JP7014820B2 - 胚性間葉系始原細胞の製造方法及び使用方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2017年5月26日に出願された米国仮特許出願第62/511,907号及び2017年6月2日に出願された米国仮特許出願第62/514,467号に対する優先権を主張するものであり、これらの内容全体が引用することにより本明細書の一部をなす。
本開示がより容易に理解されるように、まず特定の用語を以下に定義する。以下の用語及び他の用語に対する更なる定義は、本明細書を通して記載される。
本開示によれば、HSC又はその他の幹細胞(胚性幹(ES)細胞又は人工多能性幹(iPS)細胞)を、多数の、ことによると無限の数の、所望の系譜を有する操作されたT細胞を作製するために使用することができる。本開示は、とりわけ、ヒト胚性幹(ES)細胞又は人工多能性幹(iPS)細胞を胚性中胚葉系始原体(hEMP)及び/又はT細胞へと分化させる高効率の方法及びそれらを含む組成物を提供する。
様々な多能性幹細胞を、本開示の実施のために使用することができる。例えば、骨髄(臍帯血又は末梢血も)中の造血幹細胞(HSC)は、他の全ての成熟血液細胞に加えて、拘束性胸腺始原体を生み出す。これらの胸腺始原体は胸腺に移動し、そこで成熟T細胞への発達を始める。Delta及びJagged、特に胸腺中のNotch1及びDelta様4というリガンドを介したNotch受容体のシグナル伝達は、転写カスケード(すなわち、Tcf7、Gata3、Bcl11b等)を駆動し、それがリコンビナーゼ活性化遺伝子RAG1及びRAG2によるTCR遺伝子座の再構成をもたらす。最初に産生的なTCRbの再構成(すなわち、TCRタンパク質を生ずる)は、pTaと対をなして表面に移動するタンパク質を生成する。この表面トラフィッキングはシグナルを細胞へと返送し、こうして更なる発達の進行が可能となる。表面のpTa-TCRbは、成熟TCRで起こるようにMHCと相互作用する必要はなく、生存シグナルは、ペプチド:MHCとは独立であり得る。次いで、細胞はTCRaの再構成に進み、アルファ/ベータのペアリングの成功と自己ペプチド:MHCの弱い認識(すなわち、正の選択及び負の選択又は中枢性トレランス)とについて精査された後に、成熟ナイーブT細胞となり、末梢に循環する。
本明細書に記載されるように、中胚葉誘導の前のクラスター形成していない単一細胞の幹細胞の懸濁液での培養は、幹細胞分化の効率の増大をもたらす。非クラスター形成幹細胞培養物の作製のために、様々な方法を使用することができる。例えば、ES細胞又はiPS細胞を、最初にクラスターとしてマウス胚性線維芽細胞(MEF)、Matrigel(商標)又はビトロネクチン上で培養し、Matrigel(商標)又はビトロネクチンが被覆されたプレート上にクラスターとして継代することができる。幾つかの実施形態では、単一細胞の懸濁液の作製のために、トリプシン、トリプシン様酵素又は当該技術分野において知られるその他の細胞間接着崩壊物質(disruptors)での消化によりクラスターが化学的に崩壊される。幾つかの実施形態では、均質化(例えば、再懸濁、機械的撹拌、培地洗浄、バッファー洗浄、細胞解離装置(例えば、Miltenyi社のGentleMACS)又はボルテックス)によりクラスターを機械的に崩壊させることで、単一細胞の懸濁液が作製される。
本開示によれば、非クラスター形成幹細胞は、増殖のために規定の単一細胞密度で基材上に播種される。本明細書で使用される場合に、用語「基材」は、あらゆる固体又は半固体の表面又は支持物を指す。例えば、適切な基材は、層、マイクロビーズ、ウェル付きプレート、細胞培養皿、メンブレン、バッグ、培養フラスコ、容器、逆オパール構造体、ポリマー格子、ゲル又はポリマーであり得る。
本開示によれば、ES細胞又はiPS細胞は、懸濁液培養物で単一細胞として増殖するように適合され得る。幾つかの実施形態では、ES細胞又はiPS細胞は、懸濁液で維持される。栄養培地中に懸濁されたES細胞又はiPS細胞は、単離された細胞が栄養培地中で懸濁液にとどまることを保証する循環装置によって維持され得る。
