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JP6970609B2 - Silver-coated alloy powder and its manufacturing method, conductive paste and its manufacturing method, electronic parts, and electronic equipment - Google Patents
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Silver-coated alloy powder and its manufacturing method, conductive paste and its manufacturing method, electronic parts, and electronic equipment Download PDF

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Description

本発明は、電子部品の外部電極の形成材料として好適な銀被覆合金粉末及びその製造方法、それを含む導電性ペースト及びその製造方法、その導電性ペーストを使用して形成される外部電極を有する電子部品、及び当該電子部品を備える電子機器に関する。 The present invention has a silver-coated alloy powder suitable as a material for forming an external electrode of an electronic component and a method for producing the same, a conductive paste containing the powder and a method for producing the same, and an external electrode formed by using the conductive paste. The present invention relates to an electronic component and an electronic device provided with the electronic component.

電子機器を構成する電子部品として、コンデンサ、キャパシタ、インダクタ、圧電体素子、バリスタ、サーミスタなどの外部電極を有するものがある。これらのうちコンデンサ、キャパシタやインダクタは、例えば、誘電体層と内部電極層とが交互に積層された積層体と、この積層体の側面に形成されて内部電極と接続される外部電極を備えた構造をとっている。 As electronic components constituting electronic devices, there are those having external electrodes such as capacitors, capacitors, inductors, piezoelectric elements, varistores, and thermistors. Of these, capacitors, capacitors and inductors include, for example, a laminate in which dielectric layers and internal electrode layers are alternately laminated, and an external electrode formed on the side surface of the laminate and connected to the internal electrode. It has a structure.

電子部品は基板上に実装され、その他の電気素子と接続される。接続の代表的な手段としては半田接続が挙げられる。例えば、電子部品(の外部電極)と電気素子とが接続されるように半田ペーストを印刷し、200〜350℃程度の温度でリフローすることで接続が行われる。 Electronic components are mounted on a substrate and connected to other electrical elements. A typical means of connection is solder connection. For example, the solder paste is printed so that the electronic component (external electrode) and the electric element are connected, and the solder paste is reflowed at a temperature of about 200 to 350 ° C. to connect the solder paste.

半田接続が適切に行われるためには、第一に溶融した半田が外部電極に十分に濡れ、半田と外部電極との接合が十分に行われる必要がある(半田濡れ性)。第二に、溶融した半田に外部電極が溶け出してしまうことで起こると考えられている半田食われが生じないことが求められる(半田食われ耐性)。 In order for solder connection to be performed properly, first, the molten solder must be sufficiently wetted with the external electrode, and the solder and the external electrode must be sufficiently bonded (solder wettability). Secondly, it is required that the solder bite, which is considered to occur when the external electrode melts into the melted solder, does not occur (solder bite resistance).

外部電極は例えば銅などの導電性フィラーを含む焼成型導電性ペーストから形成されているが、良好な半田接続を行い、また信頼性を高めるために、上記ペーストから形成された導電膜にNi(ニッケル)メッキ及びSn(錫)メッキを行って外部電極とすることが一般的に行われている(例えば特許文献1)。また、導電性フィラーとして銀(Ag)を被覆したニッケル−銅(Ni−Cu)合金の粉末を使用することも知られている(例えば特許文献2〜3)。 The external electrode is formed of a fired conductive paste containing a conductive filler such as copper, but in order to make a good solder connection and improve reliability, Ni (Ni) is applied to the conductive film formed from the above paste. It is generally practiced to perform nickel) plating and Sn (tin) plating to obtain an external electrode (for example, Patent Document 1). It is also known to use a nickel-copper (Ni-Cu) alloy powder coated with silver (Ag) as a conductive filler (for example, Patent Documents 2 to 3).

特開2014−84267号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-84267 特開2015−156083号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-156083 特開2003−224028号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-224028

しかしながら、導電膜、Niメッキ層、Snメッキ層という3層構成ではコスト、製造効率の点から改善の余地があり、また隣接する層(誘電体層と内部電極層との積層体などと導電膜、導電膜とNiメッキ層、Niメッキ層とSnメッキ層)どうしの密着性や接触抵抗なども考慮する必要があるので、このような3層構成により外部電極を形成するよりも、より少ない層構成とするのが望ましい。また、近年の電子機器の小型化の流れから外部電極の薄膜化が望まれるので、この点からみても、そのような層構成が望ましい。さらに、コンデンサやキャパシタなどの用途においては導電性も重要である。 However, there is room for improvement in terms of cost and manufacturing efficiency in the three-layer structure consisting of the conductive film, the Ni-plated layer, and the Sn-plated layer. Since it is necessary to consider the adhesion and contact resistance between the conductive film and the Ni-plated layer, and the Ni-plated layer and the Sn-plated layer), there are fewer layers than when an external electrode is formed by such a three-layer configuration. It is desirable to have a configuration. Further, since it is desired to reduce the thickness of the external electrode due to the recent trend toward miniaturization of electronic devices, such a layer structure is desirable from this point as well. Furthermore, conductivity is also important in applications such as capacitors and capacitors.

そこで本発明は、より少ない層構成でありながら半田濡れ性及び半田食われ耐性に優れた外部電極を形成可能な導電性ペーストに利用可能な金属粉末を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a metal powder that can be used as a conductive paste capable of forming an external electrode having excellent solder wettability and solder biting resistance while having a smaller layer structure.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究し、まず特許文献2や3に開示の従来の銀被覆ニッケル−銅合金粉末について検討したところ、これらは半田特性に劣ることがわかった。さらに検討を進めた結果、銀被覆合金粉末を構成する粒子、更には銀被覆合金粉末を作製する前の合金コア粒子に付着した酸素が、半田濡れ性及び半田食われ耐性に大きく影響を与えていることを突き止めた。この知見に基づき創出されたのが以下の態様である。 The present inventors studied diligently to solve the above problems, and first examined the conventional silver-coated nickel-copper alloy powder disclosed in Patent Documents 2 and 3, and found that they were inferior in solder properties. .. As a result of further studies, the oxygen adhering to the particles constituting the silver-coated alloy powder and the alloy core particles before the silver-coated alloy powder was produced greatly affected the solder wettability and the solder biting resistance. I found out that I was there. The following aspects were created based on this finding.

すなわち第1の態様は、銅、ニッケル及び不可避不純物を含む合金コア粒子の表面に銀を含む被覆層を有する銀被覆合金粉末であり、前記銀被覆合金粉末の酸素量(質量%)を、比表面積Sm(m/g)で除した値が2.5(質量%・g/m)以下である、銀被覆合金粉末である。
なお、前記比表面積Smは以下の式(1)
比表面積Sm=6/(ρ×D50)・・・(1)
で求めたものであり、ρは、前記銀被覆合金粉末の銅、ニッケル及び銀の比重並びに組成比(前記銀被覆合金粉末において銅、ニッケル及び銀の合計を100質量%とした場合のそれぞれの質量割合)から計算される密度(g/cm)であり、D50はレーザー回折式粒度分布測定装置により前記銀被覆合金粉末を測定して得られた体積基準の累積50%粒子径(μm)である。
That is, the first aspect is a silver-coated alloy powder having a coating layer containing silver on the surface of alloy core particles containing copper, nickel and unavoidable impurities, and the oxygen content (mass%) of the silver-coated alloy powder is rationalized. It is a silver-coated alloy powder having a value divided by a surface area Sm (m 2 / g) of 2.5 (mass% · g / m 2) or less.
The specific surface area Sm is calculated by the following formula (1).
Specific surface area Sm = 6 / (ρ × D 50 ) ... (1)
Ρ is the specific gravity and composition ratio of copper, nickel and silver in the silver-coated alloy powder (when the total of copper, nickel and silver in the silver-coated alloy powder is 100% by mass, respectively). It is a density (g / cm 3 ) calculated from (mass ratio), and D 50 is a volume-based cumulative 50% particle diameter (μm) obtained by measuring the silver-coated alloy powder with a laser diffraction type particle size distribution measuring device. ).

第2の態様は、第1の態様であって、
前記合金コア粒子における銅及びニッケルの合計100質量%中において、銅の割合が40〜95質量%であり、ニッケルの割合が5〜60質量%である。
The second aspect is the first aspect.
The proportion of copper is 40 to 95% by mass and the proportion of nickel is 5 to 60% by mass in the total 100% by mass of copper and nickel in the alloy core particles.

第3の態様は、第1又は第2の態様であって、
前記銀被覆合金粉末の酸素量(質量%)を、前記銀被覆合金粉末のBET1点法により測定した比表面積BET(m/g)で除した値が1.50(質量%・g/m)以下である。
The third aspect is the first or second aspect.
The value obtained by dividing the amount of oxygen (mass%) of the silver-coated alloy powder by the specific surface area BET (m 2 / g) measured by the BET 1-point method of the silver-coated alloy powder is 1.50 (mass% g / m). 2 ) The following.

第4の態様は、第1〜第3のいずれかの態様であって、
前記銀被覆合金粉末における銀の質量割合が、1〜40質量%である。
The fourth aspect is any one of the first to third aspects.
The mass ratio of silver in the silver-coated alloy powder is 1 to 40% by mass.

第5の態様は、第1〜第4のいずれかの態様であって、
前記銀被覆合金粉末のレーザー回折式粒度分布測定装置により測定した体積基準の累積50%粒子径(D50)が0.1〜10μmである。
The fifth aspect is any one of the first to fourth aspects.
The cumulative 50% particle size (D 50 ) based on the volume measured by the laser diffraction type particle size distribution measuring device of the silver-coated alloy powder is 0.1 to 10 μm.

第6の態様は、第1〜第5のいずれかの態様であって、
前記銀被覆合金粉末の酸素量が0.05〜0.40質量%である。
The sixth aspect is any one of the first to fifth aspects.
The amount of oxygen in the silver-coated alloy powder is 0.05 to 0.40% by mass.

第7の態様は、第1〜第6のいずれかの態様に記載の銀被覆合金粉末及び硬化性樹脂を含む導電性ペーストである。 A seventh aspect is the conductive paste containing the silver-coated alloy powder and the curable resin according to any one of the first to sixth aspects.

第8の態様は、第7の態様であって、
前記導電性ペースト中の硬化性樹脂の含有割合が0.5〜49質量%である。
The eighth aspect is the seventh aspect.
The content ratio of the curable resin in the conductive paste is 0.5 to 49% by mass.

第9の態様は、第7又は第8の態様であって、
前記硬化性樹脂が、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、マレイミド樹脂、ジアリルフタレート樹脂、オキセタン樹脂、(メタ)アクリル樹脂、マレイン酸樹脂、無水マレイン酸樹脂、ポリブタジエン樹脂、アルキド系樹脂、アミノ系樹脂、ポリ乳酸樹脂、オキサゾリン樹脂、ベンゾオキサジン樹脂及びフッ素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種である。
The ninth aspect is the seventh or eighth aspect.
The curable resin is a phenol resin, a urea resin, a melamine resin, an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a silicone resin, a polyurethane resin, a polyvinyl butyral resin, a polyimide resin, a polyamide resin, a maleimide resin, a diallyl phthalate resin, an oxetane resin, ( Meta) At least one selected from the group consisting of acrylic resin, maleic acid resin, maleic anhydride resin, polybutadiene resin, alkyd resin, amino resin, polylactic acid resin, oxazoline resin, benzoxazine resin and fluororesin.

第10の態様は、第7〜第9のいずれかの態様であって、
前記導電性ペースト中の銀被覆合金粉末の含有量が、50〜98質量%である。
The tenth aspect is any one of the seventh to ninth aspects.
The content of the silver-coated alloy powder in the conductive paste is 50 to 98% by mass.

第11の態様は、外部電極を備える電子部品であって、前記外部電極が、第1〜第6の態様のいずれかに記載の銀被覆合金粉末及び硬化性樹脂を含む、電子部品である。 The eleventh aspect is an electronic component provided with an external electrode, wherein the external electrode contains the silver-coated alloy powder and the curable resin according to any one of the first to sixth aspects.

第12の態様は、第11の態様であって、
前記外部電極をフラックスに浸漬させた後、260℃の鉛フリーはんだ(Sn96.5Ag3Cu0.5の金属組成を有する)槽に1秒浸漬させ、次いで前記外部電極を引き上げ、レーザー式顕微鏡を用いて観察したとき、外部電極上面全体のうち、65面積%以上にはんだが付着している。
The twelfth aspect is the eleventh aspect.
After immersing the external electrode in the flux, it is immersed in a lead-free solder (having a metal composition of Sn96.5Ag3Cu0.5) at 260 ° C. for 1 second, then the external electrode is pulled up and observed using a laser microscope. When this is done, solder adheres to 65 area% or more of the entire upper surface of the external electrode.

第13の態様は、基板と、該基板上に形成された電気素子と、該基板上に実装された第11又は第12の態様に記載の電子部品と、前記電子部品及び電気素子を接続する半田部材とを備える電子機器である。 The thirteenth aspect connects the substrate, the electric element formed on the substrate, the electronic component according to the eleventh or twelfth aspect mounted on the substrate, and the electronic component and the electric element. It is an electronic device provided with a solder member.

第14の態様は、
銅、ニッケル及び不可避不純物を含む合金コア粒子の表面に銀を含む被覆層を有する銀被覆合金粉末の製造方法であって、
前記合金コア粒子の粉末、又は前記合金コア粒子の表面に前記被覆層が形成された後の前記銀被覆合金粉末に対し、酸素低減処理を行う工程を有する、銀被覆合金粉末の製造方法である。
The fourteenth aspect is
A method for producing a silver-coated alloy powder having a coating layer containing silver on the surface of alloy core particles containing copper, nickel and unavoidable impurities.
It is a method for producing a silver-coated alloy powder, which comprises a step of performing an oxygen reduction treatment on the powder of the alloy core particles or the silver-coated alloy powder after the coating layer is formed on the surface of the alloy core particles. ..

第15の態様は、第14の態様であって、
前記合金コア粒子の粉末に対し、酸素低減処理を行う工程と、
前記工程後に、前記合金コア粒子の表面に前記被覆層を形成する工程と、
を有する。
The fifteenth aspect is the fourteenth aspect.
The step of performing oxygen reduction treatment on the powder of the alloy core particles and
After the step, the step of forming the coating layer on the surface of the alloy core particles and the step of forming the coating layer.
Have.

