JP7045314B2 - ロール負極をアルカリ化するための方法 - Google Patents
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Description
本願は、2015年12月9日に出願された米国仮特許出願第62/265,090号の利益を主張する。上記出願の全教示は、参照により本明細書に援用される。
グラファイトは、リチウムイオン電池を作製するために使用される最も一般的な負極物質である。グラファイトは通常、銅基板またはホイル上にコーティングされるが、他のリチウム不活性金属が使用されることもある。グラファイトは約370mAh/グラムの可逆的容量を提供し、固体電解質界面(solid electrolyte interphase)(SEI)層の構築のために約5%の不可逆的容量消失を被る。最近、リチウムイオン電池の比容量を大きく増加し得たより高い容量の負極物質が紹介された。例えば、不定形ケイ素は、3500mAh/グラムも提供し得る(Obrovac MN and Krause LJ, 2007. Reversible cycling of crystalline silicon powder. J. Electrochem. Soc. 154: A103-A108)。
本発明は、アルカリ金属を有さないむき出しの基板領域を特徴とするアルカリ化負極を製造する電気化学的方法に関し、該方法は、電池または導電性基板およびコーティングで構成される電気化学的セル負極のアルカリ化の際に、電極ロールのむき出しの基板領域または縁上でリチウム(またはアルカリ金属)めっきまたは樹枝状晶集積を防ぐために、単一でまたは組み合わせて使用され得、ここで該電極ロールは、一面または両面でコーティングされ得、縁上で、または基板表面のいずれかもしくは両方の面の連続もしくは不連続な部分で暴露された基板を有し得る。本発明の方法のいずれかによるアルカリ化コーティングを有さない他の領域は、暴露された導電性基板を有し、負極の周および/または負極の周に垂直でかつ連結するバンドを含む。溶液および装置の詳細は、参照により本明細書に援用される米国特許出願第13/688,912号に記載される。一態様において、コーティングはアルカリ化コーティングであり、ここでアルカリ化コーティングはアルカリ化イオンを受けるための任意のコーティングであり、該コーティングは好ましくはグラファイトもしくはケイ素またはそれらの組合せで構成される。
本発明は、負極の導電性基板のむき出しの基板領域または縁上のアルカリ金属めっきまたは樹枝状晶集積を防ぐための負極のアルカリ化のための方法に関し、ここで該負極は電極または電極ロールを含む。一態様において、むき出しの基板領域は、負極の導電性基板の縁に沿って配置される。負極は、銅、ニッケルなどの導電性基板上でコーティングされるリチウム活物質で構成され得る。一態様において、負極はリチウム挿入負極である。リチウム挿入負極を含む物質の例としては、限定されないが、炭素およびグラファイト、酸化スズ、ケイ素、酸化ケイ素、二フッ化ポリビニリデン(PVDF)結合剤、およびそれらの混合物が挙げられる。さらなる態様において、リチウム挿入負極物質は、グラファイト、コークスおよびメソカーボンから選択される。代替的に、リチウム合金化物質は、導電性基板上に堆積またはめっき等され得る。一態様において、該合金化物質としては限定されないが、スズ、アルミニウム、ケイ素またはゲルマニウムが挙げられる。説明のみの目的で、コーティングされた導電体物質のロールまたは活性合金化物質のロールはロール負極と称される。
a. 負極を、アルカリ金属塩を含む非水性電解溶液に供する工程、ここで該負極は、アルカリ化コーティングを有する少なくとも1つの領域およびアルカリ化コーティングを有さない少なくとも1つの領域を特徴とする少なくとも1つの表面を含む導電性基板を含む;
b. 順還元電流を適用して、アルカリ化コーティングを有する領域において負極を少なくとも部分的にアルカリ化するのに十分な時間、負極をアルカリ化する工程;
c. 工程(b)で作製された負極を該溶液中に維持し、任意に逆酸化電流を適用して、むき出しの基板領域から任意のアルカリ金属堆積を除去する工程;ならびに
