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JP7021998B2 - Water-soluble processing oil for fixed-abrasive wire saws, processing liquid for fixed-abrasive wire saws, cutting processing methods and used processing liquid processing methods - Google Patents
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Water-soluble processing oil for fixed-abrasive wire saws, processing liquid for fixed-abrasive wire saws, cutting processing methods and used processing liquid processing methods Download PDF

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本発明は、固定砥粒ワイヤーソーによる脆性材料の切断加工に使用される固定砥粒ワイヤーソー用水溶性加工油剤、固定砥粒ワイヤーソー用加工液、切断加工方法および使用済み加工液処理方法に関するものである。 The present invention relates to a water-soluble processing oil for a fixed-abrasive wire saw used for cutting a brittle material with a fixed-abrasive wire saw, a processing liquid for a fixed-abrasive wire saw, a cutting method, and a used processing liquid processing method. Is.

従来、特許文献1が開示するように、固定砥粒ワイヤーソーによる脆性材料の切断加工において、冷却や潤滑等のために、固定砥粒ワイヤーソー用加工液(以下、単に「加工液」ともいう。)が使用されている。加工液としては、原液である固定砥粒ワイヤーソー用水溶性加工油剤(以下、単に「加工油剤」ともいう。)が水で5倍から50倍程度に希釈されたものが使用されている。また、加工液は、低コスト化を図るため、加工後に回収され、再利用されている。 Conventionally, as disclosed in Patent Document 1, in cutting of a brittle material with a fixed-abrasive wire saw, a processing liquid for a fixed-abrasive wire saw (hereinafter, also simply referred to as "processing liquid") is used for cooling, lubrication, and the like. .) Is used. As the processing liquid, a water-soluble processing oil for fixed-abrasive wire saws (hereinafter, also simply referred to as “processing oil”), which is an undiluted solution, is diluted with water about 5 to 50 times. Further, the processing liquid is collected and reused after processing in order to reduce the cost.

特開2015-139861号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-139861

近年、各スライスメーカーでは、切断加工時に生じる切りくず(カーフロス)の低減のために、ワイヤーの細線化が実施されている。このため、ワイヤーの断線防止の観点から、冷却性の向上を目的として、加工油剤を水で高希釈(例えば100倍以上に希釈)した加工液を使用することが試みられている。しかしながら、従来の加工油剤のなかには、このように水で高希釈された場合に、切断加工時に要求される潤滑性等の性質を具備するものがない。 In recent years, each slice maker has been thinning wires in order to reduce chips (carfloss) generated during cutting. Therefore, from the viewpoint of preventing wire breakage, it has been attempted to use a processing liquid obtained by highly diluting the processing oil with water (for example, diluting it 100 times or more) for the purpose of improving the cooling property. However, none of the conventional processing oils have properties such as lubricity required at the time of cutting when highly diluted with water in this way.

また、加工油剤を水で高希釈した加工液を用いる場合、加工液中の加工油剤成分の濃度が極めて低いことから、使用後に加工油剤成分がどれだけ消失しているかを正確に測定することが困難である。このため、使用済みの加工液は、再利用されずに廃棄される。この際、法令の定める下水排除基準を満たす程度にまで、使用済みの加工液を浄化することは容易でなく、下水道に排水することができない。したがって、使用済みの加工液は、産業廃棄物として廃棄されるため、廃棄コストが高くなってしまう。 In addition, when using a processing liquid in which the processing oil is highly diluted with water, the concentration of the processing oil component in the processing liquid is extremely low, so it is possible to accurately measure how much the processing oil component has disappeared after use. Have difficulty. Therefore, the used processing liquid is discarded without being reused. At this time, it is not easy to purify the used processing liquid to the extent that it meets the sewage exclusion standard stipulated by law, and it cannot be drained to the sewer. Therefore, the used processing liquid is disposed of as industrial waste, resulting in high disposal cost.

本発明は、切断加工時に要求される性質を具備すると共に、使用済みの加工液を簡易な浄化処理により浄化することができる固定砥粒ワイヤーソー用水溶性加工油剤、固定砥粒ワイヤーソー用加工液、切断加工方法および使用済み加工液処理方法を提供することを課題としている。 The present invention has the properties required for cutting, and is a water-soluble processing oil for fixed-abrasive wire saws and a processing liquid for fixed-abrasive wire saws that can purify used processing liquids by a simple purification process. It is an object of the present invention to provide a cutting processing method and a used processing liquid treatment method.

本発明の固定砥粒ワイヤーソー用水溶性加工油剤は、式(1)で表される化合物(A)を含み、化合物(A)の濃度が質量基準で700ppm以上3000ppm以下となるように水で希釈され、固定砥粒ワイヤーソーによる脆性材料の切断加工に使用されることを特徴とする。
RO-[(EO)(PO)]-H (1)
(式(1)において、Rは炭素数8以上12以下のアルキル基を示し、EOはオキシエチレン基を示し、POはオキシプロピレン基を示し、mはEOの平均付加モル数を示し、nはPOの平均付加モル数を示し、mは2以上5以下の数であり、nは3以上5以下の数であり、EOおよびPOはランダム付加でもブロック付加でもよい。)。
The water-soluble processing oil for a fixed-abrasive wire saw of the present invention contains the compound (A) represented by the formula (1) and is diluted with water so that the concentration of the compound (A) is 700 ppm or more and 3000 ppm or less on a mass basis. It is characterized in that it is used for cutting brittle materials with a fixed abrasive grain wire saw.
RO-[(EO) m (PO) n ] -H (1)
(In the formula (1), R represents an alkyl group having 8 or more carbon atoms and 12 or less carbon atoms, EO represents an oxyethylene group, PO represents an oxypropylene group, m represents the average number of moles of EO added, and n is. The average number of moles of PO added is shown, m is a number of 2 or more and 5 or less, n is a number of 3 or more and 5 or less, and EO and PO may be random addition or block addition).

この構成によれば、加工油剤を化合物(A)の濃度が質量基準で700ppm以上3000ppm以下となるように水で希釈した加工液が、切断加工時に要求される性質を具備すると共に、使用済みの加工液を濾過処理という簡易な浄化処理により浄化することができる。 According to this configuration, a processing liquid obtained by diluting the processing oil with water so that the concentration of the compound (A) is 700 ppm or more and 3000 ppm or less on a mass basis has the properties required for cutting and is used. The processing liquid can be purified by a simple purification process called filtration process.

本発明の固定砥粒ワイヤーソー用加工液は、上記の化合物(A)と、水と、を含み、化合物(A)の濃度が質量基準で700ppm以上3000ppm以下であり、固定砥粒ワイヤーソーによる脆性材料の切断加工に使用されることを特徴とする。 The processing liquid for a fixed-abrasive wire saw of the present invention contains the above compound (A) and water, and the concentration of the compound (A) is 700 ppm or more and 3000 ppm or less on a mass basis, and the fixed-abrasive wire saw is used. It is characterized by being used for cutting brittle materials.

この構成によれば、切断加工時に要求される性質を具備すると共に、使用済みの加工液を濾過処理という簡易な浄化処理により浄化することができる。 According to this configuration, it has the properties required for cutting, and the used processing liquid can be purified by a simple purification treatment called filtration treatment.

