JP6954273B2 - 感光性組成物、硬化膜および有機ｅｌ表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、感光性組成物、硬化膜および有機ＥＬ表示装置に関する。

有機ＥＬ表示装置は、陰極から注入された電子と、陽極から注入された正孔との再結合によるエネルギーを用いて発光する自発光型の表示装置である。有機ＥＬ表示装置の発光画素に用いられる有機発光材料はガス成分や水分に弱く、これらに曝されることで有機ＥＬ表示装置の発光信頼性が低下することが知られている。発光信頼性を向上するためには、有機発光材料自身の耐久性を高めるだけでなく、電極上に形成された画素分割層や、駆動回路を覆う平坦化層といった発光素子を構成する周辺材料の特性向上が必要不可欠である。また、有機ＥＬ表示装置は屋外における太陽光などの外光が入射した場合、外光反射により視認性が低下するため、外光反射を防止する技術が必要とされる。外光反射を防止する技術としては、例えば、発光素子の光取り出し側に偏光板を具備する技術が一般的であるが、偏光板は発光素子から出力された光量の一部を遮蔽してしまうため、表示輝度が低下する問題があった。この問題を解決するため、有機ＥＬ表示装置の表示部に偏光板を具備させることなく外光反射を低減して表示輝度を高めることを目的とし、画素分割層中に顔料などの着色材を分散し含有させて、遮光性を付与する技術が開示されている。

その具体例として、黒色の画素分割層を形成するための感光性組成物が挙げられる（例えば、特許文献１および２）。
国際公開第２０１７／０５７２８１号公報 国際公開第２０１７／１６９７６３号公報

近年、表示装置のデザインの多様化に伴い、パネル表示部ごと曲げることができ、使用者が折り畳むことができるフレキシブル有機ＥＬ表示装置が開発されている。表示輝度の向上とは別に、厚く屈曲性に乏しい偏光板を具備することなく外光反射を抑制できることから、フレキシブル有機ＥＬ表示装置の屈曲性を向上することができることができる点から画素分割層を黒色化する技術がより注目されてきている。ところが、特許文献１および２に記載の感光性組成物を用いて黒色の画素分割層を形成すると、画素分割層の屈曲性と発光信頼性が不十分であるという課題が生じた。これら課題は表示部における単位面積あたりの画素分割層の体積に依存性が大きく、例えば、良好なパターン加工性を得ながら、さらに高い外光反射抑制機能を得るため、厚さ１μｍであった画素分割層を、厚さ２μｍに変更して形成すると、屈曲性と発光信頼性がさらに悪化してしまうという課題があった。以上の背景から、屈曲性と発光信頼性に優れた画素分割層の形成を可能とする感光性組成物が切望されていた。

本発明の感光性組成物は、上記課題を解決するため、次の構成を有する。すなわち、
下記（ａ−１）〜（ａ−２）の群から選ばれる化合物を少なくとも１種含有し、かつ（ｂ）感光剤を含有する感光性組成物であって、前記（ａ−１）〜（ａ−２）の群から選ばれる化合物が有する炭素数９〜１９の長鎖アルキル基が、第三級炭素および／または第四級炭素を合計３つ以上有する分岐アルキル基である、感光性組成物、である。

（ａ−１）炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するエポキシ化合物
（ａ−２）下記一般式（１）で表される構造を有する樹脂

（上記一般式（１）中、Ｒ^１は炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を表し、Ｒ^２はＣＯＯＣＨ_２またはオキシメチレン基を表し、＊は結合位置を表す。）

本発明の硬化膜は、次の構成を有する。すなわち、
上記感光性組成物の硬化物からなる硬化膜、である。

本発明の有機ＥＬ表示装置は、次の構成を有する。すなわち、
上記感光性組成物の硬化膜を具備する有機ＥＬ表示装置、である。

本発明の感光性組成物は、さらに、（ｃ）近赤外線遮光性を有する無機顔料を含有することが好ましい。

本発明の感光性組成物は、前記（ｃ）近赤外線遮光性を有する無機顔料が、チタン原子を有する無機黒色顔料、ジルコニウム原子を有する無機黒色顔料およびアモルファスカーボンブラックの群から少なくとも１種選ばれる無機顔料を含有することが好ましい。

本発明の感光性組成物は、前記（ａ−１）〜（ａ−３）の群から選ばれる化合物が有する長鎖アルキル基が、下記構造式（５０）で表される分岐アルキル基であることが好ましい。

（上記一般式（５０）中、*は結合位置を表す。）
本発明の感光性組成物は、前記（ａ−２）の化合物を含有し、上記一般式（１）で表される構造を有する樹脂がポリイミド樹脂であることが好ましい。

本発明の感光性組成物は、さらに、（ｄ）有機黒色顔料を含有することが好ましい。

本発明の感光性組成物は、前記（ｂ）感光剤が、ラジカル重合性基を２つ以上有する化合物および光重合開始剤を含有し、ネガ型感光性を有することが好ましい。

本発明の感光性組成物は、前記（ｂ）感光剤が、光酸発生剤を含有し、ポジ型感光性を有することが好ましい。

本発明の感光性組成物は、さらに、（ｅ）バナジルフタロシアニン系近赤外線吸収染料を含有することが好ましい。

本発明の感光性組成物は、膜厚２．０μｍの硬化膜にしたときの、波長７８０〜１，０００ｎｍにおける光透過率の最大値が５．０％以下であり、かつ周波数１ｋＨｚにおける誘電率が５．０未満であることが好ましい。

本発明の感光性組成物によれば、屈曲性に優れた直線性の高いパターン状の硬化膜を得ることができ、該硬化膜を有機ＥＬ表示装置の画素分割層に用いれば、発光信頼性を向上することができる。

本発明の実施形態を示す、有機ＥＬ表示装置のＴＦＴ基板の断面図である。 実施例における、硬化膜のパターンエッジの波打ちを示す概略図である。 実施例における、硬化膜の屈曲性を評価する際の試験方法を示す概略図である。 実施例における、画素分割層を備えた有機ＥＬ表示装置の作製方法を示す概略図である。

以下、本発明について詳細に説明する。

本明細書中において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

可視光線とは、波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ未満の領域の光を意味し、近赤外線とは、波長７８０ｎｍ以上１，０００ｎｍ以下の領域の光を意味する。

遮光性とは、硬化膜に対して垂直方向に入射した光の強度と比べて、透過した光の強度を低下させる機能を意味する。

着色材の呼称に用いた「Ｃ．Ｉ．」とは、Ｃｏｌｏｕｒ Ｉｎｄｅｘ Ｇｅｎｅｒｉｃ Ｎａｍｅの略であり、Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｄｙｅｒｓ ａｎｄ Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ発行のカラーインデックスに基づき、カラーインデックスに登録済の着色材に関して、Ｃｏｌｏｕｒ Ｉｎｄｅｘ Ｇｅｎｅｒｉｃ Ｎａｍｅが、顔料または染料の化学構造や結晶形を表す。本明細書中において、アルカリ現像液とは、特に断りがない限り、有機系アルカリ水溶液を指す。

本発明における感光性組成物とは、後述するネガ型感光性またはポジ型感光性のうち、いずれか一方の感光性を有する、アルカリ現像型の組成物を意味する。例えば、ＵＶ硬化型塗料やＵＶ硬化型接着剤などのように、光を照射することにより硬化する特性を有していたとしても、上述のネガ型感光性またはポジ型感光性のうち、いずれの感光性も有さず、かつアルカリ現像型ではない組成物は、本発明の感光性組成物には該当しない。

樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）とは、テトラヒドロフランをキャリヤーとするゲルパーミエーションクロマトグラフィーで分析し、標準ポリスチレンによる検量線を用いて換算した値を意味する。

カーボンブラックおよびアモルファスカーボンブラックについては、対象技術分野ごとの慣習により、構成元素が炭素である点から、有機黒色顔料に分類する場合と、電気特性および光学特性の観点から無機黒色顔料に分類する場合とがあるが、本明細書中においては後者に準じ、カーボンブラックおよびアモルファスカーボンブラックを無機顔料に分類する。

本発明者らは上述の課題について原理検証を行い、顔料などの着色材成分の含有量を多くするほど屈曲性が低下する傾向があり、概して、画素分割層に付与する遮光性とトレードオフの関係となることを明らかとした。ここでいう屈曲性とは、画素分割層を一定の曲率半径で湾曲させた際に生ずる亀裂（クラック）や破断の起こりづらさをいい、屈曲性が低いほど非点灯などの発光異常の原因となるため、表示装置としての価値が下がってしまう。また、屋外で太陽光などの外光が表示部に照射され続けることは、発光素子の劣化が速まり、発光信頼性が低下しやすいことが判った。すなわち、偏光板を具備しない有機ＥＬ表示装置では、偏光板を具備する有機ＥＬ表示装置と比べて、より高い発光信頼性が必要となることを明らかとした。ここでいう発光信頼性の低下とは、有機ＥＬ表示装置を連続で点灯し続けた際、発光素子における発光面積が点灯初期を基準として点灯時間の経過とともに縮小し、結果として輝度が低下する現象をいい、発光信頼性が低いほど表示装置としての価値が下がってしまう。

以上を鑑みて本発明者らが鋭意検討を行なった結果、特定範囲の炭素数の長鎖アルキル基とエポキシ基とを併せ持つ化合物、または該化合物が有するエポキシ基を開環付加させた特定構造を有する樹脂に、本課題の解決にあたり格別顕著な効果があることを発見した。すなわち、上記（ａ−１）〜（ａ−３）の群から選ばれる化合物を少なくとも１種含有し、かつ（ｂ）感光剤を含有する感光性組成物により、屈曲性と発光信頼性に優れた画素分割層を、高いパターン直線性を維持しつつ形成することが可能となることを見出し、本発明を完成させた。
本発明の感光性組成物は、下記（ａ−１）〜（ａ−３）の群から選ばれる化合物を少なくとも１種含有する。

（ａ−１）炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するエポキシ化合物
（ａ−２）下記一般式（１）で表される構造を有する樹脂
（ａ−３）下記一般式（２）で表される構造を有する樹脂。

（上記一般式（１）中、Ｒ^１は炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を表し、Ｒ^２はＣＯＯＣＨ_２またはオキシメチレン基を表し、＊は結合位置を表す。）

（上記一般式（２）中、Ｒ^３は炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を表し、Ｒ^４はＣＯＯＣＨ_２またはオキシメチレン基を表し、＊は結合位置を表す。）
（ａ−１）の炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するエポキシ化合物、（ａ−２）の上記一般式（１）で表される構造を有する樹脂、（ａ−３）の上記一般式（２）で表される構造を有する樹脂は、それぞれ単独であるいは複数種を混合して用いることができる。また、（ａ−２）の上記一般式（１）で表される構造を有する樹脂または（ａ−３）の上記一般式（２）で表される構造を有する樹脂が、さらに分子内にエポキシ基を有する場合であっても、（ａ−１）の炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するエポキシ化合物には属さないものと定義する。

本発明の感光性組成物が含有する上記（ａ−１）〜（ａ−３）の群から選ばれる化合物は、最終的に得られる画素分割層に、高い屈曲性と高い耐光性とを同時に与えることができる。耐光性が改善されるため、結果として、該画素分割層を具備した有機ＥＬ表示装置に発光信頼性の向上をもたらす。ここでいう耐光性とは、一般的によく知られた酸素存在下における硬化膜の耐変色性ではなく、無酸素下の封止空間内における発光素子の耐劣化性を意味する。

さらに、第三の効果として、上記（ａ−１）〜（ａ−３）の群から選ばれる化合物は、最終的に得られる画素分割層の誘電率を下げる効果を奏する。この効果は、例えば、遮光性を有さない中空シリカなどを含有させて膜の中に空隙を設けることによる従来の低誘電率化の方法と比べて、硬化膜の屈曲性を損なうことが無い点で大きな優位性がある。また、概して画素分割層を構成する全ての有機成分と比べて誘電率が高い、後述の（ｃ）近赤外線遮光性を有する無機顔料を含有させた場合であっても、画素分割層の誘電率の過度な上昇を抑制し、輝度ムラなどの駆動上の弊害を抑制することができる。すなわち、誘電率の上昇を低く抑えていながら、有機顔料や染料と比べて屈折率が高く、体積あたりの遮光性が高い無機顔料を含有させることができるようになることから、所望の遮光性を発現させるために必要となる画素分割層中に占める粒子成分の体積を少なく設定することができ、結果として、高い遮光性を発現していながら、高い屈曲性を得ることができる。

（ａ−１）の炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するエポキシ化合物が有する炭素数９〜１９の長鎖アルキル基としては、直鎖アルキル基、分岐アルキル基が挙げられ、例えば、ｎ−（またはイソ）ノニル基、ｎ−（またはイソ）デシル基、ｎ−（またはイソ）ドデシル基、ｎ−（またはイソ）トリデシル基、ｎ−（またはイソ）テトラデシル基、ｎ−（またはイソ）ペンタデシル基、ｎ−（またはイソ）パルミチル基、ｎ−（またはイソ）ヘキサデシル基、ｎ−（またはイソ）ヘプタデシル基、ｎ−（またはイソ）オクタデシル基、ｎ−（またはイソ）ステアリル基、ｎ−（またはイソ）ノナデシル基が挙げられる。ここでいう、ｎ−とは直鎖状を示し、イソとは分岐状を示す。ここでいう長鎖とは、１つのアルキル基を構成する炭素数が９以上であることをいい、炭素数が８以下であるアルキル基はこれに該当しない。また、（ａ−１）の炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するエポキシ化合物が有する炭素数９〜１９の長鎖アルキル基は、環状アルキル基を含まない。

（ａ−１）の炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するエポキシ化合物が有するエポキシ基とは、脂環式エポキシ基およびグリシジル基をも包括する。また、（ａ−１）成分が分子内に有するエポキシ基の数は特に限定されない。

（ａ−１）の炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するエポキシ化合物は、一価の炭素数９〜１９の長鎖アルキル基とカルボキシル基とを分子内に有する化合物、または一価の炭素数９〜１９の長鎖アルキル基と水酸基とを有する化合物を由来するエポキシ変性物として合成することができる。例えば、グリシジルエステル類、グリシジルエーテル類、グリシジルエーテル／エステル類が挙げられ、これら化合物は、非感光性の熱硬化型エポキシ樹脂塗料を低粘度化し、塗布性を向上するために用いられる反応性希釈剤として一般に入手することができ、市販品を用いても良い。本発明においては、屈曲性と発光信頼性の観点から、（ａ−１）の炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するエポキシ化合物の１分子あたりの分子量は、２００〜３，０００が好ましく、３００〜１，０００がより好ましい。

（ａ−１）の炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するエポキシ化合物の具体例としては、炭素数９の分岐アルキル基を有する構造式（３）または構造式（４）で表される化合物、炭素数１０の分岐アルキル基を有する構造式（５）または構造式（６）で表される化合物、炭素数１２の直鎖アルキル基を有する構造式（７）または構造式（８）で表される化合物、炭素数１５の分岐アルキル基を有する構造式（９）または構造式（１０）で表される化合物、炭素数１７の分岐アルキル基を有する構造式（１１）、（１２）、（１３）および（１４）のいずれかで表される化合物、炭素数１７の直鎖アルキル基を有する構造式（１５）または構造式（１６）で表される化合物、炭素数１９の分岐アルキル基を有する構造式（１７）または構造式（１８）で表される化合物、炭素数９の分岐アルキル基を有する構造式（１９）で表される化合物、炭素数１２の直鎖アルキル基を有する構造式（２０）で表される化合物、炭素数１４の直鎖アルキル基を有する構造式（２１）で表される化合物、炭素数１６の分岐アルキル基を有する構造式（２２）で表される化合物、炭素数１８の分岐アルキル基を有する構造式（２３）で表される化合物が挙げられる。

本発明の効果を得るためには、本発明において、上記（ａ−１）〜（ａ−３）の群から選ばれる化合物が有する長鎖アルキル基の炭素数が９〜１９の範囲にある必要がある。上記（ａ−１）〜（ａ−３）の群から選ばれる化合物が有する長鎖アルキル基の炭素数が、９に満たない場合には、屈曲性と発光信頼性を向上することができず、炭素数が１９を超える場合には、パターン直線性の高い画素分割層を形成することができなくなる。パターン直線性が高い、すなわちパターンエッジがいびつでないほど、開口部の面積が均一で解像度の高い画素分割層を安定的に得ることができ、画素分割層の表面に形成される電極層の欠陥や断線を防ぎ、発光画素の非点灯箇所の発生を抑制することができる。

