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JP6932609B2 - Data generation device, board inspection device and data generation method - Google Patents
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JP6932609B2 - Data generation device, board inspection device and data generation method - Google Patents

Data generation device, board inspection device and data generation method Download PDF

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Description

本発明は、多層基板を検査する際の検査用電圧の電圧値を示す第1の電圧値データを生成するデータ生成装置、第1の電圧値データを用いて多層基板を検査する基板検査装置、および第1の電圧値データを生成するデータ生成方法に関するものである。 The present invention is a data generator that generates a first voltage value data indicating a voltage value of an inspection voltage when inspecting a multilayer substrate, a substrate inspection apparatus that inspects a multilayer substrate using the first voltage value data, and the like. And a data generation method for generating the first voltage value data.

この種の基板検査装置として、下記特許文献1において出願人が開示した回路基板検査装置が知られている。この回路基板検査装置は、信号生成部、記憶部および制御部等を備えて、回路基板における各導体パターン間の絶縁状態の良否を判定し、その判定結果から回路基板の良否を検査可能に構成されている。この場合、記憶部には、導体パターンに印加する検査用信号の電圧値等の検査条件が記憶され、制御部が、検査条件に従って検査を行う。具体的には、制御部は、検査条件で規定されている電圧値の検査用信号を一対の導体パターンに印加させ、この際に各導体パターン間に流れる電流と検査用信号の電圧値とに基づいて各導体パターン間の抵抗値を算出する。次いで、制御部は、算出した抵抗値が基準値以上であるか否かを判定し、基準値以上であるときには各導体パターン間の絶縁状態が良好であると判定し、基準値未満であるときには絶縁状態が不良であると判定する。また、制御部は、各導体パターン間の絶縁状態が良好であると判定したときには、回路基板が良好であると判定し、良否絶縁状態が不良であると判定したときには、回路基板が不良であると判定する。 As a substrate inspection apparatus of this type, a circuit board inspection apparatus disclosed by the applicant in Patent Document 1 below is known. This circuit board inspection device is provided with a signal generation unit, a storage unit, a control unit, etc., and can determine the quality of the insulation state between each conductor pattern on the circuit board, and can inspect the quality of the circuit board from the judgment result. Has been done. In this case, the storage unit stores inspection conditions such as the voltage value of the inspection signal applied to the conductor pattern, and the control unit performs the inspection according to the inspection conditions. Specifically, the control unit applies an inspection signal of the voltage value specified in the inspection conditions to the pair of conductor patterns, and at this time, the current flowing between each conductor pattern and the voltage value of the inspection signal are set. Based on this, the resistance value between each conductor pattern is calculated. Next, the control unit determines whether or not the calculated resistance value is equal to or higher than the reference value, and when it is equal to or higher than the reference value, determines that the insulation state between the conductor patterns is good, and when it is less than the reference value. Judge that the insulation state is poor. Further, when the control unit determines that the insulation state between the conductor patterns is good, it determines that the circuit board is good, and when it determines that the good or bad insulation state is poor, the circuit board is defective. Is determined.

特開2012−78276号公報(第6−8頁、第1図)Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-78276 (Pages 6-8, Fig. 1)

ところが、上記の回路基板検査装置には、改善すべき以下の課題がある。具体的には、この回路基板検査装置では、検査条件で規定されている電圧値の検査用信号を一対の導体パターンに印加させて算出した抵抗値に基づいて各導体パターン間の絶縁状態の良否を判定し、さらに絶縁状態の良否の判定結果から回路基板の良否を判定している。しかしながら、予め決められた検査条件での検査で回路基板が良好と判定されたとしても、その検査条件では発見できない潜在的な不良を回路基板が有しているときには、その潜在的な不良によって回路基板の使用中に不具合を生じることがある。例えば、基板の内部に導体パターン(内層導体パターン)が形成されている多層基板では、各内層導体パターン間に空隙(ボイド)が生じることがあり、このような空隙が生じているときには、各内層導体パターン同士の十分な絶縁が確保されないため、検査条件での検査で絶縁状態が良好と判定された場合であっても、検査条件で規定されている電圧値よりも高い電圧値の電気信号が多層基板の使用中に印加されたときには、空隙が生じている部分で気中放電が発生して多層基板が損傷するおそれがある。つまり、上記の回路基板検査装置には、内層導体パターン間に空隙が生じている多層基板を不良品と判定できないことがあるという課題が存在する。この場合、空隙が発生している箇所で気中放電が発生する電圧値以上の電圧値の検査用信号を印加して多層基板の良否を判定する構成も考えられる。しかしながら、この構成では、電圧値が高すぎたときには、各内層導体パターン間に空隙が生じていない(つまり、多層基板が良品である)場合においても、内層導体パターン同士が近接している部分において絶縁破壊が発生したり、検査用信号を印加している多層基板の表面の導体パターン間で気中放電が発生したりして、多層基板が損傷して、良品の多層基板が不良品となるおそれがある。 However, the circuit board inspection device described above has the following problems to be improved. Specifically, in this circuit board inspection device, the quality of the insulation state between each conductor pattern is good or bad based on the resistance value calculated by applying the inspection signal of the voltage value specified in the inspection conditions to the pair of conductor patterns. Is determined, and further, the quality of the circuit board is determined from the judgment result of the quality of the insulation state. However, even if the circuit board is judged to be good by the inspection under the predetermined inspection conditions, when the circuit board has a potential defect that cannot be found under the inspection conditions, the circuit board is caused by the potential defect. Problems may occur during use of the board. For example, in a multilayer substrate in which a conductor pattern (inner layer conductor pattern) is formed inside the substrate, voids may occur between the inner layer conductor patterns, and when such voids are generated, each inner layer Since sufficient insulation between conductor patterns is not ensured, even if the insulation condition is judged to be good by the inspection under the inspection conditions, an electric signal with a voltage value higher than the voltage value specified by the inspection conditions is generated. When applied while the multilayer board is in use, air discharge may occur in the portion where the voids are generated, and the multilayer board may be damaged. That is, the circuit board inspection device has a problem that a multilayer board having gaps between inner layer conductor patterns may not be determined as a defective product. In this case, a configuration is also conceivable in which an inspection signal having a voltage value equal to or higher than the voltage value at which air discharge occurs at a location where an air gap is generated is applied to determine the quality of the multilayer board. However, in this configuration, when the voltage value is too high, even when there are no gaps between the inner layer conductor patterns (that is, the multilayer board is a good product), in the portion where the inner layer conductor patterns are close to each other. Dielectric breakdown occurs or air discharge occurs between the conductor patterns on the surface of the multilayer board to which the inspection signal is applied, which damages the multilayer board and makes a good multilayer board defective. There is a risk.

本発明は、かかる課題に鑑みてなされたものであり、多層基板の損傷を防止しつつ多層基板の内層導体間に空隙が生じていることを判定可能な電圧値データを生成し得るデータ生成装置およびデータ生成方法、並びに多層基板の損傷を防止しつつ多層基板の内層導体間に空隙が生じていることを判定し得る基板検査装置を提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of such a problem, and is a data generation device capable of generating voltage value data capable of determining that a gap is generated between inner layer conductors of a multilayer substrate while preventing damage to the multilayer substrate. An object of the present invention is to provide a data generation method and a substrate inspection apparatus capable of determining that a gap is generated between inner layer conductors of a multilayer substrate while preventing damage to the multilayer substrate.

上記目的を達成すべく請求項1記載のデータ生成装置は、基板の内部に内層導体が設けられると共に当該内層導体にそれぞれ接続された表面導体が当該基板の表面に設けられた多層基板における隣接する一対の当該内層導体に一対の当該表面導体を介して検査用電圧を印加して当該多層基板の良否を検査する際の当該検査用電圧の電圧値を規定電圧値として規定し、当該規定電圧値を示す第1の電圧値データを生成するデータ生成処理を実行する処理部を備えたデータ生成装置であって、前記処理部は、前記データ生成処理において、前記一対の内層導体同士が最も近接している第1の近接部位における当該各内層導体間の第1の距離と前記基板の絶縁耐力値とに基づいて当該第1の近接部位において絶縁破壊が発生する第1の電圧値を算出すると共に、前記一対の表面導体同士が最も近接している第2の近接部位における当該各表面導体間の第2の距離と空気の絶縁耐力値とに基づいて当該第2の近接部位において気中放電が発生する第2の電圧値を算出し、前記第1の電圧値および前記第2の電圧値のうちのいずれか低い電圧値に基づいて前記規定電圧値を規定する処理を前記一対の内層導体の組み合わせ毎に実行し、当該組み合わせ毎の規定電圧値を示す前記第1の電圧値データを生成する。 In order to achieve the above object, the data generation device according to claim 1 has an inner layer conductor provided inside the substrate, and surface conductors connected to the inner layer conductors are adjacent to each other in a multilayer substrate provided on the surface of the substrate. The voltage value of the inspection voltage when the inspection voltage is applied to the pair of the inner layer conductors through the pair of the surface conductors to inspect the quality of the multilayer substrate is specified as the specified voltage value, and the specified voltage value is specified. A data generation device including a processing unit that executes a data generation process for generating the first voltage value data indicating the above, wherein the pair of inner layer conductors are closest to each other in the data generation process. Based on the first distance between the inner layer conductors in the first proximity portion and the insulation strength value of the substrate, the first voltage value at which insulation failure occurs in the first proximity portion is calculated. , Air discharge occurs at the second proximity portion based on the second distance between the surface conductors at the second proximity portion where the pair of surface conductors are closest to each other and the insulation strength value of air. The process of calculating the second voltage value to be generated and defining the specified voltage value based on the lower of the first voltage value and the second voltage value is performed on the pair of inner layer conductors. This is executed for each combination, and the first voltage value data indicating the specified voltage value for each combination is generated.

また、請求項2記載のデータ生成装置は、請求項1記載のデータ生成装置において、前記処理部は、予め決められた1未満の係数を前記いずれか低い電圧値に乗じて得た電圧値を前記規定電圧値として規定する。 Further, the data generation device according to claim 2 is the data generation device according to claim 1, wherein the processing unit obtains a voltage value obtained by multiplying a predetermined coefficient less than 1 by the lower voltage value. It is specified as the specified voltage value.