d. 工程bおよび/またはcを反復する工程
を含む方法に関する。
a. 負極の暴露された縁の上下のそれぞれに、縁ガード孔、誘電場孔またはシールドを配置する工程;
b. 負極を、アルカリ金属塩を含む非水性電解溶液に供する工程、ここで該負極は、少なくとも1つの表面、該少なくとも1つの表面上のアルカリ化コーティングを含む導電性基板を含む;および
c. 該溶液を介して順還元電流を適用して負極をアルカリ化する工程
を含む、方法に関する。
実施例1. 順/逆方法後の休息期間法の使用
それぞれの面の1つの長い縁上で0.5cmの辺縁がむき出しになる(約10%のむき出しの銅)ように銅基板の両面上でグラファイト-ケイ素配合物を有するパターンでコーティングした4.6x3.2cm2の面積の負電極を、枠内にマウントして、2cmの間隔を使用して対電極間に配置した。25℃に維持したGBL溶媒および0.5M LiCl塩溶液で電極を囲んだ。溶液中に二酸化炭素が泡立った。Maccor 4200電池テスターを使用して、0.9mA/cm2の順(還元)電流密度を150秒間生成し、+6Vのセル電圧を発揮した(図6)。このパルスの直後に30秒間の休息期間を続け、0Vのセル電圧を生成した。前リチウム化の初期段階で、負極中に最小量の挿入Liが見られるので、逆電流は導入しなかった。順/休息パルスを連続で4サイクル行い、その後順/逆パルス法を導入した。次いで、Maccor 4200電池テスターを使用して、休息期間を、30秒間の1.0mA/cm2の電流密度を有する逆電流(酸化)パルスに変えた。むき出しの銅領域上で任意のリチウム堆積を阻害しながら所望の適用量が達成されるまで、順および逆電流またはパルスを連続的に反復した。この方法により、Li0金属粒子を含まないむき出しのCu領域を有する前リチウム化負極が生成される。
それぞれの面の1つの長い縁上で0.5cmの辺縁がむき出しになる(約10%のむき出しの銅)ように銅基板の両面上でグラファイト-ケイ素配合物を有するパターンでコーティングした4.6x3.2cm2の面積の負電極を、枠内にマウントして、2cmの間隔を使用して対電極間に配置した。25℃に維持したGBL溶媒および0.5M LiCl塩溶液で電極を囲んだ。溶液中に二酸化炭素が泡立った。前述のDynatronix (DuPR10)電源を使用して順(還元)電流および休息期間を生成した。パルスは、500ミリ秒の持続時間(還元)および0Vで500ミリ秒の休息期間によりVmaxについて+6Vと定義した。これらのパルスを連続して90分間反復した。この方法により、Li0金属粒子を有さないむき出しのCu領域を有する前リチウム化負極が生成される。2.5cm2の電極試料を切断してセパレータおよびリチウムホイルにマウントし、半電池を形成した。電解液に24時間浸漬後、0.20mA/cm2の電流密度を適用して、試料を0.9V以上のリチウムまで脱リチウム化し、試料の前リチウム化リチウム容量を決定した。該方法によると、生成される適用量は約1.5mAh/cm2であり、むき出しの銅領域に堆積したリチウムはなかった。
6cmの幅の銅基板のうち、5cmが両面でグラファイト-ケイ素配合物でコーティングされた銅基板を、2センチメートルの間隔を使用して対電極の間に配置した。25℃に維持したGBL溶媒および.5M LiCl塩溶液で電極を囲んだ。溶液中に二酸化炭素が泡立った。全プロセス時間は90分であった。プロセス時間の最初の25%の間に、155秒間で1.2mA/cm2の順(還元)電流を生成した。このパルスの直後に25秒の持続時間で0.15mA/cm2の逆電流を続けた。プロセス時間の第2の25%の間に、155秒間で1.0mA/cm2の順(還元)電流を生成した。このパルスの直後に25秒の持続時間で0.3mA/cm2の逆電流を続けた。プロセス時間の第3の25%の間に、155秒間で1.0mA/cm2の順(還元)電流を生成した。このパルスの直後に25秒の持続時間で0.6mA/cm2の逆電流を続けた。プロセス時間の最後の25%の間に、155秒間で1.0mA/cm2の順(還元)電流を生成した。このパルスの直後に25秒の持続時間で0.8mA/cm2の逆電流を続けた。順および逆の電流またはパルスを、むき出しの銅領域上の任意のリチウム堆積を阻害しながら所望の適用量が達成されるまで連続的に反復した。この例において、電極移動の速度は約113cm/hrであった。試料を切断してセパレータおよびリチウムホイルにマウントし、半電池を形成した。電解液に24時間浸漬後、.25mA/cm2の電流を使用して試料を2ボルト以上のリチウムまでに脱リチウム化し、試料のリチウム容量を決定した。正味の適用量は約0.62mAh/cm2であり、むき出しの銅領域に堆積したリチウムはなかった。