炭素数９〜１９の長鎖アルキル基の炭素数は、屈曲性と発光信頼性の観点から１１以上が好ましく、１３以上がより好ましい。また、後述する現像工程におけるアルカリ現像液への溶解性を好適なものとし、パターン直線性を向上する上で、１８以下が好ましく、１７以下がより好ましい。

炭素数９〜１９の長鎖アルキル基は、屈曲性と発光信頼性に優れる点から分岐構造を有することが好ましく、中でも、第三級炭素および／または第四級炭素を合計３つ以上有する分岐アルキル基がより好ましく、合計４つ以上有する分岐アルキル基がさらに好ましい。ここでいう、第三級炭素および／または第四級炭素の数は、炭素数９〜１９のアルキル基が有する分岐点の数を表す。第三級炭素および／または第四級炭素の合計数が４つ以上である長鎖アルキル基の具体例としては、下記一般式（５０）で表される分岐アルキル基を好ましく挙げることができる。このような長鎖アルキル基を有する化合物の具体例としては、構造式（１１）、（１２）および（２３）のいずれかで表される化合物が挙げられる。中でも、後述するキュア工程において熱架橋密度を高め、より高い屈曲性と発光信頼性を得る上で、エポキシ基を分子内に２つ以上有する、構造式（１１）で表される化合物を本発明の感光性組成物に特に好ましく用いることができる。また、長鎖アルキル基の炭素数が９〜１９の範囲にあるエポキシ化合物の群において、炭素数および／または分岐数の異なる化合物を複数種混合して用いることができる。

本発明の感光性組成物中における（ａ−１）の炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するエポキシ化合物の含有量は、屈曲性と発光信頼性を十分に高める上で、感光性組成物中の全固形分中１０．０重量％以上が好ましく、１５．０重量％以上がより好ましい。アルカリ現像液への溶解性を好適なものとし良好なパターン加工性を得る上で、２５．０重量％以下が好ましく、２０．０重量％以下がより好ましい。

また、本発明の感光性組成物は、さらに、炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有さないエポキシ化合物を含有させることで、アルカリ現像液に対する溶解速度や、キュア工程における架橋密度などを調整することができる。

（ａ−２）の上記一般式（１）で表される構造を有する樹脂としては、例えば、水酸基を有する樹脂に、炭素数９〜１９の長鎖アルキル基と１つのエポキシ基とを有する化合物を開環付加反応させることで得られる樹脂が挙げられる。水酸基を有する樹脂としては、水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂を好ましく用いることができる。

アルカリ可溶性樹脂が有する水酸基の少なくとも一部が残存するように付加させ、加えて、エポキシ基が開環することで生ずる水酸基の効果により、良好なパターン加工性を得ながら、屈曲性と発光信頼性とを向上させることができる。また、エポキシ基との反応性が高い点で、アルカリ可溶性樹脂が有する水酸基は、フェノール性水酸基であることが好ましい。

一方、（ａ−３）の上記一般式（２）で表される構造を有する樹脂としては、例えば、カルボキシル基を有する樹脂に、炭素数９〜１９の長鎖アルキル基と１つのエポキシ基とを有するエポキシ化合物を開環付加反応させることで得られる樹脂が挙げられる。カルボキシル基を有する樹脂としては、カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂を好ましく用いることができる。

アルカリ可溶性樹脂が有するカルボキシル基の少なくとも一部が残存するように付加させ、加えて、エポキシ基が開環することで生ずる水酸基により、良好なパターン加工性を得ながら、屈曲性と発光信頼性とを向上させることができる。

炭素数９〜１９の長鎖アルキル基が導入されたアルカリ可溶性樹脂を得るための開環付加反応に用いるための、炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するエポキシ化合物としては、過度な重量平均分子量（Ｍｗ）の上昇またはゲル化成分の発生を回避するため、単官能エポキシ化合物のみを用いることが好ましい。具体例としては、構造式（３）〜（２３）で表される化合物のうち、エポキシ基を分子内に１つ有する化合物を用いることができ、中でも、長鎖アルキル基の炭素数と分岐構造による、屈曲性と発光信頼性の観点から、上記構造式（１２）で表される化合物または上記構造式（２３）で表される化合物が好ましく、エポキシ基の反応性が高い点から、構造式（１２）で表される化合物がさらに好ましい。

一方、（ａ−２）の上記一般式（１）で表される構造を有する樹脂、（ａ−３）の上記一般式（２）で表される構造を有する樹脂を得るために用いるアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ可溶性カルド樹脂、アルカリ可溶性アクリル樹脂、アルカリ可溶性ノボラック樹脂、アルカリ可溶性ポリイミド樹脂、アルカリ可溶性ポリイミド前駆体、アルカリ可溶性ポリベンゾオキサゾール樹脂、アルカリ可溶性ポリベンゾオキサゾール前駆体、アルカリ可溶性ポリアミド樹脂、アルカリ可溶性シロキサン樹脂が挙げられるが、耐熱性と顔料分散性に優れる点から、アルカリ可溶性ポリイミド樹脂、アルカリ可溶性ポリイミド前駆体、アルカリ可溶性カルド樹脂、アルカリ可溶性アクリル樹脂が好ましく、耐熱性に優れる点から、アルカリ可溶性ポリイミド樹脂、アルカリ可溶性ポリイミド前駆体、アルカリ可溶性ポリベンゾオキサゾール樹脂、アルカリ可溶性ポリベンゾオキサゾール前駆体、アルカリ可溶性カルド樹脂がより好ましく、中でも、耐熱性と顔料分散性に優れる点から、後述するアセテート系有機溶剤単独に易溶のアルカリ可溶性ポリイミド樹脂がさらに好ましい。

有機ＥＬ表示装置の画素分割層に求められる耐熱性は、好ましくは２３０℃以上、より好ましくは２５０℃以上である。高温条件下における画素分割層からのガス発生量（アウトガス）を抑制でき、発光素子の劣化を抑制することができることから、有機ＥＬ表示装置の発光信頼性を向上させることができる。ここでいう、アルカリ可溶性樹脂とは、その構造中にアルカリ可溶性基として水酸基および／またはカルボキシル基を有し、かつ酸価が３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上かつ重量平均分子量（Ｍｗ）が２，０００以上１５０，０００以下の樹脂のことをいう。 アルカリ可溶性ポリイミド樹脂としては、一般式（２４）で表される構造単位を有するアルカリ可溶性ポリイミド樹脂が好ましい。

（上記一般式（２４）中、Ｒ^５は４〜１０価の有機基を表す。Ｒ^６は２〜８価の有機基を表す。Ｒ^７およびＲ^８は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基、スルホン酸基またはチオール基を表し、Ｒ^７またはＲ^８の少なくともいずれかにフェノール性水酸基を有する。ｐおよびｑは、それぞれ独立して、０〜６の範囲を表す。）
一般式（２４）中、Ｒ^５−（Ｒ^７）_ｐは、酸二無水物の残基を表す。Ｒ^５は、芳香族環または環状脂肪族基を有する、炭素原子数５〜４０の有機基が好ましい。

酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物等の芳香族環を有するテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物などの脂肪族基を有するテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ［２．２．２］オクタンテトラカルボン酸二無水物などの環状脂肪族基を有するテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。

一般式（２４）中、Ｒ^６−（Ｒ^８）_ｑはジアミンの残基を表す。Ｒ^６は、芳香族環または環状脂肪族基を有する、炭素原子数５〜４０の有機基が好ましい。

ジアミンとしては、例えば、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルプロパン、ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、ジアミノジフェニルチオエーテル、ベンジジン、２，２’−ビストリフルオロベンジジン、２，２’−ビストリフルオロベンジジン、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンなどの芳香族環を有するジアミン、２，５−ビス（アミノメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、２，６−ビス（アミノメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタンなどの環状脂肪族基を有するジアミンが挙げられる。

一般式（２４）で表される構造単位を有するアルカリ可溶性ポリイミド樹脂は、主鎖末端に、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基および／またはチオール基を有することが好ましく、カルボキシル基および／またはフェノール性水酸基を有することがより好ましい。アルカリ可溶性ポリイミド樹脂の末端を、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基および／またはチオール基を有する末端封止剤を用いて封止することにより、主鎖末端にこれらの基を導入することができる。末端封止剤としては、例えば、モノアミン、酸無水物、モノカルボン酸、モノ酸クロリド化合物、またはモノ活性エステル化合物が挙げられる。

アルカリ可溶性ポリイミド樹脂の酸価は、アルカリ現像液への溶解性の観点から、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。一方、画素分割層のパターンエッジ剥離を抑制する観点から、酸価は３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。

アルカリ可溶性ポリイミド樹脂の重量平均分子量は、画素分割層の硬度の観点から、５，０００以上が好ましく、１０，０００以上がより好ましい。一方、アルカリ現像液への溶解性の観点から、１００，０００以下が好ましく、７０，０００以下がより好ましい。

（ａ−２）の一般式（１）で表される構造を有する樹脂の具体例としては、ジアミンである２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと酸二無水物を用いて合成したアルカリ可溶性ポリイミド樹脂が有するフェノール性水酸基に、上記構造式（１２）で表されるエポキシ化合物を開環付加反応させることで得られる、構造式（２５）で表される構造単位を分子内に有するポリイミド樹脂を好ましく挙げることができる。

アルカリ可溶性カルド樹脂とは、カルド骨格を有するアルカリ可溶性樹脂のことをいい、カルド骨格とは、環状構造を構成する環炭素原子である４級炭素原子に、２つの芳香族基が単結合で繋がった骨格をいう。カルド骨格としては、例えば、フルオレン骨格、１−フェニル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン骨格、またはＮ−フェニルフェノールフタレイン骨格が有する４級炭素原子に、２つのフェニル基が、それぞれ炭素−炭素の単結合で繋がった骨格が挙げられる。このようなアルカリ可溶性カルド樹脂は、フルオレン骨格、１−フェニル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン骨格および／またはＮ−フェニルフェノールフタレイン骨格と、水酸基またはエポキシ基を有する２つの芳香族基とを分子内に有する化合物を由来して合成することができる。本発明の感光性組成物がネガ型感光性組成物である場合、さらにラジカル重合性基を有するアルカリ可溶性カルド樹脂を用いることが好ましい。

アルカリ可溶性カルド樹脂の好ましい具体例としては、フルオレン骨格を有し、下記一般式（２５）で表される構造単位とラジカル重合性基とを有するカルド樹脂、１−フェニル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン骨格を有し、下記一般式（２６）で表される構造単位とラジカル重合性基とを有するカルド樹脂、Ｎ−フェニルフェノールフタレイン骨格を有し、下記一般式（２７）で表される構造単位とラジカル重合性基とを有するカルド樹脂が挙げられる。

（上記一般式（２６）、（２７）および（２８）中、Ｑ^１〜Ｑ^８は、ベンゼン環に直接結合する原子または置換基を示し、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基であり、ａ〜ｈは、炭素数１〜６のアルキル基および／または炭素数１〜６のアルコキシ基の置換基数を示し、１または２である。）
アルカリ可溶性カルド樹脂の酸価は、アルカリ現像液への溶解性の観点から、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。一方、画素分割層のパターンエッジ剥離を抑制する観点から、酸価は３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。

アルカリ可溶性カルド樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、パターンエッジの剥がれを抑制する観点から、２，０００以上が好ましく、３，０００以上がより好ましい。一方、アルカリ可溶性カルド樹脂の重合時のゲル化抑制と、現像工程における現像残渣を抑制する観点から、４０，０００以下が好ましく、２０，０００以下がより好ましい。

アルカリ可溶性カルド樹脂としては、市販品を用いることもでき、例えば、“ＡＤＥＫＡ ＡＲＫＬＳ”（登録商標）ＷＲ−３０１（（株）ＡＤＥＫＡ製）、“オグゾール”（登録商標）ＣＲ−ＴＲ１、ＣＲ−ＴＲ２、ＣＲ−ＴＲ３、ＣＲ−ＴＲ４、ＣＲ−ＴＲ５、ＣＲ−ＴＲ６（以上、いずれも大阪ガスケミカル（株）製）が挙げられる。

（ａ−３）の一般式（２）で表される構造を有する樹脂の具体例としては、アルカリ可溶性カルド樹脂が有する芳香族カルボキシル基に、上記構造式（１２）で表されるエポキシ化合物を開環付加反応させることで得られる、構造式（２９）で表される構造単位を分子内に有するカルド樹脂を好ましく挙げることができる。

（ａ−２）の上記一般式（１）で表される構造を有する樹脂、（ａ−３）の上記一般式（２）で表される構造を有する樹脂を得る方法としては、例えば、乾燥窒素気流下、有機溶剤中、炭素数９〜１９の長鎖アルキル基と１つのエポキシ基とを有する化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを混合し撹拌した後、８０〜２００℃の加熱条件下で３０〜３００分間反応させる方法が挙げられる。反応に用いる溶媒としては、例えば、エーテル類、アセテート類、エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素類、アルコール類が挙げられ、これらを単独であるいは複数種含有させて用いることができる。また、低い加熱温度で開環付加反応を十分に進行させる上では付加触媒を用いてもよく、反応に用いる付加触媒としては、例えば、ジメチルアニリン、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ジメチルベンジルアミンなどのアミノ系触媒、２−エチルヘキサン酸スズ（ＩＩ）、ラウリン酸ジブチルスズなどのスズ系触媒、２−エチルヘキサン酸チタン（ＩＶ）などのチタン系触媒、トリフェニルホスフィンなどのリン系触媒、ナフテン酸リチウムなどのリチウム系触媒、ナフテン酸ジルコニウムなどのジルコニウム系触媒、ナフテン酸クロム、アセチルアセトネートクロム、塩化クロムなどのクロム系触媒が挙げられ、最終的に得られる画素分割層中の残存する触媒による誘電率の上昇を抑制する上で、リン系触媒、アミノ系触媒の使用が好ましい。反応の終点は、反応開始を基準とする系内のエポキシ基の消失率から適宜設定することができる。また、感光性組成物中または画素分割層中の、（ａ−１）成分が有する長鎖アルキル基とエポキシ基、（ａ−２）成分が有する上記一般式（１）で表される構造および／または（ａ−３）成分が有する上記一般式（２）で表される構造の有無は、ＮＭＲやＩＲなど公知の手法で分析して同定することができる。

本発明の感光性組成物は、後述するアルカリ現像液に対する溶解速度を適度に調整し、また、画素分割層を所望のパターン形状とするために、上記（ａ−１）〜（ａ−３）の化合物に属さないアルカリ可溶性樹脂をさらに含有させることができる。上記（ａ−１）〜（ａ−３）の化合物に属さないアルカリ可溶性樹脂としては、（ａ−２）の上記一般式（１）で表される構造を有する樹脂、（ａ−３）の上記一般式（２）で表される構造を有する樹脂を得るための原料として例示した上述の各種アルカリ可溶性樹脂の群から選択して用いることができる。

本発明の感光性組成物は、ネガ型感光性またはポジ型感光性のいずれかを有する。露光マスクを介したパターン露光により露光部の膜を光硬化させ、アルカリ溶解性を低下させて、アルカリ現像液により未露光部の膜を除去してパターンを形成する、ネガ型感光性を有していても良い。または、露光マスクを介したパターン露光により露光部の膜のアルカリ溶解性を、未露光部の膜のアルカリ溶解性と比べて相対的に高くすることで、アルカリ現像液により露光部の膜を除去してパターン形成する、ポジ型感光性を有していても良い。画素分割層に付与する遮光性をより高く設定する場合、すなわち、本発明の感光性組成物に含有させる着色材量が多い場合、同パターンを得るための必要最低露光量を少なくすることができ、すなわち露光に対する感度を高めて生産性を向上できる点から、ネガ感光性を有することが好ましい。

本発明の感光性組成物は、（ｂ）感光剤を含有する。本発明の感光性組成物が、ネガ型感光性を有する場合には、（ｂ）感光剤が、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物と、光重合開始剤とを含有する。２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物を、後述する光重合開始剤と併用することで、露光によりラジカル重合反応を起こして光硬化させ、未露光部をアルカリ現像液により除去することでパターニングすることができる。

