JP6984688B2 - Composite electronic components - Google Patents
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- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims description 114
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 368
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 81
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 81
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 79
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 52
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 48
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 28
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 60
- 238000000034 method Methods 0.000 description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 33
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 21
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 description 17
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 12
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 6
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 3
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 101000911772 Homo sapiens Hsc70-interacting protein Proteins 0.000 description 1
- 101001139126 Homo sapiens Krueppel-like factor 6 Proteins 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [Ca+2].[O-][Ti]([O-])=O AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEUCVIBPSSMHJG-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ca+2].[Ti+4] WEUCVIBPSSMHJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
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- Details Of Resistors (AREA)
- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Description
本発明は、複数の電子素子を備えた複合電子部品に関する。 The present invention relates to a composite electronic component including a plurality of electronic elements.
従来、複数の電子素子を備えた複合電子部品に関して、配線基板に対する電子部品の高集積化の観点から、いくつかの発明が提案されている。 Conventionally, with respect to a composite electronic component provided with a plurality of electronic elements, several inventions have been proposed from the viewpoint of highly integrating the electronic component on a wiring board.
たとえば、特開2001−338838号公報(特許文献1)には、コンデンサと抵抗体とからなる複合電子部品が開示されている。この複合電子部品では、チップ型コンデンサのコンデンサ本体の表面に抵抗体が設けられており、その抵抗体と、コンデンサ本体の表面に設けられた一対の外部電極とが接続されている。 For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-338838 (Patent Document 1) discloses a composite electronic component including a capacitor and a resistor. In this composite electronic component, a resistor is provided on the surface of the capacitor body of the chip type capacitor, and the resistor and a pair of external electrodes provided on the surface of the capacitor body are connected to each other.
また、特開平6−283301号公報(特許文献2)には、チップ型抵抗、チップ型サーミスタ、チップ型コンデンサおよびチップ型バリスタ等の群から選ばれた2種以上の同形かつ同寸法の直方体形状のチップ型素子が、これらの厚み方向に沿って互いに重ね合わせられ、さらにこれらに設けられた端子電極が一括してリードフレームで覆われることで、一体化された複合電子部品が開示されている。 Further, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-283301 (Patent Document 2), two or more types of rectangular shapes having the same shape and the same dimensions selected from the group of chip type resistors, chip type thermistors, chip type capacitors, chip type varistor and the like are described. The chip-type elements of the above are superposed on each other along the thickness direction thereof, and the terminal electrodes provided therein are collectively covered with a lead frame, whereby an integrated composite electronic component is disclosed. ..
本発明者らは、特願2015−049457において、上述した特許文献1および2に開示されたものよりも、回路設計の自由度をより高めることができる複合電子部品を提案した。この複合電子部品は、絶縁性の基部に受動素子の機能が付加されてなる1つの基板型の電子素子に、他の1つの電子素子が接合された新規な構成の複合電子部品である。
The present inventors have proposed in Japanese Patent Application No. 2015-049457 a composite electronic component capable of increasing the degree of freedom in circuit design as compared with those disclosed in the above-mentioned
当該新規な構成の複合電子部品にあっては、基板型の電子素子の絶縁性の基部の上面が、他の1つの電子素子に対向する面となる。この上面に、接合材を介して他の1つの電子素子が接続される上面導体が設けられる。また、この新規な構成の複合電子部品のある態様では、基板型の電子素子の絶縁性の基部の上面に、前述した上面導体に加えてさらに、この基板型の電子素子に含まれる電気的な機能部に接続される他の上面導体も設けられている。 In the composite electronic component having the novel configuration, the upper surface of the insulating base of the substrate-type electronic device is a surface facing the other electronic device. An upper surface conductor to which another electronic element is connected via a bonding material is provided on the upper surface. Further, in one aspect of the composite electronic component having this novel configuration, on the upper surface of the insulating base of the substrate-type electronic device, in addition to the above-mentioned upper surface conductor, an electrical component contained in the substrate-type electronic element is further provided. Other top conductors connected to the functional part are also provided.
これら上面導体は、十分な導電性を得るためにAgまたはCuからなる導電層を含むように構成されることが一般的である。しかしながら、AgおよびCuは、電界が作用することによってその一部がイオン化して別の場所に移動し、その移動後に再び還元されて析出する、いわゆる“イオンマイグレーション”の問題を引き起こし易い導電材料である。 These top conductors are generally configured to include a conductive layer made of Ag or Cu in order to obtain sufficient conductivity. However, Ag and Cu are conductive materials that tend to cause the problem of so-called "ion migration", in which a part of Ag and Cu are ionized by the action of an electric field and moved to another place, and after the movement, they are reduced and precipitated again. be.
そのため、上記の新規な構成の複合電子部品のような上面導体が採用されている一方で、イオンマイグレーションの問題に何らの対策も施されていない場合には、上面導体間の絶縁抵抗が低下するおそれがある。 Therefore, while top conductors such as the composite electronic components with the above new configuration are adopted, if no measures are taken against the problem of ion migration, the insulation resistance between the top conductors will decrease. There is a risk.
したがって、本発明は、上述した問題を解決すべくなされたものであり、接合される複数の電子部品のうちの基板型の電子部品における上面導体同士の絶縁抵抗の低下を抑制することができる複合電子部品を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and is a composite capable of suppressing a decrease in insulation resistance between top conductors in a substrate-type electronic component among a plurality of bonded electronic components. The purpose is to provide electronic components.
本発明の第1の局面に基づく複合電子部品は、1つの基板型の電子素子に1つの電子素子が接合された合計で2つの電子素子からなるものであって、上記1つの基板型の電子素子である第1電子素子と、高さ方向において上記第1電子素子に実装された、上記1つの電子素子である第2電子素子と、上記第1電子素子および上記第2電子素子を接合する接合材とを備えている。上記第1電子素子は、上記高さ方向に交差する上面を有する絶縁性の基部と、上記基部の上記上面に設けられた抵抗体と、上記基部の上記上面に設けられた上面導体とを有している。上記第2電子素子は、上記高さ方向において上記基部の上記上面に対向する下面を有するとともに積層された複数の誘電体層および複数の導電体層を含む素子本体と、上記素子本体の上記下面の少なくとも一部に設けられた端子導体とを有している。上記接合材は、上記上面導体の少なくとも一部と上記端子導体の少なくとも一部とを接合している。上記上面導体は、重量比で最大の金属成分としてAgまたはCuを含有する導電層を含んでおり、上記導電層の側面の少なくとも一部は、保護金属膜によって覆われている。上記保護金属膜に含有された重量比で最大の金属成分は、AgおよびCu以外の金属である。上記上面導体の大きさは、上記高さ方向に直交する任意の方向のいずれにおいても上記端子導体の大きさよりも小さい。上記保護金属膜は、上記上面導体に含まれる、上記導電層の上面および上記側面を覆う被覆導電層であり、上記導電層の上記側面を覆う部分の上記保護金属膜は、上記接合材の一部によってさらに覆われている。 The composite electronic component based on the first aspect of the present invention is composed of a total of two electronic elements in which one electronic element is bonded to one substrate type electronic element, and the above-mentioned one substrate type electron. a first electronic device is a device, mounted in the height direction to the first component, a second component is the one electronic device, bonding the first component and the second component It is equipped with a bonding material. The first electronic device has an insulating base having an upper surface intersecting in the height direction, a resistor provided on the upper surface of the base, and an upper surface conductor provided on the upper surface of the base. is doing. The second electronic device has a lower surface facing the upper surface of the base in the height direction, and includes an element body including a plurality of dielectric layers and a plurality of conductor layers laminated, and the lower surface of the element body. It has a terminal conductor provided in at least a part of the above. The joining material joins at least a part of the upper surface conductor and at least a part of the terminal conductor. The upper surface conductor contains a conductive layer containing Ag or Cu as the metal component having the largest weight ratio, and at least a part of the side surface of the conductive layer is covered with a protective metal film. The metal component having the largest weight ratio contained in the protective metal film is a metal other than Ag and Cu. The size of the upper surface conductor is smaller than the size of the terminal conductor in any direction orthogonal to the height direction. The protective metal film is a coated conductive layer that covers the upper surface and the side surface of the conductive layer included in the upper surface conductor, and the protective metal film of the portion that covers the side surface of the conductive layer is one of the bonding materials. It is further covered by the part.
上記本発明の第1の局面に基づく複合電子部品にあっては、上記保護金属膜が、めっき層であってもよい。 In the composite electronic component based on the first aspect of the present invention, the protective metal film may be a plating layer.
本発明の第2の局面に基づく複合電子部品は、1つの基板型の電子素子に1つの電子素子が接合された合計で2つの電子素子からなるものであって、上記1つの基板型の電子素子である第1電子素子と、高さ方向において上記第1電子素子に実装された、上記1つの電子素子である第2電子素子と、上記第1電子素子および上記第2電子素子を接合する接合材とを備えている。上記第1電子素子は、上記高さ方向に交差する上面を有する絶縁性の基部と、上記基部の上記上面に設けられた抵抗体と、上記基部の上記上面に設けられた上面導体とを有している。上記第2電子素子は、上記高さ方向において上記基部の上記上面に対向する下面を有するとともに積層された複数の誘電体層および複数の導電体層を含む素子本体と、上記素子本体の上記下面の少なくとも一部に設けられた端子導体とを有している。上記接合材は、上記上面導体の少なくとも一部と上記端子導体の少なくとも一部とを接合している。上記上面導体は、重量比で最大の金属成分としてAgまたはCuを含有する導電層を含んでおり、上記導電層の側面の少なくとも一部は、上記接合材の一部からなる保護金属膜によって覆われている。上記保護金属膜に含有された重量比で最大の金属成分は、AgおよびCu以外の金属である。上記上面導体の大きさは、上記高さ方向に直交する任意の方向のいずれにおいても上記端子導体の大きさよりも小さい。 The composite electronic component based on the second aspect of the present invention is composed of a total of two electronic elements in which one electronic element is bonded to one substrate type electronic element, and is composed of the above-mentioned one substrate type electron. a first electronic device is a device, mounted in the height direction to the first component, a second component is the one electronic device, bonding the first component and the second component It is equipped with a bonding material. The first electronic device has an insulating base having an upper surface intersecting in the height direction, a resistor provided on the upper surface of the base, and an upper surface conductor provided on the upper surface of the base. is doing. The second electronic device has a lower surface facing the upper surface of the base in the height direction, and includes an element body including a plurality of dielectric layers and a plurality of conductor layers laminated, and the lower surface of the element body. It has a terminal conductor provided in at least a part of the above. The joining material joins at least a part of the upper surface conductor and at least a part of the terminal conductor. The upper surface conductor contains a conductive layer containing Ag or Cu as the metal component having the largest weight ratio, and at least a part of the side surface of the conductive layer is covered with a protective metal film made of a part of the bonding material. It has been. The metal component having the largest weight ratio contained in the protective metal film is a metal other than Ag and Cu. The size of the upper surface conductor is smaller than the size of the terminal conductor in any direction orthogonal to the height direction.
上記本発明の第1および第2の局面に基づく複合電子部品にあっては、上記保護金属膜に含有された重量比で最大の金属成分が、Sn、Ni、AuおよびPbのうちのいずれかであることが好ましい。 In the composite electronic component based on the first and second aspects of the present invention, the metal component having the largest weight ratio contained in the protective metal film is any one of Sn, Ni, Au and Pb. Is preferable.
上記本発明の第1および第2の局面に基づく複合電子部品にあっては、上記上面導体の厚みが、5[μm]以上であることが好ましい。 In the composite electronic component based on the first and second aspects of the present invention, the thickness of the upper surface conductor is preferably 5 [μm] or more.