また、請求項3記載のデータ生成装置は、請求項1または2記載のデータ生成装置において、前記多層基板の構造を特定可能な基板データを記憶する記憶部を備え、前記処理部は、前記基板データに基づいて前記第1の距離および前記第2の距離を特定する。 Further, the data generation device according to claim 3 includes a storage unit for storing board data capable of specifying the structure of the multilayer board in the data generation device according to claim 1 or 2, and the processing unit is the substrate. The first distance and the second distance are specified based on the data.

また、請求項4記載のデータ生成装置は、請求項1から3のいずれかに記載のデータ生成装置において、前記処理部は、前記第1の近接部位が空隙のときに当該第1の近接部位において気中放電が発生する第3の電圧値を前記第1の距離と前記空気の絶縁耐力値とに基づいて算出する処理を前記一対の内層導体の組み合わせ毎に実行し、当該組み合わせ毎の前記第3の電圧値を特定可能な第2の電圧値データを生成する。 Further, the data generation device according to claim 4 is the data generation device according to any one of claims 1 to 3, wherein the processing unit is the first proximity portion when the first proximity portion is a gap. The process of calculating the third voltage value at which the air discharge is generated based on the first distance and the dielectric strength value of the air is executed for each combination of the pair of inner layer conductors, and the said for each combination. Generates second voltage value data that can identify the third voltage value.

また、請求項5記載の基板検査装置は、請求項1から4のいずれかに記載のデータ生成装置によって生成された前記第1の電圧値データによって示される前記規定電圧値の前記検査用電圧を出力する電圧出力部と、当該電圧出力部から出力された前記検査用電圧が前記一対の表面導体を介して前記一対の内層導体に印加されている状態で当該各表面導体および当該各内層導体に流れる電流の電流値を測定する測定部と、当該測定部によって測定された前記電流値に基づいて前記第1の近接部位における空隙の有無を判定すると共に当該判定の結果に基づいて前記多層基板の良否を判定する検査部とを備えている。 Further, the substrate inspection device according to claim 5 uses the inspection voltage of the specified voltage value indicated by the first voltage value data generated by the data generation device according to any one of claims 1 to 4. A voltage output unit to be output and the inspection voltage output from the voltage output unit are applied to the surface conductor and each inner layer conductor in a state of being applied to the pair of inner layer conductors via the pair of surface conductors. Based on the measuring unit that measures the current value of the flowing current and the current value measured by the measuring unit, the presence or absence of voids in the first proximity portion is determined, and the multi-layer substrate is determined based on the result of the determination. It is equipped with an inspection unit that determines the quality.

また、請求項6記載の基板検査装置は、請求項4記載のデータ生成装置によって生成された前記第1の電圧値データによって示される前記規定電圧値の前記検査用電圧を出力する電圧出力部と、当該電圧出力部から出力された前記検査用電圧が前記一対の表面導体を介して前記一対の内層導体に印加されている状態で当該各表面導体および当該各内層導体に流れる電流の電流値を測定する測定部と、当該測定部によって測定された前記電流値に基づいて前記第1の近接部位における空隙の有無を判定すると共に当該判定の結果に基づいて前記多層基板の良否を判定する検査部とを備え、前記検査部は、前記データ生成装置によって生成された前記第2の電圧値データによって特定した前記第3の電圧値よりも前記規定電圧値が低い場合において前記第1の近接部位における空隙が存在しないと判定したときに、前記規定電圧値が前記第3の電圧値よりも低いことを報知する。 The board inspection device according to claim 6 includes a voltage output unit that outputs the inspection voltage of the specified voltage value indicated by the first voltage value data generated by the data generation device according to claim 4. , The current value of the current flowing through each surface conductor and each inner layer conductor in a state where the inspection voltage output from the voltage output unit is applied to the pair of inner layer conductors via the pair of surface conductors. An inspection unit that determines the presence or absence of voids in the first proximity portion based on the measuring unit to be measured and the current value measured by the measuring unit, and determines the quality of the multilayer substrate based on the result of the determination. In the case where the specified voltage value is lower than the third voltage value specified by the second voltage value data generated by the data generator, the inspection unit is in the first proximity portion. When it is determined that the void does not exist, it is notified that the specified voltage value is lower than the third voltage value.

また、請求項7記載のデータ生成方法は、基板の内部に内層導体が設けられると共に当該内層導体にそれぞれ接続された表面導体が当該基板の表面に設けられた多層基板における隣接する一対の当該内層導体に一対の当該表面導体を介して検査用電圧を印加して当該多層基板の良否を検査する際の当該検査用電圧の電圧値を規定電圧値として規定し、当該規定電圧値を示す第1の電圧値データを生成するデータ生成処理を実行するデータ生成方法であって、前記データ生成処理において、前記一対の内層導体同士が最も近接している第1の近接部位における当該各内層導体間の第1の距離と前記基板の絶縁耐力値とに基づいて当該第1の近接部位において絶縁破壊が発生する第1の電圧値を算出すると共に、前記一対の表面導体同士が最も近接している第2の近接部位における当該各表面導体間の第2の距離と空気の絶縁耐力値とに基づいて当該第2の近接部位において気中放電が発生する第2の電圧値を算出し、前記第1の電圧値および前記第2の電圧値のうちのいずれか低い電圧値に基づいて前記規定電圧値を規定する処理を前記一対の内層導体の組み合わせ毎に実行し、当該組み合わせ毎の規定電圧値を示す前記第1の電圧値データを生成する。 Further, in the data generation method according to claim 7, an inner layer conductor is provided inside the substrate, and a pair of adjacent inner layers in a multilayer substrate in which surface conductors connected to the inner layer conductors are provided on the surface of the substrate. When an inspection voltage is applied to a conductor via a pair of the surface conductors to inspect the quality of the multilayer substrate, the voltage value of the inspection voltage is defined as a specified voltage value, and the specified voltage value is shown. It is a data generation method for executing a data generation process for generating voltage value data of the above, and in the data generation process, between the inner layer conductors in a first proximity portion where the pair of inner layer conductors are closest to each other. Based on the first distance and the insulation strength value of the substrate, the first voltage value at which insulation failure occurs at the first proximity portion is calculated, and the pair of surface conductors are closest to each other. Based on the second distance between the surface conductors at the two proximity portions and the insulation strength value of the air, the second voltage value at which the air discharge occurs at the second proximity portion is calculated, and the first voltage value is calculated. The process of defining the specified voltage value based on the lower of the voltage value of the above and the second voltage value is executed for each combination of the pair of inner layer conductors, and the specified voltage value for each combination is calculated. The first voltage value data shown is generated.

請求項1記載のデータ生成装置、および請求項7記載のデータ方法では、一対の内層パターンの第1の近接部位において絶縁破壊が発生する第1の電圧値を算出すると共に一対の表面導体の第2の近接部位において気中放電が発生する第2の電圧値を算出し、第1の電圧値および第2の電圧値のうちのいずれか低い電圧値に基づいて検査用電圧の規定電圧値を規定する処理を一対の内層パターンの組み合わせ毎に実行し、組み合わせ毎の規定電圧値を示す第1の電圧値データを生成する。この場合、この第1の電圧値データによって示される規定電圧値の検査用電圧を一対の内層パターンに印加して多層基板の良否を検査する際に、第1の近接部位において絶縁破壊を生じさせたり、第2の近接部位において気中放電を生じさせたりすることを確実に防止することができる。したがって、このデータ生成装置およびデータ生成方法によれば、絶縁破壊や気中放電による良品の多層基板の損傷を確実に防止しつつ、多層基板の内層パターン間に空隙が生じていることを判定可能な規定電圧値を示す第1の電圧値データを生成することができる。 The data generator according to claim 1 and the data method according to claim 7 calculate a first voltage value at which dielectric breakdown occurs at a first proximity portion of a pair of inner layer patterns, and at the same time, a pair of surface conductors. The second voltage value at which air discharge occurs in the vicinity of 2 is calculated, and the specified voltage value of the inspection voltage is set based on the lower voltage value of the first voltage value and the second voltage value. The specified process is executed for each combination of the pair of inner layer patterns, and the first voltage value data indicating the specified voltage value for each combination is generated. In this case, when the inspection voltage of the specified voltage value indicated by the first voltage value data is applied to the pair of inner layer patterns to inspect the quality of the multilayer substrate, dielectric breakdown occurs in the first proximity portion. Or, it is possible to surely prevent the occurrence of an air discharge at the second proximity portion. Therefore, according to this data generation device and data generation method, it is possible to determine that a gap is generated between the inner layer patterns of the multilayer board while surely preventing damage to the good multilayer board due to dielectric breakdown or air discharge. It is possible to generate first voltage value data indicating a specified voltage value.

また、請求項2記載のデータ生成装置によれば、第1の電圧値および第2の電圧値のうちのいずれか低い電圧値に1未満の係数を乗じて得た電圧値を規定電圧値として規定することにより、規定電圧値を第1の電圧値および第2の電圧値よりも低い電圧値に規定することができるため、第1の近接部位において絶縁破壊を生じさせたり、第2の近接部位において気中放電を生じさせたりすることをより確実に防止して、絶縁破壊や気中放電による良品の多層基板の損傷をより確実に防止しつつ、内層パターン間に空隙が生じていることを判定可能な規定電圧値を示す第1の電圧値データを生成することができる。 Further, according to the data generator according to claim 2, the voltage value obtained by multiplying the lower voltage value of the first voltage value and the second voltage value by a coefficient less than 1 is set as the specified voltage value. By specifying, the specified voltage value can be specified as a voltage value lower than the first voltage value and the second voltage value, so that insulation failure may occur at the first proximity portion or the second proximity may occur. Voids are generated between the inner layer patterns while more reliably preventing the occurrence of air discharge at the site and more reliably preventing insulation breakage and damage to the good multilayer substrate due to air discharge. It is possible to generate first voltage value data indicating a specified voltage value capable of determining.

また、請求項3記載のデータ生成装置によれば、多層基板の構造を特定可能な基板データに基づいて第1の電圧値および第2の電圧値の算出に用いる第1の距離および第2の距離を特定することにより、第1の距離および第2の距離の特定を自動的に行わせることができるため、第1の距離および第2の距離を人手で算出する構成および方法と比較して、第1の電圧値データを生成する処理の効率を十分に向上させることができる。 Further, according to the data generation device according to claim 3, the first distance and the second distance used for calculating the first voltage value and the second voltage value based on the board data that can specify the structure of the multilayer board. By specifying the distance, the first distance and the second distance can be automatically specified, so that the first distance and the second distance can be compared with the configuration and method of manually calculating the first distance and the second distance. , The efficiency of the process of generating the first voltage value data can be sufficiently improved.

