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JP7005907B2 - Curable composition and membrane - Google Patents
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JP7005907B2 - Curable composition and membrane - Google Patents

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Description

特許法第30条第2項適用 平成28年8月24日高分子学会予稿集65巻2号にて公開、平成28年9月16日神奈川大学において開催された公益社団法人高分子学会の第65回高分子討論会で公開、平成28年11月22日東京理科大学において開催された一般社団法人ラドテック研究会の第149回講演会で公開Application of Article 30, Paragraph 2 of the Patent Act August 24, 2016 Published in Proceedings Vol. 65, No. 2 of the Polymer Society of Japan, and the No. 1 of the Polymer Society of Japan held at Kanagawa University on September 16, 2016. Published at the 65th Polymer Discussion Meeting, and released at the 149th Lecture Meeting of the Radtech Study Group held at Tokyo University of Science on November 22, 2016.

本発明は、透明性に優れ、反射防止フィルム等の光学フィルムへの使用が期待される硬化膜を形成することができる硬化性組成物、該硬化性組成物から形成される硬化物を使用する光学フィルム、積層体、及び相分離構造を有する膜に関する。 The present invention uses a curable composition having excellent transparency and capable of forming a cured film expected to be used for an optical film such as an antireflection film, and a cured product formed from the curable composition. It relates to an optical film, a laminate, and a film having a phase-separated structure.

リビングラジカル重合は、得られるポリマーの分子量や構造を精密に制御することが可能であることから、近年盛んに研究がなされている。 Living radical polymerization has been actively studied in recent years because it is possible to precisely control the molecular weight and structure of the obtained polymer.

リビングラジカル重合により得られたポリマーを使用した一例として、次のようなものが報告されている。
ナノポーラス構造を形成させるため、ポリ乳酸(PLA)の末端に特定の連鎖移動剤(RAFT剤)を導入した高分子ドーマント種の存在下にスチレン/ジビニルベンゼンを加熱共重合させることにより熱硬化させ、共連続なミクロ相分離構造を形成させた後、PLAを加水分解除去してナノポーラス構造を持つモノリス型ポリマーを得ることが報告されている(非特許文献1)。また、非特許文献1には、PLA末端にRAFT部位を持たない場合はポリマーブレンドとなり、マクロ相分離構造となることが報告されている。
更に、上記非特許文献1の技術は、加熱によりリビングラジカル重合を行うものであるが、光照射によりリビングラジカル重合を行うものも提案されている(非特許文献2)。
The following have been reported as an example of using a polymer obtained by living radical polymerization.
In order to form a nanoporous structure, styrene / divinylbenzene is thermally cured by heat copolymerization in the presence of a polymer dormant species in which a specific chain transfer agent (RAFT agent) is introduced at the end of polylactic acid (PLA). It has been reported that after forming a co-continuous microphase-separated structure, PLA is hydrolyzed and removed to obtain a monolithic polymer having a nanoporous structure (Non-Patent Document 1). Further, Non-Patent Document 1 reports that when the PLA terminal does not have a RAFT site, it becomes a polymer blend and has a macrophase separated structure.
Further, although the technique of Non-Patent Document 1 is for performing living radical polymerization by heating, a technique for performing living radical polymerization by light irradiation is also proposed (Non-Patent Document 2).

M. Seo, M. A. Hillmyer, Science 2012, 336, 1422.M. Seo, M. A. Hillmyer, Science 2012, 336, 1422. J. Xu, K. Jung, A. Atme, S. Shanmugam, C. Boyer, J. Am. Chem. Soc. 2014, 136, 5508.J. Xu, K. Jung, A. Atme, S. Shanmugam, C. Boyer, J. Am. Chem. Soc. 2014, 136, 5508.

上記非特許文献1、2では、種々のリビングラジカル重合法によるポリマーの製造方法が開示されているが、これらのポリマー及びその重合法そのものを光学フィルム向けの硬化性組成物に適用することについては具体的に検討されていない。 The above-mentioned Non-Patent Documents 1 and 2 disclose methods for producing polymers by various living radical polymerization methods, but the application of these polymers and the polymerization methods themselves to curable compositions for optical films is described. Not specifically examined.

本発明は、ラジカル開裂可能な共有結合により末端重合活性基が保護されてなるポリマーのリビングラジカル重合を利用した硬化性組成物であって、低反射率で透明性に優れ、反射防止フィルム等の光学フィルムへの使用が期待される硬化膜を形成することができる硬化性組成物を提供することを課題とする。
本発明はまた、この硬化性組成物からなる硬化物及び光学フィルムと、この硬化性組成物を用いた積層体を提供することを課題とする。
更に、本発明は特定の相分離構造を有する膜を提供することを課題とする。
The present invention is a curable composition utilizing living radical polymerization of a polymer in which terminal polymerization active groups are protected by a radically cleavable covalent bond, which has low reflectance and excellent transparency, and an antireflection film or the like. An object of the present invention is to provide a curable composition capable of forming a cured film expected to be used for an optical film.
Another object of the present invention is to provide a cured product and an optical film made of this curable composition, and a laminate using this curable composition.
Furthermore, it is an object of the present invention to provide a membrane having a specific phase separation structure.

本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、成分(A):ラジカル開裂可能な共有結合により末端重合活性基が保護されてなるポリマーと、成分(B):分子内に少なくとも1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物と、成分(C):中空シリカ微粒子とを所定の割合で含む硬化性組成物が上記課題を解決することができ、この硬化性組成物により、透明性に優れ、スピノーダル分解によるミクロ相分離構造を有し、かつこの相分離構造のドメインに中空シリカ微粒子が選択的に配置した構造であることにより、より低反射率となり、反射防止フィルム等の光学フィルムへの使用が期待される硬化膜を、活性エネルギー線の照射といった簡易な操作で形成することができることを見出し、本発明に到達した。

即ち、本発明の態様は、以下の[1]~[23]の通りである。
As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventor has found that component (A): a polymer in which the terminal polymerization active group is protected by a radically cleavable covalent bond, and component (B): at least one in the molecule. A curable composition containing the above compound having a (meth) acryloyl group and the component (C): hollow silica fine particles in a predetermined ratio can solve the above-mentioned problems, and the curable composition provides transparency. Excellent, has a micro phase separation structure by spinodal decomposition, and has a structure in which hollow silica fine particles are selectively arranged in the domain of this phase separation structure, so that the reflectance becomes lower and an optical film such as an antireflection film is obtained. We have found that a cured film expected to be used in the above can be formed by a simple operation such as irradiation with active energy rays, and have reached the present invention.

That is, the aspects of the present invention are as follows [1] to [23].

[1] 下記成分(A)、成分(B)及び成分(C)を含み、かつ成分(B)100重量部に対し、成分(A)を1~99重量部含む硬化性組成物。
成分(A):ラジカル開裂可能な共有結合により末端重合活性基が保護されてなるポリマー
成分(B):分子内に少なくとも1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物
成分(C):中空シリカ微粒子
[1] A curable composition containing the following components (A), component (B) and component (C), and containing 1 to 99 parts by weight of component (A) with respect to 100 parts by weight of component (B).
Component (A): Polymer component (B) in which the terminal polymerization active group is protected by a radically cleavable covalent bond: Compound component (C) having at least one (meth) acryloyl group in the molecule: Hollow silica Fine particles

[2] 成分(C)を成分(B)100重量部に対し、0.5~30重量部含有する、[1]に記載の硬化性組成物 [2] The curable composition according to [1], which contains the component (C) in an amount of 0.5 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the component (B).

[3] 成分(A)が、ラジカル重合性不飽和二重結合を有するモノマーを重合してなるポリマーである、[1]又は[2]に記載の硬化性組成物。 [3] The curable composition according to [1] or [2], wherein the component (A) is a polymer obtained by polymerizing a monomer having a radically polymerizable unsaturated double bond.

[4] 成分(A)が活性エネルギー線照射することでラジカル開裂可能な共有結合により末端重合活性基が保護されてなるポリマーである、[1]~[3]のいずれかに記載の硬化性組成物。 [4] The curability according to any one of [1] to [3], which is a polymer in which the terminal polymerization active group is protected by a covalent bond in which the component (A) can be radically cleaved by irradiation with active energy rays. Composition.

[5] 成分(A)の末端重合活性基を保護する基が、ヨウ素原子、臭素原子、アルキルジチオエステル基、フェニルジチオエステル基、アルキルトリチオカルボネート基、フェニルトリチオカルボネート基、アルキルジチオカルバメート基、フェニルジチオカルバメート基、アルキルザンテート基、フェニルザンテート基、及びテルル原子からなる群のうちの少なくとも1つである、[1]~[4]のいずれかに記載の硬化性組成物。 [5] The group that protects the terminal polymerization active group of the component (A) is an iodine atom, a bromine atom, an alkyldithioester group, a phenyldithioester group, an alkyltrithiocarbonate group, a phenyltrithiocarbonate group, or an alkyldithio. The curable composition according to any one of [1] to [4], which is at least one of the group consisting of a carbamate group, a phenyldithiocarbamate group, an alkylzantate group, a phenylzantate group, and a tellurium atom. ..

[6] 成分(A)の末端重合活性基を保護する基がヨウ素原子である、[5]に記載の硬化性組成物。 [6] The curable composition according to [5], wherein the group that protects the terminal polymerization active group of the component (A) is an iodine atom.

[7] 成分(A)がリビングラジカル重合により得られるポリマーである、[1]~[6]のいずれかに記載の硬化性組成物。 [7] The curable composition according to any one of [1] to [6], wherein the component (A) is a polymer obtained by living radical polymerization.

[8] 成分(A)の分子量分布(Mw/Mn)が2.0以下である、[1]~[7]のいずれかに記載の硬化性組成物。 [8] The curable composition according to any one of [1] to [7], wherein the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the component (A) is 2.0 or less.

[9] 成分(A)が少なくとも一つの末端にヨウ素原子が結合した構造を有するヨウ素末端ポリマーである、[1]~[8]のいずれかに記載の硬化性組成物。 [9] The curable composition according to any one of [1] to [8], wherein the component (A) is an iodine-terminated polymer having a structure in which an iodine atom is bonded to at least one terminal.

[10] 成分(A)が(メタ)アクリル酸エステル系ポリマーの少なくとも一つの末端にヨウ素原子が結合した構造を有するヨウ素末端ポリマーである、[9]に記載の硬化性組成物。 [10] The curable composition according to [9], wherein the component (A) is an iodine-terminated polymer having a structure in which an iodine atom is bonded to at least one terminal of the (meth) acrylic acid ester-based polymer.

[11] 成分(A)が(メタ)アクリル酸エステル系ポリマーの少なくとも一つの末端に、アクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位を介してヨウ素原子が結合した構造を有するヨウ素末端ポリマーである、[10]に記載の硬化性組成物。 [11] The component (A) is an iodine-terminated polymer having a structure in which an iodine atom is bonded to at least one terminal of the (meth) acrylic acid ester-based polymer via a structural unit derived from the acrylic acid ester-based monomer. The curable composition according to [10].

[12] 前記(メタ)アクリル酸エステル系ポリマーが、下記式(1)で表される化合物に由来する構造単位をポリマー中に1~100重量%含む、[10]又は[11]に記載の硬化性組成物。
CH=C(R)-C(O)O-R …(1)
(上記式(1)中、Rは、水素原子又はメチル基を表し、Rは炭素数1~22のアルキル基、又はアルキレン鎖の炭素数が2~18であるポリアルキレングリコール鎖を有する置換基を表し、該アルキル基又はポリアルキレングリコール鎖を有する置換基は、置換基としてフェニル基、ベンジル基、エポキシ基、水酸基、ジアルキルアミノ基、炭素数1~18のアルコキシ基、炭素数1~18のパーフルオロアルキル基、炭素数1~18のアルキルスルファニル基、トリアルコシキシリル基、又はポリシロキサン構造を有する基を有していてもよい。)
[12] The above-mentioned (10] or [11], wherein the (meth) acrylic acid ester-based polymer contains 1 to 100% by weight of a structural unit derived from a compound represented by the following formula (1) in the polymer. Curable composition.
CH 2 = C (R 1 ) -C (O) OR 2 ... (1)
(In the above formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 has an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms or a polyalkylene glycol chain having 2 to 18 carbon atoms in the alkylene chain. The substituent representing the substituent and having the alkyl group or the polyalkylene glycol chain is a phenyl group, a benzyl group, an epoxy group, a hydroxyl group, a dialkylamino group, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, or 1 to 1 carbon atoms as the substituent. It may have a perfluoroalkyl group of 18, an alkylsulfanyl group having 1 to 18 carbon atoms, a trialkoxysilyl group, or a group having a polysiloxane structure.)

[13] 成分(A)の数平均分子量が800~150,000である、[1]~[12]のいずれかに記載の硬化性組成物。 [13] The curable composition according to any one of [1] to [12], wherein the component (A) has a number average molecular weight of 800 to 150,000.

[14] 成分(B)が、分子内に(メタ)アクリロイル基を1つ有する化合物を少なくとも含み、かつその含有量が成分(B)の合計重量に対して1~99重量%である、[1]~[13]のいずれかに記載の硬化性組成物。 [14] The component (B) contains at least a compound having one (meth) acryloyl group in the molecule, and the content thereof is 1 to 99% by weight based on the total weight of the component (B). 1] The curable composition according to any one of [13].

[15] [1]~[14]のいずれかに記載の硬化性組成物を硬化させてなる硬化物。 [15] A cured product obtained by curing the curable composition according to any one of [1] to [14].

[16] 基材と硬化膜とを有する積層体であり、該硬化膜が[1]~[14]のいずれかに記載の硬化性組成物を該基材上で硬化してなるものである積層体。 [16] A laminate having a base material and a cured film, wherein the cured film is obtained by curing the curable composition according to any one of [1] to [14] on the base material. Laminated body.

[17] 前記硬化膜が、基材上にある前記硬化性組成物に対して活性エネルギー線を照射して硬化させてなるものである、[16]に記載の積層体。 [17] The laminate according to [16], wherein the cured film is formed by irradiating the curable composition on a substrate with active energy rays to cure the film.

[18] 前記硬化膜の内部において、スピノーダル分解により形成されるドメインの大きさが、前記基材側より前記活性エネルギー線を照射した側に向けて徐々に小さくなっている、[16]又は[17]に記載の積層体。 [18] Inside the cured film, the size of the domain formed by spinodal decomposition gradually decreases from the substrate side toward the side irradiated with the active energy rays, [16] or [ 17].

[19] [15]に記載の硬化物よりなる層を有する光学フィルム。 [19] An optical film having a layer made of the cured product according to [15].

[20] 基材表面に形成された膜であって、下記式(2)を満足する膜。
0.1%≦[シリカの体積分率]<[シリカの体積分率] …(2)
(上記式(2)中、[シリカの体積分率]及び[シリカの体積分率]は三次元Tomographyにより測定され、[シリカの体積分率]は膜の表面から深さ0μm以上3μm以下の少なくとも一つの領域のシリカ微粒子が占める体積の比率であり、[シリカの体積分率]は膜の基材界面から深さ0μm以上3μm以下の少なくとも一つの領域のシリカ微粒子が占める体積の比率である。)
[20] A film formed on the surface of a base material and satisfying the following formula (2).
0.1% ≤ [Silica volume fraction] B <[Silica volume fraction] T ... (2)
(In the above formula (2), [volume fraction of silica] T and [volume fraction of silica] B are measured by three-dimensional volume fraction, and [volume fraction of silica] T is 0 μm or more in depth from the surface of the film. It is the ratio of the volume occupied by the silica fine particles in at least one region of 3 μm or less, and [volume fraction of silica] B is the volume occupied by the silica fine particles in at least one region having a depth of 0 μm or more and 3 μm or less from the substrate interface of the film. The ratio of.)

[21] 少なくともエチレン性不飽和二重結合を有する化合物およびシリカ粒子を含有する硬化性組成物の硬化物から形成されている、[20]に記載の膜。 [21] The film according to [20], which is formed from a cured product of a curable composition containing at least a compound having an ethylenically unsaturated double bond and silica particles.

[22] 前記エチレン性不飽和二重結合を有する化合物として、(メタ)アクリロイル基を有する化合物を含有する、[21]に記載の膜。 [22] The membrane according to [21], which contains a compound having a (meth) acryloyl group as the compound having an ethylenically unsaturated double bond.

[23] 膜の厚みが2~1,000μmである、[20]~[22]のいずれかに記載の膜。 [23] The film according to any one of [20] to [22], wherein the film has a thickness of 2 to 1,000 μm.

本発明の硬化性組成物によれば、低反射率で、透明性に優れ、反射防止フィルム等の光学フィルムへの使用が期待される硬化膜を簡易な操作で形成することができる。また、この硬化性組成物を用いた積層体及び光学フィルム、更に、特殊な相分離構造を有する膜が提供される。 According to the curable composition of the present invention, a cured film having low reflectance, excellent transparency, and expected to be used for an optical film such as an antireflection film can be formed by a simple operation. Further, a laminate and an optical film using this curable composition, and a film having a special phase separation structure are provided.

実施例1で得られた硬化膜の三次元Tomography解析画像である。6 is a three-dimensional Tomography analysis image of the cured film obtained in Example 1.

以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下の説明は、本発明の実施の形態の一例であり、本発明はその要旨を超えない限り、以下の記載内容に限定されるものではない。
なお、本明細書において「~」という表現を用いる場合、その前後の数値又は物性値を含む表現として用いるものとする。また、本明細書において、「………に由来する構造単位」とは、ポリマーの製造原料として用いられたモノマーが、その単独重合又は共重合により得られたポリマー中で、ポリマーを構成する繰り返し単位として存在する一単位を表す。また、本明細書において、各種の官能基の炭素数は、当該官能基が置換基を有する場合、その置換基も含めた全体の炭素数を示す。また、本明細書において、「(メタ)アクリル」とは「アクリル」と「メタクリル」の一方又は双方を意味するものとする。「(メタ)アクリロイル」、「(メタ)アクリレート」についても同様の意味をもつこととする。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail, but the following description is an example of embodiments of the present invention, and the present invention is limited to the following description as long as the gist thereof is not exceeded. is not it.
In addition, when the expression "-" is used in this specification, it shall be used as an expression including numerical values or physical property values before and after the expression. Further, in the present specification, the “structural unit derived from ………” is a repetition in which a monomer used as a raw material for producing a polymer constitutes a polymer in a polymer obtained by homopolymerization or copolymerization thereof. Represents one unit that exists as a unit. Further, in the present specification, the carbon number of various functional groups indicates the total carbon number including the substituent when the functional group has a substituent. Further, in the present specification, "(meth) acrylic" means one or both of "acrylic" and "methacrylic". "(Meta) acryloyl" and "(meth) acrylate" have the same meaning.

〔本発明の硬化性組成物〕
本発明の硬化性組成物は、下記成分(A)、成分(B)及び成分(C)を含み、かつ成分(B)100重量部に対し、成分(A)を1~99重量部含むものである。
成分(A):ラジカル開裂可能な共有結合により末端重合活性基が保護されてなるポリマー
成分(B):分子内に少なくとも1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物
成分(C):中空シリカ微粒子
[Curable composition of the present invention]
The curable composition of the present invention contains the following components (A), component (B) and component (C), and contains 1 to 99 parts by weight of component (A) with respect to 100 parts by weight of component (B). ..
Component (A): Polymer component (B) in which the terminal polymerization active group is protected by a radically cleavable covalent bond: Compound component (C) having at least one (meth) acryloyl group in the molecule: Hollow silica Fine particles

[成分(A)]
成分(A)は、ラジカル開裂可能な共有結合により末端重合活性基が保護されてなるポリマーであり、好ましくは、ポリジアルキルシロキサン、ポリエチレンオキシド、ラジカル重合性不飽和二重結合を有するモノマーを重合してなるポリマーのうち少なくとも一つの末端重合活性基が活性エネルギー線照射及び/又は加熱することでラジカル開裂可能な共有結合により保護されてなるポリマーであり、より好ましくは、ラジカル重合性不飽和二重結合を有するモノマーを重合してなるポリマーの末端重合活性基が活性エネルギー線照射及び/又は加熱することでラジカル開裂可能な共有結合により保護されてなるポリマーであり、特に好ましくはラジカル重合性不飽和二重結合を有するモノマーを重合してなる末端重合活性基が活性エネルギー線を照射することでラジカル開裂可能な共有結合により保護されてなるポリマーである。即ち、本発明に用いる成分(A)のポリマーは、末端重合活性基(通常は炭素ラジカル)に、この末端重合活性基を保護する基が共有結合したものであり、このポリマーに活性エネルギー線照射及び/又は加熱することでラジカル開裂することが可能である。
[Ingredient (A)]
The component (A) is a polymer in which the terminal polymerization active group is protected by a radical-cleavable covalent bond, and preferably a polydialkylsiloxane, polyethylene oxide, or a monomer having a radically polymerizable unsaturated double bond is polymerized. A polymer in which at least one terminal polymerization active group is protected by a covalent bond that can be radically cleaved by irradiation with active energy rays and / or heating, and more preferably, a radically polymerizable unsaturated double. The terminal polymerization active group of the polymer obtained by polymerizing a monomer having a bond is a polymer protected by a covalent bond that can be radically cleaved by irradiation with active energy rays and / or heating, and is particularly preferably radically polymerizable unsaturated. It is a polymer in which a terminal polymerization active group obtained by polymerizing a monomer having a double bond is protected by a covalent bond that can radically cleave by irradiating with an active energy ray. That is, the polymer of the component (A) used in the present invention is obtained by covalently bonding a terminal polymerization active group (usually a carbon radical) with a group that protects the terminal polymerization active group, and the polymer is irradiated with active energy rays. And / or radical cleavage is possible by heating.

成分(A)の末端重合活性基を保護する基としては、成分(A)の末端重合活性基がラジカル開裂可能な共有結合で結合し得るものであればよい。例えば、ヨウ素原子、臭素原子、アルキルジチオエステル基、フェニルジチオエステル基、アルキルトリチオカルボネート基、フェニルトリチオカルボネート基、アルキルジチオカルバメート基、フェニルジチオカルバメート基、アルキルザンテート基、フェニルザンテート基、テルル原子などが挙げられる。
成分(A)は、これらの末端重合活性基を保護する基の1種のみを有していてもよく、2種以上を有していてもよい。
The group that protects the terminal polymerization active group of the component (A) may be any group as long as the terminal polymerization active group of the component (A) can be bonded by a radically cleavable covalent bond. For example, iodine atom, bromine atom, alkyldithioester group, phenyldithioester group, alkyltrithiocarbonate group, phenyltrithiocarbonate group, alkyldithiocarbamate group, phenyldithiocarbamate group, alkylzantate group, phenylzantate. Groups, ester atoms, etc. can be mentioned.
The component (A) may have only one kind of a group that protects these terminal polymerization active groups, or may have two or more kinds.

上記した以上に挙げたような末端重合活性基を保護する基を有するポリマーの製造方法は特に制限されない。例えば、前記非特許文献1、2や以下の文献1~7に記載の方法により製造することができる。
文献1:Chiefari, J.; Chong, Y. K.; Ercole, Fo; Krstina, J.; Jeffery, J.; Le, T. P. T.; Mayadunne, R. T. A.; Meijs, G. F.; Moad, C. L.;
Load, G.; Rizzardo, E.; Thang, S. H. Macromolecules 1998, 31, 5559.
文献2:Moad, G.; Rizzardo, E.; Thang, S. H. Aust. J. Chem. 2005, 58,379.
文献3:McCormick, C. L.; Lowe, A. B. Acc. Chem. Res. 2004, 37, 312.
文献4:Mayadunne, R. T. A.; Rizzardo, E.; Chiefari, J.; Chong, Y. K.;
Moad, G. Thang, S. H.; Macromolecules 1999, 32, 6977.
文献5:Destarac. M.; Charmot, D.; Franck, X.; Zard, S. Z. Macromol. Rapid.
文献6:Mayadunne, R. T. A.; Rizzardo, E; Chiefari, J.; Kristina, J.; Moad, G.; Pastma, A.; Thang, S. H. Macromolecules 2000, 33, 243.
文献7:Francis, R.; Ajayaghosh, A. Macromolecules 2000, 33, 4699.
The method for producing a polymer having a group that protects the terminal polymerization active group as described above is not particularly limited. For example, it can be produced by the methods described in Non-Patent Documents 1 and 2 and Documents 1 to 7 below.
Reference 1: Chiefari, J .; Chong, YK; Ercole, Fo; Krstina, J .; Jeffery, J .; Le, TPT; Mayadunne, RTA; Meijs, GF; Moad, CL;
Load, G .; Rizzardo, E .; Thang, SH Macromolecules 1998, 31, 5559.
Reference 2: Mood, G .; Rizzardo, E .; Thang, SH Aust. J. Chem. 2005, 58, 379.
Reference 3: McCormick, CL; Lowe, AB Acc. Chem. Res. 2004, 37, 312.
Reference 4: Mayadunne, RTA; Rizzardo, E .; Chiefari, J .; Chong, YK;
Moad, G. Thang, SH; Macromolecules 1999, 32, 6977.
Reference 5: Destarac. M .; Charmot, D .; Franck, X .; Zard, SZ Macromol. Rapid.
Reference 6: Mayadunne, RTA; Rizzardo, E; Chiefari, J .; Kristina, J .; Moad, G .; Pastma, A .; Thang, SH Macromolecules 2000, 33, 243.
Reference 7: Francis, R .; Ajayaghosh, A. Macromolecules 2000, 33, 4699.

