition containing a photosensitive side chain polymer that exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range and an organic solvent is applied onto a substrate having a conductive film for driving a transverse electric field. To form a coating film.

<基板>
基板については、特に限定はされないが、製造される液晶表示素子が透過型である場合、透明性の高い基板が用いられることが好ましい。その場合、特に限定はされず、ガラス基板、またはアクリル基板やポリカーボネート基板等のプラスチック基板等を用いることができる。
また、反射型の液晶表示素子への適用を考慮し、シリコンウェハなどの不透明な基板も使用できる。
<Board>
The substrate is not particularly limited, but when the liquid crystal display element to be manufactured is a transmissive type, it is preferable to use a highly transparent substrate. In that case, the present invention is not particularly limited, and a glass substrate, a plastic substrate such as an acrylic substrate or a polycarbonate substrate, or the like can be used.
Further, in consideration of application to a reflective liquid crystal display element, an opaque substrate such as a silicon wafer can also be used.

<横電界駆動用の導電膜>
基板は、横電界駆動用の導電膜を有する。
該導電膜として、液晶表示素子が透過型である場合、ITO(Indium Tin Oxide:酸化インジウムスズ)、IZO(Indium Zinc Oxide:酸化インジウム亜鉛)などを挙げることができるが、これらに限定されない。
また、反射型の液晶表示素子の場合、導電膜として、アルミなどの光を反射する材料などを挙げることができるがこれらに限定されない。
基板に導電膜を形成する方法は、従来公知の手法を用いることができる。
<Conductor for driving a transverse electric field>
The substrate has a conductive film for driving a transverse electric field.
Examples of the conductive film include, but are not limited to, ITO (Indium Tin Oxide: indium tin oxide) and IZO (Indium Zinc Oxide: indium zinc oxide) when the liquid crystal display element is a transmissive type.
Further, in the case of a reflective liquid crystal display element, examples of the conductive film include a material that reflects light such as aluminum, but the conductive film is not limited thereto.
As a method for forming a conductive film on a substrate, a conventionally known method can be used.

上述した重合体組成物を横電界駆動用の導電膜を有する基板上に塗布する方法は特に限定されない。
塗布方法は、工業的には、スクリーン印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷またはインクジェット法などで行う方法が一般的である。その他の塗布方法としては、ディップ法、ロールコータ法、スリットコータ法、スピンナ法(回転塗布法)またはスプレー法などがあり、目的に応じてこれらを用いてもよい。
The method of applying the above-mentioned polymer composition on a substrate having a conductive film for driving a transverse electric field is not particularly limited.
Industrially, the coating method is generally performed by screen printing, offset printing, flexographic printing, inkjet method, or the like. Other coating methods include a dip method, a roll coater method, a slit coater method, a spinner method (rotary coating method), a spray method, and the like, and these may be used depending on the purpose.

横電界駆動用の導電膜を有する基板上に重合体組成物を塗布した後は、ホットプレート、熱循環型オーブンまたはIR(赤外線)型オーブンなどの加熱手段により50〜200℃、好ましくは50〜150℃で溶媒を蒸発させて塗膜を得ることができる。このときの乾燥温度は、側鎖型高分子の液晶相発現温度よりも低いことが好ましい。
塗膜の厚みは、厚すぎると液晶表示素子の消費電力の面で不利となり、薄すぎると液晶表示素子の信頼性が低下する場合があるので、好ましくは5nm〜300nm、より好ましくは10nm〜150nmである。
尚、[I]工程の後、続く[II]工程の前に塗膜の形成された基板を室温にまで冷却する工程を設けることも可能である。
After applying the polymer composition on a substrate having a conductive film for driving a transverse electric field, the temperature is 50 to 200 ° C., preferably 50 to 200 ° C. by a heating means such as a hot plate, a heat circulation type oven or an IR (infrared) type oven. A coating can be obtained by evaporating the solvent at 150 ° C. The drying temperature at this time is preferably lower than the liquid crystal phase expression temperature of the side chain polymer.
If the thickness of the coating film is too thick, it is disadvantageous in terms of power consumption of the liquid crystal display element, and if it is too thin, the reliability of the liquid crystal display element may decrease. Therefore, the thickness is preferably 5 nm to 300 nm, more preferably 10 nm to 150 nm. Is.
It is also possible to provide a step of cooling the substrate on which the coating film is formed to room temperature after the step [I] and before the subsequent step [II].

<工程[II]>
工程[II]では、工程[I]で得られた塗膜に偏光した紫外線を照射する。塗膜の膜面に偏光した紫外線を照射する場合、基板に対して一定の方向から偏光板を介して偏光された紫外線を照射する。使用する紫外線としては、波長100nm〜400nmの範囲の紫外線を使用することができる。好ましくは、使用する塗膜の種類によりフィルター等を介して最適な波長を選択する。そして、例えば、選択的に光架橋反応を誘起できるように、波長290nm〜400nmの範囲の紫外線を選択して使用することができる。紫外線としては、例えば、高圧水銀灯から放射される光を用いることができる。
<Step [II]>
In step [II], the coating film obtained in step [I] is irradiated with polarized ultraviolet rays. When the film surface of the coating film is irradiated with polarized ultraviolet rays, the substrate is irradiated with polarized ultraviolet rays from a certain direction via a polarizing plate. As the ultraviolet rays to be used, ultraviolet rays having a wavelength in the range of 100 nm to 400 nm can be used. Preferably, the optimum wavelength is selected through a filter or the like depending on the type of coating film used. Then, for example, ultraviolet rays having a wavelength in the range of 290 nm to 400 nm can be selected and used so that the photocrosslinking reaction can be selectively induced. As the ultraviolet rays, for example, light emitted from a high-pressure mercury lamp can be used.

偏光した紫外線の照射量は、使用する塗膜に依存する。照射量は、該塗膜における、偏光した紫外線の偏光方向と平行な方向の紫外線吸光度と垂直な方向の紫外線吸光度との差であるΔAの最大値(以下、ΔAmaxとも称する)を実現する偏光紫外線の量の1%〜70%の範囲内とすることが好ましく、1%〜50%の範囲内とすることがより好ましい。 The irradiation amount of polarized ultraviolet rays depends on the coating film used. The irradiation amount is the polarized ultraviolet rays that realize the maximum value of ΔA (hereinafter, also referred to as ΔAmax), which is the difference between the ultraviolet absorptivity in the direction parallel to the polarization direction of the polarized ultraviolet rays and the ultraviolet absorptivity in the vertical direction in the coating film. The amount is preferably in the range of 1% to 70%, and more preferably in the range of 1% to 50%.

<工程[III]>
工程[III]では、工程[II]で偏光した紫外線の照射された塗膜を加熱する。加熱により、塗膜に配向制御能を付与することができる。
加熱は、ホットプレート、熱循環型オーブンまたはIR(赤外線)型オーブンなどの加熱手段を用いることができる。加熱温度は、使用する塗膜の液晶性を発現させる温度を考慮して決めることができる。
<Step [III]>
In step [III], the coating film irradiated with ultraviolet rays polarized in step [II] is heated. Orientation control ability can be imparted to the coating film by heating.
For heating, a heating means such as a hot plate, a heat circulation type oven, or an IR (infrared) type oven can be used. The heating temperature can be determined in consideration of the temperature at which the liquid crystal property of the coating film to be used is exhibited.

加熱温度は、側鎖型高分子が液晶性を発現する温度(以下、液晶性発現温度という)の温度範囲内であることが好ましい。塗膜のような薄膜表面の場合、塗膜表面の液晶性発現温度は、液晶性を発現し得る感光性の側鎖型高分子をバルクで観察した場合の液晶性発現温度よりも低いことが予想される。このため、加熱温度は、塗膜表面の液晶性発現温度の温度範囲内であることがより好ましい。すなわち、偏光紫外線照射後の加熱温度の温度範囲は、使用する側鎖型高分子の液晶性発現温度の温度範囲の下限より10℃低い温度を下限とし、その液晶温度範囲の上限より10℃低い温度を上限とする範囲の温度であることが好ましい。加熱温度が、上記温度範囲よりも低いと、塗膜における熱による異方性の増幅効果が不十分となる傾向があり、また加熱温度が、上記温度範囲よりも高すぎると、塗膜の状態が等方性の液体状態(等方相)に近くなる傾向があり、この場合、自己組織化によって一方向に再配向することが困難になることがある。
なお、液晶性発現温度は、側鎖型高分子または塗膜表面が固体相から液晶相に相転移がおきるガラス転移温度(Tg)以上であって、液晶相からアイソトロピック相(等方相)に相転移を起こすアイソトロピック相転移温度(Tiso)以下の温度をいう。
The heating temperature is preferably within the temperature range of the temperature at which the side chain polymer exhibits liquid crystallinity (hereinafter referred to as the liquid crystal display temperature). In the case of a thin film surface such as a coating film, the liquid crystal display temperature on the coating film surface may be lower than the liquid crystal display temperature when a photosensitive side chain polymer capable of exhibiting liquid crystal properties is observed in bulk. is expected. Therefore, the heating temperature is more preferably within the temperature range of the liquid crystal appearance temperature on the surface of the coating film. That is, the temperature range of the heating temperature after irradiation with polarized ultraviolet rays is 10 ° C. lower than the lower limit of the temperature range of the liquid crystal development temperature of the side chain polymer to be used, and 10 ° C. lower than the upper limit of the liquid crystal temperature range. The temperature is preferably in the range up to the temperature. If the heating temperature is lower than the above temperature range, the effect of amplifying anisotropy due to heat in the coating film tends to be insufficient, and if the heating temperature is too high above the above temperature range, the state of the coating film is in a state. Tends to be close to an isotropic liquid state (isotropic phase), in which case self-assembly can make it difficult to reorient in one direction.
The liquid crystal development temperature is equal to or higher than the glass transition temperature (Tg) at which the side chain polymer or the coating surface undergoes a phase transition from the solid phase to the liquid crystal phase, and the liquid crystal phase to the isotropic phase (isotropic phase). A temperature below the isotropic phase transition temperature (Tiso) that causes a phase transition.

以上の工程を有することにより、本発明の製造方法では、高効率な、塗膜への異方性の導入を実現することができる。そして、高効率に液晶配向膜付基板を製造することができる。 By having the above steps, the production method of the present invention can realize highly efficient introduction of anisotropy into the coating film. Then, a substrate with a liquid crystal alignment film can be manufactured with high efficiency.

<工程[IV]>
[IV]工程は、[III]で得られた、横電界駆動用の導電膜上に液晶配向膜を有する基板(第1の基板)と、同様に上記[I’]〜[III’]で得られた、導電膜を有しない液晶配向膜付基板(第2の基板)とを、液晶を介して、双方の液晶配向膜が相対するように対向配置して、公知の方法で液晶セルを作製し、横電界駆動型液晶表示素子を作製する工程である。なお、工程[I’]〜[III’]は、工程[I]において、横電界駆動用の導電膜を有する基板の代わりに、該横電界駆動用導電膜を有しない基板を用いた以外、工程[I]〜[III]と同様に行うことができる。工程[I]〜[III]と工程[I’]〜[III’]との相違点は、上述した導電膜の有無だけであるため、工程[I’]〜[III’]の説明を省略する。
<Step [IV]>
In the [IV] step, the same as the substrate (first substrate) having the liquid crystal alignment film on the conductive film for driving the transverse electric field obtained in [III], and the above [I'] to [III']. The obtained substrate with a liquid crystal alignment film (second substrate) having no conductive film is placed facing each other so that both liquid crystal alignment films face each other via the liquid crystal, and the liquid crystal cell is formed by a known method. This is a step of manufacturing and manufacturing a transverse electric field driven liquid crystal display element. In steps [I'] to [III'], except that in step [I], a substrate having no transverse electric field driving conductive film was used instead of the substrate having the transverse electric field driving conductive film. It can be carried out in the same manner as in steps [I] to [III]. Since the only difference between the steps [I] to [III] and the steps [I'] to [III'] is the presence or absence of the conductive film described above, the description of the steps [I'] to [III'] is omitted. do.

液晶セル又は液晶表示素子の作製の一例を挙げるならば、上述の第1及び第2の基板を用意し、片方の基板の液晶配向膜上にスペーサを散布し、液晶配向膜面が内側になるようにして、もう片方の基板を貼り合わせ、液晶を減圧注入して封止する方法、または、スペーサを散布した液晶配向膜面に液晶を滴下した後に、基板を貼り合わせて封止を行う方法、等を例示することができる。このとき、片側の基板には横電界駆動用の櫛歯のような構造の電極を有する基板を用いることが好ましい。このときのスペーサの径は、好ましくは1μm〜30μm、より好ましくは2μm〜10μmである。このスペーサ径が、液晶層を挟持する一対の基板間距離、すなわち、液晶層の厚みを決めることになる。 To give an example of manufacturing a liquid crystal cell or a liquid crystal display element, the above-mentioned first and second substrates are prepared, spacers are sprayed on the liquid crystal alignment film of one of the substrates, and the liquid crystal alignment film surface is on the inside. In this way, the other substrate is bonded and the liquid crystal is injected under reduced pressure to seal it, or the liquid crystal is dropped on the liquid crystal alignment film surface on which the spacer is sprayed and then the substrate is bonded and sealed. , Etc. can be exemplified. At this time, it is preferable to use a substrate having an electrode having a structure like a comb tooth for driving a transverse electric field as the substrate on one side. The diameter of the spacer at this time is preferably 1 μm to 30 μm, more preferably 2 μm to 10 μm. This spacer diameter determines the distance between the pair of substrates that sandwich the liquid crystal layer, that is, the thickness of the liquid crystal layer.

