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JP6951233B2 - Compounds, moldings and optical materials - Google Patents
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JP6951233B2 - Compounds, moldings and optical materials - Google Patents

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JP6951233B2 JP2017243231A JP2017243231A JP6951233B2 JP 6951233 B2 JP6951233 B2 JP 6951233B2 JP 2017243231 A JP2017243231 A JP 2017243231A JP 2017243231 A JP2017243231 A JP 2017243231A JP 6951233 B2 JP6951233 B2 JP 6951233B2
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Description

本発明は、特定の繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂及びそれにより形成される、光学レンズに代表される光学材料に関するものである。 The present invention relates to a polycarbonate resin having a specific repeating unit and an optical material formed by the polycarbonate resin represented by an optical lens.

カメラ、フィルム一体型カメラ、ビデオカメラ等の各種カメラの光学系に使用される光学素子の材料として、光学ガラスあるいは光学用透明樹脂が使用されている。光学ガラスは、耐熱性や透明性、寸法安定性、耐薬品性等に優れており、様々な屈折率(nD)やアッベ数(νD)を有する多種類の材料が存在している。しかし、材料コストが高い上、成形加工性が悪く、生産性が低いという問題点を有している。とりわけ、収差補正に使用される非球面レンズに加工するには、極めて高度な技術と高いコストがかかるため実用上大きな障害となっている。 Optical glass or transparent resin for optics is used as a material for optical elements used in the optical system of various cameras such as cameras, film-integrated cameras, and video cameras. Optical glass is excellent in heat resistance, transparency, dimensional stability, chemical resistance, etc., and there are many kinds of materials having various refractive indexes (nD) and Abbe number (νD). However, it has problems that the material cost is high, the molding processability is poor, and the productivity is low. In particular, processing into an aspherical lens used for aberration correction requires extremely advanced technology and high cost, which is a major obstacle in practical use.

一方、光学用透明樹脂、中でも熱可塑性透明樹脂からなる光学レンズは、射出成形により大量生産が可能で、しかも非球面レンズの製造も容易であるという利点を有しており、現在カメラ用レンズ用途として使用されている。光学用透明樹脂としては、ビスフェノールAからなるポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ−4−メチルペンテン、ポリメチルメタクリレートあるいは非晶質ポリオレフィンなどが例示される。 On the other hand, optical transparent resins, especially optical lenses made of thermoplastic transparent resins, have the advantage that they can be mass-produced by injection molding and that aspherical lenses can be easily manufactured. It is used as. Examples of the transparent resin for optics include polycarbonate made of bisphenol A, polystyrene, poly-4-methylpentene, polymethylmethacrylate, and amorphous polyolefin.

しかしながら、光学用透明樹脂を光学レンズとして用いる場合、屈折率やアッベ数以外にも、透明性、耐熱性、低複屈折性が求められるため、樹脂の特性バランスによって使用箇所が限定されてしまうという弱点がある。例えば、ポリスチレンは耐熱性が低く複屈折が大きい、ポリ−4−メチルペンテンは耐熱性が低い、ポリメチルメタクリレートはガラス転移温度が低く、耐熱性が低く、屈折率が小さい、ビスフェノールAからなるポリカーボネートは複屈折が大きい等の弱点を有するため使用箇所が限られてしまい好ましくない。 However, when an optical transparent resin is used as an optical lens, transparency, heat resistance, and low compound refractive index are required in addition to the refractive index and Abbe number, so the place of use is limited by the balance of resin characteristics. There are weaknesses. For example, polystyrene has low heat resistance and high double refraction, poly-4-methylpentene has low heat resistance, polymethylmethacrylate has low glass transition temperature, low heat resistance, and low refractive index. Polycarbonate composed of bisphenol A. Has a weak point such as a large double refraction, so that the place of use is limited, which is not preferable.

一方、一般に光学材料の屈折率が高いと、同一の屈折率を有するレンズエレメントをより曲率の小さい面で実現できるため、発生する収差量を小さくできる。高屈折率化は、レンズの枚数の低減、レンズの偏心感度の低減、レンズ厚の低減によるレンズ系の小型軽量化を可能にするため有用である。 On the other hand, when the refractive index of the optical material is generally high, a lens element having the same refractive index can be realized on a surface having a smaller curvature, so that the amount of aberration generated can be reduced. Increasing the refractive index is useful because it makes it possible to reduce the number of lenses, reduce the eccentric sensitivity of the lens, and reduce the thickness of the lens to reduce the size and weight of the lens system.

特許文献1には、フルオレン環の9位にベンゼン環を2個以上有する芳香族炭化水素環を含む、水酸基含有基が二つ結合した特定の構造のジオール化合物を用いた、透明性の高いポリカーボネート樹脂又はポリエステル樹脂が開示されているが、溶融粘度が高く成形性に課題を残している。特許文献2には、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、特定のポリオルガノシロキサン化合物及び2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンを、ホスゲンを用いて反応することにより得られる成形性が良好なポリカーボネート樹脂が開示されているが、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレンの溶融粘度が高い為に、製造時に毒性の強いホスゲンを使用する必要があるという課題を残している。 Patent Document 1 describes a highly transparent polycarbonate using a diol compound having a specific structure in which two hydroxyl group-containing groups are bonded, which contains an aromatic hydrocarbon ring having two or more benzene rings at the 9-position of the fluorene ring. Although a resin or a polyester resin is disclosed, it has a high melt viscosity and leaves a problem in moldability. In Patent Document 2, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, a specific polyorganosiloxane compound, and 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane are reacted with phosgene. Although the resulting polycarbonate resin with good moldability is disclosed, phosgene, which is highly toxic during production, is used due to the high melt viscosity of 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene. It leaves the issue of needing to be done.

特開2017−171827号公報JP-A-2017-171827 特開2001−342247号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-342247

本発明が解決しようとする課題は、低溶融粘度、高屈折率、及び高ガラス転移温度(耐熱性)を有する化合物を提供し、優れた光学材料を提供することである。 An object to be solved by the present invention is to provide a compound having a low melt viscosity, a high refractive index, and a high glass transition temperature (heat resistance), and to provide an excellent optical material.

本発明者は、鋭意検討を行い、特定の構造を有する化合物を用いることで上記課題を解決できることを知見した。 The present inventor has conducted diligent studies and found that the above problems can be solved by using a compound having a specific structure.