成分(A)の末端重合活性基を保護する基としては、これらの成分(A)の末端重合活性基への結合安定性に優れ、しかも、活性エネルギー線照射及び/又は加熱、特に活性エネルギー線照射により容易にラジカル開裂可能であることから、ヨウ素原子が特に好ましい。
また、成分(A)は、分子量やポリマー構造を容易に目的のものに制御可能であることから、リビングラジカル重合により得られるポリマーであることが好ましく、リビングラジカル重合によれば、分子量分布(Mw/Mn)の狭い成分(A)を容易に製造することができる。
As a group that protects the terminal polymerization active group of the component (A), the group (A) has excellent bond stability to the terminal polymerization active group, and is irradiated with active energy rays and / or heated, particularly active energy rays. Iodine atoms are particularly preferred because they can be easily radically cleaved by irradiation.
Further, the component (A) is preferably a polymer obtained by living radical polymerization because the molecular weight and the polymer structure can be easily controlled to those of interest, and according to the living radical polymerization, the molecular weight distribution (Mw). / Mn) narrow component (A) can be easily produced.

成分(A)は前述の通り、好ましくはラジカル重合性二重結合を有するモノマーを重合して得られる物であり、その原料として用いるラジカル重合性二重結合を有するモノマーとしてはラジカル重合性の炭素間二重結合を有するモノマーであれば特に制限されない。より具体的には後述するような(メタ)アクリル酸エステル系モノマー、特に下記式(1)で表される化合物が挙げられる。 As described above, the component (A) is preferably obtained by polymerizing a monomer having a radically polymerizable double bond, and the monomer having a radically polymerizable double bond used as a raw material thereof is a radically polymerizable carbon. The monomer is not particularly limited as long as it has a radical double bond. More specifically, a (meth) acrylic acid ester-based monomer as described later, particularly a compound represented by the following formula (1) can be mentioned.

成分(A)としては、少なくとも一つの末端にヨウ素原子が結合した構造を有するヨウ素末端ポリマーであることが好ましく、(メタ)アクリル酸エステル系ポリマーの少なくとも一つの末端にヨウ素原子が結合した構造を有するヨウ素末端ポリマーであることがより好ましく、アクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位を介してヨウ素原子が結合した構造を有するヨウ素末端ポリマーであることが更に好ましい。 The component (A) is preferably an iodine-terminated polymer having a structure in which an iodine atom is bonded to at least one terminal, and has a structure in which an iodine atom is bonded to at least one terminal of the (meth) acrylic acid ester-based polymer. It is more preferably an iodine-terminated polymer having an iodine terminal, and further preferably an iodine-terminated polymer having a structure in which an iodine atom is bonded via a structural unit derived from an acrylic acid ester-based monomer.

このヨウ素末端ポリマーを構成する(メタ)アクリル酸エステル系ポリマーは、下記式(1)で表される化合物(以下、「化合物(1)」と称す場合がある。)に由来する構造単位を、10~100重量%含むものが好ましい。化合物(1)に由来する構造単位のポリマー中の含有量はより好ましくは50~100重量%、特に好ましくは80~100重量%である。なお、ここでいう化合物(1)に由来する構造単位の含有量とは原料の仕込重量から求められるものである。
CH=C(R)-C(O)O-R (1)
(Rは、水素原子又はメチル基を表し、Rは炭素数1~22のアルキル基、又はアルキレン鎖の炭素数が2~18であるポリアルキレングリコール鎖を有する置換基を表し、該アルキル基又はポリアルキレングリコール鎖を有する置換基は、置換基としてフェニル基、ベンジル基、エポキシ基、水酸基、ジアルキルアミノ基、炭素数1~18のアルコキシ基、炭素数1~18のパーフルオロアルキル基、炭素数1~18のアルキルスルファニル基、トリアルコシキシリル基、又はポリシロキサン構造を有する基を有していてもよい。)
The (meth) acrylic acid ester-based polymer constituting this iodine-terminated polymer has a structural unit derived from a compound represented by the following formula (1) (hereinafter, may be referred to as “compound (1)”). Those containing 10 to 100% by weight are preferable. The content of the structural unit derived from the compound (1) in the polymer is more preferably 50 to 100% by weight, and particularly preferably 80 to 100% by weight. The content of the structural unit derived from the compound (1) referred to here is obtained from the charged weight of the raw material.
CH 2 = C (R 1 ) -C (O) OR 2 (1)
(R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms or a substituent having a polyalkylene glycol chain having 2 to 18 carbon atoms in the alkylene chain. Substituents having a group or a polyalkylene glycol chain include a phenyl group, a benzyl group, an epoxy group, a hydroxyl group, a dialkylamino group, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, and a perfluoroalkyl group having 1 to 18 carbon atoms as substituents. It may have an alkylsulfanyl group having 1 to 18 carbon atoms, a trialkoxysilyl group, or a group having a polysiloxane structure.)

なお、「(メタ)アクリル酸エステル系ポリマー」は、(メタ)アクリル酸エステル系モノマーに由来する構成単位からなるポリマーであり、「メタクリル酸エステル系モノマー」とは、メタクリロイル基を有するモノマーの総称である。また、「アクリル酸エステル系モノマー」とは、アクリロイル基を有するモノマー(メタクリロイル基を有するモノマー等、アクリロイル基のC=Cの炭素原子に炭素原子が結合したものを除く。)の総称である。 The "(meth) acrylic acid ester-based polymer" is a polymer composed of structural units derived from the (meth) acrylic acid ester-based monomer, and the "methacrylic acid ester-based monomer" is a general term for monomers having a methacryloyl group. Is. Further, the "acrylic acid ester-based monomer" is a general term for a monomer having an acryloyl group (excluding a monomer having an acryloyl group in which a carbon atom is bonded to a carbon atom of C = C of the acryloyl group).

上記式(1)式におけるRとしては、特に炭素数1~18の、置換基としてエポキシ基、水酸基、ジアルキルアミノ基、炭素数1~4のアルコキシ基を有していてもよいアルキル基が好ましい。とりわけ炭素数1~6の、置換基としてエポキシ基、水酸基、炭素数1~2のアルコキシ基を有していてもよいアルキル基が好ましく、炭素数1~6の、置換基としてエポキシ基を有していてもよいアルキル基が更に好ましい。 As R 2 in the above formula (1), an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms and which may have an epoxy group, a hydroxyl group, a dialkylamino group and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms as substituents is particularly preferable. preferable. In particular, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and which may have an epoxy group, a hydroxyl group and an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms is preferable as a substituent, and an epoxy group having 1 to 6 carbon atoms is used as a substituent. Alkyl groups may be more preferred.

化合物(1)の具体例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-メトキシエチル(メタ)アクリレート、2-エトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコール(メタ)アクリレート、2-(ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリレート、2-(ジメチルアミノ)プロピル(メタ)アクリレート、2-(ジメチルアミノ)ブチル(メタ)アクリレート、2-イソシアノエチル(メタ)アクリレート、2-(アセトアセトキシ)エチル(メタ)アクリレート、炭素数1~18のパーフルオロアルキルを有するパーフルオロエチル(メタ)アクリレート、2-(リン酸)エチル(メタ)アクリレート(2-((メタ)アクリロイルオキシ)エチルフォスフェート)、トリアルコキシシリルプロピル(メタ)アクリレート、ジアルコキシメチルシリルプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコール(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Specific examples of the compound (1) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, and hexyl (meth) acrylate. 2-Ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) Acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, methoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate , 2-Hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, diethylene glycol (meth) acrylate, 2- (Dimethylamino) ethyl (meth) acrylate, 2- (dimethylamino) propyl (meth) acrylate, 2- (dimethylamino) butyl (meth) acrylate, 2-isocyanoethyl (meth) acrylate, 2- (acetoacetoxy) ) Ethyl (meth) acrylate, perfluoroethyl (meth) acrylate having perfluoroalkyl having 1 to 18 carbon atoms, 2- (meth) ethyl (meth) acrylate (2-((meth) acryloyloxy) ethyl phosphate ), Trialkoxysilylpropyl (meth) acrylate, dialkoxymethylsilylpropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, polypropylene glycol (meth) acrylate, polytetramethylene glycol (meth) acrylate and the like.

これらのうち、工業的に入手が容易である点と重合後に他の化合物との反応性を有する点において、メチル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2-メトキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2-(ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリレート等が好ましく、メチル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等がより好ましく、メチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレートが更に好ましい。 Of these, methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, in terms of being easily available industrially and having reactivity with other compounds after polymerization. Glycidyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, 2- (dimethylamino) ethyl (meth) acrylate and the like are preferable, and methyl (meth) acrylate is preferable. Acrylate, n-butyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and the like are more preferable, and methyl (meth) acrylate and glycidyl (meth) acrylate are further preferable.

ヨウ素末端ポリマーを構成する(メタ)アクリル酸エステル系ポリマーには、1種類の化合物(1)に由来する構造単位が含まれていてもよく、2種以上の化合物(1)に由来する構造単位が含まれていてもよい。2種以上の化合物(1)に由来する構造単位が含まれている場合、通常、(メタ)アクリル酸エステル系ポリマーはランダムコポリマーとなる。 The (meth) acrylic acid ester-based polymer constituting the iodine-terminated polymer may contain a structural unit derived from one kind of compound (1), and a structural unit derived from two or more kinds of compounds (1). May be included. When a structural unit derived from two or more compounds (1) is contained, the (meth) acrylic acid ester-based polymer is usually a random copolymer.

成分(A)の分子量は特に制限はないが、形成される硬化膜内で後述の良好なミクロ相分離構造を形成し得る観点から、数平均分子量(Mn)が800以上が好ましく、1000以上がより好ましく、2000以上がさらに好ましく、2500以上が最も好ましい。また、150,000以下が好ましく、100,000以下がより好ましく、50,000以下がさらに好ましく、10,000以下が最も好ましい。 The molecular weight of the component (A) is not particularly limited, but the number average molecular weight (Mn) is preferably 800 or more, preferably 1000 or more, from the viewpoint of being able to form a good microphase separation structure described later in the formed cured film. More preferably, 2000 or more is more preferable, and 2500 or more is most preferable. Further, 150,000 or less is preferable, 100,000 or less is more preferable, 50,000 or less is further preferable, and 10,000 or less is most preferable.

成分(A)の分子量は、例えば、後述のリビングラジカル重合の条件により制御することができる。具体的には、モノマー、重合開始剤、触媒の濃度、反応温度、反応時間等により制御することができ、モノマー濃度を高く、開始剤濃度を低く、触媒濃度を高く、反応温度を高く、反応時間を長くすると高分子量となる傾向にある。 The molecular weight of the component (A) can be controlled, for example, by the conditions of living radical polymerization described later. Specifically, it can be controlled by the monomer, the polymerization initiator, the catalyst concentration, the reaction temperature, the reaction time, etc., and the monomer concentration is high, the initiator concentration is low, the catalyst concentration is high, the reaction temperature is high, and the reaction is carried out. The longer the time, the higher the molecular weight.

特に、後述のリビングラジカル重合によれば、このような分子量の制御が容易であり、また、成分(A)の分子量分布(Mw/Mn)の狭いポリマーを製造することができる。成分(A)の分子量分布(Mw/Mn)は2.0以下が好ましく、1.6以下がより好ましく、1.4以下がさらに好ましく、1.2以下が特に好ましく、とりわけ1.1以下が好ましい。一方、成分(A)の分子量分布は通常、1.0より大である。
なお、ポリマーの重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、後述の実施例に記載される方法で測定される。
In particular, according to the living radical polymerization described later, such a molecular weight control is easy, and a polymer having a narrow molecular weight distribution (Mw / Mn) of the component (A) can be produced. The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the component (A) is preferably 2.0 or less, more preferably 1.6 or less, further preferably 1.4 or less, particularly preferably 1.2 or less, and particularly preferably 1.1 or less. preferable. On the other hand, the molecular weight distribution of the component (A) is usually larger than 1.0.
The weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the polymer are measured by gel permeation chromatography (GPC) by the method described in Examples described later.

以下に、かかる成分(A)として好適な上記のヨウ素末端ポリマーのうち、少なくとも一つの末端に、ヨウ素原子が結合した構造を有するヨウ素末端ポリマー(以下、「ヨウ素末端ポリマー(A)」と称す場合がある。)について説明するが、成分(A)は、何ら以下のヨウ素末端ポリマー(A)に限定されるものではない。 Hereinafter, among the above-mentioned iodine-terminated polymers suitable as the component (A), an iodine-terminated polymer having a structure in which an iodine atom is bonded to at least one terminal (hereinafter referred to as “iodine-terminated polymer (A)”). However, the component (A) is not limited to the following iodine-terminated polymers (A).

[ヨウ素末端ポリマー(A)]
本発明に用いるヨウ素末端ポリマー(A)は、通常、(メタ)アクリル酸エステル系ポリマー(以下、「ヨウ素末端ポリマー(A)における主幹ポリマー」と称す場合がある。)の少なくとも一方の末端に、ヨウ素原子が結合した構造を有する。ヨウ素末端ポリマー(A)は本成分(A)の好ましい態様の一例である。
[Iodine-terminated polymer (A)]
The iodine-terminated polymer (A) used in the present invention is usually at least one end of a (meth) acrylic acid ester-based polymer (hereinafter, may be referred to as “main polymer in iodine-terminated polymer (A)”). It has a structure in which iodine atoms are bonded. The iodine-terminated polymer (A) is an example of a preferred embodiment of the present component (A).

ヨウ素末端ポリマー(A)の製造方法は特に制限されないが、通常、ヨウ素末端ポリマー(A)は、好ましくは後述の製造方法に従って、リビングラジカル重合により製造され、(メタ)アクリル酸エステル系モノマーを重合時に一括で仕込んでから重合することにより製造される。重合に用いる(メタ)アクリル酸エステル系モノマーはメタクリル酸エステル系モノマー単独でもアクリル酸エステル系モノマー単独でも、これらの両方を併用してもよい。 The method for producing the iodine-terminal polymer (A) is not particularly limited, but the iodine-terminal polymer (A) is usually produced by living radical polymerization according to the production method described later, and polymerizes a (meth) acrylic acid ester-based monomer. It is sometimes manufactured by charging in bulk and then polymerizing. The (meth) acrylic acid ester-based monomer used for the polymerization may be a methacrylic acid ester-based monomer alone, an acrylic acid ester-based monomer alone, or both of them in combination.

アクリル酸エステル系モノマー又はメタクリル酸エステル系モノマーを単独で使用した場合、末端は当該モノマーに由来する構造単位にヨウ素原子が結合した構造をとる。 When an acrylic acid ester-based monomer or a methacrylic acid ester-based monomer is used alone, the terminal has a structure in which an iodine atom is bonded to a structural unit derived from the monomer.

アクリル酸エステル系モノマーとメタクリル酸エステル系モノマーを併用した場合、重合温度により末端構造は異なるものとなり、通常、重合温度を50℃以上90℃未満で制御すればメタクリル酸エステル系モノマーとヨウ素原子の間の結合は開裂するが、アクリル酸エステル系モノマーとヨウ素原子の間の結合は開裂しないため、アクリル酸エステルモノマーを重合時に一括で仕込んでも、重合中もしくは重合停止時に仕込んでもポリマーの末端構造は、アクリル酸エステルモノマー由来の構造単位を介してヨウ素原子が結合している構造をとる。一方、通常、重合温度が90℃以上であるとメタクリル酸エステル系モノマーとヨウ素原子の間の結合も、アクリル酸エステル系モノマーとヨウ素原子の間の結合も両方開裂するため、ポリマーの末端構造はメタクリル酸エステル系モノマー由来の構造単位を介してヨウ素原子が結合しているものと、アクリル酸エステル系モノマー由来の構造単位を介してヨウ素原子が結合しているものとがランダムに混合した状態のものとなる。ヨウ素末端ポリマー(A)としては、前者の末端構造がアクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位-ヨウ素原子である方が、光や熱に対する安定性により優れる点で好ましい。なお、ここでいう「開裂」とはラジカル開裂を意味する。 When an acrylic acid ester-based monomer and a methacrylic acid ester-based monomer are used in combination, the terminal structure differs depending on the polymerization temperature. Normally, if the polymerization temperature is controlled at 50 ° C. or higher and lower than 90 ° C., the methacrylic acid ester-based monomer and the iodine atom can be used. Although the bond between them is cleaved, the bond between the acrylic ester-based monomer and the iodine atom is not cleaved. , It has a structure in which iodine atoms are bonded via a structural unit derived from an acrylic acid ester monomer. On the other hand, usually, when the polymerization temperature is 90 ° C. or higher, both the bond between the methacrylic acid ester-based monomer and the iodine atom and the bond between the acrylic acid ester-based monomer and the iodine atom are cleaved. A state in which an iodine atom is bonded via a structural unit derived from a methacrylic acid ester-based monomer and an iodine atom is bonded via a structural unit derived from an acrylic acid ester-based monomer are randomly mixed. It becomes a thing. As the iodine-terminated polymer (A), it is preferable that the former terminal structure is a structural unit derived from an acrylic acid ester-based monomer-iodine atom, because it is more excellent in stability to light and heat. The term "cleavage" as used herein means radical cleavage.

ヨウ素末端ポリマー(A)は通常のラジカル重合反応と同様、加熱により製造することができるが、所定のエネルギーに対応する波長の光を照射して重合反応を生起させることも可能である。光を照射して重合を進める場合には、後述の反応温度よりも低い温度で重合することが可能である。 The iodine-terminated polymer (A) can be produced by heating in the same manner as in a normal radical polymerization reaction, but it is also possible to irradiate light having a wavelength corresponding to a predetermined energy to cause a polymerization reaction. When the polymerization is carried out by irradiating with light, it is possible to carry out the polymerization at a temperature lower than the reaction temperature described later.

本発明に用いるヨウ素末端ポリマー(A)における主幹ポリマーとなる(メタ)アクリル酸エステル系ポリマーは、前記式(1)で表される化合物(1)(以下「(メタ)アクリル酸エステル(1)と称す場合がある。)に由来する構造単位を含むことが好ましい。 The (meth) acrylic acid ester-based polymer which is the main polymer in the iodine-terminated polymer (A) used in the present invention is the compound (1) represented by the above formula (1) (hereinafter, “(meth) acrylic acid ester (1)). It is preferable to include a structural unit derived from).

(メタ)アクリル酸エステル(1)の具体例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-メトキシエチル(メタ)アクリレート、2-エトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコール(メタ)アクリレート、2-(ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリレート、2-(ジメチルアミノ)プロピル(メタ)アクリレート、2-(ジメチルアミノ)ブチル(メタ)アクリレート、2-イソシアノエチル(メタ)アクリレート、2-(アセトアセトキシ)エチル(メタ)アクリレート、炭素数1~18のパーフルオロアルキルを有するパーフルオロエチル(メタ)アクリレート、2-(リン酸)エチル(メタ)アクリレート(2-((メタ)アクリロイルオキシ)エチルフォスフェート)、トリアルコキシシリルプロピル(メタ)アクリレート、ジアルコキシメチルシリルプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコール(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Specific examples of the (meth) acrylic acid ester (1) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, and hexyl. (Meta) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate , Glycidyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, methoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, 2-hydroxy Ethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, diethylene glycol (Meta) acrylate, 2- (dimethylamino) ethyl (meth) acrylate, 2- (dimethylamino) propyl (meth) acrylate, 2- (dimethylamino) butyl (meth) acrylate, 2-isocyanoethyl (meth) acrylate, 2- (Acetoacetoxy) ethyl (meth) acrylate, perfluoroethyl (meth) acrylate with perfluoroalkyl having 1-18 carbon atoms, 2- (phosphate) ethyl (meth) acrylate (2-((meth) acryloyl) Oxy) ethyl phosphate), trialkoxysilylpropyl (meth) acrylate, dialkoxymethylsilylpropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, polypropylene glycol (meth) acrylate, polytetramethylene glycol (meth) acrylate, etc. Can be mentioned.

これらのうち、工業的に入手が容易である点と重合後に他の化合物との反応性を有する点において、メチル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2-メトキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2-(ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリレート等が好ましく、メチル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等がより好ましく、メチル(メタ)アクリレート、又はグリシジル(メタ)アクリレートが更に好ましい。 Of these, methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, in terms of being easily available industrially and having reactivity with other compounds after polymerization. Glycidyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, 2- (dimethylamino) ethyl (meth) acrylate and the like are preferable, and methyl (meth) acrylate is preferable. Acrylate, n-butyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and the like are more preferable, and methyl (meth) acrylate or glycidyl (meth) acrylate is further preferable.

ヨウ素末端ポリマー(A)における主幹ポリマーの(メタ)アクリル酸エステル系ポリマーには、1種類の(メタ)アクリル酸エステル(1)に由来する構造単位が含まれていてもよく、2種以上の(メタ)アクリル酸エステル(1)に由来する構造単位が含まれていてもよい。2種以上の(メタ)アクリル酸エステル(1)に由来する構造単位が含まれている場合、通常、(メタ)アクリル酸エステル系ポリマーはランダムコポリマーとなる。 The (meth) acrylic acid ester-based polymer of the main polymer in the iodine-terminated polymer (A) may contain structural units derived from one type of (meth) acrylic acid ester (1), and may contain two or more types of structural units. A structural unit derived from the (meth) acrylic acid ester (1) may be contained. When a structural unit derived from two or more (meth) acrylic acid esters (1) is contained, the (meth) acrylic acid ester-based polymer is usually a random copolymer.

[ヨウ素末端ポリマー(A)の製造方法]
本発明に用いるヨウ素末端ポリマー(A)は、好ましくは、リビングラジカル重合のポリマー末端の成長ラジカルの保護基となるヨウ素の存在下、(メタ)アクリル酸エステル系モノマーを重合することにより製造される。ただし、ヨウ素末端ポリマー(A)は、前述したヨウ素末端ポリマー(A)の特徴的な末端構造が得られる方法であれば、その製造方法は特に限定されない。
[Manufacturing method of iodine-terminated polymer (A)]
The iodine-terminated polymer (A) used in the present invention is preferably produced by polymerizing a (meth) acrylic acid ester-based monomer in the presence of iodine, which is a protecting group for growth radicals at the polymer terminal of living radical polymerization. .. However, the iodine-terminated polymer (A) is not particularly limited as long as it is a method for obtaining the characteristic terminal structure of the iodine-terminated polymer (A) described above.

ヨウ素末端ポリマー(A)は、好ましくは、ヨウ素と、ラジカル重合開始剤(以下、単に「開始剤」と称す場合がある。)と、触媒の存在下に、溶媒中でメタクリル酸エステル系モノマーを重合させた後、反応系にアクリル酸エステル系モノマーを混合して反応させることにより製造される。なお、この場合、ヨウ素末端ポリマー(A)として、後述するヨウ素末端ポリマー(A1)が製造される。 The iodine-terminated polymer (A) preferably contains iodine, a radical polymerization initiator (hereinafter, may be simply referred to as “initiator”), and a methacrylic acid ester-based monomer in a solvent in the presence of a catalyst. After polymerization, it is produced by mixing an acrylic acid ester-based monomer with a reaction system and reacting. In this case, the iodine-terminated polymer (A1) described later is produced as the iodine-terminated polymer (A).

<ヨウ素>
ヨウ素は、重合開始剤に対して0.05~5モル当量、特に0.3~1モル当量用いることが好ましい。ヨウ素の使用量が上記下限より多いと、未反応の重合開始剤や重合開始剤が解離して再結合した副反応物が多量に生成せず、またヨウ素の使用量が上記上限より少ないと重合速度が遅くならないため、所望の分子量の重合体を得るために重合時間が過度に長くならず好ましい。
<Iodine>
It is preferable to use 0.05 to 5 molar equivalents of iodine, particularly 0.3 to 1 molar equivalent, with respect to the polymerization initiator. If the amount of iodine used is more than the above lower limit, a large amount of unreacted polymerization initiator or polymerization initiator is dissociated and recombined by-reactants will not be produced, and if the amount of iodine used is less than the above upper limit, polymerization will occur. Since the rate does not slow down, it is preferable that the polymerization time is not excessively long in order to obtain a polymer having a desired molecular weight.

