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JP6940581B2 - Polyimide film - Google Patents
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Description

本発明は、ポリイミド系フィルムに関する。 The present invention relates to a polyimide-based film.

従来、太陽電池やディスプレイ等の各種表示部材の基材及び前面板等の透明部材の材料として、ガラスが用いられてきた。しかしながら、ガラスは、割れやすい、重いとった欠点があった。また、近年のディスプレイの薄型化および軽量化や、フレキシブル化に関して、充分な材質を有していなかった。そのため、ガラスに代わるフレキシブルデバイスの透明部材として、ポリイミド系フィルムが検討されている(例えば、特許文献1、2参照)。 Conventionally, glass has been used as a material for a base material of various display members such as a solar cell and a display and a transparent member such as a front plate. However, glass has the drawback of being fragile and heavy. Further, in recent years, the display has not had a sufficient material in terms of thinning and weight reduction and flexibility. Therefore, a polyimide-based film has been studied as a transparent member of a flexible device instead of glass (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

米国特許第8207256号明細書U.S. Pat. No. 8,207,256 特開2008−163309号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-163309

しかしながら、従来のポリイミド系フィルムは、屈曲性が十分ではなかった。 However, the conventional polyimide-based film has not been sufficiently flexible.

本発明に係るポリイミド系フィルムは、以下の条件(I)を満たす。
条件(I):ポリイミド系フィルムの、波数q(単位:Å−1)と散乱強度Iとの両対数プロットで表される小角X線散乱プロファイルI(q)において、q=0.003における接線を接線F(q)としたとき、0.003<q≦0.018において、I(q)/F(q)の最大値が1.5を超える。
The polyimide film according to the present invention satisfies the following condition (I).
Condition (I): Tangent line at q = 0.003 in the small-angle X-ray scattering profile I (q) represented by a log-log plot of the wave number q (unit: Å -1) and the scattering intensity I of the polyimide film. Is the tangent line F (q), and the maximum value of I (q) / F (q) exceeds 1.5 at 0.003 <q ≦ 0.018.

ここで、上記フィルムは、黄色度YIが10以下であることが好ましい。 Here, the film preferably has a yellowness YI of 10 or less.

また、上記フィルムは、Hazeが1%以下であることが好ましい。また、上記フィルムは、550nmにおける全光線透過率が85%以上であることが好ましい。 Further, the film preferably has a Haze of 1% or less. Further, the film preferably has a total light transmittance of 85% or more at 550 nm.

また、上記フィルムはシリカ粒子を含むことができる。 In addition, the film may contain silica particles.

本発明のポリイミド系フィルムは、良好な屈曲性を有する。 The polyimide film of the present invention has good flexibility.

小角X線プロファイルの例を示す概念図であり、縦軸及び横軸の両方ともに対数プロットである。It is a conceptual diagram which shows an example of a small angle X-ray profile, and is a logarithmic plot on both the vertical axis and the horizontal axis.

(ポリイミド系フィルム)
本実施形態に係るポリイミド系フィルムは、以下の条件(I)を満たす。
条件(I):ポリイミド系フィルムの、波数q(単位:Å−1)と散乱強度Iとの両対数プロットで表される小角X線散乱プロファイルI(q)において、q=0.003における接線を接線F(q)としたとき、0.003<q≦0.018において、I(q)/F(q)の最大値が1.5を超える。
(Polyimide film)
The polyimide film according to this embodiment satisfies the following condition (I).
Condition (I): Tangent line at q = 0.003 in the small-angle X-ray scattering profile I (q) represented by a log-log plot of the wave number q (unit: Å -1) and the scattering intensity I of the polyimide film. Is the tangent line F (q), and the maximum value of I (q) / F (q) exceeds 1.5 at 0.003 <q ≦ 0.018.

小角X線散乱プロファイルは、小角X線散乱測定により求められる。
小角X線散乱プロファイルとは、X線をフィルムに入射し、フィルムを構成する原子により散乱される散乱X線のうち、散乱角2θが10°未満の散乱強度の波数依存性を表す。小角X線散乱プロファイルは、通常、角度θでなく、波数(散乱ベクトルの絶対値)qに対する散乱強度Iで表される。波数qは(4π/λ)sinθから計算され、λはX線の波長を表す。X線の波長としては、0.1〜3Åが挙げられる。また、散乱角2θは5°以下であることが好ましい。
このようなX線は、SPring−8、PFリングなどで利用でき、放射光X線を用いることにより短時間で十分な強度の小角X線散乱プロファイルが得られる。
The small-angle X-ray scattering profile is obtained by small-angle X-ray scattering measurement.
The small-angle X-ray scattering profile represents the wavenumber dependence of the scattering intensity at which the scattering angle 2θ is less than 10 ° among the scattered X-rays scattered by the atoms constituting the film when the X-rays are incident on the film. The small-angle X-ray scattering profile is usually expressed not by the angle θ but by the scattering intensity I with respect to the wave number (absolute value of the scattering vector) q. The wave number q is calculated from (4π / λ) sin θ, where λ represents the wavelength of the X-ray. The wavelength of the X-ray is 0.1 to 3 Å. Further, the scattering angle 2θ is preferably 5 ° or less.
Such X-rays can be used in SPring-8, PF rings, etc., and by using synchrotron radiation X-rays, a small-angle X-ray scattering profile having sufficient intensity can be obtained in a short time.

図1に小角X線プロファイルの例を示す。図1を参照して、各プロファイルa〜cは、波数q=0.003Å−1の点で接線F(q)を有する。波長の範囲0.003<q≦0.018におけるI(q)/F(q)の最大値は、前記範囲においてF(q)の値とI(q)の値とがもっとも離れた位置qの値から算出される。ポリイミド系フィルムの小角X線プロファイルは、プロファイルaのようにピークが0.003<q≦0.018の範囲になくてもよく、プロファイルbのようにピークが0.003<q≦0.018の範囲にあってもよい。プロファイルaのようにピークが上記の範囲にない場合は、上記範囲におけるI(q)/F(q)の最大値を算出すればよい。また、ポリイミド系フィルムの小角X線プロファイルにおいて、プロファイルcのように接線F(q)は傾きを持つこともできる。
0.003<q≦0.018におけるI(q)/F(q)の最大値は、1.5より大きく、好ましくは、1.8より大きい、より好ましくは2.2より大きい。0.003<q≦0.018におけるI(q)/F(q)の最大値の上限は、10であることができ、8であってもよい。ポリイミド系フィルムの小角X線プロファイルで、上記の条件を満たすものが本実施形態に係るポリイミド系フィルムに該当する。
FIG. 1 shows an example of a small-angle X-ray profile. With reference to FIG. 1, each profile a to c has a tangent F (q) at a point of wavenumber q = 0.003 Å -1. The maximum value of I (q) / F (q) in the wavelength range 0.003 <q ≦ 0.018 is the position q where the value of F (q) and the value of I (q) are farthest in the above range. It is calculated from the value of a. The small-angle X-ray profile of the polyimide film does not have to have a peak in the range of 0.003 <q ≦ 0.018 as in profile a, and has a peak of 0.003 <q ≦ 0.018 as in profile b. It may be in the range of. When the peak is not in the above range as in profile a, the maximum value of I (q) / F (q) in the above range may be calculated. Further, in the small-angle X-ray profile of the polyimide-based film, the tangent line F (q) can have an inclination like the profile c.
The maximum value of I (q) / F (q) in 0.003 <q ≦ 0.018 is greater than 1.5, preferably greater than 1.8, more preferably greater than 2.2. The upper limit of the maximum value of I (q) / F (q) in 0.003 <q ≦ 0.018 can be 10, and may be 8. A small-angle X-ray profile of a polyimide film that satisfies the above conditions corresponds to the polyimide film according to the present embodiment.

