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JP6990103B2 - How to maintain carbon dioxide capture equipment and carbon dioxide capture equipment - Google Patents
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JP6990103B2 - How to maintain carbon dioxide capture equipment and carbon dioxide capture equipment - Google Patents

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Description

本発明の実施の形態は、二酸化炭素回収設備および二酸化炭素回収設備のメンテナンス方法に関する。 An embodiment of the present invention relates to a carbon dioxide capture device and a maintenance method for the carbon dioxide capture facility.

近年、地球温暖化問題に対する有効な対策として、二酸化炭素(CO)を回収して貯留する二酸化炭素回収貯留技術(CCS:Carbon Dioxide Capture and Storage)が注目されている。具体的には、火力発電所や製鉄所、清掃工場等で排出されるプロセス排ガス(処理対象排ガス)中の二酸化炭素を、吸収液で回収する二酸化炭素回収設備が検討されている。 In recent years, carbon capture and storage technology (CCS: Carbon Dioxide Capture and Storage), which captures and stores carbon dioxide (CO 2 ), has been attracting attention as an effective countermeasure against the problem of global warming. Specifically, a carbon dioxide recovery facility that recovers carbon dioxide in process exhaust gas (exhaust gas to be treated) discharged from a thermal power plant, a steel mill, a cleaning factory, or the like with an absorption liquid is being studied.

二酸化炭素回収貯留技術の一つとして、化学吸収法を用いた二酸化炭素回収設備が知られている。このような二酸化炭素回収設備は、吸収塔と、再生塔と、を備えている。このうち吸収塔において、プロセス排ガスに含有されている二酸化炭素が、例えばアミン等の吸収液成分および水分を含有する吸収液に吸収される。この際、吸収塔からは、二酸化炭素を放出したプロセス排ガスが排出される。二酸化炭素を吸収した吸収液は再生塔に供給されて、再生塔において吸収液から二酸化炭素が放出される。この際、再生塔からは、放出された二酸化炭素が蒸気とともに排出されて、二酸化炭素が分離回収される。再生塔において二酸化炭素を放出した吸収液は、吸収塔に戻されて、吸収塔において再び二酸化炭素を吸収する。このようにして、吸収液が吸収塔と再生塔とを循環し、プロセス排ガスに含有されている二酸化炭素が連続的に回収されるようになっている。 As one of the carbon dioxide capture and storage technologies, a carbon dioxide capture facility using a chemical absorption method is known. Such a carbon dioxide capture facility includes an absorption tower and a regeneration tower. Of these, in the absorption tower, carbon dioxide contained in the process exhaust gas is absorbed by the absorption liquid containing an absorption liquid component such as amine and water. At this time, the process exhaust gas that has released carbon dioxide is discharged from the absorption tower. The absorption liquid that has absorbed carbon dioxide is supplied to the regeneration tower, and carbon dioxide is released from the absorption liquid in the regeneration tower. At this time, the released carbon dioxide is discharged together with the steam from the regeneration tower, and the carbon dioxide is separated and recovered. The absorbing liquid that has released carbon dioxide in the regeneration tower is returned to the absorption tower and absorbs carbon dioxide again in the absorption tower. In this way, the absorbing liquid circulates between the absorption tower and the regeneration tower, and the carbon dioxide contained in the process exhaust gas is continuously recovered.

このような二酸化炭素回収貯留技術は、回収した二酸化炭素を利活用するCCU(Carbon Dioxide Capture and Utilization)技術に展開されている。このCCU技術を具現化する二酸化炭素回収設備には小規模化が求められる傾向にある。このため、二酸化炭素回収設備を構成する装置を密集させて二酸化炭素回収設備の設置面積を小さくする場合がある。しかしながら、この場合、各装置へのアクセスが困難になり、メンテナンス性の確保が困難になり得る。 Such carbon dioxide capture and storage technology has been developed into CCU (Carbon Dioxide Capture and Utilization) technology that utilizes the recovered carbon dioxide. The carbon dioxide capture equipment that embodies this CCU technology tends to be required to be downsized. For this reason, the equipment constituting the carbon dioxide recovery equipment may be densely packed to reduce the installation area of the carbon dioxide recovery equipment. However, in this case, it becomes difficult to access each device, and it may be difficult to ensure maintainability.

特開2004-323339号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-323339

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、各装置へのアクセスを容易にし、メンテナンス性を確保することができる二酸化炭素回収設備および二酸化炭素回収設備のメンテナンス方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of such a point, and provides a carbon dioxide recovery facility and a maintenance method for the carbon dioxide recovery facility, which can facilitate access to each device and ensure maintainability. The purpose is.

実施の形態による二酸化炭素回収設備は、吸収装置と、再生装置と、第1ポンプ装置と、第2ポンプ装置と、再生熱交換装置と、吸収液用冷却装置と、により構成される複数の装置を備えている。吸収装置は、処理対象排ガスに含有される二酸化炭素を吸収液に吸収させるように構成されている。再生装置は、吸収装置から供給される吸収液から二酸化炭素を放出させるように構成されている。第1ポンプ装置は、吸収装置から再生装置に二酸化炭素を吸収した吸収液を供給するように構成されている。第2ポンプ装置は、再生装置から吸収装置に二酸化炭素を放出させた吸収液を供給するように構成されている。再生熱交換装置は、吸収装置から再生装置に供給される吸収液と再生装置から吸収装置に供給される吸収液とを熱交換させるように構成されている。吸収液用冷却装置は、再生熱交換装置から吸収装置に供給される吸収液を冷却するように構成されている。複数の装置は、設置平面区域内に設置されている。設置平面区域に設定される設置基準線を含む鉛直面に各装置を投影したときに、装置同士は重なりを有していない。 The carbon dioxide recovery equipment according to the embodiment is a plurality of devices including an absorption device, a regeneration device, a first pump device, a second pump device, a regeneration heat exchange device, and a cooling device for an absorbent liquid. It is equipped with. The absorption device is configured to absorb carbon dioxide contained in the exhaust gas to be treated by the absorbing liquid. The regenerating device is configured to release carbon dioxide from the absorbing liquid supplied from the absorbing device. The first pump device is configured to supply an absorbing liquid that has absorbed carbon dioxide from the absorbing device to the regenerating device. The second pump device is configured to supply the absorbing liquid in which carbon dioxide is released from the regenerating device to the absorbing device. The regenerative heat exchange device is configured to exchange heat between the absorbing liquid supplied from the absorbing device to the regenerating device and the absorbing liquid supplied from the regenerating device to the absorbing device. The absorbent liquid cooling device is configured to cool the absorbent liquid supplied from the regenerated heat exchange device to the absorbent device. Multiple devices are installed within the installation plane area. When projecting each device onto a vertical surface that includes an installation reference line set in the installation plane area, the devices do not overlap.

また、実施の形態による二酸化炭素回収設備のメンテナンス方法は、上述の二酸化炭素回収設備を準備する工程と、設置基準線に対する一方の側における設置平面区域の外側から、複数の装置のうちの少なくとも1つにアクセスしてメンテナンスを行う工程と、を備えている。 Further, the maintenance method of the carbon dioxide recovery equipment according to the embodiment includes the step of preparing the carbon dioxide recovery equipment described above and at least one of the plurality of devices from the outside of the installation plane area on one side with respect to the installation reference line. It has a process of accessing and performing maintenance.

本発明によれば、各装置へのアクセスを容易にし、メンテナンス性を確保することができる。 According to the present invention, access to each device can be facilitated and maintainability can be ensured.

図1は、第1の実施の形態における二酸化炭素回収設備の全体構成を示す系統図である。FIG. 1 is a system diagram showing the overall configuration of the carbon dioxide capture equipment according to the first embodiment. 図2は、図1の二酸化炭素回収設備の各装置の配置を示す模式斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view showing the arrangement of each device of the carbon dioxide capture equipment of FIG. 図3は、図2の模式平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view of FIG. 図4は、第2の実施の形態における二酸化炭素回収設備の各装置の配置を示す模式平面図である。FIG. 4 is a schematic plan view showing the arrangement of each device of the carbon dioxide capture equipment according to the second embodiment. 図5は、第3の実施の形態における二酸化炭素回収設備の各装置の配置を示す模式平面図である。FIG. 5 is a schematic plan view showing the arrangement of each device of the carbon dioxide capture equipment according to the third embodiment. 図6は、第4の実施の形態における二酸化炭素回収設備の各装置の配置を示す模式平面図である。FIG. 6 is a schematic plan view showing the arrangement of each device of the carbon dioxide capture equipment according to the fourth embodiment.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態における二酸化炭素回収設備および二酸化炭素回収設備のメンテナンス方法について説明する。 Hereinafter, the carbon dioxide recovery equipment and the maintenance method of the carbon dioxide recovery equipment according to the embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

(第1の実施の形態)
まず、図1~図3を用いて、第1の実施の形態における二酸化炭素回収設備および二酸化炭素回収設備のメンテナンス方法について説明する。
(First Embodiment)
First, the maintenance method of the carbon dioxide recovery equipment and the carbon dioxide recovery equipment in the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 3.

二酸化炭素回収設備1は、複数の装置を備えている。本実施の形態においては、複数の装置は、吸収装置、再生装置,再生熱交換装置、第1ポンプ装置、第2ポンプ装置、吸収液用冷却装置、ガス用冷却装置および気液分離装置により構成されている。以下に、本実施の形態による二酸化炭素回収設備1の構成について説明する。 The carbon dioxide capture equipment 1 includes a plurality of devices. In the present embodiment, the plurality of devices include an absorption device, a regeneration device, a regeneration heat exchange device, a first pump device, a second pump device, an absorption liquid cooling device, a gas cooling device, and a gas-liquid separation device. Has been done. The configuration of the carbon dioxide capture equipment 1 according to the present embodiment will be described below.

図1に示すように、二酸化炭素回収設備1は、プロセス排ガス2(処理対象排ガス)に含有される二酸化炭素を、水分を含有する吸収液(リーン液5)に吸収させる吸収塔20(吸収装置)と、吸収塔20から供給される二酸化炭素を吸収した吸収液(リッチ液4)から二酸化炭素を放出させて、リッチ液4を再生する再生塔30(再生装置)と、を備えている。このうち吸収塔20において二酸化炭素をリーン液5に吸収させたプロセス排ガス2は、吸収塔排ガス3として吸収塔20から排出される。また、放出された二酸化炭素は再生塔排ガス8(再生装置排ガス)として再生塔30から排出される。なお、吸収塔20に供給されるプロセス排ガス2は、特に限定されるものではないが、例えば火力発電所や、製鉄所、清掃工場等で排出される排ガスとすることができる。このような排ガスは、図示しない送風機によって吸収塔20に供給される。 As shown in FIG. 1, the carbon dioxide recovery facility 1 has an absorption tower 20 (absorption device) that absorbs carbon dioxide contained in the process exhaust gas 2 (exhaust gas to be treated) into an absorption liquid (lean liquid 5) containing water. ), And a regeneration tower 30 (regeneration device) that regenerates the rich liquid 4 by releasing carbon dioxide from the absorption liquid (rich liquid 4) that has absorbed the carbon dioxide supplied from the absorption tower 20. Of these, the process exhaust gas 2 in which carbon dioxide is absorbed by the lean liquid 5 in the absorption tower 20 is discharged from the absorption tower 20 as the absorption tower exhaust gas 3. Further, the released carbon dioxide is discharged from the regeneration tower 30 as the regeneration tower exhaust gas 8 (regeneration device exhaust gas). The process exhaust gas 2 supplied to the absorption tower 20 is not particularly limited, but may be, for example, exhaust gas discharged from a thermal power plant, a steel mill, a cleaning plant, or the like. Such exhaust gas is supplied to the absorption tower 20 by a blower (not shown).

吸収塔20と再生塔30とは、リッチ液ラインL1およびリーン液ラインL2によって連結されている。このうちリッチ液ラインL1は、吸収塔20から排出されたリッチ液4を再生塔30に供給する。リーン液ラインL2は、再生塔30から排出されたリーン液5を吸収塔20に供給する。吸収液4、5は、リッチ液ラインL1およびリーン液ラインL2によって吸収塔20と再生塔30とを循環し、吸収塔20において二酸化炭素を吸収してリッチ液4となり、再生塔30において二酸化炭素を放出してリーン液5となる。なお、吸収液には、例えば、モノエタノールアミン(monoethanolamin)、ジエタノールアミン(diethanolamin)などのアミン系水溶液を好適に用いることができるが、このようなアミンの種類に限定されることはない。また、1種類以上のアミンを含有する水溶液で構成されていてもよい。 The absorption tower 20 and the regeneration tower 30 are connected by a rich liquid line L1 and a lean liquid line L2. Of these, the rich liquid line L1 supplies the rich liquid 4 discharged from the absorption tower 20 to the regeneration tower 30. The lean liquid line L2 supplies the lean liquid 5 discharged from the regeneration tower 30 to the absorption tower 20. The absorption liquids 4 and 5 circulate between the absorption tower 20 and the regeneration tower 30 by the rich liquid line L1 and the lean liquid line L2, absorb carbon dioxide in the absorption tower 20 to become the rich liquid 4, and the carbon dioxide in the regeneration tower 30. Is released to become a lean liquid 5. As the absorption liquid, for example, an amine-based aqueous solution such as monoethanolamin or diethanolamin can be preferably used, but the absorption liquid is not limited to such an amine type. Further, it may be composed of an aqueous solution containing one or more kinds of amines.

