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JP6955382B2 - Laminated coil - Google Patents
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JP6955382B2 - Laminated coil - Google Patents

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JP6955382B2 JP2017133045A JP2017133045A JP6955382B2 JP 6955382 B2 JP6955382 B2 JP 6955382B2 JP 2017133045 A JP2017133045 A JP 2017133045A JP 2017133045 A JP2017133045 A JP 2017133045A JP 6955382 B2 JP6955382 B2 JP 6955382B2
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Description

本開示は、積層コイルに関する。より具体的には、本開示は、磁性材料の焼結体からなる磁性体基板と、当該磁性体基板の上に形成された樹脂層と、を備える積層コイルに関する。 The present disclosure relates to laminated coils. More specifically, the present disclosure relates to a laminated coil including a magnetic substrate made of a sintered body of a magnetic material and a resin layer formed on the magnetic substrate.

従来の積層コイルは、一般に、フェライト等の磁性材料の焼結体からなる磁性体基板の上にコイル導体を含む絶縁樹脂層を形成し、当該絶縁樹脂層の上にカバー樹脂層を形成することで作製される。このカバー樹脂層は、例えば、フェライト粒子等のフィラー粒子と、エポキシ樹脂等の絶縁性の樹脂と、を含む。このような従来の積層コイルは、例えば、特開2010−087030号公報及び特開2013−153184号公報に開示されている。 In a conventional laminated coil, generally, an insulating resin layer including a coil conductor is formed on a magnetic substrate made of a sintered body of a magnetic material such as ferrite, and a cover resin layer is formed on the insulating resin layer. Made in. This cover resin layer contains, for example, filler particles such as ferrite particles and an insulating resin such as an epoxy resin. Such conventional laminated coils are disclosed in, for example, JP-A-2010-087030 and JP-A-2013-153184.

特開2010−087030号公報JP-A-2010-087030 特開2013−153184号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-153184

従来の積層コイルを製造する際には、磁性体基板、絶縁樹脂層、及びカバー樹脂層から成る積層体を加熱することにより当該絶縁樹脂層及びカバー樹脂層に含まれる樹脂を熱硬化させる。このとき、当該絶縁樹脂層及びカバー樹脂層の樹脂は収縮するが、磁性体基板は既に焼結されているため収縮しない。よって、従来の積層コイルにおいては、製造工程での加熱によって磁性体基板に応力が作用して磁性体基板が変形しやすくなるという問題がある。積層コイルにおいてカバー樹脂層は絶縁樹脂層よりも厚く形成されるので、カバー樹脂層の収縮により磁性体基板に大きな応力が作用する。 When manufacturing a conventional laminated coil, the resin contained in the insulating resin layer and the cover resin layer is thermally cured by heating the laminated body composed of the magnetic substrate, the insulating resin layer, and the cover resin layer. At this time, the resin of the insulating resin layer and the cover resin layer shrinks, but the magnetic substrate does not shrink because it has already been sintered. Therefore, in the conventional laminated coil, there is a problem that stress acts on the magnetic substrate due to heating in the manufacturing process, and the magnetic substrate is easily deformed. Since the cover resin layer is formed thicker than the insulating resin layer in the laminated coil, a large stress acts on the magnetic substrate due to the shrinkage of the cover resin layer.

そこで、本開示は、熱硬化時に発生するカバー樹脂層の熱収縮が抑制された積層コイルを提供することを目的の一つとする。本発明のこれ以外の目的は、明細書全体の記載を通じて明らかにされる。 Therefore, one of the purposes of the present disclosure is to provide a laminated coil in which the heat shrinkage of the cover resin layer generated during thermosetting is suppressed. Other objects of the present invention will be made clear through the description throughout the specification.

本発明者は、カバー樹脂層に高い充填率でフィラーを含有させることにより、熱硬化時における絶縁層の収縮量を抑制できることを発見した。 The present inventor has discovered that the amount of shrinkage of the insulating layer during thermosetting can be suppressed by containing the filler in the cover resin layer at a high filling rate.

本発明の一実施形態に係る積層コイルは、磁性材料の焼結体から成る磁性体基板と、前記磁性体基板の上に形成された絶縁樹脂層と、前記絶縁樹脂層の上に形成されたカバー樹脂層と、前記絶縁樹脂層に埋め込まれたコイル導体と、を備える。本発明の一実施形態において、当該絶縁樹脂層は、第1の樹脂及び第1のフィラー粒子を含み、当該カバー樹脂層は、第2の樹脂及び第2のフィラー粒子を含む。 The laminated coil according to an embodiment of the present invention is formed on a magnetic substrate made of a sintered body of a magnetic material, an insulating resin layer formed on the magnetic substrate, and the insulating resin layer. A cover resin layer and a coil conductor embedded in the insulating resin layer are provided. In one embodiment of the present invention, the insulating resin layer contains a first resin and a first filler particle, and the cover resin layer contains a second resin and a second filler particle.

本発明の一実施形態において、前記カバー樹脂層における前記第2のフィラー粒子の充填率は、前記絶縁樹脂層における前記第1のフィラー粒子の充填率よりも高い。これらの実施形態によれば、前記カバー樹脂層における前記第2のフィラー粒子の充填率が前記絶縁樹脂層における前記第1のフィラー粒子の充填率よりも高いので、前記カバー樹脂層の前記第2の樹脂を熱硬化させても、当該カバー樹脂層の収縮量は小さくなる。したがって、熱硬化時における磁性体基板の変形を防ぐことができる。より具体的な実施形態においては、前記カバー樹脂層中の前記第2のフィラー粒子の充填率は70体積%以上、より好ましくは80体積%以上とされる。 In one embodiment of the present invention, the filling rate of the second filler particles in the cover resin layer is higher than the filling rate of the first filler particles in the insulating resin layer. According to these embodiments, the filling rate of the second filler particles in the cover resin layer is higher than the filling rate of the first filler particles in the insulating resin layer, so that the second filler particles of the cover resin layer are filled. Even if the resin is heat-cured, the amount of shrinkage of the cover resin layer is small. Therefore, it is possible to prevent the magnetic substrate from being deformed during thermosetting. In a more specific embodiment, the filling rate of the second filler particles in the cover resin layer is 70% by volume or more, more preferably 80% by volume or more.

本発明の一実施形態において、前記第2のフィラー粒子は球形である。これにより、フィラー粒子が球形以外の場合と比較して、第2のフィラー粒子の充填率を向上させやすくなる。 In one embodiment of the invention, the second filler particles are spherical. This makes it easier to improve the filling rate of the second filler particles as compared with the case where the filler particles are not spherical.

本発明の一実施形態に係る積層コイルは、磁性材料の焼結体から成る磁性体基板と、前記磁性体基板の上に形成された絶縁樹脂層と、前記絶縁樹脂層の上に形成されたカバー樹脂層と、前記絶縁樹脂層に埋め込まれたコイル導体と、を備える。本発明の一実施形態において、当該絶縁樹脂層は、第1の樹脂を含み、当該カバー樹脂層は、第2の樹脂及びフィラー粒子を含む。本発明の一実施形態において、前記絶縁樹脂層は、フィラー粒子を含まないように構成される。また、本発明の一実施形態において、前記カバー樹脂層に含まれる、前記フィラー粒子は金属磁性粒子である。本発明の一実施形態において、前記カバー樹脂層中の前記フィラー粒子の充填率は80体積%以上とされる。これらの実施形態によれば、前記カバー樹脂層の前記第2の樹脂を熱硬化させても、当該カバー樹脂層の収縮量を磁性体基板に変形を起こさない程度に抑制することができる。 The laminated coil according to an embodiment of the present invention is formed on a magnetic substrate made of a sintered body of a magnetic material, an insulating resin layer formed on the magnetic substrate, and the insulating resin layer. A cover resin layer and a coil conductor embedded in the insulating resin layer are provided. In one embodiment of the present invention, the insulating resin layer contains a first resin, and the cover resin layer contains a second resin and filler particles. In one embodiment of the present invention, the insulating resin layer is configured so as not to contain filler particles. Further, in one embodiment of the present invention, the filler particles contained in the cover resin layer are metallic magnetic particles. In one embodiment of the present invention, the filling rate of the filler particles in the cover resin layer is 80% by volume or more. According to these embodiments, even if the second resin of the cover resin layer is thermally cured, the amount of shrinkage of the cover resin layer can be suppressed to such an extent that the magnetic substrate is not deformed.