6cmの幅の銅基板のロール701のうち、5cmが両面でグラファイト-ケイ素複合物でコーティングされ、1cmのコーティングされない辺縁が銅の1つの縁に残った銅基板を、2センチメートルの間隔を使用して対電極の間に配置した。図7に示されるように、銅まで伸びる枠の縁からむき出しの銅を覆うコーティング遷移(coating transition)まで生じる活性対電極704の面に沿って、高密度ポリエチレン縁ガード703をマウントした。25℃に維持したGBL溶媒および.5M LiCl塩溶液で電極を囲んだ。溶液中に二酸化炭素が泡立った。116.4分間に、1.2mA/cm2の順(還元)電流を生成した。その後の半電池試験により決定されるように、コーティングされた領域において所望のリチウム化適用量が達成された。むき出しの銅表面のリチウム堆積からの保護は、前リチウム化の間に視覚的に観察され、次いで蒸留水をむき出しの銅の縁に配置して水とリチウムの可視的な反応がないことを見出すことにより、確認された。
本発明の態様として以下のものが挙げられる。
[1]負極をアルカリ化して、アルカリ金属を有さないむき出しの基板領域を特徴とするアルカリ化負極を作製する電気化学的方法であって、
a. 負極を、アルカリ金属塩を含む非水性電解溶液に供する工程、ここで、該負極は、表面上にアルカリ化コーティングを有する少なくとも1つの領域およびアルカリ化コーティングを有さない少なくとも1つの領域を特徴とする少なくとも1つの表面を含む導電性基板を含む;
b. 順還元電流を適用して、アルカリ化コーティングを有する領域中で負極を少なくとも部分的にアルカリ化するのに十分な時間、負極をアルカリ化する工程;
c. 工程(b)において作製された負極を該溶液中に維持し、任意に逆酸化電流を適用してむき出しの基板領域から任意のアルカリ金属堆積を除去する工程;ならびに
d. 工程bおよび/またはcを反復する工程
を含む、方法。
[2]該アルカリ化された負極が、0.1mAh/cm 2 ~10mAh/cm 2 の適用量を達成し、かつアルカリ金属堆積を示さない、[1]記載の方法。
[3]工程bおよびcが少なくとも約3回、好ましくは少なくとも約5回、より好ましくは少なくとも約20回反復される、[2]記載の方法。
[4]実質的に電流の非存在下、少なくともいくつかのアルカリ金属のアルカリ化コーティングへの拡散を可能にするのに十分な時間、少なくとも1回の工程cにおいて、該負極が維持される、[3]記載の方法。
[5]少なくとも1回の工程bにより作製される生成物が、アルカリ金属堆積を含むむき出しの基板領域を含む、[3]または[4]記載の方法。
[6]逆酸化電流が、少なくとも1回の工程cにおいてむき出しの基板領域から任意のアルカリ金属堆積を除去するために適用される、[5]記載の方法。
[7]該アルカリ金属堆積が樹枝状晶を含む、[6]記載の方法。
[8]該アルカリ化コーティングが不連続である、前記いずれか記載の方法。
[9]該負極が、ロール負極である、前記いずれか記載の方法。
[10]アルカリ化コーティングを有さない少なくとも1つの領域が、負極の周および/または該負極の周に垂直でありかつ該負極の周に連結するバンドを含み、暴露された導電性基板を有する、前記いずれか記載の方法。
[11]該アルカリ金属塩が塩化リチウムで構成される、前記いずれか記載の方法。
[12]該導電性基板が銅またはニッケルである、前記いずれか記載の方法。
[13]該アルカリ化コーティングが、グラファイトもしくはケイ素またはそれらの配合物で構成される、前記いずれか記載の方法。
[14]該アルカリ化コーティングが、導電性基板の2つの表面上にある、前記いずれか記載の方法。