また、請求項4記載のデータ生成装置では、第1の近接部位が空隙のときに第1の近接部位において気中放電が発生する第3の電圧値を第1の距離と空気の絶縁耐力値とに基づいて算出する処理を一対の内層パターンの組み合わせ毎に実行し、各第3の電圧値を示す第2の電圧値データを生成する。この場合、規定電圧値が第3の電圧値よりも低い電圧値に規定されているときには、第1の近接部位における空隙の有無を正しく判定できないおそれがあるが、規定電圧値が第3の電圧値よりも低い電圧値に規定されている一対の内層パターンの組み合わせ、つまり第1の近接部位における空隙の有無を正しく判定できないおそれがある一対の内層パターンの組み合わせを、この第2の電圧値データと第1の電圧値データとに基づいて特定することができる。このため、第1の近接部位における空隙の有無を正しく判定できないおそれがある内層パターンを報知して使用者に認識させるような使用形態について、このデータ生成装置およびデータ生成方法で生成された第2の電圧値データを有効に利用することができる。 Further, in the data generation device according to claim 4, when the first proximity portion is a gap, the third voltage value at which an air discharge occurs in the first proximity portion is set to the first distance and the dielectric strength value of air. The process of calculating based on the above is executed for each combination of the pair of inner layer patterns, and the second voltage value data indicating each third voltage value is generated. In this case, when the specified voltage value is specified to be lower than the third voltage value, it may not be possible to correctly determine the presence or absence of voids in the first proximity portion, but the specified voltage value is the third voltage. This second voltage value data is a combination of a pair of inner layer patterns defined by a voltage value lower than the value, that is, a combination of a pair of inner layer patterns in which the presence or absence of voids in the first proximity portion may not be correctly determined. And the first voltage value data can be specified. Therefore, for a usage pattern that notifies the user of the inner layer pattern that may not be able to correctly determine the presence or absence of voids in the first proximity portion, the second data generation device and the second data generation method are used. The voltage value data of can be effectively used.

また、請求項5記載の基板検査装置によれば、第1の電圧値データによって示される規定電圧値の検査用電圧を出力する電圧出力部と、検査用電圧が一対の内層パターンに印加されている状態で各内層パターンに流れる電流の電流値を測定する測定部と、電流値に基づいて一対の内層パターンの第1の近接部位における空隙の有無を判定すると共にその判定結果に基づいて多層基板の良否を判定する検査部とを備えたことにより、検査用電圧の印加によって第1の近接部位において絶縁破壊を生じさせたり、第2の近接部位において気中放電を生じさせたりすることを確実に防止することができる。したがって、この基板検査装置によれば、絶縁破壊や気中放電による多層基板の損傷を確実に防止しつつ、多層基板の内層導体間における空隙の有無を判定して、多層基板の良否を正確に判定することができる。 Further, according to the substrate inspection apparatus according to claim 5, the voltage output unit that outputs the inspection voltage of the specified voltage value indicated by the first voltage value data and the inspection voltage are applied to the pair of inner layer patterns. A measuring unit that measures the current value of the current flowing through each inner layer pattern in the state of being present, and a multi-layer substrate that determines the presence or absence of voids in the first proximity portion of the pair of inner layer patterns based on the current value and based on the determination result. By providing an inspection unit that determines the quality of the product, it is possible to ensure that the application of the inspection voltage causes dielectric breakdown in the first proximity portion and aerial discharge in the second proximity portion. Can be prevented. Therefore, according to this substrate inspection device, the presence or absence of voids between the inner layer conductors of the multilayer substrate is determined while reliably preventing damage to the multilayer substrate due to dielectric breakdown or air discharge, and the quality of the multilayer substrate is accurately determined. It can be determined.

また、請求項6記載の基板検査装置は、第2の電圧値データによって示される第3の電圧値よりも規定電圧値が低い場合において第1の近接部位に空隙が存在しないと判定したときに、規定電圧値が第3の電圧値よりも低いことを報知する。このため、この基板検査装置によれば、規定電圧値が第3の電圧値よりも低い電圧値に規定されている内層パターンについては、第1の近接部位における空隙の有無が正しく判定されていないおそれがあることを使用者に認識させることができる。また、このような報知を行うことで、例えば、係数を変更して規定電圧値を第3の電圧値よりも高い電圧値に規定し直し、対象の内層パターンについての検査を再実行するなどの対応をとることができる。 Further, when the substrate inspection apparatus according to claim 6 determines that there is no void in the first proximity portion when the specified voltage value is lower than the third voltage value indicated by the second voltage value data. , Notifies that the specified voltage value is lower than the third voltage value. Therefore, according to this substrate inspection device, the presence or absence of voids in the first proximity portion is not correctly determined for the inner layer pattern whose specified voltage value is defined as a voltage value lower than the third voltage value. It is possible to make the user aware that there is a risk. Further, by performing such notification, for example, the coefficient is changed to redefine the specified voltage value to a voltage value higher than the third voltage value, and the inspection for the target inner layer pattern is re-executed. You can take action.

基板検査装置1の構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure of the substrate inspection apparatus 1. 多層基板100の構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure of the multilayer board 100. データ生成処理50のフローチャートである。It is a flowchart of data generation processing 50. 検査処理70のフローチャートである。It is a flowchart of inspection process 70. 電圧値データDaの内容を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the content of voltage value data Da.

以下、データ生成装置、基板検査装置およびデータ生成方法の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments of a data generation device, a substrate inspection device, and a data generation method will be described with reference to the accompanying drawings.

最初に、図1に示す基板検査装置1の構成について説明する。基板検査装置1は、基板検査装置の一例であって、例えば、図2に示す多層基板100を検査可能に構成されている。 First, the configuration of the substrate inspection device 1 shown in FIG. 1 will be described. The substrate inspection device 1 is an example of a substrate inspection device, and is configured to be capable of inspecting, for example, the multilayer substrate 100 shown in FIG.

ここで、多層基板100は、一例として、図2に示すように、基板101の厚み方向(同図における紙面手前側から奥側に向かう方向)の内部101b(例えば、1つの内層)に複数(例えば、4つ)の内層パターン102a〜102d(内層導体に相当し、以下、区別しないときには「内層パターン102」ともいう)が設けられると共に、各内層パターン102にそれぞれ接続されたランド103a〜103h(表面導体に相当し、以下、区別しないときには「ランド103」ともいう)が基板101の表面101aに設けられている。なお、同図では、多層基板100を平面視した状態で図示し、基板101の表面101aに設けられている(表面101aに露出している)ランド103を実線で図示し、基板101の内部101bに設けられている内層パターン102を破線で図示している。 Here, as an example, as shown in FIG. 2, a plurality of multilayer boards 100 are used (for example, one inner layer) in the thickness direction of the board 101 (direction from the front side to the back side of the paper surface in the figure). For example, four) inner layer patterns 102a to 102d (corresponding to inner layer conductors, hereinafter also referred to as "inner layer patterns 102" when not distinguished) are provided, and lands 103a to 103h (corresponding to each inner layer pattern 102) connected to each inner layer pattern 102, respectively. Corresponding to the surface conductor, hereinafter, also referred to as “land 103” when not distinguished) is provided on the surface 101a of the substrate 101. In the figure, the multilayer board 100 is shown in a plan view, and the land 103 provided on the surface 101a of the board 101 (exposed on the surface 101a) is shown by a solid line, and the inside 101b of the board 101 is shown. The inner layer pattern 102 provided in the above is shown by a broken line.

また、基板検査装置1は、図1に示すように、電圧出力部2、プロービング機構3、測定部4、記憶部5、表示部6および処理部7を備えて構成されている。この場合、記憶部5および処理部7によってデータ生成装置が構成される。 Further, as shown in FIG. 1, the substrate inspection device 1 includes a voltage output unit 2, a probing mechanism 3, a measurement unit 4, a storage unit 5, a display unit 6, and a processing unit 7. In this case, the data generation device is configured by the storage unit 5 and the processing unit 7.

電圧出力部2は、処理部7の制御に従い、後述する検査処理70において用いる検査用電圧Viを出力する。 The voltage output unit 2 outputs the inspection voltage Vi used in the inspection process 70 described later according to the control of the processing unit 7.

プロービング機構3は、処理部7の制御に従い、図外の保持部によって保持された多層基板100における基板101の表面101aに平行な方向(XY方向)、および多層基板100に対して接離する方向(Z方向)に一対のプローブ31を移動させて、基板101の表面101aに設けられている一対のランド103,103に各プローブ31,31をそれぞれ接触させるプロービングを実行する。 The probing mechanism 3 follows the control of the processing unit 7 in a direction parallel to the surface 101a of the substrate 101 (XY direction) in the multilayer substrate 100 held by the holding portion (not shown) and a direction in which the probing mechanism 3 is brought into contact with and separated from the multilayer substrate 100. Probing is performed by moving the pair of probes 31 in the (Z direction) and bringing the probes 31 and 31 into contact with the pair of lands 103 and 103 provided on the surface 101a of the substrate 101.

測定部4は、電圧出力部2から出力された検査用電圧Viがプローブ31および多層基板100における一対のランド103を介して隣接する一対の内層パターン102に印加されている状態において、各ランド103および各内層パターン102に流れる電流Iの電流値Iaを処理部7の制御に従って測定する。 In the measuring unit 4, each land 103 is in a state where the inspection voltage Vi output from the voltage output unit 2 is applied to the pair of inner layer patterns 102 adjacent to each other via the pair of lands 103 in the probe 31 and the multilayer board 100. And the current value Ia of the current I flowing through each inner layer pattern 102 is measured according to the control of the processing unit 7.