本明細書の開示によれば、熱硬化時に発生する絶縁層の熱収縮が抑制された積層コイルを提供することができる。 According to the disclosure of the present specification, it is possible to provide a laminated coil in which the thermal shrinkage of the insulating layer generated at the time of thermosetting is suppressed.

本発明の一実施形態に係る積層コイルの斜視図である。It is a perspective view of the laminated coil which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る積層コイルの分解斜視図である。It is an exploded perspective view of the laminated coil which concerns on one Embodiment of this invention. 図2の積層コイルに備えられた第1の絶縁層及び当該第1の絶縁層に形成された第1の導体層を示す平面図である。It is a top view which shows the 1st insulating layer provided in the laminated coil of FIG. 2 and the 1st conductor layer formed in the 1st insulating layer. 図2の積層コイルに備えられた第3の絶縁層及び当該第3の絶縁層に形成された第3の導体層を示す平面図である。It is a top view which shows the 3rd insulating layer provided in the laminated coil of FIG. 2 and the 3rd conductor layer formed in the 3rd insulating layer. 図2の積層コイルに備えられた第4の絶縁層及び当該第4の絶縁層に形成された第4の導体層を示す平面図である。It is a top view which shows the 4th insulating layer provided in the laminated coil of FIG. 2 and the 4th conductor layer formed in the 4th insulating layer. 図1の積層コイルのA−A断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line AA of the laminated coil of FIG.

以下、適宜図面を参照し、本発明の様々な実施形態を説明する。なお、複数の図面において共通する構成要素には当該複数の図面を通じて同一の参照符号が付されている。各図面は、説明の便宜上、必ずしも正確な縮尺で記載されているとは限らない点に留意されたい。 Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings as appropriate. The components common to the plurality of drawings are designated by the same reference numerals throughout the plurality of drawings. It should be noted that each drawing is not always drawn to the correct scale for convenience of explanation.

図1は、本発明の一実施形態に係る積層コイルの斜視図であり、図2は、図1に示した積層コイルの分解斜視図であり、図6は、図1の積層コイルのA−A断面図である。これらの図には、本発明を適用可能な積層コイルの例として、積層コモンモードコイルが示されている。この積層コモンモードコイル1は、磁性体基板2と、絶縁樹脂層3と、カバー樹脂層4と、端子電極5a,5b,7a,7bと、を備える。積層コモンモードコイル1は、例えば0.45mm×0.3mm×0.23mmの寸法を有する。当業者に明らかなように、積層コイルは、コモンモードコイル以外にも、様々な用途に用いられ得る。例えば、積層コイルは、電源ラインや信号ラインに組み込まれる各種インダクタであってもよい。これらのインダクタは、例えば、電源回路において電圧変換用又は高周波成分をカットするチョーク用として用いられ、信号ラインにおいて、マッチング用又は共振用として用いられ得る。本明細書において開示される発明は、これらの各種インダクタに適用することができる。 FIG. 1 is a perspective view of a laminated coil according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an exploded perspective view of the laminated coil shown in FIG. 1, and FIG. 6 is an A- of the laminated coil of FIG. A cross-sectional view. In these figures, a laminated common mode coil is shown as an example of a laminated coil to which the present invention can be applied. The laminated common mode coil 1 includes a magnetic substrate 2, an insulating resin layer 3, a cover resin layer 4, and terminal electrodes 5a, 5b, 7a, and 7b. The laminated common mode coil 1 has dimensions of, for example, 0.45 mm × 0.3 mm × 0.23 mm. As will be apparent to those skilled in the art, laminated coils can be used in a variety of applications other than common mode coils. For example, the multilayer coil may be various inductors incorporated in a power supply line or a signal line. These inductors can be used, for example, for voltage conversion in power supply circuits or for chokes that cut high frequency components, and for matching or resonance in signal lines. The inventions disclosed herein can be applied to these various inductors.

磁性体基板2は、磁性材料の焼結体である。磁性体基板2は、例えば、磁性材料を有機バインダーと混合して混合体を作成し、この混合体をシート状に成形して成形体を作成し、この成形体を焼成することで得られる。磁性体基板2を作成するために用いられる磁性材料には、例えば、フェライト材料及び金属磁性材料が含まれる。この磁性体基板2用のフェライト材料として、例えば、Ni−Znフェライト及びMn−Znフェライトを用いることができる。また、磁性体基板2用の金属磁性材料として、例えば、合金系のFe−Si−Cr、Fe−Si−Al、もしくはFe−Ni、またはこれらを混合した材料を用いることができる。本発明に適用可能な磁性体基板2の材料は、本明細書で明記されるものに限られない。 The magnetic substrate 2 is a sintered body made of a magnetic material. The magnetic substrate 2 is obtained, for example, by mixing a magnetic material with an organic binder to prepare a mixture, molding the mixture into a sheet to prepare a molded body, and firing the molded body. The magnetic material used to prepare the magnetic substrate 2 includes, for example, a ferrite material and a metallic magnetic material. As the ferrite material for the magnetic substrate 2, for example, Ni-Zn ferrite and Mn-Zn ferrite can be used. Further, as the metallic magnetic material for the magnetic substrate 2, for example, an alloy-based Fe-Si-Cr, Fe-Si-Al, or Fe-Ni, or a material obtained by mixing these can be used. The material of the magnetic substrate 2 applicable to the present invention is not limited to that specified in the present specification.

絶縁樹脂層3は、複数の絶縁層と当該複数の絶縁層の上にそれぞれ形成された導体層とを積層して構成される。本発明の一実施形態において、各絶縁層は、多数のフィラー粒子3a(図6参照)を分散させた樹脂から成る。本発明の他の実施形態において、各絶縁層は、フィラー粒子を含まない樹脂から成る。本発明の一実施形態において、絶縁樹脂層3に含まれる樹脂は、絶縁性に優れた熱硬化性の樹脂であり、例えばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン(PS)樹脂、高密度ポリエチレン(HDPE)樹脂、ポリオキシメチレン(POM)樹脂、ポリカーボネート(PC)樹脂、ポリフッ化ビニルデン(PVDF)樹脂、フェノール(Phenolic)樹脂、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)樹脂、又はポリベンゾオキサゾール(PBO)樹脂である。絶縁樹脂層3については後ほど図2を参照してさらに説明する。絶縁樹脂層3は、30μm〜60μmの厚さを有するように形成される。 The insulating resin layer 3 is formed by laminating a plurality of insulating layers and conductor layers formed on the plurality of insulating layers. In one embodiment of the present invention, each insulating layer is made of a resin in which a large number of filler particles 3a (see FIG. 6) are dispersed. In another embodiment of the invention, each insulating layer is made of a resin that does not contain filler particles. In one embodiment of the present invention, the resin contained in the insulating resin layer 3 is a heat-curable resin having excellent insulating properties, such as epoxy resin, polyimide resin, polystyrene (PS) resin, and high-density polyethylene (HDPE). Resin, polyoxymethylene (POM) resin, polycarbonate (PC) resin, polyvinyl fluoride (PVDF) resin, phenol (Phenolic) resin, polytetrafluoroethylene (PTFE) resin, or polybenzoxazole (PBO) resin. The insulating resin layer 3 will be further described later with reference to FIG. The insulating resin layer 3 is formed so as to have a thickness of 30 μm to 60 μm.