<触媒>
触媒は、ヨウ素又はポリマー末端のヨウ素を引き抜いてリビングラジカル重合を進行させる機能を奏するものであり、通常、テトラブチルアンモニウムヨージド、エチルメチルイミダゾリウムヨージド等の第四級アンモニウムヨージド、トリブチルスルホニウムヨージド等のスルホニウムヨージド、ジフェニルヨードニウムヨージド等のヨードニウムヨージド、トリブチルメチルホスホニウムヨージド等のホスホニウムヨージド、テトラキス(ジメチルアミノ)エチレン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N,N’,N’-テトラメチルジアミノメタン、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン、1,4,8,11-テトラメチル-1,4,8,11-テトラアザシクロテトラデカン、N,N’-ジメチルエチレンジアミン、エチレンジアミン等のアミン類、トリフェニルホスフィン、トリス(2-メチルフェニル)ホスフィン、トリス(3-メチルフェニル)ホスフィン、トリス(4-メチルフェニル)ホスフィン等のホスフィン類を用いることができる。これらの触媒は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Catalyst>
The catalyst has a function of extracting iodine or iodine at the end of the polymer to promote living radical polymerization, and is usually a quaternary ammonium iodide such as tetrabutylammonium iodide or ethylmethylimidazolium iodide, or tributylsulfonium. Sulfonium iodide such as iodide, iodonium iodide such as diphenyl iodonium iodide, phosphonium iodide such as tributylmethylphosphonium iodide, tetrakis (dimethylamino) ethylene, triethylamine, tributylamine, N, N, N', N' -Tetramethyldiaminomethane, N, N, N', N'-Tetramethylethylenediamine, 1,4,8,11-Tetramethyl-1,4,8,11-Tetraazacyclotetradecane, N, N'-dimethyl Amines such as ethylenediamine and ethylenediamine, and phosphines such as triphenylphosphine, tris (2-methylphenyl) phosphin, tris (3-methylphenyl) phosphin, and tris (4-methylphenyl) phosphine can be used. These catalysts may be used alone or in combination of two or more.

触媒は、所望の重合度や重合時間に合わせて使用すればその割合は特に限定されないが、通常、重合開始剤に対して0.05モル当量以上で使用され、好ましくは0.3モル当量以上、より好ましくは0.5モル当量以上で使用される。また通常、重合開始剤に対して5モル当量以下で使用され、好ましくは3モル当量以下、より好ましくは2モル当量以下で使用される。触媒の使用量が上記下限より多いと重合速度が低くなりすぎないため、重合時間が長くならず、所定の重合時間で所望の分子量の重合体を得ることが容易となり、また上記上限より少ないと重合速度が速くなりすぎず、分子量分布を狭くでき、さらに末端にヨウ素が結合していない重合体の生成を抑えることができることから好ましい。 The ratio of the catalyst is not particularly limited as long as it is used according to the desired degree of polymerization and polymerization time, but it is usually used in an amount of 0.05 molar equivalent or more, preferably 0.3 molar equivalent or more with respect to the polymerization initiator. , More preferably 0.5 molar equivalents or more. In addition, it is usually used in an amount of 5 mol equivalents or less, preferably 3 mol equivalents or less, and more preferably 2 mol equivalents or less with respect to the polymerization initiator. When the amount of the catalyst used is more than the above lower limit, the polymerization rate does not become too low, so that the polymerization time does not become long, it becomes easy to obtain a polymer having a desired molecular weight in a predetermined polymerization time, and when it is less than the above upper limit. It is preferable because the polymerization rate does not become too fast, the molecular weight distribution can be narrowed, and the formation of a polymer in which iodine is not bonded to the terminal can be suppressed.

<重合開始剤>
ヨウ素末端ポリマー(A)の重合に用いる重合開始剤としては、公知のものが使用され、特に限定されず、通常用いられている有機過酸化物やアゾ化合物を使用することができる。具体例としては、ベンゾイルパーオキシド、ジクミルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシド、ジ-t-ブチルパーキシド、t-ブチルパーオキシベンゾエート、t-ヘキシルパーオキシベンゾエート、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、t-ヘキシルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、2,5-ジメチル-2,5-ビス(t-ブチルパーオキシ)ヘキシル-3,3-イソプロピルヒドロパーオキシド、t-ブチルヒドロパーオキシド、ジクミルヒドロパーオキシド、アセチルパーオキシド、ビス(4-t-ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、イソブチルパーオキシド、3,3,5-トリメチルヘキサノイルパーオキシド、ラウリルパーオキシド、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、1,1-ビス(t-ヘキシルパーオキシ)3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、2,2’-アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)、ジメチル-2,2’-アゾビス(イソブチレート)などが挙げられる。重合開始剤としては、ヨウ素と結合した後の安定性の点からアゾ化合物が好ましく、入手のし易さや解離温度の点から、2,2’-アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)、ジメチル-2,2’-アゾビス(イソブチレート)が好ましく使用される。これらの中でも、2,2’-アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)又は2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)がさらに好ましく使用される。
これらの重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Initiator of polymerization>
As the polymerization initiator used for the polymerization of the iodine-terminated polymer (A), known ones are used, and the polymerization initiator is not particularly limited, and commonly used organic peroxides and azo compounds can be used. Specific examples include benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, diisopropyl peroxide, di-t-butylperoxide, t-butylperoxybenzoate, t-hexylperoxybenzoate, and t-butylperoxy-2-ethylhexanoate. , T-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, 1,1-bis (t-butylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butyl) Peroxy) Hexil-3,3-isopropylhydroperoxide, t-butylhydroperoxide, dicumylhydroperoxide, acetylperoxide, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, isobutyl peroxide, 3 , 3,5-trimethylhexanoyl peroxide, lauryl peroxide, 1,1-bis (t-butylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) 3, 3,5-trimethylcyclohexane, 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4) -Dimethylvaleronitrile), dimethyl-2,2'-azobis (isobutyrate) and the like. As the polymerization initiator, an azo compound is preferable from the viewpoint of stability after binding to iodine, and from the viewpoint of availability and dissociation temperature, 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 2,2' -Azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), dimethyl-2,2'-azobis (isobutyrate) are preferably used. Among these, 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) or 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvalero) Nitrile) is more preferably used.
These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

重合開始剤は、所望の分子量に合わせて使用すればその割合は特に限定されないが、通常(メタ)アクリル酸エステル系モノマー(後述するヨウ素末端ポリマー(A1)の場合はメタクリル酸エステル系モノマー)100モルに対して0.01モル以上で使用され、好ましくは0.05モル以上、より好ましくは0.1モル以上、最も好ましくは0.2モル以上で使用される。また通常5モル以下で使用され、好ましくは3モル以下、より好ましくは2モル以下、最も好ましくは1モル以下で使用される。
重合開始剤の量が上記下限値以上であると分子量が大きくなりすぎず、さらに重合後の未反応モノマーを少なくし易く、上記上限値以下であると分子量が小さくなりすぎず、ヨウ素が比較的少ない場合に未反応の重合開始剤や重合開始剤が解離して再結合した副反応物が多量に生成し難いことから好ましい。
The proportion of the polymerization initiator is not particularly limited as long as it is used according to the desired molecular weight, but it is usually (meth) acrylic acid ester-based monomer (methacrylic acid ester-based monomer in the case of the iodine-terminated polymer (A1) described later) 100. It is used in an amount of 0.01 mol or more, preferably 0.05 mol or more, more preferably 0.1 mol or more, and most preferably 0.2 mol or more. Further, it is usually used in an amount of 5 mol or less, preferably 3 mol or less, more preferably 2 mol or less, and most preferably 1 mol or less.
If the amount of the polymerization initiator is at least the above lower limit, the molecular weight does not become too large, and it is easy to reduce the amount of unreacted monomers after polymerization. When the amount is small, the unreacted polymerization initiator and the polymerization initiator are dissociated and recombined, which is preferable because it is difficult to generate a large amount of by-reactants.

<溶媒>
重合反応に用いられるモノマーなどを含む反応混合物が反応温度において液体であれば、必ずしも溶媒を用いる必要はないが、この場合も必要に応じて溶媒を用いてもよい。溶媒としては、一般的なリビングラジカル重合に用いられる溶媒を使用することが可能である。例えば水、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、2-ブチルアルコール、ヘキサノール、エチレングリコール等の直鎖、分岐、2級あるいは多価のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;ジエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジプロピルエーテル、メチルシクロプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール等のエーテル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;スワジールシリーズ(丸善石油化学社製)、ソルベッソシリーズ(エクソン・ケミカル社製)等の石油系芳香族系混合溶媒;セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類;カルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類;プロピレングリコールメチルエーテル等のプロピレングリコールアルキルエーテル類;ジプロピレングリコールメチルエーテル等のポリプロピレングリコールアルキルエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロゾルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類;ジアルキルグリコールエーテル類等を用いることができる。
これらの溶媒は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Solvent>
If the reaction mixture containing the monomer used in the polymerization reaction is liquid at the reaction temperature, it is not always necessary to use a solvent, but in this case as well, a solvent may be used if necessary. As the solvent, a solvent used for general living radical polymerization can be used. For example, linear, branched, secondary or polyvalent alcohols such as water, ethanol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, isobutyl alcohol, 2-butyl alcohol, hexanol, ethylene glycol; methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc. Ketones; ethers such as diethyl ether, dimethyl ether, dipropyl ether, methylcyclopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, anisole; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Swazir series (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.), Petroleum-based aromatic mixed solvent such as Solbesso series (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.); Cellosolves such as cellosolve and butyl cellosolve; Carbitols such as carbitol and butylcarbitol; propylene glycol alkyl ethers such as propylene glycol methyl ether Classes; Polypropylene glycol alkyl ethers such as dipropylene glycol methyl ether; Acetate esters such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate; Dialkyl glycol ethers and the like. Can be used.
These solvents may be used alone or in combination of two or more.

溶媒は、通常(メタ)アクリル酸エステル系モノマー(後述するヨウ素末端ポリマー(A1)の場合はメタクリル酸エステル系モノマーである。)1重量部に対して0.1~10重量部、好ましくは0.3~2重量部程度の割合で使用されるが、また特に溶媒を使用しなくてもよい場合もある。 The solvent is usually 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0, with respect to 1 part by weight of a (meth) acrylic acid ester-based monomer (in the case of the iodine-terminated polymer (A1) described later, a methacrylic acid ester-based monomer). It is used in a proportion of about 3 to 2 parts by weight, but in some cases, it is not necessary to use a solvent in particular.

<リビングラジカル重合反応>
(メタ)アクリル酸エステル系モノマーのリビングラジカル重合は、窒素等の不活性ガス雰囲気下、(メタ)アクリル酸エステル系モノマー、ヨウ素、開始剤、触媒及び溶媒を含む反応系内において、好ましくは50℃以上で行われ、より好ましくは60℃以上で行われる。また、好ましくは150℃以下で行われ、より好ましくは130℃以下で行われ、更に好ましくは110℃以下で行われ、特に好ましくは90℃以下で行われ、最も好ましくは80℃以下で行われる。
ここで、反応温度が上記下限以上であるとリビングラジカル重合反応が十分に進行し、上記上限以下であると所望のリビングラジカル重合ではない、(メタ)アクリル酸エステル系モノマーの熱による重合を抑制することができる。
<Living radical polymerization reaction>
The living radical polymerization of the (meth) acrylic acid ester-based monomer is preferably carried out in a reaction system containing the (meth) acrylic acid ester-based monomer, iodine, initiator, catalyst and solvent under an atmosphere of an inert gas such as nitrogen. It is carried out at ° C. or higher, more preferably at 60 ° C. or higher. Further, it is preferably carried out at 150 ° C. or lower, more preferably 130 ° C. or lower, further preferably 110 ° C. or lower, particularly preferably 90 ° C. or lower, and most preferably 80 ° C. or lower. ..
Here, when the reaction temperature is at least the above lower limit, the living radical polymerization reaction proceeds sufficiently, and when it is at least the above upper limit, the polymerization by heat of the (meth) acrylic acid ester-based monomer, which is not the desired living radical polymerization, is suppressed. can do.

反応時間は、反応温度や目的とする(メタ)アクリル酸エステル系ポリマー、更にはヨウ素末端ポリマーの分子量によっても異なるが、通常10分~150時間程度であり、好ましくは1~24時間程度である。
反応後は後述のヨウ素末端ポリマー(A1)の製造方法における場合と同様にして精製、固液分離することによりヨウ素末端ポリマー(A)を回収することができる。
The reaction time varies depending on the reaction temperature, the target (meth) acrylic acid ester-based polymer, and the molecular weight of the iodine-terminated polymer, but is usually about 10 minutes to 150 hours, preferably about 1 to 24 hours. ..
After the reaction, the iodine-terminated polymer (A) can be recovered by purification and solid-liquid separation in the same manner as in the method for producing the iodine-terminated polymer (A1) described later.

なお、ヨウ素末端ポリマー(A)の末端構造が、ヨウ素原子が結合したものであることは、例えば、後述の実施例の項に示されるように、MALDI-TOF法による分子量の測定結果から、末端構造の解析を行って同定することにより確認することができる。 It should be noted that the terminal structure of the iodine terminal polymer (A) is that the iodine atom is bonded, for example, from the measurement result of the molecular weight by the MALDI-TOF method, as shown in the section of Examples described later. It can be confirmed by analyzing the structure and identifying it.

[ヨウ素末端ポリマー(A1)]
ヨウ素末端ポリマー(A)は、特に、メタクリル酸エステル系ポリマーの少なくとも一方の末端に、アクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位を介してヨウ素原子が結合した構造を有するもの(以下、「ヨウ素末端ポリマー(A1)」と称することがある。また、ヨウ素末端ポリマー(A1)におけるメタクリル酸エステル系ポリマーを「ヨウ素末端ポリマー(A1)における主幹ポリマー」と称することがある。)が光安定性に優れるものであるために好ましい。これは、末端の構造が、アクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位-ヨウ素原子であると、該構造単位のアクリル酸エステルのα位炭素原子はメタクリル酸エステルのα位炭素原子よりも立体障害が小さいためにアクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位-ヨウ素原子の末端構造の安定性が高いためであると推定される。
[Iodine-terminated polymer (A1)]
The iodine-terminated polymer (A) has, in particular, a structure in which an iodine atom is bonded to at least one end of a methacrylic acid ester-based polymer via a structural unit derived from an acrylic acid ester-based monomer (hereinafter, “iodine terminal”). The polymer (A1) may be referred to. Further, the methacrylic acid ester-based polymer in the iodine-terminated polymer (A1) may be referred to as the "main polymer in the iodine-terminated polymer (A1)"), which is excellent in photostability. It is preferable because it is a thing. This is because when the terminal structure is a structural unit-iodine atom derived from an acrylic acid ester-based monomer, the α-position carbon atom of the acrylic acid ester of the structural unit is more sterically damaged than the α-position carbon atom of the methacrylic acid ester. It is presumed that this is because the structural unit derived from the acrylic ester-based monomer-the terminal structure of the iodine atom is highly stable because of its small size.

ヨウ素末端ポリマー(A1)は、好ましくは、前述のヨウ素末端ポリマー(A)の製造方法に従って、リビングラジカル重合により製造され、その製造方法としてはヨウ素末端ポリマー(A1)における主幹ポリマーを形成するメタクリル酸エステル系モノマーと、末端構造を形成する少量のアクリル酸エステル系モノマーを重合時に一括で仕込んでから重合してもよく、予めヨウ素末端ポリマー(A1)における主幹ポリマーを形成するメタクリル酸エステル系モノマーを重合した後に、得られたヨウ素末端ポリマー(A1)における主幹ポリマーであるメタクリル酸エステル系ポリマーに対して、更にアクリル酸エステル系モノマーを反応させてもよいが、分子量制御の点から好ましくは後者の方法で製造される。 The iodine-terminated polymer (A1) is preferably produced by living radical polymerization according to the above-mentioned method for producing an iodine-terminated polymer (A), and the method for producing the same is methacrylic acid that forms the main polymer in the iodine-terminated polymer (A1). The ester-based monomer and a small amount of acrylic acid ester-based monomer forming the terminal structure may be charged together at the time of polymerization and then polymerized. After the polymerization, an acrylic acid ester-based monomer may be further reacted with the methacrylic acid ester-based polymer which is the main polymer in the obtained iodine-terminated polymer (A1), but the latter is preferable from the viewpoint of molecular weight control. Manufactured by the method.

ヨウ素末端ポリマー(A1)における主幹ポリマーとなるメタクリル酸エステル系ポリマーは、前記式(1)で表される化合物(1)のうち、式(1)中のRがメチル基であるもの(以下「メタクリル酸エステル(1’)」と称す場合がある。)に由来する構造単位を含むことが好ましい。 The methacrylic acid ester-based polymer that becomes the main polymer in the iodine-terminated polymer (A1) is a compound (1) represented by the above formula (1) in which R1 in the formula ( 1 ) is a methyl group (hereinafter,). It may be referred to as "methacrylic acid ester (1')") and preferably contains structural units.

メタクリル酸エステル(1’)の具体例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、n-ブチルメタクリレート、t-ブチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート、n-オクチルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、トリデシルメタクリレート、オクタデシルメタクリレート、ノニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2-メトキシエチルメタクリレート、2-エトキシエチルメタクリレート、ブトキシエチルメタクリレート、メトキシテトラエチレングリコールメタクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、2-(ジメチルアミノ)エチルメタクリレート、2-(ジメチルアミノ)プロピルメタクリレート、2-(ジメチルアミノ)ブチルメタクリレート、2-イソシアノエチルメタクリレート、2-(アセトアセトキシ)エチルメタクリレート、炭素数1~18のパーフルオロアルキルを有するパーフルオロエチルメタクリレート、2-(リン酸)エチルメタクリレート(2-(メタクリロイルオキシ)エチルフォスフェート)、トリアルコキシシリルプロピルメタクリレート、ジアルコキシメチルシリルプロピルメタクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレート、ポリプロピレングリコールメタクリレート、ポリテトラメチレングリコールメタクリレート等が挙げられる。 Specific examples of the methacrylic acid ester (1') include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, t-butyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-octyl methacrylate, dodecyl methacrylate and tridecyl. Methacrylate, Octadecyl methacrylate, Nonyl methacrylate, benzyl methacrylate, Glycidyl methacrylate, Cyclohexyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, Butoxyethyl methacrylate, methoxytetraethylene glycol methacrylate, 2-Hydroxyethyl methacrylate, 2-Hydroxypropyl methacrylate , 3-Chloro-2-hydroxypropyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, diethylene glycol methacrylate, 2- (dimethylamino) ethyl methacrylate, 2- (dimethylamino) propyl methacrylate, 2- ( Dimethylamino) butyl methacrylate, 2-isocyanoethyl methacrylate, 2- (acetoacetoxy) ethyl methacrylate, perfluoroethyl methacrylate having perfluoroalkyl having 1 to 18 carbon atoms, 2- (methacryloyl) ethyl methacrylate (2- (methacryloyl) Oxy) ethyl phosphate), trialkoxysilylpropylmethacrylate, dialkoxymethylsilylpropylmethacrylate, polyethylene glycol methacrylate, polypropylene glycol methacrylate, polytetramethylene glycol methacrylate and the like.

これらのうち、工業的に入手が容易である点と重合後に他の化合物との反応性を有する点において、メチルメタクリレート、n-ブチルメタクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、2-メトキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレート、2-(ジメチルアミノ)エチルメタクリレート等が好ましい。メチルメタクリレート、n-ブチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート等がより好ましく、メチルメタクリレート、又はグリシジルメタクリレートが更に好ましい。 Of these, methyl methacrylate, n-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, in terms of being easily available industrially and having reactivity with other compounds after polymerization. 2-Hydroxyethyl methacrylate, polyethylene glycol methacrylate, 2- (dimethylamino) ethyl methacrylate and the like are preferable. Methyl methacrylate, n-butyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate and the like are more preferable, and methyl methacrylate or glycidyl methacrylate is further preferable.

ヨウ素末端ポリマー(A1)における主幹ポリマーのメタクリル酸エステル系ポリマーには、1種類のメタクリル酸エステル(1’)に由来する構造単位が含まれていてもよく、2種以上のメタクリル酸エステル(1’)に由来する構造単位が含まれていてもよい。2種以上のメタクリル酸エステル(1’)に由来する構造単位が含まれている場合、通常、メタクリル酸エステル系ポリマーはランダムコポリマーとなる。 The methacrylic acid ester-based polymer of the main polymer in the iodine-terminated polymer (A1) may contain a structural unit derived from one type of methacrylic acid ester (1'), and two or more types of methacrylic acid esters (1') may be contained. ') Derived structural units may be included. When a structural unit derived from two or more kinds of methacrylic acid esters (1') is contained, the methacrylic acid ester-based polymer is usually a random copolymer.

また、ヨウ素末端ポリマー(A1)は通常のラジカル重合反応と同様、加熱により製造することができるが、所定のエネルギーに対応する波長の光を照射して重合反応を生起させることも可能である。光を照射して重合を進める場合には、後述の反応温度よりも低い温度で重合することが可能である。 Further, the iodine-terminated polymer (A1) can be produced by heating in the same manner as a normal radical polymerization reaction, but it is also possible to irradiate light having a wavelength corresponding to a predetermined energy to cause a polymerization reaction. When the polymerization is carried out by irradiating with light, it is possible to carry out the polymerization at a temperature lower than the reaction temperature described later.

このようにして製造されるヨウ素末端ポリマー(A1)における主幹ポリマーであるメタクリル酸エステル系ポリマーは、通常、その両端のうちの一方の末端にのみ、アクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位を介してヨウ素原子が結合したものとなるが、両末端にアクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位を介してヨウ素原子が結合した構造のものであってもよい。また、メタクリル酸エステル系ポリマーの末端において、ヨウ素原子とメタクリル酸エステル系ポリマーとの連結部となるアクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位の数は、通常1単位であるが、2単位以上のアクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位を介するものであってもよい。 The methacrylic acid ester-based polymer, which is the main polymer in the iodine-terminated polymer (A1) thus produced, usually has structural units derived from the acrylic acid ester-based monomer only at one end of both ends thereof. The iodine atom is bonded to the polymer, but the structure may be such that the iodine atom is bonded to both ends via a structural unit derived from an acrylic ester-based monomer. Further, at the end of the methacrylic acid ester polymer, the number of structural units derived from the acrylic acid ester monomer that is the connecting portion between the iodine atom and the methacrylic acid ester polymer is usually 1 unit, but 2 units or more. It may be via a structural unit derived from an acrylic acid ester-based monomer.

<アクリル酸エステル系モノマーの反応>
上記のリビングラジカル重合に引き続いて、反応系にアクリル酸エステル系モノマーを混合して反応させることにより、メタクリル酸エステル系ポリマーの片末端又は両末端にアクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位を介してヨウ素原子が結合したヨウ素末端ポリマー(A1)を得ることができる。
<Reaction of acrylic acid ester-based monomer>
Following the above-mentioned living radical polymerization, an acrylic acid ester-based monomer is mixed and reacted in the reaction system, whereby one end or both ends of the methacrylic acid ester-based polymer is mediated by a structural unit derived from the acrylic acid ester-based monomer. It is possible to obtain an iodine-terminated polymer (A1) to which an iodine atom is bonded.

また、本発明において、ヨウ素末端ポリマー(A1)における主幹ポリマーのメタクリル酸エステル系ポリマーとヨウ素原子とを連結するアクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位は、前記式(1)で表される化合物(1)のうち、式(1)中のRが水素原子であるもの(以下「アクリル酸エステル(1’)」と称す場合がある。)に由来する構造単位を含むことが好ましい。 Further, in the present invention, the structural unit derived from the methacrylic acid ester-based monomer of the main polymer in the iodine-terminated polymer (A1) and the acrylic acid ester-based monomer connecting the iodine atom is the compound represented by the above formula (1). Of the (1), it is preferable to include a structural unit derived from the one in which R 1 in the formula (1) is a hydrogen atom (hereinafter, may be referred to as "acrylic acid ester (1')").