上記本発明の第1および第2の局面に基づく複合電子部品にあっては、上記上面導体が、上記高さ方向に直交する長さ方向に互いに離隔する第1上面導体および第2上面導体と、上記第1上面導体と上記第2上面導体との間に位置する第3上面導体とを含んでいるとともに、上記端子導体が、上記長さ方向に互いに離隔する第1端子導体および第2端子導体を含んでいてもよい。その場合に、上記第1端子導体が、上記接合材によって上記第1上面導体に接合されているとともに、上記第2端子導体が、上記接合材によって上記第2上面導体に接合されていてもよい。 In the composite electronic component based on the first and second aspects of the present invention, the upper surface conductors are the first upper surface conductor and the second upper surface conductor separated from each other in the length direction orthogonal to the height direction. The first terminal conductor and the second terminal, which include the third upper surface conductor located between the first upper surface conductor and the second upper surface conductor, and the terminal conductors are separated from each other in the length direction. It may include a conductor. In that case, the first terminal conductor may be joined to the first upper surface conductor by the joining material, and the second terminal conductor may be joined to the second upper surface conductor by the joining material. ..
上記本発明の第1および第2の局面に基づく複合電子部品にあっては、上記第1上面導体が、上記高さ方向および上記長さ方向に直交する幅方向において上記第1端子導体の両端の間に位置しているとともに、上記第2上面導体が、上記幅方向において上記第2端子導体の両端の間に位置していてもよい。その場合には、上記第1上面導体の上記側面のうち、上記幅方向に直交する側面が、上記保護金属膜で覆われているとともに、上記第2上面導体の上記側面のうち、上記幅方向に直交する側面が、上記保護金属膜で覆われていることが好ましい。 In the composite electronic component based on the first and second aspects of the present invention, both ends of the first terminal conductor in the width direction in which the first upper surface conductor is orthogonal to the height direction and the length direction. The second upper surface conductor may be located between both ends of the second terminal conductor in the width direction. In that case, of the side surfaces of the first upper surface conductor, the side surfaces orthogonal to the width direction are covered with the protective metal film, and of the side surfaces of the second upper surface conductor, the width direction. It is preferable that the side surface orthogonal to the above is covered with the protective metal film.
上記本発明の第1および第2の局面に基づく複合電子部品にあっては、上記基部の上記幅方向における寸法が、上記第2電子素子の上記幅方向における寸法よりも大きくてもよい。 In the composite electronic component based on the first and second aspects of the present invention, the dimension of the base in the width direction may be larger than the dimension of the second electronic element in the width direction.
上記本発明の第1および第2の局面に基づく複合電子部品にあっては、上記第1上面導体が、上記長さ方向において上記第1端子導体の外端と上記第2端子導体の外端との間に位置しているとともに、上記第2上面導体が、上記長さ方向において上記第1端子導体の外端と上記第2端子導体の外端との間に位置していてもよい。その場合には、上記第1上面導体の上記側面のうち、上記長さ方向に直交する側面が、上記保護金属膜で覆われているとともに、上記第2上面導体の上記側面のうち、上記長さ方向に直交する側面が、上記保護金属膜で覆われていることが好ましい。 In the composite electronic component based on the first and second aspects of the present invention, the first upper surface conductor is the outer end of the first terminal conductor and the outer end of the second terminal conductor in the length direction. The second upper surface conductor may be located between the outer end of the first terminal conductor and the outer end of the second terminal conductor in the length direction. In that case, of the side surfaces of the first upper surface conductor, the side surface orthogonal to the length direction is covered with the protective metal film, and the length of the side surface of the second upper surface conductor. It is preferable that the side surface orthogonal to the radial direction is covered with the protective metal film.
上記本発明の第1および第2の局面に基づく複合電子部品にあっては、上記基部の上記長さ方向における寸法が、上記第2電子素子の上記長さ方向における寸法よりも大きくてもよい。 In the composite electronic component based on the first and second aspects of the present invention, the dimension of the base in the length direction may be larger than the dimension of the second electronic element in the length direction. ..
上記本発明の第1および第2の局面に基づく複合電子部品にあっては、上記抵抗体が、上記第3上面導体に接続されていてもよい。 In the composite electronic component based on the first and second aspects of the present invention, the resistor may be connected to the third upper surface conductor.
上記本発明の第1および第2の局面に基づく複合電子部品にあっては、上記上面導体が、上記第1上面導体と上記第2上面導体との間に位置する第4上面導体を含んでいてもよく、またその場合に、上記抵抗体が、上記第4上面導体に接続されていてもよい。 In the composite electronic component based on the first and second aspects of the present invention, the upper surface conductor includes a fourth upper surface conductor located between the first upper surface conductor and the second upper surface conductor. In that case, the resistor may be connected to the fourth upper surface conductor.
本発明によれば、接合される複数の電子部品のうちの基板型の電子部品における上面導体同士の絶縁抵抗の低下を抑制することができる複合電子部品を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a composite electronic component capable of suppressing a decrease in insulation resistance between top conductors in a substrate-type electronic component among a plurality of bonded electronic components.
以下、本発明の実施の形態について、図を参照して詳細に説明する。なお、以下に示す実施の形態の記載においては、同一のまたは共通する部分については、本明細書中および図中にて同一の符号を付し、原則としてその説明は繰り返されていない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the description of the embodiments shown below, the same or common parts are designated by the same reference numerals in the present specification and in the drawings, and the description thereof is not repeated in principle.
なお、ここに、本明細書の一部を構成するものとして、本発明者らによる特願2015−049457の内容を援用する。 It should be noted that the contents of Japanese Patent Application No. 2015-049457 by the present inventors are incorporated herein by reference as a part of the present specification.
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1に係る複合電子部品1Aの概略的な斜視図である。図2(A)および図2(B)は、図1中に示されるIIA−IIA線およびIIB−IIB線に沿って本実施の形態に係る複合電子部品1Aが切断された場合の模式的な断面図である。図3(A)および図3(B)は、図1に示される抵抗素子20Aの模式的な上面図および下面図である。図4は、図1に示される本実施の形態に係る複合電子部品1Aが分解された模式的な斜視図である。また、図5(A)は、図2中に示されるVA−VA線に沿って本実施の形態に係る複合電子部品1Aが切断された場合の模式的な断面図である。図5(B)は、図5(A)中に示される領域VBを拡大した模式的な断面図である。まず、これら図1から図5を参照して、本実施の形態に係る複合電子部品1Aの構成について説明する。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a schematic perspective view of a composite
図1、図2、図4および図5に示されるように、本実施の形態に係る複合電子部品1Aは、2つの電子素子を備えている。すなわち、複合電子部品1Aは、第1電子素子としての抵抗素子20Aと、第2電子素子としてのコンデンサ素子10とを備えている。
As shown in FIGS. 1, 2, 4, and 5, the composite
コンデンサ素子10は、略直方体形状を有し、後述する長さ方向Lに沿った4辺の寸法が、後述する幅方向Wに沿った4辺の寸法よりも大きい。ここで言う略直方体形状には、コンデンサ素子10の角部および稜部に丸み等が設けられたものや、コンデンサ素子10の表面に段差や凹凸等が設けられたもの等が含まれる。
The
抵抗素子20Aは、所定の厚みを有する略平板形状を有し、後述する長さ方向Lに沿った4辺の寸法が、後述する幅方向Wに沿った4辺の寸法よりも大きい。ここで言う略平板形状には、抵抗素子20Aの角部および稜部に丸み等が設けられたものや、抵抗素子20Aの表面に段差や凹凸等が設けられたもの等が含まれる。
The
図1、図2および図5に示されるように、コンデンサ素子10は、抵抗素子20A上に配置されている。すなわち、コンデンサ素子10の下面11aと、抵抗素子20の上面21aとが対向するように、各電子素子が配置されている。そしてコンデンサ素子10が、第1および第2接合材31、32を介して抵抗素子20Aに接合されている。
As shown in FIGS. 1, 2 and 5, the
ここで、複合電子部品1Aの構成を具体的に説明するために、コンデンサ素子10と抵抗素子20Aとが並ぶ方向を高さ方向Hと呼ぶ。そして、この高さ方向Hに直交する方向のうち、後述するコンデンサ素子10の第1および第2外部電極14A、14Bが並ぶ方向を長さ方向Lと呼ぶ。また、この高さ方向Hおよび長さ方向Lのいずれにも直交する方向を幅方向Wと呼ぶ。
Here, in order to specifically explain the configuration of the composite
図1、図2、図4および図5に示されるように、コンデンサ素子10は、たとえば積層セラミックコンデンサであり、素子本体としてのコンデンサ本体11と、端子導体としての第1および第2外部電極14A、14Bとを有している。なお、本明細書中では、これら第1および第2外部電極14A、14Bを、第1および第2端子導体と呼ぶ場合もある。コンデンサ本体11は、略直方体形状を有しており、その表面の所定の領域に設けられた第1および第2外部電極14A、14Bは、長さ方向Lにおいて、たとえば300[μm]の距離で互いに離隔している。
As shown in FIGS. 1, 2, 4 and 5, the
図2および図5に示されるように、コンデンサ本体11は、複数の誘電体層12および複数の内部電極層13からなり、各誘電体層12と各内部電極層13とが交互に積層されて構成されている。本実施の形態に係る複合電子部品1Aでは、複数の誘電体層12および複数の内部電極層13の積層方向が、高さ方向Hと一致している。ただし、これは一例にすぎず、複数の誘電体層12および複数の内部電極層13の積層方向は、幅方向Wに一致していてもよい。