本発明の切断加工方法は、上記の固定砥粒ワイヤーソー用加工液を用いて、固定砥粒ワイヤーソーにより脆性材料の切断加工を行うことを特徴とする。 The cutting method of the present invention is characterized in that a brittle material is cut by a fixed abrasive wire saw using the above-mentioned processing liquid for a fixed abrasive wire saw.

この構成によれば、切断加工時に要求される性質を具備した上記の加工液を用いることで、良好に切断加工を行うことができると共に、切断加工を行った後に生じた使用済みの加工液を、濾過処理という簡易な浄化処理により浄化することができる。 According to this configuration, by using the above-mentioned processing liquid having the properties required for cutting processing, the cutting processing can be performed satisfactorily, and the used processing liquid generated after the cutting processing can be used. , It can be purified by a simple purification process called filtration process.

本発明の使用済み加工液処理方法は、上記の切断加工方法を行った後に生じた使用済みの固定砥粒ワイヤーソー用加工液に対し、濾過処理を行うことを特徴とする。 The used processing liquid treatment method of the present invention is characterized in that the used processing liquid for a fixed abrasive grain wire saw generated after the above-mentioned cutting processing method is subjected to a filtration treatment.

この構成によれば、切断加工を行った後に生じた使用済みの加工液を、濾過処理という簡易な浄化処理により浄化することができる。 According to this configuration, the used processing liquid generated after the cutting process can be purified by a simple purification process called a filtration process.

ここで、切断加工時に要求される加工液の性質としては、(1)適度な潤滑性を有すること、(2)消泡性が高いこと、(3)シリコンと水との反応抑制能が高いこと、(4)濡れ性が高いこと、および(5)洗浄性が高いこと、を挙げることができる。(1)加工液の潤滑性が低い場合には、加工対象物とワイヤーとの間の摩擦が増大するため、ワイヤーから砥粒が剥離し、ワイヤーが断線しやすい。一方、加工液の潤滑性が高い場合には、加工対象物とワイヤーとの間の摩擦が低下し、加工対象物に対してワイヤーが滑ってしまうため、加工対象物を良好に切断することができない。(2)加工液の消泡性が低い場合には、加工液タンク中に多量の気泡が発生するため、供給ポンプが空吸い状態となって加工液が加工液タンクからワイヤーソーへ十分に供給されず、加工精度が低下する。(3)加工液の反応抑制能が低い場合には、加工液タンク中でシリコンの切りくずと加工液中の水とが反応して多量の気泡(水素ガス)が発生するため、供給ポンプが空吸い状態となって加工液が加工液タンクからワイヤーソーへ十分に供給されず、加工精度が低下する。また、発生した水素ガスが爆発するおそれもある。(4)加工液の濡れ性が低い場合には、加工液がワイヤーや加工対象物に浸透しにくいため、加工精度が低下する。(5)加工液の洗浄性が低い場合には、切りくずと加工油剤とが混ざり合った油泥が加工対象物に付着してしまい、加工対象物の洗浄に長時間を要する。 Here, the properties of the processing liquid required for cutting are as follows: (1) having appropriate lubricity, (2) having high defoaming property, and (3) having high ability to suppress the reaction between silicon and water. That, (4) high wettability, and (5) high detergency can be mentioned. (1) When the lubricity of the machining fluid is low, the friction between the object to be machined and the wire increases, so that the abrasive grains are peeled off from the wire and the wire is easily broken. On the other hand, when the lubricity of the machining fluid is high, the friction between the workpiece and the wire decreases, and the wire slips against the workpiece, so that the workpiece can be cut satisfactorily. Can not. (2) When the defoaming property of the machining fluid is low, a large amount of air bubbles are generated in the machining fluid tank, so that the supply pump is in an empty suction state and the machining fluid is sufficiently supplied from the machining fluid tank to the wire saw. However, the processing accuracy is reduced. (3) When the reaction suppression ability of the machining fluid is low, the silicon chips react with the water in the machining fluid in the machining fluid tank to generate a large amount of bubbles (hydrogen gas), so that the supply pump is used. The machining accuracy is reduced because the machining fluid is not sufficiently supplied from the machining fluid tank to the wire saw due to the empty suction state. In addition, the generated hydrogen gas may explode. (4) When the wettability of the processing liquid is low, the processing liquid does not easily penetrate into the wire or the object to be processed, so that the processing accuracy is lowered. (5) When the cleaning property of the processing liquid is low, oil mud in which chips and the processing oil are mixed adheres to the processing object, and it takes a long time to clean the processing object.

また、本発明の加工液は、使用後に、濾過処理という簡易な浄化処理により浄化することができるという浄化処理性を有する。本発明の加工液がこのような浄化処理性を有する理由としては、加工油剤に含まれる化合物(A)が、適度な疎水性と親水性とのバランスを有することから、切断加工時に発生する加工対象物の切りくずに吸着されやすい性質を有するためであると考えられる。 In addition, the processing liquid of the present invention has a purification treatment property that it can be purified by a simple purification treatment called a filtration treatment after use. The reason why the processing liquid of the present invention has such purification treatment property is that the compound (A) contained in the processing oil agent has an appropriate balance between hydrophobicity and hydrophilicity, so that the processing generated during the cutting process is performed. It is considered that this is because it has the property of being easily adsorbed by the chips of the object.

(加工油剤)
本発明の固定砥粒ワイヤーソー用水溶性加工油剤は、式(1)で表される化合物(A)を含む。
RO-[(EO)(PO)]-H (1)
加工油剤は、化合物(A)の濃度が質量基準で700ppm以上3000ppm以下となるように水で希釈され、本発明の固定砥粒ワイヤーソー用加工液として使用される。
(Processing oil)
The water-soluble processing oil for a fixed-abrasive wire saw of the present invention contains the compound (A) represented by the formula (1).
RO-[(EO) m (PO) n ] -H (1)
The processing oil is diluted with water so that the concentration of compound (A) is 700 ppm or more and 3000 ppm or less on a mass basis, and is used as the processing liquid for a fixed-abrasive wire saw of the present invention.

<化合物(A)>
化合物(A)は、式(1)に表されるように、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル型の非イオン性界面活性剤である。
<Compound (A)>
Compound (A) is a polyoxyalkylene alkyl ether type nonionic surfactant as represented by the formula (1).