カバー樹脂層4は、絶縁樹脂層3の上に、多数のフィラー粒子4aを分散させた樹脂を塗布することで得られる。本発明の一実施形態において、カバー樹脂層4に含まれる樹脂は、絶縁性に優れた熱硬化性の樹脂であり、例えばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン(PS)樹脂、高密度ポリエチレン(HDPE)樹脂、ポリオキシメチレン(POM)樹脂、ポリカーボネート(PC)樹脂、ポリフッ化ビニルデン(PVDF)樹脂、フェノール(Phenolic)樹脂、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)樹脂、又はポリベンゾオキサゾール(PBO)樹脂である。カバー樹脂層4の樹脂は、絶縁樹脂層3の樹脂と同じものであってもよく、異なるものであってもよい。 The cover resin layer 4 is obtained by applying a resin in which a large number of filler particles 4a are dispersed on the insulating resin layer 3. In one embodiment of the present invention, the resin contained in the cover resin layer 4 is a heat-curable resin having excellent insulating properties, such as epoxy resin, polyimide resin, polystyrene (PS) resin, and high-density polyethylene (HDPE). Resin, polyoxymethylene (POM) resin, polycarbonate (PC) resin, polyvinyl fluoride (PVDF) resin, phenol (Phenolic) resin, polytetrafluoroethylene (PTFE) resin, or polybenzoxazole (PBO) resin. The resin of the cover resin layer 4 may be the same as the resin of the insulating resin layer 3, or may be different.

本発明の一実施形態において、フィラー粒子3a及びフィラー粒子4aは、フェライト材料の粒子、金属磁性粒子、SiO2やAl23などの無機材料粒子、ガラス系粒子である。本発明に適用可能なフェライト材料の粒子は、例えば、Ni−Znフェライトの粒子またはNi−Zn−Cuフェライトの粒子である。本発明に適用可能な金属磁性粒子は、酸化されていない金属部分において磁性が発現する材料であり、例えば、酸化されていない金属粒子や合金粒子を含む粒子である。本発明に適用可能な金属磁性粒子には、例えば、合金系のFe−Si−Cr、Fe−Si−Al、もしくはFe−Ni、非晶質のFe―Si−Cr−B−C、もしくはFe−Si−B−Cr、Fe、またはこれらの混合材料の粒子が含まれる。本発明に適用可能な金属磁性粒子には、さらにFe−Si−Al、FeSi−Al−Crの粒子が含まれる。これらの粒子から得られる圧粉体も本発明の金属磁性粒子として用いることができる。さらに、これらの粒子または圧粉体の表面に熱処理して酸化膜を形成したものも本発明の金属磁性粒子として利用することができる。本発明に適用可能な金属磁性粒子は、例えばアトマイズ法で製造される。また、本発明に適用可能な金属磁性粒子は、公知の方法を用いて製造することができる。また、本発明には、市販されている金属磁性粒子を用いることもできる。市販の金属磁性粒子として、例えば、エプソンアトミックス(株)社製PF−20F、日本アトマイズ加工(株)社製SFR−FeSiAlがある。このような金属磁性粒子は、粒子形状が球形であり、酸化膜により粒子同士が結合されるほど粒子同士を互いと近接させることが容易であり、また比重が高いことから、Ni−ZnやMn−Znのフェライト磁性粒子を使用した場合に比べ容易に充填率を高くすることができる。フィラー粒子の充填率を高くすることにより、樹脂を熱硬化する際のカバー樹脂層の収縮をより抑制できることに加え、透磁率(μ)を高くすることが出来る。透磁率(μ)を高くすることにより、積層体コイルの電気的特性の向上を図れる。 In one embodiment of the present invention, the filler particles 3a and the filler particles 4a are ferrite material particles, metallic magnetic particles, inorganic material particles such as SiO 2 and Al 2 O 3 , and glass-based particles. The particles of the ferrite material applicable to the present invention are, for example, Ni-Zn ferrite particles or Ni-Zn-Cu ferrite particles. The metal magnetic particles applicable to the present invention are materials that exhibit magnetism in unoxidized metal portions, and are, for example, particles containing unoxidized metal particles and alloy particles. Metallic magnetic particles applicable to the present invention include, for example, alloy-based Fe-Si-Cr, Fe-Si-Al, or Fe-Ni, amorphous Fe-Si-Cr-BC, or Fe. Includes particles of −Si—B—Cr, Fe, or a mixture of these. The metallic magnetic particles applicable to the present invention further include Fe-Si-Al and FeSi-Al-Cr particles. The green compact obtained from these particles can also be used as the metal magnetic particles of the present invention. Further, those having an oxide film formed by heat-treating the surface of these particles or green compacts can also be used as the metal magnetic particles of the present invention. The metallic magnetic particles applicable to the present invention are produced, for example, by an atomizing method. Further, the metallic magnetic particles applicable to the present invention can be produced by using a known method. In addition, commercially available metal magnetic particles can also be used in the present invention. Examples of commercially available metal magnetic particles include PF-20F manufactured by Epson Atomix Co., Ltd. and SFR-FeSiAl manufactured by Nippon Atomize Processing Co., Ltd. Such metal magnetic particles have a spherical particle shape, and the particles are easily brought close to each other so that the particles are bonded to each other by an oxide film, and the specific gravity is high. Therefore, Ni—Zn and Mn. The filling rate can be easily increased as compared with the case where the ferrite magnetic particles of −Zn are used. By increasing the filling rate of the filler particles, the shrinkage of the cover resin layer when the resin is thermoset can be further suppressed, and the magnetic permeability (μ) can be increased. By increasing the magnetic permeability (μ), the electrical characteristics of the laminated coil can be improved.

本発明の一実施形態において、フィラー粒子3a及びフィラー粒子4aの一方又は両方は、扁平形状に形成される。扁平形状に形成されたフィラー粒子3a及びフィラー粒子4aは、例えば、そのアスペクト比(扁平率)が1.5以上、2以上、3以上、4以上、又は5以上とされてもよい。フィラー粒子のアスペクト比は、当該粒子の最短軸方向の長さに対する最長軸方向の長さの比(最長軸の方向の長さ/最短軸方向の長さ)を意味する。 In one embodiment of the present invention, one or both of the filler particles 3a and the filler particles 4a are formed in a flat shape. The filler particles 3a and the filler particles 4a formed in a flat shape may have, for example, an aspect ratio (flatness) of 1.5 or more, 2 or more, 3 or more, 4 or more, or 5 or more. The aspect ratio of the filler particles means the ratio of the length in the longest axial direction to the length in the shortest axial direction of the particles (length in the direction of the longest axis / length in the shortest axial direction).

本発明の一実施形態において、フィラー粒子3aは、その一部又は全部の最長軸方向がコイル軸CAに平行な方向を向き、その短軸がコイル軸CAに垂直な方向を向く姿勢を取るように、絶縁樹脂層3に含められる。フィラー粒子3aがこのような姿勢を取ることにより、絶縁樹脂層3のコイル軸CAに平行な方向の透磁率は、コイル軸CAに垂直な方向の透磁率よりも大きくなる。これにより、コイル軸CAに平行な方向が、絶縁樹脂層3の磁化容易方向となり、コイル軸CAに垂直な方向が絶縁樹脂層3の磁化困難方向となる。磁束は、絶縁樹脂層3においては概ねコイル軸CAと平行な方向を向くため、コイル軸CAに平行な方向を磁化容易方向とすることにより、積層コイルの実効透磁率を向上させることができる。本発明を共振用インダクタ又はそれ以外の各種インダクタに適用する場合、かかる扁平な形状のフィラー粒子3aが絶縁樹脂層3用のフィラー粒子として好適である。 In one embodiment of the present invention, the filler particles 3a take a posture in which the longest axial direction of a part or all of the filler particles is oriented in a direction parallel to the coil axis CA and the minor axis thereof is oriented in a direction perpendicular to the coil axis CA. Is included in the insulating resin layer 3. When the filler particles 3a take such an attitude, the magnetic permeability in the direction parallel to the coil shaft CA of the insulating resin layer 3 becomes larger than the magnetic permeability in the direction perpendicular to the coil shaft CA. As a result, the direction parallel to the coil axis CA becomes the direction in which the insulating resin layer 3 is easily magnetized, and the direction perpendicular to the coil axis CA becomes the direction in which the insulating resin layer 3 is difficult to magnetize. Since the magnetic flux is directed in a direction substantially parallel to the coil shaft CA in the insulating resin layer 3, the effective magnetic permeability of the laminated coil can be improved by setting the direction parallel to the coil shaft CA to the easy magnetization direction. When the present invention is applied to a resonance inductor or various other inductors, the flat-shaped filler particles 3a are suitable as filler particles for the insulating resin layer 3.