As shown in FIGS. 2 and 5, the capacitor
誘電体層12は、たとえばチタン酸バリウム(BaTiO3)、チタン酸カルシウム(CaTiO3)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO3)、またはジルコン酸カルシウム(CaZrO3)等を主成分とするセラミック材料を含む材料からなる。また、誘電体層12は、主成分よりも含有量の少ない副成分として、Mn、Mg、Si、Co、Ni、または希土類等を含んでいてもよい。一方、内部電極層13は、たとえばNi、Cu、Ag、Pd、Ag−Pd合金、またはAu等の金属材料を含む材料からなる。
The
図5(B)に示されるように、第1および第2外部電極14A、14Bは、いずれも下地導電層14a、被覆導電層14bおよび被覆導電層14bとは異なる被覆導電層14cを含む複数の導電層にて構成されている。図5(B)においては、第1外部電極14Aのみが示されている。下地導電層14aは、たとえばCu、Ni、Ag、Pd、Ag−Pd合金、またはAu等のペーストを焼き付けることで形成される焼結金属層から構成される。たとえば、被覆導電層14bは、めっき層としてのNi層であり、被覆導電層14cは、被覆導電層14bを覆うめっき層としてのSn層である。被覆導電層14b、14cは、これに代えてめっき層としてのCu層やAu層であってもよい。
As shown in FIG. 5B, the first and second
本実施の形態においては、下地導電層14aが焼結金属層としてのCu層にて構成されており、被覆導電層14bがめっき層としてのNi層にて構成されており、被覆導電層14cがめっき層としてのSn層にて構成されている。めっき層としてのNi層である被覆導電層14bは、めっき層としてのSn層である被覆導電層14cに覆われている。
In the present embodiment, the underlying
なお、第1および第2外部電極14A、14Bは、下地導電層14aを省略してめっき層のみによって構成されていてもよい。また、下地導電層14aは、金属成分と樹脂成分とを含む導電性樹脂ペーストを硬化させた導電性の樹脂層で構成されていてもよい。
The first and second
図1、図2および図5に示されるように、コンデンサ本体11は、長さ方向Lにおいて相対する一対の端面と、幅方向Wにおいて相対する一対の側面と、高さ方向Hにおいて相対する一対の主面とを有している。このうち、高さ方向Hにおいて相対する一対の主面のうちの一方である下面11aが、抵抗素子20Aに対向している。
As shown in FIGS. 1, 2 and 5, the capacitor
また、第1外部電極14Aは、コンデンサ本体11の一方の端面と、上記一対の側面および上記一対の主面のそれぞれの一部とに連なって設けられており、第2外部電極14Bは、コンデンサ本体11の他方の端面と、上記一対の側面および上記一対の主面のそれぞれの一部とに連なって設けられている。これにより、コンデンサ本体11の下面11aの所定の領域は、長さ方向Lにおいて互いに離隔する第1および第2外部電極14A、14Bによって覆われており、これら第1および第2外部電極14A、14Bの間においてコンデンサ本体11の下面11aの一部が露出している。
Further, the first
図2に示されるように、高さ方向Hに沿って1つの誘電体層12を挟んで隣り合う一対の内部電極層13のうちの一方は、コンデンサ本体11の一対の端面のうちの一方に引き出されて第1および第2外部電極14A、14Bのうちの一方に電気的に接続されている。そして、他方の内部電極層13は、コンデンサ本体11の一対の端面のうちの他方に引き出されて第1および第2外部電極14A、14Bのうちの他方に電気的に接続されている。これにより、第1および第2外部電極14A、14B間は、複数のコンデンサが電気的に並列に接続された状態とされている。
As shown in FIG. 2, one of the pair of internal electrode layers 13 adjacent to each other with one
上述したコンデンサ素子10は、たとえば、以下の手順で製造される。まず、誘電体層12となるセラミックグリーンシートの表面に内部電極層13となる導電性ペーストが印刷されてなる素材シートを交互に積層して圧着することにより、積層チップが得られる。ここで、複数の積層チップが一体化された積層ブロックを予め準備し、この積層ブロックを切り離して、積層チップを得てもよい。次に、積層チップを焼成することで、コンデンサ本体11が得られる。そしてその後、コンデンサ本体11の表面に第1および第2外部電極14A、14Bが形成されて、上述したコンデンサ素子10が製造される。
The above-mentioned
なお、コンデンサ素子10の大きさは、特に制限されるものではないが、一例としては、その長さ方向Lの寸法が0.62[mm]であり、その幅方向Wの寸法が0.32[mm]であり、その高さ方向Hの寸法が0.32[mm]である。
The size of the
図1から図5に示されるように、抵抗素子20Aは、絶縁性の基部21と、抵抗体22と、保護膜23と、第1から第4上面導体24A〜24Dと、第1から第4下面導体25A〜25Dと、第1から第4接続導体26A〜26Dとを有している。第1から第4接続導体26A〜26Dがビア導体として基部21の内部に設けられている場合、これらを第1から第4ビア導体26A〜26Dと呼んでもよい。
As shown in FIGS. 1 to 5, the
基部21は、所定の厚みを有する略平板形状を有しており、たとえばエポキシ樹脂等の樹脂材料やアルミナ等のセラミック材料、あるいはこれらに無機材料または有機材料からなるフィラーや織布等が添加されたもの等にて構成される。より好ましくは、アルミナ基板や、低温同時焼成セラミック(LTCC)基板を含むセラミック基板が、基部21として利用される。なお、本実施の形態においては、基部21としてLTCC基板が用いられている。
The
基部21は、長さ方向Lにおいて相対する一対の側面である第1および第2側面と、幅方向Wにおいて相対する一対の側面である第3および第4側面と、高さ方向Hにおいて相対する一対の主面とを有している。図2、図4および図5に示されるように、一対の主面のうちの一方である上面21aが、コンデンサ素子10に対向しており、一対の主面のうちの他方である下面21bが、複合電子部品1Aが実装される配線基板(不図示)と対向する面となる。配線基板上において隣に実装される別の電子部品と第2電子素子とが接触することを防止するためには、基部21の長さ方向Lの寸法を第2電子素子の長さ方向Lの寸法よりも大きくすることが好ましく、また、基部21の幅方向Wの寸法を第2電子素子の幅方向Lの寸法よりも大きくすることも好ましい。
The base 21 faces the first and second side surfaces, which are a pair of side surfaces facing each other in the length direction L, and the third and fourth side surfaces, which are a pair of side surfaces facing each other in the width direction W, in the height direction H. It has a pair of main surfaces. As shown in FIGS. 2, 4 and 5, one of the pair of main surfaces, the
図2および図3に示されるように、抵抗体22は、基部21の上面21aの所定位置に設けられており、高さ方向Hに沿って平面視された場合に、たとえば矩形または円形の膜形状を有している。抵抗体22としては、たとえば金属皮膜、酸化金属皮膜、または酸化金属皮膜とガラスとの混合物であるメタルグレーズ被膜等が利用できる。
As shown in FIGS. 2 and 3, the
保護膜23は、基部21の上面21a上において抵抗体22の少なくとも一部を覆っており、たとえばガラス材料や樹脂材料等からなる絶縁性の膜で構成されている。ここで、保護膜23は、抵抗体22が露出されることがないように、抵抗体22を完全に覆っていることが好ましい。
The
第1および第2上面導体24A、24Bは、基部21の上面21aに設けられており、矩形状の導電層にて構成されている。第1および第2上面導体24A、24Bの長さ方向Lの寸法は、たとえば0.125[mm]である。第1および第2上面導体24A、24Bは、長さ方向Lにおいて、たとえば0.36[mm]の距離で互いに離隔しており、基部21の上面21aの長さ方向Lにおける両端部近傍に配置されている。第1上面導体24Aは、第1側面、第3側面および第4側面から所定の間隔、たとえば0.025[mm]の距離で離れている。また、第2上面導体24Bは、第2側面、第3側面および第4側面から所定の間隔、たとえば0.025[mm]の距離で離れている。基部21の第1および第2上面導体24A、24Bは、含有する金属成分のうち重量比で最大の金属成分がAgであるAg層、または含有する金属成分のうち重量比で最大の金属成分がCuであるCu層を含んでいる。
The first and second
第3および第4上面導体24C、24Dは、基部21の上面21aに設けられており、矩形状の導電層にて構成されている。第3および第4上面導体24C、24Dは、長さ方向Lにおいて、第1上面導体24Aが設けられた領域と第2上面導体24Bが設けられた領域との間に位置している。また、第3および第4上面導体24C、24Dは、幅方向Wにおいて互いに離隔しており、基部21の上面21aの幅方向Wにおける両端部近傍に配置されている。ここで、第3および第4上面導体24C、24Dは、長さ方向Lにおいて互いに離隔して配置されていてもよい。
The third and fourth
第3および第4上面導体24C、24Dは、含有する金属成分のうち重量比で最大の金属成分がAgであるAg層、または含有する金属成分のうち重量比で最大の金属成分がCuであるCu層を含んでいる。
In the third and fourth
第1および第2下面導体25A、25Bは、基部21の下面21bに設けられており、矩形状の導電層にて構成されている。第1および第2下面導体25A、25Bは、長さ方向Lにおいて互いに離隔しており、基部21の下面21bの長さ方向Lにおける両端部近傍に配置されている。第1下面導体25Aは、基部21を挟んで第1上面導体24Aと相対し、第1側面、第3側面および第4側面から所定の間隔で離れている。また、第2下面導体25Bは、基部21を挟んで第2上面導体24Bと相対し、第2側面、第3側面および第4側面から所定の間隔で離れている。
The first and second
第3および第4下面導体25C、25Dは、基部21の下面21bに設けられており、矩形状の導電層にて構成されている。第3および第4下面導体25C、25Dは、長さ方向Lにおいて、第1下面導体25Aが設けられた領域と第2下面導体25Bが設けられた領域との間に位置している。また、第3および第4下面導体25C、25Dは、幅方向Wにおいて互いに離隔しており、基部21の下面21bの幅方向Wにおける両端部近傍に配置されている。
The third and fourth
第1および第2接続導体26A、26Bは、基部21を高さ方向Hに沿って貫通する第1および第2ビア導体26A、26Bであり、高さ方向Hに沿って平面視された場合に、略円形状を有している。第1ビア導体26Aは、高さ方向Hに沿って平面視された場合に、第1上面導体24Aおよび第1下面導体25Aに重なっており、第1上面導体24Aと第1下面導体25Aとを接続している。第2ビア導体26Bは、高さ方向Hに沿って平面視された場合に、第2上面導体24Bおよび第2下面導体25Bに重なっており、第2上面導体24Bと第2下面導体25Bとを接続している。
The first and second connecting
第3および第4接続導体26C、26Dは、基部21を高さ方向Hに沿って貫通する第3および第4ビア導体26C、26Dであり、高さ方向Hに沿って平面視された場合に、略円形状を有している。第3ビア導体26Cは、高さ方向Hに沿って平面視された場合に、第3上面導体24Cおよび第3下面導体25Cに重なっており、第3上面導体24Cと第3下面導体25Cとを接続している。第4ビア導体26Dは、高さ方向Hに沿って平面視された場合に、第4上面導体24Dおよび第4下面導体25Dに重なっており、第4上面導体24Dと第4下面導体25Dとを接続している。
The third and fourth connecting
なお、第1から第4接続導体26A〜26Dは、基部21の側面に設けられていてもよい。
The first to fourth connecting
上述した抵抗体22は、長さ方向Lにおいて第1上面導体24Aが設けられた領域と第2上面導体24Bが設けられた領域との間に位置しており、高さ方向Hから平面視された場合に、抵抗体22の幅方向Wにおける一端が第3上面導体24Cの一部と重なっているとともに、他端が第4上面導体24Dの一部と重なっている。これにより、第3および第4上面導体24C、24Dが、抵抗体22に接続されることになる。
The
抵抗素子20Aとコンデンサ素子10とが物理的に干渉することを防止するためには、抵抗体22の長さ方向Lにおける寸法を、コンデンサ素子10の第1外部電極14Aと第2外部電極14Bとの間隔よりも小さくすることが好ましい。
In order to prevent the
また、他の導電性部材との接触を防ぐためには、図示されるように、上述した保護膜23は、抵抗体22のみならず、第3および第4上面導体24C、24Dをも覆うことが好ましい。
Further, in order to prevent contact with other conductive members, as shown in the figure, the
なお、抵抗素子20Aの大きさは、特に制限されるものではないが、一例としては、その長さ方向Lの寸法が0.66[mm]であり、その幅方向Wの寸法が0.36[mm]であり、その高さ方向Hの寸法が0.14[mm]である。
The size of the
なお、抵抗素子20Aは、第4上面導体24Dを含まず、基部の上面に第1から第3上面導体24A〜24Cのみを有してもよい。この場合、抵抗体22は、第4上面導体24Dに代えて、第1上面導体24Aまたは第2上面導体24Bに接続される。また、この場合、抵抗素子20Aは、第4下面導体25Dおよび第4ビア導体26Dを含まなくてもよい。
The
図5(B)に示されるように、第1および第2上面導体24A、24Bは、いずれも下地導電層24a、被覆導電層24bおよび被覆導電層24cを含む複数の導電層にて構成されている。図5(B)においては、第1上面導体24Aのみが示されている。ここで、下地導電層24aは、Agペーストを焼き付けることで形成された焼結金属層としてのAg層にて構成されており、被覆導電層24b、24cは、それぞれめっき層としてのNi層およびこれを覆うめっき層としてのAu層にて構成されている。
As shown in FIG. 5B, the first and second
一方、第3および第4上面導体24C、24Dは、製造の容易化の観点から、第1および第2上面導体24A、24Bの下地導電層24aと同時に形成されることが好ましい。その場合には、第3および第4上面導体24C、24Dは、Agペーストを焼き付けることで形成された焼結金属層としてのAg層で構成することが好ましい。
On the other hand, the third and fourth
また、第1から第4下面導体25A〜25Dは、製造の容易化の観点からは、第1および第2上面導体24A、24Bと同様の方法にて形成することが好ましい。その場合には、図5(B)に示されるように、第1から第4下面導体25A〜25Dは、Agペーストを焼き付けることで形成された焼結金属層としてのAg層である下地導電層25aと、めっき層としてのNi層である被覆導電層25bおよびこれを覆うめっき層としてのAu層である被覆導電層25cとからなる複数の導電層にて構成されることになる。図5(B)においては、第1下面導体25Aのみが示されている。
