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JP6969304B2 - Ink film forming original plate, uneven pattern forming method, pattern film forming method, pattern film forming apparatus - Google Patents
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Description

本発明は、インク膜形成用原版およびその凹凸パターン形成方法、ならびに当該原版を用いたパターン膜形成方法およびパターン膜形成装置に関する。 The present invention relates to an ink film forming original plate and a method for forming an uneven pattern thereof, and a pattern film forming method and a pattern film forming apparatus using the original plate.

従来の凸版印刷、凹版印刷、平版印刷等のアナログ印刷の場合、一度印刷パターンを形成した版を変更することは容易ではなく、異なる印刷物を印刷する度に、版を新たに初めから作製する必要があり、版作製の度に時間とコストがかかってしまう。特に、凸版印刷や凹版印刷では、版に一度形成した凹凸形状を変更することは容易ではなく、版を作製するには長大な時間的なロス及び高額な加工費用が必要となってしまう。 In the case of conventional analog printing such as letterpress printing, intaglio printing, and lithographic printing, it is not easy to change the plate once the print pattern is formed, and it is necessary to create a new plate from the beginning every time a different printed matter is printed. Therefore, it takes time and cost to make a plate. In particular, in letterpress printing and intaglio printing, it is not easy to change the uneven shape once formed on the plate, and a long time loss and a high processing cost are required to produce the plate.

この時間的なロスやコストを削減する手段として、アナログ印刷の分野においても、デジタルで版を作製すること(すなわちデジタル製版)が進められている。デジタル製版は、デジタル画像形成技術としても知られているコンピュータ製版技術(CTP技術)等の応用により可能となっている。例えば、特許文献1では、感光性印刷版を用いた凸版印刷の場合、版に凹凸を形成させるために必要となる感光性印刷版の重合すべきでない領域を覆うマスク部を得る手段としてCTP技術を用い、デジタル製版を行う技術が提案されている。しかし、異なる印刷物を印刷する度に、版を新たに始めから作製する必要がある点は変わらないため、デジタル製版を行ったとしても時間的なロスやコストはかかってしまう。 As a means of reducing this time loss and cost, digital plate making (that is, digital plate making) is also being promoted in the field of analog printing. Digital plate making is possible by applying computer to plate making technology (CTP technology), which is also known as digital image forming technology. For example, in Patent Document 1, in the case of letterpress printing using a photosensitive printing plate, the CTP technique is used as a means for obtaining a mask portion that covers a region of the photosensitive printing plate that should not be polymerized, which is necessary for forming irregularities on the plate. A technique for digital plate making has been proposed. However, since it is still necessary to make a new plate from the beginning every time a different printed matter is printed, even if digital plate making is performed, time loss and cost are incurred.

そこで、特許文献2では、加熱後に急冷すると被加熱部が熱膨張することで凸部を形成し、凸部を再加熱後に徐冷すると収縮して凸部がなくなり、元の形状に戻るという形状記憶樹脂の性質を応用して、デジタル製版を行い、また版の書き換えを可能とすることが提案されている。具体的には、表面に形状記憶樹脂層を備えた中間記録媒体(版)にエネルギービームを集光照射することにより印刷パターンに対応した凹凸の形成(書き込み)を行い、インクの転写後に形状記憶樹脂層を選択的に加熱後徐冷することで凹凸の消去を行う方法である。 Therefore, in Patent Document 2, when the heated portion is rapidly cooled after heating, the heated portion expands thermally to form a convex portion, and when the convex portion is reheated and then slowly cooled, the convex portion shrinks and the convex portion disappears and returns to the original shape. It has been proposed that the properties of the storage resin can be applied to perform digital plate making and to enable plate rewriting. Specifically, by condensing and irradiating an intermediate recording medium (plate) having a shape memory resin layer on the surface with an energy beam, unevenness corresponding to the print pattern is formed (written), and the shape is stored after the ink is transferred. This is a method of eliminating unevenness by selectively heating the resin layer and then slowly cooling it.

特開2011−154251号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-154251 特開平7−256852号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-256852

しかしながら、特許文献2に記載の方法では、所望の印刷パターンのエッジ部がぼやける傾向があり、小さな文字や細かい画像の再現性に劣るという問題を有していた。 However, the method described in Patent Document 2 has a problem that the edge portion of a desired print pattern tends to be blurred and the reproducibility of small characters and fine images is poor.

そこで、本発明は、版の書き換えが可能であり、かつ細線再現性に優れるインク膜形成用原版を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide an original plate for forming an ink film, which can be rewritten and has excellent fine line reproducibility.

本発明者らは鋭意研究を積み重ねた結果、光エネルギーに応答して形状が変化し、かつ熱可塑性樹脂を含む熱可塑性粉体を表面に有するインク膜形成用原版により上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of diligent research, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by an ink film forming original plate which changes its shape in response to light energy and has a thermoplastic powder containing a thermoplastic resin on its surface. , The present invention has been completed.

本発明に係るインク膜形成用原版は、版の書き換えが可能であり、かつ細線再現性に優れる。 The original plate for forming an ink film according to the present invention can be rewritten and has excellent fine line reproducibility.

本発明の一実施形態に係るパターン膜形成装置を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the pattern film forming apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 実施例の版書き換え評価に使用した画像パターンの模式図である。It is a schematic diagram of the image pattern used for the plate rewriting evaluation of an Example.

本発明の好ましい一実施形態は、光エネルギーに応答して形状が変化し、かつ熱可塑性樹脂を含む熱可塑性粉体を表面に有するインク膜形成用原版である。当該構成を有するインク膜形成用原版は、版の書き換えが可能であり、かつ細線再現性に優れる。なお、本発明のインク膜形成用原版を、以下「印刷原版」または「原版」とも称する。 A preferred embodiment of the present invention is an ink film forming original plate which changes its shape in response to light energy and has a thermoplastic powder containing a thermoplastic resin on its surface. The original plate for forming an ink film having this structure can be rewritten and has excellent fine line reproducibility. The original plate for forming an ink film of the present invention is also hereinafter referred to as a "printing original plate" or an "original plate".

上述したように、特許文献2に開示されている印刷方法では、所望の印刷パターンのエッジ部がぼやける傾向があり、小さな文字や細かい画像の再現性に劣るという問題を有していた。本発明者らは、その原因として、形状が変化するのは形状記憶樹脂の「層」であることや、形状変化が熱応答によることにあると推測した。 As described above, the printing method disclosed in Patent Document 2 has a problem that the edge portion of a desired printing pattern tends to be blurred and the reproducibility of small characters and fine images is poor. The present inventors have speculated that the cause of the change is the "layer" of the shape memory resin and the change in shape due to the thermal response.

そこで、本発明者らは、原版の設計について鋭意検討した結果、光エネルギーに応答して形状が変化し、かつ熱可塑性樹脂を含む熱可塑性粉体を表面に配置した原版とすることで、上記課題が解決することを見出した。 Therefore, as a result of diligent studies on the design of the original plate, the present inventors have made the original plate in which the shape changes in response to light energy and the thermoplastic powder containing the thermoplastic resin is arranged on the surface. I found that the problem could be solved.

なぜ、本発明の原版により上記効果が得られるのか、詳細は不明であるが、下記のようなメカニズムが考えられる。なお、下記のメカニズムは推測によるものであり、本発明は下記メカニズムに何ら制限されるものではない。 The reason why the above effect is obtained by the original version of the present invention is unknown, but the following mechanism can be considered. The following mechanism is speculative, and the present invention is not limited to the following mechanism.

熱可塑性樹脂を含む熱可塑性粉体を表面に有する原版を加圧すると、熱可塑性粉体は応力を受けて変形する。これに対して光を照射すると、光が照射された熱可塑性粉体は、光のエネルギーにより弾性回復し、変形した状態から元の状態に戻る。ゆえに、当該熱可塑性粉体は、光が照射されていない熱可塑性粉体に対して凸状態となる。よって、画像情報に応じて光を照射した部分のみが凸形状となり、所望の凹凸パターンを原版表面に形成することができる。ここで、個々の粉体は別個に存在するため、光照射された粉体の弾性回復の影響が近傍の粉体に及びにくい。よって、光照射された粉体の近傍に存在する粉体は変形したまま留まり、凹状態が保持される。ゆえに、画像情報が細かい場合にも、エッジ部が明確な凹凸パターンを形成することができる。この凹凸パターンの凹部または凸部にインクを付与することで、原版上にインク膜が形成される。当該インク膜を被印刷体に転写することで、被印刷体上に小さい文字や細かい画像を鮮明に形成することができる。すなわち、細線再現性に優れる。さらに、インク膜転写後の原版表面を再び加圧することで、凸形状であった熱可塑性粉体は、応力を受けて弾性回復する前の形状に戻る。これにより原版表面は再び平滑になるため、異なる凹凸パターンを原版上に形成する(書き込む)ことができる。すなわち、版の書き換えが可能となる。 When the original plate having the thermoplastic powder containing the thermoplastic resin on the surface is pressed, the thermoplastic powder is deformed by receiving stress. On the other hand, when light is irradiated, the thermoplastic powder irradiated with light is elastically restored by the energy of light and returns from the deformed state to the original state. Therefore, the thermoplastic powder is in a convex state with respect to the thermoplastic powder that has not been irradiated with light. Therefore, only the portion irradiated with light according to the image information has a convex shape, and a desired uneven pattern can be formed on the surface of the original plate. Here, since the individual powders exist separately, the influence of the elastic recovery of the powder irradiated with light is less likely to reach the powders in the vicinity. Therefore, the powder existing in the vicinity of the light-irradiated powder remains deformed, and the concave state is maintained. Therefore, even when the image information is fine, the edge portion can form a clear uneven pattern. By applying ink to the concave or convex portions of this uneven pattern, an ink film is formed on the original plate. By transferring the ink film to the object to be printed, small characters and fine images can be clearly formed on the object to be printed. That is, it is excellent in fine line reproducibility. Further, by pressurizing the surface of the original plate after the ink film transfer again, the thermoplastic powder having a convex shape returns to the shape before elastic recovery by receiving stress. As a result, the surface of the original plate becomes smooth again, so that different uneven patterns can be formed (written) on the original plate. That is, the version can be rewritten.

本明細書中、「(メタ)アクリル」とは、メタクリルおよび/またはアクリルを指す。同様に、「(メタ)アクリレート」とは、メタクリレートおよび/またはアクリレートを指す。 As used herein, "(meth) acrylic" refers to methacryl and / or acrylic. Similarly, "(meth) acrylate" refers to methacrylate and / or acrylate.

本明細書中、範囲を示す「X〜Y」は「X以上Y以下」を意味する。また、本明細書において、特記しない限り、操作および物性等の測定は、室温(20〜25℃)/相対湿度40〜50%RHの条件で行う。 In the present specification, "X to Y" indicating a range means "X or more and Y or less". Further, in the present specification, unless otherwise specified, the operation and the measurement of physical properties are performed under the conditions of room temperature (20 to 25 ° C.) / relative humidity of 40 to 50% RH.

<インク膜形成用原版>
本発明に係るインク膜形成用原版は、光エネルギーに応答して形状が変化し、かつ熱可塑性樹脂を含む熱可塑性粉体を表面に有する。
<Original plate for forming ink film>
The original plate for forming an ink film according to the present invention has a thermoplastic powder whose shape changes in response to light energy and contains a thermoplastic resin on its surface.

[熱可塑性粉体の構成]
(熱可塑性樹脂)
熱可塑性粉体に含まれる熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、スチレンアクリル樹脂、オレフィン系樹脂などのビニル系樹脂;ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリウレタン樹脂などの公知の種々のものを挙げることができる。これらは1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。また、2種以上の樹脂セグメントが互いに結合し複合化されてなる樹脂を使用しても良い。
[Structure of thermoplastic powder]
(Thermoplastic resin)
Examples of the thermoplastic resin contained in the thermoplastic powder include vinyl resins such as styrene resin, (meth) acrylic resin, styrene acrylic resin, and olefin resin; polyester resin, silicone resin, polyamide resin, and polycarbonate. Various known resins such as resins, polyethers, polyvinyl acetate resins, polysulfone resins, and polyurethane resins can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more. Further, a resin in which two or more kinds of resin segments are bonded to each other and composited may be used.

熱可塑性樹脂として、スチレンアクリル樹脂などの共重合型の熱可塑性樹脂を用いた場合、熱可塑性粉体の弾性回復がより生じやすく、凹凸パターンの形成効率を高めることができるため、好ましい。 When a copolymerized thermoplastic resin such as a styrene acrylic resin is used as the thermoplastic resin, elastic recovery of the thermoplastic powder is more likely to occur, and the efficiency of forming an uneven pattern can be increased, which is preferable.

熱可塑性樹脂のガラス転移点(Tg)は、形状変化の速度や形状安定性の観点から、35〜70℃であることが好ましく、本発明の効果のさらなる向上の観点から、40〜65℃であることがより好ましく、45〜60℃であることがさらにより好ましい。Tgは示差走査熱量測定(DSC)により測定することができる。 The glass transition point (Tg) of the thermoplastic resin is preferably 35 to 70 ° C. from the viewpoint of the rate of shape change and shape stability, and 40 to 65 ° C. from the viewpoint of further improving the effect of the present invention. It is more preferable that the temperature is 45 to 60 ° C., and it is even more preferable that the temperature is 45 to 60 ° C. Tg can be measured by differential scanning calorimetry (DSC).

熱可塑性樹脂としては、スチレンアクリル樹脂、ポリエステル樹脂およびポリウレタン樹脂からなる群より選択される少なくとも1種を含むことが好ましく、スチレンアクリル樹脂を含むことがさらにより好ましい。かような樹脂を含む場合、凹凸パターンをより精密に形成でき、小さい文字や細かい画像をより鮮明に再現することができる。また、版を繰り返し書き換えた後も、当該効果が持続しうる。 The thermoplastic resin preferably contains at least one selected from the group consisting of styrene acrylic resin, polyester resin and polyurethane resin, and even more preferably contains styrene acrylic resin. When such a resin is contained, the uneven pattern can be formed more precisely, and small characters and fine images can be reproduced more clearly. In addition, the effect can be sustained even after the plate is repeatedly rewritten.

以下、熱可塑性樹脂として好適なスチレンアクリル樹脂およびポリエステル樹脂について説明する。 Hereinafter, a styrene acrylic resin and a polyester resin suitable as the thermoplastic resin will be described.

≪スチレンアクリル樹脂≫
スチレンアクリル樹脂とは、少なくともスチレン単量体と(メタ)アクリル酸エステル単量体とを用いて、重合を行うことにより形成されるものである。ここで、スチレン単量体とは、CH=CH−Cの構造式で表されるスチレンの他、スチレン構造中に公知の側鎖や官能基を有する構造のものも含まれる。
≪Styrene acrylic resin≫
The styrene acrylic resin is formed by polymerizing at least a styrene monomer and a (meth) acrylic acid ester monomer. Here, the styrene monomer includes not only styrene represented by the structural formula of CH 2 = CH-C 6 H 5 but also a structure having a known side chain or functional group in the styrene structure.

また、(メタ)アクリル酸エステル単量体とは、エステル結合を有する官能基を側鎖に有するものである。具体的には、CH=CHCOOR(Rはアルキル基)で表されるアクリル酸エステル単量体の他、CH=C(CH)COOR(Rはアルキル基)で表されるメタクリル酸エステル単量体などのビニル系エステル化合物が含まれる。 Further, the (meth) acrylic acid ester monomer has a functional group having an ester bond in the side chain. Specifically, CH 2 = CHCOOR (R is an alkyl group) other acrylic acid ester monomer represented by, methacrylic acid ester represented by CH 2 = C (CH 3) COOR (R is an alkyl group) Contains vinyl ester compounds such as monomers.

以下に、スチレンアクリル樹脂を形成することが可能なスチレン単量体および(メタ)アクリル酸エステル単量体の具体例を示すが、以下に示すものに限定されるものではない。 Hereinafter, specific examples of the styrene monomer and the (meth) acrylic acid ester monomer capable of forming the styrene acrylic resin are shown, but the present invention is not limited to those shown below.

スチレン単量体としては、たとえば、スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、α−メチルスチレン、p−フェニルスチレン、p−エチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、p−n−ヘキシルスチレン、p−n−オクチルスチレン、p−n−ノニルスチレン、p−n−デシルスチレン、p−n−ドデシルスチレンなどが挙げられる。 Examples of the styrene monomer include styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, α-methylstyrene, p-phenylstyrene, p-ethylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, and p-. Examples thereof include tert-butyl styrene, pn-hexyl styrene, pn-octyl styrene, pn-nonyl styrene, pn-decyl styrene and pn-dodecyl styrene.

また、(メタ)アクリル酸エステル単量体は、以下に示すアクリル酸エステル単量体およびメタクリル酸エステル単量体が代表的なもので、アクリル酸エステル単量体としては、たとえば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸n−オクチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸フェニルなどが挙げられる。メタクリル酸エステル単量体としては、たとえば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸n−オクチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチルなどが挙げられる。 The (meth) acrylic acid ester monomer is typified by the acrylic acid ester monomer and the methacrylic acid ester monomer shown below, and the acrylic acid ester monomer is, for example, methyl acrylate. , Ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, n-octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, stearyl acrylate, lauryl acrylate , Phenyl acrylate and the like. Examples of the methacrylic acid ester monomer include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate, and n-octyl methacrylate. , 2-Ethylhexyl methacrylate, stearyl methacrylate, lauryl methacrylate, phenyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate and the like.

これらのスチレン単量体、アクリル酸エステル単量体、またはメタクリル酸エステル単量体は、単独でもまたは2種以上を組み合わせても使用することができる。 These styrene monomer, acrylic acid ester monomer, or methacrylic acid ester monomer can be used alone or in combination of two or more.

また、スチレンアクリル樹脂には、上述したスチレン単量体および(メタ)アクリル酸エステル単量体のみで形成された共重合体の他に、これらスチレン単量体および(メタ)アクリル酸エステル単量体に加えて、一般のビニル単量体を併用して形成されるものもある。以下に、本発明でいうスチレンアクリル樹脂を形成する際に併用可能なビニル単量体を例示するが、併用可能なビニル単量体は以下に示すものに限定されるものではない。 Further, in the styrene acrylic resin, in addition to the above-mentioned copolymer formed only of the styrene monomer and the (meth) acrylic acid ester monomer, these styrene monomers and the (meth) acrylic acid ester single amount In addition to the body, some are formed in combination with general vinyl monomers. Hereinafter, vinyl monomers that can be used in combination when forming the styrene acrylic resin referred to in the present invention will be exemplified, but the vinyl monomers that can be used in combination are not limited to those shown below.

(1)オレフィン類
エチレン、プロピレン、イソブチレン等
(2)ビニルエステル類
プロピオン酸ビニル、酢酸ビニル、ベンゾエ酸ビニル等
(3)ビニルエーテル類
ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル等
(4)ビニルケトン類
ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルヘキシルケトン等
(5)N−ビニル化合物類
N−ビニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−ビニルピロリドン等
(6)その他
ビニルナフタレン、ビニルピリジン等のビニル化合物類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド等のアクリル酸あるいはメタクリル酸誘導体等。
(1) Olefins Ethylene, propylene, isobutylene, etc. (2) Vinyl esters Vinyl propionate, vinyl acetate, vinyl benzoate, etc. (3) Vinyl ethers Vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, etc. (4) Vinyl ketones Vinyl methyl ketone, etc. Vinyl ethyl ketone, vinyl hexyl ketone, etc. (5) N-vinyl compounds N-vinylcarbazole, N-vinylindole, N-vinylpyrrolidone, etc. (6) Other vinyl compounds such as vinylnaphthalene and vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylo Acrylic acids such as nitriles and acrylamides or methacrylic acid derivatives.

また、多官能性ビニル単量体を使用して、架橋構造の樹脂を作製することも可能である。さらに、側鎖にイオン性解離基を有するビニル単量体を使用することも可能である。イオン性解離基の具体例としては、たとえば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基などが挙げられる。以下に、これらイオン性解離基を有するビニル単量体の具体例を示す。 It is also possible to prepare a resin having a crosslinked structure by using a polyfunctional vinyl monomer. Furthermore, it is also possible to use a vinyl monomer having an ionic dissociation group in the side chain. Specific examples of the ionic dissociation group include a carboxyl group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group and the like. Specific examples of these vinyl monomers having an ionic dissociation group are shown below.

カルボキシル基を有するビニル単量体の具体例としては、たとえば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、ケイ皮酸、フマル酸、マレイン酸モノアルキルエステル、イタコン酸モノアルキルエステルなどが挙げられる。 Specific examples of the vinyl monomer having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, silicic acid, fumaric acid, maleic acid monoalkyl ester, itaconic acid monoalkyl ester and the like. ..

スチレンアクリル樹脂の形成方法は、特に制限されず、公知の油溶性あるいは水溶性の重合開始剤を使用して単量体を重合する方法が挙げられる。必要に応じてたとえば、n−オクチルメルカプタン、3−メルカプトプロピオン酸オクチルなどの公知の連鎖移動剤を使用してもよい。 The method for forming the styrene acrylic resin is not particularly limited, and examples thereof include a method of polymerizing a monomer using a known oil-soluble or water-soluble polymerization initiator. If necessary, known chain transfer agents such as n-octyl mercaptan and octyl 3-mercaptopropionate may be used.

熱可塑性粉体に使用されるスチレンアクリル樹脂を形成する場合、スチレン単量体および(メタ)アクリル酸エステル単量体の含有量は特に限定されるものではなく、熱可塑性樹脂の軟化点温度やガラス転移温度を制御する観点から適宜調整することが可能である。具体的には、スチレン単量体の含有量は、単量体全体に対し40〜95質量%が好ましく、50〜80質量%がより好ましい。また、(メタ)アクリル酸エステル単量体の含有量は、単量体全体に対し5〜60質量%が好ましく、20〜50質量%がより好ましい。 When forming the styrene acrylic resin used for the thermoplastic powder, the contents of the styrene monomer and the (meth) acrylic acid ester monomer are not particularly limited, and the softening point temperature of the thermoplastic resin and the softening point temperature are not particularly limited. It can be appropriately adjusted from the viewpoint of controlling the glass transition temperature. Specifically, the content of the styrene monomer is preferably 40 to 95% by mass, more preferably 50 to 80% by mass, based on the whole monomer. The content of the (meth) acrylic acid ester monomer is preferably 5 to 60% by mass, more preferably 20 to 50% by mass, based on the total amount of the monomer.