すなわち、本発明は以下の各項に関するものである。
[1] 下記一般式(I)で表される繰り返し単位を有する化合物。

Figure 0006951233
(式中、Mは、下記式(a)又は(b)で表される群から選ばれる置換基を表し、
Mで表される基中の水素原子はハロゲン原子で置換される場合があり、
、R、R、R、R、R、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜20の炭化水素基又はハロゲン原子を表し、
は、単結合又は−RO−を表し、
は、単結合又は−OR−を表し、
は、炭素原子数1〜20の炭化水素基を表し、
、R、R、R、R、R、R、R及びRで表される基の中のメチレン基の1つ又は2つ以上は、酸素原子が隣り合わない条件で、−O−で置換される場合もあり、
化合物の構造中に、複数存在するR、R、R、R、R、R、R、R、R、X、X及びMは、それぞれ、同一である場合も、異なる場合もある。)
Figure 0006951233
(式中、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25及びR26は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜20の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数2〜20の基又はハロゲン原子を表し、
11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25及びR26で表される基中のメチレン基の1つ又は2つ以上は、酸素原子又は硫黄原子が隣り合わない条件で、−O−又は−S−で置換される場合があり、
11とR12、R12とR13、R13とR14、R19とR20、R20とR21及びR21とR22は結合して環を形成する場合があり、
式中の*は、これらの式で表される基が、*部分で、隣接する基と結合することを意味する。) That is, the present invention relates to the following items.
[1] A compound having a repeating unit represented by the following general formula (I).
Figure 0006951233
(In the formula, M represents a substituent selected from the group represented by the following formula (a) or (b).
The hydrogen atom in the group represented by M may be replaced with a halogen atom.
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a halogen atom, respectively.
X 1 represents a single bond or -R 9 O-
X 2 represents a single bond or a -OR 9 - represents,
R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
One or more of the methylene groups among the groups represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 have oxygen atoms next to each other. In some cases, it may be replaced with -O- under no conditions.
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , X 1 , X 2, and M, which are present in a plurality in the structure of the compound, are the same, respectively. In some cases, it may be different. )
Figure 0006951233
(In the formula, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 and R. 26 independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a group containing a heterocycle and having 2 to 20 carbon atoms, or a halogen atom.
Represented by R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 and R 26. One or more of the methylene groups in the group may be replaced with -O- or -S- under the condition that the oxygen atom or the sulfur atom is not adjacent to each other.
R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 , R 19 and R 20 , R 20 and R 21 and R 21 and R 22 may combine to form a ring.
* In the formulas means that the groups represented by these formulas are bonded to adjacent groups at the * part. )

[2] 上記一般式(I)において、(a)のR15、R16、R17及びR18のうち少なくとも一つがフェニル基又は(b)のR23、R24、R25及びR26のうち少なくとも一つがフェニル基である[1]に記載の化合物。 [2] In the above general formula (I), at least one of R 15 , R 16 , R 17 and R 18 of (a) is a phenyl group or R 23 , R 24 , R 25 and R 26 of (b). The compound according to [1], wherein at least one of them is a phenyl group.

[3] 上記一般式(I)において、(a)のR15がフェニル基又は(b)のR23及びR25のうち少なくとも一つがフェニル基である[1]又は[2]に記載の化合物。 [3] The compound according to [1] or [2], wherein in the above general formula (I), R 15 of (a) is a phenyl group or at least one of R 23 and R 25 of (b) is a phenyl group. ..

[4] 上記一般式(I)において、Mが、(a)である[1]〜[3]の何れか一項に記載の化合物。 [4] The compound according to any one of [1] to [3], wherein M is (a) in the above general formula (I).

[5] [1]〜[4]の何れか一項に記載の化合物を含有する成形体。 [5] A molded product containing the compound according to any one of [1] to [4].

[6] [5]に記載の成形体からなる光学材料。 [6] An optical material made of the molded product according to [5].

本発明によれば、高屈折率、高ガラス転移温度(耐熱性)及び低溶融粘度を有する化合物を提供でき、該化合物を用いれば、優れた高屈折率光学レンズを得ることができる。 According to the present invention, it is possible to provide a compound having a high refractive index, a high glass transition temperature (heat resistance) and a low melt viscosity, and by using the compound, an excellent high refractive index optical lens can be obtained.

以下、本発明について、その好ましい実施形態について詳細に説明する。
本発明は、高屈折率、低アッベ数、低複屈折、高透明性、及び高ガラス転移温度(耐熱性)をバランス良く有する光学材料(スマートフォン向けカメラレンズ、メガネレンズ)に関するものであり、上記一般式(I)で表される繰り返し単位を有する化合物から形成される。
Hereinafter, the preferred embodiment of the present invention will be described in detail.
The present invention relates to an optical material (camera lens for smartphones, spectacle lens) having a high refractive index, a low Abbe number, a low double refraction, a high transparency, and a high glass transition temperature (heat resistance) in a well-balanced manner. It is formed from a compound having a repeating unit represented by the general formula (I).

上記一般式(I)中のR〜Rで表される炭素原子数1〜20の炭化水素基は、特に限定されるものではないが、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数2〜20のアルケニル基、炭素原子数3〜20のシクロアルキル基、炭素原子数4〜20のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基及び炭素原子数7〜20のアリールアルキル基等であることが好ましい。これらの中でも、光学材料として用いる場合、高屈折率であることから、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数2〜10のアルケニル基、炭素原子数1〜10のアルカンジイル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数4〜10のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数6〜10のアリール基及び炭素原子数7〜10のアリールアルキル基等であることがより好ましい。 The hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 1 to R 8 in the general formula (I) is not particularly limited, but is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and a carbon atom. An alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, a cycloalkylalkyl group having 4 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms and an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms. It is preferably a group or the like. Among these, when used as an optical material, since it has a high refractive index, it has an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an arcandyl group having 1 to 10 carbon atoms, and carbon. More preferably, it is a cycloalkyl group having 3 to 10 atoms, a cycloalkylalkyl group having 4 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 10 carbon atoms, or the like.

上記炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、アミル、イソアミル、t−アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、2−エチルヘキシル、t−オクチル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル及びイコシル等が挙げられ、上記炭素原子数1〜10のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、アミル、イソアミル、t−アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、2−エチルヘキシル、t−オクチル、ノニル、イソノニル、デシル及びイソデシル等が挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, amyl, isoamyl, t-amyl, hexyl, heptyl, octyl, and isooctyl. , 2-Ethylhexyl, t-octyl, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl, icosyl and the like. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include methyl. Ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, amyl, isoamyl, t-amyl, hexyl, heptyl, octyl, isooctyl, 2-ethylhexyl, t-octyl, nonyl, isononyl, decyl and isodecyl, etc. Can be mentioned.

上記炭素原子数2〜20のアルケニル基としては、例えば、ビニル、2−プロペニル、3−ブテニル、2−ブテニル、4−ペンテニル、3−ペンテニル、2−ヘキセニル、3−ヘキセニル、5−ヘキセニル、2−ヘプテニル、3−ヘプテニル、4−ヘプテニル、3−オクテニル、3−ノネニル、4−デセニル、3−ウンデセニル、4−ドデセニル、3−シクロヘキセニル、2,5−シクロヘキサジエニル−1−メチル、及び4,8,12−テトラデカトリエニルアリル等が挙げられ、上記炭素原子数2〜10のアルケニル基としては、例えば、ビニル、2−プロペニル、3−ブテニル、2−ブテニル、4−ペンテニル、3−ペンテニル、2−ヘキセニル、3−ヘキセニル、5−ヘキセニル、2−ヘプテニル、3−ヘプテニル、4−ヘプテニル、3−オクテニル、3−ノネニル及び4−デセニル等が挙げられる。 Examples of the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms include vinyl, 2-propenyl, 3-butenyl, 2-butenyl, 4-pentenyl, 3-pentenyl, 2-hexenyl, 3-hexenyl, 5-hexenyl, 2 -Heptenyl, 3-heptenyl, 4-heptenyl, 3-octenyl, 3-nonenyl, 4-decenyl, 3-undecenyl, 4-dodecenyl, 3-cyclohexenyl, 2,5-cyclohexadienyl-1-methyl, and 4 , 8,12-Tetradecatrienylallyl and the like. Examples of the alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms include vinyl, 2-propenyl, 3-butenyl, 2-butenyl, 4-pentenyl and 3-. Examples thereof include pentenyl, 2-hexenyl, 3-hexenyl, 5-hexenyl, 2-heptenyl, 3-heptenyl, 4-heptenyl, 3-octenyl, 3-nonenyl and 4-decenyl and the like.