ラジカル重合性基としては、露光時の感度向上および硬化膜の硬度向上の観点から、（メタ）アクリル基が好ましい。ここでいう（メタ）アクリル基とは、メタクリル基またはアクリル基を指す。２つ以上の（メタ）アクリル基を有する化合物としては、例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールノナ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのε−カプロラクトン付加（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス［４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］プロパン、１，３，５−トリス（（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌル酸、１，３−ビス（（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌル酸、９，９−ビス［４−（２−（メタ）アクリロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（３−（メタ）アクリロキシプロポキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロキシフェニル）フルオレンまたはそれらの酸変性体、エチレンオキシド変性体もしくはプロピレンオキシド変性体などが挙げられ、これらを単独であるいは複数種含有して用いても良い。光硬化を促進しパターン加工性を向上させるため、３つ以上のラジカル重合性基を有する化合物を少なくとも含有させることが好ましく、中でも、露光工程における反応率が高く、かつ屈曲性に優れる点で、カプロラクトン由来の柔軟鎖とアクリル基とを分子内に有する化合物がより好ましい。このような化合物の具体例としては、下記構造式（４１）で表される、ジペンタエリスリトールのε−カプロラクトン付加アクリレートが挙げられる。

２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物の含有量は、露光に対する感度向上の観点から、感光性組成物の全固形分中１０重量％以上が好ましく、１５重量％以上がより好ましい。また、パターンエッジのテーパー形状を緩やかなものとし、画素分割層の表面に形成される電極の断線を回避する観点から、３０重量％以下が好ましく、２５重量％以下がより好ましい。

光重合開始剤とは、露光によって結合開裂および／または反応してラジカルを発生する化合物をいう。光重合開始剤を含有させることにより、露光により、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物を光硬化させ、未露光部と比べて露光部のアルカリ現像液に対する溶解性を相対的に低下させることができ、未露光部をアルカリ現像液により除去することでパターニングすることができる。

光重合開始剤としては、例えば、“アデカオプトマー”（登録商標）Ｎ−１８１８、Ｎ−１９１９、“アデカクルーズ”（登録商標）ＮＣＩ−８３１（以上、いずれも（株）ＡＤＥＫＡ製）などのカルバゾール系光重合開始剤、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド（ＢＡＳＦ社製“イルガキュア”（登録商標）ＴＰＯ）などのアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ社製“イルガキュア”（登録商標）ＯＸＥ０１）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）（ＢＡＳＦ社製“イルガキュア”（登録商標）ＯＸＥ０２）などのオキシムエステル系光重合開始剤、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニルフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（ＢＡＳＦ社製“イルガキュア”（登録商標）９０７）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（ＢＡＳＦ社製“イルガキュア”（登録商標）３６９）、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（ＢＡＳＦ社製“イルガキュア”（登録商標）３７９ＥＧ）などのα−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤などが挙げられ、これらを単独であるいは複数種含有させて用いても良い。中でも、後述する露光工程において、ｊ線（３１３ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）を含む混合線に対する感度が高い点で、カルバゾール系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤が好ましい。中でも、カルバゾール構造とオキシムエステル構造を併せ持つ光重合開始剤が、露光における感度と深部硬化性の点でより好ましい。これに該当する光重合開始剤の具体例としては、上記のうち、Ｎ−１９１９、ＮＣＩ−８３１、ＯＸＥ０２が挙げられる。

光重合開始剤の含有量は、露光に対する感度向上の観点から、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物１００重量部に対して、５重量部以上が好ましく、１０重量部以上がより好ましい。一方、光重合開始剤の含有量は、露光に対する深部硬化性の観点から、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物１００重量部に対して、６０重量部以下が好ましく、４０重量部以下がより好ましい。

一方で、本発明の感光性組成物が、ポジ型感光性を有する場合は、（ｂ）感光剤が、光酸発生剤を含有する。光酸発生剤を含有することで、後述する露光工程において露光により、未露光部と比べて露光部のアルカリ現像液に対する溶解性を相対的に高めることができ、露光部のみをアルカリ現像液により除去することでパターニングすることができる。

光酸発生剤としては、キノンジアジド化合物が好ましい。キノンジアジド化合物としては、フェノール性水酸基を有する化合物を、キノンジアジドスルホニル酸クロリドでエステル化した反応物がより好ましい。

フェノール性水酸基を有する化合物としては、Ｂｉｓ−Ｚ、ＢｉｓＰ−ＥＺ、ＴｅｋＰ−４ＨＢＰＡ、ＴｒｉｓＰ−ＨＡＰ、ＴｒｉｓＰ−ＰＡ、ＴｒｉｓＰ−ＰＨＢＡ、ＢｉｓＯＣＨＰ−Ｚ、ＢｉｓＰ−ＭＺ、ＢｉｓＰ−ＰＺ、ＢｉｓＰ−ＩＰＺ、ＢｉｓＯＣＰ−ＩＰＺ、ＢｉｓＰ−ＣＰ、ＢｉｓＲＳ−２Ｐ、ＢｉｓＲＳ−３Ｐ、ＢｉｓＰ−ＯＣＨＰ、メチレントリス−ｐ−ＣＲ、メチレンテトラ−ｐ−ＣＲ、ＢｉｓＲＳ−２６Ｘ、Ｂｉｓ−ＰＦＰ−ＰＣ（いずれも本州化学工業（株）製）、ＢＩＲ−ＯＣ、ＢＩＰ−ＰＣ、ＢＩＲ−ＰＣ、ＢＩＲ−ＰＴＢＰ、ＢＩＲ−ＰＣＨＰ、ＢＩＰ−ＢＩＯＣ−Ｆ、４ＰＣ、ＢＩＲ−ＢＩＰＣ−Ｆ、ＴＥＰ−ＢＩＰ−Ａ（いずれも旭有機材工業（株）製）が挙げられる。

キノンジアジドスルホニル酸クロリドとしては、４−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド、５−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリドが挙げられる。このようなキノンジアジド化合物は、後述する露光工程において、ｊ線（３１３ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）を含む混合線に対する感度が高いため好ましい。

光酸発生剤の含有量は、パターン加工性と、最終的に得られる画素分割層の耐熱性の観点から、感光性組成物の全固形分中５〜３０重量％が好ましい。本発明の感光性組成物のアルカリ現像液に対するアルカリ溶解性を向上させる必要がある場合、上記フェノール性水酸基を有する化合物のフェノール性水酸基の一部をエステル化せず意図的に残存させることができる。

本発明の感光性組成物は、熱硬化促進剤を含有することができる。ここでいう熱硬化促進剤とは、エポキシ化合物間の架橋および／またはエポキシ化合物とアルカリ可溶性樹脂との熱架橋を促進する効果を奏する化合物である。

本発明の感光性組成物が、（ａ−１）の炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するエポキシ化合物を含有する場合、熱硬化促進剤の併用により、画素分割層の機械的強度を高め、屈曲性を向上できる場合がある。また、エポキシ基やアルカリ可溶性樹脂が有する水酸基やカルボキシル基などの極性基の残存率をより低くすることができ、結果として、後述する画素分割層の誘電率を低くすることができる。硬化促進剤としては、例えば、イミダゾール系硬化促進剤、酸無水物系硬化促進剤、チオール系硬化促進剤が挙げられ、これらを単独であるいは複数種を含有させて用いることができる。

本発明の感光性組成物は、最終的に得られる画素分割層を黒色化し、外光反射を抑制する機能を付与するため、さらに着色材を含有することが好ましい。着色材としては、顔料および染料を挙げることができるが、着色力が高く耐熱性に優れる点で顔料が好ましい。

ここでいう顔料とは、少なくとも可視光領域に光吸収能を有し、かつ本発明の感光性組成物中で不溶の粒子のことをいい、着色力とは、着色材が膜中に占める単位体積あたりの遮光性をいう。所望の遮光性を付与するために必要となる着色材の総量を少なくすることができ、画素分割層の屈曲性を向上させることができる点で、少なくとも無機顔料を含有することがより好ましい。画素分割層に可視光領域から近赤外線領域まで全域に遮光性を付与する上では、誘電率の過度な上昇を回避するため、無機顔料と有機顔料とを併用することが好ましい。

無機顔料としては、（ｃ）近赤外線遮光性を有する無機顔料を含有することが好ましい。

（ｃ）の近赤外線遮光性を有する無機顔料を含有することにより、可視光領域だけでなく、近赤外線の反射を抑制する機能を画素分割層に付与することができる。従来は額縁部に配置されていた近接センサーや虹彩認証、顔面認証などに用いられる近赤外線センサーが表示部の内部に組み込まれる場合、太陽光などの外光に含まれる近赤外線の内部散乱を抑えることができ、該センサー類の検出感度を高めることができる。結果として、高感度の近赤外線センサーを具備していながら、額縁部が狭い、または額縁部が無い（ベゼルレス）、パネル面積に占める表示部の面積が広い有機ＥＬ表示装置を製造することができる。有機ＥＬ表示装置のパネルに搭載される偏光板は、近赤外線領域における光透過率の最大値が通常８０〜９５％、最小値が５０〜７０％と高く、近赤外線遮光性に乏しい。したがって、本発明の感光性組成物が（ｃ）の近赤外線遮光性を有する無機顔料を含有することによる上述の効果は、偏光板を具備する有機ＥＬ表示装置、偏光板を具備しない有機ＥＬ表示装置のいずれの場合においても有用なものとなる。

ここでいう（ｃ）の近赤外線遮光性を有する無機顔料とは、チタン原子を有する無機黒色顔料、ジルコニウム原子を有する無機黒色顔料、アモルファスカーボンブラック、カーボンブラックを包括し、加えて、感光性組成物を塗布した後に熱処理（大気圧下／窒素雰囲気下／２５０℃１時間）して得られる膜厚２．０μｍの硬化膜において、無機顔料の含有量が硬化膜中３５．０重量％であるとき、近赤外線領域（波長７８０〜１，０００ｎｍ）における硬化膜の厚み方向の光透過率の最大値が７０．０％以下であることを満たす無機顔料の群もまた包括する。硬化膜中の無機顔料の含有量は、小型電気炉を用いて全有機成分を揮散させた焼成灰分から算出することができる。

本発明の感光性組成物中またはそれを用いて形成した硬化膜中に含有する（ｃ）近赤外線遮光性を有する無機顔料は、Ｘ線回折パターン、ＳＴＥＭ−ＥＤＸなどの公知の手法を組み合わせて分析し、同定することができる。

（ｃ）の近赤外線遮光性を有する無機顔料としては、中でも、電気絶縁性が高く、誘電率が低く有機ＥＬ表示装置の駆動安定性を高めることができる点で、チタン原子を有する無機黒色顔料、ジルコニウム原子を有する無機黒色顔料、アモルファスカーボンブラックが好ましい。ここでいうアモルファスカーボンブラックとは、非晶性カーボンブラック粒子のことをいう。一方で、単にカーボンブラックとは、一般的に着色材用途としてよく知られた、結晶性を有するカーボンブラック粒子のことをいい、結晶性の有無から両者を完全に区別して定義する。

チタン原子を有する無機黒色顔料とは、ＴｉＮで表される窒化チタン、ＴｉＮｘＯｙ（０＜ｘ＜２．０、０．１＜ｙ＜２．０）で表される酸窒化チタン、ＴｉＣで表される炭化チタン、窒化チタンと炭化チタンの固溶体、チタンとチタン以外の金属との複合酸化物または複合窒化物のいずれか一種以上を意味する。中でも、可視光領域の遮光性が高いことに加えて、露光工程における露光光透過率が高い点で、窒化チタンおよび酸窒化チタンのいずれかが好ましく、誘電率が低い点から、窒化チタンがより好ましい。窒化チタンの製法としては気相反応が挙げられ、中でも、一次粒子径が小さく粒度分布がシャープな粒子を得やすいことから、熱プラズマ法で合成された窒化チタンが好ましい。また、チタン原子を有する無機黒色顔料は、誘電率の上昇を回避するため、不純物として無機白色顔料である、ＴｉＯ_２で表される二酸化チタンの含有量は少ないほど好ましく、含有しないことがより好ましい。

ジルコニウム原子を有する無機黒色顔料とは、Ｚｒ_３Ｎ_４で表される窒化ジルコニウム、ＺｒＮで表される窒化ジルコニウム、ＺｒＯｘＮｙ（０＜ｘ＜２．０，０．１＜ｙ＜２．０）で表される酸窒化ジルコニウム、ジルコニウムとジルコニウム以外の金属との複合酸化物または複合窒化物のいずれか一種以上を意味する。中でも、露光工程における露光光透過率が高く、誘電率が低いことから、ＺｒＮで表される窒化ジルコニウムが好ましい。製法としては気相反応が挙げられ、中でも、一次粒子径が小さく粒度分布がシャープな粒子を得やすいことから、熱プラズマ法で合成された窒化ジルコニウムが好ましい。また、ジルコニウム原子を有する無機黒色顔料は、誘電率の上昇を回避するため、不純物として無機白色顔料である、ＺｒＯ_２で表される二酸化ジルコニウムの含有量は少ないほど好ましく、含有しないことがより好ましい。

チタン原子を有する無機黒色顔料およびジルコニウム原子を有する無機黒色顔料は、必要に応じて顔料表面を改質するため表面処理を施しても良い。表面処理の方法としては、例えば、シランカップリング剤処理によりケイ素原子を含む有機基を表面修飾基として導入する方法、シリカ、金属酸化物および／または有機樹脂などの被覆材で顔料表面の一部または全てを被覆する方法などが挙げられ、複数の表面処理を組み合わせても良い。これら表面処理を施すことにより、感光性組成物の長期貯蔵安定性を向上できる場合がある。なお、ジルコニウム原子を有する無機黒色顔料と、チタン原子を有する無機黒色顔料は、両方を含む固溶体として１つの一次粒子を構成していても良い。

アモルファスカーボンブラックとは、ダイヤモンド構造（ＳＰ^３構造）とグラファイト構造（ＳＰ^２構造）とから成る非晶性カーボンブラックを意味する。いわゆる、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）に分類される炭素に相当する。アモルファスカーボンブラックは、後述する結晶性を有するカーボンブラックと比べて、絶縁性が高く、表面処理を施すことなく着色材として好適に用いることができる。製法としては、炭素源を気化させ、気化させた炭素蒸気を冷却し再凝固させた後に一旦フレーク状とし、乾式粉砕処理を施して微粒化したものが好ましい。アモルファスカーボンブラックの構造は、ＳＰ^３構造を多く含む場合、可視光線および近赤外線の遮光性が低い反面、絶縁性を向上できる。一方、ＳＰ^２構造多く含む場合は、絶縁性が低い反面、可視光線および近赤外線の遮光性を向上できる。すなわち、合成条件により顔料固有のそれら特性を制御することができる。中でも、本発明の感光性組成物には、ＳＰ^３構造およびＳＰ^２構造の合計に対して、ＳＰ^３構造の含有量が３０〜７０ａｔｏｍ％であるアモルファスカーボンブラックを好ましく用いることができる。また、ＳＰ^３構造およびＳＰ^２構造の割合は、Ｘ線光電子分光法により解析することができる。

以上のチタン原子を有する無機黒色顔料、ジルコニア原子を有する無機黒色顔料およびアモルファスカーボンの合計量は、近赤外線遮光性をより向上させる上で、本発明の感光性組成物の全固形分中５．０重量％以上が好ましい。また、誘電率の過度な上昇を回避する上で、感光性組成物中の全固形分中３５．０重量％以下が好ましい。ここでいう全固形分とは、感光性組成物から溶剤分を除いた成分を意味する。

カーボンブラックとしては、その製法から分類されるファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、アセチレンブラック、ケッチェンブラック、ランプブラックが挙げられ、中でも、分散性に優れ、顔料表面の酸性度や粒子径の微細化の制御が工業的に容易である点から、ファーネス法で製造されたファーネスブラックが好ましい。中でも、絶縁性向上の観点から、カーボンブラック特有の強固に粒子が数珠状に連結したストラクチャー長が短いほど好ましく、さらに、有機基が表面修飾されたものや、または高絶縁性の被覆材で被覆されたものがより好ましい。そのような表面改質型カーボンブラックとしては、市販品を用いてもよく、例えば、硫黄原子を含む酸性官能基が表面修飾されたカーボンブラックである“ＴＰＫ−１２２７”、顔料表面がシリカで被覆されたカーボンブラックである“ＴＰＸ−１４０９”（以上、いずれもＣＡＢＯＴ社製）が挙げられる。

カーボンブラックの合計量は、近赤外線遮光性をより向上させる上で、本発明の感光性組成物の全固形分中５．０重量％以上が好ましい。また、誘電率の過度な上昇を回避する上で、感光性組成物中の全固形分中１０．０重量％以下が好ましい。