第16の態様は、第14又は第15の態様であって、
前記酸素低減処理は、水素を含む雰囲気下での水素還元である。
The sixteenth aspect is the fourteenth or fifteenth aspect.
The oxygen reduction treatment is hydrogen reduction in an atmosphere containing hydrogen.

第17の態様は、
第14〜第16のいずれかの態様の製造方法により得られた銀被覆合金粉末と硬化性樹脂とを混合する工程を有する、導電性ペーストの製造方法である。
The seventeenth aspect is
A method for producing a conductive paste, which comprises a step of mixing the silver-coated alloy powder obtained by the production method according to any one of the fourteenth to sixteenth aspects with a curable resin.

本発明によれば、より少ない層構成でありながら半田濡れ性及び半田食われ耐性に優れた外部電極を形成可能な導電性ペーストに利用可能な金属粉末(銀被覆合金粉末)及びその製造方法が提供される。また、この銀被覆合金粉末を利用した、導電性ペースト及びその製造方法、電子部品、並びに電子機器も提供される。 According to the present invention, a metal powder (silver-coated alloy powder) that can be used as a conductive paste capable of forming an external electrode having excellent solder wettability and solder biting resistance while having a smaller layer structure and a method for producing the same are available. Provided. Further, a conductive paste and a method for producing the same, electronic components, and electronic devices using this silver-coated alloy powder are also provided.

以下、本発明を詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」は所定の値以上かつ所定の値以下を指す。 Hereinafter, the present invention will be described in detail. In addition, in this specification, "~" means a predetermined value or more and a predetermined value or less.

[銀被覆合金粉末]
<銀被覆合金粉末の構成>
本発明の銀被覆合金粉末は、銅、ニッケル及び不可避不純物を含む合金コア粒子の表面に銀(銀または銀化合物)を含む被覆層を有している。銀を含む被覆層(以下、銀被覆層)は銀被覆合金粉末(を含む導電性ペースト)から形成される外部電極の優れた導電性と半田濡れ性に寄与し、また、合金コア粒子は銅を含むために耐酸化性に劣るので、銀被覆層により合金コア粒子の耐酸化性が高まっている。銀被覆層は好ましくは実質的に銀のみからなり、また、合金コア粒子を良好に被覆しているが、必ずしも合金コア粒子の表面全体を覆っている必要はなく、合金コア粒子の一部が露出していてもよい。上記合金コア粒子において、銅は銀被覆合金粉末の優れた導電性に寄与する。ニッケルは銀被覆合金粉末に優れた半田食われ耐性を付与し、具体的には銀被覆合金粉末の表面の銀被覆層は半田に食われるが、合金コア粒子がニッケルを有することで、合金コア粒子の部分で半田食われ現象を止めるものと考えられる。
[Silver coated alloy powder]
<Composition of silver-coated alloy powder>
The silver-coated alloy powder of the present invention has a coating layer containing silver (silver or a silver compound) on the surface of alloy core particles containing copper, nickel and unavoidable impurities. The silver-containing coating layer (hereinafter referred to as silver-coating layer) contributes to the excellent conductivity and solder wettability of the external electrode formed from the silver-coated alloy powder (containing conductive paste), and the alloy core particles are copper. The silver-coated layer enhances the oxidation resistance of the alloy core particles because the silver-coated layer is inferior in oxidation resistance. The silver-coated layer is preferably composed substantially only of silver and has a good coating on the alloy core particles, but does not necessarily cover the entire surface of the alloy core particles and a part of the alloy core particles. It may be exposed. In the alloy core particles, copper contributes to the excellent conductivity of the silver-coated alloy powder. Nickel imparts excellent solder-eating resistance to the silver-coated alloy powder. Specifically, the silver-coated layer on the surface of the silver-coated alloy powder is eaten by solder, but the alloy core particles have nickel, so that the alloy core. It is thought that the solder is eaten by the particles to stop the phenomenon.

このような銀被覆合金粉末における銀の含有量(質量割合)は、良好な導電性及び半田濡れ性の観点から、好ましくは1〜40質量%であり、より好ましくは8〜30質量%である。なお、銀被覆合金粉末の製造コスト等の観点からは、銀の含有量は2〜12質量%であることが好ましい。また、合金コア粒子について、銅及びニッケルの合計100質量%中において、銅の割合は、良好な導電性の観点から、好ましくは40〜95質量%であり、より好ましくは65〜90質量%である。上記合計100質量%中において、ニッケルの割合は、良好な半田食われ耐性の観点から、好ましくは5〜60質量%であり、より好ましくは10〜35質量%である。 The silver content (mass ratio) in such a silver-coated alloy powder is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 8 to 30% by mass, from the viewpoint of good conductivity and solder wettability. .. From the viewpoint of the production cost of the silver-coated alloy powder, the silver content is preferably 2 to 12% by mass. Regarding the alloy core particles, the proportion of copper in the total 100% by mass of copper and nickel is preferably 40 to 95% by mass, more preferably 65 to 90% by mass from the viewpoint of good conductivity. be. In the total 100% by mass, the proportion of nickel is preferably 5 to 60% by mass, more preferably 10 to 35% by mass, from the viewpoint of good solder bite resistance.

銀被覆合金粉末の形状に特に制限はなく、球状や略球状でもよいし、粒状でもよいし、薄片状(フレーク状)でもよいし、不定形でもよい。フレーク状の銀被覆合金粉末は、当該粉末の製造条件を適宜調整することで製造できるし、また、球状の銀被覆合金粉末をボールミルなどで機械的に塑性変形させて扁平化することにより製造することもできる。 The shape of the silver-coated alloy powder is not particularly limited, and may be spherical or substantially spherical, granular, flaky (flake-shaped), or amorphous. The flake-shaped silver-coated alloy powder can be produced by appropriately adjusting the production conditions of the powder, or by mechanically plastically deforming and flattening a spherical silver-coated alloy powder with a ball mill or the like. You can also do it.

銀被覆合金粉末のレーザー回折式粒度分布測定装置により測定した体積基準の累積50%粒子径(D50)は、導電性や薄い外部電極の形成を可能とする観点から、好ましくは0.1〜10μmであり、より好ましくは1〜9μmであり、特に好ましくは2〜6.5μmである。 Silver coated cumulative 50% particle diameter on a volume basis as measured by a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus of the alloy powder (D 50), from the viewpoint of enabling the formation of a conductive or thin external electrode, preferably 0.1 It is 10 μm, more preferably 1 to 9 μm, and particularly preferably 2 to 6.5 μm.

銀被覆合金粉末のBET1点法により測定した比表面積BET(m/g)は、良好な導電性を発揮する観点から、好ましくは0.08〜1.0m/gであり、より好ましくは0.08〜0.50m/gであり、特に好ましくは0.08〜0.30m/gである。 Silver coated alloy measured specific surface area BET by BET1 point method of powder (m 2 / g), from the viewpoint of exhibiting good conductivity, preferably 0.08~1.0m 2 / g, more preferably 0.08~0.50m a 2 / g, particularly preferably 0.08~0.30m 2 / g.

銀被覆合金粉末のTAP密度は、粉末の充填密度を高めて良好な導電性を発揮する観点から、好ましくは3.0〜7.5g/cmであり、より好ましくは4.6〜6.5g/cmであり、さらに好ましくは5.2〜6.4g/cmである。 The TAP density of the silver-coated alloy powder is preferably 3.0 to 7.5 g / cm 3 and more preferably 4.6 to 6. from the viewpoint of increasing the packing density of the powder and exhibiting good conductivity. a 5 g / cm 3, more preferably from 5.2~6.4g / cm 3.

銀被覆合金粉末における合金コア粒子はその製造原料や製造工程に使用される装置・物質の影響などで微量の不可避不純物を含み得るが、その例としては、鉄、ナトリウム、カリウム、カルシウム、パラジウム、マグネシウム、酸素、炭素、窒素、リン、ケイ素、塩素が挙げられる。 Alloy core particles in silver-coated alloy powder may contain trace amounts of unavoidable impurities due to the influence of the manufacturing raw materials and equipment / substances used in the manufacturing process. Examples thereof include iron, sodium, potassium, calcium, and palladium. Examples include magnesium, oxygen, carbon, nitrogen, phosphorus, silicon and chlorine.

これらの中でも酸素は銀被覆合金粉末の導電性に悪影響を与えるものと考えられる。この点から、銀被覆合金粉末の酸素量(銀被覆合金粉末を酸素・窒素分析装置で分析して求められる(単位は質量%)。以降同様。)は好ましくは0.05〜0.40質量%であり、より好ましくは0.15〜0.30質量%である。 Among these, oxygen is considered to adversely affect the conductivity of the silver-coated alloy powder. From this point, the oxygen content of the silver-coated alloy powder (determined by analyzing the silver-coated alloy powder with an oxygen / nitrogen analyzer (unit: mass%); the same shall apply hereinafter) is preferably 0.05 to 0.40 mass. %, More preferably 0.15 to 0.30% by mass.

本実施形態においては、先に挙げた銀被覆合金粉末の酸素量に関し、以下の所定の範囲に調整することにより、後述の実施例の項目にて示すように、より少ない層構成でありながら半田濡れ性及び半田食われ耐性に優れた外部電極(更には導電性に優れた外部電極)を形成可能な導電性ペーストに利用可能な金属粉末を実現できる。以下、該規定について詳述する。 In the present embodiment, the amount of oxygen in the silver-coated alloy powder mentioned above is adjusted to the following predetermined range, and as shown in the items of Examples described later, soldering has a smaller layer structure. It is possible to realize a metal powder that can be used as a conductive paste capable of forming an external electrode (furthermore, an external electrode having excellent conductivity) having excellent wettability and solder biting resistance. Hereinafter, the regulation will be described in detail.

本実施形態の銀被覆合金粉末は、銅、ニッケル及び不可避不純物を含む合金コア粒子の表面に銀を含む被覆層を有する銀被覆合金粉末であり、銀被覆合金粉末の酸素量(質量%)を、比表面積Sm(m/g)で除した値(以降、O/Smとも称する。)が2.5(質量%・g/m)以下となっている(以降、O/Smの単位は省略することもある)。
なお、比表面積Smは以下の式(1)
比表面積Sm=6/(ρ×D50)・・・(1)
で求めたものであり、ρは、銀被覆合金粉末の銅、ニッケル及び銀の比重並びに組成比(銀被覆合金粉末において銅、ニッケル及び銀の合計を100質量%とした場合のそれぞれの質量割合)から計算される密度(g/cm)であり、D50はレーザー回折式粒度分布測定装置により銀被覆合金粉末を測定して得られた体積基準の累積50%粒子径(μm)である。なお、式(1)とρの詳しい算出方法は実施例の項目にて後述する。
このO/Smは、半田濡れ性及び半田食われ耐性に優れた外部電極を形成可能な観点から、0.8〜2.2であることが好ましく、1.35〜2.0であることがより好ましく、1.5〜2.0であることがさらに好ましい。
The silver-coated alloy powder of the present embodiment is a silver-coated alloy powder having a coating layer containing silver on the surface of alloy core particles containing copper, nickel and unavoidable impurities, and has an oxygen content (% by mass) of the silver-coated alloy powder. , The value divided by the specific surface area Sm (m 2 / g) (hereinafter, also referred to as O / Sm) is 2.5 (mass% · g / m 2 ) or less (hereinafter, the unit of O / Sm). May be omitted).
The specific surface area Sm is calculated by the following formula (1).
Specific surface area Sm = 6 / (ρ × D 50 ) ... (1)
Ρ is the specific gravity and composition ratio of copper, nickel and silver in the silver-coated alloy powder (the mass ratio of each when the total of copper, nickel and silver in the silver-coated alloy powder is 100% by mass). ) Is the density (g / cm 3 ) calculated from), and D 50 is the cumulative 50% particle diameter (μm) based on the volume obtained by measuring the silver-coated alloy powder with a laser diffraction type particle size distribution measuring device. .. The detailed calculation method of the formula (1) and ρ will be described later in the item of the example.
The O / Sm is preferably 0.8 to 2.2, preferably 1.35 to 2.0, from the viewpoint of being able to form an external electrode having excellent solder wettability and solder biting resistance. More preferably, it is more preferably 1.5 to 2.0.

ちなみに、本実施形態においてはレーザー回折式粒度分布測定装置により得たD50から比表面積Smを求めており、この比表面積Smを利用してO/Smを得ている。ここで銀被覆合金粉末のBET1点法により測定した比表面積BET(m/g)を採用していないのには理由がある。
その理由としては、比表面積BETが銀被覆合金粉末の酸素量に依存して変動してしまうことがある。そうなると、仮にO/BETにて規定を設けようとした場合、分母が分子に依存してしまうことになる。それよりは、D50から比表面積Smを求めることにより銀被覆合金粉末のSmの酸素量への依存性を減らした上で銀被覆合金粉末の酸素量と比表面積Smとの比の規定を設けた方がよいと本発明者らは考えた。
上記の理由を鑑みた結果、本発明では銀被覆合金粉末の酸素量に関して、O/Smという規定を行い、これを所定の範囲とすることで、上記課題を解決し得る銀被覆合金粉末としている。
Incidentally, in the present embodiment, the specific surface area Sm is obtained from D 50 obtained by the laser diffraction type particle size distribution measuring device, and O / Sm is obtained by using this specific surface area Sm. Here, there is a reason why the specific surface area BET (m 2 / g) measured by the BET 1-point method of the silver-coated alloy powder is not adopted.
The reason is that the specific surface area BET may fluctuate depending on the amount of oxygen in the silver-coated alloy powder. In that case, if an O / BET is to be set, the denominator will depend on the numerator. Rather, by obtaining the specific surface area Sm from D 50 , the dependence of the silver-coated alloy powder on the Sm is reduced, and then the ratio of the oxygen amount of the silver-coated alloy powder to the specific surface area Sm is specified. The present inventors thought that it was better to do so.
As a result of considering the above reasons, in the present invention, the oxygen content of the silver-coated alloy powder is defined as O / Sm, and by setting this within a predetermined range, the silver-coated alloy powder can solve the above-mentioned problems. ..

