JP6986904B2 - Optical fiber, optical device, and manufacturing method of optical device - Google Patents
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Description
本発明は、コアとクラッドとを備えた光ファイバ、そのような光ファイバを備えた光デバイス、及び、そのような光デバイスの製造方法に関する。 The present invention relates to an optical fiber comprising a core and a cladding, an optical device comprising such an optical fiber, and a method of manufacturing such an optical device.
シリコン光導波路に代表される半導体光導波路は、光通信用デバイスの集積化に寄与する技術として、大きな期待が寄せられている。例えば、光変調器、光検出器、光スイッチなどの機能を有するシリコン光導波路が実現されており、光通信への利用が始まっている。 Semiconductor optical waveguides represented by silicon optical waveguides are highly expected as a technology that contributes to the integration of optical communication devices. For example, a silicon optical waveguide having functions such as an optical modulator, a photodetector, and an optical switch has been realized, and its use for optical communication has begun.
半導体光導波路に入力する光、又は、半導体光導波路から出力された光を伝搬するために、半導体光導波路には、しばしば、汎用シングルモードファイバが接続される。ところが、半導体光導波路のモードフィールド径が1μm程度であるのに対して、汎用シングルモードファイバのモードフィールド径は10μm程度である。このため、半導体光導波路に汎用シングルモードファイバを突き合わせ接続すると、モードフィールド径の差に起因する接続損失が大きくなり過ぎて実用に耐えない。 A general-purpose single-mode fiber is often connected to the semiconductor optical waveguide in order to propagate the light input to the semiconductor optical waveguide or the light output from the semiconductor optical waveguide. However, while the mode field diameter of the semiconductor optical waveguide is about 1 μm, the mode field diameter of the general-purpose single mode fiber is about 10 μm. Therefore, when a general-purpose single-mode fiber is butt-connected to a semiconductor optical waveguide, the connection loss due to the difference in mode field diameter becomes too large to withstand practical use.
そこで、半導体光導波路にスポットサイズ変換器を作り込み、このスポットサイズ変換器に汎用シングルモードファイバを接続する方法が提案されている(特許文献1参照)。しかしながら、スポットサイズ変換器を用いて半導体光導波路のモードフィールド径を汎用シングルモードファイバのモードフィールド径と同程度まで拡大すると、スポットサイズ変換器における損失が大きくなるという問題がある。このため、スポットサイズ変換器を用いてモードフィールド径が4μm程度に拡大された半導体光導波路に、モードフィールド径が4μm程度のブリッジファイバの一端を突き合わせ接続し、このブリッジファイバの他端にモードフィールド径が10μmの汎用シングルモードファイバを融着接続することが検討されている。 Therefore, a method has been proposed in which a spot size converter is built in a semiconductor optical waveguide and a general-purpose single-mode fiber is connected to the spot size converter (see Patent Document 1). However, if the mode field diameter of the semiconductor optical waveguide is expanded to the same extent as the mode field diameter of the general-purpose single-mode fiber by using the spot size converter, there is a problem that the loss in the spot size converter becomes large. Therefore, one end of a bridge fiber having a mode field diameter of about 4 μm is abutted and connected to a semiconductor optical waveguide whose mode field diameter is expanded to about 4 μm by using a spot size converter, and a mode field is connected to the other end of the bridge fiber. It is being studied to fuse and connect general-purpose single-mode fibers having a diameter of 10 μm.
このようなブリッジファイバには、TEC(Thermally Diffused Expanded Core)ファイバ、すなわち、加熱によりコア径を拡大可能な光ファイバを用いる(特許文献2、非特許文献1参照)。そうすると、ブリッジファイバのコアがCSMFとの融着時又はその後の加熱により拡大するため、ブリッジファイバとCSMFとの間にモードフィールド径の不整合が軽減され、その結果、ブリッジファイバとCSMFとの融着点における接続損失を小さく抑えることができるからである。
As such a bridge fiber, a TEC (Thermally Diffused Expanded Core) fiber, that is, an optical fiber whose core diameter can be expanded by heating is used (see
なお、熱拡散によるコアの拡大は、コアを形成するために添加されたアップドーパント(石英ガラスの屈折率を上げるための添加物)が加熱により周囲に拡散することによって生じる。コアを形成するために添加されたアップドーパントがゲルマニウム(Ge)である場合、周囲にゲルマニウム、リン(P)、及びフッ素(F)を共添加することによって、コアの拡大を促進できることが知られている(非特許文献1)。 The expansion of the core due to thermal diffusion is caused by the updopant (additive for increasing the refractive index of quartz glass) added to form the core diffuses to the surroundings by heating. When the updopant added to form the core is germanium (Ge), it is known that the expansion of the core can be promoted by co-adding germanium, phosphorus (P), and fluorine (F) to the surroundings. (Non-Patent Document 1).
光ファイバと半導体光導波路との空間結合に関して、従来、両者のモードフィールド径の違いについては考慮されていたが、両者の電界分布の違いについては考慮されていなかった。このため、従来の光ファイバにおいては、半導体光導波路との結合効率を向上させる余地が残されていた。 Regarding the spatial coupling between the optical fiber and the semiconductor optical waveguide, the difference in the mode field diameter between the two has been considered in the past, but the difference in the electric field distribution between the two has not been considered. Therefore, in the conventional optical fiber, there is room for improving the coupling efficiency with the semiconductor optical waveguide.
本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、曲げ損失を徒に増大させることなく、半導体光導波路との結合効率を向上させた光ファイバを実現することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to realize an optical fiber having improved coupling efficiency with a semiconductor optical waveguide without unnecessarily increasing bending loss.
本発明に係る光ファイバは、コアと、コアの側面を覆うクラッドと、を備え、上記コアの直径Rが4.7μm以下であり、上記クラッドに対する上記コアの比屈折率差Δが0.7%以上であり、上記コアの直径Rに対するモードフィールド径ωの変化率dω/dRの符号が負であり、曲げ半径を7.5mmとしたときの波長1550nmにおける曲げ損失が0.1dB/turn以下である、ことを特徴とする。 The optical fiber according to the present invention includes a core and a clad covering the side surface of the core, the diameter R of the core is 4.7 μm or less, and the specific refractive index difference Δ of the core with respect to the clad is 0.7. % Or more, the sign of the rate of change dω / dR of the mode field diameter ω with respect to the diameter R of the core is negative, and the bending loss at a wavelength of 1550 nm when the bending radius is 7.5 mm is 0.1 dB / turn or less. It is characterized by being.