上記炭素原子数3〜20のシクロアルキル基とは、3〜20の炭素原子を有する、飽和単環式又は飽和多環式アルキル基を意味する。例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、アダマンチル、デカハイドロナフチル、オクタヒドロペンタレン、ビシクロ[1.1.1]ペンタニル及びテトラデカヒドロアントラセニル等が挙げられ、上記炭素原子数3〜10のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、アダマンチル、デカハイドロナフチル、オクタヒドロペンタレン及びビシクロ[1.1.1]ペンタニル等が挙げられる。 The cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms means a saturated monocyclic or saturated polycyclic alkyl group having 3 to 20 carbon atoms. For example, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, cyclononyl, cyclodecyl, adamantyl, decahydronaphthyl, octahydropentalene, bicyclo [1.1.1] pentanyl and tetradecahydroanthrasenyl, etc. Examples of the cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, cyclononyl, cyclodecyl, adamantyl, decahydronaphthyl, octahydropentalene and bicyclo. [1.1.1] Pentanyl and the like can be mentioned.

上記炭素原子数4〜20のシクロアルキルアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、シクロアルキル基で置換された4〜20の炭素原子を有する基を意味する。例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプチルメチル、シクロオクチルメチル、シクロノニルメチル、シクロデシルメチル、2−シクロブチルエチル、2−シクロペンチルエチル、2−シクロヘキシルエチル、2−シクロヘプチルエチル、2−シクロオクチルエチル、2−シクロノニルエチル、2−シクロデシルエチル、3−シクロブチルプロピル、3−シクロペンチルプロピル、3−シクロヘキシルプロピル、3−シクロヘプチルプロピル、3−シクロオクチルプロピル、3−シクロノニルプロピル、3−シクロデシルプロピル、4−シクロブチルブチル、4−シクロペンチルブチル、4−シクロヘキシルブチル、4−シクロヘプチルブチル、4−シクロオクチルブチル、4−シクロノニルブチル、4−シクロデシルブチル、3−3−アダマンチルプロピル及びデカハイドロナフチルプロピル等が挙げられ、上記炭素原子数4〜10のシクロアルキルアルキル基としては、例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプチルメチル、シクロオクチルメチル、シクロノニルメチル、2−シクロブチルエチル、2−シクロペンチルエチル、2−シクロヘキシルエチル、2−シクロヘプチルエチル、2−シクロオクチルエチル、3−シクロブチルプロピル、3−シクロペンチルプロピル、3−シクロヘキシルプロピル、3−シクロヘプチルプロピル、4−シクロブチルブチル、4−シクロペンチルブチル及び4−シクロヘキシルブチル等が挙げられる。 The cycloalkylalkyl group having 4 to 20 carbon atoms means a group having 4 to 20 carbon atoms in which the hydrogen atom of the alkyl group is replaced with a cycloalkyl group. For example, cyclopropylmethyl, cyclobutylmethyl, cyclopentylmethyl, cyclohexylmethyl, cycloheptylmethyl, cyclooctylmethyl, cyclononylmethyl, cyclodecylmethyl, 2-cyclobutylethyl, 2-cyclopentylethyl, 2-cyclohexylethyl, 2- Cycloheptylethyl, 2-cyclooctylethyl, 2-cyclononylethyl, 2-cyclodecylethyl, 3-cyclobutylpropyl, 3-cyclopentylpropyl, 3-cyclohexylpropyl, 3-cycloheptylpropyl, 3-cyclooctylpropyl, 3-Cyclononylpropyl, 3-cyclodecylpropyl, 4-cyclobutylbutyl, 4-cyclopentylbutyl, 4-cyclohexylbutyl, 4-cycloheptylbutyl, 4-cyclooctylbutyl, 4-cyclononylbutyl, 4-cyclodecyl Examples thereof include butyl, 3-3-adamantylpropyl, decahydronaphthylpropyl and the like. Examples of the cycloalkylalkyl group having 4 to 10 carbon atoms include cyclopropylmethyl, cyclobutylmethyl, cyclopentylmethyl, cyclohexylmethyl and cyclo. Heptylmethyl, cyclooctylmethyl, cyclononylmethyl, 2-cyclobutylethyl, 2-cyclopentylethyl, 2-cyclohexylethyl, 2-cycloheptylethyl, 2-cyclooctylethyl, 3-cyclobutylpropyl, 3-cyclopentylpropyl, Examples thereof include 3-cyclohexylpropyl, 3-cycloheptylpropyl, 4-cyclobutylbutyl, 4-cyclopentylbutyl and 4-cyclohexylbutyl.

上記炭素原子数6〜20のアリール基としては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、エチルフェニル、ナフチル、アンスリル、フェナントレニル等や、上記アルキル基、上記アルケニル基やカルボキシル基、ハロゲン原子等で1つ以上置換されたフェニル、ビフェニリル、ナフチル、アンスリル等、例えば、4−クロロフェニル、4−カルボキシルフェニル、4−ビニルフェニル、4−メチルフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル等が挙げられ、上記炭素原子数6〜10のアリール基としては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、エチルフェニル及びナフチル等や、上記アルキル基、上記アルケニル基やカルボキシル基、ハロゲン原子等で1つ以上置換されたフェニル、ビフェニリル、ナフチル、アンスリル等、例えば、4−クロロフェニル、4−カルボキシルフェニル、4−ビニルフェニル、4−メチルフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル等が挙げられる。 Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include phenyl, trill, xsilyl, ethylphenyl, naphthyl, anthryl, phenanthrenyl and the like, the alkyl group, the alkenyl group, the carboxyl group, the halogen atom and the like. Substituted phenyl, biphenylyl, naphthyl, anthryl and the like, for example, 4-chlorophenyl, 4-carboxyphenyl, 4-vinylphenyl, 4-methylphenyl, 2,4,6-trimethylphenyl and the like can be mentioned, and the number of carbon atoms is described above. Examples of the 6 to 10 aryl groups include phenyl, trill, xsilyl, ethylphenyl, naphthyl and the like, and phenyl, biphenylyl and naphthyl substituted with one or more of the above alkyl group, the above alkenyl group, the carboxyl group, a halogen atom and the like. , Anthrill and the like, for example, 4-chlorophenyl, 4-carboxyphenyl, 4-vinylphenyl, 4-methylphenyl, 2,4,6-trimethylphenyl and the like.

上記炭素原子数7〜20のアリールアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、アリール基で置換された7〜30の炭素原子を有する基を意味する。例えば、ベンジル、α−メチルベンジル、α、α−ジメチルベンジル、フェニルエチル及びナフチルプロピル等が挙げられ、上記炭素原子数7〜20のアリールアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、アリール基で置換された7〜20の炭素原子を有する基を意味する。例えば、ベンジル、α−メチルベンジル、α、α−ジメチルベンジル及びフェニルエチル等が挙げられる。 The arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms means a group having 7 to 30 carbon atoms in which the hydrogen atom of the alkyl group is substituted with an aryl group. For example, benzyl, α-methylbenzyl, α, α-dimethylbenzyl, phenylethyl, naphthylpropyl and the like can be mentioned. The arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms is an aryl group in which the hydrogen atom of the alkyl group is an aryl group. It means a group having 7 to 20 substituted carbon atoms. For example, benzyl, α-methylbenzyl, α, α-dimethylbenzyl, phenylethyl and the like can be mentioned.