なお、O/BETについて規定を行った場合、以下のようになる。すなわち、銀被覆合金粉末の酸素量(質量%)を、銀被覆合金粉末のBET1点法により測定した比表面積BET(m/g)で除した値が1.50(質量%・g/m)以下であることが好ましく、1.40(質量%・g/m)以下であることがより好ましく、1.00(質量%・g/m)以下であることが更に好ましい。なお、O/BETは通常0.20(質量%・g/m)以上である。 If O / BET is specified, it will be as follows. That is, the value obtained by dividing the oxygen content (mass%) of the silver-coated alloy powder by the specific surface area BET (m 2 / g) measured by the BET 1-point method of the silver-coated alloy powder is 1.50 (mass% g / m). 2 ) It is preferably 1 ) or less, more preferably 1.40 (mass% · g / m 2) or less, and further preferably 1.00 (mass% · g / m 2 ) or less. The O / BET is usually 0.20 (mass% · g / m 2 ) or more.

また、炭素は(熱)硬化の際に二酸化炭素などのガスの発生源となり、外部電極とそれが接する層の密着性が悪化する場合があるので、銀被覆合金粉末における炭素量は少ないことが好ましく、具体的には、好ましくは0.5質量%以下であり、さらに好ましくは0.35質量%以下である。なお、炭素量は、銀被覆合金粉末を炭素・硫黄分析装置で分析して求める。 In addition, carbon becomes a source of gas such as carbon dioxide during (heat) curing, and the adhesion between the external electrode and the layer in contact with it may deteriorate. Therefore, the amount of carbon in the silver-coated alloy powder may be small. Preferably, specifically, it is preferably 0.5% by mass or less, and more preferably 0.35% by mass or less. The amount of carbon is determined by analyzing the silver-coated alloy powder with a carbon / sulfur analyzer.

本発明の銀被覆合金粉末には、後述する導電性ペースト中での分散性を向上させることでTAP密度を高めて、外部電極の導電性を高めるとともに、耐酸化性を付与して、導電性の経時変化を低下させるために、表面処理が施されていてもよい。表面処理剤は、脂肪酸またはトリアゾール化合物であるのが好ましい。この脂肪酸として、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カブリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、パルミトレイン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキジン酸、エイコサジエン酸、エイコサトリエン酸、エイコサテトラエン酸、アラキドン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、ネルボン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸などを使用することができるが、パルミチン酸、ステアリン酸またはオレイン酸を使用するのが好ましい。上記トリアゾール化合物の例としては、ベンゾトリアゾールが挙げられる。 In the silver-coated alloy powder of the present invention, the TAP density is increased by improving the dispersibility in the conductive paste described later, the conductivity of the external electrode is enhanced, and the oxidation resistance is imparted to the silver-coated alloy powder. A surface treatment may be applied in order to reduce the change with time. The surface treatment agent is preferably a fatty acid or a triazole compound. These fatty acids include butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, capric acid, pelargonic acid, cabric acid, lauric acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, palmitreic acid, margaric acid, stearic acid, oleic acid, bacenoic acid. , Linol acid, linolenic acid, arachidic acid, eikosazienoic acid, eikosatrienic acid, eikosatetraenoic acid, arachidonic acid, behenic acid, lignoseric acid, nervonic acid, serotic acid, montanic acid, melicic acid, etc. can be used. Although possible, it is preferred to use palmitic acid, stearic acid or oleic acid. Examples of the above-mentioned triazole compound include benzotriazole.

表面処理剤の添加量は、(表面処理されていない)銀被覆合金粉末100質量部に対して、0.1〜7質量部であるのが好ましく、0.3〜6質量部であるのがさらに好ましく、0.3〜5質量部であるのが最も好ましい。 The amount of the surface treatment agent added is preferably 0.1 to 7 parts by mass, preferably 0.3 to 6 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silver-coated alloy powder (not surface-treated). It is more preferably 0.3 to 5 parts by mass, and most preferably 0.3 to 5 parts by mass.

次に、本発明の銀被覆合金粉末のL*値(SCEモードで測定)は、銀被覆の均一性の尺度となり得るものであり、粒度分布が同様な銀粉のL*値に近いことが好ましい。具体的には、上記銀被覆合金粉末のL*値は、45〜81.6であることが好ましく、63〜81.6であることがより好ましい。 Next, the L * value (measured in the SCE mode) of the silver-coated alloy powder of the present invention can be a measure of the uniformity of the silver coating, and it is preferable that the particle size distribution is close to the L * value of the similar silver powder. .. Specifically, the L * value of the silver-coated alloy powder is preferably 45 to 81.6, more preferably 63 to 81.6.

<銀被覆合金粉末の製造方法>
次に、本発明の銀被覆合金粉末の製造方法について説明する。
<Manufacturing method of silver-coated alloy powder>
Next, a method for producing the silver-coated alloy powder of the present invention will be described.

(合金コア粒子の製造方法)
まず合金コア粒子の製造方法について説明する。本発明では、好ましくは合金コア粒子は水アトマイズ法により製造する。銅及びニッケルを溶解した溶湯をタンディッシュから落下させながら、所定の水圧の高圧水を吹き付けて溶湯を急冷凝固させることで、合金コア粒子を製造することができる。なお、銅−ニッケル合金と銅を溶解することもできる。
(Manufacturing method of alloy core particles)
First, a method for producing alloy core particles will be described. In the present invention, the alloy core particles are preferably produced by a water atomizing method. Alloy core particles can be produced by rapidly cooling and solidifying the molten metal by spraying high-pressure water having a predetermined water pressure while dropping the molten metal in which copper and nickel are dissolved from the tundish. It is also possible to dissolve copper-nickel alloy and copper.

上記溶湯の温度は好ましくは1100〜1700℃であり、より好ましくは1200〜1700℃である。溶湯の温度を高くすると、粒子径の小さい合金コア粒子が得られる傾向にあり、これを銀被覆することで、粒子径の小さな銀被覆合金粉末を製造することができる。 The temperature of the molten metal is preferably 1100 to 1700 ° C, more preferably 1200 to 1700 ° C. When the temperature of the molten metal is raised, alloy core particles having a small particle size tend to be obtained, and by coating the alloy core particles with silver, a silver-coated alloy powder having a small particle size can be produced.

水アトマイズは大気中や、アルゴン、窒素、一酸化炭素、水素などの非酸化性雰囲気中において実施することができる。非酸化性雰囲気で水アトマイズを実施すると、酸化を受けやすい銅の酸化を防止することができると考えられる。また、溶湯の調製も、大気中で行っても非酸化性雰囲気中で行ってもよい。さらに、合金コア粒子中の酸素量を低下させるために、溶湯にカーボンブラックや木炭などの還元剤を添加してもよい。 Water atomization can be carried out in the atmosphere or in a non-oxidizing atmosphere such as argon, nitrogen, carbon monoxide, or hydrogen. It is considered that water atomization in a non-oxidizing atmosphere can prevent the oxidation of copper, which is susceptible to oxidation. Further, the molten metal may be prepared in the atmosphere or in a non-oxidizing atmosphere. Further, in order to reduce the amount of oxygen in the alloy core particles, a reducing agent such as carbon black or charcoal may be added to the molten metal.

水アトマイズに使用する高圧水の水圧は好ましくは30〜200MPaであり、水圧を高くすると粒子径の小さい合金コア粒子を得ることができる。また高圧水としては純水、(pH5.0〜6.5程度の)弱酸性水や(pH8〜12程度の)アルカリ水を使用することができる。 The water pressure of the high-pressure water used for water atomization is preferably 30 to 200 MPa, and when the water pressure is increased, alloy core particles having a small particle size can be obtained. Further, as the high-pressure water, pure water, weakly acidic water (pH about 5.0 to 6.5) or alkaline water (pH about 8 to 12) can be used.

水アトマイズ法によって溶湯から合金コア粒子を製造する際に、溶湯中の各構成金属の仕込み量(あるいは銅−ニッケル合金と銅の仕込み量)を調整することによって、合金コア粒子中の銅及びニッケルの割合を調整することができる。 When alloy core particles are produced from molten metal by the water atomization method, copper and nickel in the alloy core particles are adjusted by adjusting the amount of each constituent metal charged in the molten metal (or the amount of copper-nickel alloy and copper charged). The ratio of can be adjusted.

また、溶湯を落下させながら高圧水を吹き付けて急冷凝固させることで、水中に合金コア粒子が分散したスラリーが得られるが、これを固液分離し、得られた固形物を乾燥して合金コア粒子を得ることができる。なお、必要に応じて、固液分離して得られた固形物を乾燥する前に水洗してもよいし、乾燥した後に解砕したり、分級して粒度を調整してもよい。 Further, by spraying high-pressure water while dropping the molten metal to quench and solidify it, a slurry in which alloy core particles are dispersed in water can be obtained. This is solid-liquid separated, and the obtained solid material is dried to dry the alloy core. Particles can be obtained. If necessary, the solid matter obtained by solid-liquid separation may be washed with water before drying, crushed after drying, or classified to adjust the particle size.

(酸素低減処理による酸素の除去)
本実施形態においては、上記のように作製した合金コア粒子の粉末に対し、酸素低減処理を行う。この酸素低減処理は、合金コア粒子の表面の酸素(代表的には酸化膜の形態で存在する)の少なくとも一部を除去するためのものである。この酸素低減処理を行うことにより、後述の実施例の項目が示すように、より少ない層構成でありながら半田濡れ性及び半田食われ耐性に優れた外部電極(更には導電性に優れた外部電極)を形成可能な導電性ペーストに利用可能な金属粉末を実現できる。
(Removal of oxygen by oxygen reduction treatment)
In the present embodiment, the powder of the alloy core particles produced as described above is subjected to oxygen reduction treatment. This oxygen reduction treatment is for removing at least a part of oxygen (typically existing in the form of an oxide film) on the surface of the alloy core particles. By performing this oxygen reduction treatment, as shown in the items of Examples described later, an external electrode having excellent solder wettability and solder biting resistance (further, an external electrode having excellent conductivity) while having a smaller layer structure. ) Can be realized as a metal powder that can be used as a conductive paste.

なお、その理由としては、推察ではあるが以下のものが考えられる。
まず、後述の比較例1が示すように、酸素低減処理を行わない場合、銀被覆合金粉末における半田濡れ性は良好ではない。これは、銀被覆合金粉末においては合金コア粒子に対して銀(半田濡れ性に優れる)による被覆が十分に行われていないことによるのではないかと推察される。
その一方、合金コア粒子の粉末を酸素低減処理することにより、合金コア粒子の表面に存在する酸素の少なくとも一部を除去することが可能となる。そうすることにより、合金コア粒子の表面に存在する酸素によって銀被覆が阻害されにくくなり、銀被覆がより良好に行われ、結果として銀被覆合金粉末における半田濡れ性、更には半田食われ耐性が向上するのではないかと考えられる。
The reason for this is speculated, but the following can be considered.
First, as shown in Comparative Example 1 described later, the solder wettability of the silver-coated alloy powder is not good when the oxygen reduction treatment is not performed. It is presumed that this is because the alloy core particles are not sufficiently coated with silver (excellent in solder wettability) in the silver-coated alloy powder.
On the other hand, by performing oxygen reduction treatment on the powder of the alloy core particles, it is possible to remove at least a part of oxygen existing on the surface of the alloy core particles. By doing so, the silver coating is less likely to be hindered by the oxygen present on the surface of the alloy core particles, and the silver coating is performed better, resulting in solder wettability and solder bite resistance in the silver coated alloy powder. It is thought that it will improve.

また、後述の実施例2が示すように、銀による被覆が行われる前の合金コア粒子に対して酸素低減処理を行うのみならず、銀による被覆が行われた後の銀被覆合金粉末に対して上記の酸素低減処理を行った場合にも本発明の効果を奏する。以下においては合金コア粒子の粉末を酸素低減処理する例について述べる。 Further, as shown in Example 2 described later, not only the alloy core particles before being coated with silver are subjected to oxygen reduction treatment, but also the silver-coated alloy powder after being coated with silver is subjected to oxygen reduction treatment. The effect of the present invention is also obtained when the above oxygen reduction treatment is performed. In the following, an example of oxygen reduction treatment of alloy core particle powder will be described.

ここでの酸素低減処理の具体的な手法としては、合金コア粒子又は銀被覆合金粉末の表面の酸素の少なくとも一部を除去可能な処理であれば公知の手法を採用することができる。例えば水素を含む雰囲気における水素還元処理、他の気体(例えば一酸化炭素)を用いた還元処理、更には酸性液体を用いた酸洗等を適用しても構わないが、合金コア粒子又は銀被覆合金粉末の変質を抑えるという観点から見ると気体を用いた還元処理が好ましく、炭素を含有させないという観点から見ると水素還元処理を行うのが好ましい。 As a specific method of the oxygen reduction treatment here, a known method can be adopted as long as it is a treatment capable of removing at least a part of oxygen on the surface of the alloy core particles or the silver-coated alloy powder. For example, hydrogen reduction treatment in an atmosphere containing hydrogen, reduction treatment using another gas (for example, carbon monoxide), pickling using an acidic liquid, etc. may be applied, but alloy core particles or silver coating may be applied. From the viewpoint of suppressing deterioration of the alloy powder, the reduction treatment using a gas is preferable, and from the viewpoint of not containing carbon, the hydrogen reduction treatment is preferable.