アクリル酸エステル(1’)の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、n-ブチルアクリレート、t-ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、n-オクチルアクリレート、ドデシルアクリレート、トリデシルアクリレート、オクタデシルアクリレート、ノニルアクリレート、ベンジルアクリレート、グリシジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2-メトキシエチルアクリレート、2-エトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、メトキシテトラエチレングリコールアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート、ジエチレングリコールアクリレート、2-(ジメチルアミノ)エチルアクリレート、2-(ジメチルアミノ)プロピルアクリレート、2-(ジメチルアミノ)ブチルアクリレート、2-イソシアノエチルアクリレート、2-(アセトアセトキシ)エチルアクリレート、炭素数1~18のパーフルオロアルキルを有するパーフルオロエチルアクリレート、2-(リン酸)エチルアクリレート(2-(アクリロイルオキシ)エチルフォスフェート)、トリアルコキシシリルプロピルアクリレート、ジアルコキシメチルシリルプロピルアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリプロピレングリコールアクリレート、ポリテトラメチレングリコールアクリレート等が挙げられる。 Specific examples of the acrylic acid ester (1') include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, n-butyl acrylate, t-butyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-octyl acrylate, dodecyl acrylate, and tridecyl. Acrylate, octadecyl acrylate, nonyl acrylate, benzyl acrylate, glycidyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, methoxytetraethylene glycol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate , 3-Chloro-2-hydroxypropyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, diethylene glycol acrylate, 2- (dimethylamino) ethyl acrylate, 2- (dimethylamino) propyl acrylate, 2- ( Dimethylamino) butyl acrylate, 2-isocyanoethyl acrylate, 2- (acetoacetoxy) ethyl acrylate, perfluoroethyl acrylate having perfluoroalkyl having 1 to 18 carbon atoms, 2- (phosphate) ethyl acrylate (2- (acryloyl) Oxy) ethyl phosphate), trialkoxysilylpropyl acrylate, dialkoxymethylsilylpropyl acrylate, polyethylene glycol acrylate, polypropylene glycol acrylate, polytetramethylene glycol acrylate and the like can be mentioned.

これらのうち、工業的に入手が容易であり、製造時に取扱いが容易で安全である点において、n-ブチルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、n-オクタデシルアクリレート、2-メトキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、N,N-ジメチルアミノエチルアクリレート等が好ましく、n-ブチルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、n-オクタデシルアクリレート、2-メトキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート等がより好ましく、n-ブチルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、又はn-オクタデシルアクリレートが更に好ましい。 Of these, n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-octadecyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, and 2-hydroxyethyl are easy to obtain industrially, easy to handle at the time of manufacture, and safe. Acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate and the like are preferable, n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-octadecyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and the like are more preferable, and n-butyl acrylate, etc. 2-Ethylhexyl acrylate or n-octadecyl acrylate is more preferable.

なお、ヨウ素末端ポリマー(A1)は、通常、1つのアクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位を含むが、2以上のアクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位を含む場合、これらは同種のアクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位であっても異なるアクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位であってもよい。 The iodine-terminated polymer (A1) usually contains a structural unit derived from one acrylic acid ester-based monomer, but when it contains two or more structural units derived from an acrylic acid ester-based monomer, these are the same type of acrylic. It may be a structural unit derived from an acid ester-based monomer or a structural unit derived from a different acrylic acid ester-based monomer.

ここで、アクリル酸エステル系モノマーは、ポリマー末端の理論量となるヨウ素の仕込み1モルに対して、通常0.1モル以上用いられるが、好ましくは0.5モル以上、より好ましくは10モル以上、さらに好ましくは20モル以上である。また、通常400モル当量以下の割合で用いられ、好ましくは300モル以下、より好ましくは200モル以下、さらに好ましくは100モル以下である。 Here, the acrylic acid ester-based monomer is usually used in an amount of 0.1 mol or more, preferably 0.5 mol or more, more preferably 10 mol or more, with respect to 1 mol of iodine charged, which is the theoretical amount of the polymer terminal. , More preferably 20 mol or more. Further, it is usually used in a ratio of 400 mol equivalent or less, preferably 300 mol or less, more preferably 200 mol or less, still more preferably 100 mol or less.

メタクリル酸エステル系ポリマーとアクリル酸エステルモノマーの反応時の反応温度は、好ましくは50℃以上で行われ、より好ましくは60℃以上で行われる。また、好ましくは90℃以下で行われ、より好ましくは80℃以下で行われる。
ここで、反応温度が上記下限以上であるとアクリル酸エステル系モノマーを十分に反応させることができ、上記上限以下であるとアクリル酸エステル系モノマーのリビングラジカル重合反応を制御することができ、メタクリル酸エステル系ポリマーの片末端又は両末端にアクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位を介してヨウ素原子が結合したヨウ素末端ポリマー(A1)を得ることが可能となる。
The reaction temperature of the methacrylic acid ester polymer and the acrylic acid ester monomer at the time of reaction is preferably 50 ° C. or higher, more preferably 60 ° C. or higher. Further, it is preferably carried out at 90 ° C. or lower, and more preferably 80 ° C. or lower.
Here, when the reaction temperature is at least the above lower limit, the acrylic acid ester-based monomer can be sufficiently reacted, and when it is at least the above upper limit, the living radical polymerization reaction of the acrylic acid ester-based monomer can be controlled, and the methacrylic can be controlled. It is possible to obtain an iodine-terminated polymer (A1) in which an iodine atom is bonded to one end or both ends of the acid ester-based polymer via a structural unit derived from an acrylic acid ester-based monomer.

本発明者らは、ポリマー末端のメタクリル酸エステル系モノマーとヨウ素原子間およびアクリル酸エステル系モノマーとヨウ素原子間の結合が解離する温度が異なり、好ましくは50~90℃、より好ましくは60~80℃程度の比較的低い温度ではメタクリル酸エステル系モノマーとヨウ素原子の結合は解離するが、アクリル酸エステル系モノマーとヨウ素原子間の結合はこのような温度では解離しにくいため、メタクリル酸エステル系モノマーの重合が進行しメタクリル酸エステル系ポリマーが生成した際に、系中にアクリル酸エステル系モノマーが存在すると、このような温度領域では通常、一つのアクリル酸エステル系モノマーが反応によりポリマー末端に取り込まれ、その後アクリル酸エステル系モノマーとヨウ素原子間の結合の解離は生起せず、最末端にヨウ素原子が結合した状態で反応が停止することを見出した。
従って、上記のような、アクリル酸エステル系モノマーのリビングラジカル重合反応は進行し得ない温度を選択して反応を行うことによりヨウ素末端ポリマー(A1)を製造することができる。
The present inventors have different temperatures at which the bonds between the methacrylic ester-based monomer and the iodine atom at the polymer terminal and between the acrylic acid ester-based monomer and the iodine atom are dissociated, preferably 50 to 90 ° C., more preferably 60 to 80 ° C. The bond between the methacrylic acid ester-based monomer and the iodine atom dissociates at a relatively low temperature of about ° C., but the bond between the acrylic acid ester-based monomer and the iodine atom does not easily dissociate at such a temperature. If an acrylic acid ester-based monomer is present in the system when the polymerization of the methacrylic acid ester-based polymer is produced, one acrylic acid ester-based monomer is usually incorporated into the polymer terminal by a reaction in such a temperature range. After that, it was found that the dissociation of the bond between the acrylic ester-based monomer and the iodine atom did not occur, and the reaction was stopped with the iodine atom bonded to the terminal end.
Therefore, the iodine-terminated polymer (A1) can be produced by selecting a temperature at which the living radical polymerization reaction of the acrylic acid ester-based monomer cannot proceed as described above and carrying out the reaction.

アクリル酸エステル系モノマーの反応時間は、反応温度や目的とする反応率によっても異なるが、通常10分~24時間程度であり、好ましくは1~12時間程度である。 The reaction time of the acrylic acid ester-based monomer varies depending on the reaction temperature and the target reaction rate, but is usually about 10 minutes to 24 hours, preferably about 1 to 12 hours.

本発明に用いるヨウ素末端ポリマー(A1)は、上記のようなアクリル酸エステル系モノマーの反応終了後、反応液の温度を0~40℃程度に下げた後、必要に応じて、水、メタノール、ジエチルエーテル、ヘプタン等、ヨウ素末端ポリマー(A1)の溶解性が低い溶媒で沈殿精製するなどして不純物を除去した後、固液分離して回収される。その際、反応から精製、固液分離に至る操作は遮光下で行うことが好ましい。即ち、ヨウ素末端ポリマー(A1)は、末端にアクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位を介してヨウ素原子が結合していることにより、従来のポリマーに比べて優れた光安定性を有するものであるが、光照射下で全く変色しないものではなく、長時間光に晒されると着色することがあるため、ヨウ素末端ポリマー(A1)の製造、回収、その後の保管は、遮光下で行うことが好ましい。 The iodine-terminated polymer (A1) used in the present invention is prepared by lowering the temperature of the reaction solution to about 0 to 40 ° C. after the reaction of the acrylic acid ester-based monomer as described above is completed, and then using water, methanol, as necessary. After removing impurities by precipitation and purification with a solvent having low solubility of the iodine-terminated polymer (A1) such as diethyl ether and heptane, the polymer is recovered by solid-liquid separation. At that time, it is preferable that the operations from the reaction to purification and solid-liquid separation are performed under light shielding. That is, the iodine-terminated polymer (A1) has excellent photostability as compared with the conventional polymer because the iodine atom is bonded to the terminal via a structural unit derived from an acrylic acid ester-based monomer. However, the color does not change at all under light irradiation, and it may be colored when exposed to light for a long time. Therefore, the iodine-terminated polymer (A1) may be manufactured, recovered, and then stored under light shielding. preferable.

このようにして得られるヨウ素末端ポリマー(A1)の末端構造が、アクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位を介してヨウ素原子が結合したものであることは、例えば、後述の実施例の項に示されるように、MALDI-TOF法による分子量の測定結果から、末端構造の解析を行って同定することにより確認することができる。 The fact that the terminal structure of the iodine-terminal polymer (A1) thus obtained has iodine atoms bonded via a structural unit derived from an acrylic acid ester-based monomer is described in, for example, in the section of Examples described later. As shown, it can be confirmed by analyzing the terminal structure and identifying it from the measurement result of the molecular weight by the MALDI-TOF method.

[成分(B)]
成分(B)は、分子内に少なくとも1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(ただし、成分(A)に該当するものを除く。)である。
分子内に1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物は、モノマーであってもよく、オリゴマーであってもよく、モノマーとオリゴマーの混合物であってもよい。分子内に1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物のうち、モノマーとしては、単官能モノマー、多官能性モノマー、例えば多価アルコールと(メタ)アクリレートとの脱アルコール反応物などを用いることができる。オリゴマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーなどが挙げられる。
[Component (B)]
The component (B) is a compound having at least one (meth) acryloyl group in the molecule (however, excluding those corresponding to the component (A)).
The compound having one or more (meth) acryloyl groups in the molecule may be a monomer, an oligomer, or a mixture of a monomer and an oligomer. Among the compounds having one or more (meth) acryloyl groups in the molecule, as the monomer, a monofunctional monomer, a polyfunctional monomer, for example, a dealcohol reaction product of a polyhydric alcohol and a (meth) acrylate may be used. Can be done. Examples of the oligomer include urethane (meth) acrylate oligomers and polyester (meth) acrylate oligomers.

本発明で用いる成分(B)は、活性エネルギー線照射及び/又は加熱による成分(A)の末端重合活性基へのリビングラジカル重合で、得られる硬化膜中に、後述のスピノーダル分解による良好なミクロ相分離構造を形成することができるという観点から、(メタ)アクリロイル基を1つのみ有する化合物(単官能(メタ)アクリレート)と、(メタ)アクリロイル基を2つ以上有する化合物(2官能以上の多官能(メタ)アクリレート)とを含むものであることが好ましい。 The component (B) used in the present invention is a living radical polymerization of the component (A) to the terminal polymerization active group by irradiation with active energy rays and / or heating. From the viewpoint of being able to form a phase-separated structure, a compound having only one (meth) acryloyl group (monofunctional (meth) acrylate) and a compound having two or more (meth) acryloyl groups (bifunctional or more). It preferably contains a polyfunctional (meth) acrylate).

単官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルフォリン、テトラヒドロフルフリール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2-エトキシエチル(メタ)アクリレート、3-メトキシブチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、リン酸(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ(メタ)アクリレート、ノニルフェノール(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシプロピレングリコール(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2-(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2-(メタ)アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2-(メタ)アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2-アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される1価のモノ(メタ)アクリレートを有するアダマンチル(メタ)アクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。 Examples of the monofunctional (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, and isobutyl (meth). Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, (meth) acryloylmorpholine, tetrahydroflufreel (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) Acrylate, Isodecyl (meth) acrylate, Lauryl (meth) acrylate, Tridecyl (meth) acrylate, Cetyl (meth) acrylate, Stearyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 3-methoxy Butyl (meth) acrylate, ethylcarbitol (meth) acrylate, phosphoric acid (meth) acrylate, ethylene oxide-modified phosphoric acid (meth) acrylate, phenoxy (meth) acrylate, ethylene oxide-modified phenoxy (meth) acrylate, propylene oxide-modified phenoxy. (Meta) acrylate, nonylphenol (meth) acrylate, ethylene oxide-modified nonylphenol (meth) acrylate, propylene oxide-modified nonylphenol (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolytylene glycol (meth) acrylate, methoxypropylene glycol (meth) ) Acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropylphthalate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl hydrogenphthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl Hydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl hexahydrohydrogenphthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl tetrahydrohydrogenphthalate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) Acrylate, Hexafluoropropyl (meth) acrylate, Octafluoropropyl (meth) acrylate, Octafluoropropyl (meth) acrylate, 2-adamantan And adamantane derivative mono (meth) acrylate such as adamantyl (meth) acrylate having a monovalent mono (meth) acrylate derived from adamantane diol. These may be used alone or in admixture of two or more.

これらのうち、分子量が小さすぎないため揮発しにくく、分子量が大きすぎないため、分子の運動性が高く重合が進行し易い点から、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、又はイソボルニル(メタ)アクリレートが好ましい。これらの中でもジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリール(メタ)アクリレート、又はイソボルニル(メタ)アクリレートがより好ましい。 Of these, dimethylaminoethyl (meth) acrylate and n-butyl (meth) acrylate are difficult to volatilize because the molecular weight is not too small, and dimethylaminoethyl (meth) acrylate and n-butyl (meth) acrylate are easy to proceed with polymerization because the molecular weight is not too large. , Isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydroflufreel (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, or isobornyl (meth) acrylate. Is preferable. Of these, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydroflufreel (meth) acrylate, or isobornyl (meth) acrylate is more preferable.

2官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート(=1,4-ビス((メタ)アクリロイルオキシ)ブタン)、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートなどのジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the bifunctional (meth) acrylate include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate (= 1,4-bis ((meth) acryloyloxy) butane), and the like. Hexadiol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, ethoxylated hexanediol di (meth) acrylate, propoxylated hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate. , Tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid Examples thereof include di (meth) acrylate such as neopentyl glycol di (meth) acrylate.

3官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート等のトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の3官能(メタ)アクリレートや、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の多官能(メタ)アクリレートや、これら(メタ)アクリレートの一部をアルキル基やε-カプロラクトンで置換した多官能(メタ)アクリレート化合物等が挙げられる。 Examples of the trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate include trimethyl propanoltri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylol propanetri (meth) acrylate, propoxylated trimethylol propanetri (meth) acrylate, and tris 2-hydroxy. Ethylisocyanurate tri (meth) acrylate, tri (meth) acrylate such as glycerin tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylol propanthry (meth) acrylate and the like. Trifunctional (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylol propanetetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylol propanepenta (meth) Trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylates such as acrylates, dipentaerythritol hexa (meth) acrylates, and ditrimethylolpropane hexa (meth) acrylates, and some of these (meth) acrylates are replaced with alkyl groups or ε-caprolactone. Examples thereof include polyfunctional (meth) acrylate compounds.

これらの2官能以上の多官能(メタ)アクリレートについても、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。 As for these bifunctional or higher functional (meth) acrylates, one kind may be used alone, or two or more kinds may be mixed and used.

これらのうち、工業的に原料の入手が容易であり、分子量が大きすぎないため分子の運動性が高く重合が進行し易い点から、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ビス((メタ)アクリロイルオキシ)ブタン、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート又は、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが好ましい。これらの中でも1,4-ビス((メタ)アクリロイルオキシ)ブタン、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、又はジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが好ましい。 Of these, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, because the raw materials are industrially easily available and the molecular weight is not too large, the motility of the molecule is high and the polymerization is easy to proceed. 1,4-Bis ((meth) acryloyloxy) butane, hexanediol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropanthry (meth) acrylate, Tris 2 -Hydroxyethyl isocyanurate tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylol propanetetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate or dipentaerythritol hexa. (Meta) acrylate is preferred. Among these, 1,4-bis ((meth) acryloyloxy) butane, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate , Dipentaerythritol penta (meth) acrylate, or dipentaerythritol hexa (meth) acrylate is preferred.

成分(B)は、通常、単官能(メタ)アクリレートを1~99重量%、2官能以上の多官能(メタ)アクリレートを99~1重量%(ただし、単官能(メタ)アクリレートと多官能(メタ)アクリレートの合計で100重量%)含有する。 The component (B) is usually 1 to 99% by weight of a monofunctional (meth) acrylate and 99 to 1% by weight of a polyfunctional (meth) acrylate having two or more functionalities (however, monofunctional (meth) acrylate and polyfunctional (however). Meta) Contains 100% by weight in total of acrylate.

このうち単官能(メタ)アクリレートは5~95重量%含有されることが好ましく、20~92重量%含有されることがさらに好ましく、50~90重量%含有されることがより好ましく、60~85重量%含有することが最も好ましい。この範囲内において単官能(メタ)アクリレートが多いほど、2官能以上の多官能(メタ)アクリレートが少なくなり、成分(A)の末端からのポリマーが十分に伸長することができるために共連続相を有する相分離構造が形成し、所望の硬化膜を得ることが可能となる。逆に、この範囲内において単官能(メタ)アクリレートが少ないほど、2官能以上の多官能(メタ)アクリレートが多くなり、架橋構造が多くなるために硬化膜として脆弱となりにくい。 Of these, the monofunctional (meth) acrylate is preferably contained in an amount of 5 to 95% by weight, more preferably 20 to 92% by weight, more preferably 50 to 90% by weight, and 60 to 85% by weight. Most preferably, it is contained in% by weight. As the amount of monofunctional (meth) acrylate increases within this range, the amount of bifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate decreases, and the polymer from the end of the component (A) can be sufficiently extended, so that the co-continuous phase can be sufficiently extended. A phase-separated structure having the above is formed, and a desired cured film can be obtained. On the contrary, the smaller the amount of monofunctional (meth) acrylate in this range, the larger the amount of polyfunctional (meth) acrylate having two or more functionalities, and the larger the number of crosslinked structures, so that the cured film is less likely to be fragile.

[成分(C)]
成分(C)としては、シリカ微粒子の内部が空洞となっている中空シリカ微粒子が用いられる。
[Component (C)]
As the component (C), hollow silica fine particles in which the inside of the silica fine particles is hollow are used.

成分(C)として用いる中空シリカ微粒子の平均一次粒子径は、0.1nm以上50nm以下であることが好ましく、1nm以上40nm以下であることがより好ましく、2nm以上30nm以下であることがさらに好ましく、3nm以上20nm以下であることが特に好ましく、5nm以上15nm以下であることが最も好ましい。
中空シリカ微粒子の平均一次粒径が上記の下限値未満であると、低反射率化を実現した場合に、良好な耐スチールウール性および防汚性が得られないおそれがある。一方、中空シリカ微粒子の平均一次粒径が上記の上限値を超えると、中空シリカ微粒子の空隙比率が大きくなるので、所望の硬度が得られないおそれがあり、また形成される硬化膜の膜厚が100nm程度の場合には、中空シリカ微粒子の一部が膜表面から突き出てしまい、硬化膜が白濁するおそれがあり、また耐スチールウール試験時に、スチールウールが硬化膜から突き出た中空シリカ微粒子に引っ掛かり、傷が生じてしまうおそれがある。
The average primary particle diameter of the hollow silica fine particles used as the component (C) is preferably 0.1 nm or more and 50 nm or less, more preferably 1 nm or more and 40 nm or less, and further preferably 2 nm or more and 30 nm or less. It is particularly preferably 3 nm or more and 20 nm or less, and most preferably 5 nm or more and 15 nm or less.
If the average primary particle size of the hollow silica fine particles is less than the above lower limit value, good steel wool resistance and antifouling property may not be obtained when low reflectance is realized. On the other hand, if the average primary particle size of the hollow silica fine particles exceeds the above upper limit value, the void ratio of the hollow silica fine particles becomes large, so that the desired hardness may not be obtained, and the film thickness of the formed cured film may not be obtained. When is about 100 nm, a part of the hollow silica fine particles may protrude from the film surface and the cured film may become cloudy, and during the steel wool resistance test, the steel wool may protrude from the cured film into the hollow silica fine particles. It may get caught or scratched.

なお、中空シリカ微粒子の平均一次粒径は、例えば、断面電子顕微鏡(TEM、STEM等の透過型電子顕微鏡で倍率が5万倍以上のものが好ましい)の画像から、画像処理ソフトウェアを用いて求めることができる。また、断面電子顕微鏡(TEM、STEM等の透過型電子顕微鏡で倍率が5万倍以上のものが好ましい)の画像を用い、縮尺を考慮し、手動にて平均値を算出することによって中空シリカ微粒子の平均一次粒径を求めてもよい。この場合、1画像の中で中空シリカ微粒子のうち大きさが大きい方から10個の中空シリカ微粒子を選び、これを5画像分行い、合計50個の中空シリカ微粒子から平均値を算出する。また、中空シリカ微粒子が単体で存在する場合、すなわち中空シリカ微粒子が硬化膜や硬化性組成物に組み込まれる前の段階であれば、中空シリカ微粒子の平均一次粒径はレーザー散乱法によって測定することができる。レーザー散乱法による測定結果と断面電子顕微鏡の画像からの算出結果はほぼ等しくなる。 The average primary particle size of the hollow silica fine particles is obtained from, for example, an image of a cross-sectional electron microscope (preferably a transmission electron microscope such as TEM or STEM having a magnification of 50,000 times or more) using image processing software. be able to. In addition, hollow silica fine particles are obtained by manually calculating the average value using an image of a cross-sectional electron microscope (preferably a transmission electron microscope such as TEM or STEM with a magnification of 50,000 times or more) in consideration of the scale. The average primary particle size of the above may be obtained. In this case, 10 hollow silica fine particles are selected from the larger one of the hollow silica fine particles in one image, this is performed for 5 images, and the average value is calculated from a total of 50 hollow silica fine particles. Further, if the hollow silica fine particles are present alone, that is, before the hollow silica fine particles are incorporated into the cured film or the curable composition, the average primary particle size of the hollow silica fine particles should be measured by a laser scattering method. Can be done. The measurement result by the laser scattering method and the calculation result from the image of the cross-section electron microscope are almost equal.

中空シリカ微粒子としては、表面に光重合性官能基を有していることが好ましい。このような表面に光重合性官能基を有するシリカ微粒子は、シランカップリング剤等によってシリカ微粒子を表面処理することによって作成することができる。シリカ微粒子の表面をシランカップリング剤で処理する方法としては、シリカ微粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、シリカ微粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。 The hollow silica fine particles preferably have a photopolymerizable functional group on the surface. Such silica fine particles having a photopolymerizable functional group on the surface can be produced by surface-treating the silica fine particles with a silane coupling agent or the like. As a method of treating the surface of the silica fine particles with a silane coupling agent, a dry method of spraying the silane coupling agent on the silica fine particles or a wet method of dispersing the silica fine particles in a solvent and then adding the silane coupling agent to react. And so on.

中空シリカ微粒子は、該当する市販品を用いてもよく、例えば日揮触媒化成(株)製アクリル修飾中空シリカ微粒子「スルーリア4320」等を用いることができる。 As the hollow silica fine particles, the corresponding commercially available product may be used, and for example, acrylic-modified hollow silica fine particles “Thruria 4320” manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Co., Ltd. can be used.

[成分(A)、成分(B)および成分(C)の含有割合]
本発明の硬化性組成物は、前記の成分(B)100重量部に対して、成分(A)を1~99重量部含有する。硬化性組成物中の成分(A)の含有量が多いと所望の相分離を生起させることが可能であり、少ないと粘度が高くなり過ぎず、成膜・成形時の取り扱いが容易である。このため、本発明の硬化性組成物は、成分(B)100重量部に対して、成分(A)を5重量部以上含むことが好ましく、10重量部以上含むことがより好ましく、20重量部以上含むことがさらに好ましく、30重量部以上含むことが特に好ましく、40重量部以上含むことが最も好ましい。また、成分(B)100重量部に対して、成分(A)を90重量部以下含むことが好ましく、80重量部以下含むことがより好ましく、70重量部以下含むことがさらに好ましく、60重量部以下含むことが特に好ましく、50重量部以下含むことが最も好ましい。
[Content ratio of component (A), component (B) and component (C)]
The curable composition of the present invention contains 1 to 99 parts by weight of the component (A) with respect to 100 parts by weight of the component (B). If the content of the component (A) in the curable composition is large, it is possible to cause a desired phase separation, and if it is small, the viscosity does not become too high and it is easy to handle during film formation and molding. Therefore, the curable composition of the present invention preferably contains 5 parts by weight or more of the component (A) with respect to 100 parts by weight of the component (B), more preferably 10 parts by weight or more, and 20 parts by weight. It is more preferably contained in an amount of 30 parts by weight or more, particularly preferably 40 parts by weight or more, and most preferably 40 parts by weight or more. Further, it is preferable to contain 90 parts by weight or less of the component (A), more preferably 80 parts by weight or less, still more preferably 70 parts by weight or less, and 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component (B). It is particularly preferable to include the following, and most preferably 50 parts by weight or less.