本発明の塗膜付基板の製造方法は、重合体組成物を基板上に塗布し塗膜を形成した後、偏光した紫外線を照射する。次いで、加熱を行うことにより側鎖型高分子膜への高効率な異方性の導入を実現し、液晶の配向制御能を備えた液晶配向膜付基板を製造する。
本発明に用いる塗膜では、側鎖の光反応と液晶性に基づく自己組織化によって誘起される分子再配向の原理を利用して、塗膜への高効率な異方性の導入を実現する。本発明の製造方法では、側鎖型高分子に光反応性基として光架橋性基を有する構造の場合、側鎖型高分子を用いて基板上に塗膜を形成した後、偏光した紫外線を照射し、次いで、加熱を行った後、液晶表示素子を作成する。
In the method for producing a substrate with a coating film of the present invention, the polymer composition is applied onto the substrate to form a coating film, and then polarized ultraviolet rays are irradiated. Next, by heating, highly efficient anisotropy is introduced into the side chain type polymer film, and a substrate with a liquid crystal alignment film having a liquid crystal orientation control ability is manufactured.
The coating film used in the present invention realizes highly efficient introduction of anisotropy into the coating film by utilizing the principle of molecular reorientation induced by the photoreaction of side chains and self-assembly based on liquid crystallinity. .. In the production method of the present invention, in the case of a structure having a photocrosslinkable group as a photoreactive group in the side chain polymer, after forming a coating film on the substrate using the side chain polymer, polarized ultraviolet rays are emitted. After irradiating and then heating, a liquid crystal display element is produced.

したがって、本発明の方法に用いる塗膜は、塗膜への偏光した紫外線の照射と加熱処理を順次行うことにより、高効率に異方性が導入され、配向制御能に優れた液晶配向膜とすることができる。 Therefore, the coating film used in the method of the present invention is a liquid crystal alignment film having excellent orientation control ability because anisotropy is introduced with high efficiency by sequentially irradiating the coating film with polarized ultraviolet rays and heat treatment. can do.

そして、本発明の方法に用いる塗膜では、塗膜への偏光した紫外線の照射量と、加熱処理における加熱温度を最適化する。それにより高効率な、塗膜への異方性の導入を実現することができる。 Then, in the coating film used in the method of the present invention, the irradiation amount of polarized ultraviolet rays on the coating film and the heating temperature in the heat treatment are optimized. As a result, highly efficient introduction of anisotropy into the coating film can be realized.

本発明に用いられる塗膜への高効率な異方性の導入に最適な偏光紫外線の照射量は、その塗膜において感光性基が光架橋反応や光異性化反応、若しくは光フリース転位反応する量を最適にする偏光紫外線の照射量に対応する。本発明に用いられる塗膜に対して偏光した紫外線を照射した結果、光架橋反応や光異性化反応、若しくは光フリース転位反応する側鎖の感光性基が少ないと、十分な光反応量とならない。その場合、その後に加熱しても十分な自己組織化は進行しない。一方、本発明に用いられる塗膜で、光架橋性基を有する構造に対して偏光した紫外線を照射した結果、架橋反応する側鎖の感光性基が過剰となると側鎖間での架橋反応が進行しすぎることになる。その場合、得られる膜は剛直になって、その後の加熱による自己組織化の進行の妨げとなることがある。また、本発明に用いられる塗膜で、光フリース転位基を有する構造に対して偏光した紫外線を照射した結果、光フリース転位反応する側鎖の感光性基が過剰となると、塗膜の液晶性が低下しすぎることになる。その場合、得られる膜の液晶性も低下し、その後の加熱による自己組織化の進行の妨げとなることがある。さらに、光フリース転位基を有する構造に対して偏光した紫外線を照射する場合、紫外線の照射量が多すぎると、側鎖型高分子が光分解し、その後の加熱による自己組織化の進行の妨げとなることがある。 The optimum irradiation amount of polarized ultraviolet rays for introducing highly efficient anisotropy into the coating film used in the present invention is such that the photosensitive group undergoes a photocrossing reaction, a photoisomerization reaction, or a photofleece rearrangement reaction in the coating film. Corresponds to the irradiation amount of polarized ultraviolet rays that optimizes the amount. As a result of irradiating the coating film used in the present invention with polarized ultraviolet rays, if the number of photosensitive groups in the side chain that undergoes a photocrosslinking reaction, a photoisomerization reaction, or a photoFries rearrangement reaction is small, the amount of photoreaction is not sufficient. .. In that case, even if it is heated after that, sufficient self-organization does not proceed. On the other hand, in the coating film used in the present invention, as a result of irradiating a structure having a photocrosslinkable group with polarized ultraviolet rays, if the photosensitive group of the side chain undergoing the crosslink reaction becomes excessive, the crosslink reaction between the side chains occurs. It will go too far. In that case, the resulting membrane may become rigid and hinder the progress of self-assembly by subsequent heating. Further, in the coating film used in the present invention, as a result of irradiating a structure having a photo Fries rearrangement group with polarized ultraviolet rays, if the photosensitive groups of the side chains that undergo a photo Fries rearrangement reaction become excessive, the liquid crystal property of the coating film becomes high. Will drop too much. In that case, the liquid crystal property of the obtained film is also lowered, which may hinder the progress of self-assembly due to the subsequent heating. Furthermore, when irradiating a structure having a photo Fries rearrangement group with polarized ultraviolet rays, if the amount of ultraviolet rays irradiated is too large, the side chain polymer is photodecomposed, which hinders the progress of self-assembly due to subsequent heating. May become.

したがって、本発明に用いられる塗膜において、偏光紫外線の照射によって側鎖の感光性基が光架橋反応や光異性化反応、若しくは光フリース転位反応する最適な量は、その側鎖型高分子膜の有する感光性基の0.1モル%〜40モル%にすることが好ましく、0.1モル%〜20モル%にすることがより好ましい。光反応する側鎖の感光性基の量をこのような範囲にすることにより、その後の加熱処理での自己組織化が効率良く進み、膜中での高効率な異方性の形成が可能となる。 Therefore, in the coating film used in the present invention, the optimum amount of the photosensitive group of the side chain undergoing a photocrosslinking reaction, a photoisomerization reaction, or a photofreeze rearrangement reaction by irradiation with polarized ultraviolet rays is the side chain type polymer film. It is preferably 0.1 mol% to 40 mol%, and more preferably 0.1 mol% to 20 mol% of the photosensitive groups of the above. By setting the amount of photosensitive groups in the side chain that photoreacts within such a range, self-assembly in the subsequent heat treatment proceeds efficiently, and highly efficient anisotropy can be formed in the film. Become.

本発明の方法に用いる塗膜では、偏光した紫外線の照射量の最適化により、側鎖型高分子膜の側鎖における、感光性基の光架橋反応や光異性化反応、または光フリース転位反応の量を最適化する。そして、その後の加熱処理と併せて、高効率な、本発明に用いられる塗膜への異方性の導入を実現する。その場合、好適な偏光紫外線の量については、本発明に用いられる塗膜の紫外吸収の評価に基づいて行うことが可能である。 In the coating film used in the method of the present invention, a photocrosslinking reaction, a photoisomerization reaction, or a photofleece rearrangement reaction of a photosensitive group in the side chain of a side chain type polymer film is performed by optimizing the irradiation amount of polarized ultraviolet rays. Optimize the amount of. Then, together with the subsequent heat treatment, highly efficient introduction of anisotropy into the coating film used in the present invention is realized. In that case, the suitable amount of polarized ultraviolet rays can be determined based on the evaluation of ultraviolet absorption of the coating film used in the present invention.

すなわち、本発明に用いられる塗膜について、偏光紫外線照射後の、偏光した紫外線の偏光方向と平行な方向の紫外線吸収と、垂直な方向の紫外線吸収とをそれぞれ測定する。紫外吸収の測定結果から、その塗膜における、偏光した紫外線の偏光方向と平行な方向の紫外線吸光度と垂直な方向の紫外線吸光度との差であるΔAを評価する。そして、本発明に用いられる塗膜において実現されるΔAの最大値(ΔAmax)とそれを実現する偏光紫外線の照射量を求める。本発明の製造方法では、このΔAmaxを実現する偏光紫外線照射量を基準として、液晶配向膜の製造において照射する、好ましい量の偏光した紫外線量を決めることができる。 That is, with respect to the coating film used in the present invention, after irradiation with polarized ultraviolet rays, the absorption of ultraviolet rays in the direction parallel to the polarization direction of the polarized ultraviolet rays and the absorption of ultraviolet rays in the direction perpendicular to the polarization direction are measured, respectively. From the measurement result of ultraviolet absorption, ΔA, which is the difference between the ultraviolet absorbance in the direction parallel to the polarization direction of the polarized ultraviolet rays and the ultraviolet absorbance in the direction perpendicular to the polarization direction, is evaluated. Then, the maximum value (ΔAmax) of ΔA realized in the coating film used in the present invention and the irradiation amount of polarized ultraviolet rays to realize it are obtained. In the production method of the present invention, a preferable amount of polarized ultraviolet rays to be irradiated in the production of the liquid crystal alignment film can be determined based on the amount of polarized ultraviolet rays that realizes this ΔAmax.

本発明の製造方法では、本発明に用いられる塗膜への偏光した紫外線の照射量を、ΔAmaxを実現する偏光紫外線の量の1%〜70%の範囲内とすることが好ましく、1%〜50%の範囲内とすることがより好ましい。本発明に用いられる塗膜において、ΔAmaxを実現する偏光紫外線の量の1%〜50%の範囲内の偏光紫外線の照射量は、その側鎖型高分子膜の有する感光性基全体の0.1モル%〜20モル%を光架橋反応させる偏光紫外線の量に相当する。 In the production method of the present invention, the irradiation amount of polarized ultraviolet rays on the coating film used in the present invention is preferably in the range of 1% to 70% of the amount of polarized ultraviolet rays that realize ΔAmax, and is preferably 1% to 70%. It is more preferably within the range of 50%. In the coating film used in the present invention, the irradiation amount of polarized ultraviolet rays in the range of 1% to 50% of the amount of polarized ultraviolet rays that realize ΔAmax is 0. It corresponds to the amount of polarized ultraviolet rays that photocrosslink 1 mol% to 20 mol%.

以上より、本発明の製造方法では、塗膜への高効率な異方性の導入を実現するため、その側鎖型高分子の液晶温度範囲を基準として、上述したような好適な加熱温度を定めるのがよい。したがって、例えば、本発明に用いられる側鎖型高分子の液晶温度範囲が100℃〜200℃である場合、偏光紫外線照射後の加熱の温度を90℃〜190℃とすることが望ましい。こうすることにより、本発明に用いられる塗膜において、より大きな異方性が付与されることになる。 Based on the above, in the production method of the present invention, in order to realize highly efficient introduction of anisotropy into the coating film, the suitable heating temperature as described above is set based on the liquid crystal temperature range of the side chain polymer. It is better to determine. Therefore, for example, when the liquid crystal temperature range of the side chain polymer used in the present invention is 100 ° C. to 200 ° C., it is desirable that the heating temperature after irradiation with polarized ultraviolet rays is 90 ° C. to 190 ° C. By doing so, the coating film used in the present invention is imparted with greater anisotropy.

こうすることにより、本発明によって提供される液晶表示素子は光や熱などの外部ストレスに対して高い信頼性を示すことになる。 By doing so, the liquid crystal display element provided by the present invention exhibits high reliability against external stress such as light and heat.

以上のようにして、本発明の方法によって製造された横電界駆動型液晶表示素子用基板又は該基板を有する横電界駆動型液晶表示素子は、信頼性に優れたものとなり、大画面で高精細の液晶テレビなどに好適に利用できる。
以下、実施例を用いて本発明を説明するが、本発明は、該実施例に限定されるものではない。
As described above, the substrate for the transverse electric field driven liquid crystal display element manufactured by the method of the present invention or the transverse electric field driven liquid crystal display element having the substrate has excellent reliability and has a large screen and high definition. It can be suitably used for LCD TVs and the like.
Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

以下に実施例を挙げ、本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例において使用した(メタ)アクリレート化合物の構造を以下に示す。
<重合性化合物>
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
The structure of the (meth) acrylate compound used in the examples is shown below.
<Polymerizable compound>

Figure 0006932335
Figure 0006932335

MA−1は特許文献(WO2011−084546)に記載の合成法にて合成した。
MA−2は特許文献(特開平9−118717)に記載の合成法にて合成した。
MA−3はMA−2と同様の合成法にて合成した。
MA−4からMA−8は文献等未公開の新規化合物であり、以下に合成法を詳述する。
MA−9は特許文献(特開2006−308878)に記載の合成法にて合成した。
MA-1 was synthesized by the synthetic method described in Patent Document (WO2011-084546).
MA-2 was synthesized by the synthetic method described in Patent Document (Japanese Patent Laid-Open No. 9-118717).
MA-3 was synthesized by the same synthesis method as MA-2.
MA-4 to MA-8 are novel compounds that have not been published in the literature, and the synthetic method will be described in detail below.
MA-9 was synthesized by the synthetic method described in Patent Document (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-308878).