(銀による被覆)
上記のようにして酸素低減処理した合金コア粒子の表面に銀を含む被覆層(銀被覆層)を形成する。この被覆層を形成する方法として、合金コア粒子の構成金属と銀の置換反応を利用した置換法や、還元剤を用いる還元法により、合金コア粒子の表面に銀または銀化合物を析出させる方法を使用することができる。上記置換法では、例えば、溶媒中に合金コア粒子と銀または銀化合物を含む溶液を攪拌することで、合金コア粒子の表面に銀または銀化合物を析出させる方法を採用できる。さらに、溶媒中に合金コア粒子および有機物(例えば後述のキレート化剤)を含む溶液と、溶媒中に銀または銀化合物および有機物(例えば後述のキレート化剤)を含む溶液とを混合して攪拌することで、合金コア粒子の表面に銀または銀化合物を析出させる方法を採用できる。
(Covered with silver)
A coating layer (silver coating layer) containing silver is formed on the surface of the alloy core particles subjected to the oxygen reduction treatment as described above. As a method for forming this coating layer, a method of precipitating silver or a silver compound on the surface of the alloy core particles by a substitution method using a substitution reaction between a constituent metal of the alloy core particles and silver or a reduction method using a reducing agent is used. Can be used. In the above substitution method, for example, a method of precipitating silver or a silver compound on the surface of the alloy core particles by stirring a solution containing the alloy core particles and silver or a silver compound in a solvent can be adopted. Further, a solution containing alloy core particles and an organic substance (for example, a chelating agent described later) in a solvent and a solution containing silver or a silver compound and an organic substance (for example, a chelating agent described later) in the solvent are mixed and stirred. Therefore, a method of precipitating silver or a silver compound on the surface of the alloy core particles can be adopted.

置換法や還元法に使用する溶媒としては、水、有機溶媒またはこれらを混合した溶媒を使用することができる。水と有機溶媒を混合した溶媒を使用する場合には、室温(20〜30℃)において液体になる有機溶媒を使用する必要があるが、水と有機溶媒の混合比率は、使用する有機溶媒により適宜調整することができる。また、溶媒として使用する水は、不純物が混入するおそれがなければ、蒸留水、イオン交換水、工業用水などを使用することができる。 As the solvent used in the substitution method or the reduction method, water, an organic solvent, or a solvent obtained by mixing these can be used. When using a solvent in which water and an organic solvent are mixed, it is necessary to use an organic solvent that becomes liquid at room temperature (20 to 30 ° C.), but the mixing ratio of water and the organic solvent depends on the organic solvent used. It can be adjusted as appropriate. Further, as the water used as the solvent, distilled water, ion-exchanged water, industrial water and the like can be used as long as there is no risk of impurities being mixed.

銀被覆層(銀または銀化合物からなる被覆層)の原料として、銀イオンを溶液中に存在させる必要があるため、水や多くの有機溶媒に対して高い溶解度を有する硝酸銀を使用するのが好ましい。また、銀被覆反応をできるだけ均一に行うために、固体の硝酸銀ではなく、硝酸銀を溶媒(水、有機溶媒またはこれらを混合した溶媒)に溶解した硝酸銀溶液を使用するのが好ましい。なお、使用する硝酸銀溶液の量、硝酸銀溶液中の硝酸銀の濃度および有機溶媒の量は、目的とする銀被覆層の量に応じて決定することができる。 Since silver ions need to be present in the solution as a raw material for the silver coating layer (coating layer composed of silver or a silver compound), it is preferable to use silver nitrate having high solubility in water and many organic solvents. .. Further, in order to carry out the silver coating reaction as uniformly as possible, it is preferable to use a silver nitrate solution in which silver nitrate is dissolved in a solvent (water, an organic solvent or a solvent obtained by mixing them) instead of solid silver nitrate. The amount of the silver nitrate solution to be used, the concentration of silver nitrate in the silver nitrate solution, and the amount of the organic solvent can be determined according to the amount of the target silver coating layer.

銀被覆層をより均一に形成するために、溶液中にキレート化剤を添加してもよい。キレート化剤としては、銀イオンと合金コア粒子との置換反応により副生成する銅イオンなどが再析出しないように、銅イオンなどに対して錯安定度定数が高いキレート化剤を使用するのが好ましい。特に、銀被覆合金粉末の合金コア粒子は主構成要素として銅を含んでいるので、銅との錯安定度定数に留意してキレート化剤を選択するのが好ましい。具体的には、キレート化剤として、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、イミノジ酢酸、ジエチレントリアミン、トリエチレンジアミンおよびこれらの塩からなる群から選ばれたキレート化剤を使用することができる。 A chelating agent may be added to the solution to form the silver coating layer more uniformly. As the chelating agent, it is recommended to use a chelating agent having a high complex stability constant with respect to copper ions, etc., so that copper ions, etc., which are by-produced by the substitution reaction between silver ions and alloy core particles, do not reprecipitate. preferable. In particular, since the alloy core particles of the silver-coated alloy powder contain copper as a main component, it is preferable to select the chelating agent while paying attention to the illusion stability constant with copper. Specifically, as the chelating agent, a chelating agent selected from the group consisting of ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA), iminodiacetic acid, diethylenetriamine, triethylenediamine and salts thereof can be used.

銀被覆反応を安定かつ安全に行うために、溶液中にpH緩衝剤を添加してもよい。このpH緩衝剤として、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、アンモニア水、炭酸水素ナトリウムなどを使用することができる。 A pH buffer may be added to the solution in order to carry out the silver coating reaction stably and safely. As this pH buffering agent, ammonium carbonate, ammonium hydrogencarbonate, aqueous ammonia, sodium hydrogencarbonate and the like can be used.

銀被覆反応の際には、銀塩を添加する前に溶液中に合金コア粒子を入れて攪拌し、合金コア粒子が溶液中に十分に分散している状態で、銀塩を含む溶液を添加するのが好ましい。この銀被覆反応の際の反応温度は、反応液が凝固または蒸発する温度でなければよいが、好ましくは15〜80℃、さらに好ましくは20〜75℃、最も好ましくは20〜70℃の範囲で設定する。また、反応時間は、銀または銀化合物の被覆量や反応温度によって異なるが、1分〜5時間の範囲で設定することができる。
例えば以上説明したようにして銀被覆反応を実施して銀被覆合金粉末を得た後、上述のように酸素低減処理を施してもよい。
In the silver coating reaction, the alloy core particles are put into the solution and stirred before adding the silver salt, and the solution containing the silver salt is added in a state where the alloy core particles are sufficiently dispersed in the solution. It is preferable to do. The reaction temperature during this silver coating reaction may not be the temperature at which the reaction solution solidifies or evaporates, but is preferably in the range of 15 to 80 ° C, more preferably 20 to 75 ° C, and most preferably 20 to 70 ° C. Set. The reaction time varies depending on the coating amount of silver or the silver compound and the reaction temperature, but can be set in the range of 1 minute to 5 hours.
For example, after the silver coating reaction is carried out as described above to obtain a silver coated alloy powder, the oxygen reduction treatment may be performed as described above.

(表面処理)
本発明の銀被覆合金粉末には、前述のとおり外部電極の導電性を向上させるなどのために、表面処理を施してもよい。表面処理は銀含有層で被覆した合金粉末と表面処理剤とを混合して行ってもよいし、銀含有層で被覆した合金粉末のスラリーに表面処理剤を添加、混合して行ってもよい。
(surface treatment)
As described above, the silver-coated alloy powder of the present invention may be surface-treated in order to improve the conductivity of the external electrode. The surface treatment may be performed by mixing the alloy powder coated with the silver-containing layer and the surface treatment agent, or by adding and mixing the surface treatment agent to the slurry of the alloy powder coated with the silver-containing layer. ..

[導電性ペースト]
次に、本発明の銀被覆合金粉末を含む、導電性ペーストについて説明する。当該導電性ペーストは上記銀被覆合金粉末に加えて硬化性樹脂を含む。導電性ペースト(中の硬化性樹脂)を硬化させて形成される導電膜は半田濡れ性及び半田食われ耐性に優れており、さらに導電性にも優れているので、(半田接続される)外部電極の形成材料として好適である。また本発明の導電性ペーストは、その他の電極、回路、接合層等の形成に用いることができる。
[Conductive paste]
Next, the conductive paste containing the silver-coated alloy powder of the present invention will be described. The conductive paste contains a curable resin in addition to the silver-coated alloy powder. The conductive film formed by curing the conductive paste (curable resin inside) has excellent solder wettability and solder biting resistance, and also has excellent conductivity, so that it is external (solder-connected). It is suitable as a material for forming an electrode. Further, the conductive paste of the present invention can be used for forming other electrodes, circuits, bonding layers and the like.

本発明の導電性ペーストにおいては、本発明の銀被覆合金粉末に該当する、粒径や形状その他の点で種類の異なる2種以上の銀被覆合金粉末を組み合わせて使用してもよい。導電性ペーストにおける銀被覆合金粉末の含有量は、適切な半田濡れ性、半田食われ耐性及び導電性を有する外部電極とする観点から、好ましくは50〜98質量%であり、より好ましくは70〜97質量%である。 In the conductive paste of the present invention, two or more kinds of silver-coated alloy powders having different types in terms of particle size, shape and other points, which correspond to the silver-coated alloy powder of the present invention, may be used in combination. The content of the silver-coated alloy powder in the conductive paste is preferably 50 to 98% by mass, more preferably 70 to 70, from the viewpoint of obtaining an external electrode having appropriate solder wettability, solder biting resistance and conductivity. It is 97% by mass.

導電性ペーストに使用される硬化性樹脂には熱硬化性樹脂と光硬化性樹脂がある。
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリイミド樹脂、マレイミド樹脂、ジアリルフタレート樹脂、オキセタン樹脂及び(メタ)アクリル樹脂が挙げられる。
光硬化性樹脂は、光により架橋反応を起こす不飽和結合を1分子中に1つ以上有する樹脂であればよく、その具体例としては、(メタ)アクリル樹脂、マレイン酸樹脂、無水マレイン酸樹脂、ポリブタジエン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、アルキド系樹脂、アミノ系樹脂、ポリ乳酸樹脂、オキサゾリン樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、シリコーン樹脂及びフッ素樹脂が挙げられる。
The curable resin used for the conductive paste includes a thermosetting resin and a photocurable resin.
Examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, silicone resin, polyurethane resin, polyvinyl butyral resin, polyimide resin, maleimide resin, diallyl phthalate resin, oxetane resin and (meth). Acrylic resin can be mentioned.
The photocurable resin may be a resin having at least one unsaturated bond in one molecule that causes a cross-linking reaction by light, and specific examples thereof include (meth) acrylic resin, maleic acid resin, and maleic anhydride resin. , Polybutadiene resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, oxetane resin, phenol resin, polyimide resin, polyamide resin, alkyd resin, amino resin, polylactic acid resin, oxazoline resin, benzoxazine resin, silicone resin and fluorine. Resin is mentioned.

これらの硬化性樹脂は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。また、導電性ペースト中の硬化性樹脂の含有割合は、十分に硬化して外部電極を形成し、同時に半田濡れ性、半田食われ耐性及び導電性を適切に発現する観点から、好ましくは0.5〜49質量%であり、より好ましくは1〜29質量%である。 These curable resins can be used alone or in combination of two or more. Further, the content ratio of the curable resin in the conductive paste is preferably 0. From the viewpoint of sufficiently curing to form an external electrode and at the same time appropriately exhibiting solder wettability, solder biting resistance and conductivity. It is 5 to 49% by mass, more preferably 1 to 29% by mass.

本発明の導電性ペーストには、求められる特性に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、銅粉、銀粉、アルミニウム粉、ニッケル粉、亜鉛粉、錫粉、ビスマス粉及びリン粉などの、本発明の銀被覆合金粉末以外の金属粉末を添加してもよい。導電性ペースト中の上記金属粉末の含有量は、好ましくは1〜48質量%であり、より好ましくは1〜28質量%である。また、上記金属粉末は、1種単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 The conductive paste of the present invention may contain copper powder, silver powder, aluminum powder, nickel powder, zinc powder, tin powder, bismuth powder, phosphorus powder, etc., depending on the required properties, as long as the effects of the present invention are not impaired. , Metal powders other than the silver-coated alloy powder of the present invention may be added. The content of the metal powder in the conductive paste is preferably 1 to 48% by mass, more preferably 1 to 28% by mass. Further, the metal powder may be used alone or in combination of two or more.

本発明の導電性ペースト中における、銀被覆合金粉末と金属粉末の合計含有量は、適切な半田濡れ性、半田食われ耐性及び導電性を発揮する観点から、好ましくは51〜99質量%であり、より好ましくは71〜98質量%である。 The total content of the silver-coated alloy powder and the metal powder in the conductive paste of the present invention is preferably 51 to 99% by mass from the viewpoint of exhibiting appropriate solder wettability, solder biting resistance and conductivity. , More preferably 71 to 98% by mass.

本発明の導電性ペーストには、当該ペーストを加熱により硬化させる場合、硬化させるため又は硬化を促進するため、熱重合開始剤を添加してもよい。熱重合開始剤としては、例えば、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、パーオキシエステル、ジアシルパーオキサイド、パーオキシカーボネート、パーオキシケタール、又はケトンパーオキサイドが挙げられる。これらの熱重合開始剤は、1種単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 When the paste is cured by heating, a thermal polymerization initiator may be added to the conductive paste of the present invention in order to cure or accelerate the curing. Examples of the thermal polymerization initiator include hydroperoxides, dialkyl peroxides, peroxyesters, diacyl peroxides, peroxycarbonates, peroxyketals, and ketone peroxides. These thermal polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

また、硬化を促進するため、ポリアミン、酸無水物、三ハロゲン化ホウ素化合物、三ハロゲン化ホウ素化合物のアミン錯塩、イミダゾール化合物、芳香族ジアミン系化合物、カルボン酸系化合物などの硬化剤を添加してもよい。これらは1種単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 Further, in order to accelerate curing, a curing agent such as a polyamine, an acid anhydride, a boron trihalogenated compound, an amine complex salt of a boron trihalogenated compound, an imidazole compound, an aromatic diamine compound, or a carboxylic acid compound is added. May be good. These may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明の導電性ペーストを光重合させる場合には、導電性ペースト中に光重合開始剤を含有させる。光重合開始剤としては、通常、光ラジカル発生剤や光カチオン重合開始剤が用いられる。これらの光重合開始剤は1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。 Further, when the conductive paste of the present invention is photopolymerized, a photopolymerization initiator is contained in the conductive paste. As the photopolymerization initiator, a photoradical generator or a photocationic polymerization initiator is usually used. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

上記光ラジカル発生剤としては、この用途に用い得ることが知られている公知の化合物を用いることができる。例えば、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,6−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、または2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホシフィンオキシド等が使用可能である。 As the photoradical generator, a known compound known to be usable for this purpose can be used. For example, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin propyl ether, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylhosiphin oxide and the like can be used. Is.