吸収塔20は、吸収塔20に収容された吸収部20a(充填層またはトレイ)を有している。この吸収部20aは、向流型気液接触装置として構成されており、プロセス排ガス2とリーン液5とを接触させて、プロセス排ガス2に含有される二酸化炭素をリーン液5に吸収させる。より具体的には、吸収塔20の下部に供給されたプロセス排ガス2は、吸収部20a内を上昇する。一方、再生塔30からのリーン液5が、吸収部20a内を分散落下する。吸収部20aにおいて、プロセス排ガス2とリーン液5とが気液接触して、プロセス排ガス2に含有される二酸化炭素がリーン液5に吸収される。二酸化炭素を吸収したリーン液5はリッチ液4になる。 The absorption tower 20 has an absorption unit 20a (packed layer or tray) housed in the absorption tower 20. The absorption unit 20a is configured as a countercurrent gas-liquid contact device, and contacts the process exhaust gas 2 with the lean liquid 5 to absorb carbon dioxide contained in the process exhaust gas 2 into the lean liquid 5. More specifically, the process exhaust gas 2 supplied to the lower part of the absorption tower 20 rises in the absorption unit 20a. On the other hand, the lean liquid 5 from the regeneration tower 30 is dispersed and dropped in the absorption unit 20a. In the absorption unit 20a, the process exhaust gas 2 and the lean liquid 5 are in gas-liquid contact, and the carbon dioxide contained in the process exhaust gas 2 is absorbed by the lean liquid 5. The lean liquid 5 that has absorbed carbon dioxide becomes the rich liquid 4.

リッチ液4は、吸収塔20の下部で一端貯留されて、底部からリッチ液ラインL1に排出される。リーン液5と気液接触したプロセス排ガス2は、二酸化炭素が除去されて、吸収塔排ガス3として吸収部20aから排出されて吸収塔20内を上昇し、吸収塔20の頂部から排出される。 The rich liquid 4 is temporarily stored in the lower part of the absorption tower 20 and discharged from the bottom part to the rich liquid line L1. Carbon dioxide is removed from the process exhaust gas 2 in gas-liquid contact with the lean liquid 5, and the process exhaust gas 2 is discharged from the absorption unit 20a as the absorption tower exhaust gas 3, rises in the absorption tower 20, and is discharged from the top of the absorption tower 20.

吸収塔20と再生塔30との間には再生熱交換器31(再生熱交換装置)が設けられている。この再生熱交換器31は、リッチ液ラインL1を通って吸収塔20から再生塔30に供給されるリッチ液4と、リーン液ラインL2を通って再生塔30から吸収塔20に供給されるリーン液5とを熱交換させるように構成されている。このことにより、リーン液5が熱源となって、リッチ液4が所望の温度まで加熱される。言い換えると、リッチ液4が冷熱源となって、リーン液5が所望の温度まで冷却される。 A regenerated heat exchanger 31 (regenerated heat exchanger) is provided between the absorption tower 20 and the regenerating tower 30. The regenerated heat exchanger 31 has a rich liquid 4 supplied from the absorption tower 20 to the regeneration tower 30 through the rich liquid line L1 and a lean liquid supplied from the regeneration tower 30 to the absorption tower 20 through the lean liquid line L2. It is configured to exchange heat with the liquid 5. As a result, the lean liquid 5 serves as a heat source, and the rich liquid 4 is heated to a desired temperature. In other words, the rich liquid 4 serves as a cooling heat source, and the lean liquid 5 is cooled to a desired temperature.

再生塔30は、再生塔30に収容された再生部30a(充填層またはトレイ)を有している。この再生部30aは、向流型気液接触装置として構成されており、リッチ液4を加熱してリッチ液4から二酸化炭素を放出させる。より具体的には、再生塔30の上部に供給されたリッチ液4は、再生部30a内を下降する。一方、再生塔30の下部には、ヒータ(図示せず)が設けられており、再生塔30の下部に貯留されたリーン液5がヒータによって加熱されてリーン液5から蒸気が生成される。生成された蒸気は再生部30a内を上昇する。再生部30aにおいて、リッチ液4と蒸気とが気液接触して、リッチ液4が加熱されてリッチ液4から二酸化炭素が放出される。二酸化炭素を放出したリッチ液4はリーン液5になる。このようにして再生塔30において吸収液が再生される。なお、リーン液5の加熱は、上述したヒータではなく、リボイラー(図示せず)によって行われるようにしてもよい。リボイラーは、再生塔30から排出されるリーン液5の一部を、外部から供給される高温の蒸気等によって加熱する。なお、リーン液5がリボイラーで加熱された際に発生する蒸気は二酸化炭素とともに再生塔排ガス8(再生装置排ガス)として再生塔30から排出される。 The regeneration tower 30 has a regeneration unit 30a (packed bed or tray) housed in the regeneration tower 30. The regeneration unit 30a is configured as a countercurrent gas-liquid contact device, and heats the rich liquid 4 to release carbon dioxide from the rich liquid 4. More specifically, the rich liquid 4 supplied to the upper part of the regeneration tower 30 descends in the regeneration section 30a. On the other hand, a heater (not shown) is provided in the lower part of the regeneration tower 30, and the lean liquid 5 stored in the lower part of the regeneration tower 30 is heated by the heater to generate steam from the lean liquid 5. The generated steam rises in the regeneration unit 30a. In the regeneration unit 30a, the rich liquid 4 and the steam come into gas-liquid contact, the rich liquid 4 is heated, and carbon dioxide is released from the rich liquid 4. The rich liquid 4 that has released carbon dioxide becomes the lean liquid 5. In this way, the absorption liquid is regenerated in the regeneration tower 30. The lean liquid 5 may be heated by a reboiler (not shown) instead of the heater described above. The reboiler heats a part of the lean liquid 5 discharged from the regeneration tower 30 by high-temperature steam or the like supplied from the outside. The steam generated when the lean liquid 5 is heated by the reboiler is discharged from the regeneration tower 30 together with carbon dioxide as the regeneration tower exhaust gas 8 (regeneration device exhaust gas).

リーン液5は、再生塔30の底部からリーン液ラインL2に排出される。リッチ液4と気液接触した蒸気は、二酸化炭素を含有して再生塔排ガス8として再生部30aから排出されて再生塔30内を上昇し、再生塔30の頂部から排出される。 The lean liquid 5 is discharged from the bottom of the regeneration tower 30 to the lean liquid line L2. The vapor in gas-liquid contact with the rich liquid 4 contains carbon dioxide and is discharged from the regeneration tower 30a as exhaust gas 8 of the regeneration tower, rises in the regeneration tower 30, and is discharged from the top of the regeneration tower 30.

リッチ液ラインL1には、リッチ液用ポンプ32(第1ポンプ装置)が設けられている。このリッチ液用ポンプ32によって、吸収塔20から排出されたリッチ液4は、再生熱交換器31を通って再生塔30に供給される。 The rich liquid line L1 is provided with a rich liquid pump 32 (first pump device). The rich liquid 4 discharged from the absorption tower 20 by the rich liquid pump 32 is supplied to the regeneration tower 30 through the regenerative heat exchanger 31.

リーン液ラインL2には、リーン液用ポンプ34(第2ポンプ装置)が設けられている。このリーン液用ポンプ34によって、再生塔30から排出されたリーン液5は、再生熱交換器31を通って吸収塔20に供給される。再生熱交換器31は、上述したように、リーン液ラインL2を通るリーン液5を、リッチ液ラインL1を通るリッチ液4と熱交換させて冷却する。 The lean liquid line L2 is provided with a lean liquid pump 34 (second pump device). The lean liquid 5 discharged from the regeneration tower 30 by the lean liquid pump 34 is supplied to the absorption tower 20 through the regeneration heat exchanger 31. As described above, the regenerative heat exchanger 31 cools the lean liquid 5 passing through the lean liquid line L2 by exchanging heat with the rich liquid 4 passing through the rich liquid line L1.

また、リーン液ラインL2には、再生塔30(より具体的には再生熱交換器31)から吸収塔20に供給されるリーン液5を冷却するリーン液用冷却器35(吸収液用冷却装置)が設けられている。このリーン液用冷却器35には、外部から冷却水等の冷却媒体が供給され、リーン液用冷却器35は、再生熱交換器31において冷却されたリーン液5を所望の温度まで更に冷却する。 Further, in the lean liquid line L2, a lean liquid cooler 35 (absorption liquid cooling device) for cooling the lean liquid 5 supplied from the regeneration tower 30 (more specifically, the regeneration heat exchanger 31) to the absorption tower 20 is provided. ) Is provided. A cooling medium such as cooling water is supplied to the lean liquid cooler 35 from the outside, and the lean liquid cooler 35 further cools the lean liquid 5 cooled in the regenerated heat exchanger 31 to a desired temperature. ..

リーン液用冷却器35において冷却されたリーン液5は、吸収塔20の吸収部20aに供給される。吸収部20aにおいて、リーン液5はプロセス排ガス2と気液接触してプロセス排ガス2に含有される二酸化炭素がリーン液5に吸収されてリッチ液4となる。このようにして、二酸化炭素回収設備1では、吸収液が、二酸化炭素濃度が比較的低いリーン液5となる状態と、二酸化炭素濃度が比較的高いリッチ液4となる状態とを繰り返しながら循環するようになっている。 The lean liquid 5 cooled in the lean liquid cooler 35 is supplied to the absorption unit 20a of the absorption tower 20. In the absorption unit 20a, the lean liquid 5 is in gas-liquid contact with the process exhaust gas 2, and the carbon dioxide contained in the process exhaust gas 2 is absorbed by the lean liquid 5 to become the rich liquid 4. In this way, in the carbon dioxide recovery facility 1, the absorption liquid circulates while repeating a state of becoming a lean liquid 5 having a relatively low carbon dioxide concentration and a state of becoming a rich liquid 4 having a relatively high carbon dioxide concentration. It has become like.

本実施の形態における二酸化炭素回収設備1は、再生塔排ガス8を冷却するガス用冷却器36(ガス用冷却装置)と、気液分離器37(気液分離装置)と、を更に備えている。このうちガス用冷却器36は、外部から冷却水等の冷却媒体で、再生塔30から排出された再生塔排ガス8を冷却する。冷却された再生塔排ガス8は、気液分離器37に供給される。気液分離器37は、冷却された再生塔排ガス8から凝縮水を分離し、再生塔排ガス8を排出する。気液分離器37から排出された再生塔排ガス8は、図示しない回収設備に回収され、利活用される。 The carbon dioxide recovery facility 1 in the present embodiment further includes a gas cooler 36 (gas cooling device) for cooling the recycled tower exhaust gas 8 and a gas-liquid separator 37 (gas-liquid separator). .. Of these, the gas cooler 36 cools the regenerated tower exhaust gas 8 discharged from the regenerated tower 30 with a cooling medium such as cooling water from the outside. The cooled regeneration tower exhaust gas 8 is supplied to the gas-liquid separator 37. The gas-liquid separator 37 separates the condensed water from the cooled regeneration tower exhaust gas 8 and discharges the regeneration tower exhaust gas 8. The regenerated tower exhaust gas 8 discharged from the gas-liquid separator 37 is recovered by a recovery facility (not shown) and utilized.

再生塔30と気液分離器37とは、ガスラインL3によって連結されている。このガスラインL3に、上述したガス用冷却器36が設けられている。また、再生塔30と気液分離器37とは、戻りラインL4によって連結されている。再生塔排ガス8から分離された凝縮水は、この戻りラインL4を通って再生塔30の上部に戻される。 The regeneration tower 30 and the gas-liquid separator 37 are connected by a gas line L3. The gas cooler 36 described above is provided in the gas line L3. Further, the regeneration tower 30 and the gas-liquid separator 37 are connected by a return line L4. The condensed water separated from the regenerated tower exhaust gas 8 is returned to the upper part of the regenerated tower 30 through the return line L4.

上述したリッチ液用ポンプ32およびリーン液用ポンプ34は、制御装置38によって制御される。制御装置38は、各種計測器から送信される信号等に基づいて、リッチ液用ポンプ32およびリーン液用ポンプ34、さらにはリッチ液ラインL1およびリーン液ラインL2等に設けられた弁(図示せず)を制御する。計測器の例としては、吸収塔20の下部に貯留されたリッチ液4の液面レベルを計測する液面レベル計、再生塔30の下部に貯留されたリーン液5の液面レベルを計測する液面レベル計、リッチ液4およびリーン液5の温度を計測する温度計、リッチ液4およびリーン液5の圧力を計測する圧力計等が挙げられる。 The rich liquid pump 32 and the lean liquid pump 34 described above are controlled by the control device 38. The control device 38 is a valve (shown) provided in the rich liquid pump 32 and the lean liquid pump 34, and further in the rich liquid line L1 and the lean liquid line L2, etc., based on signals transmitted from various measuring instruments and the like. To control. As an example of the measuring instrument, a liquid level meter for measuring the liquid level of the rich liquid 4 stored in the lower part of the absorption tower 20, and a liquid level of the lean liquid 5 stored in the lower part of the regeneration tower 30 are measured. Examples thereof include a liquid level meter, a thermometer for measuring the temperature of the rich liquid 4 and the lean liquid 5, a pressure gauge for measuring the pressure of the rich liquid 4 and the lean liquid 5, and the like.