本発明の一実施形態において、フィラー粒子4aは、その一部又は全部の最長軸方向がコイル軸CAに垂直な方向を向き、その短軸がコイル軸CAに平行な方向を向く姿勢を取るように、カバー樹脂層4に含められる。フィラー粒子4aがこのような姿勢を取ることにより、カバー樹脂層4のコイル軸CAに垂直な方向の透磁率は、コイル軸CAに平行な方向の透磁率よりも大きくなる。これにより、コイル軸CAに垂直な方向が、カバー樹脂層4の磁化容易方向となり、コイル軸CAに平行な方向がカバー樹脂層4の磁化困難方向となる。磁束は、カバー樹脂層4においては絶縁樹脂層3との境界付近を除いて概ねコイル軸CAと垂直な方向を向くため、コイル軸CAに垂直な方向を磁化容易方向とすることにより、積層コモンモードコイル1の実効透磁率を向上させることができる。本発明を共振用インダクタ又はそれ以外の各種インダクタに適用する場合にも、かかる扁平な形状のフィラー粒子4aでコイル軸CAに垂直な方向をカバー樹脂層4の磁化容易方向とすることにより、当該各種インダクタの実効透磁率を向上させることができる。フィラー粒子3aとして金属磁性粒子を用いる場合には、当該金属磁性粒子に渦電流が発生してコアロスが生じやすくなる。この場合、扁平な形状のフィラー粒子4aでコイル軸CAに垂直な方向をカバー樹脂層4の磁化容易方向とすることにより、本発明の積層コイルの実効透磁率を高くするとともに、コアロスも低く抑えることができる。この結果、かかる積層コイルは、高い周波数領域においても使用できる。また、扁平な形状のフィラー粒子4aをその最長軸方向がコイル軸CAに垂直な方向を向く姿勢とすることで、コイル軸CAに垂直な方向の線膨張係数を小さくでき、その結果、カバー樹脂層4と磁性体基板2との熱応力差を小さくできる。 In one embodiment of the present invention, the filler particles 4a take a posture in which the longest axial direction of a part or all of the filler particles is oriented in a direction perpendicular to the coil axis CA and the minor axis thereof is oriented in a direction parallel to the coil axis CA. Is included in the cover resin layer 4. When the filler particles 4a take such an attitude, the magnetic permeability in the direction perpendicular to the coil shaft CA of the cover resin layer 4 becomes larger than the magnetic permeability in the direction parallel to the coil shaft CA. As a result, the direction perpendicular to the coil axis CA becomes the direction in which the cover resin layer 4 is easily magnetized, and the direction parallel to the coil axis CA becomes the direction in which the cover resin layer 4 is difficult to magnetize. In the cover resin layer 4, the magnetic flux is oriented in a direction substantially perpendicular to the coil axis CA except for the vicinity of the boundary with the insulating resin layer 3. Therefore, by setting the direction perpendicular to the coil axis CA as the easy magnetization direction, the laminated common The effective magnetic permeability of the mode coil 1 can be improved. Even when the present invention is applied to a resonance inductor or various other inductors, the direction perpendicular to the coil axis CA of the flat-shaped filler particles 4a is set as the direction in which the cover resin layer 4 is easily magnetized. The effective magnetic permeability of various inductors can be improved. When metal magnetic particles are used as the filler particles 3a, eddy currents are generated in the metal magnetic particles, and core loss is likely to occur. In this case, the effective magnetic permeability of the laminated coil of the present invention is increased and the core loss is suppressed to be low by setting the direction perpendicular to the coil axis CA of the flat-shaped filler particles 4a as the direction in which the cover resin layer 4 is easily magnetized. be able to. As a result, such a laminated coil can be used even in a high frequency region. Further, by arranging the flat-shaped filler particles 4a in a posture in which the longest axial direction thereof faces the direction perpendicular to the coil axis CA, the linear expansion coefficient in the direction perpendicular to the coil axis CA can be reduced, and as a result, the cover resin. The thermal stress difference between the layer 4 and the magnetic substrate 2 can be reduced.

一実施形態においては、カバー樹脂層4中のフィラー粒子4aの充填率が絶縁樹脂層3中のフィラー粒子3aの充填率よりも高くなるように、フィラー粒子4a及びフィラー粒子3aの量が調整される。好適には、フィラー粒子3aの充填率に対して、フィラー粒子4aの充填率は10%以上大きく、さらに好適には、フィラー粒子3aの充填率に対してフィラー粒子4aの充填率は20%以上大きい。 In one embodiment, the amounts of the filler particles 4a and the filler particles 3a are adjusted so that the filling rate of the filler particles 4a in the cover resin layer 4 is higher than the filling rate of the filler particles 3a in the insulating resin layer 3. NS. Preferably, the filling rate of the filler particles 4a is 10% or more larger than the filling rate of the filler particles 3a, and more preferably, the filling rate of the filler particles 4a is 20% or more with respect to the filling rate of the filler particles 3a. big.

本発明の一実施形態において、カバー樹脂層4中のフィラー粒子4aは、磁気回路の一部を形成する。そのため、その充填率は、磁気回路部分の透磁率と相関を有する。具体的には、カバー樹脂層4中のフィラー粒子4aの充填率が高ければ、磁気回路の透磁率は高くなる。一方、カバー樹脂層を形成する上で、製法上の取り扱い性を考慮し、また、製法上大きな加圧を行なわないことを考慮すると、カバー樹脂層4中のフィラー粒子4a充填率の上限には限界がある。これらの点を考慮して、本発明の一実施形態において、その透磁率が高く良好な磁気回路を製法上取り扱い性よく形成するための好適なフィラー粒子4aの充填率は、70体積%以上90体積%未満とされる。フィラー粒子3aの充填率はこの値より小さくなるように選ばれる。 In one embodiment of the present invention, the filler particles 4a in the cover resin layer 4 form a part of the magnetic circuit. Therefore, the filling rate has a correlation with the magnetic permeability of the magnetic circuit portion. Specifically, the higher the filling rate of the filler particles 4a in the cover resin layer 4, the higher the magnetic permeability of the magnetic circuit. On the other hand, in forming the cover resin layer, considering the handleability in the manufacturing method and considering that a large pressure is not applied in the manufacturing method, the upper limit of the filling rate of the filler particles 4a in the cover resin layer 4 is set. There is a limit. In consideration of these points, in one embodiment of the present invention, the filling rate of the filler particles 4a suitable for forming a good magnetic circuit having a high magnetic permeability in a manufacturing method with good handleability is 70% by volume or more and 90%. It is considered to be less than% by volume. The filling rate of the filler particles 3a is selected so as to be smaller than this value.

