JP6938191B2 - Manufacturing method of resin molded products and manufacturing method of optical parts - Google Patents
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Description
本発明は、樹脂成型品の製造方法、及び光学部品の製造方法に関する。より詳細には、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法、及び該樹脂成型品を用いて光学部品を製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a resin molded product and a method for manufacturing an optical component. More specifically, the present invention relates to a method of manufacturing a resin molded product by imprint molding, and a method of manufacturing an optical component using the resin molded product.
近年、携帯電話、スマートフォンをはじめとする、モバイル電子機器について、センサーやカメラを搭載することによる製品価値の向上が進んでいる。年々、小型化、薄型化が進み、それらに使用されるレンズ等の光学部品も、より小型で、より薄型のものが求められている。そのような要求に対して、従来、射出成型によって光学部品を製造することで対応してきたが、射出成型法では小型化、薄型化への対応に限界がきている。そこで、射出成型法に代わる新たな成型方法としてインプリント成型技術が注目を浴びている(特許文献1参照)。 In recent years, the product value of mobile electronic devices such as mobile phones and smartphones has been improved by installing sensors and cameras. The size and thickness of the optical components such as lenses used for them are becoming smaller and thinner year by year, and there is a demand for smaller and thinner optical components. Conventionally, such demands have been met by manufacturing optical parts by injection molding, but the injection molding method has reached its limit in responding to miniaturization and thinning. Therefore, imprint molding technology is attracting attention as a new molding method instead of the injection molding method (see Patent Document 1).
微細な形状を有する樹脂成型品をインプリント成型により成型する場合、用いるモールドには、樹脂成型品の微細な形状に対応する微細なパターン形状(パターン形状部)が設けられている。しかしながら、本発明者は、このような微細なパターン形状部を有するモールドを用いてインプリント成型により樹脂成型品を成型する場合、樹脂成型品を形成する硬化性組成物をモールドに塗布した際に硬化性組成物中に気泡が発生(泡かみ)しやすいことを見出した。上記気泡は、モールドに設けられた微細なパターン形状部の凹部の底付近(成型後に樹脂成型品の凸部の先端となる部分)に特に発生しやすい。 When a resin molded product having a fine shape is molded by imprint molding, the mold used is provided with a fine pattern shape (pattern shape portion) corresponding to the fine shape of the resin molded product. However, in the case where the resin molded product is molded by imprint molding using a mold having such a fine pattern shape portion, the present inventor applies the curable composition forming the resin molded product to the mold. It has been found that bubbles are likely to be generated (foam biting) in the curable composition. The above-mentioned air bubbles are particularly likely to be generated near the bottom of the concave portion of the fine pattern-shaped portion provided on the mold (the portion that becomes the tip of the convex portion of the resin molded product after molding).
従って、本発明の目的は、インプリント成型において、パターン形状部を有するモールドに硬化性組成物を塗布した際に気泡の発生が起こりにくい樹脂成型品の製造方法、及び該樹脂成型品を用いた光学部品の製造方法を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is a method for producing a resin molded product in which bubbles are less likely to be generated when a curable composition is applied to a mold having a pattern-shaped portion in imprint molding, and the resin molded product is used. The purpose is to provide a method for manufacturing an optical component.
本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、表面に濡れ性改善処理を施されたパターン形状部を有するモールドの硬化性組成物未塗布部分に、濡れ性改善処理を施す前のモールドに対する接触角が小さい硬化性組成物を塗布することにより、モールドのパターン形状部に硬化性組成物を塗布した際に気泡の発生を起こりにくくすることができることを見出した。本発明はこれらの知見に基づいて完成させたものである。 As a result of diligent studies to achieve the above object, the present inventor has made a wettability-improving treatment on the uncoated portion of the mold having a pattern-shaped portion whose surface has been subjected to the wettability-improving treatment. It has been found that by applying a curable composition having a small contact angle with respect to the mold, it is possible to make it difficult for bubbles to occur when the curable composition is applied to the pattern-shaped portion of the mold. The present invention has been completed based on these findings.
すなわち、本発明は、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法であって、表面に濡れ性改善処理を施されたパターン形状部を有するモールドの硬化性組成物未塗布部分に、前記濡れ性改善処理前の前記モールドに対する接触角が50°以下の硬化性組成物を塗布する硬化性組成物塗布工程、及び前記モールドに塗布された前記硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る硬化工程を有する、樹脂成型品の製造方法を提供する。 That is, the present invention is a method for producing a resin molded product by imprint molding, and the wettability is applied to a portion of a mold that has a pattern-shaped portion whose surface has been subjected to a wettability improving treatment and has not been coated with a curable composition. A curable composition coating step of applying a curable composition having a contact angle of 50 ° or less with respect to the mold before the improvement treatment, and curing of the curable composition applied to the mold to obtain a resin molded product. Provided is a method for producing a resin molded product having a process.
前記濡れ性改善処理は、プラズマ放電処理、コロナ放電処理、オゾン暴露処理、及びエキシマ処理からなる群より選択される1以上の処理であることが好ましい。 The wettability improving treatment is preferably one or more treatments selected from the group consisting of plasma discharge treatment, corona discharge treatment, ozone exposure treatment, and excimer treatment.
前記プラズマ放電処理又は前記コロナ放電処理は、放電量50W・min/m2以上の放電処理であることが好ましい。 The plasma discharge treatment or the corona discharge treatment is preferably a discharge treatment having a discharge amount of 50 W · min / m 2 or more.
前記硬化性組成物塗布工程の後に、前記硬化性組成物塗布工程を経て得られた前記硬化性組成物が塗布されたモールドを、前記硬化性組成物塗布工程を経て前記硬化性組成物が塗布された別のモールドと、前記硬化性組成物同士が接触するように重ね合わせる型閉じ工程を有することが好ましい。 After the curable composition coating step, the mold to which the curable composition obtained through the curable composition coating step is applied is coated with the curable composition through the curable composition coating step. It is preferable to have a mold closing step of superimposing the curable composition on the other mold so as to be in contact with each other.
前記硬化性組成物はエポキシ化合物を含有することが好ましい。 The curable composition preferably contains an epoxy compound.
前記硬化性組成物塗布工程の後に、減圧による脱泡工程を有することが好ましい。 It is preferable to have a defoaming step under reduced pressure after the curable composition coating step.
前記モールドにおけるパターン形状が凹凸形状であり、凹部最底部と凸部最頂部の高低差が0.05mm以上であることが好ましい。 It is preferable that the pattern shape in the mold is an uneven shape, and the height difference between the bottommost portion of the concave portion and the topmost portion of the convex portion is 0.05 mm or more.
前記樹脂成型品はマイクロレンズアレイであることが好ましい。 The resin molded product is preferably a microlens array.
また、本発明は、前記樹脂成型品の製造方法により得られる樹脂成型品を用いた光学部品の製造方法を提供する。 The present invention also provides a method for manufacturing an optical component using the resin molded product obtained by the method for manufacturing the resin molded product.
本発明の樹脂成型品の製造方法によれば、モールドのパターン形状部に硬化性組成物を塗布した際に気泡の発生を起こりにくくすることができる。特に、微細なパターン形状部を有するモールドを用いた場合であっても、気泡の発生が起こりにくい。このため、微細な形状を有する樹脂成型品を、優れた形状精度で且つ容易に製造することができる。 According to the method for producing a resin molded product of the present invention, it is possible to prevent the generation of air bubbles when the curable composition is applied to the pattern-shaped portion of the mold. In particular, even when a mold having a fine pattern shape portion is used, bubbles are unlikely to be generated. Therefore, a resin molded product having a fine shape can be easily manufactured with excellent shape accuracy.