本発明に係る光ファイバにおいては、上記コアの直径Rが4.2μm以下であり、上記クラッドに対する上記コアの比屈折率差Δが0.9%以上であり、上記コアの直径Rに対するモードフィールド径ωの変化率dω/dRの符号が負であり、曲げ半径を5mmとしたときの波長1550nmにおける曲げ損失が0.1dB/turn以下である、ことが好ましい。 In the optical fiber according to the present invention, the diameter R of the core is 4.2 μm or less, the specific refractive index difference Δ of the core with respect to the clad is 0.9% or more, and the mode field with respect to the diameter R of the core. It is preferable that the sign of the rate of change dω / dR of the diameter ω is negative and the bending loss at a wavelength of 1550 nm when the bending radius is 5 mm is 0.1 dB / turn or less.
本発明に係る光ファイバにおいて、上記コアは、アップドーパントが添加された石英ガラスにより構成されており、上記クラッドは、上記コアの側面を覆う内側クラッドと、上記内側クラッドの側面を覆う外側クラッドと、を含み、上記内側クラッドは、アップドーパント及びダウンドーパントの両方が添加された石英ガラスにより構成されており、上記外側クラッドに対する上記内側クラッドの比屈折率差Δ2の絶対値|Δ2|が0.1%以下である、ことが好ましい。 In the optical fiber according to the present invention, the core is made of quartz glass to which an updopant is added, and the clad includes an inner clad covering the side surface of the core and an outer clad covering the side surface of the inner clad. , And the inner clad is made of quartz glass to which both up-dopant and down-dopant are added, and the absolute value | Δ2 | of the specific refractive index difference Δ2 of the inner clad with respect to the outer clad is 0. It is preferably 1% or less.
本発明に係る光デバイスは、上記の光ファイバと、該光ファイバに空間結合された半導体光導波路と、を備えている。 The optical device according to the present invention includes the above optical fiber and a semiconductor optical waveguide spatially coupled to the optical fiber.
本発明に係る光デバイスは、上記の光ファイバと、該光ファイバに融着接続された汎用シングルモードファイバと、を備えている。 The optical device according to the present invention includes the above-mentioned optical fiber and a general-purpose single-mode fiber fused and connected to the optical fiber.
本発明に係る製造方法は、上記の光ファイバと、該光ファイバに空間結合された半導体光導波路と、を備えた光デバイスの製造方法であって、上記の光ファイバを第1の光ファイバとし、上記の光ファイバを加熱することにより得られた、変化率dω/dRの符号が正である光ファイバを第2の光ファイバとして、上記第1の光ファイバの電界分布の方が上記半導体光導波路の電界分布に近いか、上記第2の光ファイバの電界分布の方が上記半導体光導波路の電界分布に近いかを判定する工程を含み、上記第1の光ファイバの電界分布の方が上記半導体光導波路の電界分布に近いと判定した場合、上記第1の光ファイバを上記半導体光導波路に空間結合することにより上記光デバイスを製造し、上記第2の光ファイバの電界分布の方が上記半導体光導波路の電界分布に近いと判定した場合、上記第2の光ファイバを上記半導体光導波路に空間結合することにより上記光デバイスを製造する、ことを特徴とする。 The manufacturing method according to the present invention is a method for manufacturing an optical device including the above-mentioned optical fiber and a semiconductor optical waveguide spatially coupled to the optical fiber, wherein the above-mentioned optical fiber is used as a first optical fiber. The optical fiber having a positive sign of the rate of change dω / dR obtained by heating the above optical fiber is used as the second optical fiber, and the electric field distribution of the first optical fiber is higher than that of the semiconductor optical fiber. The step of determining whether the electric field distribution of the second optical fiber is closer to the electric field distribution of the waveguide and the electric field distribution of the second optical fiber is closer to the electric field distribution of the semiconductor optical waveguide is included, and the electric field distribution of the first optical fiber is the same as described above. When it is determined that the electric field distribution is close to that of the semiconductor optical waveguide, the optical device is manufactured by spatially coupling the first optical fiber to the semiconductor optical waveguide, and the electric field distribution of the second optical fiber is larger than that of the second optical fiber. When it is determined that the electric field distribution is close to that of the semiconductor optical waveguide, the optical device is manufactured by spatially coupling the second optical fiber to the semiconductor optical waveguide.
本発明によれば、曲げ損失を徒に増大させることなく、半導体光導波路との結合効率を向上させた光ファイバを実現することができる。 According to the present invention, it is possible to realize an optical fiber having improved coupling efficiency with a semiconductor optical waveguide without unnecessarily increasing bending loss.
〔光ファイバの構造〕
本発明の一実施形態に係る光ファイバ1の構造について、図1を参照して説明する。図1の上段は、光ファイバ1の構造を示す断面図であり、図1の下段は、光ファイバ1の屈折率分布を示すグラフである。
[Structure of optical fiber]
The structure of the
光ファイバ1は、石英ガラスを主成分とする円柱状の構造体であり、図1の上段に示すように、(1)円形(半径r1)状の断面を有するコア11と、(2)コアの側面を覆う、円環(内周半径r1,外周半径r3)状の断面を有するクラッド12と、を備えている。クラッド12は、(2a)コアの側面を覆う、円環(内周半径r1,外周半径r2)状の断面を有する内側クラッド12aと、(2b)内側クラッド12aの側面を覆う、円環(内周半径r2,外周半径r3)状の断面を有する外側クラッド12bと、を含む。なお、光ファイバ1は、(4)外側クラッド12bの外側面を覆う、円環状の断面を有する保護被覆層(不図示)を更に備えていてもよい。
The
コア11は、アップドーパントであるゲルマニウム(Ge)が添加された石英ガラスにより構成されている。コア11の屈折率分布は、図1の下段に示す一様分布であるか、又は、図1の下段に示す一様分布により近似される。コア11の屈折率n1は、図1の下段に示すように、後述する外側クラッド12bの屈折率n2bよりも高くなる。なお、コア11の屈折率分布が完全な一様分布でない場合、コア11の屈折率n1とは、コア11の屈折率の平均値のことを指す。コア11の屈折率n1と外側クラッド12bの屈折率n2bとから、Δ1={(n1−n2b)/n1}×100により定義される量Δ1を、外側クラッド12bに対するコア11の比屈折率差と呼ぶ。
The
コア11に添加するアップドーパントの濃度は、比屈折率差Δ1が0.7%以上4%以下になるように設定されていることが好ましく、比屈折率差Δ1が0.9%以上4%以下になるように設定されていることが更に好ましい。
The concentration of the updopant added to the
比屈折率差Δ1を小さくなり過ぎると、曲げ損失が許容範囲の上限を上回るという問題を生じ得る。例えば、比屈折率差を0.9%よりも小さくすると、曲げ半径を5mmとしたときの波長1550nmにおける曲げ損失が0.1dB/turnを上回るという問題を生じ易くなる。また、比屈折率差を0.7%よりも小さくすると、曲げ半径を7.5mmとしたときの1ターンあたりの曲げ損失が波長1550nmにおいて0.1dBを上回るという問題を生じ易くなる。比屈折率差Δ1を上記のように設定すれば、このような問題が生じ難くなる。 If the specific refractive index difference Δ1 becomes too small, there may be a problem that the bending loss exceeds the upper limit of the allowable range. For example, if the difference in the specific refractive index is made smaller than 0.9%, the problem that the bending loss at a wavelength of 1550 nm when the bending radius is 5 mm exceeds 0.1 dB / turn tends to occur. Further, when the difference in the specific refractive index is made smaller than 0.7%, the problem that the bending loss per turn when the bending radius is 7.5 mm exceeds 0.1 dB at a wavelength of 1550 nm tends to occur. If the specific refractive index difference Δ1 is set as described above, such a problem is less likely to occur.