スチレンアクリル樹脂の製造方法は、特に制限されず、公知の油溶性あるいは水溶性の重合開始剤を使用して単量体を重合する方法が挙げられる。油溶性の重合開始剤としては、具体的には、以下に示すアゾ系またはジアゾ系重合開始剤や過酸化物系重合開始剤がある。 The method for producing the styrene acrylic resin is not particularly limited, and examples thereof include a method of polymerizing a monomer using a known oil-soluble or water-soluble polymerization initiator. Specific examples of the oil-soluble polymerization initiator include the following azo-based or diazo-based polymerization initiators and peroxide-based polymerization initiators.

アゾ系またはジアゾ系重合開始剤としては、2,2’−アゾビス−(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス−4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビスイソブチロニトリルなどが挙げられる。 Examples of the azo-based or diazo-based polymerization initiator include 2,2'-azobis- (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobisisobutyronitrile, and 1,1'-azobis (cyclohexane-1). -Carbonitrile), 2,2'-azobis-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile, azobisisobutyronitrile and the like.

過酸化物系重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、クメンヒドロパーオキサイド、tert−ブチルヒドロパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、2,2−ビス−(4,4−tert−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン、トリス−(tert−ブチルパーオキシ)トリアジンなどが挙げられる。 Examples of the peroxide-based polymerization initiator include benzoyl peroxide, methyl ethyl ketone peroxide, diisopropyl peroxycarbonate, cumenehydroperoxide, tert-butylhydroperoxide, di-tert-butyl peroxide, dicumyl peroxide, 2, Examples thereof include 4-dichlorobenzoyl peroxide, lauroyl peroxide, 2,2-bis- (4,4-tert-butylperoxycyclohexyl) propane, tris- (tert-butylperoxy) triazine and the like.

また、乳化重合法でスチレンアクリル樹脂を製造する場合には、後述する[熱可塑性粉体の製造方法]の(1)熱可塑性樹脂粒子分散液調製工程に記載のように製造することができる。 Further, when the styrene acrylic resin is produced by the emulsion polymerization method, it can be produced as described in (1) Preparation step of the thermoplastic resin particle dispersion liquid of [Method for producing a thermoplastic powder] described later.

スチレンアクリル樹脂のガラス転移温度(Tg)は、定着性や耐熱保管性などの観点から、35〜70℃の範囲が好ましく、40〜60℃の範囲がより好ましい。Tgは、示差走査熱量測定(DSC)により測定することができる。 The glass transition temperature (Tg) of the styrene acrylic resin is preferably in the range of 35 to 70 ° C, more preferably in the range of 40 to 60 ° C, from the viewpoint of fixability and heat-resistant storage. Tg can be measured by differential scanning calorimetry (DSC).

≪ポリエステル樹脂≫
ポリエステル樹脂は、2価以上のカルボン酸(多価カルボン酸成分)と、2価以上のアルコール(多価アルコール成分)との重縮合反応によって得られる公知のポリエステル樹脂である。なお、ポリエステル樹脂は、非晶性であってもよいし結晶性であってもよい。
≪Polyester resin≫
The polyester resin is a known polyester resin obtained by a polycondensation reaction between a divalent or higher carboxylic acid (polyvalent carboxylic acid component) and a divalent or higher alcohol (polyhydric alcohol component). The polyester resin may be amorphous or crystalline.

多価カルボン酸成分および多価アルコール成分の価数としては、好ましくはそれぞれ2〜3であり、特に好ましくはそれぞれ2であるため、特に好ましい形態として価数がそれぞれ2である場合(すなわち、ジカルボン酸成分、ジオール成分)について説明する。 The valences of the polyvalent carboxylic acid component and the polyhydric alcohol component are preferably 2 to 3 respectively, and particularly preferably 2 each. Therefore, as a particularly preferable form, the valences are 2 each (that is, dicarboxylic acid). The acid component and the diol component) will be described.

ジカルボン酸成分としては、たとえば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、1,9−ノナンジカルボン酸、1,10−デカンジカルボン酸(ドデカン二酸)、1,11−ウンデカンジカルボン酸、1,12−ドデカンジカルボン酸、1,13−トリデカンジカルボン酸、1,14−テトラデカンジカルボン酸、1,16−ヘキサデカンジカルボン酸、1,18−オクタデカンジカルボン酸などの飽和脂肪族ジカルボン酸;メチレンコハク酸、フマル酸、マレイン酸、3−ヘキセンジオイック酸、3−オクテンジオイック酸、ドデセニルコハク酸などの不飽和脂肪族ジカルボン酸;フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、t−ブチルイソフタル酸、テトラクロロフタル酸、クロロフタル酸、ニトロフタル酸、p−フェニレン二酢酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、4,4’−ビフェニルジカルボン酸、アントラセンジカルボン酸などの不飽和芳香族ジカルボン酸;などが挙げられ、また、これらの低級アルキルエステルや酸無水物を用いることもできる。ジカルボン酸成分は、単独でもまたは2種以上混合して用いてもよい。 Examples of the dicarboxylic acid component include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, 1,9-nonandicarboxylic acid, and 1,10-decandicarboxylic acid. (Dodecanedioic acid), 1,11-undecanedicarboxylic acid, 1,12-dodecanedicarboxylic acid, 1,13-tridecanedicarboxylic acid, 1,14-tetradecanedicarboxylic acid, 1,16-hexadecanediocarboxylic acid, 1,18 -Saturated aliphatic dicarboxylic acids such as octadecanedicarboxylic acid; unsaturated aliphatic dicarboxylic acids such as methylenesuccinic acid, fumaric acid, maleic acid, 3-hexendioic acid, 3-octendioic acid, dodecenylsuccinic acid; phthalic acid, Telephthalic acid, isophthalic acid, t-butylisophthalic acid, tetrachlorophthalic acid, chlorophthalic acid, nitrophthalic acid, p-phenylene diacetic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 4,4'-biphenyldicarboxylic acid, anthracendicarboxylic acid, etc. , And the like, and these lower alkyl esters and acid anhydrides can also be used. The dicarboxylic acid component may be used alone or in combination of two or more.

その他、トリメリット酸、ピロメリット酸などの3価以上の多価カルボン酸、および上記のカルボン酸化合物の無水物、あるいは炭素数1〜3のアルキルエステルなども用いることができる。 In addition, trimellitic acid, polyvalent carboxylic acid having a valence of 3 or more such as pyromellitic acid, anhydrate of the above carboxylic acid compound, or an alkyl ester having 1 to 3 carbon atoms can also be used.

ジオール成分としては、たとえば、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、1,11−ウンデカンジオール、1,12−ドデカンジオール、1,13−トリデカンジオール、1,14−テトラデカンジオール、1,18−オクタデカンジオール、1,20−エイコサンジオール、ネオペンチルグリコールなどの飽和脂肪族ジオール;2−ブテン−1,4−ジオール、3−ブテン−1,4−ジオール、2−ブチン−1,4−ジオール、3−ブチン−1,4−ジオール、9−オクタデセン−7,12−ジオールなどの不飽和脂肪族ジオール;ビスフェノールA、ビスフェノールFなどのビスフェノール類、およびこれらのエチレンオキサイド付加物、プロピレンオキサイド付加物などのビスフェノール類のアルキレンオキサイド付加物などの芳香族ジオール、ポリオキシプロピレン(2,2)−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ポリオキシエチレン(2,2)−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンなどが挙げられ、また、これらの誘導体を用いることもできる。ジオール成分は、単独でもまたは2種以上混合して用いてもよい。 Examples of the diol component include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, and 1,7-heptane. Glycol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 1,11-undecanediol, 1,12-dodecanediol, 1,13-tridecanediol, 1,14-tetradecane Saturated aliphatic diols such as diols, 1,18-octadecanediol, 1,20-eicosanediol, neopentyl glycol; 2-butene-1,4-diol, 3-butene-1,4-diol, 2-butin Unsaturated aliphatic diols such as -1,4-diol, 3-butin-1,4-diol, 9-octadecene-7,12-diol; bisphenols such as bisphenol A and bisphenol F, and their ethylene oxide addition. Aromatic diols such as alkylene oxide adducts of bisphenols such as propylene oxide adducts, polyoxypropylene (2,2) -2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, polyoxyethylene (2,2) ) -2,2-Bis (4-hydroxyphenyl) propane and the like can be mentioned, and derivatives thereof can also be used. The diol component may be used alone or in combination of two or more.

ポリエステル樹脂の製造方法は特に制限されず、たとえば公知のエステル化触媒を利用して、上記多価カルボン酸成分および多価アルコール成分を重縮合する(エステル化する)方法が挙げられる。 The method for producing the polyester resin is not particularly limited, and examples thereof include a method of polycondensing (esterifying) the polyvalent carboxylic acid component and the polyhydric alcohol component using a known esterification catalyst.

ポリエステル樹脂の製造の際に使用可能な触媒としては、ナトリウム、リチウムなどのアルカリ金属化合物;マグネシウム、カルシウムなどの第2族元素を含む化合物;アルミニウム、亜鉛、マンガン、アンチモン、チタン、スズ、ジルコニウム、ゲルマニウムなどの金属の化合物;亜リン酸化合物;リン酸化合物;およびアミン化合物などが挙げられる。具体的には、スズ化合物としては、酸化ジブチルスズ、オクチル酸スズ、ジオクチル酸スズ、これらの塩などを挙げることができる。チタン化合物としては、テトラノルマルブチルチタネート(Ti(O−n−Bu))、テトライソプロピルチタネート、テトラメチルチタネート、テトラステアリルチタネートなどのチタンアルコキシド;ポリヒドロキシチタンステアレートなどのチタンアシレート;チタンテトラアセチルアセトナート、チタンラクテート、チタントリエタノールアミネートなどなどのチタンキレートなどを挙げることができる。ゲルマニウム化合物としては、二酸化ゲルマニウムなどを挙げることができる。さらにアルミニウム化合物としては、ポリ水酸化アルミニウム、アルミニウムアルコキシド、トリブチルアルミネートなどを挙げることができる。これらは1種単独でまたは2種以上を組み合わせて用いてもよい。 As catalysts that can be used in the production of polyester resins, alkali metal compounds such as sodium and lithium; compounds containing Group 2 elements such as magnesium and calcium; aluminum, zinc, manganese, antimony, titanium, tin and zirconium, Examples include metal compounds such as germanium; subphosphate compounds; phosphate compounds; and amine compounds. Specifically, examples of the tin compound include dibutyltin oxide, tin octylate, tin dioctylate, and salts thereof. Titanium compounds include titanium alkoxides such as tetranormal butyl titanate (Ti (On-Bu) 4 ), tetraisopropyl titanate, tetramethyl titanate, and tetrastearyl titanate; titanium acylates such as polyhydroxytitanium stearate; titanium tetra. Examples thereof include titanium chelate such as acetylacetonate, titanium lactate, and titanium triethanol aminate. Examples of the germanium compound include germanium dioxide and the like. Further, examples of the aluminum compound include polyaluminum hydroxide, aluminum alkoxide, and tributylaluminate. These may be used alone or in combination of two or more.

重合温度は特に限定されるものではないが、70〜250℃であることが好ましい。また、重合時間も特に限定されるものではないが、0.5〜10時間であることが好ましい。重合中には、必要に応じて反応系内を減圧にしてもよい。 The polymerization temperature is not particularly limited, but is preferably 70 to 250 ° C. Further, the polymerization time is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 10 hours. During the polymerization, the pressure inside the reaction system may be reduced, if necessary.

ポリエステル樹脂のガラス転移温度(Tg)は、定着性や耐熱保管性などの観点から、35〜70℃の範囲が好ましく、40〜60℃の範囲がより好ましい。Tgは、示差走査熱量測定(DSC)により測定することができる。 The glass transition temperature (Tg) of the polyester resin is preferably in the range of 35 to 70 ° C, more preferably in the range of 40 to 60 ° C, from the viewpoint of fixability and heat-resistant storage. Tg can be measured by differential scanning calorimetry (DSC).

熱可塑性樹脂の含有量の下限は、熱可塑性粉体の全質量に対して、50質量%以上であり、より好ましくは65質量%以上であり、さらにより好ましくは75質量%以上であり、特に好ましくは80質量%超である。当該下限値以上(超)であれば、樹脂比率が比較的大きくなるため、光照射による弾性回復ひいては凹凸パターンの形成がより顕著なものとなる(上限値:100質量%)。また、熱可塑性粉体が後述の光を吸収する化合物を含有する場合、熱可塑性樹脂の含有量の上限は、熱可塑性粉体の全質量に対して、好ましくは99.9質量%以下であり、より好ましくは99.5質量%以下であり、さらにより好ましくは98質量%以下であり、特に好ましくは95質量%以下である。当該上限値以下であれば、光を吸収する化合物による粉体の弾性回復速度の向上効果が良好となる。 The lower limit of the content of the thermoplastic resin is 50% by mass or more, more preferably 65% by mass or more, still more preferably 75% by mass or more, particularly, with respect to the total mass of the thermoplastic powder. It is preferably more than 80% by mass. If it is equal to or more than the lower limit value (exceeding), the resin ratio becomes relatively large, so that the elastic recovery by light irradiation and the formation of the uneven pattern become more remarkable (upper limit value: 100% by mass). When the thermoplastic powder contains a compound that absorbs light, which will be described later, the upper limit of the content of the thermoplastic resin is preferably 99.9% by mass or less with respect to the total mass of the thermoplastic powder. , More preferably 99.5% by mass or less, still more preferably 98% by mass or less, and particularly preferably 95% by mass or less. When it is not more than the upper limit value, the effect of improving the elastic recovery rate of the powder by the compound that absorbs light is good.

(光を吸収する化合物)
熱可塑性粉体は、光を吸収する化合物(以下、光吸収化合物とも称する)をさらに含有することが好ましい。光吸収化合物を含有することで、光照射による熱可塑性粉体の弾性回復の効率が向上する。ゆえに、所望の凹凸パターンが形成されやすくなり、小さい文字や細かい画像を鮮明に再現することができる。また、版を繰り返し書き換えた後も当該効果が持続しうる。
(Compound that absorbs light)
The thermoplastic powder preferably further contains a compound that absorbs light (hereinafter, also referred to as a light absorbing compound). By containing the light absorbing compound, the efficiency of elastic recovery of the thermoplastic powder by light irradiation is improved. Therefore, a desired uneven pattern can be easily formed, and small characters and fine images can be clearly reproduced. In addition, the effect can be sustained even after the plate is repeatedly rewritten.

光吸収化合物とは、溶媒(DMF、THF、クロロホルム等)に対して0.01質量%の濃度で溶解させ、分光光度計で吸光度を測定した場合に、任意の波長(たとえば、波長180〜900nmの範囲内の波長)の吸光度が0.01以上である化合物のことを指す。 The light absorbing compound is dissolved in a solvent (DMF, THF, chloroform, etc.) at a concentration of 0.01% by mass, and when the absorbance is measured with a spectrophotometer, it has an arbitrary wavelength (for example, a wavelength of 180 to 900 nm). Refers to a compound having an absorbance of 0.01 or more (wavelength within the range of).

光吸収化合物としては、凹凸パターンを形成する際に照射される光を効率良く吸収できるものが好ましい。ここで、照射される光の最大発光波長の好適な範囲は、後述する<パターン膜形成装置およびパターン膜形成方法>の[書き込み手段(工程)]に記載のとおりである。よって、光吸収化合物の最大吸収波長の上限は、850nm以下であることが好ましく、550nm以下であることがより好ましい。また、光吸収化合物の最大吸収波長の下限は、280nm以上であることが好ましい。したがって、本発明の好ましい一実施形態において、光吸収化合物は、波長280〜550nmの範囲に最大吸収波長を有する。この波長範囲に最大吸収波長を有する光吸収化合物を使用した場合、短波長光を照射した際の粉体の弾性回復効率がさらに向上するため、小さい文字や細かい画像をより鮮明に再現することができる。 As the light absorbing compound, a compound capable of efficiently absorbing the light irradiated when forming the uneven pattern is preferable. Here, a suitable range of the maximum emission wavelength of the irradiated light is as described in [Writing means (step)] of <Pattern film forming apparatus and pattern film forming method> described later. Therefore, the upper limit of the maximum absorption wavelength of the light absorption compound is preferably 850 nm or less, and more preferably 550 nm or less. Further, the lower limit of the maximum absorption wavelength of the light absorption compound is preferably 280 nm or more. Therefore, in a preferred embodiment of the invention, the light absorbing compound has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 280-550 nm. When a light-absorbing compound having a maximum absorption wavelength in this wavelength range is used, the elastic recovery efficiency of the powder when irradiated with short-wavelength light is further improved, so that small characters and fine images can be reproduced more clearly. can.

光吸収化合物の含有量の下限は、熱可塑性粉体の全質量に対して、好ましくは0.1質量%以上であり、より好ましくは0.5質量%以上であり、さらにより好ましくは2質量%以上であり、特に好ましくは5質量%超である。当該下限値以上(超)であれば、得られる熱エネルギーが十分に高く、弾性回復の速度がより速くなる効果を発揮しやすい。一方、光吸収化合物の含有量の上限は、熱可塑性粉体の全質量に対して、好ましくは50質量%以下であり、より好ましくは35質量%以下であり、さらにより好ましくは25質量%以下であり、特に好ましくは20質量%未満である。当該上限値以下(未満)であれば、樹脂比率が比較的大きくなるため、樹脂自体の弾性回復をする性質が阻害されず、光吸収化合物の添加により発揮される弾性回復の速度を上げる効果がより現れる。 The lower limit of the content of the light absorbing compound is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, still more preferably 2% by mass, based on the total mass of the thermoplastic powder. % Or more, particularly preferably more than 5% by mass. If it is equal to or more than the lower limit (exceeding), the obtained thermal energy is sufficiently high, and the effect of increasing the speed of elastic recovery is likely to be exhibited. On the other hand, the upper limit of the content of the light absorbing compound is preferably 50% by mass or less, more preferably 35% by mass or less, still more preferably 25% by mass or less, based on the total mass of the thermoplastic powder. It is particularly preferably less than 20% by mass. If it is below (less than) the upper limit, the resin ratio becomes relatively large, so that the property of the resin itself to recover elasticity is not hindered, and the effect of increasing the speed of elasticity recovery exerted by the addition of the light absorbing compound is obtained. Appears more.

光吸収化合物の例としては、光異性化化合物、紫外線吸収剤、着色剤等が挙げられる。これらの化合物を1種または2種以上含有してもよい。光異性化化合物を含有する場合、光異性化化合物が光を吸収し構造変化をすることで、熱可塑性粉体の軟化速度が上がり、粉体が弾性回復しやすくなる。一方、紫外線吸収剤や着色剤を含有する場合、効率よく光を吸収できるようになるとともに、吸収した光を熱エネルギーに変換することが容易となるため、熱可塑性粉体の軟化速度が上がり、粉体が弾性回復しやすくなる。特に、紫外線吸収剤を含有した場合は光熱変換が好適にできる。このように、熱可塑性粉体が光を吸収する化合物を含有すると、熱可塑性粉体の弾性回復の速度が上がり、凹凸パターンの作製にかかる時間を短縮することが可能となる。 Examples of the light absorbing compound include a photoisomerizing compound, an ultraviolet absorber, a colorant and the like. These compounds may be contained alone or in combination of two or more. When the photoisomerized compound is contained, the photoisomerized compound absorbs light and changes its structure, so that the softening rate of the thermoplastic powder is increased and the powder is easily elastically recovered. On the other hand, when an ultraviolet absorber or a colorant is contained, light can be efficiently absorbed and the absorbed light can be easily converted into heat energy, so that the softening rate of the thermoplastic powder increases. The powder can easily recover elastically. In particular, when an ultraviolet absorber is contained, photothermal conversion can be preferably performed. As described above, when the thermoplastic powder contains a compound that absorbs light, the speed of elastic recovery of the thermoplastic powder is increased, and the time required for producing the uneven pattern can be shortened.

中でも、凹凸パターンの形成時間をさらに短縮して、速い印刷速度の場合にも鮮明な画像を得る観点から、光吸収化合物は、光異性化化合物および紫外線吸収剤の少なくとも一方を含むことが好ましい。 Above all, from the viewpoint of further shortening the formation time of the uneven pattern and obtaining a clear image even at a high printing speed, the light absorbing compound preferably contains at least one of a photoisomerizing compound and an ultraviolet absorber.

以下、本発明に好適な光異性化化合物、紫外線吸収剤および着色剤について説明する。 Hereinafter, photoisomerization compounds, ultraviolet absorbers and colorants suitable for the present invention will be described.

≪光異性化化合物≫
光異性化化合物は、光を吸収して立体異性化または構造異性化(シス−トランス異性化、光開環反応等)を起こす化合物を指す。光異性化化合物としては、具体的にはアゾベンゼン誘導体、スピロピラン誘導体、スチルベン誘導体等が挙げられる。中でも、シス−トランス異性化を起こす化合物が好ましい。
≪Photoisomerizing compound≫
The photoisomerized compound refers to a compound that absorbs light and causes stereoisomerization or structural isomerization (cis-trans isomerization, photoopening reaction, etc.). Specific examples of the photoisomerized compound include an azobenzene derivative, a spiropyran derivative, a stilbene derivative and the like. Of these, compounds that cause cis-trans isomerization are preferred.

アゾベンゼン誘導体は、対称構造を有するものであっても、非対称構造を有するものであってもよい。中でも、非対称構造を有するアゾベンゼン誘導体は、光照射によってシス−トランス異性化がより速く進行し、熱可塑性粉体の弾性回復の速度をさらに向上させる効果を有するため、好ましい。 The azobenzene derivative may have a symmetrical structure or an asymmetric structure. Among them, the azobenzene derivative having an asymmetric structure is preferable because cis-trans isomerization proceeds faster by light irradiation and has an effect of further improving the rate of elastic recovery of the thermoplastic powder.

