JP6972045B2 - データ依存制御の改善方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2013年3月14日出願の英国特許出願第1304588.5号及び2013年3月14日出願の欧州特許出願第13159167.9号の優先権及び利益を主張する。これらの出願の内容全体は、参照により本明細書に組み込まれる。
第1及び第2のデータからデータにおける将来動向または変化速度を予測することと、
検出器または検出器システムのダイナミックレンジ内に検出器または検出器システムの動作を維持し、かつ/または検出器または検出器システムの飽和を防ぐように、減衰装置の減衰係数を調整するか、またはさもなければデータにおける予測された将来動向または変化速度に応じて、イオンの伝送を調整することと、を含む、質量分析方法が提供される。
(i)第1の時間及び/または位置で第1のデータを、第2のその後の時間及び/または位置で第2のデータを取得し、
(ii)第1及び第2のデータからデータにおける将来動向または変化速度を予測し、かつ
(iii)検出器または検出器システムのダイナミックレンジ内に検出器または検出器システムの動作を維持し、かつ/または検出器または検出器システムの飽和を防ぐように、減衰装置の減衰係数を調整するか、またはさもなければデータにおける予測された将来動向または変化速度に応じて、イオンの伝送を調整するように配置及び適合された制御システムを備える、質量分析計が提供される。
第1及び第2のデータからデータにおける将来動向または変化速度を予測することと、
予測された将来動向または変化速度に応じて、質量分析計の動作パラメータを調整することと、を含む、質量分析方法が提供される。
(i)第1の時間及び/または位置で第1のデータを、第2のその後の時間及び/または位置で第2のデータを取得し、
(ii)第1及び第2のデータからデータにおける将来動向または変化速度を予測し、かつ
(iii)予測された将来動向または変化速度に応じて、質量分析計の動作パラメータを調整するように配置及び適合された制御システムを備える、質量分析計が提供される。
(i)イオンビームまたはイオン信号の所望の測定された標的強度Itを設定することと、
(ii)イオンビームまたはイオン信号を減衰係数によって減衰させることと、
(iii)減衰したイオンビームまたはイオン信号の強度I1を時間t1で測定することと、
(iv)減衰したイオンビームまたはイオン信号の予測された将来強度をその後の時間t2で計算することと、
(v)減衰したイオンビームまたはイオン信号の強度I2をその後の時間t2で測定すると、その後、減衰したイオンビームまたはイオン信号の強度I2が標的強度Itと実質的に同じになるように減衰係数を調整することと、を含む、質量分析方法が提供される。
(i)イオンビームまたはイオン信号の所望の測定された標的強度Itを設定し、
(ii)イオンビームまたはイオン信号を減衰係数によって減衰させ、
(iii)減衰したイオンビームまたはイオン信号の強度I1を時間t1で測定し、
(iv)減衰したイオンビームまたはイオン信号の予測された将来強度をその後の時間t2で計算し、かつ
(v)減衰したイオンビームまたはイオン信号の強度I2をその後の時間t2で測定すると、その後、減衰したイオンビームまたはイオン信号の強度I2が標的強度Itと実質的に同じになるように減衰係数を調整するように配置及び適合された制御システムを備える、質量分析計が提供される。
イオンビームまたはイオン信号を減衰係数によって減衰させることと、
イオンビームまたはイオン信号の強度における将来動向または変化速度を決定または予測することと、
予測された将来動向または変化速度に応じて、減衰係数を調整することと、を含む、質量分析方法が提供される。
イオンビームまたはイオン信号を減衰係数によって減衰させるように配置及び適合された減衰装置と、
(i)イオンビームまたはイオン信号の強度における将来動向または変化速度を決定または予測し、
(ii)予測された将来動向または変化速度に応じて、ように配置及び適合された制御システムと、を備える、質量分析計が提供される。
(i)イオンビームまたはイオン信号のために所望の標的強度を設定し、かつ