また、本発明の硬化性組成物は、成分(C)を成分(B)100重量部に対し、0.5~30重量部含有していることが、成分(C)が成分(A)と成分(B)の混合物に均一に分散し、透明性が確保しやすい点から好ましい。成分(B)に対する成分(C)の含有量が上記下限以上であると成分(C)を含有することによる反射率の低減効果をより確実に得ることができる。一方、成分(B)に対する成分(C)の含有量が上記上限以下であると反射率が低減し、透明性を十分に確保することが可能である。このため、本発明の硬化性組成物は、成分(C)を成分(B)100重量部に対して1重量部以上含むことがより好ましく、1.5重量部以上含むことが更に好ましく、2重量部以上含むことが特に好ましく、3重量部以上含むことが最も好ましい。また、25重量部以下含むことがより好ましく、20重量部以下含むことが更に好ましく、15重量部以下含むことが特に好ましく、10重量部以上含むことが最も好ましい。 Further, the curable composition of the present invention contains 0.5 to 30 parts by weight of the component (C) with respect to 100 parts by weight of the component (B), that is, the component (C) is the component (A). It is preferable because it is uniformly dispersed in the mixture of the component (B) and transparency can be easily ensured. When the content of the component (C) with respect to the component (B) is at least the above lower limit, the effect of reducing the reflectance due to the inclusion of the component (C) can be obtained more reliably. On the other hand, when the content of the component (C) with respect to the component (B) is not more than the above upper limit, the reflectance is reduced and transparency can be sufficiently ensured. Therefore, the curable composition of the present invention preferably contains the component (C) in an amount of 1 part by weight or more, more preferably 1.5 parts by weight or more, based on 100 parts by weight of the component (B). It is particularly preferable to contain more than 3 parts by weight, and most preferably 3 parts by weight or more. Further, it is more preferably 25 parts by weight or less, further preferably 20 parts by weight or less, particularly preferably 15 parts by weight or less, and most preferably 10 parts by weight or more.

[触媒]
本発明の硬化性組成物は、リビングラジカル重合の反応性を向上させるために、触媒を含有することが好ましい。
触媒としては、リビングラジカル重合の反応に使用できる公知のものを用いることができ、前述のヨウ素末端ポリマー(A)の製造に用いる触媒として例示したものの1種又は2種以上を用いることができる。
[catalyst]
The curable composition of the present invention preferably contains a catalyst in order to improve the reactivity of living radical polymerization.
As the catalyst, a known catalyst that can be used in the reaction of living radical polymerization can be used, and one or more of those exemplified as the catalyst used in the production of the iodine-terminated polymer (A) described above can be used.

触媒の含有量は、反応性を高める観点から、成分(A)と成分(B)の合計100重量部に対し、好ましくは0.01重量部以上であり、より好ましくは0.05重量部以上であり、更に好ましくは0.1重量部以上である。また、触媒の含有量は、塗膜の着色を抑制する観点から、好ましくは20重量部以下であり、より好ましくは10重量部以下であり、更に好ましくは5重量部以下である。 The content of the catalyst is preferably 0.01 part by weight or more, more preferably 0.05 part by weight or more, based on 100 parts by weight of the total of the component (A) and the component (B) from the viewpoint of enhancing the reactivity. It is more preferably 0.1 parts by weight or more. The content of the catalyst is preferably 20 parts by weight or less, more preferably 10 parts by weight or less, and further preferably 5 parts by weight or less from the viewpoint of suppressing the coloring of the coating film.

[その他の成分]
本発明の硬化性組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、前述の成分(A)、成分(B)、成分(C)、及び触媒以外の他の成分を含有していてもよい。硬化性組成物が含有し得る他の成分としては、各成分を均一に混合するための溶媒や、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの各種の常用の添加剤などが挙げられる。
[Other ingredients]
The curable composition of the present invention may contain components other than the above-mentioned component (A), component (B), component (C), and catalyst as long as the effects of the present invention are not impaired. .. Other components that the curable composition may contain include solvents for uniformly mixing each component, and various commonly used components such as antistatic agents, plasticizers, surfactants, antioxidants, and UV absorbers. Additives and the like can be mentioned.

溶媒としては、特に限定されるものではなく、成分(A)、成分(B)、成分(C)や下地となる基材の材質、組成物の塗布方法などを考慮して適宜選択される。溶媒の具体例としては、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒;メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒;ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アニソール、フェネトールなどのエーテル系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、エチレングリコールジアセテートなどのエステル系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、N-メチルピロリドンなどのアミド系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒;ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒;などが挙げられる。 The solvent is not particularly limited, and is appropriately selected in consideration of the component (A), the component (B), the material of the base material (C), the material of the base material as a base, the coating method of the composition, and the like. Specific examples of the solvent include aromatic solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether and ethylene glycol diethyl ether. , Diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, anisole, phenetol and other ether solvents; ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, ethylene glycol diacetate and other ester solvents; dimethylformamide, diethylformamide, N-methyl Examples thereof include amide-based solvents such as pyrrolidone; cellosolve-based solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and butyl cellosolve; alcohol-based solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol and butanol; halogen-based solvents such as dichloromethane and chloroform; and the like.

これらの溶媒は1種を単独で使用してもよく、また2種以上を併用してもよい。これらの溶媒のうち、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒及びケトン系溶媒が好ましく使用される。 One of these solvents may be used alone, or two or more of them may be used in combination. Of these solvents, ester solvents, ether solvents, alcohol solvents and ketone solvents are preferably used.

溶媒の使用量には特に制限はなく、調製される硬化性組成物の塗布性、液の粘度・表面張力、固形分の相溶性等を考慮して適宜決定される。通常、本発明の硬化性組成物は、上述の溶媒を用いて固形分濃度が20~100重量%、好ましくは30~100重量%の塗液として調製される。なお、ここで、硬化性組成物中の固形分とは、硬化性組成物に含まれる溶媒以外の成分の合計を意味する。なお、本発明の硬化性組成物は溶媒を含まず、固形分100重量%のものであってもよい。 The amount of the solvent used is not particularly limited, and is appropriately determined in consideration of the coatability of the prepared curable composition, the viscosity / surface tension of the liquid, the compatibility of the solid content, and the like. Usually, the curable composition of the present invention is prepared as a coating liquid having a solid content concentration of 20 to 100% by weight, preferably 30 to 100% by weight, using the above-mentioned solvent. Here, the solid content in the curable composition means the total amount of components other than the solvent contained in the curable composition. The curable composition of the present invention does not contain a solvent and may have a solid content of 100% by weight.

[硬化性組成物の調製方法]
本発明の硬化性組成物の調製方法は特に限定されず、例えば、前述の成分(A)、成分(B)及び成分(C)と、必要に応じて更に前述の触媒などと併せて混合することにより調製することができる。
[Method for preparing curable composition]
The method for preparing the curable composition of the present invention is not particularly limited, and for example, the above-mentioned component (A), component (B) and component (C) are further mixed with the above-mentioned catalyst or the like as needed. Can be prepared by.

[用途]
本発明の硬化性組成物の用途は特に限定されるものではないが、特に、以下に記載する硬化膜に形成のために工業的に有用である。
[Use]
The use of the curable composition of the present invention is not particularly limited, but it is particularly industrially useful for forming the cured film described below.

〔硬化物・積層体〕
本発明の硬化性組成物に、活性エネルギー線照射及び/又は加熱して硬化させることにより、硬化物を得ることができる。特に、硬化性組成物を基材の上で硬化させることにより、硬化性組成物の硬化膜を基材上に形成してなる積層体(以下、「積層体」と称することがある。)とすることができる。また、硬化性組成物を基材の上でフィルム状に硬化させることで、硬化フィルムを得ることができる。また、基材として他の樹脂フィルム上に硬化性組成物を塗布し、硬化させて硬化膜を形成することで、他の樹脂フィルム上に硬化膜を積層してなるフィルム積層体が得られる。
[Curing / laminated body]
A cured product can be obtained by irradiating the curable composition of the present invention with active energy rays and / or heating to cure the composition. In particular, a laminate (hereinafter, may be referred to as "laminate") formed by forming a cured film of the curable composition on the substrate by curing the curable composition on the substrate. can do. Further, a cured film can be obtained by curing the curable composition in the form of a film on a substrate. Further, by applying a curable composition on another resin film as a base material and curing it to form a cured film, a film laminate formed by laminating the cured film on the other resin film can be obtained.

硬化膜を得る際に使用される上記基材としては、各種樹脂フィルム及び樹脂板などを使用することができる。樹脂フィルムとして、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ジアセチレンセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルム、シクロオレフィンポリマー(COP)フィルム等が使用できる。また、樹脂板として、例えばアクリル板、トリアセチルセルロース板、ポリエチレンテレフタレート板、ジアセチレンセルロース板、アセテートブチレートセルロース板、ポリエーテルスルホン板、ポリウレタン板、ポリエステル板、ポリカーボネート板、ポリスルホン板、ポリエーテル板、ポリメチルペンテン板、ポリエーテルケトン板、(メタ)アクリルニトリル板などが挙げられる。また、必要に応じてガラスなどを使用することもできる。これらの基材はいずれも透明性に優れ、後述の光学フィルムへの適用にも好ましい。なお、基材の厚さは、用途に応じて適時選択することができるが、一般に25~1000μm程度のものが用いられる。 As the base material used for obtaining the cured film, various resin films, resin plates, and the like can be used. Examples of the resin film include triacetyl cellulose (TAC) film, polyethylene terephthalate (PET) film, diacetylene cellulose film, acetate butyrate cellulose film, polyether sulfone film, polyacrylic resin film, polyurethane resin film, and polyester film. , Polycarbonate film, polysulfone film, polyether film, polymethylpentene film, polyether ketone film, (meth) acrylic nitrile film, cycloolefin polymer (COP) film and the like can be used. Further, as the resin plate, for example, an acrylic plate, a triacetyl cellulose plate, a polyethylene terephthalate plate, a diacetylene cellulose plate, an acetate butyrate cellulose plate, a polyethersulfone plate, a polyurethane plate, a polyester plate, a polycarbonate plate, a polysulfone plate, a polyether plate. , Polymethylpentene plate, polyester ketone plate, (meth) acrylic nitrile plate and the like. In addition, glass or the like can be used if necessary. All of these base materials have excellent transparency and are also preferable for application to an optical film described later. The thickness of the base material can be selected in a timely manner according to the intended use, but generally, a material having a thickness of about 25 to 1000 μm is used.

硬化性組成物を基材上で硬化させる際、基材への硬化性組成物の塗布方法は特段限定されない。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、スピンコート法、ローラーコート法、バーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法(米国特許第2681294号明細書)などの方法により塗布することができる。 When the curable composition is cured on the substrate, the method for applying the curable composition to the substrate is not particularly limited. For example, dip coating method, air knife coating method, curtain coating method, spin coating method, roller coating method, bar coating method, wire bar coating method, gravure coating method, extrusion coating method (US Pat. No. 2,681294), etc. It can be applied by the method of.

硬化性組成物の塗布により得られた塗膜、又は塗布後、必要に応じて乾燥させた塗膜を硬化させることによって、硬化物として硬化膜を形成することができる。硬化は、必要に応じた波長の活性エネルギー線を発する光源を用いて塗膜に光を照射することによって行うことができる。なお、硬化のための光照射は、積算光量が100mJ/cm~20,000mJ/cmとなるよう照射することが好ましい。光源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライド、キセノンフラッシュ、紫外線LED、電子線などを用いることができる。 A cured film can be formed as a cured product by curing the coating film obtained by applying the curable composition or the coating film dried after application, if necessary. Curing can be performed by irradiating the coating film with light using a light source that emits active energy rays having a wavelength as required. The light irradiation for curing is preferably such that the integrated light amount is 100 mJ / cm 2 to 20,000 mJ / cm 2 . As the light source, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide, a xenon flash, an ultraviolet LED, an electron beam, or the like can be used.

なお、後掲の実施例に示すように、硬化性組成物を上記のような基材に塗布し、これに活性エネルギー線を照射して硬化膜を形成すると、成分(A)の末端から成分(B)が重合することで、相分離後のドメインの界面が共連続構造を取り、結果、ドメインのサイズが小さくなり、一方で、低屈折率の成分(C)の表面シラノール残基が高極性であることにより、主としてこの相分離構造のドメイン内に存在するため、塗膜が透明になるものと考えられる。一方、成分(A)の代わりに末端に重合を開始する起点を持たないポリマーを用いた場合、成分(B)のみが重合すると成分(A)のみが排除体積効果により凝集し、結果、ドメインのサイズが大きくなるために塗膜が透明にはならないものと考えられる。 As shown in Examples below, when the curable composition is applied to a substrate as described above and irradiated with active energy rays to form a cured film, the component (A) is componentd from the end. By polymerizing (B), the interface of the domain after phase separation takes a co-continuous structure, and as a result, the size of the domain becomes smaller, while the surface silanol residue of the component (C) having a low refractive index is high. It is considered that the coating film becomes transparent because it is mainly present in the domain of this phase-separated structure due to its polarity. On the other hand, when a polymer having no starting point for initiating polymerization is used instead of the component (A), when only the component (B) is polymerized, only the component (A) is aggregated by the excluded volume effect, and as a result, the domain It is considered that the coating film does not become transparent due to the increase in size.

さらに、本発明の硬化性組成物を上記のような基材に塗布し、これに活性エネルギー線を照射して硬化膜を形成する際に、活性エネルギー線を基材と反対側、即ち、塗膜側から、塗膜の表面近傍で酸素の存在下で照射することにより、硬化膜の内部において、スピノーダル分解により形成されるドメインの大きさが、基材側より活性エネルギー線を照射した側に向けて徐々に小さくなって硬化膜表面側に傾斜するミクロ相分離構造の硬化膜を形成することができる。
これは、膜表面の空気界面では、空気中の酸素により重合阻害が起こるのに対して、膜の深部にゆくに従って、重合阻害がなくなるため、重合が進行し易くなり、重合の進行に伴って、スピノーダル分解による相分離で比較的大きなドメインが形成され、膜の深部から、膜表面側に向けて、酸素による重合阻害で比較的小さなドメインが形成されるようになることによるものと考えられる。
なお、ここで、「相分離構造」とは、原子間力顕微鏡による解析において位相像として、区別される構造を有していることを意味する。
Further, when the curable composition of the present invention is applied to a substrate as described above and irradiated with active energy rays to form a cured film, the active energy rays are applied to the opposite side of the substrate, that is, coated. By irradiating from the film side in the presence of oxygen near the surface of the coating film, the size of the domain formed by spinodal decomposition inside the cured film is increased from the substrate side to the side irradiated with the active energy ray. It is possible to form a cured film having a microphase-separated structure that gradually becomes smaller toward the surface and is inclined toward the surface side of the cured film.
This is because, at the air interface on the surface of the membrane, polymerization inhibition occurs due to oxygen in the air, whereas as it goes deeper into the membrane, the polymerization inhibition disappears, so that the polymerization becomes easier to proceed, and as the polymerization progresses, it becomes easier to proceed. It is considered that this is because a relatively large domain is formed by phase separation by spinodal decomposition, and a relatively small domain is formed by polymerization inhibition by oxygen from the deep part of the membrane toward the membrane surface side.
Here, the "phase-separated structure" means that the structure is distinguished as a phase image in the analysis by the atomic force microscope.

〔本発明の膜〕
本発明のその他の態様として、本発明の膜は、基材表面に形成された膜であって、下記式(2)を満足することを特徴としている。
0.1%≦[シリカの体積分率]<[シリカの体積分率] …(2)
(上記式(2)中、[シリカの体積分率]及び[シリカの体積分率]は三次元Tomographyにより測定され、[シリカの体積分率]は膜の表面から深さ0μm以上3μm以下の少なくとも一つの領域の単位体積当たりにシリカ微粒子が占める体積の比率であり、[シリカの体積分率]は膜の基材界面から深さ0μm以上3μm以下の少なくとも一つの領域の単位体積当たりにシリカ微粒子が占める体積の比率である。)
この膜の製造方法は特に制限されないが、好ましくは、前述の本発明の硬化性組成物を使用することにより得ることができる。
[Membrane of the present invention]
As another aspect of the present invention, the film of the present invention is a film formed on the surface of a base material, and is characterized by satisfying the following formula (2).
0.1% ≤ [Silica volume fraction] B <[Silica volume fraction] T ... (2)
(In the above formula (2), [volume fraction of silica] T and [volume fraction of silica] B are measured by three-dimensional volume fraction, and [volume fraction of silica] T is 0 μm or more in depth from the surface of the film. It is the ratio of the volume occupied by the silica fine particles to the unit volume of at least one region of 3 μm or less, and [volume fraction of silica] B is the unit of at least one region having a depth of 0 μm or more and 3 μm or less from the substrate interface of the film. It is the ratio of the volume occupied by the silica fine particles to the volume.)
The method for producing this film is not particularly limited, but it can be preferably obtained by using the above-mentioned curable composition of the present invention.

ここで、三次元Tomographyは以下の通り実施される。
<三次元Tomography>
透過型電子顕微鏡(日本電子製:JEM-2100、搭載電子銃:LaB6)を用いて、100nmに切り出した薄膜切片を-50°から+50°まで1°ごとに傾けながら撮影した。得られた二次元データを再構築・解析ソフト(システムインフロンティア製:Composer Ver3.0, VISUALIZER-KAI)により結像させ、硬化膜中のシリカ含有率を算出する。
Here, the three-dimensional Tomography is carried out as follows.
<3D Tomography>
Using a transmission electron microscope (JEOL-2100 manufactured by JEOL Ltd., on-board electron gun: LaB6), a thin film section cut out to 100 nm was photographed while tilting from -50 ° to + 50 ° in 1 ° increments. The obtained two-dimensional data is imaged with reconstruction / analysis software (Composer Ver3.0, VISUALIZER-KAI manufactured by System Infrontia), and the silica content in the cured film is calculated.

本発明のその他の態様の膜の形成に用いるシリカは、上記の成分(C)の中空シリカ微粒子の他、以下のアクリロイル基を有する化合物で表面を修飾したシリカ粒子(以下、「別態様のシリカ粒子」と称す場合がある。)を用いることもできる。 The silica used for forming the film of another aspect of the present invention is silica particles whose surface is modified with the following compounds having an acryloyl group in addition to the hollow silica fine particles of the above component (C) (hereinafter, "silica of another aspect"). It may also be referred to as "particle").

アクリロイル基を有する化合物で表面を修飾したシリカ粒子は、例えば、溶媒に分散させたシリカ粒子と、アクリロイル基を有するシラン化合物とを加水分解縮合反応させることにより製造することができる。アクリロイル基を有する化合物で表面を修飾したシリカ粒子は例えば、特開2006-249322号公報に記載されている方法により製造することが可能であり、より具体的には、表面をアクリロイル基を有する化合物により修飾されてなるシリカ粒子は、まず、有機溶媒を分散媒とするシリカ粒子に、アクリロイル基を有するシラン化合物を加え、さらに水、アセチルアセトンアルミニウムを加水分解触媒として加えて、加熱下で攪拌しながら加水分解反応を進行させることで得ることができる。 The silica particles whose surface is modified with the compound having an acryloyl group can be produced, for example, by subjecting the silica particles dispersed in a solvent to a hydrolysis condensation reaction with the silane compound having an acryloyl group. Silica particles whose surface is modified with a compound having an acryloyl group can be produced, for example, by the method described in JP-A-2006-249322, and more specifically, a compound having an acryloyl group on its surface. First, a silane compound having an acryloyl group is added to the silica particles using an organic solvent as a dispersion medium, and then water and acetylacetone aluminum are added as a hydrolysis catalyst, and the particles are stirred under heating. It can be obtained by advancing the hydrolysis reaction.

溶媒に分散させたシリカ粒子としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、キシレン、ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エチレングリコールモノn-プロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トルエン、シクロヘキサノン等の1種又は2種以上の溶媒に分散させたシリカ粒子が挙げられる。これらは市販品として入手することが可能であり、その例としては例えば、日産化学工業(株)製メタノールシリカゾルMA-ST-M、イソプロピルアルコールシリカゾルIPA-ST、エチレングリコールシリカゾルEG-ST、キシレン/ブタノールシリカゾルXBA-ST、ジメチルアセトアミドシリカゾルDMAC-ST、メチルエチルケトンシリカゾルMEK-ST、メチルイソブチルケトンシリカゾルMIBK-ST、エチレングリコールモノn-プロピルエーテルシリカゾルNPC-ST-30、プロピレングリコールモノメチルエーテルシリカゾルPGM-ST、酢酸エチルシリカゾルEAC-ST、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPMA-ST、トルエンシリカゾルTOL-ST、シクロヘキサノンシリカゾルCHO-ST-M等を用いることができる。これらは1種のみで用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the silica particles dispersed in the solvent include methanol, ethanol, propanol, butanol, isopropyl alcohol, ethylene glycol, xylene, dimethylacetamide, methylethylketone, methylisobutylketone, ethylene glycol monon-propyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and the like. Examples thereof include silica particles dispersed in one or more kinds of solvents such as ethyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, toluene and cyclohexanone. These are available as commercial products, and examples thereof include methanol silica sol MA-ST-M manufactured by Nissan Chemical Industry Co., Ltd., isopropyl alcohol silica sol IPA-ST, ethylene glycol silica sol EG-ST, and xylene /. Butanol silica sol XBA-ST, dimethyl acetamide silica sol DMAC-ST, methyl ethyl ketone silica sol MEK-ST, methyl isobutyl ketone silica sol MIBK-ST, ethylene glycol mono n-propyl ether silica sol NPC-ST-30, propylene glycol monomethyl ether silica sol PGM-ST, Ethylene acetate silica sol EAC-ST, propylene glycol monomethyl ether acetate PMA-ST, toluene silica sol TOR-ST, cyclohexanone silica sol CHO-ST-M and the like can be used. These may be used alone or in combination of two or more.

また、前記溶媒に分散させたシリカ粒子は、平均一次粒子径が、1nm以上であることが好ましく、3nm以上であることがより好ましく、5nm以上であることが更に好ましく、一方、200nm以下であることが好ましく、100nm以下であることがより好ましく、50nm以下であることが更に好ましく、30nm以下であることが特に好ましい。前記シリカ粒子の平均一次粒子径が上記下限値以上であると耐傷付性、表面硬度が向上する傾向にあり、また、上記上限値以下であると硬化物の透明性が良好となる傾向にある。なお、本発明における溶媒に分散させたシリカ粒子の平均一次粒子径は、BET吸着法による比表面積測定値(JIS Z8830に準拠)を求め、以下の式から換算値として求められる値であるが、市販品についてはカタログ値を採用することができる。
[平均一次粒子径(nm)]=
6,000/〔[比表面積(m/g)]×[密度(g/cm)]〕
Further, the silica particles dispersed in the solvent preferably have an average primary particle diameter of 1 nm or more, more preferably 3 nm or more, further preferably 5 nm or more, and 200 nm or less. It is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and particularly preferably 30 nm or less. When the average primary particle diameter of the silica particles is at least the above lower limit value, the scratch resistance and the surface hardness tend to be improved, and when it is at least the above upper limit value, the transparency of the cured product tends to be good. .. The average primary particle diameter of the silica particles dispersed in the solvent in the present invention is a value obtained as a conversion value from the following formula by obtaining a specific surface area measurement value (based on JIS Z8830) by the BET adsorption method. Catalog values can be used for commercial products.
[Average primary particle size (nm)] =
6,000 / [[Specific surface area (m 2 / g)] x [Density (g / cm 3 )]]

また、アクリロイル基を有するシラン化合物としては、例えば、β-(メタ)アクリロイルオキシエチルメチルジメトキシシラン、β-(メタ)アクリロイルオキシエチルメチルジエトキシシラン、β-(メタ)アクリロイルオキシエチルジメチルメトキシシラン、β-(メタ)アクリロイルオキシエチルジメチルエトキシシラン、β-(メタ)アクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、β-(メタ)アクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロイルオキシプロピルジメチルメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロイルオキシプロピルジメチルエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン等を用いることができる。これらは1種のみで用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
アクリロイル基を有する化合物で表面を修飾したシリカ粒子のシリカ粒子表面に修飾されるアクリロイル基の量(表面を(メタ)アクリロイル基を有する化合物により修飾されてなるシリカ粒子1g当りの二重結合量(mol))、仕込み値からの計算値で0.1~2.0mmol/gであることが好ましく、0.2~1.5mmol/gがより好ましく、0.3~1.0mmol/gが更に好ましい。
なお、本発明の別の態様においては、未だ推察の域を出ず、下記の推察に限定されるものではないが、本発明の別の態様は、傾斜がより表面の薄い領域で見られることを規定し、さらに、成分(A)を成分(B)よりも高極性とし、シリカとの親和性が良いエポキシ基が導入されたことにより、シリカがより表面に配置される。そのため、中空シリカのみならず、上記のようなコロイダルシリカでも、本発明の効果を得ることができるようになったものと推察される。
Examples of the silane compound having an acryloyl group include β- (meth) acryloyloxyethylmethyldimethoxysilane, β- (meth) acryloyloxyethylmethyldiethoxysilane, and β- (meth) acryloyloxyethyldimethylmethoxysilane. β- (meth) acryloyloxyethyldimethylethoxysilane, β- (meth) acryloyloxyethyltrimethoxysilane, β- (meth) acryloyloxyethyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloyloxypropyldimethylmethoxysilane, γ- (Meta) acryloyloxypropyldimethylethoxysilane, γ- (meth) acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ- (meth) acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-( Meta) Acryloyloxypropyltriethoxysilane or the like can be used. These may be used alone or in combination of two or more.
Amount of acryloyl group modified on the silica particle surface of silica particles whose surface is modified with a compound having an acryloyl group (Amount of double bond per 1 g of silica particles whose surface is modified with a compound having a (meth) acryloyl group ( mol)), the value calculated from the charged value is preferably 0.1 to 2.0 mmol / g, more preferably 0.2 to 1.5 mmol / g, and further preferably 0.3 to 1.0 mmol / g. preferable.
In addition, in another aspect of the present invention, it is still in the range of speculation and is not limited to the following speculation, but in another aspect of the present invention, the inclination is seen in a region having a thinner surface. Further, the component (A) has a higher polarity than the component (B), and an epoxy group having a good affinity with silica is introduced, so that the silica is more arranged on the surface. Therefore, it is presumed that the effect of the present invention can be obtained not only with hollow silica but also with colloidal silica as described above.