上記一般式(I)中のRで表される炭素原子数1〜20の炭化水素基としては、上記R〜Rで表される1価の炭化水素基として挙げた各種の基に対応する2価の炭化水素基を挙げることができる。 The hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms represented by R 9 in the general formula (I) include various groups listed as monovalent hydrocarbon groups represented by R 1 to R 8 above. Corresponding divalent hydrocarbon groups can be mentioned.

上記一般式(I)中のR〜Rで表される基の中のメチレン基の1つ又は2つ以上は、−O−で置換される場合がある。この場合、酸素原子が隣り合わないことが条件であり、具体的には、−O−O−を含まないことが条件である。 One or more of the methylene groups among the groups represented by R 1 to R 9 in the above general formula (I) may be substituted with −O−. In this case, it is a condition that the oxygen atoms are not adjacent to each other, and specifically, it is a condition that -O-O- is not contained.

置換基(a)及び(b)中のR11〜R26で表される炭素原子数1〜20の炭化水素基としては、上記R〜Rで表される炭素原子数1〜20の炭化水素基と同様なものを挙げることができる。 As the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 11 to R 26 in the substituents (a) and (b), the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 1 to R 8 is mentioned above. The same as the hydrocarbon group can be mentioned.

置換基(a)及び(b)中のR11〜R26で表される複素環を含有する炭素原子数2〜20の基は、特に限定されるものではないが、例えば、ピロリル、ピリジル、ピリジルエチル、ピリミジル、ピリダジル、ピペラジル、ピペリジル、ピラニル、ピラニルエチル、ピラゾリル、トリアジル、トリアジルメチル、ピロリジル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、モルフォリニル、チオモルフォリニル、2−ピロリジノン−1−イル、2−ピペリドン−1−イル、2,4−ジオキシイミダゾリジン−3−イル及び2,4−ジオキシオキサゾリジン−3−イル等が挙げられ、置換基等を含めて具体的に記載すると下記の構造を有する基等が挙げられる。 The group having 2 to 20 carbon atoms containing the heterocycle represented by R 11 to R 26 in the substituents (a) and (b) is not particularly limited, but for example, pyrrolyl, pyridyl, and the like. Pyridylethyl, pyrimidyl, pyridadyl, piperazyl, piperidyl, pyranyl, pyranylethyl, pyrazolyl, triazil, triazilmethyl, pyrrolidyl, quinolyl, isoquinolyl, imidazolyl, benzoimidazolyl, triazolyl, furyl, furanyl, benzofuranyl, thienyl, thiophenyl, benzothiophenyl, thiadiazolyl , Thiazolyl, benzothiazolyl, oxazolidine, benzoxazolyl, isothiazolidine, isooxazolyl, indolyl, morpholinyl, thiomorpholinyl, 2-pyrrolidinone-1-yl, 2-piperidone-1-yl, 2,4-dioxyimidazolidine- Examples thereof include 3-yl and 2,4-dioxyoxazolidine-3-yl, and specific examples including substituents and the like include groups having the following structures.

Figure 0006951233
(上記式中、Rは水素原子又は炭素原子数1〜6のアルキル基を表し、Zは直接結合又は炭素原子数1〜6のアルキレン基を表す。尚、式中の*は、これらの式で表される基が、*部分で、隣接する基と結合することを意味する。)
Figure 0006951233
(In the above formula, R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, Z represents a direct bond or an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. * In the formula, these formulas. It means that the group represented by is bonded to an adjacent group at the * part.)

上記炭素原子数1〜6のアルキル基としては、炭素原子数1〜20のアルキル基として上記で例示したものの中の、炭素原子数1〜6のものが挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include those having 1 to 6 carbon atoms among those exemplified above as alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms.

上記炭素原子数1〜6のアルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン等が挙げられる。 Examples of the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms include methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene, and hexylene.

置換基(a)及び(b)中のR11とR12、R12とR13、R13とR14、R19とR20、R20とR21及びR21とR22が、結合して形成する環としては、例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロペンテン環、ベンゼン環、ピロリジン環、ピロール環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環、テトラヒドロピリジン環、ラクトン環及びラクタム環等の5〜7員環並びにナフタレン環及びアントラセン環等の縮合環等が挙げられる。 R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 , R 19 and R 20 , R 20 and R 21 and R 21 and R 22 in the substituents (a) and (b) are bonded. Examples of the ring to be formed include a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cyclopentene ring, a benzene ring, a pyrrolidine ring, a pyrrol ring, a piperazine ring, a morpholine ring, a thiomorpholin ring, a tetrahydropyridine ring, a lactone ring and a lactam ring. Examples thereof include a to 7-membered ring and a fused ring such as a naphthalene ring and an anthracene ring.

上記一般式(I)中のR11〜R26で表される基の中のメチレン基の1つ又は2つ以上は、−O−又は−S−で置換される場合がある。この場合、酸素原子又は硫黄原子が隣り合わないことが条件であり、具体的には、−O−O−、−O−S−、−S−S−を含まないことが条件である。 One or more of the methylene groups among the groups represented by R 11 to R 26 in the above general formula (I) may be substituted with -O- or -S-. In this case, it is a condition that oxygen atoms or sulfur atoms are not adjacent to each other, and specifically, it is a condition that -O-O-, -O-S-, and -S-S- are not included.

上記一般式(I)のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。 Examples of the halogen atom of the general formula (I) include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.

上記一般式(I)のR〜R及びR11〜R26のうち一つ以上がアリール基であるものは、得られる化合物の屈折率が高いことから好ましく、アリール基がフェニル基である場合、化合物の原料であるジオール成分の合成が容易であることから更に好ましい。その中でも、(a)のR15、R16、R17及びR18のうち少なくとも一つ以上がフェニル基又は(b)のR23、R24、R25及びR26のうち少なくとも一つ以上がフェニル基であるものが好ましい。特に、ジオール成分の合成が容易なことから、フェニル基の置換位置が、上記一般式(I)においてMが(a)の場合、R15であることが好ましく、Mが(b)の場合、R23又はR25であることが好ましい。 One or more of R 1 to R 9 and R 11 to R 26 of the above general formula (I) having an aryl group is preferable because the obtained compound has a high refractive index, and the aryl group is a phenyl group. In this case, it is more preferable because the diol component which is the raw material of the compound can be easily synthesized. Among them, at least one or more of R 15 , R 16 , R 17 and R 18 of (a) is a phenyl group, or at least one or more of R 23 , R 24 , R 25 and R 26 of (b). Those having a phenyl group are preferable. In particular, since the synthesis of the diol component is easy, the substitution position of the phenyl group, if the above general formula (I) M is (a), if is preferably R 15, M is (b), It is preferably R 23 or R 25.

上記一般式(I)のMが(a)の化合物は、原料であるジオール成分の合成が容易なことから好ましい。 The compound of the general formula (I) in which M is (a) is preferable because the diol component as a raw material can be easily synthesized.

本発明の化合物の好ましいポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)は20,000〜300,000である。より好ましくは、ポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)は30,000〜120,000である。
上記の平均分子量の化合物を用いることで、生産性が高く、強度に優れた光学レンズが得られることから好ましい。
The preferred polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw) of the compound of the present invention is 20,000 to 300,000. More preferably, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw) is 30,000 to 120,000.
It is preferable to use the above-mentioned compound having an average molecular weight because an optical lens having high productivity and excellent strength can be obtained.

上記化合物は、これを用いた成形体の膜厚を薄くできることから、高屈折率の化合物であることが好ましい。 The above compound is preferably a compound having a high refractive index because the film thickness of the molded product using the compound can be reduced.