アゾベンゼン誘導体の具体例としては、たとえば下記化学式に示すものが挙げられる。 Specific examples of the azobenzene derivative include those represented by the following chemical formulas.

Figure 0006969304
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Figure 0006969304
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≪紫外線吸収剤≫
紫外線吸収剤とは180〜400nmの波長領域に吸収波長を持ち、少なくとも0℃以上の環境下では励起状態から異性化や結合開裂等の構造変化を伴わずに、無輻射失活により失活する添加剤のことを指す。紫外線吸収剤は、当該条件を満たす限り、有機化合物または無機化合物のいずれでもよい。また、有機系紫外線吸収剤の骨格を有する官能基が高分子鎖に取り込まれた紫外線吸収ポリマーも使用可能である。
≪UV absorber≫
The ultraviolet absorber has an absorption wavelength in the wavelength range of 180 to 400 nm, and is deactivated by non-radiative deactivation without structural changes such as isomerization and bond cleavage from the excited state in an environment of at least 0 ° C. or higher. Refers to additives. The ultraviolet absorber may be either an organic compound or an inorganic compound as long as the conditions are satisfied. Further, an ultraviolet absorbing polymer in which a functional group having a skeleton of an organic ultraviolet absorber is incorporated into a polymer chain can also be used.

紫外線吸収剤の具体例としては、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、ジベンゾイルメタン系紫外線吸収剤等の公知のものが挙げられる。無機系紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム等が挙げられる。 Specific examples of the ultraviolet absorber include known ones such as a benzophenone-based ultraviolet absorber, a benzotriazole-based ultraviolet absorber, a triazine-based ultraviolet absorber, a cyanoacrylate-based ultraviolet absorber, and a dibenzoylmethane-based ultraviolet absorber. .. Examples of the inorganic ultraviolet absorber include titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, iron oxide, barium sulfate and the like.

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、2,4−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ−ベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。 Examples of the benzophenone-based ultraviolet absorber include 2,4-dihydroxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxy-benzophenone, 2-. Hydroxy-4-octadesiloxy-benzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxy-benzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxy-benzophenone, 2,2', 4,4'-tetra Hydroxy-benzophenone and the like can be mentioned.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、2−(2’−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール]、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(1−メチル−1−フェニルエチル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール等が挙げられる。 Examples of the benzotriazole-based ultraviolet absorber include 2- (2'-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-di-t-butylphenyl) benzotriazole, and 2 -(2'-Hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2,2'-methylenebis [6- (2H-benzotriazole-2-yl) -4- (1,1,1) 3,3-Tetramethylbutyl) phenol], 2- (2H-benzotriazole-2-yl) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, 2- (2H-benzotriazole-2) -Il) -6- (1-methyl-1-phenylethyl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol and the like can be mentioned.

トリアジン系紫外線吸収剤としては、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、〔2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−(ヘキシル)オキシフェノール〕等のヒドロキシフェニルトリアジン、〔2−[4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−5−(オクチルオキシ)フェノール〕等が挙げられる。 Examples of the triazine-based ultraviolet absorber include 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine and 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-). Ethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-propoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-) Butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-) Hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl -6- (2-Hydroxy-4-dodecyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-benzyloxyphenyl) -1,3,5-triazine , [2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazine-2-yl) -5- (hexyl) oxyphenol] and other hydroxyphenyltriazines, [2- [4,6-bis (2,6-bis) 4-Dimethylphenyl) -1,3,5-triazine-2-yl] -5- (octyloxy) phenol] and the like can be mentioned.

シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、2’−エチルへキシル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、エチル−2−シアノ−3−(3’,4’−メチレンジオキシフェニル)−アクリレート等が挙げられる。 Examples of the cyanoacrylate-based ultraviolet absorber include 2'-ethylhexyl-2-cyano-3,3-diphenylacrylate, ethyl-2-cyano-3- (3', 4'-methylenedioxyphenyl) -acrylate and the like. Can be mentioned.

ジベンゾイルメタン系紫外線吸収剤としては、t−ブチルメトキシジベンゾイルメタン等が挙げられる。 Examples of the dibenzoylmethane-based ultraviolet absorber include t-butylmethoxydibenzoylmethane.

≪着色剤≫
着色剤としては、例えばトナーの着色剤として公知である、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの色素や、二酸化チタン等の無機粒子を用いた着色剤(白色)を使用することができる。
≪Coloring agent≫
As the colorant, for example, a colorant (white) using a dye of yellow, magenta, cyan, black, which is known as a colorant of toner, or inorganic particles such as titanium dioxide can be used.

イエロー色素としては、C.I.ソルベントイエロー19、同44、同77、同79、同81、同82、同93、同98、同103、同104、同112、同162などの染料;C.I.ピグメントイエロー14、同17、同74、同93、同94、同138、同155、同180、同185などの顔料が挙げられる。 As the yellow pigment, C.I. I. Dyes such as Solvent Yellow 19, 44, 77, 79, 81, 82, 93, 98, 103, 104, 112, 162; C.I. I. Pigment Yellow 14, 17, 74, 93, 94, 138, 155, 180, 185 and the like.

マゼンタ色素としては、バナジルナフタロシアニンや、C.I.ソルベントレッド1、同49、同52、同58、同63、同111、同122などの染料;C.I.ピグメントレッド5、同48:1、同53:1、同57:1、同122、同139、同144、同149、同166、同177、同178、同222などの顔料が挙げられる。 Magenta pigments include vanadyl naphthalocyanine and C.I. I. Dyes such as Solvent Red 1, 49, 52, 58, 63, 111, 122; C.I. I. Pigment Red 5, 48: 1, 53: 1, 57: 1, 122, 139, 144, 149, 166, 177, 178, 222 and the like.

シアン色素としては、C.I.ソルベントブルー25、同36、同60、同70、同93、同95などの染料;C.I.ピグメントブルー1、同7、同15、同60、同62、同66、同76などの顔料が挙げられる。 As the cyan dye, C.I. I. Dyes such as Solvent Blue 25, 36, 60, 70, 93, 95; C.I. I. Pigment Blue 1, 7, 15, 60, 62, 66, 76 and the like.

ブラック色素としては、カーボンブラック、磁性体、鉄・チタン複合酸化物ブラックなどが挙げられ、カーボンブラックとしてはチャンネルブラック、ファーネスブラック、アセチレンブラック、サーマルブラック、ランプブラックなどが挙げられる。 Examples of the black pigment include carbon black, a magnetic substance, and iron / titanium composite oxide black, and examples of carbon black include channel black, furnace black, acetylene black, thermal black, and lamp black.

(その他の成分)
本発明の原版に使用される熱可塑性粉体は、本発明の目的を損なわない範囲で、充填剤、老化防止剤、帯電防止剤、難燃剤、接着性付与剤、分散剤、酸化防止剤、消泡剤、レベリング剤、艶消し剤、光安定剤等の公知の添加剤をさらに含有していてもよい。なお、当該添加剤が光吸収化合物にも該当する場合には、光吸収化合物に分類するものとする。
(Other ingredients)
The thermoplastic powder used in the original plate of the present invention is a filler, an antioxidant, an antistatic agent, a flame retardant, an adhesive-imparting agent, a dispersant, an antioxidant, as long as the object of the present invention is not impaired. It may further contain known additives such as defoaming agents, leveling agents, matting agents and light stabilizers. If the additive also corresponds to a light-absorbing compound, it shall be classified as a light-absorbing compound.

[熱可塑性粉体の特性]
(熱可塑性粉体の形状)
熱可塑性粉体の形状は、特に制限されず、球状、略球状等の粒状、楕円状、破砕状、不定形状、直方体等の柱状、板状、角錐状、円錐状等であってもよいが、粒状であることが好ましい。粒状の熱可塑性粉体を用いた場合、原版上に配置される熱可塑性粉体の高さのばらつきが低減される。また、原版の面方向に規則的に配列されやすくなる。ゆえに、凹凸パターンをより精密に形成でき、小さい文字や細かい画像をより鮮明に再現することができる。
[Characteristics of thermoplastic powder]
(Shape of thermoplastic powder)
The shape of the thermoplastic powder is not particularly limited, and may be spherical, substantially spherical or other granular, elliptical, crushed, amorphous, rectangular parallelepiped or other columnar, plate-like, pyramidal-like, conical-like or the like. , Preferably granular. When granular thermoplastic powder is used, the variation in height of the thermoplastic powder arranged on the original plate is reduced. In addition, it becomes easy to arrange them regularly in the plane direction of the original plate. Therefore, the uneven pattern can be formed more precisely, and small characters and fine images can be reproduced more clearly.

(熱可塑性粉体の平均粒径〕
本発明の原版に用いられる熱可塑性粉体の体積基準のメジアン径の上限は、熱可塑性粉体の弾性回復を考慮すると、好ましくは100μm以下である。中でも、より好ましくは50μm以下であり、さらにより好ましくは30μm以下であり、特に好ましくは20μm以下である。当該上限値以下の場合、凹凸パターンをより精密に形成できるため、小さい文字や細かい画像をより鮮明に再現することができる。また、版を繰り返し書き換えた場合にも、当該効果が持続しうる。一方、熱可塑性粉体の体積基準のメジアン径の下限は、好ましくは0.5μm以上であり、より好ましくは1μm以上であり、さらにより好ましくは2μm以上であり、特に好ましくは3μm以上である。当該下限値以上の場合、凹凸パターンの段差が十分なものとなり、鮮明なパターン画像を得ることができる。また、版を繰り返し書き換えた場合にも、当該効果が持続しうる。したがって、本発明の好ましい一実施形態において、熱可塑性粉体の体積基準のメジアン径は、3〜20μmである。
(Average particle size of thermoplastic powder]
The upper limit of the volume-based median diameter of the thermoplastic powder used in the original plate of the present invention is preferably 100 μm or less in consideration of the elastic recovery of the thermoplastic powder. Above all, it is more preferably 50 μm or less, further preferably 30 μm or less, and particularly preferably 20 μm or less. When the value is not more than the upper limit, the uneven pattern can be formed more precisely, so that small characters and fine images can be reproduced more clearly. In addition, the effect can be sustained even when the plate is repeatedly rewritten. On the other hand, the lower limit of the volume-based median diameter of the thermoplastic powder is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, still more preferably 2 μm or more, and particularly preferably 3 μm or more. When it is at least the lower limit value, the step of the uneven pattern becomes sufficient, and a clear pattern image can be obtained. In addition, the effect can be sustained even when the plate is repeatedly rewritten. Therefore, in a preferred embodiment of the present invention, the volume-based median diameter of the thermoplastic powder is 3 to 20 μm.

熱可塑性粉体の体積基準のメジアン径は「マルチサイザー3」(ベックマン・コールター社製)に、データ処理用ソフト「Software V3.51」を搭載したコンピューターシステムを接続した測定装置を用いて測定・算出されるものである。具体的には、測定試料(熱可塑性粉体)0.02gを、界面活性剤溶液20mL(熱可塑性粉体の分散を目的として、例えば界面活性剤成分を含む中性洗剤を純水で10倍希釈した界面活性剤溶液)に添加して馴染ませた後、超音波分散を1分間行い、熱可塑性粉体分散液を調製し、この熱可塑性粉体分散液を、サンプルスタンド内の「ISOTONII」(ベックマン・コールター社製)の入ったビーカーに、測定装置の表示濃度が8%になるまでピペットにて注入する。ここで、この濃度範囲にすることにより、再現性のある測定値を得ることができる。そして、測定装置において、測定粒子カウント数を25000個、アパーチャ径を100μmにし、測定範囲である2〜60μmの範囲を256分割しての頻度値を算出し、体積積算分率の大きい方から50%の粒径が体積基準のメジアン径とされる。 The volume-based median diameter of the thermoplastic powder is measured using a measuring device that connects a computer system equipped with the data processing software "Software V3.51" to "Multisizer 3" (manufactured by Beckman Coulter). It is calculated. Specifically, 0.02 g of the measurement sample (thermoplastic powder) is mixed with 20 mL of a surfactant solution (for the purpose of dispersing the thermoplastic powder, for example, a neutral detergent containing a surfactant component is mixed with pure water 10 times. After adding to (diluted surfactant solution) and acclimatizing, ultrasonic dispersion is performed for 1 minute to prepare a thermoplastic powder dispersion, and this thermoplastic powder dispersion is used as "ISOTONII" in the sample stand. Inject into a beaker containing (Beckman Coulter) with a pipette until the indicated concentration of the measuring device reaches 8%. Here, by setting this concentration range, it is possible to obtain a reproducible measured value. Then, in the measuring device, the number of measured particles is 25,000, the aperture diameter is 100 μm, the frequency value is calculated by dividing the measurement range of 2 to 60 μm by 256, and the volume integration fraction is 50 from the largest. % Is the volume-based median diameter.

凹部と凸部の高さの差(凹凸パターンの段差)は、通常、熱可塑性粉体の体積基準のメジアン径の35〜50%程度となる。 The difference in height between the concave portion and the convex portion (step of the uneven pattern) is usually about 35 to 50% of the volume-based median diameter of the thermoplastic powder.

(熱可塑性粉体の粒度分布)
熱可塑性粉体の体積基準の粒度分布における変動係数(CV値、以下単に「CV値」とも称する)の上限は、好ましくは35%以下であり、より好ましくは25%以下であり、さらにより好ましくは20%以下である。当該上限値以下の場合、凹凸パターンをより精密に形成できるため、小さい文字や細かい画像をより鮮明に再現することができる。また、版を繰り返し書き換えた場合にも、当該効果が持続しうる。また、CV値の下限は、特に制限されないが、例えば0.5%以上である。CV値は、熱可塑性粉体の粒度分布における分散度を体積基準で表したものであり、下記式(1)で表される。CV値が小さいほど、粒度分布がシャープであることを表し、熱可塑性粉体の大きさがそろっていることを示す。
(Particle size distribution of thermoplastic powder)
The upper limit of the coefficient of variation (CV value, hereinafter also simply referred to as “CV value”) in the volume-based particle size distribution of the thermoplastic powder is preferably 35% or less, more preferably 25% or less, and even more preferably. Is less than 20%. When the value is not more than the upper limit, the uneven pattern can be formed more precisely, so that small characters and fine images can be reproduced more clearly. In addition, the effect can be sustained even when the plate is repeatedly rewritten. The lower limit of the CV value is not particularly limited, but is, for example, 0.5% or more. The CV value represents the degree of dispersion in the particle size distribution of the thermoplastic powder on a volume basis, and is represented by the following formula (1). The smaller the CV value, the sharper the particle size distribution, and the more uniform the sizes of the thermoplastic powders.

Figure 0006969304
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CV値が上記範囲であれば、原版上に配置される熱可塑性粉体の高さのばらつきがより低減される。また、原版の面方向に規則的に配列されやすくなる。ゆえに、凹凸パターンをより精密に形成でき、小さい文字や細かい画像をより鮮明に再現することができる。このCV値は、例えば熱可塑性粉体の製造時に用いられる凝集停止剤の量を調節することにより制御することができる。なお、熱可塑性粉体のCV値は、体積基準のメジアン径と同様に「コールターマルチサイザー3」(ベックマン・コールター株式会社製)によって測定することができる。 When the CV value is in the above range, the variation in height of the thermoplastic powder arranged on the original plate is further reduced. In addition, it becomes easy to arrange them regularly in the plane direction of the original plate. Therefore, the uneven pattern can be formed more precisely, and small characters and fine images can be reproduced more clearly. This CV value can be controlled, for example, by adjusting the amount of the aggregation terminator used in the production of the thermoplastic powder. The CV value of the thermoplastic powder can be measured by "Coulter Multisizer 3" (manufactured by Beckman Coulter Co., Ltd.) in the same manner as the volume-based median diameter.

(熱可塑性粉体の平均円形度)
本発明の原版に用いられる熱可塑性粉体の平均円形度は、0.930〜1.000であることが好ましく、0.950〜1.000であることがより好ましい。上記範囲内にあれば、熱可塑性粉体が破砕しにくく、繰り返しの版書き換え操作にも耐えうるものとなる。
(Average circularity of thermoplastic powder)
The average circularity of the thermoplastic powder used in the original plate of the present invention is preferably 0.930 to 1.000, more preferably 0.950 to 1.000. If it is within the above range, the thermoplastic powder is less likely to be crushed and can withstand repeated plate rewriting operations.

本発明において、熱可塑性粉体の平均円形度は、「FPIA−3000」(Sysmex社製)を用いて測定されるものである。 In the present invention, the average circularity of the thermoplastic powder is measured using "FPIA-3000" (manufactured by Sysmex Corporation).

具体的には、試料(熱可塑性粉体)を界面活性剤入り水溶液にてなじませ、超音波分散処理を1分間行って分散させた後、「FPIA−3000」(Sysmex社製)により、測定条件HPF(高倍率撮像)モードにて、HPF検出数3,000〜10,000個の適正濃度で撮影を行い、熱可塑性粉体を構成する各粒子について下記式(T)に従って円形度を算出し、各粒子の円形度を加算し、全粒子数で除することにより算出される。 Specifically, the sample (thermoplastic powder) is blended with an aqueous solution containing a surfactant, subjected to ultrasonic dispersion treatment for 1 minute to disperse, and then measured by "FPIA-3000" (manufactured by Sysmex). Conditions In the HPF (high magnification imaging) mode, imaging is performed at an appropriate concentration of 3,000 to 10,000 HPF detections, and the circularity is calculated for each particle constituting the thermoplastic powder according to the following formula (T). Then, the circularity of each particle is added and divided by the total number of particles.

Figure 0006969304
Figure 0006969304

[熱可塑性粉体の製造方法]
熱可塑性粉体の製造方法は特に制限されず、例えば、混練粉砕法、懸濁重合法、乳化凝集法、溶解懸濁法、分散重合法等が挙げられるが、好ましくは乳化凝集法である。乳化凝集法の場合、粒径および形状が制御された熱可塑性粉体を得ることができる。ゆえに、凹凸パターンをより精密に形成でき、小さい文字や細かい画像をより鮮明に再現することができる。また、版を繰り返し書き換えた場合にも、当該効果が持続しうる。
[Manufacturing method of thermoplastic powder]
The method for producing the thermoplastic powder is not particularly limited, and examples thereof include a kneading and pulverizing method, a suspension polymerization method, an emulsion aggregation method, a dissolution suspension method, a dispersion polymerization method, and the like, but the emulsion aggregation method is preferable. In the case of the emulsion aggregation method, it is possible to obtain a thermoplastic powder having a controlled particle size and shape. Therefore, the uneven pattern can be formed more precisely, and small characters and fine images can be reproduced more clearly. In addition, the effect can be sustained even when the plate is repeatedly rewritten.

熱可塑性樹脂および光吸収化合物を含む熱可塑性粉体を乳化凝集法で製造する方法の一例としては、
(1)熱可塑性樹脂を水系媒体中に分散させ、熱可塑性樹脂粒子分散液を調製する熱可塑性樹脂粒子分散液調製工程;
(2)光吸収化合物を水系媒体中に分散させ、光吸収化合物粒子分散液を調製する光吸収化合物粒子分散液調製工程;
(3)上記(1)〜(2)で得られた各分散液を用いて、熱可塑性樹脂粒子および光吸収化合物粒子を、水系媒体中で凝集、融着させて凝集粒子を形成する凝集、融着工程;
(4)凝集粒子を熱エネルギーにより熟成して形状調整を行い、熱可塑性粉体分散液を作製する熟成工程;
(5)熱可塑性粉体分散液を冷却する冷却工程;
(6)冷却した熱可塑性粉体分散液より当該熱可塑性粉体を固液分離し、熱可塑性粉体表面より界面活性剤などを除去する濾過、洗浄工程;
(7)洗浄処理された熱可塑性粉体を乾燥する乾燥工程;
から構成される。
As an example of a method for producing a thermoplastic powder containing a thermoplastic resin and a light absorbing compound by an emulsion aggregation method,
(1) Thermoplastic resin particle dispersion preparation step of dispersing the thermoplastic resin in an aqueous medium to prepare a thermoplastic resin particle dispersion;
(2) Light-absorbing compound particle dispersion preparation step of dispersing the light-absorbing compound in an aqueous medium to prepare a light-absorbing compound particle dispersion;
(3) Aggregation in which thermoplastic resin particles and light-absorbing compound particles are aggregated and fused in an aqueous medium to form aggregated particles using the dispersions obtained in (1) and (2) above. Fusing process;
(4) Aging step of aging agglomerated particles with heat energy to adjust the shape to prepare a thermoplastic powder dispersion liquid;
(5) Cooling step for cooling the thermoplastic powder dispersion;
(6) Filtering and cleaning steps in which the thermoplastic powder is solid-liquid separated from the cooled thermoplastic powder dispersion and the surfactant and the like are removed from the surface of the thermoplastic powder;
(7) Drying step of drying the washed thermoplastic powder;
Consists of.

ここで、「水系媒体」とは、水50〜100質量%と、水溶性の有機溶媒0〜50質量%とからなる媒体をいう。水溶性の有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフランを例示することができ、得られる樹脂を溶解しないアルコール系有機溶媒を使用することが好ましい。 Here, the "aqueous medium" refers to a medium composed of 50 to 100% by mass of water and 0 to 50% by mass of a water-soluble organic solvent. Examples of the water-soluble organic solvent include methanol, ethanol, isopropanol, butanol, acetone, methyl ethyl ketone, and tetrahydrofuran, and it is preferable to use an alcohol-based organic solvent that does not dissolve the obtained resin.

以下、各工程について説明する。 Hereinafter, each step will be described.

(1)熱可塑性樹脂粒子分散液調製工程
当該工程では、臨界ミセル形成濃度(CMC)以上の濃度の界面活性剤を含有した水系媒体中に、熱可塑性樹脂を形成するための重合性単量体を加え、撹拌を行いつつ所望の重合温度で水溶性重合開始剤を加え、重合を行うことにより、熱可塑性樹脂粒子分散液を調製することができる。
(1) Preparation step of thermoplastic resin particle dispersion liquid In this step, a polymerizable monomer for forming a thermoplastic resin in an aqueous medium containing a surfactant having a concentration equal to or higher than the critical micelle formation concentration (CMC). , And a water-soluble polymerization initiator is added at a desired polymerization temperature while stirring, and the polymerization is carried out to prepare a thermoplastic resin particle dispersion.