以上の（ｃ）近赤外線遮光性を有する無機顔料は、画素分割層が所望の光学特性を有するよう複数種を混合して用いても良い。例えば、紫味の強い黒色を呈する窒化ジルコニウムと、黄味の強い黒色を呈するアモルファスカーボンとを用いて調色することにより、画素分割層の反射色を、彩度が低く抑えられたニュートラルブラックとすることができる。

（ｃ）の近赤外線遮光性を有する無機顔料の平均一次粒子径は、分散性および分散後の貯蔵安定性を向上する観点から、５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。一方で、高い屈曲性を得ることができる点から、１５０ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましい。ここでいう平均一次粒子径とは、画像解析式粒度分布測定装置を用いた粒度測定法により算出した、一次粒子径の数平均値を意味する。画像の撮影には、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いることができ、倍率５０，０００倍の条件で、（ｃ）近赤外線遮光性を有する無機顔料の一次粒子が１００個以上撮影された画像から、平均一次粒子径を算出することができる。（ｃ）の近赤外線遮光性を有する無機顔料が球状でない場合は、その長径と短径の平均値を一次粒子径とする。画像解析には、マウンテック社製画像解析式粒度分布ソフトウェアＭａｃ−Ｖｉｅｗを用いる。平均一次粒子径を小径化させる、あるいは粗大分を摩砕して粒度分布をシャープなものとする必要がある場合、乾式粉砕処理を行っても良い。乾式粉砕処理には、例えば、ハンマーミル、ボールミルなどを用いることができる。また、顔料の硬度が過度に高いなどの理由から乾式粉砕処理で限界がある場合は、解砕することなく粗大分を分級処理で除去することが望ましい。

有機顔料としては、種々の有機顔料を用いることができるが、中でも、着色力に優れ、屈曲性を向上することができる点で、（ｄ）有機黒色顔料が好ましい。なお、概して有機顔料は、近赤外領域における遮光性には極めて乏しい反面、誘電率が低い利点があるため、本発明の感光性組成物においては、誘電率の上昇を回避していながら可視光領域のみに遮光性を付与するための成分として効果的に用いることができる。

本明細書における（ｄ）の有機黒色顔料とは、ベンゾジフラノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、アゾ系黒色顔料およびそれらの異性体のことをいう。ここでいう異性体とは、互変異性体をも含む。異性体は、複数の顔料粉末の混合物として含まれていてもよく、１つの一次粒子を構成する上で混晶として含まれていても良い。

ベンゾジフラノン系黒色顔料とは、下記一般式（３０）または（３１）で表される顔料を意味する。下記一般式（３０）で表される顔料は、いわゆる、ラクタムブラックに分類される顔料に相当する。

（一般式（３０）および（３１）中、Ｒ^９およびＲ^１４は、それぞれ独立して、水素原子、ＣＨ_３、ＣＦ_３、フッ素原子または塩素原子を表す。Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルケニル基、炭素数１〜１２のシクロアルケニル基、炭素数１〜１２のアルキニル基、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ^１９、ＣＯＯ⁻、ＣＯＮＨ_２、ＣＯＮＨＲ^１９、ＣＯＮＲ^１９Ｒ^２０、ＣＮ、ＯＨ、ＯＲ^１９、ＯＣＯＲ^１９、ＯＣＯＮＨ_２、ＯＣＯＮＨＲ^１９、ＯＣＯＮＲ^１９Ｒ^２０、ＮＯ_２、ＮＨ_２、ＮＨＲ^１９、ＮＲ^１９Ｒ^２０、ＮＨＣＯＲ^１９、ＮＲ^１９ＣＯＲ^２０、Ｎ＝ＣＨ_２、Ｎ＝ＣＨＲ^１９、Ｎ＝ＣＲ^１９Ｒ^２０、ＳＨ、ＳＲ^１９、ＳＯＲ^１９、ＳＯ_２Ｒ^１９、ＳＯ_３Ｒ^１９、ＳＯ_３Ｈ、ＳＯ_３ ⁻、ＳＯ_２ＮＨ_２、ＳＯ_２ＮＨＲ^１９またはＳＯ_２ＮＲ^１９Ｒ^２０を表す。Ｒ^１０およびＲ^１１、Ｒ^１１およびＲ^１２、Ｒ^１２およびＲ^１３、Ｒ^１５およびＲ^１６、Ｒ^１６およびＲ^１７、Ｒ^１７およびＲ^１８は直接結合またはＯ、Ｓ、ＮＨもしくはＮＲ^１９によって結合しても良い。Ｒ^１９およびＲ^２０は、それぞれ独立して、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルケニル基、炭素数１〜１２のシクロアルケニル基または炭素数１〜１２のアルキニル基を表す。）
中でも、遮光性と発光信頼性の観点から、Ｒ^９〜Ｒ^１８が水素原子であるものが好ましく、すなわち、下記構造式（３２）で表されるベンゾジフラノン系黒色顔料を好ましく用いることができる。下記構造式（３２）で表されるベンゾジフラノン系黒色顔料としては市販品を用いてもよく、例えば、ＢＡＳＦ製“Ｉｒｇａｐｈｏｒ”（登録商標）Ｂｌａｃｋ Ｓ０１００が挙げられる。また、これに加えて、Ｒ^１１およびＲ^１６がＳＯ_３Ｈ、ＳＯ_３ ⁻、ＳＯ_２ＮＲ^１９Ｒ^２０またはＣＯＯＨであるベンゾジフラノン系黒色顔料を分散助剤として一部混合して後述の湿式分散処理を行うことで分散性を高めることができる。

ペリレン系黒色顔料とは、下記一般式（３３）または（３４）で表される顔料、およびＣ．Ｉ．ピグメントブラック３１、３２を意味する。いわゆる、ペリレンブラックに分類される顔料に相当する。中でも、遮光性が高い点で、下記一般式（３３）または（３４）で表される顔料が好ましい。

（一般式（３３）および（３４）中、Ｒ^２１〜Ｒ^２８は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、または水酸基を表す。）
中でも、遮光性と発光信頼性の観点から、Ｒ^２１〜Ｒ^２８が水素原子であるものが好ましく、すなわち、下記構造式（３５）および／または（３６）で表されるペリレン系黒色顔料を好ましく用いることができる。下記構造式（３５）および（３６）で表されるペリレン系黒色顔料（シス−トランス異性体混合物）としては市販品を用いてもよく、例えば、ＢＡＳＦ製ＦＫ４２８０が挙げられる。

アゾ系黒色顔料とは、下記一般式（３７）で表される顔料を意味する。いわゆる、アゾメチンブラックに分類される顔料に相当する。

（一般式（３７）中、Ｘは、イソインドリノン構造を有する有機基またはイソインドリン構造を有する有機基を示し、Ｙは、炭素数１〜３のアルキル基および炭素数１〜３のアルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の有機基を示し、ｎは１〜５の整数を示す。）
遮光性と発光信頼性の観点から好ましい具体例として、下記構造式（３８）で表されるアゾ系黒色顔料、下記構造式（３９）で表されるアゾ系黒色顔料が挙げられる。

有機黒色顔料以外の有機顔料としては、黄色、橙色、青色、赤色、緑色、紫色、茶色など種々の有機顔料を用いても良く、本発明の感光性組成物に２色以上の有機顔料を含有させて擬似黒色化することで画素分割層を黒色とすることができ、それらの量比を調整することで光学特性を制御することができる。中でも、遮光性と発光信頼性の観点から、黄色、青色、赤色の組み合わせが好ましい。

有機黄色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、１３、１７、２０、２４、７４、８３、８６、９３、９５、１０９、１１０、１１７、１２０、１２５、１２９、１３８、１３９、１５０、１５１、１７５、１８０、１８１、１８５、１９２、１９４、１９９が挙げられる。中でも、発光信頼性の観点から、ベンズイミダゾロン系黄色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１２０、１５１、１７５、１８０、１８１、１９２、１９４が好ましい。

有機青色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１６、１７、６０、６４、６５、７５、７９、８０が挙げられる。中でも、発光信頼性の観点から、安定型銅フタロシアニンであるＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、１５：４、１５：６、インダントロンブルーであるＣ．Ｉ．ピグメントブルー６０が好ましい。

有機赤色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、４８、９７、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１７７、１７９、１８０、１９０、１９２、１９６、２０２、２０９、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、２５４が挙げられる。中でも、発光信頼性の観点から、ペリレン系赤色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、１４９、１７９、１９０またはアントラキノン系赤色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７が好ましい。

本発明の感光性組成物は、さらに、分散剤を含有することができる。分散剤とは、顔料表面への化学的結合または吸着作用を有する顔料親和性基と、親溶媒性を有する高分子鎖または基とを併せ持つものを意味する。分散剤の作用機構としては、酸−塩基相互作用の他、水素結合、ファン・デル・ワールス（Ｖａｎ−ｄｅｒ−Ｗａａｌｓ）力などが複合的に関与し、後述する顔料分散液を作製する際に行う湿式メディア分散処理において、有機顔料表面の分散媒への湿潤性を高め、高分子鎖による有機顔料同士の立体反発効果および／または静電反発効果を高めることにより、顔料の微細化を促進し、かつ分散安定性を高める効果を奏する。微細化の促進および分散安定性の向上により、屈曲性をさらに向上することができる。

分散剤としては、塩基性吸着基を有する分散剤、酸性基を有する分散剤、ノニオン系分散剤を好ましく用いることができる。塩基性吸着基を有する分散剤としては、例えば、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−１４２、１４５、１６４、１６７、１８２、１８７、２００１、２００８、２００９、２０１０、２０１３、２０２０、２０２５、９０７６、９０７７、ＢＹＫ−ＬＰ Ｎ６９１９、ＢＹＫ−ＬＰ Ｎ２１１１６、ＢＹＫ−ＪＥＴ９１５２（以上、いずれもビックケミー社製）、“Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ”（登録商標）９０００、１１２００、１３６５０、２００００、２４０００、２４０００ＳＣ、２４０００ＧＲ、３２０００、３２５００、３２５５０、３２６０００、３３０００、３４７５０、３５１００、３５２００、３７５００、３９０００、５６０００、７６５００（以上、いずれもルーブリゾール社製）、Ｅｆｋａ−ＰＸ４３１０、４３２０、４７１０（以上、いずれもＢＡＳＦ社製）が挙げられる。酸性基を有する分散剤としては、例えば、“Ｔｅｇｏ ｄｉｓｐｅｒｓ”（登録商標）６５５（エボニック社製）、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−１０２、１１８、１７４、２０９６（以上、いずれもビックケミー社製）、が挙げられ、ノニオン系分散剤としては、例えば、“ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ”（登録商標）５４０００（ルーブリゾール社製）、“Ｔｅｇｏ ｄｉｓｐｅｒｓ”（登録商標）６５０、６５２、７４０Ｗ（以上、いずれもエボニック社製）が挙げられる。顔料固有の表面特性や平均一次粒子径を考慮して、後述の平均分散粒子径が得られるよう、適宜これらの分散剤を単独であるいは複数種を混合して用いても良い。

分散剤の含有量は、後述の湿式メディア分散処理における十分な解凝集性と、分散処理後の再凝集を抑制する上で、顔料の合計量１００重量部に対して１０重量部以上が好ましく、２０重量部以上がより好ましい。一方、分散剤以外の構成成分の含有量を十分に確保する上で、１００重量部以下が好ましく、６０重量部以下がより好ましい。

本発明の感光性組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤を含有することで粘度、塗布性、貯蔵安定性を調整することができ、適切な溶剤を選択することで、最終的に得られる画素分割層の膜厚均一性を向上することができる。

溶剤としては、例えば、エーテル類、アセテート類、エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素類、アルコール類などが挙げられる。これらを２種以上含有しても良い。エーテル類としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチル−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどが挙げられる。アセテート類としては、例えば、ブチルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、「ＰＧＭＥＡ」）、３−メトキシブチルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、プロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、３―メトキシ−３−メチル−１−ブチルアセテート、１，４−ブタンジオールジアセテート、１，３−ブチレングリコールジアセテート、１，６−ヘキサンジオールジアセテートなどが挙げられる。エステル類としては、例えば、２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチルなどの乳酸アルキルエステル類、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸ｉ−ペンチル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸エチルなどが挙げられる。ケトン類としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノンなどが挙げられる。芳香族炭化水素類としては、例えば、トルエン、キシレンなどが挙げられる。アルコール類としては、例えば、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ペンタノ−ル、４−メチル−２−ペンタノール、３−メチル−２−ブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、ジアセトンアルコールなどが挙げられる。中でも、顔料の分散安定性を向上し、屈曲性を向上できる点で、感光性組成物が含有する全溶剤中にアセテート類の含有量が５０重量％以上であることが好ましく、７０重量％以上であることがより好ましい。

本発明の感光性組成物は、さらに、有機系の近赤外線吸収染料（Ｎｅａｒ Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ｄｙｅ）を含有することができる。有機系の近赤外線吸収染料は、概して上記（ｃ）の近赤外線遮光性を有する無機顔料と比べて単位体積あたりの遮光性には大きく劣るものの、誘電率が低い点では優れるため、染料の溶解度が許容される含有量で用いることができ、（ｃ）の近赤外線遮光性を有する無機顔料と併用することが最も有用である。有機系の近赤外線吸収染料としては、シアニン系染料、フタロシアニン系染料、ナフタロシアニン系染料、ポリメチン系染料、スクアリリウム系染料、ポルフィリン系染料、ジイモニウム系染料、インディゴ系染料、クアテリレン系染料、ペリレン系染料、ニッケルジチオレン錯体系染料が挙げられる。中でも、有機溶剤への溶解度と発光信頼性に優れる点から、フタロシアニン系染料、クアテリレン系染料、ペリレン系染料が好ましい。

フタロシアニン系染料としては、オキソバナジウム、銅、アルミニウム、コバルトまたは亜鉛を中心金属に有するフタロシアニン系染料が挙げられる。中でも、中心金属としてオキソバナジウムを有するバナジルフタロシアニン系染料および／または中心金属として銅を有する銅フタロシアニン系染料がより好ましく、発光信頼性に優れる点から、（ｅ）バナジルフタロシアニン系近赤外線吸収染料がさらに好ましい。また、少なくとも（ｃ）の近赤外線遮光性を有する無機顔料として上記に例示した全ての黒色顔料は、概して、長波長側ほど遮光性が低い。そのため、クロロホルム溶液としたときの極大吸収波長が、近赤外線領域のうち波長９００〜１，０００ｎｍの領域にあり、かつ、顔料成分の分散安定性との両立を図る上で上記に例示したアセテート系溶剤単独への溶解度が２．０重量％以上である有機系染料がより好ましい。これら両特性を満たす有機系染料としては、例えば、（ｅ）バナジルフタロシアニン系近赤外線吸収染料である、ＦＤＮ−０７、ＦＤＮ−０８（以上、いずれも山田化学工業（株）製）、銅フタロシアニン系近赤外線吸収染料である、ＦＤＮ−０６（山田化学工業（株）製）が挙げられる。

これら近赤外線吸収染料は、画素分割層の表面における凹凸欠陥の発生を抑制できる点で、分散染料ではなく、実質的に可溶性染料として用いることが好ましい。ここでいう可溶性染料とは、感光性組成物中で完全に溶解させた状態で用いるための染料を意味する。有機系の近赤外線吸収染料の含有量としては、溶剤成分および樹脂成分への溶解度の観点から、本発明の感光性組成物中２．０重量％未満が好ましい。

本発明の感光性組成物を硬化して得られる硬化膜を、有機ＥＬ表示装置の画素分割層に用いる場合、近赤外線を用いたセンサーの感度を向上させる上で、硬化膜が有する近赤外線に対する遮光性は高いほど良い。具体的には、本発明の感光性組成物を硬化して、膜厚２．０μｍの硬化膜にしたとき、波長７８０〜１，０００ｎｍにおける光透過率の最大値が１５．０％以下であることが好ましく、１０．０％以下であることがより好ましく、５．０％以下であることがさらに好ましい。

また、外光反射を低減して有機ＥＬ表示装置の表示部の視認性を向上する上で、硬化膜が有する可視光線に対する遮光性は高いほど好ましい。具体的には、本発明の感光性組成物を硬化して、膜厚２．０μｍの硬化膜にしたとき、可視光領域のうち最も比視感度が高い波長５５０ｎｍにおける光透過率が１０．０％以下であることが好ましく、５．０％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。

