JP6984128B2 - Manufacturing method of polyethylene resin, solar cell encapsulant and solar cell module using polyethylene resin manufactured by the method. - Google Patents
Manufacturing method of polyethylene resin, solar cell encapsulant and solar cell module using polyethylene resin manufactured by the method. Download PDFInfo
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Description
本発明は、ポリエチレン樹脂の製造方法、並びに当該方法により製造されたポリエチレン樹脂を用いた太陽電池封止材、太陽電池モジュール及び絶縁体に関し、より詳しくは、エチレン・α−オレフィン共重合体などからなる、架橋特性、絶縁性、コスト面に優れたポリエチレン樹脂、並びにそれを用いた太陽電池封止材、太陽電池モジュール及び絶縁体に関するものである。 The present invention relates to a method for producing a polyethylene resin, a solar cell encapsulant, a solar cell module, and an insulator using the polyethylene resin produced by the method, and more specifically, from an ethylene / α-olefin copolymer or the like. The present invention relates to a polyethylene resin having excellent cross-linking characteristics, insulating properties, and cost, and a solar cell encapsulant, a solar cell module, and an insulator using the polyethylene resin.
ポリエチレン樹脂は、加工性、耐湿性、柔軟性、絶縁性が良好なことから、太陽電池、ケーブルなどの電子材料に使用されている。また、これらの用途においては多くの場合、耐熱性、機械的強度を向上させるため、ポリエチレン樹脂を架橋させて使用する。架橋反応は、電子線照射またはラジカル反応性の高い添加剤、例えば有機過酸化物の利用により実施されている。 Polyethylene resin is used for electronic materials such as solar cells and cables because of its good workability, moisture resistance, flexibility, and insulation. Further, in many of these applications, polyethylene resin is crosslinked and used in order to improve heat resistance and mechanical strength. The cross-linking reaction is carried out by electron beam irradiation or the use of an additive having high radical reactivity, for example, an organic peroxide.
有機過酸化物による架橋構造を付与した樹脂組成物の用途の一つとして、太陽電池封止材が挙げられる。従来では、酢酸ビニル含量の高いエチレン・酢酸ビニル共重合体(EVA)の樹脂組成物が用いられてきた(特許文献1参照)。ところが、エチレン・酢酸ビニル共重合体(EVA)系樹脂は、長期にわたって使用されると黄変、亀裂入り、発泡等の劣化・変質により耐湿性が低下して、太陽電池セルの腐食等による発電量の低下を招いていた。これらはEVA系樹脂が加水分解性の高いエステル構造を有しているために、太陽光や水分の影響を受け易いためによるものと考えられている。 One of the uses of the resin composition imparted with a crosslinked structure by an organic peroxide is a solar cell encapsulant. Conventionally, a resin composition of an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) having a high vinyl acetate content has been used (see Patent Document 1). However, when ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) -based resin is used for a long period of time, its moisture resistance deteriorates due to deterioration and deterioration such as yellowing, cracking, and foaming, and power generation due to corrosion of solar cells and the like. It caused a decrease in the amount. It is considered that these are due to the fact that the EVA resin has a highly hydrolyzable ester structure and is therefore easily affected by sunlight and moisture.
そのため、封止材に用いられる樹脂材料として、透明性、耐湿性等に優れるエチレン・α−オレフィン共重合体を用いることが提案されている。例えば、特許文献2では、結晶化度が40%以下の非晶性又は低結晶性のα−オレフィン系共重合体を用いた封止材が開示され、該α−オレフィン共重合体としてエチレンを主成分とする共重合体に架橋剤を配合することが記載されている。 Therefore, it has been proposed to use an ethylene / α-olefin copolymer having excellent transparency, moisture resistance, etc. as the resin material used for the encapsulant. For example, Patent Document 2 discloses a sealing material using an amorphous or low crystalline α-olefin copolymer having a crystallinity of 40% or less, and ethylene is used as the α-olefin copolymer. It is described that a cross-linking agent is added to the copolymer as a main component.
また、特許文献3では、封止材として、(a)約0.90g/cc未満の密度、(b)ASTM D−882−02により測定して約150メガパスカル(MPa)未満の2%割線係数、(c)約95℃未満の融点、(d)ポリマーの重量に基づいて少なくとも約15および約50重量%未満のα−オレフィン含量、(e)約−35℃未満のTg、並びに(f)少なくとも約50のSCBDI、の1以上の条件を満たすポリオレフィンコポリマーを含むポリマー材料が開示されている。 Further, in Patent Document 3, as a sealing material, (a) a density of less than about 0.90 g / cc, and (b) a 2% split wire of less than about 150 megapascals (MPa) as measured by ASTM D-882-02. Factors, (c) melting point below about 95 ° C, (d) α-olefin content of at least about 15 and less than about 50% by weight based on the weight of the polymer, (e) Tg below about -35 ° C, and (f). ) A polymer material comprising a polyolefin copolymer satisfying one or more of at least about 50 SCBDIs is disclosed.
近年、太陽電池モジュールの需要の増加に伴い、太陽電池モジュールの生産効率の向上が要求され、封止材の架橋工程も短時間化する傾向がある。一般的に、エチレン・α−オレフィン共重合体は、EVAと比較し、有機過酸化物での架橋が容易ではなく、短時間の加熱で高いゲル分率を得にくく、EVAと同程度の架橋効率を得るのが難しい。これはEVAではコモノマーである酢酸ビニル部分が容易にラジカル架橋点となりうるのに対し、一般的なエチレン・α−オレフィン共重合体で用いられるα−オレフィンコモノマー自体はラジカル架橋点にならないためである。 In recent years, with the increase in demand for solar cell modules, it is required to improve the production efficiency of solar cell modules, and the cross-linking process of the encapsulant tends to be shortened. In general, an ethylene / α-olefin copolymer is not easy to crosslink with an organic peroxide as compared with EVA, and it is difficult to obtain a high gel fraction by heating for a short time, and the crosslink is about the same as EVA. Difficult to get efficiency. This is because the vinyl acetate moiety, which is a comonomer, can easily become a radical cross-linking point in EVA, whereas the α-olefin comonomer itself used in a general ethylene / α-olefin copolymer does not become a radical cross-linking point. ..
一方、高い絶縁性を示すポリエチレン樹脂として、ホウ素含有助触媒を回避する触媒による重合が提案されている(特許文献4参照)。例示されているポリエチレン樹脂に関して、アルモキサン助触媒単独サンプルと比較し、ホウ素含有助触媒由来のホウ素残渣により絶縁性の指標である体積抵抗率が低下することが記載されている。 On the other hand, as a polyethylene resin exhibiting high insulating properties, polymerization using a catalyst avoiding a boron-containing co-catalyst has been proposed (see Patent Document 4). Regarding the polyethylene resin exemplified, it is described that the volume resistivity, which is an index of insulation property, is lowered by the boron residue derived from the boron-containing co-catalyst as compared with the sample of the alumoxane co-catalyst alone.
絶縁性が低下することにより、電子材料からの漏れ電流が増加する。例えば、太陽電池の場合、漏れ電流の影響により、発電能力の低下が起こるPID(Potential Induced Degradation)現象の発生が報告される例もある。そこで、体積抵抗率の高い太陽電池封止材を製造することで、PID現象を抑制することができる。 As the insulation decreases, the leakage current from the electronic material increases. For example, in the case of a solar cell, there is an example in which the occurrence of a PID (Positive Induced Degradation) phenomenon in which a decrease in power generation capacity occurs due to the influence of leakage current is reported. Therefore, the PID phenomenon can be suppressed by manufacturing a solar cell encapsulant having a high volume resistivity.
しかしながら、メタロセン触媒系を使用する場合、ホウ素含有助触媒はアルモキサンと比較し、高温高圧条件にて高い活性を示すため、ポリエチレン樹脂の生産速度が高くなる(特許文献5参照)。かつ、製造時に必要な助触媒量はホウ素含有助触媒の方が少量であることが知られており、ホウ素含有助触媒の使用は、ポリエチレン樹脂の製造コスト面では有利である。 However, when a metallocene catalyst system is used, the boron-containing co-catalyst exhibits higher activity under high temperature and high pressure conditions as compared with alumoxane, so that the production rate of the polyethylene resin is high (see Patent Document 5). Moreover, it is known that the amount of the co-catalyst required for production is smaller in the boron-containing co-catalyst, and the use of the boron-containing co-catalyst is advantageous in terms of the production cost of the polyethylene resin.
このように、従来の技術では、架橋特性、絶縁性、コスト面に優れるポリエチレン樹脂の製造方法、並びにそれを用いた太陽電池封止材、太陽電池モジュールは得られていなかった。 As described above, in the conventional technique, a method for producing a polyethylene resin excellent in cross-linking characteristics, insulating properties, and cost, and a solar cell encapsulant and a solar cell module using the same have not been obtained.
本発明の目的は、かかる従来技術の問題点に鑑み、エチレン・α−オレフィン共重合体などからなる、架橋特性、絶縁性、コスト面に優れたポリエチレン樹脂の製造方法、並びにこの方法により製造されるポリエチレン樹脂を用いた太陽電池封止材、太陽電池モジュール及び絶縁体を提供することにある。 An object of the present invention is a method for producing a polyethylene resin, which is composed of an ethylene / α-olefin copolymer and has excellent cross-linking characteristics, insulating properties, and cost, in view of the problems of the prior art, and is produced by this method. It is an object of the present invention to provide a solar cell encapsulant, a solar cell module and an insulator using polyethylene resin.
本発明者は、上記問題を解決すべく鋭意検討した結果、メタロセン化合物および特定の種類及び量のホウ素化合物を含む触媒系を用いて製造された特定のMFR、密度、ホウ素残渣濃度などの特性を有するエチレン・α−オレフィン共重合体からなるポリエチレン樹脂を含む樹脂組成物を用いた太陽電子封止材は、耐熱性が良好であり、太陽電池からの漏れ電流を抑制するとの知見を得て、本発明を完成させるに至った。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventor has determined characteristics such as specific MFR, density, and boron residue concentration produced by using a catalytic system containing a metallocene compound and a specific type and amount of boron compound. The solar electron encapsulant using a resin composition containing a polyethylene resin made of an ethylene / α-olefin copolymer has good heat resistance and suppresses leakage current from a solar cell. The present invention has been completed.
即ち、本発明の第1の発明によれば、エチレン・α−オレフィン共重合体からなるポリエチレン樹脂の製造方法であって、前記エチレン・α−オレフィン共重合体が、下記成分(A)および(B)を含む触媒系を用いて重合を行うことにより得られることを特徴とする、ポリエチレン樹脂の製造方法が提供される。
成分(A):置換基を有するインデニル骨格を有する架橋系メタロセン化合物
成分(B):成分(A)と反応してイオン対を形成するホウ素化合物であり、N2雰囲気下における重量変化が起こる熱分解温度が200℃未満
That is, according to the first aspect of the present invention, there is a method for producing a polyethylene resin composed of an ethylene / α-olefin copolymer, wherein the ethylene / α-olefin copolymer contains the following components (A) and ( Provided is a method for producing a polyethylene resin, which is obtained by carrying out polymerization using a catalytic system containing B).
Component (A): Cross-linked metallocene compound having an indenyl skeleton having a substituent Component (B): A boron compound that reacts with the component (A) to form an ion pair, and heat that causes a weight change in an N 2 atmosphere. Decomposition temperature is less than 200 ° C
また、本発明の第2の発明によれば、第1の発明において、成分(A)が、置換基を有する又は無置換のアリール基を有するインデニル骨格を有する架橋系メタロセン化合物であることを特徴とする、ポリエチレン樹脂の製造方法が提供される。 Further, according to the second invention of the present invention, in the first invention, the component (A) is a crosslinked metallocene compound having an indenyl skeleton having a substituent or an unsubstituted aryl group. A method for producing a polyethylene resin is provided.
また、本発明の第3の発明によれば、第1又は第2の発明において、成分(A)が、下記一般式(I)で表されるメタロセン化合物であることを特徴とするポリエチレン樹脂の製造方法が提供される。
[一般式(I)中、MはTi、Zr、またはHfであり;
R1〜R10およびR11〜R20は、同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数1〜6の炭化水素基を有するシリル基、炭素数1〜6の炭化水素基を有するシリル基で置換された炭素数1〜20のアルキル基、−N(R23)2基、−SR23基、−OSi(R23)3基又は−P(R23)2基であり(R23は、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基であり、R23を2以上有する場合は、それぞれ同じであっても異なっていてもよい)、R1〜R10およびR11〜R20が隣接するR基同士でそれらを連結する原子と一緒になって1つ以上の芳香族環又は脂肪族環を形成してもよく、R5とR6若しくはR5とR10、R15とR16若しくはR15とR20がそれらを連結する原子と一緒になって1つの芳香族環または脂肪族環を形成していてもよく;
YはSiまたはCであり;
R21とR22は、同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のフルオロアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜10のフルオロアリール基、炭素数6〜10のアリールオキシ基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数7〜40のアリールアルキル基、炭素数7〜40のアルキルアリール基、炭素数8〜40のアリールアルケニル基であり、かつ、R21とR22が同時に水素原子ではなく、R21とR22がそれらを連結する原子と一緒になって1つ以上の環を形成してもよく;
X1とX2は、同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜10のアリールオキシ基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数7〜40のアリールアルキル基、炭素数7〜40のアルキルアリール基、炭素数8〜40のアリールアルケニル基、炭素数1〜6の炭化水素基を有するシリル基で置換された炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜10のアミノ基、OH基、ハロゲン原子又は配位可能な中性配位子であり、X1とX2が、それらを連結する原子と一緒になって1つの環を形成していてもよい。]
Further, according to the third aspect of the present invention, the polyethylene resin according to the first or second invention, wherein the component (A) is a metallocene compound represented by the following general formula (I). A manufacturing method is provided.
[In general formula (I), M is Ti, Zr, or Hf;
R 1 to R 10 and R 11 to R 20 may be the same or different, respectively, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, respectively. 1 carbon number substituted with an aryl group of 6 to 20, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a silyl group having a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and a silyl group having a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. ~ 20 alkyl groups, -N (R 23 ) 2 groups, -SR 23 groups, -OSi (R 23 ) 3 groups or -P (R 23 ) 2 groups (R 23 is a halogen atom, 1 carbon number) It is an alkyl group of 10 to 10 and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and when it has 2 or more R 23 , it may be the same or different from each other), R 1 to R 10 and R 11 to R 20. There may form one or more aromatic or aliphatic ring together with the atoms connecting them with R groups adjacent to each other, R 5 and R 6 or R 5 and R 10, R 15 R 16 or R 15 and R 20 may be combined with the atoms connecting them to form one aromatic or aliphatic ring;
Y is Si or C;
R 21 and R 22 may be the same or different, respectively, and have a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, respectively. Aryl groups with 6 to 20 carbon atoms, fluoroaryl groups with 6 to 10 carbon atoms, aryloxy groups with 6 to 10 carbon atoms, alkenyl groups with 2 to 10 carbon atoms, arylalkyl groups with 7 to 40 carbon atoms, and carbon atoms. It is an alkylaryl group of 7 to 40, an arylalkenyl group of 8 to 40 carbon atoms, and R 21 and R 22 are not hydrogen atoms at the same time, but R 21 and R 22 are combined with an atom connecting them. One or more rings may be formed;
X 1 and X 2 may be the same or different, respectively, and have a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and 6 to 6 carbon atoms, respectively. 10 aryloxy groups, 2-10 carbon alkenyl groups, 7-40 carbon arylalkyl groups, 7-40 carbon alkylaryl groups, 8-40 carbon arylalkenyl groups, 1-6 carbons It is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an amino group having 1 to 10 carbon atoms, an OH group, a halogen atom or a coordinable neutral ligand substituted with a silyl group having a hydrocarbon group of X 1. And X 2 may be combined with the atoms connecting them to form a ring. ]
また、本発明の第4の発明によれば、第1〜第3のいずれかの発明において、前記エチレン・α−オレフィン共重合体が、下記(a1)〜(a5)の特性を有することを特徴とするポリエチレン樹脂の製造方法が提供される。
(a1)エチレンに由来する構成単位の含有割合が80〜97mol%であるとともに、炭素数3〜20のα−オレフィンに由来する構成単位の含有割合が3〜20mol%
(a2)MFR(190℃、21.18N荷重)が0.1〜100g/10分
(a3)密度が0.860〜0.920g/cm3
(a4)温度23℃、印加電圧500Vで測定される体積抵抗率が1.0×1016Ω・cm以上
(a5)樹脂中のホウ素残渣濃度(M)が、0<M<1wtppm
Further, according to the fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third inventions, the ethylene / α-olefin copolymer has the following characteristics (a1) to (a5). A method for producing a featured polyethylene resin is provided.
(A1) The content ratio of the structural unit derived from ethylene is 80 to 97 mol%, and the content ratio of the structural unit derived from α-olefin having 3 to 20 carbon atoms is 3 to 20 mol%.
(A2) MFR (190 ° C., 21.18N load) is 0.1 to 100 g / 10 minutes (a3) Density is 0.860 to 0.920 g / cm 3
(A4) Volume resistivity measured at a temperature of 23 ° C. and an applied voltage of 500 V is 1.0 × 10 16 Ω · cm or more (a5) Boron residue concentration (M) in the resin is 0 <M <1 wtppm.
また、本発明の第5の発明によれば、第1〜第4のいずれかの発明において、前記エチレン・α−オレフィン共重合体が、下記(a6)の特性を有することを特徴とするポリエチレン樹脂の製造方法が提供される。
(a6)示差走査熱量測定(DSC)の最大融解ピークを示す温度よりも20℃以上高い温度に融解ピークを示さない
Further, according to the fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth inventions, the ethylene / α-olefin copolymer is characterized by having the following property (a6). A method for producing a resin is provided.
(A6) No melting peak is shown at a
また、本発明の第6の発明によれば、第1〜第5のいずれかの発明において、前記エチレン・α−オレフィン共重合体が、下記(a7)の特性を有することを特徴とするポリエチレン樹脂の製造方法が提供される。
(a7)ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により求めたZ平均分子量(Mz)と数平均分子量(Mn)との比(Mz/Mn)が8.0以下
Further, according to the sixth aspect of the present invention, in any one of the first to fifth inventions, the ethylene / α-olefin copolymer is characterized by having the following property (a7). A method for producing a resin is provided.
(A7) The ratio (Mz / Mn) of the Z average molecular weight (Mz) to the number average molecular weight (Mn) determined by gel permeation chromatography (GPC) is 8.0 or less.
また、本発明の第7の発明によれば、第1〜第6のいずれかの発明において製造されたポリエチレン樹脂および下記成分(D)を含むポリエチレン樹脂組成物を用いた太陽電池封止材が提供される。
成分(D):有機過酸化物
Further, according to the seventh aspect of the present invention, the solar cell encapsulant using the polyethylene resin produced in any one of the first to sixth inventions and the polyethylene resin composition containing the following component (D) is used. Provided.
Component (D): Organic peroxide
また、本発明の第8の発明によれば、第7の発明において、前記成分(D)の含有量が、前記ポリエチレン樹脂100重量部に対して、0.2〜5重量部であることを特徴とするポリエチレン樹脂組成物を用いた太陽電池封止材が提供される。 Further, according to the eighth aspect of the present invention, in the seventh invention, the content of the component (D) is 0.2 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyethylene resin. Provided is a solar cell encapsulant using a featured polyethylene resin composition.
一方、本発明の第9の発明によれば、第7または第8の発明において、太陽電池封止材を用いた太陽電池モジュールが提供される。 On the other hand, according to the ninth invention of the present invention, in the seventh or eighth invention, the solar cell module using the solar cell encapsulant is provided.
更に、本発明の第10の発明によれば、第1〜第6のいずれかの発明において製造されたポリエチレン樹脂を含むポリエチレン樹脂組成物を用いた絶縁体が提供される。 Further, according to the tenth aspect of the present invention, there is provided an insulator using a polyethylene resin composition containing the polyethylene resin produced in any one of the first to sixth inventions.
本発明のポリエチレン樹脂は、置換基を有するインデニル骨格を有する架橋系メタロセン化合物およびホウ素化合物を含む触媒系を用いて重合された特定のMFR、密度、ホウ素残渣濃度などの特性を有するエチレン・α−オレフィン共重合体を主成分とし、これに有機過酸化物を配合したポリエチレン樹脂組成物を用いた太陽電池封止材シートは、加工する際にエチレン・α−オレフィン共重合体が比較的短時間で架橋でき、PID現象を抑制することができる。また、得られた太陽電池モジュールは、耐熱性、透明性、耐候性に優れるものとなり、長期間安定した変換効率を維持することができる。 The polyethylene resin of the present invention has specific MFR, density, boron residue concentration and other properties polymerized using a catalytic system containing a crosslinked metallocene compound having an indenyl skeleton having a substituent and a boron compound. The ethylene / α-olefin copolymer is used for a relatively short time in the solar cell encapsulant sheet using a polyethylene resin composition containing an olefin copolymer as a main component and an organic peroxide mixed therein. Can be crosslinked with, and the PID phenomenon can be suppressed. In addition, the obtained solar cell module has excellent heat resistance, transparency, and weather resistance, and can maintain stable conversion efficiency for a long period of time.
本発明のポリエチレン樹脂の製造方法は、置換基を有するインデニル骨格を有する架橋系メタロセン化合物およびホウ素化合物を含む触媒系を用い、樹脂成分として特定のエチレン・α−オレフィン共重合体及び有機過酸化物を含むことを特徴とするポリエチレン樹脂組成物を用いた太陽電池封止材及び太陽電池モジュールに係るものである。
以下、本発明において用いられる各成分、及びそれらを用いた太陽電池封止材等について詳細に説明する。
The method for producing a polyethylene resin of the present invention uses a catalytic system containing a crosslinked metallocene compound having an indenyl skeleton having a substituent and a boron compound, and a specific ethylene / α-olefin copolymer and organic peroxide as resin components. The present invention relates to a solar cell encapsulant and a solar cell module using a polyethylene resin composition comprising.
Hereinafter, each component used in the present invention, a solar cell encapsulant using them, and the like will be described in detail.
1.触媒系
本発明に用いられている触媒系は、下記成分(A)および(B)を含有するものである。
成分(A):置換基を有するインデニル骨格を有する架橋系メタロセン化合物
成分(B):成分(A)と反応してイオン対を形成するホウ素化合物であり、N2雰囲気下における重量変化が起こる200℃未満の熱分解温度を有する
1. 1. Catalyst system The catalyst system used in the present invention contains the following components (A) and (B).
Component (A): Cross-linked metallocene compound having an indenyl skeleton having a substituent Component (B): A boron compound that reacts with the component (A) to form an ion pair, and changes in weight in an N 2 atmosphere 200 Has a pyrolysis temperature below ° C
(1)成分(A)
本発明において用いられる成分(A)は、置換基を有するインデニル骨格を有する架橋系メタロセン化合物である。成分(A)は、好ましくは、置換基を有する又は無置換のアリール基を有するインデニル骨格を有する架橋系メタロセン化合物である。
また、成分(A)は、更に好ましくは、下記の一般式(I)で表される特定の置換基を有するメタロセン化合物である。
(1) Ingredient (A)
The component (A) used in the present invention is a crosslinked metallocene compound having an indenyl skeleton having a substituent. The component (A) is preferably a crosslinked metallocene compound having an indenyl skeleton having a substituent or an unsubstituted aryl group.
Further, the component (A) is more preferably a metallocene compound having a specific substituent represented by the following general formula (I).