下記合成例1〜5に記載の生成物は1H−NMR分析により同定した(分析条件は下記の通り)。
装置:Varian NMR System 400 NB (400 MHz)
測定溶媒:CDCl3、DMSO−d
基準物質:テトラメチルシラン(TMS)(δ0.0 ppm for H)
<合成例1 MA−4の合成>
The products described in Synthesis Examples 1 to 5 below were identified by 1 1 H-NMR analysis (analytical conditions are as follows).
Equipment: Varian NMR System 400 NB (400 MHz)
Measuring solvent: CDCl 3, DMSO-d 6
Reference substance: Tetramethylsilane (TMS) (δ0.0 ppm for 1 H)
<Synthesis Example 1 Synthesis of MA-4>

Figure 0006932335
Figure 0006932335

<MA−4Aの合成>
テトラヒドロフラン(393.5g)中、4−ブロモ安息香酸エチル(78.7g、 344mmol)とジエチルアミン(125.8g)、5−ヘキシン−1−オール(43.8g)、ヨウ化銅(2.6g)を仕込み、窒素雰囲気とした後にビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(4.8g)を加えて60℃で7時間反応させた。反応終了後、活性炭(銘柄:特製白鷺乾燥品 日本エンバイロケミカル製)3.9gを加えて室温条件下で1時間撹拌後に、ろ過により活性炭を除去した。続いて、減圧濃縮によりテトラヒドロフランを除去し、酢酸エチルで希釈後に純水で3回洗浄した。得られた有機相に活性炭(銘柄:特製白鷺乾燥品 日本エンバイロケミカル製)3.9gを加えて室温条件下で1時間撹拌し、ろ過、減圧濃縮することでMA−4A 103gを得た(粗収率:122%、 性状:褐色オイル状化合物)。
<Synthesis of MA-4A>
Ethyl 4-bromobenzoate (78.7 g, 344 mmol) and diethylamine (125.8 g), 5-hexin-1-ol (43.8 g), copper iodide (2.6 g) in tetrahydrofuran (393.5 g). Was prepared to create a nitrogen atmosphere, and then bis (triphenylphosphine) palladium (II) dichloride (4.8 g) was added and reacted at 60 ° C. for 7 hours. After completion of the reaction, 3.9 g of activated carbon (brand: special dried Shirasagi product manufactured by Japan Enviro Chemicals) was added, and the mixture was stirred under room temperature conditions for 1 hour, and then the activated carbon was removed by filtration. Subsequently, tetrahydrofuran was removed by concentration under reduced pressure, diluted with ethyl acetate, and then washed with pure water three times. 3.9 g of activated carbon (brand: specially made dried Shirasagi product manufactured by Japan Enviro Chemicals) was added to the obtained organic phase, and the mixture was stirred under room temperature conditions for 1 hour, filtered, and concentrated under reduced pressure to obtain 103 g of MA-4A (coarse). Yield: 122%, Properties: Brown oily compound).

<MA−4Bの合成>
メタノール(151.2g)及び純水(100.8g)中、上記で得られたMA−4A(50.4g)を溶解させ、水酸化カリウム(17.2g)を加えて室温条件下で2時間反応させた。反応終了後、酢酸エチル及び3.0M塩酸水溶液投入して水相側を酸性とした後、塩酸水溶液相を除去した。続いて、有機相を純水で2度洗浄後、有機相を活性炭(銘柄:特製白鷺乾燥品 日本エンバイロケミカル製)2.5gを加えて室温条件下で1時間撹拌後に、ろ過により活性炭を除去し、減圧濃縮することで薄褐色結晶を得た。得られた結晶にイソプロピルアルコールを加え60℃とすることで均一溶液とした後、貧溶媒であるアセトニトリルを加えて再結晶を行い、ろ過、乾燥することでMA−4B 25.5gを得た(2段階収率:70%、性状:薄灰色結晶)。
<Synthesis of MA-4B>
Dissolve MA-4A (50.4 g) obtained above in methanol (151.2 g) and pure water (100.8 g), add potassium hydroxide (17.2 g), and add potassium hydroxide (17.2 g) for 2 hours under room temperature conditions. It was reacted. After completion of the reaction, ethyl acetate and a 3.0 M aqueous hydrochloric acid solution were added to acidify the aqueous phase side, and then the aqueous hydrochloric acid phase was removed. Subsequently, after washing the organic phase twice with pure water, 2.5 g of activated carbon (brand: specially made Shirasagi dried product manufactured by Japan Enviro Chemicals) was added, and the mixture was stirred under room temperature conditions for 1 hour, and then the activated carbon was removed by filtration. Then, it was concentrated under reduced pressure to obtain light brown crystals. After adding isopropyl alcohol to the obtained crystals to make a uniform solution at 60 ° C., recrystallization was performed by adding acetonitrile as a poor solvent, and the mixture was filtered and dried to obtain 25.5 g of MA-4B (25.5 g). 2-step yield: 70%, properties: light gray crystals).

<MA−4の合成>
テトラヒドロフラン(146.4g)中、上記で得られたMA−4B(24.4g、112mmol)とトリエチルアミン(28.5g)を仕込み、窒素雰囲気氷冷条件下にて塩化メタクリロイル(25.9g)を滴下した。滴下終了後、室温条件下にて17時間反応させた。反応終了後、酢酸エチルにて反応溶液を希釈後、純水にて3回洗浄し、有機相を減圧濃縮することで黄色オイル状化合物を得た。続いて、オイル状化合物をアセトニトリル(78.3g)及び1.0M塩酸水溶液(48.8g)で希釈し、50℃で2日間反応させた。反応終了後、酢酸エチルで反応液を希釈後、塩酸水溶液相を除去し、続いて純水で3回洗浄した。回収した有機相を活性炭(銘柄:特製白鷺乾燥品 日本エンバイロケミカル製)1.3gを加えて室温条件下で1時間撹拌後に、ろ過、減圧濃縮することで褐色オイル状化合物を得た。続いて、アセトニトリルを加えて50℃に加熱することで均一溶液とし、氷冷することで結晶を析出させ、ろ過することで粗物を得た。続いて、得られた粗物をアセトニトリルとテトラヒドロフラン混合溶液でスラリー洗浄を実施し、ろ過、乾燥することでMA−4 12.4gを得た(収率:39%、性状:白色結晶)
H−NMR(400MHz) in DMSO−d: 1.61−1.63 ppm(m, 2H), 1.64−1.78ppm(m,2H), 1.89ppm(s, 3H), 2.51−2.54ppm(m,2H), 4.16ppm(t,2H), 5.67−5.69ppm(m,1H), 6.04−6.05ppm(m,1H), 7.48−7.51ppm(m,2 H), 7.88−7.91ppm(m,2H), 13.1ppm(s,1H).
<合成例2 MA−5の合成>
<Synthesis of MA-4>
MA-4B (24.4 g, 112 mmol) and triethylamine (28.5 g) obtained above were charged in tetrahydrofuran (146.4 g), and methacryloyl chloride (25.9 g) was added dropwise under nitrogen-atmospheric ice-cooled conditions. bottom. After completion of the dropping, the reaction was carried out under room temperature conditions for 17 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed 3 times with pure water, and the organic phase was concentrated under reduced pressure to obtain a yellow oily compound. Subsequently, the oily compound was diluted with acetonitrile (78.3 g) and a 1.0 M aqueous hydrochloric acid solution (48.8 g), and reacted at 50 ° C. for 2 days. After completion of the reaction, the reaction solution was diluted with ethyl acetate, the aqueous hydrochloric acid phase was removed, and then the mixture was washed 3 times with pure water. 1.3 g of activated carbon (brand: specially made dried Shirasagi product manufactured by Japan Enviro Chemicals) was added to the recovered organic phase, and the mixture was stirred under room temperature conditions for 1 hour, filtered, and concentrated under reduced pressure to obtain a brown oily compound. Subsequently, acetonitrile was added and heated to 50 ° C. to obtain a uniform solution, ice-cooled to precipitate crystals, and filtration to obtain a crude product. Subsequently, the obtained crude product was subjected to slurry washing with a mixed solution of acetonitrile and tetrahydrofuran, filtered and dried to obtain 12.4 g of MA-4 (yield: 39%, properties: white crystals).
1 1 H-NMR (400 MHz) in DMSO-d 6 : 1.61-1.63 ppm (m, 2H), 1.64-1.78 ppm (m, 2H), 1.89 ppm (s, 3H), 2 .51-2.54ppm (m, 2H), 4.16ppm (t, 2H), 5.67-5.69ppm (m, 1H), 6.04-6.05ppm (m, 1H), 7.48 -7.51 ppm (m, 2H), 7.88-7.91 ppm (m, 2H), 13.1 ppm (s, 1H).
<Synthesis Example 2 Synthesis of MA-5>

Figure 0006932335
Figure 0006932335

<MA−5Aの合成>
テトラヒドロフラン(343.5g)中、4−ブロモ安息香酸エチル(68.7g、 300mmol)とジエチルアミン(109.7g)、6−ヘプチン−1−オール(43.7g)、ヨウ化銅(2.3g)を仕込み、窒素雰囲気とした後にビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(4.2g)を加えて60℃で23時間反応させた。反応終了後、活性炭(銘柄:特製白鷺乾燥品 日本エンバイロケミカル製)6.8gを加えて室温条件下で1時間撹拌後に、ろ過により活性炭を除去した。続いて、減圧濃縮によりテトラヒドロフランを除去し、酢酸エチルで希釈後に純水で3回洗浄した。得られた有機相に活性炭(銘柄:特製白鷺乾燥品 日本エンバイロケミカル製)6.8gを加えて室温条件下で1時間撹拌し、ろ過、減圧濃縮することでMA−5A 98.3gを得た(粗収率:126%、 性状:褐色オイル状化合物)。
<Synthesis of MA-5A>
Ethyl 4-bromobenzoate (68.7 g, 300 mmol) and diethylamine (109.7 g), 6-heptin-1-ol (43.7 g), copper iodide (2.3 g) in tetrahydrofuran (343.5 g). Was prepared to create a nitrogen atmosphere, and then bis (triphenylphosphine) palladium (II) dichloride (4.2 g) was added and reacted at 60 ° C. for 23 hours. After completion of the reaction, 6.8 g of activated carbon (brand: special dried Shirasagi product manufactured by Japan Enviro Chemicals) was added, and the mixture was stirred under room temperature conditions for 1 hour, and then the activated carbon was removed by filtration. Subsequently, tetrahydrofuran was removed by concentration under reduced pressure, diluted with ethyl acetate, and then washed with pure water three times. 6.8 g of activated carbon (brand: specially made dried Shirasagi product manufactured by Japan Enviro Chemicals) was added to the obtained organic phase, and the mixture was stirred under room temperature conditions for 1 hour, filtered, and concentrated under reduced pressure to obtain 98.3 g of MA-5A. (Crude yield: 126%, Properties: brown oily compound).

<MA−5Bの合成>
メタノール(98.6g)及び純水(98.6g)中、上記で得られたMA−5A(49.3g)を溶解させ、水酸化カリウム(15.0g)を加えて室温条件下で2時間反応させた。反応終了後、酢酸エチル及び3.0M塩酸水溶液投入して水相側を酸性とした後、塩酸水溶液相を除去した。続いて、有機相を純水で2度洗浄後、有機相を活性炭(銘柄:特製白鷺乾燥品 日本エンバイロケミカル製)4.9gを加えて室温条件下で1時間撹拌後に、ろ過により活性炭を除去し、減圧濃縮することで薄褐色結晶を得た。得られた結晶にイソプロピルアルコールを加え60℃とすることで均一溶液とした後、貧溶媒であるアセトニトリルを加えて再結晶を行い、ろ過、乾燥することでMA−5B 25.1gを得た(2段階収率:72%、性状:薄黄色結晶)。
<Synthesis of MA-5B>
Dissolve MA-5A (49.3 g) obtained above in methanol (98.6 g) and pure water (98.6 g), add potassium hydroxide (15.0 g), and add potassium hydroxide (15.0 g) for 2 hours under room temperature conditions. It was reacted. After completion of the reaction, ethyl acetate and a 3.0 M aqueous hydrochloric acid solution were added to acidify the aqueous phase side, and then the aqueous hydrochloric acid phase was removed. Subsequently, after washing the organic phase twice with pure water, 4.9 g of activated carbon (brand: specially made Shirasagi dried product manufactured by Japan Enviro Chemicals) was added, and the mixture was stirred under room temperature conditions for 1 hour, and then the activated carbon was removed by filtration. Then, it was concentrated under reduced pressure to obtain light brown crystals. After adding isopropyl alcohol to the obtained crystals to make a uniform solution at 60 ° C., acetonitrile was added as a poor solvent for recrystallization, and the crystals were filtered and dried to obtain 25.1 g of MA-5B (25.1 g). 2-step yield: 72%, properties: pale yellow crystals).