ここでいう透過率は、透光性基材上に膜厚２．０μｍとなるよう硬化膜を形成して、分光光度計「Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）」で測定することができ、測定波長は１．０ｎｍごととし、透光性基材の透過光強度と、透光性基材上に硬化膜を形成した積層基材の透過光強度との比から、硬化膜の光透過率（％）を求めることができる。透光性基材としては、透光性ガラス基材である「テンパックス（ＡＧＣテクノグラス（株）製）」を好ましく用いることができる。なお、光透過率は、硬化膜の厚み方向の光透過率を意味し、測定にあたっては光を膜面側から入射させ、透光性基材側から透過させる。

一方、輝度ムラを抑制して表示特性を向上できる点から硬化膜の誘電率は低いほど良く、本発明の感光性組成物を硬化して、膜厚２．０μｍの硬化膜にしたとき、周波数１ｋＨｚにおける誘電率が５．０未満であることが好ましく、４．５未満であることがより好ましく、４．０未満であることがより好ましい。一方で、誘電率を過度に低くする場合は膜内部に意図的に空隙を多く設けない限り原理的に困難であるため、屈曲性の観点から２．０以上であることが好ましい。

ここでいう、誘電率は、アルミニウム基材上に膜厚２．０μｍとなるよう硬化膜を形成した後、硬化膜の表面にアルミニウム薄膜を７０ｎｍの膜厚となるようパターン蒸着して得られた積層基材を、誘電率測定装置である「ＬＣＲメーター４２９４Ａ（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製）」を用いて測定された静電容量Ｃの値を用いて以下の式から誘電率Ｋを算出することができる。また、光透過率および誘電率を算出する際の硬化膜の膜厚は、触針式膜厚測定装置である「サーフコム（東京精密（株）製）」を用いて測定することができる。

Ｋ＝Ｃ×ｄ／（ε×Ｓ）
ここで、
Ｃ：静電容量（Ｆ）
ｄ：膜厚（ｍ）
ε：真空の誘電率８．８５４×１０^−１２（Ｆ／ｍ）
Ｓ：電極面積（ｍ^２）。

本発明の感光性組成物を製造する方法を説明する。例えば、第一段階として、顔料分散液を作製する。顔料分散液は、顔料成分、溶剤および必要に応じて分散剤など他の成分を混合して湿式メディア分散処理をして得ることができる。

湿式メディア分散処理を行なうための分散機としては、横型または縦型ビーズミル、ロールミルなどが挙げられ、例えば、“ＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ”（登録商標）（Ｗｉｌｌｙ Ａ．Ｂａｃｈｏｆｅｎ社製）、“スパイクミル”（登録商標）（（株）井上製作所製）、“サンドグラインダー”（登録商標）（デュポン社製）が挙げられる。分散機用のメディアとしては、ジルコニアビーズ、ジルコンビーズ（ＺｒＳｉＯ４）、アルミナビーズ、無アルカリガラスビーズが挙げられ、欠けや摩砕によるコンタミネーションを回避するため、金属および金属イオン不純物源となる成分を含まないビーズを用いることが好ましい。好ましい市販品の具体例としては、“トレセラム”（登録商標）（東レ（株）製）が挙げられる。また、ビーズの直径は０．０３〜５ｍｍが好ましく、真球度が高いほど好ましい。分散機の運転条件は、顔料の分散後平均粒度や粘度が所望の範囲となるように、ビーズ硬度、ハンドリング性、生産性などを考慮して適宜設定すれば良い。

（ｃ）の近赤外線遮光性を有する無機顔料の平均分散粒子径は、顔料の再凝集を抑制する上で３０ｎｍ以上が好ましく、５０ｎｍ以上がより好ましい。一方で、画素分割層の誘電率が局所的に高くなることを回避して良好な表示特性を得る上で、２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましい。また、有機顔料の平均分散粒子径は、顔料の再凝集を抑制する上で５０ｎｍ以上が好ましく、８０ｎｍ以上がより好ましい。一方で、パターン直線性を向上させる上で３００ｎｍ以下が好ましく、２００ｎｍ以下がより好ましい。

ここでいう顔料の平均分散粒子径とは、上述の湿式メディア分散処理により得られた顔料分散液中に含有する顔料の粒子径について全体の数平均値を意味する。平均分散粒子径は、動的光散乱法粒度分布測定装置「ＳＺ−１００（ＨＯＲＩＢＡ製）」またはレーザー回折・散乱法粒度分布測定装置「ＭＴ−３０００（Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ製）」を用いて測定することができる。

第二段階として、顔料分散液と、上記（ａ−１）〜（ａ−３）の群から選ばれる化合物、（ｂ）感光剤、必要に応じてその他成分を混合、撹拌することで本発明の感光性組成物を得ることができる。

次に、本発明の硬化膜について説明する。本発明の硬化膜は、本発明の感光性組成物の硬化物であり、有機ＥＬ表示装置の画素分割層として好適に用いることができる。

本発明の硬化物である硬化膜を有機ＥＬ表示装置の画素分割層に用いる場合、表示部を高精細化でき、画像あるいは映像の表示品位を高め、表示装置としての価値を高められる点から、表示エリアにおける画素分割層の開口率が２０％以下であることが好ましい。ここでいう開口率とは、画素分割層の面積に対する画素分割層の開口部の面積率を意味する。開口率が低くなるほど、表示部における画素分割層の形成面積が大きくなるため、画素分割層の発光信頼性にかかる性能が大きく影響する。すなわち、開口率が低く、高精細な表示部を有する有機ＥＬ表示装置であるほど、本発明の効果により大きく寄与することとなる。また、同様の理由から、画素分割層の膜厚を厚くするほど、本発明の効果により大きく寄与することとなる。

また、本発明の感光性組成物の硬化物である硬化膜を、パネル部材構成におけるスペーサー機能を兼ね備えた画素分割層として用いる場合は、硬化膜の膜厚が異なる部位、すなわち段差形状を面内に有していても良い。硬化膜の膜厚が異なる段差を有する画素分割層を得る方法としては、後述する露光工程において、露光光領域の光透過率が異なる複数種の開口部が形成された、ネガ型またはポジ型のハーフトーンマスクを介してパターン露光する方法が挙げられる。本発明の感光性組成物がネガ感光性を有する場合、露光部のうち、局所的に露光光領域の光透過率が高い部位が、アルカリ現像液への溶解性がより低下し、最終的に得られる画素分割層の面内において凸部として形成される。一方、本発明の感光性組成物がポジ型感光性を有する場合、露光部のうち、局所的に露光光領域の光透過率が低い部位が、アルカリ現像液への溶解性がより低下し、最終的に得られる画素分割層の面内において凸部として形成される。

本発明の感光性組成物の硬化物である硬化膜は、例えば、塗布工程、プリベーク工程、露光工程、現像工程、キュア工程をこの順に含むフォトリソグラフィにより得ることができる。

塗布工程においては、本発明の感光性組成物を基板に塗布して塗布膜を得る。例えば、トップエミッション型の有機ＥＬ表示装置の場合、基板としては、ガラス基材またはフレキシブル基材の表面に、パターン状の銀／銅合金などからなる反射層と、同パターン状のＩＴＯ電極が順に積層されたものが挙げられる。フレキシブル基材としては、ポリイミド樹脂からなるフレキシブル基材が、仮支持体である板状ガラス基材の表面に固定された積層基材を好ましく用いることができる。ここでいう板状ガラス基材は工程中で剥離されることで、最終的に得られる有機ＥＬ表示装置をフレキシブル化することができる。

塗布工程においては、本発明の感光性組成物を塗布して塗布膜を得る。塗布工程に用いる塗布装置としては、例えば、スリットコーター、スピンコーター、グラビアコーター、ディップコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、スプレーコーター、スクリーン印刷機、インクジェットが挙げられる。画素分割層は部材構成上、通常０．５〜３．０μｍ程度、好ましくは１．０〜２．０μｍ程度の膜厚で形成されるため、薄膜塗布に好適で塗布欠陥が発生しにくく、膜厚均一性と生産性に優れることから、スリットコーターまたはスピンコーターが好ましく、省液と生産効率の観点からスリットコーターがより好ましい。

プリベーク工程においては、加熱により塗布膜中の溶剤を揮散させることによりプリベーク膜を得る。加熱装置としては、例えば、熱風オーブン、ホットプレート、遠赤外線オーブン（ＩＲオーブン）などが挙げられる。ピンギャッププリベークあるいはコンタクトプリベークを行っても良い。プリベーク温度は、５０〜１５０℃が好ましく、プリベーク時間は、３０秒間〜数時間が好ましい。膜厚均一性をより向上させるため、塗布工程の後に真空／減圧乾燥機により塗布膜が含む溶剤の少なくとも一部を揮散させた後に、加熱によるプリベーク工程を行っても良い。

露光工程においては、プリベーク膜の膜面側から、フォトマスクを介して活性化学線を照射して露光膜を得る。露光工程に用いる露光装置としては、ステッパー、ミラープロジェクションマスクアライナー（ＭＰＡ）、パラレルライトマスクアライナー（ＰＬＡ）などが挙げられる。露光時に照射する活性化学線としては、例えば、紫外線、可視光線、電子線、Ｘ線、ＫｒＦ（波長２４８ｎｍ）レーザー、ＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）レーザーなどが挙げられる。中でも、水銀灯のｊ線（波長３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）またはｇ線（波長４３６ｎｍ）が好ましく、それらを含む混合線がより好ましい。露光量は通常１０〜４，０００ｍＪ／ｃｍ^２程度（ｉ線換算値）である。フォトマスクとしては、例えば、ガラス、石英またはフィルムなどの露光波長における透光性を有する基材の片側の表面に、クロムなどの金属や黒色有機樹脂からなる露光光遮蔽性を有する薄膜がパターン状に成膜されたマスクが挙げられる。本発明の感光性組成物を用いた画素分割層の形成においては、ネガ型あるいはポジ型のいずれかのフォトマスクを用いることができ、開口部のみ活性化学線を透過させてパターン露光することにより、露光膜を得る。

現像工程においては、本発明の感光性組成物がネガ型感光性を有する場合は、現像により未露光部を除去して、パターン状の現像膜を得る。一方、ポジ型感光性を有する場合は、現像により露光部を除去して、パターン状の現像膜を得る。現像方法としては、例えば、アルカリ現像液である有機系アルカリ水溶液または無機系アルカリ水溶液に、シャワー、ディッピング、パドルなどの方法により、露光膜を１０秒〜１０分間浸漬する方法が挙げられる。

露光膜において、露光部／未露光部のアルカリ現像液に対する溶解性の差を利用して、パターン状の現像膜を得ることができる。ここで、露光部とは、マスク開口部を介して露光光が照射された部位を意味し、一方で未露光部とは露光光が照射されない部位を意味する。

本発明の感光性組成物がネガ型感光性を有する場合は、未露光部がパターン開口部となり、一方、ポジ型感光性である場合は、露光部がパターン開口部となり、開口部は最終的に有機ＥＬ表示装置における発光画素部となる。

アルカリ現像液としては、例えば、２．３８重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（以下、「ＴＭＡＨ」）水溶液、０．４重量％ＴＭＡＨ水溶液、０．２重量％ＴＭＡＨ水溶液を挙げることができ、通常は大気圧、１５〜３５℃の範囲で一定の液温で使用する。現像後は脱イオン水のシャワーによるリンス洗浄処理および／またはエアー噴射による水切り処理を加えることができる。

キュア工程においては、加熱により現像膜を熱硬化させると同時に、水分、残留した現像液などの成分を揮散させて、硬化膜を得る。加熱装置としては、例えば、熱風オーブン、ＩＲオーブンなどが挙げられる。加熱温度は、（ａ−１）炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するエポキシ化合物や、その他の熱硬化成分を十分に熱硬化させて屈曲性と発光信頼性を高めるため、２００〜３００℃が好ましい。本発明の感光性組成物が有機顔料を含有する場合、分解物の発生を抑えて発光信頼性を高めるため、２３０〜２６０℃が好ましい。加熱雰囲気は窒素雰囲気下が好ましく、加熱時の圧力は大気圧が好ましい。

以上の工程から得られる本発明の硬化膜を具備する、有機ＥＬ表示装置の実施形態を図１に示す。本発明の硬化膜は図１における画素分割層（８）として好適に用いることができる。また、本発明の硬化膜は、画素分割層（８）と同様に高い屈曲性と高い発光信頼性とが求められる平坦化層（４）にも好適に用いることができる。なお、本発明の硬化膜を具備する有機ＥＬ表示装置も、本発明に包括されるものである。

基材（６）の表面に、ボトムゲート型またはトップゲート型のＴＦＴ（１）（薄膜トランジスタ）が行列状に設けられており、ＴＦＴ（１）と、ＴＦＴ（１）に接続された配線（２）とを覆う状態でＴＦＴ絶縁層（３）が形成されている。さらに、ＴＦＴ絶縁層（３）の表面には、平坦化層（４）が形成されており、平坦化層（４）には配線（２）を開口するコンタクトホール（７）が設けられている。平坦化層（４）の表面には、第二電極（５）がパターン形成されており、配線（２）に接続されている。第二電極（５）のパターン周縁を囲むようにして、画素分割層（８）が形成されている。画素分割層（８）には開口部が設けられており、開口部には有機ＥＬ発光材料を含む、発光画素（９）が形成されており、第一電極（１０）が、画素分割層（８）と発光画素（９）とを覆う状態で成膜されている。以上の積層構成からなるＴＦＴ基板を真空下で封止した後に発光画素部に直接電圧を印加すれば、有機ＥＬ表示装置として発光させることできる。

発光画素（９）は、光の３原色である赤、青、緑領域それぞれの発光ピーク波長を有する異なる種類の画素が配列したもの、もしくは白色の発光光を放つ発光画素を全面に作製し、別途の積層部材として赤、青、緑のカラーフィルタを組み合わせたものであっても良い。通常表示される赤色領域のピーク波長は、５６０〜７００ｎｍ、青色領域のピーク波長は４２０〜５００ｎｍ、緑領域のピーク波長は、５００〜５５０ｎｍであるが、本発明の有機ＥＬ表示装置においては発光画素の種類は特に限定されず、発光光がいかなるピーク波長を有していても良い。第二電極（５）としては、例えば、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）からなる透明膜を好適に用いることができ、第一電極（１０）としては、例えば、銀／マグネシウムなどの合金膜を好適に用いることができるが、電極として機能させることができる層であれば、いかなる物質からなっていても良い。また、発光画素を構成する有機ＥＬ発光材料としては、発光層に加え、さらに正孔輸送層および／または電子輸送層を組み合わせた材料を好適に用いることができる。

光取り出し方向は、発光画素から放たれる発光光を、基材（６）を介して基材側へ取り出す、ボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置であっても良いし、第一電極を介して発光光を基材（６）の反対側へ取り出す、トップエミッション型有機ＥＬ表示装置であってもよく、特に限定されない。平坦化層（４）と第二電極（５）の間には、１方向への光取り出し効率を高めるため、金属反射層をさらに設けるなどしても良い。基材（６）にガラスなどに代表される硬質の板状基材を用いれば、リジッドタイプの有機ＥＬ表示装置となる。一方で、フレキシブル基材を用いれば、フレキシブル有機ＥＬ表示装置となる。機械的強度に優れたポリイミド樹脂からなるフレキシブル基材を得るための樹脂溶液としては、例えば、ポリアミド酸を含む溶液が挙げられる。ポリアミド酸を含む溶液を支持体の表面に塗布し、次いで加熱することでポリアミド酸をイミド化してポリイミド樹脂に変換し、フレキシブル基材とすることができる。ポリアミド酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどのアミド系溶剤中で反応させて合成することができる。中でも、熱線膨張係数が小さく寸法安定性に優れる点で、芳香族テトラカルボン酸二無水物の残基と、芳香族ジアミン化合物の残基とを有するポリアミド酸が好ましい。具体例としては、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物の残基と、ｐ−フェニレンジアミンの残基とを有するポリアミド酸を挙げることができる。

以下に本発明を、その実施例および比較例を挙げて詳細に説明するが、本発明の態様はこれらに限定されるものではない。

まず、各実施例および比較例における評価方法について説明する。
＜必要最低露光量の算出方法＞
１００ｍｍ×１００ｍｍの無アルカリガラス基板の表面に、スパッタ法により、厚さ１０ｎｍの銀／銅合金の薄膜（体積比１０：１）を全面成膜し、エッチングしてパターン状の金属反射層を形成し、次いでスパッタ法により、厚さ１０ｎｍのＩＴＯ透明導電膜を全面成膜し、必要最低露光量評価用基板を得た。