次に、本実施の形態による二酸化炭素回収設備1の各装置の配置について図2および図3を用いて説明する。 Next, the arrangement of each device of the carbon dioxide capture equipment 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 2 and 3.

図2および図3に示すように、二酸化炭素回収設備1を構成する複数の装置は、二酸化炭素回収設備1の設置面に設定された設置平面区域40内に設置されている。この設置平面区域40は、吸収塔20と再生塔30とを通る設置基準線41に沿って延びている。設置基準線41は、上方から見たとき(すなわち、設置平面区域40に各装置を投影したとき)に、吸収塔20の中心および再生塔30の中心を通るように、設置平面区域40内に設定されている。本実施の形態による設置基準線41は、直線状に形成されている。これにより、設置平面区域40は、直線状(細長の矩形状)に形成されている。なお、設置基準線41については、吸収塔20の中心および再生塔30の中心を通る直線以外に、矩形の設置平面区域40の両短辺の中心を結ぶ線、もしくは設置平面区域40が矩形である場合にはいずれかの長辺などに設定することができる。また、設置平面区域40をまず設定し、設置基準線41については、設置平面区域40の形状に応じて適宜設定してもよい。さらには設置平面区域40のみを設定し設置基準線41については明示的に設定しなくてもよい。設置平面区域40のみを設定し設置基準線41を明示的に設定しない場合には、例えば、設置面において設置平面区域40を区画し、かつ長手方向(複数の装置が配置される方向)に延びる直線、折れ線または曲線などの区画線(すなわち設置平面区域40の外輪郭を構成する線)のうち最も長さの長い線などを設置基準線41として扱うことができ、この区画線のうち最も長い線などが設置基準線41に設定される。 As shown in FIGS. 2 and 3, a plurality of devices constituting the carbon dioxide capture equipment 1 are installed in the installation plane area 40 set on the installation surface of the carbon dioxide capture equipment 1. The installation plane area 40 extends along an installation reference line 41 passing through the absorption tower 20 and the regeneration tower 30. The installation reference line 41 is located in the installation plane area 40 so as to pass through the center of the absorption tower 20 and the center of the regeneration tower 30 when viewed from above (that is, when each device is projected onto the installation plane area 40). It is set. The installation reference line 41 according to the present embodiment is formed in a straight line. As a result, the installation plane area 40 is formed in a straight line (slender rectangular shape). Regarding the installation reference line 41, in addition to the straight line passing through the center of the absorption tower 20 and the center of the regeneration tower 30, the line connecting the centers of both short sides of the rectangular installation plane area 40 or the installation plane area 40 is rectangular. In some cases, it can be set on either long side. Further, the installation plane area 40 may be set first, and the installation reference line 41 may be appropriately set according to the shape of the installation plane area 40. Furthermore, it is not necessary to set only the installation plane area 40 and explicitly set the installation reference line 41. When only the installation plane area 40 is set and the installation reference line 41 is not explicitly set, for example, the installation plane area 40 is partitioned on the installation surface and extends in the longitudinal direction (direction in which a plurality of devices are arranged). The longest line among the lane markings such as straight lines, fold lines or curves (that is, the lines constituting the outer contour of the installation plane area 40) can be treated as the installation reference line 41, and the longest of the lane markings. A line or the like is set as the installation reference line 41.

設置平面区域40の幅は、水平面内において設置基準線41に直交する方向(図3における上下方向)における吸収塔20の寸法、および設置基準線41に直交する方向における再生塔30の寸法のうち大きい方の寸法によって定義されている。図2および図3においては、吸収塔20の寸法が再生塔30の寸法よりも大きい例を示しているが、これに限られることはない。再生塔30の寸法が吸収塔20の寸法よりも大きい場合には、設置平面区域40の幅は、再生塔30の寸法によって定義される。一方、吸収塔20の寸法と再生塔30の寸法が等しい場合には、設置平面区域40の幅は、吸収塔20の寸法または再生塔30の寸法のいずれかによって定義される。 The width of the installation plane area 40 is the dimension of the absorption tower 20 in the direction orthogonal to the installation reference line 41 (vertical direction in FIG. 3) in the horizontal plane and the dimension of the regeneration tower 30 in the direction orthogonal to the installation reference line 41. It is defined by the larger dimension. 2 and 3 show an example in which the size of the absorption tower 20 is larger than the size of the regeneration tower 30, but the size is not limited to this. If the dimensions of the regeneration tower 30 are larger than the dimensions of the absorption tower 20, the width of the installation plane area 40 is defined by the dimensions of the regeneration tower 30. On the other hand, if the dimensions of the absorption tower 20 and the dimensions of the regeneration tower 30 are equal, the width of the installation plane area 40 is defined by either the dimensions of the absorption tower 20 or the dimensions of the regeneration tower 30.

このような設置平面区域40内において、複数の装置が直線状に整列されている。図2および図3には、装置配置の一例が示されている。ここでは、設置平面区域40の一方の端部(図2および図3における左側の端部)に制御装置38が設置されている。制御装置38は、設置基準線41に沿う方向において設置平面区域40の外側からアクセス可能になっている。すなわち、制御装置38の表示器類や操作器類、扉が設けられた正面は、図3における左側の面になっている。吸収塔20、リッチ液用ポンプ32、リーン液用冷却器35、再生熱交換器31、リーン液用ポンプ34、再生塔30、ガス用冷却器36および気液分離器37は、制御装置38が設置された端部から他方の端部に向かってこの順番で配置されている。しかしながら、装置配置の順番はこれに限られることはなく、任意である。また、図3においては、各装置が、設置基準線41上に配置されており、上方から見たときの各装置の中心が設置基準線41上に配置されている。しかしながら、これに限られることはなく、吸収塔20および再生塔30以外の各装置の中心は、設置平面区域40内に設置されていれば、設置基準線41上に配置されていなくてもよい。なお、本実施形態においては制御装置38が設置平面区域40の一方の端部(図2および図3における左側の端部)に設置されている例を示しているが、この構成に限られることはない。例えば、図2および図3に示す設置平面区域40のうち上側や下側からアクセス可能なように制御装置38を設置するようにしてもよい。 Within such an installation plane area 40, a plurality of devices are linearly arranged. 2 and 3 show an example of device arrangement. Here, the control device 38 is installed at one end of the installation plane area 40 (the left end in FIGS. 2 and 3). The control device 38 is accessible from the outside of the installation plane area 40 in the direction along the installation reference line 41. That is, the front surface of the control device 38 provided with the indicators, operating devices, and doors is the left side surface in FIG. The absorption tower 20, the rich liquid pump 32, the lean liquid cooler 35, the regenerating heat exchanger 31, the lean liquid pump 34, the regenerating tower 30, the gas cooler 36 and the gas-liquid separator 37 have a control device 38. They are arranged in this order from the installed end to the other end. However, the order of device arrangement is not limited to this, and is arbitrary. Further, in FIG. 3, each device is arranged on the installation reference line 41, and the center of each device when viewed from above is arranged on the installation reference line 41. However, the present invention is not limited to this, and the center of each device other than the absorption tower 20 and the regeneration tower 30 may not be arranged on the installation reference line 41 as long as it is installed in the installation plane area 40. .. Although the present embodiment shows an example in which the control device 38 is installed at one end of the installation plane area 40 (the left end in FIGS. 2 and 3), the configuration is limited to this. There is no. For example, the control device 38 may be installed so as to be accessible from the upper side or the lower side of the installation plane area 40 shown in FIGS. 2 and 3.

リッチ液ラインL1、リーン液ラインL2、ガスラインL3および戻りラインL4を構成する配管は、概略的には設置基準線41に沿うように延びていてもよい。各配管の所定の箇所には弁(図示せず)が設けられている。配管および弁は、上方から見たときに設置区域内に配置されていてもよい。なお、本明細書においては、このような配管および弁は、吸収塔20や再生塔30等の装置を構成するものではないとして扱う。また、上述した各種計測器(液面レベル計や温度計、圧力計等)も、吸収塔20や再生塔30等の装置を構成するものではないとして扱う。すなわち、本実施の形態における装置とは、その内部で物理的または化学的な何らかの処理(熱交換、冷却、加熱、昇圧、減圧、吸収、吸着、再生、化学変化など)が行なわれる構造物を指している。このような何らかの処理を行なうための装置間を接続し、装置内で用いられる媒体や電気、情報などを流通させるための配管やケーブル、またこれらの配管やケーブルに取り付けられて媒体や電気、情報などの流通(の量など)を制御する弁やスイッチ、もしくはこれらの媒体や電気、情報などの流通状態を計測する計測器などは含まないものとして扱う。 The pipes constituting the rich liquid line L1, the lean liquid line L2, the gas line L3, and the return line L4 may extend substantially along the installation reference line 41. A valve (not shown) is provided at a predetermined position in each pipe. Piping and valves may be located within the installation area when viewed from above. In this specification, such pipes and valves are treated as not constituting devices such as the absorption tower 20 and the regeneration tower 30. Further, the various measuring instruments described above (liquid level meter, thermometer, pressure gauge, etc.) are also treated as not constituting devices such as the absorption tower 20 and the regeneration tower 30. That is, the apparatus in the present embodiment is a structure in which some physical or chemical treatment (heat exchange, cooling, heating, pressurization, depressurization, absorption, adsorption, regeneration, chemical change, etc.) is performed inside the apparatus. pointing. Pipes and cables for connecting devices for performing such processing and distributing media, electricity, information, etc. used in the devices, and media, electricity, information attached to these pipes and cables. Valves and switches that control the distribution (quantity, etc.) of these, or measuring instruments that measure the distribution status of these media, electricity, information, etc. are not included.

設置基準線41の一方の側(例えば、図3における下側)において、設置平面区域40の外側に第1アクセス区域42が設けられている。この第1アクセス区域42は、各装置にアクセス可能な区域であって、各装置にアクセスしてメンテナンスを行おうとする作業者が立ち入る区域である。同様に、設置基準線41の他方の側(例えば、図3における上側)において、設置平面区域40の外側に第2アクセス区域43が設けられている。 On one side of the installation reference line 41 (for example, the lower side in FIG. 3), a first access area 42 is provided outside the installation plane area 40. The first access area 42 is an area in which each device can be accessed, and is an area in which a worker who wants to access each device and perform maintenance enters. Similarly, on the other side of the installation reference line 41 (eg, the upper side in FIG. 3), a second access area 43 is provided outside the installation plane area 40.

設置基準線41を含む鉛直面(本実施の形態においては鉛直平面)に投影したとき(設置基準線41に直交する方向に沿って各装置を見たとき)に、互いに隣り合う装置同士は重なりを有していない。すなわち、第1アクセス区域42から各装置を見たときに、互いに隣り合う装置同士は重なっておらず、互いに隣り合う装置同士は離間している。図2および図3に示す形態では、制御装置38と吸収塔20とが重なっておらず、吸収塔20とリッチ液用ポンプ32とが重なっておらず、リッチ液用ポンプ32とリーン液用冷却器35とが重なっていない。そして、リーン液用冷却器35と再生熱交換器31とが重なっておらず、再生熱交換器31とリーン液用ポンプ34とが重なっておらず、リーン液用ポンプ34と再生塔30とが重なっていない。さらに、再生塔30とガス用冷却器36とが重なっておらず、ガス用冷却器36と気液分離器37とが重なっていない。なお、上述した各種配管および各種弁などの装置には含まれない構造物も、各装置とは重ならないように配置されていてもよい。 When projected onto a vertical plane including the installation reference line 41 (vertical plane in the present embodiment) (when each device is viewed along a direction orthogonal to the installation reference line 41), the devices adjacent to each other overlap each other. Does not have. That is, when each device is viewed from the first access area 42, the devices adjacent to each other do not overlap each other, and the devices adjacent to each other are separated from each other. In the embodiment shown in FIGS. 2 and 3, the control device 38 and the absorption tower 20 do not overlap, the absorption tower 20 and the rich liquid pump 32 do not overlap, and the rich liquid pump 32 and the lean liquid cooling The vessel 35 does not overlap. The lean liquid cooler 35 and the regenerating heat exchanger 31 do not overlap, the regenerating heat exchanger 31 and the lean liquid pump 34 do not overlap, and the lean liquid pump 34 and the regenerating tower 30 do not overlap. It does not overlap. Further, the regeneration tower 30 and the gas cooler 36 do not overlap, and the gas cooler 36 and the gas-liquid separator 37 do not overlap. Structures that are not included in the devices such as the various pipes and valves described above may also be arranged so as not to overlap with the devices.