本発明の一実施形態において、カバー樹脂層4中のフィラー粒子4aの充填率は80体積%以上とされる。絶縁樹脂層3は、カバー樹脂層4よりも通常、薄く形成されており、その内部に熱収縮しないコイル導体が埋め込まれているので熱硬化時に収縮しにくい。このため熱硬化時における絶縁樹脂層3の収縮量はカバー樹脂層4の収縮量にくらべて抑制されている。このため、絶縁樹脂層3はフィラー粒子3aを含まなくとも、熱硬化時の収縮が抑制されている。 In one embodiment of the present invention, the filling rate of the filler particles 4a in the cover resin layer 4 is 80% by volume or more. The insulating resin layer 3 is usually formed thinner than the cover resin layer 4, and since a coil conductor that does not shrink due to heat is embedded in the insulating resin layer 3, it does not easily shrink during thermosetting. Therefore, the shrinkage amount of the insulating resin layer 3 at the time of thermosetting is suppressed as compared with the shrinkage amount of the cover resin layer 4. Therefore, even if the insulating resin layer 3 does not contain the filler particles 3a, shrinkage during thermosetting is suppressed.

端子電極5a,5b,7a,7bは、絶縁樹脂層3の側面に設けられ、図示のように、積層コモンモードコイル1の上面及び下面まで延伸する。端子電極5a,5b,7a,7bは、例えば絶縁樹脂層3の側面にAgペーストを塗布することによって形成される。 The terminal electrodes 5a, 5b, 7a, 7b are provided on the side surface of the insulating resin layer 3 and extend to the upper surface and the lower surface of the laminated common mode coil 1 as shown in the drawing. The terminal electrodes 5a, 5b, 7a, 7b are formed, for example, by applying Ag paste to the side surface of the insulating resin layer 3.

次に、図2ないし図5を参照して、絶縁樹脂層3について説明する。本明細書において上下方向について言及する場合には、文脈上別に解される場合を除き、図2の上方向を上とし、図2の下方向を下とする。図2の分解斜視図に示されているように、本発明の一実施形態において、絶縁樹脂層3は、磁性体基板2とカバー樹脂層4との間に積層された絶縁層11、導体層12、絶縁層31、導体層32、引出電極用絶縁層41、及び引出導体層42を備える。 Next, the insulating resin layer 3 will be described with reference to FIGS. 2 to 5. When the vertical direction is referred to in the present specification, the upper direction of FIG. 2 is referred to as the upper direction and the lower direction of FIG. 2 is referred to as the lower direction, unless otherwise understood in the context. As shown in the exploded perspective view of FIG. 2, in one embodiment of the present invention, the insulating resin layer 3 is an insulating layer 11 and a conductor layer laminated between the magnetic substrate 2 and the cover resin layer 4. 12. An insulating layer 31, a conductor layer 32, an insulating layer 41 for an extraction electrode, and an extraction conductor layer 42 are provided.

絶縁層11、絶縁層31、及び引出電極用絶縁層41はいずれもフィラー粒子3aを分散させた樹脂から成る層であり、優れた絶縁性を有する。導体層12、導体層32、及び引出導体層42は、Ag等の金属材料から成る。この金属材料は、導電性及び加工性に優れたものが望ましい。この金属材料としては、Ag以外にもCuやAlを用いることができる。これらの各絶縁層及び各導体層の材料はあくまでも例示であり、積層コモンモードコイル1の要求性能や要求特性に応じて、本明細書において明示的に説明されたもの以外にも様々な材料を用いることができる。 The insulating layer 11, the insulating layer 31, and the insulating layer 41 for the extraction electrode are all layers made of a resin in which the filler particles 3a are dispersed, and have excellent insulating properties. The conductor layer 12, the conductor layer 32, and the lead conductor layer 42 are made of a metal material such as Ag. It is desirable that this metal material has excellent conductivity and workability. As this metal material, Cu or Al can be used in addition to Ag. The materials of each of these insulating layers and each conductor layer are merely examples, and various materials other than those explicitly described in the present specification may be used depending on the required performance and required characteristics of the laminated common mode coil 1. Can be used.

図2に示すように、絶縁樹脂層3においては、磁性体基板2の上に絶縁層11が形成されている。絶縁層11の上には、導体層12が形成されている。導体層12は、図3に示すように、コイル導体13と、このコイル導体13の外側端部にその一端が接続されている引出導体14と、このコイル導体13の内側端部にその一端が接続されている引出導体15と、引出導体14に接続されている引出電極16と、を備える。引出電極16は、端子電極5aと電気的に接続されている。コイル導体13は、コイル軸CAの周りに複数回巻回された渦巻状の形状を有している。コイル軸CAは、絶縁樹脂層3の積層方向(つまり、積層コモンモードコイル1の上下方向)に延伸する仮想的な軸線である。一実施形態において、コイル軸CAは、絶縁層11とほぼ直交する方向に延伸する。 As shown in FIG. 2, in the insulating resin layer 3, the insulating layer 11 is formed on the magnetic substrate 2. A conductor layer 12 is formed on the insulating layer 11. As shown in FIG. 3, the conductor layer 12 has a coil conductor 13, a drawer conductor 14 having one end connected to the outer end of the coil conductor 13, and one end thereof to the inner end of the coil conductor 13. A lead-out conductor 15 connected to the lead-out conductor 15 and a lead-out electrode 16 connected to the lead-out conductor 14 are provided. The extraction electrode 16 is electrically connected to the terminal electrode 5a. The coil conductor 13 has a spiral shape in which the coil conductor 13 is wound a plurality of times around the coil shaft CA. The coil shaft CA is a virtual axis extending in the stacking direction of the insulating resin layer 3 (that is, the vertical direction of the laminated common mode coil 1). In one embodiment, the coil shaft CA extends in a direction substantially orthogonal to the insulating layer 11.

導体層12の上には、絶縁層31が形成されている。当該絶縁層31の上には、導体層32が形成されている。導体層32は、図4に示すように、渦巻形状のコイル導体33と、このコイル導体33の外側端部にその一端が接続されている引出導体34と、このコイル導体33の内側端部にその一端が接続されている引出導体35と、引出導体34に接続されている引出電極36と、を備える。引出電極36は、端子電極7aと電気的に接続されている。コイル導体33は、コイル軸CAの周りに複数回巻回された渦巻状の形状を有している。 An insulating layer 31 is formed on the conductor layer 12. A conductor layer 32 is formed on the insulating layer 31. As shown in FIG. 4, the conductor layer 32 is formed on a spiral-shaped coil conductor 33, a drawer conductor 34 having one end connected to the outer end of the coil conductor 33, and an inner end of the coil conductor 33. An extraction conductor 35 to which one end thereof is connected and an extraction electrode 36 connected to the extraction conductor 34 are provided. The extraction electrode 36 is electrically connected to the terminal electrode 7a. The coil conductor 33 has a spiral shape that is wound a plurality of times around the coil shaft CA.

この導体層32の上には、引出電極用絶縁層41が形成されている。当該引出電極用絶縁層41の上には、引出導体層42が形成されている。引出導体層42は、引出導体43aと、引出導体43cと、引出導体43aに接続された引出電極44aと、引出導体43cに接続された引出電極44cと、を備える。引出電極44aは、端子電極5bと電気的に接続されている。引出電極44cは、端子電極7bと電気的に接続されている。 An insulating layer 41 for an extraction electrode is formed on the conductor layer 32. A lead conductor layer 42 is formed on the lead electrode insulating layer 41. The extraction conductor layer 42 includes an extraction conductor 43a, an extraction conductor 43c, an extraction electrode 44a connected to the extraction conductor 43a, and an extraction electrode 44c connected to the extraction conductor 43c. The extraction electrode 44a is electrically connected to the terminal electrode 5b. The extraction electrode 44c is electrically connected to the terminal electrode 7b.