(ii)減衰係数によって調整済みのイオンビームまたはイオン信号の将来の測定された強度が標的強度に実質的に対応するように、予測された将来動向または変化速度に応じて減衰係数を調整するようにさらに配置及び適合される。
イオンビームまたはイオン信号を減衰係数によって減衰させて、イオン検出器の飽和または質量分析計の構成要素への悪影響を回避することと、
イオンビームまたはイオン信号の強度における変化速度を決定または予測することと、
強度における決定または予測された変化速度に応じて、減衰係数を調整することと、を含む、質量分析方法が提供される。
イオンビームまたはイオン信号を減衰係数によって減衰させて、イオン検出器の飽和または質量分析計の構成要素への悪影響を回避するように配置及び適合された減衰装置と、
(i)イオンビームまたはイオン信号の強度における変化速度を決定し、
(ii)強度における決定または予測された変化速度に応じて、減衰係数を調整するように配置及び適合された制御システムと、を備える質量分析計が提供される。
2つ以上の配列データをメモリに記憶または記録することと、
2つ以上の記憶されたデータにおける動向に基づいて、将来データセットの予測された特徴を計算することと、
質量分析計の性能の特性が所定の範囲内に維持されるように、予測された特徴に基づいて質量分析計または質量分析計の外部の装置の1つ以上の動作パラメータを調整することと、を含む、質量分析方法が提供される。
第1の期間で電流データセットを記録することと、
電流データセットを1つ以上の事前に記録されたデータセットと比較するか、または1つ以上の事前に記録されたデータセットを比較し、その比較に基づいて、まだ記録されていないその後のデータセットの予想された強度を予測することと、
その後のデータセットの強度が所定の強度を超えないように、質量分析計の1つ以上の動作パラメータに対する変化を計算することと、
調整された動作パラメータを使用して、その後のデータセットを記録することと、を含む、質量分析方法が提供される。
(a)(i)電気スプレーイオン化(「ESI」)イオン源、(ii)大気圧光イオン化(「APPI」)イオン源、(iii)大気圧化学イオン化(「APCI」)イオン源、(iv)マトリクス支援レーザー脱離イオン化(「MALDI」)イオン源、(v)レーザー脱離イオン化(「LDI」)イオン源、(vi)大気圧イオン化(「API」)イオン源、(vii)シリコン上の脱離イオン化(「DIOS」)イオン源、(viii)電子衝撃(「EI」)イオン源、(ix)化学イオン化(「CI」)イオン源、(x)フィールドイオン化(「FI」)イオン源、(xi)フィールド脱離(「FD」)イオン源、(xii)誘導結合プラズマ(「ICP」)イオン源、(xiii)高速原子衝撃(「FAB」)イオン源、(xiv)液体二次イオン質量分析方法(「LSIMS」)イオン源、(xv)脱離電気スプレーイオン化(「DESI」)イオン源、(xvi)ニッケル63放射性イオン源、(xvii)大気圧マトリクス支援レーザー脱離イオン化イオン源、(xviii)サーモスプレーイオン源、(xix)大気サンプリンググロー放電イオン化(「ASGDI」)イオン源、(xx)グロー放電(「GD」)イオン源、(xxi)衝突体イオン源、(xxii)リアルタイムでの直接分析(「DART」)イオン源、(xxiii)レーザースプレーイオン化(「LSI」)イオン源、(xxiv)音響スプレーイオン化(「SSI」)イオン源、(xxv)マトリクス支援吸気イオン化(「MAII」)イオン源、(xxvi)溶媒支援吸気イオン化(「SAII」)イオン源、(xxvii)脱離電気スプレーイオン化(「DESI」)イオン源、及び(xxviii)レーザー切断電気スプレーイオン化(「LAESI」)イオン源からなる群から選択されたイオン源、及び/または
(b)1つ以上の連続またはパルスイオン源、ならびに/あるいは
(c)1つ以上のイオンガイド、ならびに/あるいは
(d)1つ以上のイオン移動度分離器及び/または1つ以上の電場非対称イオン移動度計装置、ならびに/あるいは
(e)1つ以上のイオントラップまたは1つ以上のイオントラップ領域、ならびに/あるいは