上記化合物は、耐熱性に優れることが好ましく、具体的には、ガラス転移温度(Tg)が250℃以上であることが好ましく、280℃以上であることがより好ましい。 The above compound preferably has excellent heat resistance, and specifically, the glass transition temperature (Tg) is preferably 250 ° C. or higher, and more preferably 280 ° C. or higher.

上記化合物は、成形性に優れることから、溶融粘度が1000Pa・s未満であることが好ましく、800Pa・s未満であることがより好ましい。 Since the above compound is excellent in moldability, the melt viscosity is preferably less than 1000 Pa · s, and more preferably less than 800 Pa · s.

本発明の化合物は、原料のジオール成分を、炭酸ジエステルと、塩基性化合物触媒又はエステル交換触媒もしくはその双方からなる混合触媒の存在下で反応させる、公知の溶融重縮合法により製造することができる。ジオール成分は1種のみを用いることもできるし、2種以上を用いることもできる。 The compound of the present invention can be produced by a known melt polycondensation method in which a raw material diol component is reacted with a carbonic acid diester in the presence of a basic compound catalyst, a transesterification catalyst, or a mixed catalyst consisting of both of them. .. Only one type of diol component may be used, or two or more types may be used.

上記ジオール成分の好ましい例として下記に記載の化合物No.A1〜A43が挙げられる。 As a preferable example of the above diol component, the compound No. A1 to A43 can be mentioned.

Figure 0006951233
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Figure 0006951233
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Figure 0006951233
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Figure 0006951233
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上記炭酸ジエステルとしては、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス(クロロフェニル)カーボネート、m−クレジルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等が挙げられる。これらの中でも特にジフェニルカーボネートが好ましい。炭酸ジエステルは、ジオール成分1モルに対して0.97〜1.20モルの比率で用いられることが好ましく、更に好ましくは0.98〜1.10モルの比率である。炭酸ジエステルは1種のみを用いることもできるし、2種以上を用いることもできる。 Examples of the carbonic acid diester include diphenyl carbonate, ditriel carbonate, bis (chlorophenyl) carbonate, m-cresyl carbonate, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, dibutyl carbonate, dicyclohexyl carbonate and the like. Of these, diphenyl carbonate is particularly preferable. The carbonic acid diester is preferably used in a ratio of 0.97 to 1.20 mol, more preferably 0.98 to 1.10 mol, with respect to 1 mol of the diol component. Only one type of carbonic acid diester may be used, or two or more types may be used.

上記塩基性化合物触媒としては、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、および含窒素化合物等があげられる。 Examples of the basic compound catalyst include alkali metal compounds, alkaline earth metal compounds, and nitrogen-containing compounds.

上記アルカリ金属化合物としては、例えばアルカリ金属の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素2ナトリウム、リン酸水素2カリウム、リン酸水素2リチウム、フェニルリン酸2ナトリウム、ビスフェノールAの2ナトリウム塩、2カリウム塩、2セシウム塩、2リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩等が用いられる。 Examples of the alkali metal compound include organic acid salts, inorganic salts, oxides, hydroxides, hydrides and alkoxides of alkali metals. Specifically, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, lithium hydroxide, sodium hydrogencarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, lithium carbonate, sodium acetate, potassium acetate, cesium acetate, lithium acetate, stearer. Sodium acid, potassium stearate, cesium stearate, lithium stearate, sodium boron hydride, sodium phenylated, sodium benzoate, potassium benzoate, cesium benzoate, lithium benzoate, sodium hydrogen phosphate, hydrogen phosphate Dipotassium, 2 lithium hydrogen phosphate, 2 sodium phenyl phosphate, 2 sodium salt of bisphenol A, 2 potassium salt, 2 cesium salt, 2 lithium salt, sodium salt of phenol, potassium salt, cesium salt, lithium salt, etc. are used. Be done.

上記アルカリ土類金属化合物としては、例えばアルカリ土類金属の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム等が用いられる。 Examples of the alkaline earth metal compound include organic acid salts, inorganic salts, oxides, hydroxides, hydrides and alkoxides of alkaline earth metals. Specifically, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide, barium hydroxide, magnesium hydrogencarbonate, calcium hydrogencarbonate, strontium hydrogencarbonate, barium hydrogencarbonate, magnesium carbonate, calcium carbonate, strontium carbonate, barium carbonate, acetic acid. Magnesium, calcium acetate, strontium acetate, barium acetate, magnesium stearate, calcium stearate, calcium benzoate, magnesium phenylphosphate and the like are used.

上記含窒素化合物としては、例えば4級アンモニウムヒドロキシドおよびそれらの塩、アミン類等が挙げられる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル、アリール、基等を有する4級アンモニウムヒドロキシド類、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の3級アミン類、ジエチルアミン、ジブチルアミン等の2級アミン類、プロピルアミン、ブチルアミン等の1級アミン類、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類、あるいは、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基あるいは塩基性塩等が用いられる。 Examples of the nitrogen-containing compound include quaternary ammonium hydroxide and salts thereof, amines and the like. Specifically, quaternary ammonium hydroxides having alkyl, aryl, group, etc. such as tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, etc. Tertiary amines such as triethylamine, dimethylbenzylamine and triphenylamine, secondary amines such as diethylamine and dibutylamine, primary amines such as propylamine and butylamine, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole and benzoimidazole. And other imidazoles, or bases or basic salts such as ammonia, tetramethylammonium borohydride, tetrabutylammonium borohydride, tetrabutylammonium tetraphenylborate, tetraphenylammonium tetraphenylborate and the like are used.

エステル交換触媒としては、亜鉛、スズ、ジルコニウム、鉛の塩が好ましく用いられ、これらは単独もしくは組み合わせて用いることができる。
エステル交換触媒としては、例えば、酢酸亜鉛、安息香酸亜鉛、2−エチルヘキサン酸亜鉛、塩化スズ(II)、塩化スズ(IV)、酢酸スズ(II)、酢酸スズ(IV)、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジメトキシド、ジルコニウムアセチルアセトナート、オキシ酢酸ジルコニウム、ジルコニウムテトラブトキシド、酢酸鉛(II)、酢酸鉛(IV)等が挙げられる。
As the transesterification catalyst, salts of zinc, tin, zirconium and lead are preferably used, and these can be used alone or in combination.
Examples of the ester exchange catalyst include zinc acetate, zinc benzoate, zinc 2-ethylhexanoate, tin chloride (II), tin chloride (IV), tin acetate (II), tin acetate (IV), dibutyltin dilaurate, and dibutyltin. Examples thereof include oxide, dibutyltin dimethoxyde, zirconium acetylacetonate, zirconium oxyacetate, zirconium tetrabutoxide, lead acetate (II) and lead acetate (IV).

これらの触媒は、ジオール成分の合計1モルに対して、10−9〜10−3モルの比率で、好ましくは10−7〜10−4モルの比率で用いられる。 These catalysts are used in a ratio of 10-9 to 10-3 mol, preferably 10-7 to 10-4 mol, relative to a total of 1 mol of the diol component.

溶融重縮合法は、前記の原料および触媒を用いて、常圧または減圧下で加熱し、副生成物を除去しながらエステル交換反応により溶融重縮合を行うものである。反応は、一般には二段以上の多段行程で実施される。 In the melt polycondensation method, melt polycondensation is carried out by a transesterification reaction while heating under normal pressure or reduced pressure using the above-mentioned raw materials and catalyst to remove by-products. The reaction is generally carried out in a multi-step process of two or more steps.