図2および図3に示すように、本実施の形態においては、上方から見たとき(設置平面区域40に各装置を鉛直に投影したとき)においても、各装置が互いに重なっていない。しかしながら、これに限られることはなく、各装置は、上方から見たときに互いに重なっていてもよい。例えば、リッチ液用ポンプ32、リーン液用冷却器35、再生熱交換器31およびリーン液用ポンプ34は、上方から見たときに互いに重なるように配置されていてもよい。この場合には、二酸化炭素回収設備1の設置スペースの削減を図ることができる。例えば、リッチ液用ポンプ32の上方にリーン液用冷却器35が配置されていてもよい。言い換えると、各装置が上方から見たときに互いに重なっているか否かに関わらず、本実施の形態における各装置は、設置基準線41を含む鉛直面(設置基準線41が直線状に形成されていない場合には鉛直面を展開した展開平面)に各装置を水平に投影した際に、各装置がいずれも重なる部分を有さないように設置されている。 As shown in FIGS. 2 and 3, in the present embodiment, the devices do not overlap each other even when viewed from above (when the devices are vertically projected onto the installation plane area 40). However, the present invention is not limited to this, and the devices may overlap each other when viewed from above. For example, the rich liquid pump 32, the lean liquid cooler 35, the regenerated heat exchanger 31 and the lean liquid pump 34 may be arranged so as to overlap each other when viewed from above. In this case, the installation space of the carbon dioxide capture equipment 1 can be reduced. For example, the lean liquid cooler 35 may be arranged above the rich liquid pump 32. In other words, regardless of whether or not the devices overlap each other when viewed from above, each device in the present embodiment has a vertical plane including the installation reference line 41 (the installation reference line 41 is formed in a straight line). When each device is projected horizontally on the development plane with the vertical plane unfolded when it is not installed, each device is installed so as not to have an overlapping portion.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。ここでは、図1~図3に示す二酸化炭素回収設備1のメンテナンス方法について説明する。メンテナンスの一例としては、吸収塔20に取り付けられる液面レベル計(図示せず)の点検や、吸収塔20の各部に用いられているボルトの増し締め、リッチ液用ポンプ32の交換、リッチ液ラインL1に設けられる温度計や圧力計(いずれも図示せず)の点検等が挙げられる。 Next, the operation of the present embodiment having such a configuration will be described. Here, the maintenance method of the carbon dioxide capture equipment 1 shown in FIGS. 1 to 3 will be described. Examples of maintenance include inspection of the liquid level meter (not shown) attached to the absorption tower 20, retightening of bolts used in each part of the absorption tower 20, replacement of the rich liquid pump 32, and rich liquid. Inspection of thermometers and pressure gauges (neither shown) provided on line L1 may be mentioned.

図1に示す二酸化炭素回収設備1の各装置が、図2および図3に示すように配置されている場合、各装置のメンテナンスは、第1アクセス区域42および第2アクセス区域43の両方から行うことができる。 When each device of the carbon dioxide capture facility 1 shown in FIG. 1 is arranged as shown in FIGS. 2 and 3, maintenance of each device is performed from both the first access area 42 and the second access area 43. be able to.

すなわち、設置基準線41に対する一方の側(例えば、図3における下側)において、設置平面区域40の外側である第1アクセス区域42から各装置にアクセスしてメンテナンスを行うことができる。ここで、上述したように、設置基準線41に直交する方向に沿って第1アクセス区域42から各装置を見たときに、互いに隣り合う装置同士は重なっていない。この場合、一の装置へのアクセスが、隣り合う他の装置によって遮られることが防止されている。このため、第1アクセス区域42内の作業者は各装置、すなわち、制御装置38、吸収塔20、リッチ液用ポンプ32、リーン液用冷却器35、再生熱交換器31、リーン液用ポンプ34、再生塔30、ガス用冷却器36および気液分離器37にそれぞれアクセスすることができ、メンテナンスを行うことができる。 That is, on one side of the installation reference line 41 (for example, the lower side in FIG. 3), each device can be accessed and maintained from the first access area 42 outside the installation plane area 40. Here, as described above, when each device is viewed from the first access area 42 along the direction orthogonal to the installation reference line 41, the devices adjacent to each other do not overlap each other. In this case, access to one device is prevented from being blocked by another device adjacent to it. Therefore, the workers in the first access area 42 are each device, that is, the control device 38, the absorption tower 20, the rich liquid pump 32, the lean liquid cooler 35, the regenerated heat exchanger 31, and the lean liquid pump 34. , The regeneration tower 30, the gas cooler 36 and the gas-liquid separator 37 can be accessed and maintained.

また、設置基準線41に対する他方の側(例えば、図3における上側)において、設置平面区域40の外側である第2アクセス区域43から各装置にアクセスしてメンテナンスを行うことができる。ここで、上述したように、設置基準線41に直交する方向に沿って第2アクセス区域43から各装置を見たときに、互いに隣り合う装置同士は重なっていない。この場合、一の装置へのアクセスが、隣り合う他の装置によって遮られることが防止されている。このため、第2アクセス区域43内の作業者は各装置、すなわち、制御装置38、吸収塔20、リッチ液用ポンプ32、リーン液用冷却器35、再生熱交換器31、リーン液用ポンプ34、再生塔30、ガス用冷却器36および気液分離器37にそれぞれアクセスすることができ、メンテナンスを行うことができる。 Further, on the other side of the installation reference line 41 (for example, the upper side in FIG. 3), each device can be accessed from the second access area 43 outside the installation plane area 40 for maintenance. Here, as described above, when each device is viewed from the second access area 43 along the direction orthogonal to the installation reference line 41, the devices adjacent to each other do not overlap each other. In this case, access to one device is prevented from being blocked by another device adjacent to it. Therefore, the operator in the second access area 43 is each device, that is, the control device 38, the absorption tower 20, the rich liquid pump 32, the lean liquid cooler 35, the regenerated heat exchanger 31, and the lean liquid pump 34. , The regeneration tower 30, the gas cooler 36 and the gas-liquid separator 37 can be accessed and maintained.

このように本実施の形態によれば、二酸化炭素回収設備1の吸収塔20および再生塔30等により構成される各装置を、設置基準線41を含む鉛直面に投影したとき(設置基準線41に直交する方向に沿って見たとき)に、互いに隣り合う装置同士が重なりを有していない。このことにより、第1アクセス区域42から各装置へのアクセスが、隣り合う他の装置によって遮られることを防止できるとともに、第2アクセス区域43から各装置へのアクセスが、隣り合う他の装置によって遮られることを防止できる。このため、第1アクセス区域42および第2アクセス区域43から各装置に容易にアクセスすることができ、メンテナンスを容易に行うことができる。この結果、メンテナンス性を確保することができる。 As described above, according to the present embodiment, when each device composed of the absorption tower 20 and the regeneration tower 30 of the carbon dioxide recovery facility 1 is projected onto the vertical surface including the installation reference line 41 (installation reference line 41). When viewed along a direction orthogonal to (), the devices adjacent to each other do not have an overlap. This can prevent access to each device from the first access area 42 from being blocked by other adjacent devices, and access to each device from the second access area 43 by other adjacent devices. It can be prevented from being blocked. Therefore, each device can be easily accessed from the first access area 42 and the second access area 43, and maintenance can be easily performed. As a result, maintainability can be ensured.

また、本実施の形態によれば、設置平面区域40の幅が、設置基準線41に直交する方向における吸収塔20の寸法、および設置基準線41に直交する方向における再生塔30の寸法によって定義されている。このことにより、各装置の配置を密集させることができ、二酸化炭素回収設備1の設置面積を小さくすることができる。また、第1アクセス区域42から各装置への距離と第2アクセス区域43から各装置への距離とを均等化させることができ、各装置に、第1アクセス区域42および第2アクセス区域43の両方から容易にアクセスすることができる。このため、各装置の配置を密集させながらも、上述したように各機器へのアクセスを容易にし、メンテナンス性を向上させることができる。 Further, according to the present embodiment, the width of the installation plane area 40 is defined by the dimensions of the absorption tower 20 in the direction orthogonal to the installation reference line 41 and the dimensions of the regeneration tower 30 in the direction orthogonal to the installation reference line 41. Has been done. As a result, the arrangement of each device can be made dense, and the installation area of the carbon dioxide capture equipment 1 can be reduced. Further, the distance from the first access area 42 to each device and the distance from the second access area 43 to each device can be equalized, and each device is provided with the first access area 42 and the second access area 43. It is easily accessible from both. Therefore, it is possible to facilitate access to each device and improve maintainability as described above, while arranging the devices densely.

また、本実施の形態によれば、設置基準線41は、直線状に形成されている。このことにより、各装置について、設置基準線41の両側に作業スペースを広く確保することができ、メンテナンス性を向上させることができる。 Further, according to the present embodiment, the installation reference line 41 is formed in a straight line. As a result, for each device, a wide work space can be secured on both sides of the installation reference line 41, and maintainability can be improved.

また、本実施の形態によれば、各装置が、上方から見たときに互いに重なっていない。このことにより、各装置について、上側または下側に作業スペースを広く確保することができ、メンテナンス性を向上させることができる。 Further, according to the present embodiment, the devices do not overlap each other when viewed from above. As a result, a wide work space can be secured on the upper side or the lower side of each device, and maintainability can be improved.

また、本実施の形態によれば、設置平面区域40内に、ガス用冷却器36が設置されている。このことにより、ガス用冷却器36のメンテナンス性を確保することができるとともに、二酸化炭素回収設備1の設置面積をより一層小さくすることができる。 Further, according to the present embodiment, the gas cooler 36 is installed in the installation plane area 40. As a result, the maintainability of the gas cooler 36 can be ensured, and the installation area of the carbon dioxide capture equipment 1 can be further reduced.

さらに、本実施の形態によれば、設置平面区域40内に、気液分離器37が設置されている。このことにより、気液分離器37のメンテナンス性を確保することができるとともに、二酸化炭素回収設備1の設置面積をより一層小さくすることができる。 Further, according to the present embodiment, the gas-liquid separator 37 is installed in the installation plane area 40. As a result, the maintainability of the gas-liquid separator 37 can be ensured, and the installation area of the carbon dioxide recovery facility 1 can be further reduced.

(第2の実施の形態)
次に、図4を用いて、本発明の第2の実施の形態における二酸化炭素回収設備および二酸化炭素回収設備のメンテナンス方法について説明する。
(Second embodiment)
Next, the maintenance method of the carbon dioxide recovery equipment and the carbon dioxide recovery equipment according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図4に示す第2の実施の形態においては、設置基準線がV字状の折れ線として形成されている点が主に異なり、他の構成は、図1~図3に示す第1の実施の形態と略同一である。なお、図4において、図1~図3に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。 The second embodiment shown in FIG. 4 is mainly different in that the installation reference line is formed as a V-shaped polygonal line, and the other configurations are the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3. It is almost the same as the form. In FIG. 4, the same parts as those of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

本実施の形態においては、図4に示すように、設置基準線41が、V字状の折れ線として形成されている。これにより、設置平面区域40は、V字状に形成されている。 In the present embodiment, as shown in FIG. 4, the installation reference line 41 is formed as a V-shaped polygonal line. As a result, the installation plane area 40 is formed in a V shape.

より具体的には、設置基準線41は、各々が直線状に形成された第1基準線部分51および第2基準線部分52を有している。第1基準線部分51の一端と第2基準線部分52の一端とが互いに接続されている。 More specifically, the installation reference line 41 has a first reference line portion 51 and a second reference line portion 52, each of which is formed in a straight line. One end of the first reference line portion 51 and one end of the second reference line portion 52 are connected to each other.

設置平面区域40は、第1基準線部分51に沿って延びる第1設置区域部分53と、第2基準線部分52に沿って延びる第2設置区域部分54と、を有している。第1設置区域部分53および第2設置区域部分54に、少なくとも2つの装置がそれぞれ設置されている。 The installation plane area 40 has a first installation area portion 53 extending along the first reference line portion 51 and a second installation area portion 54 extending along the second reference line portion 52. At least two devices are installed in the first installation area portion 53 and the second installation area portion 54, respectively.