(f)(i)衝突誘発解離(「CID」)断片化装置、(ii)表面誘発解離(「SID」)断片化装置、(iii)電子移動解離(「ETD」)断片化装置、(iv)電子捕獲解離(「ECD」)断片化装置、(v)電子衝突または衝撃解離断片化装置、(vi)光誘発解離(「PID」)断片化装置、(vii)レーザー誘発解離断片化装置、(viii)赤外線照射誘発解離装置、(ix)紫外線照射誘発解離装置、(x)ノズルスキマーインターフェース断片化装置、(xi)インソース断片化装置、(xii)インソース衝突誘発解離断片化装置、(xiii)熱源または温度源断片化装置、(xiv)電場誘発断片化装置、(xv)磁場誘導断片化装置、(xvi)酵素消化または酵素分解断片化装置、(xvii)イオン−イオン反応断片化装置、(xviii)イオン−分子反応断片化装置、(xix)イオン−原子反応断片化装置、(xx)イオン−準安定イオン反応断片化装置、(xxi)イオン−準安定分子反応断片化装置、(xxii)イオン−準安定原子反応断片化装置、(xxiii)付加または生成イオンを形成するようにイオンを反応させるためのイオン−イオン反応装置、(xxiv)付加または生成イオンを形成するようにイオンを反応させるためのイオン−分子反応装置、(xxv)付加または生成イオンを形成するようにイオンを反応させるためのイオン−原子反応装置、(xxvi)付加または生成イオンを形成するようにイオンを反応させるためのイオン−準安定イオン反応装置、(xxvii)付加または生成イオンを形成するようにイオンを反応させるためのイオン−準安定分子反応装置、(xxviii)付加または生成イオンを形成するようにイオンを反応させるためのイオン−準安定原子反応装置、及び(xxix)電子イオン化解離(「EID」)断片化装置からなる群から選択された1つ以上の衝突、断片化、または反応セル、ならびに/あるいは
(g)(i)四重極型質量分析器、(ii)2Dまたは線形四重極型質量分析器、(iii)ポールまたは3D四重極型質量分析器、(iv)ペニングトラップ質量分析器、(v)イオントラップ質量分析器、(vi)磁場型質量分析器、(vii)イオンサイクロトロン共鳴(「ICR」)質量分析器、(viii)フーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴(「FTICR」)質量分析器、(ix)四重極型対数の潜在的分布を有する静電界を生成するように配置された静電質量分析器、(x)フーリエ変換静電質量分析器、(xi)フーリエ変換質量分析器、(xii)飛行時間型質量分析器、(xiii)直交加速飛行時間型質量分析器、及び(xiv)線形加速飛行時間型質量分析器からなる群から選択された質量分析器、及び/または
(h)1つ以上のエネルギー分析器または静電エネルギー分析器、ならびに/あるいは
(i)1つ以上のイオン検出器、ならびに/あるいは
(j)(i)四重極型質量フィルタ、(ii)2Dまたは線形四重極型イオントラップ、(iii)ポールまたは3D四重極型イオントラップ、(iv)ペニングイオントラップ、(v)イオントラップ、(vi)磁場型質量フィルタ、(vii)飛行時間型質量フィルタ、(viii)ウィーンフィルタからなる群から選択された1つ以上の質量フィルタ、ならびに/あるいは
(k)イオンにパルスを発するための装置またはイオンゲート、ならびに/あるいは
(l)実質的に連続的なイオンビームをパルスイオンビームに変換するための装置をさらに備える。
(i)Cトラップ及び四重極型対数の潜在的分布を有する静電界を形成する、外部バレル状電極及び同軸内部スピンドル状電極を備える質量分析器であって、第1の動作モードで、イオンがCトラップに伝送され、その後、質量分析器内に注入され、第2の動作モードで、イオンがCトラップに伝送され、その後、衝突セルまたは電子移動解離装置に伝送され、少なくともいくつかのイオンが断片イオンに断片化され、断片イオンが、その後、質量分析器に注入される前に、Cトラップに伝送される、Cトラップ及び質量分析器、及び/または
(ii)使用中にイオンが送られる開口部を各々有する、複数の電極を備える積層リングイオンガイドであって、電極の間隔がイオン経路の長さに沿って増加し、イオンガイドの上流区画内の電極の開口部が、第1の直径を有し、イオンガイドの下流区画内の電極の開口部が、第1の直径よりも小さい第2の直径を有し、ACまたはRF電圧の逆位相が、使用中に、連続的な電極に印加される、積層リングイオン、のいずれかをさらに備える。
Claims (13)