[一般式(I)中、MはTi、Zr、又はHfであり;
R1〜R10およびR11〜R20は、同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数1〜6の炭化水素基を有するシリル基、炭素数1〜6の炭化水素基を有するシリル基で置換された炭素数1〜20のアルキル基、−N(R23)2基、−SR23基、−OSi(R23)3基または−P(R23)2基であり(R23は、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基であり、R23を2以上有する場合は、それぞれ同じであっても異なっていてもよい)、R1〜R10およびR11〜R20が隣接するR基同士でそれらを連結する原子と一緒になって1つ以上の芳香族環又は脂肪族環を形成してもよく、R5とR6もしくはR5とR10、R15とR16若しくはR15とR20がそれらを連結する原子と一緒になって1つの芳香族環又は脂肪族環を形成していてもよく;
YはSi又はCであり;
R21とR22は、同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のフルオロアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜10のフルオロアリール基、炭素数6〜10のアリールオキシ基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数7〜40のアリールアルキル基、炭素数7〜40のアルキルアリール基、炭素数8〜40のアリールアルケニル基であり、かつ、R21とR22が同時に水素原子ではなく、R21とR22がそれらを連結する原子と一緒になって1つ以上の環を形成してもよく;
X1とX2は、同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜10のアリールオキシ基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数7〜40のアリールアルキル基、炭素数7〜40のアルキルアリール基、炭素数8〜40のアリールアルケニル基、炭素数1〜6の炭化水素基を有するシリル基で置換された炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜10のアミノ基、OH基、ハロゲン原子又は配位可能な中性配位子であり、X1とX2が、それらを連結する原子と一緒になって1つの環を形成していてもよい。]
[In general formula (I), M is Ti, Zr, or Hf;
R 1 to R 10 and R 11 to R 20 may be the same or different, respectively, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, respectively. 1 carbon number substituted with an aryl group of 6 to 20, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a silyl group having a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and a silyl group having a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. ~ 20 alkyl groups, -N (R 23 ) 2 groups, -SR 23 groups, -OSi (R 23 ) 3 groups or -P (R 23 ) 2 groups (R 23 is a halogen atom, 1 carbon number) It is an alkyl group of 10 to 10 and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and when it has 2 or more R 23 , it may be the same or different from each other), R 1 to R 10 and R 11 to R 20. There may form one or more aromatic or aliphatic ring together with the atoms connecting them with R groups adjacent to each other, R 5 and R 6 or R 5 and R 10, R 15 R 16 or R 15 and R 20 may be combined with the atoms connecting them to form one aromatic or aliphatic ring;
Y is Si or C;
R 21 and R 22 may be the same or different, respectively, and have a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, respectively. Aryl groups with 6 to 20 carbon atoms, fluoroaryl groups with 6 to 10 carbon atoms, aryloxy groups with 6 to 10 carbon atoms, alkenyl groups with 2 to 10 carbon atoms, arylalkyl groups with 7 to 40 carbon atoms, and carbon atoms. It is an alkylaryl group of 7 to 40, an arylalkenyl group of 8 to 40 carbon atoms, and R 21 and R 22 are not hydrogen atoms at the same time, but R 21 and R 22 are combined with an atom connecting them. One or more rings may be formed;
X 1 and X 2 may be the same or different, respectively, and have a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and 6 to 6 carbon atoms, respectively. 10 aryloxy groups, 2-10 carbon alkenyl groups, 7-40 carbon arylalkyl groups, 7-40 carbon alkylaryl groups, 8-40 carbon arylalkenyl groups, 1-6 carbons It is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an amino group having 1 to 10 carbon atoms, an OH group, a halogen atom or a coordinable neutral ligand substituted with a silyl group having a hydrocarbon group of X 1. And X 2 may be combined with the atoms connecting them to form a ring. ]
一般式(I)中、Mは、Ti、Zr、又は、Hfであり、好ましくはZr、Hfであり、特に好ましくはHfである。 In the general formula (I), M is Ti, Zr, or Hf, preferably Zr, Hf, and particularly preferably Hf.
一般式(I)中、X1、X2として、具体的には、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、フェニル基、ベンジル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基又はトリメチルシリル基などを挙げることができる。
これらの中でも好ましくは、塩素原子、メチル基、i−ブチル基、フェニル基、ベンジル基、トリメチルシリル基であり、より好ましくは、塩素原子、メチル基、i−ブチル基、ベンジル基、トリメチルシリル基である。
In the general formula (I), as X 1 and X 2 , specifically, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a fluorine atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, an i-butyl group, Examples thereof include a phenyl group, a benzyl group, a dimethylamino group, a diethylamino group, a trimethylsilyl group and the like.
Among these, a chlorine atom, a methyl group, an i-butyl group, a phenyl group, a benzyl group and a trimethylsilyl group are preferable, and a chlorine atom, a methyl group, an i-butyl group, a benzyl group and a trimethylsilyl group are more preferable. ..
また、X1とX2が、配位可能な中性配位子であり、それらを連結する原子と一緒になって1つの環を形成した原子団として具体的には、1,3−ブタジエン、1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、3−メチル−1,3−ペンタジエン、1,4−ジベンジル−1,3−ブタジエン、2,4−ヘキサジエン、1,3−ペンタジエン、1,4−ジトリル−1,3−ブタジエン、1,4−ビス(トリメチルシリル)−1,3−ブタジエンなどを挙げることができる。 Further, X 1 and X 2 are coordinating neutral ligands, and specifically, 1,3-butadiene as an atomic group forming one ring together with the atoms connecting them. , 1,4-Diphenyl-1,3-butadiene, 3-methyl-1,3-pentadiene, 1,4-dibenzyl-1,3-butadiene, 2,4-hexadiene, 1,3-pentadiene, 1,4 -Ditril-1,3-butadiene, 1,4-bis (trimethylsilyl) -1,3-butadiene and the like can be mentioned.
一般式(I)中、R1〜R5、R11〜R15は好ましくは水素原子である。 In the general formula (I), R 1 to R 5 and R 11 to R 15 are preferably hydrogen atoms.
一般式(I)中、R6〜R10及びR16〜R20のそれぞれは、好ましくは水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数1〜6の炭化水素基を有するシリル基、炭素数1〜6の炭化水素基を有するシリル基で置換された炭素数1〜20のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜10のアリール基である。 In the general formula (I), each of R 6 to R 10 and R 16 to R 20 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and 6 carbon atoms, respectively. It is an alkyl group having 10 to 10 aryl groups, a silyl group having a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a silyl group having a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably. Is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl halide group having 1 to 10 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.
一般式(I)中、Yは、生成するエチレン・α−オレフィン共重合体の架橋反応に係る二重結合量の観点から、炭素原子であることが好ましい。 In the general formula (I), Y is preferably a carbon atom from the viewpoint of the amount of double bonds involved in the cross-linking reaction of the produced ethylene / α-olefin copolymer.
一般式(I)中、好ましいR23基としては、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基であり、好ましい−N(R23)2基としては、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジイソプロピルアミド基などを挙げることができる。 In the formula (I), preferred R 23 groups, alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, preferable -N (R 23) 2 group, dimethylamide group, Examples thereof include a diethylamide group and a diisopropylamide group.
一般式(I)中、−SR23基として具体的には、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、フェニルスルファニル基などを挙げることができる。 Specific examples of the -SR 23 group in the general formula (I) include a methylsulfanil group, an ethylsulfanil group, an isopropylsulfanil group, and a phenylsulfanil group.
−OSi(R23)3基として具体的には、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシキ基、トリイソプロピルシロキシ基、トリフェニルシロキシ基、tert−ブチル(ジメチル)シロキシ基などを挙げることができる。 Specific examples of the three -OSi (R 23 ) groups include a trimethylsiloxy group, a triethylsiloxyki group, a triisopropylsiloxy group, a triphenylsiloxy group, a tert-butyl (dimethyl) siloxy group and the like.
一般式(I)中、−P(R23)2基として具体的にはジメチルホスフィノ基、ジエチルホスフィノ基、ジイソプロピルホスフィノ基、ジブチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基などを挙げることができる。 In the general formula (I), specific examples of the two -P (R 23 ) groups include a dimethylphosphino group, a diethylphosphino group, a diisopropylphosphino group, a dibutylphosphino group, and a diphenylphosphino group. ..
一般式(I)中、R21、R22は、好ましくはハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のフルオロアルキル基、炭素数7〜10のアリール基、フルオロアリール基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数7〜40のアリールアルキル基、炭素数7〜40のアルキルアリール基、炭素数8〜40のアリールアルケニル基であり、さらに好ましくは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数7〜10のアリール基、炭素数2〜10のアルケニル基であり、加えて、好ましくはR21とR22が含む炭素数の和が3以上である。
また、R21とR22は連結する原子(Y)と一緒になって1つ以上の環を形成するのが好ましく、さらに好ましくは4−5員環を形成するのが好ましい。
In the general formula (I), R 21 and R 22 are preferably a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 7 to 10 carbon atoms, and a fluoroaryl group. , An alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 40 carbon atoms, an alkylaryl group having 7 to 40 carbon atoms, an arylalkenyl group having 8 to 40 carbon atoms, and more preferably 1 to 1 carbon atoms. It is an alkyl group of 10, an aryl group having 7 to 10 carbon atoms, and an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and more preferably, the sum of the carbon atoms contained in R 21 and R 22 is 3 or more.
Further, R 21 and R 22 preferably form one or more rings together with the connecting atom (Y), and more preferably form a 4-5 member ring.
以下、一般式(I)に含有されうる各官能基の具体例を示す。
炭素数1〜10のアルキル基の具体例としてはメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、s−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−デシルなどを挙げることができる。
Hereinafter, specific examples of each functional group that can be contained in the general formula (I) will be shown.
Specific examples of alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, i-butyl, s-butyl, t-butyl, n-pentyl, n-hexyl and cyclo. Examples thereof include propyl, cyclopentyl, cyclohexyl, n-heptyl, n-octyl, n-decyl and the like.
炭素数1〜10のハロゲン含有アルキル基は、炭素数1〜10のアルキル基の骨格上の水素原子にハロゲンが置換されたものである。炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基の具体例としては、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ヨードメチル、2,2,2−トリフルオロエチル、2,2,1,1−テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、ペンタクロロエチル、ペンタフルオロプロピル、ノナフルオロブチル、5−クロロペンチル、5,5,5−トリクロロペンチル、5−フルオロペンチル、5,5,5−トリフルオロペンチル、6−クロロヘキシル、6,6,6−トリクロロヘキシル、6−フルオロヘキシル、6,6,6−トリフルオロヘキシルを挙げることができる。
The halogen-containing alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is a hydrogen atom substituted with a hydrogen atom on the skeleton of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the halogen atom of the halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Specific examples of alkyl halide groups having 1 to 10 carbon atoms include fluoromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, chloromethyl, dichloromethyl, trichloromethyl, bromomethyl, dibromomethyl, tribromomethyl, iodomethyl, 2,2. 2-Trifluoroethyl, 2,2,1,1-tetrafluoroethyl, pentafluoroethyl, pentachloroethyl, pentafluoropropyl, nonafluorobutyl, 5-chloropentyl, 5,5,5-trichloropentyl, 5- Fluoropentyl, 5,5,5-trifluoropentyl, 6-chlorohexyl, 6,6,6-trichlorohexyl, 6-fluorohexyl, 6,6,6-trifluorohexyl can be mentioned.
炭素数6〜20のアリール基の具体例としては、フェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、アセナフチル、フェナントリル、アントリルなどを挙げることができる。 Specific examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include phenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, acenaphthyl, phenanthryl, anthryl and the like.
炭素数1〜10のフルオロアルキル基とは、炭素数1〜10のアルキル基の骨格上の水素原子にフッ素原子が置換されたものである。
具体例としては、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、2,2,2−トリフルオロエチル、2,2,1,1−テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、ペンタフルオロプロピル、5−フルオロペンチル、5,5,5−トリフルオロペンチル、6−フルオロヘキシル、6,6,6−トリフルオロヘキシルを挙げることができる。
A fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms is one in which a hydrogen atom is substituted with a hydrogen atom on the skeleton of an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
Specific examples include fluoromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, 2,2,1,1-tetrafluoroethyl, pentafluoroethyl, pentafluoropropyl, 5-fluoropentyl, and the like. 5,5,5-trifluoropentyl, 6-fluorohexyl, 6,6,6-trifluorohexyl can be mentioned.
炭素数1〜10のアルコキシ基の具体例としてはメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、i−プロポキシ、n−ブトキシ,i−ブトキシ、s−ブトキシ、t−ブトキシ、n−ペントキシ,n−ヘキソキシ,シクロプロポキシ、シクロペントキシ、シクロヘキソキシ,n−オクトキシ,n−デトキシなどを挙げることができる。 Specific examples of alkoxy groups having 1 to 10 carbon atoms include methoxy, ethoxy, n-propoxy, i-propoxy, n-butoxy, i-butoxy, s-butoxy, t-butoxy, n-pentoxy, n-hexoxy, and cyclo. Examples thereof include propoxy, cyclopentoxy, cyclohexoxy, n-octoxy, n-detoxy and the like.
炭素数6〜10のフルオロアリール基は、炭素数6〜10のアリール基の骨格上の水素原子にフッ素原子が置換されたものである。具体例としては、ペンタフルオロフェニル、2−フルオロフェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロフェニル、ジ(トリフルオロメチル)フェニル、ペンタフルオロエチルフェニル、ノナフルオロ−t−ブチルフェニル、1−パーフルオロナフチル、2−パーフルオロナフチルなどを挙げることができる。 A fluoroaryl group having 6 to 10 carbon atoms is a hydrogen atom substituted with a hydrogen atom on the skeleton of an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. Specific examples include pentafluorophenyl, 2-fluorophenyl, 3-fluorophenyl, 4-fluorophenyl, di (trifluoromethyl) phenyl, pentafluoroethyl phenyl, nonafluoro-t-butyl phenyl, 1-perfluoronaphthyl, 2-Perfluoronaphthyl and the like can be mentioned.
炭素数6〜10のアリールオキシ基には、炭素数1〜4の炭化水素基が置換されていてもよく、具体例としては、フェノキシ、トリメチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、エチルフェノキシ、t−ブチルフェノキシ、1−ナフトキシ,2−ナフトキシなどを挙げることができる。 Aryloxy groups having 6 to 10 carbon atoms may be substituted with hydrocarbon groups having 1 to 4 carbon atoms, and specific examples thereof include phenoxy, trimethylphenoxy, dimethylphenoxy, ethylphenoxy, and t-butylphenoxy. Examples thereof include 1-naphthoxy and 2-naphthoxy.
炭素数2〜10のアルケニル基の具体例としては、ビニル、1−プロペニル、2−プロペニル、3−ブテニル、5−ヘキセニル、7−オクテニルなどを挙げることができる。 Specific examples of the alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms include vinyl, 1-propenyl, 2-propenyl, 3-butenyl, 5-hexenyl, 7-octenyl and the like.
炭素数7〜40のアリールアルキル基には、具体的には、ベンジル、フェニルエチル、(メチルフェニル)メチル、(tert−ブチルフェニル)メチルなどを挙げることができる。 Specific examples of the arylalkyl group having 7 to 40 carbon atoms include benzyl, phenylethyl, (methylphenyl) methyl, and (tert-butylphenyl) methyl.
炭素数7〜40のアルキルアリール基には、具体的には、トリル、ジメチルフェニル、エチルフェニル、トリメチルフェニル、t−ブチルフェニルなどを挙げることができる。 Specific examples of the alkylaryl group having 7 to 40 carbon atoms include trill, dimethylphenyl, ethylphenyl, trimethylphenyl, and t-butylphenyl.
炭素数8〜40のアリールアルケニル基には、具体的には、ビニルフェニル、(2−プロペニル)フェニル基などを挙げることができる。 Specific examples of the arylalkenyl group having 8 to 40 carbon atoms include vinylphenyl and (2-propenyl) phenyl group.
炭素数1〜6の炭化水素基を有するシリル基で置換された炭素数1〜20のアルキル基には、具体的には、トリメチルシリル基、トリエチルシリルメチル基、トリフェニルシリルメチル基を挙げることができる。 Specific examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms substituted with the silyl group having a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms include a trimethylsilyl group, a triethylsilylmethyl group and a triphenylsilylmethyl group. can.
炭素数1〜10のアミノ基には、具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基を挙げることができる。 Specific examples of the amino group having 1 to 10 carbon atoms include a dimethylamino group, a diethylamino group and a diisopropylamino group.
炭素数1〜6の炭化水素基を有するシリル基として、具体的には、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、tert−ブチル(ジメチル)シリル基、トリフェニルシリル基などを挙げることができる。 Specific examples of the silyl group having a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a tert-butyl (dimethyl) silyl group, and a triphenylsilyl group.
(メタロセン化合物の具体例)
一般式(I)で示される本発明のメタロセン化合物の具体例を以下に示す。これらは代表的な例示である。
(Specific example of metallocene compound)
Specific examples of the metallocene compound of the present invention represented by the general formula (I) are shown below. These are typical examples.
イソプロピリデン架橋メタロセン化合物:
イソプロピリデンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(4−トリフルオロメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(4−メトキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(4−イソプロポキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(4−フルオロフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(4−クロロフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(4−ブロモフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(3,5−ジイソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(3,5−ジトリフルオロメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(2,3,4,5,6−ペンタメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−ビフェニリル1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(2,6−ジメチルビフェニリル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(2’,6’−ジメチルビフェニリル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(1−ナフチル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−(2−ナフチル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、イソプロピリデンビス(4−フェナントリル−1−インデニル)ジメチルハフニウム
Isopropyridene cross-linked metallocene compounds:
Isopropyridenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (3-isopropylphenyl) -1- Indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenbis (4- (4-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (4-Isopropyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropylidenebis (4- (4-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (4-trifluoro) Methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropylidenebis (4- (4-methoxyphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (4-isopropoxyphenyl) -1-indenyl) dimethyl Hafnium, isopropyridenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (4-fluorophenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (4) -Chlorophenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (4-bromophenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (2-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium , Isopropylidenebis (4- (2-ethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (3,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4-( 3,5-diisopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropylidenebis (4- (3,5-di-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (3,3,3) 5-Dimethoxyphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropylidenebis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (3,5-ditrifluoromethyl) Phenyl) -1-indenyl ) Dimethylhafnium, isopropylidenebis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenbis (4- (2,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropylidene Bis (4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropylidenebis (4- (2,3,5,6-tetramethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (2,3,4,5,6-pentamethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropylidenebis (4- (4-tert-butyl-2-methyl-phenyl) -1-indenyl) Dimethylhafnium, isopropyridenebis (4-biphenylyl 1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenbis (4- (2,6-dimethylbiphenylyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (2',) 6'-dimethylbiphenylyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (1-naphthyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, isopropyridenebis (4- (2-naphthyl) -1-indenyl) Dimethylhafnium, isopropylidenebis (4-phenanthril-1-indenyl) dimethylhafnium
シクロブチリデン架橋メタロセン化合物:
シクロブチリデンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(4−トリフルオロメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(4−メトキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(4−イソプロポキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(4−フルオロフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(4−クロロフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウムシクロブチリデンビス(4−(4−ブロモフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(3,5−ジイソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(3,5−ジトリフルオロメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(2,3,4,5,6−ペンタメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−ビフェニリル1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(2,6−ジメチルビフェニリル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(2’,6’−ジメチルビフェニリル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(1−ナフチル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−(2−ナフチル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロブチリデンビス(4−フェナントリル−1−インデニル)ジメチルハフニウム
Cyclobutylidene cross-linked metallocene compound:
Cyclobutylidenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (3-isopropylphenyl)) -1-Indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (4-methylphenyl) -1-indenyl) dimethyl Hafnium, cyclobutylidenebis (4- (4-isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (4-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (4-Trifluoromethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (4-methoxyphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (4- (4- (4-)4-) Isopropoxyphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (4-fluorophenyl) -1-indenyl ) Dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (4-chlorophenyl) -1-indenyl) Dimethylhafnium cyclobutylidenbis (4- (4-bromophenyl) -1-indenyl) Dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4) -(2-Methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (2-ethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (3,5-dimethylphenyl) ) -1-Indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (3,5-diisopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (3,5-di-tert-butylphenyl) ) -1-Indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (3,5-dimethoxyphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl) -1 -Indenyl) Dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (3,5-ditrifluoromethylphenyl) -1-indenyl) Dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (2,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclo Butylidenebis (4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (2,3,5,6-tetramethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, Cyclobutylidenebis (4- (2,3,4,5,6-pentamethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (4-tert-butyl-2-methyl-phenyl)) -1-Indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4-biphenylyl 1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (2,6-dimethylbiphenylyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidene Bis (4- (2', 6'-dimethylbiphenylyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4- (1-naphthyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4-) (2-naphthyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclobutylidenebis (4-phenanthril-1-indenyl) dimethylhafnium
シクロペンチリデン架橋メタロセン化合物:
シクロペンチリデンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(4−トリフルオロメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(4−メトキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(4−イソプロポキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(4−フルオロフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(4−クロロフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(4−ブロモフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(3,5−ジイソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(3,5−ジトリフルオロメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(2,3,4,5,6−ペンタメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−ビフェニリル1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(2,6−ジメチルビフェニリル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(2’,6’−ジメチルビフェニリル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(1−ナフチル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−(2−ナフチル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロペンチリデンビス(4−フェナントリル−1−インデニル)ジメチルハフニウム
Cyclopentylidene cross-linked metallocene compound:
Cyclopentylidenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (3-isopropylphenyl)) -1-Indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (4-methylphenyl) -1-indenyl) dimethyl Hafnium, cyclopentyldenbis (4- (4-isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (4-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (4-Trifluoromethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (4-methoxyphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (4- (4- (4-)4-) Isopropoxyphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (4-trimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (4-fluorophenyl) -1-indenyl ) Dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (4-chlorophenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (4-bromophenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis ( 4- (2-Methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (2-ethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (3,5-dimethyl) Phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (3,5-diisopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (3,5-di-tert-butyl) Phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (3,5-dimethoxyphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl)- 1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (3,5-di) Trifluoromethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (2,5-dimethylphenyl) ) -1-Indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (2,3,5,6-tetramethyl) Phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (2,3,4,5,6-pentamethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (4- (4- (4- (4-)4-) tert-Butyl-2-methyl-phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4-biphenylyl 1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (2,6-dimethylbiphenylyl)- 1-Indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (2', 6'-dimethylbiphenylyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (1-naphthyl) -1-indenyl) Dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4- (2-naphthyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclopentyldenbis (4-phenanthryl-1-indenyl) dimethylhafnium
シクロヘキシリデン架橋メタロセン化合物:
シクロヘキシリデンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、シクロヘキシリデンビス(4−ビフェニリル1−インデニル)ジメチルハフニウム
Cyclohexylidene cross-linked metallocene compound:
Cyclohexylidenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, cyclohexylidenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclohexylidenebis (4- (3-isopropylphenyl)) -1-Indenyl) dimethylhafnium, cyclohexylidenebis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclohexylidenebis (4- (4-methylphenyl) -1-indenyl) dimethyl Hafnium, cyclohexylidenebis (4- (4-isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclohexylidenebis (4- (4-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclohexylidenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclohexylidenebis (4- (2-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclohexylidenebis (4- (2-ethylphenyl) ) -1-Indenyl) dimethylhafnium, cyclohexylidenebis (4- (3,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclohexylidenebis (4- (3,5-di-tert-butylphenyl) ) -1-Indenyl) dimethylhafnium, cyclohexylidenebis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclohexylidenebis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1 -Indenyl) dimethylhafnium, cyclohexylidenebis (4- (2,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclohexylidenebis (4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethyl Hafnium, cyclohexylidenebis (4- (4-tert-butyl-2-methyl-phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, cyclohexylidenebis (4-biphenylyl1-indenyl) dimethylhafnium
ジエチルメチレン架橋メタロセン化合物:
ジエチルメチレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルメチレンビス(4−ビフェニリル−1−インデニル)ジメチルハフニウム
Diethylmethylene crosslinked metallocene compound:
Diethylmethylenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, diethylmethylenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylmethylenebis (4- (3-isopropylphenyl) -1- Indenyl) dimethylhafnium, diethylmethylenebis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylmethylenebis (4- (4-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylmethylenebis (4- (4-Isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylmethylenebis (4- (4-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylmethylenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) ) -1-Indenyl) dimethylhafnium, diethylmethylenebis (4- (2-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylmethylenebis (4- (2-ethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethyl Methylenebis (4- (3,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylmethylenebis (4- (3,5-di-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylmethylenebis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylmethylenebis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylmethylenebis (4- (2) , 5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylmethylenebis (4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylmethylenebis (4- (4-tert-butyl-2) -Methyl-phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylmethylenebis (4-biphenylyl-1-indenyl) dimethylhafnium
ジ−n−プロピルメチレン架橋メタロセン化合物:
ジ−n−プロピルメチレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−n−プロピルメチレンビス(4−ビフェニリル1−インデニル)ジメチルハフニウム
Di-n-propylmethylene crosslinked metallocene compound:
Di-n-propylmethylenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, di-n-propylmethylenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-n-propylmethylenebis (4- (3-Isopropyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-n-propylmethylenebis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-n-propylmethylenebis (4- (4-Methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-n-propylmethylenebis (4- (4-isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-n-propylmethylenebis (4) -(4-tert-Butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-n-propylmethylenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-n-propylmethylenebis (4) -(2-Methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-n-propylmethylenebis (4- (2-ethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-n-propylmethylenebis (4-(2-ethylphenyl) -1-indenyl) 3,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-n-propylmethylenebis (4- (3,5-di-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-n-propyl Methylenebis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-n-propylmethylenebis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di- n-propylmethylenebis (4- (2,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-n-propylmethylenebis (4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, Di-n-propylmethylenebis (4- (4-tert-butyl-2-methyl-phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-n-propylmethylenebis (4-biphenylyl1-indenyl) dimethylhafnium
ジ−iso−ブチルメチレン架橋メタロセン化合物:
ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ−iso−ブチルメチレンビス(4−ビフェニリル1−インデニル)ジメチルハフニウム
Di-iso-butylmethylene crosslinked metallocene compound:
Di-iso-butylmethylenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, di-iso-butylmethylenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-iso-butylmethylenebis (4- (3-Isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-iso-butylmethylenebis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-iso-butylmethylenebis (4- (4-Methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-iso-butylmethylenebis (4- (4-isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-iso-butylmethylenebis (4) -(4-tert-Butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-iso-butylmethylenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-iso-butylmethylenebis (4) -(2-Methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-iso-butylmethylenebis (4- (2-ethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-iso-butylmethylenebis (4-(2-ethylphenyl) -1-indenyl) 3,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-iso-butylmethylenebis (4- (3,5-di-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-iso-butyl Methylenebis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-iso-butylmethylenebis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di- iso-butylmethylenebis (4- (2,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-iso-butylmethylenebis (4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, Di-iso-butylmethylenebis (4- (4-tert-butyl-2-methyl-phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di-iso-butylmethylenebis (4-biphenylyl1-indenyl) dimethylhafnium