[15]該むき出しの基板領域が、導電性基板の縁に沿って配置される、前記いずれか記載の方法。
[16]該順還元電流および逆酸化電流がDCである、前記いずれか記載の方法。
[17]該順還元電流および逆酸化電流がACである、前記いずれか記載の方法。
[18]該逆電流と順電流の比が固定される、前記いずれか記載の方法。
[19]該逆電流と順電流の比が増加する、前記いずれか記載の方法。
[20]該逆持続時間と順持続時間の比が固定される、前記いずれか記載の方法。
[21]該逆持続時間と順持続時間の比が増加する、前記いずれか記載の方法。
[22]工程bが1ミリ秒~15分である、前記いずれか記載の方法。
[23]工程bが1センチ秒~5分である、[22]記載の方法。
[24]工程bが1秒~3分である、[23]記載の方法。
[25]工程cが1ミリ秒~15分である、前記いずれか記載の方法。
[26]工程cが1センチ秒~5分である、[25]記載の方法。
[27]工程cが1秒~3分である、[26]記載の方法。
[28]該順還元電流が、該逆酸化電流よりも1~8倍大きい、前記いずれか記載の方法。
[29]該順還元電流が、該逆酸化電流よりも約2倍大きい、前記いずれか記載の方法。
[30]該順還元電流密度が0.1mA/cm 2 ~10mA/cm 2 である、前記いずれか記載の方法。
[31]該順還元電流密度が約1mA/cm 2 である、前記いずれか記載の方法。
[32]該逆酸化電流密度が0.1mA/cm 2 ~1.2mA/cm 2 である、前記いずれか記載の方法。
[33]該逆酸化電流密度が約0.6mA/cm 2 である、前記いずれか記載の方法。
[34]該逆酸化電流パルスの持続時間が、該順還元電流パルスの1%~100%の時間である、前記いずれか記載の方法。
[35]該逆酸化電流パルスの持続時間が、該順還元電流パルスの5%~30%の時間である、[34]記載の方法。
[36]該逆酸化電流パルスの持続時間が、該順還元電流パルスの約20%の時間である、[35]記載の方法。
[37]該逆酸化電流パルスの持続時間が、該順還元電流パルスの約15%の時間である、[35]記載の方法。
[38]該逆酸化電流パルスの持続時間が約30秒であり、該順還元電流パルスの持続時間が約150秒である、[36]記載の方法。
[39]縁ガード孔、誘電場孔、またはシールドが、該負極の暴露された縁の上下のそれぞれにマウントされる、前記いずれか記載の方法。
[40]a. 負極の暴露された縁の上下のそれぞれに、縁ガード孔、誘電場孔、またはシールドを配置する工程;
b. 負極を、アルカリ金属塩を含む非水性電解溶液に供する工程、ここで、該負極は、少なくとも1つの表面、該少なくとも1つの表面上のアルカリ化コーティングを含む導電性基板を含む;および
c. 該溶液を介して順還元電流を適用して負極をアルカリ化する工程
を含む、負極をアルカリ化する電気化学的方法。
[41]該縁ガード孔、誘電場孔、またはシールドが、非水性電解溶液と適合性である誘電性材料で構成される、[40]記載の方法。
Claims (38)
- 負極をアルカリ化して、アルカリ金属を有さないむき出しの基板領域を特徴とするアルカリ化負極を作製する電気化学的方法であって、
a. 負極を、アルカリ金属塩を含む非水性電解溶液に供する工程、ここで、該負極は、表面上にアルカリ化コーティングを有する少なくとも1つの領域およびアルカリ化コーティングを有さない少なくとも1つの領域を特徴とする少なくとも1つの表面を含む導電性基板を含む;
b. 順還元電流を適用して、アルカリ化コーティングを有する領域中で負極を少なくとも部分的にアルカリ化するのに十分な時間、負極をアルカリ化する工程;
c. 逆酸化電流を適用してむき出しの基板領域から任意のアルカリ金属堆積を除去する工程;ならびに
d. 工程bおよび/またはcを反復する工程
を含む、方法。 - 該アルカリ化された負極が、0.1mAh/cm2~10mAh/cm2の適用量を達成し、かつアルカリ金属堆積を示さない、請求項1記載の方法。
- 工程bおよびcが少なくとも約3回、好ましくは少なくとも約5回、より好ましくは少なくとも約20回反復される、請求項2記載の方法。