本発明の硬化膜の[シリカの体積分率]が0.1%以上であることにより、シリカが表面のみに存在することなく膜全体に分布することで、屈折率が傾斜し低反射になる。[シリカの体積分率]は好ましくは1%以上、より好ましくは3%以上、最も好ましくは5%以上である。
また、[シリカの体積分率]よりも[シリカの体積分率]が大きいことは、屈折率の低いシリカ粒子が基材側より表面側に多く分布していることを示し、反射率の低減に寄与するものである。
また、[シリカの体積分率]は、反射率低減の観点から7%以上であることが好ましく、10%以上であることがより好ましい。一方、表面近傍のシリカの凝集を抑制し、透明性を確保する観点から、[シリカの体積分率]は70%以下であることが好ましく、50%以下であることがより好ましい。
また、[シリカの体積分率]と[シリカの体積分率]の差は2~30%程度であることが好ましい。
When the [volume fraction of silica] B of the cured film of the present invention is 0.1% or more, silica is distributed over the entire film without being present only on the surface, so that the refractive index is inclined and low reflection is achieved. Become. [Volume fraction of silica] B is preferably 1% or more, more preferably 3% or more, and most preferably 5% or more.
Further, the fact that [silica volume fraction] T is larger than [silica volume fraction] B indicates that silica particles having a low refractive index are distributed more on the surface side than on the base material side, and the reflectance. It contributes to the reduction of.
Further, the [volume fraction of silica] T is preferably 7% or more, and more preferably 10% or more from the viewpoint of reducing the reflectance. On the other hand, from the viewpoint of suppressing aggregation of silica in the vicinity of the surface and ensuring transparency, the [volume fraction of silica] T is preferably 70% or less, and more preferably 50% or less.
Further, the difference between [silica volume fraction] T and [silica volume fraction] B is preferably about 2 to 30%.

以下、上記式(2)を満足する本発明の硬化膜の構造を「本発明のシリカ分布構造」と称す場合がある。 Hereinafter, the structure of the cured film of the present invention satisfying the above formula (2) may be referred to as "silica distribution structure of the present invention".

本発明の膜の厚みは、特に限定されないが、好ましくは2μm以上であり、より好ましくは5μm以上であり、更に好ましくは10μm以上であり、特に好ましくは15μm以上であり、最も好ましくは20μm以上である。また、膜の厚みは、好ましくは1,000μm以下であり、より好ましくは700μm以下であり、更に好ましくは400μm以下であり、特に好ましくは150μm以下であり、最も好ましいのは50μm以下である。膜の厚みが上記範囲内であることが、光学フィルム等の用途において、本発明の膜が有する相分離の傾斜した構造による物性を十分に利用する観点から好ましい。 The thickness of the film of the present invention is not particularly limited, but is preferably 2 μm or more, more preferably 5 μm or more, further preferably 10 μm or more, particularly preferably 15 μm or more, and most preferably 20 μm or more. be. The thickness of the film is preferably 1,000 μm or less, more preferably 700 μm or less, further preferably 400 μm or less, particularly preferably 150 μm or less, and most preferably 50 μm or less. It is preferable that the thickness of the film is within the above range from the viewpoint of fully utilizing the physical characteristics of the film of the present invention due to the inclined structure of phase separation in applications such as optical films.

〔膜の製造方法〕
本発明の膜の製造方法は特に制限されないが、少なくともエチレン性不飽和結合を有する化合物と、前述の成分(C)の中空シリカ微粒子及び/又は別態様のシリカ粒子等のシリカ粒子を含有する硬化性組成物の硬化物から形成されていることが好ましい。
エチレン性不飽和結合を有する化合物におけるエチレン性不飽和結合としては、その種類は特に制限されないが、例えば、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリルアミド基、スチリル基、アリル基等が挙げられる。これらの中でも(メタ)アクリロイル基を有する化合物を含むことが好ましい。本発明の膜の原料として用いることができるエチレン性不飽和結合を有する化合物の一分子中でのエチレン性不飽和結合の数は特に制限されないが、通常、1~15である。また、エチレン性不飽和結合の数が異なる原料を2種以上混合して用いてもよい。
[Membrane manufacturing method]
The method for producing the film of the present invention is not particularly limited, but is cured by containing at least a compound having an ethylenically unsaturated bond and silica particles such as hollow silica fine particles of the above-mentioned component (C) and / or silica particles of another embodiment. It is preferably formed from a cured product of the sex composition.
The type of the ethylenically unsaturated bond in the compound having an ethylenically unsaturated bond is not particularly limited, and examples thereof include a (meth) acryloyl group, a (meth) acrylamide group, a styryl group, and an allyl group. Among these, it is preferable to include a compound having a (meth) acryloyl group. The number of ethylenically unsaturated bonds in one molecule of a compound having an ethylenically unsaturated bond that can be used as a raw material for the film of the present invention is not particularly limited, but is usually 1 to 15. Further, two or more kinds of raw materials having different numbers of ethylenically unsaturated bonds may be mixed and used.

エチレン性不飽和結合を有する化合物の中でも、(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、(メタ)アクリロイル基を1個有する単官能(メタ)アクリレート及び(メタ)アクリロイル基を2個以上有する多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。これらは1種のみでも2種以上を組み合わせて用いることもできるが、単官能(メタ)アクリレートと多官能(メタ)アクリレートとを含むことが好ましい。 Among the compounds having an ethylenically unsaturated bond, the compound having a (meth) acryloyl group includes a monofunctional (meth) acrylate having one (meth) acryloyl group and a polyfunctional compound having two or more (meth) acryloyl groups. Examples include (meth) acrylate. These may be used alone or in combination of two or more, but preferably contain a monofunctional (meth) acrylate and a polyfunctional (meth) acrylate.

単官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルフォリン、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2-エトキシエチル(メタ)アクリレート、3-メトキシブチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、リン酸(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ(メタ)アクリレート、ノニルフェノール(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシプロピレングリコール(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2-(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2-(メタ)アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2-(メタ)アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2-アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される1価のモノ(メタ)アクリレートを有するアダマンチル(メタ)アクリレート等のアダマンタン誘導体モノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは1種をのみを用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the monofunctional (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, and isobutyl (meth). Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, (meth) acryloylmorpholine, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate , Isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (Meta) acrylate, ethylcarbitol (meth) acrylate, phosphoric acid (meth) acrylate, ethylene oxide-modified phosphoric acid (meth) acrylate, phenoxy (meth) acrylate, ethylene oxide-modified phenoxy (meth) acrylate, propylene oxide-modified phenoxy ( Meta) acrylate, nonylphenol (meth) acrylate, ethylene oxide-modified nonylphenol (meth) acrylate, propylene oxide-modified nonylphenol (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolytylene glycol (meth) acrylate, methoxypropylene glycol (meth) Acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropylphthalate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropylhydrogen Phtalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl hexahydrohydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyltetrahydrohydrogen phthalate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate , Hexafluoropropyl (meth) acrylate, Octafluoropropyl (meth) acrylate, Octafluoropropyl (meth) acrylate, 2-adamantan And adamantane derivative mono (meth) acrylate such as adamantyl (meth) acrylate having a monovalent mono (meth) acrylate derived from adamantane diol. These may be used alone or in combination of two or more.

多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の2官能(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の多官能(メタ)アクリレート;これらの(メタ)アクリレートの一部をアルキル基やε-カプロラクトンで置換した多官能(メタ)アクリレート化合物の変性物;イソシアヌレート構造を有する多官能(メタ)アクリレート等の窒素原子含有複素環構造を有する多官能(メタ)アクリレート;デンドリマー構造を有する多官能(メタ)アクリレート、ハイパーブランチポリマー構造を有する多官能(メタ)アクリレート等の多分岐樹枝状構造を有する多官能(メタ)アクリレート;ジイソシアネート又はトリイソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリレートが付加したウレタン(メタ)アクリレート、イソシアネート化合物とジオール化合物を反応させて得られた末端にイソシアネート基を有する反応生成物に水酸基を有する(メタ)アクリレートが付加したウレタン(メタ)アクリレート等のウレタン(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは1種のみを用いることも2種以上を組み合わせて用いることもできる。 Examples of the polyfunctional (meth) acrylate include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and nonanediol di (meth) acrylate. Ethoxylated hexanediol di (meth) acrylate, propoxylated hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) Bifunctional (meth) acrylates such as acrylates, neopentyl glycol di (meth) acrylates, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylates, tripropylene glycol di (meth) acrylates, and hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylates. Trimethylol propanetri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylol propanetri (meth) acrylate, propoxylated trimethylol propanetri (meth) acrylate, tris2-hydroxyethylisocyanurate tri (meth) acrylate, glycerintri (meth) Acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylol propanetri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylol propanetetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra ( Trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylates such as meth) acrylates, dipentaerythritol penta (meth) acrylates, ditrimethylol propanepenta (meth) acrylates, dipentaerythritol hex (meth) acrylates, and ditrimethylol propanehexa (meth) acrylates. Acrylate; A modified product of a polyfunctional (meth) acrylate compound in which a part of these (meth) acrylates is replaced with an alkyl group or ε-caprolactone; a nitrogen atom-containing heterocycle such as a polyfunctional (meth) acrylate having an isocyanurate structure. Polyfunctional (meth) acrylate having a structure; Polyfunctional (meth) acrylate having a multi-branched dendritic structure such as polyfunctional (meth) acrylate having a dendrimer structure and polyfunctional (meth) acrylate having a hyperbranched polymer structure; Urethane (meth) acrylate obtained by adding a (meth) acrylate having a hydroxyl group to cyanate or triisocyanate, or (meth) acrylate having a hydroxyl group in a reaction product having an isocyanate group at the terminal obtained by reacting an isocyanate compound with a diol compound. Examples thereof include urethane (meth) acrylate such as urethane (meth) acrylate added with. These can be used alone or in combination of two or more.

以上に挙げたエチレン性不飽和化合物の中でも、本発明の膜は少なくとも(メタ)アクリロイル基を有する化合物から形成されていることが好ましく、少なくとも多官能(メタ)アクリレートから形成されていることがより好ましく、多官能(メタ)アクリレートと単官能(メタ)アクリレートとから形成されていることが更に好ましい。 Among the ethylenically unsaturated compounds listed above, the film of the present invention is preferably formed from at least a compound having a (meth) acryloyl group, and more preferably at least from a polyfunctional (meth) acrylate. It is preferable that it is formed of a polyfunctional (meth) acrylate and a monofunctional (meth) acrylate.

また、エチレン性不飽和結合を有する化合物におけるエチレン性不飽和結合の数は特に限定されるものではないが、通常、15個以下であり、好ましくは10個以下、より好ましくは6個以下、更に好ましくは4個以下、最も好ましくは2個以下である。エチレン性不飽和結合の数が少ないほど、ドメインサイズが小さくなるため透明性が確保し易いために好ましい。また、エチレン性不飽和化合物におけるエチレン性不飽和結合の数が2個以上であると重合体同士が架橋されるために膜が強靭になるため好ましい。 The number of ethylenically unsaturated bonds in the compound having an ethylenically unsaturated bond is not particularly limited, but is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 6 or less, and further. The number is preferably 4 or less, and most preferably 2 or less. The smaller the number of ethylenically unsaturated bonds, the smaller the domain size, which is preferable because transparency can be easily ensured. Further, when the number of ethylenically unsaturated bonds in the ethylenically unsaturated compound is two or more, the polymers are crosslinked with each other and the film becomes tough, which is preferable.

本発明の膜を得る際には、通常、エチレン性不飽和結合を有する化合物、好ましくは(メタ)アクリロイル基を有する化合物と、前述の成分(C)の中空シリカ微粒子及び/又は別態様のシリカ粒子を有機溶媒と混合した硬化性組成物とする。次いで、これを基材上に塗工して塗工膜とし、これに活性エネルギー線を照射して硬化膜とすることが好ましい。上記の製造方法において用いることのできる有機溶媒、及び基材は、上記した成分(A)、成分(B)及び成分(C)(成分(C)の代りに別態様のシリカ粒子を用いてもよい。)を含有する本発明の硬化性組成物に使用される有機溶媒、及び積層体に使用される基材がそれぞれが挙げられる。また、本発明の膜を得る際に用いられる硬化性組成物は、上記した成分(A)、成分(B)及び成分(C)(成分(C)の代りに別態様のシリカ粒子を用いてもよい。)を含有する硬化性組成物が好ましい。 When obtaining the film of the present invention, a compound having an ethylenically unsaturated bond, preferably a compound having a (meth) acryloyl group, hollow silica fine particles of the above-mentioned component (C), and / or silica of another embodiment are usually obtained. The particles are mixed with an organic solvent to obtain a curable composition. Next, it is preferable to coat this on a substrate to form a coating film, which is then irradiated with active energy rays to form a cured film. As the organic solvent and the base material that can be used in the above-mentioned production method, silica particles of another embodiment may be used instead of the above-mentioned component (A), component (B) and component (C) (component (C)). The organic solvent used in the curable composition of the present invention containing (good) and the base material used in the laminate can be mentioned. Further, in the curable composition used for obtaining the film of the present invention, silica particles of another embodiment are used instead of the above-mentioned components (A), (B) and (C) (component (C)). A curable composition containing) is preferable.

上記塗工膜を硬化する際の活性エネルギー線の照度は特に限定されるものではないが、好ましくは1,000mW/cm以下であり、より好ましくは600mW/cm以下であり、より好ましくは300mW/cm以下であり、更に好ましくは200mW/cm以下であり、特に好ましいのは150mW/cm以下である。また、塗工膜を硬化する際の活性エネルギー線の照度は好ましくは1mW/cm以上であり、より好ましくは5mW/cm以上であり、更に好ましくは10mW/cm以上であり、特に好ましいのは20mW/cm以上であり、最も好ましいのは50mW/cm以上である。照度が上記上限以下であると相分離構造を形成するのに十分な重合時間が確保されるために好ましい。また、照度が上記下限以上であると活性エネルギー線照射により成分(A)の末端活性ラジカルが重合に必要な量発生するため所望の相分離構造を形成し易くなるために好ましい。 The illuminance of the active energy ray when curing the coating film is not particularly limited, but is preferably 1,000 mW / cm 2 or less, more preferably 600 mW / cm 2 or less, and more preferably. It is 300 mW / cm 2 or less, more preferably 200 mW / cm 2 or less, and particularly preferably 150 mW / cm 2 or less. The illuminance of the active energy rays when curing the coating film is preferably 1 mW / cm 2 or more, more preferably 5 mW / cm 2 or more, still more preferably 10 mW / cm 2 or more, and particularly preferable. Is 20 mW / cm 2 or more, and most preferably 50 mW / cm 2 or more. When the illuminance is not more than the above upper limit, sufficient polymerization time is secured to form a phase-separated structure, which is preferable. Further, when the illuminance is equal to or higher than the above lower limit, the terminal active radical of the component (A) is generated in an amount required for polymerization by irradiation with active energy rays, which is preferable because a desired phase separation structure can be easily formed.

塗工膜を硬化する際の活性エネルギー線の照射時間は特に限定されるものではないが、好ましくは0.01秒以上であり、より好ましくは0.1秒以上であり、更に好ましくは0.3秒以上であり、特に好ましくは0.5秒以上であり、最も好ましいのは1秒以上である。また、塗工膜を硬化する際の活性エネルギー線の照射時間は好ましくは10時間以内であり、より好ましくは1時間以内であり、更に好ましくは10分以内であり、特に好ましいのは1分以内であり、最も好ましいのは10秒以内である。活性エネルギー線の照射時間が上記下限以上であると成分(B)に含有される多官能アクリレートによって架橋が進むために膜の強度が高くなり易いために好ましい。また、活性エネルギー線の照射時間が上記上限以内であると相分離が形成するまでに必要な時間が十分に確保されるために好ましい。 The irradiation time of the active energy rays when curing the coating film is not particularly limited, but is preferably 0.01 seconds or longer, more preferably 0.1 seconds or longer, and even more preferably 0. It is 3 seconds or more, particularly preferably 0.5 seconds or more, and most preferably 1 second or more. The irradiation time of the active energy ray when curing the coating film is preferably 10 hours or less, more preferably 1 hour or less, further preferably 10 minutes or less, and particularly preferably 1 minute or less. The most preferable is within 10 seconds. When the irradiation time of the active energy ray is not less than the above lower limit, the polyfunctional acrylate contained in the component (B) promotes cross-linking, which tends to increase the strength of the film, which is preferable. Further, when the irradiation time of the active energy rays is within the above upper limit, it is preferable that the time required for the phase separation to be formed is sufficiently secured.

本発明の膜は、特に好ましくは、前述の本発明の硬化性組成物を用い、これに活性エネルギー線を照射して硬化膜を形成する際に、活性エネルギー線を基材と反対側、即ち、塗膜側から、塗膜の表面近傍で酸素の存在下で照射することが好ましい。このようにして活性エネルギー線を照射することにより、硬化膜の内部において、ドメインの大きさが、基材側より活性エネルギー線を照射した側に向けて徐々に小さくなって硬化膜表面側に傾斜し、それに伴い中空シリカ粒子がより極性の高いドメインに選択的に配置することにより中空シリカ微粒子の体積分率が硬化膜表面側に大きくなるミクロ相分離構造の膜、即ち本発明のシリカ分布構造を有する膜を形成することができる。これは、膜表面の空気界面では、空気中の酸素により重合阻害が起こるのに対して、膜の深部にゆくに従って、重合阻害がなくなるため、重合が進行し易くなり、重合の進行に伴って、スピノーダル分解による相分離で比較的大きなドメインが形成され、膜の深部から、膜表面側に向けて、酸素による重合阻害で比較的小さなドメインが形成されるようになり、その結果、前述と同じく中空シリカが片方のドメインに選択的に配置することにより、膜表面側の方が硬化膜の深部よりも中空シリカ微粒子の体積分率が大きくなることによるものと考えられる。なお、本発明の膜を得る場合において、上記した条件以外は本発明の硬化物を得る場合と同様にして実施することができる。 The film of the present invention is particularly preferably the same as the above-mentioned curable composition of the present invention, and when the cured film is formed by irradiating the film with active energy rays, the active energy rays are placed on the opposite side of the substrate, that is, It is preferable to irradiate from the coating film side in the presence of oxygen in the vicinity of the surface of the coating film. By irradiating the activated energy rays in this way, the size of the domain inside the cured film gradually decreases from the substrate side toward the side irradiated with the active energy rays and is inclined toward the surface side of the cured film. Along with this, the hollow silica particles are selectively arranged in a more polar domain, so that the volume fraction of the hollow silica fine particles is increased toward the surface side of the cured film, that is, the film having a microphase-separated structure, that is, the silica distribution structure of the present invention. It is possible to form a film having. This is because, at the air interface on the membrane surface, polymerization inhibition occurs due to oxygen in the air, whereas as it goes deeper into the membrane, the polymerization inhibition disappears, so that the polymerization becomes easier to proceed, and as the polymerization progresses, it becomes easier to proceed. , A relatively large domain is formed by phase separation by spinodal decomposition, and a relatively small domain is formed by polymerization inhibition by oxygen from the deep part of the membrane toward the membrane surface side, and as a result, as described above. It is considered that this is because the hollow silica is selectively arranged in one domain, so that the body integration rate of the hollow silica fine particles is larger on the film surface side than in the deep part of the cured film. In addition, in the case of obtaining the film of the present invention, it can be carried out in the same manner as in the case of obtaining the cured product of the present invention except for the above-mentioned conditions.

なお、本発明のシリカ分布構造を有する膜を製造する際に、本発明の硬化性組成物において、成分(A)として前述のヨウ素末端ポリマーを用い、成分(B)として多官能(メタ)アクリレートと単官能(メタ)アクリレートを用いる場合、それぞれの成分は次のようにして膜を形成する反応に寄与するものと考えられる。
すなわち、本発明の硬化性組成物を酸素存在下で光重合架橋をすると、成分(A)のヨウ素末端が光重合開始点となり、その開始点から成分(B)のリビングラジカル重合が進行する。この際成分(A)の末端から成分(B)の重合が進行するにつれて、成分(A)と成分(B)の重合部分が相分離するが、通常の2種類のポリマーを混合した場合のスピノーダル分解と異なり、共連続相分離状態となるためにドメインサイズが小さくなるものと考えられる。更に膜表面近傍には酸素が存在するため、その重合禁止効果によって膜表面は内部に比べて重合の進行が遅くなり、成分(A)と成分(B)の重合体がなす相分離構造は表面付近ではより均一に近くなるものと考えられる。
When producing the film having the silica distribution structure of the present invention, the above-mentioned iodine-terminated polymer was used as the component (A) in the curable composition of the present invention, and the polyfunctional (meth) acrylate was used as the component (B). When monofunctional (meth) acrylate is used, each component is considered to contribute to the reaction of forming a film as follows.
That is, when the curable composition of the present invention is photopolymerized and crosslinked in the presence of oxygen, the iodine terminal of the component (A) becomes the photopolymerization starting point, and the living radical polymerization of the component (B) proceeds from the starting point. At this time, as the polymerization of the component (B) proceeds from the end of the component (A), the polymerized portions of the component (A) and the component (B) are phase-separated, but spinodal when two kinds of ordinary polymers are mixed. Unlike decomposition, it is considered that the domain size becomes smaller due to the co-continuous phase separation state. Furthermore, since oxygen is present in the vicinity of the film surface, the polymerization progress of the film surface is slower than that of the inside due to the polymerization inhibitory effect, and the phase separation structure formed by the polymer of the component (A) and the component (B) is the surface. It is thought that it will be closer to uniform in the vicinity.

本発明の硬化性組成物を使用して基材フィルム上に硬化膜を形成してなる積層体及び本発明のシリカ分布構造を有する膜は、各種の用途に適用される。本発明の硬化性組成物の硬化物及び本発明のシリカ分布構造を有する膜は、ドメインサイズが小さく、透明性に優れ、かつ中空シリカ微粒子により低反射率のものを得ることが可能であるため、特に各種の光学用途に用いられる光学フィルムとして好適に使用され得る。特に、ドメインの大きさが硬化膜の基材側から表面側へ向けて徐々に小さくなる傾斜構造を有することで、中空シリカ微粒子の体積分率が硬化膜の基材側から表面側へ向けて徐々に大きくなる本発明のシリカ分布構造を有する膜は、原料を選択して、更に屈折率の高い成分及び/又は低い成分の相分離により形成されたドメインに局在化させることにより硬化膜内部に屈折率の傾斜がつき、空気と膜の界面における光の反射がこの屈折率の傾斜のため抑制され低反射率になり、ディスプレイ等において好適な反射防止フィルムへの使用が期待される。また、本発明のシリカ分布構造を有する膜は、原料を選択して、更に粘弾性の高い成分及び/又は低い成分の相分離により形成されたドメインに局在化させることにより硬化膜内部に粘弾性の傾斜がつき、フレキシブルディスプレイ等において好適な保護フィルムへの使用が期待される。 The laminate formed by forming a cured film on the base film using the curable composition of the present invention and the film having the silica distribution structure of the present invention are applied to various uses. Because the cured product of the curable composition of the present invention and the film having the silica distribution structure of the present invention have a small domain size, excellent transparency, and low reflectance due to hollow silica fine particles can be obtained. In particular, it can be suitably used as an optical film used for various optical applications. In particular, by having an inclined structure in which the size of the domain gradually decreases from the substrate side to the surface side of the cured film, the body integral index of the hollow silica fine particles increases from the substrate side to the surface side of the cured film. The film having the silica distribution structure of the present invention, which gradually grows, is inside the cured film by selecting a raw material and localizing it to a domain formed by phase separation of a component having a high refractive index and / or a component having a low refractive index. The refractive index is inclined, and the reflection of light at the interface between air and the film is suppressed due to the inclination of the refractive index, resulting in low refractive index, and it is expected to be used as an antireflection film suitable for displays and the like. Further, the film having the silica distribution structure of the present invention is viscoelastic inside the cured film by selecting a raw material and localizing it to a domain formed by phase separation of a component having high viscoelasticity and / or a component having low viscoelasticity. It has an elastic slope and is expected to be used as a protective film suitable for flexible displays and the like.