(ポリイミド系高分子)
ポリイミド系フィルムは、ポリイミド系高分子を含む。本明細書において、ポリイミド系高分子とは、式(PI)、式(a)、式(a’)又は式(b)で表される繰り返し構造単位を少なくとも1種以上含む重合体を意味する。なかでも、式(PI)で表される繰り返し構造単位が、ポリイミド系高分子の主な構造単位であると、フィルムの強度及び透明性の観点で好ましい。式(PI)で表される繰り返し構造単位は、ポリイミド系高分子の全繰り返し構造単位に対し、好ましくは40モル%以上であり、より好ましくは50モル%以上であり、さらに好ましくは70モル%以上であり、殊更好ましくは90モル%以上であり、殊更さらに好ましくは98モル%である。
(Polyimide-based polymer)
The polyimide-based film contains a polyimide-based polymer. In the present specification, the polyimide-based polymer means a polymer containing at least one type of repeating structural unit represented by the formula (PI), the formula (a), the formula (a') or the formula (b). .. Among them, it is preferable that the repeating structural unit represented by the formula (PI) is the main structural unit of the polyimide-based polymer from the viewpoint of film strength and transparency. The repeating structural unit represented by the formula (PI) is preferably 40 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, still more preferably 70 mol%, based on all the repeating structural units of the polyimide polymer. The above is more preferably 90 mol% or more, and even more preferably 98 mol%.

Figure 0006940581
Figure 0006940581

式(PI)中のGは4価の有機基を表し、Aは2価の有機基を表す。式(a)中のGは3価の有機基を表し、Aは2価の有機基を表す。式(a’)中のGは4価の有機基を表し、Aは2価の有機基を表す。式(b)中のG及びAは、それぞれ2価の有機基を表す。 G in the formula (PI) represents a tetravalent organic group, and A represents a divalent organic group. G 2 in the formula (a) represents a trivalent organic group, and A 2 represents a divalent organic group. G 3 in the formula (a') represents a tetravalent organic group, and A 3 represents a divalent organic group. G 4 and A 4 in the formula (b) represents each a divalent organic group.

式(PI)中、Gで表される4価の有機基の有機基(以下、Gの有機基ということがある)は、非環式脂肪族基、環式脂肪族基及び芳香族基からなる群から選ばれる基が挙げられる。ポリイミド系フィルムの透明性及び屈曲性の観点から、Gの有機基は、環式脂肪族基及び芳香族基であることが好ましい。芳香族基としては、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、および、芳香族基が直接または結合基により相互に連結された非縮合多環式芳香族基等が挙げられる。樹脂フィルムの透明性及び着色の抑制の観点から、Gの有機基は、フッ素系置換基を有する環式脂肪族基、フッ素系置換基を有する単環式芳香族基、フッ素系置換基を有する縮合多環式芳香族基又はフッ素系置換基を有する非縮合多環式芳香族基であることが好ましい。本明細書においてフッ素系置換基とは、フッ素原子を含む基を意味する。フッ素系置換基は、好ましくはフルオロ基(フッ素原子,−F)およびパーフルオロアルキル基であり、さらに好ましくはフルオロ基及びトリフルオロメチル基である。 In the formula (PI), the organic group of the tetravalent organic group represented by G (hereinafter, may be referred to as the organic group of G) is derived from an acyclic aliphatic group, a cyclic aliphatic group and an aromatic group. There are groups selected from the group. From the viewpoint of transparency and flexibility of the polyimide film, the organic group of G is preferably a cyclic aliphatic group or an aromatic group. Examples of the aromatic group include a monocyclic aromatic group, a condensed polycyclic aromatic group, and a non-condensed polycyclic aromatic group in which aromatic groups are directly linked to each other or by a bonding group. From the viewpoint of transparency and suppression of coloring of the resin film, the organic group of G has a cyclic aliphatic group having a fluorine-based substituent, a monocyclic aromatic group having a fluorine-based substituent, and a fluorine-based substituent. It is preferably a non-condensable polycyclic aromatic group having a fused polycyclic aromatic group or a fluorine-based substituent. In the present specification, the fluorine-based substituent means a group containing a fluorine atom. The fluorine-based substituent is preferably a fluoro group (fluorine atom, −F) and a perfluoroalkyl group, and more preferably a fluoro group and a trifluoromethyl group.

より具体的には、Gの有機基は、例えば、飽和又は不飽和シクロアルキル基、飽和又は不飽和へテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、ヘテロアルキルアリール基、及びこれらのうちの任意の2つの基(同一でもよい)を有しこれらが直接又は結合基により相互に連結された基から選ばれる。結合基としては、−O−、炭素数1〜10のアルキレン基、−SO−、−CO−又は−CO−NR−(Rは、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基又は水素原子を表す)が挙げられる。 More specifically, the organic group of G is, for example, a saturated or unsaturated cycloalkyl group, a saturated or unsaturated heterocycloalkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an arylalkyl group, an alkylaryl group, a heteroalkylaryl. It is selected from groups that have a group and any two of these (which may be the same) and which are linked to each other either directly or by a linking group. Examples of the bonding group include -O-, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, -SO 2- , -CO- or -CO-NR- (R is a methyl group, an ethyl group, a propyl group and the like having 1 to 1 carbon atoms. (Representing an alkyl group of 3 or a hydrogen atom).

Gで表される4価の有機基の炭素数は通常2〜32であり、好ましくは4〜15であり、より好ましくは5〜10であり、さらに好ましくは6〜8である。Gの有機基が環式脂肪族基又は芳香族基である場合、これらの基を構成する炭素原子のうちの少なくとも1つがヘテロ原子で置き換えられていてもよい。ヘテロ原子としては、O、N又はSが挙げられる。 The tetravalent organic group represented by G usually has 2 to 32 carbon atoms, preferably 4 to 15 carbon atoms, more preferably 5 to 10 carbon atoms, and further preferably 6 to 8 carbon atoms. When the organic group of G is a cyclic aliphatic group or an aromatic group, at least one of the carbon atoms constituting these groups may be replaced with a heteroatom. Heteroatoms include O, N or S.

Gの具体例としては、以下の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)又は式(26)で表される基が挙げられる。式中の*は結合手を示す。式(26)中のZは、単結合、−O−、−CH−、−C(CH−、−Ar−O−Ar−、−Ar−CH−Ar−、−Ar−C(CH−Ar−又は−Ar−SO−Ar−を表す。Arは炭素数6〜20のアリール基を表し、例えばフェニレン基が挙げられる。これらの基の水素原子のうち少なくとも1つが、フッ素系置換基で置換されていてもよい。 Specific examples of G include groups represented by the following formulas (20), formulas (21), formulas (22), formulas (23), formulas (24), formulas (25) or formulas (26). Be done. * In the formula indicates a bond. Z in formula (26) is a single bond, -O-, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -Ar-O-Ar-, -Ar -CH 2-Ar-, -Ar- Represents C (CH 3 ) 2- Ar- or -Ar-SO 2- Ar-. Ar represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenylene group. At least one of the hydrogen atoms of these groups may be substituted with a fluorine-based substituent.