逆に、比屈折率差Δ1を大きく設定し過ぎると、光ファイバ1の母材を製造する際に、コア−クラッド間に生じる応力が大きくなり、その結果、旋盤等を用いて母材を加工する際に、母材が割れ易くなるという問題を生じ得る。比屈折率差Δ1を上記のように設定すれば、このような問題が生じ難くなる。また、SiO2に対するGeO2の添加効率の観点からも、比屈折率差Δ1は4%以下であることが好ましい。
On the contrary, if the specific refractive index difference Δ1 is set too large, the stress generated between the core and the clad becomes large when the base material of the
なお、本実施形態においては、ゲルマニウムをアップドーパントとしてコア11に添加する構成を採用しているが、本発明はこれに限定されない。例えば、ゲルマニウムの代わりにリン(P)をアップドーパントとしてコア11に添加する構成を採用してもよいし、ゲルマニウムに加えてリンをアップドーパントとしてコア11に添加する構成を採用してもよい。 In the present embodiment, a configuration is adopted in which germanium is added to the core 11 as an updopant, but the present invention is not limited to this. For example, a configuration in which phosphorus (P) is added to the core 11 as an updopant instead of germanium may be adopted, or a configuration in which phosphorus is added to the core 11 as an updopant in addition to germanium may be adopted.
内側クラッド12aは、ダウンドーパントであるフッ素(F)とアップドーパントであるゲルマニウム(Ge)及びリン(P)とが添加された石英ガラスにより構成されている。内側クラッド12aに添加されたアップドーパントは、コア11に添加されたアップドーパントの加熱拡散を促進するためのものである。内側クラッド12aに添加されたダウンドーパントは、内側クラッド12aに添加されたアップドーパントによる屈折率低下を相殺するためのものである。内側クラッド12aの屈折率分布は、図1の下段に示す一様分布であるか、又は、図1の下段に示す一様分布により近似される。内側クラッド12aの屈折率n2aは、図1の下段に示すように、後述する外側クラッド12bの屈折率n2bと実質的に同一になる。なお、内側クラッド12aの屈折率分布が完全な一様分布でない場合、内側クラッド12aの屈折率n2aとは、内側クラッド12aの屈折率の平均値のことを指す。内側クラッド12aの屈折率n2aと外側クラッド12bの屈折率n2bとから、Δ2={(n2a−n2b)/n2a}×100により定義される量Δ2を、外側クラッド12bに対する内側クラッド12aの比屈折率差と呼ぶ。
The inner clad 12a is made of quartz glass to which fluorine (F) as a down dopant and germanium (Ge) and phosphorus (P) as up dopants are added. The updopant added to the inner clad 12a is for promoting thermal diffusion of the updopant added to the
内側クラッド12aに添加するダウンドーパント及びアップドーパントの濃度は、比屈折率差Δ2の絶対値|Δ2|が0.1%以下となるように設定されていることが好ましい。 The concentrations of the down dopant and the up dopant added to the inner clad 12a are preferably set so that the absolute value | Δ2 | of the specific refractive index difference Δ2 is 0.1% or less.
比屈折率差Δ2の絶対値|Δ2|が大きくなり過ぎると、コア11と内側クラッド12aとの屈折率差が光ファイバ1の光学特性に無視できない影響を与える。例えば、比屈折率差Δ2を−0.1よりも小さくすると、内側クラッド12aによるコア11への光の閉じ込めが強くなり、カットオフ波長が許容範囲の上限値を上回る。また、比屈折率差Δ2を0.1よりも大きくすると、内側クラッド12aによるコア11への光の閉じ込めが弱くなり、曲げ損失が許容範囲の上限を上回るという問題を生じ得る。比屈折率差Δ2を上記のように設定すれば、このような問題が生じ難くなる。
If the absolute value | Δ2 | of the specific refractive index difference Δ2 becomes too large, the refractive index difference between the core 11 and the inner clad 12a has a non-negligible effect on the optical characteristics of the
なお、本実施形態においては、フッ素をダウンドーパントとして内側クラッド12aに添加する構成を採用しているが、本発明はこれに限定されない。すなわち、フッ素の代わりにホウ素(B)をダウンドーパントとして内側クラッド12aに添加する構成を採用してもよいし、フッ素に加えてホウ素をダウンドーパントとして内側クラッド12aに添加する構成を採用してもよい。また、本実施形態においては、ゲルマニウム及びリンの両方をアップドーパントとして内側クラッド12aに添加する構成を採用しているが、本発明はこれに限定されない。すなわち、ゲルマニウムのみをアップドーパントとして内側クラッド12aに添加する構成を採用してもよいし、リンのみをアップドーパントとして内側クラッド12aに添加する構成を採用してもよい。 In the present embodiment, a configuration is adopted in which fluorine is added to the inner clad 12a as a down dopant, but the present invention is not limited to this. That is, a configuration in which boron (B) is added to the inner clad 12a as a down dopant instead of fluorine may be adopted, or a configuration in which boron is added to the inner clad 12a as a down dopant in addition to fluorine may be adopted. good. Further, in the present embodiment, a configuration in which both germanium and phosphorus are added to the inner clad 12a as an updopant is adopted, but the present invention is not limited to this. That is, a configuration may be adopted in which only germanium is added to the inner clad 12a as an updopant, or a configuration in which only phosphorus is added to the inner clad 12a as an updopant may be adopted.