- (i)第1の時間及び/または位置で第1の強度データを、第2のその後の時間及び/または位置で第2の強度データを取得することと、
(ii)前記第1及び第2の強度データから、減衰装置を含む質量分析計に送達される信号の強度における将来動向または変化速度を予測することと、
並びに、
(iii)前記質量分析計のイオントラップ若しくはイオン移動度分離器内のスペース電荷効果を限定するように、若しくは、
前記質量分析計のレンズ要素上の汚染の積層を制御するように、
前記予測された将来動向または変化速度に応じて、前記減衰装置の減衰係数を調整することにより、イオンの伝送を調整することと
を含む、
質量分析方法。 - 前記第1及び第2の強度データが質量スペクトルデータを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1及び第2の強度データが多次元データを含む、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記第1及び第2の強度データがイオンの2つ以上の物理化学的特性に関連する、請求項1〜3のうちのいずれか一に記載の方法。
- 前記2つ以上の物理化学的特性が、質量、質量対電荷比、飛行時間、イオン移動度、微分型イオン移動度、保持時間、液体クロマトグラフィー保持時間、気体クロマトグラフィー保持時間、またはキャピラリー電気泳動保持時間を含む、請求項4に記載の方法。
- (ii)前記第1及び第2の強度データから、質量分析計に送達される信号の強度における将来動向または変化速度を予測することは、将来動向または変化速度を使用して、まだ記録されていないその後のデータ配列に関して特徴の予測された値を計算することを含む、
請求項1〜5のうちのいずれか一に記載の方法。 - (iii)前記減衰装置の減衰係数を調整することにより、イオンの伝送を調整することは、
前記特徴に関して標的値を設定し、前記特徴の予測された値が前記特徴の前記標的値と同じでないならば、質量分析計に送達される信号の前記強度における前記予測された将来動向または変化速度に応じて、前記減衰装置の減衰係数を調整することにより、イオンの伝送を調整することを含む、
請求項6に記載の方法。 - 更に、取得サイクルの範囲内で前記(i)から(iii)のことを繰り返すことを含む、請求項1〜7のうちのいずれか一に記載の方法。
- 前記減衰装置の減衰係数を調整することにより、イオンの伝送を調整することは、
許容された減衰係数の限定された配列からの減衰係数を用いることを含む、
請求項1〜8のうちのいずれか一に記載の方法。 - 前記減衰装置の減衰係数を調整することにより、イオンの伝送を調整することは、
前記減衰係数が変化し得る最大量を制限することを含む、
請求項1〜9のうちのいずれか一に記載の方法。 - 前記減衰装置の減衰係数を調整することにより、イオンの伝送を調整することは、
イオン伝送がゼロである第1の期間と、イオン伝送がゼロより大きい第2の期間との間で、前記減衰装置を繰り返し切り替えることを含む、
請求項1〜10のうちのいずれか一に記載の方法。 - 前記減衰装置の減衰係数を調整することにより、イオンの伝送を調整することは、
減衰装置の伝送又は減衰を調整又は変更するために、マークスペース比を調整することを含み、
ここで前記マークスペース比は前記第1の期間に対する前記第2の期間の比率である、
請求項11に記載の方法。 - 質量分析計であって、
減衰装置と、並びに、制御システムとを含み、
前記制御システムは、
(i)第1の時間及び/または位置で第1の強度データを、第2のその後の時間及び/または位置で第2の強度データを取得することと、
(ii)前記第1及び第2の強度データから、前記質量分析計に送達される信号の強度における将来動向または変化速度を予測することと、
並びに、
(iii)前記質量分析計のイオントラップ若しくはイオン移動度分離器内のスペース電荷効果を限定するように、若しくは、
前記質量分析計のレンズ要素上の汚染の積層を制御するように、
前記予測された将来動向または変化速度に応じて、前記減衰装置の減衰係数を調整することにより、イオンの伝送を調整することと
を行うように配置及び適合されている、
質量分析計。
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