Figure 0006940581
Figure 0006940581

式(PI)中、Aで表される2価の有機基の有機基(以下、Aの有機基ということがある)は、非環式脂肪族基、環式脂肪族基及び芳香族基からなる群から選択される基が挙げられる。Aで表される2価の有機基は、環式脂肪族基及び芳香族基であることが好ましい。芳香族基としては、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、および2以上の芳香族環を有しそれらが直接または結合基により相互に連結された非縮合多環式芳香族基が挙げられる。樹脂フィルムの透明性及び着色の抑制の観点から、Aの有機基には、フッ素系置換基が導入されていることが好ましい。 In the formula (PI), the organic group of the divalent organic group represented by A (hereinafter, may be referred to as the organic group of A) is derived from an acyclic aliphatic group, a cyclic aliphatic group and an aromatic group. A group selected from the group of The divalent organic group represented by A is preferably a cyclic aliphatic group or an aromatic group. Aromatic groups include monocyclic aromatic groups, fused polycyclic aromatic groups, and non-condensed polycyclic aromatics having two or more aromatic rings and linked to each other directly or by a bonding group. The group is mentioned. From the viewpoint of transparency and suppression of coloring of the resin film, it is preferable that a fluorine-based substituent is introduced into the organic group of A.

より具体的には、Aの有機基は、例えば、飽和又は不飽和シクロアルキル基、飽和又は不飽和へテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、ヘテロアルキルアリール基、及び、これらの内の任意の2つの基(同一でもよい)を有しそれらが直接又は結合基により相互に連結された基から選ばれる。ヘテロ原子としては、O、N又はSが挙げられ、結合基としては、−O−、炭素数1〜10のアルキレン基、−SO−、−CO−又は−CO−NR−(Rはメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基又は水素原子を含む)が挙げられる。 More specifically, the organic group of A is, for example, a saturated or unsaturated cycloalkyl group, a saturated or unsaturated heterocycloalkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an arylalkyl group, an alkylaryl group, a heteroalkylaryl. It is selected from a group and a group having any two of these (which may be the same) and those linked to each other directly or by a binding group. Examples of the hetero atom include O, N or S, and examples of the bonding group include -O-, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, -SO 2- , -CO- or -CO-NR- (R is methyl). (Including an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as a group, an ethyl group, a propyl group, or a hydrogen atom).

Aで表される2価の有機基の炭素数は、通常2〜40であり、好ましくは5〜32であり、より好ましくは12〜28であり、さらに好ましくは24〜27である。 The divalent organic group represented by A has usually 2 to 40 carbon atoms, preferably 5 to 32 carbon atoms, more preferably 12 to 28 carbon atoms, and further preferably 24 to 27 carbon atoms.

Aの具体例としては、以下の式(30)、式(31)、式(32)、式(33)又は式(34)で表される基が挙げられる。式中の*は結合手を示す。Z〜Zは、それぞれ独立して、単結合、−O−、−CH−、−C(CH−、−SO−、−CO−又は―CO―NR−(Rはメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基又は水素原子を表す)を表す。下記の基において、ZとZ、及び、ZとZは、それぞれ、各環に対してメタ位又はパラ位にあることが好ましい。また、Zと末端の単結合、Zと末端の単結合、及び、Zと末端の単結合とは、それぞれメタ位又はパラ位にあることが好ましい。Aの1つの例は、Z及びZが−O−であり、かつ、Zが−CH−、−C(CH−又は−SO−である。これらの基の水素原子の1つ又は2つ以上が、フッ素系置換基で置換されていてもよい。 Specific examples of A include a group represented by the following formula (30), formula (31), formula (32), formula (33) or formula (34). * In the formula indicates a bond. Z 1 to Z 3 are independently single-bonded, -O-, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -SO 2- , -CO- or -CO-NR- (R is Represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, or a hydrogen atom). In the following groups, Z 1 and Z 2 and Z 2 and Z 3 are preferably in the meta or para position with respect to each ring, respectively. Further, it is preferable that the single bond between Z 1 and the terminal, the single bond between Z 2 and the terminal, and the single bond between Z 3 and the terminal are in the meta position or the para position, respectively. One example of A is that Z 1 and Z 3 are -O- and Z 2 is -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- or -SO 2- . One or more of the hydrogen atoms of these groups may be substituted with fluorine-based substituents.

Figure 0006940581
Figure 0006940581

A及びGの少なくとも一方は、これらを構成する水素原子のうちの少なくとも1つの水素原子が、フッ素系置換基、水酸基、スルホン基及び炭素数1〜10のアルキル基等からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基で置換されていてもよい。また、Aの有機基及びGの有機基がそれぞれ環式脂肪族基又は芳香族基である場合に、A及びGの少なくとも一方がフッ素系置換基を有することが好ましく、A及びGの両方がフッ素系置換基を有することがより好ましい。 At least one of A and G has at least one hydrogen atom selected from the group consisting of a fluorine-based substituent, a hydroxyl group, a sulfone group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the like. It may be substituted with one kind of functional group. Further, when the organic group of A and the organic group of G are cyclic aliphatic groups or aromatic groups, respectively, it is preferable that at least one of A and G has a fluorine-based substituent, and both A and G have a fluorine-based substituent. It is more preferable to have a fluorine-based substituent.

式(a)中のGは、3価の有機基である。この有機基は、3価の基である点以外は、式(PI)中のGの有機基と同様の基から選択することができる。Gの例としては、Gの具体例として挙げられた式(20)〜式(26)で表される基の4つの結合手のうちいずれか1つが水素原子に置き換わった基を挙げることができる。式(a)中のAは式(PI)中のAと同様の基から選択することができる。 G 2 in the formula (a) is a trivalent organic group. This organic group can be selected from the same groups as the organic group of G in the formula (PI) except that it is a trivalent group. As an example of G 2 , a group in which any one of the four bonds of the groups represented by the formulas (20) to (26) given as a specific example of G is replaced with a hydrogen atom can be mentioned. can. A 2 in formula (a) can be selected from the same groups as A in formula (PI).

式(a’)中のGは、式(PI)中のGと同様の基から選択することができる。式(a’)中のAは、式(PI)中のAと同様の基から選択することができる。 G 3 in formula (a') can be selected from the same groups as G in formula (PI). A 3 in formula (a') can be selected from the same groups as A in formula (PI).

式(b)中のGは、2価の有機基である。この有機基は、2価の基である点以外は、式(PI)中のGの有機基と同様の基から選択することができる。Gの例としては、Gの具体例として挙げられた式(20)〜式(26)で表される基における4つの結合手のうちいずれか2つが水素原子に置き換わった基を挙げることができる。式(b)中のAは、式(PI)中のAと同様の基から選択することができる。 G 4 in formula (b) is a divalent organic group. This organic group can be selected from the same groups as the organic group of G in the formula (PI) except that it is a divalent group. An example of G 4 is a group in which any two of the four bonds in the groups represented by the formulas (20) to (26) given as specific examples of G are replaced with hydrogen atoms. can. A 4 in the formula (b) may be selected from the same groups as A in the formula (PI).