記憶部5は、処理部7によって実行される後述するデータ生成処理50(図3参照)において用いられる基板データDsを記憶する。この場合、基板データDsには、多層基板100の構造を特定可能なデータ、具体的には、多層基板100における内層パターン102およびランド103の形状や配置位置を示す設計データ、並びに多層基板100における基板101の絶縁耐力値Sda(基板101を構成する材料の絶縁耐力値)を示すデータが含まれている。また、記憶部5は、空気の絶縁耐力値Sdbを示す数値データDvを記憶する。また、記憶部5は、データ生成処理50において生成される電圧値データDa(第1の電圧値データ)および電圧値データDb(第2の電圧値データ)を記憶する。 The storage unit 5 stores the substrate data Ds used in the data generation process 50 (see FIG. 3), which will be described later, executed by the processing unit 7. In this case, the substrate data Ds includes data that can specify the structure of the multilayer substrate 100, specifically, design data indicating the shape and arrangement position of the inner layer pattern 102 and the land 103 on the multilayer substrate 100, and the multilayer substrate 100. Data indicating the dielectric strength value Sda of the substrate 101 (the dielectric strength value of the material constituting the substrate 101) is included. Further, the storage unit 5 stores numerical data Dv indicating the dielectric strength value Sdb of air. Further, the storage unit 5 stores the voltage value data Da (first voltage value data) and the voltage value data Db (second voltage value data) generated in the data generation process 50.

表示部6は、処理部7の制御に従い、処理部7によって実行される後述する検査処理70において各種の情報を表示する。 The display unit 6 displays various information in the inspection process 70, which will be described later, executed by the processing unit 7 under the control of the processing unit 7.

処理部7は、基板検査装置1を構成する各部を制御する。また、処理部7は、データ生成方法に従ってデータ生成処理50(図3参照)を実行し、検査処理70(図4参照)において用いる検査用電圧Viの規定電圧値Vrを規定し、規定電圧値Vrを示す電圧値データDa(第1の電圧値データ)を生成して記憶部5に記憶させる。また、処理部7は、検査部として機能し、検査処理70を実行して多層基板100の良否を判定する。 The processing unit 7 controls each unit constituting the substrate inspection device 1. Further, the processing unit 7 executes the data generation process 50 (see FIG. 3) according to the data generation method, defines the specified voltage value Vr of the inspection voltage Vi used in the inspection process 70 (see FIG. 4), and defines the specified voltage value. The voltage value data Da (first voltage value data) indicating Vr is generated and stored in the storage unit 5. Further, the processing unit 7 functions as an inspection unit, executes the inspection process 70, and determines the quality of the multilayer board 100.

次に、基板検査装置1を用いて例えば図2に示す多層基板100を検査する方法について、図面を参照して説明する。 Next, a method of inspecting, for example, the multilayer substrate 100 shown in FIG. 2 using the substrate inspection device 1 will be described with reference to the drawings.

まず、多層基板100の検査に先立ち、図外の操作部を操作して、検査(検査処理70)において用いる検査用電圧Viの規定電圧値Vrを示す電圧値データDaの生成を指示する。これに応じて、処理部7が、図3に示すデータ生成処理50(データ生成方法に従った処理)を実行する。 First, prior to the inspection of the multilayer board 100, an operation unit (not shown) is operated to instruct the generation of voltage value data Da indicating the specified voltage value Vr of the inspection voltage Vi used in the inspection (inspection process 70). In response to this, the processing unit 7 executes the data generation process 50 (process according to the data generation method) shown in FIG.

このデータ生成処理50では、処理部7は、多層基板100についての基板データDsを記憶部5から読み出す(ステップ51)。次いで、処理部7は、基板データDsに基づき、多層基板100に設けられている内層パターン102の形状や配置位置、および内層パターン102に接続されているランド103の形状や配置位置を特定する(ステップ52)。 In the data generation process 50, the processing unit 7 reads the substrate data Ds for the multilayer substrate 100 from the storage unit 5 (step 51). Next, the processing unit 7 specifies the shape and arrangement position of the inner layer pattern 102 provided on the multilayer substrate 100 and the shape and arrangement position of the land 103 connected to the inner layer pattern 102 based on the substrate data Ds (). Step 52).

続いて、処理部7は、各内層パターン102のうちの隣接する一対の内層パターン102(例えば、図2に示す内層パターン102a,102b)を選択する(ステップ53)。次いで、処理部7は、選択した一対の内層パターン102に接続されているランド103(この例では、ランド103a〜103d)を特定する(ステップ54)。 Subsequently, the processing unit 7 selects a pair of adjacent inner layer patterns 102 (for example, inner layer patterns 102a and 102b shown in FIG. 2) among the respective inner layer patterns 102 (step 53). Next, the processing unit 7 identifies the lands 103 (in this example, lands 103a to 103d) connected to the selected pair of inner layer patterns 102 (step 54).

続いて、処理部7は、上記したステップ53で選択した一対の内層パターン102a,102b同士が最も近接している近接部位Pa(第1の近接部位:図2参照)における内層パターン102a,102b間の最短の距離La(第1の距離)を基板データDsに基づいて特定する(ステップ55)。 Subsequently, the processing unit 7 moves between the inner layer patterns 102a and 102b in the proximity portion Pa (first proximity portion: see FIG. 2) in which the pair of inner layer patterns 102a and 102b selected in step 53 are closest to each other. The shortest distance La (first distance) of is specified based on the substrate data Ds (step 55).

次いで、処理部7は、基板データDsに示される基板101の絶縁耐力値Sdaと距離Laとに基づき(具体的には、絶縁耐力値Sdaと距離Laとを乗算して)、近接部位Paにおいて絶縁破壊が発生する電圧値Va(第1の電圧値)を算出する(ステップ56)。この場合、例えば、図5に示すように、絶縁耐力値Sdaが15kV/mmで、距離Laが0.2mmのときには、電圧値Vaは、15kV/mm×0.2mm=3kVとなる。 Next, the processing unit 7 is based on the dielectric strength value Sda of the substrate 101 shown in the substrate data Ds and the distance La (specifically, multiplying the dielectric strength value Sda and the distance La) at the proximity portion Pa. The voltage value Va (first voltage value) at which dielectric breakdown occurs is calculated (step 56). In this case, for example, as shown in FIG. 5, when the dielectric strength value Sda is 15 kV / mm and the distance La is 0.2 mm, the voltage value Va is 15 kV / mm × 0.2 mm = 3 kV.

続いて、処理部7は、基板データDsに基づき、上記したステップ54で特定した内層パターン102aに接続されているランド103a,103bのいずれか一方と内層パターン102bに接続されているランド103c,103dのいずれか一方との組み合わせの中から、両ランド103が最も近接している組み合わせ(この例では、ランド103a,103cの組み合わせ)を特定し、ランド103a,103cが最も近接している近接部位Pb(第2の近接部位:図2参照)におけるランド103a,103b間の最短の距離Lb(第2の距離)を特定する(ステップ57)。 Subsequently, the processing unit 7 uses one of the lands 103a and 103b connected to the inner layer pattern 102a specified in step 54 above and the lands 103c and 103d connected to the inner layer pattern 102b based on the substrate data Ds. From the combination with any one of the above, the combination in which both lands 103 are closest to each other (in this example, the combination of lands 103a and 103c) is specified, and the proximity parts Pb in which the lands 103a and 103c are closest to each other are specified. The shortest distance Lb (second distance) between the lands 103a and 103b in (second proximity portion: see FIG. 2) is specified (step 57).

次いで、処理部7は、数値データDvを記憶部5から読み出して、数値データDvに示される空気の絶縁耐力値Sdbと距離Lbとに基づき(具体的には、絶縁耐力値Sdbと距離Lbとを乗算して)、近接部位Pbにおいて気中放電が発生する電圧値Vb(第2の電圧値)を算出する(ステップ58)。この場合、例えば、図5に示すように、絶縁耐力値Sdbが3kV/mmで、距離Lbが2mmのときには、電圧値Vbは、3kV/mm×2mm=6kVとなる。 Next, the processing unit 7 reads the numerical data Dv from the storage unit 5, and based on the dielectric strength value Sdb and the distance Lb of the air shown in the numerical data Dv (specifically, the dielectric strength value Sdb and the distance Lb). To calculate the voltage value Vb (second voltage value) at which the air discharge occurs at the proximity portion Pb (step 58). In this case, for example, as shown in FIG. 5, when the dielectric strength value Sdb is 3 kV / mm and the distance Lb is 2 mm, the voltage value Vb is 3 kV / mm × 2 mm = 6 kV.

続いて、処理部7は、電圧値Vaおよび電圧値Vbのいずれが低いかを判別する(ステップ59)。次いで、処理部7は、低いと判別した電圧値Va,Vbのいずれか一方に予め決められた1未満の係数α(例えば、0.8)を乗じた電圧値を規定電圧値Vrとして規定する(ステップ60)。この例では、上記したように、電圧値Vaが3kVで、電圧値Vbが6kVのため、処理部7は、低い電圧値である3kVに0.8を乗じた2.4kVを規定電圧値Vrとして規定する(図5参照)。 Subsequently, the processing unit 7 determines which of the voltage value Va and the voltage value Vb is lower (step 59). Next, the processing unit 7 defines a voltage value obtained by multiplying one of the voltage values Va and Vb determined to be low by a predetermined coefficient α (for example, 0.8) of less than 1 as the specified voltage value Vr. (Step 60). In this example, as described above, since the voltage value Va is 3 kV and the voltage value Vb is 6 kV, the processing unit 7 sets the specified voltage value Vr to 2.4 kV obtained by multiplying the low voltage value 3 kV by 0.8. (See Fig. 5).

次いで、処理部7は、数値データDvに示される空気の絶縁耐力値Sdbと上記したステップ55で特定した距離Laとに基づき(具体的には、絶縁耐力値Sdbと距離Laとを乗算して)、近接部位Paに空隙が生じているときに近接部位Paにおいて気中放電が発生する電圧値Vc(第3の電圧値)を算出する(ステップ61)。この場合、例えば、近接部位Paのすべての領域が空隙である(近接部位Paが空気で満たされている)場合において、絶縁耐力値Sdbが3kV/mmで、距離Laが0.2mmのときには、電圧値Vcは、3kV/mm×0.2mm=0.6kVとなる(図5参照)。 Next, the processing unit 7 multiplies the dielectric strength value Sdb of air shown in the numerical data Dv and the distance La specified in step 55 above (specifically, multiplying the dielectric strength value Sdb and the distance La). ), The voltage value Vc (third voltage value) at which air discharge occurs in the proximity portion Pa when a gap is generated in the proximity portion Pa is calculated (step 61). In this case, for example, when all the regions of the proximity portion Pa are voids (the proximity portion Pa is filled with air), the dielectric strength value Sdb is 3 kV / mm, and the distance La is 0.2 mm. The voltage value Vc is 3 kV / mm × 0.2 mm = 0.6 kV (see FIG. 5).