Further, the first to fourth
さらに、第1から第4ビア導体26A〜26Dは、製造の容易化の観点から、第1および第2上面導体24A、24Bの下地導電層24a、ならびに第3および第4上面導体24C、24D、または、第1から第4下面導体25A〜25Dの下地導電層25aと同様の方法にて形成することが好ましい。すなわち、第1から第4ビア導体26A〜26Dは、Agペーストを焼き付けることで形成された焼結金属層にて構成されることが好ましい。
Further, the first to fourth via
ここで、第1から第4上面導体24A〜24D、および第1から第4下面導体25A〜25Dが、いずれも焼結金属層としてのAg層を含んでいる理由は、上面導体および下面導体における導電性を十分に得るためである。また、第1および第2上面導体24A、24Bならびに第1から第4下面導体25A〜25Dの最外部が、いずれも被覆導電層としてのAu層にて構成されている理由は、上面導体および下面導体とこれに接合される接合材との間の電気的および機械的な接続信頼性を十分に得るためである。
Here, the reason why the first to fourth
図1、図2および図5に示されるように、コンデンサ素子10と抵抗素子20Aとは、上述した第1および第2接合材31、32を介して接合されている。具体的には、コンデンサ素子10が、高さ方向Hにおいて抵抗素子20Aの上面21a側に配置されて実装されることにより、コンデンサ本体11の下面11aと基部21の上面21aとが、高さ方向Hにおいて対向している。そして、コンデンサ素子10の第1外部電極14Aと抵抗素子20Aの第1上面導体24Aとが第1接合材31を介して接合され、第2外部電極14Bと第2上面導体24Bとが、第2接合材32を介して接合されている。
As shown in FIGS. 1, 2 and 5, the
第1および第2接合材31、32としては、たとえば半田や導電性接着剤等が利用できるが、特に半田が用いられることが好ましい。一般的な半田として、Snが金属重量比で96.5[%]、Agが金属重量比で3[%]、Cuが金属重量比で0.5[%]含有する半田(Sn−3Ag−0.5Cuの三元系の半田)が用いられる。さらに、複合電子部品1Aの配線基板への実装時において、コンデンサ素子10と抵抗素子20Aとを接合する半田が再溶融することを避けるために、第1および第2接合材31、32としては、いわゆる高温半田が用いられることが好ましい。高温半田には、たとえば、Snを金属の主成分としてBi、Au、Zn、AlまたはSbが添加された半田がある。
As the first and
これにより、第1外部電極14Aは、第1上面導体24Aと第1ビア導体26Aを通じて第1下面電極25Aに電気的に接続される。第2外部電極14Bは、第2上面導体24Bと第2ビア導体26Bを通じて第2下面導体25Bに電気的に接続される。したがって、第1および第2上面導体24A、25Bならびに第1および第2ビア導体26A、26Bは、コンデンサ素子10の中継導体として機能する。第1および第2下面導体25A、25Bは、コンデンサ素子10の配線基板への接続端子として機能する。
As a result, the first
一方、抵抗素子20Aに設けられた抵抗体22は、上述したように抵抗素子20Aの第3および第4上面導体24C、24Dに電気的に接続されている。第3上面導体24Cは、第3ビア導体26Cを通じて第3下面導体25Cに電気的に接続されている。第4上面導体24Dは、第4ビア導体26Dを通じて第4下面導体25Dに電気的に接続されている。したがって、第3および第4上面導体24C、24Dならびに第3および第4ビア導体26C、26Dは、抵抗体22の中継導体として機能する。第3および第4下面導体25C、25Dは、抵抗素子20Aの配線基板への接続端子として機能する。
On the other hand, the
ここで、図5(B)に示されるように、本実施の形態に係る複合電子部品1Aでは、上述したように、第1および第2上面導体24A、24Bが、それぞれ下地導電層24aとしてのAg層と被覆導電層24bとしてのNi層および被覆導電層24cとしてのAu層との複数の層にて構成されている。また、下地導電層24aとしてのAg層は、その上面が被覆導電層24b、24cによって覆われていることに加え、その側面(これら側面には、長さ方向Lに交差する一対の側面および幅方向Wに交差する一対の側面が含まれる)も被覆導電層24b、24cによって覆われている。図5(B)においては、第1上面導体24Aの下地導電層24aのうちの、幅方向Wに交差する一対の側面のうちの一方の側面24a1が、被覆導電層24b、24cによって覆われている様子が示されている。
Here, as shown in FIG. 5B, in the composite
本実施の形態に係る複合電子部品1Aでは、Ag層からなる下地導電層24aの側面が、AgおよびCuを含まない保護金属膜としての被覆導電層24b、24cによって覆われているため、当該Ag層からなる下地導電層24aが外部に露出しない。そのため、第1および第2上面導体24A、24Bに含まれるAg層に起因したイオンマイグレーションの問題の発生を低減することができ、上面導体同士の絶縁抵抗の低下が抑制される。したがって、本実施の形態に係る複合電子部品1Aは、高い信頼性を有する。
In the composite
なお、本実施の形態に係る複合電子部品1Aでは、第3および第4上面導体24C、24Dが、上述した第1および第2上面導体24A、24Bの構成とは異なり、Ag層からなる下地導電層24aのみによって構成されている。これは、第3および第4上面導体24C、24Dが、被覆導電層に代えて、抵抗体22を覆う保護膜23によって覆われているためであり、当該保護膜23によって覆われることでイオンマイグレーションの発生が低減できるためである。しかしながら、保護膜23によってこれら第3および第4上面導体24C、24Dそれぞれの全部または一部を覆わない場合には、上述した第1および第2上面導体24A、24Bと同様に、第3および第4上面導体24C、24DのAg層が、被覆導電層24b、24cで覆われることが好ましい。
In the composite
また、本実施の形態に係る複合電子部品1Aにあっては、第1および第2上面導体24A、24BのそれぞれにおけるAg層からなる下地導電層24aの側面を覆う被覆導電層24b、24cが、さらに第1および第2接合材31、32によって覆われている。ここで、当該第1および第2接合材31、32は、上述したようにSn−3Ag−0.5Cuの三元系の半田にて構成されているため、イオンマイグレーションを発生させ易い導電材料であるAgおよびCuを含んでいる。しかしながら、当該第1および第2接合材31、32中に含まれるAgおよびCuは、いずれも非常に微量であるため、Ag層からなる下地導電層24aが露出している場合に比べて発生し得るイオンマイグレーションの程度は大幅に低い。したがって、このように構成した場合にも、高い信頼性を確保することが可能である。
Further, in the composite
ここで、第1および第2上面導体24A、24BのそれぞれにおけるAg層からなる下地導電層24aの側面を覆う被覆導電層24b、24cが、さらに第1および第2接合材31、32によって覆われている場合には、抵抗素子20Aに対するコンデンサ素子10の実装時において、いわゆるセルフアライメント効果が得やすくなる。なお、その詳細については、後述する。
Here, the coated
また、本実施の形態に係る複合電子部品1Aでは、第1から第4下面導体25A〜25Dにおいても、上述した第1および第2上面導体24A、24Bに準じた構成が採用されている。このように構成することにより、これら下面導体同士の絶縁抵抗の低下も抑制することができる。
Further, in the composite
図6は、図1に示される複合電子部品1Aの製造工程を説明するためのフローチャートであり、図7から図13は、図6に示されるフローチャートにおける所定の各工程を説明するための模式的な平面図および模式的な側面図である。以下、これら図6から図13を参照して、本実施の形態に係る複合電子部品1Aの製造工程について説明する。なお、図7から図10は、製造過程の仕掛品をセラミックグリーンシート121の上面121a側から見た模式的な図であり、また、図11および図12は、製造過程の仕掛品を抵抗素子20Aの基部21の上面21a側から見た模式的な図である。また、図13(A)は、製造過程の仕掛品を幅方向Wに沿って見た模式的な図であり、図13(B)は、製造過程の仕掛品を長さ方向Lに沿って見た模式的な図である。
6 is a flowchart for explaining the manufacturing process of the composite
以下で説明する製造の各工程のうち、抵抗素子20Aの製作工程は、複数の抵抗素子20Aが一体化された集合体を予め準備し、集合体を切り離すことで複数の抵抗素子20Aを一括して製作する場合のものである。なお、抵抗素子20Aの製作フローは、当然にこれに限定されるものではない。集合体は、図10等に示されるマザー基板121’に相当する。
Of the manufacturing steps described below, in the manufacturing process of the
図6に示されるように、まず、セラミックグリーンシートが製作される(工程ST1)。具体的には、セラミック粉末、バインダ樹脂および溶媒等が所定の配合比率で混合されることでセラミックスラリーが調製される。このセラミックスラリーがキャリアフィルム上においてダイコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、スクリーン印刷、またはスプレーコーティング等によってシート状に塗布されることにより、セラミックグリーンシートが形成される。形成されたセラミックグリーンシートは、抵抗素子20Aの集合体であるマザー基板121’となるものであり、また、抵抗素子20Aの基部21となるものである。
As shown in FIG. 6, first, a ceramic green sheet is manufactured (process ST1). Specifically, a ceramic slurry is prepared by mixing a ceramic powder, a binder resin, a solvent and the like in a predetermined blending ratio. A ceramic green sheet is formed by applying this ceramic slurry on a carrier film in the form of a sheet by die coating, gravure coating, microgravure coating, screen printing, spray coating, or the like. The formed ceramic green sheet serves as a mother substrate 121'which is an aggregate of the
次に、孔あけ加工が施される(工程ST2)。具体的には、図7に示されるように、セラミックグリーンシート121に複数の貫通孔128が形成される。ここで、当該貫通孔128の形成は、第1から第4ビア導体26A〜26Dを形成するための前処理となる。
Next, drilling is performed (process ST2). Specifically, as shown in FIG. 7, a plurality of through
図6に戻り、次に、導電性ペーストが印刷される(工程ST3)。具体的には、図8に示されるように、セラミックグリーンシート121の上面121aおよび下面に、導電性ペーストとしてAgペーストがスクリーン印刷法またはグラビア印刷法等によって印刷される。これにより、セラミックグリーンシート121に設けられた貫通孔128が、第1から第4ビア導体26A〜26DとなるAgペーストからなる導電パターン126によって埋め込まれるとともに、セラミックグリーンシート121の上面121aに第1から第4上面導体24A〜24DとなるAgペーストからなる所定形状の導電パターン124aが形成され、さらに、セラミックグリーンシート121の下面に第1から第4下面導体25A〜25DとなるAgペーストからなる所定形状の導電パターンが形成されることになる。
Returning to FIG. 6, the conductive paste is then printed (step ST3). Specifically, as shown in FIG. 8, Ag paste is printed as a conductive paste on the
図6に戻り、次に、焼成が行なわれる(工程ST4)。具体的には、ここまでの仕掛品が所定の温度に加熱され、これによりセラミックグリーンシート121および当該セラミックグリーンシート121上に印刷されたAgペーストからなる導電パターン124aおよび126等の焼結処理が行なわれる。その結果、セラミックグリーンシート121が硬質のマザー基板121’に変化し、導電パターン124aおよび126等が焼結金属層に変化する。これにより、図9等に示されるように、マザー基板121’には、第1および第2上面導体24A、24Bならびに第1から第4下面導体25A〜25Dの一部となる下地導電層24a、25aと、第3および第4上面導体24C、24Dと、第1から第4ビア導体26A〜26Dとが形成されることになる。
Returning to FIG. 6, firing is then performed (step ST4). Specifically, the work-in-process up to this point is heated to a predetermined temperature, whereby the ceramic
図6に戻り、次に、抵抗体ペーストが印刷される(工程ST5)。具体的には、図9に示されるように、マザー基板121’の上面121a’に、抵抗体ペーストがスクリーン印刷法またはグラビア印刷法等を用いて印刷される。これにより、マザー基板121’の上面121a’に抵抗体ペーストからなる抵抗体パターン122が形成されることになる。なお、その際、第3および第4上面導体24C、24Dの一部に当該抵抗体パターン122が重なるように印刷が行なわれる。
Returning to FIG. 6, the resistor paste is then printed (step ST5). Specifically, as shown in FIG. 9, the resistor paste is printed on the upper surface 121a'of the mother substrate 121'using a screen printing method, a gravure printing method, or the like. As a result, the
図6に戻り、次に、抵抗体ペーストが焼き付けられる(工程ST6)。具体的には、ここまでの仕掛品が所定の温度に加熱され、これにより、図10に示されるように、マザー基板121’上に印刷された抵抗体ペーストの焼結処理が行われる。その結果、抵抗体パターン122がマザー基板121’に焼き付けられ、これによりマザー基板121’には、抵抗体22が形成されることになる。
Returning to FIG. 6, the resistor paste is then baked (step ST6). Specifically, the work-in-process up to this point is heated to a predetermined temperature, whereby, as shown in FIG. 10, the resistor paste printed on the mother substrate 121'is sintered. As a result, the
図6に戻り、次に、抵抗体のトリミングが行なわれる(工程ST7)。具体的には、抵抗体22にレーザー光が照射されてその一部が除去されることにより、当該抵抗体22の抵抗値の調整が行なわれる。