また、臨界ミセル濃度(CMC)以下の界面活性剤を含有した水系媒体中に、熱可塑性樹脂を形成するための重合性単量体を加え、機械的エネルギーを加えて液滴を形成させ、次いで、水溶性のラジカル重合開始剤を添加して、液滴中において重合反応を進行させることにより、熱可塑性樹脂粒子分散液を調製することもできる。なお、前記液滴中に油溶性の重合開始剤が含有されていてもよい。かような熱可塑性樹脂粒子分散液調製工程においては、機械的エネルギーを付与して乳化(液滴の形成)する処理が必須となる。かかる機械的エネルギーの付与手段としては、ホモミキサー、超音波、マントンゴーリンなどの強い撹拌または超音波振動エネルギーの付与手段を挙げることができる。 Further, a polymerizable monomer for forming a thermoplastic resin is added to an aqueous medium containing a surfactant having a critical micelle concentration (CMC) or less, and mechanical energy is applied to form droplets, and then droplets are formed. It is also possible to prepare a thermoplastic resin particle dispersion liquid by adding a water-soluble radical polymerization initiator and allowing the polymerization reaction to proceed in the droplets. The oil-soluble polymerization initiator may be contained in the droplets. In such a step of preparing a thermoplastic resin particle dispersion liquid, a process of applying mechanical energy to emulsify (formation of droplets) is indispensable. Examples of the means for applying such mechanical energy include a means for applying strong stirring or ultrasonic vibration energy such as a homomixer, ultrasonic waves, and manton gorin.

この熱可塑性樹脂粒子分散液調製工程において形成させる熱可塑性樹脂粒子は、組成の異なる樹脂よりなる2層以上の構成のものとすることもでき、この場合、常法に従った乳化重合処理(第1段重合)により調製した樹脂粒子の分散液に、重合開始剤と重合性単量体とを添加し、この系を重合処理する方法を採用することができる。この際、第2段重合、第3段重合等の多段階重合処理を行うことで、粒径や形状がより制御された熱可塑性樹脂粒子を得ることができる。かような樹脂粒子からは、粒径や形状が制御された熱可塑性粉体が得られやすいため、好ましい。 The thermoplastic resin particles formed in this thermoplastic resin particle dispersion preparation step may have a structure of two or more layers made of resins having different compositions, and in this case, an emulsion polymerization treatment according to a conventional method (first). A method of adding a polymerization initiator and a polymerizable monomer to a dispersion of resin particles prepared by (one-stage polymerization) and polymerizing this system can be adopted. At this time, by performing a multi-step polymerization treatment such as second-stage polymerization and third-stage polymerization, thermoplastic resin particles having a more controlled particle size and shape can be obtained. From such resin particles, it is easy to obtain a thermoplastic powder having a controlled particle size and shape, which is preferable.

この工程において好適に使用される界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレン(n)アルキルエーテル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、リン酸エステルなどのアニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩、アミノアルコール脂肪酸誘導体、ポリアミン脂肪酸誘導体、イミダゾリンなどのアミン塩型や、アルキルトリメチルアンモニム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩、アルキルジメチルベンジルアンモニウム塩、ピリジニウム塩、アルキルイソキノリニウム塩、塩化ベンゼトニウムなどの4級アンモニウム塩型のカチオン性界面活性剤、脂肪酸アミド誘導体、多価アルコール誘導体などの非イオン界面活性剤、アラニン、ドデシルジ(アミノエチル)グリシン、ジ(オクチルアミノエチル)グリシンやN−アルキル−N,N−ジメチルアンモニウムベタインなどの両性界面活性剤などが挙げられ、また、フルオロアルキル基を有するアニオン性界面活性剤やカチオン性界面活性剤も使用することができる。 Surfactants preferably used in this step include anionic surfactants such as alkylsulfate ester salts, polyoxyethylene (n) alkyl ether sulfates, alkylbenzene sulfonates, α-olefin sulfonates, phosphate esters and the like. Surfactant, alkylamine salt, aminoalcohol fatty acid derivative, polyamine fatty acid derivative, amine salt type such as imidazoline, alkyltrimethylammonim salt, dialkyldimethylammonium salt, alkyldimethylbenzylammonium salt, pyridinium salt, alkylisoquinolinium salt , Tertiary ammonium salt type cationic surfactants such as benzethonium chloride, nonionic surfactants such as fatty acid amide derivatives and polyhydric alcohol derivatives, alanine, dodecyldi (aminoethyl) glycine, di (octylaminoethyl) glycine and Examples thereof include amphoteric surfactants such as N-alkyl-N and N-dimethylammonium betaine, and anionic surfactants and cationic surfactants having a fluoroalkyl group can also be used.

〔重合開始剤〕
重合開始剤としては、公知の種々の重合開始剤を使用することができる。具体的には、例えば過酸化水素、過酸化アセチル、過酸化クミル、過酸化tert−ブチル、過酸化プロピオニル、過酸化ベンゾイル、過酸化クロロベンゾイル、過酸化ジクロロベンゾイル、過酸化ブロモメチルベンゾイル、過酸化ラウロイル、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、ペルオキシ炭酸ジイソプロピル、テトラリンヒドロペルオキシド、1−フェニル−2−メチルプロピル−1−ヒドロペルオキシド、過トリフェニル酢酸tert−ヒドロペルオキシド、過ギ酸tert−ブチル、過酢酸tert−ブチル、過安息香酸tert−ブチル、過フェニル酢酸tert−ブチル、過メトキシ酢酸tert−ブチル、過N−(3−トルイル)パルミチン酸tert−ブチルなどの過酸化物類;2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)塩酸塩、2,2’−アゾビス−(2−アミジノプロパン)硝酸塩、1,1’−アゾビス(1−メチルブチロニトリル−3−スルホン酸ナトリウム)、4,4’−アゾビス−4−シアノ吉草酸、ポリ(テトラエチレングリコール−2,2’−アゾビスイソブチレート)などのアゾ化合物などが挙げられる。これらの中でも、水溶性重合開始剤、例えば過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過酸化水素、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)塩酸塩、2,2’−アゾビス−(2−アミジノプロパン)硝酸塩、1,1’−アゾビス(1−メチルブチロニトリル−3−スルホン酸ナトリウム)、4,4’−アゾビス−4−シアノ吉草酸を好ましく用いることができる。また、重合開始剤としては、過硫酸塩とメタ重亜硫酸塩、過酸化水素とアスコルビン酸のようなレドックス重合開始剤を用いることもできる。
[Polymerization initiator]
As the polymerization initiator, various known polymerization initiators can be used. Specifically, for example, hydrogen peroxide, acetyl peroxide, cumil peroxide, tert-butyl peroxide, propionyl peroxide, benzoyl peroxide, chlorobenzoyl peroxide, dichlorobenzoyl peroxide, bromomethylbenzoyl peroxide, peroxide. Lauroyl, ammonium persulfate, sodium persulfate, potassium persulfate, diisopropyl peroxycarbonate, tetraline hydroperoxide, 1-phenyl-2-methylpropyl-1-hydroperoxide, tert-hydroperoxide pertriphenylacetate, tert-butyl peroxide, Peroxides such as tert-butyl peracetate, tert-butyl perbenzoate, tert-butyl perphenylacetate, tert-butyl permethoxyacetate, tert-butyl per-N- (3-toluyl) palmitate; 2,2 '-Azobis (2-amidinopropane) hydrochloride, 2,2'-azobis- (2-amidinopropane) nitrate, 1,1'-azobis (1-methylbutyronitrile-3-sodium sulfonate), 4, Examples thereof include azo compounds such as 4'-azobis-4-cyanovaleric acid and poly (tetraethylene glycol-2,2'-azobis isobutyrate). Among these, water-soluble polymerization initiators such as ammonium persulfate, sodium persulfate, potassium persulfate, hydrogen peroxide, 2,2'-azobis (2-amidinopropane) hydrochloride, 2,2'-azobis- (2). -Amidinopropane) nitrate, 1,1'-azobis (1-methylbutyronitrile-3-sulfonic acid sodium), 4,4'-azobis-4-cyanovaleric acid can be preferably used. Further, as the polymerization initiator, a redox polymerization initiator such as persulfate and metasulfite, hydrogen peroxide and ascorbic acid can also be used.

〔連鎖移動剤〕
熱可塑性樹脂粒子分散液調製工程においては、熱可塑性樹脂の分子量を調整することを目的として、一般的に用いられる連鎖移動剤を用いることができる。連鎖移動剤としては特に限定されるものではなく、例えばアルキルメルカプタン、メルカプト脂肪酸エステルなどを挙げることができる。
[Chain transfer agent]
In the step of preparing the thermoplastic resin particle dispersion liquid, a chain transfer agent generally used can be used for the purpose of adjusting the molecular weight of the thermoplastic resin. The chain transfer agent is not particularly limited, and examples thereof include alkyl mercaptans and mercapto fatty acid esters.

この熱可塑性樹脂粒子分散液調製工程において得られる熱可塑性樹脂粒子の平均粒径は、体積基準のメジアン径で例えば50〜500nmの範囲にあることが好ましい。なお、体積基準のメジアン径は、「UPA−150」(マイクロトラック社製)を用いて測定したものである。 The average particle size of the thermoplastic resin particles obtained in this thermoplastic resin particle dispersion preparation step is preferably in the range of, for example, 50 to 500 nm in terms of volume-based median diameter. The volume-based median diameter was measured using "UPA-150" (manufactured by Microtrac Co., Ltd.).

(2)光吸収化合物粒子分散液調製工程
光吸収化合物粒子分散液は、光吸収化合物を水系媒体中に分散することにより調製することができる。光吸収化合物の分散処理は、光吸収化合物が均一に分散されることから、水系媒体中において界面活性剤濃度を臨界ミセル濃度(CMC)以上にした状態で行われることが好ましい。光吸収化合物の分散処理に使用する分散機としては、公知の種々の分散機を用いることができる。
(2) Preparation Step for Preparing Light Absorbent Compound Particle Dispersion The light absorption compound particle dispersion can be prepared by dispersing the light absorption compound in an aqueous medium. Since the light-absorbing compound is uniformly dispersed, the dispersion treatment of the light-absorbing compound is preferably carried out in a state where the surfactant concentration is equal to or higher than the critical micelle concentration (CMC) in the aqueous medium. As the disperser used for the dispersion treatment of the light absorbing compound, various known dispersers can be used.

この光吸収化合物粒子分散液調製工程において調製される光吸収化合物粒子分散液中の光吸収化合物粒子の分散径は、体積基準のメジアン径で10〜300nmであることが好ましく、50〜250nmであることがより好ましく、100〜200nmであることがさらにより好ましい。この着色剤粒子分散液中の着色剤粒子の体積基準のメジアン径は、電気泳動光散乱光度計「ELS−800(大塚電子社製)」で測定されるものである。 The dispersion diameter of the light-absorbing compound particles in the light-absorbing compound particle dispersion prepared in this light-absorbing compound particle dispersion preparation step is preferably 10 to 300 nm, preferably 50 to 250 nm in terms of volume-based median diameter. It is more preferably 100 to 200 nm, and even more preferably 100 to 200 nm. The volume-based median diameter of the colorant particles in the colorant particle dispersion is measured by an electrophoretic light scattering photometer "ELS-800 (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.)".

光吸収化合物は、上述の熱可塑性樹脂粒子分散液調製工程においてミニエマルション法を用いて予め熱可塑性樹脂を形成するための単量体溶液に溶解または分散させることによって熱可塑性粉体中に導入してもよい。 The light-absorbing compound is introduced into the thermoplastic powder by dissolving or dispersing it in a monomer solution for forming the thermoplastic resin in advance using the miniemulsion method in the above-mentioned step of preparing the thermoplastic resin particle dispersion liquid. You may.

(3)凝集、融着工程
この工程は、上記の工程で形成した分散液に含まれる熱可塑性樹脂粒子および光吸収化合物粒子を、水系媒体中で凝集、融着させるものである。この工程では、水系媒体中に熱可塑性樹脂粒子分散液および光吸収化合物粒子分散液を添加して、これらの粒子を凝集、融着させる。
(3) Aggregation and fusion step In this step, the thermoplastic resin particles and the light absorbing compound particles contained in the dispersion liquid formed in the above step are aggregated and fused in an aqueous medium. In this step, a thermoplastic resin particle dispersion liquid and a light absorbing compound particle dispersion liquid are added to the aqueous medium to aggregate and fuse these particles.

熱可塑性樹脂粒子および光吸収化合物粒子を凝集、融着する具体的な方法としては、水系媒体中に凝集剤を臨界凝集濃度以上となるよう添加し、次いで、熱可塑性樹脂粒子のガラス転移点以上の温度に加熱することによって、熱可塑性樹脂粒子および光吸収化合物粒子等の粒子の塩析を進行させると同時に融着を並行して進め、所望の粒径まで成長したところで、凝集停止剤を添加して粒子成長を停止させ、さらに、必要に応じて粒子形状を制御するために加熱を継続して行う方法である。 As a specific method for aggregating and fusing the thermoplastic resin particles and the light absorbing compound particles, an aggregating agent is added to the aqueous medium so as to have a critical aggregation concentration or higher, and then the glass transition point or higher of the thermoplastic resin particles. By heating to the above temperature, the salinization of particles such as thermoplastic resin particles and light absorbing compound particles is promoted, and at the same time, fusion is promoted in parallel. This is a method in which particle growth is stopped and heating is continuously performed in order to control the particle shape as needed.

この方法においては、凝集剤を添加した後に放置する時間をできるだけ短くして速やかに熱可塑性樹脂粒子のガラス転移点以上の温度に加熱することが好ましい。この理由は明確ではないが、塩析した後の放置時間によっては粒子の凝集状態が変動して粒径分布が不安定になったり、融着させた粒子の表面性が変動したりする問題が発生することが懸念されるためである。この昇温までの時間としては通常30分以内であることが好ましく、10分以内であることがより好ましい。また、昇温速度としては0.5℃/分以上であることが好ましい。昇温速度の上限は特に規定されるものではないが、急速な融着の進行による粗大粒子の発生を抑制する観点から、15℃/分以下とすることが好ましい。さらに、反応系がガラス転移点以上の温度に到達した後、当該反応系の温度を一定時間保持することにより、融着を継続させることが肝要である。これにより、粒子の成長と、融着とを効果的に進行させることができ、最終的に得られる熱可塑性粉体の耐久性を向上させることができる。 In this method, it is preferable to quickly heat the thermoplastic resin particles to a temperature equal to or higher than the glass transition point of the thermoplastic resin particles by shortening the leaving time after adding the flocculant as much as possible. The reason for this is not clear, but there are problems that the agglutination state of the particles fluctuates and the particle size distribution becomes unstable, and the surface properties of the fused particles fluctuate depending on the leaving time after salting out. This is because there is concern that it will occur. The time until the temperature rise is usually preferably 30 minutes or less, and more preferably 10 minutes or less. The rate of temperature rise is preferably 0.5 ° C./min or higher. The upper limit of the temperature rising rate is not particularly specified, but it is preferably 15 ° C./min or less from the viewpoint of suppressing the generation of coarse particles due to the rapid progress of fusion. Further, after the reaction system reaches a temperature equal to or higher than the glass transition point, it is important to maintain the temperature of the reaction system for a certain period of time to continue the fusion. As a result, the growth and fusion of the particles can be effectively promoted, and the durability of the finally obtained thermoplastic powder can be improved.

〔凝集剤〕
凝集剤としては、特に限定されるものではないが、金属塩から選択されるものが好適に使用される。金属塩としては、例えばナトリウム、カリウム、リチウムなどのアルカリ金属の塩などの一価の金属塩;カルシウム、マグネシウム、マンガン、銅などの二価の金属塩;鉄、アルミニウムなどの三価の金属塩などが挙げられる。具体的な金属塩としては、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化リチウム、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化亜鉛、硫酸銅、硫酸マグネシウム、硫酸マンガンなどを挙げることができ、これらの中で、少量で凝集を進めることが可能であり、凝集性の制御も容易であることから、二価の金属塩を用いることが特に好ましい。これらは1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。
[Coagulant]
The flocculant is not particularly limited, but one selected from metal salts is preferably used. Metallic salts include monovalent metal salts such as alkali metal salts such as sodium, potassium and lithium; divalent metal salts such as calcium, magnesium, manganese and copper; trivalent metal salts such as iron and aluminum. And so on. Specific examples of the metal salt include sodium chloride, potassium chloride, lithium chloride, calcium chloride, magnesium chloride, zinc chloride, copper sulfate, magnesium sulfate, manganese sulfate, etc., among which agglomeration is agglomerated in a small amount. It is particularly preferable to use a divalent metal salt because it can be advanced and the agglomeration can be easily controlled. These can be used alone or in combination of two or more.

この工程において界面活性剤を使用する場合は、界面活性剤として、例えば上述の界面活性剤と同様のものを用いることができる。 When a surfactant is used in this step, for example, the same surfactant as described above can be used as the surfactant.

(4)熟成工程
この工程は、具体的には、凝集粒子を含む系を加熱撹拌することにより、凝集粒子の形状が所望の平均円形度になるまで、加熱温度、撹拌速度、加熱時間を制御して、熱可塑性粉体を形成する工程である。この工程においては、熱エネルギー(加熱)により熱可塑性粉体の形状制御を行うことが好ましい。
(4) Aging step Specifically, in this step, the heating temperature, stirring speed, and heating time are controlled until the shape of the agglomerated particles becomes a desired average circularity by heating and stirring the system containing the agglomerated particles. This is the process of forming the thermoplastic powder. In this step, it is preferable to control the shape of the thermoplastic powder by thermal energy (heating).

(5)冷却工程〜(7)乾燥工程
冷却工程、濾過、洗浄工程および乾燥工程は、公知の種々の方法を採用して行うことができる。
(5) Cooling Step to (7) Drying Step The cooling step, filtration, cleaning step and drying step can be carried out by adopting various known methods.

[支持体]
本発明のインク膜形成用原版は、通常、支持体の表面に熱可塑性粉体が配置されてなる。
[Support]
The original plate for forming an ink film of the present invention is usually formed by arranging a thermoplastic powder on the surface of a support.

支持体の形状は、特に制限されず、平板状、円筒状等が挙げられるが、好ましくは円筒状である。 The shape of the support is not particularly limited, and examples thereof include a flat plate shape and a cylindrical shape, but a cylindrical shape is preferable.

支持体の材料も、特に制限されないが、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金(例えば、アルミニウムとマグネシウムまたは/およびケイ素との合金)、鉄、ステンレス、などの金属、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、スチレン−ブタジエンゴムなどのプラスチックが挙げられる。これらは1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 The material of the support is also not particularly limited, and is, for example, aluminum, an aluminum alloy (for example, an alloy of aluminum and magnesium or / and silicon), a metal such as iron, stainless steel, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (for example). Examples thereof include plastics such as PBT), polyacrylonitrile, polyvinyl chloride, epoxy resin, phenol resin, and styrene-butadiene rubber. These may be used alone or in combination of two or more.

支持体は、単層、多層のいずれの形態を有していてもよい。また、多層である場合、各層は異なる材料で構成されていてもよい。したがって、例えば支持体が円筒状の場合、内層が上記の金属であり、外層が上記のプラスチックである形態であってもよい。 The support may have either a single layer or a multi-layered form. Further, in the case of multiple layers, each layer may be composed of different materials. Therefore, for example, when the support is cylindrical, the inner layer may be the above-mentioned metal and the outer layer may be the above-mentioned plastic.

[接着層]
本発明のインク膜形成用原版は、熱可塑性粉体が接着層を介して支持体上に配置されてなるものであってもよい。
[Adhesive layer]
The original plate for forming an ink film of the present invention may be one in which a thermoplastic powder is arranged on a support via an adhesive layer.

接着層の形成に用いられる接着剤(以下、接着層形成用接着剤とも称する)としては、特に制限されず、硬化性樹脂、および必要に応じて重合開始剤、溶媒等を含む硬化性組成物が好ましい。 The adhesive used for forming the adhesive layer (hereinafter, also referred to as an adhesive for forming an adhesive layer) is not particularly limited, and is a curable composition containing a curable resin and, if necessary, a polymerization initiator, a solvent and the like. Is preferable.

硬化性樹脂は、活性エネルギー線(例えば、紫外線、可視光線、X線、電子線等)硬化型、熱硬化型であってもよいが、好ましくは活性エネルギー線硬化型であり、より好ましくは紫外線硬化型である。硬化性樹脂は、単独でもまたは2種以上組み合わせても用いることができる。また、硬化性樹脂は、市販品を用いてもよいし、合成品を用いてもよい。 The curable resin may be an active energy ray (for example, ultraviolet rays, visible rays, X-rays, electron beams, etc.) curable type or thermosetting type, but is preferably an active energy ray curable type, and more preferably ultraviolet rays. It is a curing type. The curable resin can be used alone or in combination of two or more. Further, as the curable resin, a commercially available product or a synthetic product may be used.

紫外線硬化型樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート樹脂が好ましい。 As the ultraviolet curable resin, for example, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy resin and the like are preferably used. Of these, ultraviolet curable urethane acrylate resin and ultraviolet curable polyol acrylate resin are preferable.

紫外線硬化型ポリオールアクリレート樹脂としては、エチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。紫外線硬化型ポリオールアクリレート樹脂としては、市販品を用いてもよく、市販品としては、サートマーSR295、350、399(サートマー社製)などを挙げることができる。 Examples of the ultraviolet curable polyol acrylate resin include ethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, trimethyl propanthry (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and pentaerythritol. Examples thereof include tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and alkyl-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate. As the ultraviolet curable polyol acrylate resin, a commercially available product may be used, and examples of the commercially available product include Sartmer SR295, 350, 399 (manufactured by Sartmer).