続いて、処理部7は、隣接する一対の内層パターン102のすべての組み合わせについての規定電圧値Vrの規定および電圧値Vcの算出の処理が終了したか否かを判別する(ステップ62)。この場合、この時点では、すべての組み合わせについてのこれらの各処理が終了していないため、処理部7は、他の一対の内層パターン102(例えば、内層パターン102b,102c)を選択し(ステップ53)、次いで、上記したステップ54〜ステップ61の各処理を実行して、内層パターン102b,102cについての規定電圧値Vrを規定すると共に電圧値Vcを算出する(図5参照)。 Subsequently, the processing unit 7 determines whether or not the processing of defining the specified voltage value Vr and calculating the voltage value Vc for all combinations of the pair of adjacent inner layer patterns 102 is completed (step 62). In this case, since each of these processes for all combinations has not been completed at this point, the processing unit 7 selects another pair of inner layer patterns 102 (for example, inner layer patterns 102b and 102c) (step 53). ), Then, each of the processes of steps 54 to 61 described above is executed to define the specified voltage value Vr for the inner layer patterns 102b and 102c and to calculate the voltage value Vc (see FIG. 5).

以下、同様にして、処理部7は、隣接する一対の内層パターン102のすべての組み合わせについてステップ54〜ステップ61の各処理を実行して、図5に示すように、一対の内層パターン102の各組み合わせについての規定電圧値Vrを規定すると共に電圧値Vcを算出する。 Hereinafter, in the same manner, the processing unit 7 executes each of the processes of steps 54 to 61 for all combinations of the pair of adjacent inner layer patterns 102, and as shown in FIG. 5, each of the pair of inner layer patterns 102. The specified voltage value Vr for the combination is specified and the voltage value Vc is calculated.

続いて、処理部7は、ステップ62において、すべての組み合わせについての規定電圧値Vrの規定および電圧値Vcの算出の処理が終了したと判別したときには、一対の内層パターン102の組み合わせ毎の規定電圧値Vrを示す電圧値データDaを生成すると共に、一対の内層パターン102の組み合わせ毎の電圧値Vcを示す電圧値データDbを生成し、生成した電圧値データDa,Dbを記憶部5に記憶させて(ステップ63)、データ生成処理50を終了する。 Subsequently, when the processing unit 7 determines in step 62 that the processing for defining the specified voltage value Vr and calculating the voltage value Vc for all combinations has been completed, the processing unit 7 determines that the specified voltage for each combination of the pair of inner layer patterns 102 has been completed. The voltage value data Da indicating the value Vr is generated, the voltage value data Db indicating the voltage value Vc for each combination of the pair of inner layer patterns 102 is generated, and the generated voltage value data Da and Db are stored in the storage unit 5. (Step 63), the data generation process 50 is completed.

次いで、操作部を操作して、検査の開始を指示する。これに応じて、処理部7が図4に示す検査処理70を実行する。この検査処理70では、処理部7は、多層基板100についての基板データDs、電圧値データDaおよび電圧値データDbを記憶部5から読み出す(ステップ71)。続いて、処理部7は、基板データDsに基づいて多層基板100に設けられている各内層パターン102を特定する(ステップ72)。次いで、処理部7は、各内層パターン102の中から一対の内層パターン102(例えば、内層パターン102a,102b)を選択する(ステップ73)。続いて、処理部7は、選択した内層パターン102a,102bにそれぞれ接続されているランド103のうちの互いに最も近接しているランド103a,103c(距離Lbを特定する際に対象としたランド103)の位置を基板データDsに基づいて特定する(ステップ74)。 Next, the operation unit is operated to instruct the start of the inspection. In response to this, the processing unit 7 executes the inspection process 70 shown in FIG. In this inspection process 70, the processing unit 7 reads out the substrate data Ds, the voltage value data Da, and the voltage value data Db for the multilayer substrate 100 from the storage unit 5 (step 71). Subsequently, the processing unit 7 identifies each inner layer pattern 102 provided on the multilayer substrate 100 based on the substrate data Ds (step 72). Next, the processing unit 7 selects a pair of inner layer patterns 102 (for example, inner layer patterns 102a and 102b) from each inner layer pattern 102 (step 73). Subsequently, the processing unit 7 puts the lands 103a and 103c closest to each other among the lands 103 connected to the selected inner layer patterns 102a and 102b, respectively (land 103 targeted when specifying the distance Lb). Is specified based on the substrate data Ds (step 74).

次いで、処理部7は、プロービング機構3を制御してプローブ31を移動させ、ランド103a,103cにプローブ31をプロービングさせる(ステップ75)。続いて、処理部7は、電圧値データDaに基づいて内層パターン102a,102bについての規定電圧値Vr(この例では、2.4kV(図5参照))を特定する(ステップ76)。次いで、処理部7は、電圧出力部2を制御して、規定電圧値Vrの検査用電圧Viを出力させる(ステップ77)。この場合、電圧出力部2に出力させる検査用電圧Viをパルス状とすることで、平均供給電力を予め決められた値以下に制御することもできる。これにより、各プローブ31およびランド103a,103cを介して内層パターン102a,102bに検査用電圧Viが印加される。 Next, the processing unit 7 controls the probing mechanism 3 to move the probe 31, and causes the lands 103a and 103c to prob the probe 31 (step 75). Subsequently, the processing unit 7 specifies the specified voltage value Vr (2.4 kV (see FIG. 5 in this example)) for the inner layer patterns 102a and 102b based on the voltage value data Da (step 76). Next, the processing unit 7 controls the voltage output unit 2 to output the inspection voltage Vi having the specified voltage value Vr (step 77). In this case, the average supply power can be controlled to a value equal to or less than a predetermined value by forming the inspection voltage Vi to be output to the voltage output unit 2 in a pulse shape. As a result, the inspection voltage Vi is applied to the inner layer patterns 102a and 102b via the probes 31 and the lands 103a and 103c.

続いて、処理部7は、測定部4を制御して、検査用電圧Viの印加によって各ランド103および各内層パターン102に流れる電流Iの電流値Iaを測定させる(ステップ78)。次いで、処理部7は、測定部4によって測定された電流値Iaに基づいて、内層パターン102a,102bについての絶縁状態および空隙の有無を判定する(ステップ79)。 Subsequently, the processing unit 7 controls the measuring unit 4 to measure the current value Ia of the current I flowing through each land 103 and each inner layer pattern 102 by applying the inspection voltage Vi (step 78). Next, the processing unit 7 determines the insulation state and the presence / absence of voids in the inner layer patterns 102a and 102b based on the current value Ia measured by the measuring unit 4 (step 79).

ここで、例えば、内層パターン102a,102bが短絡しているときには、予め決められた基準値Ir1以上の電流値Iaが測定部4によって測定される。このため、処理部7は、電流値Iaが基準値Ir1以上のときには、内層パターン102a,102bが短絡している(絶縁状態が不良)と判定する。 Here, for example, when the inner layer patterns 102a and 102b are short-circuited, the measuring unit 4 measures a current value Ia of a predetermined reference value Ir1 or more. Therefore, when the current value Ia is equal to or higher than the reference value Ir1, the processing unit 7 determines that the inner layer patterns 102a and 102b are short-circuited (insulation state is poor).

また、内層パターン102a,102bの近接部位Paに空隙(ボイド)が生じている場合において、検査用電圧Viの規定電圧値Vrが上記した電圧値Vcを超えているときには、近接部位Paにおいて気中放電が発生し、予め決められた基準値Ir2(基準値Ir2は、基準値Ir1よりも低い値)以上で基準値Ir1未満の電流値Iaが測定部4によって測定される。このため、処理部7は、電流値Iaが基準値Ir2以上で基準値Ir1未満のときには、内層パターン102a,102bの近接部位Paに空隙が生じていると判定する。 Further, when a void is generated in the proximity portion Pa of the inner layer patterns 102a and 102b, and the specified voltage value Vr of the inspection voltage Vi exceeds the above-mentioned voltage value Vc, the air is in the air in the proximity portion Pa. A discharge occurs, and the measuring unit 4 measures a current value Ia that is equal to or higher than the predetermined reference value Ir2 (the reference value Ir2 is lower than the reference value Ir1) and less than the reference value Ir1. Therefore, when the current value Ia is equal to or more than the reference value Ir2 and less than the reference value Ir1, the processing unit 7 determines that a gap is generated in the proximity portion Pa of the inner layer patterns 102a and 102b.

また、内層パターン102a,102b間に空隙が生じておらず、内層パターン102a,102b間の絶縁状態が良好なときには、基準値Ir2未満の電流値Iaが測定部4によって測定される。このため、処理部7は、電流値Iaが基準値Ir2未満のときには、内層パターン102a,102b間の絶縁状態が良好であると判定する。なお、気中放電は、断続的に発生するため、ローパスフィルタを経由させてパルス成分を除去した電流Iの電流値Iaを測定して、電流値Iaと基準値Ir2と比較して空隙の有無を判定する構成および方法を採用することもできる。また、気中放電によって流れるパルス電流を検出して、パルス電流の有無によって気中放電の発生の有無を判定する構成および方法を採用することもできる。 Further, when there is no gap between the inner layer patterns 102a and 102b and the insulation state between the inner layer patterns 102a and 102b is good, the current value Ia less than the reference value Ir2 is measured by the measuring unit 4. Therefore, when the current value Ia is less than the reference value Ir2, the processing unit 7 determines that the insulation state between the inner layer patterns 102a and 102b is good. Since the air discharge occurs intermittently, the current value Ia of the current I from which the pulse component is removed is measured via a low-pass filter, and the presence or absence of voids is compared with the current value Ia and the reference value Ir2. It is also possible to adopt a configuration and a method for determining. It is also possible to adopt a configuration and method in which the pulse current flowing due to the air discharge is detected and the presence or absence of the air discharge is determined based on the presence or absence of the pulse current.