式(1)において、Rは、炭素数8以上12以下のアルキル基を示す。Rの炭素数が8より小さい場合には、水溶性の増加により加工液の消泡性が低下する他、浄化処理性が低下する。また、Rの炭素数が12より大きい場合には、加工液への溶解性が悪化して加工液の分離につながる他、洗浄性が低下する。Rの炭素数は、9であることが好ましい。Rは、直鎖アルキル基でもよいが、分岐アルキル基であることが好ましい。分岐アルキル基である場合には、加工液がより高い消泡性と濡れ性を有する。Rとしては、例えば、2-ブチル-1-オクチル基、2-ドデシル基、5-ドデシル基、2,6,8-トリメチル-4-ノニル基、2-メチル-4-ウンデシル基、2-ウンデシル基、3-ウンデシル基、4-ウンデシル基、5-ウンデシル基、6-ウンデシル基、2-デシル基、4-デシル基、5-デシル基、3,7-ジメチル-1-オクチル基、2,2-ジメチル-1-オクチル基、2-6-ジメチル-4-ペンチル基、2-メチル-3-オクチル基、6-メチル-1-オクチル基、2-ノニル基、3-ノニル基、4-ノニル基、5-ノニル基、3,5,5-トリメチル-1-ヘキシル基、2,2-ジメチル-3-ヘキシル基、2,3-ジメチル-2-ヘキシル基、2,5-ジメチル-2-ヘキシル基、2,5-ジメチル-3-ヘキシル基、3,4-ジメチル-3-ヘキシル基、3,5-ジメチル-3-ヘキシル基、2-エチル-1-ヘキシル基、2-プロピル-1-ペンチル基、3-エチル-2-メチル-3-ペンチル基、3-メチル-3-ヘプチル基、ル基、2,3,4-トリメチル-3-ペンチル基、3,4,4-トリメチル-4-ペンチル基、などを用いることができる。これらのなかでも、好ましくは、Rとして、3,5,5-トリメチル-1-ヘキシル基、2-エチル-1-ヘキシル基、或いは2-プロピル-1-ペンチル基を用いることができる。 In the formula (1), R represents an alkyl group having 8 or more carbon atoms and 12 or less carbon atoms. When the carbon number of R is less than 8, the defoaming property of the processing liquid is lowered due to the increase in water solubility, and the purification treatment property is lowered. Further, when the carbon number of R is larger than 12, the solubility in the processing liquid is deteriorated, which leads to the separation of the processing liquid and the detergency is lowered. The carbon number of R is preferably 9. R may be a linear alkyl group, but is preferably a branched alkyl group. When it is a branched alkyl group, the processing liquid has higher defoaming property and wettability. Examples of R include 2-butyl-1-octyl group, 2-dodecyl group, 5-dodecyl group, 2,6,8-trimethyl-4-nonyl group, 2-methyl-4-undecyl group and 2-undecyl group. Group, 3-undecyl group, 4-undecyl group, 5-undecyl group, 6-undecyl group, 2-decyl group, 4-decyl group, 5-decyl group, 3,7-dimethyl-1-octyl group, 2, 2-Dimethyl-1-octyl group, 2-6-dimethyl-4-pentyl group, 2-methyl-3-octyl group, 6-methyl-1-octyl group, 2-nonyl group, 3-nonyl group, 4- Nonyl group, 5-nonyl group, 3,5,5-trimethyl-1-hexyl group, 2,2-dimethyl-3-hexyl group, 2,3-dimethyl-2-hexyl group, 2,5-dimethyl-2 -Hexyl group, 2,5-dimethyl-3-hexyl group, 3,4-dimethyl-3-hexyl group, 3,5-dimethyl-3-hexyl group, 2-ethyl-1-hexyl group, 2-propyl- 1-pentyl group, 3-ethyl-2-methyl-3-pentyl group, 3-methyl-3-heptyl group, ru group, 2,3,4-trimethyl-3-pentyl group, 3,4,4-trimethyl A -4-pentyl group, etc. can be used. Among these, preferably, as R, a 3,5,5-trimethyl-1-hexyl group, a 2-ethyl-1-hexyl group, or a 2-propyl-1-pentyl group can be used.

式(1)において、EOは、オキシエチレン基を示す。また、mは、オキシエチレン基の平均付加モル数を示す。mは、2以上5以下の数である。mが2より小さい場合には、加工液への溶解性が悪化し加工液の分離につながる他、切りくず洗浄性が低下する。mが5より大きい場合には、加工液の消泡性および浄化処理性が低下する。 In formula (1), EO represents an oxyethylene group. Further, m indicates the average number of moles of substance added of the oxyethylene group. m is a number of 2 or more and 5 or less. When m is smaller than 2, the solubility in the processing liquid is deteriorated, which leads to the separation of the processing liquid and the chip cleaning property is deteriorated. When m is larger than 5, the defoaming property and purifying property of the processing liquid are deteriorated.

式(1)において、POは、オキシプロピレン基を示す。また、nは、オキシプロピレン基の平均付加モル数を示す。nは、3以上5以下の数である。nが3より小さい場合には、水溶性の増加により加工液の消泡性が低下する他、浄化処理性が低下する。nが5より大きい場合には、加工液への溶解性が悪化し加工液の分離につながる他、洗浄性が低下する。 In formula (1), PO represents an oxypropylene group. Further, n indicates the average number of moles of oxypropylene group added. n is a number of 3 or more and 5 or less. When n is less than 3, the defoaming property of the processing liquid is lowered due to the increase in water solubility, and the purification treatment property is lowered. When n is larger than 5, the solubility in the processing liquid is deteriorated, which leads to the separation of the processing liquid and the detergency is deteriorated.

式(1)において、m/(m+n)は、0.33以上0.625以下であることが好ましく、より好ましくは、0.4以上0.6以下である。m/(m+n)が0.4以上である場合には、加工液がより高い洗浄性を有する。m/(m+n)が0.6以下である場合には、加工液がより高い消泡性を有する。 In the formula (1), m / (m + n) is preferably 0.33 or more and 0.625 or less, and more preferably 0.4 or more and 0.6 or less. When m / (m + n) is 0.4 or more, the processing liquid has higher detergency. When m / (m + n) is 0.6 or less, the processing liquid has higher defoaming property.

式(1)において、EOおよびPOは、ランダム付加でもよく、ブロック付加でもよい。ランダム付加の場合、加工液がより高い洗浄性を有する。ブロック付加の場合、加工液がより高い消泡性を有する。なお、ブロック付加の場合、EOとPOとの付加の順序は、特に限定されるものではない。 In the formula (1), EO and PO may be random addition or block addition. In the case of random addition, the working fluid has higher detergency. In the case of block addition, the processing liquid has higher defoaming property. In the case of block addition, the order of addition of EO and PO is not particularly limited.

化合物(A)は、例えば、炭素数8以上12以下のアルコールに、アルカリ触媒下、オキシエチレン基およびオキシプロピレン基を付加することによって、得ることができる。 Compound (A) can be obtained, for example, by adding an oxyethylene group and an oxypropylene group to an alcohol having 8 or more carbon atoms and 12 or less carbon atoms under an alkaline catalyst.

<他の成分>
加工油剤は、化合物(A)のほか、例えば、水溶性高分子、消泡剤、粘度調整剤、pH調整剤、酸化防止剤、殺菌剤、および防錆剤のなかの少なくとも一つを含んでいてもよい。ここで、水溶性高分子とは、ポリビニルピロリドンおよびビニルピロリドン由来の構造単位を含む共重合体の少なくとも一方を含むものである。加工油剤がこのような水溶性高分子を含む場合には、加工液の洗浄性が向上する。消泡剤としては、例えば、シリコーン油、フルオロシリコーン油などを用いることができる。粘度調整剤としては、例えば、ポリエチレングリコール、グリセリンなどを用いることができる。pH調整剤としては、種々の無機酸、有機酸、無機塩基および有機塩基を用いることができる。酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤などを用いることができる。殺菌剤としては、例えば、1,2-ベンゾイソチアゾリン-3-オン、ヘキサヒドロ-1,3,5-トリス(2-ヒドロキシエチル)-1,3,5-トリアジンなどを用いることができる。防錆剤としては、例えば、アルキルベンゼンスルフォネート、アルケニルコハク酸エステルなどを用いることができる。なお、加工油剤は、水を含んでいてもよい。水としては、例えば、蒸留水、イオン交換水或いは水道水を用いることができる。
<Other ingredients>
The processing oil contains, in addition to compound (A), at least one of, for example, a water-soluble polymer, an antifoaming agent, a viscosity regulator, a pH regulator, an antioxidant, a fungicide, and a rust inhibitor. You may. Here, the water-soluble polymer contains at least one of a copolymer containing polyvinylpyrrolidone and a structural unit derived from vinylpyrrolidone. When the processing oil contains such a water-soluble polymer, the detergency of the processing liquid is improved. As the defoaming agent, for example, silicone oil, fluorosilicone oil and the like can be used. As the viscosity adjusting agent, for example, polyethylene glycol, glycerin and the like can be used. As the pH adjuster, various inorganic acids, organic acids, inorganic bases and organic bases can be used. As the antioxidant, for example, a phenol-based antioxidant, an amine-based antioxidant, or the like can be used. As the bactericide, for example, 1,2-benzoisothiazolin-3-one, hexahydro-1,3,5-tris (2-hydroxyethyl) -1,3,5-triazine and the like can be used. As the rust preventive, for example, alkylbenzene sulphonate, alkenyl succinic acid ester and the like can be used. The processing oil may contain water. As the water, for example, distilled water, ion-exchanged water or tap water can be used.