本開示によれば、様々な細胞培養培地及び条件が使用され得る。例えば、細胞は血清含有又は無血清の細胞培養培地において産生され得る。幾つかの実施形態では、培地は無血清培地である。幾つかの実施形態では、培養培地は、アニマルフリー培地、すなわち動物由来成分を有しない培地である。幾つかの実施形態では、培地は化学的に規定される培地である。本明細書で使用される場合に、用語「化学的に規定される栄養培地」は、ほぼ全ての化学成分が既知である培地を指す。幾つかの実施形態では、化学的に規定される栄養培地は、血清、血清由来タンパク質(例えば、アルブミン又はフェチュイン)及びその他の成分等の動物由来の成分を含まない。或る場合には、化学的に規定される培地は、1種以上のタンパク質(例えば、タンパク質の成長因子又はサイトカイン)を含む。或る場合には、化学的に規定される栄養培地は、1種以上のタンパク質加水分解物を含む。その他の場合に、化学的に規定される栄養培地は、タンパク質不含培地、すなわちタンパク質、加水分解物又は未知の組成の成分を含まない無血清培地である。
本開示によれば、非クラスター形成細胞は、誘導培地中に再懸濁されるか、又は誘導培地に移され、規定の単一細胞密度で基材上に播種される。本開示に適した単一細胞密度は、標準的な6ウェルプレートにおいて約1.0~50×106細胞/ウェル(例えば、約1.0~40×106細胞/ウェル、約1.0~30×106細胞/ウェル、約1.0~20×106細胞/ウェル、約1.0~10×106細胞/ウェル、1.0~8×106細胞/ウェル、約1.0~5×106細胞/ウェル、約1.0~4.5×106細胞/ウェル、約1.0~4×106細胞/ウェル、約1.0~3.6×106細胞/ウェル、約1.0~3×106細胞/ウェル、約1.0~2.5×106細胞/ウェル、約1.0~2.0×106細胞/ウェル、約1.0~1.5×106細胞/ウェル、約1.5~10×106細胞/ウェル、約1.5~8×106細胞/ウェル、約1.5~4×106細胞/ウェル、約1.5~3.5×106細胞/ウェル、約1.5~3.0×106細胞/ウェル、約1.5~2.5×106細胞/ウェル、約1.5~2.0×106細胞/ウェル)の範囲であり得る。
幾つかの実施形態では、細胞は、約30℃~37℃の範囲(例えば、約31℃~37℃、約32℃~37℃、約33℃~37℃、約34℃~37℃、約35℃~37℃、約36℃~37℃)の温度で培養される。幾つかの実施形態では、細胞は、約30℃、31℃、32℃、33℃、34℃、35℃、36℃又は37℃の温度で培養される。本明細書に記載される温度のいずれかを、増殖段階及び/又は分化段階のために使用することができる。幾つかの実施形態では、細胞は、増殖段階及び分化段階の間に異なる温度で培養される。幾つかの実施形態では、細胞は、増殖段階及び分化段階の間にほぼ同じ温度で培養される。本明細書に記載される培地pHのいずれかを、増殖段階及び/又は分化段階のために使用することができる。幾つかの実施形態では、増殖段階及び分化段階のための培地pHは異なる。幾つかの実施形態では、増殖段階及び分化段階のための培地pHはほぼ同じである。
本開示による単一細胞、非クラスター形成の方策を使用して作製されたhEMPは、様々な細胞型へと更に分化され得る。
アクチビンA、BMP4、VEGF及びFGF2の存在下でhESC又はiPSCから作製された初代のCD326陰性CD56陽性hEMP細胞は、多能性の中胚葉拘束性始原体集団に相当する。CD326陰性CD56陽性始原体は、それらが造血、内皮、間葉系(骨、軟骨、脂肪、線維芽細胞)、平滑筋及び心筋細胞を含む全ての中胚葉系譜を生成する能力の点で独特であるが、hESC又はiPSCの多能性を欠落している。CD326陰性CD56陽性hEMP細胞は、より系譜限定された間葉系始原体の前駆体である。
hEMPへと移行するESC又はiPSCは、CD326 EPCAMの損失とCD56 NCAMの獲得とを特徴とする(CD326陰性CD56陽性)。上皮マーカーCD326は、ヒト胚性幹細胞系統(例えば、H9、H1及びHES3)又はiPSCからの未分化細胞において一様に高レベルで発現されるが、CD56は未分化のhESC又はiPSCにおいては発現されない。中内胚葉誘導条件での分化後に、CD326発現の損失とCD56の獲得とを特徴とする集団(CD326陰性CD56陽性)が明らかに検出され得る。
hEMP細胞は、造血内皮細胞(例えば、血液、内皮)、心血管系(例えば、内皮、心筋細胞、平滑筋)及び間葉系(例えば、平滑筋、線維芽細胞、骨、軟骨、脂肪)へと分化する可能性を有する。リンパ系細胞としては、T細胞、B細胞及びナチュラルキラー細胞が挙げられる。T細胞は、骨髄中の造血幹細胞に由来する。造血幹細胞からの造血始原体(例えば、hEMP細胞)は胸腺に存在し、細胞分裂により増殖することで、未成熟な胸腺細胞の大きな集団を生成する。初代の胸腺細胞はCD4もCD8も発現しないが、それらの発達が進むにつれて、二重陽性(DP)胸腺細胞(CD4陽性CD8陽性)となり、最終的に単一陽性(SP)(CD4陽性CD8陰性又はCD4陰性CD8陽性)胸腺細胞へと成熟した後に、それらは胸腺から末梢組織へと放出される。
