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JP6989089B2 - Method for manufacturing a film having an uneven shape - Google Patents
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Description

本発明は、凹凸形状を有する膜の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a film having an uneven shape.

表面に凹凸状パターンが設けられた膜は、様々な分野において利用されている。例えば、粘着シートの分野においては、独立した多数の小凸部を散点状に配置した粘着剤層を有する粘着加工シート、複数の凸部と隣接する凸部間に溝部とを形成した粘着剤層を有する粘着シートなどが知られている。 A film having an uneven pattern on its surface is used in various fields. For example, in the field of adhesive sheets, an adhesive processed sheet having an adhesive layer in which a large number of independent small convex portions are arranged in a scattered pattern, and an adhesive having a groove formed between a plurality of convex portions and adjacent convex portions. Adhesive sheets with layers are known.

また、室内装飾材料、家具、キャビネット類などに用いられる化粧材としては、近年高級複雑化した表面装飾および立体効果などを有し、美的効果の斬新なものが要求されるようになっている。このような化粧材を製造する方法として、例えば、エンボス加工と印刷加工を組み合わせて、基材表面に施された印刷模様と同調整合するエンボス凹凸模様を付与して、立体感を有する化粧材を製造する方法が知られている。 Further, as a decorative material used for interior decoration materials, furniture, cabinets, etc., in recent years, there is a demand for a novel aesthetic effect having a high-class and complicated surface decoration and a three-dimensional effect. As a method for producing such a decorative material, for example, an embossing process and a printing process are combined to give an embossed uneven pattern that is synchronized and matched with the printed pattern applied to the surface of the base material to obtain a decorative material having a three-dimensional effect. The method of manufacturing is known.

一方、液晶表示装置などのディスプレイにおいては、画面に外部から光が入射し、この光が反射して(グレアーあるいはギラツキなどといわれる)表示画像が見難くなることがある。そこで、ディスプレイの表面には様々な防眩処理が施されている。 On the other hand, in a display such as a liquid crystal display device, light is incident on the screen from the outside, and this light is reflected (called glare or glare), which may make it difficult to see the displayed image. Therefore, various antiglare treatments are applied to the surface of the display.

上記のような化粧材または防眩処理に用いられる凹凸膜の製造方法として、例えば、特許文献1に、塗工液を塗布して塗布層を形成後、加熱面に温度分布を有する所定形状のパターンが設けられた加熱板を、基材の裏面側に接触させることにより、塗布層を乾燥するとともに、その表面に凹凸状のパターンを形成させることにより凹凸パターンを形成する方法が開示されている。また、特許文献2には、基材上に設けられた溶媒を含むウェット塗工膜の表面から所定の距離をおいて、所定形状の凹凸状パターンが設けられた冷却板を、その凹凸状パターンが塗工膜面に対面するようにして、略平行に配設し、塗工膜中の溶媒を蒸散させることにより、凹凸パターンを形成する方法が開示されている。 As a method for producing a decorative material or an uneven film used for antiglare treatment as described above, for example, in Patent Document 1, a coating liquid is applied to form a coating layer, and then a predetermined shape having a temperature distribution on a heated surface is provided. A method is disclosed in which a heating plate provided with a pattern is brought into contact with the back surface side of a base material to dry the coating layer, and an uneven pattern is formed on the surface thereof to form an uneven pattern. .. Further, in Patent Document 2, a cooling plate provided with a concavo-convex pattern having a predetermined shape at a predetermined distance from the surface of a wet coating film containing a solvent provided on the base material is provided with the concavo-convex pattern. Disclosed is a method of forming an uneven pattern by arranging the coating film so as to face the coating film surface and arranging them substantially in parallel, and evaporating the solvent in the coating film.

特開2007−203247号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-203247 特開2009−226330号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-226330

しかしながら、特許文献1および2に記載の技術では、膜とパターン板とが接するときに、パターン板の凹凸のエッジによって膜に傷または凹凸の痕が付くという問題がある。また、パターン板の凹部には製造過程においてゴミが入りやすく、凹部は直径が数ミリと小さいため、凹部一つに対して、ごみが占める割合が大きくなると、凹部の熱伝導率に影響を与えるため、面内での熱伝導率分布に不均一さが生じるという問題もある。またさらには、特許文献2に記載の技術では、冷却板を用いることが必須であるため、塗工液の固形分が低い場合には、蒸発した溶剤が結露し塗工膜上に落下してしまうという問題がある。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、膜に傷および型(パターン板)の凹凸痕が生じるのを防止する凹凸形状を有する膜の製造方法を提供することを目的とするものである。
However, the techniques described in Patent Documents 1 and 2 have a problem that when the film and the pattern plate come into contact with each other, the uneven edges of the pattern plate cause scratches or marks on the film. In addition, dust easily enters the recesses of the pattern plate during the manufacturing process, and the recesses have a small diameter of only a few millimeters. Therefore, if the ratio of dust to one recess increases, the thermal conductivity of the recesses will be affected. Therefore, there is also a problem that the heat conductivity distribution in the plane becomes non-uniform. Furthermore, in the technique described in Patent Document 2, since it is essential to use a cooling plate, if the solid content of the coating liquid is low, the evaporated solvent will condense and fall onto the coating film. There is a problem that it will be stored.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a film having an uneven shape that prevents scratches and uneven marks of a mold (pattern plate) from occurring on the film. be.

本発明者の鋭意検討の結果、ある特定の材料を構成してなる熱伝導率差を有する平板を用いることで上記課題を解決できることを見出し、本願発明に成すに至った。
すなわち、本発明は、凹凸形状を有する膜の製造方法であって、
表面が平滑であり、かつ、表面において熱伝導率分布を有する平板を準備する第1の工程と、
平板の表面に、液状媒体および膜の材料を含有する塗工膜を配置する第2の工程と、
平板を加熱して、平板の表面に配置された塗工膜中の液状媒体を除去することにより、凹凸形状を有する膜を形成する第3の工程と、
を備える凹凸形状を有する膜の製造方法である。
As a result of diligent studies by the present inventor, it has been found that the above-mentioned problems can be solved by using a flat plate having a thermal conductivity difference made of a specific material, and the present invention has been achieved.
That is, the present invention is a method for manufacturing a film having an uneven shape.
The first step of preparing a flat plate having a smooth surface and having a thermal conductivity distribution on the surface,
A second step of arranging a coating film containing a liquid medium and a film material on the surface of a flat plate, and
A third step of forming a film having an uneven shape by heating the flat plate and removing the liquid medium in the coating film arranged on the surface of the flat plate.
It is a method of manufacturing a film having a concavo-convex shape.

本発明の凹凸形状を有する膜の製造方法において、熱伝導率分布は、少なくとも2種類の材料によって生じ、
少なくとも2種類の材料の熱伝導率差は、10W/m・K以上であることが好ましい。
In the method for producing a film having an uneven shape of the present invention, the thermal conductivity distribution is caused by at least two kinds of materials.
The difference in thermal conductivity between at least two types of materials is preferably 10 W / m · K or more.

また、熱伝導率分布は、少なくとも2種類の材料を周期的に配置されてなるものであってもよい。 Further, the thermal conductivity distribution may be formed by periodically arranging at least two kinds of materials.

少なくとも2種類の材料のうち、少なくとも1種類は金属であり、他の材料は有機材料であることが好ましい。 Of the at least two types of materials, at least one is preferably a metal and the other material is preferably an organic material.

第2の工程において、基材上に塗工膜を設けた後、基材を平板の表面に接触させることにより、表面に塗工膜を配置してもよい。 In the second step, after the coating film is provided on the base material, the coating film may be arranged on the surface by bringing the base material into contact with the surface of the flat plate.

第3の工程において、塗工膜の平板とは反対側の表面に、冷却板を近接させてもよい。 In the third step, the cooling plate may be brought close to the surface on the opposite side of the flat plate of the coating film.

基材の厚みは、1μm以上200μm以下であることが好ましい。 The thickness of the base material is preferably 1 μm or more and 200 μm or less.