<MA−5の合成>
テトラヒドロフラン(125.2g)、上記で得られたMA−5B(25.1g、108mmol)とトリエチルアミン(30.4g)を仕込み、窒素雰囲気氷冷条件下にて塩化メタクリロイル(24.9g)を滴下した。滴下終了後、室温条件下にて4時間反応させた。反応終了後、酢酸エチルにて反応溶液を希釈後、純水にて3回洗浄し、有機相を減圧濃縮することで黄色オイル状化合物を得た。続いて、オイル状化合物をアセトニトリル(76.0g)及び1.0M塩酸水溶液(50.0g)で希釈し、50℃で2日間反応させた。反応終了後、酢酸エチルで反応液を希釈後、塩酸水溶液相を除去し、続いて純水で3回洗浄した。回収した有機相を活性炭(銘柄:特製白鷺乾燥品 日本エンバイロケミカル製)1.3gを加えて室温条件下で1時間撹拌後に、ろ過、減圧濃縮することで褐色オイル状化合物を得た。続いて、アセトニトリルを加えて50 ℃に加熱することで均一溶液とし、氷冷することで結晶を析出させ、ろ過することで粗物を得た。得られた粗物をアセトニトリルとテトラヒドロフラン混合溶液で再結晶を実施し、ろ過、乾燥することでMA−5 12.6gを得た(収率:39%、性状:白色結晶)
H−NMR(400MHz) in DMSO−d: 1.44−1.71 ppm(m, 6H), 1.87ppm(s,3H), 2.46−2.52ppm(m,2H), 4.12ppm(t,2H), 5.65−5.66ppm(m,1H), 6.01−6.02ppm(m,1H), 7.46−7.50ppm(m,2H), 7.89−7.91ppm(m,2H), 13.1ppm(s,1H)
<合成例3 MA−6の合成>
<Synthesis of MA-5>
Tetrahydrofuran (125.2 g), MA-5B (25.1 g, 108 mmol) obtained above and triethylamine (30.4 g) were charged, and methacryloyl chloride (24.9 g) was added dropwise under nitrogen-atmospheric ice-cooled conditions. .. After completion of the dropping, the reaction was carried out under room temperature conditions for 4 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed 3 times with pure water, and the organic phase was concentrated under reduced pressure to obtain a yellow oily compound. Subsequently, the oily compound was diluted with acetonitrile (76.0 g) and a 1.0 M aqueous hydrochloric acid solution (50.0 g), and reacted at 50 ° C. for 2 days. After completion of the reaction, the reaction solution was diluted with ethyl acetate, the aqueous hydrochloric acid phase was removed, and then the mixture was washed 3 times with pure water. 1.3 g of activated carbon (brand: specially made dried Shirasagi product manufactured by Japan Enviro Chemicals) was added to the recovered organic phase, and the mixture was stirred under room temperature conditions for 1 hour, filtered, and concentrated under reduced pressure to obtain a brown oily compound. Subsequently, acetonitrile was added and heated to 50 ° C. to obtain a uniform solution, ice-cooled to precipitate crystals, and filtration to obtain a crude product. The obtained crude product was recrystallized from a mixed solution of acetonitrile and tetrahydrofuran, filtered and dried to obtain 12.6 g of MA-5 (yield: 39%, properties: white crystals).
1 1 H-NMR (400 MHz) in DMSO-d 6 : 1.44-1.71 ppm (m, 6H), 1.87 ppm (s, 3H), 2.46-2.52 ppm (m, 2H), 4 .12ppm (t, 2H), 5.65-5.66ppm (m, 1H), 6.01-6.02ppm (m, 1H), 7.46-7.50ppm (m, 2H), 7.89 -7.91 ppm (m, 2H), 13.1 ppm (s, 1H)
<Synthesis Example 3 Synthesis of MA-6>

Figure 0006932335
Figure 0006932335

<MA−4Bの合成>
メタノール(94.2g)と純水(93.1g)中、MA−4A(47.1g)を溶解させ、水酸化カリウム(17.6g)を加えて室温条件下で2時間反応させた。反応終了後、酢酸エチル及び3.0M塩酸水溶液を投入して水相側を酸性とした後、塩酸水溶液相を除去した。続いて、有機相を純水で3回洗浄後、有機相を活性炭(銘柄:特製白鷺乾燥品 日本エンバイロケミカル製)4.7gを加えて室温条件下で1時間撹拌後に、ろ過により活性炭を除去し、減圧濃縮することで粗物を得た。続いて、得られた粗物を酢酸エチルに60℃加熱溶解させ、氷冷する事で結晶を析出させ、ろ過、乾燥することでMA−4B 24.9gを得た。
<Synthesis of MA-4B>
MA-4A (47.1 g) was dissolved in methanol (94.2 g) and pure water (93.1 g), potassium hydroxide (17.6 g) was added, and the mixture was reacted at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, ethyl acetate and a 3.0 M aqueous hydrochloric acid solution were added to acidify the aqueous phase side, and then the aqueous hydrochloric acid phase was removed. Subsequently, after washing the organic phase with pure water three times, 4.7 g of activated carbon (brand: specially made Shirasagi dried product manufactured by Japan Enviro Chemicals) was added, and the mixture was stirred under room temperature conditions for 1 hour, and then the activated carbon was removed by filtration. Then, it was concentrated under reduced pressure to obtain a crude product. Subsequently, the obtained crude product was dissolved in ethyl acetate by heating at 60 ° C., ice-cooled to precipitate crystals, filtered and dried to obtain 24.9 g of MA-4B.

<MA−6Aの合成>
テトラヒドロフラン(124.5g)、上記で得られたMA−4B(24.9g)と5%パラジウムカーボン粉末(含水品)STDタイプ(銘柄:エヌ・イーケムキャット社、2.5g)を仕込み、0.5MPa水素圧条件にて17時間反応させた。反応終了後、ろ過、アセトニトリルによるスラリー洗浄を実施することで、MA−6A 20.7gを得た(3段階収率:53%、性状:薄黄色結晶)。
<Synthesis of MA-6A>
Tetrahydrofuran (124.5 g), MA-4B (24.9 g) obtained above and 5% palladium carbon powder (hydrous product) STD type (brand: N.E. Chemcat, Inc., 2.5 g) were charged, and 0. The reaction was carried out under 5 MPa hydrogen pressure conditions for 17 hours. After completion of the reaction, filtration and slurry washing with acetonitrile were carried out to obtain 20.7 g of MA-6A (three-step yield: 53%, properties: pale yellow crystals).

<MA−6の合成>
テトラヒドロフラン(124.2g)中、MA−6A(20.7g)とトリエチルアミン(23.6g)、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン(0.53g)を仕込み、窒素雰囲気氷冷条件下にて塩化メタクリロイル(22.4g)滴下し、室温条件下にて2時間反応させた。反応終了後、酢酸エチルにて希釈後、1.0M塩酸水溶液にて1回洗浄し、有機相を減圧濃縮することで黄色オイル状化合物を得た。続いて、得られたオイル状化合物をアセトニトリル(60.0g)と1.0M塩酸水溶液(40.0g)で希釈し、50℃で4日間反応させた。反応終了後、酢酸エチルで希釈し、塩酸水溶液相を除去し、続いて有機相を純水で3回洗浄した。回収した有機相を活性炭(銘柄:特製白鷺乾燥品 日本エンバイロケミカル製)1.0gを加えて室温条件下で1時間撹拌後に、ろ過、減圧濃縮することで褐色オイル状化合物を得た。続いて、アセトニトリルを加えて50℃加熱することで均一溶液とし、氷冷することで結晶を析出させ、ろ過することで粗物を得た。粗物をアセトニトリル及びテトラヒドロフランで再結晶することでMA−6 10.1gを得た( 収率:37%、性状:白色結晶)。
H−NMR(400MHz) in DMSO−d: 1.30−1.38 ppm(m, 4H), 1.57−1.87ppm(m,4H), 1.88ppm(s,3H), 2.64ppm(t,2H), 4.07ppm(t,2H), 5.65−5.67ppm(m,1H), 6.00−6.01ppm(m,1H), 7.30−7.32ppm(m,2H), 7.84−7.86ppm(m,2H), 12.8ppm(s,1H)
<合成例4 MA−7の合成>
<Synthesis of MA-6>
MA-6A (20.7 g), triethylamine (23.6 g) and N, N-dimethyl-4-aminopyridine (0.53 g) were charged in tetrahydrofuran (124.2 g) under ice-cooled conditions in a nitrogen atmosphere. Methacryloyl chloride (22.4 g) was added dropwise, and the mixture was reacted under room temperature conditions for 2 hours. After completion of the reaction, the mixture was diluted with ethyl acetate, washed once with a 1.0 M aqueous hydrochloric acid solution, and the organic phase was concentrated under reduced pressure to give a yellow oily compound. Subsequently, the obtained oily compound was diluted with acetonitrile (60.0 g) and a 1.0 M aqueous hydrochloric acid solution (40.0 g), and reacted at 50 ° C. for 4 days. After completion of the reaction, the reaction was diluted with ethyl acetate, the aqueous hydrochloric acid phase was removed, and then the organic phase was washed 3 times with pure water. 1.0 g of activated carbon (brand: specially made dried Shirasagi product manufactured by Japan Enviro Chemicals) was added to the recovered organic phase, and the mixture was stirred under room temperature conditions for 1 hour, filtered, and concentrated under reduced pressure to obtain a brown oily compound. Subsequently, acetonitrile was added and heated at 50 ° C. to obtain a uniform solution, ice-cooled to precipitate crystals, and filtration to obtain a crude product. The crude product was recrystallized from acetonitrile and tetrahydrofuran to obtain 10.1 g of MA-6 (yield: 37%, properties: white crystals).
1 1 H-NMR (400 MHz) in DMSO-d 6 : 1.30-1.38 ppm (m, 4H), 1.57-1.87 ppm (m, 4H), 1.88 ppm (s, 3H), 2 .64ppm (t, 2H), 4.07ppm (t, 2H), 5.65-5.67ppm (m, 1H), 6.00-6.01ppm (m, 1H), 7.30-7.32ppm (M, 2H), 7.84-7.86ppm (m, 2H), 12.8ppm (s, 1H)
<Synthesis Example 4 Synthesis of MA-7>

Figure 0006932335
Figure 0006932335

<MA−7Aの合成>
メタノール(98.8g)と純水(100.6g)中、MA−5A(49.0g)を溶解させ、水酸化カリウム(14.8g)を加えて室温条件下で2時間反応させた。反応終了後、酢酸エチル及び3.0M塩酸水溶液を投入して水相側を酸性とした後、塩酸水溶液相を除去した。続いて、有機相を純水で3回洗浄後、有機相を活性炭(銘柄:特製白鷺乾燥品 日本エンバイロケミカル製)4.9gを加えて室温条件下で1時間撹拌後に、ろ過により活性炭を除去し、減圧濃縮することでMA−5B粗物を得た。続いて、得られた粗物をテトラヒドロフラン(119.1g)に溶解させ、5%パラジウムカーボン粉末(含水品)STDタイプ(銘柄:エヌ・イーケムキャット社、4.7g)を仕込み、0.5MPa水素圧条件にて19時間反応させた。反応終了後、ろ過、アセトニトリルによるスラリー洗浄を実施することで、MA−7A 27.7gを得た(3段階収率:78%、性状:薄黄色結晶)。
<Synthesis of MA-7A>
MA-5A (49.0 g) was dissolved in methanol (98.8 g) and pure water (100.6 g), potassium hydroxide (14.8 g) was added, and the mixture was reacted under room temperature conditions for 2 hours. After completion of the reaction, ethyl acetate and a 3.0 M aqueous hydrochloric acid solution were added to acidify the aqueous phase side, and then the aqueous hydrochloric acid phase was removed. Subsequently, after washing the organic phase with pure water three times, 4.9 g of activated carbon (brand: specially made Shirasagi dried product manufactured by Japan Enviro Chemicals) was added, and the mixture was stirred under room temperature conditions for 1 hour, and then the activated carbon was removed by filtration. Then, it was concentrated under reduced pressure to obtain a crude MA-5B product. Subsequently, the obtained crude product was dissolved in tetrahydrofuran (119.1 g), and 5% palladium carbon powder (hydrous product) STD type (brand: N.E. Chemcat, Inc., 4.7 g) was charged, and 0.5 MPa hydrogen was added. The reaction was carried out under pressure conditions for 19 hours. After completion of the reaction, 27.7 g of MA-7A was obtained by filtering and washing the slurry with acetonitrile (three-step yield: 78%, properties: pale yellow crystals).