ポリイミド系フィルムに含まれるポリイミド系高分子は、ジアミン類と、テトラカルボン酸化合物(酸クロライド化合物およびテトラカルボン酸二無水物などのテトラカルボン酸化合物類縁体を含む)又はトリカルボン酸化合物(酸クロライド化合物およびトリカルボン酸無水物などのトリカルボン酸化合物類縁体を含む)の少なくとも1種類とを重縮合することにより得られる縮合型高分子であってもよい。さらにジカルボン酸化合物(酸クロライド化合物などの類縁体を含む)を重縮合させてもよい。式(PI)又は式(a’)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン類及びテトラカルボン酸化合物から誘導される。式(a)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン類及びトリカルボン酸化合物から誘導される。式(b)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン類及びジカルボン酸化合物から誘導される。 The polyimide polymer contained in the polyimide film includes diamines and tetracarboxylic acid compounds (including acid chloride compounds and tetracarboxylic acid compound analogs such as tetracarboxylic acid dianhydride) or tricarboxylic acid compounds (acid chloride compounds). It may be a condensed polymer obtained by polycondensing with at least one of (including a tricarboxylic acid compound analog such as tricarboxylic acid anhydride). Further, a dicarboxylic acid compound (including an analog such as an acid chloride compound) may be polycondensed. The repeating structural unit represented by the formula (PI) or the formula (a') is usually derived from diamines and tetracarboxylic acid compounds. The repeating structural unit represented by the formula (a) is usually derived from diamines and tricarboxylic acid compounds. The repeating structural unit represented by the formula (b) is usually derived from diamines and dicarboxylic acid compounds.

テトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸化合物、脂環式テトラカルボン酸化合物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸化合物が挙げられる。これらは、2種以上併用してもよい。テトラカルボン酸化合物は、好ましくはテトラカルボン酸二無水物である。テトラカルボン酸二無水物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。 Examples of the tetracarboxylic acid compound include an aromatic tetracarboxylic acid compound, an alicyclic tetracarboxylic acid compound and an acyclic aliphatic tetracarboxylic acid compound. These may be used in combination of two or more. The tetracarboxylic acid compound is preferably a tetracarboxylic dianhydride. Examples of the tetracarboxylic acid dianhydride include aromatic tetracarboxylic acid dianhydride, alicyclic tetracarboxylic acid dianhydride, and acyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride.

ポリイミド系高分子の溶媒に対する溶解性、及びポリイミド系フィルムを形成した場合の透明性及び屈曲性の観点から、テトラカルボン酸化合物は、脂環式テトラカルボン化合物及び芳香族テトラカルボン酸化合物等であることが好ましい。樹脂フィルムの透明性及び着色の抑制の観点から、テトラカルボン酸化合物は、フッ素系置換基を有する脂環式テトラカルボン酸化合物及びフッ素系置換基を有する芳香族テトラカルボン酸化合物であることが好ましく、フッ素系置換基を有する脂環式テトラカルボン酸化合物であることがより好ましい。 From the viewpoint of solubility of the polyimide-based polymer in a solvent and transparency and flexibility when a polyimide-based film is formed, the tetracarboxylic acid compound is an alicyclic tetracarboxylic compound, an aromatic tetracarboxylic acid compound, or the like. Is preferable. From the viewpoint of transparency and suppression of coloring of the resin film, the tetracarboxylic acid compound is preferably an alicyclic tetracarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent and an aromatic tetracarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent. , It is more preferable that it is an alicyclic tetracarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent.

トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂環式トリカルボン酸、非環式脂肪族トリカルボン酸およびそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられる。トリカルボン酸化合物は、好ましくは芳香族トリカルボン酸、脂環式トリカルボン酸、非環式脂肪族トリカルボン酸およびそれらの類縁の酸クロライド化合物である。トリカルボン酸化合物は、2種以上併用してもよい。 Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, alicyclic tricarboxylic acids, acyclic aliphatic tricarboxylic acids and their related acid chloride compounds, acid anhydrides and the like. The tricarboxylic acid compound is preferably an aromatic tricarboxylic acid, an alicyclic tricarboxylic acid, an acyclic aliphatic tricarboxylic acid and an acid chloride compound related thereto. Two or more kinds of tricarboxylic acid compounds may be used in combination.

ポリイミド系高分子の溶媒に対する溶解性、及びポリイミド系フィルムを形成した場合の透明性及び屈曲性の観点から、トリカルボン酸化合物は、脂環式トリカルボン酸化合物及び芳香族トリカルボン酸化合物であることが好ましい。樹脂フィルムの透明性及び着色の抑制の観点から、トリカルボン酸化合物は、フッ素系置換基を有する脂環式トリカルボン酸化合物及びフッ素系置換基を有する芳香族トリカルボン酸化合物であることが好ましい。 From the viewpoint of solubility of the polyimide polymer in a solvent and transparency and flexibility when a polyimide film is formed, the tricarboxylic acid compound is preferably an alicyclic tricarboxylic acid compound and an aromatic tricarboxylic acid compound. .. From the viewpoint of transparency and suppression of coloring of the resin film, the tricarboxylic acid compound is preferably an alicyclic tricarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent and an aromatic tricarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent.

ジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸、非環式脂肪族ジカルボン酸およびそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられる。ジカルボン酸化合物は、好ましくは芳香族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸、非環式脂肪族ジカルボン酸およびそれらの類縁の酸クロライド化合物である。ジカルボン酸化合物は、2種以上を併用してもよい。 Examples of the dicarboxylic acid compound include aromatic dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, acyclic aliphatic dicarboxylic acids and their related acid chloride compounds, acid anhydrides and the like. The dicarboxylic acid compound is preferably an aromatic dicarboxylic acid, an alicyclic dicarboxylic acid, an acyclic aliphatic dicarboxylic acid and an acid chloride compound related thereto. Two or more kinds of dicarboxylic acid compounds may be used in combination.

ポリイミド系高分子の溶媒に対する溶解性、及びポリイミド系フィルムを形成した場合の透明性及び屈曲性の観点から、ジカルボン酸化合物は、脂環式ジカルボン酸化合物又は芳香族ジカルボン酸化合物であることが好ましい。樹脂フィルムの透明性及び着色の抑制の観点から、ジカルボン酸化合物は、フッ素系置換基を有する脂環式ジカルボン酸化合物及びフッ素系置換基を有する芳香族ジカルボン酸化合物であることが好ましい。 The dicarboxylic acid compound is preferably an alicyclic dicarboxylic acid compound or an aromatic dicarboxylic acid compound from the viewpoint of solubility of the polyimide-based polymer in a solvent and transparency and flexibility when a polyimide-based film is formed. .. From the viewpoint of transparency and suppression of coloring of the resin film, the dicarboxylic acid compound is preferably an alicyclic dicarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent and an aromatic dicarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent.

ジアミン類としては、芳香族ジアミン、脂環式ジアミン及び脂肪族ジアミンが挙げられる。ジアミン類は、これらを2種以上併用してもよい。ポリイミド系高分子の溶媒に対する溶解性、及びポリイミド系フィルムを形成した場合の透明性及び屈曲性の観点から、ジアミン類は、脂環式ジアミン又はフッ素系置換基を有する芳香族ジアミンであることが好ましい。 Examples of diamines include aromatic diamines, alicyclic diamines and aliphatic diamines. Two or more kinds of diamines may be used in combination. From the viewpoint of the solubility of the polyimide polymer in the solvent and the transparency and flexibility when the polyimide film is formed, the diamines may be an alicyclic diamine or an aromatic diamine having a fluorine-based substituent. preferable.