この場合、この構成および方法では、電圧値Va,Vbのうちのいずれか低い電圧値に基づいて規定した(いずれか低い電圧値よりも低い電圧値に規定した)規定電圧値Vrの検査用電圧Viを一対の内層パターン102に印加して各内層パターン102についての空隙の有無を判定している。このため、この構成および方法では、近接部位Paにおいて絶縁破壊を生じさせたり、近接部位Pbにおいて気中放電を生じさせたりすることを確実に防止することが可能となっている。したがって、この構成および方法では、絶縁破壊や気中放電による良品の多層基板100の損傷を確実に防止しつつ、多層基板100の内層パターン102間に空隙が生じていることを判定することが可能となっている。 In this case, in this configuration and method, the inspection voltage of the specified voltage value Vr specified based on the lower voltage value of the voltage values Va and Vb (specified to be lower than the lower voltage value). Vi is applied to the pair of inner layer patterns 102 to determine the presence or absence of voids in each inner layer pattern 102. Therefore, with this configuration and method, it is possible to reliably prevent dielectric breakdown at the proximity portion Pa and air discharge at the proximity portion Pb. Therefore, with this configuration and method, it is possible to determine that a gap is generated between the inner layer patterns 102 of the multilayer substrate 100 while reliably preventing damage to the non-defective multilayer substrate 100 due to dielectric breakdown or air discharge. It has become.

続いて、処理部7は、すべての内層パターン102についての絶縁状態および空隙の有無を判定する処理が終了したか否かを判別する(ステップ80)。 Subsequently, the processing unit 7 determines whether or not the processing for determining the insulation state and the presence / absence of voids for all the inner layer patterns 102 has been completed (step 80).

この場合、この時点では、すべての内層パターン102についての絶縁状態および空隙の有無を判定する処理が終了していないため、処理部7は、他の一対の内層パターン102(例えば、内層パターン102b,102c)を選択し(ステップ73)、次いで、上記したステップ74〜ステップ79の各処理を実行して、内層パターン102b,102cについての絶縁状態および空隙の有無を判定する。 In this case, at this point in time, the process of determining the insulation state and the presence or absence of voids in all the inner layer patterns 102 has not been completed, so that the processing unit 7 performs another pair of inner layer patterns 102 (for example, the inner layer pattern 102b, 102c) is selected (step 73), and then the above-mentioned processes of steps 74 to 79 are executed to determine the insulation state and the presence or absence of voids in the inner layer patterns 102b and 102c.

以下、同様にして、処理部7は、一対の内層パターン102のすべての組み合わせについてステップ74〜ステップ79の各処理を実行して、一対の内層パターン102の各組み合わせについての絶縁状態および空隙の有無を判定する。 Hereinafter, in the same manner, the processing unit 7 executes each of the processes of steps 74 to 79 for all the combinations of the pair of inner layer patterns 102, and the insulation state and the presence or absence of voids for each combination of the pair of inner layer patterns 102. To judge.

続いて、処理部7は、ステップ80において、一対の内層パターン102のすべての組み合わせについての絶縁状態および空隙の有無の判定が終了したと判別したときには、その判定結果に基づいて多層基板100の良否判定を行い、判定結果を表示部6に表示させる(ステップ81)。この場合、処理部7は、一対の内層パターン102のすべての組み合わせについての絶縁状態が良好(空隙が生じていない)と判定したときには、多層基板100を良好と判定して、その旨を表示部6に表示させる。また、一対の内層パターン102の1つ以上の組み合わせについての絶縁状態が不良または空隙が生じていると判定したときには、多層基板100を不良と判定して、その旨、および絶縁状態が不良または空隙が生じていると判定した内層パターン102を示す情報を表示部6に表示させて、検査処理70を終了する。 Subsequently, when the processing unit 7 determines in step 80 that the determination of the insulation state and the presence / absence of voids for all combinations of the pair of inner layer patterns 102 has been completed, the quality of the multilayer substrate 100 is based on the determination result. The determination is performed, and the determination result is displayed on the display unit 6 (step 81). In this case, when the processing unit 7 determines that the insulation state of all the combinations of the pair of inner layer patterns 102 is good (no voids are generated), the processing unit 7 determines that the multilayer substrate 100 is good, and displays that fact. Display on 6. Further, when it is determined that the insulation state of one or more combinations of the pair of inner layer patterns 102 is defective or voids are generated, the multilayer substrate 100 is determined to be defective, and that fact and the insulation state are defective or voids. Information indicating the inner layer pattern 102 determined to have occurred is displayed on the display unit 6, and the inspection process 70 is terminated.

ここで、図2に示す内層パターン102c,102dについては、図5に示すように、規定電圧値Vrが電圧値Vc(近接部位Paで気中放電が発生する電圧値)よりも低い電圧値に規定されている。このときには、近接部位Paに空隙が生じている場合においても、近接部位Paで気中放電が発生せずに、測定部4によって測定される電流値Iaが基準値Ir2以下となって空隙が生じていないと誤判定されることがある。つまり、規定電圧値Vrが電圧値Vcよりも低い電圧値に規定されているときには、近接部位Paにおける空隙の有無を正しく判定できないおそれがある。このため、この基板検査装置1では、処理部7が、電圧値データDaと電圧値データDbとに基づいて規定電圧値Vrが電圧値Vcよりも低い電圧値に規定されている一対の内層パターン102の組み合わせを特定し、その一対の内層パターン102の近接部位Paにおいて空隙が生じていないと判定したときには、規定電圧値Vrが電圧値Vcよりも低い電圧値に規定されていること、およびその一対の内層パターン102を示す番号等の情報を、多層基板100の良否判定の判定結果と共に表示部6に表示させる(報知する)。このような情報を表示することで、その一対の内層パターン102については、近接部位Paにおける空隙の有無が正しく判定されていないおそれがあることを使用者に認識させることができる。また、このような情報を表示することで、例えば、上記した係数αを0.8から0.9に変更して規定電圧値Vrを電圧値Vcよりも高い電圧値に規定し直し、対象の内層パターン102についての検査を再実行するなどの対応をとることができる。 Here, with respect to the inner layer patterns 102c and 102d shown in FIG. 2, as shown in FIG. 5, the specified voltage value Vr is set to a voltage value lower than the voltage value Vc (voltage value at which air discharge occurs in the vicinity portion Pa). It is stipulated. At this time, even when a gap is generated in the proximity portion Pa, the current value Ia measured by the measuring unit 4 becomes equal to or less than the reference value Ir2 without generating an air discharge in the proximity portion Pa, and the gap is generated. If not, it may be misjudged. That is, when the specified voltage value Vr is specified to be a voltage value lower than the voltage value Vc, there is a possibility that the presence or absence of a gap in the proximity portion Pa cannot be correctly determined. Therefore, in the substrate inspection device 1, the processing unit 7 defines a pair of inner layer patterns in which the specified voltage value Vr is defined as a voltage value lower than the voltage value Vc based on the voltage value data Da and the voltage value data Db. When the combination of 102 is specified and it is determined that no void is generated in the proximity portion Pa of the pair of inner layer patterns 102, the specified voltage value Vr is specified as a voltage value lower than the voltage value Vc, and the voltage value thereof is specified. Information such as a number indicating the pair of inner layer patterns 102 is displayed (notified) on the display unit 6 together with the determination result of the quality determination of the multilayer substrate 100. By displaying such information, it is possible to make the user recognize that the presence or absence of voids in the proximity portion Pa may not be correctly determined for the pair of inner layer patterns 102. Further, by displaying such information, for example, the above-mentioned coefficient α is changed from 0.8 to 0.9, and the specified voltage value Vr is redefined to a voltage value higher than the voltage value Vc. It is possible to take measures such as re-execution of the inspection for the inner layer pattern 102.

このように、このデータ生成装置およびデータ生成方法では、一対の内層パターン102の近接部位Paにおいて絶縁破壊が発生する電圧値Vaを算出すると共に一対のランド103の近接部位Pbにおいて気中放電が発生する電圧値Vbを算出し、電圧値Va,Vbのうちのいずれか低い電圧値に基づいて検査用電圧Viの規定電圧値Vrを規定する処理を一対の内層パターン102の組み合わせ毎に実行し、組み合わせ毎の規定電圧値Vrを示す電圧値データDaを生成する。この場合、この電圧値データDaによって示される規定電圧値Vrの検査用電圧Viを一対の内層パターン102に印加して多層基板100の良否を検査する際に、近接部位Paにおいて絶縁破壊を生じさせたり、近接部位Pbにおいて気中放電を生じさせたりすることを確実に防止することができる。したがって、このデータ生成装置およびデータ生成方法によれば、絶縁破壊や気中放電による良品の多層基板100の損傷を確実に防止しつつ、多層基板100の内層パターン102間に空隙が生じていることを判定可能な規定電圧値Vrを示す電圧値データDaを生成することができる。 As described above, in this data generation device and the data generation method, the voltage value Va at which dielectric breakdown occurs at the proximity portion Pa of the pair of inner layer patterns 102 is calculated, and the air discharge occurs at the proximity portion Pb of the pair of lands 103. The voltage value Vb to be performed is calculated, and the process of defining the specified voltage value Vr of the inspection voltage Vi based on the lower voltage value of the voltage values Va and Vb is executed for each combination of the pair of inner layer patterns 102. The voltage value data Da indicating the specified voltage value Vr for each combination is generated. In this case, when the inspection voltage Vi of the specified voltage value Vr indicated by the voltage value data Da is applied to the pair of inner layer patterns 102 to inspect the quality of the multilayer substrate 100, dielectric breakdown occurs at the proximity portion Pa. In addition, it is possible to reliably prevent the occurrence of air discharge at the nearby portion Pb. Therefore, according to this data generation device and data generation method, a gap is generated between the inner layer patterns 102 of the multilayer substrate 100 while surely preventing damage to the non-defective multilayer substrate 100 due to dielectric breakdown or air discharge. It is possible to generate voltage value data Da indicating a specified voltage value Vr that can determine.

また、このデータ生成装置およびデータ生成方法によれば、電圧値Va,Vbのうちのいずれか低い電圧値に1未満の係数αを乗じて得た電圧値を規定電圧値Vrとして規定することにより、規定電圧値Vrを電圧値Va,Vbよりも低い電圧値に規定することができるため、近接部位Paにおいて絶縁破壊を生じさせたり、近接部位Pbにおいて気中放電を生じさせたりすることをより確実に防止して、絶縁破壊や気中放電による良品の多層基板100の損傷をより確実に防止しつつ、内層パターン102間に空隙が生じていることを判定可能な規定電圧値Vrを示す電圧値データDaを生成することができる。 Further, according to this data generator and the data generation method, the voltage value obtained by multiplying the lower voltage value of the voltage values Va and Vb by the coefficient α less than 1 is defined as the specified voltage value Vr. Since the specified voltage value Vr can be specified to a voltage value lower than the voltage values Va and Vb, it is possible to cause dielectric breakdown at the proximity portion Pa or air discharge at the proximity portion Pb. A voltage indicating a specified voltage value Vr that can be determined to have a gap between the inner layer patterns 102 while reliably preventing damage to the non-defective multilayer substrate 100 due to dielectric breakdown or air discharge. Value data Da can be generated.