上記光カチオン重合開始剤とは、紫外線や電子線などの放射線の照射によりカチオン重合を開始させる化合物であり、その例として、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩及び芳香族アンモニウム塩が挙げられる。 The photocationic polymerization initiator is a compound that initiates cationic polymerization by irradiation with radiation such as ultraviolet rays or electron beams, and examples thereof include aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, aromatic diazonium salts, and aromatic ammonium salts. Salt is mentioned.

さらに、光カチオン重合開始剤の他にも、重合性モノマーを硬化させるための硬化剤を導電性ペーストに添加してもよい。硬化剤としては、例えば、アミン化合物、アミン化合物から合成されるポリアミノアミド化合物等の化合物、3級アミン化合物、イミダゾール化合物、ヒドラジド化合物、メラミン化合物、酸無水物、フェノール化合物、熱潜在性カチオン重合触媒、ジシアンアミド及びその誘導体が挙げられる。 Further, in addition to the photocationic polymerization initiator, a curing agent for curing the polymerizable monomer may be added to the conductive paste. Examples of the curing agent include amine compounds, compounds such as polyaminoamide compounds synthesized from amine compounds, tertiary amine compounds, imidazole compounds, hydrazide compounds, melamine compounds, acid anhydrides, phenol compounds, and thermal latent cationic polymerization catalysts. , Dicianamide and derivatives thereof.

また、導電性ペーストに光増感剤を添加することもできる。光増感剤の具体例としては、ピレン、ペリレン、アクリジンオレンジ、チオキサントン、2−クロロチオキサントンおよびベンゾフラビンが挙げられる。 It is also possible to add a photosensitizer to the conductive paste. Specific examples of the photosensitizer include pyrene, perylene, acridine orange, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone and benzoflavin.

さらに、本発明の導電性ペーストには、必要に応じて、エチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、ロジン、フェノキシ樹脂、ポリアセタール樹脂などの熱可塑性樹脂を添加することができる。これらの熱可塑性樹脂は、1種単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 Further, a thermoplastic resin such as ethyl cellulose, ethyl hydroxyethyl cellulose, rosin, phenoxy resin, or polyacetal resin can be added to the conductive paste of the present invention, if necessary. These thermoplastic resins may be used alone or in combination of two or more.

本発明の導電性ペーストには、必要に応じて、界面活性剤、分散剤、安定化剤、可塑剤や、金属酸化物粉末などの添加剤を添加してもよい。 If necessary, additives such as surfactants, dispersants, stabilizers, plasticizers, and metal oxide powders may be added to the conductive paste of the present invention.

以上説明した導電性ペーストの調製方法は特に制限されるものではないが、例えば、各構成要素を計量して所定の容器に入れ、混練脱泡機、らいかい機、万能攪拌機、ニーダーなどを用いて予備混練した後、3本ロールで本混練することによって調製することができる。また、必要に応じて、その後、有機溶剤(例えばテキサノール(2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール2−メチルプロパノアート)、ターピネオール、カルビトールアセテート(ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート)、エチレングリコール、ジブチルアセテート又はジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート)を添加して、粘度調整を行ってもよい。 The method for preparing the conductive paste described above is not particularly limited, but for example, each component is weighed and placed in a predetermined container, and a kneading defoaming machine, a frothing machine, a universal stirrer, a kneader, or the like is used. It can be prepared by pre-kneading and then main-kneading with three rolls. Also, if necessary, then organic solvents (eg, texanol (2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol 2-methylpropanolate), tarpineol, carbitol acetate (diethylene glycol monoethyl ether acetate), etc. Ethylene glycol, dibutyl acetate or diethylene glycol monobutyl ether acetate) may be added to adjust the viscosity.

本発明の導電性ペーストのE型粘度計により測定した25℃における粘度は、導電性ペーストの印刷性等の観点から、80〜200Pa・sであることが好ましい。 The viscosity of the conductive paste of the present invention at 25 ° C. measured by an E-type viscometer is preferably 80 to 200 Pa · s from the viewpoint of printability of the conductive paste.

[電子部品]
次に、本発明の導電性ペーストを利用して製造できる電子部品について説明する。電子部品は、外部電極を有するものであれば、特に限定されるものではない。その中でも、外部電極を有し、半田により他の電気素子と接続されるものであればなお良い。その具体例として、コンデンサ(例えば積層セラミックコンデンサー:MLCC(Multi-Layered Ceramic Capacitor))、キャパシタ、インダクタ、積層配線板(例えばプリント配線基板)、圧電体素子、バリスタ、サーミスタ及び抵抗が挙げられる。また、半導体チップなども挙げられる。
[Electronic components]
Next, an electronic component that can be manufactured by using the conductive paste of the present invention will be described. The electronic component is not particularly limited as long as it has an external electrode. Among them, it is more preferable that the device has an external electrode and is connected to another electric element by soldering. Specific examples thereof include capacitors (for example, multilayer ceramic capacitors: MLCC (Multi-Layered Ceramic Capacitor)), capacitors, inductors, laminated wiring boards (for example, printed wiring boards), piezoelectric elements, varistor, thermistors and resistors. In addition, semiconductor chips and the like can also be mentioned.

本発明の導電性ペーストは、電子部品を構成する部材の外部電極を形成すべき個所に塗布され、硬化性樹脂が硬化する条件で処理することにより、外部電極となる。導電性ペーストは、例えばディッピングや、スクリーン印刷及び転写捺染などの印刷方法により塗布される。電子部品を構成する部材は、例えば電子部品がコンデンサやキャパシタであれば、誘電体層と極性の異なる内部電極層とが交互に積層されてなる積層体の構成であり、この積層体の、内部電極層が交互に引き出される両端部に外部電極が形成される。 The conductive paste of the present invention is applied to a place where an external electrode of a member constituting an electronic component should be formed, and is treated under the condition that the curable resin is cured to become an external electrode. The conductive paste is applied by a printing method such as dipping, screen printing and transfer printing. For example, if the electronic component is a capacitor or a capacitor, the member constituting the electronic component is composed of a laminated body in which a dielectric layer and an internal electrode layer having different polarities are alternately laminated, and the inside of the laminated body. External electrodes are formed at both ends from which the electrode layers are alternately drawn out.

塗布された導電性ペーストについて、例えば熱硬化させる場合には、好ましくは100〜300℃、より好ましくは120〜250℃、さらに好ましくは150〜220℃の温度で、好ましくは10〜120分、より好ましくは15〜90分、さらに好ましくは20〜60分間加熱される。 For the coated conductive paste, for example, in the case of thermosetting, the temperature is preferably 100 to 300 ° C, more preferably 120 to 250 ° C, still more preferably 150 to 220 ° C, preferably 10 to 120 minutes. It is preferably heated for 15 to 90 minutes, more preferably 20 to 60 minutes.

導電性ペーストを光硬化させる場合には、硬化に際して照射する放射線の量は、光重合開始剤がラジカルを発生させる範囲であれば任意であるが、硬化性樹脂の組成及び光重合開始剤の種類及び量に応じて、波長200〜450nmの紫外線を、好ましくは0.1〜200J/cmの範囲で照射する。放射線は、複数回に分割して照射してもよい。なお、使用する光源ランプの具体例としては、メタルハライドランプ、高圧水銀灯ランプ、紫外線LEDランプがある。なお、重合をすみやかに完了させる目的で、上述したような光重合と熱重合を同時に行ってもよい。 When the conductive paste is photocured, the amount of radiation irradiated during curing is arbitrary as long as the photopolymerization initiator generates radicals, but the composition of the curable resin and the type of photopolymerization initiator And, depending on the amount, ultraviolet rays having a wavelength of 200 to 450 nm are irradiated, preferably in the range of 0.1 to 200 J / cm 2. The radiation may be divided into a plurality of times and irradiated. Specific examples of the light source lamp to be used include a metal halide lamp, a high-pressure mercury lamp, and an ultraviolet LED lamp. In addition, for the purpose of promptly completing the polymerization, the photopolymerization and the thermal polymerization as described above may be carried out at the same time.

以上説明した熱硬化又は光硬化により導電性ペースト中の硬化性樹脂を硬化させると、当該樹脂は硬化物を形成し、内部に含まれる銀被覆合金粉末は樹脂の硬化収縮により互いに接触して導通するようになり、外部電極となる。なお、導電性ペースト中に有機溶剤などの揮発性物質が含まれている場合には、硬化反応においてその少なくとも一部が揮散する。以上のようにして、外部電極を備える電子部品が得られる。 When the curable resin in the conductive paste is cured by the thermosetting or photocuring described above, the resin forms a cured product, and the silver-coated alloy powder contained therein is in contact with each other due to the curing shrinkage of the resin and conducts. And becomes an external electrode. When the conductive paste contains a volatile substance such as an organic solvent, at least a part of the volatile substance is volatilized in the curing reaction. As described above, an electronic component provided with an external electrode can be obtained.

形成された外部電極において、銀被覆合金粉末及び硬化性樹脂(の硬化物)の合計における銀被覆合金粉末の割合は、導電性ペーストにおける割合とほぼ同様であり、好ましくは60〜99質量%であり、より好ましくは70〜97質量%である。同様に、外部電極において、上記の合計における硬化性樹脂(の硬化物)の割合は、好ましくは1〜40質量%であり、より好ましくは3〜30質量%である。 In the formed external electrode, the ratio of the silver-coated alloy powder to the total of the silver-coated alloy powder and the curable resin (cured product) is almost the same as the ratio in the conductive paste, preferably 60 to 99% by mass. Yes, more preferably 70-97% by mass. Similarly, in the external electrode, the ratio of the curable resin (cured product) in the above total is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 3 to 30% by mass.

外部電極の、半田と接することになる表面には銀被覆合金粉末が多く存在すると考えられる。前記銀被覆合金粉末はO/Smが所定の範囲にあり、その製造において合金コア粒子に酸素低減処理を施した場合はこの銀被覆合金粉末においては銀被覆が良好になされているものと考えられ、銀被覆合金粉末に対して酸素低減処理を施した場合には理由は不明であるが、外部電極は半田濡れ性に優れる。さらに銀被覆層の内部の合金コア粒子は半田食われ耐性に優れているため、半田食われ現象によって表面の銀被覆層が食われても、合金コア粒子の部分で一定程度止められるものと考えられ、外部電極は半田食われ耐性に優れている。さらに外部電極は、銀被覆層や合金コア粒子の銅の存在により、導電性にも優れている。
このため、半田濡れ性を定量表記する場合、前記外部電極をフラックスに浸漬させた後、260℃の鉛フリーはんだ(Sn96.5Ag3Cu0.5の金属組成を有する)槽に1秒浸漬させ、次いで前記外部電極を引き上げ、レーザー式顕微鏡を用いて観察したとき、外部電極上面全体のうち、65面積%以上にはんだが付着しているのが好ましい。また、半田食われ耐性を定量表記する場合、前記外部電極をフラックスに浸漬させた後、260℃の鉛フリーはんだ(Sn96.5Ag3Cu0.5の金属組成を有する)槽に30秒浸漬させ、次いで前記外部電極を引き上げ、レーザー式顕微鏡を用いて観察したとき、外部電極上面全体のうち、60面積%以上にはんだが付着しているのが好ましい。これらのより詳細な観察方法は実施例にて説明する。
It is considered that a large amount of silver-coated alloy powder is present on the surface of the external electrode that comes into contact with the solder. The silver-coated alloy powder has an O / Sm in a predetermined range, and when the alloy core particles are subjected to oxygen reduction treatment in the production thereof, it is considered that the silver-coated alloy powder has a good silver coating. Although the reason is unknown when the silver-coated alloy powder is subjected to the oxygen reduction treatment, the external electrode has excellent solder wettability. Furthermore, since the alloy core particles inside the silver coating layer have excellent resistance to solder biting, it is considered that even if the silver coating layer on the surface is eaten by the solder biting phenomenon, it can be stopped to some extent by the alloy core particles. The external electrode is solder-eating and has excellent resistance. Further, the external electrode is also excellent in conductivity due to the presence of the silver coating layer and the copper of the alloy core particles.
Therefore, when the solder wettability is quantitatively expressed, the external electrode is immersed in a flux, then immersed in a lead-free solder (having a metal composition of Sn96.5Ag3Cu0.5) at 260 ° C. for 1 second, and then the above-mentioned. When the external electrode is pulled up and observed using a laser microscope, it is preferable that solder adheres to 65 area% or more of the entire upper surface of the external electrode. When the solder biting resistance is quantitatively expressed, the external electrode is immersed in a flux, then immersed in a lead-free solder (having a metal composition of Sn96.5Ag3Cu0.5) at 260 ° C. for 30 seconds, and then the above-mentioned. When the external electrode is pulled up and observed using a laser microscope, it is preferable that solder adheres to 60 area% or more of the entire upper surface of the external electrode. These more detailed observation methods will be described in Examples.

[電子機器]
本発明の電子部品が備える外部電極は、上述の通り半田濡れ性、半田食われ耐性及び導電性に優れているため、他の電気素子と良好に半田接続することができる。本発明の電子機器は、基板と、基板上に形成された電気素子と、基板上に実装された電子部品と、上記電子部品及び電気素子を接続する半田部材とを備える構成であり、必要に応じてその他の部材や素子を備えてもよい。なお、上記電子機器としてはMLCC,MLCI、無線ICタグ等が挙げられる。また、上記電気素子としては、例えば配線、リード、端子、アンテナ回路のような電気回路及び電極が挙げられる。
[Electronics]
As described above, the external electrode included in the electronic component of the present invention is excellent in solder wettability, solder bite resistance, and conductivity, so that it can be satisfactorily solder-connected to other electric elements. The electronic device of the present invention has a configuration including a substrate, an electric element formed on the substrate, an electronic component mounted on the substrate, and a solder member connecting the electronic component and the electric element, and is necessary. Other members and elements may be provided accordingly. Examples of the electronic device include MLCC, MLCI, wireless IC tag, and the like. Further, examples of the electric element include electric circuits and electrodes such as wirings, leads, terminals, and antenna circuits.