本発明の樹脂成型品の製造方法は、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法であって、表面に濡れ性改善処理を施されたパターン形状部を有するモールドの硬化性組成物未塗布部分に、上記濡れ性改善処理前の上記モールドに対する接触角が50°以下の硬化性組成物を塗布する硬化性組成物塗布工程、及び上記モールドに塗布された上記硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る硬化工程を有する。なお、本明細書において、本発明の樹脂成型品の製造方法を、単に「本発明の製造方法」と称する場合がある。 The method for producing a resin molded product of the present invention is a method for producing a resin molded product by imprint molding, and is a portion of a mold in which a curable composition has not been applied, which has a pattern-shaped portion having a wettability improving treatment on the surface. In addition, a curable composition coating step of applying a curable composition having a contact angle of 50 ° or less with respect to the mold before the wettability improving treatment, and a resin by curing the curable composition applied to the mold. It has a curing process to obtain a molded product. In addition, in this specification, the manufacturing method of the resin molded article of this invention may be simply referred to as "the manufacturing method of this invention".
上述のように、本発明の製造方法は、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法であり、基板に樹脂成型品を形成する硬化性組成物を塗布し、塗布された硬化性組成物を挟み込むように他の基板を重ね合わせ、その後上記硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を製造する。なお、本発明の製造方法では、少なくとも一方の基板としてパターン形状部を有するモールドを用い、このパターン形状部を有するモールド(以下、単に「モールド」と称する場合がある)の当該パターン形状部に硬化性組成物を塗布する。 As described above, the production method of the present invention is a method of producing a resin molded product by imprint molding, and a curable composition for forming the resin molded product is applied to a substrate, and the applied curable composition is applied. Other substrates are superposed so as to be sandwiched, and then the curable composition is cured to produce a resin molded product. In the manufacturing method of the present invention, a mold having a pattern-shaped portion is used as at least one substrate, and the mold having the pattern-shaped portion (hereinafter, may be simply referred to as “mold”) is cured to the pattern-shaped portion. Apply the sex composition.
(硬化性組成物塗布工程)
上記硬化性組成物塗布工程は、表面に濡れ性改善処理を施されたパターン形状部を有するモールドの硬化性組成物未塗布部分(すなわち、樹脂成型品を形成する硬化性組成物を塗布すべき部分であって未だ塗布されていない部分)に、上記モールドに対する接触角が50°以下の硬化性組成物を塗布する工程である。
(Curable composition coating process)
In the curable composition coating step, a curable composition-uncoated portion (that is, a curable composition forming a resin molded product) of a mold having a pattern-shaped portion whose surface has been subjected to a wettability improving treatment should be coated. This is a step of applying a curable composition having a contact angle with respect to the mold of 50 ° or less to a portion (a portion that has not been applied yet).
上記硬化性組成物の塗布は、公知乃至慣用の塗布方法により行うことができる。上記塗布としては、例えば、スピンコート塗布、ロールコート塗布、スプレー塗布(スプレー噴霧)、ディスペンスコート、ディップコート、インクジェット塗布、エアーブラシ塗布(エアーブラシ噴霧)、超音波塗布(超音波噴霧)等が挙げられる。 The curable composition can be applied by a known or conventional application method. Examples of the above coating include spin coating, roll coating, spray coating (spray spray), dispense coating, dip coating, inkjet coating, airbrush coating (airbrush spraying), ultrasonic coating (ultrasonic spraying), and the like. Can be mentioned.
上記硬化性組成物は、硬化して樹脂成型品を形成する組成物である。上記硬化性組成物は、上記濡れ性改善処理を施される前のモールドに対する接触角が50°以下である。これにより、モールドに対する硬化性組成物の濡れ性が高くなるため、パターン形状部が微細な構造を有している場合であっても、硬化性組成物の塗布時にモールドに付着した際にはパターン形状に沿って硬化性組成物が濡れ広がりやすく、気泡が発生しにくい。上記接触角は、好ましくは45°以下、より好ましくは40°以下である。上記接触角は、公知乃至慣用の方法で測定することができる。 The curable composition is a composition that cures to form a resin molded product. The curable composition has a contact angle of 50 ° or less with respect to the mold before being subjected to the wettability improving treatment. As a result, the wettability of the curable composition with respect to the mold is increased. Therefore, even when the pattern shape portion has a fine structure, when the curable composition adheres to the mold during application, the pattern is formed. The curable composition easily wets and spreads along the shape, and bubbles are less likely to be generated. The contact angle is preferably 45 ° or less, more preferably 40 ° or less. The contact angle can be measured by a known or conventional method.
上記硬化性組成物は、硬化性の化合物(硬化性化合物)を含有する。上記硬化性組成物としては、公知乃至慣用のインプリント成型に用いられる組成物を使用することができ、目的とする樹脂成型品の種類に応じて適宜選択される。上記硬化性化合物としては、例えば、カチオン硬化性化合物、ラジカル硬化性化合物、アニオン硬化性化合物等が挙げられる。上記カチオン硬化性化合物としては、例えば、エポキシ基を有する化合物(エポキシ化合物)、オキセタニル基を有する化合物(オキセタン化合物)、ビニルエーテル基を有する化合物(ビニルエーテル化合物)が挙げられ、好ましくはエポキシ化合物である。上記硬化性化合物は、1種のみを使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。 The curable composition contains a curable compound (curable compound). As the curable composition, a composition used for known or conventional imprint molding can be used, and the composition is appropriately selected according to the type of the target resin molded product. Examples of the curable compound include a cationic curable compound, a radical curable compound, an anion curable compound and the like. Examples of the cationically curable compound include a compound having an epoxy group (epoxide compound), a compound having an oxetanyl group (oxetan compound), and a compound having a vinyl ether group (vinyl ether compound), and an epoxy compound is preferable. As the curable compound, only one kind may be used, or two or more kinds may be used.
上記エポキシ化合物としては、分子内に1以上のエポキシ基(オキシラン環)を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、脂環式エポキシ化合物(脂環式エポキシ樹脂)、芳香族エポキシ化合物(芳香族エポキシ樹脂)、脂肪族エポキシ化合物(脂肪族エポキシ樹脂)等が挙げられる。 As the epoxy compound, a known or commonly used compound having one or more epoxy groups (oxylan rings) in the molecule can be used, and is not particularly limited, but for example, an alicyclic epoxy compound (alicyclic epoxy resin). ), Aromatic epoxy compound (aromatic epoxy resin), aliphatic epoxy compound (aliphatic epoxy resin) and the like.
上記脂環式エポキシ化合物としては、分子内に1個以上の脂環と1個以上のエポキシ基とを有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、(1)分子内に脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(「脂環エポキシ基」と称する)を有する化合物;(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物;(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物(グリシジルエーテル型エポキシ化合物)等が挙げられる。 Examples of the alicyclic epoxy compound include known and commonly used compounds having one or more alicyclics and one or more epoxy groups in the molecule, and are not particularly limited. For example, (1) in the molecule. A compound having an epoxy group (referred to as "alicyclic epoxy group") composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic; (2) The epoxy group is directly bonded to the alicyclic by a single bond. Compounds; (3) Compounds having an alicyclic ring and a glycidyl ether group in the molecule (glycidyl ether type epoxy compound) and the like can be mentioned.
上記(1)分子内に脂環エポキシ基を有する化合物としては、下記式(i)で表される化合物が挙げられる。
上記式(i)中、Yは単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、これらが複数個連結した基等が挙げられる。なお、式(i)におけるシクロヘキサン環(シクロヘキセンオキシド基)を構成する炭素原子の1以上には、アルキル基等の置換基が結合していてもよい。 In the above formula (i), Y represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the linking group include a divalent hydrocarbon group, an alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, a carbonate group, an amide group, and the like. Examples thereof include a group in which a plurality of groups are linked. A substituent such as an alkyl group may be bonded to one or more of the carbon atoms constituting the cyclohexane ring (cyclohexene oxide group) in the formula (i).
上記二価の炭化水素基としては、炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。上記二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等の二価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。 Examples of the divalent hydrocarbon group include a linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, a divalent alicyclic hydrocarbon group and the like. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group and a trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group and 1,3-. Examples thereof include a divalent cycloalkylene group (including a cycloalkylidene group) such as a cyclohexylene group, a 1,4-cyclohexylene group and a cyclohexylidene group.