得られた必要最低露光量評価用基板の表面に、感光性組成物を、最終的に得られる硬化膜の厚さが２．０μｍとなるように回転数を調節してスピンコーターで塗布して塗布膜を得て、ホットプレート（ＳＣＷ−６３６；大日本スクリーン製造（株）製）を用いて、塗布膜を大気圧下１００℃で１２０秒間プリベークして、プリベーク膜を得た。両面アライメント片面露光装置（マスクアライナーＰＥＭ−６Ｍ；ユニオン光学（株）製）を用いて、開口部の幅と遮光層の幅が１対１であるライン・アンド・スペースパターンを有する、感度測定用のグレースケールマスク（ＭＤＲＭ ＭＯＤＥＬ ４０００−５−ＦＳ；Ｏｐｔｏ−Ｌｉｎｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社製）を介して、超高圧水銀灯のｊ線（３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）およびｇ線（波長４３６ｎｍ）の混合線をパターニング露光した後、フォトリソグラフィ用小型現像装置（ＡＤ−２０００；滝沢産業（株）製）を用いて２．３８重量％ＴＭＡＨ水溶液で６０秒間現像し、脱イオン水で３０秒間リンスし、現像膜を得た。次いで、ＦＰＤ検査顕微鏡（ＭＸ−６１Ｌ；オリンパス（株）製）を用いて、作製した現像膜の解像パターンを５０倍の倍率で観察し、ライン・アンド・スペースパターンにおいて、パターン線幅（２０．０μｍ）とピッチ幅（２０．０μｍ）が１対１に形成する、すなわちフォトマスクと同一寸法のパターン状現像膜が形成される露光量（ｍＪ／ｃｍ^２：ｉ線照度計の値）を、感光性組成物の必要最低露光量（露光に対する感度）とした。なお、必要最低露光量が１５０ｍＪ（ｍＪ／ｃｍ^２）を超えるものや、現像膜が剥がれるなどしてパターン状現像膜が形成できなかったものは、評価対象から除外することとした。

（１）硬化膜の評価
（ｉ）近赤外領域の遮光性および（ｉｉ）可視光領域の遮光性の評価
実施例１〜２９および比較例１〜２０により得られた、テンパックスの表面に硬化膜を具備する光学特性評価用基板について、分光光度計「Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）」を用いて、波長３８０ｎｍから１，０００ｎｍまでの光透過率を、測定波長１．０ｎｍごと測定し、透光性基材の透過光強度と、光学特性評価用基板の透過光強度との比から求めた光透過率の小数点第二位を四捨五入して小数点第一位までの数値を求め、硬化膜の光透過率とした。波長７８０〜１，０００ｎｍにおける光透過率の最大値が低い硬化膜ほど、近赤外領域の遮光性に優れていると評価し、波長５５０ｎｍにおける光透過率が低い硬化膜ほど、可視光領域の遮光性に優れていると評価した。なお、硬化膜の厚さは、触針式膜厚測定装置（東京精密（株）；サーフコム）を用いて、面内３箇所において測定し、その平均値の小数点第二位を四捨五入して、小数点第一位までの数値を求めた。

（ｉｉｉ）誘電率の評価
実施例１〜２９および比較例１〜２０により得られた、アルミニウム基材、硬化膜、アルミニウム薄膜を順に具備する誘電率評価用基板について、誘電率測定装置である「ＬＣＲメーター４２９４Ａ（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製）」を用いて周波数１ｋＨｚにおける誘電率を測定した。なお、硬化膜の厚さは、触針式膜厚測定装置（東京精密（株）；サーフコム）を用いて、面内４箇所において測定し、その平均値の小数点第二位を四捨五入して、小数点第一位までの数値を求めた。

（ｉｖ）パターン直線性の評価
実施例１〜２９および比較例１〜２０により得られたパターン状硬化膜形成基板の中央部に位置する開口部１０箇所を、光学顕微鏡を用いて倍率５０倍に拡大して観察し、硬化膜のパターンエッジ部における波打ちの最大幅Ｗ（μｍ）を以下の方法で算出した。パターン状硬化膜において、横方向において最小の線幅ａおよび最大の線幅ｂ、縦方向において最小の線幅ｃおよび最大の線幅ｄをそれぞれ測長して、以下の式からＷ^１（μｍ）およびＷ^２（μｍ）をそれぞれ算出し、Ｗ^１（μｍ）とＷ^２（μｍ）のうち大きいほうの値を、波打ちの最大幅Ｗ（μｍ）とした。なお、線幅ａ〜ｄの測長時の測長角度は、パターン状硬化膜形成基板のエッジ部を基準として平行となるように行った。

（ｂ−ａ）／２＝Ｗ^１
（ｄ−ｃ）／２＝Ｗ^２
硬化膜のパターンエッジ部における波打ちを示す概略図を、図２に示す。白色で示した箇所が開口部（１１）を表し、黒色で示した箇所がパターン状硬化膜（１２）を表す。図２におけるａおよびｂの矢印は、パターン状硬化膜形成基板の横方向のエッジ部に対して平行な直線であり、一方、ｃおよびｄの矢印は、パターン状硬化膜形成基板の縦方向のエッジ部に対して平行な直線である。なお、ここで基準とした、パターン状硬化膜形成基板の横方向または縦方向のエッジ部とは、後述する画素分割層を備えた有機ＥＬ表示装置の作製方法を示す図３において無アルカリガラス基板（１５）の横方向または縦方向のエッジ部のことである。

最大幅Ｗが小さいほどパターン直線性が高く、有機ＥＬ表示装置の視認性に優れる。最大幅Ｗから、以下の判定基準に基づいてパターン直線性を評価し、Ａ〜Ｃを合格、Ｄ〜Ｅを不合格とした。ただし、パターンエッジ部そのもののパターン形状に加えて、現像残渣起因による波打ちも最大幅Ｗの算出に含み、測長した。

Ａ：最大幅が、１．０μｍ未満
Ｂ：最大幅が、１．０μｍ以上１．５μｍ未満
Ｃ：最大幅が、１．５μｍ以上２．０μｍ未満
Ｄ：最大幅が、２．０μｍ以上３．０μｍ未満
Ｅ：最大幅が、３．０μｍ以上。
（ｖ）屈曲性の評価
実施例１〜２９および比較例１〜２０により得られた、フレキシブル基材の表面に硬化膜が形成された屈曲性評価用基板について、以下の方法で屈曲性を評価した。

直径のみが段階的に異なる鉄製の針金（０．１０ｍｍ、０．３０ｍｍ、０．５０ｍｍ、０．８０ｍｍ、１．００ｍｍ、２．００ｍｍの計６段階）を用意した。図３に示す試験片構成で、フレキシブル基材（１３）が内側に、硬化膜（１４）が外側となるように針金の表面に沿って巻き付け、一定の曲率半径を有するように屈曲性評価用基板を湾曲させた。次いで、屈曲性評価用基板を再度平らに戻し、ＦＰＤ検査顕微鏡を用いて２０倍の倍率で硬化膜（１４）の表面を観察し、亀裂や剥がれの有無を確認した。さらに別途、上記針金に巻き付けることなく、屈曲性評価用基板単独を完全に折り曲げ（直径：０．００ｍｍ）、再度平らに戻した後、同様の観測を行なった。以上の操作を、湾曲または折り曲げる硬化膜の箇所を替えて計５回繰り返し、亀裂や剥がれが観られなかった最小の溝深さを２で除した値を、湾曲可能な最小曲率半径（ｍｍ）と見なした。０．００ｍｍ、０．０５ｍｍ、０．１５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．４０ｍｍ、０．５０ｍｍ、１．００ｍｍの７段階の最小曲率半径のうち、その値が小さいほど屈曲性に優れていると評価し、０．４０ｍｍ以下である硬化膜を合格とし、０．５０ｍｍおよび１．００ｍｍである硬化膜を不合格とした。また、最小曲率半径が１．００ｍｍを超える場合は「測定範囲外」と判定し、不合格とした。なお、厚さ７μｍのフレキシブル基材単独の屈曲性を別途評価した結果は０．００ｍｍであり、屈曲性に優れ、折り曲げることができる基材であることを別途確認した。なお、実施例１〜２９および比較例１〜２０において硬化膜の剥がれは観られず、亀裂の有無のみから評価を行なった。

（２）有機ＥＬ表示装置の輝度ムラの評価
実施例１〜２９および比較例１〜２０により得られた有機ＥＬ表示装置を、１０ｍＡ／ｃｍ^２の直流駆動により、オン／オフ切り替え操作で３０秒間ごとに１０回繰り返し発光させて、縦１６ｍｍ／横１６ｍｍのエリア内に形成した画素部において、中央部に位置する発光画素部１０箇所を、倍率５０倍でモニター上に拡大表示させて観察し、点灯時の輝度ムラの程度を、以下の判定基準に基づいて評価し、Ａ〜Ｃを合格、Ｄ〜Ｅを不合格とした。

Ａ：輝度ムラが観られない
Ｂ：輝度ムラが僅かに観られる
Ｃ：輝度ムラが観られる
Ｄ：輝度ムラが顕著に観られる
Ｅ：非点灯の画素部が１箇所以上あり、評価不能。

（３）フレキシブル有機ＥＬ表示装置の発光信頼性の評価
実施例１〜２９および比較例１〜２０により得られたフレキシブル有機ＥＬ表示装置を、表示部（発光面）を上にして８０℃に加熱したホットプレート上に置き、１０ｍＡ／ｃｍ^２で直流駆動にて発光させてから１時間後の画素発光面積率（発光画素の面積に対する発光部の面積率）を評価した後に電源を一旦オフとして消灯させた。次いで、擬似太陽光としてキセノンランプを光源とする、波長４２０ｎｍにおける照度３．０Ｗ／ｃｍ^２の光を絶えず表示部に照射し続けた。照射を開始してから５０時間後、１００時間後、５００時間後に再び発光させ、中央部に位置する発光画素部１０箇所について画素発光面積率を測定し、その平均値を算出した。１時間後の画素発光面積率を基準として、高い画素発光面積率を維持できるほど発光信頼性が優れているとし、以下の判定基準に基づいて評価し、Ａ〜Ｃを合格、Ｄ〜Ｆを不合格とした。

Ａ：９５％以上
Ｂ：９０％以上９５％未満
Ｃ：８５％以上９０％未満
Ｄ：６０％以上８５％未満
Ｅ：６０％未満
Ｆ：駆動直後の時点で非点灯の発光画素部が１箇所以上有り。

（合成例：ポリイミド樹脂溶液Ａの合成）
乾燥窒素気流下、１５０．１５ｇの２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン（０．４１ｍｏｌ）、６．２０ｇの１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン（０．０２ｍｏｌ）、および、末端封止剤である１３．６５ｇの３−アミノフェノール（０．１３ｍｏｌ）を、溶剤である５００．００ｇのＮ−メチル−２−ピロリドン（以下、「ＮＭＰ」）に溶解し、そこに１５５．１０ｇのビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物（０．５０ｍｏｌ）および１５０．００ｇのＮＭＰを加えて２０℃で１時間撹拌し、さらに水を除去しながら１８０℃で４時間撹拌した。反応終了後、反応液を１０Ｌの水に投入し、生成した沈殿物を濾過して集め、水で５回洗浄し、８０℃の真空乾燥機で２０時間乾燥して、上記一般式（２４）で表される構造単位を有する、重量平均分子量（Ｍｗ）が２５，０００、酸価１６０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）のアルカリ可溶性ポリイミド樹脂を合成し、これをＰＧＭＥＡに溶解して、固形分３０重量％のポリイミド樹脂溶液Ａを得た。

（合成例：ポリイミド樹脂溶液Ｂの合成）
１８０．００ｇのＰＧＭＥＡと、１０７．１４ｇのポリイミド樹脂溶液Ａと、１２．８６ｇの上記構造式（１２）で表される化合物とを、乾燥窒素気流下、１３０℃の加熱条件下で３０分間反応させることで、上記一般式（１）におけるＲ^１が構造式（１２）で表される化合物を由来する炭素数１７の分岐アルキル基であり、Ｒ^２がＣＯＯＣＨ_２である構造を有し、かつ上記構造式（２５）で表される構造単位を有するポリイミド樹脂を含有するＰＧＭＥＡ溶液を得て、固形分１５重量％となるよう、さらにＰＧＭＥＡで希釈して、ポリイミド樹脂溶液Ｂを得た。

（合成例：ポリアミド酸溶液Ａの合成）
容積３００ｍＬの４つ口フラスコに、温度計、撹拌羽根付き撹拌棒をセットした。乾燥窒素気流下、アミド系溶剤である、９０．００ｇのＮ−メチル−２−ピロリドン（以下、「ＮＭＰ」という）をフラスコ内に添加して昇温を開始し、液温を４０℃で維持した。ジアミン化合物である、１０．８１ｇ（１００ｍｍｏｌ）のｐ−フェニレンジアミンを、ＮＭＰ中に添加し、撹拌して溶解させた。次いで、酸二無水物である、２６．４８ｇ（９０ｍｍｏｌ）の３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を添加し、撹拌して溶解させた。４時間撹拌し続けた後、末端封止剤である、３．２７ｇ（１５ｍｍｏｌ）の二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチルを加えて１時間撹拌した後、２．９４ｇ（１０ｍｍｏｌ）の３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と、１０．００ｇのＮＭＰを加え、さらに２時間撹拌を続けた後に加温を停止して自然冷却した。液温が２０℃であることを確認し、固形分４０．０重量％となるよう、さらにＮＭＰで希釈して、ポリアミド酸溶液Ａを得た。

（合成例：カルド樹脂溶液Ａの合成）
２１４．０９ｇのＰＧＭＥＡと、７３．０５ｇの“ＡＤＥＫＡ ＡＲＫＬＳ”（登録商標）ＷＲ−３０１（（株）ＡＤＥＫＡ製；エポキシ基を有する芳香族化合物および不飽和カルボン酸を開環付加反応させて得られる樹脂に、カルボン酸無水物を反応させて得られるアルカリ可溶性カルド樹脂を４４重量％、ＰＧＭＥＡを５６重量％の割合で含む樹脂溶液；重量平均分子量（Ｍｗ）５，７００；酸価９８（ｍｇＫＯＨ／ｇ））と、１２．８６ｇの上記構造式（１２）で表される化合物とを、乾燥窒素気流下、１３０℃の加熱条件下で３０分間反応させることで、上記一般式（２）におけるＲ^３が構造式（１２）で表される化合物を由来する炭素数１７の分岐アルキル基であり、Ｒ^４がＣＯＯＣＨ_２であり、上記構造式（２９）で表される構造単位を有するカルド樹脂を含有するＰＧＭＥＡ溶液を得て、固形分１５重量％となるよう、ＰＧＭＥＡで希釈して、カルド樹脂溶液Ａを得た。

（合成例：キノンジアジド化合物ａの合成）
乾燥窒素気流下、フェノール性水酸基を有する化合物である２１．２３ｇ（０．０５ｍｏｌ）のＴｒｉｓＰ−ＰＡ（本州化学工業（株）製）と、３３．５８ｇ（０．１２５ｍｏｌ）の５−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリドを、４５０．００ｇの１，４−ジオキサンに溶解させ、室温にした。ここに、５０．００ｇの１，４−ジオキサンと混合させた１２．６５ｇ（０．１２５ｍｏｌ）のトリエチルアミンを系内が２５〜３５℃となるよう維持しつつ滴下した。滴下後３０℃で２時間攪拌した。次いで、トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入し、析出した沈殿を濾過し回収した。この沈殿物を真空乾燥機で乾燥させ、感光剤である、構造式（４０）で表されるキノンジアジド化合物ａを得た。

（調製例１：顔料分散液１の調製）
５７．６９ｇの“Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ”（登録商標） ２００００（三級アミノ基を分子末端に有するポリエーテル系高分子樹脂分散剤）を、溶剤である７５０．００ｇのＰＧＭＥＡに混合して１０分間撹拌した後、１９２．３１ｇの窒化チタン（平均一次粒子径２５ｎｍ；表中、「ＴｉＮ」）を投入して３０分間撹拌した後に、横型ビーズミルを用いて湿式メディア分散処理および濾過（ＰＰフィルタ孔径０．８μｍ）を行い、顔料分散液１を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表１に示す。なお、顔料分散液１に含有する窒化チタンの平均分散粒子径は８５ｎｍであった。