ポリイミド系高分子は、異なる種類の複数の上記の繰り返し構造単位を含む共重合体でもよい。ポリイミド系高分子の重量平均分子量は、通常10,000〜500,000である。ポリイミド系高分子の重量平均分子量は、好ましくは、50,000〜500,000であり、さらに好ましくは70,000〜400,000である。重量平均分子量は、GPCで測定した標準ポリスチレン換算分子量である。ポリイミド系高分子の重量平均分子量が大きいと高い屈曲性を得られやすい傾向があるが、ポリイミド系高分子の重量平均分子量が大きすぎると、ワニスの粘度が高くなり、加工性が低下する傾向がある。 The polyimide-based polymer may be a copolymer containing a plurality of the above-mentioned repeating structural units of different types. The weight average molecular weight of the polyimide polymer is usually 10,000 to 500,000. The weight average molecular weight of the polyimide polymer is preferably 50,000 to 500,000, more preferably 70,000 to 400,000. The weight average molecular weight is a standard polystyrene-equivalent molecular weight measured by GPC. If the weight average molecular weight of the polyimide polymer is large, high flexibility tends to be obtained, but if the weight average molecular weight of the polyimide polymer is too large, the viscosity of the varnish tends to increase and the processability tends to decrease. be.

ポリイミド系高分子は、上述のフッ素系置換基等によって導入できるフッ素原子等のハロゲン原子を含んでいてもよい。ポリイミド系高分子がハロゲン原子を含むことにより、樹脂フィルムの弾性率を向上させ且つ黄色度を低減させることができる。これにより、樹脂フィルムにキズ及びシワ等が発生することを抑制し、且つ、樹脂フィルムの透明性を向上させることができる。ハロゲン原子として好ましくは、フッ素原子である。ポリイミド系高分子におけるハロゲン原子の含有量は、ポリイミド系高分子の質量を基準として、1質量%〜40質量%であることが好ましく、1〜30質量%であることがより好ましい。 The polyimide-based polymer may contain a halogen atom such as a fluorine atom that can be introduced by the above-mentioned fluorine-based substituent or the like. When the polyimide polymer contains a halogen atom, the elastic modulus of the resin film can be improved and the yellowness can be reduced. As a result, it is possible to suppress the occurrence of scratches and wrinkles on the resin film and improve the transparency of the resin film. The halogen atom is preferably a fluorine atom. The content of the halogen atom in the polyimide polymer is preferably 1% by mass to 40% by mass, more preferably 1 to 30% by mass, based on the mass of the polyimide polymer.

ポリイミド系フィルムは、1種又は2種以上の紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤は、樹脂材料の分野で紫外線吸収剤として通常用いられているものから、適宜選択することができる。紫外線吸収剤は、400nm以下の波長の光を吸収する化合物を含んでいてもよい。ポリイミド系高分子と適切に組み合わせることのできる紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、及びトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物が挙げられる。
本明細書において、「系化合物」とは、当該「系化合物」が付される化合物の誘導体を指す。例えば、「ベンゾフェノン系化合物」とは、母体骨格としてのベンゾフェノンと、ベンゾフェノンに結合している置換基とを有する化合物を指す。
The polyimide film may contain one kind or two or more kinds of ultraviolet absorbers. The ultraviolet absorber can be appropriately selected from those usually used as an ultraviolet absorber in the field of resin materials. The ultraviolet absorber may contain a compound that absorbs light having a wavelength of 400 nm or less. Examples of the ultraviolet absorber that can be appropriately combined with the polyimide polymer include at least one compound selected from the group consisting of benzophenone compounds, salicylate compounds, benzotriazole compounds, and triazine compounds. ..
As used herein, the term "system compound" refers to a derivative of a compound to which the "system compound" is attached. For example, the "benzophenone-based compound" refers to a compound having benzophenone as a maternal skeleton and a substituent attached to benzophenone.

紫外線吸収剤の量は、樹脂フィルムの全体質量に対して、通常0.5質量%以上であり、好ましくは1質量%以上であり、より好ましくは2質量%以上であり、さらに好ましくは3質量%以上である。また、紫外線吸収剤の量は、通常10質量%以下であり、好ましくは8質量%以下であり、より好ましくは6質量%以下である。紫外線吸収剤がこれらの量で含まれることで、ポリイミド系フィルムの耐候性を特に効果的に高めることができる。 The amount of the ultraviolet absorber is usually 0.5% by mass or more, preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, still more preferably 3% by mass, based on the total mass of the resin film. % Or more. The amount of the ultraviolet absorber is usually 10% by mass or less, preferably 8% by mass or less, and more preferably 6% by mass or less. By including the ultraviolet absorber in these amounts, the weather resistance of the polyimide film can be particularly effectively enhanced.

(無機粒子)
ポリイミド系フィルムは、強度を高める観点から、無機粒子を更に含有していてもよい。無機粒子としてはケイ素原子を含む粒子が挙げられ、該ケイ素原子を含む粒子としては、シリカ粒子が挙げられる。その他の無機粒子としては、チタニア粒子、アルミナ粒子及びジルコニア粒子等が挙げられる。
(Inorganic particles)
The polyimide film may further contain inorganic particles from the viewpoint of increasing the strength. Examples of the inorganic particles include particles containing a silicon atom, and examples of the particles containing the silicon atom include silica particles. Examples of other inorganic particles include titania particles, alumina particles, zirconia particles and the like.

無機粒子の平均一次粒子径は、通常100nm以下である。無機粒子の平均一次粒子径が100nm以下であるとフィルムの透明性が向上する傾向にある。無機粒子の一次粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡(TEM)による定方向径とすることができる。平均一次粒子径は、TEM観察により一次粒子径を10点測定し、それらの平均値として求めることができる。 The average primary particle size of the inorganic particles is usually 100 nm or less. When the average primary particle size of the inorganic particles is 100 nm or less, the transparency of the film tends to be improved. The primary particle size of the inorganic particles can be measured with a directional diameter using a transmission electron microscope (TEM). The average primary particle size can be obtained by measuring 10 points of the primary particle size by TEM observation and as an average value thereof.

ポリイミド系フィルムにおいて、ポリイミドと無機粒子との配合比は、質量比で、1:9〜10:0であることが好ましく、3:7〜10:0であることがより好ましく、3:7〜8:2であることがさらに好ましく、3:7〜7:3であることがよりさらに好ましい。ポリイミドと無機粒子との配合比が上記の範囲内であると、透明性や機械的強度が向上する傾向を示す。 In the polyimide film, the compounding ratio of the polyimide and the inorganic particles is preferably 1: 9 to 10: 0, more preferably 3: 7 to 10: 0, in terms of mass ratio, from 3: 7 to 3: 7. It is even more preferably 8: 2, and even more preferably 3: 7 to 7: 3. When the compounding ratio of the polyimide and the inorganic particles is within the above range, the transparency and the mechanical strength tend to be improved.

無機粒子同士は、シロキサン結合(−SiOSi−)を有する分子により結合されていてもよい。 Inorganic particles may be bonded to each other by a molecule having a siloxane bond (−SiOSi−).

ポリイミド系フィルムは、透明性および屈曲性を損なわない範囲で、更に他の成分を含有していてもよい。他の成分としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤等の着色剤、難燃剤、滑剤、増粘剤、及びレベリング剤等が挙げられる。 The polyimide-based film may further contain other components as long as the transparency and flexibility are not impaired. Examples of other components include colorants such as antioxidants, mold release agents, stabilizers and bluing agents, flame retardants, lubricants, thickeners, leveling agents and the like.