上記炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある)におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、1−ブテニレン基、2−ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数2〜4のアルケニレン基である。 Examples of the alkenylene group in the alkenylene group in which a part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized (sometimes referred to as “epoxidized alkenylene group”) include a vinylene group, a propenylene group, and a 1-butenylene group. , 2-Butenylene group, butazienylene group, pentenylene group, hexenylene group, heptenylene group, octenylene group and the like, such as a linear or branched alkenylene group having 2 to 8 carbon atoms. In particular, as the epoxidized alkenylene group, an alkenylene group in which the entire carbon-carbon double bond is epoxidized is preferable, and more preferably, the entire carbon-carbon double bond is epoxidized and has 2 to 4 carbon atoms. It is an alkenylene group.
上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物の代表的な例としては、(3,4,3’,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル、下記式(i−1)〜(i−10)で表される化合物等が挙げられる。なお、下記式(i−5)、(i−7)中のl、mは、それぞれ1〜30の整数を表す。下記式(i−5)中のR’は炭素数1〜8のアルキレン基であり、中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1〜3の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。下記式(i−9)、(i−10)中のn1〜n6は、それぞれ1〜30の整数を示す。また、上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物としては、その他、例えば、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロパン、1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)エタン、1,2−エポキシ−1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)エタン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル等が挙げられる。
上述の(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物としては、例えば、下記式(ii)で表される化合物等が挙げられる。
式(ii)中、R"は、p価のアルコールの構造式からp個の水酸基(−OH)を除いた基(p価の有機基)であり、p、nはそれぞれ自然数を表す。p価のアルコール[R"(OH)p]としては、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノール等の多価アルコール(炭素数1〜15のアルコール等)等が挙げられる。pは1〜6が好ましく、nは1〜30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの( )内(外側の括弧内)の基におけるnは同一でもよく異なっていてもよい。上記式(ii)で表される化合物としては、具体的には、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物[例えば、商品名「EHPE3150」((株)ダイセル製)等]等が挙げられる。 In formula (ii), R "is a group (p-valent organic group) obtained by removing p hydroxyl groups (-OH) from the structural formula of a p-valent alcohol, and p and n each represent a natural number. Examples of the valent alcohol [R "(OH) p ] include polyhydric alcohols such as 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol (alcohols having 1 to 15 carbon atoms) and the like. p is preferably 1 to 6, and n is preferably 1 to 30. When p is 2 or more, n in each group in parentheses (in parentheses on the outside) may be the same or different. Specific examples of the compound represented by the above formula (ii) include 1,2-epoxy-4- (2-oxylanyl) cyclohexane adducts of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol [for example. , Product name "EHPE3150" (manufactured by Daicel Corporation), etc.] and the like.
上述の(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物としては、例えば、脂環式アルコール(特に、脂環式多価アルコール)のグリシジルエーテルが挙げられる。より詳しくは、例えば、2,2−ビス[4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパン、2,2−ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパン等のビスフェノールA型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールA型エポキシ化合物);ビス[o,o−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[o,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[p,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン等のビスフェノールF型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールF型エポキシ化合物);水素化ビフェノール型エポキシ化合物;水素化フェノールノボラック型エポキシ化合物;水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;ビスフェノールAの水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;水素化ナフタレン型エポキシ化合物;トリスフェノールメタンから得られるエポキシ化合物の水素化エポキシ化合物;下記芳香族エポキシ化合物の水素化エポキシ化合物等が挙げられる。 Examples of the compound having an alicyclic and glycidyl ether group in the molecule (3) described above include glycidyl ether of an alicyclic alcohol (particularly, an alicyclic polyhydric alcohol). More specifically, for example, 2,2-bis [4- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] propane, 2,2-bis [3,5-dimethyl-4- (2,3-epoxypropoxy)). Cyclohexyl] A compound obtained by hydrogenating a bisphenol A type epoxy compound such as propane (hydrogenated bisphenol A type epoxy compound); bis [o, o- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [o , P- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [p, p- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [3,5-dimethyl-4- (2,5-dimethylpropoxy) 3-Epoxypropoxy) Cyclohexyl] A compound obtained by hydrogenating a bisphenol F-type epoxy compound such as methane (hydrogenated bisphenol F-type epoxy compound); a hydrogenated biphenol-type epoxy compound; a hydrogenated phenol novolac-type epoxy compound; Novolak type epoxy compound; bisphenol A hydride cresol novolak type epoxy compound; hydride naphthalene type epoxy compound; hydride epoxy compound of epoxy compound obtained from trisphenol methane; hydride epoxy compound of the following aromatic epoxy compound and the like. Be done.
上記芳香族エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノール類[例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール等]と、エピハロヒドリンとの縮合反応により得られるエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;これらのエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂を上記ビスフェノール類とさらに付加反応させることにより得られる高分子量エピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フェノール類[例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等]とアルデヒド[例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等]とを縮合反応させて得られる多価アルコール類を、さらにエピハロヒドリンと縮合反応させることにより得られるノボラック・アルキルタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フルオレン環の9位に2つのフェノール骨格が結合し、かつこれらフェノール骨格のヒドロキシ基から水素原子を除いた酸素原子に、それぞれ、直接又はアルキレンオキシ基を介してグリシジル基が結合しているエポキシ化合物等が挙げられる。 Examples of the aromatic epoxy compound include epibis-type glycidyl ether-type epoxy resins obtained by a condensation reaction between bisphenols [for example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, etc.] and epihalohydrin; these epis. High molecular weight epibistype glycidyl ether type epoxy resin obtained by further addition reaction of bistype glycidyl ether type epoxy resin with the above bisphenols; phenols [for example, phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, etc.] and aldehydes [for example, formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, salicylaldehyde, etc.] and polyhydric alcohols obtained by condensing reaction with epihalohydrin. Alkyl type glycidyl ether type epoxy resin; Two phenol skeletons are bonded to the 9-position of the fluorene ring, and glycidyl is attached to the oxygen atom obtained by removing the hydrogen atom from the hydroxy group of these phenol skeletons, either directly or via an alkyleneoxy group. Examples thereof include an epoxy compound to which a group is bonded.
上記脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、q価の環状構造を有しないアルコール(qは自然数である)のグリシジルエーテル;一価又は多価カルボン酸[例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ステアリン酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸等]のグリシジルエステル;エポキシ化亜麻仁油、エポキシ化大豆油、エポキシ化ひまし油等の二重結合を有する油脂のエポキシ化物;エポキシ化ポリブタジエン等のポリオレフィン(ポリアルカジエンを含む)のエポキシ化物等が挙げられる。なお、上記q価の環状構造を有しないアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール等の一価のアルコール;エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の二価のアルコール;グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール等の三価以上の多価アルコール等が挙げられる。また、q価のアルコールは、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンポリオール等であってもよい。 Examples of the aliphatic epoxy compound include glycidyl ethers of alcohols having no q-valent cyclic structure (q is a natural number); monovalent or polyvalent carboxylic acids [for example, acetic acid, propionic acid, butyric acid, stearic acid, etc. Glycidyl ester of adipic acid, sebacic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.; epoxidized fats and oils with double bonds such as epoxidized flaxseed oil, epoxidized soybean oil, epoxidized castor oil; polyolefin (poly) such as epoxidized polybutadiene (Including alkaziene) epoxides and the like can be mentioned. Examples of the alcohol having no q-valent cyclic structure include monohydric alcohols such as methanol, ethanol, 1-propyl alcohol, isopropyl alcohol and 1-butanol; ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1 , 3-Propanediol, 1,4-Butanediol, Neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, Diethylene glycol, Triethylene glycol, Tetraethylene glycol, Dipropylene glycol, Polyethylene glycol, Polypropylene glycol and other dihydric alcohols; Examples thereof include trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, diglycerin, erythritol, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and sorbitol. Further, the q-valent alcohol may be a polyether polyol, a polyester polyol, a polycarbonate polyol, a polyolefin polyol or the like.