重合開始剤は、使用する硬化性樹脂の種類に応じて、公知の光重合開始剤、熱重合開始剤等を適宜選択することができる。 As the polymerization initiator, a known photopolymerization initiator, thermal polymerization initiator, or the like can be appropriately selected depending on the type of the curable resin to be used.

接着層形成用接着剤は、市販品、合成品のいずれを使用してもよい。 As the adhesive for forming the adhesive layer, either a commercially available product or a synthetic product may be used.

接着層の厚さ(乾燥厚さ)は、当該厚さと熱可塑性粉体の平均粒径(体積基準のメジアン径)との比が、1:2〜1:3となるように調節することが好ましい。上記範囲内であれば、熱可塑性粉体は少なくとも上半分が接着層から露出した状態で、接着層に強固に固定される。ゆえに、熱可塑性粉体の弾性回復によって十分な段差を有する凹凸パターンを形成でき、かつその形成−消去を持続的に行うことができる。すなわち、鮮明な画像を再現でき、かつ繰り返しの版書き換え操作にも耐えうる。 The thickness of the adhesive layer (dry thickness) can be adjusted so that the ratio of the thickness to the average particle size of the thermoplastic powder (volume-based median diameter) is 1: 2 to 1: 3. preferable. Within the above range, the thermoplastic powder is firmly fixed to the adhesive layer with at least the upper half exposed from the adhesive layer. Therefore, it is possible to form an uneven pattern having a sufficient step by elastic recovery of the thermoplastic powder, and it is possible to continuously form and erase the uneven pattern. That is, a clear image can be reproduced and it can withstand repeated plate rewriting operations.

[インク膜形成用原版の製造方法]
インク膜形成用原版の製造方法は、特に制限されないが、例えば、支持体上に接着剤層を設け、その上に熱可塑性粉体を固定させる方法が好ましい。
[Manufacturing method of original plate for forming ink film]
The method for producing the original plate for forming an ink film is not particularly limited, but for example, a method in which an adhesive layer is provided on a support and a thermoplastic powder is fixed on the adhesive layer is preferable.

具体的には、上記の接着層形成用接着剤を支持体上に塗布し、得られた塗布膜上に熱可塑性粉体をスプレー塗布等により塗布した後、(必要に応じて活性エネルギー線照射や加熱を行うことにより)接着剤を硬化させ、熱可塑性粉体を支持体上に固定する方法が挙げられる。 Specifically, the above adhesive for forming an adhesive layer is applied onto a support, and a thermoplastic powder is applied onto the obtained coating film by spray coating or the like (active energy ray irradiation as necessary). The method of curing the adhesive (by heating or heating) and fixing the thermoplastic powder on the support can be mentioned.

あるいは、支持体を構成する第1の部材(例えば、プラスチックフィルム)に接着層形成用接着剤を塗布し、上記と同様にして熱可塑性粉体を第1の部材上に固定した後、これを熱可塑性粉体が表面に露出するように第2の支持体用部材(例えば金属筒、金属板)に接着する方法であってもよい。この際、第1の部材の厚さは、第2の部材の形状に合わせて適宜選択することができる。また、第1の部材と第2の部材とを接着する際には、市販品または合成品の接着剤を使用してもよい。 Alternatively, an adhesive for forming an adhesive layer is applied to a first member (for example, a plastic film) constituting the support, and the thermoplastic powder is fixed on the first member in the same manner as described above, and then this is applied. It may be a method of adhering to a second support member (for example, a metal cylinder or a metal plate) so that the thermoplastic powder is exposed on the surface. At this time, the thickness of the first member can be appropriately selected according to the shape of the second member. Further, when adhering the first member and the second member, a commercially available or synthetic adhesive may be used.

活性エネルギー線を照射して接着剤を硬化させる場合、照射条件(光源の種類、照射強度、照射時間等)は適宜選択することができる。光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等の公知の光源を使用することができる。照射強度も、特に制限されないが、例えば10〜200mW/cmである。また、照射時間も、特に制限されないが、例えば1〜10分である。また、加熱により接着剤を硬化させる場合も、加熱温度や加熱時間は適宜調節することができる。 When the adhesive is cured by irradiating it with active energy rays, the irradiation conditions (type of light source, irradiation intensity, irradiation time, etc.) can be appropriately selected. As the light source, a known light source such as a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, or a metal halide lamp can be used. The irradiation intensity is also not particularly limited, but is, for example, 10 to 200 mW / cm 2 . The irradiation time is also not particularly limited, but is, for example, 1 to 10 minutes. Further, when the adhesive is cured by heating, the heating temperature and the heating time can be appropriately adjusted.

なお、熱可塑性粉体を支持体上に配置する方法として、熱可塑性粉体および必要に応じてバインダーが分散された塗布液を、回転塗布、浸漬、たれ流し、ロールコータやブレード、インクジェットコータ等の液体フィルムコーティング装置を使用して塗布してもよい。 As a method of arranging the thermoplastic powder on the support, the thermoplastic powder and the coating liquid in which the binder is dispersed as needed are subjected to rotary coating, dipping, dripping, roll coater, blade, inkjet coater, etc. It may be applied using a liquid film coating device.

支持体上に熱可塑性粉体を配置した後、加圧をすることで、熱可塑性粉体は応力が掛かった状態、すなわちつぶれたように変形した状態となる。また、上述のように、支持体を構成する第1の部材上に熱可塑性粉体を固定した後、支持体を構成する第2の部材に接着する方法の場合、熱可塑性粉体に応力をかける操作は、第1の部材と第2の部材とを接着する前後のいずれで行ってもよい。 By placing the thermoplastic powder on the support and then applying pressure, the thermoplastic powder is in a stressed state, that is, in a crushed state. Further, as described above, in the case of the method of fixing the thermoplastic powder on the first member constituting the support and then adhering it to the second member constituting the support, stress is applied to the thermoplastic powder. The applying operation may be performed before or after bonding the first member and the second member.

(熱可塑性粉体の配置状態の確認方法)
インク膜形成用原版における熱可塑性粉体の配置状態を確認する方法としては、原版の表面をレーザー顕微鏡で観察する方法等が挙げられる。具体的には、例えば、レーザー顕微鏡(VK−X100、キーエンス社製)を用いて、以下の観察条件で観察する方法が挙げられる:
形状観察(エキスパートモード)、RPDなし、表面形状:高精細・高精度、倍率:100倍、Z方向の測定範囲:50μm(0.1μmピッチ)
観察画像の90μm×90μmの領域に占める熱可塑性粉体の面積率を算出し、3箇所の平均面積率が20%以上であることが好ましく、30%以上であることがより好ましく、40%以上であることがさらにより好ましい。当該下限値以上であれば、凹凸パターンの抜けを低減でき、小さい文字や細かい画像を鮮明に再現することができる。
(How to check the arrangement of thermoplastic powder)
Examples of the method for confirming the arrangement state of the thermoplastic powder in the ink film forming original plate include a method of observing the surface of the original plate with a laser microscope. Specifically, for example, a method of observing under the following observation conditions using a laser microscope (VK-X100, manufactured by KEYENCE CORPORATION) can be mentioned:
Shape observation (expert mode), no RPD, surface shape: high definition / high accuracy, magnification: 100 times, measurement range in Z direction: 50 μm (0.1 μm pitch)
The area ratio of the thermoplastic powder occupying the 90 μm × 90 μm region of the observation image is calculated, and the average area ratio of the three locations is preferably 20% or more, more preferably 30% or more, and 40% or more. Is even more preferable. When it is at least the lower limit value, the omission of the uneven pattern can be reduced, and small characters and fine images can be clearly reproduced.

さらに、熱可塑性粉体は、原版の面方向に規則的に配列していることが好ましく、具体的には、隣接する熱可塑性粉体の中心間距離の平均値が、熱可塑性粉体の平均粒径(体積基準のメジアン径)の1.0〜3.0倍であるとより好ましい。当該範囲内にあれば、凹凸パターンの抜けをより低減でき、小さい文字や細かい画像をより鮮明に再現することができる。中心間距離の平均値としては、たとえば、レーザー顕微鏡により隣接する熱可塑性粉体の中心間距離を測定して下式(2)により算出される4点平均値Lを採用することができる。熱可塑性粉体の塗布条件(スプレー塗布の場合は、スプレーパターン、噴出量、吹付距離等)や塗布液の濃度、粘度により上記範囲内に制御することができる。 Further, the thermoplastic powders are preferably arranged regularly in the plane direction of the original plate, and specifically, the average value of the distances between the centers of the adjacent thermoplastic powders is the average of the thermoplastic powders. It is more preferable that the particle size (median diameter based on volume) is 1.0 to 3.0 times. If it is within the range, the omission of the uneven pattern can be further reduced, and small characters and fine images can be reproduced more clearly. As the average value of the center-to-center distance, for example, a four-point average value L calculated by the following equation (2) by measuring the center-to-center distance of adjacent thermoplastic powders with a laser microscope can be adopted. It can be controlled within the above range by the coating conditions of the thermoplastic powder (in the case of spray coating, the spray pattern, the spray amount, the spraying distance, etc.), the concentration of the coating liquid, and the viscosity.

Figure 0006969304
Figure 0006969304

<パターン膜形成装置およびパターン膜形成方法>
本発明は、上記原版を用いたパターン膜形成装置(印刷装置)についても提供する。当該装置は、上記原版に対して部分的に光を照射することにより、原版表面に凹凸パターンを形成する書き込み手段と、凹凸パターンの凸部または凹部にインクを塗布して、インク膜を形成するインク膜形成手段と、インク膜を被印刷体の表面に転写する転写手段とを有する。図1は、本発明の一実施形態に係るパターン膜形成装置100を示す概略断面図である。ただし、本発明に用いられるパターン膜形成装置としては、下記の形態および図示例に限定されるものではない。
<Pattern film forming device and pattern film forming method>
The present invention also provides a pattern film forming apparatus (printing apparatus) using the original plate. The apparatus forms an ink film by partially irradiating the original plate with light to form a writing means for forming an uneven pattern on the surface of the original plate and applying ink to the convex or concave portions of the uneven pattern. It has an ink film forming means and a transfer means for transferring the ink film to the surface of the object to be printed. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a pattern film forming apparatus 100 according to an embodiment of the present invention. However, the pattern film forming apparatus used in the present invention is not limited to the following forms and illustrated examples.

また、本発明は、上記原版を用いたパターン膜形成方法(印刷方法)についても提供する。当該方法は、上記原版に対して部分的に光を照射することにより、前記原版表面に凹凸パターンを形成する書き込み工程と、凹凸パターンの凸部または凹部にインクを塗布して原版上にインク膜を形成するインク膜形成工程と、インク膜を被印刷体の表面に転写する転写工程とを有する。 The present invention also provides a pattern film forming method (printing method) using the above-mentioned original plate. The method includes a writing step of forming an uneven pattern on the surface of the original plate by partially irradiating the original plate with light, and applying ink to the convex or concave portions of the uneven pattern to apply an ink film on the original plate. It has an ink film forming step of forming the ink film and a transfer step of transferring the ink film to the surface of the object to be printed.

以下、本発明に係るパターン膜形成装置(または方法)を構成する各手段(または工程)について説明する。 Hereinafter, each means (or step) constituting the pattern film forming apparatus (or method) according to the present invention will be described.

[書き込み手段(工程)]
本発明のパターン膜形成装置において、書き込み手段は、例えば図1に示すように、書き込み用光源2と、必要に応じて書き込み用熱源6とを有する。
[Writing means (process)]
In the pattern film forming apparatus of the present invention, the writing means has, for example, as shown in FIG. 1, a writing light source 2 and, if necessary, a writing heat source 6.

インク膜形成用原版1に対して、書き込み用光源2から部分的に光を照射することにより、原版1の表面に凹凸パターンが形成される。なお、本明細書において、「部分的に光を照射する」とは、書き込む画像パターンの画像部または非画像部のいずれかに光を照射することをいう。凸版印刷型の場合には、画像部を被照射位置として光を照射することで、画像部を凸形状とし、凸版を作製する。一方、凹版印刷型の場合には、非画像部を被照射位置として光を照射し、非画像部を凸形状にすることで画像部を相対的に凹形状とし、凹版を作製する。 By partially irradiating the ink film forming original plate 1 with light from the writing light source 2, an uneven pattern is formed on the surface of the original plate 1. In the present specification, "partially irradiating light" means irradiating either the image portion or the non-image portion of the image pattern to be written with light. In the case of the letterpress printing type, the image portion is made into a convex shape by irradiating light with the image portion as the irradiated position, and a letterpress is produced. On the other hand, in the case of the intaglio printing type, the non-image portion is set as the irradiated position and light is irradiated, and the non-image portion is formed into a convex shape so that the image portion is relatively concave and the intaglio is produced.

書き込み用光源2としては、公知の光源を用いてもよいが、特に、発光ダイオード(LED)、レーザー光源等の光源が好ましい。かような光源を使用することで、特定の波長領域内の光のみに起因する光熱変換作用を発現させることができる。この結果、本発明の効果を好適に発現でき、さらには、消費電力を低減できる。したがって、本発明の好ましい一実施形態において照射される光は単色放射光である。また、書き込み用光源は、1つまたは2つ以上設置してもよい。 As the writing light source 2, a known light source may be used, but a light source such as a light emitting diode (LED) or a laser light source is particularly preferable. By using such a light source, it is possible to exhibit a photothermal conversion action caused only by light in a specific wavelength region. As a result, the effects of the present invention can be suitably exhibited, and further, power consumption can be reduced. Therefore, the light emitted in one preferred embodiment of the present invention is monochromatic synchrotron radiation. Further, one or two or more writing light sources may be installed.

書き込み用光源2から照射される光の最大発光波長の上限は、850nm以下であることが好ましい。850nm以下であれば、熱可塑性粉体が受けるエネルギーが十分なものとなり、弾性回復が生じやすくなる。ゆえに、凹凸パターンの形成時間を短縮することができる。中でも、より細かい領域に光を照射でき、小さい文字や細かい画像をより鮮明に再現できることから、550nm以下がより好ましく、450nm以下がさらに好ましく、350nm以下がさらにより好ましく、300nm以下が特に好ましい。一方、書き込み用光源2から照射される光の最大発光波長の下限は、280nm以上であることが好ましい。280nm以上であれば、熱可塑性粉体が受けるエネルギーが大きすぎないため、粉体が劣化しにくい。ゆえに、繰り返しの版書き換え操作にも耐えうるものとなる。したがって、本発明に係るパターン膜形成方法では、書き込み工程において照射される光は、波長280〜550nmの範囲に最大発光波長を有する単色放射光であることが好ましい。 The upper limit of the maximum emission wavelength of the light emitted from the writing light source 2 is preferably 850 nm or less. If it is 850 nm or less, the energy received by the thermoplastic powder is sufficient, and elastic recovery is likely to occur. Therefore, the time for forming the uneven pattern can be shortened. Of these, 550 nm or less is more preferable, 450 nm or less is even more preferable, 350 nm or less is even more preferable, and 300 nm or less is particularly preferable, because it is possible to irradiate a finer region with light and reproduce small characters and fine images more clearly. On the other hand, the lower limit of the maximum emission wavelength of the light emitted from the writing light source 2 is preferably 280 nm or more. If it is 280 nm or more, the energy received by the thermoplastic powder is not too large, so that the powder is less likely to deteriorate. Therefore, it can withstand repeated plate rewriting operations. Therefore, in the pattern film forming method according to the present invention, the light irradiated in the writing step is preferably monochromatic synchrotron radiation having a maximum emission wavelength in the wavelength range of 280 to 550 nm.

書き込み用光源2の照射光量は、熱可塑性粉体が軟化するものの溶解はしない程度の範囲で制御することが好ましく、たとえば1〜10J/cmの範囲であることが好ましい。上記範囲内にあれば、応力が掛かって変形した熱可塑性粉体が弾性回復し、光が照射されていない部分に対して凸状態となる。 The amount of irradiation light of the writing light source 2 is preferably controlled within a range that softens the thermoplastic powder but does not dissolve it, and is preferably in the range of 1 to 10 J / cm 2, for example. If it is within the above range, the thermoplastic powder deformed by the stress is elastically recovered, and becomes a convex state with respect to the portion not irradiated with light.

被照射位置においては、光を吸収することで熱可塑性粉体が弾性変形のみをして、その後溶解しないように、照射光を一時的に照射するものが好ましい。この条件を容易に満たすのは、光をピンスポット状で被照射位置の各部への走査による照射であり、いわゆる電子線描画方式と同様の手段を用いることが好ましい。しかし、必要な光量を供給できるものであれば、画像パターンの投影等による照射方式を応用することも可能である。 At the irradiated position, it is preferable to temporarily irradiate the irradiated light so that the thermoplastic powder undergoes only elastic deformation by absorbing light and then does not dissolve. This condition is easily satisfied by irradiating each part of the irradiated position with light in a pin-spot shape by scanning, and it is preferable to use the same means as the so-called electron beam drawing method. However, it is also possible to apply an irradiation method by projecting an image pattern or the like as long as the required amount of light can be supplied.

書き込み用熱源6としては、赤外線ランプ、ニクロム線、熱風等の公知の熱源を使用することができる。書き込み用熱源6を用いて、原版表面を熱可塑性樹脂のガラス転移温度に対応する温度(好ましくは35〜70℃、より好ましくは40〜65℃、さらにより好ましくは45〜60℃)に加熱すると、書き込み用光源2単独で書き込みを行う場合に比べて、熱可塑性粉体の弾性回復が速く生じるため、凹凸パターンの形成時間を短縮することができる。ゆえに、速い印刷速度の場合にも、鮮明な画像を得ることができる。また、書き込み用熱源6を設置する代わりに、支持体の熱可塑性粉体が配置している面とは反対側(例えば、支持体が円筒状の場合は、支持体の中空空間)に熱源を設置し、加熱をする方法を用いても書き込み用熱源6を用いた場合と同様の効果を得ることができる。したがって、本発明に係るパターン膜形成方法において、書き込み工程は、原版表面を加熱することを有すると好ましい。この際、書き込み(光照射)および加熱は同時に行っても順次行ってもよいが、加熱を行った後に書き込み(光照射)を行う場合は、書き込み(光照射)をする際に原版の温度が熱可塑性粉体の弾性回復速度を上げることができる温度以上であることが好ましい。 As the heat source 6 for writing, a known heat source such as an infrared lamp, a nichrome wire, or hot air can be used. When the surface of the original plate is heated to a temperature corresponding to the glass transition temperature of the thermoplastic resin (preferably 35 to 70 ° C., more preferably 40 to 65 ° C., still more preferably 45 to 60 ° C.) using the heat source 6 for writing. As compared with the case where the writing is performed by the writing light source 2 alone, the elastic recovery of the thermoplastic powder occurs faster, so that the time for forming the uneven pattern can be shortened. Therefore, a clear image can be obtained even at a high printing speed. Further, instead of installing the heat source 6 for writing, the heat source is placed on the side opposite to the surface on which the thermoplastic powder of the support is arranged (for example, when the support is cylindrical, the hollow space of the support). Even if the method of installing and heating is used, the same effect as when the heat source 6 for writing is used can be obtained. Therefore, in the pattern film forming method according to the present invention, it is preferable that the writing step includes heating the surface of the original plate. At this time, writing (light irradiation) and heating may be performed simultaneously or sequentially, but when writing (light irradiation) is performed after heating, the temperature of the original plate is changed when writing (light irradiation). It is preferable that the temperature is higher than the temperature at which the elastic recovery rate of the thermoplastic powder can be increased.

書き込み工程に供されるインク膜形成用原版1において、熱可塑性粉体はつぶれて変形した状態で原版表面に存在する。かような原版に対して部分的に光を照射することにより、光が照射された粉体は弾性回復し、光が照射されていない粉体に対して凸状態となり、原版1の表面に凹凸パターンが形成される。 In the ink film forming original plate 1 used in the writing step, the thermoplastic powder is present on the surface of the original plate in a crushed and deformed state. By partially irradiating such an original plate with light, the powder irradiated with light recovers elastically and becomes convex with respect to the powder not irradiated with light, and the surface of the original plate 1 becomes uneven. A pattern is formed.

したがって、本発明は、上記原版に対して部分的に光を照射することにより、原版表面に凹凸パターンを形成する方法についても提供する。当該形成方法において照射される光は、上記と同様の理由により、波長280〜550nmの範囲に最大発光波長を有する単色放射光であることが好ましい。また、当該形成方法は、上記と同様の理由により、原版表面を加熱することをさらに有することが好ましい。 Therefore, the present invention also provides a method for forming an uneven pattern on the surface of the original plate by partially irradiating the original plate with light. The light irradiated in the forming method is preferably monochromatic synchrotron radiation having a maximum emission wavelength in the wavelength range of 280 to 550 nm for the same reason as described above. Further, it is preferable that the forming method further includes heating the surface of the original plate for the same reason as described above.

書き込み手段は、少なくとも画像パターンを変化させて異なる印刷物を印刷する際に作動させることができればよく、同じ印刷物を複数枚印刷する場合には、使用しなくてもよい。すなわち、一度の書き込みにより、原版表面に形成された凹凸がそのまま維持されるので、転写手段により連続してインク膜を転写することにより、再書き込みを伴わずに複数枚の印刷を行うことができる。 The writing means may be activated at least when printing different printed matter by changing the image pattern, and may not be used when printing a plurality of the same printed matter. That is, since the unevenness formed on the surface of the original plate is maintained as it is by writing once, it is possible to print a plurality of sheets without rewriting by continuously transferring the ink film by the transfer means. ..

原版1表面に形成された凹凸パターンは、原版1の矢印21方向の回転に伴って移動し、インク膜形成に供される。 The uneven pattern formed on the surface of the original plate 1 moves with the rotation of the original plate 1 in the direction of the arrow 21 and is used for forming the ink film.

[インク膜形成手段(工程)]
本発明のパターン膜形成装置において、インク膜形成手段は、例えば図1に示すように、インク容器4と、ガイド5とを有する。
[Ink film forming means (process)]
In the pattern film forming apparatus of the present invention, the ink film forming means includes, for example, an ink container 4 and a guide 5, as shown in FIG.