本実施形態においても、設置基準線41は、上方から見たときに、吸収塔20の中心および再生塔30の中心を通るようなV字状の折れ線に設定されている。第1の実施の形態と同様に、設置基準線41については、第1設置区域部分53と第2設置区域部分54のそれぞれの幅方向(長手方向に垂直な方向)の中心を結ぶV字状の折れ線、もしくは第1設置区域部分53および第2設置区域部分54のそれぞれの長手方向に沿う辺からなるV字状の折れ線に設定することもできる。第1設置区域部分53および第2設置区域部分54からなる設置平面区域40のみを設定し設置基準線41を明示的に設定しない場合には、例えば、第1設置区域部分53および第2設置区域部分54のそれぞれの長手方向に沿う2本の辺からなるV字状の折れ線(すなわち設置平面区域40を区画し複数の装置が配置される方向に延びる区画線)のいずれかを設置基準線41として扱う(設定する)ことができる。 Also in this embodiment, the installation reference line 41 is set to a V-shaped polygonal line that passes through the center of the absorption tower 20 and the center of the regeneration tower 30 when viewed from above. Similar to the first embodiment, the installation reference line 41 has a V shape connecting the centers of the first installation area portion 53 and the second installation area portion 54 in the width direction (direction perpendicular to the longitudinal direction). It can also be set as a polygonal line of No. 1 or a V-shaped polygonal line consisting of sides along the respective longitudinal directions of the first installation area portion 53 and the second installation area portion 54. When only the installation plane area 40 consisting of the first installation area portion 53 and the second installation area portion 54 is set and the installation reference line 41 is not explicitly set, for example, the first installation area portion 53 and the second installation area are set. One of the V-shaped polygonal lines (that is, the dividing line extending in the direction in which the installation plane area 40 is divided and the plurality of devices are arranged) consisting of two sides along the respective longitudinal directions of the portion 54 is the installation reference line 41. Can be treated (set) as.

図4に示す例においては、第1設置区域部分53に、制御装置38、吸収塔20、リッチ液用ポンプ32、リーン液用冷却器35および再生熱交換器31が、第1基準線部分51と第2基準線部分52との交点に向かってこの順番で設置されている。第2設置区域部分54には、気液分離器37、ガス用冷却器36、再生塔30およびリーン液用ポンプ34が、第1基準線部分51と第2基準線部分52との交点に向かってこの順番で設置されている。なお、各設置区域部分53、54における装置配置の順番は、これに限られることはなく、任意である。また、各装置が、各設置区域部分53、54のいずれに設置されるかについても任意である。 In the example shown in FIG. 4, the control device 38, the absorption tower 20, the rich liquid pump 32, the lean liquid cooler 35, and the regenerated heat exchanger 31 are provided in the first installation area portion 53, and the first reference line portion 51. It is installed in this order toward the intersection of the second reference line portion 52 and the second reference line portion 52. In the second installation area portion 54, a gas-liquid separator 37, a gas cooler 36, a regeneration tower 30, and a lean liquid pump 34 are directed toward the intersection of the first reference line portion 51 and the second reference line portion 52. They are installed in the order of the levers. The order of device arrangement in each of the installation area portions 53 and 54 is not limited to this, and is arbitrary. Further, it is also arbitrary whether each device is installed in each installation area portion 53 or 54.

第1基準線部分51および第2基準線部分52は、180°未満の角度をなしている。このようにして、設置基準線41がV字状の折れ線として形成されている。図4においては、第1基準線部分51と第2基準線部分52とがなす角度が、90°となっており、第1基準線部分51と第2基準線部分52は、互いに垂直に接続されている。なお、図4においては、第1設置区域部分53の第1基準線部分51に沿う方向の長さと、第2設置区域部分54の第2基準線部分52に沿う方向の長さが等しくなっているが、これに限られることはない。 The first reference line portion 51 and the second reference line portion 52 form an angle of less than 180 °. In this way, the installation reference line 41 is formed as a V-shaped polygonal line. In FIG. 4, the angle formed by the first reference line portion 51 and the second reference line portion 52 is 90 °, and the first reference line portion 51 and the second reference line portion 52 are connected vertically to each other. Has been done. In FIG. 4, the length of the first installation area portion 53 in the direction along the first reference line portion 51 and the length of the second installation area portion 54 in the direction along the second reference line portion 52 become equal. However, it is not limited to this.

リッチ液ラインL1、リーン液ラインL2、ガスラインL3および戻りラインL4を構成する配管は、各基準線部分51、52に沿うように延びていてもよい。しかしながら、設置平面区域40の角部(第1基準線部分51と第2基準線部分52との交点付近)では、上方から見たときに湾曲し、一部が設置平面区域40の内側にはみ出すようにしてもよい。 The pipes constituting the rich liquid line L1, the lean liquid line L2, the gas line L3, and the return line L4 may extend along the reference line portions 51 and 52, respectively. However, the corner portion of the installation plane area 40 (near the intersection of the first reference line portion 51 and the second reference line portion 52) is curved when viewed from above, and a part of the installation plane area 40 protrudes inside the installation plane area 40. You may do so.

設置平面区域40の外側のうち、第1基準線部分51および第2基準線部分52の内角部分に、各装置にアクセス可能な内側アクセス区域55が設けられている。この内側アクセス区域55は、第1設置区域部分53と第2設置区域部分54との間に設けられた区域であって、各設置区域部分53、54に設置された各装置にアクセスしてメンテナンスを行おうとする作業者が立ち入る区域である。この内側アクセス区域55内の作業者は、第1基準線部分51と第2基準線部分52との交点若しくはその近傍に配置された装置(図4に示す再生熱交換器31)にもアクセス可能になっていることが好ましい。すなわち、第1基準線部分51と第2基準線部分52とがなす角度の最小値は、当該交点若しくはその近傍に配置された装置にもアクセス可能となるような角度として設定することができる。 An inner access area 55 accessible to each device is provided at an inner angle portion of the first reference line portion 51 and the second reference line portion 52 in the outside of the installation plane area 40. The inner access area 55 is an area provided between the first installation area portion 53 and the second installation area portion 54, and accesses and maintains each device installed in each installation area portion 53, 54. This is an area where workers who are trying to perform maintenance can enter. The worker in the inner access area 55 can also access the device (regenerated heat exchanger 31 shown in FIG. 4) arranged at or near the intersection of the first reference line portion 51 and the second reference line portion 52. It is preferable that it is. That is, the minimum value of the angle formed by the first reference line portion 51 and the second reference line portion 52 can be set as an angle that can be accessed by the device arranged at or near the intersection.

V字状に折れて形成される設置平面区域40の外側には、第1外側アクセス区域56および第2外側アクセス区域57が設けられている。第1外側アクセス区域56は、第1設置区域部分53に設置された各装置にアクセスしてメンテナンスを行おうとする作業者が立ち入る区域である。第2外側アクセス区域57は、第2設置区域部分54に設置された各装置にアクセスしてメンテナンスを行おうとする作業者が立ち入る区域である。 A first outer access area 56 and a second outer access area 57 are provided on the outside of the installation plane area 40 formed by folding in a V shape. The first outer access area 56 is an area where a worker who intends to access and perform maintenance on each device installed in the first installation area portion 53 enters. The second outer access area 57 is an area where a worker who intends to access and perform maintenance on each device installed in the second installation area portion 54 enters.

本実施の形態においては、第1設置区域部分53に設置された各装置を、設置基準線41のうち第1基準線部分51に直交する方向に沿って見たときに、互いに隣り合う装置同士が重なっていない。すなわち、内側アクセス区域55および第1外側アクセス区域56から見たときに、第1設置区域部分53において互いに隣り合う装置同士は重なっていない。このような構成を備えることにより、本実施の形態においては、第1設置区域部分53において、一の装置へのアクセスが、隣り合う他の装置によって遮られることが防止されている。このため、内側アクセス区域55内および第1外側アクセス区域56内の作業者は、第1設置区域部分53の各装置に容易にアクセスしてメンテナンスを行うことができ、メンテナンス性を確保することができる。 In the present embodiment, when each device installed in the first installation area portion 53 is viewed along the direction orthogonal to the first reference line portion 51 of the installation reference line 41, the devices adjacent to each other are adjacent to each other. Do not overlap. That is, when viewed from the inner access area 55 and the first outer access area 56, the devices adjacent to each other in the first installation area portion 53 do not overlap each other. By providing such a configuration, in the present embodiment, in the first installation area portion 53, access to one device is prevented from being blocked by another device adjacent to the device. Therefore, the workers in the inner access area 55 and the first outer access area 56 can easily access and perform maintenance on each device of the first installation area portion 53, and maintainability can be ensured. can.

同様に、第2設置区域部分54に設置された各装置を、設置基準線41のうち第2基準線部分52に直交する方向に沿って見たときに、互いに隣り合う装置同士が重なっていない。すなわち、内側アクセス区域55および第2外側アクセス区域57から見たときに、第2設置区域部分54において互いに隣り合う装置同士は重なっていない。このような構成を備えることにより、本実施の形態においては、第2設置区域部分54において、一の装置へのアクセスが、隣り合う他の装置によって遮られることが防止されている。このため、内側アクセス区域55内および第2外側アクセス区域57内の作業者は、第2設置区域部分54の各装置に容易にアクセスしてメンテナンスを行うことができ、メンテナンス性を確保することができる。 Similarly, when each device installed in the second installation area portion 54 is viewed along the direction orthogonal to the second reference line portion 52 of the installation reference line 41, the devices adjacent to each other do not overlap each other. .. That is, when viewed from the inner access area 55 and the second outer access area 57, the devices adjacent to each other in the second installation area portion 54 do not overlap each other. By providing such a configuration, in the present embodiment, in the second installation area portion 54, access to one device is prevented from being blocked by another device adjacent to the device. Therefore, the workers in the inner access area 55 and the second outer access area 57 can easily access and perform maintenance on each device in the second installation area portion 54, and maintainability can be ensured. can.

すなわち本実施の形態においても、各装置は、設置基準線41を含む鉛直面(この鉛直面を展開した展開平面)に各装置を水平に投影した際に、各装置がいずれも重なる部分を有さないように配置されている。 That is, also in the present embodiment, each device has a portion where each device overlaps when the devices are horizontally projected onto the vertical surface including the installation reference line 41 (the development plane in which the vertical surface is developed). It is arranged so as not to.

このように本実施の形態によれば、設置基準線41がV字状の折れ線として形成され、設置平面区域40の内側に、各装置にアクセス可能な内側アクセス区域55が設けられている。このため、内側アクセス区域55、第1外側アクセス区域56および第2外側アクセス区域57から各装置に容易にアクセスすることができ、メンテナンスを容易に行うことができる。とりわけ、設置基準線41がV字状の折れ線として形成されていることにより、第1設置区域部分53に設置された装置と第2設置区域部分54に設置された装置とを互いに近づけることができる。このことにより、内側アクセス区域55からメンテナンスを行う場合に、第1設置区域部分53の装置と第2設置区域部分54の装置との間での作業者の移動距離を短くすることができる。このため、メンテナンス性を向上させることができる。 As described above, according to the present embodiment, the installation reference line 41 is formed as a V-shaped polygonal line, and an inner access area 55 accessible to each device is provided inside the installation plane area 40. Therefore, each device can be easily accessed from the inner access area 55, the first outer access area 56, and the second outer access area 57, and maintenance can be easily performed. In particular, since the installation reference line 41 is formed as a V-shaped polygonal line, the device installed in the first installation area portion 53 and the device installed in the second installation area portion 54 can be brought close to each other. .. As a result, when performing maintenance from the inner access area 55, the moving distance of the worker between the device of the first installation area portion 53 and the device of the second installation area portion 54 can be shortened. Therefore, maintainability can be improved.

(第3の実施の形態)
次に、図5を用いて、本発明の第3の実施の形態における二酸化炭素回収設備および二酸化炭素回収設備のメンテナンス方法について説明する。
(Third embodiment)
Next, the maintenance method of the carbon dioxide recovery equipment and the carbon dioxide recovery equipment according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図5に示す第3の実施の形態においては、設置基準線がコの字状の折れ線として形成されている点が主に異なり、他の構成は、図1~図3に示す第1の実施の形態と略同一である。なお、図5において、図1~図3に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。 The third embodiment shown in FIG. 5 is mainly different in that the installation reference line is formed as a U-shaped polygonal line, and the other configurations are the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3. It is almost the same as the form of. In FIG. 5, the same parts as those of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

本実施の形態においては、図5に示すように、設置基準線41が、コの字状の折れ線として形成されている。 In the present embodiment, as shown in FIG. 5, the installation reference line 41 is formed as a U-shaped polygonal line.

より具体的には、設置基準線41は、各々が直線状に形成された第1基準線部分61、第2基準線部分62および第3基準線部分63を有している。第3基準線部分63の一端は第1基準線部分61の一端に接続され、第3基準線部分63の他端は第2基準線部分62の一端に接続されている。 More specifically, the installation reference line 41 has a first reference line portion 61, a second reference line portion 62, and a third reference line portion 63, each of which is formed in a straight line. One end of the third reference line portion 63 is connected to one end of the first reference line portion 61, and the other end of the third reference line portion 63 is connected to one end of the second reference line portion 62.

設置平面区域40は、第1基準線部分61に沿って延びる第1設置区域部分64と、第2基準線部分62に沿って延びる第2設置区域部分65と、第3基準線部分63に沿って延びる第3設置区域部分66と、を有している。第1設置区域部分64、第2設置区域部分65および第3設置区域部分66に、少なくとも2つの装置がそれぞれ配置されている。 The installation plane area 40 includes a first installation area portion 64 extending along the first reference line portion 61, a second installation area portion 65 extending along the second reference line portion 62, and a third reference line portion 63. It has a third installation area portion 66 extending through the surface. At least two devices are arranged in the first installation area portion 64, the second installation area portion 65, and the third installation area portion 66, respectively.