上記オキセタン化合物としては、分子内に1以上のオキセタン環を有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、3,3−ビス(ビニルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(ヒドロキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−[(フェノキシ)メチル]オキセタン、3−エチル−3−(ヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(クロロメチル)オキセタン、3,3−ビス(クロロメチル)オキセタン、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、ビス{[1−エチル(3−オキセタニル)]メチル}エーテル、4,4'−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビシクロヘキシル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]シクロヘキサン、1,4−ビス{〔(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ〕メチル}ベンゼン、3−エチル−3−{〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕メチル)}オキセタン、キシリレンビスオキセタン、3−エチル−3−{[3−(トリエトキシシリル)プロポキシ]メチル}オキセタン、オキセタニルシルセスキオキサン、フェノールノボラックオキセタン等が挙げられる。 Examples of the oxetane compound include known and commonly used compounds having one or more oxetane rings in the molecule, and are not particularly limited. For example, 3,3-bis (vinyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-3. (Hydroxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-[(phenoxy) methyl] oxetane, 3-ethyl-3- (hexyloxymethyl) oxetane, 3- Ethyl-3- (chloromethyl) oxetane, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, bis {[1-ethyl (3-ethyl (3-ethyl) Oxetane)] methyl} ether, 4,4'-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] bicyclohexyl, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] cyclohexane, 1 , 4-Bis {[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, 3-ethyl-3-{[(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl)} oxetane, xylylene bisoxetane , 3-Ethyl-3-{[3- (triethoxysilyl) propoxy] methyl} oxetane, oxetanylsilsesquioxane, phenol novolac oxetane and the like.
上記ビニルエーテル化合物としては、分子内に1以上のビニルエーテル基を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル(エチレングリコールモノビニルエーテル)、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、1−メチル−3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−メチル−2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−ヒドロキシメチルプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールモノビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,8−オクタンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、p−キシレングリコールモノビニルエーテル、p−キシレングリコールジビニルエーテル、m−キシレングリコールモノビニルエーテル、m−キシレングリコールジビニルエーテル、o−キシレングリコールモノビニルエーテル、o−キシレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエチレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエチレングリコールジビニルエーテル、オリゴエチレングリコールモノビニルエーテル、オリゴエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールモノビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、テトラプロピレングリコールモノビニルエーテル、テトラプロピレングリコールジビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールジビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールモノビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールジビニルエーテル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポリプロピレングリコールジビニルエーテル、イソソルバイドジビニルエーテル、オキサノルボルネンジビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ハイドロキノンジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ビスフェノールAジビニルエーテル、ビスフェノールFジビニルエーテル、ヒドロキシオキサノルボルナンメタノールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等が挙げられる。 As the vinyl ether compound, a known or commonly used compound having one or more vinyl ether groups in the molecule can be used, and is not particularly limited, but for example, 2-hydroxyethyl vinyl ether (ethylene glycol monovinyl ether), 3-hydroxy. Propyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxyisopropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxybutyl vinyl ether, 2-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxyisobutylvinyl ether, 2-hydroxyisobutylvinyl ether, 1-methyl-3 -Hydroxypropyl vinyl ether, 1-methyl-2-hydroxypropyl vinyl ether, 1-hydroxymethylpropyl vinyl ether, 4-hydroxycyclohexylvinyl ether, 1,6-hexanediol monovinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, 1,8- Octanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,2-cyclohexane Dimethanol monovinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol divinyl ether, p-xylene glycol monovinyl ether, p-xylene glycol divinyl ether, m-xylene glycol monovinyl ether, m-xylene glycol divinyl ether, o-xylene glycol monovinyl ether, o-xylene glycol divinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol monovinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, pentaethylene glycol monovinyl ether, Pentaethylene glycol divinyl ether, oligoethylene glycol monovinyl ether, oligoethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol monovinyl ether, dipropylene grease Cole divinyl ether, tripropylene glycol monovinyl ether, tripropylene glycol divinyl ether, tetrapropylene glycol monovinyl ether, tetrapropylene glycol divinyl ether, pentapropylene glycol monovinyl ether, pentapropylene glycol divinyl ether, oligopropylene glycol monovinyl ether, oligopropylene glycol di Vinyl ether, polypropylene glycol monovinyl ether, polypropylene glycol divinyl ether, isosorbide divinyl ether, oxanolborne divinyl ether, phenylvinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroquinone divinyl ether, 1,4-butanediol Divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, trimethylolpropanetrivinyl ether, bisphenol A divinyl ether, bisphenol F divinyl ether, hydroxyoxanorbornane methanol divinyl ether, 1,4-cyclohexanediol divinyl ether, pentaerythritol tri Examples thereof include vinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl ether and the like.
上記硬化性組成物中の硬化性化合物(特に、エポキシ化合物)の含有量は、特に限定されないが、硬化性組成物の総量(100重量%)に対して、10〜95重量%が好ましく、より好ましくは15〜90重量%、さらに好ましくは20〜85重量%である。上記含有量が10重量%以上であると、硬化性組成物の硬化性、樹脂成型品の耐熱性、耐光性、及び透明性に優れる傾向がある。 The content of the curable compound (particularly the epoxy compound) in the curable composition is not particularly limited, but is preferably 10 to 95% by weight, more preferably 10% by weight, based on the total amount (100% by weight) of the curable composition. It is preferably 15 to 90% by weight, more preferably 20 to 85% by weight. When the content is 10% by weight or more, the curable composition tends to be excellent in curability, heat resistance of the resin molded product, light resistance, and transparency.
上記硬化性組成物は、上記硬化性化合物と共に光重合開始剤を含有することが好ましく、特に光カチオン重合開始剤を含有することが好ましい。光カチオン重合開始剤は、光の照射によって酸を発生して、硬化性組成物に含まれる硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)の硬化反応を開始させる化合物であり、光を吸収するカチオン部と酸の発生源となるアニオン部からなる。 The curable composition preferably contains a photopolymerization initiator together with the curable compound, and particularly preferably contains a photocationic polymerization initiator. The photocationic polymerization initiator is a compound that generates an acid by irradiation with light to initiate a curing reaction of a curable compound (particularly, a cationically curable compound) contained in a curable composition, and is a cation that absorbs light. It consists of a part and an anion part that is a source of acid.
上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩系化合物、ヨードニウム塩系化合物、スルホニウム塩系化合物、ホスホニウム塩系化合物、セレニウム塩系化合物、オキソニウム塩系化合物、アンモニウム塩系化合物、臭素塩系化合物等が挙げられる。本発明においては、中でも、スルホニウム塩系化合物を使用することが、硬化性に優れた樹脂成型品を形成することができる点で好ましい。 Examples of the photocationic polymerization initiator include diazonium salt compounds, iodonium salt compounds, sulfonium salt compounds, phosphonium salt compounds, selenium salt compounds, oxonium salt compounds, ammonium salt compounds, and bromine salt compounds. And so on. In the present invention, it is particularly preferable to use a sulfonium salt-based compound in that a resin molded product having excellent curability can be formed.
上記スルホニウム塩系化合物のカチオン部としては、例えば、トリフェニルスルホニウムイオン、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムイオン、トリ−p−トリルスルホニウムイオン、(4−ヒドロキシフェニル)メチルベンジルスルホニウムイオン、4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル−4−ビフェニリルフェニルスルホニウムイオン等のアリールスルホニウムイオン(特に、トリアリールスルホニウムイオン)が挙げられる。 Examples of the cation portion of the sulfonium salt-based compound include triphenylsulfonium ion, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium ion, tri-p-tolylsulfonium ion, and (4-hydroxyphenyl) methylbenzylsulfonium ion, 4 -(4-Bifenirylthio) phenyl-4-biphenylylphenylsulfonium ion and other aryl sulfonium ions (particularly, triarylsulfonium ions) can be mentioned.