電気素子は基板上に直接形成されてもよいし、例えば電気素子と基板との密着性を高めるための中間層を介して形成されていてもよい。電子部品は通常、半田部材によって電気素子に接続されることで、基板上に実装される。 The electric element may be formed directly on the substrate, or may be formed, for example, via an intermediate layer for enhancing the adhesion between the electric element and the substrate. Electronic components are usually mounted on a substrate by being connected to an electrical element by a solder member.

上記基板は特に制限されるものではないが、紙フェノール基板、紙エポキシ基板、ガラスエポキシ基板、ポリマーフィルム、ガラス基板又はセラミック基板(低温焼成セラミック基板を含む)であることが好ましい。 The substrate is not particularly limited, but is preferably a paper phenol substrate, a paper epoxy substrate, a glass epoxy substrate, a polymer film, a glass substrate or a ceramic substrate (including a low temperature co-fired ceramic substrate).

上記半田部材の材質は特に制限されるものではないが、例えば半田部材は、錫、鉛、銀、銅、亜鉛、ビスマス、インジウム及びアルミニウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属を含む。また、近年環境負荷の問題から鉛フリーの半田が望ましいとされていることから、半田部材は鉛を実質的に含まないことが好ましい。鉛フリーの半田部材としては、Sn/Ag/Cu半田、Sn/Zn/Bi半田、Sn/Cu半田、Sn/Ag/In/Bi半田やSn/Zn/Al半田が挙げられる。 The material of the solder member is not particularly limited, but for example, the solder member includes at least one metal selected from the group consisting of tin, lead, silver, copper, zinc, bismuth, indium and aluminum. Further, since lead-free solder is desirable in recent years due to the problem of environmental load, it is preferable that the solder member does not substantially contain lead. Examples of the lead-free solder member include Sn / Ag / Cu solder, Sn / Zn / Bi solder, Sn / Cu solder, Sn / Ag / In / Bi solder, and Sn / Zn / Al solder.

このような半田を含む半田ペーストを、例えば電気素子上に印刷し、電子部品を印刷された半田ペースト上に配置する(電気素子及び電子部品に対しては、必要に応じてフラックス洗浄を行ってもよいし、半田ペーストにフラックスを含有させてもよい)。そしてリフロープロセスにより200〜350℃程度の温度で加熱することで、半田が溶融し、電気素子と電子部品とが電気的及び物理的に接続される。このようにして本発明の電子機器が製造され、必要に応じてその他の部材や素子を基板上に形成ないし実装することが行われる。 A solder paste containing such solder is printed on, for example, an electric element, and electronic components are placed on the printed solder paste (electric elements and electronic components are subjected to flux cleaning as necessary). Alternatively, the solder paste may contain flux). Then, by heating at a temperature of about 200 to 350 ° C. by the reflow process, the solder is melted and the electric element and the electronic component are electrically and physically connected. In this way, the electronic device of the present invention is manufactured, and other members and elements are formed or mounted on the substrate as needed.

以下、本発明を実施例及び比較例によって、より詳細に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。
なお、以下に述べる製造実施例1においては、合金粉末に対して銀を被覆する前に、合金粉末に対して還元処理(すなわち酸素を除去する酸素低減処理)を行った。そして、銀被覆処理、表面処理をこの順に行った。
また、製造実施例2においては、合金粉末に対して銀を被覆した後に、銀被覆合金粉末に対して表面処理、酸素低減処理をこの順に行った。
また、製造実施例3においては、合金粉末に対して銀を被覆した後に、銀被覆合金粉末に対して酸素低減処理を行い、更にパルミチン酸にて表面処理を行った。
その一方、製造比較例1においては酸素低減処理を行わなかった。
まとめると各製造例の工程の順番の違いは以下のようになる。
製造実施例1:酸素低減処理→銀被覆処理 →表面処理
製造実施例2:銀被覆処理 →表面処理 →酸素低減処理
製造実施例3:銀被覆処理 →酸素低減処理→表面処理
製造比較例1:銀被覆処理 →表面処理
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto.
In Production Example 1 described below, the alloy powder was subjected to a reduction treatment (that is, an oxygen reduction treatment for removing oxygen) before the alloy powder was coated with silver. Then, the silver coating treatment and the surface treatment were performed in this order.
Further, in Production Example 2, after the alloy powder was coated with silver, the silver-coated alloy powder was subjected to surface treatment and oxygen reduction treatment in this order.
Further, in Production Example 3, after the alloy powder was coated with silver, the silver-coated alloy powder was subjected to an oxygen reduction treatment, and further surface-treated with palmitic acid.
On the other hand, in Production Comparative Example 1, the oxygen reduction treatment was not performed.
In summary, the difference in the process order of each manufacturing example is as follows.
Production Example 1: Oxygen reduction treatment → Silver coating treatment → Surface treatment Production Example 2: Silver coating treatment → Surface treatment → Oxygen reduction treatment Production Example 3: Silver coating treatment → Oxygen reduction treatment → Surface treatment Production Comparative Example 1: Silver coating treatment → Surface treatment

[製造実施例1]
<合金コア粒子の製造>
大気雰囲気下、タンディッシュ炉中で銅28kgとニッケル12kgを1300℃に加熱した溶湯に還元剤としてカーボン粉を添加し、その溶湯をタンディッシュ炉下部から落下させながら、水アトマイズ装置により大気中で高圧水(水圧:70MPa、水量:160L/分、pH:5.8)を吹付けて急冷凝固させ、得られた合金粉末をろ過し、水洗し、乾燥し、解砕して、合金粉末a(銅−ニッケル粉末a)を得た。
[Manufacturing Example 1]
<Manufacturing of alloy core particles>
In an air atmosphere, carbon powder is added as a reducing agent to a molten metal obtained by heating 28 kg of copper and 12 kg of nickel to 1300 ° C in a tundish furnace, and the molten metal is dropped from the lower part of the tundish furnace in the air by a water atomizing device. High-pressure water (water pressure: 70 MPa, water volume: 160 L / min, pH: 5.8) is sprayed to quench and solidify, and the obtained alloy powder is filtered, washed with water, dried, crushed, and the alloy powder a. (Copper-nickel powder a) was obtained.

<酸素低減処理>
このようにして得られた合金粉末a(銅−ニッケル粉末a)を、水素雰囲気(水素100%)中において350℃で10時間加熱して、水素還元した合金粉末b(銅−ニッケル粉末b)を得た。
<Oxygen reduction treatment>
The alloy powder a (copper-nickel powder a) thus obtained was heated at 350 ° C. for 10 hours in a hydrogen atmosphere (100% hydrogen) to reduce hydrogen to the alloy powder b (copper-nickel powder b). Got

<銀被覆反応>
EDTA−2Na二水和物0.17kgと炭酸アンモニウム0.17kgを純水1.9kgに溶解した溶液(溶液1)と、EDTA−2Na二水和物0.37kgと炭酸アンモニウム0.18kgを純水1.5kgに溶解した溶液に、硝酸銀0.06kgを純水0.19kgに溶解した溶液を加えて得られた溶液(溶液2)を用意した。
次に、窒素雰囲気下において、被覆する合金コア粒子の粉末として、得られた上記合金粉末b0.35kgを溶液1に加えて、攪拌しながら25℃まで昇温させた。この合金粉末bが分散した溶液に溶液2を加えて1時間攪拌した後、ろ過し、水洗し、乾燥して、銀により被覆された合金粉末を得た。
<Silver coating reaction>
A solution (solution 1) in which 0.17 kg of EDTA-2Na dihydrate and 0.17 kg of ammonium carbonate are dissolved in 1.9 kg of pure water, and 0.37 kg of EDTA-2Na dihydrate and 0.18 kg of ammonium carbonate are pure. A solution (solution 2) obtained by adding a solution of 0.06 kg of silver nitrate in 0.19 kg of pure water to a solution of 1.5 kg of water was prepared.
Next, in a nitrogen atmosphere, 0.35 kg of the obtained alloy powder b as a powder of the alloy core particles to be coated was added to the solution 1 and the temperature was raised to 25 ° C. with stirring. Solution 2 was added to the solution in which the alloy powder b was dispersed, and the mixture was stirred for 1 hour, filtered, washed with water, and dried to obtain an alloy powder coated with silver.

<表面処理>
次に、得られた銀被覆合金粉末80gとパルミチン酸0.24g(表面処理されていない銀被覆合金粉末100質量部に対して0.3質量部)をカッターミルに入れ、20秒間の解砕を2回行うことによって、パルミチン酸で表面処理された略球状の銀被覆合金粉末を得た。
<Surface treatment>
Next, 80 g of the obtained silver-coated alloy powder and 0.24 g of palmitic acid (0.3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the unsurface-treated silver-coated alloy powder) were placed in a cutter mill and crushed for 20 seconds. Was performed twice to obtain a substantially spherical silver-coated alloy powder surface-treated with palmitic acid.

[製造実施例2]
<合金コア粒子の製造>
製造実施例1と同様の手法で合金粉末a(銅−ニッケル粉末a)を得た。
[Manufacturing Example 2]
<Manufacturing of alloy core particles>
An alloy powder a (copper-nickel powder a) was obtained by the same method as in Production Example 1.

<銀被覆反応>
合金粉末a(銅−ニッケル粉末a)に対し、製造実施例1と同様の手法で銀被覆反応を行った。
<Silver coating reaction>
A silver coating reaction was carried out on the alloy powder a (copper-nickel powder a) by the same method as in Production Example 1.

<表面処理>
銀被覆反応後の銀被覆合金粉末に対し、製造実施例1と同様の手法で表面処理を行った。そして、パルミチン酸で表面処理された略球状の銀被覆合金粉末を得た。
<Surface treatment>
The silver-coated alloy powder after the silver-coated reaction was surface-treated by the same method as in Production Example 1. Then, a substantially spherical silver-coated alloy powder surface-treated with palmitic acid was obtained.

<酸素低減処理>
本例においては、このようにして得られた銀被覆合金粉末を、水素雰囲気(水素100%)中において200℃で10時間加熱して、水素還元した合金粉末80gをカッターミルに入れ、20秒間の解砕を2回行うことによって、銀被覆合金粉末を得た。
<Oxygen reduction treatment>
In this example, the silver-coated alloy powder thus obtained is heated at 200 ° C. for 10 hours in a hydrogen atmosphere (100% hydrogen), and 80 g of the hydrogen-reduced alloy powder is placed in a cutter mill for 20 seconds. Was crushed twice to obtain a silver-coated alloy powder.

[製造実施例3]
<合金コア粒子の製造>
製造実施例1と同様の手法で合金粉末a(銅−ニッケル粉末a)を得た。
[Manufacturing Example 3]
<Manufacturing of alloy core particles>
An alloy powder a (copper-nickel powder a) was obtained by the same method as in Production Example 1.

<銀被覆反応>
合金粉末a(銅−ニッケル粉末a)に対し、製造実施例1と同様の手法で銀被覆反応を行った。
<Silver coating reaction>
A silver coating reaction was carried out on the alloy powder a (copper-nickel powder a) by the same method as in Production Example 1.

<酸素低減処理>
本例においては、このようにして得られた銀被覆合金粉末を、水素雰囲気(水素100%)中において200℃で10時間加熱して、水素還元した合金粉末80gをカッターミルに入れ、20秒間の解砕を2回行うことによって、銀被覆合金粉末を得た。
<Oxygen reduction treatment>
In this example, the silver-coated alloy powder thus obtained is heated at 200 ° C. for 10 hours in a hydrogen atmosphere (100% hydrogen), and 80 g of the hydrogen-reduced alloy powder is placed in a cutter mill for 20 seconds. Was crushed twice to obtain a silver-coated alloy powder.

<表面処理>
次に、得られた銀被覆合金粉末80gとパルミチン酸0.24g(銀被覆合金粉末に対して0.3質量%)をカッターミルに入れ、20秒間の解砕を2回行うことによって、パルミチン酸で表面処理された略球状の銀被覆合金粉末を得た。
<Surface treatment>
Next, 80 g of the obtained silver-coated alloy powder and 0.24 g of palmitic acid (0.3% by mass based on the silver-coated alloy powder) were placed in a cutter mill and crushed twice for 20 seconds to obtain palmitic acid. A substantially spherical silver-coated alloy powder surface-treated with acid was obtained.

[製造比較例1]
<合金コア粒子の製造>
製造実施例1と同様の手法で合金粉末a(銅−ニッケル粉末a)を得た。
[Manufacturing Comparative Example 1]
<Manufacturing of alloy core particles>
An alloy powder a (copper-nickel powder a) was obtained by the same method as in Production Example 1.

<銀被覆反応>
合金粉末a(銅−ニッケル粉末a)に対し、製造実施例1と同様の手法で銀被覆反応及び表面処理を行い、パルミチン酸で表面処理された略球状の銀被覆合金粉末を得た。
なお、本例においては酸素低減処理は、合金コア粒子の製造後においても銀被覆反応後においても行わなかった。
<Silver coating reaction>
The alloy powder a (copper-nickel powder a) was subjected to a silver coating reaction and surface treatment in the same manner as in Production Example 1 to obtain a substantially spherical silver-coated alloy powder surface-treated with palmitic acid.
In this example, the oxygen reduction treatment was not performed either after the production of the alloy core particles or after the silver coating reaction.

[特性評価]
上記製造実施例1〜3及び製造比較例1で得られた各金属粉末について、金属粉末全体における銀の質量割合、金属粉末における(銀と)銅とニッケルの合計に対する各金属元素の質量割合、比表面積BET、TAP密度、酸素量、炭素量、粒度分布を求めた。より詳細には、以下のようにして各特性の測定を行った。
[Characteristic evaluation]
For each of the metal powders obtained in Production Examples 1 to 3 and Production Comparative Example 1, the mass ratio of silver in the entire metal powder, the mass ratio of each metal element to the total of (silver and) copper and nickel in the metal powder, The specific surface area BET, TAP density, oxygen content, carbon content, and particle size distribution were determined. More specifically, each characteristic was measured as follows.