膜の材料は、熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、熱硬化性樹脂、および活性エネルギー線重合性化合物の少なくとも1つであることが好ましい。 The material of the film is preferably at least one of a thermoplastic resin, a thermoplastic elastomer, a thermosetting resin, and an active energy ray-polymerizable compound.

本発明の製造方法によれば、傷および凹凸痕のない、凹凸形状を有する膜を提供することが可能である。 According to the manufacturing method of the present invention, it is possible to provide a film having an uneven shape without scratches and uneven marks.

図1は、本発明の凹凸形状を有する膜の製造方法の一実施形態を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the method for manufacturing a film having an uneven shape according to the present invention. 図2は、本発明の凹凸形状を有する膜の製造方法で用いる平板の一例を示す概略平面図である。FIG. 2 is a schematic plan view showing an example of a flat plate used in the method for producing a film having an uneven shape according to the present invention. 図3は、基材上に塗工膜を設けた場合の実施形態を示す概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment in which a coating film is provided on a base material. 図4は、冷却板を用いた場合の実施形態を示す概略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment when a cooling plate is used.

以下、本発明の一実施形態について、図1を参照しながら説明する。
[第1の工程]
第1の工程は、表面10cが平滑であり、かつ、表面10cにおいて熱伝導率分布を有する平板10を準備する工程である。
(平板)
平板10は、図1(a)に示すように、表面10cが平滑であり、かつ、表面10cにおいて熱伝導率分布を有する。平板10は、必ずしも平らな形状のみを示すものではなく、表面が平滑であって熱伝導率分布を有するものであれば、ロール状に加工されていてもよい。
ここで、「平滑」とは、最大高さRtが500nm以下であることを意味する。最大高さRtは、1nm以上200nm以下であることが好ましく、3nm以上20nm以下であることがさらに好ましい。なお、最大高さRtは実施例に記載した方法で測定する。
平板10は、例えば、図2に示すように、熱伝導率の高い金属板に孔11を形成した後、孔11に熱伝導率の低い材料を充填させることにより作製することができる。さらに、熱伝導率の低い材料を充填した後、平板10の表面10cを、バフ研磨、ベルト研磨、電解研磨、および化学機械研磨等の方法で研磨すること等により平滑にすることができる。このようにして、図1(a)に示すように、平板10の表面10cには、熱伝導率の高い領域10aと熱伝導率の低い領域10bとを周期的に配置されてなる熱伝導率分布が形成される。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
[First step]
The first step is a step of preparing a flat plate 10 having a smooth surface 10c and a thermal conductivity distribution on the surface 10c.
(Plate)
As shown in FIG. 1A, the flat plate 10 has a smooth surface 10c and a thermal conductivity distribution on the surface 10c. The flat plate 10 does not necessarily show only a flat shape, and may be processed into a roll shape as long as the surface is smooth and has a thermal conductivity distribution.
Here, "smooth" means that the maximum height Rt is 500 nm or less. The maximum height Rt is preferably 1 nm or more and 200 nm or less, and more preferably 3 nm or more and 20 nm or less. The maximum height Rt is measured by the method described in the examples.
As shown in FIG. 2, the flat plate 10 can be manufactured, for example, by forming a hole 11 in a metal plate having a high thermal conductivity and then filling the hole 11 with a material having a low thermal conductivity. Further, after filling with a material having a low thermal conductivity, the surface 10c of the flat plate 10 can be smoothed by polishing by a method such as buffing, belt polishing, electrolytic polishing, or chemical mechanical polishing. In this way, as shown in FIG. 1A, the thermal conductivity is formed by periodically arranging a region 10a having a high thermal conductivity and a region 10b having a low thermal conductivity on the surface 10c of the flat plate 10. A distribution is formed.

平板10の厚さは、100〜2000μmが好ましい。孔あけ加工における孔11の形状に特に制限はなく、円、楕円、長円、多角形状など、様々な形状に孔あけ加工することができるが、一般的には円形状の孔あけ加工が行われる。この場合、孔11の直径は、通常0.3〜4.0mm程度、好ましくは0.5〜3.5mmである。孔間のピッチ(隣接する孔11の中心点と中心点との距離は、通常0.5〜6.0mm、好ましくは0.7〜5.0mmである。また、隣接する孔11と孔11との間の最短距離は、通常0.2〜6.0mm程度、好ましくは0.5〜5.0mmである。例えば、図2に示すような孔間のピッチx(送りピッチ)と、孔11の列の間隔y(型ピッチ)を有し、60°千鳥配列状に並んだ孔パターンなどが適当である。
孔11の形成方法としては、ドリル加工、パンチング加工、エッチング加工、およびレーザー加工などを挙げることができる。
The thickness of the flat plate 10 is preferably 100 to 2000 μm. There is no particular limitation on the shape of the hole 11 in the drilling process, and the hole can be drilled into various shapes such as a circle, an ellipse, an ellipse, and a polygonal shape. Will be. In this case, the diameter of the hole 11 is usually about 0.3 to 4.0 mm, preferably 0.5 to 3.5 mm. The pitch between the holes (the distance between the center points of the adjacent holes 11 is usually 0.5 to 6.0 mm, preferably 0.7 to 5.0 mm. Further, the adjacent holes 11 and the holes 11 are adjacent to each other. The shortest distance between the holes is usually about 0.2 to 6.0 mm, preferably 0.5 to 5.0 mm. For example, the pitch x (feed pitch) between holes as shown in FIG. 2 and the holes. A hole pattern or the like having an interval y (type pitch) of 11 rows and arranging in a 60 ° staggered arrangement is suitable.
Examples of the method for forming the hole 11 include drilling, punching, etching, and laser machining.

熱伝導率分布を生じさせる材料のうち、少なくとも1種類は金属であり、他の材料は有機材料であることが好ましい。金属としては、アルミニウム(熱伝導率:230W/m・K)、ステンレス鋼板(例えば、SUS304の熱伝導率:16.1W/m・K)等の熱伝導率が15W/m・K以上のものを用いることができる。有機材料としては、アクリル樹脂(熱伝導率:0.3W/m・K)、ポリスチレン樹脂(熱伝導率:0.12W/m・K)等を用いることができる。また、有機材料にシリカ等の無機粒子を添加した熱伝導グリースを用いてもよい。 Of the materials that give rise to the thermal conductivity distribution, it is preferable that at least one kind is a metal and the other material is an organic material. As the metal, aluminum (thermal conductivity: 230 W / m · K), stainless steel plate (for example, thermal conductivity of SUS304: 16.1 W / m · K) and the like having a thermal conductivity of 15 W / m · K or more. Can be used. As the organic material, an acrylic resin (thermal conductivity: 0.3 W / m · K), a polystyrene resin (heat conductivity: 0.12 W / m · K) and the like can be used. Further, a heat conductive grease obtained by adding inorganic particles such as silica to an organic material may be used.

熱伝導率分布を生じさせるための少なくとも2種類の材料間の熱伝導率差は、10W/m・K以上であることが好ましい。図2では、熱伝導率が異なる2種の材料によって形成した熱伝導率分布を示したが、3種以上の材料を配置させることによって熱伝導率分布を形成してもよい。3種類以上の材料を配置させる場合、「少なくとも2種類の材料間の熱伝導率差は、10W/m・K以上である」とは、いずれの材料の組合せにおいても熱伝導率差が10W/m・K以上であることを意味する。 The difference in thermal conductivity between at least two types of materials for producing a thermal conductivity distribution is preferably 10 W / m · K or more. In FIG. 2, the thermal conductivity distribution formed by two kinds of materials having different thermal conductivitys is shown, but the thermal conductivity distribution may be formed by arranging three or more kinds of materials. When arranging three or more kinds of materials, "the difference in thermal conductivity between at least two kinds of materials is 10 W / m · K or more" means that the difference in thermal conductivity is 10 W / K regardless of the combination of the materials. It means that it is m · K or more.