Returning to FIG. 6, next, trimming of the resistor is performed (step ST7). Specifically, the resistance value of the
次に、保護膜が塗布され(工程ST8)、次いで保護膜の硬化処理が行なわれる(工程ST9)。具体的には、図10に示されるように、抵抗体22とこの抵抗体22に接続された第3および第4上面導体24C、24Dとを覆うように保護膜23が塗布される。その後、ここまでの仕掛品が所定の温度に加熱されることにより、当該保護膜23がマザー基板121’に付着した状態で硬化することになる。
Next, the protective film is applied (step ST8), and then the protective film is cured (step ST9). Specifically, as shown in FIG. 10, the
図6に戻り、次に、めっき処理が施される(工程ST10)。具体的には、ここまでの仕掛品がNiめっき浴およびAuめっき浴に順次浸漬されることにより、マザー基板121’上において露出する下地導電層24a、25aのめっき処理が実施される。これにより、当該下地導電層24a、25aがNi層である被覆導電層24b、25bによって覆われ、被覆導電層24b、25bがAu層である被覆導電層24c、25cによって覆われる。これにより、第1および第2上面導体24A、24Bならびに第1から第4下面導体25A〜25Dが形成されることになる。なお、その際、下地導電層24aの側面も、これがNi層およびAu層である被覆導電層24b、24cによって覆われる。
Returning to FIG. 6, the plating process is then performed (step ST10). Specifically, by sequentially immersing the work-in-process so far in the Ni plating bath and the Au plating bath, the plating treatment of the underlying
次に、マザー基板121’が切断される(工程ST11)。具体的には、図11に示されるように、押し切りやダイシングによってマザー基板121’が所定の切断ラインに沿って切断されることにより、個々の抵抗素子20Aが切り出される。以上により、抵抗素子20Aの製作が完了する。
Next, the mother substrate 121'is cut (step ST11). Specifically, as shown in FIG. 11, the mother substrate 121'is cut along a predetermined cutting line by push-cutting or dicing, so that each
そして、図6に戻り、接合材が印刷され(工程ST12)、次いでコンデンサ素子が載置される(工程ST13)。具体的には、図12および図13に示されるように、第1および第2上面導体24A、24Bを覆うように半田ペーストからなる第1および第2接合材31、32がそれぞれスクリーン印刷法等によって印刷され、当該第1および第2接合材31、32上にそれぞれ第1および第2外部電極14A、14Bが配置されるようにコンデンサ素子10が載置される。
Then, returning to FIG. 6, the bonding material is printed (process ST12), and then the capacitor element is placed (process ST13). Specifically, as shown in FIGS. 12 and 13, the first and
ここで、図13(A)に示されるように、長さ方向Lにおける第1および第2外部電極14A、14Bの寸法をそれぞれLeとし、長さ方向Lにおける第1および第2上面導体24A、24Bの寸法をそれぞれLlとした場合には、これらLeおよびLlが、Ll<Leの条件を満たしていることが好ましい。つまり、長さ方向Lにおいて、第1および第2上面導体24A、24Bは、第1外部電極14Aの外端および第2外部電極14Bの外端の間に位置することが好ましい。すなわち、第1上面導体24Aの外端と第2外部電極14Bの外端との間の距離は、第1外部電極14Aの外端と第2外部電極14Bの外端との間の距離よりも小さいことが好ましく、また、第2上面導体24Bの外端と第1外部電極14Aの外端との間の距離は、第2外部電極14Bの外端と第1外部電極14Aの外端との間の距離よりも小さいことが好ましい。また、高さ方向Hから平面視されて、第1上面導体24Aの長さ方向Lの外端は、第1外部電極14Aと重なっていることが好ましく、また、第2上面導体24Bの長さ方向Lの外端は、第2外部電極14Bと重なっていることが好ましい。
Here, as shown in FIG. 13A, the dimensions of the first and second
なお、長さ方向Lにおける第1外部電極14Aの外端とは、長さ方向Lにおける第1外部電極14Aの両端のうち、第2外部電極14Bから遠い方の端を意味する。長さ方向Lにおける第2外部電極14Bの外端とは、長さ方向Lにおける第2外部電極14Bの両端のうち、第1外部電極14Aから遠い方の端を意味する。長さ方向Lにおける第1上面導体24Aの外端とは、長さ方向Lにおける第1上面導体24Aの両端のうち、第2上面導体24Bから遠い方の端を意味する。長さ方向Lにおける第2上面導体24Bの外端とは、長さ方向Lにおける第2上面導体24Bの両端のうち、第1上面導体24Bから遠い方の端を意味する。
The outer end of the first
また、図13(B)に示されるように、幅方向Wにおける第1および第2外部電極14A、14Bの寸法をそれぞれWeとし、幅方向Wにおける第1および第2上面導体24A、24Bの寸法をそれぞれWlとした場合には、これらWeおよびWlが、Wl<Weの条件を満たしていることが好ましい。つまり、幅方向Wにおいて、第1上面導体24Aが、第1外部電極14Aの両端の間に位置することが好ましく、また、第2上面導体24Bが、第2外部電極14Bの両端の間に位置することが好ましい。すなわち、幅方向において、第1上面導体24Aの一方端と他方端との間の距離Wlは、第1外部電極14Aの一方端と第1上面導体24Aの他方端との間の距離よりも小さいことが好ましく、第2上面導体24Bの一方端と他方端との間の距離Wlは、第2外部電極14Bの一方端と第2上面導体24Bの他方端との間の距離よりも小さいことが好ましい。また、高さ方向Hから平面視されて、第1上面導体24Aの幅方向Wの両端は、それぞれ第1外部電極14Aと重なっていることが好ましく、また、第2上面導体24Bの幅方向Wの両端は、それぞれ第2外部電極14Bと重なっていることが好ましい。
Further, as shown in FIG. 13B, the dimensions of the first and second
すなわち、高さ方向Hに直交する任意の方向のいずれにおいても、第1および第2上面導体24A、24Bの大きさが、第1および第2外部電極14A、14Bの大きさよりも小さいことが好ましい(以下、この好ましい条件を「第1条件」と称す)。本実施の形態においては、高さ方向Hから平面視されて、第1上面導体24Aの全てが、第1外部電極14Aと重なっており、第2上面導体24Bの全てが、第2外部電極14Bに重なっている。
That is, it is preferable that the sizes of the first and second
一方、図13(A)に示されるように、長さ方向Lにおける第1および第2接合材31、32の塗布領域の長さをそれぞれLsとした場合には、当該Lsと上記Llとが、Ll<Lsの条件を満たしていることが好ましい。また、図13(B)に示されるように、幅方向Wにおける第1および第2接合材31、32の塗布領域の長さをそれぞれWsとした場合には、当該Wsと上記Wlとが、Wl<Wsの条件を満たしていることが好ましい。すなわち、第1および第2接合材31、32は、それぞれ第1および第2上面導体24A、24Bからはみ出すように塗布されることが好ましい(以下、この好ましい条件を「第2条件」と称す)。
On the other hand, as shown in FIG. 13A, when the lengths of the coated regions of the first and
条件1および/または条件2を満たすことにより、後述するリフローの際に、すなわち抵抗素子20Aに対するコンデンサ素子10の実装時おいて、いわゆるセルフアライメント効果が得やすくなる。ここで、セルフアライメント効果とは、半田付けに際して溶融した半田にその表面積が小さくなるような力(すなわち表面張力)が作用することにより、溶融した半田によって支持された実装の対象となる電子素子が移動することでその位置決めが行なわれる効果のことであり、このセルフアライメント効果が得られることで実装時の位置ずれが防止できることになる。
By satisfying the
ここで、上記第1条件を満たすことにより、平面視した状態においてコンデンサ素子10よりも第1および第2上面導体24A、24Bの側面が内側に位置することになる。そして、第1および第2接合材31、32としての半田の溶融時において当該第1および第2上面導体24A、24Bの側面付近に位置する半田の表面張力が、その上部に位置するコンデンサ素子10を内側に向けて引っ張る方向に作用することになる。このコンデンサ素子10を内側に向けて引っ張る力は、上記第1および第2上面導体24A、24Bの側面付近に半田がない場合に比べて非常に大きい。したがって、上記第2条件をさらに満たすことにより、上記第1および第2上面導体24A、24Bの側面付近に半田が位置することになるため、コンデンサ素子10を内側に向けて引っ張る力がより強く得られることになり、その結果、セルフアライメント効果がより確実に得られるようになる。
Here, by satisfying the first condition, the side surfaces of the first and second
なお、上述したセルフアライメント効果は、第1および第2上面導体24A、24Bの厚み、すなわち、抵抗素子20Aの基部21の上面21aを基準とした第1および第2上面導体24A、24Bの高さが5[μm]以上である場合に、より確実に得られることになるため、当該第1および第2上面導体24A、24Bの厚みは、好ましくは5[μm]以上とされる。
The self-alignment effect described above is the thickness of the first and second
図6に戻り、次に、リフローが行なわれる(工程ST14)。具体的には、ここまでの仕掛品がリフロー炉等に投入されることによって半田付けが行なわれ、第1および第2上面導体24A、24Bと第1および第2外部電極14A、14Bとがそれぞれ第1および第2接合材31、32によって接合される。これにより、コンデンサ素子10が抵抗素子20Aに対して実装されることになり、上述した本実施の形態に係る複合電子部品1Aの製造が完了する。
Returning to FIG. 6, reflow is performed next (step ST14). Specifically, the work-in-process products up to this point are soldered by being put into a reflow furnace or the like, and the first and second
なお、以上において説明した複合電子部品の製造フローは一例に過ぎず、当然に他の製造フローに基づいて本実施の形態に係る複合電子部品1Aを製造することも可能である。
The manufacturing flow of the composite electronic component described above is only an example, and it is naturally possible to manufacture the composite
(実施の形態2)
図14は、本発明の実施の形態2に係る複合電子部品1Bの要部を拡大した模式的な断面図であり、図15(A)から図15(D)は、図14に示される抵抗素子20Bの製作フローにおける所定の各工程を説明するための模式的な断面図である。以下、これら図14および図15を参照して、本実施の形態に係る複合電子部品1Bの構成ならびにこの複合電子部品1Bに具備された抵抗素子20Bの製作フローについて説明する。
(Embodiment 2)
14 is a schematic cross-sectional view of an enlarged main part of the composite
図14に示されるように、複合電子部品1Bは、実施の形態1に係る複合電子部品1Aの抵抗素子20Aとは異なる構成の抵抗素子20Bを備えている。そして、抵抗素子20Bに設けられた第1および第2上面導体24A、24Bに対する第1および第2接合材31、32の接合位置が、複合電子部品1Aと異なる。
As shown in FIG. 14, the composite
具体的には、第1および第2上面導体24A、24Bは、Ag層である下地導電層24aと、Ni層である被覆導電層24bおよびこれを覆うAu層である被覆導電層24cとからなる複数の導電層にて構成されている。Ag層である下地導電層24aは、その上面が被覆導電層24b、24cによって覆われているのみではなく、その側面24a1も被覆導電層24b、24cによって覆われている。図14においては、第1上面導体24Aのみが示されている。
Specifically, the first and second
一方で、第1および第2上面導体24A、24Bのそれぞれにおいて、Ag層である下地導電層24aの側面24a1を覆う被覆導電層24b、24cは、第1および第2接合材31、32によって覆われておらず、下地導電層24aの上面を覆う被覆導電層24b、24cのみが、第1および第2接合材31、32によって覆われている。図14においては、第1上面導体24Aの下地導電層24aの側面24a1が、被覆導電層24b、24cによってのみ覆われている様子が示されている。
On the other hand, in each of the first and second
このように構成した場合にも、Ag層である下地導電層24aの側面24a1がAgおよびCuを含まない保護金属膜としての被覆導電層24b、24cによって覆われているため、上述した実施の形態1の場合と同様に、上面導体間の絶縁抵抗の低下を抑制できることになる。
Even in this configuration, the side surface 24a1 of the underlying
また、本実施の形態に係る複合電子部品1Bにあっては、上述した実施の形態1の場合とは異なり、第1および第2上面導体24A、24Bの大きさが、高さ方向Hに直交する方向において第1および第2外部電極14A、14Bよりも大きく構成されている。このように構成した場合には、上述したセルフアライメント効果が得られる程度が若干低下することにはなるものの、上面導体同士の絶縁抵抗の低下を効果的に抑制できる点については、上述した実施の形態1に比べて遜色ない効果を得ることができる。
Further, in the composite
上記構成の抵抗素子20Bは、たとえば以下の製作フローによって容易に製作することができる。なお、当該抵抗素子20Bの製作フローの説明は、上述した抵抗素子20Aの製作フローの説明に基本的に準じており、以下においては、特に相違点に着目してその説明を行なう。
The
図15(A)に示されるように、まず、セラミックグリーンシート121の上面121aおよび下面121bにAgペーストからなる所定形状の導電パターン124a、125aがそれぞれ印刷された後、仕掛品の焼成が行なわれる。その後、抵抗体ペーストの印刷および焼き付け、トリミング、保護膜の塗布および硬化処理が順次実施される。
As shown in FIG. 15A, first,