具体的には、常圧または減圧下、第一段目の反応を120〜260℃、好ましくは180〜240℃の温度で0.1〜5時間、好ましくは0.5〜3時間行う。次いで反応系の減圧度を上げながら反応温度を高めてジオール成分と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的には1mmHg以下の減圧下、200〜350℃の温度で0.05〜2時間重縮合反応を行う。このような反応は、連続式で行っても良くまたバッチ式で行ってもよい。上記の反応を行うに際して用いられる反応装置は、錨型攪拌翼、マックスブレンド攪拌翼、ヘリカルリボン型攪拌翼等を装備した縦型であっても、パドル翼、格子翼、メガネ翼等を装備した横型であってもスクリューを装備した押出機型であってもよく、また、これらを重合物の粘度を勘案して適宜組み合わせた反応装置を使用して好適に実施される。 Specifically, the first-stage reaction is carried out at a temperature of 120 to 260 ° C., preferably 180 to 240 ° C. for 0.1 to 5 hours, preferably 0.5 to 3 hours under normal pressure or reduced pressure. Next, the reaction temperature was raised while increasing the degree of pressure reduction of the reaction system to carry out the reaction between the diol component and the carbonic acid diester, and finally polycondensation was carried out at a temperature of 200 to 350 ° C. for 0.05 to 2 hours under a reduced pressure of 1 mmHg or less. Make a reaction. Such a reaction may be carried out continuously or in a batch manner. The reactor used to carry out the above reaction is equipped with paddle blades, lattice blades, glasses blades, etc., even if it is a vertical type equipped with anchor type stirring blades, max blend stirring blades, helical ribbon type stirring blades, etc. It may be a horizontal type or an extruder type equipped with a screw, and it is preferably carried out by using a reaction apparatus in which these are appropriately combined in consideration of the viscosity of the polymer.

一般式(I)で表される繰り返し単位を有する化合物の製造方法では、重合反応終了後、熱安定性および加水分解安定性を保持するために、触媒を除去もしくは失活させる。一般的には、公知の酸性物質の添加による触媒の失活を行う方法が好適に実施される。これらの物質としては、具体的には、安息香酸ブチル等のエステル類、p−トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類、p−トルエンスルホン酸ブチル、p−トルエンスルホン酸ヘキシル等の芳香族スルホン酸エステル類、亜リン酸、リン酸、ホスホン酸等のリン酸類、亜リン酸トリフェニル、亜リン酸モノフェニル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジn−プロピル、亜リン酸ジn−ブチル、亜リン酸ジn−ヘキシル、亜リン酸ジオクチル、亜リン酸モノオクチル等の亜リン酸エステル類、リン酸トリフェニル、リン酸ジフェニル、リン酸モノフェニル、リン酸ジブチル、リン酸ジオクチル、リン酸モノオクチル等のリン酸エステル類、ジフェニルホスホン酸、ジオクチルホスホン酸、ジブチルホスホン酸等のホスホン酸類、フェニルホスホン酸ジエチル等のホスホン酸エステル類、トリフェニルホスフィン、ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン等のホスフィン類、ホウ酸、フェニルホウ酸等のホウ酸類、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等の芳香族スルホン酸塩類、ステアリン酸クロライド、塩化ベンゾイル、p−トルエンスルホン酸クロライド等の有機ハロゲン化物、ジメチル硫酸等のアルキル硫酸、塩化ベンジル等の有機ハロゲン化物等が好適に用いられる。これらの失活剤は、触媒量に対して0.01〜50倍モル、好ましくは0.3〜20倍モル使用される。触媒量に対して0.01倍モルより少ないと、失活効果が不充分となり好ましくない。また、触媒量に対して50倍モルより多いと、化合物の耐熱性が低下し、成形体が着色しやすくなるため好ましくない。 In the method for producing a compound having a repeating unit represented by the general formula (I), the catalyst is removed or inactivated after the completion of the polymerization reaction in order to maintain thermal stability and hydrolysis stability. In general, a method of deactivating the catalyst by adding a known acidic substance is preferably carried out. Specific examples of these substances include esters such as butyl benzoate, aromatic sulfonic acids such as p-toluene sulfonic acid, and aromatic sulfonic acids such as butyl p-toluene sulfonic acid and hexyl p-toluene sulfonic acid. Esters, phosphoric acids such as sulphonic acid, sulphonic acid, phosphonic acid, triphenyl sulphonate, monophenyl sulphonate, diphenyl sulphonate, diethyl sulphonate, din-propyl sulphonate, sulphate Subphosphate esters such as din-butyl, din-hexyl sulfonate, dioctyl sulfonate, monooctyl sulfonate, triphenyl phosphate, diphenyl phosphate, monophenyl phosphate, dibutyl phosphate, phosphorus Phosphonates such as dioctyl acid and monooctyl phosphate, phosphonic acids such as diphenylphosphonic acid, dioctylphosphonic acid and dibutylphosphonic acid, phosphonic acid esters such as diethylphenylphosphonate, triphenylphosphine, bis (diphenylphosphino) ) Phosphins such as ethane, boric acids such as boric acid and phenylboric acid, aromatic sulfonates such as tetrabutylphosphonium salt of dodecylbenzenesulfonic acid, organic halogens such as chloride stearate, benzoyl chloride and chloride p-toluenesulfonic acid. Compounds, alkyl sulfates such as dimethyl sulfate, organic halides such as benzyl chloride, and the like are preferably used. These deactivators are used in an amount of 0.01 to 50 times mol, preferably 0.3 to 20 times mol, based on the amount of catalyst. If it is less than 0.01 times the molar amount of the catalyst amount, the deactivating effect becomes insufficient, which is not preferable. On the other hand, if the amount is more than 50 times the molar amount of the catalyst, the heat resistance of the compound is lowered and the molded product is easily colored, which is not preferable.

触媒失活後、ポリマー中の低沸点化合物を0.1〜1mmHgの圧力、200〜350℃の温度で脱揮除去する工程を設けても良く、このためには、パドル翼、格子翼、メガネ翼等、表面更新能の優れた攪拌翼を備えた横型装置、あるいは薄膜蒸発器が好適に用いられる。 After the catalyst is deactivated, a step of volatilizing and removing the low boiling point compound in the polymer at a pressure of 0.1 to 1 mmHg and a temperature of 200 to 350 ° C. may be provided. A horizontal device having a stirring blade having excellent surface renewal ability such as a blade, or a thin film evaporator is preferably used.

本発明の成形体は、上記一般式(I)で表される繰り返し単位を有する化合物を含有していればよく、特に限定されないが、成型性が高く、高透明性、高屈折率であり、薄膜を形成できることから光学材料、特に光学レンズに好ましく使用できる。 The molded product of the present invention may contain a compound having a repeating unit represented by the above general formula (I), and is not particularly limited, but has high moldability, high transparency, and high refractive index. Since it can form a thin film, it can be preferably used for optical materials, especially optical lenses.

上記成形体は、異物含有量が極力少ないことが望まれるため、上記化合物を製造する際には、溶融原料の濾過、触媒液の濾過が好適に実施される。濾過に用いるフィルターのメッシュは5μm以下であることが好ましく、より好ましくは1μm以下である。さらに、得られた上記化合物のポリマーフィルターによる濾過が好適に実施される。ポリマーフィルターのメッシュは100μm以下であることが好ましく、より好ましくは30μm以下である。また、上記化合物のペレットを採取する工程は当然低ダスト環境でなければならず、クラス1000以下であることが好ましく、より好ましくはクラス100以下である。 Since it is desired that the molded product contains as little foreign matter as possible, filtration of the molten raw material and filtration of the catalyst solution are preferably carried out when producing the compound. The mesh of the filter used for filtration is preferably 5 μm or less, more preferably 1 μm or less. Further, filtration of the obtained compound with a polymer filter is preferably performed. The mesh of the polymer filter is preferably 100 μm or less, more preferably 30 μm or less. Further, the step of collecting the pellets of the above compound must naturally be in a low dust environment, and is preferably class 1000 or less, and more preferably class 100 or less.