[第2の工程]
第2の工程は、図1(a)および(b)に示すように、平板10の表面10cに、液状媒体および膜の材料を含有する塗工膜20を配置する工程である。
(塗工膜の形成)
塗工膜20の形成方法としては、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いることができる。この場合、塗工膜20の厚さが、乾燥後で、通常3〜200μm、好ましくは5〜150μm、より好ましくは10〜100μmになるようにする。
[Second step]
The second step is a step of arranging the coating film 20 containing the liquid medium and the material of the film on the surface 10c of the flat plate 10 as shown in FIGS. 1A and 1B.
(Formation of coating film)
As a method for forming the coating film 20, conventionally known methods such as a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, and a gravure coating method can be used. In this case, the thickness of the coating film 20 is usually 3 to 200 μm, preferably 5 to 150 μm, and more preferably 10 to 100 μm after drying.

(膜の材料)
本発明の凹凸形状を有する膜の製造方法において用いられる塗工膜20の材料としては、熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、熱硬化性樹脂および活性エネルギー線重合性化合物の少なくとも1つを基本成分として含み、さらに必要に応じて架橋剤、粘着付与剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、カップリング剤、難燃剤、着色剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤などを含んでもよい。
(Membrane material)
As the material of the coating film 20 used in the method for producing a film having an uneven shape of the present invention, at least one of a thermoplastic resin, a thermoplastic elastomer, a thermosetting resin and an active energy ray-polymerizable compound is used as a basic component. It may further contain a cross-linking agent, a tackifier, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a coupling agent, a flame retardant, a colorant, a light stabilizer, a leveling agent, an antifoaming agent and the like, if necessary.

(熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー)
熱可塑性樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
熱可塑性エラストマー(ゴム状弾性体を含む)としては、例えばスチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー、塩ビ系熱可塑性エラストマー、ウレタン系熱可塑性エラストマー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリアミド系熱可塑性エラストマー、フッ素系熱可塑性エラストマー、天然ゴム、共役ジエン系合成ゴムなどが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Thermoplastic resin, thermoplastic elastomer)
Examples of the thermoplastic resin include acrylic resin, silicone resin, polyester resin, polyvinyl chloride resin, polyolefin resin, polyamide resin, polycarbonate resin and the like. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
Examples of the thermoplastic elastomer (including rubber-like elastic material) include styrene-based thermoplastic elastomers, olefin-based thermoplastic elastomers, vinyl chloride-based thermoplastic elastomers, urethane-based thermoplastic elastomers, polyester-based thermoplastic elastomers, and polyamide-based thermoplastic elastomers. , Fluoroplastic elastomer, natural rubber, conjugated diene synthetic rubber and the like. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.

(熱硬化性樹脂)
熱硬化性樹脂としては、例えば炭素−炭素二重結合やグリシジル基を有するアクリレート系重合体、不飽和ポリエステル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの熱硬化性樹脂は、通常硬化剤が使用される。この硬化剤としては、例えば有機過酸化物、アゾ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリアミン類、酸無水物類、イミダゾール類やジシアンジアミド、ルイス酸、ホルムアルデヒドなどが挙げられ、使用する熱硬化性樹脂の種類に応じて適宜選択される。
(Thermosetting resin)
Examples of the thermosetting resin include an acrylate-based polymer having a carbon-carbon double bond and a glycidyl group, an unsaturated polyester, an epoxy resin, a phenol resin, a urea resin, and a melamine resin. These may be used alone or in combination of two or more.
As these thermosetting resins, a curing agent is usually used. Examples of the curing agent include organic peroxides, azo compounds, polyisocyanate compounds, polyamines, acid anhydrides, imidazoles, dicyandiamides, Lewis acids, formaldehyde, etc., and the types of thermosetting resins to be used include. It is appropriately selected accordingly.

(活性エネルギー線重合性化合物)
活性エネルギー線重合性化合物(電磁波または荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するもの、すなわち、紫外線または電子線などを照射することにより、架橋、硬化する重合性化合物)としては、例えば活性エネルギー線重合性プレポリマーおよび/または活性エネルギー線重合性モノマーを挙げることができる。活性エネルギー線重合性プレポリマーには、ラジカル重合型とカチオン重合型があり、ラジカル重合型の活性エネルギー線重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系などが挙げられる。
一方、カチオン重合型の活性エネルギー線重合性プレポリマーとしては、エポキシ系樹脂が通常使用される。このエポキシ系樹脂としては、例えばビスフェノール樹脂やノボラック樹脂などの多価フェノール類にエピクロルヒドリンなどでエポキシ化した化合物、直鎖状オレフィン化合物や環状オレフィン化合物を過酸化物などで酸化して得られた化合物などが挙げられる。
また、活性エネルギー線重合性モノマーとしては、例えば2官能以上の多官能アクリレート類を挙げることができる。
(Active energy ray-polymerizable compound)
Examples of the active energy ray-polymerizable compound (a polymer compound having an energy quantum in an electromagnetic wave or a charged particle beam, that is, a polymerizable compound that is crosslinked and cured by irradiation with an ultraviolet ray or an electron beam) are, for example, active energy ray-polymerized. Sexual prepolymers and / or active energy ray polymerizable monomers can be mentioned. The active energy ray-polymerizable prepolymer includes a radical polymerization type and a cationic polymerization type, and examples of the radical polymerization type active energy ray-polymerizable prepolymer include polyester acrylate-based, epoxy acrylate-based, urethane acrylate-based, and polyol acrylate-based. And so on.
On the other hand, an epoxy resin is usually used as the cationically polymerized active energy ray-polymerizable prepolymer. Examples of the epoxy resin include compounds obtained by epoxidizing polyhydric phenols such as bisphenol resin and novolak resin with epichlorohydrin and the like, and compounds obtained by oxidizing linear olefin compounds and cyclic olefin compounds with peroxides and the like. And so on.
Further, examples of the active energy ray-polymerizable monomer include bifunctional or higher functional acrylates.

(光重合開始剤)
活性エネルギー線重合性化合物には、所望により光重合開始剤が加えられる。この光重合開始剤としては、活性エネルギー線重合性のプレポリマーやモノマーの中でラジカル重合型の光重合性プレポリマーや光重合性モノマーに対しては、例えばベンゾイン類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、α−ヒドロキシケトン類、α−アミノケトン類、α−ジケトン類、α−ジケトンジアルキルアセタール類、アントラキノン類、チオキサントン類などが挙げられる。
また、カチオン重合型の光重合性プレポリマーに対する光重合開始剤としては、例えば芳香族スルホニウムイオン、芳香族オキソスルホニウムイオン、芳香族ヨードニウムイオンなどのオニウムと、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルセネートなどの陰イオンとからなる化合物が挙げられる。なお、活性エネルギー線として電子線を用いる場合には、光重合開始剤は用いなくてもよい。
(Photopolymerization initiator)
A photopolymerization initiator is added to the active energy ray-polymerizable compound, if desired. The photopolymerization initiator includes, for example, benzoins, benzophenones, and acetophenones for radical polymerization type photopolymerizable prepolymers and photopolymerizable monomers among active energy ray-polymerizable prepolymers and monomers. Examples thereof include α-hydroxyketones, α-aminoketones, α-diketones, α-diketone dialkylacetals, anthraquinones, thioxanthones and the like.
Examples of the photopolymerization initiator for the cationically polymerizable photopolymerizable prepolymer include oniums such as aromatic sulfonium ion, aromatic oxosulfonium ion, and aromatic iodonium ion, and tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, and hexafluoro. Examples thereof include compounds composed of anions such as antimonate and hexafluoroarsenate. When an electron beam is used as the active energy ray, the photopolymerization initiator may not be used.