本実施形態においても、設置基準線41は、上方から見たときに、吸収塔20の中心および再生塔30の中心を通るようなコの字状の折れ線に設定されている。第1の実施の形態および第2の実施の形態と同様に、設置基準線41については、第1設置区域部分64、第2設置区域部分65および第3設置区域部分66のそれぞれの幅方向(長手方向に垂直な方向)の中心を結ぶコの字状の折れ線、もしく第1設置区域部分64、第2設置区域部分65および第3設置区域部分66のそれぞれの長手方向の辺からなるコの字状の折れ線に設定することもできる。第1設置区域部分64、第2設置区域部分65および第3設置区域部分66からなる設置平面区域40のみを設定し設置基準線41を明示的に設定しない場合には、例えば、第1設置区域部分64、第2設置区域部分65および第3設置区域部分66のそれぞれの長手方向の3本の辺からなるコ字状の折れ線(すなわち設置平面区域40を区画し複数の装置が配置される方向に延びる区画線)のいずれかを設置基準線41として扱う(設定する)ことができる。 Also in this embodiment, the installation reference line 41 is set as a U-shaped polygonal line that passes through the center of the absorption tower 20 and the center of the regeneration tower 30 when viewed from above. Similar to the first embodiment and the second embodiment, regarding the installation reference line 41, the width direction of each of the first installation area portion 64, the second installation area portion 65, and the third installation area portion 66 ( A U-shaped polygonal line connecting the centers (perpendicular to the longitudinal direction), or a U-shaped polygonal line consisting of the respective longitudinal sides of the first installation area portion 64, the second installation area portion 65, and the third installation area portion 66. It can also be set to a polygonal line in the shape of. When only the installation plane area 40 including the first installation area portion 64, the second installation area portion 65, and the third installation area portion 66 is set and the installation reference line 41 is not explicitly set, for example, the first installation area A U-shaped polygonal line consisting of three sides in each longitudinal direction of the portion 64, the second installation area portion 65, and the third installation area portion 66 (that is, the direction in which the installation plane area 40 is divided and a plurality of devices are arranged). Any one of the lane markings extending to) can be treated (set) as the installation reference line 41.

図5に示す例においては、第1設置区域部分64に、制御装置38、吸収塔20およびリッチ液用ポンプ32が、第1基準線部分61と第3基準線部分63との交点に向かってこの順番で設置されている。第2設置区域部分65には、気液分離器37、ガス用冷却器36および再生塔30が、第2基準線部分62と第3基準線部分63との交点に向かってこの順番で設置されている。第3設置区域部分66には、リーン液用冷却器35、再生熱交換器31およびリーン液用ポンプ34が、第2基準線部分62と第3基準線部分63との交点に向かってこの順番で設置されている。なお、各設置区域部分64~66における装置配置の順番は、これに限られることはなく、任意である。また、各装置が、各設置区域部分64~66のいずれに設置されるかについても任意である。 In the example shown in FIG. 5, in the first installation area portion 64, the control device 38, the absorption tower 20, and the rich liquid pump 32 are directed toward the intersection of the first reference line portion 61 and the third reference line portion 63. It is installed in this order. In the second installation area portion 65, the gas-liquid separator 37, the gas cooler 36, and the regeneration tower 30 are installed in this order toward the intersection of the second reference line portion 62 and the third reference line portion 63. ing. In the third installation area portion 66, the lean liquid cooler 35, the regenerative heat exchanger 31 and the lean liquid pump 34 are arranged in this order toward the intersection of the second reference line portion 62 and the third reference line portion 63. It is installed in. The order of device arrangement in each installation area portion 64 to 66 is not limited to this, and is arbitrary. It is also arbitrary which of the installation area portions 64 to 66 each device is installed.

第1基準線部分61と第2基準線部分62は互いに平行になっている。第3基準線部分63は、第1基準線部分61および第2基準線部分62に垂直になっている。すなわち、第1基準線部分61と第3基準線部分63とがなす角度が、90°となっているとともに、第2基準線部分62と第3基準線部分63とがなす角度が、90°となっている。このようにして、設置基準線41がコの字状の折れ線として形成されている。しかしながら、第1基準線部分61と第3基準線部分63とがなす角度は、後述する内側アクセス区域67を設けることができれば、180°未満の範囲で任意である。第2基準線部分62と第3基準線部分63とがなす角度についても同様である。また、図5においては、第1設置区域部分64の第1基準線部分61に沿う方向の長さと、第2設置区域部分65の第2基準線部分62に沿う方向の長さが等しくなっているが、これに限られることはない。 The first reference line portion 61 and the second reference line portion 62 are parallel to each other. The third reference line portion 63 is perpendicular to the first reference line portion 61 and the second reference line portion 62. That is, the angle formed by the first reference line portion 61 and the third reference line portion 63 is 90 °, and the angle formed by the second reference line portion 62 and the third reference line portion 63 is 90 °. It has become. In this way, the installation reference line 41 is formed as a U-shaped polygonal line. However, the angle formed by the first reference line portion 61 and the third reference line portion 63 is arbitrary within a range of less than 180 ° if the inner access area 67 described later can be provided. The same applies to the angle formed by the second reference line portion 62 and the third reference line portion 63. Further, in FIG. 5, the length of the first installation area portion 64 in the direction along the first reference line portion 61 and the length of the second installation area portion 65 in the direction along the second reference line portion 62 become equal. However, it is not limited to this.

リッチ液ラインL1、リーン液ラインL2、ガスラインL3および戻りラインL4を構成する配管は、各基準線部分61~63に沿うように延びていてもよい。しかしながら、設置平面区域40の角部(第1基準線部分61と第3基準線部分63との交点付近、および第2基準線部分62と第3基準線部分63との交点付近)では、上方から見たときに湾曲し、一部が設置平面区域40の内側にはみ出すようにしてもよい。 The pipes constituting the rich liquid line L1, the lean liquid line L2, the gas line L3, and the return line L4 may extend along the respective reference line portions 61 to 63. However, at the corner of the installation plane area 40 (near the intersection of the first reference line portion 61 and the third reference line portion 63, and near the intersection of the second reference line portion 62 and the third reference line portion 63), the upper part is above. It may be curved when viewed from above, and a part thereof may protrude inside the installation plane area 40.

設置平面区域40の内側に、各装置にアクセス可能な内側アクセス区域67が設けられている。この内側アクセス区域67は、第1設置区域部分64、第2設置区域部分65および第3設置区域部分66によって囲まれた区域であって、各設置区域部分64~66に設置された各装置にアクセスしてメンテナンスを行おうとする作業者が立ち入る区域である。この内側アクセス区域67内の作業者は、第1基準線部分61と第3基準線部分63との交点若しくはその近傍に配置された装置(図5に示すリーン液用冷却器35)にもアクセス可能になっていることが好ましい。すなわち、第1基準線部分61と第3基準線部分63とがなす角度の最小値は、当該交点若しくはその近傍に配置された装置にもアクセス可能となるような角度として設定することができる。同様に、内側アクセス区域67内の作業者は、第2基準線部分62と第3基準線部分63との交点若しくはその近傍に配置された装置(図5に示すリーン液用ポンプ34)にもアクセス可能になっていることが好ましい。すなわち、第2基準線部分62と第3基準線部分63とがなす角度の最小値は、当該交点若しくはその近傍に配置された装置にもアクセス可能となるような角度として設定することができる。 Inside the installation plane area 40, an inner access area 67 that can access each device is provided. The inner access area 67 is an area surrounded by the first installation area portion 64, the second installation area portion 65, and the third installation area portion 66, and is provided to each device installed in each installation area portion 64 to 66. This is an area where workers who want to access and perform maintenance can enter. The worker in the inner access area 67 also accesses the device (lean liquid cooler 35 shown in FIG. 5) arranged at or near the intersection of the first reference line portion 61 and the third reference line portion 63. It is preferable that it is possible. That is, the minimum value of the angle formed by the first reference line portion 61 and the third reference line portion 63 can be set as an angle that can be accessed by the device arranged at or near the intersection. Similarly, the worker in the inner access area 67 also has a device (lean liquid pump 34 shown in FIG. 5) arranged at or near the intersection of the second reference line portion 62 and the third reference line portion 63. It is preferable that it is accessible. That is, the minimum value of the angle formed by the second reference line portion 62 and the third reference line portion 63 can be set as an angle that can be accessed by the device arranged at or near the intersection.

コの字状に折れて形成される設置平面区域40の外側には、第1外側アクセス区域68、第2外側アクセス区域69および第3外側アクセス区域70が設けられている。第1外側アクセス区域68は、第1設置区域部分64に設置された各装置にアクセスしてメンテナンスを行おうとする作業者が立ち入る区域である。第2外側アクセス区域69は、第2設置区域部分65に設置された各装置にアクセスしてメンテナンスを行おうとする作業者が立ち入る区域である。第3外側アクセス区域70は、第3設置区域部分66に設置された各装置にアクセスしてメンテナンスを行おうとする作業者が立ち入る区域である。 A first outer access area 68, a second outer access area 69, and a third outer access area 70 are provided outside the installation plane area 40 formed by folding in a U shape. The first outer access area 68 is an area where a worker who intends to access and perform maintenance on each device installed in the first installation area portion 64 enters. The second outer access area 69 is an area where a worker who intends to access and perform maintenance on each device installed in the second installation area portion 65 enters. The third outer access area 70 is an area where a worker who intends to access and perform maintenance on each device installed in the third installation area portion 66 enters.

本実施の形態においては、第1設置区域部分64に設置された各装置を、設置基準線41のうち第1基準線部分61に直交する方向に沿って見たときに、互いに隣り合う装置同士が重なっていない。すなわち、内側アクセス区域67および第1外側アクセス区域68から見たときに、第1設置区域部分64において互いに隣り合う装置同士は重なっていない。このような構成を備えることにより、本実施の形態においては、第1設置区域部分64において、一の装置へのアクセスが、隣り合う他の装置によって遮られることが防止されている。このため、内側アクセス区域67内および第1外側アクセス区域68内の作業者は、第1設置区域部分64の各装置に容易にアクセスしてメンテナンスを行うことができ、メンテナンス性を確保することができる。 In the present embodiment, when each device installed in the first installation area portion 64 is viewed along the direction orthogonal to the first reference line portion 61 of the installation reference line 41, the devices adjacent to each other are adjacent to each other. Do not overlap. That is, when viewed from the inner access area 67 and the first outer access area 68, the devices adjacent to each other in the first installation area portion 64 do not overlap each other. By providing such a configuration, in the present embodiment, in the first installation area portion 64, access to one device is prevented from being blocked by another device adjacent to the device. Therefore, the workers in the inner access area 67 and the first outer access area 68 can easily access and perform maintenance on each device of the first installation area portion 64, and maintainability can be ensured. can.

同様に、第2設置区域部分65に設置された各装置を、設置基準線41のうち第2基準線部分62に直交する方向に沿って見たときに、互いに隣り合う装置同士が重なっていない。すなわち、内側アクセス区域67および第2外側アクセス区域69から見たときに、第2設置区域部分65において互いに隣り合う装置同士は重なっていない。このような構成を備えることにより、本実施の形態においては、第2設置区域部分65において、一の装置へのアクセスが、隣り合う他の装置によって遮られることが防止されている。このため、内側アクセス区域67内および第2外側アクセス区域69内の作業者は、第2設置区域部分65の各装置に容易にアクセスしてメンテナンスを行うことができ、メンテナンス性を確保することができる。 Similarly, when each device installed in the second installation area portion 65 is viewed along the direction orthogonal to the second reference line portion 62 of the installation reference line 41, the devices adjacent to each other do not overlap each other. .. That is, when viewed from the inner access area 67 and the second outer access area 69, the devices adjacent to each other in the second installation area portion 65 do not overlap each other. By providing such a configuration, in the present embodiment, in the second installation area portion 65, access to one device is prevented from being blocked by another device adjacent to the device. Therefore, the workers in the inner access area 67 and the second outer access area 69 can easily access and perform maintenance on each device in the second installation area portion 65, and maintainability can be ensured. can.

同様に、第3設置区域部分66に設置された各装置を、設置基準線41のうち第3基準線部分63に直交する方向に沿って見たときに、互いに隣り合う装置同士が重なっていない。すなわち、内側アクセス区域67および第3外側アクセス区域70から見たときに、第3設置区域部分66において互いに隣り合う装置同士は重なっていない。このような構成を備えることにより、本実施の形態においては、第3設置区域部分66において、一の装置へのアクセスが、隣り合う他の装置によって遮られることが防止されている。このため、内側アクセス区域67内および第3外側アクセス区域70内の作業者は、第3設置区域部分66の各装置に容易にアクセスしてメンテナンスを行うことができ、メンテナンス性を確保することができる。 Similarly, when each device installed in the third installation area portion 66 is viewed along the direction orthogonal to the third reference line portion 63 of the installation reference line 41, the devices adjacent to each other do not overlap each other. .. That is, when viewed from the inner access area 67 and the third outer access area 70, the devices adjacent to each other in the third installation area portion 66 do not overlap each other. By providing such a configuration, in the present embodiment, in the third installation area portion 66, access to one device is prevented from being blocked by another device adjacent to the device. Therefore, the workers in the inner access area 67 and the third outer access area 70 can easily access and perform maintenance on each device of the third installation area portion 66, and maintainability can be ensured. can.