- 少なくとも1回の工程bにより作製される生成物が、アルカリ金属堆積を含むむき出しの基板領域を含む、請求項3記載の方法。
- 逆酸化電流が、少なくとも1回の工程cにおいてむき出しの基板領域から任意のアルカリ金属堆積を除去するために適用される、請求項4記載の方法。
- 該アルカリ金属堆積が樹枝状晶を含む、請求項5記載の方法。
- 該アルカリ化コーティングが不連続である、請求項1~6いずれか記載の方法。
- 該負極が、ロール負極である、請求項1~7いずれか記載の方法。
- アルカリ化コーティングを有さない少なくとも1つの領域が、負極の周および/または該負極の周に垂直でありかつ該負極の周を連結するバンドを含み、暴露された導電性基板を有する、請求項1~8いずれか記載の方法。
- 該アルカリ金属塩が塩化リチウムで構成される、請求項1~9いずれか記載の方法。
- 該導電性基板が銅またはニッケルである、請求項1~10いずれか記載の方法。
- 該アルカリ化コーティングが、グラファイトもしくはケイ素またはそれらの配合物で構成される、請求項1~11いずれか記載の方法。
- 該アルカリ化コーティングが、導電性基板の2つの表面上にある、請求項1~12いずれか記載の方法。
- 該むき出しの基板領域が、導電性基板の縁に沿って配置される、請求項1~13いずれか記載の方法。
- 該順還元電流および逆酸化電流がDCである、請求項1~14いずれか記載の方法。
- 該順還元電流および逆酸化電流がACである、請求項1~14いずれか記載の方法。
- 該逆酸化電流と順還元電流の比が固定される、請求項1~16いずれか記載の方法。
- 該逆酸化電流と順還元電流の比が増加する、請求項1~16いずれか記載の方法。
- 該逆酸化電流の持続時間と順還元電流の持続時間の比が固定される、請求項1~18いずれか記載の方法。
- 該逆酸化電流の持続時間と順還元電流の持続時間の比が増加する、請求項1~18いずれか記載の方法。
- 工程bが1ミリ秒~15分である、請求項1~20いずれか記載の方法。
- 工程bが1センチ秒~5分である、請求項21記載の方法。
- 工程bが1秒~3分である、請求項22記載の方法。
- 工程cが1ミリ秒~15分である、請求項1~23いずれか記載の方法。
- 工程cが1センチ秒~5分である、請求項24記載の方法。
- 工程cが1秒~3分である、請求項25記載の方法。
- 該順還元電流が、該逆酸化電流よりも1~8倍大きい、請求項1~26いずれか記載の方法。
- 該順還元電流が、該逆酸化電流よりも約2倍大きい、請求項1~27いずれか記載の方法。
- 該順還元電流密度が0.1mA/cm2~10mA/cm2である、請求項1~28いずれか記載の方法。
- 該順還元電流密度が約1mA/cm2である、請求項1~29いずれか記載の方法。
- 該逆酸化電流密度が0.1mA/cm2~1.2mA/cm2である、請求項1~30いずれか記載の方法。
- 該逆酸化電流密度が約0.6mA/cm2である、請求項1~31いずれか記載の方法。
- 該逆酸化電流のパルスの持続時間が、該順還元電流のパルスの1%~100%の時間である、請求項1~14および16~32いずれか1項記載の方法。
- 該逆酸化電流のパルスの持続時間が、該順還元電流のパルスの5%~30%の時間である、請求項33記載の方法。
- 該逆酸化電流のパルスの持続時間が、該順還元電流のパルスの約20%の時間である、請求項34記載の方法。
- 該逆酸化電流のパルスの持続時間が、該順還元電流のパルスの約15%の時間である、請求項34記載の方法。
- 該逆酸化電流のパルスの持続時間が約30秒であり、該順還元電流のパルスの持続時間が約150秒である、請求項35記載の方法。
- a. 負極の暴露された縁の上下のそれぞれに、縁ガード孔、誘電場孔、またはシールドを配置する工程;
b. 負極を、アルカリ金属塩を含む非水性電解溶液に供する工程、ここで、該負極は、少なくとも1つの表面、該少なくとも1つの表面上のアルカリ化コーティングを含む導電性基板を含む;および
c. 該溶液を介して順還元電流を適用して負極をアルカリ化する工程
を含む、負極をアルカリ化する電気化学的方法。
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