反射防止フィルム等の光学フィルムとしての使用において、本発明の硬化性組成物を使用する積層体には必要に応じて特殊な処理を施して光学的機能(光透過、光拡散、集光、屈折、散乱、ヘーズ(HAZE)等の諸機能)を付与してもよい。光学フィルムとしての用途において、本発明の積層体は単独で、又は数種の光学フィルムをコーティング剤、又は接着剤で多層に積層して光学素子用積層体として使用してもよい。本発明の積層体が適用される光学フィルムとしては、例えば、ハードコートフィルム、帯電防止コートフィルム、防眩コートフィルム、偏光フィルム、位相差フィルム、楕円偏光フィルム、反射防止フィルム、光拡散フィルム、輝度向上フィルム、プリズムフィルム(プリズムシートともいう)、導光フィルム(導光板ともいう)等が挙げられる。かかる光学フィルムは、液晶表示装置、PDPモジュール、タッチパネルモジュール、有機ELモジュール等に用いられる。 In use as an optical film such as an antireflection film, the laminate using the curable composition of the present invention is subjected to special treatment as necessary to perform optical functions (light transmission, light diffusion, light collection, refraction). , Scattering, HAZE, and other functions) may be imparted. In the application as an optical film, the laminate of the present invention may be used alone or as a laminate for an optical element by laminating several kinds of optical films in multiple layers with a coating agent or an adhesive. Examples of the optical film to which the laminate of the present invention is applied include a hard coat film, an antistatic coat film, an antiglare coat film, a polarizing film, a retardation film, an elliptical polarizing film, an antireflection film, a light diffusing film, and brightness. Examples thereof include an improved film, a prism film (also referred to as a prism sheet), a light guide film (also referred to as a light guide plate), and the like. Such an optical film is used in a liquid crystal display device, a PDP module, a touch panel module, an organic EL module, and the like.

以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例により限定されるものではない。また、以下の実施例における各種の製造条件や評価結果の値は、本発明の実施態様における上限又は下限の好ましい値としての意味を持つものであり、好ましい範囲は前記した上限又は下限の値と、下記実施例の値又は実施例同士の値との組み合わせで規定される範囲であってもよい。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. Further, the values of various manufacturing conditions and evaluation results in the following examples have meanings as preferable values of the upper limit or the lower limit in the embodiment of the present invention, and the preferable range is the above-mentioned upper limit or lower limit value. , The range specified by the combination of the values of the following examples or the values of the examples may be used.

なお、以下の合成例で得られたポリマーの構造及び物性は、下記の方法により評価した。
(1)ポリマーの末端構造の同定
MALDI(Matrix Assisted Laser Desorption Ionization:マトリックス支援レーザー脱離イオン化法)-TOF(Time Of Flight:飛行時間型)法(Bruker社製「Autoflex III」を使用)、励起レーザー強度:出力60%)でポリマーの分子量を測定し、下記式に適合する分子量が確認されるか否かで末端構造を同定した。
IN+(MM1×N+MM2×N+・・・)+M+M+M 又は
IN+(MM1×N+MM2×N+・・・)+M+M+MNa
上記式中、各記号は、それぞれ、以下の意味を表す。
IN:開始剤解離後の分子量(=開始剤の分子量の1/2)
M1、MM2・・・:主幹ポリマーを構成するモノマーの分子量(M、M
・・は異なるモノマーを表す。)
N:自然数
:末端側のアクリル酸エステルの分子量
:ヨウ素原子の原子量(=126.90)
:水素原子の原子量(=1.01)
Na:ナトリウム原子の原子量(=22.99)
The structure and physical properties of the polymers obtained in the following synthetic examples were evaluated by the following methods.
(1) Identification of the terminal structure of the polymer MALDI (Matrix Assisted Laser Desorption Ionization) -TOF (Time Of Flight: flight time type) method (using Bruker's "Autoflex III"), excitation The molecular weight of the polymer was measured with a laser intensity (output 60%), and the terminal structure was identified by whether or not a molecular weight conforming to the following formula was confirmed.
M IN + (M M 1 x N 1 + M M 2 x N 2 + ...) + M A + M I + M H or M IN + (M M 1 x N 1 + M M 2 x N 2 + ...) + M A + M I + M Na
In the above formula, each symbol has the following meaning.
MIN : Molecular weight after initiator dissociation (= 1/2 of initiator molecular weight)
M M1 , M M 2 ...: Molecular weight of the monomers constituting the main polymer (M 1 , M 2 ...
・ ・ Represents a different monomer. )
N: Natural number MA: Molecular weight of acrylic acid ester on the terminal side MI: Atomic weight of iodine atom ( = 126.90 )
MH : Atomic weight of hydrogen atom (= 1.01)
M Na : Atomic weight of sodium atom (= 22.99)

例えば、合成例1のように、開始剤が2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業社製「V-70」)(解離後の分子量=154.21)、主幹ポリマーを構成するモノマーがメチルメタクリレート(分子量=100.12)、末端のアクリル酸エステルがブチルアクリレート(分子量=142.20)である場合、下記式で表される分子量となる。
154.21+100.12×N+142.20+126.90+1.01 又は
154.21+100.12×N+142.20+126.90+22.99
For example, as in Synthesis Example 1, the initiator is 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (“V-70” manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (molecular weight after dissociation =). 154.21) When the monomer constituting the main polymer is methyl methacrylate (molecular weight = 100.12) and the terminal acrylic acid ester is butyl acrylate (molecular weight = 142.20), the molecular weight is represented by the following formula. ..
154.21 + 100.12 x N + 142.20 + 126.90 + 1.01 or 154.21 + 100.12 x N + 142.20 + 126.90 + 22.99

上記の分子量の測定結果をもとに同定を行い、下記基準で評価した。なお、ここで所望の末端構造とは、(ポリメチルメタクリレート)-(各種アクリレートに由来する構造単位)-Iの構造となっていることを意味する。
○:上記式に適合する分子量が確認され、所望の末端構造が存在する。
×:上記式に適合する分子量が確認されず、所望の末端構造は存在しない。
Identification was performed based on the above measurement results of molecular weight, and evaluation was performed according to the following criteria. Here, the desired terminal structure means that the structure is (polymethylmethacrylate)-(structural unit derived from various acrylates) -I.
◯: A molecular weight conforming to the above formula has been confirmed, and a desired terminal structure is present.
X: The molecular weight conforming to the above formula has not been confirmed, and the desired terminal structure does not exist.

(2)分子量
GPC測定法により以下の条件にて、得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)を測定した。
機器:島津製作所製「RID-10A/CBM-20A/DGU-20A3,
LC-20AD/DPD-M20A/CTO-20A」
カラム:東ソー社製「TSKgel superHM-N」
検出器:示差屈折率検出器(RI検出器/内蔵)
溶媒:クロロホルム、 温度:40℃、 流速:0.3mL/分、
注入量:20μL
濃度:0.1重量%、 較正試料:単分散ポリスチレン、 較正法:ポリスチレン
(2) Molecular Weight The weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the obtained polymer were measured by the GPC measurement method under the following conditions.
Equipment: Shimadzu "RID-10A / CBM-20A / DGU-20A3,"
LC-20AD / DPD-M20A / CTO-20A "
Column: "TSKgel superHM-N" manufactured by Tosoh Corporation
Detector: Differential refractive index detector (RI detector / built-in)
Solvent: Chloroform, Temperature: 40 ° C, Flow rate: 0.3 mL / min,
Injection volume: 20 μL
Concentration: 0.1% by weight, Calibration sample: Monodisperse polystyrene, Calibration method: Polystyrene

[合成例1:ヨウ素末端ポリマー(PMMA-BA-I)の合成]
撹拌機、還流冷却管、及び温度計を取り付けた反応器に、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業社製「V-70」):2.8重量部、ヨウ素:1.5重量部、及びアニソール:120重量部を仕込み、溶液が均一になるまで撹拌した。系内を遮光し窒素置換後、65℃まで昇温し、0.5時間撹拌した。続いてメチルメタクリレート(MMA):120重量部、及びテトラブチルアンモニウムヨージド(BuNI):4.4重量部を添加し、70℃で2時間撹拌した。さらにn-ブチルアクリレート(BA):120重量部を添加し、70℃で3時間撹拌した。その後、室温まで冷却後、遮光下において、メタノールへの沈殿精製により白色粉末としてヨウ素末端ポリマー(PMMA-BA-I)を得た。
得られたポリマーの末端構造と分子量を上記(1)、(2)の通り評価した。その結果を表-1に示す。
[Synthesis Example 1: Synthesis of Iodine Terminal Polymer (PMMA-BA-I)]
2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (“V-70” manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) in a reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a thermometer: 2.8 parts by weight of iodine, 1.5 parts by weight of iodine, and 120 parts by weight of anisole were charged, and the mixture was stirred until the solution became uniform. After shading the inside of the system and replacing with nitrogen, the temperature was raised to 65 ° C., and the mixture was stirred for 0.5 hours. Subsequently, 120 parts by weight of methyl methacrylate (MMA) and 4.4 parts by weight of tetrabutylammonium iodide (Bu 4 NI) were added, and the mixture was stirred at 70 ° C. for 2 hours. Further, 120 parts by weight of n-butyl acrylate (BA) was added, and the mixture was stirred at 70 ° C. for 3 hours. Then, after cooling to room temperature, an iodine-terminated polymer (PMMA-BA-I) was obtained as a white powder by precipitation purification to methanol under shading.
The terminal structure and molecular weight of the obtained polymer were evaluated as described in (1) and (2) above. The results are shown in Table 1.

Figure 0007005907000001
Figure 0007005907000001

表-1より、メタクリル酸エステル系モノマーのリビングラジカル重合で得られた主幹ポリマーに更にアクリル酸エステル系モノマーを反応させることにより、末端にアクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位を介してヨウ素原子が結合した構造のヨウ素末端ポリマーが製造されたことが分かる。 From Table 1, by further reacting the main polymer obtained by the living radical polymerization of the methacrylic acid ester-based monomer with the acrylic acid ester-based monomer, the iodine atom is passed through the structural unit derived from the acrylic acid ester-based monomer at the terminal. It can be seen that an iodine-terminated polymer having a structure bound to the above was produced.

[合成例2:中空シリカナノ粒子(中空Si-A)の合成]
塩酸水溶液(2.0mol/L):60mLに、非イオン性界面活性剤(AnaSpec社製「Pluronic F-127」):250mgを溶解し、更に1,3,5-トリメチルベンゼン(東京化成工業社製):250mg、塩化カリウム(関東化学社製):875mgを添加して、40℃にて2時間撹拌した。その後、ビス(トリエトキシシリル)ベンゼン(SIGMA-ALDRICH社製):1.0gを添加し、さらに40℃にて1時間撹拌後、100℃まで昇温し、24時間反応させた。冷却後、水酸化カリウム水溶液(2.0mol/L)を徐々に加えpHを9にした後、この溶液に同量のエタノールを加えて撹拌し、界面活性剤を溶解させた。遠心分離(SIGMA社製「テーブルトップ冷却遠心分離機4-16K」、SPEED:10000、温度:5℃、15分間)により上澄みを除去後、また同量のエタノールを加え、遠心分離、上澄み除去という工程を3回繰り返し、中空シリカエタノール湿潤物を得た。
[Synthesis Example 2: Synthesis of Hollow Siene Particles (Hollow Si—A)]
A nonionic surfactant (“Pluronic F-127” manufactured by AnaSpec): 250 mg was dissolved in an aqueous solution of potassium chloride (2.0 mol / L): 60 mL, and further 1,3,5-trimethylbenzene (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was dissolved. (Manufactured): 250 mg, potassium chloride (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.): 875 mg was added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 2 hours. Then, 1.0 g of bis (triethoxysilyl) benzene (manufactured by SIGMA-ALDRICH) was added, and the mixture was further stirred at 40 ° C. for 1 hour, heated to 100 ° C., and reacted for 24 hours. After cooling, an aqueous potassium hydroxide solution (2.0 mol / L) was gradually added to adjust the pH to 9, and then the same amount of ethanol was added to this solution and stirred to dissolve the surfactant. After removing the supernatant by centrifugation (SIGMA "Tabletop Cooling Centrifuge 4-16K", SPEED: 10000, Temperature: 5 ° C, 15 minutes), add the same amount of ethanol, and centrifuge and remove the supernatant. The process was repeated 3 times to obtain a hollow silica ethanol wet product.

別途、酢酸と水を混合しpHを4に調整した水溶液:10.8gに、へキシルトリメトキシシラン(東京化成工業社製):1.2g、メタノール:8.0gを加え、室温にて1時間撹拌した後、さらにメタノール:30.0gを配合した溶液をシランカップリング剤溶液として用意した。 Separately, add 1.2 g of hexyltrimethoxysilane (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) and 8.0 g of methanol to 10.8 g of an aqueous solution prepared by mixing acetic acid and water to adjust the pH to 4, and 1 at room temperature. After stirring for a time, a solution further containing 30.0 g of methanol was prepared as a silane coupling agent solution.

このシランカップリング剤溶液に前述の中空シリカエタノール湿潤物:1.50gを加え、超音波ホモジナイザー(EMERSON社製「BRANSON SONIFIER 250」、DutyCycle:30% Output Control:3)を用いて超音波を照射し、得られた溶液を遠心分離にかけ、上澄みを除去後、メチルイソブチルケトン(MIBK):600gに分散し、中空シリカナノ粒子(中空Si-A)のMIBK分散液(中空シリカナノ粒子/MIBK=5/1000 重量比)を得た。TEM観察像から求めたこの中空シリカナノ粒子の平均一次粒子径は約10nmであった。 To this silane coupling agent solution, 1.50 g of the above-mentioned hollow silica ethanol wet product is added, and ultrasonic waves are irradiated using an ultrasonic homogenizer (“BRANSON SONIFIER 250” manufactured by EMERSON, DutyCycle: 30% Output Control: 3). Then, the obtained solution was centrifuged to remove the supernatant, and then dispersed in 600 g of methyl isobutyl ketone (MIBK), and the MIBK dispersion of hollow silica nanoparticles (hollow Si—A) (hollow silica nanoparticles / MIBK = 5 /). 1000 weight ratio) was obtained. The average primary particle diameter of the hollow silica nanoparticles obtained from the TEM observation image was about 10 nm.

[実施例1]
表面修飾した中空シリカナノ粒子(中空Si-A)分散液:5.60gを遠心分離(SIGMA社製「テーブルトップ冷却遠心分離機4-16K」、SPEED:10000、温度:5℃、15分間)し、上澄み液を除去した後、ジメチルアミノエチルアクリレート(DMAEA)(東京化成工業社製):373mgを添加して、超音波ホモジナイザー(EMERSON社製「BRANSON SONIFIER 250」、DutyCycle:20% Output Control:2)を用いて、15分間超音波を照射し分散液とした。この分散液に、ヨウ素末端ポリマー(PMMA-BA-I):200mg、トリフェニルホスフィン(TPP)(関東科学社製):7.5mg、1,4-ビス(アクリロイルオキシ)ブタン(DA)(東京化成工業社製):93.3mgを溶解させ、硬化性組成物塗工液を得た。
[Example 1]
Surface-modified hollow silica nanoparticles (hollow Si-A) dispersion: 5.60 g is centrifuged (SIGMA "Tabletop Cooling Centrifuge 4-16K", SPEED: 10000, temperature: 5 ° C, 15 minutes). After removing the supernatant, dimethylaminoethyl acrylate (DMAEA) (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.): 373 mg was added to an ultrasonic homogenizer (EMERSON Co., Ltd. "BRANSON SONIFIER 250", DutyCycle: 20% Output Control: 2). ) Was irradiated with ultrasonic waves for 15 minutes to prepare a dispersion. Iodine-terminated polymer (PMMA-BA-I): 200 mg, triphenylphosphine (TPP) (manufactured by Kanto Kagaku Co., Ltd.): 7.5 mg, 1,4-bis (acryloyloxy) butane (DA) (Tokyo) in this dispersion. (Manufactured by Kasei Kogyo Co., Ltd.): 93.3 mg was dissolved to obtain a curable composition coating liquid.

前記硬化性組成物塗工液をトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(厚み:40μm)上にバーコート成膜後、大気下で、Hgランプ(ウシオ電機社製「SP-9」、365nm,50mW/cm、iバンドパスフィルター(ウシオ電機社製「SP-9用365nmバンドパスフィルタ」)、熱線カットフィルター(ウシオ電機社製「SP-9用熱線カットフィルタ3」))によりUV光を30分間照射することで透明な光硬化膜(膜厚10μm)を形成させた。 After forming a bar coat on a triacetyl cellulose (TAC) film (thickness: 40 μm), the curable composition coating liquid is applied to an Hg lamp (“SP-9” manufactured by Ushio, Inc., 365 nm, 50 mW /) in the atmosphere. cm 2 , i-bandpass filter (“365nm bandpass filter for SP-9” manufactured by Ushio, Inc.), heat ray cut filter (“heat ray cut filter 3 for SP-9” manufactured by Ushio, Inc.) for 30 minutes of UV light By irradiating, a transparent photocurable film (thickness 10 μm) was formed.

得られた硬化膜付TACフィルムについて、以下の方法で反射率の評価を行い、結果を表-2に示した。表-2には、硬化性組成物中のPMMA-BA-I、中空Si-A、DMAEA、DA、TPPの配合割合も示す。 The reflectance of the obtained TAC film with a cured film was evaluated by the following method, and the results are shown in Table 2. Table 2 also shows the blending ratios of PMMA-BA-I, hollow Si-A, DMAEA, DA, and TPP in the curable composition.

<反射率の評価法>
硬化膜付きTACフィルムの裏面を紙やすり(三共理化学社製#2000)を用いて縦横に傷をつけ、その上を黒色油性マジックで塗りつぶす。分光光度計(日本分光社製、「V-670」)を用いて絶対反射率を測定した。
なお、反射率の評価は次の通り行った。
◎: 反射率が3.0%未満
○: 反射率が3.0%以上、3.5%未満
△: 反射率が3.5%以上、4.0%未満
×: 反射率が4.0%より大きい
<Evaluation method of reflectance>
Scratch the back side of the TAC film with a cured film vertically and horizontally using sandpaper (# 2000 manufactured by Sankyo Rikagaku Co., Ltd.), and paint the top with a black oil-based marker. Absolute reflectance was measured using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, "V-670").
The reflectance was evaluated as follows.
⊚: Reflectance is less than 3.0% ○: Reflectance is 3.0% or more and less than 3.5% Δ: Reflectance is 3.5% or more and less than 4.0% ×: Reflectance is 4.0 Greater than%

また、得られた硬化膜付TACフィルムについて、以下の方法でシリカの体積分率の評価を行った。 In addition, the volume fraction of silica was evaluated for the obtained TAC film with a cured film by the following method.

<シリカの体積分率の評価法>
硬化膜付きTACフィルムを1mm×1cmのサイズに切り出し、電子顕微鏡用平板包埋板(堂阪イーエム株式会社)に入れた。更に包埋樹脂(東亜合成社製 可視光硬化性包埋樹脂「アロニックスLCR D-800」)を入れ、切り出した硬化膜付きTACフィルムを包埋樹脂のほぼ中央に配置し、包埋樹脂が完全に硬化するまで紫外線照射(ランプ:USHIO社製、「SP-9 SPOT CURE」)した。サンプルを含有する包埋樹脂を常温切削ウルトラミクロトーム(ライカ社製、「EM UC7」)にてスライスし、約100nmのサンプル片を作成しグリッド(イーエムジャパン社「カーボン20支持膜」)を用いてすくいあげた。透過型電子顕微鏡(日本電子製:JEM-2100、搭載電子銃:LaB6)を用いて、100nmに切り出した薄膜切片を-50°から+50°まで1°ごとに傾けながら撮影した。以下に撮影手順を記載する。
1. 加速電圧を160kV、180kV、200kVと段階的に立ち上げる。
2. 試料グリットを高傾斜用試料棒(日本電子製)にセットし、試料棒を導入する。
3. 真空引き後、「BEAM」ボタンを押し電子線を出す。「STANDART FO
COUS」を押した後、蛍光板上にて試料を中心に移動させる。操作盤上のZ軸調
整ボタンにより試料のZ軸を合わせる。「HT WOBBRE」、「BRITE
TILT」を押し、左右の「TILT」つまみを調節し電圧軸を観察場所に合わせ
る。
4. 倍率「15K」にて試料を蛍光板上で観察し、試料の輪郭が際立つように「FOC
OUS」つまみを調整する。
5. SightX Viewer(日本電子製)を立ち上げ、CCDカメラにて試料を
観察する。
6. X軸を5°ずつ傾けながら操作盤上のZ軸調整ボタンを調節することにより、試料
棒の回転軸中心を観察位置と一致させる。
7. Recoder(システムインフロンティア製)を開く。タブの「Camera
Window」を開き、「Live Start」をクリック、「Exposur
e」にて光量の調節をする。「Live Stop」をクリックし、「Camer
a Window」を閉じる。
8. 角度0°において「Calibration」をクリック。確認画面上の「OK」
をクリックする。
9. Calibrationが終わったら、傾斜角度を-50°まで動かす。
10. 終了傾斜角度に50°を入力し、「Start」をクリックし、各角度における
自動傾斜撮影を行う。
<Evaluation method of silica volume fraction>
A TAC film with a cured film was cut into a size of 1 mm × 1 cm and placed in a flat plate embedding plate for an electron microscope (Dosaka EM Co., Ltd.). Furthermore, an embedding resin (Visible light curable embedding resin "Aronix LCR D-800" manufactured by Toagosei Co., Ltd.) is put in, and the cut out TAC film with a cured film is placed almost in the center of the embedding resin, and the embedding resin is completely completed. It was irradiated with ultraviolet rays (lamp: manufactured by USHIO, "SP-9 SPOT CURE") until it was cured. The embedded resin containing the sample is sliced with a room temperature cutting ultramicrotome (“EM UC7” manufactured by Leica) to prepare a sample piece of about 100 nm, and a grid (EM Japan “carbon 20 support film”) is used. I scooped it up. Using a transmission electron microscope (JEOL-2100 manufactured by JEOL Ltd., on-board electron gun: LaB6), a thin film section cut out to 100 nm was photographed while tilting from -50 ° to + 50 ° in 1 ° increments. The shooting procedure is described below.
1. 1. The acceleration voltage is gradually increased to 160 kV, 180 kV, and 200 kV.
2. 2. Set the sample grit on the sample rod for high inclination (manufactured by JEOL Ltd.) and introduce the sample rod.
3. 3. After evacuating, press the "BEAM" button to emit an electron beam. "STANDART FO
After pressing "COUS", move the sample to the center on the fluorescent plate. Align the Z-axis of the sample with the Z-axis adjustment button on the operation panel. "HT WOBBRE", "BRITE"
Press "TILT" and adjust the left and right "TILT" knobs to align the voltage axis with the observation location.
4. Observe the sample on a fluorescent screen at a magnification of "15K" and "FOC" so that the outline of the sample stands out.
Adjust the "OUS" knob.
5. Start up SightX Viewer (manufactured by JEOL Ltd.) and observe the sample with a CCD camera.
6. By adjusting the Z-axis adjustment button on the operation panel while tilting the X-axis by 5 °, the center of the rotation axis of the sample rod is aligned with the observation position.
7. Open Recorder (manufactured by System Infrontia). "Camera" on the tab
Open "Window", click "Live Start", and click "Exposur".
Adjust the amount of light with "e". Click "Live Stop" and click "Camer"
a Window ”is closed.
8. Click "Calibration" at an angle of 0 °. "OK" on the confirmation screen
Click.
9. After calibration, move the tilt angle to -50 °.
10. Enter 50 ° for the end tilt angle and click "Start" to perform automatic tilt shooting at each angle.