(塗工液の種類)
本発明においては、用途に応じて様々な種類の塗工液を使用することができ、例えば粘着剤用塗工液、光学用ハードコート形成用塗工液、艶調整層形成用塗工液などを用いることが可能である。
例えば、粘着剤用塗工液を用いた場合には、粘着剤層表面に、凹凸状の微細パターンが形成されるので、被着体に貼付する場合、空気の流通経路ができ、空気の留まりが生じにくくなり、貼付性が良好となる。
艶調整層形成用塗工液を用いた場合には、膜表面に、凹凸状の微細パターンが形成され、光の乱反射により、艶調整効果が発揮されるため、化粧シートや壁紙などに用いることができる。
光学用ハードコート形成用塗工液を用いた場合には、膜表面に、凹凸状の微細パターンが形成されるため、防眩性ハードコート層などに用いることができる。
(Type of coating liquid)
In the present invention, various kinds of coating liquids can be used depending on the intended use, for example, a coating liquid for adhesives, a coating liquid for forming an optical hard coat, a coating liquid for forming a gloss adjusting layer, and the like. Can be used.
For example, when a coating liquid for an adhesive is used, an uneven fine pattern is formed on the surface of the adhesive layer, so that when it is attached to an adherend, an air flow path is created and air stays. Is less likely to occur, and the stickability is improved.
When a coating liquid for forming a gloss adjusting layer is used, an uneven fine pattern is formed on the film surface, and the diffused reflection of light exerts a gloss adjusting effect. Therefore, it should be used for decorative sheets and wallpaper. Can be done.
When the coating liquid for forming an optical hard coat is used, it can be used as an antiglare hard coat layer or the like because an uneven fine pattern is formed on the film surface.

(塗工液の液状媒体、粘度)
本発明において用いられる塗工液は、液状媒体を含み、液状媒体については特に制限はなく、塗工液に含まれる樹脂成分や重合性化合物の種類に応じて、水および各種有機溶媒の中から適宜選択することができる。有機溶媒としては、例えばヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル系溶剤等を挙げることができる。
塗工液の濃度に特に制限はないが、本発明の効果が好適に発揮される点から、温度23℃における粘度が、10〜3500mPa・s程度、好ましくは、50〜3000mPa・s、より好ましくは、100〜2500mPa・sになるような濃度が好適である。
(Liquid medium of coating liquid, viscosity)
The coating liquid used in the present invention contains a liquid medium, and the liquid medium is not particularly limited. Depending on the type of resin component and polymerizable compound contained in the coating liquid, water and various organic solvents can be selected. It can be selected as appropriate. Examples of the organic solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and ethylene chloride, alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, and acetone. , Methyl ethyl ketone, 2-pentanone, isophorone, cyclohexanone and other ketones, ethyl acetate, butyl acetate and other esters, ethyl cellosolve and other cellosolve solvents, propylene glycol monomethyl ether and other glycol ether solvents and the like.
The concentration of the coating liquid is not particularly limited, but the viscosity at a temperature of 23 ° C. is about 10 to 3500 mPa · s, preferably 50 to 3000 mPa · s, from the viewpoint that the effect of the present invention is preferably exhibited. Is preferably a concentration of 100 to 2500 mPa · s.

(基材)
塗工膜20は、図3(a)および(b)に示すように、平板10の表面10c上に、基材22上に塗工膜20を形成した後、配置してもよい。その後、平板10を加熱板30で加熱することにより、膜21の表面21cに凹凸形状を形成することができる。
基材22については特に制限はなく、例えば紙基材、プラスチックフィルムやプラスチックシート、金属箔、金属シートなどが挙げられ、用途に応じて適宜選択することができる。これらの基材は、単独で用いてもよく、紙同士、あるいはプラスチックフィルムやプラスチックシート同士などの同種の素材の複合体、紙とプラスチックフィルムやプラスチックシートなどの異種の素材の複合体など、任意の素材を組み合わせた積層シートを用いることもできる。
紙基材としては、例えば薄葉紙、クラフト紙、コート紙、アート紙、硫酸紙、グラシン紙、パーチメント紙、パラフィン紙、和紙、チタン紙、リンター紙、板紙、石膏ボード用原紙、あらかじめ紙間の強化の目的で樹脂を含浸してなる樹脂含浸紙、紙の表面に塩化ビニル樹脂層を設けたビニル壁紙原反などが挙げられる。
(Base material)
As shown in FIGS. 3A and 3B, the coating film 20 may be arranged after forming the coating film 20 on the base material 22 on the surface 10c of the flat plate 10. After that, by heating the flat plate 10 with the heating plate 30, an uneven shape can be formed on the surface 21c of the film 21.
The base material 22 is not particularly limited, and examples thereof include a paper base material, a plastic film, a plastic sheet, a metal foil, a metal sheet, and the like, and can be appropriately selected depending on the intended use. These base materials may be used alone, and may be arbitrary, such as a composite of papers or materials of the same type such as plastic films or plastic sheets, or a composite of paper and different materials such as plastic films or plastic sheets. It is also possible to use a laminated sheet in which the materials of the above are combined.
Paper base materials include, for example, thin leaf paper, kraft paper, coated paper, art paper, sulfate paper, glassin paper, parchment paper, paraffin paper, Japanese paper, titanium paper, linter paper, paperboard, base paper for gypsum board, and reinforcement between papers in advance. Examples thereof include resin-impregnated paper impregnated with resin for the purpose of the above, vinyl wallpaper raw fabric having a vinyl chloride resin layer on the surface of the paper, and the like.

プラスチックフィルムやプラスチックシートとしては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム等、および、これらの樹脂のシートなどを挙げることができる。
金属箔、または金属シートとしては、例えばアルミニウム、鉄、ステンレス鋼、または銅等の素材からなるものが使用される。
本発明においては、基材の厚さに特に制限はなく、用途に応じて広い範囲、例えば20μmないし10mm程度の範囲で適宜選択される。より好ましくは、1μm以上200μm以下である。
Examples of plastic films and plastic sheets include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polyethylene films, polypropylene films, cellophane, diacetyl cellulose films, triacetyl cellulose films, acetyl cellulose butyrate films, and polyvinyl chlorides. Film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, polystyrene film, polycarbonate film, polymethylpentene film, polysulfone film, polyether ether ketone film, polyether sulfone film, polyetherimide film, Examples thereof include a polyimide film, a fluororesin film, a polyamide film, an acrylic resin film, a norbornene-based resin film, a cycloolefin resin film, and a sheet of these resins.
As the metal foil or the metal sheet, those made of a material such as aluminum, iron, stainless steel, or copper are used.
In the present invention, the thickness of the base material is not particularly limited, and a wide range, for example, a range of about 20 μm to 10 mm is appropriately selected depending on the intended use. More preferably, it is 1 μm or more and 200 μm or less.

(プラスチック基材の表面処理)
基材22として、プラスチックフィルムやプラスチックシートを用いる場合、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面または両面に、酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、プラズマ処理、クロム酸処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は基材の種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果および操作性などの面から、好ましく用いられる。また、プライマー処理を施すこともできる。
(Surface treatment of plastic base material)
When a plastic film or a plastic sheet is used as the base material 22, one side or both sides thereof is preferably surface-treated by an oxidation method, an unevenness method, or the like for the purpose of improving the adhesion to the layer provided on the surface thereof. Can be done. Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, plasma treatment, chromic acid treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment, and the like, and examples of the unevenness method include a sandblast method and a solvent. The processing method and the like can be mentioned. These surface treatment methods are appropriately selected depending on the type of the base material, but in general, the corona discharge treatment method is preferably used from the viewpoints of effectiveness and operability. It is also possible to apply a primer treatment.