（調製例２：顔料分散液２の調製）
窒化チタンに替えて、酸窒化チタン（平均一次粒子径３５ｎｍ；表中、「ＴｉＯＮ」）を用いて、調製例１と同様の手順で顔料分散液２を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表１に示す。なお、顔料分散液２に含有する酸窒化チタンの平均分散粒子径は９５ｎｍであった。

（調製例３：顔料分散液３の調製）
４６．１５ｇのＳｏｌｓｐｅｒｓｅ２００００を、８００．００ｇのＰＧＭＥＡに混合して１０分間撹拌した後、１５３．８５ｇのカーボンブラック（フェニルスルホン酸基が表面に修飾された高抵抗カーボンブラック；ＣＡＢＯＴ製“ＴＰＫ−１２２７”；平均一次粒子径４０ｎｍ）を投入した後に３０分間撹拌して、横型ビーズミルで調製例１と同様の手順で顔料分散液３を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表１に示す。なお、顔料分散液３に含有するカーボンブラックの平均分散粒子径は１２０ｎｍであった。

（調製例４：顔料分散液４の調製）
３０．００ｇの“Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ”（登録商標） ２００００を、８５０．００ｇのＰＧＭＥＡに混合して１０分間撹拌した後、有機黒色顔料である、１２０．００ｇの上記構造式（３２）で表されるベンゾジフラノン系顔料（平均一次粒子径５０ｎｍ；ＢＡＳＦ製“Ｉｒｇａｐｈｏｒ”（登録商標）Ｂｌａｃｋ Ｓ０１００；表中、「Ｓ０１００」）を投入して３０分間撹拌した後に、横型ビーズミルを用いて、調製例１と同様の手順で顔料分散液４を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表１に示す。なお、顔料分散液４に含有するベンゾジフラノン系顔料の平均分散粒子径は１２０ｎｍであった。

（調製例５〜７：顔料分散液５〜７の調製）
上記構造式（３２）で表されるベンゾジフラノン系顔料に替えて、有機青色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントブルー６０（平均一次粒子径６０ｎｍ）、有機赤色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１９０（平均一次粒子径５５ｎｍ）、有機黄色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２（平均一次粒子径４０ｎｍ）を用いて、調製例１と同様の手順で顔料分散液５〜７をそれぞれ調製した。各原料の配合量（ｇ）を表１に示す。なお、顔料分散液５に含有するＣ．Ｉ．ピグメントブルー６０の平均分散粒子径は、１６２ｎｍ、顔料分散液６に含有するＣ．Ｉ．ピグメントレッド１９０の平均分散粒子径は、１１０ｎｍ、顔料分散液７に含有するＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２の平均分散粒子径は９０ｎｍであった。

（調製例８：顔料分散液８の調製）
“Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ”（登録商標） ２００００に替えて、分散剤として“Ｔｅｇｏ ｄｉｓｐｅｒｓ”（登録商標）６５５（分子末端に酸性吸着基としてリン酸基を有するエチレンオキサイド／スチレンオキサイド系高分子分散剤）を用いて、調製例１と同様の手順で、顔料分散液８を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表１に示す。なお、顔料分散液８に含有する窒化チタンの平均分散粒子径は１３７ｎｍであった。

（調製例９〜１１：顔料分散液９〜１１の調製）
“Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ”（登録商標） ２００００に替えて、分散剤として“Ｔｅｇｏ ｄｉｓｐｅｒｓ”（登録商標）６５５を用いて、調製例５〜７と同様の手順で顔料分散液９〜１１をそれぞれ調製した。各原料の配合量（ｇ）を表１に示す。なお、顔料分散液９に含有するＣ．Ｉ．ピグメントブルー６０の平均分散粒子径は１７０ｎｍ、顔料分散液１０に含有するＣ．Ｉ．ピグメントレッド１９０の平均分散粒子径は１３４ｎｍ、顔料分散液７に含有するＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２の平均分散粒子径は１０５ｎｍであった。

（調製例１２：顔料分散液１２の調製）
有機青色顔料を含有する、４００．００ｇの顔料分散液５と、有機赤色顔料を含有する、３００．００ｇの顔料分散液６と、有機黄色顔料を含有する、３００．００ｇの顔料分散液７とを混合し１０分間撹拌して、擬似黒色分散液である、顔料分散液１２を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表１に示す。

（調製例１３：顔料分散液１３の調製）
有機青色顔料を含有する、４００．００ｇの顔料分散液９と、有機赤色顔料を含有する、３００．００ｇの顔料分散液１０と、有機黄色顔料を含有する、３００．００ｇの顔料分散液１１とを混合し１０分間撹拌して、擬似黒色分散液である顔料分散液１３を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表２に示す。

（調製例１４、１５：顔料分散液１４、１５の調製）
窒化チタンに替えて、窒化ジルコニウム（平均一次粒子径５５ｎｍ；表中、「ＺｒＮ」）、アモルファスカーボンブラック（平均一次粒子径８６ｎｍ；表中、「ａ−ＣＢ」）をそれぞれ用いて、調製例１と同様の手順で顔料分散液１４、１５を調製した。各原料の配合量（ｇ）および平均分散粒子径（ｎｍ）を表３に示す。アモルファスカーボンブラックは、ＳＰ^３構造およびＳＰ^２構造の合計に対して、ＳＰ^３構造の含有量が４５ａｔｏｍ％であるものを用いた。また、窒化ジルコニウムは、ＺｒＮで表されるものを用いた。なお、顔料分散液８に含有する窒化チタンの平均分散粒子径は１３７ｎｍ、顔料分散液１５に含有するアモルファスカーボンブラックの平均分散粒子径は１６５ｎｍであった。

（調製例１６：顔料分散液１６の調製）
窒化チタンの平均分散粒子径が３１２ｎｍとなるように湿式分散処理を行った以外は、調製例１と同様の手順で、顔料分散液１６を作製した。各原料の配合量（ｇ）を表３に示す。

（調製例１７：顔料分散液１７の調製）
ベンゾジフラノン系顔料の平均分散粒子径が３５６ｎｍとなるように湿式分散処理を行った以外は、調製例４と同様の手順で、顔料分散液１７を作製した。各原料の配合量（ｇ）を表３に示す。

（実施例１）
２．１８ｇの顔料分散液１と、２．９７ｇの顔料分散液１２と、０．４５ｇの構造式（３）で表される化合物と、２．５０ｇのポリイミド樹脂溶液Ａと、下記構造式（４１）で表される、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物である０．６９ｇのジペンタエリスリトールのε−カプロラクトン付加アクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−６０；日本化薬（株）製；表中、「ＤＰＣＡ−６０」）と、光重合開始剤である０．１２ｇの“アデカクルーズ”（登録商標）ＮＣＩ−８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）と、１１．０９ｇのＰＧＭＥＡを混合し、密栓して３０分間シェーカー上で撹拌し、ネガ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物１を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表４に示す。

テンパックス（５０ｍｍ×５０ｍｍの透光性ガラス基材）の表面に、感光性組成物１を、最終的に得られる硬化膜の厚さが２．０μｍとなるように回転数を調節してスピンコーターで塗布して塗布膜を得て、ホットプレート（ＳＣＷ−６３６；大日本スクリーン製造（株）製）を用いて、塗布膜を大気圧下１００℃で１２０秒間プリベークして、プリベーク膜を得た。両面アライメント片面露光装置（マスクアライナー ＰＥＭ−６Ｍ；ユニオン光学（株）製）を用いて超高圧水銀灯のｊ線（３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）およびｇ線（波長４３６ｎｍ）の混合線を、前述の方法で得られた必要最低露光量でプリベーク膜全面に露光光を照射して、露光膜を得た。次いで、フォトリソグラフィ用小型現像装置（ＡＤ−２０００；滝沢産業（株）製）を用いて、液温２３℃の２．３８重量％ＴＭＡＨ水溶液で６０秒間現像し、液温２３℃の脱イオン水で３０秒間リンスして現像膜を得て、高温イナートガスオーブン（ＩＮＨ−９ＣＤ−Ｓ；光洋サーモシステム（株）製）を用いて、窒素雰囲気下、現像膜を２５０℃で６０分間加熱して、厚さ２．０μｍの硬化膜を具備する光学特性評価用基板を得た。前述の方法で、硬化膜の光学特性を評価した結果を表５に示す。

アルミニウム基材（７０ｍｍ×７０ｍｍ）の表面に、感光性組成物１を、最終的に得られる硬化膜の厚さが２．０μｍとなるように回転数を調節してスピンコーターで塗布して塗布膜を得て、ホットプレートを用いて、塗布膜を大気圧下１００℃で１２０秒間プリベークして、プリベーク膜を得た。両面アライメント片面露光装置を用いて超高圧水銀灯のｊ線（３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）およびｇ線（波長４３６ｎｍ）の混合線を、前述の方法で得られた必要最低露光量でプリベーク膜全面に露光光を照射して、露光膜を得た。露光膜を高温イナートガスオーブンを用いて、窒素雰囲気下、露光膜を２５０℃で６０分間加熱して、厚さ２．０μｍの硬化膜を得た。さらに、硬化膜の表面に、アルミニウム薄膜を７０ｎｍの膜厚となるようパターン蒸着し、誘電率評価用基板を得た。前述の方法で、硬化膜の誘電率を評価した結果を表５に示す。なお、ホットプレート、両面アライメント片面露光装置、高温イナートガスオーブンは、光学特性評価用基板作製時と同一のものを用いた。

支持体である透光性ガラス基材（１０ｃｍ×１０ｃｍ）の表面に、ポリアミド酸溶液Ａを、最終的に得られるフレキシブル基材の厚さが７．０μｍとなるよう回転数を調節してスピンコーターで塗布して塗布膜を得て、ホットプレートを用いて、１１０℃で１０分間乾燥した。次いで、高温イナートガスオーブンを用いて、窒素雰囲気下で５０℃から毎分４℃で昇温して３５０℃で３０分間加熱した後に毎分１０℃で昇温して５００℃で３０分間加熱することでポリアミド酸をイミド化した後に、自然冷却して常温とし、ガラス基材の表面にポリイミド樹脂からなるフレキシブル基材を具備する積層基材を得た。さらに、フレキシブル基材の表面に、感光性組成物１を、最終的に得られる硬化膜の厚さが２．０μｍとなるように、上記の光学特性評価用基板作製時と同一の条件で塗布、プリベーク、露光、現像、キュアを行ない、硬化膜を得た。透光性ガラス基材側からエキシマレーザーを照射し、フレキシブル基材の密着性を低下させて透光性ガラス基材のみを剥離して、厚さ７．０μｍのフレキシブル基材の表面に、厚さ２．０μｍの硬化膜が形成された屈曲性評価用基板を得た。前述の方法で、硬化膜の屈曲性を評価した結果を表５に示す。

次いで、以下の方法で、感光性組成物１を硬化して得られる硬化膜を具備するパターン状硬化膜形成基板、および該パターン状硬化膜を画素分割層として具備する、輝度ムラ評価用の有機ＥＬ表示装置を作製した。

図４に、画素分割層の形成工程を含む有機ＥＬ表示装置の作製工程を示す。

無アルカリガラス基板（１５）（横４６ｍｍ×縦４６ｍｍの正方形）の表面に、スパッタ法により、厚さ１０ｎｍの銀／銅合金の薄膜（体積比１０：１）を全面成膜し、エッチングしてパターン状の金属反射層（１６）を形成した。次いで、スパッタ法により、厚さ１０ｎｍのＩＴＯ透明導電膜を全面成膜し、エッチングして同パターン状の第二電極１７と、引き出し電極として補助電極（１８）を形成した後、“セミコクリーン”（登録商標）５６（フルウチ化学（株）製）で１０分間超音波洗浄し、超純水で洗浄して、電極形成基板を得た。

電極形成基板の表面に、スピンコーターを用いて、最終的に得られる画素分割層の厚さが２．０μｍとなるように回転数を調節して感光性組成物１を塗布し、塗布膜を得た。ホットプレートを用いて、塗布膜を大気圧下１００℃で１２０秒間プリベークして、プリベーク膜を得た。

開口部（横３０μｍ／縦１６５μｍの長方形）が、開口部間ピッチ５０μｍで配列したネガ型露光マスクのパターン状遮光部における縦方向／横方向のエッジ部が、無アルカリガラス基板（１５）の縦方向／横方向のエッジ部に対して、それぞれ平行になるようにネガ型露光マスクを塗布膜上にセッティングして、両面アライメント片面露光装置を用いて、ネガ型露光マスクを介して、超高圧水銀灯のｊ線（３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）およびｇ線（波長４３６ｎｍ）の混合線を、必要最低露光量でプリベーク膜に露光光をパターン照射して、露光膜を得た。次いで、フォトリソグラフィ用小型現像装置を用いて、２．３８重量％ＴＭＡＨ水溶液で６０秒間現像し、脱イオン水で３０秒間リンスして、現像膜を得た。なお、ネガ型露光マスクとしては、ソーダガラス基板の表面にクロム製のパターン状遮光部が形成されたマスクを用いた。

さらに、高温イナートガスオーブンを用いて、窒素雰囲気下、現像膜を２５０℃で６０分間加熱して硬化膜とし、電極形成基板中央部の縦１６ｍｍ／横１６ｍｍのエリア内に、開口部（横３０μｍ／縦１６５μｍの長方形）が開口部間ピッチ５０μｍで配列した、厚さ２．０μｍのパターン状硬化膜（１９）を具備する、開口率１８％のパターン状硬化膜形成基板を得て、前途の方法でパターン直線性を評価した。後述のプロセスを経た後に得られる有機ＥＬ表示装置において、ここでいう開口部が最終的に発光画素部となる部分であり、パターン状硬化膜が画素分割層に相当する部分である。なお、ホットプレート、両面アライメント片面露光装置、フォトリソグラフィ用小型現像装置、高温イナートガスオーブンは、光学特性評価用基板作製時と同一のものを用いた。

次に、パターン状硬化膜形成基板を用いて、有機ＥＬ表示装置の作製を行った。真空蒸着法により発光層を含む有機ＥＬ層（２０）を形成するため、真空度１×１０^−３Ｐａ以下の蒸着条件下で、蒸着源に対してパターン状硬化膜形成基板を回転させ、まず、正孔注入層として、化合物（ＨＴ−１）を１０ｎｍ、正孔輸送層として、化合物（ＨＴ−２）を５０ｎｍの厚さで成膜した。次に、発光層上に、ホスト材料として、化合物（ＧＨ−１）とドーパント材料として、化合物（ＧＤ−１）を４０ｎｍの厚さで蒸着した。その後、電子輸送材料として、化合物（ＥＴ−１）と化合物（ＬｉＱ）を、体積比１：１で４０ｎｍの厚さで積層した。

次に、化合物（ＬｉＱ）を２ｎｍ蒸着した後、銀／マグネシウム合金（体積比１０：１）で１０ｎｍ蒸着して第一電極（２１）とした。その後、低湿／窒素雰囲気下、エポキシ樹脂系接着剤を用いて、キャップ状ガラス板を接着することにより封止し、有機ＥＬ表示装置を得た。前述の方法で、有機ＥＬ表示装置の輝度ムラを評価した結果を表６に示す。なお、ここでいう厚さは、水晶発振式膜厚モニターの表示値である。

有機ＥＬ層の形成に用いた化合物群（ＨＴ−１、ＨＴ−２、ＧＨ−１、ＧＤ−１、ＥＴ−１、ＬｉＱ）の化学構造を、それぞれ以下に示す。

次いで、以下の方法で、感光性組成物１を硬化して得られる硬化膜を画素分割層として具備する発光信頼性評価用のフレキシブル有機ＥＬ表示装置を作製した。

画素分割層の形成工程を含む、前途の有機ＥＬ表示装置の作製工程を示した図４における無アルカリガラス基板（１５）を、支持体であるガラス基材の表面にポリイミド樹脂からなるフレキシブル基材を具備する積層基材に替えた以外は同様の手順で、金属反射層、第二電極、補助電極を形成した後に、感光性組成物１を塗布し、プリベーク、露光、現像、キュアまでを行なって、前途のパターン状硬化膜（１９）と同パターン状の、厚さ２．０μｍの硬化膜を得た。次いで同様の手順で有機ＥＬ層、第一電極を形成して封止した。最後に、ガラス基材を剥離して、発光信頼性評価用のフレキシブル有機ＥＬ表示装置を完成させ、前途の方法で発光信頼性を評価した。評価結果を表６に示す。なお、ガラス基材の表面にポリイミド樹脂からなるフレキシブル基材を具備する積層基材は、上記の屈曲性評価用基板の作製時と同様の手順で得たものを使用した。