本発明の成形体は、上記一般式(I)で表される繰り返し単位を有する化合物を射出成形機あるいは射出圧縮成形機により所望の形状に射出成形することによって得ることができる。射出成形の成形条件は特に限定されないが、成形温度は好ましくは180〜280℃である。また、射出圧力は好ましくは50〜1700kg/cmである。 The molded product of the present invention can be obtained by injection molding a compound having a repeating unit represented by the above general formula (I) into a desired shape by an injection molding machine or an injection compression molding machine. The molding conditions for injection molding are not particularly limited, but the molding temperature is preferably 180 to 280 ° C. The injection pressure is preferably 50 to 1700 kg / cm 2 .

成形体への異物の混入を極力避けるため、成形環境も当然低ダスト環境でなければならず、クラス1000以下であることが好ましく、より好ましくはクラス100以下である。 In order to avoid foreign matter from being mixed into the molded product as much as possible, the molding environment must naturally be a low dust environment, preferably class 1000 or less, and more preferably class 100 or less.

このようにして得られる本発明の成形体(光学レンズ)は、JIS−K−7142の方法で測定した屈折率が1.60〜1.65、好ましくは1.62〜1.64である。 The molded product (optical lens) of the present invention thus obtained has a refractive index of 1.60 to 1.65, preferably 1.62 to 1.64, as measured by the method of JIS-K-7142.

上記光学レンズの表面には、必要に応じ、反射防止層あるいはハードコート層といったコート層が設けられていても良い。反射防止層は、単層であっても多層であっても良く、有機物であっても無機物であっても構わないが、無機物であることが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタニウム、酸化セリウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム等の酸化物あるいはフッ化物が例示される。これらのうちでより好ましいものは酸化ケイ素、酸化ジルコニウムであり、更に好ましいものは酸化ケイ素と酸化ジルコニウムの組み合わせである。
また、反射防止層に関しては、単層/多層の組み合わせ、またそれらの成分、厚みの組み合わせ等について特に限定はされないが、好ましくは2層構成又は3層構成、特に好ましくは3層構成である。また、該反射防止層全体として、光学レンズの厚みの0.00017〜3.3%、具体的には0.05〜3μm、特に好ましくは1〜2μmとなるような厚みで形成するのがよい。
A coat layer such as an antireflection layer or a hard coat layer may be provided on the surface of the optical lens, if necessary. The antireflection layer may be a single layer or a multi-layer structure, and may be an organic substance or an inorganic substance, but is preferably an inorganic substance. Specific examples thereof include oxides or fluorides such as silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, cerium oxide, magnesium oxide and magnesium fluoride. Of these, more preferred are silicon oxide and zirconium oxide, and even more preferred are combinations of silicon oxide and zirconium oxide.
The antireflection layer is not particularly limited in terms of the combination of single layer / multilayer, their components, the combination of thickness, and the like, but is preferably a two-layer structure or a three-layer structure, and particularly preferably a three-layer structure. Further, the entire antireflection layer is preferably formed to have a thickness of 0.00017 to 3.3% of the thickness of the optical lens, specifically 0.05 to 3 μm, particularly preferably 1 to 2 μm. ..

以下に本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に何らの制限を受けるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

<実施例1>
上記化合物No.A1;1514 g(4.0mol)、ジフェニルカーボネート;878.2g(4.1mol)、および炭酸水素ナトリウム;2.1mg(2.5×10−5mol)を攪拌機および留出装置付きの5リットル反応器に入れ、窒素雰囲気760Torrの下1時間かけて215℃に加熱し撹拌した。
<Example 1>
The above compound No. A1; 1514 g (4.0 mol), diphenyl carbonate; 878.2 g (4.1 mol), and sodium bicarbonate; 2.1 mg (2.5 x 10-5 mol) in 5 liters with stirrer and distiller It was placed in a reactor and heated to 215 ° C. over 1 hour under a nitrogen atmosphere of 760 Torr and stirred.

その後、15分かけて減圧度を150Torrに調整し、215℃、150Torrの条件下で20分間保持しエステル交換反応を行った。さらに37.5℃/hrの速度で240℃まで昇温し、240℃、150Torrで10分間保持した。その後、10分かけて120Torrに調整し、240℃、120Torrで70分間保持した。その後、10分かけて100Torrに調整し、240℃、100Torrで10分間保持した。更に40分かけて1Torr以下とし、240℃、1Torr以下の条件下で10分間撹拌下重合反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで常圧にし、化合物No.1を得た。 Then, the degree of reduced pressure was adjusted to 150 Torr over 15 minutes, and the transesterification reaction was carried out by holding the mixture under the conditions of 215 ° C. and 150 Torr for 20 minutes. Further, the temperature was raised to 240 ° C. at a rate of 37.5 ° C./hr, and the temperature was maintained at 240 ° C., 150 Torr for 10 minutes. Then, it was adjusted to 120 Torr over 10 minutes and kept at 240 ° C. and 120 Torr for 70 minutes. Then, it was adjusted to 100 Torr over 10 minutes and kept at 240 ° C. and 100 Torr for 10 minutes. Further, the temperature was reduced to 1 Torr or less over 40 minutes, and the polymerization reaction was carried out under the conditions of 240 ° C. and 1 Torr or less for 10 minutes with stirring. After completion of the reaction, nitrogen was blown into the reactor to bring it to normal pressure, and compound No. I got 1.

<比較例1>
実施例1の化合物No.A1をビスフェノールAに変えた以外は、実施例1と同様の操作を行い、比較化合物No.1を得た。
<Comparative example 1>
Compound No. of Example 1 The same operation as in Example 1 was carried out except that A1 was changed to bisphenol A, and the comparative compound No. I got 1.

<比較例2>
実施例1の化合物No.A1を9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレンに変えた以外は、実施例1と同様の操作を行い、比較化合物No.2を得た。
<Comparative example 2>
Compound No. of Example 1 The same procedure as in Example 1 was carried out except that A1 was changed to 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene. I got 2.

<比較例3>
実施例1の化合物No.A1を1,4−ブタンジオールに変えた以外は、実施例1と同様の操作を行い、比較化合物No.3を得た。
<Comparative example 3>
Compound No. of Example 1 The same operation as in Example 1 was carried out except that A1 was changed to 1,4-butanediol. I got 3.

<実施例2、比較例4〜6>
得られた化合物No.1及び比較化合物No.1〜3について、以下の物性を下記に示す方法によって測定した。得られた測定結果を表1に示す。
<Example 2, Comparative Examples 4 to 6>
The obtained compound No. 1 and Comparative Compound No. The following physical properties of 1 to 3 were measured by the methods shown below. The obtained measurement results are shown in Table 1.

<ポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)>
GPC(日立社製、型番:ELITE LaChrom L−2000、カラム:KF−805、−804、−803連結)を用い、クロロホルムを展開溶媒として、既知の分子量(分子量分布=1)の標準ポリスチレンを用いて検量線を作成した。この検量線に基づいて、GPCのリテンションタイムから算出した。
<Polystyrene equivalent weight average molecular weight (Mw)>
Using GPC (manufactured by Hitachi, model number: ELITE LaChrom L-2000, column: KF-805, -804, -803 connection), using chloroform as the developing solvent, using standard polystyrene with a known molecular weight (molecular weight distribution = 1). A calibration curve was created. Based on this calibration curve, it was calculated from the retention time of GPC.

<ガラス転移温度(Tg)>
示差熱走査熱量分析計(DSC:日立社製、型番:DSC7000X)を用いて測定を行い、得られたDSC曲線のベースラインと変曲点での接線との交点の温度をTgとした。
<Glass transition temperature (Tg)>
Measurement was performed using a differential thermal scanning calorimeter (DSC: manufactured by Hitachi, model number: DSC7000X), and the temperature at the intersection of the baseline of the obtained DSC curve and the tangent at the inflection point was defined as Tg.

<屈折率>
得られた化合物を3mm厚×8mm×8mmの直方体にプレス成形し、ATAGO(株)製屈折率計により、JIS−K−7142の方法で測定した。
<Refractive index>
The obtained compound was press-molded into a rectangular parallelepiped having a thickness of 3 mm × 8 mm × 8 mm, and measured by the method of JIS-K-7142 with a refractive index meter manufactured by ATAGO Co., Ltd.

<溶融粘度>
東洋精機製作所(株)社製の細管流動式レオメーターを用いて、下記の操作を行い、溶融粘度を測定した。
得られた化合物を300℃に加熱して完全に溶融した後、射出速度を0.01〜150mm/sに設定し、長さ(L)と径(D)の比(L/D)が40/2、20/1、10/0.5、15/1、10/1、5/1の6種類の溶融粘度測定用のキャピラリを用いて測定した。
上記評価において溶融粘度が800Pa・s未満のものを〇、800Pa・s以上1000Pa・s未満のものを△、1000Pa・s以上のものを×とした。
<Melting viscosity>
Using a thin tube flow rheometer manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd., the following operation was performed to measure the melt viscosity.
After heating the obtained compound to 300 ° C. to completely melt it, the injection rate was set to 0.01 to 150 mm / s, and the ratio (L / D) of the length (L) to the diameter (D) was 40. Measurements were made using six types of capillaries for measuring melt viscosity: / 2, 20/1, 10 / 0.5, 15/1, 10/1, and 5/1.
In the above evaluation, those having a melt viscosity of less than 800 Pa · s were rated as 〇, those having a melt viscosity of 800 Pa · s or more and less than 1000 Pa · s were rated as Δ, and those having a melt viscosity of 1000 Pa · s or more were rated as x.

Figure 0006951233
Figure 0006951233

本発明の化合物は、表1に示す通り、高品質な光学材料を提供できることから有用である。具体的には、耐熱性が高く(高Tg)、低膜厚(高屈折率)で成形性に優れる(低溶融粘度)光学材料を提供できる。
As shown in Table 1, the compound of the present invention is useful because it can provide a high-quality optical material. Specifically, it is possible to provide an optical material having high heat resistance (high Tg), low film thickness (high refractive index), and excellent moldability (low melt viscosity).

Claims (7)

下記一般式(I)で表される繰り返し単位を有する化合物。
Figure 0006951233
(式中、Mは、下記式(a)又は(b)で表される群から選ばれる置換基を表し、
Mで表される基中の水素原子はハロゲン原子で置換される場合があり、
、R、R、R、R、R、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜20の炭化水素基又はハロゲン原子を表し、
は、単結合又は−RO−を表し、
は、単結合又は−OR−を表し、
は、炭素原子数1〜20の炭化水素基を表し、
、R、R、R、R、R、R、R及びRで表される基の中のメチレン基の1つ又は2つ以上は、酸素原子が隣り合わない条件で、−O−で置換される場合もあり、
化合物の構造中に、複数存在するR、R、R、R、R、R、R、R、R、X、X及びMは、それぞれ、同一である場合も、異なる場合もある。)
Figure 0006951233
(式中、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25及びR26は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜20の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数2〜20の基又はハロゲン原子を表し、
(a)のR 15 、R 16 、R 17 及びR 18 のうち少なくとも一つがアリール基又は(b)のR 23 、R 24 、R 25 及びR 26 のうち少なくとも一つがアリール基であり、
11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25及びR26で表される基中のメチレン基の1つ又は2つ以上は、酸素原子又は硫黄原子が隣り合わない条件で、−O−又は−S−で置換される場合があり、
11とR12、R12とR13、R13とR14、R19とR20、R20とR21及びR21とR22は結合して環を形成する場合があり、
式中の*は、これらの式で表される基が、*部分で、隣接する基と結合することを意味する。)
A compound having a repeating unit represented by the following general formula (I).
Figure 0006951233
(In the formula, M represents a substituent selected from the group represented by the following formula (a) or (b).
The hydrogen atom in the group represented by M may be replaced with a halogen atom.
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a halogen atom, respectively.
X 1 represents a single bond or -R 9 O-
X 2 represents a single bond or a -OR 9 - represents,
R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
One or more of the methylene groups among the groups represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 have oxygen atoms next to each other. In some cases, it may be replaced with -O- under no conditions.
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , X 1 , X 2, and M, which are present in a plurality in the structure of the compound, are the same, respectively. In some cases, it may be different. )
Figure 0006951233
(In the formula, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 and R. 26 independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a group containing a heterocycle and having 2 to 20 carbon atoms, or a halogen atom.
At least one of R 15 , R 16 , R 17 and R 18 of (a) is an aryl group or at least one of R 23 , R 24 , R 25 and R 26 of (b) is an aryl group.
Represented by R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 and R 26. One or more of the methylene groups in the group may be replaced with -O- or -S- under the condition that the oxygen atom or the sulfur atom is not adjacent to each other.
R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 , R 19 and R 20 , R 20 and R 21 and R 21 and R 22 may combine to form a ring.
* In the formulas means that the groups represented by these formulas are bonded to adjacent groups at the * part. )
上記一般式(I)において、(a)のR15、R16、R17及びR18のうち少なくとも一つがフェニル基又は(b)のR23、R24、R25及びR26のうち少なくとも一つがフェニル基である請求項1に記載の化合物。 In the above general formula (I), at least one of R 15 , R 16 , R 17 and R 18 of (a) is a phenyl group or at least one of R 23 , R 24 , R 25 and R 26 of (b). The compound according to claim 1, wherein one is a phenyl group. 上記一般式(I)において、(a)のRIn the above general formula (I), R of (a) 1515 がアリール基又は(b)のRIs an aryl group or R of (b) 2323 及びRAnd R 2525 のうち少なくとも一つがアリール基である請求項1に記載の化合物。The compound according to claim 1, wherein at least one of them is an aryl group. 上記一般式(I)において、(a)のR15がフェニル基又は(b)のR23及びR25のうち少なくとも一つがフェニル基である請求項2又は3に記載の化合物。 The compound according to claim 2 or 3 , wherein in the general formula (I), R 15 of (a) is a phenyl group or at least one of R 23 and R 25 of (b) is a phenyl group. 上記一般式(I)において、Mが、(a)である請求項1〜の何れか一項に記載の化合物。 The compound according to any one of claims 1 to 4 , wherein in the general formula (I), M is (a). 請求項1〜の何れか一項に記載の化合物を含有する成形体。 A molded product containing the compound according to any one of claims 1 to 5. 請求項に記載の成形体からなる光学材料。 An optical material comprising the molded product according to claim 6.
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