ポリイミド系フィルムは、オルトケイ酸テトラエチル(TEOS)等の4級アルコキシシラン、シルセスキオキサン誘導体等の有機ケイ素化合物を含むこともできる。 The polyimide-based film can also contain a quaternary alkoxysilane such as tetraethyl orthosilicate (TEOS) and an organosilicon compound such as a silsesquioxane derivative.

ポリイミド及び無機材料以外の成分は、ポリイミド系フィルムの質量に対して、0%超20質量%以下であることが好ましい。さらに好ましくは0%超10質量%以下である。 The components other than the polyimide and the inorganic material are preferably more than 0% and 20% by mass or less with respect to the mass of the polyimide film. More preferably, it is more than 0% and 10% by mass or less.

ポリイミド系フィルムの厚さは、用途に応じて適宜調整されるが、通常、10〜500μmであり、15〜200μmであることが好ましく、20〜100μmであることがより好ましい。 The thickness of the polyimide-based film is appropriately adjusted according to the intended use, but is usually 10 to 500 μm, preferably 15 to 200 μm, and more preferably 20 to 100 μm.

このポリイミド系フィルムは、JIS K7105:1981に準拠した全光線透過率が85%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。
また、このポリイミド系フィルムは、JIS K 7105:1981に準拠したHazeが1%以下であることが好ましく、0.9%以下であることがより好ましい。
また、このポリイミド系フィルムは、JIS K 7373:2006に準拠した黄色度YIが10以下であることが好ましく、5以下であることがより好ましく、3以下であることがさらに好ましい。
This polyimide-based film preferably has a total light transmittance of 85% or more, more preferably 90% or more, in accordance with JIS K7105: 1981.
Further, this polyimide-based film preferably has a Haze according to JIS K 7105: 1981 of 1% or less, and more preferably 0.9% or less.
Further, this polyimide-based film preferably has a yellowness YI according to JIS K 7373: 2006 of 10 or less, more preferably 5 or less, and further preferably 3 or less.

このようなポリイミド系フィルムは屈曲性に優れる。このようなポリイミド系フィルムが屈曲性に優れる理由は明らかではないが、ナノスケールにおける凝集構造、微細構造などX線散乱に影響する何らかの構造を有し、その構造が可視光を散乱しないサイズであり、さらに、その構造がある程度均一なサイズ分布を持って存在していることが、屈曲性の向上に寄与していると考えられる。 Such a polyimide-based film has excellent flexibility. The reason why such a polyimide film is excellent in flexibility is not clear, but it has some structure that affects X-ray scattering such as agglomerated structure and fine structure on a nanoscale, and the structure is a size that does not scatter visible light. Furthermore, it is considered that the fact that the structure exists with a uniform size distribution to some extent contributes to the improvement of the flexibility.

小角X線散乱プロファイルにおいて、波数q=0.003及び波数q=0.018は、それぞれ、209nm及び35nmの長さに対応する。この範囲のX線散乱プロファイルにピーク等の構造を有することは、その範囲に周期的構造を有することを意味する。したがって、F(q)を209nmに相当するq=0.003における接線と定義し、その接線からI(q)が大きく離れるような部分を0.003<q≦0.018に有するということは、前記サイズの構造をある程度の量、フィルム中に有していることを示している。 In the small-angle X-ray scattering profile, wavenumber q = 0.003 and wavenumber q = 0.018 correspond to lengths of 209 nm and 35 nm, respectively. Having a structure such as a peak in the X-ray scattering profile in this range means having a periodic structure in that range. Therefore, F (q) is defined as a tangent line at q = 0.003 corresponding to 209 nm, and having a portion where I (q) is largely separated from the tangent line is 0.003 <q ≦ 0.018. , Indicates that the film has a certain amount of structure of the above size.

また、前記サイズの構造を有する場合であっても、構造のサイズが不均一な場合には十分な屈曲性を得られにくい傾向がある。そのように構造のサイズが不均一な場合には、X線散乱プロファイルのピークがブロードになり、結果としてI(q)/F(q)の最大値が小さくなる。したがって、I(q)/F(q)の最大値が1.5を超えるqを有するということは、材料の透明性を阻害しないようなナノサイズの構造をある程度の量を含有し、かつその構造の大きさがある程度の均一性を有していることを意味している。 Further, even when the structure has the above-mentioned size, it tends to be difficult to obtain sufficient flexibility when the size of the structure is non-uniform. When the size of the structure is non-uniform, the peak of the X-ray scattering profile becomes broad, and as a result, the maximum value of I (q) / F (q) becomes small. Therefore, having a maximum value of I (q) / F (q) greater than 1.5 means that it contains a certain amount of nano-sized structure that does not impair the transparency of the material, and that it It means that the size of the structure has a certain degree of uniformity.

(製造方法)
次に、本実施形態のポリイミド系フィルムの製造方法の一例を説明する。ポリイミド系フィルムは、ポリイミド系高分子ワニスに含まれる固形分の固化物である。
ポリイミド系高分子ワニスは、公知のポリイミドの合成手法を用いて重合された溶媒可溶なポリイミドを溶媒に溶解し、調製される。溶媒としては、ポリイミドを溶解する溶媒であればよく、例えば、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、γ−ブチロラクトン(GBL)、N−メチルピロリドン(NMP)、酢酸エチル、メチルエチルケトン(MEK)、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、アセトン、シクロペンタノン、ジメチルスルホキシド、キシレン及びそれらの組み合わせを用いることができる。
ポリイミドとしては、溶媒可溶なポリイミドであればよく、前述の構造であることができる。
(Production method)
Next, an example of the method for producing the polyimide film of the present embodiment will be described. The polyimide-based film is a solidified solid content contained in the polyimide-based polymer varnish.
The polyimide-based polymer varnish is prepared by dissolving a solvent-soluble polyimide polymerized using a known polyimide synthesis method in a solvent. The solvent may be any solvent that dissolves polyimide, for example, N, N-dimethylacetamide (DMAc), N, N-dimethylformamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO), γ-butyrolactone (GBL), N. -Methylpyrrolidone (NMP), ethyl acetate, methyl ethyl ketone (MEK), tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, acetone, cyclopentanone, dimethyl sulfoxide, xylene and combinations thereof can be used.
The polyimide may be any solvent-soluble polyimide and may have the above-mentioned structure.

ポリイミド系高分子ワニスは、さらに水を含んでいてもよい。水の含有量は、ポリイミド系高分子ワニスの質量に対して、通常、0.1〜10質量%である。
ワニスが水を含有することにより、上述の小角X線プロファイルを示す構造を有するフィルムが得やすい。水の添加によりポリイミド系フィルムの構造が変化する理由は明らかではないが、溶媒乾燥時に水が存在することにより、ポリイミドの構造形成に影響を与えることが考えられる。
The polyimide-based polymer varnish may further contain water. The water content is usually 0.1 to 10% by mass with respect to the mass of the polyimide-based polymer varnish.
Since the varnish contains water, it is easy to obtain a film having a structure showing the above-mentioned small-angle X-ray profile. The reason why the structure of the polyimide film is changed by the addition of water is not clear, but it is considered that the presence of water when the solvent is dried affects the structure formation of the polyimide.