また、このデータ生成装置およびデータ生成方法によれば、多層基板100の構造を特定可能な基板データDsに基づいて電圧値Va,Vbの算出に用いる距離La,Lbを特定することにより、距離La,Lbの特定を自動的に行わせることができるため、距離La,Lbを人手で算出する構成および方法と比較して、電圧値データDaを生成する処理の効率を十分に向上させることができる。 Further, according to this data generation apparatus and data generation method, the distance La is specified by specifying the distances La and Lb used for calculating the voltage values Va and Vb based on the substrate data Ds that can specify the structure of the multilayer substrate 100. , Lb can be specified automatically, so that the efficiency of the process of generating the voltage value data Da can be sufficiently improved as compared with the configuration and method of manually calculating the distances La and Lb. ..

また、このデータ生成装置およびデータ生成方法では、近接部位Paが空隙のときに近接部位Paにおいて気中放電が発生する電圧値Vcを距離Laと空気の絶縁耐力値Sdbとに基づいて算出する処理を一対の内層パターン102の組み合わせ毎に実行し、各電圧値Vcを示す電圧値データDbを生成する。この場合、規定電圧値Vrが電圧値Vcよりも低い電圧値に規定されているときには、近接部位Paにおける空隙の有無を正しく判定できないおそれがあるが、規定電圧値Vrが電圧値Vcよりも低い電圧値に規定されている一対の内層パターン102の組み合わせ、つまり近接部位Paにおける空隙の有無を正しく判定できないおそれがある一対の内層パターン102の組み合わせを、この電圧値データDbと電圧値データDaとに基づいて特定することができる。このため、近接部位Paにおける空隙の有無を正しく判定できないおそれがある内層パターン102を報知して使用者に認識させるような使用形態について、このデータ生成装置およびデータ生成方法で生成された電圧値データDbを有効に利用することができる。 Further, in this data generation device and data generation method, a process of calculating a voltage value Vc at which an air discharge occurs in a proximity portion Pa when the proximity portion Pa is a void is calculated based on a distance La and an air dielectric strength value Sdb. Is executed for each combination of the pair of inner layer patterns 102 to generate voltage value data Db indicating each voltage value Vc. In this case, when the specified voltage value Vr is specified as a voltage value lower than the voltage value Vc, the presence or absence of a gap in the proximity portion Pa may not be correctly determined, but the specified voltage value Vr is lower than the voltage value Vc. The combination of the pair of inner layer patterns 102 defined by the voltage value, that is, the combination of the pair of inner layer patterns 102 that may not be able to correctly determine the presence or absence of voids in the proximity portion Pa, is combined with the voltage value data Db and the voltage value data Da. Can be identified based on. Therefore, the voltage value data generated by this data generation device and the data generation method is used for a usage pattern that notifies the user of the inner layer pattern 102 that may not be able to correctly determine the presence or absence of a gap in the proximity portion Pa. Db can be effectively used.

また、この基板検査装置1によれば、電圧値データDaによって示される規定電圧値Vrの検査用電圧Viを出力する電圧出力部2と、検査用電圧Viが一対の内層パターン102に印加されている状態で各内層パターン102に流れる電流Iの電流値Iaを測定する測定部4と、電流値Iaに基づいて一対の内層パターン102の近接部位Paにおける空隙の有無を判定すると共にその判定結果に基づいて多層基板100の良否を判定する処理部7とを備えたことにより、検査用電圧Viの印加によって近接部位Paにおいて絶縁破壊を生じさせたり、近接部位Pbにおいて気中放電を生じさせたりすることを確実に防止することができる。したがって、この基板検査装置1によれば、絶縁破壊や気中放電による多層基板の損傷を確実に防止しつつ、多層基板の内層導体間における空隙の有無を判定して、多層基板100の良否を正確に判定することができる。 Further, according to the substrate inspection device 1, the voltage output unit 2 that outputs the inspection voltage Vi of the specified voltage value Vr indicated by the voltage value data Da and the inspection voltage Vi are applied to the pair of inner layer patterns 102. Based on the current value Ia and the measuring unit 4 that measures the current value Ia of the current I flowing through each inner layer pattern 102 in the state of being present, the presence or absence of voids in the proximity portion Pa of the pair of inner layer patterns 102 is determined and the determination result is used. By providing the processing unit 7 for determining the quality of the multilayer substrate 100 based on the above, the application of the inspection voltage Vi causes dielectric breakdown at the proximity portion Pa or causes an air discharge at the proximity portion Pb. This can be reliably prevented. Therefore, according to this substrate inspection device 1, the presence or absence of voids between the inner layer conductors of the multilayer substrate is determined while reliably preventing damage to the multilayer substrate due to dielectric breakdown and air discharge, and the quality of the multilayer substrate 100 is determined. It can be determined accurately.

また、この基板検査装置1は、電圧値データDbによって示される電圧値Vcよりも規定電圧値Vrが低い場合において近接部位Paに空隙が存在しないと判定したときに、規定電圧値Vrが電圧値Vcよりも低いことを報知する。このため、この基板検査装置1によれば、規定電圧値Vrが電圧値Vcよりも低い電圧値に規定されている内層パターン102については、近接部位Paにおける空隙の有無が正しく判定されていないおそれがあることを使用者に認識させることができる。また、このような報知を行うことで、例えば、係数αを変更して規定電圧値Vrを電圧値Vcよりも高い電圧値に規定し直し、対象の内層パターン102についての検査を再実行するなどの対応をとることができる。 Further, when the substrate inspection device 1 determines that there is no void in the proximity portion Pa when the specified voltage value Vr is lower than the voltage value Vc indicated by the voltage value data Db, the specified voltage value Vr is the voltage value. Notifies that it is lower than Vc. Therefore, according to the substrate inspection device 1, the presence or absence of voids in the proximity portion Pa may not be correctly determined for the inner layer pattern 102 whose specified voltage value Vr is defined as a voltage value lower than the voltage value Vc. It is possible to make the user recognize that there is. Further, by performing such notification, for example, the coefficient α is changed to redefine the specified voltage value Vr to a voltage value higher than the voltage value Vc, and the inspection for the target inner layer pattern 102 is re-executed. Can be taken.

なお、データ生成装置、基板検査装置およびデータ生成方法は、上記の構成および方法に限定されない。例えば、データ生成装置(データ生成機能)を備えた基板検査装置1に適用した例について上記したが、検査機能を有さないデータ生成装置(データ生成機能だけを有する装置)に適用することもできる。また、検査機能を有さないデータ生成装置で生成した電圧値データDa,Dbを用いて、データ生成機能を備えていない基板検査装置1が多層基板100の検査を行う際に適用することもできる。 The data generation device, the substrate inspection device, and the data generation method are not limited to the above configurations and methods. For example, although the example applied to the substrate inspection device 1 provided with the data generation device (data generation function) has been described above, it can also be applied to the data generation device having no inspection function (device having only the data generation function). .. Further, the voltage value data Da and Db generated by the data generator having no inspection function can be applied to the substrate inspection apparatus 1 having no data generation function when inspecting the multilayer substrate 100. ..

また、電圧値Va,Vbのうちのいずれか低い電圧値に1未満の係数αとしての0.8を乗じて規定電圧値Vrを規定する例について上記したが、1未満の係数αの値は、0.8に限定されず、任意に規定することができる。また、電圧値Va,Vbのうちのいずれか低い電圧値に係数αを乗じて規定電圧値Vrを規定する構成および方法に代えて、電圧値Va,Vbのうちのいずれか低い電圧値から予め決められた値を減算して規定電圧値Vrを規定する構成および方法を採用することもできる。 Further, the above is described for an example in which the specified voltage value Vr is specified by multiplying the lower voltage value of the voltage values Va and Vb by 0.8 as a coefficient α of less than 1, but the value of the coefficient α less than 1 is , 0.8 is not limited, and can be arbitrarily specified. Further, instead of the configuration and method for defining the specified voltage value Vr by multiplying the lower voltage value of the voltage values Va and Vb by the coefficient α, the lower voltage value of the voltage values Va and Vb is started in advance. It is also possible to adopt a configuration and method in which the specified voltage value Vr is specified by subtracting the determined value.

また、一対の内層パターン102の組み合わせ毎の電圧値Vcを示す電圧値データDbを生成する例について上記したが、規定電圧値Vrと電圧値Vcとの差分値を示すデータを電圧値データDbに代えて、または電圧値データDbと共に生成する構成および方法を採用することもできる。 Further, the example of generating the voltage value data Db indicating the voltage value Vc for each combination of the pair of inner layer patterns 102 has been described above, but the data indicating the difference value between the specified voltage value Vr and the voltage value Vc is used as the voltage value data Db. Alternatively, or by adopting a configuration and method of generating with the voltage value data Db.

また、近接部位Paに空隙が存在しないと判定したときに、規定電圧値Vrが電圧値Vcよりも低いことを報知する例について上記したが、近接部位Paにおける空隙の有無の判定結果に拘わらず、規定電圧値Vrが電圧値Vcよりも低いことを報知する構成および方法を採用することもできる。 Further, the above-mentioned example of notifying that the specified voltage value Vr is lower than the voltage value Vc when it is determined that there is no void in the proximity portion Pa has been described above, but regardless of the determination result of the presence or absence of the void in the proximity portion Pa. , A configuration and a method for notifying that the specified voltage value Vr is lower than the voltage value Vc can also be adopted.

また、1つの内層に複数の内層パターン102が設けられている多層基板100における一対の内層パターン102に印加する検査用電圧の規定電圧値を規定する際に適用した例について上記したが、複数の内層に複数の内層パターン102がそれぞれ形成されている多層基板100における各内層内の一対の内層パターン102に印加する検査用電圧の規定電圧値を規定する際に適用することもできる。また、複数の内層に複数の内層パターン102がそれぞれ形成されている多層基板100における互いに異なる層に設けられている一対の内層パターン102に印加する検査用電圧の規定電圧値を規定する際に適用することもできる。 Further, the example applied when defining the specified voltage value of the inspection voltage applied to the pair of inner layer patterns 102 in the multilayer substrate 100 in which the plurality of inner layer patterns 102 are provided in one inner layer has been described above. It can also be applied when defining a specified voltage value of an inspection voltage applied to a pair of inner layer patterns 102 in each inner layer in a multilayer substrate 100 in which a plurality of inner layer patterns 102 are formed in the inner layer. Further, it is applied when defining a specified voltage value of an inspection voltage applied to a pair of inner layer patterns 102 provided in different layers in a multilayer substrate 100 in which a plurality of inner layer patterns 102 are formed in a plurality of inner layers. You can also do it.