(加工液)
本発明の固定砥粒ワイヤーソー用加工液は、化合物(A)と、水とを含有し、化合物(A)の濃度は、質量基準で700ppm以上3000ppm以下である。化合物(A)の濃度が700ppmより低い場合、加工液の反応抑制能が低下すると共に、潤滑性および濡れ性が低下する。化合物(A)の濃度が3000ppmより高い場合、消泡性が低下する。加工液は、例えば、加工油剤を水で希釈することにより得られる。希釈に用いられる水としては、加工油剤に予め含まれる水と同様に、例えば、蒸留水、イオン交換水或いは水道水を用いることができる。
(Processing liquid)
The processing liquid for a fixed abrasive grain wire saw of the present invention contains compound (A) and water, and the concentration of compound (A) is 700 ppm or more and 3000 ppm or less on a mass basis. When the concentration of the compound (A) is lower than 700 ppm, the reaction suppressing ability of the processing liquid is lowered, and the lubricity and wettability are lowered. When the concentration of the compound (A) is higher than 3000 ppm, the defoaming property is lowered. The processing liquid is obtained, for example, by diluting the processing oil with water. As the water used for dilution, for example, distilled water, ion-exchanged water or tap water can be used in the same manner as the water previously contained in the processing oil.

(切断加工方法)
本発明の切断加工方法は、上記の加工液を用いて、固定砥粒ワイヤーソーにより脆性材料の切断加工を行うものである。固定砥粒ワイヤーソーに用いられるワイヤーは、切りくずを低減して歩留まりを向上させるために、極力細い方が好ましく、例えば、直径0.1mm以下であることが好ましい。本発明の加工液は、化合物(A)の濃度が700ppm以上3000ppm以下となるように水で高希釈されたものであることから、細線化されたワイヤーに対しても、十分な冷却能を発揮することができる。脆性材料としては、例えば、シリコン、シリコンカーバイド、ガラス、セラミック、窒化ガリウム或いはサファイアを用いることができ、そのなかでも、シリコンを好適に用いることができる。
(Cutting method)
The cutting method of the present invention uses the above-mentioned processing liquid to cut a brittle material with a fixed-abrasive wire saw. The wire used for the fixed-abrasive wire saw is preferably as thin as possible in order to reduce chips and improve the yield, and for example, the diameter is preferably 0.1 mm or less. Since the processing liquid of the present invention is highly diluted with water so that the concentration of the compound (A) is 700 ppm or more and 3000 ppm or less, it exhibits sufficient cooling ability even for thinned wires. can do. As the brittle material, for example, silicon, silicon carbide, glass, ceramic, gallium nitride or sapphire can be used, and among them, silicon can be preferably used.

(加工液処理方法)
本発明の加工液処理方法は、切断加工方法を行った後に生じた使用済みの加工液に対し、濾過処理を行うものである。これにより、使用済みの加工液を浄化することができる。すなわち、濾過処理を行うことにより、使用済み加工液のBOD(生物化学的酸素消費量)、COD(化学的酸素消費量)、懸濁物質量(浮遊物質量)、ヘキサン抽出物質量(動植物油)およびヘキサン抽出物質量(鉱物油)を低下させることができる。濾過処理を行うことにより、使用済みの加工液を浄化することができる理由としては、上述したように、加工油剤に含まれる化合物(A)が、適度な疎水性と親水性とのバランスを有することから、切断加工時に発生する加工対象物の切りくずに吸着されやすい性質を有するためであると考えられる。このような濾過処理により、法令に規定される下水排除基準を満たす程度にまで、使用済みの加工液を浄化することで、使用済みの加工液を下水道に排水することができ、廃棄コストを削減することができる。
(Processing liquid treatment method)
In the processing liquid treatment method of the present invention, the used processing liquid generated after the cutting processing method is subjected to filtration treatment. This makes it possible to purify the used processing liquid. That is, by performing filtration treatment, BOD (biochemical oxygen consumption), COD (chemical oxygen consumption), suspended solids (suspended solids), hexane extract (animal and vegetable oil) of the used processing liquid ) And the amount of hexane extract (mineral oil) can be reduced. As described above, the reason why the used processing liquid can be purified by performing the filtration treatment is that the compound (A) contained in the processing oil has an appropriate balance between hydrophobicity and hydrophilicity. Therefore, it is considered that this is because it has the property of being easily adsorbed by the chips of the work object generated during the cutting process. By purifying the used processing liquid to the extent that it meets the sewage exclusion standards stipulated by law by such filtration treatment, the used processing liquid can be drained to the sewer and the disposal cost is reduced. can do.

濾過処理としては、例えば、加圧濾過処理、真空濾過処理或いは遠心濾過処理を用いることができる。加圧濾過処理のなかでは、例えば、フィルタープレス処理を用いることができる。 As the filtration treatment, for example, a pressure filtration treatment, a vacuum filtration treatment or a centrifugal filtration treatment can be used. Among the pressure filtration treatments, for example, a filter press treatment can be used.

また、使用済みの加工液に対し、濾過処理を行った後、活性炭処理を行うことが好ましい。活性炭処理を行うことにより、使用済み加工液をさらに浄化することができる。活性炭処理は、例えば、公知の活性炭処理装置を用いて行うことができる。また、濾過処理後の使用済み加工液に対して活性炭を添加し、攪拌後、濾過処理を再度行って活性炭を除去することにより、活性炭処理を行ってもよい。 Further, it is preferable that the used processing liquid is subjected to a filtration treatment and then an activated carbon treatment. By performing the activated carbon treatment, the used processing liquid can be further purified. The activated carbon treatment can be performed using, for example, a known activated carbon treatment device. Further, the activated carbon treatment may be performed by adding activated carbon to the used processing liquid after the filtration treatment, stirring the mixture, and then performing the filtration treatment again to remove the activated carbon.