上記アニオン部としては、例えば、[(X)sB(Phf)4-s]-(式中、Xはフェニル基又はビフェニリル基を示す。Phfは水素原子の少なくとも1つが、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルコキシ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも1種で置換されたフェニル基を示す。sは0〜3の整数である)、BF4 -、[(Rf)nPF6-n]-(Rf:水素原子の80%以上がフッ素原子で置換されたアルキル基、n:0〜5の整数)、AsF6 -、SbF6 -、ペンタフルオロヒドロキシアンチモネート等が挙げられる。 Examples of the anion portion include [(X) s B (Phf) 4-s ] - (in the formula, X represents a phenyl group or a biphenylyl group. Phf has at least one hydrogen atom of a perfluoroalkyl group. perfluoroalkoxy group, and .s indicating at least one substituted phenyl group selected from the group consisting of halogen atoms is an integer of 0~3), BF 4 -, [ (Rf) n PF 6- n] - (Rf: alkyl group in which at least 80% are substituted with fluorine atoms of the hydrogen atom, n: 0 to 5 integer), AsF 6 -, SbF 6 -, pentafluoro-hydroxy antimonate and the like.
上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、(4−ヒドロキシフェニル)メチルベンジルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル−4−ビフェニリルフェニルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、[4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル]−4−ビフェニリルフェニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル−4−ビフェニリルフェニルスルホニウム トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、[4−(2−チオキサントニルチオ)フェニル]フェニル−2−チオキサントニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、商品名「サイラキュアUVI−6970」、「サイラキュアUVI−6974」、「サイラキュアUVI−6990」、「サイラキュアUVI−950」(以上、米国ユニオンカーバイド社製)、「イルガキュア250」、「イルガキュア261」、「イルガキュア264」(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、「SP−150」、「SP−151」、「SP−170」、「オプトマーSP−171」(以上、(株)ADEKA製)、「CG−24−61」(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、「DAICAT II」((株)ダイセル製)、「UVAC1590」、「UVAC1591」(以上、ダイセル・サイテック(株)製)、「CI−2064」、「CI−2639」、「CI−2624」、「CI−2481」、「CI−2734」、「CI−2855」、「CI−2823」、「CI−2758」、「CIT−1682」(以上、日本曹達(株)製)、「PI−2074」(ローディア社製、テトラキス(ペンタフルオロフェニルボレート)トルイルクミルヨードニウム塩)、「FFC509」(3M社製)、「BBI−102」、「BBI−101」、「BBI−103」、「MPI−103」、「TPS−103」、「MDS−103」、「DTS−103」、「NAT−103」、「NDS−103」(以上、ミドリ化学(株)製)、「CD−1010」、「CD−1011」、「CD−1012」(以上、米国、Sartomer社製)、「CPI−100P」、「CPI−101A」、「CPI−200K」(以上、サンアプロ(株)製)等の市販品を使用できる。 Examples of the photocationic polymerization initiator include (4-hydroxyphenyl) methylbenzylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and 4- (4-biphenylylthio) phenyl-4-biphenylylphenylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl). ) Borate, 4- (Phenylthio) Phenyldiphenylsulfonium Phenyltris (Pentafluorophenyl) Borate, [4- (4-Bifenirylthio) Phenyl] -4-Bifenirylphenylsulfonium Phenyltris (Pentafluorophenyl) Borate, Diphenyl [ 4- (Phenylthio) phenyl] sulfonium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluorophosphate, 4- (4-Biphenylylthio) phenyl-4-biphenylylphenylsulfonium Tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate, bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide phenyltris (pentafluorophenyl) borate, [4 -(2-Thioxanthonylthio) phenyl] Phenyl-2-thioxanthonyl sulfonium Phenyltris (pentafluorophenyl) borate, trade names "Cyracure UVI-6970", "Cyracure UVI-6974", "Cyracure UVI-6990" , "Cyracure UVI-950" (above, manufactured by Union Carbide, USA), "Irgacure 250", "Irgacure 261", "Irgacure 264" (above, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), "SP-150", " "SP-151", "SP-170", "Optomer SP-171" (above, manufactured by ADEKA Co., Ltd.), "CG-24-61" (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), "DAICAT II" ((() (Manufactured by Daicel Co., Ltd.), "UVAC1590", "UVAC1591" (all manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.), "CI-2064", "CI-2339", "CI-2624", "CI-2481", " "CI-2734", "CI-2855", "CI-2823", "CI-2758", "CIT-1682" (all manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), "PI-" 2074 "(Rodia, tetrakis (pentafluorophenylbolate) toluyl cumyliodonium salt)," FFC509 "(3M)," BBI-102 "," BBI-101 "," BBI-103 "," MPI -103 "," TPS-103 "," MDS-103 "," DTS-103 "," NAT-103 "," NDS-103 "(all manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.)," CD-1010 ", Commercially available products such as "CD-1011", "CD-1012" (above, manufactured by Saltomer, USA), "CPI-100P", "CPI-101A", "CPI-200K" (above, manufactured by Sun Appro Co., Ltd.), etc. Goods can be used.
上記光重合開始剤は、1種のみを使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。その使用量(配合量)は、硬化性組成物に含まれる硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)100重量部に対して、0.01〜15重量部が好ましく、より好ましくは0.05〜10重量部、さらに好ましくは0.1〜5重量部である。光重合開始剤を上記範囲内で使用することにより、硬化性、耐熱性、耐光性、透明性、光学特性等に優れた樹脂成型品を得ることができる。 As the photopolymerization initiator, only one kind may be used, or two or more kinds may be used. The amount used (blended amount) is preferably 0.01 to 15 parts by weight, more preferably 0.05, based on 100 parts by weight of the curable compound (particularly, the cationically curable compound) contained in the curable composition. It is 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight. By using the photopolymerization initiator within the above range, a resin molded product having excellent curability, heat resistance, light resistance, transparency, optical properties and the like can be obtained.
上記硬化性組成物は、上記硬化性化合物、上記光重合開始剤、及び必要に応じて他の成分(例えば、溶剤、酸化防止剤、光増感剤、消泡剤、レベリング剤、カップリング剤、界面活性剤、難燃剤、紫外線吸収剤、着色剤等)を含有していてもよい。上記硬化性組成物として、例えば、商品名「CELVENUS OUH106」((株)ダイセル製)等の市販品を使用することもできる。 The curable composition comprises the curable compound, the photopolymerization initiator, and, if necessary, other components (eg, solvent, antioxidant, photosensitizer, defoaming agent, leveling agent, coupling agent). , Surfactant, flame retardant, ultraviolet absorber, colorant, etc.) may be contained. As the curable composition, for example, a commercially available product such as the trade name "CELVENUS OUH106" (manufactured by Daicel Corporation) can be used.
上記モールドは、樹脂成型品に所望の形状を付与するための、当該形状に対応する逆凹凸のパターン形状(所望の樹脂成型品の反転形状)が付与されている。上記モールドは、樹脂成型品を形成する硬化性組成物のモールドに対する接触角が50°以下であればよいが、樹脂製であることが好ましい。上記モールドを形成する樹脂としては、上記硬化性組成物の接触角、硬化後の樹脂成型品の剥離性等を考慮して選択され、例えば、シリコーン系樹脂(ジメチルポリシロキサン等)、フッ素系樹脂、ポリオレフィン系樹脂(ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ環状オレフィン等)、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂(ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリアミド系樹脂、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。上記樹脂としては、中でも、シリコーン系樹脂が好ましい。シリコーン系樹脂を用いると、エポキシ化合物を含む硬化性組成物との相性に優れ、上記接触角が小さくなりやすい傾向がある。また、樹脂成型品の離型性及びモールドの柔軟性にも優れるため、樹脂成型品をより容易に取り出すことができる。 The mold is provided with an inverted uneven pattern shape (inverted shape of the desired resin molded product) corresponding to the desired shape to give the resin molded product a desired shape. The mold may have a contact angle of 50 ° or less with respect to the mold of the curable composition forming the resin molded product, but is preferably made of resin. The resin forming the mold is selected in consideration of the contact angle of the curable composition, the peelability of the resin molded product after curing, and the like. For example, a silicone-based resin (dimethylpolysiloxane, etc.), a fluorine-based resin, etc. , Polyethylene resin (polyethylene, polypropylene, polycyclic olefin, etc.), polyether sulfone resin, polycarbonate resin, polyester resin (polyarylate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyamide resin, polymethyl methacrylate, etc. Can be mentioned. Among the above resins, silicone-based resins are preferable. When a silicone-based resin is used, it is excellent in compatibility with a curable composition containing an epoxy compound, and the contact angle tends to be small. In addition, since the resin molded product is excellent in releasability and mold flexibility, the resin molded product can be taken out more easily.