導体層12の引出導体15の端部と引出導体43aの端部とを接続するために、絶縁層11にはパッドP17が形成され、絶縁層31にはスルーホールTH37が形成され、引出電極用絶縁層41にはスルーホールTH47が形成される。スルーホールTH37,TH47は、絶縁層31及び引出電極用絶縁層41に形成された貫通孔にAg等の金属材料を埋め込むことにより形成される。また、導体層32の引出導体35の端部と引出導体43cの端部とを接続するために、絶縁層31にはパッドP39が形成され、引出電極用絶縁層41にはスルーホールTH49が形成される。これらのパッド及びスルーホールの各々は、パッドP17及びスルーホールTH27とそれぞれ同様にして形成される。 In order to connect the end of the lead conductor 15 of the conductor layer 12 and the end of the lead conductor 43a, a pad P17 is formed in the insulating layer 11 and a through hole TH37 is formed in the insulating layer 31 for the lead electrode. Through holes TH47 are formed in the insulating layer 41. The through holes TH37 and TH47 are formed by embedding a metal material such as Ag in the through holes formed in the insulating layer 31 and the insulating layer 41 for the extraction electrode. Further, in order to connect the end of the lead conductor 35 of the conductor layer 32 and the end of the lead conductor 43c, a pad P39 is formed in the insulating layer 31 and a through hole TH49 is formed in the insulating layer 41 for the lead electrode. Will be done. Each of these pads and through holes is formed in the same manner as the pads P17 and through holes TH27, respectively.

上述の構成及び配置により、積層コモンモードコイル1において、端子電極5a,7aと端子電極5b,7bとの間に2つのコイルが設けられる。すなわち、コイル導体13の外側端は、引出導体14及び引出電極16を介して端子電極5aと電気的に接続され、コイル導体13の内側端は、引出導体15、パッドP17、スルーホールTH27、スルーホールTH37、スルーホールTH47、引出導体43a、及び引出電極44aを介して端子電極5bと電気的に接続されているので、端子電極5aと端子電極5bとの間に、コイル導体13を含む第1のコイルが構成される。また、コイル導体33の外側端は、引出導体34及び引出電極36を介して端子電極7aと電気的に接続され、コイル導体33の内側端は、引出導体35、パッドP39、スルーホールTH49、引出導体43c、及び引出電極44cを介して端子電極7bと電気的に接続されているので、端子電極7aと端子電極7bとの間に、コイル導体33を含む第2のコイルが構成される。この2つのコイルの各々は、平面上に形成されたプレーナコイルである。この2つのコイルの各々は、外部回路における信号線とそれぞれ接続される。積層コモンモードコイル1は、3以上のコイルを含むように構成することも可能である。積層コモンモードコイル1が3つのコイルを有する場合には、当該積層コモンモードコイル1は、MIPIアライアンスが策定したC−PHYに準拠した差動電送回路における3本の信号線とそれぞれ接続されるコモンモードチョークコイルとして用いることができる。 With the above configuration and arrangement, in the laminated common mode coil 1, two coils are provided between the terminal electrodes 5a and 7a and the terminal electrodes 5b and 7b. That is, the outer end of the coil conductor 13 is electrically connected to the terminal electrode 5a via the extraction conductor 14 and the extraction electrode 16, and the inner end of the coil conductor 13 is the extraction conductor 15, pad P17, through hole TH27, and through. Since it is electrically connected to the terminal electrode 5b via the hole TH37, the through hole TH47, the extraction conductor 43a, and the extraction electrode 44a, the first one including the coil conductor 13 between the terminal electrode 5a and the terminal electrode 5b. Coil is constructed. Further, the outer end of the coil conductor 33 is electrically connected to the terminal electrode 7a via the extraction conductor 34 and the extraction electrode 36, and the inner end of the coil conductor 33 is the extraction conductor 35, the pad P39, the through hole TH49, and the drawer. Since it is electrically connected to the terminal electrode 7b via the conductor 43c and the extraction electrode 44c, a second coil including the coil conductor 33 is formed between the terminal electrode 7a and the terminal electrode 7b. Each of these two coils is a planar coil formed on a plane. Each of these two coils is connected to a signal line in an external circuit, respectively. The laminated common mode coil 1 can also be configured to include three or more coils. When the laminated common mode coil 1 has three coils, the laminated common mode coil 1 is connected to each of the three signal lines in the C-PHY compliant differential transmission circuit established by the MIPI Alliance. It can be used as a mode choke coil.

次に、積層コモンモードコイル1の製造方法の一例を説明する。まず、磁性材料から磁性体基板2を形成する。より具体的には、まずNi−Znフェライト等の磁性材料を有機バインダーと混合して混合体を作成し、この混合体をシート状に成形して成形体を作成する。次いで、この成形体を焼結し、シート状の焼結体を得る。そして、この焼結体に必要な後処理(切断処理や研磨処理)を行うことで磁性体基板2が得られる。 Next, an example of a method for manufacturing the laminated common mode coil 1 will be described. First, the magnetic substrate 2 is formed from the magnetic material. More specifically, first, a magnetic material such as Ni—Zn ferrite is mixed with an organic binder to prepare a mixture, and this mixture is molded into a sheet to prepare a molded body. Next, this molded body is sintered to obtain a sheet-shaped sintered body. Then, the magnetic substrate 2 is obtained by performing the post-treatment (cutting treatment and polishing treatment) necessary for the sintered body.

次に、この磁性体基板2の上面に、フィラー粒子3aを分散させた熱硬化性の樹脂(例えばエポキシ樹脂)を例えばスピンコート法により塗布し、この塗布した樹脂を熱硬化させることにより絶縁層11が得られる。絶縁層11は、その厚さが例えば約1.0〜20μmとなるように形成される。絶縁層11には、各スルーホールに相当する位置に貫通孔が形成される。 Next, a thermosetting resin (for example, epoxy resin) in which filler particles 3a are dispersed is applied to the upper surface of the magnetic substrate 2 by, for example, a spin coating method, and the applied resin is thermally cured to obtain an insulating layer. 11 is obtained. The insulating layer 11 is formed so that its thickness is, for example, about 1.0 to 20 μm. Through holes are formed in the insulating layer 11 at positions corresponding to the through holes.

次に、絶縁層11上に公知の方法で導体層12が形成される。導体層12は、例えば、フォトリソグラフィ法により形成される。導体層12は、その厚さが例えば約5.0〜20μmとなるように形成される。 Next, the conductor layer 12 is formed on the insulating layer 11 by a known method. The conductor layer 12 is formed by, for example, a photolithography method. The conductor layer 12 is formed so that its thickness is, for example, about 5.0 to 20 μm.

次に、導体層12の上に、絶縁層11と同様の方法で絶縁層31が形成される。具体的には、この絶縁層31は、例えば、フィラー粒子3aを分散させた熱硬化性の樹脂(例えばエポキシ樹脂)を例えばスピンコート法により塗布し、この塗布した樹脂を熱硬化させることにより形成される。絶縁層31は、その厚さが例えば約1.0〜20μmとなるように形成される。絶縁層31には、各スルーホールに相当する位置に貫通孔が形成される。 Next, the insulating layer 31 is formed on the conductor layer 12 in the same manner as the insulating layer 11. Specifically, the insulating layer 31 is formed by, for example, applying a thermosetting resin (for example, an epoxy resin) in which filler particles 3a are dispersed by, for example, a spin coating method, and then heat-curing the applied resin. Will be done. The insulating layer 31 is formed so that its thickness is, for example, about 1.0 to 20 μm. Through holes are formed in the insulating layer 31 at positions corresponding to the through holes.

次に、絶縁層31上に導体層12と同様の方法で導体層32が形成される。具体的には、この導体層32は、例えば、導体層12と同様に、フォトリソグラフィ法により形成される。導体層12は、その厚さが例えば約5.0〜20μmとなるように形成される。導体層32は、その厚さが例えば約5.0〜20μmとなるように形成される。 Next, the conductor layer 32 is formed on the insulating layer 31 in the same manner as the conductor layer 12. Specifically, the conductor layer 32 is formed by a photolithography method, like the conductor layer 12, for example. The conductor layer 12 is formed so that its thickness is, for example, about 5.0 to 20 μm. The conductor layer 32 is formed so that its thickness is, for example, about 5.0 to 20 μm.