in vivoで遺伝子改変されたマウスモデル、ヒト化マウス、及びOP9-DLL1又は最近記述された人工胸腺オルガノイド(ATO)等のin vitroシステムにより、癌抗原に対する抗原受容体を含む所望の成熟T細胞を生成するように幹細胞が改変又は培養され得る多くの手段が明らかになった。
本開示の細胞は、当該技術分野において知られる任意の起源を通じて得ることができる。例えば、T細胞はin vitroで造血幹細胞集団若しくは多能性幹細胞から分化されてもよく、又はT細胞は被験体から得られてもよい。T細胞は、例えば末梢血単核細胞、骨髄、リンパ節組織、臍帯血、胸腺組織、感染部位由来の組織、腹水、胸水、脾臓組織、及び腫瘍から得ることができる。さらに、T細胞は、当該技術分野において利用可能な1種以上のT細胞系列に由来し得る。T細胞はまた、被験体から収集された血液単位からFICOLL(商標)分離及び/又はアフェレーシス等の当業者に知られる幾つもの技術を使用して得ることもできる。或る特定の実施形態では、アフェレーシスによって収集された細胞を洗浄して血漿画分を除去し、後の処理に適切なバッファー又は培地に入れる。幾つかの実施形態では、細胞はPBSで洗浄される。理解されるように、洗浄工程は、例えばCobe(商標)2991細胞処理装置、Baxter CytoMate(商標)等の半自動フロースルー遠心分離機を使用すること等によって使用され得る。幾つかの実施形態では、洗浄された細胞は1種以上の生体適合性のバッファー、又はバッファーを含む若しくは含まない他の生理食塩水溶液に再懸濁される。或る特定の実施形態では、アフェレーシス試料の不所望な成分は除去される。T細胞療法のためにT細胞を単離する追加の方法は、米国特許出願公開第2013/0287748号に開示され、その全体は引用することにより本明細書の一部をなす。
本開示の方法は、被験体において癌を治療し、腫瘍のサイズを縮小させ、腫瘍細胞を死滅させ、腫瘍細胞増殖を予防し、腫瘍の成長を予防し、患者から腫瘍を排除し、腫瘍の再発を予防し、腫瘍転移を予防し、患者において寛解を誘導するために、又はそれらの任意の組み合わせに使用され得る。或る特定の実施形態では、上記方法は完全奏功を誘導する。他の実施形態では、上記方法は部分奏功を誘導する。
本開示の方法は、被験体における免疫寛容疾患を治療するために使用することができる。或る特定の実施形態では、上記方法は完全奏功を誘導する。他の実施形態では、上記方法は部分奏功を誘導する。
この実施例は、クラスターと単一細胞との間のhEMP誘導の比較を例示する。
この実施例は、Matrigel(商標)又はビトロネクチンの存在下でのhEMP誘導の比較を提供する。マウス肉腫細胞により産生される規定されない産物であるMatrigel(商標)をhEMP誘導過程から除外する効果を調査するために、中胚葉推進実験を実施した。
本開示の非クラスター形成細胞の方策に従って作製されたhEMP細胞を使用することで、in vitroシステム(例えば、ATOシステム)におけるT細胞分化の効率を高めることができる。hEMP細胞を記載のように誘導し、FACSAria Fusion(BD社)においてソーティングした。ソーティング後の純度は、非hEMP及びhEMPの両方について95%超で測定された(図6)。T細胞の分化を、RPMI 1640(Corning社、バージニア州、マナサス)、2%のXenoFree B27(ThermoFisher Scientific社、ニューヨーク州、グランドアイランド)、PBS中で再構成された30μMのL-アスコルビン酸2-リン酸セスキマグネシウム塩水和物(Sigma-Aldrich社、ミズーリ州、セントルイス)、1%のペニシリン/ストレプトマイシン(Gemini Bio-Products社、カリフォルニア州、ウェストサクラメント)、1%のGlutamax(ThermoFischer Scientific社、ニューヨーク州、グランドアイランド)、5ng/mlのrhFLT3L、5ng/mlのrhIL-7及び50ng/mlのSCF(Peprotech社、ニュージャージー州、ロッキーヒル)から構成される無血清のATO培養培地(「RB27」)を使用して誘導した。2%のXenoFree B27をB27に置き換えた。
項1.