ポリイミド系高分子ワニスは、さらに、上述の無機粒子を含有することができる。ポリイミド系高分子ワニスが無機粒子を含む場合には、ポリイミド系高分子ワニスが水を含有することにより、無機粒子のゲル化が抑制される点も加わり、ポリイミド系高分子の構造形成に影響を与えることが考えられる。 The polyimide-based polymer varnish can further contain the above-mentioned inorganic particles. When the polyimide-based polymer varnish contains inorganic particles, the addition of the fact that the polyimide-based polymer varnish contains water suppresses the gelation of the inorganic particles, which affects the structure formation of the polyimide-based polymer. It is possible to give.

ポリイミド系高分子ワニスが無機粒子を含有する場合、ポリイミド系高分子ワニスは、溶液安定性を向上させるために、アルコキシシランなどの金属アルコキシドを含有してもよい。好ましくは、アミノ基を有するアルコキシシランである。アルコキシシランは、無機粒子同士の結合形成に寄与する。 When the polyimide-based polymer varnish contains inorganic particles, the polyimide-based polymer varnish may contain a metal alkoxide such as alkoxysilane in order to improve solution stability. An alkoxysilane having an amino group is preferable. Alkoxysilane contributes to the formation of bonds between inorganic particles.

金属アルコキシドの添加量は、無機粒子の100質量部に対して、通常0.1〜10質量部であり、0.5〜5質量部であることが好ましい。 The amount of the metal alkoxide added is usually 0.1 to 10 parts by mass and preferably 0.5 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic particles.

また、ポリイミド系高分子ワニスには、さらなる添加剤が添加されていてもよく、添加剤として、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤等の着色剤、難燃剤、滑剤、増粘剤、レベリング剤などを添加してもよい。 Further, additional additives may be added to the polyimide-based polymer varnish, and the additives include, for example, antioxidants, mold release agents, stabilizers, colorants such as brewing agents, flame retardants, and lubricants. , Thickener, leveling agent and the like may be added.

調整されたポリイミド系ワニスは、次いで、公知のロール・ツー・ロールやバッチ方式により、PET基材、SUSベルト、又はガラス基材上に、上塗布されて塗膜を形成する。この塗膜は、乾燥され、基材から剥離されることによって、フィルムとなる。剥離後に更にフィルムの乾燥を行ってもよい。 The prepared polyimide-based varnish is then overcoated on a PET substrate, a SUS belt, or a glass substrate by a known roll-to-roll or batch method to form a coating film. This coating film is dried and peeled from the substrate to form a film. The film may be further dried after the peeling.

塗膜の乾燥は、温度50〜350℃にて、適宜、不活性雰囲気あるいは減圧の条件下に溶媒を蒸発させることにより行う。溶媒の蒸発は大気下で行ってもよい。大気下で行う場合は、温度を230℃以下とすることが着色の観点で好ましい。 The coating film is dried at a temperature of 50 to 350 ° C. by appropriately evaporating the solvent under conditions of an inert atmosphere or reduced pressure. The solvent may be evaporated in the atmosphere. When it is carried out in the atmosphere, it is preferable that the temperature is 230 ° C. or lower from the viewpoint of coloring.

(用途)
このようなポリイミド系フィルムは、透明であって屈曲性に優れるのでフレキシブルディスプレイの構成要素として使用できる。例えば、フレキシブルディスプレイの表面保護用の前面板(ウィンドウフィルム)として使用することができる。
また、このポリイミド系フィルムに、紫外線吸収層、ハードコート層、粘着層、色相調整層、屈折率調整層などの種々の機能層を付加した積層体とすることもできる。
(Use)
Since such a polyimide film is transparent and has excellent flexibility, it can be used as a component of a flexible display. For example, it can be used as a front plate (window film) for protecting the surface of a flexible display.
Further, it is also possible to obtain a laminate in which various functional layers such as an ultraviolet absorbing layer, a hard coat layer, an adhesive layer, a hue adjusting layer and a refractive index adjusting layer are added to this polyimide film.

以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

(実施例1)
窒素置換した重合槽に、式(1)で表される化合物、式(2)で表される化合物、式(3)で表される化合物、溶媒(γブチロラクトン及びジメチルアセトアミド)及び触媒を仕込んだ。仕込み量は、式(1)で表される化合物75.0g、式(2)で表される化合物36.5g、式(3)で表される化合物76.4g、γブチロラクトン438.4g、ジメチルアセトアミド313.1g、触媒1.5gとした。式(2)で表される化合物と式(3)で表される化合物とのモル比は3:7、式(2)で表される化合物及び式(3)で表される化合物の合計と式(1)で表される化合物とのモル比は、1.00:1.02であった。

Figure 0006940581
(Example 1)
The compound represented by the formula (1), the compound represented by the formula (2), the compound represented by the formula (3), the solvent (γ-butyrolactone and dimethylacetamide) and the catalyst were charged into the nitrogen-substituted polymerization tank. .. The amount charged was 75.0 g of the compound represented by the formula (1), 36.5 g of the compound represented by the formula (2), 76.4 g of the compound represented by the formula (3), 438.4 g of γ-butyrolactone, and dimethyl. The amount of acetamide was 313.1 g and the amount of the catalyst was 1.5 g. The molar ratio of the compound represented by the formula (2) to the compound represented by the formula (3) is 3: 7, the total of the compound represented by the formula (2) and the compound represented by the formula (3). The molar ratio with the compound represented by the formula (1) was 1.00: 1.02.
Figure 0006940581

重合槽内の混合物を攪拌して原料を溶媒に溶解させた後、混合物を100℃まで昇温し、その後、200℃まで昇温し、4時間保温して、ポリイミドを重合した。なお、この加熱中に、液中の水を除去した。その後、精製及び乾燥により、ポリイミドを得た。 After stirring the mixture in the polymerization tank to dissolve the raw material in the solvent, the temperature of the mixture was raised to 100 ° C., then raised to 200 ° C. and kept warm for 4 hours to polymerize the polyimide. During this heating, water in the liquid was removed. Then, it was purified and dried to obtain a polyimide.

次に、濃度20質量%に調整したポリイミドのγブチロラクトン溶液、γブチロラクトンに固形分濃度30質量%のシリカ粒子を分散した溶液、アミノ基を有するアルコキシシランのジメチルアセトアミド溶液、及び、水を混合し、30分間攪拌した。 Next, a γ-butyrolactone solution of polyimide adjusted to a concentration of 20% by mass, a solution in which silica particles having a solid content concentration of 30% by mass are dispersed in γ-butyrolactone, a dimethylacetamide solution of alkoxysilane having an amino group, and water are mixed. , Stirred for 30 minutes.

ここで、シリカとポリイミドの質量比を60:40、アミノ基を有するアルコキシシランの量をシリカ及びポリイミドの合計100質量部に対して1.67部、水をシリカ及びポリイミドの合計100質量部に対して10質量部とした。 Here, the mass ratio of silica to polyimide is 60:40, the amount of alkoxysilane having an amino group is 1.67 parts based on 100 parts by mass of silica and polyimide, and water is 100 parts by mass of silica and polyimide. On the other hand, it was set to 10 parts by mass.