（実施例２〜８）
構造式（３）で表される化合物に替えて上記構造式（５）、（７）、（９）、（１１）、（１３）、（１５）、（１７）で表される化合物をそれぞれ用いて、実施例１と同様の手順で、表４に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、ネガ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物２〜８をそれぞれ調製し、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表５〜６に示す。

（実施例９〜１１）
顔料分散液１２に替えて顔料分散液４を用い、上記構造式（１１）、（３）、（１７）で表される化合物をそれぞれ用いて、実施例１と同様の手順で、表７に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、ネガ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物９〜１１を調製し、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表８〜９に示す。

（実施例１２）
ジペンタエリスリトールのε−カプロラクトン付加アクリレートに替えて、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（表中、「ＤＰＨＡ」）を用いた以外は実施例９と同様の手順で、ネガ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物１２を調製し、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表８〜９に示す。

（実施例１３）
顔料分散液１に替えて顔料分散液１６を用い、顔料分散液４に替えて顔料分散液１７を用いた以外は実施例１と同様の手順で、表７に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、ネガ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物１３を調製し、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表８〜９に示す。

（実施例１４〜１５）
顔料分散液１を用いることなく、顔料分散液４、１２をそれぞれ用いて実施例１と同様の手順で、表７に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、ネガ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物１４〜１５を調製し、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表８〜９に示す。

（実施例１６〜１８）
上記構造式（１１）で表される化合物とポリイミド樹脂溶液Ａの割合を替えた以外は実施例９と同様の手順で、表７に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、ネガ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物１６〜１８を調製し、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表８〜９に示す。

（実施例１９〜２１）
顔料分散液２、４、１２、１４、１５を用いて、表１０に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、ネガ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物１９〜２１を調製し、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表１１〜１２に示す。

（実施例２２〜２３）
波長９９２ｎｍに極大吸収波長を有するバナジルフタロシアニン系近赤外線吸収染料である、０．２０ｇのＦＤＮ−０８（表中、「ＶＯ−Ｐｃ」）を、９．８０ｇのＰＧＭＥＡに添加して３時間撹拌して得られた近赤外線吸収染料溶液Ａをさらに用いて、実施例９と同様の手順で、表１０に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、固形分１５重量％の感光性組成物２２〜２３を調製し、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表１１〜１２に示す。

（実施例２４）
顔料分散液１および１２に替えて、顔料分散液３および４を用いた以外は、実施例５と同様の手順で、表１０に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、ネガ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物２４を調製し、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表１１〜１２に示す。

（実施例２５）
２．１８ｇの顔料分散液１と、２．９７ｇの顔料分散液１２と、２．１０ｇのポリイミド樹脂溶液Ａと、５．００ｇのポリイミド樹脂溶液Ｂと、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物である０．５１ｇのジペンタエリスリトールのε−カプロラクトン付加アクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−６０）と、光重合開始剤である０．１２ｇの“アデカクルーズ”（登録商標）ＮＣＩ−８３１と、７．１２ｇのＰＧＭＥＡを混合し、密栓して３０分間シェーカー上で撹拌し、ネガ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物２５を調製した。
実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。各原料の種類および配合量（ｇ）を表１３に、評価結果を表１４〜１５に示す。

（実施例２６）
ポリイミド樹脂溶液Ｂを、カルド樹脂溶液Ａに替えた以外は、実施例２５と同様の手順で、表７に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、ネガ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物２６を調製し、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表１４〜１５に示す。

（比較例１〜７）
本発明の感光性組成物中の必須成分である上記（ａ−１）〜（ａ−３）成分を用いることなく、表１６に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、ネガ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物２７〜３３を調製し、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表１７〜１８に示す。

（比較例８〜１０）
上記構造式（３）で表される化合物に替えて、下記構造式（４２）、（４３）で表される化合物を用い、表１６に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、ネガ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物３４〜３６を調製し、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表１７〜１８に示す。なお、下記構造式（４２）、（４３）で表される化合物は、上記（ａ−１）〜（ａ−３）成分に該当する化合物ではない。

（比較例１１〜１７）
上記構造式（３）で表される化合物に替えて、下記構造式（４４）〜（４９）で表される化合物を用い、表１９に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、ネガ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物２７〜３３を調製し、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表２０〜２１に示す。なお、下記構造式（４４）〜（４９）で表される化合物は、上記（ａ−１）〜（ａ−３）成分に該当する化合物ではない。

（実施例２７）
２．１８ｇの顔料分散液８と、０．６７ｇの顔料分散液１３と、０．４５ｇの上記構造式（１１）で表される化合物と、４．３５ｇのポリイミド樹脂溶液Ａと、０．６０ｇのキノンジアジド化合物ａと、１１．７５ｇのＰＧＭＥＡを混合し、密栓して３０分間シェーカー上で撹拌し、ポジ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物４４を調製した。光学特性評価用基板、誘電率評価用基板および屈曲性評価用基板の作製においてパターン露光を行なわなかったことと、パターン状硬化膜形成基板の作製においてネガ型露光マスクの開口部と遮光部とが反転したポジ型露光マスクを用いたこと以外は実施例１と同様の方法で、硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。各原料の配合量（ｇ）を表２２に、評価結果を表２３〜２４に示す。

（比較例１８）
上記構造式（１１）で表される化合物を用いなかった以外は、実施例２７と同様の手順で、表２２に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、ポジ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物４５を調製し、実施例２７と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表２３〜２４に示す。

（合成例：ポリベンゾオキサゾール前駆体溶液Ａの合成）
乾燥窒素気流下、４１．３２ｇ（０．１６ｍｏｌ）のジフェニルエーテル−４，４'−ジカルボン酸と、４３．２４ｇ（０．３２ｍｏｌ）の１−ヒドロキシ−１，２，３−ベンゾトリアゾールとを反応させて得られたジカルボン酸誘導体の混合物（０．１６ｍｏｌ）と、７３．２５ｇ（０．２０ｍｏｌ）の２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンを、５７０．００ｇのＮＭＰに溶解させた後、７５℃で１２時間反応させた。次いで、１３．１３ｇ（０．０８ｍｏｌ）の５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物を、７０．００ｇのＮＭＰに予め溶解させた溶液を加え、さらに１２時間攪拌して反応させた。反応混合物を濾過した後、反応混合物を水／メタノール＝３／１（容積比）の溶液に投入して白色沈殿を得た。この沈殿を濾過で集めて、水で３回洗浄した後、８０℃の真空乾燥機で２４時間乾燥し、アルカリ可溶性ポリベンゾオキサゾール前駆体を得た。これをＰＧＭＥＡに溶解して、固形分３０重量％のポリベンゾオキサゾール前駆体溶液Ａを得た。

（実施例２８）
構造式（３）で表される化合物に替えて上記構造式（１１）で表される化合物を用い、ポリイミド樹脂溶液Aに替えてポリベンゾオキサゾール前駆体溶液Ａを用い、表２５に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、ネガ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物４６を調製し、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表２６〜２７に示す。

（比較例１９）
上記構造式（１１）で表される化合物を用いることなく、表２５に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、ネガ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物４７を調製し、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表２６〜２７に示す。

（実施例２９）
ポリイミド樹脂溶液Ａに替えて、ポリベンゾオキサゾール前駆体溶液Ａを用い、表２８に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、ポジ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物４８を調製した。光学特性評価用基板、誘電率評価用基板および屈曲性評価用基板の作製においてパターン露光を行なわなかったことと、パターン状硬化膜形成基板の作製においてネガ型露光マスクの開口部と遮光部とが反転したポジ型露光マスクを用いたこと以外は実施例１と同様の方法で、硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表２９〜３０に示す。

（比較例２０）
上記構造式（１１）で表される化合物を用いることなく、表２８に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、ポジ型感光性を有する、固形分１５重量％の感光性組成物４９を調製し、実施例２９と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製して評価した。評価結果を表２９〜３０に示す。

実施例および比較例について以下に説明をする。

実施例１４〜１５においては、同等の光学特性を有する比較例３〜６と比べて、良好なパターン直線性を得ながら、屈曲性および発光信頼性が向上していることがわかる。

上記（ａ−１）成分が有する長鎖アルキル基の炭素数が９〜１９である化合物を含有する実施例１〜８では、同等の光学特性を有する比較例１と比べて、屈曲性および発光信頼性が向上していることがわかる。

また、上記（ａ−２）成分を含有する実施例２５、（ａ−３）成分を含有する実施例２６では、同等の光学特性を有する比較例１と比べて、屈曲性および発光信頼性が向上していることがわかる。

アルキル基の炭素数が８である化合物を含有する比較例８においては、屈曲性および発光信頼性の向上は観られない。一方、長鎖アルキル基の炭素数が２０である化合物を含有する比較例９においては、発光信頼性の向上が観られているものの、パターン直線性が大きく悪化しており、さらに含有量を低く調整した比較例１０においても同様にパターン直線性が悪化していることがわかる。

以上より、本発明の効果を得るためには、感光性組成物が含有する上記（ａ−１）〜（ａ−３）成分の長鎖アルキル基の炭素数が、９〜１９の範囲内にあることが必須であることがわかる。

一方で、炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するがエポキシ基を有さない、構造式（４４）、（４８）〜（４９）で表される化合物を含有する比較例１１、１６および１７では、同等の光学特性を有する比較例２と比べて、何ら改善が観られない。逆に、エポキシ基を有するが炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有さない、構造式（４５）〜（４７）で表される化合物を含有する比較例１２〜１５では、同等の光学特性を有する比較例２と比べて、何ら改善が観られない。炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するが、エポキシ基を有さない化合物と、エポキシ基を有するが、炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有さない化合物とを混合して含有する比較例１３においても、同等の光学特性を有する比較例２と比べて、何ら改善が観られない。

以上から、上記（ａ−１）成分である、炭素数９〜１９の長鎖アルキル基とエポキシ基とを分子内に併せ持つ化合物との効果の違いは明らかである。

着色材として有機顔料のみを含有する実施例１４〜１５では、近赤外線領域の光透過率が９０％以上と高いことから、有機顔料は近赤外線遮光性に極めて乏しい着色材であることを表している。一方、青色、黄色、赤色の有機顔料に加えて、窒化チタンを含有する実施例５においては、実施例１５と比べて、より少ない顔料濃度で近赤外線および可視光領域における高い遮光性が得られているだけでなく、高い屈曲性をも得られていることがわかる。この効果は、有機顔料の比重が１．４〜１．６の範囲であるのに対して、窒化チタンの比重が５．３と高比重であり、顔料成分の含有量を同程度とした場合、顔料の体積あたりの遮光性が高いことから、膜中の粒子の占有体積を少なくすることができ、結果として屈曲性の向上が得られたものと考えられる。

可視光領域における着色力が高い、有機黒色顔料を含有する実施例９では、青色、黄色、赤色の有機顔料を混合して含有する実施例５と比べて、同等の光学特性を得るために必要となる着色材量を少なくすることができ、結果として、屈曲性の向上が得られている。

また、比較例１〜２、７〜８、１８では、（ｃ）近赤外線遮光性を有する無機顔料により高い近赤外線遮光性が付与された反面、弊害として輝度ムラの問題が観られたが、実施例１〜１３、１６〜２４においては高い近赤外線遮光性と、輝度ムラの抑制を両立できたことがわかる。この違いは、（ｃ）近赤外線遮光性を有する無機顔料による誘電率の上昇を、上記（ａ−１）成分の含有により回避したことによる効果であるものと考えられる。

（ｃ）近赤外線遮光性を有する無機顔料に加えて、バナジルフタロシアニン系近赤外線吸収染料を併用した実施例２２〜２３においては、誘電率、屈曲性および発光信頼性をいずれも損なうことなく、実施例９と比べて、さらに高い近赤外線遮光性が得られている。

実施例２８は比較例１９と比べて、実施例２９は比較例２０と比べて、いずれも屈曲性および発光信頼性が向上している。これらの傾向は、実施例５が比較例１と比べて、実施例２７が比較例１８と比べて優れる点と共通している。すなわち、本発明の感光性組成物が含有するアルカリ可溶性樹脂が、アルカリ可溶性ポリイミド樹脂、アルカリ可溶性ポリベンゾオキサゾール前駆体のいずれであっても本発明の効果が得られている。また、感光性組成物が有する感光性が、ネガ型感光性、ポジ型感光性のいずれであっても本発明の効果が得られている。

以上、全ての実施例および比較例により、本発明の感光性組成物が有用であることがわかる。

本発明の感光性組成物は、有機ＥＬ表示装置の画素分割層の他、ＴＦＴの平坦化層を形成するための材料として利用することができ、特に、曲げたり、折り畳むことができるスマートフォンなどの電子機器の用途において有用である。

１：ＴＦＴ
２：配線
３：ＴＦＴ絶縁膜
４：平坦化層
５：第二電極（ＩＴＯ電極）
６：基材
７：コンタクトホール
８：画素分割層
９：発光画素
１０：第一電極
１１：開口部
１２：パターン状硬化膜
１３：硬化膜
１４：フレキシブル基材
１５：無アルカリガラス基板
１６：金属反射層
１７：第二電極
１８：補助電極
１９：パターン状硬化膜
２０：有機ＥＬ層
２１：第一電極

Claims (15)

1. 下記（ａ−１）〜（ａ−２）の群から選ばれる化合物を少なくとも１種含有し、
   かつ（ｂ）感光剤を含有する感光性組成物であって、
   前記（ａ−１）〜（ａ−２）の群から選ばれる化合物が有する炭素数９〜１９の長鎖アルキル基が、第三級炭素および／または第四級炭素を合計３つ以上有する分岐アルキル基である、感光性組成物。
   （ａ−１）炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を有するエポキシ化合物
   （ａ−２）下記一般式（１）で表される構造を有する樹脂
   

   

   （上記一般式（１）中、Ｒ^１は炭素数９〜１９の長鎖アルキル基を表し、Ｒ^２はＣＯＯＣＨ_２またはオキシメチレン基を表し、＊は結合位置を表す。）
2. さらに、（ｃ）近赤外線遮光性を有する無機顔料を含有する請求項１に記載の感光性組成物。
3. 前記（ｃ）近赤外線遮光性を有する無機顔料が、チタン原子を有する無機黒色顔料、ジルコニウム原子を有する無機黒色顔料およびアモルファスカーボンブラックの群から少なくとも１種選ばれる無機顔料を含有する請求項２に記載の感光性組成物。
4. 前記（ａ−１）〜（ａ−２）の群から選ばれる化合物が有する長鎖アルキル基が、下記構造式（５０）で表される分岐アルキル基である請求項１〜３のいずれかに記載の感光性組成物。
   

   

   （上記一般式（５０）中、*は結合位置を表す。）
5. 前記（ａ−２）の化合物を含有し、上記一般式（１）で表される構造を有する樹脂がポリイミド樹脂である請求項１〜４のいずれかに記載の感光性組成物。
6. さらに、（ｄ）有機黒色顔料を含有する請求項１〜５のいずれかに記載の感光性組成物。
7. 前記（ｂ）感光剤が、ラジカル重合性基を２つ以上有する化合物および光重合開始剤を含有し、ネガ型感光性を有する請求項１〜６のいずれかに記載の感光性組成物。
8. 前記（ｂ）感光剤が、光酸発生剤を含有し、ポジ型感光性を有する請求項１〜６のいずれかに記載の感光性組成物。
9. さらに、（ｅ）バナジルフタロシアニン系近赤外線吸収染料を含有する請求項１〜８のいずれかに記載の感光性組成物。
10. 膜厚２．０μｍの硬化膜にしたときの、波長７８０〜１，０００ｎｍにおける光透過率の最大値が５．０％以下であり、かつ周波数１ｋＨｚにおける誘電率が５．０未満である請求項１〜９のいずれかに記載の感光性組成物。
11. 請求項１〜１０のいずれかに記載の感光性組成物の硬化物からなる硬化膜。
12. 請求項１〜１０のいずれかに記載の感光性組成物の硬化膜を具備する有機ＥＬ表示装置。
13. ポリイミド樹脂からなるフレキシブル基材と、請求項１〜１０のいずれかに記載の感光性組成物の硬化膜とを具備する有機ＥＬ表示装置。
14. 請求項１１に記載の硬化膜からなる画素分割層を具備する有機ＥＬ表示装置。
15. 表示エリアにおける前記画素分割層の開口率が２０％以下である請求項１４に記載の有機ＥＬ表示装置。

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