<MA−7の合成>
テトラヒドロフラン(166.7g)中、MA−7A(26.1g)とトリエチルアミン(30.3g)、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン(0.71g)を仕込み、窒素雰囲気氷冷条件下にて塩化メタクリロイル(28.3g)滴下し、室温条件下にて2時間反応させた。反応終了後、酢酸エチルにて希釈後、1.0M塩酸水溶液にて1回、純水で1回洗浄し、有機相を減圧濃縮することで黄色オイル状化合物を得た。続いて、得られたオイル状化合物をアセトニトリル(72.4g)と1.0M塩酸水溶液(52.0g)で希釈し、50℃で4日間反応させた。反応終了後、酢酸エチルで希釈し、塩酸水溶液相を除去し、続いて有機相を純水で3回洗浄した。回収した有機相を活性炭(銘柄:特製白鷺乾燥品 日本エンバイロケミカル製)1.3gを加えて室温条件下で1時間撹拌後に、ろ過、減圧濃縮することで褐色オイル状化合物を得た。続いて、アセトニトリルを加えて50℃加熱することで均一溶液とし、氷冷することで結晶を析出させ、ろ過することで粗物を得た。粗物をアセトニトリル及びテトラヒドロフランで再結晶することでMA−7 5.3gを得た(収率:16%、性状:白色結晶)。
H−NMR(400MHz) in DMSO−d: 1.27−1.31 ppm(m, 6H), 1.54−1.62ppm(m,4H), 1.88ppm(s,3H), 2.63ppm(t,2H), 4.08ppm(t,2H), 5.65−5.67ppm(m,1H), 6.00−6.01ppm(m,1H), 7.30−7.32ppm(m,2H), 7.84−7.87ppm(m,2H), 12.8ppm(s,1H)
<合成例5 MA−8の合成>
<Synthesis of MA-7>
MA-7A (26.1 g), triethylamine (30.3 g) and N, N-dimethyl-4-aminopyridine (0.71 g) were charged in tetrahydrofuran (166.7 g) under ice-cooled conditions in a nitrogen atmosphere. Methacryloyl chloride (28.3 g) was added dropwise and reacted under room temperature conditions for 2 hours. After completion of the reaction, the mixture was diluted with ethyl acetate, washed once with a 1.0 M aqueous hydrochloric acid solution and once with pure water, and the organic phase was concentrated under reduced pressure to give a yellow oily compound. Subsequently, the obtained oily compound was diluted with acetonitrile (72.4 g) and a 1.0 M aqueous hydrochloric acid solution (52.0 g), and reacted at 50 ° C. for 4 days. After completion of the reaction, the reaction was diluted with ethyl acetate, the aqueous hydrochloric acid phase was removed, and then the organic phase was washed 3 times with pure water. 1.3 g of activated carbon (brand: specially made dried Shirasagi product manufactured by Japan Enviro Chemicals) was added to the recovered organic phase, and the mixture was stirred under room temperature conditions for 1 hour, filtered, and concentrated under reduced pressure to obtain a brown oily compound. Subsequently, acetonitrile was added and heated at 50 ° C. to obtain a uniform solution, ice-cooled to precipitate crystals, and filtration to obtain a crude product. The crude product was recrystallized from acetonitrile and tetrahydrofuran to obtain 5.3 g of MA-7 (yield: 16%, properties: white crystals).
1 1 H-NMR (400 MHz) in DMSO-d 6 : 1.27-1.31 ppm (m, 6H), 1.54-1.62 ppm (m, 4H), 1.88 ppm (s, 3H), 2 .63ppm (t, 2H), 4.08ppm (t, 2H), 5.65-5.67ppm (m, 1H), 6.00-6.01ppm (m, 1H), 7.30-7.32ppm (M, 2H), 7.84-7.87 ppm (m, 2H), 12.8 ppm (s, 1H)
<Synthesis Example 5 Synthesis of MA-8>

Figure 0006932335
Figure 0006932335

<MA−8Aの合成>
塩化メチレン(802.0g)中、プロパルギルアルコール(200.5g)とp−トルエンスルホン酸ピリジニウム(44.9g)を仕込み、窒素雰囲気氷冷条件にて、3,4−ジヒドロ−2H−ピラン(361.7g)を滴下した。滴下後、反応温度を室温として5時間反応させた。反応終了後、純水で3回有機相を洗浄し、硫酸マグネシウム脱水処理後、減圧濃縮する事で、MA−8Aの粗物522gを得た(粗収率:104%、性状:薄黄色オイル状化合物)。
<Synthesis of MA-8A>
Propargyl alcohol (200.5 g) and pyridinium p-toluenesulfonate (44.9 g) were charged in methylene chloride (802.0 g), and 3,4-dihydro-2H-pyran (361) was charged under ice-cooled conditions in a nitrogen atmosphere. .7 g) was added dropwise. After the dropping, the reaction was carried out at room temperature for 5 hours. After completion of the reaction, the organic phase was washed 3 times with pure water, dehydrated with magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain 522 g of a crude product of MA-8A (crude yield: 104%, properties: light yellow oil). State compound).

<MA−8Bの合成>
トルエン(500.0g)中、1−ブロモ−4−ヨードベンゼン(100.0g)とピペリジン(60.1g)、ヨウ化銅(4.04g)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(7.44g)を仕込み、窒素雰囲気下で2分撹拌した。続いて、MA−8A(69.4g)を30分かけて滴下した。滴下中、反応温度が急激に上昇したため、水冷して23℃ぐらいになるように滴下操作を実施した。滴下終了後、撹拌不良となったためトルエン(500.0g)追加して1時間反応させた。反応終了後、有機相を純水で1回、1.0M塩酸水溶液で1回、再度純水で4回洗浄し、有機相を回収した。続いて、回収した有機相に活性炭(銘柄:特製白鷺乾燥品 日本エンバイロケミカル製)10.0gを加えて1時間撹拌し、ろ過、減圧濃縮することでMA−8Bの粗物118.2gを得た(粗収率:113%、性状:黒褐色オイル状化合物)。
<Synthesis of MA-8B>
In toluene (500.0 g), 1-bromo-4-iodobenzene (100.0 g) and piperidine (60.1 g), copper iodide (4.04 g), bis (triphenylphosphine) palladium (II) dichloride ( 7.44 g) was charged and stirred for 2 minutes in a nitrogen atmosphere. Subsequently, MA-8A (69.4 g) was added dropwise over 30 minutes. Since the reaction temperature rose sharply during the dropping, the dropping operation was carried out so that the temperature was about 23 ° C. after cooling with water. After completion of the dropping, stirring was poor, so toluene (500.0 g) was added and the reaction was carried out for 1 hour. After completion of the reaction, the organic phase was washed once with pure water, once with a 1.0 M aqueous hydrochloric acid solution, and again with pure water four times to recover the organic phase. Subsequently, 10.0 g of activated carbon (brand: special dried Shirasagi product manufactured by Japan Enviro Chemicals) was added to the recovered organic phase, stirred for 1 hour, filtered, and concentrated under reduced pressure to obtain 118.2 g of a crude product of MA-8B. (Crude yield: 113%, Properties: Blackish brown oily compound).

<MA−8Cの合成>
N,N−ジメチルホルムアミド(300.5g)及び純水(120.2g)中、4−ヒドロキシフェニルボロン酸ピナコールエステル(60.1g)とMA−8B(92.6g)、炭酸セシウム(179.8g)を仕込み、窒素雰囲気にてトリ−ter−ブチルホスフィン(3.70g)とビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(5.75g)を加えて60℃で7時間反応させた。反応終了後、酢酸エチルで希釈し、1.0M塩酸水溶液で1回、純水で3回洗浄した。回収した有機相に活性炭(銘柄:特製白鷺乾燥品 日本エンバイロケミカル製)6.0gを加えて1時間撹拌し、ろ過、減圧濃縮すること粗物を得た。得られた粗物をシリカゲルカラム精製(ヘキサン:酢酸エチル=6:1体積比)することで、MA−8C 60.2gを得た(収率:72%、性状:薄オレンジ色結晶)。
<Synthesis of MA-8C>
4-Hydroxyphenylboronic acid pinacol ester (60.1 g) and MA-8B (92.6 g), cesium carbonate (179.8 g) in N, N-dimethylformamide (300.5 g) and pure water (120.2 g). ) Was charged, tri-ter-butylphosphine (3.70 g) and bis (triphenylphosphine) palladium (II) dichloride (5.75 g) were added in a nitrogen atmosphere, and the mixture was reacted at 60 ° C. for 7 hours. After completion of the reaction, the mixture was diluted with ethyl acetate and washed once with 1.0 M aqueous hydrochloric acid solution and three times with pure water. To the recovered organic phase, 6.0 g of activated carbon (brand: special dried Shirasagi product manufactured by Japan Enviro Chemicals) was added, stirred for 1 hour, filtered, and concentrated under reduced pressure to obtain a crude product. The obtained crude product was purified by silica gel column (hexane: ethyl acetate = 6: 1 volume ratio) to obtain 60.2 g of MA-8C (yield: 72%, properties: light orange crystals).

<MA−8Dの合成>
テトラヒドロフラン(120.3g)中、MA−8C(42.0g)と5%パラジウムカーボン粉末(含水品)STDタイプ(銘柄:エヌ・イーケムキャット社、3.36g)を仕込み、0.4MPa水素圧条件にて28時間反応させた。反応終了後、ろ過、減圧濃縮した。得られた粗物をシリカゲルカラム精製(ヘキサン:酢酸エチル=6:1体積比)することで、MA−8D 29.0gを得た(収率:68%、性状:薄黄色オイル状化合物)。
<Synthesis of MA-8D>
MA-8C (42.0 g) and 5% palladium carbon powder (hydrous product) STD type (brand: N.E. Chemcat, Inc., 3.36 g) were charged in tetrahydrofuran (120.3 g), and 0.4 MPa hydrogen pressure condition was applied. Was reacted for 28 hours. After completion of the reaction, the mixture was filtered and concentrated under reduced pressure. The obtained crude product was purified by silica gel column (hexane: ethyl acetate = 6: 1 volume ratio) to obtain 29.0 g of MA-8D (yield: 68%, properties: pale yellow oily compound).

<MA−8Eの合成>
テトラヒドロフラン(124.8g)中、MA−8D(25.0g)と4−メトキシキシ桂皮酸(15.0g)、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン(1.00g)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(18.4g)を仕込み、窒素雰囲気室温条件下にて18時間反応させた。反応終了後、純水中に反応液を注ぎ込み、反応物の粗物を得た。得られた粗物を2−プロパノールでスラリー洗浄することで、MA−8E 34.8gを得た(収率:92%、性状:白色結晶)。
<Synthesis of MA-8E>
MA-8D (25.0 g) and 4-methoxyxic carbodiimide (15.0 g), N, N-dimethyl-4-aminopyridine (1.00 g), 1-ethyl-3-3 in tetrahydrofuran (124.8 g). (3-Dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (18.4 g) was charged and reacted under nitrogen atmosphere room temperature conditions for 18 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into pure water to obtain a crude reaction product. The obtained crude product was slurry-washed with 2-propanol to obtain 34.8 g of MA-8E (yield: 92%, properties: white crystals).

<MA−8Fの合成>
エタノール(278.0g)中、MA−8E(34.8g)とp−トルエンスルホン酸ピリジニウム(3.70g)を仕込み、70℃にて21時間反応させた。反応終了後、純水中に反応液を注ぎ込み、反応物の粗物を得た。続いて、得られた粗物をメタノールでスラリー洗浄を行い、テトラヒドロフラン及びメタノールで再結晶を行うことによりMA−8F 25.7gを得た(収率:90%、性状:白色結晶)。
<Synthesis of MA-8F>
MA-8E (34.8 g) and pyridinium p-toluenesulfonate (3.70 g) were charged in ethanol (278.0 g) and reacted at 70 ° C. for 21 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into pure water to obtain a crude reaction product. Subsequently, the obtained crude product was subjected to slurry washing with methanol and recrystallized from tetrahydrofuran and methanol to obtain 25.7 g of MA-8F (yield: 90%, properties: white crystals).

<MA−8の合成>
テトラヒドロフラン(278.4g)中、MA−8F(25.1g)とトリエチルアミン(8.52g)を仕込み、窒素雰囲気氷冷条件下にて塩化メタクリロイル(8.30g)滴下した。滴下終了、反応温度を室温として20時間反応させた。反応終了後、45℃条件下にて反応液を酢酸エチルで希釈し、純水で3回洗浄した後、減圧濃縮することで粗物を得た。得られた粗物をテトラヒドロフランに再溶解させ、活性炭(銘柄:特製白鷺乾燥品 日本エンバイロケミカル製)2.5gを加えて室温条件下で1時間撹拌後にろ過した。続いて、得られた溶液を減圧濃縮し、内部総重量を151.4gとした後に、メタノールを加えて結晶を析出させた。得られた結晶を酢酸エチルでスラリー洗浄し、ろ過、乾燥することでMA−8 15.2gを得た(収率:51%、性状:薄黄色結晶)。
H−NMR(400MHz) in CDCl: 1.95 ppm(s,3H), 2.03−2.08ppm(m,2H), 2.78ppm(t,2H), 3.84ppm(s,3H), 4.20ppm(t,2H), 5.56ppm(s,1H), 6.11ppm(s,1H), 6.52ppm(d,1H), 6.92−6.96ppm(m,2H), 7.21−7,27ppm(m,4H), 7.49−7.61ppm(m,6H), 7.85ppm(d,1H).
<Synthesis of MA-8>
MA-8F (25.1 g) and triethylamine (8.52 g) were charged in tetrahydrofuran (278.4 g), and methacryloyl chloride (8.30 g) was added dropwise under ice-cooled conditions in a nitrogen atmosphere. After completion of the dropping, the reaction was carried out at room temperature for 20 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was diluted with ethyl acetate under the condition of 45 ° C., washed with pure water three times, and concentrated under reduced pressure to obtain a crude product. The obtained crude product was redissolved in tetrahydrofuran, 2.5 g of activated carbon (brand: special dried Shirasagi product manufactured by Japan Enviro Chemicals) was added, and the mixture was stirred under room temperature conditions for 1 hour and then filtered. Subsequently, the obtained solution was concentrated under reduced pressure to bring the total internal weight to 151.4 g, and then methanol was added to precipitate crystals. The obtained crystals were slurry-washed with ethyl acetate, filtered, and dried to obtain 15.2 g of MA-8 (yield: 51%, properties: pale yellow crystals).
1 1 H-NMR (400 MHz) in CDCl 3 : 1.95 ppm (s, 3H), 2.03-2.08 ppm (m, 2H), 2.78 ppm (t, 2H), 3.84 ppm (s, 3H) ), 4.20 ppm (t, 2H), 5.56 ppm (s, 1H), 6.11 ppm (s, 1H), 6.52 ppm (d, 1H), 6.92-6.96 ppm (m, 2H) , 7.21-7,27 ppm (m, 4H), 7.49-7.61 ppm (m, 6H), 7.85 ppm (d, 1H).