次に、図15(B)に示されるように、下地導電層24a、25aが形成されたマザー基板121’の所定位置に向けて、上面121a’側および下面121b’側からマザー基板121’に達するようにそれぞれレーザー光が照射される。これにより、マザー基板121’の上面121a’側および下面121b’側のそれぞれに断面が略V字状の溝部129aが形成されることになり、下地導電層24a、25aが溝部129aによって分断されることになる。
Next, as shown in FIG. 15B, from the upper surface 121a'side and the
次に、図15(C)に示されるように、溝部129aが形成されたマザー基板121’対して図中に示される矢印AR方向に沿って力が加えられることにより、マザー基板121’の切断が行なわれる。これにより、マザー基板121’は、個片化されることになる。
Next, as shown in FIG. 15 (C), a force is applied to the mother substrate 121'in which the
次に、図15(D)に示されるように、切り出された個々の仕掛品に対してめっき処理が施され、下地導電層24aを覆うようにめっき層としてのNi層である被覆導電層24bおよびめっき層としてのAu層である被覆導電層24cが形成され、下地導電層25aを覆うようにめっき層としてのNi層である被覆導電層25bおよびめっき層としてのAu層である被覆導電層25cが形成される。これにより、下地導電層24aの側面24a1が被覆導電層24b、24cによって覆われてなる第1および第2上面導体24A、24Bが形成されることになる。以上により、抵抗素子20Bの製作が完了する。
Next, as shown in FIG. 15 (D), the cut-out individual in-process products are plated, and the coated
なお、マザー基板121’に溝部129aを形成した後であって、マザー基板121’を切断して個片化する前に、下地導電層24a、24bにめっき層を形成しても、同じ構成の抵抗素子20Bが得られる。
Even if the plating layers are formed on the underlying
(実施の形態3)
図16は、本発明の実施の形態3に係る複合電子部品1Cの要部を拡大した模式的な断面図であり、図17(A)から図17(D)は、図16に示される抵抗素子20Cの製作フローにおける所定の各工程を説明するための模式的な断面図である。以下、これら図16および図17を参照して、本実施の形態に係る複合電子部品1Cの構成ならびにこの複合電子部品1Cに具備された抵抗素子20Cの製作フローについて説明する。
(Embodiment 3)
16 is a schematic cross-sectional view of an enlarged main part of the composite
図16に示されるように、複合電子部品1Cは、実施の形態1に係る複合電子部品1Aの抵抗素子20CAは異なる構成の抵抗素子20Cを備えている。
As shown in FIG. 16, in the composite
具体的には、第1および第2上面導体24A、24Bは、Ag層である下地導電層24aと、Ni層である被覆導電層24bおよびこれを覆うAu層である被覆導電層24cとからなる複数の導電層にて構成されている。Ag層である下地導電層24aは、その上面のみが被覆導電層24b、24cによって覆われており、その側面24a1は、被覆導電層24b、24cによって覆われていない。図16においては、第1上面導体24Aのみが示されている。
Specifically, the first and second
一方で、第1および第2上面導体24A、24Bのそれぞれにおいて、Ag層である下地導電層24aの側面24a1は、第1および第2接合材31、32によって覆われている。図16においては、第1上面導体24Aの下地導電層24aの側面24a1が、第1接合材31によって覆われている様子が示されている。下地導電層24aの側面24a1は、高さ方向Hから見て、第1外部電極14Aと重なり、また、高さ方向Hに対して傾斜している。このため、第1および第2上面導体24A、24Bの下地導電体層24aの側面24a1は、それぞれ第1および第2接合材31、32によって覆われやすい。
On the other hand, in each of the first and second
なお、抵抗素子20Aの大きさは、特に制限されるものではないが、一例としては、その長さ方向Lの寸法が0.60[mm]であり、その幅方向Wの寸法が0.30[mm]であり、その高さ方向Hの寸法が0.14[mm]である。
The size of the
このように構成した場合にも、第1および第2上面導体24A、24Bの下地導電層24aの側面24a1が、それぞれAgおよびCuを殆ど含まない保護金属膜としての第1および第2接合材31、32によって覆われているため、上述した実施の形態1の場合と同様に、上面導体間の絶縁抵抗の低下を抑制できることになる。
Even in this configuration, the first and
上記構成の抵抗素子20Cは、たとえば以下の製作フローによって容易に製作することができる。なお、当該抵抗素子20Cの製作フローの説明は、上述した抵抗素子20Aの製作フローの説明に基本的に準じており、以下においては、特に相違点に着目してその説明を行なう。
The
図17(A)に示されるように、まず、セラミックグリーンシート121の上面121aおよび下面121bにAgペーストからなる所定形状の導電パターン124a、125aがそれぞれ印刷された後、仕掛品の焼成が行なわれる。その後、抵抗体ペーストの印刷および焼き付け、トリミング、保護膜の塗布および硬化処理が順次実施される。
As shown in FIG. 17A, first,
次に、図17(B)に示されるように、ここまでの仕掛品に対してめっき処理が施され、下地導電層24aを覆うようにめっき層としてのNi層である被覆導電層24bおよびめっき層としてのAu層である被覆導電層24cが形成され、下地導電層25aを覆うようにめっき層としてのNi層である被覆導電層25bおよびめっき層としてのAu層である被覆導電層25cが形成される。
Next, as shown in FIG. 17B, the work-in-process products up to this point are plated, and the coated
次に、図17(C)に示されるように、下地導電層24a、25aならびに被覆導電層24b、24c、25b、25cが形成されたマザー基板121’の所定位置に向けて、上面121a’側および下面121b’側からマザー基板121’に達するようにそれぞれレーザー光が照射される。これにより、マザー基板121’の上面121a’側および下面121b’側のそれぞれに断面が略V字状の溝部129bが形成されることになり、下地導電層24a、25aならびに被覆導電層24b、24c、25b、25cが溝部129bによって分断されることになる。
Next, as shown in FIG. 17C, the upper surface 121a'sides toward a predetermined position of the mother substrate 121'in which the underlying
次に、図17(D)に示されるように、溝部129bが形成されたマザー基板121’対して図中に示される矢印AR方向に沿って力が加えられることにより、マザー基板121’の切断が行なわれる。これにより、マザー基板121’は、個片化されることになり、下地導電層24aの側面24a1が被覆導電層24b、24cによって覆われずに露出してなる第1および第2上面導体24A、24Bが形成されることになる。以上により、抵抗素子20Cの製作が完了する。
Next, as shown in FIG. 17 (D), a force is applied to the mother substrate 121'in which the
(実施の形態4)
図18は、本発明の実施の形態4に係る複合電子部品1Dの要部を拡大した模式的な断面図である。以下、この図18を参照して、本実施の形態に係る複合電子部品1Dについて説明する。
(Embodiment 4)
FIG. 18 is a schematic cross-sectional view of an enlarged main part of the composite
図18に示されるように、複合電子部品1Dは、上述した実施の形態1に係る複合電子部品1Aの抵抗素子20Aとは異なる第1および第2上面導体24A、24Bの構成を有する抵抗素子20Dを備えている。そして、抵抗素子20Dの第1および第2上面導体24A、24Bを構成する導電層の材料が、複合電子部品1Aと異なる。
As shown in FIG. 18, the composite
具体的には、第1および第2上面導体24A、24Bは、Cu層である下地導電層24aと、Sn層である被覆導電層24bとからなる複数の導電層にて構成されている。図18においては、第1上面導体24Aのみが示されている。Cu層である下地導電層24aは、たとえばCuペーストを焼き付けることで形成された焼結金属層にて構成され、Sn層である被覆導電層24bは、たとえばめっき層にて構成される。なお、Sn層である被覆導電層24bは、第1および第2接合材31、32として半田を用いた場合に、第1および第2接合材31、32中に拡散することでこれと一体化する。
Specifically, the first and second
その結果、コンデンサ素子10の抵抗素子20Dへの実装後においては、第1および第2上面導体24A、24BのCu層である下地導電層24aは、それぞれ、その上面が第1および第2接合材31、32によって覆われているのみではなく、その側面24a1も第1および第2接合材31、32によって覆われている。図18においては、第1上面導体24Aの下地導電層24aの側面24a1が、第1接合材31によって覆われている様子が示されている。
As a result, after the
このように構成した場合にも、Cu層である下地導電層24aの側面24a1がAgおよびCuを殆ど含まない保護金属膜としての第1および第2接合材31、32によって覆われているため、上述した実施の形態1の場合と同様に、上面導体間の絶縁抵抗の低下を抑制できることになる。
Even in this configuration, the side surface 24a1 of the base
(実施の形態5)
図19は、本発明の実施の形態5に係る複合電子部品1Eの要部を拡大した模式的な断面図である。以下、この図19を参照して、本実施の形態に係る複合電子部品1Eについて説明する。
(Embodiment 5)
FIG. 19 is a schematic cross-sectional view of an enlarged main part of the composite
図19に示されるように、複合電子部品1Eは、上述した実施の形態2に係る複合電子部品1Bの抵抗素子20Bとは異なる第1および第2上面導体24A、24Bの構成を有する抵抗素子20Eを備えている。そして、抵抗素子20Eの第1および第2上面導体24A、24Bを構成する導電層の材料が、複合電子部品1Bと異なり、上述した実施の形態4に係る複合電子部品1Dと同様である。
As shown in FIG. 19, the composite
具体的には、第1および第2上面導体24A、24Bは、Cu層である下地導電層24aと、Sn層である被覆導電層24bとからなる複数の導電層にて構成されている。図19においては、第1上面導体24Aのみが示されている。なお、Sn層である被覆導電層24bの一部は、第1および第2接合材31、32として半田を用いた場合に、第1および第2接合材31、32中に拡散することでこれと一体化する。
Specifically, the first and second
その結果、コンデンサ素子10の抵抗素子20Eへの実装後においては、第1および第2上面導体24A、24BのCu層である下地導電層24aは、その上面が第1および第2接合材31、32によって覆われているのみではなく、その側面24a1が被覆導電層24bによって覆われることになる。図19においては、第1上面導体24Aの下地導電層24aの側面24a1が、被覆導電層24bによって覆われている様子が示されている。
As a result, after the
このように構成した場合にも、Cu層である下地導電層24aの側面24a1がAgおよびCuを含まない保護金属膜としての被覆導電層24bによって覆われているため、上述した実施の形態2の場合と同様に、上面導体間の絶縁抵抗の低下を抑制できることになる。
Even in this configuration, the side surface 24a1 of the underlying
(実施の形態6)
図20は、本発明の実施の形態6に係る複合電子部品1Fの要部を拡大した模式的な断面図である。以下、この図20を参照して、本実施の形態に係る複合電子部品1Fについて説明する。
(Embodiment 6)
FIG. 20 is a schematic cross-sectional view of an enlarged main part of the composite
図20に示されるように、複合電子部品1Fは、上述した実施の形態3に係る複合電子部品1Cの抵抗素子20Cとは異なる第1および第2上面導体24A、24Bの構成を有する抵抗素子20Fを備えている。そして、抵抗素子20Fの第1および第2上面導体24A、24Bを構成する導電層の材料が、複合電子部品1Cと異なり、上述した実施の形態4に係る複合電子部品1Dと同様である。
As shown in FIG. 20, the composite
具体的には、第1および第2上面導体24A、24Bは、Cu層である下地導電層24aと、Sn層である被覆導電層24bとからなる複数の導電層にて構成されている。図20おいては、第1上面導体24Aのみが示されている。なお、Sn層である被覆導電層24bは、第1および第2接合材31、32として半田を用いた場合に、第1および第2接合材31、32中に拡散することでこれと一体化する。
Specifically, the first and second
その結果、コンデンサ素子10の抵抗素子20Fへの実装後においては、第1および第2上面導体24A、24BのCu層である下地導電層24aは、それぞれ、その上面が第1および第2接合材31、32によって覆われているのみではなく、その側面24a1も第1および第2接合材31、32によって覆われている。図20においては、第1上面導体24Aの下地導電層24aの側面24a1が、第1接合材31によって覆われている様子が示されている。
As a result, after the
さらに、実施の形態3と同様、下地導電層24aの側面24a1は、高さ方向Hから見て、第1外部電極14Aと重なり、また、高さ方向Hに対して傾斜している。このため、第1および第2上面導体24A、24Bの下地導電体層24aの側面24a1は、それぞれ第1および第2接合材31、32によって覆われやすい。
Further, as in the third embodiment, the side surface 24a1 of the base
このように構成した場合にも、Cu層である下地導電層24aの側面24a1がAgおよびCuを殆ど含まない保護金属膜としての第1および第2接合材31、32によって覆われているため、上述した実施の形態3の場合と同様に、上面導体間の絶縁抵抗の低下を抑制できることになる。
Even in this configuration, the side surface 24a1 of the base
(実施の形態7)
図21(A)および図21(B)は、本発明の実施の形態7に係る複合電子部品1Gの模式的な断面図であり、図22(A)から図22(C)は、図21に示されるインダクタ素子の模式的な上面図、断面図および下面図である。なお、図21(B)は、図21(A)中に示されるXXIB−XXIB線に沿って本実施の形態に係る複合電子部品1Gが切断された場合の模式的な断面図であり、図22(B)は、図21(A)中に示されるXXIIB−XXIIB線に沿って本実施の形態に係る複合電子部品1Gが切断された場合の模式的な断面図である。以下、これら図21および図22を参照して、本実施の形態に係る複合電子部品1Gについて説明する。
(Embodiment 7)