上記モールドは、パターン形状部表面に濡れ性改善処理が施されている。上記濡れ性改善処理としては、プラズマ放電処理、コロナ放電処理、オゾン暴露処理、エキシマ処理が好ましく、より好ましくはプラズマ放電処理、コロナ放電処理である。これらの濡れ性改善処理がモールドに施されていることにより、硬化性組成物の濡れ性が向上する。そして、上記接触角が50°以下である硬化性組成物を用いることと組み合わせることにより、硬化性組成物とモールドとのなじみやすさがよりいっそう向上し、モールドに形成された微細なパターン形状部の凹部先端に硬化性組成物が到達しやすく気泡の発生を抑制することができる。 In the above mold, the surface of the pattern shape portion is subjected to a wettability improving treatment. As the wettability improving treatment, plasma discharge treatment, corona discharge treatment, ozone exposure treatment, and excimer treatment are preferable, and plasma discharge treatment and corona discharge treatment are more preferable. By applying these wettability improving treatments to the mold, the wettability of the curable composition is improved. Then, by combining with the use of the curable composition having the contact angle of 50 ° or less, the compatibility between the curable composition and the mold is further improved, and the fine pattern shape portion formed on the mold is further improved. The curable composition easily reaches the tip of the concave portion of the above, and the generation of air bubbles can be suppressed.
プラズマ放電処理は、大気中で放電することによって活性化したプラスとマイナスの帯電粒子を発生させてモールド表面を加工する処理である。コロナ放電処理は、尖った電極(針電極)の周りに不均一な電界を生じさせ、持続的な放電を発生させることでモールド表面を加工する処理である。オゾン暴露処理は、例えば、酸素存在下で低圧水銀ランプ等を用いた紫外線照射によってオゾンを発生させてモールド表面を加工する処理である。エキシマ処理は、真空状態でエキシマランプを用いた紫外線照射やレーザー照射によってモールド表面を加工する処理である。 The plasma discharge process is a process of processing the mold surface by generating positive and negative charged particles activated by discharging in the atmosphere. The corona discharge process is a process of processing the mold surface by generating a non-uniform electric field around a sharp electrode (needle electrode) and generating a continuous discharge. The ozone exposure treatment is, for example, a treatment for processing the mold surface by generating ozone by irradiating ultraviolet rays using a low-pressure mercury lamp or the like in the presence of oxygen. The excimer treatment is a process of processing the mold surface by ultraviolet irradiation or laser irradiation using an excimer lamp in a vacuum state.
上記プラズマ放電処理又は上記コロナ放電処理において、特に限定されないが、放電量が50W・min/m2以上であることが好ましく、より好ましくは80W・min/m2以上である。放電量が50W・min/m2以上であると、上記硬化性組成物の濡れ性がより向上し、塗布後に気泡の発生がより起こりにくくなる。 In the plasma discharge treatment or the corona discharge treatment, the discharge amount is preferably 50 W · min / m 2 or more, and more preferably 80 W · min / m 2 or more, although it is not particularly limited. When the amount of discharge is 50 W · min / m 2 or more, the wettability of the curable composition is further improved, and the generation of bubbles is less likely to occur after coating.
上記モールドは、市販品を用いてもよいし、製造したものを用いてもよい。モールドを製造する場合、例えば、モールドを形成する樹脂組成物を成型(好ましくは、インプリント成型)し、熱硬化させ、その後モールドのパターン形状部表面に濡れ性改善処理を施すことにより製造することができる。樹脂組成物の成型には、凹凸形状を有する金型を使用することができ、例えば、下記(1)、(2)の方法で製造することができる。
(1)基板上に塗布した樹脂組成物の塗膜に対し、金型を押し付け、樹脂組成物の塗膜を硬化させたうえで、金型を剥離する方法
(2)金型に対し樹脂組成物を直接塗工し、その上から基板を密着させた後、樹脂組成物の塗膜を硬化させたうえで、金型を剥離する方法
As the mold, a commercially available product may be used, or a manufactured product may be used. When manufacturing a mold, for example, the resin composition forming the mold is molded (preferably imprinted), heat-cured, and then the surface of the pattern-shaped portion of the mold is subjected to a wettability improving treatment. Can be done. A mold having an uneven shape can be used for molding the resin composition, and for example, it can be produced by the methods (1) and (2) below.
(1) A method in which a mold is pressed against a coating film of a resin composition applied on a substrate to cure the coating film of the resin composition, and then the mold is peeled off. (2) The resin composition is applied to the mold. A method in which an object is directly coated, a substrate is brought into close contact with the object, the coating film of the resin composition is cured, and then the mold is peeled off.
上記モールドは、パターン形状部の少なくとも一部に離型剤が塗布されていてもよい。硬化性組成物の塗布前にモールドに離型剤が塗布されていると、形成された樹脂成型品をモールドから取り出す(離型する)際に容易に離型することができる。この場合、通常は離型層も同時にモールドから離型するため、得られる樹脂成型品は、表面に離型層を少なくとも1層有することとなる。 In the above mold, a mold release agent may be applied to at least a part of the pattern shape portion. If the mold release agent is applied to the mold before the curable composition is applied, the formed resin molded product can be easily released when it is taken out (removed) from the mold. In this case, since the release layer is usually released from the mold at the same time, the obtained resin molded product has at least one release layer on the surface.
上記離型剤としては、例えば、フッ素系離型剤、シリコーン系離型剤、ワックス系離型剤等が挙げられる。上記離型剤は、1種を使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。上記離型剤の塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、スクリーン印刷法等が挙げられる。 Examples of the release agent include a fluorine-based release agent, a silicone-based release agent, a wax-based release agent, and the like. As the release agent, one kind may be used, or two or more kinds may be used. Examples of the method for applying the release agent include a spray method, a spin coating method, and a screen printing method.
上記のように、上記硬化性組成物塗布工程では、表面に濡れ性改善処理を施されたパターン形状部に硬化性組成物が塗布(充填)されたモールドが得られる。 As described above, in the curable composition coating step, a mold is obtained in which the curable composition is coated (filled) on the pattern-shaped portion whose surface is subjected to the wettability improving treatment.
(脱泡工程)
本発明の製造方法は、上記硬化性組成物塗布工程後に、塗布された硬化性組成物中の気泡を脱泡する工程(脱泡工程)を有していてもよい。本発明の製造方法において上記硬化性組成物塗布工程では、硬化性組成物中の気泡の発生はかなり抑制されるが、上記脱泡工程により、わずかに発生した気泡を抜くことができる。
(Defoaming process)
The production method of the present invention may include a step (defoaming step) of defoaming bubbles in the applied curable composition after the curable composition coating step. In the production method of the present invention, the generation of air bubbles in the curable composition is considerably suppressed in the curable composition coating step, but the slightly generated air bubbles can be removed by the defoaming step.
上記脱泡は、公知乃至慣用の脱泡方法により行うことができ、減圧による脱泡(減圧脱泡、真空脱泡)が好ましい。上記減圧脱泡は、例えば、上記硬化性組成物が充填されたモールドを、圧力0.1〜20kPaの環境下に1〜10分間静置して行うことができる。 The defoaming can be performed by a known or conventional defoaming method, and defoaming by decompression (decompression defoaming, vacuum defoaming) is preferable. The decompression defoaming can be performed, for example, by allowing the mold filled with the curable composition to stand in an environment of a pressure of 0.1 to 20 kPa for 1 to 10 minutes.