実施例等で使用した有機溶媒の略号は以下の通りである。
NMP: N−メチル−2−ピロリドン
BC: エチレングリコールモノブチルエーテル
THF: テトラヒドロフラン
PGME:1−メトキシ−2−プロパノール
The abbreviations of the organic solvents used in the examples and the like are as follows.
NMP: N-methyl-2-pyrrolidone BC: Ethylene glycol monobutyl ether THF: tetrahydrofuran PGME: 1-methoxy-2-propanol

<重合体の分子量の測定>
実施例における(メタ)アクリルポリマーの分子量は、(株)Shodex社製常温ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)装置(GPC−101)、Shodex社製カラム(KD−803、KD−805)を用い以下のようにして測定した。
カラム温度:50℃
溶離液:DMF(添加剤として、臭化リチウム−水和物(LiBr・HO)が30mmol/L、リン酸・無水結晶(o−リン酸)が30mmol/L、THFが10mL/L)
流速:1.0mL/分
検量線作成用標準サンプル:東ソー社製 TSK 標準ポリエチレンオキサイド(分子量 約900,000、150,000、100,000、30,000)、及び、ポリマーラボラトリー社製 ポリエチレングリコール(分子量 約12,000、4,000、1,000)。
<Measurement of molecular weight of polymer>
The molecular weight of the (meth) acrylic polymer in the examples was as follows using a room temperature gel permeation chromatography (GPC) apparatus (GPC-101) manufactured by Shodex Co., Ltd. and columns (KD-803, KD-805) manufactured by Shodex Co., Ltd. It was measured in this way.
Column temperature: 50 ° C
Eluent: DMF (as an additive, lithium bromide-hydrate (LiBr · H 2 O) is 30 mmol / L, phosphoric acid / anhydrous crystal (o-phosphate) is 30 mmol / L, THF is 10 mL / L)
Flow velocity: 1.0 mL / min Standard sample for preparing a calibration curve: TSK standard polyethylene oxide (molecular weight: about 900,000, 150,000, 100,000, 30,000) manufactured by Tosoh Corporation, and polyethylene glycol manufactured by Polymer Laboratory (molecular weight: about 900,000, 150,000, 100,000, 30,000). Molecular weight of about 12,000, 4,000, 1,000).

<重合例1>
MA−1(13.3g、40.0mmol)とMA−2(18.4g、60.0mmo
l)をTHF(182.3g)中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、2
,2’−アゾビスイソブチロニトリル(0.82g、5.0mmol)を加え、再び脱気
を行った。この後50℃で30時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をジエチルエーテル(1500ml)に滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をジエチルエーテルで洗浄し、40℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末(P1)を得た。このポリマーの数平均分子量は35000、重量平均分子量は126000であった。
<Polymerization example 1>
MA-1 (13.3 g, 40.0 mmol) and MA-2 (18.4 g, 60.0 mmo)
l) was dissolved in THF (182.3 g), degassed with a diaphragm pump, and then 2
, 2'-Azobisisobutyronitrile (0.82 g, 5.0 mmol) was added, and degassing was performed again. Then, the reaction was carried out at 50 ° C. for 30 hours to obtain a polymer solution of methacrylate. The polymer solution was added dropwise to diethyl ether (1500 ml) and the resulting precipitate was filtered. The precipitate was washed with diethyl ether and dried under reduced pressure in an oven at 40 ° C. to obtain a methacrylate polymer powder (P1). The number average molecular weight of this polymer was 35,000 and the weight average molecular weight was 126,000.

<重合例2>
MA−1(1.19g、3.6mmol)、MA−2(0.83g、2.7mmol)、MA−4(0.77g、2.7mmol)をTHF(11.4g)中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを(0.044g、0.27mmol)を加え再び脱気を行った。この後60℃で13時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノール:純水(1:1)142gに滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、50℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末2.1g(P2)を得た。このポリマーの数平均分子量は54000、重量平均分子量は100000であった。
<Polymerization example 2>
MA-1 (1.19 g, 3.6 mmol), MA-2 (0.83 g, 2.7 mmol) and MA-4 (0.77 g, 2.7 mmol) were dissolved in THF (11.4 g). After degassing with a diaphragm pump, 2,2'-azobisisobutyronitrile (0.044 g, 0.27 mmol) was added and degassed again. Then, the reaction was carried out at 60 ° C. for 13 hours to obtain a polymer solution of methacrylate. This polymer solution was added dropwise to 142 g of methanol: pure water (1: 1), and the obtained precipitate was filtered. The precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure in an oven at 50 ° C. to obtain 2.1 g (P2) of methacrylate polymer powder. The polymer had a number average molecular weight of 54,000 and a weight average molecular weight of 100,000.

<重合例3>
MA−1(1.20g、3.6mmol)、MA−2(0.83g、2.7mmol)、MA−5(0.81g、2.7mmol)をTHF(11.5g)中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを(0.044g、0.27mmol)を加え再び脱気を行った。この後60℃で13時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノール:純水(1:1)144gに滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、50℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末2.1gを得た。このポリマーの数平均分子量は50000、重量平均分子量は100000であった。
<Polymerization example 3>
MA-1 (1.20 g, 3.6 mmol), MA-2 (0.83 g, 2.7 mmol) and MA-5 (0.81 g, 2.7 mmol) were dissolved in THF (11.5 g). After degassing with a diaphragm pump, 2,2'-azobisisobutyronitrile (0.044 g, 0.27 mmol) was added and degassed again. Then, the reaction was carried out at 60 ° C. for 13 hours to obtain a polymer solution of methacrylate. This polymer solution was added dropwise to 144 g of methanol: pure water (1: 1), and the obtained precipitate was filtered. The precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure in an oven at 50 ° C. to obtain 2.1 g of methacrylate polymer powder. The number average molecular weight of this polymer was 50,000 and the weight average molecular weight was 100,000.

<重合例4>
MA−1(1.20g、3.6mmol)、MA−2(0.83g、2.7mmol)、MA−6(0.78g、2.7mmol)をTHF(11.4g)中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを(0.044g、0.27mmol)を加え再び脱気を行った。この後60℃で13時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノール:純水(1:1)143gに滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、50℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末2.0g(P4)を得た。このポリマーの数平均分子量は49000、重量平均分子量は100000であった。
<Polymerization example 4>
MA-1 (1.20 g, 3.6 mmol), MA-2 (0.83 g, 2.7 mmol) and MA-6 (0.78 g, 2.7 mmol) were dissolved in THF (11.4 g). After degassing with a diaphragm pump, 2,2'-azobisisobutyronitrile (0.044 g, 0.27 mmol) was added and degassed again. Then, the reaction was carried out at 60 ° C. for 13 hours to obtain a polymer solution of methacrylate. This polymer solution was added dropwise to 143 g of methanol: pure water (1: 1), and the obtained precipitate was filtered. The precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure in an oven at 50 ° C. to obtain 2.0 g (P4) of methacrylate polymer powder. The polymer had a number average molecular weight of 49000 and a weight average molecular weight of 100,000.

<重合例5>
MA−1(0.80g、2.4mmol)、MA−2(0.55g、1.8mmol)、MA−7(0.54g、1.8mmol)をTHF(7.7g)中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを(0.030g、0.18mmol)を加え再び脱気を行った。この後60℃で13時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノール:純水(1:1)96gに滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、50℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末1.4g(P5)を得た。このポリマーの数平均分子量は38000、重量平均分子量は90000であった。
<Polymerization example 5>
MA-1 (0.80 g, 2.4 mmol), MA-2 (0.55 g, 1.8 mmol) and MA-7 (0.54 g, 1.8 mmol) were dissolved in THF (7.7 g). After degassing with a diaphragm pump, 2,2'-azobisisobutyronitrile (0.030 g, 0.18 mmol) was added and degassed again. Then, the reaction was carried out at 60 ° C. for 13 hours to obtain a polymer solution of methacrylate. This polymer solution was added dropwise to 96 g of methanol: pure water (1: 1), and the obtained precipitate was filtered. The precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure in an oven at 50 ° C. to obtain 1.4 g (P5) of methacrylate polymer powder. The number average molecular weight of this polymer was 38,000 and the weight average molecular weight was 90,000.

<重合例6>
MA−3(2.0g、6.9mmol)をTHF(11.7g)中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを(0.035g、0.21mmol)を加え再び脱気を行った。この後60℃で13時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノール:純水(1:1)103gに滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、50℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末1.4g(P6)を得た。このポリマーの数平均分子量は35000、重量平均分子量は65000であった。
<Polymerization example 6>
MA-3 (2.0 g, 6.9 mmol) was dissolved in THF (11.7 g), degassed with a diaphragm pump, and then 2,2'-azobisisobutyronitrile (0.035 g) was added. , 0.21 mmol) was added and degassing was performed again. Then, the reaction was carried out at 60 ° C. for 13 hours to obtain a polymer solution of methacrylate. This polymer solution was added dropwise to 103 g of methanol: pure water (1: 1), and the obtained precipitate was filtered. The precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure in an oven at 50 ° C. to obtain 1.4 g (P6) of methacrylate polymer powder. The number average molecular weight of this polymer was 35,000 and the weight average molecular weight was 65,000.

<重合例7>
MA−4(1.0g、3.5mmol)をTHF(4.1g)中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを(0.017g、0.10mmol)を加え再び脱気を行った。この後60℃で13時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をアセトニトリル51gに滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をアセトニトリルで洗浄し、50℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末0.5g(P7)を得た。このポリマーの数平均分子量は35000、重量平均分子量は68000であった。
<Polymerization example 7>
MA-4 (1.0 g, 3.5 mmol) was dissolved in THF (4.1 g), degassed with a diaphragm pump, and then 2,2'-azobisisobutyronitrile (0.017 g). , 0.10 mmol) was added and degassing was performed again. Then, the reaction was carried out at 60 ° C. for 13 hours to obtain a polymer solution of methacrylate. This polymer solution was added dropwise to 51 g of acetonitrile, and the obtained precipitate was filtered. The precipitate was washed with acetonitrile and dried under reduced pressure in an oven at 50 ° C. to obtain 0.5 g (P7) of methacrylate polymer powder. The number average molecular weight of this polymer was 35,000 and the weight average molecular weight was 68,000.

<重合例8>
MA−6(0.99g、3.4mmol)をTHF(4.0g)中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを(0.017g、0.10mmol)を加え再び脱気を行った。この後60℃で13時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をアセトニトリル50gに滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をアセトニトリルで洗浄し、50℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末0.6g(P8)を得た。このポリマーの数平均分子量は38000、重量平均分子量は74000であった。
<Polymerization Example 8>
MA-6 (0.99 g, 3.4 mmol) was dissolved in THF (4.0 g), degassed with a diaphragm pump, and then 2,2'-azobisisobutyronitrile (0.017 g). , 0.10 mmol) was added and degassing was performed again. Then, the reaction was carried out at 60 ° C. for 13 hours to obtain a polymer solution of methacrylate. This polymer solution was added dropwise to 50 g of acetonitrile, and the resulting precipitate was filtered. The precipitate was washed with acetonitrile and dried under reduced pressure in an oven at 50 ° C. to obtain 0.6 g (P8) of methacrylate polymer powder. The polymer had a number average molecular weight of 38,000 and a weight average molecular weight of 74,000.

<重合例9>
MA−8(2.05g、4.5mmol)をTHF(18.7g)中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを(0.022g、0.13mmol)を加え再び脱気を行った。この後60℃で14時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノール208gに滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、50℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末1.4g(P9)を得た。このポリマーの数平均分子量は33000、重量平均分子量は48000であった。
<Polymerization example 9>
MA-8 (2.05 g, 4.5 mmol) was dissolved in THF (18.7 g), degassed with a diaphragm pump, and then 2,2'-azobisisobutyronitrile (0.022 g) was added. , 0.13 mmol) was added and degassing was performed again. Then, the reaction was carried out at 60 ° C. for 14 hours to obtain a polymer solution of methacrylate. This polymer solution was added dropwise to 208 g of methanol, and the resulting precipitate was filtered. The precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure in an oven at 50 ° C. to obtain 1.4 g (P9) of methacrylate polymer powder. The number average molecular weight of this polymer was 33000 and the weight average molecular weight was 48,000.

<重合例10>
MA−9のメタクリレートポリマー(P10)は特許文献(特開2006−308878)に記載の合成法にて合成した。
<Polymerization Example 10>
The methacrylate polymer (P10) of MA-9 was synthesized by the synthetic method described in Patent Document (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-308878).