すなわち本実施の形態においても、各装置は、設置基準線41を含む鉛直面(この鉛直面を展開した展開平面)に各装置を水平に投影した際に、各装置がいずれも重なる部分を有さないように配置されている。 That is, also in the present embodiment, each device has a portion where each device overlaps when the devices are horizontally projected onto the vertical surface including the installation reference line 41 (the development plane in which the vertical surface is developed). It is arranged so as not to.

このように本実施の形態によれば、設置基準線41がコの字状の折れ線として形成され、設置平面区域40の内側に、各装置にアクセス可能な内側アクセス区域67が設けられている。このため、内側アクセス区域67、第1外側アクセス区域68、第2外側アクセス区域69および第3外側アクセス区域70から各装置に容易にアクセスすることができ、メンテナンスを容易に行うことができる。とりわけ、設置基準線41がコの字状の折れ線として形成されていることにより、第1設置区域部分64に設置された装置と第2設置区域部分65に設置された装置と第3設置区域部分66に設置された装置とを互いに近づけることができる。このことにより、内側アクセス区域67からメンテナンスを行う場合に、第1設置区域部分64の装置と第2設置区域部分65の装置と第3設置区域部分66の装置との間での作業者の移動距離を短くすることができる。このため、メンテナンス性を向上させることができる。 As described above, according to the present embodiment, the installation reference line 41 is formed as a U-shaped polygonal line, and an inner access area 67 accessible to each device is provided inside the installation plane area 40. Therefore, each device can be easily accessed from the inner access area 67, the first outer access area 68, the second outer access area 69, and the third outer access area 70, and maintenance can be easily performed. In particular, since the installation reference line 41 is formed as a U-shaped polygonal line, the device installed in the first installation area portion 64, the device installed in the second installation area portion 65, and the third installation area portion The devices installed in 66 can be brought close to each other. As a result, when performing maintenance from the inner access area 67, the movement of the worker between the device of the first installation area portion 64, the device of the second installation area portion 65, and the device of the third installation area portion 66. The distance can be shortened. Therefore, maintainability can be improved.

(第4の実施の形態)
次に、図6を用いて、本発明の第4の実施の形態における二酸化炭素回収設備および二酸化炭素回収設備のメンテナンス方法について説明する。
(Fourth Embodiment)
Next, the maintenance method of the carbon dioxide recovery equipment and the carbon dioxide recovery equipment according to the fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図6に示す第4の実施の形態においては、設置基準線がC字状の曲線として形成されている点が主に異なり、他の構成は、図1~図3に示す第1の実施の形態と略同一である。なお、図6において、図1~図3に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。 The fourth embodiment shown in FIG. 6 is mainly different in that the installation reference line is formed as a C-shaped curve, and the other configurations are the first embodiments shown in FIGS. 1 to 3. It is almost the same as the form. In FIG. 6, the same parts as those of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

本実施の形態においては、図6に示すように、設置平面区域40および設置基準線41が、C字状の曲線として形成されている。 In the present embodiment, as shown in FIG. 6, the installation plane area 40 and the installation reference line 41 are formed as a C-shaped curve.

より具体的には、設置基準線41は湾曲しており、円弧の一部をなすように形成されている。これにより、設置平面区域40も湾曲し、円弧の一部をなすように形成されている。リッチ液ラインL1、リーン液ラインL2、ガスラインL3および戻りラインL4を構成する配管は、設置基準線41に沿うように延びている。なお、設置基準線41は、円弧の一部をなしていなくてもよく、例えば、楕円の一部をなすようにしてもよく、湾曲形状は任意である。 More specifically, the installation reference line 41 is curved and is formed so as to form a part of an arc. As a result, the installation plane area 40 is also curved and formed so as to form a part of an arc. The pipes constituting the rich liquid line L1, the lean liquid line L2, the gas line L3, and the return line L4 extend along the installation reference line 41. The installation reference line 41 may not form a part of an arc, for example, may form a part of an ellipse, and the curved shape is arbitrary.

本実施形態においても、設置基準線41は、上方から見たときに、吸収塔20の中心および再生塔30の中心を通るようなC字状の曲線に設定されている。第1の実施の形態乃至第3の実施の形態と同様に、設置基準線41については、湾曲する設置平面区域40の幅方向(長手方向に垂直な方向)の中心を結ぶC字状の円弧、もしくは設置平面区域40を区画する円弧などの湾曲したC字状の曲線とすることもできる。湾曲する設置平面区域40のみを設定し設置基準線41を明示的に設定しない場合には、例えば、設置平面区域40を区画する湾曲した曲線(すなわち設置平面区域40を区画し複数の装置が配置される方向に延びる区画線)のいずれかを設置基準線41として扱う(設定する)ことができる。 Also in this embodiment, the installation reference line 41 is set to a C-shaped curve so as to pass through the center of the absorption tower 20 and the center of the regeneration tower 30 when viewed from above. Similar to the first to third embodiments, the installation reference line 41 is a C-shaped arc connecting the centers of the curved installation plane area 40 in the width direction (direction perpendicular to the longitudinal direction). Alternatively, it may be a curved C-shaped curve such as an arc that divides the installation plane area 40. When only the curved installation plane area 40 is set and the installation reference line 41 is not explicitly set, for example, a curved curve that divides the installation plane area 40 (that is, the installation plane area 40 is divided and a plurality of devices are arranged. Any of the lane markings extending in the direction in which it is formed) can be treated (set) as the installation reference line 41.

設置平面区域40の内側に、各装置にアクセス可能な内側アクセス区域80が設けられている。この内側アクセス区域80は、設置平面区域40に設置された各装置にアクセスしてメンテナンスを行おうとする作業者が立ち入る区域である。 Inside the installation plane area 40, an inner access area 80 that can access each device is provided. The inner access area 80 is an area where a worker who wants to access and perform maintenance on each device installed in the installation plane area 40 enters.

C字状に湾曲して形成される設置平面区域40の外側には、外側アクセス区域81が設けられている。外側アクセス区域81は、設置平面区域40に設置された各装置にアクセスしてメンテナンスを行おうとする作業者が立ち入る区域である。 An outer access area 81 is provided on the outside of the installation plane area 40 formed by being curved in a C shape. The outer access area 81 is an area where a worker who intends to access and perform maintenance on each device installed in the installation plane area 40 enters.

本実施の形態においては、設置平面区域40に設置された各装置を、設置基準線41に直交する方向(すなわち、設置基準線41の接線に垂直な方向)に沿って見たときに、互いに隣り合う装置同士が重なっていない。すなわち、内側アクセス区域80および外側アクセス区域81から見たときに、隣り合う装置同士は重なっていない。このような構成を備えることにより、本実施の形態においては、一の装置へのアクセスが、隣り合う他の装置によって遮られることが防止されている。このため、内側アクセス区域80内および外側アクセス区域81内の作業者は、各装置に容易にアクセスしてメンテナンスを行うことができ、メンテナンス性を確保することができる。 In the present embodiment, when each device installed in the installation plane area 40 is viewed along a direction orthogonal to the installation reference line 41 (that is, a direction perpendicular to the tangent line of the installation reference line 41), they are viewed from each other. Adjacent devices do not overlap. That is, when viewed from the inner access area 80 and the outer access area 81, adjacent devices do not overlap each other. By providing such a configuration, in the present embodiment, access to one device is prevented from being blocked by another device adjacent to the device. Therefore, the workers in the inner access area 80 and the outer access area 81 can easily access each device for maintenance, and maintainability can be ensured.

すなわち本実施の形態においても、各装置は、設置基準線41を含む鉛直面(この鉛直面を展開した展開平面)に各装置を水平に投影した際に、各装置がいずれも重なる部分を有さないように配置されている。 That is, also in the present embodiment, each device has a portion where each device overlaps when the devices are horizontally projected onto the vertical surface including the installation reference line 41 (the development plane in which the vertical surface is developed). It is arranged so as not to.

このように本実施の形態によれば、設置基準線41がC字状の曲線として形成され、設置平面区域40の内側に、各装置にアクセス可能な内側アクセス区域80が設けられている。このため、内側アクセス区域80および外側アクセス区域81から各装置に容易にアクセスすることができ、メンテナンスを容易に行うことができる。とりわけ、設置基準線41がC字状の曲線として形成されていることにより、装置同士を互いに近づけることができる。このことにより、内側アクセス区域80からメンテナンスを行う場合に、各装置同士の間での作業者の移動距離を短くすることができる。このため、メンテナンス性を向上させることができる。 As described above, according to the present embodiment, the installation reference line 41 is formed as a C-shaped curve, and an inner access area 80 accessible to each device is provided inside the installation plane area 40. Therefore, each device can be easily accessed from the inner access area 80 and the outer access area 81, and maintenance can be easily performed. In particular, since the installation reference line 41 is formed as a C-shaped curve, the devices can be brought close to each other. This makes it possible to shorten the moving distance of the operator between the devices when performing maintenance from the inner access area 80. Therefore, maintainability can be improved.

以上述べた実施の形態によれば、各装置へのアクセスを容易にし、メンテナンス性を確保することができる。 According to the embodiment described above, access to each device can be facilitated and maintainability can be ensured.

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。また、当然のことながら、本発明の要旨の範囲内で、これらの実施の形態を、部分的に適宜組み合わせることも可能である。 Although some embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other embodiments, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and variations thereof are included in the scope and gist of the invention, and are also included in the scope of the invention described in the claims and the equivalent scope thereof. Further, as a matter of course, it is also possible to partially and appropriately combine these embodiments within the scope of the gist of the present invention.

1:二酸化炭素回収設備、20:吸収塔、30:再生塔、31:再生熱交換器、32:リッチ液用ポンプ、34:リーン液用ポンプ、35:リーン液用冷却器、36:ガス用冷却器、37:気液分離器、38:制御装置、40:設置平面区域、41:設置基準線、51:第1基準線部分、52:第2基準線部分、53:第1設置区域部分、54:第2設置区域部分、55:内側アクセス区域、61:第1基準線部分、62:第2基準線部分、63:第3基準線部分、64:第1設置区域部分、65:第2設置区域部分、66:第3設置区域部分、67:内側アクセス区域、80:内側アクセス区域、 1: Carbon dioxide recovery equipment, 20: Absorption tower, 30: Regeneration tower, 31: Regeneration heat exchanger, 32: Rich liquid pump, 34: Lean liquid pump, 35: Lean liquid cooler, 36: Gas Cooler, 37: Gas-liquid separator, 38: Control device, 40: Installation plane area, 41: Installation reference line, 51: First reference line part, 52: Second reference line part, 53: First installation area part , 54: 2nd installation area part, 55: inner access area, 61: 1st reference line part, 62: 2nd reference line part, 63: 3rd reference line part, 64: 1st installation area part, 65: 1st 2 installation area part, 66: 3rd installation area part, 67: inner access area, 80: inner access area,

Claims (8)