ジベンジルメチレン架橋メタロセン化合物:
ジベンジルメチレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジベンジルメチレンビス(4−ビフェニリル1−インデニル)ジメチルハフニウム
Dibenzylmethylene crosslinked metallocene compound:
Dibenzylmethylenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, dibenzylmethylenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dibenzylmethylenebis (4- (3-isopropylphenyl)) -1-Indenyl) dimethylhafnium, dibenzylmethylenebis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dibenzylmethylenebis (4- (4-methylphenyl) -1-indenyl) dimethyl Hafnium, dibenzylmethylenebis (4- (4-isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dibenzylmethylenebis (4- (4-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dibenzylmethylenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dibenzylmethylenebis (4- (2-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dibenzylmethylenebis (4- (2-ethylphenyl) ) -1-Indenyl) dimethylhafnium, dibenzylmethylenebis (4- (3,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dibenzylmethylenebis (4- (3,5-di-tert-butylphenyl) ) -1-Indenyl) dimethylhafnium, dibenzylmethylenebis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dibenzylmethylenebis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1 -Indenyl) dimethylhafnium, dibenzylmethylenebis (4- (2,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dibenzylmethylenebis (4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethyl Hafnium, dibenzylmethylenebis (4- (4-tert-butyl-2-methyl-phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dibenzylmethylenebis (4-biphenylyl1-indenyl) dimethylhafnium
メチル(エチル)メチレン架橋メタロセン化合物:
メチル(エチル)メチレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(エチル)メチレンビス(4−ビフェニリル1−インデニル)ジメチルハフニウム
Methyl (Ethyl) Methylene Crosslinked Metallocene Compounds:
Methyl (ethyl) methylenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (ethyl) methylenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (ethyl) methylenebis (4- (3-) Isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (ethyl) methylenebis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (ethyl) methylenebis (4- (4-methylphenyl)- 1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (ethyl) methylenebis (4- (4-isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (ethyl) methylenebis (4- (4-tert-butylphenyl) -1-indenyl) Dimethylhafnium, methyl (ethyl) methylenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (ethyl) methylenebis (4- (2-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (ethyl) ) Methylenebis (4- (2-ethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (ethyl) methylenebis (4- (3,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (ethyl) methylenebis (4) -(3,5-di-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (ethyl) methylenebis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (ethyl) Methylenebis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (ethyl) methylenebis (4- (2,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (ethyl) methylenebis ( 4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (ethyl) methylenebis (4- (4-tert-butyl-2-methyl-phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (ethyl) ) Methylbis (4-biphenylyl 1-indenyl) dimethylhafnium
メチル(n−プロピル)メチレン架橋メタロセン化合物:
メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(n−プロピル)メチレンビス(4−ビフェニリル1−インデニル)ジメチルハフニウム
Methyl (n-propyl) methylene crosslinked metallocene compound:
Methyl (n-propyl) methylenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (n-propyl) methylenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (n-propyl) methylenebis (4- (3-Isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (n-propyl) methylenebis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (n-propyl) methylenebis (4- (4-Methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (n-propyl) methylenebis (4- (4-isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (n-propyl) methylenebis (4) -(4-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (n-propyl) methylenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (n-propyl) methylenebis (4) -(2-Methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (n-propyl) methylenebis (4- (2-ethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (n-propyl) methylenebis (4-(n-propyl) methylenebis 3,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (n-propyl) methylenebis (4- (3,5-di-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (n-propyl) ) Methylenebis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (n-propyl) methylenebis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl ( n-propyl) methylenebis (4- (2,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (n-propyl) methylenebis (4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, Methyl (n-propyl) methylenebis (4- (4-tert-butyl-2-methyl-phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (n-propyl) methylenebis (4-biphenylyl1-indenyl) dimethylhafnium
メチル(iso−ブチル)メチレン架橋メタロセン化合物:
メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(iso−ブチル)メチレンビス(4−ビフェニリル1−インデニル)ジメチルハフニウム
Methyl (iso-butyl) methylene crosslinked metallocene compound:
Methyl (iso-butyl) methylenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (iso-butyl) methylenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (iso-butyl) methylenebis (4- (3-Isopropyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (iso-butyl) methylenebis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (iso-butyl) methylenebis (4- (4-Methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (iso-butyl) methylenebis (4- (4-isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (iso-butyl) methylenebis (4) -(4-tert-Butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (iso-butyl) methylenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (iso-butyl) methylenebis (4) -(2-Methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (iso-butyl) methylenebis (4- (2-ethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (iso-butyl) methylenebis (4-(iso-butyl) 3,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (iso-butyl) methylenebis (4- (3,5-di-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (iso-butyl) ) Methylenebis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (iso-butyl) methylenebis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl ( iso-butyl) methylenebis (4- (2,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (iso-butyl) methylenebis (4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, Methyl (iso-butyl) methylenebis (4- (4-tert-butyl-2-methyl-phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (iso-butyl) methylenebis (4-biphenylyl1-indenyl) dimethylhafnium
メチル(ベンジル)メチレン架橋メタロセン化合物:
メチル(ベンジル)メチレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、メチル(ベンジル)メチレンビス(4−ビフェニリル1−インデニル)ジメチルハフニウム
Methyl (benzyl) methylene crosslinked metallocene compound:
Methyl (benzyl) methylenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (benzyl) methylenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (benzyl) methylenebis (4- (3-) Isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (benzyl) methylenebis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (benzyl) methylenebis (4- (4-methylphenyl)- 1-Indenyl) dimethylhafnium, methyl (benzyl) methylenebis (4- (4-isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (benzyl) methylenebis (4- (4-tert-butylphenyl) -1-indenyl) Dimethylhafnium, methyl (benzyl) methylenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (benzyl) methylenebis (4- (2-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (benzyl) ) Methylenebis (4- (2-ethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (benzyl) methylenebis (4- (3,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (benzyl) methylenebis (4) -(3,5-di-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (benzyl) methylenebis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (benzyl) Methylenebis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (benzyl) methylenebis (4- (2,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (benzyl) methylenebis ( 4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (benzyl) methylenebis (4- (4-tert-butyl-2-methyl-phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, methyl (benzyl) ) Methylenebis (4-biphenylyl 1-indenyl) dimethylhafnium
ジ(4−メチルフェニル)メチレン架橋メタロセン化合物:
ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジ(4−メチルフェニル)メチレンビス(4−ビフェニリル1−インデニル)ジメチルハフニウム
Di (4-methylphenyl) methylene crosslinked metallocene compound:
Di (4-methylphenyl) methylenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, di (4-methylphenyl) methylenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di (4-methyl) Phenyl) methylenebis (4- (3-isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di (4-methylphenyl) methylenebis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di (4) -Methylphenyl) Methylbis (4- (4-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di (4-methylphenyl) methylenebis (4- (4-isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di (4) -Methylphenyl) methylenebis (4- (4-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di (4-methylphenyl) methylenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di (4-Methylphenyl) methylenebis (4- (2-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di (4-methylphenyl) methylenebis (4- (2-ethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di (4-Methylphenyl) methylenebis (4- (3,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di (4-methylphenyl) methylenebis (4- (3,5-di-tert-butylphenyl)- 1-Indenyl) dimethylhafnium, di (4-methylphenyl) methylenebis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di (4-methylphenyl) methylenebis (4- (2,3) -Dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di (4-methylphenyl) methylenebis (4- (2,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di (4-methylphenyl) methylenebis (4-) (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di (4-methylphenyl) methylenebis (4- (4-tert-butyl-2-methyl-phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, di ( 4-Methylphenyl) Methylenebis (4-biphenylyl 1-indenyl) Dimethylhafnium
ジメチルシリレン架橋メタロセン化合物:
ジメチルシリレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(4−トリフルオロメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(4−メトキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(4−イソプロポキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(4−フルオロフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(4−クロロフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(4−ブロモフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(3,5−ジイソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(3,5−ジトリフルオロメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(2,3,4,5,6−ペンタメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−ビフェニリル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(2,6−ジメチルビフェニリル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(2’,6’−ジメチルビフェニリル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(1−ナフチル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−(2−ナフチル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジメチルシリレンビス(4−フェナントリル−1−インデニル)ジメチルハフニウム
Dimethylsilylene cross-linked metallocene compound:
Dimethylsilylenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (3-isopropylphenyl) -1- Indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (4-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (4-Isopropyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (4-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (4-trifluoro) Methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (4-methoxyphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (4-isopropoxyphenyl) -1-indenyl) dimethyl Hafnium, dimethylsilylenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (4-fluorophenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (4) -Chlorophenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (4-bromophenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (2-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium , Dimethylsilylenebis (4- (2-ethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (3,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4-( 3,5-Diisopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (3,5-di-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (3,3) 5-Dimethoxyphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (3,5-ditrifluoromethyl) Phenyl) -1-indenyl ) Dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (2,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylene Bis (4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylene bis (4- (2,3,5,6-tetramethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (2,3,4,5,6-pentamethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (4-tert-butyl-2-methyl-phenyl) -1-indenyl) Dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4-biphenylyl-1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (2,6-dimethylbiphenylyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (2') , 6'-dimethylbiphenylyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (1-naphthyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4- (2-naphthyl) -1-indenyl) ) Dimethylhafnium, dimethylsilylenebis (4-phenanthril-1-indenyl) dimethylhafnium
ジエチルシリレン架橋メタロセン化合物:
ジエチルシリレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(4−トリフルオロメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(4−メトキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(4−イソプロポキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(4−フルオロフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(4−クロロフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(4−ブロモフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(3,5−ジイソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(3,5−ジトリフルオロメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(2,3,4,5,6−ペンタメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−ビフェニリル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(2,6−ジメチルビフェニリル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(2’,6’−ジメチルビフェニリル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(1−ナフチル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−(2−ナフチル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジエチルシリレンビス(4−フェナントリル−1−インデニル)ジメチルハフニウム
Diethylsilylene cross-linked metallocene compound:
Diethylsilylenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (3-isopropylphenyl) -1- Indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (4-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (4-Isopropyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (4-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (4-trifluoro) Methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (4-methoxyphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (4-isopropoxyphenyl) -1-indenyl) dimethyl Hafnium, diethylsilylenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (4-fluorophenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (4) -Chlorophenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (4-bromophenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (2-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium , Diethylsilylenebis (4- (2-ethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (3,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4-( 3,5-diisopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (3,5-di-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (3,3) 5-Dimethoxyphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (3,5-ditrifluoromethyl) Phenyl) -1-indenyl ) Dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (2,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylene Bis (4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (2,3,5,6-tetramethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (2,3,4,5,6-pentamethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (4-tert-butyl-2-methyl-phenyl) -1-indenyl) Dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4-biphenylyl-1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (2,6-dimethylbiphenylyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (2') , 6'-dimethylbiphenylyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (1-naphthyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4- (2-naphthyl) -1-indenyl ) Dimethylhafnium, diethylsilylenebis (4-phenanthril-1-indenyl) dimethylhafnium
トリメチレンシリレン架橋メタロセン化合物:
トリメチレンシリレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(4−トリフルオロメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(4−メトキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(4−イソプロポキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(4−フルオロフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(4−クロロフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(4−ブロモフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(3,5−ジイソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(3,5−ジトリフルオロメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(2,3,4,5,6−ペンタメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−ビフェニリル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(2,6−ジメチルビフェニリル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(2’,6’−ジメチルビフェニリル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(1−ナフチル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−(2−ナフチル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、トリメチレンシリレンビス(4−フェナントリル−1−インデニル)ジメチルハフニウム
Trimethylenesilylene cross-linked metallocene compound:
Trimethylene silylenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenecilylenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenecilylenebis (4- (3-isopropylphenyl)) -1-Indenyl) dimethylhafnium, trimethylenecilylene bis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenecilylenebis (4- (4-methylphenyl) -1-indenyl) dimethyl Hafnium, trimethylene silylenebis (4- (4-isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylene silylenebis (4- (4-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylene silylenebis (4- (4-Trifluoromethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenesylylenebis (4- (4-methoxyphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenesylylenebis (4- (4- (4-)4-indenyl) Isopropoxyphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenesylylenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenesylylenebis (4- (4-fluorophenyl) -1-indenyl) ) Dimethylhafnium, trimethylenecilylene bis (4- (4-chlorophenyl) -1-indenyl) Dimethylhafnium, trimethylenecilylenebis (4- (4-bromophenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenesilylenebis (4- (4-bromophenyl) -1-indenyl) 4- (2-Methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenesylylenebis (4- (2-ethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenesylylenebis (4- (3,5-dimethyl) Phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenesylylenebis (4- (3,5-diisopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenesylylenebis (4- (3,5-di-tert-butyl) Phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenesylylenebis (4- (3,5-dimethoxyphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenesylylenebis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl)- 1-indenyl) dimethylhafnium , Trimethylene silylenebis (4- (3,5-ditrifluoromethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenecilylenebis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, tri Methylene silylenebis (4- (2,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenecilylenebis (4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenecilylenebis (4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) 4- (2,3,5,6-tetramethylphenyl) -1-indenyl) Dimethylhafnium, trimethylenecilylenebis (4- (2,3,4,5,6-pentamethylphenyl) -1-indenyl) Dimethylhafnium, trimethylenesilylenebis (4- (4-tert-butyl-2-methyl-phenyl) -1-indenyl) Dimethylhafnium, trimethylenecilylenebis (4-biphenylyl-1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenecilylene Bis (4- (2,6-dimethylbiphenylyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenecilylene bis (4- (2', 6'-dimethylbiphenylyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenecilylene Bis (4- (1-naphthyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenecilylene bis (4- (2-naphthyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, trimethylenesilylenebis (4-phenanthril-1-indenyl) Dimethylhafnium
テトラメチレンシリレン架橋メタロセン化合物:
テトラメチレンシリレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、テトラメチレンシリレンビス(4−ビフェニリル−1−インデニル)ジメチルハフニウム
Tetramethylenesilylene cross-linked metallocene compound:
Tetramethylene silylenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, tetramethylenecilylenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, tetramethylenesilylenebis (4- (3-isopropylphenyl)) -1-Indenyl) dimethylhafnium, tetramethylenecilylene bis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, tetramethylenecilylenebis (4- (4-methylphenyl) -1-indenyl) dimethyl Hafnium, tetramethylenecilylenebis (4- (4-isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, tetramethylenesilylenebis (4- (4-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, tetramethylenesilylenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, tetramethylenesilylenebis (4- (2-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, tetramethylenesilylenebis (4- (2-ethylphenyl) ) -1-Indenyl) dimethylhafnium, tetramethylenesilylenebis (4- (3,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, tetramethylenesilylenebis (4- (3,5-di-tert-butylphenyl) ) -1-Indenyl) Dimethylhafnium, Tetramethylenesilylenebis (4- (3,5-ditrimethylsilylphenyl) -1-Indenyl) Dimethylhafnium, Tetramethylenecilylenebis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1 -Indenyl) dimethylhafnium, tetramethylenesilylenebis (4- (2,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, tetramethylenecilylenebis (4- (2,6-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethyl Hafnium, tetramethylenesilylenebis (4- (4-tert-butyl-2-methyl-phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, tetramethylenesilylenebis (4-biphenylyl-1-indenyl) dimethylhafnium
ジフェニルシリレン架橋メタロセン化合物:
ジフェニルシリレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−(3−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−(3−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−(3−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−(4−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−(4−イソプロピルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−(4−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−(2−メチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−(2−エチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−(3,5−ジトリメチルシリルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−(2,3−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−(2,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−(2,6−ジメチルフェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−(4−tert−ブチル−2−メチル−フェニル)−1−インデニル)ジメチルハフニウム、ジフェニルシリレンビス(4−ビフェニリル−1−インデニル)ジメチルハフニウム
Diphenylsilylene cross-linked metallocene compound:
Diphenylsilylenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium, diphenylcilylenebis (4- (3-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diphenylcilylenebis (4- (3-isopropylphenyl) -1- Indenyl) dimethylhafnium, diphenylsilylenebis (4- (3-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diphenylcilylenebis (4- (4-methylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diphenylsilylenebis (4- (4-Isopropylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diphenylsilylenebis (4- (4-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diphenylsilylenebis (4- (4-trimethylsilylphenyl) ) -1-Indenyl) Dimethylhafnium, Diphenylcilylenebis (4- (2-methylphenyl) -1-Indenyl) Dimethylhafnium, Diphenylcilylenebis (4- (2-ethylphenyl) -1-Indenyl) Dimethylhafnium, Diphenyl Silylenbis (4- (3,5-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diphenylsilylenebis (4- (3,5-di-tert-butylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diphenylsilylenebis (4- (3,5-Ditrimethylsilylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diphenylsilylenebis (4- (2,3-dimethylphenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diphenylsilylenebis (4- (2) , 5-Dimethylphenyl) -1-Indenyl) Dimethylhafnium, Diphenylcilylenebis (4- (2,6-dimethylphenyl) -1-Indenyl) Dimethylhafnium, Diphenylcilylenebis (4- (4-tert-butyl-2) -Methyl-phenyl) -1-indenyl) dimethylhafnium, diphenylsilylenebis (4-biphenylyl-1-indenyl) dimethylhafnium
例示したメタロセン化合物中、生成するエチレン・α−オレフィン共重合体の架橋反応に係る二重結合量の観点から、Yが炭素原子である化合物が好ましい。 Among the exemplified metallocene compounds, a compound in which Y is a carbon atom is preferable from the viewpoint of the amount of double bonds involved in the cross-linking reaction of the produced ethylene / α-olefin copolymer.
例示したメタロセン化合物中、高分子量のエチレン・α−オレフィン共重合体を製造することができるという観点から、R1及びR11は、水素原子である化合物が好ましい。 Among the exemplified metallocene compounds, R 1 and R 11 are preferably compounds having a hydrogen atom from the viewpoint of being able to produce a high molecular weight ethylene / α-olefin copolymer.
また、例示したメタロセン化合物中、Mが、ハフニウムの代わりに、チタン、ジルコニウムに代わった化合物や、X1及びX2が、メチル基の代わりに、片方、もしくは両方が塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フェニル基、ベンジル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、トリメチルシリルメチル基などに代わった化合物も、例示することができる。 Further, among the exemplified metallocene compounds, M is a compound that replaces titanium or zirconium instead of phenylnium, and X 1 and X 2 are one or both of chlorine atom, bromine atom, and iodine instead of a methyl group. Compounds in place of an atom, a phenyl group, a benzyl group, a dimethylamino group, a diethylamino group, a trimethylsilylmethyl group and the like can also be exemplified.
(メタロセン化合物の合成法)
本発明のメタロセン化合物の合成法としては、特に限定されず、置換基ないし結合の様式によって、任意の方法によって合成することができる。以下に、代表的な合成経路の一例を示す。
(Synthesis method of metallocene compound)
The method for synthesizing the metallocene compound of the present invention is not particularly limited, and the metallocene compound can be synthesized by any method depending on the mode of substituent or bond. The following is an example of a typical synthetic route.
上記合成経路において、1とフェニルボロン酸を、パラジウム触媒の存在下でカップリング反応を行うことにより、2が得られる。2から3の架橋反応は、文献(特許第3835846号公報)に記載の方法などにより行うことができ、水酸化カリウムなどで2をアニオン化したあと、アセトンとの反応で3が得られる。3を2等量のn−ブチルリチウムなどでジアニオン化した後、四塩化ハフニウムとの反応でメタロセン化合物4を得られる。一般的に、4はラセミ体とメソ体の混合物が得られ、精製により触媒性能に優れるラセミ体を濃縮する。また、文献(WO2000/017213)記載の方法などにより、メソ体をラセミ体に異性化し、ラセミ体の収率を向上させることが出来る。ジメチル体5は4を2当量以上のMeMgBrなどで処理することで得ることが出来る。
置換基を導入したメタロセン化合物の合成は、対応した置換原料を使用することにより合成することができ、フェニルボロン酸のかわりに、対応するボロン酸、たとえば4−イソプロピルフェニルボロン酸、3,5−ジメチルフェニルボロン酸などを用いることにより、インデニル環の4位のフェニル基上に(R5−R9、R15−R19)置換基を導入することができる。
架橋基上の置換基が異なるメタロセン化合物の合成は、対応した置換原料を使用することにより合成することができ、アセトンの代わりに対応するケトン類、たとえばシクロブタノン、4−ヘプテノンなどを用いることにより、架橋基上に置換基(R10、R20)を導入することができる。
In the above synthetic route, 1 and phenylboronic acid are coupled to each other in the presence of a palladium catalyst to obtain 2. The cross-linking reaction of 2 to 3 can be carried out by the method described in Document (Patent No. 3835846), and after anionizing 2 with potassium hydroxide or the like, 3 is obtained by reaction with acetone. After dianionizing 3 with 2 equal amounts of n-butyllithium or the like, the
Synthesis of substituent-introduced metallocene compounds can be performed by using the corresponding substituents and instead of phenylboronic acid, the corresponding boronic acid, eg 4-isopropylphenylboronic acid, 3,5- By using dimethylphenylboronic acid or the like, a (R 5- R 9 , R 15- R 19 ) substituent can be introduced on the phenyl group at the 4-position of the indenyl ring.
The synthesis of metallocene compounds having different substituents on the cross-linking group can be synthesized by using the corresponding substituents, and by using the corresponding ketones such as cyclobutanone and 4-heptenone instead of acetone. Substituents (R 10 , R 20 ) can be introduced on the cross-linking group.
(2)成分(B)
成分(B)としては、成分(A)と反応してイオン対を形成するホウ素化合物であり、200℃未満の熱分解温度を有する化合物である。このような化合物としてはボラン化合物などを挙げることができる。
(2) Ingredient (B)
The component (B) is a boron compound that reacts with the component (A) to form an ion pair, and is a compound having a thermal decomposition temperature of less than 200 ° C. Examples of such a compound include borane compounds.
ボラン化合物として具体的に例示すると、トリフェニルボラン、トリ(o−トリル)ボラン、トリ(p−トリル)ボラン、トリ(m−トリル)ボラン、トリ(o−フルオロフェニル)ボラン、トリス(p−フルオロフェニル)ボラン、トリス(m−フルオロフェニル)ボラン、トリス(2,5−ジフルオロフェニル)ボラン、トリス(3,5−ジフルオロフェニル)ボラン、トリス(4−トリフルオロメチルフェニル)ボラン、トリス(3,5−ジトリフルオロメチルフェニル)ボラン、トリス(2,6−ジトリフルオロメチルフェニル)ボラン、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン、トリス(パーフルオロナフチル)ボラン、トリス(パーフルオロビフェニリル)ボラン、トリス(パーフルオロアントリル)ボラン、トリス(パーフルオロビナフチル)ボラン等が挙げられる。
これらの中でも、トリス(3,5−ジトリフルオロメチルフェニル)ボラン、トリス(2,6−ジトリフルオロメチルフェニル)ボラン、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン、トリス(パーフルオロナフチル)ボラン、トリス(パーフルオロビフェニリル)ボラン、トリス(パーフルオロアントリル)ボラン、トリス(パーフルオロビナフチル)ボランがより好ましく、更に好ましくはトリス(2,6−ジトリフルオロメチルフェニル)ボラン、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン、トリス(パーフルオロナフチル)ボラン、トリス(パーフルオロビフェニリル)ボランが好ましい。
Specific examples of borane compounds include triphenylborane, tri (o-tolyl) borane, tri (p-tolyl) borane, tri (m-tolyl) borane, tri (o-fluorophenyl) borane, and tris (p-). Fluorophenyl) borane, tris (m-fluorophenyl) borane, tris (2,5-difluorophenyl) borane, tris (3,5-difluorophenyl) borane, tris (4-trifluoromethylphenyl) borane, tris (3) , 5-Ditrifluoromethylphenyl) borane, tris (2,6-ditrifluoromethylphenyl) borane, tris (pentafluorophenyl) borane, tris (perfluoronaphthyl) borane, tris (perfluorobiphenylyl) borane, tris ( Examples thereof include perfluoroanthril) borane and tris (perfluorobinaphthyl) borane.
Among these, tris (3,5-ditrifluoromethylphenyl) borane, tris (2,6-ditrifluoromethylphenyl) borane, tris (pentafluorophenyl) borane, tris (perfluoronaphthyl) borane, tris (perfluoro) Biphenyl) borane, tris (perfluoroanthril) borane, tris (perfluorobinaphthyl) borane are more preferred, and even more preferably tris (2,6-ditrifluoromethylphenyl) borane, tris (pentafluorophenyl) borane, tris. (Perfluoronaphthyl) borane and tris (perfluorobiphenylyl) borane are preferred.
(4)触媒の調製法
本発明に係る触媒系の調製法においては、成分(A)および成分(B)の接触方法は、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。
(4) Method for preparing a catalyst In the method for preparing a catalyst system according to the present invention, the contact method between the component (A) and the component (B) is not particularly limited, and a conventionally known method can be used.
成分(A)と成分(B)とのモル比は好ましくは1:0.1〜1:100の範囲で用いられる。この使用比率は、通常の割合例を示すものであって、触媒が本発明の目的に沿うものとなっておれば、上に述べた使用比率の範囲によって、本発明が限定されることにはならない。 The molar ratio of the component (A) to the component (B) is preferably used in the range of 1: 0.1 to 1: 100. This usage ratio shows an example of a normal ratio, and if the catalyst is in line with the object of the present invention, the present invention may be limited by the range of the usage ratio described above. It doesn't become.