<溶解性試験>
<実施例1>
得られたメタクリレートポリマー粉末(P2)0.2gにNMP(0.47g)を加え、室温にて12時間撹拌して溶解させた。この溶液にBC(7.0g)を加えてポリマー溶解性を確認した。
<実施例2〜4、比較例1>
実施例1と同様の方法を用いて実施例2〜4のポリマー溶解性を確認した。また、比較例1も同様の方法でポリマー溶解性を確認した。その結果を表1に示す。
<Solubility test>
<Example 1>
NMP (0.47 g) was added to 0.2 g of the obtained methacrylate polymer powder (P2), and the mixture was dissolved by stirring at room temperature for 12 hours. BC (7.0 g) was added to this solution and polymer solubility was confirmed.
<Examples 2 to 4, Comparative Example 1>
The polymer solubility of Examples 2 to 4 was confirmed using the same method as in Example 1. In addition, the polymer solubility of Comparative Example 1 was confirmed by the same method. The results are shown in Table 1.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

<溶解性試験>
<実施例5>
得られたメタクリレートポリマー粉末(P7)0.05gにPGME(0.45g)を加え、室温にて12時間撹拌し、ポリマー溶解性を確認した。
<実施例6>
得られたメタクリレートポリマー粉末(P8)0.05gにPGME(0.45g)を加え、室温にて12時間撹拌し、ポリマー溶解性を確認した。
<比較例2>
得られたメタクリレートポリマー粉末(P6)0.05gにPGME(0.45g)を加え、室温にて12時間撹拌し、ポリマー溶解性を確認した。
実施例5,6、比較例2の溶解性試験結果を表2に示す。
<Solubility test>
<Example 5>
PGME (0.45 g) was added to 0.05 g of the obtained methacrylate polymer powder (P7), and the mixture was stirred at room temperature for 12 hours to confirm polymer solubility.
<Example 6>
PGME (0.45 g) was added to 0.05 g of the obtained methacrylate polymer powder (P8), and the mixture was stirred at room temperature for 12 hours to confirm polymer solubility.
<Comparative example 2>
PGME (0.45 g) was added to 0.05 g of the obtained methacrylate polymer powder (P6), and the mixture was stirred at room temperature for 12 hours to confirm polymer solubility.
Table 2 shows the solubility test results of Examples 5 and 6 and Comparative Example 2.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

<溶解性試験>
<実施例7>
得られたメタクリレートポリマー粉末(P9)0.05gにNMP(0.96g)を加え、室温にて12時間撹拌して溶解させた。この溶液にBC(0.24g)を加えてポリマー溶解性を確認した。
<Solubility test>
<Example 7>
NMP (0.96 g) was added to 0.05 g of the obtained methacrylate polymer powder (P9), and the mixture was dissolved by stirring at room temperature for 12 hours. BC (0.24 g) was added to this solution to confirm polymer solubility.

<比較例3>
得られたメタクリレートポリマー粉末(P10)0.05gにNMP(0.96g)を加え、室温にて12時間撹拌して溶解させた。この溶液にBC(0.24g)を加えてポリマー溶解性を確認した。
実施例7、比較例3の溶解性試験結果を表3に示す。
<Comparative example 3>
NMP (0.96 g) was added to 0.05 g of the obtained methacrylate polymer powder (P10), and the mixture was dissolved by stirring at room temperature for 12 hours. BC (0.24 g) was added to this solution to confirm polymer solubility.
The solubility test results of Example 7 and Comparative Example 3 are shown in Table 3.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

表1、2、3に示すように、本発明の連結基を単結合もしくは三重結合とした重合性化合物(MA−4〜MA−8)を単独重合及び共重合したポリマーは、従来のエーテル結合型の重合性化合物(MA−1〜MA−3、MA−9)を単独重合及び共重合したポリマーより、BCやPGMEに対して溶解性が向上する事が確認された。そのため、結合基を単結合や三重結合にしたアクリルモノマーの単独重合もしくは共重合により得られるポリマーを用いる事で、溶媒選択性が拡大する事が示唆された。 As shown in Tables 1, 2 and 3, the polymer obtained by homopolymerizing and copolymerizing the polymerizable compound (MA-4 to MA-8) in which the linking group of the present invention is a single bond or a triple bond is a conventional ether bond. It was confirmed that the solubility in BC and PGME was improved as compared with the polymer obtained by homopolymerizing and copolymerizing the type polymerizable compounds (MA-1 to MA-3, MA-9). Therefore, it was suggested that the solvent selectivity could be expanded by using a polymer obtained by homopolymerization or copolymerization of an acrylic monomer having a single bond or a triple bond as a bonding group.

<液晶配向剤の作製>
<実施例8>
得られたタクリレートポリマー粉末(P2)0.4gにNMP(7.6g)を加え、室温で3時間攪拌して溶解させた。この溶液にBC(2.0g)を加え攪拌することにより液晶配向剤(A−1)を得た。
<Preparation of liquid crystal alignment agent>
<Example 8>
NMP (7.6 g) was added to 0.4 g of the obtained taclilate polymer powder (P2), and the mixture was dissolved by stirring at room temperature for 3 hours. BC (2.0 g) was added to this solution and stirred to obtain a liquid crystal alignment agent (A-1).

<実施例9>
得られたタクリレートポリマー粉末(P3)0.4gにNMP(7.6g)を加え、室温で3時間攪拌して溶解させた。この溶液にBC(2.0g)を加え攪拌することにより液晶配向剤(A−2)を得た。
<Example 9>
NMP (7.6 g) was added to 0.4 g of the obtained taclilate polymer powder (P3), and the mixture was dissolved by stirring at room temperature for 3 hours. BC (2.0 g) was added to this solution and stirred to obtain a liquid crystal alignment agent (A-2).

<実施例10>
得られたタクリレートポリマー粉末(P4)0.4gにNMP(7.6g)を加え、室温で3時間攪拌して溶解させた。この溶液にBC(2.0g)を加え攪拌することにより液晶配向剤(A−3)を得た。
<Example 10>
NMP (7.6 g) was added to 0.4 g of the obtained taclilate polymer powder (P4), and the mixture was dissolved by stirring at room temperature for 3 hours. BC (2.0 g) was added to this solution and stirred to obtain a liquid crystal alignment agent (A-3).

<実施例11>
得られたタクリレートポリマー粉末(P5)0.4gにNMP(7.6g)を加え、室温で3時間攪拌して溶解させた。この溶液にBC(2.0g)を加え攪拌することにより液晶配向剤(A−4)を得た。
<Example 11>
NMP (7.6 g) was added to 0.4 g of the obtained taclilate polymer powder (P5), and the mixture was dissolved by stirring at room temperature for 3 hours. BC (2.0 g) was added to this solution and stirred to obtain a liquid crystal alignment agent (A-4).

<実施例12>
得られたタクリレートポリマー粉末(P9)0.2gにクロロホルム(9.8g)を加え、室温で3時間攪拌して溶解させることにより液晶配向剤(A−5)を得た。
<Example 12>
Chloroform (9.8 g) was added to 0.2 g of the obtained taclilate polymer powder (P9), and the mixture was stirred and dissolved at room temperature for 3 hours to obtain a liquid crystal alignment agent (A-5).

<オーダーパラメータ測定用基板の作成>
<実施例13>
実施例8で得られた液晶配向剤(A−1)を用いて下記に示すような手順でオーダーパラメータ測定用基板の作製を行った。基板は、40mm×40mmの大きさで、厚さが1.0mmの石英基板を用いた。
実施例8で得られた液晶配向剤(A−1)を1.0μmのフィルターで濾過した後、石英基板上にスピンコートし、70℃のホットプレート上で90秒間乾燥後、膜厚100nmの液晶配向膜を形成した。次いで、塗膜面に偏光板を介して313nmの紫外線を5〜50mJ/cm照射した後に140℃〜160℃のホットプレートで10分間加熱し、液晶配向膜付き基板を得た。
<Creation of board for order parameter measurement>
<Example 13>
Using the liquid crystal alignment agent (A-1) obtained in Example 8, a substrate for order parameter measurement was produced by the procedure as shown below. As the substrate, a quartz substrate having a size of 40 mm × 40 mm and a thickness of 1.0 mm was used.
The liquid crystal alignment agent (A-1) obtained in Example 8 is filtered through a 1.0 μm filter, spin-coated on a quartz substrate, dried on a hot plate at 70 ° C. for 90 seconds, and then has a film thickness of 100 nm. A liquid crystal alignment film was formed. Next, the coating film surface was irradiated with ultraviolet rays of 313 nm at 5 to 50 mJ / cm 2 via a polarizing plate, and then heated on a hot plate at 140 ° C. to 160 ° C. for 10 minutes to obtain a substrate with a liquid crystal alignment film.

<実施例14〜16>
実施例9〜11で得られた液晶配向剤(A−2〜A−4)に関しても、A−1と同様の方法を用いてオーダーパラメータ測定用基板を作成した。
<Examples 14 to 16>
For the liquid crystal alignment agents (A-2 to A-4) obtained in Examples 9 to 11, order parameter measurement substrates were prepared using the same method as in A-1.

<実施例17>
実施例12で得られた液晶配向剤(A−5)を用いて下記に示すような手順でオーダーパラメータ測定用基板の作製を行った。基板は、40mm×40mmの大きさで、厚さが1.0mmの石英基板を用いた。
実施例12で得られた液晶配向剤(A−5)を1.0μmのフィルターで濾過した後、石英基板上にスピンコートし、70℃のホットプレート上で90秒間乾燥後、膜厚200nmの液晶配向膜を形成した。次いで、塗膜面に偏光板を介して313nmの紫外線を50〜1000mJ/cm照射した後に170℃〜230℃のホットプレートで10分間加熱し、液晶配向膜付き基板を得た。
<Example 17>
Using the liquid crystal alignment agent (A-5) obtained in Example 12, a substrate for order parameter measurement was produced by the procedure as shown below. As the substrate, a quartz substrate having a size of 40 mm × 40 mm and a thickness of 1.0 mm was used.
The liquid crystal alignment agent (A-5) obtained in Example 12 is filtered through a 1.0 μm filter, spin-coated on a quartz substrate, dried on a hot plate at 70 ° C. for 90 seconds, and then has a film thickness of 200 nm. A liquid crystal alignment film was formed. Next, the coating film surface was irradiated with ultraviolet rays of 313 nm at 50 to 1000 mJ / cm 2 via a polarizing plate, and then heated on a hot plate at 170 ° C. to 230 ° C. for 10 minutes to obtain a substrate with a liquid crystal alignment film.

<オーダーパラメータの測定>
上記で作製した液晶配向膜付き基板を用い、液晶配向膜の光学的異方性を測定するために、偏光の吸光度からオーダーパラメータであるSを下式より算出した。
<Measurement of order parameters>
Using the substrate with the liquid crystal alignment film prepared above, in order to measure the optical anisotropy of the liquid crystal alignment film, S, which is an order parameter, was calculated from the absorbance of polarized light from the following formula.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

ここで、Aparaは、照射した偏光UV方向に対して平行方向の吸光度、Aperは、照射した偏光UV方向に対して垂直方向の吸光度を表す。Alargeは、平行方向と垂直方向の吸光度を比較して値が大きい方の吸光度、Asmallは、平行方向と垂直方向の吸光度を比較して値が小さい方の吸光度を表す。面内配向度の絶対値[S]が、1に近い程より一様な配向状態となっていることを示している。オーダーパラメータは、1もしくは−1に近い程より一様な配向状態となっていることを示している。
算出したオーダーパラメータの絶対値[S]は、表4と表5に示した。なお、オーダーパラメータの絶対値を下記の基準で示す。
○:0.5以上
○△:0.4以上〜0.5未満
△:0.3以上〜0.4未満
×:0.3未満
また、吸光度の測定には、島津製作所社製の紫外線可視近赤外分析光度計U−3100PCを使用した。
Here, A para represents the absorbance in the direction parallel to the irradiated polarized UV direction, and A per represents the absorbance in the direction perpendicular to the irradiated polarized UV direction. A large is parallel and vertical absorbance absorbance having a larger value than the, A small represents towards absorbance value is small compared to parallel and vertical directions of the absorbance. The closer the absolute value [S] of the in-plane orientation is to 1, the more uniform the orientation is. The order parameter indicates that the closer to 1 or -1, the more uniform the orientation state.
The calculated absolute value [S] of the order parameter is shown in Tables 4 and 5. The absolute value of the order parameter is shown according to the following criteria.
◯: 0.5 or more ○ △: 0.4 or more and less than 0.5 Δ: 0.3 or more and less than 0.4 ×: less than 0.3 A near-infrared analysis photometer U-3100PC was used.

Figure 0006932335
Figure 0006932335

Figure 0006932335
Figure 0006932335

表4、5に示すように、本発明の連結基を単結合もしくは三重結合とした重合性化合物(MA4〜MA7)を共重合したポリマーP2〜P5を含む液晶配向剤A1〜A4、ポリマーP9を含む液晶配向剤A5は、0.5〜0.4程度のオーダーパラメータの値を示しており、液晶配向膜として機能する事が確認された。 As shown in Tables 4 and 5, liquid crystal aligning agents A1 to A4 and polymers P9 containing polymers P2 to P5 copolymerized with a polymerizable compound (MA4 to MA7) in which the linking group of the present invention is a single bond or a triple bond are used. The liquid crystal aligning agent A5 contained had an order parameter value of about 0.5 to 0.4, and it was confirmed that the liquid crystal aligning agent A5 functions as a liquid crystal alignment film.