インク膜形成手段は、上記書き込み工程で形成した凹凸パターンに対し、インク容器4に準備されたインクを塗布して、インク膜を形成するものである。インクは、ガイド5により原版1の表面に導かれる。凸版印刷型の場合には、凹凸パターンの凸部にインク膜が形成され、凹版印刷型の場合には、凹凸パターンの凹部にインク膜が形成される。なお、本明細書において、「インク膜形成」とは、インクが被印刷体に転写可能な状態で所定の位置(凸版印刷型の場合は凸部上部、凹版印刷型の場合は凹部内部)に保持されることをいう。 The ink film forming means applies the ink prepared in the ink container 4 to the uneven pattern formed in the writing step to form an ink film. The ink is guided to the surface of the original plate 1 by the guide 5. In the case of the letterpress printing type, an ink film is formed in the convex portion of the concave-convex pattern, and in the case of the intaglio printing type, the ink film is formed in the concave portion of the concave-convex pattern. In addition, in this specification, "ink film formation" means a predetermined position (in the case of a letterpress printing type, the upper part of a convex portion, and in the case of an intaglio printing type, the inside of a concave portion) in a state where the ink can be transferred to an object to be printed. It means to be retained.

インクとしては、被印刷体9に転写可能なものであれば特に制限されず、水性インク、油性インク、エマルションインク等の公知のインクを使用することができる。 The ink is not particularly limited as long as it can be transferred to the object to be printed 9, and known inks such as water-based inks, oil-based inks, and emulsion inks can be used.

形成されたインク膜は、原版1の矢印21方向の回転に伴って移動し、下流位置に配置される被印刷体9と当接するように送られる。また、被印刷体9は、送りローラー8の回転により、原版1の回転(表面速度)に合わせて矢印23方向に送られ、原版1の下面部で互いに当接するとともに、当接部分が順次移動する。 The formed ink film moves along with the rotation of the original plate 1 in the direction of the arrow 21 and is sent so as to come into contact with the printed body 9 arranged at the downstream position. Further, the printed body 9 is fed in the direction of the arrow 23 according to the rotation (surface speed) of the original plate 1 by the rotation of the feed roller 8, and abuts each other on the lower surface portion of the original plate 1 and the abutting portions move sequentially. do.

[転写手段(工程)]
本発明のパターン膜形成装置において、転写手段は、例えば図1に示すように、転写ローラー10を有する。
[Transfer means (process)]
In the pattern film forming apparatus of the present invention, the transfer means has a transfer roller 10 as shown in FIG. 1, for example.

転写工程では、上記インク膜形成工程で形成したインク膜を転写ローラー10により被印刷体9に相対的に押し当て引き離すことで、被写体9の表面に転写する。これにより、画像パターンが被印刷体9に印刷される。 In the transfer step, the ink film formed in the ink film forming step is relatively pressed against the object to be printed 9 by the transfer roller 10 and pulled away, so that the ink film is transferred to the surface of the subject 9. As a result, the image pattern is printed on the printed object 9.

被印刷体9は、インク膜が転写されるものであれば特に限定されず、例えば紙や樹脂フィルム、樹脂や金属等の板状物、布等を用いることができる。 The object to be printed 9 is not particularly limited as long as the ink film is transferred, and for example, paper, a resin film, a plate-like material such as resin or metal, cloth, or the like can be used.

[消去手段(工程)]
本発明のパターン膜形成装置は、原版表面を加圧して凹凸パターンを消去する消去手段をさらに有することが好ましい。
[Erasing means (process)]
It is preferable that the pattern film forming apparatus of the present invention further has an erasing means for pressurizing the surface of the original plate to erase the uneven pattern.

当該消去手段は、例えば図1に示すように、消去用加圧ローラー3を有する。消去用加圧ローラー3でインク膜転写後の原版1を加圧することで、凹凸パターンが消去され、原版表面は光を照射する前と同様の平坦な形状となる。これにより、凹凸がなく平坦な原版表面が得られるため、上記の書き込みを再び行うことで、原版表面に新たな凹凸パターンを形成することができる。すなわち、版の書き換えが可能となる。また、加圧ローラー3に付着したインクは、クリーニングブレード7により除去される。 The erasing means has, for example, a pressurizing roller 3 for erasing, as shown in FIG. By pressurizing the original plate 1 after the ink film transfer with the erasing pressure roller 3, the uneven pattern is erased, and the surface of the original plate has the same flat shape as before the irradiation with light. As a result, a flat surface of the original plate without unevenness can be obtained, so that a new uneven pattern can be formed on the surface of the original plate by performing the above writing again. That is, the version can be rewritten. Further, the ink adhering to the pressure roller 3 is removed by the cleaning blade 7.

加圧は、熱可塑性粉体が破断しない範囲で制御することが好ましく、例えば10〜100Paで行うことが好ましい。当該範囲内であれば、凸状態である熱可塑性粉体に適度な応力が掛かり、光が照射しなかった粉体と同様に押しつぶされた形状でとどまる。 The pressurization is preferably controlled within a range in which the thermoplastic powder does not break, and is preferably performed at, for example, 10 to 100 Pa. Within the range, an appropriate stress is applied to the convex thermoplastic powder, and the powder remains in a crushed shape like the powder not irradiated with light.

したがって、本発明に係るパターン膜形成方法は、上記転写工程後に、原版表面を加圧することにより凹凸パターンを消去する消去工程をさらに有することが好ましい。 Therefore, it is preferable that the pattern film forming method according to the present invention further includes an erasing step of erasing the uneven pattern by pressurizing the surface of the original plate after the transfer step.

本発明に係るパターン膜形成装置は、上記消去手段を加熱する加熱手段を有していてもよい。凹凸パターンを消去する際に、加熱手段を用いて原版表面を熱可塑性粉体が溶解しない程度の温度(例えば、熱可塑性樹脂のガラス転移温度に対応する温度であり、好ましくは35〜70℃、より好ましくは40〜65℃、さらにより好ましくは45〜60℃)に加熱することで、熱可塑性粉体を応力がかかった状態により早く移行させることができる。すなわち、平坦な原版表面をより短時間で形成することができる。ゆえに、速い印刷速度の場合にも、版の書き換えを良好に行うことができ、版を繰り返し書き換えた後も優れた細線再現性を持続することができる。 The pattern film forming apparatus according to the present invention may have a heating means for heating the erasing means. When erasing the uneven pattern, a temperature at which the thermoplastic powder does not melt on the surface of the original plate using a heating means (for example, a temperature corresponding to the glass transition temperature of the thermoplastic resin, preferably 35 to 70 ° C., By heating to 40 to 65 ° C., even more preferably 45 to 60 ° C.), the thermoplastic powder can be transferred to the stressed state more quickly. That is, a flat original plate surface can be formed in a shorter time. Therefore, even in the case of a high printing speed, the plate can be rewritten satisfactorily, and excellent fine line reproducibility can be maintained even after the plate is repeatedly rewritten.

加熱手段としては、赤外線ランプ、ニクロム線、熱風等の公知の熱源を使用することができる。例えば、図1において、加熱手段は、消去用加圧ローラー3と一体化して(例えば、消去用加圧ローラー3に内蔵されて)いてもよいし、消去用加圧ローラー3とは独立して存在していてもよい。また、独立して存在する場合、原版1を直接加熱してもよいし、加圧ローラー3を加熱して原版1を間接的に加熱してもよい。 As the heating means, a known heat source such as an infrared lamp, a nichrome wire, or hot air can be used. For example, in FIG. 1, the heating means may be integrated with the erasing pressure roller 3 (for example, built in the erasing pressure roller 3), or may be independent of the erasing pressure roller 3. It may exist. Further, when they exist independently, the original plate 1 may be directly heated, or the pressure roller 3 may be heated to indirectly heat the original plate 1.

したがって、本発明に係るパターン膜形成方法において、消去工程は、原版表面を加熱することをさらに有することが好ましい。この際、加圧および加熱は同時に行っても順次的に行ってもよいが、同時に行うことがより好ましい。加圧および加熱を順次的に行う場合は、加熱後に加圧をすることで加熱の効果を得ることができる。 Therefore, in the pattern film forming method according to the present invention, it is preferable that the erasing step further includes heating the surface of the original plate. At this time, pressurization and heating may be performed simultaneously or sequentially, but it is more preferable to perform the pressurization and heating at the same time. When pressurization and heating are performed sequentially, the effect of heating can be obtained by pressurizing after heating.

消去工程後、上記の書き込み工程、インク膜形成工程および転写工程をさらに行うことにより、異なる画像パターンの印刷を行うことが可能となる。したがって、本発明の一実施形態に係るパターン膜形成方法は、前記消去工程の後に前記凹凸パターンを消去した原版に対して、部分的に光を照射することにより、前記原版表面に凹凸パターンを形成する書き込み工程と、前記凹凸パターンの凸部または凹部にインクを塗布して、前記原版上にインク膜を形成するインク膜形成工程と、前記インク膜を被印刷体の表面に転写する転写工程とをさらに有する。 By further performing the above-mentioned writing step, ink film forming step, and transfer step after the erasing step, it becomes possible to print different image patterns. Therefore, in the pattern film forming method according to the embodiment of the present invention, the uneven pattern is formed on the surface of the original plate by partially irradiating the original plate with the uneven pattern erased after the erasing step with light. An ink film forming step of applying ink to the convex or concave portions of the uneven pattern to form an ink film on the original plate, and a transfer step of transferring the ink film to the surface of the object to be printed. Further have.

消去手段は、少なくとも画像パターンを変化させて異なる印刷物を印刷する直前にのみ作動させることができればよく、同じ印刷物を複数枚印刷する場合には、使用しなくてもよい。すなわち、一度の書き込みにより、原版表面に形成された凹凸がそのまま維持されるので、転写手段により連続してインク膜を転写することにより、再書き込みを伴わずに複数枚の印刷を行うことができる。さらに、同じ原版表面上に複数種類の画像パターンの作製と消去を繰り返して行うことができるので、複数の印刷パターンを一つの原版表面で行うことができるという利点がある。 The erasing means may be activated only immediately before printing different printed matter by changing the image pattern at least, and may not be used when printing a plurality of the same printed matter. That is, since the unevenness formed on the surface of the original plate is maintained as it is by writing once, it is possible to print a plurality of sheets without rewriting by continuously transferring the ink film by the transfer means. .. Further, since a plurality of types of image patterns can be repeatedly created and erased on the same original plate surface, there is an advantage that a plurality of print patterns can be performed on one original plate surface.

なお、本発明のパターン膜形成装置(方法)は、上記手段(工程)以外の他の手段(工程)を有していてもよい。 The pattern film forming apparatus (method) of the present invention may have means (steps) other than the above means (steps).

本発明の効果を、以下の実施例および比較例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。 The effects of the present invention will be described with reference to the following examples and comparative examples. However, the technical scope of the present invention is not limited to the following examples.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量%」を表す。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. Although the display of "parts" or "%" is used in the examples, it represents "parts by mass" or "% by mass" unless otherwise specified.

<樹脂粒子分散液の調製>
撹拌装置、温度センサー、冷却管及び窒素導入装置を取り付けた5Lの反応容器に、ドデシル硫酸ナトリウム9質量部及びイオン交換水3000質量部を仕込み、窒素気流下230rpmの撹拌速度で撹拌しながら、内温を80℃に昇温させた。昇温後、過硫酸カリウム10質量部をイオン交換水200質量部に溶解させたものを添加し、再度液温80℃とし、下記組成の単量体混合液を1時間かけて滴下後、80℃にて2時間加熱、撹拌することにより重合を行い、樹脂微粒子の分散液(x1)を調製した:
スチレン 480質量部
アクリル酸n−ブチル 250質量部
メタクリル酸 65質量部。
<Preparation of resin particle dispersion>
In a 5 L reaction vessel equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling tube and a nitrogen introduction device, 9 parts by mass of sodium dodecyl sulfate and 3000 parts by mass of ion-exchanged water were charged, and the inside was stirred at a stirring speed of 230 rpm under a nitrogen stream. The temperature was raised to 80 ° C. After raising the temperature, 10 parts by mass of potassium persulfate dissolved in 200 parts by mass of ion-exchanged water was added, the liquid temperature was adjusted to 80 ° C. again, and a monomer mixed solution having the following composition was added dropwise over 1 hour, and then 80. Polymerization was carried out by heating and stirring at ° C. for 2 hours to prepare a dispersion liquid (x1) of resin fine particles:
480 parts by mass of styrene 250 parts by mass of n-butyl acrylate 65 parts by mass of methacrylic acid.

次に、撹拌装置、温度センサー、冷却管及び窒素導入装置を取り付けた5Lの反応容器に、ポリオキシエチレン(2)ドデシルエーテル硫酸ナトリウム5質量部をイオン交換水2100質量部に溶解させた溶液を仕込んだ。液温を98℃に加熱後、樹脂微粒子の分散液(x1)182質量部と、下記組成の単量体を90℃にて溶解させた溶液を添加した。これを、循環経路を有する機械式分散機「CLEARMIX」(エム・テクニック株式会社製)により、1時間混合分散させ、乳化粒子(油滴)を含む分散液を調製した。次いで、この分散液に、過硫酸カリウム4.2質量部をイオン交換水140質量部に溶解させた開始剤溶液を添加し、この系を84℃にて1時間にわたり加熱撹拌することにより重合を行い、樹脂微粒子の分散液(x2)を調製した:
スチレン 203質量部
アクリル酸n−ブチル 68質量部
メタクリル酸 12質量部
n−オクチル−3−メルカプトプロピオネート 1質量部。
Next, in a 5 L reaction vessel equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling tube and a nitrogen introduction device, a solution prepared by dissolving 5 parts by mass of polyoxyethylene (2) dodecyl ether sodium sulfate in 2100 parts by mass of ion-exchanged water was placed. I prepared it. After heating the liquid temperature to 98 ° C., a solution prepared by dissolving 182 parts by mass of a dispersion liquid (x1) of resin fine particles and a monomer having the following composition at 90 ° C. was added. This was mixed and dispersed for 1 hour by a mechanical disperser "CLEARMIX" (manufactured by M-Technique Co., Ltd.) having a circulation path to prepare a dispersion liquid containing emulsified particles (oil droplets). Next, an initiator solution prepared by dissolving 4.2 parts by mass of potassium persulfate in 140 parts by mass of ion-exchanged water is added to this dispersion, and the system is heated and stirred at 84 ° C. for 1 hour to carry out polymerization. This was performed to prepare a dispersion liquid (x2) of resin fine particles:
Styrene 203 parts by mass n-butyl acrylate 68 parts by mass Methacrylic acid 12 parts by mass n-octyl-3-mercaptopropionate 1 part by mass.

さらに、樹脂微粒子の分散液(x2)にイオン交換水280質量部を添加し、良く混合した後、過硫酸カリウム8質量部をイオン交換水280質量部に溶解させた溶液を添加し、82℃の温度条件下で、下記組成の単量体混合液を1時間かけて滴下した。滴下終了後、2時間にわたり加熱撹拌することにより重合させた後、28℃まで冷却し、樹脂粒子分散液を調製した。得られた樹脂粒子分散液中の樹脂粒子の分散径は体積基準のメジアン径で220nmであり、ガラス転移温度(Tg)が55℃であった:
スチレン 245質量部
アクリル酸n−ブチル 151質量部
アクリル酸 21質量部
3−メルカプトプロピオン酸オクチル 6質量部。
Further, 280 parts by mass of ion-exchanged water was added to the dispersion liquid (x2) of the resin fine particles, and after mixing well, a solution in which 8 parts by mass of potassium persulfate was dissolved in 280 parts by mass of ion-exchanged water was added, and the temperature was 82 ° C. Under the above temperature conditions, a monomer mixed solution having the following composition was added dropwise over 1 hour. After completion of the dropping, the mixture was polymerized by heating and stirring for 2 hours, and then cooled to 28 ° C. to prepare a resin particle dispersion. The dispersion diameter of the resin particles in the obtained resin particle dispersion was 220 nm in terms of volume-based median diameter, and the glass transition temperature (Tg) was 55 ° C .:
245 parts by mass of styrene n-butyl acrylate 151 parts by mass Acrylic acid 21 parts by mass 3-octyl mercaptopropionate 6 parts by mass.

[光吸収化合物分散液の調製]
<光吸収化合物分散液1(A−1)の調製>
ドデシル硫酸ナトリウム90質量部をイオン交換水1600質量部に添加した。この溶液を撹拌しながら、250質量部のバナジルナフタロシアニン(最大吸収波長800nm)を徐々に添加し、次いで、撹拌装置「クレアミックス」(エム・テクニック株式会社製)を用いて分散処理することにより、光吸収化合物としてバナジルナフタロシアニンを含有する光吸収化合物分散液(A−1)を調製した。得られた光吸収化合物分散液におけるバナジルナフタロシアニンの分散径は体積基準のメジアン径で150nmであった。
[Preparation of light-absorbing compound dispersion]
<Preparation of light absorbing compound dispersion liquid 1 (A-1)>
90 parts by mass of sodium dodecyl sulfate was added to 1600 parts by mass of ion-exchanged water. While stirring this solution, 250 parts by mass of vanadyl naphthalocyanine (maximum absorption wavelength 800 nm) was gradually added, and then dispersion treatment was performed using a stirrer "Clairemix" (manufactured by M-Technique Co., Ltd.). , A light-absorbing compound dispersion (A-1) containing vanadyl naphthalocyanine as a light-absorbing compound was prepared. The dispersion diameter of vanadyl naphthalocyanine in the obtained light-absorbing compound dispersion was 150 nm in terms of volume-based median diameter.

<光吸収化合物分散液(A−2)の調製>
光吸収化合物分散液(A−1)の調製において、バナジルナフタロシアニンをC.I.ピグメントイエロー74に変更した以外は光吸収化合物分散液(A−1)と同様にして、光吸収化合物としてC.I.ピグメントイエロー74(最大吸収波長440nm)を含有する光吸収化合物分散液(A−2)を調製した。光吸収化合物分散液(A−2)におけるC.I.ピグメントイエロー74の分散径は体積基準のメジアン径で130nmであった。
<Preparation of light absorbing compound dispersion liquid (A-2)>
In the preparation of the light-absorbing compound dispersion (A-1), vanadyl naphthalocyanine was added to C.I. I. Pigment Yellow 74 was used as the light-absorbing compound in the same manner as the light-absorbing compound dispersion (A-1) except that the light-absorbing compound was changed to C.I. I. A light absorbing compound dispersion (A-2) containing Pigment Yellow 74 (maximum absorption wavelength 440 nm) was prepared. C.I. in the light-absorbing compound dispersion (A-2). I. The dispersion diameter of Pigment Yellow 74 was 130 nm in terms of volume-based median diameter.

<光吸収化合物分散液(A−3)の調製>
ジクロロメタン80質量部と、紫外線吸収剤として2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン(最大吸収波長350nm、Uvinul(登録商標)3049、BASF社製、以下単に「ベンゾフェノン」とも称する)20質量部とを50℃で加熱しながら混合撹拌し、ベンゾフェノンを含む液を得た。この液100質量部に、50℃に温めた蒸留水99.5質量部と、20質量%ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム水溶液0.5質量部との混合液を添加した。その後、シャフトジェネレーター18Fを備えるホモジナイザー(ハイドルフ社製)により16000rpmで20分間撹拌して乳化させ、ベンゾフェノン乳化液を得た。得られたベンゾフェノン乳化液をセパラブルフラスコへ投入し、窒素を気相中へ送気しながら40℃で90分間加熱撹拌して有機溶媒を除去して、光吸収化合物として紫外線吸収剤であるベンゾフェノンを含有する光吸収化合物分散液(A−3)を得た。光吸収化合物分散液(A−3)におけるベンゾフェノン粒子の分散径は体積基準のメジアン径で145nmであった。
<Preparation of light-absorbing compound dispersion (A-3)>
80 parts by mass of dichloromethane and 20 parts by mass of 2,2'-dihydroxy-4-methoxy-benzophenone (maximum absorption wavelength 350 nm, Uvinul® 3049, manufactured by BASF, hereinafter simply referred to as "benzophenone") as an ultraviolet absorber. Was mixed and stirred while heating at 50 ° C. to obtain a liquid containing benzophenone. A mixed solution of 99.5 parts by mass of distilled water warmed to 50 ° C. and 0.5 parts by mass of a 20% by mass sodium dodecylbenzene sulfonate aqueous solution was added to 100 parts by mass of this solution. Then, it was emulsified by stirring at 16000 rpm for 20 minutes with a homogenizer (manufactured by Heidorff) equipped with a shaft generator 18F to obtain a benzophenone emulsified solution. The obtained benzophenone emulsion is put into a separable flask, and the organic solvent is removed by heating and stirring at 40 ° C. for 90 minutes while sending nitrogen into the gas phase, and benzophenone, which is an ultraviolet absorber as a light absorbing compound, is used. A light absorbing compound dispersion liquid (A-3) containing the above was obtained. The dispersion diameter of the benzophenone particles in the light-absorbing compound dispersion liquid (A-3) was 145 nm in terms of volume-based median diameter.