2.エチレン・α−オレフィン共重合体の重合条件
本発明は、上記の触媒系を使用して共重合を行うことにより、太陽電池封止材用のポリエチレン樹脂材料として適したエチレン・α−オレフィン共重合体を製造する。
以下、各重合条件について説明する。
2. 2. Polymerization conditions of ethylene / α-olefin copolymer In the present invention, the ethylene / α-olefin copolymer weight suitable as a polyethylene resin material for a solar cell encapsulant can be obtained by performing copolymerization using the above-mentioned catalytic system. Manufacture coalescing.
Hereinafter, each polymerization condition will be described.
(1)重合方法
本発明において、重合方法は、前記一般式(I)で示されるメタロセン化合物を含む重合用触媒とモノマーが効率よく接触し、オレフィンの重合または共重合を行うことができるならば、特に限定されず、高圧イオン重合法、気相法、溶液法、スラリー法等を用いることができる。
(1) Polymerization method In the present invention, in the polymerization method, if the polymerization catalyst containing the metallocene compound represented by the general formula (I) and the monomer can efficiently contact each other and the olefin can be polymerized or copolymerized. The high-pressure ion polymerization method, the gas phase method, the solution method, the slurry method and the like can be used without particular limitation.
本発明において、重合温度は一般的に40〜300℃が利用される。
気相重合法、スラリー重合法においては、好ましい重合温度は40〜120℃、より好ましくは50〜110℃であり、好ましい重合圧力は0.1MPa〜10MPa、好ましくは1〜5MPaである。
溶液重合において好ましい重合温度は50〜170℃、より好ましくは120〜170℃であり、好ましい重合圧力は0.1〜10MPa、より好ましくは1〜5MPaである。
In the present invention, the polymerization temperature is generally 40 to 300 ° C.
In the vapor phase polymerization method and the slurry polymerization method, the preferable polymerization temperature is 40 to 120 ° C., more preferably 50 to 110 ° C., and the preferable polymerization pressure is 0.1 MPa to 10 MPa, preferably 1 to 5 MPa.
In solution polymerization, the polymerization temperature is preferably 50 to 170 ° C., more preferably 120 to 170 ° C., and the preferred polymerization pressure is 0.1 to 10 MPa, more preferably 1 to 5 MPa.
高圧イオン重合において好ましい重合温度は125〜300℃であり、より好ましくは160〜280℃、さらに好ましくは、180〜280℃であり、好ましい重合圧力は40〜150MPaであり、より好ましくは50〜125MPaである。
これらの中でも、架橋特性に係る二重結合量を調整したエチレン・オレフィン共重合体を得るためには高温で重合を行うことが望ましいため、高圧イオン重合法を利用するのが好ましい(「ポリエチレン技術読本」第4章、松浦一雄・三上尚孝 編著、2001年)。
In high-pressure ion polymerization, the preferred polymerization temperature is 125 to 300 ° C., more preferably 160 to 280 ° C., further preferably 180 to 280 ° C., and the preferred polymerization pressure is 40 to 150 MPa, more preferably 50 to 125 MPa. Is.
Among these, in order to obtain an ethylene / olefin copolymer having an adjusted amount of double bonds related to cross-linking characteristics, it is desirable to carry out polymerization at a high temperature, so it is preferable to use a high-pressure ion polymerization method (“polyethylene technology”). Readers,
(2)その他の条件
また、重合系中に、水分除去を目的とした成分、いわゆるスカベンジャーを加えても、何ら支障なく実施することができる。
なお、かかるスカベンジャーとしては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物、前記有機アルミニウムオキシ化合物、前記有機アルミニウム化合物をアルコール類またはフェノール類で変性した変性有機アルミニウム化合物、ジエチル亜鉛、ジブチル亜鉛などの有機亜鉛化合物、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、エチルブチルマグネシウムなどの有機マグネシウム化合物、エチルマグネシウムクロリド、ブチルマグネシウムクロリドなどのグリニャール化合物などが使用される。これらのなかでは、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウムが好ましく、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウムが特に好ましい。
(2) Other conditions Further, even if a component for the purpose of removing water, a so-called scavenger, is added to the polymerization system, it can be carried out without any problem.
The scavenger includes organoaluminum compounds such as trimethylaluminum, triethylaluminum, triisobutylaluminum, trihexylaluminum, and trioctylaluminum, the organoaluminum oxy compound, and modification of the organoaluminum compound with alcohols or phenols. Organoaluminium compounds, organozinc compounds such as diethylzinc and dibutylzinc, organomagnesium compounds such as diethylmagnesium, dibutylmagnesium and ethylbutylmagnesium, and glinal compounds such as ethylmagnesium chloride and butylmagnesium chloride are used. Among these, triethylaluminum, triisobutylaluminum, trihexylaluminum and trioctylaluminum are preferable, and triisobutylaluminum, trihexylaluminum and trioctylaluminum are particularly preferable.
生成重合体の分子量は、重合温度、オレフィンモノマーの濃度、触媒のモル比等の重合条件を変えることにより調節可能である。また、重合反応系に水素や上記スカベンジャー類などを連鎖移動剤として添加することでも効果的に分子量調節を行うことができる。 The molecular weight of the produced polymer can be adjusted by changing the polymerization conditions such as the polymerization temperature, the concentration of the olefin monomer, and the molar ratio of the catalyst. Further, the molecular weight can be effectively adjusted by adding hydrogen, the above-mentioned scavengers, or the like as a chain transfer agent to the polymerization reaction system.
水素濃度、モノマー量、重合圧力、重合温度等の重合条件が互いに異なる2段階以上の段階重合方式にも、支障なく適用することができる。 It can also be applied without hindrance to a two-stage or higher-stage polymerization method in which polymerization conditions such as hydrogen concentration, monomer amount, polymerization pressure, and polymerization temperature are different from each other.
重合方式は、連続重合、回分式重合、または予備重合を行う方法も適用される。また、重合形式の組み合わせは、特に制限はなく、溶液重合2段、バルク重合2段、バルク重合後気相重合、気相重合2段といった様式も可能であり、さらには、それ以上の重合段数で製造することも可能である。 As the polymerization method, a method of performing continuous polymerization, batch polymerization, or prepolymerization is also applied. Further, the combination of polymerization types is not particularly limited, and a mode such as solution polymerization 2 steps, bulk polymerization 2 steps, bulk polymerization post-vapor phase polymerization, and gas phase polymerization 2 steps is possible, and the number of polymerization steps is more than that. It is also possible to manufacture with.
3.ポリエチレン樹脂
本発明のポリエチレン樹脂は、エチレンとα−オレフィンの1種以上を共重合してなり、下記(a1)〜(a5)の特性を有するエチレン・α−オレフィン共重合体である。
(a1)エチレンに由来する構成単位の含有割合が80〜97mol%であるとともに、炭素数3〜20のα−オレフィンに由来する構成単位の含有割合が3〜20mol%
(a2)MFR(190℃、21.18N荷重)が0.1〜100g/10分
(a3)密度が0.860〜0.920g/cm3
(a4)温度23℃、印加電圧500Vで測定される体積抵抗率が1.0×1016Ω・cm以上
(a5)樹脂中のホウ素残渣濃度(M)が0<M<1wtppm
本発明のポリエチレン樹脂は、上記特性を満たすことにより、良好な架橋特性および絶縁性を有する。
3. 3. Polyethylene resin The polyethylene resin of the present invention is an ethylene / α-olefin copolymer obtained by copolymerizing one or more of ethylene and α-olefin and having the following characteristics (a1) to (a5).
(A1) The content ratio of the structural unit derived from ethylene is 80 to 97 mol%, and the content ratio of the structural unit derived from α-olefin having 3 to 20 carbon atoms is 3 to 20 mol%.
(A2) MFR (190 ° C., 21.18N load) is 0.1 to 100 g / 10 minutes (a3) Density is 0.860 to 0.920 g / cm 3
(A4) Volume resistivity measured at a temperature of 23 ° C. and an applied voltage of 500 V is 1.0 × 10 16 Ω · cm or more (a5) Boron residue concentration (M) in the resin is 0 <M <1 wtppm
The polyethylene resin of the present invention has good cross-linking characteristics and insulating properties by satisfying the above characteristics.
(1)ポリエチレン樹脂のモノマー構成
本発明におけるポリエチレン樹脂は、エチレンから誘導される構成単位を主成分としたエチレンとα−オレフィンのランダム共重合体である。
コモノマーとして用いられるα−オレフィンは、炭素数3〜20であり、好ましくは炭素数3〜12のα−オレフィンである。具体的には、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−ヘプテン、4−メチル−ペンテン−1、4−メチル−ヘキセン−1、4,4−ジメチルペンテン−1等を挙げることができる。かかるエチレン・α−オレフィン共重合体の具体例としては、エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・1−ブテン共合体、エチレン・1−ヘキセン共重合体、エチレン・1−オクテン共重合体、エチレン・4−メチル−ペンテン−1共重合体等が挙げられる。なかでも、エチレン・1−ブテン共重合体、エチレン・1−ヘキセン共重合体が好ましい。また、α−オレフィンは1種または2種以上の組み合わせでもよい。2種のα−オレフィンを組み合わせて三元共重合体とする場合は、エチレン・プロピレン・1−ヘキセン三元共重合体、エチレン・1−ブテン・1−ヘキセン三元共重合体、エチレン・プロピレン・1−オクテン三元共重合体、エチレン・1−ブテン・1−オクテン三元共重合体等が挙げられる。
コモノマーとして、1,5−ヘキサジエン、1,6−ヘプタジエン、1,7−オクタジエン、1,8−ノナジエン、及び1,9−デカジエン等のジエン化合物を、α−オレフィンに少量配合してもよい。これらのジエン化合物を配合すると、長鎖分岐ができるので、エチレン・α−オレフィン共重合体の結晶性を低下させ、透明性、柔軟性、接着性等が良くなり、分子間の架橋剤ともなるので、機械的強度が増加する。また長鎖分岐の末端基は、不飽和基であるから、有機過酸化物による架橋反応や、酸無水物基含有化合物若しくはエポキシ基含有化合物との共重合反応やグラフト反応を容易におこすことができる。
(1) Monomer composition of polyethylene resin The polyethylene resin in the present invention is a random copolymer of ethylene and α-olefin containing a structural unit derived from ethylene as a main component.
The α-olefin used as a comonomer has 3 to 20 carbon atoms, and is preferably an α-olefin having 3 to 12 carbon atoms. Specifically, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-heptene, 4-methyl-pentene-1, 4-methyl-hexene-1, 4,4-dimethylpentene- The first prize can be mentioned. Specific examples of such ethylene / α-olefin copolymers include ethylene / propylene copolymer, ethylene / 1-butene copolymer, ethylene / 1-hexene copolymer, ethylene / 1-octene copolymer, ethylene / Examples thereof include 4-methyl-pentene-1 copolymer. Of these, ethylene / 1-butene copolymers and ethylene / 1-hexene copolymers are preferable. Further, the α-olefin may be one kind or a combination of two or more kinds. When combining two types of α-olefins into a ternary copolymer, ethylene / propylene / 1-hexene ternary copolymer, ethylene / 1-butene / 1-hexene ternary copolymer, ethylene / propylene -Examples include 1-octene ternary copolymer, ethylene / 1-butene / 1-octene ternary copolymer and the like.
As the comonomer, a diene compound such as 1,5-hexadiene, 1,6-heptadiene, 1,7-octadien, 1,8-nonadien, and 1,9-decadien may be added to the α-olefin in a small amount. When these diene compounds are blended, long-chain branches can be formed, which lowers the crystallinity of the ethylene / α-olefin copolymer, improves transparency, flexibility, adhesiveness, etc., and also serves as a cross-linking agent between molecules. Therefore, the mechanical strength is increased. Further, since the terminal group of the long-chain branch is an unsaturated group, it is possible to easily carry out a cross-linking reaction with an organic peroxide, a copolymerization reaction with an acid anhydride group-containing compound or an epoxy group-containing compound, and a graft reaction. can.
(a1)エチレンおよびα−オレフィン由来構成単位の含有割合
本発明におけるポリエチレン樹脂は、そのα−オレフィンの含有割合が3〜20mol%である。この範囲であれば、シート等の柔軟性と架橋後の耐熱性が良好になる。α−オレフィンの含有割合が3mol%を下回ると、ポリエチレンの柔軟性が悪化することがある。一方、20mol%を上回ると、ポリエチレンの軟化点が下がりすぎるため、得られたシート等のブロッキングが悪くなり、取り扱い性に欠けるものとなる。
(A1) Content ratio of ethylene and α-olefin-derived structural units The polyethylene resin in the present invention has an α-olefin content ratio of 3 to 20 mol%. Within this range, the flexibility of the sheet and the like and the heat resistance after crosslinking are good. If the α-olefin content is less than 3 mol%, the flexibility of polyethylene may deteriorate. On the other hand, if it exceeds 20 mol%, the softening point of polyethylene is lowered too much, so that the obtained sheet or the like is poorly blocked and the handleability is poor.
(2)ポリエチレン樹脂の特性
(a2)MFR
本発明におけるポリエチレン樹脂は、MFRが0.1〜100g/10分であり、好ましくは1〜50g/10分、さらに好ましくは2〜40g/10分で ある 。ポリエチレン樹脂のMFRが0.1g/10分未満では、分子量が高すぎて混練時に押出が困難になり、一方、MFRが100g/10分を超えると溶融粘度が低くなりすぎて、取り扱い性に欠けるものとなる。ポリエチレン樹脂のMFRは、JIS−K6922−2:1997附属書(190℃、21.18N荷重)に準拠して測定する。
(2) Characteristics of polyethylene resin (a2) MFR
The polyethylene resin in the present invention has an MFR of 0.1 to 100 g / 10 minutes, preferably 1 to 50 g / 10 minutes, and more preferably 2 to 40 g / 10 minutes. If the MFR of the polyethylene resin is less than 0.1 g / 10 minutes, the molecular weight is too high and extrusion becomes difficult at the time of kneading, while if the MFR exceeds 100 g / 10 minutes, the melt viscosity becomes too low and the handleability is poor. It becomes a thing. The MFR of the polyethylene resin is measured according to JIS-K6922-2: 1997 Annex (190 ° C., 21.18N load).
(a3)密度
本発明におけるポリエチレン樹脂は、密度が0.860〜0.920g/cm3であり、好ましくは0.865〜0.915g/cm3、さらに好ましくは0.870〜0.900g/cm3である。ポリエチレン樹脂の密度が0.860g/cm3未満では、加工後のシートがブロッキングしてしまい、一方、密度が0.920g/cm3を超えると加工後のシートの剛性が高すぎて、取り扱い性に欠けるものとなる。
ポリマーの密度を調節するには、例えばα−オレフィン含有量、重合温度、触媒量など適宜調節する方法がとられる。なお、ポリエチレン樹脂の密度は、JIS−K6922−2:1997附属書(低密度ポリエチレンの場合)に準拠して測定する(23℃)。
(A3) Density The polyethylene resin in the present invention has a density of 0.860 to 0.920 g / cm 3 , preferably 0.865 to 0.915 g / cm 3 , and more preferably 0.870 to 0.900 g / cm 3. It is cm 3. If the density of the polyethylene resin is less than 0.860 g / cm 3 , the processed sheet will block, while if the density exceeds 0.920 g / cm 3 , the rigidity of the processed sheet will be too high and it will be easy to handle. Will be lacking.
In order to adjust the density of the polymer, for example, a method of appropriately adjusting the α-olefin content, the polymerization temperature, the catalyst amount and the like is adopted. The density of the polyethylene resin is measured in accordance with JIS-K6922-2: 1997 Annex (in the case of low density polyethylene) (23 ° C.).
(a4)体積抵抗率
本発明におけるポリエチレン樹脂は、温度23℃、印加電圧500Vで測定される体積抵抗率が1.0×1016Ω・cm以上、好ましくは1.0×1017Ω・cmである。体積抵抗率が1.0×1016Ω・cm以上のポリエチレン樹脂は絶縁性能に優れており、例えば、太陽電池封止材用途では、n型セルを使用した太陽電池モジュールにおいて、PIDの発生を抑制することができる。
(A4) Volume resistivity The polyethylene resin in the present invention has a volume resistivity of 1.0 × 10 16 Ω · cm or more, preferably 1.0 × 10 17 Ω · cm, measured at a temperature of 23 ° C. and an applied voltage of 500 V. Is. Polyethylene resin with a volume resistivity of 1.0 × 10 16 Ω · cm or more has excellent insulation performance. For example, in solar cell encapsulant applications, PID is generated in a solar cell module using an n-type cell. It can be suppressed.
(a5)ホウ素残渣濃度
本発明におけるポリエチレン樹脂中に含まれるホウ素化合物の残渣の濃度(M)は0<M<1wtppmを満たす。
ホウ素残渣の濃度は、エチレン・α−オレフィン共重合体の重合過程において助触媒として添加するホウ素化合物の種類と、その使用濃度に依存する。ホウ素残渣濃度が上記範囲以下の場合は、エチレン・α−オレフィン共重合体の重合過程におけるホウ素化合物助触媒の濃度が小さく、触媒活性が十分発現しない。一方、ホウ素残渣濃度が上記範囲以上の場合は、絶縁性が悪化する傾向にある。
(A5) Boron residue concentration The concentration (M) of the boron compound residue contained in the polyethylene resin in the present invention satisfies 0 <M <1 wtppm.
The concentration of the boron residue depends on the type of the boron compound added as a co-catalyst in the polymerization process of the ethylene / α-olefin copolymer and the concentration thereof used. When the boron residue concentration is less than the above range, the concentration of the boron compound cocatalyst in the polymerization process of the ethylene / α-olefin copolymer is small, and the catalytic activity is not sufficiently exhibited. On the other hand, when the boron residue concentration is above the above range, the insulating property tends to deteriorate.
本願発明の特徴は、更に前記のホウ素残渣が、N2雰囲気下における重量変化が起こる熱分解温度が200℃未満であるホウ素化合物の被熱履歴物であることにある。すなわち、重合時に助触媒として添加するホウ素化合物として、200℃未満の熱分解温度を有するホウ素化合物を選択し、約180〜230℃の重合時の熱履歴を受けた後の被熱履歴物を含有することを意味する。好ましくは180℃未満の熱分解温度を有するホウ素化合物の被熱履歴物である。200℃未満の熱分解温度を有するホウ素化合物を用いることにより、製造時の熱履歴により元のホウ素化合物の化学構造が失われることで、ホウ素による絶縁性の悪化を防ぐ効果が得られる。 Feature of the present invention, further the boron residue is in thermal decomposition temperature by weight change under N 2 atmosphere occurs is the thermal history of the boron compound is less than 200 ° C.. That is, as the boron compound to be added as a co-catalyst during polymerization, a boron compound having a thermal decomposition temperature of less than 200 ° C. is selected, and the heat-heated history material after receiving the thermal history during polymerization at about 180 to 230 ° C. is contained. Means to do. It is preferably a history of being heated by a boron compound having a thermal decomposition temperature of less than 180 ° C. By using a boron compound having a thermal decomposition temperature of less than 200 ° C., the chemical structure of the original boron compound is lost due to the thermal history at the time of production, so that the effect of preventing deterioration of the insulating property due to boron can be obtained.
なお、ホウ素化合物の熱分解温度測定は熱重量分析(TG)で行い、測定条件は次の通りである。
装置:セイコーインスツル社製 EXSTAR6000・TG/DTA6200
測定温度範囲:30〜400℃
昇温速度:10℃/分
サンプル10mgを秤量し、N2雰囲気下において上記温度範囲にて昇温し、重量減少が起こる温度を重量変化およびベースラインから測定した。
The thermal decomposition temperature of the boron compound is measured by thermogravimetric analysis (TG), and the measurement conditions are as follows.
Equipment: EXSTAR6000 / TG / DTA6200 manufactured by Seiko Instruments Inc.
Measurement temperature range: 30-400 ° C
Heating rate: 10 ° C. / weighed min sample 10 mg, heated at the temperature range under a N 2 atmosphere, the temperature was measured to the weight loss occurs from weight change and baseline.
また、ホウ素残渣の濃度(M)は、例えば下記の測定条件により測定することができる。
ポリエチレン樹脂約10gをテフロン(登録商標)製容器に採取し、硝酸を加えマイクロウェーブ分解装置にて分解し、分解液を定容し、ICP−MSにて測定する。
装置:Milestone General製 ETHOS One型
Perkin Elmer社製 NexION300S型
Further, the concentration (M) of the boron residue can be measured, for example, under the following measurement conditions.
Approximately 10 g of polyethylene resin is collected in a Teflon (registered trademark) container, nitric acid is added, and the mixture is decomposed by a microwave decomposition apparatus, the decomposition liquid is constant volume, and measured by ICP-MS.
Equipment: Millestone General ETHOS One type PerkinElmer NextION300S type
(a6)融解ピーク
本発明で用いるエチレン・α−オレフィン共重合体は、透明性を必要とする用途に用いられる場合は、示差走査熱量測定(DSC)により測定した最大融解ピークを示す温度よりも20℃以上高い温度に融解ピークを示さないことが好ましい。主成分よりも高融点の成分が存在しないことにより、樹脂中に高結晶成分が存在しないため、透明性が高くなる。最大融解ピークを示す温度よりも20℃以上高い温度に融解ピークを示さないように調整するには、適当な触媒系を選択する方法等によることができる。
(A6) Melting peak When the ethylene / α-olefin copolymer used in the present invention is used in an application requiring transparency, it is higher than the temperature showing the maximum melting peak measured by differential scanning calorimetry (DSC). It is preferable not to show a melting peak at a temperature higher than 20 ° C. Since the component having a melting point higher than that of the main component is not present, the high crystal component is not present in the resin, so that the transparency is high. In order to adjust so that the melting peak is not shown at a
なお、融解ピークの測定は、示差走査熱量測定(DSC)で行い、測定条件は次の通りである。
装置:セイコーインスツルメンツ社製DSC7020
昇降温条件:第一昇温 30℃〜200℃、40℃/分
降温 200℃〜−30℃、10℃/分
第二昇温 −30℃〜200℃、10℃/分
温度保持時間:第一昇温後5分間、降温後5分間
サンプル量:5mg
温度校正:インジウム
リファレンス:アルミニウム
The melting peak is measured by differential scanning calorimetry (DSC), and the measurement conditions are as follows.
Equipment: DSC7020 manufactured by Seiko Instruments
Lifting temperature conditions: First temperature rise 30 ° C to 200 ° C, 40 ° C / min
Second temperature rise -30 ° C to 200 ° C, 10 ° C / min Temperature retention time: 5 minutes after the first temperature rise, 5 minutes after the temperature drop Sample volume: 5 mg
Temperature calibration: Indium Reference: Aluminum
(a7)Z平均分子量(Mz)と数平均分子量(Mn)との比(Mz/Mn)
本発明で用いるエチレン・α−オレフィン共重合体は、透明性を必要とする用途に用いられる場合は、ゲルパーミエーションクロマグラフィー(GPC)により求めたZ平均分子量(Mz)と数平均分子量(Mn)との比(Mz/Mn)が8.0以下であり、好ましくは5.0以下、より好ましくは4.0以下である。また、Mz/Mnは、2.0以上、好ましくは2.5以上、より好ましくは3.0以上である。ただし、Mz/Mnが8.0を超えると透明性が悪化する。Mz/Mnを所定の範囲に調整するには、適当な触媒系を選択する方法等によることができる。
(A7) Ratio (Mz / Mn) of Z average molecular weight (Mz) to number average molecular weight (Mn)
The ethylene / α-olefin copolymer used in the present invention has a Z average molecular weight (Mz) and a number average molecular weight (Mn) determined by gel permeation chromatography (GPC) when used in applications requiring transparency. ) Is 8.0 or less, preferably 5.0 or less, and more preferably 4.0 or less. Further, Mz / Mn is 2.0 or more, preferably 2.5 or more, and more preferably 3.0 or more. However, if Mz / Mn exceeds 8.0, the transparency deteriorates. In order to adjust Mz / Mn to a predetermined range, a method of selecting an appropriate catalyst system or the like can be used.
なお、Mz/Mnの測定は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で行い、測定条件は次の通りである。
装置:ウオーターズ社製GPC 150C型
検出器:MIRAN社製 1A赤外分光光度計(測定波長、3.42μm)
カラム:昭和電工製AD806M/S 3本(カラムの較正は、東ソー製単分散ポリスチレン(A500,A2500,F1,F2,F4,F10,F20,F40,F288の各0.5mg/ml溶液)の測定を行い、溶出体積と分子量の対数値を2次式で近似した。また、試料の分子量は、ポリスチレンとポリエチレンの粘度式を用いてポリエチレンに換算した。ここでポリスチレンの粘度式の係数は、α=0.723、logK=−3.967であり、ポリエチレンはα=0.733、logK=−3.407である。)
測定温度:140℃
濃度:20mg/10mL
注入量:0.2ml
溶媒:オルソジクロロベンゼン
流速:1.0ml/分
The measurement of Mz / Mn is performed by gel permeation chromatography (GPC), and the measurement conditions are as follows.