Claims (9)

(A)100℃〜300℃の温度範囲で液晶性を発現する感光性の側鎖型高分子、及び
(B)有機溶媒
を含有する重合体組成物において、(A)成分である樹脂が、下記式(a)
(式(a)中、Lは炭素数1から16の直鎖又は分岐鎖のアルキレンである。
XはCH−CH、CH=CHまたはC≡Cを表す。
は、各々独立に、ハロゲン基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基、ヒドロキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基(アルキル基は、各々独立に、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である)、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のエステル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアシル基、カルボキシル基、アルデヒド基及びニトロ基から選ばれる置換基で置換されてもよい下記式Y−1からY−6を表す(**はXとの結合位置を表し、***はYとの結合位置を表す)。
は−COOH、−CR=CR−COOH、−CR=CR−CO−O−Yまたは−O−CO−CR=CR−Yを表す。
及びRは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。
及びRは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。
は、各々独立に、ハロゲン基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基、ヒドロキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基(アルキル基は、各々独立に、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である)、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のエステル基、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアシル基、カルボキシル基、アルデヒド基、及びニトロ基から選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、炭素数5〜8の脂環式炭化水素、フェニル‐シクロヘキシル基又はシクロヘキシル-フェニル基を表す。)
で表される側鎖を含有することを特徴とする重合体組成物。
Figure 0006932335
In the polymer composition containing (A) a photosensitive side-chain polymer that exhibits liquid crystallinity in a temperature range of 100 ° C. to 300 ° C. and (B) an organic solvent, the resin as the component (A) is used. The following formula (a)
(In the formula (a), L is a linear or branched alkylene having 1 to 16 carbon atoms.
X represents CH 2 -CH 2 , CH = CH or C≡C.
Y 1 is independently a halogen group, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a cyano group, and a dialkylamino group. (The alkyl groups are independently linear or branched alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms), linear or branched ester groups having 1 to 10 carbon atoms, and linear chains having 1 to 10 carbon atoms. or branched-chain acyl group, a carboxyl group, a Y 1 -6 from a good formula Y 1 -1 be substituted with a substituent selected from an aldehyde group and a nitro group (** represents a bonding position to X , *** represents the position of connection with Y 2).
Y 2 represents -COOH, -CR 3 = CR 4- COOH, -CR 5 = CR 6- CO-O-Y 3 or -O-CO-CR 5 = CR 6- Y 3 .
R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a methyl group, respectively.
R 5 and R 6 independently represent a hydrogen atom or a methyl group, respectively.
Y 3 are each independently a halogen group, a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, straight-chain or branched alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a cyano group, a dialkylamino group (The alkyl groups are independently linear or branched alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms), linear or branched ester groups having 1 to 10 carbon atoms, and linear chains having 1 to 10 carbon atoms. Alternatively, a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, phenyl- which may be substituted with a substituent selected from an acyl group, a carboxyl group, an aldehyde group and a nitro group of the branched chain. Represents a cyclohexyl group or a cyclohexyl-phenyl group. )
A polymer composition comprising a side chain represented by.
Figure 0006932335
(A)成分が、光架橋、光異性化、または光フリース転移を起こす感光性側鎖を有する、請求項1に記載の組成物。 The composition according to claim 1, wherein the component (A) has a photosensitive side chain that causes photocrosslinking, photoisomerization, or photofries rearrangement. (A)成分が、下記式(1)〜(6)
(式中、A、B、Dはそれぞれ独立に、単結合、−O−、−CH−、−COO−、−OCO−、−CONH−、−NH−CO−、−CH=CH−CO−O−、又は−O−CO−CH=CH−を表す;
Sは、炭素数1〜12のアルキレン基であり、それらに結合する水素原子はハロゲン基に置き換えられていてもよい;
Tは、単結合または炭素数1〜12のアルキレン基であり、それらに結合する水素原子はハロゲン基に置き換えられていてもよい;
は、1価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環および炭素数5〜8の脂環式炭化水素から選ばれる環を表すか、それらの置換基から選ばれる同一又は相異なった2〜6の環が結合基Bを介して結合してなる基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に−COOR(式中、Rは水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表す)、−NO、−CN、−CH=C(CN)、−CH=CH−CN、ハロゲン基、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のアルキルオキシ基で置換されても良い;
は、2価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、炭素数5〜8の脂環式炭化水素、および、それらの組み合わせからなる群から選ばれる基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に−NO、−CN、−CH=C(CN)、−CH=CH−CN、ハロゲン基、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のアルキルオキシ基で置換されても良い;
Rは、ヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルコキシ基を表すか、又はYと同じ定義を表す;
Xは、単結合、−COO−、−OCO−、−N=N−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH=CH−CO−O−、又は−O−CO−CH=CH−を表し、Xの数が2となるときは、X同士は同一でも異なっていてもよい;
Couは、クマリン−6−イル基またはクマリン−7−イル基を表し、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に−NO、−CN、−CH=C(CN)、−CH=CH−CN、ハロゲン基、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のアルキルオキシ基で置換されても良い;
q1とq2は、一方が1で他方が0である;
q3は0または1である;
P及びQは、各々独立に、2価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、炭素数5〜8の脂環式炭化水素、および、それらの組み合わせからなる群から選ばれる基である;ただし、Xが−CH=CH−CO−O−、−O−CO−CH=CH−である場合、−CH=CH−が結合する側のP又はQは芳香環であり、Pの数が2以上となるときは、P同士は同一でも異なっていてもよく、Qの数が2以上となるときは、Q同士は同一でも異なっていてもよい;
l1は0または1である;
l2は0〜2の整数である;
l1とl2がともに0であるときは、Tが単結合であるときはAも単結合を表す;
l1が1であるときは、Tが単結合であるときはBも単結合を表す;
H及びIは、各々独立に、2価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、およびそれらの組み合わせから選ばれる基である。)
からなる群から選ばれるいずれか1種の感光性側鎖を有する、請求項1または2に記載の組成物。
Figure 0006932335
The component (A) is the following formulas (1) to (6).
(In the formula, A, B, and D are independently single-bonded, -O-, -CH 2- , -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH = CH-CO. Represents -O- or -O-CO-CH = CH-;
S is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom bonded to them may be replaced with a halogen group;
T is a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom bonded to them may be replaced with a halogen group;
Y 1 represents a ring selected from a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring and an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, or the same or selected from their substituents. It is a group consisting of 2 to 6 different rings bonded via a bonding group B, and the hydrogen atoms bonded to them are independently −COOR 0 (in the formula, R 0 is a hydrogen atom or 1 to 1 carbon atoms). (Representing an alkyl group of 5), -NO 2 , -CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. May be substituted with an alkyloxy group;
Y 2 is a group selected from the group consisting of a divalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, and a combination thereof. The hydrogen atoms bonded to are independently -NO 2 , -CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, halogen group, alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 5 carbon atoms. May be substituted with an alkyloxy group of;
R is hydroxy group, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or represents the same definition as Y 1;
X is a single bond, -COO-, -OCO-, -N = N-, -CH = CH-, -C≡C-, -CH = CH-CO-O-, or -O-CO-CH = When CH-represents and the number of Xs is 2, the Xs may be the same or different;
Cou represents a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and the hydrogen atoms bonded to them are independently -NO 2 , -CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-. It may be substituted with CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;
One of q1 and q2 is 1 and the other is 0;
q3 is 0 or 1;
P and Q are independently selected from the group consisting of a divalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, and a combination thereof. It is a group; however, when X is -CH = CH-CO-O-, -O-CO-CH = CH-, P or Q on the side to which -CH = CH- is bonded is an aromatic ring. When the number of Ps is 2 or more, the Ps may be the same or different, and when the number of Qs is 2 or more, the Qs may be the same or different;
l1 is 0 or 1;
l2 is an integer from 0 to 2;
When both l1 and l2 are 0, A also represents a single bond when T is a single bond;
When l1 is 1, B also represents a single bond when T is a single bond;
H and I are groups independently selected from a divalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring, and a combination thereof. )
The composition according to claim 1 or 2, which has any one of the photosensitive side chains selected from the group consisting of.
Figure 0006932335
(A)成分が、下記式(21)〜(31)
(式中、A及びBは上記と同じ定義を有する;
は、1価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、窒素含有複素環、及び炭素数5〜8の脂環式炭化水素、および、それらの組み合わせからなる群から選ばれる基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に−NO、−CN、ハロゲン基、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のアルキルオキシ基で置換されても良い;
は、水素原子、−NO、−CN、−CH=C(CN)、−CH=CH−CN、ハロゲン基、1価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、窒素含有複素環、炭素数5〜8の脂環式炭化水素、炭素数1〜12のアルキル基、又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表す;
q1とq2は、一方が1で他方が0である;
lは1〜12の整数を表し、mは0から2の整数を表し、但し、式(23)〜(24)において、全てのmの合計は2以上であり、式(25)〜(26)において、全てのmの合計は1以上であり、m1、m2およびm3は、それぞれ独立に1〜3の整数を表す;
は、水素原子、−NO、−CN、ハロゲン基、1価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、窒素含有複素環、及び炭素数5〜8の脂環式炭化水素、および、アルキル基、又はアルキルオキシ基を表す;
、Zは単結合、−CO−、−CHO−、−CH=N−、−CF−を表す)
からなる群から選ばれるいずれか1種の液晶性側鎖を有する請求項1〜3のいずれか一項に記載の組成物。
Figure 0006932335
The component (A) is the following formulas (21) to (31).
(In the formula, A and B have the same definition as above;
Y 3 is a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a nitrogen-containing heterocycle, and alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, and, with a group selected from the group consisting of Yes, the hydrogen atoms attached to them may be independently substituted with -NO 2 , -CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;
R 3 contains a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen group, a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, and nitrogen. Represents a heterocycle, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms;
One of q1 and q2 is 1 and the other is 0;
l represents an integer of 1 to 12, m represents an integer of 0 to 2, but in equations (23) to (24), the sum of all m is 2 or more, and equations (25) to (26). ), The sum of all m is 1 or more, and m1, m2, and m3 independently represent integers 1 to 3;
R 2 is a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, a halogen group, a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a nitrogen-containing heterocycle, and an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms. And represents an alkyl group or an alkyloxy group;
Z 1 and Z 2 represent single bond, -CO-, -CH 2 O-, -CH = N-, -CF 2- )
The composition according to any one of claims 1 to 3, which has any one liquid crystal side chain selected from the group consisting of.
Figure 0006932335
[I] 請求項1〜4のいずれか一項に記載の組成物を、横電界駆動用の導電膜を有する基板上に塗布して塗膜を形成する工程;
[II] [I]で得られた塗膜に偏光した紫外線を照射する工程;及び
[III] [II]で得られた塗膜を加熱する工程;
を有することによって配向制御能が付与された横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を得る、前記液晶配向膜を有する基板の製造方法。
[I] A step of applying the composition according to any one of claims 1 to 4 onto a substrate having a conductive film for driving a transverse electric field to form a coating film;
[II] A step of irradiating the coating film obtained in [I] with polarized ultraviolet rays; and a step of heating the coating film obtained in [III] [II];
A method for manufacturing a substrate having the liquid crystal alignment film, which obtains a liquid crystal alignment film for a transverse electric field drive type liquid crystal display element to which the orientation control ability is imparted.
請求項5に記載の方法により製造された横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を有する基板。 A substrate having a liquid crystal alignment film for a transverse electric field drive type liquid crystal display element manufactured by the method according to claim 5. 請求項6記載の基板を有する横電界駆動型液晶表示素子。 A transverse electric field driven liquid crystal display element having the substrate according to claim 6. 請求項6記載の基板(第1の基板)を準備する工程;
[I’] 第2の基板上に請求項1〜17のいずれか一項に記載の重合体組成物を、塗布して塗膜を形成する工程;
[II’] [I’]で得られた塗膜に偏光した紫外線を照射する工程;及び
[III’] [II’]で得られた塗膜を加熱する工程;
を有することによって配向制御能が付与された液晶配向膜を得る、前記液晶配向膜を有する第2の基板を得る工程;及び
[IV] 液晶を介して前記第1及び第2の基板の液晶配向膜が相対するように、前記第1及び第2の基板を対向配置して液晶表示素子を得る工程;
を有することにより、横電界駆動型液晶表示素子を得る、該液晶表示素子の製造方法。
A step of preparing the substrate (first substrate) according to claim 6;
[I'] A step of applying the polymer composition according to any one of claims 1 to 17 on a second substrate to form a coating film;
[II'] A step of irradiating the coating film obtained in [I'] with polarized ultraviolet rays; and a step of heating the coating film obtained in [III'] [II'];
A step of obtaining a second substrate having the liquid crystal alignment film, which obtains a liquid crystal alignment film to which the orientation control ability is imparted by having the liquid crystal alignment film; A step of arranging the first and second substrates so as to face each other so that the films face each other to obtain a liquid crystal display element;
A method for manufacturing a liquid crystal display element, which obtains a horizontal electric field drive type liquid crystal display element.
請求項8記載の方法により製造された横電界駆動型液晶表示素子。
A transverse electric field driven liquid crystal display element manufactured by the method according to claim 8.
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