(界面活性剤)
実施例および比較例に使用した界面活性剤を表1に示す。各界面活性剤のEOおよびPOの平均付加モル数については、H-NMR分析により測定した。また、各界面活性剤の平均分子量については、標準ポリマーとしてポリエチレングリコール(PEG)を用いたGPC法(Gel Permeation Chromatography)により測定した。
(Surfactant)
Table 1 shows the surfactants used in Examples and Comparative Examples. The average number of moles of EO and PO added to each surfactant was measured by 1 H-NMR analysis. The average molecular weight of each surfactant was measured by the GPC method (Gel Permeation Chromatography) using polyethylene glycol (PEG) as a standard polymer.

Figure 0007021998000001
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表2に示すように、各界面活性剤に、適宜、ポリビニルピロリドン(PVP)および消泡剤を添加し、加工油剤を調整した。 As shown in Table 2, polyvinylpyrrolidone (PVP) and an antifoaming agent were appropriately added to each surfactant to prepare a processing oil agent.

Figure 0007021998000002
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(加工液の作製)
各加工油剤を、界面活性剤の濃度が表3に示す値となるように水で希釈し、実施例1~15の加工液および比較例1~10の加工液を作製した。なお、比較例10では、加工液として水を用いた。
(Preparation of processing liquid)
Each processing oil was diluted with water so that the concentration of the surfactant became the value shown in Table 3 to prepare the processing liquids of Examples 1 to 15 and the processing liquids of Comparative Examples 1 to 10. In Comparative Example 10, water was used as the processing liquid.

(動摩擦係数)
各加工液が塗布された試験材(シリコンウエハ)に対し、質量100gの試験球(窒化ケイ素)により一定の負荷荷重Wを作用させた状態で、室温下、試験材を摺動速度4.0mm/s、摺動距離25mmで20回往復運動させ、試験球に働く動摩擦力Pをストレインゲージにより検出し、動摩擦係数μをμ=P/Wの式により算出した。動摩擦係数の測定結果を表3に示す。
(Dynamic friction coefficient)
A test material (silicon wafer) coated with each processing liquid is subjected to a constant load W by a test ball (silicon nitride) having a mass of 100 g, and the test material is slid at a sliding speed of 4.0 mm at room temperature. After reciprocating 20 times at / s and a sliding distance of 25 mm, the dynamic friction force P acting on the test ball was detected by a strain gauge, and the dynamic friction coefficient μ was calculated by the formula μ = P / W. Table 3 shows the measurement results of the dynamic friction coefficient.

加工液の動摩擦係数は0.20以上0.32以下であることが好ましく、0.22以上0.30以下であることがより好ましい。加工液の動摩擦係数が0.20以上0.32以下である場合、加工液は適度な潤滑性を有するといえる。すなわち、加工液の動摩擦係数が0.20以上である場合には、加工対象物に対してワイヤーソーが滑ることが防止され、加工対象物を良好に切断することができる。また、加工液の動摩擦係数が0.32以下である場合には、ワイヤーから砥粒が剥離することが抑制され、ワイヤーが断線することを防止することができる。 The dynamic friction coefficient of the working liquid is preferably 0.20 or more and 0.32 or less, and more preferably 0.22 or more and 0.30 or less. When the dynamic friction coefficient of the machining fluid is 0.20 or more and 0.32 or less, it can be said that the machining fluid has appropriate lubricity. That is, when the coefficient of dynamic friction of the machining fluid is 0.20 or more, the wire saw is prevented from slipping on the object to be machined, and the object to be machined can be cut satisfactorily. Further, when the dynamic friction coefficient of the working liquid is 0.32 or less, the abrasive grains are suppressed from peeling from the wire, and the wire can be prevented from being broken.

(最大泡高さおよび消泡時間)
各加工液50mlを100mlシリンダーに加え、液温を23℃に調整した。その後、20回振とうして静置し、最大泡高さ、および消泡時間すなわち泡が消えるまでの時間を目視にて計測した。最大泡高さおよび消泡時間の測定結果を表3に示す。
(Maximum foam height and defoaming time)
50 ml of each processing liquid was added to a 100 ml cylinder, and the liquid temperature was adjusted to 23 ° C. Then, it was shaken 20 times and allowed to stand, and the maximum foam height and the defoaming time, that is, the time until the foam disappeared were visually measured. Table 3 shows the measurement results of the maximum foam height and defoaming time.

加工液の最大泡高さは15ml以下であることが好ましく、この場合、加工液は消泡性が高いといえる。すなわち、加工液の最大泡高さが15ml以下である場合には、加工液タンク中に気泡が発生することが抑制されるため、加工液が加工液タンクからワイヤーソーへ十分に供給され、加工精度を確保することができる。同様に、加工液の消泡時間は150秒以下であることが好ましく、この場合、加工液は消泡性が高いといえる。 The maximum foam height of the processing liquid is preferably 15 ml or less, and in this case, it can be said that the processing liquid has high defoaming property. That is, when the maximum foam height of the machining fluid is 15 ml or less, the generation of bubbles in the machining fluid tank is suppressed, so that the machining fluid is sufficiently supplied from the machining fluid tank to the wire saw for machining. Accuracy can be ensured. Similarly, the defoaming time of the processing liquid is preferably 150 seconds or less, and in this case, it can be said that the processing liquid has high defoaming property.

(水素発生量)
各加工液にシリコンの切りくず40質量%を添加し、直径2mmのステンレス鋼球により1000rpmの条件で4時間せん断を加えた。せん断後の液15mlを30ml容量の試験管に採取し、50℃の湯浴中で水素の発生量を測定した。水素発生量の測定結果を表3に示す。
(Amount of hydrogen generated)
40% by mass of silicon chips were added to each processing liquid, and shearing was performed with a stainless steel ball having a diameter of 2 mm at 1000 rpm for 4 hours. 15 ml of the sheared liquid was collected in a test tube having a capacity of 30 ml, and the amount of hydrogen generated was measured in a hot water bath at 50 ° C. Table 3 shows the measurement results of the amount of hydrogen generated.

加工液の水素発生量は、10ml以下であることが好ましく、この場合、加工液は反応抑制能が高いといえる。すなわち、加工液の水素発生量が10ml以下である場合には、加工液タンク中でシリコンの切りくずと加工液中の水とが反応して水素ガスが発生することが抑制されるため、加工液が加工液タンクからワイヤーソーへ十分に供給され、加工精度を確保することができる。 The amount of hydrogen generated in the processing liquid is preferably 10 ml or less, and in this case, it can be said that the processing liquid has a high reaction suppressing ability. That is, when the amount of hydrogen generated in the processing liquid is 10 ml or less, it is possible to suppress the reaction between the silicon chips and the water in the processing liquid in the processing liquid tank to generate hydrogen gas. The liquid is sufficiently supplied from the processing liquid tank to the wire saw, and the processing accuracy can be ensured.

(接触角)
鏡面加工済みのシリコンウエハに滴下された各加工液の液滴が、シリコンウエハの表面に対して為す角度を、シリコンに対する接触角として測定した。また、ニッケル板に滴下された各加工液の液滴が、ニッケル板の表面に対して為す角度を、ニッケルに対する接触角として測定した。シリコンに対する接触角およびニッケルに対する接触角の測定結果を表3に示す。なお、接触角は、協和界面科学株式会社製のCA-V型接触角計を用いて測定した。
(Contact angle)
The angle formed by the droplets of each processing liquid dropped on the mirror-processed silicon wafer with respect to the surface of the silicon wafer was measured as the contact angle with respect to silicon. Further, the angle formed by the droplets of each processing liquid dropped on the nickel plate with respect to the surface of the nickel plate was measured as the contact angle with respect to nickel. Table 3 shows the measurement results of the contact angle with respect to silicon and the contact angle with respect to nickel. The contact angle was measured using a CA-V type contact angle meter manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.