外側クラッド12bは、塩素(Cl)以外のドーパントが意図的に添加されていない石英ガラスにより構成されている。外側クラッド12bの屈折率分布は、図1の下段に示す一様分布であるか、又は、図1の下段に示す一様分布により近似される。外側クラッド12bを構成する石英ガラスには、アップドーパントもダウンドーパントも添加されていないので、外側クラッド12bの屈折率n2bは、純粋石英ガラスの屈折率1.46と実質的に同一になる。なお、外側クラッド12bの屈折率分布が完全な一様分布でない場合、外側クラッド12bの屈折率n2bとは、外側クラッド12bの屈折率の平均値のことを指す。 The outer clad 12b is made of quartz glass to which a dopant other than chlorine (Cl) is not intentionally added. The refractive index distribution of the outer clad 12b is the uniform distribution shown in the lower part of FIG. 1, or is approximated by the uniform distribution shown in the lower part of FIG. Since neither the up dopant nor the down dopant is added to the quartz glass constituting the outer clad 12b, the refractive index n2b of the outer clad 12b is substantially the same as the refractive index 1.46 of the pure quartz glass. When the refractive index distribution of the outer clad 12b is not a perfect uniform distribution, the refractive index n2b of the outer clad 12b refers to the average value of the refractive indexes of the outer clad 12b.
以上のように、光ファイバ1においては、内側クラッド12aにダウンドーパントが含まれている。このダウンドーパントは、(1)それ自身がコア11に熱拡散することにより、コア11の屈折率n1を低下させると共に、内側クラッド12aの屈折率n2aを上昇させる作用と、(2)コア11に添加されたアップドーパントの内側クラッド12aへの熱拡散を促進することにより、内側クラッド12aの屈折率n2aを上昇させる作用とを有する。総じて言うと、このダウンドーパントは、コア11と内側クラッド12aとの屈折率差n1−n2aを小さくする作用を有する。このため、光ファイバ1は、加熱によりコア径を拡大することが可能なTEC(Thermally-Diffused Expanded Core)ファイバとして機能する。
As described above, in the
〔コア径とコアΔとの好ましい組み合わせ〕
光ファイバ1におけるコア径とモードフィールド径との関係について、図2及び図3を参照して説明する。なお、光ファイバ1のコア径とは、コア11の直径(図1におけるr1の2倍)のことを指す。以下では、光ファイバ1のコア径を記号Rで表す。また、光ファイバ1のモードフィールド径とは、光ファイバ1の断面における基本モードの強度分布に関して、光強度がピーク強度の1/e2倍(ピーク強度の0.135倍)になる領域の直径のことを指す。以下では、光ファイバ1のモードフィールド径を記号ωで表す。なお、モードフィールド径ωは、コア径Rよりも大きくなる。これは、コア11を導波される光の一部が内側クラッド12aに浸み出しているためである。
[Preferable combination of core diameter and core Δ]
The relationship between the core diameter and the mode field diameter in the
図2は、光ファイバ1におけるコア径Rとモードフィールド径ωとの関係を示すグラフである。図2の(a)に示すグラフは、コアΔを0.3%とした場合に得られたものであり、図2の(b)に示すグラフは、コアΔを1.0%とした場合に得られたものであり、図2の(c)に示すグラフは、コアΔを2.0%とした場合に得られたものであり、図2の(d)に示すグラフは、コアΔを2.5%とした場合に得られたものである。なお、コアΔとは、クラッド12の平均屈折率をn2として、Δ={(n1−n2)/n1}×100により定義される比屈折率差のことを指す。
FIG. 2 is a graph showing the relationship between the core diameter R and the mode field diameter ω in the
図2を参照することにより、以下のことが確かめられる。すなわち、コア径Rを大きくしていくと、あるコア半径R0を境にモードフィールド径ωが減少から増加へと転じる。換言すれば、コア径Rを大きくしていくと、あるコア半径R0を境に変化率dω/dRの符号が負から正へと転じる。例えば、コアΔが0.3%である場合、コア半径R0=7.9μmを境に変化率dω/dRの符号が負から正へと転じる。 By referring to FIG. 2, the following can be confirmed. That is, as the core diameter R is increased, the mode field diameter ω changes from decreasing to increasing at a certain core radius R0. In other words, as the core diameter R is increased, the sign of the rate of change dω / dR changes from negative to positive at a certain core radius R0. For example, when the core Δ is 0.3%, the sign of the rate of change dω / dR changes from negative to positive with the core radius R0 = 7.9 μm as a boundary.