処理対象排ガスに含有される二酸化炭素を吸収液に吸収させる吸収装置と、
前記吸収装置から供給される前記吸収液から前記二酸化炭素を放出させる再生装置と、
前記吸収装置から前記再生装置に前記二酸化炭素を吸収した前記吸収液を供給する第1ポンプ装置と、
前記再生装置から前記吸収装置に前記二酸化炭素を放出させた前記吸収液を供給する第2ポンプ装置と、
前記吸収装置から前記再生装置に供給される前記吸収液と前記再生装置から前記吸収装置に供給される前記吸収液とを熱交換させる再生熱交換装置と、
前記再生熱交換装置から前記吸収装置に供給される前記吸収液を冷却する吸収液用冷却装置と、
により構成される複数の装置が設置平面区域内に設置され、
前記設置平面区域に設定される一直線状の設置基準線を含む鉛直面に各装置を投影したときに、前記装置同士が重なりを有さず、
前記設置基準線は、前記吸収装置の設置位置と前記再生装置の設置位置を通って延びるように設定され、
前記設置平面区域の幅は、前記設置基準線に直交する方向における前記吸収装置の寸法、および前記設置基準線に直交する方向における前記再生装置の寸法のうち大きい方の寸法によって定義され
前記設置基準線は、前記設置平面区域の一方の端部から他方の端部まで一直線状に延びている、二酸化炭素回収設備。
An absorber that absorbs carbon dioxide contained in the exhaust gas to be treated into the absorbing liquid,
A regenerating device that releases carbon dioxide from the absorbing liquid supplied from the absorbing device, and
A first pump device that supplies the absorbing liquid that has absorbed the carbon dioxide from the absorbing device to the regenerating device,
A second pump device that supplies the absorbing liquid in which the carbon dioxide is released from the regenerating device to the absorbing device, and the second pump device.
A regenerating heat exchange device for heat exchange between the absorbing liquid supplied from the absorbing device to the regenerating device and the absorbing liquid supplied from the regenerating device to the absorbing device.
An absorbent liquid cooling device for cooling the absorbent liquid supplied from the regenerative heat exchange device to the absorbent device, and a cooling device for the absorbent liquid.
Multiple devices composed of are installed in the installation plane area,
When each device is projected onto a vertical surface including a linear installation reference line set in the installation plane area, the devices do not overlap with each other.
The installation reference line is set to extend through the installation position of the absorption device and the installation position of the reproduction device.
The width of the installation plane area is defined by the size of the absorber in the direction orthogonal to the installation reference line and the larger of the dimensions of the regenerator in the direction orthogonal to the installation reference line .
The installation reference line is a carbon dioxide capture facility extending in a straight line from one end to the other end of the installation plane area .
処理対象排ガスに含有される二酸化炭素を吸収液に吸収させる吸収装置と、
前記吸収装置から供給される前記吸収液から前記二酸化炭素を放出させる再生装置と、
前記吸収装置から前記再生装置に前記二酸化炭素を吸収した前記吸収液を供給する第1ポンプ装置と、
前記再生装置から前記吸収装置に前記二酸化炭素を放出させた前記吸収液を供給する第2ポンプ装置と、
前記吸収装置から前記再生装置に供給される前記吸収液と前記再生装置から前記吸収装置に供給される前記吸収液とを熱交換させる再生熱交換装置と、
前記再生熱交換装置から前記吸収装置に供給される前記吸収液を冷却する吸収液用冷却装置と、
により構成される複数の装置が設置平面区域内に設置され、
前記設置平面区域は、第1基準線部分に沿って延びる第1設置区域部分と、第2基準線部分に沿って延びる第2設置区域部分と、を有し、
前記第1基準線部分および前記第2基準線部分は、互いに接続され、
記第1設置区域部分および前記第2設置区域部分の各々に、少なくとも2つの前記装置が設置され、
前記第1設置区域部分に設定される前記第1基準線部分を含む鉛直面に前記第1設置区域部分に設置された各装置を投影したときに、当該装置同士が重なりを有さず、
前記第2設置区域部分に設定される前記第2基準線部分を含む鉛直面に前記第2設置区域部分に設置された各装置を投影したときに、当該装置同士が重なりを有さず、
前記第1基準線部分および前記第2基準線部分によって構成される設置基準線は、前記吸収装置の設置位置と前記再生装置の設置位置を通って延びるように設定され、
前記設置平面区域の幅は、前記設置基準線に直交する方向における前記吸収装置の寸法、および前記設置基準線に直交する方向における前記再生装置の寸法のうち大きい方の寸法によって定義されている、二酸化炭素回収設備。
An absorber that absorbs carbon dioxide contained in the exhaust gas to be treated into the absorbing liquid,
A regenerating device that releases carbon dioxide from the absorbing liquid supplied from the absorbing device, and
A first pump device that supplies the absorbing liquid that has absorbed the carbon dioxide from the absorbing device to the regenerating device,
A second pump device that supplies the absorbing liquid in which the carbon dioxide is released from the regenerating device to the absorbing device, and the second pump device.
A regenerating heat exchange device for heat exchange between the absorbing liquid supplied from the absorbing device to the regenerating device and the absorbing liquid supplied from the regenerating device to the absorbing device.
An absorbent liquid cooling device for cooling the absorbent liquid supplied from the regenerative heat exchange device to the absorbent device, and a cooling device for the absorbent liquid.
Multiple devices composed of are installed in the installation plane area,
The installation plane area has a first installation area portion extending along the first reference line portion and a second installation area portion extending along the second reference line portion.
The first reference line portion and the second reference line portion are connected to each other.
At least two of the above devices are installed in each of the first installation area portion and the second installation area portion.
When each device installed in the first installation area portion is projected onto a vertical surface including the first reference line portion set in the first installation area portion, the devices do not overlap with each other.
When each device installed in the second installation area portion is projected onto a vertical surface including the second reference line portion set in the second installation area portion, the devices do not overlap with each other.
The installation reference line composed of the first reference line portion and the second reference line portion is set to extend through the installation position of the absorption device and the installation position of the reproduction device.
The width of the installation plane area is defined by the dimension of the absorber in the direction orthogonal to the installation reference line and the larger dimension of the dimension of the regenerator in the direction orthogonal to the installation reference line. Carbon dioxide recovery equipment.
処理対象排ガスに含有される二酸化炭素を吸収液に吸収させる吸収装置と、
前記吸収装置から供給される前記吸収液から前記二酸化炭素を放出させる再生装置と、
前記吸収装置から前記再生装置に前記二酸化炭素を吸収した前記吸収液を供給する第1ポンプ装置と、
前記再生装置から前記吸収装置に前記二酸化炭素を放出させた前記吸収液を供給する第2ポンプ装置と、
前記吸収装置から前記再生装置に供給される前記吸収液と前記再生装置から前記吸収装置に供給される前記吸収液とを熱交換させる再生熱交換装置と、
前記再生熱交換装置から前記吸収装置に供給される前記吸収液を冷却する吸収液用冷却装置と、
により構成される複数の装置が設置平面区域内に設置され、
前記設置平面区域は、第1基準線部分に沿って延びる第1設置区域部分と、第2基準線部分に沿って延びる第2設置区域部分と、第3基準線部分に沿って延びる第3設置区域部分と、を有し、
前記第1基準線部分と前記第3基準線部分は、互いに接続され、
前記第2基準線部分および前記第3基準線部分は、互いに接続され、
前記第1設置区域部分、前記第2設置区域部分および前記第3設置区域部分の各々に、少なくとも2つの前記装置が設置され、
前記第1設置区域部分に設定される前記第1基準線部分を含む鉛直面に前記第1設置区域部分に設置された各装置を投影したときに、当該装置同士が重なりを有さず、
前記第2設置区域部分に設定される前記第2基準線部分を含む鉛直面に前記第2設置区域部分に設置された各装置を投影したときに、当該装置同士が重なりを有さず、
前記第3設置区域部分に設定される前記第3基準線部分を含む鉛直面に前記第3設置区域部分に設置された各装置を投影したときに、当該装置同士が重なりを有さず、
前記第1基準線部分、前記第2基準線部分および前記第3基準線部分によって構成される設置基準線は、前記吸収装置の設置位置と前記再生装置の設置位置を通って延びるように設定され、
前記設置平面区域の幅は、前記設置基準線に直交する方向における前記吸収装置の寸法、および前記設置基準線に直交する方向における前記再生装置の寸法のうち大きい方の寸法によって定義されている、二酸化炭素回収設備。
An absorber that absorbs carbon dioxide contained in the exhaust gas to be treated into the absorbing liquid,
A regenerating device that releases carbon dioxide from the absorbing liquid supplied from the absorbing device, and
A first pump device that supplies the absorbing liquid that has absorbed the carbon dioxide from the absorbing device to the regenerating device,
A second pump device that supplies the absorbing liquid in which the carbon dioxide is released from the regenerating device to the absorbing device, and the second pump device.
A regenerating heat exchange device for heat exchange between the absorbing liquid supplied from the absorbing device to the regenerating device and the absorbing liquid supplied from the regenerating device to the absorbing device.
An absorbent liquid cooling device for cooling the absorbent liquid supplied from the regenerative heat exchange device to the absorbent device, and a cooling device for the absorbent liquid.
Multiple devices composed of are installed in the installation plane area,
The installation plane area includes a first installation area portion extending along the first reference line portion, a second installation area portion extending along the second reference line portion, and a third installation extending along the third reference line portion. With an area part,
The first reference line portion and the third reference line portion are connected to each other.
The second reference line portion and the third reference line portion are connected to each other.
At least two of the devices are installed in each of the first installation area portion, the second installation area portion, and the third installation area portion.
When each device installed in the first installation area portion is projected onto a vertical surface including the first reference line portion set in the first installation area portion, the devices do not overlap with each other.
When each device installed in the second installation area portion is projected onto a vertical surface including the second reference line portion set in the second installation area portion, the devices do not overlap with each other.
When each device installed in the third installation area portion is projected onto a vertical surface including the third reference line portion set in the third installation area portion, the devices do not overlap with each other.
The installation reference line composed of the first reference line portion, the second reference line portion, and the third reference line portion is set to extend through the installation position of the absorption device and the installation position of the reproduction device. ,
The width of the installation plane area is defined by the dimension of the absorber in the direction orthogonal to the installation reference line and the larger dimension of the dimension of the regenerator in the direction orthogonal to the installation reference line. Carbon dioxide recovery equipment.
処理対象排ガスに含有される二酸化炭素を吸収液に吸収させる吸収装置と、
前記吸収装置から供給される前記吸収液から前記二酸化炭素を放出させる再生装置と、
前記吸収装置から前記再生装置に前記二酸化炭素を吸収した前記吸収液を供給する第1ポンプ装置と、
前記再生装置から前記吸収装置に前記二酸化炭素を放出させた前記吸収液を供給する第2ポンプ装置と、
前記吸収装置から前記再生装置に供給される前記吸収液と前記再生装置から前記吸収装置に供給される前記吸収液とを熱交換させる再生熱交換装置と、
前記再生熱交換装置から前記吸収装置に供給される前記吸収液を冷却する吸収液用冷却装置と、
により構成される複数の装置が設置平面区域内に設置され、
前記設置平面区域に設定される曲線状の設置基準線を含む鉛直面に各装置を投影して前記設置平面区域の内側に位置する区域から見たときに、前記装置同士が重なりを有さず、
前記設置基準線は、前記吸収装置の設置位置と前記再生装置の設置位置を通って延びるように設定され、
前記設置平面区域の幅は、前記設置基準線に直交する方向における前記吸収装置の寸法、および前記設置基準線に直交する方向における前記再生装置の寸法のうち大きい方の寸法によって定義され
前記設置基準線は、前記設置平面区域の一方の端部から他方の端部までC字状の曲線状に延びている、二酸化炭素回収設備。
An absorber that absorbs carbon dioxide contained in the exhaust gas to be treated into the absorbing liquid,
A regenerating device that releases carbon dioxide from the absorbing liquid supplied from the absorbing device, and
A first pump device that supplies the absorbing liquid that has absorbed the carbon dioxide from the absorbing device to the regenerating device,
A second pump device that supplies the absorbing liquid in which the carbon dioxide is released from the regenerating device to the absorbing device, and the second pump device.
A regenerating heat exchange device for heat exchange between the absorbing liquid supplied from the absorbing device to the regenerating device and the absorbing liquid supplied from the regenerating device to the absorbing device.
An absorbent liquid cooling device for cooling the absorbent liquid supplied from the regenerative heat exchange device to the absorbent device, and a cooling device for the absorbent liquid.
Multiple devices composed of are installed in the installation plane area,
When each device is projected onto a vertical surface including a curved installation reference line set in the installation plane area and viewed from an area located inside the installation plane area, the devices do not overlap with each other. ,
The installation reference line is set to extend through the installation position of the absorption device and the installation position of the reproduction device.
The width of the installation plane area is defined by the size of the absorber in the direction orthogonal to the installation reference line and the larger of the dimensions of the regenerator in the direction orthogonal to the installation reference line .
The installation reference line is a carbon dioxide capture facility extending in a C-shaped curve from one end to the other end of the installation plane area .
複数の前記装置に、前記第1ポンプ装置および前記第2ポンプ装置を制御する制御装置が更に含まれ、
前記制御装置は、前記設置平面区域のうち一方の端部に設置されている、請求項1~4のいずれか一項に記載の二酸化炭素回収設備。
The plurality of the devices further include a control device for controlling the first pump device and the second pump device.
The carbon dioxide capture device according to any one of claims 1 to 4, wherein the control device is installed at one end of the installation plane area.
前記制御装置は、前記設置基準線に沿う方向において前記設置平面区域の外側からアクセス可能である、請求項5に記載の二酸化炭素回収設備。 The carbon dioxide capture equipment according to claim 5, wherein the control device is accessible from the outside of the installation plane area in a direction along the installation reference line. 複数の前記装置は、上方から見たときに互いに重なっていない、請求項1~6のいずれか一項に記載の二酸化炭素回収設備。 The carbon dioxide capture equipment according to any one of claims 1 to 6, wherein the plurality of the devices do not overlap each other when viewed from above. 請求項1~7のいずれか一項に記載の前記二酸化炭素回収設備を準備する工程と、
前記設置基準線に対する一方の側における前記設置平面区域の外側から、複数の前記装置のうちの少なくとも1つにアクセスしてメンテナンスを行う工程と、を備えた、二酸化炭素回収設備のメンテナンス方法。
The step of preparing the carbon dioxide capture equipment according to any one of claims 1 to 7.
A method for maintaining a carbon dioxide capture facility, comprising a step of accessing and performing maintenance by accessing at least one of the plurality of the devices from the outside of the installation plane area on one side of the installation reference line.
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