21 (A) and 21 (B) are schematic cross-sectional views of the composite
図21に示されるように、複合電子部品1Aは、上述した実施の形態1に係る複合電子部品1Aと比較した場合に、基板型の電子素子である第1電子素子が、抵抗素子ではなくインダクタ素子20Gである点において相違している。
As shown in FIG. 21, in the composite
図21および図22に示されるように、インダクタ素子20Gは、絶縁性の基部21と、インダクタ配線28と、第1および第2上面導体24A、24Bと、第1から第4下面導体25A〜25Dと、第1から第4ビア導体26A〜26Dとを有している。
As shown in FIGS. 21 and 22, the
インダクタ配線28は、基部21の内部に埋め込み配線として形成されており、高さ方向Hから平面視された場合に、渦巻き状の形状を有している。インダクタ配線28の外周側端部は、第3ビア導体26Cに接続されており、内周側端部は、第4ビア導体26Dに接続されている。また、第3および第4ビア導体26C、26Dは、いずれもインダクタ配線28から基部21の下面21b側に向けて延びており、基部21の下面21bに設けられた第3および第4下面導体25C、25Dにそれぞれ接続されている。なお、インダクタ配線28は、高さ方向Hに積層された複数のインダクタ配線層を含んでもよい。
The
なお、第1および第2上面導体24A、24B、第1および第2下面導体25A、25Bならびに第1および第2ビア導体26A、26Bの構成は、上述した実施の形態1と同様であり、特に、第1および第2上面導体24A、24Bを構成する導電層の材料および当該第1および第2上面導体24A、24Bと第1および第2接合材31、32の接合構造も、上述した実施の形態1と同様である。
The configurations of the first and second
したがって、このように構成した場合にも、上述した実施の形態1の場合と同様に、上面導体同士に電気的な短絡が発生することが効果的に抑制できることになる。 Therefore, even in such a configuration, it is possible to effectively suppress the occurrence of an electrical short circuit between the upper surface conductors, as in the case of the first embodiment described above.
上述した本発明の実施の形態1から7においては、第1および第2上面導体の側面の全周囲にわたって下地導電層が保護金属膜によって覆われている場合を例示して説明を行なったが、当該側面の全周囲が必ずしも保護金属膜によって覆われている必要はなく、一部のみが保護金属膜によって覆われていてもよい。このように構成した場合にも、上面導体間の絶縁抵抗の低下を抑制できる。
In the above-described
また、本発明の実施の形態1から7においては、基板型の電子素子である第1電子素子の基部としてLTCC基板を利用した場合を例示して説明を行なったが、その場合には、上述したように、第1および第2上面導体が、下地導電層であるAg層と、被覆導電層であるNi層および被覆導電層であるAu層とからなる複数の導電層にて構成されているか、あるいは、下地導電層であるCu層と、被覆導電層であるSn層とからなる複数の導電層にて構成されているか、のいずれかとされていることが好ましい。しかしながら、当然にこれに限定されるものではなく、第1および第2上面導体を、下地導電層であるAg層と、被覆導電層であるNi層および被覆導電層であるSn層とからなる複数の導電層等にて構成してもよい。 Further, in the first to seventh embodiments of the present invention, the case where the LTCC substrate is used as the base of the first electronic element, which is a substrate type electronic element, has been illustrated and described. As described above, are the first and second upper surface conductors composed of a plurality of conductive layers composed of an Ag layer which is a base conductive layer, a Ni layer which is a coated conductive layer, and an Au layer which is a coated conductive layer? Alternatively, it is preferably composed of a plurality of conductive layers including a Cu layer which is a base conductive layer and a Sn layer which is a coated conductive layer. However, of course, the present invention is not limited to this, and the first and second upper surface conductors are composed of an Ag layer which is a base conductive layer, a Ni layer which is a coated conductive layer, and a Sn layer which is a coated conductive layer. It may be composed of a conductive layer or the like.
また、基板型の電子素子である第1電子素子の基部としてガラスエポキシ基板を用いる場合や、アルミナ基板を用いる場合、シリコン基板を用いる場合等においては、第1および第2上面導体を、下地導電層であるCu層と、被覆導電層であるSn層とからなる複数の導電層にて構成することが好ましい。 Further, when a glass epoxy substrate is used as the base of the first electronic element which is a substrate type electronic element, when an alumina substrate is used, when a silicon substrate is used, etc., the first and second upper surface conductors are used as the base conductor. It is preferably composed of a plurality of conductive layers including a Cu layer which is a layer and a Sn layer which is a coated conductive layer.
さらに、これら導電層は、上述した焼結金属層やめっき層に限られるものではなく、蒸着法によって形成された金属蒸着層やスパッタ法によって形成されたスパッタ層等であってもよい。 Further, these conductive layers are not limited to the above-mentioned sintered metal layer and plating layer, and may be a metal vapor deposition layer formed by a vapor deposition method, a sputter layer formed by a sputtering method, or the like.
いずれにしても、下地導電層として十分な導電性を考慮してAg層またはCu層を利用する場合においては、接合材との間の電気的および機械的な接続信頼性を考慮した上での被覆導電層の材料の選定ならびに接合材の材料の選定が行なわれることが好ましく、その場合に、当該下地導電層の側面を保護導電層(被覆導電層あるいは接合材)にて覆うとともに、当該保護金属膜に含有された重量比で最大の金属成分を、AgおよびCu以外とすればよい。この場合、保護金属膜に含有された重量比で最大の金属成分は、Sn、Ni、AuおよびPbのいずれかとされることが好ましい。 In any case, when the Ag layer or Cu layer is used in consideration of sufficient conductivity as the base conductive layer, the electrical and mechanical connection reliability with the bonding material is taken into consideration. It is preferable that the material of the coated conductive layer and the material of the bonding material are selected. In that case, the side surface of the underlying conductive layer is covered with the protective conductive layer (coated conductive layer or bonding material), and the protection thereof is performed. The metal component having the maximum weight ratio contained in the metal film may be other than Ag and Cu. In this case, it is preferable that the metal component having the largest weight ratio contained in the protective metal film is any one of Sn, Ni, Au and Pb.
保護金属膜や導電層に含有される重量比で最大の金属成分の特定には、公知の分析方法を用いることができ、たとえば、走査型電子顕微鏡(SEM)に付帯された波長分散型X線分析装置(WDX)による元素分析などを用いることができる。 A known analysis method can be used to identify the metal component having the largest weight ratio contained in the protective metal film or the conductive layer. For example, wavelength dispersive X-rays attached to a scanning electron microscope (SEM) can be used. Elemental analysis using an analyzer (WDX) or the like can be used.
また、上述した本発明の実施の形態1から7においては、コンデンサ素子のコンデンサ本体を構成する誘電体層および内部電極層の積層方向を複合電子部品の高さ方向と合致するように構成した場合を例示して説明を行なったが、当該積層方向は、複合電子部品の幅方向に合致するように構成することも当然に可能である。 Further, in the above-described first to seventh embodiments of the present invention, when the stacking direction of the dielectric layer and the internal electrode layer constituting the capacitor body of the capacitor element is configured to match the height direction of the composite electronic component. Although the above description has been given as an example, it is naturally possible to configure the stacking direction so as to match the width direction of the composite electronic component.
また、上述した本発明の実施の形態1から7においては、複合電子部品に組み込むコンデンサ素子として、積層セラミックコンデンサを用いた場合を例示して説明を行なったが、積層セラミックコンデンサに代えて他の種類のコンデンサ素子を複合電子部品に組み込むこととしてもよい。
Further, in the above-described
また、上述した本発明の実施の形態1から7においては、基板型の第1電子素子として抵抗素子またはインダクタ素子を例示して説明を行なったが、基板型の第1電子素子は、サーミスタ素子、圧電素子等、他の電子素子であってもよい。また、基板型の第1電子素子に実装される第2電子素子としても、上述したコンデンサ素子以外の電子素子であってもよい。 Further, in the above-described first to seventh embodiments of the present invention, the resistance element or the inductor element has been exemplified as the substrate type first electronic element, but the substrate type first electronic element is the thermistor element. , It may be another electronic element such as a piezoelectric element. Further, the second electronic element mounted on the first electronic element of the substrate type may be an electronic element other than the above-mentioned capacitor element.
さらには、上述した本発明の実施の形態1から7において示した特徴的な構成は、本発明の趣旨を逸脱しない限りにおいて、当然に相互にその組み合わせが可能である。
Furthermore, the characteristic configurations shown in the above-described
このように、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではない。本発明の技術的範囲は特許請求の範囲によって画定され、また特許請求の範囲の記載と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。 As described above, the above-described embodiment disclosed this time is an example in all respects and is not limiting. The technical scope of the present invention is defined by the scope of claims and includes all modifications within the meaning and scope equivalent to the description of the scope of claims.