[第3の工程]
第3の工程は、図1(c)に示すように、平板10を加熱板30等で加熱して、平板10の表面10cに配置された塗工膜20中の液状媒体を除去することにより、表面21cに凹凸形状を有する膜21を形成する工程である。
平板10を加熱することによる膜の凹凸形状が形成されるメカニズムは以下の通りである。液状媒体を含有する塗工膜20が加熱されると、熱伝導率の高い領域10aと接する領域の塗工膜20は、気化熱によって塗工膜20の温度が下がり、温度低下による表面張力の上昇によって、加熱部分に凸形状が形成される。本発明では、平板10の熱伝導率分布によって、熱伝導率の高い領域10aと接する塗工膜20の部分と熱伝導率の高い領域10aと接する塗工膜20の部分とで塗工膜20の乾燥速度に差が生じる。この乾燥速度の違いによって、塗工膜20に生じる表面張力に勾配が生じ、表面に凹凸形状を形成する膜を形成することができる。
[Third step]
In the third step, as shown in FIG. 1 (c), the flat plate 10 is heated by a heating plate 30 or the like to remove the liquid medium in the coating film 20 arranged on the surface 10c of the flat plate 10. This is a step of forming a film 21 having an uneven shape on the surface 21c.
The mechanism by which the uneven shape of the film is formed by heating the flat plate 10 is as follows. When the coating film 20 containing the liquid medium is heated, the temperature of the coating film 20 in the region in contact with the region 10a having high thermal conductivity is lowered by the heat of vaporization, and the surface tension due to the temperature decrease is increased. By rising, a convex shape is formed in the heated portion. In the present invention, due to the thermal conductivity distribution of the flat plate 10, the coating film 20 is formed by a portion of the coating film 20 in contact with the region 10a having a high thermal conductivity and a portion of the coating film 20 in contact with the region 10a having a high thermal conductivity. There is a difference in the drying rate. Due to this difference in drying speed, a gradient is generated in the surface tension generated in the coating film 20, and a film forming an uneven shape can be formed on the surface.

(加熱板)
平板10の加熱方法に特に制限はないが、図1(b)および(c)に示すように、加熱板30を平板10の裏面10dに接触させて行う方法が好ましい。加熱板30の形状に特に制限なく、平板状であってもよく、凹凸形状を有するものであってもよい。
加熱板30としては、熱伝導性金属の平板の他、熱伝導性金属板に複数の孔あけ加工を施したものを用いることができる。熱伝導性金属板としては、特に制限はなく、例えばアルミニウム板やステンレス鋼板などが用いられる。
加熱板30の温度は50〜200℃が好ましい。温度が低すぎると、加熱部と非加熱部の温度差が小さく、表面張力流れが生じにくい。温度が高すぎると加熱時の基材の熱変形が懸念される。
(Heating plate)
The method for heating the flat plate 10 is not particularly limited, but as shown in FIGS. 1B and 1C, a method in which the heating plate 30 is brought into contact with the back surface 10d of the flat plate 10 is preferable. The shape of the heating plate 30 is not particularly limited, and may be a flat plate or may have an uneven shape.
As the heating plate 30, in addition to a flat plate of a heat conductive metal, a plate obtained by subjecting a plurality of holes to a heat conductive metal plate can be used. The heat conductive metal plate is not particularly limited, and for example, an aluminum plate or a stainless steel plate is used.
The temperature of the heating plate 30 is preferably 50 to 200 ° C. If the temperature is too low, the temperature difference between the heated portion and the non-heated portion is small, and surface tension flow is unlikely to occur. If the temperature is too high, there is a concern about thermal deformation of the base material during heating.

塗工膜20の形成から、加熱板30に塗工膜20(または基材22)を接触させるまでの時間は、塗工液中の溶媒の種類や膜厚にもよるが、通常0〜30秒間程度である。30秒を超えると、塗布層表面が固化してしまい、所定のパターン形状が得られなくなる場合がある。
また、塗布直後の塗布層表面は、溶媒の蒸発による温度低下が生じ、雰囲気中の水蒸気が塗布層表面に凝縮するおそれがあるため、あらかじめ塗布層表面の温度低下を非接触温度計などで測定し、雰囲気を調温調湿するなどの対策を施すことが好ましい。さらに、加熱板30に塗工膜20を接触させている時間は、15〜500秒間が好ましい。
連続塗布装置を用いる場合には、熱伝導率分布を有する平板10をロール状に加工し、そのロール状の平板10を公知の加熱装置によって加熱してもよい。
The time from the formation of the coating film 20 to the contact of the coating film 20 (or the base material 22) with the heating plate 30 varies depending on the type and film thickness of the solvent in the coating liquid, but is usually 0 to 30. It is about a second. If it exceeds 30 seconds, the surface of the coating layer may be solidified and a predetermined pattern shape may not be obtained.
In addition, the temperature of the coated layer surface immediately after coating may drop due to evaporation of the solvent, and water vapor in the atmosphere may condense on the coated layer surface. Therefore, the temperature drop on the coated layer surface is measured in advance with a non-contact thermometer or the like. However, it is preferable to take measures such as controlling the temperature and humidity of the atmosphere. Further, the time for contacting the coating film 20 with the heating plate 30 is preferably 15 to 500 seconds.
When a continuous coating device is used, the flat plate 10 having a thermal conductivity distribution may be processed into a roll shape, and the roll-shaped flat plate 10 may be heated by a known heating device.

なお、塗工膜20は、図3(a)および(b)に示すように、基材22上に塗工膜20を設けた後、基材22を平板10の表面10cに接触させることにより、表面10cに塗工膜20を配置してもよい。その後、図3(c)に示すように、加熱板30で平板10を加熱することにより、表面21cに凹凸形状を有する膜21が形成される。 As shown in FIGS. 3A and 3B, the coating film 20 is formed by providing the coating film 20 on the base material 22 and then bringing the base material 22 into contact with the surface 10c of the flat plate 10. , The coating film 20 may be arranged on the surface 10c. Then, as shown in FIG. 3C, by heating the flat plate 10 with the heating plate 30, a film 21 having an uneven shape is formed on the surface 21c.

(冷却板)
第3の工程において、図4(a)に示すように、塗工膜20の平板10とは反対側の表面20aに、冷却板40を近接させてもよい。そして、加熱板30を加熱することにより、図4(b)に示すように、凹凸形状を形成することができる。
ここで、「近接」とは塗工膜20の表面20aから冷却板40の最も突出した点において、0.1mm以上5mm以下であることを意味する。より好ましくは、0.5〜1.5mmである。
冷却板40は平板10の熱伝導分布に対応した凹凸形状を有することが好ましい。冷却板40を、塗工膜20の表面20aに近接させる場合、図4に示されるように、冷却板40の凸部40aを、平板10の熱伝導率が高い領域10aに対応させることにより、加熱板30の熱伝導率が高い領域10aが接触している部分に対応する塗工膜20の表面20aの表面温度が気化熱により下がるため、より効果的に塗工膜の表面温度差を設けることができ、その結果形成する凹凸形状が一層明瞭となる。
(Cooling plate)
In the third step, as shown in FIG. 4A, the cooling plate 40 may be brought close to the surface 20a of the coating film 20 opposite to the flat plate 10. Then, by heating the heating plate 30, the uneven shape can be formed as shown in FIG. 4 (b).
Here, "proximity" means that the point at which the cooling plate 40 protrudes most from the surface 20a of the coating film 20 is 0.1 mm or more and 5 mm or less. More preferably, it is 0.5 to 1.5 mm.
The cooling plate 40 preferably has an uneven shape corresponding to the heat conduction distribution of the flat plate 10. When the cooling plate 40 is brought close to the surface 20a of the coating film 20, as shown in FIG. 4, the convex portion 40a of the cooling plate 40 is made to correspond to the region 10a having high thermal conductivity of the flat plate 10. Since the surface temperature of the surface 20a of the coating film 20 corresponding to the portion in contact with the region 10a having high thermal conductivity of the heating plate 30 is lowered by the heat of vaporization, the surface temperature difference of the coating film is more effectively provided. As a result, the uneven shape formed becomes clearer.