(型閉じ工程)
上記硬化性組成物塗布工程(必要に応じて、脱泡工程)を経て得られた上記硬化性組成物が塗布(充填)されたモールドを、塗布された硬化性組成物を挟み込むように他の基板と重ね合わせる工程(型閉じ工程)を行う。すなわち、上記硬化性組成物が塗布されたモールドと上記他の基板とを、それぞれ、上型と下型として用い、硬化性組成物を挟み込むようにして上型及び下型の型閉じ工程を行う。この際、どちらが上型又は下型であってもよい。
(Mold closing process)
A mold to which the curable composition is applied (filled) obtained through the curable composition coating step (if necessary, a defoaming step) is sandwiched between the applied curable composition and another. Perform the process of stacking with the substrate (mold closing process). That is, the mold coated with the curable composition and the other substrate are used as the upper mold and the lower mold, respectively, and the mold closing steps of the upper mold and the lower mold are performed so as to sandwich the curable composition. .. At this time, whichever is the upper mold or the lower mold may be used.
上記他の基板としては、パターン形状部を有するモールド(上記硬化性組成物塗布工程において使用されたモールドとは異なる他のモールド)であってもよく、パターン形状部を有しない基板(平面基板)であってもよい。例えば、一方の面のみに凹凸形状を有する樹脂成型品を製造する場合は上記他の基板として上記平面基板を用いることができ、両面に凹凸形状を有する樹脂成型品を製造する場合は上記他の基板として上記他のモールドを用いることができる。 The other substrate may be a mold having a pattern-shaped portion (another mold different from the mold used in the above-mentioned curable composition coating step), and a substrate having no pattern-shaped portion (flat substrate). It may be. For example, when manufacturing a resin molded product having an uneven shape on only one surface, the flat substrate can be used as the other substrate, and when producing a resin molded product having an uneven shape on both sides, the above other substrate can be used. The other molds described above can be used as the substrate.
上記他のモールドとしては、上述の濡れ性改善処理を施されたモールドと同様のものを用いることができる。上記の2つのモールドは、異なる材料から形成されていてもよいし、同じ材料から形成されていてもよい。また、上記の2つのモールドは、同じパターン形状部を有していてもよいし、異なるパターン形状部を有していてもよい。 As the other mold, the same mold as the one subjected to the above-mentioned wettability improving treatment can be used. The above two molds may be made of different materials or may be made of the same material. Further, the above two molds may have the same pattern shape portion or may have different pattern shape portions.
上記平面基板としては、例えば、ガラス板;シリコン、ガリウム砒素、窒化ガリウム等の半導体;ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン等の樹脂基板;金属基板;これらの材料の組み合わせ等が挙げられる。上記平面基板は、微細配線、結晶構造、光導波路、ホログラフィ等の光学的構造等のパターン構造物を有していてもよい。 Examples of the flat substrate include a glass plate; a semiconductor such as silicon, gallium arsenide, and gallium nitride; a resin substrate such as polycarbonate, polypropylene, and polyethylene; a metal substrate; and a combination of these materials. The flat substrate may have a pattern structure such as a fine wiring, a crystal structure, an optical waveguide, and an optical structure such as holography.
上記他の基板には、硬化性組成物が塗布されていてもよいし、塗布されていなくてもよい。上記他の基板に硬化性組成物が塗布されている場合、表面に濡れ性改善処理を施されたパターン形状部を有するモールドを用いる上記硬化性組成物塗布工程(必要に応じて、脱泡工程)を経て硬化性組成物が塗布(充填)されたモールドを用いてもよい。従って、両面に凹凸形状を有する樹脂成型品を製造する場合、上記他の基板としてのモールドは、表面に濡れ性改善処理を施されたパターン形状部を有するモールドを用いる上記硬化性組成物塗布工程(必要に応じて、脱泡工程)を経て硬化性組成物が充填されたモールドを用いることが好ましい。上記他の基板として硬化性組成物が塗布された基板(特に、表面に濡れ性改善処理を施されたパターン形状部を有するモールドを用いた上記硬化性組成物塗布工程を経て硬化性組成物が塗布されたモールド)を用いる場合、上記型閉じ工程は、硬化性組成物同士が接触するように上型と下型とを重ね合わせる。 The curable composition may or may not be applied to the other substrate. When the curable composition is applied to the other substrate, the curable composition coating step (if necessary, a defoaming step) using a mold having a pattern-shaped portion whose surface has been subjected to a wettability improving treatment. ), And a mold coated (filled) with the curable composition may be used. Therefore, when a resin molded product having an uneven shape on both sides is manufactured, the mold as the other substrate is the above-mentioned curable composition coating step using a mold having a pattern-shaped portion whose surface is subjected to a wettability improving treatment. It is preferable to use a mold filled with the curable composition after undergoing (if necessary, a defoaming step). As the other substrate, the curable composition is coated on a substrate (particularly, the curable composition is subjected to the above-mentioned curable composition coating step using a mold having a pattern-shaped portion having a wettability improving treatment on the surface). When a coated mold) is used, the mold closing step superimposes the upper mold and the lower mold so that the curable compositions are in contact with each other.
(プレス工程)
本発明の製造方法は、上記型閉じ工程後、上型の上部からプレスする工程(プレス工程)を有していてもよい。これにより、得られる樹脂成型品の厚みバラツキを小さくすることができる。プレスする際の圧力は、例えば、0.01〜100MPaである。
(Press process)
The manufacturing method of the present invention may include a step (pressing step) of pressing from the upper part of the upper mold after the mold closing step. Thereby, the thickness variation of the obtained resin molded product can be reduced. The pressure at the time of pressing is, for example, 0.01 to 100 MPa.
(硬化工程)
上記硬化工程では、上記モールドに塗布(充填)された硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る。具体的には、上記硬化性組成物に含まれる硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)の重合反応を進行させることにより、該硬化性組成物を硬化させることができる。硬化の方法は、周知乃至慣用の方法より適宜選択でき、特に限定されないが、例えば、活性エネルギー線の照射、及び/又は、加熱する方法が挙げられる。上記活性エネルギー線としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線、X線、電子線、α線、β線、γ線等のいずれを使用することもできる。中でも、取り扱い性に優れる点で、紫外線が好ましい。
(Curing process)
In the curing step, the curable composition applied (filled) to the mold is cured to obtain a resin molded product. Specifically, the curable composition can be cured by advancing the polymerization reaction of the curable compound (particularly, the cationic curable compound) contained in the curable composition. The curing method can be appropriately selected from well-known or conventional methods, and is not particularly limited, and examples thereof include a method of irradiating with active energy rays and / or heating. As the active energy ray, for example, any of infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, X-rays, electron beams, α rays, β rays, γ rays and the like can be used. Of these, ultraviolet rays are preferable because they are easy to handle.
紫外線照射を行う際の光源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯等が用いられる。照射時間は、光源の種類、光源と塗布面との距離、その他の条件により異なるが、長くとも数十秒である。照度は、例えば5〜200mW程度である。活性エネルギー線照射後は、必要に応じて加熱(ポストキュア)を行って硬化の促進を図ってもよい。 As a light source for irradiating ultraviolet rays, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, or the like is used. The irradiation time varies depending on the type of light source, the distance between the light source and the coated surface, and other conditions, but is several tens of seconds at the longest. The illuminance is, for example, about 5 to 200 mW. After irradiation with active energy rays, heating (post-cure) may be performed as necessary to promote curing.
上記硬化工程を経て、硬化性組成物が硬化し、樹脂成型品を得ることができる。上記硬化工程後、上型と下型とを開き、モールドから樹脂成型品を取り出すことができる。 Through the above curing step, the curable composition is cured, and a resin molded product can be obtained. After the curing step, the upper mold and the lower mold can be opened, and the resin molded product can be taken out from the mold.
図1は、本発明の製造方法の一実施形態を示す工程図である。図1に示す本発明の製造方法は、表面に濡れ性改善処理を施されたパターン形状部を有するモールドの硬化性組成物未塗布部分に、上記濡れ性改善処理前の上記モールドに対する接触角が50°以下の硬化性組成物を塗布する硬化性組成物塗布工程S1、塗布された硬化性組成物中の気泡を脱泡する脱泡工程S2、上記硬化性組成物が塗布(充填)されたモールドを、塗布された硬化性組成物を挟み込むように他の基板と重ね合わせる型閉じ工程S3、上型の上部からプレスするプレス工程S4、及び上記モールドに塗布された上記硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る硬化工程S5を、この順に有する。 FIG. 1 is a process diagram showing an embodiment of the manufacturing method of the present invention. In the production method of the present invention shown in FIG. 1, a contact angle with respect to the mold before the wettability improving treatment is formed on a portion of a mold having a pattern-shaped portion whose surface has been subjected to a wettability improving treatment and which has not been coated with the curable composition. A curable composition coating step S1 for applying a curable composition having a temperature of 50 ° or less, a defoaming step S2 for defoaming bubbles in the applied curable composition, and the curable composition being coated (filled). The mold closing step S3 in which the mold is superposed on another substrate so as to sandwich the applied curable composition, the pressing step S4 in which the mold is pressed from the upper part of the upper mold, and the curable composition applied to the mold are cured. The curing step S5 for obtaining a resin molded product is provided in this order.