Device: Waters GPC 150C type detector: MIRAN 1A infrared spectrophotometer (measurement wavelength 3.42 μm)
Column: Measurement of 3 AD806M / S manufactured by Showa Denko (calibration of the column is 0.5 mg / ml solution of monodisperse polystyrene manufactured by Toso (A500, A2500, F1, F2, F4, F10, F20, F40, F288)). The logarithmic value of the elution volume and the molecular weight was approximated by a quadratic equation. The molecular weight of the sample was converted to polyethylene using the viscosity equations of polystyrene and polyethylene. Here, the coefficient of the viscosity equation of polystyrene is α. = 0.723, logK = -3.967, and polystyrene is α = 0.733, logK = -3.407.)
Measurement temperature: 140 ° C
Concentration: 20 mg / 10 mL
Injection amount: 0.2 ml
Solvent: Orthodichlorobenzene Flow rate: 1.0 ml / min
なお、Z平均分子量(Mz)は、高分子量成分の平均分子量への寄与が大きいので、Mz/Mnは、Mw/Mnに比べて高分子量成分の存在を確認しやすい。高分子量成分は、透明性に影響を与える要因であり、高分子量成分が多いと透明性は悪化する。よって、透明性が必要な用途について、Mz/Mnは小さい方が好ましい。 Since the Z average molecular weight (Mz) greatly contributes to the average molecular weight of the high molecular weight component, it is easier to confirm the presence of the high molecular weight component in Mz / Mn than in Mw / Mn. The high molecular weight component is a factor that affects the transparency, and if the high molecular weight component is large, the transparency deteriorates. Therefore, it is preferable that Mz / Mn is small for applications that require transparency.
(3)エチレン・α−オレフィン中の二重結合
本発明で用いるエチレン・α−オレフィン共重合体は、二重結合(ビニル、ビニリデン、シス−ビニレン、トランス−ビニレン、三置換−ビニレン)を含む。
本発明においては、エチレン・α−オレフィン共重合体中のビニル、ビニリデン、シス−ビニレン、トランス−ビニレン、三置換−ビニレンの合計量が0.22(個/total 1000C)以上のものが好ましい。ここで、ビニル、ビニリデン、シス−ビニレン、トランス−ビニレン、三置換−ビニレンの個数は、NMRで測定した主鎖、側鎖の合計1000個の炭素数あたりの数である。合計量は、0.25以上がより好ましく、0.30以上がさらに好ましく、0.40以上が特に好ましく、0.50以上が最も好ましい。二重結合の合計数を調整する方法としては適当な触媒の選択、重合温度、コモノマーの種類を適宜調節する方法などが挙げられる。
これらの基は不飽和結合を有することから、エチレン・α−オレフィン共重合体中に存在することにより、架橋特性を高めることができる。
(3) Double bond in ethylene / α-olefin The ethylene / α-olefin copolymer used in the present invention contains a double bond (vinyl, vinylidene, cis-vinylene, trans-vinylene, trisubstituted-vinylene). ..
In the present invention, the total amount of vinyl, vinylidene, cis-vinylene, trans-vinylene, and trisubstituted-vinylene in the ethylene / α-olefin copolymer is preferably 0.22 (pieces / total 1000C) or more. Here, the number of vinyl, vinylidene, cis-vinylene, trans-vinylene, and trisubstituted-vinylene is the number per 1000 carbon atoms in total of the main chain and the side chain measured by NMR. The total amount is more preferably 0.25 or more, further preferably 0.30 or more, particularly preferably 0.40 or more, and most preferably 0.50 or more. Examples of the method for adjusting the total number of double bonds include selection of an appropriate catalyst, a method for appropriately adjusting the polymerization temperature and the type of comonomer, and the like.
Since these groups have unsaturated bonds, their presence in the ethylene / α-olefin copolymer can enhance the cross-linking characteristics.
ここで、二重結合数は、1H−NMR法によって測定することができる。
ポリマー中のビニル、ビニリデン、シス・トランス−ビニレンの合計、三置換−ビニレンは、1H−NMRにより測定し、主鎖及び側鎖合計1000個の炭素あたりの個数で求める。
具体的には化学シフト0.4〜2.8ppmの間に現れる飽和アルキル鎖由来のピーク面積と4.7ppm付近のビニリデン由来のピーク面積の比から炭素数1000個当たりのビニリデン数を算出した。なお、ビニルについては4.9ppm付近、三置換ビニレンについては5.2ppm付近、シス及びトランス−ビニレンについては5.4ppm付近の各特性ピークの強度を用いる。
Here, the number of double bonds can be measured by the 1 H-NMR method.
The total number of vinyl, vinylidene, cis-trans-vinylene and trisubstituted-vinylene in the polymer is measured by 1 H-NMR, and the total number of main chain and side chain is determined by 1000 carbons.
Specifically, the number of vinylidene per 1000 carbon atoms was calculated from the ratio of the peak area derived from the saturated alkyl chain appearing between the chemical shifts of 0.4 to 2.8 ppm and the peak area derived from vinylidene near 4.7 ppm. The intensity of each characteristic peak is used at around 4.9 ppm for vinyl, around 5.2 ppm for trisubstituted vinylene, and around 5.4 ppm for cis and trans-vinylene.
4.ポリエチレン樹脂組成物
本発明のポリエチレン樹脂組成物(以下、単に「樹脂組成物」ともいう)は、上記ポリエチレン樹脂および下記有機過酸化物(D)を含有することを特徴とする。
4. Polyethylene Resin Composition The polyethylene resin composition of the present invention (hereinafter, also simply referred to as “resin composition”) is characterized by containing the above-mentioned polyethylene resin and the following organic peroxide (D).
(1)成分(D)
本発明における成分(D)の有機過酸化物は、主にポリエチレン樹脂を架橋するために用いられる。
有機過酸化物としては、分解温度(半減期が1時間である温度)が70〜180℃、特に90〜160℃の有機過酸化物を用いることができる。このような有機過酸化物として、例えば、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルカーボネート、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジ−t−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、メチルエチルケトンパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキシル−2,5−ジパーオキシベンゾエート、t−ブチルハイドロパーオキサイド、p−メンタンハイドロパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、p−クロルベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシイソブチレート、ヒドロキシヘプチルパーオキサイド、ジクロヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。
(1) Ingredient (D)
The organic peroxide of the component (D) in the present invention is mainly used for cross-linking a polyethylene resin.
As the organic peroxide, an organic peroxide having a decomposition temperature (a temperature having a half-life of 1 hour) of 70 to 180 ° C., particularly 90 to 160 ° C. can be used. Examples of such organic peroxides include t-butylperoxyisopropyl carbonate, t-butylperoxy-2-ethylhexyl carbonate, t-butylperoxyacetate, t-butylperoxybenzoate, dicumyl peroxide, 2 , 5-Dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexin-3, 1, , 1-di (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-di (t-butylperoxy) cyclohexane, methylethylketone peroxide, 2,5-dimethylhexyl-2,5- Diperoxybenzoate, t-butylhydroperoxide, p-menthan hydroperoxide, benzoyl peroxide, p-chlorbenzoyl peroxide, t-butylperoxyisobutyrate, hydroxyheptyl peroxide, diclohexanone peroxide, etc. Can be mentioned.
成分(D)の配合割合は、ポリエチレン樹脂を100重量部としたときに、好ましくは0.2〜5重量部であり、より好ましくは0.5〜3重量部、さらに好ましくは1〜2重量部である。成分(D)の配合割合が上記範囲よりも少ないと、架橋しないかまたは架橋に時間がかかる。また、上記範囲よりも大きいと、分散が不十分となり架橋度が不均一になりやすい。 The blending ratio of the component (D) is preferably 0.2 to 5 parts by weight, more preferably 0.5 to 3 parts by weight, and further preferably 1 to 2 parts by weight when the polyethylene resin is 100 parts by weight. It is a department. If the blending ratio of the component (D) is less than the above range, no cross-linking is performed or cross-linking takes time. On the other hand, if it is larger than the above range, the dispersion is insufficient and the degree of cross-linking tends to be non-uniform.
(2)ヒンダードアミン系光安定化剤
本発明において、樹脂組成物にはヒンダードアミン系光安定化剤を配合することができる。ヒンダードアミン系光安定化剤は、ポリマーに対して有害なラジカル種を捕捉し、新たなラジカルを発生しないようにするものである。ヒンダードアミン系光安定化剤には、低分子量のものから高分子量のものまで多くの種類の化合物があるが、従来公知のものであれば、特に制限されずに用いることができる。
(2) Hindered Amine-based Light Stabilizer In the present invention, a hindered amine-based light stabilizer can be added to the resin composition. Hindered amine-based light stabilizers capture radical species that are harmful to the polymer and prevent the generation of new radicals. There are many types of hindered amine-based light stabilizers, from low molecular weight compounds to high molecular weight compounds, but conventionally known compounds can be used without particular limitation.
低分子量のヒンダードアミン系光安定化剤としては、デカン二酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−1(オクチルオキシ)−4−ピペリジニル)エステル、1,1−ジメチルエチルヒドロパーオキサイド及びオクタンの反応生成物(分子量737)70重量%とポリプロピレン30重量%からなるもの;ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ブチルマロネート(分子量685);ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート及びメチル−1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルセバケート混合物(分子量509);ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート(分子量481);テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート(分子量791);テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート(分子量847);2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレートとトリデシル−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレートの混合物(分子量900);1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレートとトリデシル−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレートの混合物(分子量900)などが挙げられる。 Low molecular weight hindered amine light stabilizers include bisdecanoate (2,2,6,6-tetramethyl-1 (octyloxy) -4-piperidinyl) ester, 1,1-dimethylethylhydroperoxide and It consists of 70% by weight of the reaction product of octane (molecular weight 737) and 30% by weight of polypropylene; bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) [[3,5-bis (1,1) -Dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] butylmalonate (molecular weight 685); bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate and methyl-1,2,2,6 6-Pentamethyl-4-piperidyl sebacate mixture (molecular weight 509); bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate (molecular weight 481); tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl) -4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate (molecular weight 791); tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4- Butanetetracarboxylate (molecular weight 847); 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl-1,2,3,4-butanetetracarboxylate and tridecyl-1,2,3,4-butanetetracarboxylate Mix of rates (molecular weight 900); 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl-1,2,3,4-butanetetracarboxylate and tridecyl-1,2,3,4-butanetetracarboxylate Examples include a mixture of rates (molecular weight 900).
高分子量のヒンダードアミン系光安定化剤としては、ポリ[{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}](分子量2,000〜3,100);コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールの重合物(分子量3,100〜4,000);N,N’,N”,N”’−テトラキス−(4,6−ビス−(ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ)−トリアジン−2−イル)−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン(分子量2,286)と上記コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールの重合物の混合物;ジブチルアミン・1,3,5−トリアジン・N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,6−ヘキサメチレンジアミンとN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンの重縮合物(分子量2,600〜3,400)、並びに、4−アクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−アクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、4−アクリロイルオキシ−1−エチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−アクリロイルオキシ−1−プロピル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−アクリロイルオキシ−1−ブチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−メタクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−メタクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルペリジン、4−メタクリロイルオキシ−1−エチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−メタクリロイルオキシ−1−ブチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−クロトノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−クロトノイルオキシ−1−プロピル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン等の環状アミノビニル化合物とエチレンとの共重合体などが挙げられる。上述したヒンダードアミン系光安定化剤は、一種単独で用いられてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。 As a high-molecular-weight hindered amine-based light stabilizer, poly [{6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl} {(2, 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}] (molecular weight 2,000-3,100); succinic acid Polymers of dimethyl and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol (molecular weight 3,100-4,000); N, N', N ", N"'-tetrakis- ( 4,6-bis- (butyl- (N-methyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-4-yl) amino) -triazine-2-yl) -4,7-diazadecan-1,10- A mixture of diamine (molecular weight 2,286), the above dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinethanol; dibutylamine, 1,3,5-triazine, N. , N'-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl-1,6-hexamethylenediamine and N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine weight Condensates (molecular weight 2,600-3,400), as well as 4-acryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-acryloyloxy-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine , 4-Acryloyloxy-1-ethyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-acryloyloxy-1-propyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-acryloyloxy-1- Butyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-methacryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-methacryloyloxy-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine , 4-methacryloyloxy-1-ethyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-methacryloyloxy-1-butyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-crotonoyloxy-2 , 2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-crotonoyloxy-1-propyl-2, 2,6,6-tetramethylpiperidine and other cyclic aminovinyl compounds and ethylene copolymers. The above-mentioned hindered amine-based light stabilizer may be used alone or in combination of two or more.
これらの中でも、ヒンダードアミン系光安定化剤としては、ポリ[{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}](分子量2,000〜3,100);コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールの重合物(分子量3,100〜4,000);N,N’,N”,N”’−テトラキス−(4,6−ビス−(ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ)−トリアジン−2−イル)−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン(分子量2,286)と上記コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールの重合物の混合物;ジブチルアミン・1,3,5−トリアジン・N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,6−ヘキサメチレンジアミンとN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンの重縮合物(分子量2,600〜3,400)環状アミノビニル化合物とエチレンとの共重合体を用いるのが好ましい。製品使用時に経時でのヒンダードアミン系光安定剤のブリードアウトが妨げられるからである。また、ヒンダードアミン系光安定化剤は、融点が、60℃以上であるものを用いるのが、組成物の作製しやすさの観点から好ましい。 Among these, as a hindered amine-based photostabilizer, poly [{6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl} {(2) , 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}] (molecular weight 2,000-3,100); Polymers of dimethyl acid acid and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol (molecular weight 3,100-4,000); N, N', N ", N"'-tetrakis- (4,6-bis- (butyl- (N-methyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-4-yl) amino) -triazine-2-yl) -4,7-diazadecan-1,10 -A mixture of diamine (molecular weight 2,286), the above-mentioned dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol; dibutylamine, 1,3,5-triazine. N, N'-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl-1,6-hexamethylenediamine and N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine It is preferable to use a copolymer of a polycondensate (molecular weight 2,600 to 3,400) cyclic aminovinyl compound and ethylene, because the bleed-out of the hindered amine-based light stabilizer over time is hindered when the product is used. Further, it is preferable to use a hindered amine-based light stabilizer having a melting point of 60 ° C. or higher from the viewpoint of ease of preparation of the composition.
本発明において、ヒンダードアミン系光安定化剤の含有量は、前記エチレン・α−オレフィン共重合体100重量部に対して、0.01〜2.5重量部とし、好ましくは0.01〜1.0重量部、より好ましくは0.01〜0.5重量部、さらに好ましくは0.01〜0.2重量部、最も好ましくは0.03〜0.1重量部とするのがよい。
前記含有量を0.01重量部以上とすることにより安定化への効果が十分に得られ、2.5重量部以下とすることによりヒンダードアミン系光安定化剤の過剰な添加による樹脂の変色を抑えることができる。
また、本発明において、前記有機過酸化物(D)と前記ヒンダードアミン系光安定化剤との重量比を、1:0.01〜1:10とし、好ましくは1:0.02〜1:6.5とする。これにより、樹脂の黄変を顕著に抑制することが可能となる。
In the present invention, the content of the hindered amine-based photostabilizer is 0.01 to 2.5 parts by weight, preferably 0.01 to 1 part by weight, based on 100 parts by weight of the ethylene / α-olefin copolymer. It is preferably 0 parts by weight, more preferably 0.01 to 0.5 parts by weight, still more preferably 0.01 to 0.2 parts by weight, and most preferably 0.03 to 0.1 parts by weight.
When the content is 0.01 parts by weight or more, the effect on stabilization is sufficiently obtained, and when the content is 2.5 parts by weight or less, the discoloration of the resin due to excessive addition of the hindered amine light stabilizer is caused. It can be suppressed.
Further, in the present invention, the weight ratio of the organic peroxide (D) to the hindered amine-based light stabilizer is set to 1: 0.01 to 1:10, preferably 1: 0.02 to 1: 6. Let it be 5.5. This makes it possible to remarkably suppress the yellowing of the resin.
(3)架橋助剤
また、本発明の樹脂組成物には架橋助剤を配合することができる。架橋助剤は、架橋反応を促進させ、エチレン・α−オレフィン共重合体の架橋度を高めるのに有効であり、その具体例としては、ポリアリル化合物やポリ(メタ)アクリロキシ化合物のような多不飽和化合物を例示することができる。
より具体的には、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート、ジアリルフタレート、ジアリルフマレート、ジアリルマレエートのようなポリアリル化合物、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレートのようなポリ(メタ)アクリロキシ化合物、ジビニルベンゼンなどを挙げることができる。架橋助剤は、ポリエチレン樹脂100重量部に対し、0〜5重量部程度の割合で配合することができる。
(3) Crosslinking aid A crosslinking aid can be added to the resin composition of the present invention. The cross-linking aid is effective in promoting the cross-linking reaction and increasing the degree of cross-linking of the ethylene / α-olefin copolymer, and specific examples thereof include polyallyl compounds and poly (meth) acryloxy compounds. Saturated compounds can be exemplified.
More specifically, polyallyl compounds such as triallyl isocyanurate, triallyl cyanurate, diallyl phthalate, diallyl fumarate, diallyl maleate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate. Examples thereof include poly (meth) acryloxy compounds and divinylbenzene. The cross-linking aid can be blended in a ratio of about 0 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyethylene resin.
(4)紫外線吸収剤
本発明の樹脂組成物には、紫外線吸収剤を配合することができる。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、サリチル酸エステル系など各種タイプのものを挙げることができる。
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2’−カルボキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−ドデシルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクタデシルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−5−クロロベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンなどを挙げることができる。
(4) Ultraviolet absorber The resin composition of the present invention may contain an ultraviolet absorber. Examples of the ultraviolet absorber include various types such as benzophenone type, benzotriazole type, triazine type and salicylic acid ester type.
Examples of the benzophenone-based ultraviolet absorber include 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-2'-carboxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, and 2-hydroxy-4. -N-dodecyloxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octadecyloxybenzophenone, 2-hydroxy-4-benzyloxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, 2-hydroxy-5-chlorobenzophenone , 2,4-Dihydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2,2', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, etc. Can be mentioned.
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、ヒドロキシフェニル置換ベンゾトリアゾール化合物であって、例えば、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3−メチル−5−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、などを挙げることができる。またトリアジン系紫外線吸収剤としては、2−[4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−5−(オクチルオキシ)フェノール、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−(ヘキシルオキシ)フェノールなどを挙げることができる。サリチル酸エステル系としては、フェニルサリチレート、p−オクチルフェニルサリチレートなどを挙げることができる。
これら紫外線吸収剤は、エチレン・α−オレフィン共重合体100重量部に対し0〜2.0重量部配合し、好ましくは0.05〜2.0重量部、より好ましくは0.1〜1.0重量部、さらに好ましくは0.1〜0.5重量部、最も好ましくは0.2〜0.4重量部配合するのがよい。
Examples of the benzotriazole-based ultraviolet absorber include hydroxyphenyl-substituted benzotriazole compounds, for example, 2- (2-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole and 2- (2-hydroxy-5-t-butylphenyl). Benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) benzotriazole, 2- (2-methyl-4-hydroxyphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3-methyl-5-t- Butylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-di-t-amylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) benzotriazole, etc. Can be mentioned. Examples of the triazine-based ultraviolet absorber include 2- [4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine-2-yl] -5- (octyloxy) phenol and 2- ( 4,6-Diphenyl-1,3,5-triazine-2-yl) -5- (hexyloxy) phenol and the like can be mentioned. Examples of the salicylic acid ester system include phenylsalicylate and p-octylphenylsalicylate.
These ultraviolet absorbers are blended in an amount of 0 to 2.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the ethylene / α-olefin copolymer, preferably 0.05 to 2.0 parts by weight, more preferably 0.1 to 1. It is preferable to add 0 parts by weight, more preferably 0.1 to 0.5 parts by weight, and most preferably 0.2 to 0.4 parts by weight.
(5)シランカップリング剤
本発明の樹脂組成物には、樹脂を改質させる目的でシランカップリング剤を用いることができる。
本発明におけるシランカップリング剤としては、例えばγ−クロロプロピルトリメトキシシラン;ビニルトリクロルシラン;ビニルトリエトキシシラン;ビニルトリメトキシシラン;ビニル−トリス−(β−メトキシエトキシ)シラン;γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン;β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン;γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン;ビニルトリアセトキシシラン;γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン;γ−アミノプロピルトリメトキシシラン;N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。好ましくは、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランである。
これらのシランカップリング剤は、エチレン・α−オレフィン共重合体100重量部に対して0〜5重量部使用し、好ましくは0.01〜4重量部、より好ましくは0.01〜2重量部、さらに好ましくは、0.05〜1重量部で使用される
(5) Silane Coupling Agent In the resin composition of the present invention, a silane coupling agent can be used for the purpose of modifying the resin.
Examples of the silane coupling agent in the present invention include γ-chloropropyltrimethoxysilane; vinyltricrolsilane; vinyltriethoxysilane; vinyltrimethoxysilane; vinyl-tris- (β-methoxyethoxy) silane; γ-methacryloxypropyl. Trimethoxysilane; β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane; γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane; vinyltriacetoxysilane; γ-mercaptopropyltrimethoxysilane; γ-aminopropyltrimethoxysilane; Examples thereof include N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane. Preferred are vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane.
These silane coupling agents are used in an amount of 0 to 5 parts by weight, preferably 0.01 to 4 parts by weight, and more preferably 0.01 to 2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the ethylene / α-olefin copolymer. , More preferably used in 0.05 to 1 part by weight.
(6)他の添加成分
本発明の樹脂組成物には、本発明の目的を著しく損なわない範囲で、他の付加的任意成分を配合することができる。このような任意成分としては、通常のポリオレフィン系樹脂材料に使用される酸化防止剤、結晶核剤、透明化剤、滑剤、着色剤、分散剤、充填剤、蛍光増白剤、紫外線吸収剤、光安定剤等を挙げることができる。
(6) Other Additive Components The resin composition of the present invention may contain other additional optional components as long as the object of the present invention is not significantly impaired. Such optional components include antioxidants, crystal nucleating agents, clearing agents, lubricants, colorants, dispersants, fillers, fluorescent whitening agents, ultraviolet absorbers, etc., which are used in ordinary polyolefin resin materials. Examples include light stabilizers.
また、本発明の樹脂組成物には、柔軟性等を付与するため、本発明の目的を損なわない範囲で、潤滑油、チーグラー系又はメタロセン系触媒によって重合された結晶性のエチレン・α−オレフィン共重合体及び/又はEBR、EPR等のエチレン・α−オレフィンエラストマー若しくはSEBS、水添スチレンブロック共重合体等のスチレン系エラストマー等のゴム系化合物を3〜75重量部配合することもできる。さらに、溶融張力等を付与するため、高圧法低密度ポリエチレンを3〜75重量部配合することもできる。 Further, in order to impart flexibility and the like to the resin composition of the present invention, a crystalline ethylene / α-olefin polymerized by a lubricating oil, a Cheegler-based or a metallocene-based catalyst, as long as the object of the present invention is not impaired. It is also possible to blend 3 to 75 parts by weight of a copolymer and / or a rubber compound such as an ethylene / α-olefin elastomer such as EBR and EPR or a styrene elastomer such as SEBS and a hydrogenated styrene block copolymer. Further, in order to impart melt tension and the like, 3 to 75 parts by weight of high-pressure low-density polyethylene can be blended.
5.太陽電池封止材及び太陽電池
本発明の太陽電池封止材(以下、単に「封止材」ともいう)は、上記樹脂組成物をペレット化し、あるいはシート化したものである。この太陽電池封止材を用いれば、太陽電池素子を上下の保護材とともに固定することにより太陽電池モジュールを製作することができる。このような太陽電池モジュールとしては、種々のタイプのものを例示することができる。例えば上部透明保護材/封止材/太陽電池素子/封止材/下部保護材のように太陽電池素子の両側から封止材で挟む構成のもの、下部基板保護材の内周面上に形成させた太陽電池素子上に封止材と上部透明保護材を形成させるような構成のもの、上部透明保護材の内周面上に形成させた太陽電池素子、例えばフッ素樹脂系透明保護材上にアモルファス太陽電池素子をスパッタリング等で作成したものの上に封止材と下部保護材を形成させるような構成のものなどを挙げることができる。
5. Solar cell encapsulant and solar cell The solar cell encapsulant of the present invention (hereinafter, also simply referred to as “encapsulating material”) is a pellet or sheet of the above resin composition. By using this solar cell encapsulant, a solar cell module can be manufactured by fixing the solar cell element together with the upper and lower protective materials. Various types of such solar cell modules can be exemplified. For example, an upper transparent protective material / encapsulant / solar cell element / encapsulant / lower protective material sandwiched between both sides of the solar cell element, formed on the inner peripheral surface of the lower substrate protective material. On a solar cell element formed on the inner peripheral surface of the upper transparent protective material, for example, a fluororesin-based transparent protective material, which is configured to form a sealing material and an upper transparent protective material on the solar cell element. Examples thereof include an amorphous solar cell element having a structure in which a sealing material and a lower protective material are formed on the one produced by sputtering or the like.
太陽電池素子としては、特に制限されず、単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコンなどのシリコン系、ガリウム−砒素、銅−インジウム−セレン、カドミウム−テルルなどのIII−V族やII−VI族化合物半導体系等の各種太陽電池素子を用いることができる。本発明においては、基板としてガラスを用いたものが好ましい。 The solar cell element is not particularly limited, and is limited to silicon-based devices such as single crystal silicon, polycrystalline silicon, and amorphous silicon, and group III-V and group II-VI such as gallium-arsenide, copper-indium-selenium, and cadmium-tellur. Various solar cell elements such as compound semiconductor devices can be used. In the present invention, a substrate using glass is preferable.