このため、方程式ω(R)=ω0には、第1の解R=Raと第2の解R=Rbとが存在する(Ra<Rb)。換言すれば、モードフィールド径ωがω0となる光ファイバ1として、コア径RがRaとなる第1の光ファイバ1とコア径RがRbとなる第2の光ファイバ1とが存在する。例えば、コアΔが0.3%である場合、モードフィールド径ωが4.3μmとなる光ファイバ1として、コア径Rが2.5μmとなる第1の光ファイバ1と、コア径Rが3.7μmになる第2の光ファイバ1とが存在する。
Therefore, in the equation ω (R) = ω0, the first solution R = Ra and the second solution R = Rb exist (Ra <Rb). In other words, as the
同一のモードフィールド径ωを有する2つの光ファイバ1のうち、コア径RがRaである第1の光ファイバ1は、モードフィールド径の変化率dω/dRの符号が負であることをもって特徴付けられる。また、同一のモードフィールド径ωを有する2つの光ファイバ1のうち、コア径RがRbである第2の光ファイバ1は、モードフィールド径の変化率dω/dRの符号が正であることをもって特徴付けられる。
Of the two
図3は、モードフィールド径ωが4.3μmとなる2つの光ファイバ1の電界分布を示すグラフである。図3に示すグラフは、コアΔを0.3%とした場合に得られたものである。図3において、実線で表したグラフは、変化率dω/dRの符号が負になる光ファイバ1の電界分布を示し、点線で表したグラフは、変化率dω/dRの符号が正になる光ファイバ1の電界分布を示す。なお、図3においては、ピーク強度を基準として電界強度を規格化することで得られる規格化電界強度を縦軸としている。
FIG. 3 is a graph showing the electric field distributions of the two
図3を参照することにより、以下のことが確かめられる。すなわち、同一のモードフィールド径ωを有する2つの光ファイバ1では、電界分布の形状が異なる。具体的に言うと、変化率dω/dRの符号が負である光ファイバ1では、コア11への光の閉じ込めが弱く、内側クラッド12aに浸み出す光量が大きいのに対して、変化率dω/dRの符号が正である光ファイバ1においては、コア11への光の閉じ込めが強く、内側クラッド12aに浸み出す光量が小さい。
By referring to FIG. 3, the following can be confirmed. That is, the shape of the electric field distribution is different between the two
ここで、光ファイバ1を他の光導波路に接続することを考える。光導波路には、変化率dω/dRの符号が負である光ファイバ1と同様、コアへの光の閉じ込めが弱く、クラッドに浸み出す光量が多いものと、変化率dω/dRの符号が正である光ファイバ1と同様、コアへの光の閉じ込めが強く、クラッドに浸み出す光量が少ないものとがある。他の光導波路との接続に際し、変化率dω/dRの符号が負である光ファイバ1には、以下のメリットがある。(1)前者の光導波路と接続する際に、変化率dω/dRの符号が正である光ファイバ1よりも高い結合効率が得られる。(2)後者の光導波路と接続する際に、コア径RがRaからRbへと変化するまで加熱することによって、変化率dω/dRの符号が正である光ファイバ1と同等の結合効率が得られる。
Here, consider connecting the
しかしながら、変化率dω/dRの符号を負にするためには、コア径R及びコアΔを小さくする必要がある。このため、小コア光ファイバ1には、曲げ損失が大きくなり易いというデメリットがある。したがって、小コア光ファイバ1の設計に際しては、曲げ損失が許容範囲の上限値を上回らないように注意して、コア径R及びコアΔを設定する必要がある。
However, in order to make the sign of the rate of change dω / dR negative, it is necessary to reduce the core diameter R and the core Δ. Therefore, the small core
以下、低曲げ損失条件を満たすと共に、変化率dω/dRの符号が負になるコア径R及びコアΔの組み合わせについて検討する。なお、低曲げ損失条件としては、下記の2つを考える。 Hereinafter, a combination of a core diameter R and a core Δ in which the sign of the rate of change dω / dR becomes negative while satisfying the low bending loss condition will be examined. The following two conditions are considered as low bending loss conditions.
低曲げ損失条件1:曲げ半径を7.5mmとしたときの波長1550nmにおける曲げ損失が0.1dB/turn以下となる。 Low bending loss condition 1: The bending loss at a wavelength of 1550 nm when the bending radius is 7.5 mm is 0.1 dB / turn or less.
低曲げ損失条件2:曲げ半径を5mmとしたときの波長1550nmにおける曲げ損失が0.1dB/turn以下となる。 Low bending loss condition 2: The bending loss at a wavelength of 1550 nm when the bending radius is 5 mm is 0.1 dB / turn or less.
図4は、変化率dω/drが0になるコア径RとコアΔとの組み合わせを実線でプロットし、曲げ半径を7.5mmとしたときの波長1550nmにおける曲げ損失が0.1dB/turnとなるコア径RとコアΔとの組み合わせを点線でプロットしたグラフである。図4において、変化率dω/drの符号が負になる領域は、実線で示すグラフよりも左下に位置する領域である。一方、低曲げ損失条件1を満たす領域は、点線で示すグラフよりも右上に位置する領域である。
In FIG. 4, the combination of the core diameter R and the core Δ at which the rate of change dω / dr becomes 0 is plotted with a solid line, and the bending loss at a wavelength of 1550 nm is 0.1 dB / turn when the bending radius is 7.5 mm. It is a graph which plotted the combination of the core diameter R and the core Δ by the dotted line. In FIG. 4, the region where the sign of the rate of change dω / dr is negative is the region located at the lower left of the graph shown by the solid line. On the other hand, the region satisfying the low
図4を参照することにより、以下のことが確かめられる。すなわち、コア直径Rが4.7μm以下であり、コアΔが0.7以上であれば、上述した2つの領域に共通部分(図4においてハッチングを付した領域)が存在する。換言すれば、コア直径Rが4.7μm以下であり、コアΔが0.7以上であれば、変化率dω/drの符号を負にすると共に、低曲げ損失条件2を満たすことができる。
By referring to FIG. 4, the following can be confirmed. That is, if the core diameter R is 4.7 μm or less and the core Δ is 0.7 or more, a common portion (hatched region in FIG. 4) exists in the above-mentioned two regions. In other words, if the core diameter R is 4.7 μm or less and the core Δ is 0.7 or more, the sign of the rate of change dω / dr can be made negative and the low
図5は、変化率dω/drが0になるコア径RとコアΔとの組み合わせを実線でプロットし、曲げ半径を5mmとしたときの波長1550nmにおける曲げ損失が0.1dB/turnとなるコア径RとコアΔとの組み合わせを点線でプロットしたグラフである。図5において、変化率dω/drの符号が負になる領域は、実線で示すグラフよりも左下に位置する領域である。一方、低曲げ損失条件2を満たす領域は、点線で示すグラフよりも右上に位置する領域である。
FIG. 5 plots the combination of the core diameter R and the core Δ at which the rate of change dω / dr is 0 with a solid line, and the core has a bending loss of 0.1 dB / turn at a wavelength of 1550 nm when the bending radius is 5 mm. It is a graph which plotted the combination of the diameter R and the core Δ by the dotted line. In FIG. 5, the region where the sign of the rate of change dω / dr is negative is the region located at the lower left of the graph shown by the solid line. On the other hand, the region satisfying the low
図5を参照することにより、以下のことが確かめられる。すなわち、コア直径Rが4.2μm以下であり、コアΔが0.9以上であれば、上述した2つの領域に共通部分(図4においてハッチングを付した領域)が存在する。換言すれば、コア直径Rが4.2μm以下であり、コアΔが0.9以上であれば、変化率dω/drの符号を負にすると共に、低曲げ損失条件2を満たすことができる。