加工液のシリコンに対する接触角は、40°以下であることが好ましく、加工液のニッケルに対する接触角は、50°以下であることが好ましい。この場合、加工液は、高い濡れ性を有するといえる。すなわち、シリコンに対する接触角が40°以下であり、ニッケルに対する接触角が50°以下である場合には、加工液が、ニッケルメッキが施されたワイヤーやシリコンから成る加工対象物に良好に浸透する。一方、加工液のシリコンに対する接触角は、10°以上であることが好ましく、加工液のニッケルに対する接触角は、20°以上であることが好ましい。この場合、加工液の表面張力が低すぎず、加工液の泡立ちが抑制される。 The contact angle of the working liquid with respect to silicon is preferably 40 ° or less, and the contact angle of the working liquid with respect to nickel is preferably 50 ° or less. In this case, it can be said that the processing liquid has high wettability. That is, when the contact angle with respect to silicon is 40 ° or less and the contact angle with nickel is 50 ° or less, the processing liquid penetrates well into the nickel-plated wire or the object to be processed made of silicon. .. On the other hand, the contact angle of the processing liquid with respect to silicon is preferably 10 ° or more, and the contact angle of the processing liquid with respect to nickel is preferably 20 ° or more. In this case, the surface tension of the working liquid is not too low, and foaming of the working liquid is suppressed.

(残渣付着量)
各加工液に、山石金属株式会社製のシリコン粉(粒子径:2μm以上3μm以下)を3質量%添加して試験液を作製した。2枚のシリコンウエハ(多結晶、156mm角)の一方に各試験液を均一に塗布した後、2枚のシリコンウエハを0.2mm厚のスペーサーを介して重ね合わせ、これを、15℃の水道水が4l入っている洗浄槽に垂直に浸漬し、5分間静置した。2枚のシリコンウエハを洗浄槽から引き上げ、2枚のシリコンウエハを引き離した後、各試験液が塗布されたシリコンウエハの表面に付着しているシリコン粉の残渣を目視にて確認し、シリコンウエハの表面全体の面積に対してシリコン粉の残渣が占める面積の割合を求めた。その結果を表3に示す。
(Amount of residue adhered)
A test solution was prepared by adding 3% by mass of silicon powder (particle size: 2 μm or more and 3 μm or less) manufactured by Yamaishi Metal Co., Ltd. to each processing solution. After uniformly applying each test solution to one of two silicon wafers (polycrystal, 156 mm square), the two silicon wafers were laminated via a 0.2 mm thick spacer, and this was added to a water supply at 15 ° C. It was vertically immersed in a washing tank containing 4 liters of water and allowed to stand for 5 minutes. After pulling up the two silicon wafers from the cleaning tank and pulling the two silicon wafers apart, visually check the residue of silicon powder adhering to the surface of the silicon wafer coated with each test solution, and check the silicon wafer. The ratio of the area occupied by the silicon powder residue to the area of the entire surface of the wafer was determined. The results are shown in Table 3.

なお、表3の「残渣付着量」の欄における「good」、「fair」および「bad」は、それぞれ、シリコンウエハの表面全体の面積に対してシリコン粉の残渣が占める面積の割合が、10%未満、50%未満および50%以上であることを意味する。すなわち、シリコン粉の残渣が占める面積の割合が、50%未満である場合には、シリコンウエハに対する洗浄性が高いといえる。 For "good", "fair", and "bad" in the "residue adhesion amount" column of Table 3, the ratio of the area occupied by the silicon powder residue to the entire surface area of the silicon wafer is 10 respectively. It means less than%, less than 50% and more than 50%. That is, when the ratio of the area occupied by the residue of the silicon powder is less than 50%, it can be said that the cleanability for the silicon wafer is high.

Figure 0007021998000003
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表3に示した結果からわかるように、化合物(A)と水とを含み、化合物(A)の濃度が700ppm以上3000ppm以下である実施例1~15の加工液は、適度な動摩擦係数を有し、最大泡高さが低く、消泡時間が短く、水素発生量が少なく、接触角が小さく、残渣付着量が少なかった。すなわち、実施例1~15の加工液は、適度な潤滑性を有し、消泡性が高く、反応抑制能が高く、濡れ性が高く、洗浄性が高かった。このように、実施例1~15の加工液は、化合物(A)が700ppm以上3000ppm以下になるまで高希釈された場合にも、切断加工時に要求される性質を具備していた。 As can be seen from the results shown in Table 3, the processing solutions of Examples 1 to 15 containing compound (A) and water and having a concentration of compound (A) of 700 ppm or more and 3000 ppm or less have an appropriate dynamic friction coefficient. However, the maximum foam height was low, the defoaming time was short, the amount of hydrogen generated was small, the contact angle was small, and the amount of residue adhered was small. That is, the processing liquids of Examples 1 to 15 had appropriate lubricity, high defoaming property, high reaction suppressing ability, high wettability, and high detergency. As described above, the processing liquids of Examples 1 to 15 had the properties required for cutting even when the compound (A) was highly diluted to 700 ppm or more and 3000 ppm or less.

これに対し、化合物(A)の濃度が500ppmである比較例1~2の加工液は、動摩擦係数が高く、水素発生量が多かった。アルキル基を持たない界面活性剤(試料E)が含まれる比較例3の加工液は、動摩擦係数が高く、最大泡高さが高く、消泡時間が長く、残渣付着量が多かった。化合物(A)に比べてEO平均付加モル数およびPO平均付加モル数が大きい界面活性剤(試料F)が含まれる比較例4の加工液は、最大泡高さが高く、消泡時間が長く、残渣付着量が多かった。さらに消泡剤を含む比較例5の加工液は、最大泡高さおよび消泡時間が改善されたものの、残渣付着量は多かった。化合物(A)に比べてPO平均付加モル数が大きい界面活性剤(試料G)が含まれる比較例6の加工液は、動摩擦係数が高く、最大泡高さが高く、消泡時間が長く、残渣付着量が多かった。オキシプロピレン基を持たない界面活性剤(試料H)が含まれる比較例7の加工液は、最大泡高さが高く、消泡時間が長かった。同様に、オキシプロピレン基を持たない界面活性剤(試料I)が含まれる比較例8~9の加工液は、動摩擦係数が高く、最大泡高さが高く、消泡時間が長かった。 On the other hand, the processing liquids of Comparative Examples 1 and 2 in which the concentration of the compound (A) was 500 ppm had a high dynamic friction coefficient and a large amount of hydrogen generated. The processing liquid of Comparative Example 3 containing a surfactant (Sample E) having no alkyl group had a high kinetic friction coefficient, a high maximum foam height, a long defoaming time, and a large amount of residue adhered. The processing liquid of Comparative Example 4 containing the surfactant (Sample F) having a larger EO average addition mole number and PO average addition mole number than the compound (A) has a high maximum foam height and a long defoaming time. , The amount of residue attached was large. Further, in the processing liquid of Comparative Example 5 containing a defoaming agent, the maximum foam height and the defoaming time were improved, but the amount of residue adhered was large. The processing liquid of Comparative Example 6 containing a surfactant (sample G) having a larger PO average number of moles of substance than compound (A) has a high dynamic friction coefficient, a high maximum foam height, and a long defoaming time. The amount of residue adhered was large. The processing liquid of Comparative Example 7 containing a surfactant (Sample H) having no oxypropylene group had a high maximum foam height and a long defoaming time. Similarly, the processing liquids of Comparative Examples 8 to 9 containing the surfactant (Sample I) having no oxypropylene group had a high dynamic friction coefficient, a high maximum foam height, and a long defoaming time.