ヒト胚性間葉系始原(hEMP)細胞を作製する方法であって、
(a)非クラスター形成幹細胞を、規定の単一細胞密度で基材と接触させる工程と、
(b)前記幹細胞を、細胞増殖を促進する培養条件下で所望のコンフルエンスまで培養する工程と、
(c)前記培養条件を変更することで、前記幹細胞のhEMP細胞への分化を所望のインキュベート時間にわたり誘導し、それによりhEMP細胞を作製する工程と、
を含む、方法。
項2.
前記幹細胞は、ヒト胚性幹(ES)細胞又は人工多能性幹(iPS)細胞である、項1に記載の方法。
項3.
前記ES細胞又は前記iPS細胞は、ヒト起源である、項2に記載の方法。
項4.
前記ES細胞又は前記iPS細胞は、H1細胞、H9細胞、HES3細胞、HSF1細胞、HSF6細胞、ESI-017細胞、CS02iCTR-NTn1細胞、CS03iCTR-NTn1細胞、CS80iCTR-Tn3細胞、CS179iCTR-NTn1細胞、CS201iCTR-NTn4細胞、CS202iCTR-NTn2細胞又はCS206iCTR-Tn5細胞である、項3に記載の方法。
項5.
前記規定の単一細胞密度は、約1.5×10 5 細胞/cm 2 から約8×10 5 細胞/cm 2 の間である、項1~4のいずれか一項に記載の方法。
項6.
前記規定の単一細胞密度は、約1.89×10 5 細胞/cm 2 、約3.2×10 5 細胞/cm 2 、約3.4×10 5 細胞/cm 2 、約3.6×10 5 細胞/cm 2 、約3.79×10 5 細胞/cm 2 、約7.2×10 5 細胞/cm 2 又は約7.58×10 5 細胞/cm 2 である、項5に記載の方法。
項7.
前記基材は、マウス胚性線維芽細胞(MEF)ではなく、Matrigel(商標)又は組み換えヒトビトロネクチンで被覆されている、項1~6のいずれか一項に記載の方法。
項8.
前記基材は、ウェル付きプレート、細胞培養皿、メンブレン、バッグ、培養フラスコ、逆オパール構造体、ポリマー格子、静的な細胞懸濁液、撹拌された細胞懸濁液又はプラズマ処理されたポリマーである、項1~7のいずれか一項に記載の方法。
項9.
前記基材は、メンブレンを含む、項8に記載の方法。
項10.
前記細胞増殖を促進する培養条件は、mTeSR1培地中で幹細胞を培養することを含む、項1~9のいずれか一項に記載の方法。
項11.
前記mTeSR1培地は、ROCK阻害剤Y27632を含む、項10に記載の方法。
項12.
前記所望のコンフルエンスは、約20%から約80%の間である、項1~11のいずれか一項に記載の方法。
項13.
前記コンフルエンスは、約20%、約30%、約40%、約50%、約60%、約70%又は約80%である、項12に記載の方法。
項14.
前記培養条件を変更する工程は、X-VIVO(商標)15を添加することを含む、項1~13のいずれか一項に記載の方法。
項15.
前記インキュベート時間は、約2日から約4日の間である、項1~14のいずれか一項に記載の方法。
項16.
前記インキュベート時間は、約2.0日、約2.5日、約3.0日、約3.5日又は約4.0日である、項15に記載の方法。
項17.
前記インキュベート時間は、約3.5日である、項16に記載の方法。
項18.