1A〜1G 複合電子部品、10 コンデンサ素子、11 コンデンサ本体、11a 下面、12 誘電体層、13 内部電極層、14A 第1外部電極、14B 第2外部電極、14a 下地導電層、14b,14c 被覆導電層、20A〜20F 抵抗素子、20G インダクタ素子、21 基部、21a 上面、21b 下面、22 抵抗体、23 保護膜、24A 第1上面導体、24B 第2上面導体、24C 第3上面導体、24D 第4上面導体、24a 下地導電層、24a1 側面、24b,24c 被覆導電層、25A 第1下面導体、25B 第2下面導体、25C 第3下面導体、25D 第4下面導体、25a 下地導電層、25b,25c 被覆導電層、26A 第1接続導体(第1ビア導体)、26B 第2接続導体(第2ビア導体)、26C 第3接続導体(第3ビア導体)、26D 第4接続導体(第4ビア導体)、28 インダクタ配線、31 第1接合材、32 第2接合材、121 セラミックグリーンシート、121a 上面、121b 下面、121’ マザー基板、121a’ 上面、121b’ 下面、122 抵抗体パターン、124a,125a,126 導電パターン、128 貫通孔、129a,129b 溝部。 1A to 1G composite electronic parts, 10 condenser elements, 11 condenser body, 11a bottom surface, 12 dielectric layer, 13 internal electrode layer, 14A first external electrode, 14B second external electrode, 14a base conductive layer, 14b, 14c coated conductive Layer, 20A to 20F resistance element, 20G inductor element, 21 base, 21a upper surface, 21b lower surface, 22 resistor, 23 protective film, 24A first upper surface conductor, 24B second upper surface conductor, 24C third upper surface conductor, 24D fourth Top conductor, 24a Underground conductive layer, 24a1 side surface, 24b, 24c Coated conductive layer, 25A 1st lower surface conductor, 25B 2nd lower surface conductor, 25C 3rd lower surface conductor, 25D 4th lower surface conductor, 25a Underground conductive layer, 25b, 25c Coated conductive layer, 26A 1st connecting conductor (1st via conductor), 26B 2nd connecting conductor (2nd via conductor), 26C 3rd connecting conductor (3rd via conductor), 26D 4th connecting conductor (4th via conductor) ), 28 inductor wiring, 31 1st joint material, 32 2nd joint material, 121 ceramic green sheet, 121a upper surface, 121b lower surface, 121'mother substrate, 121a'upper surface, 121b' lower surface, 122 conductor pattern, 124a, 125a , 126 Conductive pattern, 128 through holes, 129a, 129b Grooves.
Claims (12)
前記1つの基板型の電子素子である第1電子素子と、
高さ方向において前記第1電子素子に実装された、前記1つの電子素子である第2電子素子と、
前記第1電子素子および前記第2電子素子を接合する接合材とを備え、
前記第1電子素子は、前記高さ方向に交差する上面を有する絶縁性の基部と、前記基部の前記上面に設けられた抵抗体と、前記基部の前記上面に設けられた上面導体とを有し、
前記第2電子素子は、前記高さ方向において前記基部の前記上面に対向する下面を有するとともに積層された複数の誘電体層および複数の導電体層を含む素子本体と、前記素子本体の前記下面の少なくとも一部に設けられた端子導体とを有し、
前記接合材は、前記上面導体の少なくとも一部と前記端子導体の少なくとも一部とを接合し、
前記上面導体が、重量比で最大の金属成分としてAgまたはCuを含有する導電層を含み、
前記導電層の側面の少なくとも一部が、保護金属膜によって覆われ、
前記保護金属膜に含有された重量比で最大の金属成分が、AgおよびCu以外の金属であり、
前記上面導体の大きさが、前記高さ方向に直交する任意の方向のいずれにおいても前記端子導体の大きさよりも小さく、
前記保護金属膜が、前記上面導体に含まれる、前記導電層の上面および前記側面を覆う被覆導電層であり、
前記導電層の前記側面を覆う部分の前記保護金属膜が、前記接合材の一部によってさらに覆われている、複合電子部品。 It is a composite electronic component consisting of a total of two electronic elements in which one electronic element is bonded to one substrate-type electronic element.
The first electronic element, which is the one substrate type electronic element, and
The second electronic element, which is the one electronic element, mounted on the first electronic element in the height direction, and the second electronic element.
A bonding material for joining the first electronic element and the second electronic element is provided.
The first electronic device has an insulating base having an upper surface intersecting in the height direction, a resistor provided on the upper surface of the base, and a top conductor provided on the upper surface of the base. death,
The second electronic device has a lower surface facing the upper surface of the base in the height direction, and includes an element body including a plurality of dielectric layers and a plurality of conductor layers laminated, and the lower surface of the element body. With terminal conductors provided at least in part of
The joining material joins at least a part of the upper surface conductor and at least a part of the terminal conductor.
The upper surface conductor contains a conductive layer containing Ag or Cu as the metal component having the largest weight ratio.
At least a part of the side surface of the conductive layer is covered with a protective metal film, and the surface is covered with a protective metal film.
The metal component having the largest weight ratio contained in the protective metal film is a metal other than Ag and Cu.
The size of the top conductor is smaller than the size of the terminal conductor in any direction orthogonal to the height direction.
The protective metal film is a coated conductive layer that covers the upper surface and the side surface of the conductive layer, which is included in the upper surface conductor.
A composite electronic component in which the protective metal film of a portion covering the side surface of the conductive layer is further covered by a part of the bonding material.
前記1つの基板型の電子素子である第1電子素子と、
高さ方向において前記第1電子素子に実装された、前記1つの電子素子である第2電子素子と、
前記第1電子素子および前記第2電子素子を接合する接合材とを備え、
前記第1電子素子は、前記高さ方向に交差する上面を有する絶縁性の基部と、前記基部の前記上面に設けられた抵抗体と、前記基部の前記上面に設けられた上面導体とを有し、
前記第2電子素子は、前記高さ方向において前記基部の前記上面に対向する下面を有するとともに積層された複数の誘電体層および複数の導電体層を含む素子本体と、前記素子本体の前記下面の少なくとも一部に設けられた端子導体とを有し、
前記接合材は、前記上面導体の少なくとも一部と前記端子導体の少なくとも一部とを接合し、
前記上面導体が、重量比で最大の金属成分としてAgまたはCuを含有する導電層を含み、
前記導電層の側面の少なくとも一部が、前記接合材の一部からなる保護金属膜によって覆われ、
前記保護金属膜に含有された重量比で最大の金属成分が、AgおよびCu以外の金属であり、
前記上面導体の大きさが、前記高さ方向に直交する任意の方向のいずれにおいても前記端子導体の大きさよりも小さい、複合電子部品。 It is a composite electronic component consisting of a total of two electronic elements in which one electronic element is bonded to one substrate-type electronic element.
The first electronic element, which is the one substrate type electronic element, and
The second electronic element, which is the one electronic element, mounted on the first electronic element in the height direction, and the second electronic element.
A bonding material for joining the first electronic element and the second electronic element is provided.
The first electronic device has an insulating base having an upper surface intersecting in the height direction, a resistor provided on the upper surface of the base, and an upper surface conductor provided on the upper surface of the base. death,
The second electronic device has a lower surface facing the upper surface of the base in the height direction, and includes an element body including a plurality of dielectric layers and a plurality of conductor layers laminated, and the lower surface of the element body. With terminal conductors provided at least in part of
The joining material joins at least a part of the upper surface conductor and at least a part of the terminal conductor.
The upper surface conductor contains a conductive layer containing Ag or Cu as the metal component having the largest weight ratio.
At least a part of the side surface of the conductive layer is covered with a protective metal film made of a part of the bonding material.
The metal component having the largest weight ratio contained in the protective metal film is a metal other than Ag and Cu.
A composite electronic component in which the size of the top conductor is smaller than the size of the terminal conductor in any direction orthogonal to the height direction.
前記端子導体が、前記長さ方向に互いに離隔する第1端子導体および第2端子導体を含み、
前記第1端子導体が、前記接合材によって前記第1上面導体に接合され、
前記第2端子導体が、前記接合材によって前記第2上面導体に接合されている、請求項1から5のいずれかに記載の複合電子部品。 The third upper surface conductor is located between the first upper surface conductor and the second upper surface conductor separated from each other in the length direction orthogonal to the height direction, and the first upper surface conductor and the second upper surface conductor. Including conductors
The terminal conductor comprises a first terminal conductor and a second terminal conductor separated from each other in the length direction.
The first terminal conductor is joined to the first upper surface conductor by the joining material, and the first terminal conductor is joined to the first upper surface conductor.
The composite electronic component according to any one of claims 1 to 5, wherein the second terminal conductor is joined to the second upper surface conductor by the joining material.
前記第2上面導体が、前記幅方向において前記第2端子導体の両端の間に位置し、
前記第1上面導体の前記側面のうち、前記幅方向に直交する側面が、前記保護金属膜で覆われ、
前記第2上面導体の前記側面のうち、前記幅方向に直交する側面が、前記保護金属膜で覆われている、請求項6に記載の複合電子部品。 The first upper surface conductor is located between both ends of the first terminal conductor in the width direction orthogonal to the height direction and the length direction.
The second upper surface conductor is located between both ends of the second terminal conductor in the width direction.
Of the side surfaces of the first upper surface conductor, the side surfaces orthogonal to the width direction are covered with the protective metal film.
The composite electronic component according to claim 6, wherein of the side surfaces of the second upper surface conductor, the side surfaces orthogonal to the width direction are covered with the protective metal film.
前記第2上面導体が、前記長さ方向において前記第1端子導体の外端と前記第2端子導体の外端との間に位置し、
前記第1上面導体の前記側面のうち、前記長さ方向に直交する側面が、前記保護金属膜で覆われ、
前記第2上面導体の前記側面のうち、前記長さ方向に直交する側面が、前記保護金属膜で覆われている、請求項6から8のいずれかに記載の複合電子部品。 The first upper surface conductor is located between the outer end of the first terminal conductor and the outer end of the second terminal conductor in the length direction.
The second upper surface conductor is located between the outer end of the first terminal conductor and the outer end of the second terminal conductor in the length direction.
Of the side surfaces of the first upper surface conductor, the side surfaces orthogonal to the length direction are covered with the protective metal film.
The composite electronic component according to any one of claims 6 to 8, wherein the side surface of the second upper surface conductor orthogonal to the length direction is covered with the protective metal film.
前記抵抗体が、前記第4上面導体に接続されている、請求項11に記載の複合電子部品。 The top surface conductor comprises a fourth top surface conductor located between the first top surface conductor and the second top surface conductor.
The composite electronic component according to claim 11, wherein the resistor is connected to the fourth upper surface conductor.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015120845A JP2017005221A (en) | 2015-06-16 | 2015-06-16 | Composite electronic component |
| JP2020079116A JP6984688B2 (en) | 2015-06-16 | 2020-04-28 | Composite electronic components |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015120845A Division JP2017005221A (en) | 2015-06-16 | 2015-06-16 | Composite electronic component |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020115589A JP2020115589A (en) | 2020-07-30 |
| JP2020115589A5 JP2020115589A5 (en) | 2020-09-10 |
| JP6984688B2 true JP6984688B2 (en) | 2021-12-22 |
Family
ID=79193271
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020079116A Active JP6984688B2 (en) | 2015-06-16 | 2020-04-28 | Composite electronic components |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6984688B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022183975A (en) * | 2021-05-31 | 2022-12-13 | 株式会社村田製作所 | Manufacturing method of electronic component |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0625982Y2 (en) * | 1988-05-24 | 1994-07-06 | 北陸電気工業株式会社 | Circuit board |
| JPH0684687A (en) * | 1992-08-31 | 1994-03-25 | Toshiba Corp | Ceramic chip components and chip component mounting structure |
| JPH07254764A (en) * | 1994-03-15 | 1995-10-03 | Toyota Motor Corp | Wiring board migration prevention structure and device |
| JP2004235403A (en) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Composite electronic components |
-
2020
- 2020-04-28 JP JP2020079116A patent/JP6984688B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2020115589A (en) | 2020-07-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200428 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200619 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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