次に、この導体層32の上に、絶縁層11及び絶縁層31と同様の方法で引出電極用絶縁層41が形成される。具体的には、この引出電極用絶縁層31は、例えば、フィラー粒子を分散させた熱硬化性の樹脂(例えばエポキシ樹脂)を例えばスピンコート法により導体層32の上に塗布し、この塗布した樹脂を熱硬化させることにより形成される。引出電極用絶縁層41は、その厚さが例えば約1.0〜20μmとなるように形成される。引出電極用絶縁層41には、各スルーホールに相当する位置に貫通孔が形成される。 Next, an insulating layer 41 for an extraction electrode is formed on the conductor layer 32 in the same manner as the insulating layer 11 and the insulating layer 31. Specifically, in the lead-out electrode insulating layer 31, for example, a thermosetting resin (for example, an epoxy resin) in which filler particles are dispersed is applied onto the conductor layer 32 by, for example, a spin coating method, and the coating is applied. It is formed by thermosetting the resin. The lead electrode insulating layer 41 is formed so that its thickness is, for example, about 1.0 to 20 μm. Through holes are formed in the lead electrode insulating layer 41 at positions corresponding to the through holes.

次に、引出電極用絶縁層41上に導体層12及び導体層32と同様の方法で引出導体層42が形成される。具体的には、この引出導体層42は、例えば、導体層12及び導体層32と同様に、フォトリソグラフィ法により形成される。引出導体層42は、その厚さが例えば約5.0〜20μmとなるように形成される。 Next, the lead conductor layer 42 is formed on the lead electrode insulating layer 41 in the same manner as the conductor layer 12 and the conductor layer 32. Specifically, the lead conductor layer 42 is formed by a photolithography method, like the conductor layer 12 and the conductor layer 32, for example. The lead conductor layer 42 is formed so that its thickness is, for example, about 5.0 to 20 μm.

次に、引出導体層42の上に、フィラー粒子4aを分散させた熱硬化性の樹脂(例えばエポキシ樹脂)を、例えばスピンコート法により塗布し、この塗布した樹脂を熱硬化させることによりカバー樹脂層4が得られる。カバー樹脂層4は、その厚さが例えば約50〜300μmとなるように形成される。カバー樹脂層4の表面は、必要に応じて研磨加工されるので、完成体の積層コモンモードコイル1においてはカバー樹脂層4の厚さはより薄くなってもよい。 Next, a thermosetting resin (for example, an epoxy resin) in which the filler particles 4a are dispersed is applied onto the lead conductor layer 42 by, for example, a spin coating method, and the applied resin is thermally cured to obtain a cover resin. Layer 4 is obtained. The cover resin layer 4 is formed so that its thickness is, for example, about 50 to 300 μm. Since the surface of the cover resin layer 4 is polished as necessary, the thickness of the cover resin layer 4 may be thinner in the laminated common mode coil 1 of the finished product.

上述の工程においては、各スルーホール(TH37等)及び各パッド(P17等)も導体層12及び導体層32に相当するパターンとともに形成される。 In the above-mentioned steps, each through hole (TH37 or the like) and each pad (P17 or the like) are also formed together with a pattern corresponding to the conductor layer 12 and the conductor layer 32.

このようにして形成された積層体チップの側面に端子電極5a,5b,7a,7bが例えばめっき形成される。このようにして、積層コモンモードコイル1が作成される。上述した積層コモンモードコイル1の作製方法は一例に過ぎず、本発明を適用可能な積層コモンモードコイルの作成方法は上述したものに限られない。 Terminal electrodes 5a, 5b, 7a, 7b are formed by plating, for example, on the side surfaces of the laminated chip thus formed. In this way, the laminated common mode coil 1 is created. The method for producing the laminated common mode coil 1 described above is only an example, and the method for producing the laminated common mode coil to which the present invention can be applied is not limited to the method described above.

このようにして得られた積層コモンモードコイル1において、カバー樹脂層4中のフィラー粒子4aの充填率は絶縁樹脂層3中のフィラー粒子3aの充填率よりも高くなっているため、カバー樹脂層4は絶縁樹脂層3に比べて熱硬化時に収縮しにくい。また、絶縁樹脂層3は、カバー樹脂層4よりも薄く形成されており、その内部に熱収縮しないコイル導体12が埋め込まれているので熱硬化時に収縮しにくい。特に、積層コモンモードコイル1においては、絶縁樹脂層3の層のほぼ全面にコイル導体が配置されているので、熱硬化時に収縮しにくくなっている。このように、積層コモンモードコイル1においては、熱硬化時における絶縁樹脂層3及びカバー樹脂層4の収縮量が抑制されている。 In the laminated common mode coil 1 thus obtained, the filling rate of the filler particles 4a in the cover resin layer 4 is higher than the filling rate of the filler particles 3a in the insulating resin layer 3, so that the cover resin layer 4 is less likely to shrink during thermosetting than the insulating resin layer 3. Further, the insulating resin layer 3 is formed thinner than the cover resin layer 4, and since the coil conductor 12 that does not shrink due to heat is embedded in the insulating resin layer 3, it is difficult to shrink during thermosetting. In particular, in the laminated common mode coil 1, since the coil conductor is arranged on almost the entire surface of the insulating resin layer 3, it is difficult to shrink during thermosetting. As described above, in the laminated common mode coil 1, the amount of shrinkage of the insulating resin layer 3 and the cover resin layer 4 at the time of thermosetting is suppressed.

上述したように、本発明の一実施形態においては、カバー樹脂層4中のフィラー粒子4aの充填率は80体積%以上とされる。カバー樹脂層4中のフィラー粒子4aの充填率を80%以上とすることにより、熱硬化時におけるカバー樹脂層4の熱収縮を十分に抑制することができる。 As described above, in one embodiment of the present invention, the filling rate of the filler particles 4a in the cover resin layer 4 is 80% by volume or more. By setting the filling rate of the filler particles 4a in the cover resin layer 4 to 80% or more, the heat shrinkage of the cover resin layer 4 at the time of thermosetting can be sufficiently suppressed.

カバー樹脂層4中のフィラー粒子4aの充填率を80体積%以上としたときに、熱収縮が抑制されることを以下のようにして確認した。まず、上述した製造方法に従って、作業用基板の上に、磁性体基板2、絶縁樹脂層3、及びカバー樹脂層4をこの順に積層させて積層体試料を作成した。この各試料においては、カバー樹脂層4中のフィラー粒子4aの充填率を変更して7種類の試料を作成した。具体的には、この7種類の試料は、カバー樹脂層4中のフィラー粒子4aの充填率をそれぞれ、50体積%、60体積%、70体積%、75体積%、80体積%、85体積%、90体積%とした。絶縁樹脂層3の樹脂材料としてはポリイミドを用い、フィラー粒子3aとしてSiO2を用いた。また、カバー樹脂層4の樹脂材料としてはポリイミドを用い、フィラー粒子4aとしてFe−Si−Cr系の金属磁性粒子を用いた。絶縁樹脂層3及び、カバー樹脂層4は200℃で40分加熱することでこれらの層に含まれる樹脂を熱硬化させた。 It was confirmed as follows that heat shrinkage was suppressed when the filling rate of the filler particles 4a in the cover resin layer 4 was 80% by volume or more. First, a laminated body sample was prepared by laminating a magnetic substrate 2, an insulating resin layer 3, and a cover resin layer 4 in this order on a working substrate according to the above-mentioned manufacturing method. In each of these samples, seven types of samples were prepared by changing the filling rate of the filler particles 4a in the cover resin layer 4. Specifically, these seven types of samples have the filling rates of the filler particles 4a in the cover resin layer 4 of 50% by volume, 60% by volume, 70% by volume, 75% by volume, 80% by volume, and 85% by volume, respectively. , 90% by volume. Polyimide was used as the resin material of the insulating resin layer 3, and SiO2 was used as the filler particles 3a. In addition, polyimide was used as the resin material of the cover resin layer 4, and Fe—Si—Cr-based metal magnetic particles were used as the filler particles 4a. The insulating resin layer 3 and the cover resin layer 4 were heated at 200 ° C. for 40 minutes to thermally cure the resin contained in these layers.