銀の質量割合(重量法):金属粉末を硝酸で溶解した後、塩酸を添加して生成した塩化銀(AgCl)の沈殿を乾燥し、重量を測定することにより求めた。
(銀と)銅とニッケルの合計に対する各金属元素の質量割合:金属粉末(約2.5g)を塩化ビニル製リング(内径3.2cm×厚さ4mm)内に敷き詰めた後、錠剤型成型圧縮機(株式会社前川試験製作所製の型番BRE−50)により、100kNの荷重をかけて金属粉末のペレットを作製し、このペレットをサンプルホルダー(開口径3.0cm)に入れて蛍光X線分析装置(XRF)(株式会社リガク製のRIX2000)内の測定位置にセットし、測定雰囲気を減圧下(8.0Pa)とし、X線出力を50kV、50mAとした条件で測定した結果から、装置に付属のソフトウェアで自動計算することによって測定を実施した。
そして、ここで求めた金属元素の質量割合から、銅及びニッケルの合計を100質量%とした場合のそれぞれの質量割合へと換算した値(換算値1)を求めた。さらに、重量法で求めた銀の質量割合を100質量%から差し引き、残分を銅及びニッケルに、前記換算値1の比率で割り振ることで、これら3元素の合計を100質量%とした場合のそれぞれ(銅、ニッケル及び銀)の質量割合へと換算した値も求めた。
Weight ratio of silver (weight method): After dissolving the metal powder with nitric acid, the precipitate of silver chloride (AgCl) produced by adding hydrochloric acid was dried and weighed.
Weight ratio of each metal element to the total of (silver and) copper and nickel: Metal powder (about 2.5 g) is spread in a vinyl chloride ring (inner diameter 3.2 cm x thickness 4 mm), and then tablet-molded and compressed. A metal powder pellet was prepared by applying a load of 100 kN using a machine (model number BRE-50 manufactured by Maekawa Test Mfg. Co., Ltd.), and this pellet was placed in a sample holder (opening diameter 3.0 cm) to be a fluorescent X-ray analyzer. (XRF) Set at the measurement position in (RIX2000 manufactured by Rigaku Co., Ltd.), the measurement atmosphere was reduced to (8.0 Pa), and the X-ray output was 50 kV and 50 mA. The measurement was carried out by automatic calculation with the software of.
Then, from the mass ratio of the metal element obtained here, a value (converted value 1) converted into each mass ratio when the total of copper and nickel was 100% by mass was obtained. Further, when the mass ratio of silver obtained by the gravimetric method is subtracted from 100 mass% and the balance is allocated to copper and nickel at the ratio of the conversion value 1 to make the total of these three elements 100 mass%. The values converted into the mass ratios of each (copper, nickel and silver) were also obtained.

比表面積BET:BET測定器(ユアサアイオニクス株式会社製の4ソーブUS)を使用して、測定器内に105℃で20分間窒素ガスを流して脱気した後、窒素とヘリウムの混合ガス(N:30体積%、He:70体積%)を流しながら、BET1点法により測定した。 Specific surface area BET: Using a BET measuring instrument (4 Sorb US manufactured by Yuasa Ionics Co., Ltd.), nitrogen gas was flowed into the measuring instrument at 105 ° C. for 20 minutes to degas, and then a mixed gas of nitrogen and helium (mixed gas of nitrogen and helium) ( N 2: 30 vol%, the He: while flowing 70 vol%) was measured by a BET1 point method.

TAP密度:特開2007−263860号公報に記載された方法と同様に、内径6mm×高さ11.9mmの有底円筒形のダイにその容積の80%まで金属粉末を充填して金属粉末層を形成し、この金属粉末層の上面に0.160N/mの圧力を均一に加えてこれ以上金属粉末が密に充填されなくなるまで圧縮した後、金属粉末層の高さを測定し、この金属粉末層の高さの測定値と、充填された金属粉末の重量とから、金属粉末の密度を求めて、この密度を金属粉末のTAP密度とした。 TAP density: Similar to the method described in JP-A-2007-263860, a metal powder layer is filled with metal powder up to 80% of its volume in a bottomed cylindrical die having an inner diameter of 6 mm and a height of 11.9 mm. Is formed, a pressure of 0.160 N / m 2 is uniformly applied to the upper surface of the metal powder layer, and the metal powder is compressed until the metal powder is no longer densely packed, and then the height of the metal powder layer is measured. The density of the metal powder was obtained from the measured value of the height of the metal powder layer and the weight of the filled metal powder, and this density was defined as the TAP density of the metal powder.

酸素量:酸素・窒素分析装置(株式会社堀場製作所製のEMGA−920)により測定した。 Oxygen amount: Measured with an oxygen / nitrogen analyzer (EMGA-920 manufactured by HORIBA, Ltd.).

炭素量:炭素・硫黄分析装置(堀場製作所製のEMIA−220V)により測定した。 Carbon content: Measured with a carbon / sulfur analyzer (EMIA-220V manufactured by HORIBA, Ltd.).

粒度分布(D10,D50,D90):レーザー回折式粒度分布測定装置(SYMPATEC社製のへロス粒度分布測定装置(HELOS&RODOS(気流式の乾燥モジュール)))を使用して、分散圧5barで測定した。 Particle size distribution (D 10 , D 50 , D 90 ): Dispersion pressure 5 bar using a laser diffraction type particle size distribution measuring device (Hellos particle size distribution measuring device (HELOS & RODOS (air flow type drying module)) manufactured by SYSTEMTEC). Measured at.

比表面積Sm:以下の式(1)にて求めた。
比表面積Sm=6/(ρ×D50) ・・・(1)
なお、式(1)は以下のように算出した。まず、ある物体を真球状と仮定し、その体積をV、密度をρ(組成割合により算出)、表面積をSとすると、比表面積Smは、

Figure 0006970609
・・・(2)
で求められる。
この式より物体の直径をDとすると、
Figure 0006970609
・・・(3)
となり、レーザー回折式粒度分布測定装置にて求めたD50を式(3)のDに代入することで、比表面積Smを求めた。 Specific surface area Sm: Obtained by the following formula (1).
Specific surface area Sm = 6 / (ρ × D 50 ) ・ ・ ・ (1)
The equation (1) was calculated as follows. First, assuming that an object is a true sphere, its volume is V, its density is ρ (calculated by composition ratio), and its surface area is S, the specific surface area Sm is
Figure 0006970609
... (2)
Is sought after.
If the diameter of the object is D from this equation,
Figure 0006970609
... (3)
Then, the specific surface area Sm was obtained by substituting D 50 obtained by the laser diffraction type particle size distribution measuring device into D of the formula (3).

銀被覆合金粉末の密度ρ:銅、ニッケル及び銀の比重(室温時)並びに組成比(銀被覆合金粉末において銅、ニッケル及び銀の合計を100質量%とした場合のそれぞれの質量割合)を基に、以下のように求めた。例えば製造実施例1においてはρは以下のように求められる。
ρ=(Cuの比重)×(Cuの組成比)+(Niの比重)×(Niの組成比)+(Agの比重)×(Agの組成比)
=8.94(g/cm)×0.622+8.908(g/cm)×0.275+10.49(g/cm)×0.103
=9.09(g/cm
Density ρ of silver-coated alloy powder: Based on specific gravity of copper, nickel and silver (at room temperature) and composition ratio (each mass ratio when the total of copper, nickel and silver in silver-coated alloy powder is 100% by mass) I asked for it as follows. For example, in Manufacturing Example 1, ρ is obtained as follows.
ρ = (Cu specific density) × (Cu composition ratio) + (Ni specific gravity) × (Ni composition ratio) + (Ag specific gravity) × (Ag composition ratio)
= 8.94 (g / cm 3 ) x 0.622 + 8.908 (g / cm 3 ) x 0.275 + 10.49 (g / cm 3 ) x 0.103
= 9.09 (g / cm 3 )

本例である製造実施例1〜3及び製造比較例1において、上記の装置又は手法にて求めた各種パラメータをまとめたものが以下の表1及び表2である。表1は、合金コア粒子の粉末についての各種パラメータをまとめた表である。表2は、銀被覆合金粉末についての各種パラメータをまとめた表である。なお、表2においては表中の比較対象のし易さを考慮し、比較例1を上に配置している。

Figure 0006970609
Figure 0006970609
Tables 1 and 2 below summarize the various parameters obtained by the above-mentioned apparatus or method in Production Examples 1 to 3 and Production Comparative Example 1 of this example. Table 1 is a table summarizing various parameters for the alloy core particle powder. Table 2 is a table summarizing various parameters for the silver-coated alloy powder. In Table 2, Comparative Example 1 is placed above in consideration of the ease of comparison in the table.
Figure 0006970609
Figure 0006970609

[抵抗評価]
<実施例1〜3及び比較例1の導電性ペーストの調製>
製造実施例1〜3及び製造比較例1で得られた各金属粉末9.3gと、熱硬化型樹脂としてビスフェノールF型エポキシ樹脂(株式会社ADEKA製のアデカレジンEP−4901E)0.82gと、硬化剤として三フッ化ホウ素モノエチルアミン0.041gと、溶剤としてジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート0.25gと、分散剤としてオレイン酸0.01gとを混練脱泡機で混合した後、三本ロールを5回パスして均一に分散させ、得られた混練物に対してジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートを添加、混合して25℃における粘度をおよそ100Pa・sに調整し、実施例1〜2及び比較例1の各導電性ペーストを得た。
[Resistance evaluation]
<Preparation of Conductive Pastes of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1>
9.3 g of each metal powder obtained in Production Examples 1 to 3 and Production Comparative Example 1 and 0.82 g of bisphenol F type epoxy resin (Adecaledin EP-491E manufactured by ADEKA Co., Ltd.) as a thermosetting resin, and cured. After mixing 0.041 g of boron trifluoride monoethylamine as an agent, 0.25 g of diethylene glycol monobutyl ether acetate as a solvent, and 0.01 g of oleic acid as a dispersant with a kneading and defoaming machine, three rolls are passed 5 times. Then, diethylene glycol monobutyl ether acetate was added to the obtained kneaded product and mixed to adjust the viscosity at 25 ° C. to about 100 Pa · s, and the conductivity of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 were obtained. A sex paste was obtained.

<抵抗評価>
この導電性ペーストをスクリーン印刷法によってアルミナ基板上に(線幅500μm、線長37.5mmのパターン状に)印刷した後、大気中において200℃で40分間加熱して硬化させることによって導電膜(膜厚およそ20μm)を形成し、得られた導電膜の体積抵抗率(初期抵抗)の算出を行った。
<Resistance evaluation>
This conductive paste is printed on an alumina substrate by a screen printing method (in a pattern having a line width of 500 μm and a line length of 37.5 mm), and then heated in the air at 200 ° C. for 40 minutes to be cured to form a conductive film (a conductive film). A film thickness of about 20 μm) was formed, and the volume resistivity (initial resistance) of the obtained conductive film was calculated.

[半田濡れ性及び半田食われ耐性の評価]
上記のようにして得られた実施例1〜3及び比較例1の導電性ペーストから形成されたアルミナ基板上の(抵抗評価時にスクリーン印刷により同時に形成した)2mm角の導電膜について、以下のようにして半田濡れ性及び半田食われ耐性を評価した。
[Evaluation of solder wettability and solder biting resistance]
The 2 mm square conductive film (simultaneously formed by screen printing at the time of resistance evaluation) on the alumina substrate formed from the conductive pastes of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 obtained as described above is as follows. The solder wettability and solder bite resistance were evaluated.

<半田濡れ性>
先に記載したアルミナ基板上に形成した導電膜を、ESR−250T4(フラックス、千住金属工業株式会社製)に浸漬させた後、260℃の鉛フリーはんだ(エコソルダーM705(Sn96.5Ag3Cu0.5半田、千住金属工業株式会社製))槽に1秒浸漬させた後、アルミナ基板を引き上げ、はんだ付けを行った。
そして、2mm角の導電膜上に乗ったはんだについて、レーザー式顕微鏡VK−9710(KEYENCE社製)を用いてその表面形状を測定した。得られた高さデータを用いて、付属のソフトを用いて凹凸部計測を行い、高さ閾値が基板から40μm以上の部分をはんだが付着しているとし、その、導電膜上面の面積全体に対する面積割合(%)を求めた。
ただし、実施例2については、浸漬時間10秒まで面積割合が上昇したため、10秒での面積割合を濡れ性として評価した。
<Solder wettability>
After immersing the conductive film formed on the above-mentioned alumina substrate in ESR-250T4 (flux, manufactured by Senju Metal Industry Co., Ltd.), lead-free solder at 260 ° C. (Eco Solder M705 (Sn96.5Ag3Cu0.5 solder)) , (Manufactured by Senju Metal Industry Co., Ltd.)) After immersing in a tank for 1 second, the alumina substrate was pulled up and soldered.
Then, the surface shape of the solder on the 2 mm square conductive film was measured using a laser microscope VK-9710 (manufactured by KEYENCE). Using the obtained height data, the unevenness is measured using the attached software, and it is assumed that the solder adheres to the part where the height threshold is 40 μm or more from the substrate, and the entire area of the upper surface of the conductive film is covered. The area ratio (%) was calculated.
However, in Example 2, since the area ratio increased up to the immersion time of 10 seconds, the area ratio at 10 seconds was evaluated as the wettability.

<半田食われ耐性>
鉛フリーはんだ槽に10秒又は30秒浸漬させる以外は、はんだ濡れ性の評価と同様にして、はんだが付着している面積割合を求めた。
<Solder bite resistance>
The area ratio to which the solder adhered was determined in the same manner as in the evaluation of the solder wettability except that the solder was immersed in the lead-free solder bath for 10 seconds or 30 seconds.

<結果>
以上の半田濡れ性及び半田食われ耐性の評価結果を、上記の抵抗評価結果とあわせて下記表3に示す。
<Result>
The evaluation results of the above solder wettability and solder bite resistance are shown in Table 3 below together with the above resistance evaluation results.

Figure 0006970609
上記の表3が示すように、実施例1〜3は比較例1に比べ、半田濡れ性及び半田食われ耐性に優れており、更には初期抵抗においても好適な値を示していた。特に実施例1においてはこれらの特性を顕著に発揮した。
Figure 0006970609
As shown in Table 3 above, Examples 1 to 3 were superior in solder wettability and solder biting resistance as compared with Comparative Example 1, and further showed suitable values in the initial resistance. In particular, in Example 1, these characteristics were remarkably exhibited.