混合溶液を、ガラス基板に塗布し、50℃で30分、140℃で10分加熱して溶媒を乾燥した。その後、フィルムをガラス基板から剥離し、金枠を取り付けて210℃で1時間加熱することで厚み50μmの透明ポリイミド系フィルムを得た。 The mixed solution was applied to a glass substrate and heated at 50 ° C. for 30 minutes and 140 ° C. for 10 minutes to dry the solvent. Then, the film was peeled off from the glass substrate, a gold frame was attached, and the film was heated at 210 ° C. for 1 hour to obtain a transparent polyimide film having a thickness of 50 μm.

(実施例2)
ポリイミドを三菱ガス化学社製「ネオプリム」を用い、シリカとポリイミドの質量比を55:45とした以外は実施例1と同様とした。
(Example 2)
As the polyimide, "Neoprim" manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company was used, and the same as in Example 1 except that the mass ratio of silica to polyimide was 55:45.

(実施例3)
実施例2で調整した混合溶液をガラス基板に塗布する前に24時間40℃で保管する以外は実施例2と同様とした。
(Example 3)
The same procedure as in Example 2 was carried out except that the mixed solution prepared in Example 2 was stored at 40 ° C. for 24 hours before being applied to the glass substrate.

(比較例1)
水を添加しない以外は実施例1と同様として混合溶液を調整し、混合溶液をガラス基板に塗布する前に24時間40℃で保管した。
(Comparative Example 1)
The mixed solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that water was not added, and the mixed solution was stored at 40 ° C. for 24 hours before being applied to the glass substrate.

(小角X線散乱プロファイルの測定)
得られた各フィルムの小角X線散乱プロファイルをSPring−8のUSAXS装置により以下の条件で取得した。X線の波長λは2Å、波数qの範囲は0.002〜0.02Å−1であった。
(Measurement of small-angle X-ray scattering profile)
The small-angle X-ray scattering profile of each of the obtained films was acquired by the USAXS apparatus of SPring-8 under the following conditions. The wavelength λ of the X-ray was 2 Å, and the range of the wave number q was 0.002 to 0.02 Å -1 .

得られたプロファイルから、0.003<q≦0.018における、I(q)/F(q)の最大値を求めたところ実施例1は2.5、比較例1は1.1であった。 From the obtained profile, the maximum value of I (q) / F (q) in 0.003 <q ≦ 0.018 was obtained. As a result, Example 1 was 2.5 and Comparative Example 1 was 1.1. rice field.

(屈曲性の評価)
各フィルムから切り出したサンプル(10mm×100mm)を長手方向の中央部で180°曲げ、さらに、屈曲部を指で押して屈曲部の観察を行った。結果を表1に示す。屈曲部が破断した場合をCとし、屈曲部が破断しなかった場合をAと表す。
(Evaluation of flexibility)
A sample (10 mm × 100 mm) cut out from each film was bent 180 ° at the central portion in the longitudinal direction, and the bent portion was further pressed with a finger to observe the bent portion. The results are shown in Table 1. The case where the bent portion is broken is referred to as C, and the case where the bent portion is not broken is referred to as A.

(YIの評価)
実施例および比較例のフィルムの黄色度(Yellow Index:YI)を、JIS K 7373:2006に準拠して日本分光社製の紫外可視近赤外分光光度計V−670によって測定した。サンプルがない状態でバックグランド測定を行った後、フィルムをサンプルホルダーにセットして、300〜800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求めた。YIを、下記の式に基づいて算出した。
YI=100×(1.2769X−1.0592Z)/Y
(YI evaluation)
The yellowness (Yellow Index: YI) of the films of Examples and Comparative Examples was measured by an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer V-670 manufactured by JASCO Corporation in accordance with JIS K 7373: 2006. After performing the background measurement in the absence of the sample, the film was set in the sample holder, the transmittance for light of 300 to 800 nm was measured, and the tristimulus values (X, Y, Z) were determined. YI was calculated based on the following formula.
YI = 100 × (1.2769X-1.0592Z) / Y

(Hazeの評価)
フィルムのHaze(%)を、JIS K 7105:1981に準拠して、スガ試験機社製の全自動直読ヘーズコンピューターHGM−2DPにより測定した。
(Evaluation of Haze)
Haze (%) of the film was measured by a fully automatic direct reading haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. in accordance with JIS K 7105: 1981.

(全光線透過率Trの評価)
フィルムの全光線透過率は、JIS K 7105−1:1981に準拠して、スガ試験機社製の全自動直読ヘーズコンピューターHGM−2DPにより測定した。これらの結果を表1に示す。
(Evaluation of total light transmittance Tr)
The total light transmittance of the film was measured by a fully automatic direct reading haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. in accordance with JIS K7105-1: 1981. These results are shown in Table 1.

Figure 0006940581
Figure 0006940581

Claims (5)

以下の条件(I)を満たすことを特徴とするフレキシブルディスプレイの前面板であって、
該前面板が、ポリイミド系フィルムからなり、
該ポリイミド系フィルムが、ポリイミド系高分子を含み、
該ポリイミド系高分子が、式(PI)、式(a)又は式(a’)で表される繰り返し構造単位を少なくとも1種以上含む重合体であり、
前記ポリイミド系フィルムの厚さが10〜500μmである、
フレキシブルディスプレイの前面板
Figure 0006940581

[式(PI)中のGは4価の有機基を表し、Aは2価の有機基を表す。式(a)中のGは3価の有機基を表し、Aは2価の有機基を表す。式(a’)中のGは4価の有機基を表し、Aは2価の有機基を表す。]
条件(I):フレキシブルディスプレイの前面板の、波数q(単位:Å−1)と散乱強度Iとの両対数プロットで表される小角X線散乱プロファイルI(q)において、q=0.003における接線を接線F(q)としたとき、
0.003<q≦0.018において、I(q)/F(q)の最大値が1.5を超える。
A front plate of a flexible display characterized by satisfying the following condition (I).
The front plate is made of a polyimide film.
The polyimide-based film contains a polyimide-based polymer and contains
The polyimide polymer is represented by the formula (PI), Ri polymer der containing formula (a) or formula (a ') a repeating structural unit represented by at least one or more,
The thickness of the polyimide film is Ru 10~500μm der,
Flexible display front plate
Figure 0006940581

[G in the formula (PI) represents a tetravalent organic group, and A represents a divalent organic group. G 2 in the formula (a) represents a trivalent organic group, and A 2 represents a divalent organic group. G 3 in the formula (a') represents a tetravalent organic group, and A 3 represents a divalent organic group . ] .
Condition (I): In the small-angle X-ray scattering profile I (q) represented by a log-log plot of the wave number q (unit: Å -1) and the scattering intensity I on the front plate of the flexible display, q = 0.003. When the tangent line in is tangent line F (q),
When 0.003 <q ≦ 0.018, the maximum value of I (q) / F (q) exceeds 1.5.
黄色度YIが10以下である請求項1に記載のフレキシブルディスプレイの前面板。 The front plate of the flexible display according to claim 1, wherein the yellowness YI is 10 or less. Hazeが1%以下である請求項1又は2に記載のフレキシブルディスプレイの前面板。 The front plate of a flexible display according to claim 1 or 2, wherein the haze is 1% or less. 全光線透過率が85%以上である請求項1〜3のいずれか一項に記載のフレキシブルディスプレイの前面板。 The front plate of a flexible display according to any one of claims 1 to 3, wherein the total light transmittance is 85% or more. シリカ粒子を含む請求項1〜4のいずれか一項に記載のフレキシブルディスプレイの前面板。
The front plate of a flexible display according to any one of claims 1 to 4, which contains silica particles.
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