冷却板40としては、例えば熱伝導性金属板を加工してなるものを用いることができる。熱伝導性金属板としては、特に制限はなく、例えばアルミニウム板やステンレス鋼板などを用いることができる。冷却板40の厚さは、0.1〜2mmが好ましい。なお、凹凸形状を設けた冷却板40における厚さは、背面と凹部内部における底面との間の距離を示す。 As the cooling plate 40, for example, one made by processing a heat conductive metal plate can be used. The heat conductive metal plate is not particularly limited, and for example, an aluminum plate or a stainless steel plate can be used. The thickness of the cooling plate 40 is preferably 0.1 to 2 mm. The thickness of the cooling plate 40 provided with the uneven shape indicates the distance between the back surface and the bottom surface inside the recess.

凸部40aの形状については特に制限はなく、円柱状、楕円柱状、長円柱状、多角柱状などを挙げることができる。また、各凸部40aは幾何学的に配列していてもよいし、模様状に配列していてもよく、ランダムに配列していてもよい。凸部40aの高さ(凹部底面から凸部先端までの距離)は、通常0.05〜100mm程度、好ましくは1〜5mmであり、また、円柱状の場合、その断面直径は、通常0.3〜4.0mm程度、好ましくは0.5〜3.5mmであり、凸部間のピッチ(隣接する凸部40aの中心点と中心点との距離)は、通常0.5〜6.0mm、好ましくは0.7〜5.0mmである。また、隣接する凸部40aと凸部40aとの間の最短距離は、通常0.2〜6.0mm程度、好ましくは0.5〜5.0mmである。 The shape of the convex portion 40a is not particularly limited, and examples thereof include a columnar shape, an elliptical columnar shape, an oblong columnar shape, and a polygonal columnar shape. Further, the convex portions 40a may be arranged geometrically, may be arranged in a pattern, or may be arranged randomly. The height of the convex portion 40a (distance from the bottom surface of the concave portion to the tip of the convex portion) is usually about 0.05 to 100 mm, preferably 1 to 5 mm, and in the case of a columnar shape, the cross-sectional diameter thereof is usually 0. It is about 3 to 4.0 mm, preferably 0.5 to 3.5 mm, and the pitch between the convex portions (distance between the center points of the adjacent convex portions 40a) is usually 0.5 to 6.0 mm. It is preferably 0.7 to 5.0 mm. The shortest distance between the adjacent convex portions 40a is usually about 0.2 to 6.0 mm, preferably 0.5 to 5.0 mm.

冷却板40の表面温度は、効果の面から、5〜20℃が好ましく、10〜15℃がより好ましい。この場合、冷却板40と加熱板30の表面温度の差は冷却板40の凹凸に対応する凹凸形状形成性の観点から、20〜70℃が好ましく、40〜60℃がより好ましい。 The surface temperature of the cooling plate 40 is preferably 5 to 20 ° C, more preferably 10 to 15 ° C from the viewpoint of effectiveness. In this case, the difference in surface temperature between the cooling plate 40 and the heating plate 30 is preferably 20 to 70 ° C, more preferably 40 to 60 ° C, from the viewpoint of forming the uneven shape corresponding to the unevenness of the cooling plate 40.

塗工膜形成後から、冷却板40を塗工膜20の表面20aに近接させるまでの時間は、塗工膜中の液状媒体の種類や膜厚にもよるが、通常0〜30秒間程度である。30秒を超えると、塗布層表面が固化してしまい、所定のパターン形状が得られなくなる場合がある。 The time from the formation of the coating film until the cooling plate 40 is brought close to the surface 20a of the coating film 20 is usually about 0 to 30 seconds, although it depends on the type and film thickness of the liquid medium in the coating film. be. If it exceeds 30 seconds, the surface of the coating layer may be solidified and a predetermined pattern shape may not be obtained.

塗工膜20の表面近傍に所定形状の凹凸形状が設けられた冷却板40を配設し、かつ塗工膜20中の液状媒体を蒸散させることにより、冷却板40の凹凸に対応する凹凸形状が、塗工膜表面に形成される機構としては、次のことが推測される。
流体の自由表面に温度差があると、表面張力に差が生じ、表面張力の大きな方(低温側)に流体表面が引っ張られるために流れ、いわゆるマランゴニ対流が生じる。
塗工膜の表面近傍に所定形状の凹凸形状を有する冷却板40を配設することにより、冷却板40の形状に対応して、塗工膜表面に温度差が生じる。その結果、表面温度が高い所から低い所に流れようとする駆動力が発生し、表面温度の高い部分が凹部を、低い部分が凸部を形成すると推測される。
By disposing a cooling plate 40 having a predetermined uneven shape near the surface of the coating film 20 and evaporating the liquid medium in the coating film 20, the uneven shape corresponding to the uneven shape of the cooling plate 40. However, the following is presumed as the mechanism formed on the surface of the coating film.
When there is a temperature difference on the free surface of the fluid, a difference in surface tension occurs, and the fluid surface is pulled toward the side with the larger surface tension (low temperature side), causing a flow, so-called Marangoni convection.
By arranging the cooling plate 40 having a predetermined uneven shape in the vicinity of the surface of the coating film, a temperature difference is generated on the surface of the coating film corresponding to the shape of the cooling plate 40. As a result, it is presumed that a driving force that tends to flow from a place where the surface temperature is high to a place where the surface temperature is low is generated, and a portion having a high surface temperature forms a concave portion and a portion having a low surface temperature forms a convex portion.

(エネルギー硬化塗工膜の形成)
このようにして、平板10の熱伝導率差に対応する凹凸形状を有する膜が得られるが、本発明においては、塗工膜20に、必要に応じてさらにエネルギーを印加して、塗工膜20を硬化させることができる。例えば、活性光線硬化型重合性化合物を含む塗工液を用いた場合、上記のようにして、表面に凹凸形状を有する乾燥塗工膜を形成したのち、これに紫外線や電子線などの活性光線を照射して硬化樹脂膜を形成させる。この硬化樹脂膜の表面には、乾燥塗工膜の表面に設けられた凹凸形状が、そのまま残る。
また、熱エネルギー硬化型樹脂を含む塗工液を用いた場合、前記のようにして、表面に凹凸形状を有する乾燥塗工膜または熱硬化塗工膜を形成したのち、これらに熱エネルギーを印加し、完全熱硬化させることもできる。この完全熱硬化樹脂膜の表面には、前記の乾燥塗工膜または熱硬化塗工膜の表面に設けられた凹凸形状が、そのまま残る。
(Formation of energy-curing coating film)
In this way, a film having an uneven shape corresponding to the difference in thermal conductivity of the flat plate 10 can be obtained. In the present invention, further energy is applied to the coating film 20 as needed to obtain the coating film. 20 can be cured. For example, when a coating liquid containing an active photocurable polymerizable compound is used, after forming a dry coating film having an uneven shape on the surface as described above, active rays such as ultraviolet rays and electron beams are formed on the dry coating film. Is irradiated to form a cured resin film. On the surface of this cured resin film, the uneven shape provided on the surface of the dry coating film remains as it is.
When a coating liquid containing a thermosetting resin is used, heat energy is applied to the dry coating film or the thermosetting coating film having an uneven shape on the surface as described above. However, it can be completely heat-cured. On the surface of the completely thermosetting resin film, the uneven shape provided on the surface of the dry coating film or the thermosetting coating film remains as it is.

このように、本発明によれば、膜に、傷や型の凹凸痕をつけることなく、所定形状の凹凸形状を形成することができる。
このようにして製造された表面に凹凸形状を有する膜は、例えば粘着剤層、光学用ハードコート層、化粧材における艶調整層や立体感付与層などとして有用である。特に、本発明の製造方法によれば、3種以上の材料によって構成される熱伝導率分布を有する平板10を用いてき、複雑な表面装飾も作製可能な、凹凸形状を有する膜を得ることができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to form an uneven shape having a predetermined shape without making scratches or uneven marks on the film.
The film having an uneven shape on the surface produced in this way is useful as, for example, an adhesive layer, an optical hard coat layer, a gloss adjusting layer in a decorative material, a three-dimensional effect imparting layer, and the like. In particular, according to the production method of the present invention, it is possible to obtain a film having an uneven shape capable of producing a complicated surface decoration by using a flat plate 10 having a thermal conductivity distribution composed of three or more kinds of materials. can.