<光吸収化合物分散液(A−4)の調製>
4−アミノフェノール(6.54g、60mmol)に2.4N塩酸75mLを加えた後、0℃で冷却撹拌しながら、亜硝酸ナトリウム(4.98g、72mmol)を蒸留水6mLに溶解した溶液を加え、0℃で60分間撹拌を続けた。この溶液に、o−クレゾール(6.48g、60mmol)と20%水酸化ナトリウム水溶液24mLの混合溶液を加え20時間撹拌した。析出した沈殿を濾過し、固形物を水で洗浄した。得られた固体を、酢酸エチルとヘキサンの混合液を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、アセトンとヘキサンの混合溶媒により再結晶することにより中間体Aを得た。この中間体A(2.28g、10mmol)にDMF100mL、1−ブロモヘキサン(9.9g、60mmol)、炭酸カリウム(6.9g、50mmol)を加え、80℃で2時間撹拌した後、室温で20時間撹拌を続けた。溶媒を減圧留去後、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これを濾過した後、溶媒を減圧留去し、得られた固形物を酢酸エチルとヘキサンの混合液を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、光異性化化合物としてアゾベンゼン誘導体(化学式1、最大吸収波長360nm)を得た。光吸収化合物分散液(A−3)の調製において、紫外線吸収剤としてのベンゾフェノンを前記で合成したアゾベンゼン誘導体(化学式1)に変更した以外は同様にして、光吸収化合物として光異性化化合物であるアゾベンゼン誘導体(化学式1)を含有する光吸収化合物分散液(A−4)を得た。光吸収化合物分散液(A−4)におけるアゾベンゼン誘導体粒子の分散径は体積基準のメジアン径で145nmであった。
<Preparation of light-absorbing compound dispersion (A-4)>
After adding 75 mL of 2.4N hydrochloric acid to 4-aminophenol (6.54 g, 60 mmol), add a solution of sodium nitrite (4.98 g, 72 mmol) in 6 mL of distilled water while cooling and stirring at 0 ° C. , Stirring was continued at 0 ° C. for 60 minutes. A mixed solution of o-cresol (6.48 g, 60 mmol) and 24 mL of a 20% aqueous sodium hydroxide solution was added to this solution, and the mixture was stirred for 20 hours. The precipitated precipitate was filtered and the solid was washed with water. The obtained solid was purified by silica gel column chromatography using a mixed solution of ethyl acetate and hexane as a developing solvent, and recrystallized from a mixed solvent of acetone and hexane to obtain Intermediate A. To this intermediate A (2.28 g, 10 mmol), 100 mL of DMF, 1-bromohexane (9.9 g, 60 mmol) and potassium carbonate (6.9 g, 50 mmol) were added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 2 hours and then 20 at room temperature. Stirring for hours was continued. The solvent was distilled off under reduced pressure, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was washed with saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtering this, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained solid substance was purified by silica gel column chromatography using a mixed solution of ethyl acetate and hexane as a developing solvent to obtain an azobenzene derivative (chemical formula) as a photoisomerized compound. 1. Maximum absorption wavelength 360 nm) was obtained. In the preparation of the light-absorbing compound dispersion (A-3), the light-absorbing compound is a photoisomerized compound in the same manner except that the benzophenone as an ultraviolet absorber is changed to the azobenzene derivative (chemical formula 1) synthesized above. A light absorbing compound dispersion (A-4) containing an azobenzene derivative (chemical formula 1) was obtained. The dispersion diameter of the azobenzene derivative particles in the light-absorbing compound dispersion liquid (A-4) was 145 nm in terms of volume-based median diameter.

Figure 0006969304
Figure 0006969304

[熱可塑性粉体の作製]
<熱可塑性粉体(P−1)の作製>
撹拌装置、温度センサー及び冷却管を取り付けた反応容器に、上記調製した樹脂粒子分散液380質量部(固形分換算)とイオン交換水2000質量部を投入した後、5モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液を添加して、25℃におけるpHを10に調整した。次いで、塩化マグネシウム60質量部をイオン交換水60質量部に溶解した水溶液を、撹拌下、30℃において10分間かけて添加した。その後、3分間放置した後に昇温を開始し、この系を60分間かけて80℃まで昇温し、80℃を保持したまま粒子成長反応を継続した。この状態で「コールターマルチサイザー3」(ベックマン・コールター株式会社製)を用いて粒径を測定し、体積基準のメジアン径が6.0μmになった時点で、塩化ナトリウム190質量部をイオン交換水760質量部に溶解した水溶液を添加して粒子成長を停止させた。さらに、昇温を行い、90℃の状態で加熱撹拌することにより、粒子の融着を進行させ、熱可塑性粉体の平均円形度が0.950になった時点で3.0℃/分の冷却速度で30℃に冷却した。なお、上記平均円形度は、測定装置「FPIA−2100」(Sysmex社製)を用いて測定した(HPF検出数を4000個とした)。次いで、固液分離し、脱水した熱可塑性粉体ケーキをイオン交換水に再分散し固液分離する操作を3回繰り返して洗浄した後、40℃で24時間乾燥させることにより、粒状の熱可塑性粉体(P−1)を得た。得られた熱可塑性粉体(P−1)の体積基準の粒度分布(CV値)は19%であった。なお、粒度分布(CV値)は「コールターマルチサイザー3」(ベックマン・コールター株式会社製)を用いて測定した。
[Preparation of thermoplastic powder]
<Preparation of thermoplastic powder (P-1)>
After adding 380 parts by mass (solid content equivalent) of the resin particle dispersion prepared above and 2000 parts by mass of ion-exchanged water to a reaction vessel equipped with a stirrer, a temperature sensor and a cooling tube, 5 mol / L sodium hydroxide An aqueous solution was added to adjust the pH at 25 ° C to 10. Next, an aqueous solution prepared by dissolving 60 parts by mass of magnesium chloride in 60 parts by mass of ion-exchanged water was added under stirring at 30 ° C. over 10 minutes. Then, after leaving it for 3 minutes, the temperature rise was started, the temperature of this system was raised to 80 ° C. over 60 minutes, and the particle growth reaction was continued while maintaining 80 ° C. In this state, the particle size was measured using "Coulter Multisizer 3" (manufactured by Beckman Coulter Co., Ltd.), and when the volume-based median diameter reached 6.0 μm, 190 parts by mass of sodium chloride was ion-exchanged water. A dissolved aqueous solution was added to 760 parts by mass to stop particle growth. Further, the temperature is raised and the mixture is heated and stirred at 90 ° C. to promote the fusion of the particles, and when the average circularity of the thermoplastic powder reaches 0.950, 3.0 ° C./min. It was cooled to 30 ° C. at a cooling rate. The average circularity was measured using a measuring device "FPIA-2100" (manufactured by Sysmex Corporation) (the number of HPFs detected was 4000). Next, the operation of solid-liquid separation, redispersion of the dehydrated thermoplastic powder cake in ion-exchanged water, and solid-liquid separation was repeated three times for washing, and then dried at 40 ° C. for 24 hours to obtain granular thermoplasticity. A powder (P-1) was obtained. The volume-based particle size distribution (CV value) of the obtained thermoplastic powder (P-1) was 19%. The particle size distribution (CV value) was measured using "Coulter Multisizer 3" (manufactured by Beckman Coulter Co., Ltd.).

<熱可塑性粉体(P−2)の作製>
撹拌装置、温度センサー及び冷却管を取り付けた反応容器に、上記調製した樹脂粒子分散液350質量部(固形分換算)とイオン交換水2000質量部を投入した後、5モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液を添加して、25℃におけるpHを10に調整した。その後、上記調製した光吸収化合物分散液(A−1)30質量部(固形分換算)を投入した。次いで、塩化マグネシウム60質量部をイオン交換水60質量部に溶解した水溶液を、撹拌下、30℃において10分間かけて添加した。その後、3分間放置した後に昇温を開始し、この系を60分間かけて80℃まで昇温し、80℃を保持したまま粒子成長反応を継続した。この状態で「コールターマルチサイザー3」(ベックマン・コールター株式会社製)を用いて粒径を測定し、体積基準のメジアン径が6.0μmになった時点で、塩化ナトリウム190質量部をイオン交換水760質量部に溶解した水溶液を添加して粒子成長を停止させた。さらに、昇温を行い、90℃の状態で加熱撹拌することにより、粒子の融着を進行させ、熱可塑性粉体の平均円形度が0.950になった時点で3.0℃/分の冷却速度で30℃に冷却した。なお、上記平均円形度は、測定装置「FPIA−2100」(Sysmex社製)(HPF検出数を4000個とした。)を用いて測定した。次いで、固液分離し、脱水した熱可塑性粉体ケーキをイオン交換水に再分散し固液分離する操作を3回繰り返して洗浄した後、40℃で24時間乾燥させることにより、粒状の熱可塑性粉体(P−2)を得た。得られた熱可塑性粉体(P−2)の体積基準の粒度分布(CV値)は20%であった。なお、粒度分布(CV値)は「コールターマルチサイザー3」(ベックマン・コールター株式会社製)を用いて測定した。
<Preparation of thermoplastic powder (P-2)>
After charging 350 parts by mass (solid content equivalent) of the resin particle dispersion prepared above and 2000 parts by mass of ion-exchanged water into a reaction vessel equipped with a stirrer, a temperature sensor and a cooling tube, 5 mol / L sodium hydroxide An aqueous solution was added to adjust the pH at 25 ° C to 10. Then, 30 parts by mass (in terms of solid content) of the light-absorbing compound dispersion (A-1) prepared above was added. Next, an aqueous solution prepared by dissolving 60 parts by mass of magnesium chloride in 60 parts by mass of ion-exchanged water was added under stirring at 30 ° C. over 10 minutes. Then, after leaving it for 3 minutes, the temperature rise was started, the temperature of this system was raised to 80 ° C. over 60 minutes, and the particle growth reaction was continued while maintaining 80 ° C. In this state, the particle size was measured using "Coulter Multisizer 3" (manufactured by Beckman Coulter Co., Ltd.), and when the volume-based median diameter reached 6.0 μm, 190 parts by mass of sodium chloride was ion-exchanged water. A dissolved aqueous solution was added to 760 parts by mass to stop particle growth. Further, the temperature is raised and the mixture is heated and stirred at 90 ° C. to promote the fusion of the particles, and when the average circularity of the thermoplastic powder reaches 0.950, 3.0 ° C./min. It was cooled to 30 ° C. at a cooling rate. The average circularity was measured using a measuring device "FPIA-2100" (manufactured by Sysmex Corporation) (the number of HPFs detected was 4000). Next, the operation of solid-liquid separation, redispersion of the dehydrated thermoplastic powder cake in ion-exchanged water, and solid-liquid separation was repeated three times for washing, and then dried at 40 ° C. for 24 hours to obtain granular thermoplasticity. A powder (P-2) was obtained. The volume-based particle size distribution (CV value) of the obtained thermoplastic powder (P-2) was 20%. The particle size distribution (CV value) was measured using "Coulter Multisizer 3" (manufactured by Beckman Coulter Co., Ltd.).

<熱可塑性粉体(P−3)〜(P−7)の作製>
熱可塑性粉体(P−2)の作製において、樹脂粒子分散液の添加量と光吸収化合物の種類及び添加量を表1のように変更した以外は同様にして、粒状の熱可塑性粉体(P−3)〜(P−7)を得た。
<Preparation of thermoplastic powders (P-3) to (P-7)>
In the preparation of the thermoplastic powder (P-2), the granular thermoplastic powder (granular thermoplastic powder) was prepared in the same manner except that the amount of the resin particle dispersion added and the type and amount of the light absorbing compound were changed as shown in Table 1. P-3) to (P-7) were obtained.

<熱可塑性粉体(P−8)の作製>
熱可塑性粉体(P−1)の作製において、体積基準のメジアン径が2.5μmになった時点で粒子成長を停止させた以外は同様にして、粒状の熱可塑性粉体(P−8)を得た。
<Preparation of thermoplastic powder (P-8)>
In the preparation of the thermoplastic powder (P-1), the granular thermoplastic powder (P-8) was prepared in the same manner except that the particle growth was stopped when the volume-based median diameter reached 2.5 μm. Got

<熱可塑性粉体(P−9)の作製>
熱可塑性粉体(P−1)の作製において、体積基準のメジアン径が22μmになった時点で粒子成長を停止させた以外は同様にして、粒状の熱可塑性粉体(P−9)を得た。
<Preparation of thermoplastic powder (P-9)>
In the preparation of the thermoplastic powder (P-1), granular thermoplastic powder (P-9) was obtained in the same manner except that the particle growth was stopped when the volume-based median diameter reached 22 μm. rice field.

<熱可塑性粉体(P−10)の作製>
撹拌装置、温度センサー、流下式コンデンサー及び窒素導入装置を取り付けた5Lの反応容器に、トルエン3000質量部を入れ、窒素気流下でトルエンの還流温度に昇温した。次いで下記組成の混合液を1時間かけて滴下後、還流温度のまま4時間加熱、撹拌することで重合を行った。その後、180℃まで昇温し、減圧下にてトルエンを除去し、スチレンアクリル樹脂を得た。この樹脂のガラス転移点(Tg)は53℃であった:
スチレン 315質量部
アクリル酸n−ブチル 159質量部
メタクリル酸メチル 41質量部
過酸化ジ−t−ブチル 15質量部。
<Preparation of thermoplastic powder (P-10)>
3000 parts by mass of toluene was placed in a 5 L reaction vessel equipped with a stirrer, a temperature sensor, a flow-down condenser and a nitrogen introduction device, and the temperature was raised to the reflux temperature of toluene under a nitrogen stream. Next, a mixed solution having the following composition was added dropwise over 1 hour, and then heated and stirred at the reflux temperature for 4 hours to carry out polymerization. Then, the temperature was raised to 180 ° C., and toluene was removed under reduced pressure to obtain a styrene acrylic resin. The glass transition point (Tg) of this resin was 53 ° C .:
315 parts by mass of styrene n-butyl acrylate 159 parts by mass Methyl methacrylate 41 parts by mass 15 parts by mass of di-t-butyl peroxide.

上記で得られたスチレンアクリル樹脂400質量部を、温度130℃に設定した二軸混練機にて溶融混練した。得られた混練物を冷却固化し、粗砕した後、粒子衝突型の微粉粗砕機及び、気流式分級機を用いて体積基準のメジアン径6.2μm、粒度分布(CV値)は26%である熱可塑性粉体(P−10)を得た。なお、熱可塑性樹脂粉体(P−10)は粉砕法で作製した。 400 parts by mass of the styrene acrylic resin obtained above was melt-kneaded by a twin-screw kneader set at a temperature of 130 ° C. After cooling and solidifying the obtained kneaded material and coarsely crushing it, a volume-based median diameter of 6.2 μm and a particle size distribution (CV value) of 26% were used using a particle collision type fine powder coarsening machine and an air flow type classifier. A thermoplastic powder (P-10) was obtained. The thermoplastic resin powder (P-10) was produced by a pulverization method.

<熱可塑性粉体(P−11)の作製>
熱可塑性粉体(P−10)の作製において、スチレンアクリル樹脂を下記のポリウレタン樹脂に変更した以外は同様にして熱可塑性粉体(P−11)を作製した。
<Preparation of thermoplastic powder (P-11)>
In the preparation of the thermoplastic powder (P-10), the thermoplastic powder (P-11) was produced in the same manner except that the styrene acrylic resin was changed to the following polyurethane resin.

(ポリウレタン樹脂の作製)
3Lの反応容器に下記の混合体を添加した後、120℃に加熱混合した。この混合物を速やかにトレーに流し込み、大気炉に投入し、120℃で1時間保持した後、さらに130℃で5時間保持して反応を完結させ、ポリウレタン樹脂を得た。この樹脂のガラス転移点(Tg)は59℃であった。
(Making polyurethane resin)
After adding the following mixture to a 3 L reaction vessel, the mixture was heated and mixed at 120 ° C. This mixture was immediately poured into a tray, put into an air furnace, held at 120 ° C. for 1 hour, and then held at 130 ° C. for 5 hours to complete the reaction, and a polyurethane resin was obtained. The glass transition point (Tg) of this resin was 59 ° C.

ポリオキシエチレンビスフェノールAエーテル
(ユニオール(登録商標)DA−400、日本油脂社製) 400質量部
1,3−プロパンジオール 141質量部
4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 600質量部
ラウリン酸ジオクチルスズ 0.02質量部。
Polyoxyethylene bisphenol A ether (Uniol (registered trademark) DA-400, manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) 400 parts by mass 1,3-propanediol 141 parts by mass 4,4'-diphenylmethane diisocyanate 600 parts by mass Dioctyltin laurate 0.02 Mass part.

<熱可塑性粉体(P−12)の作製>
熱可塑性粉体(P−10)の作製において、スチレンアクリル樹脂を下記のポリエステル樹脂に変更した以外は同様にして熱可塑性粉体(P−12)を作製した。
<Preparation of thermoplastic powder (P-12)>
In the preparation of the thermoplastic powder (P-10), the thermoplastic powder (P-12) was produced in the same manner except that the styrene acrylic resin was changed to the following polyester resin.

(ポリエステル樹脂の作製)
撹拌装置、温度センサー、冷却管及び窒素導入装置を取り付けた2Lの反応容器に、下記の混合物を入れ、窒素気流下で撹拌しながら220℃にて8時間加熱することで反応を行った。この樹脂のガラス転移点(Tg)は57℃であった。
(Making polyester resin)
The reaction was carried out by placing the following mixture in a 2 L reaction vessel equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling tube and a nitrogen introduction device, and heating at 220 ° C. for 8 hours while stirring under a nitrogen stream. The glass transition point (Tg) of this resin was 57 ° C.

ポリオキシプロピレン(2,2)−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン 246質量部
ポリオキシエチレン(2,2)−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン 231質量部
テレフタル酸 156質量部
フマル酸 90質量部
酸化ジブチルスズ 0.02質量部。
Polyoxypropylene (2,2) -2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane 246 parts by mass Polyoxyethylene (2,2) -2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane 231 parts by mass terephthalic acid 156 parts by mass 90 parts by mass of phenylic acid Dibutyltin oxide 0.02 parts by mass.

<熱可塑性粉体接着層の作製>
紫外線硬化樹脂モノマー(SR350:サートマー社製) 1800質量部
重合開始剤(イルガキュア−(登録商標)819:BASFジャパン社製)
140質量部
2−ブタノール 4500質量部
上記成分を混合撹拌し、十分に溶解・分散して熱可塑性粉体接着層用塗布液を調製した。調製した熱可塑性粉体接着層用塗布液を、支持体用部材としての厚さ12μmとなるように延伸したポリエチレンテレフタレートフィルムの両面に易接着処理(アラコートAP2500E:荒川化学工業社製)を施したフィルムの片面上に、乾燥層厚が2μmになるようにバーコーターを用いて塗布した。
<Preparation of thermoplastic powder adhesive layer>
UV curable resin monomer (SR350: manufactured by Sartmer) 1800 parts by mass Polymerization initiator (Irgacure (registered trademark) 819: manufactured by BASF Japan)
140 parts by mass 2-butanol 4500 parts by mass The above components were mixed and stirred to sufficiently dissolve and disperse to prepare a coating liquid for a thermoplastic powder adhesive layer. The prepared coating liquid for a thermoplastic powder adhesive layer was subjected to easy-adhesion treatment (Alacoat AP2500E: manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.) on both sides of a polyethylene terephthalate film stretched to a thickness of 12 μm as a support member. A film was applied on one side of the film using a bar coater so that the dry layer thickness was 2 μm.

[インク膜形成用原版の作製]
<インク膜形成用原版(OP−1)の作製>
上記で作製した熱可塑性粉体(P−1)を上記で作製した熱可塑性粉体接着層上にスプレーを用いて塗布した。塗布後、キセノンランプ(照射強度60mW/cm)を用いて紫外線を熱可塑性粉体が塗布されていない面から3分間照射し、熱可塑性粉体(P−1)をフィルム表面に配置した状態で固定した。その後、フィルムの裏面に紫外線硬化型接着剤(SX−UV100A:セメダイン社製)を塗布し、接着剤塗布面にキセノンランプを用いて1分間照射した。照射後すぐに支持体用部材としての直径100mm、長さ500mmのアルミニウム/マグネシウム/ケイ素系合金製の円筒状ドラムに巻きつけ接着した後、表面を40Paで加圧することで、熱可塑性粉体(P−1)が表面に配列したインク膜形成用原版(OP−1)を作製した。インク膜形成用原版(OP−1)の表面には面積率51%で粉体が存在している。
[Preparation of original plate for forming ink film]
<Preparation of original plate (OP-1) for forming ink film>
The thermoplastic powder (P-1) prepared above was applied onto the thermoplastic powder adhesive layer prepared above by using a spray. After coating, a xenon lamp (irradiation intensity 60 mW / cm 2 ) is used to irradiate ultraviolet rays from the surface not coated with the thermoplastic powder for 3 minutes, and the thermoplastic powder (P-1) is placed on the film surface. Fixed with. Then, an ultraviolet curable adhesive (SX-UV100A: manufactured by Cemedine Co., Ltd.) was applied to the back surface of the film, and the adhesive-coated surface was irradiated with a xenon lamp for 1 minute. Immediately after irradiation, it is wound around a cylindrical drum made of an aluminum / magnesium / silicon alloy having a diameter of 100 mm and a length of 500 mm as a support member and adhered, and then the surface is pressed at 40 Pa to obtain a thermoplastic powder (thermoplastic powder). An original plate (OP-1) for forming an ink film in which P-1) was arranged on the surface was prepared. Powder is present on the surface of the ink film forming original plate (OP-1) with an area ratio of 51%.

<インク膜形成用原版(OP−2)〜(OP−7)、(OP−9)〜(OP−12)の作製>
前記インク膜形成用原版(OP−1)の作製において、熱可塑性粉体(P−1)を表1のように変更した以外は同様にしてインク膜形成用原版(OP−2)〜(OP−7)及び(OP−9)〜(OP−12)を作製した。インク膜形成用原版(OP−2)〜(OP−7)、(OP−9)〜(OP−12)の表面には、面積率43〜52%で粉体が存在している。
<Manufacturing of original plates (OP-2) to (OP-7) and (OP-9) to (OP-12) for forming an ink film>
In the preparation of the ink film forming original plate (OP-1), the ink film forming original plates (OP-2) to (OP) are similarly changed except that the thermoplastic powder (P-1) is changed as shown in Table 1. -7) and (OP-9) to (OP-12) were prepared. Powder is present on the surfaces of the ink film forming original plates (OP-2) to (OP-7) and (OP-9) to (OP-12) with an area ratio of 43 to 52%.