前記hEMP細胞をT細胞へと分化させる工程を更に含む、項1~17のいずれか一項に記載の方法。
項19.
前記方法は、幹細胞のクラスターを崩壊させて非クラスター形成幹細胞を作製する工程を更に含む、項1~18のいずれか一項に記載の方法。
項20.
前記幹細胞のクラスターは、機械的崩壊又は化学的崩壊によって崩壊される、項19に記載の方法。
項21.
前記化学的崩壊は、トリプシン様酵素と一緒にインキュベートすることを含む、項20に記載の方法。
項22.
前記トリプシン様酵素は、トリプシン、TrypLE Express、TrypLE Select、コラゲナーゼ、ディスパーゼ、トリプシン-EDTAである、項21に記載の方法。
項23.
項1~22のいずれか一項に記載の方法に従って作製されたヒト胚性間葉系始原(hEMP)細胞。
項24.
項1~22のいずれか一項に記載の方法に従って作製されたヒト胚性間葉系始原(hEMP)細胞の集団を含む組成物。
項25.
T細胞を作製する方法であって、
(a)マウス胚性線維芽細胞(MEF)を含まない非クラスター形成幹細胞を、規定の単一細胞密度で基材と接触させる工程と、
(b)前記幹細胞を、細胞増殖を促進する培養条件下で所望のコンフルエンスまで培養する工程と、
(c)前記培養条件を変更することで、前記幹細胞のT細胞への分化を所望のインキュベート時間にわたり誘導し、それにより幹細胞からT細胞を作製する工程と、
を含む、方法。
項26.
前記幹細胞は、ヒト胚性幹(ES)細胞又は人工多能性幹(iPS)細胞である、項25に記載の方法。
項27.
前記ES細胞又は前記iPS細胞は、ヒト起源である、項26に記載の方法。
項28.
前記ES細胞又は前記iPS細胞は、H1細胞、H9細胞、HES3細胞、HSF1細胞、HSF6細胞、ESI-017細胞、CS02iCTR-NTn1細胞、CS03iCTR-NTn1細胞、CS80iCTR-Tn3細胞、CS179iCTR-NTn1細胞、CS201iCTR-NTn4細胞、CS202iCTR-NTn2細胞又はCS206iCTR-Tn5細胞である、項26又は27に記載の方法。
項29.
前記規定の単一細胞密度は、約1.5×10 5 細胞/cm 2 から約8×10 5 細胞/cm 2 の間である、項25~28のいずれか一項に記載の方法。
項30.
前記規定の単一細胞密度は、約1.89×10 5 細胞/cm 2 、約3.2×10 5 細胞/cm 2 、約3.4×10 5 細胞/cm 2 、約3.6×10 5 細胞/cm 2 、約3.79×10 5 細胞/cm 2 、約7.2×10 5 細胞/cm 2 又は約7.58×10 5 細胞/cm 2 である、項25~29のいずれか一項に記載の方法。
項31.
前記基材は、マウス胚性線維芽細胞(MEF)ではなく、Matrigel(商標)又は組み換えヒトビトロネクチンで被覆されている、項25~30のいずれか一項に記載の方法。
項32.
前記基材は、ウェル付きプレート、細胞培養皿、メンブレン、バッグ、培養フラスコ、逆オパール構造体、ポリマー格子、静的な細胞懸濁液、撹拌された細胞懸濁液又はプラズマ処理されたポリマーである、項25~31のいずれか一項に記載の方法。
項33.
前記基材は、メンブレンを含む、項32に記載の方法。
項34.
前記細胞増殖を促進する培養条件は、mTeSR1培地中で幹細胞を培養することを含む、項25~33のいずれか一項に記載の方法。
項35.
前記mTeSR1培地は、ROCK阻害剤Y27632を含む、項34に記載の方法。
項36.
前記所望のコンフルエンスは、約20%から約80%の間である、項25~35のいずれか一項に記載の方法。
項37.
前記コンフルエンスは、約20%、約30%、約40%、約50%、約60%、約70%又は約80%である、項36に記載の方法。
項38.
前記培養条件を変更する工程は、X-VIVO(商標)15を添加することを含む、項25~37のいずれか一項に記載の方法。
項39.
前記インキュベート時間は、約2日から約4日の間である、項25~38のいずれか一項に記載の方法。
項40.
前記インキュベート時間は、約2.0日、約2.5日、約3.0日、約3.5日又は約4.0日である、項39に記載の方法。
項41.