以下に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.

[実施例1]
(第1の工程)
熱伝導率分布を有する平板を以下のようにして作製した。まず、厚さ0.5mm、片面の面積が25cm(5cm×5cm)のアルミニウム板に、パンチング加工により500μmφの孔を、送りピッチ1mm、型ピッチ0.5mmで、60°千鳥状に配列加工し形成した。次に、全ての孔に、熱伝導率の低い材料としてアクリル樹脂(JSR(株)製、商品名「オプスターZ7530」(UV硬化型アクリルモノマー))を充填した。最後に、表面(両面)を、400番手のバフ研磨により研磨して平らにした。非接触型3次元光干渉式表面粗さ計(日本Veeco社製、商品名:Wyko NT1100)を用いて測定した研磨面の最大高さRtは15nmであった。
(第2の工程)
ポリエチレンテレフタレートを基材とする剥離フィルム(リンテック株式会社 SP−PET 50)の剥離処理面に、アクリル系粘着剤(日本カーバイド工業株式会社製、商品名「ニッセツPE-121」、固形分20wt%)を塗工して、フィルム上に厚さ80μmの塗工膜を形成した。
(第3の工程)
次に、70℃に加熱された加熱板(株式会社北里サイエンス マイクロヒートプレート MP-1000H)に、平板および基材つき塗工膜を順次配置し、平板を介して試料を1分間加熱し、凹凸形状を有する膜を得た。
平板と接していた、基材の裏面に傷は観察されなかった。
[Example 1]
(First step)
A flat plate having a thermal conductivity distribution was produced as follows. First, a hole of 500 μmφ is punched into an aluminum plate with a thickness of 0.5 mm and an area of 25 cm 2 (5 cm × 5 cm) on one side, and a hole with a feed pitch of 1 mm and a mold pitch of 0.5 mm is arranged in a 60 ° staggered pattern. Formed. Next, all the pores were filled with an acrylic resin (manufactured by JSR Co., Ltd., trade name "Opstar Z7530" (UV curable acrylic monomer)) as a material having low thermal conductivity. Finally, the surface (both sides) was polished and flattened by 400 count buffing. The maximum height Rt of the polished surface measured using a non-contact three-dimensional optical interferometry surface roughness meter (manufactured by Veeco Japan, trade name: Wyko NT1100) was 15 nm.
(Second step)
Acrylic adhesive (manufactured by Nippon Carbide Industry Co., Ltd., trade name "Nisetsu PE-121", solid content 20 wt%) on the peeled surface of the peeling film (Lintec Corporation SP-PET 50) using polyethylene terephthalate as the base material. Was applied to form a coating film having a thickness of 80 μm on the film.
(Third step)
Next, a flat plate and a coating film with a base material are sequentially arranged on a heating plate heated to 70 ° C. (Kitazato Science Micro Heat Plate MP-1000H), and the sample is heated for 1 minute through the flat plate to make unevenness. A film having a shape was obtained.
No scratches were observed on the back surface of the substrate, which was in contact with the flat plate.

[実施例2]
全ての孔に熱伝導グリース(信越化学工業株式会社製、サーマルグリース 商品名「WW−7868」)を充填した平板を用いた以外は実施例1と同様にした。実施例1と同様、平板と接していた基材の裏面に傷は観察されなかった。平板の研磨面の最大高さRtは15nmであった。
[Example 2]
The same procedure as in Example 1 was carried out except that a flat plate in which all the holes were filled with thermal grease (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., thermal grease trade name “WW-7868”) was used. Similar to Example 1, no scratches were observed on the back surface of the base material which was in contact with the flat plate. The maximum height Rt of the polished surface of the flat plate was 15 nm.

[実施例3]
アルミニウム板の代わりにステンレス鋼板(SUS304)を用いた以外は実施例1と同様にした。平板の研磨面の最大高さRtは19nmであった。
[Example 3]
The same procedure as in Example 1 was carried out except that a stainless steel plate (SUS304) was used instead of the aluminum plate. The maximum height Rt of the polished surface of the flat plate was 19 nm.

[実施例4]
アクリル樹脂の代わりに熱伝導グリース(信越化学工業株式会社製、サーマルグリース 商品名「WW−7868」)を用いた場合は、実施例3と同様にした。平板の研磨面の最大高さRtは19nmであった。
[Example 4]
When a heat conductive grease (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., thermal grease trade name "WW-7868") was used instead of the acrylic resin, the same procedure as in Example 3 was carried out. The maximum height Rt of the polished surface of the flat plate was 19 nm.

[比較例1]
上記熱伝導率分布を有する平板の代わりに平らなアルミニウム板(実施例1で用いたアルミニウム板の孔を形成していないもの)を用いてホットプレートで加熱した以外は、実施例1と同様にした。膜表面は平滑で、アルミニウム板と接していた基材の裏面は傷が観察されなかった。
[Comparative Example 1]
Similar to Example 1 except that a flat aluminum plate (which does not form holes in the aluminum plate used in Example 1) was used instead of the flat plate having the above thermal conductivity distribution and heated with a hot plate. did. The surface of the film was smooth, and no scratches were observed on the back surface of the base material that was in contact with the aluminum plate.

[比較例2]
アルミニウム板の代わりに、ステンレス鋼板(SUS304)(実施例3で用いたステンレス鋼板の孔を形成していないもの)を用いた以外は比較例1と同様にした。
[Comparative Example 2]
The same procedure as in Comparative Example 1 was carried out except that a stainless steel plate (SUS304) (which did not form holes in the stainless steel plate used in Example 3) was used instead of the aluminum plate.

[比較例3]
実施例1の平板の代わりに、アルミニウム板に500μmφの孔を60°千鳥状パターンに加工した凹凸パターン板を用いた。塗工膜を、凹凸板を介して加熱板で加熱した結果、膜表面に凹凸が形成された。一方凹凸パターン板と接していた、基材の裏面には、約500μmφの円弧状の傷がついた。平板の基材付塗工膜を配置した側の最大高さはRtは500μmである。
[Comparative Example 3]
Instead of the flat plate of Example 1, a concavo-convex pattern plate in which holes of 500 μmφ were processed into a 60 ° zigzag pattern was used. As a result of heating the coating film with the heating plate via the uneven plate, unevenness was formed on the film surface. On the other hand, the back surface of the base material, which was in contact with the uneven pattern plate, had an arcuate scratch of about 500 μmφ. The maximum height on the side where the coating film with a base material of the flat plate is arranged has an Rt of 500 μm.

[比較例4]
アルミニウム板の代わりに、ステンレス鋼板(SUS304)を用いた以外は比較例3と同様にした。平板の基材付塗工膜を配置した側の最大高さRtは500μmである。
[Comparative Example 4]
The same procedure as in Comparative Example 3 was carried out except that a stainless steel plate (SUS304) was used instead of the aluminum plate. The maximum height Rt on the side where the coating film with a base material of the flat plate is arranged is 500 μm.

上記実施例および比較例で得られた膜の評価は下記の方法で行った。
(膜表面凹凸評価)
光学式顕微鏡(株式会社キーエンス、デジタルマイクロスコープ VHX5000)で第3の工程後、膜表面の凹凸を観察した。観察倍率は250倍であり、得られた膜の表面の面積25mm×25mmにおける任意の25点で観測を行った。観測位置の一点における観測面積は1600μm×1200μmであった。
The evaluation of the membranes obtained in the above Examples and Comparative Examples was performed by the following method.
(Evaluation of film surface unevenness)
After the third step, the unevenness of the film surface was observed with an optical microscope (Keyence Co., Ltd., Digital Microscope VHX5000). The observation magnification was 250 times, and observation was performed at arbitrary 25 points in an area of 25 mm × 25 mm on the surface of the obtained film. The observation area at one point of the observation position was 1600 μm × 1200 μm.