<インク膜形成用原版(OP−8)の作製>
インク膜形成用原版(OP−1)の作製において、熱可塑性粉体(P−1)を熱可塑性粉体(P−8)に変更し、前記熱可塑性粉体接着層の作製において熱可塑性粉体接着層用塗布液の乾燥層厚が0.5μmになるようにバーコーターを用いて塗布して作製した熱可塑性粉体接着層にスプレーを用いて塗布した以外は、インク膜形成用原版(OP−1)と同様にして、インク膜形成用原版(OP−8)を作製した。インク膜形成用原版(OP−8)の表面には、面積率47%で粉体が存在している。
<Preparation of original plate (OP-8) for forming ink film>
In the production of the original plate for forming an ink film (OP-1), the thermoplastic powder (P-1) was changed to the thermoplastic powder (P-8), and in the production of the thermoplastic powder adhesive layer, the thermoplastic powder was prepared. The original plate for forming an ink film, except that it was applied using a spray to the thermoplastic powder adhesive layer prepared by applying it with a bar coater so that the dry layer thickness of the coating liquid for the body adhesive layer was 0.5 μm. An original plate for forming an ink film (OP-8) was produced in the same manner as in OP-1). Powder is present on the surface of the ink film forming original plate (OP-8) at an area ratio of 47%.

<インク膜形成用原版(OP−13)の作製>
ジクロロメタン2400質量部とトルエン2400質量部とスチレンアクリル樹脂(X−1:星光PMC社製)3230質量部と紫外線吸収剤としてベンゾフェノン(Uvinul3049、BASF社製)570質量部とを50℃で加熱しながら混合撹拌し、熱可塑性樹脂と紫外線吸収剤を含む溶液を得た。この溶液を支持体用部材としての直径100mm、長さ500mmのアルミニウム/マグネシウム/ケイ素系合金製の円筒状ドラムに乾燥層厚が6μmになるように塗布、乾燥した後、表面を40Paで加圧することで、インク膜形成用原版(OP−13)を作製した。インク膜形成用原版(OP−13)は紫外線吸収剤を含有する熱可塑性樹脂層となっており、熱可塑性粉体は配列していない。
<Preparation of original plate (OP-13) for forming ink film>
While heating 2400 parts by mass of dichloromethane, 2400 parts by mass of toluene, 3230 parts by mass of styrene acrylic resin (X-1: manufactured by Seiko PMC), and 570 parts by mass of benzophenone (Uvinul3049, manufactured by BASF) as an ultraviolet absorber at 50 ° C. The mixture was mixed and stirred to obtain a solution containing a thermoplastic resin and an ultraviolet absorber. This solution is applied to a cylindrical drum made of an aluminum / magnesium / silicon alloy having a diameter of 100 mm and a length of 500 mm as a support member so that the dry layer thickness is 6 μm, dried, and then the surface is pressed at 40 Pa. As a result, an original plate for forming an ink film (OP-13) was prepared. The original plate for forming an ink film (OP-13) is a thermoplastic resin layer containing an ultraviolet absorber, and the thermoplastic powder is not arranged.

インク膜形成用原版OP−1〜OP−12の概略を表1に示す。 Table 1 shows an outline of the original plates OP-1 to OP-12 for forming an ink film.

Figure 0006969304
Figure 0006969304

<実施例1>
図1に示すパターン膜形成装置100に設置したインク膜形成用原版(OP−1)に、書き込み用光源2から波長650nmの単色放射光を画像パターンAの非画像部に照射量2J/cmで照射することにより、光照射部、即ち、非画像部が凸部となる凹凸パターンが形成されたインク膜形成用表面(S−1)を形成した。
<Example 1>
The ink film forming original plate (OP-1) installed in the pattern film forming apparatus 100 shown in FIG. 1 is irradiated with monochromatic synchrotron radiation having a wavelength of 650 nm from the writing light source 2 to the non-image portion of the image pattern A at an irradiation amount of 2 J / cm 2. By irradiating with a light source, that is, an ink film forming surface (S-1) having an uneven pattern in which a non-image portion is a convex portion was formed.

<実施例2、3、6〜14、17〜21>
実施例1において、使用するインク膜形成用原版(OP−1)及び書き込み方法を表2のように変更した以外は実施例1と同様にして、それぞれ、非画像部が凸部となる凹凸パターンが形成されたインク膜形成用表面(S−2、3、6〜14、17〜21)を形成した。
<Examples 2, 3, 6-14, 17-21>
In the first embodiment, the same as in the first embodiment except that the ink film forming original plate (OP-1) and the writing method to be used are changed as shown in Table 2, the uneven pattern in which the non-image portion is a convex portion, respectively. The ink film forming surface (S-2, 3, 6-14, 17-21) on which the ink film was formed was formed.

<実施例4>
実施例1においてインク膜形成用原版(OP−1)の波長650nmの単色放射光を照射する箇所を画像パターンAの画像部に変更し、光照射部、即ち、画像部が凸部となるように凹凸パターンを形成した以外は実施例1と同様にしてインク膜形成用表面(S−4)を形成した。
<Example 4>
In Example 1, the portion of the original plate for forming an ink film (OP-1) to be irradiated with monochromatic synchrotron radiation having a wavelength of 650 nm is changed to the image portion of the image pattern A so that the light irradiation portion, that is, the image portion becomes a convex portion. An ink film forming surface (S-4) was formed in the same manner as in Example 1 except that an uneven pattern was formed on the surface.

<実施例5>
実施例1において、光照射を行う際に、書き込み用熱源6を作動させ、熱風で原版表面を55℃に加熱したこと以外は実施例1と同様にして、非画像部が凸部となる凹凸パターンが形成されたインク膜形成用表面(S−5)を形成した。
<Example 5>
In the first embodiment, the unevenness in which the non-image portion becomes a convex portion is the same as in the first embodiment except that the heat source 6 for writing is operated and the surface of the original plate is heated to 55 ° C. by hot air when the light irradiation is performed. An ink film forming surface (S-5) on which a pattern was formed was formed.

<実施例15、16>
実施例5において、インク膜形成用原版(OP−1)をそれぞれ(OP−6)、(OP−7)に変更したこと以外は実施例5と同様にして、非画像部が凸部となる凹凸パターンが形成されたインク膜形成用表面(S−15)および(S−16)を形成した。
<Examples 15 and 16>
In Example 5, the non-image portion becomes a convex portion in the same manner as in Example 5 except that the ink film forming original plate (OP-1) is changed to (OP-6) and (OP-7), respectively. The ink film forming surfaces (S-15) and (S-16) on which the uneven pattern was formed were formed.

<比較例1>
実施例11において、使用するインク膜形成用原版(OP−4)の代わりにインク膜形成用原版(OP−13)を使用し、書き込みを行ったが、表面の変形が生じず、凹凸パターンを形成することができなかった。インク膜形成用原版(OP−13)は熱可塑性樹脂層となっているため、光を照射しても被照射部の弾性回復が起きなかったものと考えられる。
<Comparative Example 1>
In Example 11, an ink film forming original plate (OP-13) was used instead of the ink film forming original plate (OP-4) to be used, and writing was performed, but the surface was not deformed and the uneven pattern was formed. Could not form. Since the original plate for forming an ink film (OP-13) has a thermoplastic resin layer, it is probable that the elastic recovery of the irradiated portion did not occur even when irradiated with light.

Figure 0006969304
Figure 0006969304

<実施例22>
図1に示すパターン膜形成装置100に設置したインク膜形成用原版(OP−1)に、書き込み用光源2から波長650nmの単色放射光を画像パターンAの非画像部に照射量2J/cmで照射する書き込みにより、光照射部、即ち、非画像部が凸部となる凹凸パターンが形成されたインク膜形成用表面を形成した。この形成した凹凸パターンの凹部にインク容器4に充填されていたインク(水性インク)を塗布してインク膜を形成し、転写ローラー10により被印刷体としての紙9を相対的に押し当て引き離すことでインク膜を紙の表面に転写し、印字画像を得た。その後、消去用加圧ローラー3で原版表面を40Paで加圧する消去操作を行い、凸部を凹部と同じ高さに変形させることで、書き込み操作前と同様の平坦な表面を得た。これはインク膜形成用原版と同じ状態である。続いて、画像パターンAの書き込みと同様の方法で画像パターンBを書き込み、凹凸パターンの凹部にインク膜を形成し、紙へ転写し印字画像を得た。その後、消去用加圧ローラー3で原版表面を40Paで加圧する消去操作を行い、凸部を凹部と同じ高さに変形させることで、書き込み操作前と同様の平坦な表面を得た。上記の方法で、画像パターンAの書き込み〜消去と画像パターンBの書き込み〜消去を6回繰り返した。1回目に形成した画像パターンAの印字画像を初期画像、6回目に形成した画像パターンAの印字画像を繰り返し画像とした。なお、インク膜形成用原版の回転速度は変えることができ、実施例では60rpmと100rpmの速度で上記の印字を行った。
<Example 22>
The ink film forming original plate (OP-1) installed in the pattern film forming apparatus 100 shown in FIG. 1 is irradiated with monochromatic synchrotron radiation having a wavelength of 650 nm from the writing light source 2 to the non-image portion of the image pattern A at an irradiation amount of 2 J / cm 2. By writing with the light irradiation portion, that is, the surface for forming the ink film in which the uneven pattern in which the non-image portion is a convex portion is formed is formed. The ink (water-based ink) filled in the ink container 4 is applied to the concave portions of the formed uneven pattern to form an ink film, and the paper 9 as the object to be printed is relatively pressed and separated by the transfer roller 10. The ink film was transferred to the surface of the paper and a printed image was obtained. After that, an erasing operation was performed in which the surface of the original plate was pressurized at 40 Pa with the erasing pressure roller 3, and the convex portion was deformed to the same height as the concave portion to obtain a flat surface similar to that before the writing operation. This is the same state as the original plate for forming an ink film. Subsequently, the image pattern B was written in the same manner as the writing of the image pattern A, an ink film was formed in the concave portions of the uneven pattern, and the ink film was transferred to paper to obtain a printed image. After that, an erasing operation was performed in which the surface of the original plate was pressurized at 40 Pa with the erasing pressure roller 3, and the convex portion was deformed to the same height as the concave portion to obtain a flat surface similar to that before the writing operation. By the above method, the writing-erasing of the image pattern A and the writing-erasing of the image pattern B were repeated 6 times. The printed image of the image pattern A formed the first time was used as an initial image, and the printed image of the image pattern A formed the sixth time was used as a repeated image. The rotation speed of the original plate for forming an ink film can be changed, and in the examples, the above printing was performed at speeds of 60 rpm and 100 rpm.

<実施例23、24、26〜46>
実施例22において、パターン膜形成装置に設置するインク膜形成用原版(OP−1)及び書き込み方法、消去方法を表3のように変更した以外は実施例22と同様にして、それぞれ、画像パターンAの初期画像および繰り返し画像を得た。
<Examples 23, 24, 26-46>
In Example 22, the image patterns are the same as in Example 22 except that the ink film forming original plate (OP-1) installed in the pattern film forming apparatus, the writing method, and the erasing method are changed as shown in Table 3. Initial images and repeated images of A were obtained.

なお、表3中、書き込み加熱「有」は、書き込み操作の際、図1の書き込み用熱源6を作動させ、熱風で原版表面を55℃に加熱したことを表す。また、表3中、消去加熱「有」は、消去操作の際、消去用加圧ローラー3を加熱ローラー内部に設置したヒーターで55℃に加熱しながら作動させたことを表す。 In Table 3, "Yes" for writing heating indicates that the writing heat source 6 of FIG. 1 was operated and the surface of the original plate was heated to 55 ° C. with hot air during the writing operation. Further, in Table 3, "Yes" for erasing heating indicates that the erasing pressure roller 3 was operated while being heated to 55 ° C. by a heater installed inside the heating roller during the erasing operation.

<実施例25>
実施例22において書き込み光を照射する箇所を画像パターンAの画像部に変更し、光照射部、即ち、画像部が凸部となるように凹凸パターンを形成した以外は実施例22と同様にして、画像パターンAの初期画像および繰り返し画像を得た。
・画像パターンA
書き込み信号として幅60μm、長さ10cmの線を60μm間隔で10本書き込むパターンを入力
・画像パターンB
書き込み信号として幅2cm長さ15cmの線を1本書き込むパターンを入力。
<Example 25>
In Example 22, the portion to be irradiated with the writing light is changed to the image portion of the image pattern A, and the light irradiation portion, that is, the uneven pattern is formed so that the image portion becomes a convex portion, in the same manner as in Example 22. , An initial image of the image pattern A and a repeated image were obtained.
-Image pattern A
Input a pattern to write 10 lines with a width of 60 μm and a length of 10 cm at intervals of 60 μm as a write signal. ・ Image pattern B
Input a pattern to write one line with a width of 2 cm and a length of 15 cm as a write signal.

[評価方法]
<細線再現性>
細線再現性は、上記で得られた初期の画像パターンAの印字画像(初期)及び繰り返し後の画像パターンAの印字画像(繰り返し後)を、デジタルマイクロスコープ「VHX−600」(キーエンス社製)にて拡大したモニター画像から、インジケータによって各細線の線幅の測定を行い(W1)、これの書き込み信号である線幅60μmに対する細線変化率を[(|W1−60|/60)×100](単位:%)によって算出した。線幅は、長さ方向の2cm、5cm、8cmの位置で測定した結果を平均して算出した。細線変化率が0%に近いほど、目的の凹凸パターンを精密に形成でき、被印刷体上に小さい文字や細かい画像を鮮明に形成できることを意味する。目視でも細線の重なりが認められないレベルは細線変化率10%以下であるが、細線変化率30%以下であれば実用上問題ない(合格)。細線変化率が30%を超える場合は細線同士の独立性が損なわれて重なりが目立ち、実用上問題となる。
[Evaluation method]
<Thin line reproducibility>
For fine line reproducibility, the printed image of the initial image pattern A (initial) obtained above and the printed image of the image pattern A after the repetition (after the repetition) are measured with a digital microscope "VHX-600" (manufactured by KEYENCE). The line width of each thin line is measured by an indicator from the monitor image enlarged in (W1), and the rate of change of the thin line with respect to the line width of 60 μm, which is the writing signal of the measurement, is [(| W1-60 | / 60) × 100]. Calculated by (unit:%). The line width was calculated by averaging the results measured at positions of 2 cm, 5 cm, and 8 cm in the length direction. The closer the fine line change rate is to 0%, the more precisely the desired uneven pattern can be formed, and it means that small characters and fine images can be clearly formed on the object to be printed. The level at which no overlap of thin lines is visually observed is the thin line change rate of 10% or less, but if the thin line change rate is 30% or less, there is no practical problem (pass). If the rate of change of the fine lines exceeds 30%, the independence of the thin lines is impaired and the overlap is conspicuous, which poses a practical problem.

パターンAおよびパターンBの書き換えが良好に行われない場合、繰り返し後の画像パターンAの印字画像には、画像パターンBの履歴が残る。これにより、画像パターンAの細線間にも画像が形成され、細線が太くなる事象が生じる。ゆえに、この場合、繰り返し後の画像パターンAの印字画像は、細線変化率が高い値となる。一方、パターンAおよびパターンBの書き換えが良好に行われる場合、そのような履歴は残らず、画像パターンAの細線間には画像が形成されない。ゆえに、繰り返し後の画像パターンAの印字画像は、細線変化率が0%に近い値となる。すなわち、繰り返し後の印字画像の細線変化率が0%に近いほど、版の書き換え性が優れていると言える。 When the rewriting of the pattern A and the pattern B is not performed well, the history of the image pattern B remains in the printed image of the image pattern A after the repetition. As a result, an image is formed between the thin lines of the image pattern A, and the thin lines become thicker. Therefore, in this case, the printed image of the image pattern A after the repetition has a high fine line change rate. On the other hand, when the rewriting of the pattern A and the pattern B is performed well, such a history does not remain and an image is not formed between the fine lines of the image pattern A. Therefore, in the printed image of the image pattern A after the repetition, the fine line change rate is close to 0%. That is, it can be said that the closer the fine line change rate of the printed image after repetition is to 0%, the better the rewritability of the plate.

<評価結果>
表3から明らかなように、本発明の原版を設置したパターン膜形成装置を用いた場合、良好な細線再現性を示し、その効果は版を繰り返し書き換えた後も持続することができる。
<Evaluation result>
As is clear from Table 3, when the pattern film forming apparatus on which the original plate of the present invention is installed is used, good fine line reproducibility is exhibited, and the effect can be sustained even after the plate is repeatedly rewritten.

Figure 0006969304
Figure 0006969304

1 インク膜形成用原版(印刷原版)
2 書き込み用光源
3 消去用加圧ローラー
4 インク容器
5 ガイド
6 書き込み用熱源
7 クリーニングブレード
8 送りローラー
9 被印刷体
10 転写ローラー
21 原版回転方向
22 加圧ローラー回転方向
23 被印刷体搬送方向
100 パターン膜形成装置。
1 Original plate for forming ink film (printing original plate)
2 Light source for writing 3 Pressurized roller for erasing 4 Ink container 5 Guide 6 Heat source for writing 7 Cleaning blade 8 Feed roller 9 Printed object 10 Transfer roller 21 Original plate rotation direction 22 Pressurized roller rotation direction 23 Printed object transport direction 100 patterns Film forming device.

Claims (16)

可塑性樹脂を含む熱可塑性粉体を表面に有するインク膜形成用原版であって、
前記熱可塑性粉体は、光エネルギーに応答して形状が変化する、インク膜形成用原版。
An ink film forming precursor having a thermoplastic powder containing a thermoplastic resin on the surface,
The thermoplastic powder is an original plate for forming an ink film whose shape changes in response to light energy.
前記熱可塑性粉体は、光を吸収する化合物をさらに含有する、請求項1に記載の原版。 The original plate according to claim 1, wherein the thermoplastic powder further contains a compound that absorbs light. 前記化合物は、波長280〜550nmの範囲に最大吸収波長を有する、請求項2に記載の原版。 The original plate according to claim 2, wherein the compound has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 280 to 550 nm. 前記化合物は、光異性化化合物および紫外線吸収剤の少なくとも一方を含む、請求項2または3に記載の原版。 The original plate according to claim 2 or 3, wherein the compound contains at least one of a photoisomerizing compound and an ultraviolet absorber. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の原版に対して部分的に光を照射することにより、前記原版表面に凹凸パターンを形成する方法。 A method for forming an uneven pattern on the surface of the original plate by partially irradiating the original plate according to any one of claims 1 to 4 with light. 前記原版表面を加熱することをさらに有する、請求項5に記載の方法。 The method of claim 5, further comprising heating the surface of the original plate. 照射される光は、波長280〜550nmの範囲に最大発光波長を有する単色放射光である、請求項5または6に記載の方法。 The method according to claim 5 or 6, wherein the irradiated light is monochromatic synchrotron radiation having a maximum emission wavelength in the wavelength range of 280 to 550 nm. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の原版に対して部分的に光を照射することにより、前記原版表面に凹凸パターンを形成する書き込み工程と、
前記凹凸パターンの凸部または凹部にインクを塗布して、前記原版上にインク膜を形成するインク膜形成工程と、
前記インク膜を被印刷体の表面に転写する転写工程と、
を有する、パターン膜形成方法。
A writing step of forming an uneven pattern on the surface of the original plate by partially irradiating the original plate according to any one of claims 1 to 4 with light.
An ink film forming step of applying ink to the convex or concave portions of the uneven pattern to form an ink film on the original plate.
A transfer step of transferring the ink film to the surface of the object to be printed,
A method for forming a pattern film.
前記書き込み工程は、前記原版表面を加熱することをさらに有する、請求項8に記載のパターン膜形成方法。 The pattern film forming method according to claim 8, wherein the writing step further comprises heating the surface of the original plate. 前記書き込み工程において照射される光は、波長280〜550nmの範囲に最大発光波長を有する単色放射光である、請求項8または9に記載のパターン膜形成方法。 The pattern film forming method according to claim 8 or 9 , wherein the light irradiated in the writing step is monochromatic synchrotron radiation having a maximum emission wavelength in the wavelength range of 280 to 550 nm. 前記転写工程後に、前記原版表面を加圧することにより、前記凹凸パターンを消去する消去工程をさらに有する、請求項8〜10のいずれか1項に記載のパターン膜形成方法。 The pattern film forming method according to any one of claims 8 to 10, further comprising an erasing step of erasing the uneven pattern by pressurizing the surface of the original plate after the transfer step. 前記消去工程は、前記原版表面を加熱することをさらに有する、請求項11に記載のパターン膜形成方法。 The pattern film forming method according to claim 11 , wherein the erasing step further comprises heating the surface of the original plate. 前記消去工程の後に前記凹凸パターンを消去した原版に対して、部分的に光を照射することにより、前記原版表面に凹凸パターンを形成する書き込み工程と、
前記凹凸パターンの凸部または凹部にインクを塗布して、前記原版上にインク膜を形成するインク膜形成工程と、
前記インク膜を被印刷体の表面に転写する転写工程と、
をさらに有する、請求項11または12のいずれか1項に記載のパターン膜形成方法。
A writing step of forming an uneven pattern on the surface of the original plate by partially irradiating the original plate with the uneven pattern erased after the erasing step.
An ink film forming step of applying ink to the convex or concave portions of the uneven pattern to form an ink film on the original plate.
A transfer step of transferring the ink film to the surface of the object to be printed,
The pattern film forming method according to any one of claims 11 or 12, further comprising.
請求項1〜4のいずれか1項に記載の原版と、
前記原版に対して部分的に光を照射することにより、前記原版表面に凹凸パターンを形成する書き込み手段と、
前記凹凸パターンの凸部または凹部にインクを塗布して、インク膜を形成するインク膜形成手段と、
前記インク膜を被印刷体の表面に転写する転写手段と、
を有する、パターン膜形成装置。
The original version according to any one of claims 1 to 4 and
A writing means that forms an uneven pattern on the surface of the original plate by partially irradiating the original plate with light.
An ink film forming means for forming an ink film by applying ink to the convex or concave portions of the uneven pattern,
A transfer means for transferring the ink film to the surface of the object to be printed,
A pattern film forming apparatus having.
前記原版表面を加圧して前記凹凸パターンを消去する消去手段をさらに有する、請求項14に記載のパターン膜形成装置。 The pattern film forming apparatus according to claim 14, further comprising an erasing means for pressurizing the surface of the original plate to erase the uneven pattern. 前記消去手段を加熱する加熱手段をさらに有する、請求項15に記載のパターン膜形成装置。 The pattern film forming apparatus according to claim 15, further comprising a heating means for heating the erasing means.
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