By referring to FIG. 5, the following can be confirmed. That is, if the core diameter R is 4.2 μm or less and the core Δ is 0.9 or more, there is a common portion (hatched region in FIG. 4) in the above-mentioned two regions. In other words, if the core diameter R is 4.2 μm or less and the core Δ is 0.9 or more, the sign of the rate of change dω / dr can be made negative and the low
以上のように、本実施形態に係る光ファイバ1においては、コア11コアの直径Rが4.7μm以下であり、外側クラッド12bに対するコア11のコアΔが0.7%以上であることが好ましい。これにより、コアの直径Rに対するモードフィールド径ωの変化率dω/dRの符号を負にすると共に、曲げ半径を7.5mmとしたときの波長1550nmにおける曲げ損失が0.1dB/turn以下にすることができる。
As described above, in the
また、本実施形態に係る光ファイバ1においては、コア11の直径Rが4.2μm以下であり、外側クラッド12bに対するコア11のコアΔが0.9%以上であることが好ましい。これにより、コア11の直径Rに対するモードフィールド径ωの変化率dω/dRの符号を負にすると共に、曲げ半径を5mmとしたときの波長1550nmにおける曲げ損失が0.1dB/turn以下にすることができる。
Further, in the
〔実施例1〕
本実施形態に係る光ファイバ1の実施例として、コア径R(コア11の半径r1×2)が2.4μmであり、コアΔが2.2%であり、内側クラッド径(内側クラッド12aの外周半径r2a×2)が16μmであり、外側クラッド径(外側クラッド12bの外周半径r2b×2)が125μmであり、変化率dω/dRの符号が負である光ファイバAを作成した。光ファイバAにおいて、波長1550nmにおけるモードフィールド径ωは、4.3μmであった。また、光ファイバAにおいて、曲げ半径を7.5mmとしたときの波長1550nmにおける曲げ損失は、0.1dB/turn以下であった。
[Example 1]
As an example of the
また、変化率dω/dRの符号が負である光ファイバAを、コア径Rが2.4μmから4.0μmへと変化するまで加熱することによって、変化率dω/dRの符号が正である光ファイバBを作成した。光ファイバBにおいても、波長1550nmにおけるモードフィールド径ωは、4.3μmであった。 Further, by heating the optical fiber A having a negative sign of the rate of change dω / dR until the core diameter R changes from 2.4 μm to 4.0 μm, the sign of the rate of change dω / dR is positive. An optical fiber B was created. Also in the optical fiber B, the mode field diameter ω at a wavelength of 1550 nm was 4.3 μm.
図6の(a)は、変化率dω/dRの符号が負である光ファイバAの電界分布を示すグラフであり、図6の(b)は、変化率dω/dRの符号が正である光ファイバBの電界分布を示すグラフである。図6の(a)及び図6の(b)においては、スポット径が4μmのシリコン光導波路Sの電界分布も併せて示している。なお、図6に示すグラフにおいて、「Horizontal」は、シリコン光導波路Sの基板面と平行な方向の電界分布を示し、「Vertical」は、シリコン光導波路Sの基板面と垂直な方向の電界分布を示す。 FIG. 6A is a graph showing the electric field distribution of the optical fiber A in which the sign of the rate of change dω / dR is negative, and FIG. 6B is a graph showing the sign of the rate of change dω / dR being positive. It is a graph which shows the electric field distribution of an optical fiber B. In FIG. 6A and FIG. 6B, the electric field distribution of the silicon optical waveguide S having a spot diameter of 4 μm is also shown. In the graph shown in FIG. 6, "Horizontal" indicates the electric field distribution in the direction parallel to the substrate surface of the silicon optical waveguide S, and "Vertical" indicates the electric field distribution in the direction perpendicular to the substrate surface of the silicon optical waveguide S. Is shown.
図6の(a)と図6の(b)とを比較すると、変化率dω/dRの符号が負である光ファイバAの電界分布の方が、変化率dω/dRの符号が正である光ファイバBの電界分布よりも、シリコン光導波路Sの電界分布に近いことが分かる。 Comparing (a) of FIG. 6 and (b) of FIG. 6, the electric field distribution of the optical fiber A in which the sign of the rate of change dω / dR is negative has a positive sign of the rate of change dω / dR. It can be seen that the electric field distribution of the silicon optical waveguide S is closer than the electric field distribution of the optical fiber B.
変化率dω/dRの符号が負である光ファイバAとシリコン光導波路Sとの結合効率ηを下記の式(1)に従って算出したところ、η=95%となった。また、変化率dω/dRの符号が正である光ファイバBとシリコン光導波路Sとの結合効率ηを下記の式(1)に従って算出したところ、η=88%となった。このことから、光ファイバAとシリコン光導波路Sとが空間結合された光デバイスの結合損失は、光ファイバBとシリコン光導波路Sとが空間結合された光デバイスの結合損失よりも0.3dB小さくなることが分かった。 When the coupling efficiency η between the optical fiber A having a negative sign of the rate of change dω / dR and the silicon optical waveguide S was calculated according to the following equation (1), η = 95%. Further, when the coupling efficiency η between the optical fiber B having a positive sign of the rate of change dω / dR and the silicon optical waveguide S was calculated according to the following equation (1), η = 88%. From this, the coupling loss of the optical device in which the optical fiber A and the silicon optical waveguide S are spatially coupled is 0.3 dB smaller than the coupling loss of the optical device in which the optical fiber B and the silicon optical waveguide S are spatially coupled. It turned out to be.
〔実施例2〕
本実施形態に係る光ファイバ1の実施例として、コア径R(コア11の半径r1×2)が3.9μmであり、コアΔが1.1%であり、内側クラッド径(内側クラッド12aの外周半径r2a×2)が28μmであり、外側クラッド径(外側クラッド12bの外周半径r2b×2)が125μmであり、変化率dω/dRの符号が負である光ファイバCを作成した。光ファイバCにおいて、波長1550nmにおけるモードフィールド径ωは、6.1μmであった。
[Example 2]
As an example of the
また、変化率dω/dRの符号が負である光ファイバCを加熱することによって、変化率dω/dRの符号が正である光ファイバDを作成した。光ファイバDにおいても、波長1550nmにおけるモードフィールド径ωは、6.1μmであった。また、光ファイバDにおいて、曲げ半径を7.5mmとしたときの波長1550nmにおける曲げ損失は、0.1dB/turn以下であった。 Further, by heating the optical fiber C having a negative sign of change rate dω / dR, an optical fiber D having a positive sign of change rate dω / dR was created. Also in the optical fiber D, the mode field diameter ω at a wavelength of 1550 nm was 6.1 μm. Further, in the optical fiber D, the bending loss at a wavelength of 1550 nm when the bending radius was 7.5 mm was 0.1 dB / turn or less.