3次元Tomography解析では、得られた二次元画像を再構築・解析ソフト(システムインフロンティア製:Composer Ver3.0,VISUALIZER-KAI)を用いて以下の手順にて結像させ、硬化膜中のシリカ含有率を算出した。
解析した画像を図1に示す。なお、解析条件は次の通りである。
1. 測定したtmgファイルをComposer Ver 3.0で開く。
2. アライメント領域を16箇所選択し、「START」をクリックする。
3. アライメント終了後すべての傾斜像がスムーズに連続傾斜していることを確認し、
「Reconstruction」タブを開き再構成領域を選択する。
4. 始めに「Bing 2」を選択し、「START」をクリックし再構築をスタート
する。
5. 「Result」のタブを開き「XZ Plane」、「YZ plane」をそ
れぞれ選択し、各軸の再構成範囲と角度を指定する。
6. 再度「Reconstruction」のタブを開き、「Bing 1」を選択、
「START」をクリックし再構成を実行する。
7. 「Result」タブにて「VISUALIZER-KAI」をクリックし、ソフ
トウェアを立ち上げる。以下に「VISUALIZER-KAI」における操作を
記載する。
8. 「Control」の「Volume Data」をクリックし、「Crop」の
タブでX,Y,Z軸のサイズを指定し切り抜く三次元データを決定する。
9. 「Control」の「Color」をクリックし、「Opaque Map」の
タブで「Constant」を選択する。同じくタブにて「Auto」をクリック
し「Min」の値を調節しノイズを消去後、二値化した。
10. メイン画面の「Decoration」の「Vol. Fraction」をクリックし、選択した三次元データにおける電子密度の濃い体積分率を算出した。
図1において色がついていない部分はシリカが占有する部分であり、表面側(T)の部分のシリカの体積分率([シリカの体積分率])と基材側(B)の部分のシリカの体積分率([シリカの体積分率])は次の通りであった。
[シリカの体積分率]:11.5v/v%
[シリカの体積分率]:8.0v/v%
In 3D Tomography analysis, the obtained 2D image is imaged by the following procedure using reconstruction / analysis software (Composer Ver3.0, VISUALIZER-KAI manufactured by System Infrontia), and silica in the cured film. The content was calculated.
The analyzed image is shown in FIG. The analysis conditions are as follows.
1. 1. Open the measured tmg file with Composer Ver 3.0.
2. 2. Select 16 alignment areas and click "START".
3. 3. After the alignment is completed, check that all the tilted images are smoothly and continuously tilted.
Open the "Reconstruction" tab and select the reconstruction area.
4. First, select "Bing 2" and click "START" to start the rebuild.
5. Open the "Result" tab, select "XZ Plane" and "YZ Plane" respectively, and specify the reconstruction range and angle of each axis.
6. Open the "Reconstruction" tab again and select "Bing 1".
Click "START" to perform the reconfiguration.
7. Click "VISUALIZER-KAI" on the "Result" tab to launch the software. The operation in "VISUALIZER-KAI" is described below.
8. Click "Volume Data" in "Control", specify the sizes of the X, Y, and Z axes in the "Crop" tab, and determine the 3D data to be cut out.
9. Click "Color" of "Control" and select "Constant" in the "Opakue Map" tab. Similarly, click "Auto" on the tab, adjust the value of "Min", eliminate the noise, and then binarize it.
10. "Vol. Fraction" of "Decoration" on the main screen was clicked, and the volume fraction with high electron density in the selected three-dimensional data was calculated.
In FIG. 1, the uncolored portion is the portion occupied by silica, and the volume fraction of silica ([volume fraction of silica] T ) on the surface side (T) and the portion on the substrate side (B). The volume fraction of silica ([volume fraction of silica] B ) was as follows.
[Volume fraction of silica] T : 11.5v / v%
[Volume fraction of silica] B : 8.0v / v%

[比較例1]
実施例1において、硬化性組成物塗工液をDMAEA:373mg、PMMA-BA-I:200mg、TPP:7.49mg、DA:93.3mgを溶解させたものにしたこと以外は、同様にして硬化膜付TACフィルムを製造し、同様に反射率の評価を行って、結果を表-2に示した。
[Comparative Example 1]
In Example 1, the curable composition coating solution was prepared in the same manner except that DMAEA: 373 mg, PMMA-BA-I: 200 mg, TPP: 7.49 mg, and DA: 93.3 mg were dissolved. A TAC film with a cured film was manufactured, the reflectance was evaluated in the same manner, and the results are shown in Table 2.

[比較例2]
実施例1において、中空Si-A分散液をコロイダルシリカ(日産化学社製「MEK-ST」、固形分=30重量%)に代え、重量を93mgにしたこと以外は、同様にして硬化膜付TACフィルムを製造し、同様に反射率の評価を行って、結果を表-2に示した。
[Comparative Example 2]
In Example 1, the hollow Si—A dispersion was replaced with colloidal silica (“MEK-ST” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content = 30% by weight), and the weight was set to 93 mg. A TAC film was produced, the reflectance was evaluated in the same manner, and the results are shown in Table 2.

[比較例3]
実施例1において、中空Si-A分散液をコロイダルシリカ(日産化学社製「MEK-ST」、固形分=30重量%)に代え、重量を186mgにしたこと以外は、同様にして硬化膜付TACフィルムを製造し、同様に反射率の評価を行って、結果を表-2に示した。
[Comparative Example 3]
In Example 1, the hollow Si—A dispersion was replaced with colloidal silica (“MEK-ST” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content = 30% by weight), and the weight was 186 mg. A TAC film was produced, the reflectance was evaluated in the same manner, and the results are shown in Table 2.

[比較例4]
実施例1において、硬化性組成物塗工液を、ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレート(DPHA):466.3mgに、低分子の重合開始剤(BASF社製「Irgacure(登録商標) 184」(Irg 184)):4.7mgを溶解させたものにしたこと以外は、同様にして硬化膜付TACフィルムを製造し、同様に反射率の評価を行って、結果を表-2に示した。
[Comparative Example 4]
In Example 1, the curable composition coating solution was added to dipentaerythritol penta / hexaacrylate (DPHA): 466.3 mg as a low-molecular-weight polymerization initiator (BASF's "Irgacure (registered trademark) 184" (Irg). 184)): A TAC film with a cured film was produced in the same manner except that 4.7 mg was dissolved, and the reflectance was evaluated in the same manner, and the results are shown in Table 2.

[比較例5]
実施例1において、TACフィルムのみ(光硬化膜を形成せず)について同様に反射率の評価を行って、結果を表-2に示した。
[Comparative Example 5]
In Example 1, the reflectance was similarly evaluated only for the TAC film (without forming the photocurable film), and the results are shown in Table 2.

Figure 0007005907000002
Figure 0007005907000002

表-2に示すように、比較例1のように、成分(A)と成分(B)を含む硬化性組成物を用いることで、基材フィルムである比較例5よりも低反射率の硬化膜を形成できるが、実施例1では、比較例1に比べて成分(C)を含有することで、更に低反射率の硬化膜とすることができている。この低反射率の効果は、中空シリカ微粒子を用いることにより得られるのであり、中空ではないシリカを用いた比較例2,3ではこのような効果を得ることはできない。
比較例4の多官能アクリレートの硬化膜でも十分な低反射性を得ることはできない。
なお、実施例1及び比較例1~4のいずれの硬化膜も透明性に優れるものであった。
As shown in Table 2, by using a curable composition containing the component (A) and the component (B) as in Comparative Example 1, curing with a lower reflectance than that of Comparative Example 5 which is a base film. Although a film can be formed, in Example 1, a cured film having a lower reflectance can be obtained by containing the component (C) as compared with Comparative Example 1. The effect of this low reflectance is obtained by using hollow silica fine particles, and such an effect cannot be obtained in Comparative Examples 2 and 3 using non-hollow silica.
Even with the cured film of the polyfunctional acrylate of Comparative Example 4, sufficient low reflectivity cannot be obtained.
Both the cured films of Example 1 and Comparative Examples 1 to 4 were excellent in transparency.

[合成例3:ヨウ素末端ポリマー(PGMA-BA-I)の合成]
撹拌機、還流冷却管、及び温度計を取り付けた反応器に、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業社製「V-70」):1.8重量部、ヨウ素:1.5重量部、及びアニソール:100重量部を仕込み、溶液が均一になるまで攪拌した。系内を遮光し窒素置換後、65℃まで昇温し、0.5時間攪拌した。続いてグリシジルメタクリレート(GMA):110重量部、及びテトラブチルアンモニウムヨージド(BuNI):2.9重量部を添加し、65℃で2時間攪拌した。さらにn-ブチルアクリレート(BA):300重量部を添加し、65℃で3時間攪拌した。その後、室温まで冷却後、遮光下において、メタノールへの沈殿精製により白色粉末としてヨウ素末端ポリマー(PGMA-BA-I)を得た。
[Synthesis Example 3: Synthesis of Iodine Terminal Polymer (PGMA-BA-I)]
2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (“V-70” manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) in a reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a thermometer: 1.8 parts by weight, iodine: 1.5 parts by weight, and anisole: 100 parts by weight were charged and stirred until the solution became uniform. After shading the inside of the system and substituting with nitrogen, the temperature was raised to 65 ° C., and the mixture was stirred for 0.5 hours. Subsequently, 110 parts by weight of glycidyl methacrylate (GMA) and 2.9 parts by weight of tetrabutylammonium iodide (Bu 4 NI) were added, and the mixture was stirred at 65 ° C. for 2 hours. Further, 300 parts by weight of n-butyl acrylate (BA) was added, and the mixture was stirred at 65 ° C. for 3 hours. Then, after cooling to room temperature, an iodine-terminated polymer (PGMA-BA-I) was obtained as a white powder by precipitation purification to methanol under shading.

前記(1)より、得られたポリマーの末端構造を同定したところ、メタクリル酸エステル系モノマーのリビングラジカル重合で得られた主幹ポリマーに更にアクリル酸エステル系モノマーを反応させることにより、末端にアクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位を介してヨウ素原子が結合した構造のヨウ素末端ポリマーが製造されたことが確認された。 When the terminal structure of the obtained polymer was identified from the above (1), the main polymer obtained by the living radical polymerization of the methacrylic acid ester-based monomer was further reacted with the acrylic acid ester-based monomer to cause acrylic acid at the terminal. It was confirmed that an iodine-terminated polymer having a structure in which an iodine atom was bonded via a structural unit derived from an ester-based monomer was produced.

また、前記(2)より、得られたポリマーの分子量を測定したところ、Mn=3,000、Mw=3,240(Mw/Mn=1.08)であった。 Moreover, when the molecular weight of the obtained polymer was measured from the above (2), it was found that Mn = 3,000 and Mw = 3,240 (Mw / Mn = 1.08).

[実施例2]
実施例1において、PMMA-BA-Iの代りにPGMA-BA-Iを用い、また、ジメチルアミノエチルアクリレート(DMAEA)の代りにメチルアクリレート(MA)を用い、中空Si-A分散液の重量を2.00gにしたこと以外は、実施例1と同様にして硬化膜付TACフィルムを製造し、実施例1と同様に反射率の評価とシリカの体積分率の評価を行って、結果を表-3に示した。
[Example 2]
In Example 1, PGMA-BA-I was used instead of PMMA-BA-I, and methyl acrylate (MA) was used instead of dimethylaminoethyl acrylate (DMAEA) to reduce the weight of the hollow Si-A dispersion. A TAC film with a cured film was produced in the same manner as in Example 1 except that the weight was 2,000 g, the reflectance was evaluated and the volume fraction of silica was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table. It is shown in -3.

[実施例3]
実施例2において、中空Si-A分散液をコロイダルシリカ(日産化学社製「MEK-ST」、固形分=30重量%)に変え、重量を200mgにしたこと以外は、実施例1と同様にして硬化膜付TACフィルムを製造し、実施例1と同様に反射率の評価とシリカの体積分率の評価を行って、結果を表-3に示した。
[Example 3]
In Example 2, the hollow Si—A dispersion was changed to colloidal silica (“MEK-ST” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content = 30% by weight) in the same manner as in Example 1 except that the weight was 200 mg. A TAC film with a cured film was produced, and the reflectance and the volume fraction of silica were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 3.

[比較例6]
実施例3において、硬化時に表面をスライドグラスで被覆したこと以外は、同様にして硬化膜付TACフィルムを製造し、実施例3と同様に反射率の評価とシリカの体積分率の評価を行って、結果を表-3に示した。なお、本例では、表面をスライドグラスで被覆したことにより、十分な酸素が表面に供給されず、表面での酸素阻害が起きず、傾斜構造を形成し難くした例である。
[Comparative Example 6]
In Example 3, a TAC film with a cured film was produced in the same manner except that the surface was covered with a slide glass at the time of curing, and the reflectance and the volume fraction of silica were evaluated in the same manner as in Example 3. The results are shown in Table 3. In this example, by covering the surface with a slide glass, sufficient oxygen is not supplied to the surface, oxygen inhibition on the surface does not occur, and it is difficult to form an inclined structure.

[比較例7]
実施例2において、中空Si-A分散液を使用しなかったこと以外は、実施例1と同様にして硬化膜付TACフィルムを製造し、実施例1と同様に反射率の評価とシリカの体積分率の評価を行って、結果を表-3に示した。
[Comparative Example 7]
In Example 2, a TAC film with a cured film was produced in the same manner as in Example 1 except that the hollow Si—A dispersion was not used, and the reflectance and the volume of silica were evaluated in the same manner as in Example 1. The fractions were evaluated and the results are shown in Table 3.

なお、表-3において、反射率の評価は次の通り行った。
○:反射率が3.7%未満
△:反射率が3.7%以上、4.2%以下
×:反射率が4.2%より大きい
In Table 3, the reflectance was evaluated as follows.
◯: Reflectance is less than 3.7% Δ: Reflectance is 3.7% or more and 4.2% or less ×: Reflectance is larger than 4.2%

Figure 0007005907000003
Figure 0007005907000003

表-3より、次のことが分かる。 From Table 3, the following can be seen.

実施例2および3では、実施例1に対して、成分(A)が替わることで、疎水性のメタクリル酸エステル系モノマーからなるポリマー-高極性のヨウ素末端ポリマー(PGMA-BA-I)と実施例1とは逆の関係になっている。
また、シリカとより親和性の高いエポキシ基が導入され、シリカの傾斜具合が顕著になり、本発明の効果を奏するものとなったと推察されます。
In Examples 2 and 3, a polymer composed of a hydrophobic methacrylic acid ester-based monomer-a highly polar iodine-terminated polymer (PGMA-BA-I) was carried out by changing the component (A) with respect to Example 1. The relationship is the opposite of Example 1.
In addition, it is presumed that the epoxy group, which has a higher affinity with silica, was introduced, and the inclination of silica became remarkable, and the effect of the present invention was achieved.

本発明の硬化性組成物を使用して基材フィルム上に硬化膜を形成してなる積層体及び本発明のシリカ分布構造を有する膜は、各種の用途に適用される。本発明の硬化性組成物の硬化物及び本発明のシリカ分布構造を有する膜は、ドメインサイズが小さく、透明性に優れたものを得ることが可能であるため、特に各種の光学用途に用いられる光学フィルムとして好適に使用され得る。特に、シリカの体積分率が硬化膜の基材側から表面側へ向けて徐々に大きくなる傾斜構造を有する本発明のシリカ分布構造を有する膜は、原料を選択して、更に屈折率の高い成分及び/又は低い成分の相分離により形成されたドメインに局在化させることにより硬化膜内部に屈折率の傾斜がつき、ディスプレイ等において好適な反射防止フィルムへの使用が期待される。また、本発明のシリカ分布構造を有する膜は、原料を選択して、更に粘弾性の高い成分及び/又は低い成分の相分離により形成されたドメインに局在化させることにより硬化膜内部に粘弾性の傾斜がつき、フレキシブルディスプレイ等において好適な保護フィルムへの使用が期待される。 The laminate formed by forming a cured film on the base film using the curable composition of the present invention and the film having the silica distribution structure of the present invention are applied to various uses. The cured product of the curable composition of the present invention and the film having the silica distribution structure of the present invention are particularly used for various optical applications because a film having a small domain size and excellent transparency can be obtained. It can be suitably used as an optical film. In particular, the film having the silica distribution structure of the present invention, which has an inclined structure in which the volume fraction of silica gradually increases from the substrate side to the surface side of the cured film, has a higher refractive index by selecting a raw material. By localizing to the domain formed by the phase separation of the component and / or the low component, the refractive index is inclined inside the cured film, and it is expected to be used as an antireflection film suitable for displays and the like. Further, the film having the silica distribution structure of the present invention is viscoelastic inside the cured film by selecting a raw material and localizing it to a domain formed by phase separation of a component having high viscoelasticity and / or a component having low viscoelasticity. It has an elastic slope and is expected to be used as a protective film suitable for flexible displays and the like.

反射防止フィルム等の光学フィルムとしての使用において、本発明の硬化性組成物を使用する積層体には必要に応じて特殊な処理を施して光学的機能(光透過、光拡散、集光、屈折、散乱、ヘーズ(HAZE)等の諸機能)を付与してもよい。光学フィルムとしての用途において、本発明の積層体は単独で、又は数種の光学フィルムをコーティング剤、又は接着剤で多層に積層して光学素子用積層体として使用してもよい。本発明の積層体が適用される光学フィルムとしては、例えば、ハードコートフィルム、帯電防止コートフィルム、防眩コートフィルム、偏光フィルム、位相差フィルム、楕円偏光フィルム、反射防止フィルム、光拡散フィルム、輝度向上フィルム、プリズムフィルム(プリズムシートともいう)、導光フィルム(導光板ともいう)等が挙げられる。かかる光学フィルムは、液晶表示装置、PDPモジュール、タッチパネルモジュール、有機ELモジュール等に用いられる。 In use as an optical film such as an antireflection film, the laminate using the curable composition of the present invention is subjected to special treatment as necessary to perform optical functions (light transmission, light diffusion, light collection, refraction). , Scattering, HAZE, and other functions) may be imparted. In the application as an optical film, the laminate of the present invention may be used alone or as a laminate for an optical element by laminating several kinds of optical films in multiple layers with a coating agent or an adhesive. Examples of the optical film to which the laminate of the present invention is applied include a hard coat film, an antistatic coat film, an antiglare coat film, a polarizing film, a retardation film, an elliptical polarizing film, an antireflection film, a light diffusing film, and brightness. Examples thereof include an improved film, a prism film (also referred to as a prism sheet), a light guide film (also referred to as a light guide plate), and the like. Such an optical film is used in a liquid crystal display device, a PDP module, a touch panel module, an organic EL module, and the like.

Claims (12)

下記成分(A)、成分(B)及び成分(C)を含み、かつ成分(B)100重量部に対し、成分(A)を1~99重量部含む硬化性組成物。
成分(A):(メタ)アクリル酸エステル系ポリマーの少なくとも一つの末端に、アクリル酸エステル系モノマーに由来する構造単位を介してヨウ素原子が結合した構造を有するヨウ素末端ポリマー
成分(B):分子内に少なくとも1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物
成分(C):中空シリカ微粒子
A curable composition containing the following component (A), component (B) and component (C), and containing 1 to 99 parts by weight of component (A) with respect to 100 parts by weight of component (B).
Component (A): Iodine-terminated polymer component (B): molecule having a structure in which an iodine atom is bonded to at least one terminal of the (meth) acrylic acid ester-based polymer via a structural unit derived from an acrylic acid ester-based monomer. Compound component (C) having at least one (meth) acryloyl group within: Hollow silica fine particles
成分(C)を成分(B)100重量部に対し、0.5~30重量部含有する、請求項1に記載の硬化性組成物 The curable composition according to claim 1, wherein the component (C) is contained in an amount of 0.5 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the component (B). 成分(A)の分子量分布(Mw/Mn)が2.0以下である、請求項1又は2に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to claim 1 or 2, wherein the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the component (A) is 2.0 or less. 前記(メタ)アクリル酸エステル系ポリマーが、下記式(1)で表される化合物に由来する構造単位をポリマー中に1~100重量%含む、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
CH=C(R)-C(O)O-R …(1)
(上記式(1)中、Rは、水素原子又はメチル基を表し、Rは炭素数1~22のアルキル基、又はアルキレン鎖の炭素数が2~18であるポリアルキレングリコール鎖を有する基を表し、該アルキル基又はポリアルキレングリコール鎖を有する基は、置換基としてフェニル基、ベンジル基、エポキシ基、水酸基、ジアルキルアミノ基、炭素数1~18のアルコキシ基、炭素数1~18のパーフルオロアルキル基、炭素数1~18のアルキルスルファニル基、トリアルコシキシリル基、又はポリシロキサン構造を有する基を有していてもよい。)
The invention according to any one of claims 1 to 3, wherein the (meth) acrylic acid ester-based polymer contains 1 to 100% by weight of a structural unit derived from a compound represented by the following formula (1) in the polymer. Curable composition.
CH 2 = C (R 1 ) -C (O) OR 2 ... (1)
(In the above formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 has an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms or a polyalkylene glycol chain having 2 to 18 carbon atoms in the alkylene chain. The group representing a group and having an alkyl group or a polyalkylene glycol chain has a phenyl group, a benzyl group, an epoxy group, a hydroxyl group, a dialkylamino group, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, and a group having 1 to 18 carbon atoms as substituents. It may have a perfluoroalkyl group, an alkylsulfanyl group having 1 to 18 carbon atoms, a trialkoxysilyl group, or a group having a polysiloxane structure.)
成分(A)の数平均分子量が800~150,000である、請求項1~4のいずれか1項に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the component (A) has a number average molecular weight of 800 to 150,000. 成分(B)が、分子内に(メタ)アクリロイル基を1つ有する化合物を少なくとも含み、かつその含有量が成分(B)の合計重量に対して1~99重量%である、請求項1~5のいずれか1項に記載の硬化性組成物。 Claims 1 to 1, wherein the component (B) contains at least a compound having one (meth) acryloyl group in the molecule, and the content thereof is 1 to 99% by weight based on the total weight of the component (B). 5. The curable composition according to any one of 5. 請求項1~6のいずれか1項に記載の硬化性組成物を硬化させてなる硬化物。 A cured product obtained by curing the curable composition according to any one of claims 1 to 6. 基材と硬化膜とを有する積層体であり、該硬化膜が請求項1~6のいずれか1項に記載の硬化性組成物を該基材上で硬化してなるものである積層体。 A laminate having a base material and a cured film, wherein the cured film is obtained by curing the curable composition according to any one of claims 1 to 6 on the substrate. 前記硬化膜の内部において、スピノーダル分解により形成されるドメインの大きさが、前記基材側より前記活性エネルギー線を照射した側に向けて徐々に小さくなっている、請求項8に記載の積層体。 The laminate according to claim 8, wherein in the inside of the cured film, the size of the domain formed by spinodal decomposition gradually decreases from the substrate side toward the side irradiated with the active energy rays. .. 請求項7に記載の硬化物よりなる層を有する光学フィルム。 An optical film having a layer made of the cured product according to claim 7. 基材表面に形成された厚みが10μm以上の膜であって、少なくともエチレン性不飽和二重結合を有する化合物およびシリカ粒子を含有する硬化性組成物の硬化物から形成されてなり、該硬化性組成物は該エチレン性不飽和二重結合を有する化合物として(メタ)アクリロイル基を有する化合物を含有し、下記式(2)を満足する光学フィルム用の膜。
0.1%≦[シリカの体積分率]≦[シリカの体積分率]-1.6 …(2)
(上記式(2)中、[シリカの体積分率]及び[シリカの体積分率]は三次元Tomographyにより測定され、[シリカの体積分率]は膜の表面から深さ0μm以上3μm以下の領域のシリカ微粒子が占める体積の比率であり、[シリカの体積分率]は膜の基材界面から深さ0μm以上3μm以下の領域のシリカ微粒子が占める体積の比率である。)
A film having a thickness of 10 μm or more formed on the surface of a substrate, which is formed from a cured product of a curable composition containing at least a compound having an ethylenically unsaturated double bond and silica particles, and has the curability. The composition contains a compound having a (meth) acryloyl group as the compound having an ethylenically unsaturated double bond, and is a film for an optical film satisfying the following formula (2).
0.1% ≤ [Silica volume fraction] B ≤ [Silica volume fraction] T -1.6 ... (2)
(In the above formula (2), [volume fraction of silica] T and [volume fraction of silica] B are measured by three-dimensional volume fraction, and [volume fraction of silica] T is 0 μm or more in depth from the surface of the film. It is the ratio of the volume occupied by the silica fine particles in the region of 3 μm or less, and [volume fraction of silica] B is the ratio of the volume occupied by the silica fine particles in the region of 0 μm or more and 3 μm or less in depth from the substrate interface of the film.)
膜の厚みが10~1,000μmである、請求項11に記載の膜。 The film according to claim 11 , wherein the film has a thickness of 10 to 1,000 μm.
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