太陽電池モジュールを構成する上部保護材としては、ガラス、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル、フッ素含有樹脂などを例示することができる。また、下部保護材としては、金属や各種熱可塑性樹脂フィルムなどの単体もしくは多層のシートであり、例えば、錫、アルミ、ステンレススチールなどの金属、ガラス等の無機材料、ポリエステル、無機物蒸着ポリエステル、フッ素含有樹脂、ポリオレフィンなどの1層もしくは多層の保護材を例示することができる。このような上部及び/又は下部の保護材には、封止材との接着性を高めるためにプライマー処理を施すことができる。本発明においては、上部保護材としてガラスが好ましい。 Examples of the upper protective material constituting the solar cell module include glass, acrylic resin, polycarbonate, polyester, and fluorine-containing resin. The lower protective material is a single or multi-layer sheet such as a metal or various thermoplastic resin films, for example, a metal such as tin, aluminum or stainless steel, an inorganic material such as glass, polyester, an inorganic vapor-deposited polyester, or fluorine. A single-layer or multi-layer protective material such as a contained resin or polyolefin can be exemplified. Such upper and / or lower protective materials can be primed in order to enhance their adhesiveness to the encapsulant. In the present invention, glass is preferable as the upper protective material.
本発明の太陽電池封止材は、ペレットとして使用してもよいが、通常、0.1〜1mm程度の厚みのシート状に成形して使用される。0.1mmよりも薄いと強度が小さく、接着が不十分となり、1mmよりも厚いと透明性が低下して問題になる場合がある。好ましい厚さは、0.1〜0.8mmである。 The solar cell encapsulant of the present invention may be used as pellets, but is usually used by molding it into a sheet having a thickness of about 0.1 to 1 mm. If it is thinner than 0.1 mm, the strength is small and the adhesion is insufficient, and if it is thicker than 1 mm, the transparency is lowered, which may cause a problem. The preferred thickness is 0.1 to 0.8 mm.
シート状太陽電池封止材は、T−ダイ押出機、カレンダー成形機などを使用する公知のシート成形法によって製造することができる。例えばエチレン・α−オレフィン共重合体に、架橋剤を添加し、必要に応じて、ヒンダードアミン系光安定化剤、さらには架橋助剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤等の添加剤を予めドライブレンドしてT−ダイ押出機のホッパーから供給し、80〜150℃の押出温度において、シート状に押出成形することによって得ることができる。これらドライブレンドに際して、一部又は全部の添加剤は、マスターバッチの形で使用することができる。またT−ダイ押出やカレンダー成形において、予め非晶性α−オレフィン系共重合体に一部又は全部の添加剤を、一軸押出機、二軸押出機、バンバリーミキサー、ニーダーなどを用いて溶融混合して得た樹脂組成物を使用することもできる。成形されたシートは、容易に保管および輸送するために紙管に巻き取られるが、このときにシート同士が密着(ブロッキングが発生)することがある。ブロッキングが発生してしまうと、次の工程でシートを繰り出して使用する際に、安定して繰り出すことができず、生産性が低下してしまう 。そのため、シート表面を荒らす、または凹凸構造を作製することで、ブロッキングを回避することが一般的に行われている。 The sheet-shaped solar cell encapsulant can be manufactured by a known sheet molding method using a T-die extruder, a calendar molding machine, or the like. For example, a cross-linking agent is added to an ethylene / α-olefin copolymer, and if necessary, a hindered amine-based photostabilizer, a cross-linking aid, a silane coupling agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, and a photostabilizer are added. It can be obtained by dry-blending an additive such as an agent in advance, supplying it from a hopper of a T-die extruder, and extruding it into a sheet at an extrusion temperature of 80 to 150 ° C. For these dry blends, some or all of the additives can be used in the form of a masterbatch. Further, in T-die extrusion and calendar molding, a part or all of the additives are previously melt-mixed with the amorphous α-olefin copolymer using a uniaxial extruder, a twin extruder, a Banbury mixer, a kneader, or the like. The resin composition thus obtained can also be used. The molded sheet is wound around a paper tube for easy storage and transportation, but at this time, the sheets may adhere to each other (blocking occurs). If blocking occurs, when the sheet is fed out and used in the next process, it cannot be fed out stably and the productivity is lowered. Therefore, it is generally practiced to avoid blocking by roughening the sheet surface or creating an uneven structure.
太陽電池モジュールを製造するに当たっては、本発明の封止材のシートを予め作っておき、封止材の樹脂組成物が溶融する温度、例えば150〜200℃で圧着するという方法によって、前記のような構成のモジュールを形成することができる。また本発明の封止材を押出コーティングすることによって太陽電池素子や上部保護材あるいは下部保護材と積層する方法を採用すれば、わざわざシート成形することなく一段階で太陽電池モジュールを製造することが可能である。したがって本発明の封止材を使用すれば、モジュールの生産性を格段に改良することができる。 In manufacturing the solar cell module, a sheet of the encapsulant of the present invention is prepared in advance, and the resin composition of the encapsulant is pressure-bonded at a melting temperature, for example, 150 to 200 ° C., as described above. Modules with various configurations can be formed. Further, if the method of laminating the sealing material of the present invention with the solar cell element, the upper protective material or the lower protective material by extrusion coating is adopted, the solar cell module can be manufactured in one step without bothering to form a sheet. It is possible. Therefore, if the encapsulant of the present invention is used, the productivity of the module can be significantly improved.
一方、太陽電池モジュールを製造する際、有機過酸化物が実質的に分解せず、かつ本発明の封止材料が溶融するような温度で、太陽電池素子や保護材に該封止材を仮接着し、次いで昇温して充分な接着とエチレン・α−オレフィン共重合体の架橋を行うこともできる。この場合は、封止材層の融点(DSC法)が85℃以上、150℃の貯蔵弾性率が103Pa以上の耐熱性が良好な太陽電池モジュールを得るために、封止材層におけるゲル分率(試料1gをキシレン100mlに浸漬し、110℃、24時間加熱した後、400メッシュ金網で濾過し未溶融分の質量分率を測定)が50〜98%、好ましくは70〜95%程度になるように架橋するのがよい。 On the other hand, when manufacturing a solar cell module, the sealing material is temporarily applied to the solar cell element or the protective material at a temperature at which the organic peroxide does not substantially decompose and the sealing material of the present invention melts. It is also possible to adhere and then raise the temperature to obtain sufficient adhesion and crosslink the ethylene / α-olefin copolymer. In this case, in order to obtain a solar cell module having a melting point (DSC method) of 85 ° C. or higher and a storage elastic modulus of 103 Pa or higher at 150 ° C. and having good heat resistance, the gel fraction in the sealing material layer is obtained. (1 g of the sample is immersed in 100 ml of xylene, heated at 110 ° C. for 24 hours, and then filtered with a 400 mesh wire net to measure the mass fraction of the unmelted portion) is about 50 to 98%, preferably about 70 to 95%. It is better to bridge like this.
太陽電池素子の封止作業では、太陽電池素子を上記本発明の封止材でカバーした後、有機過酸化物が分解しない程度の温度に数分から10分程度加熱して仮接着し、次に、オーブン内において有機過酸化物が分解する150〜200℃程度の高温で5分から30分間加熱処理して接着させる等の方法がある。 In the sealing work of the solar cell element, after covering the solar cell element with the sealing material of the present invention, it is heated to a temperature at which the organic peroxide does not decompose for about several minutes to 10 minutes, and then temporarily bonded. There are methods such as heat treatment at a high temperature of about 150 to 200 ° C. for 5 to 30 minutes in which organic peroxides are decomposed in an oven to bond them.
6.絶縁体
本発明のもう1つの態様は、本発明の製造方法により製造されたポリエチレン樹脂を含むポリエチレン樹脂組成物を用いた絶縁体である。
6. Insulator Another aspect of the present invention is an insulator using a polyethylene resin composition containing a polyethylene resin produced by the production method of the present invention.
以下、本発明を実施例によって、具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、実施例、比較例で用いた評価方法及び使用樹脂は、以下の通りである。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The evaluation methods and resins used in Examples and Comparative Examples are as follows.
1.樹脂物性の評価方法
(1)メルトフローレート(MFR)
前述の通り、エチレン・α−オレフィン共重合体のMFRは、JIS−K6922−2:1997附属書(190℃、21.18N荷重)に準拠して測定した。
(2)密度
前述の通り、エチレン・α−オレフィン共重合体の密度は、JIS−K6922−2:1997附属書(23℃、低密度ポリエチレンの場合)に準拠して測定した。
(3)Mz/Mn
前述の通り、GPCにより測定した。
(4)融解ピーク
前述の通り、DSCにより測定した。
1. 1. Evaluation method of resin physical properties (1) Melt flow rate (MFR)
As described above, the MFR of the ethylene / α-olefin copolymer was measured in accordance with JIS-K6922-2: 1997 Annex (190 ° C., 21.18N load).
(2) Density As described above, the density of the ethylene / α-olefin copolymer was measured in accordance with JIS-K6922-2: 1997 Annex (23 ° C., in the case of low density polyethylene).
(3) Mz / Mn
As described above, it was measured by GPC.
(4) Melting peak As described above, it was measured by DSC.
(5)体積抵抗率
厚み0.7mmのプレスシートを10cm×10cmのサイズに裁断し、IEC60093に準拠し、次の条件にて測定した 。
装置:エーディーシー社製 微小電流計R8340A
エーディーシー社製 測定チャンバー12704A
温度:23℃
印加電圧:500V
(5) Volume resistivity A press sheet having a thickness of 0.7 mm was cut into a size of 10 cm × 10 cm, and measured under the following conditions in accordance with IEC60093.
Equipment: ADC micro ammeter R8340A
ADC measurement chamber 12704A
Temperature: 23 ° C
Applied voltage: 500V
(6)ホウ素残渣濃度
ポリエチレン樹脂約10gをテフロン(登録商標)製容器に採取し、硝酸を加えマイクロウェーブ分解装置にて分解した。分解液を定容し、ICP−MSにて測定した。
装置:Milestone General製 ETHOS One型
Perkin Elmer社製 NexION300S型
(6) Boron residue concentration About 10 g of polyethylene resin was collected in a Teflon (registered trademark) container, nitric acid was added, and the mixture was decomposed by a microwave decomposition apparatus. The decomposition solution was conditioned and measured by ICP-MS.
Equipment: Millestone General ETHOS One type PerkinElmer NextION300S type
(7)コモノマー量および二重結合数
コモノマー量は、13C−NMRにより、二重結合数(ビニル、ビニリデン、シス・トランス−ビニレンの合計、三置換−ビニレン)は、1H−NMRにより、次の条件で測定し、主鎖及び側鎖の合計1000個の炭素あたりの個数で求めた。
装置:ブルカー・バイオスピン(株)AVANCE III cryo−400MHz
溶媒:o−ジクロロベンゼン/重化ブロモベンゼン=8/2混合溶液
<試料量>
460mg/2.3ml
<13C−NMR>
・1Hデカップル、NOEあり
・積算回数:256scan
・フリップ角:90°
・パルス間隔20秒・AQ(取り込み時間)=5.45s D1(待ち時間)=14.55s
<1H−NMR>
・積算回数:1400scan
・フリップ角:1.03°
・AQ(取り込み時間)=1.8s D1(待ち時間)=0.01s
(7) Amount of comonomer and number of double bonds The amount of comonomer is determined by 13 C-NMR, and the number of double bonds (total of vinyl, vinylidene, cis-trans-vinylene, trisubstituted-vinylene) is determined by 1 H-NMR. The measurement was carried out under the following conditions, and the number of main chains and side chains was determined by the total number of 1000 carbon atoms.
Equipment: Bruker Biospin Co., Ltd. AVANCE III cryo-400MHz
Solvent: o-dichlorobenzene / layered bromobenzene = 8/2 mixed solution <sample amount>
460mg / 2.3ml
< 13 C-NMR>
· 1 H decoupling, NOE Ali cumulative number of times: 256scan
・ Flip angle: 90 °
-
< 1 1 H-NMR>
・ Number of integrations: 1400scan
・ Flip angle: 1.03 °
・ AQ (capture time) = 1.8s D1 (waiting time) = 0.01s
2.押出成形物(シート)の評価方法
(1)HAZE
厚み0.7mmのプレスシートを用いて、JIS−K7136−2000に準拠して測定した。流動パラフィン(関東化学製)で満たしたセルにプレスシート片をセットし測定した。プレスシートは、150℃の条件で熱プレス機に30分間保管し、架橋させ準備した。HAZE値は、小さいほど良い。
2. 2. Evaluation method of extruded product (sheet) (1) HAZE
The measurement was performed according to JIS-K7136-2000 using a press sheet having a thickness of 0.7 mm. A press sheet piece was set in a cell filled with liquid paraffin (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) and measured. The press sheet was stored in a hot press for 30 minutes at 150 ° C. and crosslinked to prepare it. The smaller the HAZE value, the better.
(2)光線透過率
厚み0.7mmのプレスシートを用いて、JIS−K7361−1−1997に準拠して測定した。流動パラフィン(関東化学製)で満たしたセルにプレスシート片をセットし測定した。プレスシートは、150℃の条件で熱プレス機に30分間保管し、架橋させ準備した。光線透過率は、80%以上であり、好ましくは、85%以上、さらに好ましくは90%以上である。
(2) Light transmittance Measured according to JIS-K7361-1-1997 using a press sheet having a thickness of 0.7 mm. A press sheet piece was set in a cell filled with liquid paraffin (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) and measured. The press sheet was stored in a hot press for 30 minutes under the condition of 150 ° C. and crosslinked to prepare it. The light transmittance is 80% or more, preferably 85% or more, and more preferably 90% or more.
(3)架橋特性・耐熱性(ゲル分率30分/%)
得られたペレットを、150℃−0kg/cm2の条件で、1分予熱した後、150℃−100kg/cm2の条件で29分加圧(150℃で30分間プレス成形)し、その後、30℃に設定された冷却プレスに100kg/cm2の加圧の条件で、10分間冷却することで、厚み0.7mmの架橋済シートを作製した。厚み0.7mmのシートのゲル分率で評価した。ゲル分率が高いほど架橋が進行しており、耐熱性が高いと評価できる。ゲル分率が70wt%以上のものを、耐熱性評価「○」とした。尚、ゲル分率は、当該シートを、約1gを切り取り精秤して、キシレン100ccに浸漬し110℃で24時間処理し、ろ過後残渣を乾燥し精秤して、処理前の重量で割りゲル分率を算出する。
(3) Crosslinking characteristics / heat resistance (
The resulting pellet, in the conditions of 150 ℃ -0kg / cm 2, was preheated for 1 minute, then 150 ℃ -100kg / cm 29 min pressure in the second condition (press forming for 30 minutes at 0.99 ° C.), then, A crosslinked sheet having a thickness of 0.7 mm was prepared by cooling with a cooling press set at 30 ° C. under a pressure condition of 100 kg / cm 2 for 10 minutes. It was evaluated by the gel fraction of a sheet having a thickness of 0.7 mm. The higher the gel fraction, the more the cross-linking progresses, and it can be evaluated that the heat resistance is high. Those having a gel fraction of 70 wt% or more were evaluated as "○" for heat resistance. For the gel fraction, cut out about 1 g of the sheet, weigh it precisely, immerse it in 100 cc of xylene, treat it at 110 ° C. for 24 hours, dry the residue after filtration, weigh it finely, and divide it by the weight before treatment. Calculate the gel fraction.
3.ポリエチレン樹脂の製造
(1)成分(A):メタロセン化合物の合成
・メタロセン化合物a:シクロブチリデンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウムの合成
3. 3. Production of polyethylene resin (1) Component (A): Synthesis of metallocene compound-Metallocene compound a: Synthesis of cyclobutylidenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium
(i)4−フェニル−インデンの合成
特開2008−101034号公報記載の方法に従って合成した。
(I) Synthesis of 4-Phenyl-Indene Synthetic was performed according to the method described in JP-A-2008-10103.
(ii)1,1−ビス(4−フェニル−インデン−1−イル)シクロブタンの合成
500mLのガラス製反応容器に、4−フェニルインデン22.4g(116mmol)、1,2−ジメトキシエタン(DME)150mL,水酸化カリウム13.0g(233mmol)を加え、90℃で1時間加熱還流した。反応液を0℃に冷却し、シクロブタノン4.00g(57.2mmol)を加えた後、90℃で10時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、蒸留水200mLを加えた後、分液ロートに移して酢酸エチルで3回抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し、溶媒を減圧で留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒、石油エーテル)で精製することで、1,1−ビス(4−フェニル−インデン−1−イル)シクロブタンを薄黄色固体として10.0g得た(収率40%)。
1H−NMR(400MHz,CDCl3):δ7.51(dd,4H),7.46−7.39(m,6H),7.36−7.22(m,2H),7.24(t,2H),7.14(dd,2H),6.07(t,2H),3.49(d,4H),2.78(t,4H),2.11(quint,2H).
(Ii) Synthesis of 1,1-bis (4-phenyl-inden-1-yl) cyclobutane In a 500 mL glass reaction vessel, 22.4 g (116 mmol) of 4-phenylinden, 1,2-dimethoxyethane (DME). 150 mL and 13.0 g (233 mmol) of potassium hydroxide were added, and the mixture was heated under reflux at 90 ° C. for 1 hour. The reaction mixture was cooled to 0 ° C., 4.00 g (57.2 mmol) of cyclobutanone was added, and then the mixture was heated under reflux at 90 ° C. for 10 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature, 200 mL of distilled water was added, the mixture was transferred to a separating funnel, extracted three times with ethyl acetate, and dried over sodium sulfate. The sodium sulfate was filtered, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (developing solvent, petroleum ether) to obtain 1,1-bis (4-phenyl-inden-). 10.0 g of 1-yl) cyclobutane was obtained as a pale yellow solid (yield 40%).
1 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ7.51 (dd, 4H), 7.46-7.39 (m, 6H), 7.36-7.22 (m, 2H), 7.24 ( t, 2H), 7.14 (dd, 2H), 6.07 (t, 2H), 3.49 (d, 4H), 2.78 (t, 4H), 2.11 (quint, 2H).
(iii)ラセミ−シクロブチリデンビス(4−フェニル−1−インデニル)ハフニウムジクロリドの合成
300mLのガラス製反応容器に、1,1−ビス(4−フェニル−インデン−1−イル)シクロブタン4.37g(10.0mmol)、ジエチルエーテル100mLを加え、ドライアイス−ヘプタン浴で−70℃まで冷却した。ここに1.59mol/Lのn−ブチルリチウム−n−ヘキサン溶液12.8mL(20.4mmol)を滴下し、室温で4時間撹拌した。反応液の溶媒を減圧で留去し、トルエン100mLを加え、ドライアイス−ヘプタン浴で−70℃まで冷却した。そこに、四塩化ハフニウム3.20g(10.0mmol)を加えた。その後、徐々に室温に戻しながら17時間撹拌した。このときのラセミ体とメソ体の生成比率は48:52であった。
反応液の溶媒を減圧で留去し、そこにDME26mLを加えて、60℃で5時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、ガラスフリットでろ過し、固体をDME3mLで2回洗浄した。得られた粗成生物をジクロロメタン150mLで抽出し、セライトろ過した後、溶媒を減圧留去することでラセミ−1,1−シクロブチリデンビス(4−フェニル−インデニル)ハフニウムジクロリドのラセミ体を橙色固体として4.84g得た(収率71%)。
1H−NMR(400MHz,CDCl3):δ=7.57(d,4H),7.52(d,2H),7.42(t,4H),7.35(t,2H),7.27(d,2H),7.09(dd,2H),6.66(d,2H),6.07(d,2H),3.60(quartet,2H),3.17(quartet,2H),2.49(quintet,2H).
(Iii) Synthesis of racemic-cyclobutylidenebis (4-phenyl-1-indenyl) hafnium dichloride 4.37 g of 1,1-bis (4-phenyl-indene-1-yl) cyclobutane in a 300 mL glass reaction vessel. (10.0 mmol), 100 mL of diethyl ether was added, and the mixture was cooled to −70 ° C. in a dry ice-heptane bath. 12.8 mL (20.4 mmol) of a 1.59 mol / L n-butyllithium-n-hexane solution was added dropwise thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours. The solvent of the reaction solution was distilled off under reduced pressure, 100 mL of toluene was added, and the mixture was cooled to −70 ° C. in a dry ice-heptane bath. To that, 3.20 g (10.0 mmol) of hafnium tetrachloride was added. Then, the mixture was stirred for 17 hours while gradually returning to room temperature. At this time, the ratio of racemic mixture to meso compound was 48:52.
The solvent of the reaction solution was distilled off under reduced pressure, 26 mL of DME was added thereto, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 5 hours. After cooling the reaction to room temperature, it was filtered through a glass frit and the solid was washed twice with 3 mL of DME. The obtained crude organism was extracted with 150 mL of dichloromethane, filtered through Celite, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to turn the racemic mixture of racemic-1,1-cyclobutylidenebis (4-phenyl-indenyl) hafnium dichloride in orange. 4.84 g was obtained as a solid (yield 71%).
1 1 H-NMR (400MHz, CDCl 3 ): δ = 7.57 (d, 4H), 7.52 (d, 2H), 7.42 (t, 4H), 7.35 (t, 2H), 7 .27 (d, 2H), 7.09 (dd, 2H), 6.66 (d, 2H), 6.07 (d, 2H), 3.60 (quartet, 2H), 3.17 (quartet, 2H), 2.49 (quintet, 2H).
(iv)ラセミ−シクロブチリデンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウムの合成
100mLのガラス製反応容器に、1,1−シクロブチリデンビス(4−フェニル−インデニル)ハフニウムジクロリド1.50g(2.19mmol)、トルエン60mLを加えた。ここに3.0mol/Lの臭化メチルマグネシウム−ジエチルエーテル溶液6.55mL(19.7mmol)を室温で滴下した後、80℃で5時間攪拌した。反応液を氷浴で0℃に冷却した後、クロロトリメチルシラン2.4mL(19.0mmol)を加え、室温で30分攪拌し、続けて1,4−ジオキサン5.0mL(58.4mmol)を加え、室温でさらに30分攪拌した。懸濁液をセライトろ過した後、溶媒を減圧で留去した。得られた黄色固体をヘキサン5mLで懸濁し、ガラスフリットでろ過し、固体をさらに5mLのヘキサンで2回洗浄することで、ラセミ−シクロブチリデンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウムのラセミ体を黄色固体として1.37g得た(収率97%)。
1H−NMR(400MHz,C6D6):δ7.70(dd,4H),7.23(t,4H),7.18−7.08(m,6H),6.80(dd,2H),6.78(d,2H),5.52(d,2H),3.05(quartet,2H),2.60(quartet,2H),2.07(quintet,2H),−1.02(s,6H)
(Iv) Synthesis of Racemic-Cyclobutylidenebis (4-Phenyl-1-indenyl) Hafnium Hafnium 1.50 g of 1,1-Cyclobutylidenebis (4-phenyl-Indenyl) hafnium dichloride in a 100 mL glass reaction vessel. (2.19 mmol), 60 mL of toluene was added. A 3.0 mol / L methyl magnesium bromide-diethyl ether solution (6.55 mL (19.7 mmol)) was added dropwise thereto at room temperature, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 5 hours. After cooling the reaction solution to 0 ° C. in an ice bath, 2.4 mL (19.0 mmol) of chlorotrimethylsilane is added, and the mixture is stirred at room temperature for 30 minutes, followed by 5.0 mL (58.4 mmol) of 1,4-dioxane. In addition, the mixture was further stirred at room temperature for 30 minutes. After filtering the suspension with Celite, the solvent was distilled off under reduced pressure. The resulting yellow solid was suspended in 5 mL of hexane, filtered through a glass frit, and the solid was further washed twice with 5 mL of hexane to give racemic-cyclobutylidenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium. 1.37 g of racemic mixture was obtained as a yellow solid (yield 97%).
1 H-NMR (400MHz, C 6 D 6): δ7.70 (dd, 4H), 7.23 (t, 4H), 7.18-7.08 (m, 6H), 6.80 (dd, 2H), 6.78 (d, 2H), 5.52 (d, 2H), 3.05 (quartet, 2H), 2.60 (quartet, 2H), 2.07 (quartet, 2H), -1 .02 (s, 6H)
・メタロセン化合物b:ジメチルシリレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウムの合成 -Metallocene compound b: Synthesis of dimethylsilylenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium
(i)ジメチルビス(4−フェニルインデン−1−イル)シランの合成
文献(Oraganometallics 1994年,13巻,954−963頁)記載の方法に従って合成した。
(I) Synthesis of dimethylbis (4-phenylindene-1-yl) silane Synthetic was performed according to the method described in the literature (Oraganametricallics, 1994, Vol. 13, pp. 954-963).