図7の(a)は、変化率dω/dRの符号が負である光ファイバCの電界分布を示すグラフであり、図7の(b)は、変化率dω/dRの符号が正である光ファイバDの電界分布を示すグラフである。図7の(a)及び図7の(b)においては、スポット径が6μmのシリコン光導波路Tの電界分布も併せて示している。なお、図6に示すグラフにおいて、「Horizontal」は、シリコン光導波路Tの基板面と平行な方向の電界分布を示し、「Vertical」は、シリコン光導波路Tの基板面と垂直な方向の電界分布を示す。 FIG. 7A is a graph showing the electric field distribution of the optical fiber C in which the sign of the rate of change dω / dR is negative, and FIG. 7B is a graph showing the sign of the rate of change dω / dR being positive. It is a graph which shows the electric field distribution of an optical fiber D. In FIG. 7A and FIG. 7B, the electric field distribution of the silicon optical waveguide T having a spot diameter of 6 μm is also shown. In the graph shown in FIG. 6, "Horizontal" indicates the electric field distribution in the direction parallel to the substrate surface of the silicon optical waveguide T, and "Vertical" indicates the electric field distribution in the direction perpendicular to the substrate surface of the silicon optical waveguide T. Is shown.
図7の(a)と図7の(b)とを比較すると、変化率dω/dRの符号が正である光ファイバDの電界分布の方が、変化率dω/dRの符号が負である光ファイバCの電界分布よりも、シリコン光導波路Tの電界分布に近いことが分かる。 Comparing (a) of FIG. 7 and (b) of FIG. 7, the electric field distribution of the optical fiber D in which the sign of the rate of change dω / dR is positive has a negative sign of the rate of change dω / dR. It can be seen that the electric field distribution of the silicon optical waveguide T is closer than the electric field distribution of the optical fiber C.
変化率dω/dRの符号が正である光ファイバDとシリコン光導波路Tとの結合効率ηを上記の式(1)に従って算出したところ、η=91%となった。また、変化率dω/dRの符号が負である光ファイバCとシリコン光導波路Tとの結合効率ηを下記の式(1)に従って算出したところ、η=84%となった。このことから、光ファイバDとシリコン光導波路Tとが空間結合された光デバイスの結合損失は、光ファイバCとシリコン光導波路Tとが空間結合された光デバイスの結合損失よりも0.4dB小さくなることが分かった。 When the coupling efficiency η between the optical fiber D having a positive sign of the rate of change dω / dR and the silicon optical waveguide T was calculated according to the above equation (1), η = 91%. Further, when the coupling efficiency η between the optical fiber C having a negative sign of the rate of change dω / dR and the silicon optical waveguide T was calculated according to the following equation (1), η = 84%. From this, the coupling loss of the optical device in which the optical fiber D and the silicon optical waveguide T are spatially coupled is 0.4 dB smaller than the coupling loss of the optical device in which the optical fiber C and the silicon optical waveguide T are spatially coupled. It turned out to be.
〔光デバイスとその製造方法〕
本実施形態に係る光ファイバ1は、他の光学素子と共に光デバイスを構成することができる。このような光デバイスの構成例を図8に示す。図8の(a)に示す光デバイス10Aは、本実施形態に係る光ファイバ1と、光ファイバ1に空間結合された半導体光導波路2と、を備えた光デバイスである。半導体光導波路2としては、例えば、スポットサイズ変換器を有するシリコン光導波路などが挙げられる。図8の(b)に示す光デバイス10Bは、本実施形態に係る光ファイバ1と、光ファイバ1に融着接続された汎用シングルモードファイバ3とを備えた光デバイスである。
[Optical device and its manufacturing method]
The
図8の(a)に示す光デバイス10Aは、下記の工程を含む製造方法を用いて製造することにより、効率的に量産することができる。
The
工程1:半導体光導波路2を複数作成する。
Step 1: Create a plurality of semiconductor
工程2:変化率dω/dRの符号が負である光ファイバ1を複数作成する。
Step 2: A plurality of
工程3:工程2にて作成した複数の光ファイバ1から選出した光ファイバ1を第1のサンプルとし、第1のサンプルの電界分布を測定する。
Step 3: The
工程4:工程2にて作成した複数の光ファイバ1から選出した別の光ファイバ1を加熱することにより得られた、変化率dω/dRの符号が正である光ファイバ1を第2のサンプルとし、第2のサンプルの電界分布を測定する。
Step 4: A second sample is an
上記の工程1〜4を実施した後、上記の工程1にて作成した複数の半導体光導波路2の各々について、下記の工程を実施する。
After performing the
工程5:半導体光導波路2の電界分布を測定する。
Step 5: The electric field distribution of the semiconductor
工程6: 工程3にて測定した第1のサンプルの電界分布と、工程4にて測定した第2のサンプルの電界分布とのうち、どちらの電界分布が工程5にて測定した半導体光導波路2の電界分布に近いかを判定する。なお、2つの電界分布の遠近は、例えば、これら2つの電界分布の二乗誤差の大小に基づいて判定することができる。
Step 6: Of the electric field distribution of the first sample measured in
工程6にて第1のサンプルの電界分布の方が半導体光導波路2の電界分布に近いと判定された場合、下記の工程7を実施することにより光デバイス10Aを製造する。この場合、下記の工程8〜9は実施しない。一方、工程6にて第2のサンプルの電界分布の方が半導体光導波路2の電界分布に近いと判定された場合、下記の工程8〜9を実施することにより光デバイス10Aを製造する。この場合、下記の工程7は実施しない。
When it is determined in
工程7:工程1にて作成された、変化率dω/dRの符号が負である光ファイバ1に半導体光導波路2を空間結合させる。なお、光ファイバ1に半導体光導波路2を空間結合させる前に、ファイバクリーバを用いて光ファイバ1の端面を平滑化する工程を実施してもよい。
Step 7: The semiconductor
工程8:工程1にて製造された光ファイバ1を加熱することよって、変化率dω/dRの符号が正である光ファイバ1を作成する。なお、光ファイバ1の加熱には、例えば、アーク放電型の融着接続装置を用いればよい。また、光ファイバ1を加熱する際のパワーは、汎用シングルモードファイバ同士を融着接続する際のパワーよりも低いことが好ましい。光ファイバ1を加熱する際のパワーが大き過ぎると、光ファイバ1に好ましくない外形変化が生じたり、光ファイバ1のコア径Rを所望の値に変化させることが困難になったりする可能性があるためである。
Step 8: By heating the
工程9:工程8にて作成された、変化率dω/dRの符号が正である光ファイバ1に半導体光導波路2を空間結合させる。なお、光ファイバ1に半導体光導波路2を空間結合させる前に、ファイバクリーバを用いて光ファイバ1の端面を平滑化する工程を実施してもよい。
Step 9: The semiconductor
以上の製造方法を用いることによって、工程1にて作成される半導体光導波路2の電界分布にばらつきがある場合でも、結合効率の高い光デバイス10Aを効率的に量産することができる。
By using the above manufacturing method, it is possible to efficiently mass-produce the
なお、図8の(b)に示す光デバイス10Bは、光ファイバ1と汎用シングルモードファイバ3とを融着接続することによって製造することができる。光ファイバ1と汎用シングルモードファイバ3とを融着接続する際の熱により光ファイバ1のコア拡大が生じるため、光ファイバ1と汎用シングルモードファイバ3との境界において生じ得るモードフィールド径の不整合が軽減される。
The
〔付記事項〕
本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、本明細書に開示した技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
[Additional notes]
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made within the scope of the claims, and the present invention also relates to an embodiment obtained by appropriately combining the technical means disclosed in the present specification. Included in the technical scope of the invention.