1 基板検査装置
2 電圧出力部
4 測定部
5 記憶部
6 表示部
7 処理部
50 データ生成処理
100 多層基板
101 基板
101a 表面
101b 内部
102a〜102d 内層パターン
103a〜103h ランド
Da,Db 電圧値データ
Ds 基板データ
I 電流
Ia 電流値
La,Lb 距離
Pa,Pb 近接部位
Sda,Sdb 絶縁耐力値
Va,Vb,Vc 電圧値
Vi 検査用電圧
Vr 規定電圧値
α 係数
1 Board inspection device 2 Voltage output unit 4 Measuring unit 5 Storage unit 6 Display unit 7 Processing unit 50 Data generation processing 100 Multi-layer board 101 Board 101a Surface 101b Internal 102a-102d Inner layer pattern 103a-103h Land Da, Db Voltage value data Ds board Data I Current Ia Current value La, Lb Distance Pa, Pb Proximity part Sda, Sdb Insulation strength value Va, Vb, Vc Voltage value Vi Inspection voltage Vr Specified voltage value α coefficient

Claims (7)

基板の内部に内層導体が設けられると共に当該内層導体にそれぞれ接続された表面導体が当該基板の表面に設けられた多層基板における隣接する一対の当該内層導体に一対の当該表面導体を介して検査用電圧を印加して当該多層基板の良否を検査する際の当該検査用電圧の電圧値を規定電圧値として規定し、当該規定電圧値を示す第1の電圧値データを生成するデータ生成処理を実行する処理部を備えたデータ生成装置であって、
前記処理部は、前記データ生成処理において、前記一対の内層導体同士が最も近接している第1の近接部位における当該各内層導体間の第1の距離と前記基板の絶縁耐力値とに基づいて当該第1の近接部位において絶縁破壊が発生する第1の電圧値を算出すると共に、前記一対の表面導体同士が最も近接している第2の近接部位における当該各表面導体間の第2の距離と空気の絶縁耐力値とに基づいて当該第2の近接部位において気中放電が発生する第2の電圧値を算出し、前記第1の電圧値および前記第2の電圧値のうちのいずれか低い電圧値に基づいて前記規定電圧値を規定する処理を前記一対の内層導体の組み合わせ毎に実行し、当該組み合わせ毎の規定電圧値を示す前記第1の電圧値データを生成するデータ生成装置。
An inner layer conductor is provided inside the substrate, and surface conductors connected to the inner layer conductors are used for inspection via a pair of surface conductors on a pair of adjacent inner layer conductors in a multilayer substrate provided on the surface of the substrate. The voltage value of the inspection voltage when inspecting the quality of the multilayer substrate by applying a voltage is specified as a specified voltage value, and a data generation process for generating a first voltage value data indicating the specified voltage value is executed. A data generator equipped with a processing unit
In the data generation process, the processing unit is based on the first distance between the inner layer conductors at the first proximity portion where the pair of inner layer conductors are closest to each other and the dielectric strength value of the substrate. The first voltage value at which insulation failure occurs at the first proximity portion is calculated, and the second distance between the surface conductors at the second proximity portion where the pair of surface conductors are closest to each other. And the dielectric strength value of the air, the second voltage value at which the air discharge occurs at the second proximity portion is calculated, and either the first voltage value or the second voltage value is calculated. A data generation device that executes a process of defining the specified voltage value based on a low voltage value for each combination of the pair of inner layer conductors, and generates the first voltage value data indicating the specified voltage value for each combination.
前記処理部は、予め決められた1未満の係数を前記いずれか低い電圧値に乗じて得た電圧値を前記規定電圧値として規定する請求項1記載のデータ生成装置。 The data generation device according to claim 1, wherein the processing unit defines a voltage value obtained by multiplying a predetermined coefficient less than 1 by the lower voltage value as the specified voltage value. 前記多層基板の構造を特定可能な基板データを記憶する記憶部を備え、
前記処理部は、前記基板データに基づいて前記第1の距離および前記第2の距離を特定する請求項1または2記載のデータ生成装置。
A storage unit for storing board data capable of identifying the structure of the multilayer board is provided.
The data generation device according to claim 1 or 2, wherein the processing unit specifies the first distance and the second distance based on the substrate data.
前記処理部は、前記第1の近接部位が空隙のときに当該第1の近接部位において気中放電が発生する第3の電圧値を前記第1の距離と前記空気の絶縁耐力値とに基づいて算出する処理を前記一対の内層導体の組み合わせ毎に実行し、当該組み合わせ毎の前記第3の電圧値を特定可能な第2の電圧値データを生成する請求項1から3のいずれかに記載のデータ生成装置。 The processing unit uses a third voltage value at which an air discharge occurs in the first proximity portion when the first proximity portion is a void, based on the first distance and the dielectric strength value of the air. The process according to any one of claims 1 to 3, wherein the process of calculating the above is executed for each combination of the pair of inner layer conductors, and the second voltage value data capable of specifying the third voltage value for each combination is generated. Data generator. 請求項1から4のいずれかに記載のデータ生成装置によって生成された前記第1の電圧値データによって示される前記規定電圧値の前記検査用電圧を出力する電圧出力部と、当該電圧出力部から出力された前記検査用電圧が前記一対の表面導体を介して前記一対の内層導体に印加されている状態で当該各表面導体および当該各内層導体に流れる電流の電流値を測定する測定部と、当該測定部によって測定された前記電流値に基づいて前記第1の近接部位における空隙の有無を判定すると共に当該判定の結果に基づいて前記多層基板の良否を判定する検査部とを備えている基板検査装置。 From the voltage output unit that outputs the inspection voltage of the specified voltage value indicated by the first voltage value data generated by the data generator according to any one of claims 1 to 4, and the voltage output unit. A measuring unit that measures the current value of the current flowing through each surface conductor and each inner layer conductor in a state where the output voltage for inspection is applied to the pair of inner layer conductors via the pair of surface conductors. A substrate provided with an inspection unit that determines the presence or absence of voids in the first proximity portion based on the current value measured by the measuring unit and determines the quality of the multilayer substrate based on the result of the determination. Inspection device. 請求項4記載のデータ生成装置によって生成された前記第1の電圧値データによって示される前記規定電圧値の前記検査用電圧を出力する電圧出力部と、当該電圧出力部から出力された前記検査用電圧が前記一対の表面導体を介して前記一対の内層導体に印加されている状態で当該各表面導体および当該各内層導体に流れる電流の電流値を測定する測定部と、当該測定部によって測定された前記電流値に基づいて前記第1の近接部位における空隙の有無を判定すると共に当該判定の結果に基づいて前記多層基板の良否を判定する検査部とを備え、
前記検査部は、前記データ生成装置によって生成された前記第2の電圧値データによって特定した前記第3の電圧値よりも前記規定電圧値が低い場合において前記第1の近接部位における空隙が存在しないと判定したときに、前記規定電圧値が前記第3の電圧値よりも低いことを報知する基板検査装置。
A voltage output unit that outputs the inspection voltage of the specified voltage value indicated by the first voltage value data generated by the data generator according to claim 4, and the inspection unit output from the voltage output unit. A measuring unit that measures the current value of the current flowing through each surface conductor and each inner layer conductor in a state where a voltage is applied to the pair of inner layer conductors via the pair of surface conductors, and a measuring unit that measures the voltage. It is provided with an inspection unit that determines the presence or absence of voids in the first proximity portion based on the current value and determines the quality of the multilayer substrate based on the result of the determination.
In the inspection unit, when the specified voltage value is lower than the third voltage value specified by the second voltage value data generated by the data generator, there is no void in the first proximity portion. A substrate inspection device that notifies that the specified voltage value is lower than the third voltage value when it is determined.
基板の内部に内層導体が設けられると共に当該内層導体にそれぞれ接続された表面導体が当該基板の表面に設けられた多層基板における隣接する一対の当該内層導体に一対の当該表面導体を介して検査用電圧を印加して当該多層基板の良否を検査する際の当該検査用電圧の電圧値を規定電圧値として規定し、当該規定電圧値を示す第1の電圧値データを生成するデータ生成処理を実行するデータ生成方法であって、
前記データ生成処理において、前記一対の内層導体同士が最も近接している第1の近接部位における当該各内層導体間の第1の距離と前記基板の絶縁耐力値とに基づいて当該第1の近接部位において絶縁破壊が発生する第1の電圧値を算出すると共に、前記一対の表面導体同士が最も近接している第2の近接部位における当該各表面導体間の第2の距離と空気の絶縁耐力値とに基づいて当該第2の近接部位において気中放電が発生する第2の電圧値を算出し、前記第1の電圧値および前記第2の電圧値のうちのいずれか低い電圧値に基づいて前記規定電圧値を規定する処理を前記一対の内層導体の組み合わせ毎に実行し、当該組み合わせ毎の規定電圧値を示す前記第1の電圧値データを生成するデータ生成方法。
An inner layer conductor is provided inside the substrate, and surface conductors connected to the inner layer conductors are used for inspection via a pair of surface conductors on a pair of adjacent inner layer conductors in a multilayer substrate provided on the surface of the substrate. The voltage value of the inspection voltage when inspecting the quality of the multilayer substrate by applying a voltage is specified as a specified voltage value, and a data generation process for generating a first voltage value data indicating the specified voltage value is executed. It is a data generation method to do
In the data generation process, the first proximity is based on the first distance between the inner layer conductors at the first proximity portion where the pair of inner layer conductors are closest to each other and the dielectric strength value of the substrate. The first voltage value at which insulation failure occurs at the site is calculated, and the second distance between the surface conductors and the dielectric strength of air at the second proximity site where the pair of surface conductors are closest to each other. A second voltage value at which air discharge occurs at the second proximity portion is calculated based on the value, and is based on the lower voltage value of the first voltage value and the second voltage value. A data generation method in which the process of defining the specified voltage value is executed for each combination of the pair of inner layer conductors, and the first voltage value data indicating the specified voltage value for each combination is generated.
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