(ii)ラセミ−ジメチルシリレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ハフニウムジクロリドの合成
200mLのガラス製反応容器に、ジメチルビス(4−フェニルインデン−1−イル)シラン4.90g(11.1mmol)、ジエチルエーテル110mLを加え、ドライアイス−ヘプタン浴で−70℃まで冷却した。ここに1.62mol/Lのn−ブチルリチウム−n−ヘキサン溶液14.0mL(22.7mmol)を滴下し、室温で3.5時間撹拌した。反応液の溶媒を減圧で留去し、トルエン100mlを加え、ドライアイス−ヘプタン浴で−70℃まで冷却した。そこに、四塩化ハフニウム3.56g(11.1mmol)を加えた。その後、徐々に室温に戻しながら17時間撹拌した。このときのラセミ体とメソ体の生成比率は55:45であった。
ジクロロメタンを200mL加え、セライトろ過した後、トルエン中で再結晶を行うことで、ジメチルシリレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ハフニウムジクロリドのラセミ体を橙色固体として2.23g得た(収率29%)。
1H−NMR(400MHz,CDCl3):δ7.63(d,4H),7.53(d,2H),7.42(t,4H),7.38−7.31(m,4H),7.16(dd,2H),7.01(d,2H),6.10(d,2H),1.18(s,6H).
(Ii) Synthesis of racemic-dimethylsilylenebis (4-phenyl-1-indenyl) hafnium dichloride 4.90 g (11.1 mmol) of dimethylbis (4-phenylindene-1-yl) silane in a 200 mL glass reaction vessel. , 110 mL of diethyl ether was added and cooled to −70 ° C. in a dry ice-heptane bath. 14.0 mL (22.7 mmol) of a 1.62 mol / L n-butyllithium-n-hexane solution was added dropwise thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 3.5 hours. The solvent of the reaction solution was distilled off under reduced pressure, 100 ml of toluene was added, and the mixture was cooled to −70 ° C. in a dry ice-heptane bath. To that, 3.56 g (11.1 mmol) of hafnium tetrachloride was added. Then, the mixture was stirred for 17 hours while gradually returning to room temperature. At this time, the ratio of racemic mixture to meso compound was 55:45.
200 mL of dichloromethane was added, the mixture was filtered through Celite, and then recrystallized in toluene to obtain 2.23 g of racemic mixture of dimethylsilylenebis (4-phenyl-1-indenyl) hafnium dichloride as an orange solid (yield 29). %).
1 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ7.63 (d, 4H), 7.53 (d, 2H), 7.42 (t, 4H), 7.38-7.31 (m, 4H) , 7.16 (dd, 2H), 7.01 (d, 2H), 6.10 (d, 2H), 1.18 (s, 6H).
(iii)ラセミ−ジメチルシリレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウムの合成
100mLのガラス製反応容器に、ジメチルシリレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ハフニウムジクロリド1.20g(1.56mmol)、トルエン50mLを加えた、ここに3.0mol/Lの臭化メチルマグネシウム−ジエチルエーテル溶液3.6mL(10.8mmol)を室温で滴下した後、80℃で1時間攪拌した。反応液を氷浴で0℃に冷却した後、クロロトリメチルシラン0.98mL(7.76mmol)を加え、室温で30分攪拌し、続けて1,4−ジオキサン2.0mL(23.4mmol)を加え、室温でさらに30分攪拌した。懸濁液をセライトろ過した後、溶媒を減圧で留去した。得られた黄色固体をヘキサン10mLで懸濁し、ガラスフリットでろ過し、固体をさらに5mLのヘキサンで3回洗浄することで、ジメチルシリレンビス(4−フェニル−1−インデニル)ジメチルハフニウムのラセミ体を黄色固体として837mg得た(収率85%)。
1H−NMR(400MHz,C6D6):δ7.70(dd,4H),7.27−7.18(m,8H),7.15−7.07(m,4H),6.90(dd,2H),5.63(d,2H),0.60(s,6H),−1.07(s,6H).
(Iii) Synthesis of racemic-dimethylsilylenebis (4-phenyl-1-indenyl) dimethylhafnium 1.20 g (1.56 mmol) of dimethylsilylenebis (4-phenyl-1-indenyl) hafnium dichloride in a 100 mL glass reaction vessel. ),
1 H-NMR (400MHz, C 6 D 6): δ7.70 (dd, 4H), 7.27-7.18 (m, 8H), 7.15-7.07 (m, 4H), 6. 90 (dd, 2H), 5.63 (d, 2H), 0.60 (s, 6H), -1.07 (s, 6H).
・メタロセン化合物c:イソプロピリデンビス[4−(3,5−ジ−t−ブチルフェニル)−1−インデニル]ジメチルハフニウムの合成 -Metallocene compound c: Isopropyridenebis [4- (3,5-di-t-butylphenyl) -1-indenyl] Synthesis of dimethylhafnium
(i)2,2−ビス(4−ブロモ−インデン−1−イル)プロパンの合成
500mLのガラス製反応容器に、4−ブロモフェニルインデン20.0g(103mmol)、DME200mL,水酸化カリウム12.0g(206mmol)を加え、90℃で1時間加熱還流した。反応液を0℃に冷却し、アセトン3.00g(52.0mmol)を加えた後、90℃で4時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、溶媒を減圧で留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (展開溶媒、石油エーテル)で精製することで、2,2−ビス(4−ブロモ−インデン−1−イル)プロパンを黄色固体として12.0g得た(収率54%)。
1H−NMR(400MHz,CDCl3);δ7.20(d,2H),7.19(d,2H),6.92(t,2H),6.58(s,2H),3.39(s,4H),1.72(s,6H).
(I) Synthesis of 2,2-bis (4-bromo-indene-1-yl) propane In a 500 mL glass reaction vessel, 20.0 g (103 mmol) of 4-bromophenyl indene, 200 mL of DME, and 12.0 g of potassium hydroxide. (206 mmol) was added, and the mixture was heated under reflux at 90 ° C. for 1 hour. The reaction mixture was cooled to 0 ° C., 3.00 g (52.0 mmol) of acetone was added, and then the mixture was heated under reflux at 90 ° C. for 4 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (developing solvent, petroleum ether) to obtain 12.0 g of 2,2-bis (4-bromo-inden-1-yl) propane as a yellow solid. (Yield 54%).
1 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ); δ7.20 (d, 2H), 7.19 (d, 2H), 6.92 (t, 2H), 6.58 (s, 2H), 3.39 (S, 4H), 1.72 (s, 6H).
(ii)3,5−ジ−t−ブチルフェニルボロン酸の合成
100mLのガラス製反応容器に、1−ブロモ−3,5−ジ−t−ブチルベンゼン、テトラヒドロフラン40mLを加え、ドライアイス−ヘプタン浴で−70℃まで冷却した。ここに2.5mol/Lのn−ブチルリチウム−n−ヘキサン溶液16.4ml(40.9mmol)を滴下し、30分撹拌した後、続けて−78℃でホウ酸トリメチル4.25g(40.9mmol)を加えて2時間攪拌し、さらに室温で12時間攪拌した。反応液に1M塩化水素水溶液をpH3になるまで加えた後、分液ロートに移して、t−ブチルメチルエーテルで3回抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し、溶媒を減圧留去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒、石油エーテル:酢酸エチル=20:1)で精製し、3,5−ジ−t−ブチルフェニルボロン酸を薄黄色固体として8.00g得た(収率91%)。
1H−NMR(400MHz,CDCl3):δ7.72(d,1H),7.57(s,2H),4.61(s,2H),1.32(s,18H).
(Ii) Synthesis of 3,5-di-t-butylphenylboronic acid 1-bromo-3,5-di-t-butylbenzene and 40 mL of tetrahydrofuran are added to a 100 mL glass reaction vessel, and a dry ice-heptane bath is added. It was cooled to −70 ° C. 16.4 ml (40.9 mmol) of a 2.5 mol / L n-butyllithium-n-hexane solution was added dropwise thereto, and the mixture was stirred for 30 minutes, followed by 4.25 g (40.) of trimethyl borate at −78 ° C. 9 mmol) was added, and the mixture was stirred for 2 hours and further at room temperature for 12 hours. A 1 M aqueous hydrogen chloride solution was added to the reaction solution until the pH reached 3, then the mixture was transferred to a separating funnel, extracted three times with t-butylmethyl ether, and dried over sodium sulfate. The crude product obtained by filtering sodium sulfate and distilling off the solvent under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography (developing solvent, petroleum ether: ethyl acetate = 20: 1), and 3,5-di-t-. 8.00 g of butylphenylboronic acid was obtained as a pale yellow solid (yield 91%).
1 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ7.72 (d, 1H), 7.57 (s, 2H), 4.61 (s, 2H), 1.32 (s, 18H).
(iii)ジメチルビス(4−(3,5−ジ−t−ブチルフェニル)−インデン−1−イル)メタンの合成
500mLのガラス製反応容器に、リン酸三カリウム21.6g(102mmol)、蒸留水150mL、DME150mL、3,5−ジ−t−ブチルフェニルボロン酸14.3g(61.3mmol)、2,2−ビス(4−ブロモ−インデン−1−イル)プロパン11.0g(25.5mmol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム358mg(0.510mmol)、トリフェニルホスフィン267mg(1.02mmol)を順に加えた後、90℃で48時間加熱還流した。室温まで放却した後、反応液を蒸留水50mLに注ぎ、分液ロートに移して、酢酸エチルで3回抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し、溶媒を減圧留去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒、石油エーテル)で精製し、ジメチルビス(4−(3,5−ジ−t−ブチルフェニル)−インデン−1−イル)メタンを黄色固体として10.0g得た(収率60%)。
1H−NMR(400MHz,CDCl3):δ7.43(m,4H),7.38(d,4H),7.22−7.12(m,4H),6.59(s,2H),3.50(d,4H),1.82(s,6H),1.39(s,36H).
(Iii) Synthesis of dimethylbis (4- (3,5-di-t-butylphenyl) -inden-1-yl) methane 21.6 g (102 mmol) of tripotassium phosphate, distilled in a 500 mL glass reaction vessel. 150 mL of water, 150 mL of DME, 14.3 g (61.3 mmol) of 3,5-di-t-butylphenylboronic acid, 11.0 g (25.5 mmol) of 2,2-bis (4-bromo-indene-1-yl) propane ), Dichlorobis (triphenylphosphine) palladium 358 mg (0.510 mmol), and triphenylphosphine 267 mg (1.02 mmol) were added in this order, and then the mixture was heated under reflux at 90 ° C. for 48 hours. After allowing to cool to room temperature, the reaction solution was poured into 50 mL of distilled water, transferred to a separating funnel, extracted three times with ethyl acetate, and dried over sodium sulfate. The crude product obtained by filtering sodium sulfate and distilling off the solvent under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography (developing solvent, petroleum ether) and dimethylbis (4- (3,5-di-t-butyl). 10.0 g of phenyl) -inden-1-yl) methane was obtained as a yellow solid (yield 60%).
1 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ7.43 (m, 4H), 7.38 (d, 4H), 7.22-7.12 (m, 4H), 6.59 (s, 2H) , 3.50 (d, 4H), 1.82 (s, 6H), 1.39 (s, 36H).
(iv)ラセミ−イソプロピリデンビス[4−(3,5−ジ−t−ブチルフェニル)−1−インデニル]ハフニウムジクロリドの合成
200mLのガラス製反応容器に、ジメチルビス(4−(3,5−ジ−t−ブチルフェニル)−インデン−1−イル)メタン 3.25g(5.00mmol)、ジエチルエーテル50mlを加え、ドライアイス−ヘプタン浴で−70℃まで冷却した。ここに1.64mol/Lのn−ブチルリチウム−n−ヘキサン溶液6.2ml(10.2mmol)を滴下し、室温で4時間撹拌した。反応液の溶媒を減圧で留去し、トルエン60mlを加え、ドライアイス−ヘプタン浴で−70℃まで冷却した。そこに、四塩化ハフニウム1.60g(5.00mmol)を加えた。その後、徐々に室温に戻しながら16時間撹拌した。このときのラセミ体とメソ体の生成比率は17:83であった。
反応液の溶媒を減圧で留去し、そこにDME10mLを加えて、60℃で5時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、ガラスフリットでろ過し、固体をDME3mLで2回洗浄することで塩化リチウムを含むイソプロピリデンビス[4−(3,5−ジ−t−ブチルフェニル)−1−インデニル]ハフニウムジクロリドのラセミ体を黄色固体として3.35g得た。
1H−NMR(400MHz,CDCl3):δ=7.79(d,2H),7.50(d,4H),7.41(s,2H),7.32(d,2H),7.13(dd,2H),6.80(d,2H),6.19(d,2H),2.42(s,6H),1.31(s,36H).
(Iv) Synthesis of racemic-isopropyridenebis [4- (3,5-di-t-butylphenyl) -1-indenyl] hafnium dichloride In a 200 mL glass reaction vessel, dimethylbis (4- (3,5-) 3.25 g (5.00 mmol) of di-t-butylphenyl) -indene-1-yl) methane and 50 ml of diethyl ether were added, and the mixture was cooled to −70 ° C. in a dry ice-heptane bath. 6.2 ml (10.2 mmol) of a 1.64 mol / L n-butyllithium-n-hexane solution was added dropwise thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours. The solvent of the reaction solution was distilled off under reduced pressure, 60 ml of toluene was added, and the mixture was cooled to −70 ° C. in a dry ice-heptane bath. To that, 1.60 g (5.00 mmol) of hafnium tetrachloride was added. Then, the mixture was stirred for 16 hours while gradually returning to room temperature. At this time, the ratio of racemic mixture to meso compound was 17:83.
The solvent of the reaction solution was distilled off under reduced pressure, 10 mL of DME was added thereto, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 5 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, the solid is filtered through a glass frit, and the solid is washed twice with 3 mL of DME to contain lithium chloride-containing isopropylidenebis [4- (3,5-di-t-butylphenyl) -1-. Indenyl] A racemic mixture of hafnium dichloride was obtained in an amount of 3.35 g as a yellow solid.
1 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.79 (d, 2H), 7.50 (d, 4H), 7.41 (s, 2H), 7.32 (d, 2H), 7 .13 (dd, 2H), 6.80 (d, 2H), 6.19 (d, 2H), 2.42 (s, 6H), 1.31 (s, 36H).
(v)ラセミ−イソプロピリデンビス[4−(3,5−ジ−t−ブチルフェニル)−1−インデニル]ジメチルハフニウムの合成
100mLのガラス製反応容器に、上記の塩化リチウムを含んだイソプロピリデンビス[4−(3,5−ジメチルフェニル)−1−インデニル]ハフニウムジクロリド 1.00g(含量は1.16mmol以下)、トルエン50mLを加えた。ここに3.0mol/Lの臭化メチルマグネシウム−ジエチルエーテル溶液3.7mL(11.1mmol)を室温で滴下した後、90℃で2.5時間攪拌した。反応液を氷浴で0℃に冷却した後、クロロトリメチルシラン1.15mL(9.10mmol)を加え、室温で15分攪拌し、続けて1,4−ジオキサン2.3mL(26.9mmol)を加え、室温でさらに40分攪拌した。懸濁液をセライトろ過した後、溶媒を減圧で留去した。得られた黄色固体をヘキサン5mLで懸濁し、ガラスフリットでろ過し、固体をさらに3mLのヘキサンで3回洗浄することで、イソプロピリデンビス[4−(3,5−ジ−t−ブチルフェニル)−1−インデニル]ジメチルハフニウムのラセミ体を黄色固体として611mg得た。収率は配位子から48%(ジクロロ体をすべて使用したと仮定した)。
1H−NMR(400MHz,C6D6):δ=7.79(d,4H),7.60(s,2H),7.41(d,2H),7.33(d,2H),6.94(d,2H),6.90(dd,2H),5.57(d,2H),1.80(s,6H),1.35(s,36H),−0.86(s,6H).
(V) Lasemi-isopropyridenebis [4- (3,5-di-t-butylphenyl) -1-indenyl] Synthesis of dimethylhafnium Isopropyridenebis containing lithium chloride in a 100 mL glass reaction vessel. [4- (3,5-Dimethylphenyl) -1-indenyl] Hafnium dichloride 1.00 g (content is 1.16 mmol or less) and 50 mL of toluene were added. 3.7 mL (11.1 mmol) of a 3.0 mol / L methyl magnesium bromide-diethyl ether solution was added dropwise thereto at room temperature, and then the mixture was stirred at 90 ° C. for 2.5 hours. After cooling the reaction solution to 0 ° C. in an ice bath, 1.15 mL (9.10 mmol) of chlorotrimethylsilane is added, and the mixture is stirred at room temperature for 15 minutes, followed by 2.3 mL (26.9 mmol) of 1,4-dioxane. In addition, the mixture was further stirred at room temperature for 40 minutes. After filtering the suspension with Celite, the solvent was distilled off under reduced pressure. The resulting yellow solid was suspended in 5 mL of hexane, filtered through a glass frit, and the solid was further washed 3 times with 3 mL of hexane to give isopropylidenebis [4- (3,5-di-t-butylphenyl). -1-Indenyl] 611 mg of the dimethylhafnium lasemi form was obtained as a yellow solid. Yield was 48% from the ligand (assuming all dichloro was used).
1 1 H-NMR (400 MHz, C 6 D 6 ): δ = 7.79 (d, 4H), 7.60 (s, 2H), 7.41 (d, 2H), 7.33 (d, 2H) , 6.94 (d, 2H), 6.90 (dd, 2H), 5.57 (d, 2H), 1.80 (s, 6H), 1.35 (s, 36H), -0.86 (S, 6H).
・メタロセン化合物d:ジメチルシリレンビスインデニルハフニウムジメチルの合成
特開平10−218921号公報に記載された方法で調製した。
-Metallocene compound d: Synthesis of dimethylsilylene bisindenylhafnium dimethyl It was prepared by the method described in JP-A No. 10-218921.
・メタロセン化合物e:シクロブチリデンビス(1−インデニル)ジメチルハフニウムの合成 -Metallocene compound e: Synthesis of cyclobutylidenebis (1-indenyl) dimethylhafnium
(i)1,1−ビス(1−インデニル)シクロブタンの合成
200mLのガラス製反応容器に、インデン25.0g(215mmol)、DME250mL,水酸化カリウム27.0g(480mmol)を加え、90℃で1時間加熱還流した。反応液を0℃に冷却し、シクロブタノン8.40g(120mmol)を加えた後、90℃で6時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、蒸留水200mLを加えた後、分液ロートに移して酢酸エチルで2回抽出し、得られた酢酸エチル溶液を飽和食塩水、蒸留水で順に洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し、溶媒を減圧で留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (展開溶媒、石油エーテル)で精製することで、1,1−ビス(1−インデニル)シクロブタンを白色固体として12.0g得た(収率39%)。
1H−NMR(400MHz,CDCl3);δ7.39(t,4H),7.11(quint,4H),6.62(s,2H),3.40(s,4H),2.73(t,4H),2.09(quint,2H).
(I) Synthesis of 1,1-bis (1-indenyl) cyclobutane To a 200 mL glass reaction vessel, add 25.0 g (215 mmol) of indene, 250 mL of DME, and 27.0 g (480 mmol) of potassium hydroxide, and add 1 at 90 ° C. The mixture was heated under reflux for hours. The reaction mixture was cooled to 0 ° C., 8.40 g (120 mmol) of cyclobutanone was added, and then the mixture was heated under reflux at 90 ° C. for 6 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature, 200 mL of distilled water was added, and the mixture was transferred to a liquid separation funnel and extracted twice with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed with saturated saline and distilled water in that order, and sodium sulfate was used. It was dried in. The sodium sulfate was filtered, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (developing solvent, petroleum ether) to obtain 1,1-bis (1-indenyl) cyclobutane. 12.0 g of white solid was obtained (yield 39%).
1 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ); δ7.39 (t, 4H), 7.11 (quint, 4H), 6.62 (s, 2H), 3.40 (s, 4H), 2.73 (T, 4H), 2.09 (quint, 2H).
(ii)ラセミ−シクロブチリデンビス(1−インデニル)ハフニウムジクロリドの合成
200mLのガラス製反応容器に、1,1−ビス(1−インデニル)シクロブタン 2.84g(10.0mmol)、ジエチルエーテル100mlを加え、ドライアイス−ヘプタン浴で−70℃まで冷却した。ここに1.64mol/Lのn−ブチルリチウム−n−ヘキサン溶液12.4ml(20.5mmol)を滴下し、室温で4時間撹拌した。反応液の溶媒を減圧で留去し、トルエン115mlを加え、ドライアイス−ヘプタン浴で−70℃まで冷却した。そこに、四塩化ハフニウム3.20g(10.0mmol)を加えた。その後、徐々に室温に戻しながら17時間撹拌した。
反応液の溶媒を減圧で留去し、そこにDME26mLを加えて、60℃で5時間攪拌した。反応液を室温に冷却し、ガラスフリットでろ過し、得られた固体をジクロロメタン130mLで抽出してセライトろ過した。ろ液を減圧乾燥することでシクロブチリデンビス(1−インデニル)ハフニウムジクロリドのラセミ体を黄色固体として3.76g得た(収率71%)。
1H−NMR(400MHz,CDCl3):δ=7.51(d,2H),7.48(d,2H),7.27(dd,2H),6.98(dd,2H),6.53(d,2H),5.97(d,2H),3.54(quart,2H),3.12(quart,2H),2.46(quint,2H).
(Ii) Synthesis of racem-cyclobutylidenebis (1-indenyl) hafnium dichloride 2.84 g (10.0 mmol) of 1,1-bis (1-indenyl) cyclobutane and 100 ml of diethyl ether are placed in a 200 mL glass reaction vessel. In addition, it was cooled to −70 ° C. in a dry ice-heptane bath. 12.4 ml (20.5 mmol) of a 1.64 mol / L n-butyllithium-n-hexane solution was added dropwise thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours. The solvent of the reaction solution was distilled off under reduced pressure, 115 ml of toluene was added, and the mixture was cooled to −70 ° C. in a dry ice-heptane bath. To that, 3.20 g (10.0 mmol) of hafnium tetrachloride was added. Then, the mixture was stirred for 17 hours while gradually returning to room temperature.
The solvent of the reaction solution was distilled off under reduced pressure, 26 mL of DME was added thereto, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 5 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature, filtered through a glass frit, and the obtained solid was extracted with 130 mL of dichloromethane and filtered through Celite. The filtrate was dried under reduced pressure to obtain 3.76 g of racemic mixture of cyclobutylidenebis (1-indenyl) hafnium dichloride as a yellow solid (yield 71%).
1 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.51 (d, 2H), 7.48 (d, 2H), 7.27 (dd, 2H), 6.98 (dd, 2H), 6 .53 (d, 2H), 5.97 (d, 2H), 3.54 (quart, 2H), 3.12 (quart, 2H), 2.46 (quint, 2H).
(iii)シクロブチリデンビス(1−インデニル)ジメチルハフニウムの合成
200mlのガラス製反応容器に、シクロブチリデンビス(1−インデニル)ハフニウムジクロリド1.50g(2.82mmol)、トルエン70mLを加えた。ここに3.0mol/Lの臭化メチルマグネシウム−ジエチルエーテル溶液6.6mL(19.8mmol)を室温で滴下した後、80℃で7時間攪拌した。反応液を氷浴で0℃に冷却した後、クロロトリメチルシラン1.75mL(13.9mmol)を加え、室温で30分攪拌し、続けて1,4−ジオキサン3.50mL(40.9mmol)を加え、室温でさらに1時間攪拌した。懸濁液をセライトろ過した後、溶媒を減圧で留去した。得られた黄色固体をヘキサン10mLで懸濁し、ガラスフリットでろ過し、固体をさらに5mLのヘキサンで2回洗浄することで、シクロブチリデンビス(インデニル)ジメチルハフニウムのラセミ体を黄色固体として810mg得た(収率59%)。
1H−NMR(400MHz,C6D6):δ=7.37(d,2H),7.11(dd,2H),7.05(dd,2H),7.23(dd,2H),6.33(d,2H),5.42(d,2H),2.98(quart,2H),2.54(quart,2H),2.02(quint,2H),−1.16(s,6H).
(Iii) Synthesis of cyclobutylidenebis (1-indenyl) dimethylhafnium To a 200 ml glass reaction vessel, 1.50 g (2.82 mmol) of cyclobutylidenebis (1-indenyl) hafnium dichloride and 70 mL of toluene were added. A 3.0 mol / L methyl magnesium bromide-diethyl ether solution (6.6 mL (19.8 mmol)) was added dropwise at room temperature, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 7 hours. After cooling the reaction solution to 0 ° C. in an ice bath, 1.75 mL (13.9 mmol) of chlorotrimethylsilane is added, and the mixture is stirred at room temperature for 30 minutes, followed by 3.50 mL (40.9 mmol) of 1,4-dioxane. In addition, the mixture was further stirred at room temperature for 1 hour. After filtering the suspension with Celite, the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained yellow solid was suspended in 10 mL of hexane, filtered through a glass frit, and the solid was further washed twice with 5 mL of hexane to obtain 810 mg of the racemic mixture of cyclobutylidenebis (indenyl) dimethylhafnium as a yellow solid. (Yield 59%).
1 H-NMR (400MHz, C 6 D 6): δ = 7.37 (d, 2H), 7.11 (dd, 2H), 7.05 (dd, 2H), 7.23 (dd, 2H) , 6.33 (d, 2H), 5.42 (d, 2H), 2.98 (quart, 2H), 2.54 (quart, 2H), 2.02 (quint, 2H), -1.16 (S, 6H).