1 光ファイバ
11 コア
12 クラッド
12a 内側クラッド
12b 外側クラッド
1
Claims (7)
上記コアの直径Rが4.7μm以下であり、
上記クラッドに対する上記コアの比屈折率差Δが0.7%以上であり、
上記コアの直径Rは、加熱により上記コアの直径Rが変化する場合に、上記コアの直径Rに対するモードフィールド径ωの変化率dω/dRの符号が負になるように決められており、
曲げ半径を7.5mmとしたときの波長1550nmにおける曲げ損失が0.1dB/turn以下である、
ことを特徴とする光ファイバ。 With a core and a clad covering the sides of the core,
The diameter R of the core is 4.7 μm or less, and the core has a diameter R of 4.7 μm or less.
The specific refractive index difference Δ of the core with respect to the cladding is 0.7% or more.
The diameter R of the core is determined so that when the diameter R of the core changes due to heating , the sign of the rate of change dω / dR of the mode field diameter ω with respect to the diameter R of the core becomes negative.
The bending loss at a wavelength of 1550 nm when the bending radius is 7.5 mm is 0.1 dB / turn or less.
An optical fiber characterized by that.
ことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ。 The specific refractive index difference Δ of the core with respect to the cladding is less than 2.0%.
The optical fiber according to claim 1.
上記クラッドに対する上記コアの比屈折率差Δが0.9%以上であり、
上記コアの直径Rに対するモードフィールド径ωの変化率dω/dRの符号が負であり、
曲げ半径を5mmとしたときの波長1550nmにおける曲げ損失が0.1dB/turn以下である、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の光ファイバ。 The diameter R of the core is 4.2 μm or less, and the core has a diameter R of 4.2 μm or less.
The specific refractive index difference Δ of the core with respect to the cladding is 0.9% or more.
The sign of the rate of change dω / dR of the mode field diameter ω with respect to the diameter R of the core is negative.
The bending loss at a wavelength of 1550 nm when the bending radius is 5 mm is 0.1 dB / turn or less.
The optical fiber according to claim 1 or 2.
上記クラッドは、上記コアの側面を覆う内側クラッドと、上記内側クラッドの側面を覆う外側クラッドと、を含み、
上記内側クラッドは、アップドーパント及びダウンドーパントの両方が添加された石英ガラスにより構成されており、
上記外側クラッドに対する上記内側クラッドの比屈折率差Δ2の絶対値|Δ2|が0.1%以下である、
ことを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載の光ファイバ。 The core is made of quartz glass with an updopant added.
The clad includes an inner clad covering the side surface of the core and an outer clad covering the side surface of the inner clad.
The inner clad is made of quartz glass to which both up-dopant and down-dopant are added.
The absolute value | Δ2 | of the specific refractive index difference Δ2 of the inner clad with respect to the outer clad is 0.1% or less.
The optical fiber according to any one of claims 1 to 3.
請求項4に記載の光ファイバを第1の光ファイバとし、請求項4に記載の光ファイバを加熱することにより得られた、変化率dω/dRの符号が正である光ファイバを第2の光ファイバとして、上記第1の光ファイバの電界分布の方が上記半導体光導波路の電界分布に近いか、上記第2の光ファイバの電界分布の方が上記半導体光導波路の電界分布に近いかを判定する工程を含み、
上記第1の光ファイバの電界分布の方が上記半導体光導波路の電界分布に近いと判定した場合、上記第1の光ファイバを上記半導体光導波路に空間結合することにより上記光デバイスを製造し、上記第2の光ファイバの電界分布の方が上記半導体光導波路の電界分布に近いと判定した場合、上記第2の光ファイバを上記半導体光導波路に空間結合することにより上記光デバイスを製造する、ことを特徴とする光デバイスの製造方法。 A method for manufacturing an optical device including an optical fiber and a semiconductor optical waveguide spatially coupled to the optical fiber.
The optical fiber according to claim 4 is used as the first optical fiber, and the optical fiber having a positive sign of the rate of change dω / dR obtained by heating the optical fiber according to claim 4 is the second optical fiber. As an optical fiber, whether the electric field distribution of the first optical fiber is closer to the electric field distribution of the semiconductor optical waveguide, or the electric field distribution of the second optical fiber is closer to the electric field distribution of the semiconductor optical waveguide. Including the judgment step
When it is determined that the electric field distribution of the first optical fiber is closer to the electric field distribution of the semiconductor optical waveguide, the optical device is manufactured by spatially coupling the first optical fiber to the semiconductor optical waveguide. When it is determined that the electric field distribution of the second optical fiber is closer to the electric field distribution of the semiconductor optical waveguide, the optical device is manufactured by spatially coupling the second optical fiber to the semiconductor optical waveguide. A method of manufacturing an optical device, characterized in that.
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