前記インキュベート時間は、約3.5日である、項40に記載の方法。
項42.
前記方法は、幹細胞のクラスターを崩壊させて非クラスター形成幹細胞を作製する工程を更に含む、項25~41のいずれか一項に記載の方法。
項43.
前記幹細胞のクラスターは、機械的崩壊又は化学的崩壊によって崩壊される、項42に記載の方法。
項44.
前記化学的崩壊は、トリプシン様酵素と一緒にインキュベートすることを含む、項43に記載の方法。
項45.
前記トリプシン様酵素は、トリプシン、TrypLE Express、TrypLE Select、コラゲナーゼ、ディスパーゼ、トリプシン-EDTAである、項44に記載の方法。
項46.
項25~45のいずれか一項に記載の方法に従って作製されたT細胞。
項47.
項25~45のいずれか一項に記載の方法に従って作製されたT細胞の集団を含む組成物。
Claims (17)
- ヒト胚性間葉系始原(hEMP)細胞を作製する方法であって、
胚性幹(ES)細胞及び人工多能性幹(iPS)細胞から選択される幹細胞のクラスターをトリプシン様酵素と一緒にインキュベートして、非クラスター形成単一幹細胞を作製すること
非クラスター形成単一幹細胞を、規定の単一細胞密度で、マウス胚性線維芽細胞(MEF)ではなく、組み換えヒトビトロネクチンで被覆された基材と接触させること、
前記幹細胞を、細胞増殖を促進する培養条件下、ROCK阻害剤の存在下で所望のコンフルエンスまで培養すること、及び
BMP4、VEGF及びbFGFを含む無血清培地に前記幹細胞を所望のインキュベート時間にわたり接触させることで前記培養条件を変更し、更に前記幹細胞をアクチビンAに一過的に曝露し て、前記幹細胞をhEMP細胞へ分化誘導し、それによりhEMP細胞を作製すること、
を含む、方法。 - 前記ES細胞又は前記iPS細胞は、ヒト起源である、請求項1に記載の方法。
- 前記ES細胞又は前記iPS細胞は、H1細胞、H9細胞、HES3細胞、HSF1細胞、HSF6細胞、ESI-017細胞、CS02iCTR-NTn1細胞、CS03iCTR-NTn1細胞、CS80iCTR-Tn3細胞、CS179iCTR-NTn1細胞、CS201iCTR-NTn4細胞、CS202iCTR-NTn2細胞又はCS206iCTR-Tn5細胞である、請求項2に記載の方法。
- 前記規定の単一細胞密度は、1.5×105細胞/cm2から8×105細胞/cm2の間である、請求項1~3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記規定の単一細胞密度は、1.89×105細胞/cm2、3.2×105細胞/cm2、3.4×105細胞/cm2、3.6×105細胞/cm2、3.79×105細胞/cm2、7.2×105細胞/cm2又は7.58×105細胞/cm2である、請求項4に記載の方法。
- 前記基材は、ウェル付きプレート、細胞培養皿、メンブレン、バッグ、培養フラスコ、逆オパール構造体、ポリマー格子、静的な細胞懸濁液、撹拌された細胞懸濁液又はプラズマ処理されたポリマーである、請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記基材は、メンブレンを含む、請求項6に記載の方法。
- 前記細胞増殖を促進する培養条件は、mTeSR1培地中で幹細胞を培養することを含む、請求項1~7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ROCK阻害剤はY27632を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記所望のコンフルエンスは、20%から80%の間である、請求項1~9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記コンフルエンスは、20%、30%、40%、50%、60%、70%又は80%である、請求項10に記載の方法。
- 前記培養条件を変更する工程は、X-VIVO(商標)15を添加することを含む、請求項1~11のいずれか一項に記載の方法。
- 前記インキュベート時間は、2日から4日の間である、請求項1~12のいずれか一項に記載の方法。
- 前記インキュベート時間は、2.0日、2.5日、3.0日、3.5日又は4.0日である、請求項13に記載の方法。
- 前記インキュベート時間は、3.5日である、請求項14に記載の方法。
- 前記hEMP細胞をT細胞へと分化させる工程を更に含む、請求項1~15のいずれか一項に記載の方法。
- 前記トリプシン様酵素は、トリプシン、TrypLE Express、TrypLE Select、コラゲナーゼ、ディスパーゼ、又はトリプシン-EDTAである、請求項1~16のいずれかに記載の方法。
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