(2)エチレン・α−オレフィン共重合体の製造
下記製造方法により製造したエチレン・α−オレフィン共重合体(PE−1〜PE−3)を実施例、PE−4〜PE−8を比較例として用いた。また、下記市販のエチレン・α−オレフィン共重合体(PE−9)についても比較例として用いた。物性を表1に示す。
(PE−9):三井化学社製 タフマーA−4085S
(2) Production of Ethylene / α-olefin Copolymer Examples of ethylene / α-olefin copolymers (PE-1 to PE-3) produced by the following production methods, and comparative examples of PE-4 to PE-8. Used as. The following commercially available ethylene / α-olefin copolymer (PE-9) was also used as a comparative example. The physical characteristics are shown in Table 1.
(PE-9): Toughmer A-4085S manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.
(i)PE−1の重合方法
0.3mmolのメタロセン化合物aと、0.6mmolのトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン(熱分解温度:166℃;熱重量分析(TG)のグラフを図1に示す。)を30Lのトルエンに溶解して触媒溶液を調製した。
内容積5.0Lの撹拌式オートクレーブ型連続反応器を用い、反応器内の圧力を100MPaに保ち、エチレンを52wt%、プロピレンを25wt%、1−ヘキセンを23wt%となるように55kg/時の割合で原料ガスと反応系内の不純物をスカベンジするためにトリオクチルアルミニウム(TNOA)を1.1g/時で連続的に供給した。また、上記触媒溶液を連続的に供給し、重合温度は230℃で調整することで、PE−1のエチレン・α−オレフィン共重合体を得た。
(I) Polymerization method of PE-1 A graph of 0.3 mmol of metallocene compound a and 0.6 mmol of tris (pentafluorophenyl) borane (pyrolysis temperature: 166 ° C; thermogravimetric analysis (TG)) is shown in FIG. ) Was dissolved in 30 L of toluene to prepare a catalytic solution.
Using a stirring autoclave type continuous reactor with an internal volume of 5.0 L, the pressure inside the reactor was maintained at 100 MPa, and 55 kg / hour was used so that ethylene was 52 wt%, propylene was 25 wt%, and 1-hexene was 23 wt%. Trioctyl aluminum (TNOA) was continuously supplied at 1.1 g / hour in order to scaveng the raw material gas and impurities in the reaction system at a rate. Further, the above catalyst solution was continuously supplied and the polymerization temperature was adjusted at 230 ° C. to obtain an ethylene / α-olefin copolymer of PE-1.
(ii)PE−2の重合方法
0.3mmolのメタロセン化合物bと、0.6mmolのトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン(熱分解温度:166℃)を30Lのトルエンに溶解して触媒溶液を調製した。
内容積5.0Lの撹拌式オートクレーブ型連続反応器を用い、反応器内の圧力を80MPaに保ち、エチレンを40wt%、1−ヘキセンを60wt%となるように55kg/時の割合で原料ガスと反応系内の不純物をスカベンジするためにトリオクチルアルミニウム(TNOA)を1.1g/時で連続的に供給した。また、上記触媒溶液を連続的に供給し、重合温度は210℃で調整することで、PE−2のエチレン・α−オレフィン共重合体を得た。
(Ii) Polymerization method of PE-2 A catalyst solution was prepared by dissolving 0.3 mmol of metallocene compound b and 0.6 mmol of tris (pentafluorophenyl) borane (pyrolysis temperature: 166 ° C.) in 30 L of toluene. ..
Using a stirring autoclave type continuous reactor with an internal volume of 5.0 L, keep the pressure inside the reactor at 80 MPa, and use the raw material gas at a ratio of 55 kg / hour so that ethylene is 40 wt% and 1-hexene is 60 wt%. Trioctyl aluminum (TNOA) was continuously supplied at 1.1 g / hour to scaveng the impurities in the reaction system. Further, the above catalyst solution was continuously supplied and the polymerization temperature was adjusted at 210 ° C. to obtain an ethylene / α-olefin copolymer of PE-2.
(iii)PE−3の重合方法
0.3mmolのメタロセン化合物cと、0.6mmolのトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン(熱分解温度:166℃)を30Lのトルエンに溶解して触媒溶液を調製した。
内容積5.0Lの撹拌式オートクレーブ型連続反応器を用い、反応器内の圧力を80MPaに保ち、エチレンを46wt%、1−ヘキセンを54wt%となるように55kg/時の割合で原料ガスと反応系内の不純物をスカベンジするためにトリオクチルアルミニウム(TNOA)を1.1g/時で連続的に供給した。また、上記触媒溶液を連続的に供給し、重合温度は230℃で調整することで、PE−3のエチレン・α−オレフィン共重合体を得た。
(Iii) Polymerization method of PE-3 A catalyst solution was prepared by dissolving 0.3 mmol of metallocene compound c and 0.6 mmol of tris (pentafluorophenyl) borane (pyrolysis temperature: 166 ° C.) in 30 L of toluene. ..
Using a stirring autoclave type continuous reactor with an internal volume of 5.0 L, keep the pressure inside the reactor at 80 MPa, and use the raw material gas at a rate of 55 kg / hour so that ethylene is 46 wt% and 1-hexene is 54 wt%. Trioctyl aluminum (TNOA) was continuously supplied at 1.1 g / hour to scaveng the impurities in the reaction system. Further, the above catalyst solution was continuously supplied and the polymerization temperature was adjusted at 230 ° C. to obtain an ethylene / α-olefin copolymer of PE-3.
(iv)PE−4の重合方法
0.3mmolのメタロセン化合物dと、0.6mmolのトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン(熱分解温度:166℃)を30Lのトルエンに溶解して触媒溶液を調製した。
内容積5.0Lの撹拌式オートクレーブ型連続反応器を用い、反応器内の圧力を100MPaに保ち、エチレンを37wt%、プロピレンを27wt%、1−ヘキセンを36wt%となるように55kg/時の割合で原料ガスと反応系内の不純物をスカベンジするためにトリオクチルアルミニウム(TNOA)を1.1g/時で連続的に供給した。また、上記触媒溶液を連続的に供給し、重合温度は211℃で調整することで、PE−4のエチレン・α−オレフィン共重合体を得た。
(Iv) Polymerization method of PE-4 A catalyst solution was prepared by dissolving 0.3 mmol of metallocene compound d and 0.6 mmol of tris (pentafluorophenyl) borane (pyrolysis temperature: 166 ° C.) in 30 L of toluene. ..
Using a stirring autoclave type continuous reactor with an internal volume of 5.0 L, the pressure inside the reactor was maintained at 100 MPa, and 55 kg / hour was used so that ethylene was 37 wt%, propylene was 27 wt%, and 1-hexene was 36 wt%. Trioctyl aluminum (TNOA) was continuously supplied at 1.1 g / hour in order to scaveng the raw material gas and impurities in the reaction system at a rate. Further, the above catalyst solution was continuously supplied and the polymerization temperature was adjusted at 211 ° C. to obtain an ethylene / α-olefin copolymer of PE-4.
(v)PE−5の重合方法
0.3mmolのメタロセン化合物dと、0.6mmolのN,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(熱分解温度:263℃;熱重量分析(TG)のグラフを図1に示す。)を30Lのトルエンに溶解して触媒溶液を調製した。
内容積5.0Lの撹拌式オートクレーブ型連続反応器を用い、反応器内の圧力を80MPaに保ち、エチレンを37wt%、プロピレンを27wt%、1−ヘキセンを36wt%となるように55kg/時の割合で原料ガスを連続的に供給した。また、上記触媒溶液を連続的に供給し、重合温度は190℃で適宜調整することで、PE−5のエチレン・α−オレフィン共重合体を得た。
(V) Polymerization method of PE-5 0.3 mmol of metallocene compound d and 0.6 mmol of N, N-dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate (pyrolysis temperature: 263 ° C; thermogravimetric analysis (TG)) The graph of (1) is shown in FIG. 1) was dissolved in 30 L of toluene to prepare a catalytic solution.
Using a stirring autoclave type continuous reactor with an internal volume of 5.0 L, the pressure inside the reactor was maintained at 80 MPa, and 55 kg / hour was used so that ethylene was 37 wt%, propylene was 27 wt%, and 1-hexene was 36 wt%. The raw material gas was continuously supplied at a rate. Further, the above catalyst solution was continuously supplied and the polymerization temperature was appropriately adjusted at 190 ° C. to obtain an ethylene / α-olefin copolymer of PE-5.
(vi)PE−6の重合方法
0.3mmolのメタロセン化合物aと、0.6mmolのN,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(熱分解温度:263℃)を30Lのトルエンに溶解して触媒溶液を調製した。
内容積5.0Lの撹拌式オートクレーブ型連続反応器を用い、反応器内の圧力を80MPaに保ち、エチレンを52wt%、プロピレンを25wt%、1−ヘキセンを23wt%となるように55kg/時の割合で原料ガスと反応系内の不純物をスカベンジするためにトリオクチルアルミニウム(TNOA)を1.1g/時で連続的に供給した。また、上記触媒溶液を連続的に供給し、重合温度は220℃で調整することで、PE−6のエチレン・α−オレフィン共重合体を得た。
(Vi) Polymerization method of PE-6 0.3 mmol of metallocene compound a and 0.6 mmol of N, N-dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate (pyrolysis temperature: 263 ° C.) are dissolved in 30 L of toluene. To prepare a catalytic solution.
Using a stirring autoclave type continuous reactor with an internal volume of 5.0 L, the pressure inside the reactor was maintained at 80 MPa, and 55 kg / hour was used so that ethylene was 52 wt%, propylene was 25 wt%, and 1-hexene was 23 wt%. Trioctyl aluminum (TNOA) was continuously supplied at 1.1 g / hour in order to scaveng the raw material gas and impurities in the reaction system at a rate. Further, the above catalyst solution was continuously supplied and the polymerization temperature was adjusted at 220 ° C. to obtain an ethylene / α-olefin copolymer of PE-6.
(vii)PE−7の重合方法
0.3mmolのメタロセン化合物aと、0.6mmolのトリチルテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(熱分解温度:258℃;熱重量分析(TG)のグラフを図1に示す)を30Lのトルエンに溶解して触媒溶液を調製した。
内容積5.0Lの撹拌式オートクレーブ型連続反応器を用い、反応器内の圧力を80MPaに保ち、エチレンを43wt%、1−ヘキセンを57wt%となるように55kg/時の割合で原料ガスと反応系内の不純物をスカベンジするためにトリオクチルアルミニウム(TNOA)を1.1g/時で連続的に供給した。また、上記触媒溶液を連続的に供給し、重合温度は☆℃で調整することで、PE−7のエチレン・α−オレフィン共重合体を得た。
(Vii) Polymerization method of PE-7 A graph of 0.3 mmol of metallocene compound a and 0.6 mmol of trityltetrakis (pentafluorophenyl) borate (pyrolysis temperature: 258 ° C.; thermogravimetric analysis (TG)) is shown in FIG. (Shown) was dissolved in 30 L of toluene to prepare a catalytic solution.
Using a stirring autoclave type continuous reactor with an internal volume of 5.0 L, keep the pressure inside the reactor at 80 MPa, and use the raw material gas at a rate of 55 kg / hour so that ethylene is 43 wt% and 1-hexene is 57 wt%. Trioctyl aluminum (TNOA) was continuously supplied at 1.1 g / hour to scaveng the impurities in the reaction system. Further, the above catalyst solution was continuously supplied and the polymerization temperature was adjusted at ☆ ° C. to obtain an ethylene / α-olefin copolymer of PE-7.
(viii)PE−8の重合方法
0.3mmolのメタロセン化合物eと、0.6mmolのトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン(熱分解温度:166℃)を30Lのトルエンに溶解して触媒溶液を調製した。
内容積5.0Lの撹拌式オートクレーブ型連続反応器を用い、反応器内の圧力を80MPaに保ち、エチレンを43wt%、1−ヘキセンを57wt%となるように55kg/時の割合で原料ガスと反応系内の不純物をスカベンジするためにトリオクチルアルミニウム(TNOA)を1.1g/時で連続的に供給した。また、上記触媒溶液を連続的に供給し、重合温度は☆℃で調整することで、PE−8のエチレン・α−オレフィン共重合体を得た。
(Viii) Polymerization method of PE-8 A catalyst solution was prepared by dissolving 0.3 mmol of metallocene compound e and 0.6 mmol of tris (pentafluorophenyl) borane (pyrolysis temperature: 166 ° C.) in 30 L of toluene. ..
Using a stirring autoclave type continuous reactor with an internal volume of 5.0 L, keep the pressure inside the reactor at 80 MPa, and use the raw material gas at a rate of 55 kg / hour so that ethylene is 43 wt% and 1-hexene is 57 wt%. Trioctyl aluminum (TNOA) was continuously supplied at 1.1 g / hour to scaveng the impurities in the reaction system. Further, the above catalyst solution was continuously supplied and the polymerization temperature was adjusted at ☆ ° C. to obtain an ethylene / α-olefin copolymer of PE-8.
(3)有機過酸化物:t−ブチルパーオキシ2−エチルヘキシルカーボネート(アルケマ吉富社製、ルペロックスTBEC)
(4)ヒンダードアミン系光安定剤:コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールの重合物(BASF社製、TINUVIN 622LD)
(5)紫外線吸収剤:2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン(サンケミカル社製、CYTEC UV531)
(6)シランカップリング剤:γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製、KBM503)
(7)酸化防止剤:n−オクタデシル−3−(3‘,5’−ジ−t−ブチル−4‘−ヒドロキシフェニル)プロピオネート(BASF社製、IRGANOX1076)
(3) Organic peroxide: t-butylperoxy2-ethylhexyl carbonate (manufactured by Alchema Yoshitomi, Luperox TBEC)
(4) Hinderdamine-based photostabilizer: Polymer of dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinethanol (TINUVIN 622LD, manufactured by BASF)
(5) Ultraviolet absorber: 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone (CYTEC UV531 manufactured by Sun Chemical Co., Ltd.)
(6) Silane coupling agent: γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM503)
(7) Antioxidant: n-octadecyl-3- (3', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate (manufactured by BASF, IRGANOX1076)
(実施例1)
ポリエチレン樹脂(PE−1)100重量部に対して、有機過酸化物として、t−ブチルパーオキシ−2−エチルへキシルカーボネイト(アルケマ吉富社製、TBEC)を1.0重量部、ヒンダードアミン系光安定化剤として、コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールの重合物(BASF社製、TINUVIN 622LD)0.05重量部、紫外線吸収剤として、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン(サンケミカル社製 CYTEC UV531)0.3重量部、シランカップリング剤として、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製、KBM503)0.3重量部、酸化防止剤として、n−オクダデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート(BASF社製 IRGANOX1076)0.025重量部を配合した。これを十分に混合し、40mmφ単軸押出機を用いて設定温度100℃、押出量(17kg/時)の条件でペレット化した。
得られたペレットを、150℃−0kg/cm2の条件で、3分予熱した後、150℃−100kg/cm2の条件で27分加圧(150℃で30分間プレス成形)し、その後、30℃に設定された冷却プレスに100kg/cm2の加圧の条件で、10分間冷却することで、厚み0.7mmの架橋済みシート を作製した。シートのHAZE、光線透過率、耐熱性、機械的強度を測定、評価した。
また、ポリエチレン樹脂(PE−1)のDSCのグラフを図2に示す。
(Example 1)
1.0 part by weight of t-butylperoxy-2-ethylhexyl carbonate (TBEC, manufactured by Alchema Yoshitomi) as an organic peroxide with respect to 100 parts by weight of polyethylene resin (PE-1), hindered amine-based light As a stabilizer, 0.05 part by weight of a polymer of dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinethanol (TINUVIN 622LD, manufactured by BASF), as an ultraviolet absorber, 2-Hydroxy-4-n-octoxybenzophenone (CYTEC UV531 manufactured by Sun Chemical Co., Ltd.) 0.3 parts by weight, as a silane coupling agent, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shinetsu Chemical Industry Co., Ltd., KBM503) 0. 3 parts by weight and 0.025 parts by weight of n-octadadecyl-3- (3', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate (IRGANOX 1076 manufactured by BASF) were blended as an antioxidant. This was sufficiently mixed and pelletized using a 40 mmφ single-screw extruder under the conditions of a set temperature of 100 ° C. and an extrusion rate (17 kg / hour).
The resulting pellet, in the conditions of 150 ℃ -0kg / cm 2, after 3 minutes preheat, 150 ℃ -100kg / cm (30 minutes press molding at 0.99 ° C.) 27 minutes pressurization at 2 conditions, and then, A crosslinked sheet having a thickness of 0.7 mm was prepared by cooling with a cooling press set at 30 ° C. under a pressure condition of 100 kg / cm 2 for 10 minutes. The HAZE, light transmittance, heat resistance, and mechanical strength of the sheet were measured and evaluated.
Further, a graph of DSC of polyethylene resin (PE-1) is shown in FIG.
(実施例2)
実施例1において、PE−1に替えて、PE−2を用いた以外は、実施例1と同様にシートを作製した。評価結果を表1に示す。
(Example 2)
In Example 1, a sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that PE-2 was used instead of PE-1. The evaluation results are shown in Table 1.
(実施例3)
実施例1において、PE−1に替えて、PE−3を用いた以外は、実施例1と同様にシートを作製した。評価結果を表1に示す。
(Example 3)
In Example 1, a sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that PE-3 was used instead of PE-1. The evaluation results are shown in Table 1.
(比較例1)
実施例1において、PE−1に替えて、PE−4を用いた以外は、実施例1と同様にシートを作製した。評価結果を表1に示す。
また、PE−4のDSCのグラフを図2に示す。
(Comparative Example 1)
In Example 1, a sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that PE-4 was used instead of PE-1. The evaluation results are shown in Table 1.
Moreover, the graph of DSC of PE-4 is shown in FIG.
(比較例2)
実施例1において、PE−1に替えて、PE−5を用いた以外は、実施例1と同様にシートを作製した。評価結果を表1に示す。
(Comparative Example 2)
In Example 1, a sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that PE-5 was used instead of PE-1. The evaluation results are shown in Table 1.
(比較例3)
実施例1において、PE−1に替えて、PE−6を用いた以外は、実施例1と同様にシートを作製した。評価結果を表1に示す。
(Comparative Example 3)
In Example 1, a sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that PE-6 was used instead of PE-1. The evaluation results are shown in Table 1.
(比較例4)
実施例1において、PE−1に替えて、PE−7を用いた以外は、実施例1と同様にシートを作製した。評価結果を表1に示す。
(Comparative Example 4)
In Example 1, a sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that PE-7 was used instead of PE-1. The evaluation results are shown in Table 1.
(比較例5)
実施例1において、PE−1に替えて、PE−8を用いた以外は、実施例1と同様にシートを作製した。評価結果を表1に示す。
(Comparative Example 5)
In Example 1, a sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that PE-8 was used instead of PE-1. The evaluation results are shown in Table 1.
(比較例6)
実施例1において、PE−1に替えて、PE−9を用いた以外は、実施例1と同様にシートを作製した。評価結果を表1に示す。
(Comparative Example 6)
In Example 1, a sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that PE-9 was used instead of PE-1. The evaluation results are shown in Table 1.
(評価)
この結果、表1から明らかなように、実施例1〜3では、本発明のポリエチレン樹脂組成物を用いているために、これを押出成形して得られたシートは、架橋特性がよくHAZEが小さく、光線透過率が大きく、耐熱性に優れており、漏れ電流を抑制している。
これに対して、比較例1、5では、架橋特性、耐熱性が良く、体積抵抗率が高いものの、融解ピークが2つあることから透明性が低い結果となった。比較例2〜4では、架橋特性、透明性、耐熱性は良いものの、ポリエチレン樹脂の体積抵抗率が低いことから漏れ電流が発生する結果となった。比較例6では、架橋特性、透明性、耐熱性、体積抵抗率はいずれも低水準であった。
(evaluation)
As a result, as is clear from Table 1, since the polyethylene resin composition of the present invention is used in Examples 1 to 3, the sheet obtained by extrusion molding has good cross-linking characteristics and HAZE. It is small, has a large light transmittance, has excellent heat resistance, and suppresses leakage current.
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 5, although the cross-linking characteristics and heat resistance were good and the volume resistivity was high, the transparency was low because there were two melting peaks. In Comparative Examples 2 to 4, although the cross-linking characteristics, transparency, and heat resistance were good, the volume resistivity of the polyethylene resin was low, resulting in the occurrence of leakage current. In Comparative Example 6, the cross-linking characteristics, transparency, heat resistance, and volume resistivity were all low levels.
本発明のポリエチレン樹脂、ポリエチレン樹脂組成物は高い絶縁性および、架橋特性が良く高い耐熱性を持ち、しかも透明性に優れるので太陽電池封止材として好ましく利用される。 The polyethylene resin and polyethylene resin composition of the present invention are preferably used as a solar cell encapsulant because they have high insulating properties, good cross-linking characteristics, high heat resistance, and excellent transparency.
Claims (4)
成分(A):下記一般式(I)で表されるメタロセン化合物
[一般式(I)中、MはTi、Zr、またはHfであり;
R1〜R10およびR11〜R20は、同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数1〜6の炭化水素基を有するシリル基、炭素数1〜6の炭化水素基を有するシリル基で置換された炭素数1〜20のアルキル基、−N(R23)2基、−SR23基、−OSi(R23)3基又は−P(R23)2基であり(R23は、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基であり、R23を2以上有する場合は、それぞれ同じであっても異なっていてもよい)、R1〜R10およびR11〜R20が隣接するR基同士でそれらを連結する原子と一緒になって1つ以上の芳香族環又は脂肪族環を形成してもよく、R5とR6若しくはR5とR10、R15とR16若しくはR15とR20がそれらを連結する原子と一緒になって1つの芳香族環または脂肪族環を形成していてもよく;
YはSiまたはCであり;
R21とR22は、同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のフルオロアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜10のフルオロアリール基、炭素数6〜10のアリールオキシ基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数7〜40のアリールアルキル基、炭素数7〜40のアルキルアリール基、炭素数8〜40のアリールアルケニル基であり、かつ、R21とR22が同時に水素原子ではなく、R21とR22がそれらを連結する原子と一緒になって1つ以上の環を形成してもよく;
X1とX2は、同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜10のアリールオキシ基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数7〜40のアリールアルキル基、炭素数7〜40のアルキルアリール基、炭素数8〜40のアリールアルケニル基、炭素数1〜6の炭化水素基を有するシリル基で置換された炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜10のアミノ基、OH基、ハロゲン原子又は配位可能な中性配位子であり、X1とX2が、それらを連結する原子と一緒になって1つの環を形成していてもよい。]
成分(B):成分(A)と反応してイオン対を形成するホウ素化合物であり、N2雰囲気下における重量変化が起こる熱分解温度が200℃未満
成分(D):有機過酸化物 A polyethylene resin composed of an ethylene / α-olefin copolymer and a polyethylene resin containing the following component (D), which are obtained by carrying out polymerization using a catalytic system containing the following components (A) and (B). Solar cell encapsulant using the composition.
Component (A): Metallocene compound represented by the following general formula (I)
[In general formula (I), M is Ti, Zr, or Hf;
R 1 to R 10 and R 11 to R 20 may be the same or different, and each may have a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, respectively. 1 carbon number substituted with an aryl group of 6 to 20, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a silyl group having a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and a silyl group having a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. ~ 20 alkyl groups, -N (R 23 ) 2 groups, -SR 23 groups, -OSi (R 23 ) 3 groups or -P (R 23 ) 2 groups (R 23 is a halogen atom, 1 carbon number) It is an alkyl group of 10 to 10 and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and when it has 2 or more R 23 , it may be the same or different from each other), R 1 to R 10 and R 11 to R 20. There may form one or more aromatic or aliphatic ring together with the atoms connecting them with R groups adjacent to each other, R 5 and R 6 or R 5 and R 10, R 15 R 16 or R 15 and R 20 may be combined with the atoms connecting them to form one aromatic or aliphatic ring;
Y is Si or C;
R 21 and R 22 may be the same or different, respectively, and have a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, respectively. Aryl groups with 6 to 20 carbon atoms, fluoroaryl groups with 6 to 10 carbon atoms, aryloxy groups with 6 to 10 carbon atoms, alkenyl groups with 2 to 10 carbon atoms, arylalkyl groups with 7 to 40 carbon atoms, and carbon atoms. It is an alkylaryl group of 7 to 40, an arylalkenyl group of 8 to 40 carbon atoms, and R 21 and R 22 are not hydrogen atoms at the same time, but R 21 and R 22 are combined with an atom connecting them. One or more rings may be formed;
X 1 and X 2 may be the same or different, respectively, and have a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and 6 to 6 carbon atoms, respectively. 10 aryloxy groups, 2-10 carbon alkenyl groups, 7-40 carbon arylalkyl groups, 7-40 carbon alkylaryl groups, 8-40 carbon arylalkenyl groups, 1-6 carbons It is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an amino group having 1 to 10 carbon atoms, an OH group, a halogen atom or a coordinable neutral ligand substituted with a silyl group having a hydrocarbon group of X 1. And X 2 may be combined with the atoms connecting them to form a ring. ]
Component (B): a by reacting with component (A) a boron compound to form an ion pair, the thermal decomposition temperature of weight change under N 2 atmosphere occurs 200 ° C. lower than the component (D): an organic peroxide
(a7)ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により求めたZ平均分子量(Mz)と数平均分子量(Mn)との比(Mz/Mn)が8.0以下 The solar cell encapsulant according to claim 1, wherein the ethylene / α-olefin copolymer further has the following characteristics (a7).
(A7) The ratio (Mz / Mn) of the Z average molecular weight (Mz) to the number average molecular weight (Mn) determined by gel permeation chromatography (GPC) is 8.0 or less.
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