(浄化処理性)
加工油剤A3および加工油剤B3を、界面活性剤の濃度が表4~6に示す値となるように水で希釈し、実施例16~17の加工液を作製した。実施例2~5,9,16,17および比較例5の加工液を用いて、固定砥粒ワイヤーソーによりシリコンインゴットの切断加工を行った後に生じた使用済みの加工液に対し、フィルタープレス処理を行った。フィルタープレス処理は、株式会社栗田機械製作所製のRF-10B型フィルタープレス機を用いて行った。濾材には、シキボウ株式会社製の「CC34-1」(綿製)を用いた。なお、以下では、使用済みの加工液に対してフィルタープレス処理を行うことにより得られた濾液を、第1廃液という。
(Purification treatment)
The processing oil A3 and the processing oil B3 were diluted with water so that the concentration of the surfactant became the values shown in Tables 4 to 6 to prepare the processing liquids of Examples 16 to 17. Filter press processing was applied to the used processing liquid generated after cutting the silicon ingot with a fixed abrasive grain wire saw using the processing liquids of Examples 2 to 5, 9, 16, 17 and Comparative Example 5. Went. The filter press processing was performed using an RF-10B type filter press machine manufactured by Kurita Machinery Works Co., Ltd. As the filter medium, "CC34-1" (made of cotton) manufactured by Shikibo Ltd. was used. In the following, the filtrate obtained by performing a filter press treatment on the used processing liquid is referred to as a first waste liquid.

第1廃液に対し、さらに活性炭処理を行った。活性炭処理は、活性炭を充填した容器に、上方から第1廃液を流し入れ、下方から流れ出た第1廃液を採取することにより行った。なお、以下では、第1廃液に対して活性炭処理を行うことにより得られた活性炭処理済み液を、第2廃液という。 The first waste liquid was further treated with activated carbon. The activated carbon treatment was carried out by pouring the first waste liquid from above into a container filled with activated carbon and collecting the first waste liquid flowing out from below. In the following, the activated carbon-treated liquid obtained by subjecting the first waste liquid to the activated carbon treatment is referred to as a second waste liquid.

(水質検査)
使用済み加工液、第1廃液および第2廃液について、pH、BOD、COD、懸濁物質量、ヘキサン抽出物質量(動植物油)およびヘキサン抽出物質量(鉱物油)を測定した。pHは、JIS K0102 12(ガラス電極法)に基づき、BODは、JIS K0102 21(隔膜電極法)に基づき、CODは、JIS K0102 17(滴定法)に基づき、測定した。また、懸濁物質量、ヘキサン抽出物質量(動植物油)およびヘキサン抽出物質量(鉱物油)は、昭和49年環境庁告示第64号に規定された方法に基づき、測定した。使用済み加工液の測定結果を表4に、第1廃液の測定結果を表5に、第2廃液の測定結果を表6に示す。
(Water quality inspection)
For the used processing liquid, the first waste liquid and the second waste liquid, the pH, BOD, COD, the amount of suspended substance, the amount of hexane extract substance (animal and vegetable oil) and the amount of hexane extract substance (mineral oil) were measured. The pH was measured based on JIS K0102 12 (glass electrode method), the BOD was measured based on JIS K0102 21 (diaphragm electrode method), and the COD was measured based on JIS K0102 17 (titration method). The amount of suspended substance, the amount of hexane-extracted substance (animal and vegetable oil) and the amount of hexane-extracted substance (mineral oil) were measured based on the method specified in Notification No. 64 of the Environment Agency of 1974. Table 4 shows the measurement results of the used processing liquid, Table 5 shows the measurement results of the first waste liquid, and Table 6 shows the measurement results of the second waste liquid.

なお、表4~6における「good」は、測定値が法令に規定される下水排除基準を満たすことを、「bad」は測定値が下水排除基準を満たさないことを意味する。本実施例で用いた下水排除基準は以下のとおりである。
pH:5.0を超え9.0未満
BOD:300mg/l以下
懸濁物質量:300mg/l以下
ヘキサン抽出物質量(動植物油):30mg/l以下
ヘキサン抽出物質量(鉱物油):5mg/l以下
なお、CODについては、50mg/l以下を評価基準とした。
In addition, "good" in Tables 4 to 6 means that the measured value meets the sewage exclusion standard stipulated by law, and "bad" means that the measured value does not meet the sewage exclusion standard. The sewage exclusion criteria used in this example are as follows.
pH: 5.0 or more and less than 9.0 BOD: 300 mg / l or less Suspended substance amount: 300 mg / l or less Hexane extract substance amount (animal and vegetable oil): 30 mg / l or less Hexane extract substance amount (mineral oil): 5 mg / 1 or less For COD, 50 mg / l or less was used as the evaluation standard.

Figure 0007021998000004
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Figure 0007021998000005
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Figure 0007021998000006
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表4~6に示した結果からわかるように、各実施例の使用済みの加工液に対してフィルタープレス処理を行うことにより得られた第1廃液は、BOD、懸濁物質量およびヘキサン抽出物質量(鉱物油)が、下水排除基準を満たす程度にまで浄化されていた。なお、第1廃液は、CODおよびヘキサン抽出物質量(動植物油)については、下水排除基準(評価基準)を満たしていないが、使用済みの加工液に比べ、CODおよびヘキサン抽出物質量(動植物油)のいずれも低減していた。 As can be seen from the results shown in Tables 4 to 6, the first waste liquid obtained by performing the filter press treatment on the used processing liquid of each example is BOD, suspended solids amount and hexane extract material. The amount (mineral oil) was purified to the extent that it met the sewage exclusion criteria. The first waste liquid does not meet the sewage exclusion standard (evaluation standard) for the amount of COD and hexane extract substance (animal and vegetable oil), but the amount of COD and hexane extract substance (animal and vegetable oil) compared to the used processing liquid. ) Was reduced.

また、各実施例の第1廃液に対して活性炭処理を行うことにより得られた第2廃液は、CODおよびヘキサン抽出物質量(動植物油)についても、下水排除基準(評価基準)を満たす程度にまで浄化されていた。このため、各実施例の使用済み加工液は、フィルタープレス処理および活性炭処理を行うことにより、下水道に排水することが可能となり、廃棄コストを低減することができた。 In addition, the second waste liquid obtained by performing activated carbon treatment on the first waste liquid of each example satisfies the sewage exclusion standard (evaluation standard) in terms of the amount of COD and hexane extract substance (animal and vegetable oil). Was purified up to. Therefore, the used processing liquid of each example can be drained to the sewer by performing the filter press treatment and the activated carbon treatment, and the disposal cost can be reduced.