この各試料について、カバー樹脂層4を熱硬化した後に、作業用基板から各試料(積層体)が剥がれたか否かを目視で確認した。具体的には、各種類の試料を10個ずつ作成し作業用基板から積層体が剥がれたものの個数をカウントした。その結果を以下の表1に示す。

Figure 0006955382
For each of these samples, after the cover resin layer 4 was heat-cured, it was visually confirmed whether or not each sample (laminate) was peeled off from the working substrate. Specifically, 10 samples of each type were prepared, and the number of samples from which the laminate was peeled off from the work substrate was counted. The results are shown in Table 1 below.
Figure 0006955382

表1に示した結果から、カバー樹脂層4中のフィラー粒子4aの充填率が75体積%以下の試料(試料1〜試料4)については1個以上の試料が作業用基板から剥がれたので不良と判断した。一方、カバー樹脂層4中のフィラー粒子4aの充填率が80体積%以上の試料(試料5〜試料7)については作業用基板から剥がれた試料がなかったので良好と判断した。このように、カバー樹脂層4中のフィラー粒子4aの充填率を80体積%以上としたときに、カバー樹脂層4の熱収縮が抑制されることが確認できた。 From the results shown in Table 1, the samples (Samples 1 to 4) in which the filling rate of the filler particles 4a in the cover resin layer 4 was 75% by volume or less were defective because one or more samples were peeled off from the working substrate. I decided. On the other hand, the samples (Samples 5 to 7) in which the filling rate of the filler particles 4a in the cover resin layer 4 was 80% by volume or more were judged to be good because no sample was peeled off from the working substrate. As described above, it was confirmed that the heat shrinkage of the cover resin layer 4 was suppressed when the filling rate of the filler particles 4a in the cover resin layer 4 was 80% by volume or more.

本明細書で説明された各構成要素の寸法、材料、及び配置は、実施形態中で明示的に説明されたものに限定されず、この各構成要素は、本発明の範囲に含まれうる任意の寸法、材料、及び配置を有するように変形することができる。また、本明細書において明示的に説明していない構成要素を、説明した実施形態に付加することもできるし、各実施形態において説明した構成要素の一部を省略することもできる。 The dimensions, materials, and arrangement of each component described herein are not limited to those expressly described in the embodiments, and each component may be included within the scope of the present invention. Can be transformed to have the dimensions, materials, and arrangement of. In addition, components not explicitly described in the present specification may be added to the described embodiments, or some of the components described in the respective embodiments may be omitted.

1 積層コモンモードコイル
2 磁性体基板
3 絶縁樹脂層
4 カバー樹脂層
13,23 コイル導体
1 Laminated common mode coil 2 Magnetic substrate 3 Insulation resin layer 4 Cover resin layer 13, 23 Coil conductor

Claims (13)

磁性材料の焼結体から成り第1面と前記第1面に対向する第2面とを有する磁性体基板と、
前記磁性体基板の前記第1面にのみ形成され、第1の樹脂及び第1のフィラー粒子を含む絶縁樹脂層と、
前記絶縁樹脂層の上に形成され、第2の樹脂及び第2のフィラー粒子を含むカバー樹脂層と、
前記絶縁樹脂層に前記磁性体基板に接しないように埋め込まれたコイル導体と、
を備え、
前記カバー樹脂層における前記第2のフィラー粒子の充填率は、前記絶縁樹脂層における前記第1のフィラー粒子の充填率よりも高い、積層コイル。
A magnetic substrate that having a second surface facing a sintered body of magnetic material on the first surface Ri formed to the first surface,
An insulating resin layer formed only on the first surface of the magnetic substrate and containing the first resin and the first filler particles.
A cover resin layer formed on the insulating resin layer and containing the second resin and the second filler particles,
A coil conductor embedded in the insulating resin layer so as not to come into contact with the magnetic substrate,
With
A laminated coil in which the filling rate of the second filler particles in the cover resin layer is higher than the filling rate of the first filler particles in the insulating resin layer.
前記カバー樹脂中の前記第2のフィラー粒子は、磁性体であり、前記カバー樹脂層中の前記第2のフィラー粒子の充填率が70体積%以上である、請求項1に記載の積層コイル。 The second filler particles of the cover resin layer is a magnetic body, the filling factor of the second filler particles of the cover resin layer is 70 vol% or more, the laminated coil according to claim 1 .. 前記第1のフィラー粒子が球形である、請求項1又は請求項2に記載の積層コイル。 The laminated coil according to claim 1 or 2, wherein the first filler particles are spherical. 前記第1のフィラー粒子が扁平形状に形成されている、請求項1又は請求項2に記載の積層コイル。 The laminated coil according to claim 1 or 2, wherein the first filler particles are formed in a flat shape. 前記第2のフィラー粒子が球形である、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の積層コイル。 The laminated coil according to any one of claims 1 to 4, wherein the second filler particles are spherical. 前記第2のフィラー粒子が扁平形状に形成されている、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の積層コイル。 The laminated coil according to any one of claims 1 to 4, wherein the second filler particles are formed in a flat shape. 前記第2のフィラー粒子が金属磁性粒子である、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の積層コイル。 The laminated coil according to any one of claims 1 to 6, wherein the second filler particles are metallic magnetic particles. 磁性材料の焼結体から成る磁性体基板と、
前記磁性体基板の上に形成され、第1の樹脂を含む絶縁樹脂層と、
前記絶縁樹脂層上に形成され、第2の樹脂及びフィラー粒子を含むカバー樹脂層と、
前記絶縁樹脂層に埋め込まれたコイル導体と、
前記絶縁樹脂層の側面に接する一方で前記絶縁樹脂層の上面には接しないように設けられる外部電極と、
を備え、
前記絶縁樹脂層は、フィラー粒子を含まず、
前記カバー樹脂層に含まれる、前記フィラー粒子は金属磁性粒子である、
積層コイル。
A magnetic substrate made of a sintered body of magnetic material and
An insulating resin layer formed on the magnetic substrate and containing the first resin,
A cover resin layer formed on the insulating resin layer and containing a second resin and filler particles,
The coil conductor embedded in the insulating resin layer and
An external electrode provided so as to be in contact with the side surface of the insulating resin layer but not to the upper surface of the insulating resin layer.
With
The insulating resin layer does not contain filler particles and does not contain filler particles.
The filler particles contained in the cover resin layer are metallic magnetic particles.
Multilayer coil.
前記カバー樹脂層中の前記フィラー粒子の充填率が80体積%以上である、請求項8に記載の積層コイル。 The laminated coil according to claim 8, wherein the filling rate of the filler particles in the cover resin layer is 80% by volume or more. 前記フィラー粒子が球形である、請求項8または請求項9に記載の積層コイル。 The laminated coil according to claim 8 or 9, wherein the filler particles are spherical. 前記フィラー粒子が扁平形状に形成されている、請求項8または請求項9に記載の積層コイル。 The laminated coil according to claim 8 or 9, wherein the filler particles are formed in a flat shape. 外部電極と、
前記外部電極と前記コイル導体とを接続する引き出し導体と、
をさらに備える請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の積層コイル。
With external electrodes
A drawer conductor connecting the external electrode and the coil conductor,
The laminated coil according to any one of claims 1 to 7 , further comprising.
コモンモードコイルとして構成されている請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の積層コイル。
The laminated coil according to any one of claims 1 to 12 , which is configured as a common mode coil.
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