[参考例:銀被覆銅−ニッケル−亜鉛合金粉末]
大気雰囲気下、タンディッシュ炉中で銅34.0kgとニッケル2.0kgと亜鉛4.0kgとを1200℃に加熱した溶湯に還元剤としてカーボン粉を添加し、その溶湯をタンディッシュ炉下部から落下させながら、大気中で高圧水(水圧:150MPa、水量:160L/分、pH:5.8)を吹付けて急冷凝固させ、得られた合金粉末をろ過し、水洗し、乾燥し、解砕して、銅−ニッケル−亜鉛合金粉末を得た。
[Reference example: Silver-coated copper-nickel-zinc alloy powder]
Carbon powder is added as a reducing agent to a molten metal obtained by heating 34.0 kg of copper, 2.0 kg of nickel and 4.0 kg of zinc to 1200 ° C. in an air atmosphere, and the molten metal is dropped from the lower part of the tundish furnace. High-pressure water (water pressure: 150 MPa, water volume: 160 L / min, pH: 5.8) is sprayed in the air to quench and solidify, and the obtained alloy powder is filtered, washed with water, dried, and crushed. Then, a copper-nickel-zinc alloy powder was obtained.

このようにして得られた銅−ニッケル−亜鉛合金粉末に対し、製造実施例1と同様の手法で銀被覆反応を行い、溶液2を加えて1時間撹拌後の反応液にステアリン酸を、銀被覆銅−ニッケル−亜鉛合金粉末100質量部に対して0.3質量部の割合で添加し、40分撹拌した後、ろ過し、水洗し、乾燥した。これにより、ステアリン酸で表面処理された略球状の銀被覆銅−ニッケル−亜鉛合金粉末を得た。 The copper-nickel-zinc alloy powder thus obtained was subjected to a silver coating reaction in the same manner as in Production Example 1, solution 2 was added, and the reaction solution was stirred for 1 hour, and then stearic acid was added to the reaction solution. It was added at a ratio of 0.3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the coated copper-nickel-zinc alloy powder, stirred for 40 minutes, filtered, washed with water, and dried. As a result, a substantially spherical silver-coated copper-nickel-zinc alloy powder surface-treated with stearic acid was obtained.

この銀被覆銅−ニッケル−亜鉛合金粉末について、上記実施例と同様に、粉末における銀と銅とニッケルと亜鉛の合計に対する各金属元素の質量割合、比表面積BET、TAP密度、酸素量、炭素量、粒度分布を求め、さらに抵抗評価と半田濡れ性の評価を行った。粉体特性については、上記の銅−ニッケル−亜鉛合金粉末についても測定を行った。 For this silver-coated copper-nickel-zinc alloy powder, the mass ratio of each metal element to the total of silver, copper, nickel and zinc in the powder, specific surface area BET, TAP density, oxygen content and carbon content are the same as in the above embodiment. , The particle size distribution was obtained, and the resistance and solder wettability were further evaluated. Regarding the powder characteristics, the above copper-nickel-zinc alloy powder was also measured.

その結果、銅−ニッケル−亜鉛合金粉末について、比表面積BETは0.69m/gであり、TAP密度は4.4g/cmであり、酸素量は0.59質量%であり(このためO/BETは0.85質量%・g/mと計算される)、炭素量は0.01質量%であり、D10は0.8μmであり、D50は1.9μmであり、D90は3.3μmであった。 As a result, for the copper-nickel-zinc alloy powder, the specific surface area BET is 0.69 m 2 / g, the TAP density is 4.4 g / cm 3 , and the oxygen content is 0.59 mass% (for this reason). O / BET is calculated as 0.85% by mass · g / m 2 ), the carbon content is 0.01% by mass, D 10 is 0.8 μm, D 50 is 1.9 μm, and D. 90 was 3.3 μm.

銀被覆銅−ニッケル−亜鉛合金粉末について、比表面積BETは0.38m/gであり、TAP密度は5.7g/cmであり、酸素量は0.15質量%であり(このためO/BETは0.39質量%・g/mと計算される)、炭素量は0.19質量%であり、D10は0.9μmであり、D50は2.3μmであり、D90は4.1μmであった。銅、ニッケル及び亜鉛の合計に対する、銅の割合は85.8質量%であり、ニッケルの割合は5.5質量%であり、亜鉛の割合は8.7質量%であり、銅、ニッケル、亜鉛及び銀の合計に対する、銅の割合は76.6質量%であり、ニッケルの割合は4.9質量%であり、亜鉛の割合は7.8質量%であり、銀の割合は10.7質量%であり、体積抵抗率は120μΩ・cmであり、半田濡れ性は浸漬時間1秒で86面積%であった。 For the silver-coated copper-nickel-zinc alloy powder, the specific surface area BET is 0.38 m 2 / g, the TAP density is 5.7 g / cm 3 , and the oxygen content is 0.15% by mass (hence O). / BET is calculated as 0.39% by weight · g / m 2 ), the carbon content is 0.19% by weight, D 10 is 0.9 μm, D 50 is 2.3 μm, and D 90. Was 4.1 μm. The ratio of copper to the total of copper, nickel and zinc is 85.8% by mass, the ratio of nickel is 5.5% by mass, the ratio of zinc is 8.7% by mass, and copper, nickel, zinc. And the ratio of copper to the total of silver is 76.6% by mass, the ratio of nickel is 4.9% by mass, the ratio of zinc is 7.8% by mass, and the ratio of silver is 10.7% by mass. %, The volume resistance was 120 μΩ · cm, and the solder wettability was 86 area% with a dipping time of 1 second.

Claims (17)

銅、ニッケル及び不可避不純物からなる合金コア粒子の表面に銀を含む被覆層を有する銀被覆合金粉末であり、前記銀被覆合金粉末の酸素量(質量%)を、比表面積Sm(m2/g)で除した値が2.5(質量%・g/m2)以下である、銀被覆合金粉末。
なお、前記比表面積Smは以下の式(1)
比表面積Sm=6/(ρ×D50)・・・(1)
で求めたものであり、ρは、前記銀被覆合金粉末の銅、ニッケル及び銀の比重並びに組成比(前記銀被覆合金粉末において銅、ニッケル及び銀の合計を100質量%とした場合のそれぞれの質量割合)から計算される密度(g/cm3)であり、D50はレーザー回折式粒度分布測定装置により前記銀被覆合金粉末を測定して得られた体積基準の累積50%粒子径(μm)である。
It is a silver-coated alloy powder having a coating layer containing silver on the surface of alloy core particles composed of copper, nickel and unavoidable impurities, and the oxygen content (mass%) of the silver-coated alloy powder is the specific surface area Sm (m 2 / g). ) Is 2.5 (mass% · g / m 2 ) or less, a silver-coated alloy powder.
The specific surface area Sm is calculated by the following formula (1).
Specific surface area Sm = 6 / (ρ × D 50 ) ・ ・ ・ (1)
Ρ is the specific gravity and composition ratio of copper, nickel and silver in the silver-coated alloy powder (when the total of copper, nickel and silver in the silver-coated alloy powder is 100% by mass, respectively). It is a density (g / cm 3 ) calculated from (mass ratio), and D 50 is a volume-based cumulative 50% particle diameter (μm) obtained by measuring the silver-coated alloy powder with a laser diffraction type particle size distribution measuring device. ).
前記合金コア粒子における銅及びニッケルの合計100質量%中において、銅の割合が40〜95質量%であり、ニッケルの割合が5〜60質量%である、請求項1に記載の銀被覆合金粉末。 The silver-coated alloy powder according to claim 1, wherein the proportion of copper is 40 to 95% by mass and the proportion of nickel is 5 to 60% by mass in the total 100% by mass of copper and nickel in the alloy core particles. .. 前記銀被覆合金粉末の酸素量(質量%)を、前記銀被覆合金粉末のBET1点法により測定した比表面積BET(m/g)で除した値が1.50(質量%・g/m)以下である、請求項1又は2に記載の銀被覆合金粉末。 The value obtained by dividing the oxygen content (mass%) of the silver-coated alloy powder by the specific surface area BET (m 2 / g) measured by the BET 1-point method of the silver-coated alloy powder is 1.50 (mass% g / m). 2 ) The silver-coated alloy powder according to claim 1 or 2, which is as follows. 前記銀被覆合金粉末における銀の質量割合が、1〜40質量%である、請求項1〜3のいずれかに記載の銀被覆合金粉末。 The silver-coated alloy powder according to any one of claims 1 to 3, wherein the mass ratio of silver in the silver-coated alloy powder is 1 to 40% by mass. 前記銀被覆合金粉末のレーザー回折式粒度分布測定装置により測定した体積基準の累積50%粒子径(D50)が0.1〜10μmである、請求項1〜4のいずれかに記載の銀被覆合金粉末。 The silver coating according to any one of claims 1 to 4, wherein the cumulative 50% particle diameter (D 50 ) on a volume basis measured by the laser diffraction type particle size distribution measuring device of the silver coating alloy powder is 0.1 to 10 μm. Alloy powder. 前記銀被覆合金粉末の酸素量が0.05〜0.40質量%である、請求項1〜5のいずれかに記載の銀被覆合金粉末。 The silver-coated alloy powder according to any one of claims 1 to 5, wherein the amount of oxygen in the silver-coated alloy powder is 0.05 to 0.40% by mass. 請求項1〜6のいずれかに記載の銀被覆合金粉末及び硬化性樹脂を含む導電性ペースト。 A conductive paste containing the silver-coated alloy powder and the curable resin according to any one of claims 1 to 6. 前記導電性ペースト中の硬化性樹脂の含有割合が0.5〜49質量%である、請求項7に記載の導電性ペースト。 The conductive paste according to claim 7, wherein the content ratio of the curable resin in the conductive paste is 0.5 to 49% by mass. 前記硬化性樹脂が、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、マレイミド樹脂、ジアリルフタレート樹脂、オキセタン樹脂、(メタ)アクリル樹脂、マレイン酸樹脂、無水マレイン酸樹脂、ポリブタジエン樹脂、アルキド系樹脂、アミノ系樹脂、ポリ乳酸樹脂、オキサゾリン樹脂、ベンゾオキサジン樹脂及びフッ素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種である、請求項7又は8に記載の導電性ペースト。 The curable resin is a phenol resin, a urea resin, a melamine resin, an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a silicone resin, a polyurethane resin, a polyvinyl butyral resin, a polyimide resin, a polyamide resin, a maleimide resin, a diallyl phthalate resin, an oxetane resin, ( Meta) At least one selected from the group consisting of acrylic resin, maleic acid resin, maleic anhydride resin, polybutadiene resin, alkyd resin, amino resin, polylactic acid resin, oxazoline resin, benzoxazine resin and fluororesin. Item 7. The conductive paste according to Item 7. 前記導電性ペースト中の銀被覆合金粉末の含有量が、50〜98質量%である、請求項7〜9のいずれかに記載の導電性ペースト。 The conductive paste according to any one of claims 7 to 9, wherein the content of the silver-coated alloy powder in the conductive paste is 50 to 98% by mass. 外部電極を備える電子部品であって、前記外部電極が、請求項1〜6のいずれかに記載の銀被覆合金粉末及び硬化性樹脂を含む、電子部品。 An electronic component including an external electrode, wherein the external electrode contains the silver-coated alloy powder and the curable resin according to any one of claims 1 to 6. 前記外部電極をフラックスに浸漬させた後、260℃の鉛フリーはんだ(Sn96.5Ag3Cu0.5の金属組成を有する)槽に1秒浸漬させ、次いで前記外部電極を引き上げ、レーザー式顕微鏡を用いて観察したとき、外部電極上面全体のうち、65面積%以上にはんだが付着している、請求項11に記載の電子部品。 After immersing the external electrode in the flux, it is immersed in a lead-free solder (having a metal composition of Sn96.5Ag3Cu0.5) at 260 ° C. for 1 second, then the external electrode is pulled up and observed using a laser microscope. The electronic component according to claim 11, wherein the solder adheres to 65 area% or more of the entire upper surface of the external electrode. 基板と、該基板上に形成された電気素子と、該基板上に実装された請求項11又は12に記載の電子部品と、前記電子部品及び電気素子を接続する半田部材とを備える電子機器。 An electronic device including a substrate, an electric element formed on the substrate, an electronic component according to claim 11 or 12 mounted on the substrate, and a solder member connecting the electronic component and the electric element. 銅、ニッケル及び不可避不純物からなる合金コア粒子の表面に銀を含む被覆層を有する銀被覆合金粉末の製造方法であって、
前記合金コア粒子の粉末、又は前記合金コア粒子の表面に前記被覆層が形成された後の前記銀被覆合金粉末に対し、酸素低減処理を行う工程を有する、銀被覆合金粉末の製造方法。
A method for producing a silver-coated alloy powder having a coating layer containing silver on the surface of alloy core particles composed of copper, nickel and unavoidable impurities.
A method for producing a silver-coated alloy powder, which comprises a step of performing an oxygen reduction treatment on the powder of the alloy core particles or the silver-coated alloy powder after the coating layer is formed on the surface of the alloy core particles.
前記合金コア粒子の粉末に対し、酸素低減処理を行う工程と、
前記工程後に、前記合金コア粒子の表面に前記被覆層を形成する工程と、
を有する、請求項14に記載の銀被覆合金粉末の製造方法。
The step of performing oxygen reduction treatment on the powder of the alloy core particles and
After the step, the step of forming the coating layer on the surface of the alloy core particles and the step of forming the coating layer.
The method for producing a silver-coated alloy powder according to claim 14.
前記酸素低減処理は、水素を含む雰囲気下での水素還元である、請求項14又は15に記載の銀被覆合金粉末の製造方法。 The method for producing a silver-coated alloy powder according to claim 14 or 15, wherein the oxygen reduction treatment is hydrogen reduction in an atmosphere containing hydrogen. 請求項14〜16のいずれかに記載の製造方法により得られた銀被覆合金粉末と硬化性樹脂とを混合する工程を有する、導電性ペーストの製造方法。


A method for producing a conductive paste, which comprises a step of mixing the silver-coated alloy powder obtained by the production method according to any one of claims 14 to 16 with a curable resin.


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