本発明の製造方法により得られる樹脂成型品は、例えば、レンズ、プリズム、LED、有機EL素子、半導体レーザー、トランジスタ、太陽電池、CCDイメージセンサ、光導波路、光ファイバー、代替ガラス(例えば、ディスプレイ用基板、ハードディスク基板、偏光フィルム)等の光学部品として好ましく使用することができる。 The resin molded product obtained by the manufacturing method of the present invention includes, for example, a lens, a prism, an LED, an organic EL element, a semiconductor laser, a transistor, a solar cell, a CCD image sensor, an optical waveguide, an optical fiber, and a substitute glass (for example, a substrate for a display). , Hard disk substrate, polarizing film) and the like.
上記光学部品として、例えばレンズを製造する際は、マイクロレンズアレイ[例えば、複数のマイクロレンズが縦横方向に、行列状に並置された形状を有する構造体]として得てもよい。即ち、上記モールドは、マイクロレンズアレイの形状に対応するパターン形状を有することが好ましい。 As the optical component, for example, when manufacturing a lens, it may be obtained as a microlens array [for example, a structure having a shape in which a plurality of microlenses are arranged in a matrix in the vertical and horizontal directions]. That is, it is preferable that the mold has a pattern shape corresponding to the shape of the microlens array.
光学部品のサイズとしては、例えば光学部品がマイクロレンズアレイの場合、マイクロレンズ1個のサイズは、直径が例えば0.01〜100mm程度、厚みが例えば0.1〜2.0mm程度である。また、マイクロレンズアレイにおけるピッチ幅は、例えば10〜1000μm程度である。 As for the size of the optical component, for example, when the optical component is a microlens array, the size of one microlens is, for example, about 0.01 to 100 mm in diameter and about 0.1 to 2.0 mm in thickness. The pitch width of the microlens array is, for example, about 10 to 1000 μm.
上記光学部品としては、特に、フレネルレンズアレイであることが好ましい。なお、フレネルレンズとは、図2に示すように、表面にレンズ面1と、該レンズ面と相対する非レンズ面2によって構成されるプリズムであって、断面が山形形状であるプリズムが複数個形成されているレンズである。レンズ面1と基準面3のなす角θは、中心に向かっていくに従い、連続的に角度が小さく(又は大きく)なっており、レンズ面1のみを連続すると、1つの凸レンズ(または凹レンズ)を形成する(図3参照)。フレネルレンズアレイを成型するためのモールドは図2及び3に示すように凹凸形状が細かいため、硬化性組成物の塗布時に特に気泡が発生しやすい。しかし、本発明の樹脂成型品の製造方法は、フレネルレンズアレイのような特に微細な凹凸形状を有する樹脂成型品を製造するためのモールドに対しても塗布時の気泡の発生を抑制することができる。
The optical component is particularly preferably a Fresnel lens array. As shown in FIG. 2, the Fresnel lens is a prism composed of a
上記フレネルレンズアレイにおける繰返し間隔(凸部最頂部間又は凹部最深部間の距離、つまりプリズム形状のピッチ幅)は、特に限定されないが、0.5mm以下が好ましく、より好ましくは0.2mm以下、さらに好ましくは0.1mm以下である。なお、下限は、例えば0.05mmである。上記繰返し間隔が狭いほど気泡発生の防止の難易度が高くなるが、本発明の樹脂成型品の製造方法によれば、このような繰返し間隔に対応するモールドに対しても塗布時の気泡の発生を抑制することができる。 The repetition interval (distance between the top of the convex portion or the deepest portion of the concave portion, that is, the pitch width of the prism shape) in the Fresnel lens array is not particularly limited, but is preferably 0.5 mm or less, more preferably 0.2 mm or less. More preferably, it is 0.1 mm or less. The lower limit is, for example, 0.05 mm. The narrower the repetition interval, the more difficult it is to prevent the generation of bubbles. However, according to the method for producing a resin molded product of the present invention, the generation of bubbles during coating even for a mold corresponding to such a repetition interval. Can be suppressed.
上記フレネルレンズアレイにおける先鋭度(凸部先端部R又は凹部谷部R、つまり尖り角度・切れ込み角度の鋭さ)は、特に限定されないが、R0.01mm以下が好ましく、より好ましくはR0.005mm以下、さらに好ましくはR0.001mm以下である。なお、下限は、例えば0.0005mmである。上記Rが小さいほど気泡発生の防止の難易度が高くなるが、本発明の樹脂成型品の製造方法によれば、このような先鋭度に対応するモールドに対しても塗布時の気泡の発生を抑制することができる。 The sharpness (the tip R of the convex portion or the valley R of the concave portion, that is, the sharpness of the sharpness angle / cutting angle) in the Fresnel lens array is not particularly limited, but is preferably R0.01 mm or less, more preferably R0.005 mm or less. More preferably, it is R0.001 mm or less. The lower limit is, for example, 0.0005 mm. The smaller the R, the more difficult it is to prevent the generation of bubbles. However, according to the method for producing a resin molded product of the present invention, the generation of bubbles during coating can be generated even in a mold corresponding to such sharpness. It can be suppressed.
上記フレネルレンズアレイにおける高さ間隔(凸部最頂部と凹部最深部の高低差)は、特に限定されないが、0.05mm以上が好ましく、より好ましくは0.5mm以上、さらに好ましくは5mm以上である。上限は、例えば10mmである。上記高さ間隔が高いほど気泡発生の防止の難易度が高くなるが、本発明の樹脂成型品の製造方法によれば、このような高さ間隔に対応するモールドに対しても塗布時の気泡の発生を抑制することができる。 The height interval (height difference between the top of the convex portion and the deepest portion of the concave portion) in the Fresnel lens array is not particularly limited, but is preferably 0.05 mm or more, more preferably 0.5 mm or more, still more preferably 5 mm or more. .. The upper limit is, for example, 10 mm. The higher the height interval, the more difficult it is to prevent the generation of air bubbles. However, according to the method for producing a resin molded product of the present invention, air bubbles at the time of coating can be applied to a mold corresponding to such a height interval. Can be suppressed.
S1 硬化性組成物塗布工程
S2 脱泡工程
S3 型閉じ工程
S4 プレス工程
S5 硬化工程
S1 Curable composition coating process S2 Defoaming process S3 Mold closing process S4 Pressing process S5 Curing process
Claims (7)
前記硬化性組成物が、エポキシ化合物を含有する硬化性組成物であり、
前記モールドが、シリコーン系樹脂製のモールドであり、
前記濡れ性改善処理が、プラズマ放電処理、コロナ放電処理、オゾン暴露処理、及びエキシマ処理からなる群より選択される1以上の処理である、樹脂成型品の製造方法。 A method of manufacturing a resin molded product by imprint molding, in which the mold before the wettability improving treatment is applied to a portion of a mold having a pattern-shaped portion whose surface has been subjected to a wettability improving treatment. Resin molding, which comprises a curable composition coating step of applying a curable composition having a contact angle of 50 ° or less with respect to the mold, and a curing step of curing the curable composition applied to the mold to obtain a resin molded product. It is a manufacturing method of goods
The curable composition is a curable composition containing an epoxy compound.
The mold is a silicone-based resin mold.
A method for producing a resin molded product, wherein the wettability improving treatment is one or more treatments selected from the group consisting of plasma discharge treatment, corona discharge treatment, ozone exposure treatment, and excimer treatment.
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