(基材の裏面傷評価)
光学式顕微鏡(株式会社キーエンス、デジタルマイクロスコープ VHX5000)で、第3の工程後、基材の裏面(塗工膜を設けた面と反対側の面)を観察した。観察倍率は250倍であり、基材の裏面の面積25mm×25mmにおける任意の25点で観測を行った。観測位置の一点における観測面積は1600μm×1200μmであった。
(Evaluation of scratches on the back surface of the base material)
After the third step, the back surface of the substrate (the surface opposite to the surface provided with the coating film) was observed with an optical microscope (Keyence Co., Ltd., Digital Microscope VHX5000). The observation magnification was 250 times, and observation was performed at arbitrary 25 points in an area of 25 mm × 25 mm on the back surface of the base material. The observation area at one point of the observation position was 1600 μm × 1200 μm.

(凹凸の高低差評価)
なお、作製された膜の凹凸の高低差は、下記の方法により測定した。
非接触型3次元光干渉式表面粗さ計(日本Veeco社製、商品名:Wyko NT1100)を用いて、ANSI/ASME B46.1に基づく最大高さRtを測定をし、これを膜の凹凸の高低差とした。なお、最大高さRtは粗さ曲線の基準長さにおける最も高い高い山と最も深い谷の和を示す。
(Evaluation of height difference of unevenness)
The height difference of the unevenness of the produced film was measured by the following method.
Using a non-contact three-dimensional optical interferometry surface roughness meter (manufactured by Veeco Japan, trade name: Wyko NT1100), the maximum height Rt based on ANSI / ASME B46.1 was measured, and this was used to measure the unevenness of the film. The height difference was set. The maximum height Rt indicates the sum of the highest peak and the deepest valley in the reference length of the roughness curve.

(熱伝導率の評価)
熱伝導率は、株式会社アイフェイズの「ai-Phase Mobile 1μ」を使用して測定した。空気の熱伝導率は、産業図書株式会社「化学工学概論」のp.350を参照した。
(Evaluation of thermal conductivity)
Thermal conductivity was measured using "ai-Phase Mobile 1μ" from iPhase Co., Ltd. For the thermal conductivity of air, refer to p.350 of "Introduction to Chemical Engineering" of Sangyo Tosho Co., Ltd.

Figure 0006989089
Figure 0006989089

実施例および比較例の評価結果を表2に示す。 Table 2 shows the evaluation results of Examples and Comparative Examples.

Figure 0006989089
Figure 0006989089

表2に示すように、本発明の製造方法を用いた実施例1から4は、膜表面に高低差が数μmの凹凸形状が形成され、かつ、基材の裏面に傷および加熱板の痕が見られなかった。
熱伝導率の小さい材料として熱伝導グリースを用いた実施例2は、熱伝導率の小さい材料としてアクリル樹脂を用いた実施例1と比較して、凹凸の高低差は小さいものであった。実施例1および実施例3から、平板の熱伝導率が高い領域を構成する材料がアルミニウム板とSUS304とでは、膜の凹凸の高低差に違いは見られなかった。これは、蒸発量には限りがあるので、熱伝導率が高くなって、乾燥速度が増加しても、気化熱による温度低下は頭打ちになったものと考えられる。
As shown in Table 2, in Examples 1 to 4 using the production method of the present invention, an uneven shape having a height difference of several μm was formed on the film surface, and scratches and marks on the heating plate were formed on the back surface of the substrate. Was not seen.
In Example 2 in which the thermal conductive grease was used as the material having a small thermal conductivity, the height difference of the unevenness was smaller than in Example 1 in which the acrylic resin was used as the material having a small thermal conductivity. From Examples 1 and 3, there was no difference in the height difference of the unevenness of the film between the aluminum plate and SUS304, which are the materials constituting the region having high thermal conductivity of the flat plate. This is because the amount of evaporation is limited, so even if the thermal conductivity increases and the drying rate increases, it is considered that the temperature drop due to the heat of vaporization has leveled off.

10 平板
10a 熱伝導率が高い領域
10b 熱伝導率が低い領域
10c (平板の)表面
10d 平板の裏面
11 孔
20 塗工膜
20a (塗工膜の)表面
21 膜
21c (膜の)表面
22 基材
30 加熱板
40 冷却板
40a 凸部
10 Flat plate 10a Area with high thermal conductivity 10b Area with low thermal conductivity 10c (flat plate) front surface 10d Flat plate back surface 11 holes 20 Coating film 20a (coating film) surface 21 film 21c (film) surface 22 units Material 30 Heating plate 40 Cooling plate 40a Convex part

Claims (8)

凹凸形状を有する膜の製造方法であって、
表面が平滑であり、かつ、前記表面において熱伝導率分布を有する平板を準備する第1の工程と、
前記平板の前記表面に、液状媒体および前記膜の材料を含有する塗工膜を配置する第2の工程と、
前記平板を加熱して、前記平板の前記表面に配置された前記塗工膜中の前記液状媒体を除去することにより、前記凹凸形状を有する膜を形成する第3の工程と、
を備える凹凸形状を有する膜の製造方法。
It is a method for manufacturing a film having an uneven shape.
The first step of preparing a flat plate having a smooth surface and having a thermal conductivity distribution on the surface, and
The second step of arranging the coating film containing the liquid medium and the material of the film on the surface of the flat plate, and the second step.
A third step of forming a film having the uneven shape by heating the flat plate and removing the liquid medium in the coating film arranged on the surface of the flat plate.
A method for producing a film having an uneven shape.
前記熱伝導率分布が、少なくとも2種類の材料によって生じ、
前記少なくとも2種類の材料の熱伝導率差が、10W/m・K以上である請求項1記載の凹凸形状を有する膜の製造方法。
The thermal conductivity distribution is caused by at least two materials.
The method for producing a film having an uneven shape according to claim 1, wherein the thermal conductivity difference between the at least two kinds of materials is 10 W / m · K or more.
前記熱伝導率分布が、前記少なくとも2種類の材料を周期的に配置されてなる請求項1または2記載の凹凸形状を有する膜の製造方法。 The method for producing a film having an uneven shape according to claim 1 or 2, wherein the thermal conductivity distribution is such that at least two kinds of materials are periodically arranged. 前記少なくとも2種類の材料のうち、少なくとも1種類が金属であり、他の材料が有機材料である請求項1から3いずれか1項記載の凹凸形状を有する膜の製造方法。 The method for producing a film having an uneven shape according to any one of claims 1 to 3, wherein at least one of the at least two kinds of materials is a metal and the other material is an organic material. 前記第2の工程において、基材上に前記塗工膜を設けた後、前記基材を前記平板の前記表面に接触させることにより、前記表面に前記塗工膜を配置する請求項1から4いずれか1項記載の凹凸形状を有する膜の製造方法。 In the second step, after the coating film is provided on the substrate, the coating film is arranged on the surface by bringing the substrate into contact with the surface of the flat plate, according to claims 1 to 4. The method for producing a film having an uneven shape according to any one of the above items. 前記第3の工程において、前記塗工膜の前記平板とは反対側の表面に、冷却板を近接させる請求項1から5いずれか1項記載の凹凸形状を有する膜の製造方法。 The method for producing a film having an uneven shape according to any one of claims 1 to 5, wherein in the third step, a cooling plate is brought close to the surface of the coating film on the side opposite to the flat plate. 前記基材の厚みが、1μm以上200μm以下である請求項記載の凹凸形状を有する膜の製造方法。 The method for producing a film having an uneven shape according to claim 5 , wherein the thickness of the base material is 1 μm or more and 200 μm or less. 前記膜の材料が、熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、熱硬化性樹脂、および活性エネルギー線重合性化合物の少なくとも1つである請求項1から7いずれか1項記載の凹凸形状を有する膜の製造方法。
The production of a film having an uneven shape according to any one of claims 1 to 7, wherein the material of the film is at least one of a thermoplastic resin, a thermoplastic elastomer, a thermosetting resin, and an active energy ray-polymerizable compound. Method.
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