一方、比較例5の使用済み加工液に対してフィルタープレス処理を行うことにより得られた第1廃液は、BOD、懸濁物質量およびヘキサン抽出物質量(鉱物油)が、下水排除基準を満たす程度にまで浄化されていたものの、比較例5の第1廃液に対して活性炭処理を行うことにより得られた第2廃液は、CODおよびヘキサン抽出物質量(動植物油)が、下水排除基準(評価基準)を満たさなかった。このため、比較例5の使用済み加工液については、フィルタープレス処理および活性炭処理を行っても、下水道に排水することができなかった。 On the other hand, in the first waste liquid obtained by performing a filter press treatment on the used processing liquid of Comparative Example 5, the BOD, the amount of suspended solids and the amount of hexane extracted substances (mineral oil) satisfy the sewage exclusion criteria. Although it was purified to a certain extent, the second waste liquid obtained by performing the activated charcoal treatment on the first waste liquid of Comparative Example 5 had COD and hexane extract substance amount (animal and vegetable oil) as sewage exclusion criteria (evaluation). Criteria) were not met. Therefore, the used processing liquid of Comparative Example 5 could not be drained to the sewer even after the filter press treatment and the activated carbon treatment.

Claims (10)

式(1)で表される化合物(A)を含み、
前記化合物(A)の濃度が質量基準で700ppm以上3000ppm以下となるように水で希釈され、固定砥粒ワイヤーソーによる脆性材料の切断加工に使用されることを特徴とする固定砥粒ワイヤーソー用水溶性加工油剤。
RO-[(EO)(PO)]-H (1)
(式(1)において、Rは炭素数8以上12以下のアルキル基を示し、EOはオキシエチレン基を示し、POはオキシプロピレン基を示し、mはEOの平均付加モル数を示し、nはPOの平均付加モル数を示し、mは2以上5以下の数であり、nは3以上5以下の数であり、EOおよびPOはランダム付加でもブロック付加でもよい。)
The compound (A) represented by the formula (1) is contained, and the compound (A) is contained.
Water for a fixed-abrasive wire saw, which is diluted with water so that the concentration of the compound (A) is 700 ppm or more and 3000 ppm or less on a mass basis, and is used for cutting a brittle material with a fixed-abrasive wire saw. Soluble processing oil.
RO-[(EO) m (PO) n ] -H (1)
(In the formula (1), R represents an alkyl group having 8 or more carbon atoms and 12 or less carbon atoms, EO represents an oxyethylene group, PO represents an oxypropylene group, m represents the average number of moles of EO added, and n is. Indicates the average number of moles of PO added, m is a number of 2 or more and 5 or less, n is a number of 3 or more and 5 or less, and EO and PO may be random addition or block addition.)
前記式(1)において、Rは、炭素数9のアルキル基を示すことを特徴とする請求項1に記載の固定砥粒ワイヤーソー用水溶性加工油剤。The water-soluble processing oil for a fixed-abrasive wire saw according to claim 1, wherein in the formula (1), R represents an alkyl group having 9 carbon atoms. 前記式(1)において、Rは、3,5,5-トリメチル-1-ヘキシル基であることを特徴とする請求項1に記載の固定砥粒ワイヤーソー用水溶性加工油剤。 The water-soluble processing oil for a fixed-abrasive wire saw according to claim 1, wherein in the formula (1), R is a 3,5,5-trimethyl-1-hexyl group. ポリビニルピロリドンおよびビニルピロリドン由来の構造単位を含む共重合体の少なくとも一方を含む水溶性高分子と、消泡剤と、粘度調整剤と、pH調整剤と、酸化防止剤と、殺菌剤と、防錆剤と、のなかの少なくとも一つをさらに含むことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の固定砥粒ワイヤーソー用水溶性加工油剤。 A water-soluble polymer containing at least one of polyvinylpyrrolidone and a copolymer containing a structural unit derived from vinylpyrrolidone, an antifoaming agent, a viscosity regulator, a pH regulator, an antioxidant, a bactericidal agent, and an inhibitor. The water-soluble processing oil for a fixed abrasive grain wire saw according to any one of claims 1 to 3, further comprising a rust agent and at least one of them. 式(1)で表される化合物(A)と、水と、を含み、
前記化合物(A)の濃度が質量基準で700ppm以上3000ppm以下であり、固定砥粒ワイヤーソーによる脆性材料の切断加工に使用されることを特徴とする固定砥粒ワイヤーソー用加工液。
RO-[(EO)(PO)]-H (1)
(式(1)において、Rは炭素数8以上12以下のアルキル基を示し、EOはオキシエチレン基を示し、POはオキシプロピレン基を示し、mはEOの平均付加モル数を示し、nはPOの平均付加モル数を示し、mは2以上5以下の数であり、nは3以上5以下の数であり、EOおよびPOはランダム付加でもブロック付加でもよい。)
It contains the compound (A) represented by the formula (1) and water.
A processing liquid for a fixed-abrasive wire saw, wherein the concentration of the compound (A) is 700 ppm or more and 3000 ppm or less on a mass basis, and the compound (A) is used for cutting a brittle material with a fixed-abrasive wire saw.
RO-[(EO) m (PO) n ] -H (1)
(In the formula (1), R represents an alkyl group having 8 or more carbon atoms and 12 or less carbon atoms, EO represents an oxyethylene group, PO represents an oxypropylene group, m represents the average number of moles of EO added, and n is. Indicates the average number of moles of PO added, m is a number of 2 or more and 5 or less, n is a number of 3 or more and 5 or less, and EO and PO may be random addition or block addition.)
シリコンに対する接触角が、10°以上40°以下であり、
ニッケルに対する接触角が、20°以上50°以下であり、
動摩擦係数が、0.20以上0.32以下であることを特徴とする請求項に記載の固定砥粒ワイヤーソー用加工液。
The contact angle with respect to silicon is 10 ° or more and 40 ° or less.
The contact angle with respect to nickel is 20 ° or more and 50 ° or less.
The processing liquid for a fixed abrasive grain wire saw according to claim 5 , wherein the dynamic friction coefficient is 0.20 or more and 0.32 or less.
請求項5または6に記載の固定砥粒ワイヤーソー用加工液を用いて、固定砥粒ワイヤーソーにより脆性材料の切断加工を行うことを特徴とする切断加工方法。 A cutting method for cutting a brittle material with a fixed-abrasive wire saw using the processing liquid for a fixed-abrasive wire saw according to claim 5 or 6 . 前記脆性材料が、シリコン、シリコンカーバイド、ガラス、セラミックス、窒化ガリウムおよびサファイアのいずれかであることを特徴とする請求項に記載の切断加工方法。 The cutting method according to claim 7 , wherein the brittle material is any one of silicon, silicon carbide, glass, ceramics, gallium nitride and sapphire. 請求項7または8に記載の切断加工方法を行った後に生じた使用済みの前記固定砥粒ワイヤーソー用加工液に対し、濾過処理を行うことを特徴とする使用済み加工液処理方法。 A used processing liquid treatment method, which comprises performing a filtration treatment on the used processing liquid for a fixed abrasive grain wire saw generated after the cutting processing method according to claim 7 or 8 . 使用済みの前記固定砥粒ワイヤーソー用加工液に対し、前記濾過処理を行った後、活性炭処理を行うことを特徴とする請求項に記載の使用済み加工液処理方法。 The used processing liquid treatment method according to claim 9 , wherein the used processing liquid for a fixed abrasive grain wire saw is subjected to the filtration treatment and then the activated carbon treatment.
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